JP2006283010A - Optical film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学特性に優れる光学フィルムに関する。 The present invention relates to an optical film having excellent optical properties.
最近、例えばディスプレイ市場の拡大に伴い、より画像を鮮明にみたいという要求が高まっており、単なる透明材料ではなく、より高度な光学特性が付与された光学材料が求められている。一般に高分子は分子主鎖方向とそれに垂直方向とで屈折率が異なるために分子鎖の配向により複屈折を生じる。用途によっては、この複屈折を厳密にコントロールすることが求められており、液晶の偏光板に用いられる保護フィルムの場合は、全光線透過率が同じであっても複屈折がより小さい高分子材料成形体が必要となり、一方、偏光板により偏光された光を円偏光にかえる機能を持つ1/4波長板は、高分子材料成形体に意識的に複屈折を生じさせることで機能を付与している。 Recently, for example, with the expansion of the display market, there has been an increasing demand for clearer images, and there is a demand for optical materials with higher optical properties rather than simple transparent materials. Generally, a polymer has birefringence due to the orientation of the molecular chain because the refractive index differs between the molecular main chain direction and the perpendicular direction. Depending on the application, it is required to strictly control this birefringence. In the case of a protective film used for a polarizing plate of a liquid crystal, a polymer material having a smaller birefringence even if the total light transmittance is the same. On the other hand, a quarter-wave plate having a function of converting light polarized by a polarizing plate into circularly polarized light gives a function by consciously generating birefringence in a polymer material molded body. ing.
高分子材料をこれらの用途に用いる場合は、押し出し成形やキャスト成形で成形体が作成される。例えば、偏光板保護フィルムへ押し出し成形体を適用する場合は、溶融成形時の配向の影響が残りやすく、複屈折が発生してしまうという問題点があった。更に、1/4波長板等の位相差フィルムに適用する場合は、キャスト成形等で無配向のフィルムを得た後、延伸により任意の複屈折を生じさせるが、少しの延伸により複屈折が大きく生じる材料は、位相差のコントロールが困難である(例えば、特許文献1参照。)。代表的な位相差フィルムの材料としてポリカーボネート樹脂が知られているが、この樹脂は延伸による複屈折の変化が大きいため位相差のコントロール性に関する改良要求がある。以上の理由により延伸しても複屈折変化がゆるやかな材料が求められていた。 When a polymer material is used for these applications, a molded body is produced by extrusion molding or cast molding. For example, when an extruded product is applied to a polarizing plate protective film, there is a problem that the influence of orientation during melt molding tends to remain and birefringence occurs. Furthermore, when applied to a retardation film such as a quarter-wave plate, after obtaining a non-oriented film by cast molding or the like, it causes arbitrary birefringence by stretching, but birefringence is large by slightly stretching. The resulting material is difficult to control the phase difference (see, for example, Patent Document 1). A polycarbonate resin is known as a typical material for a retardation film. However, since this resin has a large change in birefringence due to stretching, there is a demand for improvement regarding controllability of retardation. For these reasons, there has been a demand for a material that has a gentle birefringence change even when stretched.
また、近年は、液晶ディスプレイが大型化し、それに必要な高分子光学材料成形品が大型化するにつれて、外力の偏りによって生じる複屈折の分布を小さくするために、外力による複屈折の変化が小さい材料が求められている。そのためには新たな要求特性として光弾性係数の小さい高分子光学材料が求められ、光弾性係数の低い材料としてはメタクリル酸メチルの単独重合体(PMMA)やアモルファスポリオレフィン(APO)が知られている(例えば非特許文献1参照)。しかしながら、これらの材料でもまだ外力による複屈折変化が大きいため、より光弾性係数が小さい材料が待望されていた。
本発明は、延伸による複屈折変化が小さく光弾性係数の小さい光学フィルムを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an optical film having a small change in birefringence due to stretching and a small photoelastic coefficient.
本発明者らは、驚くべきことにあるブロック共重合体による光学フィルムが延伸による複屈折変化が小さく、光弾性係数が小さいことを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
[1]少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるブロック共重合体よりなる光学フィルム、
[2]少なくとも2個の重合体ブロックAを有し、かつ重合体ブロックAのうち少なくとも1個が共役ジエンを含有するブロック共重合体よりなる光学フィルム、
[3]ビニル芳香族炭化水素含有量が、45〜99質量%であるブロック共重合体よりなる[1]記載の光学フィルム、
[4]ビニル芳香族炭化水素含有量が、55〜99質量%であるブロック共重合体よりなる[2]記載の光学フィルム、
[5]共役ジエンとして1,3−ブタジエンを含むブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の光学フィルム、
[6]重合体ブロックB中のオレフィン性不飽和二重結合が、5〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]、[3]、[4]および[5]のいずれかに記載の光学フィルム、
[7]重合体ブロックA中のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合が、5〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の光学フィルム、
[8]ブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合が、5〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の光学フィルム、
[9]ブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合が、85〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の光学フィルム、
[10]ブロック共重合体全体のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合が、5〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[5]、[8]および[9]のいずれかに記載の光学フィルム。
[11]ブロック共重合体全体のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合が、85〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[5]、[8]および[9]のいずれかに記載の光学フィルム、
[12]ブロック共重合体全体のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合が、90〜100%水素添加され、ブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合が、90〜100%水素添加されたブロック共重合体よりなることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の光学フィルム、
[13]延伸したことを特徴とする[1]〜[12]のいずれかに記載の光学フィルム、
[14]ブロック共重合体が、延伸した場合の複屈折(Δn(S))と延伸倍率(S)の関係において、その最小二乗近似より求めた傾きKの値が以下の式を満たす樹脂であることを特徴とする[1]〜[13]のいずれかに記載の光学フィルム、
K=Δn(S)/S
−2.0×10−5<K<2.0×10−5
[15]押し出し成形で成形されたフィルムであることを特徴とする[1]〜[14]のいずれかに記載の光学フィルム、
[16]キャスト成形で成形されたフィルムであることを特徴とする[1]〜[14]のいずれかに記載の光学フィルム、
[17]光弾性係数が30×10−12Pa−1以下であることを特徴とする[1]〜[16]のいずれかに記載の光学フィルム、
[18]レターデーションが10nm〜300nm、延伸倍率が10%〜450%であることを特徴とする[1]〜[17]のいずれかに記載の光学フィルムを用いてなる位相差フィルム、
[19]レターデーションが0nm〜10nmであることを特徴とする[1]〜[17]のいずれかに記載の光学フィルムを用いてなる偏光板保護フィルム、
である。
The present inventors have surprisingly found that an optical film made of a block copolymer has a small birefringence change due to stretching and a small photoelastic coefficient, and has completed the present invention.
That is, the present invention
[1] An optical film comprising a block copolymer comprising a polymer block A mainly composed of at least one vinyl aromatic hydrocarbon and a polymer block B mainly composed of at least one conjugated diene,
[2] An optical film comprising a block copolymer having at least two polymer blocks A and at least one of the polymer blocks A containing a conjugated diene,
[3] The optical film according to [1], comprising a block copolymer having a vinyl aromatic hydrocarbon content of 45 to 99% by mass,
[4] The optical film according to [2], comprising a block copolymer having a vinyl aromatic hydrocarbon content of 55 to 99% by mass,
[5] The optical film according to any one of [1] to [4], comprising a block copolymer containing 1,3-butadiene as a conjugated diene,
[6] The olefinically unsaturated double bond in the polymer block B is composed of a block copolymer hydrogenated by 5 to 100% [1], [3], [4] and [ 5], an optical film according to any one of
[7] The unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the polymer block A is composed of a block copolymer hydrogenated by 5 to 100% [1] to [6] The optical film according to any one of
[8] The olefinically unsaturated double bond of the entire block copolymer is composed of a block copolymer hydrogenated by 5 to 100%, according to any one of [1] to [5] Optical film,
[9] The olefinically unsaturated double bond of the entire block copolymer is composed of a block copolymer hydrogenated by 85 to 100%, according to any one of [1] to [5] Optical film,
[10] The block copolymer in which the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the entire block copolymer is 5 to 100% hydrogenated is provided [1] to [5] , [8] and [9].
[11] The block copolymer in which the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound of the entire block copolymer is a hydrogenated 85-100% block copolymer. , [8] and the optical film according to any one of [9],
[12] The unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the entire block copolymer is hydrogenated by 90 to 100%, and the olefinically unsaturated double bond of the entire block copolymer is 90 to 100%. % Of the optical film according to any one of [1] to [5], wherein the optical film is made of a hydrogenated block copolymer;
[13] The optical film according to any one of [1] to [12], which is stretched,
[14] A resin in which the value of the slope K obtained from the least square approximation satisfies the following formula in the relationship between the birefringence (Δn (S)) and the draw ratio (S) when the block copolymer is stretched: The optical film according to any one of [1] to [13],
K = Δn (S) / S
−2.0 × 10 −5 <K <2.0 × 10 −5
[15] The optical film according to any one of [1] to [14], which is a film formed by extrusion molding
[16] The optical film according to any one of [1] to [14], which is a film formed by cast molding,
[17] The optical film according to any one of [1] to [16], wherein the photoelastic coefficient is 30 × 10 −12 Pa −1 or less,
[18] A retardation film using the optical film according to any one of [1] to [17], wherein the retardation is 10 nm to 300 nm, and the draw ratio is 10% to 450%.
[19] A polarizing plate protective film comprising the optical film according to any one of [1] to [17], wherein the retardation is 0 nm to 10 nm.
It is.
本発明により、ディスプレイ等に必要な成形要因による延伸や任意の延伸をした際に複屈折の変化が小さく、光弾性係数の小さい高分子光学フィルムの提供が可能になった。 According to the present invention, it is possible to provide a polymer optical film having a small change in birefringence and a small photoelastic coefficient when stretched due to a molding factor necessary for a display or the like or arbitrarily stretched.
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明で用いるブロック共重合体は、少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとを有するブロック共重合体である。
更に本発明で用いるブロック共重合体は、少なくとも2個の重合体ブロックAを有し、かつ重合体ブロックAのうち少なくとも1個が共役ジエンを含有するブロック共重合体である。
ここでビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAとはビニル芳香族炭化水素含有量を50質量%以上含有するビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合体ブロック及び/又はビニル芳香族炭化水素単独重合体ブロックを示し、共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとは共役ジエンを50質量%を越える量で含有する共役ジエンとビニル芳香族炭化水素共重合体ブロック及び/又は共役ジエン単独重合体ブロックをいう。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The block copolymer used in the present invention is a block copolymer having a polymer block A mainly composed of at least one vinyl aromatic hydrocarbon and a polymer block B mainly composed of at least one conjugated diene. is there.
Furthermore, the block copolymer used in the present invention is a block copolymer having at least two polymer blocks A and at least one of the polymer blocks A containing a conjugated diene.
Here, the polymer block A mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbon is a copolymer block of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene containing vinyl aromatic hydrocarbon content of 50% by mass or more and / or vinyl aromatic. A polymer block B mainly showing a conjugated diene is a conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon copolymer block and / or conjugated containing a conjugated diene in an amount exceeding 50% by mass. This refers to a diene homopolymer block.
ビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックA或は共役ジエンを主体とする重合体ブロックB中にビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのランダム共重合体部分が存在する場合、共重合されているビニル芳香族炭化水素は重合体ブロック中に均一に分布していても、テーパー(漸減)状に分布していてもよい。また、該共重合体部分はビニル芳香族炭化水素が均一に分布している部分及び/又はテーパー状に分布している部分が複数個共存してもよい。
本発明のブロック共重合体が複数個の重合体ブロックA(またはB)を有する場合、それらは分子量、組成、種類等が異なっていても良い。
When a random copolymer portion of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene is present in polymer block A mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbon or polymer block B mainly composed of conjugated diene, The vinyl aromatic hydrocarbon may be distributed uniformly in the polymer block or may be distributed in a tapered shape. Further, the copolymer portion may coexist with a plurality of portions where vinyl aromatic hydrocarbons are uniformly distributed and / or portions where they are distributed in a tapered shape.
When the block copolymer of the present invention has a plurality of polymer blocks A (or B), they may be different in molecular weight, composition, type and the like.
本発明で用いるブロック共重合体は基本的には従来公知の手法で製造することができ、例えば特公昭36−19286号公報、特公昭43−17979号公報、特公昭48−2423号公報、特公昭49−36957号公報、特公昭57−49567号公報、特公昭58−11446号公報などに記載された手法が挙げられるが、各構成ポリマーは後述する要件を満足するように製造条件を設定しなければならない。上記の公知の手法はすべて、炭化水素溶剤中で有機リチウム化合物等のアニオン開始剤を用い、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素をブロック共重合する手法である。本発明で用いるブロック共重合体のポリマー構造は例えば
A−(B−A)n、A−(B−A)n−B、B−(A−B)n+1
〔上式において、Aはビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックであり、Bは共役ジエンを主体とする重合体ブロックである。AブロックとBブロックとの境界は必ずしも明瞭に区別される必要はない。nは1以上の整数、一般的には1〜5である。〕で表される線状ブロック共重合体、あるいは
[(A−B)k]m+2−X、[(A−B)k−A]m+2−X、[(B−A)k]m+2−X、
[(B−A)k−B]m+2−X
〔上式において、A、Bは前記と同じであり、k及びmは1以上の整数、一般的には1〜5である。Xは例えば四塩化ケイ素、四塩化スズなどのカップリング剤の残基または多官能有機リチウム化合物等の開始剤の残基を示す。〕で表されるラジアルブロック共重合体、あるいはこれらのブロック共重合体の任意のポリマー構造の混合物が使用できる。
The block copolymer used in the present invention can basically be produced by a conventionally known method. For example, Japanese Patent Publication No. 36-19286, Japanese Patent Publication No. 43-17879, Japanese Patent Publication No. 48-2423, The methods described in Japanese Patent Publication No. 49-36957, Japanese Patent Publication No. 57-49567, Japanese Patent Publication No. 58-11446, and the like can be mentioned. The production conditions of each constituent polymer are set so as to satisfy the requirements described later. There must be. All of the above known methods are methods in which a conjugated diene and a vinyl aromatic hydrocarbon are block copolymerized using an anionic initiator such as an organic lithium compound in a hydrocarbon solvent. The block copolymer used in the present invention has, for example, A- (BA) n , A- (BA) n -B, B- (AB) n + 1
[In the above formula, A is a polymer block mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbons, and B is a polymer block mainly composed of conjugated dienes. The boundary between the A block and the B block does not necessarily have to be clearly distinguished. n is an integer of 1 or more, generally 1 to 5. ], Or ((AB) k ] m + 2 -X, [(AB) k -A] m + 2 -X, [(BA) k ] M + 2 −X,
[(B−A) k −B] m + 2 −X
[In the above formula, A and B are the same as described above, and k and m are integers of 1 or more, generally 1 to 5. X represents a residue of a coupling agent such as silicon tetrachloride or tin tetrachloride or a residue of an initiator such as a polyfunctional organolithium compound. Or a mixture of arbitrary polymer structures of these block copolymers can be used.
本発明に用いられるビニル芳香族炭化水素としては、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、1,3−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、1,1−ジフェニルエチレンなどが挙げられるが、特に一般的にはスチレンが挙げられる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。共役ジエンとしては、1対の共役二重結合を有するジオレフィンであり、例えば1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどが挙げられる。代表的な共役ジエンとしては、1,3−ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。 Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon used in the present invention include styrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, α-methylstyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, 1,1-diphenylethylene and the like can be mentioned, and styrene is particularly commonly mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. The conjugated diene is a diolefin having a pair of conjugated double bonds, such as 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene. 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene and the like. Representative conjugated dienes include 1,3-butadiene, isoprene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
1,3−ブタジエンとイソプレンを併用する場合、1,3−ブタジエンは10質量%以上であることが好ましく、25質量%以上であることが更に好ましく、40質量%以上であることが特に好ましい。1,3−ブタジエンが10質量%以上であると、成形時等に熱分解を起こさず分子量が低下しないため光学フィルムとして好ましく用いることができる。更に水素添加したブロック共重合体の場合、1,3−ブタジエンが10質量%以上であると、フィルムの機械強度に優れるために、光学フィルムとして好ましく用いられる。
炭化水素溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、イソペンタン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、或はベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素等が使用できる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。
When 1,3-butadiene and isoprene are used in combination, 1,3-butadiene is preferably 10% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, and particularly preferably 40% by mass or more. When 1,3-butadiene is 10% by mass or more, thermal decomposition does not occur during molding and the molecular weight does not decrease, so that it can be preferably used as an optical film. Further, in the case of a hydrogenated block copolymer, when 1,3-butadiene is 10% by mass or more, the film is excellent in mechanical strength, and thus is preferably used as an optical film.
Examples of the hydrocarbon solvent include aliphatic hydrocarbons such as butane, pentane, hexane, isopentane, heptane, and octane, alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane, or benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene, ethylbenzene and xylene can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
有機リチウム化合物としては、分子中に一個以上のリチウム原子を結合した有機モノリチウム化合物、有機ジリチウム化合物、有機ポリリチウム化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、ヘキサメチレンジリチウム、ブタジエニルジリチウム、イソプレニルジリチウム等が挙げられる。これらは1種のみならず2種以上混合使用してもよい。
本発明においては、重合速度の調整、重合した共役ジエン部のミクロ構造(シス、トランス、ビニルの比率)の変更、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素の反応比の調整などの目的で極性化合物やランダム化剤を使用することができる。極性化合物やランダム化剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等のアミン類、チオエーテル類、ホスフィン類、ホスホルアミド類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、カリウムやナトリウムのアルコキシド等が挙げられる。
Examples of the organic lithium compound include an organic monolithium compound, an organic dilithium compound, and an organic polylithium compound in which one or more lithium atoms are bonded in the molecule. Specific examples of these include ethyl lithium, n-propyl lithium, isopropyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, hexamethylene dilithium, butadienyl dilithium, isoprenyl dilithium, and the like. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
In the present invention, polar compounds or the like are used for the purpose of adjusting the polymerization rate, changing the microstructure of the polymerized conjugated diene moiety (ratio of cis, trans, vinyl), adjusting the reaction ratio of conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon, and the like. Randomizing agents can be used. Examples of polar compounds and randomizing agents include ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, amines such as triethylamine and tetramethylethylenediamine, thioethers, phosphines, phosphoramides, alkylbenzene sulfonates, potassium and sodium. An alkoxide etc. are mentioned.
本発明の方法において重合体を製造する際の重合温度は、一般的には−10℃〜150℃、好ましくは40℃〜120℃の範囲である。重合に要する時間は、条件によって異なるが、通常は48時間以内であり、特に好適には1〜10時間の範囲である。また、重合系の雰囲気は窒素ガスなどの不活性ガスなどをもって置換するのが望ましい。重合圧力は上記重合温度範囲でモノマー及び溶媒を液層に維持するに充分な圧力の範囲で行えばよく、特に制限されるものではない。更に重合系内には触媒及びリビングポリマーを不活性化させるような不純物、例えば水、酸素、炭酸ガス等が混入しないよう留意する必要がある。 The polymerization temperature when producing the polymer in the method of the present invention is generally in the range of -10 ° C to 150 ° C, preferably 40 ° C to 120 ° C. The time required for polymerization varies depending on the conditions, but is usually within 48 hours, and particularly preferably in the range of 1 to 10 hours. The polymerization atmosphere is preferably replaced with an inert gas such as nitrogen gas. The polymerization pressure is not particularly limited as long as the polymerization pressure is in a range sufficient to maintain the monomer and the solvent in the liquid layer within the above polymerization temperature range. Furthermore, care must be taken not to mix impurities, such as water, oxygen, carbon dioxide, etc., that inactivate the catalyst and living polymer into the polymerization system.
本発明で用いるブロック共重合体が少なくとも1個のビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックAと少なくとも1個の共役ジエンを主体とする重合体ブロックBとからなるブロック共重合体である場合は、ブロック共重合体のビニル芳香族炭化水素含有量の範囲は45〜99質量%が好ましく、更に好ましくは65〜95質量%の範囲、特に好ましくは70〜90質量%の範囲である。ブロック共重合体のビニル芳香族炭化水素含有量が45質量%以上では樹脂組成物成形品の剛性と透明性に優れるために好ましい。
更に本発明で用いるブロック共重合体が少なくとも2個の重合体ブロックAを有し、かつ重合体ブロックAのうち少なくとも1個が共役ジエンを含有するブロック共重合体である場合は、ブロック共重合体のビニル芳香族炭化水素含有量の範囲は55〜99質量%が好ましく、更に好ましくは65〜95質量%の範囲、特に好ましくは70〜90質量%の範囲である。ブロック共重合体のビニル芳香族炭化水素含有量が55質量%以上では樹脂組成物成形品の剛性と透明性に優れるために好ましい。
The block copolymer used in the present invention is a block copolymer comprising a polymer block A mainly composed of at least one vinyl aromatic hydrocarbon and a polymer block B mainly composed of at least one conjugated diene. In this case, the vinyl aromatic hydrocarbon content of the block copolymer is preferably 45 to 99% by mass, more preferably 65 to 95% by mass, and particularly preferably 70 to 90% by mass. A vinyl aromatic hydrocarbon content of the block copolymer of 45% by mass or more is preferable because the resin composition molded article is excellent in rigidity and transparency.
Further, when the block copolymer used in the present invention has at least two polymer blocks A and at least one of the polymer blocks A is a block copolymer containing a conjugated diene, The range of the vinyl aromatic hydrocarbon content of the coalescence is preferably 55 to 99% by mass, more preferably 65 to 95% by mass, and particularly preferably 70 to 90% by mass. A vinyl aromatic hydrocarbon content of the block copolymer of 55% by mass or more is preferable because the resin composition molded article is excellent in rigidity and transparency.
本発明においてブロック共重合体中に組み込まれているビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率の好ましい範囲は50〜100質量%である。ブロック率が50質量%以上の場合は樹脂組成物成形品の剛性に優れるために好ましい。ビニル芳香族炭化水素ブロックのブロック率は、ブロック共重合体の製造時において少なくとも一部のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンが共重合する工程におけるビニル芳香族炭化水素と共役ジエンの重量、重量比、重合反応性比等を変えることによりコントロールすることができる。 具体的な方法としては;
(イ)ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの混合物を連続的に重合系に供給して重合する、及び/又は、(ロ)極性化合物或はランダム化剤を使用してビニル芳香族炭化水素と共役ジエンを共重合する、等の方法が採用できる。
In the present invention, the preferred range of the block ratio of the vinyl aromatic hydrocarbon polymer block incorporated in the block copolymer is 50 to 100% by mass. A block ratio of 50% by mass or more is preferable because the resin composition molded article is excellent in rigidity. The block ratio of the vinyl aromatic hydrocarbon block is the weight and weight ratio of the vinyl aromatic hydrocarbon and the conjugated diene in the process of copolymerizing at least a part of the vinyl aromatic hydrocarbon and the conjugated diene during the production of the block copolymer. It can be controlled by changing the polymerization reactivity ratio and the like. Specific methods include:
(A) A mixture of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene is continuously supplied to the polymerization system for polymerization, and / or (b) a vinyl aromatic hydrocarbon using a polar compound or a randomizing agent. And a method of copolymerizing a conjugated diene and the like.
極性化合物やランダム化剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等のアミン類、チオエーテル類、ホスフィン類、ホスホルアミド類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、カリウムやナトリウムのアルコキシド等が挙げられる。尚、本発明においてブロック共重合体中に組み込まれているビニル芳香族炭化水素重合体ブロックのブロック率とは、四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分(但し平均重合度が約30以下のビニル芳香族炭化水素重合体成分は除かれている)を定量し、下記の式から求めた値を云う。 Examples of polar compounds and randomizing agents include ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, amines such as triethylamine and tetramethylethylenediamine, thioethers, phosphines, phosphoramides, alkylbenzene sulfonates, potassium and sodium. An alkoxide etc. are mentioned. In the present invention, the block ratio of the vinyl aromatic hydrocarbon polymer block incorporated in the block copolymer means that the block copolymer is oxidized with di-tertiary butyl hydroperoxide using osmium tetroxide as a catalyst. Decomposition method [I. M.M. KOLTHOFF, et al. , J .; Polym. Sci. 1,429 (1946)], and the vinyl aromatic hydrocarbon polymer block component (excluding vinyl aromatic hydrocarbon polymer components having an average degree of polymerization of about 30 or less) was determined. The value obtained from the following equation.
ブロック共重合体のビニル芳香族
炭化水素重合体ブロックの質量%
ブロック率(質量%)= ――――――――――――――――― ×100
ブロック共重合体の全ビニル
芳香族炭化水素の質量%
水素添加されたブロック共重合体のブロック率は、水素添加前のポリマーを用いてブロック率の分析を行う。
Vinyl aromatic of block copolymer
Mass% of hydrocarbon polymer block
Block ratio (mass%) = ――――――――――――――――― × 100
All vinyl block copolymer
% By mass of aromatic hydrocarbon
The block ratio of the hydrogenated block copolymer is analyzed using the polymer before hydrogenation.
本発明で用いるブロック共重合体は所望により不活性溶剤中で水素添加触媒の存在化に水素添加して水添物として使用することもできる。具体的な方法としては、特公昭42−8704号公報、特公昭43−6636号公報に記載された方法、特に好ましくは特公昭63−4841号公報及び特公昭63−5401号公報に記載された方法である。
本発明ではブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合が5〜100%水素添加されたブロック共重合体を光学フィルムとして好ましく用いることが出来る。ブロック共重合体中のオレフィン性不飽和二重結合は、熱や光により黄変したり光線透過率が低下したりする原因となる。また、オレフィン性不飽和二重結合の水素添加により、光弾性係数を小さくすることができる。従って、光学フィルムとして用いるためにはオレフィン性不飽和二重結合を水素添加することが好ましい。オレフィン性不飽和二重結合の水素添加の更に好ましい範囲は85〜100%、特に好ましい範囲は90〜99.9%である。
The block copolymer used in the present invention can be used as a hydrogenated product by hydrogenation in the presence of a hydrogenation catalyst in an inert solvent if desired. As specific methods, the methods described in JP-B-42-8704 and JP-B-43-6636 are described, and particularly preferably described in JP-B-63-4841 and JP-B-63-5401. Is the method.
In the present invention, a block copolymer in which 5 to 100% of the olefinically unsaturated double bond of the entire block copolymer is hydrogenated can be preferably used as an optical film. The olefinically unsaturated double bond in the block copolymer causes yellowing or a decrease in light transmittance due to heat or light. Further, the photoelastic coefficient can be reduced by hydrogenation of the olefinically unsaturated double bond. Therefore, it is preferable to hydrogenate the olefinically unsaturated double bond for use as an optical film. A more preferable range of hydrogenation of the olefinically unsaturated double bond is 85 to 100%, and a particularly preferable range is 90 to 99.9%.
本発明では重合体ブロックB中のオレフィン性不飽和二重結合が5〜100%水素添加されたブロック共重合体を光学フィルムとして好ましく用いることが出来る。ブロック共重合体中のオレフィン性不飽和二重結合は、熱や光により黄変したり光線透過率が低下したりする原因となる。また、オレフィン性不飽和二重結合の水素添加により、光弾性係数を小さくすることができる。従って、光学フィルムとして用いるためにはオレフィン性不飽和二重結合を水素添加することが好ましい。オレフィン性不飽和二重結合の水素添加の更に好ましい範囲は85〜100%、特に好ましい範囲は90〜99.9%である。
また、ブロック共重合体中全体のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合は、ビニル芳香族化合物全体において5〜100%水素添加されていることが好ましい。芳香環の不飽和二重結合が水素添加されることにより、レターデーションの波長依存性が抑制される効果がある。更に、光弾性係数が小さくなる効果もある。水素添加の更に好ましい範囲は85〜100%、特に好ましい範囲は90〜99.9%である。
In the present invention, a block copolymer in which 5 to 100% of the olefinically unsaturated double bond in the polymer block B is hydrogenated can be preferably used as an optical film. The olefinically unsaturated double bond in the block copolymer causes yellowing or a decrease in light transmittance due to heat or light. Further, the photoelastic coefficient can be reduced by hydrogenation of the olefinically unsaturated double bond. Therefore, it is preferable to hydrogenate the olefinically unsaturated double bond for use as an optical film. A more preferable range of hydrogenation of the olefinically unsaturated double bond is 85 to 100%, and a particularly preferable range is 90 to 99.9%.
Moreover, it is preferable that the unsaturated double bond of the aromatic ring of the whole vinyl aromatic compound in a block copolymer is hydrogenated 5 to 100% in the whole vinyl aromatic compound. Hydrogenation of the unsaturated double bond of the aromatic ring has an effect of suppressing the wavelength dependency of retardation. In addition, the photoelastic coefficient is reduced. A more preferable range of hydrogenation is 85 to 100%, and a particularly preferable range is 90 to 99.9%.
また、重合体ブロックA中のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合は、ビニル芳香族化合物全体において5〜100%水素添加されていることが好ましい。芳香環の不飽和二重結合が水素添加されることにより、レターデーションの波長依存性が抑制される効果がある。更に、光弾性係数が小さくなる効果もある。水素添加の更に好ましい範囲は85〜100%、特に好ましい範囲は90〜99.9%である。
本発明において、ビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合とオレフィン性不飽和二重結合の両方が水素添加される場合は、ブロック共重合体全体のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合が、90〜100%水素添加され、ブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合が、90〜100%水素添加されていることが好ましい。
Moreover, it is preferable that the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the polymer block A is hydrogenated 5 to 100% in the whole vinyl aromatic compound. Hydrogenation of the unsaturated double bond of the aromatic ring has an effect of suppressing the wavelength dependency of retardation. In addition, the photoelastic coefficient is reduced. A more preferable range of hydrogenation is 85 to 100%, and a particularly preferable range is 90 to 99.9%.
In the present invention, when both the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound and the olefinically unsaturated double bond are hydrogenated, the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the entire block copolymer is not hydrogenated. The saturated double bond is preferably hydrogenated by 90 to 100%, and the olefinically unsaturated double bond of the entire block copolymer is preferably hydrogenated by 90 to 100%.
本発明におけるブロック共重合体の水素添加の度合は、水素添加率として測定される。水素添加率の測定方法は実施例において説明する。
ブロック共重合体の水素化反応の方法は特に制限されないが、オレフィン性不飽和二重結合のみを水素化する方法、オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する方法に分けることができる。
オレフィン性不飽和二重結合をのみを水素化する水添触媒としては、特に制限されず、従来から公知である(1)Ni、Pt、Pd、Ru等の金属をカーボン、シリカ、アルミナ、ケイソウ土等に担持させた担持型不均一系水添触媒、(2)Ni、Co、Fe、Cr等の有機酸塩又はアセチルアセトン塩などの遷移金属塩と有機アルミニウム等の還元剤とを用いる、いわゆるチーグラー型水添触媒、(3)Ti、Ru、Rh、Zr等の有機金属化合物等のいわゆる有機金属錯体等の均一系水添触媒が用いられる。具体的な水添触媒としては、特公昭42-8704号公報、特公昭43-6636号公報、特公昭63-4841号公報、特公平1-37970号公報、特公平1-53851号公報、特公平2-9041号公報に記載された水添触媒を使用することができる。好ましい水添触媒としてはチタノセン化合物および/または還元性有機金属化合物との混合物があげられる。
The degree of hydrogenation of the block copolymer in the present invention is measured as a hydrogenation rate. A method for measuring the hydrogenation rate will be described in Examples.
The method for the hydrogenation reaction of the block copolymer is not particularly limited, but a method in which only the olefinically unsaturated double bond is hydrogenated, both the olefinically unsaturated double bond and the aromatic unsaturated double bond are hydrogenated. Can be divided into methods.
The hydrogenation catalyst for hydrogenating only olefinically unsaturated double bonds is not particularly limited, and conventionally known (1) metals such as Ni, Pt, Pd, and Ru are carbon, silica, alumina, and diatomaceous earth. A supported heterogeneous hydrogenation catalyst supported on soil or the like, (2) a so-called organic acid salt such as Ni, Co, Fe, Cr or a transition metal salt such as acetylacetone salt and a reducing agent such as organoaluminum Ziegler type hydrogenation catalysts and (3) homogeneous hydrogenation catalysts such as so-called organometallic complexes such as organometallic compounds such as Ti, Ru, Rh and Zr are used. Specific examples of the hydrogenation catalyst include Japanese Patent Publication No. 42-8704, Japanese Patent Publication No. 43-6636, Japanese Patent Publication No. 63-4841, Japanese Patent Publication No. 1-39770, Japanese Patent Publication No. 1-53851, The hydrogenation catalyst described in Japanese Patent Publication No. 2-9041 can be used. A preferred hydrogenation catalyst is a mixture with a titanocene compound and / or a reducing organometallic compound.
チタノセン化合物としては、特開平8-109219号公報に記載された化合物が使用できるが、具体例としては、ビスシクロペンタジエニルチタンジクロライド、モノペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド等の(置換)シクロペンタジエニル骨格、インデニル骨格あるいはフルオレニル骨格を有する配位子を少なくとも1つ以上もつ化合物があげられる。また、還元性有機金属化合物としては、有機リチウム等の有機アルカリ金属化合物、有機マグネシウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機ホウ素化合物あるいは有機亜鉛化合物等があげられる。
オレフィン性不飽和二重結合をのみを水素化する水添反応は一般的に0〜200℃、より好ましくは30〜150℃の温度範囲で実施される。オレフィン性不飽和二重結合をのみを水素化する水添反応に使用される水素の圧力は0.1〜15MPa、好ましくは0.2〜10MPa、更に好ましくは0.3〜7MPaが推奨される。また、オレフィン性不飽和二重結合をのみを水素化する水添反応時間は通常3分〜10時間、好ましくは10分〜5時間である。オレフィン性不飽和二重結合をのみを水素化する水添反応は、バッチプロセス、連続プロセス、或いはそれらの組み合わせのいずれでも用いることができる。
As the titanocene compound, a compound described in JP-A-8-109219 can be used. Specific examples thereof include (substitution) such as biscyclopentadienyl titanium dichloride and monopentamethylcyclopentadienyl titanium trichloride. Examples thereof include compounds having at least one ligand having a cyclopentadienyl skeleton, an indenyl skeleton, or a fluorenyl skeleton. Examples of the reducing organometallic compound include organic alkali metal compounds such as organolithium, organomagnesium compounds, organoaluminum compounds, organoboron compounds, and organozinc compounds.
The hydrogenation reaction in which only the olefinically unsaturated double bond is hydrogenated is generally carried out in a temperature range of 0 to 200 ° C, more preferably 30 to 150 ° C. The pressure of hydrogen used in the hydrogenation reaction for hydrogenating only olefinically unsaturated double bonds is 0.1 to 15 MPa, preferably 0.2 to 10 MPa, more preferably 0.3 to 7 MPa. . The hydrogenation reaction time for hydrogenating only the olefinically unsaturated double bond is usually 3 minutes to 10 hours, preferably 10 minutes to 5 hours. The hydrogenation reaction in which only the olefinically unsaturated double bonds are hydrogenated can be used either in a batch process, a continuous process, or a combination thereof.
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する水素化反応は、該ブロック共重合体を必要十分に溶解し、かつ自身が水素化されない溶媒での希釈系で実施される。実施濃度は通常5質量%〜40質量%である。5質量%以上であれば十分な水素化反応の速度が得られる。また40質量%以下であれば、十分に粘度が低く、水素化時に発生する発熱を十分に除熱することが可能である。水素化の温度は20℃〜180℃で適宜選択可能である。この範囲内であれば十分な水素化速度が得られ、かつ水素化触媒の劣化も問題にならず、また高分子鎖中の芳香環と非共役不飽和2重結合の選択水素化を実施することが可能である。また水素化圧は水素化触媒の種類によって異なるが通常0.5MPa〜10MPaで適宜選択可能である。 A hydrogenation reaction in which both an olefinically unsaturated double bond and an unsaturated double bond of an aromatic ring are hydrogenated is a dilution system in a solvent in which the block copolymer is dissolved sufficiently and is not hydrogenated. Will be implemented. The working concentration is usually 5% to 40% by weight. If it is 5 mass% or more, a sufficient hydrogenation reaction rate can be obtained. Moreover, if it is 40 mass% or less, a viscosity is low enough and it can fully remove the heat_generation | fever which generate | occur | produces at the time of hydrogenation. The hydrogenation temperature can be appropriately selected from 20 ° C to 180 ° C. Within this range, a sufficient hydrogenation rate can be obtained, and deterioration of the hydrogenation catalyst is not a problem, and selective hydrogenation of aromatic rings and nonconjugated unsaturated double bonds in the polymer chain is carried out. It is possible. The hydrogenation pressure varies depending on the type of hydrogenation catalyst, but it can be appropriately selected from 0.5 MPa to 10 MPa.
本発明に用いられるオレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する水素化触媒は、要求される水素化高分子構造が得られる触媒であれば種類、量は制限されない。水素化触媒としては4族、6族、7族、8族、9族、10族の金属、具体的にはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、モリブデン、鉄、コバルト、ニッケル、レニウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金から選択される少なくとも1種の金属を含有する均一系水素化触媒あるいは不均一系水素化触媒を使用することが可能である。 The hydrogenation catalyst for hydrogenating both the olefinically unsaturated double bond and the unsaturated double bond of the aromatic ring used in the present invention can be of any type and amount as long as the required hydrogenated polymer structure is obtained. Is not limited. Hydrogenation catalysts include Group 4, Group 6, Group 7, Group 8, Group 9, Group 10 metals, specifically titanium, zirconium, hafnium, molybdenum, iron, cobalt, nickel, rhenium, ruthenium, rhodium, palladium. It is possible to use a homogeneous hydrogenation catalyst or a heterogeneous hydrogenation catalyst containing at least one metal selected from platinum.
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する均一系水素化触媒とは反応系に可溶な上記金属の有機金属化合物および金属錯体である。金属錯体の配位子としては水素、ハロゲン、窒素化合物、カルボン酸など適当な元素、有機化合物を任意に選択することが可能である。配位子の具体例としては、水素、フッ素、塩素、臭素、一酸化窒素、一酸化炭素あるいは、ヒドロキシル、エーテル、アミン、チオール、ホスフィン、カルボニル、オレフィン、各種ジエン等の化合物を例示することが出来る。また必要に応じてアルキルリチウム、アルキルマグネシウム、アルキルアルミニウム等の1族、2族、13族の有機金属化合物を還元剤として併用することが可能である。 均一系水素化触媒の具体例としてはナフテン酸ニッケル、オクタン酸ニッケル、ニッケルアセチルアセタート、塩化ニッケル、ニッケルカルボニル、ニッケロセン、ナフテン酸コバルト、オクタン酸コバルト、コバルトアセチルアセタート、塩化コバルト、コバルトカルボニル、チタン錯体としてジシクロペンタジエニルチタニウムジクロリド、ルテニウム錯体としてクロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム等を挙げることができる。 The homogeneous hydrogenation catalyst that hydrogenates both the olefinically unsaturated double bond and the unsaturated double bond of the aromatic ring is an organometallic compound or metal complex of the above metal that is soluble in the reaction system. As a ligand of the metal complex, an appropriate element such as hydrogen, halogen, nitrogen compound, carboxylic acid, or organic compound can be arbitrarily selected. Specific examples of the ligand include hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, nitric oxide, carbon monoxide, and compounds such as hydroxyl, ether, amine, thiol, phosphine, carbonyl, olefin, and various dienes. I can do it. Moreover, it is possible to use together the organometallic compound of 1st group, 2nd group, 13th group, such as alkyl lithium, alkyl magnesium, and alkyl aluminum, as a reducing agent as needed. Specific examples of the homogeneous hydrogenation catalyst include nickel naphthenate, nickel octoate, nickel acetyl acetate, nickel chloride, nickel carbonyl, nickelocene, cobalt naphthenate, cobalt octoate, cobalt acetyl acetate, cobalt chloride, cobalt carbonyl, Examples of titanium complexes include dicyclopentadienyl titanium dichloride, examples of ruthenium complexes include chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorotris (triphenylphosphine) ruthenium, and dihydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium. .
本発明におけるオレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する均一系水素化触媒の使用量は、水素化条件によって適宜選択されるが、重合体に対し金属濃度として1質量ppm〜2000質量ppmの範囲が好ましく、より好ましくは10質量ppm〜500質量ppmの範囲である。触媒使用量が1質量ppm〜2000質量ppmであると、十分な反応速度を得ることができ、製品の着色が問題となることもなく、また触媒金属の分離回収に多大な労力をかける必要もないことから好ましい。
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する不均一系水素化触媒とは、上記金属あるいは前記金属の酸化物をアルミナ、シリカ、活性炭、硫酸バリウム、酸化マグネシウム、チタニアなどに担持させたもの、あるいは前記金属粉体もしくは金属酸化物粉体そのものであり、反応系に不溶であることを特徴とする。反応の手法としては重合体溶液と不均一系水素化触媒粉体を分散体として水素化させることも、不均一系水素化触媒を反応塔に詰め、重合体溶液を流通させながら連続的に水素化させることも可能である。
In the present invention, the amount of the homogeneous hydrogenation catalyst for hydrogenating both the olefinically unsaturated double bond and the unsaturated double bond of the aromatic ring is appropriately selected depending on the hydrogenation conditions. The concentration is preferably in the range of 1 ppm to 2000 ppm, more preferably in the range of 10 ppm to 500 ppm. When the amount of the catalyst used is 1 mass ppm to 2000 mass ppm, a sufficient reaction rate can be obtained, the coloring of the product does not become a problem, and it is necessary to apply a great deal of effort to the separation and recovery of the catalyst metal. It is preferable because it is absent.
Heterogeneous hydrogenation catalysts that hydrogenate both olefinically unsaturated double bonds and unsaturated double bonds of aromatic rings are the above metals or oxides of the above metals, alumina, silica, activated carbon, barium sulfate, oxidation It is supported on magnesium, titania or the like, or the metal powder or metal oxide powder itself, and is insoluble in the reaction system. As a method for the reaction, hydrogenation of the polymer solution and the heterogeneous hydrogenation catalyst powder as a dispersion can be carried out. Alternatively, the heterogeneous hydrogenation catalyst is packed in a reaction tower and the polymer solution is allowed to flow continuously. It is also possible to make it.
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する触媒において担体に担持させて使用する金属としては、前記金属のなかでも、いわゆる貴金属といわれるものが挙げられる。具体的な種類としては、レニウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金などが挙げられるが、分子切断などの副反応が少ないことからパラジウムが好ましい。担体の種類としては水素化活性の面からはカーボン、シリカ、アルミナが好ましいが、反応後の触媒回収とリサイクル性、製品の色目等を総合的に考慮した場合アルミナが特に好ましい。貴金属以外の不均一系触媒としては、ラネーニッケル触媒が挙げられる。 Examples of the metal used by supporting the olefinic unsaturated double bond and the unsaturated double bond of the aromatic ring on a support in the catalyst include those so-called noble metals. Specific examples include rhenium, ruthenium, rhodium, palladium, platinum, and the like, but palladium is preferable because side reactions such as molecular cleavage are small. As the type of support, carbon, silica, and alumina are preferable from the viewpoint of hydrogenation activity, but alumina is particularly preferable when comprehensively considering catalyst recovery and recyclability after reaction, product color, and the like. Examples of heterogeneous catalysts other than noble metals include Raney nickel catalysts.
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する不均一水素化触媒に使用される貴金属を担体に担持させた触媒の具体例としては、2質量%白金アルミナ粉末(担体:アルミナ粉末、比表面積80〜100m2/g)(エヌ・イー・ケムキャット(株)製)、5質量%パラジウムアルミナ粉末(担体:アルミナ粉末、比表面積80〜100m2/g)(エヌ・イー・ケムキャット(株)製)、5質量%パラジウムカーボン粉末(担体:カーボン粉末、比表面積900〜1300m2/g、含水品)(エヌ・イー・ケムキャット(株)製)、5質量%パラジウムシリカ・アルミナ粉末(担体:シリカ・アルミナ粉末、比表面積400〜600m2/g)(エヌ・イー・ケムキャット(株)製)、5質量%ルテニウムアルミナ粉末(担体:アルミナ粉末、比表面積80〜100m2/g)(エヌ・イー・ケムキャット(株)製)、5質量%レニウムアルミナ粉末(担体:アルミナ粉末、比表面積80〜100m2/g)(エヌ・イー・ケムキャット(株)製)を挙げることが出来る。また、貴金属以外の不均一水素化触媒の具体例としてはスポンジニッケル触媒(日興リカ(株)製 商品名:R−100、R−200)(商標)など、いわゆるラネーニッケル触媒を挙げることが出来る。これらは水酸化ナトリウム水溶液でニッケルアルミニウム合金中のアルミニウム成分を溶解除去する工程、即ち一般的に展開と呼ばれる工程後、水分散状態からメタノール分散状態、次いでテトラヒドロフラン分散状態、最終的に水素化溶媒分散状態へと溶媒を置換後、反応系に添加する。
As a specific example of a catalyst in which a noble metal used for a heterogeneous hydrogenation catalyst for hydrogenating both an olefinically unsaturated double bond and an unsaturated double bond of an aromatic ring is supported on a support, 2% by mass platinum alumina Powder (carrier: alumina powder, specific surface area 80-100 m 2 / g) (manufactured by N.E. Chemcat Co., Ltd.), 5 mass% palladium alumina powder (carrier: alumina powder, specific surface area 80-100 m 2 / g) ( 5% by mass palladium carbon powder (carrier: carbon powder, specific surface area 900-1300 m 2 / g, water-containing product) (manufactured by N.E. Chemcat Co., Ltd.), 5% by mass palladium silica alumina powder (carrier: silica-alumina powder, a specific surface area of 400-600m 2 / g) (manufactured by NE Chemcat Corporation), 5 wt% Ruteni Muarumina powder (carrier: alumina powder, a
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する不均一系水素化触媒の使用量は、反応系中に存在する重合体に対する金属濃度として0.1質量%〜1,000質量%の範囲であり、好ましくは0.5質量%〜300質量%の範囲であり、更に好ましくは1.0質量%〜150質量%の範囲である。
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する反応時間は、反応系の濃度、触媒量、反応温度などの反応条件と、製品として目標とする水素化率の値で変化するが、1時間以上、24時間以内で終了させることが可能である。不均一系水素化触媒は均一触媒に比較して製品の色目が良く、反応系中にハロゲン、硫黄、リンなどを含む被毒物質を含まない場合は、分離回収後の再使用が容易であることから、工業的には均一系水素化触媒よりも望ましい。
The amount of the heterogeneous hydrogenation catalyst used to hydrogenate both the olefinically unsaturated double bond and the unsaturated double bond of the aromatic ring is 0.1% by mass as the metal concentration relative to the polymer present in the reaction system. It is the range of -1,000 mass%, Preferably it is the range of 0.5 mass%-300 mass%, More preferably, it is the range of 1.0 mass%-150 mass%.
The reaction time for hydrogenating both the olefinically unsaturated double bond and the unsaturated double bond of the aromatic ring depends on the reaction conditions such as the concentration of the reaction system, the amount of catalyst, the reaction temperature, and the target hydrogenation rate. It can be completed within 1 hour or more and within 24 hours. Heterogeneous hydrogenation catalysts have a better product color than homogeneous catalysts, and can be easily reused after separation and recovery if the reaction system does not contain poisonous substances such as halogen, sulfur, and phosphorus. Therefore, it is industrially preferable to a homogeneous hydrogenation catalyst.
オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素化する水素化触媒金属などを極めて低減させた高純度の水素化ブロック共重合体を得ることが必要な場合は、水素化ブロック共重合体溶液中の金属イオンを適当なキレート化剤で水可溶化した上で高純度イオン交換水との交流接触にて抽出除去する方法、イオン交換樹脂カラムによるイオン性不純物除去方法、二酸化炭素超臨界法を使用した金属イオンおよび低分子アミン除去方法を必要に応じて実施することが可能である。
本発明の光学フィルムにおいては、フィルムに複屈折が必要な用途と必要でない用途が存在する。複屈折を必要としない用途は例えば偏光板保護フィルムであり、複屈折を必要とする用途は例えば位相差フィルムである。
If it is necessary to obtain a high purity hydrogenated block copolymer with extremely reduced hydrogenation catalyst metal that hydrogenates both olefinically unsaturated double bonds and unsaturated double bonds of aromatic rings, A method of extracting and removing metal ions in a hydrogenated block copolymer solution by water contact with high-purity ion exchange water after solubilizing with a suitable chelating agent, and a method for removing ionic impurities using an ion exchange resin column The metal ion and low molecular amine removal method using the carbon dioxide supercritical method can be carried out as necessary.
In the optical film of the present invention, there are uses where the film needs birefringence and uses not necessary. Applications that do not require birefringence are, for example, polarizing plate protective films, and applications that require birefringence are, for example, retardation films.
本発明の光学フィルムは、フィルムの複屈折コントロールやフィルム強度を高めるために延伸することが好ましい。
本発明のブロック共重合体を延伸した場合の複屈折(Δn(S))と延伸倍率(S)の関係において、その最小二乗近似より求めた傾きKの値が以下の式をみたす樹脂を用いることが好ましい。
K=Δn(S)/S
−2.0×10−5<K<2.0×10−5
ここでKの値は、ポリマーのDSC測定によるガラス転移温度(Tg)を測定しTg±10℃の延伸温度で、かつ5%/min.の延伸速度で延伸を行ったときの値である。但し、ブロック共重合体に2つ以上のTgがある場合は、最も高いTgを用いた。
The optical film of the present invention is preferably stretched in order to increase the birefringence control and film strength of the film.
In the relationship between the birefringence (Δn (S)) and the draw ratio (S) when the block copolymer of the present invention is stretched, a resin whose slope K obtained from the least square approximation satisfies the following equation is used. It is preferable.
K = Δn (S) / S
−2.0 × 10 −5 <K <2.0 × 10 −5
Here, the value of K is the glass transition temperature (Tg) measured by DSC measurement of the polymer, measured at a stretching temperature of Tg ± 10 ° C., and 5% / min. It is a value when extending | stretching at the extending | stretching speed of. However, when the block copolymer had two or more Tg, the highest Tg was used.
Kの値の更に好ましい範囲は、−1.2×10−5<K<1.2×10−5であり、特に好ましい範囲は、−1.0×10−5<K<1.0×10−5である。傾きKの値は、延伸倍率(S)に対する複屈折(Δn(S))の増加の大きさを表し、Kが大きい程延伸に対する複屈折の増加量が大きく、Kが小さい程延伸に対する複屈折の増加量が小さい。例えば、1/4波長板等の位相差フィルムに用いる場合、Kの値がこの範囲にある材料は延伸や配向による複屈折の変化が小さく、要求される複屈折の設計が容易で好ましい。また、偏光板保護フィルム等に用いる場合、Kの値がこの範囲にある材料は押し出し成形、キャスト成形における成形起因の配向による複屈折が生じにくく好ましい。更に延伸後の光学フィルム面内に複屈折の分布が生じる場合、Kの値がこの範囲にある材料は、フィルム面内における複屈折分布を小さく抑えられるために光学フィルムとして好ましい。 A more preferable range of the value of K is −1.2 × 10 −5 <K <1.2 × 10 −5 , and a particularly preferable range is −1.0 × 10 −5 <K <1.0 ×. 10 −5 . The value of the slope K represents the magnitude of the increase in birefringence (Δn (S)) with respect to the draw ratio (S). The larger the K, the larger the increase in birefringence with respect to the stretching, and the smaller the K, the birefringence with respect to stretching. The amount of increase is small. For example, when used for a retardation film such as a quarter-wave plate, a material having a K value in this range is preferable because the change in birefringence due to stretching or orientation is small, and the required birefringence design is easy. Moreover, when using for a polarizing plate protective film etc., the material whose K value is in this range is preferable because birefringence due to orientation due to molding in extrusion molding or cast molding is less likely to occur. Furthermore, when a birefringence distribution occurs in the optical film surface after stretching, a material having a K value in this range is preferable as an optical film because the birefringence distribution in the film surface can be kept small.
近年、液晶ディスプレイが大型化し、それに必要な高分子光学フィルムが大型化するにつれて、外力の偏りによって生じる複屈折の分布を小さくするために、ひずみによる複屈折の変化が小さい材料が求められている。光弾性係数の値がゼロに近いほど外力による複屈折の変化が小さいことを示しており、各用途において設計された複屈折の変化が小さいことを意味する。光弾性係数に関しては種種の文献に記載があり(例えば、化学総説、No.39.1998(学会出版センター発行)参照)、下式により定義されるものである。
CR=|Δn|/σR
|Δn|=|nx−ny|
(式中、CR:光弾性係数、σR:伸張応力、|Δn|:複屈折の絶対値、nx:伸張方向の屈折率、ny:伸張方向と垂直な屈折率)
In recent years, as a liquid crystal display becomes larger and a polymer optical film necessary for it becomes larger, a material having a small change in birefringence due to strain is required in order to reduce the distribution of birefringence caused by bias of external force. . The closer the value of the photoelastic coefficient is to zero, the smaller the change in birefringence due to external force, which means that the change in birefringence designed for each application is small. The photoelastic coefficient is described in various literatures (see, for example, Chemical Review No. 39.1998 (published by the Academic Publishing Center)), and is defined by the following equation.
CR = | Δn | / σR
| Δn | = | nx−ny |
(Where, CR: photoelastic coefficient, σR: stretching stress, | Δn |: absolute value of birefringence, nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction)
本発明のブロック共重合体からなる光学フィルムにおいては、光弾性係数が小さいという効果が存在する。光弾性係数は、その実用性から30×10−12Pa−1以下であることが好ましく、20×10−12Pa−1以下であることが更に好ましく、10×10−12Pa−1以下であることが特に好ましい。
本発明における位相差フィルムとは、1/4波長板、1/2波長板等の位相差板、TN、VA、IPS、OCB等の各種液晶モードに用いられる視野角制御フィルム等の液晶光学補償フィルムのことである。位相差フィルムは適用する液晶モードの要求により、レターデーションが10nm〜300nmにおいて設計される。フィルムのレターデーションの均一性等の点から延伸倍率は好ましくは10%〜450%である。本発明のブロック共重合体は、その成分の設計により、さまざまな液晶モードの光学補償フィルムに幅広く用いることができる。
本発明における延伸倍率(S)は、延伸前のチャック間距離をL0、延伸後のチャック間距離をL1とすると、以下の式で表される値である。
The optical film comprising the block copolymer of the present invention has an effect that the photoelastic coefficient is small. The photoelastic coefficient is preferably 30 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 20 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 10 × 10 −12 Pa −1 or less in view of practicality. It is particularly preferred.
The retardation film in the present invention is a liquid crystal optical compensation such as a retardation plate such as a quarter-wave plate and a half-wave plate, and a viewing angle control film used in various liquid crystal modes such as TN, VA, IPS, and OCB. It is a film. The retardation film is designed to have a retardation of 10 nm to 300 nm depending on the requirement of the liquid crystal mode to be applied. The draw ratio is preferably 10% to 450% from the viewpoint of the uniformity of the retardation of the film. The block copolymer of the present invention can be widely used for optical compensation films of various liquid crystal modes depending on the design of its components.
The draw ratio (S) in the present invention is a value represented by the following equation, where L0 is the distance between chucks before stretching and L1 is the distance between chucks after stretching.
L1−L0
S= ――――――― ×100(%)
L0
本発明の光学材料を偏光板保護フィルムとして用いる場合は、レターデーションは0nm〜10nmになるように延伸される。
L1-L0
S = ――――――― × 100 (%)
L0
When the optical material of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the retardation is stretched to be 0 nm to 10 nm.
本発明の光学フィルムの入射波長(λ)におけるレターデーション(Re)をRe(λ)とすると、波長λが450nm、550nm、650nmにおける波長λとRe(λ)/Re(550)の関係において、その最小二乗近似より求めた以下の式で表される傾きLの絶対値|L|が小さいことが光学フィルムとして好ましい。
L=[(Re(λ)/Re(550))]/λ
本発明における水素添加していないブロック共重合体およびオレフィン性不飽和二重結合のみを水素添加したブロック共重合体を延伸した場合、一般に光学フィルムとして用いられるポリカーボネートと同等以下の|L|の値を持ち光学フィルムとして好ましく用いることができる。また、オレフィン性不飽和二重結合と芳香環の不飽和二重結合の両方を水素添加したブロック共重合体では、ポリカーボネートの|L|の値より小さい値を示し、光学フィルムとして更に好ましく用いることができる。傾きLの値は、550nmのレターデーションを基準としたレターデーション(Re(λ)/Re(550))の波長λによる変化を表す。傾きLの絶対値|L|が小さいということは、入射光の波長によるレターデーションの変化が少ないことを意味し、表示装置等に使用した場合、|L|が小さい場合は色ぶれやコントラストの低下を抑えることが可能である。
When the retardation (Re) at the incident wavelength (λ) of the optical film of the present invention is Re (λ), the relationship between the wavelength λ and Re (λ) / Re (550) when the wavelength λ is 450 nm, 550 nm, and 650 nm, It is preferable for the optical film that the absolute value | L | of the slope L represented by the following formula obtained from the least square approximation is small.
L = [(Re (λ) / Re (550))] / λ
When a non-hydrogenated block copolymer and a block copolymer hydrogenated only with an olefinically unsaturated double bond in the present invention are stretched, a value of | L | equal to or lower than that of a polycarbonate generally used as an optical film And can be preferably used as an optical film. In addition, a block copolymer obtained by hydrogenating both an olefinically unsaturated double bond and an unsaturated double bond of an aromatic ring shows a value smaller than the value of | L | of polycarbonate and is more preferably used as an optical film. Can do. The value of the slope L represents a change of retardation (Re (λ) / Re (550)) with respect to the wavelength λ with respect to the retardation of 550 nm. The fact that the absolute value | L | of the inclination L is small means that there is little change in retardation due to the wavelength of incident light, and when it is used in a display device or the like, when | L | It is possible to suppress the decrease.
また、本発明においてはブロック共重合体以外の重合体を、本発明の目的を損なわない範囲で混合することができる。本発明のブロック共重合体以外の重合体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、ゴム変性耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)、スチレン−ブチルアクリレート共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、メタクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体(MBS)、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリル酸エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂等の熱可塑性樹脂、およびフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂などの少なくとも1種以上を更に添加することができる。 Moreover, in this invention, polymers other than a block copolymer can be mixed in the range which does not impair the objective of this invention. Examples of the polymer other than the block copolymer of the present invention include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutene, polystyrene, rubber-modified high impact polystyrene (HIPS), styrene-butyl acrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer. Polymer, styrene-maleic anhydride copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), methacrylate ester-butadiene-styrene copolymer (MBS), polyvinyl chloride resin, polymethacrylate ester resin, Polycarbonate resins, polyethylene resins such as polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide resins, polyphenylene sulfide resins, polyether ether ketone resins , Thermoplastic resins such as polysulfone resin, polyphenylene oxide resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyacetal resin, cyclic olefin resin, norbornene resin, and phenol resin, melamine resin, silicone resin, epoxy resin At least one kind such as a thermosetting resin can be further added.
ノルボルネン系樹脂はノルボルネン骨格の繰返し単位、またはノルボルネン骨格とメチレン骨格の共重合体よりなる。ノルボルネン系樹脂としては、JSR製の「アートン」、日本ゼオン製の「ゼオネックス」および「ゼオノア」、三井化学製の「アペル」、チコナ製の「トーパス」等があげられる。具体例としては、特開昭62−252406号公報、特開昭62−252407号公報、特開平2−133413号公報、特開昭63−145324号公報、特開昭63−264626号公報、特開平1−240517号公報、特公昭57−8815号公報、特開平5−39403号公報、特開平5−43663号公報、特開平5−43834号公報、特開平5−70655号公報、特開平5−279554号公報、特開平6−206985号公報、特開平7−62028号公報、特開平8−176411号公報、特開平9−241484号公報等に記載されている。 The norbornene resin is composed of a repeating unit of a norbornene skeleton or a copolymer of a norbornene skeleton and a methylene skeleton. Examples of the norbornene-based resin include “Arton” manufactured by JSR, “Zeonex” and “Zeonor” manufactured by Zeon Corporation, “Appel” manufactured by Mitsui Chemicals, and “Topas” manufactured by Chicona. Specific examples include JP-A-62-252406, JP-A-62-2252407, JP-A-2-133413, JP-A-63-145324, JP-A-63-264626, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1-2240517, Japanese Patent Publication No. 57-8815, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-39403, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-43663, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-43834, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-70655, Japanese Laid-open Patent Publication No. -279554, JP-A-6-206985, JP-A-7-62028, JP-A-8-176411, JP-A-9-241484, and the like.
更に、本発明の効果を著しく損なわない範囲内で、各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。添加剤の種類は,樹脂やゴム状重合体の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はない。無機充填剤,酸化鉄等の顔料,ステアリン酸,ベヘニン酸,ステアリン酸亜鉛,ステアリン酸カルシウム,ステアリン酸マグネシウム,エチレンビスステアロアミド等の滑剤,離型剤,パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン,ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤,ヒンダードフェノール系酸化防止剤、りん系熱安定剤等の酸化防止剤,ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤,難燃剤,帯電防止剤,有機繊維,ガラス繊維,炭素繊維,金属ウィスカ等の補強剤,着色剤、その他添加剤或いはこれらの混合物等が挙げられる。 Furthermore, arbitrary additives can be blended in accordance with various purposes within a range that does not significantly impair the effects of the present invention. The type of additive is not particularly limited as long as it is generally used for blending resins and rubber-like polymers. Inorganic fillers, pigments such as iron oxide, stearic acid, behenic acid, zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate, ethylene bisstearamide, lubricants, mold release agents, paraffinic process oil, naphthenic process oil, Softeners and plasticizers such as aromatic process oil, paraffin, organic polysiloxane, mineral oil, hindered phenol antioxidants, antioxidants such as phosphorus heat stabilizers, hindered amine light stabilizers, benzotriazoles Examples include ultraviolet absorbers, flame retardants, antistatic agents, reinforcing agents such as organic fibers, glass fibers, carbon fibers, and metal whiskers, coloring agents, other additives, and mixtures thereof.
本発明における光学フィルムの製造方法は、特に制限されるものではなく、公知の方法が利用できる。例えば単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて製造することができる。また本発明におけるフィルムは、射出成形、シート成形、ブロー成形、インジェクションブロー成形、インフレーション成形、押し出し成形、発泡成形等、公知の方法で成形することが可能であり、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法も用いることができる。
本発明の光学フィルムの好ましい製法として、押し出し成形、キャスト成形等の手法が用いられる。例えば、Tダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、未延伸フィルムを押し出し成形することができる。また、ブロック共重合体が可溶な溶媒、例えばクロロホルム、トルエン等の溶媒を用いて、ブロック共重合体を溶解後、キャスト乾燥固化することによりフィルムをキャスト成形もすることができる。
The manufacturing method of the optical film in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. For example, it can be produced using a melt kneader such as a single screw extruder, a twin screw extruder, a Banbury mixer, a Brabender, or various kneaders. In addition, the film in the present invention can be formed by a known method such as injection molding, sheet molding, blow molding, injection blow molding, inflation molding, extrusion molding, foam molding, and the like. Sub-processing molding methods can also be used.
As a preferable method for producing the optical film of the present invention, techniques such as extrusion molding and cast molding are used. For example, an unstretched film can be extruded by using an extruder equipped with a T die, a circular die, or the like. In addition, the film can be cast-molded by dissolving the block copolymer using a solvent in which the block copolymer is soluble, for example, a solvent such as chloroform or toluene, and then solidifying by casting and solidifying.
上記方法で得られたフィルムを更に、機械的流れ方向に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向に横一軸延伸することができ、またロール延伸とテンター延伸の逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸することにより2軸延伸フィルムを製造することができる。延伸を行うことによりフィルムの強度を向上させることができる。最終的な延伸倍率は得られたフィルムの熱収縮率より判断することができる。
本発明において、光学フィルムの厚さは1〜300μmの範囲が好ましく、5〜200μmの範囲が更に好ましく、10〜100μmの範囲が特に好ましい。
The film obtained by the above method can further be longitudinally uniaxially stretched in the mechanical flow direction and transversely uniaxially stretched in the direction perpendicular to the mechanical flow direction. Also, a sequential biaxial stretching method of roll stretching and tenter stretching, tenter A biaxially stretched film can be produced by stretching by a simultaneous biaxial stretching method by stretching, a biaxial stretching method by tubular stretching, or the like. By stretching, the strength of the film can be improved. The final draw ratio can be determined from the heat shrinkage rate of the obtained film.
In the present invention, the thickness of the optical film is preferably in the range of 1 to 300 μm, more preferably in the range of 5 to 200 μm, and particularly preferably in the range of 10 to 100 μm.
本発明の光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板等の位相差板、視野角制御フィルム等の液晶光学補償フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ等、また、太陽電池に用いられる透明基盤等に好適に用いることができる。本発明の光学フィルムは、例えば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。 The optical film of the present invention is a polarizing plate protective film, a quarter-wave plate, a half-wave plate, etc. used for a display such as a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, a field emission display, and a rear projection television. It can be suitably used for a plate, a liquid crystal optical compensation film such as a viewing angle control film, a display front plate, a display substrate, a lens, and a transparent substrate used for solar cells. The optical film of the present invention can be subjected to surface functionalization treatment such as antireflection treatment, transparent conductive treatment, electromagnetic wave shielding treatment, and gas barrier treatment.
次に実施例によって本発明を説明する。
本願発明および実施例で用いた評価法をまず説明する。
(A)評価
(1)レターデーションの測定
大塚電子製RETS−100を用いて、回転検光子法により400〜800nmの波長について測定を行った。複屈折の絶対値(|Δn|)とレターデーション(Re)は以下の関係にある。
Re=|Δn|×d
(|Δn|:複屈折の絶対値、Re:レターデーション、d:サンプルの厚み)
また、複屈折の絶対値(|Δn|)は以下に示す値である。
|Δn|=|nx−ny|
(nx:延伸方向の屈折率、ny:面内で延伸方向と垂直な屈折率)
Next, the present invention will be described by way of examples.
First, the evaluation methods used in the present invention and examples will be described.
(A) Evaluation (1) Measurement of Retardation Using a RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., a wavelength of 400 to 800 nm was measured by a rotary analyzer method. The absolute value of birefringence (| Δn |) and retardation (Re) have the following relationship.
Re = | Δn | × d
(| Δn |: absolute value of birefringence, Re: retardation, d: thickness of sample)
The absolute value (| Δn |) of birefringence is a value shown below.
| Δn | = | nx−ny |
(Nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction in the plane)
(2)複屈折の測定
大塚電子製RETS−100を用いて、回転検光子法により測定を行った。複屈折の値は550nmの値である。複屈折(Δn)は、以下の式により計算した。
Δn=nx−ny
(Δn:複屈折、nx:伸張方向の屈折率、ny:伸張方向と垂直な屈折率)
複屈折(Δn)の絶対値(|Δn|)は、以下のように求めた。
|Δn|=|nx−ny|
(2) Measurement of birefringence Measurement was performed by a rotating analyzer method using RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics. The value of birefringence is a value of 550 nm. Birefringence (Δn) was calculated by the following formula.
Δn = nx−ny
(Δn: birefringence, nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction)
The absolute value (| Δn |) of birefringence (Δn) was determined as follows.
| Δn | = | nx−ny |
(3)光弾性係数の測定
Polymer Engineering andScience 1999,39,2349-2357に詳細の記載のある複屈折測定装置を用いた。レーザー光の経路にフィルムの引っ張り装置を配置し、23℃で伸張応力をかけながら複屈折を測定した。伸張時の歪速度は50%/分(チャック間:10mm、チャック移動速度:5mm/分)、試験片幅は8mmで測定を行った。複屈折の絶対値(|Δn|)と伸張応力(σR)の関係から、最小二乗近似によりその直線の傾きをもとめ光弾性係数(CR)を計算した。計算には伸張応力が2.5MPa≦σR≦10MPaの間のデータを用いた。
CR=|Δn|/σR
|Δn|=nx−ny
(CR:光弾性係数、σR:伸張応力、|Δn|:複屈折の絶対値、nx:伸張方向の屈折率、ny:伸張方向と垂直な屈折率)
(3) Measurement of photoelastic coefficient
A birefringence measuring apparatus described in detail in Polymer Engineering and Science 1999, 39, 2349-2357 was used. A film tensioning device was placed in the laser beam path, and birefringence was measured while applying a tensile stress at 23 ° C. The strain rate during stretching was 50% / min (between chucks: 10 mm, chuck moving speed: 5 mm / min), and the test piece width was 8 mm. From the relationship between the absolute value of birefringence (| Δn |) and the extensional stress (σR), the photoelastic coefficient (CR) was calculated by determining the slope of the straight line by least square approximation. For the calculation, data with an extensional stress between 2.5 MPa ≦ σR ≦ 10 MPa was used.
CR = | Δn | / σR
| Δn | = nx−ny
(CR: photoelastic coefficient, σR: stretching stress, | Δn |: absolute value of birefringence, nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction)
(4)ブロック率
四酸化オスミウムを触媒としてジ・ターシャリーブチルハイドロパーオキサイドによりブロック共重合体を酸化分解する方法〔I.M.KOLTHOFF,etal.,J.Polym.Sci.1,429(1946)に記載の方法〕により得たビニル芳香族炭化水素重合体ブロック成分を定量し、下記の式から求めた。
ブロック共重合体のビニル芳香族
炭化水素重合体ブロックの質量%
ブロック率(質量%)= ――――――――――――――――― ×100
ブロック共重合体の全ビニル
芳香族炭化水素の質量%
水素添加されたブロック共重合体のブロック率は、水素添加前のポリマーを用いてブロック率の分析を行った。
(4) Block ratio A method of oxidatively decomposing a block copolymer with di-tertiary butyl hydroperoxide using osmium tetroxide as a catalyst [I. M.M. KOLTHOFF, et al. , J .; Polym. Sci. 1,429 (1946)] was quantified and determined from the following formula.
Vinyl aromatic of block copolymer
Mass% of hydrocarbon polymer block
Block ratio (mass%) = ――――――――――――――――― × 100
All vinyl block copolymer
% By mass of aromatic hydrocarbon
The block ratio of the hydrogenated block copolymer was analyzed using the polymer before hydrogenation.
(5)水素添加率の測定
ブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合およびビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合の水素添加率は、ブルカー社製DPX400を使用し、プロトン核磁気共鳴スペクトル(NMR)測定を行い、それぞれのピークを帰属し水素添加率(%)を求めた。測定溶媒には重クロロホルムまたはo−ジクロロベンゼン−d4を用いた。ブロックごとの水素添加率は以下の様にして求めた。ブロック共重合体全体のオレフィン性不飽和二重結合の水素添加率をHD、重合体ブロックA中のオレフィン性不飽和二重結合の水素添加率をHDA、重合体ブロックB中のオレフィン性不飽和二重結合の水素添加率をHDB、ブロック共重合体全体のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合の水素添加率をHR、重合体ブロックA中のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合の水素添加率をHRA、重合体ブロックB中のビニル芳香族化合物の芳香環の不飽和二重結合の水素添加率をHRBとする。 重合体ブロックB中のオレフィン性不飽和二重結合の水素添加率HDBは、水素添加の反応性がブロックAとBで異なることを考慮して、HDAが最大である場合と、HDBが最大である場合を仮定し、HDと各ブロックの共役ジエン組成比から、HDBの範囲を算出した。重合体ブロックA中に共役ジエンが含まれない場合は、HDBは、HDに等しい。また、重合体ブロックA中のビニル芳香族化合物の芳香環不飽和二重結合の水素添加率HRAは、水素添加の反応性がブロックAとBで異なることを考慮して、HRBが最大である場合と、HRAが最大である場合を仮定し、HRと各ブロックのビニル芳香族炭化水素組成比から、HRAの範囲を算出した。重合体ブロックB中にビニル芳香族炭化水素が含まれない場合は、HRAは、HRに等しい。
(5) Measurement of hydrogenation rate The hydrogenation rate of the olefinically unsaturated double bond of the entire block copolymer and the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound was determined by using DPX400 manufactured by Bruker. Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) measurement was performed, and the hydrogenation rate (%) was determined by assigning each peak. Deuterated chloroform or o-dichlorobenzene-d4 was used as a measurement solvent. The hydrogenation rate for each block was determined as follows. The hydrogenation rate of the olefinically unsaturated double bond in the entire block copolymer is H D , the hydrogenation rate of the olefinically unsaturated double bond in the polymer block A is H DA , and the olefinic property in the polymer block B The hydrogenation rate of the unsaturated double bond is H DB , the hydrogenation rate of the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the entire block copolymer is H R , and the vinyl aromatic compound in the polymer block A The hydrogenation rate of the unsaturated double bond of the aromatic ring is H RA , and the hydrogenation rate of the unsaturated double bond of the aromatic ring of the vinyl aromatic compound in the polymer block B is H RB . The hydrogenation rate H DB of the olefinically unsaturated double bond in the polymer block B is determined by considering that the reactivity of hydrogenation is different between the blocks A and B, and the case where H DA is maximum and H DB There the assumption that the maximum, conjugated diene composition ratio of H D and each block was calculated range of H DB. Not contain a conjugated diene in the polymer block A, H DB is equal to H D. In addition, the hydrogenation rate HRA of the aromatic double unsaturated double bond of the vinyl aromatic compound in the polymer block A is the highest in HRB , considering that the hydrogenation reactivity is different between the blocks A and B. and if it is, the assumption that H RA is the maximum, a vinyl aromatic hydrocarbon composition ratio of H R and each block was calculated range of H RA. If in the polymer block B does not contain a vinyl aromatic hydrocarbon, H RA is equal to H R.
(B)用いた原材料など
(1)ブロック共重合体(A−1)
攪拌機付きオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下でスチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを0.080質量部を添加し、80℃で20分間重合した。次にスチレン15質量部と1,3−ブタジエン24質量部を含むシクロヘキサン溶液を60分間連続的に添加して80℃で重合した。次にスチレン36質量部を含むシクロヘキサン溶液を25分間連続的に添加して80℃で重合した後、80℃で10分間保持した。その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して0.9倍モル添加して重合を停止し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートをブロック共重合体100質量部に対して0.5質量部を加えた後、脱溶媒してブロック共重合体(A−1)を得た。ブロック共重合体A−1は、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックA、スチレン/1,3−ブタジエン=38.5/61.5質量比である重合体ブロックB、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックAよりなるA−B−A型ブロック重合体である。また、得られたブロック共重合体A−1は、数平均分子量85000、スチレン含有量は77.5%、ブロック率は80質量%、また、メルトフローレートは7g/10分(ASTM D1238に準拠、200℃、荷重5kg)であった。
(B) Used raw materials, etc. (1) Block copolymer (A-1)
Using an autoclave with a stirrer, 0.080 parts by mass of n-butyllithium was added to a cyclohexane solution containing 25 parts by mass of styrene under a nitrogen gas atmosphere, and polymerization was performed at 80 ° C. for 20 minutes. Next, a cyclohexane solution containing 15 parts by mass of styrene and 24 parts by mass of 1,3-butadiene was continuously added for 60 minutes to polymerize at 80 ° C. Next, a cyclohexane solution containing 36 parts by mass of styrene was continuously added for 25 minutes and polymerized at 80 ° C., and then held at 80 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the polymerization was stopped by adding methanol to the polymerization vessel at a 0.9-fold mole relative to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) was used as a stabilizer. ) Ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate is added in an amount of 0.5 parts by mass to 100 parts by mass of the block copolymer, and then the solvent is removed to obtain the block copolymer (A-1) Obtained. The block copolymer A-1 is a polymer block A in which styrene / 1,3-butadiene = 100/0 mass ratio, and a polymer in which styrene / 1,3-butadiene = 38.5 / 61.5 mass ratio. This is an ABA block polymer composed of polymer block A in which block B and styrene / 1,3-butadiene = 100/0 mass ratio. The obtained block copolymer A-1 has a number average molecular weight of 85,000, a styrene content of 77.5%, a block rate of 80% by mass, and a melt flow rate of 7 g / 10 min (according to ASTM D1238). , 200 ° C., load 5 kg).
(2)ジエン水添ブロック共重合体(A−2)
攪拌機付きオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下でスチレン10質量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを0.15質量部、テトラメチルエチレンジアミン四酢酸を0.18質量部添加し、75℃で5分間連続添加して重合した。次にスチレン70質量部と1,3−ブタジエン10質量部を含むシクロヘキサン溶液を60分間連続的に添加して75℃で重合した。次にスチレン10質量部を含むシクロヘキサン溶液を15分間連続的に添加して75℃で重合した後、75℃で10分間保持した。その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して0.9倍モル添加して重合を停止し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートをブロック共重合体100質量部に対して0.5質量部を加えた後、脱溶媒してブロック共重合体P−1のシクロヘキサン溶液を得た。ブロック共重合体P−1は、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックA、スチレン/1,3−ブタジエン=87.5/12.5質量比である重合体ブロックA、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックAよりなるA−A−A型ブロック重合体である。また、得られたブロック共重合体P−1は、数平均分子量は120000、スチレン含有量は90質量%であった。
(2) Diene hydrogenated block copolymer (A-2)
Using an autoclave with a stirrer, 0.15 parts by mass of n-butyllithium and 0.18 parts by mass of tetramethylethylenediaminetetraacetic acid are added to a cyclohexane solution containing 10 parts by mass of styrene under a nitrogen gas atmosphere, and the mixture is added at 75 ° C. for 5 minutes. Polymerization was carried out with continuous addition. Next, a cyclohexane solution containing 70 parts by mass of styrene and 10 parts by mass of 1,3-butadiene was continuously added for 60 minutes to polymerize at 75 ° C. Next, a cyclohexane solution containing 10 parts by mass of styrene was continuously added for 15 minutes and polymerized at 75 ° C., and then held at 75 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the polymerization was stopped by adding methanol to the polymerization vessel at a 0.9-fold mole relative to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) was used as a stabilizer. ) Ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate, after adding 0.5 parts by mass to 100 parts by mass of the block copolymer, the solvent is removed to obtain a cyclohexane solution of the block copolymer P-1. Got. The block copolymer P-1 is a polymer block A having a styrene / 1,3-butadiene = 100/0 mass ratio, and a polymer having a styrene / 1,3-butadiene = 87.5 / 12.5 mass ratio. It is an AAA type block polymer which consists of polymer block A which is block A and styrene / 1,3-butadiene = 100/0 mass ratio. In addition, the obtained block copolymer P-1 had a number average molecular weight of 120,000 and a styrene content of 90% by mass.
次に、この共重合体P−1を出発物質として、ジエン水添ブロック共重合体A−2を得た。水添触媒は、窒素置換した反応容器に乾燥、精製したシクロヘキサン1リットルを仕込み、ビス(η5-シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド100ミリモルを添加し、十分に攪拌しながらトリメチルアルミニウム200ミリモルを含むn-ヘキサン溶液を添加して、室温にて約3日間反応させた水添触媒を使用した。水添触媒をブロック共重合体100質量部当たりチタンとして100ppm添加し、水素圧0.7MPa、温度65℃で水添反応を行った。その後メタノールを添加し、脱溶媒してブロック共重合体水添物を得た。ブロック共重合体水添物の水添率は、水素量で調整した。共重合体A−2の水素添加率は、HDBが99.9%、HRAが0%、HDが99.9%、HRが0%であった。 Next, using this copolymer P-1 as a starting material, a diene hydrogenated block copolymer A-2 was obtained. The hydrogenation catalyst was prepared by adding 1 liter of dried and purified cyclohexane to a nitrogen-substituted reaction vessel, adding 100 mmol of bis (η5-cyclopentadienyl) titanium dichloride, and containing 200 mmol of trimethylaluminum with sufficient stirring. -A hydrogenation catalyst was used, which was reacted for about 3 days at room temperature after adding a hexane solution. A hydrogenation catalyst was added at 100 ppm as titanium per 100 parts by mass of the block copolymer, and a hydrogenation reaction was carried out at a hydrogen pressure of 0.7 MPa and a temperature of 65 ° C. Thereafter, methanol was added and the solvent was removed to obtain a hydrogenated block copolymer. The hydrogenation rate of the block copolymer hydrogenated product was adjusted by the amount of hydrogen. The hydrogenation rate of the copolymer A-2 is, H DB is 99.9%, H RA is 0%, H D is 99.9%, H R was 0%.
(3)ジエンおよび芳香環水添ブロック共重合体(A−3)
攪拌機付きオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下でスチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを0.065部を添加し、70℃で20分間重合した。次にスチレン20質量部と1,3−ブタジエン30質量部を含むシクロヘキサン溶液を60分間連続的に添加して70℃重合した。次にスチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液を60分間連続的に添加して約70℃で重合した後、70℃で10分間保持した。その後、重合器にメタノ−ルをn−ブチルリチウムに対して0.9倍モル添加して重合を停止し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレ−トをブロック共重合体組成物100質量部に対して0.5質量部を加えた後、脱溶媒してブロック共重合体P−2を得た。ブロック共重合体P−2は、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックA、スチレン/1,3−ブタジエン=40.0/60.0質量比である重合体ブロックB、スチレン/1,3−ブタジエン=100/0質量比である重合体ブロックAよりなるA−B−A型ブロック重合体である。また、得られたブロック共重合体P−2は、数平均分子量110000、スチレン含有量は70%、ブロック率は55%、また、メルトフローレートは6g/10分(ASTM D1238に準拠、200℃、荷重5kg)であった。
(3) Diene and aromatic ring hydrogenated block copolymer (A-3)
Using an autoclave with a stirrer, 0.065 part of n-butyllithium was added to a cyclohexane solution containing 25 parts by weight of styrene under a nitrogen gas atmosphere, and polymerization was performed at 70 ° C. for 20 minutes. Next, a cyclohexane solution containing 20 parts by mass of styrene and 30 parts by mass of 1,3-butadiene was continuously added for 60 minutes to perform polymerization at 70 ° C. Next, a cyclohexane solution containing 25 parts by mass of styrene was continuously added for 60 minutes and polymerized at about 70 ° C., and then held at 70 ° C. for 10 minutes. Thereafter, methanol was added to the polymerization vessel at a 0.9-fold molar ratio with respect to n-butyllithium to stop the polymerization, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t- Pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate is added to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the block copolymer composition, and then the solvent is removed to remove block copolymer. Combined P-2 was obtained. The block copolymer P-2 is a polymer block A in which styrene / 1,3-butadiene = 100/0 mass ratio, and a polymer in which styrene / 1,3-butadiene = 40.0 / 60.0 mass ratio. This is an ABA block polymer composed of polymer block A in which block B and styrene / 1,3-butadiene = 100/0 mass ratio. The resulting block copolymer P-2 has a number average molecular weight of 110000, a styrene content of 70%, a block rate of 55%, and a melt flow rate of 6 g / 10 min (according to ASTM D1238, 200 ° C. The load was 5 kg).
次に、このブロック共重合体P−2を200gと精製したシクロヘキサン800gを5Lの高圧反応器に移し、ラネーNi10gをシクロヘキサン1000gを用いて移送した。水素で反応器内を置換し、8MPa、160℃で6時間水素添加反応を行い、ジエンおよび芳香環水添ブロック共重合体A−3を得た。1H−NMRから水素添加を求めた。この水素化物のDSCを測定し、単一のTgを確認した。共重合体A−3の水素添加率は、HDBが99.9%、HRAが99.4〜100%、HDが99.9%、HRが99.6%であった。 Next, 800 g of cyclohexane purified with 200 g of this block copolymer P-2 was transferred to a 5 L high-pressure reactor, and 10 g of Raney Ni was transferred using 1000 g of cyclohexane. The inside of the reactor was replaced with hydrogen, and hydrogenation reaction was performed at 8 MPa and 160 ° C. for 6 hours to obtain a diene and aromatic ring hydrogenated block copolymer A-3. Hydrogenation was determined from 1H-NMR. The DSC of this hydride was measured to confirm a single Tg. The hydrogenation rate of the copolymer A-3 is, H DB is 99.9%, H RA is 99.4~100%, H D is 99.9%, H R was 99.6%.
(4)ポリカーボネート樹脂(B−1)
比較に用いたポリカーボネート樹脂には、メルトフローレート10g/10分(ASTM D1238に準拠、300℃、荷重1.2kg)のポリカーボネート樹脂を使用した。
(4) Polycarbonate resin (B-1)
As the polycarbonate resin used for comparison, a polycarbonate resin having a melt flow rate of 10 g / 10 min (according to ASTM D1238, 300 ° C., load 1.2 kg) was used.
[実施例1〜9および比較例1〜3]
テクノベル製Tダイ装着押し出し機(KZW15TW−25MG−NH型/幅150mmTダイ装着/リップ厚0.5mm)のホッパーにブロック共重合体(A−1)、ジエン水添ブロック共重合体(A−2)、ジエンおよび芳香環水添ブロック共重合体(A−3)またはポリカーボネート樹脂(B−1)のいずれかのペレットを投入した。押し出し機のシリンダー内樹脂温度とTダイの温度を調整し押し出し成形し、得られた未延伸フィルムの一軸延伸(延伸速度5%/分)を引っ張り試験機を用いて行うことにより実施例1〜9、比較例1〜3の未延伸フィルムを得た。|Δn|=|nx−ny|を求めるのに必要なnxは一軸引っ張り方向の屈折率とし、nyは一軸引っ張り方向に垂直な方向の屈折率とした。組成、押し出し条件、延伸条件、フィルムの厚み、レターデーションの波長依存性(450nm、550nm、650nm)、複屈折の絶対値、光弾性係数を表1および表2に示した。波長λが450nm、550nm、650nmにおける波長λとRe(λ)/Re(550)の関係から、その最小二乗近似より求めた傾きLの絶対値|L|を表1および表2に示した。また、表1および表2の結果から求めた、復屈折(Δn(S))と延伸倍率(S)の関係をプロットし、最小二乗近似によりKの値を求めた。その結果を表3に示した。復屈折(Δn(S))と延伸倍率(S)の関係を示すグラフ図を図1に示す。
[Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3]
Block copolymer (A-1) and diene hydrogenated block copolymer (A-2) on the hopper of Technobel's T-die mounting extruder (KZW15TW-25MG-NH type / width 150 mmT die mounting / lip thickness 0.5 mm) ), A pellet of either diene and aromatic ring hydrogenated block copolymer (A-3) or polycarbonate resin (B-1). By adjusting the resin temperature in the cylinder of the extruder and the temperature of the T-die and performing extrusion molding, uniaxial stretching (stretching speed 5% / min) of the obtained unstretched film was performed using a tensile tester. 9. Unstretched films of Comparative Examples 1 to 3 were obtained. Nx necessary for obtaining | Δn | = | nx−ny | is a refractive index in a uniaxial tensile direction, and ny is a refractive index in a direction perpendicular to the uniaxial tensile direction. Tables 1 and 2 show the composition, extrusion conditions, stretching conditions, film thickness, retardation wavelength dependency (450 nm, 550 nm, 650 nm), absolute value of birefringence, and photoelastic coefficient. Tables 1 and 2 show the absolute value | L | of the slope L obtained from the least square approximation based on the relationship between the wavelength λ and Re (λ) / Re (550) when the wavelength λ is 450 nm, 550 nm, and 650 nm. Further, the relationship between birefringence (Δn (S)) and stretch ratio (S) obtained from the results of Tables 1 and 2 was plotted, and the value of K was obtained by least square approximation. The results are shown in Table 3. A graph showing the relationship between birefringence (Δn (S)) and draw ratio (S) is shown in FIG.
[実施例10〜12]
実施例1と同様な方法により、未延伸フィルムを成形し、この未延伸フィルムを実施例1と同様な方法で1軸延伸を行い、温度を微調整することにより、レターデーションが138nmのフィルムを得た。組成、押し出し条件、延伸条件、フィルムの厚み、レターデーションを表4に示した。550nmにおいて1/4波長板としてのレターデーションを持つ位相差フィルムとして機能することが確認しされた。
[Examples 10 to 12]
An unstretched film was formed by the same method as in Example 1, and this unstretched film was uniaxially stretched by the same method as in Example 1 to finely adjust the temperature, whereby a film having a retardation of 138 nm was obtained. Obtained. Table 4 shows the composition, extrusion conditions, stretching conditions, film thickness, and retardation. It was confirmed that it functions as a retardation film having retardation as a quarter wavelength plate at 550 nm.
[実施例13〜15]
実施例1と同様な方法により、未延伸フィルムを成形し、この未延伸フィルムを実施例1と同様な方法で1軸延伸を行い、温度を微調整することにより、レターデーションが275nmのフィルムを得た。組成、押し出し条件、延伸条件、フィルムの厚み、レターデーションを表4に示した。550nmにおいて1/2波長板としてのレターデーションを持つ位相差フィルムとして機能することが確認された。
[Examples 13 to 15]
An unstretched film was formed by the same method as in Example 1, and this unstretched film was uniaxially stretched by the same method as in Example 1 to finely adjust the temperature, whereby a film having a retardation of 275 nm was obtained. Obtained. Table 4 shows the composition, extrusion conditions, stretching conditions, film thickness, and retardation. It was confirmed that it functions as a retardation film having retardation as a half-wave plate at 550 nm.
本発明の光学フィルムは、透明でかつ延伸による複屈折の変化が小さいという優れた光学特性を持ち、本発明の光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いられる偏光板保護フィルム、1/4波長板、1/2波長板等の位相差板、視野角制御フィルム等の液晶光学補償フィルム、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、レンズ等、また、太陽電池に用いられる透明基盤等に好適に用いることができる。 The optical film of the present invention has excellent optical characteristics that it is transparent and has little change in birefringence due to stretching, and the optical film of the present invention is a liquid crystal display, plasma display, organic EL display, field emission display, rear projection television. Polarizing plate protective film used for displays such as, 1/4 wave plate, retardation plate such as 1/2 wave plate, liquid crystal optical compensation film such as viewing angle control film, display front plate, display substrate, lens, etc. It can be suitably used for transparent substrates used in solar cells.
Claims (19)
K=Δn(S)/S
−2.0×10−5<K<2.0×10−5 In the relationship between the birefringence (Δn (S)) and the draw ratio (S) when the block copolymer is stretched, the value of the slope K obtained from the least square approximation satisfies the following formula: The optical film according to claim 1, wherein the optical film is a film.
K = Δn (S) / S
−2.0 × 10 −5 <K <2.0 × 10 −5
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