JP2006277919A - Stamper, die and method for manufacturing optical disk substrate - Google Patents

Stamper, die and method for manufacturing optical disk substrate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stamper by which substrates having uniform thickness distribution can be reproduced, in a manufacturing method of an optical disk substrate wherein a cycle time is shortened and manufacturing efficiency is high. <P>SOLUTION: The stamper 10 has an increasing shape from an inner peripheral part 13 to an outer peripheral part 14 so that the difference between thicknesses of the outer peripheral part 14 and the inner peripheral part 13 of an annular base body 11 is ≥5 μm. In the thickness distribution in a recording area of the optical disk substrate molded by a die to which the stamper 10 is attached, the difference (Smax-Smin) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) in thickness is <10 μm and the optical disk substrate can be used as a disk substrate especially for a multilayered optical recording medium. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光ディスク基板を製造する際に用いるスタンパ等に関し、より詳しくは、多層型光記録媒体の、サイクルタイムの短い製造工程に好適なスタンパ等に関する。   The present invention relates to a stamper used when manufacturing an optical disk substrate, and more particularly to a stamper suitable for a manufacturing process of a multilayer optical recording medium with a short cycle time.

CD(コンパクトディスク)やDVD(デジタル多用途ディスク)等の光ディスク用の基板は、一方の面にスタンパを取り付けた金型と、他の一方の金型との間に形成されるキャビティ内に溶融樹脂を射出充填し、冷却後、成型品を金型から取り出すことにより成形される。   Optical disc substrates such as CDs (compact discs) and DVDs (digital versatile discs) are melted in a cavity formed between a mold with a stamper on one side and the other mold. The resin is injected and filled, and after cooling, the molded product is removed from the mold.

具体的には、光ディスク基板を製造するための金型は、一般に、固定側金型コア及び可動側金型コアが、外周リングを介して対向するように設置される。そして、一般に、固定側金型コアの金型面又は可動側金型コアの金型面のいずれかにスタンパが取り付けられる。つまり、スタンパが取り付けられた金型(固定側金型コア又は可動側金型コアのいずれでもよい。以下同様。)と、この金型に対向する金型及び外周リングによってキャビティが形成される。   Specifically, a mold for manufacturing an optical disk substrate is generally installed such that a fixed mold core and a movable mold core face each other via an outer ring. In general, a stamper is attached to either the mold surface of the fixed mold core or the mold surface of the movable mold core. That is, a cavity is formed by a mold (either a fixed-side mold core or a movable-side mold core that is attached to the stamper) to which a stamper is attached, and a mold and an outer peripheral ring that face the mold.

ここで、光ディスクの記録領域に対応する光ディスク基板の厚さ分布は均一にすることが好ましい。このため、一般には、上記金型は、光ディスクの記録領域の最内周に相当する位置から最外周に相当する位置まで、スタンパが取り付けられた金型と対向する金型とが水平(平行)になるように設置される。つまり、厚みの均一であるスタンパを使用することにより、スタンパの表面と対向する金型との距離が、光ディスクの記録領域の最内周に相当する位置から最外周に相当する位置まで均一になるようにしている。
ところで、上記光ディスク基板の特性を向上させる技術として、径方向のスタンパ厚みを変化させる技術が報告されている(特許文献1参照)。
Here, the thickness distribution of the optical disk substrate corresponding to the recording area of the optical disk is preferably uniform. For this reason, in general, the above-mentioned mold is horizontally (parallel) from the position corresponding to the innermost circumference of the recording area of the optical disk to the position corresponding to the outermost circumference, with the mold attached to the stamper and the opposite mold. It is installed to become. In other words, by using a stamper having a uniform thickness, the distance between the stamper surface and the opposing mold is uniform from a position corresponding to the innermost periphery of the recording area of the optical disc to a position corresponding to the outermost periphery. I am doing so.
By the way, as a technique for improving the characteristics of the optical disk substrate, a technique for changing the stamper thickness in the radial direction has been reported (see Patent Document 1).

特開平6−168483号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-168383

光ディスク基板の厚さ分布を一定にすることは重要であるが、本発明者の検討によれば、光ディスク基板の生産性を高めるために、サイクルタイム(一枚の光ディスク基板を製造するための時間)を短縮すると、光ディスク基板の記録領域に対応する部分において、基板の厚さが変動し、厚さの均一性が低下することが判明した。
このような基板を用いて光ディスクを調製すると、光情報の記録精度が低下するという問題が生じる。特に、記録層を2層以上有する多層型記録媒体において、記録領域に対応する部分の厚さの均一性が低い基板を用いると、上述した問題が、より深刻になる。
Although it is important to make the thickness distribution of the optical disk substrate constant, according to the study of the present inventor, in order to increase the productivity of the optical disk substrate, cycle time (time for manufacturing one optical disk substrate) ) Is reduced, the thickness of the substrate fluctuates in the portion corresponding to the recording area of the optical disk substrate, and the uniformity of the thickness decreases.
When an optical disc is prepared using such a substrate, there arises a problem that the recording accuracy of optical information is lowered. In particular, in a multi-layered recording medium having two or more recording layers, the above-described problem becomes more serious when a substrate having a low thickness uniformity in a portion corresponding to a recording area is used.

即ち、光記録媒体における光ディスク基板は、記録再生用レーザ光の集光レンズの役割も果たしているため、基板の厚さが変動すると、焦点距離が変動し、その結果、光情報の記録精度が低下するという問題が発生する。また、多層型光記録媒体の場合は、複数の記録層が接近し、それぞれの焦点距離が非常に近いため、単層の記録層を有する光ディスクと比べて、より高精度に基板の厚さを制御する必要がある。   That is, the optical disk substrate in the optical recording medium also plays a role of a condensing lens for recording / reproducing laser light. Therefore, if the thickness of the substrate varies, the focal length varies, and as a result, the recording accuracy of optical information decreases. Problem occurs. In the case of a multilayer optical recording medium, since a plurality of recording layers are close to each other and their focal lengths are very close, the thickness of the substrate can be increased with higher accuracy than an optical disc having a single recording layer. Need to control.

本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、サイクルタイムを短くした生産効率の高い光ディスク基板の製造方法において、特に多層型光記録媒体に好適な、厚さ分布が均一な基板を複製できるスタンパを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、厚さ分布が均一な基板を製造するための光ディスク基板の製造用の金型を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、厚さ分布が均一な光ディスク基板の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made to solve such problems.
That is, an object of the present invention is to provide a stamper capable of replicating a substrate having a uniform thickness distribution, particularly suitable for a multilayer optical recording medium, in a method of manufacturing an optical disc substrate with high cycle efficiency and high production efficiency. is there.
Another object of the present invention is to provide a mold for manufacturing an optical disk substrate for manufacturing a substrate having a uniform thickness distribution.
Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical disk substrate having a uniform thickness distribution.

そこで、本発明者は上述した課題を解決するために鋭意検討の結果、所定のスタンパを取り付けた金型を用いて樹脂製の基板を射出成型装置により成型する場合に、サイクルタイムが短くなればなるほど、成型された基板の内周部と外周部とでは、冷却速度の差が大きくなり、光ディスク基板の内周部に近い領域の樹脂が未硬化の状態で金型から取り出される傾向にあることが分かった。このため、基板の内周部と外周部との間で樹脂の収縮率が異なることにより基板の厚さが変動すると考えられ、かかる知見に基づき本発明を完成した。   Therefore, as a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor uses a mold attached with a predetermined stamper to mold a resin substrate with an injection molding apparatus, and the cycle time is shortened. Indeed, the difference in cooling rate between the inner and outer peripheral portions of the molded substrate increases, and the resin in the region near the inner peripheral portion of the optical disk substrate tends to be taken out of the mold in an uncured state. I understood. For this reason, it is thought that the thickness of the substrate varies due to the difference in resin shrinkage between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate, and the present invention has been completed based on such knowledge.

即ち、本発明によれば、光ディスク基板を製造するための円環状のスタンパであって、前記光ディスク基板が複数の記録層を有する多層型光記録媒体用の光ディスク基板であり、光ディスク基板の記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満になるように、スタンパの内周部の厚さより外周部の厚さが厚く形成されていることを特徴とするスタンパが提供される。   That is, according to the present invention, an annular stamper for manufacturing an optical disk substrate, wherein the optical disk substrate is an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium having a plurality of recording layers, and a recording area of the optical disk substrate The thickness of the outer peripheral portion is made thicker than the thickness of the inner peripheral portion of the stamper so that the difference (Smax−Smin) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the substrate thickness is less than 10 μm. A stamper is provided that is characterized by

本発明が適用されるスタンパは、上述したように、内周部の厚さより外周部の厚さを大きくすることにより、これを取り付けた光ディスク基板製造用金型のキャビティ厚さを、光ディスク基板の外周部にあたる部分を予め薄くすることができる。その結果、金型から取り出された光ディスク基板が冷却される際に、冷却後の光ディスク基板の厚さを均一に保つことができる。尚、本発明において円環状とは、CDやDVD等のように、円盤形状であって円の中心から所定の長さの空洞部分が形成されている形状をいう。また、本発明において、「スタンパの内周部」とは、光ディスク基板の記録領域の最内周位置に対応したスタンパの半径位置をいう。一方、「スタンパの外周部」とは、光ディスク基板の記録領域の最外周位置に対応したスタンパの半径位置をいう。つまり、「スタンパの内周部」は、円環状のスタンパの最内周である必要は必ずしもない。同様に、「スタンパの外周部」は、円環状のスタンパの最外周である必要は必ずしもない。   As described above, the stamper to which the present invention is applied increases the thickness of the outer peripheral portion relative to the thickness of the inner peripheral portion. A portion corresponding to the outer peripheral portion can be thinned in advance. As a result, when the optical disk substrate taken out from the mold is cooled, the thickness of the cooled optical disk substrate can be kept uniform. In addition, in this invention, an annular shape means the shape which is a disk shape and the cavity part of predetermined length is formed from the center of a circle like CD and DVD. In the present invention, the “inner peripheral portion of the stamper” refers to a radial position of the stamper corresponding to the innermost peripheral position of the recording area of the optical disk substrate. On the other hand, the “outer peripheral portion of the stamper” refers to the radial position of the stamper corresponding to the outermost peripheral position of the recording area of the optical disk substrate. That is, the “inner peripheral portion of the stamper” does not necessarily need to be the innermost periphery of the annular stamper. Similarly, the “outer peripheral portion of the stamper” is not necessarily the outermost periphery of the annular stamper.

ここで、スタンパの外周部の厚さと内周部の厚さとの差が5μm以上であることが好ましい。また、スタンパの厚さが、内周部から外周部にかけて増大することが好ましい。
また、このようなスタンパを用いて成型した光ディスク基板は、基板の厚さ分布が、より高精度に制御されているので、例えば、記録密度を高めた2層以上の記録層を有する多層型光記録媒体に適用することができる。
Here, the difference between the thickness of the outer peripheral portion of the stamper and the thickness of the inner peripheral portion is preferably 5 μm or more. Further, it is preferable that the thickness of the stamper increases from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion.
In addition, since an optical disc substrate molded using such a stamper has a thickness distribution of the substrate controlled with higher accuracy, for example, a multi-layer type light having two or more recording layers with an increased recording density. It can be applied to a recording medium.

次に、本発明によれば、円環状の樹脂製光ディスク基板を成型するための金型であって、前記光ディスク基板が複数の記録層を有する多層型光記録媒体用の光ディスク基板であり、固定側金型コアと、光ディスク基板の外周端を形成するための外周リングと、外周リングを介して固定側金型コアと対向するように配置された可動側金型コアと、固定側金型コア又は可動側金型コアの金型面に取り付けられるスタンパと、を備え、スタンパは、光ディスク基板の記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満になるように、当該スタンパの内周部の厚さより外周部の厚さが厚く形成されていることを特徴とする金型が提供される。   Next, according to the present invention, there is provided a mold for molding an annular resin optical disk substrate, the optical disk substrate being an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium having a plurality of recording layers, and fixed. A side mold core, an outer ring for forming an outer peripheral edge of the optical disk substrate, a movable side mold core disposed so as to face the fixed side mold core via the outer ring, and a fixed side mold core Or a stamper attached to the mold surface of the movable mold core, and the stamper has a difference (Smax−) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the substrate thickness in the recording area of the optical disk substrate. A mold is provided in which the outer peripheral portion is thicker than the inner peripheral portion of the stamper so that (Smin) is less than 10 μm.

さらに、本発明によれば、固定側金型コア又は可動側金型コアの金型面にスタンパを装着した金型を使用して光ディスク基板を製造する方法であって、スタンパは、前記光ディスク基板が複数の記録層を有する多層型光記録媒体用の光ディスク基板であり、光ディスク基板の記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満になるように、当該スタンパの内周部の厚さより外周部の厚さが厚く形成されていることを特徴とする光ディスク基板の製造方法が提供される。   Furthermore, according to the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical disk substrate using a mold having a stamper mounted on a mold surface of a fixed mold core or a movable mold core, wherein the stamper is the optical disk substrate. Is an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium having a plurality of recording layers, and the difference (Smax−Smin) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the substrate thickness in the recording area of the optical disk substrate is There is provided an optical disc substrate manufacturing method characterized in that the outer peripheral portion is formed thicker than the inner peripheral portion of the stamper so as to be less than 10 μm.

本発明によれば、厚さ分布が均一な光ディスク基板が得られる。   According to the present invention, an optical disk substrate having a uniform thickness distribution can be obtained.

以下、本発明を実施するための最良の形態(実施の形態)について、図面に基づき説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、使用する図面は、本実施の形態を説明するために使用するものであり、実際の大きさを表すものではない。   Hereinafter, the best mode (embodiment) for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary. Also, the drawings used are used to describe the present embodiment and do not represent the actual size.

(光ディスク基板の製造に用いるスタンパ)
初めに、光ディスク基板の製造に用いるスタンパについて説明する。尚、本発明においては、「光ディスク基板の製造に用いるスタンパ」を単に「スタンパ」という場合がある。
図1は、本実施の形態が適用されるスタンパの一例を説明するための図である。図1(a)はスタンパの斜視図であり、図1(b)は、図1(a)における直線のA−A’断面の断面図である。図1(a)に示すように、スタンパ10は、内周孔12が形成された円環状の基体11から構成されている。尚、図示しないが、基体11の表面11aには、後述する原盤カッティング操作により所定のガラス原盤表面に形成された微細な凹凸パターンの反転パターンが転写されている。基体11を構成する材料は、通常、金属であり、好ましくはニッケルが用いられる。
(Stamper used for manufacturing optical disk substrates)
First, a stamper used for manufacturing an optical disk substrate will be described. In the present invention, “a stamper used for manufacturing an optical disk substrate” may be simply referred to as a “stamper”.
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a stamper to which the present embodiment is applied. FIG. 1A is a perspective view of the stamper, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 1A. As shown in FIG. 1A, the stamper 10 includes an annular base body 11 in which an inner peripheral hole 12 is formed. Although not shown, a reverse pattern of a fine concavo-convex pattern formed on the surface of a predetermined glass master by a master cutting operation described later is transferred to the surface 11 a of the base 11. The material constituting the substrate 11 is usually a metal, preferably nickel.

次に、図1(b)に示すように、スタンパ10の厚さは、円環状の基体11の半径方向に沿って、内周部13から外周部14にかけて増大している。ここで、図1(b)からわかるように、内周部13は、光ディスク基板の記録領域の最内周部分に対応する半径位置となる。一方、外周部14は、光ディスク基板の記録領域の最外周部分に対応する半径位置となる。   Next, as shown in FIG. 1B, the thickness of the stamper 10 increases from the inner peripheral portion 13 to the outer peripheral portion 14 along the radial direction of the annular base 11. Here, as can be seen from FIG. 1B, the inner peripheral portion 13 is a radial position corresponding to the innermost peripheral portion of the recording area of the optical disc substrate. On the other hand, the outer peripheral portion 14 is a radial position corresponding to the outermost peripheral portion of the recording area of the optical disk substrate.

本実施の形態においては、基体11の内周部13の厚さ(Tin)より、外周部14の厚さ(Tout)が大きく(Tin<Tout)なるように形成されている。具体的には、スタンパ10の外周部14の厚さ(Tout)と内周部13の厚さ(Tin)との差(Tout−Tin)は、通常、3μm以上、好ましくは、5μm以上である。但し、外周部14の厚さ(Tout)と内周部13の厚さ(Tin)との差(Tout−Tin)は、通常、25μm以下、好ましくは15μm以下、更に好ましくは10μm以下、更に好ましくは8μm以下である。 In the present embodiment, the thickness (T out ) of the outer peripheral portion 14 is larger than the thickness (T in ) of the inner peripheral portion 13 of the base 11 (T in <T out ). Specifically, the difference (T out -T in) the thickness of the peripheral portion 14 (T out) to the thickness of the inner peripheral portion 13 and (T in) of the stamper 10 is usually, 3 [mu] m or more, 5 μm or more. However, the difference in thickness of the peripheral portion 14 (T out) to the thickness of the inner peripheral portion 13 and (T in) (T out -T in) is generally, 25 [mu] m or less, preferably 15μm or less, more preferably 10μm Hereinafter, it is more preferably 8 μm or less.

本実施の形態が適用されるスタンパ10は、上述したように、基体11の内周部13の厚さ(Tin)より、外周部14の厚さ(Tout)が大きく(Tin<Tout)なるように形成されているため、これを取り付けた金型を用いて、記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満である光ディスク基板を製造することができる。 As described above, the stamper 10 to which the present exemplary embodiment is applied has a thickness (T out ) of the outer peripheral portion 14 larger than the thickness (T in ) of the inner peripheral portion 13 of the base 11 (T in <T out )), the difference (Smax−Smin) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the substrate thickness in the recording area is 10 μm by using the die attached thereto. It is possible to manufacture an optical disk substrate that is less than.

但し、上記(Tout−Tin)は、光ディスク基板の製造のサイクルタイムとの兼合いで決まる値である。つまり、サイクルタイムを比較的長く設定すると、ディスク基板の厚さ分布を良好にする(Tout−Tin)は比較的小さく設定することができる。一方、サイクルタイムを比較的短く設定すると、ディスク基板の厚さ分布を良好にする(Tout−Tin)は比較的大きく設定することが好ましい。従って、(Tout−Tin)を上記の具体的な数値範囲内に設定したとしても、サイクルタイムの設定によっては、ディスク基板の厚さ分布が良好にならない場合もある(例えば、後述する比較例2)。 However, the above (T out −T in ) is a value determined in consideration of the cycle time of manufacturing the optical disk substrate. That is, when the cycle time is set to be relatively long, the thickness distribution of the disk substrate (T out −T in ) can be set to be relatively small. On the other hand, when the cycle time is set to be relatively short, it is preferable to set the disk substrate thickness distribution (T out −T in ) to be relatively large. Therefore, even if (T out −T in ) is set within the above specific numerical range, the thickness distribution of the disk substrate may not be good depending on the setting of the cycle time (for example, comparison described later). Example 2).

上記のように、本発明においては、(Tout−Tin)と、光ディスク基板の製造のサイクルタイムと、の兼合いで光ディスク基板の厚さ分布が決まる。これは、生産効率を上げるためにサイクルタイムを従来よりも短くすると、光ディスク基板の内径に近い領域の樹脂が未硬化の状態で金型から取り出されることによると考えられる。 As described above, in the present invention, the thickness distribution of the optical disk substrate is determined by the balance between (T out −T in ) and the cycle time of manufacturing the optical disk substrate. This is considered to be because if the cycle time is made shorter than before in order to increase production efficiency, the resin in the region near the inner diameter of the optical disk substrate is taken out from the mold in an uncured state.

つまり、光ディスク基板の内径に近い領域の樹脂は、金型から取り出した後に室温(25℃程度)下で急冷されて硬化する。このため、内径側の樹脂は大きく収縮する。一方、外径に近い領域の樹脂は、金型内部で比較的十分に冷却された状態にある。このため、外径側の樹脂の収縮は小さくなる。この結果、金型内部で比較的十分に冷却された外径付近の樹脂と、冷却が不十分であった内径付近の樹脂と、の間で収縮の違いが発生する。サイクルタイムを比較的短く設定すると、光ディスク基板を金型から取り出した後の、内径側の樹脂の収縮は大きくなるために、スタンパの(Tout−Tin)を大きめに設定することが好ましい。一方、サイクルタイムを比較的長く設定すると、上記サイクルタイムが短い場合と比較して、光ディスク基板を金型から取り出した後の、内径側の樹脂の収縮は小さくなる。従って、スタンパの(Tout−Tin)を小さめに設定しても、光ディスク基板の厚さの均一性を確保することがしやすくなる。 That is, the resin in the region close to the inner diameter of the optical disk substrate is hardened by being rapidly cooled at room temperature (about 25 ° C.) after being taken out from the mold. For this reason, the resin on the inner diameter side contracts greatly. On the other hand, the resin in the region close to the outer diameter is in a sufficiently cooled state inside the mold. For this reason, the shrinkage of the resin on the outer diameter side is reduced. As a result, a difference in shrinkage occurs between the resin in the vicinity of the outer diameter that is relatively sufficiently cooled inside the mold and the resin in the vicinity of the inner diameter that has been insufficiently cooled. If the cycle time is set to be relatively short, the shrinkage of the resin on the inner diameter side after the optical disk substrate is taken out from the mold becomes large. Therefore, it is preferable to set the (T out -T in ) of the stamper to be large. On the other hand, when the cycle time is set to be relatively long, the shrinkage of the resin on the inner diameter side after the optical disk substrate is taken out from the mold becomes smaller than in the case where the cycle time is short. Therefore, even if the (T out -T in ) of the stamper is set to be small, it becomes easy to ensure the uniformity of the thickness of the optical disk substrate.

例えば、通常、厚さ0.6mmのDVD用ディスク基板を成型する場合、生産性向上のために、基板成型時のサイクルタイムを短くしていくと、成型された基板の厚さに10μm程度の分布が生じることが多くなることが判明した。そして、このような厚さ分布の存在は、スタンパの外周部の厚さを、スタンパの内周部の厚さより6μm程度厚くすることにより解消される。   For example, usually, when a DVD disk substrate having a thickness of 0.6 mm is molded, if the cycle time at the time of molding the substrate is shortened in order to improve productivity, the thickness of the molded substrate is about 10 μm. It was found that the distribution often occurs. The existence of such a thickness distribution is eliminated by making the thickness of the outer peripheral portion of the stamper about 6 μm thicker than the thickness of the inner peripheral portion of the stamper.

ここで、本実施の形態において、内周部13と外周部14との間におけるスタンパ10の半径方向の厚さは、内周部13の厚さ(Tin)と外周部14の厚さ(Tout)との間の数値とすればよい。即ち、スタンパ10の厚さを、半径方向に沿って、内周部13から外周部14にかけて増大するように任意に変化させることができる。図1(b)に示すように、スタンパ10の厚さは、円環状の基体11の半径方向に沿って、内周部13から外周部14にかけて直線的に増大させているが、本実施の形態においては、このような態様に限られるものではない。例えば、内周部13から外周部14にかけて曲線を描くように、スタンパ10の厚さを徐々に増大させてもよい。 Here, in the present embodiment, the radial thickness of the stamper 10 between the inner peripheral portion 13 and the outer peripheral portion 14 is the thickness (T in ) of the inner peripheral portion 13 and the thickness of the outer peripheral portion 14 ( It may be a numerical value between T out ). That is, the thickness of the stamper 10 can be arbitrarily changed so as to increase from the inner peripheral portion 13 to the outer peripheral portion 14 along the radial direction. As shown in FIG. 1B, the thickness of the stamper 10 is increased linearly from the inner peripheral portion 13 to the outer peripheral portion 14 along the radial direction of the annular base body 11, The form is not limited to such an aspect. For example, the thickness of the stamper 10 may be gradually increased so as to draw a curve from the inner peripheral portion 13 to the outer peripheral portion 14.

本実施の形態においては、スタンパ10の厚さを、内周部13から外周部14にかけて直線的に増大するようにしたが、例えば、2次曲線を描くように厚さが増大する形状とすれば、得られる光ディスク基板の平坦性がさらに確保できると考えられる。従って、スタンパ10の厚さ分布は、光ディスク基板を成型する場合に用いる樹脂の熱特性、光ディスク基板を成型する際のサイクルタイム(生産効率)等の製造条件を考慮して決めればよい。   In the present embodiment, the thickness of the stamper 10 is linearly increased from the inner peripheral portion 13 to the outer peripheral portion 14. However, for example, the thickness of the stamper 10 is increased to draw a quadratic curve. Thus, it is considered that the flatness of the obtained optical disk substrate can be further ensured. Therefore, the thickness distribution of the stamper 10 may be determined in consideration of manufacturing conditions such as the thermal characteristics of the resin used when molding the optical disk substrate and the cycle time (production efficiency) when molding the optical disk substrate.

尚、本実施の形態において、スタンパ10の厚さが「直線的に増大する」という場合は、完全に直線的(一次関数的)に増大する場合のみに限定されない。スタンパ10の厚さを、完全に直線的に増大させることは、工業的には非常に困難であるので、例えば、直線的な増大からずれた場合においても、このずれが不可避的に発生する誤差の範囲内であるならば、「直線的に増大する」に含まれるものとする。   In the present embodiment, the case where the thickness of the stamper 10 “increases linearly” is not limited to the case where it increases completely linearly (linear function). It is very difficult industrially to increase the thickness of the stamper 10 completely linearly. For example, even if the thickness of the stamper 10 deviates from the linear increase, an error that inevitably causes this deviation. If it is within the range, it shall be included in “linearly increases”.

また、本実施の形態では、スタンパの最内周15のスタンパの厚さを最も薄く、スタンパの最外周16のスタンパの厚さを最も厚くしている(図1(b))。しかし、本発明においては、光ディスクの記録領域に対応する光ディスク基板の平坦性を向上させることを目的とし、スタンパの内周部13の厚さより外周部14の厚さを厚く形成する。このため、内周部13よりも内径側におけるスタンパの厚さは、任意に設定することができる。同様に、外周部14よりも外周側におけるスタンパの厚さも、任意に設定することができる。従って、例えば、内周部13よりも内径側、及び外周部14よりも外径側においては、スタンパの厚さを一定としてもよい。また、例えば、内周部13よりも内径側においては、スタンパの最内周に向かうにつれ、スタンパの厚さを徐々に厚くしてもよい。さらに、例えば、外周部14よりも外径側においては、スタンパの最外周に向かうにつれ、スタンパの厚さを徐々に薄くしてもよい。   In the present embodiment, the stamper at the innermost periphery 15 of the stamper has the smallest thickness, and the stamper at the outermost periphery 16 of the stamper has the largest thickness (FIG. 1B). However, in the present invention, for the purpose of improving the flatness of the optical disk substrate corresponding to the recording area of the optical disk, the outer peripheral portion 14 is formed thicker than the inner peripheral portion 13 of the stamper. For this reason, the thickness of the stamper on the inner diameter side with respect to the inner peripheral portion 13 can be arbitrarily set. Similarly, the thickness of the stamper on the outer peripheral side of the outer peripheral portion 14 can also be set arbitrarily. Therefore, for example, the stamper thickness may be constant on the inner diameter side of the inner peripheral portion 13 and on the outer diameter side of the outer peripheral portion 14. Further, for example, the thickness of the stamper may be gradually increased toward the innermost periphery of the stamper on the inner diameter side of the inner peripheral portion 13. Further, for example, on the outer diameter side of the outer peripheral portion 14, the stamper thickness may be gradually reduced toward the outermost periphery of the stamper.

(光ディスク基板の製造に用いるスタンパの製造方法)
次に、スタンパの製造方法について説明する。
本実施の形態が適用されるスタンパは、例えば、次のような方法で製造される。初めに、表面研磨したガラス基板にレジストを塗布する。そして、レーザーカッティングマシーンで所望のパターンに露光する。その後、レジストを現像して、ピット/グルーブが形成されたレジスト原盤を調製する。
(Manufacturing method of stamper used for manufacturing optical disk substrate)
Next, a stamper manufacturing method will be described.
The stamper to which this embodiment is applied is manufactured by the following method, for example. First, a resist is applied to a surface-polished glass substrate. Then, a desired pattern is exposed by a laser cutting machine. Thereafter, the resist is developed to prepare a resist master on which pits / grooves are formed.

次に、このレジスト原盤の表面上にニッケル等をスパッタし、ニッケル導電膜が形成されたスタンパ原盤を調製する。この後、電鋳工程によりニッケル膜を析出させて最終スタンパに近い厚さのスタンパ原盤を形成する。   Next, nickel or the like is sputtered on the surface of the resist master to prepare a stamper master on which a nickel conductive film is formed. Thereafter, a nickel film is deposited by an electroforming process to form a stamper master having a thickness close to the final stamper.

続いて、ニッケル膜をガラス基板より剥離し、剥離したニッケル膜表面に残ったレジストを溶剤により除去/洗浄し、次いで、ニッケル膜裏面を研磨・洗浄し、最後に内周部・外周部を加工してスタンパを調製する。   Subsequently, the nickel film is peeled off from the glass substrate, the resist remaining on the surface of the peeled nickel film is removed / washed with a solvent, the back surface of the nickel film is then polished and washed, and finally the inner and outer peripheral parts are processed. To prepare a stamper.

本実施の形態が適用されるスタンパの製造方法において、スタンパの内周部の厚さより、外周部の厚さを大きくする手法として、例えば、以下のような方法を用いることができる。
即ち、前述した電鋳工程において、ニッケル導電膜が形成されたスタンパ原盤表面にニッケルを析出させる際に、電鋳層内のシールドの形状を工夫する等により、スタンパの内周側と外周側とにおけるニッケル金属の堆積速度を変化させる手法が挙げられる。即ち、ニッケル金属の堆積速度を変更することにより、光ディスク基板の内周部に対応するニッケル膜の膜厚が薄くなるように堆積させ、光ディスク基板の外周部に対応するニッケル膜の膜厚が厚くなるように堆積させることができる。
In the stamper manufacturing method to which the present embodiment is applied, for example, the following method can be used as a method for increasing the thickness of the outer peripheral portion than the thickness of the inner peripheral portion of the stamper.
That is, in the electroforming process described above, when nickel is deposited on the surface of the stamper master on which the nickel conductive film is formed, the shape of the shield in the electroformed layer is devised, etc. There is a method of changing the deposition rate of nickel metal. That is, by changing the deposition rate of nickel metal, the nickel film corresponding to the inner peripheral portion of the optical disk substrate is deposited to be thin, and the nickel film corresponding to the outer peripheral portion of the optical disk substrate is increased. Can be deposited.

尚、本実施の形態が適用されるスタンパの他の製造方法としては、例えば、前述した電鋳工程において、ニッケル導電膜が形成されたスタンパ原盤表面に目標よりも厚さが大きいニッケル膜を形成し、その後、研磨操作により、スタンパの内周側と外周側との研磨量を調整することにより、目的の厚さ分布を有するスタンパを製造することができる。   As another method for manufacturing the stamper to which the present embodiment is applied, for example, in the electroforming process described above, a nickel film having a thickness larger than the target is formed on the stamper master surface on which the nickel conductive film is formed. Thereafter, the stamper having the desired thickness distribution can be manufactured by adjusting the polishing amount between the inner peripheral side and the outer peripheral side of the stamper by a polishing operation.

(光ディスク基板の製造に用いる金型)
次に、光ディスク基板の製造に用いる金型について説明する。尚、本発明においては、「光ディスク基板の製造に用いる金型」を単に「金型」という場合がある。
図2は、本実施の形態が適用される光ディスク基板用金型の一例を説明するための図である。図2には、片面にフォーマットを有する光ディスク基板を成型するための金型20が示されている。図2に示された金型20は、円環状の樹脂製の光ディスク基板を成型するための金型であって、固定側金型コア28と、成型される光ディスク基板の外周端を形成するための外周リング23と、外周リング23を介して固定側金型コア28と対向するように配置された可動側金型コア21と、を有している。さらに、固定側金型コア28の金型面には、光ディスク基板の製造に用いるスタンパであるニッケル製のスタンパ25が取り付けられている。
(Mold used for manufacturing optical disk substrate)
Next, the metal mold | die used for manufacture of an optical disk board | substrate is demonstrated. In the present invention, the “mold used for manufacturing the optical disk substrate” may be simply referred to as “mold”.
FIG. 2 is a diagram for explaining an example of an optical disk substrate mold to which the present embodiment is applied. FIG. 2 shows a mold 20 for molding an optical disk substrate having a format on one side. A mold 20 shown in FIG. 2 is a mold for molding an annular resin optical disk substrate, and forms a fixed mold core 28 and an outer peripheral end of the molded optical disk substrate. The outer peripheral ring 23 and the movable mold core 21 disposed so as to face the fixed mold core 28 with the outer peripheral ring 23 interposed therebetween. Further, a nickel stamper 25 which is a stamper used for manufacturing an optical disk substrate is attached to the mold surface of the fixed mold core 28.

図2に示すように、金型20には、固定側金型コア28に装着されたスタンパ25の表面と、可動側金型コア21の表面と、外周リング23とによって、溶融樹脂が充填される空間であるキャビティ29が構成されている。ここで、図2からわかるように、本発明における「金型面」とは、固定側金型コア28及び可動側金型コア21のそれぞれにおける、キャビティ29内で対向し合う面をいう。   As shown in FIG. 2, the mold 20 is filled with molten resin by the surface of the stamper 25 attached to the fixed mold core 28, the surface of the movable mold core 21, and the outer peripheral ring 23. A cavity 29 which is a space to be stored is configured. Here, as can be seen from FIG. 2, the “mold surface” in the present invention refers to surfaces facing each other in the cavity 29 in the fixed mold core 28 and the movable mold core 21.

固定側金型コア28は、溶融された樹脂が流入する樹脂流動経路30を形成するスプルブッシュ26と、スタンパ25を固定側金型コア28に取り付けるための固定側スタンパ内周押さえ27とを有している。可動側金型コア21は、ゲートカットを行うカットパンチ22と、カットパンチ22の中心に設けられた突き出しピン31とを有している。また、スタンパ25の表面と外周リング23との間隔を一定に保つための外周リングストッパー24が取り付けられている。外周リングストッパー24を用いることにより、スタンパ25の厚さが大きくなっても、スタンパ25と外周リング23との接触を防ぐことができる。   The fixed-side mold core 28 has a sprue bush 26 that forms a resin flow path 30 through which molten resin flows, and a fixed-side stamper inner circumferential presser 27 for attaching the stamper 25 to the fixed-side mold core 28. is doing. The movable mold core 21 has a cut punch 22 that performs gate cutting, and a protruding pin 31 provided at the center of the cut punch 22. In addition, an outer peripheral ring stopper 24 for keeping a constant distance between the surface of the stamper 25 and the outer peripheral ring 23 is attached. By using the outer peripheral ring stopper 24, contact between the stamper 25 and the outer peripheral ring 23 can be prevented even when the stamper 25 is thick.

ここで、固定側金型コア28に取り付けられたスタンパ25は、スタンパ25の内周部の厚さより外周部の厚さが大きい形状を有している。このような厚さに分布を有するスタンパ25を用いて、予め、幅に分布を持たせたキャビティ29に溶融樹脂を注入充填し、厚さ分布が改善された光ディスク基板を成形することができる。   Here, the stamper 25 attached to the fixed mold core 28 has a shape in which the thickness of the outer peripheral portion is larger than the thickness of the inner peripheral portion of the stamper 25. Using the stamper 25 having such a thickness distribution, an optical disk substrate having an improved thickness distribution can be formed by injecting and filling molten resin into a cavity 29 having a distribution in width in advance.

尚、本実施の形態が適用される金型20は、図2に示すように、片面にフォーマットを有する光ディスク基板を成型するために、固定側金型コア28側の金型面にのみスタンパ25が設けられている。ここで、両面にフォーマットを有する光ディスク基板を成型する場合には、可動側金型コア21側の金型面にもスタンパ(図示せず)を可動側スタンパ内周押さえ(図示せず)を用いて装着すればよい。この場合、使用するスタンパは、上述したような内周部と外周部とで厚さが異なるスタンパであってもよいし、厚さが一定であるスタンパであってもよい。   As shown in FIG. 2, the mold 20 to which the present embodiment is applied is a stamper 25 only on the mold surface on the fixed mold core 28 side in order to mold an optical disk substrate having a format on one side. Is provided. Here, when an optical disk substrate having a format on both sides is molded, a stamper (not shown) is also used on the mold surface on the movable mold core 21 side, and a movable-side stamper inner peripheral presser (not shown) is used. You can install it. In this case, the stamper to be used may be a stamper having a different thickness between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion as described above, or may be a stamper having a constant thickness.

また、図2では外周リング23と可動側金型コア21とは別体として構成されているが、例えば外周リング23と可動側金型コア21とを一体化してもよい。   In FIG. 2, the outer ring 23 and the movable mold core 21 are configured as separate bodies. However, for example, the outer ring 23 and the movable mold core 21 may be integrated.

(光ディスク基板の製造方法)
次に、光ディスク基板の製造に用いる金型20を用いて光ディスク基板を製造する方法の一例について説明する。
初めに、金型20の金型温度を約100℃〜140℃に設定した後、可動側金型コア21と固定側金型コア28とを閉じ、スプルブッシュ26の樹脂流動経路30を通じて、約300℃〜400℃の溶融樹脂をキャビティ29へ約0.5秒以内で充填させ、カットパンチ22を前進させゲートカットを行うとともに、成形された樹脂の中央部を打ち抜き開口部を形成する。
(Manufacturing method of optical disk substrate)
Next, an example of a method for manufacturing an optical disk substrate using the mold 20 used for manufacturing the optical disk substrate will be described.
First, after setting the mold temperature of the mold 20 to about 100 ° C. to 140 ° C., the movable mold core 21 and the fixed mold core 28 are closed, and the resin flow path 30 of the sprue bush 26 is passed through the resin flow path 30. A molten resin at 300 ° C. to 400 ° C. is filled into the cavity 29 within about 0.5 seconds, the cut punch 22 is advanced to perform gate cutting, and a central portion of the molded resin is punched to form an opening.

ここで、樹脂溶融温度は、用いる合成樹脂によって所定の温度とすればよい。例えば、光ディスク基板の材料がポリカーボネート樹脂である場合は、樹脂溶融温度は、通常300℃以上、400℃以下、好ましくは350℃以上、400℃以下に設定する。基板を構成する合成樹脂としては、ポリカーボネート樹脂の他、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、液晶ポリマー樹脂等が使用される。   Here, the resin melting temperature may be a predetermined temperature depending on the synthetic resin used. For example, when the material of the optical disk substrate is polycarbonate resin, the resin melting temperature is usually set to 300 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, preferably 350 ° C. or higher and 400 ° C. or lower. As a synthetic resin constituting the substrate, an acrylic resin, a polystyrene resin, a polyolefin resin, a liquid crystal polymer resin, and the like are used in addition to a polycarbonate resin.

スタンパ25の情報は、所定の型締め圧力を用いて樹脂に転写される。ここで、基板成型面の型締力は、通常、20トン以上、好ましくは30トン以上、一方、通常60トン以下、好ましくは40トン以下となるように制御される。
その後、金型20を冷却し、キャビティ29内に基板を成形する。基板を成形した後、可動側金型コア21の型開きを行う。その際、スタンパ25は基板と離型される。可動側金型コア21に残った基板は、別途設けられた排出装置(図示せず)によって取り出される。
Information on the stamper 25 is transferred to the resin using a predetermined clamping pressure. Here, the mold clamping force of the substrate molding surface is usually controlled to be 20 tons or more, preferably 30 tons or more, and usually 60 tons or less, preferably 40 tons or less.
Thereafter, the mold 20 is cooled, and a substrate is formed in the cavity 29. After the substrate is molded, the movable mold core 21 is opened. At that time, the stamper 25 is released from the substrate. The substrate remaining on the movable mold core 21 is taken out by a discharge device (not shown) provided separately.

これらの一連の動作は、通常10秒以下で行われるが、本実施の形態においては、生産性向上の観点から、好ましくは5秒以下と設定し、さらに好ましくは4秒以下と設定する。これらの一連の動作に要する時間は短い方が好ましいが、現実的には、少なくとも3秒程度の時間は必要となる。
また、カットパンチ22には、樹脂流動経路30を通じて充填され、打ち抜かれた樹脂の残余が付着しているが、この残余樹脂は型開きに伴って固定側金型コア28より引き抜かれ、その後、カットパンチ22の中心に配置された突き出しピン31を前進させることによりカットパンチ22より取り出される。
These series of operations are normally performed in 10 seconds or less, but in this embodiment, from the viewpoint of improving productivity, it is preferably set to 5 seconds or less, and more preferably set to 4 seconds or less. Although it is preferable that the time required for these series of operations is short, in practice, a time of at least about 3 seconds is required.
Further, the cut punch 22 is filled with the residue of the resin filled and punched through the resin flow path 30, but this residual resin is pulled out from the fixed mold core 28 as the mold is opened. The protrusion pin 31 disposed at the center of the cut punch 22 is moved forward to be taken out from the cut punch 22.

ここで、金型温度を比較的高くする事が好ましい。金型温度を比較的高くする事により、基板全体の冷却速度が遅くなり、基板の外周部端面付近において厚肉部が形成されにくくなる。ただし、金型温度を高くすると基板の機械特性が低下する傾向がある。好ましい金型温度は100℃〜140℃である。   Here, it is preferable that the mold temperature is relatively high. By making the mold temperature relatively high, the cooling rate of the entire substrate is slowed down, and it is difficult to form a thick portion near the end surface of the outer peripheral portion of the substrate. However, when the mold temperature is increased, the mechanical properties of the substrate tend to deteriorate. A preferable mold temperature is 100 ° C to 140 ° C.

尚、上述した金型20を用いて成形される基板の形状は、中心に円形の開口部を有する合成樹脂製の円環状である。基板の直径および開口部の直径は、規格に応じて設定される。   In addition, the shape of the board | substrate shape | molded using the metal mold | die 20 mentioned above is an annular | circular shape made from a synthetic resin which has a circular opening part in the center. The diameter of the substrate and the diameter of the opening are set according to the standard.

本実施の形態が適用される金型20を用いて製造された光ディスク基板は、所定の平坦性を有することが求められる。具体的には、所定の測定装置を用いて測定された光ディスク基板の記録領域における基板の厚さにおいて、記録領域の内周部から外周部までの厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満、好ましくは8μm以下、より好ましくは6μm以下になることが必要である。(Smax−Smin)が上述した範囲内である光ディスク基板を有する光記録媒体は、信号特性が良好となる。(Smax−Smin)の下限値は、理想的には0μm(光ディスク基板の厚さが完全に均一となる。)である。   The optical disk substrate manufactured using the mold 20 to which this embodiment is applied is required to have a predetermined flatness. Specifically, with respect to the thickness of the substrate in the recording area of the optical disk substrate measured using a predetermined measuring device, the maximum value (Smax) and the minimum value (Smax) of the thickness from the inner peripheral part to the outer peripheral part of the recording area ( The difference (Smax−Smin) from Smin is required to be less than 10 μm, preferably 8 μm or less, more preferably 6 μm or less. An optical recording medium having an optical disk substrate in which (Smax−Smin) is within the above-described range has good signal characteristics. The lower limit value of (Smax−Smin) is ideally 0 μm (the thickness of the optical disc substrate is completely uniform).

(多層型光記録媒体)
本実施の形態が適用される光ディスク基板の製造に用いる金型によって製造された光ディスク基板は、記録領域の厚さ分布が改善され平坦性が高められている。このため、本発明によって得られる光ディスク用基板は、単一の記録層を有する単層型の記録媒体と比べ、より高い平坦性の精度が求められる多層型光記録媒体用の光ディスク基板として好ましく用いられる。本発明によれば、このような高精度の光ディスク基板を、生産性を高めて効率よく製造することができる。
ここで、多層型光記録媒体とは、一枚の媒体に複数の記録層を有する光記録媒体のことであり、記録層の層数は2以上である。記録層の層数は通常10以下、好ましくは7以下、更に好ましくは5以下である。
(Multilayer type optical recording medium)
An optical disk substrate manufactured by a mold used for manufacturing an optical disk substrate to which the present embodiment is applied has improved thickness distribution in the recording area and enhanced flatness. Therefore, the optical disk substrate obtained by the present invention is preferably used as an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium that requires higher flatness accuracy than a single-layer recording medium having a single recording layer. It is done. According to the present invention, such a high-precision optical disk substrate can be efficiently manufactured with increased productivity.
Here, the multilayer optical recording medium is an optical recording medium having a plurality of recording layers on one medium, and the number of recording layers is two or more. The number of recording layers is usually 10 or less, preferably 7 or less, more preferably 5 or less.

次に、多層型光記録媒体について説明する。多層型光記録媒体としては、例えば、記録層及び反射層を積層したディスク基板を2枚形成し、光硬化性樹脂層を介して貼着された貼着型の2層型光記録媒体と、透明スタンパを用いる2P(Photo Polymerization)法により形成される2層型光記録媒体とが知られている。ここではまず、貼着型の2層型光記録媒体について説明する。   Next, a multilayer optical recording medium will be described. As the multilayer optical recording medium, for example, a two-layer optical recording medium of a sticking type in which two disk substrates on which a recording layer and a reflective layer are laminated is formed and pasted through a photocurable resin layer; A two-layer type optical recording medium formed by a 2P (Photo Polymerization) method using a transparent stamper is known. Here, a sticking type two-layer optical recording medium will be described first.

図3は、多層型光記録媒体の一例を説明するための図である。図3には、透明基板上に反射層及び記録層を積層したディスク基板(逆積層体111)と、透明基板上に記録層及び反射層を順次積層したディスク基板(正積層体112)と、からなる2層型の光記録媒体100が示されている。   FIG. 3 is a diagram for explaining an example of a multilayer optical recording medium. In FIG. 3, a disk substrate (reverse laminate 111) in which a reflective layer and a recording layer are laminated on a transparent substrate, a disk substrate (normal laminate 112) in which a recording layer and a reflective layer are sequentially laminated on a transparent substrate, A two-layer optical recording medium 100 is shown.

図3に示すように、光記録媒体100は、逆積層体111として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板(1)101と、この基板(1)101のレーザ光110の入射面側に設けられた反射層(1)102と、色素を含む記録層(1)103と、中間層104と、を有している。また、正積層体112として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板(2)109と、基板(2)109上に設けられた色素を含む記録層(2)108と、基板(2)109側から入射したレーザ光110のパワーを振り分ける半透明の反射層(2)107と、反射層(2)107上に設けられた保護コート層106と、を有する。そして、逆積層体111と正積層体112とは、中間層104と保護コート層106とが対向するように、透明樹脂層105を介して積層され、2層型の光記録媒体100を構成している。また、記録層(1)103及び記録層(2)108は、正積層体112の基板(2)109側から入射したレーザ光110により、光情報の記録再生が行われる。   As shown in FIG. 3, the optical recording medium 100 includes a disc-shaped light-transmitting substrate (1) 101 in which grooves and lands or prepits are formed as an inverse laminated body 111, and a laser of the substrate (1) 101. It has a reflective layer (1) 102 provided on the incident surface side of the light 110, a recording layer (1) 103 containing a dye, and an intermediate layer 104. Further, as the regular laminate 112, a disc-shaped light-transmitting substrate (2) 109 having grooves and lands or pre-pits, and a recording layer (2) 108 containing a dye provided on the substrate (2) 109 are used. And a translucent reflective layer (2) 107 that distributes the power of the laser light 110 incident from the substrate (2) 109 side, and a protective coating layer 106 provided on the reflective layer (2) 107. The reverse laminated body 111 and the normal laminated body 112 are laminated via the transparent resin layer 105 so that the intermediate layer 104 and the protective coat layer 106 face each other, thereby constituting a two-layer optical recording medium 100. ing. The recording layer (1) 103 and the recording layer (2) 108 are recorded and reproduced with optical information by the laser beam 110 incident from the substrate (2) 109 side of the positive laminate 112.

(逆積層体)
逆積層体111は、基板(1)101と、基板(1)101上に積層された反射層(1)102、記録層(1)103及び中間層104(以下、L1層ということがある。)とから構成される。
(Reverse laminate)
The inverse laminated body 111 may be referred to as a substrate (1) 101, a reflective layer (1) 102, a recording layer (1) 103, and an intermediate layer 104 (hereinafter referred to as L1 layer) laminated on the substrate (1) 101. ).

(基板(1))
基板(1)101を構成する材料は、射出成形が容易である等成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、光記録媒体100がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。このような材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、光学特性、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点からはポリカーボネートが好ましい。また、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。基板(1)101は、本発明の光ディスク基板の製造方法によって得られるものである。
(Substrate (1))
It is desirable that the material constituting the substrate (1) 101 is excellent in moldability, such as easy injection molding. Furthermore, it is desirable that the hygroscopicity is small. Furthermore, it is desirable to provide shape stability so that the optical recording medium 100 has a certain degree of rigidity. Such a material is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonate resins, polyolefin resins (particularly amorphous polyolefins), polyester resins, polystyrene resins, epoxy resins, and the like. Among these, polycarbonate is preferable from the viewpoints of high productivity such as optical characteristics and moldability, cost, low hygroscopicity, and shape stability. Amorphous polyolefin is preferred from the standpoints of chemical resistance and low hygroscopicity. The substrate (1) 101 is obtained by the method for manufacturing an optical disk substrate of the present invention.

(反射層(1))
逆積層体111の反射層(1)102を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、希土類金属等の金属及び半金属を単独または合金にして用いることが可能である。これらの中でも、Au、Al、Agが好ましく、特に、Agを50%以上含有する金属材料はコストが安い点、反射率が高い点から好ましい。
(Reflective layer (1))
The material constituting the reflective layer (1) 102 of the reverse laminated body 111 is not particularly limited. For example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Pd, Mg, Se, Hf , V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, rare earth metals, and the like It is possible to use the metal alone or as an alloy. Among these, Au, Al, and Ag are preferable, and a metal material containing 50% or more of Ag is particularly preferable from the viewpoint of low cost and high reflectance.

また、Agを主成分とし、Ti、Zn、Cu、Pd、Au及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を0.1原子%〜15原子%含有することが好ましい。Ti、Bi、Zn、Cu、Pd、Au及び希土類金属のうち2種以上の元素を含む場合は、各々の含有量を0.1原子%〜15原子%としてもかまわないが、それらの合計含有量が0.1原子%〜15原子%であることが好ましい。
反射層(1)102を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
Moreover, it is preferable to contain 0.1 atomic% to 15 atomic% of at least one element selected from the group consisting of Ag, Ti, Zn, Cu, Pd, Au, and rare earth metals. When two or more elements are included among Ti, Bi, Zn, Cu, Pd, Au, and rare earth metals, each content may be 0.1 atomic% to 15 atomic%, but the total content thereof It is preferable that the amount is 0.1 atomic% to 15 atomic%.
Examples of the method for forming the reflective layer (1) 102 include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition.

逆積層体111における反射層(1)102は、高反射率、かつ高耐久性であることが望ましい。高反射率を確保するために、反射層(1)102の厚さは、通常、30nm以上、好ましくは、40nm以上、更に好ましくは50nm以上である。但し、生産上のタクトタイムを短縮しコストを低減するためには、通常、400nm以下、好ましくは300nm以下である。   It is desirable that the reflective layer (1) 102 in the reverse laminated body 111 has high reflectivity and high durability. In order to ensure a high reflectance, the thickness of the reflective layer (1) 102 is usually 30 nm or more, preferably 40 nm or more, and more preferably 50 nm or more. However, in order to shorten the production tact time and reduce the cost, it is usually 400 nm or less, preferably 300 nm or less.

(記録層(1))
逆積層体111における記録層(1)103は、通常、例えば、CD−R、DVD−R、DVD+R等の片面型記録媒体に用いられる記録層と同程度の感度の色素を含有する。このような色素は、350nm〜900nm程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λmaxを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。中でも、通常CD−Rに用いられるような波長770nm〜830nm程度の近赤外レーザ(例えば、780nm、830nm)、DVD−Rに用いられるような波長620nm〜690nm程度の赤色レーザ(例えば、635nm、660nm、680nm)、波長410nm又は515nm等のいわゆるブルーレーザ等による記録に適する色素がより好ましい。尚、相変化型材料を使用することも可能である。
(Recording layer (1))
The recording layer (1) 103 in the reverse laminated body 111 usually contains a dye having the same sensitivity as that of a recording layer used in a single-sided recording medium such as CD-R, DVD-R, DVD + R, and the like. Such a dye is preferably a dye compound having a maximum absorption wavelength λmax in the visible light to near infrared region of about 350 nm to 900 nm and suitable for recording with a blue to near microwave laser. Among them, a near-infrared laser having a wavelength of about 770 nm to 830 nm (for example, 780 nm and 830 nm) used for a normal CD-R, and a red laser having a wavelength of about 620 nm to 690 nm for a DVD-R (for example, 635 nm, (660 nm, 680 nm), and a dye suitable for recording by a so-called blue laser or the like having a wavelength of 410 nm or 515 nm. It is also possible to use a phase change material.

記録層(1)103に使用される色素としては、特に限定されないが、通常、有機色素材料が使用される。有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素(フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等)、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素(シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等)、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。これらの中でも、含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性、耐光性に優れるため好ましい。これらの色素は1種又は2種以上混合して用いても良い。   Although it does not specifically limit as a pigment | dye used for the recording layer (1) 103, Usually, an organic pigment | dye material is used. Organic dye materials include, for example, macrocyclic azaannulene dyes (phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, etc.), pyromethene dyes, polymethine dyes (cyanine dyes, merocyanine dyes, squarylium dyes, etc.), anthraquinone dyes, azurenium And dyes containing metal, metal-containing azo dyes, metal-containing indoaniline dyes, and the like. Among these, metal-containing azo dyes are preferable because they are excellent in recording sensitivity and excellent in durability and light resistance. These dyes may be used alone or in combination.

記録層(1)103の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法等の湿式製膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が好ましい。   The film formation method of the recording layer (1) 103 is not particularly limited, but generally a thin film forming method generally performed such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or an immersion method is used. Although mentioned, a wet film-forming method such as a spin coat method is preferable from the viewpoint of mass productivity and cost. Moreover, the vacuum evaporation method is preferable from the point that a uniform recording layer is obtained.

逆積層体111の記録層(1)103の厚さは、通常、50nm以上、好ましくは、60nm以上であり、但し、通常、150nm以下、好ましくは、100nm以下である。記録層(1)103の厚さがこの範囲とすれば、充分な記録信号振幅を確保しつつ、感度の低下を抑制することができる。また、記録層(1)103の厚さが過度に大きいと、感度が低下する場合がある。   The thickness of the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 111 is usually 50 nm or more, preferably 60 nm or more, but usually 150 nm or less, preferably 100 nm or less. When the thickness of the recording layer (1) 103 is within this range, it is possible to suppress a decrease in sensitivity while ensuring a sufficient recording signal amplitude. Further, when the thickness of the recording layer (1) 103 is excessively large, the sensitivity may be lowered.

(中間層)
中間層104は、必要に応じて、逆積層体111に設けられる。一般的に、中間層104は、透明樹脂層105からしみ出る成分が記録層(1)103を汚濁または溶解することを防止するため、記録層(1)103と透明樹脂層105の間に設けられる。中間層104の厚さは、通常、1nm以上、好ましくは、2nm以上である。中間層104の厚さがこの範囲とすれば、透明樹脂層の105からしみ出る成分を効果的に抑制できる。但し、中間層104の厚さは、2000nm以下が好ましく、より好ましくは500nm以下である。中間層104の厚さがこの範囲とすれば、光の透過率の低下を防止できる。また、中間層104を無機物からなる層とする場合には、成膜に時間を要する場合があるので、生産性の低下を抑制し、膜応力が高くなることを良好な範囲にするために、200nm以下とすることが好ましい。特に、中間層104に金属を用いる場合は、光の透過率が過度に低下することを防止するために、中間層104の厚さを20nm以下とすることが好ましい。
(Middle layer)
The intermediate layer 104 is provided on the reverse stacked body 111 as necessary. In general, the intermediate layer 104 is provided between the recording layer (1) 103 and the transparent resin layer 105 in order to prevent components that ooze from the transparent resin layer 105 from contaminating or dissolving the recording layer (1) 103. It is done. The thickness of the intermediate layer 104 is usually 1 nm or more, preferably 2 nm or more. If the thickness of the intermediate layer 104 is within this range, the component that exudes from the transparent resin layer 105 can be effectively suppressed. However, the thickness of the intermediate layer 104 is preferably 2000 nm or less, and more preferably 500 nm or less. When the thickness of the intermediate layer 104 is within this range, it is possible to prevent a decrease in light transmittance. Further, in the case where the intermediate layer 104 is a layer made of an inorganic material, it may take time to form a film. Therefore, in order to suppress a decrease in productivity and increase the film stress in a favorable range, The thickness is preferably 200 nm or less. In particular, when a metal is used for the intermediate layer 104, the thickness of the intermediate layer 104 is preferably 20 nm or less in order to prevent the light transmittance from being excessively reduced.

中間層104を構成する材料としては、例えば、金属薄膜、酸化ケイ素、窒化ケイ素、MgF、SnO、ZnS−SnO等の誘電体が挙げられる。
尚、基板(1)101と記録層(1)103との間、基板(2)109と記録層(2)108との間、記録層(2)108と反射層(2)107との間等に、それぞれ中間層104と同様な材料からなる層を設けても良い。
Examples of the material constituting the intermediate layer 104 include dielectrics such as a metal thin film, silicon oxide, silicon nitride, MgF 2 , SnO 2 , and ZnS—SnO 2 .
Incidentally, between the substrate (1) 101 and the recording layer (1) 103, between the substrate (2) 109 and the recording layer (2) 108, and between the recording layer (2) 108 and the reflective layer (2) 107. Alternatively, a layer made of the same material as the intermediate layer 104 may be provided.

(透明樹脂層)
2層型の光記録媒体100における透明樹脂層105は、基板(2)109側から入射するレーザ光110が記録層(1)103に到達する程度の光透過性材料から構成される。透明樹脂層105を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂(遅延硬化型を含む)等を挙げることができる。透明樹脂層105を構成する材料は、これらの中から適宜選択される。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は、必要に応じて適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥(加熱)することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの材料は単独または混合して用いても良い。
(Transparent resin layer)
The transparent resin layer 105 in the two-layer optical recording medium 100 is made of a light-transmitting material that allows the laser light 110 incident from the substrate (2) 109 side to reach the recording layer (1) 103. Examples of the material constituting the transparent resin layer 105 include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, an ultraviolet curable resin (including a delayed curable type), and the like. The material which comprises the transparent resin layer 105 is suitably selected from these. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by dissolving in an appropriate solvent as necessary to prepare a coating solution, applying the solution, and drying (heating). The ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with ultraviolet light. These materials may be used alone or in combination.

透明樹脂層105を構成する材料の中でも、紫外線硬化性樹脂は、透明度が高く、硬化時間が短く製造上有利な点で好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂が挙げられ、いずれも使用することができる。ラジカル系紫外線硬化性樹脂は、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能(メタ)アクリレート及び多官能(メタ)アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または2種類以上併用して用いることができる。ここで、アクリレートとメタアクリレートとを併せて(メタ)アクリレートと称する。   Among the materials constituting the transparent resin layer 105, an ultraviolet curable resin is preferable because of its high transparency and a short curing time, which is advantageous in manufacturing. Examples of the ultraviolet curable resin include a radical ultraviolet curable resin and a cationic ultraviolet curable resin, both of which can be used. As the radical ultraviolet curable resin, a composition containing an ultraviolet curable compound and a photopolymerization initiator as essential components is used. As an ultraviolet curable compound, monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate can be used as a polymerizable monomer component. These can be used alone or in combination of two or more. Here, acrylate and methacrylate are collectively referred to as (meth) acrylate.

(正積層体)
光記録媒体100を構成する正積層体112は、記録再生光としてのレーザ光110の入射面を有する基板(2)109と、基板(2)109上に、記録層(2)108、反射層(2)107及び保護コート層106とが順次積層(以下、L0層ということがある。)されている。
正積層体112の基板(2)109は、逆積層体111の基板(1)101と同様な材料により構成される。但し、基板(2)109は、光透過性であることが必要である。基板(2)109は、本発明の光ディスク基板の製造方法によって得られるものである。
(Normal laminate)
The positive laminate 112 constituting the optical recording medium 100 includes a substrate (2) 109 having an incident surface of a laser beam 110 as recording / reproducing light, a recording layer (2) 108, and a reflective layer on the substrate (2) 109. (2) 107 and a protective coat layer 106 are sequentially laminated (hereinafter also referred to as L0 layer).
The substrate (2) 109 of the normal laminate 112 is made of the same material as the substrate (1) 101 of the reverse laminate 111. However, the substrate (2) 109 needs to be light transmissive. The substrate (2) 109 is obtained by the method for manufacturing an optical disk substrate of the present invention.

(記録層(2))
正積層体112の記録層(2)108には、逆積層体111の記録層(1)103と同様な色素が含有されている。正積層体112の記録層(2)108の厚さは、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、十分な変調度を得るために、通常、20nm以上、好ましくは30nm以上であり、特に好ましくは40nm以上である。但し、光を透過させる必要があるため、通常、200nm以下であり、好ましくは180nm以下、より好ましくは150nm以下である。
(Recording layer (2))
The recording layer (2) 108 of the normal laminate 112 contains the same dye as the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 111. The thickness of the recording layer (2) 108 of the positive laminate 112 is not particularly limited because the suitable film thickness varies depending on the recording method or the like, but is usually 20 nm or more, preferably 30 nm, in order to obtain a sufficient degree of modulation. It is above, Especially preferably, it is 40 nm or more. However, since it is necessary to transmit light, it is usually 200 nm or less, preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less.

(反射層(2))
正積層体112の反射層(2)107は、逆積層体111の反射層(1)102と同様な材料から構成されている。正積層体112の反射層(2)107は、基板(2)109側から入射する記録再生光であるレーザ光110の吸収が小さく、光透過率が、通常、40%以上あり、且つ、通常、30%以上の適度な光反射率を有する必要がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、反射層(2)107の上層(ここでは、透明樹脂層105)からしみ出る他の成分により、反射層(2)107の下層に位置する記録層(2)108が影響されないような遮断性を持つことが望ましい。
反射層(2)107の厚さは、通常40%以上の光透過率を確保するために、通常、50nm以下、好ましくは30nm以下、更に好ましくは25nm以下である。但し、記録層(2)108が反射層(2)107の上層からしみ出る成分により影響されないために、通常3nm以上、好ましくは5nm以上である。
(Reflective layer (2))
The reflective layer (2) 107 of the normal laminate 112 is made of the same material as the reflective layer (1) 102 of the reverse laminate 111. The reflective layer (2) 107 of the positive laminate 112 has a small absorption of the laser beam 110, which is recording / reproducing light incident from the substrate (2) 109 side, has a light transmittance of usually 40% or more, and is usually Therefore, it is necessary to have an appropriate light reflectance of 30% or more. For example, an appropriate transmittance can be provided by providing a thin metal with high reflectivity. Moreover, it is desirable that there is some degree of corrosion resistance. Furthermore, the recording layer (2) 108 positioned below the reflective layer (2) 107 is not affected by other components that ooze out from the upper layer (here, the transparent resin layer 105) of the reflective layer (2) 107. It is desirable to have sex.
The thickness of the reflective layer (2) 107 is usually 50 nm or less, preferably 30 nm or less, more preferably 25 nm or less in order to ensure a light transmittance of 40% or more. However, since the recording layer (2) 108 is not affected by the component exuding from the upper layer of the reflective layer (2) 107, it is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more.

(保護コート層)
正積層体112の保護コート層106は、反射層(2)107の酸化の防止、防塵又は防傷等を目的として、反射層(2)107の透明樹脂層105側に設けられている。保護コート層106の材料としては、反射層(2)107を保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、MgF2、SnO2等の誘電体が挙げられる。なかでも、紫外線硬化樹脂層を積層することが好ましい。尚、保護コート層106は、必ずしも設ける必要はなく、反射層(2)107に、直接透明樹脂層105を形成してもよい。
(Protective coat layer)
The protective coating layer 106 of the regular laminate 112 is provided on the transparent resin layer 105 side of the reflective layer (2) 107 for the purpose of preventing oxidation of the reflective layer (2) 107, and preventing dust or scratches. The material of the protective coat layer 106 is not particularly limited as long as it protects the reflective layer (2) 107. Examples of the material of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Examples of the inorganic substance include dielectric materials such as silicon oxide, silicon nitride, MgF2, and SnO2. Especially, it is preferable to laminate | stack an ultraviolet curable resin layer. The protective coat layer 106 is not necessarily provided, and the transparent resin layer 105 may be directly formed on the reflective layer (2) 107.

2層型の光記録媒体100の製造方法として、例えば、L1層を有する逆積層体111の上に、光透過性の樹脂Aを塗布し、一方、L0層を有する正積層体112の上に樹脂Bを塗布し、樹脂Aと樹脂Bとを接触させて硬化し、2層ディスクを調製する方法が挙げられる。   As a manufacturing method of the two-layer type optical recording medium 100, for example, the light transmissive resin A is applied on the reverse laminated body 111 having the L1 layer, and on the positive laminated body 112 having the L0 layer. There is a method in which resin B is applied, resin A and resin B are brought into contact with each other and cured to prepare a two-layer disc.

塗布方法としては、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられ、この中でもスピンコート法が好ましい。高粘度の樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、20℃〜40℃において液状であるものを用いることが好ましい。これは、溶媒を用いることなく塗布できるため生産性が良好となるからである。また、塗布液の粘度は20mPa・s〜1000mPa・sとなるように調製するのが好ましい。   As a coating method, a method such as a spin coating method or a casting method is used, and among these, the spin coating method is preferable. High-viscosity resin can also be applied and formed by screen printing or the like. As the ultraviolet curable resin, it is preferable to use a resin that is liquid at 20 ° C. to 40 ° C. This is because productivity can be improved because it can be applied without using a solvent. The viscosity of the coating solution is preferably adjusted to be 20 mPa · s to 1000 mPa · s.

尚、多層型光記録媒体としては、上記貼着型の2層型光記録媒体の他、透明スタンパを用いる2P法により形成される2層型光記録媒体が挙げられる。例えば、2P法では、第1の記録層及び第1の反射層が設けられた第1の基板上に、光硬化性樹脂原料を塗布し、この塗布面上に凹凸形状を有する透明スタンパを載置した後、光硬化性樹脂原料を硬化させ、次に透明スタンパを剥離して光硬化性樹脂の表面に凹凸を転写させ、さらにこの凹凸表面に、第2の記録層と第2の反射層とを順次に形成し、最後に第2の基板を接着することにより、2層型の光記録媒体を製造する。以下、2P法により形成される2層型光記録媒体について説明する。   Examples of the multilayer optical recording medium include a two-layer optical recording medium formed by the 2P method using a transparent stamper, in addition to the above-mentioned adhesive two-layer optical recording medium. For example, in the 2P method, a photocurable resin raw material is applied on a first substrate provided with a first recording layer and a first reflective layer, and a transparent stamper having an uneven shape is mounted on the coated surface. After setting, the photocurable resin raw material is cured, and then the transparent stamper is peeled off to transfer the irregularities onto the surface of the photocurable resin. Further, the second recording layer and the second reflective layer are formed on the irregular surface. Are sequentially formed, and finally a second substrate is bonded to manufacture a two-layer optical recording medium. Hereinafter, a two-layer optical recording medium formed by the 2P method will be described.

図4は2P法により形成される光記録媒体を示す模式的な断面図である。
2P法により形成される光記録媒体400は、ディスク状の透明な(光透過性の)第1基板(第1の基板)401上に、色素を含む第1記録層(第1の色素含有記録層)402、半透明の反射層(以下、半透明反射層という)403、透明樹脂層(中間層)404、色素を含む第2記録層(第2の色素含有記録層)405、反射層406、接着層407、第2基板(第2の基板)408をこの順に有してなる。光ビームは第1基板401側から照射され、記録・再生が行われる。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an optical recording medium formed by the 2P method.
An optical recording medium 400 formed by the 2P method includes a first recording layer containing a dye (first dye-containing recording) on a disk-shaped transparent (light-transmitting) first substrate (first substrate) 401. Layer) 402, a translucent reflective layer (hereinafter referred to as a translucent reflective layer) 403, a transparent resin layer (intermediate layer) 404, a second recording layer containing a dye (second dye-containing recording layer) 405, and a reflective layer 406 , An adhesive layer 407, and a second substrate (second substrate) 408 in this order. The light beam is irradiated from the first substrate 401 side, and recording / reproduction is performed.

次に、各層について説明する。
(1)第1基板401について
第1基板401は、前述した本発明の光ディスク基板の製造方法により得られる。材料に関しては、前述した貼着型の2層型光記録媒体の基板(2)109と同様である。
本光記録媒体400においては第1基板401の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック411とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は200nm〜500nm程度であり、溝深さは10nm〜250nm程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは0.1μm〜2.0μm程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
Next, each layer will be described.
(1) About the 1st board | substrate 401 The 1st board | substrate 401 is obtained by the manufacturing method of the optical disk substrate of this invention mentioned above. The material is the same as that of the substrate (2) 109 of the sticking type two-layer optical recording medium described above.
In the present optical recording medium 400, it is preferable that the groove portion of the first substrate 401, that is, the convex portion with respect to the light incident direction is the recording track 411. Here, a recessed part and a convex part say the recessed part and convex part with respect to the incident direction of light, respectively. Usually, the groove width is about 200 nm to 500 nm, and the groove depth is about 10 nm to 250 nm. When the recording track is spiral, the track pitch is preferably about 0.1 μm to 2.0 μm. In addition, it may have uneven pits such as land prepits as necessary.

(2)第1記録層402について
第1記録層402は、前述した貼着型の2層型光記録媒体100の逆積層体111の記録層(1)103と同様な材料が用いられる。第1記録層402の厚さは、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常5nm以上が好ましく、より好ましくは10nm以上であり、特に好ましくは20nm以上である。但し、本光記録媒体400においては適度に光を透過させるためには厚すぎない必要があるため、通常3μm以下であり、好ましくは1μm以下、より好ましくは200nm以下である。記録層の膜厚は通常、溝部とランド部で異なるが、本光記録媒体400において記録層の膜厚は基板の溝部における膜厚を言う。
第1記録層402の成膜方法としては、前述した貼着型の2層型光記録媒体100の逆積層体111の記録層(1)103と同様である。
(2) About the 1st recording layer 402 The 1st recording layer 402 uses the material similar to the recording layer (1) 103 of the reverse laminated body 111 of the sticking type | mold 2 layer type | mold optical recording medium 100 mentioned above. The thickness of the first recording layer 402 is not particularly limited because a suitable film thickness varies depending on the recording method or the like, but is usually preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more in order to obtain a sufficient degree of modulation. And particularly preferably 20 nm or more. However, in the present optical recording medium 400, since it is not necessary to be too thick in order to transmit light appropriately, it is usually 3 μm or less, preferably 1 μm or less, more preferably 200 nm or less. The film thickness of the recording layer is usually different between the groove part and the land part, but the film thickness of the recording layer in the optical recording medium 400 is the film thickness in the groove part of the substrate.
The film formation method of the first recording layer 402 is the same as that of the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 111 of the sticking-type two-layer optical recording medium 100 described above.

(3)半透明反射層403について
半透明反射層403は、前述した貼着型の2層型光記録媒体100の反射層(2)107と同様な材料、膜厚及び成膜方法が用いられる。
(3) Translucent Reflective Layer 403 The translucent reflective layer 403 is made of the same material, film thickness, and film formation method as those of the reflective layer (2) 107 of the above-mentioned sticking type two-layer optical recording medium 100. .

(4)透明樹脂層404について
透明樹脂層404は、第1基板401側から入射するレーザ光が第2記録層405に到達する程度の光透過性を有している必要があるほか、凹凸により溝やピットが形成可能である必要がある。また接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
そして、透明樹脂層404は、第2記録層405にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、透明樹脂層404は通常、樹脂からなるため第2記録層405と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。
(4) About the transparent resin layer 404 The transparent resin layer 404 needs to have a light transmittance that allows the laser light incident from the first substrate 401 side to reach the second recording layer 405. Grooves and pits must be able to be formed. Further, it is preferable that the adhesive strength is high and the shrinkage rate at the time of curing and bonding is small, the shape stability of the medium is high.
The transparent resin layer 404 is preferably made of a material that does not damage the second recording layer 405. However, since the transparent resin layer 404 is usually made of a resin, it is easily compatible with the second recording layer 405. In order to prevent this and prevent damage, it is desirable to provide a buffer layer described later between the two layers.

さらに、透明樹脂層404は、半透明反射層403にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることもできる。   Furthermore, the transparent resin layer 404 is preferably made of a material that does not damage the translucent reflective layer 403. However, in order to suppress damage, a buffer layer described later can be provided between both layers.

本光記録媒体400において、透明樹脂層404の膜厚は正確に制御することが好ましい。透明樹脂層404の膜厚は、通常5μm以上が好ましい。2層の記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常5μm以上、好ましくは10μm以上が必要である。一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但しあまり厚いと2層の記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、100μm以下が好ましい。   In the present optical recording medium 400, it is preferable to accurately control the film thickness of the transparent resin layer 404. The film thickness of the transparent resin layer 404 is usually preferably 5 μm or more. In order to separately apply focus servo to the two recording layers, it is necessary to have a certain distance between the two recording layers. Although it depends on the focus servo mechanism, it is usually required to be 5 μm or more, preferably 10 μm or more. In general, the higher the numerical aperture of the objective lens, the smaller the distance tends to be. However, if it is too thick, it takes time to adjust the focus servo to the two recording layers, and the moving distance of the objective lens becomes long, which is not preferable. Moreover, since there are problems such as requiring time for curing and lowering productivity, the thickness is usually preferably 100 μm or less.

透明樹脂層404には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び/又はランドを記録トラックとして、第2記録層405に情報が記録・再生される。通常、第2記録層405は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体400においては透明樹脂層404の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック412とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は200nm〜500nm程度であり、溝深さは10nm〜250nm程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは0.1μm〜2.0μm程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。   The transparent resin layer 404 is provided with irregularities in a spiral shape or a concentric shape to form grooves and lands. Normally, information is recorded / reproduced in / from the second recording layer 405 using such grooves and / or lands as recording tracks. Usually, since the second recording layer 405 is formed by coating, it becomes thick at the groove and is suitable for recording and reproduction. In the present optical recording medium 400, it is preferable that the groove of the transparent resin layer 404, that is, the convex portion with respect to the light incident direction is the recording track 412. Here, a recessed part and a convex part say the recessed part and convex part with respect to the incident direction of light, respectively. Usually, the groove width is about 200 nm to 500 nm, and the groove depth is about 10 nm to 250 nm. When the recording track is spiral, the track pitch is preferably about 0.1 μm to 2.0 μm. In addition, it may have uneven pits such as land prepits as necessary.

このような凹凸は、コストの観点から、凹凸を持つ樹脂スタンパ等から光硬化性樹脂などの硬化性樹脂に転写、硬化させて製造するのが好ましい。   From the viewpoint of cost, such irregularities are preferably produced by transferring and curing from a resin stamper having irregularities to a curable resin such as a photocurable resin.

透明樹脂層404の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂(遅延硬化型を含む)等を挙げることができる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥(加熱)することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、前述の光透過性を有していればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、1層だけではなく多層膜にして用いても良い。
Examples of the material of the transparent resin layer 404 include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, an ultraviolet curable resin (including a delayed curable type), and the like.
A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in an appropriate solvent to prepare a coating solution, coating it, and drying (heating). The ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with ultraviolet light. There are various types of ultraviolet curable resins, and any of them can be used as long as it has the above-described light transmittance. These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.

塗布方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を20℃〜40℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は20mPa・s〜1000mPa・sとなるように調製するのが好ましい。   As a coating method, a method such as a spin coating method or a casting method is used as in the recording layer, and among these, the spin coating method is preferable. Alternatively, a resin having a high viscosity can be formed by screen printing or the like. It is preferable to use an ultraviolet curable resin that is liquid at 20 ° C. to 40 ° C. because the productivity can be applied without using a solvent. The viscosity is preferably adjusted to 20 mPa · s to 1000 mPa · s.

さて、紫外線硬化性接着剤としては、ラジカル系紫外線硬化性接着剤とカチオン系紫外線硬化性接着剤があるが、いずれも使用可能である。
ラジカル系紫外線硬化性接着剤としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能(メタ)アクリレートや多官能(メタ)アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または2種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて(メタ)アクリレートと称する。
As the ultraviolet curable adhesive, there are a radical ultraviolet curable adhesive and a cationic ultraviolet curable adhesive, both of which can be used.
As the radical ultraviolet curable adhesive, all known compositions can be used, and a composition containing an ultraviolet curable compound and a photopolymerization initiator as essential components is used. As the ultraviolet curable compound, monofunctional (meth) acrylate or polyfunctional (meth) acrylate can be used as the polymerizable monomer component. These can be used alone or in combination of two or more. Here, in the present invention, acrylate and methacrylate are collectively referred to as (meth) acrylate.

本光記録媒体400に使用できる重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとしては例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル,カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル,ジシクロペンタニル,ジシクロペンテニル,ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polymerizable monomer that can be used in the optical recording medium 400 include the following. Examples of the monofunctional (meth) acrylate include methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, 2-ethylhexyl, octyl, nonyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, cyclohexyl, benzyl, methoxyethyl, butoxyethyl, phenoxyethyl, Nonylphenoxyethyl, tetrahydrofurfuryl, glycidyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3-chloro-2-hydroxypropyl, dimethylaminoethyl, diethylaminoethyl, nonylphenoxyethyl tetrahydrofurfuryl, caprolactone modified tetrahydrofurfuryl, isobornyl , (Meth) acrylate having a group such as dicyclopentanyl, dicyclopentenyl, dicyclopentenyloxyethyl and the like.

また、多官能(メタ)アクリレートとしては例えば、1,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに2モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include 1,3-butylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and 1,6-hexanediol. Di (meth) such as neopentyl glycol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, tricyclodecane dimethanol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, neopentyl glycol Diol di (meth) acrylate obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A, triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane Di or tri (meth) acrylate, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) Acrylate, poly (meth) acrylate of dipentaerythritol, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified alkylated phosphoric acid (meth) acrylate, etc. It is.

また、重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等がある。   Moreover, what can be used together with the polymerizable monomer includes polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate and the like as polymerizable oligomers.

更に、本光記録媒体400に使用する光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーおよび/または重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できる公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本光記録媒体400に好適である。   Further, as the photopolymerization initiator used in the present optical recording medium 400, any known one that can cure an ultraviolet curable compound represented by a polymerizable oligomer and / or a polymerizable monomer to be used can be used. As the photopolymerization initiator, a molecular cleavage type or a hydrogen abstraction type is suitable for the optical recording medium 400.

このような例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オンおよび2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。   Examples of such include benzoin isobutyl ether, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, benzyl, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butan-1-one, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, etc. are preferably used, and other molecular cleavage types 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Propan-1-one and -Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one or the like may be used in combination, and further a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, isophthalphenone 4-benzoyl-4′-methyl-diphenyl sulfide and the like can be used in combination.

また光重合開始剤に対する増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p−ジエチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジメチルベンジルアミンおよび4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。   Examples of sensitizers for photopolymerization initiators include trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-diethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzyl. An amine that does not cause an addition reaction with the polymerizable component, such as an amine and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, can also be used in combination. Of course, it is preferable to select and use the photopolymerization initiator and the sensitizer that are excellent in solubility in the ultraviolet curable compound and do not inhibit the ultraviolet transmittance.

また、カチオン系紫外線硬化性接着剤としては公知のすべての組成物を用いることができ、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂がこれに該当する。カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩等がある。   Further, as the cationic ultraviolet curable adhesive, all known compositions can be used, and an epoxy resin containing a cationic polymerization type photoinitiator corresponds to this. Examples of cationic polymerization type photoinitiators include sulfonium salts, iodonium salts, and diazonium salts.

ヨードニウム塩の1例を示すと以下の通りである。ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等が挙げられる。   An example of an iodonium salt is as follows. Diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate Bis (dodecylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyliodonium hexafluorophosphate, 4-methylphenyl-4 -(1-Methylethyl) phenyliodonium hexafluoroantimo Over DOO, 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyl iodonium tetrafluoroborate, 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyl iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like.

エポキシ樹脂は、ビスフェノールA−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等種々のものがいずれであってもかまわない。
エポキシ樹脂としては、反射層にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が1重量%以下が好ましく、より好ましくは0.5重量%以下である。
The epoxy resin can be any of various types such as bisphenol A-epichlorohydrin type, alicyclic epoxy, long chain aliphatic type, brominated epoxy resin, glycidyl ester type, glycidyl ether type, and heterocyclic type. It doesn't matter.
As the epoxy resin, it is preferable to use an epoxy resin having a low free chlorine and chlorine ion content so as not to damage the reflective layer. The amount of chlorine is preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less.

カチオン型紫外線硬化性樹脂100重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、0.1重量部〜20重量部であり、好ましくは0.2重量部〜5重量部である。尚、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。   The proportion of the cationic polymerization photoinitiator per 100 parts by weight of the cationic ultraviolet curable resin is usually 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight. In addition, in order to use the near-ultraviolet region and the visible region of the ultraviolet light source more effectively, a known photosensitizer can be used in combination. Examples of the photosensitizer at this time include anthracene, phenothiazine, benzylmethyl ketal, benzophenone, and acetophenone.

また、紫外線硬化性接着剤には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、(メタ)アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。   In addition, UV curable adhesives include, as necessary, other additives such as thermal polymerization inhibitors, antioxidants typified by hindered phenols, hindered amines, phosphites, plasticizers and epoxy silanes, mercapto. Silane coupling agents represented by silane, (meth) acrylic silane and the like can also be blended for the purpose of improving various properties. These are selected from those having excellent solubility in ultraviolet curable compounds and those that do not impair ultraviolet transparency.

(5)第2記録層405について
第2記録層405の材料、成膜方法等についてはほぼ第1記録層402と同様に説明されるため、異なる点のみ説明する。
第2記録層405の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常10nm以上が好ましく、より好ましくは30nm以上であり、特に好ましくは50nm以上である。但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常3μm以下であり、好ましくは1μm以下、より好ましくは200nm以下である。
第1記録層402と第2記録層405とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
(5) Second Recording Layer 405 Since the material, film forming method, and the like of the second recording layer 405 are described in substantially the same manner as the first recording layer 402, only different points will be described.
The film thickness of the second recording layer 405 is not particularly limited because it varies depending on the recording method and the like. However, in order to obtain a sufficient degree of modulation, it is usually preferably 10 nm or more, more preferably 30 nm or more. And particularly preferably 50 nm or more. However, since it is not necessary to be too thick in order to obtain an appropriate reflectance, it is usually 3 μm or less, preferably 1 μm or less, more preferably 200 nm or less.
The materials used for the first recording layer 402 and the second recording layer 405 may be the same or different.

(6)反射層406について
反射層406は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。
高反射率を確保するために、反射層406の厚さは通常、20nm以上が好適である。より好適には30nm以上である。更に好ましくは50nm以上である。但し、生産のタクトタイムを短くしコストを下げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常400nm以下とする。より好ましくは300nm以下とする。
反射層406の材料、成膜方法、膜厚は、前述した貼着型の2層型光記録媒体100の反射層(1)102と同様である。
(6) About the reflective layer 406 The reflective layer 406 needs to have a high reflectance. Moreover, it is desirable that it is highly durable.
In order to ensure high reflectivity, the thickness of the reflective layer 406 is usually preferably 20 nm or more. More preferably, it is 30 nm or more. More preferably, it is 50 nm or more. However, in order to shorten the production tact time and reduce the cost, it is preferable to be thin to some extent, and is usually 400 nm or less. More preferably, it is set to 300 nm or less.
The material, the film forming method, and the film thickness of the reflective layer 406 are the same as those of the reflective layer (1) 102 of the sticking-type two-layer optical recording medium 100 described above.

(7)接着層407について
接着層407は、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
また、接着層407は反射層406にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
(7) Adhesive layer 407 Adhesive layer 407 preferably has a high adhesive force and a low shrinkage rate during curing and adhesion because of high shape stability of the medium.
The adhesive layer 407 is preferably made of a material that does not damage the reflective layer 406. However, a known inorganic or organic protective layer may be provided between both layers in order to suppress damage.

本光記録媒体400において、接着層407の膜厚は、通常2μm以上が好ましい。所定の接着力を得るためにはある程度の膜厚が必要である。より好ましくは5μm以上である。但し光記録媒体400をできるだけ薄くするために、また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、100μm以下が好ましい。
接着層407の材料は、透明樹脂層404の材料と同様のものが用いうるほか、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを反射層406と第2基板408との間に挟んで押圧することにより、接着層407を形成できる。
In the present optical recording medium 400, the film thickness of the adhesive layer 407 is usually preferably 2 μm or more. In order to obtain a predetermined adhesive strength, a certain film thickness is required. More preferably, it is 5 μm or more. However, in order to make the optical recording medium 400 as thin as possible, and there is a problem that it takes time for curing and productivity is lowered.
As the material of the adhesive layer 407, the same material as that of the transparent resin layer 404 can be used, and a pressure-sensitive double-sided tape or the like can also be used. The adhesive layer 407 can be formed by sandwiching and pressing a pressure-sensitive double-sided tape between the reflective layer 406 and the second substrate 408.

(8)第2基板408について
第2基板408は、光記録媒体400がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層407との接着性が高いことが望ましい。第2基板408は透明である必要はない。また第2基板408は鏡面基板で良く、凹凸を形成する必要はないので射出成形による転写性は必ずしも良い必要はない。また、第2基板408については必ずしも本発明の光ディスク基板の製造方法により作製する必要はない。
(8) About the Second Substrate 408 The second substrate 408 desirably has shape stability so that the optical recording medium 400 has a certain degree of rigidity. That is, it is preferable that mechanical stability is high and rigidity is large. Further, it is desirable that the adhesiveness with the adhesive layer 407 is high. The second substrate 408 need not be transparent. Further, the second substrate 408 may be a mirror surface substrate, and it is not necessary to form irregularities, so that transferability by injection molding is not necessarily good. Further, the second substrate 408 is not necessarily produced by the method for producing an optical disk substrate of the present invention.

このような材料としては、第1基板401に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Alを主成分とした例えばAl−Mg合金等のAl合金基板や、Mgを主成分とした例えばMg−Zn合金等のMg合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。   As such a material, the same material that can be used for the first substrate 401 can be used. For example, an Al alloy substrate such as an Al-Mg alloy containing Al as a main component, or an Mg alloy as a main component, for example. An Mg alloy substrate such as an Mg—Zn alloy, a substrate made of any of silicon, titanium, and ceramics, a substrate that combines them, and the like can be used.

尚、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。   Polycarbonate is preferred from the viewpoints of high productivity such as moldability, cost, low hygroscopicity, and shape stability. Amorphous polyolefin is preferred from the standpoint of chemical resistance and low hygroscopicity. Moreover, a glass substrate is preferable from the viewpoint of high-speed response.

光記録媒体400に十分な剛性を持たせるために、第2基板408はある程度厚いことが好ましく、厚さは0.3mm以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは3mm以下である。より好ましくは1.5mm以下である。
第2基板408は凹凸を持たない鏡面基板で良いが、生産しやすさの観点から、射出成型により製造するのが望ましい。
In order to give the optical recording medium 400 sufficient rigidity, the second substrate 408 is preferably thick to some extent, and the thickness is preferably 0.3 mm or more. However, the thinner one is advantageous for thinning the recording / reproducing apparatus, and it is preferably 3 mm or less. More preferably, it is 1.5 mm or less.
The second substrate 408 may be a mirror substrate that does not have unevenness, but is preferably manufactured by injection molding from the viewpoint of ease of production.

第1基板401と第2基板408の好ましい組合せの一例は、第1基板401と第2基板408とが同一材料からなり、厚さも同一である。剛性が同等でバランスが取れているので、環境変化に対しても媒体として変形しにくく好ましい。この場合、環境が変化したときの変形の程度や方向も両基板で同様であると好ましい。
他の好ましい組合せの一例は、第1基板401が0.1mm程度と薄く、第2基板408が1.1mm程度と厚いものである。対物レンズが記録層に近づきやすく記録密度を上げやすいため好ましい。このとき第1基板401はシート状であってもよい。
As an example of a preferable combination of the first substrate 401 and the second substrate 408, the first substrate 401 and the second substrate 408 are made of the same material and have the same thickness. Since the rigidity is equal and balanced, it is preferable that the medium is difficult to be deformed against environmental changes. In this case, it is preferable that the degree and direction of deformation when the environment changes are the same for both substrates.
In another example of the preferable combination, the first substrate 401 is as thin as about 0.1 mm, and the second substrate 408 is as thick as about 1.1 mm. The objective lens is preferable because it easily approaches the recording layer and easily increases the recording density. At this time, the first substrate 401 may have a sheet shape.

(9)その他の層について
上記積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。或いは媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。具体的には、半透明反射層403と透明樹脂層404との間、透明樹脂層404と第2記録層405との間、反射層406と接着層407との間、などに中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
(9) Other layers In the laminated structure, any other layers may be sandwiched as necessary. Alternatively, any other layer may be provided on the outermost surface of the medium. Specifically, as an intermediate layer between the translucent reflective layer 403 and the transparent resin layer 404, between the transparent resin layer 404 and the second recording layer 405, between the reflective layer 406 and the adhesive layer 407, etc. A buffer layer may be provided.

バッファー層は2つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第2記録層405や透明樹脂層404と相溶せず、かつ、光透過性を有している必要があり、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、(1)金属又は半導体、(2)金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは(3)非晶質カーボン、などが用いられる。中でも、λ1光透過性及びλ2光透過性を有する誘電体からなる層や、ごく薄い金属層(合金を含む)が好ましい。
The buffer layer prevents the two layers from mixing and prevents compatibility. The buffer layer may also serve other functions than preventing the mixing phenomenon. Further, another intermediate layer may be interposed as required.
The material of the buffer layer needs to be incompatible with the second recording layer 405 and the transparent resin layer 404 and have light transmittance, and known inorganic and organic materials can be used. In view of characteristics, an inorganic material is preferably used. For example, (1) metal or semiconductor, (2) metal or semiconductor oxide, nitride, sulfide, oxysulfide, fluoride or carbide, or (3) amorphous carbon is used. Among them, a layer made of a dielectric having λ1 light transmittance and λ2 light transmittance and a very thin metal layer (including an alloy) are preferable.

具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物;硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物;窒化珪素などの窒化物;炭化珪素;酸化物とイオウとの混合物(酸硫化物);および後述の合金などが好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との30:70〜90:10程度(重量比)の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムと酸化亜鉛との混合物(YS−ZnO)も好適である。 Specifically, silicon oxide, particularly silicon dioxide, oxides such as zinc oxide, cerium oxide, yttrium oxide; sulfides such as zinc sulfide and yttrium sulfide; nitrides such as silicon nitride; silicon carbide; oxide and sulfur A mixture thereof (oxysulfide); and alloys described later are suitable. Further, a mixture of about 30:70 to 90:10 (weight ratio) of silicon oxide and zinc sulfide is also suitable. A mixture of sulfur, yttrium dioxide and zinc oxide (Y 2 O 2 S—ZnO) is also suitable.

金属や合金としては、銀、又は銀を主成分とし更にチタン、亜鉛、銅、パラジウム、及び金よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を0.1原子%〜15原子%含有するものが好適である。また、銀を主成分とし、少なくとも1種の希土類元素を0.1原子%〜15原子%含有するものも好適である。この希土類としては、ネオジウム、プラセオジウム、セリウム等が好適である。
その他、バッファー層作製時に記録層の色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やCVD法で作製可能な高分子膜が有用である。
Examples of the metal or alloy include silver or silver containing 0.1 to 15 atomic% of at least one element selected from the group consisting of titanium, zinc, copper, palladium, and gold. Is preferred. Further, those containing silver as a main component and containing at least one kind of rare earth element in an amount of 0.1 atomic% to 15 atomic% are also suitable. As this rare earth, neodymium, praseodymium, cerium and the like are suitable.
In addition, a resin layer may be used as long as it does not dissolve the dye in the recording layer when the buffer layer is produced. In particular, a polymer film that can be produced by vacuum deposition or CVD is useful.

バッファー層の厚さは2nm以上が好ましく、より好ましくは5nm以上である。バッファー層の厚さが過度に薄いと、上記の混和現象の防止が不十分となる虞がある。但し2000nm以下が好ましく、より好ましくは500nm以下である。バッファー層が過度に厚いと、混和防止には不必要であるばかりでなく、光の透過率を低下させる虞もある。また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする虞があり200nm以下が好ましい。特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、20nm以下程度が好ましい。   The thickness of the buffer layer is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more. If the thickness of the buffer layer is excessively thin, there is a possibility that the prevention of the above mixing phenomenon will be insufficient. However, it is preferably 2000 nm or less, more preferably 500 nm or less. If the buffer layer is excessively thick, it is not only unnecessary for preventing mixing but also may reduce light transmittance. In the case of a layer made of an inorganic material, it takes a long time to form a film, and the productivity may be lowered or the film stress may be increased. In particular, in the case of a metal, about 20 nm or less is preferable because the light transmittance is excessively lowered.

また、記録層や反射層を保護するために保護層を設けても良い。保護層の材料としては、光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、MgF、SnO等が挙げられる。 A protective layer may be provided to protect the recording layer and the reflective layer. The material for the protective layer is required to have optical transparency, but is not particularly limited as long as it protects the recording layer and the reflective layer from external force. Examples of the material of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Examples of the inorganic substance include silicon oxide, silicon nitride, MgF 2 and SnO 2 .

熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、1層だけではなく多層膜にして用いても良い。   A thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by dissolving in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and applying and drying the coating solution. The ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiation with UV light. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.

保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に0.1μm〜100μmの範囲であるが、本光記録媒体400においては、3μm〜50μmが好ましい。
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and the like are used as in the recording layer. Among these, a spin coating method is preferable.
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 μm to 100 μm, but in the present optical recording medium 400, 3 μm to 50 μm is preferable.

更に、上記光記録媒体400には、必要に応じて、記録・再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入(印刷)が可能な印刷受容層を設けてもよい。   Furthermore, the optical recording medium 400 can be printed on a surface that is not a recording / reproducing light incident surface as required by various printers such as ink jet and thermal transfer, or various writing tools. A layer may be provided.

また、本層構成の応用例として、記録層を3層以上有する媒体も可能である。或いは、本層構成の光記録媒体400を2枚、第1基板401を外側にして貼合わせて、記録層を4層有する、より大容量媒体とすることもできる。   Further, as an application example of this layer configuration, a medium having three or more recording layers is also possible. Alternatively, two optical recording media 400 having this layer structure and two first recording layers 401 may be bonded to form a larger capacity medium having four recording layers.

(本発明のスタンパ、金型及び光ディスク基板の製造方法が多層型光記録媒体において好適に用いられる理由)
ここで、本発明のスタンパ、金型及び光ディスク基板の製造方法が、多層型光記録媒体において好適に用いられる理由について、記録層を2層有する2層型光記録媒体(より具体的には2層タイプのDVD)を例にとって述べる。
(Reason why the stamper, mold and optical disk substrate manufacturing method of the present invention are suitably used in a multilayer optical recording medium)
Here, the reason why the stamper, the mold and the optical disk substrate manufacturing method of the present invention are suitably used in a multilayer optical recording medium will be described as a two-layer optical recording medium having two recording layers (more specifically, 2). A layer type DVD) will be described as an example.

通常、DVDの記録再生装置の光ピックアップは、基板厚み0.6mmの単層型の光記録媒体において最適な集光スポットが得られるように作られている。すなわち、基板表面から0.6mmだけ離れた記録層を厚み0.6mmの基板を通して集光したときに収差が最小になるように設計されている。   Usually, an optical pickup of a DVD recording / reproducing apparatus is made so as to obtain an optimum condensing spot in a single layer type optical recording medium having a substrate thickness of 0.6 mm. That is, the aberration is designed to be minimized when a recording layer separated by 0.6 mm from the substrate surface is condensed through a substrate having a thickness of 0.6 mm.

一方、片面から記録再生を行なう2層型の光記録媒体においては、光入射側に近い一層目の記録層と2層目の記録層を同一の光ピックアップで記録再生する。この場合、二つの記録層の間には透明樹脂層が形成されているため、両方の記録層を同時に収差が最小となる位置に配置することは不可能である。従って、いずれの記録層においても最適な位置からのずれを小さくするためには、光入射側の基板厚みを0.6mmよりも小さくし、結果的に両方の記録層の中間に位置する透明樹脂層の位置で収差が最小になるように設計する必要がある。この場合、一層目の記録層は基板表面から0.6mmより近い位置に、二層目の記録層はその基板の上に基板と同等の光学特性を持つ透明樹脂層の上に形成されるため基板表面から0.6mmより遠い位置に形成される。そのため、一層目の記録層は0.6mmより薄い基板を通して集光され、二層目の記録層は実質的に0.6mmより厚い基板を通して集光されることになる。   On the other hand, in a two-layer type optical recording medium that records and reproduces from one side, the first recording layer and the second recording layer near the light incident side are recorded and reproduced by the same optical pickup. In this case, since a transparent resin layer is formed between the two recording layers, it is impossible to arrange both recording layers at a position where the aberration is minimized. Therefore, in order to reduce the deviation from the optimum position in any recording layer, the substrate thickness on the light incident side is made smaller than 0.6 mm, and as a result, a transparent resin located in the middle of both recording layers. It is necessary to design so that the aberration is minimized at the position of the layer. In this case, the first recording layer is formed at a position closer than 0.6 mm from the substrate surface, and the second recording layer is formed on the transparent resin layer having the same optical characteristics as the substrate on the substrate. It is formed at a position farther than 0.6 mm from the substrate surface. Therefore, the first recording layer is condensed through a substrate thinner than 0.6 mm, and the second recording layer is condensed through a substrate substantially thicker than 0.6 mm.

図5(c)は、ジッター特性に対する基板の厚みの影響を示すための図である。図5(c)のデータは以下のようにして得られた。つまり、様々な厚さの基板を用意し、それぞれの基板に単層または2層の記録層を設けた単層型の光記録媒体と2層型の光記録媒体を作製した。そしてそれらの光記録媒体の記録層におけるジッター値を測定し、これをプロットした。   FIG. 5C is a diagram for illustrating the influence of the substrate thickness on the jitter characteristics. The data shown in FIG. 5C was obtained as follows. That is, substrates having various thicknesses were prepared, and a single-layer type optical recording medium and a two-layer type optical recording medium in which a single layer or two recording layers were provided on each substrate were manufactured. And the jitter value in the recording layer of those optical recording media was measured, and this was plotted.

尚、図5は、論文題名「Compatible 8.5 Gbyte double−layer recordable DVD disc」(著者名:H.C.F. Martens、W.R. Koppersa、R.J.A. van den Oetelaara、P.H. Woerleea、P.G.P. Weijenbergh、Y. Noda、M. Aga、S. Furomoto、and H. Takeshima、掲載論文誌名:Optical Data Storage Topical Meeting 2004 Technical Digest (2004)、Page61−63)のFig.4を抜粋して掲載したものである。   5 is the title of the article “Compatible 8.5 Gbyte double-layer recordable DVD disc” (author names: H. C. F. Martens, W. R. Koppersa, R. J. A. van den Oetelaara, H. Woollea, P.G.P. Weijenberg, Y. Noda, M. Aga, S. Furomoto, and H. Takeshima, Journal title: Optical Data Storage Topic 4 P4. ) FIG. 4 is excerpted.

図5(c)の様に、基板厚みを変化させてその時のジッターを測定すると、0.6mmでジッターが最小となり、基板厚みが0.6mmより薄くなっても、厚くなっても球面収差が発生しジッターが上昇することとなる。従って、ジッターを悪化させないためには、前述の通り一層目の記録層と二層目の記録層を0.6mmになるべく近い位置に形成する必要がある。   As shown in FIG. 5C, when the jitter at that time is measured by changing the substrate thickness, the jitter becomes minimum at 0.6 mm, and the spherical aberration does not increase even if the substrate thickness is thinner than 0.6 mm or thicker. It will occur and the jitter will rise. Accordingly, in order not to deteriorate the jitter, it is necessary to form the first recording layer and the second recording layer as close as possible to 0.6 mm as described above.

一方、透明樹脂層が薄いと一層目の記録層を再生しているときに二層目の記録層の信号が漏れ込み、二層目の記録層を再生しているときに一層目の記録層の信号が漏れ込み、再生信号が乱れてしまう。これを層間クロストークと呼んでいる。図5(a)は記録再生信号、図5(b)はプッシュプル信号への信号の漏れ込みと透明樹脂層厚みとの関係を調べたものである。この結果から、層間クロストークを抑えるためには透明樹脂層はある程度厚い必要がある。   On the other hand, if the transparent resin layer is thin, the signal of the second recording layer leaks when reproducing the first recording layer, and the first recording layer is reproduced when reproducing the second recording layer. Signal leaks and the playback signal is disturbed. This is called interlayer crosstalk. FIG. 5A shows the recording / reproduction signal, and FIG. 5B shows the relationship between the signal leakage into the push-pull signal and the thickness of the transparent resin layer. From this result, the transparent resin layer needs to be thick to some extent in order to suppress interlayer crosstalk.

これらの結果から、DVD+R2層ディスクの規格では下記のように規定されている。
・光入射側の基板表面からの一層目の記録層と二層目の記録層の位置:562μm〜632μm
・透明樹脂層の厚み:45μm〜60μm
From these results, the DVD + R dual-layer disc standard specifies as follows.
Positions of the first recording layer and the second recording layer from the substrate surface on the light incident side: 562 μm to 632 μm
-Thickness of the transparent resin layer: 45 μm to 60 μm

透明樹脂層は、通常スピンコート法で形成され、厚みのばらつきが大きくなる傾向にある。具体的には、透明樹脂層の厚みはほぼ規格幅の範囲45μm〜60μmでばらつく傾向となる。この場合、基板に許容される厚みは、562μm〜572μm(=632μm−60μm)となり、基板に許容される厚みの分布の幅としては10μmとなる。   The transparent resin layer is usually formed by a spin coating method and tends to have a large variation in thickness. Specifically, the thickness of the transparent resin layer tends to vary in a standard width range of 45 μm to 60 μm. In this case, the thickness allowed for the substrate is 562 μm to 572 μm (= 632 μm-60 μm), and the width of the distribution of thickness allowed for the substrate is 10 μm.

一方、単層ディスクにおいては、基板厚み対する制約は図5(c)の球面収差のみであり、DVD+R単層ディスクの基板厚みの規格では580μm〜620μmとかなり広い範囲になっており、基板に許容される厚みの分布の幅は40μmとなっている。   On the other hand, in the case of a single-layer disc, the limitation on the substrate thickness is only the spherical aberration shown in FIG. 5 (c), and the standard for the substrate thickness of DVD + R single-layer discs is 580 μm to 620 μm. The width of the thickness distribution is 40 μm.

以上の理由から、本発明は特に基板厚みを高精度に制御する必要のある2層型の光記録媒体において好適に用いられる。尚、上記説明は2層型光記録媒体(より具体的には2層タイプのDVD)を例として説明したものである。しかしながら、上記考え方は、記録層の層数が3層以上となる場合、または、DVD以外の光ピックアップ(例えば青色レーザ対応の光ピックアップ)を用いる場合まで拡張することができることは言うまでもない。   For the above reasons, the present invention is suitably used particularly in a two-layer type optical recording medium in which the substrate thickness needs to be controlled with high accuracy. The above description has been given by taking a two-layer type optical recording medium (more specifically, a two-layer type DVD) as an example. However, it goes without saying that the above concept can be extended to the case where the number of recording layers is three or more, or the case where an optical pickup other than a DVD (for example, an optical pickup compatible with a blue laser) is used.

以下に実施例に基づき本実施の形態をより具体的に説明する。尚、本実施の形態は下記実施例に限定されない。
(光ディスク基板の製造に用いるスタンパの調製)
上述したスタンパの製造方法において、所定のピット/グルーブが形成されたレジスト原盤表面にニッケル導電膜が形成されたスタンパ原盤を調製した。その後、電鋳工程によりニッケル膜を析出させる際に、中周にドーナツ状の電流分布調整用遮蔽板を設置し、その電流分布調整用遮蔽板の位置を変更して、ニッケル膜の厚さ分布を調整した。次いで、析出させたニッケル膜をガラス基板より剥離し、剥離したニッケル膜表面に残ったレジストを溶剤により除去/洗浄した。さらに、ニッケル膜裏面を研磨・洗浄し、最後に内・外径を加工してスタンパを調製した。
Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically based on examples. The present embodiment is not limited to the following examples.
(Preparation of stamper used for manufacturing optical disk substrate)
In the stamper manufacturing method described above, a stamper master having a nickel conductive film formed on the resist master surface on which predetermined pits / grooves were formed was prepared. After that, when depositing the nickel film by the electroforming process, a donut-shaped current distribution adjusting shielding plate is installed in the middle circumference, and the position of the current distribution adjusting shielding plate is changed to change the thickness distribution of the nickel film. Adjusted. Next, the deposited nickel film was peeled off from the glass substrate, and the resist remaining on the peeled nickel film surface was removed / washed with a solvent. Further, the back surface of the nickel film was polished and cleaned, and finally the inner and outer diameters were processed to prepare a stamper.

尚、実施例及び比較例に用いたニッケル製スタンパの厚さは以下のようにして測定した。つまり、静電容量式の非接触厚み測定器(米国ADE Corporation社製:6360CD)を用い、半径位置23mm〜58mmまで1mmステップでニッケル製スタンパの厚さを測定した。ここで、スタンパ上における上記半径位置23mm〜58mmは、光ディスク基板の記録領域(半径位置23mm〜58mm)に対応する領域となる。   The thickness of the nickel stamper used in the examples and comparative examples was measured as follows. That is, the thickness of the nickel stamper was measured in 1 mm steps from a radial position of 23 mm to 58 mm using a capacitance-type non-contact thickness measuring instrument (made by ADE Corporation, USA: 6360CD). Here, the radial positions 23 mm to 58 mm on the stamper are areas corresponding to the recording area (radial positions 23 mm to 58 mm) of the optical disk substrate.

上記測定を4つの半径方向でそれぞれ行い、平均値を測定値とした。図9に、実施例1、比較例1、比較例2で用いたニッケル製スタンパの半径方向の厚さを示す。図9の縦軸は、スタンパ厚さの基準厚さに対する増減を示す。   The above measurement was performed in each of the four radial directions, and the average value was taken as the measured value. FIG. 9 shows the radial thickness of the nickel stamper used in Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2. The vertical axis in FIG. 9 indicates the increase / decrease of the stamper thickness with respect to the reference thickness.

(実施例1)
図2に示す光ディスク基板(以下DVD基板という場合がある。)の製造に用いる金型20の固定側金型コア28に、外周部(半径位置:58mm)の厚さが内周部(半径位置:23mm)の厚さよりもほぼ6μm大きいニッケル製スタンパを取り付けた。そして、この金型20を用いて、型締め力35トンの成型機にて、サイクル4秒間で、ポリカーボネート樹脂(三菱化学株式会社製:Novarex)製のDVD基板(厚さ約0.6mm)を成型した。
Example 1
The thickness of the outer peripheral portion (radius position: 58 mm) is set to the inner peripheral portion (radial position) in the fixed mold core 28 of the mold 20 used for manufacturing the optical disc substrate (hereinafter also referred to as DVD substrate) shown in FIG. : A nickel stamper approximately 6 μm larger than the thickness of 23 mm). Then, using this mold 20, a polycarbonate substrate (thickness: about 0.6 mm) made of polycarbonate resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd .: Novarex) is produced in a molding machine with a clamping force of 35 tons in a cycle of 4 seconds. Molded.

金型20から取り出して成型したDVD基板を、充分に冷却されるまで放置した後、基板測定機(ドクターシェンク株式会社製:基板測定機MT146)にてDVD基板の厚さを測定した。測定の結果、DVD基板の厚さ分布は、平均値が4μm(571μm〜575μmの間で分布)、最大値が2μm(573μm〜575μmの間で分布)、最小値が4μm(569μm〜573μmの間で分布)であった。また、(光ディスク基板の厚さの最大値−光ディスク基板の厚さの最小値)は、575μm−569μm=6μmであった。測定結果を図6に示す。尚、図6において、横軸は、DVD基板の半径であり、縦軸は、DVD基板の厚さである(以下、図7及び図8において同じ)。   The DVD substrate molded after being taken out from the mold 20 was left until it was sufficiently cooled, and then the thickness of the DVD substrate was measured with a substrate measuring machine (Doctor Schenck Co., Ltd .: substrate measuring machine MT146). As a result of the measurement, the average thickness of the DVD substrate is 4 μm (distributed between 571 μm and 575 μm), the maximum value is 2 μm (distributed between 573 μm and 575 μm), and the minimum value is 4 μm (between 569 μm and 573 μm). Distribution). Further, (the maximum value of the thickness of the optical disk substrate−the minimum value of the thickness of the optical disk substrate) was 575 μm−569 μm = 6 μm. The measurement results are shown in FIG. In FIG. 6, the horizontal axis represents the radius of the DVD substrate, and the vertical axis represents the thickness of the DVD substrate (hereinafter the same in FIGS. 7 and 8).

図6に示す結果から、外周部の厚さが内周部の厚さよりも6μm大きいニッケル製スタンパを取り付けた金型を用いることにより、4秒間という短いサイクルタイムにおいて、厚さ分布が均一なDVD基板が製造されることが分かる。   From the results shown in FIG. 6, a DVD having a uniform thickness distribution can be obtained in a short cycle time of 4 seconds by using a die attached with a nickel stamper whose outer peripheral thickness is 6 μm larger than the inner peripheral thickness. It can be seen that the substrate is manufactured.

(比較例1)
外周部(半径位置:58mm)の厚さが内周部(半径位置:23mm)の厚さよりもほぼ2μm大きいニッケル製スタンパを用いて、実施例と同様な条件でDVD基板(厚さ約0.6mm)を成型し、その厚さを測定した。測定の結果、DVD基板の厚さ分布は、平均値が6μm(570μm〜576μmの間で分布)、最大値が7μm(571μm〜578μmの間で分布)、最小値が6μm(568μm〜574μmの間で分布)であった。また、(光ディスク基板の厚さの最大値−光ディスク基板の厚さの最小値)は、578μm−568μm=10μmであった。測定結果を図7に示す。
(Comparative Example 1)
A DVD substrate (thickness of about 0.1 mm) was used under the same conditions as in the example, using a nickel stamper whose outer peripheral portion (radius position: 58 mm) was approximately 2 μm thicker than the inner peripheral portion (radius position: 23 mm). 6 mm) was molded and its thickness was measured. As a result of the measurement, the average thickness of the DVD substrate is 6 μm (distributed between 570 μm and 576 μm), the maximum value is 7 μm (distributed between 571 μm and 578 μm), and the minimum value is 6 μm (between 568 μm and 574 μm). Distribution). Moreover, (the maximum value of the thickness of the optical disk substrate−the minimum value of the thickness of the optical disk substrate) was 578 μm−568 μm = 10 μm. The measurement results are shown in FIG.

図7に示す結果から、外周部の厚さと内周部の厚さとの差が2μmのニッケル製スタンパを取り付けた金型を用いると、4秒間という短いサイクルタイムでは、製造されるDVD基板の厚さ分布が大きくなることが分かる。   From the results shown in FIG. 7, when a mold having a nickel stamper with a difference between the outer peripheral thickness and the inner peripheral thickness of 2 μm is used, the thickness of the DVD substrate to be manufactured is as short as 4 seconds. It can be seen that the height distribution increases.

(比較例2)
外周部(半径位置:58mm)の厚さが内周部(半径位置:23mm)の厚さよりもほぼ9μm大きいニッケル製スタンパを用いて、実施例と同様な条件でDVD基板(厚さ0.6mm)を成型し、その厚さを測定した。測定の結果、DVD基板の厚さ分布は、平均値が6μm(577μm〜571μmの間で分布)、最大値が5μm(573μm〜578μmの間で分布)、最小値が9μm(568μm〜577μmの間で分布)であった。また、(光ディスク基板の厚さの最大値−光ディスク基板の厚さの最小値)は、578μm−568μm=10μmであった。測定結果を図8に示す。
(Comparative Example 2)
A DVD substrate (thickness 0.6 mm) under the same conditions as in the example, using a nickel stamper whose outer peripheral portion (radius position: 58 mm) is approximately 9 μm thicker than the inner peripheral portion (radius position: 23 mm). ) And its thickness was measured. As a result of the measurement, the average thickness of the DVD substrate is 6 μm (distributed between 577 μm and 571 μm), the maximum value is 5 μm (distributed between 573 μm and 578 μm), and the minimum value is 9 μm (between 568 μm and 577 μm). Distribution). Moreover, (the maximum value of the thickness of the optical disk substrate−the minimum value of the thickness of the optical disk substrate) was 578 μm−568 μm = 10 μm. The measurement results are shown in FIG.

図8に示す結果から、外周部の厚さが内周部の厚さよりも大きいニッケル製スタンパを取り付けた金型を用いる場合、内周部の厚さよりも外周部の厚さを9μm程度厚くすると、4秒間という短いサイクルタイムでは、厚さ分布が大きいDVD基板が製造されることが分かる。   From the results shown in FIG. 8, when using a die attached with a nickel stamper whose outer peripheral portion is thicker than the inner peripheral portion, the outer peripheral portion is made thicker by about 9 μm than the inner peripheral portion. It can be seen that a DVD substrate having a large thickness distribution is produced in a short cycle time of 4 seconds.

本願の実施例、比較例においては、4sというサイクルタイムで検討を行った。前述したように、このサイクルタイムは現状の技術では下限に近い数字であり、生産性は高いものの工程管理の安定度は低くなる傾向にある。このため、従来はサイクルタイムが8s程度の生産も行われていた。サイクルタイムが8sという前提条件で、従来の膜厚が内外周で均一なスタンパを使用して光ディスク基板を作製した場合、過去の経験から、(Smax−Smin)の値は8μm〜10μm程度と予想される。   In the examples and comparative examples of the present application, the examination was performed with a cycle time of 4 s. As described above, this cycle time is a number close to the lower limit in the current technology, and although the productivity is high, the stability of the process control tends to be low. For this reason, production with a cycle time of about 8 s has been conventionally performed. When a conventional optical disk substrate is manufactured using a stamper with a uniform film thickness on the inner and outer circumferences under the precondition that the cycle time is 8 s, the value of (Smax−Smin) is estimated to be about 8 μm to 10 μm from past experience. Is done.

上記の推測と実施例、比較例の結果から、本願発明については下記の特徴があると言える。
1)単層型光ディスク基板を対象とした場合は、サイクルタイム、スタンパの膜厚分布ともに広い範囲で、光ディスク基板膜厚の規格を満足することが可能である。
2)2層型の光ディスク基板(更には、多層型光記録媒体の光ディスク基板)を対象とした場合、生産性向上のためサイクルタイムを短縮した条件において、光ディスク基板の膜厚分布の規格を満足するためには、膜厚の均一なスタンパを使用するよりも内周より外周の膜厚をある程度厚くしたスタンパを使用するのが有利である。
From the above estimation and the results of Examples and Comparative Examples, it can be said that the present invention has the following characteristics.
1) When a single-layer type optical disk substrate is targeted, it is possible to satisfy the standard of the optical disk substrate film thickness in a wide range of both cycle time and stamper film thickness distribution.
2) When a two-layer type optical disk substrate (further, an optical disk substrate of a multilayer optical recording medium) is targeted, the film thickness distribution standard of the optical disk substrate is satisfied under the condition that the cycle time is shortened to improve productivity. In order to achieve this, it is advantageous to use a stamper in which the outer peripheral film thickness is made somewhat thicker than the inner periphery rather than using a stamper having a uniform film thickness.

本願発明のスタンパは、上記のように多層型光記録媒体において、特にサイクルタイムを短縮する場合に有効であるが、言い換えれば、単層型媒体あるいはサイクルタイムがある程度長い場合は、本願発明の実施の必要性は低く、従来の膜厚が均一なスタンパを使用するのが通常である。何故ならば、内周と外周の厚みを変化させたスタンパを作製するためには、前述した電鋳工程において、電鋳層内のシールドの形状を工夫する等の新たな検討が必要であり、スタンパ自体の作製歩留まりも低下する傾向にあるからである。また、このようなスタンパを使用して厚み分布のより均一な光ディスク基板を作製する際には、前述のようにサイクルタイムの適用範囲も限定され、実生産における種々の工程条件のマージンが制限される傾向があることも理由の一つである。   The stamper of the present invention is effective particularly in the case of reducing the cycle time in the multilayer optical recording medium as described above. In other words, when the single layer type medium or the cycle time is long to some extent, Therefore, it is usual to use a conventional stamper having a uniform film thickness. This is because, in order to produce a stamper with the inner and outer thickness changed, it is necessary to make a new study such as devising the shape of the shield in the electroformed layer in the electroforming process described above. This is because the production yield of the stamper itself tends to decrease. In addition, when manufacturing an optical disk substrate with a more uniform thickness distribution using such a stamper, the scope of the cycle time is limited as described above, and margins for various process conditions in actual production are limited. One of the reasons is that there is a tendency.

以上、説明したように、本実施の形態が適用される光ディスク用スタンパは、内周部の厚さより外周部の厚さを大きくすることにより、これを取り付けた光ディスク基板用金型のキャビティ厚さを、光ディスク基板の外周部にあたる部分を予め薄くすることができるため、取り出された光ディスク基板が冷却される際に、内周部の樹脂が収縮したとしても、冷却後の光ディスク基板の厚さを均一に保つことができる。その結果、高い生産効率を保ちながら、光ディスク基板の厚さの精度と均一性を高めることができる。   As described above, the optical disk stamper to which the present embodiment is applied has a cavity thickness of an optical disk substrate mold to which the optical disk stamper is attached by making the outer peripheral part thicker than the inner peripheral part. Since the portion corresponding to the outer peripheral portion of the optical disk substrate can be thinned in advance, even if the resin in the inner peripheral portion contracts when the taken-out optical disk substrate is cooled, the thickness of the cooled optical disk substrate is reduced. It can be kept uniform. As a result, it is possible to improve the accuracy and uniformity of the thickness of the optical disk substrate while maintaining high production efficiency.

また、従来の成型装置を使用する場合、本実施の形態が適用される光ディスク用スタンパを交換するだけで、他の金型部品等を取り替えることなく使用することができるので、効率的である。
さらに、本発明で得られる光ディスク基板の厚さ分布を、より高精度に調整できるので、記録密度を高くした2層以上の記録層を有する多層型光記録媒体に好ましく適用することができる。
Further, when a conventional molding apparatus is used, it is efficient because it can be used without replacing other mold parts or the like only by replacing the optical disk stamper to which the present embodiment is applied.
Furthermore, since the thickness distribution of the optical disk substrate obtained by the present invention can be adjusted with higher accuracy, it can be preferably applied to a multilayer optical recording medium having two or more recording layers with a high recording density.

本実施の形態が適用されるスタンパの一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the stamper to which this Embodiment is applied. 本実施の形態が適用される光ディスク基板用金型の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the metal mold | die for optical disk substrates to which this Embodiment is applied. 多層型光記録媒体の一例(貼着型の2層型光記録媒体)を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example (adhesive type 2 layer type optical recording medium) of a multilayer type optical recording medium. 多層型光記録媒体の一例(2P法により形成される2層型光記録媒体)を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example (2 layer type optical recording medium formed by 2P method) of a multilayer type optical recording medium. 透明樹脂層厚みと記録再生信号(a)とプッシュプル信号(b)への信号の漏れ込みノイズの関係、及び基板厚みとジッター(c)の関係の測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement result of the relationship between the transparent resin layer thickness, the signal leakage noise to the recording / reproducing signal (a) and the push-pull signal (b), and the relationship between the substrate thickness and the jitter (c). 実施例1において成型したDVD基板の厚さの測定結果を示すグラフである。3 is a graph showing the measurement results of the thickness of a DVD substrate molded in Example 1. FIG. 比較例1において成型したDVD基板の厚さの測定結果を示すグラフである。6 is a graph showing the measurement results of the thickness of a DVD substrate molded in Comparative Example 1. 比較例2において成型したDVD基板の厚さの測定結果を示すグラフである。10 is a graph showing the measurement results of the thickness of a DVD substrate molded in Comparative Example 2. 実施例1、比較例1、比較例2で用いたニッケル製スタンパの半径方向の厚さの変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the thickness of the radial direction of the nickel stampers used in Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2.

符号の説明Explanation of symbols

10…スタンパ、11…基体、11a…表面、12…内周孔、13…内周部、14…外周部、15…最内周、16…最外周、20…金型、21…可動側金型コア、22…カットパンチ、23…外周リング、24…外周リングストッパー、25…スタンパ、26…スプルブッシュ、27…固定側スタンパ内周押さえ、28…固定側金型コア、29…キャビティ、30…樹脂流動経路、31…突き出しピン、100,400…光記録媒体、101…基板(1)、102…反射層(1)、103…記録層(1)、104…中間層、105…透明樹脂層、106…保護コート層、107…反射層(2)、108…記録層(2)、109…基板(2)、110…レーザ光、111…逆積層体、112…正積層体、401…第1基板、402…第1記録層、403…半透明反射層、404…透明樹脂層、405…第2記録層、406…反射層、407…接着層、408…第2基板、411、412…記録トラック DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Stamper, 11 ... Base | substrate, 11a ... Surface, 12 ... Inner peripheral hole, 13 ... Inner peripheral part, 14 ... Outer peripheral part, 15 ... Innermost periphery, 16 ... Outermost periphery, 20 ... Mold, 21 ... Movable side metal mold Mold core, 22 ... Cut punch, 23 ... Outer ring, 24 ... Outer ring stopper, 25 ... Stamper, 26 ... Sprue bush, 27 ... Fixed side stamper inner circumference press, 28 ... Fixed side mold core, 29 ... Cavity, 30 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Resin flow path, 31 ... Extrusion pin, 100, 400 ... Optical recording medium, 101 ... Substrate (1), 102 ... Reflective layer (1), 103 ... Recording layer (1), 104 ... Intermediate layer, 105 ... Transparent resin Layer 106, protective coating layer 107, reflective layer (2), 108 recording layer (2), 109 substrate (2), 110 laser light, 111 reverse layered body, 112 forward laminated body, 401 ... First substrate, 402 ... first recording layer 403 ... semi-transparent reflective layer, 404 ... transparent resin layer, 405 ... second recording layer, 406 ... reflective layer, 407 ... adhesive layer, 408 ... second substrate, 411, 412 ... recording track

Claims (7)

光ディスク基板を製造するための円環状のスタンパであって、
前記光ディスク基板が複数の記録層を有する多層型光記録媒体用の光ディスク基板であり、
前記光ディスク基板の記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満になるように、
前記スタンパの内周部の厚さより外周部の厚さが厚く形成されている
ことを特徴とするスタンパ。
An annular stamper for manufacturing an optical disk substrate,
The optical disk substrate is an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium having a plurality of recording layers,
The difference (Smax−Smin) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the substrate thickness in the recording area of the optical disk substrate is less than 10 μm.
The stamper is characterized in that the thickness of the outer peripheral portion is larger than the thickness of the inner peripheral portion of the stamper.
前記スタンパの前記外周部の厚さと前記内周部の厚さとの差が5μm以上であることを特徴とする請求項1記載のスタンパ。   The stamper according to claim 1, wherein a difference between the thickness of the outer peripheral portion and the thickness of the inner peripheral portion of the stamper is 5 µm or more. 前記スタンパの厚さが、前記内周部から前記外周部にかけて増大することを特徴とする請求項1又は2記載のスタンパ。   3. The stamper according to claim 1, wherein a thickness of the stamper increases from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion. 4. 円環状の樹脂製光ディスク基板を成型するための金型であって、
前記光ディスク基板が複数の記録層を有する多層型光記録媒体用の光ディスク基板であり、
固定側金型コアと、
前記光ディスク基板の外周端を形成するための外周リングと、
前記外周リングを介して前記固定側金型コアと対向するように配置された可動側金型コアと、
前記固定側金型コア又は前記可動側金型コアの金型面に取り付けられるスタンパと、を備え、
前記スタンパは、前記光ディスク基板の記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満になるように、当該スタンパの内周部の厚さより外周部の厚さが厚く形成されていることを特徴とする金型。
A mold for molding an annular resin optical disk substrate,
The optical disk substrate is an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium having a plurality of recording layers,
A fixed mold core,
An outer ring for forming an outer peripheral edge of the optical disc substrate;
A movable mold core disposed to face the fixed mold core via the outer ring;
A stamper attached to a mold surface of the fixed mold core or the movable mold core,
The stamper is arranged so that a difference (Smax−Smin) between the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the substrate thickness in the recording area of the optical disk substrate is less than 10 μm. A mold characterized in that the outer peripheral portion is thicker than the thickness.
前記スタンパの前記外周部の厚さと前記内周部の厚さとの差が5μm以上であることを特徴とする請求項4記載の金型。   The mold according to claim 4, wherein a difference between the thickness of the outer peripheral portion of the stamper and the thickness of the inner peripheral portion is 5 μm or more. 固定側金型コア又は可動側金型コアの金型面にスタンパを装着した金型を使用して光ディスク基板を製造する方法であって、
前記スタンパは、前記光ディスク基板が複数の記録層を有する多層型光記録媒体用の光ディスク基板であり、前記光ディスク基板の記録領域における基板の厚さの最大値(Smax)と最小値(Smin)との差(Smax−Smin)が10μm未満になるように、当該スタンパの内周部の厚さより外周部の厚さが厚く形成されている
ことを特徴とする光ディスク基板の製造方法。
A method of manufacturing an optical disk substrate using a mold having a stamper attached to a mold surface of a fixed mold core or a movable mold core,
The stamper is an optical disk substrate for a multilayer optical recording medium in which the optical disk substrate has a plurality of recording layers, and the maximum value (Smax) and the minimum value (Smin) of the thickness of the substrate in the recording area of the optical disk substrate A method of manufacturing an optical disc substrate, wherein the outer peripheral portion is thicker than the inner peripheral portion of the stamper so that the difference (Smax−Smin) is less than 10 μm.
前記スタンパの前記外周部の厚さと前記内周部の厚さとの差が5μm以上であることを特徴とする請求項6記載の光ディスク基板の製造方法。   7. The method of manufacturing an optical disk substrate according to claim 6, wherein a difference between the thickness of the outer peripheral portion of the stamper and the thickness of the inner peripheral portion is 5 μm or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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