JP2006257152A - Surface treatment method using a disk-shaped compound, (lubricating) composition for surface treatment and surface-treated article - Google Patents

Surface treatment method using a disk-shaped compound, (lubricating) composition for surface treatment and surface-treated article Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel surface treatment method that imparts sliding properties, abrasion resistance, lubricity, water-repellency, mold release properties and the like to an article and the like. <P>SOLUTION: The surface treatment method comprises coating the surface of an article composed of a polymer material to be treated with a composition comprising at least one disk-shaped compound and subjecting the composition to temperature changes. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、物品等に対して、摺動性、耐磨耗性、潤滑性、撥水性、離型性などを付与する物品等の表面処理方法、該方法に用いられる表面処理用組成物、及び該方法によって表面処理された物品に関する。   The present invention provides a surface treatment method for articles and the like that imparts slidability, abrasion resistance, lubricity, water repellency, releasability, etc. to articles, etc., a composition for surface treatment used in the method, And an article surface-treated by the method.

従来、表面に潤滑性を付与する方法として薬品処理、溶剤処理、カップリング剤処理、表面グラフト重合、界面活性剤処理などの化学的処理や紫外線照射処理、低温プラズマ処理、スパッタエッチング処理などの物理的処理がおこなわれているが、処理が煩雑である、すべての基材に適応できない、長期の潤滑性に劣るという欠点を有していた。   Conventionally, chemical treatment such as chemical treatment, solvent treatment, coupling agent treatment, surface graft polymerization, surfactant treatment, and physical treatment such as UV irradiation treatment, low temperature plasma treatment, and sputter etching treatment as methods for imparting lubricity to the surface. However, it has disadvantages that the treatment is complicated, cannot be applied to all base materials, and has poor long-term lubricity.

潤滑剤に求められる性能は、広い温度範囲および広い圧力範囲において、機械的摩擦摺動部の摩擦係数を低下することができ、さらにその効果ができるだけ持続することである。また、潤滑剤には、摩擦摺動部材間の潤滑性を向上させるという効果だけでなく、それによって摩擦摺動部材自体に耐磨耗性が付与できることも望まれる。エンジンオイル等の潤滑油の、摩擦摺動部における摩擦係数の低減効果およびその長寿命化は、機械駆動のための燃費の向上、すなわちエネルギーの節約に直結する。エンジンオイルの長寿命化は、廃オイル量の低減のみならず、CO2排出量の低減をも可能とするので、近年注目されている環境適合性の面でも好ましい。また、産業機械系の摺動部の中でも、特に苛酷な摩擦条件で摺動する軸受やギヤなどでは、従来の潤滑油やグリースなどの潤滑剤を用いた場合、潤滑条件が苛酷になると、潤滑剤が膜切れや焼付けを起こし、摩耗傷のために、所望の低摩擦係数を得られなくなる場合がある。その結果、装置の信頼性を損ねることがあり、特に装置を小型化した場合に、摺動部の摩擦条件が過酷化する傾向になり、装置の小型化の妨げにもなっていた。従って、苛酷な条件においても、摩耗や焼付きを生じず、装置の信頼性を向上させることができ、さらに装置の小型化に寄与することができるような省エネルギーな潤滑剤が望まれている。 The performance required for the lubricant is that the coefficient of friction of the mechanical friction sliding portion can be lowered over a wide temperature range and a wide pressure range, and the effect is maintained as long as possible. Further, it is desired that the lubricant not only has an effect of improving the lubricity between the frictional sliding members but also can impart wear resistance to the frictional sliding member itself. The effect of reducing the coefficient of friction at the friction sliding portion and extending the life of the lubricating oil such as engine oil directly leads to an improvement in fuel consumption for mechanical driving, that is, energy saving. Extending the life of engine oil not only reduces the amount of waste oil, but also reduces the amount of CO 2 emission, which is preferable from the viewpoint of environmental compatibility that has been attracting attention in recent years. Also, among bearing parts and gears that slide under severe friction conditions among sliding parts of industrial machinery systems, when conventional lubricants such as lubricating oils and greases are used, the lubrication conditions become severe. The agent may cause film breakage or seizure, and a desired low coefficient of friction may not be obtained due to wear scratches. As a result, the reliability of the device may be impaired, and particularly when the device is downsized, the frictional conditions of the sliding portion tend to become severe, which hinders the downsizing of the device. Therefore, there is a demand for an energy-saving lubricant that does not cause wear or seizure even under severe conditions, can improve the reliability of the apparatus, and can contribute to downsizing of the apparatus.

ところで、従来、潤滑剤としては、一般的には、潤滑剤基油を主成分とし、これに有機化合物等の潤滑助剤を配合したものが用いられる。特に近年では、有機モリブデン化合物が、潤滑助剤として注目されている。有機モリブデン化合物は、機械装置の摺動部が、高温、高速または低速、高負荷、小型軽量化など、苛酷な摩擦条件で運動している場合も、なお耐摩耗性、極圧性(耐荷重性)、低摩擦特性などの性能に優れ、通常圧での流体潤滑条件より高圧下、即ち境界潤滑条件において効果的に潤滑性能を発揮できる素材として注目されている。   By the way, conventionally, as the lubricant, generally, a lubricant containing a lubricant base oil as a main component and a lubricating aid such as an organic compound is used. Particularly in recent years, organic molybdenum compounds have attracted attention as lubricating aids. The organomolybdenum compound is still resistant to wear and extreme pressure (load resistance) even when the sliding part of the machine is moving under severe friction conditions such as high temperature, high speed or low speed, high load, small size and light weight. ), Which is excellent in performance such as low friction characteristics, and has attracted attention as a material that can effectively exhibit lubrication performance under high pressure, that is, boundary lubrication conditions, compared to fluid lubrication conditions under normal pressure.

しかし、有機モリブデン化合物は、激しい摩擦条件下でも優れた潤滑効果を奏する、優れた素材ではあるが、潤滑油中にはモリブデンおよび亜鉛といった重金属、容易に酸化されて潤滑油のみならず摺動部材そのもの、さらには環境にも悪影響を及ぼす硫黄酸化物のもととなる硫化物、および河川や海を富栄養化してしまうリン酸がかなり含まれていて、環境適合性の点からは明らかに好ましくない。さらに、摺動面に形成される酸化/硫化モリブデン被膜は、摩擦で徐々に削り取られ、新たな被膜を形成するため、その元となる有機モリブデン化合物や有機亜鉛化合物のいずれかが不足すると急激にその効果を失う。しかし、有機モリブデン化合物および有機亜鉛化合物を増量すると、その皮膜が削られることによって副生される副生物が系内に増え、摺動機械そのものに悪影響を及ぼすため、増量することは有効ではなく、前記有機モリブデン化合物を利用した系では、潤滑剤の長寿命化による燃費改善等の効果はあまり期待できないのが実状である。この様に、従来の潤滑剤は、重金属元素、リン酸化合物および硫化物等の環境有害物質または環境汚染物質を含むことなく、潤滑剤としての優れた性能を示すとともに、その性能を長期的に維持できる材料は、未だに提供されていない。   However, the organomolybdenum compound is an excellent material that exhibits an excellent lubricating effect even under severe friction conditions, but in the lubricating oil, heavy metals such as molybdenum and zinc are easily oxidized, and not only the lubricating oil but also the sliding member It contains a significant amount of sulfide, which is a source of sulfur oxides that also adversely affect the environment, and phosphoric acid that eutrophies rivers and seas. Absent. Furthermore, the molybdenum oxide / molybdenum sulfide film formed on the sliding surface is gradually scraped off by friction to form a new film, and therefore suddenly if either the organic molybdenum compound or the organic zinc compound that is the source is insufficient. The effect is lost. However, when the amount of the organomolybdenum compound and the organozinc compound is increased, by-products produced as a by-product due to the removal of the coating increase in the system and adversely affect the sliding machine itself, increasing the amount is not effective. In the system using the organomolybdenum compound, the actual situation is that the effect of improving the fuel consumption by extending the life of the lubricant cannot be expected so much. Thus, the conventional lubricant exhibits excellent performance as a lubricant and does not contain environmental harmful substances or environmental pollutants such as heavy metal elements, phosphoric acid compounds and sulfides, and has long-term performance. No material that can be maintained has yet been provided.

ところで、トリアジン構造を有する化合物を主成分とする潤滑剤組成物が、環境適合性あるいは潤滑剤の長寿命化による燃費改善に優れ、摩擦係数の低減剤、極圧剤または磨耗防止剤として有用な潤滑性能示すことが知られている(特許文献1参照)。潤滑剤は多様な性能が要求され、しかも、近年、種々の機械の高性能化、苛酷な使用条件などに伴い、さらなる高度な性能が要求されてきている。   By the way, a lubricant composition mainly composed of a compound having a triazine structure is excellent in environmental compatibility or fuel efficiency improvement by extending the life of the lubricant, and is useful as a friction coefficient reducing agent, extreme pressure agent or antiwear agent. It is known to show lubricating performance (see Patent Document 1). The lubricants are required to have various performances, and more advanced performances have been required in recent years due to the high performance of various machines and severe use conditions.

特開2002−69472号公報JP 2002-69472 A

本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、物品の表面、特に摺動面に対して低摩擦性および耐摩耗性を長期的に維持できる、特に極圧下においても、低摩擦性および耐摩耗性を長期的に維持できる表面処理方法、及びそれに用いる組成物を提供することを課題とする。また本発明は、物品等に対して、摺動性、耐磨耗性、潤滑性、撥水性、離型性などを付与する表面処理方法および表面処理組成物を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and can maintain low friction and wear resistance for a long period of time on the surface of an article, particularly a sliding surface. It is an object of the present invention to provide a surface treatment method capable of maintaining wear resistance for a long period of time and a composition used therefor. Moreover, this invention makes it a subject to provide the surface treatment method and surface treatment composition which provide slidability, abrasion resistance, lubricity, water repellency, mold release property, etc. with respect to articles | goods etc.

前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
[1] 高分子材料からなる被処理物の表面の少なくとも一部を、円盤状化合物の少なくとも一種を含む組成物で覆い、該組成物に温度変化を与えることを含む表面処理法。
[2] 温度T1℃の前記組成物を温度T2℃(但しT1<T2)に加熱して温度変化を与える[1]の方法。
[3] 温度を段階的に上昇させて、前記組成物に温度変化を与える[1]又は[2]の方法。
[4] 前記組成物に温度変化を与えるのと同時に又は温度変化を与えるのと前後して、せん断を与える[1]〜[3]のいずれかの方法。
[5] 前記円盤状化合物の少なくとも一種が、下記一般式(1)で表される化合物である[1]〜[4]のいずれかの方法。
Means for solving the above problems are as follows.
[1] A surface treatment method comprising covering at least a part of a surface of an object to be treated made of a polymer material with a composition containing at least one discotic compound, and applying a temperature change to the composition.
[2] The method of [1], wherein the composition having a temperature of T 1 ° C is heated to a temperature of T 2 ° C (where T 1 <T 2 ) to change the temperature.
[3] The method according to [1] or [2], wherein the temperature is increased stepwise to give the composition a temperature change.
[4] The method according to any one of [1] to [3], in which shear is applied simultaneously with or before or after applying a temperature change to the composition.
[5] The method according to any one of [1] to [4], wherein at least one of the discotic compounds is a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

(式中、Dはm個の側鎖と結合可能な環状の基を表し、Xは各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、Rは各々独立に、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフィド基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表す。mは2〜11の整数を表す。) (In the formula, D represents a cyclic group capable of bonding to m side chains, X is each independently a single bond, NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms). ), An oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof, and each R is independently a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group Represents a heterocyclic group, a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, a cyano group, a sulfide group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a hydroxyamino group, a ureido group or a urethane group. Represents an integer of ˜11.)

[6] Dが5〜7員環構造の複素環残基である[5]の方法。
[7] 上記一般式(1)が下記一般式(2)で表される[5]又は[6]の方法。
[6] The method of [5], wherein D is a heterocyclic residue having a 5- to 7-membered ring structure.
[7] The method of [5] or [6], wherein the general formula (1) is represented by the following general formula (2).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

(式中、X1、X2およびX3は各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、R11、R12およびR13は各々独立に、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフィド基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表す。) Wherein X 1 , X 2 and X 3 are each independently a single bond, an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an oxygen atom, a sulfur atom, or a carbonyl group. Represents a divalent linking group comprising a sulfonyl group or a combination thereof, and R 11 , R 12 and R 13 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, halogen atom Represents a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, a cyano group, a sulfide group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a hydroxyamino group, a ureido group or a urethane group.)

[8] 上記一般式(1)が、下記一般式(3)で表される[5]〜[7]のいずれかの方法。 [8] The method according to any one of [5] to [7], wherein the general formula (1) is represented by the following general formula (3).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

(式中、X21、X22およびX23は、各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、R21、R22およびR23は各々独立に置換基を表す。a21、a22およびa23は各々独立して1〜5の整数を表す。) Wherein X 21 , X 22 and X 23 are each independently a single bond, NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), oxygen atom, sulfur atom, carbonyl A divalent linking group consisting of a group, a sulfonyl group or a combination thereof, R 21 , R 22 and R 23 each independently represents a substituent; Represents.)

[9] 少なくとも非処理物の表面の摩擦係数を低減するための表面処理法である[1]〜[8]のいずれかの方法。
[10] 円盤状化合物の少なくとも一種を含有し、[1]〜[8]のいずれかの表面処理方法に用いられる組成物。
[11] 潤滑剤又は離型剤である[10]の組成物。
[12] [1]〜[9]のいずれかの方法により表面処理された物品。
[13] [10]又は[11]に記載の組成物に温度変化を与えてなる層を少なくとも表面の一部に有する物品。
[9] The method according to any one of [1] to [8], which is a surface treatment method for reducing at least the friction coefficient of the surface of the non-treated product.
[10] A composition containing at least one discotic compound and used in the surface treatment method according to any one of [1] to [8].
[11] The composition of [10], which is a lubricant or a release agent.
[12] An article that has been surface-treated by any one of the methods [1] to [9].
[13] An article having, on at least a part of its surface, a layer obtained by changing the temperature of the composition according to [10] or [11].

本発明の表面処理方法および表面処理組成によると、被処理面の形状を問わず、その表面に摺動性、耐磨耗性、潤滑性、撥水性、離型性、などを付与することができる。本発明の表面処理方法によって処理された物品の表面は、耐磨耗性などの機械的耐久性が高く、また低摩擦特性、ならびにその効果の持続性にも優れる。したがって本発明の表面処理方法および表面処理組成は、機械的摩擦摺動部、摺動部材、ベアリング、金型、などの産業上の表面処理が必要な部位において有用である。   According to the surface treatment method and surface treatment composition of the present invention, it is possible to impart slidability, abrasion resistance, lubricity, water repellency, releasability, etc. to the surface regardless of the shape of the surface to be treated. it can. The surface of an article treated by the surface treatment method of the present invention has high mechanical durability such as wear resistance, and is excellent in low friction characteristics and durability of the effect. Therefore, the surface treatment method and the surface treatment composition of the present invention are useful in parts requiring industrial surface treatment such as mechanical friction sliding parts, sliding members, bearings, molds and the like.

発明の実施の形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明は、高分子材料からなる被処理物の表面を円盤状化合物の少なくとも一種を含む組成物で覆い、該組成物に温度変化を与えることを含む表面処理法に関する。まず、本発明の表面処理法に用いられる組成物について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
The present invention relates to a surface treatment method including covering a surface of an object to be processed made of a polymer material with a composition containing at least one discotic compound and applying a temperature change to the composition. First, the composition used for the surface treatment method of the present invention will be described.

[表面処理用組成物]
本発明の表面処理法に用いられる組成物は、少なくとも一種の円盤状化合物を含有する。前記円盤状化合物は、物品等の表面に塗布された後、温度変化を与えられることによって、物品等の表面に所定の性能を付与する、又は物品の表面の所定の性能を改善するのに寄与する。特に、摩擦が生じる摺動部を覆い、その後、温度変化を与えて本発明の表面処理を施すと、摺動部は低摩擦性を長期的に維持する。
[Surface treatment composition]
The composition used for the surface treatment method of the present invention contains at least one discotic compound. The discotic compound is applied to the surface of the article, etc., and then given a change in temperature, thereby giving a predetermined performance to the surface of the article or the like, or contributing to improving the predetermined performance of the surface of the article. To do. In particular, when the sliding portion where friction occurs is covered, and then the surface treatment of the present invention is performed by changing the temperature, the sliding portion maintains low friction for a long time.

本明細書において、「円盤状化合物」とはその中心部に円盤状の部分構造を有する化合物をいう。円盤状の部分構造は、分子構造から側鎖部を除いた中心の部分構造であり、その形態的特徴を、例えば、その原形となる化合物である水素置換体について説明すれば、以下のように表現することができる。
まず、以下の1)〜5)の方法により、円盤状の部分構造の原形となる水素置換体についての分子の大きさを求める。
1) 対象となる分子につき、できる限り平面に近い、好ましくは平面分子構造を構築する。この場合、結合距離、結合角としては、軌道の混成に応じた標準値を用いる事が好ましく、例えば日本化学会編、化学便覧改訂4版基礎編、第II分冊15章(1993年刊 丸善)を参照することができる。
2) 前記1)で得られた構造を初期値として、分子軌道法や分子力場法にて構造最適化する。方法としては例えば、Gaussian92、MOPAC93、CHARMm/QUANTA、MM3 が挙げられる。好ましくはGaussian92である。
3) 構造最適化によって得られた構造の重心を原点に移動させ、座標軸を慣性主軸(慣性テンソル楕円体の主軸)にとる。
4) 各原子にファンデルワールス半径で定義される球を付与し、これによって分子の形状を記述する。
5) ファンデルワールス表面上で各座標軸方向の長さを計測し、それらそれぞれをa、bおよびcとする。
以上の手順1)〜5)により求められたa、bおよびcを用いて、円盤状の形態を定義すると、a≧b>c且つa≧b≧a/2を満足する形態、好ましくはa≧b>c且つa≧b≧0.7aを満足する形態である。また、b/2>cを満足する形態も好ましい。
In the present specification, the “discotic compound” refers to a compound having a discotic partial structure at the center thereof. The disk-shaped partial structure is a central partial structure obtained by removing the side chain portion from the molecular structure, and its morphological characteristics can be explained, for example, with respect to the hydrogen substitution product that is the original compound. Can be expressed.
First, by the following methods 1) to 5), the molecular size of the hydrogen substitution product that is the original shape of the disk-shaped partial structure is determined.
1) Construct a molecular structure as close as possible to the target molecule, preferably a planar molecular structure. In this case, as the bond distance and bond angle, it is preferable to use standard values corresponding to the orbital mixture. For example, the Chemical Society of Japan, Chemical Handbook 4th edition, Chapter II, Volume 15 (1993 published by Maruzen) You can refer to it.
2) Using the structure obtained in 1) as an initial value, the structure is optimized by a molecular orbital method or a molecular force field method. Examples of the method include Gaussian 92, MOPAC 93, CHARMm / QUANTA, and MM3. Gaussian 92 is preferable.
3) The center of gravity of the structure obtained by structure optimization is moved to the origin, and the coordinate axis is taken as the inertial principal axis (the principal axis of the inertia tensor ellipsoid).
4) Give each atom a sphere defined by the van der Waals radius and describe the shape of the molecule.
5) Measure the length in the direction of each coordinate axis on the van der Waals surface, and let them be a, b and c, respectively.
When a disk-like form is defined using a, b and c obtained by the above procedures 1) to 5), a form satisfying a ≧ b> c and a ≧ b ≧ a / 2, preferably a In this embodiment, ≧ b> c and a ≧ b ≧ 0.7a are satisfied. A form satisfying b / 2> c is also preferable.

また、円盤状部分構造の原形となる水素置換体である円盤状化合物の具体例を挙げると、例えば、日本化学会編、季刊化学総説No.22「液晶の化学」第5章、第10章2節(1994年刊 学会出版センター);C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.liq.Cryst.71巻、111頁(1981年);B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年);J.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Soc.Chem.Commun.,1794頁(1985年);J.Zhang、J.s.Mooreらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.,116巻、2655頁(1994年);に記載の母核化合物およびその誘導体が挙げられる。例えば、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、アントラセン誘導体、ヘキサエチニルベンゼン誘導体、ジベンゾピレン誘導体、コロネン誘導体およびフェニルアセチレンマクロサイクル誘導体が挙げられる。さらに、日本化学会編、“化学総説No.15 新しい芳香族の化学”(1977年 東京大学出版会刊)に記載の環状化合物およびそれらの複素原子置換等電子構造体を挙げることができる。   Further, specific examples of the discotic compound that is a hydrogen substitution product that is the original form of the discotic partial structure are described in, for example, the Chemical Society of Japan, Quarterly Chemical Review No. 22 “Liquid Crystal Chemistry”, Chapter 5, Chapter 10 Section 2 (1994 Publication Center); Destrade et al., Mol. Cryst. liq. Cryst. 71, 111 (1981); Kohne et al., Angew. Chem. 96, 70 (1984); M.M. Lehn et al. Chem. Soc. Chem. Commun. 1794 (1985); Zhang, J. et al. s. A study report by Moore et al. Am. Chem. Soc. 116, 2655 (1994); and the mother nucleus compounds and derivatives thereof. Examples include benzene derivatives, triphenylene derivatives, truxene derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, anthracene derivatives, hexaethynylbenzene derivatives, dibenzopyrene derivatives, coronene derivatives, and phenylacetylene macrocycle derivatives. Furthermore, the cyclic compounds described in the Chemical Society of Japan, “Chemical Review No. 15 New Aromatic Chemistry” (published by the University of Tokyo Press, 1977) and their electronic structures such as heteroatom substitution can be mentioned.

前記円盤状化合物は、円盤状部分構造である環状の基と、該環状の基に結合した複数個(好ましくは2〜11個)の側鎖とを有する化合物であるのが好ましい。側鎖の少なくとも一つは、エステル結合を有しているのが好ましい。特に、側鎖の少なくとも一つが、下記一般式(4a)または一般式(4b)で表される基を含んでいるのが好ましい。なお、以下の式中、左側(−X0)がD側に結合する。 The discotic compound is preferably a compound having a cyclic group having a discotic partial structure and a plurality (preferably 2 to 11) side chains bonded to the cyclic group. At least one of the side chains preferably has an ester bond. In particular, at least one of the side chains preferably contains a group represented by the following general formula (4a) or general formula (4b). In the following formula, the left side (-X 0 ) is bonded to the D side.

Figure 2006257152
Figure 2006257152

Figure 2006257152
Figure 2006257152

式中、X0は単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。
0は、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜20の、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキレン基を表す)、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。二価の連結基は置換基を有していてもよい。L0はアルキレン基が好ましい。
また、X0とL0との組み合わせの基としては、−O(C=O)−アルキレン−、−O(C=O)−シクロアルキレン−が好ましい。
0は化合物の側鎖末端に位置し、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。
In the formula, X 0 is a single bond, an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof. Represents a linking group.
L 0 represents an alkylene group (preferably a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 20 carbon atoms), an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 30). An alkyl group), an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof. The divalent linking group may have a substituent. L 0 is preferably an alkylene group.
In addition, the group of the combination of X 0 and L 0 is preferably —O (C═O) -alkylene- or —O (C═O) -cycloalkylene-.
R 0 is located at the end of the side chain of the compound and represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.

また、前記側鎖のうち少なくとも一つは、前記一般式(4a)で表される基を含んでいるのがより好ましい。中でも、側鎖が下記一般式(4)で表される基を含んでいるのがさらに好ましい。なお、以下の式中、左側(−L01)が環状の基側に結合する。 Moreover, it is more preferable that at least one of the side chains includes a group represented by the general formula (4a). Among these, it is more preferable that the side chain contains a group represented by the following general formula (4). In the following formula, the left side (-L 01 ) is bonded to the cyclic base side.

Figure 2006257152
Figure 2006257152

01はX0と同義である。L01は酸素原子、硫黄原子、−(C=O)O−、−NH−(C=O)O−であるのが好ましい。R01は炭素原子数が1〜30の置換もしくは無置換のアルキル基を表し、pおよびqは各々整数を表す。R01の炭素原子数は1〜40であるのが好ましく、1〜20であるのがより好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、フェノキシ等)、スルフィド基(メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等)、アルキルアミノ基(メチルアミノ、プロピルアミノ等)、アシル基(アセチル、プロパノイル、オクタノイル、ベンゾイル等)およびアシルオキシ基(アセトキシ、ピバロイルオキシ、バンゾイルオキシ等)や、アリール基、複素環基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、およびウレイド基等が挙げられる。pは1〜20が好ましく、2〜10がより好ましい。qは1〜10が好ましく、1〜5がより好ましい。 L 01 is synonymous with X 0 . L 01 is preferably an oxygen atom, a sulfur atom,-(C = O) O-, -NH- (C = O) O-. R 01 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and p and q each represents an integer. R 01 preferably has 1 to 40 carbon atoms, and more preferably 1 to 20 carbon atoms. Substituents include halogen atoms, alkoxy groups (methoxy, ethoxy, methoxyethoxy, phenoxy, etc.), sulfide groups (methylthio, ethylthio, propylthio, etc.), alkylamino groups (methylamino, propylamino, etc.), acyl groups (acetyl, Propanoyl, octanoyl, benzoyl, etc.) and acyloxy groups (acetoxy, pivaloyloxy, banzoyloxy, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups, cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfo groups, carbamoyl groups Group, sulfamoyl group, ureido group and the like. p is preferably from 1 to 20, and more preferably from 2 to 10. q is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 5.

また、前記側鎖のうち少なくとも一つが、下記一般式(5)又は(6)で表される基を含んでいるのも好ましい。   Moreover, it is also preferable that at least one of the side chains includes a group represented by the following general formula (5) or (6).

Figure 2006257152
式中、R01は炭素原子数が1〜30の置換もしくは無置換のアルキル基を表し、mおよびnは各々整数を表し、一般式(4)におけるR01と同じ意味の基を表す。
Figure 2006257152
In the formula, R 01 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, m and n each represent an integer, and represent a group having the same meaning as R 01 in formula (4).

Figure 2006257152
式中、R25は置換基を表し、a24は1〜5の整数を表す。
Figure 2006257152
In the formula, R 25 represents a substituent, and a24 represents an integer of 1 to 5.

また、前記側鎖の少なくとも一部が、下記一般式(7)で表される基であるのも好ましい。   Moreover, it is also preferable that at least a part of the side chain is a group represented by the following general formula (7).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

式中、L21は、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。好ましくは、酸素原子、オキシアルキレン基、オキシカルボニル基、アミノカルボニル基、カルボニルオキシ基およびカルボニル基であり、オキシカルボニル基およびカルボニル基がより好ましい。 In the formula, L 21 is a single bond, an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an alkylene group, an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group consisting of An oxygen atom, an oxyalkylene group, an oxycarbonyl group, an aminocarbonyl group, a carbonyloxy group, and a carbonyl group are preferable, and an oxycarbonyl group and a carbonyl group are more preferable.

炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の
置換基R25、R71およびR72の例には、ハロゲン原子、アルキル基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アルケニル基(炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の)、アルキニル基(炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の)、アリール基(炭素原子数6〜40の、好ましくは6〜20の)、ヘテロ環基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基(炭素原子数6〜40の、好ましくは6〜20の)、シリルオキシ基(炭素原子数3〜40の、好ましくは3〜20の)、ヘテロオキシ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アシルオキシ基(炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の)、カルバモイルオキシ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アルコキシカルボニルオキシ基(炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の)、アリールオキシカルボニルオキシ基(炭素原子数7〜40の、好ましくは7〜20の)、アミノ基、アシルアミノ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アミノカルボニルアミノ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アルコキシアミノカルボニルアミノ基(炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の)、アリールオキシカルボニルアミノ基(炭素原子数7〜40の、好ましくは7〜20の)、スルファモイルアミノ基(炭素原子数0〜40の、好ましくは0〜20の)、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、メルカプト基、アルキルチオ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アリールチオ基(炭素原子数6〜40の、好ましくは6〜20の)、ヘテロ環チオ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、スルファモイル基(炭素原子数0〜40の、好ましくは0〜20の)、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アルキルおよびアリールスルホニル基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アシル基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アリールオキシカルボニル基(炭素原子数7〜40の、好ましくは7〜20の)、アルコキシカルボニル基(炭素原子数2〜40の、好ましくは2〜20の)、カルバモイル基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、アリールおよびヘテロ環アゾ基(炭素原子数1〜40の、好ましくは1〜20の)、イミド基(炭素原子数4〜40の、好ましくは4〜20の)、ホスフィノ基(炭素原子数0〜40の、好ましくは0〜20の)、ホスフィニル基(炭素原子数0〜40の、好ましくは0〜20の)、ホスフィニルオキシ基(炭素原子数0〜40の、好ましくは0〜20の)、ホスフィニルアミノ基(炭素原子数0〜40の、好ましくは0〜20の)、シリル基(炭素原子数3〜40の、好ましくは3〜20の)が含まれる。さらに、置換基R71及びR72は、これらの置換基から選ばれる1種以上の置換基によって置換されたこれらの置換基も含まれる。R71の置換基としては直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換された、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基およびアシル基が好ましい。aは0あるいは1〜5の整数であり、好ましくは1〜3である。
71の炭素原子数は1〜40であるのが好ましく、1〜20であるのがより好ましい。
Examples of substituents R 25 , R 71 and R 72 having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms and preferably 2 to 20 carbon atoms include halogen atoms, alkyl groups (carbon An alkenyl group (having 2 to 40 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms), an alkynyl group (having 2 to 40 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms). ), Aryl groups (having 6 to 40 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms), heterocyclic groups (having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms), cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups A carboxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group (having 6 to 40 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms), a silyloxy group (having 3 to 40 carbon atoms, preferably 3 to 20 carbon atoms), a heterooxy group (carbon 1-40 atoms, preferred Is an acyloxy group (having 2 to 40 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms), a carbamoyloxy group (having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms), an alkoxycarbonyloxy group (C2-C40, preferably C2-20), aryloxycarbonyloxy group (C7-C40, preferably C7-20), amino group, acylamino group (C1-C1) 40, preferably 1-20, aminocarbonylamino group (1-40 carbon atoms, preferably 1-20), alkoxyaminocarbonylamino group (2-40 carbon atoms, preferably 2-20 carbon atoms). 20), an aryloxycarbonylamino group (7 to 40 carbon atoms, preferably 7 to 20 carbon atoms), a sulfamoylamino group (0 to 40 carbon atoms, preferably 0). ˜20), alkyl and arylsulfonylamino groups (having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms), mercapto groups, alkylthio groups (having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms), Arylthio group (having 6 to 40 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms), heterocyclic thio group (having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms), sulfamoyl group (having 0 to 40 carbon atoms) , Preferably 0-20), sulfo groups, alkyl and arylsulfinyl groups (1-40 carbon atoms, preferably 1-20 carbon atoms), alkyl and arylsulfonyl groups (1-40 carbon atoms, preferably 1-20), an acyl group (1-40 carbon atoms, preferably 1-20), an aryloxycarbonyl group (7-40 carbon atoms, preferably 7-20 carbon atoms). , Alkoxycarbonyl groups (having 2 to 40 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms), carbamoyl groups (having 1 to 40 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms), aryl and heterocyclic azo groups (having carbon atoms) 1-40 (preferably 1-20), imide group (4-40 carbon atoms, preferably 4-20), phosphino group (0-40 carbon atoms, preferably 0-20) A phosphinyl group (having 0 to 40 carbon atoms, preferably 0 to 20 carbon atoms), a phosphinyloxy group (having 0 to 40 carbon atoms, preferably 0 to 20 carbon atoms), a phosphinylamino group (carbon atoms). A silyl group (having 3 to 40 carbon atoms, preferably 3 to 20 carbon atoms) is included. Furthermore, the substituents R 71 and R 72 also include those substituents substituted with one or more substituents selected from these substituents. As the substituent for R 71 , an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group and an acyl group substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue are preferable. a is 0 or an integer of 1 to 5, preferably 1 to 3.
R 71 preferably has 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms.

また、前記側鎖の少なくとも一つが、部分フッ化炭素基、フッ化炭素基を含んでいるのも好ましい。フッ化炭素基について二重結合、分岐、環状基、芳香環の有無は問わない。前記側鎖の少なくとも一つが、下記一般式(8)で表される基であるのも好ましい。   Moreover, it is also preferable that at least one of the side chains contains a partially fluorinated carbon group or a fluorinated carbon group. The presence or absence of a double bond, a branch, a cyclic group, or an aromatic ring may be used for the fluorocarbon group. It is also preferred that at least one of the side chains is a group represented by the following general formula (8).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

式中、L21は、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜20の、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキレン基を表す)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。好ましくは、酸素原子、オキシアルキレン基、オキシカルボニル基、アミノカルボニル基、カルボニルオキシ基およびカルボニル基であり、オキシカルボニル基およびカルボニル基がより好ましい。 In the formula, L 21 is a single bond, an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an alkylene group (preferably a linear or branched chain having 1 to 20 carbon atoms). A divalent linking group comprising an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof. An oxygen atom, an oxyalkylene group, an oxycarbonyl group, an aminocarbonyl group, a carbonyloxy group, and a carbonyl group are preferable, and an oxycarbonyl group and a carbonyl group are more preferable.

置換基R81の例には、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニリオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシアミノカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が含まれる。これらの基の好ましい炭素数は置換基R25、R71およびR72と同じである。さらに、置換基R81は、これらの置換基から選ばれる1種以上の置換基によって置換されたこれらの置換基も含まれる。a個のR81のうち少なくとも1つは部分フッ化炭素基、フッ化炭素基を含む。フッ化炭素基について二重結合、分岐、環状基、芳香環の有無は問わない。R81の置換基としては部分フッ化炭素基、フッ化炭素基を含む直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換された、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基およびアシル基が好ましい。aは0あるいは1〜5の整数であり、好ましくは1〜3である。
81の炭素原子数は1〜40であるのが好ましく、1〜20であるのがより好ましい。
Examples of the substituent R 81 include halogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups, carboxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, silyloxy groups, Heterooxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxyaminocarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alphamoylamino group, Alkyl and arylsulfonylamino groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, heterocyclic thio groups, sulfamoyl groups, sulfo groups, alkyl and arylsulfinyl groups, alkyl and arylsulfonyl groups Acyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl or heterocyclic azo group, an imido group, a phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group include a silyl group. The preferred carbon number of these groups is the same as the substituents R 25 , R 71 and R 72 . Furthermore, the substituent R 81 also includes those substituents substituted with one or more substituents selected from these substituents. At least one of the a R 81s includes a partially fluorocarbon group and a fluorocarbon group. The presence or absence of a double bond, a branch, a cyclic group, or an aromatic ring may be used for the fluorocarbon group. As the substituent of R 81 , an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group and an acyl group substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing a partially fluorinated carbon group or a fluorinated carbon group are preferable. . a is 0 or an integer of 1 to 5, preferably 1 to 3.
R 81 preferably has 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms.

前記円盤状の化合物としては、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。   The discotic compound is preferably a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

式中、Dはm個の側鎖と結合可能な環状の基を表し、Xは各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、Rは各々独立に、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフィド基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表す。mは2〜11の整数を表す。 In the formula, D represents a cyclic group that can be bonded to m side chains, and X is each independently a single bond or an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms). Represents a divalent linking group consisting of an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof, and each R is independently a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, It represents a heterocyclic group, a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, a cyano group, a sulfide group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a hydroxyamino group, a ureido group or a urethane group. m represents an integer of 2 to 11.

前記一般式(1)中、Dが表す環状の基の例には、芳香族基および複素環基が含まれる。芳香族基の芳香族環の例には、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、トリフェニレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環およびピレン環が含まれる。芳香族基は置換基を有していてもよい。
複素環基は、5員、6員または7員の複素環を有することが好ましい。5員環または6員環がさらに好ましく、6員環が最も好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましい。複素環は、芳香族性複素環であることが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和複素環である。最多二重結合を有する不飽和複素環がさらに好ましい。複素環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環が含まれる。トリアジン環が好ましく、1,3,5−トリアジン環が特に好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。ただし、単環式複素環が好ましい。
In the general formula (1), examples of the cyclic group represented by D include an aromatic group and a heterocyclic group. Examples of the aromatic ring of the aromatic group include benzene ring, indene ring, naphthalene ring, triphenylene ring, fluorene ring, phenanthrene ring, anthracene ring and pyrene ring. The aromatic group may have a substituent.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered, 6-membered or 7-membered heterocyclic ring. A 5-membered ring or a 6-membered ring is more preferable, and a 6-membered ring is most preferable. As the hetero atom constituting the heterocyclic ring, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable. The heterocycle is preferably an aromatic heterocycle. The aromatic heterocyclic ring is generally an unsaturated heterocyclic ring. An unsaturated heterocyclic ring having the most double bond is more preferable. Examples of heterocyclic rings include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyrroline ring, pyrrolidine ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, imidazoline ring, imidazolidine ring, pyrazole ring, pyrazoline Ring, pyrazolidine ring, triazole ring, triazane ring, tetrazole ring, pyran ring, thiyne ring, pyridine ring, piperidine ring, oxazine ring, morpholine ring, thiazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, piperazine ring and triazine ring included. A triazine ring is preferred, and a 1,3,5-triazine ring is particularly preferred. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. However, monocyclic heterocycles are preferred.

前記一般式(1)中、Xは単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。Xが単結合の場合、複素環基でピペリジンのように遊離原子価をもった窒素原子で直接結合してもよく、さらに、遊離原子価がなくともヘテロ原子で結合し、オキソニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩のようにオニウム塩を形成してもよい。一般式(1)のXは、硫黄原子またはNR1基が好ましく、R1は炭素数が3以下のアルキル基または水素原子が好ましい。 In the general formula (1), X is a single bond, NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), oxygen atom, sulfur atom, carbonyl group, sulfonyl group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group consisting of When X is a single bond, it may be directly bonded with a nitrogen atom having a free valence such as piperidine in a heterocyclic group, and further bonded with a heteroatom without a free valence, and an oxonium salt or a sulfonium salt An onium salt may be formed like an ammonium salt. X in the general formula (1) is preferably a sulfur atom or an NR 1 group, and R 1 is preferably an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom.

前記一般式(1)中、Rがアルキル基の場合は、炭素数が1〜30であるのが好ましく、2〜30であることがより好ましく、4〜30であることがさらに好ましく、6〜30であることが最も好ましい。アルキル基は、直鎖状であっても、分枝状であってもよい。また、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、フェノキシ等)、スルフィド基(メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等)、アルキルアミノ基(メチルアミノ、プロピルアミノ等)、アシル基(アセチル、プロパノイル、オクタノイル、ベンゾイル等)およびアシルオキシ基(アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ等)や、水酸基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基およびウレイド基等が挙げられる。
一般式(1)のRがアルケニル基、アルキニル基の炭素数および形状は、アルキル基と同義であり、また、同様の置換基を有していてもよい。
In the general formula (1), when R is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1-30, more preferably 2-30, and even more preferably 4-30, 30 is most preferred. The alkyl group may be linear or branched. Moreover, you may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, alkoxy groups (methoxy, ethoxy, methoxyethoxy, phenoxy, etc.), sulfide groups (methylthio, ethylthio, propylthio, etc.), alkylamino groups (methylamino, propylamino, etc.), acyl groups ( Acetyl, propanoyl, octanoyl, benzoyl, etc.) and acyloxy groups (acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, etc.), hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups, carboxyl groups, sulfo groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups and ureido groups.
In general formula (1), R represents an alkenyl group and the alkynyl group has the same carbon number and shape as the alkyl group, and may have the same substituent.

前記一般式(1)中、Rがアリール基の場合は、フェニル基、インデニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アントラセニル基およびピレニル基等が挙げられるが、フェニル基やナフチル基が好ましい。さらに、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、上記アルキル基の置換基で例示したものの他、アルキル基が挙げられ、炭素数8以上の直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基、例えばアルキル基(オクチル、デシル、ヘキサデシル、2−エチルヘキシル等)、アルコキシ基(ドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ等)、スルフィド基(ヘキサデシルチオ等)、置換アミノ基(ヘプタデシルアミノ等)、オクチルカルバモイル基、オクタノイル基およびデシルスルファモイル基等で置換されることが好ましい。また、これらの置換基は、2つ以上置換していることが好ましく、さらに、上記の置換基の他にも、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基等に置換されていてもよい。   In the general formula (1), when R is an aryl group, examples thereof include a phenyl group, an indenyl group, an α-naphthyl group, a β-naphthyl group, a fluorenyl group, a phenanthrenyl group, an anthracenyl group, and a pyrenyl group. Group and naphthyl group are preferred. Furthermore, you may have a substituent. Examples of the substituent include, in addition to those exemplified for the substituent of the alkyl group, an alkyl group, and a substituent containing a linear or branched alkyl residue having 8 or more carbon atoms, such as an alkyl group ( Octyl, decyl, hexadecyl, 2-ethylhexyl, etc.), alkoxy groups (dodecyloxy, hexadecyloxy, etc.), sulfide groups (hexadecylthio, etc.), substituted amino groups (heptadecylamino, etc.), octylcarbamoyl groups, octanoyl groups, and decylsulfurs It is preferably substituted with a famoyl group or the like. These substituents are preferably substituted at least two, and in addition to the above substituents, they are substituted with halogen atoms, hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfo groups, etc. May be.

前記一般式(1)中、Rが複素環基の場合では、Dと同様に、5〜7員環構造の複素環基が好ましく、5員環または6員環がより好ましく、6員環が最も好ましい。これらの骨格の具体的な例も、岩波理化学辞典 第3版増補版(岩波書店発行)の付録11章 有機化学命名法 表4.主要複素単環式化合物の名称 1606頁および表5.主要縮合複素環式化合物の名称 1607頁に記載される化合物が挙げられる。また、これらは、アリール基と同様に、置換基を有していてもよく、炭素数8以上の直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されることが好ましい。また、これらの置換基は、2つ以上置換していることが好ましく、さらに、上記の置換基の他にも、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基等に置換されていてもよい。   In the general formula (1), when R is a heterocyclic group, like D, a heterocyclic group having a 5- to 7-membered ring structure is preferable, a 5-membered ring or a 6-membered ring is more preferable, and a 6-membered ring is Most preferred. Specific examples of these skeletons are also included in Appendix 11 of the Iwanami Physics and Chemistry Dictionary 3rd edition (published by Iwanami Shoten). Names of major heteromonocyclic compounds page 1606 and Table 5. Names of main condensed heterocyclic compounds The compounds described on page 1607 are listed. Further, like the aryl group, these may have a substituent and are preferably substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue having 8 or more carbon atoms. These substituents are preferably substituted at least two, and in addition to the above substituents, they are substituted with halogen atoms, hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfo groups, etc. May be.

Rのうち少なくとも1つは、エステル結合を有しているのが好ましく、エステル結合を含有する直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されたアルコキシ基であるのがより好ましい。さらに、Rの全てがエステル結合を含んでいるのがさらに好ましく、全てが、エステル結合を含有する直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されたアルコキシ基であるのがさらにより好ましい。即ち、Rのうち少なくとも1つは、前記式(4a)又は(4b)で表される基を含んでいるのが好ましく、前記式(4)〜(6)のいずれかで表される基を含んでいるのがより好ましい。
また、R−X−のうち少なくとも一つが、前記一般式(7)又は(8)で表される基であるのも好ましく、全てが前記一般式(7)又は(8)で表される基であるのもより好ましい。
At least one of R preferably has an ester bond, more preferably an alkoxy group substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing an ester bond. preferable. Further, it is more preferable that all of R contain an ester bond, and all of them are alkoxy groups substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing an ester bond. Even more preferred. That is, at least one of R preferably contains a group represented by the formula (4a) or (4b), and a group represented by any one of the formulas (4) to (6). More preferably.
In addition, at least one of R—X— is preferably a group represented by the general formula (7) or (8), and all the groups represented by the general formula (7) or (8). It is also more preferable.

前記一般式(1)で表される化合物の中でも、下記一般式(2)で表される化合物が好ましい。   Among the compounds represented by the general formula (1), compounds represented by the following general formula (2) are preferable.

Figure 2006257152
Figure 2006257152

式中、X1、X2およびX3は各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。X1、X2、X3が単結合の場合、複素環基でピペリジンのように遊離原子価をもった窒素原子で直接結合してもよく、さらに、遊離原子価がなくともヘテロ原子で結合し、オキソニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩のようにオニウム塩を形成してもよい。X1、X2、X3は、単結合でない場合、NR1基(R1は、炭素数が1〜30のアルキル基または水素原子)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基、例えば、オキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ウレイレン基、オキシスルホニル基、スルファモイル基等を表す。硫黄原子またはNR1基が好ましく、R1は、炭素数が3以下のアルキル基または水素原子が好ましい。この中では、イミノ基(−NH−)がより好ましい。 In the formula, X 1 , X 2 and X 3 are each independently a single bond, an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, Represents a divalent linking group comprising a sulfonyl group or a combination thereof. When X 1 , X 2 , and X 3 are single bonds, they may be directly bonded with a nitrogen atom having a free valence such as piperidine as a heterocyclic group, and further bonded with a hetero atom even if there is no free valence. In addition, an onium salt may be formed such as an oxonium salt, a sulfonium salt, or an ammonium salt. X 1 , X 2 , and X 3 are each an NR 1 group (R 1 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or a hydrogen atom), an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or these when not a single bond A divalent linking group consisting of a combination of, for example, an oxycarbonyl group, an aminocarbonyl group, a ureylene group, an oxysulfonyl group, a sulfamoyl group and the like. A sulfur atom or an NR 1 group is preferred, and R 1 is preferably an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom. In this, an imino group (-NH-) is more preferable.

前記一般式(2)中、R11、R12およびR13は、各々独立に、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフィド基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表す。 In the general formula (2), R 11 , R 12 and R 13 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heterocyclic group, halogen atom, hydroxy group, An amino group, a mercapto group, a cyano group, a sulfide group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a hydroxyamino group, a ureido group, or a urethane group.

11、R12、R13でそれぞれ表されるアルキル基は、炭素数が1〜30であり、2〜30であることが好ましく、4〜30であることがより好ましく、6〜30であることが最も好ましい。アルキル基は、直鎖状であっても、分枝状であってもよい。また、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、フェノキシ等)、スルフィド基(メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等)、アルキルアミノ基(メチルアミノ、プロピルアミノ等)、アシル基(アセチル、プロパノイル、オクタノイル、ベンゾイル等)およびアシルオキシ基(アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ等)や、水酸基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基およびウレイド基等が挙げられる。R11、R12、R13がアルケニル基、アルキニル基の炭素数および形状は、アルキル基と同義であり、また、同様の置換基を有していてもよい。 The alkyl groups represented by R 11 , R 12 and R 13 each have 1 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 4 to 30 carbon atoms, and 6 to 30 carbon atoms. Most preferred. The alkyl group may be linear or branched. Moreover, you may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, alkoxy groups (methoxy, ethoxy, methoxyethoxy, phenoxy, etc.), sulfide groups (methylthio, ethylthio, propylthio, etc.), alkylamino groups (methylamino, propylamino, etc.), acyl groups ( Acetyl, propanoyl, octanoyl, benzoyl, etc.) and acyloxy groups (acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, etc.), hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups, carboxyl groups, sulfo groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups and ureido groups. The carbon number and shape of R 11 , R 12 and R 13 as alkenyl group and alkynyl group are the same as those of the alkyl group, and may have the same substituent.

11、R12、R13でそれぞれ表されるアリール基では、フェニル基、インデニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アントラセニル基およびピレニル基等が挙げられるが、フェニル基やナフチル基が好ましい。さらに、炭素数8以上の直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基、例えばアルキル基(オクチル、デシル、ヘキサデシル、2−エチルヘキシル等)、アルコキシ基(ドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、2−ヘキシルデシルオキシ、ヘキシルオキシエチレンオキシエチレンオキシ等)、スルフィド基(ヘキサデシルチオ等)、置換アミノ基(ヘプタデシルアミノ等)、オクチルカルバモイル基、オクタノイル基およびデシルスルファモイル基等で置換されることが好ましい。また、これらの置換基は、2つ以上置換していることが好ましく、さらに、上記の置換基の他にも、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基等に置換されていてもよい。 Examples of the aryl groups represented by R 11 , R 12 and R 13 include phenyl group, indenyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, fluorenyl group, phenanthrenyl group, anthracenyl group and pyrenyl group. A phenyl group or a naphthyl group is preferred. Further, a substituent containing a linear or branched alkyl residue having 8 or more carbon atoms, such as an alkyl group (octyl, decyl, hexadecyl, 2-ethylhexyl, etc.), an alkoxy group (dodecyloxy, hexadecyloxy, 2 -Hexyldecyloxy, hexyloxyethyleneoxyethyleneoxy, etc.), sulfide groups (hexadecylthio, etc.), substituted amino groups (heptadecylamino, etc.), octylcarbamoyl groups, octanoyl groups, decylsulfamoyl groups, etc. preferable. These substituents are preferably substituted at least two, and in addition to the above substituents, they are substituted with halogen atoms, hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfo groups, etc. May be.

11、R12、R13でそれぞれ表される複素環基では、一般式(1)のDと同様に、5〜7員環構造の複素環残基が好ましく、5員環または6員環がより好ましく、6員環が最も好ましい。これらの骨格の具体的な例も、岩波理化学辞典 第3版増補版(岩波書店発行)の付録11章 有機化学命名法 表4.主要複素単環式化合物の名称 1606頁および表5.主要縮合複素環式化合物の名称1607頁に記載される化合物が挙げられる。また、これらは、アリール基と同様に、炭素数8以上の直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されることが好ましい。また、これらの置換基は、2つ以上置換していることが好ましく、さらに、上記の置換基の他にも、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基等に置換されていてもよい。 In the heterocyclic group represented by each of R 11 , R 12 and R 13 , a heterocyclic residue having a 5- to 7-membered ring structure is preferable, like D in the general formula (1). Is more preferable, and a 6-membered ring is most preferable. Specific examples of these skeletons are also included in Appendix 11 of the Iwanami Physics and Chemistry Dictionary 3rd edition (published by Iwanami Shoten). Names of major heteromonocyclic compounds page 1606 and Table 5. Examples include the compounds described on page 1607 of the name of the main condensed heterocyclic compound. Further, like the aryl group, these are preferably substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue having 8 or more carbon atoms. These substituents are preferably substituted at least two, and in addition to the above substituents, they are substituted with halogen atoms, hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, sulfo groups, etc. May be.

11、R12およびR13のうち少なくとも1つは、エステル結合を有しているのが好ましく、エステル結合を含有する直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されたアルコキシ基であるのがより好ましい。さらに、R11、R12およびR13の全てがエステル結合を含んでいるのがさらに好ましく、全てが、エステル結合を含有する直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されたアルコキシ基であるのがさらにより好ましい。即ち、R11、R12およびR13のうち少なくとも1つは、前記式(4a)又は(4b)で表される基を含んでいるのが好ましく、前記式(4)〜(6)のいずれかで表される基を含んでいるのがより好ましい。
11−X1−、R12−X2−及びR13−X3−のうち少なくとも一つが、前記一般式(7)又は(8)で表される基であるのも好ましく、全てが前記一般式(7)又は(8)で表される基であるのもより好ましい。
At least one of R 11 , R 12 and R 13 preferably has an ester bond, and is substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing an ester bond. More preferably, it is an alkoxy group. Further, it is more preferred that all of R 11 , R 12 and R 13 contain an ester bond, and all are substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing an ester bond. Even more preferred is an alkoxy group. That is, at least one of R 11 , R 12 and R 13 preferably contains a group represented by the formula (4a) or (4b), and any one of the formulas (4) to (6) It is more preferable that a group represented by
It is also preferred that at least one of R 11 —X 1 —, R 12 —X 2 — and R 13 —X 3 — is a group represented by the general formula (7) or (8), It is more preferable that it is group represented by General formula (7) or (8).

さらに前記一般式(2)で表される化合物のより好ましい態様として、下記一般式(3)で表される化合物が挙げられる。   Furthermore, the compound represented by the following general formula (3) is mentioned as a more preferable aspect of the compound represented by the said General formula (2).

Figure 2006257152
Figure 2006257152

式中、X21、X22およびX23は、各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表す。X21、X22、X23が単結合の場合、複素環基でピペリジンのように遊離原子価をもった窒素原子で直接結合してもよく、さらに、遊離原子価がなくともヘテロ原子で結合し、オキソニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩のようにオニウム塩を形成してもよい。X21、X22、X23が単結合でない場合、NR1基(R1は、炭素数が1〜30のアルキル基または水素原子)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基、例えば、オキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ウレイレン基、オキシスルホニル基、スルファモイル基等を表す。X21、X22およびX23は、硫黄原子またはNR1基であるのが好ましく、R1は炭素数が3以下のアルキル基または水素原子が好ましい。この中では、イミノ基(−NH−)がより好ましい。 In the formula, X 21 , X 22 and X 23 are each independently a single bond, NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), oxygen atom, sulfur atom, carbonyl group Represents a divalent linking group comprising a sulfonyl group or a combination thereof. When X 21 , X 22 , and X 23 are single bonds, they may be directly bonded with a nitrogen atom having a free valence such as piperidine as a heterocyclic group, and further bonded with a hetero atom even if there is no free valence. In addition, an onium salt may be formed such as an oxonium salt, a sulfonium salt, or an ammonium salt. When X 21 , X 22 , and X 23 are not a single bond, an NR 1 group (R 1 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or a hydrogen atom), an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or these It represents a divalent linking group composed of a combination, for example, an oxycarbonyl group, an aminocarbonyl group, a ureylene group, an oxysulfonyl group, a sulfamoyl group, and the like. X 21 , X 22 and X 23 are preferably a sulfur atom or an NR 1 group, and R 1 is preferably an alkyl group having 3 or less carbon atoms or a hydrogen atom. In this, an imino group (-NH-) is more preferable.

式中、R21、R22およびR23は各々独立に置換基を表す。置換基R21、R22およびR23は、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシアミノカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が含まれる。これらの基の好ましい炭素数は、置換基R25、R71およびR72と同じである。さらに、置換基R21、R22およびR23は、これらの置換基から選ばれる1種以上の置換基によって置換されたこれらの置換基も含まれる。 In the formula, R 21 , R 22 and R 23 each independently represents a substituent. Substituents R 21 , R 22 and R 23 are a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, Silyloxy group, heterooxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxyaminocarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alphamoylamino Groups, alkyl and arylsulfonylamino groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, heterocyclic thio groups, sulfamoyl groups, sulfo groups, alkyl and arylsulfinyl groups, alkyl and aryls Includes sulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl and heterocyclic azo group, imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, silyl group It is. The preferred carbon number of these groups is the same as the substituents R 25 , R 71 and R 72 . Furthermore, the substituents R 21 , R 22 and R 23 also include those substituents substituted with one or more substituents selected from these substituents.

21、R22およびR23のうち少なくとも1つは、エステル結合を有しているのが好ましく、エステル結合を含有する直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されたアルコキシ基であるのがより好ましい。さらに、R21、R22およびR23の全てがエステル結合を含んでいるのがさらに好ましく、全てが、エステル結合を含有する直鎖状あるいは分枝状のアルキル残基を含む置換基で置換されたアルコキシ基であるのがさらにより好ましい。即ち、R21、R22およびR23のうち少なくとも1つは、前記式(4a)又は(4b)で表される基を含んでいるのが好ましく、前記式(4)〜(6)のいずれかで表される基を含んでいるのがより好ましい。
また、式中の(R21a21−Ph−X21−、(R22a22−Ph−X22−及びR23a23−Ph−X23−のうち少なくとも一つが、前記一般式(7)又は(8)で表される基であるのも好ましく、全てが前記一般式(7)又は(8)で表される基であるのもより好ましい。
At least one of R 21 , R 22 and R 23 preferably has an ester bond, and is substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing an ester bond. More preferably, it is an alkoxy group. Further, it is more preferable that all of R 21 , R 22 and R 23 contain an ester bond, and all are substituted with a substituent containing a linear or branched alkyl residue containing an ester bond. Even more preferred is an alkoxy group. That is, at least one of R 21 , R 22 and R 23 preferably contains a group represented by the above formula (4a) or (4b), and any one of the above formulas (4) to (6) It is more preferable that a group represented by
Further, in the formula (R 21) a21 -Ph-X 21 -, (R 22) a22 -Ph-X 22 - and R 23) a23 -Ph-X 23 - it is at least one of the general formula (7 ) Or (8) is also preferred, and it is more preferred that all are groups represented by the general formula (7) or (8).

前記式中、a21、a22およびa23は各々独立して1〜5の整数を表す。   In the formula, a21, a22 and a23 each independently represents an integer of 1 to 5.

以下に、本発明に使用可能な前記一般式(1)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (1) that can be used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2006257152
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Figure 2006257152

前記一般式(1)で表される円盤状化合物の製造方法としては、例えば、種々の構造の母核となる円盤状化合物に、エステル基等を有する側鎖を反応させる方法(例えば塩化シアヌルの求核置換反応やチオシアヌル酸のアルキル化、ベンゼン誘導体のカップリング反応あるいはヒドロキシ置換されたベンゼン誘導体のアルキル化、アシル化、エーテル化およびアミド化等)、およびエステル基を有する側鎖構造の化合物を用いて環状構造を構築して円盤状化合物とする方法が挙げられる。中でも、ハロゲン原子を有する環状化合物(例えば塩化シアヌル、塩化ピリミジン等が挙げられる)と活性水素を持った化合物(アミン、アニリン、アルコール、フェノール、チオアルコール、チオフェノール等の誘導体が挙げられる)との反応より合成する方法が好ましい。その中でも塩化シアヌルを用いた反応が好ましい。   As a method for producing the discotic compound represented by the general formula (1), for example, a method of reacting a discotic compound serving as a core of various structures with a side chain having an ester group (for example, cyanuric chloride). Nucleophilic substitution reaction, alkylation of thiocyanuric acid, coupling reaction of benzene derivative or alkylation, acylation, etherification and amidation of hydroxy-substituted benzene derivative), and side chain structure compound having ester group The method of using it to construct | assemble a cyclic structure and making it a discotic compound is mentioned. Among them, a cyclic compound having a halogen atom (for example, cyanuric chloride and pyrimidine chloride) and a compound having active hydrogen (for example, derivatives of amine, aniline, alcohol, phenol, thioalcohol, thiophenol, etc.) A method of synthesis by reaction is preferred. Among these, the reaction using cyanuric chloride is preferable.

反応に使用される有機溶媒としては、ハロゲン化炭化水素系有機溶媒、例えばジクロロメタン、エステル系有機溶媒、例えば、酢酸メチル若しくは酢酸エチル、ケトン系有機溶媒、例えばアセトン若しくはメチルエチルケトン、エ−テル系有機溶媒、例えばテトラヒドロフラン若しくはジオキサン、ニトリル系有機溶媒、例えばアセトニトリル若しくはプロピオニトリル、アミド系有機溶媒、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、1,3−ジメチル−3,4,5,6,−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン(DMPU)若しくはヘキサメチルリン酸トリアミド、若しくは、スルホキシド系有機溶媒、例えばジメチルスルホキシド等があげられる。また、必要ならば、触媒、塩基を用いてもよい。また、特願2004−080527号明細書に記載されている様に、塩基の存在下、水と有機溶媒との混合溶媒中で、塩化シアヌルとアミノフェノール誘導体とを反応させると高収率で、トリス(ヒドロキシフェニルアミノ)−1,3,5−トリアジン類を合成できるので好ましい。   Examples of the organic solvent used in the reaction include halogenated hydrocarbon organic solvents such as dichloromethane, ester organic solvents such as methyl acetate or ethyl acetate, ketone organic solvents such as acetone or methyl ethyl ketone, and ether organic solvents. For example, tetrahydrofuran or dioxane, nitrile organic solvents such as acetonitrile or propionitrile, amide organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidone, 1, Examples include 3-dimethyl-3,4,5,6, -tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone (DMPU) or hexamethylphosphoric triamide, or a sulfoxide-based organic solvent such as dimethyl sulfoxide. If necessary, a catalyst or a base may be used. Moreover, as described in Japanese Patent Application No. 2004-080527, when cyanuric chloride and an aminophenol derivative are reacted in a mixed solvent of water and an organic solvent in the presence of a base, a high yield is obtained. Tris (hydroxyphenylamino) -1,3,5-triazines are preferred because they can be synthesized.

本発明の表面処理に用いられる組成物は、前記円盤状化合物以外の添加剤を含有していてもよい。例えば、潤滑油組成物の基油として用いられる鉱油や合成油を混合してもよい。用いられる鉱油や合成油は、特に限定されるものではなく、一般に潤滑油基油として用いられているものならば何でも使用することができる。すなわち、これらに該当するものとしては、鉱油、合成油、あるいはそれらの混合油がある。鉱油としては、例えば、パラフィン系、中間基系またはナフテン系原油の常圧または減圧蒸留により誘導される潤滑油原料をフェノール、フルフラール、N−メチルピロリドンの如き芳香族抽出溶剤で処理して得られる溶剤精製ラフィネート、潤滑油原料をシリカーアルミナを担体とするコバルト、モリプデン等の水素化処理用触媒の存在下において水素化処理条件下で水素と接触させて得られる水素化処理油、水素化分解触媒の存在下において苛酷な分解反応条件下で水素と接触させて得られる水素化分解油、ワックスを異性化用触媒の存在下において異性化条件下で水素と接触させて得られる異性化油、あるいは溶剤精製工程と水素化処理工程、水素化分解工程および異性化工程等を組み合わせて得られる潤滑油留分等を挙げることができる。特に、水素化分解工程や異性化工程によって得られる高粘度指数鉱油が好適なものとして挙げることができる。いずれの製造法においても、脱蝋工程、水素化仕上げ工程、白土処理工程等の工程は、常法により、任意に採用することができる。鉱油の具体例としては、軽質ニュートラル油、中質ニュートラル油、重質ニュートラル油およびブライトストック等が挙げられ、要求性状を満たすように適宜混合することにより基油を調整することができる。合成油としては、例えば、ポリα−オレフィン、α−オレフィンオリゴマー、ポリブテン、アルキルベンゼン、ポリオールエステル、二塩基酸エステル、ポリオキシアルキレングリコール、ポリオキシアルキレングルコールエーテル、シリコーン油等を挙げることができる。これらの基油は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができ、鉱油と合成油を組み合わせて使用してもよい。本発明の潤滑剤組成物の混合基材油として使用してもよい、このような通常基油は、100℃において、一般に、2〜20mm2/sの動粘度を有し、好適な動粘度は3〜15mm2/sの範囲である。 The composition used for the surface treatment of the present invention may contain additives other than the discotic compound. For example, you may mix the mineral oil and synthetic oil used as a base oil of a lubricating oil composition. The mineral oil or synthetic oil to be used is not particularly limited, and any oil that is generally used as a lubricating base oil can be used. That is, those corresponding to these include mineral oil, synthetic oil, or a mixed oil thereof. Mineral oil can be obtained, for example, by treating a lubricating oil raw material derived from paraffinic, intermediate group or naphthenic crude oil by atmospheric pressure or vacuum distillation with an aromatic extraction solvent such as phenol, furfural or N-methylpyrrolidone. Hydrorefined oil obtained by contact with hydrogen under hydrotreating conditions in the presence of hydrotreating catalysts such as solvent refined raffinate, lubricating oil feedstock silica-alumina-supported cobalt and molypden, hydrocracking Hydrocracked oil obtained by contacting with hydrogen under severe cracking reaction conditions in the presence of a catalyst, isomerized oil obtained by contacting wax with hydrogen under isomerization conditions in the presence of an isomerizing catalyst, Or a lubricating oil fraction obtained by combining a solvent refining process, a hydrotreating process, a hydrocracking process, an isomerization process, etc. That. In particular, a high viscosity index mineral oil obtained by a hydrocracking process or an isomerization process can be mentioned as a suitable one. In any of the production methods, steps such as a dewaxing step, a hydrofinishing step, and a white clay treatment step can be arbitrarily employed by a conventional method. Specific examples of the mineral oil include light neutral oil, medium neutral oil, heavy neutral oil, bright stock, and the like, and the base oil can be adjusted by appropriately mixing so as to satisfy the required properties. Examples of the synthetic oil include poly α-olefin, α-olefin oligomer, polybutene, alkylbenzene, polyol ester, dibasic acid ester, polyoxyalkylene glycol, polyoxyalkylene glycol ether, and silicone oil. These base oils can be used alone or in combination of two or more kinds, and mineral oil and synthetic oil may be used in combination. Such a normal base oil, which may be used as a mixed base oil of the lubricant composition of the present invention, generally has a kinematic viscosity of 2 to 20 mm 2 / s at 100 ° C., and a suitable kinematic viscosity. Is in the range of 3-15 mm 2 / s.

前記組成物において、前記円盤状化合物と前記基油とを配合する場合は、基材油全量基準で、通常、前者の円盤状化合物が0.1〜20質量%であり、後者の基油、すなわち鉱油および/または合成油が80〜99.9質量%である。好ましくは、前記円盤状化合物が0.1〜10質量%であり、最も好ましくは、前記円盤状化合物が0.1〜5質量%である。しかし、前記した様に、本発明の表面処理方法には、前記円盤状化合物のみを用いることもできる。単独で用いる方が効果的な場合が多く、表面処理後に被処理物を苛酷条件で、例えば摺動させた場合も、広い温度範囲で長期的に低摩擦係数が得られ、同時に耐摩耗性にも優れた効果が発揮される。   In the composition, when the discotic compound and the base oil are blended, the former discotic compound is usually 0.1 to 20% by mass based on the total amount of the base oil, and the latter base oil, That is, the mineral oil and / or synthetic oil is 80 to 99.9% by mass. Preferably, the discotic compound is 0.1 to 10% by mass, and most preferably the discotic compound is 0.1 to 5% by mass. However, as described above, only the discotic compound can be used in the surface treatment method of the present invention. When used alone, it is often more effective, and even when the workpiece is slid after the surface treatment under harsh conditions, for example, a low coefficient of friction can be obtained over a wide range of temperatures over a long period of time, and at the same time wear resistance Excellent effect is also exhibited.

本発明の表面処理に用いられる前記組成物は、前記円盤状化合物を主成分として含有するものであるのが好ましい。種々の用途に適応した実用性能を確保するため、さらに必要に応じて、潤滑剤、例えば軸受油、ギヤ油、動力伝達油などに用いられている各種添加剤、すなわち摩耗防止剤、極圧剤、酸化防止剤、粘度指数向上剤、清浄分散剤、金属不活性化剤、腐食防止剤、防錆剤、消泡剤等を本発明の目的を損なわない範囲で適宜添加することができる。   The composition used for the surface treatment of the present invention preferably contains the discotic compound as a main component. In order to ensure practical performance adapted to various applications, various additives used for lubricants such as bearing oils, gear oils, power transmission oils, etc., that is, antiwear agents, extreme pressure agents, as necessary. Further, an antioxidant, a viscosity index improver, a cleaning dispersant, a metal deactivator, a corrosion inhibitor, a rust inhibitor, an antifoaming agent, and the like can be appropriately added as long as the object of the present invention is not impaired.

前記組成物の形態については特に制限されない。液状であっても固体状であってもよい。また、前記組成物は、潤滑剤又は離型剤として物品に適用されるものであってもよい。   The form of the composition is not particularly limited. It may be liquid or solid. Moreover, the said composition may be applied to articles | goods as a lubricant or a mold release agent.

[表面処理方法]
本発明の表面処理方法は、高分子材料からなる被処理物の表面を前記円盤状化合物少なくとも一種を含む組成物で覆い、該組成物に温度変化を与えることを含む表面処理法である。例えば、温度T1℃の雰囲気下で被処理物の表面を前記組成物で覆い、その後、温度T2℃(但しT1<T2)まで加熱することによって、温度変化を与えることができる。温度T2とT1の差は、10〜250℃であるのが好ましく、50〜200℃であるのがより好ましい。また、T2℃は、被処理物を構成している高分子材料のガラス転移温度以下であるのが好ましい。温度は、段階的に上昇又は下降させてもよいし、連続的に上昇又は下降させてもよい。段階的に上昇又は下降させるのが好ましく、段階的に上昇させるのが好ましい。昇温速度は、0.1〜50℃/分であるのが好ましく、5〜30℃/分であるのがより好ましい。
[Surface treatment method]
The surface treatment method of the present invention is a surface treatment method comprising covering a surface of an object to be treated made of a polymer material with a composition containing at least one discotic compound and applying a temperature change to the composition. For example, the temperature change can be given by covering the surface of the object to be treated with the composition in an atmosphere at a temperature of T 1 ° C and then heating to a temperature of T 2 ° C (where T 1 <T 2 ). The difference between the temperatures T 2 and T 1 is preferably 10 to 250 ° C., more preferably 50 to 200 ° C. Further, T 2 ° C. is preferably not more than the glass transition temperature of the polymer material constituting the object to be processed. The temperature may be increased or decreased stepwise, or may be increased or decreased continuously. It is preferable to raise or lower stepwise, and preferably stepwise. The rate of temperature rise is preferably 0.1 to 50 ° C./min, and more preferably 5 to 30 ° C./min.

前記組成物に温度変化を与えるのと同時に又は温度変化を与えるのと前後して、せん断力を与えるのが好ましく、温度変化を与えるのと同時にせん力を与えるのがより好ましい。例えば、被処理物の摺動面に、前記組成物を塗布し、被処理物を摺動させつつ温度変化を与えるのが好ましく、荷重をかけて摺動させつつ温度変化を与えるのがより好ましい。   It is preferable to apply a shearing force at the same time as or before and after applying a temperature change to the composition, and more preferably to apply a shearing force simultaneously with the temperature change. For example, it is preferable to apply the composition to the sliding surface of the object to be processed, and to change the temperature while sliding the object to be processed, and more preferably to change the temperature while sliding under load. .

本発明の表面処理方法は、摺動する被処理物の摺動面に施されると、該面の摩擦係数を低下させ、且つ低摩擦性を長期間維持できるので、特に有効である。被処理物の材質その表面が高分子材料からなる。表面以外の部分は高分子材料以外の材料、例えば、金属、セラミック等からなっていてもよい。また物品の形状についても特に制限はない。高分子材料の具体例としては、例えば低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン等のポリエチレン樹脂、変性ポリエチレン樹脂、水架橋ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、クロロトリフルオロエチレン樹脂、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体樹脂、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリケトン樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリオキサゾリン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂等が挙げられる。また、上記高分子材料から選択された2種以上の材料の混合物、すなわちポリマーアロイなども使用可能である。具体的には、上記材質が表面に使用されている摺動するギヤ、ベアリング、カム、シム、シリンダー、ピストン、クランク、軸、軸受など2つの部材が接触する機械要素の相互間における運動部分等の表面処理法として有効である。   The surface treatment method of the present invention is particularly effective when applied to the sliding surface of the object to be slid because the friction coefficient of the surface can be reduced and low friction can be maintained for a long period of time. The material of the workpiece is made of a polymer material. The portion other than the surface may be made of a material other than the polymer material, for example, a metal, a ceramic, or the like. There is no particular limitation on the shape of the article. Specific examples of the polymer material include, for example, polyethylene resins such as low density polyethylene, high density polyethylene, and ultra high molecular weight polyethylene, modified polyethylene resins, water-crosslinked polyolefin resins, polyamide resins, aromatic polyamide resins, polystyrene resins, polypropylene resins, Silicone resin, urethane resin, polytetrafluoroethylene resin, chlorotrifluoroethylene resin, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer resin, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin, vinylidene fluoride resin, ethylene Tetrafluoroethylene copolymer resin, polyacetal resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyphenylene ether resin, polycarbonate Fat, aliphatic polyketone resin, polyvinylpyrrolidone resin, polyoxazoline resin, polyphenylene sulfide resin, polyethersulfone resin, polyetherimide resin, polyamideimide resin, polyetheretherketone resin, thermoplastic polyimide resin, thermosetting polyimide resin , Epoxy resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin and the like. Also, a mixture of two or more materials selected from the above polymer materials, that is, a polymer alloy or the like can be used. Specifically, the above parts are used on the surface, such as sliding gears, bearings, cams, shims, cylinders, pistons, cranks, shafts, bearings, etc. It is effective as a surface treatment method.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に制限されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, reagents, ratios, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

本発明の化合物として上記例示化合物N−28、N−34、E−36、E−37、E−51、S−28、S−31および比較例として各種潤滑剤基油を用いて、以下の条件で各々表面処理を行った。なお、用いた化合物は、特願2003−109037号明細書、特願2004−080304号明細書、特願2004−080527号明細書の実施例に記載の合成法を参考にして合成した。その後、摩擦試験を実施し、摩擦係数を測定した。なお、実施例における摩擦係数は、往復動型摩擦試験機(SRV摩擦摩耗試験機)を用いて測定し、下記の試験条件で摩擦試験を行って測定した値である。
(表面処理A)
試験片の摺動面に、表1に示す実施例1〜11の化合物、又は比較例1〜7の潤滑剤をそれぞれ塗布した。その後、表に示す任意の温度範囲で、昇温速度:10℃/min、各温度で5分保持のステップ加熱処理を行った。
(表面処理B)
試験片の摺動面にシリンダを用いて、測定荷重:50N、振幅:1.0mm、振動数:50Hzの条件で摺動させながら、表面処理Aと同様の加熱処理を行った。
The following exemplary compounds N-28, N-34, E-36, E-37, E-51, S-28, S-31 and various lubricant base oils as comparative examples were used as the compounds of the present invention. Each surface treatment was performed under conditions. In addition, the compound used was synthesize | combined with reference to the synthesis method as described in the Example of Japanese Patent Application No. 2003-109037, Japanese Patent Application No. 2004-080304, and Japanese Patent Application No. 2004-080527. Thereafter, a friction test was performed to measure the friction coefficient. In addition, the friction coefficient in an Example is the value measured by performing a friction test on the following test conditions, using a reciprocating friction tester (SRV friction wear tester).
(Surface treatment A)
The compounds of Examples 1 to 11 shown in Table 1 or the lubricants of Comparative Examples 1 to 7 shown in Table 1 were applied to the sliding surfaces of the test pieces. Thereafter, a step heat treatment was performed in an arbitrary temperature range shown in the table at a rate of temperature increase of 10 ° C./min and held at each temperature for 5 minutes.
(Surface treatment B)
A heat treatment similar to the surface treatment A was performed using a cylinder on the sliding surface of the test piece while sliding under the conditions of measurement load: 50 N, amplitude: 1.0 mm, and vibration frequency: 50 Hz.

(試験条件)
試験条件はボール−オンプレートの条件で行った。
試験片(摩擦材)
プレート:φ24×6.9mm :高分子材料各種(PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、POM(ポリアセタール)
ボール:φ10mm :SUJ−2
温度:60℃/100℃
荷重:200N
振幅:1.0mm
振動数:50Hz
試験時間:試験開始10分後に摩擦係数を測定した。
(Test conditions)
The test conditions were ball-on-plate conditions.
Test piece (friction material)
Plate: φ24 × 6.9mm: Various polymer materials (PEEK (polyetheretherketone), POM (polyacetal)
Ball: φ10mm: SUJ-2
Temperature: 60 ° C / 100 ° C
Load: 200N
Amplitude: 1.0 mm
Frequency: 50Hz
Test time: The coefficient of friction was measured 10 minutes after the start of the test.

結果を下記表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 2006257152
Figure 2006257152

表1に示した結果から、本発明の表面処理を施した被処理物はいずれも、上記摩擦試験において低摩擦性を示したことが理解できる。   From the results shown in Table 1, it can be understood that all the workpieces subjected to the surface treatment of the present invention exhibited low friction properties in the friction test.

本発明の表面処理法および表面処理組成物は、物品等に、摺動性、耐磨耗性、潤滑性、撥水性、離型性などを付与する新規な表面処理方法及び表面処理剤として利用可能である。   The surface treatment method and surface treatment composition of the present invention are used as a novel surface treatment method and a surface treatment agent for imparting slidability, abrasion resistance, lubricity, water repellency, releasability, etc. to articles and the like. Is possible.

Claims (12)

高分子材料からなる被処理物の表面の少なくとも一部を、円盤状化合物の少なくとも一種を含む組成物で覆い、該組成物に温度変化を与えることを含む表面処理法。 A surface treatment method comprising covering at least a part of a surface of an object to be treated made of a polymer material with a composition containing at least one discotic compound and applying a temperature change to the composition. 温度T1℃の前記組成物を温度T2℃(但しT1<T2)に加熱して温度変化を与える請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the composition at a temperature T 1 ° C is heated to a temperature T 2 ° C (where T 1 <T 2 ) to cause a temperature change. 温度を段階的に上昇させて、前記組成物に温度変化を与える請求項1又は2に記載の方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the temperature is increased stepwise to give a temperature change to the composition. 前記組成物に温度変化を与えるのと同時に又は温度変化を与えるのと前後して、せん断を与える請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 3, wherein shearing is applied simultaneously with or before or after applying a temperature change to the composition. 前記円盤状化合物の少なくとも一種が、下記一般式(1)で表される化合物である請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
Figure 2006257152
(式中、Dはm個の側鎖と結合可能な環状の基を表し、Xは各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、Rは各々独立に、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフィド基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表す。mは2〜11の整数を表す。)
The method according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one of the discotic compounds is a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2006257152
(In the formula, D represents a cyclic group capable of bonding to m side chains, X is each independently a single bond, NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms). ), An oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a combination thereof, and each R is independently a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group Represents a heterocyclic group, a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, a cyano group, a sulfide group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a hydroxyamino group, a ureido group or a urethane group. Represents an integer of ˜11.)
Dが5〜7員環構造の複素環残基である請求項5に記載の方法。 The method according to claim 5, wherein D is a heterocyclic residue having a 5- to 7-membered ring structure. 上記一般式(1)が下記一般式(2)で表される請求項5又は6に記載の方法。
Figure 2006257152
(式中、X1、X2およびX3は各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、R11、R12およびR13は各々独立に、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフィド基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表す。)
The method according to claim 5 or 6, wherein the general formula (1) is represented by the following general formula (2).
Figure 2006257152
Wherein X 1 , X 2 and X 3 are each independently a single bond, an NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), an oxygen atom, a sulfur atom, or a carbonyl group. Represents a divalent linking group comprising a sulfonyl group or a combination thereof, and R 11 , R 12 and R 13 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, halogen atom Represents a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, a cyano group, a sulfide group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, a hydroxyamino group, a ureido group or a urethane group.)
上記一般式(1)が、下記一般式(3)で表される請求項5〜7のいずれか1項に記載の方法。
Figure 2006257152
(式中、X21、X22およびX23は、各々独立に、単結合、NR1基(R1は、水素原子または炭素数が1〜30のアルキル基)、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基またはこれらの組み合わせからなる二価の連結基を表し、R21、R22およびR23は各々独立に置換基を表す。a21、a22およびa23は各々独立して1〜5の整数を表す。)
The method according to any one of claims 5 to 7, wherein the general formula (1) is represented by the following general formula (3).
Figure 2006257152
Wherein X 21 , X 22 and X 23 are each independently a single bond, NR 1 group (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), oxygen atom, sulfur atom, carbonyl A divalent linking group consisting of a group, a sulfonyl group or a combination thereof, R 21 , R 22 and R 23 each independently represents a substituent; Represents.)
少なくとも非処理物の表面の摩擦係数を低減するための表面処理法である請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 8, which is a surface treatment method for reducing the friction coefficient of at least the surface of an untreated material. 円盤状化合物の少なくとも一種を含有し、請求項1〜8のいずれか1項に記載の表面処理方法に用いられる組成物。 The composition used for the surface treatment method of any one of Claims 1-8 containing at least 1 type of a discotic compound. 潤滑剤又は離型剤である請求項10に記載の組成物。 The composition according to claim 10, which is a lubricant or a release agent. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法により表面処理された物品。 An article which has been surface-treated by the method according to claim 1.
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