JP2006224677A - Support medium for planographic printing plate - Google Patents

Support medium for planographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2006224677A
JP2006224677A JP2006082418A JP2006082418A JP2006224677A JP 2006224677 A JP2006224677 A JP 2006224677A JP 2006082418 A JP2006082418 A JP 2006082418A JP 2006082418 A JP2006082418 A JP 2006082418A JP 2006224677 A JP2006224677 A JP 2006224677A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
lithographic printing
hydrophilic
resin
methacrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006082418A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takaaki Kuroki
孝彰 黒木
Yasuo Kojima
康生 児島
Saburo Hiraoka
三郎 平岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2006082418A priority Critical patent/JP2006224677A/en
Publication of JP2006224677A publication Critical patent/JP2006224677A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new support medium for a planographic printing plate replacing an aluminum grain support medium. <P>SOLUTION: The support medium for a planographic printing plate comprises a hydrophilic layer which contains a hydrophilic resin and a water dispersible filler in at least one surface of the substrate, wherein the water dispersible filler is particles of silica, the surface of the particles of the silica is provided with the treatment by a hydrophilic resin, an inorganic processing and/or an organic processing, the average particle diameter is in the range of 0.2-10 μm, the center line surface roughness Ra of the surface of the hydrophilic layer is in the range of 0.1≤Ra≤1.2 μm, and the dissolution loss in quantity of the hydrophilic layer is not more than 1% when being immersed in the water of 25°C for one hour. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、アルミニウム板を砂目立てした支持体に代わる新規な平版印刷版用支持体に関するものである。   The present invention relates to a new lithographic printing plate support that replaces a grained support of an aluminum plate.

現在印刷の主流は平版印刷であり、平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線部をインキ反撥性として、インキの付着性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方式をいう。このような平版印刷にはPS版が用いられる。   The mainstream of printing at present is lithographic printing. In lithographic printing, the image area and the non-image area are basically in the same plane, the image area is ink-receptive, and the non-image area is ink repellent. As a property, it means a method in which ink is applied only to an image area using an ink adhesion difference, and then the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed. A PS plate is used for such lithographic printing.

更に近年では、迅速に高解像度の平版印刷版を得る為、またフィルムレス化を目的として、画像情報に基づいたレーザー光によるデジタル露光した後に現像して平版印刷版を製造する方法が汎用されている。1例を挙げると、通信回線により伝送される画像信号や、電子製版システムや画像処理システムからの出力信号で光源を変調し、感光性材料に直接走査露光をして、印刷版を形成する様なシステムが挙げられる。   Furthermore, in recent years, a method for producing a lithographic printing plate by developing after digital exposure with laser light based on image information has been widely used for the purpose of quickly obtaining a high-resolution lithographic printing plate and for the purpose of filmlessness. Yes. For example, a light source is modulated by an image signal transmitted through a communication line or an output signal from an electronic plate making system or an image processing system, and a printing plate is formed by directly scanning and exposing a photosensitive material. System.

この様なシステムには、光重合のプロセスを利用したダイレクト製版材料等が用いられる。これらの製版材料は、従来のPS版と同様に砂目立てしたアルミニウム支持体上に光重合性層を設け、更に酸素遮断層を設けた構成からなるものである。一般的な光重合性層は、アクリル系単量体とアルカリ可溶性樹脂及び光重合性開始剤、並びに必要に応じて、特にレーザー書き込みを行う際には、波長に適応させるために増感色素を含有している。この材料に画像様に露光しアルカリ水系現像により未露光部の溶出除去を行い画像形成を行っている。   In such a system, a direct plate making material using a photopolymerization process is used. These plate-making materials have a structure in which a photopolymerizable layer is provided on a grained aluminum support, and an oxygen barrier layer is provided, as in the case of conventional PS plates. A typical photopolymerizable layer comprises an acrylic monomer, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable initiator, and, if necessary, a sensitizing dye to adapt to the wavelength, especially when performing laser writing. Contains. This material is imagewise exposed and the unexposed portion is eluted and removed by alkaline aqueous development to form an image.

この様な方法は、従来のPS版に近い印刷適性、置き版適性等の優れた面のある反面、従来のPS版と同様に液体現像処理を必要とし、廃液の処理及び管理、現像機のメンテナンス等が必要であるという問題を有していると共に、砂目立てしたアルミニウム支持体は製造工程が複雑であるという問題も有していた。   Such a method has excellent printability and placement plate suitability similar to those of conventional PS plates, but requires liquid development treatment as in the case of conventional PS plates. In addition to the problem that maintenance and the like are necessary, the grained aluminum support has the problem that the manufacturing process is complicated.

この様な点から、液体現像処理を行わないドライの画像形成方法を用い、砂目立てしたアルミニウム板を使用しない平版は、非常に簡便で環境的にも好ましい方法であると言える。   From this point, it can be said that a lithographic plate using a dry image forming method in which liquid development processing is not performed and not using a grained aluminum plate is a very simple and environmentally preferable method.

この様な物としては、例えば、紙などの支持体上に、トナーなどの画像受理層を有しPPCを用いて画像形成し、非画像部をエッチ液などで不感脂化処理して該画像受理層をインキ反撥層に変換させて使用する直描型平版印刷原版が広く実用に供されている。具体的には、耐水性支持体上に水溶性バインダーポリマー、無機顔料(フィラー)、耐水化剤等からなる画像受理層を設けたものが一般的で、これらはUSP2,532,865号公報、特公昭40−23581号公報、特開昭48−9802号公報、特開昭57−205196号公報、特開昭60−2309号公報、特開昭57−1791号公報、特開昭57−15998号公報、特開昭57−96900号公報、特開昭57−205196号公報、特開昭63−166590号公報、特開昭63−166591号公報、特開昭63−317388号公報、特開平1−114488号公報、特開平4−367868号公報などに記載されている。   As such a material, for example, an image receiving layer such as toner is formed on a support such as paper, and an image is formed using PPC, and the non-image portion is subjected to a desensitization treatment with an etchant or the like. Direct-drawing lithographic printing original plates that are used by converting a receiving layer into an ink repellent layer have been widely put into practical use. Specifically, what provided the image receiving layer which consists of a water-soluble binder polymer, an inorganic pigment (filler), a water-proofing agent etc. on a water-resistant support body is common, These are USP2,532,865 gazette, JP-B-40-23581, JP-A-48-9802, JP-A-57-205196, JP-A-60-2309, JP-A-57-1791, JP-A-57-15998 JP, 57-96900, 57-205196, 63-166590, 63-166591, 63-317388, JP 1-1114488, JP-A-4-367868, and the like.

これらの直描型平版印刷原版は、インキ反撥層に変換させる画像受理層として、単にPVA、澱粉、ヒドロキシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体などのような親水性を示す水溶性バインダーポリマー及びアクリル系樹脂エマルジョン等の水分散性ポリマー、シリカ、炭酸カルシウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒド樹脂縮合物のような耐水化剤で構成されているものも提案されている。また、特開昭63−256493号公報などでは、不感脂化処理により加水分解されて親水性基が発生する疎水性ポリマーを主成分として用いる直描型平版印刷原版が提案されている。   These direct-drawing lithographic printing original plates are simply PVA, starch, hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer as an image receiving layer to be converted into an ink repellent layer. Water-soluble binder polymers such as polymers and water-dispersible polymers such as acrylic resin emulsions, inorganic pigments such as silica and calcium carbonate, and water-proofing agents such as melamine / formaldehyde resin condensates What is composed is also proposed. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 63-256493 proposes a direct-drawing lithographic printing original plate using as a main component a hydrophobic polymer that is hydrolyzed by a desensitizing treatment to generate a hydrophilic group.

このような直描型平版印刷原版は、何れも画像受理層をインキ反撥層に変換するために、不感脂化処理が必須であり、該処理なしではインキ反撥性を殆ど示さない性質のものであり、親水性が不十分であった。   Such direct-drawing type lithographic printing original plates all have a desensitization treatment in order to convert the image-receiving layer into an ink repellent layer, and without such treatment, the ink repellent property is hardly exhibited. There was insufficient hydrophilicity.

また、この様な画像形成方法を用いる場合には、親油性画像を受理し、強く保持することが要求され、いきおい画像受容部の親水性を高くすることが出来ない事情があった。   Further, when such an image forming method is used, it is required to receive and strongly hold an oleophilic image, and there is a situation in which the hydrophilicity of the image receiving portion cannot be increased.

これに対し、特開平7−1849号公報等で開示されている親水性樹脂、親油性成分含有カプセル等から成る平版印刷版は、露光により露光部がカプセルから放出される親油性物質で親油化される方式であり、このため、非画像部の親水性を高く設計することが可能であり好ましい方式である。   On the other hand, a lithographic printing plate comprising a hydrophilic resin, a lipophilic component-containing capsule and the like disclosed in JP-A-7-1849 is an oleophilic substance whose exposed portion is released from the capsule upon exposure. For this reason, it is possible to design the hydrophilicity of the non-image area to be high, which is a preferable method.

しかしながら、これらの方法でもエッチ処理は必要であり、未だ十分な親水性を得られているとは言えない。   However, these methods also require an etching treatment, and it cannot be said that sufficient hydrophilicity has been obtained.

本発明は、上記の様な状況に鑑みなされたものである。即ち、本発明の目的は、従来から用いられているアルミニウム板の砂目支持体に代わる新規な支持体を提供することにあり、具体的には、PS版と同様にエッチ処理することなく高い親水性を有し、耐刷性を有する平版印刷用支持体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above situation. That is, an object of the present invention is to provide a novel support that replaces the conventional grained support of an aluminum plate, and specifically, it is high without etching treatment like the PS plate. An object of the present invention is to provide a support for lithographic printing having hydrophilicity and printing durability.

上記本発明の目的を達成する本発明の構成は下記である。
1.基体の少なくとも1つの面に親水性樹脂及び水分散性フィラーを含有する親水性層を有する平版印刷版用支持体において、該水分散性フィラーがシリカの微粒子であって、該シリカの微粒子の表面が親水性樹脂による処理、無機処理及び/又は有機処理を施され、その平均粒径が0.2〜10μmの範囲であり、該親水性層の表面の中心線表面粗さRaが0.1≦Ra≦1.2μmの範囲であり、該親水性層の25℃の水に1時間浸漬したときの溶解減量が1%以下であることを特徴とする平版印刷版用支持体。
2.前記シリカの微粒子の含有量が5〜70質量%の範囲であることを特徴とする上記1記載の平版印刷版用支持体。
3.前記シリカの微粒子の平均粒径x(μm)と含有量y(質量%)の関係が、下記式1で表される範囲であることを特徴とする上記1又は2記載の平版印刷版用支持体。
The configuration of the present invention that achieves the object of the present invention is as follows.
1. A lithographic printing plate support having a hydrophilic layer containing a hydrophilic resin and a water-dispersible filler on at least one surface of a substrate, wherein the water-dispersible filler is silica fine particles, and the surface of the silica fine particles Is subjected to a treatment with a hydrophilic resin, an inorganic treatment and / or an organic treatment, the average particle diameter is in the range of 0.2 to 10 μm, and the centerline surface roughness Ra of the surface of the hydrophilic layer is 0.1. A support for a lithographic printing plate having a range of ≦ Ra ≦ 1.2 μm, wherein the hydrophilic layer has a dissolution loss of 1% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour.
2. 2. The lithographic printing plate support according to 1 above, wherein the content of the silica fine particles is in the range of 5 to 70% by mass.
3. The support for a lithographic printing plate as described in 1 or 2 above, wherein the relationship between the average particle diameter x (μm) of the silica fine particles and the content y (mass%) is in the range represented by the following formula 1. body.

式1
(72.895−5.7895x)≧y≧(15.526−1.0526x)
4.前記親水性層の膜厚が1〜50μmであることを特徴とする上記1、2又は3記載の平版印刷版用支持体。
5.前記親水性層の表面のγhが20以上であることを特徴とする上記1〜4の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。
6.前記親水性樹脂がポリアクリルアミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリエステル又はポリウレタンの骨格を有する樹脂から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記1〜5の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。
7.前記親水性樹脂がゼラチンであることを特徴とする上記1〜6の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。
8.前記シリカの微粒子の平均粒径が0.6〜7μmであることを特徴とする上記1〜7の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。
Formula 1
(72.895-5.7895x) ≧ y ≧ (15.526-1.0526x)
4). 4. The lithographic printing plate support according to 1, 2 or 3, wherein the hydrophilic layer has a thickness of 1 to 50 μm.
5. 5. The lithographic printing plate support according to any one of 1 to 4 above, wherein γh on the surface of the hydrophilic layer is 20 or more.
6). The lithographic printing plate as described in any one of 1 to 5 above, wherein the hydrophilic resin is at least one selected from resins having a skeleton of polyacrylamide, gelatin, polyvinyl alcohol, polyester, or polyurethane. Support.
7). 7. The lithographic printing plate support according to any one of 1 to 6, wherein the hydrophilic resin is gelatin.
8). The support for a lithographic printing plate as described in any one of 1 to 7 above, wherein the silica fine particles have an average particle size of 0.6 to 7 µm.

本発明によれば、従来から用いられているアルミニウム板の砂目支持体に代わる新規な支持体が提供される。具体的には、従来のPS版に使用の砂目立てされたアルミニウム板と同様に、エッチ処理することなく高い親水性を有し、耐刷性を有する平版印刷版用支持体が提供される。これにより、現像処理などの煩雑なプロセスを経ることなく画像を作製できる感熱性平版印刷版材料が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the novel support body replaced with the grain-grained support body of the aluminum plate conventionally used is provided. Specifically, a lithographic printing plate support having high hydrophilicity and printing durability without etching is provided in the same manner as a grained aluminum plate used in conventional PS plates. This provides a heat-sensitive lithographic printing plate material that can produce an image without going through a complicated process such as development.

本発明の平版印刷版用支持体は、基体上に親水性層を有する。この種の親水性層は高い親水性と耐水性との相反する性能を高次で両立させることが要求される。本発明はこの要求に鑑みなされたものであり、請求項1に係る発明は、平版印刷版の表面の濡れ性を物理的に改善することにより上記本発明の目的を達成するものであり、更に請求項2〜8に係る発明により、物理的濡れ性を更に強化すると共に、化学的濡れ性をも向上させることによって従来の平版印刷版用支持体に比べて大幅に印刷適性を向上する発明である。   The lithographic printing plate support of the present invention has a hydrophilic layer on a substrate. This type of hydrophilic layer is required to satisfy both high hydrophilicity and water resistance at the higher order. The present invention has been made in view of this requirement, and the invention according to claim 1 achieves the object of the present invention by physically improving the wettability of the surface of a lithographic printing plate. According to the inventions according to claims 2 to 8, the physical wettability is further enhanced, and the chemical wettability is also improved, whereby the printability is greatly improved as compared with the conventional lithographic printing plate support. is there.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の平版印刷版用支持体について説明する。   The lithographic printing plate support of the present invention will be described.

本発明の平版印刷版用支持体の親水性層を設ける基体としては、感光性平版印刷版の支持体として従来公知のものを特に制限なく使用することができ、使用目的等に応じて、材質、層構成及びサイズ等を適宜に選定して使用することができる。基体として、例えば、紙、コート紙、合成紙(ポリプロピレン、ポリスチレン、若しくは、それらを紙とはり合せた複合材料)等の各種紙類、塩化ビニル系樹脂シート、ABS樹脂シート、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリサルホンフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエーテルイミドスフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等の単層或いはそれらを2層以上積層した各種プラスチックフィルムないしシート、各種の金属で形成されたフィルムないしシート、各種のセラミックス類で形成されたフィルムないしシート、更には、アルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、樹脂コーティングした紙に金属の薄膜をラミネート又は蒸着したものを用いることができる。   As the substrate on which the hydrophilic layer of the lithographic printing plate support of the present invention is provided, conventionally known ones can be used without particular limitation as the support of the photosensitive lithographic printing plate, depending on the purpose of use, etc. The layer configuration and size can be selected and used as appropriate. Examples of the substrate include various papers such as paper, coated paper, and synthetic paper (polypropylene, polystyrene, or a composite material obtained by combining them with paper), vinyl chloride resin sheet, ABS resin sheet, polyethylene terephthalate film, poly Single layer of butylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, polycarbonate film, polyether ketone film, polysulfone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, polyethylene film, polypropylene film or the like Various plastic films or sheets laminated with two or more layers, films or sheets formed of various metals, films formed of various ceramics, Over DOO, further, it is possible to use aluminum, stainless steel, chromium, metal plate such as nickel, which a thin film of metal laminated or deposited paper with a resin coating.

基体には従来公知の表面改質技術を好適に適用することができる。この様な表面改質技術としては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、コロナ放電処理、水溶性樹脂の塗布等が挙げられ、何れも好ましく用いられる。また、基体と親水性層の間に接着剤層等の中間層を設けることができる。   Conventionally known surface modification techniques can be suitably applied to the substrate. Examples of such surface modification techniques include sulfuric acid treatment, oxygen plasma etching treatment, corona discharge treatment, and application of water-soluble resin, all of which are preferably used. Further, an intermediate layer such as an adhesive layer can be provided between the substrate and the hydrophilic layer.

本発明に於ける親水性層は、少なくとも親水性樹脂と水分散性フィラーとを含有する。本明細書において「樹脂」は樹脂状物質を意味し、「フィラー」は親水性層に含有させることによって該層の表面粗さを増大し得る微粒子を意味し、本発明ではシリカの微粒子を用いる。   The hydrophilic layer in the present invention contains at least a hydrophilic resin and a water-dispersible filler. In this specification, “resin” means a resinous substance, and “filler” means fine particles that can increase the surface roughness of the layer by being contained in the hydrophilic layer. In the present invention, fine particles of silica are used. .

親水性樹脂としては、従来公知のものを特に制限無く使用することができる。例えば、水酸基、カルボキシル基、(2級又は3級)アミンを有する基、アミノ基、アミド基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、メルカプト基、アルキルエーテル基のような親水性基を有する高分子化合物等が挙げられ、また、例えば、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、ポリアミド、ポリアクリルアミド、無水マレイン酸共重合体、ポリウレタン、ポリエステル等が挙げられる。親水性樹脂として、これらの化合物を単独又は2種以上混合したものを主成分として用いることができる。   A conventionally well-known thing can be especially used as a hydrophilic resin without a restriction | limiting. For example, hydrophilic groups such as hydroxyl groups, carboxyl groups, (secondary or tertiary) amine-containing groups, amino groups, amide groups, carbamoyl groups, sulfonic acid groups, sulfonamide groups, phosphonic acid groups, mercapto groups, alkyl ether groups. Examples thereof include polymer compounds having a functional group, and examples thereof include polyvinyl alcohol, polysaccharides, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl starch, and closed octaacetate. , Ammonium alginate, sodium alginate, polyvinylamine, polyallylamine, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, polyamide, polyacrylamide, maleic anhydride copolymer, polyureta , A polyester or the like. As the hydrophilic resin, a single resin or a mixture of two or more of these compounds can be used as a main component.

本発明において、親水性樹脂として、ポリアクリルアミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリエステル又はポリウレタンの何れかの骨格を有する樹脂が好ましく、ゼラチンが最も好ましい。   In the present invention, the hydrophilic resin is preferably a resin having a skeleton of polyacrylamide, gelatin, polyvinyl alcohol, polyester, or polyurethane, and most preferably gelatin.

本発明の好ましい態様は、親水性樹脂として、ポリアクリルアミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリエステル及びポリウレタンから選ばれる少なくとも1種を主成分として用いた態様である。ここで、主成分とは、親水性樹脂の総質量の50%以上含有することをいい、より好ましい態様は、親水性樹脂の総質量の70%以上含有することである。   A preferred embodiment of the present invention is an embodiment in which at least one selected from polyacrylamide, gelatin, polyvinyl alcohol, polyester and polyurethane is used as a main component as the hydrophilic resin. Here, a main component means containing 50% or more of the total mass of hydrophilic resin, and a more preferable aspect is containing 70% or more of the total mass of hydrophilic resin.

ゼラチンは、アルカリ法ゼラチン、酸性法ゼラチン、変性ゼラチン(例えば、特公昭38−4854号公報、同40−12237号公報、英国特許2,525,753号明細書等に記載の変性ゼラチン等)等を単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、Bull.Soc.Sci.Photo.Japan.No.16.P30(1966)に記載されたような酵素処理ゼラチンも用いることができる。   Gelatin is alkali method gelatin, acid method gelatin, modified gelatin (for example, modified gelatin described in JP-B-38-4854, JP-A-40-12237, British Patent 2,525,753, etc.), etc. Can be used alone or in combination of two or more. For example, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate, Bull. Soc. Sci. Photo. Japan. No. 16. Enzyme-treated gelatin as described in P30 (1966) can also be used.

ポリビニルアルコールを骨格とする樹脂としては、各種重合度のポリビニルアルコールの他、共重合ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール骨格部分を50モル%以上含有する、カルボキシル基,スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性ポリビニルアルコール、アミノ基,アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、アルコキシル変性ポリビニルアルコール、エポキシ変性ポリビニルアルコール、チオール変性ポリビニルアルコール等のランダム共重合体;アニオン変性、カチオン変性、チオール変性、シラノール変性、アルコキシル変性及びエポキシ変性等変性が末端基にのみに行われているポリビニルアルコール、アクリルアミド、アクリル酸等の水溶性モノマーを導入したブロック共重合ポリビニルアルコール、シラノール基等をグラフトさせたグラフト共重合ポリビニルアルコール、更に、(−COCH2COCH3)のような反応基を導入した共重合ポリビニルアルコール等を用いることができる。 As a resin having a polyvinyl alcohol skeleton, an anion modification modified with an anion such as a carboxyl group or a sulfo group containing at least 50 mol% of a copolymerized polyvinyl alcohol or polyvinyl alcohol skeleton portion in addition to polyvinyl alcohol having various polymerization degrees. Random copolymers such as polyvinyl alcohol, cation-modified polyvinyl alcohol modified with cations such as amino group, ammonium group, silanol-modified polyvinyl alcohol, alkoxyl-modified polyvinyl alcohol, epoxy-modified polyvinyl alcohol, thiol-modified polyvinyl alcohol; anion-modified, cation Modifications such as modification, thiol modification, silanol modification, alkoxyl modification, and epoxy modification are performed only on the terminal group, such as polyvinyl alcohol, acrylamide, acrylic acid, etc. Block copolymer of polyvinyl alcohol obtained by introducing a water-soluble monomer, graft copolymerization of poly (vinyl alcohol) grafted silanol group, further, (- COCH 2 COCH 3) reactive groups that use the introduced copolymerized polyvinyl alcohol such as Can do.

ポリビニルアルコールは、鹸化度70モル%以上のものが好ましく、より好ましくは85モル%以上であり、特に好ましくは90%以上である。高ケン化度のポリビニルアルコールは熱処理により結晶性が変化し、耐水性を付与することが可能であり好ましい。   The polyvinyl alcohol preferably has a saponification degree of 70 mol% or more, more preferably 85 mol% or more, and particularly preferably 90% or more. Polyvinyl alcohol having a high saponification degree is preferable because the crystallinity is changed by heat treatment and water resistance can be imparted.

共重合ポリビニルアルコールにおいて、共重合モノマーとしては、下記のモノマーを用いることができる。
(1)芳香族水酸基を有するモノマー:例えば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
(2)脂肪族水酸基を有するモノマー:例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
(3)アミノスルホニル基を有するモノマー:例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
(4)スルホンアミド基を有するモノマー:例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等。
(5)α,β−不飽和カルボン酸類:例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
(6)置換又は無置換のアルキルアクリレート:例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
(7)置換又は無置換のアルキルメタクリレート:例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
(8)アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類:例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
(9)フッ化アルキル基を含有するモノマー:例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキシエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
(10)ビニルエーテル類:例えば、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
(11)ビニルエステル類:例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
(12)スチレン類:例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
(13)ビニルケトン類:例えば、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
(14)オレフィン類:例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
(15)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。
(16)シアノ基を有するモノマー:例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シアノスチレン、p−シアノスチレン等。
(17)アミノ基を有するモノマー:例えば、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。
In the copolymerized polyvinyl alcohol, the following monomers can be used as the copolymerization monomer.
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group: for example, o-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, o-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate and the like.
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group: For example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxy Pentyl methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.
(3) Monomer having an aminosulfonyl group: for example, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminophenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
(4) Monomers having a sulfonamide group: for example, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
(5) α, β-unsaturated carboxylic acids: for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride and the like.
(6) Substituted or unsubstituted alkyl acrylate: for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic Acid decyl, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like.
(7) Substituted or unsubstituted alkyl methacrylate: for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, methacryl Acid decyl, undecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
(8) Acrylamide or methacrylamide: For example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
(9) Monomer containing a fluorinated alkyl group: for example, trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N-butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.
(10) Vinyl ethers: For example, ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ethers.
(11) Vinyl esters: For example, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.
(12) Styrenes: For example, styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene and the like.
(13) Vinyl ketones: For example, methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.
(14) Olefin: For example, ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like.
(15) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.
(16) Monomer having a cyano group: for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o-cyanostyrene, m-cyanostyrene, p-cyanostyrene etc.
(17) Monomer having an amino group: for example, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, N-isopropylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.

本発明で用いるポリビニルアルコールとしては、反応性基を導入したポリビニルアルコール、アニオン性基を導入したポリビニルアルコールが好ましく、中でも、反応性基を導入したポリビニルアルコールが好ましい。反応性基としては、例えば、シラノール基、アセトアセチル基、チオール基、エポキシ基が挙げられる。これらの中で特に好ましい反応性基は、シラノール基、アセトアセチル基、チオール基である。   The polyvinyl alcohol used in the present invention is preferably a polyvinyl alcohol having a reactive group introduced therein or a polyvinyl alcohol having an anionic group introduced therein. Among them, polyvinyl alcohol having a reactive group introduced is preferred. Examples of the reactive group include a silanol group, an acetoacetyl group, a thiol group, and an epoxy group. Among these, particularly preferred reactive groups are a silanol group, an acetoacetyl group, and a thiol group.

上記のポリビニルアルコールは、1種で又は2種以上を混合して用いてもよい。   The above polyvinyl alcohols may be used alone or in combination of two or more.

次に、ポリウレタン又はポリエステルの骨格を有する樹脂について述べる。本発明において、該樹脂として親水性基を有するポリウレタン樹脂、親水性基を有するポリエステル樹脂及び親水性基を有するポリアミド樹脂を好ましく用いることができる。本発明の実施においては親水性基として、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基、アミノ基及びスルホンアミド基を側鎖に有するものが好ましい。   Next, a resin having a polyurethane or polyester skeleton will be described. In the present invention, a polyurethane resin having a hydrophilic group, a polyester resin having a hydrophilic group, and a polyamide resin having a hydrophilic group can be preferably used as the resin. In the practice of the present invention, those having a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, an amino group and a sulfonamide group in the side chain are preferred as the hydrophilic group.

本発明に用いることができる好ましい親水性基を有するポリウレタン樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にウレタン結合、尿素結合、ビュレット結合、アロファネート結合から選ばれる少なくとも1種以上の繰り返し単位を含有する高分子であり、この様な結合は、主としてイソシアネートと付加反応する反応基を選択することで形成される。   The preferred polyurethane resin having a hydrophilic group that can be used in the present invention has at least one kind of the above-mentioned hydrophilic group, and at least one kind selected from a urethane bond, a urea bond, a burette bond, and an allophanate bond in the main chain. It is a polymer containing the above repeating units, and such a bond is formed mainly by selecting a reactive group that undergoes an addition reaction with isocyanate.

この反応に好適に用いられるジイソシアネート化合物としては、従来公知の、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサン−2,6−ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂肪族ジイソシアネート化合物等が挙げられ、更にこれらのジイソシアネート化合物3分子以上の反応生成物、これらのジイソシアネート化合物と3価以上の多価アルコールの反応生成物により生成される3官能以上のイソシアネート化合物も好適に使用できる。   Examples of the diisocyanate compound suitably used in this reaction include conventionally known 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane. Aromatic diisocyanate compounds such as diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, Aliphatic diisocyanate compounds such as dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) And aliphatic diisocyanate compounds such as methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, methylcyclohexane-2,6-diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, and more than three molecules of these diisocyanate compounds. A trifunctional or higher functional isocyanate compound produced by a reaction product of these diisocyanate compounds and a trihydric or higher polyhydric alcohol can also be suitably used.

イソシアネート化合物と付加反応してウレタン結合を形成する多官能アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の脂肪族ジオール類;グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、1,2,6−ヘキサントリオール、ソルビトール、マンニトール、ブドウ糖等の脂肪族多官能アルコール類;ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合により末端に水酸基を形成したポリエステルポリオール類;アルキレンオキサイドの開環重合又はアルキレンオキサイドと多価アルコールに付加したポリエーテルポリオールが挙げられる。   Examples of the polyfunctional alcohol that forms a urethane bond by addition reaction with an isocyanate compound include aliphatic diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, hexamethylene glycol, octanediol, diethylene glycol, and triethylene glycol; glycerin and trimethylol Aliphatic polyfunctional alcohols such as ethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, diglycerin, 1,2,6-hexanetriol, sorbitol, mannitol, and glucose; a hydroxyl group is formed at the terminal by condensation of dicarboxylic acid and polyhydric alcohol Polyester polyols prepared by ring-opening polymerization of alkylene oxide or polyether polyol added to alkylene oxide and polyhydric alcohol.

これらの化合物のアルコール価数に応じ、水酸基1モルに対しイソシアネート2モルの比率で添加し、反応させることで目的の反応生成物を得ることができる。   Depending on the alcohol valence of these compounds, the desired reaction product can be obtained by adding and reacting at a ratio of 2 moles of isocyanate to 1 mole of hydroxyl groups.

ポリウレタン樹脂に親水性基を付与するには、末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを3級アミノ基を有するジオール類でポリマー化し、3級アミノ基を4級塩化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを3級アミノ基を有するジオール類でポリマー化し、3級アミノ基を酸で中和しアミン塩化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを4級塩を有するジオール類でポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをジアミノフェニルカルボン酸塩でポリマー化し溶剤除去する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーの末端イソシアネート基を重亜硫酸ソーダの様な化合物でブロック化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをジアミノアルカンスルホネートでポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをビス(2−シアノエチルアミノ)エタンでポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを長鎖アルコールのアルキレンオキサイドでポリマー化する方法、等を挙げることができ、その他、岩田敬治編「ポリウレタン樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社、496〜506頁に記載の方法等を任意に採用できる。   In order to impart a hydrophilic group to a polyurethane resin, a method of polymerizing a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with a diol having a tertiary amino group and quaternizing the tertiary amino group; an isocyanate group at the terminal A method of polymerizing a urethane prepolymer having a residual amino group with a diol having a tertiary amino group, neutralizing the tertiary amino group with an acid and subjecting to an amine chloride; a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal has a quaternary salt Method of polymerizing with diols; Method of polymerizing a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with a diaminophenylcarboxylate and removing the solvent; Termination of the urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with sodium bisulfite To block with a compound such as A method of polymerizing a urethane prepolymer that has left an isocyanate group with diaminoalkanesulfonate; A method of polymerizing a urethane prepolymer that has left an isocyanate group with bis (2-cyanoethylamino) ethane; Examples include a method of polymerizing a polymer with an alkylene oxide of a long chain alcohol, and other methods such as those described in Keiji Iwata “Polyurethane Resin Handbook”, Nikkan Kogyo Shimbun, pages 496 to 506 can be arbitrarily employed. .

又、本発明に採用できる市販のポリウレタン樹脂として、武田薬品工業(株)製タケラックWシリーズ(W−621、W−6015、W−7004、W−511、W−635、XW−76−P15、XW−74−P6012C、ACW−31H、ACW−54HD、XW−904−X05、XW−97−W4〜ポリエステルウレタン自己乳化タイプ)、同(W−310、W−512〜ポリエステルウレタン強制乳化タイプ)、武田薬品工業(株)製アルコキシシリル基含有シリーズ(XW−77−X25、XW−75−X09、XW−74−X13、XS−72−V01、XS−72−V02、XS−72−V03、XS−72−V04、XS−72−V05〜ポリエステルウレタン自己乳化タイプ)、東邦化学工業(株)製ハイタックシリーズ(S−8531、S−8532、S−8533、S−8530、S−8529、S−8528、S−6254、S−6262、B−1306)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−960、R−962、R−972、R−974、R−9314、R−9320、R−9617、XR−9621、XR−9624、R−9637、XR−9679、XR−9699、XR−9770〜脂肪族ポリエステルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−966、R−967、XR−9000、AX−311、AX−7113〜脂肪族ポリエーテルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−940、R−9030、XR−9409、R−9920、XR−7061〜芳香族ポリエーテルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(XU−7015、R−9603〜特殊ウレタン、脂肪族ポリカーボネートウレタン)、カネボウエヌエスシー(株)製ヨドゾールシリーズ(9D102、9D205Z、9D232Z)、東亜合成化学工業(株)製ネオタンシリーズ(UE−1101、UE−1200、UE−1300、UE−1402、UE−2103、UE−2200、UE−2600、UE−2900〜ポリエステルウレタン)、東亜合成化学工業(株)製ネオタンシリーズ(UE−5404、UE−5600〜ポリエーテルウレタン)、高松油脂(株)製エヌレンジシリーズ(R−1489、R−1780)、高松油脂(株)製クラウンボンドシリーズ(UA−28、UA−41、U−176R、RI−793、RI−623、U−113)、住友バイエルウレタン(株)製ディスパコールシリーズ(U−42、U−53、KA8481、KA8584)等を挙げることができる。   In addition, as commercially available polyurethane resins that can be employed in the present invention, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. Takerak W series (W-621, W-6015, W-7004, W-511, W-635, XW-76-P15, XW-74-P6012C, ACW-31H, ACW-54HD, XW-904-X05, XW-97-W4 to polyester urethane self-emulsifying type), the same (W-310, W-512 to polyester urethane forced emulsifying type), Series containing alkoxysilyl groups (XW-77-X25, XW-75-X09, XW-74-X13, XS-72-V01, XS-72-V02, XS-72-V03, XS, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. -72-V04, XS-72-V05-polyester urethane self-emulsifying type), manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. (S-8531, S-8532, S-8533, S-8530, S-8529, S-8528, S-6254, S-6262, B-1306), NeoRez series (R-) manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. 960, R-962, R-972, R-974, R-9314, R-9320, R-9617, XR-9621, XR-9624, R-9637, XR-9679, XR-9699, XR-9770 to Aliphatic polyester urethane), NeoRez series manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. (R-966, R-967, XR-9000, AX-311, AX-7113 to aliphatic polyether urethane), NeoRez series manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. (R-940, R-9030, XR-9409, R-9920, XR-7061-aromatic polyether urethane), cocoon NeoRez series made by Kasei Co., Ltd. (XU-7015, R-9603, special urethane, aliphatic polycarbonate urethane), Yodozol series made by Kaneboue NSC Co., Ltd. (9D102, 9D205Z, 9D232Z), Toa Gosei Chemical Co., Ltd. Neotan series made by UE1101, UE-1200, UE-1300, UE-1402, UE-2103, UE-2200, UE-2600, UE-2900-polyester urethane, Neotan series made by Toa Gosei Chemical Co., Ltd. (UE-5404, UE-5600 to polyether urethane), Nenrange series (R-1489, R-1780) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd., Crown bond series (UA-28, UA-41) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. U-176R, RI-793, RI-623, U-113), Dispacol series (U-42, U-53, KA8481, KA8584) manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd., and the like.

本発明に用いることができる好ましい親水性基を有するポリエステル樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にエステル結合の繰り返し単位を含有する高分子であり、この様なエステル結合を有する樹脂の合成方法は、例えば「ポリエステル樹脂ハンドブック」、21〜28頁に記載の方法で形成したポリエステル樹脂のプレポリマーに任意の方法で親水性基を導入し、ポリマー化すればよい。本発明に採用できる市販のポリエステル樹脂としては、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(110、120、121、193、510、610、810〜親水性基が−SO3R)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(210、620、820〜新水性基が−COOR)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(115G、124G、124GH、193G、215G、515G、615G、813GL〜親水性基が−SO3Rとグリシジル)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(124S、115S〜親水性基が−SO3RとSi(OR)3)、互応化学工業(株)製プラスコートシリーズ(Z−3402、Z−4121、Z−446、Z−461、Z−448、Z−441、Z−450、Z−710、Z−711、Z−770、Z−766〜水溶性)、互応化学工業(株)製プラスコートシリーズ(Z−820、Z−3109、Z−3308、Z−857、Z−850、Z−802、Z−856、Z−4201、RZ−27、RZ−50、RZ−56、RZ−105)、東洋紡績(株)製バイロナールシリーズ(MD−1200、MD−1200、MD−1250、MD−1100、MD−1330、MD−1930)等を挙げることができる。 A polyester resin having a preferred hydrophilic group that can be used in the present invention is a polymer having at least one hydrophilic group described above and containing a repeating unit of an ester bond in the main chain. As a method for synthesizing a resin having a bond, for example, a hydrophilic group may be introduced into a prepolymer of a polyester resin formed by the method described in “Polyester Resin Handbook”, pages 21 to 28, and polymerized. Examples of commercially available polyester resins that can be used in the present invention include pesresin A series (110, 120, 121, 193, 510, 610, and 810--hydrophilic group is —SO 3 R) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. ) Pesresin A series (210, 620, 820-new aqueous group is -COOR), Takamatsu Oil Co., Ltd. Pesresin A series (115G, 124G, 124GH, 193G, 215G, 515G, 615G, 813GL to hydrophilic group -SO 3 R and glycidyl), Pesresin A series (124S, 115S-hydrophilic groups are -SO 3 R and Si (OR) 3 ) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd., plus coat series (Z -3402, Z-4121, Z-446, Z-461, Z-448, Z-441, Z-450, Z-710, Z-711, Z 770, Z-766 to water-soluble), plus coat series (Z-820, Z-3109, Z-3308, Z-857, Z-850, Z-802, Z-856, Z) manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd. -4201, RZ-27, RZ-50, RZ-56, RZ-105), Toyobo Co., Ltd. Bironal series (MD-1200, MD-1200, MD-1250, MD-1100, MD-1330, MD-1930).

本発明において、親水性樹脂は、親水性層に10〜98質量%の範囲で含有させることが好ましい。親水性樹脂が10質量%より少ないと、親水性層の強度が不足し、また、98質量%より多いと水分散性フィラーを含有させる効果が小さく本発明の効果を発揮できない。より好ましい親水性樹脂の含有量は20〜97質量%であり、更に好ましくは30〜96質量%である。   In the present invention, the hydrophilic resin is preferably contained in the hydrophilic layer in the range of 10 to 98% by mass. When the hydrophilic resin is less than 10% by mass, the strength of the hydrophilic layer is insufficient, and when it is more than 98% by mass, the effect of containing the water-dispersible filler is small and the effect of the present invention cannot be exhibited. The content of the hydrophilic resin is more preferably 20 to 97% by mass, still more preferably 30 to 96% by mass.

本発明において、親水性樹脂は、同種の親水性樹脂を1種又は2種以上使用してもよく、また、異種の親水性樹脂を2種以上併用して使用してもよい。   In the present invention, as the hydrophilic resin, one or more of the same kind of hydrophilic resins may be used, or two or more kinds of different kinds of hydrophilic resins may be used in combination.

本発明において、フィラーとしては上述のとおり、シリカの微粒子を用いる。また、その他の有機系又は無機系の微粒子を使用してもよい。   In the present invention, silica fine particles are used as the filler as described above. Further, other organic or inorganic fine particles may be used.

有機系微粒子としては、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系ポリマーの微粒子、スチレン系ポリマーの微粒子、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系ポリマーの微粒子、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系ポリマーの微粒子、その他のラジカル重合系ポリマーの微粒子、ポリエステル、ポリカーボネートなど縮合ポリマーの微粒子などが挙げられる。   Organic fine particles include fine particles of acrylic polymer such as polymethyl methacrylate (PMMA), fine particles of styrene polymer, fine particles of olefin polymer such as polyethylene and polypropylene, fine particles of fluorine polymer such as polytetrafluoroethylene, and others. And radical polymerization polymer fine particles, and condensation polymer fine particles such as polyester and polycarbonate.

上記のような有機系微粒子の製造方法としては、どのような方法も採用できるが、例えば、(A)乳化重合、ソープフリー重合、分散重合のように重合中に粒子を成長させる方法や(B)懸濁重合、ノズル振動法、膨潤シード重合、二段膨潤重合のように液滴がそのまま重合する方法を採用することができる。   Any method can be adopted as a method for producing the organic fine particles as described above. For example, (A) a method of growing particles during polymerization, such as emulsion polymerization, soap-free polymerization, or dispersion polymerization (B ) It is possible to employ a method in which droplets are polymerized as they are, such as suspension polymerization, nozzle vibration method, swelling seed polymerization, and two-stage swelling polymerization.

上記(A)や(B)のような分散媒中で重合を行い微粒子を得る方法の他にも、ポリマーを富溶媒に、必要があれば、加熱下で溶解した後、貧溶媒を添加するとか、冷却するとかしてポリマーを析出させ、微粒子を得る方法(析出時に剪断力を掛けることにより微粒子を得易い)、ポリマーをサンドミル、ボールミルのような分散手段により溶媒中で粉砕、分散して微粒子を得る方法、ポリマーをドライ状態で粉砕し、分級工程を通すことにより微粒子を得る方法によって得ることができる。   In addition to the method of obtaining fine particles by polymerizing in a dispersion medium such as (A) or (B) above, a poor solvent is added after dissolving the polymer in a rich solvent, if necessary, under heating. Or by cooling to deposit the polymer to obtain fine particles (a fine particle can be easily obtained by applying a shearing force during precipitation), and the polymer is pulverized and dispersed in a solvent by a dispersing means such as a sand mill or a ball mill. Can be obtained by a method of obtaining fine particles by pulverizing a polymer in a dry state and passing through a classification step.

無機系微粒子としては、アルギン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ジルコン系等の微粒子を挙げることができる。   Examples of the inorganic fine particles include calcium alginate, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, and zircon fine particles.

本発明に係るシリカの微粒子及び無機系微粒子の製造方法としては、どのような方法も採用できるが、例えば、塊状の原料を細分化していく、ブレークダウン法、分子乃至は微粒を集合していくビルドアップ法が挙げられる。ブレークダウン法としては、ジェットミル・攪拌ミル・ボールミル・ローラーミル・スタンプミル・高速回転ミル等を用いた粉砕法、更にこれらの方法で粉砕する事により形成される活性部に第二成分を導入することにより表面改質を行う方法等も好適に使用される。このような方法は、「微粒子ハンドブック」(朝倉書店)p234〜235に記載されている。また、各種溶媒に溶解/分散させ微粒子化した後、溶剤を蒸発/乾燥し作製する方法等を利用できる。ビルドアップ法としては、ガス中蒸発法・スパッタ法・アークプラズマ蒸発法・レーザー蒸着法・高周波プラズマ蒸着法等の蒸発凝集を利用した方法、熱CVD法・プラズマCVD法・レーザーCVD法等のCVDを利用した粒子形成法等「微粒子ハンドブック」(朝倉書店)p226〜320に記載された各種方法で作製することができる。   Any method can be adopted as a method for producing silica fine particles and inorganic fine particles according to the present invention. For example, a bulk material is subdivided, a breakdown method, molecules or fine particles are assembled. There is a build-up method. As a breakdown method, a pulverization method using a jet mill, a stirring mill, a ball mill, a roller mill, a stamp mill, a high-speed rotary mill, etc., and further introducing the second component into the active part formed by pulverization by these methods A method of performing surface modification by doing so is also preferably used. Such a method is described in “Fine Particle Handbook” (Asakura Shoten) p234-235. Moreover, after dissolving / dispersing in various solvents to form fine particles, a method of evaporating / drying the solvent can be used. As build-up methods, gas evaporation methods, sputtering methods, arc plasma evaporation methods, laser vapor deposition methods, high frequency plasma vapor deposition methods, and other methods using evaporation aggregation, thermal CVD methods, plasma CVD methods, laser CVD methods, etc. It can be produced by various methods described in “Fine Particle Handbook” (Asakura Shoten) p226-320, such as a particle formation method utilizing the above.

これらの中で特に好ましい物理的及び/又は化学的に濡れ性を向上させるものとしては、アルミナ、ポリテトラフルオロエチレン、アクリル樹脂、酸化マグネシウム及びアルギン酸カルシウムから選ばれる少なくとも1種から実質的になる微粒子であり(ここで、「実質的になる」とは本発明の効果を阻害しない範囲でその他の物質を含有してもよいことを意味する)、より好ましくは、アクリル樹脂の微粒子である。   Among these, particularly preferred physically and / or chemically improved wettability is a fine particle substantially consisting of at least one selected from alumina, polytetrafluoroethylene, acrylic resin, magnesium oxide and calcium alginate. (Here, “substantially” means that other substances may be contained within a range that does not impair the effects of the present invention), and more preferably acrylic resin fine particles.

本発明に係るシリカの微粒子は、主として化学的濡れ性を強化する役割を果たしており、上記の方法で作製された粒子を好適に使用できる。中でも粉砕法で製造したシリカの微粒子は表面活性が高く、高親水性を発現する上で好ましい。また粒子の粒度分布を狭める目的で分級等の処理を行うことは、更に物理的濡れ性を向上させる観点からも好ましい方法である。   The fine particles of silica according to the present invention mainly play a role of enhancing chemical wettability, and the particles produced by the above method can be suitably used. Among them, silica fine particles produced by a pulverization method are preferable in that they have high surface activity and high hydrophilicity. In addition, performing a treatment such as classification for the purpose of narrowing the particle size distribution of the particles is a preferable method from the viewpoint of further improving the physical wettability.

シリカの微粒子(以下、シリカ粒子とも呼ぶ)の形状としては、多孔質形状を有するシリカ粒子が好ましく、シリカ粒子の細孔容積は0.5ml/g以上を有することが好ましい。中でも1.0ml/g以上が更に好ましく、1.5ml/g以上が特に好ましい。   As the shape of silica fine particles (hereinafter also referred to as silica particles), silica particles having a porous shape are preferable, and the pore volume of the silica particles is preferably 0.5 ml / g or more. Among these, 1.0 ml / g or more is more preferable, and 1.5 ml / g or more is particularly preferable.

本発明の親水性層は親水性樹脂を含有する連続相中に前記シリカ粒子をフィラーとして分散して含有する層である。該親水性層は、高い耐水性を有することが要求されるため、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤は主として親水性樹脂の極性基と反応するが、表面活性の高いシリカ粒子は親水性層の塗設用の塗布液の安定性を損なうこともあり、又該塗布液中、乾燥過程での2次凝集防止等による好ましい形状形成の観点等からもシリカ粒子の表面を改質することは好ましい態様である。   The hydrophilic layer of the present invention is a layer containing the silica particles dispersed as a filler in a continuous phase containing a hydrophilic resin. Since the hydrophilic layer is required to have high water resistance, it is preferable to contain a crosslinking agent. Although the crosslinking agent mainly reacts with the polar group of the hydrophilic resin, the silica particles having a high surface activity may impair the stability of the coating solution for coating the hydrophilic layer, and in the coating solution during the drying process. It is a preferable embodiment to modify the surface of the silica particles from the viewpoint of forming a preferable shape by preventing secondary aggregation.

シリカ粒子は、その表面が親水性樹脂による処理、無機処理及び/又は有機処理を施されたものであることが好ましい。ここで、「親水性樹脂による処理、無機処理及び/又は有機処理」は公知であり、以下のような表面処理をシリカ粒子の表面に施すことである。   It is preferable that the surface of the silica particles is subjected to treatment with a hydrophilic resin, inorganic treatment, and / or organic treatment. Here, “treatment with hydrophilic resin, inorganic treatment and / or organic treatment” is known, and the following surface treatment is performed on the surface of the silica particles.

一例を挙げると、界面活性剤・高分子・ワックス・無機物等を粒子表面に含浸コーティングする方法、表面活性基等とのラジカル反応・キレート反応・カップリング反応・ゾル吸着等を利用したトポケミカルな改質方法、粉砕活性面との有機物のグラフト反応・無機物の吸着反応等を利用したメカノケミカルな改質方法等が挙げられる。この様なものとしては例えば、レオロシールMT10,QS10,QS102,QS30(以上、徳山曹達(株)製)、サイロイド83,378,161,162C,C907,ED41,ED20,ED30,ED40,ED44,ED50,ED52,ED56,ED80,7000(以上、グレースジャパン(株)製)、サイリシア256,256N,358,435,445,436,446,456(以上、富士シリシア化学(株)製)等を挙げることができる。   For example, a method for impregnating the surface of particles with surfactants, polymers, waxes, inorganics, etc., and topochemical modification using radical reaction, chelation reaction, coupling reaction, sol adsorption, etc. with surface active groups. And a mechanochemical reforming method using an organic material graft reaction with the pulverized active surface, an inorganic adsorption reaction, and the like. For example, Leoroseal MT10, QS10, QS102, QS30 (above, manufactured by Tokuyama Soda Co., Ltd.), Cyloid 83, 378, 161, 162C, C907, ED41, ED20, ED30, ED40, ED44, ED50, ED52, ED56, ED80, 7000 (above, manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Silicia 256, 256N, 358, 435, 445, 436, 446, 456 (above, manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.) it can.

水分散性フィラーとして、アクリル樹脂の微粒子は、主に親水性層の表面の物理的濡れ性を強化する役割を果たしており、本発明に使用してもよい。該アクリル樹脂としては従来公知の物を特に制限なく使用できる。該アクリル樹脂は以下に記載するモノマーを上記のような方法で共重合させて得ることができる。
(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えば、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド等。
(3)アミノスルホニル基を有するモノマー、例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アアミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
(4)スルホンアミド基を有するモノマー、例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等。
(5)α,β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等。
(6)置換又は無置換のアルキルアクリレート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
(7)置換又は無置換のアルキルメタクリレート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
(8)アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
(9)フッ化アルキル基を含有するモノマー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート等。
(10)シアノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート等
(11)アミノ基を有するモノマー、例えばN,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等。
As the water-dispersible filler, the acrylic resin fine particles mainly play a role of enhancing the physical wettability of the surface of the hydrophilic layer, and may be used in the present invention. A conventionally well-known thing can be especially used as this acrylic resin without a restriction | limiting. The acrylic resin can be obtained by copolymerizing the monomers described below by the method described above.
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group, such as o-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate and the like.
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxy Pentyl methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide and the like.
(3) Monomer having an aminosulfonyl group, such as m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminophenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide N- (p-aaminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
(4) Monomers having a sulfonamide group, such as N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
(5) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid.
(6) Substituted or unsubstituted alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic Acid decyl, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like.
(7) substituted or unsubstituted alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, methacryl Decyl, undecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
(8) Acrylamide or methacrylamide, for example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
(9) Monomers containing fluorinated alkyl groups, such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, etc. .
(10) Monomers having a cyano group, such as acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, etc. (11) Monomers having an amino group, such as N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylamino Ethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate and the like.

本発明に好ましく使用できる水分散性フィラーは、化学的濡れ性を強化する点から、親水性樹脂との分散安定性及び高親水性を与える物が好ましく、具体的には極性基を有するモノマーユニットを有する物がより好ましい。好ましい極性基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、スルフォン酸基、燐酸基等を挙げることができ、これらの導入比としては、0〜70%の範囲で使用することが好ましい。   The water-dispersible filler that can be preferably used in the present invention is preferably a substance that imparts dispersion stability and high hydrophilicity with a hydrophilic resin from the viewpoint of enhancing chemical wettability, specifically a monomer unit having a polar group. The thing which has is more preferable. Preferable polar groups include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and the like, and the introduction ratio thereof is preferably used in the range of 0 to 70%.

上記水分散性フィラーは平均粒径が0.2〜10μmの範囲であることが好ましい。ここで、該平均粒径はJIS K−1150による測定値である。水分散性フィラーの平均粒径は、より好ましくは0.6〜7μmである。このような平均粒径の水分散性フィラーを親水性層に含有させることにより、支持体としての強度を向上し、高い親水性を得ることができる。   The water-dispersible filler preferably has an average particle size in the range of 0.2 to 10 μm. Here, the average particle diameter is a value measured according to JIS K-1150. The average particle size of the water dispersible filler is more preferably 0.6 to 7 μm. By including the water-dispersible filler having such an average particle diameter in the hydrophilic layer, the strength as a support can be improved and high hydrophilicity can be obtained.

水分散性フィラーは同種の水分散性フィラーを使用してもよく、また異種の水分散性フィラーを2種以上混合して使用してもよい。表面形状制御の観点から、同種の水分散性フィラーで粒径の異なる物を組み合わせて使用する態様及びシリカとPMMA粒子を化学的濡れ性と物理的濡れ性とのバランスを良化する目的で併用することは好ましい態様である。   As the water-dispersible filler, the same kind of water-dispersible filler may be used, or two or more kinds of different water-dispersible fillers may be mixed and used. From the viewpoint of surface shape control, use the same kind of water-dispersible fillers with different particle diameters in combination and silica and PMMA particles for the purpose of improving the balance between chemical wettability and physical wettability This is a preferred embodiment.

また、無機系超微粒子(粒径が100nm以下の粒子)も本発明のシリカ粒子の平均粒径に関する条件を満足するならば用いることができる。このような無機系超微粒子として、例えば、シリカ(コロイダルシリカ)、アルミナ或いはアルミナ水和物(アルミナゾル、コロイダルアルミナ、カチオン性アルミニウム酸化物又はその水和物、疑ベーマイト等)、表面処理カチオン性コロイダルシリカ、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、合成非晶質シリカ、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、水酸化マグネシウム、合成雲母等が挙げられる。無機微粒子の中では多孔性無機微粒子が好ましく、多孔性無機微粒子としては、多孔性合成非晶質シリカ、多孔性炭酸カルシウム、多孔性アルミナ等が挙げられ、特に、細孔容積の大きい多孔性合成非晶質シリカが好ましい。   Also, inorganic ultrafine particles (particles having a particle size of 100 nm or less) can be used as long as the conditions regarding the average particle size of the silica particles of the present invention are satisfied. Examples of such inorganic ultrafine particles include silica (colloidal silica), alumina, or alumina hydrate (alumina sol, colloidal alumina, cationic aluminum oxide or hydrate, suspicious boehmite, etc.), surface-treated cationic colloidal. Silica, aluminum silicate, magnesium silicate, magnesium carbonate, titanium dioxide, zinc oxide, light calcium carbonate, heavy calcium carbonate, kaolin, talc, calcium sulfate, barium sulfate, titanium dioxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc carbonate, satin white , Aluminum silicate, diatomaceous earth, calcium silicate, synthetic amorphous silica, aluminum hydroxide, lithopone, zeolite, hydrous halloysite, magnesium hydroxide, synthetic mica and the like. Among the inorganic fine particles, porous inorganic fine particles are preferable, and examples of the porous inorganic fine particles include porous synthetic amorphous silica, porous calcium carbonate, porous alumina and the like. Amorphous silica is preferred.

また、上記無機超微粒子と同様に、スチレン系樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フッ素系樹脂などの超微粒子を使用することができる。   Similarly to the inorganic ultrafine particles, ultrafine particles such as styrene resin, acrylic resin, polyethylene, microcapsule, urea resin, urethane resin, polyester resin, melamine resin, and fluorine resin can be used.

無機系超微粒子の一次粒子径は100nm以下、好ましくは50nm以下である。粒子径が微小であればある程、表面被覆が均一となり好ましい。これらの無機系超微粒子は、通常、溶媒中に一次粒子径を維持した状態でコロイド状に分散して使用する。   The primary particle diameter of the inorganic ultrafine particles is 100 nm or less, preferably 50 nm or less. The smaller the particle diameter, the more preferable the surface coating becomes. These inorganic ultrafine particles are usually used after being dispersed in a colloidal form while maintaining a primary particle size in a solvent.

本発明において、親水性層に含有させるシリカ粒子の含有量は5〜70質量%の範囲であること及び/又はシリカ粒子の平均粒径x(μm)とその含有量y(質量%)の関係が、
式1
(72.895−5.7895x)≧y≧(15.526−1.0526x)
であることが本発明の目的をより高度に達成する点から好ましい。
In the present invention, the content of the silica particles contained in the hydrophilic layer is in the range of 5 to 70% by mass and / or the relationship between the average particle size x (μm) of the silica particles and the content y (% by mass). But,
Formula 1
(72.895-5.7895x) ≧ y ≧ (15.526-1.0526x)
It is preferable from the viewpoint of achieving the object of the present invention to a higher degree.

本発明において、親水性層は、高い耐水性を持たせるため架橋剤を含有させることが好ましい。架橋剤としては、親水性樹脂を架橋することができるものであれば従来公知の架橋剤を広く利用できる。架橋剤として、例えば、アミノ樹脂、アジリジン系化合物、アミン系化合物、アルデヒド類、イソシアネート化合物、カルボン酸又は酸無水物、ハロゲン化物、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、2つ若しくはそれ以上のエポキシ基を有する化合物が挙げられる。架橋剤は、低分子量化合物であってもよく又はオリゴマー若しくは重合体であってもよい。   In the present invention, the hydrophilic layer preferably contains a crosslinking agent in order to have high water resistance. As the crosslinking agent, conventionally known crosslinking agents can be widely used as long as the hydrophilic resin can be crosslinked. Examples of the cross-linking agent include amino resins, aziridine compounds, amine compounds, aldehydes, isocyanate compounds, carboxylic acids or acid anhydrides, halides, phenol-formaldehyde resins, and compounds having two or more epoxy groups. Can be mentioned. The crosslinking agent may be a low molecular weight compound, or an oligomer or polymer.

アミノ樹脂としては、例えば、メラミン、ベンゾグアナミン、尿素等をアルデヒド類やケトン類と反応させた樹脂、具体的には、例えば、メラミン−ホルムアルデヒド系樹脂、尿素−ホルムアルデヒド系樹脂、メチロール化メラミン等が挙げられる。これらアミノ樹脂は、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基等を有する親水性樹脂に対し有効である。   Examples of amino resins include resins obtained by reacting melamine, benzoguanamine, urea and the like with aldehydes and ketones, and specific examples include melamine-formaldehyde resins, urea-formaldehyde resins, methylolated melamine, and the like. It is done. These amino resins are effective for hydrophilic resins having a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, and the like.

ハロゲン化物としては、例えば、米国特許第3,325,287号明細書、同第3,288,775号明細書、同第3,549,377号明細書、ベルギー特許第6,622,226号明細書に記載のジクロロトリアジン系化合等が挙げられれる。これらハロゲン化物は、水酸基、アミノ基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。   Examples of the halide include, for example, U.S. Pat. Nos. 3,325,287, 3,288,775, 3,549,377, and Belgian Patent 6,622,226. Examples include dichlorotriazine-based compounds described in the specification. These halides are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, an amino group or the like.

アミン系化合物及びアジリジン系化合物としては、例えば、米国特許第3,392,024号明細書に記載のアジリジン系化合物、米国特許第3,549,378号明細書等に記載のエチレンイミン系化合物及び下記の化合物が挙げられる。   Examples of the amine compound and the aziridine compound include an aziridine compound described in US Pat. No. 3,392,024, an ethyleneimine compound described in US Pat. No. 3,549,378, and the like. The following compounds are mentioned.

Figure 2006224677
Figure 2006224677

Figure 2006224677
Figure 2006224677

これらアミン系化合物及びアジリジン系化合物は、水酸基、カルボキシル基等を有する親水性樹脂に対し有効である。   These amine compounds and aziridine compounds are effective for hydrophilic resins having a hydroxyl group, a carboxyl group or the like.

イソシアネート化合物には、保護基を有すイソシアネート(ブロックド−イソシアネート)も含まれる。これらイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート、ビシクロヘプタンジイソシアネートが挙げられる。   The isocyanate compound also includes an isocyanate having a protecting group (blocked-isocyanate). Examples of these isocyanate compounds include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, Examples include isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, triphenylmethane diisocyanate, and bicycloheptane diisocyanate.

これらイソシアネート化合物は、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、アミノ基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。   These isocyanate compounds are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an amino group and the like.

アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、米国特許第3,291,624号明細書、同第3,232,764号明細書、フランス特許第1,543,694号明細書、英国特許第1,270,578号明細書に記載のジアルデヒド類が挙げられる。これらアルデヒド類は、水酸基を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。   Examples of the aldehydes include formaldehyde, glyoxal, US Pat. Nos. 3,291,624, 3,232,764, French Patent 1,543,694, British Patent 1 , 270, 578 specification. These aldehydes are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group.

これらの中で好ましくは、アミノ樹脂、アジリジン系化合物、アルデヒド類及びイソシアネート類である。   Among these, amino resins, aziridine compounds, aldehydes and isocyanates are preferable.

一例として親水性層の親水性樹脂としてゼラチンを用いた場合、架橋剤としては、例えば、クロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビス−(ビニルスルホニル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキシムコクロル酸等)、イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン、イソシアネート類、カルボキシル基活性型架橋剤等を、単独又は組み合わせて好ましく用いることができる。   As an example, when gelatin is used as the hydrophilic resin of the hydrophilic layer, examples of the crosslinking agent include chromium salts (chromium alum, chromium acetate, etc.), aldehydes (formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, etc.), N-methylol compounds. (Dimethylolurea, methyloldimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine, bis- (vinylsulfonyl) methyl ether, N, N′-methylenebis- [β- (vinylsulfonyl) propionamide], etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.), mucohalogen acids (mucochloric acid, phenoxymucochlor) Acid etc.), isoxazole , Dialdehyde starch, 2-chloro-6-hydroxy-triazinyl gelatin, isocyanates, carboxyl groups activated crosslinking agent, can be preferably used singly or in combination.

親水性樹脂を架橋する架橋剤は、親水性層に0〜40質量%の範囲で使用される。好ましくは、1〜30%の範囲での使用であり、特に好ましくは、2〜20%の使用である。   The crosslinking agent for crosslinking the hydrophilic resin is used in the hydrophilic layer in the range of 0 to 40% by mass. The use is preferably in the range of 1 to 30%, particularly preferably 2 to 20%.

架橋剤は、同種の架橋剤を1種又は2種以上使用してもよく、また、異種の架橋剤を2種以上併用して使用してもよい。   As the crosslinking agent, one kind or two or more kinds of the same kind of crosslinking agents may be used, or two or more kinds of different kinds of crosslinking agents may be used in combination.

更に架橋剤と親水性樹脂との反応を高効率に反応させるために反応促進剤を添加し使用することも好ましい。反応促進剤は、架橋結合反応を促進させ、従って、高い印刷耐性を得るために必要な高水準の架橋結合を保ちながら全体的な版製造時間を短縮することができる。   Furthermore, it is also preferable to add and use a reaction accelerator in order to react the cross-linking agent and the hydrophilic resin with high efficiency. The reaction accelerator promotes the cross-linking reaction and thus can reduce the overall plate production time while maintaining the high level of cross-linking required to obtain high printing resistance.

反応促進剤としては公知の反応促進剤を用いることができ、例えば、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、チオシアン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム等のアンモニウム塩系化合物、ジメチルアニリン塩酸塩、ピリジン塩酸塩、ピコリンモノクロール酢酸、カタリストAC(モンサント社製)、キャタニットA(日東化学社製)、スミライザーACX−P(住友化学社製)等の有機アミン塩系化合物、塩化第二スズ、塩化第二鉄、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸亜鉛等の無機塩系化合物を挙げることができる。   As the reaction accelerator, known reaction accelerators can be used. For example, ammonium salt systems such as ammonium chloride, ammonium acetate, ammonium sulfate, ammonium nitrate, ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, ammonium thiocyanate, ammonium sulfamate Organic amine salt systems such as compounds, dimethylaniline hydrochloride, pyridine hydrochloride, picoline monochloroacetic acid, catalyst AC (manufactured by Monsanto Co., Ltd.), cattanit A (manufactured by Nitto Chemical Co., Ltd.), and Sumilizer ACX-P (manufactured by Sumitomo Chemical) Examples thereof include inorganic salt compounds such as compounds, stannic chloride, ferric chloride, magnesium chloride, zinc chloride, and zinc sulfate.

また、反応促進剤の前駆体を使用することもできる。反応促進剤の前駆体は、加熱時に反応促進剤に転換し、画像通りに反応促進剤が形成される。反応促進剤の適当な前駆体は、例えば、加熱時に酸を放出する前駆体である。これら前駆体としては、例えば、英国特許第612,065号明細書、欧州特許第615,233号明細書、米国特許第5,326,677号明細書に開示されているスルホニウム化合物、特に、ベンジルスルホニウム化合物、欧州特許第462,763号明細書、WO81/1755号公報、米国特許第4,370,401号明細書に開示されている無機硝酸塩(例えば、Mg(NO32・6H2O、硝酸アンモニウム)、有機硝酸塩(例えば、硝酸グアニジニウム、硝酸ピリジニウム)など、米国特許第5,312,721号明細書に開示されているスルホン酸を放出する化合物、例えば、3−スルホレン類、例えば、2,5−ジヒドロチオ−チオフェン−1,1−ジオキシド類、英国特許第1,204,495号明細書に開示されている熱分解性化合物、米国特許第3,669,747号明細書に開示されてアミンと揮発性有機酸との共結晶性付加物、米国特許第3,166,583号明細書に開示されているアラルキルシアノホルム類、欧州特許第159,725号明細書及び西独特許第351,576号明細書に開示されているサーモ・アシッド、米国特許第5,278,031号明細書に開示されているスクエア酸発生化合物、米国特許第5,225,314号明細書、米国特許第5,227,277号明細書及び1973年11月のリサーチ・ディスクロージャーNo.11511に開示されている酸発生化合物である。 Moreover, the precursor of a reaction accelerator can also be used. The precursor of the reaction accelerator is converted into a reaction accelerator upon heating, and the reaction accelerator is formed as shown in the image. Suitable precursors for reaction accelerators are, for example, precursors that release acid upon heating. Examples of these precursors include sulfonium compounds disclosed in British Patent No. 612,065, European Patent No. 615,233, and US Pat. No. 5,326,677, particularly benzyl. Sulfonium compounds, inorganic nitrates (for example, Mg (NO 3 ) 2 .6H 2 O disclosed in European Patent No. 462,763, WO81 / 1755, US Pat. No. 4,370,401) , Ammonium nitrate), organic nitrates (eg, guanidinium nitrate, pyridinium nitrate) and the like, compounds that release sulfonic acids disclosed in US Pat. No. 5,312,721, such as 3-sulfolenes, such as 2 , 5-dihydrothio-thiophene-1,1-dioxides, disclosed in British Patent 1,204,495 Thermally decomposable compounds, disclosed in US Pat. No. 3,669,747 and co-crystallized adducts of amines and volatile organic acids, disclosed in US Pat. No. 3,166,583 Aralkyl cyanoforms, disclosed in European Patent No. 159,725 and West German Patent No. 351,576, Thermo Acid, US Pat. No. 5,278,031 Square Acid Generating Compound, US Pat. No. 5,225,314, US Pat. No. 5,227,277, and Research Disclosure No. 1993 November. 11511 is an acid generating compound disclosed in 11511.

親水性層には、前記の他に本発明の効果を阻害しないかぎり種々の添加剤を含有させることができる。   In addition to the above, the hydrophilic layer can contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明において、親水性層の表面の中心線表面粗さRaは0.1≦Ra≦1.2μmの範囲である。Ra値は、WYKO社の光学的三次元表面粗さ計「RST Plus」を使用して測定することができる。測定条件は対物レンズ×40、中間レンズ×1.0の条件で111μm×150μmの視野をN=5で測定して平均値を求める。   In the present invention, the center line surface roughness Ra of the surface of the hydrophilic layer is in the range of 0.1 ≦ Ra ≦ 1.2 μm. The Ra value can be measured using an optical three-dimensional surface roughness meter “RST Plus” manufactured by WYKO. Measurement conditions are objective lens × 40 and intermediate lens × 1.0, and a field of view of 111 μm × 150 μm is measured at N = 5 to obtain an average value.

本発明において、親水性層の25℃の水に対する溶解減量が1%以下であること及び/又は親水性層の表面のγhが20以上であることが本発明の目的をより高度に達成するために好ましい。上記溶解減量及びγhについては後述する。   In the present invention, the weight loss of the hydrophilic layer in water at 25 ° C. is 1% or less and / or the γh of the surface of the hydrophilic layer is 20 or more in order to achieve the object of the present invention to a higher degree. Is preferable. The dissolution weight loss and γh will be described later.

本平版印刷版用支持体は、基体と親水性層との間に接着剤層等の層を設けることができる。   In the lithographic printing plate support, a layer such as an adhesive layer can be provided between the substrate and the hydrophilic layer.

本発明の平版印刷版用支持体は、後記する画像形成層を設けて感熱性平版印刷版材料とすることができ、また、次のような用途に使用することができる。   The lithographic printing plate support of the present invention can be used as a heat-sensitive lithographic printing plate material by providing an image forming layer described later, and can be used for the following applications.

例えば、a)溶融熱転写方式、b)昇華熱転写方式、c)アブレーション転写方式、d)インクジェット方式などによる平版印刷版の作製が挙げられる。
a)溶融熱転写方式としては、例えば支持体上に設けられた親油性で熱溶融性の転写層を、熱/光エネルギーを熱に変換して溶融させることにより本発明の平版印刷版用支持体の親水性層上に転写する方法が挙げられる。具体的には、特開昭56−13168号記載の原版表面と熱転写シート表面を密着させてレーザー露光を行う転写方法、特開昭62−280038号記載の親水性版材にサーマルヘッドでインクシートのインクを転写する方法、特開平4−94937号記載の熱転写層に光硬化成分を含有し、後加熱を行い画像形成する方法、特開平4−94938号記載の熱転写層に熱硬化成分を含有し、後加熱を行い画像形成をする方法等を挙げることができる。
b)昇華熱転写方式としては、例えば支持体上に設けられた親油性で熱昇華性の物質を、熱/光エネルギーを熱に変換して昇華させることで本発明の平版印刷版用支持体の親水性層上に転写する方法、支持体上に設けられた親水性で熱昇華性の物質を、熱/光エネルギーを熱に変換して昇華させることで本発明の平版印刷版用支持体の親水性層上に転写する方法が挙げられる。具体的には、特開昭54−53009号記載の親水性で多孔性の支持体表面に、親油性の像を昇華により転写する方法等を挙げることができる。
c)アブレーション転写方式としては、例えば親水性の支持体上に設けられた親油性の物質を高強度の光エネルギーを熱に変換し、アブレーションさせることで本発明の平版印刷版用支持体の親水性層上に転写する方法、親油性の支持体上に設けられた親水性の物質を高強度の光エネルギーを熱に変換し、アブレーションさせることで転写する方法が挙げられる。
d)インクジェット方式としては、本発明の平版印刷版用支持体の親水性層上に、特開平7−70490号、同8−165447号、同9−3377号公報等に記載されているようなホットメルトインクを用いて画像を形成する方法などが挙げられる。
For example, preparation of a lithographic printing plate by a) a melt thermal transfer system, b) a sublimation thermal transfer system, c) an ablation transfer system, d) an ink jet system or the like can be mentioned.
a) As the melt thermal transfer method, for example, the lithographic printing plate support of the present invention is prepared by melting a lipophilic and heat-meltable transfer layer provided on the support by converting heat / light energy into heat. And a method of transferring onto the hydrophilic layer. Specifically, a transfer method in which the surface of the original plate and the surface of the thermal transfer sheet described in JP-A No. 56-13168 are adhered to each other and laser exposure is performed, and a hydrophilic plate material described in JP-A No. 62-280038 is coated with an ink sheet using a thermal head. A method of transferring the ink of the present invention, a method of containing a photocurable component in the thermal transfer layer described in JP-A-4-94937, and forming an image by post-heating, and a thermosetting component contained in the thermal transfer layer described in JP-A-4-94938 And a method of image formation by post-heating.
b) As the sublimation thermal transfer method, for example, the lithographic printing plate support of the present invention is obtained by sublimating a lipophilic and heat sublimable substance provided on the support by converting heat / light energy into heat. A method for transferring onto a hydrophilic layer, a hydrophilic and sublimable substance provided on a support, which is sublimated by converting heat / light energy into heat, and thereby supporting the lithographic printing plate support of the present invention. A method of transferring onto the hydrophilic layer is mentioned. Specific examples include a method of transferring a lipophilic image to a hydrophilic and porous support surface described in JP-A No. 54-53009 by sublimation.
c) As an ablation transfer method, for example, the hydrophilicity of the lithographic printing plate support of the present invention is obtained by converting a lipophilic substance provided on a hydrophilic support into high-intensity light energy and ablating. Examples thereof include a method of transferring onto a hydrophilic layer and a method of transferring a hydrophilic substance provided on an oleophilic support by converting high-intensity light energy into heat and ablating.
d) As an ink jet method, it is described in JP-A-7-70490, 8-165447, 9-3377, etc. on the hydrophilic layer of the lithographic printing plate support of the present invention. Examples thereof include a method of forming an image using hot melt ink.

次に、本発明の平版印刷版用支持体を適用できる感熱平版印刷版について説明する。   Next, a heat-sensitive lithographic printing plate to which the lithographic printing plate support of the present invention can be applied will be described.

上記感熱性平版印刷版材料は、親水性樹脂、熱により疎水性を生じさせる化合物及び水分散性フィラーを含有し、熱により親水性が低下する画像形成層を支持体上に有する感熱性平版印刷版材料であって、該水分散性フィラーの平均粒径が0.2〜10μmの範囲であり、画像形成層の中心線表面粗さRaが0.1≦Ra≦1.2μmの範囲であることを特徴とする。   The heat-sensitive lithographic printing plate material includes a hydrophilic resin, a compound that generates hydrophobicity by heat, and a water-dispersible filler, and has an image forming layer on the support that has a hydrophilicity that decreases by heat. A plate material, wherein the average particle diameter of the water-dispersible filler is in the range of 0.2 to 10 μm, and the center line surface roughness Ra of the image forming layer is in the range of 0.1 ≦ Ra ≦ 1.2 μm. It is characterized by that.

上記感熱性平版印刷版材料の基体は、本発明の支持体の基体に相当するものである。この基体としては、感光性平版印刷版の支持体として従来公知のものを特に制限なく使用することができ、使用目的等に応じて、材質、層構成及びサイズ等を適宜に選定して使用することができる。例えば、紙、コート紙、合成紙(ポリプロピレン、ポリスチレン、若しくはそれらを紙と貼り合せた複合材料)等の各種紙類、塩化ビニル系樹脂シート、ABS樹脂シート、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリサルホンフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエーテルイミドスフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等の単層或いはそれらを2層以上積層した各種プラスチックフィルムないしシート、各種の金属で形成されたフィルムないしシート、各種のセラミックス類で形成されたフィルムないしシート、更には、アルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、樹脂コーティングした紙に金属の薄膜をラミネート又は蒸着したものを用いることができる。   The substrate of the heat-sensitive lithographic printing plate material corresponds to the substrate of the support of the present invention. As this substrate, a conventionally known one can be used as the support of the photosensitive lithographic printing plate without any particular limitation, and the material, layer structure, size, etc. are appropriately selected and used according to the purpose of use. be able to. For example, various papers such as paper, coated paper, synthetic paper (polypropylene, polystyrene, or composite material obtained by bonding them with paper), vinyl chloride resin sheet, ABS resin sheet, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, Polyethylene naphthalate film, polyarylate film, polycarbonate film, polyether ketone film, polysulfone film, polyether sulfone film, polyetherimide film, polyimide film, polyethylene film, polypropylene film, etc., or two or more layers thereof Various plastic films or sheets laminated, films or sheets formed of various metals, films or sheets formed of various ceramics, and Aluminum, stainless steel, chromium, metal plate such as nickel, can be used as the metal thin film to the paper was resin coated and laminated or deposited.

上記基体には従来公知の表面改質技術を好適に適用することができる。この様な表面改質技術としては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、コロナ放電処理、水溶性樹脂の塗布等が挙げられ、何れも好ましく用いられる。   Conventionally known surface modification techniques can be suitably applied to the substrate. Examples of such surface modification techniques include sulfuric acid treatment, oxygen plasma etching treatment, corona discharge treatment, and application of water-soluble resin, all of which are preferably used.

上記感熱性平版印刷版材料の画像形成層が含有する親水性樹脂としては、従来公知のものを特に制限無く使用することができる。例えば、水酸基、カルボキシル基、(2級又は3級)アミンを有する基、アミノ基、アミド基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、メルカプト基、アルキルエーテル基のような親水性基を有する高分子化合物等が挙げられ、また、例えば、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、ポリアミド、ポリアクリルアミド、無水マレイン酸共重合体、ポリウレタン、ポリエステル等が挙げられる。親水性樹脂として、これらの化合物を単独又は2種以上混合したものを主成分として用いることができる。   As the hydrophilic resin contained in the image forming layer of the heat-sensitive lithographic printing plate material, conventionally known resins can be used without particular limitation. For example, hydrophilic groups such as hydroxyl groups, carboxyl groups, (secondary or tertiary) amine-containing groups, amino groups, amide groups, carbamoyl groups, sulfonic acid groups, sulfonamide groups, phosphonic acid groups, mercapto groups, alkyl ether groups. Examples thereof include polymer compounds having a functional group, and examples thereof include polyvinyl alcohol, polysaccharides, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl starch, and closed octaacetate. , Ammonium alginate, sodium alginate, polyvinylamine, polyallylamine, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, polyamide, polyacrylamide, maleic anhydride copolymer, polyureta , A polyester or the like. As the hydrophilic resin, a single resin or a mixture of two or more of these compounds can be used as a main component.

親水性樹脂として、ポリアクリルアミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリエステル又はポリウレタンの骨格を有する樹脂が好ましく、ゼラチンが最も好ましい。   As the hydrophilic resin, a resin having a polyacrylamide, gelatin, polyvinyl alcohol, polyester, or polyurethane skeleton is preferable, and gelatin is most preferable.

ゼラチンは、アルカリ法ゼラチン、酸性法ゼラチン、変性ゼラチン(例えば、特公昭38−4854号公報、同40−12237号公報、英国特許2,525,753号明細書等に記載の変性ゼラチン等)等を単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、Bull.Soc.Sci.Photo.Japan.No.16.p.30(1966)に記載されたような酵素処理ゼラチンも用いることができる。   Gelatin is alkali method gelatin, acid method gelatin, modified gelatin (for example, modified gelatin described in JP-B-38-4854, JP-A-40-12237, British Patent 2,525,753, etc.), etc. Can be used alone or in combination of two or more. For example, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used. Hydrolyzate of gelatin, Bull. Soc. Sci. Photo. Japan. No. 16. p. 30 (1966) can also be used.

ポリビニルアルコールとしては、各種重合度のポリビニルアルコールの他、共重合ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール骨格部分を50モル%以上含有する、カルボキシル基,スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性ポリビニルアルコール、アミノ基,アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、アルコキシル変性ポリビニルアルコール、エポキシ変性ポリビニルアルコール、チオール変性ポリビニルアルコール等のランダム共重合体;アニオン変性、カチオン変性、チオール変性、シラノール変性、アルコキシル変性及びエポキシ変性等変性が末端基にのみに行われているポリビニルアルコール、アクリルアミド、アクリル酸等の水溶性モノマーを導入したブロック共重合ポリビニルアルコール、シラノール基等をグラフトさせたグラフト共重合ポリビニルアルコール、更に、(−COCH2COCH3)のような反応基を導入した共重合ポリビニルアルコール等を用いることができる。 As polyvinyl alcohol, in addition to polyvinyl alcohol having various polymerization degrees, copolymerized polyvinyl alcohol, an anion-modified polyvinyl alcohol modified with anions such as a carboxyl group and a sulfo group containing 50 mol% or more of a polyvinyl alcohol skeleton, an amino group , Random copolymers such as cation-modified polyvinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol, alkoxyl-modified polyvinyl alcohol, epoxy-modified polyvinyl alcohol, and thiol-modified polyvinyl alcohol modified with cations such as ammonium groups; anion-modified, cation-modified, thiol-modified, Water-soluble monomers such as polyvinyl alcohol, acrylamide, and acrylic acid that are modified only on the terminal groups, such as silanol modification, alkoxyl modification, and epoxy modification Introduced a block copolymer of polyvinyl alcohol, graft copolymer of polyvinyl alcohol grafted silanol group or the like, - can be used (COCH 2 COCH 3) or the like copolymerized polyvinyl alcohol and the reactive group is introduced, such as.

ポリビニルアルコールは、鹸化度70モル%以上のものが好ましく、より好ましくは85モル%以上であり、特に好ましくは90%以上である。高ケン化度のポリビニルアルコールは熱処理により結晶性が変化し、耐水性を付与することが可能であり好ましい。   The polyvinyl alcohol preferably has a saponification degree of 70 mol% or more, more preferably 85 mol% or more, and particularly preferably 90% or more. Polyvinyl alcohol having a high saponification degree is preferable because the crystallinity is changed by heat treatment and water resistance can be imparted.

共重合ポリビニルアルコールにおいて、共重合モノマーとしては下記のモノマーを用いることができる。
(1)芳香族水酸基を有するモノマー:例えば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
(2)脂肪族水酸基を有するモノマー:例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
(3)アミノスルホニル基を有するモノマー:例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
(4)スルホンアミド基を有するモノマー:例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等。
(5)α,β−不飽和カルボン酸類:例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
(6)置換又は無置換のアルキルアクリレート:例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
(7)置換又は無置換のアルキルメタクリレート:例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
(8)アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類:例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
(9)フッ化アルキル基を含有するモノマー:例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキシエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
(10)ビニルエーテル類:例えば、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
(11)ビニルエステル類:例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
(12)スチレン類:例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
(13)ビニルケトン類:例えば、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
(14)オレフィン類:例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
(15)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。
(16)シアノ基を有するモノマー:例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シアノスチレン、p−シアノスチレン等。
(17)アミノ基を有するモノマー:例えば、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。
In the copolymerized polyvinyl alcohol, the following monomers can be used as the copolymerization monomer.
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group: for example, o-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, o-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate and the like.
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group: For example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxy Pentyl methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.
(3) Monomer having an aminosulfonyl group: for example, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminophenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
(4) Monomers having a sulfonamide group: for example, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
(5) α, β-unsaturated carboxylic acids: for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride and the like.
(6) Substituted or unsubstituted alkyl acrylate: for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic Acid decyl, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like.
(7) Substituted or unsubstituted alkyl methacrylate: for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, methacryl Acid decyl, undecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
(8) Acrylamide or methacrylamide: For example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
(9) Monomer containing a fluorinated alkyl group: for example, trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N-butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.
(10) Vinyl ethers: For example, ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ethers.
(11) Vinyl esters: For example, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.
(12) Styrenes: For example, styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene and the like.
(13) Vinyl ketones: For example, methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.
(14) Olefin: For example, ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like.
(15) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.
(16) Monomer having a cyano group: for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o-cyanostyrene, m-cyanostyrene, p-cyanostyrene etc.
(17) Monomer having an amino group: for example, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, N-isopropylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.

用いるポリビニルアルコールとしては、反応性基を導入したポリビニルアルコール、アニオン性基を導入したポリビニルアルコールが好ましく、中でも、反応性基を導入したポリビニルアルコールが好ましい。反応性基としては、例えば、シラノール基、アセトアセチル基、チオール基、エポキシ基が挙げられる。これらの中で特に好ましい反応性基は、シラノール基、アセトアセチル基、チオール基である。   As polyvinyl alcohol to be used, polyvinyl alcohol introduced with a reactive group and polyvinyl alcohol introduced with an anionic group are preferable, and among them, polyvinyl alcohol introduced with a reactive group is preferable. Examples of the reactive group include a silanol group, an acetoacetyl group, a thiol group, and an epoxy group. Among these, particularly preferred reactive groups are a silanol group, an acetoacetyl group, and a thiol group.

上記のポリビニルアルコールは、1種で又は2種以上を混合して用いてもよい。   The above polyvinyl alcohols may be used alone or in combination of two or more.

次に、ポリウレタン又はポリエステルの骨格を有する樹脂について述べる。本発明において、該樹脂として親水性基を有するポリウレタン樹脂、親水性基を有するポリエステル樹脂及び親水性基を有するポリアミド樹脂を好ましく用いることができる。本発明の実施においては親水性基として、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基、アミノ基及びスルホンアミド基を側鎖に有するものが好ましい。   Next, a resin having a polyurethane or polyester skeleton will be described. In the present invention, a polyurethane resin having a hydrophilic group, a polyester resin having a hydrophilic group, and a polyamide resin having a hydrophilic group can be preferably used as the resin. In the practice of the present invention, those having a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, an amino group and a sulfonamide group in the side chain are preferred as the hydrophilic group.

また、親水性基を有するポリウレタン樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にウレタン結合、尿素結合、ビュレット結合、アロファネート結合から選ばれる少なくとも1種以上の繰り返し単位を含有する高分子であり、この様な結合は、主としてイソシアネートと付加反応する反応基を選択することで形成される。   Further, the polyurethane resin having a hydrophilic group has at least one kind of the above-mentioned hydrophilic group and contains at least one repeating unit selected from a urethane bond, a urea bond, a burette bond, and an allophanate bond in the main chain. Such a bond is mainly formed by selecting a reactive group that undergoes an addition reaction with isocyanate.

この反応に好適に用いられるジイソシアネート化合物としては、従来公知の、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサン−2,6−ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂肪族ジイソシアネート化合物等が挙げられ、更にこれらのジイソシアネート化合物3分子以上の反応生成物、これらのジイソシアネート化合物と3価以上の多価アルコールの反応生成物により生成される3官能以上のイソシアネート化合物も好適に使用できる。   Examples of the diisocyanate compound suitably used in this reaction include conventionally known 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane. Aromatic diisocyanate compounds such as diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, Aliphatic diisocyanate compounds such as dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) And aliphatic diisocyanate compounds such as methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, methylcyclohexane-2,6-diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, and more than three molecules of these diisocyanate compounds. A trifunctional or higher functional isocyanate compound produced by a reaction product of these diisocyanate compounds and a trihydric or higher polyhydric alcohol can also be suitably used.

イソシアネート化合物と付加反応してウレタン結合を形成する多官能アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の脂肪族ジオール類;グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、1,2,6−ヘキサントリオール、ソルビトール、マンニトール、ブドウ糖等の脂肪族多官能アルコール類;ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合により末端に水酸基を形成したポリエステルポリオール類;アルキレンオキサイドの開環重合又はアルキレンオキサイドと多価アルコールに付加したポリエーテルポリオールが挙げられる。   Examples of the polyfunctional alcohol that forms a urethane bond by addition reaction with an isocyanate compound include aliphatic diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, hexamethylene glycol, octanediol, diethylene glycol, and triethylene glycol; glycerin and trimethylol Aliphatic polyfunctional alcohols such as ethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, diglycerin, 1,2,6-hexanetriol, sorbitol, mannitol, and glucose; a hydroxyl group is formed at the terminal by condensation of dicarboxylic acid and polyhydric alcohol Polyester polyols prepared by ring-opening polymerization of alkylene oxide or polyether polyol added to alkylene oxide and polyhydric alcohol.

これらの化合物のアルコール価数に応じ、水酸基1モルに対しイソシアネート2モルの比率で添加し、反応させることで目的の反応生成物を得ることができる。   Depending on the alcohol valence of these compounds, the desired reaction product can be obtained by adding and reacting at a ratio of 2 moles of isocyanate to 1 mole of hydroxyl groups.

ポリウレタン樹脂に親水性基を付与するには、末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを3級アミノ基を有するジオール類でポリマー化し、3級アミノ基を4級塩化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを3級アミノ基を有するジオール類でポリマー化し、3級アミノ基を酸で中和しアミン塩化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを4級塩を有するジオール類でポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをジアミノフェニルカルボン酸塩でポリマー化し溶剤除去する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーの末端イソシアネート基を重亜硫酸ソーダの様な化合物でブロック化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをジアミノアルカンスルホネートでポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをビス(2−シアノエチルアミノ)エタンでポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを長鎖アルコールのアルキレンオキサイドでポリマー化する方法、等を挙げることができ、その他、岩田敬治編「ポリウレタン樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社、496〜506頁に記載の方法等を任意に採用できる。   In order to impart a hydrophilic group to a polyurethane resin, a method of polymerizing a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with a diol having a tertiary amino group and quaternizing the tertiary amino group; an isocyanate group at the terminal A method of polymerizing a urethane prepolymer having a residual amino group with a diol having a tertiary amino group, neutralizing the tertiary amino group with an acid and subjecting to an amine chloride; a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal has a quaternary salt Method of polymerizing with diols; Method of polymerizing a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with a diaminophenylcarboxylate and removing the solvent; Termination of the urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with sodium bisulfite To block with a compound such as A method of polymerizing a urethane prepolymer that has left an isocyanate group with diaminoalkanesulfonate; A method of polymerizing a urethane prepolymer that has left an isocyanate group with bis (2-cyanoethylamino) ethane; Examples include a method of polymerizing a polymer with an alkylene oxide of a long chain alcohol, and other methods such as those described in Keiji Iwata “Polyurethane Resin Handbook”, Nikkan Kogyo Shimbun, pages 496 to 506 can be arbitrarily employed. .

又、採用できる市販のポリウレタン樹脂として、武田薬品工業(株)製タケラックWシリーズ(W−621、W−6015、W−7004、W−511、W−635、XW−76−P15、XW−74−P6012C、ACW−31H、ACW−54HD、XW−904−X05、XW−97−W4〜ポリエステルウレタン自己乳化タイプ)、同(W−310、W−512〜ポリエステルウレタン強制乳化タイプ)、武田薬品工業(株)製アルコキシシリル基含有シリーズ(XW−77−X25、XW−75−X09、XW−74−X13、XS−72−V01、XS−72−V02、XS−72−V03、XS−72−V04、XS−72−V05〜ポリエステルウレタン自己乳化タイプ)、東邦化学工業(株)製ハイタックシリーズ(S−8531、S−8532、S−8533、S−8530、S−8529、S−8528、S−6254、S−6262、B−1306)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−960、R−962、R−972、R−974、R−9314、R−9320、R−9617、XR−9621、XR−9624、R−9637、XR−9679、XR−9699、XR−9770〜脂肪族ポリエステルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−966、R−967、XR−9000、AX−311、AX−7113〜脂肪族ポリエーテルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−940、R−9030、XR−9409、R−9920、XR−7061〜芳香族ポリエーテルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(XU−7015、R−9603〜特殊ウレタン、脂肪族ポリカーボネートウレタン)、カネボウエヌエスシー(株)製ヨドゾールシリーズ(9D102、9D205Z、9D232Z)、東亜合成化学工業(株)製ネオタンシリーズ(UE−1101、UE−1200、UE−1300、UE−1402、UE−2103、UE−2200、UE−2600、UE−2900〜ポリエステルウレタン)、東亜合成化学工業(株)製ネオタンシリーズ(UE−5404、UE−5600〜ポリエーテルウレタン)、高松油脂(株)製エヌレンジシリーズ(R−1489、R−1780)、高松油脂(株)製クラウンボンドシリーズ(UA−28、UA−41、U−176R、RI−793、RI−623、U−113)、住友バイエルウレタン(株)製ディスパコールシリーズ(U−42、U−53、KA8481、KA8584)等を挙げることができる。   Moreover, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. Takerak W series (W-621, W-6015, W-7004, W-511, W-635, XW-76-P15, XW-74 can be used as commercially available polyurethane resins. -P6012C, ACW-31H, ACW-54HD, XW-904-X05, XW-97-W4 to polyester urethane self-emulsifying type), the same (W-310, W-512 to polyester urethane forced emulsifying type), Takeda Series containing alkoxysilyl groups (XW-77-X25, XW-75-X09, XW-74-X13, XS-72-V01, XS-72-V02, XS-72-V03, XS-72-) V04, XS-72-V05-polyester urethane self-emulsifying type), high tack series (S 8531, S-8532, S-8533, S-8530, S-8529, S-8528, S-6254, S-6262, B-1306), NeoRez series (R-960, R-) manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. 962, R-972, R-974, R-9314, R-9320, R-9617, XR-9621, XR-9624, R-9637, XR-9679, XR-9699, XR-9770 to aliphatic polyester urethane ), NeoRez series (R-966, R-967, XR-9000, AX-311, AX-7113 to aliphatic polyether urethane) manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. NeoRez series (R-940) manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. R-9030, XR-9409, R-9920, XR-7061-aromatic polyether urethane), Enomoto Kasei ( ) NeoRez series (XU-7015, R-9603-Special urethane, aliphatic polycarbonate urethane), Kanebo UESC Yodosol series (9D102, 9D205Z, 9D232Z), Toa Gosei Chemical Co., Ltd. Neotan series (UE-111, UE-1200, UE-1300, UE-1402, UE-2103, UE-2200, UE-2600, UE-2900 to polyester urethane), Neotan series (UE- manufactured by Toa Synthetic Chemical Co., Ltd.) 5404, UE-5600 to polyether urethane), Nenrange Series (R-1489, R-1780) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd., Crown Bond Series (UA-28, UA-41, U-) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. 176R, RI-793, RI-623, U-11 3), Dispacol series (U-42, U-53, KA8441, KA8584) manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd., and the like.

用いることができる親水性基を有するポリエステル樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にエステル結合の繰り返し単位を含有する高分子であり、この様なエステル結合を有する樹脂の合成方法は、例えば「ポリエステル樹脂ハンドブック」、21〜28頁に記載の方法で形成したポリエステル樹脂のプレポリマーに任意の方法で親水性基を導入し、ポリマー化すればよい。本発明に採用できる市販のポリエステル樹脂としては、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(110、120、121、193、510、610、810〜親水性基が−SO3R)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(210、620、820〜新水性基が−COOR)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(115G、124G、124GH、193G、215G、515G、615G、813GL〜親水性基が−SO3Rとグリシジル)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(124S、115S〜親水性基が−SO3RとSi(OR)3)、互応化学工業(株)製プラスコートシリーズ(Z−3402、Z−4121、Z−446、Z−461、Z−448、Z−441、Z−450、Z−710、Z−711、Z−770、Z−766〜水溶性)、互応化学工業(株)製プラスコートシリーズ(Z−820、Z−3109、Z−3308、Z−857、Z−850、Z−802、Z−856、Z−4201、RZ−27、RZ−50、RZ−56、RZ−105)、東洋紡績(株)製バイロナールシリーズ(MD−1200、MD−1200、MD−1250、MD−1100、MD−1330、MD−1930)等を挙げることができる。 The polyester resin having a hydrophilic group that can be used is a polymer having at least one of the above-mentioned hydrophilic groups and containing a repeating unit of an ester bond in the main chain, and a resin having such an ester bond. For example, a hydrophilic group may be introduced into a prepolymer of a polyester resin formed by the method described in “Polyester Resin Handbook”, pages 21 to 28, and polymerized by any method. Examples of commercially available polyester resins that can be used in the present invention include pesresin A series (110, 120, 121, 193, 510, 610, and 810--hydrophilic group is —SO 3 R) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. ) Pesresin A series (210, 620, 820-new aqueous group is -COOR), Takamatsu Oil Co., Ltd. Pesresin A series (115G, 124G, 124GH, 193G, 215G, 515G, 615G, 813GL to hydrophilic group -SO 3 R and glycidyl), Pesresin A series (124S, 115S-hydrophilic groups are -SO 3 R and Si (OR) 3 ) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd., plus coat series (Z -3402, Z-4121, Z-446, Z-461, Z-448, Z-441, Z-450, Z-710, Z-711, Z 770, Z-766 to water-soluble), plus coat series (Z-820, Z-3109, Z-3308, Z-857, Z-850, Z-802, Z-856, Z) manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd. -4201, RZ-27, RZ-50, RZ-56, RZ-105), Toyobo Co., Ltd. Bironal series (MD-1200, MD-1200, MD-1250, MD-1100, MD-1330, MD-1930).

上記感熱平版印刷版材料において、親水性樹脂は、画像形成層に10〜98質量%の範囲で含有させることが好ましい。親水性樹脂が10質量%より少ないと、親水性層の強度が不足し、また、98質量%より多いと水分散性フィラーを含有させる効果が小さく本発明の効果を発揮できない。より好ましい親水性樹脂の含有量は20〜97質量%であり、更に好ましくは30〜96質量%である。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, the hydrophilic resin is preferably contained in the image forming layer in the range of 10 to 98% by mass. When the hydrophilic resin is less than 10% by mass, the strength of the hydrophilic layer is insufficient, and when it is more than 98% by mass, the effect of containing the water-dispersible filler is small and the effect of the present invention cannot be exhibited. The content of the hydrophilic resin is more preferably 20 to 97% by mass, still more preferably 30 to 96% by mass.

上記感熱性平版印刷版材料の好ましい態様は、親水性樹脂として、ポリアクリルアミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリエステル及びポリウレタンから選ばれる少なくとも1種を主成分として用いた態様である。ここで、主成分とは、親水性樹脂の総質量の50%以上含有することをいい、より好ましい態様は、親水性樹脂の総質量の70%以上含有することである。上記において、親水性樹脂は、同種の親水性樹脂を1種又は2種以上使用してもよく、また、異種の親水性樹脂を2種以上併用して使用してもよい。   A preferred embodiment of the heat-sensitive lithographic printing plate material is an embodiment in which at least one selected from polyacrylamide, gelatin, polyvinyl alcohol, polyester and polyurethane is used as a main component as the hydrophilic resin. Here, a main component means containing 50% or more of the total mass of hydrophilic resin, and a more preferable aspect is containing 70% or more of the total mass of hydrophilic resin. In the above, as the hydrophilic resin, one type or two or more types of hydrophilic resins may be used, or two or more types of hydrophilic resins may be used in combination.

上記感熱性平版印刷版材料において、画像形成層に含有させる水分散性フィラーとして、有機系又は無機系の微粒子を使用することができる。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, organic or inorganic fine particles can be used as the water-dispersible filler to be contained in the image forming layer.

有機系微粒子としては、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系ポリマーの微粒子、スチレン系ポリマーの微粒子、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系ポリマーの微粒子、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系ポリマーの微粒子、その他のラジカル重合系ポリマーの微粒子、ポリエステル、ポリカーボネートなど縮合ポリマーの微粒子などが挙げられる。   Organic fine particles include fine particles of acrylic polymer such as polymethyl methacrylate (PMMA), fine particles of styrene polymer, fine particles of olefin polymer such as polyethylene and polypropylene, fine particles of fluorine polymer such as polytetrafluoroethylene, and others. And radical polymerization polymer fine particles, and condensation polymer fine particles such as polyester and polycarbonate.

上記のような有機系微粒子の製造方法としては、どのような方法も採用できるが、例えば(A)乳化重合、ソープフリー重合、分散重合のように重合中に粒子を成長させる方法、(B)懸濁重合、ノズル振動法、膨潤シード重合、二段膨潤重合のように液滴がそのまま重合する方法を用いることができる。上記(A)や(B)のような分散媒中で重合を行い微粒子を得る方法の他にも、ポリマーを富溶媒に、必要があれば、加熱下で溶解した後、貧溶媒を添加するとか、冷却するとかしてポリマーを析出させ、微粒子を得る方法(析出時に剪断力を掛けることにより微粒子を得易い)、ポリマーをサンドミル、ボールミルのような分散手段により溶媒中で粉砕、分散して微粒子を得る方法、ポリマーをドライ状態で粉砕し、分級工程を通すことにより微粒子を得る方法によって得ることができる。   As a method for producing the organic fine particles as described above, any method can be adopted. For example, (A) a method of growing particles during polymerization, such as emulsion polymerization, soap-free polymerization, and dispersion polymerization, (B) A method in which droplets are polymerized as they are, such as suspension polymerization, nozzle vibration method, swelling seed polymerization, and two-stage swelling polymerization, can be used. In addition to the method of obtaining fine particles by polymerizing in a dispersion medium such as (A) or (B) above, a poor solvent is added after dissolving the polymer in a rich solvent, if necessary, under heating. Or by cooling to deposit the polymer to obtain fine particles (a fine particle can be easily obtained by applying a shearing force during precipitation), and the polymer is pulverized and dispersed in a solvent by a dispersing means such as a sand mill or a ball mill. Can be obtained by a method of obtaining fine particles by pulverizing a polymer in a dry state and passing through a classification step.

無機系微粒子としては、アルギン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ(酸化珪素)、ジルコン系等の微粒子を挙げることができる。   Examples of the inorganic fine particles include calcium alginate, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silica (silicon oxide), and zircon fine particles.

無機系微粒子の製造方法としては、どのような方法も採用できるが、例えば、塊状の原料を細分化していく、ブレークダウン法、分子乃至は微粒を集合していくビルドアップ法が挙げられる。   As a method for producing the inorganic fine particles, any method can be adopted, and examples thereof include a breakdown method in which a bulk material is subdivided and a buildup method in which molecules or fine particles are aggregated.

ブレークダウン法としては、ジェットミル、攪拌ミル、ボールミル、ローラーミル、スタンプミル、高速回転ミル等を用いた粉砕法、更にこれらの方法で粉砕する事により形成される活性部に第二成分を導入することにより表面改質を行う方法等も好適に使用される。このような方法は、「微粒子ハンドブック」(朝倉書店)p.234〜235に記載されている。また、各種溶媒に溶解/分散させ微粒子化した後、溶剤を蒸発/乾燥し作製する方法等を利用できる。   Breakdown methods include jet mills, stirring mills, ball mills, roller mills, stamp mills, high speed rotary mills, etc., and the introduction of the second component into the active part formed by grinding using these methods. A method of performing surface modification by doing so is also preferably used. Such a method is described in “Particle Handbook” (Asakura Shoten) p. 234-235. Moreover, after dissolving / dispersing in various solvents to form fine particles, a method of evaporating / drying the solvent can be used.

ビルドアップ法としては、ガス中蒸発法・スパッタ法・アークプラズマ蒸発法・レーザー蒸着法・高周波プラズマ蒸着法等の蒸発凝集を利用した方法、熱CVD法・プラズマCVD法・レーザーCVD法等のCVDを利用した粒子形成法等「微粒子ハンドブック」(朝倉書店)226〜320頁に記載された各種方法で作製することができる。   As build-up methods, gas evaporation methods, sputtering methods, arc plasma evaporation methods, laser vapor deposition methods, high frequency plasma vapor deposition methods, and other methods using evaporation aggregation, thermal CVD methods, plasma CVD methods, laser CVD methods, etc. It can be prepared by various methods described in “Fine Particle Handbook” (Asakura Shoten), pp.

これらの中で特に好ましい物理的及び/又は化学的に濡れ性を向上させる水分散性フィラーは、シリカ、アルミナ、ポリテトラフルオロエチレン、アクリル樹脂、酸化マグネシウム及びアルギン酸カルシウムから実質的になる微粒子であり(ここで、「実質的になる」とは本発明の効果を阻害しない範囲でその他の物質を含有してもよいことを意味する)、最も好ましくは、シリカの微粒子及びアクリル樹脂の微粒子である。   Among these, a water-dispersible filler that improves physical and / or chemical wettability is a fine particle substantially composed of silica, alumina, polytetrafluoroethylene, acrylic resin, magnesium oxide, and calcium alginate. (Here, “substantially” means that other substances may be contained within a range that does not impair the effects of the present invention), and most preferably silica fine particles and acrylic resin fine particles. .

シリカの微粒子は、主として画像形成層の表面の化学的濡れ性を強化する役割を果たしており、上記の方法で作製された粒子を好適に使用できる。中でも粉砕法で作製したシリカは表面活性が高く、高親水性を発現する上で好ましい。また粒子の粒度分布を狭める目的で分級等の処理を行うことは、更に物理的濡れ性を向上させる観点からも好ましい方法である。   The silica fine particles mainly play a role of enhancing the chemical wettability of the surface of the image forming layer, and the particles produced by the above method can be suitably used. Among these, silica produced by a pulverization method has high surface activity and is preferable in terms of expressing high hydrophilicity. In addition, performing a treatment such as classification for the purpose of narrowing the particle size distribution of the particles is a preferable method from the viewpoint of further improving the physical wettability.

シリカ粒子の形状としては、多孔質形状を有するシリカ粒子が好ましく、シリカ粒子の細孔容積は0.5ml/g以上を有することが好ましい。中でも1.0ml/g以上が更に好ましく、1.5ml/g以上が特に好ましい。   As the shape of the silica particles, silica particles having a porous shape are preferable, and the pore volume of the silica particles is preferably 0.5 ml / g or more. Among these, 1.0 ml / g or more is more preferable, and 1.5 ml / g or more is particularly preferable.

表面活性の高いシリカ粒子は親水性層塗設用の塗布液の安定性を損なうこともあり、また該塗布液中、乾燥過程での2次凝集防止等による好ましい形状形成の観点等からもシリカ粒子の表面を改質することは好ましい態様である。具体的には、シリカ粒子の表面が親水性樹脂による処理、無機処理及び/又は有機処理を施されたものであることが好ましい。上記「親水性樹脂による処理、無機処理及び/又は有機処理」は公知であり、以下のような表面処理をシリカ粒子の表面に施すことである。   Silica particles having a high surface activity may impair the stability of the coating solution for coating the hydrophilic layer, and also from the viewpoint of forming a preferable shape by preventing secondary aggregation during the drying process in the coating solution. It is a preferred embodiment to modify the surface of the particles. Specifically, it is preferable that the surface of the silica particles has been subjected to treatment with a hydrophilic resin, inorganic treatment and / or organic treatment. The above-mentioned “treatment with a hydrophilic resin, inorganic treatment and / or organic treatment” is known, and the following surface treatment is performed on the surface of the silica particles.

一例を挙げると、界面活性剤、高分子、ワックス、無機物等を粒子表面に含浸コーティングする方法、表面活性基等とのラジカル反応、キレート反応、カップリング反応、ゾル吸着等を利用したトポケミカルな改質方法、粉砕活性面との有機物のグラフト反応・無機物の吸着反応等を利用したメカノケミカルな改質方法等が挙げられる。   For example, a method of impregnating the surface of particles with a surfactant, polymer, wax, inorganic substance, etc., radical reaction with surface active groups, chelate reaction, coupling reaction, topochemical modification using sol adsorption, etc. And a mechanochemical reforming method using an organic material graft reaction with the pulverized active surface, an inorganic adsorption reaction, and the like.

このような表面処理されたシリカ粒子としては例えば、レオロシールMT10,QS10,QS102,QS30(以上、徳山曹達(株)製)、サイロイド83,378,161,162C,ED41,ED20,ED30,ED40,ED44,ED50,ED52,ED56,ED80,7000(以上、グレースジャパン(株)製)、サイリシア256,256N,358,435,445,436,446,456(以上、富士シリシア化学(株)製)等を挙げることができる。   Examples of such surface-treated silica particles include Leolosil MT10, QS10, QS102, QS30 (manufactured by Tokuyama Soda Co., Ltd.), Cyloid 83, 378, 161, 162C, ED41, ED20, ED30, ED40, ED44. , ED50, ED52, ED56, ED80, 7000 (above, manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Silicia 256, 256N, 358, 435, 445, 436, 446, 456 (above, manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.), etc. Can be mentioned.

アクリル樹脂の微粒子は、画像形成層の表面の主に物理的濡れ性を強化する役割を果たしており、従来公知の物を特に制限なく使用できる。該アクリル樹脂は、以下のモノマーを上記のような方法で共重合させて得ることができる。
(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えば、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド等。
(3)アミノスルホニル基を有するモノマー、例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アアミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
(4)スルホンアミド基を有するモノマー、例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等。
(5)α,β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等。
(6)置換又は無置換のアルキルアクリレート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
(7)置換又は無置換のアルキルメタクリレート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
(8)アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
(9)フッ化アルキル基を含有するモノマー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート等。
(10)シアノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート等。
(11)アミノ基を有するモノマー、例えばN,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等。
The fine particles of the acrylic resin mainly play a role of enhancing the physical wettability of the surface of the image forming layer, and conventionally known materials can be used without any particular limitation. The acrylic resin can be obtained by copolymerizing the following monomers by the method as described above.
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group, such as o-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate and the like.
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxy Pentyl methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide and the like.
(3) Monomer having an aminosulfonyl group, such as m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminophenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide N- (p-aaminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
(4) Monomers having a sulfonamide group, such as N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
(5) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid.
(6) Substituted or unsubstituted alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic Acid decyl, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like.
(7) substituted or unsubstituted alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, methacryl Decyl, undecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
(8) Acrylamide or methacrylamide, for example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
(9) Monomers containing fluorinated alkyl groups, such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, etc. .
(10) Monomers having a cyano group, such as acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate and the like.
(11) Monomers having an amino group, such as N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate and the like.

上記感熱性平版印刷版材料に好ましく使用される水分散性フィラーは、化学的濡れ性を強化する点から、親水性樹脂との分散安定性及び高親水性を与える物が好ましく、具体的には極性基を有するモノマーユニットを有する物がより好ましい。本発明に好ましい極性基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、スルフォン酸基、燐酸基等を挙げることができ、これらの導入比としては、0〜70%の範囲で使用することが好ましい。   The water-dispersible filler that is preferably used for the heat-sensitive lithographic printing plate material is preferably a material that imparts dispersion stability and high hydrophilicity with a hydrophilic resin in terms of enhancing chemical wettability. The thing which has the monomer unit which has a polar group is more preferable. Preferred polar groups for the present invention include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and the like, and the introduction ratio thereof is in the range of 0 to 70%. Is preferred.

上記感熱性平版印刷版材料において、画像形成層に含有させるフィラーは、平均粒径が0.2〜10μmの範囲である。ここで、該平均粒径はJIS K−1150による測定値である。親水性層が含有するフィラーの平均粒径が0.2μm未満では親水性が十分でなく、10μmを越えると耐刷性が低下する。水分散性フィラーの平均粒径は、好ましくは0.6〜7μmである。このような平均粒径の水分散性フィラーを画像形成層に含有させることにより、支持体としての強度を向上し、高い親水性を得ることができる。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, the filler contained in the image forming layer has an average particle size in the range of 0.2 to 10 μm. Here, the average particle diameter is a value measured according to JIS K-1150. When the average particle size of the filler contained in the hydrophilic layer is less than 0.2 μm, the hydrophilicity is not sufficient, and when it exceeds 10 μm, the printing durability is lowered. The average particle diameter of the water dispersible filler is preferably 0.6 to 7 μm. By including the water-dispersible filler having such an average particle diameter in the image forming layer, the strength as a support can be improved and high hydrophilicity can be obtained.

水分散性フィラーは同種の水分散性フィラーを使用してもよく、また異種の水分散性フィラーを2種以上混合して使用してもよい。表面形状制御の観点から、同種の水分散性フィラーで粒径の異なる物を組み合わせて使用する態様及びシリカとPMMA粒子を化学的濡れ性と物理的濡れ性のバランスを良化する目的で併用することは好ましい態様である。   As the water-dispersible filler, the same kind of water-dispersible filler may be used, or two or more kinds of different water-dispersible fillers may be mixed and used. From the viewpoint of surface shape control, the same type of water-dispersible fillers with different particle sizes are used in combination, and silica and PMMA particles are used together for the purpose of improving the balance between chemical wettability and physical wettability. This is a preferred embodiment.

また、無機系超微粒子(粒径が100nm以下の粒子)も上記感熱性平版印刷版材料の水分散性フィラーの平均粒径に関する条件を満足するならば用いることができる。このような無機系超微粒子として、例えば、シリカ(コロイダルシリカ)、アルミナ或いはアルミナ水和物(アルミナゾル、コロイダルアルミナ、カチオン性アルミニウム酸化物又はその水和物、疑ベーマイト等)、表面処理カチオン性コロイダルシリカ、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、合成非晶質シリカ、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、水酸化マグネシウム、合成雲母等が挙げられる。無機微粒子の中では多孔性無機微粒子が好ましく、多孔性無機微粒子としては、多孔性合成非晶質シリカ、多孔性炭酸カルシウム、多孔性アルミナ等が挙げられ、特に、細孔容積の大きい多孔性合成非晶質シリカが好ましい。   Inorganic ultrafine particles (particles having a particle size of 100 nm or less) can also be used as long as the conditions regarding the average particle size of the water-dispersible filler of the heat-sensitive lithographic printing plate material are satisfied. Examples of such inorganic ultrafine particles include silica (colloidal silica), alumina, or alumina hydrate (alumina sol, colloidal alumina, cationic aluminum oxide or hydrate, suspicious boehmite, etc.), surface-treated cationic colloidal. Silica, aluminum silicate, magnesium silicate, magnesium carbonate, titanium dioxide, zinc oxide, light calcium carbonate, heavy calcium carbonate, kaolin, talc, calcium sulfate, barium sulfate, titanium dioxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc carbonate, satin white , Aluminum silicate, diatomaceous earth, calcium silicate, synthetic amorphous silica, aluminum hydroxide, lithopone, zeolite, hydrous halloysite, magnesium hydroxide, synthetic mica and the like. Among the inorganic fine particles, porous inorganic fine particles are preferable, and examples of the porous inorganic fine particles include porous synthetic amorphous silica, porous calcium carbonate, porous alumina and the like. Amorphous silica is preferred.

また、上記無機超微粒子と同様に、スチレン系樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フッ素系樹脂などの超微粒子を使用することができる。   Similarly to the inorganic ultrafine particles, ultrafine particles such as styrene resin, acrylic resin, polyethylene, microcapsule, urea resin, urethane resin, polyester resin, melamine resin, and fluorine resin can be used.

無機系超微粒子の一次粒子径は100nm以下、好ましくは50nm以下である。粒子径が微小であればある程、表面被覆が均一となり好ましい。これらの無機系超微粒子は、通常、溶媒中に一次粒子径を維持した状態でコロイド状に分散して使用する。   The primary particle diameter of the inorganic ultrafine particles is 100 nm or less, preferably 50 nm or less. The smaller the particle diameter, the more preferable the surface coating becomes. These inorganic ultrafine particles are usually used after being dispersed in a colloidal form while maintaining a primary particle size in a solvent.

次に、上記感熱性平版印刷版材料の画像形成層に含有させる熱により疎水性を発生させる化合物について説明する。   Next, the compound that generates hydrophobicity by heat contained in the image forming layer of the heat-sensitive lithographic printing plate material will be described.

上記感熱性平版印刷版材料において、熱により親水性が低下する画像形成層とするためには、少なくとも上述の親水性樹脂及び水分散性フィラーに加えて、熱により疎水性を生じる化合物(以下「疎水性発生化合物」という)を含有させることが必要である。このような化合物としては、従来公知のものを特に制限なく使用でき、例えば、ワックス分散物、熱可塑性樹脂粒子、低分子疎水性物質、撥水剤、架橋性粒子等が挙げられる。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, in order to obtain an image forming layer whose hydrophilicity is lowered by heat, in addition to at least the above-mentioned hydrophilic resin and water-dispersible filler, a compound that generates hydrophobicity by heat (hereinafter referred to as “ It is necessary to contain a "hydrophobic generating compound". As such a compound, conventionally known compounds can be used without particular limitation, and examples thereof include wax dispersions, thermoplastic resin particles, low-molecular hydrophobic substances, water repellents, and crosslinkable particles.

ワックス分散物としては、カルナバ蝋、木蝋、オウリキュリー蝋、エスパル蝋等の植物系物質;蜜蝋、昆虫蝋、セラック、鯨油等の動物系物質;パラフィンワックス、マイクロクリスタルワックス、ポリエチレンワックス、アミドワックス、エステルワックス等の石油蝋;並びにモンタン蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱物系物質を挙げることができる。また、特開昭59−174394号公報記載のワックス類を使用することができる。   Examples of wax dispersions include plant materials such as carnauba wax, wood wax, aucuric wax, and espal wax; animal materials such as beeswax, insect wax, shellac, and whale oil; paraffin wax, microcrystal wax, polyethylene wax, amide wax, Examples thereof include petroleum waxes such as ester waxes, and mineral substances such as montan wax, ozokerite, and ceresin. Also, waxes described in JP-A-59-174394 can be used.

熱可塑性樹脂粒子としては、エチレン系共重合体、スチレン系共重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルカルバゾール系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類;天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマー類;エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂、水添ロジン等のロジン誘導体;並びにフェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂等の粒子を挙げることができる。また、特開平9−127683号公報の段落番号0023〜0025に記載の自己水分散性樹脂粒子を使用することができる。更に、特公昭63−42593号公報の2頁4欄10行〜3頁5欄21行に記載のアイオノマー樹脂も好ましい。   Thermoplastic resin particles include ethylene copolymers, styrene copolymers, polyamide resins, polyester resins, polyurethane resins, polyolefin resins, acrylic resins, vinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, Polyvinylcarbazole resin, cellulose resin, rosin resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, ionomer resin, petroleum resin, etc .; natural rubber, styrene butadiene rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, diene copolymer Elastomers such as ester gum, rosin maleic acid resin, rosin phenol resin, hydrogenated rosin and other rosin derivatives; and particles such as phenol resin, terpene resin, cyclopentadiene resin, and aromatic hydrocarbon resin. . Moreover, the self-water dispersible resin particles described in paragraph Nos. 0023 to 0025 of JP-A-9-127683 can be used. Further, ionomer resins described in JP-B 63-42593, page 2, column 4, line 10 to page 3, column 5, line 21 are also preferred.

低分子疎水性物質としては、テルピネオール、メントール、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等のアルコール類;アセトアミド、ベンズアミド等のアミド類;クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステル類;ジフェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類;カンファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類;バニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類;ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類;パルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸、ベヘン酸等の高級脂肪酸;パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアルコール、ミリシルアルコール、エイコサノール等の高級アルコール;パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリシル、ステアリン酸セチル、ステアリン酸ミリシル等の高級脂肪酸エステル;アセトアミド、プロピオン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アミドワックス等のアミド類;並びにステアリルアミン、ベヘニルアミン、パルミチルアミン等の高級アミン類;フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和或いは不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステアリン酸エポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類等が挙げられる。   Low molecular weight hydrophobic substances include terpineol, menthol, 1,4-cyclohexanediol, phenol and other alcohols; acetamides, benzamides and other amides; coumarins, benzyl cinnamate and other esters; diphenyl ethers, crown ethers and other ethers Ketones such as camphor and p-methylacetophenone; aldehydes such as vanillin and dimethoxybenzaldehyde; hydrocarbons such as norbornene and stilbene; higher fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, margaric acid and behenic acid; palmitic alcohol , Higher alcohols such as stearyl alcohol, behenyl alcohol, marganyl alcohol, myricyl alcohol, eicosanol; cetyl palmitate, myricyl palmitate, cetyl stearate, stearyl Higher fatty acid esters such as myricyl acid; amides such as acetamide, propionic acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, amide wax; and higher amines such as stearylamine, behenylamine, palmitylamine; phthalic acid esters, Trimellitic acid esters, adipic acid esters, other saturated or unsaturated carboxylic acid esters, oxalic acid esters, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, stearic acid epoxies, orthophosphoric acid esters, phosphorous acid ester And glycol esters.

撥水剤としては、従来公知のシリコーン化合物、フッ素化合物等を好適に利用することが可能であり、この様な素材としては、シリコーン系界面活性剤、例えば、シルウェットL720、FZ2122、FZ2120、FZ2166、FZ2171(日本ユニカー(株)製)等、更にはシランカップリング剤、例えば不飽和基を含む、カルボキシル基、メルカプト基、イソシア基、アミノ基含有カップリング剤のカップリング剤等が挙げられる。フッ素系撥水剤として、例えばフッ素系界面活性剤(フルオロ脂肪族基を含むアクリレート、メタクリレート及び(ポリオキシアルキレン)アクリレート又は(ポリオキシアルキレン)メタクリレートの共重合体)、特開昭62−170950号、特開昭62−226143号、米国特許第3787351の各公報記載のもの等が挙げられる。例えば、メガファックF−171,173,177,179,142D、ディフェンサMCF300,312,313(大日本インキ化学工業株式会社製)、モディパーF−100,102,110(日本油脂株式会社製)、更に、特開昭64−18142号記載の含フッ素アクリル系樹脂等、特公平6−105351号、特公平8−3630号、特開平3−172849号記載のフッ素系界面活性剤、特開平1−260055号、特開平1−271478号、特開平4−63802号記載の化合物等を好ましく使用することができる。   As the water repellent, conventionally known silicone compounds, fluorine compounds, and the like can be suitably used. As such materials, silicone surfactants such as Silwet L720, FZ2122, FZ2120, and FZ2166 can be used. FZ2171 (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and the like, and further silane coupling agents such as coupling agents containing unsaturated groups such as carboxyl groups, mercapto groups, isocyanic groups and amino group-containing coupling agents. Examples of fluorine-based water repellents include fluorine-based surfactants (acrylates, methacrylates and copolymers of (polyoxyalkylene) acrylates or (polyoxyalkylene) methacrylates containing fluoroaliphatic groups), JP-A-62-170950. And those described in JP-A-62-226143 and US Pat. No. 3,787,351. For example, MegaFuck F-171, 173, 177, 179, 142D, Defenser MCF300, 312, 313 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Modiper F-100, 102, 110 (Nippon Yushi Co., Ltd.), Fluorinated acrylic resins described in JP-A No. 64-18142, fluorine-containing surfactants described in JP-B-6-105351, JP-B-8-3630, JP-A-3-17249, and JP-A-1-260055. And compounds described in JP-A-1-271478 and JP-A-4-63802 can be preferably used.

また、この様な素材の中で特に好ましい物は、常温/水系液中で分散状態を形成できる親水性を有するフッ素含有オリゴマーが好ましく具体的な製品としてはアサヒガードAG422,428,490,530,550,710,780,880,970,LS317(旭硝子株式会社製)、TKガード505(高松油脂株式会社製)、ディックガードF−52S,F−70,F18,F−90,F−90N,FS−90H(大日本インキ株式会社製)などを挙げることができる。これらの中でもパーフルオロアルキル基の側鎖が炭素数5〜15の物が好ましく、6〜12の物が特に好ましい。   Further, among these materials, a particularly preferred product is a fluorine-containing oligomer having hydrophilicity capable of forming a dispersed state in a room temperature / aqueous liquid. As specific products, Asahi Guard AG422, 428, 490, 530, 550, 710, 780, 880, 970, LS317 (Asahi Glass Co., Ltd.), TK guard 505 (Takamatsu Yushi Co., Ltd.), Dick Guard F-52S, F-70, F18, F-90, F-90N, FS -90H (Dainippon Ink Co., Ltd.) etc. can be mentioned. Among these, those having a perfluoroalkyl group having a side chain of 5 to 15 carbon atoms are preferred, and those having 6 to 12 carbon atoms are particularly preferred.

架橋性粒子としては、従来公知の水可溶性・水分散性の自己架橋剤が好適に使用できる。このような物としては、メチロール基含有化合物、メラミン基含有化合物、エポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物及び熱・触媒存在下で保護基等を脱離する事により、上記の基を放出する化合物等が好適に使用できる。具体的には、「架橋剤ハンドブック」大成社(山下晋三、金子東助編)記載の化合物が好適に使用できる。触媒としては、上述の反応促進剤を好適に使用でき、特にこれらの中でも露光エネルギー(熱又は光)により触媒効果を発揮する様な化合物を非常に好適に使用できる。   As the crosslinkable particles, conventionally known water-soluble and water-dispersible self-crosslinking agents can be preferably used. Examples of such compounds include a methylol group-containing compound, a melamine group-containing compound, an epoxy group-containing compound, an isocyanate group-containing compound, and a compound that releases the above-described group by removing a protecting group in the presence of heat or a catalyst. Etc. can be used suitably. Specifically, the compounds described in “Crosslinking Agent Handbook” Taiseisha (Shinzo Yamashita, Tosuke Kaneko) can be suitably used. As the catalyst, the above-mentioned reaction accelerator can be preferably used, and among these, a compound that exhibits a catalytic effect by exposure energy (heat or light) can be particularly preferably used.

疎水性発生化合物は1種で又は2種以上混合して使用することができる。疎水性発生化合物中で特に好ましいのは、ワックス分散物、熱可塑性樹脂粒子及び架橋性粒子である。疎水性発生化合物は画像形成層に0.5〜90質量%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜70質量%の範囲で使用することである。   The hydrophobicity-generating compound can be used alone or in combination of two or more. Particularly preferred among the hydrophobic generating compounds are wax dispersions, thermoplastic resin particles and crosslinkable particles. The hydrophobicity-generating compound is preferably used in the image forming layer in the range of 0.5 to 90% by mass, and more preferably in the range of 1 to 70% by mass.

更に、疎水性発生化合物をマイクロカプセル等に封入し画像様に析出させる方法、画像形成層を機能分離し、下層に疎水性物質を含有する層、上層に親水性樹脂を主成分とする層のように設計して使用することも可能である。   In addition, a method of encapsulating a hydrophobicity-generating compound in microcapsules or the like and depositing it in an image-like manner, functionally separating the image-forming layer, a layer containing a hydrophobic substance in the lower layer, and a layer containing a hydrophilic resin as the main component in the upper layer It can also be designed and used.

上記マイクロカプセルにおいて、その壁材、内包物及び製造方法については特開昭64−90788号公報の2頁右下欄18行から5頁右下欄13行に記載のもの、或いは特開平5−169801号公報7頁に記載のものを用いることができる。   In the above microcapsules, the wall material, inclusions and production method thereof are described in JP-A 64-90788, page 2, lower right column, line 18 to page 5, lower right column, line 13; No. 169801, page 7, can be used.

上記感熱性平版印刷版材料において、疎水性発生化合物として親水性樹脂を架橋することができる架橋剤を使用することができる。架橋剤として従来公知の架橋剤を広く利用でき、例えば、アミノ樹脂、アジリジン系化合物、アミン系化合物、アルデヒド類、イソシアネート化合物、カルボン酸又は酸無水物、ハロゲン化物、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、2つ若しくはそれ以上のエポキシ基を有する化合物が挙げられる。架橋剤は低分子量化合物であってもよく、またオリゴマー若しくは重合体であってもよい。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, a crosslinking agent capable of crosslinking a hydrophilic resin can be used as the hydrophobic generating compound. Conventionally known crosslinking agents can be widely used as crosslinking agents, such as amino resins, aziridine compounds, amine compounds, aldehydes, isocyanate compounds, carboxylic acids or acid anhydrides, halides, phenol-formaldehyde resins, two or The compound which has the epoxy group beyond it is mentioned. The crosslinking agent may be a low molecular weight compound, and may be an oligomer or a polymer.

アミノ樹脂としては、例えば、メラミン、ベンゾグアナミン、尿素等をアルデヒド類やケトン類と反応させた樹脂、具体的には、例えば、メラミン−ホルムアルデヒド系樹脂、尿素−ホルムアルデヒド系樹脂、メチロール化メラミン等が挙げられる。これらアミノ樹脂は、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。   Examples of amino resins include resins obtained by reacting melamine, benzoguanamine, urea and the like with aldehydes and ketones, and specific examples include melamine-formaldehyde resins, urea-formaldehyde resins, methylolated melamine, and the like. It is done. These amino resins are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group and the like.

ハロゲン化物としては、例えば、米国特許第3,325,287号明細書、同第3,288,775号明細書、同第3,549,377号明細書、ベルギー特許第6,622,226号明細書に記載のジクロロトリアジン系化合等が挙げられれる。これらハロゲン化物は、水酸基、アミノ基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。   Examples of the halide include, for example, U.S. Pat. Nos. 3,325,287, 3,288,775, 3,549,377, and Belgian Patent 6,622,226. Examples include dichlorotriazine-based compounds described in the specification. These halides are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, an amino group or the like.

アミン系化合物及びアジリジン系化合物としては、例えば、米国特許第3,392,024号明細書に記載のアジリジン系化合物、米国特許第3,549,378号明細書等に記載のエチレンイミン系化合物及び下記の化合物が挙げられる。   Examples of the amine compound and the aziridine compound include an aziridine compound described in US Pat. No. 3,392,024, an ethyleneimine compound described in US Pat. No. 3,549,378, and the like. The following compounds are mentioned.

Figure 2006224677
Figure 2006224677

Figure 2006224677
Figure 2006224677

これらアミン系化合物及びアジリジン系化合物は、水酸基、カルボキシル基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。   These amine compounds and aziridine compounds are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, a carboxyl group or the like.

イソシアネート化合物には、保護基を有すイソシアネート(ブロックド−イソシアネート)も含まれる。これらイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート、ビシクロヘプタンジイソシアネートが挙げられる。これらイソシアネート化合物は、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、アミノ基等を有する親水性樹脂に対し有効である。   The isocyanate compound also includes an isocyanate having a protecting group (blocked-isocyanate). Examples of these isocyanate compounds include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, Examples include isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane diisocyanate, and bicycloheptane diisocyanate. These isocyanate compounds are effective for hydrophilic resins having a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an amino group, and the like.

アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、米国特許第3,291,624号明細書、同第3,232,764号明細書、フランス特許第1,543,694号明細書、英国特許第1,270,578号明細書に記載のジアルデヒド類が挙げられる。これらアルデヒド類は、水酸基を有する親水性樹脂に対し有効である。   Examples of the aldehydes include formaldehyde, glyoxal, US Pat. Nos. 3,291,624, 3,232,764, French Patent 1,543,694, British Patent 1 , 270, 578 specification. These aldehydes are effective for hydrophilic resins having a hydroxyl group.

これらの中で好ましくは、アミノ樹脂、アジリジン系化合物、アルデヒド類及びイソシアネート化合物類である。   Among these, amino resins, aziridine compounds, aldehydes and isocyanate compounds are preferable.

一例として親水性樹脂としてゼラチンを用いた場合、架橋剤としては、例えば、クロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビス−(ビニルスルホニル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキシムコクロル酸等)、イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン、イソシアネート類、カルボキシル基活性型架橋剤等を、単独又は組み合わせて用いることができる。   As an example, when gelatin is used as the hydrophilic resin, examples of the crosslinking agent include chromium salts (chromium alum, chromium acetate, etc.), aldehydes (formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylol urea, Methyloldimethylhydantoin), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine, bis- (vinylsulfonyl) methyl ether, N, N ' -Methylenebis- [β- (vinylsulfonyl) propionamide] etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine etc.), mucohalogen acids (mucochloric acid, phenoxymucochloric acid etc.), Isoxazoles, dials Hydrate starch, 2-chloro-6-hydroxy-triazinyl gelatin, isocyanates, carboxyl groups activated crosslinking agent may be used singly or in combination.

親水性樹脂を架橋する架橋剤は、画像形成層に0〜40質量%の範囲で使用される。好ましくは、1〜30%の範囲での使用であり、特に好ましくは、2〜20%の使用である。架橋剤は、同種の架橋剤を1種又は2種以上使用してもよく、また、異種の架橋剤を2種以上併用して使用してもよい。   The crosslinking agent for crosslinking the hydrophilic resin is used in the range of 0 to 40% by mass in the image forming layer. The use is preferably in the range of 1 to 30%, particularly preferably 2 to 20%. As the crosslinking agent, one kind or two or more kinds of the same kind of crosslinking agents may be used, or two or more kinds of different kinds of crosslinking agents may be used in combination.

更に架橋剤と親水性樹脂との反応を高効率に反応させるために反応促進剤を添加し使用することも好ましい。反応促進剤は、架橋結合反応を促進させ、従って、高い印刷耐性を得るために必要な高水準の架橋結合を保ちながら全体的な版製造時間を短縮することができる。このような反応促進剤としては公知の反応促進剤を用いることができ、例えば、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、チオシアン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム等のアンモニウム塩系化合物、ジメチルアニリン塩酸塩、ピリジン塩酸塩、ピコリンモノクロール酢酸、カタリストAC(モンサント社製)、キャタニットA(日東化学社製)、スミライザーACX−P(住友化学社製)等の有機アミン塩系化合物、塩化第二スズ、塩化第二鉄、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸亜鉛等の無機塩系化合物を挙げることができる。   Furthermore, it is also preferable to add and use a reaction accelerator in order to react the cross-linking agent and the hydrophilic resin with high efficiency. The reaction accelerator promotes the cross-linking reaction and thus can reduce the overall plate production time while maintaining the high level of cross-linking required to obtain high printing resistance. As such a reaction accelerator, a known reaction accelerator can be used. For example, ammonium chloride, ammonium acetate, ammonium sulfate, ammonium nitrate, ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, ammonium thiocyanate, ammonium sulfamate, etc. Organic compounds such as ammonium salt compounds, dimethylaniline hydrochloride, pyridine hydrochloride, picoline monochloroacetic acid, catalyst AC (manufactured by Monsanto Co., Ltd.), catanite A (manufactured by Nitto Chemical Co., Ltd.), and Sumilizer ACX-P (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Examples thereof include inorganic salt compounds such as amine salt compounds, stannic chloride, ferric chloride, magnesium chloride, zinc chloride, and zinc sulfate.

また、反応促進剤の前駆体を使用することも有利である。反応促進剤の前駆体は、加熱時に反応促進剤に転換し、画像通りに反応促進剤が形成される。反応促進剤の適当な前駆体は、例えば、加熱時に酸を放出する前駆体である。これら前駆体としては、例えば、英国特許第612,065号明細書、欧州特許第615233号明細書、米国特許第5,326,677号明細書に開示されているスルホニウム化合物、特に、ベンジルスルホニウム化合物、欧州特許第462,763号明細書、WO81/1755号公報、米国特許第4,370,401号明細書に開示されている無機硝酸塩(例えば、Mg(NO32・6H2O、硝酸アンモニウム)、有機硝酸塩(例えば、硝酸グアニジニウム、硝酸ピリジニウム)など、米国特許第5,312,721号明細書に開示されているスルホン酸を放出する化合物、例えば、3−スルホレン類、例えば、2,5−ジヒドロチオ−チオフェン−1,1−ジオキシド類、英国特許第1,204,495号明細書に開示されている熱分解性化合物、米国特許第3,669,747号明細書に開示されてアミンと揮発性有機酸との共結晶性付加物、米国特許第3,166,583号明細書に開示されているアラルキルシアノホルム類、欧州特許第159,725号明細書及び西独特許第351,576号明細書に開示されているサーモ・アシッド、米国特許第5,278,031号明細書に開示されているスクエア酸発生化合物、米国特許第5,225,314号明細書、米国特許第5,227,277号明細書及び1973年11月のリサーチ・ディスクロージャーNo.11511に開示されている酸発生化合物が挙げられる。 It is also advantageous to use reaction accelerator precursors. The precursor of the reaction accelerator is converted into a reaction accelerator upon heating, and the reaction accelerator is formed as shown in the image. Suitable precursors for reaction accelerators are, for example, precursors that release acid upon heating. Examples of these precursors include sulfonium compounds disclosed in British Patent No. 612,065, European Patent No. 615233, and US Pat. No. 5,326,677, in particular, benzylsulfonium compounds. Inorganic nitrates (for example, Mg (NO 3 ) 2 .6H 2 O, ammonium nitrate disclosed in European Patent No. 462,763, WO81 / 1755, US Pat. No. 4,370,401) ), Organic nitrates (eg, guanidinium nitrate, pyridinium nitrate) and the like, compounds that release sulfonic acids disclosed in US Pat. No. 5,312,721, such as 3-sulfolenes, such as 2,5 -Dihydrothio-thiophene-1,1-dioxides, disclosed in British Patent 1,204,495 Thermally decomposable compounds, disclosed in US Pat. No. 3,669,747 and co-crystallized adducts of amines and volatile organic acids, disclosed in US Pat. No. 3,166,583 Aralkylcyanoforms, Thermo Acid disclosed in European Patent No. 159,725 and West German Patent No. 351,576, Square disclosed in US Pat. No. 5,278,031 Acid generating compounds, U.S. Pat. No. 5,225,314, U.S. Pat. No. 5,227,277, and Research Disclosure No. 1993 November. And acid generating compounds disclosed in 11511.

上記感熱性平版印刷版材料は、加熱することにより加熱部が親水性から疎水性に変化することにより画像を形成する。従って、サーマルヘッド等を用いて像様に加熱することにより平版印刷版を得ることができる。また、上記感熱性平版印刷版材料に、光−熱変換を生じさせる化合物(光−熱変換剤)を存在させると、レーザーなどの光の照射により光−熱変換が起こり加熱され、親水性から疎水性への物性変化を得ることができる。このようなレーザーなどの光を利用した像形成は高精度な書き込みを可能にする。簡易な印刷を行うシステム以外の利用においては、感熱性平版印刷版材料に光−熱変換剤を含有させることが好ましい。光−熱変換剤を感熱性平版印刷版材料に存在させることによって、サーマルヘッドによる書き込み以外に、高出力なレーザーなどの光を利用した高精度な書き込みができるようになる。   The heat-sensitive lithographic printing plate material forms an image by heating, whereby the heated portion changes from hydrophilic to hydrophobic. Therefore, a lithographic printing plate can be obtained by imagewise heating using a thermal head or the like. In addition, when a compound (light-heat conversion agent) that causes light-heat conversion is present in the heat-sensitive lithographic printing plate material, light-heat conversion occurs due to irradiation with light such as a laser, and is heated. A change in physical properties to hydrophobicity can be obtained. Such image formation using light such as a laser enables high-precision writing. In applications other than a system that performs simple printing, it is preferable to include a light-heat conversion agent in the heat-sensitive lithographic printing plate material. By allowing the light-to-heat conversion agent to be present in the heat-sensitive lithographic printing plate material, high-precision writing using light such as a high-power laser can be performed in addition to writing by a thermal head.

光−熱変換剤は、光−熱変換によって発生した熱を画像形成層に伝えることができればどこに存在させてもよく、画像形成層に存在させても、画像形成層とは別の層に存在させてもよい。また、支持体に存在させてもよい。   The light-to-heat conversion agent may be present anywhere as long as it can transfer heat generated by light-to-heat conversion to the image forming layer, and even if it exists in the image forming layer, it exists in a layer different from the image forming layer. You may let them. Moreover, you may make it exist in a support body.

光−熱変換剤は、光を吸収し効率良く熱に変換する材料が好ましく、使用する光源によって異なるが、例えば、近赤外光を放出する半導体レーザーを光源として使用する場合、近赤外に吸収帯を有する近赤外光吸収剤が好ましく、例えば、カーボンブラック、シアニン系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体などが好適に用いらる。具体的には、特開昭63−139191号公報、同64−33547号公報、特開平1−160683号公報、同1−280750号公報、同1−293342号公報、同2−2074号公報、同3−26593号公報、同3−30991号公報、同3−34891号公報、同3−36093号公報、同3−36094号公報、同3−36095号公報、同3−42281号公報、同3−97589号公報、同3−103476号公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The light-heat conversion agent is preferably a material that absorbs light and efficiently converts it into heat. Depending on the light source used, for example, when using a semiconductor laser that emits near infrared light as the light source, Near-infrared light absorbers having an absorption band are preferable, for example, organic compounds such as carbon black, cyanine dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, squalium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, Phthalocyanine-based, azo-based, and thioamide-based organometallic complexes are preferably used. Specifically, JP-A-63-139191, 64-33547, JP-A-1-160683, 1-280750, 1-293342, 2-2074, 3-26593, 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, Examples thereof include compounds described in JP-A-3-97589 and JP-A-3-103476. These can be used alone or in combination of two or more.

画像形成層は上記の他に、この種の層に含有させる公知の物質を含めて種々の添加剤を含有することができる。   In addition to the above, the image forming layer may contain various additives including known substances to be contained in this type of layer.

前記光−熱変換剤は、蒸着膜として使用することも可能であり、光−熱変換剤の蒸着膜としては、例えば、カーボンブラックの蒸着膜、特開昭52−20842号公報に記載の金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン等のメタルブラックの蒸着膜、コロイド銀を含有する蒸着膜等を挙げることができる。   The light-to-heat conversion agent can also be used as a vapor deposition film. Examples of the light-to-heat conversion agent vapor deposition film include a carbon black vapor deposition film and gold described in JP-A-52-20842. , Silver black, aluminum, chromium, nickel, antimony, tellurium, bismuth, selenium and other metal black vapor-deposited films, colloidal silver-containing vapor-deposited films, and the like.

光−熱変換剤を画像形成層とは別の層に存在させる場合、バインダーを添加した層に存在させることが好ましい。バインダーとしては、Tgが高く、熱伝導率の高い樹脂を用いることが好ましく、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリスチレン、エチルセルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アラミド等の一般的な耐熱性樹脂を使用することができる。また、バインダーとしては、水溶性ポリマーも用いることができる。水溶性ポリマーは光照射時の耐熱性が良く、過度な加熱に対しても、所謂、飛散が少ない点で好ましい。水溶性ポリマーを用いる場合には、光−熱変換物質をスルホ基を導入する等の手段により水溶性に変性したり、水系分散したりして用いることが望ましい。ゼラチン及びポリビニルアルコールは水溶性の赤外吸収色素の凝集が少なく、光−熱変換層が安定にコーティングでき、記録媒体の保存性に優れ、赤外吸収色素の凝集による色濁り、感度低下がなく好ましい。   When the light-heat conversion agent is present in a layer different from the image forming layer, it is preferably present in a layer to which a binder is added. As the binder, it is preferable to use a resin having a high Tg and a high thermal conductivity. For example, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, ethyl cellulose, nitrocellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, polyetherimide Common heat-resistant resins such as polysulfone, polyethersulfone, and aramid can be used. Moreover, a water-soluble polymer can also be used as a binder. The water-soluble polymer has good heat resistance at the time of light irradiation, and is preferable from the viewpoint of so-called scattering even against excessive heating. In the case of using a water-soluble polymer, it is desirable to use the light-heat converting substance by modifying it to water-soluble by means such as introducing a sulfo group or by dispersing in water. Gelatin and polyvinyl alcohol have little aggregation of water-soluble infrared-absorbing dyes, can stably coat light-to-heat conversion layers, have excellent storage stability of recording media, and do not cause color turbidity or sensitivity reduction due to aggregation of infrared-absorbing dyes. preferable.

光−熱変換層の膜厚は0.1〜3μmが好ましく、より好ましくは0.2〜1.0μmである。光−熱変換層における光−熱転換剤の含有量は、通常、画像記録に用いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0、更に好ましくは0.7〜2.5になるように決めることができる。   The thickness of the light-heat conversion layer is preferably from 0.1 to 3 μm, more preferably from 0.2 to 1.0 μm. The content of the light-to-heat conversion agent in the light-to-heat conversion layer is usually such that the absorbance at the wavelength of the light source used for image recording is 0.3 to 3.0, more preferably 0.7 to 2.5. Can be decided.

光−熱変換層を支持体と転写層の間に設けることで支持体との接着性が間題となる場合、接着層を設けることが有効である。   When the light-heat conversion layer is provided between the support and the transfer layer and the adhesiveness to the support becomes a problem, it is effective to provide the adhesive layer.

上記感熱性平版印刷版材料において、画像形成層の25℃の水に対する溶解減量は10%以下であることが好ましい。上記溶解減量は、感熱性平版印刷版材料を25℃の水に1時間浸漬したときの画像形成層の溶解減量(質量%)である。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, the dissolution loss of the image forming layer in water at 25 ° C. is preferably 10% or less. The dissolution loss is the dissolution loss (% by mass) of the image forming layer when the heat-sensitive lithographic printing plate material is immersed in water at 25 ° C. for 1 hour.

本発明及び上記感熱性平版印刷版材料におけるそれぞれ親水性層及び画像形成層の25℃の水に対する溶解減量は下記の溶解量の測定法によって測定した値である。
溶解量の測定法
親水性層又は画像形成層の付き量の判っている平版印刷版用支持体又は感熱性平版印刷版材料を10cm×10cmの正方形に切断し、常温下で乾燥剤の入ったデシケータ内で3時間静置する。これをすばやく取り出し質量を測定した後、25℃の純水中に浸漬し1時間放置する。
In the present invention and the heat-sensitive lithographic printing plate material, the weight loss of the hydrophilic layer and the image forming layer, respectively, in water at 25 ° C. is a value measured by the following method for measuring the amount of dissolution.
Method for measuring dissolved amount A lithographic printing plate support or a heat-sensitive lithographic printing plate material having a known amount of hydrophilic layer or image forming layer was cut into 10 cm × 10 cm squares, and a desiccant was added at room temperature. Leave in a desiccator for 3 hours. This is quickly taken out and measured for mass, then immersed in pure water at 25 ° C. and left for 1 hour.

水から取り出した後、DX−700(東京ラミネックス株式会社製)にて、JKワイパーを載置し、下記条件により搬送することで、膨潤時に高圧とせん断を与える。   After taking out from water, a JK wiper is mounted on DX-700 (manufactured by Tokyo Laminex Co., Ltd.) and conveyed under the following conditions to give high pressure and shear during swelling.

温度:25℃
圧力:2kg/cm
速度:30mm/sec
この後、60℃にて1時間乾燥後、更に常温下で乾燥剤の入ったデシケータ内で3時間静置し、すばやく取り出し質量を測定する。
Temperature: 25 ° C
Pressure: 2kg / cm
Speed: 30mm / sec
Thereafter, after drying at 60 ° C. for 1 hour, the mixture is further allowed to stand in a desiccator containing a desiccant at room temperature for 3 hours, and quickly taken out and the mass is measured.

溶解減量は付き量に対する処理前の質量と処理後の質量の差として求める。   The dissolution loss is determined as the difference between the mass before treatment and the mass after treatment relative to the weight.

この様にして溶解減量の測定を行うことによって、平版印刷版の印刷時に近い状況で非画像部の強度及び耐水性を確認することができる。   By measuring the dissolution loss in this manner, the strength and water resistance of the non-image area can be confirmed in a situation close to the time of printing the planographic printing plate.

本発明の平版印刷版用支持体及び上記感熱性平版印刷版材料は、予め25℃の水に1時間浸漬したときの親水性層又は画像形成層の溶解減量が、それぞれ、1%以下及び10%以下となるようにすることによって、得られる平版印刷版の耐水性をより高くすることができる。   The lithographic printing plate support of the present invention and the above heat-sensitive lithographic printing plate material have a dissolution loss of 1% or less and 10% respectively when the hydrophilic layer or the image forming layer is immersed in water at 25 ° C. for 1 hour in advance. % Water or less can increase the water resistance of the resulting lithographic printing plate.

25℃の水に1時間浸漬したときの溶解減量が1%以下である親水性層又は10%以下である画像形成層を得るには、これらの層に含有させる親水性樹脂として結晶性の高い素材を使用するか、或いはこれらの層に上述の架橋剤を添加することが好ましく、特に架橋剤の添加が強度の面から有効である。   In order to obtain a hydrophilic layer having a dissolution loss of 1% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour or an image forming layer having a content of 10% or less, the hydrophilic resin contained in these layers has high crystallinity. It is preferable to use a raw material or to add the above-mentioned crosslinking agent to these layers, and the addition of the crosslinking agent is particularly effective from the viewpoint of strength.

このように平版印刷版用支持体又は感熱性平版印刷版材料に架橋剤を添加した材料をそれぞれの層用の塗布液の塗布後の乾燥後に全面加熱処理を行う事により高い耐水性を付与することが可能となる。全面加熱処理の温度は、30〜80℃の範囲が好ましく、より好ましくは35℃〜70℃、特に好ましくは40℃〜60℃の範囲である。加熱時間は、架橋剤の量、種類、反応促進剤の有無等によって異なり一律ではないが、25℃の水に1時間浸漬したときの溶解減量が1%以下である親水性層又は10%以下である画像形成層が得られるように任意に設定すればよい。   Thus, high water resistance is imparted by subjecting a lithographic printing plate support or a heat-sensitive lithographic printing plate material to which a cross-linking agent is added and then heat-treating the entire surface after drying the coating liquid for each layer. It becomes possible. The temperature of the whole surface heat treatment is preferably in the range of 30 to 80 ° C, more preferably in the range of 35 ° C to 70 ° C, and particularly preferably in the range of 40 ° C to 60 ° C. The heating time varies depending on the amount and type of the crosslinking agent, the presence or absence of a reaction accelerator, etc., and is not uniform, but the hydrophilic layer has a weight loss of 1% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour or 10% or less. What is necessary is just to set arbitrarily so that the image formation layer which is may be obtained.

上記の全面加熱処理は、製造工程における親水性層又は画像形成層の塗設工程の乾燥に引き続いて行うことができるが、また、平版印刷版用支持体又は感熱性平版印刷版材料を使用するに先だって行うこともできる。   The entire surface heat treatment can be carried out following the drying of the coating step of the hydrophilic layer or the image forming layer in the production process, but also uses a lithographic printing plate support or a heat-sensitive lithographic printing plate material. Can also be done prior to.

本発明において、平版印刷版用支持体の親水性層表面のγhを20以上とすることによって、初期の湿し水の拡散をより早くすることができる。また、上記感熱性平版印刷版材料において、画像形成層の画像形成前のγhを20以上とすることによって、初期の湿し水の拡散をより早くすることができる。ここで、γhは表面エネルギーである。   In the present invention, by setting the γh of the hydrophilic layer surface of the lithographic printing plate support to 20 or more, the initial dampening water can be diffused more quickly. Further, in the heat-sensitive lithographic printing plate material, the initial dampening water can be diffused more quickly by setting the γh of the image forming layer before image formation to 20 or more. Here, γh is the surface energy.

γhを計測する方法としては、表面エネルギーが既知の2種の溶液を用いて静的接触角(θ)を測定し、その測定値から画像部/非画像部の表面エネルギーの分散力成分(γd)と水素結合成分(γh)とを求める。具体的には、γdとγhが既知である水(γd=21.8,γh=51.0(20℃))とヨウ化メチレン(γd=49.5,γh=1.3(20℃))の2つの液体を用い、20℃の測定環境で固体表面上に20μl滴下し、30秒経過後の接触角を測定し、下記連立方程式により固体表面上のγsd及びγshを求める。下記式2において、1)は水の場合、2)はヨウ化メチレンの場合である。 As a method of measuring γh, a static contact angle (θ) is measured using two kinds of solutions having known surface energies, and the dispersion force component (γd of the surface energy of the image portion / non-image portion is determined from the measured value. ) And a hydrogen bond component (γh). Specifically, water with known γd and γh (γd = 21.8, γh = 51.0 (20 ° C.)) and methylene iodide (γd = 49.5, γh = 1.3 (20 ° C.)) using two liquids), and 20μl dropped on a solid surface at 20 ° C. in the measurement environment, the contact angle was measured after a lapse of 30 seconds, obtaining the gamma] s d and gamma] s h on the solid surface by the following simultaneous equations. In the following formula 2, 1) is for water and 2) is for methylene iodide.

Figure 2006224677
Figure 2006224677

このようにして求めたγshをγhとする。 The γs h obtained in this way and γh.

上記感熱性平版印刷版材料において、画像形成層は支持体上に塗設して設ける。好ましく用いられる塗設方法には、ディッピング塗布、エアードクター塗布、カーテン塗布、ホッパー塗布等があり、これらの種々の塗設方法を用いることができる。また、米国特許第2,781,791号明細書、同第2,941,898号明細書等に記載の方法による2層以上の同時塗布を用いることもできる。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, the image forming layer is provided by coating on a support. Preferably used coating methods include dipping coating, air doctor coating, curtain coating, hopper coating, and the like, and these various coating methods can be used. Also, simultaneous coating of two or more layers by the method described in U.S. Pat. Nos. 2,781,791 and 2,941,898 can be used.

この様にして、親水性層又は画像形成層は支持体上に塗布し乾燥を行うことにより設けられる。この際の親水性層又は画像形成層の膜厚としては特に制限はないが、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜25μmである。   In this way, the hydrophilic layer or the image forming layer is provided by coating on a support and drying. The thickness of the hydrophilic layer or the image forming layer at this time is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, and more preferably 1 to 25 μm.

上記感熱性平版印刷版材料には、画像形成層の側とは反対側に、カール防止や印字直後に重ね合わせた際のくっつきを防止させるために種々の種類のバック層を設けることができる。   In the heat-sensitive lithographic printing plate material, various types of back layers can be provided on the side opposite to the image forming layer side in order to prevent curling and to prevent sticking when superimposed immediately after printing.

上記感熱性平版印刷版材料に画像を形成する方法としては、サーマルヘッド等による直接的に画像様に熱エネルギーを付与する方法、高出力光のエネルギーを画像様に照射し、これを熱エネルギーに変換し付与する方法が挙げられる。サーマルヘッド等による直接的に画像様に熱エネルギーを付与する方法は、安価で低解像度又は線画画像の出力を主な目的として使用する場合に好ましく、高出力光のエネルギーを画像様に照射し、これを熱エネルギーに変換し付与する方法は、高精細な書き込みが容易にできるので、商業印刷の様に高解像度又は網画像の出力を主な目的として使用する場合に好ましい。   As a method of forming an image on the above heat-sensitive lithographic printing plate material, a method of directly applying image-like thermal energy by a thermal head or the like, or irradiating high-power light energy image-wise, which is converted into heat energy. The method of converting and giving is mentioned. The method of directly applying image-like thermal energy by a thermal head or the like is preferable when using low-cost, low resolution or line drawing image output as the main purpose, and irradiating high-power light energy image-wise. The method of converting this to thermal energy and applying it is preferable when high-definition writing can be easily performed and high resolution or halftone image output is used as the main purpose as in commercial printing.

画像露光する光源としては、例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。   Examples of the light source for image exposure include a laser, a light emitting diode, a xenon flash lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, and an electrodeless light source.

高出力光のエネルギーを画像様に照射するには、所望露光画像のパターンを遮光性材料で形成したマスク材料を感光材料に重ね合わせ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を用いて一括露光すればよい。   In order to irradiate the energy of high output light like an image, a mask material in which a pattern of a desired exposure image is formed of a light shielding material is superimposed on a photosensitive material, and a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp. Then, it is only necessary to perform batch exposure using a high-pressure mercury lamp, an electrodeless light source or the like.

発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用して、或いは、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等の光学的シャッター材料で制御して露光する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ましい。この場合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うことができる。   When using an array-type light source such as a light-emitting diode array or controlling the light source such as a halogen lamp, metal halide lamp, or tungsten lamp with an optical shutter material such as liquid crystal or PLZT, exposure is performed on the image signal. It is possible and preferable to perform digital exposure according to the above. In this case, direct writing can be performed without using a mask material.

露光にレーザーを用いると、光をビーム状に絞り、画像データに応じた走査露光が可能であるため、マスク材料を使用せずに、直接書き込みを行うことができる。また、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアルゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能である。   When a laser is used for exposure, light can be narrowed down into a beam and scanning exposure can be performed according to image data. Therefore, direct writing can be performed without using a mask material. When a laser is used as a light source, it is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible. As the laser light source, an argon laser, a He—Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser, or the like can be preferably used.

これらの中でも、本発明の感熱性平版印刷版材料に適した高出力を比較的安価で小型装置に組み込める点で、半導体レーザー又はYAGレーザーの使用がより好ましい。レーザーの走査露光方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などによる露光方法がある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー照射を行う。この場合、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射する。この場合、光学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査は、光学系の精度を高め易く、高密度記録に適している。   Among these, the use of a semiconductor laser or a YAG laser is more preferable because a high output suitable for the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention can be incorporated into a small apparatus at a relatively low cost. As the laser scanning exposure method, there are exposure methods such as cylindrical outer surface scanning, cylindrical inner surface scanning, and planar scanning. In the cylindrical outer surface scanning, laser irradiation is performed while rotating a drum around which a recording material is wound. In this case, the rotation of the drum is the main scanning and the movement of the laser beam is the sub-scanning. In the cylindrical inner surface scanning, a recording material is fixed to the inner surface of the drum, and a laser beam is irradiated from the inner side. In this case, main scanning is performed in the circumferential direction by rotating part or all of the optical system, and sub scanning is performed in the axial direction by linearly moving part or all of the optical system parallel to the axis of the drum. . In plane scanning, a laser beam main scan is performed by combining a polygon mirror, a galvanometer mirror, and an fθ lens, and a sub-scan is performed by moving a recording medium. Cylindrical outer surface scanning and cylindrical inner surface scanning easily improve the accuracy of the optical system and are suitable for high-density recording.

上記感熱性平版印刷版材料への画像形成は、上記の画像露光が全てであり、従来のような液体を用いた現像をして非画像部除去処理を行わないことが特徴である。このため、本発明の感熱性平版印刷版材料への画像形成を専用の露光装置で行い、得られた平版印刷版を印刷機に装填して使用しすることもできるし、また、版胴上で画像形成を行い、そのまま印刷を行えるシステムとして利用することができる。   The image formation on the heat-sensitive lithographic printing plate material is characterized by the above-described image exposure, and the development using a liquid as in the prior art is not performed and the non-image area removal process is not performed. For this reason, image formation on the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention can be performed with a dedicated exposure apparatus, and the obtained lithographic printing plate can be used by being loaded into a printing press. Thus, the system can be used as a system for performing image formation and printing as it is.

以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの画像形成層側の面を15W/(m2・min)のエネルギーでコロナ放電処理し基体とした。
平版印刷版用支持体1の作製
上記基体上に、下記組成の親水性層用塗布液1を、乾燥膜厚が2.0μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥した。次いで、55℃で3時間全面加熱処理をし、平版印刷版用支持体1を作製した。
親水性層用塗布液1
ゼラチンバインダー 60.0質量部
シリカ粒子(無機処理品、細孔容積1.4ml/g、サイリシア435、
富士シリシア化学(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体2の作製
下記組成の親水性層用塗布液2を用いた以外は上記平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体2を作製した。
親水性層用塗布液2
ゼラチン 40.0質量部
シリカ粒子(無機処理品、細孔容積1.4ml/g、サイリシア435、
富士シリシア化学(株)製) 50.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613:住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体3の作製
下記組成の親水性層用塗布液3を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体3を作製した。
親水性層用塗布液3
ゼラチン 60.0質量部
シリカ粒子(有機処理品、細孔容積2.0ml/g、サイロイドC907、
グレースジャパン(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体4の作成
下記組成の親水性層用塗布液4を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体4を作製した。
親水性層用塗布液4
ゼラチン 60.0質量部
シリカ粒子(有機処理品、細孔容積2.0ml/g、サイロイド7000、
グレースジャパン(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体5の作製
下記組成の親水性層用塗布液5を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体5を作製した。
親水性層用塗布液5
ゼラチン 60.0質量部
アクリル樹脂粒子(MX−150、総研化学(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体6の作製
下記組成の親水性層用塗布液6を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体6を作製した。
親水性層用塗布液6
ゼラチン 60.0質量部
アクリル樹脂粒子(極性基ユニット5%導入、MX−150A、
総研化学(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体7の作製
下記組成の親水性層用塗布液7を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体7を作製した。
親水性層用塗布液7
ゼラチン 60.0質量部
フッ素系粒子(AD−1、旭硝子(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体8の作製
下記組成の親水性層用塗布液8を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体8を作製した。
親水性層用塗布液8
ゼラチン 66.7質量部
シリカ粒子(表面処理なし、細孔容積2.05ml/g、
サイロイドP403、グレースジャパン(株)製) 33.3質量部
純水で固形分7.2%になるように調液する。
平版印刷版用支持体9の作製
上記平版印刷版用支持体8の親水性層上に0.4%に調整されたメラミン架橋剤の液を上記と同一の塗布液膜厚となるように塗布し50℃で5分乾燥した。次いで55℃で3時間全面加熱処理をし、平版印刷版用支持体9を作製した。
平版印刷版用支持体10の作製(比較例)
前記基体上に下記組成の親水性層用塗布液10を乾燥膜厚が3.0μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥した。次いで、55℃で3時間全面加熱処理をし、平版印刷版用支持体10を作製した。
親水性層用塗布液10
ゼラチン 90.0質量部
ホルムアルデヒド 10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体11の作製(比較例)
前記基体上に下記組成の親水性層用塗布液11を乾燥膜厚が3.0μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥した。次いで、55℃で3時間全面加熱処理をし、平版印刷版用支持体11を作製した。
親水性層用塗布液11
ゼラチン 60.0質量部
シリカ粒子(表面処理なし) 30.0質量部
ホルムアルデヒド 10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
平版印刷版用支持体12の作製(比較例)
下記組成の親水性層用塗布液12を用いた以外は平版印刷版用支持体1と同様にして平版印刷版用支持体12を作製した。
親水性層用塗布液12
ゼラチン 66.7質量部
シリカ粒子(表面処理なし、細孔面積1.2ml/g、サイロイド622、
グレースジャパン(株)製) 33.3質量部
純水で固形分7.2%になるように調液する。
平版印刷版用支持体13の作製(比較例)
上記平版印刷版用支持体12の親水性層上に0.4%に調整されたメラミン架橋剤の液を上記と同一の塗布液膜厚となるように塗布し50℃で5分乾燥した。次いで55℃で3時間全面加熱処理をし、平版印刷版用支持体13を作製した。
平版印刷版用支持体14の作製(比較例)
前記基体上に下記組成の親水性層用塗布液14を乾燥膜厚が7.0μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥した。次いで、55℃で3時間全面加熱処理をし、平版印刷版用支持体14を作製した。
親水性層用塗布液14
ゼラチン 60.0質量部
シリカ粒子(無機処理品、細孔容積1.4ml/g、サイリシア435、
富士シリシア化学(株)製) 30.0質量部
メラミン架橋剤(スミレーズレジン613、住友化学(株)製)
10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
The surface of the polyethylene terephthalate (PET) film on the image forming layer side was subjected to corona discharge treatment with an energy of 15 W / (m 2 · min) to obtain a substrate.
Preparation of Lithographic Printing Plate Support 1 A hydrophilic layer coating solution 1 having the following composition was coated on the substrate so as to have a dry film thickness of 2.0 μm and dried at 50 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the whole surface was heat-processed at 55 degreeC for 3 hours, and the support body 1 for lithographic printing plates was produced.
Coating liquid for hydrophilic layer 1
Gelatin binder 60.0 parts by mass Silica particles (inorganic processed product, pore volume 1.4 ml / g, silicia 435,
30.0 parts by mass Melamine cross-linking agent (Smiles Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 2 A lithographic printing plate support 2 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 2 having the following composition was used.
Coating liquid for hydrophilic layer 2
Gelatin 40.0 parts by mass Silica particles (inorganic processed product, pore volume 1.4 ml / g, silicia 435,
FUJI SILICIA CHEMICAL CO., LTD.) 50.0 parts by mass Melamine cross-linking agent (Sumirez resin 613: Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 3 A lithographic printing plate support 3 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 3 having the following composition was used.
Coating liquid 3 for hydrophilic layer
Gelatin 60.0 parts by mass Silica particles (organic processed product, pore volume 2.0 ml / g, syloid C907,
Grace Japan Co., Ltd.) 30.0 parts by mass Melamine cross-linking agent (Smiles Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 4 A lithographic printing plate support 4 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 4 having the following composition was used.
Coating liquid for hydrophilic layer 4
Gelatin 60.0 parts by mass Silica particles (organic processed product, pore volume 2.0 ml / g, syloid 7000,
Grace Japan Co., Ltd.) 30.0 parts by mass Melamine cross-linking agent (Smiles Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 5 A lithographic printing plate support 5 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 5 having the following composition was used.
Coating liquid 5 for hydrophilic layer
Gelatin 60.0 parts by mass Acrylic resin particles (MX-150, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 30.0 parts by mass Melamine cross-linking agent (Smileze Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 6 A lithographic printing plate support 6 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 6 having the following composition was used.
Coating liquid for hydrophilic layer 6
Gelatin 60.0 parts by mass Acrylic resin particles (5% polar group unit introduced, MX-150A,
30.0 parts by mass Melamine crosslinker (Smiles Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 7 A lithographic printing plate support 7 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 7 having the following composition was used.
Hydrophilic layer coating solution 7
Gelatin 60.0 parts by mass Fluorine-based particles (AD-1, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) 30.0 parts by mass Melamine crosslinking agent (Smiles Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 8 A lithographic printing plate support 8 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 8 having the following composition was used.
Coating liquid for hydrophilic layer 8
Gelatin 66.7 parts by mass Silica particles (no surface treatment, pore volume 2.05 ml / g,
Psyloid P403, manufactured by Grace Japan Co., Ltd.) 33.3 parts by mass Prepared with pure water so that the solid content is 7.2%.
Preparation of lithographic printing plate support 9 A melamine cross-linking agent solution adjusted to 0.4% is applied onto the hydrophilic layer of the lithographic printing plate support 8 so that the coating film thickness is the same as described above. And dried at 50 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the whole surface was heat-treated at 55 ° C. for 3 hours to prepare a lithographic printing plate support 9.
Production of lithographic printing plate support 10 (comparative example)
A hydrophilic layer coating solution 10 having the following composition was coated on the substrate so as to have a dry film thickness of 3.0 μm, and dried at 50 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the whole surface was heat-processed at 55 degreeC for 3 hours, and the support body 10 for lithographic printing plates was produced.
Coating liquid 10 for hydrophilic layer
Gelatin 90.0 parts by mass Formaldehyde 10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 11 (comparative example)
A hydrophilic layer coating solution 11 having the following composition was coated on the substrate so as to have a dry film thickness of 3.0 μm, and dried at 50 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the whole surface was heat-treated at 55 ° C. for 3 hours to prepare a lithographic printing plate support 11.
Coating liquid 11 for hydrophilic layer
Gelatin 60.0 parts by mass Silica particles (no surface treatment) 30.0 parts by mass Formaldehyde 10.0 parts by mass Prepared with pure water so that the solid content is 8%.
Preparation of lithographic printing plate support 12 (comparative example)
A lithographic printing plate support 12 was prepared in the same manner as the lithographic printing plate support 1 except that the hydrophilic layer coating solution 12 having the following composition was used.
Coating liquid for hydrophilic layer 12
Gelatin 66.7 parts by mass Silica particles (no surface treatment, pore area 1.2 ml / g, syloid 622,
Grace Japan Co., Ltd.) 33.3 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 7.2%.
Production of lithographic printing plate support 13 (comparative example)
The liquid of the melamine crosslinking agent adjusted to 0.4% was applied on the hydrophilic layer of the lithographic printing plate support 12 so as to have the same coating liquid film thickness as described above, and dried at 50 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the whole surface was heat-treated at 55 ° C. for 3 hours to produce a lithographic printing plate support 13.
Preparation of lithographic printing plate support 14 (comparative example)
A hydrophilic layer coating solution 14 having the following composition was coated on the substrate so as to have a dry film thickness of 7.0 μm, and dried at 50 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the whole surface was heat-treated at 55 ° C. for 3 hours to prepare a lithographic printing plate support 14.
Hydrophilic layer coating solution 14
Gelatin 60.0 parts by mass Silica particles (inorganic processed product, pore volume 1.4 ml / g, silicia 435,
30.0 parts by mass Melamine cross-linking agent (Smiles Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
10.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.

上記各平版印刷版用支持体の親水性層に含有させた水分散性フィラーの添加量、平均粒径、及び親水性層の表面の中心線表面粗さRa、膜厚、25℃の水に対する溶解減量及び表面のγhを下記表1に示す。なお、表1中、wt%は質量%を示す。   The amount of water-dispersible filler added to the hydrophilic layer of each lithographic printing plate support, the average particle diameter, and the center line surface roughness Ra, film thickness, and water at 25 ° C. of the surface of the hydrophilic layer The loss on dissolution and the surface γh are shown in Table 1 below. In Table 1, wt% represents mass%.

Figure 2006224677
Figure 2006224677

感熱性平版印刷版材料1の作製
前記基体上に下記組成の画像形成層用塗布液1を乾燥膜厚が3.0μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥し光変性の画像形成層を設け、次いで、55℃で3時間全面加熱処理をし、感熱性平版印刷版材料1を作製した。
画像形成層用塗布液1
ポリビニルアルコール(Z−100、日本合成化学(株)製)
40.0質量部
ワックスエマルジョン(A101、岐阜セラック(株)製)
14.0質量部
シリカ粒子(無機処理品、サイリシア435、富士シリシア化学(株)製)
30.0質量部
メラミン樹脂(Sumirez Resin613、住友化学(株)製)
固型分として5.0質量部
有機アミン塩(Sumirez Accerelator ACX−P、
住友化学(株)製) 固型分として1.0質量部
カーボンブラック(SD9020:大日本インキ(株)製)
固型分として10.0質量部
純水で固形分8%になるように調液する。
感熱性平版印刷版材料2及び3の作製
前記基体上に下記組成の画像形成層用塗布液2を乾燥膜厚が1.5μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥し光変性の画像形成層を設け、次いで、55℃で3時間全面加熱処理をした。
画像形成層用塗布液2
ポリビニルアルコール(Z−100、日本合成化学(株)製)
20.0質量部
ワックスエマルジョン(A101、岐阜セラック(株)製)
30.0質量部
シリカ粒子(無機処理品、サイリシア435、富士シリシア化学(株)製)
30.0質量部
メラミン樹脂(Sumirez Resin613、住友化学(株)製)
固型分として5.0質量部
有機アミン塩(Sumirez Accerelator ACX−P、
住友化学社製) 固型分として1.0質量部
カーボンブラック(SD9020、大日本インキ(株)製)
固型分として14.0質量部
上記画像形成層上に前記親水性層用塗布液1を乾燥膜厚が1.5μmになるよう塗布し、50℃で5分乾燥し、次いで、55℃で3時間全面加熱処理をし、2層からなる光変性の画像形成層を有する感熱性平版印刷版材料2を作製した。
Preparation of heat-sensitive lithographic printing plate material 1 A coating solution 1 for an image forming layer having the following composition is applied on the base so that the dry film thickness is 3.0 μm, and dried at 50 ° C. for 5 minutes to form a photo-modified image forming layer. Then, the whole surface was heat-treated at 55 ° C. for 3 hours to prepare a heat-sensitive lithographic printing plate material 1.
Image forming layer coating solution 1
Polyvinyl alcohol (Z-100, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)
40.0 parts by mass Wax emulsion (A101, manufactured by Gifu Shellac Co., Ltd.)
14.0 parts by mass Silica particles (Inorganic treated product, Silicia 435, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.)
30.0 parts by mass Melamine resin (Sumirez Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
5.0 parts by weight of organic amine salt (Sumirez Accelerator ACX-P,
Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 1.0 part by mass as a solid component Carbon Black (SD9020: Dainippon Ink Co., Ltd.)
The solid content is adjusted to 10.0 parts by mass with pure water so that the solid content is 8%.
Preparation of heat-sensitive lithographic printing plate materials 2 and 3 An image-forming layer coating solution 2 having the following composition was applied on the substrate so as to have a dry film thickness of 1.5 μm, and dried at 50 ° C. for 5 minutes to give a photo-modified image. A formation layer was provided, and then the whole surface was heat-treated at 55 ° C. for 3 hours.
Image forming layer coating solution 2
Polyvinyl alcohol (Z-100, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)
20.0 parts by mass Wax emulsion (A101, manufactured by Gifu Shellac Co., Ltd.)
30.0 parts by mass Silica particles (Inorganic processed product, Silicia 435, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.)
30.0 parts by mass Melamine resin (Sumirez Resin 613, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
5.0 parts by weight of organic amine salt (Sumirez Accelerator ACX-P,
Manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 1.0 part by mass as a solid component carbon black (SD9020, manufactured by Dainippon Ink, Inc.)
14.0 parts by mass as a solid component The hydrophilic layer coating solution 1 was applied onto the image forming layer so that the dry film thickness was 1.5 μm, dried at 50 ° C. for 5 minutes, and then at 55 ° C. The whole surface was heat-treated for 3 hours to prepare a heat-sensitive lithographic printing plate material 2 having a two-layer photo-modified image forming layer.

親水性層用塗布液1の代わりに親水性層用塗布液4を用いた以外は上記感熱性平版印刷版材料2と同様にして感熱性平版印刷版材料3を作製した。
感熱性平版印刷版材料4の作製
前記感熱性平版印刷版材料2の画像形成層上に下記組成の画像形成層用塗布液3(熱架橋性化合物含有塗布液)を乾燥膜厚1.0μmになるように塗布し、40℃で10分乾燥して2層からなる光変性の画像形成層を設け、感熱性平版印刷版材料4を作製した。
画像形成層用塗布液3
ブロックイソシアネート(エラストロンBN69、第一工業製薬(株)製)
100.0質量部
純水で固型分8%となるように調液する。
画像形成
このようにして作製した感熱性平版印刷版材料について、半導体レーザー(波長830nm、出力500mw)で画像露光を行った。レーザー光径はピークにおける強度の1/e2で10μmであった。また、解像度は走査方向、副走査方向とも2400dpiとした。
A heat-sensitive lithographic printing plate material 3 was prepared in the same manner as the heat-sensitive lithographic printing plate material 2 except that the hydrophilic layer coating solution 4 was used instead of the hydrophilic layer coating solution 1.
Preparation of heat-sensitive lithographic printing plate material 4 On the image-forming layer of the heat-sensitive lithographic printing plate material 2, an image-forming layer coating solution 3 (thermally crosslinkable compound-containing coating solution) having the following composition is dried to a film thickness of 1.0 μm. This was coated and dried at 40 ° C. for 10 minutes to provide a two-layer photo-modified image forming layer, thereby producing a heat-sensitive lithographic printing plate material 4.
Image forming layer coating solution 3
Block isocyanate (Elastolon BN69, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
100.0 parts by mass Prepared with pure water to a solid content of 8%.
Image formation The thus produced heat-sensitive lithographic printing plate material was subjected to image exposure with a semiconductor laser (wavelength 830 nm, output 500 mw). The laser beam diameter was 10 μm at 1 / e 2 of the intensity at the peak. The resolution was 2400 dpi in both the scanning direction and the sub-scanning direction.

上記感熱性平版印刷版材料1〜4の画像形成層の中心線表面粗さRa、膜厚、25℃の水に対する溶解減量及び画像形成層の画像形成前のγhを下記表2に示す。   Table 2 below shows the center line surface roughness Ra, film thickness, dissolution loss in water at 25 ° C., and γh before image formation of the image forming layer of the heat-sensitive lithographic printing plate materials 1 to 4.

Figure 2006224677
Figure 2006224677

平版印刷版用支持体の利用
バインダーの合成
窒素気流下の三ツ口フラスコに2−ヒドロキシエチルメタアクリルアミド35部、メタアクリル酸3部、メタアクリル酸メチル30部、アクリロニトリル25部、メタアクリル酸エチル2部、ラウリルアクリレート5部にエタノール500部、α,α′−アゾビスイソブチロニトリル3部を入れ窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応させた。その後、反応停止剤としてハイドロキノンを10部添加し反応を終了させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し水中で結析させこれを濾過・乾燥することで目的の化合物を得た。得られた化合物の重量平均分子量はGPCによるプルラン標準、N,N−ジメチルホルムアミド溶媒で測定したところ13万であった。
転写型シートの作製
上記で作成したバインダーを使用し、厚みが100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に下記転写型組成物1を乾燥膜厚2.0μmとなるように塗布し、80℃で3分間乾燥し転写型シート1を作製した。
転写型組成物1
アクリル系共重合体(合成バインダ)分子量Mw=5万 35.0質量部
3,3′,4,4′−テトラキス(t−ブチルジオキシカルボニル)
ベンゾフェノン 4.0質量部
EO変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌルエート
35.0質量部
ポリテトラメチレングリコールジアクリレート 10.0質量部
多官能ウレタンアクリレート(15HA、新中村化学工業(株)製)
5.0質量部
2−ter−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5
−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート 0.5質量部
フッ素系界面活性剤(FC−431、住友スリーエム(株)製)
0.5質量部
赤外線吸収色素(CY−9、日本化薬(株)製) 8.0質量部
シランカップリング剤(TSL8370、東芝シリコーン社製)
8.0質量部
上記組成物をシクロヘキサノン/MEK=1/1で固形分8%になるように調液した。
Use of lithographic printing plate support synthesis of binder In a three-necked flask under a nitrogen stream, 35 parts 2-hydroxyethylmethacrylamide, 3 parts methacrylic acid, 30 parts methylmethacrylate, 25 parts acrylonitrile, 2 parts ethylmethacrylate Then, 500 parts of ethanol and 3 parts of α, α′-azobisisobutyronitrile were added to 5 parts of lauryl acrylate and reacted in an oil bath at 80 ° C. for 6 hours in a nitrogen stream. Thereafter, 10 parts of hydroquinone was added as a reaction terminator to terminate the reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, precipitated in water, filtered and dried to obtain the target compound. The weight average molecular weight of the obtained compound was 130,000 as measured by pullulan standard by GPC and N, N-dimethylformamide solvent.
Preparation of transfer mold sheet Using the binder prepared above, the following transfer mold composition 1 was applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm so as to have a dry film thickness of 2.0 μm, and dried at 80 ° C. for 3 minutes. A transfer type sheet 1 was produced.
Transfer type composition 1
Acrylic copolymer (synthetic binder) molecular weight Mw = 50,000 35.0 parts by mass 3,3 ′, 4,4′-tetrakis (t-butyldioxycarbonyl)
Benzophenone 4.0 parts by mass EO-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate
35.0 parts by mass Polytetramethylene glycol diacrylate 10.0 parts by mass Polyfunctional urethane acrylate (15HA, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
5.0 parts by mass 2-ter-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5
-Methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate 0.5 parts by mass Fluorosurfactant (FC-431, manufactured by Sumitomo 3M Limited)
0.5 parts by mass Infrared absorbing dye (CY-9, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 8.0 parts by mass Silane coupling agent (TSL8370, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.)
8.0 parts by mass The above composition was prepared so that the solid content was 8% at cyclohexanone / MEK = 1/1.

このようにして作製した転写型シート1を前記平版印刷版用支持体1と対面しレーザー露光する事により画像を形成し平版印刷版を作製した(実験1)。また、上記転写型シートを前記平版印刷版用支持体4とそれぞれ対面しレーザー露光する事により画像を形成し平版印刷版を作製した(実験2)。   The transfer mold sheet 1 thus produced was faced with the lithographic printing plate support 1 and subjected to laser exposure to form an image to produce a lithographic printing plate (Experiment 1). Further, the transfer type sheet was respectively faced with the lithographic printing plate support 4 and subjected to laser exposure to form an image to produce a lithographic printing plate (Experiment 2).

更に画像形成後、実験1で作製した平版印刷版を150℃で1分間熱処理を行い平版印刷版を作製した(実験3)。また、同様に画像形成後、実験2で作製した平版印刷版を150℃で1分間熱処理を行い平版印刷版を作製した(実験4)。
感度評価
上記条件において、露光部のベタ部が副走査ピッチで抜けることなく均一にインクを受容するのに必要な露光エネルギー(mj/cm2)で評価した。
印刷品質の評価
上記のベタ部が均一に転写されるのに必要とされる露光エネルギーでの175線の画像を作製し、印刷機(ハイデルGTO)で、コート紙、印刷インキ(東洋インキ製造(株)社製:ハイプラスM紅)及び湿し水(コニカ(株)社製:SEU−3 2.5%水溶液)を用いて印刷を行い評価した。
Further, after image formation, the lithographic printing plate produced in Experiment 1 was heat-treated at 150 ° C. for 1 minute to produce a lithographic printing plate (Experiment 3). Similarly, after image formation, the lithographic printing plate produced in Experiment 2 was heat-treated at 150 ° C. for 1 minute to produce a lithographic printing plate (Experiment 4).
Sensitivity Evaluation Under the above conditions, the evaluation was performed with the exposure energy (mj / cm 2 ) necessary for uniformly receiving the ink without the solid portion of the exposed portion missing at the sub-scanning pitch.
Evaluation of printing quality A 175-line image is produced with the exposure energy required to transfer the above-mentioned solid part uniformly, and the coated paper, printing ink (Toyo Ink Manufacturing ( It was printed and evaluated using dampening water (manufactured by Konica Corporation: SEU-3 2.5% aqueous solution).

この印刷の際に、印刷汚れ(刷りだし時及び10000枚印刷後)、10000枚印刷後の膜強度、印刷再現性、着肉性、水幅及びドットゲインを下記の方法で評価した。結果を表3に示す。
印刷汚れの刷り出し評価:上記の着肉性の評価で95%以上の濃度に到達した時点の印刷物の非画像部と印刷用紙のマクベス反射濃度計での測定値の差をN=5で測定し、その平均値から5段階で評価した。表3中の記号の意味は下記である。
At the time of this printing, printing stain (at the time of printing and after printing 10,000 sheets), film strength after 10,000 sheets printing, printing reproducibility, fillability, water width and dot gain were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 3.
Print stain evaluation: The difference between the non-image area of the printed matter and the Macbeth reflection densitometer on the printing paper when the density reached 95% or more in the above evaluation of the inking property was measured at N = 5 And it evaluated in five steps from the average value. The meanings of the symbols in Table 3 are as follows.

◎・・・差無し
○・・・0.02以内
△・・・0.05以内
△×・・0.1以内
×・・・0.1より大きい
印刷汚れの10000枚目評価:刷り出しと同様の評価を10000枚目の印刷物に対し行った。
膜強度評価:10000枚印刷後の印刷版を100倍のルーペで目視観察し、印刷版の表面観察を行い5段階で評価した。表3中の記号の意味は下記である。
◎ ・ ・ ・ No difference ○ ・ ・ ・ Within 0.02 △ ... Within 0.05 △ × ・ ・ Within 0.1 ×× 10000th evaluation of printing stain larger than 0.1: Imprinting The same evaluation was performed on the 10,000th printed matter.
Film strength evaluation: The printing plate after printing 10,000 sheets was visually observed with a 100-fold magnifier, the surface of the printing plate was observed, and evaluated in five stages. The meanings of the symbols in Table 3 are as follows.

◎・・・差無し
○・・・微小な傷が観察されるが、欠損部無し
△・・・傷が観察され、傷状に欠損
△×・・前面に傷があり、欠損部大
×・・・完全に欠損
印刷再現性:適性濃度、適性水条件で175線0、2、4、6、8、10、20、30、40、50、60、70、80、90、92、94、96、98、100%画像の印刷を行い、100倍のルーペを用いて再現領域を調べた。
着肉性:印刷開始からM濃度がマクベス反射濃度計での測定値で最終画像領域の95%以上の濃度(最終濃度が1.4であれば1.33以上の濃度)になる迄に要するヤレ紙(損紙)の枚数を5段階で評価した。表3中の記号の意味は下記である。
◎ ・ ・ ・ No difference ○ ・ ・ ・ Small scratches are observed, but there are no defects △ ・ ・ ・ Scratches are observed and defects are in the form of scratches △ × ・ ・ There are scratches on the front surface and the defect is large × ・.. Completely defective print reproducibility: 175 lines 0, 2, 4, 6, 8, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, 92, 94, at appropriate density and appropriate water conditions 96, 98, and 100% images were printed, and the reproduction area was examined using a 100 × magnifier.
Solidity: Necessary from the start of printing until the M density reaches 95% or more of the final image area measured by the Macbeth reflection densitometer (1.33 or more if the final density is 1.4). The number of splinter paper (waste paper) was evaluated in five levels. The meanings of the symbols in Table 3 are as follows.

◎・・・10枚以下
○・・・11〜15枚
△・・・16〜20枚
△×・・21〜30枚
×・・・31枚以上
水幅評価:通常の水−インキバランスから水をダイヤル値で1及び2絞った条件で印刷を行い設定変更後500枚印刷時の汚れの発生状況で水幅適性を確認した。
◎ ・ ・ ・ 10 sheets or less ○ ・ ・ ・ 11-15 sheets △ ・ ・ ・ 16-20 sheets △ × ・ ・ 21-30 sheets × ・ ・ ・ 31 sheets or more Water width evaluation: Water from normal water-ink balance Was printed with the dial value reduced by 1 and 2, and after changing the setting, the suitability of the water width was confirmed based on the occurrence of dirt when printing 500 sheets.

表3中の記号の意味は下記である。   The meanings of the symbols in Table 3 are as follows.

○:2絞り条件で汚れなし
△:1絞り条件で汚れなし
×:1絞りで汚れ。
ドットゲイン評価:適性濃度、適性水条件で175線0、2、4、6、8、10、20、30、40、50、60、70、80、90、92、94、96、98、100%画像の印刷を行いX−RITEを用い、0−100補正を行い印刷物の再現面積率を測定し、画像データとの差をドットゲイン量とした。
○: Dirt is not obtained under the 2 diaphragm conditions.
Dot gain evaluation: 175 lines 0, 2, 4, 6, 8, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, 92, 94, 96, 98, 100 at appropriate concentration and appropriate water conditions % Image was printed, X-RITE was used, 0-100 correction was performed, the reproduction area ratio of the printed matter was measured, and the difference from the image data was defined as the dot gain amount.

Figure 2006224677
Figure 2006224677

(注)表3中、「感熱材料」は「感熱性平版印刷版材料」の略である。 (Note) In Table 3, “heat-sensitive material” is an abbreviation for “heat-sensitive lithographic printing plate material”.

Claims (8)

基体の少なくとも1つの面に親水性樹脂及び水分散性フィラーを含有する親水性層を有する平版印刷版用支持体において、該水分散性フィラーがシリカの微粒子であって、該シリカの微粒子の表面が親水性樹脂による処理、無機処理及び/又は有機処理を施され、その平均粒径が0.2〜10μmの範囲であり、該親水性層の表面の中心線表面粗さRaが0.1≦Ra≦1.2μmの範囲であり、該親水性層の25℃の水に1時間浸漬したときの溶解減量が1%以下であることを特徴とする平版印刷版用支持体。 A lithographic printing plate support having a hydrophilic layer containing a hydrophilic resin and a water-dispersible filler on at least one surface of a substrate, wherein the water-dispersible filler is silica fine particles, and the surface of the silica fine particles Is subjected to a treatment with a hydrophilic resin, an inorganic treatment and / or an organic treatment, the average particle diameter is in the range of 0.2 to 10 μm, and the centerline surface roughness Ra of the surface of the hydrophilic layer is 0.1. A support for a lithographic printing plate having a range of ≦ Ra ≦ 1.2 μm, wherein the hydrophilic layer has a dissolution loss of 1% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour. 前記シリカの微粒子の含有量が5〜70質量%の範囲であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版用支持体。 2. The lithographic printing plate support according to claim 1, wherein the content of the silica fine particles is in the range of 5 to 70% by mass. 前記シリカの微粒子の平均粒径x(μm)と含有量y(質量%)の関係が、下記式1で表される範囲であることを特徴とする請求項1又は2記載の平版印刷版用支持体。
式1
(72.895−5.7895x)≧y≧(15.526−1.0526x)
3. The planographic printing plate according to claim 1, wherein the relationship between the average particle diameter x (μm) and the content y (mass%) of the silica fine particles is in a range represented by the following formula 1. Support.
Formula 1
(72.895-5.7895x) ≧ y ≧ (15.526-1.0526x)
前記親水性層の膜厚が1〜50μmであることを特徴とする請求項1、2又は3記載の平版印刷版用支持体。 The lithographic printing plate support according to claim 1, 2 or 3, wherein the hydrophilic layer has a thickness of 1 to 50 µm. 前記親水性層の表面のγhが20以上であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。 The lithographic printing plate support according to any one of claims 1 to 4, wherein γh of the surface of the hydrophilic layer is 20 or more. 前記親水性樹脂がポリアクリルアミド、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリエステル又はポリウレタンの骨格を有する樹脂から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。 The lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the hydrophilic resin is at least one selected from resins having a skeleton of polyacrylamide, gelatin, polyvinyl alcohol, polyester, or polyurethane. Support. 前記親水性樹脂がゼラチンであることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。 The lithographic printing plate support according to any one of claims 1 to 6, wherein the hydrophilic resin is gelatin. 前記シリカの微粒子の平均粒径が0.6〜7μmであることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の平版印刷版用支持体。 The lithographic printing plate support according to any one of claims 1 to 7, wherein an average particle diameter of the silica fine particles is 0.6 to 7 µm.
JP2006082418A 2006-03-24 2006-03-24 Support medium for planographic printing plate Pending JP2006224677A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006082418A JP2006224677A (en) 2006-03-24 2006-03-24 Support medium for planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006082418A JP2006224677A (en) 2006-03-24 2006-03-24 Support medium for planographic printing plate

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29212298A Division JP3812174B2 (en) 1998-10-14 1998-10-14 Heat-sensitive lithographic printing plate material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006224677A true JP2006224677A (en) 2006-08-31

Family

ID=36986415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006082418A Pending JP2006224677A (en) 2006-03-24 2006-03-24 Support medium for planographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006224677A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011167949A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd Thermal type lithographic printing plate
CN105974735A (en) * 2015-03-13 2016-09-28 三菱制纸株式会社 Process for forming solder resist patterns

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011167949A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd Thermal type lithographic printing plate
CN105974735A (en) * 2015-03-13 2016-09-28 三菱制纸株式会社 Process for forming solder resist patterns

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000335131A (en) Lithographic printing master plate
EP1172696A1 (en) Lithographic printing plate precursor
JP3713920B2 (en) Heat-sensitive lithographic printing plate material, method for producing the same, and image forming method
EP1277594B1 (en) Lithographic printing plate
EP1302313B1 (en) Lithographic printing plate precursor
JPH10254143A (en) Manufacture of positive-action planographic printing plate
JP3812174B2 (en) Heat-sensitive lithographic printing plate material
JP3901565B2 (en) Heat sensitive planographic printing plate
US20090286183A1 (en) Truly processless lithographic printing plate precursor
JP2006224677A (en) Support medium for planographic printing plate
US20040051768A1 (en) Preparing lithographic printing plates
JP3887966B2 (en) Thermal planographic printing plate material
JPH11301130A (en) Material for lithographic printing plate and method for engraving lithographic printing plate
US20030154874A1 (en) Thermo-sensitive recording type lithographical block material, method of making up lithographical block, and lithographical block made up by the making up method
JPH058575A (en) Original plate for lithography
JP4070390B2 (en) Planographic printing plate and planographic printing method
JP2002019315A (en) Support for lithographic printing plate and thermosensitive lithographic printing plate
JP2001080226A (en) Original plate for heat-sensitive lithographic printing plate
JP3767183B2 (en) Planographic printing plate and method for making a planographic printing plate
JP3797542B2 (en) Heat sensitive planographic printing plate
JP3733738B2 (en) Materials for lithographic printing plates
US6479216B1 (en) Method for obtaining a heat sensitive element by spray-coating
JP2001030645A (en) Original plate for lithographic printing and method for lithographic printing
JP2003118256A (en) Lithographic printing original plate
JP2003118257A (en) Manufacturing method for lithographic printing original plate

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090825

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091222