JP2006215168A - Heat developable photosensitive material and image forming method - Google Patents

Heat developable photosensitive material and image forming method Download PDF

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JP2006215168A JP2005026327A JP2005026327A JP2006215168A JP 2006215168 A JP2006215168 A JP 2006215168A JP 2005026327 A JP2005026327 A JP 2005026327A JP 2005026327 A JP2005026327 A JP 2005026327A JP 2006215168 A JP2006215168 A JP 2006215168A
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Katsuhisa Ozeki
勝久 大関
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity and excellent image preservability, and also to provide an image forming method. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material has an image forming layer at least including photosensitive silver halide, a nonphotosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder. The average silver iodide content in the photosensitive silver halide is ≥40 mol%, and a compound expressed by general formula (I) or the salt thereof is comprised. In the formula, R<SB>1</SB>and R<SB>1</SB>' are a hydrogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or hetero ring group, independently of each other; wherein, they are not simultaneously a hydrogen atom. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は熱現像感光材料および画像形成方法に関し、特に高感度で画像保存安定性が改良された熱現像感光材料および画像形成方法に関する。   The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method, and more particularly to a photothermographic material and an image forming method having high sensitivity and improved image storage stability.

近年、医療診断用フィルム分野や写真製版フィルム分野において環境保全、省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメージセッター又はレーザー・イメージャーにより効率的に露光させることができ、高解像度及び鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することができる医療診断用フィルム及び写真製版用フィルムとしての熱現像画像記録材料に関する技術が必要とされている。これら熱現像画像記録材料によれば、溶液系の処理化学薬品を必要とせず、より簡単で環境を損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給することができる。   In recent years, in the medical diagnostic film field and the photoengraving film field, it is strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving. Therefore, heat as a medical diagnostic film and a photoengraving film that can be efficiently exposed by a laser image setter or a laser imager and can form a clear black image with high resolution and sharpness. There is a need for techniques relating to developed image recording materials. According to these heat-developable image recording materials, a heat-development processing system that does not require solution-based processing chemicals and that is simpler and does not impair the environment can be supplied to customers.

一般の画像記録材料の分野でも同様の要求はあるが、特に医療診断用画像は微細な描写が要求されるため鮮鋭性、粒状性に優れる高画質が必要であるうえ、診断のし易さの観点から冷黒調の画像が好まれる特徴がある。現在、インクジェットプリンター、電子写真等顔料、染料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成システムとして流通しているが、医療用画像の出力システムとしては満足できるものがない。   There are similar demands in the field of general image recording materials, but medical diagnostic images in particular require fine depiction, so they require high image quality with excellent sharpness and graininess, and ease of diagnosis. From the viewpoint, a cool black image is preferred. At present, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems, but none of them are satisfactory as a medical image output system.

一方、有機銀塩を利用した熱画像形成システムが、例えば、米国特許3152904号、同3457075号の各明細書及びD.クロスタボーア(Klosterboer)著「熱によって処理される銀システム(Thermally Processed Silver Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette 第8版、J.スタージ(Sturge)、V.ウオールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第9章、第279頁、1989年)に記載されている。特に、熱現像感光材料は、一般に、触媒活性量の光触媒(例えば、ハロゲン化銀)、還元剤、還元可能な銀塩(例えば、有機銀塩)、必要により銀の色調を制御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散した画像形成層を有している。熱現像感光材料は、画像露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱し、還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を形成する。酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化銀の潜像の触媒作用により促進される。そのため、黒色の銀画像は、露光領域に形成される。   On the other hand, thermal imaging systems using organic silver salts are disclosed in, for example, U.S. Pat. Nos. 3,152,904 and 3,457,075 and D.C. Klosterboer, “Thermally Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials), 8th edition, J. Sturge. (Walworth, A. Shepp, Chapter 9, 279, 1989). In particular, the photothermographic material generally contains a catalytically active amount of a photocatalyst (for example, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (for example, an organic silver salt), and, if necessary, a toning agent that controls the color tone of silver. And an image forming layer dispersed in a binder matrix. The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and a black silver image is formed by a redox reaction between a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure area.

この様な有機銀塩を利用した熱現像感光材料は、画像形成に必要なすべての成分を予め膜中に含有し、加熱するだけで画像を形成し得る大きな利点を有するが、一方では、感光性ハロゲン化銀が残留するため、ハロゲン化銀粒子の光散乱と光吸収による膜の濁りと不透明化を避けるため、微粒子でかつ塗布量を少量に留める必要があり、感度を高めることに限界があった。また、画像形成のための各種成分が画像形成後もそのまま未露光部分に残存し、また画像形成反応が起こった部分では反応生成物が残存するため、画像の保存安定性の改良が大きな問題であった。   Such a photothermographic material using an organic silver salt has the great advantage that all components necessary for image formation are contained in the film in advance and an image can be formed only by heating. In order to avoid turbidity and opacification of the film due to light scattering and light absorption of silver halide grains, it is necessary to keep the amount of coating fine in a small amount, and there is a limit to increasing sensitivity. there were. In addition, various components for image formation remain in the unexposed areas after image formation, and reaction products remain in areas where an image formation reaction has occurred, so improvement in image storage stability is a major problem. there were.

熱現像感光材料を撮影用感光材料に応用する試みが提案されている。ここで言う撮影用感光材料とは、レーザー光などで走査露光により画像情報を書き込むものではなく、画像をカメラ撮影によるワンショット露光により記録するものである。従来、湿式現像感光材料分野では、一般に用いられ、医療用途では直接あるいは間接X線フィルム、マンモグラフフィルムなど、印刷用各種製版フィルム、工業用記録フィルム、あるいは一般カメラによる撮影用フィルムなどが知られている。例えば、青色の蛍光増感スクリーンを利用した両面塗布型X線用熱現像感光材料(例えば、特許文献1参照。)、ヨウ臭化銀の平板粒子を用いた熱現像感光材料(例えば、特許文献2参照。)、あるいは(100)主平面を有する塩化銀含有率の高い平板粒子を支持体の両面に塗設した医療用感光材料も特許文献に開示されている(例えば、特許文献3参照。)。また、両面塗布熱現像感光材料は、その他の特許文献にも開示されている(例えば、特許文献4〜7参照。)。
しかしながら、X線画像記録のためには、被爆線量を低くするため、熱現像感光材料にはより一段と高い感度が要求された。上記の従来技術では、より高感度化しようとするとかぶりの増大が不可避であって、かぶりを低く保ち、感度を向上する手段が求められた。
また、高感度な乳剤を使用した感材では、低感度な乳剤を使用した感材に比較して、特に画像保存性の確保が困難であり、改良が望まれていた。
特許第3229344号公報 特開昭59−142539号公報 特開平10−282602号公報 特開2000−227642号公報 特開2001−22027号公報 特開2001−109101号公報 特開2002−90941号公報
Attempts have been made to apply photothermographic materials to photothermographic materials. The photographic photosensitive material mentioned here is not for writing image information by scanning exposure with a laser beam or the like, but for recording an image by one-shot exposure by camera shooting. Conventionally, it is commonly used in the field of wet-developable photosensitive materials, and in medical applications, various plate-making films for printing, such as direct or indirect X-ray films and mammographic films, industrial recording films, and films for photographing with general cameras are known. Yes. For example, a photothermographic material for double-coated X-rays using a blue fluorescent intensifying screen (see, for example, Patent Document 1), a photothermographic material using silver iodobromide tabular grains (for example, Patent Document) 2), or a medical photosensitive material in which tabular grains having a high silver chloride content and having a (100) main plane are coated on both sides of the support are also disclosed in Patent Literature (for example, see Patent Literature 3). ). The double-side coated photothermographic material is also disclosed in other patent documents (for example, see Patent Documents 4 to 7).
However, for X-ray image recording, the photothermographic material is required to have higher sensitivity in order to reduce the exposure dose. In the prior art described above, an increase in fog is unavoidable if higher sensitivity is desired, and means for keeping the fog low and improving the sensitivity has been demanded.
Further, in the light-sensitive material using a high-sensitivity emulsion, it is particularly difficult to ensure image storability as compared with a light-sensitive material using a low-sensitivity emulsion, and improvement has been desired.
Japanese Patent No. 3229344 JP 59-142539 A JP-A-10-282602 JP 2000-227642 A Japanese Patent Laid-Open No. 2001-22027 JP 2001-109101 A JP 2002-90941 A

本発明者の課題は、低かぶりで高感度であり、さらに画像保存性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法を提供することである。   An object of the present inventor is to provide a photothermographic material and an image forming method which have low fog and high sensitivity and are excellent in image storability.

上記課題は、以下の手段により解決された。
<1> 支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、
1)前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有量40モル%以上であり、
2)下記一般式(I)で表される化合物又はその塩を含有することを特徴とする熱現像感光材料:
The above problems have been solved by the following means.
<1> A photothermographic material having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one surface of a support,
1) The average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40 mol% or more,
2) A photothermographic material comprising a compound represented by the following general formula (I) or a salt thereof:

Figure 2006215168
Figure 2006215168

(式中、R1及びR1’は互いに独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基である。但し、同時に水素原子であることはない。)。
<2> 前記一般式(I)において、R1’が水素原子、R1が置換又は無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基であることを特徴とする<1>に記載の熱現像感光材料。
<3> 前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上がアスペクト比2以上の平板状粒子であることを特徴とする<1>又は<2>に記載の熱現像感光材料。
<4> 前記平板状粒子の平均円相当直径が0.3μm以上5.0μm以下であることを特徴とする<3>に記載の熱現像感光材料。
<5> 前記一般式(I)で表される化合物又はその塩が下記一般式(II)で表される化合物又はその塩であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
(In the formula, R 1 and R 1 ′ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, provided that they are not simultaneously a hydrogen atom).
<2> The heat according to <1>, wherein in general formula (I), R 1 ′ is a hydrogen atom, and R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group. Development photosensitive material.
<3> The photothermographic material according to <1> or <2>, wherein 50% or more of the total projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an aspect ratio of 2 or more.
<4> The photothermographic material according to <3>, wherein the tabular grains have an average equivalent-circle diameter of 0.3 μm or more and 5.0 μm or less.
<5> Any one of <1> to <4>, wherein the compound represented by the general formula (I) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (II) or a salt thereof. The photothermographic material according to item:

Figure 2006215168
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(式中、R2は置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R3は水素原子またはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、n1は1〜5の整数を表し、n2は0または1〜4の整数を表す。)。
<6> 前記一般式(II)で表される化合物又はその塩が下記一般式(III)で表される化合物又はその塩であることを特徴とする<5>に記載の熱現像感光材料:
(Wherein R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and n1 represents an integer of 1 to 5) N2 represents 0 or an integer of 1 to 4).
<6> The photothermographic material according to <5>, wherein the compound represented by the general formula (II) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (III) or a salt thereof:

Figure 2006215168
Figure 2006215168

(式中、R2は一般式(II)におけると同義である。)。
<7> 前記感光性ハロゲン化銀が金増感されていることを特徴とする<1>〜<6>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<8> 前記平板状粒子のアスペクト比が5以上100以下であることを特徴とする<3>〜<7>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<9> 前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有率が60モル%以上であることを特徴とする<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<10> 前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有率が80モル%以上であることを特徴とする<9>に記載の熱現像感光材料。
<11> ヨウ化銀錯形成剤を含有することを特徴とする<1>〜<10>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<12> 下記一般式(A−1)または(A−2)で表される熱現像促進剤の少なくとも1種を含有することを特徴とする<1>〜<11>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
(Wherein R 2 has the same meaning as in formula (II)).
<7> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the photosensitive silver halide is gold sensitized.
<8> The photothermographic material according to any one of <3> to <7>, wherein the tabular grain has an aspect ratio of 5 to 100.
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>, wherein the photosensitive silver halide has an average silver iodide content of 60 mol% or more.
<10> The photothermographic material according to <9>, wherein the photosensitive silver halide has an average silver iodide content of 80 mol% or more.
<11> The photothermographic material according to any one of <1> to <10>, which contains a silver iodide complex forming agent.
<12> In any one of <1> to <11>, containing at least one thermal development accelerator represented by the following general formula (A-1) or (A-2) The photothermographic material described:

Figure 2006215168
Figure 2006215168

(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、又はヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。); (Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group);

Figure 2006215168
Figure 2006215168

(式中、R1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、又は炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。)。
<13> 前記画像形成層を支持体の両面に有することを特徴とする<1>〜<12>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<14> 前記<1>〜<13>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を用いたX線画像形成方法であって、
1)前記熱現像感光材料と蛍光増感スクリーンと重ね合わせて放射線画像露光を行い、前記熱現像感光材料に潜像を記録する工程、
2)熱現像により前記潜像を可視画像に変換する熱現像工程、
を有することを特徴とする画像形成方法。
(In the formula, R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkylthio group. Represents an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring, and R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring. You may do it.)
<13> The photothermographic material according to any one of <1> to <12>, wherein the image forming layer is provided on both sides of a support.
<14> An X-ray image forming method using the photothermographic material according to any one of <1> to <13>,
1) a step of superposing the photothermographic material and a fluorescent intensifying screen to perform radiation image exposure and recording a latent image on the photothermographic material;
2) a thermal development step of converting the latent image into a visible image by thermal development;
An image forming method comprising:

本発明により低かぶりで高感度であり、さらに画像保存性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material and an image forming method which have low fog and high sensitivity and are excellent in image storability.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有量40モル%以上であり、下記一般式(I)で表される化合物又はその塩を含有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photothermographic material of the present invention is a photothermographic material having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one surface of a support. And the average silver iodide content of the said photosensitive silver halide is 40 mol% or more, and contains the compound or its salt represented by the following general formula (I).

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R1及びR1’は互いに独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基である。但し、同時に水素原子であることはない。
好ましくはR1’が水素原子、R1が置換又は無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ基である。
好ましくは、前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上がアスペクト比2以上の平板状粒子であり、より好ましくはアスペクト比が5以上100以下である。好ましくは、前記平板状粒子の平均円相当直径が0.3μm以上5.0μm以下である。好ましくは、前記一般式(I)で表される化合物又はその塩が下記一般式(II)で表される化合物又はその塩である。
In the formula, R 1 and R 1 ′ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. However, they are not simultaneously hydrogen atoms.
R 1 ′ is preferably a hydrogen atom, and R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or hetero group.
Preferably, 50% or more of the total projected area of the photosensitive silver halide is tabular grains having an aspect ratio of 2 or more, more preferably an aspect ratio of 5 or more and 100 or less. Preferably, the average equivalent circle diameter of the tabular grains is 0.3 μm or more and 5.0 μm or less. Preferably, the compound represented by the general formula (I) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (II) or a salt thereof.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R2は置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R3は水素原子またはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、n1は1〜5の整数を表し、n2は0または1〜4の整数を表す。
さらに好ましくは、前記一般式(II)で表される化合物又はその塩が下記一般式(III)で表される化合物又はその塩である。
In the formula, R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and n1 represents an integer of 1 to 5. , N2 represents 0 or an integer of 1 to 4.
More preferably, the compound represented by the general formula (II) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (III) or a salt thereof.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R2は一般式(II)におけると同義である。
好ましくは、前記感光性ハロゲン化銀が金増感されている。
好ましくは、前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有率が80モル%以上であり、より好ましくは、90モル%以上である。
好ましくは、本発明の熱現像感光材料はヨウ化銀錯形成剤を含有する。
好ましくは、本発明の熱現像感光材料は、下記一般式(A−1)または(A−2)で表される熱現像促進剤の少なくとも1種を含有する。
In the formula, R 2 has the same meaning as in general formula (II).
Preferably, the photosensitive silver halide is gold sensitized.
Preferably, the average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 80 mol% or more, and more preferably 90 mol% or more.
Preferably, the photothermographic material of the present invention contains a silver iodide complex forming agent.
Preferably, the photothermographic material of the invention contains at least one kind of heat development accelerator represented by the following general formula (A-1) or (A-2).

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、又はヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。 In the formula, Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, or Represents a sulfamoyl group.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、又はカルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、又は炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。 In the formula, R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.

好ましくは、前記画像形成層を支持体の両面に有する。
本発明のX線画像形成方法は、前述の熱現像感光材料と蛍光増感スクリーンと重ね合わせて放射線画像露光を行い、前記熱現像感光材料に潜像を記録する工程、および熱現像により前記潜像を可視画像に変換する熱現像工程を有する。
Preferably, the image forming layer is provided on both sides of the support.
The X-ray image forming method of the present invention comprises a step of superposing the above-mentioned photothermographic material and a fluorescent intensifying screen to perform radiation image exposure, recording a latent image on the photothermographic material, and the latent image by heat development. A heat development step of converting the image into a visible image;

(一般式(I)で表される化合物の説明)
本発明の熱現像感光材料は一般式(I)で表される化合物又はその塩を含有する。
(Description of compound represented by formula (I))
The photothermographic material of the present invention contains a compound represented by the general formula (I) or a salt thereof.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R1及びR1’は互いに独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基である。但し、同時に水素原子であることはない。
前記一般式(I)において、R1’が水素原子、R1が置換又は無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ基である。好ましくは、前記一般式(I)で表される化合物又はその塩が下記一般式(II)で表される化合物又はその塩である。
In the formula, R 1 and R 1 ′ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. However, they are not simultaneously hydrogen atoms.
In the general formula (I), R 1 ′ is a hydrogen atom, and R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or hetero group. Preferably, the compound represented by the general formula (I) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (II) or a salt thereof.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R2は置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R3は水素原子またはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、n1は1〜5の整数を表し、n2は0または1〜4の整数を表す。
さらに好ましくは、前記一般式(II)で表される化合物又はその塩が下記一般式(III)で表される化合物又はその塩である。
In the formula, R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and n1 represents an integer of 1 to 5. , N2 represents 0 or an integer of 1 to 4.
More preferably, the compound represented by the general formula (II) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (III) or a salt thereof.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

式中、R2は一般式(II)におけると同義である。
前記一般式(I)、(II)、及び(III)で表される化合物の塩としては、アルカリ金属塩(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなど)、アンモニウム塩、アルキルアンモニア塩、ホスホニウム塩、及び金属塩(例えば亜鉛、銅、水銀、及び銀などの塩)などが好ましい。
In the formula, R 2 has the same meaning as in general formula (II).
Examples of salts of the compounds represented by the general formulas (I), (II), and (III) include alkali metal salts (for example, lithium, sodium, potassium, etc.), ammonium salts, alkylammonia salts, phosphonium salts, and Metal salts (for example, salts of zinc, copper, mercury, silver, etc.) are preferred.

以下に一般式(I)、(II)、および(III)について詳細に説明する。
一般式(I)におけるR1のアルキル基は直鎖でも分枝していてもよく、アルキル基の例としては、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、ヘブチル基、オクチル基、ドデシル基、ペンタデシル基等であり、また置換アルキル基の置換基の例としては、アルコキシ基(例えばメトキシ基等)、アセチレン基又はその塩、アリールオキシ基、アシルオキシ基、複素環オキシ基、ヒドロオキシ基、カルボキシル基またはその塩、ホルミル基、アシル基、置換または非置換のカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルフィノ基またはその塩、スルホ基またはその塩、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換または非置換のスルファモイル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アシルアミノ基、置換または非置換のウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、ハロゲン原子、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、置換または非置換のスルファモイルアミノ基、置換もしくは非置換のアミノ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、アルキニル基(例えばエチニル基)等である。これらの置換基は2つ以上あってもよい。
The general formulas (I), (II), and (III) will be described in detail below.
The alkyl group represented by R 1 in the general formula (I) may be linear or branched. Examples of the alkyl group include butyl group, isobutyl group, hexyl group, hebutyl group, octyl group, dodecyl group, pentadecyl group. Examples of the substituent of the substituted alkyl group include an alkoxy group (such as a methoxy group), an acetylene group or a salt thereof, an aryloxy group, an acyloxy group, a heterocyclic oxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, or the like Salt, formyl group, acyl group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, sulfino group or salt thereof, sulfo group or salt thereof, alkylsulfinyl group, Alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, substituted or unsubstituted Sulfamoyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, acylamino group, substituted or unsubstituted ureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, nitro group, nitroso group, cyano group, halogen atom, alkylsulfonylamino group , Arylsulfonylamino group, substituted or unsubstituted sulfamoylamino group, substituted or unsubstituted amino group, cycloalkyl group, alkenyl group, aryl group, aralkyl group, heterocyclic group, alkynyl group (for example, ethynyl group), etc. It is. Two or more of these substituents may be present.

1のシクロアルキル基の例としては、シクロベンチル基、シクロヘキシル基、デカヒドロナフチル基等;アルケニル基の例としては、プロペニル基、イソプロペニル基、スチリル基等;アルキニル基の例としては、エチニル基、フェニルエチニル基等;アラルキル基の例としてはベンジル基、フェネチル基等を挙げることができる。これらの基はアルキル基のところで説明した置換基を有していてもよい。また、置換基は2つ以上あってもよい。 Examples of the cycloalkyl group represented by R 1 include a cyclobenzyl group, a cyclohexyl group, a decahydronaphthyl group and the like; examples of the alkenyl group include a propenyl group, an isopropenyl group and a styryl group; examples of the alkynyl group include an ethynyl group , Phenylethynyl group and the like; examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. These groups may have the substituent described for the alkyl group. There may be two or more substituents.

1のアリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基等があり、また置換アリール基の置換基の例としては、アルキル基(メチル基、ドデシル基等)、アルケニル基、アリール基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルキニル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、置換もしくは非置換のアミノ基、アシルアミノ基、アセチレン基又はその塩、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、置換または非置換のスルファモイルアミノ基、水酸基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、複素環基(5員〜6員環、なかでも含窒素複素環が好ましい)、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、メルカプト基、ホルミル基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルボン酸基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、スルフィノ基またはその塩、ハロゲン原子(弗素、臭素、塩素、沃素)、置換もしくは非置換の、ウレイド基、カルバモイル基、又はスルファモイル基等である。
これらの置換基は、さらに置換されていてもよい。また上に例記したような置換基は2つ以上あってもよい。
Examples of the aryl group of R 1 include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include an alkyl group (such as a methyl group and a dodecyl group), an alkenyl group, an aryl group, and a cycloalkyl group. Group, aralkyl group, alkynyl group, cyano group, nitro group, nitroso group, substituted or unsubstituted amino group, acylamino group, acetylene group or salt thereof, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, substituted or unsubstituted sulfur Famoylamino group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, heterocyclic group (5 to 6 membered ring, particularly nitrogen-containing heterocyclic ring is preferred) , Alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, alkylsulfinyl group Arylsulfinyl group, alkylthio group, arylthio group, mercapto group, formyl group, acyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carboxylic acid group or salt thereof, sulfonic acid group or salt thereof, sulfino group or salt thereof, halogen atom ( Fluorine, bromine, chlorine, iodine), substituted or unsubstituted ureido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, and the like.
These substituents may be further substituted. There may be two or more substituents as exemplified above.

1の複素環基としては5員もしくは6員のものが好ましく、例えばフリル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、ピリジル基、キノリン基などがある。これらの複素環基は、上記置換アリール基と同様の置換基を有してもよい。 The heterocyclic group of R 1 is preferably a 5-membered or 6-membered group, and examples thereof include a furyl group, a thienyl group, a benzothienyl group, a pyridyl group, and a quinoline group. These heterocyclic groups may have the same substituent as the above substituted aryl group.

以下一般式(II)におけるR2について詳細に説明する。
アルキル基の場合は、直鎖でも分枝しても良く、アルキル基の例としては、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャルブチル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘブチル基、イソヘブチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、又はペンタデシル基である。また置換アルキル基の置換基の例としては、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、沃素)、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、複素環オキシ基、カルボキシル基またはその塩、ホルミル基、アシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルフィノ基またはその塩、スルホ基またはその塩、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換または無置換のスルファモイル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、置換または無置換のアミノ基、アシルアミノ基、置換または無置換のウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のスルファモイルアミノ基、ニトロ基、ニトロソ基等である。これらの基は2つ以上存在してもよいし、その置換基がさらに置換されていてもよい。
Hereinafter, R 2 in the general formula (II) will be described in detail.
In the case of an alkyl group, it may be linear or branched. Examples of the alkyl group include propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tertiary butyl group, benzyl group, hexyl group, hebutyl group, isohebutyl. Group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, or pentadecyl group. Examples of the substituent of the substituted alkyl group include cycloalkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, aralkyl group, heterocyclic group, halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine), hydroxyl group, alkoxy group, aryl Oxy group, acyloxy group, heterocyclic oxy group, carboxyl group or salt thereof, formyl group, acyl group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, mercapto group, alkylthio group, arylthio Group, sulfino group or salt thereof, sulfo group or salt thereof, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, substituted or unsubstituted sulfamoyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, substituted or Substituted amino group, acylamino group, substituted or unsubstituted ureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, substituted or unsubstituted sulfamoylamino group, nitro group Nitroso group and the like. Two or more of these groups may be present, and the substituents may be further substituted.

シクロアルキル基の例としては、シクロベンチル基、シクロヘキシル基、デカヒドロナフチル基等;アルケニル基の例としては、プロペニル基、イソプロペニル基、スチリル基等を挙げることができる。これらの基はアルキル基のところで説明した置換基を有していてもよい。また、置換基は2つ以上あってもよい。   Examples of the cycloalkyl group include a cyclobenzyl group, a cyclohexyl group, a decahydronaphthyl group, and the like; examples of the alkenyl group include a propenyl group, an isopropenyl group, and a styryl group. These groups may have the substituent described for the alkyl group. Two or more substituents may be present.

アリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基等があり、また置換アリール基の置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基(5員〜6員環、なかでも含窒素複素環が好ましい)、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、沃素)、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、複素環オキシ基、カルボキシル基またはその塩、ホルミル基、アシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルフィノ基またはその塩、スルホ基またはその塩、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換または無置換のスルファモイル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、置換または無置換のアミノ基、アシルアミノ基、置換または無置換のウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のスルファモイルアミノ基、ニトロ基、ニトロソ基等である。
これらの置換基は、さらに置換されていてもよい。また上に例記したような置換基は2つ以上あってもよい。
Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a heterocyclic group. (5-membered to 6-membered ring, preferably nitrogen-containing heterocycle), halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, heterocyclic oxy group, carboxyl group or Salt, formyl group, acyl group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, sulfino group or salt thereof, sulfo group or salt thereof, Alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, ant Rusulfonyl group, substituted or unsubstituted sulfamoyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, substituted or unsubstituted amino group, acylamino group, substituted or unsubstituted ureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group Alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, substituted or unsubstituted sulfamoylamino group, nitro group, nitroso group and the like.
These substituents may be further substituted. There may be two or more substituents as exemplified above.

アラルキル基の例としては、ベンジル基やフェネチル基がある。これらの置換基はアルキル基もしくはアリール基のところで説明した置換基を1つまたはそれ以上有していてもよいし、その置換基がさらに置換されていてもよい。   Examples of aralkyl groups include benzyl and phenethyl groups. These substituents may have one or more substituents described for the alkyl group or aryl group, and the substituents may be further substituted.

複素環基としては5員もしくは6員のものが好ましく、例えばフリル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、ピリジル基、又はキノリン基などがある。これらの複素環基は、上記置換アリール基と同様の置換基を有してもよい。   The heterocyclic group is preferably a 5-membered or 6-membered group such as a furyl group, a thienyl group, a benzothienyl group, a pyridyl group, or a quinoline group. These heterocyclic groups may have the same substituent as the above substituted aryl group.

アルキレン基の例としてはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基等であり;アリーレン基の例としては(o-、m-、p-)フェニレン基、(1,4−など)ナフチレン基等があり;シクロアルキレン基の例としてはシクロヘキシレン基等がある。 Examples of alkylene groups are methylene, ethylene, trimethylene, propylene, etc .; examples of arylene are (o , m , p ) phenylene, (1,4-etc.) Naphthylene, etc. Examples of cycloalkylene groups include cyclohexylene groups.

上記の二価残基は、アルキル基やアリール基のところで説明した置換基を1つまたはそれ以上有していてもよいし、その置換基がさらに置換されていてもよい。   The above divalent residue may have one or more of the substituents described for the alkyl group and aryl group, and the substituents may be further substituted.

これらの中でもR3として、炭素数3以上の、アルキル基あるいはシクロアルキル基である化合物が好ましい。さらに好ましくはR3として、炭素数3から10のアルキル基、あるいはシクロアルキル基である化合物である。 Among these, R 3 is preferably a compound having an alkyl group or a cycloalkyl group having 3 or more carbon atoms. More preferably, R 3 is a compound having 3 to 10 carbon atoms or a cycloalkyl group.

一般式(III)におけるR3としては、アルキル基(メチル基、ドデシル基等)、アルケニル基、アリール基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルキニル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、置換もしくは非置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、置換または非置換のスルファモイルアミノ基、水酸基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、複素環基(5員〜6員環、なかでも含窒素複素環が好ましい)、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、メルカプト基、ホルミル基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルボン酸基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、スルフィノ基またはその塩、ハロゲン原子(弗素、臭素、塩素、沃素)、置換もしくは非置換の、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基等である。
これらの置換基は、さらに置換されていてもよい。また上に例記したような置換基は2つ以上あってもよい。
R 3 in the general formula (III) is an alkyl group (methyl group, dodecyl group, etc.), alkenyl group, aryl group, cycloalkyl group, aralkyl group, alkynyl group, cyano group, nitro group, nitroso group, substituted or non-substituted Substituted amino group, acylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, substituted or unsubstituted sulfamoylamino group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxy group , Acyloxy group, heterocyclic group (5- to 6-membered ring, preferably nitrogen-containing heterocyclic ring), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylthio group, arylthio group, mercapto group , Formyl group, acyl group Alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carboxylic acid group or salt thereof, sulfonic acid group or salt thereof, sulfino group or salt thereof, halogen atom (fluorine, bromine, chlorine, iodine), substituted or unsubstituted, ureido group, carbamoyl Group, sulfamoyl group and the like.
These substituents may be further substituted. There may be two or more substituents as exemplified above.

n1は好ましくは1又は2である。n2は好ましくは0である。
以下に本発明の具体例を示す。
n1 is preferably 1 or 2. n2 is preferably 0.
Specific examples of the present invention are shown below.

Figure 2006215168
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Figure 2006215168
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Figure 2006215168
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本発明における一般式(III)で表されるアセチレン化合物は、下記4−エチニルアニリンとカルボン酸の酸塩化物との縮合反応から容易に得られる。   The acetylene compound represented by the general formula (III) in the present invention can be easily obtained from the condensation reaction of the following 4-ethynylaniline and an acid chloride of carboxylic acid.

Figure 2006215168
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また4−エチニルアニリンはHELVETICA CHIMICA ACTA、54巻、2066頁(1971年)に記載される方法で合成できる。   4-Ethynylaniline can be synthesized by the method described in HELVETICA CHIMICA ACTA, 54, 2066 (1971).

<添加方法>
本発明における一般式(I)で表される化合物は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルセバケートあるいはトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやオレオイル−N−メチルタウリン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。このとき、油滴の粘度や屈折率の調製の目的でαメチルスチレンオリゴマーやポリ(t−ブチルアクリルアミド)等のポリマーを添加することも好ましい。
<Addition method>
The compound represented by formula (I) in the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, and a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.
Well-known emulsification and dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl sebacate or tri (2-ethylhexyl) phosphate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and dodecylbenzene. Examples thereof include a method of mechanically preparing an emulsified dispersion by adding a surfactant such as sodium sulfonate, oleoyl-N-methyl taurate, sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate. At this time, it is also preferable to add a polymer such as α-methylstyrene oligomer or poly (t-butylacrylamide) for the purpose of adjusting the viscosity and refractive index of the oil droplets.

また、固体微粒子分散法としては、一般式(I)で表される化合物の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm以上1000ppm以下の範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
In addition, as a solid fine particle dispersion method, the powder of the compound represented by the general formula (I) is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave. And a method of producing a solid dispersion. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).

<添加層>
本発明における一般式(I)で表される化合物は、支持体の画像形成層を有する面側のいずれかの層に含有される。好ましくは画像形成層又はその隣接層に添加して用いられ、より好ましくは画像形成層に添加される。
<Additive layer>
The compound represented by the general formula (I) in the present invention is contained in any layer on the side having the image forming layer of the support. It is preferably added to the image forming layer or its adjacent layer, more preferably added to the image forming layer.

<添加量>
本発明における一般式(I)で表される化合物の添加量は、感光性ハロゲン化銀1モル当たり1.0×10-8モル〜1.0×10-1モルである。好ましくは、1.0×10-7モル〜1.0×10-2モル、より好ましくは1.0×10-6モル〜1.0×10-2モルである。
<Addition amount>
The addition amount of the compound represented by the general formula (I) in the present invention is 1.0 × 10 −8 mol to 1.0 × 10 −1 mol per mol of the photosensitive silver halide. Preferably, it is 1.0 × 10 −7 mol to 1.0 × 10 −2 mol, more preferably 1.0 × 10 −6 mol to 1.0 × 10 −2 mol.

(有機銀塩の説明)
1)組成
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。有機銀塩は還元剤により還元されうる銀イオンを供給できる任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平10−62899号の段落番号0048〜0049、欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀及びこれらの混合物などを含む。
本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上100モル%以下、より好ましくは85モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは95モル%以上100モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。更に、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。
(Description of organic silver salt)
1) Composition The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but is heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. In this case, the silver salt functions as a silver ion supplier to form a silver image. The organic silver salt may be any organic substance that can supply silver ions that can be reduced by a reducing agent. As for such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferred examples of the fatty acid silver salt include silver lignocerate, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver erucate and the like. Including a mixture of
In the present invention, among these fatty acid silvers, the silver behenate content is preferably 50 mol% to 100 mol%, more preferably 85 mol% to 100 mol%, still more preferably 95 mol% to 100 mol%. The following fatty acid silver is preferably used. Furthermore, it is preferable to use fatty acid silver having a silver erucate content of 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, and still more preferably 0.1 mol% or less.

また、ステアリン酸銀含有率が1モル%以下であることが好ましい。前記ステアリン酸含有率を1モル%以下とすることにより、Dminが低く、高感度で画像保存性に優れた有機酸の銀塩が得られる。前記ステアリン酸含有率としては、0.5モル%以下が好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。   Moreover, it is preferable that silver stearate content rate is 1 mol% or less. By making the stearic acid content 1 mol% or less, a silver salt of an organic acid having a low Dmin, high sensitivity and excellent image storage stability can be obtained. As said stearic acid content rate, 0.5 mol% or less is preferable and it is especially preferable not to contain substantially.

さらに、有機酸の銀塩としてアラキジン酸銀を含む場合は、アラキジン酸銀含有率が6モル%以下であることが、低いDminを得ること及び画像保存性の優れた有機酸の銀塩を得る点で好ましく、3モル%以下であることが更に好ましい。   Furthermore, when silver arachidate is included as the silver salt of the organic acid, the silver arachidate content is 6 mol% or less to obtain a low Dmin and an organic acid silver salt excellent in image storability. It is preferable at a point and it is still more preferable that it is 3 mol% or less.

2)形状
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が5未満の短針状、直方体、立方体又はジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸と単軸の長さの比が5以上の長針状粒子に比べて熱現像時のかぶりが少ないという特徴を有している。特に、長軸と単軸の比が3以下の粒子は塗布膜の機械的安定性が向上し好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。
x=b/a
2) Shape The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In addition, short needle-shaped, rectangular parallelepiped, cubic or potato-shaped irregular particles having a major axis / uniaxial length ratio of less than 5 are also preferably used. These organic silver particles have a feature that the fog at the time of heat development is less than that of long needle-like particles in which the ratio of the length of the major axis to the uniaxial axis is 5 or more. In particular, particles having a major axis / uniaxial ratio of 3 or less are preferable because the mechanical stability of the coating film is improved. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, and the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped. Then, the shorter numerical values a and b are calculated, and x is obtained as follows.
x = b / a

このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは15≧x(平均)≧1.5である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。   In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.

りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上0.3μm以下が好ましく0.1μm以上0.23μm以下がより好ましい。c/bの平均は1以上9以下であることが好ましく、より好ましくは1以上6以下、さらに好ましくは1以上4以下、最も好ましくは1以上3以下である。   In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 9 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, and most preferably 1 or more and 3 or less.

前記球相当直径を0.05μm以上1μm以下とすることにより、熱現像感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる。前記球相当直径としては、0.1μm以上1μm以下が好ましい。本発明において、球相当直径の測定方法は、電子顕微鏡を用いて直接サンプルを撮影し、その後、ネガを画像処理することによって求められる。
前記リン片状粒子において、粒子の球相当直径/aをアスペクト比と定義する。リン片状粒子のアスペクト比としては、熱現像感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる観点から、1.1以上30以下であることが好ましく、1.1以上15以下がより好ましい。
By setting the sphere equivalent diameter to 0.05 μm or more and 1 μm or less, aggregation is hardly caused in the photothermographic material, and image storability is improved. The sphere equivalent diameter is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less. In the present invention, the method for measuring the equivalent sphere diameter is obtained by directly photographing a sample using an electron microscope and then image-processing the negative.
In the flake shaped particles, the spherical equivalent diameter / a of the particles is defined as the aspect ratio. The aspect ratio of the flake shaped particles is preferably 1.1 or more and 30 or less, and preferably 1.1 or more and 15 or less, from the viewpoint of preventing aggregation in the photothermographic material and improving the image storage stability. More preferred.

有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)から求めることができる。   The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.

3)調製
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10−62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、同2001−163889号、同2001−163890号、同2001−163827号、同2001−33907号、同2001−188313号、同2001−83652号、同2002−6442、同2002−49117号、同2002−31870号、同2002−107868号等を参考にすることができる。
3) Preparation Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of organic acid silver used in the present invention. For example, the above-mentioned JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, JP-A-2001-163889, 2001-163890, 2001-163825, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83651, 2002-6442, 2002-49117, 2002-31870, 2002-107868 You can refer to the issue.

なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、かぶりが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。
本発明では、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩1モルに対し1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以下であり、さらに好ましいのは積極的な感光性銀塩の添加を行わないものである。
In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog rises and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained during the dispersion.
In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% relative to 1 mol of the organic acid silver salt in the liquid. The following is more preferable, and positive addition of photosensitive silver salt is not performed.

本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して熱現像感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩の割合は1モル%以上30モル%以下の範囲が好ましく、更に2モル%以上20モル%以下、特に3モル%以上15モル%以下の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。   In the present invention, a photothermographic material can be produced by mixing an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion, but the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose. However, the ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 mol% to 30 mol%, more preferably 2 mol% to 20 mol%, and particularly preferably 3 mol% to 15 mol%. Mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

4)添加量
本発明における有機銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀も含めた全塗布銀量として0.1g/m2以上5.0g/m2以下が好ましく、より好ましくは0.3g/m2以上3.0g/m2以下、さらに好ましくは0.5g/m2以上2.0g/m2以下である。特に、画像保存性を向上させるためには、全塗布銀量が1.8g/m2以下、より好ましくは1.6g/m2以下であることが好ましい。本発明における好ましい還元剤を使用すれば、このような低銀量においても十分な画像濃度を得ることが可能である。
4) Addition amount Although the organic silver salt in the present invention can be used in a desired amount, the total coating silver amount including silver halide is preferably 0.1 g / m 2 or more and 5.0 g / m 2 or less, more preferably. It is 0.3 g / m 2 or more and 3.0 g / m 2 or less, more preferably 0.5 g / m 2 or more and 2.0 g / m 2 or less. In particular, in order to improve image storability, the total coated silver amount is preferably 1.8 g / m 2 or less, more preferably 1.6 g / m 2 or less. If the preferred reducing agent in the present invention is used, a sufficient image density can be obtained even with such a low silver amount.

(還元剤の説明)
本発明の熱現像感光材料には有機銀塩のための還元剤である熱現像剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質(好ましくは有機物質)であってよい。このような還元剤の例は、特開平11−65021号の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開第0803764A1号の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。
本発明において、還元剤としてはフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤あるいはビスフェノール系還元剤が好ましく、下記一般式(R)で表される化合物がより好ましい。
(Description of reducing agent)
The photothermographic material of the present invention preferably contains a heat developer which is a reducing agent for the organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance (preferably an organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Examples of such reducing agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 0803764A1, page 7, line 34 to page 18, line 12.
In the present invention, the reducing agent is preferably a so-called hindered phenol-based reducing agent or bisphenol-based reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, and more preferably a compound represented by the following general formula (R).

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(R)において、R11及びR11’は、各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R12及びR12’は、各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Lは、−S−基又は−CHR13−基を表す。R13は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。X1及びX1’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。 In the general formula (R), R 11 and R 11 ′ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring. L represents a —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring.

一般式(R)について詳細に説明する。
以下でアルキル基と称するとき、特に明記していない場合はシクロアルキル基もこれに含まれる。
1)R11及びR11
11及びR11’は各々独立に置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基であり。アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ウレイド基、ウレタン基、ハロゲン原子等があげられる。
The general formula (R) will be described in detail.
When referred to as an alkyl group in the following, a cycloalkyl group is also included in this unless otherwise specified.
1) R 11 and R 11 '
R 11 and R 11 ′ are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The substituent of the alkyl group is not particularly limited, but preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamido group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, Examples thereof include an acyl group, a carbamoyl group, an ester group, a ureido group, a urethane group, and a halogen atom.

2)R12及びR12’、X1及びX1
12及びR12’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基であり、X1及びX1’も各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
2) R 12 and R 12 ', X 1 and X 1 '
R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Preferred examples of the group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.

3)L
Lは−S−基又は−CHR13−基を表す。R13は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。R13の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、シクロヘキシル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、及び3,5−ジメチル−3−シクロヘキセニル基などが挙げられる。アルキル基の置換基の例はR11の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、及びスルファモイル基などが挙げられる。
3) L
L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. Specific examples of the unsubstituted alkyl group of R 13 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, cyclohexyl. Group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group, 3,5-dimethyl-3-cyclohexenyl group and the like. Examples of the substituent of the alkyl group are the same as the substituent of R 11 , and are a halogen atom, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, oxycarbonyl group, Examples thereof include a carbamoyl group and a sulfamoyl group.

4)好ましい置換基
11及びR11’として好ましくは炭素数1〜15の1級、2級又は3級のアルキル基であり、具体的にはメチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、及び1−メチルシクロプロピル基などが挙げられる。R11及びR11’としてより好ましくは炭素数1〜8のアルキル基で、その中でもメチル基、t−ブチル基、t−アミル基、1−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、メチル基、t−ブチル基が最も好ましい。
4) Preferred substituents R 11 and R 11 ′ are preferably primary, secondary or tertiary alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, specifically methyl, isopropyl, t-butyl, t -Amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like can be mentioned. R 11 and R 11 ′ are more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a methyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a methyl group and a t-butyl group are preferable. The group is most preferred.

12及びR12’として好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、及びメトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、又はt−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
1及びX1’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and specifically include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, and a cyclohexyl group. Group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a t-butyl group, and particularly preferred are a methyl group and an ethyl group.
X 1 and X 1 ′ are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

Lは好ましくは−CHR13−基である。
13として好ましくは水素原子又は炭素数1〜15のアルキル基であり、該アルキル基としては鎖状のアルキル基の他、環状のアルキル基も好ましく用いられる。また、これらのアルキル基の中にC=C結合を有しているものも好ましく用いることができる。アルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、シクロヘキシル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、又は3,5−ジメチル−3−シクロヘキセニル基等が好ましい。R13として特に好ましいのは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、又は2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基である。
L is preferably a —CHR 13 — group.
R 13 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. As the alkyl group, a cyclic alkyl group is also preferably used in addition to a chain alkyl group. Moreover, what has a C = C bond in these alkyl groups can also be used preferably. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a 2,4,4-trimethylpentyl group, a cyclohexyl group, a 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group, or 3,5-dimethyl-3. -A cyclohexenyl group and the like are preferable. R 13 is particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group.

11、R11’が3級のアルキル基でR12、R12’がメチル基の場合、R13は炭素数1〜8の1級又は2級のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基等)が好ましい。
11、R11’が3級のアルキル基でR12、R12’がメチル基以外のアルキル基の場合、R13は水素原子が好ましい。
11、R11’が3級のアルキル基でない場合、R13は水素原子又は2級のアルキル基であることが好ましく、2級のアルキル基であることが特に好ましい。R13の2級アルキル基として好ましい基はイソプロピル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基である。
上記還元剤はR11、R11’、R12、R12’及びR13の組み合わせにより、熱現像性、現像銀色調などが異なる。2種以上の還元剤を組み合わせることでこれらを調製することができるため、目的によっては2種以上を組み合わせて使用することが好ましい。
When R 11 and R 11 ′ are tertiary alkyl groups and R 12 and R 12 ′ are methyl groups, R 13 is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group). Group, isopropyl group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group and the like).
When R 11 and R 11 ′ are tertiary alkyl groups and R 12 and R 12 ′ are alkyl groups other than methyl groups, R 13 is preferably a hydrogen atom.
When R 11 and R 11 ′ are not a tertiary alkyl group, R 13 is preferably a hydrogen atom or a secondary alkyl group, and particularly preferably a secondary alkyl group. Preferred groups as the secondary alkyl group for R 13 are isopropyl group and 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group.
The reducing agent has different heat developability, developed silver color tone and the like depending on the combination of R 11 , R 11 ′, R 12 , R 12 ′ and R 13 . Since these can be prepared by combining two or more reducing agents, it is preferable to use a combination of two or more depending on the purpose.

以下に、一般式(R)で表される化合物をはじめとする本発明における還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of the reducing agent in this invention including the compound represented by general formula (R) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

Figure 2006215168
Figure 2006215168

上記以外の本発明における好ましい還元剤の例は特開2001−188314号、同2001−209145号、同2001−350235号、同2002−156727号、EP1278101A2号に記載された化合物である。
本発明において還元剤の添加量は0.1g/m2以上3.0g/m2以下であることが好ましく、より好ましくは0.2g/m2以上2.0g/m2以下で、さらに好ましくは0.3g/m2以上1.0g/m2以下である。画像形成層を有する面の銀1モルに対しては5モル%以上50モル%以下含まれることが好ましく、より好ましくは8モル%以上30モル%以下であり、10モル%以上20モル%以下で含まれることがさらに好ましい。還元剤は画像形成層に含有させることが好ましい。
Examples of preferable reducing agents in the present invention other than the above are the compounds described in JP-A Nos. 2001-188314, 2001-209145, 2001-350235, 2002-156727, and EP1278101A2.
In the present invention, the addition amount of the reducing agent is preferably 0.1 g / m 2 or more and 3.0 g / m 2 or less, more preferably 0.2 g / m 2 or more and 2.0 g / m 2 or less, and still more preferably. Is 0.3 g / m 2 or more and 1.0 g / m 2 or less. 5 mol% or more and 50 mol% or less is preferably contained with respect to 1 mol of silver on the surface having the image forming layer, more preferably 8 mol% or more and 30 mol% or less, and 10 mol% or more and 20 mol% or less. More preferably, it is contained. The reducing agent is preferably contained in the image forming layer.

還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルセバケートあるいはトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやオレオイル−N−メチルタウリン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。このとき、油滴の粘度や屈折率の調製の目的でαメチルスチレンオリゴマーやポリ(t−ブチルアクリルアミド)等のポリマーを添加することも好ましい。
The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.
Well-known emulsification and dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl sebacate or tri (2-ethylhexyl) phosphate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and dodecylbenzene. Examples thereof include a method of mechanically preparing an emulsified dispersion by adding a surfactant such as sodium sulfonate, oleoyl-N-methyl taurate, sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate. At this time, it is also preferable to add a polymer such as α-methylstyrene oligomer or poly (t-butylacrylamide) for the purpose of adjusting the viscosity and refractive index of the oil droplets.

また、固体微粒子分散法としては、還元剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm以上1000ppm以下の範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm以上10μm以下、好ましくは0.05μm以上5μm以下、より好ましくは0.1μm以上2μm以下の微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
Further, as a solid fine particle dispersion method, a reducing agent powder is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
Particularly preferred is a solid particle dispersion method of a reducing agent, in which fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 2 μm are added. Is preferred. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.

(現像促進剤の説明)
本発明の熱現像感光材料は、現像促進剤を含有することが好ましい。現像促進剤として特開2000−267222号明細書や特開2000−330234号明細書等に記載の一般式(A)で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平2001−92075記載の一般式(II)で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平10−62895号明細書や特開平11−15116号明細書等に記載の一般式(I)、特開2002−156727号の一般式(D)や特開2002−278017号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン系の化合物、特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系又はナフトール系の化合物が好ましく用いられる。また、特開2002−311533号、特開2002−341484号明細書に記載されたフェノール系の化合物も好ましい。特に特開2003−66558号明細書に記載のナフトール系の化合物が好ましい。これらの現像促進剤は還元剤に対して0.1モル%以上20モル%以下の範囲で使用され、好ましくは0.5モル%以上10モル%以下の範囲で、より好ましくは1モル%以上5モル%以下の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物又は乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、若しくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開2002−156727号、特開2002−278017号明細書に記載ヒドラジン系の化合物及び特開2003−66558号明細書に記載されているナフトール系の化合物がより好ましい。
(Description of development accelerator)
The photothermographic material of the invention preferably contains a development accelerator. As a development accelerator, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, etc., or a general formula described in JP-A-2001-92075. Hindered phenol compounds represented by (II), general formula (I) described in JP-A-10-62895, JP-A-11-15116, etc., and general formulas in JP-A-2002-156727 (D), a hydrazine-based compound represented by the general formula (1) described in JP-A-2002-278017, and a general formula (2) described in JP-A-2001-264929. Phenol-based or naphthol-based compounds are preferably used. Moreover, the phenol type compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-311533 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-341484 is also preferable. In particular, naphthol compounds described in JP-A No. 2003-66558 are preferable. These development accelerators are used in the range of 0.1 mol% or more and 20 mol% or less, preferably 0.5 mol% or more and 10 mol% or less, more preferably 1 mol% or more with respect to the reducing agent. The range is 5 mol% or less. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent and a low-boiling auxiliary solvent that are solid at room temperature, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
In the present invention, among the above development accelerators, hydrazine compounds described in JP-A Nos. 2002-156727 and 2002-278017 and naphthol compounds described in JP-A No. 2003-66558 are used. Is more preferable.

本発明における特に好ましい現像促進剤は、下記一般式(A−1)及び(A−2)で表される化合物である。
一般式(A−1)
1−NHNH−Q2
(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、又はヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。)
Particularly preferred development accelerators in the invention are compounds represented by the following general formulas (A-1) and (A-2).
Formula (A-1)
Q 1 -NHNH-Q 2
(Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group.)

一般式(A−1)において、Q1で表される芳香族基又はヘテロ環基としては5員〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、又はチオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。 In the general formula (A-1), the aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, or thiophene ring are preferred, A condensed ring in which these rings are condensed with each other is also preferable.

これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、及びアシルオキシ基を挙げることができる。   These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.

2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−tert−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、及びN−ベンジルカルバモイルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3 -(2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5 Dodecyloxycarbo Butylphenyl) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl, and N- benzylcarbamoyl.

2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、2−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、及びベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2 -Hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, Examples include dodecyloxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.

2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、4−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、及び4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples thereof include methylphenoxycarbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q 2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3- Examples include dodecyloxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.

2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、N−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイルが挙げられる。Q2で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5員〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The sulfamoyl group represented by Q 2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, N- (2- Ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl is mentioned. The group represented by Q 2 may further have a group listed as an example of the substituent of the 5-membered to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position, When it has two or more substituents, these substituents may be the same or different.

次に、式(A−1)で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Q1としては5員〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、及びこれらの環がベンゼン環若しくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 Next, preferred range for the compound represented by formula (A-1) is to be described. Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole. Ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these More preferred are rings in which the ring is fused with a benzene ring or an unsaturated heterocycle. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on a nitrogen atom.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(A−2)においてR1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、又は炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ独立に水素原子または一般式(A−1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。
1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基など)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基、4−シアノフェニルウレイド基など)、カルバモイル基(n−ブチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、2−クロロフェニルカルバモイル基、2,4−ジクロロフェニルカルバモイル基など)でアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。Rは好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基など)である。
3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。R4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基又はアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。
In the general formula (A-2), R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (A-1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.
R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-octyl group, a cyclohexyl group, etc.), an acylamino group (for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, a methyl group). Ureido group, 4-cyanophenylureido group, etc.), carbamoyl group (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) acylamino Groups (including ureido groups and urethane groups) are more preferred. R 2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (for example, a methoxy group, a butoxy group, an n-hexyloxy group, an n-decyloxy group, a cyclohexyloxy group, a benzyloxy group), aryl An oxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.).
R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.

一般式(A−2)においてR3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式(A−1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(A−2)がナフトール系の化合物であるとき、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In the general formula (A-2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, a naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of a substituent quoted by general formula (A-1) may couple | bond with the naphthalene ring. When general formula (A-2) is a naphthol-based compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.

以下、本発明における現像促進剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, preferred specific examples of the development accelerator in the present invention will be given. The present invention is not limited to these.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

(水素結合性化合物の説明)
本発明における還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)又はアミノ基(−NHR、Rは水素原子又はアルキル基)を有する場合、特に前述のビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
水酸基又はアミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。
本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物は下記一般式(D)で表される化合物である。
(Description of hydrogen bonding compounds)
When the reducing agent in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH) or amino group (—NHR, R is a hydrogen atom or an alkyl group), particularly in the case of the aforementioned bisphenols, these groups and hydrogen bonds It is preferable to use together a non-reducing compound having a group capable of forming.
Examples of the group that forms a hydrogen bond with a hydroxyl group or an amino group include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Can be mentioned. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it has no> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
In the present invention, a particularly preferred hydrogen bonding compound is a compound represented by the following general formula (D).

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(D)においてR21ないしR23は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基又はヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基又はアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、及び4−アシルオキシフェニル基などが挙げられる。
21ないしR23のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、及び2−フェノキシプロピル基などが挙げられる。
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、及び3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、及びベンジルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、及びN−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。
In the general formula (D), R 21 to R 23 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be substituted even if they are unsubstituted. You may have.
When R 21 to R 23 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, Examples thereof include an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. Preferred examples of the substituent include an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a t-octyl group. Group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like.
Specific examples of the alkyl group of R 21 to R 23 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an octyl group, a dodecyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, a cyclohexyl group, Examples include 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, and 2-phenoxypropyl group.
Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, and A benzyloxy group etc. are mentioned.
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. It is done.

21ないしR23としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも一つ以上がアルキル基又はアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好ましい。
以下に本発明における一般式(D)の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
R 21 to R 23 are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In view of the effects of the present invention, at least one of R 21 to R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. Further, it is preferable that R 21 to R 23 are the same group in that they can be obtained at low cost.
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

水素結合性化合物の具体例は上述の他に欧州特許1096310号明細書、特開2002−156727号、特開2002−318431号に記載のものがあげられる。
本発明における一般式(D)の化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料中で使用することができるが、固体分散物として使用することが好ましい。これらの化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元剤と本発明における一般式(D)の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明における一般式(D)の化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
本発明における一般式(D)の化合物は、還元剤に対して、1モル%以上200モル%以下の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10モル%以上150モル%以下の範囲で、さらに好ましくは20モル%以上100モル%の範囲である。
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in European Patent No. 1096310, JP-A No. 2002-156727, and JP-A No. 2002-318431 in addition to the above.
The compound of the general formula (D) in the present invention can be used in a photothermographic material by being incorporated in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersion fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. It is preferably used as a solid dispersion. These compounds form a hydrogen-bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group or an amino group in a solution state. It can be isolated in the state.
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the compound of the general formula (D) in the present invention are mixed in a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
The compound of the general formula (D) in the present invention is preferably used in the range of 1 mol% to 200 mol%, more preferably in the range of 10 mol% to 150 mol%, based on the reducing agent. More preferably, it is the range of 20 mol% or more and 100 mol%.

本発明の熱現像感光材料の画像形成層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成層の全バインダーの30質量%以下、より好ましくは20質量%以下が好ましい。   If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose may be added to the image forming layer of the photothermographic material of the invention. The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the image forming layer.

本発明における有機銀塩含有層(即ち、画像形成層)は、ポリマーラテックスを用いて形成されたものが好ましい。画像形成層のバインダーの量は、全バインダー/有機銀塩の質量比が1/10〜10/1、より好ましくは1/3〜5/1の範囲、さらに好ましくは1/1〜3/1の範囲である。   The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) in the present invention is preferably formed using a polymer latex. The amount of binder in the image forming layer is such that the total binder / organic silver salt mass ratio is 1/10 to 10/1, more preferably 1/3 to 5/1, and still more preferably 1/1 to 3/1. Range.

また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層(画像形成層)でもあり、このような場合の、全バインダー/ハロゲン化銀の質量比は400〜5、より好ましくは200〜10の範囲である。   Further, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (image forming layer) containing a photosensitive silver halide that is a photosensitive silver salt. The mass ratio of silver halide is 400-5, more preferably 200-10.

本発明における画像形成層の全バインダー量は、好ましくは0.2g/m2以上30g/m2以下、より好ましくは1g/m2以上15g/m2以下、さらに好ましくは2g/m2以上10g/m2以下の範囲である。本発明における画像形成層には、架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。 The total binder amount of the image forming layer in the present invention is preferably 0.2 g / m 2 or more and 30 g / m 2 or less, more preferably 1 g / m 2 or more and 15 g / m 2 or less, and further preferably 2 g / m 2 or more and 10 g. / M 2 or less. In the image forming layer of the present invention, a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added.

(好ましい塗布液の溶媒)
本発明において熱現像感光材料の画像形成層塗布液の溶媒(ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。)は、水を50質量%以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。塗布液の溶媒の水含有率は50質量%以上、より好ましくは70質量%以上が好ましい。好ましい溶媒組成の例を挙げると、水の他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルアルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メチルアルコール/エチルセロソルブ=85/10/5、水/メチルアルコール/イソプロピルアルコール=85/10/5などがある(数値は質量%)。
(Preferable solvent for coating solution)
In the present invention, the solvent of the image forming layer coating solution of the photothermographic material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 50% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent of the coating solution is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. Examples of preferred solvent compositions include water, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl alcohol / There are ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical value is mass%).

(感光性ハロゲン化銀)
本発明における感光性ハロゲン化銀は、平均ヨウ化銀含有率が40モル%以上であり、好ましくは全投影面積の50%以上がアスペクト比が2以上の平板状粒子である。好ましくは、平均円相当直径が0.3μm以上5.0μm以下の平板状粒子である。
より好ましくはアスペクト比が5以上で100以下である。平均ヨウ化銀含有率は、好ましくは60モル%以上、より好ましくは80モル%以上である。
好ましくは、本発明における感光性ハロゲン化銀は金増感されている。
(Photosensitive silver halide)
The photosensitive silver halide in the present invention is a tabular grain having an average silver iodide content of 40 mol% or more, preferably 50% or more of the total projected area having an aspect ratio of 2 or more. Preferably, it is a tabular grain having an average equivalent circle diameter of 0.3 μm or more and 5.0 μm or less.
More preferably, the aspect ratio is 5 or more and 100 or less. The average silver iodide content is preferably 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more.
Preferably, the photosensitive silver halide in the present invention is gold sensitized.

さらに詳細に本発明中の感光性ハロゲン化銀粒子について説明する。
1)ハロゲン化銀平板状粒子
本発明中でハロゲン化銀平板状粒子(以下、「平板粒子」という)とは2つの対向する平行な主表面を有するハロゲン化銀粒子を言う。
この平板粒子は粒子を主表面に対して垂直方向から見た時、六角形状、三角形状、正方形状、長方形状もしくはこれらが丸みを帯びた円形状であることが多いが、これ以外の形状であっても何ら問題無い。但しエピタキシャル増感を粒子間で均一に施すためには、なるべくサイズ、形状において単分散であることが好ましい。
The photosensitive silver halide grains in the present invention will be described in more detail.
1) Silver halide tabular grains In the present invention, a silver halide tabular grain (hereinafter referred to as "tabular grain") refers to a silver halide grain having two opposing parallel main surfaces.
These tabular grains are often hexagonal, triangular, square, rectangular or round when they are viewed from a direction perpendicular to the main surface. There is no problem even if it exists. However, in order to uniformly perform epitaxial sensitization between grains, it is preferable that the size and shape be monodispersed as much as possible.

本発明で平板粒子とはアスペクト比(主平面の円相当直径/厚み)2以上のハロゲン化銀粒子を言う。平板粒子の円相当直径は、例えばレプリカ法による透過電子顕微鏡写真を撮影して個々の粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径(円相当直径)を求める。
厚みはエピタキシャル沈着のために単純にはレプリカの影(シャドー)の長さからは算出できない。しかしながらエピタキシャル沈着する前のレプリカの影の長さを測定することにより算出できる。もしくはエピタキシャル沈着後でも平板粒子を塗布した試料を切断しその断面の電子顕微鏡写真を撮影して容易にもとめることができる。
アスペクト比2以上であれば本発明中の平板粒子に相当するが、好ましくはアスペクト比5以上100以下、より好ましくはアスペクト比7以上100以下、最も好ましくはアスペクト比10以上100以下が本発明中の平板粒子である。
In the present invention, a tabular grain means a silver halide grain having an aspect ratio (equivalent circle diameter / thickness of main plane) of 2 or more. The equivalent-circle diameter of the tabular grains is obtained, for example, by taking a transmission electron micrograph by the replica method to obtain the diameter of a circle having an area equal to the projected area of each grain (equivalent circle diameter).
The thickness cannot be calculated simply from the length of the shadow of the replica due to epitaxial deposition. However, it can be calculated by measuring the length of the shadow of the replica before epitaxial deposition. Alternatively, even after epitaxial deposition, the sample coated with tabular grains can be cut and easily taken by taking an electron micrograph of the cross section.
If the aspect ratio is 2 or more, it corresponds to the tabular grain in the present invention, but preferably the aspect ratio is 5 or more and 100 or less, more preferably the aspect ratio is 7 or more and 100 or less, and most preferably the aspect ratio is 10 or more and 100 or less. Tabular grains.

2)ハロゲン組成
本発明における平板粒子のハロゲン組成は、ヨウ化銀含有率が40モル%以上と高い組成のものである。残りは特に制限はなく、塩化銀、臭化銀などのハロゲン化銀、又はチオシアン酸銀や燐酸銀などの有機銀塩から選ぶことができるが、特に臭化銀、塩化銀、チオシアン酸銀であることが好ましい。ここでいうヨウ化銀含有率とは、エピタキシャル部を含むハロゲン化銀粒子中に含まれるヨウ化銀含有率である。ヨウ化銀含有率が高い組成のハロゲン化銀を用いることによって、現像処理後の画像保存性、特に光照射によるかぶりの増加が著しく小さい好ましい熱現像感光材料が設計できる。
2) Halogen composition The halogen composition of the tabular grains in the present invention is such that the silver iodide content is as high as 40 mol% or more. The rest is not particularly limited and can be selected from silver halides such as silver chloride and silver bromide, or organic silver salts such as silver thiocyanate and silver phosphate, but in particular silver bromide, silver chloride and silver thiocyanate. Preferably there is. The silver iodide content here is the silver iodide content contained in the silver halide grains including the epitaxial portion. By using silver halide having a composition having a high silver iodide content, a preferable photothermographic material can be designed in which image storage stability after development processing, in particular, an increase in fog due to light irradiation is remarkably small.

本発明中の平板粒子のハロゲン組成は、より好ましくはヨウ化銀含有率が60モル%以上、最も好ましくは80モル%以上である。   The halogen composition of the tabular grains in the present invention preferably has a silver iodide content of 60 mol% or more, most preferably 80 mol% or more.

ハロゲン化銀結晶中のハロゲン組成を調べる方法としては、X線回折法が一般に知られている。X線回折法については基礎分析化学講座24「X線回折」等に詳しく記載されている。標準的には、CuのKβ線を線源として回折角度を粉末法により求める。   As a method for examining the halogen composition in silver halide crystals, an X-ray diffraction method is generally known. The X-ray diffraction method is described in detail in Basic Analytical Chemistry Course 24 “X-ray diffraction” and the like. Typically, the diffraction angle is determined by a powder method using Cu Kβ rays as a radiation source.

回折角度2θが求まるとブラックの式から格子定数aが以下のように求まる。
2dsinθ=λ
d=a/(h2+k2+l21/2
ここで、2θは(hkl)面の回折角、λはX線の波長、dは(hkl)面の面間隔である。ハロゲン化銀固溶体のハロゲン組成と格子定数aの関係は既に知られているので(例えば、T.H.James編、「The Theory of Photographic Process.4thEd.」、Macmillian、New Yorkに記載されている)、格子定数が分かるとハロゲン組成が決定できる。
When the diffraction angle 2θ is obtained, the lattice constant a is obtained from the black equation as follows.
2 dsin θ = λ
d = a / (h 2 + k 2 + l 2 ) 1/2
Here, 2θ is the diffraction angle of the (hkl) plane, λ is the X-ray wavelength, and d is the surface spacing of the (hkl) plane. Since the relationship between the halogen composition of the silver halide solid solution and the lattice constant a is already known (for example, it is described in TH James, “The Theory of Photographic Process. 4th Ed.”, Macmillian, New York). ) If the lattice constant is known, the halogen composition can be determined.

本発明中の平板粒子は任意のβ相およびγ相含有率を取ることができる。β相とは六方晶系のウルツアイト構造を有する高ヨウ化銀構造を指し、γ相とは立方晶系のジンクブレンド構造を有する高ヨウ化銀構造を指す。ここでいうγ相含有率とは、C.R.Berry(ベリー)により提案された手法を用いて決定されるものである。この手法は、粉末X線回折法でのヨウ化銀β相(100)、(101)、(002)とγ相(111)によるピーク比を元にして決定するもので、詳細については例えば、Physical Review,Vol.161,No.3,p.848−851(1967)を参考にすることができる。   The tabular grains in the present invention can have an arbitrary β phase and γ phase content. The β phase refers to a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure, and the γ phase refers to a high silver iodide structure having a cubic zinc blend structure. The γ phase content here is C.I. R. It is determined using the method proposed by Berry. This method is determined based on the peak ratio of the silver iodide β phase (100), (101), (002) and the γ phase (111) in the powder X-ray diffraction method. Physical Review, Vol. 161, no. 3, p. Reference may be made to 848-851 (1967).

本発明中の平板粒子において、ホスト平板粒子のハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。
また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。
コア部のヨウ化銀含有率が高いコア高ヨウ化銀構造、またはシェル部のヨウ化銀含有率が高いシェル高ヨウ化銀構造も好ましく用いることができる。現像処理後の画像保存性、特に光照射によるかぶりの増加が著しく小さい熱現像感光材料を設計する上では、ホスト平板粒子のヨウ化銀含有率はより高いほど好ましく、より好ましくは90モル%以上100モル%以下である。
In the tabular grains in the present invention, the distribution of the halogen composition of the host tabular grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed.
Further, silver halide grains having a core / shell structure can also be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, and more preferably 2- to 4-fold core / shell particles can be used.
A core high silver iodide structure having a high silver iodide content in the core part or a shell high silver iodide structure having a high silver iodide content in the shell part can also be preferably used. In designing a photothermographic material having an image storability after development processing, in particular, a photothermographic material in which the fog increase due to light irradiation is extremely small, the higher the silver iodide content of the host tabular grains, the more preferable, and more preferably 90 mol% or more. 100 mol% or less.

3)粒子サイズ
本発明中の平板粒子は、平均球相当直径は好ましくは0.2μm以上5.0μm以下であり、高感度を達成するのに必要な十分大きい粒子サイズを選ぶことができる。ハロゲン化銀の平均球相当直径は、より好ましくは、0.3μm以上3.0μm以下である。ここでいう球相当直径とは、ハロゲン化銀1粒子の体積と同じ体積の球の直径を意味する。
測定方法としては、前述のアスペクト比の測定と同様に円相当直径と厚みの測定をすることで求めることができる。円相当径が小さく厚みが薄いほど粒子個数が増加しエピタキシャル接合の粒子間分布が通常大きくなるために、本発明の効果は著しく顕著になる。
3) Grain size The tabular grains in the present invention preferably have an average sphere equivalent diameter of 0.2 μm or more and 5.0 μm or less, and a sufficiently large grain size necessary to achieve high sensitivity can be selected. The average sphere equivalent diameter of silver halide is more preferably 0.3 μm or more and 3.0 μm or less. The equivalent sphere diameter here means the diameter of a sphere having the same volume as the volume of one silver halide grain.
As a measuring method, it can be obtained by measuring the equivalent circle diameter and thickness in the same manner as the above-described aspect ratio measurement. As the equivalent circle diameter is smaller and the thickness is thinner, the number of particles is increased and the inter-particle distribution of the epitaxial junction is usually increased. Therefore, the effect of the present invention becomes remarkably remarkable.

4)エピタキシャル接合部
本発明における平板状ハロゲン化銀粒子は、エピタキシャル接合部を有するのが好ましい。エピタキシャル接合部は2重構造、3重構造、あるいはそれ以上の高次の多重構造であっても良い。例えば、コア部とシェル部よりなる少なくとも2重構造であって、好ましくは、コア部の塩化銀含有率が40モル%以上であり、シェル部の塩化銀含有率が30モル%以下であり、さらに好ましくは、コア部が塩化銀であり、前記シェル部が臭化銀である。
4) Epitaxial Junction The tabular silver halide grain in the invention preferably has an epitaxial junction. The epitaxial junction may be a double structure, a triple structure, or a higher order multiple structure. For example, at least a double structure composed of a core part and a shell part, preferably, the silver chloride content of the core part is 40 mol% or more, and the silver chloride content of the shell part is 30 mol% or less, More preferably, the core part is silver chloride and the shell part is silver bromide.

3重構造としては、コア部、中間部、およびシェル部を有し、好ましくはコア部または中間部の少なくともの一方がヨウ化銀含有率が4モル%以上である。より好ましくは中間部がヨウ化銀含有率が10モル%以上であり、さらに好ましくはコア部が塩化銀または臭化銀、中間部がヨウ化銀、およびシェル部が臭化銀であり、最も好ましくは、コア部が塩化銀である。   The triple structure has a core part, an intermediate part, and a shell part, and preferably at least one of the core part and the intermediate part has a silver iodide content of 4 mol% or more. More preferably, the intermediate part has a silver iodide content of 10 mol% or more, more preferably the core part is silver chloride or silver bromide, the intermediate part is silver iodide, and the shell part is silver bromide, Preferably, the core part is silver chloride.

本発明において、エピタキシャル接合部は平板粒子の頂点部、主表面上もしくはエッジ部に形成されることができるが、好ましくは、頂点部である。エピタキシャル接合部は平板状粒子に少なくとも1つ、好ましくは2個以上、より好ましくは4個以上である。   In the present invention, the epitaxial junction can be formed on the apex, main surface or edge of the tabular grain, but is preferably the apex. The number of epitaxial junctions is at least 1, preferably 2 or more, more preferably 4 or more in tabular grains.

本発明中におけるエピタキシャル接合部を有する平板粒子は、好ましくは転位線を有する。ホスト平板粒子とエピタキシャル部のハロゲン組成差によって意図せずエピタキシャル部に転位線が導入されることもあるが、エピタキシャル沈着条件をコントロールすることで意図どおりの転位線が導入されているのがより好ましい。
また、このときホスト平板粒子には転位線が実質的に観察されないのが好ましい。ホスト平板粒子とエピタキシャル部に転位線が共存することは、潜像形成効率の低下により低感化しやすい。
Tabular grains having an epitaxial junction in the present invention preferably have dislocation lines. Although dislocation lines may be unintentionally introduced into the epitaxial portion due to the difference in halogen composition between the host tabular grains and the epitaxial portion, it is more preferable that the dislocation line is introduced as intended by controlling the epitaxial deposition conditions. .
At this time, it is preferable that dislocation lines are not substantially observed in the host tabular grains. The coexistence of dislocation lines in the host tabular grains and the epitaxial part tends to be lowered in sensitivity due to a decrease in latent image formation efficiency.

本発明中におけるエピタキシャル部のサイズは、ホスト粒子部に対して、銀イオンモル数で1モル%〜60モル%が好ましく、より好ましくは3モル%〜50モル%である。さらに好ましくは5モル%〜30モル%、最も好ましくは10モル%〜20モル%である。   In the present invention, the size of the epitaxial portion is preferably 1 mol% to 60 mol%, more preferably 3 mol% to 50 mol% in terms of the number of moles of silver ions with respect to the host particle portion. More preferably, it is 5 mol%-30 mol%, Most preferably, it is 10 mol%-20 mol%.

5)塗布量
一般に、熱現像後もそのまま残存する熱現像感光材料の場合は、ハロゲン化銀の塗布量を増やすと膜の透明度が低下し画質上好ましくないため、感度を高くしたい要求にもかかわらず、低く制限されていた。しかしながら、本発明の場合には、熱現像処理によって、ハロゲン化銀による膜のヘイズを減少させることができるので、より多くのハロゲン化銀を塗布することができる。本発明においては、非感光性有機銀塩の銀1モルに対して0.5モル%以上100モル%以下、好ましくは5モル%以上50モル%以下であることがさらに好ましい。
5) Coating amount In general, in the case of a photothermographic material that remains as it is after heat development, increasing the silver halide coating amount decreases the transparency of the film and is undesirable in terms of image quality. It was limited to a low level. However, in the case of the present invention, the haze of the film caused by silver halide can be reduced by heat development treatment, so that more silver halide can be applied. In this invention, it is more preferable that they are 0.5 mol% or more and 100 mol% or less with respect to 1 mol of silver of a nonphotosensitive organic silver salt, Preferably they are 5 mol% or more and 50 mol% or less.

6)重金属
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、銀原子以外の異種金属を粒子内にドープするのが好ましい。銀原子以外の異種金属としては、周期律表(第1〜18族までを示す)の第6族〜第13族の金属又は金属錯体が好ましい。より好ましくは、第6族〜第10族の金属又は金属錯体である。第6族〜第10族の金属又は金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、および鉄である。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モルから1×10-3モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平7−225449号、特開平11−65021号段落番号0018〜0024、特開平11−119374号段落番号0227〜0240に記載されている。
6) Heavy Metal The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably doped with a different metal other than silver atoms. As the dissimilar metal other than the silver atom, a metal or metal complex of Group 6 to Group 13 of the periodic table (showing Groups 1 to 18) is preferable. More preferably, it is a Group 6 to Group 10 metal or metal complex. The central metal of the Group 6 to Group 10 metal or metal complex is preferably rhodium, ruthenium, iridium, or iron. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol with respect to 1 mol of silver. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.

本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)64-、[Fe(CN)63-、[Ru(CN)64-、[Os(CN)64-、[Co(CN)63-、[Rh(CN)63-、[Ir(CN)63-、[Cr(CN)63-、[Re(CN)63-などが挙げられる。本発明においては六シアノFe錯体が好ましい。 In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. The hexacyano metal complexes include [Fe (CN) 6 ] 4− , [Fe (CN) 6 ] 3− , [Ru (CN) 6 ] 4− , [Os (CN) 6 ] 4− , [Co ( CN) 6 ] 3− , [Rh (CN) 6 ] 3− , [Ir (CN) 6 ] 3− , [Cr (CN) 6 ] 3− , [Re (CN) 6 ] 3− and the like. . In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.

六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等)との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。   In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.

六シアノ金属錯体の添加量は、銀1モル当たり1×10-5モル以上1×10-2モル以下が好ましく、より好ましくは1×10-4モル以上1×10-3モル以下である。 The addition amount of the hexacyano metal complex is preferably 1 × 10 −5 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −3 mol or less per mol of silver.

六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感及びテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、又は化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。   In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the silver nitrate aqueous solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.

さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(CN)64-)、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平11−84574号段落番号0046〜0050、特開平11−65021号段落番号0025〜0031、特開平11−119374号段落番号0242〜0250に記載されている。 Further, regarding a metal atom (for example, [Fe (CN) 6 ] 4− ), a silver halide emulsion desalting method and a chemical sensitization method that can be contained in the silver halide grains used in the present invention, JP-A-11-11 No. 84574, paragraph numbers 0046 to 0050, JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0025 to 0031, and JP-A No. 11-119374, paragraph numbers 0242 to 0250.

7)化学増感
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、未化学増感でもよいが、カルコゲン増感法、金増感法、還元増感法の少なくとも1つの方法で化学増感されるのが好ましい。カルコゲン増感法としては、硫黄増感法、セレン増感法及びテルル増感法が挙げられる。
より好ましくは、本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、金増感法およびカルコゲン増感法で化学増感されるのが好ましい。
7) Chemical sensitization The photosensitive silver halide used in the present invention may be non-chemically sensitized, but chemically sensitized by at least one of chalcogen sensitization, gold sensitization, and reduction sensitization. Is preferred. Examples of the chalcogen sensitizing method include a sulfur sensitizing method, a selenium sensitizing method, and a tellurium sensitizing method.
More preferably, the photosensitive silver halide used in the present invention is preferably chemically sensitized by a gold sensitizing method and a chalcogen sensitizing method.

硫黄増感においては、不安定硫黄化合物を用い、P.Grafkides著、Chimie et Physique Photographique(Paul Momtel社刊、1987年、第5版)、Research Disclosure誌、307巻、307105号などに記載されている不安定硫黄化合物を用いることができる。
具体的には、チオ硫酸塩(例えばハイポ)、チオ尿素類(例えば、ジフェニルチオ尿素、トリエチルチオ尿素、NーエチルーN’ー(4ーメチルー2ーチアゾリル)チオ尿素、カルボキシメチルトリメチルチオ尿素)、チオアミド類(例えば、チオアセトアミド)、ローダニン類(例えば、ジエチルローダニン、5ーベンジリデン−N−エチルローダニン)、フォスフィンスルフィド類(例えば、トリメチルフォスフィンスルフィド)、チオヒダントイン類、4ーオキソーオキサゾリジンー2ーチオン類、ジスルフィド類又はポリスルフィド類(例えば、ジモルフォリンジスルフィド、シスチン、レンチオニン(1,2,3,5,6−ペンタチエパン))、ポリチオン酸塩、元素状硫黄などの公知の硫黄化合物及び活性ゼラチンなども用いることができる。特にチオ硫酸塩、チオ尿素類とローダニン類が好ましい。
In sulfur sensitization, unstable sulfur compounds are used. The unstable sulfur compounds described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure, Vol. 307, No. 307105 can be used.
Specifically, thiosulfate (for example, hypo), thioureas (for example, diphenylthiourea, triethylthiourea, N-ethyl-N ′-(4-methyl-2-thiazolyl) thiourea, carboxymethyltrimethylthiourea), thioamides (Eg, thioacetamide), rhodanines (eg, diethyl rhodanine, 5-benzylidene-N-ethyl rhodanine), phosphine sulfides (eg, trimethylphosphine sulfide), thiohydantoins, 4-oxo-oxazolidin-2 Known sulfur compounds such as thiones, disulfides or polysulfides (for example, dimorpholine disulfide, cystine, lenthionine (1,2,3,5,6-pentathiepane)), polythionates, elemental sulfur, and active gelatin Also use You can. Particularly preferred are thiosulfates, thioureas and rhodanines.

セレン増感においては、不安定セレン化合物を用い、特公昭43−13489号、同44−15748号、特開平4−25832号、同4−109340号、同4−271341号、同5−40324号、同5−11385号、特開平6−51415号、同6―175258号、同6−180478号、同6−208186号、同6−208184号、同6−317867号、同7−92599号、同7−98483号、同7−140579号などに記載されているセレン化合物を用いることができる。   In selenium sensitization, unstable selenium compounds are used, and Japanese Patent Publication Nos. 43-13489, 44-15748, JP-A-4-25832, 4-109340, 4-271341, and 5-40324. 5-11385, JP-A-6-51415, JP-A-6-175258, JP-A-6-180478, JP-A-6-208186, JP-A-6-208184, JP-A-6-317867, JP-A-7-92599, Selenium compounds described in JP-A-7-98483 and JP-A-7-140579 can be used.

具体的には、コロイド状金属セレン、セレノ尿素類(例えば、N,N−ジメチルセレノ尿素、トリフルオルメチルカルボニルートリメチルセレノ尿素、アセチルートリメチルセレノ尿素)、セレノアミド類(例えば、セレノアミド,N,Nージエチルフェニルセレノアミド)、フォスフィンセレニド類(例えば、トリフェニルフォスフィンセレニド、ペンタフルオロフェニル−トリフェニルフォスフィンセレニド)、セレノフォスフェート類(例えば、トリ−p−トリルセレノフォスフェート、トリ−n−ブチルセレノフォスフェート)、セレノケトン類(例えば、セレノベンゾフェノン)、イソセレノシアネート類、セレノカルボン酸類、セレノエステル類、ジアシルセレニド類などを用いればよい。またさらに、特公昭46−4553号、同52−34492号などに記載の非不安定セレン化合物、例えば亜セレン酸、セレノシアン酸塩、セレナゾール類、セレニド類なども用いることができる。特に、フォスフィンセレニド類、セレノ尿素類とセレノシアン酸塩が好ましい。   Specifically, colloidal metal selenium, selenoureas (for example, N, N-dimethylselenourea, trifluoromethylcarbonyl-trimethylselenourea, acetyl-trimethylselenourea), selenoamides (for example, selenoamide, N, N -Diethylphenylselenamide), phosphine selenides (eg, triphenylphosphine selenide, pentafluorophenyl-triphenylphosphine selenide), selenophosphates (eg, tri-p-tolylselenophosphate, Tri-n-butylselenophosphate), selenoketones (for example, selenobenzophenone), isoselenocyanates, selenocarboxylic acids, selenoesters, diacylselenides and the like may be used. Furthermore, non-labile selenium compounds described in JP-B Nos. 46-4553 and 52-34492, such as selenite, selenocyanate, selenazoles, and selenides can also be used. In particular, phosphine selenides, selenoureas and selenocyanates are preferred.

テルル増感においては、不安定テルル化合物を用い、特開平4−224595号、同4−271341号、同4−333043号、同5−303157号、同6−27573号、同6−175258号、同6−180478号、同6−208186号、同6−208184号、同6−317867号、同7−140579号、同7−301879号、同7−301880号などに記載されている不安定テルル化合物を用いることができる。   In tellurium sensitization, an unstable tellurium compound is used, and JP-A-4-224595, JP-A-4-271341, JP-A-4-3333043, JP-A-5-303157, JP-A-6-27573, JP-A-6-175258, The unstable tellurium described in JP-A-6-180478, JP-A-6-208186, JP-A-6-208184, JP-A-6-317867, JP-A-7-140579, JP-A-7-301879, JP-A-7-301880, etc. Compounds can be used.

具体的には、フォスフィンテルリド類(例えば、ブチル−ジイソプロピルフォスフィンテルリド、トリブチルフォスフィンテルリド、トリブトキシフォスフィンテルリド、エトキシ−ジフェニルフォスフィンテルリド)、ジアシル(ジ)テルリド類(例えば、ビス(ジフェニルカルバモイル)ジテルリド、ビス(N−フェニル−N−メチルカルバモイル)ジテルリド、ビス(N−フェニル−N−メチルカルバモイル)テルリド、ビス(N−フェニル−N−ベンジルカルバモイル)テルリド、ビス(エトキシカルボニル)テルリド)、テルロ尿素類(例えば、N,N’−ジメチルエチレンテルロ尿素、N,N’−ジフェニルエチレンテルロ尿素)テルロアミド類、テルロエステル類などを用いれば良い。特に、ジアシル(ジ)テルリド類とフォスフィンテルリド類が好ましく、特に特開平11−65021号段落番号0030に記載の文献に記載の化合物、特開平5−313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示される化合物がより好ましい。   Specifically, phosphine tellurides (for example, butyl-diisopropylphosphine telluride, tributylphosphine telluride, tributoxyphosphine telluride, ethoxy-diphenylphosphine telluride), diacyl (di) tellurides ( For example, bis (diphenylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) telluride, bis (N-phenyl-N-benzylcarbamoyl) telluride, bis ( Ethoxycarbonyl) telluride), telluroureas (for example, N, N′-dimethylethylenetellurourea, N, N′-diphenylethylenetellurourea) telluramides, telluroesters, etc. may be used. In particular, diacyl (di) tellurides and phosphine tellurides are preferable. Particularly, the compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, the general formula (II) in JP-A-5-313284, Compounds represented by (III) and (IV) are more preferred.

特に、本発明におけるカルコゲン増感においては、セレン増感とテルル増感が好ましく、特にテルル増感が好ましい。   In particular, in the chalcogen sensitization in the present invention, selenium sensitization and tellurium sensitization are preferable, and tellurium sensitization is particularly preferable.

金増感においては、P.Grafkides著、Chimie et Physique Photographique(Paul Momtel社刊、1987年、第5版)、Research Disclosure誌、307巻、307105号に記載されている金増感剤を用いることができる。具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレニドなどでありこれらにくわえて、米国特許第2642361号、同5049484号、同5049485号、同5169751号、同5252455号、ベルギー特許第691857などに記載の金化合物も用いることができる。
またP.Grafkides著、Chimie et Physique Photographique(Paul Momtel社刊、1987年、第5版)、Research Disclosure誌、307巻、307105号に記載されている金以外の、白金、パラジュウム、イリジュウムなどの貴金属塩を用いることもできる。
In gold sensitization, P.I. Gold sensitizers described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure, Vol. 307, No. 307105 can be used. Specifically, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide and the like, in addition to these, U.S. Pat. Nos. 2,642,361, 5,049,484, 5,049,485, 5,169,751, Gold compounds described in Japanese Patent No. 5252455 and Belgian Patent No. 691857 can also be used.
P. Other than gold described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure, 307, 307105, platinum, palladium, iridium, etc. You can also.

金増感は単独で用いることもできるが、前記のカルコゲン増感と組み合わせて用いることが好ましい。具体的には金硫黄増感、金セレン増感、金テルル増感、金硫黄セレン増感、金硫黄テルル増感、金セレンテルル増感、金硫黄セレンテルル増感である。   Although gold sensitization can be used alone, it is preferably used in combination with the chalcogen sensitization described above. Specifically, gold sulfur sensitization, gold selenium sensitization, gold tellurium sensitization, gold sulfur selenium sensitization, gold sulfur tellurium sensitization, gold selenium tellurium sensitization, and gold sulfur selenium tellurium sensitization.

本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感後、(4)塗布直前等があり得る。   In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.

本発明で用いられるカルコゲン増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり10-8モル以上10-1モル以下、好ましくは10-7モル以上10-2モル以下程度を用いる。
同様に、本発明で用いられる金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モル以上10-2モル以下、より好ましくは10-6モル以上5×10-3モル以下である。この乳剤を化学増感する環境条件としてはいかなる条件でも選択可能ではあるが、pAgとしては8以下、好ましくは7.0以下より6.5以下、とくに6.0以下、及びpAgが1.5以上、好ましくは2.0以上、特に好ましくは2.5以上の条件であり、pHとしては3〜10、好ましくは4〜9、温度としては20℃以上95℃以下、好ましくは25℃以上80℃以下程度である。
The amount of chalcogen sensitizer used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is 10 −8 mol or more and 10 −1 mol or less, preferably 10 per mol of silver halide. About 7 to 10 −2 mol is used.
Similarly, the amount of the gold sensitizer used in the present invention varies depending on various conditions, but as a guideline, it is 10 −7 mol or more and 10 −2 mol or less, more preferably 10 −6 mol per mol of silver halide. The amount is 5 × 10 −3 mol or less. The environmental conditions for chemically sensitizing this emulsion can be selected under any conditions, but the pAg is 8 or less, preferably 7.0 or less to 6.5 or less, particularly 6.0 or less, and the pAg is 1.5 or less. Above, preferably 2.0 or more, particularly preferably 2.5 or more, pH 3 to 10, preferably 4 to 9, temperature 20 to 95 ° C., preferably 25 to 80 It is about ℃ or less.

本発明においてカルコゲン増感や金増感に加えて、さらに還元増感も併用することができる。とくにカルコゲン増感と併用するのが好ましい。
還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素、ジメチルアミンボランが好ましく、その他に塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でもよい。
また、乳剤のpHを8以上又はpAgを4以下に保持して熟成することにより還元増感することも好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。
還元増感剤の添加量としては、同様に種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モル以上10-1モル以下、より好ましくは10-6モル以上5×10-2モル以下である。
In the present invention, reduction sensitization can be used in combination with chalcogen sensitization or gold sensitization. In particular, it is preferably used in combination with chalcogen sensitization.
As specific compounds for the reduction sensitization, ascorbic acid, thiourea dioxide, and dimethylamine borane are preferable. In addition, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, etc. It is preferable to use it. The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating.
Further, reduction sensitization is also preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 8 or higher or pAg at 4 or lower, and reduction sensitization by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. Is also preferable.
The amount of reduction sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guideline, it is 10 −7 mol or more and 10 −1 mol or less, more preferably 10 −6 mol or more and 5 × 10 5 mol per mol of silver halide. -2 mol or less.

本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、チオスルフォン酸化合物を添加してもよい。
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、金増感、カルコゲン増感、の少なくとも1つの方法で化学増感されていることが高感度の熱現像感光材料を設計する点から好ましい。
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method shown in European Patent Publication No. 293,917.
The photosensitive silver halide grains in the invention are preferably chemically sensitized by at least one of gold sensitization and chalcogen sensitization from the viewpoint of designing a high-sensitivity photothermographic material.

8)1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
8) A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one or more electrons In the photothermographic material of the invention, the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is one electron or It is preferable to contain a compound capable of emitting more electrons. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含有される1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ1、タイプ2から選ばれる化合物である。
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
The one-electron oxidant formed by one-electron oxidation contained in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is a compound selected from the following types 1 and 2 as the compound capable of emitting one electron or more. It is.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation reaction.

まずタイプ1の化合物について説明する。
タイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子を放出し得る化合物としては、特開平9−211769号(具体例:28〜32頁の表Eおよび表Fに記載の化合物PMT−1〜S−37)、特開平9−211774号、特開平11−95355号(具体例:化合物INV1〜36)、特表2001−500996号(具体例:化合物1〜74、80〜87、92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(具体例:化合物INV1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
First, the compound of type 1 will be described.
JP-A-9-211769 (specific example: 28-) is a compound that is a type 1 compound, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one electron with a subsequent bond cleavage reaction. Compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on page 32), JP-A-9-211774, JP-A-11-95355 (specific examples: compounds INV1 to 36), JP2001-500996 (Specific examples: Compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747,236, European Patent 786692A1 (Specific examples: Compounds INV 1-35), "One-photon two-electron sensitizer" or "deprotonated electron" described in patents such as European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051 Compound called Azukazo sensitizers "it can be mentioned. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

またタイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(1)(特開2003−114487号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(2)(特開2003−114487号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(3)(特開2003−114488号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(4)(特開2003−114488号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(5)(特開2003−114488号に記載の一般式(3)と同義)、一般式(6)(特開2003−75950号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(7)(特開2003−75950号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(8)(特願2003−25886号に記載の一般式(1)と同義)、または化学反応式(1)(特願2003−33446号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物のうち一般式(9)(特願2003−33446号に記載の一般式(3)と同義)で表される化合物が挙げられる。またこれらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。   Further, as a compound of type 1 that can be emitted by one-electron oxidant formed by one-electron oxidation and further undergoing bond cleavage reaction, one or more electrons can be emitted from the general formula (1) ( General formula (1) described in JP-A-2003-114487), general formula (2) (synonymous with general formula (2) described in JP-A-2003-114487), general formula (3) (JP-A-2003-114487) General formula (1) described in 2003-114488), general formula (4) (synonymous with general formula (2) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488), and general formula (5) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488). 114488 (synonymous with general formula (3)), general formula (6) (synonymous with general formula (1) described in JP-A-2003-75950), and general formula (7) (JP-A-2003-75950). In the general formula (2)), the general formula (8) (Synonymous with the general formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2003-25886), or the reaction represented by the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446). Among the compounds that can cause the above, there can be mentioned a compound represented by the general formula (9) (synonymous with the general formula (3) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446). The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2006215168
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一般式(1)及び(2)中、RED1、RED2は還元性基を表す。R1は炭素原子(C)とRED1とともに5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、もしくはヘキサヒドロ体に相当する環状構造を形成しうる非金属原子団を表す。R2、R3、R4は水素原子または置換基を表す。Lv1、Lv2は脱離基を表す。EDは電子供与性基を表す。 In the general formulas (1) and (2), RED 1 and RED 2 represent a reducing group. R 1 is a non-metallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle) or a hexahydro form together with carbon atom (C) and RED 1. To express. R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent. Lv 1 and Lv 2 represent a leaving group. ED represents an electron donating group.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(3)、(4)及び(5)中、Z1は窒素原子とベンゼン環の2つの炭素原子とともに6員環を形成しうる原子団を表す。R5、R6、R7、R9、R10、R11、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は水素原子または置換基を表す。R20は水素原子または置換基を表すが、R20がアリール基以外の基を表すとき、R16、R17は互いに結合して芳香族環または芳香族ヘテロ環を形成する。R8、R12はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m1は0〜3の整数を表し、m2は0〜4の整数を表す。Lv3、Lv4、Lv5は脱離基を表す。 In the general formulas (3), (4) and (5), Z 1 represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring together with the nitrogen atom and the two carbon atoms of the benzene ring. R 5, R 6, R 7 , R 9, R 10, R 11, R 13, R 14, R 15, R 16, R 17, R 18, R 19 represents a hydrogen atom or a substituent. R 20 represents a hydrogen atom or a substituent. When R 20 represents a group other than an aryl group, R 16 and R 17 are bonded to each other to form an aromatic ring or an aromatic heterocycle. R 8 and R 12 represent a substituent that can be substituted on the benzene ring, m1 represents an integer of 0 to 3, and m2 represents an integer of 0 to 4. Lv 3 , Lv 4 and Lv 5 represent a leaving group.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(6)および(7)中、RED3、RED4は還元性基を表す。R21〜R30は水素原子または置換基を表す。Z2は−CR111112−、−NR113−、または−O−を表す。R111、R112はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。R113は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 In general formulas (6) and (7), RED 3 and RED 4 represent a reducing group. R 21 to R 30 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 2 represents —CR 111 R 112 —, —NR 113 —, or —O—. R 111 and R 112 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R113 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(8)中、RED5は還元性基でありアリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。R31は水素原子または置換基を表す。Xはアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。Lv6は脱離基でありカルボキシ基もしくはその塩または水素原子を表す。 In the general formula (8), RED 5 is a reducing group and represents an arylamino group or a heterocyclic amino group. R 31 represents a hydrogen atom or a substituent. X represents an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Lv 6 is a leaving group and represents a carboxy group or a salt thereof or a hydrogen atom.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(9)で表される化合物は脱炭酸を伴う2電子酸化が起こった後に、さらに酸化される事で化学反応式(1)で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式(1)中、R32、R33は水素原子または置換基を表す。Z3はC=Cとともに5員または6員のヘテロ環を形成する基を表す。Z4はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式(9)中、R32、R33、Z3は化学反応式(1)中のものと同義である。Z5はC−Cとともに5員または6員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。 The compound represented by the general formula (9) is a compound that undergoes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by further oxidation after two-electron oxidation accompanied by decarboxylation. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group which forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (9), R 32 , R 33 and Z 3 have the same meaning as in the chemical reaction formula (1). Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C.

次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物で1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(10)(特開2003−140287号に記載の一般式(1)と同義)、化学反応式(1)(特願2003−33446号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物であって一般式(11)(特願2003−33446号に記載の一般式(2)と同義)で表される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
Next, the type 2 compound will be described.
As a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation with a type 2 compound can further emit one or more electrons with a subsequent bond formation reaction, a compound represented by the general formula (10) A compound capable of causing a reaction represented by the general formula (1) described in 2003-140287) and the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446). And a compound represented by the general formula (11) (synonymous with the general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446). The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(10)中、RED6は1電子酸化される還元性基をあらわす。YはRED6が1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環部位を含む反応性基を表す。QはRED6とYを連結する連結基を表す。 In the general formula (10), RED 6 represents a reducing group that is one-electron oxidized. Y reacts with a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of RED 6 to form a new bond, a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or Reactive group containing a non-aromatic heterocyclic moiety of a benzo-fused ring. Q represents a linking group linking RED 6 and Y.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(11)で表される化合物は酸化される事で化学反応式(1)で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式(1)中、R32、R33は水素原子または置換基を表す。Z3はC=Cとともに5員または6員のヘテロ環を形成する基を表す。Z4はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Z5はC−Cとともに5員または6員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式(11)中、R32、R33、Z3、Z4は化学反応式(1)中のものと同義である。 The compound represented by the general formula (11) is a compound that causes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by being oxidized. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group which forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (11), R 32 , R 33 , Z 3 and Z 4 have the same meanings as those in the chemical reaction formula (1).

タイプ1、2の化合物のうち好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。ハロゲン化銀への吸着性基とは特開2003−156823号明細書の16頁右1行目〜17頁右12行目に記載の基が代表的なものである。分光増感色素の部分構造とは同明細書の17頁右34行目〜18頁左6行目に記載の構造である。   Of the compounds of types 1 and 2, “a compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “a compound having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule” is preferable. Typical examples of the adsorptive group to silver halide are those described in JP-A No. 2003-156823, page 16, right line 1 to page 17, right line 12. The partial structure of the spectral sensitizing dye is a structure described on page 17, right line 34 to page 18, left line 6 of the same specification.

タイプ1、2の化合物として、より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を少なくとも1つ有する化合物」である。さらに好ましくは「同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物」である。吸着性基が単一分子内に2個以上存在する場合には、それらの吸着性基は同一であっても異なっても良い。   More preferably, the compound of type 1 or 2 is “a compound having at least one adsorptive group to silver halide in the molecule”. More preferred is “a compound having two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule”. When two or more adsorptive groups are present in a single molecule, these adsorptive groups may be the same or different.

吸着性基として好ましくは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。特に好ましくは、5−メルカプトテトラゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、及び5−メルカプトテトラゾール基である。   The adsorptive group is preferably a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4). -Oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) or imino silver (> NAg) And a nitrogen-containing heterocyclic group having a —NH— group as a heterocyclic partial structure (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.). Particularly preferred are a 5-mercaptotetrazole group, a 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and a benzotriazole group, and most preferred are a 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -A mercaptotetrazole group.

吸着性基として、分子内に2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する場合もまた特に好ましい。ここにメルカプト基(−SH)は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基(ジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基など)の好ましい例としては、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、及び3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基が挙げられる。   It is also particularly preferred that the adsorptive group has two or more mercapto groups as a partial structure in the molecule. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Preferred examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, and 3 , 5-dimercapto-1,2,4-triazole group.

また窒素またはリンの4級塩構造も吸着性基として好ましく用いられる。窒素の4級塩構造としては具体的にはアンモニオ基(トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基など)または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。リンの4級塩構造としては、ホスホニオ基(トリアルキルホスホニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、トリアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基など)が挙げられる。より好ましくは窒素の4級塩構造が用いられ、さらに好ましくは4級化された窒素原子を含む5員環あるいは6員環の含窒素芳香族ヘテロ環基が用いられる。特に好ましくはピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基が用いられる。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよい。   A quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus is also preferably used as the adsorptive group. Specific examples of the quaternary salt structure of nitrogen include an ammonio group (such as a trialkylammonio group, a dialkylaryl (or heteroaryl) ammonio group, an alkyldiaryl (or heteroaryl) ammonio group) or a quaternized nitrogen atom. A group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing The quaternary salt structure of phosphorus includes a phosphonio group (trialkylphosphonio group, dialkylaryl (or heteroaryl) phosphonio group, alkyldiaryl (or heteroaryl) phosphonio group, triaryl (or heteroaryl) phosphonio group, etc.). Can be mentioned. More preferably, a quaternary salt structure of nitrogen is used, and more preferably a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing aromatic heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom is used. Particularly preferably, a pyridinio group, a quinolinio group, or an isoquinolinio group is used. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent.

4級塩の対アニオンの例としては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、BF4 -、PF6 -、Ph4-等が挙げられる。分子内にカルボキシレート基等に負電荷を有する基が存在する場合には、それとともに分子内塩を形成していても良い。分子内にない対アニオンとしては、塩素イオン、ブロモイオンまたはメタンスルホネートイオンが特に好ましい。 Examples of counter anions of quaternary salts include halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, sulfate ions, perchlorate ions, carbonate ions, nitrate ions, BF 4 , PF 6 , Ph 4 B − and the like. It is done. When a group having a negative charge in the carboxylate group or the like is present in the molecule, an inner salt may be formed together with the group. As the counter anion not present in the molecule, a chlorine ion, a bromo ion or a methanesulfonate ion is particularly preferable.

吸着性基として窒素またはリンの4級塩構造有するタイプ1、2で表される化合物の好ましい構造は一般式(X)で表される。   A preferred structure of the compound represented by type 1 or 2 having a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus as the adsorptive group is represented by the general formula (X).

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(X)においてP、Rはそれぞれ独立して増感色素の部分構造ではない窒素またはリンの4級塩構造を表す。Q1、Q2はそれぞれ独立して連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Sはタイプ(1)または(2)で表される化合物から原子を一つ取り除いた残基である。iとjは1以上の整数であり、i+jが2〜6になる範囲から選ばれるものである。好ましくはiが1〜3、jが1〜2の場合であり、より好ましくはiが1または2、jが1の場合であり、特に好ましくはiが1、jが1の場合である。一般式(X)で表される化合物はその総炭素数が10〜100の範囲のものが好ましい。より好ましくは10〜70、さらに好ましくは11〜60であり、特に好ましくは12〜50である。 In general formula (X), P and R each independently represent a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus that is not a partial structure of a sensitizing dye. Q 1 and Q 2 each independently represent a linking group, specifically a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —NR N —, —C (═O ) —, —SO 2 —, —SO—, —P (═O) — each independently or a combination of these groups. Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. S is a residue obtained by removing one atom from a compound represented by type (1) or (2). i and j are integers of 1 or more, and i + j is selected from the range of 2-6. Preferably, i is 1 to 3, and j is 1 to 2, more preferably i is 1 or 2, and j is 1, and particularly preferably i is 1 and j is 1. The compound represented by the general formula (X) preferably has a total carbon number of 10 to 100. More preferably, it is 10-70, More preferably, it is 11-60, Most preferably, it is 12-50.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は、感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することもできる。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。   The compounds of type 1 and type 2 in the present invention may be used at any time during the preparation of the photosensitive silver halide emulsion and during the process of producing the photothermographic material. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高く又は低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高く又は低くして溶解し、これを添加しても良い。   The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is raised or lowered may be dissolved at a higher or lower pH and added.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。これらの化合物の添加時期は、増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9モル〜5×10-1モル、更に好ましくは1×10-8モル〜5×10-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層(画像形成層)に含有する。 The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably used in an image forming layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but the photosensitive silver halide and the non-photosensitive organic silver salt are used. It may be added to the protective layer and the intermediate layer together with the image forming layer containing, and diffused during coating. The addition timing of these compounds is preferably 1 × 10 −9 mol to 5 × 10 −1 mol, more preferably 1 × 10 −8 mol, per mol of silver halide, regardless of before and after the sensitizing dye. It is contained in a silver halide emulsion layer (image forming layer) at a ratio of ˜5 × 10 −2 mol.

以下に本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of type 1 and type 2 compounds in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006215168
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Figure 2006215168
Figure 2006215168


Figure 2006215168
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Figure 2006215168
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9)吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物
本発明においては、分子内にハロゲン化銀への吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物を含有させることが好ましい。本吸着性レドックス化合物は下記式(AF−I)で表される化合物であることが好ましい。
9) Adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group In the present invention, it is preferable to contain an adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group for silver halide in the molecule. The adsorptive redox compound is preferably a compound represented by the following formula (AF-I).

式(AF−I) A−(W)n−B
式(AF−I)中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基(以後、吸着基と呼ぶ)を表し、Wは2価の連結基を表し、nは0又は1を表し、Bは還元基を表す。
Formula (AF-I) A- (W) n-B
In the formula (AF-I), A represents a group that can be adsorbed to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reduction. Represents a group.

式(AF−I)中、Aで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、又はハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(又はその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、又はエチニル基等が挙げられる。   In the formula (AF-I), the adsorptive group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide, or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, a mercapto group (or its group) Salt), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a heterocyclic group containing at least one atom selected from a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or An ethynyl group etc. are mentioned.

吸着基としてメルカプト基(又はその塩)とは、メルカプト基(又はその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(又はその塩)の置換したヘテロ環基又はアリール基又はアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも5員〜7員の、単環若しくは縮合環の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、及びトリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていても良い。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、Zn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていても良い。
吸着基としてチオン基とは、鎖状若しくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、又は配位結合で銀イオンに配位し得る、”−S−”基又は”−Se−”基又は”−Te−”基又は”=N−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、及びベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。
吸着基としてスルフィド基又はジスルフィド基とは、−S−、又は−S−S−の部分構造を有する基すべてが挙げられる。
吸着基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基又は4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。
吸着基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Moreover, the heterocyclic group containing the quaternized nitrogen atom may be sufficient, and in this case, the substituted mercapto group may dissociate and it may become a meso ion. When the mercapto group forms a salt, the counter ion includes a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, heavy metal (Li + , Na + , K + , Mg 2+ , Ag + , Zn 2+, etc.), ammonium ion Examples thereof include a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, a phosphonium ion, and the like.
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group.
The thione group as an adsorptive group includes a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group.
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group, or a “═N—” group that can be coordinated to a silver ion by a coordination bond. A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, tri Jin group, seleno azole group, benzoselenazole group, tellurium azole group, and the like benzo tellurium azole group.
Examples of the sulfide group or disulfide group as the adsorptive group include all groups having a partial structure of -S- or -SS-.
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like.
An ethynyl group as an adsorbing group means a —C≡CH group, and the hydrogen atom may be substituted.
The adsorbing group may have an arbitrary substituent.

さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書p4〜p7に記載されているものが挙げられる。   Further, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.

式(AF−I)中、Aで表される吸着基として好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズイミダゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基など)、又はイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)であり、さらに好ましい吸着基は2−メルカプトベンズイミダゾール基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基である。   In the formula (AF-I), preferred as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 2-mercapto-5-aminothiadiazole group, 3-mercapto-1,2 , 4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3- (Thiolate group, 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, etc.) Or a nitrogen-containing heterocyclic group having a —NH— group that can form imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring (for example, benzoto Azole group, benzimidazole group, an indazole group), more preferable as an adsorptive group is a 2-mercaptobenzimidazole group, a 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group.

式(AF−I)中、Wは2価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される2価の連結基が利用できる。具体的には炭素数1〜20のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等)、炭素数2〜20のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニレン基、炭素数6〜20のアリーレン基(例えばフェニレン基、ナフチレン基等)、−CO−、−SO2−、−O−、−S−、−NR1−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。ここでR1は水素原子、アルキル基、ヘテロ環基、アリール基を表わす。
Wで表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。
In the formula (AF-I), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, etc.), an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms. , An arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthylene group, etc.), —CO—, —SO 2 —, —O—, —S—, —NR 1 —, combinations of these linking groups, and the like. It is done. Here, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a heterocyclic group, or an aryl group.
The linking group represented by W may have an arbitrary substituent.

式(AF−I)中、Bで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの3重結合基、メルカプト基、ヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類(レダクトン誘導体を含む)、アニリン類、フェノール類(クロマン−6−オール類、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、及びハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む)、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、3−ピラゾリドン類等から水素原子を1つ除去した残基が挙げられる。もちろん、これらは任意の置換基を有していても良い。   In the formula (AF-I), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions. For example, a triple bond group such as formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, mercapto group, hydroxyl group Amines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (including reductone derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ol , Aminophenols, sulfonamidophenols, hydroquinones, catechols, resorcinols, benzenetriols, polyphenols such as bisphenols), acylhydrazines, carbamoylhydrazines, 3-pyrazolidones, etc. Remove one hydrogen atom Residues, and the like. Of course, these may have an arbitrary substituent.

式(AF−I)中、Bで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」(150頁−208頁、技報堂出版)や日本化学会編著「実験化学講座」第4版(9巻282−344頁、丸善)に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール:pH6.5、ブリトン−ロビンソン緩衝液(Britton−Robinson buffer)=10%:90%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極(RDE)を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、25℃、1000回転/分、20mV/秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位(E1/2)を求めることができる。
本発明におけるBで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−0.3V〜約1.0Vの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−0.1V〜約0.8Vの範囲であり、特に好ましくは約0V〜約0.7Vの範囲である。
In the formula (AF-I), the reducing group represented by B shows its oxidation potential according to Akira Fujishima's “Electrochemical Measurement Method” (pages 150-208, published by Gihodo Publishing Co., Ltd) It can be measured using the measurement method described in the 4th edition (Vol. 9, pages 282-344, Maruzen). For example, by rotating disk voltammetry, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5, Briton-Robinson buffer (Britton-Robinson buffer) = 10%: 90% (volume%), and nitrogen is added for 10 minutes. After aeration of gas, a rotating disc electrode (RDE) made of glassy carbon is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. It can be measured at the sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.
In the present invention, the reducing group represented by B preferably has an oxidation potential in the range of about -0.3 V to about 1.0 V when measured by the above measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0V to about 0.7V.

式(AF−I)中、Bで表される還元基は好ましくはヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類、フェノール類、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、3−ピラゾリドン類から水素原子を1つ除去した残基である。   In the formula (AF-I), the reducing group represented by B is preferably hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxysemicarbazides, reductones, phenols, acylhydrazines, carbamoylhydrazines, 3-pyrazolidone It is a residue obtained by removing one hydrogen atom from a class.

本発明における式(AF−I)の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基又はポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。   The compound of the formula (AF-I) in the present invention may be one in which a ballast group or polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.

本発明における式(AF−I)の化合物はビス体、トリス体であっても良い。本発明における式(AF−I)の化合物の分子量は好ましくは100〜10000の間であり、より好ましくは120〜1000の間であり、特に好ましくは150〜500の間である。   The compound of the formula (AF-I) in the present invention may be a bis form or a tris form. The molecular weight of the compound of formula (AF-I) in the present invention is preferably between 100 and 10000, more preferably between 120 and 1000, and particularly preferably between 150 and 500.

以下に本発明における式(AF−I)の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the compound of the formula (AF-I) in this invention is illustrated below, this invention is not limited to these.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

さらに欧州特許1308776A2号明細書p73〜p87に記載の具体的化合物1〜30、1”−1〜1”−77も本発明における吸着基と還元性基を有する化合物の好ましい例として挙げられる。   Furthermore, specific compounds 1 to 30 and 1 ″ -1 to 1 ″ -77 described in European Patent No. 1308776A2 p73 to p87 are also preferable examples of the compound having an adsorbing group and a reducing group in the present invention.

これらの化合物は公知の方法にならって容易に合成することができる。本発明における式(AF−I)の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に2種以上の化合物を用いることも好ましい。2種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。   These compounds can be easily synthesized according to known methods. As the compound of the formula (AF-I) in the present invention, one kind of compound may be used alone, but it is also preferred to use two or more kinds of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition method may be different.

本発明における式(AF−I)の化合物は、ハロゲン化銀画像形成層に添加されることが好ましく、乳剤調製時に添加することがより好ましい。乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また画像形成層に使用するのが好ましいが、画像形成層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀1モル当たり、1×10-6モル以上1モル以下、好ましくは1×10-5モル以上5×10-1モル以下、さらに好ましくは1×10-4モル以上1×10-1モル以下である。
The compound of formula (AF-I) in the present invention is preferably added to the silver halide image forming layer, and more preferably added during preparation of the emulsion. When added at the time of emulsion preparation, it can be added at any time during the process. For example, silver halide grain formation process, before desalting process start, desalting process, chemical ripening Examples include a step before starting, a chemical ripening step, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also add in several steps in these processes. Although it is preferably used for the image forming layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the image forming layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of the compound to be added, but generally 1 × 10 −6 mol to 1 mol, preferably 1 × 10 −5 mol per mol of photosensitive silver halide. The amount is 5 × 10 −1 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −1 mol or less.

本発明における式(AF−I)の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸又は塩基によってpHを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。   The compound of the formula (AF-I) in the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.

10)感光性ハロゲン化銀に由来する可視光吸収を熱現像後に実施的に減少させる化合物
本発明においては、感光性ハロゲン化銀に由来する可視光吸収を熱現像前に対して熱現像後に実施的に減少させる化合物を含有するのが好ましい。
本発明においては、感光性ハロゲン化銀に由来する可視光吸収を熱現像後に実施的に減少させる化合物として、ヨウ化銀錯形成剤を用いるのが特に好ましい。
10) Compound that effectively reduces visible light absorption derived from photosensitive silver halide after heat development In the present invention, visible light absorption derived from photosensitive silver halide is performed after heat development compared to before heat development. It is preferable to contain a compound that reduces the amount of the chemical.
In the present invention, it is particularly preferable to use a silver iodide complex-forming agent as a compound that practically reduces visible light absorption derived from photosensitive silver halide after heat development.

<ヨウ化銀錯形成剤>
該ヨウ化銀錯形成剤は、化合物中の窒素原子又は硫黄原子の少なくとも一つが配位原子(電子供与体:ルイス塩基)として銀イオンに電子供与するルイス酸塩基反応に寄与することが可能である。錯体の安定性は、逐次安定度定数又は全安定度定数で定義されるが、銀イオン、ヨウ化物イオン、及び該銀錯形成剤の3者の組合せに依存する。一般的な指針として、分子内キレート環形成によるキレート効果や、配位子の酸塩基解離定数の増大などの手段によって、大きな安定度定数を得ることが可能である。
<Silver iodide complex forming agent>
The silver iodide complex-forming agent can contribute to a Lewis acid-base reaction in which at least one of a nitrogen atom or a sulfur atom in a compound donates electrons to a silver ion as a coordination atom (electron donor: Lewis base). is there. The stability of the complex is defined by a sequential stability constant or a total stability constant, but depends on the combination of silver ion, iodide ion, and the silver complexing agent. As a general guideline, a large stability constant can be obtained by means such as a chelate effect due to intramolecular chelate ring formation and an increase in the acid-base dissociation constant of the ligand.

感光性ハロゲン化銀の紫外可視吸収スペクトルは、透過法あるいは反射法により測定することができる。熱現像感光材料に添加された他の化合物に由来する吸収が感光性ハロゲン化銀の吸収と重なる場合には、差スペクトルあるいは溶媒による他の化合物の除去などの手段を単独で用いるか組み合わせることにより、感光性ハロゲン化銀の紫外可視吸収スペクトルを観察できる。   The ultraviolet-visible absorption spectrum of the photosensitive silver halide can be measured by a transmission method or a reflection method. If the absorption derived from other compounds added to the photothermographic material overlaps with the absorption of the photosensitive silver halide, the difference spectrum or the removal of other compounds with a solvent can be used alone or in combination. The UV-visible absorption spectrum of photosensitive silver halide can be observed.

本発明におけるヨウ化銀錯形成剤としては、少なくとも一つの窒素原子を含有する5員〜7員の複素環化合物が好ましい。置換基としてメルカプト基、スルフィド基、チオン基を有さない化合物であるとき、該含窒素5員−7員複素環は飽和であっても不飽和であってもよく、その他の置換基を有していてもよい。また、複素環上の置換基は、互いに結合して環を形成していてもよい。
好ましい5員−7員複素環化合物の例としては、ピロール、ピリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドール、イソインドール、インドリジン、キノリン、イソキノリン、ベンゾイミダゾール、1H−イミダゾール、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、ナフチリジン、プリン、プテリジン、カルバゾール、アクリジン、フェナントリジン、フェナントロリン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、1,2,4−トリアジン、1,3,5−トリアジン、ピロリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、インドリン、イソインドリンなどを挙げることができる。更に好ましくはピリジン、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドール、イソインドール、インドリジン、キノリン、イソキノリン、ベンゾイミダゾール、1H−イミダゾール、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、1,8−ナフチリジン、1,10−フェナントロリン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、1,2,4−トリアジン、1,3,5−トリアジンなどを挙げることができる。特に好ましくはピリジン、イミダゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、フタラジン、トリアジン、1,8−ナフチリジン又は1,10−フェナントロリンなどを挙げることができる。
The silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably a 5-membered to 7-membered heterocyclic compound containing at least one nitrogen atom. When the compound does not have a mercapto group, sulfide group or thione group as a substituent, the nitrogen-containing 5-membered to 7-membered heterocyclic ring may be saturated or unsaturated, and has other substituents. You may do it. Moreover, the substituents on the heterocycle may be bonded to each other to form a ring.
Examples of preferred 5- to 7-membered heterocyclic compounds include pyrrole, pyridine, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indole, isoindole, indolizine, quinoline, isoquinoline, Benzimidazole, 1H-imidazole, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, phthalazine, naphthyridine, purine, pteridine, carbazole, acridine, phenanthridine, phenanthroline, phenazine, phenoxazine, phenothiazine, benzothiazole, benzoxazole, benzimidazole, 1,2 , 4-triazine, 1,3,5-triazine, pyrrolidine, imidazolidine, pyrazolidine, piperidine, piperazine, morpholine, i Dorin, and the like isoindoline. More preferably pyridine, imidazole, pyrazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indole, isoindole, indolizine, quinoline, isoquinoline, benzimidazole, 1H-imidazole, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, phthalazine, 1,8-naphthyridine, 1, Examples thereof include 10-phenanthroline, benzimidazole, benzotriazole, 1,2,4-triazine, 1,3,5-triazine and the like. Particularly preferred are pyridine, imidazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, phthalazine, triazine, 1,8-naphthyridine, 1,10-phenanthroline and the like.

これらの環は置換基を有していてもよく、該置換基としては写真性に対して悪影響を及ぼさないものであれば、どのような置換基でも良い。好ましい例として、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子)、アルキル基(直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アシルカルバモイル基、N−スルホニルカルバモイル基、N−カルバモイルカルバモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基又はその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基(Carbonimidoyl基)、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基若しくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシ若しくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,又はヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシ若しくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、N−(アルキル若しくはアリール)スルホニルウレイド基、N−アシルウレイド基、N−アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、イソシアノ基、イミノ基、(アルキル又はアリール)スルホニル基、(アルキル又はアリール)スルフィニル基、スルホ基又はその塩、スルファモイル基、N−アシルスルファモイル基、N−スルホニルスルファモイル基又はその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、及びシリル基等が挙げられる。なおここで活性メチン基とは2つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、又はカルボンイミドイル基(Carbonimidoyl基)を意味する。
ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また塩とは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
これら複素環には他の環が更に縮合していても良い。また、置換基がアニオン基(例えば、−CO2 -、−SO3 -、−S-など)の場合、含窒素複素環は陽イオン(例えば、ピリジニウム、1,2,4−トリアゾリウムなど)となって分子内塩を形成していても良い。
These rings may have a substituent, and the substituent may be any substituent as long as it does not adversely affect photographic properties. Preferred examples include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group (a linear, branched, or cyclic alkyl group, including a bicycloalkyl group or an active methine group), an alkenyl group, or an alkynyl group. Group, aryl group, heterocyclic group (regarding the position of substitution), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, N-acylcarbamoyl group, N-sulfonylcarbamoyl group, N-carbamoylcarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group or a salt thereof, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group (Carbonidoyl group), formyl group, hydroxy group, alkoxy group ( Ethyleneoxy group Or an aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, Aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, ammonio group, oxamoylamino Group, N- (alkyl or aryl) sulfonylureido group, N-acylureido group, N-acylsulfamoylamino group, nitro group, heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (for example, pyridinio group, imidazolio group, Kinori O group, isoquinolinio group), isocyano group, imino group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group, N-sulfonylsulfur group Examples include a famoyl group or a salt thereof, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group. Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group) is meant.
Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure. The salt means a cation such as alkali metal, alkaline earth metal or heavy metal, or an organic cation such as ammonium ion or phosphonium ion. These substituents may be further substituted with these substituents.
These heterocycles may be further condensed with other rings. Further, the substituent is an anionic group (e.g., -CO 2 -, -SO 3 - , -S - , etc.), the nitrogen-containing heterocyclic cation (e.g., pyridinium, etc. triazolium) and Thus, an inner salt may be formed.

複素環化合物がピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、フタラジン、トリアジン、ナフチリジン又はフェナントロリン誘導体であるとき、該化合物の酸解離平衡における含窒素複素環部分の共役酸のテトラヒドロフラン/水(3/2)混合溶液中25℃での酸解離定数(pKa)は3ないし8であることが更に好ましい。より好ましくは、pKaが4ないし7である。
このような複素環化合物としては、ピリジン、ピリダジン又はフタラジン誘導体であることが好ましく、ピリジン又はフタラジン誘導体であることが特に好ましい。
When the heterocyclic compound is a pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, phthalazine, triazine, naphthyridine or phenanthroline derivative, a tetrahydrofuran / water (3/2) mixed solution of the conjugate acid of the nitrogen-containing heterocyclic moiety in the acid dissociation equilibrium of the compound The acid dissociation constant (pKa) at 25 ° C. is more preferably 3 to 8. More preferably, the pKa is 4 to 7.
Such a heterocyclic compound is preferably a pyridine, pyridazine or phthalazine derivative, and particularly preferably a pyridine or phthalazine derivative.

これらの複素環化合物が置換基としてメルカプト基、スルフィド基、チオン基を有する場合、ピリジン、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアゾール、チアジアゾール又はオキサジアゾール誘導体であることが好ましく、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、又はトリアゾール誘導体であることが特に好ましい。   When these heterocyclic compounds have a mercapto group, sulfide group or thione group as a substituent, pyridine, thiazole, isothiazole, oxazole, isoxazole, imidazole, pyrazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, triazole, thiadiazole or oxadioxide A diazole derivative is preferable, and a thiazole, imidazole, pyrazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, or triazole derivative is particularly preferable.

例えば、該ヨウ化銀錯形成剤として、下記一般式(1)若しくは一般式(2)で表される化合物を利用することができる。   For example, a compound represented by the following general formula (1) or general formula (2) can be used as the silver iodide complex forming agent.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(1)において、R11及びR12は水素原子又は置換基を表す。一般式(2)において、R21及びR22は水素原子又は置換基を表す。ただし、R11とR12とがともに水素原子であること、R21とR22とがともに水素原子であることはない。ここでいう置換基としては前述の含窒素5員−7員複素環型のヨウ化銀錯形成剤の置換基として説明したものが挙げられる。 In Formula (1), R 11 and R 12 represents a hydrogen atom or a substituent. In general formula (2), R 21 and R 22 represents a hydrogen atom or a substituent. However, R 11 and R 12 are not both hydrogen atoms, and R 21 and R 22 are not both hydrogen atoms. Examples of the substituent herein include those described as the substituent of the nitrogen-containing 5-membered to 7-membered heterocyclic silver iodide complex forming agent.

また、下記一般式(3)で表される化合物も好ましく利用できる。   Moreover, the compound represented by the following general formula (3) can also be preferably used.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(3)において、R31−R35は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。R31−R35で表される置換基としては前述の含窒素5員−7員複素環型のヨウ化銀錯形成剤の置換基として説明したものが挙げられる。一般式(3)で表される化合物が置換基を有する場合、好ましい置換位置は、R32−R34である。R31−R35は互いに結合して、飽和又は不飽和の環を形成していてもよい。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、又は(アルコキシ若しくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基等である。 In the general formula (3), R 31 to R 35 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 31 -R 35 include those described as the substituent of the nitrogen-containing 5-membered to 7-membered heterocyclic silver iodide complex forming agent. When the compound represented by the general formula (3) has a substituent, preferred substitution positions are R 32 to R 34 . R 31 to R 35 may be bonded to each other to form a saturated or unsaturated ring. Preferably, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carbamoyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carbamoyloxy group, an amino group, an acylamino group, a ureido group, or an (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, etc. is there.

一般式(3)で表される化合物は、ピリジン環部分の共役酸のテトラヒドロフラン/水(3/2)混合溶液中での25℃での酸解離定数(pKa)が3ないし8であることが好ましく、4ないし7であることが特に好ましい。   The compound represented by the general formula (3) has an acid dissociation constant (pKa) at 25 ° C. of 3 to 8 in a tetrahydrofuran / water (3/2) mixed solution of a conjugate acid of a pyridine ring portion. It is preferably 4 to 7, and particularly preferably.

さらに一般式(4)で表される化合物も好ましい。   Furthermore, the compound represented by General formula (4) is also preferable.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(4)において、R41−R44は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
41−R44は互いに結合して、飽和又は不飽和の環を形成していてもよい。R41−R44で表される置換基としては前述の含窒素5員−7員複素環型のヨウ化銀錯形成剤の置換基として説明したものが挙げられる。好ましい基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基並びにベンゾ縮環によるフタラジン環の形成が挙げられる。一般式(4)で表される化合物の窒素原子の隣接炭素にヒドロキシル基が置換した場合には、ピリダジノンとの間に平衡が存在する。
In the general formula (4), R 41 -R 44 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
R 41 to R 44 may be bonded to each other to form a saturated or unsaturated ring. Examples of the substituent represented by R 41 -R 44 include those described above as the substituent of the nitrogen-containing 5-membered to 7-membered heterocyclic silver iodide complex forming agent. Preferred groups include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, heterocyclic oxy groups, and the formation of phthalazine rings by benzo condensed rings. When a hydroxyl group is substituted on the carbon adjacent to the nitrogen atom of the compound represented by the general formula (4), an equilibrium exists with pyridazinone.

一般式(4)で表される化合物は、下記一般式(5)で表されるフタラジン環を形成していることが更に好ましく、このフタラジン環は更に、少なくとも一つの置換基を有していていることが特に好ましい。一般式(5)におけるR51−R56の例としては、前述の含窒素5員−7員複素環型のヨウ化銀錯形成剤の置換基として説明したものが挙げられる。更に好ましい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、及びアリールオキシ基などが挙げられる。
好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又はアリールオキシ基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、又はアリールオキシ基である。
The compound represented by the general formula (4) more preferably forms a phthalazine ring represented by the following general formula (5), and the phthalazine ring further has at least one substituent. It is particularly preferable. Examples of R 51 -R 56 in the general formula (5) include those described as substituents of the aforementioned nitrogen-containing 5-membered to 7-membered heterocyclic silver iodide complex forming agent. More preferable substituents include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, and an aryloxy group.
An alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group is preferable, and an alkyl group, an alkoxy group, or an aryloxy group is more preferable.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

また、下記一般式(6)で表される化合物も好ましい形態である。   A compound represented by the following general formula (6) is also a preferred form.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(6)において、R61−R63は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。 R62で表される置換基の例としては、前述の含窒素5員−7員複素環型のヨウ化銀錯形成剤の置換基として説明したものが挙げられる。 In the general formula (6), R 61 -R 63 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 62 include those described as the substituent of the nitrogen-containing 5-membered to 7-membered heterocyclic silver iodide complex-forming agent.

好ましく用いられる化合物として下記一般式(7)で表される化合物が挙げられる。   A compound represented by the following general formula (7) is preferably used.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(7)において、R71−R72は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Lは2価の連結基を表す。nは0又は1を表す。R71−R72で表される置換基としては、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基並びにこれらを含有する複合置換基などが例として挙げられる。Lで表される2価の連結基は、好ましくは1ないし6原子分、さらに好ましくは1ないし3原子分の長さの連結基であり、更に置換基を有していてもよい。
In the general formula (7), R 71 -R 72 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
L represents a divalent linking group. n represents 0 or 1. Examples of the substituent represented by R 71 to R 72 include an alkyl group (including a cycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group), an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, and aryloxycarbonyl. Examples include a group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imide group, and a composite substituent containing these. The divalent linking group represented by L is preferably a linking group having a length of 1 to 6 atoms, more preferably 1 to 3 atoms, and may further have a substituent.

好ましく用いられる化合物のさらに一つは一般式(8)で表される化合物である。   One of the compounds preferably used is a compound represented by the general formula (8).

Figure 2006215168
Figure 2006215168

一般式(8)において、R81−R84は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。R81−R84で表される置換基としては、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、及びイミド基などが例として挙げられる。 In the general formula (8), R 81 to R 84 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 81 to R 84 include an alkyl group (including a cycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group), an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, and an aryloxycarbonyl. Examples include a group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an imide group.

上記ヨウ化銀錯形成剤の中で更に好ましいものは、一般式(3)、(4)、(5)、(6)、(7)で表される化合物であり、一般式(3)、(5)で表される化合物が特に好ましい。   More preferable among the silver iodide complex-forming agents are compounds represented by the general formulas (3), (4), (5), (6) and (7), and the general formula (3), The compound represented by (5) is particularly preferred.

以下に、本発明におけるヨウ化銀錯形成剤の好ましい例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the preferable example of the silver iodide complex formation agent in this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

Figure 2006215168
Figure 2006215168

本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、従来知られている色調剤の機能を果たす場合は、色調剤と共通の化合物であることもできる。本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、色調剤とともに併用して用いることができる。また、2種以上のヨウ化銀錯形成剤を併用しても良い。   The silver iodide complex-forming agent in the present invention may be a common compound with the color tone agent when it functions as a conventionally known color tone agent. The silver iodide complex-forming agent in the present invention can be used in combination with a toning agent. Two or more silver iodide complex forming agents may be used in combination.

本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、固体状態で膜中に存在させるなど、感光性ハロゲン化銀とは分離した状態で膜中に存在せしめることが好ましい。隣接層に添加することも好ましい。本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、熱現像温度に加熱された時に融解するように化合物の融点を適切な範囲に調整することが好ましい。   The silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably present in the film in a state separated from the photosensitive silver halide, such as being present in the film in a solid state. It is also preferable to add to the adjacent layer. It is preferable to adjust the melting point of the compound to an appropriate range so that the silver iodide complex-forming agent in the present invention melts when heated to the heat development temperature.

本発明において、熱現像後の感光性ハロゲン化銀の紫外可視吸収スペクトルの吸収強度が熱現像前と比較して80%以下となることが好ましく、40%以下となることが更に好ましく、10%以下となることが特に好ましい。   In the present invention, the absorption intensity of the ultraviolet-visible absorption spectrum of the photosensitive silver halide after heat development is preferably 80% or less, more preferably 40% or less, compared with that before heat development. It is particularly preferable that

本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
The silver iodide complex-forming agent in the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.
Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically dispersing the emulsified dispersion. The method of producing is mentioned.

また、固体微粒子分散法としては、本発明におけるヨウ化銀錯形成剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。
尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm以上1000ppm以下の範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は固体分散物として使用することが好ましい。
As the solid fine particle dispersion method, the silver iodide complex-forming powder in the present invention is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave. And a method of producing a solid dispersion.
In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
The silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably used as a solid dispersion.

本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、感光性ハロゲン化銀に対して、1モル%以上5000モル%以下の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10モル%以上1000モル%以下の範囲で、更に好ましくは50モル%以上300モル%以下の範囲である。   The silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably used in the range of 1 mol% to 5000 mol%, more preferably in the range of 10 mol% to 1000 mol%, relative to the photosensitive silver halide. More preferably, it is the range of 50 mol% or more and 300 mol% or less.

11)ハロゲン化銀の複数併用
本発明に用いられる熱現像感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57−119341号、同53−106125号、同47−3929号、同48−55730号、同46−5187号、同50−73627号、同57−150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
11) Combination of a plurality of silver halides The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the invention may be only one kind, or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes or different halogen compositions). Those having different crystal habits, those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. As techniques relating to these, there are JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841, and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.

12)塗布量
感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材1m2当たりの塗布銀量で示して、0.03g/m2以上0.6g/m2以下であることが好ましく、0.05g/m2以上0.4g/m2以下であることがさらに好ましく、0.07g/m2以上0.3g/m2以下であることが最も好ましく、有機銀塩1モルに対しては、感光性ハロゲン化銀は0.01モル以上0.5モル以下が好ましく、より好ましくは0.02モル以上0.3モル以下、さらに好ましくは0.03モル以上0.2モル以下である。
12) Coating amount The addition amount of the photosensitive silver halide is preferably 0.03 g / m 2 or more and 0.6 g / m 2 or less, expressed as the coating silver amount per 1 m 2 of the light-sensitive material. / M 2 or more and 0.4 g / m 2 or less is more preferable, and 0.07 g / m 2 or more and 0.3 g / m 2 or less is most preferable. The functional silver halide is preferably from 0.01 mol to 0.5 mol, more preferably from 0.02 mol to 0.3 mol, and still more preferably from 0.03 mol to 0.2 mol.

13)感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。また、混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法である。
13) Mixing of photosensitive silver halide and organic silver salt Regarding the mixing method and mixing conditions of separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the silver halide grains and the organic silver salt that were prepared are respectively stirred at high speed. Prepare an organic silver salt by mixing with a machine, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc., or by mixing photosensitive silver halide that has been prepared at any time during the preparation of the organic silver salt However, there is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. In addition, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a preferred method for adjusting photographic characteristics.

14)ハロゲン化銀の塗布液への混合
ハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
14) Mixing of silver halide into coating solution The preferred addition time of silver halide into the image forming layer coating solution is from 180 minutes before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. The method and mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is the desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's "Liquid Mixing Technology" (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

(かぶり防止剤の説明)
本発明に用いることのできるかぶり防止剤、安定剤及び安定剤前駆体は特開平10−62899号の段落番号0070、欧州特許公開第0803764A1号の第20頁第57行〜第21頁第7行に記載の特許のもの、特開平9−281637号、同9−329864号記載の化合物、米国特許6,083,681号、欧州特許1048975号に記載の化合物が挙げられる。
(Description of antifogging agent)
Antifogging agents, stabilizers and stabilizer precursors that can be used in the present invention are paragraph No. 0070 of JP-A No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803764A, page 20, line 57 to page 21, line 7. And the compounds described in JP-A-9-281737 and JP-A-9-329864, and the compounds described in US Pat. No. 6,083,681 and European Patent 1048875.

1)有機ポリハロゲン化合物
以下、本発明で用いることができる好ましい有機ポリハロゲン化合物について具体的に説明する。本発明における好ましいポリハロゲン化合物は下記一般式(H)で表される化合物である。
一般式(H)
Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)X
一般式(H)において、Qはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基を表し、nは0〜1を表し、Z1及びZ2はハロゲン原子を表し、Xは水素原子又は電子求引性基を表す。
一般式(H)においてQは好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は窒素原子を少なくとも一つ含むヘテロ環基(ピリジン、キノリン基等)である。
一般式(H)において、Qがアリール基である場合、Qは好ましくはハメットの置換基定数σpが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207−1216等を参考にすることができる。このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子、電子求引性基で置換されたアルキル基、電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基等があげられる。電子求引性基として特に好ましいのは、ハロゲン原子、カルバモイル基、アリールスルホニル基であり、特にカルバモイル基が好ましい。
Xは好ましくは電子求引性基である。好ましい電子求引性基は、ハロゲン原子、脂肪族・アリール若しくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリール若しくは複素環アシル基、脂肪族・アリール若しくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、カルバモイル基であり、特に好ましくは臭素原子である。
1及びZ2は好ましくは臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは臭素原子である。
Yは好ましくは−C(=O)−、−SO−、−SO2−、−C(=O)N(R)−、−SO2N(R)−を表し、より好ましくは−C(=O)−、−SO2−、−C(=O)N(R)−であり、特に好ましくは−SO2−、−C(=O)N(R)−である。ここでいうRとは水素原子、アリール基又はアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
nは、0又は1を表し、好ましくは1である。
一般式(H)において、Qがアルキル基の場合、好ましいYは−C(=O)N(R)−であり、Qがアリール基又はヘテロ環基の場合、好ましいYは−SO2−である。
一般式(H)において、該化合物から水素原子を取り去った残基が互いに結合した形態(一般にビス型、トリス型、テトラキス型と呼ぶ)も好ましく用いることができる。
一般式(H)において、解離性基(例えばCOOH基又はその塩、SO3H基又はその塩、PO3H基又はその塩等)、4級窒素カチオンを含む基(例えばアンモニウム基、ピリジニウム基等)、ポリエチレンオキシ基、水酸基等を置換基に有するものも好ましい形態である。
1) Organic polyhalogen compound Hereinafter, preferred organic polyhalogen compounds that can be used in the present invention will be described in detail. A preferred polyhalogen compound in the present invention is a compound represented by the following general formula (H).
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z 1 ) (Z 2 ) X
In General Formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 to 1 , Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
In the general formula (H), Q is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a heterocyclic group containing at least one nitrogen atom (pyridine, quinoline group, etc.).
In the general formula (H), when Q is an aryl group, Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group having a positive Hammett's substituent constant σp. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to. Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom, an alkyl group substituted with an electron withdrawing group, an aryl group substituted with an electron withdrawing group, a heterocyclic group, an alkyl or arylsulfonyl group, acyl Group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group and the like. Particularly preferred as the electron withdrawing group are a halogen atom, a carbamoyl group and an arylsulfonyl group, and a carbamoyl group is particularly preferred.
X is preferably an electron withdrawing group. Preferred electron withdrawing groups are halogen atoms, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl groups, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl groups, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, More preferred are a halogen atom and a carbamoyl group, and particularly preferred is a bromine atom.
Z 1 and Z 2 are preferably a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom.
Y preferably represents -C (= O) -, - SO -, - SO 2 -, - C (= O) N (R) -, - SO 2 N (R) - , more preferably -C ( ═O) —, —SO 2 —, —C (═O) N (R) —, and particularly preferably —SO 2 —, —C (═O) N (R) —. R here represents a hydrogen atom, an aryl group or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
n represents 0 or 1, and is preferably 1.
In General Formula (H), when Q is an alkyl group, preferred Y is —C (═O) N (R) —, and when Q is an aryl group or a heterocyclic group, preferred Y is —SO 2 —. is there.
In the general formula (H), a form in which residues obtained by removing a hydrogen atom from the compound are bonded to each other (generally referred to as bis type, tris type, tetrakis type) can also be preferably used.
In the general formula (H), a dissociable group (for example, a COOH group or a salt thereof, a SO 3 H group or a salt thereof, a PO 3 H group or a salt thereof), a group containing a quaternary nitrogen cation (for example, an ammonium group or a pyridinium group) Etc.), those having a polyethyleneoxy group, a hydroxyl group or the like as a substituent are also preferred.

以下に本発明における一般式(H)の化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound represented by formula (H) in the present invention are shown below.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

Figure 2006215168
Figure 2006215168

上記以外の本発明に用いることができるポリハロゲン化合物としては、US3874946号、US4756999号、US5340712号、US5369000号、US5464737号、US6506548号、特開昭50−137126号、同50−89020号、同50−119624号、同59−57234号、特開平7−2781号、同7−5621号、同9−160164号、同9−244177号、同9−244178号、同9−160167号、同9−319022号、同9−258367号、同9−265150号、同9−319022号、同10−197988号、同10−197989号、同11−242304号、特開2000−2963、特開2000−112070、特開2000−284410、特開2000−284412、特開2001−33911、特開2001−31644、特開2001−312027号、特開2003−50441号明細書の中で当該発明の例示化合物として挙げられている化合物が好ましく用いられるが、特に特開平7−2781号、特開2001−33911、特開2001−312027号に具体的に例示されている化合物が好ましい。   Polyhalogen compounds that can be used in the present invention other than those described above include US Pat. No. 3,874,946, US Pat. No. 4,756,999, US Pat. No. 5,340,712, US Pat. No. 5,346,737, US Pat. No. 5,466,537, JP-A-50-137126, US Pat. 119624, 59-57234, JP-A-7-2781, 7-5621, 9-160164, 9-244177, 9-244178, 9-160167, 9- 319022, 9-258367, 9-265150, 9-319022, 10-197988, 10-197989, 11-242304, JP 2000-2963, JP 2000-11270 , JP2000-284410, JP2 The compounds listed as exemplary compounds of the invention in 00-284212, JP-A-2001-33911, JP-A-2001-31644, JP-A-2001-312027, and JP-A-2003-50441 are preferably used. In particular, compounds specifically exemplified in JP-A-7-2781, JP-A-2001-33911, and JP-A-2001-312027 are preferred.

本発明における一般式(H)で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩1モルあたり、10-4モル以上1モル以下の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10-3モル以上0.5モル以下の範囲で、さらに好ましくは1×10-2モル以上0.2モル以下の範囲で使用することが好ましい。
本発明において、かぶり防止剤を熱現像感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられ、有機ポリハロゲン化合物についても固体微粒子分散物で添加することが好ましい。
The compound represented by formula (H) in the present invention is preferably used in the range of 10 −4 mol to 1 mol, more preferably 10 −3 , per mol of the non-photosensitive silver salt in the image forming layer. It is preferable to use in the range of not less than 0.5 mol and not more than 0.5 mol, more preferably not less than 1 × 10 −2 mol and not more than 0.2 mol.
In the present invention, examples of the method for incorporating the antifoggant into the photothermographic material include the methods described in the method for containing a reducing agent, and the organic polyhalogen compound is also preferably added as a solid fine particle dispersion.

2)その他のかぶり防止剤
その他のかぶり防止剤としては特開平11−65021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000−206642号のサリチル酸誘導体、特開2000−221634号の式(S)で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11−352624号の請求項9に係るトリアジン化合物、特開平6−11791号の一般式(III)で表される化合物、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン等が挙げられる。
2) Other antifoggants Other antifoggants include mercury (II) salts described in paragraph No. 0113 of JP-A No. 11-65021, benzoic acids described in paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivatives of JP-A No. 2000-206642, A formalin scavenger compound represented by the formula (S) in JP-A-2000-221634, a triazine compound according to claim 9 in JP-A-11-352624, and a compound represented by the general formula (III) in JP-A-6-11791 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.

本発明における熱現像感光材料はかぶり防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59−193447号記載の一般式(XI)で表される化合物、特公昭55−12581号記載の化合物、特開昭60−153039号記載の一般式(II)で表される化合物が挙げられる。
アゾリウム塩は熱現像感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては画像形成層を有する面の層に添加することが好ましく、画像形成層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、画像形成層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。
また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of preventing fogging. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented.
The azolium salt may be added to any part of the photothermographic material, but the added layer is preferably added to the layer having the image forming layer, and more preferably added to the image forming layer. The azolium salt may be added at any step during the preparation of the coating solution, and when added to the image forming layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. Immediately before is preferable. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, or fine particle dispersion.
Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent. In the present invention, the azolium salt may be added in any amount, but it is preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less, and more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less per 1 mol of silver.

(その他の添加剤)
1)メルカプト、ジスルフィド、及びチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10−62899号の段落番号0067〜0069、特開平10−186572号の一般式(I)で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行に記載されている。その中でも特開平9−297367号、特開平9−304875号、特開2001−100358号、特開2002−303954号、特開2002−303951号等に記載されているメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones In the present invention, mercapto compounds and disulfide compounds are used for the purpose of controlling development by suppressing or promoting development, improving spectral sensitization efficiency, and improving storage stability before and after development. And thione compounds, paragraphs 0067 to 0069 of JP-A-10-62899, compounds represented by formula (I) of JP-A-10-186572, and specific examples thereof include paragraph numbers 0033 to 0052. , European Patent Publication No. 0803764A1, page 20, lines 36-56. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds described in JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100388, JP-A-2002-303954, JP-A-2002-303951, and the like are preferable. .

2)色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平10−62899号の段落番号0054〜0055、欧州特許公開第0803764A1号の第21ページ第23〜48行、特開2000−356317号や特開2000−187298号に記載されており、特に、フタラジノン類(フタラジノン、フタラジノン誘導体若しくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメトキシフタラジノン及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウム及びテトラクロロ無水フタル酸)との組合せ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘導体若しくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジン、6−イソプロピルフタラジン、6−t−ブチルフラタジン、6−クロロフタラジン、5,7−ジメトキシフタラジン及び2,3−ジヒドロフタラジン);フタラジン類とフタル酸類との組合せが好ましく、特にフタラジン類とフタル酸類の組合せが好ましい。そのなかでも特に好ましい組み合わせは6−イソプロピルフタラジンとフタル酸又は4メチルフタル酸との組み合わせである。
2) Toning agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a toning agent. For the toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A-10-62899, page 21 to 23 of European Patent Publication No. 0803764A1. Line 48, described in JP-A No. 2000-356317 and JP-A No. 2000-187298, and in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone. 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, diammonium phthalate) , Sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride) Combinations; phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-t-butylphthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine And 2,3-dihydrophthalazine); a combination of phthalazines and phthalic acids is preferable, and a combination of phthalazines and phthalic acids is particularly preferable. Among them, a particularly preferable combination is a combination of 6-isopropylphthalazine and phthalic acid or 4-methylphthalic acid.

3)可塑剤、潤滑剤
本発明においては膜物理性を改良するために公知の可塑剤、潤滑剤を使用することができる。特に、製造時のハンドリング性や熱現像時の耐傷性を改良するために流動パラフィン、長鎖脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル類等の潤滑剤を使用することが好ましい。特に低沸点成分を除去した流動パラフィンや分岐構造を有する分子量1000以上の脂肪酸エステル類が好ましい。
画像形成層及び非感光層に用いることのできる可塑剤及び潤滑剤については特開平11−65021号段落番号0117、特開2000−5137号、特願2003−8015号、特願2003−8071号、特願2003−132815号に記載されている化合物が好ましい。
3) Plasticizers and lubricants In the present invention, known plasticizers and lubricants can be used to improve film physical properties. In particular, it is preferable to use a lubricant such as liquid paraffin, long chain fatty acid, fatty acid amide, fatty acid ester, etc., in order to improve handling at the time of manufacture and scratch resistance at the time of heat development. In particular, liquid paraffin from which low-boiling components have been removed and fatty acid esters having a branched structure and having a molecular weight of 1000 or more are preferred.
Regarding the plasticizer and lubricant that can be used in the image forming layer and the non-photosensitive layer, JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0117, JP-A No. 2000-5137, Japanese Patent Application No. 2003-8015, Japanese Patent Application No. 2003-8071, The compounds described in Japanese Patent Application No. 2003-132815 are preferred.

4)染料、顔料
本発明における画像形成層には、色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料(例えばC.I.Pigment Blue 60、C.I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6)を用いることができる。これらについてはWO98/36322号、特開平10−268465号、同11−338098号等に詳細に記載されている。
4) Dye and Pigment In the image forming layer of the present invention, various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, C.I. Pigment Blue 64, CI Pigment Blue 15: 6) can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A-10-268465, JP-A-11-338098 and the like.

5)造核剤
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に造核剤を添加することが好ましい。造核剤やその添加方法及び添加量については、特開平11−65021号公報段落番号0118、特開平11−223898号公報段落番号0136〜0193、特開2000−284399号明細書の式(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合物、特開2000−347345号明細書記載の一般式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化24)、造核促進剤については特開平11−65021号公報段落番号0102、特開平11−223898号公報段落番号0194〜0195に記載されている。
5) Nucleating Agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a nucleating agent to the image forming layer. Regarding the nucleating agent, the addition method and the addition amount thereof, paragraph No. 0118 of JP-A No. 11-65021, paragraph Nos. 0136 to 0193 of JP-A No. 11-223898, and formula (H) of JP-A No. 2000-284399. , Compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in JP-A 2000-347345 (specific compounds: The nucleation promoter is described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.

造核剤の添加量は、好ましくは有機銀塩1モルに対し10-5モル〜1モル、より好ましくは10-4モル〜5×10-1モルの範囲である。
上記造核剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルセバケートあるいはトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやオレオイル−N−メチルタウリン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。このとき、油滴の粘度や屈折率の調整の目的でαメチルスチレンオリゴマーやポリ(t−ブチルアクリルアミド)等のポリマーを添加することも好ましい。
The addition amount of the nucleating agent is preferably in the range of 10 −5 mol to 1 mol, more preferably 10 −4 mol to 5 × 10 −1 mol, relative to 1 mol of the organic silver salt.
The nucleating agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.
Well-known emulsification and dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl sebacate or tri (2-ethylhexyl) phosphate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and dodecylbenzene. Examples thereof include a method of mechanically preparing an emulsified dispersion by adding a surfactant such as sodium sulfonate, oleoyl-N-methyl taurate, sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate. At this time, it is also preferable to add a polymer such as α-methylstyrene oligomer or poly (t-butylacrylamide) for the purpose of adjusting the viscosity and refractive index of the oil droplets.

また、固体微粒子分散法としては、造核剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm〜1000ppmの範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
特に好ましいのは、造核剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm〜10μm、好ましくは0.05μm〜5μm、より好ましくは0.1μm〜2μmの微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
In addition, as a solid fine particle dispersion method, a nucleating agent powder is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or ultrasonic waves to produce a solid dispersion. The method of doing is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
Particularly preferred is a solid particle dispersion method of a nucleating agent, which is preferably added as fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 2 μm. . In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.

本発明に用いることの出来る造核剤の具体例を下記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。   Specific examples of the nucleating agent that can be used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

本発明の熱現像感光材料で造核剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。
五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩の使用量(感光材料1m2あたりの塗布量)は感度やかぶりなどの性能に合わせて所望の量でよいが、0.1mg/m2以上500mg/m2以下が好ましく、0.5mg/m2以上100mg/m2以下がより好ましい。
When a nucleating agent is used in the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate.
The amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (the coating amount per 1 m 2 of the photosensitive material) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fogging, but is 0.1 mg / m 2. It is preferably 500 mg / m 2 or less, more preferably 0.5 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less.

(塗布液の調製及び塗布)
本発明における画像形成層塗布液の調製温度は、30℃以上65℃以下が好ましく、さらに好ましい温度は35℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持されることが好ましい。
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution in the invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.

(層構成及び構成成分)
本発明における画像形成層は、支持体上に一又はそれ以上の層で構成される。一層で構成する場合は有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤及びバインダーよりなり、必要により色調剤、被覆助剤及び他の補助剤などの所望による追加の材料を含む。二層以上で構成する場合は、第1画像形成層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩及び感光性ハロゲン化銀を含み、第2画像形成層又は両層中にいくつかの他の成分を含まなければならない。多色感光性熱現像写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各画像形成層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各画像形成層の間に官能性若しくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から(a)画像形成層の上(支持体よりも遠い側)に設けられる表面保護層、(b)複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、(c)画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、(d)画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
(Layer structure and components)
The image forming layer in the invention is composed of one or more layers on a support. In the case of a single layer, it consists of an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder, and optionally contains additional materials such as toning agents, coating aids and other auxiliary agents. In the case of two or more layers, the first image forming layer (usually a layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and a light-sensitive silver halide, and some of the second image forming layer or both layers include Must contain other ingredients. The construction of a multicolor photosensitive photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be included. In the case of multi-dye multicolor photosensitive photothermographic materials, each image forming layer is generally functional or non-functional between each image forming layer as described in US Pat. No. 4,460,681. By using a sex barrier layer, they are kept distinct from each other.
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther than the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.

また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、(a)又は(b)の層として設けられる。アンチハレーション層は、(c)又は(d)の層として熱現像感光材料に設けられる。   In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided in the photothermographic material as the layer (c) or (d).

1)表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。
表面保護層については、特開平11−65021号段落番号0119〜0120、特開2000−171936号に記載されている。
本発明における表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいが、ポリビニルアルコール(PVA)を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン750)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)など使用することができる。PVAとしては、特開2000−171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のPVA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)などが好ましく挙げられる。保護層(1層当たり)のポリビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2〜4.0g/m2が好ましく、0.3g/m2〜2.0g/m2がより好ましい。
1) Surface protective layer The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers.
The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2000-171936.
As the binder for the surface protective layer in the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), or the like can be used. Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Preferably 0.3g / m 2 ~4.0g / m 2 as a polyvinyl alcohol coating amount (per support 1 m 2) of the protective layer (per one layer), 0.3g / m 2 ~2.0g / m 2 Is more preferable.

表面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2以上5.0g/m2以下が好ましく、0.3g/m2以上2.0g/m2以下がより好ましい。
また、表面保護層には流動パラフィン、脂肪族エステル等の潤滑剤を使用することが好ましい。潤滑剤の使用量は1mg/m2以上200mg/m2以下の範囲で、好ましくは10mg/m2以上150mg/m2以下、より好ましくは20mg/m2以上100mg/m2以下の範囲である。
The total coating amount (including water-soluble polymer and latex polymer) of the surface protective layer (per layer) is preferably 0.3 g / m 2 or more and 5.0 g / m 2 or less as the coating amount (per 1 m 2 of the support). .3g / m 2 or more 2.0 g / m 2 or less is more preferable.
In addition, it is preferable to use a lubricant such as liquid paraffin and aliphatic ester for the surface protective layer. The amount of the lubricant used is in the range of 1 mg / m 2 to 200 mg / m 2 , preferably 10 mg / m 2 to 150 mg / m 2 , more preferably 20 mg / m 2 to 100 mg / m 2. .

2)アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を画像形成層に対して光源から遠い側に設けることができる。
2) Antihalation layer In the photothermographic material of the invention, the antihalation layer can be provided on the side farther from the light source than the image forming layer.

アンチハレーション層については特開平11−65021号段落番号0123〜0124、特開平11−223898号、同9−230531号、同10−36695号、同10−104779号、同11−231457号、同11−352625号、同11−352626号等に記載されている。
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平11−231457号等に記載されている。
As for the antihalation layer, paragraphs 0123 to 0124 of JP-A-11-65021, JP-A-11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that substantially no dye color remains after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.

消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用する。光学濃度は、0.15〜2であることが好ましく0.2〜1であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.001g/m2〜1g/m2程度である。 The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, an optical density (absorbance) when measured at a target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.15 to 2, and more preferably 0.2 to 1. The amount of the dye for obtaining such an optical density is generally 0.001g / m 2 ~1g / m 2 approximately.

なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を0.1以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平11−352626号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を3℃(deg)以上降下させる物質(例えば、ジフェニルスルホン、4−クロロフェニル(フェニル)スルホン)、2−ナフチルベンゾエート等を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
In the thermal decoloration using such decoloring dye and base precursor, a substance (for example, diphenylsulfone, which lowers the melting point by 3 ° C. (deg) or more when mixed with a base precursor as described in JP-A No. 11-352626). 4-Chlorophenyl (phenyl) sulfone), 2-naphthyl benzoate and the like are preferably used in view of thermal decoloring properties and the like.

3)マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を添加することが好ましく、マット剤については、特開平11−65021号段落番号0126〜0127に記載されている。マット剤は熱現像感光材料1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1mg/m2以上400mg/m2以下、より好ましくは5mg/m2以上300mg/m2以下である。
本発明においてマット剤の形状は定型、不定形のいずれでもよいが好ましくは定型で、球形が好ましく用いられる。
画像形成層面側に用いるマット剤の球相当直径の体積加重平均は、0.3μm以上10μm以下であることが好ましく、0.5μm以上7μm以下である事が更に好ましい。また、マット剤のサイズ分布の変動係数としては5%以上80%以下であることが好ましく、20%以上80%以下である事が更に好ましい。ここで変動係数とは(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100で表される値である。更に、画像形成層面のマット剤は平均粒子サイズの異なる2種以上のマット剤を用いることができる。その場合、平均粒子サイズのもっとも大きいマット剤と、もっとも小さいマット剤の粒子サイズの差は、2μm以上8μm以下であることが好ましく、2μm以上6μm以下であることが更に好ましい。
バック面に用いるマット剤の球相当直径の体積加重平均は、1μm以上15μm以下であることが好ましく、3μm以上10μm以下である事が更に好ましい。また、マット剤のサイズ分布の変動係数としては3%以上50%以下であることが好ましく、5%以上30%以下である事が更に好ましい。更に、バック面のマット剤は平均粒子サイズの異なる2種以上のマット剤を用いることができる。その場合、平均粒子サイズのもっとも大きいマット剤と、もっとも小さいマット剤の粒子サイズの差は、2μm以上14μm以下であることが好ましく、2μm以上9μm以下であることが更に好ましい。
3) Matting Agent In the present invention, it is preferable to add a matting agent for improving the transportability. The matting agent is described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. The matting agent is preferably 1 mg / m 2 or more and 400 mg / m 2 or less, more preferably 5 mg / m 2 or more and 300 mg / m 2 or less when expressed in terms of the coating amount per 1 m 2 of the photothermographic material.
In the present invention, the shape of the matting agent may be either a regular shape or an irregular shape, but is preferably a regular shape, and a spherical shape is preferably used.
The volume weighted average of the equivalent sphere diameters of the matting agent used on the image forming layer surface side is preferably from 0.3 μm to 10 μm, and more preferably from 0.5 μm to 7 μm. Further, the variation coefficient of the size distribution of the matting agent is preferably 5% or more and 80% or less, and more preferably 20% or more and 80% or less. Here, the coefficient of variation is a value represented by (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100. Further, two or more kinds of matting agents having different average particle sizes can be used as the matting agent on the image forming layer surface. In this case, the difference in particle size between the matting agent having the largest average particle size and the smallest matting agent is preferably 2 μm or more and 8 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 6 μm or less.
The volume weighted average of the equivalent sphere diameters of the matting agent used for the back surface is preferably 1 μm or more and 15 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 10 μm or less. The variation coefficient of the size distribution of the matting agent is preferably 3% or more and 50% or less, and more preferably 5% or more and 30% or less. Further, two or more kinds of matting agents having different average particle sizes can be used as the matting agent for the back surface. In that case, the difference in particle size between the matting agent having the largest average particle size and the smallest matting agent is preferably 2 μm or more and 14 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 9 μm or less.

また、画像形成層面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P8119「紙及び板紙のベック試験器による平滑度試験方法」及びTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。   The matting degree of the image forming layer surface may be any as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, particularly preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily determined by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.

本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好ましくは500秒以下40秒以上である。   In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.

本発明において、マット剤は熱現像感光材料の最外表面層若しくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。   In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photothermographic material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and also contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferred that

4)ポリマーラテックス
本発明の熱現像感光材料の非感光性層は、ポリマーラテックスを含有することが好ましい。このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート(33.5質量%)/エチルアクリレート(50質量%)/メタクリル酸(16.5質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(47.5質量%)/ブタジエン(47.5質量%)/イタコン酸(5質量%)コポリマーのラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(58.9質量%)/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4質量%)/スチレン(8.6質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.1質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(64.0質量%)/スチレン(9.0質量%)/ブチルアクリレート(20.0質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.0質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックスなどが挙げられる。さらに、表面保護層用のバインダーとして、特願平11−6872号明細書のポリマーラテックスの組み合わせ、特開2000−267226号明細書の段落番号0021〜0025に記載の技術、特願平11−6872号明細書の段落番号0027〜0028に記載の技術、特開2000−19678号明細書の段落番号0023〜0041に記載の技術を適用してもよい。表面保護層のポリマーラテックスの比率は全バインダーの10質量%以上90質量%以下が好ましく、特に20質量%以上80質量%以下が好ましい。
4) Polymer Latex The non-photosensitive layer of the photothermographic material of the invention preferably contains a polymer latex. For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / Methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, Methyl methacrylate (47.5 wt%) / Butadiene (47.5 wt%) / Itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl A latex of xyl acrylate (25.4% by weight) / styrene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned. Furthermore, as a binder for the surface protective layer, a combination of polymer latex described in Japanese Patent Application No. 11-6872, the technique described in Paragraph Nos. 0021 to 0025 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-267226, and Japanese Patent Application No. 11-6872. The technology described in paragraph numbers 0027 to 0028 of the specification and the technology described in paragraph numbers 0023 to 0041 of JP 2000-19678 may be applied. The ratio of the polymer latex in the surface protective layer is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less of the total binder.

5)膜面pH
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4〜6.2の範囲である。膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pHを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの測定方法は、特開2000−284399号明細書の段落番号0123に記載されている。
5) Membrane surface pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2. The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. A method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of JP-A No. 2000-284399.

6)硬膜剤
本発明における画像形成層、保護層、バック層など各層には、硬膜剤を用いても良い。
硬膜剤の例としてはT.H.James著「THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION」(Macmillan Publishing Co.,Inc.刊、1977年刊)、77頁から87頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、N,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)、N,N−プロピレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)の他、同書78頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6−208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62−89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
6) Hardener A hardener may be used for each layer such as the image forming layer, protective layer, and back layer in the present invention.
Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION" by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87, Chrome Alum, 2,4-dichloro-6 In addition to hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfoneacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same document, US Pat. No. 4,281 , 060, and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinylsulfone compounds such as JP-A-62-289048 are preferably used.

硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。   The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's “Liquid Mixing Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

7)界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11−65021号段落番号0132、溶剤については同号段落番号0133、支持体については同号段落番号0134、帯電防止又は導電層については同号段落番号0135、カラー画像を得る方法については同号段落番号0136に、滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特開2001−83679号段落番号0049〜0062記載されている。
本発明においてはフッ素系の界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例は特開平10−197985号、特開2000−19680号、特開2000−214554号等に記載された化合物があげられる。また、特開平9−281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料においては特開2002−82411号、特開2003−057780号及び特開2003−149766号記載のフッ素系界面活性剤の使用が好ましい。特に特開2003−057780号及び特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は水系の塗布液で塗布製造を行う場合、帯電調整能力、塗布面状の安定性、スベリ性の点で好ましく、特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は帯電調整能力が高く使用量が少なくてすむという点で最も好ましい。
本発明においてフッ素系界面活性剤は画像形成層面、バック面のいずれにも使用することができ、両方の面に使用することが好ましい。また、前述の金属酸化物を含む導電層と組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合には導電層を有する面のフッ素系界面活性剤の使用量を低減若しくは除去しても十分な性能が得られる。
フッ素系界面活性剤の好ましい使用量は画像形成層面、バック面それぞれに0.1mg/m2〜100mg/m2の範囲で、より好ましくは0.3mg/m2〜30mg/m2の範囲、さらに好ましくは1mg/m2〜10mg/m2の範囲である。特に特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は効果が大きく、0.01mg/m2〜10mg/m2の範囲が好ましく、0.1mg/m2〜5mg/m2の範囲がより好ましい。
7) Surfactant As for the surfactant applicable to the present invention, paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0133 of the solvent, paragraph No. 0134 of the support, and antistatic or conductive layer Are described in paragraph No. 0135 of the same number, paragraph No. 0136 of the same number about the method of obtaining a color image, paragraph numbers 0061 to 0064 of JP-A No. 11-84573 and paragraph numbers 0049 to 0062 of JP-A No. 2001-83679 about the slip agent. ing.
In the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant. Specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use fluorine-based surfactants described in JP-A Nos. 2002-82411, 2003-057780, and 2003-149766. In particular, the fluorosurfactants described in JP-A-2003-057780 and JP-A-2001-264110 are preferable in terms of charge adjustment ability, stability of the coated surface, and smoothness when coating and production is performed with an aqueous coating solution. The fluorine-based surfactant described in JP-A No. 2001-264110 is most preferable because it has a high charge adjusting ability and requires a small amount of use.
In the present invention, the fluorosurfactant can be used on either the image forming layer surface or the back surface, and is preferably used on both surfaces. Further, it is particularly preferable to use in combination with a conductive layer containing the above-described metal oxide. In this case, sufficient performance can be obtained even if the amount of the fluorosurfactant used on the surface having the conductive layer is reduced or removed.
The preferred amount of the fluorocarbon surfactant is an image forming layer side, the range to the back surface each 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 0.3mg / m 2 ~30mg / m 2 range, even more preferably from 1mg / m 2 ~10mg / m 2 . In particular JP fluorocarbon surfactant described in JP-A No. 2001-264110 is effective, and preferably in the range of 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 , more in the range of 0.1mg / m 2 ~5mg / m 2 preferable.

8)帯電防止剤
本発明においては金属酸化物あるいは導電性ポリマーを含む導電層を有することが好ましい。帯電防止層は下塗り層、表面保護層などと兼ねてもよく、また別途設けてもよい。
帯電防止層の導電性材料は金属酸化物中に酸素欠陥、異種金属原子を導入して導電性を高めた金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物の例としてはZnO、TiO2、SnO2が好ましく、ZnOに対してはAl、Inの添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が好ましい。
特にSbを添加したSnO2が好ましい。異種原子の添加量は0.01mol%〜30mol%の範囲が好ましく、0.1mol%〜10mol%の範囲がより好ましい。金属酸化物の形状は球状、針状、板状いずれでもよいが、導電性付与の効果の点で長軸/単軸比が2.0以上、好ましくは3.0〜50の針状粒子がよい。金属酸化物の使用量は好ましくは1mg/m2〜1000mg/m2の範囲で、より好ましくは10mg/m2〜500mg/m2の範囲、さらに好ましくは20mg/m2〜200mg/m2の範囲である。
本発明における帯電防止層は、いずれの層位置に設置してもよいが、支持体の下塗り層または下塗り層と近接して設置することが好ましい。帯電防止層の具体例は特開平11−65021号段落番号0135、特開昭56−143430号、同56−143431号、同58−62646号、同56−120519号、特開平11−84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11−223898号の段落番号0078〜0084に記載されている。
8) Antistatic agent In this invention, it is preferable to have a conductive layer containing a metal oxide or a conductive polymer. The antistatic layer may double as an undercoat layer or a surface protective layer, or may be provided separately.
As the conductive material for the antistatic layer, a metal oxide in which conductivity is improved by introducing oxygen defects or different metal atoms into the metal oxide is preferably used. Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 and SnO 2. Addition of Al and In to ZnO, addition of Sb, Nb, P and halogen elements to SnO 2 , and addition to TiO 2. For example, addition of Nb, Ta or the like is preferable.
In particular, SnO 2 added with Sb is preferable. The amount of different atoms added is preferably in the range of 0.01 mol% to 30 mol%, and more preferably in the range of 0.1 mol% to 10 mol%. The shape of the metal oxide may be spherical, needle-like, or plate-like, but the long axis / uniaxial ratio is 2.0 or more, preferably 3.0 to 50 in terms of the effect of imparting conductivity. Good. Range amount preferably of 1mg / m 2 ~1000mg / m 2 of metal oxide, more preferably 10mg / m 2 ~500mg / m 2 range, more preferably at 20mg / m 2 ~200mg / m 2 It is a range.
The antistatic layer in the present invention may be disposed at any layer position, but is preferably disposed in the vicinity of the undercoat layer or the undercoat layer of the support. Specific examples of the antistatic layer are disclosed in paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519 and JP-A No. 11-84573. Paragraph Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957, and JP-A-11-223898, paragraph Nos. 0078 to 0084.

9)支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130℃〜185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開平8−240877号実施例記載の染料−1)で着色されていてもよいし、無着色でもよい。支持体には、特開平11−84574号の水溶性ポリエステル、同10−186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000−39684号や特願平11−106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。支持体に画像形成層若しくはバック層を塗布するときの、支持体の含水率は0.5質量%以下であることが好ましい。
9) Support The transparent support is subjected to heat treatment in a temperature range of 130 ° C. to 185 ° C. in order to alleviate internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate heat shrinkage strain generated during heat development processing. Polyester, especially polyethylene terephthalate, is preferably used. In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer. When the image forming layer or the back layer is applied to the support, the moisture content of the support is preferably 0.5% by mass or less.

10)その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。各種の添加剤は、画像形成層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10−186567号、同10−18568号等を参考にすることができる。
10) Other additives Antioxidants, stabilizers, plasticizers, ultraviolet absorbers or coating aids may be further added to the photothermographic material. Various additives are added to either the image forming layer or the non-photosensitive layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.

11)塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、又は米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.Kistler、Petert M.Schweizer著「LIQUID FILM COATING」(CHAPMAN & HALL社刊、1997年)、399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、又はスライドコーティングが好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1にある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791号及び英国特許第837,095号に記載の方法により2層又はそれ以上の層を同時に被覆することができる。本発明において特に好ましい塗布方法は特開2001−194748号、同2002−153808号、同2002−153803号、同2002−182333号に記載された方法である。
11) Coating method The photothermographic material in the invention may be coated by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. The extrusion coating described in “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer (1997), pages 399 to 536 is preferably used, and slide coating is particularly preferably used. An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. . In the present invention, particularly preferred coating methods are those described in JP-A Nos. 2001-194748, 2002-153808, 2002-153803, and 2002-182333.

本発明における画像形成層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11−52509号を参考にすることができる。本発明における画像形成層塗布液は剪断速度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,000mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは500mPa・s以上20,000mPa・s以下である。また、剪断速度1000S-1においては1mPa・s以上200mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは5mPa・s以上80mPa・s以下である。 The image forming layer coating solution in the invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to. In the image forming layer coating solution of the present invention, the viscosity at a shear rate of 0.1 S −1 is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less. Further, at a shear rate of 1000 S −1 , 1 mPa · s to 200 mPa · s is preferable, and 5 mPa · s to 80 mPa · s is more preferable.

塗布液を調合する場合において2種の液を混合する際は公知のインライン混合機、インプラント混合機が好ましく用いられる。本発明における好ましいインライン混合機は、特開2002−85948号に、インプラント混合機は特開2002−90940号に記載されている。
本発明における塗布液は塗布面状を良好に保つため脱泡処理をすることが好ましい。本発明における好ましい脱泡処理方法については特開2002−66431号に記載された方法である。
塗布液を塗布する際には支持体の耐電による塵、ほこり等の付着を防止するために除電を行うことが好ましい。本発明において好ましい除電方法の例は特開2002−143747に記載されている。
本発明においては非セット性の画像形成層塗布液を乾燥するため乾燥風、乾燥温度を精密にコントロールすることが重要である。本発明における好ましい乾燥方法は特開2001−194749号、同2002−139814号に詳しく記載されている。
本発明の熱現像感光材料は成膜性を向上させるために塗布、乾燥直後に加熱処理をすることが好ましい。加熱処理の温度は膜面温度で60℃〜100℃の範囲が好ましく、加熱時間は1秒〜60秒の範囲が好ましい。より好ましい範囲は膜面温度が70℃〜90℃、加熱時間が2秒〜10秒の範囲である。本発明における好ましい加熱処理の方法は特開2002−107872号に記載されている。
また、本発明の熱現像感光材料を安定して連続製造するためには特開2002−156728号、同2002−182333号に記載の製造方法が好ましく用いられる。
In the case of preparing the coating liquid, a known in-line mixer or implant mixer is preferably used when mixing two kinds of liquids. A preferable in-line mixer in the present invention is described in JP-A No. 2002-85948, and an implant mixer is described in JP-A No. 2002-90940.
The coating solution in the present invention is preferably subjected to defoaming treatment in order to keep the coated surface state good. A preferable defoaming treatment method in the present invention is the method described in JP-A No. 2002-66431.
When applying the coating solution, it is preferable to perform static elimination in order to prevent adhesion of dust, dust, and the like due to electric resistance of the support. An example of a preferable static elimination method in the present invention is described in JP-A No. 2002-143747.
In the present invention, it is important to precisely control the drying air and the drying temperature in order to dry the non-setting image forming layer coating solution. Preferred drying methods in the present invention are described in detail in JP-A Nos. 2001-194749 and 2002-139814.
The photothermographic material of the present invention is preferably subjected to a heat treatment immediately after coating and drying in order to improve film formability. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 60 ° C. to 100 ° C. as the film surface temperature, and the heating time is preferably in the range of 1 second to 60 seconds. A more preferable range is a film surface temperature of 70 ° C. to 90 ° C. and a heating time of 2 seconds to 10 seconds. A preferable heat treatment method in the present invention is described in JP-A No. 2002-107872.
In order to stably and continuously produce the photothermographic material of the present invention, the production methods described in JP-A Nos. 2002-156728 and 2002-182333 are preferably used.

熱現像感光材料は、モノシート型(受像材料のような他のシートを使用せずに、熱現像感光材料上に画像を形成できる型)であることが好ましい。   The photothermographic material is preferably a mono-sheet type (a type capable of forming an image on the photothermographic material without using another sheet such as an image receiving material).

12)包装材料
本発明の熱現像感光材料は生保存時の写真性能の変動を押えるため、若しくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下である。
該酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号。特開2000−206653号明細書に記載されている包装材料である。
12) Packaging material The photothermographic material of the present invention is a packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to suppress fluctuations in photographic performance during raw storage or to improve curling and curling. It is preferable to package. The oxygen permeability is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less at 25 ° C., more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less, more preferably 1.0 ml / atm · m 2 · day or less. is there. The moisture permeability is preferably 10 g / atm · m 2 · day or less, more preferably 5 g / atm · m 2 · day or less, and still more preferably 1 g / atm · m 2 · day or less.
Specific examples of the packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability are disclosed in, for example, JP-A-8-254793. This is a packaging material described in JP-A-2000-206653.

13)その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56−62648号、同58−62644号、特開平9−43766、同9−281637、同9−297367号、同9−304869号、同9−311405号、同9−329865号、同10−10669号、同10−62899号、同10−69023号、同10−186568号、同10−90823号、同10−171063号、同10−186565号、同10−186567号、同10−186569号〜同10−186572号、同10−197974号、同10−197982号、同10−197983号、同10−197985号〜同10−197987号、同10−207001号、同10−207004号、同10−221807号、同10−282601号、同10−288823号、同10−288824号、同10−307365号、同10−312038号、同10−339934号、同11−7100号、同11−15105号、同11−24200号、同11−24201号、同11−30832号、同11−84574号、同11−65021号、同11−109547号、同11−125880号、同11−129629号、同11−133536号〜同11−133539号、同11−133542号、同11−133543号、同11−223898号、同11−352627号、同11−305377号、同11−305378号、同11−305384号、同11−305380号、同11−316435号、同11−327076号、同11−338096号、同11−338098号、同11−338099号、同11−343420号、同2000−187298号、同2001−200414号、同2001−234635号、同2002−020699号、同2001−275471号、同2001−275461号、同2000−313204号、同2001−292844号、同2000−324888号、同2001−293864号、同2001−348546号も挙げられる。
13) Other technologies that can be used Techniques that can be used in the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP-A-56-62648, JP-A-58-62644, and JP-A-5-62644. 9-43766, 9-281737, 9-297367, 9-304869, 9-31405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023 10-186568, 10-90823, 10-171603, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, Nos. 10-197982, 10-197983, 10-197985 to 1 No. 0-197987, No. 10-207001, No. 10-207004, No. 10-221807, No. 10-282601, No. 10-288823, No. 10-288824, No. 10-307365, No. 10- No. 312038, No. 10-339934, No. 11-7100, No. 11-15105, No. 11-24200, No. 11-24201, No. 11-30832, No. 11-84574, No. 11-65021 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11-305377, 11-305378, 11-305 84, 11-305380, 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, 2000-187298 2001-200414, 2001-234635, 2002-020699, 2001-275471, 2001-275461, 2000-313204, 2001-292844, 2000-324888, Examples include 2001-293864 and 2001-348546.

(画像形成方法)
本発明の熱現像感光材料は、好ましくは、支持体の両面に画像形成層を有する両面型である。
(Image forming method)
The photothermographic material of the present invention is preferably a double-sided type having image forming layers on both sides of a support.

本発明の熱現像感光材料は、蛍光増感スクリーンを用いてX線画像を記録する画像形成方法に好ましく用いることができる。
これらの熱現像感光材料を用いて画像形成する工程は以下の工程よりなる。
(i)前記熱現像感光材料と蛍光増感スクリーンと重ね合わせて放射線画像露光を行い、前記熱現像感光材料に潜像を記録する工程。
(ii)熱現像により前記潜像を可視画像に変換する熱現像工程。
The photothermographic material of the present invention can be preferably used in an image forming method for recording an X-ray image using a fluorescent intensifying screen.
The process of forming an image using these photothermographic materials comprises the following processes.
(I) A step of superposing the photothermographic material and a fluorescent intensifying screen to perform radiation image exposure and recording a latent image on the photothermographic material.
(Ii) A thermal development step of converting the latent image into a visible image by thermal development.

本発明における組立体において使用する熱現像感光材料は、X線によって階段露光し、熱現像して得られる画像が、光学濃度(D)及び露光量(logE)の座標軸単位長の等しい直交座標上の特性曲線において、最小濃度(Dmin)+濃度0.1の点と最小濃度(Dmin)+濃度0.5の点とで作る平均ガンマ(γ)が0.5〜0.9であり、そして最小濃度(Dmin)+濃度1.2の点と最小濃度(Dmin)+濃度1.6の点とで作る平均ガンマ(γ)が3.2〜4.0である特性曲線を有するように調製されていることが好ましい。
本発明のX線撮影系において、このような特性曲線を有する熱現像感光材料を用いると、脚部が非常に延びていて、かつ中濃度部ではガンマの高いといった優れた写真特性のX線画像が得られる。この写真特性により、X線透過量の少ない縦隔部、心陰影等の低濃度域の描写性が良好になり、かつX線透過量の多い肺野部の画像においても視覚し易い濃度となり、またコントラストも良好になるとの利点がある。
The photothermographic material used in the assembly of the present invention is an image obtained by performing stair exposure with X-rays, and the image obtained by heat development on orthogonal coordinates having the same optical axis (D) and exposure amount (log E) coordinate axis unit length. In the characteristic curve, the average gamma (γ) formed by the point of minimum density (Dmin) + density 0.1 and the point of minimum density (Dmin) + density 0.5 is 0.5 to 0.9, and Prepared to have a characteristic curve having an average gamma (γ) of 3.2 to 4.0 formed by a point of minimum density (Dmin) + density 1.2 and minimum density (Dmin) + density 1.6. It is preferable that
In the X-ray imaging system of the present invention, when a photothermographic material having such a characteristic curve is used, an X-ray image having excellent photographic characteristics such that the legs are extremely extended and the gamma is high in the medium density portion. Is obtained. Due to this photographic characteristic, the description of the low density region such as the mediastinum with a small amount of X-ray transmission and heart shadow is good, and the density becomes easy to see even in the image of the lung field with a large amount of X-ray transmission. In addition, there is an advantage that the contrast becomes good.

上記のような好ましい特性曲線を有する熱現像感光材料は、たとえば、両側の画像形成層のそれぞれを、互いに異なった感度を持つ二層以上のハロゲン化銀乳剤層(画像形成層)から構成するような方法で容易に製造することができる。
特に、上層には高感度の乳剤を用い、下層には低感度で硬調な写真特性を有する乳剤を用いて、画像形成層を形成することが好ましい。
このような二層からなる画像形成層を用いる場合における各層間のハロゲン化銀乳剤の感度差は1.5倍以上20倍以下、好ましくは2倍以上15倍以下である。
なお、それぞれの層の形成に用いられる乳剤の量の比率は、用いられる乳剤の感度差およびカバリングパワーにより異なる。一般には、感度差が大きい程、高感度側の乳剤の使用比率を下げる。たとえば、感度差が2倍であるときの好ましい各乳剤の使用比率は、カバリングパワーがほぼ等しい場合には、銀量換算で、高感度乳剤対低感度乳剤として1:20以上1:50以下の範囲の値となるように調整される。
In the photothermographic material having the preferable characteristic curve as described above, for example, each of the image forming layers on both sides is composed of two or more silver halide emulsion layers (image forming layers) having different sensitivities. It can be easily manufactured by a simple method.
In particular, it is preferable to form an image forming layer using a high-sensitivity emulsion for the upper layer and an emulsion having low sensitivity and high photographic characteristics for the lower layer.
When such an image forming layer comprising two layers is used, the difference in sensitivity of the silver halide emulsions between the respective layers is 1.5 to 20 times, preferably 2 to 15 times.
The ratio of the amount of emulsion used to form each layer varies depending on the sensitivity difference and covering power of the emulsion used. In general, the larger the sensitivity difference, the lower the usage ratio of the emulsion on the high sensitivity side. For example, when the difference in sensitivity is double, the preferable ratio of each emulsion is 1:20 or more and 1:50 or less as a high-sensitivity emulsion and a low-sensitivity emulsion in terms of silver when the covering power is almost equal. It is adjusted to be a range value.

クロスオーバーカット(両面感光材料)とアンチハレーション(片面感光材料)の技術としては、特開平2−68539号公報、第13頁左下欄1行目から同第14頁左下欄9行 目に記載の染料もしくは染料と媒染剤を用いることができる。   The technique of crossover cut (double-sided photosensitive material) and antihalation (single-sided photosensitive material) is described in JP-A-2-68539, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column, line 9; Dyes or dyes and mordants can be used.

1)蛍光増感スクリーン
次に、本発明の蛍光増感スクリーンについて説明する。蛍光増感スクリーンは、基本構造として、支持体と、その片面に形成された蛍光体層とからなる。蛍光体層は、蛍光体が結合剤(バインダ)中に分散されてなる層である。なお、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支持体に面していない側の表面)には一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。
1) Fluorescent Intensifying Screen Next, the fluorescent intensifying screen of the present invention will be described. The fluorescent intensifying screen includes, as a basic structure, a support and a phosphor layer formed on one side thereof. The phosphor layer is a layer in which a phosphor is dispersed in a binder. In general, a transparent protective film is provided on the surface of the phosphor layer opposite to the support (the surface not facing the support), and the phosphor layer is chemically altered or Protects against physical shock.

本発明でより好ましく用いられるX線用蛍光増感スクリーンは、発光光の50%以上が波長350nm以上420nm以下であるものである。特に、その蛍光体が、2価のEu賦活蛍光体であることが好ましく、さらに好ましくは2価のEu賦活バリウムハライド系蛍光体である。発光波長領域は、好ましくは360nm〜420nm、より好ましくは370nm〜420nmである。また、より好ましくは、同領域に70%以上さらに好ましくは85%以上の発光を有する蛍光スクリーンである。
この発光光の割合は、以下の方法によって計算される。すなわち横軸に発光波長を真数で等間隔にとり、発光フォトン数を縦軸にとって発光スペクトルを測定する。このチャート上の350nm以上420nm以下の面積を全発光スペクトルの面積で割った値を350nm以上420nm以下の波長に発光する割合と定義する。このような波長に発光を有することによって本発明の熱現像感光材料との組み合わせで高感度が達成できる。
In the X-ray fluorescent intensifying screen more preferably used in the present invention, 50% or more of emitted light has a wavelength of 350 nm or more and 420 nm or less. In particular, the phosphor is preferably a divalent Eu-activated phosphor, and more preferably a divalent Eu-activated barium halide phosphor. The emission wavelength region is preferably 360 nm to 420 nm, more preferably 370 nm to 420 nm. More preferably, the fluorescent screen has light emission of 70% or more, more preferably 85% or more in the same region.
The ratio of the emitted light is calculated by the following method. That is, the emission spectrum is measured with the emission wavelength on the horizontal axis at equal intervals with a true number and the number of emitted photons on the vertical axis. A value obtained by dividing the area of 350 nm to 420 nm on this chart by the area of the entire emission spectrum is defined as the ratio of light emitted at a wavelength of 350 nm to 420 nm. By having light emission at such a wavelength, high sensitivity can be achieved in combination with the photothermographic material of the present invention.

このような波長域に蛍光体のほとんどの発光光が存在するためには発光光の半値幅は狭い方が好ましい。好ましい半値幅は1nm以上70nm以下、より好ましくは5nm以上50nm以下、さらに好ましくは10nm以上40nm以下である。   In order to have most of the emitted light of the phosphor in such a wavelength range, it is preferable that the half width of the emitted light is narrow. The preferred half-value width is 1 nm to 70 nm, more preferably 5 nm to 50 nm, and still more preferably 10 nm to 40 nm.

このような発光が得られれば使用する蛍光体には特に制限はないが、本発明の目的である高感度化のためには2価のEuを発光中心とするEu賦活蛍光体であることが好ましい本発明はこれに限定されるものではない。   The phosphor to be used is not particularly limited as long as such light emission is obtained. However, in order to achieve high sensitivity, which is the object of the present invention, the phosphor may be an Eu-activated phosphor having a divalent Eu as the emission center. The preferred present invention is not limited to this.

BaFCl:Eu、BaFBr:Eu、BaFI:Euおよびこれらのハロゲン組成を変更したもの、BaSO4:Eu、SrFBr:Eu、SrFCl:Eu、SrFI:Eu、(Sr,Ba)Al2Si28:Eu、SrB47F:Eu、SrMgP27:Eu、Sr3(PO42:Eu、Sr227:Euなどである。 BaFCl: Eu, BaFBr: Eu, BaFI: Eu and those modified in halogen composition, BaSO 4 : Eu, SrFBr: Eu, SrFCl: Eu, SrFI: Eu, (Sr, Ba) Al 2 Si 2 O 8 : Eu, SrB 4 O 7 F: Eu, SrMgP 2 O 7 : Eu, Sr 3 (PO 4 ) 2 : Eu, Sr 2 P 2 O 7 : Eu, and the like.

より好ましい蛍光体としてはMX12:Euの一般式で表される2価のEu賦活バリウムハライド系蛍光体である。ここでMはBaを主成分とするがMg、Ca,Sr等のその他の化合物を少量好ましく含有することが可能である。X1、X2はハロゲン原子であり、F、Cl、Br、Iの中から任意に選択することが可能である。ここでX1はフッ素であることが好ましい。X2はCl、Br、Iの中から選択することが可能であり、これらのいくつかのハロゲン組成を混在させることも好ましく用いることができる。さらに好ましくはX2=Brである。Euはユーロピウムである。発光中心であるEuはBaに対して10-7以上0.1以下の割合で含まれることが好ましい。より好ましくは10-4以上0.05以下である。少量のその他の化合物を混入させることも好ましく行われる。もっとも好ましい蛍光体としては、BaFCl:Eu、BaFBr:Eu、BaFBr1-XX:Euが挙げられる。 A more preferable phosphor is a divalent Eu-activated barium halide phosphor represented by the general formula MX 1 X 2 : Eu. Here, M contains Ba as a main component, but it is possible to preferably contain a small amount of other compounds such as Mg, Ca and Sr. X 1 and X 2 are halogen atoms, and can be arbitrarily selected from F, Cl, Br, and I. Here, X 1 is preferably fluorine. X 2 can be selected from Cl, Br, and I, and a mixture of some of these halogen compositions can also be preferably used. More preferably, X 2 = Br. Eu is europium. Eu as the emission center is preferably contained at a ratio of 10 −7 to 0.1 with respect to Ba. More preferably, it is 10 −4 or more and 0.05 or less. It is also preferable to mix a small amount of other compounds. Most preferred phosphors include BaFCl: Eu, BaFBr: Eu, and BaFBr 1-X I X : Eu.

蛍光増感スクリーンは、好ましくは支持体、支持体上の下塗り層、蛍光体層、表面保護層より構成される。
蛍光体層は、前記蛍光体の粒子と結合剤樹脂を含有する有機溶剤溶液に分散させて分散液を調製した後、その分散液を支持体(支持体上に光反射層等の下塗層が設けられている場合にはその下塗層)の上に直接塗布、乾燥することにより形成することができる。あるいは、別に用意した仮支持体上にこの分散液を塗布、乾燥して蛍光体シートを形成した後、蛍光体シートを仮支持体から剥がし取って、接着剤を用いてい支持体上に付設してもよい。
The fluorescent intensifying screen is preferably composed of a support, an undercoat layer on the support, a phosphor layer, and a surface protective layer.
The phosphor layer is prepared by dispersing the phosphor layer in an organic solvent solution containing the phosphor particles and a binder resin, and then dispersing the dispersion into a support (an undercoat layer such as a light reflection layer on the support). Can be formed by directly coating and drying on the subbing layer). Alternatively, after applying this dispersion on a separately prepared temporary support and drying to form a phosphor sheet, the phosphor sheet is peeled off from the temporary support and attached to the support using an adhesive. May be.

蛍光体粒子の粒径に特に制限はなく、通常は約1μm〜15μmの範囲であり、好ましくは約2μm〜10μmの範囲である。蛍光体層中における蛍光体粒子の体積充填率は高い方が好ましく、通常は60%〜85%の範囲にあり、好ましくは65〜80%の範囲であり、特に好ましくは68%〜75%の範囲である。(蛍光体層における蛍光体粒子の比率は通常は80質量%以上であり、好ましくは90質量%以上、特に好ましくは95質量%以上である。)蛍光体層の形成に用いる結合剤樹脂、有機溶剤及び任意に用いることのできる各種添加剤については、公知の各種の文献に記載されている。蛍光体層の厚みは、目標とする感度に応じて任意に設定することができるが、好ましくはフロント側スクリーンについては70μm〜150μmの範囲であり、バック側スクリーンについては80μm〜400μmの範囲である。なお、蛍光体層のX線吸収率は蛍光体粒子の塗布量によって決定される。   There is no restriction | limiting in particular in the particle size of fluorescent substance particle, Usually, it is the range of about 1 micrometer-15 micrometers, Preferably it is the range of about 2 micrometers-10 micrometers. The volume filling rate of the phosphor particles in the phosphor layer is preferably higher, usually in the range of 60% to 85%, preferably in the range of 65 to 80%, particularly preferably in the range of 68% to 75%. It is a range. (The ratio of the phosphor particles in the phosphor layer is usually 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 95% by mass or more.) Binder resin used for forming the phosphor layer, organic Solvents and various additives that can optionally be used are described in various known documents. The thickness of the phosphor layer can be arbitrarily set according to the target sensitivity, but is preferably in the range of 70 μm to 150 μm for the front side screen and in the range of 80 μm to 400 μm for the back side screen. . The X-ray absorption rate of the phosphor layer is determined by the amount of phosphor particles applied.

なお、蛍光体層は一層でもよいが、あるいは二層以上から構成してもよい。好ましくは、一層乃至三層であり、より好ましくは一層もしくは二層である。例えば、粒径分布の比較的狭い、粒径の異なる蛍光体粒子からなる層を積層してもよいし、その場合には支持体に近い層ほど粒径が小さくなるようにしてもよい。特に表面保護層側に大粒径の蛍光体粒子を塗布し、支持体側に小粒径の蛍光体粒子を塗布することが好ましく、小粒径のものは0.5μm〜2.0μmで、大粒径のものは10μm〜30μmの範囲が好ましい。
また、粒径の異なる蛍光体粒子を混合して蛍光体層を形成してもよいし、あるいは特公昭55−33560号の第3頁左欄3行目〜第4頁左欄39行目に記載されているように、蛍光体粒子の粒径分布が傾斜している構造の蛍光体層であってもよい。通常、蛍光体の粒径分布の変動係数は30%〜50%の範囲にあるが、その変動係数が30%以下の単分散の蛍光体粒子も好ましく用いることができる。
The phosphor layer may be a single layer or may be composed of two or more layers. One to three layers are preferable, and one or two layers are more preferable. For example, layers composed of phosphor particles having a relatively narrow particle size distribution and different particle sizes may be laminated. In that case, the layer closer to the support may have a smaller particle size. In particular, it is preferable to apply phosphor particles having a large particle size to the surface protective layer side, and to apply phosphor particles having a small particle size to the support side, and those having a small particle size are 0.5 μm to 2.0 μm. The thing of a particle size has the preferable range of 10 micrometers-30 micrometers.
Further, phosphor layers having different particle diameters may be mixed to form a phosphor layer, or in Japanese Patent Publication No. 55-33560, page 3, left column, line 3 to page 4, left column, line 39. As described, the phosphor layer may have a structure in which the particle size distribution of the phosphor particles is inclined. Usually, the variation coefficient of the particle size distribution of the phosphor is in the range of 30% to 50%, but monodispersed phosphor particles having a variation coefficient of 30% or less can also be preferably used.

蛍光体層を、発光波長に対して染色することによって好ましい鮮鋭度を出すこころみの行われている。ただしできるだけ染色が少ない層設計が好ましく用いられる。蛍光体層の吸収長は好ましくは100μm以上、より好ましくは1000μm以上である。
散乱長は0.1μm以上100μm以下に設計されることが好ましい。より好ましくは1μm以上100μm以下である。散乱長・吸収長は後述するクベルカ・ムンク(Kubelka−Munk)の理論に基づく計算式により算出することができる。
Efforts are made to produce a preferable sharpness by dyeing the phosphor layer with respect to the emission wavelength. However, a layer design with as little dyeing as possible is preferably used. The absorption length of the phosphor layer is preferably 100 μm or more, more preferably 1000 μm or more.
The scattering length is preferably designed to be 0.1 μm or more and 100 μm or less. More preferably, it is 1 μm or more and 100 μm or less. The scattering length and the absorption length can be calculated by a calculation formula based on the Kubelka-Munk theory described later.

支持体としては、公知の蛍光増感スクリーンに用いる各種の支持体の中から目的に応じて適宜選択して使用することができる。例えば、二酸化チタン等の白色顔料を含むポリマーフィルムもしくはカーボンブラック等の黒色顔料を含むポリマーフィルムが好ましく用いられる。支持体の表面(蛍光体層が設けられる側の表面)には、光反射材料を含有する光反射層などの下塗層を設けてもよい。特開2001−124898号に記載のような光反射層も好ましく用いられる。特に同特許実施例1に記載の酸化イットリウムによる光反射層、同特許実施例4に記載の光反射層は好ましく用いられる。好ましい光反射層としては特開23001−124898号公報の3項右側15行目〜同4項右側23行目までの記載を参考にすることができる。   The support can be appropriately selected from various supports used for known fluorescent intensifying screens according to the purpose. For example, a polymer film containing a white pigment such as titanium dioxide or a polymer film containing a black pigment such as carbon black is preferably used. An undercoat layer such as a light reflecting layer containing a light reflecting material may be provided on the surface of the support (the surface on the side where the phosphor layer is provided). A light reflecting layer as described in JP-A-2001-124898 is also preferably used. In particular, the light reflecting layer made of yttrium oxide described in Patent Example 1 and the light reflecting layer described in Patent Example 4 are preferably used. As for a preferred light reflecting layer, the description of JP-A 23001-124898, from the third term on the 15th line on the right to the fourth term on the right on the 23rd line can be referred to.

蛍光体層の表面には表面保護層を設けるのが好ましい。蛍光体の主発光波長において測定される光散乱長が5μm〜80μmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは10μm〜70μmの範囲であり、特に好ましくは10μm〜60μmの範囲である。ここで、光散乱長は、光が一回散乱するまでに直進する平均距離を表し、散乱長が短いほど光散乱性が高いことを意味する。また、光が吸収されるまでの平均自由距離を表す光吸収長は任意であるが、スクリーン感度の観点からは表面保護層の吸収はない方が減感が少ないため好ましい。散乱不足を補う意味で、極僅かな吸収性を持たせることもできる。吸収長は、好ましくは800μm以上であり、特に好ましくは1200μm以上である。光散乱長および光吸収長は、下記の方法によって測定した測定値を用いてクベルカ・ムンク(Kubelka−Munk)の理論に基づく計算式により算出することができる。   A surface protective layer is preferably provided on the surface of the phosphor layer. The light scattering length measured at the main emission wavelength of the phosphor is preferably in the range of 5 μm to 80 μm, more preferably in the range of 10 μm to 70 μm, and particularly preferably in the range of 10 μm to 60 μm. Here, the light scattering length represents an average distance in which light travels straight before being scattered once, and the shorter the scattering length, the higher the light scattering property. The light absorption length representing the mean free distance until light is absorbed is arbitrary, but from the viewpoint of screen sensitivity, it is preferable that the surface protective layer does not absorb because the desensitization is less. In order to make up for the lack of scattering, it is possible to provide a slight absorption. The absorption length is preferably 800 μm or more, particularly preferably 1200 μm or more. The light scattering length and the light absorption length can be calculated by a calculation formula based on the Kubelka-Munk theory using the measured values measured by the following method.

まず、測定対象の表面保護層と同一の組成を有し、互いに層厚が相違する三枚以上のフィルム試料を作製する。次に、各々のフィルム試料の厚み(μm)と拡散透過率(%)とを測定する。拡散透過率は、通常の分光光度計に積分球を付設した装置により測定することができる。本発明における測定では、自記分光光度計((株)日立製作所製、U−3210型)に150φ積分球(150−0901)を付設して用いる。測定波長は、表面保護層を付設する対象の蛍光体層の蛍光体の主発光のピーク波長と一致させる必要がある。次いで、フィルムの厚み(μm)と拡散透過率(%)の測定値とを、クベルカ・ムンクの理論式より導出される下記の式(A)に導入する。式(A)は、例えば「蛍光体ハンドブック」(蛍光体同学会編集、(株)オーム社、1987年刊行)、403頁の式5・1・12〜5・1・15から拡散透過率T(%)の境界条件の下に簡単に導くことができる。   First, three or more film samples having the same composition as the surface protective layer to be measured and having different layer thicknesses are prepared. Next, the thickness (μm) and diffuse transmittance (%) of each film sample are measured. The diffuse transmittance can be measured by a device in which an integrating sphere is attached to a normal spectrophotometer. In the measurement in the present invention, a 150φ integrating sphere (150-0901) is attached to a self-recording spectrophotometer (U-3210, manufactured by Hitachi, Ltd.). The measurement wavelength needs to match the peak wavelength of the main light emission of the phosphor of the target phosphor layer to which the surface protective layer is attached. Next, the measured value of the film thickness (μm) and diffuse transmittance (%) are introduced into the following formula (A) derived from Kubelka-Munk's theoretical formula. Formula (A) can be expressed, for example, from “Phosphor Handbook” (Edited by Phosphors Association, Ohm Co., Ltd., published in 1987), pages 403, formulas 5 · 1 · 12 to 5 · 1 · 15 and diffuse transmittance T (%) Can be easily derived under the boundary condition.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

ただし、Tは拡散透過率(%)、dはフィルム厚み(μm)であり、αおよびβはそれぞれ下記の式で定義される。   Where T is the diffuse transmittance (%), d is the film thickness (μm), and α and β are defined by the following equations, respectively.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

三枚以上のフィルムについて測定したT(拡散透過率:%)及びd(フィルム厚み:μm)をそれぞれ上記の式(A)に導入し、式(A)を満足するKおよびSを算出する。散乱長(μm)は1/Sにより定義され、そして吸収長(μm)は1/Kにより定義される。   T (diffusion transmittance:%) and d (film thickness: μm) measured for three or more films are respectively introduced into the above equation (A), and K and S satisfying the equation (A) are calculated. The scattering length (μm) is defined by 1 / S and the absorption length (μm) is defined by 1 / K.

表面保護層は、また、光散乱性粒子が樹脂材料中に分散含有された構成であることが好ましい。光散乱性粒子の光屈折率は通常は1.6以上であり、好ましくは1.9以上である。また、光散乱性粒子の粒子径は通常は0.1μm〜1.0μmの範囲にある。このような光散乱性粒子の例としては、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン、酸化ニオブ、硫酸バリウム、炭酸鉛、酸化ケイ素、ポリメチルメタクリレート、スチレン、およびメラミンの微粒子を挙げることができる。   The surface protective layer preferably has a structure in which light scattering particles are dispersed and contained in a resin material. The light refractive index of the light-scattering particles is usually 1.6 or more, preferably 1.9 or more. The particle diameter of the light scattering particles is usually in the range of 0.1 μm to 1.0 μm. Examples of such light-scattering particles include aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, titanium oxide, niobium oxide, barium sulfate, lead carbonate, silicon oxide, polymethyl methacrylate, styrene, and melamine fine particles. Can be mentioned.

表面保護層を形成するのに用いる樹脂材料については、特段の制限はないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、アラミド、フッ素樹脂、ポリエステル等を好ましく用いることができる。表面保護層は、上記の光散乱性粒子を樹脂材料(結合剤樹脂)を含有する有機溶剤溶液に分散させて分散液を調製した後、その分散液を蛍光体層上に(あるいは任意の補助層を介して)直接に塗布、乾燥することにより形成することができる。あるいは別途形成した保護層用シートを接着剤を用いて蛍光体層上に付設してもよい。表面保護層の厚みは、通常は2μm〜12μmの範囲にあり、好ましくは3.5μm〜10μmの範囲である。   The resin material used for forming the surface protective layer is not particularly limited, but polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide, aramid, fluororesin, polyester, and the like can be preferably used. The surface protective layer is prepared by dispersing the light scattering particles in an organic solvent solution containing a resin material (binder resin), and then preparing the dispersion on the phosphor layer (or any auxiliary material). It can be formed by coating and drying directly (through the layer). Or you may attach the sheet | seat for protective layers formed separately on the fluorescent substance layer using an adhesive agent. The thickness of the surface protective layer is usually in the range of 2 μm to 12 μm, and preferably in the range of 3.5 μm to 10 μm.

さらに、蛍光増感スクリーンの好ましい製造方法およびそれに用いる材料については、例えば特開平9−21899号公報の第6頁左欄47行目〜第8頁左欄5行目、特開平6−347598号公報の第2頁右欄17行目〜第3頁左欄33行目、および同公報第3頁左欄42行目〜第4頁左欄22行目に詳しい記載があり、それらを参照することができる。   Further, for a preferred method for producing a fluorescent intensifying screen and materials used therefor, for example, JP-A-9-21899, page 6, left column, line 47 to page 8, left column, line 5, JP-A-6-347598. There are detailed descriptions on page 2, right column, line 17 to page 3, left column, line 33, and page 3, left column, line 42 to page 4, left column, line 22 of the publication. be able to.

本発明で用いる蛍光増感スクリーンは、傾斜粒径構造で蛍光体を充填することが好ましい。特に表面保護層側に大粒径の蛍光体粒子を塗布し、支持体側に小粒径の蛍光体粒子を塗布することが好ましく、小粒径のものは0.5μm〜2.0μmで、大粒径のものは10μm〜30μmの範囲が好ましい。   The fluorescent intensifying screen used in the present invention is preferably filled with a phosphor with an inclined particle size structure. In particular, it is preferable to apply phosphor particles having a large particle size to the surface protective layer side, and to apply phosphor particles having a small particle size to the support side, and those having a small particle size are 0.5 μm to 2.0 μm. The thing of a particle size has the preferable range of 10 micrometers-30 micrometers.

本発明の熱現像感光材料を用いた画像形成方法としては、好ましくは400nm以下に主ピークを持つ蛍光体との組み合わせで画像形成する方法を用いることができる。さらに好ましくは380nm以下に主ピークを持つ蛍光体と組み合わせて画像形成する方法が良い。両面感材、片面感材のいずれでも組立て体として用いることができる。400nm以下に主発光ピークであるスクリーンは特開平6−11804号、WO93/01521号に記載のスクリーンなどが使われるがこれに限られるものではない。紫外線のクロスオーバーカット(両面感光材料)とアンチハレーション(片面感光材料)の技術としては、特開平8−76307号公報に記載の技術を用いることができる。紫外線吸収染料としては、特開2001−144030号に記載の染料は特に好ましい。   As an image forming method using the photothermographic material of the present invention, a method of forming an image by combining with a phosphor having a main peak preferably at 400 nm or less can be used. More preferably, a method of forming an image in combination with a phosphor having a main peak at 380 nm or less is preferable. Either a double-sided sensitive material or a single-sided sensitive material can be used as an assembly. As the screen having a main emission peak at 400 nm or less, the screens described in JP-A-6-11804 and WO93 / 01521 are used, but not limited thereto. As a technique of ultraviolet crossover cut (double-sided photosensitive material) and antihalation (single-sided photosensitive material), the technique described in JP-A-8-76307 can be used. As the ultraviolet absorbing dye, the dye described in JP-A No. 2001-144030 is particularly preferable.

2)熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80℃〜250℃であり、さらに好ましくは100℃〜140℃である。現像時間としては1秒〜60秒が好ましく、5秒〜30秒がさらに好ましく、5秒〜20秒が特に好ましい。
2) Photothermographic development The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 ° C to 250 ° C, more preferably 100 ° C to 140 ° C. The development time is preferably 1 second to 60 seconds, more preferably 5 seconds to 30 seconds, and particularly preferably 5 seconds to 20 seconds.

熱現像の方式としてはプレートヒーター方式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式とは特開平11−133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを2段〜6段に分けて先端部については1℃〜10℃程度温度を下げることが好ましい。
両面型熱現像感光材料の熱現像のためには、複数の加熱手段を両面を加熱し得るように、熱現像感光材料の搬送方向に沿って背向して配置するのが好ましい。
A plate heater method is preferred as the heat development method. The heat development method using the plate heater method is preferably the method described in JP-A-11-133572. The heat development photosensitive material having the latent image formed thereon is brought into contact with the heating means in the heat development section to obtain a visible image. In the developing device, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the heat is interposed between the press roller and the plate heater. A thermal development apparatus that performs thermal development by passing a development photosensitive material. It is preferable to divide the plate heater into two to six stages and lower the temperature at the tip by about 1 ° C. to 10 ° C.
For the heat development of the double-sided photothermographic material, it is preferable to arrange a plurality of heating means facing back along the transport direction of the photothermographic material so that both sides can be heated.

このような方法は特開昭54−30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもできる。   Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the photothermographic material due to heating of the photothermographic material.

(本発明の用途)
本発明の熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
(Use of the present invention)
The photothermographic material of the present invention preferably forms a black and white image by a silver image and is used as a photothermographic material for medical diagnosis.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
1.PET支持体の作製、および下塗り
1−1.製膜
Example 1
1. 1. Production of PET support and undercoat 1-1. Film formation

テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥した。青色染料(1,4−ビス(2,6−ジエチルアニリノアントラキンノン)で青色着色し、その後T型ダイから押し出して急冷し、未延伸フィルムを作製した。   Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio)) was obtained according to a conventional method. This was pelletized and dried at 130 ° C. for 4 hours. The film was colored blue with a blue dye (1,4-bis (2,6-diethylanilinoanthraquinone), then extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film.

これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。 This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.

1−2.表面コロナ放電処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
1-2. Surface Corona Discharge Treatment Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.

1−3.下塗り支持体の作製
1)下塗層塗布液の作製
処方(1)(感光層側下塗り層用)
高松油脂(株)製ペスレジンA520(30質量%溶液) 46.8g
東洋紡績(株)製バイロナールMD1200 10.4g
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数:8.5)1質量%溶液 11.0g
綜研化学(株)製MP1000(PMMAポリマー微粒子、平均粒径0.4μm)
0.91g
蒸留水 931ml
1-3. Preparation of undercoat support 1) Preparation formulation of undercoat layer coating solution (1) (for photosensitive layer side undercoat layer)
46.8 g of pesresin A520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Bailonal MD1200 10.4g, manufactured by Toyobo Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average ethylene oxide number: 8.5) 1% by mass solution 11.0 g
MP1000 (PMMA polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
0.91g
931 ml of distilled water

2)下塗り
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、上記下塗り塗布液処方(1)をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、これを両面に施して、下塗り支持体を作製した。
2) Undercoat After each of the two surfaces of the 175 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate support was subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation (1) was coated with a wire bar at a wet coating amount of 6.6 ml / m. 2 (per one side) was applied and dried at 180 ° C. for 5 minutes, and this was applied to both sides to prepare an undercoat support.

2.塗布用材料の準備
1)感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製
−ホスト粒子の調製−
蒸留水1421mlに1質量%ヨウ化カリウム溶液4.3mlを加え、さらに0.5モル/L硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン36.5g、2,2’−(エチレンジチオ)ジエタノールの5質量%メタノ−ル溶液160mlを添加した溶液を、ステンレス製反応壷中で撹拌しながら75℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え218mlに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム36.6gを蒸留水にて366mlに希釈した溶液Bを、溶液Aは一定流量で16分かけて全量添加し、溶液BはpAgを10.2に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。
その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて508.2mlに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム63.9gを蒸留水にて639mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で80分かけて全量添加し、溶液DはpAgを10.2に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。
銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。
0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
こうして未後熟の純ヨウ化銀乳剤を作製した。
2. Preparation of coating materials 1) Preparation of photosensitive silver halide emulsion A-Preparation of host grains-
4.3 ml of 1% by weight potassium iodide solution is added to 1421 ml of distilled water, and 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, 36.5 g of phthalated gelatin, and 5 mass of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol. The solution to which 160 ml of methanol solution was added was stirred in a stainless steel reaction vessel while maintaining the liquid temperature at 75 ° C., and 22.22 g of silver nitrate was added to distilled water and diluted to 218 ml. Solution B in which 6 g was diluted to 366 ml with distilled water was added in a total amount over 16 minutes at a constant flow rate, and solution B was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2.
Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 508.2 ml, and a solution D in which 63.9 g of potassium iodide were diluted to 639 ml with distilled water, and solution C was added at a constant flow rate over 80 minutes. The entire amount was added, and Solution D was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2.
The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver.
The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.
Thus, an unripe pure silver iodide emulsion was prepared.

得られたハロゲン化銀粒子は、平均投影面積直径0.93μm、平均投影面積直径の変動係数17.7%、平均厚み0.057μm、平均アスペクト比16.3の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.42μmであった。X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の30%以上がγ相で存在していた。   The obtained silver halide grains had an average projected area diameter of 0.93 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 17.7%, an average thickness of 0.057 μm, and an average aspect ratio of 16.3 tabular grains having a total projected area. It accounted for over 80%. The equivalent sphere diameter was 0.42 μm. As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 30% or more of silver iodide was present in the γ phase.

−エピタキシャル接合部の調製−
上記未後熟乳剤の1モルを反応容器に入れた。pAgは38℃で測定して10.2であった。次いで、ダブルジェット添加により、0.5モル/LのKBr溶液及び0.5モル/LのAgNO3溶液を10ml/分で20分間にわたって添加し、実質的に10モル%臭化銀をAgIホスト粒子上にエピタキシャル状に沈殿させた。操作中、pAgは10.2に維持した。さらに、0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調製し、撹拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
-Preparation of epitaxial junction-
One mole of the unripe emulsion was placed in a reaction vessel. The pAg was 10.2 measured at 38 ° C. Then, by double jet addition, a 0.5 mol / L KBr solution and a 0.5 mol / L AgNO 3 solution were added at 10 ml / min over 20 minutes to substantially add 10 mol% silver bromide to the AgI host. It was precipitated epitaxially on the particles. During operation, pAg was maintained at 10.2. Further, the pH was adjusted to 3.8 using sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.

−化学増感−
上記エピタキシャル接合部を設けたハロゲン化銀乳剤を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-5モル加えて91分間熟成した。
その後、N,N’−ジヒドロキシ−N”、N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モルおよび1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-3モル添加した。
-Chemical sensitization-
The silver halide emulsion provided with the epitaxial junction was maintained at 38 ° C. while stirring, 5 ml of a methanol solution of 0.34% by mass of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and after 47 minutes, 47 ° C. The temperature was raised to. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −5 mol was added and aged for 91 minutes.
Thereafter, 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ and N ″ -diethylmelamine was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the silver solution with a methanol solution. 4.8 × 10 −3 mole per mole, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution with 5.4 × 10 −3 mole per mole of silver and 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added in an aqueous solution to 8.5 × 10 −3 mol per mol of silver.

<塗布液用混合乳剤の調製>
上記のハロゲン化銀乳剤を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物化合物1と2と3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。
また吸着基と還元基を有する化合物1と2をそれぞれハロゲン化銀1モルあたり8×10-3モルになる量を添加した。
さらに塗布液用混合乳剤1リットルあたりハロゲン化銀の含有量が銀として15.6gとなるように加水した。
<Preparation of mixed emulsion for coating solution>
The above silver halide emulsion was dissolved, and 7 × 10 −3 mol of benzothiazolium iodide was added as a 1% by mass aqueous solution per mol of silver. Further, the amount of the compound compounds 1, 2 and 3 that can be emitted by one-electron oxidation by one-electron oxidant to emit one or more electrons is 2 × 10 −3 mol per mol of silver halide. Was added.
Further, compounds 1 and 2 having an adsorbing group and a reducing group were added in an amount of 8 × 10 −3 mol per mol of silver halide.
Further, water was added so that the silver halide content per liter of the mixed emulsion for coating solution was 15.6 g as silver.

2)脂肪酸銀分散物の調製
<再結晶ベヘン酸の調製>
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)100kgを、1200kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μmのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、3℃/時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、100kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。
得られた結晶をエステル化してGC−FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は96モル%、それ以外にリグノセリン酸が2モル%、アラキジン酸が2モル%、エルカ酸0.001モル%含まれていた。
2) Preparation of fatty acid silver dispersion <Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried.
When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, and in addition, lignoceric acid was 2 mol%, arachidic acid was 2 mol%, and erucic acid was 0.001 mol%. It was.

<脂肪酸銀分散物の調製>
再結晶ベヘン酸88kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。
このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。
このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。
また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient agitation, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate of 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes.
At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was made to be.
At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant.
The pipe of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.

ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。   After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.

得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.21μm、b=0.4μm、c=0.4μm、平均アスペクト比2.1、球相当径の変動係数11%の結晶であった。(a,b,cは本文の規定)   When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, and equivalent sphere diameter. The crystal had a coefficient of variation of 11%. (A, b, and c are the text provisions)

乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kgおよび水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。   19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).

次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1150kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to a pressure of 1150 kg / cm 2 in a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.

3)還元剤分散物の調製
<還元剤−1分散物の調製>
還元剤−1(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を60℃で5時間加熱処理し、還元剤−1分散物を得た。
こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
3) Preparation of reducing agent dispersion <Preparation of reducing agent-1 dispersion>
10 masses of reducing agent-1 (1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion.
The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

4)造核剤分散物の調製
造核剤SH−7(10g)に、ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA−217)2.5gおよび水87.5gを添加してよく攪拌し、スラリーとして3時間放置した。
その後、0.5mmのジルコニアビーズ240gをスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)で10時間分散し、造核剤の固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80質量%が0.10μm〜1.0μmで、平均粒径は0.5μmであった。
4) Preparation of nucleating agent dispersion To nucleating agent SH-7 (10 g), 2.5 g of polyvinyl alcohol (PVA-217 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and 87.5 g of water were added and stirred well to obtain a slurry. Left for 3 hours.
Thereafter, 240 g of 0.5 mm zirconia beads are put in a vessel together with the slurry, and dispersed for 10 hours with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to prepare a solid fine particle dispersion of a nucleating agent. did. As for the particle size, 80% by mass of the particles was 0.10 μm to 1.0 μm, and the average particle size was 0.5 μm.

5)水素結合性化合物分散物の調製
水素結合性化合物−1(トリ(4−t−ブチルフェニル)ホスフィンオキシド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。
このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて4時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて水素結合性化合物の濃度が25質量%になるように調製した。
この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加温し、水素結合性化合物−1分散物を得た。
こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径0.45μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
5) Preparation of hydrogen bonding compound dispersion 10 kg of 10% by weight aqueous solution of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) 10 kg and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added and mixed well to obtain a slurry.
This slurry was fed with a diaphragm pump, and dispersed for 4 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass.
The dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion.
The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

6)現像促進剤分散物、色調調整剤分散物の調製
<現像促進剤−1分散物>
現像促進剤−1を10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて現像促進剤の濃度が20質量%になるように調製し、現像促進剤−1分散物を得た。
こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径0.48μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
6) Preparation of development accelerator dispersion and color adjusting agent dispersion <Development accelerator-1 dispersion>
10 kg of development accelerator-1 and 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added to 10 kg of water and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion.
The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

<現像促進剤−2および色調調整剤−1の固体分散物>
現像促進剤−2および色調調整剤−1の固体分散物についても現像促進剤−1と同様の方法により分散し、それぞれ20質量%、15質量%の分散液を得た。
<Solid Dispersion of Development Accelerator-2 and Color Toner-1>
The solid dispersions of the development accelerator-2 and the color tone modifier-1 were also dispersed by the same method as the development accelerator-1, and 20% by mass and 15% by mass of dispersions were obtained, respectively.

7)ポリハロゲン化合物分散物の調製
<有機ポリハロゲン化合物−1分散物>
有機ポリハロゲン化合物−1(トリブロモメタンスルホニルベンゼン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水14kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が30質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物−1分散物を得た。
こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。
得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
7) Preparation of polyhalogen compound dispersion <Organic polyhalogen compound-1 dispersion>
10 kg of organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of 20 wt% aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 0.4 kg of 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, Then, 14 kg of water was added and mixed well to obtain a slurry. The slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion.
The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less.
The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

<有機ポリハロゲン化合物−2分散物>
有機ポリハロゲン化合物−2(N−ブチル−3−トリブロモメタンスルホニルベンゾアミド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が30質量%になるように調製した。この分散液を40℃で5時間加温し、有機ポリハロゲン化合物−2分散物を得た。
こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Organic polyhalogen compound-2 dispersion>
10 kg of an organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzoamide), 20 kg of a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and 20 of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate 0.4 kg of a mass% aqueous solution was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion.
The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

8)ヨウ化銀錯形成剤の調製
8kgの変性ポリビニルアルコールMP203を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15kgと6−イソプロピルフタラジンの70質量%水溶液14.28kgを添加し、ヨウ化銀錯形成剤化合物の5質量%溶液を調製した。
8) Preparation of silver iodide complex-forming agent 8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 was dissolved in 174.57 kg of water, then 3.15 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 70% by weight of 6-isopropylphthalazine. 14.28 kg of an aqueous solution was added to prepare a 5% by mass solution of a silver iodide complex forming compound.

9)メルカプト化合物の調製
《メルカプト化合物−1水溶液の調製》
メルカプト化合物−1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7質量%の水溶液とした。
9) Preparation of mercapto compound << Preparation of aqueous solution of mercapto compound-1 >>
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.

《メルカプト化合物−2水溶液の調製》
メルカプト化合物−2(1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾール)20gを水980gに溶解し、2.0質量%の水溶液とした。
<< Preparation of Mercapto Compound-2 Aqueous Solution >>
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.

10)本発明の一般式(I)から(III)の化合物の調製。
化合物をAからEをメタノールに溶解して、0.002Mの溶液を調整した。
10) Preparation of compounds of general formulas (I) to (III) of the present invention.
Compounds A to E were dissolved in methanol to prepare a 0.002M solution.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

11)バインダーラテックス液の調製
《SBRラテックス液の調製》
SBRラテックス(TP−1)は以下により調製した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に、蒸留水287g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製):固形分48.5質量%)7.73g、1mol/L、NaOH14.06ml、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.15g、スチレン255g、アクリル酸11.25g、tert−ドデシルメルカプタン3.0gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度200rpmで撹拌した。
真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、1,3−ブタジエン108.75gを圧入して内温60℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム1.875gを水50mlに溶解した液を添加し、そのまま5時間撹拌した。さらに90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、1mol/LのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、SBRラテックス(TP−1)を774.7g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、145ppmであった。
11) Preparation of binder latex liquid << Preparation of SBR latex liquid >>
SBR latex (TP-1) was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 (Mass%) 7.73 g, 1 mol / L, 14.06 ml of NaOH, 0.15 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt, 255 g of styrene, 11.25 g of acrylic acid, 3.0 g of tert-dodecyl mercaptan, and the reaction vessel was sealed and stirred. Stir at a speed of 200 rpm.
After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected and the internal temperature was raised to 60 ° C. A solution prepared by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto and stirred as it was for 5 hours. The temperature was further raised to 90 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours. After completion of the reaction, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ion: NH 4 + ion = 1: 1 using 1 mol / L NaOH and NH 4 OH. Addition treatment was performed so that the molar ratio was 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 774.7 g of SBR latex (TP-1) was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.

上記ラテックスは平均粒径90nm、Tg=17℃、固形分濃度44質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.80mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し、ラテックス原液(44質量%)を25℃にて測定)、pH8.4Tgの異なるSBRラテックスはスチレン、ブタジエンの比率を適宜変更し、同様の方法により調製できる。   The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44 mass%, equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH, 0.6 mass%, ion conductivity of 4.80 mS / cm (measurement of ion conductivity is Toa Denki Kogyo Co., Ltd. conductivity meter CM-30S was used, latex stock solution (44% by mass) measured at 25 ° C), SBR latex with a different pH of 8.4 Tg, the ratio of styrene and butadiene was changed as appropriate. It can be prepared by the method.

《イソプレンラテックス液の調製》
イソプレンラテックス(TP−2)は以下により調製した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に蒸留水1500g添加し、90℃で3時間加熱し、重合釜のステンレス表面やステンレス製撹拌装置の部材に不動態皮膜を形成させる。この処理を行った重合釜に、窒素ガスを1時間バブリングした蒸留水582.28g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製))9.49g、1mol/LのNaOHを19.56g、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.20g、スチレン314.99g、イソプレン190.87g、アクリル酸10.43g、tert−ドデシルメルカプタン2.09gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度225rpmで撹拌し、内温65℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム2.61gを水40mlに溶解した液を添加し、そのまま6時間撹拌した。この時点でのは重合転化率は固形分測定から90%であった。ここで、アクリル酸5.22gを水46.98gに溶解した液を添加し、続いて水10gを添加し、過硫酸アンモニウム1.30gを水50.7mlに溶解した液をさらに添加した。添加後、90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後、内温が室温になるまで下げた後、1mol/LのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.3に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、イソプレンラテックス(TP−2)を1248g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、142ppmであった。
<< Preparation of isoprene latex liquid >>
Isoprene latex (TP-2) was prepared as follows.
Add 1500g of distilled water to the polymerization kettle of the gas monomer reactor (Pressure Glass Industry Co., Ltd. TAS-2J type), heat at 90 ° C for 3 hours, and passivate to the stainless steel surface of the polymerization kettle and members of the stainless steel stirrer A film is formed. In this polymerized kettle, 582.28 g of distilled water bubbled with nitrogen gas for 1 hour, 9.49 g of surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)), 1 mol / L NaOH Of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.20 g, styrene 314.99 g, isoprene 190.87 g, acrylic acid 10.43 g, tert-dodecyl mercaptan 2.09 g, and the reaction vessel was sealed and stirred at 225 rpm. The mixture was stirred and heated to an internal temperature of 65 ° C. A solution prepared by dissolving 2.61 g of ammonium persulfate in 40 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 6 hours. At this time, the polymerization conversion rate was 90% from the measurement of the solid content. Here, a solution in which 5.22 g of acrylic acid was dissolved in 46.98 g of water was added, 10 g of water was subsequently added, and a solution in which 1.30 g of ammonium persulfate was dissolved in 50.7 ml of water was further added. After the addition, the temperature was raised to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ions: NH 4 + ions were used with 1 mol / L NaOH and NH 4 OH. = 1: 5.3 (molar ratio) was added and adjusted to pH 8.3. Thereafter, the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored to obtain 1248 g of isoprene latex (TP-2). When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 142 ppm.

上記ラテックスは平均粒径113nm、Tg=15℃、固形分濃度41.3質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.4質量%、イオン伝導度5.23mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し25℃にて測定)であった。   The latex has an average particle size of 113 nm, Tg = 15 ° C., solid content concentration of 41.3 mass%, equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH of 0.4 mass%, ionic conductivity of 5.23 mS / cm (of ionic conductivity). Measurement was conducted at 25 ° C. using a conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.).

3.塗布液の調製
1)画像形成層塗布液−1〜6の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物1000gに、水、有機ポリハロゲン化合物−1分散物、有機ポリハロゲン化合物−2分散物、)、本発明の一般式(I)の化合物の分散物(表1に示す。)、SBRラテックス(TP−1)液、イソプレンラテックス(TP−2)液、還元剤−1分散物、還元剤−2分散物、造核剤分散物、水素結合性化合物−1分散物、現像促進剤−1分散物、現像促進剤−2分散物、色調調整剤−1分散物、メルカプト化合物−1水溶液、およびメルカプト化合物−2水溶液を順次添加し、ヨウ化銀錯形成剤を添加した後、塗布直前に塗布液用混合乳剤を銀量で脂肪酸銀1モル当たり0.22モル添加し、よく混合して、そのままコーティングダイへ送液した。
3. Preparation of coating solution 1) Preparation of image forming layer coating solutions-1 to 6 To 1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above, water, organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound-2 dispersion, Dispersions of compounds of general formula (I) of the present invention (shown in Table 1), SBR latex (TP-1) liquid, isoprene latex (TP-2) liquid, reducing agent-1 dispersion, reducing agent-2 Dispersion, nucleating agent dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development accelerator-2 dispersion, color modifier-1 dispersion, mercapto compound-1 aqueous solution, and mercapto Compound-2 aqueous solution was added sequentially, and after the silver iodide complex forming agent was added, 0.22 mol of the mixed emulsion for coating solution was added in silver amount per mol of fatty acid silver immediately before coating, mixed well, and left as it was. The solution was fed to the coating die.

2)中間層塗布液Aの調製
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)1000g、顔料−1分散物163g、青色染料化合物(日本化薬(株)製:カヤフェクトターコイズRNリキッド150)18.5質量%水溶液33g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液27ml、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を135ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、8.9ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
2) Preparation of intermediate layer coating solution A 1000 g of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 163 g of pigment-1 dispersion, blue dye compound (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayafect Turquoise RN Liquid 150) 18 33 g of a 5% by weight aqueous solution, 27 ml of a 5% by weight aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 57/8/28 / 5/2) 27% 5% aqueous solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co., Ltd.) in 4200 ml of 19% by weight latex, 135 ml of 20% by weight aqueous solution of diammonium phthalate, total amount 10000g Add water and NaOH to pH 7.5 The intermediate layer coating solution was adjusted to 8.9 ml / m 2 and fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

3)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水840mlに溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を46ml、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を5.4mlを加えて混合し、塗布直前に4質量%のクロムみょうばん40mlをスタチックミキサーで混合したものを塗布液量が26.1ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone were dissolved in 840 ml of water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio) 57/8/28/5/2) Latex 19% by weight solution 180g, phthalic acid 15% by weight methanol solution 46ml, sulfosuccinic acid di (2-ethylhexyl) sodium salt 5% by weight aqueous solution 5.4ml was added. The mixture was mixed, and immediately before coating, 40 ml of 4% by weight chromium alum was mixed with a static mixer and fed to the coating die so that the amount of the coating solution was 26.1 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

4)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水800mlに溶解し、流動パラフィンの10質量%乳化物を10g、ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリットの10質量%乳化物を30g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質「量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸15質量%メタノール溶液40ml、フッ素系界面活性剤(F−1)の1質量%溶液を5.5ml、フッ素系界面活性剤(F−2)の1質量%水溶液を5.5ml、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を28ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm、体積加重平均の分布30%)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.6μm、体積加重平均の分布60%)21gを混合したものを表面保護層塗布液とし、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone are dissolved in 800 ml of water, 10 g of 10% by weight emulsion of liquid paraffin, 10% by weight of dipentaerythritol hexaisostearate 30 g of emulsion, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer "quantity ratio 57/8/28/5/2" latex 19% by weight liquid 180 g, phthalic acid 15 mass 40 ml of methanol solution, 5.5 ml of 1% by weight solution of fluorosurfactant (F-1), 5.5 ml of 1% by weight aqueous solution of fluorosurfactant (F-2), disulfosuccinate (2 -28 ml of a 5% by weight aqueous solution of -ethylhexyl) sodium salt, polymethyl methacrylate fine particles (flat A mixture of 4 g of average particle size 0.7 μm, volume weighted average distribution 30%) and 21 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3.6 μm, volume weighted average distribution 60%) is used as a surface protective layer coating solution, The solution was fed to the coating die so as to be 8.3 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

4.熱現像感光材料の作製
1)熱現像感光材料−101の作製
下塗り面からクロスオーバーカット層、画像形成層、中間層、表面保護層第1層、表面保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作製した。
このとき、画像形成層と中間層は31℃に、表面保護層第1層は36℃に、表面保護層第2層は37℃に温度調整した。画像形成層の塗布銀量は脂肪酸銀とハロゲン化銀の合計で片面あたり0.862g/m2であった。これを支持体の両面に塗布した。
4). Production of photothermographic material 1) Production of photothermographic material-101 From the undercoat surface, a slide bead is applied in the order of a crossover cut layer, an image forming layer, an intermediate layer, a surface protective layer first layer, and a surface protective layer second layer. Samples of the photothermographic material were prepared by simultaneous multi-layer coating by the method.
At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C. The amount of silver applied to the image forming layer was 0.862 g / m 2 per side in total for the fatty acid silver and the silver halide. This was applied to both sides of the support.

画像形成層における各化合物の片面あたりの総塗布量(g/m2)は以下の通りである。
脂肪酸銀 2.85
ポリハロゲン化合物−1 0.028
ポリハロゲン化合物−2 0.094
本発明の一般式(I)の化合物の分散物 (表1に記載)
ヨウ化銀錯形成剤 0.46
SBRラテックス 2.08
イソプレンラテックス 3.12
還元剤−1 0.46
造核剤−1 0.036
水素結合性化合物−1 0.15
現像促進剤−1 0.005
現像促進剤−2 0.035
色調調整剤−1 0.002
メルカプト化合物−1 0.001
メルカプト化合物−2 0.003
ハロゲン化銀(Agとして) 0.175
The total coating amount (g / m 2 ) per side of each compound in the image forming layer is as follows.
Fatty acid silver 2.85
Polyhalogen compound-1 0.028
Polyhalogen compound-2 0.094
Dispersions of compounds of general formula (I) according to the invention (described in Table 1)
Silver iodide complex forming agent 0.46
SBR latex 2.08
Isoprene Latex 3.12
Reducing agent-1 0.46
Nucleator-1 0.036
Hydrogen bonding compound-1 0.15
Development accelerator-1 0.005
Development accelerator-2 0.035
Color tone adjusting agent-1 0.002
Mercapto Compound-1 0.001
Mercapto compound-2 0.003
Silver halide (as Ag) 0.175

塗布乾燥条件は以下のとおりである。
支持体は塗布前にイオン風にて除電し、塗布はスピード160m/minで行った。塗布乾燥条件は各試料に対して以下の範囲で調整し、もっとも安定した面状が得られる条件に設定した。
コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10mm〜0.30mm。
減圧室の圧力を大気圧に対して196Pa〜882Pa低く設定。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10℃〜20℃の風にて塗布液を冷却。
無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23℃〜45℃、湿球温度15℃〜21℃の乾燥風で乾燥。
乾燥後、25℃で湿度40%RH〜60%RHで調湿。
引き続き、膜面を70℃〜90℃になるように加熱し、加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
The coating and drying conditions are as follows.
The support was neutralized with ion wind before coating, and coating was performed at a speed of 160 m / min. The coating and drying conditions were adjusted within the following ranges for each sample, and were set to conditions that would provide the most stable surface shape.
The gap between the coating die tip and the support is 0.10 mm to 0.30 mm.
The pressure in the decompression chamber is set to 196 Pa to 882 Pa lower than the atmospheric pressure.
In the subsequent chilling zone, the coating solution is cooled with wind at a dry bulb temperature of 10 ° C to 20 ° C.
It is transported in a non-contact manner and dried with a dry air having a dry bulb temperature of 23 ° C. to 45 ° C. and a wet bulb temperature of 15 ° C. to 21 ° C. in a helical contact type non-contact dryer.
After drying, humidity is adjusted at 25 ° C. and humidity 40% RH-60% RH.
Subsequently, the film surface was heated to 70 ° C. to 90 ° C., and after the heating, the film surface was cooled to 25 ° C.

作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で550秒であった。また、膜面のpHを測定したところ6.0であった。   The resulting photothermographic material had a matte degree of Beck smoothness of 550 seconds. Moreover, it was 6.0 when pH of the film surface was measured.

Figure 2006215168
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以下に本発明の実施例で用いた化合物の化学構造を示す。   The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.

Figure 2006215168
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5.性能の評価
1)準備
得られた試料は半切サイズに切断し、25℃50%RHの環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
<包装材料>
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μmを積層したラミネートフィルム:
酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day、
水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
5. Evaluation of Performance 1) Preparation The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
<Packaging materials>
Laminate film in which PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon is laminated:
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m 2 · 25 ° C · day,
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m 2 · 25 ° C · day.

2)露光、熱現像
このように準備した両面塗布感光材料を、以下の様に評価した。
富士フイルム(株)製のXレイレギュラースクリーンHI−SCREEN−B3(蛍光体としてCaWO4を使用。発光ピーク波長425m)を2枚使用して、その間に試料を挟み、画像形成用組立体を作製した。
この組立体に、0.05秒のX線露光を与え、X線センシトメトリーを行った。使用したX線装置は、東芝(株)製の商品名DRX−3724HDであり、タングステンターゲットを用いた。三相全波整流方式のパルス発生器で80kVpの電圧をかけ、人体とほぼ等価な吸収を持つ水7cmのフィルタを通したX線を光源とした。距離法にてX線露光量を変化させ、logE=0.15の幅でステップ露光を行なった。露光後に、下記の熱現像処理条件で熱現像処理した。得られた画像の評価を濃度計により行った。
2) Exposure and heat development The double-sided coated photosensitive material thus prepared was evaluated as follows.
An X-ray regular screen HI-SCREEN-B3 (CaWO 4 is used as a phosphor, emission peak wavelength 425 m) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. is used, and a sample is sandwiched between them to produce an image forming assembly. did.
This assembly was subjected to X-ray exposure for 0.05 seconds, and X-ray sensitometry was performed. The X-ray apparatus used was a trade name DRX-3724HD manufactured by Toshiba Corporation, and a tungsten target was used. A voltage of 80 kVp was applied with a three-phase full-wave rectification type pulse generator, and X-rays passed through a 7 cm water filter having absorption almost equivalent to that of the human body were used as a light source. The X-ray exposure was changed by the distance method, and step exposure was performed with a width of logE = 0.15. After the exposure, heat development was performed under the following heat development conditions. The obtained image was evaluated with a densitometer.

富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPLの熱現像部を改造し、両面から加熱できるようにした熱現像機を製作した。また、熱現像部の搬送ローラーをヒートドラムに変更することによりフィルムシートの搬送が可能になるように改造した。4枚のパネルヒーターを112℃−118℃−120℃−120℃に設定し、ヒートドラムの温度は120℃に設定した。搬送速度を調整して熱現像時間が合計24秒になるように設定した。   The heat development section of the Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL was modified to produce a heat development machine that can be heated from both sides. In addition, the film was remodeled so that the film sheet could be conveyed by changing the conveyance roller of the heat developing unit to a heat drum. Four panel heaters were set to 112 ° C-118 ° C-120 ° C-120 ° C, and the temperature of the heat drum was set to 120 ° C. The conveyance speed was adjusted so that the total heat development time was 24 seconds.

3)評価項目
(写真性能)
得られた画像をMacbeth濃度計で濃度測定し露光量の対数に対する濃度の特性曲線を作製した。
かぶり:非画像部の濃度をマクベス濃度計により測定した。
感度:かぶり+1.0の黒化濃度を与える露光量の逆数で感度を表し、試料No.1の感度を100としてそれに対する相対値で示した。値が大きいほど感度が高いことを示す。
階調(γ):最小濃度(Dmin)+濃度1.2の点と最小濃度(Dmin)+濃度1.6の点とを結ぶ直線の勾配である。
3) Evaluation items (photo performance)
The obtained image was subjected to density measurement with a Macbeth densitometer to produce a density characteristic curve with respect to the logarithm of the exposure amount.
Fog: The density of the non-image area was measured with a Macbeth densitometer.
Sensitivity: Sensitivity is represented by the reciprocal of the exposure amount giving a blackening density of fog + 1.0. The sensitivity of 1 is taken as 100, and the relative value is shown. A larger value indicates higher sensitivity.
Gradation (γ): a gradient of a straight line connecting a point of minimum density (Dmin) + density 1.2 and a point of minimum density (Dmin) + density 1.6.

(画像保存性)
熱現像したサンプルを25℃、60%RH、蛍光灯下500LUXの環境に20日間放置した。熱現像直後と放置後のかぶりの差(△Dmin)で画像保存性を評価した。かぶりの増加が少ないほど好ましい。
△Dmin=Dmin(放置後)−Dmin(熱現像直後)
(Image preservation)
The heat-developed sample was left in an environment of 25 ° C., 60% RH, and 500 LUX under a fluorescent lamp for 20 days. Image storability was evaluated by the difference in fog (ΔDmin) immediately after heat development and after standing. The smaller the increase in fog, the better.
ΔDmin = Dmin (after standing) −Dmin (immediately after heat development)

得られた結果を表1に示した。   The obtained results are shown in Table 1.

4)結果
表1に示すように、本発明の化合物は現像直後のかぶりを抑制すると供に、画像保存時のかぶりを抑制した。中でも一般式(III)で示される化合物D、Eが高い改良効果を示し、特に化合物Dが顕著な改良効果を示した。
4) Results As shown in Table 1, the compound of the present invention suppressed fogging immediately after development and suppressed fogging during image storage. Among them, the compounds D and E represented by the general formula (III) showed a high improvement effect, and particularly the compound D showed a remarkable improvement effect.

実施例2
1.ハロゲン化銀乳剤Bの調製
<金増感したAgI平板乳剤の調製>
実施例1と同様にして調製した未化学増感ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら、45℃に維持して、銀1モル当り、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して3.0×10-5モルおよび硫黄増感剤4−オキソ−3−ベンジル−オキサゾリジン−2−チオンをメタノール溶液で4.5×10-5を加えた。5分後に銀1モル当り、1.2×10-5モルの塩化金酸および5.0×10-3モルのチオシアン酸カリウムをいずれも水溶液で添加し、60分間熟成した。
その後、銀1モルあたり、N,N’−ジヒドロキシ−N”、N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液0.7mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-4モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-4モルおよび1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-4モル添加した。
以上の如く化学増感を変更した以外は実施例1と同様にして、ハロゲン化銀乳剤Bを調製した。
2.塗布試料の作製
実施例1において、感光性ハロゲン化銀乳剤Aの代わりにハロゲン化銀乳剤Bを用いて、その他は実施例1と同様にして、試料21〜26を作製した。
Example 2
1. Preparation of silver halide emulsion B <Preparation of gold-sensitized AgI tabular emulsion>
The unchemically sensitized silver halide dispersion prepared in the same manner as in Example 1 was maintained at 45 ° C. with stirring, and sodium benzenethiosulfonate was added to a mole of silver with a methanol solution per mole of silver. 3.0 × 10 −5 mol and sulfur sensitizer 4-oxo-3-benzyl-oxazolidine-2-thione was added in a methanol solution to 4.5 × 10 −5 . After 5 minutes, 1.2 × 10 −5 moles of chloroauric acid and 5.0 × 10 −3 moles of potassium thiocyanate were added as aqueous solutions per mole of silver and aged for 60 minutes.
Thereafter, 0.7 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″, N ″ -diethylmelamine was added per 1 mol of silver, and further, 4-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added after 4 minutes. 4.8 × 10 −4 mol per mol of silver in a methanol solution, and 5.4 × 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole per mol of silver in a methanol solution. 10 −4 mol and 1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole were added in an aqueous solution to 8.5 × 10 −4 mol per mol of silver.
A silver halide emulsion B was prepared in the same manner as in Example 1 except that the chemical sensitization was changed as described above.
2. Preparation of Coating Samples Samples 21 to 26 were prepared in the same manner as in Example 1 except that silver halide emulsion B was used in place of photosensitive silver halide emulsion A.

Figure 2006215168
Figure 2006215168

3.性能評価
実施例1と同様に評価した結果を表2に示した。
金硫黄増感乳剤の場合も現像直後のかぶりを抑制すると供に、画像保存時のかぶりを抑制した。中でも一般式(III)で示される化合物D、Eが高い改良効果を示し、特に化合物Dが顕著な改良効果を示したことも実施例1と同様であった。さらに、金硫黄増感乳剤では階調が軟調になる問題が発見されたが、本発明の化合物は、添加しない場合に比較して硬調化するという予期せぬ効果をもたらすことが見出された。
3. Performance Evaluation The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.
In the case of the gold-sulfur sensitized emulsion, the fog immediately after development was suppressed, and the fog during image storage was suppressed. Among them, the compounds D and E represented by the general formula (III) showed a high improvement effect, and especially the compound D showed a remarkable improvement effect as in Example 1. Furthermore, although a problem that the gradation is soft in the gold-sulfur sensitized emulsion has been found, it has been found that the compound of the present invention has an unexpected effect of making it harder than when not added. .

実施例3
実施例2において、XレイレギュラースクリーンHI−SCREEN−B3の代わりに下記の蛍光増感スクリーンAを用いて、その他は実施例2と同様の実験を行った。
その結果、本発明の熱現像感光材料は実施例2と同様に良好な結果を示した。
Example 3
In Example 2, the same experiment as in Example 2 was performed except that the following fluorescent intensifying screen A was used instead of the X-ray regular screen HI-SCREEN-B3.
As a result, the photothermographic material of the present invention showed good results as in Example 2.

(蛍光増感スクリーンAの作製)
1)下塗り層の作製
特開2001−124898号公報の実施例4と同様にして、250μmのポリエチレンテレフタレート(支持体)上にアルミナ粉体よりなる乾燥後の膜厚が50μmの光反射層を形成した。
(Preparation of fluorescent intensifying screen A)
1) Preparation of undercoat layer In the same manner as in Example 4 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-124898, a light reflecting layer having a dried film thickness of 50 μm formed of alumina powder is formed on a 250 μm polyethylene terephthalate (support). did.

2)蛍光体シートの製造
BaFBr:Eu蛍光体(平均粒径3.5μm)250g、ポリウレタン系バインダー樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、商品名:パンデックスT5265M)8g、エポキシ系バインダー樹脂(油化シェルエポキシ(株)製、商品名:エピコート1001)2g、およびイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業(株)製、商品名:コロネートHX)0.5gをメチルエチルケトンに加え、プロペラミキサで分散して、粘度が25PS(25℃)の蛍光体層形成用塗布液を調製した。この塗布液を仮支持体(予めシリコーン系離型剤が塗布されているポリエチレンテレフタレートシート)の表面に塗布し、乾燥して蛍光体層を形成した。この蛍光体層を仮支持体から剥がし取って蛍光体シートを得た。
2) Production of phosphor sheet BaFBr: Eu phosphor (average particle size 3.5 μm) 250 g, polyurethane binder resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, trade name: Pandex T5265M) 8 g, epoxy binder resin 2 g (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., trade name: Epicoat 1001) and 0.5 g of isocyanate compound (trade name: Coronate HX, produced by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) are added to methyl ethyl ketone and dispersed with a propeller mixer. A phosphor layer forming coating solution having a viscosity of 25 PS (25 ° C.) was prepared. This coating solution was applied to the surface of a temporary support (polyethylene terephthalate sheet previously coated with a silicone-based release agent) and dried to form a phosphor layer. The phosphor layer was peeled off from the temporary support to obtain a phosphor sheet.

3)光反射層上への蛍光体シートの付設
前記の工程1)で製造した光反射層付き支持体の光反射層の表面に、上記の蛍光体シートを重ね、カレンダロールにて、圧力400kgw/cm2、温度80℃の条件で加圧し、光反射層上に蛍光体層を設けた。得られた蛍光体層の厚みは125μmであり、蛍光体層中の蛍光体粒子の体積充填率は68%であった。
3) Attaching the phosphor sheet on the light reflecting layer The above phosphor sheet is superimposed on the surface of the light reflecting layer of the support with the light reflecting layer produced in the above step 1), and the pressure is 400 kgw with a calender roll. A pressure was applied under the conditions of / cm 2 and a temperature of 80 ° C. to provide a phosphor layer on the light reflection layer. The thickness of the obtained phosphor layer was 125 μm, and the volume filling factor of the phosphor particles in the phosphor layer was 68%.

4)表面保護層の形成
厚み6μmのポリエチレンテレフタレート(PET)の片面にポリエステル系の接着剤を塗布し、ラミネート法で蛍光体層上に表面保護層を設けた。このようにして、支持体、光反射層、蛍光体層および表面保護層からなる蛍光増感スクリーンAを得た。
4) Formation of surface protective layer A polyester adhesive was applied to one side of polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 6 μm, and a surface protective layer was provided on the phosphor layer by a laminating method. Thus, a fluorescent intensifying screen A comprising a support, a light reflecting layer, a phosphor layer, and a surface protective layer was obtained.

5)発光特性
蛍光増感スクリーンAは、390nmにピークをもつ半値幅の狭い発光を示した。
5) Luminescent characteristics The fluorescent intensifying screen A emitted light with a narrow half-value width having a peak at 390 nm.

Claims (14)

支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、
1)前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有量40モル%以上であり、
2)下記一般式(I)で表される化合物又はその塩を含有することを特徴とする熱現像感光材料:
Figure 2006215168
(式中、R1及びR1’は互いに独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基である。但し、同時に水素原子であることはない。)。
A photothermographic material having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one surface of a support,
1) The average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40 mol% or more,
2) A photothermographic material comprising a compound represented by the following general formula (I) or a salt thereof:
Figure 2006215168
(In the formula, R 1 and R 1 ′ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, provided that they are not simultaneously a hydrogen atom).
前記一般式(I)において、R1’が水素原子、R1が置換又は無置換のアルキル基、アリール基、又はヘテロ環基であることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。 2. The photothermographic material according to claim 1, wherein, in the general formula (I), R 1 ′ is a hydrogen atom, and R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group. . 前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上がアスペクト比2以上の平板状粒子であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の熱現像感光材料。   3. The photothermographic material according to claim 1, wherein 50% or more of the total projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an aspect ratio of 2 or more. 前記平板状粒子の平均円相当直径が0.3μm以上5.0μm以下であることを特徴とする請求項3に記載の熱現像感光材料。   4. The photothermographic material according to claim 3, wherein the average equivalent circle diameter of the tabular grains is from 0.3 [mu] m to 5.0 [mu] m. 前記一般式(I)で表される化合物又はその塩が下記一般式(II)で表される化合物又はその塩であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
Figure 2006215168
(式中、R2は置換または無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R3は水素原子またはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、n1は1〜5の整数を表し、n2は0または1〜4の整数を表す。)。
5. The compound represented by the general formula (I) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (II) or a salt thereof. 5. Photothermographic material:
Figure 2006215168
(Wherein R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and n1 represents an integer of 1 to 5) N2 represents 0 or an integer of 1 to 4).
前記一般式(II)で表される化合物又はその塩が下記一般式(III)で表される化合物又はその塩であることを特徴とする請求項5に記載の熱現像感光材料:
Figure 2006215168
(式中、R2は一般式(II)におけると同義である。)。
6. The photothermographic material according to claim 5, wherein the compound represented by the general formula (II) or a salt thereof is a compound represented by the following general formula (III) or a salt thereof.
Figure 2006215168
(Wherein R 2 has the same meaning as in formula (II)).
前記感光性ハロゲン化銀が金増感されていることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   7. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide is gold sensitized. 前記平板状粒子のアスペクト比が5以上100以下であることを特徴とする請求項3〜請求項7のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 3, wherein the tabular grain has an aspect ratio of 5 or more and 100 or less. 前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有率が60モル%以上であることを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   9. The photothermographic material according to claim 1, wherein an average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 60 mol% or more. 前記感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含有率が80モル%以上であることを特徴とする請求項9に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 9, wherein the average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 80 mol% or more. ヨウ化銀錯形成剤を含有することを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   11. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a silver iodide complex forming agent. 下記一般式(A−1)または(A−2)で表される熱現像促進剤の少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
Figure 2006215168
(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、又はヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。);
Figure 2006215168
(式中、R1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、又は炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。)。
The heat according to any one of claims 1 to 11, comprising at least one thermal development accelerator represented by the following general formula (A-1) or (A-2). Photosensitive material:
Figure 2006215168
(Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group);
Figure 2006215168
(In the formula, R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkylthio group. Represents an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring, and R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring. You may do it.)
前記画像形成層を支持体の両面に有することを特徴とする請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the image forming layer is provided on both sides of a support. 前記請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を用いたX線画像形成方法であって、
1)前記熱現像感光材料と蛍光増感スクリーンと重ね合わせて放射線画像露光を行い、前記熱現像感光材料に潜像を記録する工程、
2)熱現像により前記潜像を可視画像に変換する熱現像工程、
を有することを特徴とする画像形成方法。
An X-ray image forming method using the photothermographic material according to any one of claims 1 to 13,
1) a step of superposing the photothermographic material and a fluorescent intensifying screen to perform radiation image exposure and recording a latent image on the photothermographic material;
2) a thermal development step of converting the latent image into a visible image by thermal development;
An image forming method comprising:
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