JP2006159800A - Method and equipment for making printing plate - Google Patents

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Hideaki Ogawa
秀明 小川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and equipment for making a printing plate which enable reduction of a platemaking time by efficiently using laser beams. <P>SOLUTION: The method for making a printing plate comprises a first engraving process wherein a laser beam L1 having a first beam diameter is used and a flexo sensitized material is irradiated thereby at a first pixel pitch so that engraving is performed to a first depth dp and a second engraving process wherein a laser beam L2 having a second beam diameter larger than the first beam diameter is used and the flexo sensitized material is irradiated thereby at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch so that the engraving is performed to a second depth d larger than the first depth. A laser light source is made to oscillate continuously and modulation is conducted by AOM in the first engraving process, while the source is made to oscillate in pulses in the second engraving process. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、例えば、フレキソ印刷版等の凸版印刷版や、グラビア版等の凹版印刷版などの印刷版に製版を行う、印刷版の製版方法および印刷版の製版装置に関する。   The present invention relates to a printing plate making method and a printing plate making apparatus for making a printing plate such as a relief printing plate such as a flexographic printing plate and an intaglio printing plate such as a gravure plate.

従来、このような印刷版の製版装置としては、例えば、特許文献1に記載されたレーザ彫刻機が知られている。このレーザ彫刻機は、レーザ光源から出射されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して凸版印刷版を製版するものであり、レーザ光源と、このレーザ光源から出射されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、この記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、記録ドラムの外周部に装着された記録材料にレーザ光源から出射されたレーザビームを照射する記録ヘッドとを備える。
米国特許第5327167号明細書
Conventionally, for example, a laser engraving machine described in Patent Document 1 is known as such a plate making apparatus. This laser engraving machine scans a recording material with a laser beam emitted from a laser light source to engrave the surface of the recording material to make a relief printing plate. The laser light source and the laser light source A modulator for modulating the laser beam, a recording drum that rotates with a recording material mounted on the outer periphery thereof, and a structure that is movable in a direction parallel to the axis of the recording drum. And a recording head that irradiates a recording material mounted on the unit with a laser beam emitted from a laser light source.
US Pat. No. 5,327,167

このような凸版印刷版の製版装置においては、レーザ光源のパワーと記録材料の感度に基づいて、レーザビームの主走査速度、すなわち、記録ドラムの回転速度が、必要な最大彫刻深さが得られる値に設定される。そして、最大彫刻深さより浅い彫刻領域は、記録材料に照射されるレーザビームのパワーを低下させた状態で彫刻が実行される。   In such a relief printing plate making apparatus, the main scanning speed of the laser beam, that is, the rotational speed of the recording drum, provides the required maximum engraving depth based on the power of the laser light source and the sensitivity of the recording material. Set to a value. In the engraving area shallower than the maximum engraving depth, engraving is executed in a state where the power of the laser beam irradiated to the recording material is reduced.

このとき、レーザビームによる記録材料の彫刻には、比較的大きなエネルギーが必要であることから、印刷版の製版に比較的長い時間を要するという問題がある。   At this time, the engraving of the recording material by the laser beam requires a relatively large energy, so that there is a problem that it takes a relatively long time to make the printing plate.

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、レーザビームを効率的に使用することにより製版時間を短縮することが可能な印刷版の製版方法および印刷版の製版装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and provides a printing plate making method and a printing plate making apparatus capable of shortening the plate making time by efficiently using a laser beam. With the goal.

請求項1に記載の発明は、レーザ光源から射出され、画像信号に対応して変調されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、前記第1の彫刻工程においては、前記レーザ光源を連続発振させ、前記第2の彫刻工程においては、前記レーザ光源をパルス発振させることを特徴とする。   According to the first aspect of the present invention, there is provided a printing plate for engraving the surface of a recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source and modulated in accordance with an image signal. A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter; Using a laser beam having a second beam diameter larger than the beam diameter and irradiating the recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch, a second depth deeper than the first depth A second engraving process for engraving until the laser light source is continuously oscillated in the first engraving process, and the laser light source is pulse-oscillated in the second engraving process. To do.

請求項2に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、前記第1の彫刻工程においては、レーザビームを前記変調器により変調し、前記第2の彫刻工程においては、レーザビームを前記レーザ光源自体で変調することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate, the surface of the recording material is engraved to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a diameter, and a second beam diameter larger than the first beam diameter A second engraving step of engraving to a second depth deeper than the first depth by irradiating a recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch using a laser beam having And in the first engraving step, the laser beam is modulated by the modulator, and in the second engraving step, the laser beam is modulated by the laser light source itself.

請求項3に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、前記第2の彫刻工程においては、前記記録材料を前記第1の彫刻工程よりも高い温度に予備加熱することを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate, the surface of the recording material is engraved to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a diameter, and a second beam diameter larger than the first beam diameter A second engraving step of engraving to a second depth deeper than the first depth by irradiating a recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch using a laser beam having In the second engraving step, the recording material is preheated to a temperature higher than that in the first engraving step.

請求項4に記載の発明は、レーザ光源から射出され、画像信号に対応して変調されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで行う第1の彫刻工程と、前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも浅い第2の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程とを備え、前記第1の彫刻工程においては、前記レーザ光源をパルス発振させ、前記第2の彫刻工程においては、前記レーザ光源を連続発振又は擬似連続発振させることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a printing plate for making a printing plate by engraving a surface of a recording material by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source and modulated in accordance with an image signal. In the plate-making method, a first engraving step using a laser beam having a first beam diameter, irradiating a recording material at a first pixel pitch to a first depth, and the first beam diameter Using a laser beam having a smaller second beam diameter, irradiating the recording material with a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch, and engraving to a second depth shallower than the first depth A first engraving step for performing the above-mentioned, wherein in the first engraving step, the laser light source is pulsated, and in the second engraving step, the laser light source is continuously oscillated or quasi-continuously oscillated. Features and That.

請求項5に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画像ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画像ピッチより小さい第2の画像ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも浅い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、前記第1の彫刻工程においては、レーザビームを前記レーザ自体で変調し、前記第2の彫刻工程においては、レーザビームを前記変調器により変調することを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate, the surface of the recording material is engraved to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first image pitch using a laser beam having a diameter, and a second beam diameter smaller than the first beam diameter A second engraving step of engraving to a second depth shallower than the first depth by irradiating the recording material with a second image pitch smaller than the first image pitch using a laser beam having In the first engraving step, the laser beam is modulated by the laser itself, and in the second engraving step, the laser beam is modulated by the modulator.

請求項6に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画像ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画像ピッチより小さい第2の画像ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも浅い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、前記第1の彫刻工程においては、前記記録材料を前記第2の彫刻工程よりも高い温度に予備加熱することを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate, the surface of the recording material is engraved to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first image pitch using a laser beam having a diameter, and a second beam diameter smaller than the first beam diameter A second engraving step of engraving to a second depth shallower than the first depth by irradiating the recording material with a second image pitch smaller than the first image pitch using a laser beam having In the first engraving step, the recording material is preheated to a temperature higher than that in the second engraving step.

請求項7に記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、前記印刷版は凸版印刷版である。   According to a seventh aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate according to any one of the first to third aspects, the printing plate is a relief printing plate.

請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の印刷版の製版方法において、前記第1の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである。   According to an eighth aspect of the present invention, in the plate making method of the printing plate according to the seventh aspect, the first depth is a boundary portion of the reliefs when the reliefs whose halftone dot percentages are substantially zero are adjacent to each other. The sculpture depth.

請求項9に記載の発明は、請求項4乃至請求項6のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、前記印刷版は凸版印刷版である。   According to a ninth aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate according to any one of the fourth to sixth aspects, the printing plate is a relief printing plate.

請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の印刷版の製版方法において、前記第2の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである。   According to a tenth aspect of the present invention, in the plate making method of the printing plate according to the ninth aspect, the second depth is a boundary portion between the reliefs when the reliefs whose halftone dot percentages are substantially zero are adjacent to each other. The sculpture depth.

請求項11に記載の発明は、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、前記印刷版は凹版印刷版である。   According to an eleventh aspect of the present invention, in the plate making method of a printing plate according to any one of the first to sixth aspects, the printing plate is an intaglio printing plate.

請求項12に記載の発明は、請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、前記第1の画素ピッチと、前記第1の深度と、記録材料の感度と、前記レーザ光源のパワーとから、前記第1の彫刻工程の走査速度を決定する。   The invention according to claim 12 is the plate making method of a printing plate according to any one of claims 1 to 11, wherein the first pixel pitch, the first depth, the sensitivity of the recording material, The scanning speed of the first engraving process is determined from the power of the laser light source.

請求項13に記載の発明は、請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、前記第2の画素ピッチと、前記第2の深度と、記録材料の感度と、前記レーザ光源のパワーとから、前記第2の彫刻工程の走査速度を決定する。   The invention according to claim 13 is the plate making method of a printing plate according to any one of claims 1 to 11, wherein the second pixel pitch, the second depth, the sensitivity of the recording material, The scanning speed of the second engraving process is determined from the power of the laser light source.

請求項14に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、前記記録ドラムを回転させる回転モータと、前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記レーザ光源をパルス発振および連続発振させるレーザ光源制御部と、前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記レーザ光源制御部を制御することにより、前記レーザ光源を連続発振させた状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記レーザ光源をパルス発振させた状態で、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部とを備えることを特徴とする。   According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a printing plate making apparatus for engraving a surface of a recording material to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A modulator for modulating the emitted laser beam, a recording drum on which the recording material is mounted, a rotation motor for rotating the recording drum, and a movement parallel to the axis of the recording drum And a recording head that irradiates a recording material mounted on the outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source, and the recording head is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum. And a beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam emitted from the recording head, and the laser light source is oscillated and linked. By controlling the laser light source control unit to oscillate, the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the laser light source control unit, the laser light source is continuously oscillated, Using a laser beam having a first beam diameter, irradiating a recording material at a first pixel pitch, engraving to a first depth, and then oscillating the laser light source in a pulsed state. A laser beam having a second beam diameter greater than the first beam diameter is used to irradiate the recording material at a second pixel pitch greater than the first pixel pitch, and a second deeper than the first depth. And a control unit for engraving to a depth.

請求項15に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、前記記録ドラムを回転させる回転モータと、前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記変調器をレーザビームを変調可能な変調位置と退避位置の間で移動させる変調器移動機構と、前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記変調器移動機構を制御することにより、前記変調器を変調位置に配置した状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記変調器で変調されたレーザビームにより第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記変調器を退避位置に配置した状態で、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記レーザ光源自体で変調されたレーザビームにより前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部とを備えることを特徴とする。   According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided a printing plate making apparatus for engraving a surface of a recording material to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A modulator for modulating the emitted laser beam, a recording drum on which the recording material is mounted, a rotation motor for rotating the recording drum, and a movement parallel to the axis of the recording drum And a recording head that irradiates a recording material mounted on the outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source, and the recording head is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum. Motor, a beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam emitted from the recording head, and the modulator can modulate the laser beam A modulator moving mechanism that moves between a modulation position and a retracted position; and the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the modulator moving mechanism to control the modulator Is placed at the modulation position, a laser beam having a first beam diameter is used, and the recording material is irradiated with the laser beam modulated by the modulator at a first pixel pitch to the first depth. After engraving, a laser beam having a second beam diameter larger than the first beam diameter is used with the modulator placed in the retracted position, and the laser beam modulated by the laser light source itself is used. And a controller that performs engraving to a second depth deeper than the first depth by irradiating the recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch.

請求項16に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、前記記録ドラムを回転させる回転モータと、前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記記録ドラムに装着された記録材料を加熱する加熱機構と、前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記加熱機構を制御することにより、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記記録材料をより高温に予備加熱した状態で、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部とを備えることを特徴とする。   According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a printing plate making apparatus for engraving a surface of a recording material to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A modulator for modulating the emitted laser beam, a recording drum on which the recording material is mounted, a rotation motor for rotating the recording drum, and a movement parallel to the axis of the recording drum And a recording head that irradiates a recording material mounted on the outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source, and the recording head is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum. A moving motor, a beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head, and a recording material mounted on the recording drum A heating mechanism for heating, a laser beam having a first beam diameter is controlled by controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the heating mechanism. The recording material is irradiated at a pixel pitch of 1 mm and engraved to the first depth, and then the recording material is preheated to a higher temperature and has a second beam diameter larger than the first beam diameter. A control unit that uses a laser beam to irradiate a recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch and engraves the recording material to a second depth deeper than the first depth. And

請求項17に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、前記記録ドラムを回転させる回転モータと、前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記レーザ光源をパルス発振および連続発振させるレーザ光源制御部と、前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記レーザ光源制御部を制御することにより、前記レーザ光源をパルス発振させた状態で第1の深度まで彫刻を行った後、前記レーザ光源を連続発振又は疑似連続発振させた状態で、前記第1のピッチより小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、を備えることを特徴とする。   According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided a printing plate making apparatus for engraving a surface of a recording material to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A modulator for modulating the emitted laser beam, a recording drum on which the recording material is mounted, a rotation motor for rotating the recording drum, and a movement parallel to the axis of the recording drum And a recording head that irradiates a recording material mounted on the outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source, and the recording head is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum. And a beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam emitted from the recording head, and the laser light source is oscillated and linked. The laser light source control unit to be oscillated, and the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the laser light source control unit are controlled so that the laser light source is oscillated in a pulsed state. After engraving up to a depth of 1, using the laser beam having a second beam diameter smaller than the first pitch in a state where the laser light source is continuously oscillated or quasi-continuously oscillated, the first pixel And a controller that sculpts the recording material at a second pixel pitch smaller than the pitch and performs engraving to a second depth deeper than the first depth.

請求項18に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、前記記録ドラムを回転させる回転モータと、前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記変調器をレーザビームを変調可能な変調位置と退避位置の間で移動させる変調器移動機構と、前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記変調器移動機構を制御することにより、前記変調器を前記退避位置に配置した状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記レーザ光源自体で変調されたレーザビームにより第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記変調器を変調位置に配置した状態で、前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記変調器で変調されたレーザビームにより前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、を備えることを特徴とする。   The invention described in claim 18 is a printing plate making apparatus for engraving the surface of a recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A modulator for modulating the emitted laser beam, a recording drum on which the recording material is mounted, a rotation motor for rotating the recording drum, and a movement parallel to the axis of the recording drum And a recording head that irradiates a recording material mounted on the outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source, and the recording head is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum. Motor, a beam diameter changing mechanism for changing the beam diameter of the laser beam emitted from the recording head, and the modulator can modulate the laser beam A modulator moving mechanism that moves between a modulation position and a retracted position; and the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the modulator moving mechanism to control the modulator Is placed at the retracted position, a laser beam having a first beam diameter is used, and a recording material is irradiated at a first pixel pitch by a laser beam modulated by the laser light source itself, After engraving to a depth, a laser beam modulated by the modulator using a laser beam having a second beam diameter smaller than the first beam diameter in a state where the modulator is arranged at a modulation position. A control unit that irradiates the recording material at a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch and engraves to a second depth deeper than the first depth. .

請求項19に記載の発明は、レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、前記記録ドラムを回転させる回転モータと、前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記記録ドラムに装着された記録材料を加熱する加熱機構と、前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記加熱機構を制御することにより、前記記録材料を高温に予備加熱した状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、より低温の記録材料に対し前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、を備えることを特徴とする。   According to a nineteenth aspect of the present invention, there is provided a printing plate making apparatus for engraving a surface of a recording material to make a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source. A modulator for modulating the emitted laser beam, a recording drum on which the recording material is mounted, a rotation motor for rotating the recording drum, and a movement parallel to the axis of the recording drum And a recording head that irradiates a recording material mounted on the outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source, and the recording head is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum. A moving motor, a beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head, and a recording material mounted on the recording drum In a state where the recording material is preheated to a high temperature by controlling a heating mechanism for heating, the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the heating mechanism, Using a laser beam having a beam diameter, irradiating the recording material at a first pixel pitch and engraving to a first depth, a lower temperature recording material is smaller than the first beam diameter. A control unit that uses a laser beam having a beam diameter of 2 and irradiates a recording material at a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch to engrave to a second depth deeper than the first depth And.

請求項20に記載の発明は、請求項14乃至請求項16のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、前記印刷版は凸版印刷版である。   According to a twentieth aspect of the present invention, in the plate making apparatus for a printing plate according to any one of the fourteenth to sixteenth aspects, the printing plate is a relief printing plate.

請求項21に記載の発明は、請求項20に記載の製版装置において、前記第1の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである。   According to a twenty-first aspect of the present invention, in the plate making apparatus according to the twenty-first aspect, the first depth is a depth of engraving at a boundary portion between the reliefs where the halftone dot percentages are adjacent to each other. That's it.

請求項22に記載の発明は、請求項17乃至請求項19のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、前記印刷版は凸版印刷版である。   According to a twenty-second aspect of the present invention, in the plate making apparatus for a printing plate according to any one of the seventeenth to nineteenth aspects, the printing plate is a relief printing plate.

請求項23に記載の発明は、請求項22に記載の製版装置において、前記第2の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである。   According to a twenty-third aspect of the present invention, in the plate making apparatus according to the twenty-second aspect, the second depth is the engraving depth of the boundary portion of the reliefs when the reliefs whose dot percentage is substantially zero are adjacent to each other. That's it.

請求項24に記載の発明は、請求項14乃至請求項19のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、前記印刷版は凹版印刷版である。   According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the plate making apparatus for a printing plate according to any one of the fourteenth to nineteenth aspects, the printing plate is an intaglio printing plate.

請求項1および請求項14に記載の発明によれば、第1の彫刻工程においてはレーザ光源を連続発振させて精密な彫刻を行い、第2の彫刻工程においてはレーザ光源をパルス発振させてより強いレーザビームにより彫刻を行うことが可能となる。従って、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   According to the invention described in claim 1 and claim 14, in the first engraving process, the laser light source is continuously oscillated to perform precise engraving, and in the second engraving process, the laser light source is pulse-oscillated. Engraving can be performed with a strong laser beam. Therefore, the laser beam can be used efficiently, and the plate making time can be shortened while maintaining high plate making accuracy.

請求項2および請求項15に記載の発明によれば、第1の彫刻工程においてはレーザビームを変調器により変調して精密な彫刻を行い、第2の彫刻工程においてはレーザビームをレーザ光源自体で変調することにより、変調器における光量損失を防止して強いレーザビームにより彫刻を行うことが可能となる。従って、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   According to the second and fifteenth aspects of the present invention, in the first engraving process, the laser beam is modulated by the modulator to perform precise engraving, and in the second engraving process, the laser beam is used as the laser light source itself. By modulating with, engraving can be performed with a strong laser beam while preventing loss of light quantity in the modulator. Therefore, the laser beam can be used efficiently, and the plate making time can be shortened while maintaining high plate making accuracy.

請求項3および請求項16に記載の発明によれば、第1の彫刻工程においては熱膨張を防止して精密な彫刻を行い、第2の彫刻工程においては記録材料を第1の彫刻工程よりも高い温度に予備加熱して効率的に彫刻を行うことが可能になる。従って、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   According to the invention described in claim 3 and claim 16, in the first engraving process, precise engraving is performed by preventing thermal expansion, and in the second engraving process, the recording material is transferred from the first engraving process. It becomes possible to perform engraving efficiently by preheating to a higher temperature. Therefore, the laser beam can be used efficiently, and the plate making time can be shortened while maintaining high plate making accuracy.

請求項4および請求項17に記載の発明によれば、第1の彫刻工程においてはレーザ光源をパルス発振させて強いレーザビームにより彫刻を行い、第2の彫刻工程においてはレーザ光源を連続発振させて精密な彫刻を行うことが可能となる。従って、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   According to the invention described in claim 4 and claim 17, in the first engraving process, the laser light source is pulse-oscillated to perform engraving with a strong laser beam, and in the second engraving process, the laser light source is continuously oscillated. And precise engraving becomes possible. Therefore, the laser beam can be used efficiently, and the plate making time can be shortened while maintaining high plate making accuracy.

請求項5および請求項18に記載の発明によれば、第1の彫刻工程においてはレーザビームをレーザ光源自体で変調し、第2の彫刻工程においてはレーザビームを変調器により変調することにより、変調器における光量損失を防止して強いレーザビームにより彫刻を行うことが可能となる。従って、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   According to the invention described in claim 5 and claim 18, by modulating the laser beam with the laser light source itself in the first engraving step, and modulating the laser beam with the modulator in the second engraving step, It is possible to perform engraving with a strong laser beam while preventing loss of light quantity in the modulator. Therefore, the laser beam can be used efficiently, and the plate making time can be shortened while maintaining high plate making accuracy.

請求項6および請求項19に記載の発明によれば、第1の彫刻工程においては記録材料を第2の彫刻工程よりも高い温度に予備加熱して彫刻を行い、第2の彫刻工程においては熱膨張を防止して精密な彫刻を行うことが可能となる。従って、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   According to the invention described in claim 6 and claim 19, in the first engraving process, the recording material is pre-heated to a temperature higher than that in the second engraving process, and the engraving is performed in the second engraving process. Precise engraving can be performed while preventing thermal expansion. Therefore, the laser beam can be used efficiently, and the plate making time can be shortened while maintaining high plate making accuracy.

請求項7乃至請求項10、および、請求項20乃至請求項23に記載の発明によれば、効率的に凸版を製版することが可能となる。   According to the inventions of claims 7 to 10 and claims 20 to 23, it is possible to efficiently make a relief plate.

請求項11および請求項24に記載の発明によれば、効率的に凹版を製版することが可能となる。   According to the invention described in claim 11 and claim 24, it is possible to efficiently make the intaglio.

請求項12および請求項13に記載の発明によれば、最も効率的な走査速度を決定することができ、製版時間を最短とすることが可能となる。   According to the invention described in claims 12 and 13, the most efficient scanning speed can be determined, and the plate making time can be minimized.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

以下の説明においては、最初に、精密彫刻ビームL1を使用し精密彫刻画素ピッチppでフレキソ感材10を照射して最大深度dpまで彫刻を行う精密彫刻工程と、粗ビームL2を使用し粗彫刻画素ピッチpcでフレキソ感材10を照射してレリーフ深度dまで彫刻を行う粗彫刻工程との二工程により彫刻を実行することで、製版時間を短縮するこの発明の第一の特徴について説明し、続いて、レーザビームを効率的に使用することにより高い製版精度を維持したまま製版時間を短縮するこの発明の第二の特徴について説明することとする。   In the following description, first, a precision engraving process in which engraving is performed up to the maximum depth dp by irradiating the flexo sensitive material 10 with a precision engraving pixel pitch pp using the precision engraving beam L1, and a coarse engraving using the coarse beam L2. Explaining the first feature of the present invention that shortens the plate-making time by executing engraving in two steps, the rough engraving step of engraving to the relief depth d by irradiating the flexo sensitive material 10 with the pixel pitch pc, Next, a second feature of the present invention that shortens the plate making time while maintaining high plate making accuracy by using the laser beam efficiently will be described.

図1はこの発明に係る凸版印刷版の製版装置であるレーザ彫刻機の概要を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram showing an outline of a laser engraving machine which is a plate making apparatus for a relief printing plate according to the present invention.

このレーザ彫刻機は、その外周部に凸版印刷版用の記録材料としてのフレキソダイレクト感光材料(以下「フレキソ感材」と呼称する)10を装着する記録ドラム11と、この記録ドラム11の軸芯と平行な方向に移動可能に構成された記録ヘッド12と、入出力部および表示部としてのパーソナルコンピュータ13と、ガスレーザよりなるレーザ光源14と、装置全体を制御する制御部15とを備える。   This laser engraving machine includes a recording drum 11 on which a flexo direct photosensitive material (hereinafter referred to as “flexo-sensitive material”) 10 as a recording material for a relief printing plate is mounted on the outer periphery thereof, and an axis of the recording drum 11 The recording head 12 is configured to be movable in a direction parallel to the head, a personal computer 13 serving as an input / output unit and a display unit, a laser light source 14 formed of a gas laser, and a control unit 15 that controls the entire apparatus.

記録ドラム11は、回転モータ21と接続されており、軸22を中心に回転する。この回転モータ21は、モータドライバ23と接続されている。このモータドライバ23は、制御部15から回転速度指令を受け、回転モータ21の回転を制御する。回転モータ21の回転速度および回転モータ21により回転する記録ドラム11の回転角度位置は、エンコーダ24により測定され、その情報が制御部15に送信される。   The recording drum 11 is connected to a rotary motor 21 and rotates around a shaft 22. The rotary motor 21 is connected to a motor driver 23. The motor driver 23 receives a rotational speed command from the control unit 15 and controls the rotation of the rotary motor 21. The rotational speed of the rotary motor 21 and the rotational angular position of the recording drum 11 rotated by the rotary motor 21 are measured by the encoder 24, and the information is transmitted to the control unit 15.

記録ヘッド12は、図示しない案内手段に案内されることにより、記録ドラム11の軸芯と平行な方向に移動可能となっている。そして、この記録ヘッド12は、記録ドラム11の軸芯と平行に設置され、移動モータ31により回転するボールねじ32の駆動を受け、記録ドラム11の軸芯と平行な方向に往復移動する。この移動モータ31は、モータドライバ33と接続されている。このモータドライバ33は、制御部15から回転速度指令を受け、移動モータ31の回転を制御する。移動モータ31の回転速度および移動モータ31により移動する記録ヘッド12の位置は、エンコーダ34により測定され、その情報が制御部15に送信される。   The recording head 12 can be moved in a direction parallel to the axis of the recording drum 11 by being guided by guide means (not shown). The recording head 12 is installed in parallel with the axis of the recording drum 11, is driven by a ball screw 32 that is rotated by a moving motor 31, and reciprocates in a direction parallel to the axis of the recording drum 11. This moving motor 31 is connected to a motor driver 33. The motor driver 33 receives a rotation speed command from the control unit 15 and controls the rotation of the moving motor 31. The rotational speed of the moving motor 31 and the position of the recording head 12 moved by the moving motor 31 are measured by the encoder 34, and the information is transmitted to the control unit 15.

図2は、記録ヘッド12を記録ドラム11とともに示す模式図である。   FIG. 2 is a schematic diagram showing the recording head 12 together with the recording drum 11.

この記録ヘッド12内には、対物レンズ46と予備加熱機構71とが配設されている。この予備加熱機構71は、記録ドラム11の外周部に装着されたフレキソ感材10を予備加熱するためのものである。この予備加熱機構71は、例えば、記録ドラム11の外周部に装着されたフレキソ感材10に向けて熱風を噴出する熱風噴出手段や、記録ドラム11の外周部に装着された記録材料10向けて赤外線を照射するハロゲンランプ、あるいは、誘導加熱手段等から構成される。   In the recording head 12, an objective lens 46 and a preheating mechanism 71 are disposed. The preheating mechanism 71 is for preheating the flexo sensitive material 10 mounted on the outer periphery of the recording drum 11. The preheating mechanism 71 is, for example, for hot air blowing means for blowing hot air toward the flexo sensitive material 10 mounted on the outer peripheral portion of the recording drum 11 or for the recording material 10 mounted on the outer peripheral portion of the recording drum 11. It is composed of a halogen lamp for irradiating infrared rays or induction heating means.

再度図1を参照して、レーザ光源14の後段には、その内部にAOM(音響光学変調器)72(図3参照)を内蔵したAOMユニット41が配設されている。このAOMユニット41は、AOMドライバ42および切替回路65を介して制御部15から画像信号を受ける。レーザ光源14から出射されたレーザビームは、AOMユニット41で変調された後、可変式ビームエキスパンダー51、装置に固定された一対の折り返しミラー43、44、記録ヘッド12に固定された折り返しミラー45および対物レンズ46を介して、記録ヘッド12の外周部に装着されたフレキソ感材10に照射される。   Referring to FIG. 1 again, an AOM unit 41 having a built-in AOM (acousto-optic modulator) 72 (see FIG. 3) is disposed in the subsequent stage of the laser light source 14. The AOM unit 41 receives an image signal from the control unit 15 via the AOM driver 42 and the switching circuit 65. After the laser beam emitted from the laser light source 14 is modulated by the AOM unit 41, the variable beam expander 51, a pair of folding mirrors 43 and 44 fixed to the apparatus, a folding mirror 45 fixed to the recording head 12, and The light is applied to the flexo sensitive material 10 mounted on the outer periphery of the recording head 12 through the objective lens 46.

AOMユニット41は、モータ61の駆動により、レーザビームを変調可能な変調位置と退避位置の間で移動可能となっている。このモータ61は、モータドライバ62を介して制御部15に接続されている。   The AOM unit 41 is movable between a modulation position where the laser beam can be modulated and a retracted position by driving a motor 61. The motor 61 is connected to the control unit 15 via a motor driver 62.

図3は、AOMユニット41を示す模式図である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing the AOM unit 41.

このAOMユニット41は、その内部にAOM72と平行平面板73とを備える。このAOMユニット41は、AOM72によりレーザビームの変調を行わないときには、図3において実線で示す退避位置に配置される。一方、AOM72により変調を行う必要があるときには、モータ61の駆動により、AOM72が図3において仮想線で示す位置に配置された変調位置まで移動する。この変調位置は、AOM72がレーザビームの光路中に配置される位置である。   The AOM unit 41 includes an AOM 72 and a plane parallel plate 73 therein. When the AOM 72 does not modulate the laser beam, the AOM unit 41 is disposed at a retracted position indicated by a solid line in FIG. On the other hand, when it is necessary to perform modulation by the AOM 72, the AOM 72 is moved to the modulation position arranged at the position indicated by the phantom line in FIG. This modulation position is a position where the AOM 72 is arranged in the optical path of the laser beam.

なお、平行平面板73は、AOMユニット41が退避位置に配置されたときに、レーザビームの光路中に配置される。この平行平面板73は、AOMユニット41が退避位置に配置された場合に、レーザビームがAOM72を通過するときに生ずるレーザビームの光路の変位と同等の変位をレーザビームに生じさせるためのものである。   The plane parallel plate 73 is disposed in the optical path of the laser beam when the AOM unit 41 is disposed at the retracted position. The plane parallel plate 73 is used to cause the laser beam to generate a displacement equivalent to the displacement of the optical path of the laser beam that occurs when the laser beam passes through the AOM 72 when the AOM unit 41 is disposed at the retracted position. is there.

再度図1を参照して、可変式ビームエキスパンダ51は、レーザ光源14から出射されたレーザビームのビーム径を変更することにより、フレキソ感材10に照射されるレーザビームのビーム径を変更するためのものである。この可変式ビームエキスパンダ51は、ビームエキスパンダを構成する3対のレンズ52、53、54と、これらのレンズ対52、53、54を支持する支持部材55と、支持部材55を移動させることにより、レンズ対52、53、54のうちのいずれかのレンズ対をAOMユニット41の出射端と対向する位置に配置させるためのモータ等を有する移動機構56とを備える。この移動機構56は、モータドライバ57と接続されている。このモータドライバ57は、制御部15から指令を受け、レンズ対52、53、54のうち彫刻に最適のレンズ対を、AOMユニット41の出射端と対向する位置に配置させる。   Referring again to FIG. 1, the variable beam expander 51 changes the beam diameter of the laser beam applied to the flexographic material 10 by changing the beam diameter of the laser beam emitted from the laser light source 14. Is for. The variable beam expander 51 includes three pairs of lenses 52, 53, and 54 that constitute the beam expander, a support member 55 that supports the pair of lenses 52, 53, and 54, and a support member 55 that moves. Thus, a moving mechanism 56 having a motor or the like for disposing any one of the lens pairs 52, 53, 54 at a position facing the emission end of the AOM unit 41 is provided. This moving mechanism 56 is connected to a motor driver 57. The motor driver 57 receives a command from the control unit 15 and arranges the lens pair most suitable for engraving among the lens pairs 52, 53, and 54 at a position facing the emission end of the AOM unit 41.

レーザ光源14は、ドライバ63およびレーザ光源制御部64を介して制御部15と接続されている。レーザ光源制御部64は、制御部15から、後述する連続発振またはパルス発振の指示信号を受ける。また、レーザ光源制御部64は、切替回路65を介して制御部15から画像信号を受ける。なお、切替回路65は、画像信号をレーザ光源制御部64に送信するか、上述したAOMドライバ42に送信するかの切替信号を、制御部15から受け取る。   The laser light source 14 is connected to the control unit 15 via a driver 63 and a laser light source control unit 64. The laser light source control unit 64 receives an instruction signal for continuous oscillation or pulse oscillation described later from the control unit 15. Further, the laser light source control unit 64 receives an image signal from the control unit 15 via the switching circuit 65. The switching circuit 65 receives from the control unit 15 a switching signal indicating whether an image signal is transmitted to the laser light source control unit 64 or the above-described AOM driver 42.

このレーザ彫刻機においては、レーザ光源14から出射されたレーザビームは、AOMユニット41におけるAOM72で変調され、可変式ビームエキスパンダ51によりビーム径を変更された後、折り返しミラー43、44、45および対物レンズ46を介して記録ヘッド12から出射される。そして、その外周部にフレキソ感材10を装着した記録ドラム11が回転した状態で、記録ヘッド12を記録ドラム11の軸芯と平行な方向に移動させることにより、レーザビームがフレキソ感材10上を走査し、彫刻が実行されてフレキソ感材10上にレリーフが形成される。但し、後述するようにAOM72を使用しない場合には、レーザビームはレーザ光源14自体で変調される。   In this laser engraving machine, the laser beam emitted from the laser light source 14 is modulated by the AOM 72 in the AOM unit 41, the beam diameter is changed by the variable beam expander 51, and then the folding mirrors 43, 44, 45 and The light is emitted from the recording head 12 through the objective lens 46. Then, in a state where the recording drum 11 having the flexo sensitive material 10 mounted on the outer peripheral portion thereof is rotated, the recording head 12 is moved in a direction parallel to the axis of the recording drum 11, so that the laser beam is placed on the flexo sensitive material 10. Are engraved and a relief is formed on the flexo sensitive material 10. However, when the AOM 72 is not used as will be described later, the laser beam is modulated by the laser light source 14 itself.

このとき、このレーザ彫刻機においては、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームL1を使用し、精密彫刻画素ピッチppでフレキソ感材10を照射して、精密彫刻ビームL1での最大深度dpまで彫刻を行う精密彫刻工程と、大きなビーム径を有する粗ビームL2を使用し、精密彫刻画素ピッチppより大きい粗彫刻画素ピッチpc(網点ピッチに等しい)でフレキソ感材10を照射して、レリーフ深度dまで彫刻を行う粗彫刻工程との二工程により彫刻を実行することで、製版時間を短縮するようにしている。   At this time, in this laser engraving machine, the precision engraving beam L1 having a small beam diameter is used, the flexo sensitive material 10 is irradiated with the precision engraving pixel pitch pp, and engraving is performed up to the maximum depth dp with the precision engraving beam L1. Using the precision engraving process to be performed and the coarse beam L2 having a large beam diameter, the flexo sensitive material 10 is irradiated with the coarse engraving pixel pitch pc (equal to the halftone dot pitch) larger than the precise engraving pixel pitch pp, and the relief depth d Engraving is performed by two processes including a rough engraving process for engraving until the plate making time is shortened.

図4は、このレーザ彫刻機を使用して彫刻を実行した後のフレキソ感材10表面の形状を模式的に示す説明図である。なお、図4(a)はフレキソ感材10上において主走査方向に形成された7個のレリーフの平面図であり、図4(b)はその断面図である。なお、この図においては、説明の便宜上、この図の左側より網点面積率が0%、1%、1%、2%、2%、0%、0%の7個のレリーフが形成されている場合を示している。   FIG. 4 is an explanatory view schematically showing the shape of the surface of the flexo sensitive material 10 after engraving using this laser engraving machine. 4A is a plan view of seven reliefs formed in the main scanning direction on the flexo sensitive material 10, and FIG. 4B is a cross-sectional view thereof. In this figure, for the convenience of explanation, seven reliefs having a halftone dot area ratio of 0%, 1%, 1%, 2%, 2%, 0%, and 0% are formed from the left side of the figure. Shows the case.

この図に示すように、精密彫刻工程においては、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームL1を使用する。そして、この精密彫刻ビームL1を精密彫刻画素ピッチppでフレキソ感材10上に照射し、フレキソ感材10をその表面から最大深度dpまで彫刻する。   As shown in this figure, in the precision engraving process, a precision engraving beam L1 having a small beam diameter is used. Then, this precision engraving beam L1 is irradiated onto the flexo sensitive material 10 at a precise engraving pixel pitch pp, and the flexo sensitive material 10 is engraved from its surface to the maximum depth dp.

この最大深度dpは、非常に小さい網点面積率のレリーフ同士が隣接したときに、これらのレリーフの境界部分の彫刻深さに一致する。この最大深度dpがこれより小さい場合には、微小な網点を良好に表現することが不可能となる。この最大深度dpをこれより大きくすることは可能ではあるが、この場合には、彫刻効率が悪化する。この実施形態においては、網点面積率1%のレリーフ同士が隣接したときの、これらのレリーフの境界部分の彫刻深さを最大深度dpに設定している。   This maximum depth dp coincides with the engraving depth of the boundary portion of these reliefs when the reliefs having very small halftone dot area ratios are adjacent to each other. When the maximum depth dp is smaller than this, it is impossible to express fine halftone dots satisfactorily. Although it is possible to make the maximum depth dp larger than this, the engraving efficiency deteriorates in this case. In this embodiment, when the reliefs having a halftone dot area ratio of 1% are adjacent to each other, the engraving depth of the boundary portion between these reliefs is set to the maximum depth dp.

この精密彫刻工程においては、フレキソ感材10の表面から、最大深度dpまでの、網点の形状に直接影響を与える部分の彫刻が実行される。このため、このときの彫刻画素ピッチとしては、比較的小さな精密彫刻画素ピッチppが採用され、図4(c)で模式的に示すように、微小な単位での彫刻が実行される。このときの精密彫刻ビームL1のビーム径は、精密彫刻画素ピッチppでの彫刻が可能な小さなビーム径が採用される。   In this precision engraving process, engraving of the portion that directly affects the shape of the halftone dots from the surface of the flexo sensitive material 10 to the maximum depth dp is executed. Therefore, a relatively small precision engraving pixel pitch pp is employed as the engraving pixel pitch at this time, and engraving is performed in minute units as schematically shown in FIG. 4C. As the beam diameter of the precision engraving beam L1 at this time, a small beam diameter capable of engraving with the precision engraving pixel pitch pp is employed.

精密彫刻工程の後には、粗彫刻工程が実行される。この粗彫刻工程においては、大きなビーム径を有する粗彫刻ビームL2を使用する。そして、この粗彫刻ビームL2を粗彫刻画素ピッチpcでフレキソ感材10上に照射し、フレキソ感材10を上記最大深度dpからレリーフ深度dまで彫刻する。このように、精密彫刻工程で彫刻された領域が粗彫刻工程によって再度彫刻されているので、粗彫刻工程実行後のフレキソ感材10表面からの彫刻深さdは、精密彫刻による彫刻深さdpよりも大きい。この粗彫刻工程においては、網点の形状に直接影響を与えない部分の彫刻が実行されることから、粗彫刻画素ピッチpcを大きなものとすることが可能となる。   After the precision engraving process, a rough engraving process is performed. In this rough engraving process, a rough engraving beam L2 having a large beam diameter is used. Then, the rough engraving beam L2 is irradiated onto the flexo sensitive material 10 at the coarse engraving pixel pitch pc, and the flexo sensitive material 10 is engraved from the maximum depth dp to the relief depth d. Thus, since the area engraved by the precision engraving process is engraved again by the coarse engraving process, the engraving depth d from the surface of the flexographic photosensitive material 10 after execution of the coarse engraving process is the engraving depth dp by the precision engraving. Bigger than. In this rough engraving process, the engraving of the portion that does not directly affect the shape of the halftone dots is performed, so that the coarse engraving pixel pitch pc can be increased.

このときの粗彫刻画素ピッチpcとしては、網点ピッチwを採用することができる。この粗彫刻画素ピッチpcは、上述した精密彫刻画素ピッチpp以上、網点ピッチw以下の範囲で任意に設定することが可能である。但し、これを網点ピッチwに近づけるほど、彫刻効率が向上する。   As the coarse engraving pixel pitch pc at this time, the halftone pitch w can be adopted. The rough engraving pixel pitch pc can be arbitrarily set in the range of the above-described precision engraving pixel pitch pp and the halftone dot pitch w. However, the closer this is to the halftone pitch w, the better the engraving efficiency.

図5は、フレキソ感材10に形成されたレリーフ形状をより正確に示す説明図である。   FIG. 5 is an explanatory diagram showing the relief shape formed on the flexo sensitive material 10 more accurately.

レリーフ形状を表すパラメータとしては、レリーフ角θと、レリーフ深度dと、トップハット部Tを構成するためのステップdtおよびプラトーwtとがある。レリーフ角θは、全てのレリーフにおいて共通の値となる。レリーフ深度dは、網点パーセントがゼロの領域における彫刻深さである。なお、ステップdtはドットゲインを改良するために設けられ、プラトーwtはレリーフの機械的強度を増加させるために設けられるものであるが、トップハット部T自体を形成しない場合には、ステップdtおよびプラトーwtの値はゼロとなる。上述した説明においては、ステップdtおよびプラトーwtを省略した場合について説明している。   As parameters representing the relief shape, there are a relief angle θ, a relief depth d, a step dt for forming the top hat portion T, and a plateau wt. The relief angle θ is a value common to all reliefs. The relief depth d is the engraving depth in an area where the halftone dot percentage is zero. Step dt is provided to improve the dot gain, and the plateau wt is provided to increase the mechanical strength of the relief. However, when the top hat portion T itself is not formed, The value of the plateau wt is zero. In the above description, the case where step dt and plateau wt are omitted is described.

なお、図4に示すレリーフ形状を採用した場合には、上述した最大深度dpは、下記の式(1)で計算することが可能となる。   When the relief shape shown in FIG. 4 is adopted, the above-described maximum depth dp can be calculated by the following equation (1).

dp=(21/2 ・pc/2−wt)tan(θπ/180)+dt ・・・ (1)
なお、トップハット部T自体を形成しない場合には、ステップdtおよびプラトーwtにゼロを代入すればよい。
dp = (2 1/2 · pc / 2−wt) tan (θπ / 180) + dt (1)
When the top hat portion T itself is not formed, zero may be substituted for step dt and plateau wt.

次に、このレーザ彫刻機を用いてフレキソ感材10を彫刻するフレキソ印刷版の製版工程について説明する。図6および図7は、製版工程を示すフローチャートである。   Next, the plate making process of the flexographic printing plate which engraves the flexographic sensitive material 10 using this laser engraving machine will be described. 6 and 7 are flowcharts showing the plate making process.

フレキソ印刷版の製版を行う場合には、最初に、オペレータがレリーフ形状とスクリーン線数を指定する(ステップS1)。このレリーフ形状とスクリーン線数は、パーソナルコンピュータ13から入力され、制御部15に送信される。   When making a flexographic printing plate, the operator first specifies the relief shape and the number of screen lines (step S1). The relief shape and the number of screen lines are input from the personal computer 13 and transmitted to the control unit 15.

次に、あらかじめ指定されたスクリーン線数から、網点ピッチwが決定される(ステップS2)。この網点ピッチwは、スクリーン線数の逆数となる。   Next, the halftone dot pitch w is determined from the screen line number designated in advance (step S2). This halftone pitch w is the reciprocal of the number of screen lines.

次に、精密彫刻工程における最大深度dpを演算する(ステップS3)。この演算は、上述した式(1)を使用して実行される。   Next, the maximum depth dp in the precision engraving process is calculated (step S3). This calculation is performed using the above-described equation (1).

次に、オペレータが解像度を指定する(ステップS4)。この解像度は、例えば、1200dpi、2400dpi、4000dpiのうちから選択される。   Next, the operator designates the resolution (step S4). This resolution is selected from, for example, 1200 dpi, 2400 dpi, and 4000 dpi.

次に、指定された解像度から、精密彫刻画素ピッチppが決定される(ステップS5)。なお、精密彫刻画素ピッチppと、精密彫刻ビームL1の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、精密彫刻ビームL1の副走査方向の幅が調整されている。   Next, the precise engraving pixel pitch pp is determined from the designated resolution (step S5). Note that the width of the precision engraving beam L1 in the sub-scanning direction is adjusted so that the precision engraving pixel pitch pp and the width of the precision engraving beam L1 in the sub-scanning direction substantially coincide with each other.

次に、精密彫刻時の走査速度v1を決定する(ステップS6)。この走査速度v1は、精密彫刻画素ピッチppと、最大深度dpと、フレキソ感材10の彫刻感度Yと、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーPとに基づいて、下記の式(2)により決定される。   Next, the scanning speed v1 at the time of precision engraving is determined (step S6). The scanning speed v1 includes the precision engraving pixel pitch pp, the maximum depth dp, the engraving sensitivity Y of the flexo sensitive material 10, and the power P of the laser beam emitted from the laser light source 14 and irradiated onto the flexo sensitive material 10. Is determined by the following equation (2).

pp・dp・v1・Y=P ・・・ (2)
ここで、彫刻感度Yは、レーザビームのエネルギーEをレーザビームにより彫刻される体積Vで除算した値である。また、レーザビームのエネルギーEは、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーと照射時間を乗算した値である。
pp · dp · v1 · Y = P (2)
Here, the engraving sensitivity Y is a value obtained by dividing the energy E of the laser beam by the volume V engraved by the laser beam. The energy E of the laser beam is a value obtained by multiplying the irradiation time by the power of the laser beam emitted from the laser light source 14 and irradiated on the flexographic photosensitive material 10.

図8は、上記彫刻感度Yと、レーザビームにより彫刻された凹部の表面積を体積で除算したS/V比との関係を示すグラフである。   FIG. 8 is a graph showing the relationship between the engraving sensitivity Y and the S / V ratio obtained by dividing the surface area of the recess engraved by the laser beam by the volume.

このグラフにおいては、横軸はレーザビームにより彫刻された凹部の表面積を体積で除算したS/V比を、また、縦軸は実験的に求めた彫刻感度を、各々示している。このグラフからも明らかなように、S/Vにほぼ比例して彫刻感度の値が大きく(すなわち、感度が悪く)なっている。これは、S/V比が大きいほど、体積に対する放熱量の割合が大きくなり、付与されたエネルギーが有効に彫刻に使用されないためと考えられる。このため、効率的に彫刻を実行するためには、S/V比の小さな領域を使用することが有効である。   In this graph, the horizontal axis represents the S / V ratio obtained by dividing the surface area of the recess engraved by the laser beam by the volume, and the vertical axis represents the engraving sensitivity obtained experimentally. As is apparent from this graph, the value of the engraving sensitivity is large (that is, the sensitivity is poor) almost in proportion to S / V. This is presumably because the greater the S / V ratio, the greater the ratio of the heat dissipation to the volume, and the applied energy is not effectively used for engraving. For this reason, in order to execute engraving efficiently, it is effective to use a region having a small S / V ratio.

なお、図8に示すグラフにおいては、彫刻感度をYとし、S/V比をXとした場合、下記の近似式(3)が成立する。   In the graph shown in FIG. 8, when the engraving sensitivity is Y and the S / V ratio is X, the following approximate expression (3) is established.

Y=3.21748+0.0577759X ・・・ (3)
再度図6および図7を参照して、次に、粗彫刻工程における彫刻深度dcを計算する(ステップS7)。この彫刻深度dcは、レリーフ深度dから精密彫刻時における最大深度dpを減算した値となる。
Y = 3.221748 + 0.0577759X (3)
6 and 7 again, next, engraving depth dc in the rough engraving process is calculated (step S7). The engraving depth dc is a value obtained by subtracting the maximum depth dp at the time of precision engraving from the relief depth d.

次に、粗彫刻を実行するときの粗彫刻画素ピッチpcを決定する(ステップS8)。この粗彫刻画素ピッチpcは、上述したように、網点ピッチwと一致している。   Next, the coarse engraving pixel pitch pc for executing the coarse engraving is determined (step S8). The rough engraving pixel pitch pc coincides with the halftone dot pitch w as described above.

次に、粗彫刻時の走査速度v2を決定する(ステップS9)。この走査速度v2は、走査速度v1の場合と同様に、粗彫刻画素ピッチpcと、彫刻深度dcと、フレキソ感材10の彫刻感度Yと、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーPとに基づいて、下記の式(4)により決定される。   Next, the scanning speed v2 at the time of rough engraving is determined (step S9). As in the case of the scanning speed v 1, the scanning speed v 2 is a coarse engraving pixel pitch pc, an engraving depth dc, an engraving sensitivity Y of the flexo sensitive material 10, and a laser light source 14 that is emitted from the flexo sensitive material 10. Based on the power P of the irradiated laser beam, it is determined by the following equation (4).

pc・dc・v2・Y=P ・・・ (4)
次に、フレキソ感材10上に形成すべき画像データから、彫刻すべきレリーフ形状を示すレリーフデータを作成する(ステップS10)。基礎となる画像データは、オンラインで、またはオフラインによりパーソナルコンピュータ13を介して制御部15に転送される。この画像データに基づいて、レリーフデータが作成される。このレリーフデータは、各レリーフのデータを重畳させたデータであり、互いに重複する領域においては、より深度の浅いデータを優先させたものとなる。
pc · dc · v2 · Y = P (4)
Next, relief data indicating the relief shape to be engraved is created from the image data to be formed on the flexo sensitive material 10 (step S10). The basic image data is transferred to the control unit 15 via the personal computer 13 online or offline. Relief data is created based on this image data. This relief data is data obtained by superimposing the data of each relief, and in a region overlapping each other, priority is given to data having a shallower depth.

図9は、レリーフデータの作成方法を模式的に示す説明図である。   FIG. 9 is an explanatory diagram schematically showing a method for creating relief data.

この図は、レリーフ1とレリーフ2とが形成された状態を示している。レリーフ1とレリーフ2との傾斜部が当接する地点よりレリーフ1側の領域はレリーフ1のレリーフデータが使用され、レリーフ1とレリーフ2との傾斜部が当接する地点よりレリーフ2側の領域はレリーフ2のレリーフデータが使用される。   This figure shows a state in which the relief 1 and the relief 2 are formed. The relief 1 side relief data is used for the area on the relief 1 side from the point where the inclined part of the relief 1 and the relief 2 abuts, and the area on the relief 2 side from the point where the inclined part of the relief 1 and the relief 2 abuts is used. Two relief data are used.

次に、レリーフデータから精密彫刻用の多値データを作成する(ステップS11)。この多値データは、網点面積率が0%の領域に対して最大深度dpまでの彫刻が実行されるような多値データである。この多値データは、網点面積率が0%〜100%の領域において、図4(c)に示すような階段状にレリーフの傾斜部が形成可能なデータとして作成される。   Next, multivalue data for precision engraving is created from the relief data (step S11). This multi-value data is multi-value data in which engraving up to the maximum depth dp is executed for an area where the dot area ratio is 0%. This multi-value data is created as data that can form a relief inclined portion in a step shape as shown in FIG. 4C in a region where the dot area ratio is 0% to 100%.

次に、レリーフデータから粗彫刻用の多値データを作成する(ステップS12)。この多値データは、網点面積率が0%の領域に対して、レリーフ角度θを考慮した上で、彫刻深度dcで彫刻を行うことにより、最終的にレリーフ深度dの彫刻が実行されるような多値データである。   Next, multivalued data for rough engraving is created from the relief data (step S12). This multivalued data is finally engraved with a relief depth d by engraving an area with a halftone dot area ratio of 0% in consideration of the relief angle θ and with an engraving depth dc. Such multivalued data.

次に、制御部15の制御により移動機構56を制御し、可変式ビームエキスパンダ51を通過したレーザビームが精密彫刻ビームL1として必要なビーム径となるようなレンズ対52、53、54を選択する(ステップS13)。これにより、精密彫刻画素ピッチppと精密彫刻ビームL1の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、精密彫刻ビームL1の副走査方向の幅が調整される。   Next, the moving mechanism 56 is controlled under the control of the control unit 15, and the lens pairs 52, 53, and 54 are selected so that the laser beam that has passed through the variable beam expander 51 has the required beam diameter as the precision engraving beam L1. (Step S13). Thus, the width of the precision engraving beam L1 in the sub-scanning direction is adjusted so that the precision engraving pixel pitch pp and the width of the precision engraving beam L1 in the sub-scanning direction are substantially the same.

そして、精密彫刻を実行する(ステップS14)。このときには、制御部15がモータドライバ23、33を制御することにより、上述した走査速度v1でフレキソ感材10上を精密彫刻ビームL1が走査するように、記録ドラム11の回転速度と記録ヘッド12の移動速度を制御する。また、制御部15がAOMドライバ42を制御することにより、最大深度dpまでの傾斜面等の彫刻が実行される。   Then, precision engraving is executed (step S14). At this time, the control unit 15 controls the motor drivers 23 and 33 to thereby rotate the recording drum 11 and the recording head 12 so that the precision engraving beam L1 scans the flexo sensitive material 10 at the scanning speed v1 described above. Control the moving speed of the. Further, when the control unit 15 controls the AOM driver 42, engraving such as an inclined surface up to the maximum depth dp is executed.

この精密彫刻時には、後述するように、AOMユニット41は変調位置に配置され、レーザ光源14は、レーザ光源制御部64の制御により連続発振する。   At the time of this precision engraving, as will be described later, the AOM unit 41 is disposed at the modulation position, and the laser light source 14 continuously oscillates under the control of the laser light source controller 64.

次に、制御部15の制御により移動機構56を制御し、可変式ビームエキスパンダ51を通過したレーザビームが粗彫刻ビームL2として必要なビーム径となるようなレンズ対52、53、54を選択する(ステップS15)。これにより、粗彫刻画素ピッチpcと粗彫刻ビームL2の副走査方向の幅とがほぼ一致するように、粗彫刻ビームL2の副走査方向の幅が調整される。   Next, the moving mechanism 56 is controlled under the control of the control unit 15, and the lens pairs 52, 53, and 54 are selected so that the laser beam that has passed through the variable beam expander 51 has the required beam diameter as the coarse engraving beam L2. (Step S15). As a result, the width of the coarse engraving beam L2 in the sub-scanning direction is adjusted so that the coarse engraving pixel pitch pc and the width of the coarse engraving beam L2 in the sub-scanning direction substantially coincide with each other.

そして、粗彫刻を実行する(ステップS16)。このときには、制御部15がモータドライバ23、33を制御することにより、上述した走査速度v2でフレキソ感材10上を粗彫刻ビームL2が走査するように、記録ドラム11の回転速度と記録ヘッド12の移動速度を制御する。また、制御部15がAOMドライバ42又はドライバ13を制御することにより、最大深度dpからレリーフ深度dまでの傾斜面等の彫刻が実行される。以上の工程により、図4に示すようなレリーフの彫刻が完了する。   Then, rough engraving is executed (step S16). At this time, the control unit 15 controls the motor drivers 23 and 33 to rotate the recording drum 11 and the recording head 12 so that the coarse engraving beam L2 scans the flexo sensitive material 10 at the scanning speed v2. Control the moving speed of the. Further, when the control unit 15 controls the AOM driver 42 or the driver 13, engraving such as an inclined surface from the maximum depth dp to the relief depth d is executed. Through the above steps, the relief engraving as shown in FIG. 4 is completed.

この粗彫刻時には、後述するように、以下のいずれかの方式が採用される。   At the time of this rough engraving, as described later, one of the following methods is adopted.

(1) レーザ光源14をパルス発振させ、AOMユニット41を退避位置に配置する
(2) レーザ光源14をパルス発振させ、AOMユニット41を変調位置に配置する
(3) レーザ光源14を連続発振させ、AOMユニット41を退避位置に配置する
また、この粗彫刻時には、予備加熱機構71によりフレキソ感材10が予備加熱される。
(1) The laser light source 14 is pulse-oscillated and the AOM unit 41 is placed at the retracted position.
(2) The laser light source 14 is pulse-oscillated, and the AOM unit 41 is arranged at the modulation position.
(3) The laser light source 14 is continuously oscillated, and the AOM unit 41 is disposed at the retracted position. At the time of the rough engraving, the flexo sensitive material 10 is preheated by the preheating mechanism 71.

次に、従来の製版方法とこの発明に係る製版方法との彫刻時間を比較する。但し、以下の比較は、レーザ光源14を連続発振させ、予備加熱を行うことなく、AOM72により変調を行った場合のものである。
[従来の彫刻方法]
例えば、図10示すように、精密彫刻ビームL1と同一のビーム径を有するレーザビームを使用し、幅21.2μm、深さ500μmの凹部を走査速度L(mm/s)で彫刻した場合のSおよびVは下記の式で表され、S/V比はおおよそ98となる。
Next, engraving times of the conventional plate making method and the plate making method according to the present invention are compared. However, the following comparison is for the case where the laser light source 14 is continuously oscillated and modulation is performed by the AOM 72 without preheating.
[Conventional engraving method]
For example, as shown in FIG. 10, when a laser beam having the same beam diameter as the precision engraving beam L1 is used and a recess having a width of 21.2 μm and a depth of 500 μm is engraved at a scanning speed L (mm / s), And V are expressed by the following formula, and the S / V ratio is approximately 98.

S=(0.5×2+0.0212×2)・L=1.0424L
V=0.5・0.0212・L=0.0106・L
そして、上述した式(3)のXにS/V比98を入力すると、彫刻感度Yは、9.86(J/mm3 )となる。このとき、彫刻領域の面積をA、最大彫刻深度(レリーフ深度)をdとすると、全領域を彫刻するために必要なエネルギーはA・d・Y=9.86・A・dとなり、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーをPとすると、彫刻時間teは下記の式で表される。
S = (0.5 × 2 + 0.0212 × 2) · L = 1.0424L
V = 0.5 ・ 0.0212 ・ L = 0.0106 ・ L
And if S / V ratio 98 is input into X of Formula (3) mentioned above, engraving sensitivity Y will be 9.86 (J / mm < 3 >). At this time, assuming that the area of the engraving region is A and the maximum engraving depth (relief depth) is d, the energy required for engraving the entire region is A · d · Y = 9.86 · A · d, and the laser light source If the power of the laser beam emitted from 14 and irradiated onto the flexo sensitive material 10 is P, the engraving time te is expressed by the following equation.

te=9.86・A・d/P
彫刻面積Aを1000000(mm2 )、レリーフ深度dを0.5(mm)、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーPを200(W)とすると、彫刻時間teは約6.8時間となる。
[本願発明に係る彫刻方法]
先ず、精密彫刻を実行するために、図11に示すように、精密彫刻ビームL1を使用し、幅21.2μm、深さ119.7μmの凹部を走査速度L(mm/s)で彫刻した場合のSおよびVは下記の式で表され、S/V比はおおよそ111となる。なお、彫刻深さである119.7μmは、上述した式(1)より演算したものである。
te = 9.86 · A · d / P
When the engraving area A is 1000000 (mm 2 ), the relief depth d is 0.5 (mm), and the power P of the laser beam emitted from the laser light source 14 and applied to the flexo sensitive material 10 is 200 (W), The engraving time te is about 6.8 hours.
[Engraving method according to the present invention]
First, in order to execute precision engraving, as shown in FIG. 11, a precision engraving beam L1 is used and a recess having a width of 21.2 μm and a depth of 119.7 μm is engraved at a scanning speed L (mm / s). The S and V are represented by the following formula, and the S / V ratio is approximately 111. The engraving depth of 119.7 μm is calculated from the above-described equation (1).

S=(0.1197×2+0.0212×2)・L=0.2818L
V=0.1197・0.0212・L=0.00253764・L
そして、上述した式(3)のXにS/V比111を入力すると、彫刻感度Yは、10.7(J/mm3 )となる。このとき、彫刻領域の面積をA、最大深度をdpとすると、全領域を彫刻するために必要なエネルギーはA・dp・Y=10.7・A・dpとなり、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーをPとすると、彫刻時間t1は下記の式で表される。
S = (0.1197 × 2 + 0.0212 × 2) · L = 0.2818L
V = 0.1197 / 0.0212 / L = 0.00053764 / L
When the S / V ratio 111 is input to X in the above-described formula (3), the engraving sensitivity Y is 10.7 (J / mm 3 ). At this time, assuming that the area of the engraving area is A and the maximum depth is dp, the energy required for engraving the entire area is A · dp · Y = 10.7 · A · dp, which is emitted from the laser light source 14. If the power of the laser beam irradiated on the flexo sensitive material 10 is P, the engraving time t1 is expressed by the following equation.

t1=10.7・A・dp/P
彫刻面積Aを1000000(mm2 )、最大深度dpを0.1197(mm)、レーザ光源14のパワーPを200(W)とすると、彫刻時間t1は約1.7789時間となる。
t1 = 10.7 · A · dp / P
If the engraving area A is 1000000 (mm 2 ), the maximum depth dp is 0.1197 (mm), and the power P of the laser light source 14 is 200 (W), the engraving time t1 is about 1.7789 hours.

次に、粗彫刻を実行するために、図12に示すように、粗彫刻ビームL2を使用し、幅84.7μm、深さ308.3μmの凹部を走査速度L(mm/s)で彫刻した場合のSおよびVは下記の式で表され、S/V比はおおよそ28.9となる。なお、彫刻深さである308.3μmは、レリーフ深度dより最大深度dpを減算したものであり、彫刻幅である84.7μmは、粗彫刻画素ピッチpcに基づいて決定したものである。   Next, in order to execute rough engraving, as shown in FIG. 12, a rough engraving beam L2 was used, and a concave portion having a width of 84.7 μm and a depth of 308.3 μm was engraved at a scanning speed L (mm / s). In this case, S and V are expressed by the following formula, and the S / V ratio is approximately 28.9. The engraving depth 308.3 μm is obtained by subtracting the maximum depth dp from the relief depth d, and the engraving width 84.7 μm is determined based on the coarse engraving pixel pitch pc.

S=(0.3803×2+0.0847×2)・L=0.93L
V=0.3803・0.0847・L=0.032211・L
そして、上述した式(3)のXにS/V比28.9を入力すると、彫刻感度Yは、5.18(J/mm3 )となる。このとき、彫刻領域の面積をA、彫刻深度をdcとすると、全領域を彫刻するために必要なエネルギーはA・dc・Y=5.18・A・dcとなり、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーをPとすると、彫刻時間t2は下記の式で表される。
S = (0.3803 × 2 + 0.0847 × 2) · L = 0.93L
V = 0.3803 ・ 0.0847 ・ L = 0.032211 ・ L
And if S / V ratio 28.9 is input into X of Formula (3) mentioned above, engraving sensitivity Y will be 5.18 (J / mm < 3 >). At this time, if the area of the engraving area is A and the engraving depth is dc, the energy required for engraving the entire area is A · dc · Y = 5.18 · A · dc, which is emitted from the laser light source 14. If the power of the laser beam irradiated on the flexo sensitive material 10 is P, the engraving time t2 is expressed by the following equation.

t1=5.18・A・dc/P
彫刻面積Aを1000000(mm2 )、最大深度dpを0.3803(mm)、レーザ光源14から出射されてフレキソ感材10上に照射されるレーザビームのパワーPを200(W)とすると、彫刻時間t2は約2.7361時間となる。
t1 = 5.18 · A · dc / P
When the engraving area A is 1000000 (mm 2 ), the maximum depth dp is 0.3803 (mm), and the power P of the laser beam emitted from the laser light source 14 and applied to the flexo sensitive material 10 is 200 (W), The engraving time t2 is about 2.7361 hours.

そして、上記精密彫刻時間t1と粗彫刻時間t2とを加算した彫刻時間tは4.515時間となる。この彫刻時間tは、従来の彫刻時間te(6.8時間)より、大幅に短い時間となっている。   The engraving time t obtained by adding the precision engraving time t1 and the rough engraving time t2 is 4.515 hours. This engraving time t is much shorter than the conventional engraving time te (6.8 hours).

なお、上述した実施の形態では凸版印刷版の1つであるフレキソ感材を記録材料として用いたが、グラビア版などの凹版印刷版を記録材料に対してレーザ彫刻により凹部を形成する場合でも本発明は適用可能である。   In the above-described embodiment, the flexographic photosensitive material, which is one of the relief printing plates, is used as the recording material. However, even when an intaglio printing plate such as a gravure plate is formed by recessing the recording material by laser engraving, The invention is applicable.

図13は、このような実施形態における凹版印刷版の形状を模式的に示す説明図である。   FIG. 13 is an explanatory view schematically showing the shape of the intaglio printing plate in such an embodiment.

この図に示すように、凹版印刷版の製版を実行する場合においても、精密彫刻工程においては、小さなビーム径を有する精密彫刻ビームL1を使用する。そして、この精密彫刻ビームL1を精密彫刻画素ピッチppで凹版印刷版上に照射し、凹版印刷版をその表面から深度dpまで彫刻する。   As shown in this figure, even when the intaglio printing plate is made, the precision engraving beam L1 having a small beam diameter is used in the precision engraving process. Then, the intaglio printing plate is irradiated with the precision engraving beam L1 at the precision engraving pixel pitch pp, and the intaglio printing plate is engraved from the surface to the depth dp.

また、粗彫刻工程においては、大きなビーム径を有する粗彫刻ビームL2を使用する。そして、この粗彫刻ビームL2を粗彫刻画素ピッチpcで凹版印刷版上に照射し、凹版印刷版を上記深度dpから深度dまで彫刻する。このように、精密彫刻工程で彫刻された領域が粗彫刻工程によって再度彫刻されているので、粗彫刻工程実行後の凹版印刷版表面からの彫刻深さdは、精密彫刻による彫刻深さdpよりも大きい。この粗彫刻工程においては、セルの形状に直接影響を与えない部分の彫刻が実行されることから、粗彫刻画素ピッチpcを大きなものとすることが可能となる。   In the coarse engraving process, a coarse engraving beam L2 having a large beam diameter is used. Then, the rough engraving beam L2 is irradiated onto the intaglio printing plate at the rough engraving pixel pitch pc to engrave the intaglio printing plate from the depth dp to the depth d. Thus, since the area engraved by the precision engraving process is engraved again by the rough engraving process, the engraving depth d from the surface of the intaglio printing plate after execution of the coarse engraving process is greater than the engraving depth dp by the precision engraving. Is also big. In this rough engraving process, the engraving of the portion that does not directly affect the shape of the cell is performed, so that the coarse engraving pixel pitch pc can be increased.

次に、レーザ光源を効率的に使用することにより高い製版精度を維持したまま製版時間を短縮するこの発明の第二の特徴について説明する。   Next, a second feature of the present invention that shortens the plate-making time while maintaining high plate-making accuracy by efficiently using a laser light source will be described.

まず、レーザ光源14の波形について検討する。   First, the waveform of the laser light source 14 will be examined.

一般的なレーザ光源は、連続発振とパルス発振とを切り替えることができる。そして、パルス発振時のピークパワーは、連続発振時のピークパワーより大きくなっている。例えば、炭酸ガスレーザの場合には、パルス発振時のピークパワーは連続発振時のピークパワーの数倍乃至10倍程度であり、YAGレーザの場合には、パルス発振時のピークパワーは連続発振時のピークパワーの100倍程度である。そして、印刷版の彫刻時には、ピークパワーが大きいほど、熱の発散を防止して効率的に彫刻を行うことが可能となる。   A general laser light source can switch between continuous oscillation and pulse oscillation. The peak power during pulse oscillation is larger than the peak power during continuous oscillation. For example, in the case of a carbon dioxide laser, the peak power at the time of pulse oscillation is several times to 10 times the peak power at the time of continuous oscillation, and in the case of a YAG laser, the peak power at the time of pulse oscillation is at the time of continuous oscillation. It is about 100 times the peak power. When the printing plate is engraved, the larger the peak power, the more efficiently engraving can be achieved by preventing heat dissipation.

一方、パルス発振時の最高周波数は100kHz程度である。この周波数は、上述した粗彫刻工程であれば十分ではあるが、精密彫刻工程を実行するには不足する。このため、粗彫刻工程においてはレーザ光源14をパルス発振させて彫刻を行い、精密彫刻工程においては、レーザ光源14を連続発振させるとともに他の変調器によりレーザビームを変調して彫刻を行う。これにより、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   On the other hand, the maximum frequency during pulse oscillation is about 100 kHz. This frequency is sufficient for the rough engraving process described above, but is insufficient to perform the precision engraving process. Therefore, engraving is performed by oscillating the laser light source 14 in the rough engraving process, and engraving is performed in the precision engraving process by continuously oscillating the laser light source 14 and modulating the laser beam by another modulator. As a result, the laser beam can be used efficiently, and the plate-making time can be shortened while maintaining high plate-making accuracy.

次に、変調器の有無について検討する。   Next, the presence or absence of a modulator will be examined.

例えば、AOM72は1MHz程度の高速変調が可能であるが、AOM72に使用されるゲルマニュウムは、レーザビームの透過率が悪く、レーザビームはAOM72中で数%程度のロスを生ずる。このため、粗彫刻工程においてはレーザ光源14自体でレーザビームを変調して彫刻を行い、精密彫刻工程においては変調器により変調して彫刻を行うと、レーザビームを効率的に使用することができ、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   For example, the AOM 72 can perform high-speed modulation of about 1 MHz, but germanium used for the AOM 72 has a low laser beam transmittance, and the laser beam causes a loss of about several percent in the AOM 72. For this reason, if the laser beam is modulated by the laser light source 14 itself in the rough engraving process and engraving is performed by the modulator in the precision engraving process, the laser beam can be used efficiently. It is possible to shorten the plate making time while maintaining high plate making accuracy.

なお、精密彫刻工程実行時にはレーザ光源14を擬似的に連続発振させてもよい。そして当該レーザ光源14から出射されるレーザビームをAOM72によって変調させる。   The laser light source 14 may be quasi-continuously oscillated when the precision engraving process is executed. Then, the laser beam emitted from the laser light source 14 is modulated by the AOM 72.

レーザ光源14を擬似的に連続発振させる方式としては以下のような方式が考えられる。
たとえば、応答速度を上回る程度の高周波数の駆動信号をドライバ63からレーザ光源14に供給すると、レーザ光源14はパルス発振するが見かけ上連続したレーザビームを出射する。あるいは、ドライバ63からレーザ光源14に対して高デューティの駆動信号を供給する場合も、レーザ光源14はパルス発振するが、見かけ上連続したレーザビームを出射する。このように、レーザ光源14を擬似的に連続発振させつつ、切替回路65からAOMドライバ42に画像信号を供給してレーザビームを変調し、フレキソ感材10に精密彫刻を実行する。
The following methods can be considered as a method of causing the laser light source 14 to oscillate continuously in a pseudo manner.
For example, when a high-frequency drive signal exceeding the response speed is supplied from the driver 63 to the laser light source 14, the laser light source 14 emits a laser beam that appears to be continuous but apparently continuous. Alternatively, when a high duty drive signal is supplied from the driver 63 to the laser light source 14, the laser light source 14 oscillates in a pulse but emits an apparently continuous laser beam. In this way, while the laser light source 14 is oscillated continuously in a pseudo manner, an image signal is supplied from the switching circuit 65 to the AOM driver 42 to modulate the laser beam, and the flexo sensitive material 10 is subjected to precision engraving.

次に、予備加熱について検討する。   Next, preheating will be examined.

例えば、フレキソ感材10を使用した場合、フレキソ感材10を予め摂氏100度程度まで昇温しておけば、レーザビームによる加工効率が30%程度向上することが知られている。このため、このような予備加熱を行えば、効率的に彫刻を行うことが可能となる。但し、予備加熱を行った場合には、フレキソ感材10が熱膨張し、その寸法精度が悪化する。また、加熱温度にムラがあった場合には、レリーフ深度にバラツキを生ずる。このため、粗彫刻工程においては予備加熱を行って彫刻を行い、精密彫刻工程においては、予備加熱を行わず、または、粗彫刻工程よりも低い温度で予備加熱を行って彫刻を行うと、高い製版精度を維持したままで、製版時間を短縮することが可能となる。   For example, when the flexo sensitive material 10 is used, it is known that if the flexo sensitive material 10 is heated to about 100 degrees Celsius in advance, the processing efficiency by the laser beam is improved by about 30%. For this reason, if such preheating is performed, engraving can be performed efficiently. However, when preheating is performed, the flexo sensitive material 10 is thermally expanded and its dimensional accuracy is deteriorated. In addition, when the heating temperature is uneven, the relief depth varies. Therefore, pre-heating is performed in the rough engraving process and engraving is performed. In the precision engraving process, pre-heating is not performed, or pre-heating is performed at a lower temperature than the rough engraving process. It is possible to shorten the plate making time while maintaining the plate making accuracy.

以上のような前提のもと、図4に示すフレキソ感材10に対する製版工程の実施形態について説明する。   Based on the premise as described above, an embodiment of the plate making process for the flexo sensitive material 10 shown in FIG. 4 will be described.

先ず、精密彫刻工程について説明する。図14は、精密彫刻工程における記録ビーム等を示す説明図である。   First, the precision engraving process will be described. FIG. 14 is an explanatory diagram showing a recording beam and the like in the precision engraving process.

精密彫刻工程においては、上述したように彫刻深さが比較的浅いため走査速度が速く、かつ、画素ピッチが細かいことから、変調周波数を高くする必要がある。このため、精密彫刻工程においては、AOMユニット41を変調位置に配置する。また、レーザ光源制御部64の制御によりレーザ光源14を連続発振又は疑似連続発振させる。さらに、切替回路65により、画像信号をAOMドライバ42に入力させる。この場合においては、図14に示すように、連続発振するレーザビームを、AOM72による変調効率を変化させた変調信号により変調して、記録ビームを形成することが可能となる。そして、精密彫刻工程においては、高い彫刻精度を得るために、予備加熱は行わない。   In the precision engraving process, as described above, since the engraving depth is relatively shallow, the scanning speed is fast and the pixel pitch is fine, so it is necessary to increase the modulation frequency. For this reason, in the precision engraving process, the AOM unit 41 is arranged at the modulation position. Further, the laser light source 14 is continuously oscillated or quasi-continuously oscillated under the control of the laser light source controller 64. Further, an image signal is input to the AOM driver 42 by the switching circuit 65. In this case, as shown in FIG. 14, it is possible to form a recording beam by modulating a continuously oscillating laser beam with a modulation signal whose modulation efficiency by the AOM 72 is changed. In the precision engraving process, preheating is not performed in order to obtain high engraving accuracy.

次に、粗彫刻工程の第1実施形態について説明する。図15は、第1実施形態に係る粗彫刻工程における記録ビームを示す説明図である。   Next, a first embodiment of the rough engraving process will be described. FIG. 15 is an explanatory diagram showing a recording beam in the rough engraving process according to the first embodiment.

粗彫刻工程においては、彫刻深さが深いことから走査速度が遅く、かつ、画素ピッチが粗いことから、変調速度は比較的遅くてもよい。このため、この第1実施形態に係る粗彫刻工程においては、AOMユニット41を退避位置に移動させる。また、レーザ光源制御部64の制御によりレーザ光源14をパルス発振させる。また、切替回路65により、画像信号をレーザ光源制御部64に入力させる。さらに、予備加熱機構71によりフレキソ感材10を予備加熱する。この場合においては、図15に示すように、レーザビームをレーザ光源14自体により変調する。このようにすることで、レーザ光源14からピークパワーの大きいパルス発振されたレーザビームが出射される。そして、レーザ光源14自体でレーザビームを変調することから、AOM72によるレーザビームの光量損失は生じない。さらに、フレキソ感材10が予備加熱されているので、彫刻が効率的に行われる。従って、製版時間を短縮することが可能となる。   In the rough engraving process, the scanning speed is slow because the engraving depth is deep, and the modulation speed may be relatively slow because the pixel pitch is coarse. For this reason, in the rough engraving process according to the first embodiment, the AOM unit 41 is moved to the retracted position. Further, the laser light source 14 is oscillated in pulses by the control of the laser light source control unit 64. In addition, an image signal is input to the laser light source controller 64 by the switching circuit 65. Further, the flexo sensitive material 10 is preheated by the preheating mechanism 71. In this case, as shown in FIG. 15, the laser beam is modulated by the laser light source 14 itself. By doing so, the laser light source 14 emits a pulsed laser beam having a high peak power. Then, since the laser beam is modulated by the laser light source 14 itself, no light loss of the laser beam by the AOM 72 occurs. Furthermore, since the flexo sensitive material 10 is preheated, engraving is performed efficiently. Therefore, it is possible to shorten the plate making time.

次に、粗彫刻工程の第2実施形態について説明する。図16は、第2実施形態に係る粗彫刻工程における記録ビーム等を示す説明図である。   Next, a second embodiment of the rough engraving process will be described. FIG. 16 is an explanatory diagram showing a recording beam and the like in the rough engraving process according to the second embodiment.

この第2実施形態に係る粗彫刻工程においては、AOMユニット41を変調位置に移動させる。また、レーザ光源制御部64の制御によりレーザ光源14を一定の強度でパルス発振させる。また、切替回路65により、画像信号をAOMドライバ42に入力させる。さらに、予備加熱機構71によりフレキソ感材10を予備加熱する。この場合においては、図16に示すように、一定の出力でパルス発振するレーザビームを、AOM72による変調効率を変化させた変調信号により変調して、記録ビームを形成することが可能となる。この場合には、レーザ光源14からピークパワーの大きいパルス発振されたレーザビームが出射される。さらに、フレキソ感材10が予備加熱されているので、彫刻が効率的に行われる。従って、製版時間を短縮することが可能となる。また、AOM72の変調信号を使用して変調を行うことから、正確な変調が可能となる。   In the rough engraving process according to the second embodiment, the AOM unit 41 is moved to the modulation position. Further, the laser light source 14 is pulse-oscillated with a constant intensity under the control of the laser light source controller 64. In addition, an image signal is input to the AOM driver 42 by the switching circuit 65. Further, the flexo sensitive material 10 is preheated by the preheating mechanism 71. In this case, as shown in FIG. 16, it is possible to form a recording beam by modulating a laser beam pulse-oscillated with a constant output by a modulation signal in which the modulation efficiency by the AOM 72 is changed. In this case, the laser light source 14 emits a pulsed laser beam having a high peak power. Furthermore, since the flexo sensitive material 10 is preheated, engraving is performed efficiently. Therefore, it is possible to shorten the plate making time. Further, since modulation is performed using the modulation signal of AOM 72, accurate modulation is possible.

次に、粗彫刻工程の第3実施形態について説明する。図17は、第3実施形態に係る粗彫刻工程における記録ビームを示す説明図である。   Next, a third embodiment of the rough engraving process will be described. FIG. 17 is an explanatory diagram showing a recording beam in the rough engraving process according to the third embodiment.

この第3実施形態に係る粗彫刻工程においては、AOMユニット41を退避位置に移動させる。また、レーザ光源制御部64の制御によりレーザ光源14を連続発振させる。また、切替回路65により、画像信号をレーザ光源制御部64に入力させる。さらに、予備加熱機構71によりフレキソ感材10を予備加熱する。この場合においては、図17に示すように、レーザビームをレーザ光源14自体により変調する。この場合には、レーザ光源14からのレーザビームのピークパワーは小さいが、レーザ光源14自体でレーザビームを変調することから、AOM72によるレーザビームの光量損失は生じない。さらに、フレキソ感材10が予備加熱されているので、彫刻が効率的に行われる。従って、製版時間を短縮することが可能となる。   In the rough engraving process according to the third embodiment, the AOM unit 41 is moved to the retracted position. Further, the laser light source 14 is continuously oscillated under the control of the laser light source control unit 64. In addition, an image signal is input to the laser light source controller 64 by the switching circuit 65. Further, the flexo sensitive material 10 is preheated by the preheating mechanism 71. In this case, as shown in FIG. 17, the laser beam is modulated by the laser light source 14 itself. In this case, the peak power of the laser beam from the laser light source 14 is small, but since the laser beam is modulated by the laser light source 14 itself, no light loss of the laser beam by the AOM 72 occurs. Furthermore, since the flexo sensitive material 10 is preheated, engraving is performed efficiently. Therefore, it is possible to shorten the plate making time.

なお、上述した実施形態においては、精密彫刻工程においては、高い彫刻精度を得るために予備加熱を中止している。しかしながら、精密彫刻工程においては、粗彫刻工程より低温の予備加熱を行うことにより、必要な精度を維持しつつ彫刻を効率的に行うようにしてもよい。   In the embodiment described above, preheating is stopped in the precision engraving process in order to obtain high engraving accuracy. However, in the precision engraving process, engraving may be performed efficiently while maintaining the required accuracy by performing preheating at a lower temperature than in the rough engraving process.

しかしながら、粗彫刻工程においても予備加熱が必須というわけではない。   However, preheating is not necessarily required in the rough engraving process.

なお、上述した実施形態においては、AOM72を退避位置まで移動させることにより、AOM72がレーザ光源14から出射したレーザ光の光路上に位置しないようにしていた。しかし、AOM72自体を移動させずに、適宜の迂回光路を設定することによりレーザ光源14から出射したレーザ光がAOM72を経由せずに可変式ビームエキスパンダ51のレンズ対52、53、54のいずれかのレンズ対に入射するようにしてもよい。   In the embodiment described above, the AOM 72 is moved to the retracted position so that the AOM 72 is not positioned on the optical path of the laser light emitted from the laser light source 14. However, by setting an appropriate detour optical path without moving the AOM 72 itself, the laser light emitted from the laser light source 14 does not pass through the AOM 72 and any of the lens pairs 52, 53, 54 of the variable beam expander 51. You may make it inject into such a lens pair.

さらに、上述した実施形態においては記録ドラム11に巻き付けられるシート状の記録材料に対する彫刻を例にして説明したが、たとえばグラビアシリンダのような円筒状の記録材料を回転させつつ、この記録材料の表面に対して画像信号に応じて直接彫刻を施すようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the engraving on the sheet-like recording material wound around the recording drum 11 has been described as an example. However, the surface of the recording material is rotated while rotating a cylindrical recording material such as a gravure cylinder. Alternatively, engraving may be performed directly according to the image signal.

なお、上述した実施形態において、精密彫刻工程において射出されるレーザビームは、第1のビーム径としての小さなビーム径を有し、第1の画素ピッチとしての精密彫刻画素ピッチppで、第1の深度としての最大深度dpまで彫刻を行うためのものであり、粗彫刻工程において射出されるレーザビームは、第2のビーム径としての大きなビーム径を有し、第2の画素ピッチとしての粗彫刻画素ピッチpcで、第2の深度としてのレリーフ深度dまで彫刻を行うためのものである。   In the above-described embodiment, the laser beam emitted in the precision engraving process has a small beam diameter as the first beam diameter, and the first engraving pixel pitch pp as the first pixel pitch is the first. For engraving up to the maximum depth dp as the depth, the laser beam emitted in the coarse engraving process has a large beam diameter as the second beam diameter, and the coarse engraving as the second pixel pitch This is for engraving with the pixel pitch pc to the relief depth d as the second depth.

さらに、上述した実施形態では精密彫刻の後に粗彫刻を行っていた。しかし、彫刻の順序はこれに限られるものではない。最初に粗彫刻を実行し次に精密彫刻を行うようにしてもよい。この場合でも精密彫刻のみによって画像記録を行う場合よりも走査時間を短縮することができる。図18を用いて説明する。   Further, in the above-described embodiment, rough engraving is performed after precision engraving. However, the order of engraving is not limited to this. The rough engraving may be performed first and then the fine engraving may be performed. Even in this case, the scanning time can be shortened compared with the case where image recording is performed only by precision engraving. This will be described with reference to FIG.

図18は先に図4を用いて説明したのと同様なフレキソ感材10表面の形状を模式的に説明する説明図である。なお、図18(a)はフレキソ感材10上において主走査方向に形成された7個のレリーフの平面図であり、図18(b)はフレキソ感材10に対して粗彫刻を実行した後の断面図、図18(c)は粗彫刻を実行した後のフレキソ感材10に対してさらに精密彫刻を実行した後の断面図である。なお、図18においては、説明の便宜上、この図の左側より網点面積率が0%、1%、1%、2%、2%、0%、0%の7個のレリーフが形成されている場合を示している。   FIG. 18 is an explanatory view for schematically explaining the shape of the surface of the flexo sensitive material 10 similar to that described above with reference to FIG. 18A is a plan view of seven reliefs formed in the main scanning direction on the flexo sensitive material 10, and FIG. 18B is a diagram after rough engraving is performed on the flexo sensitive material 10. FIG. 18C is a cross-sectional view after further precision engraving is performed on the flexo sensitive material 10 after rough engraving. In FIG. 18, for the convenience of explanation, seven reliefs having a dot area ratio of 0%, 1%, 1%, 2%, 2%, 0%, and 0% are formed from the left side of the drawing. Shows the case.

図18(b)に示されるように粗彫刻工程においては、精密彫刻のみによって彫刻を行うべき領域(すなわち、網点形状に直接影響を与える領域)以外の領域に対する彫刻を実行する。すなわち、フレキソ感材10に粗彫刻ビームL2を粗彫刻画素ピッチpc(網点ピッチに等しい)で照射することにより図中ハッチングを付した領域を除去する。これにより各レリーフの網点形状に直接影響を与えない傾斜面等が形成される。   As shown in FIG. 18B, in the coarse engraving process, engraving is performed on an area other than the area to be engraved only by precision engraving (that is, the area that directly affects the dot shape). That is, the hatched region in the figure is removed by irradiating the flexo sensitive material 10 with the coarse engraving beam L2 at the coarse engraving pixel pitch pc (equal to the halftone dot pitch). Thereby, an inclined surface or the like that does not directly affect the halftone dot shape of each relief is formed.

この段階で実行される彫刻の最大深さddcは、先に図4を用いて説明した彫刻深度dcにほぼ等しくなる。   The maximum engraving depth ddc executed at this stage is substantially equal to the engraving depth dc described above with reference to FIG.

また、この粗彫刻工程においては、網点の形状に直接影響を与えない部分の彫刻が実行されることから、粗彫刻画素ピッチpcを大きなものとすることが可能となる。   Further, in this coarse engraving process, engraving of a portion that does not directly affect the shape of the halftone dots is performed, so that the coarse engraving pixel pitch pc can be increased.

なお、この粗彫刻を行うときは、先に説明したように、以下のいずれかの方式が採用される。
(1)レーザ光源14をパルス発振させ、AOMユニット41を退避位置に配置する
(2)レーザ光源14をパルス発振させ、AOMユニット41を変調位置に配置する
(3)レーザ光源14を連続発振させ、AOMユニット41を退避位置に配置する
また、この粗彫刻時には、余熱加熱機構71によりフレキソ感材10が予備加熱される。
When performing this rough engraving, as described above, one of the following methods is adopted.
(1) The laser light source 14 is pulsated and the AOM unit 41 is disposed at the retracted position. (2) The laser light source 14 is pulsated and the AOM unit 41 is disposed at the modulation position. (3) The laser light source 14 is continuously oscillated. The AOM unit 41 is disposed at the retracted position. At the time of rough engraving, the flexo sensitive material 10 is preheated by the residual heat heating mechanism 71.

粗彫刻工程が完了すると次にフレキソ感材10に対して精密彫刻ビームL1を粗彫刻画素ピッチpcより小さい精密彫刻画素ピッチppで照射することにより精密彫刻を実施する。この段階では図18(c)に示すように、網点形状に直接影響を与える領域(ハッチングを付した領域a)および、網点形状に影響を与えない領域であって先の粗彫刻によっては所望のレリーフ深度dに達していなかった領域(ハッチングを付した領域b)に対して彫刻が施される。このように、粗彫刻工程で彫刻された領域が精密彫刻によって再度彫刻されているので、精密彫刻工程実行後のフレキソ感材表面からの彫刻深さdは粗彫刻による彫刻深さddcよりも大きい。また、精密彫刻工程における領域bの彫刻深さddpは最大彫刻深さdpとほぼ等しくなる。なお、精密彫刻においてレーザ光源14を連続発振または疑似連続発振させることは前述の通りである。   When the rough engraving process is completed, the precision engraving is then performed by irradiating the flexo sensitive material 10 with the precision engraving beam L1 at a precision engraving pixel pitch pp smaller than the coarse engraving pixel pitch pc. At this stage, as shown in FIG. 18 (c), an area that directly affects the halftone dot shape (hatched area a) and an area that does not affect the halftone dot shape depending on the previous rough engraving. Engraving is performed on an area that has not reached the desired relief depth d (hatched area b). Thus, since the area engraved in the coarse engraving process is engraved again by precision engraving, the engraving depth d from the surface of the flexo sensitive material after execution of the precision engraving process is larger than the engraving depth ddc by coarse engraving. . Further, the engraving depth ddp of the region b in the precision engraving process is substantially equal to the maximum engraving depth dp. As described above, the laser light source 14 is continuously oscillated or pseudo-continuously oscillated in precision engraving.

このように粗彫刻後に精密彫刻を行う場合でも適正なレリーフ形状を形成することが可能である。この場合、粗彫刻工程において射出されるレーザビームは、第1のビーム径としての大きなビーム径を有し、第1の画素ピッチとしての粗彫刻画素ピッチpcで、第1の深度としてのレリーフ深度dまで彫刻を行うためのものであり、精密彫刻工程において射出されるレーザビームは、第2のビーム径としての小さなビーム径を有し、第2の画素ピッチとしての精密彫刻画素ピッチppで、第2の深度としての最大深度dpまで彫刻を行うためのものである。   Thus, even when precise engraving is performed after rough engraving, an appropriate relief shape can be formed. In this case, the laser beam emitted in the coarse engraving process has a large beam diameter as the first beam diameter, and the relief depth as the first depth at the coarse engraving pixel pitch pc as the first pixel pitch. The laser beam emitted in the precision engraving process has a small beam diameter as the second beam diameter, and has a precision engraving pixel pitch pp as the second pixel pitch. This is for engraving up to the maximum depth dp as the second depth.

レーザ彫刻機の概要を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the outline | summary of a laser engraving machine. 記録ヘッド12を記録ドラム11とともに示す模式図である。3 is a schematic diagram showing the recording head 12 together with the recording drum 11. FIG. AOMユニット41を示す模式図である。4 is a schematic diagram showing an AOM unit 41. FIG. フレキソ感材10表面の形状を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the shape of the flexo sensitive material 10 surface typically. レリーフ形状を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a relief shape. 製版工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a plate making process. 製版工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a plate making process. 彫刻感度Yと、レーザビームにより加工された凹部のS/V比との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the engraving sensitivity Y and the S / V ratio of the recessed part processed with the laser beam. レリーフデータの作成方法を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the production method of relief data typically. 従来の彫刻方法による彫刻状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the engraving state by the conventional engraving method. この発明に係る彫刻方法による彫刻状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the engraving state by the engraving method which concerns on this invention. この発明に係る彫刻方法による彫刻状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the engraving state by the engraving method which concerns on this invention. 凹版印刷版の形状を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the shape of an intaglio printing plate typically. 精密彫刻工程における記録ビーム等を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the recording beam etc. in a precision engraving process. 第1実施形態に係る粗彫刻工程における記録ビームを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the recording beam in the rough engraving process which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る粗彫刻工程における記録ビーム等を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the recording beam etc. in the rough engraving process based on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る粗彫刻工程における記録ビームを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the recording beam in the rough engraving process which concerns on 3rd Embodiment. フレキソ感材表面の形状を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the shape of a flexo sensitive material surface typically.

符号の説明Explanation of symbols

10 フレキソ感材
11 記録ドラム
12 記録ヘッド
13 パーソナルコンピュータ
14 レーザ光源
15 制御部
21 回転モータ
23 モータドライバ
24 エンコーダ
31 移動モータ
32 ボールねじ
33 モータドライバ
34 エンコーダ
41 AOMユニット
42 AOMドライバ
46 対物レンズ
51 可変式ビームエキスパンダ
56 移動機構
57 モータドライバ
61 モータ
62 モータドライバ
63 ドライバ
64 レーザ光源制御部
65 切替回路
71 予備加熱機構
72 AOM
73 平行平面板
L1 精密彫刻ビーム
L2 粗彫刻ビーム
d レリーフ深度
dp 最大深度
dc 彫刻深度
pp 精密彫刻画素ピッチ
pc 粗彫刻画素ピッチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Flexo sensitive material 11 Recording drum 12 Recording head 13 Personal computer 14 Laser light source 15 Control part 21 Rotation motor 23 Motor driver 24 Encoder 31 Moving motor 32 Ball screw 33 Motor driver 34 Encoder 41 AOM unit 42 AOM driver 46 Objective lens 51 Variable type Beam expander 56 Movement mechanism 57 Motor driver 61 Motor 62 Motor driver 63 Driver 64 Laser light source controller 65 Switching circuit 71 Preheating mechanism 72 AOM
73 Parallel plane plate L1 Precision engraving beam L2 Coarse engraving beam d Relief depth dp Maximum depth dc Engraving depth pp Precision engraving pixel pitch pc Coarse engraving pixel pitch

Claims (24)

レーザ光源から射出され、画像信号に対応して変調されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、
第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、
前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、
前記第1の彫刻工程においては、前記レーザ光源を連続発振又は疑似連続発振させ、
前記第2の彫刻工程においては、前記レーザ光源をパルス発振させることを特徴とする印刷版の製版方法。
In a plate making method of a printing plate for engraving the surface of a recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source and modulated in accordance with an image signal,
A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter;
Using a laser beam having a second beam diameter larger than the first beam diameter and irradiating a recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch, the depth is deeper than the first depth. A second engraving process for engraving to a second depth,
In the first engraving step, the laser light source is continuously oscillated or pseudo-continuously oscillated,
In the second engraving step, a method for making a printing plate, wherein the laser light source is pulse-oscillated.
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、
第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、
前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、
前記第1の彫刻工程においては、レーザビームを前記変調器により変調し、
前記第2の彫刻工程においては、レーザビームを前記レーザ光源自体で変調することを特徴とする印刷版の製版方法。
In the plate making method of a printing plate for making a printing plate by engraving the surface of the recording material by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter;
Using a laser beam having a second beam diameter larger than the first beam diameter and irradiating a recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch, the depth is deeper than the first depth. A second engraving process for engraving to a second depth,
In the first engraving step, a laser beam is modulated by the modulator,
In the second engraving step, a printing plate making method, wherein a laser beam is modulated by the laser light source itself.
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、
第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、
前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、
前記第2の彫刻工程においては、前記記録材料を前記第1の彫刻工程よりも高い温度に予備加熱することを特徴とする印刷版の製版方法。
In the plate making method of a printing plate for making a printing plate by engraving the surface of the recording material by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A first engraving step of engraving to a first depth by irradiating a recording material at a first pixel pitch using a laser beam having a first beam diameter;
Using a laser beam having a second beam diameter larger than the first beam diameter and irradiating a recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch, the depth is deeper than the first depth. A second engraving process for engraving to a second depth,
In the second engraving step, the recording material is preheated to a temperature higher than that of the first engraving step, and a printing plate making method is characterized.
レーザ光源から射出され、画像信号に対応して変調されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、
第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで行う第1の彫刻工程と、
前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも浅い第2の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程とを備え、
前記第1の彫刻工程においては、前記レーザ光源をパルス発振させ、
前記第2の彫刻工程においては、前記レーザ光源を連続発振又は擬似連続発振させることを特徴とする印刷版の製版方法。
In a plate making method of a printing plate for engraving the surface of a recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source and modulated in accordance with an image signal,
A first engraving process using a laser beam having a first beam diameter and irradiating a recording material at a first pixel pitch to a first depth;
Using a laser beam having a second beam diameter smaller than the first beam diameter and irradiating a recording material at a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch, the recording material is shallower than the first depth. A first engraving process for engraving to a second depth,
In the first engraving step, the laser light source is pulsated,
In the second engraving step, a method for making a printing plate, wherein the laser light source is continuously oscillated or pseudo-continuously oscillated.
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、
第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画像ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、
前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画像ピッチより小さい第2の画像ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも浅い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、
前記第1の彫刻工程においては、レーザビームを前記レーザ自体で変調し、
前記第2の彫刻工程においては、レーザビームを前記変調器により変調することを特徴とする印刷版の製版方法。
In the plate making method of a printing plate for making a printing plate by engraving the surface of the recording material by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A first engraving step of engraving to a first depth using a laser beam having a first beam diameter and irradiating a recording material at a first image pitch;
A laser beam having a second beam diameter smaller than the first beam diameter is used, and the recording material is irradiated with a second image pitch smaller than the first image pitch, and is shallower than the first depth. A second engraving process for engraving to a second depth,
In the first engraving process, a laser beam is modulated by the laser itself,
In the second engraving step, a printing plate making method, wherein a laser beam is modulated by the modulator.
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版方法において、
第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画像ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行う第1の彫刻工程と、
前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画像ピッチより小さい第2の画像ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも浅い第2の深度まで彫刻を行う第2の彫刻工程とを備え、
前記第1の彫刻工程においては、前記記録材料を前記第2の彫刻工程よりも高い温度に予備加熱することを特徴とする印刷版の製版方法。
In the plate making method of a printing plate for making a printing plate by engraving the surface of the recording material by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A first engraving step of engraving to a first depth using a laser beam having a first beam diameter and irradiating a recording material at a first image pitch;
A laser beam having a second beam diameter smaller than the first beam diameter is used, and the recording material is irradiated with a second image pitch smaller than the first image pitch, and is shallower than the first depth. A second engraving process for engraving to a second depth,
In the first engraving step, the recording material is pre-heated to a temperature higher than that in the second engraving step, and a printing plate making method is characterized.
請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、
前記印刷版は凸版印刷版である印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate in any one of Claim 1 thru | or 3,
The plate making method of a printing plate, wherein the printing plate is a relief printing plate.
請求項7に記載の印刷版の製版方法において、
前記第1の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate of Claim 7,
The printing plate making method of the printing plate, wherein the first depth is a sculpture depth of a boundary portion between reliefs having halftone dot percentages of substantially zero adjacent to each other.
請求項4乃至請求項6のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、
前記印刷版は凸版印刷版である印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate in any one of Claim 4 thru | or 6,
The plate making method of a printing plate, wherein the printing plate is a relief printing plate.
請求項9に記載の印刷版の製版方法において、
前記第2の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate of Claim 9,
The plate making method of a printing plate, wherein the second depth is a sculpture depth of a boundary portion between the reliefs having halftone dot percentages of approximately zero adjacent to each other.
請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、
前記印刷版は凹版印刷版である印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate in any one of Claims 1 thru | or 6,
A method for making a printing plate, wherein the printing plate is an intaglio printing plate.
請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、
前記第1の画素ピッチと、前記第1の深度と、記録材料の感度と、前記レーザ光源のパワーとから、前記第1の彫刻工程の走査速度を決定する印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate in any one of Claims 1 thru | or 11,
A printing plate making method for determining a scanning speed of the first engraving process from the first pixel pitch, the first depth, the sensitivity of a recording material, and the power of the laser light source.
請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の印刷版の製版方法において、
前記第2の画素ピッチと、前記第2の深度と、記録材料の感度と、前記レーザ光源のパワーとから、前記第2の彫刻工程の走査速度を決定する印刷版の製版方法。
In the plate-making method of the printing plate in any one of Claims 1 thru | or 11,
A printing plate making method for determining a scanning speed of the second engraving step from the second pixel pitch, the second depth, the sensitivity of a recording material, and the power of the laser light source.
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、
前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、
その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、
前記記録ドラムを回転させる回転モータと、
前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、
前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、
前記レーザ光源をパルス発振および連続発振させるレーザ光源制御部と、
前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記レーザ光源制御部を制御することにより、前記レーザ光源を連続発振又は疑似連続発振させた状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記レーザ光源をパルス発振させた状態で、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、
を備えることを特徴とする印刷版の製版装置。
In a plate making apparatus for a printing plate for engraving the surface of the recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source;
A recording drum for mounting a recording material on the outer periphery,
A rotation motor for rotating the recording drum;
A recording head configured to be movable in a direction parallel to the axis of the recording drum and irradiating a recording material mounted on an outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source;
A moving motor for moving the recording head in a direction parallel to the axis of the recording drum;
A beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head;
A laser light source controller for causing the laser light source to oscillate and continuously oscillate;
By controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the laser light source control unit, the first beam is oscillated continuously or pseudo-continuously. A laser beam having a diameter, irradiating a recording material at a first pixel pitch, engraving to a first depth, and then pulsing the laser light source, Using a laser beam having a larger second beam diameter, irradiating the recording material at a second pixel pitch larger than the first pixel pitch, and engraving to a second depth deeper than the first depth A control unit to perform,
An apparatus for making a printing plate, comprising:
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、
前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、
その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、
前記記録ドラムを回転させる回転モータと、
前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、
前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、
前記変調器をレーザビームを変調可能な変調位置と退避位置の間で移動させる変調器移動機構と、
前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記変調器移動機構を制御することにより、前記変調器を変調位置に配置した状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記変調器で変調されたレーザビームにより第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記変調器を退避位置に配置した状態で、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記レーザ光源自体で変調されたレーザビームにより前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、
を備えることを特徴とする印刷版の製版装置。
In a plate making apparatus for a printing plate for engraving the surface of the recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source;
A recording drum for mounting a recording material on the outer periphery,
A rotation motor for rotating the recording drum;
A recording head configured to be movable in a direction parallel to the axis of the recording drum and irradiating a recording material mounted on an outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source;
A moving motor for moving the recording head in a direction parallel to the axis of the recording drum;
A beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head;
A modulator moving mechanism for moving the modulator between a modulation position where the laser beam can be modulated and a retracted position;
By controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the modulator moving mechanism, the modulator has the first beam diameter in a state of being arranged at a modulation position. Using a laser beam, irradiating a recording material with a first pixel pitch with a laser beam modulated by the modulator, engraving to a first depth, and then placing the modulator in a retracted position A recording material using a laser beam having a second beam diameter larger than the first beam diameter and having a second pixel pitch larger than the first pixel pitch by a laser beam modulated by the laser light source itself. And a controller that performs engraving to a second depth deeper than the first depth;
An apparatus for making a printing plate, comprising:
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、
前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、
その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、
前記記録ドラムを回転させる回転モータと、
前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、
前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、
前記記録ドラムに装着された記録材料を加熱する加熱機構と、
前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記加熱機構を制御することにより、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記記録材料をより高温に予備加熱した状態で、前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、
を備えることを特徴とする印刷版の製版装置。
In a plate making apparatus for a printing plate for engraving the surface of the recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source;
A recording drum for mounting a recording material on the outer periphery,
A rotation motor for rotating the recording drum;
A recording head configured to be movable in a direction parallel to the axis of the recording drum and irradiating a recording material mounted on an outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source;
A moving motor for moving the recording head in a direction parallel to the axis of the recording drum;
A beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head;
A heating mechanism for heating the recording material mounted on the recording drum;
By controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the heating mechanism, a laser beam having a first beam diameter is used, and a recording material is recorded at a first pixel pitch. , Engraving to the first depth, and using a laser beam having a second beam diameter larger than the first beam diameter in a state in which the recording material is preheated to a higher temperature, A controller that sculpts the recording material at a second pixel pitch that is larger than the first pixel pitch and engraves to a second depth that is deeper than the first depth; and
An apparatus for making a printing plate, comprising:
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、
前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、
その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、
前記記録ドラムを回転させる回転モータと、
前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、
前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、
前記レーザ光源をパルス発振および連続発振させるレーザ光源制御部と、
前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記レーザ光源制御部を制御することにより、前記レーザ光源をパルス発振させた状態で第1の深度まで彫刻を行った後、前記レーザ光源を連続発振又は疑似連続発振させた状態で、前記第1のピッチより小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、
を備えることを特徴とする印刷版の製版装置。
In a plate making apparatus for a printing plate for engraving the surface of the recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source;
A recording drum for mounting a recording material on the outer periphery,
A rotation motor for rotating the recording drum;
A recording head configured to be movable in a direction parallel to the axis of the recording drum and irradiating a recording material mounted on an outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source;
A moving motor for moving the recording head in a direction parallel to the axis of the recording drum;
A beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head;
A laser light source controller for causing the laser light source to oscillate and continuously oscillate;
Engraving was performed up to a first depth in a state where the laser light source was pulsated by controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the laser light source control unit. Thereafter, in a state where the laser light source is continuously oscillated or quasi-continuously oscillated, a laser beam having a second beam diameter smaller than the first pitch is used, and a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch. A control unit that irradiates the recording material with a sculpture to a second depth deeper than the first depth;
An apparatus for making a printing plate, comprising:
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、
前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、
その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、
前記記録ドラムを回転させる回転モータと、
前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、
前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、前記変調器をレーザビームを変調可能な変調位置と退避位置の間で移動させる変調器移動機構と、
前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記変調器移動機構を制御することにより、前記変調器を前記退避位置に配置した状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記レーザ光源自体で変調されたレーザビームにより第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、前記変調器を変調位置に配置した状態で、前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記変調器で変調されたレーザビームにより前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、
を備えることを特徴とする印刷版の製版装置。
In a plate making apparatus for a printing plate for engraving the surface of the recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source;
A recording drum for mounting a recording material on the outer periphery,
A rotation motor for rotating the recording drum;
A recording head configured to be movable in a direction parallel to the axis of the recording drum and irradiating a recording material mounted on an outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source;
A moving motor for moving the recording head in a direction parallel to the axis of the recording drum;
A beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head, a modulator moving mechanism for moving the modulator between a modulation position where the laser beam can be modulated and a retracted position;
By controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the modulator moving mechanism, the first beam diameter is set in a state where the modulator is disposed at the retracted position. The recording material is irradiated with a recording material at a first pixel pitch by a laser beam modulated by the laser light source itself, engraving to a first depth, and then the modulator is arranged at a modulation position. In this state, a laser beam having a second beam diameter smaller than the first beam diameter is used, and recording is performed at a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch by the laser beam modulated by the modulator. A controller that irradiates the material and engraves to a second depth deeper than the first depth;
An apparatus for making a printing plate, comprising:
レーザ光源から射出されたレーザビームで記録材料を走査することにより、記録材料の表面を彫刻して印刷版を製版する印刷版の製版装置において、
前記レーザ光源から射出されたレーザビームを変調するための変調器と、
その外周部に記録材料を装着する記録ドラムと、
前記記録ドラムを回転させる回転モータと、
前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動可能に構成され、前記記録ドラムの外周部に装着された記録材料に前記レーザ光源から射出されたレーザビームを照射する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドを前記記録ドラムの軸芯と平行な方向に移動させるための移動モータと、
前記記録ヘッドから射出されるレーザビームのビーム径を変更するビーム径変更機構と、
前記記録ドラムに装着された記録材料を加熱する加熱機構と、
前記変調器、前記回転モータ、前記移動モータ、前記ビーム径変更機構、および、前記加熱機構を制御することにより、前記記録材料を高温に予備加熱した状態で、第1のビーム径を有するレーザビームを使用し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行った後、より低温の記録材料に対し前記第1のビーム径より小さい第2のビーム径を有するレーザビームを使用し、前記第1の画素ピッチより小さい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度より深い第2の深度まで彫刻を行う制御部と、
を備えることを特徴とする印刷版の製版装置。
In a plate making apparatus for a printing plate for engraving the surface of the recording material and making a printing plate by scanning the recording material with a laser beam emitted from a laser light source,
A modulator for modulating a laser beam emitted from the laser light source;
A recording drum for mounting a recording material on the outer periphery,
A rotation motor for rotating the recording drum;
A recording head configured to be movable in a direction parallel to the axis of the recording drum and irradiating a recording material mounted on an outer peripheral portion of the recording drum with a laser beam emitted from the laser light source;
A moving motor for moving the recording head in a direction parallel to the axis of the recording drum;
A beam diameter changing mechanism for changing a beam diameter of a laser beam emitted from the recording head;
A heating mechanism for heating the recording material mounted on the recording drum;
A laser beam having a first beam diameter in a state in which the recording material is preheated to a high temperature by controlling the modulator, the rotation motor, the moving motor, the beam diameter changing mechanism, and the heating mechanism. And sculpting to a first depth by irradiating the recording material at a first pixel pitch and then having a second beam diameter smaller than the first beam diameter for a lower temperature recording material A control unit that uses a laser beam to irradiate a recording material at a second pixel pitch smaller than the first pixel pitch, and engraves to a second depth deeper than the first depth;
An apparatus for making a printing plate, comprising:
請求項14乃至請求項16のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記印刷版は凸版印刷版である印刷版の製版装置。
The plate making apparatus for a printing plate according to any one of claims 14 to 16,
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the printing plate is a relief printing plate.
請求項20に記載の製版装置において、
前記第1の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである印刷版の製版装置。
The plate making apparatus according to claim 20,
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the first depth is a sculpture depth of a boundary portion between reliefs having halftone dot percentages of substantially zero adjacent to each other.
請求項17乃至請求項19のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記印刷版は凸版印刷版である印刷版の製版装置。
In the plate-making apparatus of the printing plate in any one of Claim 17 thru | or 19,
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the printing plate is a relief printing plate.
請求項22に記載の製版装置において、
前記第2の深度は、網点パーセントがほぼゼロとなるレリーフ同士が隣接したときのこれらのレリーフの境界部分の彫刻深さである印刷版の製版装置。
The plate making apparatus according to claim 22,
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the second depth is a sculpture depth of a boundary portion between the reliefs having halftone dot percentages of approximately zero adjacent to each other.
請求項14乃至請求項19のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記印刷版は凹版印刷版である印刷版の製版装置。
In the plate-making apparatus of the printing plate in any one of Claim 14 thru | or 19,
The plate making apparatus for a printing plate, wherein the printing plate is an intaglio printing plate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010537848A (en) * 2007-08-27 2010-12-09 イーストマン コダック カンパニー Printing plate engraving
JP2011020363A (en) * 2009-07-16 2011-02-03 Asahi Kasei E-Materials Corp Method for manufacturing printing original plate, method for manufacturing printing plate, printing original plate, and apparatus for manufacturing printing original plate
JP2011167889A (en) * 2010-02-17 2011-09-01 Fujifilm Corp Relief manufacturing device and relief manufacturing method
CN106994815A (en) * 2017-03-30 2017-08-01 胡金钱 A kind of method and its equipment for laser machining official seal
JP2019058917A (en) * 2017-09-25 2019-04-18 ダイセルポリマー株式会社 Method for roughening metal molding surface

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010537848A (en) * 2007-08-27 2010-12-09 イーストマン コダック カンパニー Printing plate engraving
JP2011020363A (en) * 2009-07-16 2011-02-03 Asahi Kasei E-Materials Corp Method for manufacturing printing original plate, method for manufacturing printing plate, printing original plate, and apparatus for manufacturing printing original plate
JP2011167889A (en) * 2010-02-17 2011-09-01 Fujifilm Corp Relief manufacturing device and relief manufacturing method
CN106994815A (en) * 2017-03-30 2017-08-01 胡金钱 A kind of method and its equipment for laser machining official seal
JP2019058917A (en) * 2017-09-25 2019-04-18 ダイセルポリマー株式会社 Method for roughening metal molding surface

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