JP2006219757A - Method for producing plated resin formed article - Google Patents

Method for producing plated resin formed article Download PDF

Info

Publication number
JP2006219757A
JP2006219757A JP2005349363A JP2005349363A JP2006219757A JP 2006219757 A JP2006219757 A JP 2006219757A JP 2005349363 A JP2005349363 A JP 2005349363A JP 2005349363 A JP2005349363 A JP 2005349363A JP 2006219757 A JP2006219757 A JP 2006219757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
resin molded
molded body
acid
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005349363A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Tai
利弘 田井
Tatsuo Izumitani
辰雄 泉谷
Utsukou Ko
蔚紅 顧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Polymer Ltd
Original Assignee
Daicel Polymer Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Polymer Ltd filed Critical Daicel Polymer Ltd
Priority to JP2005349363A priority Critical patent/JP2006219757A/en
Publication of JP2006219757A publication Critical patent/JP2006219757A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a plated resin formed article having a great strength of the adhesion of a plating layer to the resin and exhibiting fine appearance. <P>SOLUTION: The method comprises a step of subjecting a thermoplastic resin formed article to a contacting treatment with an acid or a base not containing a heavy metal, a step of treating the resultant resin formed article with a catalyst imparting fluid, a step of forming a conductive layer on the surface of the thermoplastic resin formed article by a direct plating method, and a step of conducting the electroplating. The above method does not involve an etching step which uses an acid containing a heavy metal. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、めっきの密着強度が高いめっき樹脂成形体の製造方法及び前記製造方法で得られためっき樹脂成形体に関する。   The present invention relates to a method for producing a plated resin molded article having high adhesion strength of plating and a plated resin molded article obtained by the production method.

自動車を軽量化する目的から、自動車部品としてABS樹脂やポリアミド樹脂等の樹脂成形体が使用されており、この樹脂成形体に高級感や美感を付与するため、銅、ニッケル等のめっきが施されている。   For the purpose of reducing the weight of automobiles, resin molded products such as ABS resin and polyamide resin are used as automotive parts, and copper, nickel, etc. are plated to give this resin molded product a high-class feeling and beauty. ing.

従来、ABS樹脂等の成形体にめっきを施す場合、樹脂成形体とめっき層との密着強度を高めるため、脱脂工程の後に樹脂成形体を粗面化するエッチング工程が必須である。例えば、ABS樹脂成形体やポリプロピレン成形体をめっきする場合、脱脂処理の後に、クロム酸浴(三酸化クロム及び硫酸の混液)を用い、65〜70℃、10〜15分でエッチング処理する必要があり、廃水には有毒な6価のクロム酸イオンが含まれる。このため、6価のクロム酸イオンを3価のイオンに還元した後に中和沈殿させる処理が必須となり、廃水処理時の問題がある。   Conventionally, when plating is performed on a molded body such as an ABS resin, an etching process for roughening the resin molded body after the degreasing process is essential in order to increase the adhesion strength between the resin molded body and the plating layer. For example, when plating an ABS resin molded body or a polypropylene molded body, it is necessary to perform an etching treatment at 65 to 70 ° C. for 10 to 15 minutes using a chromic acid bath (mixed solution of chromium trioxide and sulfuric acid) after the degreasing treatment. Yes, wastewater contains toxic hexavalent chromate ions. For this reason, the process of neutralizing and precipitating the hexavalent chromate ions after reducing them to trivalent ions is essential, and there is a problem during wastewater treatment.

このように現場での作業時の安全性や廃水による環境への影響を考慮すると、クロム浴を使用したエッチング処理をしないことが望ましいが、その場合には、ABS樹脂等から得られる成形体へのめっき層の密着強度を高めることができないという問題がある。
特開2003−82138号公報 特開2003−166067号公報 特開平5−239660号公報 WO98/45505(特許第3208410号公報)
In this way, in consideration of safety during work at the site and the environmental impact of wastewater, it is desirable not to perform etching using a chromium bath, but in that case, to a molded body obtained from ABS resin, etc. There is a problem that the adhesion strength of the plating layer cannot be increased.
JP 2003-82138 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-166067 JP-A-5-239660 WO98 / 45505 (Japanese Patent No. 3208410)

特許文献1、2の発明は、クロム酸エッチングを用いず、高いめっき強度を有するめっき樹脂成形体を得ることができる点で優れているが、製造工程(めっき工程)における工数が多いという点で改善の余地がある。   The inventions of Patent Documents 1 and 2 are excellent in that a plated resin molded body having high plating strength can be obtained without using chromic acid etching, but in that the number of steps in the manufacturing process (plating process) is large. There is room for improvement.

特許文献3、4には、樹脂成形体表面をめっきする過程でダイレクトプレーティング法を使用することが記載されている。しかし、特許文献3の実験例1では、前処理として軽石で表面をザラザラさせる処理をしているので、美しい外観を有するめっき樹脂成形体を製造することは困難であり、特許文献4ではクロム酸エッチングをしているため、従来技術の課題を解決できていない。   Patent Documents 3 and 4 describe that the direct plating method is used in the process of plating the surface of the resin molded body. However, in Experimental Example 1 of Patent Document 3, since the surface is roughened with pumice as a pretreatment, it is difficult to produce a plated resin molded body having a beautiful appearance. Since etching is performed, the problems of the prior art cannot be solved.

本発明は、クロム酸等によるエッチング処理を不要とすることができ、樹脂成形体とめっき層の密着強度が高く、外観も美しいめっき樹脂成形体とが得られるめっき樹脂成形体の製造方法及び前記製造方法で得られためっき樹脂成形体を提供することを課題とする。   The present invention eliminates the need for an etching treatment with chromic acid or the like, and provides a plating resin molded body having a high adhesion strength between the resin molded body and the plating layer and having a beautiful appearance, and the method described above. It is an object of the present invention to provide a plated resin molded body obtained by a manufacturing method.

本発明は、課題の解決手段として、
熱可塑性樹脂成形体を、重金属を含まない酸又は塩基で接触処理する工程、
触媒付与液で処理する工程、
熱可塑性樹脂成形体の表面に、ダイレクトプレーティング法により導電性層を形成させる工程、及び
電気めっきする工程を具備しており、重金属を含む酸によるエッチング工程を含まない
めっき樹脂成形体の製造方法を提供する。
As a means for solving the problems, the present invention
A step of contact-treating the thermoplastic resin molded body with an acid or base not containing heavy metal,
A step of treating with a catalyst applying liquid,
A method for producing a plated resin molded body comprising a step of forming a conductive layer on the surface of a thermoplastic resin molded body by a direct plating method and a step of electroplating, and does not include an etching step using an acid containing heavy metal I will provide a.

本発明は、課題の他の解決手段として、ダイレクトプレーティング法が、金属化合物、還元性化合物及び金属水酸化物を含むセレクター液を用いて、熱可塑性樹脂成形体の表面に導電性層を形成させる工程である、請求項1記載のめっき樹脂成形体の製造方法を提供する。   In another aspect of the present invention, the direct plating method uses a selector liquid containing a metal compound, a reducing compound, and a metal hydroxide to form a conductive layer on the surface of the thermoplastic resin molded body. The manufacturing method of the plating resin molding of Claim 1 which is a process made to provide is provided.

本発明は、課題の他の解決手段として、熱可塑性樹脂成形体がポリアミドを含んでいる、請求項1又は2記載のめっき樹脂成形体の製造方法を提供する。   The present invention provides, as another means for solving the problems, a method for producing a plated resin molded article according to claim 1 or 2, wherein the thermoplastic resin molded article contains polyamide.

本発明は、課題の他の解決手段として、熱可塑性樹脂成形体が更に水への溶解度(23℃)が10g/100g以下の物質を含んでいる、請求項1〜3のいずれかに記載のめっき樹脂成形体の製造方法を提供する。   According to the present invention, as another means for solving the problem, the thermoplastic resin molded body further contains a substance having a solubility in water (23 ° C.) of 10 g / 100 g or less. A method for producing a plated resin molded body is provided.

本発明は、他の課題の解決手段として、
請求項1〜4のいずれかに記載のめっき樹脂成形体の製造方法により得られためっき樹脂成形体であって、
下記の(1)樹脂成形体の相構造、及び(2)樹脂成形体と金属めっき層との接合状態の少なくとも一方の要件を備えており、更に下記ヒートサイクル試験後において、肉眼観察による外観変化が認められないめっき樹脂成形体を提供する。
The present invention provides a solution to other problems.
It is the plating resin molding obtained by the manufacturing method of the plating resin molding in any one of Claims 1-4,
It has at least one of the following (1) phase structure of the resin molded body and (2) the bonding state between the resin molded body and the metal plating layer. The present invention provides a plated resin molded product in which no is observed.

(1)樹脂成形体の相構造
(1-1)(A)成分が海で、(B)成分が島である海島構造、或いは
(1-2)(A)成分が海で、(B)成分が島である海島構造であり、(A)〜(C)成分を含み、(D)成分を含まない場合の海島構造における島(B-1)が集合して、より大きな領域の島(B-2)が形成された海島構造であること。
(1) Phase structure of molded resin (1-1) Sea-island structure where component (A) is sea and component (B) is an island, or (1-2) Component (A) is sea, (B) Island (B-1) in the sea-island structure when the component is an island-island structure, including the components (A) to (C) and not including the component (D), B-2) must be a sea-island structure.

(2)樹脂成形体と金属めっき層との接合状態
樹脂成形体の表面近傍において、海である(A)成分が膨潤層を形成し、前記膨潤層内にめっき金属が浸透しており、島である(B)成分内には実質的にめっき金属が浸透していないこと。
(ヒートサイクル試験1)
縦100mm、横50mm、厚み3mmのめっき樹脂成形体を試験片として用い、−30℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持、75℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持を1サイクルとして、計3サイクルのヒートサイクル試験を行う。
(ヒートサイクル試験2)
縦100mm、横50mm、厚み3mmのめっき樹脂成形体を試験片として用い、−30℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持、85℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持を1サイクルとして、計3サイクルのヒートサイクル試験を行う。
(2) Joined state of resin molded body and metal plating layer In the vicinity of the surface of the resin molded body, the component (A) which is the sea forms a swelling layer, and the plating metal penetrates into the swelling layer, The plating metal is not substantially permeated into the component (B).
(Heat cycle test 1)
Using a plated resin molded body having a length of 100 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 3 mm as a test piece, held at −30 ° C. for 60 minutes, held at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, held at 75 ° C. for 60 minutes, and at room temperature (20 ° C.) A heat cycle test of a total of 3 cycles is performed with 30 minutes holding as one cycle.
(Heat cycle test 2)
Using a plated resin molded body having a length of 100 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 3 mm as a test piece, held at −30 ° C. for 60 minutes, held at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, held at 85 ° C. for 60 minutes, and at room temperature (20 ° C.) A heat cycle test of a total of 3 cycles is performed with 30 minutes holding as one cycle.

本発明の製造方法では、ダイレクトプレーティング法を適用することにより、特許文献1、2の発明と比べて工数を削減することができ、還元剤としてホルマリンのような有害物質が不要となる。   In the production method of the present invention, by applying the direct plating method, man-hours can be reduced as compared with the inventions of Patent Documents 1 and 2, and no harmful substances such as formalin are required as a reducing agent.

<めっき樹脂成形体の製造方法>
以下、工程ごとに説明する。以下の各工程は、1つの工程を2つ以上の工程に分離してもよいし、2つ以上の工程を1つの工程にまとめてもよい。また、必要に応じて、以下のとおり、めっき方法における公知の工程を付加することができる。
<Manufacturing method of plating resin molding>
Hereinafter, it demonstrates for every process. In each of the following processes, one process may be separated into two or more processes, or two or more processes may be combined into one process. Moreover, the well-known process in a plating method can be added as needed as follows.

まず、射出成形等の公知の方法により、用途に適した所望形状に成形した熱可塑性樹脂成形体に対して脱脂処理する。   First, a degreasing treatment is performed on a thermoplastic resin molded body formed into a desired shape suitable for the application by a known method such as injection molding.

脱脂処理は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ又は硫酸、炭酸等の酸を含有する界面活性剤水溶液により行う。本発明では、この脱脂処理後に次の工程に移行することができ、めっき層の密着強度を高めるための粗面化処理となるクロム酸等によるエッチング工程は不要であるし、物理的な粗面化処理(例えば、特許文献3のように軽石で表面を擦る処理)も不要である。   The degreasing treatment is performed with an aqueous surfactant solution containing an alkali such as sodium hydroxide or sodium carbonate or an acid such as sulfuric acid or carbonic acid. In the present invention, it is possible to proceed to the next step after this degreasing treatment, and there is no need for an etching step with chromic acid or the like, which is a roughening treatment for increasing the adhesion strength of the plating layer, and a physical rough surface. There is also no need for a chemical treatment (for example, a process of rubbing the surface with pumice as in Patent Document 3).

次の工程にて、熱可塑性樹脂成形体を重金属(クロム、マンガン等の金属)を含まない酸又は塩基で接触処理する。なお、前工程の脱脂処理を省略して、この工程を最初の処理工程としてもよい。   In the next step, the thermoplastic resin molded product is contact-treated with an acid or base that does not contain heavy metals (metals such as chromium and manganese). In addition, the degreasing process of a previous process is abbreviate | omitted and this process is good also as a first process process.

重金属を含まない酸は、塩酸、リン酸、硫酸のほか、酢酸、クエン酸、ギ酸等の有機酸から選ばれるもの等を用いることができる。重金属を含まない塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物から選ばれるもの等を用いることができる。   As the acid not containing a heavy metal, in addition to hydrochloric acid, phosphoric acid and sulfuric acid, those selected from organic acids such as acetic acid, citric acid and formic acid can be used. As the base not containing a heavy metal, a base selected from alkali metal or alkaline earth metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and magnesium hydroxide can be used.

重金属を含まない酸又は塩基は、種類により濃度が異なるが、塩酸の場合には、1.5〜3.5規定の塩酸が好ましい。塩酸は1.8〜3.5規定が好ましく、2〜3規定がより好ましい。他の酸又は塩基を用いる場合には、処理後の熱可塑性樹脂表面(例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)により確認できる)が塩酸処理と同程度になる濃度を選択すれば
よい。
The concentration of the acid or base containing no heavy metal varies depending on the type, but in the case of hydrochloric acid, 1.5 to 3.5 N hydrochloric acid is preferred. The hydrochloric acid is preferably 1.8 to 3.5 N, more preferably 2 to 3 N. When other acids or bases are used, the concentration at which the treated thermoplastic resin surface (for example, confirmed by a scanning electron microscope (SEM)) is comparable to that of hydrochloric acid treatment may be selected.

この工程の処理は、例えば、熱可塑性樹脂成形体を、重金属を含まない酸又は塩基中に浸漬する方法を適用でき、液温度10〜80℃の重金属を含まない酸又は塩基中に0.5〜20分間浸漬する方法を適用できる。1.5〜3.5規定の塩酸を用いる場合は、前記濃度範囲の塩酸水溶液に20〜60℃で、1〜10分間浸漬する方法を適用できる。   For the treatment of this step, for example, a method of immersing the thermoplastic resin molded body in an acid or base that does not contain heavy metals can be applied, and 0.5 to 0.5 wt. A method of immersion for ˜20 minutes can be applied. When 1.5 to 3.5 N hydrochloric acid is used, a method of immersing in an aqueous hydrochloric acid solution in the above concentration range at 20 to 60 ° C. for 1 to 10 minutes can be applied.

次に、前工程の処理がなされた熱可塑性樹脂成形体に対して、触媒付与液で処理する工程を行う。この工程自体は公知であり、この工程の前後において水洗工程を設けることが好ましい。   Next, the process of processing with a catalyst provision liquid is performed with respect to the thermoplastic resin molded object in which the process of the previous process was made. This process itself is known, and it is preferable to provide a water washing process before and after this process.

触媒付与液としては公知のものを用いることができ、例えば、触媒金属、錫化合物及び酸を含み、必要に応じて他の成分を含むものを用いることができる。   A well-known thing can be used as a catalyst provision liquid, For example, what contains a catalyst metal, a tin compound, and an acid, and contains another component as needed can be used.

触媒は公知のものを用いることができ、例えば、白金化合物(塩化白金塩等)、金化合物(亜硫酸金塩等)、パラジウム化合物(塩化パラジウム、硫酸パラジウム等)、銀化合物(硝酸銀、硫酸銀等)を挙げることができる。触媒量は、金属換算で100〜500mg/Lが好ましい。   Known catalysts can be used, such as platinum compounds (such as platinum chloride salts), gold compounds (such as gold sulfites), palladium compounds (such as palladium chloride and palladium sulfate), silver compounds (such as silver nitrate and silver sulfate). ). The amount of catalyst is preferably 100 to 500 mg / L in terms of metal.

錫化合物としては、塩化第一錫、硫酸第一錫等を挙げることができる。錫化合物の使用量は、錫換算で10〜50g/Lで、触媒金属量の50〜120倍量(質量基準)が好ましい。   Examples of the tin compound include stannous chloride and stannous sulfate. The usage-amount of a tin compound is 10-50 g / L in conversion of a tin, and 50-120 times amount (mass basis) of a catalyst metal amount is preferable.

酸としては、塩酸、硫酸、塩酸と硫酸の混酸であり、これらに塩化ナトリウムを添加したものでもよく、触媒付与液のpHを1程度にできるように調整する。   The acid may be hydrochloric acid, sulfuric acid, or a mixed acid of hydrochloric acid and sulfuric acid, and may be one in which sodium chloride is added to the acid, and the pH of the catalyst imparting solution is adjusted to about 1.

触媒付与液としては、触媒としてパラジウム化合物、錫化合物として塩化第一錫、酸として塩酸を含むものが好ましい。この工程おける処理は、熱可塑性樹脂成形体を触媒付与液中に、室温で1〜10分程度浸漬する方法を適用できる。   As a catalyst provision liquid, what contains a palladium compound as a catalyst, stannous chloride as a tin compound, and hydrochloric acid as an acid is preferable. For the treatment in this step, a method of immersing the thermoplastic resin molded article in the catalyst applying liquid at room temperature for about 1 to 10 minutes can be applied.

次の工程にて、熱可塑性樹脂成形体の表面に、ダイレクトプレーティング法により導電性層を形成させる。ダイレクトプレーティング法は公知であり、特許文献3、4のほか、特開2002−338636号公報(段落番号5)等に開示されている。この工程では、セレクター液と称されるめっき液を用い、従来汎用されている化学めっきにより形成されるめっき層(導電性層)と比べると、ごく薄い導電性層を形成するものである。   In the next step, a conductive layer is formed on the surface of the thermoplastic resin molding by a direct plating method. The direct plating method is known and disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-338636 (paragraph number 5) in addition to Patent Documents 3 and 4. In this step, a plating solution called a selector solution is used, and a very thin conductive layer is formed as compared with a plating layer (conductive layer) formed by chemical plating that has been widely used conventionally.

ダイレクトプレーティング法を適用することにより、無電解めっき法(化学めっき法)を含む特許文献1、2の発明の製造方法に比べて、下記の点で有利である。
(1)無電解めっき法(化学めっき法)のようにホルマリン等の還元力が強く、有害な物質を用いないから、安全性が高い。
(2)触媒付加工程の後の活性化工程が不要となり、工数が削減できるため、製造時間の短縮及び製造コストの引き下げができる。
(3)無電解めっき法(化学めっき法)を適用した場合、電気めっきとの間に更に複数工程が必要であるが、ダイレクトプレーティング法を適用した場合、直ちに電気めっき工程に移行できるため、工数を削減でき、製造時間の短縮及び製造コストの引き下げができる。
(4)無電解めっき法(化学めっき法)では、めっき時に使用する治具にもめっきが析出してしまうため、治具の交換が必要となるが、ダイレクトプレーティング法では、治具には殆どめっきは析出しない。
Applying the direct plating method is advantageous in the following points as compared with the manufacturing methods of the inventions of Patent Documents 1 and 2 including an electroless plating method (chemical plating method).
(1) It is highly safe because it has a strong reducing power such as formalin and does not use harmful substances like the electroless plating method (chemical plating method).
(2) The activation step after the catalyst addition step is not necessary, and the number of steps can be reduced, so that the manufacturing time can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.
(3) When the electroless plating method (chemical plating method) is applied, more steps are required between the electroplating and when the direct plating method is applied, it is possible to immediately move to the electroplating step. Man-hours can be reduced, manufacturing time can be shortened, and manufacturing costs can be reduced.
(4) In the electroless plating method (chemical plating method), plating is also deposited on the jig used during plating, so it is necessary to replace the jig. Almost no plating is deposited.

セレクター液としては、金属化合物、還元性化合物及び金属水酸化物を含む液を用いることができる。   As the selector liquid, a liquid containing a metal compound, a reducing compound and a metal hydroxide can be used.

金属化合物としては、銅化合物が好ましく、例えば、硫酸銅、塩化銅、炭酸銅、酸化銅、水酸化銅を挙げることができる。銅化合物の含有量は、銅換算で0.1〜5g/Lが好ましく、より好ましくは0.8〜1.2g/Lである。   As the metal compound, a copper compound is preferable, and examples thereof include copper sulfate, copper chloride, copper carbonate, copper oxide, and copper hydroxide. The content of the copper compound is preferably 0.1 to 5 g / L, more preferably 0.8 to 1.2 g / L in terms of copper.

還元性化合物には、公知の無電解めっき(化学めっき)で汎用されているホルマリン、次亜リン酸のように還元力の強いものは含まれず、これらに比べて還元力の弱いものであり、例えば下記のものを挙げることができる。   Reducing compounds do not include those with strong reducing power such as formalin and hypophosphorous acid, which are widely used in known electroless plating (chemical plating), and those with low reducing power compared to these, For example, the following can be mentioned.

塩化第一錫、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、蟻酸あるいはその塩類、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類とその塩類を挙げることができる。   Examples thereof include stannous chloride, sodium borohydride, dimethylamine borane, trimethylamine borane, formic acid or salts thereof, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, and glycerin and salts thereof.

還元性のある糖類、例えば、ブトウ糖、グルコース、ソルビット、セルロース、ショ糖、マンニット、グルコノラクトンを挙げることができる。糖類の含有量は、3〜50g/Lが好ましく、より好ましくは10〜20g/Lである。   Examples of reducing sugars include butter sugar, glucose, sorbit, cellulose, sucrose, mannitol, and gluconolactone. The saccharide content is preferably 3 to 50 g / L, more preferably 10 to 20 g / L.

金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を挙げることができる。金属水酸化物の含有量は、10〜80g/Lが好ましく、より好ましくは30〜50g/Lである。   Examples of the metal hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. As for content of a metal hydroxide, 10-80 g / L is preferable, More preferably, it is 30-50 g / L.

セレクター液には、必要に応じて、錯化剤を含有することができる。錯化剤としては、ヒダントイン類、有機カルボン酸類等を挙げることができる。ヒダントイン類としては、ヒダントイン、1−メチルヒダントイン、1,3−ジメチルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、アラントイン等を挙げることができ、有機カルボン酸類としては、クエン酸、酒石酸、コハク酸及びこれらの塩類等を挙げることができる。セレクター中の錯化剤の含有量は、2〜50g/Lが好ましく、より好ましくは10〜40g/Lである。   The selector liquid can contain a complexing agent as required. Examples of complexing agents include hydantoins and organic carboxylic acids. Examples of hydantoins include hydantoin, 1-methylhydantoin, 1,3-dimethylhydantoin, 5,5-dimethylhydantoin, and allantoin. Examples of organic carboxylic acids include citric acid, tartaric acid, succinic acid, and these. Examples thereof include salts. The content of the complexing agent in the selector is preferably 2 to 50 g / L, more preferably 10 to 40 g / L.

セレクター液のpHは10.0〜14.0の範囲が好ましく、より好ましくは11.55〜13.5の範囲である。   The pH of the selector liquid is preferably in the range of 10.0 to 14.0, more preferably in the range of 11.55 to 13.5.

セレクター液の具体例としては、特許文献3の実験例1の(c)に記載されているめっき浴、特許文献4に記載されている本発明浴1〜8を用いることができ、必要に応じて、その他の公知成分も付加することができる。   As a specific example of the selector liquid, the plating bath described in (c) of Experimental Example 1 of Patent Document 3 and the present invention baths 1 to 8 described in Patent Document 4 can be used. In addition, other known components can also be added.

本工程の処理は、セレクター液の液温を好ましくは20〜70℃、より好ましくは35〜50℃に調整した後、熱可塑性樹脂成形体を30秒〜20分程度、好ましくは3〜5分程度浸漬する方法を適用できる。   In the treatment of this step, the temperature of the selector liquid is preferably adjusted to 20 to 70 ° C., more preferably 35 to 50 ° C., and then the thermoplastic resin molded product is subjected to about 30 seconds to 20 minutes, preferably 3 to 5 minutes. A method of soaking to the extent can be applied.

本工程の処理により、熱可塑性樹脂成形体の表面に非常に薄い膜厚の導電性層が形成されるため、次工程において、直接電気めっきをすることができる。   By the treatment in this step, a very thin conductive layer is formed on the surface of the thermoplastic resin molded body, and therefore, electroplating can be performed directly in the next step.

次に、前工程にて表面に導電性層が形成された熱可塑性樹脂成形体を公知の方法により、銅、ニッケル、クロム等の電気めっきする。   Next, the thermoplastic resin molded body having a conductive layer formed on the surface in the previous step is electroplated with copper, nickel, chromium or the like by a known method.

本発明の製造方法を適用する熱可塑性樹脂成形体としては、下記の熱可塑性樹脂から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせ、及び必要に応じて他の成分を含む熱可塑性樹脂組成物を成形して得ることができる。   As a thermoplastic resin molding to which the production method of the present invention is applied, a thermoplastic resin composition containing one or a combination of two or more selected from the following thermoplastic resins and other components as required is molded. Can be obtained.

熱可塑性樹脂は、用途に応じて周知のものから適宜選択することができるが、本発明においては、ポリアミド系樹脂、スチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂(PPE)、ポリフェニレンスルホン樹脂(PPS)、ポリスルホン樹脂が好ましく、ポリアミド系樹脂を含む熱可塑性樹脂組成物がより好ましい。   The thermoplastic resin can be appropriately selected from known ones according to the application. In the present invention, a polyamide resin, a styrene resin, an olefin resin, a polyphenylene ether resin (PPE), a polyphenylene sulfone resin (PPS). ), A polysulfone resin is preferable, and a thermoplastic resin composition containing a polyamide-based resin is more preferable.

熱可塑性樹脂としては、吸水率(23℃水中下、24hr後の吸水率,ISO62)が0.6%以上のものが好ましく、0.6〜5%のものがより好ましく、0.6〜2%のものが更に好ましい。吸水率がよい樹脂としては、ポリアミド系樹脂、アクリル酸塩系樹脂、セルロース系樹脂、ビニールアルコール系樹脂、ポリエーテル系樹脂等が好ましく、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂がより好ましく、ポリアミド系樹脂がもっとも好ましい。   The thermoplastic resin preferably has a water absorption rate (water absorption rate after 24 hours under water at 23 ° C., ISO 62) of 0.6% or more, more preferably 0.6 to 5%, and more preferably 0.6 to 2 % Is more preferable. As the resin having a good water absorption rate, a polyamide resin, an acrylate resin, a cellulose resin, a vinyl alcohol resin, a polyether resin and the like are preferable, a polyamide resin and a polyether resin are more preferable, and a polyamide resin Is most preferred.

また熱可塑性樹脂としては、上記した吸水率がよい樹脂と、吸水率が劣る樹脂(吸水率が0.6%未満、好ましくは吸水率が0.4%以下のもの)を組み合わせたものでもよい。吸水性が劣る樹脂としては、スチレン系樹脂が好ましい。   The thermoplastic resin may be a combination of the above-described resin having a good water absorption rate and a resin having a poor water absorption rate (having a water absorption rate of less than 0.6%, preferably a water absorption rate of 0.4% or less). . As the resin having poor water absorption, a styrene resin is preferable.

吸水性の劣る熱可塑性樹脂を用い、ダイレクトプレーティング法を含む製造方法を適用した場合、外観が美しく、かつめっきの密着強度が高いめっき樹脂成形体を得ようとすると、最適条件を設定するために工数の増加が避けられない。しかし、上記したような吸水性の良い(金属の吸着性も良い)熱可塑性樹脂又は吸水性の良い熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物を用いた場合は、ダイレクトプレーティング法の適用により容易に導電性層が形成でき、全体の工数を削減できるため好ましい。   When using a thermoplastic resin with poor water absorption and applying a manufacturing method including the direct plating method, to obtain a plated resin molded product with a beautiful appearance and high plating adhesion strength, the optimum conditions are set. However, an increase in man-hours is inevitable. However, when the above-described thermoplastic resin with good water absorption (good metal adsorption) or a resin composition containing a thermoplastic resin with good water absorption is used, it is easily conductive by applying the direct plating method. It is preferable because a conductive layer can be formed and the total man-hour can be reduced.

なお、2種以上の樹脂を含む熱可塑性樹脂組成物を用いる場合には、上記した吸水率を満たす熱可塑性樹脂を30質量%以上含有することが好ましい。   In addition, when using the thermoplastic resin composition containing 2 or more types of resin, it is preferable to contain 30 mass% or more of thermoplastic resins which satisfy | fill the above-mentioned water absorption.

ポリアミド系樹脂は、ジアミンとジカルボン酸とから形成されるポリアミド樹脂及びそれらの共重合体であり、結晶性でも非晶性でも、それらが混在したものでもよい。結晶性と非晶性のものが混在している場合、結晶化度は60%以下のものが好ましく、40%以下のものがより好ましい。   The polyamide-based resin is a polyamide resin formed from diamine and dicarboxylic acid and a copolymer thereof, and may be crystalline, amorphous, or a mixture thereof. When both crystalline and amorphous are mixed, the crystallinity is preferably 60% or less, more preferably 40% or less.

ポリアミド系樹脂としては、ナイロン66、ポリヘキサメチレンセバカミド(ナイロン6・10)、ポリヘキサメチレンドデカナミド(ナイロン6・12)、ポリドデカメチレンドデカナミド(ナイロン1212)、ポリメタキシリレンアジパミド(ナイロンMXD6)、ポリテトラメチレンアジパミド(ナイロン46)及びこれらの混合物や共重合体;ナイロン6/66、6T成分が50モル%以下であるナイロン66/6T(6T:ポリヘキサメチレンテレフタラミド)、6I成分が50モル%以下であるナイロン66/6I(6I:ポリヘキサメチレンイソフタラミド)、ナイロン6T/6I/66、ナイロン6T/6I/610等の共重合体;ポリヘキサメチレンテレフタルアミド(ナイロン6T)、ポリヘキサメチレンイソフタルアミド(ナイロン6I)、ポリ(2−メチルペンタメチレン)テレフタルアミド(ナイロンM5T)、ポリ(2−メチルペンタメチレン)イソフタルアミド(ナイロンM5I)、ナイロン6T/6I、ナイロン6T/M5T等の共重合体が挙げられ、そのほかアモルファスナイロンのような共重合ナイロンでもよく、アモルファスナイロンとしてはテレフタル酸とトリメチルヘキサメチレンジアミンの重縮合物等を挙げることができる。   Polyamide resins include nylon 66, polyhexamethylene sebacamide (nylon 6 · 10), polyhexamethylene dodecanamide (nylon 6 · 12), polydodecamethylene dodecanamide (nylon 1212), polymetaxylylene azide Pamide (nylon MXD6), polytetramethylene adipamide (nylon 46) and mixtures and copolymers thereof; nylon 6/66, nylon 66 / 6T in which 6T component is 50 mol% or less (6T: polyhexamethylene) Terephthalamide), copolymers of nylon 66 / 6I (6I: polyhexamethylene isophthalamide), nylon 6T / 6I / 66, nylon 6T / 6I / 610, etc. whose 6I component is 50 mol% or less; polyhexa Methylene terephthalamide (nylon 6T), polyhexamethylene isophthal Copolymers such as imide (nylon 6I), poly (2-methylpentamethylene) terephthalamide (nylon M5T), poly (2-methylpentamethylene) isophthalamide (nylon M5I), nylon 6T / 6I, nylon 6T / M5T In addition, copolymer nylon such as amorphous nylon may be used, and examples of amorphous nylon include polycondensates of terephthalic acid and trimethylhexamethylenediamine.

更に、環状ラクタムの開環重合物、アミノカルボン酸の重縮合物及びこれらの成分からなる共重合体、具体的には、ナイロン6、ポリ−ω−ウンデカナミド(ナイロン11)、ポリ−ω−ドデカナミド(ナイロン12)等の脂肪族ポリアミド樹脂及びこれらの共重合体、ジアミン、ジカルボン酸とからなるポリアミドとの共重合体、具体的にはナイロン6T/6、ナイロン6T/11、ナイロン6T/12、ナイロン6T/6I/12、ナイロン6T/6I/610/12等及びこれらの混合物を挙げることができる。   Further, a ring-opening polymer of cyclic lactam, a polycondensate of aminocarboxylic acid, and a copolymer comprising these components, specifically, nylon 6, poly-ω-undecanamide (nylon 11), poly-ω-dodecanamide. (Nylon 12) and other aliphatic polyamide resins and copolymers thereof, and copolymers with polyamides comprising diamines and dicarboxylic acids, specifically nylon 6T / 6, nylon 6T / 11, nylon 6T / 12, Mention may be made of nylon 6T / 6I / 12, nylon 6T / 6I / 610/12, and mixtures thereof.

ポリアミド系樹脂としては、上記の中でもPA(ナイロン)6、PA(ナイロン)66、PA(ナイロン)6/66が好ましい。   Among the polyamide-based resins, PA (nylon) 6, PA (nylon) 66, and PA (nylon) 6/66 are preferable among the above.

ポリアミド系樹脂は、結晶融解熱量が10J/g以上のものが好ましく、より好ましくは10〜150J/g、更に好ましくは15〜120J/g、特に好ましくは20〜100J/g、最も好ましくは25〜90J/gのものである。結晶融解熱量が前記範囲であるものは、結晶融解熱量で特定される結晶部分と共に残余の非晶質部分を含むものである。   The polyamide resin preferably has a heat of crystal melting of 10 J / g or more, more preferably 10 to 150 J / g, still more preferably 15 to 120 J / g, particularly preferably 20 to 100 J / g, and most preferably 25 to 25 J / g. 90 J / g. The crystal melting heat quantity within the above range includes the remaining amorphous part together with the crystal part specified by the crystal melting heat quantity.

ポリアミド系樹脂の結晶融解熱量を上記範囲内に設定することにより、熱可塑性樹脂成形体の表面からポリアミド系樹脂の非晶質部分が脱落され、脱落後に生じた微細孔の作用により、強固なめっき層が形成されるので好ましい。   By setting the heat of crystal fusion of the polyamide resin within the above range, the amorphous part of the polyamide resin is removed from the surface of the thermoplastic resin molded body, and strong plating is achieved by the action of the micropores generated after the removal. This is preferable because a layer is formed.

結晶融解熱量は、DSC測定により実施する。測定するポリアミド系樹脂ペレットから5〜10mgサンプルを取り出し、島津製作所製 DSC 600E を使用し、昇温速度20℃/分、降温速度20℃/分の条件で2回温度スキャンを行い、2ndスキャンでの融解熱量を結晶融解熱量とする。   The amount of crystal melting heat is measured by DSC measurement. Take a 5-10 mg sample from the polyamide resin pellet to be measured, and use a DSC 600E manufactured by Shimadzu Corporation to perform a temperature scan twice under the conditions of a temperature increase rate of 20 ° C / min and a temperature decrease rate of 20 ° C / min. The amount of heat of fusion is defined as the amount of heat of crystal fusion.

スチレン系樹脂は、スチレン及びα置換、核置換スチレン等のスチレン誘導体の重合体を挙げることができる。また、これら単量体を主として、これらとアクリロニトリル、アクリル酸並びにメタクリル酸のようなビニル化合物及び/又はブタジエン、イソプレンのような共役ジエン化合物の単量体から構成される共重合体も含まれる。例えばポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、スチレン−メタクリレート共重合体(MS樹脂)、スチレン−ブタジエン共重合体(SBS樹脂)等を挙げることができる。   Examples of the styrenic resin include polymers of styrene and styrene derivatives such as α-substituted and nucleus-substituted styrene. Also included are copolymers composed mainly of these monomers and monomers of vinyl compounds such as acrylonitrile, acrylic acid and methacrylic acid and / or conjugated diene compounds such as butadiene and isoprene. For example, polystyrene, high impact polystyrene (HIPS) resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS) resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), styrene-methacrylate copolymer (MS resin), styrene-butadiene A copolymer (SBS resin) etc. can be mentioned.

また、ポリスチレン系樹脂として、ポリアミド系樹脂との相溶性をあげるためのカルボキシル基含有不飽和化合物が共重合されているスチレン系共重合体を含んでもよい。カルボキシル基含有不飽和化合物が共重合されているスチレン系共重合体は、ゴム質重合体の存在下に、カルボキシル基含有不飽和化合物及び必要に応じてこれらと共重合可能な他の単量体を重合してなる共重合体である。成分を具体的に例示すると、
1)カルボキシル基含有不飽和化合物を共重合したゴム質重合体の存在下に、芳香族ビニルモノマーを必須成分とする単量体あるいは芳香族ビニルとカルボキシル基含有不飽和化合物とを必須成分とする単量体を重合して得られたグラフト重合体、
2)ゴム質重合体の存在下に、芳香族ビニルとカルボキシル基含有不飽和化合物とを必須成分とする単量体を共重合して得られたグラフト共重合体、
3)カルボキシル基含有不飽和化合物が共重合されていないゴム強化スチレン系樹脂とカルボキシル基含有不飽和化合物と芳香族ビニルとを必須成分とする単量体の共重合体との混合物、
4)上記1),2)とカルボキシル基含有不飽和化合物と芳香族ビニルとを必須とする共重合体との混合物、
5)上記1)、2)、3)、4)と芳香族ビニルを必須成分とする共重合体との混合物がある。
Further, the polystyrene resin may include a styrene copolymer in which a carboxyl group-containing unsaturated compound for increasing compatibility with the polyamide resin is copolymerized. The styrene-based copolymer in which the carboxyl group-containing unsaturated compound is copolymerized in the presence of the rubber-like polymer, the carboxyl group-containing unsaturated compound and, if necessary, other monomers copolymerizable therewith Is a copolymer obtained by polymerizing Specific examples of ingredients include
1) In the presence of a rubbery polymer copolymerized with a carboxyl group-containing unsaturated compound, a monomer containing an aromatic vinyl monomer as an essential component or an aromatic vinyl and a carboxyl group-containing unsaturated compound as an essential component A graft polymer obtained by polymerizing monomers;
2) A graft copolymer obtained by copolymerizing a monomer having an aromatic vinyl and a carboxyl group-containing unsaturated compound as essential components in the presence of a rubbery polymer,
3) a mixture of a rubber-reinforced styrenic resin that is not copolymerized with a carboxyl group-containing unsaturated compound, and a copolymer of monomers that have a carboxyl group-containing unsaturated compound and an aromatic vinyl as essential components;
4) A mixture of the above 1), 2), a copolymer containing an unsaturated compound containing a carboxyl group and an aromatic vinyl,
5) There is a mixture of the above 1), 2), 3), 4) and a copolymer containing aromatic vinyl as an essential component.

上記1)〜5)において、芳香族ビニルとしてはスチレンが好ましく、また芳香族ビニルと共重合する単量体としてはアクリロニトリルが好ましい。カルボキシル基含有不飽和化合物は、スチレン系樹脂中、好ましくは0.1〜8質量%であり、より好ましくは0.2〜7質量%である。   In the above 1) to 5), styrene is preferable as the aromatic vinyl, and acrylonitrile is preferable as the monomer copolymerized with the aromatic vinyl. The carboxyl group-containing unsaturated compound is preferably 0.1 to 8% by mass, more preferably 0.2 to 7% by mass in the styrene resin.

オレフィン系樹脂は、炭素数2〜8のモノオレフィンを主たる単量体成分とする重合体であり、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレンランダム共重合体、エチレン−プロピレンブロック共重合体、ポリメチルペンテン、ポリブテン−1、これらの変性物等から選ばれる1種以上を挙げることができ、これらの中でもポリプロピレン、酸変性ポリプロピレンが好ましい。   The olefin-based resin is a polymer having a C 2-8 monoolefin as a main monomer component, such as low density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene random copolymer, One or more kinds selected from ethylene-propylene block copolymer, polymethylpentene, polybutene-1, modified products thereof and the like can be exemplified, and among these, polypropylene and acid-modified polypropylene are preferable.

ポリフェニレンエーテル樹脂は、本発明で使用できるポリフェニレンエーテルの具体例としては、ポリ(2,3-ジメチル-6-エチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-6-クロロメチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-6-ヒドロキシエチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-6-n-ブチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-エチル-6-イソプロピル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-エチル-6-n-プロピル1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2,3,6-トリメチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-(4'-メチルフェニル)-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-ブロモ-6-フェニル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-6-フェニル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-フェニル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-クロロ-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-クロロ-6-エチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-クロロ-6-ブロ
モ-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2,6-ジ-n-プロピル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-6-イソプロピル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-クロロ-6-メチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2-メチル-6-エチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2,6-ジブロモ-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2,6-ジクロロ-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2,6-ジエチル-1,4-フェニレンエーテル)、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンエーテル)等が挙げられる。これらのうち特に好ましくは、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンエーテル)が用いられる。
Examples of polyphenylene ethers that can be used in the present invention include poly (2,3-dimethyl-6-ethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-chloromethyl-1). , 4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-hydroxyethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-n-butyl-1,4-phenylene ether), poly (2- Ethyl-6-isopropyl-1,4-phenylene ether), poly (2-ethyl-6-n-propyl 1,4-phenylene ether), poly (2,3,6-trimethyl-1,4-phenylene ether) , Poly (2- (4'-methylphenyl) -1,4-phenylene ether), poly (2-bromo-6-phenyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-phenyl-1) , 4-phenylene ether), poly (2-phenyl-1,4-phenylene ether), poly (2-chloro-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-1,4-phenylene ether) Ter), poly (2-chloro-6-ethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-chloro-6-bromo-1,4-phenylene ether), poly (2,6-di-n-propyl) 1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-isopropyl-1,4-phenylene ether), poly (2-chloro-6-methyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl -6-ethyl-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dibromo-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene ether), poly (2,6 -Diethyl-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) and the like. Of these, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) is particularly preferably used.

必要に応じて熱可塑性樹脂と共に配合される他の成分としては、熱可塑性樹脂成形体とめっき層との密着強度を高める観点から、キレート剤、水溶性物質、界面活性剤及び/又は凝固剤、リン系化合物を挙げることができる。   As other components blended together with the thermoplastic resin as necessary, from the viewpoint of increasing the adhesion strength between the thermoplastic resin molded body and the plating layer, a chelating agent, a water-soluble substance, a surfactant and / or a coagulant, A phosphorus compound can be mentioned.

キレート化剤は、めっき浴に含まれる金属が樹脂成形体表面に付着し易くなるように作用する成分であり、下記の群から選ばれるものを用いることができる。   A chelating agent is a component which acts so that the metal contained in a plating bath becomes easy to adhere to the resin molding surface, and what is chosen from the following group can be used.

メチレンジアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミン、o−,m−及びp−フェニレンジアミン、ベンジジン、ジアミノスチルベン等の芳香族ジアミン;
エタン−1,1−ジホスホン酸、エタン−1,1,2−トリホスホン酸、エタン−1−ヒドロキシ−1,1−ジホスホン酸およびその誘導体、エタンヒドロキシ−1,1,2−トリホスホン酸、エタン−1,2−ジカルボキシ−1,2−ジホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸等のホスホン酸又はこれらのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩;
2−ホスホノブタン−1,2 −ジカルボン酸、1−ホスホノブタン−2,3,4 −トリカルボン酸、α−メチルホスホノコハク酸等のホスホノカルボン酸又はこれらのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩;
アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン等のアミノ酸又はこれらのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩;
ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、ジエンコル酸等のアミノポリ酢酸又はこれらのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩;
グリコール酸、ジグリコール酸、オキシジコハク酸、カルボキシメチルオキシコハク酸、クエン酸、マロン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、リンゴ酸、オキシジコハク酸、グルコン酸 、カルボキシメチルコハク酸、カルボキシメチル酒石酸、α−ヒドロキシプロピオン酸、α−ヒドロキシイソ酪酸などの有機酸又はこれらのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩;
ゼオライトAに代表されるアルミノケイ酸のアルカリ金属塩又はアルカノールアミン塩;
アミノポリ(メチレンホスホン酸)もしくはそのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩、又はポリエチレンポリアミンポリ(メチレンホスホン酸)もしくはそのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩。
Aliphatic diamines such as methylene diamine, ethylene diamine, trimethylene diamine, tetramethylene diamine, pentamethylene diamine and hexamethylene diamine, aromatic diamines such as o-, m- and p-phenylene diamine, benzidine and diaminostilbene;
Ethane-1,1-diphosphonic acid, ethane-1,1,2-triphosphonic acid, ethane-1-hydroxy-1,1-diphosphonic acid and its derivatives, ethanehydroxy-1,1,2-triphosphonic acid, ethane- Phosphonic acids such as 1,2-dicarboxy-1,2-diphosphonic acid and methanehydroxyphosphonic acid, or alkali metal salts or alkanolamine salts thereof;
Phosphonocarboxylic acids such as 2-phosphonobutane-1,2-dicarboxylic acid, 1-phosphonobutane-2,3,4-tricarboxylic acid, α-methylphosphonosuccinic acid, or alkali metal salts or alkanolamine salts thereof;
Amino acids such as aspartic acid, glutamic acid, glycine, or alkali metal salts or alkanolamine salts thereof;
Nitrilotriacetic acid, iminodiacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, glycol etherdiaminetetraacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, aminopolyacetic acid such as diencoric acid or alkali metal salts or alkanolamine salts thereof ;
Glycolic acid, diglycolic acid, oxydisuccinic acid, carboxymethyloxysuccinic acid, citric acid, malonic acid, lactic acid, tartaric acid, oxalic acid, malic acid, oxydisuccinic acid, gluconic acid, carboxymethyl succinic acid, carboxymethyl tartaric acid, α-hydroxy Organic acids such as propionic acid and α-hydroxyisobutyric acid or alkali metal salts or alkanolamine salts thereof;
Alkali metal salt or alkanolamine salt of aluminosilicate represented by zeolite A;
Aminopoly (methylenephosphonic acid) or an alkali metal salt or alkanolamine salt thereof, or polyethylenepolyamine poly (methylenephosphonic acid) or an alkali metal salt or alkanolamine salt thereof.

熱可塑性樹脂成形体中のキレート化剤の含有割合は、熱可塑性樹脂100質量部に対して、キレート化剤は0.1〜20質量部が好ましく、0.1〜15質量部がより好ましく、0.1〜10質量部が更に好ましい。   The content of the chelating agent in the thermoplastic resin molded body is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin. 0.1-10 mass parts is still more preferable.

水溶性物質は、溶解度は問わず、水に可溶な物質を意味するもので、デンプン、デキストリン、プルラン、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース又はこれらの塩等の多糖類;プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、グリセリン等の多価アルコール;ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、アクリル酸−無水マレイン酸コポリマー、無水マレイン酸−ジイソブチレンコポリマー、無水マレイン酸−酢酸ビニルコポリマー、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物及びこれらの塩等を挙げることができる。   A water-soluble substance means a substance that is soluble in water regardless of solubility, and is a polysaccharide such as starch, dextrin, pullulan, hyaluronic acid, carboxymethylcellulose, methylcellulose, ethylcellulose, or a salt thereof; propylene glycol, ethylene Polyhydric alcohols such as glycol, diethylene glycol, neopentyl glycol, butanediol, pentanediol, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, glycerin; polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polymalein Acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, acrylic acid-maleic anhydride copolymer, maleic anhydride-diisobutylene Copolymers, maleic anhydride - vinyl acetate copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensates and their salts.

これらの中でも、水に可溶であるが溶解度の小さなものが好ましく、具体的には、水への溶解度(23℃)が300g/100g以下のものが好ましく、100g/100g以下のものがより好ましく、10g/100g以下のものが更に好ましい。このようなものとしては、ペンタエリスリトール(7.2g/100g)、ジペンタエリスリトール(0.1g/100g以下)等を挙げることができる。   Among these, those that are soluble in water but low in solubility are preferred, and specifically, those having a solubility in water (23 ° C.) of 300 g / 100 g or less are preferred, and those having a solubility of 100 g / 100 g or less are more preferred. The thing of 10 g / 100g or less is still more preferable. Examples of such include pentaerythritol (7.2 g / 100 g), dipentaerythritol (0.1 g / 100 g or less), and the like.

熱可塑性樹脂成形体中の水溶性物質の含有割合は、熱可塑性樹脂100質量部に対して、水溶性物質は0.01〜50質量部が好ましく、0.01〜30質量部がより好ましく、0.01〜15質量部が更に好ましい。   The content ratio of the water-soluble substance in the thermoplastic resin molded body is preferably 0.01 to 50 parts by mass, more preferably 0.01 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin. 0.01-15 mass parts is still more preferable.

界面活性剤及び/又は凝固剤としては、熱可塑性樹脂の製造時に乳化重合を適用した場合に用いる界面活性剤(乳化剤)が樹脂中に残存しているものでもよいし、塊状重合等の乳化剤を使用しない製造法を適用した場合には、別途熱可塑性樹脂中に添加したものでもよい。   As the surfactant and / or coagulant, the surfactant (emulsifier) used when emulsion polymerization is applied during the production of the thermoplastic resin may remain in the resin, or an emulsifier such as bulk polymerization may be used. When a manufacturing method that is not used is applied, it may be added separately in a thermoplastic resin.

界面活性剤及び/又は凝固剤は、樹脂の乳化重合で使用するもののほか、乳化重合で使用するもの以外のものでもよく、界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤が好ましい。   The surfactant and / or the coagulant may be other than those used in emulsion polymerization in addition to those used in the emulsion polymerization of resins. The surfactant may be an anionic surfactant, a cationic surfactant, or a nonion. An ionic surfactant and an amphoteric surfactant are preferred.

これらの界面活性剤としては、脂肪酸塩、ロジン酸塩、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、スルホコハク酸ジエステル塩、α−オレフィン硫酸エステル塩、α−オレフィンスルホン酸塩等のアニオン界面活性剤;モノもしくはジアルキルアミン又はそのポリオキシエチレン付加物、モノ又はジ長鎖アルキル第4級アンモニウム塩等のカチオン界面活性剤;アルキルグルコシド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、蔗糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンプロピレンブロックコポリマー、脂肪酸モノグリセリド、アミンオキシド等のノニオン界面活性剤;カルボベタイン、スルホベタイン、ヒドロキシスルホベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。   These surfactants include fatty acid salts, rosinates, alkyl sulfates, alkyl benzene sulfonates, alkyl diphenyl ether sulfonates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, sulfosuccinic acid diester salts, α-olefin sulfate salts, Anionic surfactants such as α-olefin sulfonates; Cationic surfactants such as mono- or dialkylamines or polyoxyethylene adducts thereof, mono- or di-long alkyl quaternary ammonium salts; alkyl glucosides, polyoxyethylene alkyls Ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, sucrose fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene propylene butyl ether Nonionic surfactants such as lock copolymers, fatty acid monoglycerides, amine oxides; amphoteric surfactants such as carbobetaine, sulfobetaine, and hydroxysulfobetaine.

熱可塑性樹脂成形体中の界面活性剤及び/又は凝固剤の含有割合は、熱可塑性樹脂100質量部に対して、界面活性剤及び/又は凝固剤は0.01〜10質量部が好ましく、0.01〜5質量部がより好ましく、0.01〜2質量部が更に好ましい。   The surfactant and / or coagulant content in the thermoplastic resin molding is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin. 0.01 to 5 parts by mass is more preferable, and 0.01 to 2 parts by mass is even more preferable.

リン系化合物は、めっきの密着強度を高めるように作用する成分であり、下記のものから選ばれる1種又は2種以上用いることができる。   The phosphorus compound is a component that acts to increase the adhesion strength of the plating, and can be used alone or in combination of two or more selected from the following.

トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリス(イソプロピルフェニル)ホスフェート、トリス(o−又はp−フェニルフェニル)ホスフェート、トリナフチルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、ジフェニル(2−エチルヘキシル)ホスフェート、ジ(イソプロピルフェニル)フェニルホスフェート、o−フェニルフェニルジクレジルホスフェート、トリス(2,6−ジメチルフェニル)ホスフェート、テトラフェニル−m−フェニレンジホスフェート、テトラフェニル−p−フェニレンジホスフェート、フェニルレゾルシン・ポリホスフェート、ビスフェノールA−ビス(ジフェニルホスフェート)、ビスフェノールA・ポリフェニルホスフェート、ジピロカテコールハイポジホスフェート等の縮合系リン酸エステル;
ジフェニル(2−エチルヘキシル)ホスフェート、ジフェニル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニルネオペンチルホスフェート、ペンタエリスリトールジフェニルジホスフェート、エチルピロカテコールホスフェート等の正リン酸エステル等の脂肪酸・芳香族リン酸エステル;
ポリリン酸メラミン、トリポリリン酸、ピロリン酸、オルソリン酸、ヘキサメタリン酸等のアルカリ金属塩、フィチン酸等のリン酸系化合物又はこれらのアルカリ金属塩もしくはアルカノールアミン塩等;
更に、上記以外のリン系化合物として、公知の樹脂用の難燃剤及び酸化防止剤として使用されているリン系化合物を用いることができる。
Triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, tris (isopropylphenyl) phosphate, tris (o- or p-phenylphenyl) phosphate, trinaphthyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate, diphenyl ( 2-ethylhexyl) phosphate, di (isopropylphenyl) phenyl phosphate, o-phenylphenyl dicresyl phosphate, tris (2,6-dimethylphenyl) phosphate, tetraphenyl-m-phenylene diphosphate, tetraphenyl-p-phenylene diphosphate , Phenyl resorcinol polyphosphate, bisphenol A-bis (diphenyl phosphate), bisphenol A polyphenyl phosphate Feto, condensation type phosphoric acid ester such as di-pyrocatechol Hi-Posi phosphate;
Fatty acids such as normal phosphates such as diphenyl (2-ethylhexyl) phosphate, diphenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, diphenyl neopentyl phosphate, pentaerythritol diphenyl diphosphate, ethyl pyrocatechol phosphate・ Aromatic phosphate esters;
Melamine polyphosphate, tripolyphosphoric acid, pyrophosphoric acid, orthophosphoric acid, hexametaphosphoric acid and other alkali metal salts, phytic acid and other phosphoric acid compounds or alkali metal salts or alkanolamine salts thereof;
Furthermore, as phosphorus compounds other than the above, phosphorus compounds that are used as known flame retardants and antioxidants for resins can be used.

熱可塑性樹脂成形体中のリン系化合物の含有割合は、熱可塑性樹脂100質量部に対して、0.1〜30質量部が好ましく、0.1〜20質量部がより好ましく、0.1〜10質量部が更に好ましい。   The content ratio of the phosphorus compound in the thermoplastic resin molded body is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin, 10 parts by mass is more preferable.

本発明の製造方法を適用して得られるめっき樹脂成形体は、熱可塑性樹脂成形体と金属めっき層との密着強度(JIS H8630)が、好ましくは最高値が10kPa以上、より好ましくは最高値が50kPa以上、更に好ましくは最高値が100kPa以上、特に好ましくは最高値が150kPa以上のものを得ることができる。   The plating resin molded body obtained by applying the production method of the present invention has an adhesion strength (JIS H8630) between the thermoplastic resin molded body and the metal plating layer, preferably a maximum value of 10 kPa or more, more preferably a maximum value. A product having a maximum value of 50 kPa or more, more preferably a maximum value of 100 kPa or more, and particularly preferably a maximum value of 150 kPa or more can be obtained.

本発明の製造方法を適用して得られるめっき樹脂成形体の形状、めっき層の種類、厚み等は、用途に応じて適宜選択することができ、各種用途に適用することができるが、特にバンパー、エンブレム、ホイールキャップ、内装部品、外装部品等の自動車部品用途として適している。   The shape of the plated resin molded product obtained by applying the production method of the present invention, the type and thickness of the plated layer can be appropriately selected according to the application, and can be applied to various applications. Suitable for automotive parts such as emblems, wheel caps, interior parts and exterior parts.

<めっき樹脂成形体>
本発明のめっき樹脂成形体は、上記した製造方法により得られたものであるが、特に下記組成の樹脂組成物から得られた樹脂成形体をめっきして得られるものが好ましい。
(A)23℃水中下、24hr後の吸水率(ISO62)が0.6%以上であるマトリックス樹脂 10〜90質量%、
(B)23℃水中下、24hr後の吸水率(ISO62)が0.6%未満である、スチレン系樹脂 10〜90質量%、
(C)相溶化剤 0〜40質量部%、
(D)水への溶解度(25℃)が0.01/100g〜10g/100gの水可溶性物質 (A)〜(C)成分の合計100質量部に対して0.01〜20質量部及び
(E)必要に応じて界面活性剤 (A)〜(C)成分の合計100質量部に対して、0.01〜10質量部
本発明のめっき樹脂成形体は、クロム酸によるエッチング処理をすることなく、美しく、かつ強固なめっき層が形成されるものであるが、本発明ではダイレクトプレーティング工程を含んでおり、従来の無電解めっき(化学めっき)工程を含んでいないため、無電解めっき(化学めっき)工程を含む場合とは異なるメカニズムで、美しく、かつ強固なめっき層が形成される。
<Plating resin molding>
The plated resin molded product of the present invention is obtained by the above-described production method, and in particular, a product obtained by plating a resin molded product obtained from a resin composition having the following composition is preferable.
(A) 10 to 90% by mass of a matrix resin having a water absorption rate (ISO 62) after 24 hours in water of 23 ° C. of 0.6% or more,
(B) 10-90% by mass of a styrene resin having a water absorption rate (ISO 62) of less than 0.6% after 24 hours in water at 23 ° C.
(C) Compatibilizer 0 to 40 parts by mass,
(D) Water-soluble substance having a solubility in water (25 ° C.) of 0.01 / 100 g to 10 g / 100 g (A) to (C) 0.01 to 20 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass and (E) As needed, 0.01-10 mass parts with respect to the total of 100 mass parts of surfactant (A)-(C) component The plating resin molding of this invention does not perform the etching process by chromic acid, Although a beautiful and strong plating layer is formed, the present invention includes a direct plating process and does not include a conventional electroless plating (chemical plating) process. ) A beautiful and strong plating layer is formed by a mechanism different from that including the step.

以下、対比のため、従来の無電解めっき(化学めっき)工程を含むめっき法(クロム酸によるエッチング処理なし)を適用した場合のめっきのメカニズムを先に説明し、その後で、本発明のダイレクトプレーティング工程を含むめっき法を適用した場合のめっきのメカニズムを説明する。   Hereinafter, for comparison, the plating mechanism in the case of applying a plating method (without etching treatment with chromic acid) including a conventional electroless plating (chemical plating) step will be described first, and then the direct play of the present invention will be described. A plating mechanism when a plating method including a plating process is applied will be described.

(無電解めっき(化学めっき)工程を含むめっき法)
本方法のめっきは、下記の(I)〜(V)のメカニズムにより形成されるものである。
(Plating method including electroless plating (chemical plating) process)
The plating of this method is formed by the following mechanisms (I) to (V).

(I)(A)〜(D)成分、及び必要に応じて更に(E)成分を用いることにより、ポ
リアミド系樹脂(海)とスチレン系樹脂(島)が海島構造を形成し、海島構造の形成に(D)成分の水可溶性物質が大きく関与していること(或いは(D)成分と(E)成分の組み合わせが相乗的に関与していること);
(II)めっき工程における酸(クロム酸等の有害な酸を除く)等による接触処理により、海島構造においてポリアミド系樹脂相(海)の一部が膨潤層を形成すること;
(III)めっき工程で使用する周知の触媒液が膨潤層内に浸透し、触媒が析出すること
(この場合の触媒液の浸透深さが、膨潤層がない場合に比べて深いこと);
(IV)めっき金属が膨潤層内に浸透したとき、析出した触媒を核として木の根状に成長して、樹脂とめっき層とを強固に結合させること;
(V)スチレン系樹脂(島)は、膨潤層に分散して膨潤を抑制するように作用すると共
に、めっき後における膨潤層の収縮を抑制し、樹脂成形体とめっき層との界面破壊を抑制するように作用すること。
(I) By using the components (A) to (D) and, if necessary, the component (E), the polyamide-based resin (sea) and the styrene-based resin (island) form a sea-island structure. The water-soluble substance of component (D) is greatly involved in the formation (or the combination of component (D) and component (E) is synergistically involved);
(II) A part of the polyamide-based resin phase (sea) forms a swollen layer in the sea-island structure by contact treatment with an acid (excluding harmful acids such as chromic acid) in the plating process;
(III) The well-known catalyst solution used in the plating step penetrates into the swelling layer and the catalyst is precipitated (the penetration depth of the catalyst solution in this case is deeper than that without the swelling layer);
(IV) When the plating metal penetrates into the swelling layer, it grows in the shape of a tree using the deposited catalyst as a nucleus to firmly bond the resin and the plating layer;
(V) Styrenic resin (island) acts to disperse in the swelling layer and suppress swelling, suppresses shrinkage of the swelling layer after plating, and suppresses interface breakdown between the resin molded body and the plating layer To act.

次に、図1を用い、上記したメカニズム(I)〜(V)との関連を明らかにしながら、本発明のめっき樹脂成形体の製造法を工程毎に説明する。図1は、製造工程とメカニズム(I)〜(V)の関係を概念的に示した図である。   Next, the manufacturing method of the plating resin molding of this invention is demonstrated for every process, clarifying the relationship with above-described mechanism (I)-(V) using FIG. FIG. 1 is a diagram conceptually showing the relationship between the manufacturing process and mechanisms (I) to (V).

本発明のめっき樹脂成形体は、公知のめっき方法、即ち、酸又は塩基による脱脂処理工程(但し、公知法であるクロム酸や過マンガン酸カリウムよる処理はしない)、触媒付与液で処理する工程、無電解めっき工程を応用することで、樹脂成形体表面に金属めっきすることができる。   The plated resin molded body of the present invention is a known plating method, that is, a degreasing treatment step with an acid or a base (however, it is not a treatment with a known method such as chromic acid or potassium permanganate), and a step of treating with a catalyst application liquid By applying the electroless plating process, the surface of the resin molded body can be metal-plated.

〔樹脂成形体の成形;メカニズム(I)〕
(A)〜(D)成分を含む樹脂成形体を、射出成形等の公知の方法により、用途に適した所望形状に成形して得る。樹脂成形体が(D)成分、及び必要に応じて(D)成分と(E)成分を含有することにより、第1の海島構造が維持され、又は第2の海島構造が形成される。これらの海島構造は、最終製品にも存在している。
[Molding resin moldings; Mechanism (I)]
A resin molded body containing the components (A) to (D) is molded into a desired shape suitable for the application by a known method such as injection molding. A 1st sea island structure is maintained or a 2nd sea island structure is formed because a resin molding contains (D) component and the (D) component and (E) component as needed. These sea-island structures are also present in the final product.

このような海島構造の形成により、次工程において、樹脂成形体の表面近傍の海〔(A)成分〕において膨潤層が形成され易くなる〔メカニズム(II)の発現〕ほか、後に島〔(B)成分〕による膨潤層の膨潤抑制作用が容易になる〔メカニズム(V)の発現〕。   By forming such a sea-island structure, in the next step, a swelling layer is easily formed in the sea [component (A)] near the surface of the resin molded body [expression of mechanism (II)], and island [(B ) Component] facilitates the swelling-inhibiting action of the swelling layer [expression of mechanism (V)].

第2の海島構造が形成された場合、TEMによる観察により比較される、島(B-2)の
面積が島(B-1)の面積の少なくとも2倍以上になっている。
When the second sea-island structure is formed, the area of the island (B-2) compared by observation with TEM is at least twice the area of the island (B-1).

〔脱脂処理及び酸等による接触処理工程;メカニズム(II)〕
脱脂処理は、塩基又は酸を含有する界面活性剤水溶液により行う。本発明では、めっき層の密着強度を高めるための粗面化処理となるクロム酸等の重金属を含む酸によるエッチングエッチング工程は不要である。
[Degreasing treatment and contact treatment step with acid, etc .; Mechanism (II)]
The degreasing treatment is performed with a surfactant aqueous solution containing a base or an acid. In this invention, the etching etching process by the acid containing heavy metals, such as chromic acid used as the roughening process for improving the adhesive strength of a plating layer is unnecessary.

この脱脂処理及び酸等による接触処理により、メカニズム(II)が発現され、図1(a)に示すとおり、海島構造を形成している樹脂成形体11では、(A)成分の相(海)12の内、表面近傍の(A)成分の相において膨潤層13が形成されるため、次工程においてメカニズム(III)が発現され易くなる。(B)成分の相(島)14は、相12と膨潤層13の両方
に分散して存在している。膨潤は、元の体積よりも増加した状態を意味し、増加の程度は問わない。なお、相12と膨潤層13との界面は、図示するように平滑な境目になる訳ではない。
By this degreasing treatment and contact treatment with acid or the like, mechanism (II) is expressed, and as shown in FIG. 1 (a), in the resin molded body 11 forming the sea-island structure, the phase of component (A) (sea) Among them, the swelling layer 13 is formed in the phase of the component (A) near the surface, so that the mechanism (III) is easily developed in the next step. The phase (island) 14 of the component (B) is dispersed in both the phase 12 and the swelling layer 13. Swelling means a state where the volume is increased from the original volume, and the degree of increase is not limited. Note that the interface between the phase 12 and the swelling layer 13 is not a smooth boundary as shown in the figure.

脱脂処理で用いる酸又は塩基は、低濃度のものが好ましく、好ましくは4規定未満であり、より好ましくは3.5規定以下であり、更に好ましくは3.0規定以下である。   The acid or base used in the degreasing treatment is preferably in a low concentration, preferably less than 4N, more preferably 3.5N or less, and still more preferably 3.0N or less.

脱脂処理は、樹脂成形体を酸又は塩基中に浸漬する方法を適用でき、液温度10〜80℃で、0.5〜20分間浸漬する方法を適用できる。   For the degreasing treatment, a method of immersing the resin molded body in an acid or a base can be applied, and a method of immersing at a liquid temperature of 10 to 80 ° C. for 0.5 to 20 minutes can be applied.

酸は、塩酸、リン酸、硫酸のほか、酢酸、クエン酸、ギ酸等の有機酸等から選ばれるものを用いることができる。塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩等から選ばれるものを用いることができる。   The acid may be selected from hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid, citric acid, and formic acid. The base may be selected from alkali metal or alkaline earth metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide and magnesium hydroxide, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and the like. it can.

この工程の処理では、クロム酸等を使用しないので、樹脂成形体11の表面はクロム酸エッチングをしたときのように粗くはならず、成形したときと同等の表面状態を維持している。   In this process, since chromic acid or the like is not used, the surface of the resin molded body 11 does not become rough as when chromic acid etching is performed, and maintains the same surface state as when it is molded.

〔触媒付与液で処理する工程;メカニズム(III)〕
脱脂処理後、例えば、水洗工程、触媒付与液で処理する工程、水洗工程、活性化液で処理する工程(活性化工程)及び水洗工程を行うことができる。なお、触媒付与液で処理する工程と活性化液で処理する工程は、同時に行うことができる。
[Processing with catalyst application liquid; Mechanism (III)]
After the degreasing treatment, for example, a water washing step, a step of treating with a catalyst application liquid, a water washing step, a step of treating with an activation liquid (activation step) and a water washing step can be performed. In addition, the process with a catalyst provision liquid and the process with an activation liquid can be performed simultaneously.

この処理工程により、図1(b)に示すとおり、メカニズム(III)が発現され、触媒
液が膨潤層13内に浸透し、触媒(Sn、Pd)15が析出するため、次工程において、メカニズム(IV)、(V)が発現され易くなる。このとき、触媒液の浸透深さは、膨潤層13が
ない場合に比べて深くなり、樹脂成形体11表面から少なくとも10nmまでの膨潤層に浸透している。
By this treatment step, as shown in FIG. 1B, mechanism (III) is expressed, the catalyst solution penetrates into the swelling layer 13 and the catalyst (Sn, Pd) 15 is deposited. (IV) and (V) are easily expressed. At this time, the penetration depth of the catalyst solution is deeper than that when the swelling layer 13 is not present, and penetrates the swelling layer from the surface of the resin molded body 11 to at least 10 nm.

触媒付与液による処理は、例えば、塩化錫(20〜40g/L)の35%塩酸溶液(10〜20mg/L)中、室温で1〜5分程度浸漬する。活性化液による処理は、塩化パラジウム(0.1〜0.3g/L)の35%塩酸溶液(3〜5mg/L)中、室温で1〜2分浸漬する。   The treatment with the catalyst applying liquid is, for example, immersed in a 35% hydrochloric acid solution (10 to 20 mg / L) of tin chloride (20 to 40 g / L) at room temperature for about 1 to 5 minutes. In the treatment with the activation liquid, immersion is performed in a 35% hydrochloric acid solution (3 to 5 mg / L) of palladium chloride (0.1 to 0.3 g / L) at room temperature for 1 to 2 minutes.

〔無電解めっき工程;メカニズム(IV)、(V)〕
次に、無電解めっきを行う。この無電解めっきにより、図1(c)に示すとおり、メカニズム(IV)、(V)が発現される。
[Electroless plating process; Mechanism (IV), (V)]
Next, electroless plating is performed. By this electroless plating, mechanisms (IV) and (V) are expressed as shown in FIG.

即ち、めっき金属16が膨潤層13内に浸透したとき、析出した触媒15を核として木の根状に成長して、樹脂成形体11とめっき層17とを強固に結合させる。   That is, when the plating metal 16 penetrates into the swelling layer 13, it grows in the shape of a tree with the deposited catalyst 15 as a nucleus, and the resin molded body 11 and the plating layer 17 are firmly bonded.

このとき、(B)成分の相(島)14は、(A)成分の相(海)12と膨潤層13に分散して、膨潤を抑制するように作用すると共に、めっき後における膨潤層13の収縮を抑制し、樹脂成形体11と金属めっき層17との界面破壊を抑制するように作用する。(B)成分の相(島)14が存在しない場合、界面破壊が生じて、樹脂成形体11の表面からめっき層が浮き上がるような現象が生じる。   At this time, the phase (island) 14 of the component (B) is dispersed in the phase (sea) 12 and the swelling layer 13 of the component (A) and acts to suppress the swelling, and the swelling layer 13 after plating. It acts to suppress the shrinkage of the resin and to suppress the interface destruction between the resin molded body 11 and the metal plating layer 17. When the phase (island) 14 of the component (B) does not exist, an interface breakage occurs, and a phenomenon that the plating layer floats from the surface of the resin molded body 11 occurs.

その結果、樹脂成形体11表面に美しく、かつ強固な金属めっき層17を有するめっき樹脂成形体10が得られる。なお、(B)成分の相(島)14には実質的にめっき金属は浸透していない。   As a result, a plated resin molded body 10 having a beautiful and strong metal plating layer 17 on the surface of the resin molded body 11 is obtained. In addition, the plating metal does not substantially permeate into the phase (island) 14 of the component (B).

無電解めっき工程は、めっき浴として、ニッケル、銅、コバルト、ニッケル−コバルト合金、金等と、ホルマリン、次亜リン酸塩等の還元剤を含むものを用いることができる。
めっき浴のpHや温度は、使用するめっき浴の種類に応じて選択する。
In the electroless plating step, a plating bath containing nickel, copper, cobalt, a nickel-cobalt alloy, gold or the like and a reducing agent such as formalin or hypophosphite can be used.
The pH and temperature of the plating bath are selected according to the type of plating bath used.

無電解めっき後に更にめっき処理をする場合、酸又はアルカリによる活性化処理の後、用途や機能に応じて1種又は2種以上の銅等の公知のめっき用金属による多層の電気めっき工程を付加することもできる。   When further plating is performed after electroless plating, after the activation treatment with acid or alkali, a multilayer electroplating process with one or more known plating metals such as copper is added depending on the application and function You can also

(ダイレクトプレーティング工程を含むめっき法)
本発明のダイレクトプレーティング工程を含むめっき法を適用した場合、メカニズム(I)〜(III)までは、無電解めっき工程を含むめっき法と同じであるが、ダイレクトプレーティング工程と無電解めっき工程との違いにより、メカニズム(IV)、(V)は異なる。
(Plating method including direct plating process)
When the plating method including the direct plating step of the present invention is applied, the mechanisms (I) to (III) are the same as the plating method including the electroless plating step, but the direct plating step and the electroless plating step. Mechanisms (IV) and (V) are different due to the difference.

無電解めっき工程を含むめっき法を適用した場合、メカニズム(IV)、(V)の発現により、厚い無電解めっき層が形成される(厚みが約200nm以上)。
しかし、ダイレクトプレーティング工程を含むめっき法を適用した場合、導電性層(上記の無電解めっき層に相当するもの)の厚みを約10〜200nm未満にすることができる(勿論、処理条件を設定することで、10nm〜1000nmにすることもできる)と共に、前記導電性層と連続して、熱可塑性樹脂成形体の厚さ方向に導電性金属が層を形成することなく分散して存在するようにできる。
つまり、上記のメカニズム(IV)のように、めっき金属が膨潤層内に浸透したとき、析出した触媒を核として木の根状に成長する代わりに、導電性金属が層を形成することなく分散して存在しているために、より薄い層にも拘わらず、強固な導電性層が形成されるものと考えられる。
また、前記導電性層は、無電解めっき層のような均一な層ではなく、全体が不均一な層(層の厚みや導電性金属の分散状態が一定ではない)として存在しているものが好ましく、特に導電性金属の一部が、(B)成分からなる島を取り囲むようにして分散して存在しているものが好ましい。
When a plating method including an electroless plating process is applied, a thick electroless plating layer is formed due to the manifestation of mechanisms (IV) and (V) (thickness is about 200 nm or more).
However, when a plating method including a direct plating process is applied, the thickness of the conductive layer (corresponding to the above electroless plating layer) can be made less than about 10 to 200 nm (of course, processing conditions are set) In addition, the conductive metal can be dispersed without forming a layer in the thickness direction of the thermoplastic resin molded body continuously with the conductive layer. Can be.
In other words, as in the mechanism (IV) above, when the plating metal penetrates into the swelling layer, the conductive metal is dispersed without forming a layer, instead of growing as a tree root with the deposited catalyst as the core. Due to the presence, a strong conductive layer is considered to be formed despite the thinner layer.
Further, the conductive layer is not a uniform layer such as an electroless plating layer, but is present as a non-uniform layer as a whole (the thickness of the layer and the state of dispersion of the conductive metal are not constant). It is particularly preferable that a part of the conductive metal is present so as to be dispersed so as to surround the island made of the component (B).

(めっき層の密着性試験)
実施例及び比較例で得られためっき樹脂成形体を用い、JIS H8630附属書6に記載された密着試験方法により、樹脂成形体と金属めっき層との密着強度(最高値)を測定した。
(Plating layer adhesion test)
Using the plating resin moldings obtained in Examples and Comparative Examples, the adhesion strength (maximum value) between the resin molding and the metal plating layer was measured by the adhesion test method described in JIS H8630 Appendix 6.

(熱可塑性樹脂成型体に含まれる成分)
A−1 ポリアミド(ポリアミド6,宇部興産株式会社製,UBEナイロン6 1013B,吸水率1.8%)
B−1 ABS樹脂(スチレン量45質量%、アクリロニトリル15質量%、ポリブタジエン系ゴム40質量%,吸水率0.2%)
B−2 AS樹脂(スチレン量75質量%、アクリロニトリル25質量%,吸水率0.2%)
B−3 酸変性ABS樹脂(スチレン量42質量%、アクリロニトリル16質量%、ゴム量40質量%、メタクリル酸2質量%,吸水率0.2%)
C−1 ジペンタエリスリトール
(Components contained in thermoplastic resin moldings)
A-1 Polyamide (Polyamide 6, Ube Industries, UBE nylon 6 1013B, water absorption 1.8%)
B-1 ABS resin (styrene content 45% by mass, acrylonitrile 15% by mass, polybutadiene rubber 40% by mass, water absorption 0.2%)
B-2 AS resin (styrene content 75% by mass, acrylonitrile 25% by mass, water absorption 0.2%)
B-3 Acid-modified ABS resin (styrene content 42% by mass, acrylonitrile 16% by mass, rubber content 40% by mass, methacrylic acid 2% by mass, water absorption 0.2%)
C-1 Dipentaerythritol

実施例1〜4
表1記載の各成分をV型タンブラーで混合後、二軸押出機(日本製鋼製,TEX30,シリンダー温度230℃)にて溶融混練し、ペレットを得た。
Examples 1-4
Each component shown in Table 1 was mixed with a V-type tumbler and then melt-kneaded with a twin-screw extruder (manufactured by Nippon Steel, TEX30, cylinder temperature 230 ° C.) to obtain pellets.

次に、射出成形機(シリンダー温度240℃、金型温度60℃)により100×50×3mmの成形体を得て、この成形体を試験片として下記の工程順による無電解めっきを行い、めっき樹脂成形体を得た。これらのめっき樹脂成形体におけるめっき層の密着強度を表1に示す。   Next, a molded body of 100 × 50 × 3 mm was obtained by an injection molding machine (cylinder temperature 240 ° C., mold temperature 60 ° C.), and electroless plating was performed in the following process sequence using this molded body as a test piece. A resin molded body was obtained. Table 1 shows the adhesion strength of the plating layers in these plated resin moldings.

(1) 脱脂工程
樹脂成形体を、エースクリンA−220(奥野製薬工業(株)製)50g/L水溶液(液温40℃)に5分浸漬した。
(1) Degreasing process The resin molding was immersed in an aceclin A-220 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 50g / L aqueous solution (liquid temperature of 40 degreeC) for 5 minutes.

(2) エッチング工程
樹脂成形体を、35質量%塩酸200ml/L(2.3規定)水溶液(液温40℃)中に5分間浸漬した。
(2) Etching Step The resin molded body was immersed for 5 minutes in an aqueous solution (liquid temperature 40 ° C.) of 35% by mass hydrochloric acid 200 ml / L (2.3 N).

(3) 触媒付与工程
35質量%塩酸150ml/Lと、キャタリストC(奥野製薬工業(株)製)40ml/L水溶液との混合水溶液(液温25℃)中に3分間浸漬した。
(3) Catalyst application process It immersed for 3 minutes in the mixed aqueous solution (liquid temperature of 25 degreeC) of 35 mass% hydrochloric acid 150ml / L and catalyst C (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. product) 40ml / L aqueous solution.

(4) ダイレクトプレーティング工程
樹脂成形体を下記組成のセレクター液(45℃,pH12)に3分間浸漬して、樹脂成形体表面に導電性層を形成させた。
図2に、実施例1のダイレクトプレーティング後における透過型電子顕微鏡(TEM)写真を示す。TEM写真は、次のようにして撮影した。試料をエポキシ樹脂に包埋した後、ダイヤモンドミクロトムにより超薄切片を作成し、その後JSM1200EX型透過電子顕微鏡を用い加速電圧:120KVで観察を行った。
(4) Direct plating process The resin molding was immersed in the selector liquid (45 degreeC, pH12) of the following composition for 3 minutes, and the electroconductive layer was formed in the resin molding surface.
In FIG. 2, the transmission electron microscope (TEM) photograph after the direct plating of Example 1 is shown. The TEM photograph was taken as follows. After embedding the sample in an epoxy resin, an ultrathin section was prepared with a diamond microtom, and then observed using a JSM1200EX transmission electron microscope at an acceleration voltage of 120 KV.

硫酸銅 3g/L
水酸化ナトリウム 30g/L
グルコース 10g/L
ヒダントイン 10g/L
Copper sulfate 3g / L
Sodium hydroxide 30g / L
Glucose 10g / L
Hydantoin 10g / L

(5) 銅の電気めっき工程
樹脂成形体を下記組成のめっき浴(液温25℃)に浸漬して、120分間電気めっきを行った。
(5) Copper electroplating step The resin molded body was immersed in a plating bath (liquid temperature 25 ° C.) having the following composition, and electroplated for 120 minutes.

(めっき浴の組成)
硫酸銅(CuSO・5HO)200g/L
硫酸(98%)50g/L
塩素イオン(Cl)5ml/L、
トップルチナ2000MU(奥野製薬工業(株)製)5ml/L
(Composition of plating bath)
Copper sulfate (CuSO 4 · 5H 2 O) 200g / L
Sulfuric acid (98%) 50g / L
Chloride ion (Cl ) 5 ml / L,
Top Lucina 2000MU (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 5ml / L

実施例1〜4の成型体の外観は平滑で美しいものであった。   The appearances of the molded bodies of Examples 1 to 4 were smooth and beautiful.

比較例1
実施例2と同じ熱可塑性樹脂成形体を用い、ダイレクトプレーティング法を含まない下記の各工程でめっき樹脂成形体を製造した。このめっき樹脂成形体の密着強度の最高値は100kPaであり、外観も平滑で美しいものであったが、実施例2に比べて多くの工数を要した。
Comparative Example 1
Using the same thermoplastic resin molded body as in Example 2, a plated resin molded body was produced by the following steps not including the direct plating method. Although the maximum value of the adhesion strength of the plated resin molded body was 100 kPa and the appearance was smooth and beautiful, more man-hours were required as compared with Example 2.

(1) 脱脂工程
試験片を、エースクリンA−220(奥野製薬工業(株)製)50g/L水溶液(液温40℃)に20分浸漬した。
(1) Degreasing process The test piece was immersed in an aceclin A-220 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 50 g / L aqueous solution (liquid temperature 40 degreeC) for 20 minutes.

(2) 酸による接触処理工程
1.0規定の塩酸100ml(液温40℃)中に5分間浸漬した。
(2) Step of contact treatment with acid The substrate was immersed in 100 ml of 1.0 N hydrochloric acid (liquid temperature 40 ° C.) for 5 minutes.

(3) 触媒付与工程
35質量%塩酸150ml/Lと、キャタリストC(奥野製薬工業(株)製)40ml/L水溶液との混合水溶液(液温25℃)中に3分間浸漬した。
(3) Catalyst application process It immersed for 3 minutes in the mixed aqueous solution (liquid temperature of 25 degreeC) of 35 mass% hydrochloric acid 150ml / L and catalyst C (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. product) 40ml / L aqueous solution.

(4) 第1活性化工程
試験片を、98質量%硫酸100ml/L水溶液(液温40℃)中に3分間浸漬した。
(4) 1st activation process The test piece was immersed for 3 minutes in 98 mass% sulfuric acid 100ml / L aqueous solution (liquid temperature of 40 degreeC).

(5) 第2活性化工程
試験片を、水酸化ナトリウム15g/L水溶液(液温40℃)中に2分間浸漬した。
(5) 2nd activation process The test piece was immersed for 2 minutes in 15 g / L sodium hydroxide aqueous solution (liquid temperature of 40 degreeC).

(6) ニッケルの無電解めっき工程
試験片を、化学ニッケルHR−TA(奥野製薬工業(株)製)150ml/Lと、化学ニッケルHR−TB(奥野製薬工業(株)製)150ml/Lの混合水溶液(液温40℃)に5分間浸漬した。図3に、無電解めっき後における透過型電子顕微鏡(TEM)写真を示す。
(6) Electroless plating step of nickel The test pieces were made of 150 ml / L of chemical nickel HR-TA (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) and 150 ml / L of chemical nickel HR-TB (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.). It was immersed in a mixed aqueous solution (liquid temperature 40 ° C.) for 5 minutes. FIG. 3 shows a transmission electron microscope (TEM) photograph after electroless plating.

(7) 酸活性化工程
試験片を、トップサン(奥野製薬工業(株)製)100g/L水溶液(液温25℃)に1分間浸漬した。
(7) Acid activation process The test piece was immersed for 1 minute in 100 g / L aqueous solution (liquid temperature 25 degreeC) of top sun (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. product).

(8) 銅の電気めっき工程
試験片を、実施例1と同じめっき浴(液温25℃)に浸漬して、120分間電気めっきを行った。
(8) Copper electroplating process The test piece was immersed in the same plating bath (liquid temperature 25 degreeC) as Example 1, and electroplated for 120 minutes.

実施例1のダイレクトプレーティング処理後のTEM写真では、左斜め下の半分が熱可塑性樹脂成形体、右斜め上の半分がエポキシ樹脂であり、境界部分にある黒い線は導電性層を示し、黒い線に沿って存在している黒い点は層を形成しないで分散した導電性金属を示す。図に示す200nmのスケールから分かるとおり、導電性層は非常に薄く、かつ均一ではなく、導電性金属の一部は、(B)成分からなる島を取り囲むようにして分散して存在していた。   In the TEM photograph after the direct plating process of Example 1, the lower left half is a thermoplastic resin molded body, the upper right half is an epoxy resin, and the black line at the boundary portion indicates a conductive layer, Black dots present along the black lines indicate conductive metals dispersed without forming a layer. As can be seen from the 200 nm scale shown in the figure, the conductive layer was very thin and not uniform, and part of the conductive metal was dispersed so as to surround the island made of component (B). .

比較例1の無電解めっき処理後のTEM写真では、上方の黒い層が無電解めっき層である。図に示す200nmのスケールから分かるとおり、200nm程度の厚みであった。
なお、実施例1、比較例1とも、ヒートサイクル試験1、2の試験後における肉眼観察により、めっき層のしわの発生、割れの発生、膨れの発生等の外観変化が全く認められなかった。
In the TEM photograph after the electroless plating treatment of Comparative Example 1, the upper black layer is the electroless plating layer. As can be seen from the 200 nm scale shown in the figure, the thickness was about 200 nm.
In both Example 1 and Comparative Example 1, no changes in appearance such as wrinkles, cracks, and swelling of the plating layer were observed at all by visual observation after the heat cycle tests 1 and 2.

めっき樹脂成形体のめっき形成メカニズム(無電解めっき工程を含む方法によるめっき形成メカニズム)を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the plating formation mechanism (plating formation mechanism by the method including an electroless-plating process) of a plating resin molding. 実施例1のダイレクトプレーティング後における成形体の相構造を示すTEM写真である。2 is a TEM photograph showing a phase structure of a molded body after direct plating in Example 1. FIG. 比較例1の無電解めっき後における成形体の相構造を示すTEM写真である。4 is a TEM photograph showing a phase structure of a molded body after electroless plating in Comparative Example 1.

Claims (10)

熱可塑性樹脂成形体を、重金属を含まない酸又は塩基で接触処理する工程、
触媒付与液で処理する工程、
熱可塑性樹脂成形体の表面に、ダイレクトプレーティング法により導電性層を形成させる工程、及び
電気めっきする工程を具備しており、重金属を含む酸によるエッチング工程を含まないめっき樹脂成形体の製造方法。
A step of contact-treating the thermoplastic resin molded body with an acid or base not containing heavy metal,
A step of treating with a catalyst applying liquid,
A method for producing a plated resin molded body comprising a step of forming a conductive layer on the surface of a thermoplastic resin molded body by a direct plating method and a step of electroplating, and does not include an etching step using an acid containing heavy metal .
ダイレクトプレーティング法が、金属化合物、還元性化合物及び金属水酸化物を含むセレクター液を用い、熱可塑性樹脂成形体の表面に導電性層を形成させる工程である、請求項1記載のめっき樹脂成形体の製造方法。   The plating resin molding according to claim 1, wherein the direct plating method is a step of forming a conductive layer on the surface of the thermoplastic resin molding using a selector liquid containing a metal compound, a reducing compound and a metal hydroxide. Body manufacturing method. 熱可塑性樹脂成形体がポリアミドを含んでいる、請求項1又は2記載のめっき樹脂成形体の製造方法。   The manufacturing method of the plating resin molding of Claim 1 or 2 with which the thermoplastic resin molding contains polyamide. 熱可塑性樹脂成形体が更に水への溶解度(23℃)が300g/100g以下の物質を含んでいる、請求項1〜3のいずれかに記載のめっき樹脂成形体の製造方法。   The method for producing a plated resin molded article according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermoplastic resin molded article further contains a substance having a solubility in water (23 ° C) of 300 g / 100 g or less. 請求項1〜4のいずれかに記載のめっき樹脂成形体の製造方法により得られためっき樹脂成形体であって、
下記の(1)樹脂成形体の相構造、及び(2)樹脂成形体と金属めっき層との接合状態の少なくとも一方の要件を備えており、更に下記ヒートサイクル試験後において、肉眼観察による外観変化が認められないめっき樹脂成形体。
(1)樹脂成形体の相構造
(1-1)(A)成分が海で、(B)成分が島である海島構造、或いは
(1-2)(A)成分が海で、(B)成分が島である海島構造であり、(A)〜(C)成分を含み、(D)成分を含まない場合の海島構造における島(B-1)が集合して、より大きな領域の島(B-2)が形成された海島構造であること。
(2)樹脂成形体と金属めっき層との接合状態
樹脂成形体の表面近傍において、海である(A)成分が膨潤層を形成し、前記膨潤層内にめっき金属が浸透しており、島である(B)成分内には実質的にめっき金属が浸透していないこと。
(ヒートサイクル試験1)
縦100mm、横50mm、厚み3mmのめっき樹脂成形体を試験片として用い、−30℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持、75℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持を1サイクルとして、計3サイクルのヒートサイクル試験を行う。
(ヒートサイクル試験2)
縦100mm、横50mm、厚み3mmのめっき樹脂成形体を試験片として用い、−30℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持、85℃で60分間保持、室温(20℃)で30分間保持を1サイクルとして、計3サイクルのヒートサイクル試験を行う。
It is the plating resin molding obtained by the manufacturing method of the plating resin molding in any one of Claims 1-4,
It has at least one of the following (1) phase structure of the resin molded body and (2) the bonding state between the resin molded body and the metal plating layer. Plated resin molded product that cannot be recognized.
(1) Phase structure of molded resin (1-1) Sea-island structure where component (A) is sea and component (B) is an island, or (1-2) Component (A) is sea, (B) Island (B-1) in the sea-island structure when the component is an island-island structure, including the components (A) to (C) and not including the component (D), B-2) must be a sea-island structure.
(2) Joined state of resin molded body and metal plating layer In the vicinity of the surface of the resin molded body, the component (A) which is the sea forms a swelling layer, and the plating metal penetrates into the swelling layer, The plating metal is not substantially permeated into the component (B).
(Heat cycle test 1)
Using a plated resin molded body having a length of 100 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 3 mm as a test piece, held at −30 ° C. for 60 minutes, held at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, held at 75 ° C. for 60 minutes, and at room temperature (20 ° C.) A heat cycle test of a total of 3 cycles is performed with 30 minutes holding as one cycle.
(Heat cycle test 2)
Using a plated resin molded body having a length of 100 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 3 mm as a test piece, held at −30 ° C. for 60 minutes, held at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, held at 85 ° C. for 60 minutes, and at room temperature (20 ° C.) A heat cycle test of a total of 3 cycles is performed with 30 minutes holding as one cycle.
要件(1)の(1-2)において、透過型電子顕微鏡(TEM)による観察により比較される、島(B-2)の面積が島(B-1)の面積の少なくとも2倍以上である、請求項5記載のめっき樹脂成形体。   In (1-2) of Requirement (1), the area of the island (B-2) compared by observation with a transmission electron microscope (TEM) is at least twice the area of the island (B-1) The plated resin molded product according to claim 5. 要件(2)において、樹脂成形体表面から少なくとも10nmまでの膨潤層にめっき金属が浸透している、請求項5又は6記載のめっき樹脂成形体。   The plating resin molding according to claim 5 or 6, wherein, in the requirement (2), the plating metal permeates the swelling layer of at least 10 nm from the surface of the resin molding. 熱可塑性樹脂成形体の表面にダイレクトプレーティング法により導電性層を形成させる工程後において、
前記熱可塑性樹脂成形体の表面上の前記導電性層の厚みが10nm〜1000nmであり、前記導電性層と連続して、熱可塑性樹脂成形体の厚さ方向に導電性金属が層を形成することなく分散して存在している、請求項5〜7のいずれかに記載のめっき樹脂成形体。
After the step of forming a conductive layer by the direct plating method on the surface of the thermoplastic resin molded body,
The thickness of the conductive layer on the surface of the thermoplastic resin molded body is 10 nm to 1000 nm, and a conductive metal forms a layer in the thickness direction of the thermoplastic resin molded body continuously with the conductive layer. The plating resin molding in any one of Claims 5-7 currently disperse | distributing and existing.
前記熱可塑性樹脂成形体の表面から10nm〜1000nmの厚さ範囲において、導電性金属が均一な層を形成することなく分散して存在している、請求項8記載のめっき樹脂成形体。   The plated resin molded article according to claim 8, wherein the conductive metal is dispersed and formed without forming a uniform layer in a thickness range of 10 nm to 1000 nm from the surface of the thermoplastic resin molded article. 前記熱可塑性樹脂成形体の表面から10nm〜1000nmの厚さ範囲において、導電性金属が均一な層を形成することなく、一部が(B)成分からなる島を取り囲むようにして分散して存在している、請求項8又は9記載のめっき樹脂成形体。


In the thickness range from 10 nm to 1000 nm from the surface of the thermoplastic resin molded body, the conductive metal is present in a dispersed manner so as to partially surround the island made of the component (B) without forming a uniform layer. The plated resin molded product according to claim 8 or 9, wherein


JP2005349363A 2005-01-17 2005-12-02 Method for producing plated resin formed article Pending JP2006219757A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005349363A JP2006219757A (en) 2005-01-17 2005-12-02 Method for producing plated resin formed article

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005008607 2005-01-17
JP2005349363A JP2006219757A (en) 2005-01-17 2005-12-02 Method for producing plated resin formed article

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006219757A true JP2006219757A (en) 2006-08-24

Family

ID=36982270

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005349363A Pending JP2006219757A (en) 2005-01-17 2005-12-02 Method for producing plated resin formed article

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006219757A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008081838A (en) * 2006-08-28 2008-04-10 Daicel Polymer Ltd Plated resin-molded body
WO2008056403A1 (en) * 2006-11-06 2008-05-15 C. Uyemura & Co., Ltd. Direct plating method and solution for palladium conductor layer formation
WO2014098064A1 (en) * 2012-12-21 2014-06-26 奥野製薬工業株式会社 Conductive coating film forming bath
US9951433B2 (en) 2014-01-27 2018-04-24 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Conductive film-forming bath

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998045505A1 (en) * 1997-04-07 1998-10-15 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Method of electroplating nonconductive plastic molded product
JP2002348673A (en) * 2001-05-24 2002-12-04 Learonal Japan Inc Electroless copper plating method without using formaldehyde, and electroless copper plating solution therefor
JP2003166067A (en) * 2001-11-28 2003-06-13 Daicel Polymer Ltd Plated resin formed article
JP2004002996A (en) * 2002-04-03 2004-01-08 Daicel Polymer Ltd Method of producing plated resin formed body

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998045505A1 (en) * 1997-04-07 1998-10-15 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Method of electroplating nonconductive plastic molded product
JP2002348673A (en) * 2001-05-24 2002-12-04 Learonal Japan Inc Electroless copper plating method without using formaldehyde, and electroless copper plating solution therefor
JP2003166067A (en) * 2001-11-28 2003-06-13 Daicel Polymer Ltd Plated resin formed article
JP2004002996A (en) * 2002-04-03 2004-01-08 Daicel Polymer Ltd Method of producing plated resin formed body

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008081838A (en) * 2006-08-28 2008-04-10 Daicel Polymer Ltd Plated resin-molded body
WO2008056403A1 (en) * 2006-11-06 2008-05-15 C. Uyemura & Co., Ltd. Direct plating method and solution for palladium conductor layer formation
US8992756B2 (en) 2006-11-06 2015-03-31 C. Uyemura & Co., Ltd. Direct plating method and solution for palladium conductor layer formation
WO2014098064A1 (en) * 2012-12-21 2014-06-26 奥野製薬工業株式会社 Conductive coating film forming bath
JP6035540B2 (en) * 2012-12-21 2016-11-30 奥野製薬工業株式会社 Conductive film forming bath
US10036097B2 (en) 2012-12-21 2018-07-31 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Conductive coating film forming bath
US9951433B2 (en) 2014-01-27 2018-04-24 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Conductive film-forming bath

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9057127B2 (en) Plated resin molded articles
US20090169850A1 (en) Plated Resin Molded Article
JP5080117B2 (en) Plating resin molding
EP3584352A1 (en) Composition for pretreatment for electroless plating, pretreatment method for electroless plating, and electroless plating method
JP5364237B2 (en) Plating resin molding
JP2006219757A (en) Method for producing plated resin formed article
US7645370B2 (en) Plating resin molded article and process for producing the same
JP6024044B2 (en) Conductive film forming bath
KR20070103370A (en) Method for producing plated resin formed article
WO2005080485A1 (en) Plated resin formed body
JP4619625B2 (en) Manufacturing method of plated resin molding
JP4030754B2 (en) Plating resin molding
US20090120798A1 (en) Method For Manufacturing Plated Resin Molded Article
EP1783160A1 (en) Plated resin molding
JP2007126745A (en) Posttreatment agent for etching treatment with chromic acid-sulfuric acid mixed liquid
JP4331840B2 (en) Fine plating method
JP2008031536A (en) Direct plating method
JP2008246722A (en) Plated resin molding
JP2019203168A (en) Pretreatment composition for electroless plating, pretreatment method for electroless plating, and electroless plating method
JP2005298899A (en) Pretreatment method for electroless plating on resin molded body
JP2009062609A (en) Method for producing forming circuit component
JPH0347973A (en) Method for electroless-nickel-plating zinc or zinc alloy
JP2010202934A (en) Pretreatment method for electroless plating

Legal Events

Date Code Title Description
A625 Written request for application examination (by other person)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625

Effective date: 20080924

A977 Report on retrieval

Effective date: 20090507

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20110510

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20110623

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20110920

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02