JP2006233129A - Resin sheet, liquid crystal cell substrate, substrate for electroluminescent display, substrate for solar battery and liquid crystal display device, electro luminescent display device and sollar battery - Google Patents

Resin sheet, liquid crystal cell substrate, substrate for electroluminescent display, substrate for solar battery and liquid crystal display device, electro luminescent display device and sollar battery Download PDF

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忠昭 原田
Yuzo Akata
祐三 赤田
Kiichi Shimodaira
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin sheet being less prone to breaking and having excellent rigidity, by solving the problem wherein a conventional resin sheet of an epoxy-based resin and the like has good transparency and a strength sufficient for ordinary use, but is susceptible to breaking at the time of transporting and at the time when substrates made of the conventional resin are mounted in various display devices. <P>SOLUTION: The resin sheet has a base material layer comprising an epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particles with an average particle diameter of 0.1-2 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、樹脂シート、これを用いた液晶セル基板、エレクトロルミネッセンス(EL)表示用基板又は太陽電池用基板、並びにこれらを用いた液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置又は太陽電池に関する。   The present invention relates to a resin sheet, a liquid crystal cell substrate using the same, an electroluminescence (EL) display substrate or a solar cell substrate, and a liquid crystal display device, an electroluminescence display device or a solar cell using the same.

従来より、液晶表示装置においては、液晶を担持して液晶セルを形成するための液晶セル基板として、透明性、強度及び耐熱性等の点からガラス系基板が使用されている。
しかし、近年においては、液晶表示装置の大型化に伴い、前記液晶セル基板の軽量化、薄型化等が求められており、前記ガラス系基板に代わるものとして、エポキシ系樹脂からなる樹脂シートを用いた基板が提案され、実用化されている(例えば、特許文献1、特許文献2)。
また、EL表示装置等においても、同様の問題から、上記のような樹脂シートを用いた基板の適用が提案されている。
Conventionally, in a liquid crystal display device, a glass-based substrate has been used as a liquid crystal cell substrate for supporting a liquid crystal to form a liquid crystal cell in terms of transparency, strength, heat resistance, and the like.
However, in recent years, with the increase in size of liquid crystal display devices, it has been required to reduce the weight and thickness of the liquid crystal cell substrate. As an alternative to the glass substrate, a resin sheet made of an epoxy resin is used. Substrates have been proposed and put to practical use (for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).
In addition, in EL display devices and the like, application of a substrate using the resin sheet as described above has been proposed due to the same problem.

しかし、エポキシ系樹脂等からなる樹脂シートは、透明性及び使用に耐え得る程度の強度を備えているが、例えば、該樹脂シートの運搬時及び該樹脂シートを用いた基板を各種表示装置に組み入れる時等において、割れやすいという問題があり、強靱性に優れ、割れ難い樹脂シートの開発が要望されている。   However, a resin sheet made of an epoxy resin or the like has transparency and strength enough to withstand use. For example, the resin sheet is transported and a substrate using the resin sheet is incorporated into various display devices. At times, there is a problem of being easily broken, and there is a demand for the development of a resin sheet that has excellent toughness and is difficult to break.

特許第3197716号Japanese Patent No. 3197716 特開平11−333866号公報JP-A-11-333866

本発明は、上記問題及び要望に鑑み、強靱性に優れ、割れ難い樹脂シートを提供することを課題とする。   In view of the above problems and demands, an object of the present invention is to provide a resin sheet that is excellent in toughness and hardly breaks.

本発明の発明者らは、上記要望を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、エポキシ樹脂材料と所定の性状を有するアクリル−スチレン共重合体粒子とを含んでなる基材層を有する樹脂シートにより、上記課題を解決できることを見いだし本発明を完成するに至った。   The inventors of the present invention, as a result of intensive studies to solve the above-mentioned demand, have obtained a resin sheet having a base material layer comprising an epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particles having a predetermined property. The present inventors have found that the above problems can be solved and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、エポキシ樹脂材料と、平均粒子径が0.1〜2μmのアクリル−スチレン共重合体粒子とを含んでなる基材層を有することを特徴とする樹脂シートを提供する。   That is, this invention provides the resin sheet characterized by having a base material layer containing an epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 0.1 to 2 μm.

エポキシ樹脂材料と平均粒子径が0.1〜2μmのアクリル−スチレン共重合体粒子とを含んでなる基材層は、該基材層中で前記アクリル−スチレン共重合体粒子が含まれることで、強靱性に優れ、割れ難いものとなる。   The base material layer comprising the epoxy resin material and the acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 0.1 to 2 μm includes the acrylic-styrene copolymer particles in the base material layer. It has excellent toughness and is difficult to break.

本発明の樹脂シートは、強靱性に優れる基材層を有しているため、強靱性に優れ、割れ難いものとなる。従って、例えば、運搬時及び各種表示装置を組み立てる際の該樹脂シートの割れを防止することができる。   Since the resin sheet of the present invention has a base material layer having excellent toughness, the resin sheet has excellent toughness and is difficult to break. Therefore, for example, the resin sheet can be prevented from cracking during transportation and when assembling various display devices.

以下、本発明の樹脂シートについて説明する。
本発明の樹脂シートは、エポキシ樹脂材料と平均粒子径が0.1〜2μmのアクリル−スチレン共重合体粒子とを含んでなる基材層を有している。
Hereinafter, the resin sheet of the present invention will be described.
The resin sheet of the present invention has a base material layer comprising an epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 0.1 to 2 μm.

本発明で用いるエポキシ樹脂材料としては、特に制限されず、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型およびこれらの水添加物等のビスフェノール型、フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型等のノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型およびヒダントイン型等の含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型等の芳香族型、グリシジルエーテル型、ビフェニル型等の低吸水率タイプ、ジシクロペンタジエン型、エステル型、エーテルエステル型、または、これらの変成型等が使用できる。
これらの中でも透明性の観点より、脂環式エポキシ樹脂材料を用いるのが好ましい。
The epoxy resin material used in the present invention is not particularly limited. For example, bisphenol A type, bisphenol F type and bisphenol types such as water additives thereof, novolak types such as phenol novolak type and cresol novolak type, triglycidyl isocyanate Nitrogen-containing ring type such as nurate type and hydantoin type, alicyclic type and aliphatic type, aromatic type such as naphthalene type, low water absorption type such as glycidyl ether type and biphenyl type, dicyclopentadiene type, ester type, An ether ester type or a modified version thereof can be used.
Among these, it is preferable to use an alicyclic epoxy resin material from the viewpoint of transparency.

前記脂環式エポキシ樹脂材料としては、特に制限されないが、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2,2−ビス(ヒドロキシルメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物等が挙げられ、これらの中でも、塗工液の流動性や硬化後の耐熱性の点に優れることから、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。   The alicyclic epoxy resin material is not particularly limited. For example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2-bis (hydroxylmethyl) -1-butanol, 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adducts and the like. Among these, since it is excellent in the fluidity of the coating liquid and the heat resistance after curing, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate is preferred.

前記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、下記式(1)で示されるものが好ましい。   As said dicyclopentadiene type epoxy resin, what is shown by following formula (1) is preferable.

Figure 2006233129
前記式(1)において、R1,R2及びR3は、水素又は直鎖若しくは分岐鎖を有するアルキル基であって、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは重合度を示す。
前記アルキル基の炭素数は、1〜9の範囲が好ましい。R1,R2及びR3は、水素が好ましい。また、重合度nは、特に制限されないが、例えば、0〜10の範囲であり、好ましくは0〜6の範囲であり、特に好ましくは、0〜4の範囲である。尚、R1,R2及びR3やnが異なるジシクロペンジエン型エポキシ樹脂の混合物であってもよい。
Figure 2006233129
In the formula (1), R1, R2 and R3 are hydrogen or a linear or branched alkyl group, which may be the same or different, and n represents the degree of polymerization.
The alkyl group preferably has 1 to 9 carbon atoms. R1, R2 and R3 are preferably hydrogen. The degree of polymerization n is not particularly limited, but is, for example, in the range of 0 to 10, preferably in the range of 0 to 6, and particularly preferably in the range of 0 to 4. In addition, the mixture of the dicyclopendiene type | mold epoxy resin from which R1, R2, and R3 and n differ may be sufficient.

前記エポキシ樹脂材料には、例えば、必要に応じて各種添加物が配合されていてもよい。
該添加物としては、例えば、硬化剤、硬化促進剤、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等の従来公知の添加物が挙げられる。
これらの添加剤は、例えば、いずれか一種が用いられてもよいし、二種類以上が用いられていてもよい。
For example, various additives may be blended in the epoxy resin material as necessary.
Examples of the additive include conventionally known additives such as a curing agent, a curing accelerator, an anti-aging agent, a modifier, a surfactant, a dye, a pigment, a discoloration inhibitor, and an ultraviolet absorber.
Any one of these additives may be used, or two or more of them may be used.

前記硬化剤としては、特に制限されないが、前記エポキシ樹脂材料に応じた適宜な硬化剤が用いられていてもよい。該硬化剤としては、例えば、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸等の有機酸系化合物類、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等のアミン系化合物類等が挙げられる。これらの硬化剤は、例えば、いずれか一種類が用いられてもよいし、二種類以上が用いられていてもよい。   Although it does not restrict | limit especially as said hardening | curing agent, The suitable hardening | curing agent according to the said epoxy resin material may be used. Examples of the curing agent include organic acid compounds such as tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid, ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, metaphenylenediamine, Examples include amine compounds such as diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone. Any one kind of these curing agents may be used, or two or more kinds thereof may be used.

また、前述のような硬化剤の他に、例えば、ジシアンジアミド、ポリアミド等のアミド系化合物類、ジヒドラジド等のヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物類、メチルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソプロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、ヘプタデシルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン系化合物類、フェノール系化合物類、ユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類等が挙げられる。   In addition to the curing agent as described above, for example, amide compounds such as dicyandiamide and polyamide, hydrazide compounds such as dihydrazide, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, ethylimidazole, isopropylimidazole, Imidazole compounds such as 2,4-dimethylimidazole, phenylimidazole, undecylimidazole, heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, methylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, ethylimidazoline, isopropylimidazoline Imidazoline compounds such as 2,4-dimethylimidazoline, phenylimidazoline, undecylimidazoline, heptadecylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline, Examples thereof include nool compounds, urea compounds, polysulfide compounds, and the like.

更に、酸無水物系化合物等も前記硬化剤として用いることができる。酸無水物系化合物は、基材層の変色を防止することができるため好ましい。該酸無水物系化合物として、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、クロレンディック酸無水物、メチルナジック酸無水物等が挙げられる。
これらの酸無水物系化合物の中でも、特に、無水フタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物等の無色系または淡黄色系で、分子量が140〜200程度のものが好ましく用いられる。
Furthermore, acid anhydride compounds and the like can also be used as the curing agent. An acid anhydride compound is preferable because it can prevent discoloration of the base material layer. Examples of the acid anhydride compounds include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, nadic acid anhydride, glutaric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexa Hydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, dichloro succinic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, chlorendic anhydride, methyl nadic anhydride Etc.
Among these acid anhydride compounds, in particular, colorless or light yellow type such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl nadic acid anhydride, etc. And those having a molecular weight of about 140 to 200 are preferably used.

前記エポキシ樹脂材料と硬化剤との配合割合は、特に制限されないが、例えば、硬化剤として酸無水物系化合物を用いる場合、エポキシ樹脂材料のエポキシ基1当量に対して酸無水物系化合物0.5〜1.5当量が好ましく、さらに好ましくは0.7〜1.2当量である。
該酸無水物系化合物の配合量が、0.5当量未満であれば、硬化後の色相が悪くなり、1.5当量を超えると十分な耐湿性が保持できなくなる。
なお、他の硬化剤が使用される場合や、一種類または二種類以上の硬化剤が併用される場合も、前述のような当量比に準じて配合できる。
The mixing ratio of the epoxy resin material and the curing agent is not particularly limited. For example, when an acid anhydride compound is used as the curing agent, the acid anhydride compound 0. 5-1.5 equivalent is preferable, More preferably, it is 0.7-1.2 equivalent.
If the blending amount of the acid anhydride compound is less than 0.5 equivalent, the hue after curing is deteriorated, and if it exceeds 1.5 equivalent, sufficient moisture resistance cannot be maintained.
In addition, also when another hardening | curing agent is used or when one type or two or more types of hardening agents are used together, it can mix | blend according to the above equivalent ratios.

前記硬化促進剤としては、特に制限されないが、例えば、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類、尿素系化合物類等が挙げられる。
これらの中でも、特にリン化合物類が好ましい。これらの硬化促進剤は、例えば、一種類でもよいし、二種類以上が併用されていてもよい。
The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts, organometallic salts, phosphorus compounds, urea compounds, and the like.
Among these, phosphorus compounds are particularly preferable. These curing accelerators may be, for example, one type, or two or more types may be used in combination.

前記硬化促進剤の配合割合は、特に制限されず、エポキシ樹脂材料の量や種類に応じて適宜決定できる。具体的には、エポキシ樹脂材料100重量部に対して、硬化促進剤が0.05〜7.0重量部であることが好ましく、より好ましく0.2〜3.0重量部の範囲である。該硬化促進剤の配合量が、0.05重量部未満であれば、充分な硬化促進効果が得られず、7.0重量部を超えると、硬化物が変色する虞がある。   The mixing ratio of the curing accelerator is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the amount and type of the epoxy resin material. Specifically, the curing accelerator is preferably 0.05 to 7.0 parts by weight, more preferably 0.2 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin material. If the blending amount of the curing accelerator is less than 0.05 parts by weight, a sufficient curing accelerating effect cannot be obtained, and if it exceeds 7.0 parts by weight, the cured product may be discolored.

前記老化防止剤としては、特に制限されないが、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが使用できる。   Although it does not restrict | limit especially as said anti-aging agent, For example, conventionally well-known things, such as a phenol type compound, an amine type compound, an organic sulfur type compound, a phosphine type compound, can be used.

前記変性剤としては、特に制限されないが、例えば、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等の従来公知のものが使用できる。   Although it does not restrict | limit especially as said modifier | denaturant, For example, conventionally well-known things, such as glycols, silicones, alcohol, can be used.

前記界面活性剤は、エポキシ樹脂材料を空気に接触させながら硬化させて基材層が形成される際に、該基材層表面を平滑にするために添加するものである。前記界面活性剤としては、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤が使用でき、これらの中でも、シリコーン系の界面活性剤が好ましい。   The surfactant is added to make the surface of the base material layer smooth when the base material layer is formed by curing the epoxy resin material in contact with air. As the surfactant, for example, various surfactants such as silicone-based, acrylic-based and fluorine-based surfactants can be used, and among these, silicone-based surfactants are preferable.

本発明で用いるアクリル−スチレン共重合体粒子は、平均粒子径が0.1〜2μmのものである。該アクリル−スチレン共重合体粒子は、平均粒径が0.1〜2μmの範囲内にあれば、強靱性と透明性の両面に優れている。
また、本発明で用いるアクリル−スチレン共重合体粒子において、共重合体中のスチレンの割合は、通常、2〜50重量%であり、好ましくは5〜30重量%である。
尚、平均粒子径は、実施例記載の方法により測定される。
The acrylic-styrene copolymer particles used in the present invention have an average particle size of 0.1 to 2 μm. The acrylic-styrene copolymer particles are excellent in both toughness and transparency as long as the average particle size is in the range of 0.1 to 2 μm.
In the acrylic-styrene copolymer particles used in the present invention, the proportion of styrene in the copolymer is usually 2 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight.
The average particle size is measured by the method described in the examples.

また、前記アクリル−スチレン共重合体粒子は、通常、屈折率が1.48〜1.54のものである。前記エポキシ樹脂材料の硬化物と該アクリル−スチレン共重合体粒子との屈折率差は、0.01以内であり、好ましくは0.005以内である。
屈折率差が、0.01以内の範囲を外れる場合には、得られる基材層の透明性が低下し、結果的に樹脂シートの透明性も低下することになる。
ここで、エポキシ樹脂材料の硬化物とは、アクリル−スチレン共重合体粒子を含まない、エポキシ樹脂材料自体の硬化物をいう。
尚、屈折率は、実施例記載の方法により測定される。
The acrylic-styrene copolymer particles generally have a refractive index of 1.48 to 1.54. The refractive index difference between the cured product of the epoxy resin material and the acrylic-styrene copolymer particles is within 0.01, preferably within 0.005.
When the refractive index difference is out of the range of 0.01 or less, the transparency of the obtained base material layer is lowered, and as a result, the transparency of the resin sheet is also lowered.
Here, the cured product of the epoxy resin material refers to a cured product of the epoxy resin material itself that does not include acrylic-styrene copolymer particles.
The refractive index is measured by the method described in the examples.

前記基材層は、前記エポキシ樹脂材料100重量部に対して、前記アクリル−スチレン共重合体粒子を2〜50重量部、好ましくは10〜40重量部配合されることで形成される。アクリル−スチレン共重合体粒子の配合量が、2重量部未満の場合には、樹脂シートに強靱性を付与する効果が得られない虞がある。
また、アクリル−スチレン共重合体粒子の配合量が、50重量部を超える場合には、エポキシ樹脂材料とアクリル−スチレン共重合体粒子とを混合したときに、粘度が高くなり該エポキシ樹脂材料中に該アクリル−スチレン共重合体粒子が均一に分散しにくくなる虞がある。
The base material layer is formed by blending 2 to 50 parts by weight, preferably 10 to 40 parts by weight of the acrylic-styrene copolymer particles with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin material. When the blending amount of the acrylic-styrene copolymer particles is less than 2 parts by weight, the effect of imparting toughness to the resin sheet may not be obtained.
Further, when the blending amount of the acrylic-styrene copolymer particles exceeds 50 parts by weight, the viscosity increases when the epoxy resin material and the acrylic-styrene copolymer particles are mixed, and the epoxy resin material contains In addition, the acrylic-styrene copolymer particles may be difficult to uniformly disperse.

前記基材層は、そのガラス転移温度(Tg)が、170℃以上であり、好ましくは190℃以上である。尚、ガラス転移温度(Tg)の上限は制限されない。
該基材層のガラス転移温度が、170℃以上あれば、耐熱性が高くなり、液晶表示装置等を組み立てる工程において品質を安定に保つことができる。
尚、ガラス転移温度は、実施例記載の方法により測定される。
The base material layer has a glass transition temperature (Tg) of 170 ° C. or higher, preferably 190 ° C. or higher. The upper limit of the glass transition temperature (Tg) is not limited.
When the glass transition temperature of the base material layer is 170 ° C. or higher, the heat resistance becomes high, and the quality can be kept stable in the process of assembling a liquid crystal display device or the like.
The glass transition temperature is measured by the method described in the examples.

前記基材層の厚みは、特に制限されず、用途に応じて適宜決定できが、剛直性や柔軟性、薄型軽量性等の観点から、例えば、50μm以上であり、好ましくは100〜800μmの範囲であり、より好ましくは100〜400μmの範囲である。また、液晶セル基板等の光学用途に供する場合は、例えば、100〜200μmの範囲であることが好ましい。   The thickness of the base material layer is not particularly limited and can be appropriately determined according to the use. From the viewpoint of rigidity, flexibility, thinness and lightness, for example, the thickness is 50 μm or more, preferably in the range of 100 to 800 μm. More preferably, it is the range of 100-400 micrometers. Moreover, when using for optical uses, such as a liquid crystal cell substrate, it is preferable that it is the range of 100-200 micrometers, for example.

本発明の樹脂シートには、ハードコート層やガスバリア層が積層されていてもよい。
前記ハードコート層や前記ガスバリア層は、該樹脂シート中の基材層に直接積層されていてもよいし、或いは他の部材を介して積層されていてもよい。
前記ハードコート層が、該樹脂シートの最外層として、積層されていれば、該樹脂シートの耐擦傷性等が向上する。
また、液晶表示装置等の各種画像表示装置においては、水分や酸素が液晶セルを透過して液晶セル内に侵入すると、液晶の変質や気泡が形成され、これによって外観不良や導電膜パターンの断線等が発生する虞がある。しかし、前記ガスバリア層を設けることによって、例えば、水分や酸素等のガス透過が防止される。
A hard coat layer and a gas barrier layer may be laminated on the resin sheet of the present invention.
The hard coat layer and the gas barrier layer may be directly laminated on the base material layer in the resin sheet, or may be laminated via another member.
When the hard coat layer is laminated as the outermost layer of the resin sheet, the scratch resistance and the like of the resin sheet are improved.
Also, in various image display devices such as liquid crystal display devices, when moisture or oxygen penetrates the liquid crystal cell and enters the liquid crystal cell, the liquid crystal is altered or bubbles are formed, thereby causing poor appearance or disconnection of the conductive film pattern. Etc. may occur. However, by providing the gas barrier layer, for example, gas such as moisture and oxygen can be prevented from passing therethrough.

本発明の樹脂シートが前記ハードコート層と前記ガスバリア層との両方を含む場合、積層順序は特に制限されないが、例えば、基材層、ガスバリア層、ハードコート層の順序で積層されることが好ましい。
特に、ハードコート層は、耐衝撃性や耐薬品性等に優れることから、最外層として積層されることが好ましく、前記基材層の他方の表面にもハードコート層が積層されていてもよい。
When the resin sheet of the present invention includes both the hard coat layer and the gas barrier layer, the stacking order is not particularly limited. For example, it is preferable that the base sheet layer, the gas barrier layer, and the hard coat layer are stacked in this order. .
In particular, since the hard coat layer is excellent in impact resistance, chemical resistance, etc., it is preferably laminated as the outermost layer, and the hard coat layer may be laminated on the other surface of the base material layer. .

前記ハードコート層の形成材料としては、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。また、例えば、ポリアリレート系樹脂、スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリロニトリル系樹脂等も使用できる。これらの中でも、ウレタン系樹脂が好ましく、より好ましくはウレタンアクリレートである。なお、これらの樹脂は、一種類でもよいし、二種類以上を混合したブレンド樹脂であってもよい。   Examples of the material for forming the hard coat layer include urethane resins, acrylic resins, and polyester resins. Also, for example, polyarylate resin, sulfone resin, amide resin, imide resin, polyethersulfone resin, polyetherimide resin, polycarbonate resin, silicone resin, fluorine resin, polyolefin resin, styrene Resin, vinyl pyrrolidone resin, cellulose resin, acrylonitrile resin and the like can also be used. Among these, urethane resin is preferable, and urethane acrylate is more preferable. These resins may be one kind or a blend resin in which two or more kinds are mixed.

前記ハードコート層の厚みは、特に制限されないが、通常、1〜10μmの範囲であり、好ましくは1.5〜8μmの範囲であり、より好ましくは2〜5μmの範囲である。   The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is usually in the range of 1 to 10 μm, preferably in the range of 1.5 to 8 μm, and more preferably in the range of 2 to 5 μm.

前記ガスバリア層の種類としては、例えば、有機ガスバリア層と無機ガスバリア層が挙げられる。前記有機ガスバリア層の形成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマー、ポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料等が使用でき、これらの中でも、高ガスバリア性の点からビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。   Examples of the gas barrier layer include an organic gas barrier layer and an inorganic gas barrier layer. As the material for forming the organic gas barrier layer, for example, polyvinyl alcohol and partially saponified products thereof, vinyl alcohol polymers such as ethylene / vinyl alcohol copolymer, and materials having low oxygen transmission such as polyacrylonitrile and polyvinylidene chloride are used. Among these, vinyl alcohol polymers are particularly preferable from the viewpoint of high gas barrier properties.

前記有機ガスバリア層の厚みは、例えば、透明性、着色防止、ガスバリア性等の機能性、薄型化、また、得られる樹脂シートのフレキシビリティー等の点から、15μm以下であることが好ましく、より好ましくは13μm以下であり、さらに好ましくは2〜10μm、特に好ましくは3〜5μmの範囲である。前記厚みが15μm以下であれば、樹脂シートにおいて、より一層低い黄色度指数(YI値)が維持でき、2μm以上であれば、十分なガスバリア機能が維持される。   The thickness of the organic gas barrier layer is preferably 15 μm or less from the viewpoints of, for example, transparency, coloring prevention, functionality such as gas barrier properties, thinness, and flexibility of the resulting resin sheet. Preferably it is 13 micrometers or less, More preferably, it is 2-10 micrometers, Most preferably, it is the range of 3-5 micrometers. If the thickness is 15 μm or less, a lower yellowness index (YI value) can be maintained in the resin sheet, and if it is 2 μm or more, a sufficient gas barrier function is maintained.

一方、無機ガスバリア層の形成材料としては、例えば、珪素酸化物、珪素窒化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛酸化物等の透明材料が使用でき、この中でも、例えば、ガスバリア性及び基材層への密着性に優れること等から、珪素酸化物や珪素窒化物が好ましい。   On the other hand, as a material for forming the inorganic gas barrier layer, for example, transparent materials such as silicon oxide, silicon nitride, magnesium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide can be used. Silicon oxide and silicon nitride are preferable because of excellent adhesion to the layer.

前記珪素酸化物としては、例えば、珪素原子数に対する酸素原子数の割合が、1.5〜2.0であることが好ましい。このような割合であれば、例えば、前記無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点において、より一層優れるからである。なお、前記珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が2.0となる。   As said silicon oxide, it is preferable that the ratio of the number of oxygen atoms with respect to the number of silicon atoms is 1.5-2.0, for example. This is because, at such a ratio, for example, the inorganic gas barrier layer is further excellent in terms of gas barrier properties, transparency, surface flatness, flexibility, film stress, cost, and the like. In the silicon oxide, the maximum value of the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms is 2.0.

前記珪素窒化物としては、例えば、珪素原子数に対する窒素原子数の割合が1.0〜4/3であることが好ましい。   As the silicon nitride, for example, the ratio of the number of nitrogen atoms to the number of silicon atoms is preferably 1.0 to 4/3.

前記無機ガスバリア層の厚みは、特に制限されないが、例えば、5〜200nmの範囲であることが好ましい。前記厚みが5nm以上であれば、より一層優れたガスバリア性が得られ、前記厚みが200nm以下であれば、透明性、屈曲性、膜応力、コストの点にも優れる。   The thickness of the inorganic gas barrier layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 200 nm, for example. If the thickness is 5 nm or more, further excellent gas barrier properties can be obtained, and if the thickness is 200 nm or less, the transparency, flexibility, film stress, and cost are also excellent.

本発明の樹脂シートは、その光透過率が、例えば、88%以上であり、好ましくは89%以上であることが好ましい。前記光透過率が88%以上であれば、この樹脂シートを用いて液晶表示装置等の画像表示装置を組み立てた時の表示が、十分に明るくなり、より一層表示品位が向上する。
尚、前記光透過率は、実施例記載の方法により測定される。
The resin sheet of the present invention has a light transmittance of, for example, 88% or more, preferably 89% or more. If the light transmittance is 88% or more, the display when an image display device such as a liquid crystal display device is assembled using this resin sheet becomes sufficiently bright, and the display quality is further improved.
The light transmittance is measured by the method described in the examples.

次に、本発明の樹脂シートの製造方法について説明する。
まず、所定量のエポキシ樹脂材料と、所定量の平均粒子径が0.1〜2μmのアクリル−スチレン共重合体粒子とを混合し、均一な塗工液を調整する。混合に際しては、従来公知の適当な溶媒が用いられてもよい。この際、前記塗工液には、前述のように各種添加剤が適宜添加されていてもよい。
そして、前記塗工液を、ステンレス等の適当な基板上に塗工し、硬化させることによって、基材層を形成する。
Next, the manufacturing method of the resin sheet of this invention is demonstrated.
First, a predetermined amount of epoxy resin material and a predetermined amount of acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 0.1 to 2 μm are mixed to prepare a uniform coating solution. In mixing, a conventionally known appropriate solvent may be used. At this time, various additives may be appropriately added to the coating solution as described above.
And the base material layer is formed by applying the said coating liquid on suitable board | substrates, such as stainless steel, and making it harden | cure.

前記塗工液の塗工は、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が用いられる。   For the coating of the coating liquid, for example, a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, an extrusion method, a curtain coating method, a spray coating method, or the like is used.

前記硬化に際しては、塗工した塗工液に対して、必要に応じて、例えば、加熱処理、光照射処理等の硬化処理が施される。該塗工液の硬化条件は、特に制限されないが、例えば、加熱処理の場合、硬化温度として150〜200℃で20分〜3時間程度硬化させることが好ましい。
また、前記硬化温度は、段階的に昇温させてもよく、例えば、120℃で1時間硬化させた後、引き続き180℃で0.5時間硬化させてもよい。
At the time of the curing, for example, a curing treatment such as a heat treatment or a light irradiation treatment is performed on the coated coating liquid as necessary. The curing conditions for the coating liquid are not particularly limited. For example, in the case of heat treatment, it is preferable to cure at a curing temperature of 150 to 200 ° C. for about 20 minutes to 3 hours.
The curing temperature may be raised stepwise, for example, it may be cured at 120 ° C. for 1 hour, and then cured at 180 ° C. for 0.5 hour.

また、前記基材層に直接ハードコート層を積層させる場合は、例えば、ステンレス等の適当な基板上に、ハードコート層を形成し、その上に基材層を形成すればよい。
即ち、該基板上にハードコート層を形成する塗工液をロールコート法等の方法を用いて塗工し、硬化させることでハードコート層を形成する。次いで、該ハードコート層上に
、エポキシ樹脂材料とアクリル−スチレン共重合体粒子とを混合した均一な塗工液を前述のような塗工方法によってハードコート層上に塗布し、乾燥させればよい。また、必要に応じて、加熱処理、光照射処理等の硬化処理を行ってもよい。
尚、エポキシ樹脂材料とアクリル−スチレン共重合体粒子とを混合する際には、適宜な溶媒を用いてもよい。
Moreover, when laminating | stacking a hard-coat layer directly on the said base material layer, a hard-coat layer should just be formed on suitable board | substrates, such as stainless steel, for example, and a base material layer may be formed on it.
That is, a hard coat layer is formed by applying a coating liquid for forming a hard coat layer on the substrate by using a method such as a roll coat method and curing it. Next, on the hard coat layer, a uniform coating liquid obtained by mixing the epoxy resin material and the acrylic-styrene copolymer particles is applied on the hard coat layer by the above-described coating method and dried. Good. Moreover, you may perform hardening processes, such as heat processing and a light irradiation process, as needed.
In addition, when mixing an epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particle | grains, you may use a suitable solvent.

更に、ガスバリア層を含む場合は、例えば、基板上に、前記ハードコート層を形成し、その上にガスバリア層を形成してから、さらに前記基材層を形成すればよい。前記ガスバリア層の形成方法は、特に制限されず、例えば、従来公知の方法が適宜採用される。   Further, when a gas barrier layer is included, for example, the hard coat layer is formed on a substrate, the gas barrier layer is formed thereon, and then the base material layer is further formed. The method for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and for example, a conventionally known method is appropriately employed.

本発明の樹脂シートは、各種の用途に用いることができ、例えば、液晶セル基板、エレクトロルミネッセンス表示用基板、太陽電池用基板として用いることができる。このように各種基板として使用する場合、例えば、従来から使用されているガラス基板等の透明基板と同様にして使用すればよい。   The resin sheet of this invention can be used for various uses, for example, can be used as a liquid crystal cell substrate, an electroluminescence display substrate, or a solar cell substrate. When used as various substrates in this way, for example, it may be used in the same manner as a conventionally used transparent substrate such as a glass substrate.

本発明の液晶セル基板は液晶表示装置に、本発明のエレクトロルミネッセンス表示装置用基板はエレクトロルミネッセンス表示装置に、本発明の太陽電池用基板は太陽電池に使用できる。これらの各種基板は、例えば、従来の各種表示装置や太陽電池において使用されているガラス基板等の代替品として使用することができる。そして、このような本発明の各種基板を使用すれば、透明性、十分な強度及び強靱性を有し、かつ薄型化や軽量化した各種表示装置等を実現できる。   The liquid crystal cell substrate of the present invention can be used for a liquid crystal display device, the substrate for an electroluminescence display device of the present invention can be used for an electroluminescence display device, and the substrate for a solar cell of the present invention can be used for a solar cell. These various substrates can be used, for example, as substitutes for glass substrates and the like used in various conventional display devices and solar cells. If such various substrates of the present invention are used, various display devices having transparency, sufficient strength and toughness, and reduced in thickness and weight can be realized.

液晶表示装置は、一般に、電極を備えた液晶セル基板に液晶が保持された液晶セル、偏光板、反射板およびバックライトを備え、駆動回路等を組み込んで構成されている。本発明の液晶表示装置においては、本発明の樹脂シートを液晶セル基板として使用すればよく、この点を除いて特に限定はされず、さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い。
従って、本発明の液晶表示装置においては、本発明の液晶セル基板に、さらに、例えば、視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光と板の間に設ける補償用位相差板等の光学部品等を組み合わせてもよい。
A liquid crystal display device generally includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is held on a liquid crystal cell substrate having electrodes, a polarizing plate, a reflector, and a backlight, and is configured by incorporating a drive circuit and the like. In the liquid crystal display device of the present invention, the resin sheet of the present invention may be used as a liquid crystal cell substrate. Except for this point, there is no particular limitation, and various conventionally known components may be provided.
Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, for example, a light diffusing plate, an antiglare layer, an antireflection film, a protective layer, a protective plate provided on the polarizing plate on the viewing side, or You may combine optical components, such as a phase difference plate for compensation provided between a liquid crystal cell, the polarization | polarized-light on the visual recognition side, and a board.

エレクトロルミネセンス表示装置は、一般に、透明基板(エレクトロルミネセンス表示用基板)上に、透明電極と、発光体(有機エレクトロルミネセンス発光体)を含む有機発光層と、金属電極とが順に積層されることによって構成されている。本発明のエレクトロルミネセンス表示装置においては、本発明の樹脂シートをエレクトロルミネセンス表示用基板として使用されていればよく、この点を除いては、特に限定されず、例えば、従来公知の各種構成部品が備えられていてもよい。   In general, an electroluminescent display device is formed by sequentially laminating a transparent electrode, an organic light emitting layer including a light emitter (organic electroluminescent light emitter), and a metal electrode on a transparent substrate (electroluminescent display substrate). Is made up of. In the electroluminescent display device of the present invention, the resin sheet of the present invention is only required to be used as an electroluminescent display substrate. Except for this point, there is no particular limitation. For example, conventionally known various configurations Parts may be provided.

以下、実施例および比較例を用いて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、各種特性については以下の方法によって測定を行った。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. Various characteristics were measured by the following methods.

(平均粒子径の測定)
エポキシ樹脂材料とアクリル−スチレン共重合体粒子とを混合し硬化させてテストピースを作製し、得られたテストピースを切断してその断面を電子顕微鏡にて観察し、該アクリル−スチレン共重合体粒子断面20個の直径(最長径)を測定し、その平均を本発明の平均粒子径とした。
(Measurement of average particle size)
An epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particles are mixed and cured to prepare a test piece. The obtained test piece is cut and its cross section is observed with an electron microscope. The acrylic-styrene copolymer The diameter (longest diameter) of 20 particle cross sections was measured, and the average was taken as the average particle diameter of the present invention.

(屈折率の測定方法)
アタゴ製アッベ式測定器(DR−M2/1550)を用い、589nmの波長で測定した。
(Measurement method of refractive index)
The measurement was performed at a wavelength of 589 nm using an Atago Abbe type measuring instrument (DR-M2 / 1550).

(光透過率の測定方法)
光透過率は、高速分光透過率測定器(村上色彩技術研究所製:DOT−3)を用いてλ=550nmの透過率を測定することによって求めた。
(Measurement method of light transmittance)
The light transmittance was determined by measuring the transmittance at λ = 550 nm using a high-speed spectral transmittance measuring device (Murakami Color Research Laboratory: DOT-3).

(ガラス転移温度の測定方法)
ガラス転移温度は、動的粘弾性装置(Rheometrics製ARES)を用いて測定し、tanδのピーク値をTg(ガラス転移温度)とした。
(Measurement method of glass transition temperature)
The glass transition temperature was measured using a dynamic viscoelastic device (ARES manufactured by Rheometrics), and the peak value of tan δ was defined as Tg (glass transition temperature).

(破断強度の測定方法)
破断強度(靭性)は、カミソリ刃(刃の幅100μm)を用いて、実施例及び比較例で得られた樹脂シートを長さ100mm、幅10mmに切断し、該樹脂シートの長手方向中央部に幅方向に沿って横断した300μm深さのノッチを1本入れた試験片を調整し、該試験片を円柱に巻き付けて試験片が破断する円柱の直径を求めた。
尚、破断時の円柱径が小さい方が靭性が強いことになる。
(Measurement method of breaking strength)
The breaking strength (toughness) was obtained by cutting the resin sheets obtained in Examples and Comparative Examples into a length of 100 mm and a width of 10 mm using a razor blade (blade width of 100 μm), at the center in the longitudinal direction of the resin sheet. A test piece having one notch having a depth of 300 μm crossed along the width direction was prepared, and the diameter of the cylinder at which the test piece was broken was obtained by winding the test piece around the cylinder.
Note that the smaller the diameter of the cylinder at break, the stronger the toughness.

(実施例1)
下記式(2)で示される3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート (26.6重量部)、平均粒子径0.3μmのアクリル−スチレン共重合体粒子(屈折率1.50)(10重量部)、下記式(3)で示されるメチルヘキサヒドロフタル酸無水物 (33.1重量部)、下記式(4)で示されるテトラ−n−ブチルホスホニウム−O,O−ジエチルホスホロジチオエート (1.5重量部)を混合し高速ディスパーを用いて前記アクリル−スチレン共重合体粒子を均一に分散させて塗工液を得た。尚、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの硬化体の屈折率は1.505であった。
次に、下記式(5)で示されるウレタンアクリレートの17重量%のトルエン溶液をダイを用いて走行速度0.5m/分のステンレス製エンドレスベルトに流延塗布し、風乾してトルエンを揮発させた後、低圧紫外線硬化装置を用いて硬化し、膜厚2.0μmのハードコート層を形成した。
続いて、前記塗工液をダイより前記ハードコート層上に0.3m/分で流延塗布し、加熱装置(加熱温度180℃、加熱時間0.5hr)を用いて硬化させ、膜厚150μmの基材層を形成した。
Example 1
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (26.6 parts by weight) represented by the following formula (2), acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 0.3 μm (refractive index: 1) .50) (10 parts by weight), methylhexahydrophthalic anhydride (33.1 parts by weight) represented by the following formula (3), tetra-n-butylphosphonium-O, O represented by the following formula (4) -Diethyl phosphorodithioate (1.5 parts by weight) was mixed, and the acrylic-styrene copolymer particles were uniformly dispersed using a high speed disper to obtain a coating solution. The refractive index of the cured product of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate was 1.505.
Next, a 17% by weight toluene solution of urethane acrylate represented by the following formula (5) is cast on a stainless steel endless belt with a running speed of 0.5 m / min using a die, and air-dried to volatilize toluene. Then, it was cured using a low-pressure ultraviolet curing device to form a hard coat layer having a thickness of 2.0 μm.
Subsequently, the coating solution is cast-applied at a rate of 0.3 m / min from the die onto the hard coat layer, cured using a heating device (heating temperature 180 ° C., heating time 0.5 hr), and a film thickness of 150 μm. A base material layer was formed.

Figure 2006233129
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Figure 2006233129
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Figure 2006233129
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(実施例2)
前記式(1)で示されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(n=2、R1〜R3は全て水素である) (22重量部)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート (78重量部)、平均粒子径0.3μmのアクリル−スチレン共重合体粒子(屈折率1.51)(40重量部)、メチルナジック酸無水物 (110重量部)、テトラ−n−ブチルホスホニウム−O,O−ジエチルホスホロジチオエート (2重量部)を用いた以外は、実施例1と同様に行い樹脂シートを作成した。該樹脂シートの厚みは、100μmであった。
尚、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂と3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートとの混合物の硬化体の屈折率は1.512であった。
(Example 2)
Dicyclopentadiene type epoxy resin represented by the formula (1) (n = 2, R1 to R3 are all hydrogen) (22 parts by weight), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (78 parts by weight), acrylic-styrene copolymer particles having an average particle size of 0.3 μm (refractive index 1.51) (40 parts by weight), methyl nadic anhydride (110 parts by weight), tetra-n-butylphosphonium A resin sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that -O, O-diethyl phosphorodithioate (2 parts by weight) was used. The thickness of the resin sheet was 100 μm.
The refractive index of the cured product of a mixture of dicyclopentadiene type epoxy resin and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate was 1.512.

(実施例3)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190)(19重量部)、平均粒子径0.3μmのアクリル−スチレン共重合体粒子(屈折率1.50) (6重量部)、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物 (16.8重量部)、テトラ−n−ブチルホスホニウム−O,O−ジエチルホスホロジチオエート (1.5重量部)を用いた以外実施例1と同様にして、樹脂シートを作成した。該樹脂シートの厚みは、170μmであった。
尚、ビスフェノールA型エポキシ樹脂硬化体の屈折率は、1.54であった。
(Example 3)
Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190) (19 parts by weight), acrylic-styrene copolymer particles having an average particle size of 0.3 μm (refractive index 1.50) (6 parts by weight), methylhexahydrophthalic anhydride A resin sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that (16.8 parts by weight) and tetra-n-butylphosphonium-O, O-diethyl phosphorodithioate (1.5 parts by weight) were used. The thickness of the resin sheet was 170 μm.
The refractive index of the cured bisphenol A type epoxy resin was 1.54.

(比較例1)
平均粒子径3μmのアクリル−スチレン共重合体粒子を用いた以外、実施例1と同様の操作を行い、樹脂シートを作成した。該樹脂シートの厚みは、150μmであった。
(Comparative Example 1)
A resin sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 3 μm were used. The thickness of the resin sheet was 150 μm.

(比較例2)
アクリル−スチレン共重合体粒子を添加しなかった以外、実施例1と同様の操作を行い、樹脂シートを作成した。該樹脂シートの厚みは、150μmであった。
(Comparative Example 2)
A resin sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the acrylic-styrene copolymer particles were not added. The thickness of the resin sheet was 150 μm.

実施例1〜比較例2で得られた樹脂シートを試験片として用い、前記破断強度の測定方法を用いて、破断強度を測定した。
その結果を表1に示した。
The resin sheet obtained in Example 1 and Comparative Example 2 was used as a test piece, and the breaking strength was measured using the method for measuring the breaking strength.
The results are shown in Table 1.

Figure 2006233129
Figure 2006233129

平均粒子径0.3μmのアクリル−スチレン共重合体粒子を用いた実施例1〜3において破断強度が向上することが判明した。   It was found that the break strength was improved in Examples 1 to 3 using acrylic-styrene copolymer particles having an average particle size of 0.3 μm.

Claims (14)

エポキシ樹脂材料と、平均粒子径が0.1〜2μmのアクリル−スチレン共重合体粒子とを含んでなる基材層を有することを特徴とする樹脂シート。   A resin sheet comprising a base material layer comprising an epoxy resin material and acrylic-styrene copolymer particles having an average particle diameter of 0.1 to 2 µm. 前記エポキシ樹脂材料が、脂環式エポキシ樹脂材料である請求項1記載の樹脂シート。   The resin sheet according to claim 1, wherein the epoxy resin material is an alicyclic epoxy resin material. 前記基材層は、前記エポキシ樹脂材料100重量部に対して、前記アクリル−スチレン共重合体粒子が2〜50重量部配合されてなる請求項1又は2記載の樹脂シート。   3. The resin sheet according to claim 1, wherein the base material layer contains 2 to 50 parts by weight of the acrylic-styrene copolymer particles with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin material. 前記基材層のガラス転移温度(Tg)が170℃以上である請求項1〜3の何れか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the base material layer has a glass transition temperature (Tg) of 170 ° C or higher. 前記エポキシ樹脂材料の硬化物と前記アクリル−スチレン共重合体粒子との屈折率差が0.01以内である請求項1〜4の何れか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein a difference in refractive index between the cured product of the epoxy resin material and the acrylic-styrene copolymer particles is within 0.01. ハードコート層が積層されている請求項1〜5の何れか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet as described in any one of Claims 1-5 by which the hard-coat layer is laminated | stacked. ガスバリア層が積層されている請求項1〜6の何れか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein a gas barrier layer is laminated. 光透過率が88%以上である請求項1〜7の何れか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the light transmittance is 88% or more. 請求項1〜8の何れか一項に記載の樹脂シートを含む液晶セル基板。   A liquid crystal cell substrate comprising the resin sheet according to claim 1. 請求項9記載の液晶セル基板を備える液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the liquid crystal cell substrate according to claim 9. 請求項1〜8の何れか一項に記載の樹脂シートを含むエレクトロルミネッセンス表示装置用基板。   The board | substrate for electroluminescent display apparatuses containing the resin sheet as described in any one of Claims 1-8. 請求項11記載のエレクトロルミネッセンス表示装置用基板を備えるエレクトロルミネッセンス表示装置。   An electroluminescent display device comprising the substrate for an electroluminescent display device according to claim 11. 請求項1〜8の何れか一項に記載の樹脂シートを含む太陽電池用基板。   The board | substrate for solar cells containing the resin sheet as described in any one of Claims 1-8. 請求項13記載の太陽電池用基板を備える太陽電池。   A solar cell comprising the solar cell substrate according to claim 13.
JP2005053198A 2005-02-28 2005-02-28 Resin sheet, liquid crystal cell substrate, substrate for electroluminescent display, substrate for solar battery and liquid crystal display device, electro luminescent display device and sollar battery Withdrawn JP2006233129A (en)

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