JP2006078901A - Heat developable photosensitive material and image forming method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は熱現像感光材料および画像形成方法に関し、特にヨウ化銀含量の高いハロゲン化銀乳剤を用いた熱現像感光材料および画像形成方法に関するものである。 The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method, and more particularly to a photothermographic material and an image forming method using a silver halide emulsion having a high silver iodide content.
近年、医療分野や印刷製版分野において環境保全、省スペースの観点から写真現像処理のドライ化が強く望まれている。これらの分野では、デジタル化が進展し、画像情報をコンピューターに取り込み、保存、そして必要な場合には加工し、通信によって必要な場所で、レーザー・イメージセッターまたはレーザー・イメージャーにより感光材料に出力し、現像して画像をその場で作製するシステムが急速に広がってきている。感光材料としては、高い照度のレーザー露光で記録することができ、高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することがが必要とされている。このようなデジタル・イメージング記録材料としては、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成システムとして流通しているが、医療用画像のように診断能力を決定する画質(鮮鋭度、粒状性、階調、色調)の点、記録スピード(感度)の点で、不満足であり、従来の湿式現像の医療用銀塩フィルムを代替できるレベルに到達していない。 In recent years, in the medical field and the printing plate making field, dry development of photographic development processing is strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. In these areas, digitization has progressed, and image information is captured and stored on a computer, stored, and processed if necessary, and output to photosensitive materials by laser image setter or laser imager where necessary by communication. However, systems that develop and produce images on the spot are rapidly spreading. As a photosensitive material, it is necessary to form a clear black image that can be recorded by laser exposure with high illuminance and has high resolution and sharpness. As such digital imaging recording materials, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems, but the diagnostic ability is determined like medical images. It is unsatisfactory in terms of image quality (sharpness, graininess, gradation, color tone) and recording speed (sensitivity), and has not yet reached a level that can replace the conventional silver salt film for wet development.
一方、有機銀塩を利用した熱画像形成システムが知られている。特に、熱現像感光材料は、一般に、感光性ハロゲン化銀、還元剤、還元可能な銀塩(例、有機銀塩)、必要により銀の色調を制御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散した感光性層を有している。 On the other hand, a thermal image forming system using an organic silver salt is known. In particular, a photothermographic material generally contains a photosensitive silver halide, a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and, if necessary, a toning agent for controlling the color tone of silver dispersed in a binder matrix. A photosensitive layer.
熱現像感光材料は、画像露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱し、ハロゲン化銀あるいは還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を形成する。酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化銀の潜像の触媒作用により促進される。その結果、露光領域に黒色の銀画像が形成される。熱現像感光材料は、米国特許2910377号、特公昭43−4924号をはじめとする多くの文献に開示され、また、実用的には医療用画像形成システムとして富士メディカルドライイメージャーFM−DP Lが発売された。 The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and is blackened by an oxidation-reduction reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. As a result, a black silver image is formed in the exposed area. The photothermographic material is disclosed in many documents such as US Pat. No. 2,910,377 and Japanese Patent Publication No. 43-4924, and Fuji Medical Dry Imager FM-DP L is practically used as a medical image forming system. Released.
この様な有機銀塩を利用した画像形成システムは、定着工程がないため現像処理後の画像保存性、特に光が当たったときのプリントアウトの悪化が大きな問題であった。このプリントアウトを改良する手段として有機銀塩をコンバージョンすることによって形成したヨウ化銀を利用する方法がUS−6143488号、EP0922995号に開示されている。しかしながらここで開示されたような有機銀塩をヨードでコンバージョンする方法では十分な感度を得ることが出来ず現実のシステムを組むことは困難であった。その他ヨウ化銀を利用した感材としてはWO97−48014号、WO48015号、US−6165705号、特開平8−297345号、特許第2785129号等に記載があるが、いずれも十分な感度・かぶりレベルを達成できていない。 In such an image forming system using an organic silver salt, since there is no fixing step, image storage stability after development processing, in particular, deterioration of printout when exposed to light has been a serious problem. Methods for utilizing silver iodide formed by converting an organic silver salt as means for improving this printout are disclosed in US Pat. No. 6,143,488 and EP0922995. However, the method of converting an organic silver salt as disclosed herein with iodine cannot obtain sufficient sensitivity, and it is difficult to construct an actual system. Other photosensitive materials using silver iodide are described in WO97-48014, WO48015, US-6165705, JP-A-8-297345, Japanese Patent No. 2785129, etc., all of which have sufficient sensitivity and fogging level. Has not been achieved.
ヨウ化銀写真乳剤の感度を増加させる手段としては、亜硝酸ナトリウム、ピロガロール、ハイドロキノンなどのハロゲン受容体や硝酸銀水溶液への浸漬や、pAg7.5で硫黄増感することなどにより、増感することが知られていた)。しかしながら、これらのハロゲン受容体の増感効果は、本発明が対象とする熱現像感光材料においてはその効果は非常に小さく極めて不十分であった。 As a means of increasing the sensitivity of silver iodide photographic emulsions, sensitization by immersion in halogen acceptors such as sodium nitrite, pyrogallol, hydroquinone, etc. or silver nitrate aqueous solution, or sulfur sensitization with pAg7.5 Was known). However, the sensitizing effect of these halogen acceptors was very small and extremely insufficient in the photothermographic material targeted by the present invention.
熱現像感光材料に用いられる感光性ヨウ化銀の感度を高める手段として吸着基と還元性基を有する化合物を用いることが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
しかしながら、熱現像感光材料に要求される性能は、感度だけでなく多くの項目があって、これらを全て満足した総合性能が実現できて始めて実用にはなる。この点から、まだ十分満足できるものはなく、さらに優れた増感技術が要求された。
However, the performance required for the photothermographic material has many items in addition to the sensitivity, and it is not practical until the comprehensive performance satisfying all of these is realized. From this point, there is nothing that is still satisfactory, and an even better sensitizing technique has been required.
本発明の課題は、高感度で保存安定性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法を提供することである。特に高いヨウ化銀含有率のハロゲン化銀を用いて、高感度で保存安定性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a photothermographic material and an image forming method having high sensitivity and excellent storage stability. In particular, it is to provide a photothermographic material and an image forming method having high sensitivity and excellent storage stability by using silver halide having a high silver iodide content.
本発明の上記課題は、下記の手段によって達成された。
<1> 支持体の一方面上に、少なくとも、感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤、及びバインダーを含有する熱現像感光材料であって、下記一般式(AR)で表される化合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料。
The above object of the present invention has been achieved by the following means.
<1> A photothermographic material containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions, and a binder on one surface of a support, the following general formula A photothermographic material comprising a compound represented by (AR).
一般式(AR)中、Aはハロゲン化銀への吸着性基として窒素またはリンの4級塩構造を表し、lは1〜5の整数を表す。Wは連結基を表し、mは0または1を表し、nは1〜5の整数を表す。Bは還元性基を表す。
<2> 前記一般式(AR)で、Aのハロゲン化銀への吸着性基が窒素の4級塩構造であることを特徴とする<1>に記載の熱現像感光材料。
<3> 前記一般式(AR)で、Aのハロゲン化銀への吸着性基が4級化された窒素原子を含む5員あるいは6員の含窒素芳香族ヘテロ環であることを特徴とする<2>に記載の熱現像感光材料。
<4> 前記一般式(AR)においてnが2〜5であることを特徴とする<1>〜<3>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<5> 前記一般式(AR)の還元性基が、ホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの3重結合基、アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<6> 前記一般式(AR)の還元性基が、下記(B1)〜(B3)で表される基から選ばれるいずれかの基である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
(式中、下記(B1)〜(B3)で表される基において、Rb1、及びRb2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)。
In general formula (AR), A represents a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus as an adsorptive group to silver halide, and l represents an integer of 1 to 5. W represents a linking group, m represents 0 or 1, and n represents an integer of 1 to 5. B represents a reducing group.
<2> The photothermographic material according to <1>, wherein in the general formula (AR), the adsorptive group of A to silver halide has a quaternary salt structure of nitrogen.
<3> In the above general formula (AR), the adsorptive group to silver halide of A is a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing aromatic heterocycle containing a quaternized nitrogen atom. The photothermographic material according to <2>.
<4> The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, wherein n is 2 to 5 in the general formula (AR).
<5> The reducing group of the general formula (AR) is a formyl group, an amino group, a triple bond group such as an acetylene group or a propargyl group, an alkyl mercapto group, or an aryl mercapto group of <1> to <4> The photothermographic material according to claim 1.
<6> Any one of <1> to <4>, wherein the reducing group of the general formula (AR) is any group selected from the groups represented by the following (B 1 ) to (B 3 ): The photothermographic material according to item:
(In the formula, in the groups represented by the following (B 1 ) to (B 3 ), R b1 and R b2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Represents.)
<7> 前記一般式(AR)の還元性基が、レダクトン類、フェノール類、ナフトール類、およびフェニレンジアミン類のいずれかより誘導される基である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<8> 前記ハロゲン化銀写真乳剤の沃化銀含有率が40モル%以上100モル%以下であることを特徴とする<1>〜<7>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<9> 前記ハロゲン化銀写真乳剤の沃化銀含有率が80モル%以上100モル%以下であることを特徴とする<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<10> 前記ハロゲン化銀写真乳剤が平均アスペクト比が2以上の平板粒子を含有することを特徴とする<1>〜<9>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<11> 前記平板状粒子の平均アスペクト比が5以上50以下であることを特徴とする<10>に記載の熱現像感光材料。
<12> 前記平板状粒子の平均球相当直径が0.1μm以上10μm以下であることを特徴とする<10>または<11>に記載の熱現像感光材料。
<13> 前記ハロゲン化銀写真乳剤が分光増感されていることを特徴とする<1>〜<12>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<14> 前記画像形成層を支持体の両面に有することを特徴とする<1>〜<13>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<15> <1>〜<14>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を発光波長が350nm以上420nm以下である蛍光体を含有する蛍光増感スクリーンと密着してX線露光することを特徴とする画像形成方法。
<16> 前記蛍光体が2価のEu賦活蛍光体であることを特徴とする<15>に記載の画像形成方法。
<17> 前記蛍光体が2価のEu賦活バリウムハライド系蛍光体であることを特徴とする<15>または<16>に記載の画像形成方法。
<7> Any one of <1> to <4>, wherein the reducing group of the general formula (AR) is a group derived from any of reductones, phenols, naphthols, and phenylenediamines. The photothermographic material described in 1.
<8> The photothermographic material according to any one of <1> to <7>, wherein the silver halide photographic emulsion has a silver iodide content of 40 mol% to 100 mol%. .
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>, wherein the silver halide photographic emulsion has a silver iodide content of 80 mol% to 100 mol%. .
<10> The photothermographic material according to any one of <1> to <9>, wherein the silver halide photographic emulsion contains tabular grains having an average aspect ratio of 2 or more.
<11> The photothermographic material according to <10>, wherein the tabular grains have an average aspect ratio of 5 or more and 50 or less.
<12> The photothermographic material according to <10> or <11>, wherein the tabular grains have an average equivalent sphere diameter of 0.1 μm to 10 μm.
<13> The photothermographic material according to any one of <1> to <12>, wherein the silver halide photographic emulsion is spectrally sensitized.
<14> The photothermographic material according to any one of <1> to <13>, wherein the image forming layer is provided on both sides of a support.
<15> The photothermographic material according to any one of <1> to <14> is in close contact with a fluorescent intensifying screen containing a phosphor having an emission wavelength of 350 nm or more and 420 nm or less and exposed to X-rays. An image forming method.
<16> The image forming method according to <15>, wherein the phosphor is a divalent Eu-activated phosphor.
<17> The image forming method according to <15> or <16>, wherein the phosphor is a divalent Eu-activated barium halide phosphor.
高感度で保存安定性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法が提供される。特に高いヨウ化銀含有率のハロゲン化銀を用いて、高感度で保存安定性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法が提供される。 A photothermographic material and an image forming method having high sensitivity and excellent storage stability are provided. In particular, using a silver halide having a high silver iodide content, a photothermographic material and an image forming method having high sensitivity and excellent storage stability are provided.
本発明は熱現像感光材料および画像形成方法に関し、特にヨウ化銀含量の高いハロゲン化銀乳剤を用いた熱現像感光材料および画像形成方法に関するものであり、感度が大幅に改善され、かつ低かぶりで現像処理前の感光材料の安定性が優れ、及び現像処理後の画像保存性が優れた熱現像感光材料および画像形成方法に関するものである。 The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method, and more particularly to a photothermographic material and an image forming method using a silver halide emulsion having a high silver iodide content. The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method in which the stability of the photosensitive material before development processing is excellent and the image storage stability after development processing is excellent.
以下に本発明を詳細に説明する。
1.熱現像感光材料
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤、及びバインダーを含有する画像形成層を有している。また、好ましくは画像形成層の上に中間層、表面保護層、あるいはその反対面にバック層やバック保護層などを有してもよい。画像形成層を支持体の両面に有する「両面型熱現像感光材料」も本願では、好ましい。
これらの各層の構成、およびその好ましい成分について詳しく説明する。
The present invention is described in detail below.
1. Photothermographic material The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support. . Preferably, an intermediate layer and a surface protective layer may be provided on the image forming layer, or a back layer and a back protective layer may be provided on the opposite surface. A “double-sided photothermographic material” having image forming layers on both sides of the support is also preferred in the present application.
The configuration of each layer and preferred components thereof will be described in detail.
本発明で用いられるハロゲン化銀への吸着性基と還元性基を有する化合物としてはより具体的には下記一般式(I)で表される化合物があげられる。 More specifically, examples of the compound having an adsorbing group and a reducing group for silver halide used in the present invention include compounds represented by the following general formula (I).
一般式(I) [(A)l−(W)m]n−B General formula (I) [(A) 1- (W) m] n-B
一般式(I)中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基(以後、吸着性基と呼ぶ)を表し、lは1〜5の整数を表す。Wは連結基を表し、mは0または1を表し、nは1〜5の整数を表すが、nは2以上であると本発明の効果がより顕著に現れる。Bは還元性基を表す。
次に一般式(I)について詳細に説明する。
一般式(I)中、Aで表されるハロゲン化銀への吸着性基として窒素またはリンの4級塩構造を表す。窒素の4級塩構造としては具体的にはアンモニオ基または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基などで、ここでいうアリール基はフェニル基等の芳香族炭化水素基を表し、ヘテロアリール基はフリル基やチエニル基などの芳香族ヘテロ環基を指す。アンモニオ基の具体例としてはベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。
4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基としては、4員〜8員の含窒素ヘテロ環が用いられ、これらは単環構造でも縮環構造でもよい。例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、ベンゾオキサゾリオ基、ベンゾチアゾリオ基、ベンゾイミダゾリオピリジニオ基およびイミダゾリオ基基などが挙げられる。
またメルカプト基が置換した含窒素ヘテロ環基で置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられる。
In general formula (I), A represents a group that can be adsorbed to silver halide (hereinafter referred to as an adsorptive group), and l represents an integer of 1 to 5. W represents a linking group, m represents 0 or 1, n represents an integer of 1 to 5, and when n is 2 or more, the effect of the present invention appears more remarkably. B represents a reducing group.
Next, the general formula (I) will be described in detail.
In general formula (I), it represents a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus as an adsorptive group to silver halide represented by A. Specifically, the quaternary salt structure of nitrogen is an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylaryl (or heteroaryl) ammonio group, an alkyldiaryl (or heteroaryl) ammonio group, and the aryl group here is an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group. And a heteroaryl group refers to an aromatic heterocyclic group such as a furyl group or a thienyl group. Specific examples of the ammonio group include benzyldimethylammonio group, trihexylammonio group, and phenyldiethylammonio group.
As the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, a 4-membered to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring is used, which may be a monocyclic structure or a condensed ring structure. Examples thereof include a pyridinio group, an imidazolio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, a benzoxazolio group, a benzothiazolio group, a benzoimidazoliopyridinio group, and an imidazolio group.
Further, a mercapto group substituted with a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a mercapto group may be dissociated to form a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group. , Triazolium ring group, tetrazolium ring group, thiadiazolium ring group, pyridinium ring group, pyrimidinium ring group, triazinium ring group and the like.
窒素の4級塩構造として好ましくは4級化された窒素原子を含む5員あるいは6員環の含窒素ヘテロ環基が用いられ、より好ましくは5員あるいは6員の含窒素芳香族ヘテロ環基が用いられる。さらに好ましくはピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、ベンゾオキサゾリオ基、ベンゾチアゾリオ基、ベンゾイミダゾリオピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基である。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、特に好ましくはアリール基である。 The nitrogen quaternary salt structure is preferably a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, more preferably a 5- or 6-membered nitrogen-containing aromatic heterocyclic group. Is used. More preferred are a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, a benzoxazolio group, a benzothiazolio group, a benzoimidazoliopyridinio group and an imidazolio group, and particularly preferred are a pyridinio group, a quinolinio group and an isoquinolinio group. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group, a chloro atom, an alkoxycarbonyl group, A carbamoyl group etc. are mentioned, Especially preferably, it is an aryl group.
リンの4級塩構造としては、トリアルキルホスホニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、トリアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基を表す。ここでいうアリール基はフェニル基等の芳香族炭化水素基を表し、ヘテロアリール基はフリル基やチエニル基などの芳香族ヘテロ環基を指す。好ましくはアルキルジアリールホスホニオ基、トリアリールホスホニオ基が用いられ、特に好ましくはトリアリールホスホニオ基が用いられる。 The quaternary salt structure of phosphorus represents a trialkylphosphonio group, a dialkylaryl (or heteroaryl) phosphonio group, an alkyldiaryl (or heteroaryl) phosphonio group, or a triaryl (or heteroaryl) phosphonio group. The aryl group here represents an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, and the heteroaryl group refers to an aromatic heterocyclic group such as a furyl group or a thienyl group. An alkyldiarylphosphonio group and a triarylphosphonio group are preferably used, and a triarylphosphonio group is particularly preferably used.
4級塩構造としては窒素の4級塩構造が好ましく用いられ、より好ましくはピリジニオ基が用いられる。一般式(I)の化合物中にこのような4級塩構造は分子内に1つ以上存在していれば良いが、2つ以上存在するのが好ましい。さらには2つあるいは3つ存在している事が特に好ましい。4級塩構造が1分子内に複数存在する場合には、それらは同一の基であってもよいし、異なっていてもよい。 As the quaternary salt structure, a quaternary salt structure of nitrogen is preferably used, and a pyridinio group is more preferably used. In the compound of the general formula (I), one or more such quaternary salt structures may be present in the molecule, but two or more are preferable. Furthermore, it is particularly preferable that two or three are present. When a plurality of quaternary salt structures are present in one molecule, they may be the same group or different.
4級塩の対アニオンの例としては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、フマレートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレートイオン、p−トルエンスルホネート、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートなどのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、BF4−、PF6−、Ph4B−等が挙げられる。分子内にカルボキシレート基等に負電荷を有する基が存在する場合には、それとともに分子内塩を形成しても良い。分子内にない対アニオンとしては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、メタンスルホネートイオン、硫酸イオン、BF4 -、PF6 -が好ましく、クロロイオン、ブロモイオンまたはメタンスルホネートイオンが特に好ましい。 Examples of quaternary salt counter anions include halogen ions such as chlorine ion, bromine ion and iodine ion, carboxylate ions such as acetate ion, oxalate ion, fumarate ion and benzoate ion, p-toluenesulfonate, methanesulfonate Sulfonate ions such as butane sulfonate and benzene sulfonate, sulfate ions, perchlorate ions, carbonate ions, nitrate ions, BF 4 −, PF 6 —, Ph 4 B— and the like. When a group having a negative charge in the carboxylate group or the like is present in the molecule, an inner salt may be formed together with the group. As the counter anion not present in the molecule, halogen ion, carboxylate ion, methanesulfonate ion, sulfate ion, BF 4 − , and PF 6 − are preferable, and chloro ion, bromo ion, and methanesulfonate ion are particularly preferable.
4級塩以外にも他のハロゲン化銀への吸着性基、例えばメルカプト基(または
その塩)、ベンゾトリアゾリル基等も同時に存在していても良い。
他の吸着性基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書4〜7頁に記載されているものが挙げられる。
In addition to quaternary salts, other silver halide adsorptive groups such as mercapto groups (or salts thereof), benzotriazolyl groups and the like may be present simultaneously.
Specific examples of other adsorptive groups further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.
一般式(I)中、Wで表される連結基は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される連結基を表わし、具体的には炭素数1〜20のアルキレン基(メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン碁、ヘキサメチレン基等)、炭素数6〜20のアリーレン基(フェニレン基、ナフチレン基等)、−CONR1−、−SO2NR2−、−〇−、−S−、−NR3−、−NR4CO−、−NR5SO2−、−NR6CONR7−、−COO−、−OCO−等があげられる。R1、R2、R3、R4、R5、R6またはR7は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表わす。 In general formula (I), the linking group represented by W represents a linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, specifically an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. (Methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, etc.), arylene group having 6 to 20 carbon atoms (phenylene group, naphthylene group, etc.), -CONR 1- , -SO 2 NR 2 -,- 〇 -, - S -, - NR 3 -, - NR 4 CO -, - NR 5 SO 2 -, - NR 6 CONR 7 -, - COO -, - OCO- , and the like. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 or R 7 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group.
一般式(I)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6またはR7で表される脂肪族基は好ましくは、炭素数1〜30のものであって特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチルル基、n−デシル基、n−へキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基、プロパルギル基、3−ペンチニル基、ベンジル基等である。 In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 or R 7 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly carbon. A linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, or aralkyl group having 1 to 20 formulas. Examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aralkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, and cyclopentyl. Group, cyclohexyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group, propargyl group, 3-pentynyl group, benzyl group and the like.
一般式(I)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6またはR7で表される芳香族基は好ましくは、炭素数6〜30のものであって、特に炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等である。 In the general formula (I), the aromatic group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 or R 7 is preferably one having 6 to 30 carbon atoms, A monocyclic or condensed ring aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group and a naphthyl group.
前記の各基は各々が組み合わされて2価の連結基を形成してもよい。好ましくはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、フェニレン基、−CONR1−、−SO2NR2−、−NR4CO−、−NR5SO2−、−NR6CONR7−、−COO−、−OCO−等があげられる。R1、R2、R3、R4、R5、R6またはR7は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表わす。 Each of the above groups may be combined to form a divalent linking group. Preferably, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a phenylene group, —CONR 1 —, —SO 2 NR 2 —, —NR 4 CO—, —NR 5 SO 2 —, —NR 6 CONR 7 —, —COO—, -OCO- and the like. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 or R 7 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group.
一般式(I)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6またはR7で表される脂肪族基は好ましくは、炭素数1〜30のものであって特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチルル基、n−デシル基、n−へキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基、プロパルギル基、3−ペンチニル基、ベンジル基等である。 In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 or R 7 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly carbon. A linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, or aralkyl group having 1 to 20 formulas. Examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aralkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, and cyclopentyl. Group, cyclohexyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group, propargyl group, 3-pentynyl group, benzyl group and the like.
一般式(I)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6またはR7で表される芳香族基は好ましくは、炭素数6〜30のものであって、特に炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等である。 In the general formula (I), the aromatic group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 or R 7 is preferably one having 6 to 30 carbon atoms, A monocyclic or condensed ring aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group and a naphthyl group.
一般式(I)中、Bで表される還元性基はハロゲン化銀を還元しうる官能基ならよく具体的にはホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの3重結合基、アルキルメルカプト基やアリールメルカプト基、後述の一般式(B1)〜(B3)で表される基、および後述のレダクトン類、フェノール類、ナフトール類、およびフェニレンジアミン類のいずれかより誘導される基などがあげられる。なかでもホルミル基、アミノ基、3重結合基、(B1)〜(B3)で表される基、およびレダクトン類、フェノール類、ナフトール類、フェニレンジアミン類、1−フェニルー3−ピラゾリドン類のいずれかより誘導される基が好ましい。
以下に還元性基がホルミル基、アミノ基、3重結合基などにあたる本発明の化合物の具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるものではない。
In the general formula (I), the reducing group represented by B may be any functional group capable of reducing silver halide, specifically, a triple bond group such as a formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, an alkyl group. Mercapto group, aryl mercapto group, groups represented by general formulas (B 1 ) to (B 3 ) described later, and groups derived from any of reductones, phenols, naphthols, and phenylenediamines described below Etc. Among them, formyl group, amino group, triple bond group, groups represented by (B 1 ) to (B 3 ), and reductones, phenols, naphthols, phenylenediamines, 1-phenyl-3-pyrazolidones Groups derived from either are preferred.
Specific examples of the compound of the present invention in which the reducing group is a formyl group, amino group, triple bond group or the like are shown below, but the compound of the present invention is not limited thereto.
本発明のハロゲン化銀への吸着性基と還元性基を有する化合物のもう一つの好ましい化合物は、一般式(I)の還元性基が、下記(B1)〜(B3)で表される基から選ばれるいずれかの基である化合物である。ここで、下記(B1)〜(B3)で表される基において、Rb1、及びRb2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。 In another preferred compound having an adsorbing group and a reducing group for the silver halide of the present invention, the reducing group of the general formula (I) is represented by the following (B 1 ) to (B 3 ). A compound which is any group selected from Here, in the groups represented by the following (B 1 ) to (B 3 ), R b1 and R b2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group. To express.
((B1)〜(B3))における、Rb1及びRb2で表されるアルキル基は、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、シクロプロピル、i−ブチル、シクロヘキシル、t−オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、ベンジル)が好ましく、更に好ましくは無置換の直鎖のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。 The alkyl group represented by R b1 and R b2 in ((B 1 ) to (B 3 )) is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, i -Propyl, cyclopropyl, i-butyl, cyclohexyl, t-octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, benzyl), more preferably an unsubstituted linear alkyl group, most preferably a methyl group.
Rb1及びRb2で表されるアルケニル基は、炭素数2〜20の置換または無置換のアルケニル基(例えばビニル、アリル、2−ブテニル、オレイル、i−プロペニル)が好ましく、更に好ましくは無置換の直鎖のアルケニル基であり、最も好ましくはアリルである。
Rb1及びRb2で表されるアルキニル基は、炭素数2から20の置換または無置換のアルキニル基(例えばエチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基)が好ましく、更に好ましくは無置換の直鎖のアルキニル基である。
Rb1及びRb2で表されるアリール基は、炭素数6〜20の置換または無置換のアリール基(例えばフェニル、ナフチル)が好ましく、更に好ましくは置換または無置換のフェニルである。
The alkenyl group represented by R b1 and R b2 is preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, oleyl, i-propenyl), more preferably unsubstituted. A straight-chain alkenyl group, and most preferably allyl.
The alkynyl group represented by R b1 and R b2 is preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms (for example, ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group), more preferably an unsubstituted linear alkynyl group. It is.
The aryl group represented by R b1 and R b2 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms (for example, phenyl or naphthyl), more preferably a substituted or unsubstituted phenyl.
Rb1及びRb2で表されるヘテロ環基は、炭素数3から20の5もしくは6員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基(例えば2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)が好ましく、更に好ましくは芳香族のヘテロ環基である。これらの基は、置換基を有していてもよい。
Rb1として好ましくは水素原子またはアルキル基であり、より好ましくはアル
キル基であり、特に好ましくはメチル基である。Rb2として好ましくは、それぞれ水素原子またはアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
The heterocyclic group represented by R b1 and R b2 is one obtained by removing one hydrogen atom from a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound having 3 to 20 carbon atoms. A valent group (for example, 2-furyl, 2-thienyl, 2-pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl) is preferable, and an aromatic heterocyclic group is more preferable. These groups may have a substituent.
R b1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group. R b2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
本発明のハロゲン化銀への吸着性基と還元性基を有する化合物のさらにもう一つの好ましい化合物は、一般式(I)の還元性基が、レダクトン類、フェノール類、ナフトール類、およびフェニレンジアミン類のいずれかより誘導される基である化合物である。フェノール類としては、ヒドロキシベンゼン類、ジヒドロキシベンゼン類、ポリヒドロキシベンゼン類(ピロガロールなど)、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類などが挙げられる。ナフトール類としては、1,4−ナフトール類、1,5−ナフトール類が挙げられる。これらの化合物のベンゼン環上の水素原子の一つが外れて置換位置となった基が本発明の還元性基となり得る。
この中で好ましくは、フェノール類、およびナフトール類のいずれかより誘導される基を還元性基としたものである。
Still another preferred compound of the present invention having an adsorbing group and a reducing group on silver halide is that the reducing group of the general formula (I) is a reductone, phenol, naphthol, and phenylenediamine. A compound that is a group derived from any of the classes. Examples of phenols include hydroxybenzenes, dihydroxybenzenes, polyhydroxybenzenes (such as pyrogallol), aminophenols, and sulfonamidophenols. Examples of naphthols include 1,4-naphthols and 1,5-naphthols. A group in which one of the hydrogen atoms on the benzene ring of these compounds is removed and becomes a substitution position can be the reducing group of the present invention.
Of these, a group derived from either phenols or naphthols is preferably a reducing group.
フェノール類より誘導される基としてはより具体的には下記で表される化合物があげられる。 More specifically, examples of the group derived from phenols include compounds represented by the following.
式中、Ra1〜Ra5としては例えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基(ヘテロ環基と言っても良い)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH)2)、ホスファト基(−OPO(OH)2)、スルファト基(−OSO3H)、その他の公知の置換基が例として挙げられる。ただしRa1〜Ra5の少なくとも1つは水素原子であり、Ra1〜Ra5の少なくとも1つは一般式(I)の連結基である。 In the formula, as R a1 to R a5 , for example, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group (including a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, and a tricycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group and a bicycloalkenyl group), Alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (may be referred to as heterocyclic group), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, Carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (including anilino group), ammonio group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino Groups, alkyl and Reelsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl Group, aryl and heterocyclic azo group, imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, phosphono group, silyl group, hydrazino group, ureido group, boronic acid group (-B (OH 2 ), phosphato group (—OPO (OH) 2 ), sulfato group (—OSO 3 H) and other known substituents. However, at least one of R a1 to R a5 is a hydrogen atom, and at least one of R a1 to R a5 is a linking group of the general formula (I).
アルキル基としては、好ましくは総炭素数1〜30、さらに好ましくは総炭素数2〜20の直鎖、分岐、環状のアルキル基であり、例えばブチル、ヘキシル、ベンジル等が挙げられる。
アリール基としては、好ましくは総炭素数6〜30、さらに好ましくは総炭素数6〜20のアリール基であり、例えば、フェニル基またはナフチル基が挙げられる。
ヘテロ環基としては、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基を表し、例えばピリジン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ピラゾール環基、インダゾール環基、インドール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キナゾリン環基等が挙げられる。
The alkyl group is preferably a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and examples thereof include butyl, hexyl, and benzyl.
The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group.
The heterocyclic group represents a 5-membered to 7-membered, monocyclic or condensed, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, such as a pyridine ring group, a pyrimidine ring group, a triazine ring group, a thiazole ring group, Benzothiazole ring group, oxazole ring group, benzoxazole ring group, imidazole ring group, benzimidazole ring group, pyrazole ring group, indazole ring group, indole ring group, purine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, quinazoline ring group Etc.
他にアシル基としては、例えばアセチル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基等、アルキルスルホニル基としては例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基等、アリールスルホニル基としては例えばベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、p−クロロフェニルスルホニル基等、カルバモイル基としては例えばN−フェニルカルバモイル基、N−メチルカルバモイル基等、アルコキシカルボニル基としては例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
ナフトール類より誘導される基としてはより具体的には下記で表される化合物があげられる。
Other examples of the acyl group include an acetyl group, a chloroacetyl group, and a trifluoroacetyl group. Examples of the alkylsulfonyl group include a methanesulfonyl group and an ethanesulfonyl group. Examples of the arylsulfonyl group include a benzenesulfonyl group and p-toluenesulfonyl. Examples of the carbamoyl group such as a group and p-chlorophenylsulfonyl group include an N-phenylcarbamoyl group and an N-methylcarbamoyl group, and examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.
More specifically, examples of the group derived from naphthols include compounds represented by the following.
式中、XまたはYのどちらか一方はヒドロキシル基でありもう一方は水素原子である。Rc1〜Rc5としては水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基(ヘテロ環基と言っても良い)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH)2)、ホスファト基(−OPO(OH)2)、スルファト基(−OSO3H)、その他の公知の置換基が例として挙げられる。ただしX、Y、Rc1〜Rc5のうち少なくとも1つは水素原子であり、少なくとも1つは一般式(I)の連結基である。 In the formula, either X or Y is a hydroxyl group and the other is a hydrogen atom. R c1 to R c5 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (also referred to as a heterocyclic group), a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, and a carboxyl group. , Alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (including anilino group), ammonio group, acylamino group, amino Carbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl group And arylsulfinyl groups, alkyl and arylsulfonyl groups, acyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, aryl and heterocyclic azo groups, imide groups, phosphino groups, phosphinyl groups, phosphinyloxy groups, phosphini Ruamino group, phosphono group, silyl group, hydrazino group, ureido group, boronic acid group (—B (OH) 2 ), phosphato group (—OPO (OH) 2 ), sulfato group (—OSO 3 H), other Known substituents are listed as examples. However, at least one of X, Y and R c1 to R c5 is a hydrogen atom, and at least one is a linking group of the general formula (I).
アルキル基としては、好ましくは総炭素数1〜30、さらに好ましくは総炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状のアルキル基であり、例えばブチル、ヘキシル、ベンジル等が挙げられる。
アリール基としては、好ましくは総炭素数6〜30、さらに好ましくは総炭素数6〜20のアリール基であり、例えば、フェニル基またはナフチル基が挙げられる。
ヘテロ環基としては、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基を表し、例えばピリジン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ピラゾール環基、インダゾール環基、インドール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キナゾリン環基等が挙げられる。
The alkyl group is preferably a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include butyl, hexyl, and benzyl.
The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group.
The heterocyclic group represents a 5-membered to 7-membered, monocyclic or condensed, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, such as a pyridine ring group, a pyrimidine ring group, a triazine ring group, a thiazole ring group, Benzothiazole ring group, oxazole ring group, benzoxazole ring group, imidazole ring group, benzimidazole ring group, pyrazole ring group, indazole ring group, indole ring group, purine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, quinazoline ring group Etc.
以下に還元基が一般式(B1)〜(B3)で表される基、およびレダクトン類、フェノール類、ナフトール類、フェニレンジアミン類、ピラゾリドン類のいずれかより誘導される基である化合物から選ばれる化合物の好ましい具体例(例示化合物(I−1)〜(I−71))を示すが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, from a compound in which the reducing group is a group represented by the general formulas (B 1 ) to (B 3 ) and a group derived from any of reductones, phenols, naphthols, phenylenediamines, and pyrazolidones. Although the preferable specific example (Exemplary compound (I-1)-(I-71)) of the compound chosen is shown, the scope of the present invention is not limited to these.
上記の化合物は、特開昭61−90153号公報、特開平4−368935号公報及びこれらに引用された公報に記載の方法を参考にして合成することができる。但し、ヒドロキシルアミン部分構造を有する化合物の合成法は、大きくは2通りの合成ルートがあり、一つ目は吸着基に2価の連結基部分を反応させ、その後ヒドロキシアミン部を反応させるルートであり、2つ目はヒドロキシルアミン部に2価の連結基部分を反応させ、その後吸着基を反応させるルートである。好ましくは前者である。いずれも一般的有機合成技術によって、合成することができる。 The above compounds can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-61-90153, JP-A-4-368935 and publications cited therein. However, there are roughly two synthesis routes for synthesizing a compound having a hydroxylamine partial structure, and the first is a route in which a divalent linking group portion is reacted with an adsorbing group and then a hydroxyamine portion is reacted. The second is a route in which a divalent linking group portion is reacted with a hydroxylamine portion and then an adsorbing group is reacted. The former is preferred. Any of them can be synthesized by a general organic synthesis technique.
以下に具体例として本発明の化合物例(I−10)の合成法を述べる。
合成スキームならびに合成処方を以下に示す。
The synthesis method of compound example (I-10) of this invention is described as a specific example below.
A synthesis scheme and a synthesis recipe are shown below.
(中間体Aの合成)
2,5−ジヒドロキシ安息香酸32.4g、p−ニトロフェノール35.0g、アセトニトリル400ml、DMF2mlの混合液を加熱還流させ、そこに塩化チオニル23mlを注意深く少しずつ滴下し、その後1時間加熱還流させた。室温まで冷却するとやや粘性のある固体が沈殿、これを濾過した粗結晶をそのまま次工程に用いた。収量55g。
(中間体Bの合成)
(中間体A)55gと2−アミノピリジン56.5gを攪拌しながら120℃で6時間加熱した。室温まで冷却し得られた固体成分を濾過しアセトニトリルで洗浄した。収量41.4g。
(化合物例(I−10)の合成)
(中間体B)4.6gとヨウ化メチル10mlの混合物を35℃で5時間攪拌した。反応液を室温まで冷やした後析出した結晶を濾過し、アセトニトリルで洗浄した。収量7.0g。
(Synthesis of Intermediate A)
A mixture of 3,2.4 g of 2,5-dihydroxybenzoic acid, 35.0 g of p-nitrophenol, 400 ml of acetonitrile and 2 ml of DMF was heated to reflux, and 23 ml of thionyl chloride was carefully added dropwise little by little, and then heated to reflux for 1 hour. . When cooled to room temperature, a slightly viscous solid precipitated, and the filtered crude crystals were used as they were in the next step. Yield 55g.
(Synthesis of Intermediate B)
(Intermediate A) 55 g and 2-aminopyridine 56.5 g were heated at 120 ° C. for 6 hours with stirring. The solid component obtained after cooling to room temperature was filtered and washed with acetonitrile. Yield 41.4g.
(Synthesis of Compound Example (I-10))
(Intermediate B) A mixture of 4.6 g and methyl iodide 10 ml was stirred at 35 ° C. for 5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the precipitated crystals were filtered and washed with acetonitrile. Yield 7.0g.
<添加方法>
本発明における一般式(AR)の化合物は、ハロゲン化銀乳剤調製時、塗布液調製工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加タイミングとして好ましくは、粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時、塗布前である。
<Addition method>
The compound of the general formula (AR) in the present invention may be used at any time during the preparation of the silver halide emulsion and during the preparation of the coating solution. For example, at the time of particle formation, desalting step, chemical sensitization, and before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition timing is preferably from the end of particle formation to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before application, more preferably at the time of chemical sensitization and before application.
本発明における一般式(AR)の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加しても、乳化分散物または固体微粒子分散物として添加しても良い。 The compound of the general formula (AR) in the present invention may be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof, or may be added as an emulsified dispersion or a solid fine particle dispersion. .
<添加量>
本発明における一般式(AR)の化合物は、画像形成層中に添加するのが好ましいが、画像形成層と共に隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
本発明における一般式(AR)の化合物は、ハロゲン化銀1モル当り、1×10-9モル〜5×10-2モル、更に好ましくは1×10-8モル〜1×10-2モルの割合で用いられる。
<Addition amount>
The compound of the general formula (AR) in the present invention is preferably added to the image forming layer, but may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the image forming layer and diffused during coating.
The compound of the general formula (AR) in the present invention is 1 × 10 −9 mol to 5 × 10 −2 mol, more preferably 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −2 mol, per mol of silver halide. Used in proportions.
本発明の4級塩吸着基と還元基が高感度で保存かぶりや短時間現像での感度、画像保存性に優れる理由に付いて、詳細は分かっていないが、発明者は以下のように推測している。
従来、特開2004−184430などの実施例で用いられているメルカプト吸着基と還元基を持つ化合物は、銀に吸着する化合物のため、保存中にハロゲン化銀を還元し保存かぶりを悪化させる一面も同時に持っていると考えられる。これに対して、本発明の4級塩吸着基と還元基を持つ化合物は、正の電荷を持つためハロゲン化銀のハロゲンに吸着していると考えられる。そのため、ハロゲン化銀の銀のそばに居ないため、自身の還元基によってハロゲン化銀を還元しかぶり核を生成しないと考えられる。同じハロゲンに吸着すると考えられる色増感を行った時に本発明の効果が顕著に表れたり、AgIのようにAg面とI面が明確に存在するハロゲン化銀に対して本発明の効果が顕著に表れることからも理解できる。また、同様にメルカプト化合物は大量に添加すると現像抑制することより、ハロゲンに吸着する本発明の化合物は現像時にフィラメントの出来る銀を覆っていないために、現像抑制されずに、短時間の現像で高感度が得られるのであろうと理解できた。
Although the details of the quaternary salt adsorbing group and reducing group of the present invention are high in sensitivity, storage fog, sensitivity in short-time development, and image storability are unknown, the inventors speculate as follows: is doing.
Conventionally, the compound having a mercapto adsorbing group and a reducing group used in Examples such as JP-A No. 2004-184430 is a compound that adsorbs to silver, and thus reduces the silver halide during storage and deteriorates the storage fog. Is thought to have at the same time. On the other hand, the compound having a quaternary salt adsorbing group and a reducing group of the present invention is considered to be adsorbed to the halogen of silver halide because it has a positive charge. Therefore, since it is not near the silver halide silver, it is considered that the silver halide is reduced by its own reducing group and does not generate a nucleus. The effect of the present invention is remarkably exhibited when performing color sensitization that is considered to be adsorbed to the same halogen, or the effect of the present invention is significant for silver halides in which the Ag plane and the I plane are clearly present, such as AgI. It can be understood from what appears in Similarly, when a large amount of a mercapto compound is added, the development is suppressed, so that the compound of the present invention that adsorbs to the halogen does not cover the silver that forms the filament at the time of development. I understood that high sensitivity would be obtained.
(感光性ハロゲン化銀)
1)ハロゲン組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀には、特に制限は無いが、ヨウ化銀含有率が40モル%以上と高い組成のものが本発明の好ましい形態の1つである、より好ましくは80モル%以上である。残りは特に制限はなく、塩化銀、臭化銀またはチオシアン酸銀や燐酸銀などの有機銀塩から選ぶことができるが、特に臭化銀、塩化銀であることが好ましい。
(Photosensitive silver halide)
1) Halogen composition Although there is no restriction | limiting in particular in the photosensitive silver halide used for this invention, The thing of a silver iodide content rate as high as 40 mol% or more is one of the preferable forms of this invention. More preferably, it is 80 mol% or more. The rest is not particularly limited and can be selected from silver chloride, silver bromide, or organic silver salts such as silver thiocyanate and silver phosphate. Silver bromide and silver chloride are particularly preferred.
粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。
構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。コア部のヨウ化銀含有率が高いコア高ヨウ化銀構造、またはシェル部のヨウ化銀含有率が高いシェル高ヨウ化銀構造も好ましく用いることができる。また、粒子の表面にエピタキシャル部分とした塩化銀や臭化銀を局在させる技術も用いることができる。
The distribution of the halogen composition in the grain may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can also be preferably used.
A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, and more preferably 2- to 4-fold core / shell particles can be used. A core high silver iodide structure having a high silver iodide content in the core part or a shell high silver iodide structure having a high silver iodide content in the shell part can also be preferably used. Further, a technique of localizing silver chloride or silver bromide as an epitaxial portion on the surface of the grain can be used.
本発明がヨウ化銀の場合には、任意のβ相およびγ相含有率を取ることができる。β相とは六方晶系のウルツアイト構造を有する高ヨウ化銀構造を指し、γ相とは立方晶系のジンクブレンド構造を有する高ヨウ化銀構造を指す。ここでいうβ相含有率とは、C.R.Berry(ベリー)により提案された手法を用いて決定されるものである。この手法は、粉末X線回折法でのヨウ化銀β相(100)、(101)、(002)とγ相(111)によるピーク比を元にして決定するもので、詳細については例えば、Physical Review,Volume 161,No.3,p.848−851(1967)を参考にすることができる。 In the case where the present invention is silver iodide, an arbitrary β phase and γ phase content can be taken. The β phase refers to a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure, and the γ phase refers to a high silver iodide structure having a cubic zinc blend structure. The β phase content mentioned here is C.I. R. It is determined using the method proposed by Berry. This method is determined based on the peak ratio of the silver iodide β phase (100), (101), (002) and the γ phase (111) in the powder X-ray diffraction method. Physical Review, Volume 161, No. 3, p. Reference may be made to 848-851 (1967).
2)粒子サイズ
本発明に用いるハロゲン化銀については、特に制限は無いが、高感度を達成するためには必要な十分大きい粒子サイズを選ぶこともできる。本発明においては、好ましいハロゲン化銀の平均球相当直径は0.1μm以上10.0μm以下であり、さらに0.2μm以上5.0μm以下であることが好ましく、0.3μm以上3.0μm以下であることが最も好ましい。ここでいう球相当直径とは、ハロゲン化銀1粒子の体積と同じ体積の球の直径を意味する。測定方法としては、電子顕微鏡により観察した個々の投影面積と厚みから粒子体積を求め、その体積と同じ体積の球に換算することにより求めることができる。
2) Grain size The silver halide used in the present invention is not particularly limited, but a sufficiently large grain size necessary to achieve high sensitivity can be selected. In the present invention, the preferred average sphere equivalent diameter of silver halide is 0.1 μm or more and 10.0 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 5.0 μm or less, and 0.3 μm or more and 3.0 μm or less. Most preferably it is. The equivalent sphere diameter here means the diameter of a sphere having the same volume as the volume of one silver halide grain. As a measuring method, it can obtain | require by calculating | requiring the particle | grain volume from each projected area and thickness observed with the electron microscope, and converting into the sphere of the same volume as the volume.
3)塗布量
一般に、熱現像後もハロゲン化銀がそのまま残存する熱現像感光材料の場合は、ハロゲン化銀の塗布量を増やすと膜の透明度が低下し画質上好ましくないため、感度を高くしたい要求にもかかわらず、低く制限されていた。しかしながら、本発明の場合には、熱現像処理によって、ハロゲン化銀による膜のヘイズを減少させることもできるので、より多くのハロゲン化銀を塗布することができる。本発明においては、非感光性有機銀塩の銀1モルに対して0.5モル%以上100モル%以下、好ましくは5モル%以上50モル%以下であることがさらに好ましい。
3) Coating amount Generally, in the case of a photothermographic material in which silver halide remains as it is after heat development, increasing the silver halide coating amount lowers the transparency of the film and is undesirable from the viewpoint of image quality. Despite the request, it was low and limited. However, in the case of the present invention, the haze of the film due to silver halide can also be reduced by heat development, so that more silver halide can be applied. In this invention, it is more preferable that they are 0.5 mol% or more and 100 mol% or less with respect to 1 mol of silver of a nonphotosensitive organic silver salt, Preferably they are 5 mol% or more and 50 mol% or less.
4)平板状粒子の形状および調製方法
本発明におけるハロゲン化銀粒子の形状は特に制限は無いが、より高感度を得る為には平板状粒子が好ましく用いられる。平板状粒子としては、アスペクト比は2以上が好ましく、より好ましくは2以上100以下、さらに好ましくは5以上50以下である。アスペクト比とは粒子1つ1つの投影面積の円相当径を厚みで割った値である。ここで投影面積の円相当径とはハロゲン化銀1粒子の投影面積と同じ面積の円の直径を意味する。測定方法としては、電子顕微鏡により観察した個々の投影面積から粒子面積を求め、その面積と同じ面積の円に換算することにより求めることができる。好ましいハロゲン化銀の投影面積相当直径は0.2μm以上20.0μm以下であり、さらに0.4μm以上20μm以下、更に好ましくは0.5μm以上15μm以下であることが好ましい。
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀の粒子厚みは0.3μm以下が好ましく、より好ましくは0.2μm以下、さらに好ましくは0.15μm以下である。ハロゲン化銀の粒子厚みは、各種方法によって求められるが、例えばレプリカ法による透過電子顕微鏡写真を撮影して個々の粒子の投影面積の円相当径と厚みを求める方法がある。この場合、厚みはレプリカの影(シャドー)の長さから算出する。エピ平板粒子の厚みはエピタキシャル沈着のために単純にはレプリカの影(シャドー)の長さからは算出できない。しかしながらエピタキシャル沈着する前のレプリカの影の長さを測定することにより算出できる。もしくはエピタキシャル沈着後でもエピタキシャル平板粒子を塗布した試料を切断しその断面の電子顕微鏡写真を撮影して容易に求めることができる。
4) Tabular grain shape and preparation method The shape of the silver halide grains in the present invention is not particularly limited, but tabular grains are preferably used in order to obtain higher sensitivity. The tabular grains preferably have an aspect ratio of 2 or more, more preferably 2 or more and 100 or less, and still more preferably 5 or more and 50 or less. The aspect ratio is a value obtained by dividing the equivalent circle diameter of the projected area of each particle by the thickness. Here, the equivalent-circle diameter of the projected area means the diameter of a circle having the same area as the projected area of one silver halide grain. As a measuring method, it can obtain | require by calculating | requiring the particle | grain area from each projected area observed with the electron microscope, and converting into the circle of the same area as the area. The projected area equivalent diameter of silver halide is preferably 0.2 μm to 20.0 μm, more preferably 0.4 μm to 20 μm, and further preferably 0.5 μm to 15 μm.
The grain thickness of the photosensitive silver halide used in the present invention is preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.2 μm or less, and still more preferably 0.15 μm or less. The grain thickness of silver halide can be obtained by various methods. For example, there is a method of obtaining a circle equivalent diameter and thickness of the projected area of each grain by taking a transmission electron micrograph by a replica method. In this case, the thickness is calculated from the length of the shadow of the replica. The thickness of the epi tabular grains cannot be calculated simply from the length of the shadow of the replica because of epitaxial deposition. However, it can be calculated by measuring the length of the shadow of the replica before epitaxial deposition. Alternatively, even after epitaxial deposition, it can be easily obtained by cutting a sample coated with epitaxial tabular grains and taking an electron micrograph of the cross section.
本発明で用いることが出来るヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀は複雑な形態を取り得るが、好ましい形態は例えば、R.L.JENKINS etal.J of Phot.Sci.Vol.28(1980)のp164−Fig1に示されているような平板状粒子が好ましく用いられる。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。 The silver halide having a high silver iodide content that can be used in the present invention can take a complicated form. L. JENKINS et al. J of Photo. Sci. Vol. No. 28 (1980), p164-FIG. 1, tabular grains are preferably used. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used.
6)重金属
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、銀原子以外の異種金属を粒子内にドープするのが好ましい。銀原子以外の異種金属としては、周期律表(第1〜18族までを示す)の第3族〜第13族の金属又は金属錯体が好ましい。周期律表の第3族〜第13族の金属又は金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、鉄である。
これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モルから1×10-3モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平7−225449号、特開平11−65021号段落番号0018〜0024、特開平11−119374号段落番号0227〜0240に記載されている。
6) Heavy Metal The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably doped with a different metal other than silver atoms. As the dissimilar metals other than silver atoms, metals or metal complexes of Group 3 to Group 13 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18) are preferable. As the central metal of the group 3 to group 13 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium, iridium and iron are preferable.
One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol with respect to 1 mol of silver. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.
本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)6]4-、[Fe(CN)6]3-、[Ru(CN)6]4-、[Os(CN)6]4-、[Co(CN)6]3-、[Rh(CN)6]3-、[Ir(CN)6]3-、[Cr(CN)6]3-、[Re(CN)6]3-などが挙げられる。本発明においては六シアノFe錯体が好ましい。 In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. The hexacyano metal complexes include [Fe (CN) 6 ] 4− , [Fe (CN) 6 ] 3− , [Ru (CN) 6 ] 4− , [Os (CN) 6 ] 4− , [Co ( CN) 6 ] 3− , [Rh (CN) 6 ] 3− , [Ir (CN) 6 ] 3− , [Cr (CN) 6 ] 3− , [Re (CN) 6 ] 3− and the like. . In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.
六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等)との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。 In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.
六シアノ金属錯体の添加量は、銀1モル当たり1×10-5モル以上1×10-2モル以下が好ましく、より好ましくは1×10-4モル以上1×10-3モル以下である。 The addition amount of the hexacyano metal complex is preferably 1 × 10 −5 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −3 mol or less per mol of silver.
六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感およびテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、または化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。 In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the aqueous silver nitrate solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.
さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(CN)6]4-)、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平11−84574号段落番号0046〜0050、特開平11−65021号段落番号0025〜0031、特開平11−119374号段落番号0242〜0250に記載されている。 Further, regarding a metal atom (for example, [Fe (CN) 6 ] 4− ), a silver halide emulsion desalting method and a chemical sensitization method that can be contained in the silver halide grains used in the present invention, JP-A-11-11 No. 84574, paragraph numbers 0046 to 0050, JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0025 to 0031, and JP-A No. 11-119374, paragraph numbers 0242 to 0250.
7)ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持するために、分子量は、500〜60,000の低分子量ゼラチンを使用することが好ましい。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱塩処理後の分散時に使用することが好ましい。
7) Gelatin As the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention, various gelatins can be used. In order to satisfactorily maintain the dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the organic silver salt-containing coating solution, it is preferable to use low molecular weight gelatin having a molecular weight of 500 to 60,000. These low molecular weight gelatins may be used at the time of particle formation or dispersion after desalting, but are preferably used at the time of dispersion after desalting.
8)化学増感
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、未化学増感でもよいが、カルコゲン増感法、金増感法、還元増感法の少なくとも1つの方法で化学増感されるのが好ましい。カルコゲン増感法としては、硫黄増感法、セレン増感法およびテルル増感法が挙げられる。
8) Chemical sensitization The photosensitive silver halide used in the present invention may be non-chemically sensitized, but chemically sensitized by at least one of a chalcogen sensitization method, a gold sensitization method, and a reduction sensitization method. Is preferred. Examples of the chalcogen sensitizing method include a sulfur sensitizing method, a selenium sensitizing method, and a tellurium sensitizing method.
硫黄増感においては、不安定硫黄化合物を用い、P.Grafkides著、Chimie et Physique Photographique(Paul Momtel社刊、1987年、第5版)、Research Disclosure誌、307巻307105号などに記載されている不安定硫黄化合物を用いる事が出来る。
具体的には、チオ硫酸塩(例えばハイポ)、チオ尿素類(例えば、ジフェニルチオ尿素、トリエチルチオ尿素、NーエチルーN’ー(4ーメチルー2ーチアゾリル)チオ尿素、カルボキシメチルトリメチルチオ尿素)、チオアミド類(例えば、チオアセトアミド)、ローダニン類(例えば、ジエチルローダニン、5ーベンジリデン−N−エチルローダニン)、フォスフィンスルフィド類(例えば、トリメチルフォスフィンスルフィド)、チオヒダントイン類、4ーオキソーオキサゾリジンー2ーチオン類、ジスルフィド類またはポリスルフィド類(例えば、ジモルフォリンジスルフィド、シスチン、レンチオニン(1,2,3,5,6−ペンタチエパン))、ポリチオン酸塩、元素状硫黄などの公知の硫黄化合物および活性ゼラチンなども用いることができる。特にチオ硫酸塩、チオ尿素類とローダニン類が好ましい。
In sulfur sensitization, unstable sulfur compounds are used. The unstable sulfur compounds described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure, Vol. 307, No. 307105 can be used.
Specifically, thiosulfate (for example, hypo), thioureas (for example, diphenylthiourea, triethylthiourea, N-ethyl-N ′-(4-methyl-2-thiazolyl) thiourea, carboxymethyltrimethylthiourea), thioamides (Eg, thioacetamide), rhodanines (eg, diethyl rhodanine, 5-benzylidene-N-ethyl rhodanine), phosphine sulfides (eg, trimethylphosphine sulfide), thiohydantoins, 4-oxo-oxazolidin-2 Known sulfur compounds such as thiones, disulfides or polysulfides (eg, dimorpholine disulfide, cystine, lenthionine (1,2,3,5,6-pentathiepane)), polythionates, elemental sulfur and active gelatin Also used Can. Particularly preferred are thiosulfates, thioureas and rhodanines.
セレン増感においては、不安定セレン化合物を用い、特公昭43ー13489号、同44ー15748号、特開平4ー25832号、同4ー109340号、同4ー271341号、同5ー40324号、同5ー11385号、特開平6ー51415号、同6ー175258号、同6ー180478号、同6ー208186号、同6ー208184号、同6ー317867号、同7ー92599号、同7ー98483号、同7ー140579号などに記載されているセレン化合物を用いる事が出来る。 In the selenium sensitization, unstable selenium compounds are used, and Japanese Patent Publication Nos. 43-13489, 44-15748, JP-A-4-25832, 4-109340, 4-271341, and 5-40324. 5-11385, JP-A-6-51415, 6-175258, 6-180478, 6-208186, 6-208184, 6-317867, 7-92599, Selenium compounds described in JP-A-7-98483 and JP-A-7-140579 can be used.
具体的には、コロイド状金属セレン、セレノ尿素類(例えば、N,Nージメチルセレノ尿素、トリフルオルメチルカルボニルートリメチルセレノ尿素、アセチルートリメチルセレノ尿素)、セレノアミド類(例えば、セレノアミド,N,Nージエチルフェニルセレノアミド)、フォスフィンセレニド類(例えば、トリフェニルフォスフィンセレニド、ペンタフルオロフェニルートリフェニルフォスフィンセレニド)、セレノフォスフェート類(例えば、トリーp−トリルセレノフォスフェート、トリ−n−ブチルセレノフォスフェート)、セレノケトン類(例えば、セレノベンゾフェノン)、イソセレノシアネート類、セレノカルボン酸類、セレノエステル類、ジアシルセレニド類などを用いればよい。
またさらに、特公昭46ー4553号、同52ー34492号などに記載の非不安定セレン化合物、例えば亜セレン酸、セレノシアン酸塩、セレナゾール類、セレニド類なども用いる事が出来る。特に、フォスフィンセレニド類、セレノ尿素類とセレノシアン酸塩が好ましい。
Specifically, colloidal metal selenium, selenoureas (eg, N, N-dimethylselenourea, trifluoromethylcarbonyl-trimethylselenourea, acetyl-trimethylselenourea), selenoamides (eg, selenoamide, N, N-diethyl) Phenylselenoamide), phosphine selenides (eg, triphenylphosphine selenide, pentafluorophenyl-triphenylphosphine selenide), selenophosphates (eg, tri-p-tolylselenophosphate, tri-n) -Butylselenophosphate), selenoketones (for example, selenobenzophenone), isoselenocyanates, selenocarboxylic acids, selenoesters, diacyl selenides and the like may be used.
Furthermore, non-labile selenium compounds described in JP-B Nos. 46-4553 and 52-34492, such as selenite, selenocyanate, selenazoles, and selenides can also be used. In particular, phosphine selenides, selenoureas and selenocyanates are preferred.
テルル増感においては、不安定テルル化合物を用い、特開平4ー224595号、同4ー271341号、同4ー333043号、同5ー303157号、同6−27573号、同6−175258号、同6−180478号、同6−208186号、同6−208184号、同6−317867号、同7−140579号、同7−301879号、同7−301880号などに記載されている不安定テルル化合物を用いる事が出来る。 In tellurium sensitization, an unstable tellurium compound is used, and JP-A-4-224595, JP-A-4-271341, JP-A-4-3333043, JP-A-5-303157, JP-A-6-27573, JP-A-6-175258, The unstable tellurium described in JP-A-6-180478, JP-A-6-208186, JP-A-6-208184, JP-A-6-317867, JP-A-7-140579, JP-A-7-301879, JP-A-7-301880, etc. A compound can be used.
具体的には、フォスフィンテルリド類(例えば、ブチルージイソプロピルフォスフィンテルリド、トリブチルフォスフィンテルリド、トリブトキシフォスフィンテルリド、エトキシージフェニルフォスフィンテルリド)、ジアシル(ジ)テルリド類(例えば、ビス(ジフェニルカルバモイル)ジテルリド、ビス(N−フェニルーN−メチルカルバモイル)ジテルリド、ビス(N−フェニルーNーメチルカルバモイル)テルリド、ビス(N−フェニルーNーベンジルカルバモイル)テルリド、ビス(エトキシカルボニル)テルリド)、テルロ尿素類(例えば、N,N´ージメチルエチレンテルロ尿素、N,N’ージフェニルエチレンテルロ尿素)テルロアミド類、テルロエステル類などを用いれば良い。
特に、ジアシル(ジ)テルリド類とフォスフィンテルリド類が好ましく、特に特開平11−65021号段落番号0030に記載の文献に記載の化合物、特開平5−313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示される化合物がより好ましい。
Specifically, phosphine tellurides (for example, butyl-diisopropylphosphine telluride, tributylphosphine telluride, tributoxyphosphine telluride, ethoxydiphenylphosphine telluride), diacyl (di) tellurides ( For example, bis (diphenylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) telluride, bis (N-phenyl-N-benzylcarbamoyl) telluride, bis (ethoxycarbonyl) Telluride), telluroureas (for example, N, N′-dimethylethylenetellurourea, N, N′-diphenylethylenetellurourea) telluramides, telluroesters and the like may be used.
In particular, diacyl (di) tellurides and phosphine tellurides are preferable. Particularly, the compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, the general formula (II) in JP-A-5-313284, Compounds represented by (III) and (IV) are more preferred.
特に本発明のカルコゲン増感においてはセレン増感とテルル増感が好ましく、特にテルル増感が好ましい。 Particularly, in the chalcogen sensitization of the present invention, selenium sensitization and tellurium sensitization are preferable, and tellurium sensitization is particularly preferable.
金増感においては、P.Grafkides著、Chimie et Physique Photographique(Paul Momtel社刊、1987年、第5版)、Research Disclosure誌307巻307105号に記載されている金増感剤を用いることができる。具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレニドなどでありこれらにくわえて、米国特許第2642361号、同5049484号、同5049485号、同5169751号、同5252455号、ベルギー特許第691857などに記載の金化合物も用いることが出来る。またP.Grafkides著、Chimie et Physique Photographique(Paul Momtel社刊、1987年、第5版)、Research Disclosure誌、307巻307105号に記載されている金以外の、白金、パラジュウム、イリジュウムなどの貴金属塩を用いる事も出来る。 In gold sensitization, P.I. Gold sensitizers described by Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, No. 307105 can be used. Specifically, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide and the like, in addition to these, U.S. Pat. Nos. 2,642,361, 5,049,484, 5,049,485, 5,169,751, Gold compounds described in 5252455, Belgian Patent No. 691857 and the like can also be used. P. Using platinum, palladium, iridium, etc. other than gold described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure magazine, 307, 307105 You can also.
金増感は単独で用いることもできるが、前記のカルコゲン増感と組み合わせて用いることが好ましい。具体的には金硫黄増感、金セレン増感、金テルル増感、金硫黄セレン増感、金硫黄テルル増感、金セレンテルル増感、金硫黄セレンテルル増感である。 Although gold sensitization can be used alone, it is preferably used in combination with the chalcogen sensitization described above. Specifically, gold sulfur sensitization, gold selenium sensitization, gold tellurium sensitization, gold sulfur selenium sensitization, gold sulfur tellurium sensitization, gold selenium tellurium sensitization, and gold sulfur selenium tellurium sensitization.
本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感後、(4)塗布直前等があり得る。 In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.
本発明で用いられるカルコゲン増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-1モル、好ましくは10-7〜10-2モル程度を用いる。
同様に、本発明で用いられる金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モル〜10-2モル、より好ましくは10-6モル〜5×10-3モルである。この乳剤を化学増感する環境条件としてはいかなる条件でも選択可能ではあるが、pAgとしては8以下、好ましくは7.0以下より6.5以下、とくに6.0以下、およびpAgが1.5以上、好ましくは2.0以上、特に好ましくは2.5以上の条件であり、pHとしては3〜10、好ましくは4〜9、温度としては20℃〜95℃、好ましくは25℃〜80℃程度である。
The amount of chalcogen sensitizer used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, and the like, but is 10 -8 to 10 -1 mol, preferably 10 -7 to 1 mol per mol of silver halide. About 10 -2 mol is used.
Similarly, the amount of the gold sensitizer used in the present invention varies depending on various conditions, but as a guide, it is 10 −7 mol to 10 −2 mol, more preferably 10 −6 mol to 5 mol per mol of silver halide. × 10 -3 mol. The environmental conditions for chemically sensitizing this emulsion can be selected under any conditions, but the pAg is 8 or less, preferably 7.0 or less to 6.5 or less, particularly 6.0 or less, and the pAg is 1.5 or less. Above, preferably 2.0 or more, particularly preferably 2.5 or more, pH is 3 to 10, preferably 4 to 9, temperature is 20 ° C. to 95 ° C., preferably 25 ° C. to 80 ° C. Degree.
本発明においてカルコゲン増感や金増感に加えて、さらに本発明に含まれない還元増感も併用することができる。とくにカルコゲン増感と併用するのが好ましい。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素、ジメチルアミンボランが好ましく、その他に塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でもよい。また、乳剤のpHを8以上またはpAgを4以下に保持して熟成することにより還元増感することも好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。
還元増感剤の添加量としては、同様に種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モル〜10-1モル、より好ましくは10-6モル〜5×10-2モルである。
In the present invention, reduction sensitization not included in the present invention can be used in combination with chalcogen sensitization and gold sensitization. In particular, it is preferably used in combination with chalcogen sensitization. As specific compounds for the reduction sensitization, ascorbic acid, thiourea dioxide, and dimethylamine borane are preferable. In addition, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, etc. It is preferable to use it. The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is also preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 8 or more or pAg at 4 or less, and reduction sensitization is performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. Is also preferable.
The amount of the reduction sensitizer, likewise may vary depending on various conditions, per mol of silver halide 10 -7 mol to 10 -1 mol as a guide, and more preferably 10 -6 mol to 5 × 10 - 2 moles.
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、チオスルフォン酸化合物を添加してもよい。
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、金増感、カルコゲン増感、の少なくとも1つの方法で化学増感されていることが高感度の熱現像感光材料を設計する点から好ましい。
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method shown in European Patent Publication No. 293,917.
The photosensitive silver halide grains in the invention are preferably chemically sensitized by at least one of gold sensitization and chalcogen sensitization from the viewpoint of designing a high-sensitivity photothermographic material.
9)1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
9) Compound in which 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation can emit 1 electron or more electrons In the photothermographic material of the present invention, 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation is 1 electron or It is preferable to contain a compound capable of emitting more electrons. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.
本発明の感光材料に含有される1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ1、2から選ばれる化合物である。
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contained in the light-sensitive material of the present invention is a compound selected from the following types 1 and 2 that can emit one or more electrons.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation reaction.
まずタイプ1の化合物について説明する。
タイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子を放出し得る化合物としては、特開平9−211769号(具体例:28〜32頁の表Eおよび表Fに記載の化合物PMT−1〜S−37)、特開平9−211774号、特開平11−95355号(具体例:化合物INV1〜36)、特表2001−500996号(具体例:化合物1〜74、80〜87、92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(具体例:化合物INV1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
First, the compound of type 1 will be described.
JP-A-9-211769 (specific example: 28-) is a compound that is a type 1 compound, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one electron with a subsequent bond cleavage reaction. Compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on page 32), JP-A-9-211774, JP-A-11-95355 (specific examples: compounds INV1 to 36), JP2001-500996 (Specific examples: Compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747,236, European Patent 786692A1 (Specific examples: Compounds INV 1-35), "One-photon two-electron sensitizer" or "deprotonated electron" described in patents such as European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051 Compound called Azukazo sensitizers "it can be mentioned. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.
またタイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(1)(特開平2003−114487号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(2)(特開平2003−114487号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(3)(特開平2003−114488号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(4)(特開平2003−114488号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(5)(特開平2003−114488号に記載の一般式(3)と同義)、一般式(6)(特開平2003−75950号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(7)(特開平2003−75950号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(8)(特願平2003−25886号に記載の一般式(1)と同義)、または化学反応式(1)(特願平2003−33446号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物のうち一般式(9)(特願平2003−33446号に記載の一般式(3)と同義)で表される化合物が挙げられる。
またこれらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
Further, as a compound of type 1 that can be emitted by one-electron oxidant formed by one-electron oxidation and further undergoing bond cleavage reaction, one or more electrons can be emitted from the general formula (1) ( General formula (1) described in JP-A-2003-114487), general formula (2) (synonymous with general formula (2) described in JP-A-2003-114487), general formula (3) General formula (1) described in 2003-114488), general formula (4) (synonymous with general formula (2) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488), general formula (5) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488). 114488 (synonymous with general formula (3)), general formula (6) (synonymous with general formula (1) described in JP-A-2003-75950), and general formula (7) (JP-A-2003-75950). Synonymous with general formula (2) described in , General formula (8) (synonymous with general formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2003-25886) or chemical reaction formula (1) (chemical reaction formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446) And the compound represented by the general formula (9) (synonymous with the general formula (3) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446).
The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.
式中RED1、RED2は還元性基を表す。R1は炭素原子(C)とRED1とともに5員もしくは6員の芳香族環(芳香族複素環を含む)のテトラヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成しうる非金属原子団を表す。R2は水素原子または置換基を表す。同一分子内に複数のR2が存在する場合にはこれらは同じであっても異なっていても良い。L1は脱離基をあらわす。EDは電子供与性基をあらわす。Z1は窒素原子とベンゼン環の2つの炭素原子とともに6員環を形成しうる原子団を表す。X1は置換基を表し、m1は0〜3の整数を表す。Z2はは−CR11R12−、−NR13−、または−O−を表す。R11、R12はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。R13は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。X1はアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。L2はカルボキシ基もしくはその塩または水素原子を表す。X2はC=Cとともに5員のヘテロ環を形成する基を表す。
Y2はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。
In the formula, RED 1 and RED 2 represent a reducing group. R 1 is a non-metallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle) or an octahydro form together with carbon atom (C) and RED 1. To express. R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. When a plurality of R 2 are present in the same molecule, these may be the same or different. L 1 represents a leaving group. ED represents an electron donating group. Z 1 represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring. X 1 represents a substituent, and m 1 represents an integer of 0 to 3. Z 2 represents —CR 11 R 12 —, —NR 13 —, or —O—. R 11 and R 12 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 13 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. X 1 represents an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. L 2 represents a carboxy group or a salt thereof, or a hydrogen atom. X 2 represents a group which forms a 5-membered heterocycle with C═C.
Y 2 represents a group which forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. M represents a radical, a radical cation, or a cation.
次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物で1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(10)(特開平2003−140287号に記載の一般式(1)と同義)、化学反応式(1)(特願平2003−33446号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物であって一般式(11)(特願平2003−33446号に記載の一般式(2)と同義)で表される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
Next, the type 2 compound will be described.
As a compound that can be emitted by one-electron oxidant generated by one-electron oxidation with a type 2 compound and further undergoing a bond formation reaction, one or more electrons can be emitted from the general formula (10) The reaction represented by the general formula (1) described in 2003-140287) and the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446) may occur. And a compound represented by the general formula (11) (synonymous with the general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2003-33446). The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.
上式中、Xは1電子酸化される還元性基をあらわす。YはXが1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環部位を含む反応性基を表す。L2はXとYを連結する連結基を表す。R2は水素原子または置換基を表す。同一分子内に複数のR2が存在する場合にはこれらは同じであっても異なっていても良い。
X2はC=Cとともに5員のヘテロ環を形成する基を表す。Y2はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。
In the above formula, X represents a reducing group that is one-electron oxidized. Y reacts with a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of X to form a new bond, a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a benzo The reactive group containing the non-aromatic heterocyclic part of a condensed ring is represented. L 2 represents a linking group for linking X and Y. R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. When a plurality of R 2 are present in the same molecule, these may be the same or different.
X 2 represents a group which forms a 5-membered heterocycle with C═C. Y 2 represents a group which forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. M represents a radical, a radical cation, or a cation.
タイプ1、2の化合物のうち好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。ハロゲン化銀への吸着性基とは特開平2003−156823号明細書の16頁右1行目〜17頁右12行目に記載の基が代表的なものである。分光増感色素の部分構造とは同明細書の17頁右34行目〜18頁左6行目に記載の構造である。 Of the compounds of types 1 and 2, “a compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “a compound having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule” is preferable. Typical examples of the adsorptive group to silver halide include those described in JP-A No. 2003-156823, page 16, right line 1 to page 17, right line 12. The partial structure of the spectral sensitizing dye is a structure described on page 17, right line 34 to page 18, left line 6 of the same specification.
タイプ1、2の化合物として、より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を少なくとも1つ有する化合物」である。さらに好ましくは「同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物」である。吸着性基が単一分子内に2個以上存在する場合には、それらの吸着性基は同一であっても異なっても良い。 More preferably, the compound of type 1 or 2 is “a compound having at least one adsorptive group to silver halide in the molecule”. More preferred is “a compound having two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule”. When two or more adsorptive groups are present in a single molecule, these adsorptive groups may be the same or different.
吸着性基として好ましくは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。特に好ましくは、5−メルカプトテトラゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、および5−メルカプトテトラゾール基である。 The adsorptive group is preferably a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4). -Oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) or imino silver (> NAg) And a nitrogen-containing heterocyclic group having a —NH— group as a heterocyclic partial structure (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.). Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.
吸着性基として、分子内に2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する場合もまた特に好ましい。ここにメルカプト基(−SH)は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基(ジメルカプト置換含窒素テロ環基など)の好ましい例としては、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基が挙げられる。 It is also particularly preferred that the adsorptive group has two or more mercapto groups as a partial structure in the molecule. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Preferred examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing telocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, A 5-dimercapto-1,2,4-triazole group may be mentioned.
また窒素またはリンの4級塩構造も吸着性基として好ましく用いられる。窒素の4級塩構造としては具体的にはアンモニオ基(トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基など)または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。
リンの4級塩構造としては、フォスフォニオ基(トリアルキルフォスフォニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)フォスフォニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)フォスフォニオ基、トリアリール(またはヘテロアリール)フォスフォニオ基など)が挙げられる。
より好ましくは窒素の4級塩構造が用いられ、さらに好ましくは4級化された窒素原子を含む5員あるいは6員の含窒素芳香族ヘテロ環基が用いられる。特に好ましくはピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基が用いられる。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよい。
A quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus is also preferably used as the adsorptive group. Specific examples of the quaternary salt structure of nitrogen include an ammonio group (such as a trialkylammonio group, a dialkylaryl (or heteroaryl) ammonio group, an alkyldiaryl (or heteroaryl) ammonio group) or a quaternized nitrogen atom. A group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing
The quaternary salt structure of phosphorus includes a phosphonio group (such as a trialkyl phosphonio group, dialkylaryl (or heteroaryl) phosphonio group, alkyldiaryl (or heteroaryl) phosphonio group, triaryl (or heteroaryl) phosphonio group). Is mentioned.
More preferably, a quaternary salt structure of nitrogen is used, and a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing aromatic heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom is more preferably used. Particularly preferably, a pyridinio group, a quinolinio group, or an isoquinolinio group is used. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent.
4級塩の対アニオンの例としては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、BF4 -、PF6 -、Ph4B-等が挙げられる。分子内にカルボキシレート基等に負電荷を有する基が存在する場合には、それとともに分子内塩を形成していても良い。分子内にない対アニオンとしては、塩素イオン、ブロモイオンまたはメタンスルホネートイオンが特に好ましい。 Examples of counter anions of quaternary salts include halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, sulfate ions, perchlorate ions, carbonate ions, nitrate ions, BF 4 − , PF 6 − , Ph 4 B − and the like. It is done. When a group having a negative charge in a carboxylate group or the like is present in the molecule, an inner salt may be formed together with the group. As the counter anion not present in the molecule, a chlorine ion, a bromo ion or a methanesulfonate ion is particularly preferable.
吸着性基として窒素またはリンの4級塩構造有するタイプ1、2で表される化合物の好ましい構造は一般式(X)で表される。 A preferred structure of the compound represented by type 1 or 2 having a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus as the adsorptive group is represented by the general formula (X).
一般式(X)においてP、Rはそれぞれ独立して増感色素の部分構造ではない窒素またはリンの4級塩構造を表す。Q1、Q2はそれぞれ独立して連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Sはタイプ(1)または(2)で表される化合物から原子を一つ取り除いた残基である。iとjは1以上の整数であり、i+jが2〜6になる範囲から選ばれるものである。好ましくはiが1〜3、jが1〜2の場合であり、より好ましくはiが1または2、jが1の場合であり、特に好ましくはiが1、jが1の場合である。一般式(X)で表される化合物はその総炭素数が10〜100の範囲のものが好ましい。より好ましくは10〜70、さらに好ましくは11〜60であり、特に好ましくは12〜50である。 In general formula (X), P and R each independently represent a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus that is not a partial structure of a sensitizing dye. Q 1 and Q 2 each independently represent a linking group, specifically a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —NR N —, —C (═O ) —, —SO 2 —, —SO—, —P (═O) — each independently or a combination of these groups. Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. S is a residue obtained by removing one atom from a compound represented by type (1) or (2). i and j are integers of 1 or more, and i + j is selected from the range of 2-6. Preferably, i is 1 to 3, and j is 1 to 2, more preferably i is 1 or 2, and j is 1, and particularly preferably i is 1 and j is 1. The compound represented by the general formula (X) preferably has a total carbon number of 10 to 100. More preferably, it is 10-70, More preferably, it is 11-60, Most preferably, it is 12-50.
本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。
またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。
The type 1 and type 2 compounds in the present invention may be used at any time during the preparation of the photosensitive silver halide emulsion and during the process of producing the photothermographic material. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating.
Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.
本発明のにおけるタイプ1、タイプ2の化合物は水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高くまたは低くして溶解し、これを添加しても良い。 The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is increased or decreased may be dissolved at a higher or lower pH and added.
本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9〜5×10-1モル、更に好ましくは1×10-8〜5×10-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。
The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably used in an emulsion layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but the photosensitive silver halide and the non-photosensitive organic silver salt are used. It may be added to the protective layer and the intermediate layer together with the emulsion layer to be contained and diffused during coating.
The timing of addition of the compound of the present invention is preferably before or after the sensitizing dye, and is preferably 1 × 10 −9 to 5 × 10 −1 mol, more preferably 1 × 10 −8 to 5 per mol of silver halide. X10 -2 mol in a silver halide emulsion layer.
以下に本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of type 1 and type 2 compounds in the present invention are given below, but the present invention is not limited to these.
10)増感色素
本発明においての好ましいもう1つの形態は、ハロゲン化銀が分光増感されていることである。
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。
本発明の熱現像感光材料は特に600nm以上900nm以下、または300nm以上500nm以下に分光感度ピークを持つように分光増感されていることが好ましい。増感色素及び添加法については、特開平11−65021号の段落番号0103〜0109、特開平10−186572号一般式(II)で表される化合物、特開平11−119374号の一般式(I)で表される色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号実施例5に記載の色素、特開平2−96131号、特開昭59−48753号に開示されている色素、欧州特許公開第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35行、特開2001−272747号、特開2001−290238号、特開2002−23306号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、2種以上組合せて用いてもよい。
10) Sensitizing dye Another preferred embodiment in the present invention is that the silver halide is spectrally sensitized.
As a sensitizing dye that can be applied to the present invention, it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. The dye can be advantageously selected.
The photothermographic material of the present invention is preferably spectrally sensitized so as to have a spectral sensitivity peak at 600 nm to 900 nm, or 300 nm to 500 nm. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A No. 11-65021, compounds represented by formula (II) of JP-A No. 10-186572, and formulas (I of JP-A No. 11-119374) ) And the dye described in Example 5 of U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753. No. 19, page 38 to
本発明における増感色素の添加量は、感度やかぶりの性能に合わせて所望の量にすることができるが、感光性層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ましく、さらに好ましくは10-4〜10-1モルである。 The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and the fogging performance, but is preferably 10 −6 to 1 mol, more preferably 1 mol per mol of silver halide in the photosensitive layer. Is 10 −4 to 10 −1 mol.
本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5−341432号、同11−109547号、同10−111543号等に記載の化合物が挙げられる。 In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.
11)ハロゲン化銀の併用
本発明に用いられる熱現像感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57−119341号、同53−106125号、同47−3929号、同48−55730号、同46−5187号、同50−73627号、同57−150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
11) Combined use of silver halide The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions). , Different crystal habits, different chemical sensitization conditions). The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. As techniques relating to these, there are JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841, and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.
12)ハロゲン化銀と有機銀塩の混合
本発明の感光性ハロゲン化銀の粒子は、非感光性有機銀塩の存在しないところで形成され、化学増感されることが特に好ましい。有機銀塩に対してハロゲン化剤を添加することによってハロゲン化銀を形成する方法では十分な感度が達成できない場合があるからである。
ハロゲン化銀と有機銀塩を混合する方法としては、別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があげられる。いずれの方法でも本発明の効果を好ましく得ることができる。
12) Mixing of silver halide and organic silver salt It is particularly preferred that the photosensitive silver halide grains of the present invention are formed in the absence of non-photosensitive organic silver salt and chemically sensitized. This is because sufficient sensitivity may not be achieved by the method of forming silver halide by adding a halogenating agent to the organic silver salt.
As a method of mixing silver halide and organic silver salt, separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt using a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. Alternatively, there may be mentioned a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide which has been prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. In any method, the effects of the present invention can be preferably obtained.
13)ハロゲン化銀の塗布液への混合
本発明のハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳“液体混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章
等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
13) Mixing of silver halide into coating solution The preferred addition time of the silver halide of the present invention to the image forming layer coating solution is from 180 minutes before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. However, the mixing method and mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is the desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method of using a static mixer or the like described in
(有機銀塩)
本発明に用いる非感光性有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含む任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平10−62899号の段落番号0048〜0049、欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。有機銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、これらの混合物などを含む。本発明においては、これら有機銀塩の中でも、ベヘン酸銀含有率50モル%以上100モル%以下の有機酸銀を用いることが好ましい。特にベヘン酸銀含有率は75モル%以上98モル%以下であることが好ましい。
(Organic silver salt)
The non-photosensitive organic silver salt used in the present invention is relatively stable to light, but when heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. A silver salt that forms a silver image. The organic silver salt may be any organic material containing a source capable of reducing silver ions. As for such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferable examples of the organic silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. In the present invention, among these organic silver salts, it is preferable to use organic acid silver having a silver behenate content of 50 mol% to 100 mol%. In particular, the silver behenate content is preferably 75 mol% or more and 98 mol% or less.
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状でもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。
x=b/a
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, or a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic silver salt is observed with an electron microscope, the shape of the organic silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped are defined as a, b, and c from the shortest side (even though c is the same as b) Good)), and calculate with the shorter numbers a and b, and find x as follows.
x = b / a
このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは15≧x(平均)≧1.5である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。 In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上0.3μm以下が好ましく0.1μm以上0.23μm以下がより好ましい。c/bの平均は好ましくは1以上6以下、より好ましくは1以上4以下、さらに好ましくは1以上3以下、特に好ましくは1以上2以下である。 In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average of c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, still more preferably 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or more and 2 or less.
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下であることを指す。
有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差から求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)から求めることができる。
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. Indicates the following.
The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method of obtaining from the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10−62899号、欧州特許公開第0803763A1号、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、特開2001−163827号、特開2001−163889〜90号、同11−203413号、特開2001−188313号、同2001−83652号、同2002−6442号、同2002−31870号、特願2000−214155号、特開2002−6442号等を参考にすることができる。 Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic acid silver used in the present invention. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-7683, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-163711, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-163827. JP-A-2001-163889-90, JP-A-11-203413, JP-A-2001-188313, JP-A-2001-83552, JP-A-2002-6442, JP-A-2002-31870, JP-A-2000-214155, JP-A-2000-214155. Reference can be made to 2002-6442.
本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造することが可能である。混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。 In the present invention, an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion can be mixed to produce a photosensitive material. Mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として0.1g/m2〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2である。特に好ましく1.2g/m2〜2.5g/m2である。 The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, preferably 0.1g / m 2 ~5g / m 2 as silver amount, more preferably from 1 to 3 g / m 2. Particularly preferably 1.2g / m 2 ~2.5g / m 2 .
(還元剤)
本発明の熱現像感光材料は、有機銀塩のための還元剤を含む。該還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できる任意の物質(好ましくは有機物)でよい。該還元剤の例は、特開平11―65021号、段落番号0043〜0045や、欧州特許0803764号、p.7、34行〜p.18、12行に記載されている。
(Reducing agent)
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent for organic silver salt. The reducing agent may be any substance (preferably an organic substance) that can reduce silver ions to metallic silver. Examples of the reducing agent include JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0043 to 0045, European Patent No. 0803764, p. 7, lines 34-p. 18th and 12th lines.
本発明に用いられる好ましい還元剤は、フェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤、あるいはビスフェノール系還元剤である。特に次の一般式(R)で表される化合物が好ましい。 A preferable reducing agent used in the present invention is a so-called hindered phenol reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, or a bisphenol reducing agent. Particularly preferred are compounds represented by the following general formula (R).
一般式(R)
一般式(R)においては、R11およびR11’は各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R12およびR12’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Lは−S−基または−CHR13−基を表す。R13は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を表す。X1およびX1’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。 In the general formula (R), R 11 and R 11 ′ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring. L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring.
各置換基について詳細に説明する。
1)R11およびR11’
R11およびR11’は各々独立に置換または無置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等があげられる。
Each substituent will be described in detail.
1) R 11 and R 11 '
R 11 and R 11 ′ are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, Examples thereof include an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, an acyl group, a carbamoyl group, an ester group, and a halogen atom.
2)R12およびR12’、X1およびX1’
R12およびR12’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
X1およびX1’は、各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
2) R 12 and R 12 ', X 1 and X 1 '
R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. Preferred examples of the group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.
3)L
Lは−S−基または−CHR13−基を表す。R13は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。
R13の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基などがあげられる。
3) L
L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent.
Specific examples of the unsubstituted alkyl group represented by R 13 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, an undecyl group, an isopropyl group, a 1-ethylpentyl group, and a 2,4,4-trimethylpentyl group. can give.
アルキル基の置換基の例はR11の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。 Examples of the substituent of the alkyl group are the same as the substituent of R 11 , and are a halogen atom, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, oxycarbonyl group, Examples thereof include a carbamoyl group and a sulfamoyl group.
4)好ましい置換基
R11およびR11’として好ましくは炭素数3〜15の2級または3級のアルキル基であり、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチルシクロプロピル基などがあげられる。R11およびR11’としてより好ましくは炭素数4〜12の3級アルキル基で、その中でもt−ブチル基、t−アミル基、1−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、t−ブチル基が最も好ましい。
4) Preferred substituents R 11 and R 11 ′ are preferably secondary or tertiary alkyl groups having 3 to 15 carbon atoms, specifically, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t-amyl group. , T-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. R 11 and R 11 ′ are more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, and among them, a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable. .
R12およびR12’として好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基である。 R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group. Group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group.
X1およびX1’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。 X 1 and X 1 ′ are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
Lは好ましくは−CHR13−基である。 L is preferably a —CHR 13 — group.
R13として好ましくは水素原子または炭素数1〜15のアルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基が好ましい。R13として特に好ましいのは水素原子、メチル基、プロピル基またはイソプロピル基である。 R 13 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. Particularly preferred as R 13 is a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group or an isopropyl group.
R13が水素原子である場合、R12およびR12’は好ましくは炭素数2〜5のアルキル基であり、エチル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好ましい。 When R 13 is a hydrogen atom, R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a propyl group, and most preferably an ethyl group.
R13が炭素数1〜8の1級または2級のアルキル基である場合、R12およびR12’はメチル基が好ましい。R13の炭素数1〜8の1級または2級のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基が更に好ましい。 When R 13 is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 12 and R 12 ′ are preferably methyl groups. The primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms of R 13 is more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group, and further preferably a methyl group, an ethyl group or a propyl group.
R11、R11’およびR12、R12’とがいずれもメチル基である場合、R13は2級のアルキル基であることが好ましい。この場合、R13の2級アルキル基としてはイソプロピル基、イソブチル基、1−エチルペンチル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。 When all of R 11 , R 11 ′ and R 12 , R 12 ′ are methyl groups, R 13 is preferably a secondary alkyl group. In this case, the secondary alkyl group of R 13 is preferably an isopropyl group, an isobutyl group, or a 1-ethylpentyl group, and more preferably an isopropyl group.
上記還元剤は、R11、R11’およびR12およびR12’、およびR13の組合せにより、種々の熱現像性能が異なる。2種以上の還元剤を種々の混合比率で併用することによってこれらの熱現像性能を調製することができるので、目的によっては還元剤を2種類以上組み合わせて使用することが好ましい。 The reducing agent has various heat development performances depending on the combination of R 11 , R 11 ′, R 12 and R 12 ′, and R 13 . Since these heat development performances can be prepared by using two or more kinds of reducing agents in combination at various mixing ratios, it is preferable to use two or more kinds of reducing agents in combination depending on the purpose.
以下に本発明の一般式(R)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (R) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明において還元剤の添加量は0.01g/m2〜5.0g/m2であることが好ましく、0.1g/m2〜3.0g/m2であることがより好ましく、画像形成層を有する面の銀1モルに対しては5モル%〜50モル%含まれることが好ましく、10モル%〜40モル%で含まれることがさらに好ましい。 The addition amount of the reducing agent is preferably a 0.01g / m 2 ~5.0g / m 2 , more preferably from 0.1g / m 2 ~3.0g / m 2 , the image forming 5 mol% to 50 mol% is preferably contained with respect to 1 mol of silver on the surface having the layer, and more preferably 10 mol% to 40 mol%.
本発明の還元剤は、有機銀塩、および感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層、およびその隣接層に添加することができるが、画像形成層に含有させることがより好ましい。 The reducing agent of the present invention can be added to an image forming layer containing an organic silver salt and a photosensitive silver halide and its adjacent layer, but it is more preferably contained in the image forming layer.
本発明の還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。 The reducing agent of the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。 Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically dispersing the emulsified dispersion. The method of producing is mentioned.
また、固体微粒子分散法としては、還元剤を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。好ましくは、サンドミルを使った分散方法である。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることができる。 In addition, as the solid fine particle dispersion method, there is a method in which a reducing agent is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. Can be mentioned. A dispersion method using a sand mill is preferable. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. The aqueous dispersion can contain a preservative (eg, benzoisothiazolinone sodium salt).
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm〜10μm、好ましくは0.05μm〜5μm、より好ましくは0.1μm〜1μmの微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。 Particularly preferable is a solid particle dispersion method of a reducing agent, and it is preferable to add fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 1 μm. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.
(現像促進剤)
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開2000−267222号明細書や特開2000−330234号明細書等に記載の一般式(A)で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平2001−92075記載の一般式(II)で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平10−62895号明細書や特開平11−15116号明細書等に記載の一般式(I)、特開2002−156727号の一般式(D)や特開2002−278017号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン系の化合物、特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤は還元剤に対して0.1〜20モル%の範囲で使用され、好ましくは0.5〜10モル%の範囲で、より好ましくは1〜5モル%の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物または乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開2002−156727号明細書に記載の一般式(D)で表されるヒドラジン系の化合物および特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物がより好ましい。
(Development accelerator)
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, or the like as a development accelerator, Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in JP-A No. 2001-92075, general formula (I) described in JP-A No. 10-62895, JP-A No. 11-15116 and the like, A hydrazine-based compound represented by general formula (D) of JP-A No. 2002-156727 or general formula (1) described in JP-A No. 2002-278017, and described in JP-A No. 2001-264929 A phenolic or naphtholic compound represented by the general formula (2) is preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 to 10 mol%, more preferably in the range of 1 to 5 mol%. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent that is solid at room temperature and a low-boiling auxiliary solvent, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
In the present invention, among the above development accelerators, hydrazine compounds represented by the general formula (D) described in JP-A No. 2002-156727 and those described in JP-A No. 2001-264929 are general. A phenol-based or naphthol-based compound represented by the formula (2) is more preferable.
本発明の特に好ましい現像促進剤は下記一般式(A−1)および(A−2)で表される化合物である。
一般式(A−1)
Q1−NHNH−Q2
(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基を表す。)
Particularly preferred development accelerators of the present invention are compounds represented by the following general formulas (A-1) and (A-2).
Formula (A-1)
Q 1 -NHNH-Q 2
(Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group.)
一般式(A−1)において、Q1で表される芳香族基またはヘテロ環基としては5員〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。 In the general formula (A-1), the aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, thiophene ring, etc. are preferable, and these Also preferred are fused rings in which the rings are fused together.
これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、およびアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙げることができる。 These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.
Q2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−tert−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、N−ベンジルカルバモイルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3 -(2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5 Dodecyloxycarbo Butylphenyl) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl include N- benzylcarbamoyl.
Q2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、2−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2 -Hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyl. Examples include oxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.
Q2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、4−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples thereof include methylphenoxycarbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3-dodecyl. Examples include oxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.
Q2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、N−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイルが挙げられる。Q2で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The sulfamoyl group represented by Q 2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, N- (2- Ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl is mentioned. The group represented by Q 2 may further have a group exemplified as an example of the substituent of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position. When it has two or more substituents, these substituents may be the same or different.
次に、式(A−1)で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Q1としては5〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、およびこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 Next, preferred range for the compound represented by formula (A-1) is to be described. Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring. 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these rings Is more preferably a ring fused with a benzene ring or an unsaturated heterocycle. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on the nitrogen atom.
一般式(A−2)
一般式(A−2)においてR1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ一般式(A−1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。 In the general formula (A-2), R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate ester group. R 3 and R 4 each represents a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (A-1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.
R1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基など)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基、4−シアノフェニルウレイド基など)、カルバモイル基(n−ブチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、2−クロロフェニルカルバモイル基、2,4−ジクロロフェニルカルバモイル基など)でアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。R2は好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基など)である。 R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-octyl group, a cyclohexyl group, etc.), an acylamino group (for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, a methyl group). Ureido group, 4-cyanophenylureido group, etc.), carbamoyl group (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) acylamino Groups (including ureido groups and urethane groups) are more preferred. R2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (for example, methoxy group, butoxy group, n-hexyloxy group, n-decyloxy group, cyclohexyloxy group, benzyloxy group, etc.), aryloxy A group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.).
R3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。R4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基またはアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an acylamino group, and more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.
一般式(A−2)においてR3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式(A−1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(A−2)がナフトール系の化合物であるとき、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In the general formula (A-2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, a naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of a substituent quoted by general formula (A-1) may couple | bond with the naphthalene ring. When general formula (A-2) is a naphthol-based compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.
以下、本発明の現像促進剤の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, although the preferable specific example of the development accelerator of this invention is given, this invention is not limited to these.
(水素結合性化合物)
本発明では、還元剤の芳香族性の水酸基(−OH)と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
(Hydrogen bonding compound)
In the present invention, it is preferable to use a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with an aromatic hydroxyl group (—OH) of the reducing agent.
水素結合を形成しうる基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。 Examples of the group capable of forming a hydrogen bond include phosphoryl group, sulfoxide group, sulfonyl group, carbonyl group, amide group, ester group, urethane group, ureido group, tertiary amino group, and nitrogen-containing aromatic group. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it does not have a> N—H group, N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
本発明で、特に好ましい水素結合性化合物は下記一般式(D)で表される化合物である。 In the present invention, particularly preferred hydrogen bonding compounds are compounds represented by the following general formula (D).
一般式(D)
一般式(D)においてR21ないしR23は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。 In the general formula (D), R 21 to R 23 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be substituted even if they are unsubstituted. You may have.
R21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、4−アシルオキシフェニル基などがあげられる。 When R 21 to R 23 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, Examples thereof include an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. Preferred examples of the substituent include an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a t-octyl group. Group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like.
R21ないしR23のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、2−フェノキシプロピル基などがあげられる。 Specific examples of the alkyl group represented by R 21 to R 23 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an octyl group, a dodecyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, a cyclohexyl group, Examples thereof include 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group and the like.
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。 Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。 Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。 Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .
R21ないしR23としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好ましい。 R 21 to R 23 are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In view of the effects of the present invention, at least one of R 21 to R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. Further, it is preferable that R 21 to R 23 are the same group in that they can be obtained at low cost.
以下に本発明における一般式(D)の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
水素結合性化合物の具体例は上述の他に特開2001−281793号、同2002−14438号に記載のものがあげられる。 Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in JP-A Nos. 2001-281793 and 2002-14438 in addition to the above.
本発明の水素結合性化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができる。本発明の化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基を有する化合物と水素結合による錯体を形成しており、還元剤と本発明の一般式(A)の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。 The hydrogen bonding compound of the present invention can be used in a light-sensitive material after being contained in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersed fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. The compound of the present invention forms a complex by a hydrogen bond with a compound having a phenolic hydroxyl group in a solution state. Depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (A) of the present invention, the compound of the present invention Can be separated.
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明の水素結合性化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。 The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the hydrogen bonding compound of the present invention are mixed as a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
本発明の水素結合性化合物は還元剤に対して、1〜200モル%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10〜150モル%の範囲で、さらに好ましくは30〜100モル%の範囲である。 The hydrogen bonding compound of the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably in the range of 10 to 150 mol%, still more preferably in the range of 30 to 100 mol% with respect to the reducing agent. It is.
(バインダー)
本発明の有機銀塩含有層のバインダーはいかなるポリマーであってもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ(ビニルアルコール)類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ(ビニルピロリドン)類、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)類、ポリ(メチルメタクリル酸)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(メタクリル酸)類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(オレフィン)類、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションから被覆形成してもよい。
(binder)
The binder of the organic silver salt-containing layer of the present invention may be any polymer, suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, other films Forming media such as gelatins, rubbers, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) , Poly (methyl methacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, Poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl acetal) Marl) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
本発明では、有機銀塩を含有する層のバインダーのガラス転移温度は10℃以上80℃以下であることが好ましく、20℃〜70℃であることがより好ましく、23℃以上65℃以下であることが更に好ましい。 In the present invention, the glass transition temperature of the binder of the layer containing the organic silver salt is preferably 10 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. to 70 ° C., and 23 ° C. or higher and 65 ° C. or lower. More preferably.
なお、本明細書においてTgは下記の式で計算される。
1/Tg=Σ(Xi/Tgi)
In this specification, Tg is calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
ここでは、ポリマーはi=1からnまでのn個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率(ΣXi=1)、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣはi=1からnまでの和をとる。
尚、各モノマーの単独重合体ガラスの転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup,E.H.Immergut著(Wiley−Interscience、1989))の値を採用した。
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the mass fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n.
As the transition temperature value (Tgi) of the homopolymer glass of each monomer, the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, EH Immergut (Wiley-Interscience, 1989)) was adopted.
バインダーとなるポリマーは単独種で用いてもよいし、必要に応じて2種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が20℃以上のものとガラス転移温度が20℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Tgの異なるポリマーを2種以上ブレンドして使用する場合には、その質量平均Tgが上記の範囲に入ることが好ましい。 The polymer used as the binder may be used alone or in combination of two or more as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more types of polymers having different Tg are blended and used, the mass average Tg is preferably within the above range.
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能である場合に、特に25℃60%RHでの平衡含水率が2質量%以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。
最も好ましい形態は、イオン伝導度が2.5mS/cm以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium moisture content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH.
The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of purifying using a separation functional membrane after polymer synthesis.
ここでいう前記ポリマーが可溶または分散可能である水系溶媒とは、水または水に70質量%以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。
水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミドなどを挙げることができる。
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water with 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent.
Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve, ethyl acetate and dimethylformamide.
また「25℃60%RHにおける平衡含水率」とは、25℃60%RHの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの質量W1と25℃で絶乾状態にあるポリマーの質量W0を用いて以下のように表すことができる。
25℃60%RHにおける平衡含水率=[(W1−W0)/W0]×100(質量%)
含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)を参考にすることができる。
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the mass W1 of the polymer in a humidity-controlled equilibrium under an atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the mass W0 of the polymer in an absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH = [(W1-W0) / W0] × 100 (mass%)
For the definition and measurement method of the moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Materials Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan) can be referred to.
本発明のバインダーポリマーの25℃60%RHにおける平衡含水率は2質量%以下であることが好ましいが、より好ましくは0.01質量%以上1.5質量%以下、さらに好ましくは0.02質量%以上1質量%以下が望ましい。 The equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer of the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and further preferably 0.02% by mass. % To 1% by mass is desirable.
本発明のバインダーは水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態またはミセルを形成して分散しているものなどがあるが、いずれも好ましい。分散粒子の平均粒径は1nm〜50000nm、より好ましくは5nm〜1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。 The binder of the present invention is particularly preferably a polymer that can be dispersed in an aqueous solvent. Examples of the dispersed state include latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed and polymer molecules dispersed in a molecular state or forming micelles, and all are preferable. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of about 1 nm to 50000 nm, more preferably about 5 nm to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ(エステル)類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリ(ウレタン)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(オレフィン)類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。 In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (eg, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer.
これらポリマーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜200000がよい。分子量が小さすぎるものは乳剤層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。 These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the emulsion layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable.
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量%、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Tgはガラス転移温度を表す。 Specific examples of the preferred polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.
P−1;−MMA(70)−EA(27)−MAA(3)−のラテックス(分子量37000、Tg61℃)
P−2;−MMA(70)−2EHA(20)−St(5)−AA(5)−のラテックス(分子量40000、Tg59℃)
P−3;−St(50)−Bu(47)−MAA(3)−のラテックス(架橋性、Tg−17℃)
P−4;−St(68)−Bu(29)−AA(3)−のラテックス(架橋性、Tg17℃)
P−5;−St(71)−Bu(26)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg24℃)
P−6;−St(70)−Bu(27)−IA(3)−のラテックス(架橋性)
P−7;−St(75)−Bu(24)−AA(1)−のラテックス(架橋性、Tg29℃)
P−8;−St(60)−Bu(35)−DVB(3)−MAA(2)−のラテックス(架橋性)
P−9;−St(70)−Bu(25)−DVB(2)−AA(3)−のラテックス(架橋性)
P−10;−VC(50)−MMA(20)−EA(20)−AN(5)−AA(5)−のラテックス(分子量80000)
P−11;−VDC(85)−MMA(5)−EA(5)−MAA(5)−のラテックス(分子量67000)
P−12;−Et(90)−MAA(10)−のラテックス(分子量12000)
P−13;−St(70)−2EHA(27)−AA(3)のラテックス(分子量130000、Tg43℃)
P−14;−MMA(63)−EA(35)− AA(2)のラテックス(分子量33000、Tg47℃)
P−15;−St(70.5)−Bu(26.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg23℃)
P−16;−St(69.5)−Bu(27.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg20.5℃)
Latex of P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg 61 ° C.)
Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg 59 ° C.)
P-3; latex of -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
Latex of P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 17 ° C.)
Latex of P-5; -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 24 ° C.)
Latex of P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-(crosslinkability)
Latex of P-7; -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg 29 ° C.)
P-8; Latex (crosslinkable) of -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-
Latex (crosslinkability) of P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-
P-10; Latex (molecular weight 80000) of -VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-
P-11; latex of VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-(molecular weight 67000)
Latex of P-12; -Et (90) -MAA (10)-(molecular weight 12000)
P-13; Latex of -St (70) -2EHA (27) -AA (3) (molecular weight 130000, Tg 43 ° C)
P-14; latex of MMA (63) -EA (35) -AA (2) (molecular weight 33,000, Tg 47 ° C.)
Latex of P-15; -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 23 ° C.)
Latex of P-16; -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 20.5 ° C)
上記構造の略号は以下のモノマーを表す。MMA;メチルメタクリレート、EA;エチルアクリレート、MAA;メタクリル酸、2EHA;2−エチルヘキシルアクリレート、St;スチレン、Bu;ブタジエン、AA;アクリル酸、DVB;ジビニルベンゼン、VC;塩化ビニル、AN;アクリロニトリル、VDC;塩化ビニリデン、Et;エチレン、IA;イタコン酸。 The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; methyl methacrylate, EA; ethyl acrylate, MAA; methacrylic acid, 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate, St; styrene, Bu; butadiene, AA; acrylic acid, DVB; divinylbenzene, VC; vinyl chloride, AN; acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.
以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンA−4635,4718,4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(エステル)類の例としては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本インキ化学(株)製)、WD−size、WMS(以上イーストマンケミカル製)など、ポリ(ウレタン)類の例としては、HYDRAN AP10、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム類の例としては、LACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、410、438C、2507(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニル)類の例としては、G351、G576(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニリデン)類の例としては、L502、L513(以上旭化成工業(株)製)など、ポリ(オレフィン)類の例としては、ケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げることができる。
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドしてもよい。
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of the acrylic polymer include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters) include, for example, poly (urethanes) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (more made by Eastman Chemical). Examples of rubbers such as HYDRAN AP10, 20, 30, and 40 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, and 7132C (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), etc. Examples of poly (vinyl chloride) s include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and examples of poly (vinylidene chloride) include L502 and L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) Examples of poly (olefin) s include Chemipearl S120, SA100 (manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.).
These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との質量比は40:60〜95:5であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は60質量%〜99質量%であることが好ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。 As the polymer latex used in the present invention, a styrene-butadiene copolymer latex is particularly preferable. The mass ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60% by mass to 99% by mass. The preferred molecular weight range is the same as described above.
本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン共重合体のラテックスとしては、前記のP−3〜P−8,14,15、市販品であるLACSTAR−3307B、7132C、Nipol Lx416等が挙げられる。 Examples of latexes of styrene-butadiene copolymer that are preferably used in the present invention include the aforementioned P-3 to P-8, 14, and 15, commercially available products LACSTAR-3307B and 7132C, Nipol Lx416, and the like.
本発明の感光材料の有機銀塩含有層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。 If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention.
これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの30質量%以下、より好ましくは20質量%以下が好ましい。 The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.
本発明の有機銀塩含有層(即ち、画像形成層)は、ポリマーラテックスをバインダーに用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー/有機銀塩の質量比が1/10〜10/1、更には1/5〜4/1の範囲が好ましい。 The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) of the present invention is preferably formed using a polymer latex as a binder. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is preferably such that the mass ratio of all binders / organic silver salt is 1/10 to 10/1, more preferably 1/5 to 4/1.
また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層(乳剤層)でもあり、このような場合の、全バインダー/ハロゲン化銀の質量比は400〜5、より好ましくは200〜10の範囲が好ましい。 In addition, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The mass ratio of silver is preferably 400-5, more preferably 200-10.
本発明の画像形成層の全バインダー量は0.2g/m2〜30g/m2、より好ましくは1g/m2〜15g/m2の範囲が好ましい。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。 The total amount of binder in the image forming layer of the present invention is 0.2g / m 2 ~30g / m 2 , more preferably from 1g / m 2 ~15g / m 2 is preferred. The image forming layer of the present invention may contain a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like.
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒(ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。)は、水を30質量%以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。溶媒の水含有率は50質量%以上がより好ましく、さらに好ましくは70質量%以上が良い。 In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the light-sensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent is more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more.
好ましい溶媒組成の具体例を挙げると、水100の他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルアルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メチルアルコール/エチルセロソルブ=85/10/5、水/メチルアルコール/イソプロピルアルコール=85/10/5などがある(数値は質量%)。
Specific examples of the preferred solvent composition include
(かぶり防止剤)
1)有機ポリハロゲン化合物
本発明はかぶり防止剤として下記一般式(H)で表される化合物を含有するのが好ましい。
(Anti-fogging agent)
1) Organic polyhalogen compound The present invention preferably contains a compound represented by the following general formula (H) as an antifoggant.
一般式(H) Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)X General formula (H) Q- (Y) n-C (Z 1 ) (Z 2 ) X
一般式(H)において、Qはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基を表し、nは0または1を表し、Z1およびZ2はハロゲン原子を表し、Xは水素原子または電子求引性基を表す。 In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
Qは好ましくはハメットの置換基定数σpが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,p.1207−1216等を参考にすることができる。 Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group in which Hammett's substituent constant σp takes a positive value. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, p. 1207-1216 etc. can be referred to.
このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子(σp値:0.06)、塩素原子(σp値:0.23)、臭素原子(σp値:0.23)、ヨウ素原子(σp値:0.18))、トリハロメチル基(トリブロモメチル(σp値:0.29)、トリクロロメチル(σp値:0.33)、トリフルオロメチル(σp値:0.54))、シアノ基(σp値:0.66)、ニトロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホニル(σp値:0.72))、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基(例えば、アセチル(σp値:0.50)、ベンゾイル(σp値:0.43))、アルキニル基(例えば、C≡CH(σp値:0.23))、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル(σp値:0.45)、フェノキシカルボニル(σp値:0.44))、カルバモイル基(σp値:0.36)、スルファモイル基(σp値:0.57)、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。
σp値としては好ましくは0.2〜2.0の範囲で、より好ましくは0.4から1.0の範囲である。
Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic aryl, or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group.
The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0.
電子求引性基として好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基、カルボキシル基、アルキルまたはアリールカルボニル基、およびアリールスルホニル基であり、特に好ましくはカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基であり、カルバモイル基が最も好ましい。 Preferred as the electron withdrawing group are a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an alkylphosphoryl group, a carboxyl group, an alkyl or arylcarbonyl group, and an arylsulfonyl group, and particularly preferably a carbamoyl group and an alkoxycarbonyl group. , An alkylsulfonyl group and an alkylphosphoryl group, and a carbamoyl group is most preferred.
Xは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。
ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom.
Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
Yは好ましくは−C(=O)−、−SO−または−SO2−を表し、より好ましくは−C(=O)−、−SO2−であり、特に好ましくは−SO2−である。nは、0または1を表し、好ましくは1である。 Y preferably represents —C (═O) —, —SO— or —SO 2 —, more preferably —C (═O) — or —SO 2 —, and particularly preferably —SO 2 —. . n represents 0 or 1, and is preferably 1.
以下に本発明の一般式(H)の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Although the specific example of the compound of general formula (H) of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
本発明の一般式(H)で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩1モル当たり、10-4〜0.8モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10-3〜0.1モルの範囲で、さらに好ましくは5×10-3〜0.05モルの範囲で使用することが好ましい。
特に、本発明のヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀を用いた場合、十分なかぶり防止効果を得るためにはこの一般式(H)の化合物の添加量は重要であり、5×10-3〜0.03モルの範囲で使用することが最も好ましい。
The compound represented by the general formula (H) of the present invention is preferably used in the range of 10 −4 to 0.8 mol, more preferably 10 −3 per mol of the non-photosensitive silver salt of the image forming layer. It is preferable to use in the range of ˜0.1 mol, more preferably in the range of 5 × 10 −3 to 0.05 mol.
In particular, when a silver halide having a high silver iodide content according to the present invention is used, the addition amount of the compound of the general formula (H) is important in order to obtain a sufficient antifogging effect. Most preferably, it is used in the range of 10 −3 to 0.03 mol.
本発明において、一般式(H)で表される化合物を感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられる。 In the present invention, examples of the method for incorporating the compound represented by the general formula (H) into the photosensitive material include the methods described in the method for containing a reducing agent.
一般式(H)で表される化合物の融点は200℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは170℃以下がよい。 The melting point of the compound represented by the general formula (H) is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower.
本発明に用いられるその他の有機ポリハロゲン化物として、特開平11−65021号の段落番号0111〜0112に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に特開2000−284399号の式(P)で表される有機ハロゲン化合物、特開平10−339934号の一般式(II)で表される有機ポリハロゲン化合物、特開2001−33911号に記載の有機ポリハロゲン化合物が好ましい。 Other organic polyhalides used in the present invention include those disclosed in the patents described in paragraph Nos. 0111 to 0112 of JP-A No. 11-65021. In particular, an organic halogen compound represented by the formula (P) in JP-A No. 2000-284399, an organic polyhalogen compound represented by the general formula (II) in JP-A No. 10-339934, and the compounds described in JP-A No. 2001-33911 Organic polyhalogen compounds are preferred.
2)その他のかぶり防止剤
その他のかぶり防止剤としては特開平11−65021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000−206642号のサリチル酸誘導体、特開2000−221634号の式(S)で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11−352624号の請求項9に係るトリアジン化合物、特開平6−11791号の一般式(III)で表される化合物、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン等が挙げられる。
2) Other antifoggants Other antifoggants include mercury (II) salts described in paragraph No. 0113 of JP-A No. 11-65021, benzoic acids described in paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivatives of JP-A No. 2000-206642, A formalin scavenger compound represented by the formula (S) in JP-A-2000-221634, a triazine compound according to claim 9 in JP-A-11-352624, and a compound represented by the general formula (III) in JP-A-6-11791 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.
本発明に用いることのできるかぶり防止剤、安定剤および安定剤前駆体特開平10−62899号の段落番号0070、欧州特許0803764A1号の第20頁第57行〜第21頁第7行に記載の特許のもの、特開平9−281637号、同9−329864号記載の化合物が挙げられる。
Antifoggant, stabilizer and stabilizer precursor that can be used in the present invention described in paragraph No. 0070 of JP-A-10-62899,
本発明における熱現像感光材料はかぶり防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59−193447号記載の一般式(XI)で表される化合物、特公昭55−12581号記載の化合物、特開昭60−153039号記載の一般式(II)で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。 The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of preventing fogging. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photosensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer.
アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。 The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, or fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent.
本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。 In the present invention, the azolium salt may be added in any amount, but it is preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less, and more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less per 1 mol of silver.
(その他の添加剤)
1)メルカプト、ジスルフィド、およびチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10−62899号の段落番号0067〜0069、特開平10−186572号の一般式(I)で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行、特開2001−100358号等に記載されている。中でもメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones In the present invention, mercapto compounds and disulfide compounds are used to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. And thione compounds, paragraphs 0067 to 0069 of JP-A-10-62899, compounds represented by formula (I) of JP-A-10-186572, and specific examples thereof include paragraph numbers 0033 to 0052. , European Patent Publication No. 0803764A1,
2)色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平10−62899号の段落番号0054〜0055、欧州特許0803764A1号のp.21,23行〜48行、特開2000−356317号や特願2000−187298号に記載されており、特に、フタラジノン類(フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメトキシフタラジノンおよび2,3−ジヒドロー1,4−フタラジンジオン);フタラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテトラクロロ無水フタル酸)の組み合わせ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジン、6−イソプロピルフタラジン、6−t−ブチルフタラジン、6−クロロフタラジン、5.7−ジメトキシフタラジン、および2,3−ジヒドロフタラジン)が好ましく、特に、ヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀との組み合わせにおいては、フタラジン類とフタル酸類の組み合わせが好ましい。
2) Toning agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a toning agent. For the toning agent, paragraphs 0054 to 0055 of JP-A No. 10-62899, p. Lines 21, 23 to 48, JP-A No. 2000-356317 and Japanese Patent Application No. 2000-187298, in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, A combination of diammonium phthalate, sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6 -T-butylphthalazine, 6-chloro (Talazine, 5.7-dimethoxyphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine) are preferable. In particular, in the combination with silver halide having a high silver iodide content, the combination of phthalazine and phthalic acid is preferable.
好ましいフタラジン類の添加量としては、有機銀塩1モル当たり0.01モル〜0.3モルであり、さらに好ましくは0.02〜0.2モル、特に好ましくは0.02〜0.1モルである。この添加量は、本発明のヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀乳剤で課題である現像促進にとって重要な要因であり、適正な添加量の選択によって十分な現像性と低いかぶりの両立が可能となる。 The amount of phthalazine added is preferably 0.01 to 0.3 mol, more preferably 0.02 to 0.2 mol, particularly preferably 0.02 to 0.1 mol, per mol of the organic silver salt. It is. This addition amount is an important factor for promoting development, which is a problem in the silver halide emulsion having a high silver iodide content of the present invention. By selecting an appropriate addition amount, both sufficient developability and low fog are achieved. Is possible.
3)可塑剤、潤滑剤
本発明の感光性層に用いることのできる可塑剤および潤滑剤については特開平11−65021号段落番号0117に記載されている。滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特願平11−106881号段落番号0049〜0062記載されている。
3) Plasticizers and lubricants Plasticizers and lubricants that can be used in the photosensitive layer of the invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agent is described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.
4)染料、顔料
本発明の感光性層には色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料(例えばC.I.Pigment Blue 60、C.I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6)を用いることができる。これらについてはWO98/36322号、特開平10−268465号、同11−338098号等に詳細に記載されている。
4) Dye and Pigment The photosensitive layer of the present invention has various dyes and pigments (for example,
(造核剤)
本発明に係る造核剤について説明する。本発明に係る造核剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。この低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。
(Nucleating agent)
The nucleating agent according to the present invention will be described. The nucleating agent according to the present invention refers to a compound that can reduce the amount of silver necessary to obtain a certain silver image density. Various action mechanisms of the function of decreasing can be considered, but a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferable. Here, the covering power of developed silver refers to the optical density per unit amount of silver.
造核剤としては、下記一般式(H)で表されるヒドラジン誘導体化合物、下記一般式(G)で表せるビニル化合物、下記一般式(P)で表される4級オニウム化合物、式(A)、式(B)、一般式(C)で表される環状オレフィン化合物等が好ましい例として挙げられる。 As the nucleating agent, a hydrazine derivative compound represented by the following general formula (H), a vinyl compound represented by the following general formula (G), a quaternary onium compound represented by the following general formula (P), the formula (A) Preferred examples include cyclic olefin compounds represented by formula (B) and general formula (C).
一般式(H)
一般式(G)
一般式(P)
一般式(A)
一般式(B)
一般式(C)
一般式〔H〕において、式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよい脂肪族基、芳香族基、複素環基または−G0−D0基を、B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原子、または一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基またはオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)−基、−SO−基、−SO2−基または−P(O)(G1D1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。好ましいD0としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。 In the general formula [H], A 0 represents an aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group which may have a substituent, and B 0 represents a blocking group. , A 1 and A 2 both represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group or an oxalyl group. Here, G 0 is —CO— group, —COCO— group, —CS— group, —C (═NG 1 D 1 ) — group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) ( G 1 D 1 ) — group, G 1 represents a simple bond, —O— group, —S— group or —N (D 1 ) — group, D 1 represents an aliphatic group, aromatic group, complex When a ring group or a hydrogen atom is represented and a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. Preferred D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group and the like.
一般式(H)において、A0で表される脂肪族基は、好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されていてもよい。 In the general formula (H), the aliphatic group represented by A 0 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an octyl group, a cyclohexyl group, and a benzyl group. These are further suitable substituents (for example, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfoxy group). Group, sulfonamido group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).
一般式(H)において、A0で表される芳香族基は、単環または縮合環のアリール基が好ましく、例えばベンゼン環またはナフタレン環が挙げられ、A0で表される複素環基としては、単環または縮合環で窒素、硫黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A0として、特に好ましいものはアリール基及び−G0−D0基である。 In the general formula (H), the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed aryl group, such as a benzene ring or a naphthalene ring, and the heterocyclic group represented by A 0 is A heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur and oxygen atoms in a single ring or a condensed ring is preferred, such as a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a quinoline ring, Examples include a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, and a furan ring. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a —G 0 -D 0 group.
また、一般式(H)において、A0は耐拡散基またはハロゲン化銀吸着基を、少なくとも一つ含むことが好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。 In the general formula (H), A 0 preferably contains at least one anti-diffusion group or silver halide adsorption group. As the anti-diffusion group, a ballast group commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is preferable. As the ballast group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, phenyl, which are photographically inactive, are preferable. Group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like, and the total number of carbon atoms in the substituent portion is preferably 8 or more.
一般式(H)において、ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭64−90439号に記載の吸着基等が挙げられる。 In the general formula (H), examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, and JP-A-64. And the adsorbing group described in -90439.
一般式(H)において、B0はブロッキング基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)−基、−SO−基、−SO2−基または−P(O)(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原子、または一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基等)、またはオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。 In the general formula (H), B 0 represents a blocking group, preferably a -G 0 -D 0 group, and G 0 is a -CO- group, a -COCO- group, a -CS- group, -C (= NG 1 D 1 ) — group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D 1 ) — group. Preferred examples of G 0 include —CO— group and —COCO— group, G 1 represents a simple bond, —O— group, —S— group or —N (D 1 ) — group, and D 1 represents fatty acid. Represents a group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, An amino group etc. are mentioned. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or oxalyl group (Etoxalyl group, etc.).
一般式(H)で表される化合物の具体例としては、特開平2002−131864号の化学式番号12〜化学式番号18のH−1〜H−35の化合物、化学式番号20〜化学式番号26のH−1−1〜H−4−5の化合物が上げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (H) include compounds of Chemical Formula No. 12 to Chemical Formula No. 18 of H-1 to H-35, and Chemical Formula No. 20 to Chemical Formula No. 26 of H.2002-131864. Although the compound of 1-1 to H-4-5 is raised, it is not limited to these.
これら本発明の一般式(H−1)〜(H−4)で表される化合物は、公知の方法により容易に合成することができる。例えば、米国特許第5,464,738号、同5,496,695号を参考にして合成することができる。 These compounds represented by the general formulas (H-1) to (H-4) of the present invention can be easily synthesized by known methods. For example, it can be synthesized with reference to US Pat. Nos. 5,464,738 and 5,496,695.
その他に好ましく用いることのできるヒドラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許第5,464,738号カラム9〜11に記載の化合物1〜12である。これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で合成することができる。 Other hydrazine derivatives that can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in U.S. Pat. No. 5,545,505 columns 11 to 20, and U.S. Pat. No. 5,464,738 columns 9 to 11. Compounds 1 to 12 described. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.
一般式(G)について説明する。一般式(G)において、XとRはシスの形で表示してあるが、XとRがトランスの形も一般式(G)に含まれる。この事は具体的化合物の構造表示においても同様である。 General formula (G) is demonstrated. In the general formula (G), X and R are shown in a cis form, but a form in which X and R are trans is also included in the general formula (G). The same applies to the structure display of a specific compound.
一般式(G)において、Xは電子求引性基を表し、Wは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサリル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルファモイル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイミノ基、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基を表す。 In the general formula (G), X represents an electron withdrawing group, and W represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, an acyl group, a thioacyl group, an oxalyl group. , Oxyoxalyl, thiooxalyl, oxamoyl, oxycarbonyl, thiocarbonyl, carbamoyl, thiocarbamoyl, sulfonyl, sulfinyl, oxysulfinyl, thiosulfinyl, sulfamoyl, oxysulfinyl, thiosulfinyl Represents a group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group, dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group, immonium group.
Rは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキルアミノ基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、アシルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環基(5〜6員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基等)、ウレイド基、スルホンアミド基を表す。XとW、XとRは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成してもよい。XとWが形成する環としては、例えばピラゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β−ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。 R is a halogen atom, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkenyloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio Group, alkenylthio group, acylthio group, alkoxycarbonylthio group, aminocarbonylthio group, organic group or inorganic salt of hydroxyl group or mercapto group (for example, sodium salt, potassium salt, silver salt), amino group, alkylamino group , Cyclic amino group (for example, pyrrolidino group), acylamino group, oxycarbonylamino group, heterocyclic group (5- to 6-membered nitrogen-containing heterocycle such as benztriazolyl group, imidazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, etc.) Ureido group, sulfo An amide group. X and W, X and R may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the ring formed by X and W include pyrazolone, pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-ketolactone, β-ketolactam and the like.
一般式(G)について更に説明すると、Xの表す電子求引性基とは、置換基定数σpが正の値をとりうる置換基のことである。具体的には、置換アルキル基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケニル基(シアノビニル等)、置換・未置換のアルキニル基(トリフルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル等)、置換アリール基(シアノフェニル等)、置換・未置換のヘテロ環基(ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキサゾリル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基(アセチル、トリフルオロアセチル、ホルミル等)、チオアセチル基(チオアセチル、チオホルミル等)、オキサリル基(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル基(エトキサリル等)、チオオキサリル基(エチルチオオキサリル等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル等)、オキシカルボニル基(エトキシカルボニル等)、カルボキシル基、チオカルボニル基(エチルチオカルボニル等)、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基(エトキシスルホニル等)、チオスルホニル基(エチルチオスルホニル等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル基(メトキシスルフィニル等)、チオスルフィニル基(メチルチオスルフィニル等)、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイミノ基(N−アセチルイミノ等)、N−スルホニルイミノ基(N−メタンスルホニルイミノ等)、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基が挙げられるが、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、インモニウム基等が環を形成したヘテロ環状のものも含まれる。σp値として0.30以上の置換基が特に好ましい。 The general formula (G) will be further described. The electron withdrawing group represented by X is a substituent whose substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (such as halogen-substituted alkyl), a substituted alkenyl group (such as cyanovinyl), a substituted / unsubstituted alkynyl group (such as trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl), a substituted aryl group (such as cyano) Phenyl, etc.), substituted / unsubstituted heterocyclic groups (pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl, etc.), halogen atoms, cyano groups, acyl groups (acetyl, trifluoroacetyl, formyl, etc.), thioacetyl groups (thioacetyl, thioformyl, etc.) ), Oxalyl group (such as methyloxalyl), oxyoxalyl group (such as etoxalyl), thiooxalyl group (such as ethylthiooxalyl), oxamoyl group (such as methyloxamoyl), oxycarbonyl group (such as ethoxycarbonyl), carboxyl group, thiol Carbonyl group (ethylthiocarboni ), Carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group (such as ethoxysulfonyl), thiosulfonyl group (such as ethylthiosulfonyl), sulfamoyl group, oxysulfinyl group (such as methoxysulfinyl), thiosulfinyl group (Such as methylthiosulfinyl), sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group (N-acetylimino etc.), N-sulfonylimino group (N-methanesulfonylimino etc.), dicyanoethylene group, ammonium Group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group, immonium group, and the like include a heterocyclic group in which an ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, immonium group and the like form a ring. A substituent having a σp value of 0.30 or more is particularly preferable.
Wとして表されるアルキル基としては、メチル、エチル、トリフルオロメチル等が、アルケニル基としてはビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル等が、アルキニル基としてはアセチレニル、シアノアセチレニル等が、アリール基としてはニトロフェニル、シアノフェニル、ペンタフルオロフェニル等が、ヘテロ環基としてはピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スクシンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Wとしてはσp値が正の電子求引性基が好ましく、更にはその値が0.30以上のものが好ましい。 Examples of the alkyl group represented by W include methyl, ethyl, trifluoromethyl, etc., examples of the alkenyl group include vinyl, halogen-substituted vinyl, cyanovinyl, etc., examples of the alkynyl group include acetylenyl, cyanoacetylenyl, and the like as the aryl group. Nitrophenyl, cyanophenyl, pentafluorophenyl and the like, and examples of the heterocyclic group include pyridyl, pyrimidyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl and benzoxazolyl. W is preferably an electron-attracting group having a positive σp value, and more preferably 0.30 or more.
上記Rの置換基の内、好ましくはヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、更に好ましくはヒドロキシル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、特に好ましくはヒドロキシル基、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩が挙げられる。 Among the substituents of R, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group, a halogen atom, an organic or inorganic salt of a hydroxyl group or a mercapto group, and a heterocyclic group are preferable, and a hydroxyl group, more preferably An organic or inorganic salt of an alkoxy group, a hydroxyl group or a mercapto group, or a heterocyclic group is exemplified, and an organic or inorganic salt of a hydroxyl group, a hydroxyl group or a mercapto group is particularly preferred.
また上記X及びWの置換基の内、置換基中にチオエーテル結合を有するものが好ましい。 Of the substituents X and W, those having a thioether bond in the substituent are preferred.
一般式(G)で表される化合物の具体例としては、特開平2002−131864号の化学式番号27〜化学式番号50の1−1〜92−7が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (G) include chemical formula number 27 to chemical formula number 50-1 to 92-7 in JP-A No. 2002-131864, but are not limited thereto. Absent.
一般式(P)において、Qは窒素原子または燐原子を表し、R1、R2、R3及びR4は、各々水素原子または置換基を表し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結して環を形成してもよい。 In the general formula (P), Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X − represents an anion. R 1 to R 4 may be connected to each other to form a ring.
R1〜R4で表される置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent represented by R 1 to R 4 include an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.), alkynyl group. (Propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group, Sulfolanyl group etc.), amino group etc. are mentioned.
R1〜R4が互いに連結して形成しうる環としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられる。 Examples of the ring that R 1 to R 4 can form together are a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.
R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよい。R1、R2、R3及びR4としては、水素原子及びアルキル基が好ましい。 The group represented by R 1 to R 4 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group, and an aryl group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom and an alkyl group.
X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙げられる。 Examples of the anion represented by X − include inorganic and organic anions such as halogen ions, sulfate ions, nitrate ions, acetate ions, and p-toluenesulfonate ions.
一般式(P)の構造として、特開平2002−131864号の段落番号0153〜段落番号0163に記載されている構造がさらに好ましい。 As the structure of the general formula (P), the structures described in paragraph numbers 0153 to 0163 of JP-A No. 2002-131864 are more preferable.
一般式(P)の具体的な化合物は、特開平2002−131864号の化学式番号53〜化学式番号62のP−1〜P−52、T−1〜T−18が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the general formula (P) include, but are not limited to, P-1 to P-52 and T-1 to T-18 of Chemical Formula No. 53 to Chemical Formula No. 62 of JP-A No. 2002-131864. Is not to be done.
上記4級オニウム化合物は公知の方法を参照して合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物はChemical Reviews、vol.55、p.335〜483に記載の方法を参考にできる。 The quaternary onium compound can be synthesized by referring to known methods. For example, the tetrazolium compound can be synthesized by referring to Chemical Reviews, vol. 55, p. The method described in 335-483 can be referred to.
次に式(A)および(B)で表される化合物について詳しく説明する。式(A)においてZ1は、−Y1−C(=CH−X1)−C(=O)−と共に5員〜7員の環構造を形成しうる非金属原子団を表す。Z1は好ましくは、炭素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および水素原子から選ばれる原子団で、これらの中から選ばれる数個の原子が、互いに単結合ないしは2重結合によって連結されて、−Y1−C(=CH−X1)−C(=O)−と共に5員〜7員の環構造を形成する。Z1は置換基を有していてもよく、またZ1自体が、芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の一部であってもよく、この場合、Z1が−Y1−C(=CH−X1)−C(=O)−と共に形成する5員〜7員の環構造は、縮環構造を形成することになる。 Next, the compounds represented by formulas (A) and (B) will be described in detail. In the formula (A), Z 1 represents a nonmetallic atomic group capable of forming a 5-membered to 7-membered ring structure with —Y 1 —C (═CH—X 1 ) —C (═O) —. Z 1 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. Te, -Y 1 -C (= CH- X 1) -C (= O) - form a 5- to 7-membered ring structure with. Z 1 may have a substituent, and Z 1 itself may be part of an aromatic or non-aromatic carbocyclic ring or an aromatic or non-aromatic heterocyclic ring, in this case , Z 1 together with —Y 1 —C (═CH—X 1 ) —C (═O) — forms a condensed ring structure.
式(B)においてZ2は、−Y2−C(=CH−X2)−C(Y3)=N−と共に5員〜7員の環構造を形成しうる非金属原子団を表す。Z2は好ましくは、炭素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および水素原子から選ばれる原子団で、これらの中から選ばれる数個の原子が、互いに単結合ないしは2重結合によって連結されて、−Y2−C(=CH−X2)−C(Y3)=N−と共に5員〜7員の環構造を形成する。Z2は置換基を有していてもよく、またZ2自体が、芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の一部であってもよく、この場合、Z2が−Y2−C(=CH−X2)−C(Y3)=N−と共に形成する5員〜7員の環構造は、縮環構造を形成することになる。 In the formula (B), Z 2 represents a nonmetallic atomic group capable of forming a 5-membered to 7-membered ring structure together with —Y 2 —C (═CH—X 2 ) —C (Y 3 ) ═N—. Z 2 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. Te, -Y 2 -C (= CH- X 2) -C (Y 3) = to form a 5- to 7-membered ring structure with N-. Z 2 may have a substituent, and Z 2 itself may be part of an aromatic or non-aromatic carbocycle or an aromatic or non-aromatic heterocycle, in which case , Z 2 together with —Y 2 —C (═CH—X 2 ) —C (Y 3 ) ═N— forms a condensed ring structure.
Z1およびZ2が置換基を有する場合、その置換基の例としては、以下に挙げたものの中から選ばれる。即ち、代表的な置換基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、N−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。 When Z 1 and Z 2 have a substituent, examples of the substituent are selected from those listed below. That is, typical substituents include, for example, halogen atoms (fluorine atoms, chloro atoms, bromine atoms, or iodine atoms), alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyls. Group, aryl group, heterocyclic group, quaternized heterocyclic group containing a nitrogen atom (for example, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl A group, an acylcarbamoyl group, a sulfamoylcarbamoyl group, a carbazoyl group, an oxalyl group, an oxamoyl group, a cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxy group, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), Aryloxy group, heterocyclic o Si group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino Group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino Group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, ( (Alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a group containing a phosphate amide or phosphate ester structure, a silyl group, a stannyl group, etc. Can be mentioned. These substituents may be further substituted with these substituents.
次にY3について説明する。式(B)においてY3は水素原子または置換基を表すが、Y3が置換基を表すとき、その置換基としては、具体的に以下の基が挙げられる。即ち、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)チオ基等である。これら置換基は任意の置換基で置換されていてもよく、具体的にはZ1またはZ2が有していてもよい置換基の例が挙げられる。 Next, Y 3 will be described. In formula (B), Y 3 represents a hydrogen atom or a substituent. When Y 3 represents a substituent, specific examples of the substituent include the following groups. That is, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide Group, ureido group, thioureido group, imide group, alkoxy group, aryloxy group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group and the like. These substituents may be substituted with an arbitrary substituent, and specific examples of the substituent that Z 1 or Z 2 may have are given.
式(A)および式(B)において、X1およびX2は、各々ヒドロキシ基(もしくはその塩)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、セチルオキシ基、t−ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−t−ペンチルフェノキシ基、p−t−オクチルフェノキシ基等)、ヘテロ環オキシ基(例えばベンゾトリアゾリル−5−オキシ基、ピリジニル−3−オキシ基等)、メルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ドデシルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基、p−ドデシルフェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基(例えば1−フェニルテトラゾイル−5−チオ基、2−メチル−1−フェニルトリアゾリル−5−チオ基、メルカプトチアジアゾリルチオ基等)、アミノ基、アルキルアミノ基(例えばメチルアミノ基、プロピルアミノ基、オクチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、アリールアミノ基(例えばアニリノ基、ナフチルアミノ基、o−メトキシアニリノ基等)、ヘテロ環アミノ基(例えばピリジルアミノ基、ベンゾトリアゾール−5−イルアミノ基等)、アシルアミノ基(例えばアセトアミド基、オクタノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、スルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基等)、またはヘテロ環基を表す。 In the formula (A) and the formula (B), X 1 and X 2 are each a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, octyloxy group, dodecyloxy group) Group, cetyloxy group, t-butoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, pt-pentylphenoxy group, pt-octylphenoxy group, etc.), heterocyclic oxy group (for example, benzotriazolyl-5) -Oxy group, pyridinyl-3-oxy group, etc.), mercapto group (or salt thereof), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, butylthio group, dodecylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, p-dodecylphenyl) Thio group etc.), heterocyclic thio group (for example, 1-phenyltetrazoyl-5-thio group) 2-methyl-1-phenyltriazolyl-5-thio group, mercaptothiadiazolylthio group, etc.), amino group, alkylamino group (for example, methylamino group, propylamino group, octylamino group, dimethylamino group, etc.) ), Arylamino groups (for example, anilino group, naphthylamino group, o-methoxyanilino group, etc.), heterocyclic amino groups (for example, pyridylamino group, benzotriazol-5-ylamino group, etc.), acylamino groups (for example, acetamide group, octa A noylamino group, a benzoylamino group, etc.), a sulfonamide group (for example, a methanesulfonamide group, a benzenesulfonamide group, a dodecylsulfonamide group, etc.), or a heterocyclic group.
ここでヘテロ環基とは、芳香族または非芳香族の、飽和もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換のヘテロ環基で、例えば、N−メチルヒダントイル基、N−フェニルヒダントイル基、スクシンイミド基、フタルイミド基、N,N’−ジメチルウラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、インダゾリル基、モルホリノ基、4,4−ジメチル−2,5−ジオキソ−オキサゾリル基等が挙げられる。 Here, the heterocyclic group is an aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated, monocyclic or condensed, substituted or unsubstituted heterocyclic group such as an N-methylhydantoyl group, N- Phenylhydantoyl group, succinimide group, phthalimide group, N, N'-dimethylurazolyl group, imidazolyl group, benzotriazolyl group, indazolyl group, morpholino group, 4,4-dimethyl-2,5-dioxo-oxazolyl Groups and the like.
またここで塩とはアルカリ金属(ナトリウム、カリウム、リチウム)もしくはアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム)の塩、銀塩、あるいはまた4級アンモニウム塩(テトラエチルアンモニウム塩、ジメチルセチルベンジルアンモニウム塩等)、4級ホスホニウム塩等を表す。式(A)および式(B)において、Y1およびY2は−C(=O)−または−SO2−を表す。 Further, the salt here is an alkali metal (sodium, potassium, lithium) or alkaline earth metal (magnesium, calcium) salt, silver salt, or quaternary ammonium salt (tetraethylammonium salt, dimethylcetylbenzylammonium salt, etc.), Represents a quaternary phosphonium salt and the like. In the formula (A) and the formula (B), Y 1 and Y 2 represent —C (═O) — or —SO 2 —.
式(A)および式(B)で表される化合物の好ましい範囲については、特開平11−231459号の段落番号0027〜段落番号0043に記載されている。式(A)および式(B)の具体的化合物例は、特開平11−231459号の表1〜表8の1〜110の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Preferable ranges of the compounds represented by formula (A) and formula (B) are described in paragraph Nos. 0027 to 0043 of JP-A No. 11-231459. Specific examples of the compounds of formula (A) and formula (B) include, but are not limited to, compounds 1 to 110 of Table 1 to Table 8 of JP-A No. 11-231459.
次に本発明の一般式(C)で表される化合物について詳しく説明する。一般式(C)において、X1は酸素原子、硫黄原子、窒素原子を表す。X1が窒素原子の場合にはX1とZ1の結合は単結合でも2重結合であってもよく、単結合の場合には窒素原子は水素原子あるいは任意の置換基を有していてもよい。この置換基としては例えばアルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)スルホニル基等が挙げられる。
Y1は−C(=O)−、−C(=S)−、−SO−、−SO2−、−C(=NR3)−、−(R4)C=N−で表される基を表す。Z1はX1、Y1を含む5員〜7員を形成しうる非金属原子団を表す。その環を形成する原子団は2個〜4個の金属原子以外の原子からなる原子団で、これらの原子は単結合あるいは2重結合で結合されていてもよく、これらは水素原子あるいは任意の置換基(例えばアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アミノ基、アルケニル基)を有していてもよい。Z1がX1、Y1を含む5員〜7員を形成するとき、その環は飽和または不飽和のヘテロ環であり、単環であっても縮合環を有していてもよい。この場合の縮合環は、Y1がC(=NR3)、(R4)C=Nで表される基であるとき、R3またはR4がZ1の有する置換基と結合して形成されるものであってもよい。
Next, the compound represented by formula (C) of the present invention will be described in detail. In the general formula (C), X 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom. When X 1 is a nitrogen atom, the bond between X 1 and Z 1 may be a single bond or a double bond. In the case of a single bond, the nitrogen atom has a hydrogen atom or an arbitrary substituent. Also good. Examples of the substituent include alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, and active methine groups), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, carbamoyl groups. Group, (alkyl, aryl or heterocyclic) sulfonyl group and the like.
Y 1 is -C (= O) -, - C (= S) -, - SO -, - SO 2 -, - C (= NR 3) -, - it is (R 4) expressed by C = N- Represents a group. Z 1 represents a nonmetallic atomic group capable of forming 5 to 7 members including X 1 and Y 1 . The atomic group forming the ring is an atomic group composed of atoms other than 2 to 4 metal atoms, and these atoms may be bonded by a single bond or a double bond. It may have a substituent (for example, an alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkylthio group, acyl group, amino group, alkenyl group). When Z 1 forms 5 to 7 members including X 1 and Y 1 , the ring is a saturated or unsaturated hetero ring, which may be monocyclic or have a condensed ring. In this case, the condensed ring is formed when Y 1 is a group represented by C (═NR 3 ) or (R 4 ) C═N, and R 3 or R 4 is bonded to a substituent of Z 1. It may be done.
一般式(C)においてR1、R2、R3、R4は、それぞれ水素原子または置換基を表す。ただしR1とR2が互いに結合して環状構造を形成することはない。 In the general formula (C), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent. However, R 1 and R 2 are not bonded to each other to form a cyclic structure.
R1,R2が1価の置換基を表す時、1価の置換基としては、以下の基が挙げられる。 When R 1 and R 2 represent a monovalent substituent, examples of the monovalent substituent include the following groups.
例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環(ヘテロ環)基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、水酸基(ヒドロキシ基)またはその塩、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、N−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基またはその塩、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げられる。これら置換基は、これら1価の置換基でさらに置換されていてもよい。 For example, halogen atom (fluorine atom, chloro atom, bromine atom or iodine atom), alkyl group (including aralkyl group, cycloalkyl group, active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocycle (heterocycle) ) Group, a quaternized heterocyclic group containing a nitrogen atom (for example, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, A sulfamoylcarbamoyl group, a carbazoyl group, an oxalyl group, an oxamoyl group, a cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxyl group (hydroxy group) or a salt thereof, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), Aryloxy group, hetero Oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino Group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino Group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group or salt thereof, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) A group containing a sulfonyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a phosphoryl group, a phosphate amide or a phosphate ester structure, A silyl group, a stannyl group, etc. are mentioned. These substituents may be further substituted with these monovalent substituents.
次にR3、R4が置換基を表す時、置換基としてはハロゲン原子を除いてR1、R2が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。R3、R4はさらにZ1と連結して縮合した環を形成していてもよい。 Next, when R 3 and R 4 represent a substituent, examples of the substituent include the same substituents that R 1 and R 2 may have except for a halogen atom. R 3 and R 4 may be further linked to Z 1 to form a condensed ring.
次に一般式(C)で表される化合物のうち、好ましいものについて説明する。一般式(C)においてZ1は好ましくはX1、Y1とともに5〜7員環を形成し、2〜4個の炭素原子、窒素原子、硫黄原子、酸素原子から選ばれる原子からなる原子団であり、Z1がX1、Y1とともに形成するヘテロ環は好ましくは総炭素数3〜40の、より好ましくは3〜25の、最も好ましくは3〜20のヘテロ環であり、Z1は好ましくは少なくとも1つの炭素原子を含む。 Next, a preferable thing is demonstrated among the compounds represented by general formula (C). In the general formula (C), Z 1 preferably forms a 5- to 7-membered ring together with X 1 and Y 1 and is an atomic group consisting of atoms selected from 2 to 4 carbon atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms and oxygen atoms. And the heterocycle formed by Z 1 together with X 1 and Y 1 is preferably a heterocycle having a total carbon number of 3 to 40, more preferably 3 to 25, most preferably 3 to 20, and Z 1 is Preferably it contains at least one carbon atom.
一般式(C)においてY1として好ましくは−C(=O)−,−C(=S)−,−SO2−,−(R4)C=N−であり、特に好ましくは−C(=O)−,−C(=S)−,−SO2−であり、最も好ましくは−C(=O)−である。 In formula (C), Y 1 is preferably —C (═O) —, —C (═S) —, —SO 2 —, — (R 4 ) C═N—, particularly preferably —C ( = O) -, - C ( = S) -, - SO 2 - a, and most preferably -C (= O) - it is.
一般式(C)においてR1、R2が1価の置換基を表す場合には、R1、R2で表される1価の置換基として好ましくは、総炭素数0〜25の以下の基、すなわちアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレイド基、イミド基、アシルアミノ基、ヒドロキシ基あるいはその塩、メルカプト基あるいはその塩、または電子求引性の置換基である。ここに電子求引性の置換基とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置換基のことであり、具体的には、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、イミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基(またはその塩)、飽和もしくは不飽和のヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、またはこれら電子求引性基で置換されたアリール基等が挙げられる。これらの基は任意の置換基を有していてもよい。 When R 1, R 2 represents a monovalent substituent in formula (C), R 1, examples of preferred monovalent substituent represented by R 2, a total carbon number of 0-25 following the Group, that is, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group Group, ureido group, imide group, acylamino group, hydroxy group or salt thereof, mercapto group or salt thereof, or electron-withdrawing substituent. Here, the electron-withdrawing substituent is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group. , Sulfonamido group, imino group, nitro group, halogen atom, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group (or salt thereof), sulfo group (or salt thereof), saturated or unsaturated heterocyclic group, alkenyl group , An alkynyl group, an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. These groups may have an arbitrary substituent.
一般式(C)においてR1、R2が1価の置換基を表す場合には、さらに好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレイド基、イミド基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基あるいはその塩、メルカプト基あるいはその塩等である。一般式(C)においてR1、R2は特に好ましくは、水素原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基あるいはその塩、メルカプト基あるいはその塩等である。一般式(C)において最も好ましくはR1とR2のどちらか一方が水素原子で他方がアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基あるいはその塩、メルカプト基あるいはその塩である。 In the general formula (C), when R 1 and R 2 represent a monovalent substituent, more preferably an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, amino Group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, ureido group, imide group, acylamino group, sulfonamide group, heterocyclic group, hydroxy group or salt thereof, mercapto group or salt thereof, and the like. In the general formula (C), R 1 and R 2 are particularly preferably a hydrogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic group, a hydroxy group or a salt thereof, a mercapto group or a salt thereof, and the like. . In general formula (C), most preferably one of R 1 and R 2 is a hydrogen atom and the other is an alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic group, hydroxy group or salt thereof, mercapto group or Its salt.
一般式(C)においてR3が置換基を表す場合には、好ましくは総炭素数1〜25のアルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホスルファモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基等が挙げられる。特に好ましくはアルキル基、アリール基である。 When R 3 represents a substituent in the general formula (C), preferably an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms in total (including an aralkyl group, a cycloalkyl group, an active methine group, etc.), an alkenyl group, an aryl group, Heterocyclic group, quaternized heterocyclic group containing nitrogen atom (for example, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) Examples thereof include a sulfinyl group, a sulfosulfamoyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, and an amino group. Particularly preferred are an alkyl group and an aryl group.
一般式(C)においてR4が置換基を表す場合には、好ましくは総炭素数1〜25のアルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アリール基、複素環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホスルファモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基等が用いられる。特に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基等が挙げられる。Y1がC(R4)=Nを表すとき、X1、Y1の置換した炭素原子と結合するのはY1中の炭素原子である。 In the general formula (C), when R 4 represents a substituent, it is preferably an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms in total (including an aralkyl group, a cycloalkyl group, an active methine group, etc.), an aryl group, and a heterocyclic group. A heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, A sulfosulfamoyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group and the like are used. Particularly preferred are an alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group and the like. When Y 1 represents C (R 4 ) ═N, it is the carbon atom in Y 1 that is bonded to the carbon atom substituted by X 1 and Y 1 .
一般式(C)の具体的な化合物は、特開平11−133546号記載の化学式番号6〜化学式番号18のA−1〜A−230で表されるが、これらの化合物に限定されない。 Specific compounds of the general formula (C) are represented by A-1 to A-230 of Chemical Formula No. 6 to Chemical Formula No. 18 described in JP-A No. 11-133546, but are not limited to these compounds.
上記造核剤の添加量は有機銀塩1モルに対し10-5〜1モル、好ましくは10-4〜5×10-1モルの範囲である。
上記造核剤の添加方法は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルセバケートあるいはトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやオレオイル−N−メチルタウリン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。このとき、油滴の粘度や屈折率の調製の目的でαメチルスチレンオリゴマーやポリ(t−ブチルアクリルアミド)等のポリマーを添加することも好ましい。
The addition amount of the nucleating agent is in the range of 10 −5 to 1 mol, preferably 10 −4 to 5 × 10 −1 mol, relative to 1 mol of the organic silver salt.
The nucleating agent may be added to the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
Well-known emulsification and dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl sebacate or tri (2-ethylhexyl) phosphate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and dodecylbenzene. Examples include a method of mechanically preparing an emulsified dispersion by adding a surfactant such as sodium sulfonate, oleoyl-N-methyl taurate, sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate. At this time, it is also preferable to add a polymer such as α-methylstyrene oligomer or poly (t-butylacrylamide) for the purpose of adjusting the viscosity and refractive index of the oil droplets.
また、固体微粒子分散法としては、造核剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm〜1000ppmの範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
特に好ましいのは、造核剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm〜10μm、好ましくは0.05μm〜5μm、より好ましくは0.1μm〜2μmの微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
In addition, as a solid fine particle dispersion method, a nucleating agent powder is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or ultrasonic waves to produce a solid dispersion. The method of doing is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
Particularly preferred is a solid particle dispersion method of a nucleating agent, which is preferably added as fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 2 μm. . In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.
上記造核剤の中で、現像時間が20秒以下という迅速現像で処理される感光材料では、一般式(H)、(P)で表される化合物を使うことが好ましく、特に好ましくは一般式(H)で表される化合物が好ましい。
低かぶりが求められる感光材料では一般式(G)、(A)、(B)、(C)で表される化合物を使うことが好ましく、特に好ましくは、一般式(A),(B)で表される化合物である。また、種々の環境条件(温度、湿度)で使われた場合に環境条件に対する写真性能の変化が少ない感光材料には一般式(C)で表される化合物を使うことが好ましい。
上記造核剤の中で好ましい具体的化合物を下記に挙げるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Among the above nucleating agents, it is preferable to use compounds represented by the general formulas (H) and (P), particularly preferably the general formula, in a photosensitive material processed by rapid development with a development time of 20 seconds or less. The compound represented by (H) is preferred.
In light-sensitive materials that require low fog, it is preferable to use compounds represented by the general formulas (G), (A), (B), and (C), and particularly preferably, the general formulas (A) and (B) are used. It is a compound represented. Further, it is preferable to use a compound represented by the general formula (C) for a light-sensitive material having little change in photographic performance with respect to environmental conditions when used under various environmental conditions (temperature, humidity).
Specific preferred compounds among the above nucleating agents are listed below, but are not limited to these compounds.
(塗布液の調製および塗布)
本発明の画像形成層塗布液の調製温度は30℃以上65℃以下がよく、さらに好ましい温度は35℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持されることが好ましい。
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution of the present invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.
(層構成、および構成成分)
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から(a)画像形成層の上(支持体よりも遠い側)に設けられる表面保護層、(b)複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、(c)画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、(d)画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
(Layer structure and components)
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther than the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、(a)または(b)の層として設けられる。アンチハレーション層は、(c)または(d)の層として感光材料に設けられる。 In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (c) or (d).
1)表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。表面保護層については、特開平11−65021号段落番号0119〜0120、特開2001−348546号に記載されている。
1) Surface protective layer The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers. The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2001-348546.
本発明の表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール(PVA)を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン750)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)など使用することができる。 As the binder for the surface protective layer of the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used.
PVAとしては、特開2000−171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のPVA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)などが好ましく挙げられる。 Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
保護層(1層当たり)のポリビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2〜4.0g/m2が好ましく、0.3g/m2〜2.0g/m2がより好ましい。 Preferably 0.3g / m 2 ~4.0g / m 2 as a polyvinyl alcohol coating amount (per support 1 m 2) of the protective layer (per one layer), 0.3g / m 2 ~2.0g / m 2 Is more preferable.
表面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2〜5.0g/m2が好ましく、0.3g/m2〜2.0g/m2がより好ましい。 All (including water-soluble polymer and latex polymer) binder preferably 0.3g / m 2 ~5.0g / m 2 as a coating amount (per support 1 m 2) of the surface protective layer (per one layer), 0. 3g / m 2 ~2.0g / m 2 is more preferable.
2)アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を感光性層に対して露光光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーション層については特開平11−65021号段落番号0123〜0124、特開平11−223898号、同9−230531号、同10−36695号、同10−104779号、同11−231457号、同11−352625号、同11−352626号等に記載されている。
2) Antihalation layer In the photothermographic material of the invention, the antihalation layer can be provided on the side farther from the exposure light source than the photosensitive layer. As for the antihalation layer, paragraphs 0123 to 0124 of JP-A-11-65021, JP-A-11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。 The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平11−231457号等に記載されている。 When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that substantially no dye color remains after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.
消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用する。光学濃度は、0.2〜2であることが好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.001g/m2〜1g/m2程度である。 The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, an optical density (absorbance) when measured at a target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.2-2. The amount of the dye for obtaining such an optical density is generally 0.001g / m 2 ~1g / m 2 approximately.
なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を0.1以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。 When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平11−352626号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を3℃以上降下させる物質(例えば、ジフェニルスルホン、4−クロロフェニル(フェニル)スルホン)を併用することが熱消色性等の点で好ましい。 In thermal decoloration using such decoloring dyes and base precursors, substances that lower the melting point by 3 ° C. or more when mixed with a base precursor as described in JP-A No. 11-352626 (for example, diphenylsulfone, 4-chlorophenyl, etc.) (Phenyl) sulfone) is preferably used in view of thermal decoloring properties.
3)バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平11−65021号段落番号0128〜0130に記載されている。
3) Back Layer Back layers that can be applied to the present invention are described in paragraph numbers 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で300nm〜450nmに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭62−210458号、同63−104046号、同63−103235号、同63−208846号、同63−306436号、同63−314535号、特開平01−61745号、特開2001−100363号などに記載されている。このような着色剤は、通常、0.1mg/m2〜1g/m2の範囲で添加され、添加する層としては感光性層の反対側に設けられるバック層が好ましい。 In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 nm to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-141435, and JP-A-01-61745. And JP-A No. 2001-100363. Such a colorant is usually added in the range of 0.1 mg / m 2 to 1 g / m 2 , and the back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer is preferable as the layer to be added.
4)マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を表面保護層、およびバック層に添加することが好ましい。マット剤については、特開平11−65021号段落番号0126〜0127に記載されている。
マット剤は感光材料1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1〜400mg/m2、より好ましくは5〜300mg/m2である。
4) Matting agent In the present invention, it is preferable to add a matting agent to the surface protective layer and the back layer in order to improve transportability. Matting agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0126 to 0127.
The matting agent is preferably 1 to 400 mg / m 2 , more preferably 5 to 300 mg / m 2 in terms of the coating amount per 1 m 2 of the photosensitive material.
また、乳剤面のマット度は、画像部に小さな白抜けが生じ、光漏れが発生するいわゆる星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P8119「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。 The emulsion surface may have any matte degree as long as it does not cause a so-called stardust failure in which small white spots occur in the image area and light leakage occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds to 2000 seconds, It is preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily obtained by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.
本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好ましくは500秒以下40秒以上である。 In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。 In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.
5)ポリマーラテックス
本発明の表面保護層やバック層にポリマーラテックスを添加することができる。
このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート(33.5質量%)/エチルアクリレート(50質量%)/メタクリル酸(16.5質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(47.5質量%)/ブタジエン(47.5質量%)/イタコン酸(5質量%)コポリマーのラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(58.9質量%)/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4質量%)/スチレン(8.6質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.1質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(64.0質量%)/スチレン(9.0質量%) /ブチルアクリレート(20.0質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.0質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
5) Polymer latex A polymer latex can be added to the surface protective layer or the back layer of the present invention.
For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / Methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, Methyl methacrylate (47.5 wt%) / Butadiene (47.5 wt%) / Itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl Latex of xyl acrylate (25.4 mass%) / styrene (8.6 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned.
ポリマーラテックスは、表面保護層、あるいはバック層の全バインダー(水溶性ポリマーおよびラテックスポリマーを含む)の10質量%〜90質量%用いるのが好ましく、特に20質量%〜80質量%が好ましい。 The polymer latex is preferably used in an amount of 10% by mass to 90% by mass, particularly preferably 20% by mass to 80% by mass, based on the total binder (including the water-soluble polymer and latex polymer) of the surface protective layer or the back layer.
6)膜面pH
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4〜6.2の範囲である。
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2.
膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pHを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの測定方法は、特開2000−284399号明細書の段落番号0123に記載されている。
The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
Further, it is also preferable to use ammonia and a non-volatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide in combination. A method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of JP-A No. 2000-284399.
7)硬膜剤
本発明の感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。
硬膜剤の例としてはT.H.James著「THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION」(Macmillan Publishing Co.,Inc.刊、1977年刊)、77頁から87頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、N,N−エチレンビス(ビニルスルフォンアセトアミド)、N,N−プロピレンビス(ビニルスルフォンアセトアミド)の他、同書78頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6−208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62−89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
7) Hardener A hardener may be used for each layer such as the photosensitive layer, protective layer, and back layer of the present invention.
Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION" by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87, Chrome Alum, 2,4-dichloro-6 In addition to hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfonacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same document, US Pat. No. 4,281 , 060, and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A-62-89048 are preferably used.
硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。 The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation.
具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in
8)界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11−65021号段落番号0132に記載されている。
本発明ではフッ素系界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の好ましい具体例は特開平10−197985号、特開2000−19680号、特開2000−214554号等に記載されている化合物が挙げられる。また、特開平9−281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。
本発明においては、特願2000−206560号記載のフッ素系界面活性剤の使用が特に好ましい。
8) Surfactant Surfactants applicable to the present invention are described in paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021.
In the present invention, it is preferable to use a fluorochemical surfactant. Preferable specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used.
In the present invention, the use of a fluorosurfactant described in Japanese Patent Application No. 2000-206560 is particularly preferred.
9)帯電防止剤
また、本発明では、公知の種々の金属酸化物あるいは導電性ポリマーなどを含む帯電防止層を有しても良い。帯電防止層は前述の下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねても良く、また別途設けてもよい。帯電防止層については、特開平11−65021号段落番号0135、特開昭56−143430号、同56−143431号、同58−62646号、同56−120519号、特開平11−84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11−223898号の段落番号0078〜0084に記載の技術を適用することができる。
9) Antistatic agent In the present invention, an antistatic layer containing various known metal oxides or conductive polymers may be provided. The antistatic layer may also serve as the above-described undercoat layer, back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. Regarding the antistatic layer, paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, paragraphs of JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519, and paragraphs of JP-A No. 11-84573. The techniques described in Paragraph Nos. 0078 to 0084 of Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957 and JP-A-11-223898 can be applied.
10)支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130℃〜185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。
10) Support The transparent support is subjected to heat treatment in a temperature range of 130 ° C to 185 ° C in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate heat shrinkage strain generated during heat development processing. Polyester, especially polyethylene terephthalate, is preferably used.
医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開平8−240877号実施例記載の染料−1)で着色されていてもよいし、無着色でもよい。
具体的な支持体の例は、特開平11−65021同号段落番号0134に記載されている。
In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored.
Specific examples of the support are described in paragraph No. 0134 of JP-A No. 11-65021.
支持体には、特開平11−84574号の水溶性ポリエステル、同10−186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000−39684号や特願平11−106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。 Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer.
11)その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。特開平11−65021号段落番号0133の記載の溶剤を添加しても良い。各種の添加剤は、感光性層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10−186567号、同10−18568号等を参考にすることができる。
11) Other additives An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber or a coating aid may be further added to the photothermographic material. A solvent described in paragraph No. 0133 of JP-A No. 11-65021 may be added. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.
12)塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、または米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.Kistler、Petert M.Schweizer著「LIQUID FILM COATING」(CHAPMAN&HALL社刊、1997年)、399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、またはスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。
12) Coating method The photothermographic material in the invention may be coated by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. The extrusion coating described in “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer (1997), pages 399 to 536 is preferably used, and slide coating is particularly preferably used.
スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1にある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆することができる。 An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be simultaneously coated by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. .
本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11−52509号を参考にすることができる。
本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,000mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは500mPa・s以上20,000mPa・s以下である。
また、剪断速度1000S-1においては1mPa・s以上200mPa・s以下が好まく、さらに好ましくは5mPa・s以上80mPa・s以下である。
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to.
The viscosity of the organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less, at a shear rate of 0.1 S −1 .
Further, at a shear rate of 1000 S −1 , 1 mPa · s to 200 mPa · s is preferable, and 5 mPa · s to 80 mPa · s is more preferable.
13)包装材料
本発明の熱現像感光材料は、使用される前の保存時に写真性能の変質を防ぐため、あるいはロール状態の製品形態の場合にはカールしたり巻き癖が付くのを防ぐために、酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料で密閉包装するのが好ましい。酸素透過率は、25℃で50ml/atm/m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm/m2・day以下であり、さらに好ましくは1.0ml/atm/m2・day以下である。水分透過率は、10g/atm/m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm/m2・day以下であり、さらに好ましくは1g/atm/m2・day以下である。酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料の具体例としては、例えば特開平8−254793号、特開2000−206653号に記載されているものを利用することができる。
13) Packaging material The photothermographic material of the present invention is used to prevent deterioration of photographic performance during storage before use, or to prevent curling or curling in the case of a rolled product form. It is preferable to hermetically package with a packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability. The oxygen permeability is preferably 50 ml / atm / m 2 · day or less at 25 ° C., more preferably 10 ml / atm / m 2 · day or less, and even more preferably 1.0 ml / atm / m 2 · day. day or less. The moisture permeability is preferably 10 g / atm / m 2 · day or less, more preferably 5 g / atm / m 2 · day or less, and further preferably 1 g / atm / m 2 · day or less. As specific examples of the packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability, those described in, for example, JP-A-8-254793 and JP-A-2000-206653 can be used.
14)その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56−62648号、同58−62644号、特開平9−43766、同9−281637、同9−297367号、同9−304869号、同9−311405号、同9−329865号、同10−10669号、同10−62899号、同10−69023号、同10−186568号、同10−90823号、同10−171063号、同10−186565号、同10−186567号、同10−186569号〜同10−186572号、同10−197974号、同10−197982号、同10−197983号、同10−197985号〜同10−197987号、同10−207001号、同10−207004号、同10−221807号、同10−282601号、同10−288823号、同10−288824号、同10−307365号、同10−312038号、同10−339934号、同11−7100号、同11−15105号、同11−24200号、同11−24201号、同11−30832号、同11−84574号、同11−65021号、同11−109547号、同11−125880号、同11−129629号、同11−133536号〜同11−133539号、同11−133542号、同11−133543号、同11−223898号、同11−352627号、同11−305377号、同11−305378号、同11−305384号、同11−305380号、同11−316435号、同11−327076号、同11−338096号、同11−338098号、同11−338099号、同11−343420号、特願2000−187298号、特開2001−200414号、同2001−234635号、同2002−20699号、同2001−275471号、同2001−275461号、同2000−313204号、同2001−292844号、同2000−324888号、同2001−293864号、同2001−348546号も挙げられる。
14) Other technologies that can be used Techniques that can be used in the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP-A-56-62648, JP-A-58-62644, and JP-A-5-62644. 9-43766, 9-281737, 9-297367, 9-304869, 9-31405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023 10-186568, 10-90823, 10-171603, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, Nos. 10-197982, 10-197983, 10-197985 to 1 No. 0-197987, No. 10-207001, No. 10-207004, No. 10-221807, No. 10-282601, No. 10-288823, No. 10-288824, No. 10-307365, No. 10- No. 312038, No. 10-339934, No. 11-7100, No. 11-15105, No. 11-24200, No. 11-24201, No. 11-30832, No. 11-84574, No. 11-65021 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11-305377, 11-305378, 11-305 84, 11-305380, 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, Japanese Patent Application 2000-187298 JP, 2001-200414, 2001-234635, 2002-20699, 2001-275471, 2001-275461, 2000-313204, 2001-292844, 2000-324888. 2001-293864 and 2001-348546.
15)カラー画像形成
多色カラー熱現像感光材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
多色カラー熱現像感光材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
15) Color imaging The composition of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, and within a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May contain all the components.
In the case of a multicolor color photothermographic material, each emulsion layer is generally a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer as described in U.S. Pat. No. 4,460,681. Are used to keep them distinguished from each other.
2.画像形成方法
2−1.露光
本発明の熱現像感光材料は、支持体の片面にのみ画像形成層を有する「片面型」であっても、両面に画像形成層を有する両面型であっても良い。
(両面型熱現像感光材料)
本発明の熱現像感光材料は、X線増感スクリーンを用いてX線画像を記録する画像形成方法に好ましく用いることができる。
これらの熱現像感光材料を用いて画像形成する工程は以下の工程よりなる。
(a)該熱現像感光材料を1対のX線増感スクリーンの間に設置することにより像形成用組立体を得る工程、
(b)該組立体とX線源との間に被検体を配置する工程、
(c)該被検体にエネルギーレベルが25kVp〜125kVpの範囲にあるX線を照射する工程、
(d)該熱現像感光材料を該組立体から取り出す工程、
(e)取り出した該熱現像感光材料を90℃〜180℃の範囲の温度で加熱する工程。
2. Image forming method 2-1. Exposure The photothermographic material of the present invention may be a “single-sided type” having an image forming layer only on one side of a support or a double-sided type having image forming layers on both sides.
(Double-sided photothermographic material)
The photothermographic material of the present invention can be preferably used in an image forming method for recording an X-ray image using an X-ray intensifying screen.
The process of forming an image using these photothermographic materials comprises the following processes.
(A) a step of obtaining an image forming assembly by installing the photothermographic material between a pair of X-ray intensifying screens;
(B) placing a subject between the assembly and the X-ray source;
(C) irradiating the subject with X-rays having an energy level in the range of 25 kVp to 125 kVp;
(D) removing the photothermographic material from the assembly;
(E) A step of heating the photothermographic material taken out at a temperature in the range of 90 ° C to 180 ° C.
本発明における熱現像感光材料は、X線によって階段露光し、熱現像して得られる画像が、光学濃度(D)及び露光量(logE)の座標軸単位長の等しい直交座標上の特性曲線において、最小濃度(Dmin)+濃度0.1の点と最小濃度(Dmin)+濃度0.5の点とで作る平均ガンマ(γ)が0.5〜0.9であり、そして最小濃度(Dmin)+濃度1.2の点と最小濃度(Dmin)+濃度1.6の点とで作る平均ガンマ(γ)が3.2〜4.0である特性曲線を有するように調製されていることが好ましい。本発明のX線撮影系において、このような特性曲線を有する熱現像感光材料を用いると、脚部が非常に延びていて、かつ中濃度部ではガンマの高いといった優れた写真特性のX線画像が得られる。この写真特性により、X線透過量の少ない縦隔部、心陰影等の低濃度域の描写性が良好になり、かつX線透過量の多い肺野部の画像においても視覚し易い濃度となり、またコントラストも良好になるとの利点がある。 In the photothermographic material of the present invention, an image obtained by stepwise exposure using X-rays and heat development is a characteristic curve on orthogonal coordinates where the optical axis (D) and exposure amount (log E) are equal in unit length. The average gamma (γ) formed by the minimum density (Dmin) + density 0.1 point and the minimum density (Dmin) + density 0.5 point is 0.5 to 0.9, and the minimum density (Dmin) It is prepared so as to have a characteristic curve in which the average gamma (γ) formed by the point of + density 1.2 and the minimum density (Dmin) + density 1.6 is 3.2 to 4.0. preferable. In the X-ray imaging system of the present invention, when a photothermographic material having such a characteristic curve is used, an X-ray image having excellent photographic characteristics such that the legs are extremely extended and the gamma is high in the medium density portion. Is obtained. Due to this photographic characteristic, the description of the low density region such as the mediastinum with a small amount of X-ray transmission and heart shadow is good, and the density becomes easy to see even in the image of the lung field with a large amount of X-ray transmission. In addition, there is an advantage that the contrast becomes good.
上記のような好ましい特性曲線を有する熱現像感光材料は、たとえば、両側の画像形成層のそれぞれを、互いに異なった感度を持つ二層以上のハロゲン化銀乳剤層から構成するような方法で容易に製造することができる。特に、上層には高感度の乳剤を用い、下層には低感度で硬調な写真特性を有する乳剤を用いて、画像形成層を形成することが好ましい。このような二層からなる画像形成層を用いる場合における各層間のハロゲン化銀乳剤の感度差は1.5倍以上20倍以下、好ましくは2倍以上15倍以下である。なお、それぞれの層の形成に用いられる乳剤の量の比率は、用いられる乳剤の感度差およびカバリングパワーにより異なる。一般には、感度差が大きい程、高感度側の乳剤の使用比率を下げる。たとえば、感度差が2倍であるときの好ましい各乳剤の使用比率は、カバリングパワーがほぼ等しい場合には、銀量換算で、高感度乳剤対低感度乳剤として1:20以上1:50以下の範囲の値となるように調製される。 The photothermographic material having the preferable characteristic curve as described above can be easily obtained by, for example, a method in which each of the image forming layers on both sides is composed of two or more silver halide emulsion layers having different sensitivities. Can be manufactured. In particular, it is preferable to form an image forming layer using a high-sensitivity emulsion for the upper layer and an emulsion having low sensitivity and high photographic characteristics for the lower layer. When such an image forming layer comprising two layers is used, the difference in sensitivity of the silver halide emulsions between the respective layers is 1.5 to 20 times, preferably 2 to 15 times. The ratio of the amount of emulsion used to form each layer varies depending on the sensitivity difference and covering power of the emulsion used. In general, the larger the sensitivity difference, the lower the usage ratio of the emulsion on the high sensitivity side. For example, when the difference in sensitivity is double, the preferable ratio of each emulsion is 1:20 or more and 1:50 or less as a high-sensitivity emulsion and a low-sensitivity emulsion in terms of silver when the covering power is almost equal. Prepared to be in the range of values.
クロスオーバーカット(両面感光材料)とアンチハレーション(片面感光材料)の技術としては、特開平2−68539号公報、第13頁左下欄1行目から同第14頁左下欄9行 目に記載の染料もしくは染料と媒染剤を用いることができる。 The technique of crossover cut (double-sided photosensitive material) and antihalation (single-sided photosensitive material) is described in JP-A-2-68539, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column, line 9; Dyes or dyes and mordants can be used.
次に、本発明の蛍光増感紙(放射線増感スクリーン)について説明する。放射線増感スクリーンは、基本構造として、支持体と、その片面に形成された蛍光体層とからなる。蛍光体層は、蛍光体が結合剤(バインダ)中に分散されてなる層である。なお、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支持体に面していない側の表面)には一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。 Next, the fluorescent intensifying screen (radiation intensifying screen) of the present invention will be described. The radiation intensifying screen includes, as a basic structure, a support and a phosphor layer formed on one side thereof. The phosphor layer is a layer in which a phosphor is dispersed in a binder. In general, a transparent protective film is provided on the surface of the phosphor layer opposite to the support (the surface not facing the support), and the phosphor layer is chemically altered or Protects against physical shock.
本発明において、好ましい蛍光体としては、以下に示すものが挙げられる。タングステン酸塩系蛍光体(CaWO4、MgWO4、CaWO4:Pb等)、テルビウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体〔Y2O2S:Tb、Gd2O2S:Tb、La2O2S:Tb、(Y,Gd)2O2S:Tb、(Y,Gd)O2S:Tb,Tm等〕、テルビウム賦活希土類燐酸塩系蛍光体(YPO4:Tb、GdPO4:Tb、LaPO4:Tb等)、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体(LaOBr:Tb、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:Tb,Tm、LaOBr:Tb、GdOBr:Tb、GdOCl:Tb等)、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体(LaOBr:Tm、LaOCl:Tm等)、硫酸バリウム系蛍光体〔BaSO4:Pb、BaSO4:Eu2+、(Ba,Sr)SO4:Eu2+等〕、2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属燐酸塩系蛍光体〔(Ba2PO4)2:Eu2+、(Ba2PO4)2:Eu2+等〕、2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体〔BaFCl:Eu2+、BaFBr:Eu2+、BaFCl:Eu2+,Tb、BaFBr:Eu2+,Tb、BaF2・BaCl・KCl:Eu2+、(Ba,Mg)F2・BaCl・KCl:Eu2+等〕、沃化物系蛍光体(CsI:Na、CsI:Tl、NaI、KI:Tl等)、硫化物系蛍光体〔ZnS:Ag(Zn,Cd)S:Ag、(Zn,Cd)S:Cu、(Zn,Cd)S:Cu,Al等〕、燐酸ハフニウム系蛍光体(HfP2O7:Cu等)、YTaO4及びそれに発光中心として各種付活剤を加えたもの。但し本発明に用いられる蛍光体はこれらに限定されるものではなく、放射線の照射によって可視又は近紫外領域の発光を示す蛍光体であれば使用できる。 In the present invention, preferred phosphors include those shown below. Tungstate phosphors (CaWO 4 , MgWO 4 , CaWO 4 : Pb, etc.), terbium activated rare earth oxysulfide phosphors [Y 2 O 2 S: Tb, Gd 2 O 2 S: Tb, La 2 O 2 S: Tb, (Y, Gd) 2 O 2 S: Tb, (Y, Gd) O 2 S: Tb, Tm, etc.], terbium-activated rare earth phosphate phosphors (YPO 4 : Tb, GdPO 4 : Tb, LaPO 4 : Tb, etc.), terbium activated rare earth oxyhalide phosphors (LaOBr: Tb, LaOBr: Tb, Tm, LaOCl: Tb, LaOCl: Tb, Tm, LaOBr: Tb, GdOBr: Tb, GdOCl: Tb, etc.) , Thulium activated rare earth oxyhalide phosphors (LaOBr: Tm, LaOCl: Tm, etc.), barium sulfate phosphors [BaSO 4 : Pb, BaSO 4 : Eu 2+ , (Ba , Sr) SO 4 : Eu 2+ etc.], divalent europium activated alkaline earth metal phosphate phosphor [(Ba 2 PO 4 ) 2 : Eu 2+ , (Ba 2 PO 4 ) 2 : Eu 2+ Etc.] Divalent europium activated alkaline earth metal fluoride halide phosphor [BaFCl: Eu 2+ , BaFBr: Eu 2+ , BaFCl: Eu 2+ , Tb, BaFBr: Eu 2+ , Tb, BaF 2 BaCl · KCl: Eu 2+ , (Ba, Mg) F 2 .BaCl · KCl: Eu 2+ etc.], iodide phosphors (CsI: Na, CsI: Tl, NaI, KI: Tl etc.), sulfide Physical phosphors [ZnS: Ag (Zn, Cd) S: Ag, (Zn, Cd) S: Cu, (Zn, Cd) S: Cu, Al, etc.], hafnium phosphate phosphors (HfP 2 O 7 : Cu, etc.), was also added various activator as YTaO 4 and the light emission center to it . However, the phosphor used in the present invention is not limited to these, and any phosphor that emits light in the visible or near ultraviolet region when irradiated with radiation can be used.
本発明でより好ましく用いられるX線用蛍光増感スクリーンは、発光光の50%以上が波長350nm以上420nm以下であるものである。特に、その蛍光体が、2価のEu賦活蛍光体であることが好ましく、さらに好ましくは2価のEu賦活バリウムハライド系蛍光体である。発光波長領域は、好ましくは360nm〜420nm、より好ましくは370nm〜420nmである。また、より好ましくは、同領域に70%以上さらに好ましくは85%以上の発光を有する蛍光スクリーンである。
この発光光の割合は、以下の方法によって計算される。すなわち横軸に発光波長を真数で等間隔にとり、発光フォトン数を縦軸にとって発光スペクトルを測定する。このチャート上の350nm以上420nm以下の面積を全発光スペクトルの面積で割った値を350nm以上420nm以下の波長に発光する割合と定義する。このような波長に発光を有することによって本発明の熱現像感光材料との組み合わせで高感度が達成できる。
In the X-ray fluorescent intensifying screen more preferably used in the present invention, 50% or more of emitted light has a wavelength of 350 nm or more and 420 nm or less. In particular, the phosphor is preferably a divalent Eu-activated phosphor, and more preferably a divalent Eu-activated barium halide phosphor. The emission wavelength region is preferably 360 nm to 420 nm, more preferably 370 nm to 420 nm. More preferably, the fluorescent screen has light emission of 70% or more, more preferably 85% or more in the same region.
The ratio of the emitted light is calculated by the following method. That is, the emission spectrum is measured with the emission wavelength on the horizontal axis at equal intervals with a true number and the number of emitted photons on the vertical axis. A value obtained by dividing the area of 350 nm to 420 nm on this chart by the area of the entire emission spectrum is defined as the ratio of light emitted at a wavelength of 350 nm to 420 nm. By having light emission at such a wavelength, high sensitivity can be achieved in combination with the photothermographic material of the present invention.
このような波長域に蛍光体のほとんどの発光光が存在するためには発光光の半値幅は狭い方が好ましい。好ましい半値幅は1nm以上70nm以下、より好ましくは5nm以上50nm以下、さらに好ましくは10nm以上40nm以下である。 In order to have most of the emitted light of the phosphor in such a wavelength range, it is preferable that the half width of the emitted light is narrow. The preferred half-value width is 1 nm to 70 nm, more preferably 5 nm to 50 nm, and still more preferably 10 nm to 40 nm.
このような発光が得られれば使用する蛍光体には特に制限はないが、本発明の目的である高感度化のためには2価のEuを発光中心とするEu賦活蛍光体であることが好ましい本発明はこれに限定されるものではない。 The phosphor to be used is not particularly limited as long as such light emission is obtained. However, in order to achieve high sensitivity, which is the object of the present invention, the phosphor may be an Eu-activated phosphor having a divalent Eu as the emission center. The preferred present invention is not limited to this.
BaFCl:Eu、BaFBr:Eu、BaFI:Euおよびこれらのハロゲン組成を変更したもの、BaSO4:Eu、SrFBr:Eu、SrFCl:Eu、SrFI:Eu、(Sr,Ba)Al2Si2O8:Eu、SrB4O7F:Eu、SrMgP2O7:Eu、Sr3(PO4)2:Eu、Sr2P2O7:Euを用いることが出来る。 BaFCl: Eu, BaFBr: Eu, BaFI: Eu and their halogen compositions are changed, BaSO 4 : Eu, SrFBr: Eu, SrFCl: Eu, SrFI: Eu, (Sr, Ba) Al 2 Si 2 O 8 : Eu, SrB 4 O 7 F: Eu, SrMgP 2 O 7 : Eu, Sr 3 (PO 4 ) 2 : Eu, Sr 2 P 2 O 7 : Eu can be used.
より好ましい蛍光体としてはMX1X2:Euの一般式で表される2価のEu賦活バリウムハライド系蛍光体である。ここでMはBaを主成分とするがMg、Ca,Sr等のその他の化合物を少量好ましく含有することが可能である。X1、X2はハロゲン原子であり、F、Cl、Br、Iの中から任意に選択することが可能である。ここでX1はフッ素であることが好ましい。X2はCl、Br、Iの中から選択することが可能であり、これらのいくつかのハロゲン組成を混在させることも好ましく用いることができる。さらに好ましくはX=Brである。Euはユーロピウムである。発光中心であるEuはBaに対して10-7以上0.1以下の割合で含まれることが好ましい。より好ましくは10-4以上0.05以下である。少量のその他の化合物を混入させることも好ましく行われる。もっとも好ましい蛍光体としては、BaFCl:Eu、BaFBr:Eu、BaFBr1-XIX:Euが挙げられる。 A more preferable phosphor is a divalent Eu-activated barium halide phosphor represented by the general formula MX 1 X 2 : Eu. Here, M contains Ba as a main component, but it is possible to preferably contain a small amount of other compounds such as Mg, Ca and Sr. X 1 and X 2 are halogen atoms, and can be arbitrarily selected from F, Cl, Br, and I. Here, X 1 is preferably fluorine. X 2 can be selected from Cl, Br, and I, and a mixture of some of these halogen compositions can also be preferably used. More preferably, X = Br. Eu is europium. Eu as the emission center is preferably contained at a ratio of 10 −7 to 0.1 with respect to Ba. More preferably, it is 10 −4 or more and 0.05 or less. It is also preferable to mix a small amount of other compounds. Most preferred phosphors include BaFCl: Eu, BaFBr: Eu, and BaFBr 1-X I X : Eu.
蛍光増感スクリーンは、好ましくは支持体、支持体上の下塗り層、蛍光体層、表面保護層より構成される。
蛍光体層は、前記蛍光体の粒子と結合剤樹脂を含有する有機溶剤溶液に分散させて分散液を調製した後、その分散液を支持体(支持体上に光反射層等の下塗層が設けられている場合にはその下塗層)の上に直接塗布、乾燥することにより形成することができる。あるいは、別に用意した仮支持体上にこの分散液を塗布、乾燥して蛍光体シートを形成した後、蛍光体シートを仮支持体から剥がし取って、接着剤を用いてい支持体上に付設してもよい。
The fluorescent intensifying screen is preferably composed of a support, an undercoat layer on the support, a phosphor layer, and a surface protective layer.
The phosphor layer is prepared by dispersing the phosphor layer in an organic solvent solution containing the phosphor particles and a binder resin, and then dispersing the dispersion into a support (an undercoat layer such as a light reflection layer on the support). Can be formed by directly coating and drying on the subbing layer). Alternatively, after applying this dispersion on a separately prepared temporary support and drying to form a phosphor sheet, the phosphor sheet is peeled off from the temporary support and attached to the support using an adhesive. May be.
蛍光体粒子の粒径に特に制限はなく、通常は約1μm〜15μmの範囲であり、好ましくは約2μm〜10μmの範囲である。蛍光体層中における蛍光体粒子の体積充填率は高い方が好ましく、通常は60%〜85%の範囲にあり、好ましくは65%〜80%の範囲であり、特に好ましくは68%〜75%の範囲である。(蛍光体層における蛍光体粒子の比率は通常は80質量%以上であり、好ましくは90質量%以上、特に好ましくは95質量%以上である。)蛍光体層の形成に用いる結合剤樹脂、有機溶剤及び任意に用いることのできる各種添加剤については、公知の各種の文献に記載されている。蛍光体層の厚みは、目標とする感度に応じて任意に設定することができるが、好ましくはフロント側スクリーンについては70μm〜150μmの範囲であり、バック側スクリーンについては80μm〜400μmの範囲である。なお、蛍光体層のX線吸収率は蛍光体粒子の塗布量によって決定される。 There is no restriction | limiting in particular in the particle size of fluorescent substance particle, Usually, it is the range of about 1 micrometer-15 micrometers, Preferably it is the range of about 2 micrometers-10 micrometers. The volume filling rate of the phosphor particles in the phosphor layer is preferably higher, usually in the range of 60% to 85%, preferably in the range of 65% to 80%, particularly preferably 68% to 75%. Range. (The ratio of the phosphor particles in the phosphor layer is usually 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 95% by mass or more.) Binder resin used for forming the phosphor layer, organic Solvents and various additives that can optionally be used are described in various known documents. The thickness of the phosphor layer can be arbitrarily set according to the target sensitivity, but is preferably in the range of 70 μm to 150 μm for the front side screen and in the range of 80 μm to 400 μm for the back side screen. . The X-ray absorption rate of the phosphor layer is determined by the amount of phosphor particles applied.
なお、蛍光体層は一層でもよいが、あるいは二層以上から構成してもよい。好ましくは、一層乃至三層であり、より好ましくは一層もしくは二層である。例えば、粒径分布の比較的狭い、粒径の異なる蛍光体粒子からなる層を積層してもよいし、その場合には支持体に近い層ほど粒径が小さくなるようにしてもよい。特に表面保護層側に大粒径の蛍光体粒子を塗布し、支持体側に小粒径の蛍光体粒子を塗布することが好ましく、小粒径のものは0.5μm〜2.0μmで、大粒径のものは10μm〜30μmの範囲が好ましい。また、粒径の異なる蛍光体粒子を混合して蛍光体層を形成してもよいし、あるいは特公昭55−33560号の第3頁左欄3行目〜第4頁左欄39行目に記載されているように、蛍光体粒子の粒径分布が傾斜している構造の蛍光体層であってもよい。通常、蛍光体の粒径分布の変動係数は30〜50%の範囲にあるが、その変動係数が30%以下の単分散の蛍光体粒子も好ましく用いることができる。 The phosphor layer may be a single layer or may be composed of two or more layers. One to three layers are preferable, and one or two layers are more preferable. For example, layers composed of phosphor particles having a relatively narrow particle size distribution and different particle sizes may be laminated. In that case, the layer closer to the support may have a smaller particle size. In particular, it is preferable to apply phosphor particles having a large particle size to the surface protective layer side, and to apply phosphor particles having a small particle size to the support side, and those having a small particle size are 0.5 μm to 2.0 μm. The thing of a particle size has the preferable range of 10 micrometers-30 micrometers. Further, phosphor layers having different particle diameters may be mixed to form a phosphor layer, or in Japanese Patent Publication No. 55-33560, page 3, left column, line 3 to page 4, left column, line 39. As described, the phosphor layer may have a structure in which the particle size distribution of the phosphor particles is inclined. Usually, the variation coefficient of the particle size distribution of the phosphor is in the range of 30 to 50%, but monodispersed phosphor particles having a variation coefficient of 30% or less can also be preferably used.
蛍光体層を、発光波長に対して染色することによって好ましい鮮鋭度を出すこころみの行われている。ただしできるだけ染色が少ない層設計が好ましく用いられる。蛍光体層の吸収長は好ましくは100μm以上、より好ましくは1000μm以上である。
散乱長は0.1μm以上100μm以下に設計されることが好ましい。より好ましくは1μm以上100μm以下である。散乱長・吸収長は後述するクベルカ・ムンク(Kubelka−Munk)の理論に基づく計算式により算出することができる。
Efforts are made to produce a preferable sharpness by dyeing the phosphor layer with respect to the emission wavelength. However, a layer design with as little dyeing as possible is preferably used. The absorption length of the phosphor layer is preferably 100 μm or more, more preferably 1000 μm or more.
The scattering length is preferably designed to be 0.1 μm or more and 100 μm or less. More preferably, it is 1 μm or more and 100 μm or less. The scattering length and the absorption length can be calculated by a calculation formula based on the Kubelka-Munk theory described later.
支持体としては、公知の放射線増感スクリーンに用いる各種の支持体の中から目的に応じて適宜選択して使用することができる。例えば、二酸化チタン等の白色顔料を含むポリマーフィルムもしくはカーボンブラック等の黒色顔料を含むポリマーフィルムが好ましく用いられる。支持体の表面(蛍光体層が設けられる側の表面)には、光反射材料を含有する光反射層などの下塗層を設けてもよい。特開2001−124898号に記載のような光反射層も好ましく用いられる。特に同特許実施例1に記載の酸化イットリウムによる光反射層、同特許実施例4に記載の光反射層は好ましく用いられる。好ましい光反射層としては特開23001−124898号公報の3項右側15行目〜同4項右側23行目までの記載を参考にすることができる。 As the support, it can be appropriately selected from various supports used for known radiation intensifying screens according to the purpose. For example, a polymer film containing a white pigment such as titanium dioxide or a polymer film containing a black pigment such as carbon black is preferably used. An undercoat layer such as a light reflecting layer containing a light reflecting material may be provided on the surface of the support (the surface on the side where the phosphor layer is provided). A light reflecting layer as described in JP-A-2001-124898 is also preferably used. In particular, the light reflecting layer made of yttrium oxide described in Patent Example 1 and the light reflecting layer described in Patent Example 4 are preferably used. As for a preferred light reflecting layer, the description of JP-A 23001-124898, from the third term on the 15th line on the right to the fourth term on the right on the 23rd line can be referred to.
蛍光体層の表面には表面保護層を設けるのが好ましい。蛍光体の主発光波長において測定される光散乱長が5μm〜80μmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは10μm〜70μmの範囲であり、特に好ましくは10μm〜60μmの範囲である。ここで、光散乱長は、光が一回散乱するまでに直進する平均距離を表し、散乱長が短いほど光散乱性が高いことを意味する。また、光が吸収されるまでの平均自由距離を表す光吸収長は任意であるが、スクリーン感度の観点からは表面保護層の吸収はない方が減感が少ないため好ましい。散乱不足を補う意味で、極僅かな吸収性を持たせることもできる。吸収長は、好ましくは800μm以上であり、特に好ましくは1200μm以上である。光散乱長および光吸収長は、下記の方法によって測定した測定値を用いてクベルカ・ムンク(Kubelka−Munk)の理論に基づく計算式により算出することができる。 A surface protective layer is preferably provided on the surface of the phosphor layer. The light scattering length measured at the main emission wavelength of the phosphor is preferably in the range of 5 μm to 80 μm, more preferably in the range of 10 μm to 70 μm, and particularly preferably in the range of 10 μm to 60 μm. Here, the light scattering length represents an average distance in which light travels straight before being scattered once, and the shorter the scattering length, the higher the light scattering property. Further, the light absorption length representing the average free distance until light is absorbed is arbitrary, but from the viewpoint of screen sensitivity, it is preferable that the surface protective layer does not absorb because the desensitization is less. In order to make up for the lack of scattering, it is possible to provide a slight absorption. The absorption length is preferably 800 μm or more, particularly preferably 1200 μm or more. The light scattering length and the light absorption length can be calculated by a calculation formula based on the Kubelka-Munk theory using the measured values measured by the following method.
まず、測定対象の表面保護層と同一の組成を有し、互いに層厚が相違する三枚以上のフィルム試料を作製する。次に、各々のフィルム試料の厚み(μm)と拡散透過率(%)とを測定する。拡散透過率は、通常の分光光度計に積分球を付設した装置により測定することができる。本発明における測定では、自記分光光度計((株)日立製作所製、U−3210型)に150φ積分球(150−0901)を付設して用いる。測定波長は、表面保護層を付設する対象の蛍光体層の蛍光体の主発光のピーク波長と一致させる必要がある。次いで、フィルムの厚み(μm)と拡散透過率(%)の測定値とを、クベルカ・ムンクの理論式より導出される下記の式(A)に導入する。式(A)は、例えば「蛍光体ハンドブック」(蛍光体同学会編集、(株)オーム社、1987年刊行)403頁の式5・1・12〜5・1・15から拡散透過率T(%)の境界条件の下に簡単に導くことができる。 First, three or more film samples having the same composition as the surface protective layer to be measured and having different layer thicknesses are prepared. Next, the thickness (μm) and diffuse transmittance (%) of each film sample are measured. The diffuse transmittance can be measured by a device in which an integrating sphere is attached to a normal spectrophotometer. In the measurement in the present invention, a 150φ integrating sphere (150-0901) is attached to a self-recording spectrophotometer (U-3210, manufactured by Hitachi, Ltd.). The measurement wavelength needs to match the peak wavelength of the main light emission of the phosphor of the target phosphor layer to which the surface protective layer is attached. Next, the measured value of the film thickness (μm) and diffuse transmittance (%) are introduced into the following formula (A) derived from Kubelka-Munk's theoretical formula. Formula (A) can be obtained, for example, from “Phosphor Handbook” (edited by Fluorescent Materials Association, Ohm Co., Ltd., published in 1987), page 403, formulas 5 · 12 · 5 · 5 · 15 and diffuse transmittance T ( %) Can be easily derived under boundary conditions.
ただし、Tは拡散透過率(%)、dはフィルム厚み(μm)であり、αおよびβはそれぞれ下記の式で定義される。 Where T is the diffuse transmittance (%), d is the film thickness (μm), and α and β are defined by the following equations, respectively.
三枚以上のフィルムについて測定したT(拡散透過率:%)及びd(フィルム厚み:μm)をそれぞれ上記の式(A)に導入し、式(A)を満足するKおよびSを算出する。散乱長(μm)は1/Sにより定義され、そして吸収長(μm)は1/Kにより定義される。 T (diffusion transmittance:%) and d (film thickness: μm) measured for three or more films are respectively introduced into the above equation (A), and K and S satisfying the equation (A) are calculated. The scattering length (μm) is defined by 1 / S and the absorption length (μm) is defined by 1 / K.
表面保護層は、また、光散乱性粒子が樹脂材料中に分散含有された構成であることが好ましい。光散乱性粒子の光屈折率は通常は1.6以上であり、好ましくは1.9以上である。また、光散乱性粒子の粒子径は通常は0.1μm〜1.0μmの範囲にある。このような光散乱性粒子の例としては、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン、酸化ニオブ、硫酸バリウム、炭酸鉛、酸化ケイ素、ポリメチルメタクリレート、スチレン、およびメラミンの微粒子を挙げることができる。 The surface protective layer preferably has a structure in which light scattering particles are dispersed and contained in a resin material. The light refractive index of the light-scattering particles is usually 1.6 or more, preferably 1.9 or more. The particle diameter of the light scattering particles is usually in the range of 0.1 μm to 1.0 μm. Examples of such light-scattering particles include aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, titanium oxide, niobium oxide, barium sulfate, lead carbonate, silicon oxide, polymethyl methacrylate, styrene, and melamine fine particles. Can be mentioned.
表面保護層を形成するのに用いる樹脂材料については、特段の制限はないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、アラミド、フッ素樹脂、ポリエステル等を好ましく用いることができる。表面保護層は、上記の光散乱性粒子を樹脂材料(結合剤樹脂)を含有する有機溶剤溶液に分散させて分散液を調製した後、その分散液を蛍光体層上に(あるいは任意の補助層を介して)直接に塗布、乾燥することにより形成することができる。あるいは別途形成した保護層用シートを接着剤を用いて蛍光体層上に付設してもよい。表面保護層の厚みは、通常は2μm〜12μmの範囲にあり、好ましくは3.5μm〜10μmの範囲である。 The resin material used for forming the surface protective layer is not particularly limited, but polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide, aramid, fluororesin, polyester, and the like can be preferably used. The surface protective layer is prepared by dispersing the light scattering particles in an organic solvent solution containing a resin material (binder resin), and then preparing the dispersion on the phosphor layer (or any auxiliary material). It can be formed by coating and drying directly (through the layer). Or you may attach the sheet | seat for protective layers formed separately on the fluorescent substance layer using an adhesive agent. The thickness of the surface protective layer is usually in the range of 2 μm to 12 μm, and preferably in the range of 3.5 μm to 10 μm.
さらに、放射線増感スクリーンの好ましい製造方法およびそれに用いる材料については、例えば特開平9−21899号公報の第6頁左欄47行目〜第8頁左欄5行目、特開平6−347598号公報の第2頁右欄17行目〜第3頁左欄33行目、および同公報第3頁左欄42行目〜第4頁左欄22行目に詳しい記載があり、それらを参照することができる。
Furthermore, for a preferred method for producing a radiation intensifying screen and materials used therefor, for example, JP-A-9-21899, page 6, left column, line 47 to
本発明で用いる蛍光増感紙は、傾斜粒径構造で蛍光体を充填することが好ましい。特に表面保護層側に大粒径の蛍光体粒子を塗布し、支持体側に小粒径の蛍光体粒子を塗布することが好ましく、小粒径のものは0.5μm〜2.0μmで、大粒径のものは10μm〜30μmの範囲が好ましい。 The fluorescent intensifying screen used in the present invention is preferably filled with a phosphor with an inclined particle size structure. In particular, it is preferable to apply phosphor particles having a large particle size to the surface protective layer side, and to apply phosphor particles having a small particle size to the support side, and those having a small particle size are 0.5 μm to 2.0 μm. The thing of a particle size has the preferable range of 10 micrometers-30 micrometers.
(片面型熱現像感光材料)
本発明における片面型熱現像感光材料は、特に乳房撮影用X線感光材料として用いるのが好ましい。
本目的に用いられる片面型熱現像感光材料は、得られる画像のコントラストを適切な範囲に設計することが重要である。
(Single-sided photothermographic material)
The single-sided photothermographic material of the present invention is particularly preferably used as a mammographic X-ray photosensitive material.
In the single-sided photothermographic material used for this purpose, it is important to design the contrast of the obtained image within an appropriate range.
乳房撮影用X線感光材料としての好ましい構成要件に関しては、特開平5−45807号、特開平10−62881号、特開平10−54900号、特開平11−109564号記載を参考にすることができる。 With respect to preferable constitutional requirements as an X-ray photosensitive material for mammography, the descriptions in JP-A-5-45807, JP-A-10-62881, JP-A-10-54900, and JP-A-11-109564 can be referred to. .
(片面型熱現像感光材料)
本発明における片面型熱現像感光材料は、特に乳房撮影用X線感光材料として用いるのが好ましい。
本目的に用いられる片面型熱現像感光材料は、得られる画像のコントラストを適切な範囲に設計することが重要である。
(Single-sided photothermographic material)
The single-sided photothermographic material of the present invention is particularly preferably used as a mammographic X-ray photosensitive material.
In the single-sided photothermographic material used for this purpose, it is important to design the contrast of the obtained image within an appropriate range.
乳房撮影用X線感光材料としての好ましい構成要件に関しては、特開平5−45807号、特開平10−62881号、特開平10−54900号、特開平11−109564号記載を参考にすることができる。 With respect to preferable constitutional requirements as an X-ray photosensitive material for mammography, the descriptions in JP-A-5-45807, JP-A-10-62881, JP-A-10-54900, and JP-A-11-109564 can be referred to. .
(紫外蛍光スクリーンとの組合せ)
本発明の熱現像感光材料を用いた画像形成方法としては、好ましくは400nm以下に主ピークを持つ蛍光体との組み合わせで画像形成する方法を用いることができる。さらに好ましくは380nm以下に主ピークを持つ蛍光体と組み合わせて画像形成する方法が良い。両面感材、片面感材のいずれでも組立て体として用いることができる。400nm以下に主発光ピークであるスクリーンは特開平6−11804号、WO93/01521号に記載のスクリーンなどが使われるがこれに限られるものではない。紫外線のクロスオーバーカット(両面感光材料)とアンチハレーション(片面感光材料)の技術としては、特開平8−76307号公報に記載の技術を用いることができる。紫外線吸収染料としては、特開2001−144030号に記載の染料は特に好ましい。
(Combination with ultraviolet fluorescent screen)
As an image forming method using the photothermographic material of the present invention, a method of forming an image by combining with a phosphor having a main peak preferably at 400 nm or less can be used. More preferably, a method of forming an image in combination with a phosphor having a main peak at 380 nm or less is preferable. Either a double-sided sensitive material or a single-sided sensitive material can be used as an assembly. As the screen having a main emission peak at 400 nm or less, the screens described in JP-A-6-11804 and WO93 / 01521 are used, but not limited thereto. As a technique of ultraviolet crossover cut (double-sided photosensitive material) and antihalation (single-sided photosensitive material), the technique described in JP-A-8-76307 can be used. As the ultraviolet absorbing dye, the dye described in JP-A No. 2001-144030 is particularly preferable.
2−2.熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては90℃〜180℃であり、さらに好ましくは100℃〜140℃である。
現像時間としては1秒〜60秒が好ましく、5秒〜30秒がさらに好ましく、5秒〜20秒が特に好ましい。
2-2. Thermal Development The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 90 ° C to 180 ° C, more preferably 100 ° C to 140 ° C.
The development time is preferably 1 second to 60 seconds, more preferably 5 seconds to 30 seconds, and particularly preferably 5 seconds to 20 seconds.
熱現像の方式としてはプレートヒーター方式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式とは特開平11−133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを2〜6段に分けて先端部については1℃〜10℃程度温度を下げることが好ましい。 A plate heater method is preferred as the heat development method. The heat development method using the plate heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572. The heat development photosensitive material on which a latent image is formed is brought into contact with a heating means in a heat development part, and heat for obtaining a visible image. In the developing device, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the heat is interposed between the press roller and the plate heater. A thermal development apparatus that performs thermal development by passing a development photosensitive material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature of the tip portion by about 1 ° C. to 10 ° C.
このような方法は特開昭54−30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもできる。 Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the photothermographic material due to heating of the photothermographic material.
2−3.システム
露光部および熱現像部を備えた医療用レーザーイメージャーとして富士メディカルドライイメージャー−FM−DPLを挙げることができる。該システムは、Fuji Medical Review No.8,page39〜55に記載されており、それらの技術を利用することができる。また、DICOM規格に適合したネットワークシステムとして富士メディカル(株)が提案した「AD network」の中のレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
2-3. System Fuji Medical Dry Imager-FM-DPL can be mentioned as a medical laser imager provided with an exposure unit and a thermal development unit. The system is Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and these techniques can be used. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Medical Co., Ltd. as a network system conforming to the DICOM standard.
3.本発明の用途
本発明の高ヨウ化銀写真乳剤を用いた熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、COM用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
3. Use of the present invention The photothermographic material using the high silver iodide photographic emulsion of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is used for medical diagnosis, photothermographic material for industrial photography, and printing. It is preferably used as a photothermographic material or a photothermographic material for COM.
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例1.
(PET支持体の作製)
1)製膜
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、未延伸フィルムを作製した。
Example 1.
(Preparation of PET support)
1) Film formation Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio)) is obtained according to a conventional method. It was. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled to prepare an unstretched film.
これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。 This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.
2)表面コロナ処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
2) Surface corona treatment Using a solid state corona treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at 20 m / min at room temperature. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
3)下塗り
<下塗層塗布液の作製>
処方1(画像形成層側下塗り層用)
・高松油脂(株)製ペスレジンA−520(30質量%溶液) 46.8g
・東洋紡績(株)製バイロナールMD−1200 10.4g
・ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数=8.5) 1質量%溶液 11.0g
・綜研化学(株)製 MP−1000(PMMAポリマー微粒子、平均粒径0.4μm)
0.91g
・蒸留水 931ml
3) Undercoat <Preparation of undercoat layer coating solution>
Formula 1 (for image forming layer side undercoat)
・ Pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. 46.8 g
・ Toyobo Co., Ltd. Bironal MD-1200 10.4 g
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average ethylene oxide number = 8.5) 1% by weight solution 11.0 g
・ MP-1000 (PMMA polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
0.91g
・ 931 ml of distilled water
処方2(バック面第1層用)
・スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 130.8g
(固形分40質量%、スチレン/ブタジエン質量比=68/32)
2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩
8質量%水溶液 5.2g
・ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10ml
・ポリスチレン粒子分散物(平均粒子径2μm、20質量%) 0.5g
・蒸留水 854ml
Formula 2 (for back layer 1st layer)
・ Styrene-butadiene copolymer latex 130.8 g
(
2,4-Dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt
8% by weight aqueous solution 5.2g
・ 10% 1% aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
・ Polystyrene particle dispersion (average particle size 2 μm, 20 mass%) 0.5 g
-854 ml of distilled water
処方3(バック面側第2層用)
・SnO2/SbO(9/1質量比、平均粒径0.5μm、17質量%分散物)
84g
・ゼラチン 7.9g
・信越化学工業(株)製 メトローズTC−5(2質量%水溶液) 10g
・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10ml
・NaOH(1質量%) 7g
・プロキセル(アビシア社製) 0.5g
・蒸留水 881ml
Formula 3 (for back layer 2nd layer)
SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.5 μm, 17 mass% dispersion)
84g
・ Gelatin 7.9g
・ Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Metros TC-5 (2 mass% aqueous solution) 10g
・ 10% 1% aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
・ NaOH (1% by mass) 7 g
・ Proxel (Abyssia) 0.5g
・ Distilled water 881ml
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面(画像形成層面)に上記下塗り塗布液処方1をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、ついでこの裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方2をワイヤーバーでウエット塗布量が5.7ml/m2になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、更に裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方3をワイヤーバーでウエット塗布量が8.4ml/m2になるように塗布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作製した。 After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation 1 is applied on one side (image forming layer surface) with a wire bar in a wet coating amount of 6.6 ml. / M 2 (per one side) and dried at 180 ° C. for 5 minutes, and then the undercoat coating solution formulation 2 is applied to the back side (back side) with a wire bar at a wet coating amount of 5.7 ml / m 2. And then dried at 180 ° C. for 5 minutes, and further, the undercoat coating solution formulation 3 is applied to the back surface (back surface) with a wire bar so that the wet coating amount is 8.4 ml / m 2 . An undercoat support was prepared by drying at 0 ° C. for 6 minutes.
(バック層)
1)バック層塗布液の調製
(塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)の調製)
塩基プレカーサー化合物1を、2.5kg、及び界面活性剤(商品名:デモールN、花王(株)製)300g、ジフェニルスルホン800g、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩1.0g及び蒸留水を加えて総量を8.0kgに合わせて混合し、混合液を横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)を用いてビーズ分散した。分散方法は、混合液をを平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填したUVM−2にダイアフラムポンプで送液し、内圧50hPa以上の状態で、所望の平均粒径が得られるまで分散した。
分散物は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における450nmにおける吸光度と650nmにおける吸光度の比(D450/D650)が3.0まで分散した。得られた分散物は、塩基プレカーサーの濃度で25質量%となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにろ過(平均細孔径:3μmのポリプロピレン製フィルター)を行って実用に供した。
(Back layer)
1) Preparation of back layer coating solution (preparation of solid fine particle dispersion (a) of base precursor)
Add 2.5 kg of Base Precursor Compound 1 and 300 g of a surfactant (trade name: Demol N, manufactured by Kao Corporation), 800 g of diphenylsulfone, 1.0 g of benzoisothiazolinone sodium salt and distilled water to make a total amount. The mixture was mixed to 8.0 kg, and the mixed solution was dispersed with beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Corporation). In the dispersion method, the mixed solution was fed to UVM-2 filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm by a diaphragm pump, and dispersed at an internal pressure of 50 hPa or more until a desired average particle size was obtained.
The dispersion was subjected to spectral absorption measurement, and the ratio of the absorbance at 450 nm to the absorbance at 650 nm (D 450 / D 650 ) in the spectral absorption of the dispersion was dispersed to 3.0. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the base precursor was 25% by mass, and was filtered for removal of dust (polypropylene filter having an average pore size of 3 μm) for practical use.
2)染料固体微粒子分散液の調製
シアニン染料化合物−1を6.0kg及びp−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム3.0kg、花王(株)製界面活性剤デモールSNB0.6kg、及び消泡剤(商品名:サーフィノール104E、日信化学(株)製)0.15kgを蒸留水と混合して、総液量を60kgとした。混合液を横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)を用いて、0.5mmのジルコニアビーズで分散した。
分散物は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における650nmにおける吸光度と750nmにおける吸光度の比(D650/D750)が5.0以上であるところまで分散した。得られた分散物は、シアニン染料の濃度で、6質量%となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにフィルターろ過(平均細孔径:1μm)を行って実用に供した。
2) Preparation of Dye Solid Fine Particle Dispersion 6.0 kg of cyanine dye compound-1 and 3.0 kg of sodium p-dodecylbenzenesulfonate, 0.6 kg of surfactant Demol SNB manufactured by Kao Corporation, and antifoaming agent (trade name) : Surfynol 104E, manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.) 0.15 kg was mixed with distilled water to make a total liquid volume of 60 kg. The mixed solution was dispersed with 0.5 mm zirconia beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Corporation).
The dispersion was dispersed until the ratio of the absorbance at 650 nm to the absorbance at 750 nm (D 650 / D 750 ) in the spectral absorption of the dispersion was 5.0 or more. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the cyanine dye was 6% by mass, and was subjected to filter filtration (average pore diameter: 1 μm) for removal of dust and put to practical use.
3)ハレーション防止層塗布液の調製
容器を40℃に保温し、等電点6.6のゼラチン(ニッピ(株)製ABAゼラチン)37g、ベンゾイソチアゾリノン0.1g、水を加えてゼラチンを溶解させた。さらに上記染料固体微粒子分散液36g、上記塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)を73g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム3質量%水溶液43ml、SBRラテックス(スチレン/ブタジエン/アクリル酸共重合体;質量比68.3/28.7/3.0)10質量%液82gを混合し、完成液量773mlのハレーション防止層塗布液とした。完成液のpH値は、6.3であった。
3) Preparation of antihalation layer coating solution Keep the container at 40 ° C., add 37 g of gelatin with an isoelectric point of 6.6 (ABA gelatin manufactured by Nippi Co., Ltd.), 0.1 g of benzoisothiazolinone and water to add gelatin. Dissolved. Further, 36 g of the dye solid fine particle dispersion, 73 g of the solid fine particle dispersion (a) of the base precursor, 43 ml of 3% by weight aqueous sodium polystyrenesulfonate solution, SBR latex (styrene / butadiene / acrylic acid copolymer; mass ratio 68. 3 / 28.7 / 3.0) 82 g of a 10% by mass solution was mixed to prepare a coating solution for the antihalation layer having a finished solution amount of 773 ml. The pH value of the finished liquid was 6.3.
4)バック面保護層塗布液の調製
容器を40℃に保温し、等電点4.8のゼラチン(宮城化学工業(株)製PZゼラチン)43g、ベンゾイソチアゾリノン0.21g、水を加えてゼラチンを溶解させた。さらに1mol/lの酢酸ナトリウム水溶液8.1ml、単分散ポリ(エチレングリコールジメタクリレート−コ−メチルメタクリレート)微粒子(平均粒子サイズ7.7μm、粒径標準偏差0.3μm)0.93g、流動パラフィンの10質量%乳化物を5g、ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリットの10質量%乳化物を10g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液10ml、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム3質量%水溶液17ml、フッ素系界面活性剤(F−1)2質量%溶液を2.4ml、フッ素系界面活性剤(F−2)2質量%溶液を2.4ml、エチルアクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比96.4/3.6)ラテックス20質量%液30mlを混合した。塗布直前にN,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)4質量%水溶液50mlを混合し、完成液量855mlのバック面保護層塗布液とした。完成液のpH値は6.2であった。
4) Preparation of back surface protective layer coating solution Keep the container at 40 ° C., add 43 g of gelatin with an isoelectric point of 4.8 (PZ gelatin made by Miyagi Chemical Co., Ltd.), 0.21 g of benzoisothiazolinone and water. The gelatin was dissolved. Furthermore, 8.1 ml of 1 mol / l sodium acetate aqueous solution, 0.93 g of monodisperse poly (ethylene glycol dimethacrylate-co-methyl methacrylate) fine particles (average particle size 7.7 μm, particle size standard deviation 0.3 μm), liquid paraffin 5 g of 10 mass% emulsion, 10 g of 10 mass% emulsion of dipentaerythritol hexaisostearate, 10 ml of 5% aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate, 17 ml of 3% aqueous solution of polystyrene sodium sulfonate, 2.4 ml of 2% by weight fluorine-based surfactant (F-1) solution, 2.4 ml of 2% by weight solution of fluorine-based surfactant (F-2), ethyl acrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight) Ratio 96.4 / 3.6) 30 ml of
4)バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、アンチハレーション層塗布液をゼラチン塗布量が0.54g/m2となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が1.85g/m2となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作製した。
4) Application of back layer On the back surface side of the undercoat support, the coating amount of the antihalation layer coating solution is 0.54 g / m 2, and the coating amount of the back surface protective layer coating solution is 1 A simultaneous multi-layer coating was applied so as to be .85 g / m 2 , followed by drying to prepare a back layer.
(画像形成層、中間層、及び表面保護層)
1.塗布用材料の準備
1)ハロゲン化銀乳剤
《ハロゲン化銀乳剤1の調製》
蒸留水1421mlに1質量%臭化カリウム溶液3.1mlを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン21.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、35℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え95.4mlに希釈した溶液Aと臭化カリウム15.3gとヨウ化カリウム0.8gを蒸留水にて容量97.4mlに希釈した溶液Bを一定流量で45秒間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mlに希釈した溶液Cと臭化カリウム44.2gとヨウ化カリウム2.2gを蒸留水にて容量400mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で20分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液C及び溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
(Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer)
1. Preparation of coating materials 1) Silver halide emulsion << Preparation of silver halide emulsion 1 >>
A solution containing 3.1 ml of 1% by weight potassium bromide solution in 1421 ml of distilled water, 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, and 21.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 35 ° C., distilled water was added to 22.22 g of silver nitrate and distilled to 95.4 ml of solution A, 15.3 g of potassium bromide and 0.8 g of potassium iodide in a distilled water volume of 97.4 ml. The whole amount of the solution B diluted to 1 was added at a constant flow rate over 45 seconds. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate to be diluted to 317.5 ml, a solution D in which 44.2 g of potassium bromide and 2.2 g of potassium iodide were diluted with distilled water to a volume of 400 ml was added to solution C. Was added at a constant flow rate over 20 minutes, and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of the solution C and the solution D so as to be 1 × 10 −4 mol per mol of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。
その後、分光増感色素Aと増感色素Bのモル比で3:1のメタノール溶液を銀1モル当たり増感色素AとBの合計として1.2×10-3モル加え、1分後にN,N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モル及び1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作製した。
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −4 mol was added and aged for 91 minutes.
Thereafter, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 3: 1 was added in an amount of 1.2 × 10 −3 mol as a total of the sensitizing dyes A and B per mol of silver. , N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine in 1.3 ml of a 0.8 wt% methanol solution was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the methanol solution at a rate of 4.8 per mole of silver. × 10 −3 mol, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution to 5.4 × 10 −3 mol and 1- (3-methyl) with respect to 1 mol of silver A silver halide emulsion 1 was prepared by adding 8.5 × 10 −3 mol of ureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in an aqueous solution to 1 mol of silver.
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.045μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。この粒子の{100}面比率は、クベルカムンク法を用いて80%と求められた。 The grains in the silver halide emulsion thus prepared were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having a mean sphere equivalent diameter of 0.045 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope. The {100} face ratio of the particles was determined to be 80% using the Kubelka-Munk method.
《ハロゲン化銀乳剤2の調製》
ハロゲン化銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温30℃を48℃に変更し、溶液Bは臭化カリウム15.9gを蒸留水にて容量97.4mlに希釈することに変更し、溶液Dは臭化カリウム45.8gを蒸留水にて容量400mlに希釈することに変更し、溶液Cの添加時間を30分にして、六シアノ鉄(II)カリウムを除去した以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤2の調製を行った。ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/脱塩/水洗/分散を行った。更に、テルル増感剤Cの添加量を銀1モル当たり1.1×10-4モル、分光増感色素Aと分光増感色素Bのモル比で3:1のメタノール溶液の添加量を銀1モル当たり増感色素Aと増感色素Bの合計として7.0×10-4モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールを銀1モルに対して3.3×10-3モル及び1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを銀1モルに対して4.7×10-3モル添加に変えた以外は乳剤1と同様にして分光増感、化学増感及び5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールの添加を行い、ハロゲン化銀乳剤2を得た。ハロゲン化銀乳剤2の乳剤粒子は、平均球相当径0.083μm、球相当径の変動係数20%の純臭化銀立方体粒子であった。
<< Preparation of silver halide emulsion 2 >>
In the preparation of silver halide emulsion 1, the liquid temperature 30 ° C. during grain formation was changed to 48 ° C., and solution B was changed to diluting 15.9 g of potassium bromide with distilled water to a volume of 97.4 ml, Solution D was changed to diluting 45.8 g of potassium bromide with distilled water to a volume of 400 ml, and the addition time of solution C was changed to 30 minutes to remove potassium hexacyanoiron (II) in the same manner. A silver halide emulsion 2 was prepared. Precipitation / desalting / washing / dispersion was carried out in the same manner as silver halide emulsion 1. Furthermore, the addition amount of tellurium sensitizer C is 1.1 × 10 −4 mol per mol of silver, and the addition amount of methanol solution of 3: 1 in the molar ratio of spectral sensitizing dye A and spectral sensitizing dye B is silver. The total of sensitizing dye A and sensitizing dye B per mole is 7.0 × 10 −4 mole, and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole is added to 1 mole of silver. Same as Emulsion 1 except that 3.3 × 10 −3 mol and 1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole were changed to 4.7 × 10 −3 mol added to 1 mol of silver. Spectral sensitization, chemical sensitization, and addition of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole were carried out to obtain silver halide emulsion 2. . The emulsion grains of the silver halide emulsion 2 were pure silver bromide cubic grains having an average sphere equivalent diameter of 0.083 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%.
《ハロゲン化銀乳剤3の調製》
ハロゲン化銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温30℃を26℃に変更する以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤3の調製を行った。また、ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/脱塩/水洗/分散を行った。分光増感色素Aと分光増感色素Bのモル比で1:1を固体分散物(ゼラチン水溶液)として添加量を銀1モル当たり増感色素Aと増感色素Bの合計として6×10-3モル、テルル増感剤Cの添加量を銀1モル当たり5.2×10-4モルに変え、テルル増感剤の添加3分後に臭化金酸を銀1モル当たり5×10-4モルとチオシアン酸カリウムを銀1モルあたり2×10-3モルを添加したこと以外は乳剤1と同様にして、ハロゲン化銀乳剤3を得た。ハロゲン化銀乳剤3の乳剤粒子は、平均球相当径0.033μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。
<< Preparation of silver halide emulsion 3 >>
In the preparation of silver halide emulsion 1, silver halide emulsion 3 was prepared in the same manner except that the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 30 ° C. to 26 ° C. Further, precipitation / desalting / washing / dispersion was performed in the same manner as silver halide emulsion 1. The molar ratio of spectral sensitizing dye A and spectral sensitizing dye B is 1: 1 as a solid dispersion (gelatin aqueous solution), and the addition amount is 6 × 10 − as the total of sensitizing dye A and sensitizing dye B per mole of silver. 3 moles, the amount of tellurium sensitizer C added was changed to 5.2 × 10 −4 moles per mole of silver, and bromoauric acid was changed to 5 × 10 −4 moles of silver 3 minutes after the addition of tellurium sensitizers. A silver halide emulsion 3 was obtained in the same manner as Emulsion 1 except that 2 × 10 −3 mol of mol and potassium thiocyanate were added per mol of silver. The emulsion grains of the silver halide emulsion 3 were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average equivalent sphere diameter of 0.033 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%.
《塗布液用混合乳剤Aの調製》
ハロゲン化銀乳剤1を70質量%、ハロゲン化銀乳剤2を15質量%、ハロゲン化銀乳剤3を15質量%溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。
さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物1,2,3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。
吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物として、表1の様に化合物を添加し、塗布溶液A〜Gを調製した。
さらに塗布液用混合乳剤1kgあたりハロゲン化銀の含有量が銀として38.2gとなるように加水した。塗布液用混合乳剤1kgあたり0.34gとなるように1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを添加した。
<< Preparation of mixed emulsion A for coating solution >>
70% by weight of silver halide emulsion 1, 15% by weight of silver halide emulsion 2 and 15% by weight of silver halide emulsion 3 were dissolved, and 7% by mole of silver in a 1% by weight aqueous solution of benzothiazolium iodide. × 10 -3 mol was added.
Furthermore, the amount of the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is 2 × 10 −3 moles per mole of silver halide of each compound 1, 2, and 3 capable of emitting one electron or more. Added.
As an adsorptive redox compound having an adsorbing group and a reducing group, compounds were added as shown in Table 1 to prepare coating solutions A to G.
Further, water was added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution was 38.2 g as silver. 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added so as to give 0.34 g per kg of the mixed emulsion for coating solution.
2)脂肪酸銀分散物の調製
《脂肪酸銀分散物の調製》
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名EdenorC22−85R)87.6kg、蒸留水423L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Aを得た。
別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液Aの全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液Aを添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液Aのみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。
また、ベヘン酸ナトリウム溶液Aの添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液Aの添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
2) Preparation of fatty acid silver dispersion << Preparation of fatty acid silver dispersion >>
Henkel behenic acid (product name Edenor C22-85R) 87.6 kg, distilled water 423 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L, t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react. A sodium behenate solution A was obtained.
Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the previous sodium behenate solution A and the total amount of the aqueous silver nitrate solution were each maintained at a constant flow rate for 93 minutes 15 Added over seconds and 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution A is started. Was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant.
The pipe of the addition system of the sodium behenate solution A was prepared by keeping warm water by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution A and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
ベヘン酸ナトリウム溶液Aを添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。 After completion of the addition of the sodium behenate solution A, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.14μm、b=0.4μm、c=0.6μm、平均アスペクト比5.2、平均球相当径0.52μm、球相当径の変動係数15%のりん片状の結晶であった。(a,b,cは本文の規定) When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.14 μm, b = 0.4 μm, c = 0.6 μm, average aspect ratio 5.2, average sphere equivalent diameter. It was a scaly crystal having a coefficient of variation of 0.52 μm and a sphere equivalent diameter of 15%. (A, b, and c are the text provisions)
乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kg及び水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。 19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).
次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1260kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to 1260 kg / cm 2 by adjusting the pressure of the disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
3)還元剤分散物の調製
《還元剤−1分散物の調製》
還元剤―1(2,2’−メチレンビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール))10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を60℃で5時間加熱処理し、還元剤―1分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
3) Preparation of reducing agent dispersion << Preparation of reducing agent-1 dispersion >>
10 kg of water was added to 10 kg of a reducing agent-1 (2,2′-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) 10 kg and a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203). Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone
《還元剤−2分散物の調製》
還元剤―2(6,6’−ジ−t−ブチル−4,4’−ジメチル−2,2’−ブチリデンジフェノール)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加熱処理し、還元剤―2分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.50μm、最大粒子径1.6μm以下であった。
得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of Reducing Agent-2 Dispersion >>
10 mass of reducing agent-2 (6,6′-di-t-butyl-4,4′-dimethyl-2,2′-butylidenediphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less.
The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
4)水素結合性化合物−1分散物の調製
水素結合性化合物−1(トリ(4−t−ブチルフェニル)ホスフィンオキシド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。
このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて4時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて水素結合性化合物の濃度が25質量%になるように調製した。
この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加温し、水素結合性化合物―1分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径0.45μm、最大粒子径1.3μm以下であった。
得られた水素結合性化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
4) Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion 10 kg of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of the aqueous solution and mixed well to obtain a slurry.
This slurry was fed with a diaphragm pump, and dispersed for 4 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass.
This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less.
The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
5)現像促進剤−1分散物の調製
現像促進剤−1を10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて現像促進剤の濃度が20質量%になるように調製し、現像促進剤−1分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径0.48μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
6)現像促進剤−2及び色調調整剤−1の分散物調製
現像促進剤−2及び色調調整剤−1の固体分散物についても現像促進剤−1と同様の方法により分散し、それぞれ20質量%、15質量%の分散液を得た。
5) Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion 10 kg of Development Accelerator-1 and 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added with 10 kg of water and mixed well. To make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
6) Preparation of Dispersion of Development Accelerator-2 and Color Adjuster-1 The solid dispersion of Development Accelerator-2 and Color Adjuster-1 was also dispersed by the same method as Development Accelerator-1, each having 20 mass. %, 15% by mass of a dispersion liquid was obtained.
7)ポリハロゲン化合物の調製
《有機ポリハロゲン化合物−1分散物の調製》
有機ポリハロゲン化合物―1(トリブロモメタンスルホニルベンゼン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水14kgを添加して、良く混合してスラリーとした。
このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が26質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物―1分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。
得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
7) Preparation of polyhalogen compound << Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion >>
10 kg of organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of a 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 0.4 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, Then, 14 kg of water was added and mixed well to obtain a slurry.
This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 26% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less.
The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
《有機ポリハロゲン化合物−2分散物の調製》
有機ポリハロゲン化合物―2(N−ブチル−3−トリブロモメタンスルホニルベンゾアミド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が30質量%になるように調製した。この分散液を40℃で5時間加温し、有機ポリハロゲン化合物―2分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion >>
10 kg of an organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzoamide), 20 kg of a 10% by mass aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and 20 of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate 0.4 kg of a mass% aqueous solution was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
8)フタラジン化合物−1溶液の調製》
8kgのクラレ(株)製変性ポリビニルアルコールMP203を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15kgとフタラジン化合物―1(6−イソプロピルフタラジン)の70質量%水溶液14.28kgを添加し、フタラジン化合物―1の5質量%溶液を調製した。
8) Preparation of phthalazine compound-1 solution >>
8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 70 mass of phthalazine compound-1 (6-isopropylphthalazine). 14.28 kg of a% aqueous solution was added to prepare a 5% by mass solution of phthalazine compound-1.
9)メルカプト化合物の調製)
《メルカプト化合物−1水溶液の調製》
メルカプト化合物―1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7質量%の水溶液とした。
9) Preparation of mercapto compound)
<< Preparation of Mercapto Compound-1 Aqueous Solution >>
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.
《メルカプト化合物−2水溶液の調製》
メルカプト化合物―2(1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾール)20gを水980gに溶解し、2.0質量%の水溶液とした。
<< Preparation of Mercapto Compound-2 Aqueous Solution >>
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.
10)顔料−1分散物の調製
C.I.Pigment Blue 60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて25時間分散し、水を加えて顔料の濃度が5質量%になるように調製して顔料−1分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径0.21μmであった。
10) Preparation of Pigment-1 Dispersion C.I. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. Demol N (6.4 g) were added to 250 g of water and mixed well to obtain a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. A pigment-1 dispersion was obtained by adjusting the concentration to 5% by mass. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
11)SBRラテックス液の調製
SBRラテックス(TP−1)は以下により調製した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に、蒸留水287g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製):固形分48.5質量%)7.73g、1mol/リットルNaOH14.06ml、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.15g、スチレン255g、アクリル酸11.25g、tert−ドデシルメルカプタン3.0gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度200rpmで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、1,3−ブタジエン108.75gを圧入して内温60℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム1.875gを水50mlに溶解した液を添加し、そのまま5時間撹拌した。
さらに90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、1mol/LのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、SBRラテックスTP−1を774.7g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、145ppmであった。
11) Preparation of SBR latex liquid SBR latex (TP-1) was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 (Mass%) 7.73 g, 1 mol / liter NaOH 14.06 ml, ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.15 g, styrene 255 g, acrylic acid 11.25 g, tert-dodecyl mercaptan 3.0 g, the reaction vessel was sealed and the stirring speed was Stir at 200 rpm. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected and the internal temperature was raised to 60 ° C. A solution prepared by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 5 hours.
The temperature was further raised to 90 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours. After completion of the reaction, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ion: NH 4 + ion = 1: 1 using 1 mol / L NaOH and NH 4 OH. Addition treatment was performed so that the molar ratio was 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 774.7 g of SBR latex TP-1 was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.
上記ラテックスは平均粒径90nm、Tg=17℃、固形分濃度44質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.80mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し25℃にて測定)であった。 The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44 mass%, equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH, 0.6 mass%, ion conductivity of 4.80 mS / cm (measurement of ion conductivity is The conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. was used and measured at 25 ° C.).
12)イソプレンラテックス液の調製
イソプレンラテックス(TP−2)は以下により調製した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に蒸留水1500g添加し、90℃で3時間加熱し、重合釜のステンレス表面やステンレス製撹拌装置の部材に不動態皮膜を形成させる。この処理を行った重合釜に、窒素ガスを1時間バブリングした蒸留水582.28g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製))9.49g、1mol/LのNaOHを19.56g、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.20g、スチレン314.99g、イソプレン190.87g、アクリル酸10.43g、tert−ドデシルメルカプタン2.09gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度225rpmで撹拌し、内温65℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム2.61gを水40mlに溶解した液を添加し、そのまま6時間撹拌した。この時点でのは重合転化率は固形分測定から90%であった。ここで、アクリル酸5.22gを水46.98gに溶解した液を添加し、続いて水10gを添加し、過硫酸アンモニウム1.30gを水50.7mlに溶解した液をさらに添加した。添加後、90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後、内温が室温になるまで下げた後、1mol/LのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。
その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、イソプレンラテックスTP−2を1248g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、142ppmであった。
12) Preparation of isoprene latex liquid Isoprene latex (TP-2) was prepared as follows.
Add 1500 g of distilled water to the polymerization kettle of the gas monomer reactor (Pressure Glass Industry Co., Ltd. TAS-2J type), heat at 90 ° C. for 3 hours, and passivate to the stainless steel surface of the polymerization kettle and members of the stainless steel stirring device A film is formed. In this polymerized kettle, 582.28 g of distilled water bubbled with nitrogen gas for 1 hour, 9.49 g of surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)), 1 mol / L NaOH Of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.20 g, styrene 314.99 g, isoprene 190.87 g, acrylic acid 10.43 g, tert-dodecyl mercaptan 2.09 g, and the reaction vessel was sealed and stirred at 225 rpm. The mixture was stirred and heated to an internal temperature of 65 ° C. A solution prepared by dissolving 2.61 g of ammonium persulfate in 40 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 6 hours. At this time, the polymerization conversion rate was 90% from the measurement of the solid content. Here, a solution in which 5.22 g of acrylic acid was dissolved in 46.98 g of water was added, 10 g of water was subsequently added, and a solution in which 1.30 g of ammonium persulfate was dissolved in 50.7 ml of water was further added. After the addition, the temperature was raised to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ions: NH 4 + ions were used with 1 mol / L NaOH and NH 4 OH. = 1: 5.3 (molar ratio) was added and adjusted to pH 8.4.
Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 1248 g of isoprene latex TP-2 was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 142 ppm.
上記ラテックスは平均粒径113nm、Tg=15℃、固形分濃度41.3質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.4質量%、イオン伝導度5.23mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し25℃にて測定)であった。 The latex has an average particle size of 113 nm, Tg = 15 ° C., solid content concentration of 41.3 mass%, equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH of 0.4 mass%, ionic conductivity of 5.23 mS / cm (of ionic conductivity). Measurement was conducted at 25 ° C. using a conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.).
2.塗布液の調製
1)画像形成層塗布液調製
上記で得た脂肪酸銀分散物1000g、水135ml、顔料−1分散物35g、有機ポリハロゲン化合物−1分散物19g、有機ポリハロゲン化合物−2分散物58g、フタラジン化合物―1溶液162g、SBRラテックス(TP−1)液424g、イソプレンラテックス(TP−2)液636g、還元剤−1分散物75g、還元剤−2分散物75g、水素結合性化合物−1分散物53g、現像促進剤−2分散物4.8g、メルカプト化合物−1水溶液9ml、メルカプト化合物−2水溶液27mlを順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀混合乳剤A〜Gに118gを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
2. Preparation of coating solution 1) Preparation of coating solution for image forming layer 1000 g of fatty acid silver dispersion obtained above, 135 ml of water, 35 g of pigment-1 dispersion, 19 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, and organic polyhalogen compound-2 dispersion 58 g, 162 g of phthalazine compound-1 solution, 424 g of SBR latex (TP-1) solution, 636 g of isoprene latex (TP-2) solution, 75 g of reducing agent-1 dispersion, 75 g of reducing agent-2 dispersion, hydrogen bonding compound- 53 g of 1 dispersion, 4.8 g of development accelerator-2 dispersion, 9 ml of mercapto compound-1 aqueous solution, and 27 ml of mercapto compound-2 aqueous solution were added sequentially, and 118 g was added to silver halide mixed emulsions A to G immediately before coating. The well-mixed image forming layer coating solution was directly fed to the coating die and applied.
上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で28[mPa・s]であった。
Haake社製RheoStress RS150を使用した38℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ37、40、38、30、19[mPa・s]であった。
塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.32mgであった。
The viscosity of the image forming layer coating solution was 28 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 38 ° C. using a Haake RheoStress RS150 is 37, 40, 38, 30, 19 [mPa · s] at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, and 1000 [1 / second], respectively. s].
The amount of zirconium in the coating solution was 0.32 mg per 1 g of silver.
2)中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)1000g、顔料−1分散物163g、、青色染料化合物−1(日本化薬(株)製:カヤフェクトターコイズRNリキッド150)18.5質量%水溶液33g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液27ml、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を135ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、8.9ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
2) Preparation of intermediate layer coating solution 1000 g of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 163 g of pigment-1 dispersion, blue dye compound-1 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayafect Turquoise RN Liquid 150) ) 33 g of 18.5 wt% aqueous solution, 27 ml of 5 wt% aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 57/8) / 28/5/2) 4200 ml of latex 19 wt% solution, 27 ml of 5 wt% aqueous solution of aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.), 135 ml of 20 wt% aqueous solution of diammonium phthalate, total amount 10000 g So that the pH is 7.5. The intermediate layer coating solution was adjusted with OH and fed to the coating die so as to be 8.9 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
3)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水840mlに溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を46ml、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を5.4mlを加えて混合し、塗布直前に4質量%のクロムみょうばん40mlをスタチックミキサーで混合したものを塗布液量が26.1ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone were dissolved in 840 ml of water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio) 57/8/28/5/2) Latex 19% by weight solution 180g, phthalic acid 15% by weight methanol solution 46ml, sulfosuccinic acid di (2-ethylhexyl) sodium salt 5% by weight aqueous solution 5.4ml was added. The mixture was mixed, and immediately before coating, 40 ml of 4% by weight chromium alum was mixed with a static mixer and fed to the coating die so that the amount of the coating solution was 26.1 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
4)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水800mlに溶解し、流動パラフィンの10質量%乳化物を10g、ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリットの10質量%乳化物を30g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸15質量%メタノール溶液40ml、フッ素系界面活性剤(F−1)の1質量%溶液を5.5ml、フッ素系界面活性剤(F−2)の1質量%水溶液を5.5ml、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を28ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm、体積加重平均の分布30%)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.6μm、体積加重平均の分布60%)21gを混合したものを表面保護層塗布液とし、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone are dissolved in 800 ml of water, 10 g of a 10% by weight emulsion of liquid paraffin, and 10% by weight of dipentaerythritol hexaisostearate. 30 g of emulsion, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 57/8/28/5/2) latex 19% by weight liquid 180 g, phthalic acid 15% by
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
3.熱現像感光材料の作製
1)熱現像感光材料の作製
バック面と反対の面に下塗り面から画像形成層、中間層、表面保護層第1層、表面保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料1−1〜1−7を作製した。このとき、画像形成層と中間層の塗布液は31℃に、表面保護層第一層の塗布液は36℃に、表面保護層第二層の塗布液は37℃に温度調整した。
画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
3. Preparation of photothermographic material 1) Preparation of photothermographic material Apply slide beads in the order of the image forming layer, intermediate layer, surface protective layer first layer, surface protective layer second layer from the undercoat surface to the surface opposite to the back surface. Samples 1-1 to 1-7 of photothermographic materials were prepared by simultaneous multi-layer coating by the method. At this time, the coating solution for the image forming layer and the intermediate layer was adjusted to 31 ° C., the coating solution for the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the coating solution for the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the image forming layer is as follows.
脂肪酸銀 5.22
顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
ポリハロゲン化合物−1 0.12
ポリハロゲン化合物−2 0.30
フタラジン化合物−1 0.18
SBRラテックス(TP−1) 3.88
イソプレンラテックス(TP−2) 5.82
還元剤−1 0.40
還元剤−2 0.40
水素結合性化合物−1 0.116
現像促進剤−2 0.02
メルカプト化合物−1 0.002
メルカプト化合物−2 0.010
ハロゲン化銀(Agとして) 0.13
Fatty acid silver 5.22
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.12
Polyhalogen compound-2 0.30
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex (TP-1) 3.88
Isoprene latex (TP-2) 5.82
Reducing agent-1 0.40
Reducing agent-2 0.40
Hydrogen bonding compound-1 0.116
Development accelerator-2 0.02
Mercapto Compound-1 0.002
Mercapto compound-2 0.010
Silver halide (as Ag) 0.13
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
塗布はスピード160m/minで行い、コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10mm〜0.30mmとし、減圧室の圧力を大気圧に対して196Pa〜882Pa低く設定した。支持体は塗布前にイオン風にて除電した。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10℃〜20℃の風にて塗布液を冷却した後、無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23℃〜45℃、湿球温度15℃〜21℃の乾燥風で乾燥させた。
乾燥後、25℃で湿度40%RH〜60%RHで調湿した後、膜面を70℃〜90℃になるように加熱した。加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、画像形成層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。
The coating and drying conditions are as follows.
The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the coating die tip and the support was set to 0.10 mm to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to be 196 Pa to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. The support was neutralized with an ion wind before coating.
In the subsequent chilling zone, the coating liquid is cooled with a wind at a dry bulb temperature of 10 ° C. to 20 ° C., then transported in a non-contact manner, and dried at a dry bulb temperature of 23 ° C. to 45 ° C. It dried with the drying wind of 15 degreeC and the wet-bulb temperature of 15 to 21 degreeC.
After drying, the humidity was adjusted at 25 ° C. and humidity of 40% RH to 60% RH, and then the film surface was heated to 70 ° C. to 90 ° C. After heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the image forming layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.
以下に本発明の実施例で用いた化合物の化学構造を示す。
4.写真性能の評価
1)準備
得られた試料は半切サイズ(43cm長×35cm幅)に切断し、25℃50%RHの環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
<包装材料>
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μmよりなるラミネートフィルム:
酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day;
水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
4). Evaluation of photographic performance 1) Preparation The obtained sample was cut into half-cut size (43 cm length x 35 cm width), packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, and stored at room temperature for 2 weeks. The following evaluation was performed.
<Packaging materials>
Laminate film consisting of PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon:
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m 2 · 25 ° C · day;
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m 2 · 25 ° C · day.
2)感光材料の露光・現像
熱現像感光材料−1は富士メディカル(株)ドライレーザーイメージャーFM−DP L(最大60mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザー搭載)にて露光・熱現像(112℃−119℃−121℃−121℃に設定した4枚のパネルヒータで合計24秒)し、得られた画像の評価を濃度計により行った。
2) Exposure / development of photosensitive material Photothermographic material-1 is exposed and thermally developed (112 ° C.) with Fuji Medical Co., Ltd. dry laser imager FM-DPL (mounted with a 660 nm semiconductor laser with a maximum output of 60 mW (IIIB)). -119 ° C-121 ° C-121 ° C with four panel heaters for a total of 24 seconds), and the obtained image was evaluated with a densitometer.
3)写真性能の評価
(感度)
露光量と対数に対する濃度の特性曲線をプロットし、かぶり+0.5の濃度を与える露光量の逆数で感度を表し試料1−1の感度を100として相対値で示した。値が大きいほど感度が高く好ましい。
(かぶり)
光の当たっていない部分の濃度をかぶりとしDminで表した。
(短時間現像時の感度)
現像の速度を上げ、112゜C―119℃―121℃―121℃での4枚のパネルヒーターの通過時間を10秒に設定し24秒設定との感度差(ΔS=LogE(24秒)−LogE(10秒)の差をΔSで表した。ΔSは値が小さいほど短時間で高感度な感材が得られるので好ましい。
(試料の保存性)
上記のように包装した試料を40゜Cで1ヶ月保存した後、常温に戻し上記と同様な露光現像を行った。経時後のかぶりと経時前のかぶりの差をΔDminとして表した。ΔDminは値が小さいほど経時での写真性の変化が無く好ましい。
3) Evaluation of photographic performance (sensitivity)
A characteristic curve of the density with respect to the exposure amount and logarithm was plotted, and the sensitivity was represented by the reciprocal of the exposure amount giving a density of fog +0.5, and the sensitivity of the sample 1-1 was expressed as a relative value. Higher values are preferable because of higher sensitivity.
(Cover)
The density of the portion not exposed to light was fogged and expressed as Dmin.
(Sensitivity during short-time development)
Increase the development speed, set the passage time of 4 panel heaters at 112 ° C-119 ° C-121 ° C-121 ° C to 10 seconds, and the difference in sensitivity from the setting of 24 seconds (ΔS = LogE (24 seconds)- The difference in LogE (10 seconds) was expressed by ΔS. A smaller value of ΔS is preferable because a sensitive material can be obtained in a short time.
(Sample storability)
The sample packaged as described above was stored at 40 ° C. for 1 month, then returned to room temperature and subjected to the same exposure and development as described above. The difference between the fog after aging and the fog before aging was expressed as ΔDmin. A smaller value of ΔDmin is preferable because there is no change in photographic properties over time.
表1に示したとおり本発明の化合物は、高感であるにも関わらず低被りであり、10秒現像と24秒現像の感度差や保存におけるかぶりの上昇が小さく好ましいことが分かる。
また上記保存時のかぶり上昇や10秒現像と24秒現像の感度差はメルカプト吸着基である比較化合物では実現できず、本発明によってのみ実現することが出来るといえる。
実施例2
As shown in Table 1, it can be seen that the compound of the present invention is preferable although it has a high sensitivity and a low covering, and the sensitivity difference between 10-second development and 24-second development and the increase in fog during storage are small.
In addition, the above-described increase in fog during storage and the difference in sensitivity between 10-second development and 24-second development cannot be realized with a comparative compound that is a mercapto-adsorbing group, and can only be realized by the present invention.
Example 2
実施例1と同様の下塗りを行ったPET支持体上に下記バック面塗布を行った。
(バック面塗布液の調製)
The following back surface application was performed on a PET support that had been undercoated in the same manner as in Example 1.
(Preparation of back surface coating solution)
<ハレーション防止層塗布液の調製
40℃に保温した水に石灰処理ゼラチン32.7g、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ8μm、粒径標準偏差0.4μm)0.77g、ベンゾイソチアゾリノン0.08g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム0.3g、青色染料化合物−1を0.06g、紫外光吸収剤−1を1.5g、アクリル酸/エチルアクリレート共重合ラテックス(共重合比5/95)5.0g、N,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)1.7gを混合し、1mol/lの水酸化ナトリウムでpHを6.0に調整し、水にて全体を818mlとし、ハレーション防止層塗布液を調製した。
<Preparation of antihalation layer coating solution 32.7 g of lime-processed gelatin in water kept at 40 ° C., 0.77 g of monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (
(バック面保護層塗布液の調製)
40℃に保温した水に石灰処理ゼラチン66.5g、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして5.4g、ベンゾイソチアゾリノン0.10g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム0.5g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム0.27g、フッ素系界面活性剤(F−1)2%水溶液を13.6mL、アクリル酸/エチルアクリレート共重合体(共重合質量比5/95)10.0gを混合し、1mol/Lの水酸化ナトリウムでpHを6.0に調整し、水で1000mlとしてバック面保護層塗布液とした。
(Preparation of back surface protective layer coating solution)
66.5 g of lime-processed gelatin in water kept at 40 ° C., 5.4 g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, 0.10 g of benzoisothiazolinone, 0.5 g of sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate, polystyrene sulfonic acid 0.27 g of sodium, 13.6 mL of a 2% aqueous solution of a fluorosurfactant (F-1), 10.0 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization mass ratio 5/95) were mixed, and 1 mol / L The pH was adjusted to 6.0 with sodium hydroxide and made up to 1000 ml with water to obtain a back surface protective layer coating solution.
(バック層の塗布)
上記下塗り支持体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液をゼラチン塗布量が1.70g/m2となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が0.79g/m2となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作成した。
(画像形成層、中間層、および表面保護層)
1.塗布用材料の準備
1)ハロゲン化銀乳剤の調製
《ハロゲン化銀乳剤4の調製》
蒸留水1420mlに1質量%ヨウ化カリウム溶液4.3mlを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン36.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、40℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え195.6mlに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム21.8gを蒸留水にて容量218mlに希釈した溶液Bを一定流量で9分間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。
(Application of back layer)
On the back surface side of the undercoat support, the gelatin application amount of the antihalation layer coating solution is 1.70 g / m 2, and the back surface protection layer coating solution is 0.79 g / m 2 . A multi-layer was simultaneously applied and dried to form a back layer.
(Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer)
1. Preparation of coating materials 1) Preparation of silver halide emulsion << Preparation of silver halide emulsion 4 >>
To a solution of 1420 ml of distilled water was added 4.3 ml of a 1% by weight potassium iodide solution, and a solution containing 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 36.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 40 ° C., a solution A in which distilled water was added to 22.22 g of silver nitrate and diluted to 195.6 ml and solution B in which 21.8 g of potassium iodide was diluted to 218 ml in volume with distilled water at a constant flow rate. The whole amount was added over 9 minutes. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added.
さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mlに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム60gを蒸留水にて容量600mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で120分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。 Further, Solution C obtained by adding distilled water to 51.86 g of silver nitrate and diluting to 317.5 ml and Solution D obtained by diluting 60 g of potassium iodide to a volume of 600 ml with distilled water were added to Solution C over 120 minutes at a constant flow rate. Solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1、2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルフォン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。
N、N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル及び1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1、3、4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤4を作製した。
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −4 mol was added and aged for 91 minutes.
1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and after 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the methanol solution at a rate of 4. Halogenation by adding 8 × 10 −3 mol and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in a methanol solution to 5.4 × 10 −3 mol with respect to 1 mol of silver Silver emulsion 4 was prepared.
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.038μm、球相当径の変動係数18%の純ヨウ化銀粒子であった。また(001)、{100}、{101}面を有する14面体粒子であり、X線粉末回折分析を用いて測定するとそのγ相の比率は30%であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。 Grains in the prepared silver halide emulsion were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.038 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 18%. Moreover, it is a tetrahedral particle | grain which has (001), {100}, {101} face, The ratio of the (gamma) phase was 30% when measured using the X ray powder diffraction analysis. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
《ハロゲン化銀乳剤5の調製》
反応溶液の温度を60℃に変更し、2,2’−(エチレンジチオ)ジエタノールの5%メタノール溶液5mlを溶液AとBの添加後に添加したこと、pAgを10.5に維持しながら溶液Dをコントロールドダブルジェット法で添加したこと、および化学増感時にテルル増感剤の添加3分後に臭化金酸を銀1モル当たり5×10-4モルとチオシアン酸カリウムを銀1モルあたり2×10-3モルを添加したこと以外は乳剤4と同様にしてハロゲン化銀乳剤5を作製した。
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、投影面積の平均円相当径0.164μm、粒子厚み0.030μm、平均アスペクト比が5、平均球相当径0.11μm、球相当径の変動係数23%の純ヨウ化銀平板状粒子であった。X線粉末回折分析を用いて測定するとそのγ相の比率は80%であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。
《ハロゲン化銀乳剤6の調製》
反応溶液の温度を25℃に変更したこと、pAgを10.2に維持しながら溶液Dをコントロールドダブルジェット法で添加したこと以外はハロゲン化銀乳剤4と全く同様にしてハロゲン化銀乳剤6を作製した。
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.020μm、球相当径の変動係数17%の純ヨウ化銀粒子であった。また(001)、{1(−1)0}、{101}面を有する12面体粒子であり、X線粉末回折分析を用いて測定するとほぼβ相からなる沃化銀であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。
<< Preparation of silver halide emulsion 5 >>
The temperature of the reaction solution was changed to 60 ° C., 5 ml of a 5% methanol solution of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol was added after the addition of solutions A and B, and solution D while maintaining pAg at 10.5 Was added by the controlled double jet method, and 3 minutes after addition of the tellurium sensitizer at the time of chemical sensitization, 5 × 10 -4 moles of bromothermic acid per mole of silver and potassium thiocyanate 2 per mole of silver. A silver halide emulsion 5 was prepared in the same manner as the emulsion 4 except that × 10 -3 mol was added.
The grains in the prepared silver halide emulsion have a projected area average equivalent circle diameter of 0.164 μm, a grain thickness of 0.030 μm, an average aspect ratio of 5, an average spherical equivalent diameter of 0.11 μm, and a coefficient of variation of the equivalent spherical diameter of 23. % Pure silver iodide tabular grains. When measured using X-ray powder diffraction analysis, the proportion of the γ phase was 80%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
<< Preparation of silver halide emulsion 6 >>
Silver halide emulsion 6 in exactly the same manner as silver halide emulsion 4 except that the temperature of the reaction solution was changed to 25 ° C. and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 10.2. Was made.
The grains in the prepared silver halide emulsion were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.020 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 17%. Further, they were dodecahedron grains having (001), {1 (-1) 0}, and {101} planes, and were silver iodide substantially consisting of a β phase as measured by X-ray powder diffraction analysis. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
《ハロゲン化銀乳剤4’、5’、6’、4”、5”、および6”の作製》
ハロゲン化銀4、5、6のそれぞれについて、KBrでコンバージョンを行うことにより
それぞれハロゲン化銀4,5,6と同サイズでAgIの含有率が85%であるハロゲン化銀4’、5’、6’とAgIの含有率が50%であるハロゲン化銀4”、5” 、6”をそれぞれ作製した。
《塗布液用混合乳剤B1の調製》
ハロゲン化銀乳剤4、ハロゲン化銀乳剤5、およびハロゲン化銀乳剤6を銀モル比として5:2:3になる量を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。
さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物1,2,3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。この混合液に吸着基と還元基を有する化合物を表2の通り添加した。
さらに塗布液用混合乳剤1リットルあたりハロゲン化銀の含有量が銀として15.6gとなるように加水した。
<< Preparation of silver halide emulsions 4 ', 5', 6 ', 4 ", 5", and 6 ">>
For each of silver halides 4, 5, and 6, silver halides 4 ′, 5 ′, which have the same size as silver halides 4, 5, 6 and have an AgI content of 85% by performing conversion with KBr, Silver halides 4 ″, 5 ″ and 6 ″ having a content of 6 ′ and AgI of 50% were prepared, respectively.
<< Preparation of mixed emulsion B1 for coating solution >>
Silver halide emulsion 4, silver halide emulsion 5 and silver halide emulsion 6 were dissolved in a silver molar ratio of 5: 2: 3, and benzothiazolium iodide was added in a 1% by mass aqueous solution of silver 1 7 × 10 −3 moles were added per mole.
Further, the amount of the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is 2 × 10 −3 moles per mole of silver halide, each of compounds 1, 2, and 3 capable of emitting one electron or more. Added. A compound having an adsorbing group and a reducing group was added to this mixed solution as shown in Table 2.
Further, water was added so that the silver halide content per liter of the mixed emulsion for coating solution was 15.6 g as silver.
《塗布液用混合乳剤B2、B3の調製》
ハロゲン化銀乳剤4’5’6’、および4”、5”、6”を用いて、塗布液用混合乳剤B1と同様にして、塗布液用混合乳剤B2、B3を調製した。
<< Preparation of mixed emulsions B2 and B3 for coating solutions >>
Coating emulsions B2 and B3 were prepared in the same manner as coating emulsion B1 using silver halide emulsions 4′5′6 ′ and 4 ″, 5 ″, and 6 ″.
2)脂肪酸銀分散物の調製
<再結晶ベヘン酸の調製>
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)100kgを、1200kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μmのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、3℃/時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、100kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してGC−FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は96モル%、それ以外にリグノセリン酸が2モル%、アラキジン酸が2モル%、エルカ酸0.001モル%含まれていた。
<脂肪酸銀分散物の調製>
再結晶ベヘン酸88kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。
このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。
このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。
また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
2) Preparation of fatty acid silver dispersion <Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, and in addition, lignoceric acid was 2 mol%, arachidic acid was 2 mol%, and erucic acid was 0.001 mol%. It was.
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient agitation, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate of 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes.
At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was made to be.
At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant.
The pipe of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。
こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm.
Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.21μm、b=0.4μm、c=0.4μm、平均アスペクト比2.1、球相当径の変動係数11%の結晶であった。(a,b,cは本文の規定) When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, and equivalent sphere diameter. The crystal had a coefficient of variation of 11%. (A, b, and c are the text provisions)
乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kgおよび水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。 19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).
次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1150kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to a pressure of 1150 kg / cm 2 in a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
2.塗布液の調製
1)画像形成層塗布液の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物1000g、水276mlに顔料−1分散物、有機ポリハロゲン化合物−1分散物、有機ポリハロゲン化合物−2分散物、フタラジン化合物―1溶液、SBRラテックス(Tg:17℃)液、還元剤−1分散物、還元剤−2分散物、水素結合性化合物−1分散物、現像促進剤−1分散物、現像促進剤−2分散物、色調調整剤−1分散物、メルカプト化合物−1水溶液、メルカプト化合物−2水溶液を順次添加し、塗布直前に塗布液用混合乳剤B1〜B3を添加して良く混合し、そのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
2. Preparation of coating solution 1) Preparation of image forming layer coating solution Pigment-1 dispersion, organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound-2 dispersion in 1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above and 276 ml of water, Phthalazine compound-1 solution, SBR latex (Tg: 17 ° C.) liquid, reducing agent-1 dispersion, reducing agent-2 dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development accelerator -2 Dispersion, Color Modifier-1 Dispersion, Mercapto Compound-1 Aqueous Solution, Mercapto Compound-2 Aqueous Solution are added in order, and mixed emulsions B1 to B3 for coating solution are added and mixed well immediately before coating, and coating is performed as it is. The solution was fed to the die and applied.
上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で25[mPa・s]であった。
レオメトリックスファーイースト株式会社製RFSフルードスペクトロメーターを使用した25℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ242、65、48、26、20[mPa・s]であった。
The viscosity of the image forming layer coating solution was 25 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 25 ° C. using an RFS fluid spectrometer manufactured by Rheometrics Far East Co., Ltd. is 242, 65, 48 at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, and 1000 [1 / second], respectively. 26 and 20 [mPa · s].
塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.52mgであった。 The amount of zirconium in the coating solution was 0.52 mg per 1 g of silver.
2)中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)1000g、顔料−1分散物272g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス19質量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を135ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、9.1ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
2) Preparation of intermediate layer coating solution 1000 g of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 272 g of pigment-1 dispersion, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass) Ratio 64/9/20/5/2) 27 ml of 5% by weight aqueous solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co., Ltd.) in 4200 ml of 19% by weight latex, 135 ml of 20% by weight aqueous solution of diammonium phthalate salt, Water was added so that the total amount was 10,000 g, and it was adjusted with NaOH so that the pH was 7.5 to obtain an intermediate layer coating solution, which was fed to the coating die so as to be 9.1 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
3)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン64gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス19.0質量%液112g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を30ml、4−メチルフタル酸の10質量%水溶液23ml、0.5mol/L濃度の硫酸を28ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を5ml、フェノキシエタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.1gを加え、総量750gになるように水を加えて塗布液とし、4質量%のクロムみょうばん26mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを18.6ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution 64 g of inert gelatin was dissolved in water and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5). / 2) 112 g of latex 19.0 wt% solution, 30 ml of 15 wt% methanol solution of phthalic acid, 23 ml of 10 wt% aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, Aerosol OT (American 5 ml of a 5% by weight aqueous solution (made by Cyanamid), 0.5 g of phenoxyethanol, and 0.1 g of benzoisothiazolinone are added to form a coating solution by adding water to a total amount of 750 g. 26 ml of 4% by weight chromium alum consisting of which had been mixed with a static mixer to 18.6ml / m 2 to immediately before coating It was fed to a coating die.
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
4)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン80gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス27.5質量%液102g、フッ素系界面活性剤(F−1)の2質量%溶液を5.4ml、フッ素系界面活性剤(F−2)の2質量%水溶液を5.4ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%溶液を23ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm、体積加重平均の分布30%)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.6μm、体積加重平均の分布60%)21g、4−メチルフタル酸1.6g、フタル酸4.8g、0.5mol/L濃度の硫酸44ml、ベンゾイソチアゾリノン10mgに総量650gとなるよう水を添加して、4質量%のクロムみょうばんと0.67質量%のフタル酸を含有する水溶液445mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution 80 g of inert gelatin was dissolved in water and a methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5). / 2) 102 g of latex 27.5% by mass solution, 5.4 ml of 2% by mass solution of fluorosurfactant (F-1), and 5% by mass of 2% by mass aqueous solution of fluorosurfactant (F-2). 4 ml, 23 ml of a 5% by mass solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid), 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm, volume weighted average distribution 30%), polymethyl methacrylate fine particles (average particle) Diameter 3.6 μm, volume weighted
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
3.熱現像感光材料の作製
バック面と反対の面に下塗り面から画像形成層、中間層、表面保護層第1層、表面保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作製した。
このとき、画像形成層と中間層は31℃に、表面保護層第1層は36℃に、表面保護層第2層は37℃に温度調整した。
3. Preparation of photothermographic material Simultaneously multilayer coating by slide bead coating method in the order of image forming layer, intermediate layer, surface protective layer first layer, surface protective layer second layer from the undercoat surface to the surface opposite to the back surface, A sample of the photothermographic material was prepared.
At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
脂肪酸銀 5.27
実施例1の顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
実施例1のポリハロゲン化合物−1 0.09
実施例1のポリハロゲン化合物−2 0.14
実施例1のフタラジン化合物−1 0.18
実施例1のSBRラテックス 9.43
実施例1の還元剤−1 0.55
実施例1の還元剤−2 0.22
実施例1の水素結合性化合物−1 0.28
実施例1の現像促進剤−1 0.025
実施例1の現像促進剤−2 0.020
実施例1の色調調整剤−1 0.008
実施例1のメルカプト化合物−1 0.002
実施例1のメルカプト化合物−2 0.006
ハロゲン化銀(Agとして) 0.046
The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the image forming layer is as follows.
Fatty acid silver 5.27
Pigment of Example 1 (CI Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 of Example 1 0.09
Polyhalogen compound-2 of Example 1 0.14
Phthalazine Compound-1 of Example 1 0.18
SBR latex of Example 1 9.43
Reducing agent-1 of Example 1 0.55
Reducing agent-2 of Example 1 0.22
Hydrogen bonding compound-1 of Example 1 0.28
Development Accelerator-1 of Example 1 0.025
Development Accelerator-2 of Example 1 0.020
Color tone adjusting agent-1 of Example 1 0.008
Mercapto Compound-1 of Example 1 0.002
Mercapto compound-2 of Example 1 0.006
Silver halide (as Ag) 0.046
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
支持体は塗布前にイオン風にて除電し、塗布はスピード160m/minで行った。塗布乾燥条件は各試料に対して以下の範囲で調整し、もっとも安定した面状が得られる条件に設定した。
コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10mm〜0.30mm。
減圧室の圧力を大気圧に対して196Pa〜882Pa低く設定。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10℃〜20℃の風にて塗布液を冷却。
無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23℃〜45℃、湿球温度15℃〜21℃の乾燥風で乾燥。
乾燥後、25℃で湿度40%RH〜60%RHで調湿。
引き続き、膜面を70℃〜90℃になるように加熱し、加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
The coating and drying conditions are as follows.
The support was neutralized with ion wind before coating, and coating was performed at a speed of 160 m / min. The coating and drying conditions were adjusted within the following ranges for each sample, and were set to conditions that would provide the most stable surface shape.
The gap between the coating die tip and the support is 0.10 mm to 0.30 mm.
The pressure in the decompression chamber is set to 196 Pa to 882 Pa lower than the atmospheric pressure.
In the subsequent chilling zone, the coating solution is cooled with wind at a dry bulb temperature of 10 ° C to 20 ° C.
It is transported in a non-contact manner and dried with a dry air having a dry bulb temperature of 23 ° C. to 45 ° C. and a wet bulb temperature of 15 ° C. to 21 ° C. in a helical contact type non-contact dryer.
After drying, humidity is adjusted at 25 ° C. and
Subsequently, the film surface was heated to 70 ° C. to 90 ° C., and after the heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、画像形成層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。 The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the image forming layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.
(写真性能の評価)
得られた試料は半切サイズに切断し、25℃50%RHの環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
(包装材料)
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μmを積層したラミネートフィルム:
酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day;
水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
(Evaluation of photographic performance)
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
(Packaging material)
Laminate film in which PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon is laminated:
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m 2 · 25 ° C · day;
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m 2 · 25 ° C · day.
試料は富士フイルムメディカル(株)ドライレーザーイメージャーDRYPIX7000の露光部に半導体レーザー光源として日亜化学工業のNLHV3000E半導体レーザーを実装し、ビーム径を100μmに絞った。レーザー光の感光材料面での照度を0および1mW/mm2〜1000mW/mm2の間で変化させて10-6秒で露光を行った。
レーザー光の発振波長は405nmであった。熱現像は3枚のパネルヒーターを107℃−121℃−121℃に設定し、合計14秒になるように現像した。
得られた画像の評価を濃度計により行った。
As a sample, an NLHV3000E semiconductor laser manufactured by Nichia Corporation was mounted as a semiconductor laser light source on the exposure part of a dry laser imager DRYPIX7000 of FUJIFILM Medical Co., Ltd., and the beam diameter was reduced to 100 μm. The illuminance on the photosensitive material surface of the laser light was exposed at 10 -6 seconds varied between 0 and 1mW / mm 2 ~1000mW / mm 2 .
The oscillation wavelength of the laser beam was 405 nm. In the heat development, three panel heaters were set at 107 ° C.-121 ° C.-121 ° C. and developed so that the total time was 14 seconds.
The obtained image was evaluated with a densitometer.
(試料の評価)
実施例1と同様の試料の評価を行い表2に示した結果を得た。感度のΔは3枚のヒーターを14秒で通過させたときの感度と8秒で通過させたときの感度との差をΔSとした。
(Sample evaluation)
The same samples as in Example 1 were evaluated and the results shown in Table 2 were obtained. The difference Δ between the sensitivity when the three heaters are passed in 14 seconds and the sensitivity when the heaters are passed in 8 seconds is ΔS.
表2で明らかなとおり、本発明の化合物により、現像時間変動での感度上昇及び保存時のかぶり増加が小さいことが分かった。また、その効果は実施例1に対しても大きく高沃化銀乳剤の場合に、本発明の効果が顕著に現れることが分かる。
また、ヨウ化銀含有率の高いの場合には特に本発明の化合物を使用することによって、現像時間の変動による感度上昇や保存時のかぶり増加が一段と抑えられることが分かった。
As is apparent from Table 2, it was found that the compounds of the present invention showed a small increase in sensitivity due to fluctuations in development time and a small increase in fog during storage. Also, the effect is large compared to Example 1, and it can be seen that the effect of the present invention appears remarkably in the case of a high silver iodide emulsion.
Further, it was found that particularly when the silver iodide content is high, the use of the compound of the present invention can further suppress an increase in sensitivity due to fluctuations in development time and an increase in fogging during storage.
実施例3
以下のようにして、両面の撮影用熱現像感材を作製した。
Example 3
A heat-developable photosensitive material for photographing on both sides was produced as follows.
1.PET支持体の作製、および下塗り
1)製膜
1. Preparation of PET support and undercoating 1) Film formation
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。
これをペレット化した後130℃で4時間乾燥した。青色染料(1,4−ビス(2,6−ジエチルアニリノアントラキンノン)で青色着色し、その後T型ダイから押し出して急冷し、未延伸フィルムを作製した。
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio)) was obtained according to a conventional method.
This was pelletized and dried at 130 ° C. for 4 hours. The film was colored blue with a blue dye (1,4-bis (2,6-diethylanilinoanthraquinone), then extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film.
これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。 This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.
2)表面コロナ処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
2) Surface corona treatment Using a solid state corona treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at 20 m / min at room temperature. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
3)下塗り支持体の作製
(1)下塗層塗布液の作製
処方(1)(感光層側下塗り層用)
SnO2/SbO(9/1質量比、平均粒径0.5μm、17質量%分散物)84g
高松油脂(株)製ペスレジンA−520(30質量%溶液) 46.8g
東洋紡績(株)製バイロナールMD−1200 10.4g
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数=8.5) 1質量%溶液 11.0g
綜研化学(株)製 MP−1000(PMMAポリマー微粒子、平均粒径0.4μm)
0.91g
蒸留水 847ml
3) Preparation of undercoat support (1) Preparation formulation of undercoat layer coating solution (1) (for photosensitive layer side undercoat layer)
84 g of SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.5 μm, 17 mass% dispersion)
46.8 g of pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Bailonal MD-1200 10.4g manufactured by Toyobo Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average number of ethylene oxides = 8.5) 1% by weight solution 11.0 g
MP-1000 (PMMA polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
0.91g
847 ml of distilled water
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、上記下塗り塗布液処方(1)をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、これを両面に施して、下塗り支持体を作製した。 After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation (1) is applied with a wire bar to a wet coating amount of 6.6 ml / m 2 (single side And then dried at 180 ° C. for 5 minutes, and this was applied to both sides to prepare an undercoat support.
2.塗布用材料の準備
1)ハロゲン化銀乳剤
(ハロゲン化銀乳剤aの調製)
蒸留水1421mlに1質量%ヨウ化カリウム溶液4.3mlを加え、さらに0.5モル/L硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン36.5g、2,2’−(エチレンジチオ)ジエタノールの5質量%メタノ−ル溶液160mlを添加した溶液を、ステンレス製反応壷中で撹拌しながら77℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え218mlに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム36.6gを蒸留水にて366mlに希釈した溶液Bを、溶液Aは一定流量で16分かけて全量添加し、溶液BはpAgを10.2に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。
さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて508.2mlに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム63.9gを蒸留水にて639mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で80分かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.5に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。
また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
2. Preparation of coating materials 1) Silver halide emulsion (Preparation of silver halide emulsion a)
4.3 ml of 1% by weight potassium iodide solution is added to 1421 ml of distilled water, and 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, 36.5 g of phthalated gelatin, and 5 mass of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol. The solution to which 160 ml of a methanol solution was added was stirred in a stainless steel reaction vessel while maintaining the liquid temperature at 77 ° C., and 222.02 g of silver nitrate was added with distilled water and diluted to 218 ml with potassium iodide 36. Solution B in which 6 g was diluted to 366 ml with distilled water was added in a total amount over 16 minutes at a constant flow rate, and solution B was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added.
Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 508.2 ml, and a solution D in which 63.9 g of potassium iodide were diluted to 639 ml with distilled water, and solution C was added at a constant flow rate over 80 minutes. The whole amount was added, and Solution D was added by the control double jet method while maintaining pAg at 8.5. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver.
Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.
ハロゲン化銀乳剤aは、純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径0.58μm、平均投影面積直径の変動係数15.7%、平均厚み0.149μm、平均アスペクト比4.2であり、アスペクト比2以上の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.45μmであった。X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の30%以上がγ相で存在していた。 The silver halide emulsion a is a pure silver iodide emulsion having an average projected area diameter of 0.58 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 15.7%, an average thickness of 0.149 μm, and an average aspect ratio of 4.2. Tabular grains having an aspect ratio of 2 or more accounted for 80% or more of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.45 μm. As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 30% or more of silver iodide was present in the γ phase.
《ハロゲン化銀乳剤bの調製》
ハロゲン化銀乳剤aで調製した平板状粒子AgI乳剤1モルを反応容器に入れた。pAgは38℃で測定して10.2であった。次いで、ダブルジェット添加により、0.5モル/リットルのKBr溶液及び0.5モル/リットルのAgNO3溶液を10ml/分で20分間にわたって添加し、実質的に10モル%臭化銀をAgIホスト乳剤上にエピタキシャル状に沈殿させた。操作中、pAgは7.2に維持した。さらに、0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調製し、撹拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
<< Preparation of silver halide emulsion b >>
One mole of tabular grain AgI emulsion prepared with silver halide emulsion a was placed in a reaction vessel. The pAg was 10.2 measured at 38 ° C. Then, by double jet addition, 0.5 mol / liter KBr solution and 0.5 mol / liter AgNO 3 solution were added at 10 ml / min over 20 minutes, and substantially 10 mol% silver bromide was added to the AgI host. Epitaxially precipitated on the emulsion. During operation, pAg was maintained at 7.2. Further, the pH was adjusted to 3.8 using sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-5モル加えて91分間熟成した。その後、N,N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モルおよび1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤bを作製した。 The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −5 mol was added and aged for 91 minutes. Thereafter, 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and further 4 minutes later, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added with methanol solution per mole of silver. 4.8 × 10 −3 mol, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole was added in methanol solution to 5.4 × 10 −3 mol and 1- ( Silver halide emulsion b was prepared by adding 8.5 × 10 −3 mol of 3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in an aqueous solution to 1 mol of silver.
《ハロゲン化銀乳剤cの調製》
蒸留水1421mlに10質量%ヨウ化カリウム溶液8mlを加え、さらにフタル化ゼラチン4.6g、2,2’−(エチレンジチオ)ジエタノールの5質量%メタノ−ル溶液160mlを添加した溶液を、ステンレス製反応壷中で撹拌しながら77℃に液温を保ち、硝酸銀22.7gに蒸留水を加え223mlに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム36.6gを蒸留水にて366mlに希釈した溶液Bを、溶液Aは一定流量で15分22秒かけて全量添加し、溶液BはpAgを9.96に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。
その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を0.8ml添加した。さらに、硝酸銀53.1gに蒸留水を加えて520.2mlに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム63.9gを蒸留水にて639mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で80分かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.4に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。
また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
<< Preparation of silver halide emulsion c >>
A solution obtained by adding 8 ml of a 10% by weight potassium iodide solution to 1421 ml of distilled water and further adding 4.6 g of phthalated gelatin and 160 ml of a 5% by weight methanol solution of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol is made of stainless steel. While stirring in the reaction vessel, the liquid temperature was maintained at 77 ° C., and solution A in which distilled water was added to 22.7 g of silver nitrate and diluted to 223 ml and solution B in which 36.6 g of potassium iodide were diluted to 366 ml with distilled water were Solution A was added at a constant flow rate over 15 minutes and 22 seconds, and Solution B was added by the control double jet method while maintaining pAg at 9.96.
Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 0.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, Solution C obtained by adding distilled water to 53.1 g of silver nitrate to dilute to 520.2 ml and Solution D obtained by diluting 63.9 g of potassium iodide to 639 ml with distilled water were added over 80 minutes at a constant flow rate. The whole amount was added, and Solution D was added by the control double jet method while maintaining pAg at 8.4. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver.
Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.
得られたホスト粒子は、純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径0.980μm、平均投影面積直径の変動係数16.3%、平均厚み0.243μm、平均アスペクト比4.2であり、アスペクト比2以上の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.70μmであった。X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の15%以上がγ相で存在していた。 The obtained host grain is a pure silver iodide emulsion having an average projected area diameter of 0.980 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 16.3%, an average thickness of 0.243 μm, and an average aspect ratio of 4.2, Tabular grains having an aspect ratio of 2 or more accounted for 80% or more of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.70 μm. As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 15% or more of silver iodide was present in the γ phase.
<ハロゲン化銀乳剤dの調製>
上記のAgIホスト粒子の1モルを反応容器に入れた。pAgは40℃で測定して9.1であった。次いで、ダブルジェット添加により、1リットル中に0.088モルのKBrと0.038モルのNaClを含有するハロゲン溶液及び0.125モル/リットルのAgNO3溶液を28.7ml/分で31分間にわたって添加し、全銀量の10モル%になる量の塩臭化銀をAgIホスト乳剤上の6点のコーナー部位にエピタキシャル状に沈殿させた。操作中、pAgは7.13に維持した。
さらに、0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調製し、撹拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
エピタキシャル部の平均ハロゲン組成は、ハロゲン化銀粒子エピタキシャル部の超薄切片を作製し、フィールドエミッション型の分析電子顕微鏡により求めたところ、ブロム80モル%、クロル17モル%、ヨウド3モル%であった。
<Preparation of silver halide emulsion d>
One mole of the above AgI host particles was placed in a reaction vessel. The pAg was 9.1 measured at 40 ° C. Then, by double jet addition, a halogen solution containing 0.088 mol KBr and 0.038 mol NaCl per liter and a 0.125 mol / liter AgNO 3 solution at 28.7 ml / min for 31 minutes. When added, an amount of silver chlorobromide in an amount of 10 mol% of the total silver amount was epitaxially precipitated at six corners on the AgI host emulsion. During operation, pAg was maintained at 7.13.
Further, the pH was adjusted to 3.8 using sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.
The average halogen composition of the epitaxial part was obtained by preparing an ultrathin slice of the silver halide grain epitaxial part and obtaining it by a field emission type analytical electron microscope, and found that 80 mol% bromine, 17 mol% chloro and 3 mol% iodine. It was.
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に60℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-5モル加えて91分間熟成した。その後、N,N’−ジヒドロキシ−N”,N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モルおよび1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-3モル添加して、エピタキシャル接合を有するハロゲン化銀乳剤dを作製した。 The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% methanol solution of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and the temperature was raised to 60 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −5 mol was added and aged for 91 minutes. Thereafter, 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″, N ″ -diethylmelamine was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was dissolved in silver with a methanol solution. 4.8 × 10 −3 mole per mole, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution with 5.4 × 10 −3 mole per mole of silver and 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added in an aqueous solution to 8.5 × 10 −3 mol per mol of silver to prepare a silver halide emulsion d having an epitaxial junction.
<ハロゲン化銀e、fの調製>
ハロゲン化銀aと同様にして、溶液Cと溶液Dを添加する時のpAgを10.0に調整っして、ハロゲン化銀eを調製した。ハロゲン化銀乳剤eは、純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径0.815μm、平均投影面積直径の変動係数17.9%、平均厚み0.093μm、平均アスペクト比8.8であり、アスペクト比2以上の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.45μmであった。X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の30%以上がγ相で存在していた。ハロゲン化銀eを用いてハロゲン化銀bと同様にしてハロゲン化銀fを調製した。
<Preparation of silver halides e and f>
In the same manner as silver halide a, silver halide e was prepared by adjusting pAg at the time of adding solution C and solution D to 10.0. The silver halide emulsion e is a pure silver iodide emulsion having an average projected area diameter of 0.815 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 17.9%, an average thickness of 0.093 μm, and an average aspect ratio of 8.8. Tabular grains having an aspect ratio of 2 or more accounted for 80% or more of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.45 μm. As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 30% or more of silver iodide was present in the γ phase. Silver halide f was prepared using silver halide e in the same manner as silver halide b.
<ハロゲン化銀g,hの調製>
ハロゲン化銀cと同様にして、溶液Cと溶液Dを添加する時のpAgを10.0に調製っして、ハロゲン化銀gを調製した。
得られたホスト粒子は、純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径1.342μm、平均投影面積直径の変動係数18.3%、平均厚み0.125μm、平均アスペクト比10.5であり、アスペクト比2以上の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.70μmであった。X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の15%以上がγ相で存在していた。ハロゲン化銀gを用いてハロゲン化銀dと同様にしてハロゲン化銀hを調製した。
<Preparation of silver halides g and h>
Similarly to the silver halide c, the pAg when adding the solution C and the solution D was adjusted to 10.0 to prepare silver halide g.
The obtained host grain is a pure silver iodide emulsion having an average projected area diameter of 1.342 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 18.3%, an average thickness of 0.125 μm, and an average aspect ratio of 10.5, Tabular grains having an aspect ratio of 2 or more accounted for 80% or more of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.70 μm. As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 15% or more of silver iodide was present in the γ phase. Silver halide h was prepared using silver halide g in the same manner as silver halide d.
≪塗布液用混合乳剤の調製≫
ハロゲン化銀乳剤bとハロゲン化銀乳剤d、またはハロゲン化銀fとハロゲン化銀hを銀モル比として5:1になる量を60℃で溶解し、表3の通りに分光増感色素1を銀1モル当たり1.3×10-3モル添加して5分間熟成した。38℃に冷却した後ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。
さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物化合物1と2と3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。また吸着基と還元基を有する化合物として表3に示す化合物を添加した。塗布液用混合乳剤1リットルあたりハロゲン化銀の含有量が銀として15.6gとなるように加水した。
≪Preparation of mixed emulsion for coating liquid≫
Silver halide emulsion b and silver halide emulsion d, or silver halide f and silver halide h were dissolved in an amount of 5: 1 as a silver molar ratio at 60 ° C. and spectral sensitizing dye 1 as shown in Table 3 Was added at 1.3 × 10 −3 mole per mole of silver and aged for 5 minutes. After cooling to 38 ° C., 7 × 10 −3 mol of benzothiazolium iodide was added as a 1% by mass aqueous solution per mol of silver.
Further, the amount of the compound compounds 1, 2 and 3 that can be emitted by one-electron oxidation by one-electron oxidant to emit one or more electrons is 2 × 10 −3 mol per mol of silver halide. Was added. Further, the compounds shown in Table 3 were added as compounds having an adsorbing group and a reducing group. Water was added so that the silver halide content per liter of the mixed emulsion for coating solution was 15.6 g as silver.
2)脂肪酸銀分散物の調製
<再結晶ベヘン酸の調製>
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)100kgを、1200kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μmのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、3℃/時間にコントロールした。
得られた結晶を遠心濾過し、100kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してGC−FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は96モル%、それ以外にリグノセリン酸が2モル%、アラキジン酸が2モル%、エルカ酸0.001モル%含まれていた。
2) Preparation of fatty acid silver dispersion <Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour.
The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, and in addition, lignoceric acid was 2 mol%, arachidic acid was 2 mol%, and erucic acid was 0.001 mol%. It was.
<脂肪酸銀分散物の調製>
再結晶ベヘン酸88kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。
このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。
また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。
また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient agitation, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate of 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes.
At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was made to be. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant.
The pipe of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C.
Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。
こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm.
Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.21μm、b=0.4μm、c=0.4μm、平均アスペクト比2.1、球相当径の変動係数11%の結晶であった。(a,b,cは本文の規定) When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, and equivalent sphere diameter. The crystal had a coefficient of variation of 11%. (A, b, and c are the text provisions)
乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kgおよび水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。 19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).
次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1150kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to a pressure of 1150 kg / cm 2 in a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
3)還元剤分散物の調製
《還元剤−3分散物の調製》
還元剤―3(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。
このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を60℃で5時間加熱処理し、還元剤−1分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
3) Preparation of reducing agent dispersion << Preparation of reducing agent-3 dispersion >>
10 mass of reducing agent-3 (1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry.
This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone
4)造核剤分散物の調製
造核剤として化合物No.SH−7を10gに、ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−217)2.5gおよび水87.5gを添加してよく攪拌し、スラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジルコニアビーズ240gをスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)で10時間分散し、造核剤の固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80質量%が0.1μm〜1.0μmで、平均粒径は0.5μmであった。
4) Preparation of nucleating agent dispersion Compound No. 1 was used as a nucleating agent. To 7 g of SH-7, 2.5 g of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-217) and 87.5 g of water were added and stirred well, and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, 240 g of 0.5 mm zirconia beads are put in a vessel together with the slurry, and dispersed for 10 hours with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to prepare a solid fine particle dispersion of a nucleating agent. did. As for the particle size, 80% by mass of the particles was 0.1 μm to 1.0 μm, and the average particle size was 0.5 μm.
3.塗布液の調製
1)画像形成層塗布液の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物1000g、水276mlに、有機ポリハロゲン化合物−1分散物、有機ポリハロゲン化合物−2分散物、SBRラテックス(TP−1)液、イソプレンラテックス(TP−2)液、還元剤−3分散物、造核剤分散物、水素結合性化合物−1分散物、現像促進剤−1分散物、現像促進剤−2分散物、色調調整剤−1分散物、メルカプト化合物−1水溶液、メルカプト化合物−2水溶液を順次添加し、ヨウ化銀錯形成剤を添加した後、塗布直前にハロゲン化銀の塗布液用混合乳剤を銀量で脂肪酸銀1モル当たり0.22モル添加し、よく混合して、そのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
3. Preparation of coating solution 1) Preparation of coating solution for image forming layer To 1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above and 276 ml of water, organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound-2 dispersion, SBR latex (TP- 1) Liquid, isoprene latex (TP-2) liquid, reducing agent-3 dispersion, nucleating agent dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development accelerator-2 dispersion , Color Tone Modifier-1 Dispersion, Mercapto Compound-1 Aqueous Solution, Mercapto Compound-2 Aqueous Solution were added sequentially, and after adding the silver iodide complex forming agent, the silver halide mixed emulsion for coating solution was silver immediately before coating. In an amount, 0.22 mol was added per 1 mol of fatty acid silver, mixed well, sent as it was to the coating die, and coated.
上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で25[mPa・s]であった。
レオメトリックスファーイースト(株)製RFSフルードスペクトロメーターを使用した25℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ242、65、48、26、20[mPa・s]であった。
The viscosity of the image forming layer coating solution was 25 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 25 ° C. using an RFS fluid spectrometer manufactured by Rheometrics Far East Co., Ltd. is 242, 65, 48 at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, 1000 [1 / second], respectively. 26, 20 [mPa · s].
塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.52mgであった。 The amount of zirconium in the coating solution was 0.52 mg per 1 g of silver.
2)中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)1000g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス19質量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、9.1ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
2) Preparation of intermediate layer coating solution 1000 g of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20 / 5/2) 27 ml of 5% by weight aqueous solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co., Ltd.) is added to 4200 ml of 19% by weight latex, and NaOH is added so that the total amount becomes 10,000 g. The intermediate layer coating solution was adjusted to 9.1 ml / m 2 and fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
3)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン64gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス19.0質量%液112g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を30ml、4−メチルフタル酸の10質量%水溶液23ml、0.5mol/L濃度の硫酸を28ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を5ml、フェノキシエタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.1gを加え、総量750gになるように水を加えて塗布液とし、4質量%のクロムみょうばん26mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを18.6ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution 64 g of inert gelatin was dissolved in water and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5). / 2) 112 g of latex 19.0 wt% solution, 30 ml of 15 wt% methanol solution of phthalic acid, 23 ml of 10 wt% aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, Aerosol OT (American 5 ml of a 5% by weight aqueous solution (made by Cyanamid), 0.5 g of phenoxyethanol, and 0.1 g of benzoisothiazolinone are added to form a coating solution by adding water to a total amount of 750 g. 26 ml of 4% by weight chromium alum consisting of which had been mixed with a static mixer to 18.6ml / m 2 to immediately before coating It was fed to a coating die.
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
4)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン80gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス27.5質量%液102g、フッ素系界面活性剤(F−1)の2質量%溶液を5.4ml、フッ素系界面活性剤(F−2)の2質量%水溶液を5.4ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%溶液を23ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm、体積加重平均の分布30%)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.6μm、体積加重平均の分布60%)21g、4−メチルフタル酸1.6g、フタル酸4.8g、0.5mol/L濃度の硫酸44ml、ベンゾイソチアゾリノン10mgに総量650gとなるよう水を添加して、4質量%のクロムみょうばんと0.67質量%のフタル酸を含有する水溶液445mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution 80 g of inert gelatin was dissolved in water and a methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5). / 2) 102 g of latex 27.5% by mass solution, 5.4 ml of 2% by mass solution of fluorosurfactant (F-1), and 5% by mass of 2% by mass aqueous solution of fluorosurfactant (F-2). 4 ml, 23 ml of a 5% by mass solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid), 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm, volume weighted average distribution 30%), polymethyl methacrylate fine particles (average particle) Diameter 3.6 μm, volume weighted
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
4.熱現像感光材料の作製 4). Preparation of photothermographic material
支持体の両面に、下塗り面から画像形成層、中間層、表面保護層第1層、表面保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料3−1〜3−13を作製した。このとき、画像形成層と中間層は31℃に、表面保護層第1層は36℃に、表面保護層第2層は37℃に温度調整した。
片面あたりの塗布銀量は、脂肪酸銀とハロゲン化銀の合計で0.861g/m2であり、両面をあわせて画像形成層合計で1.72g/m2であった。
Sample 3 of the photothermographic material was simultaneously coated on both sides of the support by the slide bead coating method in the order of the image forming layer, the intermediate layer, the first surface protective layer, and the second surface protective layer from the undercoat surface. -1 to 3-13 were produced. At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
Coated silver amount per one side is 0.861 g / m 2 in total of the fatty acid silver and silver halide was 1.72 g / m 2 in the image forming layer sum together both sides.
画像形成層における各化合物の片面あたりの総塗布量(g/m2)は以下の通りである。
脂肪酸銀(銀として) 0.686
ポリハロゲン化合物−1 0.028
ポリハロゲン化合物−2 0.094
ヨウ化銀錯形成剤 0.46
SBRラテックス 5.20
SBRラテックス(TP−1) 2.09
イソプレンラテックス(TP−2) 3.13
還元剤−1 0.46
造核剤 0.036
水素結合性化合物−1 0.15
現像促進剤−1 0.005
現像促進剤−2 0.035
色調調整剤−1 0.002
メルカプト化合物−1 0.001
メルカプト化合物−2 0.003
ハロゲン化銀(Agとして) 0.175
The total coating amount (g / m 2 ) per side of each compound in the image forming layer is as follows.
Fatty acid silver (as silver) 0.686
Polyhalogen compound-1 0.028
Polyhalogen compound-2 0.094
Silver iodide complex forming agent 0.46
SBR latex 5.20
SBR latex (TP-1) 2.09
Isoprene latex (TP-2) 3.13
Reducing agent-1 0.46
Nucleating agent 0.036
Hydrogen bonding compound-1 0.15
Development accelerator-1 0.005
Development accelerator-2 0.035
Color tone adjusting agent-1 0.002
Mercapto Compound-1 0.001
Mercapto compound-2 0.003
Silver halide (as Ag) 0.175
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
・支持体は塗布前にイオン風にて除電し、塗布はスピード160m/minで行った。塗布乾燥条件は各試料に対して以下の範囲で調製し、もっとも安定した面状が得られる条件に設定した。
・コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10mm〜0.30mm。
・減圧室の圧力を大気圧に対して196Pa〜882Pa低く設定。
・引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10℃〜20℃の風にて塗布液を冷却。
・無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23℃〜45℃、湿球温度15℃〜21℃の乾燥風で乾燥。
・乾燥後、25℃で湿度40%RH〜60%RHで調湿。
・引き続き、膜面を70℃〜90℃になるように加熱し、加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
The coating and drying conditions are as follows.
-The support was neutralized with ion wind before coating, and coating was performed at a speed of 160 m / min. The coating and drying conditions were prepared in the following ranges for each sample, and were set to conditions that yielded the most stable surface shape.
The gap between the coating die tip and the support is 0.10 mm to 0.30 mm.
-The pressure in the decompression chamber is set to 196 Pa to 882 Pa lower than the atmospheric pressure.
-In the subsequent chilling zone, the coating solution is cooled with wind at a dry bulb temperature of 10 ° C to 20 ° C.
-Transported in a non-contact manner and dried with a dry air having a dry bulb temperature of 23 ° C to 45 ° C and a wet bulb temperature of 15 ° C to 21 ° C in a helical contactless dryer.
-After drying, humidity is adjusted at 25 ° C. with a humidity of 40% RH to 60% RH.
-Subsequently, the film surface was heated so that it might become 70 to 90 degreeC, and the film surface was cooled to 25 degreeC after the heating.
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で250秒であった。また、画像形成層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。 The matte degree of the photothermographic material thus prepared was 250 seconds in terms of Beck smoothness. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.
以下に本実施例で用いた化合物の化学構造を示す。 The chemical structure of the compound used in this example is shown below.
5.性能評価
(準備)
得られた試料は半切サイズに切断し、25℃50%RHの環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
<包装材料>
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μmを積層したラミネートフィルム:
酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25μ・day;
水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
5. Performance evaluation (preparation)
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
<Packaging materials>
Laminate film in which PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon is laminated:
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m 2 · 25μ · day;
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m 2 · 25 ° C · day.
(露光)
富士フイルム(株)製のXレイレギュラースクリーンHI−B3(発光ピーク波長425nm)を2枚使用して、その間に試料を挟み、像形成用組立体を作製した。この組立体に、0.05秒のX線露光を与え、X線センシトメトリーを行った。使用したX線装置は、東芝(株)製の商品名DRX−3724HDであり、タングステンターゲットを用いた。三相にパルス発生器で80kVpの電圧をかけ、人体とほぼ等価な吸収を持つ水7cmのフィルタを通したX線を光源とした。距離法にてX線露光量を変化させ、logE=0.15の幅でステップ露光を行なった。
(exposure)
Two X-ray regular screens HI-B3 (emission peak wavelength: 425 nm) manufactured by FUJIFILM Corporation were used, and a sample was sandwiched between them to produce an image forming assembly. This assembly was subjected to X-ray exposure for 0.05 seconds, and X-ray sensitometry was performed. The X-ray apparatus used was a trade name DRX-3724HD manufactured by Toshiba Corporation, and a tungsten target was used. A voltage of 80 kVp was applied to the three phases by a pulse generator, and X-rays passed through a 7 cm water filter having absorption almost equivalent to that of the human body were used as a light source. The X-ray exposure was changed by the distance method, and step exposure was performed with a width of logE = 0.15.
(熱現像)
富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPLの熱現像部を改造し、両面から加熱できるようにした熱現像機を製作した。また、熱現像部の搬送ローラーをヒートドラムに変更することによりフィルムシートの搬送が可能になるように改造した。4枚のパネルヒーターを112℃−119℃−119℃−121℃に設定し、ヒートドラムの温度は120℃に設定した。熱現像時間を合計で24秒と搬送速度を速めて合計14秒になるような設定で、実施例1と同様の評価を行った。
(Heat development)
The heat development section of the Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL was modified to produce a heat development machine that can be heated from both sides. In addition, the film was remodeled so that the film sheet could be conveyed by changing the conveyance roller of the heat developing unit to a heat drum. Four panel heaters were set to 112 ° C-119 ° C-119 ° C-121 ° C, and the temperature of the heat drum was set to 120 ° C. The same evaluation as in Example 1 was performed under the setting that the heat development time was 24 seconds in total and the conveyance speed was increased to 14 seconds in total.
実施例1と同様に本発明の化合物は特開2004−184430号でのメルカプト化合物に対して、感度の上昇幅やかぶりに対してはほぼ同等であるものの、保存時のかぶり増加及び短時間処理での感度変動に対して優れていることが分かる。
また実施例2に対し、実施例3における本発明の効果の割合が大きく、本発明の化合物は、大サイズの平板粒子でより効果が高いことが分かった。更に増感色素を使用した場合や更にアスペクト比の高い粒子を用いた場合には、本発明の効果が顕著に現れることが分かった。これらの効果はメルカプト化合物では達成できないず、本発明の化合物の優位性が確かめられた。
As in Example 1, the compound of the present invention is almost equivalent to the mercapto compound in JP-A No. 2004-184430 with respect to the increase in sensitivity and fogging, but increased fogging during storage and short-time treatment. It turns out that it is excellent with respect to the sensitivity fluctuation in.
Moreover, the ratio of the effect of this invention in Example 3 was large with respect to Example 2, and it turned out that the compound of this invention is more effective by the large sized tabular grain. Further, it has been found that the effect of the present invention appears remarkably when a sensitizing dye is used or when particles having a higher aspect ratio are used. These effects could not be achieved with the mercapto compound, and the superiority of the compound of the present invention was confirmed.
実施例4
実施例3で用いたH1−B3スクリーンの代わりに下記に示した蛍光増感スクリーンAを用いて実施例3で調製した3−1から3−13の塗布試料を露光したところ、実施例3と同様に保存時のかぶり、及び短時間現像時の感度変化が小さいことが分かった。
Example 4
The coated samples 3-1 to 3-13 prepared in Example 3 were exposed using the fluorescent intensifying screen A shown below instead of the H1-B3 screen used in Example 3. Similarly, it was found that the fogging during storage and the sensitivity change during short-time development were small.
(蛍光増感スクリーンAの作製)
1)下塗り層の作製
特開2001−124898号公報の実施例4と同様にして、250μmのポリエチレンテレフタレート(支持体)上にアルミナ粉体よりなる乾燥後の膜厚が50μmの光反射層を形成した。
(Preparation of fluorescent intensifying screen A)
1) Preparation of undercoat layer In the same manner as in Example 4 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-124898, a light reflecting layer having a dried film thickness of 50 μm formed of alumina powder is formed on a 250 μm polyethylene terephthalate (support). did.
2)蛍光体シートの製造
BaFBr:Eu蛍光体(平均粒径3.5μm)250g、ポリウレタン系バインダー樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、商品名:パンデックスT5265M)8g、エポキシ系バインダー樹脂(油化シェルエポキシ(株)製、商品名:エピコート1001)2g、およびイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業(株)製、商品名:コロネートHX)0.5gをメチルエチルケトンに加え、プロペラミキサーで分散して、粘度が25PS(25℃)の蛍光体層形成用塗布液を調製した。この塗布液を仮支持体(予めシリコーン系離型剤が塗布されているポリエチレンテレフタレートシート)の表面に塗布し、乾燥して蛍光体層を形成した。この蛍光体層を仮支持体から剥がし取って蛍光体シートを得た。
2) Production of phosphor sheet BaFBr: Eu phosphor (average particle size 3.5 μm) 250 g, polyurethane binder resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, trade name: Pandex T5265M) 8 g, epoxy binder resin (Oilized Shell Epoxy Co., Ltd., trade name: Epicoat 1001) 2 g and isocyanate compound (Japan Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name: Coronate HX) 0.5 g were added to methyl ethyl ketone and dispersed with a propeller mixer. A phosphor layer forming coating solution having a viscosity of 25 PS (25 ° C.) was prepared. This coating solution was applied to the surface of a temporary support (polyethylene terephthalate sheet previously coated with a silicone-based release agent) and dried to form a phosphor layer. The phosphor layer was peeled off from the temporary support to obtain a phosphor sheet.
3)光反射層上への蛍光体シートの付設
前記の工程1)で製造した光反射層付き支持体の光反射層の表面に、上記の蛍光体シートを重ね、カレンダロールにて、圧力400kgw/cm2、温度80℃の条件で加圧し、光反射層上に蛍光体層を設けた。得られた蛍光体層の厚みは125μmであり、蛍光体層中の蛍光体粒子の体積充填率は68%であった。
3) Attaching the phosphor sheet on the light reflecting layer The above phosphor sheet is superimposed on the surface of the light reflecting layer of the support with the light reflecting layer produced in the above step 1), and the pressure is 400 kgw with a calender roll. A pressure was applied under the conditions of / cm 2 and a temperature of 80 ° C., and a phosphor layer was provided on the light reflection layer. The thickness of the obtained phosphor layer was 125 μm, and the volume filling factor of the phosphor particles in the phosphor layer was 68%.
4)表面保護層の形成
厚み6μmのポリエチレンテレフタレート(PET)の片面にポリエステル系の接着剤を塗布し、ラミネート法で蛍光体層上に表面保護層を設けた。このようにして、支持体、光反射層、蛍光体層および表面保護層からなる蛍光増感スクリーンAを得た。
4) Formation of surface protective layer A polyester adhesive was applied to one side of polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 6 μm, and a surface protective layer was provided on the phosphor layer by a laminating method. Thus, a fluorescent intensifying screen A comprising a support, a light reflecting layer, a phosphor layer, and a surface protective layer was obtained.
5)発光特性
40kVpのX線で測定した蛍光増感スクリーンAの発光スペクトルを図1に示した。
蛍光増感スクリーンAは、390nmにピークをもつ半値幅の狭い発光を示した。
5) Luminescent characteristics The emission spectrum of the fluorescent intensifying screen A measured with X-rays of 40 kVp is shown in FIG.
The fluorescent intensifying screen A emitted light with a narrow half-value width having a peak at 390 nm.
Claims (17)
(式中、下記(B1)〜(B3)で表される基において、Rb1、及びRb2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)。
(In the formula, in the groups represented by the following (B 1 ) to (B 3 ), R b1 and R b2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Represents.)
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