JP2006202849A - Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate - Google Patents

Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate Download PDF

Info

Publication number
JP2006202849A
JP2006202849A JP2005010677A JP2005010677A JP2006202849A JP 2006202849 A JP2006202849 A JP 2006202849A JP 2005010677 A JP2005010677 A JP 2005010677A JP 2005010677 A JP2005010677 A JP 2005010677A JP 2006202849 A JP2006202849 A JP 2006202849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
adhesive layer
support substrate
reinforcing plate
metal support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005010677A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiko Yokai
貴彦 要海
Yoshihiko Takeuchi
嘉彦 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2005010677A priority Critical patent/JP2006202849A/en
Publication of JP2006202849A publication Critical patent/JP2006202849A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a wiring circuit board with stiffening plate, with which productivity can be improved while the stiffening plate can highly precisely be positioned and laminated. <P>SOLUTION: An adhesive layer 2 is laminated on a metal support substrate 1, and a flexible wiring circuit board 4 is laminated on the metal support substrate 1 through the adhesive layer 2 by a roll-to-roll system. The metal support substrate 1 is worked into a prescribed pattern by the roll-to-roll system, and the stiffening plate 10 is formed. The flexible wiring circuit board with stiffening plate can be manufactured with sufficient productivity, and the stiffening plate 10 can highly precisely be positioned and laminated with respect to the flexible wiring circuit board 4. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、補強板付き配線回路基板の製造方法、詳しくは、補強板を備える配線回路基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board with a reinforcing plate, and more particularly to a method for manufacturing a printed circuit board including a reinforcing plate.

フレキシブル配線回路基板は、可撓性を有する配線回路基板であって、反復駆動される可動部材に対応して屈曲し、また、狭い空間に屈曲状態で配置できることから、各種の電子機器などにおいて、広く用いられている。
このようなフレキシブル配線回路基板では、通常、ポリイミド樹脂などからなるベース絶縁層と、そのベース絶縁層の上に形成される銅箔などからなる導体パターンと、ベース絶縁層の上に、導体パターンを被覆するように形成されるポリイミド樹脂などからなるカバー絶縁層とを備えている。また、電子部品を実装する端子部に対応するベース絶縁層には、適宜、補強板が貼着されている。
A flexible printed circuit board is a flexible printed circuit board that bends corresponding to a movable member that is repeatedly driven, and can be arranged in a bent state in a narrow space. Widely used.
In such a flexible printed circuit board, usually, a base insulating layer made of polyimide resin or the like, a conductor pattern made of copper foil or the like formed on the base insulating layer, and a conductor pattern on the base insulating layer. And a cover insulating layer made of polyimide resin or the like formed so as to be covered. In addition, a reinforcing plate is appropriately attached to the base insulating layer corresponding to the terminal portion on which the electronic component is mounted.

補強板は、フレキシブル配線回路基板と補強板との同一位置に基準孔を形成し、各基準孔に同一の基準ピンを挿通した後、積層プレスすることにより、フレキシブル配線回路基板に貼着するようにしている。
しかるに、近年の電子部品の高密度実装の観点から、補強板を高精度で位置決めして貼着することが要求される一方で、フレキシブル配線回路基板と補強板との同一位置に、基準孔をレイアウトすることが、ますます困難となってきている。
The reinforcing plate is attached to the flexible printed circuit board by forming a reference hole in the same position of the flexible printed circuit board and the reinforcing plate, inserting the same reference pin into each reference hole, and then laminating and pressing. I have to.
However, from the viewpoint of high-density mounting of electronic components in recent years, it is required to position and attach the reinforcing plate with high accuracy, while the reference hole is provided at the same position on the flexible printed circuit board and the reinforcing plate. Layout has become increasingly difficult.

そこで、例えば、フレキシブルプリント配線板の基準孔に重ならない位置に補強板を接着した補強板付きフレキシブルプリント配線板において、補強板を嵌め込んで位置決めする位置決め板とフレキシブルプリント配線板とに同一の基準ピンが入る基準孔をそれぞれ形成し、これらを積層プレスして補強板のみを接着した後位置決め板を除去する、補強板付きフレキシブルプリント配線板の製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
特開平5−243708号公報
Therefore, for example, in a flexible printed wiring board with a reinforcing plate in which a reinforcing plate is bonded to a position that does not overlap the reference hole of the flexible printed wiring board, the same reference is used for the positioning plate and the flexible printed wiring board that are positioned by fitting the reinforcing plate. A method of manufacturing a flexible printed wiring board with a reinforcing plate has been proposed in which reference holes into which pins are inserted are formed, these are laminated and pressed to bond only the reinforcing plate, and then the positioning plate is removed (for example, Patent Document 1). reference.).
JP-A-5-243708

しかるに、フレキシブル配線回路基板の製造において、バッチ方式にて上記した各層を積層する枚様製造方式は、ロール・トゥ・ロール方式にて上記した各層を積層する連続製造式に対して、生産性が低く、かつ、各層の積層時に異物が混入しやすいという不利益がある。
しかし、特許文献1に記載の方法では、位置決め板の窓に、補強板を嵌め込むことから、補強板を予め所定形状に形成しておく必要がある。そのため、補強板を長尺で貼着することが困難であり、連続製造式で製造することができず、上記した不利益のある枚様製造方式で製造しなければならないという不具合がある。
However, in the production of flexible printed circuit boards, the sheet-like manufacturing method in which the above-described layers are stacked in a batch method is more productive than the continuous manufacturing method in which the above-described layers are stacked in a roll-to-roll method. There is a disadvantage that it is low and foreign substances are likely to be mixed when the layers are laminated.
However, in the method described in Patent Document 1, since the reinforcing plate is fitted into the window of the positioning plate, it is necessary to form the reinforcing plate in a predetermined shape in advance. Therefore, it is difficult to stick the reinforcing plate in a long length, it cannot be manufactured by a continuous manufacturing method, and there is a problem that it must be manufactured by the above-described disadvantageous sheet manufacturing method.

本発明の目的は、補強板を高精度で位置決めして積層することができながら、しかも、生産性の向上を図ることができる、補強板付き配線回路基板の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed circuit board with a reinforcing plate, which can position and laminate a reinforcing plate with high accuracy and can improve productivity.

上記の目的を達成するため、本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法は、金属支持基板に、接着剤層を積層する第1工程と、前記金属支持基板に、前記接着剤層を介して配線回路基板を積層する第2工程と、前記金属支持基板を、所定形状に加工して、補強板を形成する第3工程とを備え、少なくとも前記第2工程および前記第3工程を、ロール・トゥ・ロール方式にて実施することを特徴としている。   In order to achieve the above object, a method of manufacturing a wired circuit board with a reinforcing plate according to the present invention includes a first step of laminating an adhesive layer on a metal support substrate, and the metal support substrate via the adhesive layer. A second step of laminating the printed circuit board and a third step of processing the metal support substrate into a predetermined shape to form a reinforcing plate, and at least the second step and the third step are rolls・ It is characterized by a to-roll method.

また、本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法では、前記第1工程において、前記接着剤層を所定形状に加工して、前記金属支持基板に積層することが好適である。   In the method for manufacturing a wired circuit board with a reinforcing plate of the present invention, it is preferable that in the first step, the adhesive layer is processed into a predetermined shape and laminated on the metal support substrate.

本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法によれば、第1工程において、金属支持基板に接着剤層を積層し、第2工程において、金属支持基板に接着剤層を介して配線回路基板を積層し、第3工程において、金属支持基板を所定形状に加工して補強板を形成し、かつ、第2工程および第3工程を、ロール・トゥ・ロール方式にて実施する。そのため、生産性よく、補強板付き配線回路基板を製造することができながら、補強板を配線回路基板に対して高精度で位置決めして積層することができる。   According to the method for manufacturing a printed circuit board with a reinforcing plate of the present invention, in the first step, the adhesive layer is laminated on the metal support substrate, and in the second step, the printed circuit board is disposed on the metal support substrate via the adhesive layer. In the third step, the metal support substrate is processed into a predetermined shape to form a reinforcing plate, and the second step and the third step are performed by a roll-to-roll method. Therefore, the reinforcing plate can be positioned and laminated with high accuracy with respect to the wiring circuit board while the wiring circuit board with the reinforcing plate can be manufactured with high productivity.

図1は、本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法の第1実施形態としての、補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す製造工程図である。
この方法では、まず、図1(a)に示すように、金属支持基板1の全面に、接着剤層2を積層する。
金属支持基板1は、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などからなる長尺の金属箔または金属薄板が用いられる。線膨張係数、剛性、耐食性および加工性の観点から、好ましくは、ステンレス箔が用いられる。金属支持基板1の厚みは、例えば、10〜100μm、好ましくは、15〜30μmである。
FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing a method for manufacturing a flexible printed circuit board with a reinforcing plate as a first embodiment of a method for manufacturing a wired circuit board with a reinforcing plate of the present invention.
In this method, first, an adhesive layer 2 is laminated on the entire surface of the metal support substrate 1 as shown in FIG.
For example, a long metal foil or a thin metal plate made of stainless steel, 42 alloy, aluminum, copper-beryllium, phosphor bronze, or the like is used as the metal support substrate 1. From the viewpoint of linear expansion coefficient, rigidity, corrosion resistance, and workability, stainless steel foil is preferably used. The thickness of the metal support board | substrate 1 is 10-100 micrometers, for example, Preferably, it is 15-30 micrometers.

接着剤層2を形成する接着剤は、例えば、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤などが用いられる。接着剤層2の厚みは、例えば、5〜50μm、好ましくは、10〜20μmである。
金属支持基板1の全面に、接着剤層2を積層するには、例えば、上記した接着剤のワニスを、金属支持基板1に塗布し、乾燥する。また、図2に示すように、長尺の支持フィルム3に接着剤層2を積層し、その接着剤層2を支持フィルム3から金属支持基板1へ転写する。
As the adhesive forming the adhesive layer 2, for example, a polyimide adhesive, an epoxy adhesive, or the like is used. The thickness of the adhesive layer 2 is, for example, 5 to 50 μm, or preferably 10 to 20 μm.
In order to laminate the adhesive layer 2 on the entire surface of the metal support substrate 1, for example, the above-described adhesive varnish is applied to the metal support substrate 1 and dried. Further, as shown in FIG. 2, an adhesive layer 2 is laminated on a long support film 3, and the adhesive layer 2 is transferred from the support film 3 to the metal support substrate 1.

すなわち、まず、図2(a)に示すように、上記した接着剤のワニスを、支持フィルム3に塗布し、乾燥して、接着剤層2を形成する。接着剤のワニスは、上記した接着剤を有機溶媒に溶解することにより、調製する。また、支持フィルム3は、例えば、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムなど)など公知の樹脂フィルムが用いられる。なお、支持フィルム3の厚みは、例えば、50〜250μmである。   That is, first, as shown in FIG. 2A, the adhesive varnish is applied to the support film 3 and dried to form the adhesive layer 2. The adhesive varnish is prepared by dissolving the above-described adhesive in an organic solvent. The support film 3 may be a known resin film such as a polyethylene resin film, a polypropylene resin film, or a polyester resin film (for example, a polyethylene terephthalate resin film). In addition, the thickness of the support film 3 is 50-250 micrometers, for example.

また、接着剤のワニスを支持フィルム3に塗布するには、例えば、バーコートなどの公知の塗布方法が用いられる。乾燥は、有機溶媒を揮散させる温度で加熱する。
次いで、図2(b)に示すように、支持フィルム3の上に塗布されている接着剤層2を、金属支持基板1の全面に圧着した後、図2(c)に示すように、金属支持基板1の全面に貼着された接着剤層2から、支持フィルム3を剥離する。これによって、接着剤層2が、支持フィルム3から金属支持基板1へ転写される。
Moreover, in order to apply | coat the adhesive varnish to the support film 3, well-known coating methods, such as a bar coat, are used, for example. Drying is performed at a temperature at which the organic solvent is volatilized.
Next, as shown in FIG. 2 (b), the adhesive layer 2 applied on the support film 3 is pressure-bonded to the entire surface of the metal support substrate 1, and then the metal as shown in FIG. 2 (c). The support film 3 is peeled off from the adhesive layer 2 attached to the entire surface of the support substrate 1. As a result, the adhesive layer 2 is transferred from the support film 3 to the metal support substrate 1.

なお、接着剤層2を支持フィルム3から金属支持基板1へ転写するときには、例えば、端部検知による位置決め、ガイド孔による位置決め、認識マークによる位置決めなど、公知の位置決め方法により、金属支持基板1に対して、支持フィルム3を位置決めする。
なお、上記した金属支持基板1の全面に対する接着剤層2の積層は、ロール・トゥ・ロール方式にて実施することができる。
When the adhesive layer 2 is transferred from the support film 3 to the metal support substrate 1, the metal support substrate 1 may be transferred to the metal support substrate 1 by a known positioning method such as positioning by edge detection, positioning by a guide hole, positioning by a recognition mark, or the like. On the other hand, the support film 3 is positioned.
In addition, lamination | stacking of the adhesive bond layer 2 with respect to the whole surface of the above-mentioned metal support substrate 1 can be implemented by a roll-to-roll system.

次いで、この方法では、図1(b)に示すように、別途、フレキシブル配線回路基板4を用意する。フレキシブル配線回路基板4は、特に制限されないが、例えば、ベース絶縁層5と、そのベース絶縁層5の上に形成される導体パターン6と、導体パターン6を被覆するようにベース絶縁層5の上に形成されるカバー絶縁層7とを備えている。
ベース絶縁層5は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂からなる長尺の樹脂フィルムが用いられる。好ましくは、ポリイミド樹脂フィルムが用いられる。
Next, in this method, a flexible printed circuit board 4 is separately prepared as shown in FIG. The flexible printed circuit board 4 is not particularly limited, but for example, the base insulating layer 5, the conductor pattern 6 formed on the base insulating layer 5, and the base insulating layer 5 so as to cover the conductor pattern 6. The insulating cover layer 7 is formed.
The base insulating layer 5 is a long length made of a synthetic resin such as a polyimide resin, a polyamideimide resin, an acrylic resin, a polyether nitrile resin, a polyether sulfone resin, a polyethylene terephthalate resin, a polyethylene naphthalate resin, or a polyvinyl chloride resin. A resin film is used. Preferably, a polyimide resin film is used.

ベース絶縁層5は、予め合成樹脂のフィルムとして用意するか、あるいは、図示しない長尺の剥離板の上に、合成樹脂のワニスをキャスティングにより成膜し、乾燥後、必要により硬化させて、得られた合成樹脂のフィルムを剥離板から剥離することにより、用意する。さらには、図示しない長尺の剥離板の上に、感光性の合成樹脂のワニスをキャスティングにより成膜し、乾燥後、露光後現像して所定パターンに加工し、必要により硬化後、得られた所定パターンの合成樹脂のフィルムを剥離板から剥離することにより、用意する。なお、ベース絶縁層5の厚みは、例えば、5〜30μmである。   The insulating base layer 5 is prepared in advance as a synthetic resin film, or a synthetic resin varnish is formed on a long release plate (not shown) by casting, dried, and cured as necessary. The prepared synthetic resin film is prepared by peeling from the release plate. Further, a photosensitive synthetic resin varnish was formed on a long release plate (not shown) by casting, dried, developed after exposure, processed into a predetermined pattern, and obtained after curing if necessary. A synthetic resin film having a predetermined pattern is prepared by peeling from the release plate. The insulating base layer 5 has a thickness of 5 to 30 μm, for example.

導体パターン6は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などの金属箔が用いられ、導電性、廉価性および加工性の観点から、好ましくは、銅箔が用いられる。また、導体パターン3は、例えば、サブトラクティブ法やアディティブ法などの公知のパターンニング法によって、ベース絶縁層5の上に、所定パターンで形成する。導体パターン6の厚みは、例えば、5〜20μmである。   For the conductor pattern 6, for example, a metal foil such as copper, nickel, gold, solder, or an alloy thereof is used, and a copper foil is preferably used from the viewpoint of conductivity, low cost, and workability. The conductor pattern 3 is formed in a predetermined pattern on the base insulating layer 5 by a known patterning method such as a subtractive method or an additive method. The thickness of the conductor pattern 6 is, for example, 5 to 20 μm.

なお、導体パターン6をサブトラクティブ法によって形成する場合には、予めベース絶縁層5の上に、金属箔が積層されている長尺の二層基材を用意して、その金属箔をエッチングすることにより、長尺のベース絶縁層5の上に、複数の導体パターン6を形成することもできる。
カバー絶縁層7は、ベース絶縁層5と同様の合成樹脂が用いられる。カバー絶縁層7の形成は、例えば、感光性の合成樹脂のワニスを、導体パターン6を被覆するようにベース絶縁層5の上に塗布して、乾燥後、露光後現像し、必要により硬化させることにより、所定パターンで形成する。なお、カバー絶縁層7の厚みは、例えば、5〜20μmである。
When the conductor pattern 6 is formed by the subtractive method, a long two-layer base material in which a metal foil is laminated in advance is prepared on the base insulating layer 5, and the metal foil is etched. Thus, a plurality of conductor patterns 6 can be formed on the long insulating base layer 5.
The insulating cover layer 7 is made of the same synthetic resin as that of the insulating base layer 5. The insulating cover layer 7 is formed by, for example, applying a photosensitive synthetic resin varnish on the insulating base layer 5 so as to cover the conductive pattern 6, drying, developing after exposure, and curing as necessary. Thus, a predetermined pattern is formed. The insulating cover layer 7 has a thickness of, for example, 5 to 20 μm.

なお、カバー絶縁層7の形成においては、導体パターン6における外部端子との接続部分は、カバー絶縁層7を被覆せずに、その接続部分が端子部8となるように露出させる。
また、カバー絶縁層7から露出する導体パターン6の端子部8には、無電解めっきによって、ニッケルや金などからなる金属めっき層9を形成する。
なお、カバー絶縁層7は、まず、合成樹脂のフィルムを、熱プレスまたは必要により接着剤層を介して、導体パターン6を被覆するようにベース絶縁層5の上に貼着した後、打ち抜きによって、端子部8が露出する所定パターンに加工することにより、形成することもできる。
In the formation of the insulating cover layer 7, the connecting portion of the conductor pattern 6 with the external terminal is exposed so that the connecting portion becomes the terminal portion 8 without covering the insulating cover layer 7.
Further, a metal plating layer 9 made of nickel, gold or the like is formed on the terminal portion 8 of the conductor pattern 6 exposed from the cover insulating layer 7 by electroless plating.
The insulating cover layer 7 is formed by first sticking a synthetic resin film on the insulating base layer 5 so as to cover the conductive pattern 6 through hot pressing or, if necessary, an adhesive layer, and then punching. It can also be formed by processing into a predetermined pattern in which the terminal portion 8 is exposed.

さらには、予め端子部8が露出する所定パターンに形成された合成樹脂のフィルムを、熱プレスまたは必要により接着剤層を介して、導体パターン6を含むベース絶縁層5の上に貼着することにより、形成することもできる。
なお、このようなフレキシブル配線回路基板4は、ロール・トゥ・ロール方式にて、長尺のベース絶縁層5の上に多数の導体パターン6が形成され、最終的には多数のフレキシブル配線回路基板4に分離可能な長尺シートとして製造される。
Furthermore, a synthetic resin film formed in a predetermined pattern in which the terminal portions 8 are exposed is pasted on the insulating base layer 5 including the conductor pattern 6 through hot pressing or, if necessary, an adhesive layer. Can also be formed.
Note that such a flexible printed circuit board 4 has a large number of conductor patterns 6 formed on a long base insulating layer 5 by a roll-to-roll method, and finally a large number of flexible printed circuit boards. It is manufactured as a long sheet that can be separated into four.

そして、この方法では、図1(c)に示すように、ロール・トゥ・ロール方式にて、金属支持基板1に、接着剤層2を介して配線回路基板4を積層する。
ロール・トゥ・ロール方式にて、金属支持基板1に接着剤層2を介して配線回路基板4を積層するには、図3に概略的に示すように、加工エリア23を挟んで互いに間隔を隔てて対向配置される巻出ロール21および巻取ロール22を備える製造装置20を用いて、巻出ロール21および巻取ロール22の間に、フレキシブル配線回路基板4の長尺シートを掛け渡し、巻出ロール21と巻取ロール22との間の加工エリア23において、巻出ロール21から巻取ロール22へ向かって搬送されるフレキシブル配線回路基板4に、熱プレスや熱ラミネートによって、接着剤層2を介して金属支持基板1を貼着する。熱プレスや熱ラミネートの加熱加圧条件は、適宜選択される。
And in this method, as shown in FIG.1 (c), the wiring circuit board 4 is laminated | stacked on the metal supporting board 1 through the adhesive bond layer 2 by the roll-to-roll system.
In order to laminate the printed circuit board 4 on the metal supporting board 1 via the adhesive layer 2 by the roll-to-roll method, as shown schematically in FIG. A long sheet of the flexible printed circuit board 4 is stretched between the unwinding roll 21 and the winding roll 22 by using the manufacturing apparatus 20 including the unwinding roll 21 and the winding roll 22 that are arranged to face each other. In the processing area 23 between the unwinding roll 21 and the winding roll 22, an adhesive layer is applied to the flexible printed circuit board 4 conveyed from the unwinding roll 21 toward the winding roll 22 by hot pressing or thermal lamination. The metal support substrate 1 is attached via 2. The heating and pressing conditions for hot pressing and thermal lamination are appropriately selected.

また、フレキシブル配線回路基板4に、熱プレスや熱ラミネートによって、接着剤層2を介して金属支持基板1を貼着するときには、例えば、端部検知による位置決め、ガイド孔による位置決め、認識マークによる位置決めなど、公知の位置決め方法により、フレキシブル配線回路基板4に対して、金属支持基板1を位置決めする。
次いで、この方法では、図1(d)〜(f)に示すように、ロール・トゥ・ロール方式にて、金属支持基板1を、所定パターンに加工して、補強板10を形成する。
Further, when the metal support substrate 1 is stuck to the flexible printed circuit board 4 through the adhesive layer 2 by hot pressing or thermal lamination, for example, positioning by edge detection, positioning by guide holes, positioning by recognition marks The metal supporting board 1 is positioned with respect to the flexible printed circuit board 4 by a known positioning method.
Next, in this method, as shown in FIGS. 1D to 1F, the metal support substrate 1 is processed into a predetermined pattern by a roll-to-roll method to form the reinforcing plate 10.

金属支持基板1を所定パターンに加工して補強板10を形成するには、以下に述べる図1(d)〜(f)の各工程において、接着剤層2を介して金属支持基板1が積層されたフレキシブル配線回路基板4の長尺シートを、巻出ロール21および巻取ロール22の間に掛け渡し、巻出ロール21から巻取ロール22へ向かって搬送される長尺シートに、加工エリア23において、図1(d)〜(f)の各工程を実施する。   In order to form the reinforcing plate 10 by processing the metal support substrate 1 into a predetermined pattern, the metal support substrate 1 is laminated via the adhesive layer 2 in each step of FIGS. 1D to 1F described below. The long sheet of the flexible printed circuit board 4 that has been made is passed between the unwinding roll 21 and the winding roll 22, and the long sheet conveyed from the unwinding roll 21 toward the winding roll 22 is processed into a processing area. 23, the steps of FIGS. 1D to 1F are performed.

まず、図1(d)に示すように、エッチングレジスト11を、フレキシブル配線回路基板4のすべておよび金属支持基板1における補強板10に対応する部分を被覆するパターンで、形成する。エッチングレジスト11は、例えば、まず、厚み5〜50μmのドライフィルムフォトレジストを、熱ラミネータなどを用いて、フレキシブル配線回路基板4および金属支持基板1のすべてを被覆するように積層した後、例えば、80〜120℃で加熱し、その後、露光および現像する公知のフォト加工により、上記のパターンに形成する。   First, as shown in FIG. 1D, an etching resist 11 is formed in a pattern that covers all of the flexible printed circuit board 4 and a portion corresponding to the reinforcing plate 10 in the metal supporting board 1. The etching resist 11 is, for example, first laminated with a dry film photoresist having a thickness of 5 to 50 μm so as to cover all of the flexible printed circuit board 4 and the metal supporting board 1 using a thermal laminator or the like. It forms in said pattern by the well-known photo processing which heats at 80-120 degreeC, and exposes and develops after that.

次いで、図1(e)に示すように、エッチングレジスト11から露出する金属支持基板1をエッチングする。金属支持基板1のエッチングは、例えば、塩化第二鉄水溶液や第二塩化銅水溶液などをエッチング液として用いて、スプレーまたは浸漬するウエットエッチング(化学エッチング)法が用いられる。これによって、金属支持基板1が、所定パターンに加工され、補強板10が形成される。   Next, as shown in FIG. 1E, the metal support substrate 1 exposed from the etching resist 11 is etched. Etching of the metal support substrate 1 uses, for example, a wet etching (chemical etching) method in which a ferric chloride aqueous solution, a cupric chloride aqueous solution, or the like is used as an etching solution and is sprayed or immersed. Thereby, the metal supporting board 1 is processed into a predetermined pattern, and the reinforcing plate 10 is formed.

そして、図1(f)に示すように、エッチングレジスト11を、エッチングまたは剥離によって除去する。これによって、補強板10は、例えば、金属支持基板1が端子部8に対応する部分において残存する所定パターンとして形成される。
このような補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法によれば、金属支持基板1に接着剤層2を積層し、金属支持基板1に、その接着剤層2を介してフレキシブル配線回路基板4を積層し、その後、金属支持基板1を所定パターンに加工して補強板10を形成し、かつ、これらの工程を、ロール・トゥ・ロール方式にて実施するので、生産性よく、補強板付きフレキシブル配線回路基板を製造することができながら、補強板10をフレキシブル配線回路基板4に対して高精度で位置決めして積層することができる。
Then, as shown in FIG. 1F, the etching resist 11 is removed by etching or peeling. Thereby, the reinforcing plate 10 is formed as a predetermined pattern in which, for example, the metal support substrate 1 remains in a portion corresponding to the terminal portion 8.
According to such a method for manufacturing a flexible printed circuit board with a reinforcing plate, the adhesive layer 2 is laminated on the metal supporting board 1, and the flexible printed circuit board 4 is attached to the metal supporting board 1 via the adhesive layer 2. After that, the metal support substrate 1 is processed into a predetermined pattern to form a reinforcing plate 10 and these steps are performed by a roll-to-roll method. While the printed circuit board can be manufactured, the reinforcing plate 10 can be positioned and laminated with high accuracy with respect to the flexible printed circuit board 4.

また、上記の方法では、まず、金属支持基板1の全面に接着剤層2を積層したが、接着剤層2を補強板10に対応する所定パターンに加工して、金属支持基板1の表面に、補強板10に対応して部分的に積層することもできる。
図4は、本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法の第2実施形態として、そのような補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す製造工程図である。なお、以下に説明する図4に示す第2実施形態の補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法において、上記と同様の部材には、同一の符号を付し、特に説明がない場合は、図1に示す第1実施形態と同様であり、その説明は省略する。
In the above method, the adhesive layer 2 is first laminated on the entire surface of the metal support substrate 1. However, the adhesive layer 2 is processed into a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10, and the surface of the metal support substrate 1 is formed. Further, it can be partially laminated corresponding to the reinforcing plate 10.
FIG. 4 is a manufacturing process diagram showing a method for manufacturing such a flexible printed circuit board with a reinforcing plate as a second embodiment of the method for manufacturing a wired circuit board with a reinforcing plate of the present invention. In addition, in the manufacturing method of the flexible printed circuit board with a reinforcing plate of the second embodiment shown in FIG. 4 described below, the same members as those described above are denoted by the same reference numerals, and unless otherwise specified, 1 is the same as that of the first embodiment shown in FIG.

この方法では、まず、図4(a)に示すように、接着剤層2を所定パターンに加工して、金属支持基板1の表面に、補強板10に対応して部分的に積層する。
接着剤層2を所定パターンに加工するには、例えば、図5に示す切除方法や図6および図7に示すフォト加工方法が用いられる。
図5に示す切除方法では、図5(a)に示すように、まず、上記と同様に、支持フィルム3の全面に接着剤層2を積層する。次いで、図5(b)に示すように、接着剤層2の露出する全面に、長尺の保護フィルム12を貼着する。保護フィルム12は、例えば、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムなど)など公知の樹脂フィルムが用いられる。なお、保護フィルム12の厚みは、例えば、12.5〜50μmである。
In this method, first, as shown in FIG. 4A, the adhesive layer 2 is processed into a predetermined pattern and partially laminated on the surface of the metal support substrate 1 corresponding to the reinforcing plate 10.
In order to process the adhesive layer 2 into a predetermined pattern, for example, a cutting method shown in FIG. 5 or a photo processing method shown in FIGS. 6 and 7 is used.
In the excision method shown in FIG. 5, as shown in FIG. 5A, first, the adhesive layer 2 is laminated on the entire surface of the support film 3 in the same manner as described above. Next, as shown in FIG. 5B, a long protective film 12 is attached to the entire exposed surface of the adhesive layer 2. As the protective film 12, for example, a known resin film such as a polyethylene resin film, a polypropylene resin film, or a polyester resin film (for example, a polyethylene terephthalate resin film) is used. In addition, the thickness of the protective film 12 is 12.5-50 micrometers, for example.

その後、図5(c)に示すように、接着剤層2および保護フィルム12における不要部分(補強板10に対応する部分以外の部分)14を区画するように切り込み13を形成する。切り込み13は、金型刃などによって、保護フィルム12および接着剤層2を厚み方向において貫通し、さらに支持フィルム3にも切り込み13(支持フィルム3の厚みに対して、20〜80%の切り込み13)が形成されるように、形成する。そして、図5(d)に示すように、その切り込み13によって区画された不要部分14を除去する。これによって、保護フィルム12および接着剤層2が補強板10に対応する所定パターンに加工される。   Then, as shown in FIG.5 (c), the notch | incision 13 is formed so that the unnecessary part (parts other than the part corresponding to the reinforcement board 10) 14 in the adhesive bond layer 2 and the protective film 12 may be defined. The notch 13 penetrates the protective film 12 and the adhesive layer 2 in the thickness direction with a die blade or the like, and further cuts into the support film 3 (20 to 80% of the notch 13 with respect to the thickness of the support film 3). ) Is formed. And as shown in FIG.5 (d), the unnecessary part 14 divided by the cut 13 is removed. Thereby, the protective film 12 and the adhesive layer 2 are processed into a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10.

そして、図5(e)に示すように、保護フィルム12を接着剤層2から剥離した後、上記と同様に、図5(f)に示すように、支持フィルム3の上に積層されている接着剤層2を、金属支持基板1の表面に、上記と同様に位置決めしながら、補強板10に対応して部分的に圧着した後、図5(g)に示すように、金属支持基板1の表面に部分的に貼着された接着剤層2から、支持フィルム3を剥離する。これによって、補強板10に対応する所定パターンの接着剤層2が、金属支持基板1の表面に補強板10に対応して部分的に積層される。   And after peeling the protective film 12 from the adhesive bond layer 2 as shown in FIG.5 (e), it is laminated | stacked on the support film 3 as shown in FIG.5 (f) similarly to the above. After the adhesive layer 2 is partially crimped corresponding to the reinforcing plate 10 while being positioned on the surface of the metal support substrate 1 in the same manner as described above, as shown in FIG. The support film 3 is peeled off from the adhesive layer 2 partially adhered to the surface. As a result, the adhesive layer 2 having a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10 is partially laminated on the surface of the metal support substrate 1 corresponding to the reinforcing plate 10.

なお、図5に示す切除方法も、ロール・トゥ・ロール方式にて実施することができる。
また、図6に示すフォト加工方法では、図6(a)に示すように、まず、感光性接着剤のワニス15を、支持フィルム3の全面に塗布し、乾燥する。感光性接着剤は、上記した接着剤において、感光性であるものが用いられる。好ましくは、感光性ポリイミド系接着剤(例えば、特開2000−35668号公報に記載される感光性ポリイミド系接着剤など)が用いられる。
In addition, the cutting method shown in FIG. 5 can also be implemented by a roll-to-roll method.
In the photo processing method shown in FIG. 6, as shown in FIG. 6A, first, a varnish 15 of a photosensitive adhesive is applied to the entire surface of the support film 3 and dried. As the photosensitive adhesive, the above-mentioned adhesive that is photosensitive is used. Preferably, a photosensitive polyimide adhesive (for example, a photosensitive polyimide adhesive described in JP 2000-35668 A) is used.

次いで、図6(b)に示すように、ワニス15を、フォトマスク16を介して露光し、その後、図6(c)に示すように、現像することにより、不要部分(補強板10に対応する部分以外の部分)が溶解除去されるように、パターニングする。露光は、フォトマスク16を用いる公知の露光方法が用いられる。また、現像は、現像液を用いる浸漬法やスプレー法などの公知の現像方法が用いられる。なお、図6(c)では、ネガ画像によるパターンニングが例示されているが、ネガ画像かポジ画像かは、ワニス15の種類による選択される。   Next, as shown in FIG. 6B, the varnish 15 is exposed through a photomask 16, and then developed as shown in FIG. Patterning is performed so that the portion other than the portion to be dissolved is removed. For the exposure, a known exposure method using a photomask 16 is used. For the development, a known development method such as a dipping method using a developer or a spray method is used. In addition, in FIG.6 (c), the patterning by a negative image is illustrated, but it is selected by the kind of varnish 15 whether it is a negative image or a positive image.

そして、所定のパターンに加工されたワニス15を、加熱により硬化させれば、接着剤層2が、補強板10に対応する所定パターンで形成される。
その後、上記と同様に、図6(d)に示すように、支持フィルム3の上に積層されている接着剤層2を、金属支持基板1の表面に、上記と同様に位置決めしながら部分的に、補強板10に対応して圧着した後、図6(e)に示すように、金属支持基板1の表面に部分的に貼着された接着剤層2から、支持フィルム3を剥離する。これによって、補強板10に対応する所定パターンの接着剤層2が、金属支持基板1の表面に、補強板10に対応して部分的に積層される。
Then, if the varnish 15 processed into a predetermined pattern is cured by heating, the adhesive layer 2 is formed in a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10.
Thereafter, as shown above, as shown in FIG. 6D, the adhesive layer 2 laminated on the support film 3 is partially positioned on the surface of the metal support substrate 1 while being positioned in the same manner as described above. Then, after crimping corresponding to the reinforcing plate 10, the support film 3 is peeled off from the adhesive layer 2 partially adhered to the surface of the metal support substrate 1 as shown in FIG. 6 (e). Thereby, the adhesive layer 2 having a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10 is partially laminated on the surface of the metal support substrate 1 corresponding to the reinforcing plate 10.

なお、図6示すフォト加工方法も、ロール・トゥ・ロール方式にて実施することができる。
また、図7に示すフォト加工方法では、図7(a)に示すように、まず、感光性接着剤のワニス15を、金属支持基板1の全面に塗布し、乾燥する。感光性接着剤は、上記した接着剤において、感光性であるものが用いられる。好ましくは、上記した感光性ポリイミド系接着剤が用いられる。
The photo processing method shown in FIG. 6 can also be implemented by a roll-to-roll method.
In the photo processing method shown in FIG. 7, as shown in FIG. 7A, first, a varnish 15 of a photosensitive adhesive is applied to the entire surface of the metal support substrate 1 and dried. As the photosensitive adhesive, the above-mentioned adhesive that is photosensitive is used. Preferably, the above-mentioned photosensitive polyimide adhesive is used.

次いで、図7(b)に示すように、ワニス15を、上記と同様に、フォトマスク16を介して露光し、その後、図7(c)に示すように、上記と同様に、現像することにより、不要部分(補強板10に対応する部分以外の部分)が溶解除去されるように、パターニングする。なお、図7(c)では、ネガ画像によるパターンニングが例示されているが、ネガ画像かポジ画像かは、ワニス15の種類による選択される。   Next, as shown in FIG. 7B, the varnish 15 is exposed through the photomask 16 in the same manner as described above, and then developed in the same manner as described above as shown in FIG. 7C. Thus, patterning is performed so that unnecessary portions (portions other than portions corresponding to the reinforcing plate 10) are dissolved and removed. In addition, in FIG.7 (c), the patterning by a negative image is illustrated, but it is selected by the kind of varnish 15 whether it is a negative image or a positive image.

そして、所定のパターンに加工されたワニス15を、加熱により硬化させれば、接着剤層2が、補強板10に対応する所定パターンで、金属支持基板1の表面に部分的に積層される。
なお、図7示すフォト加工方法も、ロール・トゥ・ロール方式にて実施することができる。
Then, if the varnish 15 processed into a predetermined pattern is cured by heating, the adhesive layer 2 is partially laminated on the surface of the metal support substrate 1 in a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10.
Note that the photo processing method shown in FIG. 7 can also be implemented by a roll-to-roll method.

そして、この方法では、図4(b)に示すように、端子部8に対応して接着剤層2が貼着されるようにして、上記と同様に、ロール・トゥ・ロール方式にて、金属支持基板1に、接着剤層2を介して、別途用意されたフレキシブル配線回路基板4を積層した後、図4(c)に示すように、上記と同様に、ロール・トゥ・ロール方式にて、金属支持基板1を、所定パターンに加工して、補強板10を形成する。   And in this method, as shown in FIG.4 (b), as the adhesive layer 2 is affixed corresponding to the terminal part 8, similarly to the above, in a roll-to-roll system, After laminating a separately prepared flexible printed circuit board 4 via the adhesive layer 2 on the metal support board 1, as shown in FIG. 4 (c), the roll-to-roll system is used as described above. Then, the metal support substrate 1 is processed into a predetermined pattern to form the reinforcing plate 10.

このようにして補強板付きフレキシブル配線回路基板を製造すれば、接着剤層2が補強板10に対応して所定パターンで形成されるので、図1に示す補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法のように、接着剤層2が露出することを回避することができる。   If the flexible printed circuit board with the reinforcing plate is manufactured in this way, the adhesive layer 2 is formed in a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate 10, and therefore the method for manufacturing the flexible printed circuit board with the reinforcing plate shown in FIG. Thus, exposure of the adhesive layer 2 can be avoided.

以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
以下の各工程をロール・トゥ・ロール方式にて実施することにより、補強板付きフレキシブル配線回路基板を製造した。
すなわち、まず、幅250mm、厚み125μm、長さ50mのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムからなる長尺の支持フィルムの上に、エポキシ系接着剤のワニスを塗布し、乾燥して、厚み15μmの接着剤層を形成した(図2(a)参照)。なお、接着剤層の上には、厚み38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムからなる保護フィルムを積層した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
Example 1
A flexible printed circuit board with a reinforcing plate was manufactured by carrying out the following steps in a roll-to-roll manner.
That is, first, an epoxy adhesive varnish is applied on a long support film made of a polyethylene terephthalate resin film having a width of 250 mm, a thickness of 125 μm, and a length of 50 m, and dried to form an adhesive layer having a thickness of 15 μm. It formed (refer Fig.2 (a)). A protective film made of a polyethylene terephthalate resin film having a thickness of 38 μm was laminated on the adhesive layer.

次いで、幅250μm、厚み125μm、長さ50mのステンレス箔からなる金属支持基板を用意し、接着剤層から保護フィルムを剥離した後、その接着剤層を、金属支持基板の全面に圧着し(図2(b)参照)、その後、金属支持基板の全面に貼着された接着剤層から、支持フィルムを剥離することによって、接着剤層を、支持フィルムから金属支持基板へ転写した(図2(c)参照)。これによって、金属支持基板の全面に、接着剤層を積層した(図1(a)参照)。   Next, a metal support substrate made of a stainless steel foil having a width of 250 μm, a thickness of 125 μm, and a length of 50 m was prepared. 2 (b)), and then the adhesive layer was transferred from the support film to the metal support substrate by peeling the support film from the adhesive layer adhered to the entire surface of the metal support substrate (FIG. 2 ( c)). Thus, an adhesive layer was laminated on the entire surface of the metal support substrate (see FIG. 1A).

また、別途、フレキシブル配線回路基板を用意した(図1(b)参照)。フレキシブル配線回路基板は、幅250μm、厚み25μm、長さ50mのポリイミド樹脂フィルムからなるベース絶縁層の上に、厚み18μmの銅箔が積層されている二層基材を用いて、銅箔をサブトラクティブ法によりパターンニングすることにより、ベース絶縁層の上に導体パターンを形成し、その後、厚み12.5μmのポリイミド樹脂フィルムからなるカバー絶縁層を、導体パターンを被覆するようにベース絶縁層の上に熱プレスにより貼着した後、打ち抜きにより、端子部が露出する所定パターンに加工することにより、形成した。なお、カバー絶縁層から露出する導体パターンの端子部には、無電解ニッケルめっきによって、厚み3μmのニッケルめっき層と、無電解金めっきによって、厚み1μmの金めっき層とを順次形成することにより、金属めっき層を形成した。   Separately, a flexible printed circuit board was prepared (see FIG. 1B). The flexible printed circuit board uses a two-layer base material in which a copper foil having a thickness of 18 μm is laminated on a base insulating layer made of a polyimide resin film having a width of 250 μm, a thickness of 25 μm, and a length of 50 m. A conductive pattern is formed on the base insulating layer by patterning using the active method, and then a cover insulating layer made of a polyimide resin film having a thickness of 12.5 μm is formed on the base insulating layer so as to cover the conductor pattern. It was formed by pasting to a predetermined pattern in which the terminal portion was exposed by punching. In addition, on the terminal portion of the conductor pattern exposed from the cover insulating layer, a nickel plating layer having a thickness of 3 μm and a gold plating layer having a thickness of 1 μm are sequentially formed by electroless nickel plating, and by electroless gold plating, A metal plating layer was formed.

その後、金属支持基板に積層されている接着剤層を、フレキシブル配線回路基板に重ねて熱プレスすることにより、金属支持基板に接着剤層を介してフレキシブル配線回路基板を積層した(図1(c)参照)。
次いで、ドライフィルムフォトレジストからなるエッチングレジストを、熱ラミネータを用いて、フレキシブル配線回路基板および金属支持基板のすべてを被覆するように積層した後、加熱し、その後、露光および現像するフォト加工により、フレキシブル配線回路基板のすべておよび金属支持基板における補強板に対応する部分を被覆するパターンで、形成した(図1(d)参照)。
Then, the flexible printed circuit board was laminated | stacked through the adhesive layer on the metal supporting board by carrying out the heat press of the adhesive layer laminated | stacked on the metallic supporting board on the flexible printed circuit board (FIG.1 (c) )reference).
Next, an etching resist made of a dry film photoresist is laminated using a thermal laminator so as to cover all of the flexible printed circuit board and the metal supporting board, and then heated, and then exposed and developed by photo processing. It formed with the pattern which coat | covers the part corresponding to the reinforcement board in all the flexible wiring circuit boards and a metal support substrate (refer FIG.1 (d)).

そして、エッチングレジストから露出する金属支持基板を、塩化第二鉄水溶液をエッチング液としてスプレーすることにより、エッチングした(図1(e)参照)。その後、エッチングレジストを剥離して、補強板を、金属支持基板が端子部に対応する部分において残存する所定パターンとして形成した(図1(f)参照)。
実施例2
以下の各工程をロール・トゥ・ロール方式にて実施することにより、補強板付きフレキシブル配線回路基板を製造した。
Then, the metal supporting substrate exposed from the etching resist was etched by spraying a ferric chloride aqueous solution as an etching solution (see FIG. 1E). Thereafter, the etching resist was peeled off, and the reinforcing plate was formed as a predetermined pattern in which the metal support substrate remained in the portion corresponding to the terminal portion (see FIG. 1 (f)).
Example 2
A flexible printed circuit board with a reinforcing plate was manufactured by carrying out the following steps in a roll-to-roll manner.

すなわち、まず、幅250mm、厚み125μm、長さ50mのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムからなる長尺の支持フィルムの上に、エポキシ系接着剤のワニスを塗布し、乾燥して、厚み15μmの接着剤層を形成した(図5(a)参照)。次いで、接着剤層の上に、厚み38μmのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムからなる保護フィルムを積層した(図5(b)参照)。   That is, first, an epoxy adhesive varnish is applied on a long support film made of a polyethylene terephthalate resin film having a width of 250 mm, a thickness of 125 μm, and a length of 50 m, and dried to form an adhesive layer having a thickness of 15 μm. It formed (refer Fig.5 (a)). Next, a protective film made of a polyethylene terephthalate resin film having a thickness of 38 μm was laminated on the adhesive layer (see FIG. 5B).

次いで、金型刃を用いて、保護フィルムおよび接着剤層における不要部分(補強板に対応する部分以外の部分)を区画するように切り込みを形成した後(図5(c)参照)、その不要部分を除去して、保護フィルムおよび接着剤層を補強板に対応する所定パターンに加工した(図5(d)参照)。
そして、接着剤層から保護フィルムを剥離した後(図5(e)参照)、その接着剤層を、幅250μm、厚み125μm、長さ50mのステンレス箔からなる金属支持基板の表面に補強板に対応して部分的に圧着し(図5(f)参照)、その後、金属支持基板の表面に貼着された接着剤層から、支持フィルムを剥離することによって、接着剤層を、支持フィルムから金属支持基板へ転写した(図5(g)参照)。これによって、金属支持基板の表面に、補強板に対応して部分的に接着剤層を積層した。
Next, using a mold blade, after forming an incision so as to partition an unnecessary portion (a portion other than the portion corresponding to the reinforcing plate) in the protective film and the adhesive layer (see FIG. 5C), the unnecessary portion The part was removed, and the protective film and the adhesive layer were processed into a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate (see FIG. 5D).
And after peeling a protective film from an adhesive layer (refer FIG.5 (e)), the adhesive layer is made into a reinforcement board on the surface of the metal support substrate which consists of a stainless steel foil 250 micrometers in width, thickness 125 micrometers, and length 50 m. Correspondingly partially crimped (see FIG. 5 (f)), and then the adhesive layer is removed from the support film by peeling the support film from the adhesive layer adhered to the surface of the metal support substrate. It transferred to the metal support substrate (refer FIG.5 (g)). As a result, an adhesive layer was partially laminated on the surface of the metal support substrate in correspondence with the reinforcing plate.

その後、実施例1と同様に、金属支持基板に、接着剤層を介して、別途用意されたフレキシブル配線回路基板を積層した後(図4(b)参照)、実施例1と同様に、金属支持基板を、所定パターンに加工して、補強板を形成した(図4(c)参照)。
実施例3
以下の各工程をロール・トゥ・ロール方式にて実施することにより、補強板付きフレキシブル配線回路基板を製造した。
Thereafter, similarly to Example 1, a separately prepared flexible printed circuit board was laminated on the metal support substrate via an adhesive layer (see FIG. 4B). The support substrate was processed into a predetermined pattern to form a reinforcing plate (see FIG. 4C).
Example 3
A flexible printed circuit board with a reinforcing plate was manufactured by carrying out the following steps in a roll-to-roll manner.

すなわち、まず、幅250μm、厚み125μm、長さ50mのステンレス箔からなる金属支持基板の全面に、マルチコータを用いて、感光性ポリイミド系接着剤のワニスを、塗布し、乾燥した(図7(a)参照)。次いで、ワニスを、フォトマスクを介して露光し(図7(b)参照)、露光後加熱後、アルカリ/アルコール系水溶液を用いて、不要部分(補強板に対応する部分以外の部分)が溶解除去されるようなパターンで現像した(図7(c)参照)。その後、所定のパターンに加工されたワニスを、加熱により硬化させて、接着剤層を、補強板に対応する所定パターンで、金属支持基板の表面に部分的に積層した。   That is, first, a varnish of a photosensitive polyimide adhesive was applied to the entire surface of a metal support substrate made of a stainless steel foil having a width of 250 μm, a thickness of 125 μm, and a length of 50 m using a multicoater and dried (FIG. 7 ( a)). Next, the varnish is exposed through a photomask (see FIG. 7B), and after heating after exposure, unnecessary portions (portions other than the portion corresponding to the reinforcing plate) are dissolved using an alkali / alcohol aqueous solution. Development was performed in such a pattern as to be removed (see FIG. 7C). Thereafter, the varnish processed into a predetermined pattern was cured by heating, and the adhesive layer was partially laminated on the surface of the metal support substrate in a predetermined pattern corresponding to the reinforcing plate.

その後、実施例1と同様に、金属支持基板に、接着剤層を介して、別途用意されたフレキシブル配線回路基板を積層した後(図4(b)参照)、実施例1と同様に、金属支持基板を、所定パターンに加工して、補強板を形成した(図4(c)参照)。   Thereafter, similarly to Example 1, a separately prepared flexible printed circuit board was laminated on the metal support substrate via an adhesive layer (see FIG. 4B). The support substrate was processed into a predetermined pattern to form a reinforcing plate (see FIG. 4C).

本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法の第1実施形態としての、補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す製造工程図であって、(a)は、金属支持基板の全面に接着剤層を積層する工程、(b)は、別途フレキシブル配線回路基板を用意する工程、(c)は、金属支持基板に接着剤層を介して配線回路基板を積層する工程、(d)は、エッチングレジストを形成する工程、(e)は、エッチングレジストから露出する金属支持基板をエッチングする工程、(f)は、エッチングレジストを除去する工程It is a manufacturing process figure which shows the manufacturing method of the flexible wiring circuit board with a reinforcement board as 1st Embodiment of the manufacturing method of the wiring circuit board with a reinforcement board of this invention, (a) is the whole surface of a metal supporting board. A step of laminating an adhesive layer, (b) a step of separately preparing a flexible printed circuit board, (c) a step of laminating a printed circuit board on a metal support substrate via an adhesive layer, (d) A step of forming an etching resist, (e) a step of etching the metal supporting substrate exposed from the etching resist, and (f) a step of removing the etching resist. 図1(a)に示す金属支持基板の全面に接着剤層を積層する工程を示す製造工程図であって、(a)は、接着剤のワニスを、支持フィルムに塗布し乾燥して接着剤層を形成する工程、(b)は、接着剤層を金属支持基板の全面に圧着する工程、(c)は、接着剤層から支持フィルムを剥離する工程を示す。It is a manufacturing-process figure which shows the process of laminating | stacking an adhesive bond layer on the whole surface of the metal support substrate shown to Fig.1 (a), Comprising: (a) apply | coats the adhesive varnish to a support film, dries, and adhesives The step of forming a layer, (b) shows the step of pressure-bonding the adhesive layer to the entire surface of the metal support substrate, and (c) shows the step of peeling the support film from the adhesive layer. ロール・トゥ・ロール方式によってフレキシブル配線回路基板を製造するための製造装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the manufacturing apparatus for manufacturing a flexible wiring circuit board by a roll-to-roll system. 本発明の補強板付き配線回路基板の製造方法の第2実施形態としての、補強板付きフレキシブル配線回路基板の製造方法を示す製造工程図であって、(a)は、接着剤層を補強板に対応する所定パターンに加工して、金属支持基板の表面に補強板に対応して部分的に積層する工程、(b)は、金属支持基板に接着剤層を介して、別途用意されたフレキシブル配線回路基板を積層する工程、(c)は、金属支持基板を、所定パターンに加工して、補強板を形成する工程を示す。It is a manufacturing process figure which shows the manufacturing method of the flexible wiring circuit board with a reinforcement board as 2nd Embodiment of the manufacturing method of the wiring circuit board with a reinforcement board of this invention, Comprising: (a) is a reinforcement board. (B) is a flexible layer prepared separately through an adhesive layer on the metal support substrate. The step of laminating the printed circuit board, (c) shows the step of forming the reinforcing plate by processing the metal supporting board into a predetermined pattern. 図4(a)に示す接着剤層を所定パターンに加工して金属支持基板の表面に部分的に積層する工程を示す製造工程図であって、(a)は、支持フィルムの全面に接着剤層を積層する工程、(b)は、接着剤層の露出する全面に保護フィルムを貼着する工程、(c)は、不要部分を区画するように切り込みを形成する工程、(d)は、切り込みによって区画された不要部分を除去する工程、(e)は、保護フィルムを接着剤層から剥離する工程、(f)は、接着剤層を金属支持基板の表面に部分的に圧着する工程、(g)は、接着剤層から支持フィルムを剥離する工程を示す。FIG. 5A is a manufacturing process diagram showing a process of processing the adhesive layer shown in FIG. 4A into a predetermined pattern and partially laminating it on the surface of the metal support substrate, and FIG. (B) is a step of laminating layers, (b) is a step of attaching a protective film to the entire exposed surface of the adhesive layer, (c) is a step of forming notches so as to partition unnecessary portions, (d) A step of removing unnecessary portions partitioned by the incision, (e) a step of peeling the protective film from the adhesive layer, and (f) a step of partially pressing the adhesive layer to the surface of the metal support substrate, (G) shows the process of peeling a support film from an adhesive bond layer. 図4(a)に示す接着剤層を所定パターンに加工して金属支持基板の表面に部分的に積層する工程を示す他の製造工程図であって、(a)は、感光性接着剤のワニスを、支持フィルムの全面に塗布し乾燥する工程、(b)は、ワニスを、フォトマスクを介して露光する工程、(c)は、ワニスを、現像する工程、(d)は、接着剤層を金属支持基板の表面に部分的に圧着する工程、(e)は、接着剤層から支持フィルムを剥離する工程を示す。FIG. 4A is another manufacturing process diagram showing a process of processing the adhesive layer shown in FIG. 4A into a predetermined pattern and partially laminating it on the surface of the metal supporting board, and FIG. (B) is a step of exposing the varnish through a photomask, (c) is a step of developing the varnish, and (d) is an adhesive. The step of partially pressing the layer to the surface of the metal support substrate, (e) shows the step of peeling the support film from the adhesive layer. 図4(a)に示す接着剤層を所定パターンに加工して金属支持基板の表面に部分的に積層する工程を示す他の製造工程図であって、(a)は、感光性接着剤のワニスを、金属支持基板の全面に塗布し乾燥する工程、(b)は、ワニスを、フォトマスクを介して露光する工程、(c)は、ワニスを、現像する工程を示す。FIG. 4A is another manufacturing process diagram showing a process of processing the adhesive layer shown in FIG. 4A into a predetermined pattern and partially laminating it on the surface of the metal supporting board, and FIG. A step of applying and drying the varnish on the entire surface of the metal support substrate, (b) showing a step of exposing the varnish through a photomask, and (c) showing a step of developing the varnish.

符号の説明Explanation of symbols

1 金属支持基板
2 接着剤層
4 フレキシブル配線回路基板
10 補強板
1 Metal Support Board 2 Adhesive Layer 4 Flexible Wiring Circuit Board 10 Reinforcing Plate

Claims (2)

金属支持基板に、接着剤層を積層する第1工程と、
前記金属支持基板に、前記接着剤層を介して配線回路基板を積層する第2工程と、
前記金属支持基板を、所定形状に加工して、補強板を形成する第3工程とを備え、
少なくとも前記第2工程および前記第3工程を、ロール・トゥ・ロール方式にて実施することを特徴とする、補強板付き配線回路基板の製造方法。
A first step of laminating an adhesive layer on a metal support substrate;
A second step of laminating a printed circuit board on the metal support substrate via the adhesive layer;
A third step of forming the reinforcing plate by processing the metal support substrate into a predetermined shape,
At least the second step and the third step are carried out by a roll-to-roll method.
前記第1工程において、前記接着剤層を所定形状に加工して、前記金属支持基板に積層することを特徴とする、請求項1に記載の補強板付き配線回路基板の製造方法。   2. The method of manufacturing a printed circuit board with a reinforcing plate according to claim 1, wherein in the first step, the adhesive layer is processed into a predetermined shape and laminated on the metal support substrate.
JP2005010677A 2005-01-18 2005-01-18 Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate Pending JP2006202849A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005010677A JP2006202849A (en) 2005-01-18 2005-01-18 Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005010677A JP2006202849A (en) 2005-01-18 2005-01-18 Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006202849A true JP2006202849A (en) 2006-08-03

Family

ID=36960597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005010677A Pending JP2006202849A (en) 2005-01-18 2005-01-18 Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006202849A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008032770A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Metal composite laminate for manufacturing flexible wiring board abd flexible wiring board
WO2012035857A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-22 株式会社カネカ Flexible printed circuit board integrated with reinforcing plate, and method for manufacturing flexible printed circuit board integrated with reinforcing plate
JP2016001658A (en) * 2014-06-11 2016-01-07 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of mounting board
WO2022230260A1 (en) * 2021-04-26 2022-11-03 日東電工株式会社 Assembly sheet and method for producing assembly sheet

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008032770A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Metal composite laminate for manufacturing flexible wiring board abd flexible wiring board
WO2012035857A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-22 株式会社カネカ Flexible printed circuit board integrated with reinforcing plate, and method for manufacturing flexible printed circuit board integrated with reinforcing plate
US8828525B2 (en) 2010-09-13 2014-09-09 Kaneka Corporation Flexible printed circuit board integrated with reinforcing plate, and method for manufacturing flexible printed circuit board integrated with reinforcing plate
JP5840131B2 (en) * 2010-09-13 2016-01-06 株式会社カネカ Reinforcing plate integrated flexible printed circuit board, and reinforcing plate integrated flexible printed circuit board
JP2016001658A (en) * 2014-06-11 2016-01-07 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of mounting board
WO2022230260A1 (en) * 2021-04-26 2022-11-03 日東電工株式会社 Assembly sheet and method for producing assembly sheet

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9955580B2 (en) Method of manufacturing rigid-flexible printed circuit board
US5433819A (en) Method of making circuit boards
TWI663898B (en) Manufacturing method of flexible printed wiring board
US20090084494A1 (en) Substrate manufacturing method
US20130341073A1 (en) Packaging substrate and method for manufacturing same
JP4523051B2 (en) Method for manufacturing printed circuit board
JP5464760B2 (en) Multilayer circuit board manufacturing method
US20110139858A1 (en) Carrier for manufacturing substrate and method of manufacturing substrate using the same
US8377317B2 (en) Method for manufacturing printed circuit board with thick traces
CN102340933B (en) Manufacturing method of circuit board
JP2006202849A (en) Method of manufacturing wiring circuit board with stiffening plate
JP2008544550A (en) Dielectric substrate having holes and method in manufacturing field
CN104780723A (en) Method for manufacturing wiring board
KR101862243B1 (en) Method for manuracturing printed circuit board with via and fine pitch circuit and printed circuit board by the same method
JP2004335806A (en) Manufacturing method of tape carrier for tab
CN103717015A (en) The printed circuit board manufacturing method
WO2017138381A1 (en) Flexible-cable-equipped electronic component array and method for manufacturing flexible-cable-equipped electronic component array
CN110876239B (en) Circuit board and manufacturing method thereof
JP2005175185A (en) Flexible wiring board
JP2013115315A (en) Manufacturing method of wiring board
JP2009177005A (en) Method of producing wiring circuit board
TW201008431A (en) Method for manufacturing flexible printed circuit boards
KR20050090341A (en) A manufacturing method of flexible printed circuit board(fpcb) and structure of raw material therefore
JP2013008945A (en) Manufacturing method of coreless substrate
JP2009277810A (en) Long-shaped board and board jointing tape