JP2006277951A

JP2006277951A - Information recording medium

Info

Publication number: JP2006277951A
Application number: JP2006196022A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Kobayashi; 忠小林; Hisashi Yamada; 尚志山田
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2006-07-18
Filing date: 2006-07-18
Publication date: 2006-10-12

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an information recording medium capable of securing a sufficient tilt margin and mechanical strength, even if recording density is enhanced. <P>SOLUTION: In the information recording medium, provided with a substrate having a recording surface in which embossed pits or guide grooves are formed, a reflecting film formed on the recording surface of the substrate and a protective film, formed on the reflecting film and having a surface constituted of two surfaces of a first surface on the protective layer side and a second surface facing the first surface, a light beam is made incident from the first surface side, to reproduce recorded information, based on the light intensity change in its reflected light beam. The distance from the recording surface of the substrate to the first surface is smaller than the thickness of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、情報記録媒体に係り、特に表面記録再生用情報記録媒体に関する。 The present invention relates to an information recording medium, and more particularly to an information recording medium for surface recording and reproduction.

通常のＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚の透明基板の一方の面上に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。こうしたＣＤに記録された情報は、反射膜が設けられた面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより再生される。 In an ordinary optical disk such as a CD or CD-ROM, an emboss pit corresponding to recording data is formed on one surface of a 1.2 mm thick transparent substrate, and a reflective film made of Al or the like is further formed thereon. ing. Information recorded on such a CD is reproduced by irradiating a focused beam from the transparent substrate side opposite to the surface provided with the reflective film.

より記録密度が高密度化されたＤＶＤやＤＶＤ−ＲＯＭディスクにおいては、０．６ｍｍ厚の透明基板の一方の面上にＣＤの場合よりも微細なエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。こうしたディスクの記録面に記録された情報の再生は、ＣＤの場合と同様に反射膜が形成されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより行なわれる。 In DVD and DVD-ROM discs with higher recording density, a fine embossed pit is formed on one side of a 0.6 mm thick transparent substrate, compared to the case of CD. The reflective film which consists of is formed. The reproduction of information recorded on the recording surface of the disc is performed by irradiating a focused beam from the transparent substrate side opposite to the surface on which the reflective film is formed, as in the case of CD.

０．６ｍｍ厚の基板の材料としては、透明な樹脂材料であるＰＣ（ポリカーボネート）が一般的に使用されている。０．６ｍｍのＰＣ基板では、機械的特性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうため、記録面が内側となるよう２枚の０．６ｍｍＰＣ基板を貼り合わせて、合計厚さ１．２ｍｍのディスクとして機械的特性を確保している。 As a material for the substrate having a thickness of 0.6 mm, PC (polycarbonate) which is a transparent resin material is generally used. The 0.6 mm PC board does not have sufficient mechanical properties, and the board is warped as it is. Therefore, the two 0.6 mm PC boards are bonded so that the recording surface is inside, and the total thickness is 1.2 mm. As a disc, the mechanical properties are secured.

なお、ＤＶＤディスクの基板厚が０．６ｍｍとなったのは、チルトマージンを確保するためである。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディスクの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしまう。１．２ｍｍから０．６ｍｍへと基板厚が小さくすることによって、チルトマージンは確保することができるが、機械的強度の低下は避けられない。 The reason why the substrate thickness of the DVD disk is 0.6 mm is to secure a tilt margin. If the track pitch and pit density are further reduced, the disc tilt, so-called tilt margin, decreases. By reducing the substrate thickness from 1.2 mm to 0.6 mm, a tilt margin can be secured, but a decrease in mechanical strength is inevitable.

そこで、基板を薄くして機械的強度を確保するため、ディスクの中央部を厚くすることにより機械的強度を確保することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら機械的強度を確保するためには、信号記録領域の基板厚さは０．６ｍｍが限界であった。また、透明基板の厚さを０．１ｍｍ〜０．６ｍｍとすることが報告されている（例えば、特許文献２参照）が、記録膜を保持する保護基板の厚さ、反射膜の膜厚等については言及されておらず、実施するうえでは問題であった。
特開平９−２０４６８６号公報特開平９−２０４６８８号公報 Therefore, in order to secure the mechanical strength by thinning the substrate, it has been proposed to secure the mechanical strength by increasing the thickness of the central portion of the disk (see, for example, Patent Document 1). However, in order to ensure mechanical strength, the limit of the substrate thickness of the signal recording area is 0.6 mm. Further, although it has been reported that the thickness of the transparent substrate is 0.1 mm to 0.6 mm (see, for example, Patent Document 2), the thickness of the protective substrate holding the recording film, the thickness of the reflective film, etc. Was not mentioned and was a problem in implementation.
JP-A-9-204686 JP-A-9-204688

今後さらに記録密度を詰めて大容量化を図るためには、基板の厚さをさらに薄くすることが、チルトマージンの面から有効であるものの、基板厚が０．６ｍｍより小さくなると、こうした基板を２枚貼り合わせても機械的強度を確保することが困難となる。
また、基板を貼り合わせる際には接着剤等が必要となるのみならず、製造プロセスも煩雑となってしまう。
そこで本発明は、さらに記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情報記録媒体を提供することを目的とする。 In order to further increase the recording density and to increase the capacity in the future, it is effective from the viewpoint of the tilt margin to further reduce the thickness of the substrate. Even if two sheets are bonded together, it becomes difficult to ensure mechanical strength.
In addition, when the substrates are bonded together, an adhesive or the like is required, and the manufacturing process becomes complicated.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an information recording medium that can ensure a sufficient tilt margin and mechanical strength even when the recording density is further increased.

本発明の一態様にかかる情報記録媒体は、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第１の表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、
前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前記基板の厚さより小さいことを特徴とする。 An information recording medium according to an aspect of the present invention includes a substrate having a recording surface provided with embossed pits or guide grooves, a reflective film formed on the recording surface of the substrate, and a reflective film on the reflective film. A surface formed by two surfaces, a first surface on the side where the protective film is formed and a second surface facing the first surface, An information recording medium that irradiates a light beam from the first surface side and reproduces recorded information based on a light intensity change of the reflected light,
The distance from the recording surface of the substrate to the first surface is smaller than the thickness of the substrate.

本発明によれば、記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情報記録媒体が提供される。 According to the present invention, there is provided an information recording medium capable of ensuring a sufficient tilt margin and mechanical strength even when the recording density is increased.

以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

（実施例１）
図１に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。 Example 1
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the optical disk of this embodiment.

図示する光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚ディスク基板１の一方の表面に、記録データに応じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられている。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上には、反射膜３が成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコートされている。 In the optical disk shown in the figure, a recording surface having embossed pits 2 corresponding to recording data is provided on one surface of a 1.2 mm thick disk substrate 1. A reflective film 3 is formed on the recording surface provided with such embossed pits 2, and a protective film 4 is further overcoated thereon.

ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜４側から入射し、反射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。 Reading of recorded data recorded on the disc is performed by converging the light beam 5 with the objective lens 6 and entering from the protective film 4 side as shown in the figure, and changing the light intensity of the reflected light from the reflective film 3 as an emboss pit. This is performed by detecting as recorded data.

なお従来の光ディスクにおいては、保護膜側からではなく透明基板側から光ビームを入射して、基板の光入射面とは反対側の面に形成されているエンボスデータを読み取っていた。そのため、基板の厚さによってチルトマージンの確保が制限されていた。それに対して、図１に示したような光ディスク構造であれば、基板表面のエンボス面から再生するので、保護膜４の膜厚が従来の基板厚さに相当することになる。 In a conventional optical disk, a light beam is incident not from the protective film side but from the transparent substrate side, and emboss data formed on the surface opposite to the light incident surface of the substrate is read. Therefore, securing the tilt margin is limited by the thickness of the substrate. On the other hand, in the optical disk structure as shown in FIG. 1, since the reproduction is performed from the embossed surface of the substrate surface, the thickness of the protective film 4 corresponds to the conventional substrate thickness.

本発明の光ディスクにおいては、エンボス面（記録面）から保護膜４側の表面までの距離は、基板１の厚さより小さく規定しているので、保護膜の膜厚は、基板厚より小さくなる。したがって、基板厚によるチルトマージンの制限を受け難くなり、高記録密度化が容易となる。 In the optical disk of the present invention, the distance from the embossed surface (recording surface) to the surface on the protective film 4 side is defined to be smaller than the thickness of the substrate 1, so the film thickness of the protective film is smaller than the substrate thickness. Therefore, it becomes difficult to be limited by the tilt margin due to the substrate thickness, and it is easy to increase the recording density.

反射膜３は、反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法により成膜して作製することができる。
こうした反射膜３の上に配置される保護膜４は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することができる。この保護層４は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により反射膜３の表面に塗布して樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。このオーバーコート保護膜４の膜厚としては、実用上、数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．１ｍｍの範囲であることがより好ましい。また、反射膜３との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。 The reflective film 3 can be produced by forming a reflective film material by vacuum deposition or sputtering.
The protective film 4 disposed on the reflective film 3 can be formed of, for example, a conventional ultraviolet curable resin. The protective layer 4 is formed, for example, by applying an ultraviolet curable resin to the surface of the reflective film 3 by spin coating to form a resin film, and irradiating it with ultraviolet rays to cure it. The thickness of the overcoat protective film 4 is practically in the range of several μm to several mm, preferably 0.6 mm or less, and more preferably in the range of 0.0001 to 0.1 mm. Further, it is desired that the film thickness does not cause optical interference with the reflective film 3.

保護膜４の材質は、紫外線硬化樹脂に限定されるものではなく、再生に使用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などにより保護膜４を形成することもできる。 The material of the protective film 4 is not limited to the ultraviolet curable resin, and is not particularly limited as long as it is an environmentally and thermally stable material that transmits a light beam used for reproduction. It may be configured. For example, the protective film can be formed by vacuum deposition or sputtering using SiO ₂ , SiO, AlN, Al ₂ O ₃ , ZrO ₂ , TiO ₂ , Ta ₂ O ₃ , ZnS, Si, Ge, or a mixed material thereof. 4 can also be formed.

なお、反射膜３それ自体が安定な膜であれば、保護膜４を省略することも可能である。
本実施例の光ディスクに用いられる１．２ｍｍ厚ディスク基板１は、従来のＣＤ、ＤＶＤの製造で採用されている射出成形法により作製することができる。例えば、予め情報が記録されたマスター盤を射出成形機の一方の金型側にセットし、完成後の基板厚さが１．２ｍｍとなるように２つの金型の空間を設定することによって、１．２ｍｍ厚ディスク基板１が作製される。 If the reflection film 3 itself is a stable film, the protective film 4 can be omitted.
The 1.2 mm-thick disc substrate 1 used for the optical disc of the present embodiment can be manufactured by an injection molding method employed in the production of conventional CDs and DVDs. For example, by setting a master disk on which information is recorded in advance on one mold side of an injection molding machine, and setting the space between the two molds so that the substrate thickness after completion is 1.2 mm, A 1.2 mm thick disk substrate 1 is produced.

ここで、片面に記録面を有する１．２ｍｍ厚ディスク基板１を、射出成形法により作製するための金型の一例を図２に模式的に示す。
まず、ディスクの記録面をＡ面とすると、従来のマスタリングでＡ面用のスタンパーを作製し、このＡ面用のスタンパー７の中央に精度よく中心穴８を形成する。金型９の一方の面の中央部には、Ａ面用スタンパー７の中心穴８に対応した穴径精度の突起１０を設けておく。 Here, FIG. 2 schematically shows an example of a mold for producing the 1.2 mm-thick disk substrate 1 having a recording surface on one side by an injection molding method.
First, assuming that the recording surface of the disk is the A surface, a stamper for the A surface is produced by conventional mastering, and the center hole 8 is accurately formed in the center of the stamper 7 for the A surface. A protrusion 10 having a hole diameter accuracy corresponding to the center hole 8 of the A-side stamper 7 is provided at the center of one surface of the mold 9.

射出成形用の金型９の片面に、Ａ面用スタンパー７を記録面が内側となるように設置して、Ａ面用スタンパーの中心穴８を金型９に設けられた突起１０に配設する。その突起１０にスタンパーの中心穴８をはめ込むことで、Ａ面用スタンパー７の位置合わせができる。 The A-side stamper 7 is placed on one side of the injection-molding die 9 so that the recording surface is on the inside, and the center hole 8 of the A-side stamper is disposed on the protrusion 10 provided on the die 9. To do. By fitting the center hole 8 of the stamper into the protrusion 10, the A-side stamper 7 can be aligned.

金型９のＡ面用スタンパー７と対向させて金型１１を離間して配置し、加熱され溶融状態とした樹脂を樹脂導入口１２から、これらの間に充填する。次いで、Ａ面用スタンパー７と金型１１とを近接させて、Ａ面用スタンパー７と金型１１との間隔を所定の間隔とする。具体的には、樹脂が冷却硬化後、できあがった基板１の厚さが１．２ｍｍとなるようにＡ面用スタンパー面７と金型面１１との間隔を設定する。 The mold 11 is disposed so as to be opposed to the A-side stamper 7 of the mold 9, and the resin which is heated and melted is filled between these through the resin inlet 12. Next, the A-side stamper 7 and the mold 11 are brought close to each other, and the distance between the A-side stamper 7 and the mold 11 is set to a predetermined distance. Specifically, after the resin is cooled and cured, the distance between the A-side stamper surface 7 and the mold surface 11 is set so that the resulting substrate 1 has a thickness of 1.2 mm.

以上の工程によって、片面に記録面が形成された１．２ｍｍ厚のディスク基板１を１回の射出成形で形成することができる。
従来の光ディスクでは、基板側から光ビームを入射して記録情報を再生していたため、基板は、再生に使用される光ビームの波長を透過する必要があったが、本発明では保護膜側から再生するため、基板は必ずしも透明でなくともよい。このように保護膜側から光ビームが照射されるので、基板の複屈折も問題とならない。そのため、基板材料としては、耐環境性、耐熱性、および加工性に優れた材料であれば特に限定されず、例えば、ＡＢＳ樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂等、より安価な材料を使用することが可能である。 Through the above steps, a 1.2 mm thick disk substrate 1 having a recording surface formed on one side can be formed by one injection molding.
In the conventional optical disc, since the recording information is reproduced by entering the light beam from the substrate side, the substrate needs to transmit the wavelength of the light beam used for reproduction. In order to regenerate, the substrate is not necessarily transparent. Since the light beam is irradiated from the protective film side in this way, the birefringence of the substrate does not become a problem. Therefore, the substrate material is not particularly limited as long as it is a material excellent in environmental resistance, heat resistance, and processability. For example, a cheaper material such as an ABS resin, a polyethylene resin, or a polystyrene resin may be used. Is possible.

１．２ｍｍ厚ディスク基板１の記録面の上には、スパッタ法または真空蒸着法などにより反射膜が成膜される。図３のグラフには、反射膜の膜厚と反射率との関係を示す。 A reflective film is formed on the recording surface of the 1.2 mm-thick disk substrate 1 by sputtering or vacuum evaporation. The graph of FIG. 3 shows the relationship between the thickness of the reflective film and the reflectance.

ここではＡｌ系合金膜により反射膜を形成し、照射する光ビームの波長は６５０ｎｍとした。こうした条件の場合には、膜厚を約１４ｎｍとしたときに反射率は４５％となり、膜厚が４０ｎｍとなると反射率はほぼ飽和状態となることが図３のグラフに示されている。このグラフに表わされた反射率には保護膜４表面からの表面反射も含まれているので、反射膜表面における反射率は表面反射を除いた値となる。具体的には、反射膜の厚さがゼロのときの反射率が保護膜４の表面反射に相当するので、図３のグラフに示す場合には、その分（約５％）を除いた値が反射膜の反射率となる。 Here, a reflective film is formed of an Al-based alloy film, and the wavelength of the irradiated light beam is 650 nm. In such a condition, the graph of FIG. 3 shows that when the film thickness is about 14 nm, the reflectance is 45%, and when the film thickness is 40 nm, the reflectance is almost saturated. Since the reflectance shown in this graph includes surface reflection from the surface of the protective film 4, the reflectance on the surface of the reflection film is a value excluding surface reflection. Specifically, since the reflectance when the thickness of the reflective film is zero corresponds to the surface reflection of the protective film 4, in the case shown in the graph of FIG. 3, the value excluding that amount (about 5%) is excluded. Becomes the reflectance of the reflective film.

図４には、反射率が４５％および飽和状態となるときの反射膜の膜厚の光波長依存性を示す。なお、反射膜はＡｌ系の合金膜により構成し、光ビームの波長は４００〜８００ｎｍとした。 FIG. 4 shows the light wavelength dependency of the thickness of the reflective film when the reflectance is 45% and the saturation state is reached. The reflective film was made of an Al-based alloy film, and the wavelength of the light beam was 400 to 800 nm.

図４のグラフにおいて、直線ａは反射率４５％となる膜厚であり、直線ｂは、反射率が飽和状態となるときの膜厚である。このグラフに示されるように、光波長４００ｎｍから８００ｎｍで光波長依存性は小さく、この波長範囲内において、反射率４５％となる反射膜膜厚は１３〜１４ｎｍ、また飽和反射率となる膜厚はほぼ４０ｎｍであった。 In the graph of FIG. 4, the straight line a is the film thickness at which the reflectance is 45%, and the straight line b is the film thickness when the reflectance is in a saturated state. As shown in this graph, the optical wavelength dependency is small at an optical wavelength of 400 nm to 800 nm, and within this wavelength range, the reflective film thickness at which the reflectivity is 45% is 13 to 14 nm, and the film thickness is at the saturated reflectance. Was approximately 40 nm.

ＤＶＤ−ＲＯＭの規格では、反射率が４５〜８５％と規定されているので、ＤＶＤ−ＲＯＭとの再生互換を保持するためには、本発明の光ディスクの反射膜における反射率を４５％以上とすることが要求される。そのためには、反射率の膜厚を１４ｎｍ以上とする必要があることが図３のグラフに示されている。さらに、反射膜の膜厚変動を抑制して一定の反射率を得るためには、反射率が飽和した膜厚に設定することが製造上望ましい。そのためには、反射率の膜厚を４０ｎｍ以上とすることが好ましい。 In the DVD-ROM standard, the reflectivity is defined as 45 to 85%. Therefore, in order to maintain the reproduction compatibility with the DVD-ROM, the reflectivity of the reflective film of the optical disc of the present invention is set to 45% or more. It is required to do. For this purpose, the graph of FIG. 3 shows that the film thickness of the reflectance needs to be 14 nm or more. Furthermore, in order to obtain a constant reflectance by suppressing fluctuations in the thickness of the reflective film, it is desirable for manufacturing to set the film thickness at which the reflectance is saturated. For that purpose, it is preferable that the film thickness of the reflectance is 40 nm or more.

また、こうしたＡｌ系合金膜からなる反射膜は、光波長依存性が小さいので、将来の緑、青色光ビームを用いた再生にも、上述したような膜厚設定で使用することが可能である。 In addition, since the reflective film made of such an Al-based alloy film has a small light wavelength dependency, it can be used for the future reproduction using green and blue light beams with the above-described film thickness setting. .

（実施例２）
図５に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。 (Example 2)
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of the optical disk of this embodiment.

図示する光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚ディスク基板１３の表裏の両面に記録データに応じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられている。こうした両面のエンボスピット２が設けられた記録面の上には、それぞれ反射膜３が成膜され、さらにその上にそれぞれ保護膜４がオーバーコートされている。 In the illustrated optical disk, a recording surface is provided with embossed pits 2 corresponding to recording data on both the front and back surfaces of a 1.2 mm thick disk substrate 13. A reflective film 3 is formed on each recording surface provided with such embossed pits 2 on both sides, and a protective film 4 is further overcoated thereon.

ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して両面の保護膜４側からそれぞれ入射し、反射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。本実施例の光ディスクは両面に記録面が形成されているので両表面から再生することができ、単純に単面の場合の２倍の記録容量を確保することが可能となる。 As shown in the figure, the recorded data recorded on the disk is read out by converging the light beam 5 with the objective lens 6 and entering from both sides of the protective film 4 and changing the light intensity of the reflected light from the reflective film 3. Is detected as embossed pit recording data. Since the optical disk of the present embodiment has recording surfaces on both sides, it can be reproduced from both surfaces, and it is possible to simply secure a recording capacity twice that of a single surface.

ここで、本実施例の光ディスクに用いられる両面に記録面を有する１．２ｍｍ厚ディスク基板１３を、射出成形法により作製するための金型の一例を図６に模式的に示す。 Here, FIG. 6 schematically shows an example of a mold for producing the 1.2 mm-thick disc substrate 13 having recording surfaces on both sides used in the optical disc of this embodiment by an injection molding method.

まず、ディスクの一方の面をＡ面、他方の面をＢ面とすると、従来のマスタリングでＡ面用のスタンパー７ａおよびＢ面用のスタンパー７ｂをそれぞれ作製し、Ａ面のスタンパー７ａの中央に精度よく中心穴８を形成する。Ｂ面のスタンパー７ｂにも、同様にして中心穴１４を形成する。 First, assuming that one side of the disk is the A side and the other side is the B side, the A-side stamper 7a and the B-side stamper 7b are respectively produced by conventional mastering, and the A-side stamper 7a is formed at the center. The center hole 8 is formed with high accuracy. Similarly, the center hole 14 is formed in the stamper 7b on the B surface.

金型９の一方の面の中央部には、Ａ面用スタンパー７ａの中心穴８に対応した穴径精度の突起１６を設け、金型１５の一方の面の中央部には、Ｂ面用スタンパー７ｂの中心穴１４に対応した穴径精度の突起１７を設けておく。こうした突起１６，１７を設けることにより、Ａ面用スタンパー７ａの中心穴８とＢ面用スタンパー７ｂの中心穴１４とを揃えることができる。 A projection 16 having a hole diameter accuracy corresponding to the center hole 8 of the A-side stamper 7a is provided at the center of one surface of the mold 9, and the B-side is provided at the center of one surface of the mold 15. A protrusion 17 having a hole diameter accuracy corresponding to the center hole 14 of the stamper 7b is provided. By providing the protrusions 16 and 17, the center hole 8 of the A-side stamper 7a and the center hole 14 of the B-side stamper 7b can be aligned.

射出成形用の金型９の片面にＡ面用スタンパー７ａを記録面が内側となるように設置し、Ａ面用スタンパーの中心穴８を金型９の突起１６に配設する。対向する他方の金型１５にも、記録面が内側となるようＢ面用スタンパー７ｂを設置し、Ｂ面用スタンパーの中心穴１４を金型１５の突起１７に配設する。こうして突起１６および１７にスタンパーの中心穴８，１４をそれぞれはめ込んだ状態で、Ａ面用スタンパー７ａの中心穴８とＢ面用スタンパー７ｂの中心穴１４とを一致させる。 An A-side stamper 7 a is installed on one side of an injection mold 9 so that the recording surface is on the inside, and a center hole 8 of the A-side stamper is disposed on the protrusion 16 of the mold 9. A B-side stamper 7 b is also installed on the other opposing mold 15 so that the recording surface is on the inside, and the center hole 14 of the B-side stamper is disposed in the protrusion 17 of the mold 15. Thus, with the center holes 8 and 14 of the stamper fitted into the protrusions 16 and 17, respectively, the center hole 8 of the A-side stamper 7a and the center hole 14 of the B-side stamper 7b are made to coincide.

次いで、Ａ面用スタンパー７ａの記録面とＢ面用スタンパー７ｂの記録面とを対向させて配置し、加熱され溶融状態とした樹脂を樹脂導入口１２から、これらの間に充填する。その後、金型のＡ面用スタンパー７ａまたはＢ面用スタンパー７ｂを押し出して、金型のＡ面用スタンパー７ａとＢ面用スタンパー７ｂとの間隔を所定の間隔とする。具体的には、樹脂が冷却硬化後できあがった基板の厚さが１．２ｍｍとなるように金型のＡ面用スタンパー面７ａとＢ面用スタンパー面７ｂとの間隔を設定する。 Next, the recording surface of the A-side stamper 7a and the recording surface of the B-side stamper 7b are arranged to face each other, and a resin that is heated and melted is filled between them through the resin inlet 12. Thereafter, the A-side stamper 7a or B-side stamper 7b of the mold is pushed out, and the distance between the A-side stamper 7a and the B-side stamper 7b of the mold is set to a predetermined interval. Specifically, the distance between the A-side stamper surface 7a and the B-side stamper surface 7b of the mold is set so that the thickness of the substrate formed after the resin is cooled and cured is 1.2 mm.

以上の工程によって、両面に記録面が形成された１．２ｍｍ厚のディスク基板１３を１回の射出成形で形成することができる。
こうして形成された記録面上に反射膜３を形成するに当たっては、例えば、反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法で成膜する方法が用いられる。ディスクの両側に蒸着源またはスパッタターゲット材を対向して配置し、対向蒸着または対向スパッタすることによって、２つの記録面上に同時に反射膜を成膜することができる。あるいは、一方の記録面をマスク材でマスクして、片面ずつ順次反射膜を成膜することもできる。 Through the above steps, the 1.2 mm-thick disk substrate 13 having recording surfaces formed on both sides can be formed by one injection molding.
In forming the reflective film 3 on the recording surface thus formed, for example, a method of forming the reflective film material by vacuum deposition or sputtering is used. A reflective film can be simultaneously formed on two recording surfaces by disposing an evaporation source or a sputtering target material on both sides of the disk so as to face each other and performing opposite evaporation or opposite sputtering. Alternatively, one of the recording surfaces can be masked with a mask material, and a reflective film can be sequentially formed on each side.

保護膜４のオーバーコートは、一方の反射膜３をマスク材でマスクして、片面ずつ順次スピンコートしてＵＶ硬化樹脂を塗布して樹脂膜を成膜した後、ＵＶ炉でこれを硬化することで容易に形成することができる。あるいは、２つの反射膜３上に同時にオーバーコート保護膜４を形成してもよい。この場合は、まず、治具を工夫してディスクを支持して回転させ、ディスクの両側から反射膜上に同時にスピンコートしてＵＶ硬化樹脂を塗布し樹脂膜を成膜する。次いで、ＵＶランプが対向して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させて硬化する。こうした工程によって、２つの反射膜上に同時にオーバーコート保護膜４を形成することができる。 The overcoat of the protective film 4 is formed by masking one of the reflective films 3 with a mask material, sequentially spin-coating one side at a time, applying a UV curable resin to form a resin film, and then curing it in a UV furnace. It can be formed easily. Alternatively, the overcoat protective film 4 may be simultaneously formed on the two reflective films 3. In this case, first, a jig is devised to support and rotate the disk, and spin coating is simultaneously applied onto the reflective film from both sides of the disk to apply a UV curable resin to form a resin film. Next, the disk is passed through a UV furnace in which a UV lamp is installed opposite to be cured. Through these steps, the overcoat protective film 4 can be formed simultaneously on the two reflective films.

（実施例３）
図７に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。 (Example 3)
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an example of the optical disk of this embodiment.

図示する光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚ディスク基板１の一方の表面に、記録データに応じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられている。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上には、反射膜３が成膜され、さらにその上に第１の保護膜４、および第２の保護膜１８が順次オーバーコートされている。 In the optical disk shown in the figure, a recording surface having embossed pits 2 corresponding to recording data is provided on one surface of a 1.2 mm thick disk substrate 1. On the recording surface provided with such embossed pits 2, a reflective film 3 is formed, and a first protective film 4 and a second protective film 18 are sequentially overcoated thereon.

ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜１８側から入射し、反射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。 The recording data recorded on the disk is read out by collecting the light beam 5 with the objective lens 6 and entering from the protective film 18 side as shown in the figure, and the light intensity change of the reflected light from the reflective film 3 is embossed pits. This is performed by detecting as recorded data.

本実施例の光ディスクを構成するための１．２ｍｍ厚ディスク基板１、エンボスピット２、反射膜３および保護膜４は、前述の実施例１の光ディスクの場合と同様とすることができる。 The 1.2 mm thick disk substrate 1, the embossed pit 2, the reflective film 3 and the protective film 4 for constituting the optical disk of the present embodiment can be the same as those of the optical disk of the above-described first embodiment.

保護膜４の上に配置される保護膜１８は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することができる。この保護膜１８は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により保護膜４の表面に塗布し樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。このオーバーコート保護膜１８の膜厚は、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層１８の膜厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍであることが好ましい。また、反射膜３との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。 The protective film 18 disposed on the protective film 4 can be formed of, for example, a conventional ultraviolet curable resin. The protective film 18 is formed, for example, by applying an ultraviolet curable resin to the surface of the protective film 4 by spin coating to form a resin film, and irradiating it with ultraviolet rays to cure it. The film thickness of this overcoat protective film 18 is practically in the range of several μm to several mm, and is preferably 0.6 mm or less. Considering the film thickness distribution of the ultraviolet curable resin in the spin coating method, the film thickness of the overcoat protective layer 18 is preferably 0.0001 to 0.1 mm in practice. Further, it is desired that the film thickness does not cause optical interference with the reflective film 3.

保護膜１８の材質は、上述したような紫外線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などにより形成することもできる。 The material of the protective film 18 is not limited to the ultraviolet curable resin as described above. The material is not particularly limited as long as it is an environmentally and thermally stable material that transmits a light beam used for reproduction, and may be made of a dielectric material. For example, SiO ₂ , SiO, AlN, Al ₂ O ₃ , ZrO ₂ , TiO ₂ , Ta ₂ O ₃ , ZnS, Si, Ge, or a mixed material thereof is used to form the film by vacuum deposition or sputtering. You can also.

また保護膜１８は、使用される光の波長に対して透明な材料であればよく、上述した材料や形成方法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．０００１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料からなるフィルム状、または板状のものを用いることもできる。こうした樹脂フィルム等は、保護膜４をスピンコートする際に保護膜４の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射して硬化させることで、保護膜４の上に接着することができる。 Moreover, the protective film 18 should just be a transparent material with respect to the wavelength of the light to be used, and is not limited to the material and formation method mentioned above. For example, a film or plate made of a transparent resin material having a thickness of 0.0001 mm to 0.6 mm can also be used. Such a resin film or the like can be adhered onto the protective film 4 by placing it on the protective film 4 when spin-coating the protective film 4 and curing it by UV irradiation in a UV furnace.

ただし、再生に使用する光ビームの波長での保護膜１８の屈折率ｎ₂は、再生に使用する光ビームの波長での保護膜４の屈折率ｎ₁より小さいか等しい材料であることが必要である。保護膜１８の光屈折率が保護膜４の光屈折率より大きい場合（ｎ₂＞ｎ₁）には、保護膜１８と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。 However, the refractive index n ₂ of the protective film 18 at the wavelength of the light beam used for reproduction should be a material smaller than or equal to the refractive index n ₁ of the protective film 4 at the wavelength of the light beam used for reproduction. It is. When the light refractive index of the protective film 18 is larger than the light refractive index of the protective film 4 (n ₂ > n ₁ ), light reflection at the interface between the protective film 18 and the protective film 4 becomes large, and a signal from the recording surface is obtained. Decreases, and the light efficiency decreases.

したがって、図７に示したような保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、保護膜１８としては、その光屈折率ｎ₂が保護膜４の光屈折率ｎ₁よりも小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。 Therefore, in the case of an optical disc having a structure in which two protective films as shown in FIG. 7 are laminated, the protective film 18 has an optical refractive index n ₂ smaller than the optical refractive index n ₁ of the protective film 4. It is equally necessary to use a transparent material.

本実施例の光ディスクにおいては、保護膜４の上にさらに保護膜１８を配設しているので、ディスク表面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り扱い上の傷等を防止することが可能となった。 In the optical disk of the present embodiment, the protective film 18 is further disposed on the protective film 4, so that it is possible to increase the mechanical strength of the disk surface and to prevent scratches in handling the disk. became.

（実施例４）
図８に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。 Example 4
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an example of the optical disk of this embodiment.

図示する光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚ディスク基板１３の表裏の両面に記録データに応じたエンボスピット２，２２が形成された記録面がそれぞれ設けられている。エンボスピット２が設けられた記録面の上には、反射膜３、第１の保護膜４、および第２の保護膜１８が順次形成されており、他方のエンボスピット２２が設けられた記録面の上には、反射膜２３、第１の保護膜２４、および第２の保護膜１９が順次形成されている。 In the optical disk shown in the figure, recording surfaces having embossed pits 2 and 22 corresponding to recording data are provided on both the front and back surfaces of a 1.2 mm thick disk substrate 13, respectively. On the recording surface provided with the embossed pits 2, the reflective film 3, the first protective film 4, and the second protective film 18 are sequentially formed, and the other recording surface provided with the embossed pits 22. A reflective film 23, a first protective film 24, and a second protective film 19 are sequentially formed thereon.

前述の実施例３では、ディスク基板の片面のみに記録面を設けたが、本実施例では、ディスク基板の両面に記録面を設ける以外は前述と同様の構成としたものである。したがって、本実施例の光ディスクを構成するための１．２ｍｍ厚両面ディスク基板１３は、前述の実施例２の場合と同様とすることができ、エンボスピット２、反射膜３および保護膜４等は、前述の実施例１の場合と同様とすることができる。 In the third embodiment, the recording surface is provided on only one side of the disk substrate. However, in this embodiment, the configuration is the same as that described above except that the recording surface is provided on both sides of the disk substrate. Therefore, the 1.2 mm-thick double-sided disk substrate 13 for constituting the optical disk of this embodiment can be the same as that of the above-described embodiment 2, and the embossed pit 2, the reflective film 3, the protective film 4 and the like are This can be the same as in the first embodiment.

第１の保護膜４，２４の上に配置される第２の保護膜１８，１９は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することがきる。このような保護膜１８，１９は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により保護膜４，２４の表面に塗布して樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。 The second protective films 18 and 19 disposed on the first protective films 4 and 24 can be formed of, for example, a conventional ultraviolet curable resin. Such protective films 18 and 19 are formed, for example, by applying an ultraviolet curable resin to the surface of the protective films 4 and 24 by spin coating to form a resin film, and then irradiating the film with ultraviolet rays to cure it. Is done.

第２の保護膜１８，１９を片面ずつ形成する場合には、第１の保護膜の一方の面をマスク材でマスクして、片面ずつ順次スピンコートしてＵＶ硬化樹脂を塗布して樹脂膜を成膜した後、ＵＶ炉でこれを硬化することにより容易に形成することができる。あるいは、両面の第１の保護膜上に同時に第２の保護膜を形成してもよい。この場合は、まず、治具を工夫してディスクを支持して回転させ、ディスクの両側から同時にスピンコートしてＵＶ硬化樹脂を塗布し樹脂膜を成膜する。次いで、ＵＶランプが対向して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させて硬化する。こうした工程によって、両面の第１の保護膜４，２４上に同時に第２のオーバーコート保護膜１８，１９を形成することができる。 When the second protective films 18 and 19 are formed one side at a time, one side of the first protective film is masked with a mask material, one side is sequentially spin coated, and a UV curable resin is applied to the resin film. After the film is formed, it can be easily formed by curing it in a UV furnace. Or you may form a 2nd protective film simultaneously on the 1st protective film of both surfaces. In this case, first, the jig is devised to support and rotate the disk, and simultaneously spin-coated from both sides of the disk to apply a UV curable resin to form a resin film. Next, the disk is passed through a UV furnace in which a UV lamp is installed opposite to be cured. Through these steps, the second overcoat protective films 18 and 19 can be simultaneously formed on the first protective films 4 and 24 on both sides.

このオーバーコート保護膜１８，１９の膜厚は、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層１８，１９の膜厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍであることが好ましい。また、反射膜３，２３との光干渉を生じない膜厚であることが好ましい。 The film thickness of the overcoat protective films 18 and 19 is practically in the range of several μm to several mm, and is preferably 0.6 mm or less. Considering the film thickness distribution of the ultraviolet curable resin in the spin coating method, the film thickness of the overcoat protective layers 18 and 19 is preferably 0.0001 to 0.1 mm in practice. Moreover, it is preferable that it is a film thickness which does not produce optical interference with the reflecting films 3 and 23.

保護膜１８，１９の材質は、上述したような紫外線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などで形成することができる。 The material of the protective films 18 and 19 is not limited to the ultraviolet curable resin as described above. The material is not particularly limited as long as it is an environmentally and thermally stable material that transmits a light beam used for reproduction, and may be made of a dielectric material. For example, SiO ₂ , SiO, AlN, Al ₂ O ₃ , ZrO ₂ , TiO ₂ , Ta ₂ O ₃ , ZnS, Si, Ge, or a mixed material thereof is used to form by vacuum deposition or sputtering. be able to.

こうした材料を用いて第２の保護膜１８，１９を両面に同時に成膜する場合には、ディスクの両側に蒸着源またはスパッタターゲット材を対向して配置し、対向蒸着または対向スパッタすればよい。あるいは、一方の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次成膜することもできる。 In the case where the second protective films 18 and 19 are simultaneously formed on both surfaces using such a material, a vapor deposition source or a sputtering target material may be disposed opposite to both sides of the disk, and counter vapor deposition or counter sputtering may be performed. Alternatively, one surface can be sequentially formed by masking one surface with a mask material.

また保護膜１８，１９は、使用される光の波長に対して透明な材料であればよく、上述した材料や形成方法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．０００１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料からなるフィルム状、または板状のものを用いることもできる。こうした樹脂フィルム等は、保護膜４，２４をスピンコートする際に保護膜の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射して硬化させることで保護膜４、２４の上に接着することができる。 Moreover, the protective films 18 and 19 should just be a material transparent with respect to the wavelength of the light used, and are not limited to the material and formation method mentioned above. For example, a film or plate made of a transparent resin material having a thickness of 0.0001 mm to 0.6 mm can also be used. Such a resin film or the like can be adhered onto the protective films 4 and 24 by being placed on the protective film when the protective films 4 and 24 are spin-coated and cured by UV irradiation in a UV furnace.

こうした樹脂フィルム等を貼り付けて保護膜１８，１９を形成する場合には、まず、反射膜の一方の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次ＵＶ硬化樹脂を塗布して樹脂膜を成膜する。次いで、その上に保護膜１８，１９を載せてスピンコートする。最後に、ＵＶ炉で硬化することにより容易に形成することができる。あるいは、保護膜１８，１９を同時に形成してもよい。この場合は、まず、治具を工夫してディスクを支持してＵＶ硬化樹脂を両面に塗布し、その両面上に保護膜１８，１９を載せスピンコート回転させる。次いで、ＵＶランプが対向して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させることで、両面に同時に保護膜１８，１９が形成される。 When the protective films 18 and 19 are formed by pasting such a resin film or the like, first, one surface of the reflective film is masked with a mask material, and a UV curable resin is sequentially applied to each surface to form a resin film. To do. Next, the protective films 18 and 19 are placed thereon and spin-coated. Finally, it can be easily formed by curing in a UV furnace. Alternatively, the protective films 18 and 19 may be formed simultaneously. In this case, first, the jig is devised to support the disk, and UV curable resin is applied to both sides, and the protective films 18 and 19 are placed on both sides and the spin coat is rotated. Next, the protective film 18 and 19 are simultaneously formed on both surfaces by passing the disk through a UV furnace provided with a UV lamp facing the disk.

ディスクの両面の保護膜１８，１９を光ビームの作動距離に応じた厚さとし、かつこれら２つの保護膜をディスクの上下面で同じ厚さとすることで、ディスクの両面を同じ作動距離の光学ヘッドで再生することができる。 The protective films 18 and 19 on both sides of the disk are made to have a thickness corresponding to the working distance of the light beam, and the two protective films have the same thickness on the upper and lower surfaces of the disk, so that both sides of the disk have the same working distance. Can be played.

ただし、再生に使用する光ビームの波長での第２の保護膜１８，１９の屈折率ｎ₂は、再生に使用する光ビームの波長での第１の保護膜４，２４の屈折率ｎ₁よりそれぞれ小さいか等しい材料であることが必要である。例えば、保護膜１８の光屈折率が保護膜４の屈折率より大きい場合（ｎ₂＞ｎ₁）には、保護膜１８と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。保護膜１９と保護膜２４との間においても、保護膜１９の光屈折率が保護膜２４の屈折率より大きい場合には、これと同様の不都合が生じる。 However, the refractive index n ₂ of the second protective films 18 and 19 at the wavelength of the light beam used for reproduction is the refractive index n ₁ of the first protective films 4 and 24 at the wavelength of the light beam used for reproduction. Each must be a smaller or equal material. For example, when the light refractive index of the protective film 18 is larger than the refractive index of the protective film 4 (n ₂ > n ₁ ), the light reflection at the interface between the protective film 18 and the protective film 4 becomes large, and the light is reflected from the recording surface. The signal is lowered and the light efficiency is lowered. Also between the protective film 19 and the protective film 24, when the optical refractive index of the protective film 19 is larger than the refractive index of the protective film 24, the same inconvenience occurs.

したがって、図８に示したような保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、第２の保護膜１８，１９としては、その光屈折率ｎ₂が第１の保護膜４，２４の光屈折率ｎ₁よりそれぞれ小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。 Therefore, in the case of an optical disc having a structure in which two protective films as shown in FIG. 8 are laminated, the second protective films 18 and 19 have an optical refractive index n ₂ of the first protective film 4 and 19. It is necessary to use a transparent material that is smaller than or equal to the optical refractive index n _{1 of} 24.

本実施例の光ディスクは、第１の保護膜４，２４の両面上にさらに第２の保護膜１８，１９がそれぞれ配設された構成である。前述の実施例３では、一方の面のみに記録面を形成した片面仕様であったが、本実施例では、さらにディスクの他方の面にも記録面を設けて両面仕様としたものである。 The optical disk of this embodiment has a configuration in which second protective films 18 and 19 are further provided on both surfaces of the first protective films 4 and 24, respectively. In the above-described third embodiment, the recording surface is formed on only one surface. However, in this embodiment, the recording surface is further provided on the other surface of the disk so that the recording surface is double-sided.

このように両面仕様としたことで、ディスクの記録容量の２倍化が容易に可能となる。
また、両面の保護膜４，２４の両面上にさらに保護膜１８，１９をそれぞれ配設しているのでディスク両面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り扱い上の傷等を防止することが可能となった。 By adopting such a double-sided specification, it is possible to easily double the recording capacity of the disc.
Further, since protective films 18 and 19 are further provided on both sides of the protective films 4 and 24 on both sides, it is possible to increase the mechanical strength of both sides of the disk and to prevent scratches on the handling of the disk. It became.

（実施例５）
前述の実施例４では、ディスクの両面の第２の保護膜１８と１９との膜厚を同じとしたが、ディスクの上下面に設けられる保護膜１８と１９との膜厚を異なる厚さとすることも可能である。 (Example 5)
In Example 4 described above, the second protective films 18 and 19 on both sides of the disc have the same film thickness, but the protective films 18 and 19 provided on the upper and lower surfaces of the disk have different thicknesses. It is also possible.

例えば、図８に示した光ディスクにおいて、一方の保護膜１８の膜厚を０．０００１〜０．６ｍｍとし、他方の保護膜１９の膜厚を０．６ｍｍとした場合には、次のような利点が得られる。すなわち、保護膜１８側の面を、作動距離の短い光ヘッド用の記録再生面として使用し、保護膜１９側の面は、従来のＤＶＤ仕様に対応した光ヘッド用の記録再生面として使用することが可能となる。 For example, in the optical disk shown in FIG. 8, when the thickness of one protective film 18 is 0.0001 to 0.6 mm and the thickness of the other protective film 19 is 0.6 mm, the following is performed. Benefits are gained. That is, the surface on the protective film 18 side is used as a recording / reproducing surface for an optical head with a short working distance, and the surface on the protective film 19 side is used as a recording / reproducing surface for an optical head compatible with the conventional DVD specifications. It becomes possible.

（実施例６）
前述の実施例５では、ディスクの両面の第２の保護膜１８と１９との膜厚を異なる厚さとしたが、この場合さらに、基板１２の厚さを調整することで、ディスク全体の厚さを１．２ｍｍとすることができる。 (Example 6)
In Example 5 described above, the thicknesses of the second protective films 18 and 19 on both sides of the disk are different from each other. In this case, the thickness of the entire disk can be adjusted by adjusting the thickness of the substrate 12. Can be set to 1.2 mm.

例えば、図８に示した光ディスクにおいて、一方の保護膜１８の厚さを０．１ｍｍとし、他方の保護膜１９の厚さを０．６ｍｍとした場合には、ディスク基板１３の厚さを０．５ｍｍとすると、ディスク全体の厚さが１．２ｍｍとなる。それによって、従来のＣＤ、ＤＶＤディスクと同等のディスク厚さを実現することができるので、ディスクの取り扱い上の互換性が保持できる。 For example, in the optical disk shown in FIG. 8, when the thickness of one protective film 18 is 0.1 mm and the thickness of the other protective film 19 is 0.6 mm, the thickness of the disk substrate 13 is 0. When the thickness is 0.5 mm, the thickness of the entire disk is 1.2 mm. As a result, a disc thickness equivalent to that of a conventional CD or DVD disc can be realized, and compatibility in handling the disc can be maintained.

（実施例７）
図９には、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。 (Example 7)
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing an example of the optical disk of this embodiment.

図示する光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚ディスク基板２５の一方の表面に光ビーム５のトラッキング用の案内溝２６が形成され、その上に反射膜２７、下保護膜２８、記録膜２９、および上保護膜３０が順次成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコートされている。 In the illustrated optical disk, a guide groove 26 for tracking the light beam 5 is formed on one surface of a 1.2 mm-thick disk substrate 25, on which a reflective film 27, a lower protective film 28, a recording film 29, and an upper film are formed. A protective film 30 is sequentially formed, and a protective film 4 is further overcoated thereon.

ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録膜２９からの反射光の光強度変化を記録データとして検出することによって行なわれる。 As shown in the figure, the recording data recorded on the disk is read out by converging the light beam 5 with the objective lens 6 and entering from the protective film 4 side, and the light intensity change of the reflected light from the recording film 29 due to the recording mark. Is detected as recording data.

光ディスク基板２５は、安定で経時変化が少ない材料により構成することができる。用い得る材料としては、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のようなアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ガラス、Ａｌなどの金属、合金、およびセラミック等が挙げられる。こうした材料で構成された光ディスク基板２５上には、記録フォーマットに応じて、グループトラック、ランドトラック、プリフォーマットマーク等が形成される。 The optical disk substrate 25 can be made of a stable material with little change with time. Examples of materials that can be used include acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate resins, epoxy resins, styrene resins, glass, metals such as Al, alloys, and ceramics. Group tracks, land tracks, preformat marks, and the like are formed on the optical disk substrate 25 made of such materials according to the recording format.

反射膜２７は、この上に下保護膜２８を介して形成される記録膜２９の光学変化を光学的にエンハンスして再生信号を増大させる効果と、記録膜２９の冷却効果とを有している。この反射膜２７は、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｒ、またはこれらを主成分とした合金等の金属膜を真空蒸着法やスパッタリング法等などにより形成することができる。反射膜２７の膜厚は、実用上、数ｎｍ〜数μｍである。 The reflective film 27 has the effect of optically enhancing the optical change of the recording film 29 formed thereon via the lower protective film 28 to increase the reproduction signal, and the cooling effect of the recording film 29. Yes. The reflective film 27 can be formed of a metal film such as Au, Al, Cu, Ni—Cr, or an alloy containing these as a main component by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like. The thickness of the reflective film 27 is practically several nm to several μm.

記録膜２９は、光ビームの照射条件によって結晶構造が変化する相変化膜により構成される。このような相変化型材料としては、ＧｅＴｅ系、ＴｅＳｅ系、ＧｅＳｂＳｅ系、ＴｅＯ_x系、ＩｎＳｅ系、およびＧｅＳｂＴｅ系等のカルコゲナイド系アモルファス半導体材料や、ＩｎＳｂ系、ＧａＳｂ系、およびＩｎＳｂＴｅ系などの化合物半導体材料などを用いることができる。 The recording film 29 is composed of a phase change film whose crystal structure changes depending on the irradiation condition of the light beam. Such phase change materials include chalcogenide amorphous semiconductor materials such as GeTe, TeSe, GeSbSe, TeO _x , InSe, and GeSbTe, and compounds such as InSb, GaSb, and InSbTe. A semiconductor material or the like can be used.

上述したような材料を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法等により記録膜２９を形成することができる。この記録膜２９の膜厚は、実用上数ｎｍから数μｍである。 The recording film 29 can be formed by using a material such as that described above by vacuum vapor deposition or sputtering. The film thickness of the recording film 29 is practically several nm to several μm.

下保護膜２８および上保護膜３０は、記録膜２９を挟むようにこの上下に配設されており、記録ビームの照射により記録膜２９が飛散したり、穴があいてしまうことを防止する役割を有している。また記録時における記録膜２９の加熱、冷却の熱拡散を制御する働きもある。こうした下保護膜２８および上保護膜３０は、例えばＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリングなどで形成することができる。下保護膜２８および上保護膜３０の膜厚は、実用上数ｎｍ〜数μｍである。 The lower protective film 28 and the upper protective film 30 are disposed above and below the recording film 29 so as to prevent the recording film 29 from scattering or having holes due to the irradiation of the recording beam. have. It also has a function of controlling heat diffusion of heating and cooling of the recording film 29 during recording. The lower protective film 28 and the upper protective film 30 are made of, for example, SiO ₂ , SiO, AlN, Al ₂ O ₃ , ZrO ₂ , TiO ₂ , Ta ₂ O ₃ , ZnS, Si, Ge, or a mixed material thereof. It can be formed by vacuum deposition or sputtering. The film thickness of the lower protective film 28 and the upper protective film 30 is practically several nm to several μm.

上保護膜３０上のオーバーコート保護膜４は、相変化光ディスクを取り扱ううえでの、傷やほこり等を防止するために配設されるものであり、通常、紫外線硬化樹脂などにより形成される。この保護膜４は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により上保護膜３０の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより形成することができる。オーバーコート保護膜４の膜厚としては、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下とすることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護膜４の膜厚は、０．０００１〜０．１ｍｍとすることが実用上好ましい。さらに、反射膜２７との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。 The overcoat protective film 4 on the upper protective film 30 is disposed to prevent scratches, dust and the like when handling the phase change optical disk, and is usually formed of an ultraviolet curable resin or the like. The protective film 4 can be formed by, for example, applying an ultraviolet curable resin to the surface of the upper protective film 30 by spin coating and irradiating and curing the ultraviolet light. The film thickness of the overcoat protective film 4 is preferably 0.6 mm or less in a practical range of several μm to several mm. Considering the film thickness distribution of the ultraviolet curable resin in the spin coating method, it is practically preferable that the film thickness of the overcoat protective film 4 is 0.0001 to 0.1 mm. Furthermore, it is desired that the film thickness does not cause optical interference with the reflective film 27.

以上、相変化記録膜の相構成として４層構成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各層の多層化等も可能である。 Although the four-layer configuration has been described as an example of the phase configuration of the phase change recording film, each layer can be multi-layered according to the required performance.

（実施例８）
図１０に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。 (Example 8)
FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing an example of the optical disk of this example.

図示する光ディスクにおいて、ディスクの一方の面は図９に示したものと同様の構成である。すなわち、１．２ｍｍ厚ディスク基板３１の一方の表面には光ビーム５のトラッキング用案内溝２６が形成され、その上に反射膜２７、下保護膜２８、記録膜２９、および上保護膜３０が順次成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコートされている。 In the illustrated optical disk, one surface of the disk has the same configuration as that shown in FIG. That is, a tracking guide groove 26 for the light beam 5 is formed on one surface of the 1.2 mm thick disk substrate 31, and a reflective film 27, a lower protective film 28, a recording film 29, and an upper protective film 30 are formed thereon. A film is sequentially formed, and a protective film 4 is overcoated thereon.

ディスクの他方の面は、次のような構成である。すなわち、１．２ｍｍ厚ディスク基板３１の表面に光ビーム３２のトラッキング用の案内溝３４が形成され、その上に反射膜３５、下保護膜３６、記録膜３７、上保護膜３８が成膜され、さらにその上に保護膜３９がオーバーコートされている。 The other side of the disk has the following configuration. That is, a guide groove 34 for tracking the light beam 32 is formed on the surface of the 1.2 mm-thick disk substrate 31, and a reflective film 35, a lower protective film 36, a recording film 37, and an upper protective film 38 are formed thereon. Further, a protective film 39 is overcoated thereon.

ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム３２を対物レンズ３３で集光して保護膜３９側から入射し、記録マークによる記録膜３７からの反射光の光強度変化を光記録データとして検出することによって行なわれる。 As shown in the figure, the recording data recorded on the disc is read out by converging the light beam 32 with the objective lens 33 and entering from the protective film 39 side, and the light intensity change of the reflected light from the recording film 37 due to the recording mark. Is detected as optical recording data.

本実施例の光ディスクを構成するためのディスク基板の材質および各膜の特性は、前述の実施例７で述べたものと同様である。両面への反射膜、記録膜、各保護膜の形成に当たっては、前述の実施例４の場合と同様の方法を適用することができる。 The material of the disk substrate and the characteristics of each film for constituting the optical disk of the present example are the same as those described in Example 7 above. In forming the reflective film, the recording film, and the protective films on both surfaces, the same method as in the case of Example 4 can be applied.

上保護膜３０，３８上のオーバーコート保護膜４，３９は、相変化光ディスクを取り扱ううえでの、傷やほこり等を防止するために配設されるものであり、通常、紫外線硬化樹脂などにより形成される。この保護膜４，３９は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により上保護膜３０，３８の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより形成することができる。保護膜４，３９の膜厚としては、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護膜４，３９の膜厚は、０．０００１〜０．１ｍｍとすることが実用上好ましい。さらに、反射膜２７，３５との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。 The overcoat protective films 4 and 39 on the upper protective films 30 and 38 are disposed to prevent scratches and dust when handling the phase change optical disk. It is formed. The protective films 4 and 39 can be formed, for example, by applying an ultraviolet curable resin to the surfaces of the upper protective films 30 and 38 by spin coating and irradiating and curing the ultraviolet rays. The thickness of the protective films 4 and 39 is practically in the range of several μm to several mm, and is preferably 0.6 mm or less. Considering the film thickness distribution of the ultraviolet curable resin in the spin coating method, it is practically preferable that the film thickness of the overcoat protective films 4 and 39 is 0.0001 to 0.1 mm. Furthermore, it is desirable that the film thickness does not cause optical interference with the reflective films 27 and 35.

（実施例９）
前述の実施例７で説明したような図９に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜４の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例３で説明したような図７に示されるものと同様の構成とすることもできる。 Example 9
In the optical disk having the structure shown in FIG. 9 as described in the above-described seventh embodiment, a protective film is further provided on the protective film 4, and as shown in FIG. 7 as described in the above-described third embodiment. It can also be set as the same structure as a thing.

保護膜４の上にさらに保護膜１８を配設することによって、ディスク表面の機械的強度を高めるとともに、ディスク取り扱い上の傷等を防止することが可能となる。 By disposing the protective film 18 on the protective film 4, it is possible to increase the mechanical strength of the disk surface and to prevent scratches and the like in handling the disk.

この場合、すでに説明したように、再生に使用する光ビームの波長での保護膜１８の屈折率ｎ₂は、再生に使用する光ビームの波長での保護膜４の屈折率ｎ₁より小さいか等しい材料であることが必要である。保護膜１８の光屈折率が保護膜４の光屈折率より大きい場合（ｎ₂＞ｎ₁）には、保護膜１８と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。 In this case, as already described, is the refractive index n ₂ of the protective film 18 at the wavelength of the light beam used for reproduction smaller than the refractive index n ₁ of the protective film 4 at the wavelength of the light beam used for reproduction? Must be of equal material. When the light refractive index of the protective film 18 is larger than the light refractive index of the protective film 4 (n ₂ > n ₁ ), light reflection at the interface between the protective film 18 and the protective film 4 becomes large, and a signal from the recording surface is obtained. Decreases, and the light efficiency decreases.

したがって、保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、保護膜１８としては、その光屈折率ｎ₂が保護膜４の光屈折率ｎ₁よりも小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。 Therefore, in the case of an optical disc having a structure in which two protective films are laminated, the protective film 18 is made of a transparent material whose optical refractive index n ₂ is smaller than or equal to the optical refractive index n ₁ of the protective film 4. It is necessary to use it.

（実施例１０）
前述の実施例８で説明したような図１０に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜４，３９の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例４で説明したような図８に示されるものと同様の構成とすることもできる。 (Example 10)
In the optical disk having the structure shown in FIG. 10 as described in the above-described eighth embodiment, a protective film is further provided on the protective films 4 and 39, and as shown in FIG. A configuration similar to that shown may be used.

両面の保護膜４，３９の両面上にさらに保護膜１８，１９を配設することによって、ディスク両面の機械的強度を高めるとともに、ディスク取り扱い上の傷等を防止することが可能となる。 By disposing the protective films 18 and 19 on both surfaces of the protective films 4 and 39 on both sides, it is possible to increase the mechanical strength of both sides of the disk and to prevent scratches and the like in handling the disk.

この場合、すでに説明したように、再生に使用する光ビームの波長での第２の保護膜１８，１９の屈折率ｎ₂は、再生に使用する光ビームの波長での第１の保護膜４，２４の屈折率ｎ₁よりそれぞれ小さいか等しい材料であることが必要である。例えば、保護膜１８の光屈折率が保護膜４の屈折率より大きい場合（ｎ₂＞ｎ₁）には、保護膜１８と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。保護膜１９と保護膜２４との間においても、保護膜１９の光屈折率が保護膜２４の屈折率より大きい場合には、これと同様の不都合が生じる。 In this case, as already described, the refractive index n ₂ of the second protective films 18 and 19 at the wavelength of the light beam used for reproduction is equal to the first protective film 4 at the wavelength of the light beam used for reproduction. , 24 must be less than or equal to the refractive index n ₁ . For example, when the light refractive index of the protective film 18 is larger than the refractive index of the protective film 4 (n ₂ > n ₁ ), the light reflection at the interface between the protective film 18 and the protective film 4 becomes large, and the light is reflected from the recording surface. The signal is lowered and the light efficiency is lowered. Also between the protective film 19 and the protective film 24, when the optical refractive index of the protective film 19 is larger than the refractive index of the protective film 24, the same inconvenience occurs.

したがって、保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、第２の保護膜１８，１９としては、その光屈折率ｎ₂が第１の保護膜４，２４の光屈折率ｎ₁よりそれぞれ小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。 Therefore, in the case of the configuration of an optical disc in which the protective film is two-layered, as the second protective films 18 and 19, the optical refractive index n ₁ of the refractive index n ₂ is the first protective film 4, 24 It is necessary to use a material that is smaller, equal or transparent.

（実施例１１）
前述の実施例１〜１０で説明した光ディスクにおいて、ディスクの表面のうち、光ビームが照射されて情報の記録再生に使用される側の面は、いずれも平滑な面とする。ディスクの表面が平滑であればゴミがあっても付着しにくく、ゴミの付着防止の効果を得ることができる。またディスクの表面が平滑であれば、対物レンズのディスクへの接触を防止するという効果も得られる。 (Example 11)
In the optical disks described in the first to tenth embodiments, all the surfaces of the surface of the disk that are irradiated with the light beam and used for recording and reproducing information are smooth surfaces. If the surface of the disk is smooth, even if there is dust, it is difficult to adhere, and the effect of preventing dust from being attached can be obtained. If the surface of the disk is smooth, an effect of preventing the objective lens from contacting the disk can be obtained.

各図面に示した光ディスク表面の保護膜４，２４，３９は、その内側、すなわちディスク内側に、記録エンボスまたはトラッキング用のグルーブによる凹凸面を有している。一方、ディスク外側の面は、こうした保護膜を厚く形成することで内側の凹凸面を反映せずに平滑化することができる。 The protective films 4, 24, 39 on the surface of the optical disk shown in each drawing have an uneven surface formed by recording embossing or tracking grooves on the inner side, that is, the inner side of the disk. On the other hand, the outer surface of the disk can be smoothed without reflecting the inner uneven surface by forming such a thick protective film.

なお、ディスク基板の記録面の凹凸は再生に使用される光ビームの波長λに対して、λ／（８ｎ）（ｎは表面保護膜の前記光波長での光屈折率である）前後の大きさで形成される。ディスク基板の記録面から光ビームが照射される表面（被照射面）までの距離は、概してその１０倍以上であることが、表面の平滑化の面から望まれる。したがって、ディスク基板の記録面から光ビームが照射される表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上であることが好ましい。 The unevenness of the recording surface of the disk substrate is large before and after λ / (8n) (n is the optical refractive index of the surface protective film at the light wavelength) with respect to the wavelength λ of the light beam used for reproduction. Is formed. The distance from the recording surface of the disk substrate to the surface irradiated with the light beam (irradiated surface) is generally 10 times or more from the viewpoint of smoothing the surface. Therefore, the distance from the recording surface of the disk substrate to the surface irradiated with the light beam is preferably 5λ / (4n) or more.

さらに光ビームが照射される面（被照射面）における光回折現象を低減するために、この被照射面の表面粗さは、λ／（８ｎ）より小さいことが要求される。被照射面の表面粗さは、λ／（８ｎ）の１／２以下であるλ／（１６ｎ）以下であることが望ましい。 Further, in order to reduce the light diffraction phenomenon on the surface irradiated with the light beam (irradiated surface), the surface roughness of the irradiated surface is required to be smaller than λ / (8n). The surface roughness of the irradiated surface is desirably λ / (16n) or less, which is 1/2 or less of λ / (8n).

本発明の方法により、両面に記録面を有する基板を容易に製造することができ、基板の貼り合わせが不要となるので、ディスクの製造プロセスが簡略化される。また貼り合わせのための接着剤等の材料も不要となるので、より安価に大容量のディスクを製造することができる。 According to the method of the present invention, a substrate having recording surfaces on both sides can be easily manufactured, and bonding of the substrates becomes unnecessary, so that the manufacturing process of the disc is simplified. Further, since a material such as an adhesive for bonding is not required, a large-capacity disk can be manufactured at a lower cost.

さらに、本発明の情報記録媒体においては、表面保護膜を従来の０．６ｍｍより薄くしても機械的強度を確保することが可能となり、その工業的価値は絶大である。 Furthermore, in the information recording medium of the present invention, it is possible to ensure mechanical strength even if the surface protective film is thinner than the conventional 0.6 mm, and its industrial value is tremendous.

本発明の情報記録媒体の一例を模式的に表わす断面図。Sectional drawing which represents typically an example of the information recording medium of this invention. 図１に示した情報記録媒体に用いられるディスク基板を製造するための金型を模式的に表わす概略図。FIG. 2 is a schematic diagram schematically showing a mold for manufacturing a disk substrate used in the information recording medium shown in FIG. 1. 反射膜の膜厚と反射率との関係を表わすグラフ図。The graph which represents the relationship between the film thickness of a reflecting film, and a reflectance. 反射膜の膜厚の光波長依存性を表わすグラフ図。The graph showing the optical wavelength dependence of the film thickness of a reflecting film. 本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。Sectional drawing which represents typically the other example of the information recording medium of this invention. 図５に示した情報記録媒体に用いられるディスク基板を製造するための金型を模式的に表わす概略図。FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing a mold for manufacturing a disk substrate used in the information recording medium shown in FIG. 5. 本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。Sectional drawing which represents typically the other example of the information recording medium of this invention. 本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。Sectional drawing which represents typically the other example of the information recording medium of this invention. 本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。Sectional drawing which represents typically the other example of the information recording medium of this invention. 本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。Sectional drawing which represents typically the other example of the information recording medium of this invention.

Explanation of symbols

１…片面光ディスク基板；２，２２…エンボスピット；３，２３…反射膜
４，２４…保護膜；５，２０…光ビーム；６，２１…対物レンズ
７…スタンパー；７ａ…Ａ面用スタンパー；７ｂ…Ｂ面用スタンパー
８，１４…中心穴；９，１１，１５…金型；１０，１６，１７…突起
１２…樹脂導入口；１３…両面光ディスク基板；１８，１９…第２の保護膜
２５…片面光ディスク基板；２６，３４…トラッキング用案内溝
２７，３５…反射膜；２８，３６…下保護膜；２９，３７…記録膜
３０，３８…上保護膜；３１…両面光ディスク基板；３２…光ビーム
３３…対物レンズ；３９…オーバーコート保護膜。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Single-sided optical disk substrate; 2,22 ... Embossed pit; 3,23 ... Reflective film 4,24 ... Protective film; 5,20 ... Light beam; 6,21 ... Objective lens 7 ... Stamper; 7b ... B-side stamper 8,14 ... Center hole; 9,11,15 ... Mold; 10,16,17 ... Protrusion 12 ... Resin inlet; 13 ... Double-sided optical disk substrate; 18,19 ... Second protective film 25 ... single-sided optical disk substrate; 26, 34 ... tracking guide groove 27, 35 ... reflective film; 28, 36 ... lower protective film; 29, 37 ... recording film 30, 38 ... upper protective film; ... light beam 33 ... objective lens; 39 ... overcoat protective film.

Claims

A substrate having a recording surface provided with embossed pits or guide grooves, a reflective film formed on the recording surface of the substrate, and a protective film formed on the reflective film; The surface is composed of two surfaces, a first surface on which the film is formed and a second surface opposite to the first surface, and a light beam is irradiated from the first surface side. An information recording medium for reproducing recorded information based on a change in light intensity of the reflected light,
An information recording medium, wherein a distance from a recording surface of the substrate to the first surface is smaller than a thickness of the substrate.