JP2006267244A - Semiconductive composition for electrophotographic equipment and semiconductive member for electrophotographic equipment obtained by using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductive composition for electrophotographic equipment excellent in dispersibility, ensuring small variation of electric resistance in a semiconductive region, and excellent in control of conductivity. <P>SOLUTION: The semiconductive composition for electrophotographic equipment contains as essential components (A) a binder polymer having an ionic functional group, (B) metal nanoparticles and (C) at least one high-molecular-weight pigment dispersant selected from the group consisting of (C1) a polymer of a comb structure having a pigment-affinitive group in at least one of a backbone and a plurality of side chains and having a plurality of side chains constituting a solvation moiety, wherein a number average molecular weight of the polymer is within the range of 2,000-1,000,000, (C2) a polymer having a plurality of pigment-affinitive moieties comprising a pigment-affinitive group in a backbone, wherein a number average molecular weight of the polymer is within the range of 2,000-1,000,000, and (C3) a straight chain polymer having a pigment-affinitive moiety comprising a pigment-affinitive group at one end of a backbone, wherein a number average molecular weight of the polymer is within the range of 1,000-1,000,000. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子写真機器用半導電性組成物およびそれを用いた電子写真機器用半導電性部材に関するものであり、詳しくは、現像ロールのような電子写真機器用半導電性部材等に用いられる電子写真機器用半導電性組成物、およびそれを用いた電子写真機器用半導電性部材に関するものである。   The present invention relates to a semiconductive composition for electrophotographic equipment and a semiconductive member for electrophotographic equipment using the same, and more specifically, to a semiconductive member for electrophotographic equipment such as a developing roll. The present invention relates to a semiconductive composition for electrophotographic equipment, and a semiconductive member for electrophotographic equipment using the same.

一般に、現像ロールのような電子写真機器用半導電性部材等に用いられる導電性組成物は、好適に使用するためには電気抵抗の制御が必須である。そのため、従来は、樹脂やゴム等のバインダーポリマーに、第四級アンモニウム塩等のイオン導電剤や、カーボンブラック等の電子導電剤を配合することにより、電気抵抗の制御を行っていた。   In general, in order to use a conductive composition used for a semiconductive member for an electrophotographic apparatus such as a developing roll, it is essential to control electric resistance. Therefore, conventionally, the electrical resistance is controlled by blending an ion conductive agent such as a quaternary ammonium salt or an electronic conductive agent such as carbon black into a binder polymer such as resin or rubber.

上記導電剤のうち、このイオン導電剤は、バインダーポリマーと複合化した場合、バインダーポリマーに溶解するため、導電性のばらつきが小さく、また電圧を変化させた時の電気抵抗の変動が小さく、電気抵抗の電圧依存性が小さいという利点がある。しかし、このイオン導電剤は水分等の影響を受けやすく、高温高湿と低温低湿の条件下では、複合体で電気抵抗が2桁以上変動するため、電気抵抗の環境依存性が大きく、電子写真機器部材としての使用には制約が多い。一方、上記カーボンブラック等の電子導電剤は、バインダーポリマーと複合化した場合、水分等の影響を受けにくく、高温高湿と低温低湿の条件下での電気抵抗の変動が小さいため、電気抵抗の環境依存性が小さいという利点がある。しかし、この電子導電剤は、一般に、凝集性が強いため、バインダーポリマー中での均一分散が困難であり、したがって、電気抵抗のばらつきが大きく、導電性の制御が困難である。また、比較的均一に分散している場合でも、導電性発現のメカニズムがバインダーポリマー中のカーボン間を、電子が高電圧により伝わるトンネル効果もしくはホッピング現象によるものであるため、電圧を変化させた時の電気抵抗の変動が大きく、電気抵抗の電圧依存性が大きいという難点がある。   Among the above conductive agents, this ionic conductive agent dissolves in the binder polymer when it is combined with the binder polymer, so that the variation in conductivity is small, and the variation in electrical resistance when the voltage is changed is small. There is an advantage that the voltage dependency of the resistance is small. However, this ionic conductive agent is easily affected by moisture and the like, and under high temperature and high humidity and low temperature and low humidity conditions, the electrical resistance fluctuates by two orders of magnitude or more. There are many restrictions on the use as a device member. On the other hand, the electronic conductive agent such as carbon black is less susceptible to moisture when compounded with a binder polymer, and the variation in electrical resistance under high and high humidity and low and low humidity conditions is small. There is an advantage that environmental dependency is small. However, since this electronic conductive agent is generally highly cohesive, it is difficult to uniformly disperse in the binder polymer. Therefore, the electrical resistance varies greatly, and the electrical conductivity is difficult to control. In addition, even when dispersed relatively uniformly, the mechanism of conductivity development is due to the tunnel effect or hopping phenomenon in which electrons are transmitted between the carbons in the binder polymer by a high voltage. There is a drawback that the fluctuation of the electric resistance is large and the voltage dependence of the electric resistance is large.

そこで、「貴金属または銅のコロイド粒子および高分子量顔料分散剤を含み、前記高分子量顔料分散剤は、顔料親和性基を主鎖および/若しくは複数の側鎖に有し、かつ、溶媒和部分を構成する複数の側鎖を有する櫛形構造の高分子、または、主鎖中に顔料親和性基からなる複数の顔料親和部分を有する高分子であり、前記複数の側鎖を有する櫛形構造の高分子は、数平均分子量が2000〜1000000のものであり、前記複数の顔料親和部分を有する高分子は、数平均分子量が2000〜1000000のものである貴金属または銅の固体ゾル」を用いてなる塗料組成物および樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2004−217940号公報
Therefore, “including a colloidal particle of noble metal or copper and a high molecular weight pigment dispersant, the high molecular weight pigment dispersant has a pigment affinity group in the main chain and / or a plurality of side chains, and has a solvation part. Comb-shaped polymer having a plurality of side chains constituting the polymer, or a polymer having a plurality of pigment-affinity moieties composed of pigment-affinity groups in the main chain, and the polymer having a comb-shaped structure having the plurality of side chains Is a paint composition comprising a noble metal or copper solid sol having a number average molecular weight of 2000 to 1000000 and the polymer having a plurality of pigment-affinity moieties having a number average molecular weight of 2000 to 1000000. Articles and resin compositions have been proposed (see, for example, Patent Document 1).
JP 2004-217940 A

上記特許文献1に記載の貴金属または銅の固体ゾルにおいては、高分子量顔料分散剤が、貴金属または銅のコロイド粒子の保護コロイドとして機能するため、貴金属または銅のコロイド粒子の凝集を抑制することはできる。しかしながら、この貴金属または銅の固体ゾルと、バインダーポリマーとを組み合わせてなる塗料組成物においては、上記高分子量顔料分散剤に保護された貴金属または銅のコロイド粒子の、バインダーポリマー中での分散性が悪いため、半導電性領域での電気抵抗のばらつきが大きいという難点がある。   In the solid sol of noble metal or copper described in Patent Document 1, since the high molecular weight pigment dispersant functions as a protective colloid for colloidal particles of noble metal or copper, it is possible to suppress aggregation of the colloidal particles of noble metal or copper. it can. However, in a coating composition comprising a combination of this noble metal or copper solid sol and a binder polymer, the dispersibility of the noble metal or copper colloidal particles protected by the high molecular weight pigment dispersant in the binder polymer is low. Since it is bad, there is a problem that variation in electric resistance in the semiconductive region is large.

本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、分散性に優れ、半導電性領域での電気抵抗のばらつきが小さく、導電性の制御に優れた、電子写真機器用半導電性組成物およびそれを用いた電子写真機器用半導電性部材の提供をその目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and has excellent dispersibility, small variation in electrical resistance in the semiconductive region, and excellent semiconductive composition for electrophotographic equipment. Another object is to provide a semiconductive member for an electrophotographic apparatus using the same.

上記の目的を達成するために、本発明は、下記の(A)〜(C)を必須成分とする電子写真機器用半導電性組成物を第1の要旨とし、この電子写真機器用半導電性組成物を、半導電性部材の少なくとも一部に用いたことを特徴とする電子写真機器用半導電性部材を第2の要旨とする。
(A)イオン性官能基を有するバインダーポリマー。
(B)金属ナノ粒子。
(C)下記の(C1)〜(C3)からなる群から選ばれた少なくとも一つの高分子量顔料分散剤。
(C1)主鎖および複数の側鎖の少なくとも一方に顔料親和性基を有するとともに、溶媒和部分を構成する複数の側鎖を有する櫛形構造の高分子であって、数平均分子量が2,000〜1,000,000の範囲内である。
(C2)主鎖中に顔料親和性基からなる複数の顔料親和部分を有する高分子であって、数平均分子量が2,000〜1,000,000の範囲内である。
(C3)主鎖の片末端に顔料親和性基からなる顔料親和部分を有する直鎖状の高分子であって、数平均分子量が1,000〜1,000,000の範囲内である。
In order to achieve the above object, the present invention has a semiconductive composition for electrophotographic equipment having the following (A) to (C) as essential components as a first gist, and this semiconductive composition for electrophotographic equipment. A second aspect of the present invention is a semiconductive member for an electrophotographic apparatus, wherein the conductive composition is used for at least a part of the semiconductive member.
(A) A binder polymer having an ionic functional group.
(B) Metal nanoparticles.
(C) At least one high molecular weight pigment dispersant selected from the group consisting of the following (C1) to (C3).
(C1) A polymer having a comb-like structure having a pigment affinity group in at least one of the main chain and a plurality of side chains and having a plurality of side chains constituting a solvation part, and having a number average molecular weight of 2,000 Within the range of ~ 1,000,000.
(C2) A polymer having a plurality of pigment-affinity moieties composed of pigment-affinity groups in the main chain and having a number average molecular weight in the range of 2,000 to 1,000,000.
(C3) A linear polymer having a pigment affinity part composed of a pigment affinity group at one end of the main chain and having a number average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000.

すなわち、本発明者らは、分散性に優れ、半導電性領域での電気抵抗のばらつきが小さく、導電性の制御に優れた電子写真機器用半導電性組成物を得るため鋭意研究を重ねた。そして、バインダーポリマーとして、スルホン酸基等のイオン性官能基を有するバインダーポリマーを用いることを想起し、これを、金属ナノ粒子と、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)とを組み合わせて用いると、所期の目的を達成できることを見いだし、本発明に到達した。すなわち、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)が界面活性剤の役割を果たして、上記金属ナノ粒子の凝集を抑制するとともに、上記バインダーポリマー中のイオン性官能基によっても、上記金属ナノ粒子の凝集が抑制される。また、上記金属ナノ粒子が、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)により保護された状態で、上記イオン性官能基を有するバインダーポリマー中に微分散すると考えられるため、分散性に優れ、半導電性領域(中抵抗領域)での電気抵抗のばらつきが小さく、導電性の制御に優れている。   That is, the present inventors have conducted extensive research to obtain a semiconductive composition for electrophotographic equipment that has excellent dispersibility, small variation in electrical resistance in the semiconductive region, and excellent conductivity control. . Then, it is recalled that a binder polymer having an ionic functional group such as a sulfonic acid group is used as a binder polymer, and this is combined with metal nanoparticles and the specific high molecular weight pigment dispersant (component C). It has been found that the intended purpose can be achieved when used, and the present invention has been achieved. That is, the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) serves as a surfactant to suppress the aggregation of the metal nanoparticles, and also due to the ionic functional group in the binder polymer. Aggregation is suppressed. Further, since the metal nanoparticles are considered to be finely dispersed in the binder polymer having the ionic functional group in a state protected by the specific high molecular weight pigment dispersant (component C), the dispersibility is excellent. The variation in electric resistance in the semiconductive region (medium resistance region) is small, and the conductivity control is excellent.

このように、本発明の電子写真機器用半導電性組成物は、金属ナノ粒子と、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)と、イオン性官能基を有するバインダーポリマーとを組み合わせて用いたものである。そのため、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)が界面活性剤の役割を果たして、金属ナノ粒子の凝集を抑制するとともに、上記バインダーポリマー中のイオン性官能基によっても、上記金属ナノ粒子の凝集が抑制される。また、上記金属ナノ粒子が、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)により保護された状態で、上記イオン性官能基を有するバインダーポリマー中に微分散すると考えられるため、分散性に優れ、半導電性領域(中抵抗領域)での電気抵抗のばらつきが小さく、導電性の制御に優れているという効果が得られる。   Thus, the semiconductive composition for electrophotographic equipment of the present invention is used in combination of metal nanoparticles, the specific high molecular weight pigment dispersant (component C), and a binder polymer having an ionic functional group. It was. Therefore, the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) plays a role of a surfactant to suppress aggregation of the metal nanoparticles, and the ionic functional group in the binder polymer also causes the Aggregation is suppressed. Further, since the metal nanoparticles are considered to be finely dispersed in the binder polymer having the ionic functional group in a state protected by the specific high molecular weight pigment dispersant (component C), the dispersibility is excellent. The variation in electrical resistance in the semiconductive region (medium resistance region) is small, and the effect of excellent conductivity control is obtained.

ここで、本発明において、半導電性領域とは、中抵抗領域をいい、具体的には、電気抵抗が1×105 〜1×1011Ω・cmの範囲内をいう。 Here, in the present invention, the semiconductive region refers to a medium resistance region, and specifically refers to an electric resistance in the range of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm.

そして、上記(C1)〜(C3)の高分子の顔料親和性基数が特定の範囲内にあると、分散性がさらに良好となり、電気抵抗のばらつきがより小さくなるという効果が得られる。   When the number of pigment affinity groups of the polymers (C1) to (C3) is within a specific range, the dispersibility is further improved, and the effect of less variation in electrical resistance can be obtained.

また、上記電子写真機器用半導電性組成物を、半導電性部材の少なくとも一部に用いると、電子写真機器用半導電性部材全体としての電気抵抗の電圧依存性および環境依存性が小さくなるため、濃度むら等が少なくなり、変動の少ない良好な画質が得られる等の、電子写真機器に要求される性能の向上を実現することができるようになる。   Further, when the semiconductive composition for an electrophotographic device is used for at least a part of the semiconductive member, the voltage dependency and the environment dependency of the electrical resistance as the entire semiconductive member for an electrophotographic device are reduced. For this reason, it is possible to realize improvement in performance required for the electrophotographic apparatus such that density unevenness is reduced and a good image quality with little fluctuation is obtained.

つぎに、本発明の実施の形態について説明する。   Next, an embodiment of the present invention will be described.

本発明の電子写真機器用半導電性組成物は、イオン性官能基を有するバインダーポリマー(A成分)と、金属ナノ粒子(B成分)と、特定の高分子量顔料分散剤(C成分)とを用いて得ることができる。   The semiconductive composition for electrophotographic equipment of the present invention comprises a binder polymer having an ionic functional group (component A), metal nanoparticles (component B), and a specific high molecular weight pigment dispersant (component C). Can be obtained.

本発明において、バインダーポリマー(A成分)とは、電子写真機器として使用可能な弾性、柔軟性、強度、耐摩耗性、表面特性を備えた機能を与えるエラストマーや樹脂材料のバインダーとなるポリマーを意味する。例えば、柔軟性を与えるポリマーとしては、天然ゴム、合成ゴム、熱可塑性エラストマー等があげられ、強度や耐摩耗性を与えるポリマーとしては、ポリウレタン,ポリイミド等の熱硬化性樹脂や、エンジニアリングプラスチック等があげられる。   In the present invention, the binder polymer (component A) means a polymer that can be used as an electrophotographic apparatus and serves as a binder for elastomers and resin materials that provide functions with elasticity, flexibility, strength, wear resistance, and surface characteristics. To do. For example, polymers that give flexibility include natural rubber, synthetic rubber, thermoplastic elastomer, and the like, and polymers that give strength and wear resistance include thermosetting resins such as polyurethane and polyimide, engineering plastics, and the like. can give.

上記特定のバインダーポリマー(A成分)は、分散性の点から、イオン性官能基を有することが必要であり、例えば、スルホン酸基,スルホン酸塩基,アンモニウム基,カルボキシル基等のイオン性官能基があげられる。   The specific binder polymer (component A) needs to have an ionic functional group from the viewpoint of dispersibility, for example, an ionic functional group such as a sulfonic acid group, a sulfonate group, an ammonium group, or a carboxyl group. Can be given.

上記スルホン酸塩基としては、例えば、スルホン酸ナトリウム塩基,スルホン酸カリウム塩基等のスルホン酸金属塩基や、スルホン酸アンモニウム塩基、スルホン酸ピリジウム塩基等があげられる。   Examples of the sulfonate group include metal sulfonate groups such as sodium sulfonate group and potassium sulfonate group, ammonium sulfonate group, pyridium sulfonate group, and the like.

なお、上記特定のバインダーポリマー(A成分)中のスルホン酸官能基量等のイオン性官能基量は、分散性の点から、0.001〜0.75mmol/gの範囲内が好ましく、特に好ましくは0.02〜0.5mmol/gの範囲内である。すなわち、上記イオン性官能基量が0.001mmol/g未満であると、分散性が劣り、凝集が増加する傾向がみられ、逆に0.75mmol/gを超えると、水による影響を受けやすくなり、電気抵抗の環境依存性が大きくなる傾向がみられるからである。   The amount of ionic functional groups such as the amount of sulfonic acid functional groups in the specific binder polymer (component A) is preferably in the range of 0.001 to 0.75 mmol / g, particularly preferably from the viewpoint of dispersibility. Is in the range of 0.02 to 0.5 mmol / g. That is, when the amount of the ionic functional group is less than 0.001 mmol / g, the dispersibility tends to be inferior and aggregation tends to increase. Conversely, when it exceeds 0.75 mmol / g, it is easily affected by water. This is because the environmental dependency of electric resistance tends to increase.

また、上記スルホン酸官能基量の測定は、例えば、上記特定のバインダーポリマー(A成分)をフラスコで燃焼させ、イオンクロマトグラフ法でイオウ元素量を求め、これをスルホン酸官能基量として換算することにより求めることができる。   The amount of the sulfonic acid functional group is measured, for example, by burning the specific binder polymer (component A) in a flask, obtaining the amount of sulfur element by ion chromatography, and converting this as the amount of sulfonic acid functional group. Can be obtained.

上記特定のバインダーポリマー(A成分)としては、例えば、上記イオン性官能基を有するアクリル系ポリマー,ウレタン系ポリマー,熱可塑性樹脂,熱硬化性樹脂,ゴム系ポリマー,熱可塑性エラストマー等が好ましい。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   As the specific binder polymer (component A), for example, acrylic polymers, urethane polymers, thermoplastic resins, thermosetting resins, rubber polymers, and thermoplastic elastomers having the ionic functional group are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

上記イオン性官能基を有するアクリル系ポリマーとしては、例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリヒドロキシメタクリレート、アクリルシリコーン系樹脂、アクリルフッ素系樹脂、公知のアクリルモノマーを共重合したもの等であって、分子構造中にスルホン酸基,アミノ基,カルボキシル基等のイオン性官能基が導入されているものがあげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the acrylic polymer having an ionic functional group include polymethyl methacrylate (PMMA), polyethyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, polyhydroxy methacrylate, acrylic silicone resin, and acrylic fluorine-based polymer. Examples thereof include resins, copolymers of known acrylic monomers, and the like, in which ionic functional groups such as sulfonic acid groups, amino groups, and carboxyl groups are introduced into the molecular structure. These may be used alone or in combination of two or more.

上記アクリル系ポリマーへのイオン性官能基の方法としては、例えば、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)等のスルホン酸基またはスルホン酸塩基を有するビニルモノマー,またはメタクリル酸ジメチルアミノエチル等のアミノ基を有するビニルモノマー,もしくはアクリル酸等のカルボキシル基を有するビニルモノマーと、ラジカル,アニオン,カチオンとを共重合する方法や、スルホン酸基,アミノ基,カルボキシル基を有するジオールモノマー等を、ウレタン反応,エステル交換反応で導入する方法等があげられる。   Examples of the ionic functional group for the acrylic polymer include vinyl monomers having a sulfonic acid group or a sulfonate group such as 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid (AMPS), or dimethylaminoethyl methacrylate. Such as a method of copolymerizing a vinyl monomer having an amino group such as a vinyl monomer having a carboxyl group such as acrylic acid and a radical, anion or cation, a diol monomer having a sulfonic acid group, an amino group or a carboxyl group , Urethane reaction, transesterification and the like.

上記イオン性官能基を有するウレタン系ポリマーとしては、例えば、分子構造中にウレタン結合を有する樹脂であれば特に限定はなく、例えば、エーテル系,エステル系,アクリル系,脂肪族系等のウレタンポリマーや、それにシリコーン系ポリオールまたはフッ素系ポリオールを共重合させたもの等であって、分子構造中にスルホン酸基,アミノ基,カルボキシル基等のイオン性官能基が導入されているものがあげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。なお、上記ウレタン系ポリマーは、分子構造中にウレア結合またはイミド結合を有するものであっても差し支えない。   The urethane polymer having an ionic functional group is not particularly limited as long as it is a resin having a urethane bond in the molecular structure, for example, an ether polymer, an ester polymer, an acrylic polymer, an aliphatic polymer, etc. And those obtained by copolymerizing a silicone-based polyol or a fluorine-based polyol with an ionic functional group such as a sulfonic acid group, amino group, or carboxyl group introduced into the molecular structure. These may be used alone or in combination of two or more. The urethane polymer may have a urea bond or an imide bond in the molecular structure.

上記イオン性官能基を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル(PVC)、酢酸ビニル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、フッ化ビニリデン−四フッ化エチレン共重合体、フッ化ビニリデン−四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体等であって、分子構造中にスルホン酸基,アミノ基,カルボキシル基等のイオン性官能基が導入されているものがあげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the thermoplastic resin having an ionic functional group include polyester, polycarbonate, polyvinyl chloride (PVC), vinyl acetate, polyimide, polyethersulfone, polyvinylidene fluoride (PVDF), and vinylidene fluoride-tetrafluoride. Ethylene copolymers, vinylidene fluoride-tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymers, etc., in which ionic functional groups such as sulfonic acid groups, amino groups, carboxyl groups are introduced into the molecular structure Things can be raised. These may be used alone or in combination of two or more.

上記イオン性官能基を有する熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ポリイミド系樹脂等であって、分子構造中にスルホン酸官能基,アミノ基,カルボキシル基等のイオン性官能基が導入されているものがあげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the thermosetting resin having an ionic functional group include epoxy resins, urethane resins, urea resins, polyimide resins, etc., and ions such as sulfonic acid functional groups, amino groups, carboxyl groups in the molecular structure. And a functional group introduced therein. These may be used alone or in combination of two or more.

上記イオン性官能基を有するゴム系ポリマーとしては、例えば、天然ゴム(NR)、ブタジエンゴム(BR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、水素添加NBR(H−NBR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、イソプレンゴム(IR)、ウレタンゴム、クロロプレンゴム(CR)、塩素化ポリエチレン(Cl−PE)、エピクロロヒドリンゴム(ECO,CO)、ブチルゴム(IIR)、エチレンプロピレンジエンポリマー(EPDM)、フッ素ゴム等であって、分子構造中にスルホン酸基,アミノ基,カルボキシル基等のイオン性官能基が導入されているものがあげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the rubber-based polymer having an ionic functional group include natural rubber (NR), butadiene rubber (BR), acrylonitrile butadiene rubber (NBR), hydrogenated NBR (H-NBR), styrene butadiene rubber (SBR), Isoprene rubber (IR), urethane rubber, chloroprene rubber (CR), chlorinated polyethylene (Cl-PE), epichlorohydrin rubber (ECO, CO), butyl rubber (IIR), ethylene propylene diene polymer (EPDM), fluorine rubber, etc. In the molecular structure, an ionic functional group such as a sulfonic acid group, an amino group, or a carboxyl group is introduced. These may be used alone or in combination of two or more.

上記イオン性官能基を有する熱可塑性エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエンブロック共重合体(SBS),スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)等のスチレン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー(TPU)、オレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)、ポリエステル系熱可塑性エラストマー(TPEE)、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー等であって、分子構造中にスルホン酸基,アミノ基,カルボキシル基等のイオン性官能基が導入されているものがあげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the thermoplastic elastomer having an ionic functional group include styrene-based thermoplastic elastomers such as styrene-butadiene block copolymer (SBS) and styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), and urethane-based elastomers. Thermoplastic elastomer (TPU), olefin thermoplastic elastomer (TPO), polyester thermoplastic elastomer (TPEE), polyamide thermoplastic elastomer, fluorine thermoplastic elastomer, PVC thermoplastic elastomer, etc. And those having an ionic functional group such as a sulfonic acid group, an amino group or a carboxyl group introduced therein. These may be used alone or in combination of two or more.

上記特定のバインダーポリマー(A成分)のなかでも、合成プロセスの簡便さ、溶剤との溶解性、物性(摩耗性、強度)の点で、スルホン酸等のイオン性官能基を有するTPU,アクリル系ポリマー,イソプレンゴム等が好適に用いられる。   Among the above-mentioned specific binder polymers (component A), TPUs and acrylics having an ionic functional group such as sulfonic acid in terms of simplicity of the synthesis process, solubility in solvents, and physical properties (wearability, strength) Polymers, isoprene rubber and the like are preferably used.

上記TPUは、例えば、酸成分とグリコール成分とを反応させて得たポリエステルポリオールと、有機ポリイソシアネートとを反応させることにより得ることができる。   The TPU can be obtained, for example, by reacting a polyester polyol obtained by reacting an acid component and a glycol component with an organic polyisocyanate.

上記ポリエステルポリオールの酸成分としては、例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、ドデシニルコハク酸等の脂肪族二塩基酸や、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−ビス(4−カルボキシシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−カルボキシシクロヘキシル)プロパン等の脂環族二塩基酸や、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。これらのなかでも、分散性の点で、アジピン酸、セバシン酸、ドデシニルコハク酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸が好適に用いられる。また、スルホン酸基を導入するために、全酸成分中の所定の範囲(好ましく、20〜50モル%の範囲)で、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、5−カリウムスルホイソフタル酸、ナトリウムスルホテレフタル酸等のスルホン酸金属塩含有芳香族ジカルボン酸を共重合させることが好ましい。   Examples of the acid component of the polyester polyol include aliphatic dibasic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, dodecynylsuccinic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3- Cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-bis (4-carboxycyclohexyl) methane, 2,2-bis (4-carboxycyclohexyl) propane, etc. And aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, and naphthalenedicarboxylic acid. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, adipic acid, sebacic acid, dodecinyl succinic acid, and 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid are preferably used in terms of dispersibility. Further, in order to introduce a sulfonic acid group, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 5-potassium sulfoisophthalic acid, sodium sulfoterephthalic acid in a predetermined range (preferably in a range of 20 to 50 mol%) in the total acid component. It is preferable to copolymerize a sulfonic acid metal salt-containing aromatic dicarboxylic acid such as.

上記ポリエステルポリオールのグリコール成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブチレングリコール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル、2′,2′−ジメチル−3−ヒドロキシプロパネート、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール等の脂肪族系グリコールや、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシプロピル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシメトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシエトキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシメトキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン等の脂環族系グリコール等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。これらのなかでも、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル、2′,2′−ジメチル−3−ヒドロキシプロパネート、1,6−ヘキサンジオールが好ましい。また、スルホン酸基を導入するために、全グリコール成分中の所定の範囲で、2−ナトリウムスルホ−1,4ーブタンジオール、2−ナトリウムスルホ−1,6−ヘキサンジオール等のスルホン酸金属塩含有グリコールを共重合させることが好ましい。   Examples of the glycol component of the polyester polyol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and 1,2-propylene. Glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2 -Aliphatic glycols such as dimethyl-3-hydroxypropyl, 2 ', 2'-dimethyl-3-hydroxypropanate, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, and 1,3-bis (hydroxymethyl) ) Cyclohexane, 1,4-bis (hydroxymethyl) cyclohexane, 1,4- (Hydroxyethyl) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxypropyl) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxymethoxy) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxyethoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxymethoxy) And cycloaliphatic glycols such as cyclohexyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxycyclohexyl) propane, bis (4-hydroxycyclohexyl) methane, and 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane. . These may be used alone or in combination of two or more. Among these, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl, 2 ', 2'-dimethyl- 3-hydroxypropanate and 1,6-hexanediol are preferred. In addition, in order to introduce a sulfonic acid group, a sulfonic acid metal salt-containing glycol such as 2-sodium sulfo-1,4-butanediol, 2-sodium sulfo-1,6-hexanediol, etc. within a predetermined range in all glycol components Is preferably copolymerized.

また、上記有機ポリイソシアネートとしては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、2,6−ナフタレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニレンジイソシアネート、4,4′−ジイソシアネートジフェニルエーテル、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、1,3−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、1,4−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、4,4′−ジイソシアネートシクロヘキサン、4,4′−ジイソシアネートシクロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。これらのなかでも、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネートが好適に用いられる。   Examples of the organic polyisocyanate include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, 3,3'- Dimethoxy-4,4'-biphenylene diisocyanate, 2,6-naphthalene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-biphenylene diisocyanate, 4,4'-diphenylene diisocyanate, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 1 , 5-Naphthalene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, 1,3-diisocyanate methylcyclohexane, 1,4-diisocyanate methylcyclohexane, 4,4'-diisocyanate cyclohexa , 4,4'-diisocyanate cyclohexylmethane, isophorone diisocyanate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate is preferably used.

上記スルホン酸官能基を有するTPUとしては、例えば、下記の構造式(1)で表される構造を備えたものが好ましい。   As TPU which has the said sulfonic acid functional group, what was equipped with the structure represented by following Structural formula (1) is preferable, for example.

Figure 2006267244
Figure 2006267244

また、前述のスルホン酸官能基を有するアクリル系ポリマーとしては、例えば、下記の構造式(2)で表される構造を備えたものが好ましい。   Moreover, as an acrylic polymer which has the above-mentioned sulfonic acid functional group, what was equipped with the structure represented by following Structural formula (2) is preferable, for example.

Figure 2006267244
Figure 2006267244

なお、上記特定のバインダーポリマー(A成分)は、水には溶解せず、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン系溶剤,トルエン等の芳香族系溶剤等に溶解するものが好ましい。すなわち、OA部材用半導電性組成物の乾燥速度の制御が可能となり、乾燥塗工性が良好となり、塗工工程での膜厚コントロールが行いやすくなるとともに、湿潤環境下で保護剤のイオン性を抑えることで、電気抵抗の環境依存性を小さくできるとともに、物性変化を抑制することができるからである。   The specific binder polymer (component A) is preferably not soluble in water but soluble in a ketone solvent such as methyl ethyl ketone (MEK), an aromatic solvent such as toluene, or the like. That is, it becomes possible to control the drying rate of the semiconductive composition for OA members, the dry coating property becomes good, the film thickness can be easily controlled in the coating process, and the ionicity of the protective agent in a humid environment. This is because suppressing the environmental resistance of the electrical resistance can be reduced and the change in physical properties can be suppressed.

つぎに、上記特定のバインダーポリマー(A成分)とともに用いられる金属ナノ粒子(B成分)は、平均粒径が0.5〜30nmの範囲内のものが好ましく、特に好ましくは平均粒径が 0.5〜15nmの範囲内のものである。すなわち、平均粒径が0.5nm未満であると、金属コロイド洗浄工程での収率が悪くなり、逆に30nmを超えると、分散による影響を受けやすくなり、電気特性のばらつきや、電気抵抗の電圧依存性が大きくなる傾向がみられるからである。   Next, the metal nanoparticles (component B) used together with the specific binder polymer (component A) preferably have an average particle size in the range of 0.5 to 30 nm. It is in the range of 5 to 15 nm. That is, when the average particle size is less than 0.5 nm, the yield in the metal colloid cleaning process is deteriorated. Conversely, when the average particle size exceeds 30 nm, it tends to be affected by dispersion, resulting in variations in electrical characteristics and electrical resistance. This is because the voltage dependence tends to increase.

上記金属ナノ粒子(B成分)としては、例えば、金,銀,銅,鉄,ニッケル,白金,ルテニウム,ロジウム,パラジウム,オスミウム,イリジウム等の金属のナノ粒子があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。これらのなかでも、供給性(コスト)の点で、銀ナノ粒子、銅ナノ粒子が好ましい。   Examples of the metal nanoparticles (component B) include metal nanoparticles such as gold, silver, copper, iron, nickel, platinum, ruthenium, rhodium, palladium, osmium and iridium. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, silver nanoparticles and copper nanoparticles are preferable in terms of supplyability (cost).

また、上記特定のバインダーポリマー(A成分)および金属ナノ粒子(B成分)とともに用いられる、特定の高分子量顔料分散剤(C成分)は、下記の(C1)〜(C3)からなる群から選ばれた少なくとも一つである。   Moreover, the specific high molecular weight pigment dispersant (C component) used together with the specific binder polymer (component A) and the metal nanoparticles (component B) is selected from the group consisting of the following (C1) to (C3). Is at least one.

(C1)主鎖および複数の側鎖の少なくとも一方に顔料親和性基を有するとともに、溶媒和部分を構成する複数の側鎖を有する櫛形構造の高分子であって、数平均分子量が2,000〜1,000,000の範囲内である。   (C1) A polymer having a comb-like structure having a pigment affinity group in at least one of the main chain and a plurality of side chains and having a plurality of side chains constituting a solvation part, and having a number average molecular weight of 2,000 Within the range of ~ 1,000,000.

(C2)主鎖中に顔料親和性基からなる複数の顔料親和部分を有する高分子であって、数平均分子量が2,000〜1,000,000の範囲内である。   (C2) A polymer having a plurality of pigment-affinity moieties composed of pigment-affinity groups in the main chain and having a number average molecular weight in the range of 2,000 to 1,000,000.

(C3)主鎖の片末端に顔料親和性基からなる顔料親和部分を有する直鎖状の高分子であって、数平均分子量が1,000〜1,000,000の範囲内である。   (C3) A linear polymer having a pigment affinity part composed of a pigment affinity group at one end of the main chain and having a number average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000.

上記顔料親和性基とは、顔料の表面に対して強い吸着力を有する官能基をいい、例えば、第三級アミノ基、第四級アンモニウム、塩基性窒素原子を有する複素環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、フェニル基、ラウリル基、ステアリル基、ドデシル基、オレイル基等があげられる。上記顔料親和性基は、金属ナノ粒子(B成分)に対して強い親和力を示すため、上記顔料親和性基を有する特定の高分子量顔料分散剤(C成分)は、金属ナノ粒子(B成分)の保護コロイドとして充分な性能を発揮することができる。   The pigment affinity group refers to a functional group having a strong adsorptive power to the pigment surface, for example, a tertiary amino group, a quaternary ammonium, a heterocyclic group having a basic nitrogen atom, a hydroxyl group, Examples thereof include a carboxyl group, a phenyl group, a lauryl group, a stearyl group, a dodecyl group, and an oleyl group. Since the pigment affinity group has a strong affinity for metal nanoparticles (component B), the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) having the pigment affinity group is metal nanoparticles (component B). Sufficient performance as a protective colloid.

上記特定の櫛形構造の高分子(C1)は、主鎖および複数の側鎖の少なくとも一方に顔料親和性基を有するとともに、溶媒和部分を構成する複数の側鎖を有する構造のものであり、これらの側鎖があたかも櫛の歯のように主鎖に結合されているものである。本明細書中、上述の構造を櫛形構造と称する。上記特定の櫛形構造の高分子(C1)において、上記顔料親和性基は、側鎖末端に限らず、側鎖の途中や主鎖中に複数存在していてもよい。なお、上記溶媒和部分は、溶媒に親和性を有する部分であって、疎水性の構造をいい、例えば、親油性の重合鎖等から構成されている。   The specific comb-shaped polymer (C1) has a structure having a pigment affinity group in at least one of the main chain and the plurality of side chains and a plurality of side chains constituting a solvation part, These side chains are connected to the main chain as if they were comb teeth. In the present specification, the above structure is referred to as a comb structure. In the polymer (C1) having the specific comb structure, a plurality of the pigment affinity groups may be present not only at the end of the side chain but also in the middle of the side chain or in the main chain. The solvation part is a part having affinity for a solvent and has a hydrophobic structure, and is composed of, for example, a lipophilic polymer chain.

上記特定の櫛形構造の高分子(C1)としては特に限定されず、例えば、特開平5−177123号公報に開示されている1個以上のポリ(カルボニル−C3〜C6−アルキレンオキシ)鎖を有し、これらの各鎖が3〜80個のカルボニル−C3〜C6−アルキレンオキシ基を有しかつアミドまたは塩架橋基によってポリ(エチレンイミン)に結合されている構造のポリ(エチレンイミン)またはその酸塩からなるもの;特開昭54−37082号公報に開示されているポリ(低級アルキレン)イミンと、遊離のカルボン酸基を有するポリエステルとの反応生成物よりなり、各ポリ(低級アルキレン)イミン連鎖に少なくとも2つのポリエステル連鎖が結合されたもの;特公平7−24746号公報に開示されている末端にエポキシ基を有する高分子量のエポキシ化合物に、アミン化合物と数平均分子量300〜7000のカルボキシル基含有プレポリマーとを同時にまたは任意順に反応させて得られる顔料分散剤等をあげることができる。   The polymer having the specific comb structure (C1) is not particularly limited, and has, for example, one or more poly (carbonyl-C3-C6-alkyleneoxy) chains disclosed in JP-A-5-177123. And each of these chains has 3 to 80 carbonyl-C3-C6-alkyleneoxy groups and is linked to poly (ethyleneimine) by an amide or salt bridging group or its Consisting of an acid salt; comprising a reaction product of a poly (lower alkylene) imine disclosed in JP-A-54-37082 and a polyester having a free carboxylic acid group, and each poly (lower alkylene) imine Having at least two polyester chains bonded to the chain; having an epoxy group at the end as disclosed in JP-B-7-24746 Epoxy compounds of high molecular weight, mention may be made of a pigment dispersing agent obtained by reacting a carboxyl group-containing prepolymer of the amine compound having a number average molecular weight from 300 to 7000 concurrently or in any order.

上記特定の櫛形構造の高分子(C1)は、顔料親和性基が1分子中に2〜3000個存在するものが好ましく、特に好ましくは、25〜1500個の範囲内である。すなわち、顔料親和性基が1分子中に2個未満であると、分散安定性が充分ではなく、金属コロイド粒子が粗大化し、逆に3000個を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The polymer (C1) having the specific comb structure preferably has 2 to 3000 pigment affinity groups in one molecule, and particularly preferably has a range of 25 to 1500. That is, when the pigment affinity group is less than 2 in one molecule, the dispersion stability is not sufficient, and the metal colloid particles are coarsened. Conversely, when it exceeds 3000, the viscosity is too high and handling becomes difficult. In addition, the particle size distribution of the metal colloidal particles becomes wide.

また、上記特定の櫛形構造の高分子(C1)は、溶媒和部分を構成する側鎖が1分子中に2〜1000存在するものが好ましく、特に好ましくは、5〜500の範囲内である。すなわち、溶媒和部分を構成する側鎖が2未満であると、分散安定性が充分ではなく、逆に1000を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The specific comb-shaped polymer (C1) preferably has 2 to 1000 side chains constituting the solvation part in one molecule, particularly preferably in the range of 5 to 500. That is, when the side chain constituting the solvation part is less than 2, the dispersion stability is not sufficient. Conversely, when it exceeds 1000, the viscosity is too high to be handled, and the particle size distribution of the metal colloid particles This is because

上記特定の櫛形構造の高分子(C1)は、数平均分子量(Mn)が2,000〜1,000,000の範囲内であり、好ましくはMnが4,000〜500,000の範囲内である。すなわち、数平均分子量(Mn)が2,000未満であると、分散安定性が充分ではなく、逆に1,000,000を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The polymer (C1) having the specific comb structure has a number average molecular weight (Mn) in the range of 2,000 to 1,000,000, preferably Mn in the range of 4,000 to 500,000. is there. That is, when the number average molecular weight (Mn) is less than 2,000, the dispersion stability is not sufficient. Conversely, when the number average molecular weight (Mn) exceeds 1,000,000, the viscosity is too high and handling becomes difficult. This is because the particle size distribution of the particles becomes wide.

また、上記特定の高分子(C2)は、複数の顔料親和性基が主鎖にそって配置されているものであり、上記顔料親和性基は、例えば、主鎖にペンダントしているものである。   The specific polymer (C2) has a plurality of pigment affinity groups arranged along the main chain, and the pigment affinity group is, for example, pendant to the main chain. is there.

上記特定の高分子(C2)としては、例えば、特開平4−210220号公報に開示されているポリイソシアネートと、モノヒドロキシ化合物およびモノヒドロキシモノカルボン酸またはモノアミノモノカルボン酸化合物の混合物、並びに、少なくとも1つの塩基性環窒素とイソシアネート反応性基とを有する化合物との反応物;特開昭60−16631号公報、特開平2−612号公報、特開昭63−241018号公報に開示されているポリウレタン/ポリウレアよりなる主鎖に複数の第3級アミノ基または塩基性環式窒素原子を有する基がペンダントした高分子;特開平1−279919号公報に開示されている水溶性ポリ(オキシアルキレン)鎖を有する立体安定化単位、構造単位およびアミノ基含有単位からなる共重合体であって、アミン基含有単量単位が第3級アミノ基若しくはその酸付加塩の基または第4級アンモニウムの基を含有しており、該共重合体1g当たり0.025〜0.5ミリ当量のアミノ基を含有する共重合体;特開平6−100642号公報に開示されている付加重合体からなる主鎖と、少なくとも1個のC1〜C4アルコキシポリエチレンまたはポリエチレン−コプロピレングリコール(メタ)アクリレートからなる安定化剤単位とからなり、かつ、2500〜20000の重量平均分子量を有する両親媒性共重合体であって、主鎖は、30重量%までの非官能性構造単位と、合計で70重量%までの安定化剤単位および官能性単位を含有しており、上記官能性単位は、置換されているかまたは置換されていないスチレン含有単位、ヒドロキシル基含有単位およびカルボキシル基含有単位であり、ヒドロキシル基とカルボキシル基、ヒドロキシル基とスチレン基およびヒドロキシル基とプロピレンオキシ基またはエチレンオキシ基との比率が、それぞれ、1:0.10〜26.1;1:0.28〜25.0;1:0.80〜66.1である両親媒性高分子等をあげることができる。   Examples of the specific polymer (C2) include, for example, a polyisocyanate disclosed in JP-A-4-210220, a mixture of a monohydroxy compound and a monohydroxymonocarboxylic acid or monoaminomonocarboxylic acid compound, and A reaction product of a compound having at least one basic ring nitrogen and an isocyanate-reactive group; disclosed in JP-A-60-16631, JP-A-2-612, JP-A-63-241818 A polymer in which a plurality of tertiary amino groups or groups having a basic cyclic nitrogen atom are pendant on the main chain made of polyurethane / polyurea; a water-soluble poly (oxyalkylene) disclosed in JP-A-1-279919 A copolymer comprising a steric stabilizing unit having a chain, a structural unit and an amino group-containing unit; The amine group-containing monomer unit contains a tertiary amino group or a group of an acid addition salt thereof or a quaternary ammonium group, and 0.025 to 0.5 milliequivalent amino group per gram of the copolymer A main chain composed of an addition polymer disclosed in JP-A-6-1000064, and at least one C1-C4 alkoxy polyethylene or polyethylene-copropylene glycol (meth) acrylate. An amphiphilic copolymer consisting of agent units and having a weight average molecular weight of 2500 to 20000, the main chain comprising up to 30% by weight of non-functional structural units and a total of up to 70% by weight A stabilizer unit and a functional unit, wherein the functional unit is a substituted or unsubstituted styrene-containing unit, hydroxyl Containing unit and carboxyl group-containing unit, wherein the ratio of hydroxyl group to carboxyl group, hydroxyl group to styrene group, and hydroxyl group to propyleneoxy group or ethyleneoxy group is 1: 0.10 to 26.1; 1 : Amphiphilic polymer etc. which are: 0.28-25.0; 1: 0.80-66.1.

上記特定の高分子(C2)は、顔料親和性基が1分子中に2〜3000個存在するものが好ましく、特に好ましくは、25〜1500個の範囲内である。すなわち、顔料親和性基が1分子中に2個未満であると、分散安定性が充分ではなく、金属コロイド粒子が粗大化し、逆に3000個を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The specific polymer (C2) preferably has 2 to 3000 pigment-affinity groups in one molecule, particularly preferably in the range of 25 to 1500. That is, when the pigment affinity group is less than 2 in one molecule, the dispersion stability is not sufficient, and the metal colloid particles are coarsened. Conversely, when it exceeds 3000, the viscosity is too high and handling becomes difficult. In addition, the particle size distribution of the metal colloidal particles becomes wide.

上記特定の高分子(C2)は、数平均分子量(Mn)が2,000〜1,000,000の範囲内であり、好ましくはMnが4,000〜500,000の範囲内である。すなわち、数平均分子量(Mn)が2,000未満であると、分散安定性が充分ではなく、逆に1,000,000を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The specific polymer (C2) has a number average molecular weight (Mn) in the range of 2,000 to 1,000,000, preferably Mn in the range of 4,000 to 500,000. That is, when the number average molecular weight (Mn) is less than 2,000, the dispersion stability is not sufficient. Conversely, when the number average molecular weight (Mn) exceeds 1,000,000, the viscosity is too high and handling becomes difficult. This is because the particle size distribution of the particles becomes wide.

また、上記特定の高分子(C3)は、主鎖の片末端のみに1つまたは複数の顔料親和性基からなる顔料親和部分を有している。   Further, the specific polymer (C3) has a pigment affinity portion composed of one or more pigment affinity groups only at one end of the main chain.

上記特定の高分子(C3)としては特に限定されず、例えば、特開昭46−7294号公報に開示されている一方が塩基性であるA−Bブロック型高分子;米国特許第4656226号明細書に開示されているAブロックに芳香族カルボン酸を導入したA−Bブロック型高分子;米国特許第4032698号明細書に開示されている片末端が塩基性官能基であるA−Bブロック型高分子;米国特許第4070388号明細書に開示されている片末端が酸性官能基であるA−Bブロック型高分子;特開平1−204914号公報に開示されている米国特許第4656226号明細書に記載のAブロックに芳香族カルボン酸を導入したA−Bブロック型高分子の耐候黄変性を改良したもの等をあげることができる。   The specific polymer (C3) is not particularly limited. For example, an AB block type polymer, one of which is basic disclosed in JP-A-46-7294; US Pat. No. 4,656,226 AB block type polymer in which an aromatic carboxylic acid is introduced into the A block disclosed in the document; AB block type in which one end is a basic functional group as disclosed in US Pat. No. 4,032,698 Polymer: an AB block type polymer having an acidic functional group at one end as disclosed in US Pat. No. 4,070,388; US Pat. No. 4,656,226 disclosed in JP-A-1-204914 And those obtained by improving the weathering yellowing resistance of the AB block type polymer in which an aromatic carboxylic acid is introduced into the A block described in 1).

上記特定の高分子(C3)は、顔料親和性基が1分子中に2〜3000個存在するものが好ましく、特に好ましくは、25〜1500個の範囲内である。すなわち、顔料親和性基が1分子中に2個未満であると、分散安定性が充分ではなく、金属コロイド粒子が粗大化し、逆に3000個を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The specific polymer (C3) preferably has 2 to 3000 pigment-affinity groups in one molecule, particularly preferably in the range of 25 to 1500. That is, when the pigment affinity group is less than 2 in one molecule, the dispersion stability is not sufficient, and the metal colloid particles are coarsened. Conversely, when it exceeds 3000, the viscosity is too high and handling becomes difficult. In addition, the particle size distribution of the metal colloidal particles becomes wide.

また、上記特定の高分子(C2)は、数平均分子量(Mn)が1,000〜1,000,000の範囲内であり、好ましくはMnが2,000〜500,000の範囲内である。すなわち、数平均分子量(Mn)が1,000未満であると、分散安定性が充分ではなく、逆に1,000,000を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難となり、また、金属コロイド粒子の粒度分布が広くなるからである。   The specific polymer (C2) has a number average molecular weight (Mn) in the range of 1,000 to 1,000,000, preferably Mn in the range of 2,000 to 500,000. . That is, when the number average molecular weight (Mn) is less than 1,000, the dispersion stability is not sufficient. On the contrary, when the number average molecular weight (Mn) exceeds 1,000,000, the viscosity is too high and handling becomes difficult. This is because the particle size distribution of the particles becomes wide.

上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)の具体例としては、ソルスパース20000,ソルスパース24000,ソルスパース26000,ソルスパース27000,ソルスパース28000(いずれもゼネカ社製)、ディスパービック160,ディスパービック161,ディスパービック162,ディスパービック163,ディスパービック166,ディスパービック170,ディスパービック180,ディスパービック182,ディスパービック184,ディスパービック190(いずれもビックケミー社製)、EFKA−46,EFKA−47,EFKA−48,EFKA−49(いずれもEFKAケミカル社製)、ポリマー100,ポリマー120,ポリマー150,ポリマー400,ポリマー401,ポリマー402,ポリマー403,ポリマー450,ポリマー451,ポリマー452,ポリマー453(いずれもEFKAケミカル社製)、アジスパーPB711,アジスパーPA111,アジスパーPB811,アジスパーPW911(いずれも味の素社製)、フローレンDOPA−158,フローレンDOPA−22,フローレンDOPA−17,フローレンTG−730W,フローレンG−700,フローレンTG−720W(いずれも共栄社化学社製)等をあげることができる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Specific examples of the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) include Solsperse 20000, Solsperse 24000, Solsperse 26000, Solsperse 27000, Solsperse 28000 (all manufactured by Zeneca), Dispersic 160, Dispersic 161, Dispersic 162, Dispersic 163, Dispersic 166, Dispersic 170, Dispersic 180, Dispersic 182, Dispersic 184, Dispersic 190 (all manufactured by BYK Chemie), EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA -49 (all manufactured by EFKA Chemical), polymer 100, polymer 120, polymer 150, polymer 400, polymer 401, polymer 402, polymer 03, Polymer 450, Polymer 451, Polymer 452, Polymer 453 (all manufactured by EFKA Chemical Co., Ltd.), Ajisper PB711, Azisper PA111, Azisper PB811, Azisper PW911 (all manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), Florene DOPA-158, Florene DOPA-22 , Floren DOPA-17, Floren TG-730W, Floren G-700, Floren TG-720W (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)は、軟化温度が、30℃以上であることが好ましく、特に好ましくは、40℃以上である。すなわち、軟化温度が30℃未満であると、得られる金属ゾルが、貯蔵中にブロッキングしてしまう傾向がみられるからである。   The specific high molecular weight pigment dispersant (component C) preferably has a softening temperature of 30 ° C. or higher, particularly preferably 40 ° C. or higher. That is, when the softening temperature is less than 30 ° C., the obtained metal sol tends to block during storage.

上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)の配合量は、上記金属100重量部(以下「部」と略す)に対して20〜1000部の範囲内が好ましく、特に好ましくは50〜650部の範囲内である。すなわち、特定の高分子量顔料分散剤(C成分)の配合量が20部未満であると、上記金属コロイド粒子の分散性が不充分であり、逆に1000部を超えると、上記特定のバインダーポリマー(A成分)に対する特定の高分子量顔料分散剤(C成分)の配合量が多くなり、物性等に不具合が生じる傾向がみられるからである。   The compounding amount of the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) is preferably in the range of 20 to 1000 parts, particularly preferably 50 to 650 parts, relative to 100 parts by weight of the metal (hereinafter abbreviated as “parts”). Is within the range. That is, when the blending amount of the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) is less than 20 parts, the dispersibility of the metal colloid particles is insufficient, and conversely when the blending amount exceeds 1000 parts, the specific binder polymer This is because the blending amount of the specific high molecular weight pigment dispersant (C component) with respect to (Component A) increases, and there is a tendency for defects in physical properties and the like.

ここで、前記金属ナノ粒子(B成分)は、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)を用いて、例えば、つぎのようにして調製することができる。すなわち、金属化合物を溶媒に溶解し、特定の高分子量顔料分散剤(C成分)を加えた後、金属に還元して上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)で保護された金属コロイド粒子を形成し、その後、上記溶媒を除去することにより固体ゾルを得る。つぎに、この固体ゾルをテトラヒドロフラン(THF),メチルエチルケトン(MEK)等の溶剤に溶解することにより、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)で保護された金属ナノ粒子(B成分)の溶液を得ることができる。   Here, the said metal nanoparticle (B component) can be prepared as follows, for example using the said specific high molecular weight pigment dispersant (C component). That is, metal colloidal particles in which a metal compound is dissolved in a solvent, a specific high molecular weight pigment dispersant (C component) is added, then reduced to a metal and protected with the specific high molecular weight pigment dispersant (C component) Then, the solvent is removed to obtain a solid sol. Next, by dissolving the solid sol in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) or methyl ethyl ketone (MEK), a solution of metal nanoparticles (component B) protected with the specific high molecular weight pigment dispersant (component C). Can be obtained.

上記金属化合物としては、例えば、塩化金酸、硝酸銀、酢酸銀、過塩素酸銀、塩化白金酸、塩化白金酸カリウム、塩化銅(II)、酢酸銅(II)、硫酸銅(II)等があげられる。また、上記溶媒としては、上記金属化合物およびイオン性官能基を有するバインダーポリマー(A成分)を溶解することができるものであれば特に限定されず、例えば、アセトン,MEK等のケトン系溶媒、トルエン,キシレン等の芳香族系溶媒、酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒、THF等のエーテル系溶媒等をあげることができる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the metal compound include chloroauric acid, silver nitrate, silver acetate, silver perchlorate, chloroplatinic acid, potassium chloroplatinate, copper (II), copper (II) acetate, and copper (II) sulfate. can give. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the metal compound and the binder polymer (component A) having an ionic functional group. For example, ketone solvents such as acetone and MEK, toluene Aromatic solvents such as xylene, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, ether solvents such as THF, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)は、水不溶性のものであることが好ましい。すなわち、水溶解性であると、水可溶性有機溶媒を除去して固体ゾルを得る際に、金属コロイド粒子を析出させるのが困難となるからである。上記水不溶性の高分子量顔料分散剤(C成分)としては、例えば、ディスパービック161,ディスパービック166(いずれもビックケミー社製)、ソルスパース24000,ソルスパース28000(いずれもゼネカ社製)等をあげることができる。   The specific high molecular weight pigment dispersant (component C) is preferably water-insoluble. That is, when it is water-soluble, it is difficult to deposit metal colloidal particles when a water-soluble organic solvent is removed to obtain a solid sol. Examples of the water-insoluble high molecular weight pigment dispersant (component C) include Dispersic 161, Dispersic 166 (all manufactured by BYK Chemie), Solsperse 24000, Solsperse 28000 (all manufactured by Geneca), and the like. it can.

また、上記金属の還元方法としては、特に限定されず、例えば、化合物を添加して化学的に還元する方法、高圧水銀灯を用いた光照射により還元する方法等をあげることができる。   The method for reducing the metal is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a compound is added and chemically reduced, a method in which the metal is reduced by light irradiation using a high-pressure mercury lamp, and the like.

上記化合物としては特に限定されず、例えば、従来より還元剤として使用されている水素化ホウ素ナトリウム等のアルカリ金属水素化ホウ素塩、ヒドラジン化合物、クエン酸またはその塩、コハク酸またはその塩等を使用することができる。また、本発明においては、上記還元剤のほかに、アミンを使用しても差し支えない。   The above compound is not particularly limited, and for example, alkali metal borohydride salts such as sodium borohydride conventionally used as a reducing agent, hydrazine compounds, citric acid or salts thereof, succinic acid or salts thereof are used. can do. In the present invention, an amine may be used in addition to the reducing agent.

上記アミンは、通常は還元剤として使用されないものであるが、上記金属化合物の溶液にアミンを添加して攪拌、混合することによって、金属イオン等を常温付近で金属に還元することができる。したがって、危険性や有害性の高い還元剤を使用する必要がなく、加熱や特別な光照射装置を使用することなしに、5〜100℃程度、好ましくは20〜80℃程度の反応温度で、金属化合物を還元することができる。   The amine is not usually used as a reducing agent, but metal ions and the like can be reduced to a metal at around room temperature by adding the amine to the solution of the metal compound and stirring and mixing. Therefore, it is not necessary to use a reducing agent that is highly hazardous or harmful, and without using a heating or special light irradiation device, at a reaction temperature of about 5 to 100 ° C., preferably about 20 to 80 ° C., Metal compounds can be reduced.

上記アミンとしては、特に限定されず、例えば、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、N,N,N′,N′−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン;ピペリジン、N−メチルピペリジン、ピペラジン、N,N′−ジメチルピペラジン、ピロリジン、N−メチルピロリジン、モルホリン等の脂環式アミン;アニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、トルイジン、アニシジン、フェネチジン等の芳香族アミン;ベンジルアミン、N−メチルベンジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、フェネチルアミン、キシリレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラメチルキシリレンジアミン等のアラルキルアミン等をあげることができる。また、上記アミンとして、例えば、メチルアミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、プロパノールアミン、2−(3−アミノプロピルアミノ)エタノール、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルアミノプロパノール等のアルカノールアミンもあげることができる。これらのうち、アルカノールアミンが好ましい。   The amine is not particularly limited, and examples thereof include propylamine, butylamine, hexylamine, diethylamine, dipropylamine, dimethylethylamine, diethylmethylamine, triethylamine, ethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine. , 1,3-diaminopropane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3-diaminopropane, aliphatic amines such as triethylenetetramine, tetraethylenepentamine; piperidine, N-methylpiperidine, piperazine , N, N'-dimethylpiperazine, pyrrolidine, N-methylpyrrolidine, morpholine, and other alicyclic amines; aniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, toluidine, anisidine, phenetidine, and other aromatic amines; , N- methylbenzylamine, N, N- dimethylbenzylamine, phenethylamine, xylylenediamine, N, N, N ', and an aralkyl amine such as N'- tetramethyl xylylene diamine. Examples of the amine include methylaminoethanol, dimethylaminoethanol, triethanolamine, ethanolamine, diethanolamine, methyldiethanolamine, propanolamine, 2- (3-aminopropylamino) ethanol, butanolamine, hexanolamine, dimethylamino. An alkanolamine such as propanol can also be mentioned. Of these, alkanolamines are preferred.

上記アミンの添加量は、上記金属化合物1molに対して1〜50molの範囲内が好ましく、特に好ましくは、2〜8molの範囲内である。すなわち、1mol未満であると、還元が充分に行われず、逆に50molを超えると、生成した金属コロイド粒子の耐凝集安定性が低下するおそれがあるからである。   The addition amount of the amine is preferably in the range of 1 to 50 mol, particularly preferably in the range of 2 to 8 mol, with respect to 1 mol of the metal compound. That is, when the amount is less than 1 mol, the reduction is not sufficiently performed. Conversely, when the amount exceeds 50 mol, the aggregation stability of the generated metal colloid particles may be lowered.

また、上記還元剤として、上記水素化ホウ素ナトリウムを使用する場合、上記水素化ホウ素ナトリウムは、高価であり、取り扱いにも留意しなければならないが、常温で還元することができるため、加熱や特別な光照射装置を使用する必要がない。   In addition, when using the sodium borohydride as the reducing agent, the sodium borohydride is expensive and should be handled with care, but can be reduced at room temperature. It is not necessary to use a simple light irradiation device.

上記水素化ホウ素ナトリウムの添加量は、上記金属化合物1molに対して1〜50molの範囲内が好ましく、特に好ましくは、1.5〜10molの範囲内である。すなわち、1mol未満であると、還元が充分に行われず、逆に50molを超えると、生成した金属コロイド粒子の耐凝集安定性が低下するおそれがあるからである。   The addition amount of the sodium borohydride is preferably in the range of 1 to 50 mol, particularly preferably in the range of 1.5 to 10 mol, with respect to 1 mol of the metal compound. That is, when the amount is less than 1 mol, the reduction is not sufficiently performed. Conversely, when the amount exceeds 50 mol, the aggregation stability of the generated metal colloid particles may be lowered.

また、上記還元剤として、クエン酸またはその塩を使用する場合、アルコールの存在下で加熱還流することによって金属イオン等を還元することができる。上記クエン酸またはその塩は、非常に安価であり、入手が容易である利点がある。上記クエン酸またはその塩としては、例えば、クエン酸ナトリウムを使用することが好ましい。   Further, when citric acid or a salt thereof is used as the reducing agent, metal ions and the like can be reduced by heating to reflux in the presence of alcohol. The citric acid or a salt thereof has an advantage that it is very inexpensive and easily available. For example, sodium citrate is preferably used as the citric acid or a salt thereof.

上記クエン酸またはその塩の添加量は、上記金属化合物1molに対して1〜50molの範囲内が好ましく、特に好ましくは、1.5〜10molの範囲内である。すなわち、1mol未満であると、還元が充分に行われず、逆に50molを超えると、生成したコロイド粒子の耐凝集安定性が低下するおそれがあるからである。   The addition amount of the citric acid or a salt thereof is preferably in the range of 1 to 50 mol, particularly preferably in the range of 1.5 to 10 mol, with respect to 1 mol of the metal compound. That is, if the amount is less than 1 mol, the reduction is not sufficiently performed. Conversely, if the amount exceeds 50 mol, the aggregation stability of the generated colloidal particles may be lowered.

なお、本発明の電子写真機器用半導電性組成物には、上記A〜C成分とともに、導電剤、架橋剤、架橋促進剤、老化防止剤等を必要に応じて配合しても差し支えない。   In addition, in the semiconductive composition for electrophotographic equipment of the present invention, a conductive agent, a cross-linking agent, a cross-linking accelerator, an anti-aging agent and the like may be blended as necessary together with the above-described components A to C.

上記導電剤としては、特に限定はなく、例えば、カーボンブラック,c−ZnO(導電性酸化亜鉛),c−TiO2 (導電性酸化チタン),c−SnO2 (導電性酸化錫),グラファイト等の電子導電剤や、過塩素酸リチウム,第四級アンモニウム塩,ホウ酸塩のようなポリマーに溶解する化合物等のイオン導電剤があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。 The conductive agent is not particularly limited, and examples thereof include carbon black, c-ZnO (conductive zinc oxide), c-TiO 2 (conductive titanium oxide), c-SnO 2 (conductive tin oxide), graphite, and the like. And an ionic conductive agent such as a compound dissolved in a polymer such as lithium perchlorate, quaternary ammonium salt and borate. These may be used alone or in combination of two or more.

上記電子導電剤の配合割合は、上記特定のバインダーポリマー(A成分)100部に対して、5〜80部の範囲内が好ましく、特に好ましくは8〜20部の範囲内である。   The blending ratio of the electronic conductive agent is preferably in the range of 5 to 80 parts, particularly preferably in the range of 8 to 20 parts, with respect to 100 parts of the specific binder polymer (component A).

また、上記イオン導電剤の配合割合は、上記特定のバインダーポリマー(A成分)100部に対して、0.01〜5部の範囲内が好ましく、特に好ましくは0.5〜2部の範囲内である。   The blending ratio of the ionic conductive agent is preferably in the range of 0.01 to 5 parts, particularly preferably in the range of 0.5 to 2 parts, with respect to 100 parts of the specific binder polymer (component A). It is.

上記架橋剤としては、例えば、硫黄、イソシアネート、ブロックイソシアネート、メラミン等の尿素樹脂、エポキシ硬化剤、ポリアミン硬化剤、ヒドロシリル硬化剤、パーオキサイド等があげられる。なお、上記架橋剤とともに、紫外線や電子線等のエネルギーによってラジカルを発生する光開始剤を併用しても差し支えない。   Examples of the crosslinking agent include urea resins such as sulfur, isocyanate, blocked isocyanate, and melamine, epoxy curing agents, polyamine curing agents, hydrosilyl curing agents, and peroxides. A photoinitiator that generates radicals by energy such as ultraviolet rays or electron beams may be used in combination with the crosslinking agent.

上記架橋剤の配合割合は、物性、粘着、液保管性の点から、上記特定のバインダーポリマー(A成分)100部に対して、1〜30部の範囲内が好ましく、特に好ましくは3〜10部の範囲内である。   The blending ratio of the crosslinking agent is preferably in the range of 1 to 30 parts, particularly preferably 3 to 10 parts per 100 parts of the specific binder polymer (component A) from the viewpoint of physical properties, adhesion, and liquid storage property. Within the range of the part.

また、上記架橋促進剤としては、例えば、スルフェンアミド系架橋促進剤、白金化合物、アミン触媒、ジチオカルバミン酸塩系架橋促進剤等の公知のものがあげられる。   Examples of the crosslinking accelerator include known ones such as a sulfenamide-based crosslinking accelerator, a platinum compound, an amine catalyst, and a dithiocarbamate-based crosslinking accelerator.

ここで、本発明の電子写真機器用半導電性組成物は、例えば、つぎのようにして調製することができる。すなわち、前記と同様にして、上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)で保護された金属ナノ粒子(B成分)を調製する。そして、この特殊な金属ナノ粒子(B成分)および上記特定のイオン性官能基を有するバインダーポリマー(A成分)とともに、上記架橋剤等を必要に応じて適宜に配合する。そして、これらを溶剤に溶かして溶液化し、ビーズミルや三本ロールを用いて分散することにより、目的とする半導電性組成物を得ることができる。   Here, the semiconductive composition for electrophotographic equipment of the present invention can be prepared, for example, as follows. That is, in the same manner as described above, metal nanoparticles (component B) protected with the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) are prepared. And the said crosslinking agent etc. are suitably mix | blended with this special metal nanoparticle (B component) and the binder polymer (A component) which has the said specific ionic functional group as needed. Then, these are dissolved in a solvent to form a solution, and dispersed by using a bead mill or a three roll, thereby obtaining a target semiconductive composition.

上記特定の高分子量顔料分散剤(C成分)で保護された金属ナノ粒子(B成分)の配合量は、上記特定のバインダーポリマー(A成分)100部に対して、10〜2000部の範囲内が好ましく、特に好ましくは50〜1000部の範囲内である。すなわち、上記特殊な金属ナノ粒子(B成分)の配合量が10部未満であると、半導電性を出すほどの効果がなく、逆に2000部を超えると、上記特定のバインダーポリマー(A成分)の物性を損なう傾向がみられるからである。   The compounding amount of the metal nanoparticles (component B) protected with the specific high molecular weight pigment dispersant (component C) is in the range of 10 to 2000 parts with respect to 100 parts of the specific binder polymer (component A). Is preferable, and particularly preferably within the range of 50 to 1000 parts. That is, when the amount of the special metal nanoparticle (component B) is less than 10 parts, there is no effect to produce semiconductivity. Conversely, when the amount exceeds 2000 parts, the specific binder polymer (component A) This is because there is a tendency to deteriorate the physical properties of).

上記溶剤としては、例えば、m−クレゾール、メタノール、メチルエチルケトン(MEK)、トルエン、テトラヒドロフラン(THF)、アセトン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)等の有機溶剤等があげられる。   Examples of the solvent include organic solvents such as m-cresol, methanol, methyl ethyl ketone (MEK), toluene, tetrahydrofuran (THF), acetone, ethyl acetate, dimethylformamide (DMF), and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP). Etc.

本発明の電子写真機器用半導電性組成物は、溶剤に溶解したコーティング液をコーティングすることにより成膜化できるが、これに限定するものではなく、押出成形法、インジェクション成形法、インフレーション成形法等により、成膜化することも可能である。   The semiconductive composition for an electrophotographic apparatus of the present invention can be formed into a film by coating a coating solution dissolved in a solvent, but is not limited thereto, and is an extrusion molding method, an injection molding method, an inflation molding method. It is also possible to form a film by, for example.

つぎに、本発明の電子写真機器用半導電性組成物を用いた電子写真機器用半導電性部材について説明する。   Next, a semiconductive member for electrophotographic equipment using the semiconductive composition for electrophotographic equipment of the present invention will be described.

本発明の電子写真機器用半導電性部材は、上述の半導電性組成物を半導電性部材の少なくとも一部(全部もしくは一部)に用いることにより得ることができる。この電子写真機器用半導電性部材としては、例えば、現像ロール,帯電ロール,転写ロール,トナー供給ロール等の導電性ロール、中間転写ベルト,紙送りベルト等の導電性ベルト等があげられ、これらの構成層の少なくとも一部に用いられる。すなわち、本発明の半導電性組成物を、電子写真機器用半導電性部材の構成層の少なくとも一部に用いると、この半導電性組成物を用いて形成した構成層の電気抵抗の電圧依存性および環境依存性が小さくなり、他の構成層へは、この半導体組成物層を通った電流となるため、電気抵抗の電圧依存性および環境依存性の影響を受けにくくなる。その結果、電子写真機器用半導電性部材全体としての電気抵抗の電圧依存性および環境依存性が小さくなるため、濃度むら等が少なくなり、変動の少ない良好な画質が得られる等の、電子写真機器に要求される性能の向上を実現することができるようになる。   The semiconductive member for an electrophotographic apparatus of the present invention can be obtained by using the above semiconductive composition for at least a part (all or a part) of the semiconductive member. Examples of the semiconductive member for electrophotographic equipment include conductive rolls such as developing rolls, charging rolls, transfer rolls, and toner supply rolls, and conductive belts such as intermediate transfer belts and paper feed belts. It is used for at least a part of the constituent layers. That is, when the semiconductive composition of the present invention is used for at least a part of a constituent layer of a semiconductive member for an electrophotographic apparatus, the voltage dependence of the electrical resistance of the constituent layer formed using this semiconductive composition. Since the electric current and the environmental dependency are reduced and the current flows through the semiconductor composition layer to other constituent layers, the electric resistance is less affected by the voltage dependency and the environmental dependency. As a result, the voltage dependency and environment dependency of the electrical resistance as a whole semiconductive member for electrophotographic equipment are reduced, so that density unevenness and the like can be reduced, and good image quality with little fluctuation can be obtained. The performance required for the device can be improved.

つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。   Next, examples will be described together with comparative examples.

まず、実施例および比較例に先立ち、下記に示す材料を調製および準備した。   First, prior to Examples and Comparative Examples, materials shown below were prepared and prepared.

〔銀ナノ粒子溶液の調製〕
1000mMの硝酸銀水溶液10mlをビーカーにとり、アセトン90mlで希釈した後、上記特定の櫛形構造の高分子(C1)である高分子量顔料分散剤(ビックケミー社製、ディスパービック161、軟化温度:100℃、Mn:2000)を3g溶解させた。この高分子量顔料分散剤が完全に溶解してから、ジメチルアミノエタノールを5ml加えて、鮮やかで濃厚な黄色の銀コロイド溶液を得た。得られた銀コロイド溶液を多量のヘキサン中に投入した。この高分子量顔料分散剤(ビックケミー社製、ディスパービック161)は、ヘキサンに不溶なため、高分子量顔料分散剤で保護された銀コロイドが析出・沈降した。沈降物を濾別し、さらにヘキサンで洗浄した後、完全に乾燥させて銀の固体ゾルを得た。得られた銀の固体ゾルの濃度は、高分子量顔料分散剤1kgあたり、11molであった。この固体ゾル3gを、テトラヒドロフラン(THF)10mlに溶解して、鮮やかで濃厚な黄色の、高分子量顔料分散剤で保護された銀ナノ粒子(平均粒径8nm)の溶液(上記銀ナノ粒子の含有量:20重量%)を得た。
[Preparation of silver nanoparticle solution]
After taking 10 ml of 1000 mM silver nitrate aqueous solution in a beaker and diluting with 90 ml of acetone, the above-described high molecular weight pigment dispersant (Dispvic 161, manufactured by BYK Chemie, softening temperature: 100 ° C., Mn : 2000) was dissolved. After the high molecular weight pigment dispersant was completely dissolved, 5 ml of dimethylaminoethanol was added to obtain a bright and thick yellow colloidal silver solution. The obtained silver colloid solution was put into a large amount of hexane. Since this high molecular weight pigment dispersant (manufactured by Big Chemie, Dispersic 161) is insoluble in hexane, silver colloid protected with the high molecular weight pigment dispersant was precipitated and precipitated. The precipitate was separated by filtration, further washed with hexane, and then completely dried to obtain a silver solid sol. The concentration of the obtained silver solid sol was 11 mol per kg of the high molecular weight pigment dispersant. 3 g of this solid sol was dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran (THF), and a solution of silver nanoparticles (average particle diameter of 8 nm) protected with a bright and dark yellow high molecular weight pigment dispersant (containing the above silver nanoparticles) Amount: 20% by weight) was obtained.

〔銅ナノ粒子溶液の調製〕
100mMの塩化銅(II)水溶液10mlをビーカーにとり、アセトン90mlで希釈した後、上記特定の櫛形構造の高分子(C1)である高分子量顔料分散剤(ゼネカ社製、ソルスパース28000、軟化温度:0℃以下、Mn:100,000)を1g溶解させた。この高分子量顔料分散剤が完全に溶解してから、還元剤として2Mの水素化ホウ素ナトリウム水溶液を10ml加えて、鮮やかで濃厚な赤色の銅コロイド溶液を得た。得られた銅コロイド溶液を減圧下に加熱しアセトンを除去した。この高分子量顔料分散剤(ゼネカ社製、ソルスパース28000)は、水に不溶なため、アセトン量の減少に伴い、高分子量顔料分散剤で保護された銅コロイドが析出・沈降した。上澄みの水層をデカンテーションで除去し、さらにイオン交換水で沈殿物を洗浄した後、完全に乾燥させて銅の固体ゾルを得た。得られた銅の固体ゾルの濃度は、高分子量顔料分散剤1kgあたり、1molであった。この固体ゾル3gを、メチルエチルケトン(MEK)10mlに溶解して、鮮やかで濃厚な赤色の、高分子量顔料分散剤で保護された銅ナノ粒子(平均粒径15nm)の溶液(上記銅ナノ粒子の含有量:20重量%)を得た。
(Preparation of copper nanoparticle solution)
After taking 10 ml of 100 mM copper chloride (II) aqueous solution in a beaker and diluting with 90 ml of acetone, the high molecular weight pigment dispersant (Zeneca Corp., Solsperse 28000, softening temperature: 0) 1 g of Mn: 100,000 or less was dissolved. After the high molecular weight pigment dispersant was completely dissolved, 10 ml of a 2M aqueous sodium borohydride solution was added as a reducing agent to obtain a bright and dense red copper colloid solution. The obtained copper colloid solution was heated under reduced pressure to remove acetone. Since this high molecular weight pigment dispersant (manufactured by Zeneca, Solsperse 28000) is insoluble in water, the copper colloid protected with the high molecular weight pigment dispersant was precipitated and settled as the amount of acetone decreased. The supernatant aqueous layer was removed by decantation, and the precipitate was washed with ion-exchanged water and then completely dried to obtain a solid sol of copper. The concentration of the obtained solid sol of copper was 1 mol per 1 kg of the high molecular weight pigment dispersant. 3 g of this solid sol was dissolved in 10 ml of methyl ethyl ketone (MEK), and a solution of copper nanoparticles (average particle size of 15 nm) protected with a high-molecular weight pigment dispersant with a bright and rich red color (containing the above copper nanoparticles) Amount: 20% by weight) was obtained.

〔スルホン化ウレタンエラストマーA(A成分)〕
温度計、攪拌機および部分還流式冷却器を具備した反応器に、5−ナトリウムスルホイソフタル酸178部、1,6−ヘキサンジオール155.8部、およびネオペンチルグリコール321.7部を加え、200℃で5時間エステル交換反応を行った。つづいて、アジピン酸480.8部を加え、200℃で10時間反応させた後、反応系を3時間かけて20mmHgまで減圧し、さらに5〜20mmHg、210℃で2時間重縮合反応を行い、ポリエステルジオール(Mn:2000)を得た。つぎに、このポリエステルジオール100部を、MEKに固形分重量が30重量%となるように溶解し、触媒としてジブチル錫ジラウレートを0.02部加え、80℃に保ち攪拌しながら、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネートを12.5部添加して、スルホン化ウレタンエラストマー(Mn:20,000、スルホン酸ナトリウム基量:0.5mmol/g)を得た。
[Sulfonated urethane elastomer A (component A)]
To a reactor equipped with a thermometer, stirrer and partial reflux condenser, 178 parts of 5-sodium sulfoisophthalic acid, 155.8 parts of 1,6-hexanediol, and 321.7 parts of neopentyl glycol were added, The transesterification was carried out for 5 hours. Subsequently, after adding 480.8 parts of adipic acid and reacting at 200 ° C. for 10 hours, the reaction system was depressurized to 20 mmHg over 3 hours, and further subjected to polycondensation reaction at 5-20 mmHg and 210 ° C. for 2 hours, A polyester diol (Mn: 2000) was obtained. Next, 100 parts of this polyester diol was dissolved in MEK so as to have a solid content of 30% by weight, 0.02 part of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst, and the mixture was kept at 80 ° C. while stirring, while 4,4 ′ -12.5 parts of diphenylmethane diisocyanate was added to obtain a sulfonated urethane elastomer (Mn: 20,000, sodium sulfonate group amount: 0.5 mmol / g).

〔スルホン化ウレタンエラストマーB(A成分)〕
温度計、攪拌機および部分還流式冷却器を具備した反応器に、5−ナトリウムスルホイソフタル酸0.8部、1,6−ヘキサンジオール155.8部、およびネオペンチルグリコール321.7部を加え、200℃で5時間エステル交換反応を行った。つづいて、アジピン酸334.7部およびテレフタル酸274.1部を加え、200℃で10時間反応させた後、反応系を3時間かけて20mmHgまで減圧し、さらに5〜20mmHg、210℃で2時間重縮合反応を行い、ポリエステルジオール(Mn:2000)を得た。つぎに、このポリエステルジオール90部を、MEKに固形分重量が30重量%となるように溶解し、触媒としてジブチル錫ジラウレートを0.02部加え、80℃に保ち攪拌しながら、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネートを12.5部添加した後、1,6−ヘキサンジオール0.59部を添加して、スルホン化ウレタンエラストマー(Mn:70,000、スルホン酸ナトリウム基量:0.002mmol/g)を得た。
[Sulfonated urethane elastomer B (component A)]
To a reactor equipped with a thermometer, a stirrer and a partial reflux condenser, 0.8 parts of 5-sodium sulfoisophthalic acid, 155.8 parts of 1,6-hexanediol, and 321.7 parts of neopentyl glycol are added, The transesterification was carried out at 200 ° C. for 5 hours. Subsequently, 334.7 parts of adipic acid and 274.1 parts of terephthalic acid were added and reacted at 200 ° C. for 10 hours. Then, the reaction system was depressurized to 20 mmHg over 3 hours, and further 5-20 mmHg at 210 ° C. for 2 hours. A time polycondensation reaction was performed to obtain a polyester diol (Mn: 2000). Next, 90 parts of this polyester diol was dissolved in MEK so as to have a solid content of 30% by weight, 0.02 part of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst, and the mixture was kept at 80 ° C. while stirring, while 4,4 ′ -After adding 12.5 parts of diphenylmethane diisocyanate, 0.59 parts of 1,6-hexanediol was added, and sulfonated urethane elastomer (Mn: 70,000, sodium sulfonate group amount: 0.002 mmol / g) Got.

〔スルホン化ウレタンエラストマーC(A成分)〕
温度計、攪拌機および部分還流式冷却器を具備した反応器に、5−ナトリウムスルホイソフタル酸258.5部、1,6−ヘキサンジオール155.8部、およびネオペンチルグリコール321.7部を加え、200℃で5時間エステル交換反応を行った。つづいて、アジピン酸437部を加え、200℃で10時間反応させた後、反応系を3時間かけて20mmHgまで減圧し、さらに5〜20mmHg、210℃で2時間重縮合反応を行い、ポリエステルジオール(Mn:2000)を得た。つぎに、このポリエステルジオール100部を、MEKに固形分重量が30重量%となるように溶解し、触媒としてジブチル錫ジラウレートを0.02部加え、80℃に保ち攪拌しながら、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネートを12.5部添加して、スルホン化ウレタンエラストマー(Mn:20,000、スルホン酸ナトリウム基量:0.75mmol/g)を得た。
[Sulfonated urethane elastomer C (component A)]
To a reactor equipped with a thermometer, a stirrer and a partial reflux condenser, 258.5 parts of 5-sodium sulfoisophthalic acid, 155.8 parts of 1,6-hexanediol, and 321.7 parts of neopentyl glycol are added, The transesterification was carried out at 200 ° C. for 5 hours. Subsequently, after adding 437 parts of adipic acid and reacting at 200 ° C. for 10 hours, the reaction system was depressurized to 20 mmHg over 3 hours, and further subjected to polycondensation reaction at 5 to 20 mmHg and 210 ° C. for 2 hours. (Mn: 2000) was obtained. Next, 100 parts of this polyester diol was dissolved in MEK so as to have a solid content of 30% by weight, 0.02 part of dibutyltin dilaurate was added as a catalyst, and the mixture was kept at 80 ° C. while stirring, while 4,4 ′ -12.5 parts of diphenylmethane diisocyanate was added to obtain a sulfonated urethane elastomer (Mn: 20,000, sodium sulfonate group amount: 0.75 mmol / g).

〔スルホン化アクリルエラストマー(A成分)〕
温度計、攪拌機および部分還流式冷却器を具備した反応器に、メチルメタクリレート(MMA)40部、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)10.4部、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6.5部、ブチルアクリレート(BA)64.1部、およびメチルイソブチルケトン(MIBK)200部を添加し、攪拌しながら、120℃でアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を2部添加し反応を行い、スルホン化アクリルエラストマー(Mn:12,000、スルホン酸基量:0.4mmol/g)を得た。
[Sulfonated acrylic elastomer (component A)]
In a reactor equipped with a thermometer, a stirrer and a partial reflux condenser, 40 parts of methyl methacrylate (MMA), 10.4 parts of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid (AMPS), 6 parts of hydroxyethyl methacrylate (HEMA) 6 .5 parts, 64.1 parts of butyl acrylate (BA) and 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) are added, and 2 parts of azobisisobutyronitrile (AIBN) are added at 120 ° C. with stirring. Then, a sulfonated acrylic elastomer (Mn: 12,000, sulfonic acid group amount: 0.4 mmol / g) was obtained.

〔アンモニウム化アクリルエラストマー(A成分)〕
メチルエチルケトン200g中に、メチルメタクリレート(MMA)35g、ブチルアクリレート(BA)55g、ヒドロキシメチルメタクリレート(HEMA)5g、ジメチルアミノエチルメタクリレート(DMAEMA)5gを混合し、アゾ開始剤(AIBN)0.1gを用いてラジカル重合を行った。アルコールで沈殿させ、THFに再溶解(30%)し、アンモニウム化アクリルエラストマー(Mn:40,000、アンモニウム基量:0.24mmol/g)を得た。
[Ammonium-modified acrylic elastomer (component A)]
In 200 g of methyl ethyl ketone, 35 g of methyl methacrylate (MMA), 55 g of butyl acrylate (BA), 5 g of hydroxymethyl methacrylate (HEMA), 5 g of dimethylaminoethyl methacrylate (DMAEMA) are mixed, and 0.1 g of azo initiator (AIBN) is used. Then, radical polymerization was performed. Precipitation with alcohol and redissolving in THF (30%) gave an ammonium-modified acrylic elastomer (Mn: 40,000, ammonium group content: 0.24 mmol / g).

〔スルホン化イソプレンエラストマー(A成分)〕
2−メチル−1,3−ブタジエン−1−スルホン酸ナトリウム(MBSN)36.5部と、イソプレン664部とを水中で攪拌しながら、過硫酸カリウムを添加して70℃で5時間重合を行い、スルホン化イソプレンエラストマー(Mn:50,000、スルホン酸ナトリウム基量:0.35mmol/g)を得た。
[Sulfonated isoprene elastomer (component A)]
While stirring 36.5 parts of sodium 2-methyl-1,3-butadiene-1-sulfonate (MBSN) and 664 parts of isoprene in water, potassium persulfate was added and polymerization was carried out at 70 ° C. for 5 hours. Thus, a sulfonated isoprene elastomer (Mn: 50,000, sodium sulfonate group amount: 0.35 mmol / g) was obtained.

〔ウレタンエラストマー〕
カーボネート系TPU(日本ミラクトラン社製、E980)
[Urethane elastomer]
Carbonate TPU (Nippon Miraclan, E980)

〔アクリルエラストマー〕
メチルエチルケトン200g中に、メチルメタクリレート(MMA)35g、ブチルアクリレート(BA)55g、ヒドロキシメチルメタクリレート(HEMA)5gを混合し、アゾ開始剤(AIBN)0.1gを用いてラジカル重合を行った。アルコールで沈殿させ、THFに再溶解(30%)し、アクリルエラストマーを得た。
[Acrylic elastomer]
In 200 g of methyl ethyl ketone, 35 g of methyl methacrylate (MMA), 55 g of butyl acrylate (BA) and 5 g of hydroxymethyl methacrylate (HEMA) were mixed, and radical polymerization was performed using 0.1 g of an azo initiator (AIBN). Precipitation with alcohol and redissolving in THF (30%) gave an acrylic elastomer.

〔導電剤〕
アセチレンブラック(電気化学工業社製、デンカブラックHS100)
[Conductive agent]
Acetylene black (Denka Black HS100, manufactured by Denki Kagaku Kogyo)

〔導電剤〕
第四級アンモニウム塩(ライオン社製、テトラブチルアンモニウム臭素塩TBAB)
[Conductive agent]
Quaternary ammonium salt (Lion Corporation, tetrabutylammonium bromide TBAB)

〔加硫促進剤a〕
スルフェンアミド系架橋促進剤(大内新興化学工業社製、ノクセラーCZ)
[Vulcanization accelerator a]
Sulfenamide-based cross-linking accelerator (Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd., Noxeller CZ)

〔加硫促進剤b〕
ジチオカルバミン酸塩系架橋促進剤(大内新興化学工業社製、ノクセラーBZ)
[Vulcanization accelerator b]
Dithiocarbamate-based crosslinking accelerator (Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd., Noxeller BZ)

〔実施例1〜9、比較例1〜5〕
後記の表1および表2に示す各成分を同表に示す割合で配合し、三本ロールを用いて混練して、半導電性組成物(コーティング液)を作製した。なお、表中の銀ナノ粒子もしくは銅ナノ粒子の配合量は、高分子量顔料分散剤で保護された銀ナノ粒子もしくは高分子量顔料分散剤で保護された銅ナノ粒子の配合量をそれぞれ示す。
[Examples 1-9, Comparative Examples 1-5]
The components shown in Table 1 and Table 2 below were blended in the proportions shown in the same table, and kneaded using three rolls to prepare a semiconductive composition (coating liquid). In addition, the compounding quantity of the silver nanoparticle or copper nanoparticle in a table | surface shows the compounding quantity of the silver nanoparticle protected with the high molecular weight pigment dispersant or the copper nanoparticle protected with the high molecular weight pigment dispersant, respectively.

〔電気抵抗〕
各半導電性組成物(コーティング液)をSUS304板上に塗布して、120℃×30分乾燥し、厚み30μmの導電性塗膜を作製した。つぎに、この導電性塗膜について、25℃×50%RHの環境下、10Vの電圧を印加した時の電気抵抗を、SRIS 2304に準じて測定した。
[Electric resistance]
Each semiconductive composition (coating liquid) was applied on a SUS304 plate and dried at 120 ° C. for 30 minutes to prepare a conductive coating film having a thickness of 30 μm. Next, with respect to this conductive coating film, the electrical resistance when a voltage of 10 V was applied in an environment of 25 ° C. × 50% RH was measured according to SRIS 2304.

〔電気抵抗の環境依存性〕
各半導電性組成物(コーティング液)を用いて、上記と同様にして、導電性塗膜を作製し、この導電性塗膜について、印加電圧10Vの条件下、低温低湿(15℃×10%RH)時の電気抵抗(Rv=15℃×10%RH)と、高温高湿(35℃×85%RH)時の電気抵抗(Rv=35℃×85%RH)を、SRIS 2304に準じてそれぞれ測定した。そして、Log(Rv=15℃×10%RH/Rv=35℃×85%RH)により、電気抵抗の環境依存性を変動桁数で表示した。
[Environmental dependence of electrical resistance]
Using each semiconductive composition (coating liquid), a conductive coating film was prepared in the same manner as described above, and this conductive coating film was subjected to low temperature and low humidity (15 ° C. × 10%) under the condition of an applied voltage of 10 V. RH) electrical resistance (Rv = 15 ° C. × 10% RH) and high temperature high humidity (35 ° C. × 85% RH) electrical resistance (Rv = 35 ° C. × 85% RH) according to SRIS 2304 Each was measured. Then, the environmental dependency of the electrical resistance was displayed by the number of fluctuation digits by Log (Rv = 15 ° C. × 10% RH / Rv = 35 ° C. × 85% RH).

〔電気抵抗の制御性〕
バインダーポリマーに導電剤(金属ナノ粒子)を分散させ、印加電圧10V、25℃×50%RHの条件下、Rv=1×107 Ω・cmを示す配合量を中心にし、その配合量から5%vol増やした場合の体積抵抗(Rv)と、5%vol減らした場合の体積抵抗(Rv)との差をLog(桁)で表示した。
[Controllability of electrical resistance]
Conductive agent (metal nanoparticles) is dispersed in the binder polymer, and under the conditions of an applied voltage of 10 V and 25 ° C. × 50% RH, the compounding amount showing Rv = 1 × 10 7 Ω · cm is the center. The difference between the volume resistance (Rv) when increased by% vol and the volume resistance (Rv) when decreased by 5% vol is expressed in Log (digit).

〔分散性〕
バインダーポリマー中における、金属ナノ粒子もしくは導電剤の分散性を評価した。評価は、0.05μm以上の凝集物が生じなかったものを○、0.05〜0.1μmの凝集物が生じたものを○〜△、0.1μmを超える凝集物が生じたものを×とした。
[Dispersibility]
The dispersibility of the metal nanoparticles or the conductive agent in the binder polymer was evaluated. The evaluation was ○ when the aggregates of 0.05 μm or more did not occur, ○ when the aggregates of 0.05 to 0.1 μm were generated, and Δ when the aggregates exceeding 0.1 μm were generated × It was.

Figure 2006267244
Figure 2006267244

Figure 2006267244
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上記結果から、実施例品は、分散性に優れるとともに、電気抵抗の環境依存性が小さく、また電気抵抗の制御性が良好であった。   From the above results, the products of the examples were excellent in dispersibility, were less dependent on the environment of electrical resistance, and had good controllability of electrical resistance.

これに対して、比較例1品は、金属ナノ粒子に代えて、導電剤(アセチレンブラック)を用いているため、アセチレンブラックが凝集し、分散性が劣るととともに、電気抵抗の制御性の評価が劣っていた。比較例2品は、金属ナノ粒子に代えて、導電剤(第四級アンモニウム塩)を用いているため、ブルームが生じるとともに、電気抵抗の環境依存性が大きかった。また、比較例3,4品は、スルホン化していないTPUを用いているため、分散性が劣るとともに、電気抵抗の制御性の評価が劣っていた。比較例5品は、スルホン化もしくはアンモニウム化していないアクリルエラストマーを用いているため、分散性が劣っていた。   On the other hand, since the product of Comparative Example 1 uses a conductive agent (acetylene black) instead of metal nanoparticles, the acetylene black aggregates and the dispersibility is inferior, and the electrical resistance controllability is evaluated. Was inferior. Since the product of Comparative Example 2 used a conductive agent (quaternary ammonium salt) instead of the metal nanoparticles, bloom occurred and the electrical resistance was highly dependent on the environment. Moreover, since the comparative example 3 and 4 products use TPU which is not sulfonated, while dispersibility was inferior, evaluation of the controllability of electrical resistance was inferior. The product of Comparative Example 5 was inferior in dispersibility because it used an acrylic elastomer that was not sulfonated or ammoniumized.

つぎに、上記半導電性組成物を用いた現像ロールの実施例について説明する。   Next, examples of developing rolls using the semiconductive composition will be described.

〔実施例10〕
(ベース層用材料の調製)
カーボンブラックを分散させたシリコーンゴム(信越化学工業社製、KE1350AB)を準備した。
Example 10
(Preparation of base layer material)
Silicone rubber (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KE1350AB) in which carbon black was dispersed was prepared.

(表層用材料の調製)
実施例1と同様にして、半導電性組成物を作製した。
(Preparation of surface layer material)
A semiconductive composition was prepared in the same manner as in Example 1.

(現像ロールの作製)
軸体である芯金(直径10mm、SUS304製)をセットした射出成形用金型内に、上記ベース層用材料を注型し、150℃×45分の条件で加熱した後、脱型して、軸体の外周面に沿ってベース層を形成した。つぎに、このベース層の外周面に、上記表層用材料を塗布して、表層を形成することにより、軸体の外周面にベース層(厚み4mm)が形成され、その外周面に表層(厚み20μm)が形成されてなる、2層構造の現像ロールを作製した。
(Preparation of developing roll)
The base layer material is poured into an injection mold having a shaft core (diameter 10 mm, made of SUS304), heated at 150 ° C. for 45 minutes, and then removed from the mold. A base layer was formed along the outer peripheral surface of the shaft body. Next, the base layer (thickness 4 mm) is formed on the outer peripheral surface of the shaft body by applying the surface layer material to the outer peripheral surface of the base layer to form the surface layer. A developing roll having a two-layer structure was prepared.

〔比較例6〕
(表層用材料の調製)
比較例1と同様にして、半導電性組成物を作製した。
[Comparative Example 6]
(Preparation of surface layer material)
A semiconductive composition was produced in the same manner as in Comparative Example 1.

(現像ロールの作製)
上記表層用材料を用いる以外は、実施例10と同様にて、軸体の外周面にベース層(厚み4mm)が形成され、その外周面に表層(厚み20μm)が形成されてなる、2層構造の現像ロールを作製した。
(Preparation of developing roll)
Two layers formed by forming a base layer (thickness 4 mm) on the outer peripheral surface of the shaft body and forming a surface layer (thickness 20 μm) on the outer peripheral surface in the same manner as in Example 10 except that the surface layer material is used. A developing roll having a structure was prepared.

このようにして得られた実施例および比較例の現像ロールを用いて、下記の基準に従い、各特性の評価を行った。これらの結果を、後記の表3に併せて示した。   Using the developing rolls of Examples and Comparative Examples thus obtained, each characteristic was evaluated according to the following criteria. These results are also shown in Table 3 below.

〔製品の電気抵抗〕
現像ロールの表面をSUS板に押し当てた状態で、現像ロールの両端に各1kgの荷重をかけ、現像ロールの芯金と、SUS板に押し当てた現像ロール表面との間の電気抵抗を、25℃×50%RHの環境下、10Vの電圧を印加した条件で、SRIS 2304に準じて測定した。
[Electric resistance of products]
With the surface of the developing roll pressed against the SUS plate, a load of 1 kg is applied to both ends of the developing roll, and the electrical resistance between the core of the developing roll and the surface of the developing roll pressed against the SUS plate is It measured according to SRIS 2304 on the conditions which applied the voltage of 10V in the environment of 25 degreeC x 50% RH.

〔電気抵抗の環境依存性〕
上記製品の電気抵抗の評価に準じて、印加電圧10Vの条件下、低温低湿(15℃×10%RH)の時の電気抵抗(Rv=15℃×10%RH)と、高温高湿(35℃×85%RH)の時の電気抵抗(Rv=35℃×85%RH)を、SRIS 2304に準じてそれぞれ測定した。そして、Log(Rv=15℃×10%RH/Rv=35℃×85%RH)により、電気抵抗の環境依存性を変動桁数で表示した。
[Environmental dependence of electrical resistance]
According to the evaluation of the electrical resistance of the product, the electrical resistance (Rv = 15 ° C. × 10% RH) at low temperature and low humidity (15 ° C. × 10% RH) and high temperature and high humidity (35 The electrical resistance (Rv = 35 ° C. × 85% RH) at the time of (° C. × 85% RH) was measured according to SRIS 2304. Then, the environmental dependency of the electrical resistance was displayed by the number of fluctuation digits by Log (Rv = 15 ° C. × 10% RH / Rv = 35 ° C. × 85% RH).

〔電気抵抗のばらつき〕
製品と金属ロール(直径20mm)とを平行に接触させ、1kgの荷重をかけ、30°づつ回転させ静止した状態で10V印加し、上記金属ロールと製品の芯金との間の電気抵抗を測定した。そして、電気抵抗の最大値と最小値との差を桁数で表示した。
[Variation of electrical resistance]
A product and a metal roll (diameter 20 mm) are contacted in parallel, a load of 1 kg is applied, 30 V is rotated and applied at 10 V in a stationary state, and the electrical resistance between the metal roll and the metal core of the product is measured. did. Then, the difference between the maximum value and the minimum value of the electrical resistance was displayed in the number of digits.

〔硬度(JIS A)〕
各現像ロールの最表面の硬度を、JIS K 6253に準じて測定した。
[Hardness (JIS A)]
The hardness of the outermost surface of each developing roll was measured according to JIS K 6253.

〔圧縮永久歪み〕
各現像ロールの圧縮永久歪みを、温度70℃、試験時間22時間、圧縮率25%の条件下、JIS K 6262に準じて測定した。
(Compression set)
The compression set of each developing roll was measured according to JIS K 6262 under conditions of a temperature of 70 ° C., a test time of 22 hours, and a compression rate of 25%.

〔現像ロール特性〕
(画像むら)
各現像ロールを市販のカラープリンターに組み込み、20℃×50%RHの環境下において画像出しを行った。評価は、ハーフトーン画像での濃度むらがなく、細線のとぎれや色ずれがなかったものを○、そうでないものを×とした。
(Development roll characteristics)
(Image unevenness)
Each developing roll was incorporated into a commercially available color printer, and images were taken out in an environment of 20 ° C. × 50% RH. In the evaluation, a case where there was no density unevenness in a halftone image and no thin line breaks or color misregistration was given as ◯, and a case where it was not, was given as x.

(環境による画質の変動)
各現像ロールを市販のカラープリンターに組み込み、15℃×10%RHの環境下において画像出しを行った時と、35℃×85%RHの環境下において画像出しを行った時の、環境による画質の変動の評価を行った。評価は、べた黒画像を印刷し、マクベス濃度計で変化が0.1以下の時を○、0.1を超える時を×とした。
(Changes in image quality due to the environment)
Image quality depending on the environment when each developing roll is incorporated in a commercially available color printer and images are output in an environment of 15 ° C. × 10% RH and when images are output in an environment of 35 ° C. × 85% RH We evaluated the fluctuations. In the evaluation, a solid black image was printed, and when the change was 0.1 or less with a Macbeth densitometer, ○, and when it exceeded 0.1, x.

〔チャージアップによる濃度変動〕
各現像ロールを市販のカラープリンターに組み込み、25℃×50%RHの環境下、1万枚画像出しを行った。評価は、ハーフトーン画像での濃度差がなかったもの(マクベス濃度計で0.1未満)を○、濃度差が生じたもの(マクベス濃度計で0.1以上)を×とした。
[Concentration fluctuation due to charge-up]
Each developing roll was incorporated into a commercially available color printer, and 10,000 sheets of images were taken out in an environment of 25 ° C. × 50% RH. In the evaluation, a case where there was no density difference in a halftone image (less than 0.1 with a Macbeth densitometer) was evaluated as ◯, and a case where a density difference occurred (0.1 or more with a Macbeth densitometer) was evaluated as x.

Figure 2006267244
Figure 2006267244

上記結果から、実施例10品は、全ての特性が良好で、現像ロール特性に優れていた。これに対して、比較例6品は、電気抵抗のばらつきが大きく、画像むらの評価が悪かった。   From the above results, the product of Example 10 was excellent in all characteristics and excellent in developing roll characteristics. On the other hand, the product of Comparative Example 6 had a large variation in electrical resistance, and the evaluation of image unevenness was poor.

つぎに、上記半導電性組成物を用いた帯電ロールの実施例について説明する。   Next, examples of the charging roll using the semiconductive composition will be described.

〔実施例11〕
(ベース層用材料の調製)
カーボンブラックを分散させたシリコーンゴム(信越化学工業社製、KE1350AB)を準備した。
Example 11
(Preparation of base layer material)
Silicone rubber (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KE1350AB) in which carbon black was dispersed was prepared.

(表層用材料の調製)
実施例6と同様にして、半導電性組成物を作製した。
(Preparation of surface layer material)
A semiconductive composition was prepared in the same manner as in Example 6.

(帯電ロールの作製)
軸体である芯金(直径10mm、SUS304製)をセットした射出成形用金型内に、上記ベース層用材料を注型し、150℃×45分の条件で加熱した後、脱型して、軸体の外周面に沿ってベース層を形成した。つぎに、このベース層の外周面に、上記表層用材料を塗布して、表層を形成することにより、軸体の外周面にベース層(厚み3mm)が形成され、その外周面に表層(厚み35μm)が形成されてなる、2層構造の帯電ロールを作製した。
(Preparation of charging roll)
The base layer material is poured into an injection mold having a shaft core (diameter 10 mm, made of SUS304), heated at 150 ° C. for 45 minutes, and then removed from the mold. A base layer was formed along the outer peripheral surface of the shaft body. Next, the base layer (thickness 3 mm) is formed on the outer peripheral surface of the shaft body by applying the surface layer material to the outer peripheral surface of the base layer to form the surface layer. A charging roll having a two-layer structure was prepared.

〔比較例7〕
(表層用材料の調製)
比較例2と同様にして、半導電性組成物を作製した。
[Comparative Example 7]
(Preparation of surface layer material)
A semiconductive composition was produced in the same manner as in Comparative Example 2.

(帯電ロールの作製)
上記表層用材料を用いる以外は、実施例11と同様にて、軸体の外周面にベース層(厚み4mm)が形成され、その外周面に表層(厚み20μm)が形成されてなる、2層構造の帯電ロールを作製した。
(Preparation of charging roll)
Two layers formed by forming a base layer (thickness 4 mm) on the outer peripheral surface of the shaft body and forming a surface layer (thickness 20 μm) on the outer peripheral surface in the same manner as in Example 11 except that the surface layer material is used. A charging roll having a structure was prepared.

このようにして得られた実施例および比較例の帯電ロールを用いて、上記現像ロールの評価基準に準じて、各特性の評価を行った。これらの結果を、後記の表4に併せて示した。   Using the charging rolls of Examples and Comparative Examples thus obtained, each characteristic was evaluated according to the evaluation criteria for the developing roll. These results are also shown in Table 4 below.

Figure 2006267244
Figure 2006267244

上記結果から、実施例11品は、全ての特性が良好で、帯電ロール特性に優れていた。これに対して、比較例7品は、電気抵抗の環境依存性が大きく、圧縮永久歪みも大きく、環境による画質の変動評価も悪く、チャージアップによる濃度変動評価も悪かった。   From the above results, the product of Example 11 was excellent in all characteristics and excellent in charging roll characteristics. On the other hand, the product of Comparative Example 7 had a large environmental dependency of electrical resistance, a large compression set, a poor evaluation of image quality variation due to the environment, and a poor evaluation of density variation due to charge-up.

本発明の電子写真機器用半導電性組成物は、帯電ロール,現像ロール,転写ロール,中間転写ベルトのような電子写真機器用半導電性部材等の電子写真機器に好適に用いることができる。   The semiconductive composition for electrophotographic equipment of the present invention can be suitably used for electrophotographic equipment such as a semiconductive member for electrophotographic equipment such as a charging roll, a developing roll, a transfer roll, and an intermediate transfer belt.

Claims (8)

下記の(A)〜(C)を必須成分とすることを特徴とする電子写真機器用半導電性組成物。
(A)イオン性官能基を有するバインダーポリマー。
(B)金属ナノ粒子。
(C)下記の(C1)〜(C3)からなる群から選ばれた少なくとも一つの高分子量顔料分散剤。
(C1)主鎖および複数の側鎖の少なくとも一方に顔料親和性基を有するとともに、溶媒和部分を構成する複数の側鎖を有する櫛形構造の高分子であって、数平均分子量が2,000〜1,000,000の範囲内である。
(C2)主鎖中に顔料親和性基からなる複数の顔料親和部分を有する高分子であって、数平均分子量が2,000〜1,000,000の範囲内である。
(C3)主鎖の片末端に顔料親和性基からなる顔料親和部分を有する直鎖状の高分子であって、数平均分子量が1,000〜1,000,000の範囲内である。
A semiconductive composition for an electrophotographic apparatus comprising the following (A) to (C) as essential components.
(A) A binder polymer having an ionic functional group.
(B) Metal nanoparticles.
(C) At least one high molecular weight pigment dispersant selected from the group consisting of the following (C1) to (C3).
(C1) A polymer having a comb-like structure having a pigment affinity group in at least one of the main chain and a plurality of side chains and having a plurality of side chains constituting a solvation part, and having a number average molecular weight of 2,000 Within the range of ~ 1,000,000.
(C2) A polymer having a plurality of pigment-affinity moieties composed of pigment-affinity groups in the main chain and having a number average molecular weight in the range of 2,000 to 1,000,000.
(C3) A linear polymer having a pigment affinity part composed of a pigment affinity group at one end of the main chain and having a number average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000.
上記(A)成分のイオン性官能基が、スルホン酸基,スルホン酸塩基,アンモニウム基およびカルボキシル基からなる群から選ばれた少なくとも一つである請求項1記載の電子写真機器用半導電性組成物。   2. The semiconductive composition for electrophotographic equipment according to claim 1, wherein the ionic functional group of the component (A) is at least one selected from the group consisting of a sulfonic acid group, a sulfonic acid group, an ammonium group and a carboxyl group. object. 上記(A)成分のイオン性官能基量が、0.001〜0.75mmol/gの範囲内である請求項1または2記載の電子写真機器用半導電性組成物。   The semiconductive composition for electrophotographic equipment according to claim 1 or 2, wherein the amount of the ionic functional group of the component (A) is in the range of 0.001 to 0.75 mmol / g. 上記(C1)〜(C3)の高分子は、顔料親和性基が1分子中に2〜3000個存在している請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子写真機器用半導電性組成物。   The semiconducting material for electrophotographic equipment according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer (C1) to (C3) has 2 to 3000 pigment affinity groups in one molecule. Composition. 電気抵抗が1×105 〜1×1011Ω・cmの範囲内である請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子写真機器用半導電性組成物。 The semiconductive composition for an electrophotographic apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the electric resistance is in the range of 1 x 10 5 to 1 x 10 11 Ω · cm. 上記(B)成分の金属ナノ粒子が、上記(C)成分の高分子量顔料分散剤により保護されている請求項1〜5のいずれか一項に記載の電子写真機器用半導電性組成物。   The semiconductive composition for electrophotographic equipment according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal nanoparticles of the component (B) are protected by the high molecular weight pigment dispersant of the component (C). 請求項1〜6のいずれか一項に記載の電子写真機器用半導電性組成物を、半導電性部材の少なくとも一部に用いたことを特徴とする電子写真機器用半導電性部材。   A semiconductive member for electrophotographic equipment, wherein the semiconductive composition for electrophotographic equipment according to any one of claims 1 to 6 is used for at least a part of the semiconductive member. 上記電子写真機器用半導電性組成物を、現像ロール,帯電ロール,転写ロールおよび転写ベルトの少なくとも一部に用いた請求項7記載の電子写真機器用半導電性部材。   The semiconductive member for electrophotographic equipment according to claim 7, wherein the semiconductive composition for electrophotographic equipment is used for at least a part of a developing roll, a charging roll, a transfer roll and a transfer belt.
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