JP2005037737A - Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device - Google Patents

Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device Download PDF

Info

Publication number
JP2005037737A
JP2005037737A JP2003275322A JP2003275322A JP2005037737A JP 2005037737 A JP2005037737 A JP 2005037737A JP 2003275322 A JP2003275322 A JP 2003275322A JP 2003275322 A JP2003275322 A JP 2003275322A JP 2005037737 A JP2005037737 A JP 2005037737A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin sheet
epoxy resin
particle
display device
light diffusing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2003275322A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuzo Akata
祐三 赤田
Tadaaki Harada
忠昭 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2003275322A priority Critical patent/JP2005037737A/en
Publication of JP2005037737A publication Critical patent/JP2005037737A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin sheet, which has excellent heat resistance and mechanical strength, has high light transmittance, and has a light diffusion function. <P>SOLUTION: The particle dispersed resin sheet comprises an epoxy resin 102 having a terpene skeleton and a light diffusion agent 101 having a refractive index different from that of the epoxy resin, wherein the light diffusion agent is uniformly dispersed. Such a resin sheet can be used, for example, for a substrate for an image display device such as a liquid crystal cell substrate and a substrate for a solar cell and, furthermore, can provide image display devices such as a liquid crystal display device and an EL display device. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、粒子分散系樹脂シート、これを用いた液晶セル基板やエレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ用基板等の各種画像表示装置用基板または太陽電池用基板、ならびにこれらを用いた各種画像表示装置または太陽電池に関する。   The present invention relates to a particle-dispersed resin sheet, various image display device substrates or solar cell substrates such as a liquid crystal cell substrate and an electroluminescence (EL) display substrate using the same, and various image display devices or the like using them. It relates to solar cells.

液晶表示装置やEL表示装置における液晶セル基板やELディスプレイ用基板として、強度や耐熱性の点からガラス基板が一般に使用されてきた。しかし、近年、上述のような各種表示装置の大型化に伴い、前記各種基板の薄型化、軽量化が求められている。そこで、重くて嵩高いガラス基板に代わって、薄型化、軽量化等を目的として、エポキシ系樹脂等の樹脂シートを基板として使用することが提案され、実際に開発されている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、このようなエポキシ系樹脂等の樹脂シートの強度は、使用に耐えうるレベルではあるものの、前記ガラス基板に比べて、例えば、運搬時や各種表示装置の組み立て時等に破断する場合があるため、より一層強度に優れる樹脂シートの開発が要求されている。   As a liquid crystal cell substrate or EL display substrate in a liquid crystal display device or EL display device, a glass substrate has generally been used from the viewpoint of strength and heat resistance. However, in recent years, with the increase in size of various display devices as described above, it has been required to reduce the thickness and weight of the various substrates. Therefore, in place of a heavy and bulky glass substrate, it has been proposed and actually developed to use a resin sheet such as an epoxy-based resin as a substrate for the purpose of reducing the thickness and weight. 1). However, although the strength of such a resin sheet such as an epoxy resin is at a level that can be used, it may be broken, for example, during transportation or assembly of various display devices as compared with the glass substrate. For this reason, development of a resin sheet having even higher strength is required.

さらに、前記液晶表示装置においては、例えば、透明粒子を含有する光拡散シートを液晶セルの視認側に貼り付けることによって、照明光や前記表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止し、視認性を向上させる方法が知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかし、前述のように、液晶表示装置の薄型化、軽量化が求められていることから、前記光拡散シートを液晶セルの視認側に貼り付ける代わりに、例えば、液晶セル基板自体に光拡散機能を付与することも検討されている。   Further, in the liquid crystal display device, for example, by attaching a light diffusion sheet containing transparent particles to the viewing side of the liquid crystal cell, glare caused by illumination light or the backlight built in the display device can be prevented and visually recognized. A method for improving the property is known (for example, see Patent Document 2). However, as described above, since the liquid crystal display device is required to be thin and light, instead of attaching the light diffusion sheet to the viewing side of the liquid crystal cell, for example, the light diffusion function is applied to the liquid crystal cell substrate itself. Is also being considered.

また、近年においては、衛星通信や移動通信技術の発展に伴い、小型携帯情報末端機器の需要が高まりつつある。前記小型携帯情報末端機器の多くに搭載されている表示装置についても、薄型化を達成するために、液晶表示装置が最も多用されている。また、この表示装置には、例えば、低消費電力であること、外光下での視認性が高いこと等が要求されるため、透過型液晶表示装置よりも反射型液晶表示装置が多用されている。そして、このような小型携帯情報末端機器に使用する表示装置についても、より一層の薄型化、軽量化を達成し、かつ、視認性を向上させることが望まれている。
特許第3197716号公報 特開平11−333866号公報
In recent years, with the development of satellite communication and mobile communication technologies, the demand for small portable information terminal devices is increasing. As for display devices mounted on many of the small portable information terminal devices, liquid crystal display devices are most frequently used in order to achieve thinning. In addition, since this display device is required to have, for example, low power consumption and high visibility under external light, a reflective liquid crystal display device is used more frequently than a transmissive liquid crystal display device. Yes. Further, it is desired that a display device used for such a small portable information terminal device achieves further reduction in thickness and weight and improves visibility.
Japanese Patent No. 3197716 JP-A-11-333866

そこで、本発明の目的は、例えば、照明光や表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止し、薄型かつ軽量、強靭で割れ難い樹脂シートの提供である。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a thin, lightweight, tough and hard-to-break resin sheet that prevents glare caused by, for example, illumination light or a backlight built in a display device.

前記目的を達成するために、本発明の樹脂シートは、エポキシ系樹脂および粒子状の光拡散剤を含む粒子分散系樹脂シートであって、
前記エポキシ系樹脂が、テルペン型骨格を有するエポキシ樹脂(以下、「テルペン型エポキシ樹脂」という)を含み、
前記光拡散剤の屈折率が、前記エポキシ系樹脂の屈折率と相違し、
前記光拡散剤が、前記シート内において均一に分散されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the resin sheet of the present invention is a particle-dispersed resin sheet containing an epoxy resin and a particulate light diffusing agent,
The epoxy resin includes an epoxy resin having a terpene skeleton (hereinafter referred to as “terpene epoxy resin”),
The refractive index of the light diffusing agent is different from the refractive index of the epoxy resin,
The light diffusing agent is uniformly dispersed in the sheet.

このように、本発明の樹脂シートは、テルペン型エポキシ樹脂を含むことによって、優れた強靭性を示し、後述するような各種表示装置等に適用した場合であっても、破断し難く、軽量化、薄型化だけでなく優れた強度を示す表示装置等を得ることができる。さらに、前記テルペン型エポキシ樹脂と屈折率の異なる光拡散剤を含有することによって、光拡散機能が付与されるため、この樹脂シート自体が、シート内に入射した光を拡散できるのである。   Thus, the resin sheet of the present invention exhibits excellent toughness by including a terpene type epoxy resin, and even when applied to various display devices as described later, it is difficult to break and is lightweight. In addition, a display device or the like that exhibits not only thinning but also excellent strength can be obtained. Furthermore, since a light diffusing function is imparted by containing a light diffusing agent having a refractive index different from that of the terpene epoxy resin, the resin sheet itself can diffuse light incident on the sheet.

また、このような本発明の樹脂シートを用いることによって、例えば、液晶セル基板、EL装置用基板のような本発明の画像表示装置用基板や、太陽電池用基板が提供でき、さらに、これらの各種画像表示装置用基板を用いることによって、例えば、液晶表示装置やEL表示装置のような本発明の画像表示装置、太陽電池が提供できる。   Further, by using such a resin sheet of the present invention, for example, a substrate for an image display device of the present invention such as a liquid crystal cell substrate or a substrate for an EL device, or a substrate for a solar cell can be provided. By using various image display device substrates, for example, the image display device of the present invention, such as a liquid crystal display device or an EL display device, and a solar cell can be provided.

前述のように、本発明の樹脂シートは、エポキシ系樹脂および粒子状の光拡散剤を含む粒子分散系樹脂シートであって、
前記エポキシ系樹脂が、テルペン型エポキシ樹脂を含み、
前記光拡散剤の屈折率が、前記エポキシ系樹脂の屈折率と相違し、
前記光拡散剤が、前記シート内において均一に分散されていることを特徴とする。
As described above, the resin sheet of the present invention is a particle-dispersed resin sheet containing an epoxy resin and a particulate light diffusing agent,
The epoxy resin includes a terpene type epoxy resin,
The refractive index of the light diffusing agent is different from the refractive index of the epoxy resin,
The light diffusing agent is uniformly dispersed in the sheet.

本発明において、前記テルペン型エポキシ樹脂としては、例えば、以下の化学式(1)に表わされる構造等があげられる。   In the present invention, examples of the terpene type epoxy resin include structures represented by the following chemical formula (1).

Figure 2005037737
前記式において、nは重合度であって、0〜5の整数である。なお、テルペン型エポキシ樹脂は、nが異なるテルペン型エポキシ樹脂の混合物であってもよい。
Figure 2005037737
In the above formula, n is the degree of polymerization and is an integer of 0-5. The terpene type epoxy resin may be a mixture of terpene type epoxy resins having different n.

前記テルペン型エポキシ樹脂の中でも、例えば、エポキシ当量180〜400(g/eq)のものが好ましく、より好ましくは、エポキシ当量220〜350(g/eq)、特に好ましくはエポキシ当量230〜300(g/eq)である。   Among the terpene type epoxy resins, for example, those having an epoxy equivalent of 180 to 400 (g / eq) are preferable, more preferably an epoxy equivalent of 220 to 350 (g / eq), and particularly preferably an epoxy equivalent of 230 to 300 (g). / Eq).

また、前記エポキシ系樹脂は、前記テルペン型エポキシ樹脂の他に、さらに他のエポキシ樹脂を含んでもよい。   The epoxy resin may further contain another epoxy resin in addition to the terpene type epoxy resin.

前記他のエポキシ樹脂としては、特に制限されず、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型およびこれらの水添加物等のビスフェノール型、フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型等のノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型およびヒダントイン型等の含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型等の芳香族型、グリシジルエーテル型、ビフェニル型等の低吸水率タイプ、ジシクロ型、エステル型、エーテルエステル型、または、これらの変成型等が使用できる。   The other epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type and bisphenol types such as water additives thereof, novolak types such as phenol novolak type and cresol novolak type, tri Nitrogen-containing ring type such as glycidyl isocyanurate type and hydantoin type, aromatic type such as alicyclic type and aliphatic type, naphthalene type, low water absorption type such as glycidyl ether type and biphenyl type, dicyclo type, ester type, An ether ester type or a modified version thereof can be used.

これらの中でも、前記テルペン型エポキシ樹脂と組み合わせることによって、例えば、耐熱性と強靭性とが優れたバランスで発揮されることから、前記脂環式エポキシ樹脂が好ましい。   Among these, when combined with the terpene type epoxy resin, for example, the heat resistance and toughness are exhibited in an excellent balance, and therefore the alicyclic epoxy resin is preferable.

前記脂環式エポキシ樹脂としては、特に制限されないが、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2,2−ビス(ヒドロキシルメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物等があげられ、中でも、例えば、塗工液の流動性や硬化後の耐熱性の点に優れることから、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。   The alicyclic epoxy resin is not particularly limited. For example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2-bis (hydroxylmethyl) -1-butanol, 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adducts and the like. Among them, for example, since it is excellent in fluidity of coating liquid and heat resistance after curing, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate is preferred.

本発明において、前記テルペン型エポキシ樹脂の含有割合は、例えば、全エポキシ系樹脂に対して、9〜60重量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは14〜40重量%であり、特に好ましくは14〜30重量%の範囲である。前記テルペン型エポキシ樹脂の含有割合が9重量%以上であれば、例えば、より一層優れた強靭性を維持でき、運搬時や液晶表示装置の組み立て時に破断するおそれも十分に回避できる。また、前記含有割合が60重量%以下であれば、例えば、樹脂シートを形成するための塗工液が取り扱いに優れた粘度となり、流動性にも優れるため、塗工がより一層簡便となる。   In the present invention, the content ratio of the terpene type epoxy resin is preferably in the range of 9 to 60% by weight, more preferably 14 to 40% by weight, and particularly preferably, with respect to the total epoxy resin. Is in the range of 14-30% by weight. If the content ratio of the terpene type epoxy resin is 9% by weight or more, for example, even more excellent toughness can be maintained, and the possibility of breakage during transportation or assembly of the liquid crystal display device can be sufficiently avoided. Moreover, if the said content rate is 60 weight% or less, for example, since the coating liquid for forming a resin sheet becomes the viscosity excellent in handling, and it is excellent also in fluidity | liquidity, coating becomes much simpler.

前記エポキシ系樹脂は、例えば、必要に応じて各種添加物を配合してもよく、前記添加物としては、例えば、硬化剤、硬化促進剤、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等の従来公知の添加物があげられる。これらの添加剤は、例えば、いずれか一種を添加してもよいし、二種類以上を併用してもよい。   For example, the epoxy resin may contain various additives as necessary. Examples of the additive include a curing agent, a curing accelerator, an anti-aging agent, a modifier, a surfactant, a dye, Conventionally known additives such as pigments, discoloration inhibitors, ultraviolet absorbers and the like can be mentioned. Any one of these additives may be added, or two or more of them may be used in combination.

前記硬化剤としては、特に制限されないが、例えば、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸等の有機酸系化合物類、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等のアミン系化合物類等が挙げられる。これらの硬化剤は、例えば、いずれか一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。   The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include organic acid compounds such as tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid, ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine. And amine compounds such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone. Any one of these curing agents may be used, or two or more of them may be used in combination.

また、前述のような硬化剤の他に、例えば、ジシアンジアミド、ポリアミド等のアミド系化合物類、ジヒドラジット等のヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物類、メチルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソプロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、ヘプタデシルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン系化合物類、フェノール系化合物類、ユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類等もあげられる。   In addition to the curing agent as described above, for example, amide compounds such as dicyandiamide and polyamide, hydrazide compounds such as dihydragit, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, ethylimidazole, isopropylimidazole, Imidazole compounds such as 2,4-dimethylimidazole, phenylimidazole, undecylimidazole, heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, methylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, ethylimidazoline, isopropylimidazoline Imidazoline compounds such as 2,4-dimethylimidazoline, phenylimidazoline, undecylimidazoline, heptadecylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline, Examples include enol compounds, urea compounds, polysulfide compounds and the like.

さらに、酸無水物系化合物類等も前記硬化剤として使用でき、このような酸無水物系化合物類は、例えば、変色防止性等の点から好ましい。具体的な例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、クロレンディック酸無水物、メチルナジック酸無水物等があげられる。これらの酸無水物系化合物の中でも、特に、無水フタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物等は、無色系または淡黄色系であり、分子量が約140〜約200のものが好ましい。   Furthermore, acid anhydride compounds and the like can be used as the curing agent, and such acid anhydride compounds are preferable from the viewpoint of, for example, discoloration prevention. Specific examples include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic acid Anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl nadic acid anhydride, dodecenyl succinic anhydride, dichlorosuccinic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, chlorendic acid anhydride, methyl nadic acid anhydride, etc. It is done. Among these acid anhydride compounds, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylnadic acid anhydride, etc. are colorless or light yellow. Preferred are those having a molecular weight of about 140 to about 200.

前記エポキシ系樹脂と硬化剤との配合割合は、特に制限されないが、前記硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポキシ系樹脂のエポキシ基1当量に対して、例えば、酸無水物当量を0.5〜1.5当量となるように配合することが好ましく、さらに好ましくは0.7〜1.2当量である。前記酸無水物の配合量が、0.5当量以上であれば、硬化後の色相がより一層優れ、1.5当量以下であれば、十分な耐湿性を保持することができる。なお、他の硬化剤を使用する場合や、一種類または二種類以上の硬化剤を併用する場合も、例えば、前述のような割合に準じて配合できる。   The blending ratio of the epoxy resin and the curing agent is not particularly limited, but when an acid anhydride curing agent is used as the curing agent, for example, an acid anhydride equivalent relative to 1 equivalent of epoxy group of the epoxy resin. It is preferable to mix | blend so that it may become 0.5-1.5 equivalent, More preferably, it is 0.7-1.2 equivalent. If the blending amount of the acid anhydride is 0.5 equivalents or more, the hue after curing is further excellent, and if it is 1.5 equivalents or less, sufficient moisture resistance can be maintained. In addition, when using another hardening | curing agent, or when using together 1 type, or 2 or more types of hardening | curing agents, it can mix | blend according to the above ratios, for example.

前記硬化促進剤としては、特に制限されないが、例えば、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類、尿素系化合物類等があげられ、この中でも、特にリン化合物類が好ましい。これらの硬化促進剤は、例えば、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。   The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts, organometallic salts, phosphorus compounds, urea compounds, and the like. Phosphorus compounds are preferred. These curing accelerators may be, for example, one type or a combination of two or more types.

前記硬化促進剤の配合割合は、特に制限されず、例えば、エポキシ系樹脂の量や種類に応じて適宜決定できる。具体的には、エポキシ系樹脂100重量部に対して、硬化促進剤が、例えば、0.05〜7.0重量部であることが好ましく、より好ましく0.2〜3.0重量部の範囲である。前記硬化促進剤の配合量が、0.05重量部以上であれば、充分な硬化促進効果を得ることができ、7.0重量部以下であれば、硬化後の色相がより一層優れたものとなる。   The mixing ratio of the curing accelerator is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the amount and type of the epoxy resin, for example. Specifically, the curing accelerator is preferably, for example, 0.05 to 7.0 parts by weight, more preferably 0.2 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. It is. When the blending amount of the curing accelerator is 0.05 parts by weight or more, a sufficient curing accelerating effect can be obtained, and when it is 7.0 parts by weight or less, the hue after curing is further excellent. It becomes.

前記老化防止剤としては、特に制限されないが、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが使用できる。   Although it does not restrict | limit especially as said anti-aging agent, For example, conventionally well-known things, such as a phenol type compound, an amine type compound, an organic sulfur type compound, a phosphine type compound, can be used.

前記変性剤としては、特に制限されないが、例えば、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等の従来公知のものが使用できる。   Although it does not restrict | limit especially as said modifier | denaturant, For example, conventionally well-known things, such as glycols, silicones, alcohol, can be used.

前記界面活性剤の添加は、特に制限されないが、例えば、エポキシ系樹脂を空気に接触させながら硬化させてエポキシ樹脂シートを形成する際に、シート表面を平滑にするために添加できる。前記界面活性剤としては、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤が使用でき、これらの中でも、シリコーン系が好ましい。   The addition of the surfactant is not particularly limited. For example, when the epoxy resin sheet is cured by contacting the epoxy resin with air to form an epoxy resin sheet, it can be added to smooth the sheet surface. As said surfactant, various surfactants, such as silicone type, an acryl type, a fluorine type, can be used, for example, Among these, a silicone type is preferable.

本発明において、前記光拡散剤としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる無機系粒子や、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂等からなる有機系粒子、前記無機系粒子を前記有機系樹脂でコーティングした粒子等があげられる。中でもシリカやアルミナ等の無機系粒子、シリコーン樹脂やアクリル系樹脂等の有機系粒子が好ましい。   In the present invention, examples of the light diffusing agent include inorganic particles such as silica, alumina, titania, zirconia, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide, acrylic resins, melamine resins, and silicones. Examples thereof include organic particles made of resin and the like, and particles obtained by coating the inorganic particles with the organic resin. Of these, inorganic particles such as silica and alumina, and organic particles such as silicone resin and acrylic resin are preferable.

前記光拡散剤の平均粒径は、例えば、十分な光拡散性が得られることから、0.2μm〜100μmの範囲が好ましく、より好ましくは1μm〜80μm、特に好ましくは1μm〜50μmの範囲である。なお、前記光拡散剤の平均粒径の測定方法は、特に制限されないが、例えば、JIS B 9925に基づき、散乱式粒度分布測定装置(例えば、商品名LA-910(堀場製作所製)等)によって測定できる。   The average particle diameter of the light diffusing agent is, for example, preferably in the range of 0.2 μm to 100 μm, more preferably in the range of 1 μm to 80 μm, and particularly preferably in the range of 1 μm to 50 μm because sufficient light diffusibility is obtained. . The method for measuring the average particle diameter of the light diffusing agent is not particularly limited. For example, based on JIS B 9925, a scattering type particle size distribution measuring device (for example, trade name LA-910 (manufactured by Horiba, Ltd.)). It can be measured.

前記光拡散剤は、その屈折率が、前記エポキシ系樹脂の屈折率と相違するものであれば特に制限されないが、前述のように、前記エポキシ系樹脂と前記光拡散剤の屈折率差の絶対値が、0.03〜0.30の範囲であることが好ましく、より好ましくは、0.03〜0.20の範囲である。前記屈折率差の絶対値が0.03〜0.30の範囲であれば、例えば、十分な光拡散機能を付与することができる。なお、前記エポキシ系樹脂の屈折率とは、例えば、光拡散剤を添加せずに前記エポキシ系樹脂を硬化させて形成した硬化層(光拡散剤無添加)が示す屈折率と、前記光拡散剤の屈折率との差の絶対値が、0.03〜0.30の範囲となる組み合わせが好ましい。ここでいう硬化層とは、エポキシ系樹脂の屈折率測定のためにのみ用いられるものであって、本発明の樹脂シートや、その使用、用途等を何ら限定するものではない。   The light diffusing agent is not particularly limited as long as its refractive index is different from that of the epoxy resin, but as described above, the absolute difference in refractive index between the epoxy resin and the light diffusing agent is not limited. The value is preferably in the range of 0.03 to 0.30, more preferably in the range of 0.03 to 0.20. If the absolute value of the refractive index difference is in the range of 0.03 to 0.30, for example, a sufficient light diffusion function can be provided. The refractive index of the epoxy resin is, for example, a refractive index indicated by a cured layer (no light diffusing agent added) formed by curing the epoxy resin without adding a light diffusing agent, and the light diffusion. A combination in which the absolute value of the difference from the refractive index of the agent is in the range of 0.03 to 0.30 is preferable. The term “cured layer” as used herein is used only for the measurement of the refractive index of an epoxy resin, and does not limit the resin sheet of the present invention, its use, use, or the like.

また、テルペン型エポキシ樹脂に対しても、その屈折率差の絶対値が前記範囲である光拡散剤を使用することが好ましい。なお、前記屈折率は、従来公知の方法で設定することができる。   Moreover, it is preferable to use the light diffusing agent whose absolute value of the difference in refractive index is within the above range for the terpene type epoxy resin. The refractive index can be set by a conventionally known method.

本発明の樹脂シートにおいて、光拡散剤の含有割合は、全エポキシ系樹脂に対して、例えば、0.1〜60重量%の範囲であり、より好ましくは0.5〜40重量%、さらに好ましくは1〜30重量%である。   In the resin sheet of the present invention, the content ratio of the light diffusing agent is, for example, in the range of 0.1 to 60% by weight, more preferably 0.5 to 40% by weight, and still more preferably with respect to the total epoxy resin. Is 1 to 30% by weight.

本発明の樹脂シートは、前記エポキシ系樹脂および光拡散剤を含有する単層のエポキシ樹脂層であってもよいし、また、後述するように、前記エポキシ樹脂層を含む積層体であってもよい。   The resin sheet of the present invention may be a single-layer epoxy resin layer containing the epoxy resin and a light diffusing agent, or may be a laminate including the epoxy resin layer as described later. Good.

図1の側面図に、単層のエポキシ樹脂層からなる樹脂シートの一例を示す。図示のように、この樹脂シート1は、エポキシ系樹脂102および光拡散剤101を含む単層のエポキシ樹脂層から構成され、前記エポキシ樹脂層において、前記光拡散剤101が均一に分散されている。   An example of the resin sheet which consists of a single-layer epoxy resin layer is shown in the side view of FIG. As shown in the figure, the resin sheet 1 is composed of a single epoxy resin layer including an epoxy resin 102 and a light diffusing agent 101, and the light diffusing agent 101 is uniformly dispersed in the epoxy resin layer. .

前記エポキシ樹脂層の厚みは、特に制限されず、用途に応じて適宜決定できるが、剛直性または柔軟性、薄型軽量性等の特性の点から、例えば、50μm以上であり、好ましくは50μm〜1mmの範囲、より好ましくは50〜900μmの範囲、特に好ましくは50〜800μmの範囲である。また、特に液晶セル基板等の光学的用途に供する場合は、例えば、50〜800μmの範囲が好ましく、より好ましくは200〜500μmの範囲である。   The thickness of the epoxy resin layer is not particularly limited and can be appropriately determined depending on the application, but is, for example, 50 μm or more, preferably 50 μm to 1 mm from the viewpoint of characteristics such as rigidity, flexibility, thinness and lightness. More preferably, it is the range of 50-900 micrometers, Most preferably, it is the range of 50-800 micrometers. Moreover, especially when using for optical uses, such as a liquid crystal cell board | substrate, the range of 50-800 micrometers is preferable, More preferably, it is the range of 200-500 micrometers.

また、前記エポキシ樹脂層の表面は、平滑であることが好ましい。このように表面を平滑にすることによって、例えば、液晶セル基板として使用する際に、前記表面上への配向膜や透明電極等の形成がより一層容易となるからである。具体的には、前記表面の表面粗さ(Ra)が、例えば、1nm以下であることが好ましい。   The surface of the epoxy resin layer is preferably smooth. By smoothing the surface in this way, for example, when used as a liquid crystal cell substrate, it becomes even easier to form an alignment film, a transparent electrode, etc. on the surface. Specifically, the surface roughness (Ra) of the surface is preferably 1 nm or less, for example.

このような樹脂シートの製造方法は、特に制限されないが、例えば、以下に示す方法によって製造できる。   Although the manufacturing method in particular of such a resin sheet is not restrict | limited, For example, it can manufacture by the method shown below.

テルペン型エポキシ樹脂を含むエポキシ系樹脂と光拡散剤とを混合し、または必要に応じてこれらを適当な溶媒に分散し、エポキシ樹脂塗工液を調製する。そして、これを基板上にシート状に展開し、前記展開層を乾燥や硬化すること等によって皮膜化すればよい。なお、前述のように、溶媒を用いることなく、例えば、前記エポキシ系樹脂と光拡散剤とを混合することによって、光拡散剤が分散されたエポキシ樹脂塗工液を調製することができる。   An epoxy resin containing a terpene type epoxy resin and a light diffusing agent are mixed, or if necessary, these are dispersed in an appropriate solvent to prepare an epoxy resin coating solution. Then, this may be developed into a sheet on a substrate, and the developed layer may be formed into a film by drying or curing. As described above, an epoxy resin coating liquid in which a light diffusing agent is dispersed can be prepared, for example, by mixing the epoxy resin and the light diffusing agent without using a solvent.

前記光拡散剤等を分散させる溶媒としては、特に制限されないが、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等があげられる。   The solvent for dispersing the light diffusing agent and the like is not particularly limited, and examples thereof include toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

前記塗工液の展開方法は、特に制限されず、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレーコート法等の方法があげられ、前記基材表面上に流動展開させ前記展開層を形成すればよい。   The developing method of the coating liquid is not particularly limited, and examples thereof include a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, an extrusion method, a curtain coating method, and a spray coating method. The development layer may be formed by fluid development on the substrate surface.

前記塗工液を展開する基材としては、特に制限されず、例えば、ステンレス等の適当な基材があげられる。また、後述するように、ハードコート層やガスバリア層等の他の層を設ける場合には、これらの層を基板として前記塗工液を展開してもよい。   The substrate on which the coating liquid is developed is not particularly limited, and examples thereof include a suitable substrate such as stainless steel. As will be described later, when other layers such as a hard coat layer and a gas barrier layer are provided, the coating liquid may be developed using these layers as a substrate.

前記展開層の乾燥方法は、特に制限されず、自然乾燥、風乾、加熱乾燥等があげられる。   The method for drying the spreading layer is not particularly limited, and examples include natural drying, air drying, and heat drying.

また、前記展開層または乾燥後のエポキシ系樹脂層に対して、必要に応じて、例えば、加熱処理、光照射処理等の硬化処理を施せばよい。前記テルペン型エポキシ樹脂を含むエポキシ系樹脂の硬化条件は、特に制限されないが、例えば、100〜200℃で1〜2時間硬化させることが好ましい。また、硬化温度は、段階的に昇温させてもよく、例えば、150℃で1時間硬化させた後、引き続き200℃で1時間硬化させてもよい。   Moreover, what is necessary is just to perform hardening processes, such as a heat processing and a light irradiation process, with respect to the said expansion | deployment layer or the epoxy-type resin layer after drying as needed. The curing conditions of the epoxy resin containing the terpene type epoxy resin are not particularly limited, but for example, it is preferably cured at 100 to 200 ° C. for 1 to 2 hours. Further, the curing temperature may be raised stepwise, for example, after curing at 150 ° C. for 1 hour, it may be subsequently cured at 200 ° C. for 1 hour.

また、前述のように本発明の樹脂シートは、前記エポキシ樹脂層を含む積層体でもよい。このような積層体の樹脂シートの一例を、図2の側面図に示す。図示のように、樹脂シート2は、エポキシ樹脂層1、ガスバリア層201およびハードカバー層202を有し、ハードカバー層202上に、ガスバリア層201を介してエポキシ樹脂層1が積層されている。エポキシ樹脂層1は、前記図1と同様であり、エポキシ系樹脂102および光拡散剤101を含み、前記層内において光拡散剤101が均一に分散されている。   Further, as described above, the resin sheet of the present invention may be a laminate including the epoxy resin layer. An example of such a laminate resin sheet is shown in the side view of FIG. As illustrated, the resin sheet 2 includes an epoxy resin layer 1, a gas barrier layer 201, and a hard cover layer 202, and the epoxy resin layer 1 is laminated on the hard cover layer 202 via the gas barrier layer 201. The epoxy resin layer 1 is the same as in FIG. 1 and includes an epoxy resin 102 and a light diffusing agent 101, and the light diffusing agent 101 is uniformly dispersed in the layer.

このようにハードコート層202を、樹脂シートの特に最外層として形成すれば、前記樹脂シートの耐擦傷性等をさらに向上することができる。また、液晶表示装置においては、例えば、水分や酸素が液晶セル基板を透過してセル内に侵入すると、液晶の変質や気泡の形成による外観不良、透明導電膜パターンの断線等が発生するおそれがあるが、前述のように、エポキシ系樹脂層とハードコート層との間にガスバリア層を設ければ、水分やガスの透過を一層防止される。   When the hard coat layer 202 is formed as the outermost layer of the resin sheet as described above, the scratch resistance and the like of the resin sheet can be further improved. In addition, in a liquid crystal display device, for example, when moisture or oxygen penetrates the liquid crystal cell substrate and enters the cell, there is a risk of deterioration of the liquid crystal, appearance of bubbles due to formation of bubbles, disconnection of the transparent conductive film pattern, or the like. However, as described above, if a gas barrier layer is provided between the epoxy resin layer and the hard coat layer, the permeation of moisture and gas is further prevented.

前記樹脂シートは、ハードコート層およびガスバリア層のいずれか一方を有するだけでもよいが、耐薬品性、耐擦傷性および耐湿性を同時に有し、高性能な樹脂シートとなることから、双方を有することが好ましい。ハードコート層とガスバリア層の両方を含む場合、その積層順序は、特に制限されないが、図2に示すように、エポキシ系樹脂層、ガスバリア層、ハードコート層の順序で積層されることが好ましい。特に、前記ハードコート層は、耐衝撃性や耐薬品性等に優れることから、最外層として積層されることが好ましい。また、エポキシ樹脂層1の他方の表面側にも、さらにハードコート層が積層されてもよい。   The resin sheet may have only one of a hard coat layer and a gas barrier layer, but has both chemical resistance, scratch resistance and moisture resistance, and has both because it becomes a high-performance resin sheet. It is preferable. When both the hard coat layer and the gas barrier layer are included, the stacking order is not particularly limited. However, as shown in FIG. In particular, the hard coat layer is preferably laminated as the outermost layer because it is excellent in impact resistance and chemical resistance. Further, a hard coat layer may be further laminated on the other surface side of the epoxy resin layer 1.

前記ハードコート層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等があげられる。また、例えば、ポリアリレート系樹脂、スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリロニトリル系樹脂等も使用できる。これらの中でも、ウレタン系樹脂が好ましく、より好ましくはウレタンアクリレートである。なお、これらの樹脂は、一種類でもよいし、二種類以上を混合したブレンド樹脂であってもよい。   The material for forming the hard coat layer is not particularly limited, and examples thereof include urethane resins, acrylic resins, and polyester resins. Also, for example, polyarylate resins, sulfone resins, amide resins, imide resins, polyethersulfone resins, polyetherimide resins, polycarbonate resins, silicone resins, fluorine resins, polyolefin resins, styrene Resin, vinyl pyrrolidone resin, cellulose resin, acrylonitrile resin and the like can also be used. Among these, urethane resin is preferable, and urethane acrylate is more preferable. These resins may be one kind or a blend resin in which two or more kinds are mixed.

前記ハードコート層は、前記形成材料の他に、例えば、照明光やキーボーダ-等の外部環境が画面上に映りこむ、いわゆるゴースト現象を防止する防眩機能付与を目的として、透明粒子を含んでいてもよい。前記透明粒子の材料としては、例えば、ガラスやシリカ等の無機材料、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、メラニン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ベンゾグアナミン、メラニン・ベンゾグアナミン縮合物、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物等の有機材料等があげられ、その平均粒径は、例えば、0.5〜30μmの範囲であり、好ましくは1〜25μmであり、より好ましくは5〜20μmである。また、前記透明粒子の前記ハードコート層に対する体積比率は、良好な防眩性を付与できることから、1〜50体積%であることが好ましい。なお、前記体積比率は、[透明粒子の体積/ハードコート層の体積]から算出できる。   In addition to the forming material, the hard coat layer contains transparent particles for the purpose of providing an antiglare function for preventing a so-called ghost phenomenon in which an external environment such as illumination light or a keyboard is reflected on the screen. May be. Examples of the material for the transparent particles include inorganic materials such as glass and silica, acrylic resins, polyester resins, epoxy resins, melanin resins, urethane resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, silicone resins, benzoguanamines. , Organic materials such as melanin / benzoguanamine condensate, benzoguanamine / formaldehyde condensate, etc., and the average particle size thereof is, for example, in the range of 0.5 to 30 μm, preferably 1 to 25 μm, more preferably 5 to 20 μm. Moreover, since the volume ratio with respect to the said hard-coat layer of the said transparent particle can provide favorable anti-glare property, it is preferable that it is 1-50 volume%. The volume ratio can be calculated from [volume of transparent particles / volume of hard coat layer].

前記ハードコート層の厚みは、特に制限されないが、通常、製造時の剥離や、剥離の際におけるヒビ割れの発生を防止する点から、例えば、1〜10μmの範囲であり、好ましくは1.5〜8μmの範囲であり、より好ましくは2〜5μmの範囲である。   The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is usually in the range of, for example, 1 to 10 μm, preferably 1.5 from the viewpoint of preventing the occurrence of peeling during production and cracking during peeling. It is the range of -8 micrometers, More preferably, it is the range of 2-5 micrometers.

前記ガスバリア層の種類としては、例えば、有機ガスバリア層と無機ガスバリア層があげられる。前記有機ガスバリア層の形成材料としては、特に制限されないが、例えば、ポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマー、ポリアクリロニトリルやポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料等が使用でき、これらの中でも、高ガスバリア性の点からビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。   Examples of the gas barrier layer include an organic gas barrier layer and an inorganic gas barrier layer. The material for forming the organic gas barrier layer is not particularly limited, but, for example, polyvinyl alcohol and its partially saponified products, vinyl alcohol polymers such as ethylene-vinyl alcohol copolymer, and oxygen permeation such as polyacrylonitrile and polyvinylidene chloride. Small materials can be used, and among these, vinyl alcohol polymers are particularly preferable from the viewpoint of high gas barrier properties.

前記有機ガスバリア層の厚みは、例えば、透明性、着色防止、ガスバリア性等の機能性、薄型化、得られる樹脂シートのフレキシビリティー等の点から、15μm以下であることが好ましく、より好ましくは13μm以下であり、さらに好ましくは2〜10μm、特に好ましくは3〜5μmの範囲である。前記厚みが15μm以下であれば、樹脂シートにおいて、より一層低い黄色度指数(YI値)を維持でき、2μm以上であれば、十分なガスバリア機能が維持される。   The thickness of the organic gas barrier layer is, for example, preferably 15 μm or less from the viewpoint of transparency, coloration prevention, functionality such as gas barrier properties, thinness, flexibility of the obtained resin sheet, and the like. It is 13 micrometers or less, More preferably, it is 2-10 micrometers, Most preferably, it is the range of 3-5 micrometers. If the thickness is 15 μm or less, the resin sheet can maintain a lower yellowness index (YI value), and if it is 2 μm or more, a sufficient gas barrier function is maintained.

一方、無機ガスバリア層の形成材料としては、例えば、珪素酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛酸化物等の透明材料が使用でき、この中でも、例えば、ガスバリア性や基材層への密着性に優れること等から、珪素酸化物や珪素窒化物が好ましい。   On the other hand, as a material for forming the inorganic gas barrier layer, for example, transparent materials such as silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide can be used. Among these, for example, gas barrier properties and adhesion to the base material layer can be used. From the viewpoint of excellent properties, silicon oxide and silicon nitride are preferable.

前記珪素酸化物としては、例えば、珪素原子数に対する酸素原子数の割合が、1.5〜2.0であることが好ましい。このような割合であれば、例えば、前記無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点において、より一層優れるからである。なお、前記珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が2.0となる。   As said silicon oxide, it is preferable that the ratio of the number of oxygen atoms with respect to the number of silicon atoms is 1.5-2.0, for example. This is because, at such a ratio, for example, the inorganic gas barrier layer is further excellent in terms of gas barrier properties, transparency, surface flatness, flexibility, film stress, cost, and the like. In the silicon oxide, the maximum value of the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms is 2.0.

前記珪素窒化物としては、例えば、珪素原子数に対する窒素原子数の割合が1.0〜4/3であることが好ましい。   As the silicon nitride, for example, the ratio of the number of nitrogen atoms to the number of silicon atoms is preferably 1.0 to 4/3.

前記無機ガスバリア層の厚みは、特に制限されないが、例えば、5〜200nmの範囲であることが好ましい。前記厚みが5nm以上であれば、例えば、より一層優れたガスバリア性が得られ、前記厚みが200nm以下であれば、透明性、屈曲性、膜応力、コストの点にも優れる。   The thickness of the inorganic gas barrier layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 200 nm, for example. If the thickness is 5 nm or more, for example, more excellent gas barrier properties can be obtained, and if the thickness is 200 nm or less, the transparency, flexibility, film stress, and cost are also excellent.

このような樹脂シートの形成方法は特に制限されないが、例えば、前述のような基材上に、ハードコート層を形成してから、その上にガスバリア層を形成し、さらにエポキシ系樹脂層を形成すればよい。   The method for forming such a resin sheet is not particularly limited. For example, after forming a hard coat layer on the base material as described above, a gas barrier layer is formed thereon, and an epoxy resin layer is further formed. do it.

前記ハードコート層およびガスバリア層の形成方法は、特に制限されず、従来公知の方法が採用できる。例えば、前記形成材料を前記溶媒に混合して塗工液を調製し、前述のような塗工方法によって基材上に塗布し、乾燥させればよい。また、必要に応じて、加熱処理、光照射処理等の硬化処理を行ってもよい。   The formation method in particular of the said hard-coat layer and a gas barrier layer is not restrict | limited, A conventionally well-known method is employable. For example, the forming material may be mixed with the solvent to prepare a coating solution, which may be applied on a substrate by the above-described coating method and dried. Moreover, you may perform hardening processes, such as heat processing and a light irradiation process, as needed.

また、ガスバリア層を含む樹脂シートの場合は、例えば、基材上に、前記ハードコート層を形成し、その上にガスバリア層を形成してから、さらに前記エポキシ系樹脂層を形成すればよい。前記ガスバリア層の形成方法は、特に制限されず、例えば、従来公知の方法を適宜採用できる。   In the case of a resin sheet including a gas barrier layer, for example, the hard coat layer may be formed on a substrate, the gas barrier layer may be formed thereon, and then the epoxy resin layer may be further formed. The method for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and for example, a conventionally known method can be appropriately employed.

以上に述べたような本発明の樹脂シートは、そのガラス転移温度(Tg)が、例えば、170℃以上であり、好ましくは180℃以上、より好ましくは190℃以上、特に好ましくは200℃以上である。また、前記エポキシ系樹脂層のガラス転移温度(Tg)も同様の範囲であることが好ましく、170℃以上であれば、例えば、無機ガスバリア層の積層時等に反りや変形をより一層防止できる。   The resin sheet of the present invention as described above has a glass transition temperature (Tg) of, for example, 170 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher, more preferably 190 ° C. or higher, particularly preferably 200 ° C. or higher. is there. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature (Tg) of the said epoxy-type resin layer is also the same range, and if it is 170 degreeC or more, for example, the lamination | stacking of an inorganic gas barrier layer, etc. can prevent warping and a deformation | transformation further.

また、その光透過率が、例えば、88%以上であり、好ましくは89%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは91%以上、特に100%もしくは100%に近いことが好ましい。前記光透過率が88%以上であれば、この樹脂シートを用いて液晶表示装置等の画像表示装置を組み立てた際に、表示が十分に明るくなり、より一層表示品位が向上する。   The light transmittance is, for example, 88% or more, preferably 89% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 91% or more, and particularly preferably close to 100% or 100%. When the light transmittance is 88% or more, when an image display device such as a liquid crystal display device is assembled using this resin sheet, the display becomes sufficiently bright and the display quality is further improved.

前記光透過率は、例えば、高速分光光度計を用いてλ=550nmの透過率を測定することによって求めることができる。   The light transmittance can be obtained, for example, by measuring the transmittance at λ = 550 nm using a high-speed spectrophotometer.

前記破断強度とは、前記樹脂シートの裏面に深さ約0.3μmの傷をつけ、前記樹脂シートの裏面側に表面無垢平板を、表面側に直径20mmの孔を有する平板を積層し、この積層体を水平となるように配置して、その四隅を固定した後、前記孔を有する平板の垂直方向から、前記孔内における樹脂シートの露出部分の中心に、直径10mmのステンレス製球により荷重を加えることにより、前記樹脂シートが破断する際の力をいう。   The breaking strength refers to a scratch having a depth of about 0.3 μm on the back side of the resin sheet, a solid surface flat plate on the back side of the resin sheet, and a flat plate having a hole with a diameter of 20 mm on the front side. After the laminated body is arranged horizontally and the four corners are fixed, a load is applied by a stainless steel ball having a diameter of 10 mm to the center of the exposed portion of the resin sheet in the hole from the vertical direction of the flat plate having the hole. Is the force when the resin sheet breaks.

前記破断強度の測定方法について、具体的に、図3に基づいて説明する。同図(A)は、破断強度の測定装置の一例を示す斜視図であって、同図(B)は、前記(A)のI−I方向の断面図であり、切断面以外の部位は省略している。まず、樹脂シート11を約30mm×30mmの大きさに切断し、その裏面に深さ約0.3μmの傷をつけておく。具体的には、孔14内を示す図4の平面図に示すように、少なくとも、孔14内における樹脂シート11の露出部分のうち中心の15mm×15mmの範囲(図4において11a:点線内部)の裏面に傷を付ければよい。このような深さ約0.3μmの傷は、例えば、粒度#2000のペーパーで前記裏面を擦ることによって形成できる。なお、この破断強度を測定するにあたっては、予め前記樹脂シートの裏面につけた傷の深さを、例えば、表面粗さ計等を用いて従来公知の方法で確認しておく。   The method for measuring the breaking strength will be specifically described with reference to FIG. (A) is a perspective view showing an example of a breaking strength measuring device, (B) is a cross-sectional view in the II direction of (A), and parts other than the cut surface are shown in FIG. Omitted. First, the resin sheet 11 is cut into a size of about 30 mm × 30 mm, and a scratch having a depth of about 0.3 μm is made on the back surface thereof. Specifically, as shown in the plan view of FIG. 4 showing the inside of the hole 14, at least a range of 15 mm × 15 mm in the center of the exposed portion of the resin sheet 11 in the hole 14 (11a in FIG. 4: inside the dotted line) What is necessary is just to scratch the back of the. Such a scratch having a depth of about 0.3 μm can be formed, for example, by rubbing the back surface with a paper having a particle size of # 2000. In measuring the breaking strength, the depth of the scratches made on the back surface of the resin sheet in advance is confirmed by a conventionally known method using, for example, a surface roughness meter.

そして、この傷をつけた裏面が接触するように、前記樹脂シート1を表面無垢平板12上に積層し、さらに、その上に孔14を有する平板13を積層する。そして、この積層体を水平に設置して、その四隅を止め具15で固定する。なお、前記孔14の孔径は直径20mmであり、前記孔14は前記平板13の略中央に設けられている。つぎに、前記積層体の垂直方向から(図3において矢印A)、前記孔14の内部に露出した樹脂シート11の中央部に、棒17の先端に備え付けられた直径10mmのステンレス製ボール16を100mm/minの速度で押し当て荷重をかける。そして、前記樹脂シート11が破断した際の力を破断強度とすればよい。なお、この測定方法は、前記破断強度の測定のためにのみ用いられるものであって、本発明の樹脂シートや、その使用、用途等を何ら限定するものではない。   And the resin sheet 1 is laminated | stacked on the surface solid flat plate 12, and the flat plate 13 which has the hole 14 is laminated | stacked on it so that the back surface which gave this damage | wound may contact. And this laminated body is installed horizontally and the four corners are fixed with the stoppers 15. The hole 14 has a diameter of 20 mm, and the hole 14 is provided substantially at the center of the flat plate 13. Next, from the vertical direction of the laminate (arrow A in FIG. 3), a stainless steel ball 16 having a diameter of 10 mm provided at the tip of the rod 17 is provided at the center of the resin sheet 11 exposed inside the hole 14. A pressing load is applied at a speed of 100 mm / min. And what is necessary is just to let the force at the time of the said resin sheet 11 fracture | rupture be fracture strength. This measuring method is used only for the measurement of the breaking strength, and does not limit the resin sheet of the present invention, its use, use, or the like.

前記表面無垢平板や孔を有する平板の大きさは、特に制限されず、例えば、50mm×50mm〜200mm×200mmの範囲であり、その厚みも、特に制限されないが、例えば、5mm〜30mm程度であることが好ましい。   The size of the solid surface flat plate or the flat plate having holes is not particularly limited, and is, for example, in the range of 50 mm × 50 mm to 200 mm × 200 mm, and the thickness is not particularly limited, but is, for example, about 5 mm to 30 mm. It is preferable.

本発明の樹脂シートは、各種の用途に用いることができ、例えば、液晶セル基板、ELディスプレイ用基板等の画像表示装置用基板や、太陽電池用基板としても好ましく用いることができる。このように各種基板として使用する場合、例えば、従来から使用されているガラス基板等の透明基板と同様にして使用すればよい。   The resin sheet of this invention can be used for various uses, for example, can also be used preferably as a substrate for image displays, such as a liquid crystal cell substrate and a substrate for EL displays, and a substrate for solar cells. When used as various substrates in this way, for example, it may be used in the same manner as a conventionally used transparent substrate such as a glass substrate.

また、本発明の液晶セル基板は液晶表示装置に、本発明のELディスプレイ用基板はEL表示装置に、本発明の太陽電池用基板は太陽電池基板に使用できる。これらの各種基板は、例えば、従来の各種表示装置や太陽電池において使用されているガラス基板等の代替品として使用することができる。そして、このような本発明の各種基板を使用すれば、例えば、十分な強度を維持し、かつ薄型化や軽量化を実現できるのである。   The liquid crystal cell substrate of the present invention can be used for a liquid crystal display device, the EL display substrate of the present invention can be used for an EL display device, and the solar cell substrate of the present invention can be used for a solar cell substrate. These various substrates can be used, for example, as substitutes for glass substrates used in various conventional display devices and solar cells. If such various substrates of the present invention are used, for example, a sufficient strength can be maintained, and a reduction in thickness and weight can be realized.

液晶表示装置は、一般に、電極を備えた液晶セル基板に液晶が保持された液晶セル、偏光板、反射板およびバックライトを備え、駆動回路等を組み込んで構成されている。本発明の液晶表示装置においては、前記本発明の樹脂シートを液晶セル基板として使用すればよく、この点を除いて特に限定はされず、さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い。従って、本発明の液晶表示装置においては、前記本発明の液晶セル基板に、さらに、例えば、視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光と板の間に設ける補償用位相差板等の光学部品等を組み合わせてもよい。   A liquid crystal display device generally includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is held on a liquid crystal cell substrate having electrodes, a polarizing plate, a reflector, and a backlight, and is configured by incorporating a drive circuit and the like. In the liquid crystal display device of the present invention, the resin sheet of the present invention may be used as a liquid crystal cell substrate, and there is no particular limitation except for this point, and various conventionally known components may be provided. Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, the liquid crystal cell substrate of the present invention is further provided with, for example, a light diffusing plate, an antiglare layer, an antireflection film, a protective layer, a protective plate provided on the polarizing plate on the viewing side, Or you may combine optical components, such as a phase difference plate for compensation provided between a liquid crystal cell and the polarization | polarized-light side of a visual recognition side, and a board.

EL表示装置は、一般に、透明基板(ELディスプレイ用基板)上に、透明電極と、発光体(有機EL発光体)を含む有機発光層と、金属電極とが順に積層されることによって構成されている。本発明のEL表示装置においては、前記本発明の樹脂シートをELディスプレイ用基板として使用すればよく、この点を除いて特に限定はされず、さらに従来公知の各種構成部品を備えても良い。   An EL display device is generally configured by sequentially laminating a transparent electrode, an organic light emitting layer including a light emitter (organic EL light emitter), and a metal electrode on a transparent substrate (EL display substrate). Yes. In the EL display device of the present invention, the resin sheet of the present invention may be used as an EL display substrate. Except for this point, there is no particular limitation, and various conventionally known components may be provided.

前記有機発光層は、種々の発光体を含む有機薄膜の積層体である。このような積層体としては、例えば、トリフェニルアミン誘導体等を含む正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、前述のような発光層とペリレン誘導体等を含む電子注入層との積層体、前述のような正孔注入層と発光層と電子注入層の積層体等があげられ、様々な組み合わせが知られている。   The organic light emitting layer is a laminate of organic thin films containing various light emitters. Examples of such a laminate include a laminate of a hole injection layer containing a triphenylamine derivative and a light emitting layer made of a fluorescent organic solid such as anthracene, a light emitting layer and a perylene derivative as described above, and the like. Various combinations are known, such as a laminate with an electron injection layer containing, a laminate with a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer as described above.

有機EL表示装置は、通常、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質等の発光体を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射するという原理によって発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度とは、印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。   In organic EL display devices, holes and electrons are usually injected into an organic light emitting layer by applying a voltage to a transparent electrode and a metal electrode, and the energy generated by recombination of these holes and electrons is a fluorescent substance. The phosphor emits light based on the principle that it emits light when the excited phosphor returns to the ground state. The mechanism of recombination in the middle is the same as that of a general diode, and as can be expected from this, the current and the light emission intensity show strong nonlinearity with rectification with respect to the applied voltage.

有機EL表示装置においては、有機発光層における発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要であり、通常、酸化インジウムスズ(ITO)等の透明導電体で形成される透明電極を陽極として使用する。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Mg−Ag、Al−Li等の金属電極が使用される。   In an organic EL display device, in order to extract light emitted from the organic light emitting layer, at least one of the electrodes needs to be transparent, and is usually a transparent electrode formed of a transparent conductor such as indium tin oxide (ITO). Is used as the anode. On the other hand, in order to facilitate electron injection and increase luminous efficiency, it is important to use a material having a small work function for the cathode, and usually metal electrodes such as Mg—Ag and Al—Li are used.

このような構成の有機EL表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み10nm程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。このような薄さであれば、例えば、前記有機発光層も透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過することができる。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射して、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極において反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認した際に、有機EL表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。   In the organic EL display device having such a configuration, the organic light emitting layer is preferably formed of an extremely thin film having a thickness of about 10 nm, for example. With such a thin thickness, for example, the organic light emitting layer can transmit light almost completely, like the transparent electrode. As a result, light that is incident from the surface of the transparent substrate when not emitting light, passes through the transparent electrode and the organic light-emitting layer, and is reflected by the metal electrode is again emitted to the surface side of the transparent substrate. In addition, the display surface of the organic EL display device looks like a mirror surface.

本発明のEL表示装置が、例えば、電圧印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備え、かつ、有機発光層の裏面側に金属電極を備えた有機EL表示装置の場合、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、前記透明電極と偏光板との間に位相板を設けることが好ましい。   In the case where the EL display device of the present invention is an organic EL display device provided with a transparent electrode on the front surface side of the organic light emitting layer that emits light by voltage application and a metal electrode on the back surface side of the organic light emitting layer, for example, It is preferable that a polarizing plate is provided on the surface side and a phase plate is provided between the transparent electrode and the polarizing plate.

前記位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光さる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板として1/4波長板を使用し、かつ、偏光板と位相板との偏光方向のなす角を、π/4に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機EL表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみを透過できる。この直線偏光は位相板によって一般に楕円偏光となるが、特に位相板が1/4波長板であり、しかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ/4のときには円偏光となる。この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板によって再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているため、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。   Since the phase plate and the polarizing plate have an action of polarizing light incident from the outside and reflected by the metal electrode, there is an effect that the mirror surface of the metal electrode is not visually recognized by the polarization action. In particular, if a quarter-wave plate is used as the phase plate and the angle between the polarization directions of the polarizing plate and the phase plate is adjusted to π / 4, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded. . That is, external light incident on the organic EL display device can transmit only the linearly polarized light component by the polarizing plate. This linearly polarized light is generally elliptically polarized light depending on the phase plate, but is particularly circularly polarized when the phase plate is a quarter wave plate and the angle between the polarization directions of the polarizing plate and the phase plate is π / 4. For example, the circularly polarized light is transmitted through the transparent substrate, the transparent electrode, and the organic thin film, is reflected by the metal electrode, is again transmitted through the organic thin film, the transparent electrode, and the transparent substrate, and becomes linearly polarized light again by the phase plate. And since this linearly polarized light is orthogonal to the polarization direction of a polarizing plate, it cannot permeate | transmit a polarizing plate. As a result, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded.

以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、特に記載しない限り、「部」とは「重量部」を示す。
(実施例1〜7、比較例1)
テルペン型エポキシ樹脂として前記式(1)で示されるテルペンノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量253)を、他のエポキシ系樹脂(脂環式)として下記式(2)で示される3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを、硬化剤として下記式(3)で示されるメチルヘキサヒドロフタル酸無水物を、硬化触媒として下記式(4)で示されるテトラ−n−ブチルホスホニウムo,o−ジエチルホスホロジチオエートをそれぞれ使用し、これらを下記表1に示す組成となるように攪拌混合してエポキシ樹脂液を調製した。なお、前記式(1)で示されるエポキシ樹脂は、nの平均値が1.3である。このエポキシ樹脂液840部に、さらに、光拡散剤として平均粒径12nmのシリカ粒子8.4部添加し、攪拌混合して光拡散剤含有エポキシ樹脂液を調製した。前記シリカ粒子は、屈折率1.46、比重2.2である。一方、下記式(5)で示されるウレタンアクリレートをトルエンに懸濁し、17重量%のウレタンアクリレート溶液を調製し、また、ポリビニルアルコール(PVA)(重合度:1800)を水に懸濁し、5.5重量%のPVA水溶液を調製した。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “parts” means “parts by weight”.
(Examples 1-7, Comparative Example 1)
The terpene novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 253) represented by the above formula (1) as the terpene type epoxy resin, and the 3,4-epoxycyclohexyl represented by the following formula (2) as another epoxy resin (alicyclic) Methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate as a curing agent, methylhexahydrophthalic anhydride represented by the following formula (3) as a curing agent, and tetra-n-butylphosphonium o represented by the following formula (4) as a curing catalyst , O-diethyl phosphorodithioate was used, and these were stirred and mixed so as to have the composition shown in Table 1 to prepare an epoxy resin solution. The epoxy resin represented by the formula (1) has an average value of n of 1.3. To this 840 parts of the epoxy resin liquid, 8.4 parts of silica particles having an average particle diameter of 12 nm were further added as a light diffusing agent, and mixed by stirring to prepare a light diffusing agent-containing epoxy resin liquid. The silica particles have a refractive index of 1.46 and a specific gravity of 2.2. On the other hand, a urethane acrylate represented by the following formula (5) is suspended in toluene to prepare a 17% by weight urethane acrylate solution, and polyvinyl alcohol (PVA) (degree of polymerization: 1800) is suspended in water. A 5 wt% PVA aqueous solution was prepared.

Figure 2005037737
Figure 2005037737

Figure 2005037737
Figure 2005037737

Figure 2005037737
Figure 2005037737

Figure 2005037737
(表1)
A(重量部) B(重量部) C(重量部) D(重量部) 屈折率
実施例1 26.6 26.6 48.5 1.0 1.51
実施例2 14.9 34.7 53.0 1.0 1.50
実施例3 40.0 17.2 44.9 1.0 1.51
実施例4 9.6 38.4 54.7 1.0 1.49
実施例5 3.3 43.3 56.2 1.0 1.49
実施例6 56.2 6.3 39.1 1.0 1.52
実施例7 63.3 1.3 36.9 1.0 1.52
実施例8 26.6 26.6 48.5 1.0 1.51
実施例9 26.6 26.6 48.5 1.0 1.51
比較例1 0 45.1 53.9 1.0 1.49
A:テルペン型エポキシ樹脂
B:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
C:メチルヘキサヒドロフタル酸無水物
D:テトラ−n−ブチルホスホニウムo,o−ジエチルホスホロジチオエート
屈折率:光拡散剤無添加エポキシ樹脂層の屈折率

そして、図5に例示した装置を用いて、流延法に従い、エポキシ系樹脂層とガスバリア層とハードコート層との積層体である、前記図2に示す樹脂シートを作製した。図5に示す製造装置は、駆動ドラム(22)、従動ドラム(23)、前記両ドラムを介して矢印方向に一定速度で走行するステンレス製エンドレスベルト(21)、ハードコート層塗布用ダイ(24)、ガスバリア層塗布用ダイ(25)、エポキシ樹脂塗布用ダイ(26)、UV硬化装置(28)、乾燥機(29)、(30)を備える。
Figure 2005037737
(Table 1)
A (parts by weight) B (parts by weight) C (parts by weight) D (parts by weight) Refractive index
Example 1 26.6 26.6 48.5 1.0 1.51
Example 2 14.9 34.7 53.0 1.0 1.50
Example 3 40.0 17.2 44.9 1.0 1.51
Example 4 9.6 38.4 54.7 1.0 1.49
Example 5 3.3 43.3 56.2 1.0 1.49
Example 6 56.2 6.3 39.1 1.0 1.52
Example 7 63.3 1.3 36.9 1.0 1.52
Example 8 26.6 26.6 48.5 1.0 1.51
Example 9 26.6 26.6 48.5 1.0 1.51
Comparative Example 1 0 45.1 53.9 1.0 1.49
A: Terpene type epoxy resin B: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate C: Methyl hexahydrophthalic anhydride D: Tetra-n-butylphosphonium o, o-diethyl phosphorodithioate Refractive index: Refractive index of epoxy resin layer without light diffusing agent

And the resin sheet shown in the said FIG. 2 which is a laminated body of an epoxy resin layer, a gas barrier layer, and a hard-coat layer was produced according to the casting method using the apparatus illustrated in FIG. The manufacturing apparatus shown in FIG. 5 includes a drive drum (22), a driven drum (23), a stainless steel endless belt (21) that travels at a constant speed in the direction of the arrow through the two drums, and a hard coat layer coating die (24). ), Gas barrier layer coating die (25), epoxy resin coating die (26), UV curing device (28), dryers (29), (30).

まず、前記ウレタンアクリレート溶液を、ダイ(24)よりエンドレスベルト(21)表面に走行速度0.3m/分で流延塗布し、風乾してトルエンを揮発させた後、これをUV硬化装置(28)により硬化させ、膜厚2.0μmのハードコート層(33)を形成した。続いて、PVA水溶液をダイ(25)よりハードコート層(33)上に走行速度0.3m/分で流延塗布し、乾燥機(29)を用いて100℃で10分間乾燥させ、膜厚3.7μmのガスバリア層(34)を形成した。さらに、前記光拡散剤含有エポキシ樹脂液を、ダイ(26)よりガスバリア層(34)上に走行速度0.3m/分で流延塗布し、前記乾燥機(30)を用いて150℃で30分間硬化させ、膜厚400μmのエポキシ系樹脂層(39)を形成した。このようにして、ハードコート層(33)上に、ガスバリア層(34)を介して、光拡散剤が均一に分散されたエポキシ系樹脂層(39)が積層された積層体(40)が得られた。なお、前記光拡散剤を含有させない以外は、同様にして光拡散剤無添加エポキシ系樹脂層を形成して、その屈折率を測定した結果を、前記表1にあわせて示す(以下、同様)。   First, the urethane acrylate solution was cast and applied from the die (24) to the surface of the endless belt (21) at a running speed of 0.3 m / min, air-dried to volatilize toluene, and then the UV curable apparatus (28 ) To form a hard coat layer (33) having a thickness of 2.0 μm. Subsequently, the aqueous PVA solution was cast and applied from the die (25) onto the hard coat layer (33) at a running speed of 0.3 m / min, and dried at 100 ° C. for 10 minutes using the dryer (29). A 3.7 μm gas barrier layer (34) was formed. Further, the light diffusing agent-containing epoxy resin liquid is cast-applied from the die (26) onto the gas barrier layer (34) at a running speed of 0.3 m / min, and 30 ° C. at 150 ° C. using the dryer (30). The epoxy resin layer (39) having a thickness of 400 μm was formed by curing for minutes. In this way, a laminate (40) is obtained in which the epoxy resin layer (39) in which the light diffusing agent is uniformly dispersed is laminated on the hard coat layer (33) via the gas barrier layer (34). It was. In addition, except not containing the said light diffusing agent, the result of having similarly formed the light diffusing agent addition epoxy-type resin layer and measuring the refractive index is shown according to the said Table 1 (hereinafter the same). .

つぎに、積層体(40)を前記エンドレスベルトから剥離し、窒素置換により酸素濃度0.5%とした雰囲気下、ガラス板上で180℃×0.5時間放置し、アフターキュアを行った。このようにして得られた積層体を樹脂シート(実施例1〜7および比較例1)とした。
(実施例8)
光拡散剤として、シリカ粒子の代わりに、平均粒径4μm、屈折率1.45のシロセスキシロキサン(商品名トスパール145:東芝シリコーン社製)を使用し、その添加量を7.56部とした以外は、前記実施例1と同様にして樹脂シートを作製した。
(実施例9)
光拡散剤として、シリカ粒子の代わりに、平均粒径3μm、屈折率1.52のベンゾクアナミン・メラミン・ホルムアミド縮合物(商品名エポスタM30:日本触媒社製)を使用し、その添加量を7.56部とした以外は、前記実施例1と同様にして樹脂シートを作製した。
Next, the laminate (40) was peeled off from the endless belt and left on a glass plate at 180 ° C. for 0.5 hours in an atmosphere in which the oxygen concentration was changed to 0.5% by nitrogen substitution, and after-curing was performed. The laminate thus obtained was used as a resin sheet (Examples 1 to 7 and Comparative Example 1).
(Example 8)
As the light diffusing agent, silsesquisiloxane having an average particle diameter of 4 μm and a refractive index of 1.45 (trade name Tospearl 145: manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) was used instead of silica particles, and the addition amount was 7.56 parts. A resin sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above.
Example 9
As the light diffusing agent, a benzoquamine / melamine / formamide condensate (trade name: Eposta M30: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) having an average particle diameter of 3 μm and a refractive index of 1.52 is used instead of silica particles. A resin sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was 56 parts.

以上のようにして得られた実施例1〜9、比較例1の樹脂シートについて、以下の評価試験を行った。   The following evaluation tests were performed on the resin sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 obtained as described above.

1.ガラス転移温度(℃)
前記各樹脂シートについて、粘男性スペクトロメーター装置(商品名Ares;レオメトリックサイエンティフィック社製)を用いて粘弾性スペクトルを測定し、tanδのピーク値をガラス転移温度(Tg)とした。
1. Glass transition temperature (℃)
About each said resin sheet, a viscoelastic spectrum was measured using the viscometer spectrometer apparatus (brand name Ares; product made from a rheometric scientific company), and the peak value of tan-delta was made into the glass transition temperature (Tg).

2.光透過率(%)
前記各樹脂シートについて、高速分光光度計(商品名DOT−3C;村上色彩技術研究所製)を用いてλ=550nmの透過率を測定した。
2. Light transmittance (%)
About each said resin sheet, the transmittance | permeability of (lambda) = 550nm was measured using the high-speed spectrophotometer (brand name DOT-3C; Murakami Color Research Laboratory make).

3.破断強度(N)
前記樹脂シートについて、オートグラフ(島津製作所製)を用いて、前述のような図3に例示した測定方法により、樹脂シートの破断時の力を測定した。なお、表面無垢平板12、直径20mmの孔を有する平板13の厚みはいずれも30mmとし、その材質はいずれもステンレスとした。また、前記樹脂シート40の裏面(ハードコート層33の裏面)に粒度♯2000のペーパーで傷をつけた。そして、その傷の深さを、ランダムに5点、粗さ計(商品名P−11:テンコール社製)によって測定したところ、いずれの点も0.3μmであった。なお、いずれの樹脂シートも同様の結果であった。
3. Breaking strength (N)
About the said resin sheet, the force at the time of the fracture | rupture of a resin sheet was measured by the measuring method illustrated in FIG. 3 as mentioned above using the autograph (made by Shimadzu Corporation). The thickness of the solid surface flat plate 12 and the flat plate 13 having a hole with a diameter of 20 mm was 30 mm, and the material was stainless steel. Further, the back surface of the resin sheet 40 (the back surface of the hard coat layer 33) was scratched with paper having a particle size of # 2000. And when the depth of the damage | wound was measured with 5 points | pieces and the roughness meter (brand name P-11: product made from a Tencor company) at random, all the points were 0.3 micrometer. In addition, all the resin sheets were the same result.

4.ギラツキの評価
前記各樹脂シートを液晶セル基板として使用し、従来公知の方法で液晶表示装置を作製した。そして、表示画面のギラツキを目視で観察した。
4). Evaluation of glare Using each of the resin sheets as a liquid crystal cell substrate, a liquid crystal display device was produced by a conventionally known method. And the glare of the display screen was observed visually.

5.総合評価
前記1〜4の評価結果から、各樹脂シートを液晶セル基板として使用する場合の実用性を下記評価基準に基づき評価した。
5. Comprehensive evaluation From the evaluation results 1 to 4, the practicality of using each resin sheet as a liquid crystal cell substrate was evaluated based on the following evaluation criteria.

A : ガラス転移点、光透過率、破断強度、ギラツキの評価が全て良好であった。   A: Evaluation of glass transition point, light transmittance, breaking strength, and glare were all good.

B : ガラス転移点、光透過率、破断強度、ギラツキのうち1つが実用面で耐えうるが劣っていた。   B: One of glass transition point, light transmittance, breaking strength, and glare can withstand practical use but is inferior.

C : ガラス転移点、光透過率、破断強度、ギラツキの評価のうち2つが実用面で耐えうるが、劣っていた。   C: Two of the evaluations of glass transition point, light transmittance, breaking strength, and glare can be practically used, but they are inferior.

D : ガラス転移点、光透過率、破断強度、ギラツキの評価のうち少なくとも1つが実用面で絶えられないレベルであった。   D: At least one of the evaluation of glass transition point, light transmittance, breaking strength, and glare was a level that could not be continued in practical use.

これらの結果を下記表2に示す。   These results are shown in Table 2 below.

Figure 2005037737
前記表2に示すように、テルペン型エポキシ樹脂を含まない比較例1の樹脂シートは、ガラス転移温度(Tg)および光透過性は優れるものの、破断強度が15Nと低い値であり、強靭性が不十分な結果であった。そして、この比較例1の樹脂シートを用いて液晶表示装置を組み立て、運送した際には、前記樹脂シートが割れるという現象が見られた。これに対して、実施例1〜9の樹脂シートは、ガラス転移温度(Tg)および光透過性に優れるだけでなく、さらに優れた破断強度も併せ持つという特性を示した。このため、例えば、液晶セル基板等に適用すれば、耐熱性、光透過性、耐熱性、強靭性に優れ、軽量化や薄型化の液晶表示装置の提供が可能になる。これらの実施例の中でも、特に、エポキシ樹脂液におけるテルペン型エポキシ樹脂の含有割合を12〜28%に設定した実施例1、2、8、9においては、透過率およびガラス転移温度が高く、耐熱性と強靭性のバランスに優れた樹脂シートを得ることができた。
Figure 2005037737
As shown in Table 2, the resin sheet of Comparative Example 1 that does not contain a terpene type epoxy resin has excellent glass transition temperature (Tg) and light transmittance, but has a low breaking strength of 15 N and high toughness. The result was insufficient. When the liquid crystal display device was assembled and transported using the resin sheet of Comparative Example 1, a phenomenon that the resin sheet cracked was observed. On the other hand, the resin sheet of Examples 1-9 showed the characteristic that it not only was excellent in glass transition temperature (Tg) and light transmittance, but also had the outstanding breaking strength. For this reason, for example, when applied to a liquid crystal cell substrate or the like, it is possible to provide a liquid crystal display device that is excellent in heat resistance, light transmittance, heat resistance, and toughness and is light and thin. Among these examples, in Examples 1, 2, 8, and 9 in which the content ratio of the terpene type epoxy resin in the epoxy resin liquid is set to 12 to 28%, the transmittance and the glass transition temperature are high, and the heat resistance is high. Resin sheet excellent in balance between strength and toughness could be obtained.

以上のように、本発明の樹脂シートによれば、テルペン型エポキシ樹脂を含むため、薄型化、軽量化が可能であり、かつ高い光透過率および優れた強度を示す。そして、さらに光拡散剤が均一に分散されている、例えば、液晶表示装置の液晶セル基板として使用する際に、照明光などの外部光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止することができる。また、前記樹脂シート自体に光拡散機能が付与されているため、例えば、光拡散シート等を別途設ける必要がなく、液晶セルの薄型化、軽量化も可能になる。   As described above, according to the resin sheet of the present invention, since it contains a terpene type epoxy resin, it can be reduced in thickness and weight, and exhibits high light transmittance and excellent strength. Further, when the light diffusing agent is further uniformly dispersed, for example, when used as a liquid crystal cell substrate of a liquid crystal display device, glare caused by external light such as illumination light or a backlight built in the liquid crystal display device is prevented. be able to. Further, since the resin sheet itself has a light diffusion function, for example, it is not necessary to separately provide a light diffusion sheet or the like, and the liquid crystal cell can be made thinner and lighter.

本発明の樹脂シートの一実施形態を示す側面図である。It is a side view which shows one Embodiment of the resin sheet of this invention. 本発明の樹脂シートのその他の実施形態を示す側面図である。It is a side view which shows other embodiment of the resin sheet of this invention. 本発明において使用する強度測定装置の模式図であって、(A)はその斜視図であり、(B)は部分的な断面図である。It is a schematic diagram of the intensity | strength measuring apparatus used in this invention, Comprising: (A) is the perspective view, (B) is a fragmentary sectional view. 前記強度測定装置に供する際の、本発明の樹脂シートの部分的な平面図である。It is a partial top view of the resin sheet of this invention when using for the said intensity | strength measuring apparatus. 本発明の一実施例における、樹脂シートの製造工程を示す側面図である。It is a side view which shows the manufacturing process of the resin sheet in one Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、2、11:樹脂シート
101:光拡散剤
102:エポキシ系樹脂
201:ガスバリア層
202:ハードコート層
12:表面無垢平板
13:平板
14:孔
15:止め具
16:ステンレス球
17:支持棒
21:エンドレスベルト
22:駆動ドラム
23:従動ドラム
24、25、26、27:ダイ
28:UV硬化装置
29〜32:乾燥機
39:光拡散剤が均一に分散されたエポキシ系樹脂層
1, 2, 11: Resin sheet 101: Light diffusing agent 102: Epoxy resin 201: Gas barrier layer 202: Hard coat layer 12: Solid surface flat plate 13: Flat plate 14: Hole 15: Stopper 16: Stainless steel ball 17: Support rod 21: Endless belt 22: Drive drum 23: Driven drums 24, 25, 26, 27: Die 28: UV curing devices 29-32: Dryer 39: Epoxy resin layer in which the light diffusing agent is uniformly dispersed

Claims (16)

エポキシ系樹脂および粒子状の光拡散剤を含む粒子分散系樹脂シートであって、
前記エポキシ系樹脂が、テルペン型骨格を有するエポキシ樹脂を含み、
前記光拡散剤の屈折率が、前記エポキシ系樹脂の屈折率と相違し、
前記光拡散剤が、前記シート内において均一に分散されていることを特徴とする粒子分散系樹脂シート。
A particle dispersion resin sheet containing an epoxy resin and a particulate light diffusing agent,
The epoxy resin includes an epoxy resin having a terpene skeleton,
The refractive index of the light diffusing agent is different from the refractive index of the epoxy resin,
A particle-dispersed resin sheet, wherein the light diffusing agent is uniformly dispersed in the sheet.
テルペン型骨格を有するエポキシ樹脂が下記式(1)に示す構造である請求項1記載の樹脂シート。
Figure 2005037737
前記式において、nは重合度であって、0〜5の整数である。
The resin sheet according to claim 1, wherein the epoxy resin having a terpene skeleton has a structure represented by the following formula (1).
Figure 2005037737
In the above formula, n is the degree of polymerization and is an integer of 0-5.
前記エポキシ系樹脂が、さらに脂環式エポキシ樹脂を含む請求項1または2記載の粒子分散系樹脂シート。 The particle-dispersed resin sheet according to claim 1 or 2, wherein the epoxy resin further contains an alicyclic epoxy resin. 前記テルペン型骨格を有するエポキシ樹脂の含有割合が、全エポキシ系樹脂に対して、9〜60重量%の範囲である請求項1〜3のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The content rate of the epoxy resin which has the said terpene type frame | skeleton is the range of 9-60 weight% with respect to all the epoxy resins, The particle-dispersed resin sheet as described in any one of Claims 1-3. 全エポキシ系樹脂に対して、光拡散剤の含有割合が、0.1〜60重量部の範囲である請求項1〜4のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The particle-dispersed resin sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein a content ratio of the light diffusing agent is in a range of 0.1 to 60 parts by weight with respect to all epoxy resins. 光拡散剤の平均粒径が、0.2μm〜100μmの範囲である請求項1〜5のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The particle-dispersed resin sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the average particle size of the light diffusing agent is in the range of 0.2 µm to 100 µm. 光拡散剤が、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウムおよび酸化アンチモンからなる群から選択された少なくとも一つの粒子である請求項1〜6のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The light diffusing agent is at least one particle selected from the group consisting of silica, alumina, titania, zirconia, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide, according to any one of claims 1 to 6. Particle dispersion resin sheet. 前記エポキシ系樹脂の屈折率と前記光拡散剤の屈折率との差の絶対値が、0.03〜0.30の範囲となる組み合わせである請求項1〜7のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The absolute value of the difference between the refractive index of the epoxy resin and the refractive index of the light diffusing agent is a combination in a range of 0.03 to 0.30. Particle dispersion resin sheet. さらに、ハードコート層を含む請求項1〜8のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 Furthermore, the particle-dispersed resin sheet as described in any one of Claims 1-8 containing a hard-coat layer. さらに、ガスバリア層を含む請求項1〜9のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 Furthermore, the particle-dispersed resin sheet as described in any one of Claims 1-9 containing a gas barrier layer. ガラス転移温度(Tg)が、170℃以上である請求項1〜10のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The particle transition resin sheet according to any one of claims 1 to 10, wherein a glass transition temperature (Tg) is 170 ° C or higher. 光透過率が、88%以上である請求項1〜11のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The particle-dispersed resin sheet according to any one of claims 1 to 11, which has a light transmittance of 88% or more. 破断強度が、45N以上である請求項1〜12のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シート。 The particle-dispersed resin sheet according to any one of claims 1 to 12, which has a breaking strength of 45 N or more. 請求項1〜13のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シートを含む画像表示装置用基板。 The board | substrate for image displays containing the particle-dispersed resin sheet as described in any one of Claims 1-13. 請求項14記載の画像表示装置用基板を含む画像表示装置。 An image display device comprising the substrate for an image display device according to claim 14. 請求項1〜13のいずれか一項に記載の粒子分散系樹脂シートを含む太陽電池用基板。 The board | substrate for solar cells containing the particle-dispersed resin sheet as described in any one of Claims 1-13.
JP2003275322A 2003-07-16 2003-07-16 Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device Withdrawn JP2005037737A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003275322A JP2005037737A (en) 2003-07-16 2003-07-16 Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003275322A JP2005037737A (en) 2003-07-16 2003-07-16 Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005037737A true JP2005037737A (en) 2005-02-10

Family

ID=34212011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003275322A Withdrawn JP2005037737A (en) 2003-07-16 2003-07-16 Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005037737A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010074477A2 (en) * 2008-12-26 2010-07-01 주성엔지니어링(주) Thin-film solar cell and method for manufacturing same
KR100973676B1 (en) * 2008-12-26 2010-08-03 주성엔지니어링(주) Thin film type Solar Cell and Method for manufacturing the same
KR101170595B1 (en) * 2009-03-04 2012-08-02 주성엔지니어링(주) Flexible thin film type Solar Cell and Method for manufacturing the same
KR101347304B1 (en) * 2013-04-05 2014-01-06 에스케이씨하스디스플레이필름(유) Diffusion sheet having excellent light shielding property
KR101397067B1 (en) * 2012-07-12 2014-05-20 금호전기주식회사 OLED light source for the light extraction features
KR101542487B1 (en) 2015-02-27 2015-08-06 전남대학교산학협력단 Convex roofing tiles and root structure of korean-style house with solar cell module

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010074477A2 (en) * 2008-12-26 2010-07-01 주성엔지니어링(주) Thin-film solar cell and method for manufacturing same
KR100973676B1 (en) * 2008-12-26 2010-08-03 주성엔지니어링(주) Thin film type Solar Cell and Method for manufacturing the same
WO2010074477A3 (en) * 2008-12-26 2010-09-30 주성엔지니어링(주) Thin-film solar cell and method for manufacturing same
CN102257631A (en) * 2008-12-26 2011-11-23 周星工程股份有限公司 Thin-film solar cell and method for manufacturing same
KR101170595B1 (en) * 2009-03-04 2012-08-02 주성엔지니어링(주) Flexible thin film type Solar Cell and Method for manufacturing the same
KR101397067B1 (en) * 2012-07-12 2014-05-20 금호전기주식회사 OLED light source for the light extraction features
KR101347304B1 (en) * 2013-04-05 2014-01-06 에스케이씨하스디스플레이필름(유) Diffusion sheet having excellent light shielding property
KR101542487B1 (en) 2015-02-27 2015-08-06 전남대학교산학협력단 Convex roofing tiles and root structure of korean-style house with solar cell module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7259803B2 (en) Resin sheet, liquid crystal cell substrate comprising the same
JP2004051960A (en) Resin sheet and liquid crystal cell base using the same
KR100750017B1 (en) Resin sheets containing dispersed particles, processes for producing the same, and liquid crystal displays
WO2009131067A1 (en) Flexible substrate
US7060346B2 (en) Resin sheets, processes for producing the same, and liquid crystal displays
WO2005052037A1 (en) Resin sheet, liquid crystal cell substrate, liquid crystal display, substrate for electroluminescent display, electroluminescent display, and substrate for solar cell
JP2004109497A (en) Particle dispersed system resin sheet, substrate for image display device and image display device
JP2005037737A (en) Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device
JP2005037738A (en) Particle dispersed resin sheet, substrate for image display apparatus, and image display apparatus
JP2004004176A (en) Antireflection resin sheet, substrate for image display, image display
JP2004114617A (en) Filler dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device
JP2004264564A (en) Particle dispersed resin sheet, substrate for image display apparatus, and image display apparatus
JP2005140863A (en) Particle dispersed resin sheet, substrate for image display apparatus and image display apparatus
JP3955221B2 (en) Filler dispersion resin sheet, liquid crystal cell substrate, and liquid crystal display device
JP2005036120A (en) Particle-dispersed resin sheet, substrate for image display device and image display device
JP2005140862A (en) Particulate-dispersed resin sheet, substrate for image display apparatus and the image display apparatus
JP2004115734A (en) Particle-dispersed resin sheet, substrate for image displaying device and image displaying device
JP2005139235A (en) Resin sheet containing dispersed particle, substrate for image-displaying device and image-displaying device
JP2005035189A (en) Filler dispersed resin sheet, substrate for image display device, and image display device
JP2004264563A (en) Particle dispersed resin sheet, substrate for image display device and image display device
JP2004277708A (en) Resin sheet and liquid crystal cell base given by using the same
JP3679045B2 (en) Resin sheet with color filter, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device
JP2005036119A (en) Resin sheet and liquid crystal cell substrate using the same
JP2005138325A (en) Filler dispersion type resin sheet, substrate for image display device and image display device
JP2004263064A (en) Particle-dispersing resin sheet, substrate for image display device, and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20061003