JP2002279707A - Manufacturing method for single-sided two layered disk, single-sided disk and recording and reproducing device - Google Patents

Manufacturing method for single-sided two layered disk, single-sided disk and recording and reproducing device

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JP2002279707A
JP2002279707A JP2001082443A JP2001082443A JP2002279707A JP 2002279707 A JP2002279707 A JP 2002279707A JP 2001082443 A JP2001082443 A JP 2001082443A JP 2001082443 A JP2001082443 A JP 2001082443A JP 2002279707 A JP2002279707 A JP 2002279707A
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JP
Japan
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layer
sided
film
stamper
recording
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JP2001082443A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a single-sided two layered disk (exclusive use for reproduction, or recording, reproduction and erasure type) of a surface covering layer recording type by a simple method. SOLUTION: A reflection film 42 is film-deposited on a grooves and information pits side of a substrate 40 having usual thickness and then a UV resin 43 is applied by spinning. When information is transferred by using a stamper 44 having grooves and pit information, the stamper is made of a transparent acrylic material for UV light 46 and the UV resin 43 is cured by UV light irradiation from the stamper side. The acrylic stamper is previously coated with an inorganic material 45 consisting of a transparent or semitransparent material so that the acrylic stamper 44 and the UV resin are easily pealed after the UV resin is cured. The UV resin 43 and the acrylic stamper 44 are easily pealed by coating the surface of the acrylic stamper 44 with the inorganic material 45.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は厚さ約30μmの中
間層を介してその両側にそれぞれレーザ光の照射により
記録再生可能な相変化記録層(又は反射膜及び半透明
膜)を備えて、片方の相変化層(又は反射膜)は、ディ
スク基板に接しており、もう片方の相変化記録層(又は
半透明膜)は、厚さ100μmの表面カバー層が接して
設けられた表面記録型(又は表面再生型)の片面2層デ
ィスクの作製方法、及びこの片面2層ディスクの100
μ厚の表面カバー層の側から、NA(Numerica
l Aperture)0.85の対物レンズで、レー
ザ光を2つの相変化層(又は反射膜と半透明膜)に別々
に集光して、それぞれの相変化記録層(又は反射膜と半
透明膜)に記録/再生(又は再生のみ)を行う記録/再
生(又は再生)装置に関する。
The present invention comprises a phase change recording layer (or a reflective film and a translucent film) which can be recorded and reproduced by irradiating a laser beam on both sides of an intermediate layer having a thickness of about 30 μm. One phase change layer (or reflection film) is in contact with the disk substrate, and the other phase change recording layer (or translucent film) is a surface recording type in which a 100 μm-thick surface cover layer is provided. Method for producing single-sided double-layer disc (or surface-reproducing type) and 100
From the side of the μ-thick surface cover layer, NA (Numerica)
l Aperture) The laser beam is separately focused on two phase change layers (or a reflective film and a translucent film) with an 0.85 objective lens, and the respective phase change recording layers (or a reflective film and a translucent film) are condensed. ) Relates to a recording / reproducing (or reproducing) apparatus for performing recording / reproducing (or only reproducing).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、大容量メモリとして光ディスクが
注目をあびている。光ディスクは、CDに代表される再
生専用型、CD−Rに代表される1回追記型、コンピュ
ータの外付けメモリに代表される書き換え可能型の3種
類に大別される。
2. Description of the Related Art In recent years, optical disks have attracted attention as large-capacity memories. Optical disks are roughly classified into three types: a read-only type represented by a CD, a one-time write once type represented by a CD-R, and a rewritable type represented by an external memory of a computer.

【0003】更に書き換え可能型は、光磁気ディスクと
相変化ディスクに大別される。相変化光ディスクは、レ
ーザ光の照射により、非晶質と結晶との間で可逆的に相
変化する記録膜を用いて情報を記録し、記録マーク(非
晶質)とバックグラウンドの結晶状態の反射率の差によ
って情報を再生する。記録膜のレーザ照射部分が、非晶
質(マーク)になるか結晶(消去状態)になるかは、照
射された部分が、膜を構成する材料の融点を越えるか、
または結晶化温度を越えるか、のみに依存するため、レ
ーザ光の強弱変調で走査することで、オーバライトが可
能であるという利点がある。
Further, the rewritable type is roughly classified into a magneto-optical disk and a phase change disk. A phase-change optical disc records information using a recording film that reversibly undergoes a phase change between an amorphous phase and a crystalline phase by irradiating a laser beam. Information is reproduced according to the difference in reflectance. Whether the laser irradiated portion of the recording film becomes amorphous (mark) or crystalline (erased state) depends on whether the irradiated portion exceeds the melting point of the material constituting the film,
Alternatively, since it depends only on the temperature exceeding the crystallization temperature, there is an advantage that overwriting is possible by scanning with the intensity modulation of the laser beam.

【0004】近年、光ディスクの高密度化に伴って、次
に説明するような技術の傾向がある。以下再生専用ディ
スクを例にとって、高密度化の技術を説明する。CDデ
ィスクが製品化された当時は、光学ヘッドに搭載された
半導体レーザの波長は780nmで、対物レンズのニュ
ーメリカルアパーチャNAは0.52であり、CDディ
スクの厚みは1.2mmに設定されていたが、近年のD
VDディスクの登場により、これらのパラメータは、以
下のように変更になった。DVDのドライブでは、光学
ヘッドの半導体レーザ波長は650nm、対物レンズの
NAは0.6、DVDディスクの基板厚は、0.6mm
である。CDからDVDへの変遷の時にこれらのパラメ
ータが一気に変更になった理由は、CDディスクの既存
のパラメータを変えない限り、これ以上の高密度化が不
可能という限界があったからである。
In recent years, with the increase in the density of optical discs, there is a tendency of the following technology. Hereinafter, the technology for increasing the density will be described by taking a read-only disc as an example. When the CD disk was commercialized, the wavelength of the semiconductor laser mounted on the optical head was 780 nm, the numerical aperture NA of the objective lens was 0.52, and the thickness of the CD disk was set at 1.2 mm. However, recent D
With the advent of VD discs, these parameters have changed as follows. In a DVD drive, the semiconductor laser wavelength of the optical head is 650 nm, the NA of the objective lens is 0.6, and the substrate thickness of the DVD disk is 0.6 mm.
It is. The reason that these parameters were changed at once at the transition from the CD to the DVD was that there was a limit that further densification would not be possible without changing the existing parameters of the CD disk.

【0005】すなわち光学ヘッドの集光スポット径は、
一般に良く知られているように、レーザの波長をλ、レ
ンズのニューメリカルアパーチャをNAとした時、λ/
NAに比例する。従って、スポット径をより小さくする
には、波長をより短く、NAをできるだけ大きくするの
が常套手段である。この時ディスク基板の厚さをtとす
ると、t(NA)3/λに比例するコマ収差を小さく設
定するように配慮される。すなわち、高密度記録を行う
ためには、上述のごとくNAを大きく、λを短く設定す
れば良いが、反面、コマ収差は大きくなってしまう。従
って、これを打ち消すためにレーザ光が透過する基板厚
を薄くするのである。
That is, the diameter of the condensed spot of the optical head is
As is generally well known, when the wavelength of the laser is λ and the numerical aperture of the lens is NA, λ /
It is proportional to NA. Therefore, to make the spot diameter smaller, it is customary to make the wavelength shorter and make the NA as large as possible. At this time, assuming that the thickness of the disk substrate is t, care is taken to set a small coma aberration proportional to t (NA) 3 / λ. That is, in order to perform high-density recording, it is sufficient to set the NA to be large and the λ to be short as described above, but on the other hand, coma aberration increases. Therefore, in order to cancel this, the thickness of the substrate through which the laser light is transmitted is reduced.

【0006】最近は既にポストDVDとして、半導体レ
ーザの波長は410nm、NAもできるだけ大きくとっ
て、その分レーザを入射する側の基板厚を薄くする試み
が、色々提案されている。その一例が、410nmの波
長で、NAを0.85に設定した光学ヘッドを用いて、
0.1mmのカバー層側からレーザを入射させて記録す
るというものである。最近の発表によれば、この方式で
は、トラックピッチ0.3μm、最短ピットピッチ0.
19μmにて片面25GBの容量を達成できる。ここ
で、基板厚を0.1mmと言わずに、カバー層と表現し
たのは、0.1mmでは、機械的(物理的)な剛性がと
れないため、通常130mm径のディスクに対して機械
精度を維持することができないので、通常はダミー基板
を用いて、これでディスクの機械的な剛性を維持し、こ
のダミー基板の表面の0.1mmのカバー層を塗布また
は、シートを貼り合わせて、基板側からでなくカバー層
の側からレーザを照射することで、高密度記録を達成す
るものである。
Recently, various proposals have been made for post DVDs, in which a semiconductor laser has a wavelength of 410 nm and NA is as large as possible, and the substrate thickness on the side where the laser is incident is reduced accordingly. One example is using an optical head with a wavelength of 410 nm and an NA of 0.85,
Recording is performed by irradiating a laser from the side of the cover layer of 0.1 mm. According to a recent announcement, this method uses a track pitch of 0.3 μm and a minimum pit pitch of 0.3 μm.
A capacity of 25 GB per side can be achieved at 19 μm. Here, the substrate thickness is expressed as a cover layer instead of 0.1 mm because a mechanical (physical) rigidity cannot be obtained at 0.1 mm. Since it is not possible to maintain the mechanical rigidity of the disk by using a dummy substrate, a 0.1 mm cover layer on the surface of the dummy substrate is applied or a sheet is attached, High-density recording is achieved by irradiating laser from the side of the cover layer instead of from the substrate side.

【0007】一方、高密度化のもう1つの方策として、
半導体レーザの波長は赤色(波長650nm)のまま、
記録密度も現DVD規格化に基づいて、片面からの記録
再生のオンライン容量のみを大きくしようという試みが
なされている。このような片面2層のDVD−ROMデ
ィスクは既に製品化されいる。通常1層のDVD−RO
Mディスクの片面容量は4.7GBであるから片面2層
のDVD−ROMディスクのオンライン容量は9.4G
Bになるはずであるが、各面からの再生信号のクロスト
ークを考慮して若干オンライン容量を減らしており、2
層合計で8.5GBとなっている。
On the other hand, as another measure for high density,
The wavelength of the semiconductor laser remains red (wavelength 650 nm)
Attempts have been made to increase only the on-line capacity of recording / reproducing from one side based on the current DVD standardization. Such single-sided, dual-layer DVD-ROM discs have already been commercialized. Normally one layer DVD-RO
Since the single-sided capacity of the M disk is 4.7 GB, the online capacity of the single-sided dual-layer DVD-ROM disk is 9.4 Gbytes.
B, but the online capacity has been slightly reduced in consideration of the crosstalk of the reproduced signals from each surface.
The total of the layers is 8.5 GB.

【0008】更には、ISOM’98(International S
ymposium on Optical Memory 1998October20〜22)、Th-N
-05「Rewritable Dual Layer Phase-Change Optical Dis
k」)では、以下に説明するような、レーザ照射による片
面からの記録再生が可能な相変化形の2層ディスク(以
下、簡略して片面2層RAMディスクと記す。)も提案
されている。
Further, ISOM '98 (International S
ymposium on Optical Memory 1998 October 20-22), Th-N
-05 `` Rewritable Dual Layer Phase-Change Optical Dis
k)), a phase-change double-layer disc (hereinafter simply referred to as a single-sided dual-layer RAM disk) capable of recording and reproducing from one side by laser irradiation as described below has also been proposed. .

【0009】図17に上記論文に記載されている片面2
層RAMディスクの構成を示す。大まかな構造として
は、ポリカーボネート(PC)基板上に第1層のRAM
と、別のPC基板上に第2層のRAMを設けて、これを
40μm厚のUV硬化樹脂膜で貼り合わせたものとなっ
ている。第1層は、PC基板側からZnS−SiO2
護膜/GeSbTe記録層/ZnS−SiO2 保護膜の
構成になっている。第2層は、UV硬化膜の側から、A
u干渉膜/ZnS−SiO2 保護膜/GeSbTe記録
層/ZnS−SiO2 保護膜/Al−Cr反射膜の膜構
成となっている。
FIG. 17 shows one side 2 described in the above article.
2 shows the configuration of a layer RAM disk. As a rough structure, the first layer of RAM is formed on a polycarbonate (PC) substrate.
And a second layer of RAM provided on a separate PC board, which is laminated with a UV curable resin film having a thickness of 40 μm. The first layer has a structure of PC substrate side of the ZnS-SiO 2 protective film / GeSbTe recording layer / ZnS-SiO 2 protective film. The second layer is composed of A from the side of the UV cured film.
and it has a film structure of u interference film / ZnS-SiO 2 protective film / GeSbTe recording layer / ZnS-SiO 2 protective film / Al-Cr reflective film.

【0010】対物レンズで集光されたレーザ光は、サー
ボ回路により、第1層の記録膜に焦点があう場合と、第
2層の記録膜に焦点が合う場合に切り替えられて、各記
録膜で記録再生を行う。本来、各層の記録容量を、規格
化が行われている4.7GB/面とすれば、2面の合計
で、片面9.4GBとなるが、第1層と第2層の光学干
渉によるクロストークを考慮して、若干記録密度を下げ
て各層の記録容量は、4.25GBにまで減らされ、2
層の合計で、8.5GBとなっている。
The laser light condensed by the objective lens is switched by a servo circuit between a case where the first layer recording film is focused and a case where the second layer recording film is focused. To perform recording and playback. Originally, if the recording capacity of each layer is set to 4.7 GB / side where normalization is performed, the total of the two sides is 9.4 GB per side, but the crossing due to optical interference between the first layer and the second layer. In consideration of the talk, the recording capacity of each layer is reduced to 4.25 GB by slightly lowering the recording density.
The total of the layers is 8.5 GB.

【0011】以上説明したように、光ディスクを大容量
化する方法に関しては、青色レーザと高NA対物レンズ
と0.1mmの薄いカバー層を用いる方式と、基板厚や
レーザ波長は現行のDVDディスクと同じで、片面を2
層にして、片面からのオンライン容量のみを約2倍に増
やそうという試みがある。
As described above, regarding the method for increasing the capacity of an optical disk, a method using a blue laser, a high NA objective lens and a thin cover layer of 0.1 mm, and a substrate thickness and a laser wavelength different from those of the current DVD disk are used. Same, 2 on one side
Attempts have been made to increase the online capacity from one side only about twice as a layer.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記、2つの方法はそ
れぞれ以下に示すような不具合点がある。すなわち、青
レーザ、高NAレンズ、0.1mm厚カバー層の高密度
記録の場合、0.1mm厚の基板では直径130mmの
円盤の機械精度は保てないので、前述したように必ず機
械精度を維持するためのダミー基板が必要になる。ダミ
ー基板は、あらかじめ決まっているプリフォーマットの
ピットやグルーブを形成しておき、その上の0.1mm
厚さの表面カバー層をオーバーコートする。従って、こ
の方式では、片面2層ディスクが困難である。
The above two methods have the following disadvantages. That is, in the case of high-density recording with a blue laser, a high NA lens, and a 0.1 mm thick cover layer, the mechanical accuracy of a 130 mm diameter disk cannot be maintained with a 0.1 mm thick substrate. A dummy substrate is needed to maintain it. On the dummy substrate, pits or grooves of a predetermined preformat are formed, and 0.1 mm above the pits or grooves is formed thereon.
Overcoat a thick surface cover layer. Therefore, in this method, a single-sided dual-layer disc is difficult.

【0013】一方、2層RAMディスクは、オンライン
容量は概ね2倍にすることができるが、基本的にDVD
と同じ技術を使っているので、DVD以上の高密度記録
ではない。
On the other hand, although the online capacity of a dual-layer RAM disk can be approximately doubled,
Because it uses the same technology, it is not high density recording than DVD.

【0014】高密度化の要求は将来のハイビジョン画像
に対応した情報の蓄積手段として、次世代ディスクに対
しては片面25GBの容量が要求されている。また更に
はその2倍の50GB容量のディスクの要求もある。従
って、上記2層化が困難であると言われている表面記録
に対しても片面2層ディスクを作製しようとする試みが
始まった。
The demand for higher density requires a 25 GB single-sided capacity for next-generation discs as a means for storing information corresponding to future high-definition images. Further, there is a demand for a disk having a capacity of 50 GB which is twice that of the above. Therefore, an attempt has been made to produce a single-sided double-layer disc even for the surface recording which is said to be difficult to form a double-layer.

【0015】一般的に表面記録の片面2層ディスクは、
以下の方法で作製することが提案されている。図18に
表面記録の片面2層ディスクの構成を示す。以下、当面
は説明を簡略化するため、2層の膜が表面カバー層の側
から半透明膜と反射膜である、再生専用型の場合で説明
する。
Generally, a single-sided, double-layer disc for surface recording is
It has been proposed to make it by the following method. FIG. 18 shows the structure of a single-sided, double-layer disc for surface recording. In the following, for simplicity, a case of a read-only type in which two layers are a translucent film and a reflective film from the side of the surface cover layer will be described for the moment.

【0016】1は厚さaは70μmの表面カバー層であ
り、2は半透明膜6と反射膜5を分離している中間透明
層で厚さbは30μmである。対物レンズ7のNA(Num
erical Aperture)は0.85であり、半導体レーザ光8
の波長は概ね410nm(青色)である。表面カバー層
1と中間透明層2の厚さを加えるとa+b=70+30
で100μmとなる。即ち、青色レーザを2層ディスク
の奥の反射膜に集光した時に表面からの距離が100μ
mになるように設定されている。
1 is a surface cover layer having a thickness a of 70 μm, 2 is an intermediate transparent layer separating the translucent film 6 and the reflection film 5 and has a thickness b of 30 μm. NA (Num) of the objective lens 7
erical aperture) is 0.85, and the semiconductor laser light 8
Is approximately 410 nm (blue). When the thicknesses of the surface cover layer 1 and the intermediate transparent layer 2 are added, a + b = 70 + 30
Becomes 100 μm. That is, when the blue laser is focused on the reflection film at the back of the two-layer disc, the distance from the surface is 100 μm.
m.

【0017】6の半透明膜は、青色レーザが、半透明膜
に集光された時には反射して信号を再生し、青色レーザ
が奥の反射膜に集光した場合は透過して、奥の側の反射
膜から反射して情報を再生する。4はディスク基板であ
り、この基板の厚さcは2層ディスクの機械制度を保つ
ために必要な厚さがあれば、良い。一般的には、CDと
同じ1.2mmで良いが、a+bの厚さ100μm(=
0.1mm)を差し引いて1.1mmでも良いし、更に
機械精度を良くしたければ1.5mmや2mmにしても
差し支えない。
The semi-transparent film 6 reflects the blue laser when it is focused on the translucent film and reproduces the signal, and transmits when the blue laser is focused on the deep reflective film and transmits the signal. The information is reproduced by reflecting from the reflective film on the side. Reference numeral 4 denotes a disk substrate. The thickness c of the substrate may be any thickness as long as it is necessary to maintain the mechanical accuracy of the two-layer disk. In general, it may be 1.2 mm which is the same as that of a CD, but the thickness of a + b is 100 μm (=
0.1 mm) may be subtracted, and it may be 1.1 mm, or 1.5 mm or 2 mm if the mechanical accuracy is further improved.

【0018】図17の構成を有する表面記録型の片面2
層ディスクの作製例を以下に説明する。片面に溝やピッ
ト情報を有するディスク基板4は、通常のCDやDVD
と同じ成形技術で作製できる。一方、厚さ30μmの中
間透明層2にも溝やピット情報を形成する必要がある。
基板4の溝やピット情報を成形(インジェクション)に
よって形成した後で、スパッタ装置等の真空装置内でA
l又はAlCr合金、又は青色での反射を考慮した場合
は、Ag等の反射膜5が成膜される。通常この溝やピッ
トの上に反射膜5を成膜した状態で、この上に2P(Pho
to-Polimarization)タイプの光硬化型樹脂をスピン30
μm塗布して、表面側から別の溝やピットが形成された
Ni等のスタンパを押しつけて、樹脂に情報を転写す
る。しかし通常は、この光硬化型の樹脂を転写しながら
硬化するには、基板4側からUV(紫外線)等をしなけ
ればならないが、先に説明したように、基板4のピット
情報側には既に反射膜5が形成されているため、UV光
が樹脂まで届かない。また、押しつけているNiスタン
パ側からも当然UV光は透過しないため、苦肉の策とし
て、ディスク円盤の縁(円盤の回り)から樹脂の隙間を
透過したUV光で樹脂を硬化させる方法が採られている
が、当然のこととして、硬化が不完全であるという不具
合が生じている。樹脂の硬化が完了すると、その上に、
やはりスパッタ装置等の真空装置でAuやAgからなる
半透明膜6を成膜して、その上からやはりUV硬化側の
樹脂70μmをスピン塗布して、上からUV(紫外線)
を照射して表面層を形成し、表面記録タイプの片面2層
ディスクが完成する。尚、片面2層ディスクにおける中
間層へのピットや溝の転写を良好に行うための上記2P
タイプの光硬化型樹脂材料については、特開2000−
345073号公報にて説明されている。しかし、この
公報には片面2層ディスクの具体的な作製方法について
は示されていない。
A single-sided surface recording type 2 having the structure shown in FIG.
An example of manufacturing a layer disc will be described below. The disk substrate 4 having groove and pit information on one side is a normal CD or DVD.
It can be manufactured by the same molding technology as described above. On the other hand, it is necessary to form grooves and pit information also in the intermediate transparent layer 2 having a thickness of 30 μm.
After forming the groove and pit information of the substrate 4 by molding (injection), the A is set in a vacuum device such as a sputtering device.
When reflection in 1 or AlCr alloy or blue is considered, a reflective film 5 of Ag or the like is formed. Normally, a reflection film 5 is formed on these grooves and pits, and 2P (Pho
Spin-to-Polimarization type photo-curable resin 30
Then, a stamper made of Ni or the like in which another groove or pit is formed is pressed from the surface side to transfer information to the resin. However, in general, in order to cure the photocurable resin while transferring it, UV (ultraviolet) or the like must be applied from the substrate 4 side, but as described above, the pit information side of the substrate 4 Since the reflection film 5 is already formed, the UV light does not reach the resin. In addition, since UV light is not transmitted through the pressed Ni stamper side, a method of curing the resin with UV light transmitted through the gap between the resin from the edge of the disk (around the disk) is adopted as a measure to reduce the thickness. However, as a matter of course, there is a problem that the curing is incomplete. When the curing of the resin is completed,
Similarly, a semi-transparent film 6 made of Au or Ag is formed by a vacuum device such as a sputtering device, and a UV-cured resin 70 μm is spin-coated thereon, and UV (ultraviolet) is applied from above.
To form a surface layer, thereby completing a surface recording type single-sided dual-layer disc. In addition, the above-mentioned 2P for better transfer of pits and grooves to the intermediate layer in a single-sided dual-layer disc is preferred.
Type photo-curable resin materials are disclosed in
This is described in Japanese Patent Publication No. 345073. However, this publication does not disclose a specific method for producing a single-sided dual-layer disc.

【0019】上記UV層が完全に硬化しないという不具
合点を回避する方法としては、基板に成形によって溝や
ピット情報を形成したのと同じように、70μm厚の樹
脂からなる表面カバー1を形成する際に溝やピット情報
を有するNiスタンパを押しつけてスタンパと反対側か
らUV光を照射して硬化し、この0.1mm厚の薄基板
にスパッタでAuやAgの半透明膜を成膜した後に、基
板とこの0.1mm厚の薄基板を30μm厚のUV硬化
樹脂で貼り合わせれば良い。この場合は、AuまたはA
gの半透明膜側からUV光を照射すれば、少なくとも4
0から60%の光は透過するので(半透明なので)UV
樹脂を硬化することが可能である。しかし、この薄基板
と通常基板の貼り合わせ方式には次のような欠点があ
る。即ち、0.1mm厚の薄基板(実際には薄いフィル
ム)にAu又は、Agの半透明膜をスパッタ等の真空装
置で成膜する際に、スパッタ時に発生する熱によって、
薄基板(フィルム)が熱変形してしまい、貼り合わせる
以前に使い物にならなくなる。
As a method for avoiding the disadvantage that the UV layer is not completely cured, a surface cover 1 made of a resin having a thickness of 70 μm is formed in the same manner as forming grooves and pit information on a substrate by molding. At the time, a Ni stamper having groove and pit information is pressed and irradiated with UV light from the side opposite to the stamper to be cured, and after forming a translucent film of Au or Ag on this thin substrate having a thickness of 0.1 mm by sputtering. The substrate and the thin substrate having a thickness of 0.1 mm may be bonded with a UV-curable resin having a thickness of 30 μm. In this case, Au or A
g is irradiated with UV light from the side of the translucent film,
0-60% light is transmitted (because it is translucent)
It is possible to cure the resin. However, the method of bonding the thin substrate and the normal substrate has the following disadvantages. That is, when a translucent film of Au or Ag is formed on a thin substrate (actually, a thin film) having a thickness of 0.1 mm by a vacuum apparatus such as sputtering, heat generated during sputtering is used.
The thin substrate (film) is thermally deformed and becomes useless before bonding.

【0020】従って本発明は、上記2Pプロセスにおけ
る光照射の行程でUV硬化樹脂の未硬化の不具合点を改
良し、簡単な方法で片面2層ディスクを作製することを
主たる目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to improve the uncured problem of the UV curable resin during the light irradiation process in the above-described 2P process, and to produce a single-sided double-layer disc by a simple method.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、通常の
厚さを有する基板の溝や情報ピットのある側に、Al又
はAl合金、Agの反射膜を成膜した後、30μm厚の
UV樹脂をスピン塗布し、溝やピット情報を有するスタ
ンパで情報を転写する時に、スタンパをUV光に対して
透明なアクリル材とし、スタンパ側からUV光を照射し
てUV樹脂を硬化する。更に、UV樹脂が硬化した後
で、アクリルスタンパとUV樹脂が剥離しやすいよう
に、予め、アクリルスタンパ側には透明材又は半透明材
料からなる無機系材料をコーティングしてある。通常、
有機系のUV樹脂と有機系のアクリルスタンパはUV樹
脂が硬化すると剥離は極めて困難になってしまうが、本
発明によるアクリルスタンパの無機系材料による表面コ
ーティングを行えば、問題なく剥離可能である。
According to the present invention, a reflective film of Al or an Al alloy or Ag is formed on a side of a substrate having a normal thickness where grooves or information pits are formed, and then a film having a thickness of 30 μm is formed. When the UV resin is spin-coated and the information is transferred by a stamper having groove and pit information, the stamper is made of an acrylic material transparent to UV light, and the UV resin is irradiated with UV light from the stamper side to cure the UV resin. Further, after the UV resin is cured, the acrylic stamper side is previously coated with an inorganic material made of a transparent material or a translucent material so that the acrylic resin and the UV resin are easily peeled off. Normal,
The organic UV resin and the organic acrylic stamper are extremely difficult to peel off when the UV resin is cured. However, if the acrylic stamper according to the present invention is coated with an inorganic material, it can be peeled off without any problem.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0023】まず、本発明の第1の実施形態として、
0.1mm厚表面カバー層の片面2層ディスク、特に2
層とも再生専用に用いる2層ディスクの作製プロセスを
図1から図7を用いて説明する。
First, as a first embodiment of the present invention,
0.1 mm thick surface cover layer single sided dual layer disc, especially 2
A manufacturing process of a two-layer disc in which both layers are exclusively used for reproduction will be described with reference to FIGS.

【0024】図1は、図示しない真空スパッタ装置を用
いて、通常の成形基板40に反射膜42を成膜した様子
を表している。図中、41は成形によって形成された、
基板表面のグループ溝/情報ピットを表している。反射
膜材料は、通常、赤色レーザの場合はAlやAlCr等
のAl系合金が用いられる。より高密度記録の青色レー
ザを使用する場合は、通常Agや、基板との密着性を良
くするためにAgPtCu等の合金材料が用いられる。
反射膜の厚さは、通常99%以上レーザ光を反射させる
ために100nmから300nm程度成膜される。
FIG. 1 shows a state in which a reflective film 42 is formed on a normal molded substrate 40 by using a vacuum sputtering apparatus (not shown). In the figure, 41 is formed by molding,
It represents a group groove / information pit on the substrate surface. As a material of the reflection film, an Al-based alloy such as Al or AlCr is usually used in the case of a red laser. When a blue laser for higher density recording is used, usually, an alloy material such as Ag or AgPtCu is used to improve the adhesion to the substrate.
The thickness of the reflection film is usually about 100 nm to 300 nm in order to reflect the laser light by 99% or more.

【0025】次に、図2に示すように、UV硬化型のポ
リマーであるUV樹脂43を厚さ32μmに均一に塗布
した。UV樹脂43のスピン塗布条件は、樹脂の粘度に
よって色々組み合わせられるが、実施例では、400C
PS(センチポイズ)の粘度のUV樹脂を用いて450
0rpmで回転させながら塗布した所、概ね32μmの
厚さにUV樹脂層を形成できた。尚、この中間層として
のUV樹脂層の厚さは好適に25〜35μmである。
Next, as shown in FIG. 2, a UV resin 43 as a UV-curable polymer was uniformly applied to a thickness of 32 μm. The spin coating conditions of the UV resin 43 are variously combined depending on the viscosity of the resin.
450 using UV resin with PS (centipoise) viscosity
When the coating was performed while rotating at 0 rpm, a UV resin layer was formed with a thickness of approximately 32 μm. Incidentally, the thickness of the UV resin layer as the intermediate layer is preferably 25 to 35 μm.

【0026】一方、図3のように、アクリル材からなる
青色レーザに対して透明なスタンパ44を予め作製して
おき、その表面に形成された溝/情報ピットの上に、真
空スパッタ装置にてやはり青色レーザに対して透明なS
iO2 誘電体膜45を100nm形成した。このSiO
2 誘電体膜45は、後でUV樹脂が硬化した時にアクリ
ルスタンパ44とUV層43が剥離しやすくするため
に、予め成膜しておくもので、青色レーザに対して透明
で且つ、アクリルから剥離しやすい材料であれば何でも
良いが、例えば、SiやZnSとSiO2 の混合膜や、
TiO2 等がよい。
On the other hand, as shown in FIG. 3, a transparent stamper 44 is prepared in advance for a blue laser made of an acrylic material, and is placed on grooves / information pits formed on the surface thereof by a vacuum sputtering apparatus. S which is also transparent to blue laser
An iO 2 dielectric film 45 was formed to a thickness of 100 nm. This SiO
(2) The dielectric film 45 is formed in advance so that the acrylic stamper 44 and the UV layer 43 are easily peeled off when the UV resin is cured later. Any material may be used as long as it is easily peelable. For example, a mixed film of Si or ZnS and SiO 2 ,
TiO 2 or the like is preferable.

【0027】アクリルスタンパの作製方法は、通常の光
ディスクの成形と同じでよく、マスタリングプロセスに
よって作製したNiメッキスタンパを原盤として、アク
リルのレプリカを作れば良い。この場合、光ディスクと
して使用するわけではないので、その厚さは2Pプロセ
スのスタンパとして必要な厚さであればよい。但し、ア
クリルのように有機系材料をスタンパとして使用する場
合、ある程度の剛性を保って溝/ピットを転写するため
には、少なくとも通常の光ディスク以上の厚さが必要で
ある。実施例では2mmの厚さでアクリルスタンパを作
製した。
The method for producing the acrylic stamper may be the same as that for forming an ordinary optical disk. A replica of acrylic may be produced using a Ni-plated stamper produced by a mastering process as a master. In this case, since it is not used as an optical disc, its thickness may be any thickness as long as it is necessary as a stamper in the 2P process. However, when an organic material such as acrylic is used as a stamper, the thickness of the stamper must be at least as large as that of a normal optical disc in order to transfer grooves / pits while maintaining a certain degree of rigidity. In the example, an acrylic stamper was manufactured with a thickness of 2 mm.

【0028】次に図4のように、この溝/ピット表面に
SiO2 誘電体膜45が成膜されたアクリルスタンパ4
4を、事前に塗布してあった32μm厚のUV樹脂層4
3に押し当てながら、UV光46をスタンパ44の側か
ら照射した。スタンパ44の押し当ては、溝/ピットが
正確に転写できて、且つ、UV樹脂中間層43の厚さが
30μm程度になるように注意深く設定した。又、照射
するUV光は、水銀ランプにて約800Wの強度で20
秒照射した。この強度にてUV樹脂が光重合反応を起こ
し、完全に硬化することは事前の実験にて確認してあ
る。
Next, as shown in FIG. 4, an acrylic stamper 4 having a SiO 2 dielectric film 45 formed on the surface of the groove / pit is formed.
4 is a 32 μm thick UV resin layer 4 previously applied
The UV light 46 was irradiated from the side of the stamper 44 while pressing the sample 3. The pressing of the stamper 44 was carefully set so that the grooves / pits could be accurately transferred and the thickness of the UV resin intermediate layer 43 was about 30 μm. In addition, the UV light to be irradiated is a mercury lamp with an intensity of about 800 W at 20 W.
Irradiated for seconds. It has been confirmed in a previous experiment that the UV resin causes a photopolymerization reaction at this intensity and is completely cured.

【0029】この状態で、アクリルのスタンパ44をゆ
っくりとUV樹脂中間層43から剥がすと、今までアク
リルスタンパ側に成膜されていたSiO2 誘電体膜45
が、UV樹脂中間層43の硬化と共にUV樹脂中間層側
43に接着して、アクリルスタンパから剥離する。その
結果、図5に示すように、アクリルスタンパの溝/ピッ
ト47とSiO2 誘電体膜45がUV樹脂中間層43に
転写される。
In this state, when the acrylic stamper 44 is slowly peeled off from the UV resin intermediate layer 43, the SiO 2 dielectric film 45 which has been formed on the acrylic stamper side until now is removed.
However, when the UV resin intermediate layer 43 is cured, the UV resin intermediate layer 43 adheres to the UV resin intermediate layer side 43 and is separated from the acrylic stamper. As a result, the grooves / pits 47 of the acrylic stamper and the SiO 2 dielectric film 45 are transferred to the UV resin intermediate layer 43 as shown in FIG.

【0030】この状態で図6に示すように、図示しない
真空スパッタ装置を用いて、SiO 2 誘電体膜45の上
にAu又は、Agからなる半透明膜48を成膜する。半
透明膜48の材料は、通常赤色レーザに対してはAuを
用い、青色レーザに対してはAgを用いる。又その厚さ
は、反射が50%、透過も50%とするのが一般的であ
るので、通常、8から12nmくらいに設定される。
In this state, as shown in FIG.
Using a vacuum sputtering apparatus, TwoOn the dielectric film 45
Next, a translucent film 48 made of Au or Ag is formed. Half
The material of the transparent film 48 is usually Au for a red laser.
Ag is used for the blue laser. And its thickness
Is generally 50% reflection and 50% transmission.
Therefore, it is usually set to about 8 to 12 nm.

【0031】次に図7のように、この半透明膜48の上
から、UV樹脂をスピン塗布して、UV光を照射して、
表面カバー層49を70μmの厚さに形成した。このと
きに使用したUV樹脂の粘度は、800CPS(センチ
ポイズ)であり塗布の回転数は4000rpmである。
又、UV光の強度は中間層形成時と同じ800Wである
が、硬化時間は40秒とした。尚、この表面カバー層の
厚さは好適に65〜75μmであって、前記中間層と表
面カバー層の厚さを合計した厚さは好適に90〜110
μmである。
Next, as shown in FIG. 7, a UV resin is spin-coated on the semi-transparent film 48 and irradiated with UV light.
The surface cover layer 49 was formed to a thickness of 70 μm. The viscosity of the UV resin used at this time is 800 CPS (centipoise), and the rotation speed of the coating is 4000 rpm.
The UV light intensity was 800 W, which was the same as when the intermediate layer was formed, but the curing time was 40 seconds. The thickness of the surface cover layer is preferably 65 to 75 μm, and the total thickness of the intermediate layer and the surface cover layer is preferably 90 to 110 μm.
μm.

【0032】上記に示した、図1から図7のプロセス
で、0.1mm厚表面記録用の再生専用片面2層ディス
クが作製出来る事が確認出来た。
It has been confirmed that a single-sided, single-sided, read-only disc for surface recording with a thickness of 0.1 mm can be manufactured by the processes shown in FIGS. 1 to 7 described above.

【0033】尚、上記実施例では、アクリルスタンパと
硬化後のUV樹脂との剥離材料としてSiO2 を用い、
剥離した後でSiO2 の上にAu半透明膜を成膜した例
を示したが、SiO2 の代わりにAuを剥離材として使
って、剥離した後にこのAu膜をそのまま、表面に近い
側の再生用の半透明膜として使用することも可能であ
る。但し、Auの場合剥離に失敗してムラが生ずると半
透明膜として使用出来ないばかりか、半透明膜の修復も
出来なくなってしまうので、注意を要する。
In the above embodiment, SiO 2 is used as a release material between the acrylic stamper and the cured UV resin.
Although an example in which an Au translucent film was formed on SiO 2 after peeling was shown, Au was used as a peeling material instead of SiO 2 , and after peeling, this Au film was left as it was on the side close to the surface. It can be used as a translucent film for reproduction. However, in the case of Au, if the peeling is unsuccessful and unevenness occurs, it cannot be used as a translucent film, and the translucent film cannot be repaired.

【0034】次に、本発明の第2の実施形態として、表
面記録層が記録再生型である片面2層ディスクの作製プ
ロセスについて説明する。
Next, as a second embodiment of the present invention, a process for manufacturing a single-sided, double-layer disc having a recording / reproducing surface recording layer will be described.

【0035】図8に表面記録タイプの相変化型片面2層
ディスクの構成を示す。再生専用の場合と同じで、本
来、反射膜などの複数の薄膜は、基板30や中間層25
の表面に形成された溝/ピット50や51の形状に沿っ
て、それぞれ凹凸を有して積層されていくが、図8では
説明を簡単にするために、単に平面的な複数層(21、
22、23、24)や(26、27、28、29)とし
て表されている。
FIG. 8 shows the configuration of a phase change type single-sided dual-layer disk of a surface recording type. In the same manner as in the case of reproduction only, a plurality of thin films such as a reflection film are originally formed on the substrate 30 or the intermediate layer 25.
8 are stacked with irregularities along the shapes of the grooves / pits 50 and 51 formed on the surface of FIG. 8, but for simplicity of explanation, FIG.
22, 23, 24) and (26, 27, 28, 29).

【0036】図8において、30は通常の光ディスクと
同じ成形によって作製したディスク基板であり、その表
面には溝/情報ピット50が形成されている。再生専用
の場合と同じで、ディスク基板30の厚さは、機械強度
を保てるだけ厚ければいくらでも良い。このディスク基
板の溝/情報ピット50が形成されている面には、記録
再生消去が可能な相変化記録媒体が成膜されている。2
6はZnS・SiO2混合膜からなる誘電体保護膜であ
り、27がGeSbteの3元合金からなる相変化記録
膜である。更に、ZnS・SiO2 誘電体保護膜28、
AgPtCu反射膜29がこの順に成膜されている。
In FIG. 8, reference numeral 30 denotes a disk substrate produced by the same molding as a normal optical disk, and a groove / information pit 50 is formed on the surface thereof. As in the case of reproduction only, the thickness of the disk substrate 30 may be any thickness as long as the mechanical strength can be maintained. On the surface of the disk substrate on which the grooves / information pits 50 are formed, a phase change recording medium capable of recording / reproduction / erasing is formed. 2
Reference numeral 6 denotes a dielectric protection film made of a ZnS / SiO 2 mixed film, and 27 denotes a phase change recording film made of a GeSbte ternary alloy. Further, a ZnS.SiO 2 dielectric protection film 28,
The AgPtCu reflection film 29 is formed in this order.

【0037】これに再生専用ディスクの場合と同じで、
中間層25が接着され、中間層25の片側面(表面に近
い側)には溝/情報ピット51が形成されている。この
溝/ピット面には、やはり記録再生消去可能な相変化媒
体が成膜されている。即ち、21がZnS・SiO2
電体保護膜であり、22がGeSbTe3元合金からな
る相変化記録膜、23がZnS・SiO2 誘電体保護
膜、これにAu等の半透明膜24が積層されている。こ
の21の誘電体保護膜には、UV樹脂からなる表面カバ
ー層20が形成されている。相変化媒体を光学的に分離
している中間層25の厚さは、再生専用の場合と同じく
30μmである。また表面カバー層20の厚さも70μ
mで再生専用の場合と同じである。
In the same manner as in the case of a read-only disc,
The intermediate layer 25 is adhered, and a groove / information pit 51 is formed on one side (closer to the surface) of the intermediate layer 25. On this groove / pit surface, a phase-change medium capable of recording and reproducing is also formed. That is, 21 is a ZnS.SiO 2 dielectric protective film, 22 is a phase change recording film made of a GeSbTe ternary alloy, 23 is a ZnS.SiO 2 dielectric protective film, and a translucent film 24 of Au or the like is laminated thereon. ing. A surface cover layer 20 made of UV resin is formed on the dielectric protection film 21. The thickness of the intermediate layer 25 that optically separates the phase change medium is 30 μm as in the case of the reproduction only. Also, the thickness of the surface cover layer 20 is 70 μm.
m is the same as in the case of reproduction only.

【0038】次に、この表面記録タイプの片面2層記録
再生消去型光ディスクの作製方法を図9〜図15を用い
て説明する。
Next, a method of manufacturing this surface recording type single-sided, dual-layer recording / reproducing / erasing optical disk will be described with reference to FIGS.

【0039】まず図9のように、図示しない真空スパッ
タ装置を用いて、通常の成形基板30上に形成された溝
/情報ピット50の面に相変化媒体52を成膜する。相
変化媒体52は、図8中に示されているように、AgP
tCu反射膜29、ZnS・SiO2 誘電体膜28、G
eSbTe記録膜27、ZnS・SiO2 誘電体保護膜
26をこの順に成膜した構造になっている。このとき、
各膜の厚さは、適宜最適化されるが、2層ディスクの場
合は表面から遠い媒体は、レーザ光が通常の約半分しか
届かないため、高感度化するよう考慮されている。即
ち、反射膜と同時に冷却膜としての効果を有するAgP
tCu膜29は、80nmから100nmに設定し、あ
まり厚くしない。
First, as shown in FIG. 9, a phase change medium 52 is formed on the surface of the grooves / information pits 50 formed on the ordinary molded substrate 30 by using a vacuum sputtering apparatus (not shown). As shown in FIG. 8, the phase change medium 52 is composed of AgP
tCu reflection film 29, ZnS / SiO 2 dielectric film 28, G
The structure is such that an eSbTe recording film 27 and a ZnS.SiO 2 dielectric protection film 26 are formed in this order. At this time,
The thickness of each film is optimized as appropriate. However, in the case of a two-layer disc, the medium far from the surface receives only about half of the normal laser beam, and is considered to have high sensitivity. That is, AgP which has an effect as a cooling film simultaneously with the reflection film
The thickness of the tCu film 29 is set from 80 nm to 100 nm, and is not so thick.

【0040】記録膜27と反射膜29の間の誘電体保護
膜28は、逆に冷却膜(反射膜)29から記録膜を遠ざ
けるために30nm程度に設定する。これは、誘電体保
護膜28がこれより極端に薄いと、レーザ光が照射され
た記録膜27の加熱部が、冷却膜としての反射膜29に
よって急冷され、所望の相変化特性が得られないためで
ある。記録膜27は、従来の相変化媒体と同じで20n
m、下側誘電体膜26も従来の相変化光ディスクと同じ
で180nm程度が良い。
The dielectric protection film 28 between the recording film 27 and the reflection film 29 is set to about 30 nm to keep the recording film away from the cooling film (reflection film) 29. If the dielectric protection film 28 is extremely thinner than this, the heating part of the recording film 27 irradiated with the laser beam is rapidly cooled by the reflection film 29 as a cooling film, and the desired phase change characteristic cannot be obtained. That's why. The recording film 27 has a thickness of 20 n
m, the lower dielectric film 26 is the same as that of the conventional phase change optical disk, and is preferably about 180 nm.

【0041】次に、図10に示すように、UV硬化型の
樹脂25を厚さ32μmに均一に塗布した。UV樹脂2
5のスピン塗布条件は、樹脂の粘度によって色々組み合
わせられるが、実施例では、400CPS(センチポイ
ズ)の粘度のUV樹脂を用いて4500rpmで回転さ
せながら塗布した所、概ね32μmの厚さにUV樹脂層
25を形成できた。
Next, as shown in FIG. 10, a UV curable resin 25 was uniformly applied to a thickness of 32 μm. UV resin 2
The spin coating conditions of No. 5 are variously combined depending on the viscosity of the resin. In this embodiment, the UV resin having a viscosity of 400 CPS (centipoise) was applied while rotating at 4500 rpm, and the thickness of the UV resin layer was approximately 32 μm. 25 could be formed.

【0042】一方、図11のように、アクリル材からな
る青色レーザに対して透明なスタンパ44を予め作製し
ておき、その表面に形成された溝/情報ピットの上に、
真空スパッタ装置にて青色レーザに対して半透明なAu
膜24を80nm形成した。このAu半透明膜24は、
後でUV樹脂が硬化した時にアクリルスタンパ44とU
V中間層25が剥離しやすくするためと、UV中間層側
に接着されたAu半透明膜24が相変化媒体の反射膜と
して機能するように工夫されている。Auは良く知られ
ているように、極めて化学的に安定な金属であるため、
他の物質と化学結合しにくい。従って、アクリルのスタ
ンパ44にAuを成膜してもほとんど接着する事はな
い。一方、後でUV樹脂が硬化するとUV樹脂の方が活
性度が高いため、Auとも少なからず反応して、接着す
ることが出来る。アクリルと化学結合せず、且つ、UV
樹脂層25と接着した後で、相変化媒体の反射膜(特に
青色レーザの反射膜)として使用可能な材料としては、
Auの他にAg等がある。しかし、Ag単独ではサビの
問題などがあるため、AgCu等の合金が望まれる。
On the other hand, as shown in FIG. 11, a stamper 44 transparent to a blue laser made of an acrylic material is prepared in advance, and a groove / information pit formed on its surface is
Au which is translucent to blue laser in vacuum sputtering equipment
The film 24 was formed to a thickness of 80 nm. This Au translucent film 24
When the UV resin cures later, the acrylic stamper 44 and U
In order to facilitate the peeling of the V intermediate layer 25, the Au translucent film 24 bonded to the UV intermediate layer side is designed to function as a reflection film of the phase change medium. As is well known, Au is an extremely chemically stable metal,
Difficult to chemically bond with other substances. Therefore, even if Au is formed on the acrylic stamper 44, it hardly adheres. On the other hand, when the UV resin is cured later, the UV resin has a higher activity, so that it can react with Au to some extent and adhere. Not chemically bonded to acrylic and UV
Materials that can be used as a reflection film of the phase change medium (especially a reflection film of a blue laser) after being bonded to the resin layer 25 include:
There is Ag and the like in addition to Au. However, since Ag alone has a problem of rust, an alloy such as AgCu is desired.

【0043】アクリルスタンパ44の作製方法は、通常
の光ディスク成形と同じでよく、マスタリングプロセス
によって作製したNiメッキスタンパを原盤として、ア
クリルのレプリカを作れば良い。この場合、光ディスク
として使用するわけではないので、その厚さは2Pプロ
セスのスタンパとして必要な厚さであればよい。但し、
アクリルのように有機系材料をスタンパとして使用する
場合、ある程度の剛性を保って溝/ピットを転写するた
めには、少なくとも通常の光ディスク以上の厚さが必要
である。実施例では2mmの厚さでアクリルスタンパ4
4を作製した。
The method of manufacturing the acrylic stamper 44 may be the same as that for forming an ordinary optical disk. An acrylic replica may be formed using a Ni-plated stamper manufactured by a mastering process as a master. In this case, since it is not used as an optical disc, its thickness may be any thickness as long as it is necessary as a stamper in the 2P process. However,
When an organic material such as acrylic is used as a stamper, the thickness of the stamper must be at least as large as that of an ordinary optical disc in order to transfer grooves / pits while maintaining a certain degree of rigidity. In the embodiment, the acrylic stamper 4 has a thickness of 2 mm.
4 was produced.

【0044】次に図12のように、この溝/ピット表面
にAu半透明膜24が成膜されたアクリルスタンパ44
を、事前に塗布してあった32μm厚のUV樹脂層25
に押し当てながら、UV光46をスタンパ44の側から
照射した。スタンパ44の押し当ては、溝/ピットが正
確に転写できて、且つ、UV樹脂中間層25の厚さが3
0μm程度になるように注意深く設定した。又、照射す
るUV光46は、アクリルスタンパ表面のAu膜24が
半透明であるため多少長めに照射した。即ち、水銀ラン
プにて約800Wの強度で40秒照射した。この強度に
てUV樹脂25が光重合反応をおこし、完全に硬化する
ことは事前の実験にて確認してある。
Next, as shown in FIG. 12, an acrylic stamper 44 in which an Au translucent film 24 is formed on the surface of the groove / pit.
Is applied to a 32 μm-thick UV resin layer 25 previously applied.
UV light 46 was irradiated from the side of the stamper 44 while being pressed. When the stamper 44 is pressed, the grooves / pits can be transferred accurately and the thickness of the UV resin intermediate layer 25 is 3
It was carefully set to be about 0 μm. In addition, the UV light 46 to be irradiated was applied slightly longer because the Au film 24 on the surface of the acrylic stamper was translucent. That is, irradiation was performed with a mercury lamp at an intensity of about 800 W for 40 seconds. It has been confirmed in a previous experiment that the UV resin 25 undergoes a photopolymerization reaction at this intensity and is completely cured.

【0045】この状態で、アクリルのスタンパ44をゆ
っくりとUV樹脂中間層25から剥がすと、今までアク
リルスタンパ側に成膜されていたAu半透明膜24が、
UV樹脂中間層25の硬化と共にUV樹脂中間層25に
接着して、アクリルスタンパ44から剥離する。その結
果、図13に示すように、アクリルスタンパの溝/ピッ
ト51とAu半透明膜24がUV樹脂中間層に転写され
る。
In this state, when the acrylic stamper 44 is slowly peeled off from the UV resin intermediate layer 25, the Au translucent film 24, which has been formed on the acrylic stamper side, becomes
When the UV resin intermediate layer 25 is cured, the UV resin intermediate layer 25 is adhered to the UV resin intermediate layer 25 and peeled off from the acrylic stamper 44. As a result, as shown in FIG. 13, the grooves / pits 51 of the acrylic stamper and the translucent Au film 24 are transferred to the UV resin intermediate layer.

【0046】この状態で図14に示すように、図示しな
い真空スパッタ装置を用いて、Au半透明膜24の上に
相変化媒体53を成膜する。半透明膜は既にAuが形成
されているため、図8のZnS・SiO2 誘電体保護膜
23、GeSbTe相変化記録膜22、ZnS・SiO
2 誘電体保護膜21の順に成膜した。各膜の膜厚は、青
色レーザ光が、この奥の相変化媒体52まで届くように
考慮されている。まず、相変化記録膜22は、その上の
Au半透明膜を通過後でも青色レーザが50%程度透過
するように、厚さは10nmに設定した。また、50%
のレーザ光が透過するため、この相変化記録膜22は高
感度にしなければならない。このため、Au半透明膜2
4と相変化記録膜22の間の誘電体保護膜23は、30
nmとやや厚めに設定した。下側の表面に近い側の誘電
体保護膜21は、通常の相変化光ディスクと同じで18
0nm程度でよい。
In this state, as shown in FIG. 14, a phase change medium 53 is formed on the Au translucent film 24 by using a vacuum sputtering device (not shown). Since the translucent film has already been formed with Au, the ZnS.SiO 2 dielectric protection film 23, the GeSbTe phase change recording film 22, and the ZnS.SiO
Two dielectric protection films 21 were formed in this order. The thickness of each film is considered so that the blue laser light reaches the phase change medium 52 at the back. First, the thickness of the phase change recording film 22 was set to 10 nm so that about 50% of the blue laser was transmitted even after passing through the Au translucent film thereon. In addition, 50%
, The phase change recording film 22 must be made highly sensitive. For this reason, the Au translucent film 2
4 and the phase change recording film 22, the dielectric protection film 23
It was set slightly thicker in nm. The dielectric protection film 21 on the side closer to the lower surface is the same as that of a normal phase-change optical disc.
It may be about 0 nm.

【0047】次に図15のように、この相変化媒体53
の上から、UV樹脂をスピン塗布して、UV光を照射し
て、表面カバー層20を70μmの厚さに形成した。こ
のときに使用したUV樹脂の粘度は、800CPS(セ
ンチポイズ)であり塗布の回転数は4000rpmであ
る。又、UV光の強度は中間層形成時と同じ800Wで
あるが、硬化時間は40秒とした。
Next, as shown in FIG.
From above, a UV resin was spin-coated and irradiated with UV light to form a surface cover layer 20 with a thickness of 70 μm. The viscosity of the UV resin used at this time is 800 CPS (centipoise), and the rotation speed of the coating is 4000 rpm. The UV light intensity was 800 W, which was the same as when the intermediate layer was formed, but the curing time was 40 seconds.

【0048】上記に示した、図9から図15のプロセス
で、0.1mm厚表面記録層の記録再生消去可能な片面
2層ディスクが作製出来る事が確認出来た。
It was confirmed that a single-sided, double-layer disc capable of recording / reproducing and erasing information on a surface recording layer having a thickness of 0.1 mm can be manufactured by the processes shown in FIGS. 9 to 15 described above.

【0049】以上のように本発明では、UV光に対して
透明なアクリルスタンパを用い、その表面にUV樹脂が
硬化した後でアクリルスタンパとの剥離が容易な、無機
系材料を予め成膜しておくことで、スタンパ側からUV
光を照射してUV樹脂を完全に硬化することができ、且
つUV樹脂が硬化後、UV樹脂とスタンパとを容易に剥
離することができる。従って、比較的簡単な方法で表面
カバー層記録タイプの片面2層(再生専用/又は記録再
生消去型)ディスクを作製できる。
As described above, in the present invention, an acrylic stamper which is transparent to UV light is used, and an inorganic material which is easy to peel off from the acrylic stamper after the UV resin is cured is formed on the surface thereof in advance. By setting, UV from stamper side
The UV resin can be completely cured by irradiating light, and the UV resin and the stamper can be easily separated after the UV resin is cured. Therefore, it is possible to produce a single-sided, dual-layer (reproduction-only / or recording / reproduction erasing) disk of the recording type using a relatively simple method.

【0050】尚、第2の実施形態では、アクリルスタン
パと硬化後のUVスタンパの剥離用無機系材料として、
Au半透明膜を用いたが、これを第1の実施形態と同様
にSiO2 等の誘電体膜とし、スタンパとUV樹脂中間
層/誘電体膜が剥離した後で、スパッタ装置にて、Au
半透明膜、ZnS・SiO2 誘電体膜、GeSbTe記
録膜、ZnS・SiO2 誘電体膜をこの順に成膜しても
全く同一の記録再生消去可能な片面2層ディスクが作製
出来ることは言うまでもない。
In the second embodiment, as the inorganic material for separating the acrylic stamper and the cured UV stamper,
Although the Au translucent film was used, this was used as a dielectric film such as SiO 2 as in the first embodiment, and after the stamper and the UV resin intermediate layer / dielectric film were peeled off, Au was used by a sputtering apparatus.
Translucent film, ZnS · SiO 2 dielectric film, GeSbTe recording film, ZnS · SiO 2 dielectric film of identical be deposited in this order on the recording and reproducing erasable double layer disk can of course be prepared .

【0051】次に上記第1の実施形態に従って作製され
た再生専用の光ディスクを再生、或いは上記第2の実施
形態に従って作製された記録再生用光ディスクを用いて
記録再生を行う光ディスク装置について説明する。図1
6は該光ディスク装置の構成を示すブロック図である。
Next, a description will be given of an optical disk apparatus for reproducing data from a read-only optical disk manufactured according to the first embodiment, or performing recording and reproduction using a recording / reproduction optical disk manufactured according to the second embodiment. Figure 1
6 is a block diagram showing a configuration of the optical disk device.

【0052】光ディスク61は上記再生専用光ディスク
或いは記録再生用光ディスクである。光ディスク61の
表面にはスパイラル状にトラックが形成されており、こ
のディスク61はスピンドルモータ63によって回転駆
動される。
The optical disk 61 is the above-mentioned read-only optical disk or the optical disk for recording and reproduction. Tracks are spirally formed on the surface of the optical disk 61, and the disk 61 is driven to rotate by a spindle motor 63.

【0053】光ディスク61に対する情報の記録、再生
は、光ピックアップ65によって行われる。光ピックア
ップ65は、スレッドモータ66とギアを介して連結さ
れており、このスレッドモータ66はスレッドモータ制
御回路68により制御される。
Recording and reproduction of information on and from the optical disk 61 are performed by an optical pickup 65. The optical pickup 65 is connected to a sled motor 66 via a gear, and the sled motor 66 is controlled by a sled motor control circuit 68.

【0054】スレッドモータ制御回路68に速度検出回
路69が接続され、この速度検出回路69により検出さ
れる光ピックアップ65の速度信号がスレッドモータ制
御回路68に送られる。スレッドモータ66の固定部
に、図示しない永久磁石が設けられており、駆動コイル
67がスレッドモータ制御回路68によって励磁される
ことにより、光ピックアップ65が光ディスク61の半
径方向に移動する。
A speed detection circuit 69 is connected to the sled motor control circuit 68, and a speed signal of the optical pickup 65 detected by the speed detection circuit 69 is sent to the sled motor control circuit 68. A permanent magnet (not shown) is provided at a fixed portion of the thread motor 66. When the drive coil 67 is excited by the thread motor control circuit 68, the optical pickup 65 moves in the radial direction of the optical disk 61.

【0055】光ピックアップ65には、図示しないワイ
ヤ或いは板バネによって支持された対物レンズ70が設
けられる。この対物レンズ70のNAは0.85であ
る。対物レンズ70は駆動コイル72の駆動によりフォ
ーカシング方向(レンズの光軸方向)への移動が可能
で、又駆動コイル71の駆動によりトラッキング方向
(レンズの光軸と直交する方向)への移動が可能であ
る。
The optical pickup 65 is provided with an objective lens 70 supported by a wire or a leaf spring (not shown). The NA of the objective lens 70 is 0.85. The objective lens 70 can be moved in the focusing direction (the direction of the optical axis of the lens) by driving the drive coil 72, and can be moved in the tracking direction (the direction orthogonal to the optical axis of the lens) by driving the drive coil 71. It is.

【0056】レーザ制御回路73のレーザ駆動回路75
により、半導体レーザ発振器79からレーザ光が発せら
れる。半導体レーザ発振器79から発せられるレーザ光
は、コリメータレンズ80、ハーフプリズム81、対物
レンズ70を介して光ディスク61上に照射される。光
ディスク61からの反射光は、対物レンズ70、ハーフ
プリズム81、集光レンズ82、およびシリンドリカル
レンズ83を介して、光検出器84に導かれる。
Laser drive circuit 75 of laser control circuit 73
As a result, a laser beam is emitted from the semiconductor laser oscillator 79. Laser light emitted from the semiconductor laser oscillator 79 is irradiated onto the optical disk 61 via the collimator lens 80, the half prism 81, and the objective lens 70. The reflected light from the optical disk 61 is guided to a photodetector 84 via an objective lens 70, a half prism 81, a condenser lens 82, and a cylindrical lens 83.

【0057】光検出器84は、4分割の光検出セル84
a〜84dから成る。光検出セル84a〜84dの出力
信号は、電流/電圧変換用のアンプ85a〜85d、加
算器86a〜86dを介して差動アンプOP1、OP2
に供給される。
The photodetector 84 includes a four-divided photodetector cell 84.
a to 84d. Output signals of the photodetection cells 84a to 84d are supplied to differential amplifiers OP1 and OP2 via current / voltage conversion amplifiers 85a to 85d and adders 86a to 86d.
Supplied to

【0058】差動アンプOP2は、加算器86a、86
bの両出力信号の差に応じた、フォーカス点に関する信
号を出力する。この出力はフォーカシング制御回路87
に供給される。フォーカシング制御回路87の出力信号
は、フォーカシング駆動コイル72に供給される。これ
により、レーザ光が光ディスク61の記録膜上に常時ジ
ャストフォーカスとなる制御がなされる。フォーカシン
グ制御回路87はCPU90の制御の下にフォーカス
を、再生専用ディスクの場合は図7に示す反射膜42或
いは半透明膜48に切り替え、記録再生用ディスクの場
合は図8に示す第1層の記録膜27上或いは第2層の記
録膜22上に切り替える。
The differential amplifier OP2 includes adders 86a and 86
A signal related to the focus point is output according to the difference between the two output signals b. This output is output from the focusing control circuit 87.
Supplied to The output signal of the focusing control circuit 87 is supplied to the focusing drive coil 72. As a result, control is performed such that the laser beam is always just focused on the recording film of the optical disk 61. The focusing control circuit 87 switches the focus under the control of the CPU 90 to the reflective film 42 or the translucent film 48 shown in FIG. 7 for a read-only disc, and to the first layer shown in FIG. Switching is performed on the recording film 27 or on the recording film 22 of the second layer.

【0059】差動アンプOP1は、加算器86c、86
dの両出力信号の差に応じたトラック差信号を出力す
る。この出力はトラッキング制御回路88に供給され
る。トラッキング制御回路88は、差動アンプOP1か
らのトラック差信号に応じてトラック駆動信号を生成す
る。
The differential amplifier OP1 includes adders 86c and 86
A track difference signal corresponding to the difference between the two output signals is output. This output is supplied to the tracking control circuit 88. The tracking control circuit 88 generates a track drive signal according to the track difference signal from the differential amplifier OP1.

【0060】トラッキング制御回路88から出力される
トラック駆動信号は、トラッキング方向の駆動コイル7
1に供給される。又、トラッキング制御回路88で用い
られるトラック差信号が、スレッドモータ制御回路68
に供給される。
The track drive signal output from the tracking control circuit 88 is applied to the drive coil 7 in the tracking direction.
1 is supplied. The track difference signal used in the tracking control circuit 88 is transmitted to the thread motor control circuit 68.
Supplied to

【0061】上記フォーカシング制御およびトラッキン
グ制御がなされることで、光検出器84の各光検出セル
84a〜84dの出力信号の和信号には、つまり加算器
86c、86dの両出力信号を加算する加算器86eの
出力信号には、記録情報に対応して光ディスク61のト
ラック上に形成されたピットなどからの反射率の変化が
反映される。この信号は、データ再生回路78に供給さ
れる。データ再生回路78は、PLL回路76からの再
生用クロック信号に基づき、記録データを再生する。
By performing the focusing control and the tracking control, the sum signal of the output signals of the respective photodetection cells 84a to 84d of the photodetector 84, that is, the addition signal for adding both output signals of the adders 86c and 86d. The change in the reflectance from the pits formed on the tracks of the optical disk 61 corresponding to the recorded information is reflected in the output signal of the optical unit 86e. This signal is supplied to the data reproducing circuit 78. The data reproduction circuit 78 reproduces the recorded data based on the reproduction clock signal from the PLL circuit 76.

【0062】上記トラッキング制御回路88によって対
物レンズ70が制御されているとき、スレッドモータ制
御回路68により、対物レンズ70が光ピックアップ5
内の中心位置近傍に位置するようスレッドモータ66つ
まり光ピックアップ65が制御される。
When the objective lens 70 is controlled by the tracking control circuit 88, the objective lens 70 is
The sled motor 66, that is, the optical pickup 65 is controlled so as to be located near the center position of the inside.

【0063】モータ制御回路64、スレッドモータ制御
回路68、レーザ制御回路73、PLL回路76、デー
タ再生回路78、フォーカシング制御回路87、トラッ
キング制御回路88、エラー訂正回路62等は、バス8
9を介してCPU90によって制御される。CPU90
はインターフェース回路93を介してホスト装置94か
ら提供される動作コマンドに従って、この記録再生装置
を総合的に制御する。CPU90は又、RAM91を作
業エリアとして使用し、ROM92に記録されたプログ
ラムに従って所定の動作を行う。
The motor control circuit 64, thread motor control circuit 68, laser control circuit 73, PLL circuit 76, data reproduction circuit 78, focusing control circuit 87, tracking control circuit 88, error correction circuit 62, etc.
9 is controlled by the CPU 90. CPU 90
Controls the recording / reproducing apparatus comprehensively in accordance with an operation command provided from the host device 94 via the interface circuit 93. The CPU 90 also uses the RAM 91 as a work area, and performs a predetermined operation according to a program recorded in the ROM 92.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上説明した通り本発明によれば、比較
的簡単な方法で表面カバー層記録タイプの片面2層(再
生専用/又は記録再生消去型)ディスクを作製できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to manufacture a single-sided two-layer (read-only / recording / reproduction / erasing type) disc of a recording type with a front cover layer by a relatively simple method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】再生専用2層ディスクの第1の作製プロセスを
示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a first manufacturing process of a read-only dual-layer disc.

【図2】再生専用2層ディスクの第2の作製プロセスを
示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a second manufacturing process of a read-only dual-layer disc.

【図3】再生専用2層ディスクの作製プロセスで用いら
れるスタンパを示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a stamper used in a process for manufacturing a read-only two-layer disc.

【図4】再生専用2層ディスクの第3の作製プロセスを
示す断面図。
FIG. 4 is a sectional view showing a third manufacturing process of the read-only dual-layer disc.

【図5】再生専用2層ディスクの第4の作製プロセスを
示す断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a fourth manufacturing process of the read-only dual-layer disc.

【図6】再生専用2層ディスクの第5の作製プロセスを
示す断面図。
FIG. 6 is a sectional view showing a fifth manufacturing process of the read-only dual-layer disc.

【図7】再生専用2層ディスクの第6の作製プロセスを
示す断面図。
FIG. 7 is a sectional view showing a sixth manufacturing process of the read-only dual-layer disc.

【図8】表面記録タイプの相変化型片面2層ディスクの
構成を示す断面図。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a configuration of a surface recording type phase change type single-sided dual-layer disc.

【図9】片面2層記録再生消去型光ディスクの第1の作
製プロセスを示す断面図。
FIG. 9 is a sectional view showing a first manufacturing process of a single-sided, dual-layer recording / reproducing erasing optical disc.

【図10】片面2層記録再生消去型光ディスクの第2の
作製プロセスを示す断面図。
FIG. 10 is a sectional view showing a second manufacturing process of the single-sided, dual-layer recording / reproducing / erasing optical disk.

【図11】片面2層記録再生消去型光ディスクの作製プ
ロセスで用いられるスタンパを示す断面図。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a stamper used in a manufacturing process of a single-sided, dual-layer recording / reproducing / erasing optical disk.

【図12】片面2層記録再生消去型光ディスクの第3の
作製プロセスを示す断面図。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a third manufacturing process of the single-sided dual-layer recording / reproducing erasing optical disk.

【図13】片面2層記録再生消去型光ディスクの第4の
作製プロセスを示す断面図。
FIG. 13 is a sectional view showing a fourth manufacturing process of the single-sided, dual-layer recording / reproducing / erasing optical disk.

【図14】片面2層記録再生消去型光ディスクの第5の
作製プロセスを示す断面図。
FIG. 14 is a sectional view showing a fifth manufacturing process of the single-sided, dual-layer recording / reproducing erasing optical disk.

【図15】片面2層記録再生消去型光ディスクの第6の
作製プロセスを示す断面図。
FIG. 15 is a sectional view showing a sixth manufacturing process of the single-sided, dual-layer recording / reproducing / erasing optical disk.

【図16】本発明の光ディスクを用いて再生や記録を行
う光ディスク装置の構成を示すブロック図。
FIG. 16 is a block diagram showing a configuration of an optical disk device that performs reproduction and recording using the optical disk of the present invention.

【図17】片面2層RAMディスクの構成を示す断面
図。
FIG. 17 is a sectional view showing the configuration of a single-sided dual-layer RAM disk.

【図18】表面記録の片面2層ディスクの構成を示す断
面図。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the configuration of a single-sided, dual-layer disc for surface recording.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…表面カバー層、2…中間透明層、4、40…基板、
5、42…反射膜、6…半透明膜、7…対物レンズ、8
…レーザ光、41…溝/ピット、43…UV樹脂、44
…スタンパ、45…SO2
1: surface cover layer, 2: intermediate transparent layer, 4, 40: substrate,
5, 42: reflective film, 6: translucent film, 7: objective lens, 8
... Laser light, 41 ... groove / pit, 43 ... UV resin, 44
… Stamper, 45… SO 2 ,

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に溝及び情報ピットを有する光ディ
スク基板にレーザ光を反射する反射膜を設け、該反射膜
と所定の厚さの中間層を介して該レーザに対して半透明
の膜を設け、且つ該中間層の該半透明膜面にも別の溝及
び情報ピットが形成されており、更に、該半透明膜の上
に表面カバー層が所定の厚さだけオーバーコートされて
おり、該半透明膜或いは該反射膜にレーザ光を集光し
て、該基板上の情報ピット或いは該中間層上の情報ピッ
トが再生される表面再生片面2層ディスクの作製方法で
あって、 該基板上に設けられた反射膜の上に光硬化型のポリマー
を該中間層として塗布し、 表面に該別の溝及び情報ピットが形成され、該ポリマー
を硬化させる光を透過する透明スタンパを該ポリマーに
圧接しながら、該透明スタンパの側から該光を照射する
ことにより、該ポリマーを硬化させ、 該透明スタンパを該硬化したポリマーから剥離して、該
別の溝及び情報ピットを該中間層に転写する工程を具備
することを特徴とする表面再生用片面2層ディスクの作
製方法。
An optical disc substrate having grooves and information pits on its surface is provided with a reflective film for reflecting laser light, and a semi-transparent film for the laser is formed through the reflective film and an intermediate layer having a predetermined thickness. Provided, and another groove and information pits are also formed on the translucent film surface of the intermediate layer, and further, a surface cover layer is overcoated by a predetermined thickness on the translucent film, A method for producing a surface-reproduced single-sided double-layer disc in which information pits on the substrate or information pits on the intermediate layer are reproduced by focusing laser light on the translucent film or the reflection film, A photo-curable polymer is applied as an intermediate layer on the reflective film provided thereon, and the separate grooves and information pits are formed on the surface, and a transparent stamper that transmits light for curing the polymer is used as the polymer. While pressing against the transparent stamper Irradiating light to cure the polymer, separating the transparent stamper from the cured polymer, and transferring the another groove and information pit to the intermediate layer. A method for producing a single-sided, double-layer disc for reproduction.
【請求項2】 該透明スタンパの表面には、該ポリマー
が光硬化後に該透明スタンパとの剥離を容易にするため
の無機系薄膜が予め成膜されていることを特徴とする請
求項1記載の表面再生用片面2層ディスクの作製方法。
2. The transparent stamper according to claim 1, wherein an inorganic thin film for facilitating separation of the polymer from the transparent stamper after photocuring is formed on the surface of the transparent stamper. A method for producing a single-sided, double-layer disc for surface reproduction according to (1).
【請求項3】 該透明スタンパがアクリル材からなるこ
とを特徴とする請求項1又は2記載の表面再生用片面2
層ディスクの作製方法。
3. The single-side surface for surface regeneration according to claim 1, wherein the transparent stamper is made of an acrylic material.
How to make a layer disc.
【請求項4】 該無機系薄膜が、UV光に透明な誘電体
材料からなることを特徴とする請求項2又は3記載の表
面再生用片面2層ディスクの作製方法。
4. The method according to claim 2, wherein the inorganic thin film is made of a dielectric material transparent to UV light.
【請求項5】 該誘電体材料が、SiO2からなること
を特徴とする請求項4記載の表面再生用片面2層ディス
クの作製方法。
5. The method according to claim 4, wherein said dielectric material is made of SiO 2 .
【請求項6】 該無機系薄膜がAuからなり、このAu
を該レーザに対して半透明になるよう厚さを設定し、該
透明スタンパを該ポリマー及びAu薄膜から剥離した後
で、このAu半透明膜を表面再生片面2層ディスクの表
面に近い側の半透明反射膜として用いることを特徴とす
る請求項2記載の表面再生用片面2層ディスクの作製方
法。
6. The method according to claim 1, wherein the inorganic thin film is made of Au.
After the transparent stamper is peeled off from the polymer and the Au thin film, the Au semi-transparent film is placed on the side close to the surface of the surface-reproduced single-sided two-layer disc. 3. The method for producing a single-sided, double-layer disc for surface reproduction according to claim 2, wherein the disc is used as a translucent reflective film.
【請求項7】 該中間層の厚さが25〜35μmであ
り、該表面カバー層の厚さが65〜75μmであること
を特徴とする請求項1記載の表面再生用片面2層ディス
クの作製方法。
7. The single-sided double-layer disc for surface reproduction according to claim 1, wherein the thickness of the intermediate layer is 25 to 35 μm, and the thickness of the surface cover layer is 65 to 75 μm. Method.
【請求項8】 該中間層と該表面カバー層の厚さを合計
した厚さが90〜110μmに設定されることを特徴と
する請求項1記載の表面再生用片面2層ディスクの作製
方法。
8. The method according to claim 1, wherein the total thickness of the intermediate layer and the surface cover layer is set to 90 to 110 μm.
【請求項9】 表面に溝及び情報ピットを有する光ディ
スク基板にレーザ光を照射することで記録再生消去可能
な第1の相変化媒体を設け、該相変化媒体と所定の厚さ
の中間層を介して該レーザーに対して半透明である別の
相変化媒体を設け、且つ該中間層の該半透明相変化媒体
面にも別の溝及び情報ピットが形成されており、更に、
該半透明相変化媒体面上に表面カバー層が所定の厚さだ
けオーバーコートされており、該半透明相変化媒体或い
は該第1の相変化媒体にレーザ光を集光して、該基板上
の第1の相変化媒体及び該中間層上の半透明相変化媒体
に対して記録再生消去が行われる表面記録タイプの記録
再生消去型片面2層ディスクの作製方法であって、 該基板上に設けられた該第1の相変化媒体上に光硬化型
のポリマーを該中間層として塗布し、 表面に該別の溝及び情報ピットが形成され、該ポリマー
を硬化させる光を透過する透明スタンパを該ポリマーに
圧接しながら、該透明スタンパの側から該光を照射する
ことにより、該ポリマーを硬化させ、 該透明スタンパを該硬化したポリマーから剥離して、該
別の溝及び情報ピットを該中間層に転写する工程を具備
することを特徴とする表面記録再生消去型片面2層ディ
スクの作製方法。
9. A first phase-change medium rewritable by irradiating a laser beam onto an optical disk substrate having grooves and information pits on its surface, and the phase-change medium and an intermediate layer having a predetermined thickness are provided. Providing another phase-change medium that is translucent to the laser through, and another groove and information pits are also formed on the translucent phase-change medium surface of the intermediate layer,
A surface cover layer is overcoated by a predetermined thickness on the surface of the translucent phase change medium, and a laser beam is focused on the translucent phase change medium or the first phase change medium, and A recording / reproducing and erasing single-sided dual-layer disc of a surface recording type in which recording / reproducing / erasing is performed on the first phase change medium and the translucent phase change medium on the intermediate layer, A photocurable polymer is applied as the intermediate layer on the first phase change medium provided, and the other grooves and information pits are formed on the surface, and a transparent stamper that transmits light for curing the polymer is provided. By irradiating the light from the side of the transparent stamper while pressing against the polymer, the polymer is cured, the transparent stamper is peeled off from the cured polymer, and the another groove and the information pit are placed in the middle. Including a step of transferring to a layer The method for producing surface recording erased single-sided dual-layer disc, characterized in Rukoto.
【請求項10】 該透明スタンパの表面には、該ポリマ
ーが光硬化後に該透明スタンパとの剥離を容易にするた
めの無機系薄膜が予め成膜されていることを特徴とする
請求項1記載の表面再生用片面2層ディスクの作製方
法。
10. The transparent stamper according to claim 1, wherein an inorganic thin film for facilitating separation of the polymer from the transparent stamper after photocuring is formed on the surface of the transparent stamper. A method for producing a single-sided, double-layer disc for surface reproduction according to (1).
【請求項11】 該透明スタンパがアクリル材からなる
ことを特徴とする請求項9又は10記載の表面再生用片
面2層ディスクの作製方法。
11. The method according to claim 9, wherein the transparent stamper is made of an acrylic material.
【請求項12】 該無機系薄膜が、UV光に透明な誘電
体材料からなることを特徴とする請求項10又は11記
載の表面再生用片面2層ディスクの作製方法。
12. The method according to claim 10, wherein the inorganic thin film is made of a dielectric material transparent to UV light.
【請求項13】 該誘電体材料が、SiO2からなるこ
とを特徴とする請求項12記載の表面再生用片面2層デ
ィスクの作製方法。
13. The method according to claim 12, wherein said dielectric material is made of SiO 2 .
【請求項14】 該無機系薄膜がAuからなり、このA
uを該レーザに対して半透明になるよう厚さを設定し、
該透明スタンパを該ポリマー及びAu薄膜から剥離した
後で、このAu半透明膜を表面再生片面2層ディスクの
表面に近い側の半透明反射膜として用いることを特徴と
する請求項10記載の表面再生用片面2層ディスクの作
製方法。
14. The inorganic thin film is made of Au.
u is set to a thickness that is translucent to the laser,
11. The surface according to claim 10, wherein after removing the transparent stamper from the polymer and the Au thin film, the Au semi-transparent film is used as a semi-transparent reflective film on the side closer to the surface of the surface-reproduced single-sided dual-layer disc. A method for producing a single-sided, double-layer disc for reproduction.
【請求項15】 該中間層の厚さが25〜35μmであ
り、該表面カバー層の厚さが65〜75μmであること
を特徴とする請求項9記載の表面再生用片面2層ディス
クの作製方法。
15. The production of a single-sided, double-layer disc for surface reproduction according to claim 9, wherein the thickness of the intermediate layer is 25 to 35 μm, and the thickness of the front cover layer is 65 to 75 μm. Method.
【請求項16】 該中間層と該表面カバー層の厚さを合
計した厚さが90m〜110μmに設定されることを特
徴とする請求項9記載の表面再生用片面2層ディスクの
作製方法。
16. The method according to claim 9, wherein a total thickness of the intermediate layer and the surface cover layer is set to 90 to 110 μm.
【請求項17】 請求項1乃至8の1項に記載の方法に
従って作製された表面再生用片面2層ディスク。
17. A single-sided, double-layer disc for surface reproduction manufactured according to the method of claim 1. Description:
【請求項18】 請求項9乃至16の1項に記載の方法
に従って作製された表面記録再生消去型片面2層ディス
ク。
18. A single-sided, double-layer, surface recording / reproducing erasable disk manufactured according to the method of claim 9. Description:
【請求項19】 請求項17記載の表面再生用片面2層
ディスクに記録された情報を再生する再生装置。
19. A reproducing apparatus for reproducing information recorded on the single-sided, double-layer disc for surface reproduction according to claim 17.
【請求項20】 請求項18記載の表面記録再生消去型
片面2層ディスクを用いて情報の記録及び再生を行う記
録再生装置。
20. A recording / reproducing apparatus for recording / reproducing information using the surface recording / reproducing and erasing single-sided double-layer disc according to claim 18.
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