JP2006276105A - Manufacturing method of flat display member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、平面ディスプレイに用いられる平面ディスプレイ部材に関するものであり、さらに詳しくは、映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れた平面ディスプレイに用いられる平面ディスプレイ材料の製造方法に関する。 The present invention relates to a flat display member used for a flat display, and more particularly, to a flat display having excellent visibility and no impact such as reflection, distortion, blurring, etc. The present invention relates to a method for manufacturing a flat display material.
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの平面ディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。平面ディスプレイには、通常、反射防止と平面ディスプレイ保護を目的とした前面保護板が平面ディスプレイ視認側に配置される。特にプラズマディスプレイや屋外で使用する携帯電話などに使用される液晶ディスプレイは、平面ディスプレイと前面保護板の間に間隙を設け、ディスプレイに衝撃力が直接作用することを防止し、ディスプレイから発生する熱や電磁波の伝搬を抑制している。しかしながら、このような間隙によって形成される空気層と前面保護板および平面ディスプレイの界面における光の反射が大きく、外光が映り込む、あるいは表示が２重に見えるといった視認性の低下が問題となる。ここから、平面ディスプレイの視認側に緩衝性と密着性を有する耐熱性の透明樹脂シートを介して透明保護板を直接装着する方法（特許文献１参照）が提案されているが、透明樹脂シートを製造する方法としては、あらかじめセパレーター上に設けた透明樹脂シートを圧着方式によって密着させる方式が記載されているのみであった。このような製造方法では、平坦性が良好な透明樹脂シートを得ることが困難であり、表示画像の歪み、ぼやけ等の視認性の低下につながるといった問題があった。また、同様な耐衝撃性シートの製造方法として、スクリュー式押し出し機を用いてシート状に成型する方法（特許文献２参照）が提案されているが、このような製造方法によっても平坦性が良好透明樹脂シートを得ることは困難であり、ディスプレイに用いた場合、歪みが発生するなど視認性の面で問題があった。 A flat display such as a liquid crystal display or a plasma display is a display device capable of clear full color display. In the flat display, a front protective plate for preventing reflection and protecting the flat display is usually disposed on the flat display viewing side. In particular, liquid crystal displays used in plasma displays and mobile phones for outdoor use have a gap between the flat display and the front protective plate to prevent the impact force from acting directly on the display, and the heat and electromagnetic waves generated from the display. Propagation is suppressed. However, the reflection of light at the interface between the air layer formed by such a gap, the front protective plate, and the flat display is large, and there is a problem of reduced visibility such that external light is reflected or the display looks double. . From this, a method (see Patent Document 1) in which a transparent protective plate is directly attached to the viewing side of a flat display via a heat-resistant transparent resin sheet having buffering properties and adhesion has been proposed. As a manufacturing method, only a method in which a transparent resin sheet previously provided on a separator is brought into close contact by a pressure bonding method is described. In such a manufacturing method, it is difficult to obtain a transparent resin sheet having good flatness, and there is a problem that the visibility of a display image is distorted or blurred. Further, as a method for producing a similar impact resistant sheet, a method of forming a sheet using a screw extruder (see Patent Document 2) has been proposed, but flatness is also good even with such a production method. It was difficult to obtain a transparent resin sheet, and when used in a display, there was a problem in terms of visibility such as distortion.
そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、より合理的なプロセスで、映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れたディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, in view of the above-described prior art, the present invention provides a display having excellent visibility and having good visibility without problems such as reflection, distortion, and blurring by a more rational process. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flat display member.
本願発明者らは、透明基材の第１の面に透明樹脂層を形成、第２の面に反射防止層を積層した平面ディスプレイ部材を平面ディスプレイの前面に透明樹脂層を介して直接装着することにより、映り込みのない平面ディスプレイが提供でき、特定の範囲の粘度を有する透明樹脂ペーストを平坦に保持された透明基材上に口金から吐出・硬化して枚様方式で形成することにより、透明樹脂層の平坦性が向上し、表示画像のゆがみ等のない視認性・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材を製造できることを見いだし、本発明に至った。 The inventors of the present application directly attach a flat display member in which a transparent resin layer is formed on the first surface of the transparent substrate and an antireflection layer is laminated on the second surface to the front surface of the flat display via the transparent resin layer. By providing a flat display without reflection, a transparent resin paste having a specific range of viscosity is discharged and cured from a base onto a transparent substrate held flat, and formed in a sheet-like manner. It was found that the flatness of the transparent resin layer was improved, and a flat display member capable of obtaining a flat display excellent in visibility and impact resistance without distortion of the display image could be produced, and the present invention was achieved.
すなわち、本発明は、透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成することを特徴とする平面ディスプレイ部材の製造方法を提供する。 That is, the present invention is a method for producing a flat display member having a transparent resin layer on the first surface on the transparent substrate and an antireflection layer on the outermost surface of the second surface, and on the transparent substrate, Forming the transparent resin layer through a step of discharging a transparent resin paste having a viscosity of 2000 to 50000 mPa · s at 25 ° C. from a die and applying the sheet-like method and a step of curing the applied transparent resin paste. A method of manufacturing a flat display member is provided.
本発明によれば、簡略な工程により、視認性に優れる平面ディスプレイ部材を製造でき、さらに、この平面ディスプレイ部材を用いることで表示品位・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを提供できる。 According to the present invention, a flat display member excellent in visibility can be manufactured by a simple process, and a flat display excellent in display quality and impact resistance can be provided by using this flat display member.
透明基材
本発明の平面ディスプレイ部材の製造方法に用いる透明基材は、平面ディスプレイの前面に配置され得る透明なものであれば、特に制限なく用いることができる。本発明の「透明」とは、その光透過率がＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠したヘイズ値に基づいて５以下、全光線透過率が８５％以上であることをいう。このような透明基材としては、ガラス基板、樹脂基板、フィルムなどを用いることができる。樹脂基板としては厚み０．５〜３ｍｍのアクリル板もしくはポリカーボネート基板等の公知の透明樹脂基板を用いることができる。また、フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートフィルムを用いることができる。ガラス基板としては厚み０.７〜３．５ｍｍのソーダガラスもしくは強化ガラス等の公知のガラス基板を用いることができる。特にガラス基板は、基材の平坦性を保持することが容易で、後述する透明樹脂層の形成が高品位となる点から、好ましく用いられる。
Transparent base material The transparent base material used for the manufacturing method of the flat display member of this invention can be especially used without a restriction | limiting, if it is a transparent thing which can be arrange | positioned in the front surface of a flat display. The term “transparent” in the present invention means that the light transmittance is 5 or less and the total light transmittance is 85% or more based on the haze value based on JIS K6714. As such a transparent substrate, a glass substrate, a resin substrate, a film, or the like can be used. As the resin substrate, a known transparent resin substrate such as an acrylic plate or a polycarbonate substrate having a thickness of 0.5 to 3 mm can be used. As the film, a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film can be used. As the glass substrate, a known glass substrate such as soda glass or tempered glass having a thickness of 0.7 to 3.5 mm can be used. In particular, the glass substrate is preferably used because it can easily maintain the flatness of the base material and the formation of a transparent resin layer described later is of high quality.
透明樹脂層
上記した透明基材上に、透明樹脂層を形成する。透明樹脂層は視認性、耐衝撃性の点より、０．１〜２．０ｍｍ、より好ましくは０．３〜１．５ｍｍの厚みであることが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合耐衝撃性能に劣り、２．０ｍｍを超える場合、透明性の低下や、厚みムラの発生等が懸念され、表示品位が低下する恐れがある。
Transparent resin layer A transparent resin layer is formed on the transparent substrate described above. The transparent resin layer preferably has a thickness of 0.1 to 2.0 mm, more preferably 0.3 to 1.5 mm, from the viewpoint of visibility and impact resistance. If the thickness is less than 0.1 mm, the impact resistance performance is poor. If the thickness exceeds 2.0 mm, there is a concern that the transparency may be deteriorated or the thickness may be uneven, and the display quality may be lowered.
透明樹脂としては、例えばアミド樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂などの適宜な透明樹脂を用いることができる。この中でも、透明性、耐衝撃性、耐候性などの点から、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂若しくはオレフィン樹脂又はこれらの２種以上の混合物が好ましく用いられる。 As the transparent resin, for example, an appropriate transparent resin such as an amide resin, a styrene resin, a vinyl chloride resin, a silicone resin, an acrylic resin, a urethane resin, or an olefin resin can be used. Among these, silicone resin, acrylic resin, urethane resin, olefin resin, or a mixture of two or more of these is preferably used in terms of transparency, impact resistance, weather resistance, and the like.
本発明の製造方法における透明樹脂層は、透明基材上に透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程と、硬化工程を経て形成される。ここで、「枚様方式」とは、透明基材上での塗布が終了した時点で透明樹脂ペーストの吐出を一旦終了して間欠的に塗布していくことを意味する。 The transparent resin layer in the production method of the present invention is formed through a step of discharging a transparent resin paste from a die onto a transparent substrate and applying it in a sheet-like manner, and a curing step. Here, the “sheet-like method” means that the application of the transparent resin paste is once stopped and applied intermittently when the application on the transparent substrate is completed.
本発明で好ましく用いられる０．１ｍｍ以上の厚みの透明樹脂層を得るための透明樹脂ペーストの塗布方法としては、密閉型の口金から透明樹脂ペーストを吐出して、基材上に塗布するダイコート、リップコート塗布等があげられる。特に、スリットダイコート塗布は圧送やシリンジポンプ、ダイヤフラムポンプ、ギヤポンプなどを用いて、いわゆるスリット状の吐出口を有する口金からペーストを吐出し、塗布する方法であり、必要なペースト量だけを塗布することができるため、理論的には廃液が発生せず、経済性に優れているという点から好ましく用いられる As a coating method of a transparent resin paste for obtaining a transparent resin layer having a thickness of 0.1 mm or more preferably used in the present invention, a die coat is applied by discharging the transparent resin paste from a sealed die and coating it on a substrate. Examples include lip coat application. In particular, slit die coating is a method in which paste is discharged from a die having a so-called slit-shaped discharge port using a pressure feed, a syringe pump, a diaphragm pump, a gear pump, or the like, and only a necessary paste amount is applied. Theoretically, it is preferably used because it does not generate waste liquid and is economical.
透明樹脂ペーストは枚様形状に塗布される。本発明の製造方法で得られた平面ディスプレイ部材を平面ディスプレイの視認側に装着する際、平面ディスプレイは枚様であるため、最終的には平面ディスプレイ部材を枚様に成型する必要がある。さらに、後述する基材の平坦性の保持の際も、連続的に形成するよりは、枚様形状で間欠的かつ選択的に形成するほうが簡便である。 The transparent resin paste is applied in a sheet shape. When the flat display member obtained by the manufacturing method of the present invention is mounted on the viewing side of the flat display, the flat display is sheet-like, so it is necessary to finally form the flat display member into pieces. Furthermore, when maintaining the flatness of the substrate, which will be described later, it is easier to form intermittently and selectively in a sheet-like shape, rather than continuously.
透明樹脂ペーストとは透明樹脂の未硬化の状態のものを言い、透明樹脂を適宜の溶媒に溶解した透明樹脂溶液、透明樹脂の溶融液、硬化前の未反応物（以下、硬化主材）と硬化開始剤の混合液などを用いることができる。ここで溶媒とは、樹脂を溶解可能で、沸点２００℃以下、８０〜１５０℃の加熱により除去可能なものを言う。特に、溶媒の乾燥が不要で、厚み制御が容易である点から、無溶媒ペーストが好ましく用いられる。さらには、硬化開始剤と硬化主材の混合物からなる複数液硬化型ペーストが好ましく用いられる。例えばシリコーン樹脂の場合、硬化主材としては、シラノール基や、ビニル基に代表されるアルケニル基等の官能基を有するベースポリマーとしてのオルガノポリシロキサンが用いられる。オルガノポリシロキサンとしては、アルケニル基や水酸基（シラノール基）等の官能基を１分子中に２個以上有するものが挙げられ、例えば、末端にシラノール基や、ビニル基等のアルケニル基を有するジメチルポリシロキサンやジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等のジオルガノポリシロキサンが用いられる。硬化開始剤としては、３官能以上のシランモノマー、３官能以上のメチルハイドロジェン（ポリ）シロキサン等のオルガノハイドロジェン（ポリ）シロキサン、アルキルオルソシリケート等の金属アルコラートなどが挙げられる。さらに硬化反応促進触媒として、白金化合物、ジブチル錫ジアセテートやジブチル錫ジラウリレート等の有機金属化合物、又はオクテン酸錫のような金属脂肪酸塩などを適宜混合する。前記硬化材や触媒の種類や量は、架橋度、可使時間や硬化速度を考慮して適宜決定すればよい。また必要に応じて、フィラー、希釈剤、可塑剤、着色剤、紫外線吸収、粘着付与剤などを配合することもできる。 The transparent resin paste refers to a transparent resin in an uncured state, a transparent resin solution obtained by dissolving the transparent resin in an appropriate solvent, a melt of the transparent resin, an unreacted material before curing (hereinafter, a cured main material), and A mixed liquid of a curing initiator can be used. Here, the solvent refers to a solvent that can dissolve the resin and can be removed by heating at a boiling point of 200 ° C. or lower and 80 to 150 ° C. In particular, a solvent-free paste is preferably used because the solvent does not need to be dried and the thickness can be easily controlled. Furthermore, a multi-component curable paste made of a mixture of a curing initiator and a main curing material is preferably used. For example, in the case of a silicone resin, an organopolysiloxane as a base polymer having a functional group such as a silanol group or an alkenyl group typified by a vinyl group is used as a main curing material. Examples of the organopolysiloxane include those having two or more functional groups such as alkenyl groups and hydroxyl groups (silanol groups) in one molecule. For example, dimethylpolysiloxane having silanol groups or alkenyl groups such as vinyl groups at the terminals. Diorganopolysiloxanes such as siloxane and dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer are used. Examples of the curing initiator include trifunctional or higher silane monomers, trifunctional or higher organohydrogen (poly) siloxanes such as methylhydrogen (poly) siloxane, and metal alcoholates such as alkyl orthosilicates. Further, as a curing reaction promoting catalyst, a platinum compound, an organic metal compound such as dibutyltin diacetate or dibutyltin dilaurate, or a metal fatty acid salt such as tin octenoate is mixed as appropriate. The type and amount of the curing material and catalyst may be appropriately determined in consideration of the degree of crosslinking, pot life and curing rate. Moreover, a filler, a diluent, a plasticizer, a coloring agent, ultraviolet absorption, a tackifier, etc. can also be mix | blended as needed.
さらに、透明樹脂ペーストの２５℃における粘度は、２，０００〜５０，０００ｍＰａ・ｓであり、好ましくは４，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。２，０００ｍＰａ・ｓ未満ではペーストのレベリングによるたれや広がりが発生し、０．１ｍｍ以上の厚みを制御することが困難となる。また、５０，０００ｍＰａ・ｓを超えると、ペースト吐出の際のペースト流の安定性確保が困難になることから、好ましくない。なお、粘度は、JIS Z8803-1998に従って測定される。 Furthermore, the viscosity at 25 ° C. of the transparent resin paste is 2,000 to 50,000 mPa · s, preferably 4,000 to 30,000 mPa · s. If it is less than 2,000 mPa · s, sagging or spreading occurs due to leveling of the paste, and it becomes difficult to control the thickness of 0.1 mm or more. On the other hand, if it exceeds 50,000 mPa · s, it is difficult to ensure the stability of the paste flow when discharging the paste, which is not preferable. The viscosity is measured according to JIS Z8803-1998.
上記した透明樹脂自体はこの分野において周知であり、市販もされているので、市販品を用いてもよい。 The above-mentioned transparent resin itself is well known in this field and is also commercially available, so a commercially available product may be used.
硬化工程は、透明樹脂溶液を用いた場合は加熱による溶媒除去、複数液硬化型の無溶媒樹脂を用いた場合は、硬化反応トリガーとエネルギー、例えば加熱、活性エネルギー線の照射による反応開始剤の活性化により、硬化主材の硬化反応が進み、透明樹脂を得ることができる。 When the transparent resin solution is used, the curing process removes the solvent by heating, and when a multi-part curable solventless resin is used, the curing reaction trigger and energy, for example, the reaction initiator by heating, irradiation of active energy rays. By the activation, the curing reaction of the cured main material proceeds and a transparent resin can be obtained.
このような透明樹脂ペーストの吐出工程、硬化工程においては、基材の平坦性を保持することが好ましい。すなわち、未硬化の透明樹脂ペーストを、凹凸がある状態の基材上で吐出・硬化した場合、透明樹脂層の厚みムラ、透明性の低下が懸念され、表示品位が低下する恐れがある。基材の平坦性を保持する方法としては、平坦な支持体上に基材を固定する方法などが挙げられる。ガラスを用いる場合は、平坦性の保持が容易である。樹脂基板を用いる場合は、ステンレスや御影石などの平坦なステージ上に真空吸着で固定する方法が、簡便である。フィルムを用いる場合は、ステンレスやゴムなどの平坦なローラー上にフィルムを通したり、ステンレスや御影石などの平坦なステージ上に真空吸着で固定する方法が挙げられる。特に、平坦なステージ上に真空吸着で基材を固定し、吐出工程はステージと口金が相対移動しながら、硬化工程はステージの水平度を保持した状態で行うことが、様々な平坦性を有する基材を使用でき、かつ平坦性を保持して、厚みムラのない透明樹脂層を得られる点から好ましい。 In such a transparent resin paste discharging step and curing step, it is preferable to maintain the flatness of the substrate. That is, when an uncured transparent resin paste is discharged / cured on a substrate with unevenness, there is a concern about uneven thickness of the transparent resin layer and a decrease in transparency, which may deteriorate the display quality. Examples of the method for maintaining the flatness of the substrate include a method of fixing the substrate on a flat support. When glass is used, it is easy to maintain flatness. When using a resin substrate, a method of fixing by vacuum suction on a flat stage such as stainless steel or granite is simple. In the case of using a film, a method of passing the film on a flat roller such as stainless steel or rubber or fixing by vacuum suction on a flat stage such as stainless steel or granite can be used. In particular, the substrate is fixed by vacuum suction on a flat stage, and the discharge process has various flatnesses while the stage and the die move relative to each other and the curing process maintains the level of the stage. It is preferable from the viewpoint that a base material can be used and the flatness is maintained and a transparent resin layer having no thickness unevenness can be obtained.
反射防止層
透明基材の第２の面の最表面に、反射防止層を形成する。反射防止層は、ディスプレイの視認側に装着したとき、外光の反射防止、映り込み防止または低反射映り込み防止の機能を果たして、ディスプレイの画像表示の劣化を防ぐものである。このような効果を発揮させる反射防止層の形成は、透明基材の他方の面に反射防止フィルムを積層する、あるいは透明基材に直接反射防止処理を施すなどの方法を用いることができる。反射防止フィルムを用いる場合は、厚さが０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．３ｍｍの範囲にあるのがよい。通常は、透明性が良好でかつ機械的強度にすぐれる、ポリエステルフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルムなどのプラスチックフィルムを基材とし、これに可視光反射率が５％以下、好ましくは３％以下となる反射防止処理を施したもの、ヘイズ値が５０％以下となるアンチグレア（写り込み防止）処理を施したものなどが用いられる。これらの各処理の方法には特に限定はなく、公知の方法を用いて行えばよい。このような反射防止フィルム自体は周知であり、市販もされているので、市販品を用いることもできる。
Antireflection layer An antireflection layer is formed on the outermost surface of the second surface of the transparent substrate. The antireflection layer serves to prevent external light reflection, reflection prevention, or low reflection reflection prevention when attached to the viewing side of the display, thereby preventing image display deterioration of the display. Formation of the antireflection layer exhibiting such an effect can be performed by a method of laminating an antireflection film on the other surface of the transparent base material, or directly applying an antireflection treatment to the transparent base material. When an antireflection film is used, the thickness should be in the range of 0.01 to 0.5 mm, preferably 0.05 to 0.3 mm. Usually, plastic film such as polyester film, polyacetylcellulose film, polyacrylic film, polycarbonate film, epoxy film, polyurethane film, etc. with good transparency and excellent mechanical strength is used as the base material. Those having an antireflection treatment with a reflectance of 5% or less, preferably 3% or less, those having an antiglare (antireflection) treatment with a haze value of 50% or less, and the like are used. There are no particular limitations on the method of each treatment, and any known method may be used. Since such an antireflection film itself is well known and commercially available, a commercially available product can also be used.
電磁波シールド層
さらに、透明基材の第２の面に、電磁波シールド層を形成することもできる。特にプラズマディスプレイには、電磁波シールドが必須となる。電磁波シールドはプラズマディスプレイ前面の表示エリアをカバーするように設けられた導電部と、導電部の周辺４辺にアースと呼ばれる帯状の部分がある。アース部分は、金属ペースト法、導電性テープなどにより適宜形成される。プラズマディスプレイより放射された電磁波のほとんどは導電部で反射されるが、一部は電気エネルギーとなり導電部を導通しこのアースから筐体に接地される。電磁波シールドに基づく電磁波シールド効果は、たとえば、４２インチのプラズマディスプレイ単体からの放射電界強度が４０〜５０ｄＢμＶ／ｍである場合、１０ｄＢ以上、好ましくは２０ｄＢ以上のシールド効果が必要である。つまり、ＶＣＣＩ規制値（１０ｍ法）では、クラスＡで４０ｄＢμＶ／ｍ以下であり、マージン６〜７ｄＢを考えると、プラズマディスプレイ単体からの放射電界強度が４０〜５０ｄＢμＶ／ｍに対し、シールド効果が１０ｄＢ以上、好ましくは２０ｄＢ以上である。相対値として、シールド効果１０ｄＢ以上に必要な表面抵抗値は１０Ω／ｃｍ２以下であり、好ましくは５Ω／ｃｍ２以下である。
Electromagnetic Shielding Layer Further, an electromagnetic shielding layer can be formed on the second surface of the transparent substrate. In particular, an electromagnetic wave shield is essential for a plasma display. The electromagnetic wave shield has a conductive portion provided so as to cover a display area on the front surface of the plasma display, and a belt-like portion called ground on the four sides around the conductive portion. The ground portion is appropriately formed by a metal paste method, a conductive tape, or the like. Although most of the electromagnetic waves radiated from the plasma display are reflected by the conductive portion, some of the electromagnetic waves become electric energy and are conducted through the conductive portion and are grounded from this ground to the casing. The electromagnetic wave shielding effect based on the electromagnetic wave shielding requires, for example, a shielding effect of 10 dB or more, preferably 20 dB or more when the radiation electric field intensity from a 42-inch plasma display alone is 40 to 50 dBμV / m. In other words, the VCCI regulation value (10 m method) is 40 dBμV / m or less in class A, and considering the margin of 6 to 7 dB, the radiation field intensity from the plasma display alone is 40 to 50 dBμV / m, and the shielding effect is 10 dB. Above, preferably 20 dB or more. As a relative value, the surface resistance value required for a shielding effect of 10 dB or more is 10 Ω / cm 2 or less, preferably 5 Ω / cm 2 or less.
このような効果を発揮させる電磁波シールド層の形成は、透明基材の他方の面に電磁波シールドフィルムを積層する、あるいは透明基材に直接電磁波シールド処理を施すなどの方法を用いることができる。電磁波シールドフィルムを用いる場合は、厚さが０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．３ｍｍの範囲にあるのがよい。通常は、可視光線透過率が７０％以上の透明性を有し、機械的強度にすぐれ、耐熱性の良好であるプラスチック、たとえば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルフォンなどのフィルムを基材として、この上に、繊維に無電解メッキした金属メッシュ、パターニングした金属メッシュ、導電性微粒子をパターニング印刷した金属メッシュ、金属薄膜と透明薄膜との透明導電多層膜などを、設けたものなどが用いられる。なお、このような電磁波シールド層自体もこの分野において周知である。 Formation of the electromagnetic wave shielding layer that exhibits such an effect can be performed by laminating an electromagnetic wave shielding film on the other surface of the transparent substrate, or by directly applying an electromagnetic wave shielding treatment to the transparent substrate. When an electromagnetic wave shielding film is used, the thickness should be in the range of 0.01 to 0.5 mm, preferably 0.05 to 0.3 mm. Usually, a plastic having a visible light transmittance of 70% or more, excellent mechanical strength, and good heat resistance, such as polyester resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene naphthalate resin, polyethylene terephthalate Resin, triacetyl cellulose, arton resin, epoxy resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyethersulfone, etc. are used as a base material, and the electroless plating is performed on the fibers thereon. A metal mesh, a patterned metal mesh, a metal mesh patterned and printed with conductive fine particles, a transparent conductive multilayer film of a metal thin film and a transparent thin film, and the like are used. Such an electromagnetic wave shielding layer itself is well known in this field.
層構成
本発明の製造方法で得られる平面ディスプレイ部材の層構成としては、透明樹脂層／透明基材／反射防止層、透明樹脂層／透明基材／電磁波シールド層／反射防止層の構成がある。さらに、透過率制御機能を付与することにより、平面ディスプレイ用の光学フィルターとして用いることができる。透過率制御機能は各層に付与することもできるが、透過する光の波長を制御するための色補正フィルムや、赤外線や紫外線をカットするフィルム、また、プラズマディスプレイに用いる場合は、ネオン光をカットする機能を有するフィルム、指紋など汚染物質が表面に付着することを防止する防汚性フィルムなどを貼り付けることで、多機能の光学フィルターを作成できる。また、こうして得られる光学フィルターは、平面ディスプレイ用の前面フィルター、例えば、プラズマディスプレイパネルなどの前面フィルターとして、好適に用いることができる。このような、ディスプレイ部材に用いられる各種フィルムはこの分野において周知である。
Layer structure As a layer structure of the flat display member obtained by the production method of the present invention, there are a transparent resin layer / transparent substrate / antireflection layer and a transparent resin layer / transparent substrate / electromagnetic wave shielding layer / antireflection layer. . Further, by providing a transmittance control function, it can be used as an optical filter for a flat display. The transmittance control function can also be given to each layer, but it cuts neon light when used for color correction films for controlling the wavelength of transmitted light, films for cutting infrared and ultraviolet rays, and plasma displays. A multifunctional optical filter can be created by attaching a film having a function to prevent contamination of the surface such as fingerprints to prevent contaminants such as fingerprints from adhering to the surface. Further, the optical filter thus obtained can be suitably used as a front filter for a flat display, for example, a front filter for a plasma display panel or the like. Such various films used for display members are well known in the art.
平面ディスプレイ
以上、本発明の製造方法により得られる平面ディスプレイ部材を、平面ディスプレイの視認側に、前記透明樹脂層を介して直接装着することにより、表示品位・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを提供することが可能となる。
Flat display As described above, a flat display having excellent display quality and impact resistance is provided by directly mounting the flat display member obtained by the manufacturing method of the present invention on the viewing side of the flat display via the transparent resin layer. It becomes possible to do.
以下、本発明を実施例に基づきより具体的に説明する。もっとも、本発明は下記実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
各例で用いた部材、材料は、次のとおりである。
透明基材 ：
日本板硝子製ソーダガラス（厚み１．８ｍｍ）
東レ製ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム「ルミラー」（厚み０．１ｍｍ）
三菱レイヨン製アクリレート樹脂板「アクリライト」（厚み２ｍｍ）
透明樹脂ペースト：
東レダウコーニングシリコーン製シリコーン組成物（無溶媒、２液：Ａ、Ｂ）
綜研化学製アクリルシロップ（無溶媒、１液）
バイエル製ウレタン組成物（無溶媒、２液：イソシアネート、ポリオール）
反射防止層 ：
住友大阪セメント製反射防止フィルム「クリアラス」（厚み０．１ｍｍ）
電磁波シールド層：
日本フィルコン製パターニング銅メッシュフィルム（厚み０．１ｍｍ）
塗布機 ：
東レエンジニアリング製スリットダイコーター
康井精機製フレキシブルコーター
硬化機 ：
タバイ製熱風乾燥炉
ＪＡＴＥＣ製ＵＶ照射装置
大日本スクリーン製枚様露光機
ラミネーター ：
ＭＣＫ製オートカットラミネーター
大成ラミネーター製ロールラミネーター
The members and materials used in each example are as follows.
Transparent substrate:
Japan plate glass soda glass (thickness 1.8mm)
Toray polyethylene terephthalate (PET) film "Lumirror" (thickness 0.1mm)
Mitsubishi Rayon acrylate resin plate "Acrylite" (thickness 2mm)
Transparent resin paste:
Toray Dow Corning Silicone Silicone Composition (no solvent, 2 parts: A, B)
Soken Chemical's acrylic syrup (no solvent, 1 pack)
Bayer urethane composition (solvent free, 2 component: isocyanate, polyol)
Antireflection layer:
Sumitomo Osaka Cement Anti-Reflection Film "Clear Las" (thickness 0.1mm)
Electromagnetic shielding layer:
Patterned copper mesh film made by Nippon Filcon (thickness 0.1mm)
Application machine:
Toray Engineering slit die coater Yasui Seiki flexible coater curing machine:
Tabai Hot Air Drying Furnace JATEC UV Irradiator Dainippon Screen Sheet Exposure Machine Laminator:
MCK auto-cut laminator Taisei laminator roll laminator
実施例１
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのソーダガラスをダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、シリコーン組成物（重量比：Ａ／Ｂ＝１／１、粘度８０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み１．１ｍｍのスペーサーで幅５４０ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：２．５ｍ／分、吐出圧力：３ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：９５５ｍｍ。その後、熱風乾燥炉までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して１００℃、１０分間加熱して、硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．５ｍｍ、幅５４５ｍｍ、長さ９６０ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、ソーダガラスの第２の面に幅９６５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターでラミネートして、平面ディスプレイ部材を製造した。
Example 1
A soda glass having a size of 965 mm × 550 mm is fixed on a stainless steel stage of a die coater by vacuum adsorption, and a silicone composition (weight ratio: A / B = 1/1, viscosity 8000 mPa · s) is placed on the first surface. It was applied using a slit die coat die in which a slit having a width of 540 mm was formed with a spacer having a thickness of 1.1 mm. For application, the base is fixed to the gate with the slit facing down, the stage moves underneath, and the supply of the coating liquid is performed by pressure feeding. Application start: Pressurization start, Application end: Pressure supply so that pressurization ends Was performed by switching with a solenoid valve. The conditions are as follows. Application speed: 2.5 m / min, discharge pressure: 3 kg / cm 2 , application length: 955 mm. Then, it conveyed on the roller made from UPE to a hot-air drying furnace, and left still on the stainless steel stage, and it heated and hardened | cured for 10 minutes at 100 degreeC. The obtained transparent resin had a thickness of 0.5 mm, a width of 545 mm, and a length of 960 mm. Subsequently, a PET separate film having a width of 965 mm was laminated on the upper surface of the transparent resin with an auto-cut laminator. After that, a flat display member was manufactured by laminating a 965 mm wide Clearus (trade name) on the second surface of soda glass with an auto-cut laminator.
実施例２
幅１０００ｍｍのＰＥＴフィルムをフレキシブルコーターに通し、巻き出し部と巻き取り部のテンションを調整することによりステンレス製の塗工ローラーに密着させた。このフィルムの第１の面にアクリルシロップ（粘度２０，０００ｍＰａ・ｓ）を、塗布幅９７０ｍｍのリップコート口金を用いて塗布した。塗布は、口金のリップが上に向いた状態で、塗液パンの直上に塗工ローラーを固定し、塗工ローラー上をフィルムが搬送され、塗液供給をポンプ液送で行い、塗布開始：リターンバルブ閉→供給バルブ開、塗布終了：供給バルブ閉→リターンバルブ開となるように圧力供給をバルブで切り替える方式で行った。条件は以下の通り。搬送速度：５．０ｍ／分、吐出回転数：１５００ｒｐｍ、塗布長さ：５４０ｍｍ、塗布間隔：１０ｍｍ。その後、巻き出し部と巻き取り部の調整による進行方向水平、および左右ガイドテンターによる進行方向垂直なテンション調整により、塗布領域を水平かつ平坦に保持されたフィルムにＵＶ照射機で５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．７ｍｍ、幅９８０ｍｍ、長さ５４４ｍ、間隔６ｍｍで形成されていた。続いて、ロールラミネーターで透明樹脂の上面に幅１０００ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムを、第２の面に幅１０００ｍｍのクリアラス（商品名）をラミネートして、幅９６５ｍｍに両端スリット加工を行い、長さ５５０ｍｍ平面ディスプレイ部材を製造した。
Example 2
A PET film having a width of 1000 mm was passed through a flexible coater, and the tension between the unwinding part and the winding part was adjusted to be in close contact with the stainless steel coating roller. Acrylic syrup (viscosity 20,000 mPa · s) was applied to the first surface of the film using a lip coat die having a coating width of 970 mm. For application, with the base lip facing up, fix the coating roller directly above the coating liquid pan, the film is transported on the coating roller, supply the coating liquid by pumping, and start coating: Return valve closed → supply valve opened, application completed: Pressure supply was switched by valve so that supply valve closed → return valve opened. The conditions are as follows. Conveyance speed: 5.0 m / min, discharge rotation speed: 1500 rpm, application length: 540 mm, application interval: 10 mm. Thereafter, the application area is horizontally and flatly adjusted by tension adjustment in the advancing direction by adjusting the unwinding part and the winding part and in the advancing direction by the left and right guide tenters, and the film is held at 500 mJ / cm 2 with a UV irradiation machine. Curing was performed by UV irradiation. The obtained transparent resin was formed with a thickness of 0.7 mm, a width of 980 mm, a length of 544 m, and an interval of 6 mm. Subsequently, a PET laminator film with a width of 1000 mm is laminated on the upper surface of the transparent resin with a roll laminator, a clear lath (product name) with a width of 1000 mm is laminated on the second surface, and both ends are slit to a width of 965 mm, and the length is 550 mm. A flat display member was manufactured.
実施例３
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのアクリレート樹脂板をダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、アクリルシロップ（粘度２０，０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み０．７ｍｍのスペーサーで幅９５０ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：４．０ｍ／分、吐出圧力：２ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：５４０ｍｍ。その後、露光機までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して４００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．３ｍｍ、幅９６０ｍｍ、長さ５４５ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、アクリレート樹脂板の第２の面に９２５ｍｍ×５１０ｍｍのメッシュパターンが４０ｍｍ間隔で形成された９６５ｍｍ幅の銅メッシュフィルムロールをオートカットラミネーターでラミネートした。続いてメッシュフィルムの上に幅９４５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターで９４５ｍｍ×５３０ｍｍに内貼りラミネートして、メッシュフィルム周辺の銅箔が１０ｍｍ幅で剥き出しになってアースが形成された平面ディスプレイ部材を製造した。
Example 3
An acrylate resin plate with a size of 965 mm x 550 mm is fixed to the stainless steel stage of the die coater by vacuum suction, and acrylic syrup (viscosity 20,000 mPa · s) is placed on the first surface with a 0.7 mm thick spacer. It applied using the slit die-coat die which formed the slit of 950 mm. For application, the base is fixed to the gate with the slit facing down, the stage moves underneath, and the supply of the coating liquid is performed by pressure feeding. Application start: Pressurization start, Application end: Pressure supply so that pressurization ends Was performed by switching with a solenoid valve. The conditions are as follows. Application speed: 4.0 m / min, discharge pressure: 2 kg / cm 2 , application length: 540 mm. Thereafter, the film was conveyed on a UPE roller to an exposure machine, left on a stainless steel stage, and cured by irradiation with 400 mJ / cm 2 UV. The obtained transparent resin had a thickness of 0.3 mm, a width of 960 mm, and a length of 545 mm. Subsequently, a PET separate film having a width of 965 mm was laminated on the upper surface of the transparent resin with an auto-cut laminator. Thereafter, a 965 mm wide copper mesh film roll in which a 925 mm × 510 mm mesh pattern was formed at 40 mm intervals on the second surface of the acrylate resin plate was laminated with an auto-cut laminator. Subsequently, a 945 mm wide clear lath (trade name) is laminated on the mesh film to 945 mm × 530 mm with an auto-cut laminator, and the copper foil around the mesh film is exposed 10 mm wide to form a ground plane. A display member was produced.
実施例４
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのＰＥＴフィルムをダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、ウレタン組成物（ＮＣＯ／ＯＨ＝１／１、粘度１５，０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み１．４ｍｍのスペーサーで幅５３５ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：２．０ｍ／分、吐出圧力：３ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：９５０ｍｍ。その後、熱風乾燥炉までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して１００℃、１０分間加熱して、硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み１．０ｍｍ、幅５４５ｍｍ、長さ９６０ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、ＰＥＴフィルムの第２の面に幅９６５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターでラミネートして、平面ディスプレイ部材を製造した。
Example 4
A PET film having a size of 965 mm × 550 mm was fixed on a stainless steel stage of a die coater by vacuum adsorption, and a urethane composition (NCO / OH = 1/1, viscosity 15,000 mPa · s) was applied to the first surface. It applied using the slit die-coat die which formed the slit of width 535mm with the spacer of thickness 1.4mm. For application, the base is fixed to the gate with the slit facing down, the stage moves underneath, and the supply of the coating liquid is performed by pressure feeding. Application start: Pressurization start, Application end: Pressure supply so that pressurization ends Was performed by switching with a solenoid valve. The conditions are as follows. Application speed: 2.0 m / min, discharge pressure: 3 kg / cm 2 , application length: 950 mm. Then, it conveyed on the roller made from UPE to a hot-air drying furnace, and left still on the stainless steel stage, and it heated and hardened | cured for 10 minutes at 100 degreeC. The obtained transparent resin had a thickness of 1.0 mm, a width of 545 mm, and a length of 960 mm. Subsequently, a PET separate film having a width of 965 mm was laminated on the upper surface of the transparent resin with an auto-cut laminator. Thereafter, a 965 mm-wide clear lath (trade name) was laminated on the second surface of the PET film with an auto-cut laminator to produce a flat display member.
比較例１
アクリルシロップの塗布開始・終了切り替えを行わず、連続塗布を行い、巻き出し部と巻き取り部のテンション調整のみでフィルムを保持してＵＶ照射した以外は実施例２と同様に透明樹脂を形成し、平面ディスプレイ部材を製造した。
Comparative Example 1
A transparent resin is formed in the same manner as in Example 2 except that the application start / end switching of acrylic syrup is not performed, continuous application is performed, and the film is held and UV irradiation is performed only by adjusting the tension of the unwinding part and the winding part. A flat display member was manufactured.
比較例２
アクリル樹脂メチルエチルケトン溶液（３０重量％、粘度７００ｍＰａ・ｓ）を用い、熱風乾燥炉でメチルエチルケトンを加熱除去して硬化した以外は実施例２と同様にして透明樹脂を形成し、平面ディスプレイ部材を製造した。得られた透明樹脂は、厚み０．０５ｍｍであった。
Comparative Example 2
A transparent resin was formed in the same manner as in Example 2 except that an acrylic resin methyl ethyl ketone solution (30% by weight, viscosity 700 mPa · s) was used, and the methyl ethyl ketone was removed by heating in a hot air drying furnace to produce a flat display member. . The obtained transparent resin had a thickness of 0.05 mm.
比較例３
アクリルシロップの粘度を１５００ｍＰａ・ｓとする以外は実施例２と同様にして透明樹脂を形成した。得られた透明樹脂は第１の面の厚みが０．２ｍｍで、第２の面にまわりこんで形成されており、クリアラス（商品名）ラミネートの際、均一なラミネートができなかった。
Comparative Example 3
A transparent resin was formed in the same manner as in Example 2 except that the viscosity of the acrylic syrup was 1500 mPa · s. The obtained transparent resin had a thickness of the first surface of 0.2 mm and was formed so as to wrap around the second surface, and a uniform lamination could not be performed during the clear lath (trade name) lamination.
実施例１〜４、比較例１，２の平面ディスプレイ部材を４２インチプラズマディスプレイ（松下電器産業製「ＰＨＤ７」）に透明樹脂層を介して装着して、視認性を評価した。また、５５４×９８０×２．８ｍｍの高歪み点ガラス（日本電気硝子製「ＰＰ８」）に透明樹脂層を介して装着して、耐衝撃性を評価した。結果を表１に示す。なお、評価方法は次の通りである。 The flat display members of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were attached to a 42 inch plasma display (“PHD7” manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) via a transparent resin layer, and the visibility was evaluated. Moreover, it mounted | worn with the high distortion point glass (Nippon Electric Glass "PP8") of 554x980x2.8mm through the transparent resin layer, and evaluated impact resistance. The results are shown in Table 1. The evaluation method is as follows.
視認性：
室内、蛍光灯下、照度１５００Ｌｘの環境下で画像を表示させ、表示画像を観察した。
Visibility:
Images were displayed indoors, under fluorescent lights, and in an environment with an illuminance of 1500 Lx, and the displayed images were observed.
耐衝撃性：
外形５５４×９８０ｍｍ、内形５３４×９６０ｍｍ、厚み４ｍｍのステンレス製の枠を定盤上に固定し、平面ディスプレイ部材を装着した高歪み点ガラスをガラス面を下にして枠に乗せ、外形５５８×９８４ｍｍ、内形５３４×９６０ｍｍ、厚み２ｍｍのステンレス製の枠を用いて平面ディスプレイ部材面から定盤に固定する。続いてディスプレイ部材面からスプリングインパクトハンマー（ＰＴＬ社製）で０．５Ｊの衝撃を与え、高歪み点ガラスの損傷具合を観察した。
Impact resistance:
A stainless steel frame having an outer shape of 554 × 980 mm, an inner shape of 534 × 960 mm, and a thickness of 4 mm is fixed on the surface plate, and a high strain point glass equipped with a flat display member is placed on the frame with the glass surface facing down, and the outer shape of 558 × Using a stainless steel frame of 984 mm, inner shape 534 × 960 mm, thickness 2 mm, it is fixed from the flat display member surface to the surface plate. Subsequently, an impact of 0.5 J was applied from the display member surface with a spring impact hammer (manufactured by PTL), and the degree of damage of the high strain point glass was observed.
結果を下記表１に示す。表１に示されるように、本発明の製造方法により製造した平面ディスプレイ部材は、優れた視認性及び耐衝撃性を示したが、枚様方式ではなく連続的に製造した比較例１や低粘度の樹脂溶液を塗布した比較例２では視認性が劣っていた。また、低粘度の樹脂ペーストを用いた比較例３では、上記の通り、反射防止フィルムの均一なラミネートができなかった。 The results are shown in Table 1 below. As shown in Table 1, the flat display member produced by the production method of the present invention showed excellent visibility and impact resistance, but was not a sheet-like method and was produced continuously in Comparative Example 1 and low viscosity. In Comparative Example 2 in which the resin solution was applied, the visibility was poor. Further, in Comparative Example 3 using the low-viscosity resin paste, as described above, the antireflection film could not be uniformly laminated.
Claims (8)
The method according to claim 1, wherein the display member has an electromagnetic wave shielding layer on the second surface of the transparent substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005090676A JP2006276105A (en) | 2005-03-28 | 2005-03-28 | Manufacturing method of flat display member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005090676A JP2006276105A (en) | 2005-03-28 | 2005-03-28 | Manufacturing method of flat display member |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006276105A true JP2006276105A (en) | 2006-10-12 |
Family
ID=37210982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005090676A Pending JP2006276105A (en) | 2005-03-28 | 2005-03-28 | Manufacturing method of flat display member |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006276105A (en) |
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