JP2006224553A - インクジェット用受像材料、その製造方法、及びそれを用いた画像形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 製造時にインク受容層を塗布し乾燥するときにひび割れが発生せず、インク浸透性が良好で、印画後の画像に対する耐オゾン性の優れたインクジェット用受像材料、及びその製造方法を提供する。更に、本発明は該受像材料を用いた画像形成方法を提供する。
【解決手段】 透明支持体上に2層以上のインク受容層を有し、該インク受容層の少なくとも1層が貫通孔型粒子を有し、該透明支持体に最も近い側のインク受容層がカチオン性化合物を含有することを特徴とするインクジェット用受像材料、その製造方法、及びそれを用いた画像形成方法。
【選択図】 なし
【解決手段】 透明支持体上に2層以上のインク受容層を有し、該インク受容層の少なくとも1層が貫通孔型粒子を有し、該透明支持体に最も近い側のインク受容層がカチオン性化合物を含有することを特徴とするインクジェット用受像材料、その製造方法、及びそれを用いた画像形成方法。
【選択図】 なし
Description
本発明は、インクジェット用受像材料、その製造方法、並びにそれを用いた画像形成方法に関する。
バックリット用受像材料は、(1)印字面より光を照射して印字面とは反対側の透明支持体側から観察するタイプと(2)支持体側から光を照射して印字面側から観察するタイプの2種類があるが、前者(1)は表示面が支持体側のため、濡れたり、汚れたりしても拭き取ることによりいつも鮮明な画像を表示でき、環境の影響を受けにくく、更に支持体がフイルムの場合表面が平滑で仕上がりも美しく高画質に見えるので好ましく用いられている。
しかし、支持体が透明フイルムの場合背後の照明器具が見えないようにするために隠蔽性の付与が必要となる。
しかし、支持体が透明フイルムの場合背後の照明器具が見えないようにするために隠蔽性の付与が必要となる。
そこで、支持体上に屈折率1.58以下の顔料を主体としたインク受容層を設け、インク受容層の隠蔽性を高めたバックリット用受像材料が提案された(特許文献1参照)。
この受像材料は隠蔽性の付与はされているものの記録画像の色相、色濃度、解像度等が劣るという欠点があった。
この受像材料は隠蔽性の付与はされているものの記録画像の色相、色濃度、解像度等が劣るという欠点があった。
これを改良するものとして、透光性基材上に非多孔性のインク保持層、その上に多孔質性のインク通液層を順次塗設したバックリットフイルムが開示された(例えば、特許文献2、3、4、5及び6参照)。
しかしながら、これらは基材と非孔質層との密着が悪く、この層間に僅かな空隙ができてその界面で乱反射が起きて濃度低下、彩度の低下等が発生しやすかったり、多量のインクを要する高濃度画像を印字する場合などインクの吸収が悪く、滲んだり、印画後のサンプルを重ねたりすると裏移り等が起こるという欠点を有していた。
特開昭58−136480号公報
特開昭62−140878号公報
特開昭62−222886号公報
特開昭62−242576号公報
特開昭63−34176号公報
特開平9−188065号公報
しかしながら、これらは基材と非孔質層との密着が悪く、この層間に僅かな空隙ができてその界面で乱反射が起きて濃度低下、彩度の低下等が発生しやすかったり、多量のインクを要する高濃度画像を印字する場合などインクの吸収が悪く、滲んだり、印画後のサンプルを重ねたりすると裏移り等が起こるという欠点を有していた。
本発明は、前記のごとき問題点、欠点を解決するためになされたものであり、その目的は、インク受容層を塗布し乾燥するときにひび割れが発生せず、インク浸透性が良好で、印画後の画像に対する耐オゾン性の優れたインクジェット用受像材料を提供する。更に、本発明は該受像材料を用いた画像形成方法を提供することにある。
<1> 透明支持体上に2層以上のインク受容層を有し、該インク受容層の少なくとも1層が貫通孔型粒子を有し、該透明支持体に最も近い側のインク受容層がカチオン性化合物を含有することを特徴とするインクジェット用受像材料。
<2> 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の上層の少なくとも1層が前記貫通孔型微粒子を含有することを特徴とする上記<1>に記載のインクジェット用受像材料。
<3> 前記貫通孔型微粒子を含有する層が透明支持体に最も遠い側のインク受容層であることを特徴とする上記<1>または<2>に記載のインクジェット用受像材料。
<4> 前記透明支持体から最も近い側のインク受容層及び最も遠い側のインク受容層が、カチオン性化合物と水溶性ポリマーを含む塗布液と、貫通孔型粒子と水溶性ポリマーを含む塗布液と、を該透明支持体上にこの順に重層塗布し、該塗布と同時に、あるいは該塗布した層が減率乾燥速度を示すようになる前に、該水溶性ポリマーをゲル化させることができるゲル化剤を含む溶液を付与し、ゲル化させることにより得られた層であることを特徴とする上記<1>〜<3>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<3> 前記貫通孔型微粒子を含有する層が透明支持体に最も遠い側のインク受容層であることを特徴とする上記<1>または<2>に記載のインクジェット用受像材料。
<4> 前記透明支持体から最も近い側のインク受容層及び最も遠い側のインク受容層が、カチオン性化合物と水溶性ポリマーを含む塗布液と、貫通孔型粒子と水溶性ポリマーを含む塗布液と、を該透明支持体上にこの順に重層塗布し、該塗布と同時に、あるいは該塗布した層が減率乾燥速度を示すようになる前に、該水溶性ポリマーをゲル化させることができるゲル化剤を含む溶液を付与し、ゲル化させることにより得られた層であることを特徴とする上記<1>〜<3>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<5> 前記カチオン性化合物と水溶性ポリマーを含む塗布液が、さらに貫通孔型微粒子を含有することを特徴とする上記<4>に記載のインクジェット用受像材料。
<6> 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の光透過率が50%以上であることを特徴とする上記<1>〜<5>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<7> 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層の光透過率が1%以上80%以下であることを特徴とする上記<1>〜<6>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<6> 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の光透過率が50%以上であることを特徴とする上記<1>〜<5>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<7> 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層の光透過率が1%以上80%以下であることを特徴とする上記<1>〜<6>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<8> 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層が白色顔料を含有することを特徴とする上記<1>〜<7>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<9> 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の平均細孔径が1nm以上100nm以下の範囲であることを特徴とする上記<1>〜<8>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<10> 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層の平均細孔径が100nm以上5000nm以下の範囲であることを特徴とする上記<1>〜<9>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<11> 上記<1>〜<10>のいずれか1項に記載の受像材料がバックリット用であることを特徴とするインクジェット用受像材料。
<9> 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の平均細孔径が1nm以上100nm以下の範囲であることを特徴とする上記<1>〜<8>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<10> 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層の平均細孔径が100nm以上5000nm以下の範囲であることを特徴とする上記<1>〜<9>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
<11> 上記<1>〜<10>のいずれか1項に記載の受像材料がバックリット用であることを特徴とするインクジェット用受像材料。
<12> 上記<1>〜<11>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料に、水溶性インクを用いて印字することを特徴とする画像形成方法。
<13> 上記<1>〜<8>、<10>及び<11>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料に、水溶性インクを用いて印字した後に、さらに加熱及び/又は加圧処理を行うことを特徴とする画像形成方法。
<14> 上記<4>に記載のインクジェット用受像材料の製造方法。
<13> 上記<1>〜<8>、<10>及び<11>のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料に、水溶性インクを用いて印字した後に、さらに加熱及び/又は加圧処理を行うことを特徴とする画像形成方法。
<14> 上記<4>に記載のインクジェット用受像材料の製造方法。
本発明によれば、インク浸透性が良好で、高速印画特性を有し、高精細で光学濃度の高いインクジェット用受像材料であり、単位面積あたりのインク使用量の多い画像を印画したときもインクを直ちに吸収し、印画着後のサンプル表面を手で触っても印字部がべたつかず、サンプル同士を重ねても裏移りが起こらず、ブロッキングによって印字面の接着故障が起こらず、更に印画後の画像に対する耐オゾン性の優れたインクジェット用受像材料を提供することができる。
本発明によれば、インク受容層を塗布し乾燥するときにひび割れが発生せず、良好な面質のインクジェット用受像材料を提供することができる。
更に、本発明によれば、該受像材料を用いて画像形成方法を提供することができる。
本発明によれば、インク受容層を塗布し乾燥するときにひび割れが発生せず、良好な面質のインクジェット用受像材料を提供することができる。
更に、本発明によれば、該受像材料を用いて画像形成方法を提供することができる。
本発明のインクジェット用受像材料は、透明支持体側から画像を観察するバックリット用受像材料として好ましく用いることができる。
≪インクジェット用受像材料≫
本発明のインクジェット用受像材料は、透明支持体上に2層以上のインク受容層を有し、該インク受容層の少なくとも1層が貫通孔型粒子を有し、かつ、該透明支持体に最も近い側のインク受容層がカチオン性化合物を含有することを特徴とする。
前記構成とすることにより、インク浸透性が良好で、高速印字が可能となる。
前記2層以上のインク受容層とは、それぞれ組成の異なる2層を重層塗布する場合、該2層間での相互作用が大きすぎるために、塗布が良好に行われない場合があり、そのような場合に、該2層の間に中間層的な役割を持つインク受容層を設けたりすることを意味する。該中間層的な役割を持つインク受容層は複数層あってもよい。
本発明のインクジェット用受像材料は、透明支持体上に2層以上のインク受容層を有し、該インク受容層の少なくとも1層が貫通孔型粒子を有し、かつ、該透明支持体に最も近い側のインク受容層がカチオン性化合物を含有することを特徴とする。
前記構成とすることにより、インク浸透性が良好で、高速印字が可能となる。
前記2層以上のインク受容層とは、それぞれ組成の異なる2層を重層塗布する場合、該2層間での相互作用が大きすぎるために、塗布が良好に行われない場合があり、そのような場合に、該2層の間に中間層的な役割を持つインク受容層を設けたりすることを意味する。該中間層的な役割を持つインク受容層は複数層あってもよい。
本発明のインクジェット用受像材料は、アニオン性基を有する水溶性染料を含んだ水溶性インクで印画されることが好ましい。
本発明のインクジェット用受像材料は、透明支持体上に2層以上のインク受容層が設けられ、少なくとも該透明支持体に最も近い側のインク受容層(第一受像層:第一層)がカチオン性化合物を有するが、該第一受像層の上層のインク受容層(多孔質層)の少なくとも1層は貫通孔型微粒子を有することが好ましく、特に、該透明支持体から最も遠い側のインク受容層に該貫通孔型微粒子を含有することが好ましい。
前記第一受像層は前記カチオン性化合物と共にさらに貫通孔型微粒子を含有することが好ましい。前記第一受像層に貫通孔型微粒子を用いる場合、印字後、加熱又は/加圧処理により透明化することが好ましく、この場合、第二受像層(上層)に白色顔料を含有させることが好ましい。
該貫通孔型微粒子を含有する層は極めてインク浸透性がよく、その層に印画されたインクは即座に下層のインク受容層(第一受像層:第一層)まで到達し、そこでカチオン性化合物によって固定される。
前記第一層より上層のインク受容層は一時的にインクを受容するが、直ちに下層の第一層に浸透させることが第一に要求される性能であり、前記貫通孔型微粒子はまさにその性能を達成するのに好適な素材であるため、前記第二層以上に用いられることが好ましい。
更に、第二層から上層のインク受容層にはカチオン性化合物は含まれていないことが好ましい。また、前記第一層は浸透してきたインク液中の色素を固定するのが第一に要求される性能であるが、インク吸収速度も速いことも好ましい。インク吸収速度が遅いと、第一層に吸収される前に第二層以上のインク受容層で横方向への拡散が起こり、インク滲みの原因となる。
以下、本発明のインクジェット用受像材料を、説明の便宜上、前記透明支持体に最も近い側のインク受容層を第一層(第一受像層)、その上層のインク受容層を第二層(多孔質層)の2層構造として説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、前述の通り、これらの中間に中間的なインク受容層を設けることができる。
本発明のインクジェット用受像材料は、透明支持体上に2層以上のインク受容層が設けられ、少なくとも該透明支持体に最も近い側のインク受容層(第一受像層:第一層)がカチオン性化合物を有するが、該第一受像層の上層のインク受容層(多孔質層)の少なくとも1層は貫通孔型微粒子を有することが好ましく、特に、該透明支持体から最も遠い側のインク受容層に該貫通孔型微粒子を含有することが好ましい。
前記第一受像層は前記カチオン性化合物と共にさらに貫通孔型微粒子を含有することが好ましい。前記第一受像層に貫通孔型微粒子を用いる場合、印字後、加熱又は/加圧処理により透明化することが好ましく、この場合、第二受像層(上層)に白色顔料を含有させることが好ましい。
該貫通孔型微粒子を含有する層は極めてインク浸透性がよく、その層に印画されたインクは即座に下層のインク受容層(第一受像層:第一層)まで到達し、そこでカチオン性化合物によって固定される。
前記第一層より上層のインク受容層は一時的にインクを受容するが、直ちに下層の第一層に浸透させることが第一に要求される性能であり、前記貫通孔型微粒子はまさにその性能を達成するのに好適な素材であるため、前記第二層以上に用いられることが好ましい。
更に、第二層から上層のインク受容層にはカチオン性化合物は含まれていないことが好ましい。また、前記第一層は浸透してきたインク液中の色素を固定するのが第一に要求される性能であるが、インク吸収速度も速いことも好ましい。インク吸収速度が遅いと、第一層に吸収される前に第二層以上のインク受容層で横方向への拡散が起こり、インク滲みの原因となる。
以下、本発明のインクジェット用受像材料を、説明の便宜上、前記透明支持体に最も近い側のインク受容層を第一層(第一受像層)、その上層のインク受容層を第二層(多孔質層)の2層構造として説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、前述の通り、これらの中間に中間的なインク受容層を設けることができる。
このような目的であった第一受像層としては以下の二つのタイプが好ましい。
第一のタイプはカチオン性化合物を含む多孔質層であることが好ましい。該多孔質層としては無機微粒子により形成された多孔質層でもよいが、好ましくは有機微粒子による多孔質層、特に貫通孔型微粒子を含有する多孔質層が好ましく用いられる。
第二のタイプはカチオン性化合物を含む膨潤層であることが好ましい。該膨潤層としては、該カチオン性化合物と高膨潤性ポリマーとを含む層であっても、また、該カチオン性化合物がカチオン性基を含む高膨潤性ポリマーであることも好ましい。
第一のタイプはカチオン性化合物を含む多孔質層であることが好ましい。該多孔質層としては無機微粒子により形成された多孔質層でもよいが、好ましくは有機微粒子による多孔質層、特に貫通孔型微粒子を含有する多孔質層が好ましく用いられる。
第二のタイプはカチオン性化合物を含む膨潤層であることが好ましい。該膨潤層としては、該カチオン性化合物と高膨潤性ポリマーとを含む層であっても、また、該カチオン性化合物がカチオン性基を含む高膨潤性ポリマーであることも好ましい。
<貫通孔型粒子>
貫通孔型粒子は、粒子のある面(エリア)から他の面(エリア)に貫通する孔を有する粒子である。更に、該貫通孔型粒子は、有機微粒子であることが印字後行う加熱及び/又は加圧処理の効果が出やすい点で好ましい。
該孔のサイズは該粒子のサイズの1/100〜1/2、好ましくは1/30〜1/2、更に好ましくは1/10〜1/2である。特に中空粒子の殻に上記サイズの孔が開いている粒子が好ましい。該中空粒子の殻の厚さは粒径の1/10〜1/1.5、好ましくは1/5〜1/2である。
インク受容層に貫通孔型粒子を含有させて形成することにより、粒子間の空隙のみならず、貫通孔にもインクを吸収(収容)することができるため、インク受容層全体としてのインクの吸収性が向上する。
貫通孔型粒子の表面は、疎水的あるいは疎水的な部分があるため、溶剤系インク、UVインクの吸収性は良好と推定される。また、疎水性部と親水性部とを有する界面活性剤(高分子のものも含む)で表面を親水化することにより、水溶性インクに対しても親和性が増し、吸収性(インク浸透性)がアップするものと期待される。
貫通孔型粒子は、粒子のある面(エリア)から他の面(エリア)に貫通する孔を有する粒子である。更に、該貫通孔型粒子は、有機微粒子であることが印字後行う加熱及び/又は加圧処理の効果が出やすい点で好ましい。
該孔のサイズは該粒子のサイズの1/100〜1/2、好ましくは1/30〜1/2、更に好ましくは1/10〜1/2である。特に中空粒子の殻に上記サイズの孔が開いている粒子が好ましい。該中空粒子の殻の厚さは粒径の1/10〜1/1.5、好ましくは1/5〜1/2である。
インク受容層に貫通孔型粒子を含有させて形成することにより、粒子間の空隙のみならず、貫通孔にもインクを吸収(収容)することができるため、インク受容層全体としてのインクの吸収性が向上する。
貫通孔型粒子の表面は、疎水的あるいは疎水的な部分があるため、溶剤系インク、UVインクの吸収性は良好と推定される。また、疎水性部と親水性部とを有する界面活性剤(高分子のものも含む)で表面を親水化することにより、水溶性インクに対しても親和性が増し、吸収性(インク浸透性)がアップするものと期待される。
貫通孔型粒子の表面を親水化するための界面活性剤としては、以下の明細書又は公報に記載のものが挙げられる。即ち、米国特許第2240469号、同2240470号、同2240471号、同2240472号、2240475号、2240476号、2353279号、同2719087号、同2739891号、同2801191号、同2813123号、同2843487号、3003877号、3026202号、同3038804号、同3041171号、同3038804号、同3041171号、同3068101号、3165409号、同3169870号、3201252号、同3220847号、同3306749号、同3408193号、同3425857号、同3437485号、同3502473号、同3506449号、同3514293号、同3539352号、同564576号、同3573049号、同3607291号、同3775126号、同3850640号、同3909272号、同887012号、
米国出願第230519号、同442794号、同480101号、同515179号、同580872号、英国特許第774806号、同867842号、同874081号、同1186866号、特公昭43−10247号、同43−13481号、同43−24722号、同44−22659号、同45−38945号、同46−21985号、同49−16051号、特開昭48−43924号、同49−37623号、同50−46133号、同51−7917号、同53−21922号、同53−49427号、同54−98235号、同51−3219号、特公昭39−18702号、同40−376号、同40−1701号、同40−23747号、同43−13166号、同43−17922号、同44−22661号、同45−3830号、同45−334767号、同46−21183号、同46−25954号、46−31191号、同46−43428号、同47−4639号、同47−5318号、同47−15801号、特願昭42−58329号、
英国特許第1039183号、同1178546号、同1301828号、同1320880号、同1336164号、同1336172号、同1344987号、同1345533号、西独特許第1171738号、同1186743号、ベルギー特許第609782号、同543287号、米国特許第3042222号、同3113816号、同3442654号、同3516835号、同3563756号、同3617292号、同3619199号、同3725079号、同3725680号、米国出願第505453号、同579213号、米国特許第3493379号、同3416923号、同3542581号、同3619195号、同3963688号、特開昭47−23378号、同48−9979号、同48−30933号、同50−66230号、同50−80119号、同51−25133号、同53−138726号、同50−34233号、特開昭41−72675号、
英国特許第1346425号、同1346426号、同1498697号、西独特許第1772129号、同2049689号、同1201136号、同1597492号、米国特許第3565625号、同3679411号、同2848330号、同2940851号、同2944900号、同2944902号、同3017271号、同3061437号、同3062647号、同3068102号、同3128183号、同3434833号、同3523023号、3706562号、同3869289号、特公昭49−33788号、同53−12380号、同53−15831号、ベルギー特許第611864号、西独特許第1151437号、同1472790号、同1772315号、同1816570号、同1816572号、同2845907号、英国特許第1351498号、同1326358号、同1455413号、同1463659号、同1488991号、同1212312号、英国特許第3084044号、同3113026号、同2937087号、特開昭47−42001号、同49−55335号、同50−156423号、同53−44025号、同49−24427号、
英国特許第1491902号、特開昭48−23436号、同48−63735号、同48−94433号、同50−57437号、米国特許第3062654号、同3093479号、同3396028号、同3743504号、リサーチディスクロージャNo.17643(1978年12月)、特公昭45−6629号、同47−41833号、同49−4530号、同54−15751号、同54−17832号、同54−89624号、特公昭45−6630号、同47−4417号、同47−15801号、同48−34166号、同50−40660号、同51−848号、西独特許第1202136号、同1447585号、同1472274号、同2641284号、同22031116号、ベルギー特許第605378号、同622859号、同631905号、同631557号、英国特許第1327032号、同1358848号、米国特許第3597214号、同3615612号、同3493379号、同3798265号、
リサーチディスクロージャNo.11666(1973年12月)、米国特許第3705806号、特開昭55−59464号、同50−113221号、同55−22754号、同55−79435号、同54−81829号、同57−85047号、同57−104925号、同58−86540号、同58−90633号、同56−81841号、同53−138726号、ヨーロッパ特許19800号、同153133号、同60−203935号、同60−200251号、同60−209732号等である。
以下に好ましい具体例化合物を例示する。
貫通孔型粒子の体積平均粒径としては、0.1〜10μmであることが好ましく、0.2〜7μmであることがより好ましい。ここで、貫通孔型粒子の体積平均粒径は、レーザー回折/散乱式粒径測定装置LA−910(堀場製作所製)によって測定される数値である。該径は走査型電子顕微鏡(SEM)により測定することもできる。
以上のような貫通孔型粒子の具体例としては、有機微粒子であることが好ましく、該有機粒子として、スチレン系及び/又はアクリル系が好ましい。具体的には、三井化学社製ミューティクルPP−2000TX(スチレン・アクリル系)が挙げられる。
貫通孔型粒子は、例えば、特開平5−222108号公報及び特開平5−112606号公報に記載の方法により製造することができる。
前記貫通孔型粒子は、印画後行う加熱及び/又は加圧処理により画像の鮮明さを発現させる上で熱可塑性であることが好ましい。
貫通孔型粒子は、例えば、特開平5−222108号公報及び特開平5−112606号公報に記載の方法により製造することができる。
前記貫通孔型粒子は、印画後行う加熱及び/又は加圧処理により画像の鮮明さを発現させる上で熱可塑性であることが好ましい。
前記貫通孔型粒子は、第二層以上のインク受容層のみならず、第一層にも用いることが好ましい。
該貫通孔型微粒子の含有量は、印字後の加熱又は/及び加圧処理を行うかどうかによって好ましい量が異なる。即ち、印字後の加熱又は/及び加圧処理を行わない場合は、貫通孔微粒子自体が光散乱体となり、印字後の加熱又は/及び加圧処理を行う場合は、貫通孔型微粒子の孔は見かけ上なくなり透明となるため、それぞれ好ましい含有量が異なる。
該貫通孔型微粒子の含有量は、印字後の加熱又は/及び加圧処理を行うかどうかによって好ましい量が異なる。即ち、印字後の加熱又は/及び加圧処理を行わない場合は、貫通孔微粒子自体が光散乱体となり、印字後の加熱又は/及び加圧処理を行う場合は、貫通孔型微粒子の孔は見かけ上なくなり透明となるため、それぞれ好ましい含有量が異なる。
(1)インクジェット用受像材料に水溶性インクで印字後、加熱又は/及び加圧処理を行う場合、第一層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、第一層の全固形成分量に対して、乾燥時のひび割れ(脆性)とインク浸透性とのバランスから、30〜98質量%、好ましくは50〜95質量%、特に好ましくは60〜90質量%である。
第二層には白色顔料を含有することが好ましい。第二層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、無機白色顔料と併用する形で、乾燥時のひび割れ(脆性)とインク浸透性とのバランスの観点から、第二層の全固形成分量に対して、50〜99質量%、好ましくは70〜98質量%、特に好ましくは80〜97質量%である。
またこの時の、第一層(第一受像層)の平均細孔径は1nm以上、5000nm以下が好ましく、10nm以上、3000nm以下が更に好ましく、15nm以上、2000nm以下が特に好ましい。第二層以上の多孔質層の平均細孔径は、100nm以上、5000nm以下が好ましく、100nm以上、3000nm以下が更に好ましく、100nm以上、2000nm以下が特に好ましい。
第二層には白色顔料を含有することが好ましい。第二層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、無機白色顔料と併用する形で、乾燥時のひび割れ(脆性)とインク浸透性とのバランスの観点から、第二層の全固形成分量に対して、50〜99質量%、好ましくは70〜98質量%、特に好ましくは80〜97質量%である。
またこの時の、第一層(第一受像層)の平均細孔径は1nm以上、5000nm以下が好ましく、10nm以上、3000nm以下が更に好ましく、15nm以上、2000nm以下が特に好ましい。第二層以上の多孔質層の平均細孔径は、100nm以上、5000nm以下が好ましく、100nm以上、3000nm以下が更に好ましく、100nm以上、2000nm以下が特に好ましい。
(2)インクジェット用受像材料に水溶性インクで印字後、加熱又は/及び加圧処理を行わない場合、第一層にはカチオン性の膨潤性ポリマー層が好ましいが、よりインク吸収性を高めるために細孔径の小さい多孔質層とすることも好ましい。また、貫通孔型粒子を少量用いることも好ましい。
第一層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、第一層の全固形成分量に対して、インク受容層の透明性とインク浸透性のバランスから判断して、0.1〜30質量%、好ましくは0.1〜20質量%、特に好ましくは0.1〜15質量%である。
第二層には散乱度を調節するために白色顔料を含有することもできる。
第二層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、第二層の全固形成分量に対して、50〜99質量%、好ましくは70〜98質量%、特に好ましくは80〜97質量%である。
また第一層に貫通孔型微粒子を添加する場合、第一層の平均細孔径はlnm以上、100nm以下が好ましく、10nm以上、80nm以下が更に好ましく、15nm以上、50nm以下が特に好ましい。第二層以上の多孔質層の平均細孔径は100nm以上、5000nm以下が好ましく、100nm以上、3000nm以下が更に好ましく、100mm以上、2000mm以下が特に好ましい。
第一層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、第一層の全固形成分量に対して、インク受容層の透明性とインク浸透性のバランスから判断して、0.1〜30質量%、好ましくは0.1〜20質量%、特に好ましくは0.1〜15質量%である。
第二層には散乱度を調節するために白色顔料を含有することもできる。
第二層に用いる貫通孔型微粒子の含有量は、第二層の全固形成分量に対して、50〜99質量%、好ましくは70〜98質量%、特に好ましくは80〜97質量%である。
また第一層に貫通孔型微粒子を添加する場合、第一層の平均細孔径はlnm以上、100nm以下が好ましく、10nm以上、80nm以下が更に好ましく、15nm以上、50nm以下が特に好ましい。第二層以上の多孔質層の平均細孔径は100nm以上、5000nm以下が好ましく、100nm以上、3000nm以下が更に好ましく、100mm以上、2000mm以下が特に好ましい。
本発明における「平均細孔径」は、Washburnによって提案された水銀圧入法(「表面」第13巻第10号第588頁に記載の浦野紘平著による「多孔質材料の細孔分布測定法の理論、装置及び問題点(その1)」)によって測定される。測定装置としては水銀ポロシメーター((株)島津製作所の商品名「ポアサイザー9320−PC2」)が用いられる。
また、本発明における多孔質層であるインク受容層の平均細孔径の測定が、上記水銀圧入法による測定が正確にできない場合、受像材料の断面(切片)を走査型電子顕微鏡写真を複数の倍率で撮影し、スキャナー入力法でデジタル化した後、コンピューター画像解析によって抽出された各空隙部分の面積と等しい面積を有する円の直径の分布を換算して求めた平均径(数平均)を、平均細孔径とする。
本発明におけるインク受容層の空隙率は、インク受容層中の空隙の割合を意味する。インク受容層中の空隙は、膜の断面を走査型顕微鏡(SEM)等によって観察することができ、その空隙率は、公知の方法によって求めることができる。例えば、水銀圧入式ポロシメトリー法、窒素吸着測定法により、また、簡易的にはインクそのものやインク中に含まれる溶剤(ジエチレングリコール等)をしみ込ませ、その吸収量から求めることができる。
本発明におけるインク受容層の空隙率は、インク受容層中の空隙の割合を意味する。インク受容層中の空隙は、膜の断面を走査型顕微鏡(SEM)等によって観察することができ、その空隙率は、公知の方法によって求めることができる。例えば、水銀圧入式ポロシメトリー法、窒素吸着測定法により、また、簡易的にはインクそのものやインク中に含まれる溶剤(ジエチレングリコール等)をしみ込ませ、その吸収量から求めることができる。
以下、本発明におけるカチオン性化合物について詳細に説明する。
<カチオン性化合物>
本発明のインクジェット用受像材料は、アニオン性色素をインク受容層に固定するために、カチオン性化合物を用いることを特徴とする。
カチオン性化合物としては、カチオン性のポリマー(カチオン性媒染剤)、又は無機媒染剤が好ましく用いられる。また、前記第一受像層が膨潤層のとき、カチオン性基を含む高膨潤性ポリマーも好適に用いられる。該カチオン性基を含む高膨潤性ポリマーは下記のカチオン性媒染剤を塗布液の架橋剤により部分的に架橋することによっても得られる。該架橋剤は、後述の架橋剤や多価塩基酸が用いられる。
カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第1級〜第3級アミノ基、又は第4級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。これら媒染剤は、インク受容層のインク吸収性良化の観点から、重量平均分子量が500〜100000の化合物が好ましい。
上記ポリマー媒染剤としては、第1級〜第3級アミノ基及びその塩、又は第4級アンモニウム塩基を有する単量体(媒染モノマー)の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー(以下、「非媒染モノマー」という。)との共重合体又は縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマー又は水分散性ラテックス粒子のいずれの形態でも使用できる。
<カチオン性化合物>
本発明のインクジェット用受像材料は、アニオン性色素をインク受容層に固定するために、カチオン性化合物を用いることを特徴とする。
カチオン性化合物としては、カチオン性のポリマー(カチオン性媒染剤)、又は無機媒染剤が好ましく用いられる。また、前記第一受像層が膨潤層のとき、カチオン性基を含む高膨潤性ポリマーも好適に用いられる。該カチオン性基を含む高膨潤性ポリマーは下記のカチオン性媒染剤を塗布液の架橋剤により部分的に架橋することによっても得られる。該架橋剤は、後述の架橋剤や多価塩基酸が用いられる。
カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第1級〜第3級アミノ基、又は第4級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。これら媒染剤は、インク受容層のインク吸収性良化の観点から、重量平均分子量が500〜100000の化合物が好ましい。
上記ポリマー媒染剤としては、第1級〜第3級アミノ基及びその塩、又は第4級アンモニウム塩基を有する単量体(媒染モノマー)の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー(以下、「非媒染モノマー」という。)との共重合体又は縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマー又は水分散性ラテックス粒子のいずれの形態でも使用できる。
上記単量体(媒染モノマー)としては、例えば、トリメチル−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−m−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−m−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−エチル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジエチル−N−メチル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−n−プロピル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−n−オクチル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−ベンジル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジエチル−N−ベンジル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−(4−メチル)ベンジル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−フェニル−N−p−ビニルベンジルアンモニウムクロライド;
トリメチル−p−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−m−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−p−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−m−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−p−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−m−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、N,N,N−トリエチル−N−2−(4−ビニルフェニル)エチルアンモニウムクロライド、N,N,N−トリエチル−N−2−(3−ビニルフェニル)エチルアンモニウムクロライド、N,N−ジエチル−N−メチル−N−2−(4−ビニルフェニル)エチルアンモニウムクロライド、N,N−ジエチル−N−メチル−N−2−(4−ビニルフェニル)エチルアンモニウムアセテート;
N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる4級化物、又はそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
具体的には、例えば、モノメチルジアリルアンモニウムクロライド、トリメチル−2−(メタクリロイルオキシ)エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−2−(メタクリロイルオキシ)エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−2−(アクリロイルオキシ)エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−2−(アクリロイルオキシ)エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−3−(メタクリロイルオキシ)プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−3−(メタクリロイルオキシ)プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−2−(メタクリロイルアミノ)エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−2−(メタクリロイルアミノ)エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−2−(アクリロイルアミノ)エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−2−(アクリロイルアミノ)エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−3−(メタクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−3−(メタクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−3−(アクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−3−(アクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムクロライド;
N,N−ジメチル−N−エチル−2−(メタクリロイルオキシ)エチルアンモニウムクロライド、N,N−ジエチル−N−メチル−2−(メタクリロイルオキシ)エチルアンモニウムクロライド、N,N−ジメチル−N−エチル−3−(アクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−2−(メタクリロイルオキシ)エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−3−(アクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−2−(メタクリロイルオキシ)エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−3−(アクリロイルアミノ)プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
その他、共重合可能なモノマーとして、N―ビニルイミダゾール、N―ビニル−2−メチルイミダゾール等も挙げられる。
その他、共重合可能なモノマーとして、N―ビニルイミダゾール、N―ビニル−2−メチルイミダゾール等も挙げられる。
また、アリルアミン、ジアリルアミンやその誘導体、塩なども利用できる。このような化合物の例としてはアリルアミン、アリルアミン塩酸塩、アリルアミン酢酸塩、アリルアミン硫酸塩、ジアリルアミン、ジアリルアミン塩酸塩、ジアリルアミン酢酸塩、ジアリルアミン硫酸塩、ジアリルメチルアミン及びこの塩(該塩としては、例えば、塩酸塩、酢酸塩、硫酸塩など)、ジアリルエチルアミン及びこの塩(該塩としては、例えば、塩酸塩、酢酸塩、硫酸塩など)、ジアリルジメチルアンモニウム塩(該塩の対アニオンとしてはクロライド、酢酸イオン硫酸イオンなど)が挙げられる。尚、これらのアリルアミン及びジアリルアミン誘導体はアミンの形態では重合性が劣るので塩の形で重合し、必要に応じて脱塩することが一般的である。
また、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミドなどの単位を用い、重合後に加水分解によってビニルアミン単位とすること、及びこれを塩にしたものも利用できる。
また、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミドなどの単位を用い、重合後に加水分解によってビニルアミン単位とすること、及びこれを塩にしたものも利用できる。
前記非媒染モノマーとは、第1級〜第3級アミノ基及びその塩、又は第4級アンモニウム塩基等の塩基性あるいはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、あるいは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
上記非媒染モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル;(メタ)アクリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸アリールエステル;(メタ)アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル;スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;酢酸アリル等のアリルエステル類;塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体;(メタ)アクリロニトリル等のシアン化ビニル;エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等が挙げられる。
上記非媒染モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル;(メタ)アクリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸アリールエステル;(メタ)アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル;スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;酢酸アリル等のアリルエステル類;塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体;(メタ)アクリロニトリル等のシアン化ビニル;エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等が挙げられる。
上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が挙げられる。
中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
上記非媒染モノマーも、一種単独で又は二種以上を組合せて使用できる。
中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
上記非媒染モノマーも、一種単独で又は二種以上を組合せて使用できる。
更に、前記ポリマー媒染剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムクロライドと他のモノマー(媒染モノマー、非媒染モノマー)との共重合体、ジアリルジメチルアンモニウムクロライドとSO2との共重合体、ポリジアリルメチルアミン塩酸塩、ポリジアリル塩酸塩等に代表される環状アミン樹脂及びその誘導体(共重合体も含む);ポリジエチルメタクリロイルオキシエチルアミン、ポリトリメチルメタクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライド、ポリジメチルベンジルメタクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライド、ポリジメチルヒドロキシエチルアクリロイルオキシエチルアンモニウムクロリド等に代表される2級アミノ、3級アミノ又は4級アンモニウム塩置換アルキル(メタ)アクリレート重合体及び他のモノマーとの共重合体;ポリエチレンイミン及びその誘導体、ポリアリルアミン及びその誘導体、ポリビニルアミン及びその誘導体等に代表されるポリアミン系樹脂;ポリアミド−ポリアミン樹脂、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂等に代表されるポリアミド樹脂;カチオン化でんぷん、キトサン及びキトサン誘導体等に代表される多糖類;ジシアンジアミドホルマリン重縮合物、ジシアンジアミドジエチレントリアミン重縮合物等に代表されるジシアンジアミド誘導体;ポリアミジン及びポリアミジン誘導体;ジメチルアミンエピクロロヒドリン付加重合物等に代表されるジアルキルアミンエピクロロヒドリン付加重合物及びその誘導体;第4級アンモニウム塩置換アルキル基を有するスチレン重合体及びその他のモノマーとの共重合体等も好ましいものとして挙げることができる。
前記ポリマー媒染剤として、具体的には、特開昭48−28325号、同54−74430号、同54−124726号、同55−22766号、同55−142339号、同60−23850号、同60−23851号、同60−23852号、同60−23853号、同60−57836号、同60−60643号、同60−118834号、同60−122940号、同60−122941号、同60−122942号、同60−235134号、特開平1−161236号の各公報、米国特許2484430、同2548564号、同3148061号、同3309690号、同4115124号、同4124386号、同4193800号、同4273853号、同4282305号、同4450224号、特開平1−161236号、同10−81064号、同10−157277号、同10−217601号、特開2001−138621号、同2000−211235号、同2001−138627号、特開平8−174992号、特公平5‐35162号、同5−35163号、同5‐35164号、同5−88846号、特許第2648847号、同2661677号等の各公報に記載のもの等が挙げられる。
本発明において、媒染剤としては無機媒染剤を用いることも可能で、多価の水溶性金属塩や疎水性金属塩化合物が挙げられる。
無機媒染剤の具体例としては、例えば、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、インジウム、バリウム、ランタン、セリウム、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、ジスロプロシウム、エルビウム、イッテルビウム、ハフニウム、タングステン、ビスマスから選択される金属の塩又は錯体が挙げられる。
無機媒染剤の具体例としては、例えば、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、インジウム、バリウム、ランタン、セリウム、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、ジスロプロシウム、エルビウム、イッテルビウム、ハフニウム、タングステン、ビスマスから選択される金属の塩又は錯体が挙げられる。
具体的には例えば、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸バリウム、硫酸バリウム、リン酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガンニ水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅(II)二水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、アルミニウムミョウバン、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硝酸アルミニウム、塩基性ギ酸アルミニウム、塩基性酢酸アルミニウム、塩基性アルミニウムグリシネート、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、フェノールスルホン酸亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、四塩化チタン、テトライソプロピルチタネート、チタンアセチルアセトネート、乳酸チタン、ジルコニウムアセチルアセトネート、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム、ステアリン酸ジルコニル、オクチル酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、乳酸ジルコニル、こはく酸ジルコニル、蓚酸ジルコニル、酢酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、塩基性ジルコニウムグリシネート、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、リンタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、12タングストリン酸n水和物、12タングストけい酸26水和物、塩化モリブデン、12モリブドリン酸n水和物、硝酸ガリウム、硝酸ゲルマニウム、硝酸ストロンチウム、酢酸イットリウム、塩化イットリウム、硝酸イットリウム、硝酸インジウム、硝酸ランタン、塩化ランタン、酢酸ランタン、安息香酸ランタン、塩化セリウム、硫酸セリウム、オクチル酸セリウム、硝酸プラセオジミウム、硝酸ネオジミウム、硝酸サマリウム、硝酸ユーロピウム、硝酸ガドリニウム、硝酸ジスプロシウム、硝酸エルビウム、硝酸イッテルビウム、塩化ハフニウム、硝酸ビスマス等があげられる。
無機媒染剤としては、アルミニウム含有化合物、チタン含有化合物、ジルコニウム含有化合物、元素周期律表第IIIB族シリーズの金属化合物(塩又は錯体)が好ましい。
前記カチオン性基を含む高膨潤性ポリマーとしては、ベタインモノマー(例えば、同一モノマー中に4級アンモニウム又はアミノ基と、カルボキシル基又はスルフォン基を含む)を少なくとも5モル%以上含む水溶性又は水分散性ポリマーが挙げられる。
これらの媒染剤をインク受容層を形成する塗布液に直接添加することもできるが、直接インク受像層中に添加できない場合は第一層のインク受容層(インク受像層)を形成する塗布液を塗布乾燥後、又は乾燥途中(生乾きの状態)で、媒染剤を含む液をディップ法、カーテンコート法、イクストルージョン法等で別途塗布する方法が好ましい。
該カチオン性化合物の含有量は、特に限定されず第一受像層中に用いることができるが、含有量が多すぎるとインク浸透性が低下することから色素の媒染性とインク浸透性のバランスを考慮して、第一受像層の全固形成分量に対して、0.1〜20質量%であることが好ましく、0.2〜15質量%が更に好ましく、特に0.3〜10質量%が好ましい。
<高膨潤性ポリマー>
本発明の受像材料の第一受像層がカチオン性化合物を含む膨潤層であるとき、前述の通り、前記高膨潤性ポリマーを用いることが好ましいが、該高膨潤性ポリマーとしては、特に限定されるものではないが、カルボキシル基又はスルフォン基を5モル%以上含み、部分的に化学架橋又は物理架橋(水素結合、部分結晶化等)を有する水溶性又は水分散性ポリマー等挙げることができ、中でも、アクリル酸とビニルアルコールのブロック重合体が好ましく、アクリル酸とビニルアルコールの重合モル比70:30〜40:60のものがより好ましい。
ここで、高膨潤性とは、塗布膜を水に浸漬したときに直ちに(数秒以内、好ましくは1秒以内に)乾膜厚の2倍以上の好ましくは3倍以上の膨潤膜厚に膨潤する特性を有すると定義する。
本発明の受像材料の第一受像層がカチオン性化合物を含む膨潤層であるとき、前述の通り、前記高膨潤性ポリマーを用いることが好ましいが、該高膨潤性ポリマーとしては、特に限定されるものではないが、カルボキシル基又はスルフォン基を5モル%以上含み、部分的に化学架橋又は物理架橋(水素結合、部分結晶化等)を有する水溶性又は水分散性ポリマー等挙げることができ、中でも、アクリル酸とビニルアルコールのブロック重合体が好ましく、アクリル酸とビニルアルコールの重合モル比70:30〜40:60のものがより好ましい。
ここで、高膨潤性とは、塗布膜を水に浸漬したときに直ちに(数秒以内、好ましくは1秒以内に)乾膜厚の2倍以上の好ましくは3倍以上の膨潤膜厚に膨潤する特性を有すると定義する。
<白色顔料>
前記バックリット用受像材料の場合は、光の散乱によるバックリット機能の向上のため、支持体側から遠い側のインク受容層(多孔質層)に白色顔料を含有することが好ましい。
該白色顔料は非熱可塑性であることが好ましく、例えば、加熱加圧したとき、バックリット用受像材料に含有される貫通孔型粒子の細孔は塞がるが、光は無機白色顔料により散乱するためバックリットとしての機能は向上する。また、同時に細孔が塞がるが、耐オゾン性はアップする傾向となり好ましい。
前記バックリット用受像材料の場合は、光の散乱によるバックリット機能の向上のため、支持体側から遠い側のインク受容層(多孔質層)に白色顔料を含有することが好ましい。
該白色顔料は非熱可塑性であることが好ましく、例えば、加熱加圧したとき、バックリット用受像材料に含有される貫通孔型粒子の細孔は塞がるが、光は無機白色顔料により散乱するためバックリットとしての機能は向上する。また、同時に細孔が塞がるが、耐オゾン性はアップする傾向となり好ましい。
該白色顔料としては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化チタン、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、リトポン、アルミナ白、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、珪藻土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、シリカ三酸化アンチモン、燐酸チタン、水酸化アルミニウム、カオリン、クレー、タルク、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、ゼオライト、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム等の白色無機顔料、スチレン系プラスチックピグメント、アクリル系プラスチックピグメント、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、メラミン樹脂等の有機顔料等が挙げられる。これらは単独あるいは二種以上を混合して用いることができる。これらの内、特に酸化チタンが、光散乱性、白色度、分散性及び安定性の観点から好ましい。
前記白色顔料の粒子サイズとしては、0.05〜1μmが好ましく、0.1〜0.8μmが更に好ましく、0.1〜0.5μmが特に好ましい。該粒子サイズを特に上記範囲にすることによって、白色度が低下したりあるいは光沢度が低下するのを効果的に回避することができる。
酸化チタンはルチル系であっても、アナターゼ型でもよく、それらを単独又は混合して使用してもよい。また硫酸法で製造されたものでも、塩素法で製造されたものでもよい。酸化チタンとしては、含水アルミナ処理、含水二酸化ケイ素系処理又は酸化亜鉛処理等の無機物質による表面被覆処理したもの、トリメチロールメタン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、2、4−ジヒドロキシ−2−メチルペンタン等の有機物質による表面被覆処理したもの、あるいはポリジメチルシロキサン等のシロキサン処理したものを適宜用いることができる。
白色顔料の屈折率としては、1.5以上であるのが好ましく、高屈折率のものは、前記好ましい粒子径のうち、小さ目のものを用いることが好ましい。
該白色顔料の塗布量は、特に限定されるものではないが、インク受容層が形成された側と反対側のバック側から蛍光灯等の照明器具で光照射したとき、出来るだけ明るく見えると同時に該照明器具が見えない程度が好ましく、0.1〜10g/m2であることが好ましく、0.2〜8g/m2が更に好ましく、特に0.3〜5g/m2が好ましい。
(他の添加剤)
本発明におけるインク受容層又は/及びその隣接層には、公知のインクジェット記録用材料のインク受容層に添加する水溶性ポリマー、ゲル化剤を添加することが製造のし易さ、ひび割れ防止の点から好ましい。更に、必要に応じて、微粒子、等を適宜添加することができる。
本発明におけるインク受容層又は/及びその隣接層には、公知のインクジェット記録用材料のインク受容層に添加する水溶性ポリマー、ゲル化剤を添加することが製造のし易さ、ひび割れ防止の点から好ましい。更に、必要に応じて、微粒子、等を適宜添加することができる。
<水溶性ポリマー>
水溶性ポリマーとしては、例えば、親水性構造単位としてヒドロキシ基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔ポリビニルアルコール(PVA)、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース(MC)、エチルセルロース(EC)、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒドロキシプロピルセルロース(HPC)、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔ポリエチレンオキサイド(PEO)、ポリプロピレンオキサイド(PPO)、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル(PVE)等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔ポリアクリルアミド(PAAM)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
前記第一受像層において、インク吸液性を高めるために高吸水性ポリマー層とすることは好ましい。高吸水性ポリマー層は前記水溶性ポリマーを後記の架橋剤により部分架橋することにより得られる。特にアクリル酸とビニルアルコールのブロック共重合体は特に好ましく用いられる。該ブロック共重合体とイミダゾール基を官能基に有するポリマー媒染剤との併用は好ましい組み合わせである。
水溶性ポリマーとしては、例えば、親水性構造単位としてヒドロキシ基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔ポリビニルアルコール(PVA)、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース(MC)、エチルセルロース(EC)、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒドロキシプロピルセルロース(HPC)、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔ポリエチレンオキサイド(PEO)、ポリプロピレンオキサイド(PPO)、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル(PVE)等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔ポリアクリルアミド(PAAM)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
前記第一受像層において、インク吸液性を高めるために高吸水性ポリマー層とすることは好ましい。高吸水性ポリマー層は前記水溶性ポリマーを後記の架橋剤により部分架橋することにより得られる。特にアクリル酸とビニルアルコールのブロック共重合体は特に好ましく用いられる。該ブロック共重合体とイミダゾール基を官能基に有するポリマー媒染剤との併用は好ましい組み合わせである。
<微粒子>
また、前記貫通孔型粒子、白色顔料のほかに、他の有機微粒子及び無機微粒子を使用することができる。有機微粒子としては例えば、乳化重合、マイクロエマルジョン系重合、ソープフリー重合、シード重合、分散重合、懸濁重合などにより得られるポリマー微粒子で架橋基が導入されたもの、天然高分子等の粉末等の微粒子が挙げられる。
無機微粒子としては、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、擬ベーマイト、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、アルミナ、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化イットリウム等が挙げられる。
また、前記貫通孔型粒子、白色顔料のほかに、他の有機微粒子及び無機微粒子を使用することができる。有機微粒子としては例えば、乳化重合、マイクロエマルジョン系重合、ソープフリー重合、シード重合、分散重合、懸濁重合などにより得られるポリマー微粒子で架橋基が導入されたもの、天然高分子等の粉末等の微粒子が挙げられる。
無機微粒子としては、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、擬ベーマイト、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、アルミナ、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化イットリウム等が挙げられる。
<ケル化剤>
ケル化剤は、前記の水溶性ポリマーがポリビニルアルコールの場合には、ホウ素化合物が好ましく用いられる。該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩(例えば、オルト硼酸塩、InBO3、ScBO3、YBO3、LaBO3、Mg3(BO3)2、Co3(BO3)2、二硼酸塩(例えば、Mg2B2O5、Co2B2O5)、メタ硼酸塩(例えば、LiBO2、Ca(BO2)2、NaBO2、KBO2)、四硼酸塩(例えば、Na2B4O7・10H2O)、五硼酸塩(例えば、KB5O8・4H2O、Ca2B6O11・7H2O、CsB5O5)等を挙げることができる。中でも、速やかにケル化反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
ケル化剤は、前記の水溶性ポリマーがポリビニルアルコールの場合には、ホウ素化合物が好ましく用いられる。該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩(例えば、オルト硼酸塩、InBO3、ScBO3、YBO3、LaBO3、Mg3(BO3)2、Co3(BO3)2、二硼酸塩(例えば、Mg2B2O5、Co2B2O5)、メタ硼酸塩(例えば、LiBO2、Ca(BO2)2、NaBO2、KBO2)、四硼酸塩(例えば、Na2B4O7・10H2O)、五硼酸塩(例えば、KB5O8・4H2O、Ca2B6O11・7H2O、CsB5O5)等を挙げることができる。中でも、速やかにケル化反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
<架橋剤>
上記水溶性ポリマーの架橋剤として、下記化合物を使用することもできる。これらは水溶性ポリマーとの組合せによっては製造時のゲル化剤としても使用できる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドスターチ、植物ガムのジアルデヒド誘導体等のアルデヒド系化合物;ジアセチル、1,2−シクロペンタンジオン、3−ヘキセン−2,5−ジオン等のケトン系化合物;ビス(2−クロロエチル)尿素、ビス(2−クロロエチル)スルホン、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物;ジビニルスルホン、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−2−プロパノール、N,N’−エチレンビス(ビニルスルホニルアセタミド)、ジビニルケトン、1,3−ビス(アクリロイル)尿素、1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン等の活性ビニル化合物;ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のN−メチロール化合物;トリメチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン、メラミン、ベンゾグアナミン、メラミン樹脂等のメラミン化合物;エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル、フェノール樹脂のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;
上記水溶性ポリマーの架橋剤として、下記化合物を使用することもできる。これらは水溶性ポリマーとの組合せによっては製造時のゲル化剤としても使用できる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドスターチ、植物ガムのジアルデヒド誘導体等のアルデヒド系化合物;ジアセチル、1,2−シクロペンタンジオン、3−ヘキセン−2,5−ジオン等のケトン系化合物;ビス(2−クロロエチル)尿素、ビス(2−クロロエチル)スルホン、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物;ジビニルスルホン、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−2−プロパノール、N,N’−エチレンビス(ビニルスルホニルアセタミド)、ジビニルケトン、1,3−ビス(アクリロイル)尿素、1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン等の活性ビニル化合物;ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のN−メチロール化合物;トリメチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン、メラミン、ベンゾグアナミン、メラミン樹脂等のメラミン化合物;エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリセリンポリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル、フェノール樹脂のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;
1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシナネート等のイソシアネート系化合物;米国特許明細書第3017280号、同第2983611号等に記載のアジリジン系化合物;米国特許明細書第3100704号等に記載のカルボジイミド系化合物;1,6−ヘキサメチレン−N,N’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物;ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物;2,3−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物;乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物;テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物;アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物;オキサゾリン基を2個以上含有する低分子又はポリマー等:米国特許明細書第2725294号、米国特許明細書第2725295号、米国特許明細書第2726162号、米国特許明細書第3834902号等に記載の多価酸の無水物、酸クロリド、ビススルホナート化合物;米国特許明細書第3542558号、米国特許明細書第3251972号等に記載の活性エステル化合物等があげられる。
上記の架橋剤は、一種単独で用いてもよいし、2種以上を組合わせて用いてもよい。
上記の架橋剤は、一種単独で用いてもよいし、2種以上を組合わせて用いてもよい。
(その他の成分)
本発明のバックリット用受像材料は、必要に応じて、更に各種の公知の添加剤、例えば酸、紫外線吸収剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、モノマー、重合開始剤、重合禁止剤、滲み防止剤、防腐剤、粘度安定剤、消泡剤、界面活性剤、帯電防止剤、マット剤、カール防止剤、耐水化剤等を含有することができる。
本発明のバックリット用受像材料は、必要に応じて、更に各種の公知の添加剤、例えば酸、紫外線吸収剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、モノマー、重合開始剤、重合禁止剤、滲み防止剤、防腐剤、粘度安定剤、消泡剤、界面活性剤、帯電防止剤、マット剤、カール防止剤、耐水化剤等を含有することができる。
<酸>
具体的な酸の例としては、ギ酸、酢酸、グリコール酸、シュウ酸、プロピオン酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、グルタル酸、グルコン酸、乳酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、サリチル酸、サリチル酸金属塩(Zn,Al,Ca,Mg等の塩)、メタンスルホン酸、イタコン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、スチレンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、バルビツール酸、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸、4−ヒドロキシ安息香酸、アミノ安息香酸、ナフタレンジスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、トルエンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸、スルファニル酸、スルファミン酸、α−レゾルシン酸、β−レゾルシン酸、γ−レゾルシン酸、没食子酸、フロログリシン、スルホサリチル酸、アスコルビン酸、エリソルビン酸、ビスフェノール酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、ほう酸、ボロン酸等が挙げられる。
上記の酸は金属塩(例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、セシウム、亜鉛、銅、鉄、アルミニウム、ジルコニウム、ランタン、イットリウム、マグネシウム、ストロンチウム、セリウムなどの塩)、又はアミン塩(例えばアンモニア、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピペラジン、2−メチルピペラジン、ポリアリルアミンなど)の形態で使用してもよい。金属塩の例としては、ポリ塩化アルミニウム、オキシ塩化ジルコニウム、酢酸ジルコニルなどがあげられる。
具体的な酸の例としては、ギ酸、酢酸、グリコール酸、シュウ酸、プロピオン酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、グルタル酸、グルコン酸、乳酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、サリチル酸、サリチル酸金属塩(Zn,Al,Ca,Mg等の塩)、メタンスルホン酸、イタコン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、スチレンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、バルビツール酸、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸、4−ヒドロキシ安息香酸、アミノ安息香酸、ナフタレンジスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、トルエンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸、スルファニル酸、スルファミン酸、α−レゾルシン酸、β−レゾルシン酸、γ−レゾルシン酸、没食子酸、フロログリシン、スルホサリチル酸、アスコルビン酸、エリソルビン酸、ビスフェノール酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、ほう酸、ボロン酸等が挙げられる。
上記の酸は金属塩(例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、セシウム、亜鉛、銅、鉄、アルミニウム、ジルコニウム、ランタン、イットリウム、マグネシウム、ストロンチウム、セリウムなどの塩)、又はアミン塩(例えばアンモニア、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピペラジン、2−メチルピペラジン、ポリアリルアミンなど)の形態で使用してもよい。金属塩の例としては、ポリ塩化アルミニウム、オキシ塩化ジルコニウム、酢酸ジルコニルなどがあげられる。
<紫外線吸収剤、酸化防止剤、滲み防止剤>
アルキル化フェノール化合物(ヒンダードフェノール化合物を含む)、アルキルチオメチルフェノール化合物、ヒドロキノン化合物、アルキル化ヒドロキノン化合物、トコフェロール化合物、チオエーテル結合を有する脂肪族・芳香族及び/又は複素環化合物、ビスフェノール化合物、O−,N−及びS−ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化合物、トリアジン化合物、ホスホネート化合物、アシルアミノフェノール化合物、エステル化合物、アミド化合物、アスコルビン酸、アミン系抗酸化剤、2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール化合物、2−ヒドロキシベンゾフェノン化合物、アクリレート、水溶性又は疎水性の金属塩、有機金属化合物、金属錯体、ヒンダードアミン化合物(TEMPO化合物を含む)、2−(2−ヒドロキシフェニル)1,3,5,−トリアジン化合物、金属不活性化剤、ホスフィット化合物、ホスホナイト化合物、ヒドロキシアミン化合物、ニトロン化合物、過酸化物スカベンジャー、ポリアミド安定剤、ポリエーテル化合物、塩基性補助安定剤、核剤、ベンゾフラノン化合物、インドリノン化合物、ホスフィン化合物、ポリアミン化合物、チオ尿素化合物、尿素化合物、ヒドラジト化合物、アミジン化合物、糖化合物、ヒドロキシ安息香酸化合物、ジヒドロキシ安息香酸化合物、トリヒドロキシ安息香酸化合物等が挙げられる。
アルキル化フェノール化合物(ヒンダードフェノール化合物を含む)、アルキルチオメチルフェノール化合物、ヒドロキノン化合物、アルキル化ヒドロキノン化合物、トコフェロール化合物、チオエーテル結合を有する脂肪族・芳香族及び/又は複素環化合物、ビスフェノール化合物、O−,N−及びS−ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化合物、トリアジン化合物、ホスホネート化合物、アシルアミノフェノール化合物、エステル化合物、アミド化合物、アスコルビン酸、アミン系抗酸化剤、2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール化合物、2−ヒドロキシベンゾフェノン化合物、アクリレート、水溶性又は疎水性の金属塩、有機金属化合物、金属錯体、ヒンダードアミン化合物(TEMPO化合物を含む)、2−(2−ヒドロキシフェニル)1,3,5,−トリアジン化合物、金属不活性化剤、ホスフィット化合物、ホスホナイト化合物、ヒドロキシアミン化合物、ニトロン化合物、過酸化物スカベンジャー、ポリアミド安定剤、ポリエーテル化合物、塩基性補助安定剤、核剤、ベンゾフラノン化合物、インドリノン化合物、ホスフィン化合物、ポリアミン化合物、チオ尿素化合物、尿素化合物、ヒドラジト化合物、アミジン化合物、糖化合物、ヒドロキシ安息香酸化合物、ジヒドロキシ安息香酸化合物、トリヒドロキシ安息香酸化合物等が挙げられる。
これらの中でも、アルキル化フェノール化合物、チオエーテル結合を有する脂肪族・芳香族及び/又は複素環化合物、ビスフェノール化合物、アスコルビン酸、アミン系抗酸化剤、水溶性又は疎水性の金属塩、有機金属化合物、金属錯体、ヒンダードアミン化合物、ヒドロキシアミン化合物、ポリアミン化合物、チオ尿素化合物、ヒドラジド化合物、ヒドロキシ安息香酸化合物、ジヒドロキシ安息香酸化合物、トリヒドロキシ安息香酸化合物等が好ましい。
具体的な化合物例は、特願2002−13005号、特開平10−182621号、特開2001−260519号、特公平4−34953号、特公平4−34513号、特開平11−170686号、特公平4−34512号、EP1138509号、特開昭60−67190号、特開平7−276808号、特開2001−94829号、特開昭47−10537号、同58−111942号、同58−212844号、同59−19945号、同59−46646号、同59−109055号、同63−53544号、特公昭36−10466号、同42−26187号、同48−30492号、同48−31255号、同48−41572号、同48−54965号、同50−10726号、米国特許第2,719,086号、同3,707,375号、同3,754,919号、同4,220,711号、
特公昭45−4699号、同54−5324号、ヨーロッパ公開特許第223739号、同309401号、同309402号、同310551号、同第310552号、同第459416号、ドイツ公開特許第3435443号、特開昭54−48535号、同60−107384号、同60−107383号、同60−125470号、同60−125471号、同60−125472号、同60−287485号、同60−287486号、同60−287487号、同60−287488号、同61−160287号、同61−185483号、同61−211079号、同62−146678号、同62−146680号、同62−146679号、同62−282885号、同62−262047号、同63−051174号、同63−89877号、同63−88380号、同63−88381号、同63−113536号、
同63−163351号、同63−203372号、同63−224989号、同63−251282号、同63−267594号、同63−182484号、特開平1−239282号、特開平2−262654号、同2−71262号、同3−121449号、同4−291685号、同4−291684号、同5−61166号、同5−119449号、同5−188687号、同5−188686号、同5−110490号、同5−170361号、特公昭48−43295号、同48−33212号、米国特許第4814262号、同第4980275号等の各公報に記載のものがあげられる。
前記その他の成分は、1種単独でも2種以上を併用してもよい。この前記その他の成分は、水溶性化、分散化、ポリマー分散、エマルション化、油滴化して添加してもよく、マイクロカプセル中に内包することもできる。
本発明のバックリット用受像材料では、上記その他の成分の添加量としては、0.01〜10g/m2が好ましい。
本発明のバックリット用受像材料では、上記その他の成分の添加量としては、0.01〜10g/m2が好ましい。
本発明において、インク受容層用塗布液は界面活性剤を含有することができる。
該界面活性剤としてはカチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、フッ素系、シリコン系界面活性剤のいずれも使用可能である。
上記ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル及びポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類(例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリーコールジエチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等)、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル類(例えば、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等)、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類(例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート等)、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル類(例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット等)、グリセリン脂肪酸エステル類(例えば、グリセロールモノオレート等)、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類(モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、モノオレイン酸ポリオキシエチレングリセリン等)、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類(ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノオレート等)、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アセチレングリコール類(例えば、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール、及び該ジオールのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物等)等が挙げられ、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類が好ましい。該ノニオン系界面活性剤は、第1の塗布液及び第2の塗布液において使用することができる。また、上記ノニオン系界面活性剤は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
該界面活性剤としてはカチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、フッ素系、シリコン系界面活性剤のいずれも使用可能である。
上記ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル及びポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類(例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリーコールジエチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等)、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル類(例えば、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等)、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類(例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート等)、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル類(例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット等)、グリセリン脂肪酸エステル類(例えば、グリセロールモノオレート等)、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類(モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、モノオレイン酸ポリオキシエチレングリセリン等)、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類(ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノオレート等)、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アセチレングリコール類(例えば、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール、及び該ジオールのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物等)等が挙げられ、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類が好ましい。該ノニオン系界面活性剤は、第1の塗布液及び第2の塗布液において使用することができる。また、上記ノニオン系界面活性剤は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
上記両性界面活性剤としては、アミノ酸型、カルボキシアンモニウムベタイン型、スルホンアンモニウムベタイン型、アンモニウム硫酸エステルベタイン型、イミダゾリウムベタイン型等が挙げられ、例えば、米国特許第3,843,368号、特開昭59−49535号、同63−236546号、特開平5−303205号、同8−262742号、同10−282619号、特許第2514194号、特許2759795号、特開2000−351269号の各公報等に記載されているものを好適に使用できる。上記両性界面活性剤のなかでも、アミノ酸型、カルボキシアンモニウムベタイン型、スルホンアンモニウムベタイン型が好ましい。上記両性界面活性剤は1種で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
前記アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩(例えばステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム)、アルキル硫酸エステル塩(例えばラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン)、スルホン酸塩(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)、アルキルスルホコハク酸塩(例えばジオクチルスルホコハク酸ナトリウム)、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等が挙げられる。
前記カチオン系界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリウム塩などがあげられる。
前記カチオン系界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリウム塩などがあげられる。
前記フッ素系界面活性剤としては、電解フッ素化、テロメリゼーション、オリゴメリゼーションなどの方法を用いてパーフルオロアルキル基を持つ中間体をへて誘導される化合物があげられる。
例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルトリアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどがあげられる。
例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルトリアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどがあげられる。
前記シリコン系界面活性剤としては、有機基で変性したシリコンオイルが好ましく、シロキサン構造の側鎖を有機基で変性した構造、両末端を変性した構造、片末端を変性した構造をとり得る。有機基変性としてアミノ変性、ポリエーテル変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、カルビノール変性、アルキル変性、アラルキル変性、フェノール変性、フッ素変性等が挙げられる。
本発明において、界面活性剤の含有量としては、インク受容層用塗布液に対して0.001〜2.0%が好ましく、0.01〜1.0%がより好ましい。
また、インク受容層用塗布液として2液以上を用いて塗布を行なう場合には、それぞれの塗布液に界面活性剤を添加するのが好ましい。
また、インク受容層用塗布液として2液以上を用いて塗布を行なう場合には、それぞれの塗布液に界面活性剤を添加するのが好ましい。
また、インク受容層にはカール防止用又は/及びガラス転移温度調節用として、高沸点有機溶剤を含有させることができる。上記高沸点有機溶剤は常圧で沸点が150℃以上の有機化合物で、水溶性又は疎水性の化合物である。これらは、室温で液体でも固体でもよく、低分子でも高分子でもよい。
具体的には、芳香族カルボン酸エステル類(例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジフェニル、安息香酸フェニルなど)、脂肪族カルボン酸エステル類(例えばアジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、ステアリン酸メチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジブチル、アセチルクエン酸トリエチルなど)、リン酸エステル類(例えばリン酸トリオクチル、リン酸トリクレジルなど)、エポキシ類(例えばエポキシ化大豆油、エポキシ化脂肪酸メチルなど)、アルコール類(例えば、ステアリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(DEGMBE)、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、グリセリンモノメチルエーテル、1,2,3−ブタントリオール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,4−ペンタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、チオジグリコール、トリエタノールアミン、ポリエチレングリコールなど)、植物油(例えば大豆油、ヒマワリ油など)高級脂肪族カルボン酸(例えばリノール酸、オレイン酸など)等が挙げられる。
具体的には、芳香族カルボン酸エステル類(例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジフェニル、安息香酸フェニルなど)、脂肪族カルボン酸エステル類(例えばアジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、ステアリン酸メチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジブチル、アセチルクエン酸トリエチルなど)、リン酸エステル類(例えばリン酸トリオクチル、リン酸トリクレジルなど)、エポキシ類(例えばエポキシ化大豆油、エポキシ化脂肪酸メチルなど)、アルコール類(例えば、ステアリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(DEGMBE)、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、グリセリンモノメチルエーテル、1,2,3−ブタントリオール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,4−ペンタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、チオジグリコール、トリエタノールアミン、ポリエチレングリコールなど)、植物油(例えば大豆油、ヒマワリ油など)高級脂肪族カルボン酸(例えばリノール酸、オレイン酸など)等が挙げられる。
本発明における透明支持体側のインク受容層(第一受像層:第一層)の光透過率は、特に限定されるものではないが、画像の光学濃度、彩度、鮮鋭度等の観点から光透過率が50%以上であることが好ましく、60%以上が更に好ましく、70%以上が特に好ましい。
また、本発明における透明支持体から遠い側のインク受容層(多孔質層:第二層)の光透過率も特に限定されるものではないが、透明支持体のインク受容層が形成される側の反対のバック側の照明器具等が観察者側から見えないが、その散乱光が第一受像層に到達し、そこに形成された画像が明るく見えることが必要であることから、光透過率が1%以上80%以下であることが好ましく、5%以上70%以下が更に好ましく、10%以上60%以下が特に好ましい。
本発明におけるインク受容層の光透過率は、インク受容層1層のみを透明支持体(例えばポリエチレンテレフタレートフイルム)上に塗布し、塗布と同時または塗布層が減率乾燥速度に入る前にゲル化剤を付与して塗布したサンプルを透過型マクベス濃度計でグレー濃度を測定し、光透過率に換算した値を採用した。
また、第一層の塗布量としては2〜50g/m2、好ましくは3〜40g/m2、更に好ましくは5〜30g/m2である。第二層の塗布量としては1〜20g/m2、好ましくは2〜15g/m2、更に好ましくは3〜10g/m2である。
また、本発明における透明支持体から遠い側のインク受容層(多孔質層:第二層)の光透過率も特に限定されるものではないが、透明支持体のインク受容層が形成される側の反対のバック側の照明器具等が観察者側から見えないが、その散乱光が第一受像層に到達し、そこに形成された画像が明るく見えることが必要であることから、光透過率が1%以上80%以下であることが好ましく、5%以上70%以下が更に好ましく、10%以上60%以下が特に好ましい。
本発明におけるインク受容層の光透過率は、インク受容層1層のみを透明支持体(例えばポリエチレンテレフタレートフイルム)上に塗布し、塗布と同時または塗布層が減率乾燥速度に入る前にゲル化剤を付与して塗布したサンプルを透過型マクベス濃度計でグレー濃度を測定し、光透過率に換算した値を採用した。
また、第一層の塗布量としては2〜50g/m2、好ましくは3〜40g/m2、更に好ましくは5〜30g/m2である。第二層の塗布量としては1〜20g/m2、好ましくは2〜15g/m2、更に好ましくは3〜10g/m2である。
前記受像材料のインク受容層は熱可塑性を有していることが好ましい。本発明において「熱可塑性」とは、一定温度以上で、物が柔らかくなり変形しやすくなる性質を意味する。インク受容層に熱可塑性を付与することにより、画像印画後の印画面に容易に平滑化処理を適用することができ、この平滑処理により画像の光沢を大幅に改善しうる。
また、上記のようにインク受容層が熱可塑性であるためには、インク受容層を形成する組成のうち少なくとも30質量%以上、より好ましくは50質量%以上、特に好ましくは65質量%以上の物質が熱可塑性であることが望ましい。
更に、上記熱可塑性物質のうち50質量%以上の物質のガラス転移温度(Tg)が25〜150℃、好ましくは40〜130℃、特に好ましくは50〜100℃である。
前記Tgを25〜100℃に設定することにより、空隙率が十分であり、受像材料の保存中における空隙率の低下や、ブロッキング故障の発生を回避することができるとともに、インク受容層が強固で、印字後の平滑化処理が良好になされる。
また、上記のようにインク受容層が熱可塑性であるためには、インク受容層を形成する組成のうち少なくとも30質量%以上、より好ましくは50質量%以上、特に好ましくは65質量%以上の物質が熱可塑性であることが望ましい。
更に、上記熱可塑性物質のうち50質量%以上の物質のガラス転移温度(Tg)が25〜150℃、好ましくは40〜130℃、特に好ましくは50〜100℃である。
前記Tgを25〜100℃に設定することにより、空隙率が十分であり、受像材料の保存中における空隙率の低下や、ブロッキング故障の発生を回避することができるとともに、インク受容層が強固で、印字後の平滑化処理が良好になされる。
[透明支持体]
本発明における透明支持体としては、プラスチック、ガラス等を使用できる。
本発明における透明支持体としては、プラスチック、ガラス等を使用できる。
上記透明支持体に使用可能な材料としては、透明性で、屋外で使用される時の太陽光、インク受容層が形成される側の反対側(バック側)からの照明器具による照明に耐え得る性質を有する材料が好ましい。
該材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル類;ニトロセルロース,セルロースアセテート,セルロースアセテートブチレート、三酢酸セルロースフィルム等のセルロースエステル類;ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸共重合体、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド等の合成高分子を挙げることができる。中でも、ポリエステル類が好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
上記透明支持体の厚みとしては、特に制限はないが、取り扱い易い点で、50〜200μmが好ましく、更に、100〜200μmが好ましい。
該材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル類;ニトロセルロース,セルロースアセテート,セルロースアセテートブチレート、三酢酸セルロースフィルム等のセルロースエステル類;ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸共重合体、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド等の合成高分子を挙げることができる。中でも、ポリエステル類が好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
上記透明支持体の厚みとしては、特に制限はないが、取り扱い易い点で、50〜200μmが好ましく、更に、100〜200μmが好ましい。
また、上記支持体の表面には、濡れ特性及び接着性を改善するために、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理等を施したものを使用してもよい。
該支持体上には,更にインク受容層との密着性を付与するために下塗り層を設けることもできる。該下塗り層としては、水性ポリエステル、ゼラチン、PVAが好ましい。また、該下塗り層の厚みとしては、0.01〜5μmが好ましい。該下塗り層には前記架橋剤を添加するのが好ましい。
支持体にはバックコート層を設けることもでき、このバックコート層に添加可能な成分としては、白色顔料や水性バインダー、その他の成分が挙げられる。
バックコート層に含有される白色顔料としては、前記白色顔料と同様である。
バックコート層に含有される白色顔料としては、前記白色顔料と同様である。
バックコート層に用いられる水性バインダーとしては、例えば、スチレン/マレイン酸塩共重合体、スチレン/アクリル酸塩共重合体、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、澱粉、カチオン化澱粉、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、スチレンブタジエンラテックス、アクリルエマルジョン等の水分散性高分子等が挙げられる。
バックコート層に含有されるその他の成分としては、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤等が挙げられる。
バックコート層に含有されるその他の成分としては、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤等が挙げられる。
本発明の受像材料における透明支持体側のインク受容層(第一受像層)及びその上層のインク受容層(多孔質層)は、(A)前記カチオン性化合物と前記水溶性ポリマーとを含む第一受像層用塗布液と、前記貫通孔型粒子と該水溶性ポリマーとを含む多孔質層用塗布液が塗布されたと同時に該水溶性ポリマーをゲル化させることができる前記ゲル化剤を含む溶液を付与するか、又は(B)該第一受像層用塗布液の塗布層と該多孔質層用塗布液の塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に、該ゲル化剤溶液を付与するかにより、ゲル化させ乾燥することにより該層を形成することができる。
このように本発明のインク受像材料を形成することによりインクに依存することなく、乾燥時に発生するひび割れを防止でき、インク浸透性が極めてよく、ラインヘッドによる高速印画が可能となる傾向となる。
このように本発明のインク受像材料を形成することによりインクに依存することなく、乾燥時に発生するひび割れを防止でき、インク浸透性が極めてよく、ラインヘッドによる高速印画が可能となる傾向となる。
本発明においては、前記カチオン性化合物及び前記水溶性ポリマーと含む塗布液(第一受像層用塗布液)と、前記貫通孔型粒子及び前記水溶性ポリマーを主成分とする塗布液(多孔質層形成用塗布液)とを支持体上に塗布した際、該塗布層がヒビ割れを起こさないように前記ゲル化剤を付与し、速やかに塗布層の膜強度を向上させている。
実際には、前記塗布液の塗布と同時に前記ゲル化剤溶液を塗布するか(A法)、或いは該塗布液を塗布した後、その塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に速やかに前記ゲル化剤溶液が付与される(B法)。
実際には、前記塗布液の塗布と同時に前記ゲル化剤溶液を塗布するか(A法)、或いは該塗布液を塗布した後、その塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に速やかに前記ゲル化剤溶液が付与される(B法)。
上記ゲル化剤の溶液は、ゲル化剤を水及び/又は水と相溶する有機溶剤に溶解して調製される。ゲル化溶液の濃度は、0.05〜10重量%が好ましく、特に0.1〜7重量%である。
ゲル化剤の溶媒としては、一般に水が使用される。有機溶剤としては、各材料が溶解するものを使用すれば良く、例えば、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;アセトン等を挙げることができる。
ゲル化剤の溶媒としては、一般に水が使用される。有機溶剤としては、各材料が溶解するものを使用すれば良く、例えば、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;アセトン等を挙げることができる。
本発明におけるインク受容層の形成方法(前記B法)について、以下に説明する。
(B法)
前記カチオン性化合物及び前記水溶性ポリマーとを含む塗布液(第一受像層用塗布液)と、前記貫通孔型粒子及び前記水溶性ポリマーを含む塗布液(多孔質層形成用塗布液)を塗布した後、その塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に速やかに前記ゲル化剤溶液を付与する方法である。
ここで、インク受容層塗布液は、多孔質層形成用塗布液、第一受像層形成用塗布液を含むものである。
(B法)
前記カチオン性化合物及び前記水溶性ポリマーとを含む塗布液(第一受像層用塗布液)と、前記貫通孔型粒子及び前記水溶性ポリマーを含む塗布液(多孔質層形成用塗布液)を塗布した後、その塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に速やかに前記ゲル化剤溶液を付与する方法である。
ここで、インク受容層塗布液は、多孔質層形成用塗布液、第一受像層形成用塗布液を含むものである。
多孔質層形成用塗布液は、例えば、平均粒径0.5μmのアクリルスチレン系の貫通孔型粒子の分散液(例えば、20質量%)に、ポリビニルアルコール水溶液を貫通孔型粒子の1〜20質量%程度、及び酸化チタン分散物を適当量混合し、攪拌羽根による攪拌装置にて泡の立たない程度の回転数(例えば、200〜500rpm)で攪拌混合し、必要に応じて添加剤を添加し調製する。
また、第一受像層用形成用塗布液は、例えば、前記多孔質層形成用塗布液の貫通孔型微粒子の代わりに、カチオン性化合物の水溶液を添加して、同様な方法により調製する。
前記塗布液を調製中に界面活性剤を添加してもよい。該界面活性剤としては前記のものを用いることができる。更に、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じてその他の添加剤を用いてもよい。
このようにして得られた塗布液は、均一ゾルであり、これを下記の塗布方法により、支持体上に塗布することにより、三次元網目構造を有する多孔質層である2層のインク受容層を得ることができる。
また、第一受像層用形成用塗布液は、例えば、前記多孔質層形成用塗布液の貫通孔型微粒子の代わりに、カチオン性化合物の水溶液を添加して、同様な方法により調製する。
前記塗布液を調製中に界面活性剤を添加してもよい。該界面活性剤としては前記のものを用いることができる。更に、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じてその他の添加剤を用いてもよい。
このようにして得られた塗布液は、均一ゾルであり、これを下記の塗布方法により、支持体上に塗布することにより、三次元網目構造を有する多孔質層である2層のインク受容層を得ることができる。
前記インク受容層(第一受像層、多孔質層)形成用塗布液の塗布は、例えば、前記塗布液に、所望によりさらに帯電防止剤、媒染剤等を加えて得られた塗布液を、前記支持体(フィルム)上に塗布することにより実施することができる。
塗布は、例えばエクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法で行なうことができる。
例えば、第一受像層用塗布液及び多孔質層用塗布液をエクストルージョン方式に塗布により塗布層を形成し、その塗布層が恒率乾燥速度を示す期間内に、ゲル化剤含有溶液に該塗布層を有する支持体を浸漬することにより、あるいは塗布層にゲル化剤含有溶液をスプレー塗布することにより、該塗布層中にゲル化剤を導入することが好ましい。
塗布は、例えばエクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法で行なうことができる。
例えば、第一受像層用塗布液及び多孔質層用塗布液をエクストルージョン方式に塗布により塗布層を形成し、その塗布層が恒率乾燥速度を示す期間内に、ゲル化剤含有溶液に該塗布層を有する支持体を浸漬することにより、あるいは塗布層にゲル化剤含有溶液をスプレー塗布することにより、該塗布層中にゲル化剤を導入することが好ましい。
前記「塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前」とは、通常、塗布直後から数分の間であり、この間においては塗布層中の溶剤の含有量が時間に比例して減少する現象、いわゆる恒率乾燥速度を示す。このような恒率乾燥速度を示す期間については、化学工学便覧(707〜712頁、丸善株式会社発行、昭和55年10月25日)に記載されている。
インク受容層形成用塗布液の塗布後乾燥(減率乾燥速度を示す前)は、一般に、50〜180℃で0.5〜10分間(特に0.5〜5分間)行なわれる。この乾燥時間は、当然塗布量により異なるが、前記範囲が適当である。
インク受容層上のゲル化剤含有塗布液の塗布量は、ゲル化剤換算で0.01〜10g/m2 の範囲が一般的であり、0.05〜5g/m2 の範囲が好ましい。ゲル化剤含有塗布液の塗布後、塗布層は一般に40〜120℃で0.5〜30分間加熱され、乾燥が行なわれる。45〜100℃で1〜20分間が好ましく、特に50〜80℃で1〜20分間加熱することが好ましい。特に、乾燥後期は、多孔質層を形成する有機微粒子のガラス転移温度(Tg)以下で行うことが好ましい。
次に、本発明におけるインク受容層の別の形成方法(A法)を説明する。
(A法)
前記カチオン性化合物と前記水溶性ポリマーを含む塗布液(第一受像層形成用塗布液)と、前記貫通孔型粒子及び前記水溶性ポリマーを含有する塗布液(多孔質層形成用塗布液)の両塗布と同時に、前記ゲル化剤溶液を塗布する方法について説明する。
インク受容層は、インク受容層形成用塗布液(第一受像層、多孔質層形成用塗布液)とゲル化剤含有溶液とを、第一受像層形成用塗布液が支持体と接触するように、支持体上に同時塗布し、ゲル化させることにより得ることができる。
インク受容層形成用塗布液(第一受像層、多孔質層用)及びゲル化剤含有溶液の同時塗布は、例えばエクストルージョンダイーコーター、カーテンフローコーターを用いる塗布方法で行なうことができる。
同時塗布(重層塗布)後の乾燥は一般に、40〜150℃で0.5〜30分間加熱することにより行なわれる。更に45〜100℃で1〜20、特に55〜80℃で1〜20分間加熱することが好ましい。この場合も、前記(B)法と同様、特に乾燥後期は、多孔質層を形成する有機微粒子のTg以下の温度で乾燥することが好ましい。
(A法)
前記カチオン性化合物と前記水溶性ポリマーを含む塗布液(第一受像層形成用塗布液)と、前記貫通孔型粒子及び前記水溶性ポリマーを含有する塗布液(多孔質層形成用塗布液)の両塗布と同時に、前記ゲル化剤溶液を塗布する方法について説明する。
インク受容層は、インク受容層形成用塗布液(第一受像層、多孔質層形成用塗布液)とゲル化剤含有溶液とを、第一受像層形成用塗布液が支持体と接触するように、支持体上に同時塗布し、ゲル化させることにより得ることができる。
インク受容層形成用塗布液(第一受像層、多孔質層用)及びゲル化剤含有溶液の同時塗布は、例えばエクストルージョンダイーコーター、カーテンフローコーターを用いる塗布方法で行なうことができる。
同時塗布(重層塗布)後の乾燥は一般に、40〜150℃で0.5〜30分間加熱することにより行なわれる。更に45〜100℃で1〜20、特に55〜80℃で1〜20分間加熱することが好ましい。この場合も、前記(B)法と同様、特に乾燥後期は、多孔質層を形成する有機微粒子のTg以下の温度で乾燥することが好ましい。
前記重層塗布を、例えば、エクストルージョンダイコーターで行なった場合、二種の塗布液はエクストルージョンダイコーター上で、即ち支持体上に移る前に重層が形成される。
そして、二層の塗布層(重層)が支持体に移る際に、すでに二層の界面でゲル化反応が起こっているため、エクストルージョンダイコーターの吐出口付近で吐出塗布液の混合による増粘が発生し易くなり、塗布操作に支障をきたす場合がある。従って、前記同時塗布を行なう際は、多孔質層形成用塗布液及び該ゲル化剤含有溶液の塗布と共に、さらにゲル化剤と反応しない液を、塗布液の層と溶液の層との間に層(以下、バリアー層)を介在するように同時三層塗布することが好ましい。ゲル化剤と反応しない液としては、例えば、ゲル化剤と反応しない水溶性ポリマー(増粘剤として使用)を微量含む水溶液を挙げることができる。
ゲル化剤に対してゲル化反応しない水溶性ポリマーは用いるゲル化剤により異なる。多孔質層に用いるバインダ(水溶性ポリマー)がポリビニルアルコール又はその変性体の場合、ゲル化剤としては硼酸又はその塩等が用いられるが、その場合、該ゲル化剤に対してゲル化反応しない水溶性ポリマーとしては、例えば、ゼラチン、ポリアルキレンオキサイド、ポリアクリル酸(塩)及びセルロース系樹脂等が挙げられる。
そして、二層の塗布層(重層)が支持体に移る際に、すでに二層の界面でゲル化反応が起こっているため、エクストルージョンダイコーターの吐出口付近で吐出塗布液の混合による増粘が発生し易くなり、塗布操作に支障をきたす場合がある。従って、前記同時塗布を行なう際は、多孔質層形成用塗布液及び該ゲル化剤含有溶液の塗布と共に、さらにゲル化剤と反応しない液を、塗布液の層と溶液の層との間に層(以下、バリアー層)を介在するように同時三層塗布することが好ましい。ゲル化剤と反応しない液としては、例えば、ゲル化剤と反応しない水溶性ポリマー(増粘剤として使用)を微量含む水溶液を挙げることができる。
ゲル化剤に対してゲル化反応しない水溶性ポリマーは用いるゲル化剤により異なる。多孔質層に用いるバインダ(水溶性ポリマー)がポリビニルアルコール又はその変性体の場合、ゲル化剤としては硼酸又はその塩等が用いられるが、その場合、該ゲル化剤に対してゲル化反応しない水溶性ポリマーとしては、例えば、ゼラチン、ポリアルキレンオキサイド、ポリアクリル酸(塩)及びセルロース系樹脂等が挙げられる。
前記バリアー層には、ゲル化剤とゲル化反応しない水溶性ポリマー以外に、有機及び/又は無機の微粒子、界面活性剤等を添加して形成することができる。
該バリアー層の厚みとしては、特に限定されるものではなく、前記多孔質層塗布液とゲル化剤溶液とが支持体に塗布される前に反応することを未然に防止するに必要な厚みであればよい。
該バリアー層の塗布液は、バリアー層固形分を水及び/又は有機溶媒、或いはそれらの混合溶媒に混合・均一化して調整される。
該バリアー層の塗布液濃度としては、0.1〜20質量%が好ましく、特に0.2〜10質量%が好ましい。
用いる水溶性ポリマーの分子量、塗布液粘度により異なるが、通常、該バリアー層の塗布量としては、多孔層形成用塗布液とゲル化剤溶液との関係より適宜設定することができるが、固形物換算で0.1〜10g/m2が挙vげられ、0.5〜5g/m2の範囲が好ましい。
該バリアー層の塗布液の溶媒としては、一般に水が使用される。有機溶剤としては、水可溶性の有機溶媒が用いられ、水と混合して用いるのが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセトン等のケトン類;ジメチルホルムアミド等のアミド類などが挙げられる。
該バリアー層の厚みとしては、特に限定されるものではなく、前記多孔質層塗布液とゲル化剤溶液とが支持体に塗布される前に反応することを未然に防止するに必要な厚みであればよい。
該バリアー層の塗布液は、バリアー層固形分を水及び/又は有機溶媒、或いはそれらの混合溶媒に混合・均一化して調整される。
該バリアー層の塗布液濃度としては、0.1〜20質量%が好ましく、特に0.2〜10質量%が好ましい。
用いる水溶性ポリマーの分子量、塗布液粘度により異なるが、通常、該バリアー層の塗布量としては、多孔層形成用塗布液とゲル化剤溶液との関係より適宜設定することができるが、固形物換算で0.1〜10g/m2が挙vげられ、0.5〜5g/m2の範囲が好ましい。
該バリアー層の塗布液の溶媒としては、一般に水が使用される。有機溶剤としては、水可溶性の有機溶媒が用いられ、水と混合して用いるのが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセトン等のケトン類;ジメチルホルムアミド等のアミド類などが挙げられる。
また、塗布、乾燥後、得られたインク受容層は、例えばスーパーカレンダ、グロスカレンダなどを用い、加熱、加圧下にロールニップ間を通すことにより、表面平滑性、透明性及び塗膜強度を向上させることが可能である。
しかしながら、このような処理は空隙率を低下させるため(即ちインク吸収性が低下するため)、空隙率の低下が少ない条件を設定して行なう必要がある。
しかしながら、このような処理は空隙率を低下させるため(即ちインク吸収性が低下するため)、空隙率の低下が少ない条件を設定して行なう必要がある。
得られたインク受容層の層厚は、インクジェット記録の場合では、液滴を全て吸収するだけの吸収容量をもつ必要があり、これは塗膜の空隙率との関連で決定する必要がある。例えばインク量が8nL/mm2 で、空隙率が60%の場合であれば膜厚が約15μm以上の膜が必要となる。インクジェット記録の場合は、10〜50μmの範囲の膜厚が好ましい。
[インクジェット用受像材料の作製]
インクジェット用受像材料は、前記のごとき支持体に前記インク受容層用塗布液を前記塗布方法で塗布することにより作製される。
インク受容層用塗布液は、インク受容層を形成する前記各成分を溶媒、好ましくは水性溶媒中に分散・溶解させることにより調製される。
前記溶媒として水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒を用いることができる。前記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
前記インク受容層用塗布液の塗布は、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター、カーテンコーター等の公知の塗布方法によって行うことができる。
インクジェット用受像材料は、前記のごとき支持体に前記インク受容層用塗布液を前記塗布方法で塗布することにより作製される。
インク受容層用塗布液は、インク受容層を形成する前記各成分を溶媒、好ましくは水性溶媒中に分散・溶解させることにより調製される。
前記溶媒として水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒を用いることができる。前記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
前記インク受容層用塗布液の塗布は、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター、カーテンコーター等の公知の塗布方法によって行うことができる。
以上の本発明のインクジェット用受像材料は、インクジェット記録用、インクペンによる記録方式用、等に適用することができる。
[画像形成方法]
本発明の画像形成方法は、前記のごとき受像材料に水溶性インクを用いて印字することを特徴とする。
更に、前記受像材料に前記水溶性インクを用いて印字した後、得られた受像材料に加熱及び/又は加圧処理を行うことが好ましい。この加熱及び/又は加圧処理により、得られた画像は彩度が高く、且つ、高濃度で例えば、ガス性に優れる傾向となる。
本発明の画像形成方法は、前記のごとき受像材料に水溶性インクを用いて印字することを特徴とする。
更に、前記受像材料に前記水溶性インクを用いて印字した後、得られた受像材料に加熱及び/又は加圧処理を行うことが好ましい。この加熱及び/又は加圧処理により、得られた画像は彩度が高く、且つ、高濃度で例えば、ガス性に優れる傾向となる。
加圧処理に用いる加圧手段としては、1対のロールからなる加圧ロールの圧接部(ニップ部)に、印画後の受像材料を通す方法が挙げられる。前記加圧ロールとしては、ステンレス鋼製等の金属ロール表面を硬質クロムめっきなどにより鏡面加工したものが用いられる。加圧条件は、16〜30Kg/cm程度である。
また、加熱処理に用いる加熱手段としては印画後の受像材料の印画面上方から赤外線ランプ、面状ヒータ等の輻射熱で加熱する方法が挙げられる。受像材料表面における加熱温度は、多孔質であるインク受容層のTgにより適宜選択されるが、一般的に80〜160℃程度である。
更に、加熱・加圧処理に用いる加熱・加圧手段としては、少なくとも1つのロール内部に加熱手段を設けた一対の加熱ロールのニップ部に印画後の受像材料を通す方法や、加圧ロールと加熱ベルトのニップ部に印画後の受像材料を通す方法などが挙げられ、中でも、加熱ロールを用いた平滑化が好ましい。
前記一対の加熱ロールとしてはアルミ製又はステンレス鋼製等の金属ロール表面に、シリコーン樹脂(ゴム)やフッ素樹脂(ゴム)等の離型層を設けたものが用いられる。また、離型層の下に適宜弾性体層を設けることができる。また、ロールの中に設ける加熱手段としては、ハロゲンランプ、電熱方式、誘電加熱方式等、公知の加熱手段を採用可能である。
前記一対の加熱ロールによる加熱・加圧処理における受像材料表面における加熱温度は、多孔質層のTgにより適宜選択されるが、一般的に80〜160℃程度である。また、加圧条件は、1〜30Kg/cm程度である。
前記一対の加熱ロールによる加熱・加圧処理における受像材料表面における加熱温度は、多孔質層のTgにより適宜選択されるが、一般的に80〜160℃程度である。また、加圧条件は、1〜30Kg/cm程度である。
加熱・加圧処理に用いる加熱ベルトは、複数のロール及び該ロール間に張架したベルトを有し、前記ロールの1つの内部に加熱手段が設けられる。そして、前記加熱手段が設けられたロールにニップ部を形成する加圧ロールが対向して設けられる。また加圧ロール内にも加熱手段を設けてもよい。ロールの中に設ける加熱手段としては、ハロゲンランプ、電熱方式、誘電加熱方式等、公知の加熱手段を採用可能である。
対向する1対のロールは、アルミ製又はステンレス鋼製等の金属ロール表面に、シリコーン樹脂(ゴム)やフッ素樹脂(ゴム)等の離型層を設けたものが用いられる。また、前記ベルトは、耐熱性及び機械的強度を考慮して、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の金属シートや、PET、PBT、ポリエステル、ポリイミド、ポリイミドアミド等の樹脂フィルムの上に、シリコーン系ゴム、フッ素系ゴム、シリコーン−フッ素系ゴムなどの耐熱性及び離型性に優れたゴムを含む離型層を形成したものを用いることができる。
対向する1対のロールは、アルミ製又はステンレス鋼製等の金属ロール表面に、シリコーン樹脂(ゴム)やフッ素樹脂(ゴム)等の離型層を設けたものが用いられる。また、前記ベルトは、耐熱性及び機械的強度を考慮して、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の金属シートや、PET、PBT、ポリエステル、ポリイミド、ポリイミドアミド等の樹脂フィルムの上に、シリコーン系ゴム、フッ素系ゴム、シリコーン−フッ素系ゴムなどの耐熱性及び離型性に優れたゴムを含む離型層を形成したものを用いることができる。
加熱ベルト及び加圧ロールを用いる加圧処理の場合、受像材料表面における加熱温度は、多孔質層のTgにより適宜選択されるが、一般的に80〜160℃程度である。また、加圧条件は1〜30Kg/cm程度である。
また、加熱後、加熱ベルトを受像材料の表面から剥離する際、剥離前に加熱ベルトを冷却してから剥離すると、剥離面がより平滑となり好ましい。
また、加熱後、加熱ベルトを受像材料の表面から剥離する際、剥離前に加熱ベルトを冷却してから剥離すると、剥離面がより平滑となり好ましい。
図1に加熱・加圧処理に用いる加熱ロールの一例を示す。図1中、10及び20はロールであり、12及び22は金属ロール、14及び24は離型層である。また、ロール10の内部には、加熱手段16として例えばハロゲンランプが設けられている。30は印画された受像材料であり、1対のロールのニップ部を通過することにより印画面が平滑化される。
図2は加熱・加圧処理に用いる他の手段を示すもので、40は加熱ベルトを示し、42はベルト、44は加熱ロール、45は金属ロール、46は離型層、48はハロゲンランプ等の加熱手段、49は支持ロールをそれぞれ示す。また、50は加熱ロール44とニップ部を形成する加圧ロールであり、52は金属ロール、54は離型層である。
図2は加熱・加圧処理に用いる他の手段を示すもので、40は加熱ベルトを示し、42はベルト、44は加熱ロール、45は金属ロール、46は離型層、48はハロゲンランプ等の加熱手段、49は支持ロールをそれぞれ示す。また、50は加熱ロール44とニップ部を形成する加圧ロールであり、52は金属ロール、54は離型層である。
本発明の画像形成方法は、画像形成インクとしては水溶性インクを用いる。以下、前記インクについて詳細に説明する。
(水溶性インク)
水溶性インクは、水溶性染料を水性媒体に溶解させたインクである。水溶性インクは透明性及び色濃度が高いという特徴を有する。また、水溶性染料は水中安定性が良好であるが、まれに保存中に徐々に析出することがあり、これがノズル中で起こると液詰まりを起こす。このため、前記で述べたと同様な、ヘテロ結合を有する2価の連結基を介して、疎水性基又は疎水性ポリマーと、繰り返し単位として−CH2−C(R)(OH)−CH2−O−(Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基)を含むポリマーとが連結した水溶性ポリマーを水溶性インク中に添加すると、保存時に染料の析出が抑制される。したがって、ノズル部での液詰まりの発生を防ぎ、また液詰まりが発生してもその部分での洗浄(クリーニング)性に優れている。このような水溶性インクは、特願2003−100492号明細書に詳細に説明されており、用いうる水溶性染料及び水溶性染料のインク中における含有量については前記明細書段落0045〜0056に、前記疎水性基含有水溶性ポリマー及び該ポリマーのインクにおける含有量については同明細書段落0019〜0043に記載のものを適用しうる。
(水溶性インク)
水溶性インクは、水溶性染料を水性媒体に溶解させたインクである。水溶性インクは透明性及び色濃度が高いという特徴を有する。また、水溶性染料は水中安定性が良好であるが、まれに保存中に徐々に析出することがあり、これがノズル中で起こると液詰まりを起こす。このため、前記で述べたと同様な、ヘテロ結合を有する2価の連結基を介して、疎水性基又は疎水性ポリマーと、繰り返し単位として−CH2−C(R)(OH)−CH2−O−(Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基)を含むポリマーとが連結した水溶性ポリマーを水溶性インク中に添加すると、保存時に染料の析出が抑制される。したがって、ノズル部での液詰まりの発生を防ぎ、また液詰まりが発生してもその部分での洗浄(クリーニング)性に優れている。このような水溶性インクは、特願2003−100492号明細書に詳細に説明されており、用いうる水溶性染料及び水溶性染料のインク中における含有量については前記明細書段落0045〜0056に、前記疎水性基含有水溶性ポリマー及び該ポリマーのインクにおける含有量については同明細書段落0019〜0043に記載のものを適用しうる。
以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「%」は、特に断らない限り「質量部」及び「質量%」を表し、「平均分子量」及び「重合度」は、「重量平均分子量」及び「重量平均重合度」を表す。
〔実施例1〕
<透明支持体の作製>
ポリエチレンテレフタレート(厚さ180μm)の表面側にグロー放電処理を施して透明支持体とした。
<透明支持体の作製>
ポリエチレンテレフタレート(厚さ180μm)の表面側にグロー放電処理を施して透明支持体とした。
<水溶性インク用のバックリット受像材料の作製>
透明支持体側のインク受容層を第一インク受容層(第一受像層)、透明支持体から遠い側のインク受容層を第二インク受容層(多孔質層)として説明する。
透明支持体側のインク受容層を第一インク受容層(第一受像層)、透明支持体から遠い側のインク受容層を第二インク受容層(多孔質層)として説明する。
(インク受容層用塗布液A1の調製)
下記インク受容層塗布液(第一受像層用塗布液)A1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
下記インク受容層塗布液(第一受像層用塗布液)A1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
−インク受容層塗布液(第一受像層)A1組成−
カチオン性化合物A(10%水溶液) 20部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 2部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
アクリル酸/ビニルアルコールブロック共重合体(モル比40/60、固形分濃度;7%水溶液) 100部
イオン交換水 30部
カチオン性化合物A(10%水溶液) 20部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 2部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
アクリル酸/ビニルアルコールブロック共重合体(モル比40/60、固形分濃度;7%水溶液) 100部
イオン交換水 30部
(インク受容層用塗布液B1の調製)
下記インク受容層塗布液(多孔質層用塗布液)B1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
下記インク受容層塗布液(多孔質層用塗布液)B1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
−インク受容層塗布液(多孔質層用塗布液)B1組成−
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%、三井化学製、平均粒径;0.5μm、貫通孔の径0.2μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 3部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA235(クラレ(株)、固形分濃度;7%水溶液)
14.3部
イオン交換水 12.8部
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%、三井化学製、平均粒径;0.5μm、貫通孔の径0.2μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 3部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA235(クラレ(株)、固形分濃度;7%水溶液)
14.3部
イオン交換水 12.8部
前記貫通孔の径は、前述の該粒子の走査型電子顕微鏡写真より計測した。
(ゲル化剤溶液C1の調製)
下記ゲル化剤溶液C1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
下記ゲル化剤溶液C1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
−ゲル化剤溶液C1組成−
イオン交換水 317部
ほう酸 16.5部
炭酸アンモニウム 17.5部
炭酸ジルコニウムアンモニウム(ニューテックス(株)製の商品名「ジルコゾルAC7」、13%水溶液) 12.7部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 150部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;2%水溶液)
イオン交換水 317部
ほう酸 16.5部
炭酸アンモニウム 17.5部
炭酸ジルコニウムアンモニウム(ニューテックス(株)製の商品名「ジルコゾルAC7」、13%水溶液) 12.7部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 150部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;2%水溶液)
(水溶性インク用バックリット受像材料の作製)
上記支持体のオモテ面に上記インク受容層塗布液A1、B1を、エクストルージョン式塗布機を用いてそれぞれ乾燥膜厚10g/m2、10g/m2の塗布量で塗布し、熱風乾燥機にて60℃2分間乾燥し、半乾きの状態で、上記ゲル化剤溶液C1をディップ塗布し、ウェット塗布量が20g/m2となるようにエヤーナイフで掻き落とし70℃で10分間乾燥させた。これにより、水溶性インク用のバックリット用受像材料を作製した。
上記支持体のオモテ面に上記インク受容層塗布液A1、B1を、エクストルージョン式塗布機を用いてそれぞれ乾燥膜厚10g/m2、10g/m2の塗布量で塗布し、熱風乾燥機にて60℃2分間乾燥し、半乾きの状態で、上記ゲル化剤溶液C1をディップ塗布し、ウェット塗布量が20g/m2となるようにエヤーナイフで掻き落とし70℃で10分間乾燥させた。これにより、水溶性インク用のバックリット用受像材料を作製した。
〔実施例2〕
実施例1において、インク受容層塗布液A1の代わりに、下記インク受容層塗布液A2を、インク受容層塗布液B1の代わりに、下記インク受容層塗布液B2を用いる以外同様にして、バックリット用受像材料を作成した。
実施例1において、インク受容層塗布液A1の代わりに、下記インク受容層塗布液A2を、インク受容層塗布液B1の代わりに、下記インク受容層塗布液B2を用いる以外同様にして、バックリット用受像材料を作成した。
(インク受容層用塗布液A2の調製)
下記インク受容層塗布液A2組成を、攪拌しながら上から順次少しづつ添加して調製した。
下記インク受容層塗布液A2組成を、攪拌しながら上から順次少しづつ添加して調製した。
−インク受容層用塗布液A2組成−
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%)(三井化学製、平均粒径;0.5μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 1部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA440(固形分濃度;7%) 71.5部
イオン交換水 35部
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%)(三井化学製、平均粒径;0.5μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 1部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA440(固形分濃度;7%) 71.5部
イオン交換水 35部
(インク受容層用塗布液B2の調製)
下記のインク受容層用塗布液B2組成を、撹拌しながら上から順次少しずつ添加して調製した。
下記のインク受容層用塗布液B2組成を、撹拌しながら上から順次少しずつ添加して調製した。
−インク受容層用塗布液B2組成−
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%)(三井化学製、平均粒径;0.5μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 1部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA440(固形分濃度;7%) 14.3部
イオン交換水 12.8部
酸化チタン分散液 15.0部
(堺化学工業製;R650、0.25μm、30%分散液)
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%)(三井化学製、平均粒径;0.5μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 1部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA440(固形分濃度;7%) 14.3部
イオン交換水 12.8部
酸化チタン分散液 15.0部
(堺化学工業製;R650、0.25μm、30%分散液)
〔実施例3〕
(インク受容層用塗布液A3の調製)
下記組成中の(1)気相法シリカ微粒子と(2)イオン交換水と(3)「シャロールDC−902P」を混合し、ビーズミル(例えば、KD−P((株)シンマルエンタープライゼス製))を用いて、分散させた後、下記(4)ポリビニルアルコールと(5)ホウ酸と(6)ポリオキシエチレンラウリルエーテルと(7)イオン交換水を含む溶液を加え、インク受容層用塗布液A3を調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比(PB比=(1):(4))は、4.5:1であり、インク受容層用塗布液A3のpHは、3.5で酸性を示した。
(インク受容層用塗布液A3の調製)
下記組成中の(1)気相法シリカ微粒子と(2)イオン交換水と(3)「シャロールDC−902P」を混合し、ビーズミル(例えば、KD−P((株)シンマルエンタープライゼス製))を用いて、分散させた後、下記(4)ポリビニルアルコールと(5)ホウ酸と(6)ポリオキシエチレンラウリルエーテルと(7)イオン交換水を含む溶液を加え、インク受容層用塗布液A3を調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比(PB比=(1):(4))は、4.5:1であり、インク受容層用塗布液A3のpHは、3.5で酸性を示した。
−インク受容層塗布液A3の組成−
(1)気相法シリカ微粒子(無機微粒子) 10.0部
((株)トクヤマ製の「レオロシールQS−30」、平均一次粒子径7nm)
(2)イオン交換水 51.6部
(3)「シャロールDC−902P」(51%水溶液) 1.0部
(分散剤、日東紡(株)製)
(4)ポリビニルアルコール(水溶性樹脂)8%水溶液 27.8部
((株)クラレ製の「PVA124」、鹸化度98.5%、重合度2400)
(5)ホウ酸(架橋剤) 0.4部
(6)ポリオキシエチレンラウリルエーテル(界面活性剤) 1.2部
(花王(株)製「エマルゲン109P」(10%水溶液)、HLB値13.6)
(7)イオン交換水 33.0部
(1)気相法シリカ微粒子(無機微粒子) 10.0部
((株)トクヤマ製の「レオロシールQS−30」、平均一次粒子径7nm)
(2)イオン交換水 51.6部
(3)「シャロールDC−902P」(51%水溶液) 1.0部
(分散剤、日東紡(株)製)
(4)ポリビニルアルコール(水溶性樹脂)8%水溶液 27.8部
((株)クラレ製の「PVA124」、鹸化度98.5%、重合度2400)
(5)ホウ酸(架橋剤) 0.4部
(6)ポリオキシエチレンラウリルエーテル(界面活性剤) 1.2部
(花王(株)製「エマルゲン109P」(10%水溶液)、HLB値13.6)
(7)イオン交換水 33.0部
(カチオン性化合物塗布液C3の調製)
下記のカチオン性化合物塗布液C3の組成を、撹拌しながら上から順次少しずつ添加して調製した。
下記のカチオン性化合物塗布液C3の組成を、撹拌しながら上から順次少しずつ添加して調製した。
−カチオン性化合物塗布液C3の組成−
(1)硼酸 0.65部
(2)ポリアリルアミン「PAA−03」20%水溶液 12.5部
(媒染剤、日東紡(株)製)
(3)イオン交換水 72.0部
(4)塩化アンモニウム 0.8部
(5)ポリオキシエチレンラウリルエーテル 20部
(花王(株)製の「エマルゲン109P」、2%水溶液、HLB値13.6)
(1)硼酸 0.65部
(2)ポリアリルアミン「PAA−03」20%水溶液 12.5部
(媒染剤、日東紡(株)製)
(3)イオン交換水 72.0部
(4)塩化アンモニウム 0.8部
(5)ポリオキシエチレンラウリルエーテル 20部
(花王(株)製の「エマルゲン109P」、2%水溶液、HLB値13.6)
(インク受容層用塗布液B3の調製)
下記のインク受容層用塗布液B3組成を、撹拌しながら上から順次少しずつ添加して調製した。
下記のインク受容層用塗布液B3組成を、撹拌しながら上から順次少しずつ添加して調製した。
−インク受容層用塗布液B3組成−
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%)(三井化学製、平均粒径;0.5μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 1部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA440(固形分濃度;7%) 14.3部
イオン交換水 12.8部
ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、固形分濃度;20%)(三井化学製、平均粒径;0.5μm) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 1部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ポリビニルアルコールPVA440(固形分濃度;7%) 14.3部
イオン交換水 12.8部
−ゲル化剤塗布液D3の組成−
(1)硼酸 3部
(2)イオン交換水 72.0部
(3)塩化アンモニウム 0.8部
(4)ポリオキシエチレンラウリルエーテル 24部
(花王(株)製の「エマルゲン109P」、2%水溶液、HLB値13.6)
(1)硼酸 3部
(2)イオン交換水 72.0部
(3)塩化アンモニウム 0.8部
(4)ポリオキシエチレンラウリルエーテル 24部
(花王(株)製の「エマルゲン109P」、2%水溶液、HLB値13.6)
(バックリット用受像材料の作製)
ポリエチレンテレフタレートフイルム(100ミクロン)支持体にグロー放電処理を行なった後、上記から得たインク受容層用塗布液A3を、支持体上にエクストルージョンダイコーターを用いて150ml/m2の塗布量で塗布し(塗布工程)、熱風乾燥機にて80℃(風速3〜8m/秒)で塗布層の固形分濃度が20%になるまで乾燥させた。この塗布層は、この期間は恒率乾燥速度を示した。その直後、下記組成のカチオン性化合物塗布液C3に浸漬して該塗布層上の塗布量が15g/m2となるようにエアーナイフで掻き落とし、更に80℃下で乾燥した。
更にこの上に、インク受容層塗布液B3をエクストルージョンダイコーターを用いて100g/m2の塗布量で塗布した。この塗布層の固形分濃度が20%になるまで乾燥し、更にゲル化剤用液D3に浸漬して、該塗布層上の塗布量が15g/m2となるようにエアーナイフで掻き落とし、更に80℃下で乾燥して、本発明のバックリット用受像材料を作製した。
ポリエチレンテレフタレートフイルム(100ミクロン)支持体にグロー放電処理を行なった後、上記から得たインク受容層用塗布液A3を、支持体上にエクストルージョンダイコーターを用いて150ml/m2の塗布量で塗布し(塗布工程)、熱風乾燥機にて80℃(風速3〜8m/秒)で塗布層の固形分濃度が20%になるまで乾燥させた。この塗布層は、この期間は恒率乾燥速度を示した。その直後、下記組成のカチオン性化合物塗布液C3に浸漬して該塗布層上の塗布量が15g/m2となるようにエアーナイフで掻き落とし、更に80℃下で乾燥した。
更にこの上に、インク受容層塗布液B3をエクストルージョンダイコーターを用いて100g/m2の塗布量で塗布した。この塗布層の固形分濃度が20%になるまで乾燥し、更にゲル化剤用液D3に浸漬して、該塗布層上の塗布量が15g/m2となるようにエアーナイフで掻き落とし、更に80℃下で乾燥して、本発明のバックリット用受像材料を作製した。
〔実施例4〕
実施例1において、インク受容層塗布液B1に酸化チタン分散液(堺化学工業製;R650、0.25μm、30%分散液)を5部加え、該インク受容層塗布液B1の塗布量を二分の一にし、該インク受容層塗布液A1の塗布量を1.5倍にした以外は、実施例1と同様にして、本発明のバックリット用受像材料を作製した。
実施例1において、インク受容層塗布液B1に酸化チタン分散液(堺化学工業製;R650、0.25μm、30%分散液)を5部加え、該インク受容層塗布液B1の塗布量を二分の一にし、該インク受容層塗布液A1の塗布量を1.5倍にした以外は、実施例1と同様にして、本発明のバックリット用受像材料を作製した。
〔実施例5〕
(インク受容層用塗布液の調製)
第一層、第二層の塗布液は、実施例1のインク受容層用塗布液A1及びB1と同様に調製した。第三層の塗布液は、下記バリアー層(中間層)塗布液M1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
(インク受容層用塗布液の調製)
第一層、第二層の塗布液は、実施例1のインク受容層用塗布液A1及びB1と同様に調製した。第三層の塗布液は、下記バリアー層(中間層)塗布液M1組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
−バリアー層(中間層)塗布液M1組成−
ミューティクルPP2000TX(固形分濃度:20%) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 5部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ゼラチン(固形分濃度;10%) 10部
イオン交換水 45部
ミューティクルPP2000TX(固形分濃度:20%) 100部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 5部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ゼラチン(固形分濃度;10%) 10部
イオン交換水 45部
下記ゲル化剤溶液C5組成を攪拌しながら、上から順次少しずつ添加して調製した。
−ゲル化剤溶液C5組成−
イオン交換水 455部
ほう酸 15部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 30部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ダイノール609(日信化学工業(株)) 0.8部
イオン交換水 455部
ほう酸 15部
エマルゲン109P(ポリオキシエチレンラウリルエーテル) 30部
(花王(株)製、HLB値13.6、固形分濃度;10%水溶液)
ダイノール609(日信化学工業(株)) 0.8部
(水溶性インク用のバックリット受像材料の作製)
上記支持体上に上記インク受容層用塗布液A1、インク受容層用塗布液B1、バリアー層(中間層)用塗布液M1、ゲル化剤溶液C5を50℃に保温下で、エクストルージョン方式により同時塗布を行い、12℃の冷風下で2層からなるインク受容層及びバリアー層(中間層)をゲル化固化し、その後常温下で乾燥して、受像材料を作製した。
上記支持体上に上記インク受容層用塗布液A1、インク受容層用塗布液B1、バリアー層(中間層)用塗布液M1、ゲル化剤溶液C5を50℃に保温下で、エクストルージョン方式により同時塗布を行い、12℃の冷風下で2層からなるインク受容層及びバリアー層(中間層)をゲル化固化し、その後常温下で乾燥して、受像材料を作製した。
〔比較例1〕
実施例1の「インク受容層塗布液(第一受像層用塗布液)A1」の組成において、カチオン性化合物を除く以外は、実施例1と同様にして、バックリット用受像材料を作製した。
実施例1の「インク受容層塗布液(第一受像層用塗布液)A1」の組成において、カチオン性化合物を除く以外は、実施例1と同様にして、バックリット用受像材料を作製した。
〔比較例2〕
実施例1の「インク受容層塗布液B1」の組成において、ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、三井化学製、平均粒径;0.5μm、固形分濃度;20%)100部用いる代わりに、ケミスノーMP5000(アクリルスチレン系真球状微粒子、総研化学製、平均粒径;0.4μm、貫通孔ナシ)の20%分散液100部を用いる以外、実施例1と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
実施例1の「インク受容層塗布液B1」の組成において、ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、三井化学製、平均粒径;0.5μm、固形分濃度;20%)100部用いる代わりに、ケミスノーMP5000(アクリルスチレン系真球状微粒子、総研化学製、平均粒径;0.4μm、貫通孔ナシ)の20%分散液100部を用いる以外、実施例1と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
〔比較例3〕
実施例2において、インク受容層塗布液B2組成中の酸化チタン分散液を除く以外実施例2と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
実施例2において、インク受容層塗布液B2組成中の酸化チタン分散液を除く以外実施例2と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
〔比較例4〕
実施例2において、インク受容層塗布液A2(第一受像層)のカチオン性化合物を除く以外は、実施例2と同様にして、バックリット用受像材料を作製した。
実施例2において、インク受容層塗布液A2(第一受像層)のカチオン性化合物を除く以外は、実施例2と同様にして、バックリット用受像材料を作製した。
〔実施例6〕
実施例2の「インク受容層塗布液B2」の組成において、ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、三井化学製、平均粒径;0.5μm、固形分濃度;20%)100部用いる代わりに、ケミスノーMP5000(アクリルスチレン系真球状微粒子、総研化学製、平均粒径;0.4μm、貫通孔ナシ)の20%分散液100部を用いる以外実施例2と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
実施例2の「インク受容層塗布液B2」の組成において、ミューティクルPP2000TX(アクリルスチレン系ディスパージョン、三井化学製、平均粒径;0.5μm、固形分濃度;20%)100部用いる代わりに、ケミスノーMP5000(アクリルスチレン系真球状微粒子、総研化学製、平均粒径;0.4μm、貫通孔ナシ)の20%分散液100部を用いる以外実施例2と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
〔比較例5〕
実施例1における「ゲル化剤溶液C1」の組成において、ゲル化剤を用いない以外は、実施例1と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
実施例1における「ゲル化剤溶液C1」の組成において、ゲル化剤を用いない以外は、実施例1と同様にしてバックリット用受像材料を作製した。
〔評価試験〕
上記より得られた実施例1〜6及び比較例l〜5のバックリット用受像材料について、以下の評価を行った。尚、印字については上記すべての受像材料について行い、その後の加圧・加熱処理(ヒートローラー処理)は実施例2、6及び比較例3、4についてのみ行った。評価結果は表1に示す。
上記より得られた実施例1〜6及び比較例l〜5のバックリット用受像材料について、以下の評価を行った。尚、印字については上記すべての受像材料について行い、その後の加圧・加熱処理(ヒートローラー処理)は実施例2、6及び比較例3、4についてのみ行った。評価結果は表1に示す。
(1)平均細孔径(インク受容層の平均細孔径の測定)
各受像材料を液体窒素中に浸漬し、凍結した後、ミクロトームにて断面をカットし、該断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真(引き伸ばし後の倍率5000〜10万倍)をスキャナに入力してデジタル化した後、コンピューター画像処理を行い、抽出された各空隙部分の面積と等しい面積を有する円の直径の分布の平均径(数平均)を求めて、それぞれインク受容層の平均細孔径(nm)とした。
各受像材料を液体窒素中に浸漬し、凍結した後、ミクロトームにて断面をカットし、該断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真(引き伸ばし後の倍率5000〜10万倍)をスキャナに入力してデジタル化した後、コンピューター画像処理を行い、抽出された各空隙部分の面積と等しい面積を有する円の直径の分布の平均径(数平均)を求めて、それぞれインク受容層の平均細孔径(nm)とした。
(2)光透過率
インク受容層1層のみを透明支持体(例えばポリエチレンテレフタレートフイルム)上に塗布し、塗布と同時または塗布層が減率乾燥速度に入る前にゲル化剤を付与して塗布したサンプルを透過型マクベス濃度計でグレー濃度を測定し、透過率に換算した。
インク受容層1層のみを透明支持体(例えばポリエチレンテレフタレートフイルム)上に塗布し、塗布と同時または塗布層が減率乾燥速度に入る前にゲル化剤を付与して塗布したサンプルを透過型マクベス濃度計でグレー濃度を測定し、透過率に換算した。
(3)インク浸透性
従来のBristow法を改良した熊谷理工業(株)製の自動走査型吸液計KM500Winにより求めた。この装置による測定法については紙パ技協誌第48巻第6号88〜92ページに記載されている。この装置により、水溶性インク(インク商品名:PM950用のマゼンタインク、セイコーエプソン(株)製)の受像材料へのインク転移量を測定し、この測定より得られる吸液曲線(液体転移量対接触時間)より傾きを求め、上記水溶性インク30ml/m2が浸透するに要する時間を計算して、インク浸透性の評価を行った。
従来のBristow法を改良した熊谷理工業(株)製の自動走査型吸液計KM500Winにより求めた。この装置による測定法については紙パ技協誌第48巻第6号88〜92ページに記載されている。この装置により、水溶性インク(インク商品名:PM950用のマゼンタインク、セイコーエプソン(株)製)の受像材料へのインク転移量を測定し、この測定より得られる吸液曲線(液体転移量対接触時間)より傾きを求め、上記水溶性インク30ml/m2が浸透するに要する時間を計算して、インク浸透性の評価を行った。
(4)ひび割れ
水溶性インク用のバックリット受像材料のインク受容層表面を光学顕微鏡で倍率100倍にて観察し、塗布層表面のひび割れの観察を行なった。評価基準は下記とした。
○:ひび割れ無し。
△:僅かなひび割れが見られる。
×:明らかなひび割れが一面に見える。
水溶性インク用のバックリット受像材料のインク受容層表面を光学顕微鏡で倍率100倍にて観察し、塗布層表面のひび割れの観察を行なった。評価基準は下記とした。
○:ひび割れ無し。
△:僅かなひび割れが見られる。
×:明らかなひび割れが一面に見える。
(印字処理)
前記水溶性インクをインクジェットプリンターPM950(セイコーエプソン社製)のブラック用カートリッジに入れ、上記実施例1〜6及び比較例1〜5で作製した受像材料にベタ印字及び文字入り風景画像の印字を行った。次に、実施例2、6及び比較例3、4で得られた受像材料を用いたものについては、下記加熱・加圧処理を行った。印字サンプルについて下記の画像濃度、画像鮮明度、及び耐オゾン性の評価を行なった。
前記水溶性インクをインクジェットプリンターPM950(セイコーエプソン社製)のブラック用カートリッジに入れ、上記実施例1〜6及び比較例1〜5で作製した受像材料にベタ印字及び文字入り風景画像の印字を行った。次に、実施例2、6及び比較例3、4で得られた受像材料を用いたものについては、下記加熱・加圧処理を行った。印字サンプルについて下記の画像濃度、画像鮮明度、及び耐オゾン性の評価を行なった。
(5)加熱・加圧処理
離型性を有するシリコーン系樹脂を塗布した100μmのポリイミドフィルムの離型剤塗布面と、上記受像材料の印字面を重ね合わせて、受像材料表面が140℃となる温度にてヒートローラーを通して加熱加圧処理を行ない、冷却後フイルムを剥離した。このときのニップ圧は20kg/cm2である。
離型性を有するシリコーン系樹脂を塗布した100μmのポリイミドフィルムの離型剤塗布面と、上記受像材料の印字面を重ね合わせて、受像材料表面が140℃となる温度にてヒートローラーを通して加熱加圧処理を行ない、冷却後フイルムを剥離した。このときのニップ圧は20kg/cm2である。
(6)画像濃度
上記受像材料のマゼンタベタ印字部分の最高濃度、及び風景画像をライトボックス上に置き、背後より蛍光灯にて照明をあてて、観察した。評価基準は下記とした。
○:高濃度で彩度の高い画像に見える。
△:濃度、彩度ともやや不十分である。
×:低濃度、低彩度である。
上記受像材料のマゼンタベタ印字部分の最高濃度、及び風景画像をライトボックス上に置き、背後より蛍光灯にて照明をあてて、観察した。評価基準は下記とした。
○:高濃度で彩度の高い画像に見える。
△:濃度、彩度ともやや不十分である。
×:低濃度、低彩度である。
(7)画像鮮明度
文字(漢字)及び遊園地の写真からなる印字サンプルを男女各5名に見せて官能評価を行った。官能評価は各人の以下の評価点数を合計し、以下の評価基準に従い評価した。
(評価点数)
3:エッジがシャープで鮮明な画像である。
2:エッジがややぼやけている。
1:フェザリングやニジミが発生している。
(評価基準)
○:25点以上
△:20点以上25点未満
×:20点未満
文字(漢字)及び遊園地の写真からなる印字サンプルを男女各5名に見せて官能評価を行った。官能評価は各人の以下の評価点数を合計し、以下の評価基準に従い評価した。
(評価点数)
3:エッジがシャープで鮮明な画像である。
2:エッジがややぼやけている。
1:フェザリングやニジミが発生している。
(評価基準)
○:25点以上
△:20点以上25点未満
×:20点未満
(8)耐オゾン性
上記受像材料について、マゼンタベタ印字した部分の光学濃度が約1.0の部分をオゾン濃度5ppmの雰囲気下に放置し、その光学濃度が25%低下する経過時間で耐オゾン性を評価した。
上記受像材料について、マゼンタベタ印字した部分の光学濃度が約1.0の部分をオゾン濃度5ppmの雰囲気下に放置し、その光学濃度が25%低下する経過時間で耐オゾン性を評価した。
表1から明らかな通り、実施例の一部を除き、ひび割れ、インク浸透性、画像鮮明性、及び画像濃度のいずれにおいても、良好な受像材料であることが分かる。一方、比較例は全般的に不良であり、特に画像鮮明性及び画像濃度が良好でないことが分かる。
10、20 ロール
16、48 加熱手段
30 受像材料
40 加熱ベルト
42 ベルト
44 加熱ロール
50 加圧ロール
16、48 加熱手段
30 受像材料
40 加熱ベルト
42 ベルト
44 加熱ロール
50 加圧ロール
Claims (14)
- 透明支持体上に2層以上のインク受容層を有し、該インク受容層の少なくとも1層が貫通孔型粒子を有し、該透明支持体に最も近い側のインク受容層がカチオン性化合物を含有することを特徴とするインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の上層の少なくとも1層が前記貫通孔型微粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記貫通孔型微粒子を含有する層が透明支持体に最も遠い側のインク受容層であることを特徴とする請求項1または2に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体から最も近い側のインク受容層及び最も遠い側のインク受容層が、カチオン性化合物と水溶性ポリマーを含む塗布液と、貫通孔型粒子と水溶性ポリマーを含む塗布液と、を該透明支持体上にこの順に重層塗布し、該塗布と同時に、あるいは該塗布した層が減率乾燥速度を示すようになる前に、該水溶性ポリマーをゲル化させることができるゲル化剤を含む溶液を付与し、ゲル化させることにより得られた層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記カチオン性化合物と水溶性ポリマーを含む塗布液が、さらに貫通孔型微粒子を含有することを特徴とする請求項4に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の光透過率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層の光透過率が1%以上80%以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層が白色顔料を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体に最も近い側のインク受容層の平均細孔径が1nm以上100nm以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
- 前記透明支持体から最も遠い側のインク受容層の平均細孔径が100nm以上5000nm以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の受像材料がバックリット用であることを特徴とするインクジェット用受像材料。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料に、水溶性インクを用いて印字することを特徴とする画像形成方法。
- 請求項1〜8、10及び11のいずれか1項に記載のインクジェット用受像材料に、水溶性インクを用いて印字した後に、さらに加熱及び/又は加圧処理を行うことを特徴とする画像形成方法。
- 請求項4に記載のインクジェット用受像材料の製造方法。
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---|---|---|---|---|
WO2008018439A1 (fr) | 2006-08-07 | 2008-02-14 | Nsk Ltd. | Élément de bague à chemin de roulement pour unité de palier, unité de palier et procédé et dispositif de production d'élément de bague à chemin de roulement pour unité de palier |
-
2005
- 2005-02-18 JP JP2005043186A patent/JP2006224553A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
WO2008018439A1 (fr) | 2006-08-07 | 2008-02-14 | Nsk Ltd. | Élément de bague à chemin de roulement pour unité de palier, unité de palier et procédé et dispositif de production d'élément de bague à chemin de roulement pour unité de palier |
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