JP2006235164A - Substrate for electrooptical device, electrooptical device, and electronic equipment - Google Patents

Substrate for electrooptical device, electrooptical device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize an inspection which eliminates the need for contacting by a probe from outside and in which sufficient measurement precision can be obtained. <P>SOLUTION: A matrix type display device which has pixels arranged at intersections of source lines and scanning lines is equipped with: an amplifier 4a which compares a potential signal supplied to one terminal so and a potential signal supplied to the other terminal se with each other, and generates an output by making the potential at the terminal so lower when the potential signal supplied to the terminal so is lower and so higher when the potential signal supplied to the terminal is higher; and a supply means 8a which supplies a precharge voltage between both the terminals, and supplies reference voltage 3a to the other terminal se, and reads out and supplies potential signals written to pixels to the other terminal. The display device is equipped with an equalizing means 8a which holds both the terminals at the same potential at least at the end of the supply of the precharge voltage, and comprises a P channel type transistor and an N channel type transistor connected to both the terminals. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器に関し、特に、複数の画素にそれぞれ設けられた複数のスイッチング素子を有する電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a substrate for an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus, and more particularly to a substrate for an electro-optical device, an electro-optical apparatus, and an electronic apparatus each having a plurality of switching elements provided in a plurality of pixels.

従来より、液晶装置等の表示装置は、携帯電話、プロジェクタ等の機器に広く使用されている。TFT(Thin Film Transistor)等を用いた液晶表示装置は、TFT基板と対向基板とを貼り合わせて、両基板間に液晶を封入して構成されている。一般に、製造された液晶装置が正常に作動するか否かの検査は、完成品に対して行われる。例えば、所定の画像信号を液晶装置に表示データとして入力し、投影、表示等させることによって、正しくデータが表示されるか、欠陥画素の有無のチェックが行われていた。
しかし、完成品について検査を行う方法を採用した場合には、基板の製造工程後に不良品が発見されることとなる。このため、不良品の発見が遅れてしまい、製造工程の管理面からみると好ましくないという欠点がある。
Conventionally, display devices such as liquid crystal devices have been widely used in devices such as mobile phones and projectors. 2. Description of the Related Art A liquid crystal display device using a TFT (Thin Film Transistor) or the like is configured by bonding a TFT substrate and a counter substrate and enclosing liquid crystal between both substrates. Generally, an inspection of whether or not a manufactured liquid crystal device operates normally is performed on a finished product. For example, a predetermined image signal is input to the liquid crystal device as display data, and projected, displayed, etc., to check whether the data is correctly displayed or whether there is a defective pixel.
However, when a method for inspecting a finished product is employed, a defective product is found after the substrate manufacturing process. For this reason, there is a disadvantage that discovery of defective products is delayed, which is not preferable from the viewpoint of management of the manufacturing process.

例えば、工程管理に不良発見の情報がフィードバックされるまでの時間が長くなる。その結果、歩留まり低下期間が長期化し、製造コストが上昇する。また、試作品の場合も、試作品の評価から設計にフィードバックされるまでの期間が長期化するため、開発期間の長期化、開発コストの上昇に繋がる。さらに、製品完成後は、いわゆるリペア、すなわち不良箇所の修理が困難である。
そこで、基板の製造工程内において、不良の発見、特に、表示装置の欠陥画素の発見を行うことが望まれている。
For example, the time until failure discovery information is fed back to process management becomes longer. As a result, the yield reduction period becomes longer and the manufacturing cost increases. Also, in the case of a prototype, since the period from the evaluation of the prototype to the feedback to the design is prolonged, the development period is prolonged and the development cost is increased. Furthermore, after the product is completed, so-called repair, that is, repair of a defective portion is difficult.
Therefore, it is desired to find a defect, particularly a defective pixel of a display device, in the manufacturing process of the substrate.

そのような検査方法の一つとして、液晶表示装置の電極パッドに検査用プローブを接触させて、所定の電流を供給することによって、液晶表示装置の検査を行う技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。同様に、画素のコンデンサ容量特性から、TFT基板の各画素に所定の電圧を印加して、放電電流及び放電電圧の波形に基づいてTFTの機能を検査する技術が提案されている(例えば特許文献2参照)。   As one of such inspection methods, there has been proposed a technique for inspecting a liquid crystal display device by bringing a test probe into contact with an electrode pad of the liquid crystal display device and supplying a predetermined current (for example, a patent). Reference 1). Similarly, a technique has been proposed in which a predetermined voltage is applied to each pixel of the TFT substrate from the capacitor capacity characteristics of the pixel, and the function of the TFT is inspected based on the waveforms of the discharge current and the discharge voltage (for example, Patent Documents). 2).

また、TFT基板の画素電極に対応する検査用の対向電極を用いて、画素電極の電位の変化量を検出することによって、各画素電極の動作検査を行う技術も提案されている(例えば特許文献3参照)。
特開平5-341302号公報 特開平7-333278号公報 特開平10-104563号公報
In addition, a technique for inspecting the operation of each pixel electrode by detecting the amount of change in the potential of the pixel electrode using a counter electrode for inspection corresponding to the pixel electrode of the TFT substrate has been proposed (for example, Patent Documents). 3).
JP-A-5-341302 Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-333278 Japanese Patent Laid-Open No. 10-104563

しかし、上述した特許文献1及び特許文献3に記載の技術による場合、検査装置において、基板の外部から電極パッド等に所定のプローブ等を接触あるいは近接させるための機械的な位置精度が要求される。その結果、機械的なアライメント精度を確保するために検査時間が長くなるという問題がある。さらに、高精細な液晶表示装置の場合は、多くの電極パッドに対して細いプローブ等を機械的な制御を行って接触させなければならなくなり、これらの方法が適用できない場合もある。   However, in the case of the techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 3 described above, in the inspection apparatus, mechanical positional accuracy is required to bring a predetermined probe or the like into contact with or close to an electrode pad or the like from the outside of the substrate. . As a result, there is a problem that the inspection time becomes long in order to ensure mechanical alignment accuracy. Furthermore, in the case of a high-definition liquid crystal display device, a thin probe or the like must be brought into contact with many electrode pads by performing mechanical control, and these methods may not be applied.

また、一般的には、電極の付加容量を含む画素自体の容量に比べて、液晶表示装置と測定装置間の各種容量成分、例えばソース線、ビデオ線、電極パッド端子等における容量の方が極めて大きい。画素に蓄積された電荷と,ソース線にチャージされた電荷との再配分で決まるソース電位の変化ΔV、ソース線等の容量と画素自体の容量との比に応じて決まり、微少な電圧レベルである。このため、画素に保持されている電圧を電極パッド等から取り出そうとすると、微少なレベルの変化電位ΔVに対して大レベルのノイズが重畳されることになり、画素保持電圧の測定精度は極めて悪化し、十分な測定精度は得られない。   Also, in general, the capacitance of various capacitance components between the liquid crystal display device and the measuring device, such as source lines, video lines, electrode pad terminals, etc., is much higher than the capacitance of the pixel itself including the additional capacitance of the electrode large. The source potential change ΔV determined by the redistribution of the charge accumulated in the pixel and the charge charged in the source line, and the ratio of the capacitance of the source line etc. to the capacitance of the pixel itself. is there. For this reason, when the voltage held in the pixel is taken out from the electrode pad or the like, a large level of noise is superimposed on the minute level change potential ΔV, and the measurement accuracy of the pixel holding voltage is extremely deteriorated. However, sufficient measurement accuracy cannot be obtained.

本発明は、以上の点に鑑みてなされたもので、外部からのプローブを接触される等の必要がなく、十分な測定精度が得られる検査を実現すると共に、検査回路の占有面積を低減することができる電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and does not require contact with an external probe, etc., realizes an inspection with sufficient measurement accuracy, and reduces the area occupied by the inspection circuit. It is an object to provide a substrate for an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus.

本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を供給した後,前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給し、他方に前記画素電極に書込まれた電位信号を読み出して供給する供給手段と、前記供給手段によるプリチャージ電圧の少なくとも供給終了時において、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続されたPチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする。   The electro-optical device substrate according to the present invention includes a plurality of scanning lines and a plurality of source lines that intersect with each other, and a plurality of scanning lines and a plurality of source lines that are arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines. The pixel electrode has first and second terminals. The potential of the potential signal supplied to the first terminal and the potential signal supplied to the second terminal are compared, and the first When the potential signal supplied to the terminal is low, the potential of the first terminal is made lower. When the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is made higher. And supplying a precharge voltage to the first and second terminals, supplying a reference voltage to one of the first and second terminals, and writing the other to the pixel electrode Supply means for reading out and supplying a potential signal, and said supply A P-channel transistor connected to the first and second terminals, wherein the first and second terminals have the same potential at least at the end of supplying the precharge voltage by the stage. And equalizing means comprising N-channel transistors.

このような構成によれば、供給手段は、増幅器の第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を供給する。プリチャージ電圧の供給終了時において、イコライズ手段は、第1及び第2の端子を相互に同電位とする。画素電極から読み出された電位信号は、供給手段によって増幅器に供給される。増幅器は、第1の端子に供給される電位信号と第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、第1の端子に供給される電位信号が低い場合には第1の端子の電位をより低くし、第1の端子に供給される電位信号が高い場合には第1の端子の電位をより高くして出力する。プリチャージ電圧供給停止時に第1及び第2の端子に異なるプッシュダウン量の電位低下が生じる。この場合でも、画素電極からの電位信号が増幅器供給される前に、第1及び第2の端子は、イコライズ手段によって同電位とされており、プッシュダウンの影響が回避される。イコライズ手段によるイコライズ動作が停止する場合にもプッシュダウンが生じる。しかし、イコライズ手段は、Pチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されており、プッシュダウン及びプッシュアップが発生して、増幅器の第1及び第2の端子の電位変動を抑制する。これにより、増幅器が誤動作することが防止されて、正確な比較結果を得ることができる。   According to such a configuration, the supply means supplies the precharge voltage to the first and second terminals of the amplifier. At the end of the supply of the precharge voltage, the equalizing means sets the first and second terminals to the same potential. The potential signal read from the pixel electrode is supplied to the amplifier by the supply means. The amplifier compares the potential between the potential signal supplied to the first terminal and the potential signal supplied to the second terminal, and the first signal is supplied when the potential signal supplied to the first terminal is low. When the potential of the terminal is lowered and the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is made higher and output. When the precharge voltage supply is stopped, the potential drops of different pushdown amounts occur at the first and second terminals. Even in this case, before the potential signal from the pixel electrode is supplied to the amplifier, the first and second terminals are set to the same potential by the equalizing means, and the influence of pushdown is avoided. Pushdown also occurs when the equalizing operation by the equalizing means stops. However, the equalizing means is composed of a P-channel transistor and an N-channel transistor, and push-down and push-up occur to suppress potential fluctuations at the first and second terminals of the amplifier. As a result, the amplifier is prevented from malfunctioning, and an accurate comparison result can be obtained.

また、前記イコライズ手段は、Pチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタとが並列接続されて構成されることを特徴とする。   The equalizing means is characterized in that a P-channel transistor and an N-channel transistor are connected in parallel.

このような構成によれば、イコライズ手段によるイコライズ動作の停止時には、プッシュダウン及びプッシュアップが発生して、増幅器の第1及び第2の端子の電位変動が抑制される。   According to such a configuration, when the equalizing operation by the equalizing means is stopped, push-down and push-up occur, and potential fluctuations at the first and second terminals of the amplifier are suppressed.

本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される第1の電位信号と前記第2の端子に供給される第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、前記第1及び第2の端子にプリチャージ電源線を介してプリチャージ電圧を供給する供給手段と、前記第1の端子にリファレンス電圧として,前記第1の端子に接続されたリファレンス配線を用いて前記プリチャージ電圧を維持し供給する手段と,前記第2の端子に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素電極に書込まれた電位信号を読み出して前記ソース線及び検査配線を介して前記第2の電位信号として前記第2の端子に供給する接続手段と、前記プリチャージ電圧供給手段によるプリチャージ電圧の少なくとも供給終了時において、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続されたPチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする。   The electro-optical device substrate according to the present invention includes a plurality of scanning lines and a plurality of source lines that intersect with each other, and a plurality of scanning lines and a plurality of source lines that are arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines. The pixel electrode has first and second terminals, and compares the potential of the first potential signal supplied to the first terminal and the second potential signal supplied to the second terminal. When the first potential signal is low, the potential of the first terminal is lowered, and when the first potential signal is high, the potential of the first terminal is raised and output. An amplifier, supply means for supplying a precharge voltage to the first and second terminals via a precharge power supply line, and a reference wiring connected to the first terminal as a reference voltage to the first terminal Is used to maintain the precharge voltage. And connecting the inspection line connected to the second terminal and the source line, thereby reading out a potential signal written in the pixel electrode and passing through the source line and the inspection line through the first line. The connection means for supplying the second terminal as a potential signal of 2 and the potential of the first and second terminals at the same potential at least at the end of the supply of the precharge voltage by the precharge voltage supply means. And an equalizing means including a P-channel transistor and an N-channel transistor connected to the first and second terminals.

このような構成によれば、ブリチャージ電圧供給手段は、プリチャージ電源線を介して増幅器の第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を供給する。イコライズ手段は、プリチャージ電圧の供給終了時において、第1及び第2の端子を相互に同電位とする。第2の端子には,リファレンス電圧としてプリチャージ電圧が維持される.接続手段は、ソース線と検査配線とを接続することで、画素電極から読み出した電位信号を、第2の端子に供給する。増幅器は、第1の端子に供給される第1の電位信号と第2の端子に供給される第2の電位信号との電位を比較して、第1の電位信号が低い場合には第1の端子の電位をより低くし、第1の電位信号が高い場合には第1の端子の電位をより高くして出力する。プリチャージ電圧供給停止時に第1及び第2の端子に異なるプッシュダウン量の電位低下が生じる。この場合でも、画素電極から読み出した電位信号を第2の端子に供給する前に、イコライズ手段によって第1及び第2の端子が相互に同電位にされており、プッシュダウンの影響が回避される。イコライズ手段によるイコライズ動作が停止する場合にもプッシュダウンが生じる。しかし、イコライズ手段は、Pチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されており、プッシュダウン及びプッシュアップが発生して、増幅器の第1及び第2の端子の電位変動を抑制する。これにより、増幅器が誤動作することが防止されて、正確な比較結果を得ることができる。   According to such a configuration, the precharge voltage supply means supplies the precharge voltage to the first and second terminals of the amplifier via the precharge power supply line. The equalizing means sets the first and second terminals to the same potential at the end of supplying the precharge voltage. The precharge voltage is maintained at the second terminal as a reference voltage. The connecting means connects the source line and the inspection wiring to supply the potential signal read from the pixel electrode to the second terminal. The amplifier compares the potentials of the first potential signal supplied to the first terminal and the second potential signal supplied to the second terminal, and the first potential signal is low when the first potential signal is low. When the first potential signal is high, the potential at the first terminal is increased and output. When the precharge voltage supply is stopped, the potential drops of different pushdown amounts occur at the first and second terminals. Even in this case, before the potential signal read from the pixel electrode is supplied to the second terminal, the first and second terminals are made equal to each other by the equalizing means, thereby avoiding the influence of pushdown. . Pushdown also occurs when the equalizing operation by the equalizing means stops. However, the equalizing means is composed of a P-channel transistor and an N-channel transistor, and push-down and push-up occur to suppress potential fluctuations at the first and second terminals of the amplifier. As a result, the amplifier is prevented from malfunctioning, and an accurate comparison result can be obtained.

また、前記接続手段は、前記複数のソース線のうちの1本のソース線を選択して前記検査配線に接続することを特徴とする。   Further, the connection means selects one source line of the plurality of source lines and connects it to the inspection wiring.

このような構成によれば、1つの増幅器に複数のソース線を対応させることができ、増幅器の占有面積を大きくすることができる。これにより、駆動能力を向上させると共に、ばらつきを低減することができ、高精度の画素検査が可能である。   According to such a configuration, a plurality of source lines can be associated with one amplifier, and the area occupied by the amplifier can be increased. As a result, the driving capability can be improved, variation can be reduced, and high-accuracy pixel inspection is possible.

本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を印加した後,前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給する供給手段と、前記第1及び第2の端子の他方に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素電極に書込まれた電位信号を読み出して前記第1及び第2の端子の他方に供給する接続手段と、前記供給手段によるプリチャージ電圧の少なくとも供給終了時において、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続されたPチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする。   The electro-optical device substrate according to the present invention includes a plurality of scanning lines and a plurality of source lines that intersect with each other, and a plurality of scanning lines and a plurality of source lines that are arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines. The pixel electrode has first and second terminals. The potential of the potential signal supplied to the first terminal and the potential signal supplied to the second terminal are compared, and the first When the potential signal supplied to the terminal is low, the potential of the first terminal is made lower. When the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is made higher. An amplifier for outputting, a supply means for supplying a reference voltage to one of the first and second terminals after applying a precharge voltage to the first and second terminals, and the first and second terminals The inspection wiring connected to the other of the terminals and the source line The connection means for reading out the potential signal written in the pixel electrode and supplying it to the other of the first and second terminals, and at least when the supply of the precharge voltage by the supply means is completed, An equalizing means configured to make the potentials of the first and second terminals equal to each other, and comprising a P-channel transistor and an N-channel transistor connected to the first and second terminals; It is characterized by having.

このような構成によれば、プリチャージ電圧供給手段は、プリチャージ電源線を介して増幅器の第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を供給する。イコライズ手段は、プリチャージ電圧の供給終了時において、第1及び第2の端子を相互に同電位とする。第1及び第2の端子の一方の端子には,リファレンス電圧としてプリチャージ電圧が維持される.接続手段は、ソース線と検査配線とを接続することで、画素電極から読み出した電位信号を、第1及び第2の端子の他方に供給する。増幅器は、第1の端子に供給される電位信号と第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、第1の端子に供給される電位信号が低い場合には第1の端子の電位をより低くし、第1の端子に供給される電位信号が高い場合には第1の端子の電位をより高くして出力する。第1及び第2の端子は、画素電極からの電位信号が供給される時点で、イコライズ手段によって相互に同電位とされており、プッシュダウンの影響が回避される。イコライズ手段によるイコライズ動作が停止する場合にもプッシュダウンが生じる。しかし、イコライズ手段は、Pチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されており、プッシュダウン及びプッシュアップが発生して、増幅器の第1及び第2の端子の電位変動を抑制する。これにより、増幅器が誤動作することが防止されて、正確な比較結果を得ることができる。   According to such a configuration, the precharge voltage supply means supplies the precharge voltage to the first and second terminals of the amplifier via the precharge power supply line. The equalizing means sets the first and second terminals to the same potential at the end of supplying the precharge voltage. A precharge voltage is maintained as a reference voltage at one of the first and second terminals. The connection unit supplies the potential signal read from the pixel electrode to the other of the first and second terminals by connecting the source line and the inspection wiring. The amplifier compares the potential between the potential signal supplied to the first terminal and the potential signal supplied to the second terminal, and the first signal is supplied when the potential signal supplied to the first terminal is low. When the potential of the terminal is lowered and the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is made higher and output. The first and second terminals are set to the same potential by the equalizing means at the time when the potential signal from the pixel electrode is supplied, and the influence of pushdown is avoided. Pushdown also occurs when the equalizing operation by the equalizing means stops. However, the equalizing means is composed of a P-channel transistor and an N-channel transistor, and push-down and push-up occur to suppress potential fluctuations at the first and second terminals of the amplifier. As a result, the amplifier is prevented from malfunctioning, and an accurate comparison result can be obtained.

また、前記接続手段は、前記複数のソース線のうちの1本のソース線を選択して前記検査配線に接続することを特徴とする。   Further, the connection means selects one source line of the plurality of source lines and connects it to the inspection wiring.

このような構成によれば、1つの増幅器に複数のソース線を対応させることができ、増幅器の占有面積を大きくすることができる。これにより、駆動能力を向上させると共に、ばらつきを低減することができ、高精度の画素検査が可能である。   According to such a configuration, a plurality of source lines can be associated with one amplifier, and the area occupied by the amplifier can be increased. As a result, the driving capability can be improved, variation can be reduced, and high-accuracy pixel inspection is possible.

また、本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を印加した後,前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給し、他方に前記画素電極に書込まれた電位信号を読み出して供給するものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第1のPチャネル型トランジスタ及び第1のNチャネル型トランジスタによって構成されるプリチャージ電圧供給手段と、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第2のPチャネル型トランジスタ及び第2のNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする。   The substrate for an electro-optical device according to the present invention is arranged in a matrix corresponding to a plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other, and corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines. A plurality of pixel electrodes; first and second terminals; comparing a potential of a potential signal supplied to the first terminal with a potential signal supplied to the second terminal; When the potential signal supplied to one terminal is low, the potential of the first terminal is made lower, and when the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is set lower. A higher output amplifier and a precharge voltage applied to the first and second terminals, a reference voltage is supplied to one of the first and second terminals, and the other is written to the pixel electrode. Read and supply the embedded potential signal, The precharge voltage supply means constituted by the first P-channel transistor and the first N-channel transistor connected to the first and second terminals and the potentials of the first and second terminals are mutually connected. And an equalizing means comprising a second P-channel transistor and a second N-channel transistor connected to the first and second terminals. And

また、本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される第1の電位信号と前記第2の端子に供給される第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、前記第1及び第2の端子にプリチャージ電源線を介してプリチャージ電圧を供給するものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第1のPチャネル型トランジスタ及び第1のNチャネル型トランジスタによって構成されるプリチャージ電圧供給手段と、前記第1の端子にリファレンス電圧として,前記第1の端子に接続されたリファレンス配線を用いて前記プリチャージ電圧を維持し供給する手段と,前記第2の端子に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素電極に書込まれた電位信号を読み出して前記ソース線及び検査配線を介して前記第2の電位信号として前記第2の端子に供給する接続手段と、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第2のPチャネル型トランジスタ及び第2のNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする。   The substrate for an electro-optical device according to the present invention is arranged in a matrix corresponding to a plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other, and corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines. A plurality of pixel electrodes; first and second terminals; and a potential of a first potential signal supplied to the first terminal and a second potential signal supplied to the second terminal. In comparison, when the first potential signal is low, the potential of the first terminal is made lower, and when the first potential signal is high, the potential of the first terminal is made higher. An output amplifier; and a first P-channel type connected to the first and second terminals for supplying a precharge voltage to the first and second terminals via a precharge power supply line Consists of a transistor and a first N-channel transistor Precharge voltage supply means, and means for maintaining and supplying the precharge voltage using a reference wiring connected to the first terminal as a reference voltage to the first terminal, and to the second terminal By connecting the connected inspection wiring and the source line, the potential signal written to the pixel electrode is read and the second terminal is supplied as the second potential signal through the source line and the inspection wiring. And a second P-channel transistor connected to the first and second terminals, and a second P-channel transistor connected to the first and second terminals. And equalizing means constituted by two N-channel transistors.

また、本発明に係る電気光学装置用基板は、互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素電極と、第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を印加した後,前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給するものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第1のPチャネル型トランジスタ及び第1のNチャネル型トランジスタによって構成されるプリチャージ電圧供給手段と、前記第1及び第2の端子の他方に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素電極に書込まれた電位信号を読み出して前記第1及び第2の端子の他方に供給する接続手段と、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第2のPチャネル型トランジスタ及び第2のNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする。   The substrate for an electro-optical device according to the present invention is arranged in a matrix corresponding to a plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other, and corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines. A plurality of pixel electrodes; first and second terminals; comparing a potential of a potential signal supplied to the first terminal with a potential signal supplied to the second terminal; When the potential signal supplied to one terminal is low, the potential of the first terminal is made lower, and when the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is set lower. An amplifier that outputs a higher voltage, and a precharge voltage is applied to the first and second terminals, and then a reference voltage is supplied to one of the first and second terminals. And a first P-channel transistor connected to the second terminal The pixel electrode is connected by connecting a precharge voltage supply means configured by a star and a first N-channel transistor, a test line connected to the other of the first and second terminals, and the source line. A connection means for reading out the potential signal written to the other and supplying the other to the other of the first and second terminals, and the potentials of the first and second terminals being the same potential, And an equalizing means including a second P-channel transistor and a second N-channel transistor connected to the first and second terminals.

これらの構成によれば、プリチャージ電圧供給手段及びイコライズ手段は、Pチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されている。これにより、プリチャージ電圧供給手段及びイコライズ手段の動作停止時において、プッシュダウン及びプッシュアップが発生して、増幅器の第1及び第2の端子の電位変動が抑制され。これにより、増幅器が誤動作することが防止されて、正確な比較結果を得ることができる。   According to these configurations, the precharge voltage supply means and the equalizing means are constituted by a P-channel transistor and an N-channel transistor. Thereby, when the operation of the precharge voltage supply means and the equalizing means is stopped, push-down and push-up occur, and potential fluctuations at the first and second terminals of the amplifier are suppressed. As a result, the amplifier is prevented from malfunctioning, and an accurate comparison result can be obtained.

本発明に係る電気光学装置は、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置において、前記一対の基板の一方に上記電気光学装置用基板を用いたことを特徴とする。   The electro-optical device according to the present invention is an electro-optical device in which an electro-optical material is sandwiched between a pair of substrates, wherein the electro-optical device substrate is used for one of the pair of substrates.

また、本発明に係る電子機器は、上記電気光学装置を用いたことを特徴とする。   Further, an electronic apparatus according to the present invention is characterized by using the electro-optical device.

このような構成によれば、外部からのプローブを接触される等の必要がなく、十分な測定精度の得られる検査のできる電気光学装置用基板を用いた電気光学装置又は電子機器が実現できる。   According to such a configuration, it is possible to realize an electro-optical device or an electronic apparatus using an electro-optical device substrate that can be inspected with sufficient measurement accuracy without requiring contact with an external probe.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

ここでは、本発明の電気光学装置用基板の一例として、液晶表示装置に用いるアティブマトリックス型表示装置用基板を例にとって説明する。   Here, as an example of the electro-optical device substrate of the present invention, an active matrix display device substrate used in a liquid crystal display device will be described as an example.

本発明は基板に差動増幅器を含む検査回路を搭載するものであり、検査対象の画素から読み出した信号電位と基準電位(リファレンス電圧)とを差動増幅器を用いて比較することで、画素の良不良の判定を行うようになっている。   In the present invention, an inspection circuit including a differential amplifier is mounted on a substrate, and a signal potential read from a pixel to be inspected is compared with a reference potential (reference voltage) by using a differential amplifier. Good or bad is judged.

ところで、差動増幅器に対するリファレンスの供給の仕方及び検査対象画素の選択の仕方に応じて、<画素リファレンス型>、<外部リファレンス型>及び<検査列切換外部リファレンス型>の3つの分類が考えられる。   By the way, depending on how the reference is supplied to the differential amplifier and how the inspection target pixel is selected, three classifications of <pixel reference type>, <external reference type>, and <test column switching external reference type> can be considered. .

画素リファレンス型は、一対の画素の一方の画素に基準電位を書込み、両画素から読み出した電位を差動増幅器で比較することで、他方の画素の良不良を判定するものである。   In the pixel reference type, a reference potential is written to one pixel of a pair of pixels, and potentials read from both pixels are compared by a differential amplifier to determine whether the other pixel is good or defective.

外部リファレンス型は、基準電位(リファレンス)を外部から与え、差動増幅器において外部からのリファレンスと、検査対象の画素から読み出した電位とを比較することで、画素の良不良を判定するものである。   The external reference type applies a reference potential (reference) from the outside, and compares the reference from the outside in the differential amplifier with the potential read from the pixel to be inspected to determine whether the pixel is good or bad. .

また、検査列切換外部リファレンス型は、差動増幅器の2つの入力端子の一方に外部からのリファレンスを供給し、他方の入力端子に画素から読み出した電位を供給するもので、リファレンスを供給する入力端子と画素から読み出した電位を供給する入力端子とを相互に切換えるようにしたものである。   The test column switching external reference type supplies an external reference to one of the two input terminals of the differential amplifier and supplies a potential read from the pixel to the other input terminal. The terminal and the input terminal that supplies the potential read from the pixel are switched to each other.

更に、これらの<画素リファレンス型>、<外部リファレンス型>及び<検査列切換外部リファレンス型>は、検査対象からの画素から読み出した電位が与えられる差動増幅器の端子(検査端子)に、複数のソース線の1つを選択して接続する構成を付加したシェアード型で構成することができる。   Further, these <pixel reference type>, <external reference type>, and <examination column switching external reference type> have a plurality of differential amplifier terminals (inspection terminals) to which potentials read from pixels from the inspection target are applied. It is possible to configure a shared type to which a configuration in which one of the source lines is selected and connected is added.

(第1の実施の形態)<外部リファレンス型>
図1は本発明の第1の実施の形態に係り、外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図である。本実施の形態は後述するプリチャージ処理とイコライズ処理とを異なるタイミングで終了させる例である。
First Embodiment <External Reference Type>
FIG. 1 is a circuit diagram showing an external reference type electro-optical device substrate according to a first embodiment of the present invention. This embodiment is an example in which a precharge process and an equalization process, which will be described later, are terminated at different timings.

電気光学装置用基板である図1の液晶表示装置の素子基板1Bとして、アクティブマトリックス型表示装置用基板であるTFT基板を例に説明する。素子基板1Bは、表示素子アレイ部2と、プリチャージ及びリファレンス回路部13と、表示データ読み出し回路部4とを含む。表示部となる表示素子アレイ部2は、マトリックス状に2次元に配置されたm行×n列の複数の画素2aを有している。ここで、m,nはそれぞれ整数である。   As an element substrate 1B of the liquid crystal display device of FIG. 1 which is an electro-optical device substrate, a TFT substrate which is an active matrix display device substrate will be described as an example. The element substrate 1 </ b> B includes a display element array unit 2, a precharge / reference circuit unit 13, and a display data read circuit unit 4. The display element array unit 2 serving as a display unit has a plurality of pixels 2a of m rows × n columns arranged two-dimensionally in a matrix. Here, m and n are integers.

表示素子アレイ部2は、図1の右から第1列、第2列、・・第n列で、上から第1行、第2行、・・第m行のマトリックスであるが、図1では、説明を簡単にするために、4(行)×6(列)のマトリックスの画素からなる回路の例を示している。   The display element array unit 2 is a matrix of the first column, the second column,..., The nth column from the right in FIG. 1 and the first row, the second row,. In order to simplify the description, an example of a circuit including pixels of a matrix of 4 (rows) × 6 (columns) is shown.

図2は図1中の画素2aの等価回路図である。表示素子アレイ部2は、例えば、両基板間に液晶を封入して構成される。表示素子アレイ部2は、ソース線S(S1,S2,…)と走査線G(G1,G2,…)との交点に対応して単位表示素子である画素2aが構成される。各画素2aは、夫々スイッチング素子である薄膜トランジスタ(以下、TFTという)11を有する。ソース線からTFTを介して画素電極に画素信号が供給され、この画素信号によって画素電極と共通電極との間の液晶の状態が変化する。こうして、表示素子アレイ部2の光の透過率を画素信号によって変化させることができ、画像表示が可能となる。   FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the pixel 2a in FIG. The display element array unit 2 is configured, for example, by sealing liquid crystal between both substrates. The display element array section 2 includes pixels 2a that are unit display elements corresponding to the intersections of the source lines S (S1, S2,...) And the scanning lines G (G1, G2,...). Each pixel 2a has a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) 11 which is a switching element. A pixel signal is supplied from the source line to the pixel electrode through the TFT, and the state of the liquid crystal between the pixel electrode and the common electrode is changed by the pixel signal. Thus, the light transmittance of the display element array unit 2 can be changed by the pixel signal, and image display is possible.

画素において画素信号を長時間保持させるために、各画素2aの画素電極、共通電極及び液晶による容量(以下、液晶容量という)Clcには、付加容量Csが並列に接続されている。TFT11のドレインは、液晶容量Clcと付加容量Csのそれぞれの一端に接続され、付加容量Csの他端は、共通固定電位CsCOMが印加される。TFT11のゲート端子gは走査線Gに接続されている。TFT11のゲート端子gに所定の電圧信号が入力されてTFT11がオンすると、ソース線Sに接続されたTFT11のソース端子sに印加されている電圧が液晶容量Clcと付加容量Csに印加され、供給された所定の電位が維持される。   In order to hold the pixel signal in the pixel for a long time, an additional capacitor Cs is connected in parallel to a pixel electrode, a common electrode, and a capacitor (hereinafter referred to as a liquid crystal capacitor) Clc of each pixel 2a. The drain of the TFT 11 is connected to one end of each of the liquid crystal capacitor Clc and the additional capacitor Cs, and a common fixed potential CsCOM is applied to the other end of the additional capacitor Cs. The gate terminal g of the TFT 11 is connected to the scanning line G. When a predetermined voltage signal is input to the gate terminal g of the TFT 11 and the TFT 11 is turned on, the voltage applied to the source terminal s of the TFT 11 connected to the source line S is applied to the liquid crystal capacitor Clc and the additional capacitor Cs for supply. The predetermined potential is maintained.

素子基板1Bは、表示素子アレイ部2のX方向(横方向)及びY方向(縦方向)に並んだ複数の画素2aを駆動するために、Xドライバ部5aと、Yドライバ部5bと、トランスミッションゲート部6と、ビデオ信号線7とを含む。Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6及びビデオ信号線7によって、データ書込み及びデータ読出しが行われる。   The element substrate 1B includes an X driver unit 5a, a Y driver unit 5b, and a transmission for driving a plurality of pixels 2a arranged in the X direction (horizontal direction) and the Y direction (vertical direction) of the display element array unit 2. A gate portion 6 and a video signal line 7 are included. Data writing and data reading are performed by the X driver unit 5a, the Y driver unit 5b, the transmission gate unit 6 and the video signal line 7.

トランスミッションゲート部6は、Xドライバ部5aからの出力タイミング信号に応じて、ビデオ信号線7から入力される画素信号をソース線S1,S2,…に供給する。ビデオ信号線7は、マトリックス状の表示素子アレイ部2の奇数列に信号を供給する信号線と、偶数列に信号を供給する信号線とを有し、それぞれの端子inoとineとに接続されている。ソース線S1,S2,…は夫々各列のn個の画素に接続されており、ソース線S1,S2,…からの画素信号は、ライン毎に画素に書込まれるようになっている。ビデオ線からの出力端子として、outo端子とoute端子が設けられているが、入力端子ino,ineと夫々共通の端子にしても問題ない。   The transmission gate unit 6 supplies pixel signals input from the video signal line 7 to the source lines S1, S2,... According to the output timing signal from the X driver unit 5a. The video signal line 7 includes a signal line that supplies a signal to an odd-numbered column of the matrix-shaped display element array unit 2 and a signal line that supplies a signal to an even-numbered column, and is connected to the respective terminals ino and ine. ing. The source lines S1, S2,... Are connected to n pixels in each column, and the pixel signals from the source lines S1, S2,. Although an out terminal and an out terminal are provided as output terminals from the video line, there is no problem even if the input terminals ino and ine are common terminals.

本実施の形態においては、画素の検査のために表示データ読み出し回路部4が、アクティブマトリックス駆動型の液晶表示パネルの素子基板1Bに形成されている。表示素子アレイ部2と表示データ読み出し回路部4との間には、接続手段としてのトランスミッションゲート部9’が設けられている。   In the present embodiment, a display data reading circuit unit 4 is formed on an element substrate 1B of an active matrix driving type liquid crystal display panel for pixel inspection. Between the display element array section 2 and the display data reading circuit section 4, a transmission gate section 9 'is provided as a connecting means.

表示データ読み出し回路部4は、複数の差動増幅器4aを有しており、差動増幅器4aの2つの入力端子se,soに、検査対象の画素から読み出した電位と検査の基準となる基準電位(リファレンス)とが与えられるようになっている。   The display data reading circuit unit 4 includes a plurality of differential amplifiers 4a, and the potential read from the pixel to be inspected and the reference potential serving as a reference for inspection at two input terminals se and so of the differential amplifier 4a. (Reference) is given.

図3は図1中の表示データ読み出し回路部4の差動増幅器4aの具体的な構成を示す回路図である。   FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration of the differential amplifier 4a of the display data reading circuit unit 4 in FIG.

各差動増幅器4aは、2つのPチャネル型のトランジスタTr1,Tr2と、2つのNチャネル型のトランジスタTr3,Tr4とを含む。トランジスタTr1,Tr3のゲートは端子soに接続され、トランジスタTr2,Tr4のゲートは端子seに接続される。トランジスタTr1,Tr2のソース・ドレイン路同士は直列接続され、トランジスタTr3,Tr4のソース・ドレイン路同士も直列接続される。端子so,se相互間に、トランジスタTr1,Tr2同士のソース・ドレイン路と、トランジスタTr3,Tr4同士のソース・ドレイン路とが並列接続されている。   Each differential amplifier 4a includes two P-channel transistors Tr1 and Tr2, and two N-channel transistors Tr3 and Tr4. The gates of the transistors Tr1 and Tr3 are connected to the terminal so, and the gates of the transistors Tr2 and Tr4 are connected to the terminal se. The source / drain paths of the transistors Tr1 and Tr2 are connected in series, and the source / drain paths of the transistors Tr3 and Tr4 are also connected in series. A source / drain path between the transistors Tr1 and Tr2 and a source / drain path between the transistors Tr3 and Tr4 are connected in parallel between the terminals so and se.

端子se,soは夫々これらの端子に電位を供給するse配線4f又はso配線4gに接続される。se配線4f,so配線4gの一方には、検査対象の画素から読み出した信号電位が供給され、他方には、リファレンスが供給される。トランジスタTr1,Tr2のソースとドレインとの接続点は電源端子spに接続され、トランジスタTr3,Tr4のソースとドレインとの接続点は電源端子snに接続される。図1に示すように、電源端子spには、電源トランジスタ4dを介して電源電圧Vddが供給され、電源端子snには電源トランジスタ4eを介して基準電位点から接地電位が供給される。電源トランジスタ4d,4eは、夫々端子4b,4cを介して供給される駆動パルスSAp−ch,SAn−chによってオン,オフ制御されるようになっている。   The terminals se and so are respectively connected to the se wiring 4f or the so wiring 4g that supplies a potential to these terminals. One of the se wiring 4f and the so wiring 4g is supplied with a signal potential read from the pixel to be inspected, and the other is supplied with a reference. The connection point between the source and drain of the transistors Tr1 and Tr2 is connected to the power supply terminal sp, and the connection point between the source and drain of the transistors Tr3 and Tr4 is connected to the power supply terminal sn. As shown in FIG. 1, a power supply voltage Vdd is supplied to the power supply terminal sp via the power supply transistor 4d, and a ground potential is supplied to the power supply terminal sn from the reference potential point via the power supply transistor 4e. The power supply transistors 4d and 4e are controlled to be turned on and off by drive pulses SAp-ch and SAn-ch supplied via terminals 4b and 4c, respectively.

このように構成された差動増幅器4aにおいては、端子se,soに供給された電位を、一方は電源電位まで引き上げ、他方は基準電位点の電位(接地電位)まで引き下げる。例えば、端子seに端子soに比べて僅かでも高い電位が供給されたものとする。そうすると、トランジスタTr1〜Tr4のうち、トランジスタTr4が最初にオンする。トランジスタTr4がオンになるので、端子soの電位は端子snの低い接地電位まで低下する。そして、端子soが端子snの低い接地電位まで低下するので、ゲート端が端子soに接続されたトランジスタTr1がオンなる。その結果、端子seは電源端子spの高い電源電圧Vddまで上昇する。   In the differential amplifier 4a configured as described above, one of the potentials supplied to the terminals se and so is raised to the power supply potential, and the other is lowered to the potential of the reference potential point (ground potential). For example, it is assumed that a slightly higher potential is supplied to the terminal se than the terminal so. Then, the transistor Tr4 is turned on first among the transistors Tr1 to Tr4. Since the transistor Tr4 is turned on, the potential of the terminal so drops to the low ground potential of the terminal sn. Then, since the terminal so falls to the low ground potential of the terminal sn, the transistor Tr1 whose gate end is connected to the terminal so is turned on. As a result, the terminal se rises to the high power supply voltage Vdd of the power supply terminal sp.

このように、差動増幅器4aは、端子se,soに印加される電位のうち高い方の電位をより高くし、低い方の電位をより低くするように機能する。   As described above, the differential amplifier 4a functions to increase the higher potential among the potentials applied to the terminals se and so, and lower the lower potential.

トランスミッションゲート部9’は各ソース線S1,S2,…に対応して設けられたトランジスタ9aによって構成されている。差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gは、トランジスタ9aのソースに接続され、トランジスタ9aのドレインは各ソース線S1,S2,…に接続される。トランジスタ9aのゲートは制御端子9bに接続される。トランジスタ9aは、制御端子9bを介して入力されるHIGHの接続制御信号によってオンとなり、ソース線S1,S2,…に、テスト回路を接続するようになっている。   The transmission gate portion 9 'is constituted by transistors 9a provided corresponding to the source lines S1, S2,. The so wiring 4g connected to the terminal so of the differential amplifier 4a is connected to the source of the transistor 9a, and the drain of the transistor 9a is connected to each source line S1, S2,. The gate of the transistor 9a is connected to the control terminal 9b. The transistor 9a is turned on by a HIGH connection control signal input via the control terminal 9b, and a test circuit is connected to the source lines S1, S2,.

なお、制御端子9bは、トランジスタ9dによって構成されるプルダウン回路が接続されており、通常時はLOWに維持される。これにより、通常時は、トランジスタ9aはオフであり、表示データ読み出し回路部4は各ソース線から切り離された状態になっている。テスト時には、接続制御端子9bにHIGHの接続制御信号を供給することで、トランジスタ9aをオンにして、ソース線に表示データ読み出し回路部4を接続するようになっている。   The control terminal 9b is connected to a pull-down circuit composed of a transistor 9d, and is normally kept LOW. As a result, normally, the transistor 9a is off, and the display data read circuit section 4 is disconnected from each source line. At the time of the test, by supplying a HIGH connection control signal to the connection control terminal 9b, the transistor 9a is turned on, and the display data reading circuit unit 4 is connected to the source line.

表示素子アレイ部2と表示データ読み出し回路部4との間には、供給手段としてのプリチャージ及びリファレンス回路部13及びイコライズ回路部8も設けられている。プリチャージ及びリファレンス回路部13は、各差動増幅器4aに対応して夫々2つのトランジスタ3co,3ceを有する。トランジスタ3coはソースが電圧印加端子3aに接続され、ドレインがso配線4gを介して差動増幅器4aの端子soに接続される。また、トランジスタ3ceはソースが電圧印加端子3aに接続され、ドレインがse配線4fを介して差動増幅器4aの端子seに接続される。電圧印加端子3aにはプリチャージ電圧が供給されるようになっている。   Between the display element array unit 2 and the display data read circuit unit 4, a precharge and reference circuit unit 13 and an equalize circuit unit 8 are also provided as supply means. The precharge and reference circuit unit 13 has two transistors 3co and 3ce corresponding to each differential amplifier 4a. The transistor 3co has a source connected to the voltage application terminal 3a and a drain connected to the terminal so of the differential amplifier 4a via the so wiring 4g. The source of the transistor 3ce is connected to the voltage application terminal 3a, and the drain is connected to the terminal se of the differential amplifier 4a via the se wiring 4f. A precharge voltage is supplied to the voltage application terminal 3a.

トランジスタ3co,3ceのゲートは制御端子3bに接続されており、制御端子3bには、プリチャージ制御信号が入力されるようになっている。HIGHのプリチャージ制御信号が制御端子3bを介してトランジスタ3co,3ceのゲートに印加されることで、トランジスタ3co,3ceはオンとなり、電圧印加端子3aに供給されるプリチャージ電圧を夫々se配線4f又はso配線4gに供給するようになっている。   The HIGH precharge control signal is applied to the gates of the transistors 3co and 3ce via the control terminal 3b, whereby the transistors 3co and 3ce are turned on, and the precharge voltage supplied to the voltage application terminal 3a is applied to the se wiring 4f. Alternatively, it is supplied to the so wiring 4g.

即ち、差動増幅器4aの端子seに接続されたse配線4fは、外部からのプリチャージ電圧をリファレンス電圧として維持し端子seに供給するためのリファレンス配線として用いられる。一方、so配線4gは、トランジスタ9aによって各ソース線Sに接続されて、検査対象の画素からのデータを端子soに供給するための検査配線として用いられる。   That is, the se wiring 4f connected to the terminal se of the differential amplifier 4a is used as a reference wiring for maintaining the precharge voltage from the outside as a reference voltage and supplying it to the terminal se. On the other hand, the so wiring 4g is connected to each source line S by the transistor 9a, and is used as an inspection wiring for supplying data from the pixel to be inspected to the terminal so.

即ち、本実施の形態では、差動増幅器4aの一方の端子に接続された検査配線とソース線とが接続されて、1つの差動増幅器4aによって1本のソース線Sに接続された画素の検査が可能である。差増増幅器4aは表示素子アレイ部2の列数nと同数設けられる。   That is, in this embodiment, the inspection wiring connected to one terminal of the differential amplifier 4a and the source line are connected, and the pixel connected to one source line S by one differential amplifier 4a is connected. Inspection is possible. The number of differential amplifiers 4a is the same as the number n of columns of the display element array unit 2.

プリチャージ期間においては、so配線4g及びse配線4fにはプリチャージ電圧が供給される。なお、プリチャージ処理は、各種特性の検査のために、ソース線S及びso,se配線4g,4fにプリチャージ電圧を印加するためのものである。なお、プリチャージ電圧としては種々の電圧を選択することができ、例えば、電源電圧Vddでもよく、接地電位でもよく、あるいはこれらの中間電位でもよい。図1の例では、プリチャージ電圧を例えば中間電位に設定している。   In the precharge period, a precharge voltage is supplied to the so wiring 4g and the se wiring 4f. The precharge process is for applying a precharge voltage to the source line S and the so and se wirings 4g and 4f in order to inspect various characteristics. Various voltages can be selected as the precharge voltage. For example, the power supply voltage Vdd, the ground potential, or an intermediate potential thereof may be used. In the example of FIG. 1, the precharge voltage is set to an intermediate potential, for example.

イコライズ回路部8は、ソース、ドレインが夫々so配線4gと接続されたゲート回路8aを有している。ゲート回路8aはNチャネル型のトランジスタとPチャネル型のトランジスタが並列接続されて構成されている。ゲート回路8aを構成するNチャネルトランジスタのゲートは、制御部20又は21の出力端子o1からイコライズ制御信号EQが与えられる。また、ゲート回路8aを構成するPチャネルトランジスタのゲートは、制御部20又は21の出力端子o2からイコライズ制御信号EQの反転信号が与えられる。   The equalize circuit unit 8 has a gate circuit 8a in which a source and a drain are respectively connected to a so wiring 4g. The gate circuit 8a is configured by connecting an N-channel transistor and a P-channel transistor in parallel. The equalization control signal EQ is supplied from the output terminal o1 of the control unit 20 or 21 to the gate of the N-channel transistor constituting the gate circuit 8a. Further, an inverted signal of the equalize control signal EQ is given to the gate of the P channel transistor constituting the gate circuit 8a from the output terminal o2 of the control unit 20 or 21.

制御部20又は21は入力端子inには制御端子8bからのイコライズ制御信号EQが入力される。制御部20又は21は、入力されたイコライズ制御信号EQを出力端子o1からそのまま出力させる共に、入力されたイコライズ制御信号EQを反転させて反転信号を出力端子o2から出力するようになっている。   The control unit 20 or 21 receives the equalization control signal EQ from the control terminal 8b at the input terminal in. The control unit 20 or 21 outputs the input equalization control signal EQ as it is from the output terminal o1, and also inverts the input equalization control signal EQ and outputs an inverted signal from the output terminal o2.

図6及び図7は図1に採用可能な制御部20又は21の具体的な構成を夫々示す回路図である。   6 and 7 are circuit diagrams each showing a specific configuration of the control unit 20 or 21 that can be employed in FIG.

図6において、入力端子inは直接出力端子o1に接続されている。これにより、入力端子inに供給されたイコライズ制御信号EQはそのまま出力端子o1から出力される。また、入力端子inに供給されたイコライズ制御信号EQはインバータ20aにも与えられる。インバータ20aは入力されたイコライズ制御信号EQは反転させて出力端子o2から出力する。   In FIG. 6, the input terminal in is directly connected to the output terminal o1. As a result, the equalization control signal EQ supplied to the input terminal in is output as it is from the output terminal o1. The equalize control signal EQ supplied to the input terminal in is also supplied to the inverter 20a. The inverter 20a inverts the input equalization control signal EQ and outputs it from the output terminal o2.

図6の制御部20においては、イコライズ制御信号EQの正相出力及び反転出力を出力することができる。しかし、反転出力は正相出力に比べて若干遅延する。これに対し、図7の制御部21は、この遅延分を補償する位相補償回路を構成している。   The control unit 20 in FIG. 6 can output a positive phase output and an inverted output of the equalize control signal EQ. However, the inverted output is slightly delayed compared to the positive phase output. On the other hand, the control unit 21 of FIG. 7 constitutes a phase compensation circuit that compensates for this delay.

図7において、入力端子inは直列接続されたインバータ21a,21bを介して出力端子o1に接続されている。また、インバータ21aの出力はインバータ21cにも与えられ、インバータ21cの出力はインバータ21d及びインバータ21aに与えられる。インバータ21dの出力が出力端子o2に与えられる。   In FIG. 7, the input terminal in is connected to the output terminal o1 via inverters 21a and 21b connected in series. The output of the inverter 21a is also given to the inverter 21c, and the output of the inverter 21c is given to the inverter 21d and the inverter 21a. The output of the inverter 21d is given to the output terminal o2.

これにより、入力端子inに供給されたイコライズ制御信号EQはそのまま出力端子o1から出力される。また、入力端子inに供給されたイコライズ制御信号EQはインバータ20aにも与えられる。インバータ20aは入力されたイコライズ制御信号EQは反転させて出力端子o2から出力する。インバータ21a〜21dによってフリップフロップが構成され、インバータ21bからはイコライズ制御信号EQと同相の出力が出力端子o1に出力され、インバータ21dからはイコライズ制御信号EQと逆相の出力が出力端子o2に出力される。出力端子o1,o2から出力されるイコライズ制御信号EQ及びその反転信号相互間には遅延は生じていない。   As a result, the equalization control signal EQ supplied to the input terminal in is output as it is from the output terminal o1. The equalize control signal EQ supplied to the input terminal in is also supplied to the inverter 20a. The inverter 20a inverts the input equalization control signal EQ and outputs it from the output terminal o2. The inverters 21a to 21d constitute a flip-flop, the inverter 21b outputs an output in phase with the equalize control signal EQ to the output terminal o1, and the inverter 21d outputs an output opposite in phase to the equalize control signal EQ to the output terminal o2. Is done. There is no delay between the equalization control signal EQ output from the output terminals o1 and o2 and its inverted signal.

ゲート回路8aは、制御部20,21からのイコライズ制御信号及びその反転信号が供給される。ゲート回路8aは、制御部20,21からHIGHのイコライズ制御信号がNチャネル型トランジスタのゲートに供給され、LOWのイコライズ制御信号がPチャネル型トランジスタのゲートに供給されることによってオンとなり、so配線4gとse配線4f同士を同電位にするようになっている。   The gate circuit 8a is supplied with the equalization control signal and its inverted signal from the control units 20 and 21. The gate circuit 8a is turned on when a HIGH equalize control signal is supplied from the control units 20 and 21 to the gate of the N-channel transistor and a LOW equalize control signal is supplied to the gate of the P-channel transistor. 4g and se wiring 4f are set to the same potential.

以上のような構成のアクティブマトリックス型表示装置である液晶表示装置の素子基板が製造工程において製造されると、対向基板と貼り合わせて液晶を封入する前の素子基板自体の電気特性を評価あるいは検査することができる。なお、電気的特性の検査対象とする不良としては、素子基板の各画素のデータ保持用キャパシタ(付加容量Cs)のリークによって画素がLOWに固定されてしまう不良(以下、LOW固定不良という)、スイッチング素子であるTFTのソース・ドレイン間リークによって画素がHIGHに固定されてしまう不良(以下、HIGH固定不良という)がある。   When the element substrate of the liquid crystal display device, which is an active matrix display device having the above-described configuration, is manufactured in the manufacturing process, the electrical characteristics of the element substrate itself before the liquid crystal is sealed by being bonded to the counter substrate are evaluated or inspected. can do. In addition, as a defect to be inspected for electrical characteristics, a defect in which a pixel is fixed to LOW due to leakage of a data holding capacitor (additional capacitor Cs) of each pixel of the element substrate (hereinafter referred to as a LOW fixing defect), There is a defect that the pixel is fixed to HIGH due to leakage between the source and drain of the TFT as a switching element (hereinafter referred to as HIGH fixing defect).

次に、このように構成された基板の検査及び動作について説明する。   Next, inspection and operation of the substrate configured as described above will be described.

製造工程における素子基板1Bの検査の手法について説明する前に、図1に示すTFT基板が対向基板と貼り合わされて液晶が封入されて完成された液晶表示装置が、通常の画像表示を行うときの動作について説明する。   Before explaining the method of inspecting the element substrate 1B in the manufacturing process, the liquid crystal display device in which the TFT substrate shown in FIG. 1 is bonded to the counter substrate and liquid crystal is sealed is used to perform normal image display. The operation will be described.

まず、2本のビデオ信号線7には、それぞれ奇数列と偶数列の画素信号である画素信号が、ビデオ信号線7の入力端子ineとinoに入力される。それぞれの画素信号は、Xドライバ5aからの列選択信号に応じて、トランスミッションゲート部6のそれぞれのトランジスタTG1,TG2,…を介して、各ソース線Sへ供給される。   First, pixel signals that are odd-numbered and even-numbered pixel signals are respectively input to the two video signal lines 7 to the input terminals ine and ino of the video signal line 7. Each pixel signal is supplied to each source line S via each transistor TG1, TG2,... Of the transmission gate unit 6 in accordance with a column selection signal from the X driver 5a.

各ソース線Sに供給された画素信号は、Yドライバ5bからの走査線GがHIGHになって選択された行の各画素2aに書き込まれる。即ち、選択された走査線Gにおいて、ソース線Sに供給される画素信号が対応する画素2aに表示用の画素信号として供給されて保持される。この動作を、行順次で行うことにより、液晶表示装置の表示素子アレイ部2には、所望の画像が表示される。   The pixel signal supplied to each source line S is written to each pixel 2a in the selected row when the scanning line G from the Y driver 5b is HIGH. That is, in the selected scanning line G, the pixel signal supplied to the source line S is supplied and held as a display pixel signal to the corresponding pixel 2a. By performing this operation in row order, a desired image is displayed on the display element array unit 2 of the liquid crystal display device.

プリチャージ及びリファレンス回路部13は、走査線GがHIGHになる前に、プリチャージ電圧Vpreを各ソース線Sに印加する。プリチャージ電圧Vpreは、プリチャージ及びリファレンス回路部13の電圧印加端子3aに供給される。プリチャージ電圧Vpreを供給するタイミングは、制御端子3bに与えるプリチャージ制御信号PCGによって決定される。   The precharge and reference circuit unit 13 applies a precharge voltage Vpre to each source line S before the scanning line G becomes HIGH. The precharge voltage Vpre is supplied to the voltage application terminal 3 a of the precharge and reference circuit unit 13. The timing for supplying the precharge voltage Vpre is determined by a precharge control signal PCG given to the control terminal 3b.

なお、製品あるいは試作品としての液晶表示装置として画像表示が行われるときは、トランスミッションゲート部9’のトランジスタ9aはオフであり、素子基板1Bの表示データ読み出し回路部4は、動作せず使用されない。   When an image is displayed as a liquid crystal display device as a product or a prototype, the transistor 9a of the transmission gate portion 9 ′ is off, and the display data reading circuit portion 4 of the element substrate 1B does not operate and is not used. .

次に、素子基板1Bにおいて、図1に示す回路部分が半導体プロセスの工程によって製造された後に、素子基板1Bの状態において行われる検査の手順について図4及び図5、図8乃至図10を参照して説明する。この素子基板1Bの検査において、表示データ読み出し回路部4が動作して使用される。   Next, in the element substrate 1B, referring to FIG. 4, FIG. 5, and FIG. 8 to FIG. 10 for the inspection procedure performed in the state of the element substrate 1B after the circuit portion shown in FIG. To explain. In the inspection of the element substrate 1B, the display data reading circuit unit 4 operates and is used.

まず検査方法を実現するための検査システムについて説明する。図4は検査システムの構成図である。素子基板1Bと、画素データの書き込みと読み込みができるテスト装置15とを、接続ケーブル16を介して接続する。接続ケーブル16は、素子基板1Bのビデオ信号線7の端子ino,ine、表示データ読み出し回路部4の信号線の端子4b、4c、プリチャージ及びリファレンス回路部13の端子3a、3b等を、テスト装置15に電気的に接続する。   First, an inspection system for realizing the inspection method will be described. FIG. 4 is a configuration diagram of the inspection system. The element substrate 1 </ b> B and a test apparatus 15 that can write and read pixel data are connected via a connection cable 16. The connection cable 16 tests the terminals ino and ine of the video signal line 7 of the element substrate 1B, the terminals 4b and 4c of the signal line of the display data reading circuit unit 4, the terminals 3a and 3b of the precharge and reference circuit unit 13, etc. Electrically connected to the device 15.

テスト装置15から、後述する所定の順番で、所定の電圧を各端子に供給することによって、素子基板1Bの電気的特性の検査を行うことができる。以下に、その検査内容として、上述した不良のうちLOW固定不良の有無についての検査を行う手順を説明する。   The electrical characteristics of the element substrate 1B can be inspected by supplying a predetermined voltage to each terminal in a predetermined order described later from the test apparatus 15. In the following, a procedure for inspecting whether or not there is a LOW fixing defect among the above-described defects will be described as the contents of the inspection.

図5は検査の全体の流れの例を示すフローチャートである。また、図8は図5のステップST2の読み出し動作を説明するためのタイミングチャートである。なお、図8では、画素が不良である場合の動作を破線にて示している。   FIG. 5 is a flowchart showing an example of the entire flow of inspection. FIG. 8 is a timing chart for explaining the read operation in step ST2 of FIG. In FIG. 8, the operation when the pixel is defective is indicated by a broken line.

図5のステップST1において、ビデオ信号線7の入力端子ino,ineからセルである各画素に所定の画素信号を入力する。画素の検査は、基準となる列の画素に対して、検査対象の列の画素が正常であるか否かを判定することによって行われる。図8に示す各タイミング信号は、テスト装置15によって生成されて各端子に供給される。   In step ST1 of FIG. 5, a predetermined pixel signal is input from the input terminals ino and ine of the video signal line 7 to each pixel which is a cell. The pixel inspection is performed by determining whether or not the pixel in the inspection target column is normal with respect to the pixel in the reference column. Each timing signal shown in FIG. 8 is generated by the test apparatus 15 and supplied to each terminal.

本実施の形態においては、リファレンスは、外部から供給しており、画素に書込む必要はない。各画素には検査のための書き込みを行う。例えば、LOW固定不良の検査を行うものとすると、素子アレイ部2の全ての走査線Gをオンして、全ての画素にHIGHを書き込む。   In the present embodiment, the reference is supplied from the outside and does not need to be written in the pixel. Each pixel is written for inspection. For example, when an inspection for a LOW fixing defect is performed, all the scanning lines G of the element array unit 2 are turned on, and HIGH is written in all the pixels.

なお、各画素にLOWを書き込んだ場合には、HIGH固定不良の検査が可能である。また、以下、全画素にHIGHを書き込んで基板1Bの検査を行う例を説明するが、一部の画素についてのみ検査を行うようにしてもよい。書き込み後、走査線Gのゲートはオフにされる。   In addition, when LOW is written in each pixel, it is possible to inspect a HIGH fixing defect. Hereinafter, an example will be described in which HIGH is written in all pixels and the substrate 1B is inspected, but only some pixels may be inspected. After writing, the gate of the scanning line G is turned off.

なお、この時点では、駆動配線SAp−chは電源電位Vdd、駆動配線SAn−chは接地電位であり、表示データ読み出し回路部4の各差動増幅器4aは非動作状態である。   At this time, the drive wiring SAp-ch is at the power supply potential Vdd, the drive wiring SAn-ch is at the ground potential, and the differential amplifiers 4a of the display data reading circuit unit 4 are not operating.

次に、ステップST2において、画素データの読出しを行う。接続制御端子9bにHIGHの接続制御信号TEを供給することで、トランスミッションゲート部9’の各トランジスタ9aをオンにする。これにより、トランジスタ9aがオンとなって、ソース線S1,S2,…と各so配線4gとが接続される。こうして、書き込まれた画素データを行毎に読み出して、表示データ読み出し回路部4に供給する。   Next, in step ST2, pixel data is read out. By supplying a high connection control signal TE to the connection control terminal 9b, each transistor 9a of the transmission gate portion 9 'is turned on. Thereby, the transistor 9a is turned on, and the source lines S1, S2,... Are connected to the respective so wirings 4g. Thus, the written pixel data is read for each row and supplied to the display data reading circuit unit 4.

ステップST2の読み出しの直前に、プリチャージ処理とイコライズ処理とが行われる。即ち、全画素への上述した所定の画素データの書き込み後に、先ず、プリチャージ及びリファレンス回路部13の制御端子3bに供給されるプリチャージ制御信号PCG(図8参照)が、HIGHとなる。   Immediately before reading in step ST2, precharge processing and equalization processing are performed. That is, after the above-described predetermined pixel data is written to all the pixels, first, the precharge control signal PCG (see FIG. 8) supplied to the control terminal 3b of the precharge and reference circuit unit 13 becomes HIGH.

なお、データ保持時間t1を確保するために、プリチャージ回路部13の端子3aに供給されるプリチャージ制御信号PCGがt1期間だけHIGHとなる。   In order to secure the data holding time t1, the precharge control signal PCG supplied to the terminal 3a of the precharge circuit unit 13 is HIGH for the period t1.

これにより、電圧印加端子3aに供給されるプリチャージ電圧がトランジスタ3co,3ceを介して夫々so配線4g及び各ソース線Sとse配線4fとに印加される。se配線では、差動増幅器4aが動作する際、このプリチャージ電圧がリファレンス電圧として機能する。例えば、プリチャージ電圧Vpreとしては、中間電位が選択される。   Thereby, the precharge voltage supplied to the voltage application terminal 3a is applied to the so wiring 4g and the source lines S and se wiring 4f via the transistors 3co and 3ce, respectively. In the se wiring, when the differential amplifier 4a operates, this precharge voltage functions as a reference voltage. For example, an intermediate potential is selected as the precharge voltage Vpre.

本実施の形態においては、イコライズ処理を制御するイコライズ制御信号EQは、図8に示すように、プリチャージ処理を制御するプリチャージ制御信号PCGを遅延させたものであり、イコライズ処理は、プリチャージ処理に若干遅延して開始される。   In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the equalization control signal EQ for controlling the equalization process is obtained by delaying the precharge control signal PCG for controlling the precharge process. It starts with a slight delay in processing.

即ち、図8に示すように、プリチャージ処理開始後において、イコライズ制御信号はLOWからHIGHに変化しており、イコライズ回路部8のゲート回路8aもオンとなって、so配線4gとse配線4fとは同電位となる。これにより、この時点では、各ソース線S及び差動増幅器4aの端子so,seは、中間電位の状態となっている。なお、プリチャージ処理の開始タイミングとプリチャージ処理の開始タイミングとを一致させてもよい。   That is, as shown in FIG. 8, after the precharge process is started, the equalization control signal changes from LOW to HIGH, the gate circuit 8a of the equalization circuit unit 8 is also turned on, and the so wiring 4g and se wiring 4f. And have the same potential. Thereby, at this time, the source lines S and the terminals so and se of the differential amplifier 4a are in an intermediate potential state. Note that the start timing of the precharge process may coincide with the start timing of the precharge process.

なお、各ソース線Sのプリチャージ電位(電圧印加端子3aに印加される電圧)VpreはHIGHとLOWの中間電位にし、図2に示すCsCOM電位をLOW電位とする。CsCOM電位をLOW電位とするのは、データ保持用キャパシタCsがリーク不良である場合、リーク先のCsCOM電位がLow電位となるため、読み出し電位は基準側の中間電位より低くなるようにするためである。そして、最初のプリチャージ期間は、やや長い時間を設定しておき、リーク不良による電圧変化が現れるようにする。   Note that the precharge potential (voltage applied to the voltage application terminal 3a) Vpre of each source line S is set to an intermediate potential between HIGH and LOW, and the CsCOM potential shown in FIG. 2 is set to the LOW potential. The reason why the CsCOM potential is set to the LOW potential is that when the data holding capacitor Cs has a leak failure, the CsCOM potential at the leak destination is the Low potential, so that the read potential is lower than the intermediate potential on the reference side. is there. Then, a slightly long time is set for the first precharge period so that a voltage change due to a leak failure appears.

次に、画素データの読み出し直前に、プリチャージ処理及びイコライズ処理を停止させる。即ち、先ず、プリチャージ制御信号PCGをLOWにする。これにより、トランジスタ3co,3ceはオフとなる。   Next, immediately before reading out the pixel data, the precharge process and the equalize process are stopped. That is, first, the precharge control signal PCG is set to LOW. As a result, the transistors 3co and 3ce are turned off.

ところで、トランジスタ3co,3ceは寄生容量を有することから、トランジスタ3co,3ceのゲートがHIGHからLOWに変化することによって、端子so,seにプッシュダウンが生じる。特に、トランジスタ3co,3ceとして、薄膜トランジスタを採用した場合には、プッシュダウンの影響は大きい。   By the way, since the transistors 3co and 3ce have a parasitic capacitance, the gates of the transistors 3co and 3ce change from HIGH to LOW, and push-down occurs at the terminals so and se. In particular, when thin film transistors are employed as the transistors 3co and 3ce, the influence of pushdown is large.

画素の検査時においては、トランジスタ9aはオンであり、差動増幅器4aの端子soには、so配線4g及びソース線Sが接続される。一方、差動増幅器4aの端子seに接続される配線は、se配線4fのみである。so配線4g及びソース線Sの配線容量は、se配線4fのみの配線容量に比べて十分に大きい。このため、端子soに生じるプッシュダウン(電位降下)は比較的小さいのに対し、端子seには比較的大きなプッシュダウンが生じる。即ち、差動増幅器4aの端子so,seに接続された配線同士の容量の相違から、差動増幅器4aが誤動作し、画素の良不良の判定に誤りが生じる虞がある。   At the time of pixel inspection, the transistor 9a is on, and the so wiring 4g and the source line S are connected to the terminal so of the differential amplifier 4a. On the other hand, only the se wiring 4f is connected to the terminal se of the differential amplifier 4a. The wiring capacity of the so wiring 4g and the source line S is sufficiently larger than the wiring capacity of only the se wiring 4f. For this reason, the push-down (potential drop) generated at the terminal so is relatively small, whereas the terminal se has a relatively large push-down. That is, there is a possibility that the differential amplifier 4a malfunctions due to the difference in capacitance between the wirings connected to the terminals so and se of the differential amplifier 4a, and an error occurs in the determination of whether the pixel is good or bad.

そこで、本実施の形態においては、プリチャージ処理終了時点において、イコライズ処理を継続させると共に、イコライズ処理のためのゲート回路8aをPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタとの並列接続体によって構成することで、プッシュダウンの影響を回避するようになっている。   Therefore, in the present embodiment, at the end of the precharge process, the equalize process is continued, and the gate circuit 8a for the equalize process is configured by a parallel connection body of a P-channel transistor and an N-channel transistor. Thus, the effect of pushdown is avoided.

図9はプッシュダウンによる電位変動が解消される様子を示す波形図である。なお、図9は図1の制御部として図6に示す制御部20を採用した場合の波形を示している。   FIG. 9 is a waveform diagram showing how potential fluctuations due to pushdown are eliminated. FIG. 9 shows a waveform when the control unit 20 shown in FIG. 6 is adopted as the control unit of FIG.

図9はプリチャージ制御信号PCG、イコライズ制御信号EQ、走査線G1に供給される走査信号、端子soの電位並びに端子seの電位を示している。   FIG. 9 shows the precharge control signal PCG, the equalize control signal EQ, the scanning signal supplied to the scanning line G1, the potential of the terminal so, and the potential of the terminal se.

上述したように、差動増幅器4aの端子soに画素からの信号電位を供給する前に、検査配線であるso配線4g、リファレンス配線であるse配線4f及びソース線Sにプリチャージ電圧を供給すると共に、端子se,soを確実に同電位とする。このプリチャージ及びイコライズ処理のために、トランジスタ3ce,3coのゲートにHIGHのプリチャージ制御信号PCGを印加し、ゲート回路8aのゲートにHIGHのイコライズ制御信号EQを印加する(図9参照)。   As described above, before supplying the signal potential from the pixel to the terminal so of the differential amplifier 4a, the precharge voltage is supplied to the so wiring 4g as the inspection wiring, the se wiring 4f as the reference wiring, and the source line S. At the same time, the terminals se and so are surely set to the same potential. For this precharge and equalization processing, a HIGH precharge control signal PCG is applied to the gates of the transistors 3ce and 3co, and a HIGH equalize control signal EQ is applied to the gate of the gate circuit 8a (see FIG. 9).

差動増幅器4aの端子soに画素からの信号電位を供給する直前に、プリチャージ及びイコライズ処理を停止させるために、先ず、プリチャージ制御信号PCGをHIGHからLOWに切換える(図9参照)。このHIGHからLOWへの切換えに伴って、トランジスタ3co,3ce,8aの寄生容量により、端子so,seにプッシュダウン(フィールドスルーによる電位降下)が生じる。   Immediately before supplying the signal potential from the pixel to the terminal so of the differential amplifier 4a, the precharge control signal PCG is first switched from HIGH to LOW in order to stop the precharge and equalization processing (see FIG. 9). With this switching from HIGH to LOW, push-down (potential drop due to field through) occurs at the terminals so and se due to the parasitic capacitances of the transistors 3co, 3ce, and 8a.

画素の検査時においては、トランジスタ9aはオンであり、差動増幅器4aの端子soには、so配線4g及びソース線Sが接続される。一方、差動増幅器4aの端子seに接続される配線は、se配線4fのみである。so配線4g及びソース線Sの配線容量は、se配線4fのみの配線容量に比べて十分に大きい。このため、図9の端子soの電位(細線)に示すように、プリチャージ制御信号PCGをHIGHからLOWに切換えたタイミングにおいて、端子soに生じるプッシュダウンは比較的小さいのに対し、端子seには比較的大きなプッシュダウンが生じる(図9の端子seの電位)。   At the time of pixel inspection, the transistor 9a is on, and the so wiring 4g and the source line S are connected to the terminal so of the differential amplifier 4a. On the other hand, only the se wiring 4f is connected to the terminal se of the differential amplifier 4a. The wiring capacity of the so wiring 4g and the source line S is sufficiently larger than the wiring capacity of only the se wiring 4f. Therefore, as shown by the potential of the terminal so in FIG. 9 (thin line), the push-down generated at the terminal so is relatively small at the timing when the precharge control signal PCG is switched from HIGH to LOW, whereas the push-down at the terminal se is relatively small. Causes a relatively large pushdown (the potential at the terminal se in FIG. 9).

しかし、イコライズ制御信号EQはプリチャージ制御信号PCGを遅延させたものであり、プリチャージ処理の終了時においても、イコライズ処理は継続されている。即ち、ゲート回路8aによって、端子se,soの電位は同電位となるように制御される。この場合、端子soに接続されたso配線4g及びソース線Sによって、端子soの電位は変動しにくい。従って、プリチャージ終了時においてプッシュダウンにより生じた端子seの電位低下は、比較的安定した端子soの電位まで上昇し、結局、端子so,seの電位は相互に同電位となる(図9参照)。   However, the equalization control signal EQ is a delayed version of the precharge control signal PCG, and the equalization process is continued even when the precharge process ends. That is, the gate circuit 8a controls the terminals se and so to have the same potential. In this case, the potential of the terminal so is hardly changed by the so wiring 4g and the source line S connected to the terminal so. Accordingly, the decrease in the potential of the terminal se caused by the push-down at the end of the precharge rises to the relatively stable potential of the terminal so, and eventually the potentials of the terminals so and se become the same potential (see FIG. 9). ).

プリチャージ制御信号PCGがHIGHからLOWに変化した後、制御端子8bに供給されるイコライズ制御信号EQもHIGHからLOWに変化する。これにより、ゲート回路8aはオフとなり、イコライズ処理も停止する。このゲート回路8aのオフによって、プッシュダウンが生じる。   After the precharge control signal PCG changes from HIGH to LOW, the equalization control signal EQ supplied to the control terminal 8b also changes from HIGH to LOW. As a result, the gate circuit 8a is turned off and the equalization process is also stopped. Push-down occurs when the gate circuit 8a is turned off.

しかし、トランジスタ3co,3ceは、so配線4g及びソース線Sをプリチャージさせるための十分な駆動能力を備える必要から、大きな占有面積を有すると共に大きなゲート幅を有し、ゲート容量も大きい。これに対し、ゲート回路8aは大きな駆動能力を必要とせず、占有面積も小さいことからゲート容量は小さい。従って、トランジスタ3co,3ceのオフ時のプッシュダウン量は大きいのに対し、ゲート回路8aのオフ時のプッシュダウン量は十分に小さい。つまり、イコライズ処理終了時におけるプッシュダウン量は小さい。   However, since the transistors 3co and 3ce need to have sufficient driving capability for precharging the so wiring 4g and the source line S, they have a large occupied area, a large gate width, and a large gate capacitance. On the other hand, the gate circuit 8a does not require a large driving capability and has a small occupied area, so the gate capacitance is small. Therefore, the push-down amount when the transistors 3co and 3ce are off is large, while the push-down amount when the gate circuit 8a is off is sufficiently small. That is, the pushdown amount at the end of the equalization process is small.

更に、本実施の形態においては、ゲート回路8aは、Pチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタが並列接続されて構成されていることから、プッシュダウンした電位はプッシュアップして元の電位に戻る。即ち、先にイコライズ制御信号EQの正相出力が供給されるNチャネル型トランジスタがオンとなることによって、プッシュダウンが生じるが、直ぐに、イコライズ制御信号EQの反転信号がPチャネル型トランジスタに供給されてオンとなるので、Pチャネル型トランジスタのプッシュアップによって、リファレンスは元の電位に戻るのである。   Further, in the present embodiment, the gate circuit 8a is configured by connecting a P-channel transistor and an N-channel transistor in parallel, so that the pushed-down potential is pushed up to return to the original potential. That is, when the N-channel transistor to which the positive phase output of the equalize control signal EQ is supplied first is turned on, push-down occurs, but immediately, the inverted signal of the equalize control signal EQ is supplied to the P-channel transistor. Thus, the reference is restored to the original potential by the push-up of the P-channel transistor.

また、図10は図1の制御部として図7に示す制御部21を採用した場合の波形を示している。   FIG. 10 shows waveforms when the control unit 21 shown in FIG. 7 is adopted as the control unit of FIG.

この場合には、上述したように、ゲート回路8aのPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタとには、同一タイミングでイコライズ制御信号EQの正相出力及び反転出力が夫々供給される。従って、Nチャネル型トランジスタによるプッシュダウンと、Pチャネル型トランジスタによるプッシュアップとが同時に発生し、リファレンス電位は変動することはない(図10の端子soの太線)。   In this case, as described above, the positive-phase output and the inverted output of the equalization control signal EQ are respectively supplied to the P-channel transistor and the N-channel transistor of the gate circuit 8a at the same timing. Therefore, push-down by the N-channel transistor and push-up by the P-channel transistor occur at the same time, and the reference potential does not fluctuate (bold line at terminal so in FIG. 10).

次に、データ保持時間t1の経過後に、走査線G1をHIGHにして、画素データの読み出しを開始する。なお、この時点では、駆動配線SAp−chは電源電位Vdd、駆動配線SAn−chは接地電位であり、各差動増幅器4aはまだ動作していない状態である。   Next, after elapse of the data holding time t1, the scanning line G1 is set to HIGH, and reading of pixel data is started. At this time, the drive wiring SAp-ch is at the power supply potential Vdd, the drive wiring SAn-ch is at the ground potential, and each differential amplifier 4a is not yet operated.

走査線G1をHIGHにすると、走査線G1に接続された各画素から一斉にデータが出力される。つまり、コンデンサCsに書き込まれて保持された電荷が、対応するソース線Sに一斉に移動する。   When the scanning line G1 is set to HIGH, data is output simultaneously from the pixels connected to the scanning line G1. That is, the charges written and held in the capacitor Cs move to the corresponding source line S all at once.

走査線G1にHIGHが供給されて画素の信号が端子soに転送されると、端子soの電位は画素に書込まれた電位に応じて変化する。画素にHIGHが書込まれた場合には端子soの電位は若干上昇し、画素にLOWが書込まれた場合には端子soの電位は若干低下する。   When HIGH is supplied to the scanning line G1 and the pixel signal is transferred to the terminal so, the potential of the terminal so changes in accordance with the potential written to the pixel. When HIGH is written to the pixel, the potential of the terminal so increases slightly, and when LOW is written to the pixel, the potential of the terminal so decreases slightly.

差動増幅器4aは端子so,seの電位を比較する。この場合には、図9又は図10に示すように、プッシュダウンによる影響は極めて小さく、端子seの電位と端子soの電位とは略等しく、プリチャージ電位が維持された端子seのリファレンス電位は、画素にLOWが書込まれた場合の端子soの電位と画素にHIGHが書込まれた場合の端子soの電位との間の電位となっている。従って、差増増幅器4aは、画素に書込んだ信号レベルに応じて、端子soの電位が電源電圧Vdd又は接地電位となる。   The differential amplifier 4a compares the potentials of the terminals so and se. In this case, as shown in FIG. 9 or FIG. 10, the influence of pushdown is extremely small, the potential of the terminal se is substantially equal to the potential of the terminal so, and the reference potential of the terminal se where the precharge potential is maintained is This is a potential between the potential of the terminal so when LOW is written to the pixel and the potential of the terminal so when HIGH is written to the pixel. Accordingly, in the differential amplifier 4a, the potential of the terminal so becomes the power supply voltage Vdd or the ground potential according to the signal level written to the pixel.

このように、各画素にHIGHが書込まれた場合には、図8の実線のように、画素が正常であれば、ソース線S及びso配線4gの電位はわずかに上昇するのに対し、コンデンサCsのリーク等によって、各画素のデータがLOWに変化していると、各ソース線Sの電位は、破線で示したようにわずかに下降する。一方、リファレンスが供給された端子seの電位は、中間電位のままとなる(図8参照)。なお、プッシュダウンによる端子so,seの電位低下は十分に小さく、図8では図示が省略されている。   In this way, when HIGH is written in each pixel, as shown by the solid line in FIG. 8, if the pixel is normal, the potentials of the source line S and the so wiring 4g slightly increase. If the data of each pixel changes to LOW due to leakage of the capacitor Cs or the like, the potential of each source line S slightly decreases as shown by the broken line. On the other hand, the potential of the terminal se to which the reference is supplied remains the intermediate potential (see FIG. 8). Note that the potential drop of the terminals so and se due to pushdown is sufficiently small, and is not shown in FIG.

ゲート線G1を開いた後、所定時間経過してから、各差動増幅器4aを動作させるために、まず、駆動配線SAn−chの電位をLOWからHIGHに変化させる。駆動配線SAn−chの電位のHIGHへの変化の瞬間と同時あるいはその瞬間の前後に接続制御信号TEをLOWにし、トランスミッションゲート部9'のトランジスタ9aを所定期間t2だけオフにする。即ち、トランジスタ9a,8a,3co,3ceがオフとなり、so配線4g及びse配線4fはフローティング状態となる。これにより、se配線4fの中間電位及び僅かに上昇したso配線4gの電位は、夫々配線so,se内で維持され、ソース線S等の他の配線からの影響を受けない。   In order to operate each differential amplifier 4a after a predetermined time has elapsed after opening the gate line G1, first, the potential of the drive wiring SAn-ch is changed from LOW to HIGH. The connection control signal TE is set to LOW at the same time as or before and after the moment when the potential of the drive wiring SAn-ch changes to HIGH, and the transistor 9a of the transmission gate portion 9 ′ is turned off for a predetermined period t2. That is, the transistors 9a, 8a, 3co, and 3ce are turned off, and the so wiring 4g and the se wiring 4f are in a floating state. As a result, the intermediate potential of the se wiring 4f and the slightly increased potential of the so wiring 4g are maintained in the wirings so and se, respectively, and are not affected by other wiring such as the source line S.

この状態で、駆動配線SAn−chをLOWからHIGHにし、更に、駆動配線Ap−chをHIGHからLOWにする。駆動配線SAn−chがHIGHになることで、接地電位が差動増幅器4aの電源端子snに印加され、端子se,soのうちより低い電位となっている端子seが接地電位まで低下する(図8のse参照)。また、駆動配線SAp−chがLOWになることで、電源電圧Vddが差動増幅器4aの電源端子spに印加され、端子se,soのうちより高い電位となっている端子soが電源電位まで上昇する(図8のso参照)。こうして、端子se,soの電位が確定する。この動作は走査線G1に接続された画素すべてにおいて一斉に行われる。   In this state, the drive wiring SAn-ch is changed from LOW to HIGH, and the drive wiring Ap-ch is changed from HIGH to LOW. When the drive wiring SAn-ch becomes HIGH, the ground potential is applied to the power supply terminal sn of the differential amplifier 4a, and the terminal se which is the lower potential among the terminals se and so falls to the ground potential (FIG. (See 8 se). Further, since the drive wiring SAp-ch becomes LOW, the power supply voltage Vdd is applied to the power supply terminal sp of the differential amplifier 4a, and the terminal so, which has a higher potential among the terminals se and so, rises to the power supply potential. (See so in FIG. 8). Thus, the potentials of the terminals se and so are determined. This operation is performed simultaneously for all the pixels connected to the scanning line G1.

このように、表示データ読み出し回路部4の各差動増幅器4aは、2つの端子so,seに現れる高低2つの電位レベルを電源端子sp又はsnの電圧まで変化させて明確にする。こうして、差動増幅器4aの端子so,seの電位をLOW又はHIGHに確定させる。   As described above, each differential amplifier 4a of the display data reading circuit unit 4 makes the two potential levels appearing at the two terminals so and se change to the voltage of the power supply terminal sp or sn to clarify. Thus, the potentials of the terminals so and se of the differential amplifier 4a are determined to be LOW or HIGH.

ここで検査対象の奇数側の画素に、例えばデータ保持用キャパシタCsのリークが生じてLOW固定不良が発生していたものとする。この場合に、図8のSの破線に示すように、ソース線Sの電位がリファレンス(中間電位)より若干低下するものとする。これにより、駆動配線SAn−chがHIGHとなって電源端子snが接地電位になると、差動増幅器4aの端子soは接地電位まで低下する(図8の端子soの破線参照)。そして、駆動配線SAp−chがLOWになり、電源端子spが電源電圧Vddになると、差動増幅器4aの端子seは電源電圧Vddまで上昇する(図8の端子seの破線参照)。   Here, it is assumed that, for example, a leak of the data holding capacitor Cs occurs in the odd-numbered pixel to be inspected, and a LOW fixing defect occurs. In this case, it is assumed that the potential of the source line S is slightly lower than the reference (intermediate potential) as indicated by the broken line S in FIG. Thereby, when the drive wiring SAn-ch becomes HIGH and the power supply terminal sn becomes the ground potential, the terminal so of the differential amplifier 4a is lowered to the ground potential (see the broken line of the terminal so in FIG. 8). When the drive wiring SAp-ch becomes LOW and the power supply terminal sp becomes the power supply voltage Vdd, the terminal se of the differential amplifier 4a rises to the power supply voltage Vdd (see the broken line of the terminal se in FIG. 8).

つまり、この場合には、端子so,seの電位は、画素が正常な場合と逆の論理値となる。   That is, in this case, the potentials of the terminals so and se have a logical value opposite to that when the pixel is normal.

ステップST3では、確定した端子se,soの電位の比較が行われる。即ち、端子so,seの電位がLOW又はHIGHに確定すると、端子soの電位を出力させるために、接続制御信号TEをHIGHにしてトランスミッションゲート部9’のトランジスタ9aをオンにさせる。   In step ST3, the determined potentials of the terminals se and so are compared. That is, when the potentials of the terminals so and se are determined to be LOW or HIGH, in order to output the potential of the terminal so, the connection control signal TE is set to HIGH to turn on the transistor 9a of the transmission gate unit 9 '.

差動増幅器4aの端子soの確定した論理データは、so配線4gから対応するソース線Sに供給される。トランスミッションゲート部6の各トランジスタのゲートTG1からTGnを順に開き(HIGHにし)、ビデオ信号線7から順番に第1行目の各画素の画素データを読み出し、出力端子outoとouteに出力させる。   The determined logical data of the terminal so of the differential amplifier 4a is supplied to the corresponding source line S from the so wiring 4g. The gates TG1 to TGn of the transistors of the transmission gate unit 6 are opened in order (set to HIGH), and the pixel data of each pixel in the first row is read in order from the video signal line 7 and output to the output terminals outo and oute.

ゲート線G1に接続されたすべての画素のデータが読み出されたら、ゲート線G1をLOWにし、駆動配線SAn−chを接地電位、駆動配線SAp−chを電源電位にして差動増幅器4aを動作停止させる。次に、図8に示すように、プリチャージ制御信号PCGをHIGHにし、次いでイコライズ制御信号EQをHIGHにして、全ソース線Sをプリチャージし、イコライズする。2回目以降のプリチャージ時間は初回ほど長い必要はない。そのプリチャージ動作を停止した後は、第2の走査線G2の電位をHIGHにすることによって、第2行目の各画素のTFT11をオンにする。以降同様の動作を、最後の走査線Gmに接続された画素(第m行目の各画素)まで繰返して、全画素データを読み出す。   When the data of all the pixels connected to the gate line G1 is read, the differential amplifier 4a is operated by setting the gate line G1 to LOW, the drive wiring SAn-ch to the ground potential, and the drive wiring SAp-ch to the power supply potential. Stop. Next, as shown in FIG. 8, the precharge control signal PCG is set to HIGH, and then the equalize control signal EQ is set to HIGH, so that all the source lines S are precharged and equalized. The precharge time after the second time does not need to be as long as the first time. After the precharge operation is stopped, the potential of the second scanning line G2 is set to HIGH to turn on the TFT 11 of each pixel in the second row. Thereafter, the same operation is repeated up to the pixels connected to the last scanning line Gm (each pixel in the m-th row) to read out all pixel data.

確定した端子se,soの電位は、出力端子outu,outeからテスト装置15に出力される。テスト装置15は、読出工程において読み出した画素データと、書込工程において書き込んだ画素データとを比較する。画素が正常な場合には、図8のouto,outeの実線に示すように、HIGHの出力が得られる。画素にLOW固定不良が生じている場合には、図8のouto,outeの破線に示すように、LOWの出力が得られる。こうして、テスト装置15は検査対象の画素にLOW固定不良が生じているか否かを検出することができる。   The determined potentials of the terminals se and so are output from the output terminals outu and oute to the test apparatus 15. The test device 15 compares the pixel data read in the reading process with the pixel data written in the writing process. When the pixel is normal, a HIGH output is obtained as indicated by the solid lines of outo and out in FIG. When a LOW fixing defect occurs in a pixel, a LOW output is obtained as shown by the broken lines of outo and oute in FIG. Thus, the test apparatus 15 can detect whether or not a LOW fixing defect has occurred in the pixel to be inspected.

テスト装置15は、検査対象の画素から読み出したデータがHIGHでないセル(画素)を特定し、異常セルとして、例えばセル番号等のデータを、図示しないモニタの画面上に表示するように出力する(ステップST4)。   The test device 15 identifies a cell (pixel) whose data read from the pixel to be inspected is not HIGH, and outputs, as an abnormal cell, for example, data such as a cell number to be displayed on a monitor screen (not shown) ( Step ST4).

このように、各差動増幅器4aは、外部から印加された中間電位であるリファレンス電位と、各ソース線Sの電位とを比較することで、比較結果によって画素の不良を判定する。   In this way, each differential amplifier 4a compares the reference potential, which is an intermediate potential applied from the outside, with the potential of each source line S, and determines a pixel defect based on the comparison result.

なお、リファレンスを中間電位に設定し、検査対象画素にLOWを書込むことによって、HIGH固定不良の検査を行うことができることは明らかである。   It is obvious that the HIGH fixed defect can be inspected by setting the reference to an intermediate potential and writing LOW to the inspection target pixel.

このように製品あるいは試作品における素子基板工程の完了後に、素子基板の不良を検出することができるので、歩留まり低下期間の短縮が可能となり、不良品を組み立てることが少なくなくなって、コスト低減を図ることができる。特に、試作品の場合には、開発期間の短縮と開発コストの削減を期待することができる。更に、素子基板の段階で不良が検出できるので、いわゆるリペアも容易となる。   As described above, since the defect of the element substrate can be detected after the element substrate process in the product or the prototype is completed, the yield reduction period can be shortened, and it is not rare to assemble defective products, thereby reducing the cost. be able to. In particular, in the case of a prototype, it can be expected to shorten the development period and the development cost. Furthermore, since defects can be detected at the stage of the element substrate, so-called repair is facilitated.

また、本実施の形態においては、プリチャージ処理終了時においてもイコライズ処理を継続すると共に、イコライズ回路部8を構成するゲート回路8aをPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成することで、端子se,soの電位変動を抑制しており、差動増幅器4aに誤動作が生じることはなく、高精度の画素検査が可能である。   Further, in the present embodiment, the equalizing process is continued even at the end of the precharge process, and the gate circuit 8a constituting the equalizing circuit unit 8 is configured by a P-channel transistor and an N-channel transistor, so that the terminal The potential fluctuations of se and so are suppressed, no malfunction occurs in the differential amplifier 4a, and highly accurate pixel inspection is possible.

(第2の実施の形態)<外部リファレンス、シェアード型>
図11は外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板を示す回路図である。本実施の形態においても、プリチャージ処理とイコライズ処理とを異なるタイミングで終了させる例を示している。
Second Embodiment <External Reference, Shared Type>
FIG. 11 is a circuit diagram showing a shared type electro-optical device substrate belonging to the external reference type. Also in the present embodiment, an example in which the precharge process and the equalize process are ended at different timings is shown.

図11において図1と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。なお、図11では図面の簡略化のために、表示素子アレイ部2を駆動するXドライバ部5a、Yドライバ部5b、ビデオ信号線7等は図示を省略している。図11の素子基板11Bは、1つの差動増幅器4aで4本のソース線に接続された画素の検査を可能にするものである。即ち、4ソース線を配置する間隔に1つの差動増幅器4aを形成することができ、差動増幅器4aの面積を広くして、駆動能力を向上させると共に、差増増幅器4aのばらつきを低減して、検査精度を向上させることを可能にする。   In FIG. 11, the same components as those in FIG. In FIG. 11, for simplification of the drawing, the X driver unit 5a, the Y driver unit 5b, the video signal line 7 and the like for driving the display element array unit 2 are not shown. The element substrate 11B of FIG. 11 enables inspection of pixels connected to four source lines with one differential amplifier 4a. That is, one differential amplifier 4a can be formed at intervals of four source lines, and the area of the differential amplifier 4a can be widened to improve the driving capability and reduce the variation of the differential amplifier 4a. Thus, it is possible to improve the inspection accuracy.

図11の基板11Bは、表示素子アレイ部2、Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6、ビデオ信号線7、差動増幅器10及び表示データ読み出し回路部4の構成は図1の基板1Bと同様である。また、表示データ読み出し回路部4と表示素子アレイ部2との間に設けられたイコライズ回路部8、プリチャージ及びリファレンス回路部13の構成も図1の基板1Bと同様である。   The substrate 11B of FIG. 11 has the configuration of the display element array unit 2, the X driver unit 5a, the Y driver unit 5b, the transmission gate unit 6, the video signal line 7, the differential amplifier 10, and the display data reading circuit unit 4 shown in FIG. The same as the substrate 1B. The configurations of the equalize circuit unit 8 and the precharge / reference circuit unit 13 provided between the display data reading circuit unit 4 and the display element array unit 2 are the same as those of the substrate 1B in FIG.

本実施の形態は、トランスミッションゲート部9’に代えてトランスミッションゲート部22を採用した点が第1の実施の形態と異なる。トランスミッションゲート部22は、so配線4gを4本のソース線の1つに選択的に接続する。即ち、図11の例では、差動増幅器4aは、4本のソース線毎に設けられ、各差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gは、トランジスタ23a〜23dを夫々介して第(4u+1)(u=0,1,2,…)列〜第(4u+4)列のソース線に接続される。   This embodiment is different from the first embodiment in that a transmission gate portion 22 is used instead of the transmission gate portion 9 '. The transmission gate portion 22 selectively connects the so wiring 4g to one of the four source lines. That is, in the example of FIG. 11, the differential amplifier 4a is provided for each of the four source lines, and the so wiring 4g connected to the terminal so of each differential amplifier 4a is connected to the first through the transistors 23a to 23d. The (4u + 1) (u = 0, 1, 2,...) Column to the (4u + 4) th column source lines are connected.

トランジスタ23a〜23dのゲートは、トランスファゲート24a〜24dを夫々介してTEゲートデコード回路25に接続される。トランスファゲート24a〜24dは、nチャネルトランジスタ及びpチャネルトランジスタが相補的に接続されて構成されており、入力端には、TEゲートデコード回路25の出力TE1〜TE4がそれぞれ供給される。トランスファゲート24a〜24dは、nチャネルトランジスタのゲートに端子27からの制御信号が入力される。インバータ26は、端子27の出力を反転させて、トランスファゲート24a〜24dのpチャネルトランジスタのゲートに与える。   Transistors 23a-23d have their gates connected to TE gate decode circuit 25 via transfer gates 24a-24d, respectively. The transfer gates 24a to 24d are configured by complementary connection of n-channel transistors and p-channel transistors, and outputs TE1 to TE4 of the TE gate decode circuit 25 are supplied to the input terminals, respectively. In the transfer gates 24a to 24d, the control signal from the terminal 27 is input to the gate of the n-channel transistor. The inverter 26 inverts the output of the terminal 27 and supplies it to the gates of the p-channel transistors of the transfer gates 24a to 24d.

端子27に接続されたプルダウン回路によって、非テスト時は端子27はLOWであり、インバータ26の出力はHIGHであって、トランスファゲート24a〜24dはオフである。テスト時には端子27にHIGHの制御信号が印加されて、トランスファゲート24a〜24dはオンとなる。   Due to the pull-down circuit connected to the terminal 27, the terminal 27 is LOW during non-test, the output of the inverter 26 is HIGH, and the transfer gates 24a to 24d are off. During the test, a HIGH control signal is applied to the terminal 27, and the transfer gates 24a to 24d are turned on.

トランスファゲート24aは、端子27にHIGHの制御信号が入力されることで、TEゲートデコード回路25からの接続制御信号TE1をトランジスタ23aのゲートに与える。同様に、トランスファゲート24b〜24dは、端子27にHIGHの制御信号が入力されることで、TEゲートデコード回路25からの接続制御信号TE2〜TE4を夫々トランジスタ23b〜23dのゲートに与える。   When the HIGH control signal is input to the terminal 27, the transfer gate 24a applies the connection control signal TE1 from the TE gate decode circuit 25 to the gate of the transistor 23a. Similarly, when the HIGH control signal is input to the terminal 27, the transfer gates 24b to 24d supply the connection control signals TE2 to TE4 from the TE gate decode circuit 25 to the gates of the transistors 23b to 23d, respectively.

TEゲートデコード回路25は、端子28,29に入力されるデータA0,A1に基づいて、差動増幅器4aの各so配線4gを4本のうちのいずれのソース線Sに接続するかを決定するための接続制御信号TE1〜TE4を出力する。LOWの接続制御信号TE1〜TE4がゲートに印加されたトランジスタ23a〜23dはオフとなり、so配線とソース線との接続を切断する。逆に、HIGHの接続制御信号TE1〜TE4がゲートに印加されたトランジスタ23a〜23dはオンとなって、so配線とソース線とを接続する。   The TE gate decode circuit 25 determines which of the four source lines S is connected to each so wiring 4g of the differential amplifier 4a based on the data A0 and A1 input to the terminals 28 and 29. Connection control signals TE1 to TE4 are output. The transistors 23a to 23d to which the LOW connection control signals TE1 to TE4 are applied to the gates are turned off, and the connection between the so wiring and the source line is disconnected. Conversely, the transistors 23a to 23d to which the high connection control signals TE1 to TE4 are applied to the gates are turned on to connect the so wiring and the source line.

本実施の形態においても、イコライズ回路部8のゲート回路8aには、制御部20,21からのイコライズ制御信号EQ及びその反転信号が与えられるようになっている。   Also in this embodiment, the equalization control signal EQ from the control units 20 and 21 and its inverted signal are supplied to the gate circuit 8a of the equalize circuit unit 8.

このように構成された実施の形態においては、TEゲートデコード回路25からHIGHの接続制御信号TE1が出力されると、トランジスタ23aがオンとなり、第(4u+1)列のソース線がso配線4gに接続される。こうして、ソース線S1,S5,…に接続された画素の良、不良の検査が行われる。   In the embodiment configured as described above, when the HIGH connection control signal TE1 is output from the TE gate decode circuit 25, the transistor 23a is turned on, and the source line of the (4u + 1) th column is connected to the so wiring 4g. Is done. In this way, the quality of the pixels connected to the source lines S1, S5,...

同様に、TEゲートデコード回路25から、HIGHの接続制御信号TE2〜TE4が出力されると、対応するトランジスタ23b〜23dがオンとなり、第(4u+2)列〜第(4u+4)列のソース線の1つがso配線4gに接続される。これにより、接続されたソース線に対応する画素の良、不良の検査が行われる。   Similarly, when the high connection control signals TE2 to TE4 are output from the TE gate decode circuit 25, the corresponding transistors 23b to 23d are turned on, and 1 of the source lines of the (4u + 2) th column to the (4u + 4) th column. One is connected to the so wiring 4g. As a result, whether the pixel corresponding to the connected source line is good or bad is inspected.

なお、接続制御信号TE1〜TE4は、検査する列に対応した1つの接続制御信号のみが検査フローに応じてHIGHに切換り、他の3つの接続制御信号はLOWを維持する。検査する列に対応した1つの接続制御信号のLOW,HIGHの切換えは、例えば図8の接続制御信号TEと同様である。   As for the connection control signals TE1 to TE4, only one connection control signal corresponding to the column to be inspected is switched to HIGH according to the inspection flow, and the other three connection control signals are kept LOW. The switching of LOW and HIGH of one connection control signal corresponding to the column to be inspected is the same as, for example, the connection control signal TE of FIG.

プリチャージ処理終了時において、イコライズ処理が継続しており、また、イコライズ回路部8のゲート回路8aは、端子so,seにプッシュダウン及びプッシュアップを生じさせるので、結果的に端子so,seのプッシュダウン量は、相互に略等しい十分小さな値となり、プッシュダウン後の端子seのリファレンスが、LOW書込み時の端子soの電位よりも高くなることはなく、差動増幅器4aの判定結果に誤りが生じることを防止することができる。   At the end of the precharge process, the equalizing process is continued, and the gate circuit 8a of the equalizing circuit unit 8 causes the terminals so and se to push down and push up, so that the terminals so and se The push-down amount is a sufficiently small value substantially equal to each other, and the reference of the terminal se after the push-down does not become higher than the potential of the terminal so at the time of LOW writing, and the determination result of the differential amplifier 4a is incorrect. It can be prevented from occurring.

他の作用及び効果は図1の実施の形態と同様である。   Other operations and effects are the same as those of the embodiment of FIG.

(第3の実施の形態)<検査列切換外部リファレンス型>
図12は本発明の第3の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図である。本実施の形態においても、プリチャージ処理とイコライズ処理とを異なるタイミングで終了させる例を示している。図12において図1と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。本実施の形態は、1つの差動増幅器4aで2本のソース線に接続された画素の検査を可能にするものである。
(Third embodiment) <Examination column switching external reference type>
FIG. 12 is a circuit diagram showing an inspection column switching external reference type electro-optical device substrate according to a third embodiment of the present invention. Also in the present embodiment, an example in which the precharge process and the equalize process are ended at different timings is shown. In FIG. 12, the same components as those of FIG. In the present embodiment, it is possible to inspect pixels connected to two source lines with one differential amplifier 4a.

図12においては、基板1Cは、4行×6列画素で表示素子アレイ部2を示しているが、表示素子アレイ部2、Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6、ビデオ信号線7、差動増幅器10及び表示データ読み出し回路部4の構成は第1の実施の形態と同様である。表示データ読み出し回路部4と表示素子アレイ部2との間には、イコライズ回路部8、プリチャージ及びリファレンス回路部13及びトランスミッションゲート部19が設けられている。プリチャージ及びリファレンス回路部13、イコライズ回路部8並びに表示データ読み出し回路部4によってテスト回路が構成される。   In FIG. 12, the substrate 1C shows the display element array section 2 with 4 rows × 6 columns of pixels, but the display element array section 2, X driver section 5a, Y driver section 5b, transmission gate section 6, video signal The configurations of the line 7, the differential amplifier 10, and the display data reading circuit unit 4 are the same as those in the first embodiment. Between the display data read circuit unit 4 and the display element array unit 2, an equalize circuit unit 8, a precharge and reference circuit unit 13, and a transmission gate unit 19 are provided. The precharge / reference circuit unit 13, the equalize circuit unit 8, and the display data read circuit unit 4 constitute a test circuit.

第1の実施の形態においては、so配線4gを検査配線として差動増幅器4aの端子soに画素から読み出した画素信号を与え、se配線4fをリファレンス配線として外部からのプリチャージ電位をリファレンス電位として維持して、差動増幅器4aの端子seに与えた。   In the first embodiment, the pixel signal read from the pixel is applied to the terminal so of the differential amplifier 4a using the so wiring 4g as the inspection wiring, the se wiring 4f as the reference wiring, and the precharge potential from the outside as the reference potential. This was maintained and applied to the terminal se of the differential amplifier 4a.

これに対し、本実施の形態は、検査配線とリファレンス配線とを相互に切換え可能にして、1つの差動増幅器4aで奇数列と偶数列の2列に接続された画素の検査を可能にするものである。この切換えをトランスミッションゲート部19によって行うようになっている。   On the other hand, in the present embodiment, the inspection wiring and the reference wiring can be switched to each other, and inspection of pixels connected to two columns of the odd number column and the even number column can be performed by one differential amplifier 4a. Is. This switching is performed by the transmission gate unit 19.

トランスミッションゲート部19は、奇数列のソース線S1,S3,…に対応して設けられたn/2個のトランジスタ9ao及び偶数列のソース線S2,S4,…に対応して設けられたn/2個のトランジスタ9aeを有している。差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gは、トランジスタ9aoのソース・ドレイン路を介して奇数列のソース線S1,S3,…に接続される。また、差動増幅器4aの端子seに接続されたse配線4fは、トランジスタ9aeのソース・ドレイン路を介して偶数列のソース線S2,S4,…に接続される。   The transmission gate unit 19 includes n / 2 transistors 9ao provided corresponding to the odd-numbered source lines S1, S3,... And n / provided corresponding to the even-numbered source lines S2, S4,. It has two transistors 9ae. The so wiring 4g connected to the terminal so of the differential amplifier 4a is connected to the odd-numbered source lines S1, S3,... Via the source / drain paths of the transistor 9ao. Further, the se wiring 4f connected to the terminal se of the differential amplifier 4a is connected to the source lines S2, S4,... Of the even columns through the source / drain paths of the transistor 9ae.

トランジスタ9ao,9aeのゲートは、夫々トランスファゲート9bo,9beを介してTEゲートデコード回路9dに接続されている。トランスファゲート9bo,9beは、ゲートに端子9fからのテスト回路接続制御信号がインバータ9eを介して与えられる。端子9fに接続されたプルダウン回路によって、非テスト時は端子9fはLOWであり、インバータ9eの出力はHIGHであって、トランスファゲート9bo,9beはオフである。テスト時には端子9fにHIGHのテスト回路接続制御信号が印加されて、トランスファゲート9bo,9beはオンとなる。   The gates of the transistors 9ao and 9ae are connected to the TE gate decoding circuit 9d via transfer gates 9bo and 9be, respectively. In the transfer gates 9bo and 9be, a test circuit connection control signal from the terminal 9f is given to the gate via the inverter 9e. By the pull-down circuit connected to the terminal 9f, the terminal 9f is LOW at the time of non-test, the output of the inverter 9e is HIGH, and the transfer gates 9bo and 9be are off. During the test, a HIGH test circuit connection control signal is applied to the terminal 9f, and the transfer gates 9bo and 9be are turned on.

TEゲートデコード回路9dは、検査配線を決定するための選択信号TEo,TEeを出力する。トランスファゲート9bo,9beは、導通状態になると、TEゲートデコード回路9dからの選択信号TEo,TEeをトランジスタ9ao,9aeのゲートに与えるようになっている。選択信号TEo,TEeの一方は必ずHIGH、他方は必ずLOWである。TEゲートデコード回路9dは、奇数列の画素の検査を行う場合には、選択信号TEeをLOWにし、選択信号TEoについてはHIGHに切換える。検査フローに応じて、テスト回路接続制御信号9fがHIGH,LOWに切り替わることで、選択信号TEo'がHIGH,LOWに切り替わり、トランジスタ9aoの開閉が切り替わる。すなわち、テスト時はテスト回路接続制御信号9fがHIGHとなり、インバータ9eの出力がLOWとなってトランスファゲート9boがオン、選択信号TEoのHIGH信号がTEo'に伝達される。一方非テスト時はテスト回路接続制御信号9fがLOWとなり、インバータ9eの出力がHIGHとなってトランスファゲート9boがオフ、TEoのHIGH信号がTEo'に伝達されず、プルダウン回路によってTEo'はLOWになる。また、TEゲートデコード回路9dは、偶数列の画素の検査を行う場合には、選択信号TEoをLOWにし、選択信号TEeについてはHIGHに切換える。選択信号TEoの場合と同様に、検査フローに応じて、テスト回路接続制御信号9fがHIGH,LOWに切り替わることで、選択信号TEe'がHIGH・LOWに切り替わり、トランジスタ9aeの開閉が切り替わる。   The TE gate decode circuit 9d outputs selection signals TEo and TEe for determining the inspection wiring. When the transfer gates 9bo and 9be are turned on, the selection signals TEo and TEe from the TE gate decode circuit 9d are supplied to the gates of the transistors 9ao and 9ae. One of the selection signals TEo and TEe is always HIGH, and the other is always LOW. The TE gate decode circuit 9d sets the selection signal TEe to LOW and switches the selection signal TEo to HIGH when testing odd-numbered columns of pixels. According to the inspection flow, the test circuit connection control signal 9f is switched to HIGH and LOW, whereby the selection signal TEo ′ is switched to HIGH and LOW, and the opening and closing of the transistor 9ao is switched. That is, during the test, the test circuit connection control signal 9f becomes HIGH, the output of the inverter 9e becomes LOW, the transfer gate 9bo is turned on, and the HIGH signal of the selection signal TEo is transmitted to TEo ′. On the other hand, at the time of non-test, the test circuit connection control signal 9f becomes LOW, the output of the inverter 9e becomes HIGH, the transfer gate 9bo is turned off, the HIGH signal of TEo is not transmitted to TEo ', and TEo' becomes LOW by the pull-down circuit. Become. The TE gate decode circuit 9d sets the selection signal TEo to LOW and switches the selection signal TEe to HIGH when testing even-numbered columns of pixels. As in the case of the selection signal TEo, the test circuit connection control signal 9f is switched between HIGH and LOW according to the inspection flow, whereby the selection signal TEe ′ is switched between HIGH and LOW, and the opening and closing of the transistor 9ae is switched.

本実施の形態においても、イコライズ回路部8のゲート回路8aには、制御部20,21からのイコライズ制御信号EQ及びその反転信号が与えられるようになっている。イコライズ回路部8は、制御部20,21からのイコライズ制御信号EQ及びその反転信号によって導通して、端子so,seを同電位とする。そして、イコライズ回路部8は、ゲート回路8aがPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成されており、イコライズ処理終了時において、プッシュダウン及びプッシュアップを略同時に発生させ、結果的に、端子so,seの電位を変動させない。   Also in this embodiment, the equalization control signal EQ from the control units 20 and 21 and its inverted signal are supplied to the gate circuit 8a of the equalize circuit unit 8. The equalizing circuit unit 8 is turned on by the equalizing control signal EQ from the control units 20 and 21 and its inverted signal, so that the terminals so and se have the same potential. In the equalizing circuit unit 8, the gate circuit 8a is composed of a P-channel transistor and an N-channel transistor, and at the end of the equalizing process, the push-down and the push-up are generated substantially simultaneously. As a result, the terminal so , Se does not fluctuate.

次に、図13のタイミングチャートを参照して検査方法について説明する。本実施の形態においても検査の全体の流れは図5のフローと同様である。図13は本実施の形態における読み出し動作を示している。   Next, the inspection method will be described with reference to the timing chart of FIG. Also in this embodiment, the entire flow of the inspection is the same as the flow of FIG. FIG. 13 shows a read operation in the present embodiment.

本実施の形態においては、検査配線とリファレンス配線とを相互に切換え可能である点が第1の実施の形態と異なるのみである。図13の例はTEゲートデコード回路9dが選択信号TEe’をLOWにし、選択信号TEo’は検査フローに応じてLOW,HIGH切換えた状態を示している。即ち、この場合には、トランジスタ9aoがオン、トランジスタ9aeがオフとなり、奇数列のソース線S1,S3,…がso配線4gに接続されると共に、奇数列のソース線S2,S4,…とse配線4fとの接続は切断される。即ち、図13の例は、第1の実施の形態と同様の状態となり、図8と同様の検査が行われる。   The present embodiment is different from the first embodiment only in that the inspection wiring and the reference wiring can be switched to each other. In the example of FIG. 13, the TE gate decode circuit 9d sets the selection signal TEe 'to LOW, and the selection signal TEo' is switched to LOW and HIGH according to the inspection flow. That is, in this case, the transistor 9ao is turned on, the transistor 9ae is turned off, the odd-numbered source lines S1, S3,... Are connected to the so-wiring 4g, and the odd-numbered source lines S2, S4,. The connection with the wiring 4f is disconnected. That is, the example of FIG. 13 is in the same state as in the first embodiment, and the same inspection as in FIG. 8 is performed.

また、この場合にも、プリチャージ制御信号がHIGHからLOWとなってプリチャージ処理が終了する時点において、イコライズ制御信号EQはHIGHのままであって、イコライズ処理を継続している。従って、端子seに生じたプッシュダウンは端子soの電位まで引き上げられて、略元の中間電位に復帰する。   Also in this case, at the time when the precharge control signal is changed from HIGH to LOW and the precharge process ends, the equalize control signal EQ remains HIGH and the equalization process is continued. Accordingly, the push-down generated at the terminal se is raised to the potential of the terminal so and returns to the substantially original intermediate potential.

更に、イコライズ制御信号EQがHIGHからLOWとなってイコライズ処理が終了する場合には、プッシュダウン及びプッシュアップが略同時に発生して、結果的に、端子se,soのプッシュダウン量は略等しい十分に小さな値となる。これにより、プッシュダウン後の端子seのリファレンスが、LOW書込み時の端子soの電位よりも高くなることはなく、差動増幅器4aの判定結果に誤りが生じることはない。   Further, when the equalization control signal EQ is changed from HIGH to LOW and the equalization process is completed, pushdown and pushup occur almost simultaneously, and as a result, the pushdown amounts of the terminals se and so are sufficiently equal. It becomes a small value. Thereby, the reference of the terminal se after the push-down does not become higher than the potential of the terminal so at the time of LOW writing, and an error does not occur in the determination result of the differential amplifier 4a.

なお、図13に示すように、端子soからso配線4g及び奇数列のソース線S1,S3,…を介して読み出したデータは、奇数列のoutoのみから出力されることになる。   As shown in FIG. 13, the data read from the terminal so via the so wiring 4g and the odd-numbered source lines S1, S3,... Are output only from the odd-numbered outo.

偶数列の画素の検査を行う場合には、TEゲートデコード回路9dは、選択信号TEo’をLOWにし、選択信号TEe’については検査フローに応じてLOW又はHIGHに切換える。これにより、トランジスタ9aoはオフを維持し、奇数列のソース線S1,S3,…とso配線4gとの接続を切断し、トランジスタ9aeはオン,オフ切換り、偶数列のソース線S2,S4,…をse配線4fに接続する。   When inspecting even-numbered columns of pixels, the TE gate decode circuit 9d sets the selection signal TEo 'to LOW and switches the selection signal TEe' to LOW or HIGH according to the inspection flow. As a result, the transistor 9ao is kept off, the connection between the odd-numbered source lines S1, S3,... And the so-wiring 4g is disconnected, and the transistor 9ae is switched on and off, and the even-numbered source lines S2, S4 Are connected to the se wiring 4f.

この場合には、電圧印加端子3aからso配線、se配線及び偶数列のソース線S2,S4,…に供給された中間電位のプリチャージ電位が、so配線ではリファレンス電位として機能する。   In this case, the intermediate precharge potential supplied from the voltage application terminal 3a to the so wiring, se wiring, and even-numbered source lines S2, S4,... Functions as a reference potential in the so wiring.

またこの場合には、プリチャージオフ時に、端子soの電位がプッシュダウンによって一旦は比較的大きく低下する。しかし、プリチャージオフの時点ではイコライズ処理は継続されており、端子soの電位は安定した端子seの電位まで復帰する。また、イコライズ処理終了時においては、プッシュダウン及びプッシュアップによって、端子soのプッシュダウンが抑制され、端子se,soのプッシュダウン量は略等しい十分に小さな値となる。これにより、プッシュダウン後の端子soのリファレンスが、LOW書込み時の端子seの電位よりも高くなることはなく、差動増幅器4aの判定結果に誤りが生じることはない。   Further, in this case, when the precharge is turned off, the potential of the terminal so is once relatively lowered by the push-down. However, equalization processing is continued at the time of precharge off, and the potential of the terminal so returns to the stable potential of the terminal se. Further, at the end of the equalization process, the push-down of the terminal so is suppressed by the push-down and push-up, and the push-down amounts of the terminals se and so become substantially equal and sufficiently small values. As a result, the reference of the terminal so after the push-down does not become higher than the potential of the terminal se at the time of LOW writing, and an error does not occur in the determination result of the differential amplifier 4a.

他の作用及び効果は第1の実施の形態と同様である。   Other operations and effects are the same as those of the first embodiment.

(第4の実施の形態)<検査列切換外部リファレンス、シェアード型>
図14は検査列切換外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板型を示す回路図である。本実施の形態においても、プリチャージ処理とイコライズ処理とを異なるタイミングで終了させる例を示している。図14において図12又は図11と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
(Fourth embodiment) <Examination column switching external reference, shared type>
FIG. 14 is a circuit diagram showing a shared type electro-optical device substrate type belonging to the inspection column switching external reference type. Also in the present embodiment, an example in which the precharge process and the equalize process are ended at different timings is shown. In FIG. 14, the same components as those in FIG. 12 or FIG.

なお、図14では図面の簡略化のために、表示素子アレイ部2を駆動するXドライバ部5a、Yドライバ部5b、ビデオ信号線7等は図示を省略している。図14の実施の形態は、1つの差動増幅器4aで4本のソース線に接続された画素の検査を可能にするものである。即ち、4ソース線を配置する間隔に1つの差動増幅器4aを形成することができ、差動増幅器4aの面積を広くして、駆動能力を向上させると共に、差増増幅器4aのばらつきを低減して、検査精度を向上させることを可能にする。   In FIG. 14, the X driver unit 5a, the Y driver unit 5b, the video signal line 7 and the like for driving the display element array unit 2 are omitted for simplification of the drawing. The embodiment of FIG. 14 enables inspection of pixels connected to four source lines with one differential amplifier 4a. That is, one differential amplifier 4a can be formed at intervals of four source lines, and the area of the differential amplifier 4a can be widened to improve the driving capability and reduce the variation of the differential amplifier 4a. Thus, it is possible to improve the inspection accuracy.

図14の基板11Cは、表示素子アレイ部2、Xドライバ部5a、Yドライバ部5b、トランスミッションゲート部6、ビデオ信号線7、差動増幅器10及び表示データ読み出し回路部4の構成は図12の基板1Cと同様である。また、表示データ読み出し回路部4と表示素子アレイ部2との間に設けられたイコライズ回路部8、プリチャージ及びリファレンス回路部13の構成も図12の基板1Cと同様である。   The substrate 11C in FIG. 14 has the configuration of the display element array unit 2, the X driver unit 5a, the Y driver unit 5b, the transmission gate unit 6, the video signal line 7, the differential amplifier 10, and the display data reading circuit unit 4 in FIG. It is the same as the substrate 1C. Further, the configuration of the equalizing circuit unit 8, the precharge and reference circuit unit 13 provided between the display data reading circuit unit 4 and the display element array unit 2 is the same as that of the substrate 1C in FIG.

更に、イコライズ回路部8のゲート回路8aに、制御部20,21からのイコライズ制御信号EQを与える点、ゲート回路8aがPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成される点も、図12と同様である。   Further, the equalization control signal EQ from the control units 20 and 21 is given to the gate circuit 8a of the equalization circuit unit 8, and the gate circuit 8a is composed of a P-channel transistor and an N-channel transistor. It is the same.

本実施の形態は、トランスミッションゲート部19に代えてトランスミッションゲート部31を採用した点が第3の実施の形態と異なる。トランスミッションゲート部31は、so配線4gを2本のソース線の1つに選択的に接続すると共に、se配線4gを2本のソース線の1つに選択的に接続する。即ち、図14の例では、差動増幅器4aは、4本のソース線毎に設けられる。差動増幅器4aの端子soに接続されたso配線4gは、トランジスタ32a,32bを夫々介して第(4u+1)列又は第(4u+2)列のソース線に接続される。また、差動増幅器4aの端子seに接続されたse配線4fは、トランジスタ32c,32dを夫々介して第(4u+3)列又は第(4u+4)列のソース線に接続される。   The present embodiment is different from the third embodiment in that a transmission gate portion 31 is employed instead of the transmission gate portion 19. The transmission gate unit 31 selectively connects the so wiring 4g to one of the two source lines, and selectively connects the se wiring 4g to one of the two source lines. That is, in the example of FIG. 14, the differential amplifier 4a is provided for every four source lines. The so wiring 4g connected to the terminal so of the differential amplifier 4a is connected to the source line of the (4u + 1) th column or the (4u + 2) th column via the transistors 32a and 32b, respectively. The se wiring 4f connected to the terminal se of the differential amplifier 4a is connected to the source line of the (4u + 3) th column or the (4u + 4) th column via the transistors 32c and 32d, respectively.

トランジスタ32a〜32dのゲートは、トランスファゲート24a〜24dを夫々介してTEゲートデコード回路25に接続されている。トランスファゲート24aは、端子27にHIGHの制御信号が入力されることで、TEゲートデコード回路25からの選択信号TE1をトランジスタ32aのゲートに与える。同様に、トランスファゲート24b〜24dは、端子27fにHIGHの制御信号が入力されることで、TEゲートデコード回路25からの選択信号TE2〜TE4を夫々トランジスタ32b〜32dのゲートに与える。   The gates of the transistors 32a to 32d are connected to the TE gate decoding circuit 25 via transfer gates 24a to 24d, respectively. When the HIGH control signal is input to the terminal 27, the transfer gate 24a applies the selection signal TE1 from the TE gate decode circuit 25 to the gate of the transistor 32a. Similarly, the transfer gates 24b to 24d receive selection signals TE2 to TE4 from the TE gate decode circuit 25 to the gates of the transistors 32b to 32d, respectively, when a HIGH control signal is input to the terminal 27f.

TEゲートデコード回路25は、差動増幅器4aのso配線4gあるいはso配線4fを4本のうちのいずれのソース線に接続するかを決定するための選択信号TE1〜TE4を出力する。LOWの選択信号TE1〜TE4がゲートに印加されたトランジスタ32a〜32dはオフとなり、so配線及びse配線とソース線との接続を切断する。逆に、HIGHの選択信号TE1〜TE4がゲートに印加されたトランジスタ32a〜32dはオンとなって、so配線及びse配線とソース線とを接続する。   The TE gate decode circuit 25 outputs selection signals TE1 to TE4 for determining which of the four source lines the so wiring 4g or the so wiring 4f of the differential amplifier 4a is connected to. The transistors 32a to 32d to which the LOW selection signals TE1 to TE4 are applied to the gates are turned off, and the connection between the so wiring and the se wiring and the source line is disconnected. Conversely, the transistors 32a to 32d to which the HIGH selection signals TE1 to TE4 are applied to the gates are turned on to connect the so wiring and se wiring to the source lines.

このように構成された実施の形態においては、TEゲートデコード回路25からHIGHの選択信号TE1が出力されると、トランジスタ32aがオンとなり、第(4u+1)列のソース線がso配線4gに接続される。こうして、ソース線S1,S5,…に接続された画素の良、不良の検査が行われる。   In the embodiment configured as described above, when the HIGH selection signal TE1 is output from the TE gate decoding circuit 25, the transistor 32a is turned on, and the source line of the (4u + 1) th column is connected to the so wiring 4g. The In this way, the quality of the pixels connected to the source lines S1, S5,...

また、この場合には、プリチャージ処理終了時点においてイコライズ処理が継続しており、その後イコライズ処理を終了させているので、プッシュダウンした端子se,soの電位は、元の電位に復帰する。更に、イコライズ処理終了時においては、プッシュダウン及びプッシュアップが略同時に発生しており、結果的に、プッシュダウン量は略等しい十分に小さい値となり、プッシュダウン後の端子seのリファレンスが、LOW書込み時の端子soの電位よりも高くなることはなく、差動増幅器4aの判定結果に誤りが生じることはない。   In this case, the equalization process is continued at the end of the precharge process, and then the equalization process is terminated. Therefore, the potentials of the pushed-down terminals se and so return to the original potential. Furthermore, at the end of the equalization process, push-down and push-up occur almost simultaneously. As a result, the push-down amount becomes a substantially equal and sufficiently small value, and the reference of the terminal se after push-down becomes LOW write It does not become higher than the potential of the terminal so at the time, and an error does not occur in the determination result of the differential amplifier 4a.

同様に、TEゲートデコード回路25からHIGHの選択信号TE2〜TE4が出力されると、トランジスタ32b〜32dがオンとなり、第(4u+2)列〜第(4u+4)のソース線がse配線4fに接続される。こうして、各ソース線Sに接続された画素の良、不良の検査が行われる。   Similarly, when the HIGH selection signals TE2 to TE4 are output from the TE gate decode circuit 25, the transistors 32b to 32d are turned on, and the (4u + 2) th column to the (4u + 4) source line are connected to the se wiring 4f. The In this way, good and bad inspection of the pixels connected to each source line S is performed.

なお、この場合にも、端子so,seに画素から読み出したデータを供給する直前において、端子se,soのプッシュダウン量は略等しい十分に小さい値なり、プッシュダウン後の端子se,soのリファレンスが、LOW書込み時の検査端子の電位よりも高くなることはなく、差動増幅器4aの判定結果に誤りが生じることはない。   Also in this case, immediately before the data read from the pixel is supplied to the terminals so and se, the push-down amounts of the terminals se and so become substantially equal and sufficiently small values, and the reference of the terminals se and so after the push-down is performed. However, it does not become higher than the potential of the inspection terminal at the time of LOW writing, and an error does not occur in the determination result of the differential amplifier 4a.

なお、選択信号TE1〜TE4は、検査する列に対応した1つの選択信号のみが検査フローに応じてHIGHに切換り、他の3つの選択信号はLOWを維持する。検査する列に対応した1つの選択信号をHIGHにし検査フローに応じて32a〜32dのゲート信号をHIGH,LOWに切り換える操作は、例えば図13の選択信号TEo',TEe'と同様である。   In the selection signals TE1 to TE4, only one selection signal corresponding to the column to be inspected is switched to HIGH according to the inspection flow, and the other three selection signals are kept LOW. The operation of setting one selection signal corresponding to the column to be inspected HIGH and switching the gate signals 32a to 32d to HIGH and LOW according to the inspection flow is the same as the selection signals TEo ′ and TEe ′ in FIG.

他の作用及び効果は図12の実施の形態と同様である。   Other operations and effects are the same as those of the embodiment of FIG.

(第5の実施の形態)<外部リファレンス型>
上記第1乃至第4の実施の形態においては、プリチャージ処理とイコライズ処理とを異なるタイミングで終了させる例を示した。しかし、プリチャージ処理とイコライズ処理とを異なるタイミングで実施させるためには、プリチャージ制御信号及びイコライズ制御信号を独立して生成する必要がある。本実施の形態はプリチャージ制御信号とイコライズ制御信号とを共通化し、プリチャージ処理とイコライズ処理とを同時に開始及び終了させる例に適用したものである。
(Fifth embodiment) <External reference type>
In the first to fourth embodiments, the example in which the precharge process and the equalize process are ended at different timings has been described. However, in order to perform the precharge process and the equalize process at different timings, it is necessary to generate the precharge control signal and the equalize control signal independently. The present embodiment is applied to an example in which a precharge control signal and an equalize control signal are shared and the precharge process and the equalize process are started and ended simultaneously.

図15は第5の実施の形態に係り、外部リファレンス型に電気光学装置用基板を示す回路図である。図15において図1と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。   FIG. 15 is a circuit diagram illustrating an electro-optical device substrate according to a fifth embodiment, which is an external reference type. In FIG. 15, the same components as those in FIG.

本実施の形態における基板41Bは、プリチャージ制御信号を入力する制御端子8bを省略した点が図1の基板1Bと異なる。制御部20又は21には、制御端子3bからのプリチャージ制御信号PCGが供給される。   The substrate 41B in the present embodiment is different from the substrate 1B in FIG. 1 in that the control terminal 8b for inputting the precharge control signal is omitted. The control unit 20 or 21 is supplied with the precharge control signal PCG from the control terminal 3b.

また、本実施の形態は、プリチャージ及びリファレンス回路部13に代えて、プリチャージ及びリファレンス回路部42を採用した点が図1の第1の実施の形態と異なる。プリチャージ及びリファレンス回路部42は、各差動増幅器4aに対応して夫々2つのゲート回路42co,42ceを有する。ゲート回路42co,ceはNチャネル型のトランジスタとPチャネル型のトランジスタが並列接続されて構成されている。ゲート回路42co,42ceを構成するNチャネルトランジスタのゲートは、制御端子3bからプリチャージ制御信号PCGがイコライズ制御信号EQとして与えられる。また、ゲート回路42co,42ceを構成するPチャネルトランジスタのゲートは、制御部20又は21の出力端子o2からプリチャージ制御信号PCGの反転信号がイコライズ制御信号EQの反転信号として与えられる。   Further, the present embodiment is different from the first embodiment of FIG. 1 in that a precharge and reference circuit unit 42 is employed instead of the precharge and reference circuit unit 13. The precharge and reference circuit section 42 has two gate circuits 42co and 42ce corresponding to each differential amplifier 4a. The gate circuits 42co and ce are configured by connecting an N-channel transistor and a P-channel transistor in parallel. The gates of the N channel transistors constituting the gate circuits 42co and 42ce are supplied with the precharge control signal PCG as the equalize control signal EQ from the control terminal 3b. The gates of the P-channel transistors constituting the gate circuits 42co and 42ce are supplied with an inverted signal of the precharge control signal PCG as an inverted signal of the equalize control signal EQ from the output terminal o2 of the control unit 20 or 21.

なお、イコライズ回路部8の各ゲート回路8aについても、Nチャネルトランジスタのゲートには、制御部20又は21の出力端子o1からプリチャージ制御信号PCGがイコライズ制御信号EQとして与えられる。また、ゲート回路8aを構成するPチャネルトランジスタのゲートには、制御部20又は21の出力端子o2からプリチャージ制御信号PCGの反転信号がイコライズ制御信号EQの反転信号として与えられる。   In each gate circuit 8a of the equalize circuit unit 8, the precharge control signal PCG is supplied as the equalize control signal EQ from the output terminal o1 of the control unit 20 or 21 to the gate of the N channel transistor. Further, the inverted signal of the precharge control signal PCG is supplied as the inverted signal of the equalize control signal EQ from the output terminal o2 of the control unit 20 or 21 to the gate of the P channel transistor constituting the gate circuit 8a.

次に、このように構成された実施の形態の検査方法について図16を参照して説明する。図16は図8に対応したタイミングチャートである。図16のタイミングチャートは、イコライズ制御信号EQを省略し、プリチャージ制御信号PCGとイコライズ制御信号EQとを共通化した点が図8と異なる。即ち、本実施の形態においては、イコライズ処理の開始及び終了のタイミングが第1の実施の形態と異なるのみである。   Next, the inspection method of the embodiment configured as described above will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a timing chart corresponding to FIG. The timing chart of FIG. 16 is different from FIG. 8 in that the equalization control signal EQ is omitted and the precharge control signal PCG and the equalization control signal EQ are shared. That is, in the present embodiment, the timing for starting and ending the equalization process is only different from that in the first embodiment.

本実施の形態においては、プリチャージ処理の終了と同時にイコライズ処理も終了する(図16参照)。この場合には、プリチャージ処理の終了時において、端子so,seに大レベルのプッシュダウンが生じることが考えられる。しかし、本実施の形態においては、リファレンス回路部42のゲート回路42co,42ceをPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成していることから、プッシュダウンの悪影響を回避することができる。   In the present embodiment, the equalization process ends simultaneously with the end of the precharge process (see FIG. 16). In this case, it is conceivable that a large level of pushdown occurs at the terminals so and se at the end of the precharge process. However, in this embodiment, since the gate circuits 42co and 42ce of the reference circuit unit 42 are configured by P-channel transistors and N-channel transistors, it is possible to avoid the adverse effect of pushdown.

図17はプッシュダウンによる電位変動が解消される様子を示す波形図である。なお、図17は図15の制御部として図6に示す制御部20を採用した場合の波形を示している。図17はプリチャージ制御信号PCG,EQ、走査線G1に供給される走査信号、端子soの電位並びに端子seの電位を示している。   FIG. 17 is a waveform diagram showing how potential fluctuations due to pushdown are eliminated. FIG. 17 shows a waveform when the control unit 20 shown in FIG. 6 is adopted as the control unit of FIG. FIG. 17 shows the precharge control signals PCG and EQ, the scanning signal supplied to the scanning line G1, the potential of the terminal so, and the potential of the terminal se.

上述したように、差動増幅器4aの端子soに画素からの信号電位を供給する前に、se配線4f、検査配線であるso配線4g及びソース線Sにプリチャージ電圧を供給すると共に、端子se,soを確実に同電位とする。このプリチャージ及びイコライズ処理のために、ゲート回路42ce,42coのNチャネル型トランジスタのゲートにHIGHのプリチャージ制御信号PCGを印加し、Pチャネル型トランジスタのゲートにLOWのプリチャージ制御信号を印加する。また、ゲート回路8aのNチャネル型トランジスタのゲートにHIGHのプリチャージ制御信号PCG(イコライズ制御信号EQ)を印加し、Pチャネル型トランジスタのゲートにLOWのイコライズ制御信号を印加する(図17参照)。   As described above, before supplying the signal potential from the pixel to the terminal so of the differential amplifier 4a, the precharge voltage is supplied to the se wiring 4f, the so wiring 4g as the inspection wiring, and the source line S, and the terminal se. , So are set to the same potential. For this precharge and equalization processing, a HIGH precharge control signal PCG is applied to the gates of the N-channel transistors of the gate circuits 42ce and 42co, and a LOW precharge control signal is applied to the gates of the P-channel transistors. . Further, a HIGH precharge control signal PCG (equalize control signal EQ) is applied to the gate of the N-channel transistor of the gate circuit 8a, and a LOW equalize control signal is applied to the gate of the P-channel transistor (see FIG. 17). .

差動増幅器4aの端子soに画素からの信号電位を供給する直前に、プリチャージ及びイコライズ処理を停止させるために、制御端子3bに供給するプリチャージ制御信号PCG(イコライズ制御信号EQ)をHIGHからLOWに切換える(図17参照)。このHIGHからLOWへの切換えに伴って、ゲート回路42ce,42co,8aのNチャネル型トランジスタの寄生容量により、端子so,seにプッシュダウンが生じる。なお、この場合には、図17に示すように、端子seのプッシュダウン量が比較的大きい。   Immediately before the signal potential from the pixel is supplied to the terminal so of the differential amplifier 4a, the precharge control signal PCG (equalization control signal EQ) supplied to the control terminal 3b is stopped from HIGH in order to stop the precharge and equalization processing. Switch to LOW (see FIG. 17). With the switching from HIGH to LOW, push-down occurs at the terminals so and se due to the parasitic capacitance of the N-channel transistors of the gate circuits 42ce, 42co, and 8a. In this case, the push-down amount of the terminal se is relatively large as shown in FIG.

しかし、本実施の形態においては、ゲート回路42ce,42co,8aは、Nチャネル型トランジスタとPチャネル型トランジスタとを並列に接続して構成されており、制御部20の端子o2からのHIGHのプリチャージ制御信号PCG(イコライズ制御信号EQ)によって、各Pチャネル型トランジスタによるプッシュアップが生じる。これにより、端子so,seの電位はプッシュダウン前の元の電位に戻る(図17の端子so,seの電位)。   However, in the present embodiment, the gate circuits 42ce, 42co, and 8a are configured by connecting an N-channel transistor and a P-channel transistor in parallel, and the HIGH pre-circuit from the terminal o2 of the control unit 20 is configured. The charge control signal PCG (equalize control signal EQ) causes push-up by each P-channel transistor. As a result, the potentials of the terminals so and se return to the original potential before the push-down (the potentials of the terminals so and se in FIG. 17).

また、図18は図15の制御部として図7に示す制御部21を採用した場合の波形を示している。   FIG. 18 shows a waveform when the control unit 21 shown in FIG. 7 is adopted as the control unit of FIG.

この場合には、上述したように、ゲート回路42co,42ce,8aの各Pチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタとには、同一タイミングでプリチャージ制御信号PCG(イコライズ制御信号EQ)の正相出力及び反転出力が夫々供給される。従って、Nチャネル型トランジスタによるプッシュダウンと、Pチャネル型トランジスタによるプッシュアップとが同時に発生し、プリチャージ処理及びイコライズ処理の終了時においても、リファレンスは変動することはない(図18の端子soの太線)。   In this case, as described above, the P channel type transistors and the N channel type transistors of the gate circuits 42co, 42ce, 8a output the positive charge control signal PCG (equalize control signal EQ) at the same timing. And an inverted output are supplied respectively. Therefore, the push-down by the N-channel transistor and the push-up by the P-channel transistor occur at the same time, and the reference does not fluctuate even at the end of the precharge process and the equalize process (the terminal so in FIG. 18). Thick line).

こうして、本実施の形態においても、プリチャージ処理終了時における端子se,soの電位変動を抑制しており、差動増幅器4aに誤動作が生じることはなく、高精度の画素検査が可能である。   Thus, also in the present embodiment, potential fluctuations at the terminals se and so at the end of the precharge process are suppressed, and no malfunction occurs in the differential amplifier 4a, so that highly accurate pixel inspection is possible.

(第6の実施の形態)<外部リファレンス、シェアード型>
図19は第6の実施の形態に係り、外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板を示す回路図である。本実施の形態においても、プリチャージ制御信号とイコライズ制御信号とを共通化した例を示している。図19において図11及び図15と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
(Sixth embodiment) <External reference, shared type>
FIG. 19 is a circuit diagram showing a shared type electro-optical device substrate belonging to the external reference type according to the sixth embodiment. Also in this embodiment, an example in which the precharge control signal and the equalize control signal are shared is shown. 19, the same components as those in FIGS. 11 and 15 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

本実施の形態における基板43Bは、プリチャージ制御信号を入力する制御端子8bを省略した点が図11の基板11Bと異なる。制御部20又は21には、制御端子3bからのプリチャージ制御信号PCGが供給される。   The substrate 43B in the present embodiment is different from the substrate 11B in FIG. 11 in that the control terminal 8b for inputting the precharge control signal is omitted. The control unit 20 or 21 is supplied with the precharge control signal PCG from the control terminal 3b.

また、本実施の形態は、プリチャージ及びリファレンス回路部13に代えて、プリチャージ及びリファレンス回路部42を採用した点が図11の第2の実施の形態と異なる。   Further, the present embodiment is different from the second embodiment of FIG. 11 in that a precharge and reference circuit section 42 is employed instead of the precharge and reference circuit section 13.

このように構成された実施の形態においては、プリチャージ処理とイコライズ処理とが略当時に実施される点が図11の第2の実施の形態と異なる。   The embodiment configured as described above is different from the second embodiment shown in FIG. 11 in that the precharge process and the equalize process are performed almost at the time.

この場合においても、実施の形態においては、リファレンス回路部42のゲート回路42co,42ceをPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成していることから、プッシュダウンの悪影響を回避することができる。   Even in this case, in the embodiment, since the gate circuits 42co and 42ce of the reference circuit unit 42 are configured by the P-channel transistor and the N-channel transistor, it is possible to avoid the adverse effect of pushdown.

他の作用及び効果は第2の実施の形態と同様である。   Other operations and effects are the same as those of the second embodiment.

(第7の実施の形態)<検査列切換外部リファレンス型>
図20は第7の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図である。本実施の形態においても、プリチャージ制御信号とイコライズ制御信号とを共通化した例を示している。図20において図12及び図15と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
(Seventh embodiment) <Examination column switching external reference type>
FIG. 20 is a circuit diagram showing a test row switching external reference type electro-optical device substrate according to the seventh embodiment. Also in this embodiment, an example in which the precharge control signal and the equalize control signal are shared is shown. 20, the same components as those in FIGS. 12 and 15 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

本実施の形態における基板41Cは、プリチャージ制御信号を入力する制御端子8bを省略した点が図20の基板1Cと異なる。制御部20又は21には、制御端子3bからのプリチャージ制御信号PCGが供給される。   Substrate 41C in the present embodiment is different from substrate 1C in FIG. 20 in that control terminal 8b for inputting a precharge control signal is omitted. The control unit 20 or 21 is supplied with the precharge control signal PCG from the control terminal 3b.

また、本実施の形態は、プリチャージ及びリファレンス回路部13に代えて、プリチャージ及びリファレンス回路部42を採用した点が図12の第3の実施の形態と異なる。   Further, the present embodiment is different from the third embodiment in FIG. 12 in that a precharge and reference circuit section 42 is employed instead of the precharge and reference circuit section 13.

このように構成された実施の形態においては、プリチャージ処理とイコライズ処理とが略当時に実施される点が図12の第3の実施の形態と異なる。図21は本実施の形態の検査方法を示している。図21は図13に対応したタイミングチャートであり、イコライズ制御信号EQを省略し、プリチャージ制御信号PCGとイコライズ制御信号EQとを共通化した点が図13と異なる。   The embodiment configured as described above is different from the third embodiment shown in FIG. 12 in that the precharge process and the equalize process are performed at that time. FIG. 21 shows the inspection method of the present embodiment. FIG. 21 is a timing chart corresponding to FIG. 13 and is different from FIG. 13 in that the equalize control signal EQ is omitted and the precharge control signal PCG and the equalize control signal EQ are shared.

この場合においても、実施の形態においては、リファレンス回路部42のゲート回路42co,42ceをPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成していることから、プッシュダウンの悪影響を回避することができる。   Even in this case, in the embodiment, since the gate circuits 42co and 42ce of the reference circuit unit 42 are configured by the P-channel transistor and the N-channel transistor, it is possible to avoid the adverse effect of pushdown.

他の作用及び効果は第3の実施の形態と同様である。   Other operations and effects are the same as those of the third embodiment.

(第8の実施の形態)<検査列切換外部リファレンス、シェアード型>
図22は第8の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板を示す回路図である。本実施の形態においても、プリチャージ制御信号とイコライズ制御信号とを共通化した例を示している。図22において図14及び図15と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
(Eighth embodiment) <Examination column switching external reference, shared type>
FIG. 22 is a circuit diagram showing a shared type electro-optical device substrate belonging to the inspection column switching external reference type according to the eighth embodiment. Also in this embodiment, an example in which the precharge control signal and the equalize control signal are shared is shown. In FIG. 22, the same components as those in FIGS. 14 and 15 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

本実施の形態における基板43Cは、プリチャージ制御信号を入力する制御端子8bを省略した点が図14の基板11Cと異なる。制御部20又は21には、制御端子3bからのプリチャージ制御信号PCGが供給される。   The substrate 43C in the present embodiment is different from the substrate 11C in FIG. 14 in that the control terminal 8b for inputting the precharge control signal is omitted. The control unit 20 or 21 is supplied with the precharge control signal PCG from the control terminal 3b.

また、本実施の形態は、プリチャージ及びリファレンス回路部13に代えて、プリチャージ及びリファレンス回路部42を採用した点が図14の第4の実施の形態と異なる。   Further, the present embodiment is different from the fourth embodiment in FIG. 14 in that a precharge and reference circuit section 42 is employed instead of the precharge and reference circuit section 13.

このように構成された実施の形態においては、プリチャージ処理とイコライズ処理とが略当時に実施される点が図14の第4の実施の形態と異なる。   The embodiment configured as described above is different from the fourth embodiment shown in FIG. 14 in that the precharge process and the equalize process are performed almost at that time.

この場合においても、実施の形態においては、リファレンス回路部42のゲート回路42co,42ceをPチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタによって構成していることから、プッシュダウンの悪影響を回避することができる。   Even in this case, in the embodiment, since the gate circuits 42co and 42ce of the reference circuit unit 42 are configured by the P-channel transistor and the N-channel transistor, it is possible to avoid the adverse effect of pushdown.

他の作用及び効果は第4の実施の形態と同様である。   Other operations and effects are the same as those of the fourth embodiment.

以上のように、上記3つの実施の形態では、本発明の電気光学装置用基板について、アクティブマトリックス型表示装置用基板を例にとって説明したが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。   As described above, in the above three embodiments, the electro-optical device substrate of the present invention has been described by taking the active matrix display device substrate as an example, but the present invention is limited to the above-described embodiments. However, various changes and modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、表示部に光学センサーを設けることで、入力機能を備えた表示装置用基板にも適用することが可能である。また、上記各実施の形態においては、差動増幅器の2つの端子に同数のソース線を接続する例を説明したが、相互に異なる数のソース線を接続するようにしてもよい。   For example, by providing an optical sensor in the display portion, it can be applied to a display device substrate having an input function. In each of the above embodiments, the example in which the same number of source lines are connected to the two terminals of the differential amplifier has been described. However, a different number of source lines may be connected to each other.

また、本発明の電気光学装置用基板を用いた電気光学装置も本発明に含まれる。   An electro-optical device using the substrate for an electro-optical device of the present invention is also included in the present invention.

例えば、一対の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置であって、一対の基板の一方に本発明の電気光学装置用基板を用いたものである。   For example, an electro-optical device in which an electro-optical material is sandwiched between a pair of substrates, and the substrate for an electro-optical device of the present invention is used for one of the pair of substrates.

なお、本発明はシリコン基板上を用いた液晶デバイスLCOSにも上述の実施形態と全く同じ手段で適用可能である。   The present invention can also be applied to the liquid crystal device LCOS using a silicon substrate by the same means as in the above embodiment.

また、本発明は画素内にSRAMなどのメモリー素子を形成した各種電気光学装置において画素内のメモリーの検査用回路としても適用可能であり、上述したような効果を奏することができる。この場合適用可能な電気光学装置としては、液晶装置以外に有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、電界放出型ディスプレイ(FED、SED)、デジタルマイクロミラーデバイスなどを含む。 The present invention can also be applied as a test circuit for a memory in a pixel in various electro-optical devices in which a memory element such as an SRAM is formed in the pixel, and the effects as described above can be achieved. In this case, applicable electro-optical devices include an organic EL display, a plasma display, a field emission display (FED, SED), a digital micromirror device, and the like in addition to the liquid crystal device.

また、上述の電気光学装置を用いた電子機器も本発明に含まれる。図23及び図24は、電子機器の例を示す図である。図23は、1つの例に係るパーソナルコンピュータの外観図である。図24は、1つの例に係る携帯電話の外観図である。図23に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピュータ100の表示部101に、上述した電気光学装置、例えば液晶表示装置が用いられる。図24に示すように、電子機器として携帯電話200の表示部201に、上述した電気光学装置、例えば液晶表示装置が用いられる。   Further, an electronic apparatus using the above electro-optical device is also included in the present invention. 23 and 24 are diagrams illustrating examples of electronic devices. FIG. 23 is an external view of a personal computer according to one example. FIG. 24 is an external view of a mobile phone according to one example. As shown in FIG. 23, the above-described electro-optical device, for example, a liquid crystal display device is used for the display unit 101 of a personal computer 100 as an electronic apparatus. As shown in FIG. 24, the above-described electro-optical device, for example, a liquid crystal display device, is used for the display unit 201 of the mobile phone 200 as an electronic device.

他にも、電子機器としては、例えば、光源と該光源から出射された光を変調するライトバルブと、該ライトバルブにより変調された光を投射するための光学系を備えた、投射型表示装置である。さらに、電子機器としては、他にも、テレビジョンや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種の電子機器に対して、本発明に係る表示パネルが適用可能なのは言うまでもない。   In addition, as an electronic device, for example, a projection display device including a light source, a light valve that modulates light emitted from the light source, and an optical system for projecting light modulated by the light valve It is. Furthermore, other electronic devices include televisions, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, digital Examples include a still camera and a device equipped with a touch panel. Needless to say, the display panel according to the present invention is applicable to these various electronic devices.

本発明は、以上説明したTFTを含む液晶表示装置に限られことはなく、アクティブマトリックス駆動の表示装置に適用できるものである。   The present invention is not limited to the liquid crystal display device including the TFT described above, and can be applied to an active matrix drive display device.

本発明の第1の実施の形態に係り、外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図。1 is a circuit diagram illustrating an external reference type electro-optical device substrate according to a first embodiment of the present invention; FIG. 図1中の画素2aの等価回路図。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of a pixel 2a in FIG. 図1中の表示データ読み出し回路部4の差動増幅器4aの具体的な構成を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a differential amplifier 4a of a display data reading circuit unit 4 in FIG. 検査システムの構成図。The block diagram of an inspection system. 検査の全体の流れの例を示すフローチャート。The flowchart which shows the example of the whole flow of a test | inspection. 図1に採用可能な制御部20の具体的な構成を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a specific configuration of a control unit 20 that can be employed in FIG. 1. 図1に採用可能な制御部21の具体的な構成を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a control unit 21 that can be employed in FIG. 1. 図5のステップST2の読み出し動作を説明するためのタイミングチャート。6 is a timing chart for explaining a read operation in step ST2 of FIG. プッシュダウンによる電位変動が解消される様子を示す波形図。The wave form diagram which shows a mode that the electric potential fluctuation | variation by pushdown is eliminated. プッシュダウンによる電位変動が解消される様子を示す波形図。The wave form diagram which shows a mode that the electric potential fluctuation | variation by pushdown is eliminated. 本発明の第2の実施の形態に係り、外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板を示す回路図。FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a shared type electro-optical device substrate belonging to an external reference type according to a second embodiment of the present invention. 本発明の第3の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図。The circuit diagram which shows the board | substrate for electro-optical apparatuses of a test | inspection row switching external reference type | mold concerning the 3rd Embodiment of this invention. 第3の実施の形態の検査方法を説明するためのタイミングチャート。The timing chart for demonstrating the inspection method of 3rd Embodiment. 本発明の第4の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板型を示す回路図。The circuit diagram which shows the substrate type | mold for shared type electro-optical apparatuses which concerns on the 4th Embodiment of this invention and belongs to a test | inspection row switching external reference type | mold. 本発明の第5の実施の形態に係り、外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図。FIG. 9 is a circuit diagram illustrating an external reference type electro-optical device substrate according to a fifth embodiment of the present invention. 第5の実施の形態の読み出し動作を説明するためのタイミングチャート。10 is a timing chart for explaining a read operation according to the fifth embodiment. プッシュダウンによる電位変動が解消される様子を示す波形図。The wave form diagram which shows a mode that the electric potential fluctuation | variation by pushdown is eliminated. プッシュダウンによる電位変動が解消される様子を示す波形図。The wave form diagram which shows a mode that the electric potential fluctuation | variation by pushdown is eliminated. 本発明の第6の実施の形態に係り、外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板を示す回路図。The circuit diagram which shows the board | substrate for shared type electro-optical apparatuses which concerns on the 6th Embodiment of this invention and belongs to an external reference type | mold. 本発明の第7の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型の電気光学装置用基板を示す回路図。The circuit diagram which shows the board | substrate for electro-optical apparatuses of a test | inspection row switching external reference type | mold concerning the 7th Embodiment of this invention. 第7の実施の形態の検査方法を説明するためのタイミングチャート。The timing chart for demonstrating the inspection method of 7th Embodiment. 本発明の第8の実施の形態に係り、検査列切換外部リファレンス型に属するシェアード型の電気光学装置用基板型を示す回路図。The circuit diagram which shows the board | substrate type | mold for a shared type electro-optical apparatus which concerns on the 8th Embodiment of this invention and belongs to a test | inspection row switching external reference type. 電子機器の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the example of an electronic device. 電子機器の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

1B 素子基板、2 表示素子アレイ部、4 表示データ読み出し回路部、4a 差動増幅器、9’…トランスファゲート部、13…プリチャージ及びリファレンス回路部、20,21…制御部。     DESCRIPTION OF SYMBOLS 1B Element board | substrate, 2 Display element array part, 4 Display data read-out circuit part, 4a Differential amplifier, 9 '... Transfer gate part, 13 ... Precharge and reference circuit part, 20, 21 ... Control part.

Claims (11)

互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、
前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、
前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を供給した後、前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給し、他方に前記画素に書込まれた電位信号を読み出して供給する供給手段と、
前記供給手段によるプリチャージ電圧の少なくとも供給終了時において、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続されたPチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板。
A plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other;
A plurality of pixels arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines;
The first and second terminals are provided, and the potential signal supplied to the first terminal is compared with the potential signal supplied to the second terminal, and then supplied to the first terminal. When the potential signal is low, the potential of the first terminal is lowered, and when the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is raised and output. An amplifier;
After supplying a precharge voltage to the first and second terminals, a reference voltage is supplied to one of the first and second terminals, and a potential signal written to the pixel is read and supplied to the other. Supply means;
A P channel connected to the first and second terminals, wherein the first and second terminals have the same potential at least when the supply of the precharge voltage by the supply means is completed. An electro-optical device substrate, comprising: an equalizing unit including a n-channel transistor and an n-channel transistor.
前記イコライズ手段は、Pチャネル型トランジスタとNチャネル型トランジスタとが並列接続されて構成されることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板。   2. The electro-optical device substrate according to claim 1, wherein the equalizing means includes a P-channel transistor and an N-channel transistor connected in parallel. 互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、
前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される第1の電位信号と前記第2の端子に供給される第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、
前記第1及び第2の端子にプリチャージ電源線を介してプリチャージ電圧を供給する供給手段と、
前記第1の端子に前記第1の電位信号として、前記プリチャージ電圧を維持して供給する手段と、
前記第2の端子に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素に書込まれた電位信号を読み出して前記ソース線及び検査配線を介して前記第2の電位信号として前記第2の端子に供給する接続手段と、
前記供給手段によるプリチャージ電圧の少なくとも供給終了時において、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続されたPチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板。
A plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other;
A plurality of pixels arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines;
A first potential signal supplied to the first terminal and a second potential signal supplied to the second terminal; An amplifier that lowers the potential of the first terminal when the potential signal of 1 is low, and outputs a higher potential of the first terminal when the first potential signal is high;
Supply means for supplying a precharge voltage to the first and second terminals via a precharge power supply line;
Means for maintaining and supplying the precharge voltage to the first terminal as the first potential signal;
By connecting the inspection line connected to the second terminal and the source line, the potential signal written to the pixel is read out and used as the second potential signal through the source line and the inspection line. Connecting means for supplying to the second terminal;
A P channel connected to the first and second terminals, wherein the first and second terminals have the same potential at least when the supply of the precharge voltage by the supply means is completed. An electro-optical device substrate, comprising: an equalizing unit including a n-channel transistor and an n-channel transistor.
前記接続手段は、前記複数のソース線のうちの1本のソース線を選択して前記検査配線に接続することを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置用基板。   The electro-optical device substrate according to claim 3, wherein the connection unit selects one source line from the plurality of source lines and connects the selected source line to the inspection wiring. 互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、
前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、
前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を印加した後、前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給する供給手段と、
前記第1及び第2の端子の他方に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素に書込まれた電位信号を読み出して前記第1及び第2の端子の他方に供給する接続手段と、
前記供給手段によるプリチャージ電圧の少なくとも供給終了時において、前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続されたPチャネル型トランジスタ及びNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板。
A plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other;
A plurality of pixels arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines;
The first and second terminals are provided, and the potential signal supplied to the first terminal is compared with the potential signal supplied to the second terminal, and then supplied to the first terminal. When the potential signal is low, the potential of the first terminal is lowered, and when the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is raised and output. An amplifier;
Supply means for supplying a reference voltage to one of the first and second terminals after applying a precharge voltage to the first and second terminals;
By connecting the inspection wiring connected to the other of the first and second terminals and the source line, the potential signal written to the pixel is read and the other of the first and second terminals is read. Connecting means to supply;
A P channel connected to the first and second terminals, wherein the first and second terminals have the same potential at least when the supply of the precharge voltage by the supply means is completed. An electro-optical device substrate, comprising: an equalizing unit including a n-channel transistor and an n-channel transistor.
前記接続手段は、前記複数のソース線のうちの1本のソース線を選択して前記検査配線に接続することを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置用基板。   The electro-optical device substrate according to claim 5, wherein the connection unit selects one source line from the plurality of source lines and connects the selected source line to the inspection wiring. 互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、
前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、
前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を印加した後、前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給し、他方に前記画素に書込まれた電位信号を読み出して供給するものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第1のPチャネル型トランジスタ及び第1のNチャネル型トランジスタによって構成されるプリチャージ電圧供給手段と、
前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第2のPチャネル型トランジスタ及び第2のNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板。
A plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other;
A plurality of pixels arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines;
The first and second terminals are provided, and the potential signal supplied to the first terminal is compared with the potential signal supplied to the second terminal, and then supplied to the first terminal. When the potential signal is low, the potential of the first terminal is lowered, and when the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is raised and output. An amplifier;
After applying a precharge voltage to the first and second terminals, a reference voltage is supplied to one of the first and second terminals, and a potential signal written to the pixel is read and supplied to the other. Precharge voltage supply means comprising a first P-channel transistor and a first N-channel transistor connected to the first and second terminals,
The potentials of the first and second terminals are the same, and the second P-channel transistor and the second N-channel transistor are connected to the first and second terminals. An electro-optical device substrate comprising equalizing means.
互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、
前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される第1の電位信号と前記第2の端子に供給される第2の電位信号との電位を比較して、前記第1の電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、
前記第1及び第2の端子にプリチャージ電源線を介してプリチャージ電圧を供給するものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第1のPチャネル型トランジスタ及び第1のNチャネル型トランジスタによって構成されるプリチャージ電圧供給手段と、
前記第1の端子に前記第1の電位信号として、前記プリチャージ電圧を維持して供給する手段と、
前記第2の端子に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素に書込まれた電位信号を読み出して前記ソース線及び検査配線を介して前記第2の電位信号として前記第2の端子に供給する接続手段と、
前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第2のPチャネル型トランジスタ及び第2のNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板。
A plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other;
A plurality of pixels arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines;
A first potential signal supplied to the first terminal and a second potential signal supplied to the second terminal; An amplifier that lowers the potential of the first terminal when the potential signal of 1 is low, and outputs a higher potential of the first terminal when the first potential signal is high;
A precharge voltage is supplied to the first and second terminals via a precharge power supply line, and a first P-channel transistor connected to the first and second terminals and a first Precharge voltage supply means comprising N-channel transistors;
Means for maintaining and supplying the precharge voltage as the first potential signal to the first terminal;
By connecting the inspection line connected to the second terminal and the source line, the potential signal written to the pixel is read out and used as the second potential signal through the source line and the inspection line. Connecting means for supplying to the second terminal;
The potentials of the first and second terminals are the same, and the second P-channel transistor and the second N-channel transistor are connected to the first and second terminals. An electro-optical device substrate comprising equalizing means.
互いに交差する複数の走査線及び複数のソース線と、
前記複数の走査線及び前記複数のソース線の交差に対応してマトリックス状に配置された複数の画素と、
第1及び第2の端子を有し、前記第1の端子に供給される電位信号と前記第2の端子に供給される電位信号との電位を比較して、前記第1の端子に供給される電位信号が低い場合には前記第1の端子の電位をより低くし、前記第1の端子に供給される電位信号が高い場合には前記第1の端子の電位をより高くして出力する増幅器と、
前記第1及び第2の端子にプリチャージ電圧を印加した後、前記第1及び第2の端子の一方にリファレンス電圧を供給するものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第1のPチャネル型トランジスタ及び第1のNチャネル型トランジスタによって構成されるプリチャージ電圧供給手段と、
前記第1及び第2の端子の他方に接続された検査配線と前記ソース線とを接続することにより、前記画素に書込まれた電位信号を読み出して前記第1及び第2の端子の他方に供給する接続手段と、
前記第1及び第2の端子の電位を相互に同電位とするものであって、前記第1及び第2の端子に接続された第2のPチャネル型トランジスタ及び第2のNチャネル型トランジスタによって構成されるイコライズ手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板。
A plurality of scanning lines and a plurality of source lines intersecting each other;
A plurality of pixels arranged in a matrix corresponding to the intersection of the plurality of scanning lines and the plurality of source lines;
The first and second terminals are provided, and the potential signal supplied to the first terminal is compared with the potential signal supplied to the second terminal, and then supplied to the first terminal. When the potential signal is low, the potential of the first terminal is lowered, and when the potential signal supplied to the first terminal is high, the potential of the first terminal is raised and output. An amplifier;
After applying a precharge voltage to the first and second terminals, a reference voltage is supplied to one of the first and second terminals, and is connected to the first and second terminals Precharge voltage supply means comprising a first P-channel transistor and a first N-channel transistor;
By connecting the inspection wiring connected to the other of the first and second terminals and the source line, the potential signal written to the pixel is read and the other of the first and second terminals is read. Connecting means to supply;
The potentials of the first and second terminals are the same, and the second P-channel transistor and the second N-channel transistor are connected to the first and second terminals. An electro-optical device substrate comprising equalizing means.
一対の基板が貼り合わされてなる電気光学装置において、前記一対の基板の一方に請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板を用いたことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device in which a pair of substrates are bonded to each other, and the electro-optical device substrate according to claim 1 is used as one of the pair of substrates. apparatus. 請求項10に記載の電気光学装置を用いたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus using the electro-optical device according to claim 10.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8139051B2 (en) 2007-01-26 2012-03-20 Sony Corporation Driver and driving method, and display device

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