JP2006227261A - Platemaking apparatus for printing plate - Google Patents
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Description
この発明は、例えば、フレキソ印刷版等の凸版印刷版や、グラビア版等の凹版印刷版などの印刷版に製版を行う印刷版の製版装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for making a printing plate for making a printing plate such as a relief printing plate such as a flexographic printing plate or an intaglio printing plate such as a gravure plate.
従来、このような印刷版の製版装置としては、例えば、特許文献1に記載されたレーザ彫刻機が知られている。このレーザ彫刻機は、レーザ光源から出射されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して凸版印刷版を製版するものであり、レーザ光源と、このレーザ光源から出射されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、この記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、記録ドラムの外周部に装着された記録材料にレーザ光源から出射されたレーザビームを照射する記録ヘッドとを備える。
このとき、レーザビームによる記録材料の彫刻には、比較的大きなエネルギーが必要であることから、印刷版の製版に比較的長い時間を要するという問題がある。 At this time, the engraving of the recording material by the laser beam requires a relatively large energy, so that there is a problem that it takes a relatively long time to make the printing plate.
このため、本出願人は、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し第1の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行った後、前記第1のビーム径とは異なる第2のビーム径を有するレーザビームを使用し前記第1の画素ピッチとは異なる第2の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行う印刷版の製版装置を提案している(特願2004−286175、特願2004−357586)。このような製版装置によれば、レーザビームを効率的に使用することにより製版時間を短縮することが可能となる。 For this reason, the present applicant uses a laser beam having a first beam diameter to sculpt by irradiating a recording material at a first pixel pitch, and then performs a second different from the first beam diameter. A printing plate making apparatus that uses a laser beam having a beam diameter and performs engraving by irradiating a recording material at a second pixel pitch different from the first pixel pitch has been proposed (Japanese Patent Application No. 2004-286175, Japanese Patent Application No. 2004-357586). According to such a plate making apparatus, it is possible to shorten the plate making time by using the laser beam efficiently.
ところで、上述した印刷版の製版装置においては、レーザ光源から照射されたレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構を備える必要がある。このようなビーム径変更機構としては、一対のレンズからなるビームエキスパンダを複数個使用し、このビームエキスパンダを選択的に使用することによりレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構を採用することができる。しかしながら、一対のレンズからなるビームエキスパンダは高価であり、そのビームエキスパンダを複数個使用したビーム径変更機構は、さらに高価なものとなる。 By the way, the above-described printing plate making apparatus needs to include a beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam emitted from the laser light source. As such a beam diameter changing mechanism, a beam diameter changing mechanism is used in which a plurality of beam expanders comprising a pair of lenses are used, and the beam diameter of the laser beam is changed by selectively using the beam expander. can do. However, a beam expander composed of a pair of lenses is expensive, and a beam diameter changing mechanism using a plurality of beam expanders becomes more expensive.
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し第1の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行った後、前記第1のビーム径とは異なる第2のビーム径を有するレーザビームを使用し前記第1の画素ピッチとは異なる第2の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行う場合に、極めて低コストでビーム径の変更を行うことが可能な印刷版の製版装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. After engraving by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter, the first When engraving by using a laser beam having a second beam diameter different from the beam diameter and irradiating the recording material at a second pixel pitch different from the first pixel pitch, the beam diameter is extremely low cost. It is an object of the present invention to provide a printing plate making apparatus capable of changing the above.
請求項1に記載の発明は、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し第1の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行った後、前記第1のビーム径とは異なる第2のビーム径を有するレーザビームを使用し前記第1の画素ピッチとは異なる第2の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行う印刷版の製版装置であって、レーザ光源と、前記レーザ光源から照射されたレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構とを備え、前記ビーム径変更機構は、前記レーザ光源から前記記録材料までの光路長を変更することによりレーザビームのビーム径を変更することを特徴とする。 According to the first aspect of the present invention, after engraving by irradiating a recording material with a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter, a second beam diameter different from the first beam diameter is used. A printing plate making apparatus for engraving by irradiating a recording material at a second pixel pitch different from the first pixel pitch using a laser beam having a beam diameter of: a laser light source; and the laser light source A beam diameter changing mechanism that changes a beam diameter of the laser beam emitted from the laser beam, and the beam diameter changing mechanism changes a beam diameter of the laser beam by changing an optical path length from the laser light source to the recording material. It is characterized by doing.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記ビーム径変更機構は、固定ミラーと、前記レーザ光源から前記記録材料に至る光路中の偏向位置と当該光路から離隔した退避位置との間を移動可能な移動ミラーとを備え、前記移動ミラーを偏向位置に配置することにより、前記レーザ光源から前記記録材料に向けて出射されたレーザビームを前記固定ミラーに向けて偏向させた後、当該固定ミラーにより前記移動ミラーからのレーザビームを再度、前記レーザ光源から前記記録材料に至る光路中に復帰させる。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the beam diameter changing mechanism includes a fixed mirror, a deflection position in an optical path from the laser light source to the recording material, and a retreat separated from the optical path. A movable mirror that is movable between positions, and by disposing the movable mirror at a deflection position, the laser beam emitted from the laser light source toward the recording material is deflected toward the fixed mirror. Thereafter, the laser beam from the moving mirror is returned again to the optical path from the laser light source to the recording material by the fixed mirror.
請求項3に記載の発明は、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し第1の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行った後、前記第1のビーム径とは異なる第2のビーム径を有するレーザビームを使用し前記第1の画素ピッチとは異なる第2の画素ピッチで記録材料を照射して彫刻を行う印刷版の製版装置であって、レーザ光源と、前記レーザ光源から照射されたレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記ビーム径変更機構によりビーム径が変更されたレーザビームを前記記録材料上に集光する正のパワーを有する対物レンズとを備え、前記ビーム径変更機構は、前記レーザ光源から前記対物レンズまでの光路長を変更することによりレーザビームのビーム径を変更することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, after engraving by irradiating a recording material with a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter, a second beam diameter different from the first beam diameter is used. A printing plate making apparatus for engraving by irradiating a recording material at a second pixel pitch different from the first pixel pitch using a laser beam having a beam diameter of: a laser light source; and the laser light source A beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam irradiated from the above, and an objective lens having a positive power for condensing the laser beam whose beam diameter has been changed by the beam diameter changing mechanism on the recording material And the beam diameter changing mechanism changes the beam diameter of the laser beam by changing an optical path length from the laser light source to the objective lens.
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記ビーム径変更機構は、固定ミラーと、前記レーザ光源から前記対物レンズに至る光路中の偏向位置と当該光路から離隔した退避位置との間を移動可能な移動ミラーとを備え、前記移動ミラーを偏向位置に配置することにより、前記レーザ光源から前記対物レンズに向けて出射されたレーザビームを前記固定ミラーに向けて偏向させた後、当該固定ミラーにより前記移動ミラーからのレーザビームを再度、前記レーザ光源から前記対物レンズに至る光路中に復帰させる。 According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the beam diameter changing mechanism includes a fixed mirror, a deflection position in an optical path from the laser light source to the objective lens, and a retreat separated from the optical path. A movable mirror that is movable between positions, and by disposing the movable mirror at a deflection position, the laser beam emitted from the laser light source toward the objective lens is deflected toward the fixed mirror. After that, the fixed mirror returns the laser beam from the moving mirror again to the optical path from the laser light source to the objective lens.
請求項5に記載の発明は、請求項4に記載の発明において、前記移動ミラーを前記偏向位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径が、前記移動ミラーを前記退避位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径より小さい。 According to a fifth aspect of the present invention, in the invention of the fourth aspect, a beam diameter of a laser beam irradiated to a recording material when the movable mirror is arranged at the deflection position is such that the movable mirror is moved to the retracted position. Smaller than the beam diameter of the laser beam applied to the recording material when the recording material is disposed.
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを変調する変調器を前記移動ミラーと同期して移動可能に配設し、前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときには前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記変調器を介して前記移動ミラーに入射させ、前記移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記変調器を介さずに前記対物レンズに入射させるとともに、前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときには前記変調器によりレーザビームを変調し、前記移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには前記レーザ光源自体によりレーザビームを変調する。 According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, a modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source is disposed so as to be movable in synchronization with the movable mirror, and the movable mirror is provided. Is placed at the deflection position, the laser beam emitted from the laser light source is incident on the moving mirror via the modulator, and is emitted from the laser light source when the moving mirror is arranged at the retracted position. The laser beam is incident on the objective lens without passing through the modulator, and when the moving mirror is placed at the deflection position, the laser beam is modulated by the modulator, and the moving mirror is placed at the retracted position. When done, the laser beam is modulated by the laser light source itself.
請求項7に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときに、前記レーザ光源から前記対物レンズに向けて出射されたレーザビームが偏向された後、再度、前記レーザ光源から前記対物レンズに至る光路中に復帰するまでの光路中に、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを変調する変調器を配設するとともに、前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときには前記変調器によりレーザビームを変調し、前記移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには前記レーザ光源自体によりレーザビームを変調する。 According to a seventh aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, when the movable mirror is disposed at the deflection position, a laser beam emitted from the laser light source toward the objective lens is deflected. After that, a modulator for modulating the laser beam emitted from the laser light source is disposed again in the optical path from the laser light source to the optical path from the laser light source to the objective lens. When arranged at the deflection position, the modulator modulates the laser beam, and when the moving mirror is arranged at the retracted position, the laser light source itself modulates the laser beam.
請求項8に記載の発明は、請求項4に記載の発明において、前記移動ミラーを前記偏向位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径が、前記移動ミラーを前記退避位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径より大きい。
The invention according to
請求項1乃至請求項5および請求項8に記載の発明によれば、極めて低コストでビーム径の変更を行うことが可能となる。
According to the inventions described in
請求項6および請求項7に記載の発明によれば、移動ミラーを偏向位置に配置したときに変調器により高速変調しながら小さいビーム径を有するレーザビームで精密な彫刻を行うとともに、移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには変調器を使用することなくレーザ光源自体により大きいビーム径を有するレーザビームを変調して効率的に彫刻を行うことが可能となる。 According to the sixth and seventh aspects of the invention, when the moving mirror is arranged at the deflection position, precise engraving is performed with a laser beam having a small beam diameter while performing high-speed modulation by the modulator, and the moving mirror is When placed in the retracted position, it is possible to efficiently engrave by modulating a laser beam having a larger beam diameter on the laser light source itself without using a modulator.
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る印刷版の製版装置であるレーザ彫刻機の概要を示すブロック図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an outline of a laser engraving machine which is a printing plate making apparatus according to the present invention.
このレーザ彫刻機は、その外周部に凸版印刷版用の記録材料としてのフレキソダイレクト感光材料(以下「フレキソ感材」と呼称する)10を装着する記録ドラム11と、この記録ドラム11の軸芯と平行な方向に移動可能に構成された記録ヘッド12と、入出力部および表示部としてのパーソナルコンピュータ13と、ガスレーザよりなるレーザ光源14と、装置全体を制御する制御部15とを備える。
This laser engraving machine includes a recording drum 11 on which a flexo direct photosensitive material (hereinafter referred to as “flexo-sensitive material”) 10 as a recording material for a relief printing plate is mounted on the outer periphery thereof, and an axis of the recording drum 11 The
記録ドラム11は、回転モータ21と接続されており、軸22を中心に回転する。この回転モータ21は、モータドライバ23と接続されている。このモータドライバ23は、制御部15から回転速度指令を受け、回転モータ21の回転を制御する。回転モータ21の回転速度および回転モータ21により回転する記録ドラム11の回転角度位置は、エンコーダ24により測定され、その情報が制御部15に送信される。
The recording drum 11 is connected to a
記録ヘッド12は、図示しない案内手段に案内されることにより、記録ドラム11の軸芯と平行な方向に移動可能となっている。そして、この記録ヘッド12は、記録ドラム11の軸芯と平行に設置され、移動モータ31により回転するボールねじ32の駆動を受け、記録ドラム11の軸芯と平行な方向に往復移動する。この移動モータ31は、モータドライバ33と接続されている。このモータドライバ33は、制御部15から回転速度指令を受け、移動モータ31の回転を制御する。移動モータ31の回転速度および移動モータ31により移動する記録ヘッド12の位置は、エンコーダ34により測定され、その情報が制御部15に送信される。
The
レーザ光源14の後段には、変調器としてのAOM(音響光学変調器)41が配設されている。このAOM41は、AOMドライバ42を介して制御部15からの制御信号を受ける。レーザ光源14から出射されたレーザビームは、AOM41で変調された後、ビーム径変更機構51、装置に固定された一対の折り返しミラー43、44、記録ヘッド12に固定された折り返しミラー45および対物レンズ46を介して、記録ヘッド12の外周部に装着されたフレキソ感材10に照射される。
An AOM (acousto-optic modulator) 41 as a modulator is disposed at the subsequent stage of the
ビーム径変更機構51は、レーザ光源14から出射されたレーザビームのビーム径を変更することにより、フレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径を変更するためのものである。このビーム径変更機構51については、後程詳細に説明する。
The beam
このレーザ彫刻機においては、レーザ光源14から出射されたレーザビームは、AOM41で変調され、ビーム径変更機構51によりビーム径を変更された後、折り返しミラー43、44、45および対物レンズ46を介して記録ヘッド12から出射される。そして、その外周部にフレキソ感材10を装着した記録ドラム11が回転した状態で、記録ヘッド12を記録ドラム11の軸芯と平行な方向に移動させることにより、レーザビームがフレキソ感材10上を走査し、彫刻が実行されてフレキソ感材10上にレリーフが形成される。
In this laser engraving machine, the laser beam emitted from the
このとき、このレーザ彫刻機においては、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームL1を使用し、精密彫刻画素ピッチppでフレキソ感材10を照射して、精密彫刻ビームL1での最大深度dpまで彫刻を行う精密彫刻工程と、大きなビーム径を有する粗ビームL2を使用し、精密彫刻画素ピッチppより大きい粗彫刻画素ピッチpc(網点ピッチに等しい)でフレキソ感材10を照射して、レリーフ深度dまで彫刻を行う粗彫刻工程との二工程により彫刻を実行することで、製版時間を短縮するようにしている。
At this time, in this laser engraving machine, the precision engraving beam L1 having a small beam diameter is used, the flexo
図2は、このレーザ彫刻機を使用して彫刻を実行した後のフレキソ感材10表面の形状を模式的に示す説明図である。なお、図2(a)はフレキソ感材10上において主走査方向に形成された7個のレリーフの平面図であり、図2(b)はその断面図である。なお、この図においては、説明の便宜上、この図の左側より網点面積率が0%、1%、1%、2%、2%、0%、0%の7個のレリーフが形成されている場合を示している。
FIG. 2 is an explanatory view schematically showing the shape of the surface of the flexo
この図に示すように、精密彫刻工程においては、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームL1を使用する。そして、この精密彫刻ビームL1を精密彫刻画素ピッチppでフレキソ感材10上に照射し、フレキソ感材10をその表面から最大深度dpまで彫刻する。
As shown in this figure, in the precision engraving process, a precision engraving beam L1 having a small beam diameter is used. Then, this precision engraving beam L1 is irradiated onto the flexo
この最大深度dpは、非常に小さい網点面積率のレリーフ同士が隣接したときに、これらのレリーフの境界部分の彫刻深さに一致する。この最大深度dpがこれより小さい場合には、微小な網点を良好に表現することが不可能となる。この最大深度dpをこれより大きくすることは可能ではあるが、この場合には、彫刻効率が悪化する。この実施形態においては、網点面積率1%のレリーフ同士が隣接したときの、これらのレリーフの境界部分の彫刻深さを最大深度dpに設定している。 This maximum depth dp coincides with the engraving depth of the boundary portion of these reliefs when the reliefs having very small halftone dot area ratios are adjacent to each other. When the maximum depth dp is smaller than this, it is impossible to express fine halftone dots satisfactorily. Although it is possible to make the maximum depth dp larger than this, the engraving efficiency deteriorates in this case. In this embodiment, when the reliefs having a halftone dot area ratio of 1% are adjacent to each other, the engraving depth of the boundary portion between these reliefs is set to the maximum depth dp.
この精密彫刻工程においては、フレキソ感材10の表面から、最大深度dpまでの、網点の形状に直接影響を与える部分の彫刻が実行される。このため、このときの彫刻画素ピッチとしては、比較的小さな精密彫刻画素ピッチppが採用され、図2(c)で模式的に示すように、微小な単位での彫刻が実行される。このときの精密彫刻ビームL1のビーム径は、精密彫刻画素ピッチppでの彫刻が可能な小さなビーム径が採用される。
In this precision engraving process, engraving of the portion that directly affects the shape of the halftone dots from the surface of the flexo
精密彫刻工程の後には、粗彫刻工程が実行される。この粗彫刻工程においては、大きなビーム径を有する粗彫刻ビームL2を使用する。そして、この粗彫刻ビームL2を粗彫刻画素ピッチpcでフレキソ感材10上に照射し、フレキソ感材10を上記最大深度dpからレリーフ深度dまで彫刻する。このように、精密彫刻工程で彫刻された領域が粗彫刻工程によって再度彫刻されているので、粗彫刻工程実行後のフレキソ感材10表面からのレリーフ深度dは、精密彫刻による最大深度dpよりも大きい。この粗彫刻工程においては、網点の形状に直接影響を与えない部分の彫刻が実行されることから、粗彫刻画素ピッチpcを大きなものとすることが可能となる。
After the precision engraving process, a rough engraving process is performed. In this rough engraving process, a rough engraving beam L2 having a large beam diameter is used. Then, the rough engraving beam L2 is irradiated onto the flexo
このときの粗彫刻画素ピッチpcとしては、網点ピッチwを採用することができる。この粗彫刻画素ピッチpcは、上述した精密彫刻画素ピッチpp以上、網点ピッチw以下の範囲で任意に設定することが可能である。但し、これを網点ピッチwに近づけるほど、彫刻効率が向上する。 As the coarse engraving pixel pitch pc at this time, the halftone pitch w can be adopted. The rough engraving pixel pitch pc can be arbitrarily set in the range of the above-described precision engraving pixel pitch pp and the halftone dot pitch w. However, the closer this is to the halftone pitch w, the better the engraving efficiency.
図3は、フレキソ感材10に形成されたレリーフ形状をより正確に示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing the relief shape formed on the flexo
レリーフ形状を表すパラメータとしては、レリーフ角θと、レリーフ深度dと、トップハット部Tを構成するためのステップdtおよびプラトーwtとがある。レリーフ角θは、全てのレリーフにおいて共通の値となる。レリーフ深度dは、網点パーセントがゼロの領域における彫刻深さである。なお、ステップdtはドットゲインを改良するために設けられ、プラトーwtはレリーフの機械的強度を増加させるために設けられるものであるが、トップハット部T自体を形成しない場合には、ステップdtおよびプラトーwtの値はゼロとなる。上述した説明においては、ステップdtおよびプラトーwtを省略した場合について説明している。 As parameters representing the relief shape, there are a relief angle θ, a relief depth d, a step dt for forming the top hat portion T, and a plateau wt. The relief angle θ is a value common to all reliefs. The relief depth d is the engraving depth in an area where the halftone dot percentage is zero. Step dt is provided to improve the dot gain, and the plateau wt is provided to increase the mechanical strength of the relief. However, when the top hat portion T itself is not formed, The value of the plateau wt is zero. In the above description, the case where step dt and plateau wt are omitted is described.
なお、図3に示すレリーフ形状を採用した場合には、上述した最大深度dpは、下記の式(1)で計算することが可能となる。 When the relief shape shown in FIG. 3 is adopted, the above-described maximum depth dp can be calculated by the following equation (1).
dp=(21/2 ・pc/2−wt)tan(θπ/180)+dt ・・・ (1)
なお、トップハット部T自体を形成しない場合には、ステップdtおよびプラトーwtにゼロを代入すればよい。
dp = (2 1/2 · pc / 2−wt) tan (θπ / 180) + dt (1)
When the top hat portion T itself is not formed, zero may be substituted for step dt and plateau wt.
次に、このレーザ彫刻機を用いてフレキソ感材10を彫刻するフレキソ印刷版の製版工程について説明する。図4および図5は、製版工程を示すフローチャートである。
Next, the plate making process of the flexographic printing plate which engraves the flexographic
フレキソ印刷版の製版を行う場合には、最初に、オペレータがレリーフ形状とスクリーン線数を指定する(ステップS1)。このレリーフ形状とスクリーン線数は、パーソナルコンピュータ13から入力され、制御部15に送信される。
When making a flexographic printing plate, the operator first specifies the relief shape and the number of screen lines (step S1). The relief shape and the number of screen lines are input from the
次に、あらかじめ指定されたスクリーン線数から、網点ピッチwが決定される(ステップS2)。この網点ピッチwは、スクリーン線数の逆数となる。 Next, the halftone dot pitch w is determined from the screen line number designated in advance (step S2). This halftone pitch w is the reciprocal of the number of screen lines.
次に、精密彫刻工程における最大深度dpを演算する(ステップS3)。この演算は、上述した式(1)を使用して実行される。 Next, the maximum depth dp in the precision engraving process is calculated (step S3). This calculation is performed using the above-described equation (1).
次に、オペレータが解像度を指定する(ステップS4)。この解像度は、例えば、1200dpi、2400dpi、4000dpiのうちから選択される。 Next, the operator designates the resolution (step S4). This resolution is selected from, for example, 1200 dpi, 2400 dpi, and 4000 dpi.
次に、指定された解像度から、精密彫刻画素ピッチppが決定される(ステップS5)。なお、精密彫刻画素ピッチppと、精密彫刻ビームL1の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、精密彫刻ビームL1のビームスポットサイズが調整されている。 Next, the precise engraving pixel pitch pp is determined from the designated resolution (step S5). The beam spot size of the precision engraving beam L1 is adjusted so that the precision engraving pixel pitch pp and the width of the precision engraving beam L1 in the sub-scanning direction substantially coincide with each other.
次に、精密彫刻時の主走査速度v1を決定する(ステップS6)。この主走査速度v1は、精密彫刻画素ピッチppと、最大深度dpと、フレキソ感材10の彫刻感度Yと、レーザ光源14のパワーPとに基づいて、下記の式(2)により決定される。
Next, the main scanning speed v1 during precision engraving is determined (step S6). The main scanning speed v1 is determined by the following equation (2) based on the precision engraving pixel pitch pp, the maximum depth dp, the engraving sensitivity Y of the flexographic
pp・dp・v1・Y=P ・・・ (2)
ここで、彫刻感度は、レーザビームのエネルギーEをレーザビームにより彫刻される体積Vで除算した値である。また、レーザビームのエネルギーEは、レーザ光源14のパワーと照射時間を乗算した値である。
pp · dp · v1 · Y = P (2)
Here, the engraving sensitivity is a value obtained by dividing the energy E of the laser beam by the volume V engraved by the laser beam. The energy E of the laser beam is a value obtained by multiplying the power of the
図6は、上記彫刻感度Yと、レーザビームにより彫刻された凹部の表面積を体積で除算したS/V比との関係を示すグラフである。 FIG. 6 is a graph showing the relationship between the engraving sensitivity Y and the S / V ratio obtained by dividing the surface area of the recess engraved by the laser beam by the volume.
このグラフにおいては、横軸はレーザビームにより彫刻された凹部の表面積を体積で除算したS/V比を、また、縦軸は実験的に求めた彫刻感度を、各々示している。このグラフからも明らかなように、S/Vにほぼ比例して彫刻感度の値が大きく(すなわち、感度が悪く)なっている。これは、S/V比が大きいほど、体積に対する放熱量の割合が大きくなり、付与されたエネルギーが有効に彫刻に使用されないためと考えられる。このため、効率的に彫刻を実行するためには、S/V比の小さな領域を使用することが有効である。 In this graph, the horizontal axis represents the S / V ratio obtained by dividing the surface area of the recess engraved by the laser beam by the volume, and the vertical axis represents the engraving sensitivity obtained experimentally. As is apparent from this graph, the value of the engraving sensitivity is large (that is, the sensitivity is poor) almost in proportion to S / V. This is presumably because the greater the S / V ratio, the greater the ratio of the heat dissipation to the volume, and the applied energy is not effectively used for engraving. For this reason, in order to execute engraving efficiently, it is effective to use a region having a small S / V ratio.
なお、図6に示すグラフにおいては、彫刻感度をYとし、S/V比をXとした場合、下記の近似式(3)が成立する。 In the graph shown in FIG. 6, when the engraving sensitivity is Y and the S / V ratio is X, the following approximate expression (3) is established.
Y=3.21748+0.0577759X ・・・ (3)
次に精密彫刻画素ピッチppに応じた精密彫刻時副走査速度s1を決定する(ステップS7)。精密彫刻時副走査速度s1は、記録ドラム11が1回転する間に記録ヘッド12が精密彫刻画素ピッチppだけ副走査方向に移動可能な速度に設定される。
Y = 3.221748 + 0.0577759X (3)
Next, the precise engraving sub-scanning speed s1 corresponding to the precise engraving pixel pitch pp is determined (step S7). The precision engraving sub-scanning speed s1 is set to a speed at which the
なお、記録ヘッド12の副走査送りは記録ドラム11の回転に同期して記録ヘッド12を連続的に送る連続送りでも、記録ドラム11が1回転する度に所定量ずつ副走査方向に移動させるステップ送りでもいずれでもよい。
Note that the sub-scan feed of the
再度図4および図5を参照して、次に、粗彫刻工程における彫刻深度dcを計算する(ステップS8)。この彫刻深度dcは、レリーフ深度dから精密彫刻時における最大深度dpを減算した値となる。 4 and 5 again, next, engraving depth dc in the rough engraving process is calculated (step S8). The engraving depth dc is a value obtained by subtracting the maximum depth dp at the time of precision engraving from the relief depth d.
次に、粗彫刻を実行するときの粗彫刻画素ピッチpcを決定する(ステップS9)。この粗彫刻画素ピッチpcは、上述したように、網点ピッチwと一致している。 Next, the coarse engraving pixel pitch pc for executing the coarse engraving is determined (step S9). The rough engraving pixel pitch pc coincides with the halftone dot pitch w as described above.
次に、粗彫刻時の主走査速度v2を決定する(ステップS10)。この主走査速度v2は、主走査速度v1の場合と同様に、粗彫刻画素ピッチpcと、彫刻深度dcと、フレキソ感材10の彫刻感度Yと、レーザ光源14のパワーPとに基づいて、下記の式(4)により決定される。
Next, the main scanning speed v2 at the time of rough engraving is determined (step S10). The main scanning speed v2 is based on the coarse engraving pixel pitch pc, the engraving depth dc, the engraving sensitivity Y of the flexo
pc・dc・v2・Y=P ・・・ (4)
次に、粗彫刻画素ピッチpcに応じた粗彫刻時副走査速度s2を決定する(ステップS11)。粗彫刻時副走査速度s2は記録ドラム11が1回転する間に記録ヘッド12が粗彫刻画素ピッチpcだけ副走査方向に移動可能な速度に設定される。なお、記録ヘッド12の副走査送りは記録ヘッド12を記録ドラム11の回転に同期して連続的に送る連続送りでも、記録ドラム11が1回転する度に所定量ずつ副走査方向に移動させるステップ送りでもいずれでもよい。ただし、粗彫刻工程で記録ヘッド12を連続送りによって副走査送りした場合、走査ラインの記録ドラム11の軸芯に対する傾斜角が大きくなり記録画像に影響を及ぼすことも考えられる。このため粗彫刻工程では記録ヘッド12をステップ送りによって副走査送りする方が望ましい。
pc · dc · v2 · Y = P (4)
Next, a coarse engraving sub-scanning speed s2 corresponding to the coarse engraving pixel pitch pc is determined (step S11). The coarse engraving sub-scanning speed s2 is set to a speed at which the
この実施の形態では精密彫刻工程と粗彫刻工程とが個別に実行される。このため、それぞれの彫刻工程の特性に応じた最適な副走査送り方式を選択的に実行することができる。 In this embodiment, the precision engraving process and the coarse engraving process are performed separately. For this reason, it is possible to selectively execute the optimum sub-scan feed method according to the characteristics of each engraving process.
さらに、精密彫刻工程と粗彫刻工程とを個別に実行しており、また各彫刻工程における副走査送り速度を任意の値に設定することが可能であるので各彫刻工程における彫刻走査を同一の走査ラインに沿って行う必要がない。このため、各彫刻工程において必要とされる記録解像度に忠実に適合した走査ラインに沿った彫刻走査を実行することができる。 Furthermore, the precision engraving process and the rough engraving process are performed separately, and the sub-scan feed speed in each engraving process can be set to an arbitrary value, so that the engraving scanning in each engraving process is the same scan There is no need to do it along the line. For this reason, engraving scanning can be executed along a scanning line that faithfully matches the recording resolution required in each engraving process.
次に、フレキソ感材10上に形成すべき画像データから、彫刻すべきレリーフ形状を示すレリーフデータを作成する(ステップS12)。基礎となる画像データは、オンラインで、またはオフラインによりパーソナルコンピュータ13を介して制御部15に転送される。この画像データに基づいて、レリーフデータが作成される。このレリーフデータは、各レリーフのデータを重畳させたデータであり、互いに重複する領域においては、より深度の浅いデータを優先させたものとなる。
Next, relief data indicating the relief shape to be engraved is created from the image data to be formed on the flexo sensitive material 10 (step S12). The basic image data is transferred to the
図7は、レリーフデータの作成方法を模式的に示す説明図である。 FIG. 7 is an explanatory diagram schematically showing a method for creating relief data.
この図は、レリーフ1とレリーフ2とが形成された状態を示している。レリーフ1とレリーフ2との傾斜部が当接する地点よりレリーフ1側の領域はレリーフ1のレリーフデータが使用され、レリーフ1とレリーフ2との傾斜部が当接する地点よりレリーフ2側の領域はレリーフ2のレリーフデータが使用される。
This figure shows a state in which the
次に、レリーフデータから精密彫刻用のレーザ光源14の出力を制御する多値データを作成する(ステップS13)。この多値データは、網点面積率が0%の領域に対して最大深度dpまでの彫刻がレーザ光源14から出射したレーザビームによって実行されるような多値データである。この多値データは、網点面積率が0%〜100%の領域において、図2(c)に示すような階段状にレリーフの傾斜部が形成可能なデータとして作成される。
Next, multi-value data for controlling the output of the precision engraving
次に、レリーフデータから粗彫刻用のレーザ光源14の出力を制御する多値データを作成する(ステップS14)。この多値データは、網点面積率が0%の領域に対して、レリーフ角度θを考慮した上で、レーザ光源14から出射したレーザビームによって彫刻深度dcで彫刻を行うことにより、最終的にレリーフ深度dの彫刻が実行されるような多値データである。
Next, multivalue data for controlling the output of the
次に、制御部15の制御により、ビーム径変更機構51を通過したレーザビームが精密彫刻ビームL1として必要なビーム径となるようにする。(ステップS15)。これにより、精密彫刻画素ピッチppと精密彫刻ビームL1の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、精密彫刻ビームL1のビームスポット径が調整される。
Next, under the control of the
そして、精密彫刻を実行する(ステップS16)。このときには、制御部15がモータドライバ23、33を制御することにより、上述した主走査速度v1および副走査速度S1でフレキソ感材10上を精密彫刻ビームL1が走査するように、記録ドラム11の回転速度と記録ヘッド12の移動速度を制御する。また、制御部15がAOMドライバ42を制御することにより、最大深度dpまでの傾斜面等の彫刻が実行される。
Then, precision engraving is executed (step S16). At this time, the
次に、制御部15の制御により、ビーム径変更機構51を通過したレーザビームが粗彫刻ビームL2として必要なビーム径となるようにする(ステップS17)。これにより、粗彫刻画素ピッチpcと粗彫刻ビームL2の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、粗彫刻ビームL2のビームスポット径が調整される。
Next, under the control of the
そして、粗密彫刻を実行する(ステップS18)。このときには、制御部15がモータドライバ23、33を制御することにより、上述した主走査速度v2および副走査速度S2でフレキソ感材10上を粗彫刻ビームL2が走査するように、記録ドラム11の回転速度と記録ヘッド12の移動速度を制御する。また、制御部15がAOMドライバ42を制御することにより、最大深度dpからレリーフ深度dまでの傾斜面等の彫刻が実行される。以上の工程により、図2に示すようなレリーフの彫刻が完了する。
Then, rough engraving is executed (step S18). At this time, the
なお、上記では精密彫刻工程の後に粗彫刻工程を実行したが、粗彫刻工程の後に精密彫刻工程を実行してもよい。 In the above description, the rough engraving process is performed after the precision engraving process. However, the precision engraving process may be performed after the rough engraving process.
次に、上述したビーム径変更機構51の構成について説明する。図8および図9は、この発明の第1実施形態に係るビーム径変更機構51の概要図である。
Next, the configuration of the beam
このビーム径変換機構51は、移動部材80に固定された移動ミラー81と、装置本体に固定された固定ミラー82とを備える。移動部材80は、図1に示す移動モータ56の駆動により、図8に示す偏向位置と図9に示す退避位置との間を往復移動する。なお、この移動モータ56は、図1に示すモータドライバ57を介して制御部15と連結されており、制御部15の制御により回転する。
The beam
図8に示すように、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合には、レーザ光源14から対物レンズ46方向に向けて出射され、AOM41で変調されたレーザビームは、移動ミラー81の反射面81aで反射されて偏向する。そして、このレーザビームは、固定ミラー82の反射面82aおよび82bで反射された後、移動ミラー81の反射面81bで反射され、再度、レーザ光源14から対物レンズ46方向に至る光路中に復帰する。
As shown in FIG. 8, when the moving
一方、図9に示すように、移動ミラー81を退避位置に配置した場合には、レーザ光源14から対物レンズ46方向に向けて出射され、AOM41で変調されたレーザビームは、そのまま対物レンズ46に入射する。
On the other hand, as shown in FIG. 9, when the
図8および図9においては、説明の便宜上移動ミラー81と固定ミラー82とを近接して図示しているが、実際には、移動ミラー81と固定ミラー82とは離隔した位置に配置されている。このため、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合のレーザ光源14から対物レンズ46までのレーザビームの光路長は、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合のレーザ光源14から対物レンズ46までのレーザビームの光路長の4倍程度となっている。
8 and 9, for convenience of explanation, the moving
一方、レーザ光源14から出射されるレーザビームの広がり角は、例えば、ガスレーザの場合、4ミリラジアン程度である。このため、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合に対物レンズ46に入射されるレーザビームのビーム径は、移動ミラー81を退避位置に配置した場合に対物レンズ46に入射されるレーザビームのビーム径よりも大きくなる。
On the other hand, the spread angle of the laser beam emitted from the
上述した対物レンズ46は、正のパワーを有する凸レンズから構成される。この場合には、NA(開口数)が大きい方が、レーザビームのビーム径がより小さくなるようにレーザビームを絞ることが可能となる。言い換えれば、対物レンズ46に入射されるレーザビームのビーム径が大きいほど、記録ドラム11の外周部に装着されたフレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径は小さくなる。
The
例えば、レーザ光源14から出射されるレーザビームのビーム径を4mm、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合のレーザ光源14から対物レンズ46までの光路長を6.5m、移動ミラー81を退避位置に配置した場合のレーザ光源14から対物レンズ46までの光路長を1.5mとした場合、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合に対物レンズ46に入射されるレーザビームのビーム径は30mm、移動ミラーを退避位置に配置した場合に対物レンズ46に入射されるレーザビームのビーム径は10mmとなり、対物レンズ46の倍率を適当に設定することにより、移動ミラー81を偏向位置に配置した場合にフレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径は25μm、移動ミラー81を退避位置に配置した場合にフレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径は100μmとなる。
For example, the beam diameter of the laser beam emitted from the
以上のように、この実施形態においては、移動ミラー81を偏向位置と退避位置の間で移動させることにより、対物レンズ46に入射するレーザビームのビーム径を変更することができ、これにより、フレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径を変更することが可能となる。
As described above, in this embodiment, the beam diameter of the laser beam incident on the
次に、上述したビーム径変更機構51の他の実施形態について説明する。図10および図11は、この発明の第2実施形態に係るビーム径変更機構51の概要図である。
Next, another embodiment of the beam
この第2実施形態に係るビーム径変換機構51においては、移動ミラー81は移動部材88に固定されている。そして、AOM41もこの固定部材に固定されており、AOM41と移動ミラー81とは同期して移動可能に構成されている。移動部材88は、図1に示す移動モータ56の駆動により、図10に示す偏向位置と図11に示す退避位置との間を往復移動する。また、図1に示す制御部15からAOMドライバ42に送られる制御信号は、レーザ光源14にも送られる構成となっており、レーザ光源14自体でレーザビームを変調することが可能となっている。その他の構成は、上述した第1実施形態と同様である。
In the beam
この第2実施形態に係るビーム径変換機構51においては、移動ミラー81が図10に示す偏向位置に配置されたときには、レーザ光源14から出射されたレーザビームは、AOM41を介して移動ミラー81の反射面81aに入射する。一方、移動ミラー81が図11に示す退避位置に配置されたときには、レーザ光源14から出射されたレーザビームは、AOM41を通過することなく対物レンズ46に直接入射する。
In the beam
例えば、AOM41は1MHz程度の高速変調が可能であるが、AOM41に使用されるゲルマニュウムは、レーザビームの透過率が悪く、レーザビームはAOM41中で数%程度のロスを生ずる。このため、粗彫刻工程においてはレーザ光源14自体でレーザビームを変調して彫刻を行い、精密彫刻工程においてはAOM41により変調して彫刻を行うと、レーザビームを効率的に使用することができる。このため、この第2実施形態に係る構成を採用した場合においては、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。
For example, the
次に、上述したビーム径変更機構51のさらに他の実施形態について説明する。図12および図13は、この発明の第3実施形態に係るビーム径変更機構51の概要図である。
Next, still another embodiment of the beam
この第3実施形態に係るビーム径変換機構51は、移動部材83に固定された一対の移動ミラー84、87と、装置本体に固定された一対の固定ミラー85、86とを備える。移動部材83は、図1に示す移動モータ56の駆動により、図12に示す偏向位置と図13に示す退避位置との間を往復移動する。
The beam
図12に示すように、一対の移動ミラー84、87を偏向位置に配置した場合には、レーザ光源14から対物レンズ46方向に向けて出射されたレーザビームは、移動ミラー84、固定ミラー85、固定ミラー86および移動ミラー87により偏向され、再度、レーザ光源14から対物レンズ46方向に至る光路中に復帰する。そして、レーザ光源14から対物レンズ46に向けて出射されたレーザビームが偏向された後、再度、レーザ光源14から対物レンズ46に至る光路中に復帰するまでの光路中(この実施形態においては、固定ミラー85と固定ミラー86との間の位置)に、レーザ光源14から出射されたレーザビームを変調するAOM41が配設されている。
As shown in FIG. 12, when the pair of moving
一方、図13に示すように、一対の移動ミラー84、87を退避位置に配置した場合には、レーザ光源14から対物レンズ46方向に向けて出射されたレーザビームは、AOM41を通過することなく、そのまま対物レンズ46に入射する。
On the other hand, as shown in FIG. 13, when the pair of moving
この実施形態においても、上述した第1、第2実施形態の場合と同様、一対の移動ミラー84、87を偏向位置と退避位置の間で移動させることにより、対物レンズ46に入射するレーザビームのビーム径を変更することができ、これにより、フレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径を変更することが可能となる。
Also in this embodiment, as in the case of the first and second embodiments described above, by moving the pair of moving
また、この実施形態においても、上述した第2実施形態の場合と同様、粗彫刻工程においてはレーザ光源14自体でレーザビームを変調して彫刻を行い、精密彫刻工程においてはAOM41により変調して彫刻を行うことにより、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。
Also in this embodiment, as in the case of the second embodiment described above, engraving is performed by modulating the laser beam with the
なお、この実施形態では、ビーム径を変更するための光路長変更手段が、レーザビーム源14から出射したレーザビームの光路をAOM41を通る光路とこれを通らない光路のいずれかに変更する光路変更手段と兼用されているので、装置構成を簡易にすることができる。
In this embodiment, the optical path length changing means for changing the beam diameter changes the optical path of the laser beam emitted from the
なお、上述した実施形態においては、いずれも、凸版印刷版の1つであるフレキソ感材を記録材料として使用している。しかしながら、グラビア版などの凹版印刷版を記録材料に対してレーザ彫刻により凹部を形成する場合においても本発明は適用可能である。 In each of the above-described embodiments, a flexographic material, which is one of the relief printing plates, is used as a recording material. However, the present invention can also be applied to the case where a concave portion is formed by laser engraving on an intaglio printing plate such as a gravure plate.
なお、レーザ光源41から対物レンズ46に至る光路長を変更する手段は前記した各実施形態のものに限定されないが、特に第1の実施形態に係るビーム径変更機構51を用いた場合には、少ない可動部品によって光路長を変更することができるので光軸調整が容易であるという効果がある。
The means for changing the optical path length from the
さらに、上述した各実施形態では粗彫刻を実行する際の光路長が精密彫刻を実行する際の光路長よりも短く設定されていたが、粗彫刻を実行する際の光路長が精密彫刻を実行する際の光路長よりも長く設定されていてもよい。この場合には移動ミラー81等をレーザ光源14から対物ミラー46に至る光路中に配置したときに対物ミラー46から出射しフレキソ感材10上に結像するビームスポット径が比較的大きくなる。一方、移動ミラー81等を前記光路から離隔する位置に配置した場合に対物ミラー46から出射しフレキソ感材10上に結像するビームスポット径が比較的小さくなる。
Further, in each of the above-described embodiments, the optical path length when executing rough engraving is set to be shorter than the optical path length when executing precise engraving, but the optical path length when executing rough engraving executes fine engraving. It may be set longer than the optical path length at the time. In this case, when the moving
10 フレキソ感材
11 記録ドラム
12 記録ヘッド
13 パーソナルコンピュータ
14 レーザ光源
15 制御部
21 回転モータ
23 モータドライバ
24 エンコーダ
31 移動モータ
32 ボールねじ
33 モータドライバ
34 エンコーダ
41 AOM
42 AOMドライバ
46 対物レンズ
51 ビーム径変更機構
56 移動機構
57 モータドライバ
80 移動部材
81 移動ミラー
82 固定ミラー
83 移動部材
84 移動ミラー
85 固定ミラー
86 移動ミラー
87 固定ミラー
88 移動部材
L1 精密彫刻ビーム
L2 粗彫刻ビーム
d レリーフ深度
dp 最大深度
dc 彫刻深度
pp 精密彫刻画素ピッチ
pc 粗彫刻画素ピッチ
DESCRIPTION OF
42
Claims (8)
レーザ光源と、
前記レーザ光源から照射されたレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構とを備え、
前記ビーム径変更機構は、前記レーザ光源から前記記録材料までの光路長を変更することによりレーザビームのビーム径を変更することを特徴とする印刷版の製版装置。 After engraving by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter, a laser beam having a second beam diameter different from the first beam diameter is used. A printing plate making apparatus for engraving by irradiating a recording material at a second pixel pitch different from the first pixel pitch,
A laser light source;
A beam diameter changing mechanism that changes the beam diameter of the laser beam emitted from the laser light source,
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the beam diameter changing mechanism changes a beam diameter of a laser beam by changing an optical path length from the laser light source to the recording material.
前記ビーム径変更機構は、固定ミラーと、前記レーザ光源から前記記録材料に至る光路中の偏向位置と当該光路から離隔した退避位置との間を移動可能な移動ミラーとを備え、前記移動ミラーを偏向位置に配置することにより、前記レーザ光源から前記記録材料に向けて出射されたレーザビームを前記固定ミラーに向けて偏向させた後、当該固定ミラーにより前記移動ミラーからのレーザビームを再度、前記レーザ光源から前記記録材料に至る光路中に復帰させる印刷版の製版装置。 In the plate-making apparatus of the printing plate of Claim 1,
The beam diameter changing mechanism includes a fixed mirror, and a movable mirror that is movable between a deflection position in an optical path from the laser light source to the recording material and a retracted position separated from the optical path. By arranging at the deflection position, the laser beam emitted from the laser light source toward the recording material is deflected toward the fixed mirror, and then the laser beam from the moving mirror is again transmitted by the fixed mirror. A printing plate making apparatus for returning to a light path from a laser light source to the recording material.
レーザ光源と、
前記レーザ光源から照射されたレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、
前記ビーム径変更機構によりビーム径が変更されたレーザビームを前記記録材料上に集光する正のパワーを有する対物レンズとを備え、
前記ビーム径変更機構は、前記レーザ光源から前記対物レンズまでの光路長を変更することによりレーザビームのビーム径を変更することを特徴とする印刷版の製版装置。 After engraving by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter, a laser beam having a second beam diameter different from the first beam diameter is used. A printing plate making apparatus for engraving by irradiating a recording material at a second pixel pitch different from the first pixel pitch,
A laser light source;
A beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam emitted from the laser light source;
An objective lens having a positive power for condensing the laser beam having a beam diameter changed by the beam diameter changing mechanism on the recording material;
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the beam diameter changing mechanism changes a beam diameter of a laser beam by changing an optical path length from the laser light source to the objective lens.
前記ビーム径変更機構は、固定ミラーと、前記レーザ光源から前記対物レンズに至る光路中の偏向位置と当該光路から離隔した退避位置との間を移動可能な移動ミラーとを備え、前記移動ミラーを偏向位置に配置することにより、前記レーザ光源から前記対物レンズに向けて出射されたレーザビームを前記固定ミラーに向けて偏向させた後、当該固定ミラーにより前記移動ミラーからのレーザビームを再度、前記レーザ光源から前記対物レンズに至る光路中に復帰させる印刷版の製版装置。 In the plate-making apparatus of the printing plate of Claim 3,
The beam diameter changing mechanism includes a fixed mirror, and a movable mirror movable between a deflection position in an optical path from the laser light source to the objective lens and a retracted position separated from the optical path. By disposing the laser beam emitted from the laser light source toward the objective lens by deflecting the laser beam toward the fixed mirror, the laser beam from the moving mirror is again transmitted by the fixed mirror. A plate making apparatus for a printing plate that is returned in an optical path from a laser light source to the objective lens.
前記移動ミラーを前記偏向位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径が、前記移動ミラーを前記退避位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径より小さい印刷版の製版装置。 In the plate-making apparatus of the printing plate of Claim 4,
The beam diameter of the laser beam applied to the recording material when the moving mirror is arranged at the deflection position is smaller than the beam diameter of the laser beam applied to the recording material when the moving mirror is arranged at the retracted position. Printing plate making equipment.
前記レーザ光源から出射されたレーザビームを変調する変調器を前記移動ミラーと同期して移動可能に配設し、前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときには前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記変調器を介して前記移動ミラーに入射させ、前記移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記変調器を介さずに前記対物レンズに入射させるとともに、
前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときには前記変調器によりレーザビームを変調し、前記移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには前記レーザ光源自体によりレーザビームを変調する印刷版の製版装置。 In the plate-making apparatus of the printing plate of Claim 5,
A modulator that modulates the laser beam emitted from the laser light source is arranged to be movable in synchronization with the moving mirror, and the laser beam emitted from the laser light source when the moving mirror is arranged at the deflection position Is incident on the moving mirror via the modulator, and when the moving mirror is disposed at the retracted position, the laser beam emitted from the laser light source is incident on the objective lens without passing through the modulator. ,
A printing plate making apparatus that modulates a laser beam by the modulator when the moving mirror is arranged at the deflection position, and modulates a laser beam by the laser light source itself when the moving mirror is arranged at the retracted position.
前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときに、前記レーザ光源から前記対物レンズに向けて出射されたレーザビームが偏向された後、再度、前記レーザ光源から前記対物レンズに至る光路中に復帰するまでの光路中に、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを変調する変調器を配設するとともに、
前記移動ミラーが前記偏向位置に配置されたときには前記変調器によりレーザビームを変調し、前記移動ミラーが前記退避位置に配置されたときには前記レーザ光源自体によりレーザビームを変調する印刷版の製版装置。 In the plate-making apparatus of the printing plate of Claim 5,
When the moving mirror is disposed at the deflection position, the laser beam emitted from the laser light source toward the objective lens is deflected and then returned to the optical path from the laser light source to the objective lens again. A modulator for modulating the laser beam emitted from the laser light source in the optical path until
A printing plate making apparatus that modulates a laser beam by the modulator when the moving mirror is arranged at the deflection position, and modulates a laser beam by the laser light source itself when the moving mirror is arranged at the retracted position.
前記移動ミラーを前記偏向位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径が、前記移動ミラーを前記退避位置に配置したときに記録材料に照射されるレーザビームのビーム径より大きい印刷版の製版装置。
In the plate-making apparatus of the printing plate of Claim 4,
The beam diameter of the laser beam applied to the recording material when the moving mirror is arranged at the deflection position is larger than the beam diameter of the laser beam applied to the recording material when the moving mirror is arranged at the retracted position. Printing plate making equipment.
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---|---|---|---|---|
JP2011511951A (en) * | 2007-10-05 | 2011-04-14 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ ヨーロッパ エスエーエス | A method for producing a relief image structure usable particularly in the field of flexographic printing, and a structure produced by the method |
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2005
- 2005-02-17 JP JP2005040378A patent/JP2006227261A/en active Pending
Cited By (1)
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JP2011511951A (en) * | 2007-10-05 | 2011-04-14 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ ヨーロッパ エスエーエス | A method for producing a relief image structure usable particularly in the field of flexographic printing, and a structure produced by the method |
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