JP2006286076A - Manufacturing method of optical disk, and optical disk - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光ディスクの製造方法および光ディスクの技術分野に属する。 The present invention belongs to the optical disc manufacturing method and the optical disc technical field.
光ディスクとして、DVD(Digital Versatile Disc)が広く用いられるようになってきており、音声データや画像データなど、種々の情報が記録できるようになっている。DVDにおいては、再生専用のタイプの他、記録や追記が可能なDVD−R(Recordale)、書き換えが可能なDVD−RW(Re−Recordale)等のバリエーションがある。 As an optical disk, a DVD (Digital Versatile Disc) has been widely used, and various information such as audio data and image data can be recorded. In addition to the reproduction-only type, there are variations such as DVD-R (Recordable) that can be recorded and added, and DVD-RW (Re-Recordable) that can be rewritten.
このような光ディスクにおいては、現在、一層記録タイプのものと二層以上の多層記録タイプのものが知られている。多層記録タイプ(二層記録タイプ)の光ディスクの製造方法として、基板形成、第1光記録面形成、光透過性中間層、第2光記録面形成、保護層形成ないしは他の基板形成の各工程によるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。そのうち光透過性中間層の製造工程は、まず予め凹凸が形成された基板上に設けられた第1光記録面上に紫外線硬化樹脂を塗布し、転写原盤となる透明スタンパを密着させた状態で高速回転させて紫外線硬化性樹脂を全周に均一な厚さに分布させる(スピン貼り合せ)。続いて透明スタンパ側から紫外線を照射し、樹脂を硬化させた後にスタンパを剥離する。この各工程によって光透過性中間層が形成されて、その後、第2光記録面が形成され、他の基板が貼り合わせられる、という手法が知られている。
上述した多層記録タイプの光ディスクの製造過程において、光透過性中間層を形成する際に、透明スタンパ側から紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させた後にスタンパを剥離すると、光透過性中間層を形成する紫外線硬化樹脂が、スタンパの外側にはみ出した状態で硬化されることになり、バリ状になる。この上に、記録層用材料と反射層用材料を積層して第2光記録面を形成し、他の基材を貼り合わせると、下面の基材と上面の他の基材との間に隙間が発生し、外観不良、反り不良、耐久試験不合格等の性能劣化が発生する。そのため、光ディスクの製造過程においては、光透過性中間層用の樹脂からなるバリを除去する工程が必要となり、工程数が多くなるという不都合があった。 In the manufacturing process of the above-described multilayer recording type optical disc, when forming the light transmissive intermediate layer, the light transmissive intermediate layer is formed by irradiating ultraviolet rays from the transparent stamper side, curing the ultraviolet curable resin, and then removing the stamper. The ultraviolet curable resin that forms the film is cured in a state of protruding to the outside of the stamper, and becomes a burr. On top of this, a second optical recording surface is formed by laminating a recording layer material and a reflective layer material, and when another substrate is bonded, the lower substrate and the upper substrate are placed between each other. A gap occurs, resulting in performance deterioration such as defective appearance, warping, and failure of the durability test. Therefore, in the manufacturing process of the optical disc, a step of removing burrs made of the resin for the light transmissive intermediate layer is required, which disadvantageously increases the number of steps.
そこで、本願は、光ディスクの性能劣化を防止し、製造工程数を少なくすることのできる光ディスクの製造方法、および、光ディスクを提供することを課題の一例とする。 Accordingly, an object of the present application is to provide an optical disc manufacturing method and an optical disc that can prevent performance degradation of the optical disc and reduce the number of manufacturing steps.
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、第一の基材および第二の基材の間に少なくとも一の記録層および転写可能な材料からなる転写層を有する円盤状の光ディスクの製造方法であって、前記転写層をスタンパにより成型する工程と、前記第一の基材と前記記録層との上に接着剤を介して前記第二の基材を積層する工程と、を有し、前記スタンパの直径が前記第二の基材の直径よりも大きいことを特徴とする光ディスクの製造方法である。 In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 is a disk-like shape having at least one recording layer and a transfer layer made of a transferable material between the first base material and the second base material. And a step of forming the transfer layer with a stamper, and a step of laminating the second substrate via an adhesive on the first substrate and the recording layer. The stamper has a diameter larger than that of the second base material.
また、上記課題を解決するために、請求項5に記載の発明は、第一の基材および第二の基材の間に少なくとも一の記録層および中間層を有する円盤状の光ディスクであって、前記第一の基材の直径が前記第二の基材の直径よりも大きく、前記中間層が転写可能な材料からなり、前記中間層の材料と、前記第二の基材を光ディスクの他の部分に貼り合わせる接着剤と、が光ディスクの周囲を覆い接着して硬化していることを特徴とする光ディスクである。 In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 5 is a disc-shaped optical disc having at least one recording layer and an intermediate layer between a first base material and a second base material. The diameter of the first base material is larger than the diameter of the second base material, and the intermediate layer is made of a transferable material. The intermediate layer material and the second base material And an adhesive to be bonded to the portion of the optical disc, wherein the optical disc covers and surrounds the periphery of the optical disc and is cured.
本発明に好適な実施の形態について、図面に基づいて説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Preferred embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
図1は、一の実施形態の光ディスクの製造工程を示す概略断面図であり、図2は、他の実施形態の光ディスクの製造工程を示す概略断面図であり、図3は、実施形態の光ディスクのより詳細な部分断面図である。なお、本願における上下の語は、各図に示した製造状態における光ディスクの上下を示すものである。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of an optical disc of one embodiment, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of an optical disc of another embodiment, and FIG. 3 is an optical disc of the embodiment. It is a more detailed partial sectional view of. In addition, the upper and lower terms in the present application indicate the upper and lower sides of the optical disk in the manufacturing state shown in each drawing.
図3に示すように、本実施形態の光ディスク101は、第一の基材である第一基板11および第二の基材である第二基板12の間に少なくとも一の記録層21、22および転写可能な材料からなる転写層40を有する円盤状の光ディスク101である。具体的に、本実施形態の光ディスク101は、第一基板11、第一記録層21、第一反射層31、転写層40である透光性の中間層40、第二記録層22、第二反射層32、接着剤層50および第二基板12が順次積層されている。そして、第一基板11は、第一記録層21側に第一グルーブG1のプリグルーブを有し、中間層40は、第二記録層22側に第二グルーブG2のプリグルーブを有する。また、この光ディスク101は、第一基板11上に他の各層を順次積層したものであり、第二反射層32と第二基板12とは、接着剤層50を介して貼り合わせられている。
As shown in FIG. 3, the
この光ディスク101の製造方法にあっては、図1(A)および図1(B)に示すように、転写層40をスタンパ60により成型する工程と、図1(C)に示すように、第一基板11と記録層21、22との上に接着剤からなる接着剤層50を介して第二基板12を積層する工程と、を有し、図1(A)および図1(C)に示すように、スタンパ60の直径D16が第二基板12の直径D12よりも大きいことを特徴とするものである。
In the method of manufacturing the
本実施形態の光ディスク101の製造方法について、図1を参照して詳細に説明する。
A method for manufacturing the
図1(A)に示すように、第一基板11上に第一記録層21、第一反射層31(図1(A)には図示しない)を積層した後、その上に中間層40を形成し、さらにスタンパ60を設置することにより中間層40にグルーブG2のプリグルーブ等を形成する。具体的には、転写原盤となる透明スタンパ60を中間層40に密着させた状態で高速回転させて中間層40を構成する材料を全体に均一な厚さに分布させる(スピン貼り合せ)。そして、通常、中間層40に紫外線等の光を照射することによりプリグルーブ等が形成された中間層40の材料を硬化させる。このとき、中間層40を構成する樹脂が第一基板11とスタンパ60の少なくともいずれか一方よりも外側に出て、バリ41が生じる。図1(A)においては、第一基板11よりも直径が大きなスタンパ60を用いている。
As shown in FIG. 1A, after a
次いで、図1(B)に示すように、中間層40を硬化させ、中間層40からスタンパ60を剥離すると、中間層40がスタンパ60の形状に沿った形状を有して硬化しており、また、中間層40からはみだしたバリ41が中間層40の上面よりも若干上側に出て硬化することとなる。
Next, as shown in FIG. 1B, when the
次いで、図1(C)に示すように、中間層40上に第二記録層22、第二反射層32(図1(C)には図示しない)を積層した後、その上に接着剤を塗布して第二基板12を貼り付け、当該接着剤からなる接着剤層50が形成される。このとき、上述のスタンパ60よりも直径が小さな第二基板12を用いることにより、接着剤上に第二基板12を置いたときに、中間層40から生ずるバリ41に第二基板12が当たることなく、第二基板12を貼り付けることができる。また、接着剤層50からはみ出たバリ51と中間層40からはみ出たバリ41とが光ディスク101の外側において一体となって周囲を覆うため、第一基板11と第二基板12とを強固に接着することができる。なお、図1(C)においては、中間層40からのバリ41と接着剤層50からのバリ51とが違いが明確になるように、境目を記載しているが、実際には各バリ41、51が一体となり、通常、見分けがつかないものとなっている。
Next, as shown in FIG. 1C, after the
このように、本実施形態の光ディスク101の製造方法においては、中間層40の第一基板11上からはみ出たバリ41がそのまま光ディスク101と一体となるため、当該バリ41を切削する等の除去処理を行う必要が無く、工程数や時間、コストを低減して光ディスク101を製造することができる。また、このような光ディスク101の製造方法により、第一基板11に第二基板12を貼り付けた際に、両基板11、12の間に中間層40のバリ41により隙間ができることを防止できる。これより、従来のように下面の第一基板と上面の第二基板との間に隙間が発生し、外観不良、反り不良、耐久試験不合格等の性能劣化が生ずることを、防止することができ、良好な諸性能を有する光ディスク101を提供することができる。
As described above, in the method of manufacturing the
このように製造された光ディスク101は、第一基板11および第二基板12の間に少なくとも一の記録層21、22および中間層40を有する円盤状の光ディスク101であって、第一基板11の直径D11と第二基板12の直径D12とが同程度の大きさであり、中間層40が転写可能な材料からなるとともに、中間層40の材料と、第二基板12を光ディスク101の他の部分に貼り合わせる接着剤(接着剤層50を構成する接着剤)と、が光ディスク101の周囲を覆い接着して硬化しているものである。すなわち、中間層40からはみ出したバリ41と接着剤層50からはみ出したバリ51とが、光ディスク101の面方向の周囲を覆い、接着して硬化している。この光ディスク101を覆うバリ41、51による部分は、必要に応じて切削等することも可能である。
The
なお、図1(A)〜図1(C)に示す光ディスク101の製造方法においては、第一基板11の直径D11と第二基板12の直径D12の大きさをほぼ同様としている。
In the manufacturing method of the
次いで、他の実施形態の光ディスク102の製造方法について、図2を参照して説明する。
Next, a method for manufacturing the
光ディスク102の製造方法において、図1を用いて説明した実施形態の光ディスク101の製造方法と異なる点は、スタンパ60の直径D26の大きさを第一基板11の直径D21の大きさと同様とし、第二基板12の直径D22の大きさを第一基板11の直径D21の大きさよりも小さくした点である。スタンパ60の直径D26の大きさが第二基板12の直径D22の大きさよりも大きい点においては、光ディスク101および光ディスク102において共通している。
The manufacturing method of the
図2(A)に示すように、第一基板11上に図示しない第一記録層21、第一反射層31を積層した後、その上に中間層40を形成し、さらにスタンパ60を用いて中間層40にグルーブG2のプリグルーブ等を形成する。そのとき、中間層40を構成する樹脂が第一基板11とスタンパ60の少なくともいずれか一方よりも外側に出て、バリ41が生じる。図2(A)においては、第一基板11と同様の大きさ(直径)を有するスタンパ60を用いている。
As shown in FIG. 2A, after laminating a
次いで、図2(B)に示すように、中間層40を硬化させ、中間層40からスタンパ60を剥離すると、中間層40がスタンパ60の形状に沿った形状を有して硬化しており、また、中間層40からはみだしたバリ41が中間層40の上面よりも若干上側に出て硬化することとなる。
Next, as shown in FIG. 2B, when the
次いで、図2(C)に示すように、中間層40上に図示しない第二記録層22、第二反射層32を積層した後、その上に接着剤を塗布して第二基板12を貼り付け、当該接着剤からなる接着剤層50が形成される。このとき、上述のスタンパ60よりも直径が小さな第二基板12を用いることにより、接着剤上に第二基板12を置いたときに、中間層40から生ずるバリ41に第二基板12が当たることなく、第二基板12を貼り付けることができる。また、接着剤層50からはみ出たバリ51と中間層40からはみ出たバリ41とが光ディスク102の外側において一体となって周囲を覆うため、第一基板11と第二基板12とを強固に接着することができる。なお、図2(C)の光ディスク102においても、実際には各バリ41、51が一体となり、通常、見分けがつかないものとなっている。
Next, as shown in FIG. 2C, a
このように製造された光ディスク102は、第一基板11および第二基板12の間に少なくとも一の記録層21、22および中間層40を有する円盤状の光ディスク102であって、第一基板11の直径D11が第二基板12の直径D12よりも大きく、中間層40が転写可能な材料からなり、中間層40の材料と、第二基板12を光ディスク102の他の部分に貼り合わせる接着剤(接着剤層50を構成する接着剤)と、が光ディスク102の面方向の周囲を覆い接着して硬化しているものである。すなわち、中間層40からはみ出したバリ41と接着剤層50からはみ出したバリ51とが、光ディスク102の周囲を覆い、接着して硬化している。この光ディスク102を覆うバリ41、51による部分は、必要に応じて切削等することも可能である。
The
なお、上述した第一基板11、第二基板12、スタンパ60、の大きさとは、光ディスク101、102の面方向の大きさを示すものである。また、図1(A)〜図1(C)および図2(A)〜図2(C)において、光ディスクの中心をOで示し、光ディスクのクランプ孔をPで示している。
Note that the sizes of the
上述した各実施形態の光ディスク101、102は、円盤状であり、スタンパ60が第二基板12よりも直径で0.20〜0.30mm大きいことが好ましい。光ディスク101の大きさは、現状の規格によると、直径D11が120mm±0.30mm(119.7〜120.3mm)の範囲内とされている。本実施形態の光ディスク101の製造方法においては、スタンパ60と第二基板12との関係がこのような範囲内であることにより、スタンパ60の大きさまたは第二基板12の大きさのいずれか一方を従来と変えることなく、上述の規格の範囲内の光ディスク101を得ることができる。なお、スタンパ60が第二基板12より少なくとも直径で0.20mm大きいことにより、第二基板12を第一基板11に貼り合わせる際に、バリ41にぶつかり、両基板11、12間に隙間ができることが十分に防止される。
The
また、光ディスク101、102が円盤状である場合、図1を用いて説明した光ディスク101の製造方法においては、第一基板11の直径D11が119.7〜119.8mm、スタンパ60の直径D16が120.0mm、第二基板12の直径D12が第一基板11と略同一の119.7〜119.8mm、とすることができる。また、図2を用いて説明した光ディスク102の製造方法においては、第一基板11の直径D21が119.9〜120.0mm、スタンパ60の直径D26が120.0mm、第二基板12の直径D22が119.7〜119.8mm、とすることができる。なお、第一基板11および第二基板12を貼り合わせた光ディスク101、102の大きさは、はみ出した接着剤等のバリ41、51の大きさを含めて、通常、直径D10、D20が119.7〜120.3mmである。光ディスク101、102の第一基板11、第二基板12、スタンパ60の各直径を上述の範囲で調整することにより、規格範囲内の大きさを有する光ディスクを提供することができる。
When the
本実施形態の光ディスク101、102の製造方法における特徴的な点について上述してきたが、本実施形態の光ディスク101、102の全体の製造方法は、一例として、図3に示すように、第一基板11に第一グルーブG1を形成し、この第一基板11の第一グルーブG1側に、第一記録層21および第一反射層31を順次積層し、さらに転写可能な材料からなる中間層4を積層し、この中間層40の第一反射層31を有しない側にスタンパ60を用いて第二グルーブG2を形成し、中間層40の第二グルーブG2側に第二記録層22および第二反射層32を順次積層し、この第二反射層32と第二基板12とを接着剤層50により貼り合わせることによるものである。
Although the characteristic points in the manufacturing method of the
以下に、図3に示される本実施形態の光ディスク101の基本的な層構成および各層の形成方法について説明する。なお、中間層40を形成するために用いられるスタンパ60についても併せて説明する。
Hereinafter, a basic layer configuration and a method of forming each layer of the
第一基板11の材料は、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)樹脂等のアクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の透明樹脂やガラス等が用いられる。このように、第一基板11の材料としては、通常、記録用レーザ光、再生用レーザ光および記録再生用レーザ光を透過させる性質を有するもの、具体的には透明性が高く各レーザ光に対する光透過率が80%以上、より好ましくは90%以上の樹脂が用いられる。図3に示すように、光ディスク101において、第一基板11側から各光が入光するためである。
As the material of the
また、第一基板11の厚さは、光ディスク101の規格に従うが、通常、0.1−0.6mmである。すなわち、光ディスク101が赤色レーザ用のDVD−Rディスクである場合には、第一基板11の厚さは0.6mmであり、光ディスク101が青色レーザ用ディスクである場合には、第一基板11(記録再生レーザ光の透過層に該当する。)の厚さは0.1mmまたは0.6mmである。なお、第一基板11には、通常、円形で中心に空洞(クランプ孔)Pを有した板状の形状のものが用いられる。
Further, the thickness of the
第一基板11の第一記録層21が形成される側には、記録用案内溝である第一グルーブG1のプリグルーブおよび記録される情報に応じたピット列のプリピットが形成されている。この第一グルーブG1およびピット列の形状については、記録や再生が可能となるように適宜設定され、特に限定されないが、通常、プリグルーブの深さが140−180nm程度、幅が0.25−0.35μm程度、ピッチが0.7−0.9μm程度である。なお、第一グルーブG1のプリグルーブは、円形の第一基板11の中心Oを基準として、螺旋状または同心円状に形成されている。さらに、第一グルーブG1は、所定の周期で半径方向に蛇行するようにしてもよい。このようにグルーブが蛇行していることをウォブルグルーブともいう。さらにまた、各第一グルーブG1間に位置するランドには、プリピットが所定間隔で形成されている。
On the side of the
この第一グルーブG1等の形成方法は、特に限定されないが、フォトレジストやスタンパ等を用いた従来公知の方法が用いられる。 A method for forming the first groove G1 and the like is not particularly limited, but a conventionally known method using a photoresist, a stamper, or the like is used.
第一記録層21の材料は、従来の光記録媒体の記録層に用いられている有機色素や合金材料、相変化記録材料等を用いればよく、光学的に記録可能であれば特に限定されない。有機色素としては、例えば、アゾ化合物の錯体、シアニン色素、フタロシアニン色素等が用いられる。追記型記録用の合金材料としては、例えば、Te、Bi、Se、Sn等の低融点金属の合金材料が用いられる。また、相変化記録材料としては、レーザ光により結晶相とアモルファス層が変化する材料、例えば、In−Ag−Te−Sb系材料、In−Ge−Te−Sb系材料、Ge−Te−Sb系材料等が用いられる。第一記録層21の厚さは、特に限定されないが、通常、50−120nmである。
The material of the
第一記録層21は、各第一グルーブG1およびその間のランドに沿って、ほぼ同様の厚みで形成されてもよい。また、第一記録層21は、図2に示すように、第一グルーブG1を埋め込むように形成され、第一反射層31が設けられる側を平坦な面に形成してもよい。
The
第一記録層21Aの形成方法は、特に限定されないが、通常、スピンコート法等が用いられる。具体的に、第一記録層21がスピンコート法により形成される場合には、上述の第一記録層21の材料を溶媒に溶解、分散させて塗工液とし、第一基板11上にこの塗工液をスピンコートする。なお、第一記録層21の材料として上述のアゾ化合物の錯体を用いる場合には、上述の塗工液の溶媒として、テトラフルオロプロパノールまたはオクタフルオロペンタノール等が用いられる。また、第一記録層21の材料として上述のシアニン色素を用いる場合には、上述の塗工液の溶媒として、エチルセルソルブまたはジメチルシクロヘキサン等が用いられる。
The formation method of the first recording layer 21A is not particularly limited, but usually a spin coating method or the like is used. Specifically, when the
第一反射層31の材料は、金、アルミニウム、銀、銅等の金属や、これらの金属からなる合金が用いられる。また、第一反射層31の厚さは、記録/再生用のレーザ光を反射させ、または、透過させることが可能な厚さとすれば特に限定されないが、通常、10nm±2nm程度である。上述のように、第一記録層21の第一反射層31側が平坦な面として形成されている場合には、第一反射層31は、第一基板11側の面が第一基板11の入光面に対して平行で平坦な面にできる。
The material of the first
第一反射層31Aの形成方法は、特に限定されないが、通常、スパッタリング、蒸着法等が用いられる。 Although the formation method of 31 A of 1st reflection layers is not specifically limited, Usually, sputtering, a vapor deposition method, etc. are used.
透光性の中間層40の材料としては、上述のように転写可能な材料が用いられるが、通常、光硬化性樹脂が用いられる。この光硬化性樹脂は、可視光、あるいは紫外光などの光に感度を有する光重合開始剤が配合された樹脂組成物であり、スタンパ60を通して光が照射されることにより、硬化するようになっている。中間層40の材料としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく用いられる他、透明フィルム等が用いられる。なお、中間層40は、光を透過する必要があるため、製造後の光ディスク101に使用するレーザ波長において、80%以上の透過率を有する樹脂を用いることが好ましい。また、中間層40は、第一グルーブG1用プリグルーブと同様の第二グルーブG2用プリグルーブを形成できるように、第一基板11と同等の熱的挙動を呈し、かつ、第一基板11と同等の硬度を有することが好ましい。中間層40の厚さは、特に限定されないが、通常、40μm程度である。
As a material for the light-transmitting
中間層40の形成方法は、特に限定されないが、通常、スピンコート法による塗布、又は粘着剤付透明フィルムの積層により、第一反射層31上に均一に形成される。このとき、中間層40から生ずるバリ41の量が多量とならず、バリ41を有していても光ディスク101が規格の範囲内に含まれるよう、中間層40の材料の塗布量を調整することが好ましい。
Although the formation method of the intermediate |
中間層40の第二記録層22が形成される側には、第二グルーブG2のプリグルーブが形成される。このプリグルーブの形状は、上述の第一グルーブG1と同様の範囲の深さ、幅およびピッチを有する形状である。中間層40が有するプリグルーブの形状は、上述のように、第二グルーブG2の形状に合わせたスタンパ60を押し当て、紫外線等の光を照射することにより形成する。
The pregroove of the second groove G2 is formed on the side of the
ここで、スタンパ60の材質は、特に限定されないが、ゼオノア(日本ゼオン社製)、ゼオネックス(日本ゼオン社製)、アペル(三井化学社製)、APO(三井化学社製)、アートン(JSR社製)等の非晶質ポリオレフィン系樹脂からなる透明スタンパが好ましく用いられる。透明スタンパは、これらの樹脂を原料として、エッチングなどにより必要な形状とした金属、あるいはガラスからなるマスタースタンパにより成形される。成形温度はガラス転移温度が低い樹脂を用いて、金型温度を低く設定して成形し、成形の精度(微細な凹部の忠実性)を向上させることが望ましい。
Here, the material of the
なお、スタンパ60としては、上述の透明スタンパ以外に、ニッケル等の金属からなるスタンパを用いることもできる。
As the
スタンパ60の厚さについては、特に制限はないが、スタンパ60を透過する光によって光硬化性樹脂を硬化させる必要がある。
Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the
第二記録層22の材料および厚さは、光学的に記録可能であれば特に限定されず、上述した第一記録層21の材料および厚さと同様の範囲のものが用いられる。第二記録層22は、上述の第一記録層21と同様に、各第二グルーブG2およびその間のランドに沿って、ほぼ同様の厚みで形成されてもよい。さらに、第二記録層22は、図3に示すように、第二グルーブG2を埋め込むように形成され、第二反射層32が設けられる側を平坦な面に形成してもよい。この第二記録層22の形成方法も、上述の第一記録層21の形成方法と同様である。
The material and thickness of the
第二反射層32の材料は、上述の第一反射層31の材料と同様である。ただし、第二反射層32の材料は、第一反射層31のように光を反射する性質と透過する性質とを併せ持つ必要はなく、記録/再生用のレーザ光を全反射できればよい。
The material of the second reflective layer 32 is the same as the material of the first
また、第二反射層32の厚さは、記録/再生用のレーザ光を全反射できる範囲において適宜選択され、例えば、50nm以上とする。上述のように、第二記録層22の第二反射層32側が平坦な面として形成されている場合には、第二反射層32は、第一基板11A側の面が第一基板11の入光面に対して平行で平坦な面にできる。これより、後述するように、第二反射層32と第二基板12との平坦な面同士を接着させることになるので、これらの層の貼り合わせも容易になる。この第二反射層32の形成方法も、上述の第一反射層31の形成方法と同様である。
The thickness of the second reflective layer 32 is appropriately selected within a range where the recording / reproducing laser beam can be totally reflected, and is set to, for example, 50 nm or more. As described above, when the second reflective layer 32 side of the
第二反射層32と第二基板12とは、接着剤層50を介して接着されている。この接着剤層50を構成する接着剤は、第二基板12とその他の光ディスク101の部分とを貼り合わせることができるものであれば、特に限定されないが、中間層40と同様の紫外線硬化性樹脂等の光硬化性樹脂や、ホットメルト接着剤が好ましく用いられる。また、この接着剤からなる接着剤層50の厚さは、特に限定されないが、通常、20μm程度である。
The second reflective layer 32 and the
接着剤の塗布方法は、特に限定されないが、通常、スピンコート法、ロールコーター法等の塗布方法により、第二反射層32または第二基板12のいずれか一方の貼り合わせ面に接着剤が均一に塗布される。このとき、接着剤からなる接着剤層50から生ずるバリ51の量が多量とならず、バリ51を有していても光ディスク101が規格の範囲内に含まれるよう、接着剤の塗布量を調整することが好ましい。次いで、第二反射層32または第二基板12の接着剤を塗布しなかった方の貼り合わせ面を、塗布した接着剤上に重ね合わせて圧着する。接着剤として紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を用いた場合には、圧着後、紫外線を照射することにより、接着剤を硬化させて、二つの基板11および12を接着させる。このとき、接着剤層50から生ずるバリ51と、上述の中間層40から生ずるバリ41とにより、第一基板11と第二基板12との面方向外側の周囲が強固に接着されることとなる。
The method for applying the adhesive is not particularly limited, but the adhesive is usually uniform on the bonding surface of either the second reflective layer 32 or the
第二基板12は、通常、第一基板11と同様の材料、厚さのものが用いられる。図1(A)〜図1(C)における光ディスク101の製造方法により光ディスク101を製造する場合には、第二基板12の大きさは、第一基板11と同様の大きさのものが用いられ、図2(A)〜図2(C)における光ディスク102の製造方法により光ディスク102を製造する場合には、第二基板12の大きさは、第一基板11よりも小さい大きさのものが用いられる。
The
なお、光ディスク101は、図3に示される層構成に限定されず、第一基板11、一以上の記録層21、22、中間層4および第二基板12の各層を有していれば、その他の各層を適宜設けることができる。
The
例えば、光ディスク101には、図示しない保護層を設けることができる。この保護層は、光ディスク1における中間層40と第二記録層22との間に形成される。なお、この保護層は、第二記録層22を保護し、また、光ディスク101の光学的特性や熱的特性を調整するために設けられる。
For example, the
保護層の材料は、特に限定されず、従来公知の材料が用いられるが、通常、ZnS−SiO2、SiO2、AlN等が用いられる。また、保護層の厚さは、特に限定されず、通常、1−10nm程度である。保護層の形成方法も、特に限定されず、従来公知の方法が用いられるが、通常、スパッタリング、蒸着法等が用いられる。 The material of the protective layer is not particularly limited, and a conventionally known material is used, but usually ZnS—SiO 2 , SiO 2 , AlN or the like is used. Moreover, the thickness of a protective layer is not specifically limited, Usually, it is about 1-10 nm. The method for forming the protective layer is also not particularly limited, and a conventionally known method is used. Usually, sputtering, vapor deposition, or the like is used.
この光ディスク101には、第1基板11側から記録用レーザ光もしくは記録再生用レーザ光が照射され、第1グルーブG1内またはランド上の第1記録層21、および、第2グルーブG2内又はランド上の第2記録層22にピットが形成される。そして、同じく第1基板11側から再生用レーザ光もしくは記録再生用レーザ光が照射され、第1記録層21および、第2記録層22に形成されたピット情報を読み出すものである。
The
上記実施形態の光ディスク101としては、記録層を二層有するデュアルレイヤタイプの光記録媒体について説明したが、光ディスクの構成はこれに限定されず、第一基板および第二基板の間に少なくとも一の記録層および転写可能な材料からなる転写層を有する光ディスクであればよい。すなわち、記録層を一層以上有しており、スタンパによる転写が行われる転写層を有する光ディスクであれば、上述の製造方法を適用することが可能である。また、本願における光ディスク101の製造方法は、上述のように第一基板11に各層を積層していき、最後に第二基板12を貼り合わせるタイプの光ディスク101に好ましく適用することが可能である。
Although the dual layer type optical recording medium having two recording layers has been described as the
また、光ディスク101としては、例えば、いわゆるDVD−Rディスク、DVD−RWディスク等の記録・再生が可能なディスクが用いられ、記録の消去や書き替えの可否は特に限定されない。また、記録層21、22を構成する記録媒体としても、上記したような有機色素等に限定されることなく、その形式に応じた各種記録媒体を用いることが可能である。
As the
以上説明したように、本実施形態の光ディスク101の製造方法は、第一の基材である第一基板11および第二の基材である第二基板12の間に少なくとも一の記録層21、22および転写可能な材料からなる転写層である中間層40を有する円盤状の光ディスク101の製造方法であって、中間層40をスタンパ60により成型する工程(図1(A)、図1(B))と、第一基板11と記録層21、22との上に接着剤(接着剤層50)を介して第二基板12を積層する工程(図1(C))と、を有し、スタンパ60の直径D16が第二基板12の直径D12よりも大きいことを特徴とする。
As described above, the manufacturing method of the
よって、本実施形態の光ディスク101の製造方法においては、中間層40を成型するスタンパ60よりも小さな第二基板12を用いることにより、接着剤上に第二基板12を置いたときに、中間層40から生ずるバリ41に第二基板12が当たることなく、第二基板12を貼り付けることができる。このように、本実施形態の光ディスク101の製造方法においては、中間層40の第一基板11上からはみ出たバリ41を切削する等の除去処理を行う必要が無く、工程数や時間、コストを低減して光ディスク101を製造することができる。また、このような光ディスク101の製造方法により、第一基板11に第二基板12を貼り付けた際に、両基板11、12の間に中間層40のバリ41により隙間ができることを防止できる。これより、従来のように下面の第一基板と上面の第二基板との間に隙間が発生し、外観不良、反り不良、耐久試験不合格等の性能劣化が生ずることを、防止することができ、良好な諸性能を有する光ディスク101を提供することができる。
Therefore, in the method for manufacturing the
さらに、接着剤層50からはみ出たバリ51と中間層40からはみ出たバリ41とが光ディスク101の外側において一体となって周囲を覆うため、第一基板11と第二基板12とを強固に接着することができる。
Further, since the
また、本実施形態の光ディスク102は、第一の基材である第一基板11および第二の基材である第二基板12の間に少なくとも一の記録層21、22および中間層40を有する円盤状の光ディスク102であって、第一基板11の直径D21が第二基板12の直径D22よりも大きく、中間層40が転写可能な材料からなり、中間層40の材料と、第二基板12を光ディスク102の他の部分に貼り合わせる接着剤(接着剤層50)と、が光ディスク102の周囲を覆い接着して硬化していることを特徴とする(図2(C)におけるバリ41、51参照)。
In addition, the
よって、上述の本実施形態の製造方法により製造される光ディスク102は、接着剤層50からはみ出たバリ51と中間層40からはみ出たバリ41とが光ディスク101の外側において一体となって周囲を覆うため、第一基板11と第二基板12とを強固に接着することができる。また、光ディスク102の第一基板11を第二基板12よりも大きくし、製造時に第二基板12よりも大きいスタンパ60を用いて中間層40を形成した場合には、光ディスク102の性能劣化が生ずることを防止できる、外観が良好である、各基板11、12の外周部に反りの影響を与えることがない、耐久試験にも十分に耐久できる、基板11と基板12とが剥がれにくい、等の良好な諸性能を有する光ディスク102を提供することができる。
Therefore, in the
101、102…光ディスク
11…第一基板(第一の基材)
12…第二基板(第二の基材)
21…第一記録層
22…第二記録層
31…第一反射層
32…第二反射層
40…中間層(転写層)
41…中間層から生ずるバリ
50…接着剤層
51…接着剤層から生ずるバリ
60…スタンパ
G1、G2…グルーブ
O…光ディスクの中心線
P…光ディスクのクランプ孔
D10、D20…光ディスクの直径
D11、D12…第一基板の直径
D12、D22…第二基板の直径
D16、D26…スタンパの直径
101, 102 ...
12 ... Second substrate (second base material)
DESCRIPTION OF
41 ... Burr generated from the
Claims (5)
前記転写層をスタンパにより成型する工程と、
前記第一の基材と前記記録層との上に接着剤を介して前記第二の基材を積層する工程と、
を有し、
前記スタンパの直径が前記第二の基材の直径よりも大きいことを特徴とする光ディスクの製造方法。 A method for producing a disc-shaped optical disc having a transfer layer comprising at least one recording layer and a transferable material between a first substrate and a second substrate,
Molding the transfer layer with a stamper;
Laminating the second substrate via an adhesive on the first substrate and the recording layer;
Have
A method of manufacturing an optical disc, wherein the stamper has a diameter larger than that of the second substrate.
前記第二の反射層の上に接着剤を介して前記第二の基材を積層する工程を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光ディスクの製造方法。 The optical disc has two recording layers, at least the first base material, the first recording layer, the first reflective layer, the intermediate layer as the transfer layer, the second recording layer, and the second The reflective layer and the second base material are sequentially laminated,
4. The method of manufacturing an optical disk according to claim 1, further comprising a step of laminating the second base material on the second reflective layer via an adhesive. 5.
前記第一の基材の直径が前記第二の基材の直径よりも大きく、
前記中間層が転写可能な材料からなり、
前記中間層の材料と、前記第二の基材を光ディスクの他の部分に貼り合わせる接着剤と、が光ディスクの周囲を覆い接着して硬化していることを特徴とする光ディスク。 A disc-shaped optical disc having at least one recording layer and an intermediate layer between a first substrate and a second substrate,
The diameter of the first substrate is larger than the diameter of the second substrate;
The intermediate layer is made of a transferable material,
An optical disc, wherein the material of the intermediate layer and an adhesive that bonds the second base material to another portion of the optical disc cover the periphery of the optical disc and are cured.
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JP2010170594A (en) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Toshiba Corp | Manufacturing method of magnetic recording medium, resin stamper, and positioning pin |
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