JP2006294967A - Printed wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board suppressing resonance between a power source and a ground layer, and having the high degree of freedom in design, and also to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: The printed wiring board 10 has power source layers 13, 15 and ground layers 12, 14, 16. In the printed wiring board 10, a coupling shielding layer 22 including a magnetic metal material is provided between the power source layer and the ground layer. The method of manufacturing the printed wiring board 10 has a process in which a coupling shielding film 20 having the coupling shielding layer 22 formed on the surface of a resin film 21 is arranged between a plurality of metallic foils to be used as the power source layer and the ground layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、プリント配線基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and a method for manufacturing the same.

近年、電子機器には小型化、軽量化が求められており、プリント配線基板の多層化が進んでいる。
しかし、多層化されたプリント配線基板においては、電源層およびグランド層を構成する銅箔がプリント配線基板のほぼ全面にわたって拡がり、これら銅箔が、周端部が開放した平行平板構造をとるため、電源層とグランド層との間で共振(電源−グランド層共振)が起こり、基板の周端部から電磁波ノイズが発生する。
In recent years, electronic devices have been required to be smaller and lighter, and printed wiring boards have been multilayered.
However, in the multilayered printed wiring board, the copper foil constituting the power supply layer and the ground layer spreads over almost the entire surface of the printed wiring board, and these copper foils have a parallel plate structure with an open peripheral edge. Resonance (power supply-ground layer resonance) occurs between the power supply layer and the ground layer, and electromagnetic noise is generated from the peripheral edge of the substrate.

電源−グランド層共振が抑えられたプリント配線基板としては、第1のグランド層に形成されるグランド領域と、第2のグランド層に形成されるグランド領域との間を電気的に接続する層間接続部材と、第1のグランド層および第2のグランド層の少なくとも一方に配線される電源線とが設けられたものが提案されている(特許文献1)。
しかし、該プリント配線基板においては、層間接続部材を設ける必要がある、各グランド層と電源線との位置関係に制限がある等のため、設計の自由度が著しく低くいという問題がある。
As a printed wiring board in which resonance between the power source and the ground layer is suppressed, an interlayer connection that electrically connects a ground region formed in the first ground layer and a ground region formed in the second ground layer. A member provided with a member and a power line wired to at least one of the first ground layer and the second ground layer has been proposed (Patent Document 1).
However, the printed wiring board has a problem that the degree of freedom in design is extremely low due to the necessity of providing an interlayer connection member and the positional relationship between each ground layer and the power line.

特許文献2には、プリント配線基板の両面に、板状磁性粒子と板状非磁性粒子と結合剤を配したソルダレジスト層を形成したものが提案されている。
しかし、該プリント配線基板におけるソルダレジスト層は、信号配線から発生してしまった電磁波ノイズがプリント配線基板の外部に漏れることを防ぐものであって、電源−グランド層共振を抑えるものではない。よって、信号配線から発生した電磁波ノイズ、または電源−グランド層共振によって発生した電磁波ノイズによって、プリント配線基板自身(例えば、実装された電子部品、他の信号配線等)が影響を受けてしまう。
特開2003−163467号公報 特開平9−283939号公報
Patent Document 2 proposes that a solder resist layer in which plate-like magnetic particles, plate-like nonmagnetic particles, and a binder are arranged on both surfaces of a printed wiring board is proposed.
However, the solder resist layer in the printed wiring board prevents electromagnetic wave noise generated from the signal wiring from leaking to the outside of the printed wiring board, and does not suppress power-ground layer resonance. Therefore, the printed wiring board itself (for example, mounted electronic components, other signal wirings, etc.) is affected by electromagnetic noise generated from the signal wiring or electromagnetic noise generated by power supply-ground layer resonance.
JP 2003-163467 A JP-A-9-283939

よって本発明の目的は、電源−グランド層共振を抑えることができ、かつ設計の自由度が高いプリント配線基板、および電源−グランド層共振を抑える対策を容易に行うことができるプリント配線基板の製造方法を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to manufacture a printed wiring board that can suppress power-ground layer resonance and has a high degree of design freedom, and a printed wiring board that can easily take measures to suppress power-ground layer resonance. It is to provide a method.

本発明のプリント配線基板は、電源層とグランド層とを有するプリント配線基板において、電源層とグランド層との間に、磁性金属材料を含む結合遮蔽層が設けられていることを特徴とする。
前記電源層とグランド層との間に、さらに樹脂フィルムからなる層が設けられ、
前記結合遮蔽層が、磁性金属材料を前記樹脂フィルムの表面に、反応性ガス雰囲気下でスパッタリング法にて物理的に蒸着させて形成された層であることが好ましい。
前記磁性金属材料は、ニッケルまたはニッケルを含む合金であることが好ましい。
The printed wiring board of the present invention is a printed wiring board having a power supply layer and a ground layer, wherein a coupling shielding layer containing a magnetic metal material is provided between the power supply layer and the ground layer.
A layer made of a resin film is further provided between the power supply layer and the ground layer,
The bonding shielding layer is preferably a layer formed by physically depositing a magnetic metal material on the surface of the resin film by a sputtering method in a reactive gas atmosphere.
The magnetic metal material is preferably nickel or an alloy containing nickel.

本発明のプリント配線基板の製造方法は、磁性金属材料を含む結合遮蔽層が樹脂フィルムの表面に形成された結合遮蔽フィルムを、電源層およびグランド層となる複数の金属箔の間に配置する工程を有することを特徴とする。
本発明のプリント配線基板の製造方法においては、前記結合遮蔽フィルムの一部に、結合遮蔽層がない非結合遮蔽部をあらかじめ形成しておいてもよい。
The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes a step of disposing a coupling shielding film in which a coupling shielding layer containing a magnetic metal material is formed on the surface of a resin film between a plurality of metal foils serving as a power supply layer and a ground layer. It is characterized by having.
In the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, a non-bonding shielding portion having no bonding shielding layer may be formed in advance on a part of the bonding shielding film.

本発明のプリント配線基板は、電源−グランド層共振を抑えることができ、かつ設計の自由度が高い。
本発明のプリント配線基板の製造方法によれば、電源−グランド層共振を抑える対策を容易に行うことができる。
The printed wiring board of the present invention can suppress power-ground layer resonance and has a high degree of design freedom.
According to the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention, it is possible to easily take measures for suppressing power-ground layer resonance.

<プリント配線基板>
図1は、本発明のプリント配線基板の一例を示す概略断面図である。プリント配線基板10は、パターン加工を施した信号配線層11と、グランド層12と、パターン加工を施した電源層13と、グランド層14と、パターン加工を施した電源層15と、グランド層16とが、絶縁層17を介して積層されたものであり、グランド層12と電源層13との間、電源層13とグランド層14との間、グランド層14と電源層15との間、電源層15とグランド層16との間には、結合遮蔽フィルム20からなる層が設けられている。
また、電源層13、15と、信号配線層11とを電気的に接続するスルーホール18が形成されている。
<Printed wiring board>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the printed wiring board of the present invention. The printed wiring board 10 includes a signal wiring layer 11 subjected to pattern processing, a ground layer 12, a power source layer 13 subjected to pattern processing, a ground layer 14, a power source layer 15 subjected to pattern processing, and a ground layer 16. Are stacked via an insulating layer 17, between the ground layer 12 and the power supply layer 13, between the power supply layer 13 and the ground layer 14, between the ground layer 14 and the power supply layer 15, Between the layer 15 and the ground layer 16, a layer made of the bonding shielding film 20 is provided.
In addition, a through hole 18 that electrically connects the power supply layers 13 and 15 and the signal wiring layer 11 is formed.

信号配線層11、グランド層12、14、16、電源層13、15は、銅箔等の金属箔からなる層であり、導電性を有する層である。
絶縁層17は、ガラス布等の補強材にエポキシ樹脂等の樹脂を含浸させたプリプレグを硬化させた層である。
The signal wiring layer 11, the ground layers 12, 14, 16 and the power supply layers 13, 15 are layers made of a metal foil such as a copper foil, and are conductive layers.
The insulating layer 17 is a layer obtained by curing a prepreg in which a reinforcing material such as a glass cloth is impregnated with a resin such as an epoxy resin.

結合遮蔽フィルム20は、樹脂フィルム21と、該樹脂フィルム21の表面に形成された結合遮蔽層22とを有するものである。
結合遮蔽層22は、磁性金属材料を含む層であり、例えば、樹脂フィルム21上に、独立した複数のナノメーターレベルの磁性金属材料のマイクロクラスターと、これらの間に形成される磁性金属材料の存在しない欠陥とから構成される層である。
The bonding shielding film 20 includes a resin film 21 and a bonding shielding layer 22 formed on the surface of the resin film 21.
The coupling shielding layer 22 is a layer containing a magnetic metal material. For example, on the resin film 21, a plurality of independent nanometer level magnetic metal material microclusters and a magnetic metal material formed between them are formed. It is a layer composed of defects that do not exist.

図2は、結合遮蔽フィルム20を、結合遮蔽層22(上面)側から見た模式図であり、図3は、結合遮蔽フィルム20の斜視模式図である。マイクロクラスター23は、樹脂フィルム21上に磁性金属材料が非常に薄く物理的に蒸着されて形成されたものであり、充分な金属薄膜になっていない。マイクロクラスター23が互いに接触して集団化しているものの、集団化したマイクロクラスター23の間には、磁性金属材料の存在しない欠陥が多く存在しており、集団化したマイクロクラスター23はそれぞれ独立している。   FIG. 2 is a schematic view of the bonding shielding film 20 as viewed from the bonding shielding layer 22 (upper surface) side, and FIG. 3 is a schematic perspective view of the bonding shielding film 20. The microcluster 23 is formed by physically thinly depositing a magnetic metal material on the resin film 21 and is not a sufficient metal thin film. Although the microclusters 23 are in contact with each other and are grouped, there are many defects in which the magnetic metal material does not exist between the grouped microclusters 23, and the grouped microclusters 23 are independent of each other. Yes.

ここで、磁性金属材料のマイクロクラスターとは、数十〜数百個の磁性金属原子が集合して形成される集団である。該マイクロクラスターの凝集が進むと、超微粒子、微粒子、金属薄膜となるが、マイクロクラスターは、超微粒子になる手前のものであり、超微粒子、微粒子、金属薄膜とは明確に区別されるものである。   Here, the microcluster of the magnetic metal material is a group formed by collecting several tens to several hundreds of magnetic metal atoms. When the aggregation of the microclusters proceeds, ultrafine particles, fine particles, and metal thin films are formed, but the microclusters are just before becoming ultrafine particles, and are clearly distinguished from ultrafine particles, fine particles, and metal thin films. is there.

図4は、樹脂フィルム21上に形成された結合遮蔽層22の表面を観察したフィールドエミッション走査電子顕微鏡像である。図5は、結合遮蔽層22の膜厚方向断面の高分解能透過型電子顕微鏡像である。また、図6は、結合遮蔽層22の電子線回折像である。図4〜図6から、非常に小さな結晶として数Å間隔の磁性金属原子が配列された結晶格子(マイクロクラスター)、および非常に小さい範囲で磁性金属材料が存在しない欠陥が認められる。すなわち、マイクロクラスター同士の間隔が空いた状態であり、明確な粒界は認められない。各マイクロクラスターの結晶方位は、無秩序であると認められ、磁性金属材料からなる均質な金属薄膜、超微粒子、微粒子等には成長していない。   FIG. 4 is a field emission scanning electron microscope image obtained by observing the surface of the bonding shielding layer 22 formed on the resin film 21. FIG. 5 is a high-resolution transmission electron microscope image of the cross section in the film thickness direction of the bonding shielding layer 22. FIG. 6 is an electron beam diffraction image of the coupling shielding layer 22. From FIG. 4 to FIG. 6, a crystal lattice (microcluster) in which magnetic metal atoms arranged at intervals of several tens of millimeters are arranged as very small crystals and defects in which no magnetic metal material exists in a very small range are recognized. That is, the microclusters are spaced apart from each other, and no clear grain boundary is observed. The crystal orientation of each microcluster is recognized to be disordered, and has not grown into a homogeneous metal thin film, ultrafine particle, fine particle or the like made of a magnetic metal material.

結合遮蔽層22の厚さは、5〜200nmが好ましい。結合遮蔽層22の厚さを5nm以上とすることにより、充分な結合遮蔽効果を発揮させることができる。一方、結合遮蔽層22の厚さが200nmを超えると、マイクロクラスター23が凝集し、磁性金属材料からなる均質な金属薄膜が形成され、バルクの磁性金属材料に戻ってしまい、金属反射が強まり、結合遮蔽効果も小さくなり、実効的ではない。ここで、結合遮蔽層22の厚さとは、欠陥を含めた結合遮蔽層22全体の平均厚さである。   The thickness of the bonding shielding layer 22 is preferably 5 to 200 nm. By setting the thickness of the coupling shielding layer 22 to 5 nm or more, a sufficient coupling shielding effect can be exhibited. On the other hand, when the thickness of the coupling shielding layer 22 exceeds 200 nm, the microclusters 23 aggregate to form a homogeneous metal thin film made of a magnetic metal material and return to the bulk magnetic metal material, and the metal reflection becomes stronger. The coupling shielding effect is also reduced and is not effective. Here, the thickness of the coupling shielding layer 22 is an average thickness of the entire coupling shielding layer 22 including defects.

本発明においては、結合遮蔽層22が、単なる金属薄膜層として存在するのではなく、マイクロクラスター23が集団化した状態で存在することが重要である。このような状態は、結合遮蔽層22の表面抵抗の実測値から換算した体積抵抗率R1(Ω・cm)と磁性金属材料の体積抵抗率R0(Ω・cm)(文献値)との関係から確認することができる。すなわち、体積抵抗率R1と体積抵抗率R0とが、0.5≦logR1−logR0≦3を満足する場合に、磁性金属材料のマイクロクラスター23が、非常に近接した状態で、かつ個々が独立して存在することになり、優れた結合遮蔽効果が発揮される。   In the present invention, it is important that the bonding shielding layer 22 does not exist as a mere metal thin film layer but exists in a state where the microclusters 23 are grouped. Such a state is based on the relationship between the volume resistivity R1 (Ω · cm) converted from the actual measurement value of the surface resistance of the bonding shielding layer 22 and the volume resistivity R0 (Ω · cm) (reference value) of the magnetic metal material. Can be confirmed. That is, when the volume resistivity R1 and the volume resistivity R0 satisfy 0.5 ≦ logR1−logR0 ≦ 3, the microclusters 23 of the magnetic metal material are in very close proximity and are individually independent. Therefore, an excellent bonding shielding effect is exhibited.

樹脂フィルム21は、プリント配線基板10の製造の際の加熱に耐え、かつプリント配線基板10に要求される耐熱性を有することが好ましい。また、誘電率、誘電正接等、プリント配線基板10の設計に必要とされる特性値が既知であるのものが好ましい。よって、樹脂フィルム21の材質としては、ポリイミド;ガラス布等の補強材に、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリ四フッ化エチレン、ポリフェニレンエーテル等の樹脂を含浸させた強化樹脂等が好ましい。
樹脂フィルム21の厚さは、2〜125μmが好ましい。樹脂フィルム21が厚すぎると、プリント配線基板10が厚くなる。樹脂フィルム21が薄すぎると、結合遮蔽フィルム20を取り扱いにくくなる。
It is preferable that the resin film 21 withstands the heating during the production of the printed wiring board 10 and has the heat resistance required for the printed wiring board 10. Further, it is preferable that the characteristic values required for the design of the printed wiring board 10 such as dielectric constant and dielectric loss tangent are known. Accordingly, the material of the resin film 21 is preferably polyimide; a reinforced resin in which a reinforcing material such as glass cloth is impregnated with a resin such as epoxy resin, bismaleimide triazine resin, polytetrafluoroethylene, or polyphenylene ether.
The thickness of the resin film 21 is preferably 2 to 125 μm. If the resin film 21 is too thick, the printed wiring board 10 becomes thick. When the resin film 21 is too thin, it becomes difficult to handle the bonding shielding film 20.

結合遮蔽フィルム20は、磁性金属材料を樹脂フィルム21の表面に物理的に蒸着させ、樹脂フィルム21の表面に結合遮蔽層22を形成することによって製造される。
結合遮蔽層22の形成方法としては、磁性金属材料を何らかの方法で気化させ、近傍に置いた樹脂フィルム21の表面上に堆積させる物理蒸着法(PVD)を適用することができる。
The bonding shielding film 20 is manufactured by physically depositing a magnetic metal material on the surface of the resin film 21 and forming the bonding shielding layer 22 on the surface of the resin film 21.
As a method of forming the bonding shielding layer 22, a physical vapor deposition method (PVD) in which a magnetic metal material is vaporized by some method and deposited on the surface of the resin film 21 placed in the vicinity can be applied.

物理蒸着法を磁性金属材料の気化方法で分類すると、蒸発系とスパッタ系に分けられる。蒸発系としては、EB蒸着法、イオンプレーティング法等が挙げられる。スパッタ系としては、マグネトロンスパッタリング法、対向ターゲット型マグネトロンスパッタリング法等のスパッタリング法が挙げられる。これらのうち、スパッタリング法が、結合遮蔽層22の厚さ制御、樹脂フィルム21の熱ダメージの低さの点から好ましい。   When physical vapor deposition is classified according to the vaporization method of magnetic metal material, it can be divided into an evaporation system and a sputtering system. Examples of the evaporation system include an EB vapor deposition method and an ion plating method. Examples of the sputtering system include sputtering methods such as a magnetron sputtering method and a counter target type magnetron sputtering method. Among these, the sputtering method is preferable from the viewpoints of thickness control of the bonding shielding layer 22 and low thermal damage of the resin film 21.

磁性金属材料としては、鉄、ニッケル、コバルト、これらを含む合金が挙げられる。合金としては、Fe−Ni、Fe−Co、Fe−Cr、Fe−Si、Fe−Al、Fe−Cr−Si、Fe−Cr−Al、Fe−Al−Si等が挙げられる。これらの磁性金属材料は、1種を単独で用いてもよく、2種以上の組み合わせて用いてもよい。ニッケルまたはニッケルを含む合金は、酸化に対して抵抗力があるため、好ましい。   Examples of magnetic metal materials include iron, nickel, cobalt, and alloys containing these. Examples of the alloy include Fe—Ni, Fe—Co, Fe—Cr, Fe—Si, Fe—Al, Fe—Cr—Si, Fe—Cr—Al, and Fe—Al—Si. These magnetic metal materials may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Nickel or an alloy containing nickel is preferred because it is resistant to oxidation.

磁性金属材料の蒸着質量は、膜厚換算で5〜200nmが好ましい。5nm以上とすることでノイズ抑制のための充分な質量を確保することができ、200nm以下とすることで、マイクロクラスター状態を維持し、ノイズ抑制効果を得ることが可能となる。蒸着質量は、ガラス、シリコン等の硬質基体上に同条件で磁性金属材料を蒸着し、堆積した厚さを測定し、平均することによって求められる。   The vapor deposition mass of the magnetic metal material is preferably 5 to 200 nm in terms of film thickness. By setting the thickness to 5 nm or more, a sufficient mass for noise suppression can be secured, and by setting the thickness to 200 nm or less, a microcluster state can be maintained and a noise suppression effect can be obtained. The vapor deposition mass is obtained by vapor-depositing a magnetic metal material on a hard substrate such as glass or silicon under the same conditions, and measuring and averaging the deposited thickness.

磁性金属材料の蒸着質量が多くなると、マイクロクラスター状態が得られにくくなり、具体的には20nm程度以上では、通常のスパッタリング法では単なる金属薄膜層に成長しやすい傾向がある。そこで、磁性金属材料の蒸着時に、通常のアルゴンガスに加え、窒素、酸素、硫化水素、シラン等の反応性ガスを導入することで、マイクロクラスター状態を安定化させることが好ましい。特に、窒素ガスを使用することで、磁性金属材料が堆積する際の巨大結晶化が阻害され、極めて安定化されたマイクロクラスター状態とすることができる。   When the vapor deposition mass of the magnetic metal material is increased, it becomes difficult to obtain a microcluster state. Specifically, when it is about 20 nm or more, it tends to grow into a simple metal thin film layer by a normal sputtering method. Therefore, it is preferable to stabilize the microcluster state by introducing a reactive gas such as nitrogen, oxygen, hydrogen sulfide, silane or the like in addition to the normal argon gas when depositing the magnetic metal material. In particular, the use of nitrogen gas inhibits giant crystallization when the magnetic metal material is deposited, and can achieve a very stable microcluster state.

以上説明したプリント配線基板10にあっては、電源層とグランド層との間に磁性金属材料を含む結合遮蔽層22が設けられているため、電源層とグランド層との間の電磁気的な結合を遮蔽し、電源−グランド層共振を抑えることができる。その結果、基板の周端部から電磁波ノイズが発生することを抑えることができる。また、電源層とグランド層との間に磁性金属材料を含む結合遮蔽層22を設けるだけでよいため、層間接続部材を設ける必要がなく、電源層とグランド層との位置関係にも制限がない。よって、プリント配線基板10の設計の自由度が高い。   In the printed wiring board 10 described above, since the coupling shielding layer 22 including a magnetic metal material is provided between the power supply layer and the ground layer, the electromagnetic coupling between the power supply layer and the ground layer is performed. Can be suppressed, and power-ground layer resonance can be suppressed. As a result, generation of electromagnetic noise from the peripheral edge of the substrate can be suppressed. Further, since it is only necessary to provide the coupling shielding layer 22 containing a magnetic metal material between the power supply layer and the ground layer, there is no need to provide an interlayer connection member, and there is no restriction on the positional relationship between the power supply layer and the ground layer. . Therefore, the degree of freedom in designing the printed wiring board 10 is high.

なお、本発明のプリント配線基板は、図示例のプリント配線基板10には限定はされず、電源層とグランド層とを有するプリント配線基板において、電源層とグランド層との間に、磁性金属材料を含む結合遮蔽層が設けられているものであれば、どのような形態のものであってもよい。
また、電源層またはグランド層と、信号配線層との間に結合遮蔽層を設けてもよいが、信号配線層の近傍に結合遮蔽層を設けた場合、信号電流が減衰し、信号伝播に悪影響を及ぼすおそれがあるため、信号配線層の近傍に結合遮蔽層を設けないことが好ましい。
The printed wiring board of the present invention is not limited to the printed wiring board 10 in the illustrated example, and in a printed wiring board having a power supply layer and a ground layer, a magnetic metal material is provided between the power supply layer and the ground layer. Any form may be used as long as a coupling shielding layer containing is provided.
In addition, a coupling shielding layer may be provided between the power supply layer or the ground layer and the signal wiring layer. However, if a coupling shielding layer is provided in the vicinity of the signal wiring layer, the signal current is attenuated and adversely affects signal propagation. It is preferable not to provide a coupling shielding layer in the vicinity of the signal wiring layer.

<プリント配線基板の製造方法>
プリント配線基板10は、結合遮蔽フィルム20を、絶縁層17となるプリプレグを介して、電源層13、15およびグランド層12、14、16となる複数の金属箔の間に配置し、さらに信号配線層11となる金属箔を重ね、これらを加熱プレスすることによって製造される。
<Method for manufacturing printed wiring board>
The printed wiring board 10 has the coupling shielding film 20 disposed between the plurality of metal foils serving as the power supply layers 13 and 15 and the ground layers 12, 14 and 16 via the prepreg serving as the insulating layer 17, and further to the signal wiring. The metal foil used as the layer 11 is piled up, and these are heated and pressed.

具体的は、(i)金属箔、プリプレグ、結合遮蔽フィルム20、プリプレグ、金属箔、プリプレグ、結合遮蔽フィルム20、プリプレグ、金属箔、プリプレグ、結合遮蔽フィルム20、プリプレグ、金属箔、プリプレグ、結合遮蔽フィルム20、プリプレグ、金属箔、プリプレグ、金属箔の順で積層し、これらを一括して加熱プレスする方法;(ii)金属箔、プリプレグ、結合遮蔽フィルム20の順で積層し、これらを加熱プレスした後、さらにこの上に、プリプレグ、金属箔の順で積層し、加熱プレスする工程と、さらにこの上にプリプレグ、結合遮蔽フィルム20の順で積層し、加熱プレスする工程とを順次繰り返す方法、等によって製造される。   Specifically, (i) metal foil, prepreg, bond shielding film 20, prepreg, metal foil, prepreg, bond shield film 20, prepreg, metal foil, prepreg, bond shield film 20, prepreg, metal foil, prepreg, bond shield A method of laminating film 20, prepreg, metal foil, prepreg, and metal foil in this order, and heating and pressing them together; (ii) laminating metal foil, prepreg, and bonded shielding film 20 in this order; After that, a method of sequentially repeating a step of laminating and heating and pressing the prepreg and the metal foil in this order, and a step of laminating and heating and pressing the prepreg and the bonding shielding film 20 in this order, Manufactured by etc.

スルーホール18またはビアホール(図示略)は、(a)上記(i)の方法で得られたプリント配線基板10、または上記(ii)の方法の途中で得られた積層体に、ドリル等で穴を開け、穴の内壁に銅メッキ等を施す方法;(b)金属箔、プリプレグ、結合遮蔽フィルム20に、あらかじめ、スルーホール18またはビアホールに対応する穴を形成しておき、これらを積層した後に穴の内壁に銅メッキ等を施す方法、等によって形成される。穴の大きさは、スルーホール18またはビアホールと、グランド層および結合遮蔽フィルム20との間の絶縁を確保するために、最終的に形成されるスルーホール18またはビアホールよりも大きくすることが好ましい。   The through-hole 18 or the via hole (not shown) is formed by drilling or the like in (a) the printed wiring board 10 obtained by the method (i) or the laminate obtained in the middle of the method (ii). And (b) forming holes corresponding to the through holes 18 or via holes in advance in the metal foil, prepreg, and bonding shielding film 20 and laminating them. It is formed by a method of applying copper plating or the like to the inner wall of the hole. The size of the hole is preferably larger than the finally formed through hole 18 or via hole in order to ensure insulation between the through hole 18 or via hole and the ground layer and the coupling shielding film 20.

金属箔を信号配線、電源配線等のパターンにあらかじめ加工する、または、金属箔にスルーホール、ビアホール等に対応した穴をあらかじめ形成してもよく;エッチング等によって、上記(ii)の方法の途中で得られた積層体の表面の金属箔を、信号配線、電源配線等のパターンに加工する、または、該金属箔にスルーホール、ビアホール等に対応した穴を形成してもよい。   The metal foil may be processed in advance into a pattern such as signal wiring or power wiring, or a hole corresponding to a through hole, a via hole, etc. may be formed in advance in the metal foil; The metal foil on the surface of the laminate obtained in step 1 may be processed into a pattern such as signal wiring or power supply wiring, or holes corresponding to through holes, via holes, or the like may be formed in the metal foil.

また、結合遮蔽フィルム20には、結合遮蔽層がない非結合遮蔽部をあらかじめ形成しておいてもよい。非結合遮蔽部は、スルーホールまたはビアホールに対応した位置、信号配線層11の信号配線に対応した位置等に形成することが好ましい。信号配線層11の信号配線の近傍に結合遮蔽層22が配置された場合、信号電流が減衰し、信号伝播に悪影響を及ぼすおそれがある。   Further, the bonding shielding film 20 may be previously formed with a non-bonding shielding portion having no bonding shielding layer. The non-bonding shielding portion is preferably formed at a position corresponding to the through hole or via hole, a position corresponding to the signal wiring of the signal wiring layer 11, and the like. When the coupling shielding layer 22 is disposed in the vicinity of the signal wiring of the signal wiring layer 11, the signal current is attenuated, which may adversely affect signal propagation.

非結合遮蔽部の形成方法としては、結合遮蔽層22にレーザーをあて、結合遮蔽層22をアブレーションさせ、除去する方法;結合遮蔽層22を残す部分にマスキングをし、マグキングされた部分以外の結合遮蔽層22をエッチングによって除去する方法;非結合遮蔽部に対応した樹脂フィルム21の表面にマスキングをし、マグキングされた部分以外に磁性金属材料を物理的に蒸着させる方法;結合遮蔽フィルム20に、抜き型による打ち抜き、レーザー加工、パンチングプレス等によって穴を開けて樹脂フィルム21ごと結合遮蔽層22を取り除く方法、等が挙げられる。   As a method for forming the non-bonding shielding portion, a method of applying a laser to the bonding shielding layer 22 to ablate and remove the bonding shielding layer 22; A method of removing the shielding layer 22 by etching; a method of masking the surface of the resin film 21 corresponding to the non-bonding shielding portion, and a physical vapor deposition of a magnetic metal material other than the portion that has been muked; Examples thereof include a method of punching with a punching die, laser processing, punching press, etc., and removing the bonding shielding layer 22 together with the resin film 21.

以上説明したプリント配線基板10の製造方法にあっては、結合遮蔽フィルム20を、絶縁層17となるプリプレグを介して、電源層およびグランド層となる複数の金属箔の間に配置しているため、従来のプリント配線基板と同じように、各層の材料を積み重ねて加熱するだけでプリント配線基板10を製造することができる。よって、電源−グランド層共振を抑える対策を容易に行うことができる。   In the method for manufacturing the printed wiring board 10 described above, the bonding shielding film 20 is disposed between the plurality of metal foils serving as the power supply layer and the ground layer via the prepreg serving as the insulating layer 17. Similarly to the conventional printed wiring board, the printed wiring board 10 can be manufactured simply by stacking and heating the materials of the respective layers. Therefore, it is possible to easily take measures to suppress the power-ground layer resonance.

以下、実施例を示す。
〔実施例1〕
樹脂フィルム21である厚さ25μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、商品名「カプトン」)の片面に、対向ターゲット型マグネトロンスパッタリング法により、以下の条件で、磁性金属材料であるニッケルを物理的に蒸着させて、結合遮蔽層22を形成し、結合遮蔽フィルム20を得た。
(条件)樹脂フィルム21の温度:常温(25℃)、ニッケルの蒸着質量(膜厚換算):25nm、反応ガス雰囲気:アルゴンガス60sccmおよび窒素ガス20sccm、電力:2kW。
Examples are shown below.
[Example 1]
On one side of a 25 μm thick polyimide film (trade name “Kapton” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.), which is a resin film 21, nickel, which is a magnetic metal material, is physically applied by the facing target type magnetron sputtering method under the following conditions. To form a bond shielding layer 22 to obtain a bond shielding film 20.
(Conditions) Temperature of resin film 21: normal temperature (25 ° C.), nickel deposition mass (film thickness conversion): 25 nm, reaction gas atmosphere: argon gas 60 sccm and nitrogen gas 20 sccm, power: 2 kW.

結合遮蔽フィルム20について、結合遮蔽層22の表面抵抗を、ダイアインスツルメンツ製、MCP−T600により、測定電圧10Vで直流4端子法で測定し、測定点数5点の平均値を求め、さらにこの平均値値と結合遮蔽層22の厚さとから体積抵抗率R1(Ω・cm)を算出した。体積抵抗率R1は、4.8×10-4Ω・cmであった。ニッケルの体積抵抗率R0(文献値)は、7.24×10-6Ω・cmであり、logR1−logR0は1.82となり、0.5≦logR1−logR0≦3の関係を満足した。 About the joint shielding film 20, the surface resistance of the joint shielding layer 22 is measured by DC 4 terminal method with a measurement voltage of 10V by MCP-T600 manufactured by Dia Instruments, and an average value of five measurement points is obtained. The volume resistivity R1 (Ω · cm) was calculated from the value and the thickness of the bonding shielding layer 22. The volume resistivity R1 was 4.8 × 10 −4 Ω · cm. The volume resistivity R0 (document value) of nickel was 7.24 × 10 −6 Ω · cm, logR1−logR0 was 1.82, and the relationship of 0.5 ≦ logR1−logR0 ≦ 3 was satisfied.

図1に示すようなプリント配線基板10を製造した。
信号配線層11となる銅箔をあらかじめ信号配線のパターンに加工し、電源層13、15となる銅箔をあらかじめ電源配線のパターンに加工し、グランド層12、14となる金属箔にスルーホール18に対応した1.2mm穴をあらかじめ形成した。
また、結合遮蔽フィルム20には、炭酸ガスレーザー加工機を用いて、スルーホール18に対応した1.2mm穴をあらかじめ形成した。
これら銅箔の間に、ガラス布にエポキシ樹脂を含浸させた厚さ50μmのプリプレグを介して結合遮蔽フィルム20を挟み、これらを加熱プレスしてプリント配線基板10を得た。
A printed wiring board 10 as shown in FIG. 1 was manufactured.
The copper foil to be the signal wiring layer 11 is processed into a signal wiring pattern in advance, the copper foil to be the power supply layers 13 and 15 is processed into a power supply wiring pattern in advance, and the through holes 18 are formed in the metal foil to be the ground layers 12 and 14. A 1.2 mm hole corresponding to was previously formed.
In addition, a 1.2 mm hole corresponding to the through hole 18 was previously formed in the bonding shielding film 20 using a carbon dioxide laser processing machine.
Between these copper foils, a bonding shielding film 20 was sandwiched through a prepreg having a thickness of 50 μm in which a glass cloth was impregnated with an epoxy resin, and these were heated and pressed to obtain a printed wiring board 10.

ついで、ドリルを用いてプリント配線基板10に直径1.0mmの穴を開け、穴の内壁に銅メッキを施し、スルーホール18を形成した。
ついで、信号配線層11上に、電源、信号発生用IC、およびアンプを、ハンダ付けによって実装し、電子部品が実装されたプリント配線基板10を得た。
Next, a hole with a diameter of 1.0 mm was formed in the printed wiring board 10 using a drill, and the inner wall of the hole was plated with copper to form a through hole 18.
Next, a power supply, a signal generating IC, and an amplifier were mounted on the signal wiring layer 11 by soldering, and the printed wiring board 10 on which electronic components were mounted was obtained.

〔比較例1〕
結合遮蔽フィルム20を設けない以外は、実施例1と同様にして、電子部品が実装されたプリント配線基板を得た。
[Comparative Example 1]
A printed wiring board on which electronic components were mounted was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bonding shielding film 20 was not provided.

〔評価〕
小型電波暗室内にて、プリント配線基板に0.1〜3GHzの高周波電流を流し、プリント配線基板の周端部から放出される電磁波を測定した。アンテナとしてログペリオディックアンテナを用い、測定器としてアジレントテクノロジー社製、EMCアナライザ「HP8594EM」を用い、3m法で測定を行った。
1GHzの周波数において、比較例1のプリント配線基板では51.16dBμVの電磁波が測定されたのに対し、実施例1の基板ではプリント配線基板では36.23dBμVにとどまり、約15dBの減衰効果が認められた。
[Evaluation]
In a small anechoic chamber, a high frequency current of 0.1 to 3 GHz was passed through the printed wiring board, and electromagnetic waves emitted from the peripheral edge of the printed wiring board were measured. A log periodic antenna was used as an antenna, and an EMC analyzer “HP8594EM” manufactured by Agilent Technologies was used as a measuring instrument.
At a frequency of 1 GHz, an electromagnetic wave of 51.16 dBμV was measured with the printed wiring board of Comparative Example 1, whereas it was only 36.23 dBμV with the printed wiring board of Example 1, and an attenuation effect of about 15 dB was observed. It was.

本発明のプリント配線基板は、電源−グランド層共振による電磁波ノイズの発生が問題となるような、0.3GHz以上の高周波電流が流れるプリント配線基板として有用である。   The printed wiring board of the present invention is useful as a printed wiring board through which a high-frequency current of 0.3 GHz or more flows so that generation of electromagnetic noise due to power-ground layer resonance becomes a problem.

本発明のプリント配線基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the printed wiring board of this invention. 結合遮蔽フィルムの上面模式図である。It is an upper surface schematic diagram of a joint shielding film. 結合遮蔽フィルムの斜視模式図である。It is a perspective schematic diagram of a joint shielding film. 結合遮蔽層の表面のフィールドエミッション走査電子顕微鏡像である。It is a field emission scanning electron microscope image of the surface of a joint shielding layer. 結合遮蔽層の断面の高分解能透過型電子顕微鏡像である。It is a high-resolution transmission electron microscope image of the cross section of a joint shielding layer. 結合遮蔽層の電子線回折像である。It is an electron beam diffraction image of a joint shielding layer.

符号の説明Explanation of symbols

10 プリント配線基板
11 信号配線層
12 グランド層
13 電源層
14 グランド層
15 電源層
16 グランド層
17 絶縁層
18 スルーホール
20 結合遮蔽フィルム
21 樹脂フィルム
22 結合遮蔽層
23 マイクロクラスター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Printed wiring board 11 Signal wiring layer 12 Ground layer 13 Power supply layer 14 Ground layer 15 Power supply layer 16 Ground layer 17 Insulating layer 18 Through hole 20 Bonding shielding film 21 Resin film 22 Bonding shielding layer 23 Microcluster

Claims (5)

電源層とグランド層とを有するプリント配線基板において、
電源層とグランド層との間に、磁性金属材料を含む結合遮蔽層が設けられていることを特徴とするプリント配線基板。
In a printed wiring board having a power supply layer and a ground layer,
A printed wiring board characterized in that a coupling shielding layer containing a magnetic metal material is provided between a power supply layer and a ground layer.
前記電源層とグランド層との間に、さらに樹脂フィルムからなる層が設けられ、
前記結合遮蔽層が、磁性金属材料を前記樹脂フィルムの表面に、反応性ガス雰囲気下でスパッタリング法にて物理的に蒸着させて形成された層であることを特徴とする請求項1記載のプリント配線基板。
A layer made of a resin film is further provided between the power supply layer and the ground layer,
2. The print according to claim 1, wherein the bonding shielding layer is a layer formed by physically depositing a magnetic metal material on the surface of the resin film by a sputtering method in a reactive gas atmosphere. Wiring board.
前記磁性金属材料が、ニッケルまたはニッケルを含む合金であることを特徴とする請求項1または請求項2記載のプリント配線基板。   3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the magnetic metal material is nickel or an alloy containing nickel. 磁性金属材料を含む結合遮蔽層が樹脂フィルムの表面に形成された結合遮蔽フィルムを、電源層およびグランド層となる複数の金属箔の間に配置する工程を有することを特徴とするプリント配線基板の製造方法。   What is claimed is: 1. A printed wiring board comprising a step of disposing a bonding shielding film having a bonding shielding layer containing a magnetic metal material formed on a surface of a resin film between a plurality of metal foils serving as a power supply layer and a ground layer. Production method. 前記結合遮蔽フィルムの一部に、結合遮蔽層がない非結合遮蔽部をあらかじめ形成しておくことを特徴とする請求項4記載のプリント配線基板の製造方法。
5. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 4, wherein a non-bonding shielding portion having no bonding shielding layer is formed in advance on a part of the bonding shielding film.
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