JP2006202371A - Manufacturing method of master disk for perpendicular magnetic transfer and perpendicular magnetic transfer method - Google Patents

Manufacturing method of master disk for perpendicular magnetic transfer and perpendicular magnetic transfer method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a master disk for perpendicular magnetic transfer which can perform successful magnetic transfer to a perpendicular magnetic recording medium and a perpendicular magnetic transfer method using this master disk. <P>SOLUTION: A substrate 47 on whose surface a number of fine projection pattern 47A are formed is applied with a resist agent R, the surface of the projection pattern is covered with the resist agent, and a concave section 47B is almost filled with the resist agent. While removing completely the resist agent which covers the surface of the projection pattern by ashing, a part of the resist agent almost filled the concave section is removed. A magnetic film is formed on the surface of the substrate, and a magnetic layers 48 are formed on the surface of the projected pattern from where the resist agent is removed and the concave section from where a part of the resist agent is removed. The resist agent applied to the concave section is removed, and lift-off to remove selectively the magnetic layer of the concave section is performed. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法及び垂直磁気転写方法に係り、特に、ハードディスク装置等に用いられる磁気ディスクに、フォーマット情報等の磁気情報パターンを垂直磁気転写するのに好適な垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法、及び該垂直磁気転写用マスターディスクを使用した垂直磁気転写方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a master disk for perpendicular magnetic transfer and a perpendicular magnetic transfer method, and particularly suitable for perpendicular magnetic transfer of a magnetic information pattern such as format information to a magnetic disk used in a hard disk device or the like. The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic transfer master disk, and a perpendicular magnetic transfer method using the perpendicular magnetic transfer master disk.

近年、急速に普及しているハードディスクドライブに使用される磁気ディスク(ハードディスク)は、磁気ディスクメーカーよりドライブメーカーに納入された後、ドライブに組み込まれる前に、フォーマット情報やアドレス情報が書き込まれるのが一般的である。この書き込みは、磁気ヘッドにより行うこともできるが、これらのフォーマット情報やアドレス情報が書き込まれているマスターディスクより一括転写する方法が効率的であり、好ましい。   In recent years, magnetic disks (hard disks) used in hard disk drives, which have been rapidly spreading, are written with format information and address information before being installed in the drive after being delivered to the drive manufacturer by the magnetic disk manufacturer. It is common. Although this writing can be performed by a magnetic head, a method of batch transfer from a master disk in which these format information and address information are written is efficient and preferable.

この磁気転写技術は、マスターディスクと被転写ディスク(スレーブディスク)とを密着させた状態で、片側又は両側に電磁石装置、永久磁石装置等の磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加し、マスターディスクの有する情報(たとえばサーボ信号)に対応する磁化パターンの転写を行うものである。   This magnetic transfer technology applies a magnetic field for transfer by arranging magnetic field generating means such as an electromagnet device or a permanent magnet device on one side or both sides in a state where a master disk and a disk to be transferred (slave disk) are in close contact with each other. The magnetic pattern corresponding to the information (for example, servo signal) of the master disk is transferred.

このような磁気転写については、従来より各種の構成や方法が提案されている(たとえば、特許文献1、2等。)。この特許文献1の提案は、一対のホルダユニットによりマスターディスクを保持し、ロボットハンドにより一対のマスターディスクの間にスレーブディスクを供給した後、スレーブディスクの両面にマスターディスクを圧接させ挟持させながら転写用磁界を印加する装置に関するものである。   For such magnetic transfer, various configurations and methods have been conventionally proposed (for example, Patent Documents 1 and 2). In the proposal of Patent Document 1, a master disk is held by a pair of holder units, a slave disk is supplied between a pair of master disks by a robot hand, and then transferred while being held in pressure contact with both sides of the slave disk. The present invention relates to a device that applies a magnetic field for operation.

特許文献2の提案は、基板の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成され、少なくとも凸部表面が強磁性材料により構成されるマスターディスクをスレーブディスクに圧接させながら転写用磁界を印加する方法に関するものである。   The proposal of Patent Document 2 is a method of applying a magnetic field for transfer while pressing a master disk, in which a concave and convex shape corresponding to an information signal is formed on a surface of a substrate and at least a convex surface is made of a ferromagnetic material, in pressure contact with a slave disk. It is about.

ところで、磁気記録媒体としては、その磁性層の面内に磁化容易軸を有する面内磁気記録媒体、及び、磁性層の面に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直磁気記録媒体に分類されるが、従来は、一般的に面内磁気記録媒体が用いられていた。   By the way, the magnetic recording medium is classified into an in-plane magnetic recording medium having an easy axis in the plane of the magnetic layer and a perpendicular magnetic recording medium having an easy axis in the direction perpendicular to the plane of the magnetic layer. However, conventionally, an in-plane magnetic recording medium has been generally used.

その一方で、記録密度の大幅な向上(記憶容量の増大)が期待できる、垂直磁気記録媒体や垂直磁気記録方法の開発が進行しており、近未来において、市場への大規模な導入が叫ばれている。   On the other hand, the development of perpendicular magnetic recording media and perpendicular magnetic recording methods that can be expected to greatly improve recording density (increasing storage capacity) is underway, and in the near future, large-scale introduction to the market is screaming. It has been released.

したがって、上記の磁気転写も垂直磁気記録に対応した構成のものが求められる。すなわち、上述した磁気転写技術の開発は、専ら面内磁気記録媒体への磁気転写を主眼において進められており、垂直磁気記録に適用可能な磁気転写技術の開発が求められている。
特開2004−87099号公報 特開平10−40544号公報
Therefore, the above-described magnetic transfer is also required to have a configuration corresponding to perpendicular magnetic recording. That is, the development of the above-described magnetic transfer technology is proceeding mainly with respect to magnetic transfer to an in-plane magnetic recording medium, and development of a magnetic transfer technology applicable to perpendicular magnetic recording is required.
JP 2004-87099 A JP 10-40544 A

しかしながら、垂直磁気記録媒体へ磁気転写を行う場合には、磁性層の面に垂直な方向へ磁界を印加する必要があり、面内磁気記録媒体とは異なる条件が求められるとともに、固有の問題点を有する。   However, when performing magnetic transfer to a perpendicular magnetic recording medium, it is necessary to apply a magnetic field in a direction perpendicular to the surface of the magnetic layer, which requires different conditions from the in-plane magnetic recording medium, and has inherent problems. Have

たとえば、垂直磁気記録媒体への磁気転写の際には、磁化反転部及び磁化非反転部の境界部において磁化乱れが大きく、信号品位が良好でないという問題点がある。この問題点は、磁化反転部へ向かう磁束の収束が十分でないことにより生じるもので、信号品位低下の原因となることが、本発明者らの解析により明らかになった。   For example, at the time of magnetic transfer to a perpendicular magnetic recording medium, there is a problem that the magnetization disturbance is large at the boundary between the magnetization reversal part and the magnetization non-reversal part, and the signal quality is not good. This problem is caused by insufficient convergence of the magnetic flux toward the magnetization reversal part, and it has become clear from the analysis by the present inventors that it causes a reduction in signal quality.

また、垂直磁気転写では、マスターディスクの磁性層による凸部パターンの厚さが薄く、この磁性層に垂直に磁界が通るために発生する磁極距離が短いこと、及び、隣接する凸部間で磁束を凸部に収束させるように作用するアシストがないことなどから、単純な形態の磁性層を作成しただけでは十分な信号品位を実現することが困難である。   Also, in perpendicular magnetic transfer, the thickness of the convex pattern by the magnetic layer of the master disk is thin, the magnetic pole distance generated because the magnetic field passes perpendicularly through this magnetic layer, and the magnetic flux between adjacent convex parts For example, it is difficult to realize a sufficient signal quality simply by forming a magnetic layer having a simple shape because there is no assist for converging the light to the convex portion.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、垂直磁気記録媒体に対して良好な磁気転写を行うことができる垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法、及び該垂直磁気転写用マスターディスクを使用した垂直磁気転写方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a method for manufacturing a perpendicular magnetic transfer master disk capable of performing good magnetic transfer on a perpendicular magnetic recording medium, and the perpendicular magnetic transfer master disk It is an object of the present invention to provide a perpendicular magnetic transfer method using

前記目的を達成するために、本発明は、表面に多数の微細な突起状パターンが形成された円盤状の基板にレジスト剤を塗布し、該レジスト剤で前記突起状パターンの表面を覆うとともに、該レジスト剤を前記突起状パターン同士の間に形成される凹陥部に略充填するレジスト塗布工程と、アッシングにより、前記突起状パターンの表面を覆った前記レジスト剤を完全に除去するとともに、前記凹陥部に略充填された前記レジスト剤を一部除去するレジスト除去工程と、前記基板の表面に磁性膜を形成し、前記レジスト剤が除去された前記突起状パターンの表面、及び前記レジスト剤が一部除去された前記凹陥部に磁性層を形成する磁性層形成工程と、前記凹陥部に塗布された前記レジスト剤を除去し、前記凹陥部の磁性層を選択的に除去するリフトオフ工程と、を備えることを特徴とする垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention applies a resist agent to a disk-shaped substrate having a number of fine protrusion patterns formed on the surface, covers the surface of the protrusion pattern with the resist agent, The resist coating step of substantially filling the concave portion formed between the protruding patterns with the resist agent and the resist agent covering the surface of the protruding pattern are completely removed by ashing, and the concave portion is removed. A resist removing step of removing a part of the resist agent substantially filled in the part, a magnetic film is formed on the surface of the substrate, the surface of the protruding pattern from which the resist agent is removed, and the resist agent A magnetic layer forming step of forming a magnetic layer in the removed concave portion, and the resist agent applied to the concave portion is removed, and the magnetic layer in the concave portion is selectively removed. And Futoofu step, to provide a method of manufacturing a perpendicular magnetic transfer master disk, characterized in that it comprises a.

本発明の方法によれば、基板にレジスト剤を塗布しレジスト剤で突起状パターンの表面を覆うとともに、レジスト剤を凹陥部に略充填し、次いで、アッシングにより、突起状パターンの表面を覆ったレジスト剤を完全に除去するとともに、凹陥部に略充填されたレジスト剤を一部除去する。   According to the method of the present invention, a resist agent is applied to the substrate and the surface of the protruding pattern is covered with the resist agent, and the resist agent is substantially filled in the recessed portion, and then the surface of the protruding pattern is covered by ashing. The resist agent is completely removed, and a part of the resist agent substantially filled in the recessed portion is removed.

すなわち、突起状パターンの表面を覆うレジスト剤の厚さと、凹陥部に充填されたレジスト剤の厚さは異なるので、突起状パターンの表面を覆ったレジスト剤を完全に除去した時点において、凹陥部に充填されたレジスト剤は残存しており、凹陥部の底面を覆っている。次いで、基板の表面に磁性膜を形成し、レジスト剤が完全に除去された突起状パターンの表面、及び凹陥部内に残存しているレジスト剤の表面に磁性層を形成する。   That is, since the thickness of the resist agent covering the surface of the projection pattern is different from the thickness of the resist agent filled in the recess portion, the recess portion is completely removed when the resist agent covering the surface of the projection pattern is completely removed. The resist agent filled in remains, and covers the bottom surface of the recess. Next, a magnetic film is formed on the surface of the substrate, and a magnetic layer is formed on the surface of the protruding pattern from which the resist agent has been completely removed and on the surface of the resist agent remaining in the recess.

その後、凹陥部内のレジスト剤を除去すれば、レジスト剤表面の磁性層も同時に除去され、突起状パターンの表面にのみ磁性層が形成された垂直磁気転写用マスターディスクが得られる。すなわち、凹陥部の磁性層を選択的に除去するリフトオフ工程がなされる。   Thereafter, if the resist agent in the recess is removed, the magnetic layer on the surface of the resist agent is also removed at the same time, and a perpendicular magnetic transfer master disk in which the magnetic layer is formed only on the surface of the protruding pattern is obtained. That is, a lift-off process for selectively removing the magnetic layer in the recessed portion is performed.

本発明の方法による垂直磁気転写用マスターディスクによれば、突起状パターンの表面にのみ磁性層が形成されているので、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、C/N比の良好な垂直磁気記録媒体(スレーブディスク)が得られる。   According to the master disk for perpendicular magnetic transfer according to the method of the present invention, since the magnetic layer is formed only on the surface of the protruding pattern, there is no defect, magnetic transfer can be performed with good accuracy, and the C / N ratio is good. A perpendicular magnetic recording medium (slave disk) can be obtained.

更に本発明の方法の利点は、マスターディスクを製造した後に、この複版を容易に製造できることである。平坦な基板の表面に情報信号に対応する凹凸形状を形成し、この凸部表面を強磁性材料により構成するマスターディスクを製造する方法は各種考えられる(たとえば、特許文献2)。ところが、特許文献2の方法では、基板の表面の略全面に磁性層を形成した後に凹凸形状を形成しており、この構成では複版を製造できない。   A further advantage of the method according to the invention is that this duplicate can be easily manufactured after the master disk has been manufactured. Various methods are conceivable for manufacturing a master disk in which a concavo-convex shape corresponding to an information signal is formed on the surface of a flat substrate and the surface of the convex portion is made of a ferromagnetic material (for example, Patent Document 2). However, in the method of Patent Document 2, a concavo-convex shape is formed after the magnetic layer is formed on substantially the entire surface of the substrate, and this configuration cannot produce a duplicate.

そして、マスターディスクを製造する際に最も時間を要する描画工程(サーボ信号に対応して変調したレーザー光(又は電子ビーム)を照射し、フォトレジスト層の略全面に露光する)以降で複版を製造できないと、マスターディスクの単価が非常に高額なものとなってしまう。   After the drawing process that takes the most time when manufacturing the master disk (irradiating a laser beam (or electron beam) modulated in accordance with the servo signal and exposing the substantially entire surface of the photoresist layer), the duplicate is produced. If it cannot be manufactured, the unit price of the master disk will be very high.

このように、本発明は、従来見られなかった、描画工程以降において凸部にのみ磁性層を有するマスターディスクの複版を製造できる方法を提供するものである。   As described above, the present invention provides a method capable of producing a duplicate of a master disk having a magnetic layer only on a convex portion after the drawing process, which has not been conventionally seen.

本発明において、前記磁性層の厚さtと前記突起状パターンの径方向の幅lとの比t/lを1以上とすることが好ましい。このような磁性層の厚さtと突起状パターンの径方向の幅lとの比とすれば、磁性層の磁化方向をディスク面に対して安定的に垂直に維持でき、垂直磁気転写用マスターディスクとして好ましい。   In the present invention, the ratio t / l between the thickness t of the magnetic layer and the radial width l of the protruding pattern is preferably 1 or more. By using the ratio of the thickness t of the magnetic layer to the radial width l of the protrusion pattern, the magnetization direction of the magnetic layer can be stably maintained perpendicular to the disk surface, and the master for perpendicular magnetic transfer. Preferred as a disk.

また、本発明において、前記磁性層の厚さtと前記突起状パターンの円周方向の幅bとの比t/bを1以上とすることが好ましい。このような磁性層の厚さtと突起状パターンの円周方向の幅bとの比とすれば、磁性層の磁化方向をディスク面に対して安定的に垂直に維持でき、垂直磁気転写用マスターディスクとして好ましい。   In the present invention, the ratio t / b between the thickness t of the magnetic layer and the circumferential width b of the protruding pattern is preferably 1 or more. By using the ratio of the thickness t of the magnetic layer to the circumferential width b of the protrusion pattern, the magnetization direction of the magnetic layer can be stably maintained perpendicular to the disk surface, and the magnetic layer can be used for perpendicular magnetic transfer. Preferred as a master disk.

このように、比t/l及び比t/bを1以上とすると好ましい理由は、磁気転写の際に磁界印加により反磁界を生じる現象に関連すると推定される。   Thus, it is presumed that the reason why the ratio t / l and the ratio t / b are preferably 1 or more is related to a phenomenon in which a demagnetizing field is generated by applying a magnetic field during magnetic transfer.

また、本発明は、表面に多数の微細な突起状パターンと該突起状パターン同士の間に形成される凹陥部とが交互に形成されており、該突起状パターンの表面に磁性層が形成されているマスターディスクと被転写用ディスクとを密着させる密着工程と、磁界生成手段を設け、前記被転写用ディスクと前記マスターディスクの表面に垂直な方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用ディスクに転写させる磁気転写工程と、を備えることを特徴とする垂直磁気転写方法を提供する。   Further, in the present invention, a large number of fine projection patterns and concave portions formed between the projection patterns are alternately formed on the surface, and a magnetic layer is formed on the surface of the projection pattern. And a magnetic field generating means for applying a magnetic field in a direction perpendicular to the surfaces of the disk to be transferred and the master disk, and a magnetic pattern of the master disk is formed. A perpendicular magnetic transfer method comprising: a magnetic transfer step of transferring to the transfer target disk.

本発明の方法によれば、突起状パターンの表面にのみ磁性層が形成されているので、転写時に外乱となる他の部分の磁性層がなく、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、C/N比の良好な垂直磁気記録媒体(スレーブディスク)が得られる。   According to the method of the present invention, since the magnetic layer is formed only on the surface of the protruding pattern, there is no other portion of the magnetic layer that becomes a disturbance during transfer, there is no defect, and magnetic transfer can be performed with good accuracy. Thus, a perpendicular magnetic recording medium (slave disk) having a good C / N ratio can be obtained.

本発明において、前記磁界生成手段に対し密着状態にある前記被転写用ディスクと前記マスターディスクとを相対移動させながら磁気転写を行うことが好ましい。このように、磁界生成手段と磁気媒体とを相対移動させることにより、磁気転写効率が向上する。   In the present invention, it is preferable to perform magnetic transfer while relatively moving the disk to be transferred and the master disk in close contact with the magnetic field generating means. Thus, the magnetic transfer efficiency is improved by relatively moving the magnetic field generating means and the magnetic medium.

以上説明したように、本発明によれば、マスターディスクの突起状パターンの表面にのみ磁性層が形成されているので、欠陥がなく、良好な精度で磁気転写が行え、C/N比の良好な垂直磁気記録媒体(スレーブディスク)が得られる。   As described above, according to the present invention, since the magnetic layer is formed only on the surface of the projection pattern of the master disk, there is no defect, magnetic transfer can be performed with good accuracy, and the C / N ratio is good. A perpendicular magnetic recording medium (slave disk) can be obtained.

以下、添付図面に従って、本発明に係る垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法及び垂直磁気転写方法の好ましい実施の形態について詳説する。図1は、本発明に係るマスターディスクの平面図である。図2は、マスターディスク46の表面の微細な突起状パターンを示す部分拡大斜視図である。なお、図2は模式図であり各部の寸法は実際とは異なる比率で示している。   Hereinafter, preferred embodiments of a method for manufacturing a master disk for perpendicular magnetic transfer and a perpendicular magnetic transfer method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view of a master disk according to the present invention. FIG. 2 is a partially enlarged perspective view showing a fine protrusion pattern on the surface of the master disk 46. Note that FIG. 2 is a schematic diagram, and the dimensions of each part are shown in proportions different from actual ones.

図1に示されるように、マスターディスク46は円盤状に形成されており、マスターディスク46の径方向中周部分(マスターディスク46の内周部分46dと外周部分46eを除いた部分)には、円周方向に、ハッチングで示されるサーボ領域46bと非サーボ領域46c(非ハッチング部分)とが交互に形成されている。   As shown in FIG. 1, the master disk 46 is formed in a disk shape, and a radially inner peripheral portion of the master disk 46 (a portion excluding the inner peripheral portion 46 d and the outer peripheral portion 46 e of the master disk 46) Servo regions 46b and non-servo regions 46c (non-hatched portions) indicated by hatching are alternately formed in the circumferential direction.

サーボ領域46bは、磁気パターン(サーボ情報パターン)が形成されている領域であり、非サーボ領域46cは、磁気パターン(サーボ情報パターン)が形成されていない領域である。   The servo area 46b is an area where a magnetic pattern (servo information pattern) is formed, and the non-servo area 46c is an area where a magnetic pattern (servo information pattern) is not formed.

このマスターディスク46は、内径を有する円環状(ドーナツ状)であるが、内径を有しない円盤状のものであってもよい。   The master disk 46 has an annular shape (doughnut shape) having an inner diameter, but may be a disk shape having no inner diameter.

図2は、サーボ領域46bの部分拡大図であり、基板47の片面に磁性層48による微細な突起状パターンが形成された転写情報担持面が形成されており、基板47の反対側の面が不図示の密着手段に保持されるようになっている。この微細な突起状パターンの形成は、後述するフォトファブリケーション法等によりなされる。このマスターディスク46の片面(転写情報担持面)は、スレーブディスク40と密着される面である。   FIG. 2 is a partially enlarged view of the servo area 46b. A transfer information carrying surface on which a fine projection pattern is formed by the magnetic layer 48 is formed on one surface of the substrate 47, and the surface on the opposite side of the substrate 47 is It is held by close contact means (not shown). The fine protrusion pattern is formed by a photofabrication method to be described later. One surface (transfer information carrying surface) of the master disk 46 is a surface in close contact with the slave disk 40.

微細な突起状パターンは、平面視で長方形であり、厚さtの磁性層48が形成された状態で、トラック方向(図中の太矢印方向)の長さbと、半径方向の長さlとよりなる。この長さbとlの最適値は、記録密度や記録信号波形等により異なるが、たとえば、長さbを80nmに、長さlを200nmにできる。   The fine protrusion pattern is rectangular in plan view, and in the state where the magnetic layer 48 having a thickness t is formed, the length b in the track direction (thick arrow direction in the figure) and the length l in the radial direction. And more. The optimum values of the lengths b and l vary depending on the recording density, the recording signal waveform, and the like. For example, the length b can be 80 nm and the length l can be 200 nm.

この微細な突起状パターンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。この場合、たとえば、半径方向の長さlが0.05〜20μm、トラック方向(円周方向)の長さbが0.05〜5μmであることが好ましい。この範囲で半径方向の方が長いパターンを選ぶことが、サーボ信号の情報を担持するパターンとしては好ましい。   In the case of a servo signal, this fine projection pattern is formed long in the radial direction. In this case, for example, the length l in the radial direction is preferably 0.05 to 20 μm, and the length b in the track direction (circumferential direction) is preferably 0.05 to 5 μm. It is preferable to select a pattern having a longer radial direction within this range as a pattern carrying servo signal information.

基板27表面の微細な突起状パターンの深さ(突起の高さ)は、80〜800nmの範囲が好ましく、100〜600nmの範囲がより好ましい。   The depth of the fine protrusion pattern (projection height) on the surface of the substrate 27 is preferably in the range of 80 to 800 nm, and more preferably in the range of 100 to 600 nm.

マスターディスク46において、基板47がNi等を主体とした強磁性体の場合には、この基板47のみで磁気転写が可能であり、磁性層48は被覆しなくてもよいが、転写特性のよい磁性層48を設けることにより、より良好な磁気転写が行える。基板47が非磁性体の場合には、磁性層48を設けることが必要である。マスターディスク46の磁性層48は、保磁力Hcが48kA/m(≒600Oe)以下の軟磁性層であることが好ましい。   In the master disk 46, when the substrate 47 is a ferromagnetic material mainly composed of Ni or the like, magnetic transfer can be performed only by the substrate 47, and the magnetic layer 48 may not be covered, but the transfer characteristics are good. By providing the magnetic layer 48, better magnetic transfer can be performed. When the substrate 47 is a nonmagnetic material, it is necessary to provide the magnetic layer 48. The magnetic layer 48 of the master disk 46 is preferably a soft magnetic layer having a coercive force Hc of 48 kA / m (≈600 Oe) or less.

マスターディスク46の基板47としては、ニッケル、シリコン、石英ガラス等各種組成のガラス、アルミニウム、合金、各種組成のセラミックス、合成樹脂等が使用できる。ただし、合成樹脂の場合には、後述するリフトオフ工程でのレジスト剥離液で変質しない材質とするか、レジスト剥離液で変質しないような工夫(たとえば、保護コート)をする必要がある。   As the substrate 47 of the master disk 46, glass of various compositions such as nickel, silicon, quartz glass, aluminum, alloys, ceramics of various compositions, synthetic resins, and the like can be used. However, in the case of a synthetic resin, it is necessary to use a material that does not change with a resist stripping solution in a lift-off process, which will be described later, or a device that does not change with a resist stripping solution (for example, a protective coat).

この基板47表面の凹凸パターンの形成は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法等で形成した原盤によるスタンパー法等によって行える。   The uneven pattern on the surface of the substrate 47 can be formed by a photofabrication method, a stamper method using a master disk formed by a photofabrication method, or the like.

スタンパー法における原盤の形成は、たとえば、以下のように行える。表面が平滑なガラス板(又は石英ガラス板)の上にスピンコート法等によりフォトレジストの層を形成し、プレベーク後に、このガラス板を回転させながら、サーボ信号に対応して変調したレーザー光(又は電子ビーム)を照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターン、たとえば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。   Formation of the master in the stamper method can be performed, for example, as follows. A photoresist layer is formed on a glass plate (or quartz glass plate) having a smooth surface by spin coating or the like, and after pre-baking, the laser plate is rotated in response to a servo signal while rotating the glass plate ( Or a portion corresponding to each frame on the circumference of a predetermined pattern, for example, a pattern corresponding to a servo signal extending linearly in the radial direction from the center of rotation to each track. To expose.

その後、フォトレジストの層を現像処理し、露光部分が除去されたフォトレジストの層により形成された凹凸形状を有するガラス原盤を得る。次いで、ガラス原盤の表面の凹凸パターンを基に、この表面にメッキ(電鋳)を施し所定厚さまで形成することにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するNi基板を作成する。そして、この基板をガラス原盤から剥離する。   Thereafter, the photoresist layer is developed to obtain a glass master having a concavo-convex shape formed by the photoresist layer from which the exposed portion has been removed. Next, based on the concavo-convex pattern on the surface of the glass master, the surface is plated (electroformed) to form a predetermined thickness, thereby creating a Ni substrate having a positive concavo-convex pattern on the surface. Then, the substrate is peeled from the glass master.

この基板をそのままプレス原盤とするか、凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜等を被覆してプレス原盤とする。   This substrate is used as a press master as it is, or a soft master layer, a protective film, etc. are coated on the concavo-convex pattern as necessary to form a press master.

また、ガラス原盤にメッキを施して、電鋳により第2の原盤を作成し、この第2の原盤に更にメッキを施して、電鋳によりネガ状凹凸パターンを有する反転原盤を作成してもよい。更に、第2の原盤にメッキを施して電鋳を行うか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させるかした、第3の原盤を作成し、第3の原盤にメッキを施して電鋳を行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。   Alternatively, the glass master may be plated to create a second master by electroforming, and the second master may be further plated to create a reversing master having a negative uneven pattern by electroforming. . Furthermore, the second master is plated and electroformed, or a low-viscosity resin is pressed and cured to create a third master, and the third master is plated and electroformed. A substrate having a positive uneven pattern may be formed.

一方、フォトファブリケーション法における原盤の形成は、たとえば、以下のように行える。平板状の基板の平滑な表面にスピンコート法等によりフォトレジストの層を形成し、プレベーク後に、この基板を回転させながら、サーボ信号に対応して変調したレーザー光(又は電子ビーム)を照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターン、たとえば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。   On the other hand, the master can be formed in the photofabrication method as follows, for example. A photoresist layer is formed on the flat surface of a flat substrate by spin coating, etc. After pre-baking, the substrate is rotated and irradiated with laser light (or electron beam) modulated in response to the servo signal. A predetermined pattern, for example, a pattern corresponding to a servo signal extending linearly from the center of rotation to each track in a radial direction is exposed on the entire surface of the photoresist layer in a portion corresponding to each frame on the circumference.

その後、フォトレジストの層を現像処理し、露光部分が除去されたフォトレジストの層により形成された凹凸形状を有する基板を得る。現像処理後の基板をポストベークし、フォトレジストの層の基板への付着力を増大させる。   Thereafter, the photoresist layer is developed to obtain a substrate having a concavo-convex shape formed by the photoresist layer from which the exposed portion has been removed. The substrate after the development process is post-baked to increase the adhesion of the photoresist layer to the substrate.

次いで、エッチング工程により、基板のエッチングを行い、凹凸パターンに相当する深さの穴を形成する。次いで、フォトレジストを除去し、表面を研磨して、バリがある場合には、これを取り除くとともに、表面を平滑化する。これにより、凹凸形状を有する原盤を得る。   Next, the substrate is etched by an etching process to form holes having a depth corresponding to the concavo-convex pattern. Next, the photoresist is removed, the surface is polished, and if there are burrs, they are removed and the surface is smoothed. Thereby, a master having an uneven shape is obtained.

次いで、原盤の表面の凹凸パターンを基に、この表面にメッキ(電鋳)を施し所定厚さまで形成することにより、表面にネガ状の凹凸パターンを有するNi基板を作成する。そして、この基板を原盤から剥離する。   Next, based on the concavo-convex pattern on the surface of the master, the surface is plated (electroformed) to form a predetermined thickness, thereby creating a Ni substrate having a negative concavo-convex pattern on the surface. Then, the substrate is peeled from the master.

基板や電鋳による原盤の材料としては、金属ではNi又はNi合金を使用することができる。この基板を作成するメッキ法としては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法等が適用できる。   As the material of the substrate or the master by electroforming, Ni or Ni alloy can be used as the metal. As a plating method for producing this substrate, various metal film forming methods including electroless plating, electroforming, sputtering, and ion plating can be applied.

次に、磁性層48の形成方法について説明する。図3は、磁性層48の形成フローを説明する基板47の断面図である。図3(A)は、未処理の基板47であり、既述の工程により基板47の表面に多数の微細な突起状パターン47A、47A…と、この突起状パターン47A、47A同士の間に形成される凹陥部47B、47B…とが交互に形成されている。   Next, a method for forming the magnetic layer 48 will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view of the substrate 47 for explaining the flow of forming the magnetic layer 48. FIG. 3A shows an unprocessed substrate 47, which is formed on the surface of the substrate 47 by the above-described steps between a large number of fine protrusion patterns 47A, 47A, and the protrusion patterns 47A, 47A. The recessed portions 47B, 47B... Are alternately formed.

先ず、図3(B)に示されるように、基板47の表面にレジスト剤Rを塗布し、レジスト剤Rで突起状パターン47A、47A…の表面を覆うとともに、レジスト剤Rを凹陥部47B、47B…に略充填する。レジスト剤Rとしては、フォトレジストが一般的であるが、後述するリフトオフ工程を行えるものであれば、フォトレジストに限定される訳ではなく、他の各種材料が使用できる。   First, as shown in FIG. 3B, a resist agent R is applied to the surface of the substrate 47, and the resist agent R covers the surfaces of the protruding patterns 47A, 47A. 47B is substantially filled. As the resist agent R, a photoresist is generally used, but it is not limited to a photoresist as long as it can perform a lift-off process to be described later, and various other materials can be used.

レジスト剤Rの塗布方法としては、公知の各種方法、たとえば、スピンコート、ダイコート、ロールコート、ディップコート、スクリーン印刷等の各種塗布方法等が採用できる。なお、凹陥部47B、47B…のサイズが微小な場合には、所定粘度以上のレジスト剤Rでは、凹陥部47B、47B…に略充填するのが困難な場合があるが、そのときは、希釈等によりレジスト剤Rの粘度を低下させればよい。   As a method for applying the resist agent R, various known methods such as spin coating, die coating, roll coating, dip coating, screen printing, and the like can be employed. If the size of the recessed portions 47B, 47B... Is very small, it may be difficult to substantially fill the recessed portions 47B, 47B... With a resist agent R having a predetermined viscosity or more. What is necessary is just to reduce the viscosity of the resist agent R by the above.

また、減圧雰囲気で(たとえば、デシケータの中に基板47を入れ、ロータリー真空ポンプ等によりデシケータ内部を真空引きし)基板47の表面にレジスト剤Rを塗布し、その後に大気圧に解放する方法も、微小なサイズの凹陥部47B、47B…にレジスト剤Rを充填するのに有効である。   Also, there is a method in which the resist 47 is applied to the surface of the substrate 47 and then released to atmospheric pressure in a reduced pressure atmosphere (for example, the substrate 47 is put in a desiccator and the desiccator is evacuated by a rotary vacuum pump or the like). It is effective for filling the resist agent R into the concave portions 47B, 47B.

同様に、たとえば、デシケータの中に基板47を入れ、大気圧解放状態で基板47の表面にレジスト剤Rを塗布し、その後にロータリー真空ポンプ等によりデシケータ内部を真空引きする方法も、微小なサイズの凹陥部47B、47B…にレジスト剤Rを充填するのに有効である。この場合、真空引きにより、凹陥部47B、47B…より気泡がレジスト剤R内部に発生し、レジスト剤Rの表面より消失する。   Similarly, for example, a method in which the substrate 47 is placed in a desiccator, the resist agent R is applied to the surface of the substrate 47 in a state where the atmospheric pressure is released, and then the inside of the desiccator is evacuated by a rotary vacuum pump or the like is also a micro size It is effective to fill the concave portions 47B, 47B. In this case, by evacuation, bubbles are generated in the resist agent R from the recessed portions 47B, 47B... And disappear from the surface of the resist agent R.

次いで、図3(B)の状態で、レジスト剤Rを硬化させる。レジスト剤Rがネガタイプのフォトレジスト(たとえば、環化ゴムタイプ)の場合には、紫外線等を照射して架橋重合させればよい。レジスト剤Rがポジタイプのフォトレジストの場合には、ベーク処理(ポストベーク)を行って架橋重合させればよい。   Next, the resist agent R is cured in the state of FIG. When the resist agent R is a negative type photoresist (for example, a cyclized rubber type), it may be crosslinked by irradiation with ultraviolet rays or the like. In the case where the resist agent R is a positive type photoresist, a baking treatment (post-bake) may be performed for crosslinking polymerization.

次いで、図3(C)に示されるように、アッシングにより、突起状パターン47A、47A…の表面を覆ったレジスト剤Rを完全に除去するとともに、凹陥部47B、47B…に略充填されたレジスト剤Rを一部除去する。   Next, as shown in FIG. 3C, the resist agent R covering the surface of the protruding patterns 47A, 47A,... Is completely removed by ashing, and the resist substantially filled in the recesses 47B, 47B,. Part of the agent R is removed.

すなわち、突起状パターン47A、47A…の表面を覆うレジスト剤Rの厚さと、凹陥部47B、47B…に充填されたレジスト剤Rの厚さは異なるので、突起状パターン47A、47A…の表面を覆ったレジスト剤Rを完全に除去した時点において、凹陥部47B、47B…に充填されたレジスト剤Rは残存しており、凹陥部47B、47B…の底面を覆っている。   That is, since the thickness of the resist agent R that covers the surface of the protrusion patterns 47A, 47A, and the thickness of the resist agent R filled in the recesses 47B, 47B, ... are different, the surface of the protrusion patterns 47A, 47A,. When the covered resist agent R is completely removed, the resist agent R filled in the recessed portions 47B, 47B... Remains and covers the bottom surfaces of the recessed portions 47B, 47B.

次いで、図3(D)に示されるように、基板47の表面に磁性膜を形成し、レジスト剤Rが完全に除去された突起状パターン47A、47A…の表面、及び凹陥部47B、47B…内に残存しているレジスト剤Rの表面に磁性層48を形成する。   Next, as shown in FIG. 3D, a magnetic film is formed on the surface of the substrate 47, and the surfaces of the protruding patterns 47A, 47A ... from which the resist R has been completely removed, and the recessed portions 47B, 47B ... A magnetic layer 48 is formed on the surface of the resist agent R remaining therein.

磁性層48(軟磁性層)の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。磁性層48の磁性材料としては、Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)を用いることができる。特に、FeCo、FeCoNiを好ましく用いることができる。   The magnetic layer 48 (soft magnetic layer) is formed by depositing a magnetic material by a vacuum film forming means such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plating method, or the like. As a magnetic material of the magnetic layer 48, Co, Co alloy (CoNi, CoNiZr, CoNbTaZr, etc.), Fe, Fe alloy (FeCo, FeCoNi, FeNiMo, FeAlSi, FeAl, FeTaN), Ni, Ni alloy (NiFe) should be used. Can do. In particular, FeCo and FeCoNi can be preferably used.

磁性層48の厚さtは、50nm〜10000nmの範囲が好ましく、100nm〜5000nmの範囲が更に好ましい。すなわち、磁性層48の厚さtと突起状パターンの幅(この場合は、図2のトラック方向の長さb)との比t/bを1以上とすることが好ましい。このような磁性層48の厚さtと突起状パターンの幅bとの比とすれば、磁性層48の磁化方向をディスク面に対して安定的に垂直に維持でき、垂直磁気転写用のマスターディスク46として好ましい。   The thickness t of the magnetic layer 48 is preferably in the range of 50 nm to 10000 nm, and more preferably in the range of 100 nm to 5000 nm. That is, the ratio t / b between the thickness t of the magnetic layer 48 and the width of the protruding pattern (in this case, the length b in the track direction in FIG. 2) is preferably 1 or more. By setting the ratio of the thickness t of the magnetic layer 48 to the width b of the protruding pattern, the magnetization direction of the magnetic layer 48 can be stably maintained perpendicular to the disk surface, and the master for perpendicular magnetic transfer. Preferred as disk 46.

なお、磁性層48の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜を設けることが好ましく、保護膜の上に更に潤滑剤層を設けてもよい。この場合、保護膜として厚さが5〜30nmのダイヤモンドライクカーボン膜と潤滑剤層とする構成が好ましい。また、磁性層48と保護膜との間に、Si等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブディスク40との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する効果を有する。   A protective film such as diamond-like carbon is preferably provided on the magnetic layer 48, and a lubricant layer may be further provided on the protective film. In this case, the protective film is preferably a diamond-like carbon film having a thickness of 5 to 30 nm and a lubricant layer. Further, an adhesion strengthening layer such as Si may be provided between the magnetic layer 48 and the protective film. The lubricant has an effect of improving the deterioration of durability such as the occurrence of scratches due to friction when correcting the deviation caused in the contact process with the slave disk 40.

次いで、凹陥部47B、47B…内のレジスト剤Rを除去する。これにより、レジスト剤R表面の磁性層48も同時に除去され、その結果、図3(E)に示されるように、突起状パターン47A、47A…の表面にのみ磁性層48が形成された垂直磁気転写用のマスターディスク46が得られる。すなわち、凹陥部47B、47B…の磁性層48を選択的に除去するリフトオフ工程がなされる。   Next, the resist agent R in the recessed portions 47B, 47B... Is removed. As a result, the magnetic layer 48 on the surface of the resist agent R is also removed. As a result, as shown in FIG. 3E, the perpendicular magnetic material in which the magnetic layer 48 is formed only on the surfaces of the protruding patterns 47A, 47A. A master disk 46 for transfer is obtained. That is, a lift-off process for selectively removing the magnetic layer 48 of the recessed portions 47B, 47B.

凹陥部47B、47B…内のレジスト剤Rを除去する方法としては、レジスト剤Rがフォトレジストである場合には、専用の剥離液を使用するのが一般的である。この場合、レジスト剤Rの表面が磁性層48で覆われているので、剥離液がレジスト剤Rに作用しにくいようにも思えるが、実際は、磁性層48のピンホール等より剥離液が浸透して、レジスト剤Rに作用する。   As a method for removing the resist agent R in the recessed portions 47B, 47B..., When the resist agent R is a photoresist, a dedicated stripping solution is generally used. In this case, since the surface of the resist agent R is covered with the magnetic layer 48, it seems that the stripping solution does not easily act on the resist agent R, but in reality, the stripping solution penetrates through pinholes or the like of the magnetic layer 48. Acts on the resist agent R.

また、剥離液の作用を促進させるべく、超音波振動を印加したり、剥離液の温度管理(加熱)を施したりする方法も好ましく採用できる。   Further, in order to promote the action of the stripping solution, a method of applying ultrasonic vibration or performing temperature control (heating) of the stripping solution can be preferably employed.

更に、剥離液を使用せずに、磁性層48を変質させない加熱雰囲気(たとえばオーブン)に所定時間放置し、レジスト剤Rを焼成により分解させる方法をも採用できる。フォトレジストは、有機物なので、加熱雰囲気(たとえば、百数十°Cの含酸素雰囲気)に放置することにより、CO2 とH2 Oになって消失するからである。 Further, it is possible to employ a method in which the resist agent R is decomposed by baking by leaving it in a heating atmosphere (for example, an oven) that does not alter the magnetic layer 48 for a predetermined time without using a stripping solution. This is because the photoresist is an organic substance, and is lost as CO 2 and H 2 O when left in a heated atmosphere (for example, an oxygen-containing atmosphere of hundreds of degrees Celsius).

次に、マスターディスク46の磁性層パターンを被転写用ディスクであるスレーブディスク40に転写する磁気転写方法について説明する。図4は、本発明に係るマスターディスク46を使用して磁気転写を実施するための磁気転写装置10の要部正面図である。   Next, a magnetic transfer method for transferring the magnetic layer pattern of the master disk 46 to the slave disk 40, which is a transfer target disk, will be described. FIG. 4 is a front view of an essential part of the magnetic transfer apparatus 10 for performing magnetic transfer using the master disk 46 according to the present invention.

磁気転写装置10において、磁気転写時には、図5(a)に示される後述する初期直流磁化を行った後の、スレーブディスク40のスレーブ面(磁気記録面)を、マスターディスク46の情報担持面に接触させ、所定の押圧力で密着させることができるようになっている。そして、このスレーブディスク40とマスターディスク46との密着状態で、磁界生成手段30により転写用磁界を印加してサーボ信号等の磁化パターンを転写記録することができるようになっている。   In the magnetic transfer device 10, during magnetic transfer, the slave surface (magnetic recording surface) of the slave disk 40 after initial DC magnetization described later shown in FIG. 5A is used as the information carrying surface of the master disk 46. They can be brought into contact with each other with a predetermined pressing force. Then, with the slave disk 40 and the master disk 46 in close contact with each other, a magnetic field for transfer can be applied by the magnetic field generating means 30 to transfer and record a magnetic pattern such as a servo signal.

次に、スレーブディスク40について説明する。スレーブディスク40は、両面又は片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスターディスク46に密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより表面の微小突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理(バーニッシィング等)が必要に応じて施される。また、スレーブディスク40には予め初期磁化が施される。この詳細は後述する。   Next, the slave disk 40 will be described. The slave disk 40 is a disk-shaped magnetic recording medium such as a hard disk or a flexible disk having a magnetic recording layer formed on both sides or one side. Or the cleaning process (burnishing etc.) which removes adhering dust is given as needed. The slave disk 40 is preliminarily magnetized in advance. Details of this will be described later.

スレーブディスク40としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体が使用できる。スレーブディスク40の磁気記録層には、塗布型磁気記録層、メッキ型磁気記録層、又は金属薄膜型磁気記録層が採用できる。   As the slave disk 40, a disk-shaped magnetic recording medium such as a hard disk or a high-density flexible disk can be used. As the magnetic recording layer of the slave disk 40, a coating type magnetic recording layer, a plating type magnetic recording layer, or a metal thin film type magnetic recording layer can be adopted.

金属薄膜型磁気記録層の磁性材料としては、Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)を用いることができる。これらは、磁束密度が大きいこと、磁界印加方向と同じ方向(垂直磁気記録の場合垂直方向)の磁気異方性を有していることより、明瞭な転写が行えるため好ましい。   As the magnetic material of the metal thin film type magnetic recording layer, Co, Co alloy (CoPtCr, CoCr, CoPtCrTa, CoPtCrNbTa, CoCrB, CoNi, etc.), Fe, Fe alloy (FeCo, FePt, FeCoNi) can be used. These are preferable because clear transfer can be performed because of high magnetic flux density and magnetic anisotropy in the same direction as the magnetic field application direction (perpendicular direction in the case of perpendicular magnetic recording).

そして磁性材料の下(支持体側)に必要な磁気異方性を付与するために、非磁性の下地層を設けることが好ましい。この下地層には、結晶構造と格子定数を磁性層に合わすことが必要である。そのためには、Ti、Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、Pd等を用いることが好ましい。   In order to provide the necessary magnetic anisotropy under the magnetic material (on the support side), it is preferable to provide a nonmagnetic underlayer. For this underlayer, it is necessary to match the crystal structure and lattice constant to the magnetic layer. For this purpose, it is preferable to use Ti, Cr, CrTi, CoCr, CrTa, CrMo, NiAl, Ru, Pd, or the like.

更に、磁気記録層の垂直磁化状態を安定化させ、また、記録再生時の感度を向上させるために、非磁性の下地層の下に、更に軟磁性層からなる裏打ち層を設けることが好ましい。   Further, in order to stabilize the perpendicular magnetization state of the magnetic recording layer and improve the sensitivity during recording and reproduction, it is preferable to provide a backing layer made of a soft magnetic layer under the nonmagnetic underlayer.

なお、磁気記録層の厚さは、10nm〜500nmであることが好ましく、20nm〜200nmであることが更に好ましい。また、非磁性層の厚さは、10nm〜150nmであることが好ましく、20nm〜80nmであることが更に好ましい。また、裏打ち層の厚さは、50nm〜2000nmであることが好ましく、80nm〜400nmであることが更に好ましい。   The thickness of the magnetic recording layer is preferably 10 nm to 500 nm, and more preferably 20 nm to 200 nm. Further, the thickness of the nonmagnetic layer is preferably 10 nm to 150 nm, and more preferably 20 nm to 80 nm. The thickness of the backing layer is preferably 50 nm to 2000 nm, and more preferably 80 nm to 400 nm.

マスターディスク46による磁気転写は、図4に示されるように、スレーブディスク40の片面にマスターディスク46を密着させて片面に逐次転写を行う場合と、スレーブディスク40の両面にそれぞれマスターディスク46、46を密着させて両面で同時転写を行う場合とがある。なお、マスターディスク46には、スレーブディスク40と密着させる前に、付着した塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じて施される。   As shown in FIG. 4, the magnetic transfer by the master disk 46 includes a case where the master disk 46 is brought into close contact with one side of the slave disk 40 and sequential transfer is performed on one side, and a case where the master disks 46 and 46 are respectively applied to both sides of the slave disk 40. May be used for simultaneous transfer on both sides. The master disk 46 is subjected to a cleaning process to remove the adhering dust as needed before being brought into close contact with the slave disk 40.

転写用磁界を印加する磁界生成手段30は、密着手段に保持されたスレーブディスク40及びマスターディスク46の半径方向に延びるギャップ31を有するコア32にコイル33が巻き付けられた電磁石装置34が上側に配設されてなり、トラック方向に垂直な磁力線Gを有する転写用磁界を印加できるようになっている。   The magnetic field generating means 30 for applying the transfer magnetic field has an electromagnet device 34 in which a coil 33 is wound around a core 32 having a gap 31 extending in the radial direction of the slave disk 40 and the master disk 46 held by the close contact means arranged on the upper side. Thus, a transfer magnetic field having magnetic force lines G perpendicular to the track direction can be applied.

磁界印加時には、スレーブディスク40及びマスターディスク46を一体に回転させつつ磁界生成手段30によって転写用磁界を印加し、マスターディスク46の転写情報をスレーブディスク40のスレーブ面に磁気的に転写記録できるように回転手段が設けられている。なお、この構成以外に、磁界生成手段30を回転移動させるように設ける構成も採用できる。   When a magnetic field is applied, a transfer magnetic field is applied by the magnetic field generating means 30 while rotating the slave disk 40 and the master disk 46 together so that the transfer information of the master disk 46 can be magnetically transferred and recorded on the slave surface of the slave disk 40. The rotating means is provided. In addition to this configuration, a configuration in which the magnetic field generation unit 30 is provided to be rotationally moved can be employed.

図5は、この磁気転写の基本工程を説明するための断面図である。このうち、図5(A)は磁界を一方向に印加してスレーブディスク40を初期直流磁化する工程を示し、(B)はマスターディスク46とスレーブディスク40とを密着させて初期直流磁界とは反対方向に磁界を印加する工程を示し、(C)は磁気転写後の状態をそれぞれ示す。スレーブディスク40についてはその下側の磁気記録層40Bのみを示している。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異なる比率で示している。   FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the basic process of magnetic transfer. 5A shows a process of applying a magnetic field in one direction to perform initial DC magnetization of the slave disk 40, and FIG. 5B shows an initial DC magnetic field obtained by bringing the master disk 46 and the slave disk 40 into close contact with each other. The process of applying a magnetic field in the opposite direction is shown, and (C) shows the state after magnetic transfer. For the slave disk 40, only the lower magnetic recording layer 40B is shown. Each figure is a schematic diagram, and the dimensions of each part are shown in proportions different from actual ones.

図5(A) に示されるように、予めスレーブディスク40に初期直流磁界Hinをトラック面に垂直な一方向に印加して磁気記録層40Bの磁化を初期直流磁化させておく。そして、図5(B)に示されるように、スレーブディスク40の磁気記録層40B側の面とマスターディスク46の表面の磁性層48側の面とを密着させ、スレーブディスク40のトラック面に垂直な方向に、初期直流磁界Hinとは逆方向の転写用磁界Hduを印加して磁気転写を行う。   As shown in FIG. 5A, an initial direct current magnetic field Hin is applied in advance to the slave disk 40 in one direction perpendicular to the track surface so that the magnetization of the magnetic recording layer 40B is initially direct current magnetized. 5B, the surface on the magnetic recording layer 40B side of the slave disk 40 and the surface on the magnetic layer 48 side of the surface of the master disk 46 are brought into close contact with each other and perpendicular to the track surface of the slave disk 40. Magnetic transfer is performed by applying a transfer magnetic field Hdu in the opposite direction to the initial DC magnetic field Hin.

その結果、図5(C)に示されるように、スレーブディスク40の磁気記録層40Bにはマスターディスク46の突起状パターン47A、47A…に応じた情報(例えばサーボ信号)が磁気的に転写記録される。   As a result, as shown in FIG. 5C, information (for example, servo signals) corresponding to the protrusion patterns 47A, 47A,... Of the master disk 46 is magnetically transferred and recorded on the magnetic recording layer 40B of the slave disk 40. Is done.

図5の説明では、スレーブディスク40の下側の磁気記録層40Bへの、下側のマスターディスク46による磁気転写について説明したが、スレーブディスク40の上側の磁気記録層についても、スレーブディスク40の上側にマスターディスク46を密着させて、下側の磁気記録層と同様にして、下側の磁気記録層と同時に磁気転写を行うこともできる。   In the description of FIG. 5, the magnetic transfer by the lower master disk 46 to the lower magnetic recording layer 40B of the slave disk 40 has been described. The master disk 46 can be brought into close contact with the upper side, and magnetic transfer can be performed simultaneously with the lower magnetic recording layer in the same manner as the lower magnetic recording layer.

また、マスターディスク46の凹凸パターン(突起状パターン47Aと凹陥部47B)が、図5のポジパターンと逆の凹凸形状のネガパターンの場合であっても、初期磁界Hinの方向および転写用磁界Hduの方向を上記と逆方向にすることによって、同様の情報を磁気的に転写記録することができる。   Further, even if the concave / convex pattern (projection pattern 47A and concave portion 47B) of the master disk 46 is a negative pattern having a concave / convex shape opposite to the positive pattern in FIG. 5, the direction of the initial magnetic field Hin and the transfer magnetic field Hdu. By making the direction in the direction opposite to the above, the same information can be magnetically transferred and recorded.

なお、初期直流磁界および転写用磁界は、スレーブディスク40の保磁力、マスターディスク46およびスレーブディスク40の比透磁率等を勘案して定められた値を採用する必要がある。   Note that the initial DC magnetic field and the transfer magnetic field need to adopt values determined in consideration of the coercive force of the slave disk 40, the relative magnetic permeability of the master disk 46 and the slave disk 40, and the like.

磁気転写されたスレーブディスク40は、磁気記録装置(ハードディスクドライブ)に組み込んで好適に使用できる。これに使用されるハードディスクドライブとしては、各ドライブメーカーより販売されている公知の各種装置を使用すればよい。   The magnetically transferred slave disk 40 can be suitably used by being incorporated in a magnetic recording device (hard disk drive). As the hard disk drive used for this, various known devices sold by each drive manufacturer may be used.

以上、本発明に係る垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法及び垂直磁気転写方法の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。   As mentioned above, although the manufacturing method of the master disk for perpendicular magnetic transfer concerning this invention and embodiment of the perpendicular magnetic transfer method were demonstrated, this invention is not limited to the said embodiment, Various aspects can be taken.

たとえば、本実施形態においては、スレーブディスク40(密着したマスターディスク46も)を連続回転させながら、磁界生成手段30によりスレーブディスク40に磁気転写を行っているが、スレーブディスク40及びマスターディスク46への磁界印加を円周方向に1周以上行った後に、磁界強度を所定値まで減少させ、その後にスレーブディスク40及びマスターディスク46の回転を停止させる構成も採用できる。   For example, in the present embodiment, magnetic transfer is performed to the slave disk 40 by the magnetic field generation means 30 while the slave disk 40 (also the closely attached master disk 46) is continuously rotated. It is also possible to adopt a configuration in which the magnetic field strength is reduced to a predetermined value after the magnetic field application of 1 or more in the circumferential direction is performed, and then the rotation of the slave disk 40 and the master disk 46 is stopped.

このように、円周方向に1周分の転写後に、磁界強度を所定値まで漸減させ、しかる後に回転を停止させるのであれば、転写精度が受ける影響は非常に少なくなり、再生信号のC/N比は良好になる。   As described above, if the magnetic field strength is gradually reduced to a predetermined value after one round of transfer in the circumferential direction and then the rotation is stopped, the influence of the transfer accuracy is very small, and the C / The N ratio becomes good.

また、既述したように、マスターディスク46は、内径を有する円環状(ドーナツ状)のものであるが、内径を有しない円盤状のものであってもよい。   Further, as described above, the master disk 46 has an annular shape (doughnut shape) having an inner diameter, but may be a disk shape having no inner diameter.

また、本実施形態においては、磁界生成手段30において、電磁石装置34がスレーブディスク40及びマスターディスク46の上側に配設されているが、これに代えて、磁石装置(棒磁石)をスレーブディスク40及びマスターディスク46の両側に配して磁界を印加させる構成であってもよい。更に、磁石装置は、電磁石でも永久磁石でもよい。   In the present embodiment, in the magnetic field generating means 30, the electromagnet device 34 is disposed above the slave disk 40 and the master disk 46. Instead, the magnet device (bar magnet) is replaced with the slave disk 40. Alternatively, a configuration may be adopted in which a magnetic field is applied on both sides of the master disk 46. Furthermore, the magnet device may be an electromagnet or a permanent magnet.

本発明に係る垂直磁気転写用マスターディスクの平面図Plan view of a master disk for perpendicular magnetic transfer according to the present invention マスターディスクの表面の微細凹凸パターンを示す部分拡大斜視図Partial enlarged perspective view showing fine uneven pattern on the surface of the master disk 磁性層の形成フローを説明する基板の断面図Cross-sectional view of substrate explaining flow of forming magnetic layer 磁気転写装置の要部正面図Front view of main parts of magnetic transfer device 磁気転写の基本工程を説明するための断面図Sectional view for explaining the basic process of magnetic transfer

符号の説明Explanation of symbols

10…磁気転写装置、30…磁界生成手段、31…ギャップ、32…コア、33…コイル、34…電磁石装置、40…スレーブディスク(被転写用ディスク)、40B…磁気記録層、46…マスターディスク、46b…サーボ領域、46c…非サーボ領域、47…基板、47A…突起状パターン、47B…凹陥部、48…磁性層、b…突起状パターンの円周方向の幅、G…磁力線、l…突起状パターンの径方向の幅、R…レジスト剤、t…磁性層の厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Magnetic transfer apparatus, 30 ... Magnetic field production | generation means, 31 ... Gap, 32 ... Core, 33 ... Coil, 34 ... Electromagnet apparatus, 40 ... Slave disk (disk to be transferred), 40B ... Magnetic recording layer, 46 ... Master disk 46b ... servo region, 46c ... non-servo region, 47 ... substrate, 47A ... projection pattern, 47B ... depression, 48 ... magnetic layer, b ... circumferential width of projection pattern, G ... magnetic field line, l ... Radial width of projection pattern, R: resist agent, t: thickness of magnetic layer

Claims (6)

表面に多数の微細な突起状パターンが形成された円盤状の基板にレジスト剤を塗布し、該レジスト剤で前記突起状パターンの表面を覆うとともに、該レジスト剤を前記突起状パターン同士の間に形成される凹陥部に略充填するレジスト塗布工程と、
アッシングにより、前記突起状パターンの表面を覆った前記レジスト剤を完全に除去するとともに、前記凹陥部に略充填された前記レジスト剤を一部除去するレジスト除去工程と、
前記基板の表面に磁性膜を形成し、前記レジスト剤が除去された前記突起状パターンの表面、及び前記レジスト剤が一部除去された前記凹陥部に磁性層を形成する磁性層形成工程と、
前記凹陥部に塗布された前記レジスト剤を除去し、前記凹陥部の磁性層を選択的に除去するリフトオフ工程と、
を備えることを特徴とする垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法。
A resist agent is applied to a disk-shaped substrate having a number of fine protrusion patterns formed on the surface, the surface of the protrusion patterns is covered with the resist agent, and the resist agent is placed between the protrusion patterns. A resist coating process that substantially fills the recesses to be formed;
A resist removing step of completely removing the resist agent covering the surface of the protruding pattern by ashing, and partially removing the resist agent substantially filled in the recessed portion,
Forming a magnetic film on the surface of the substrate, forming a magnetic layer on the surface of the protruding pattern from which the resist agent has been removed, and on the recess from which the resist agent has been partially removed; and
A lift-off step of removing the resist agent applied to the recessed portion and selectively removing the magnetic layer of the recessed portion;
A method for producing a master disk for perpendicular magnetic transfer, comprising:
前記磁性層の厚さtと前記突起状パターンの径方向の幅lとの比t/lを1以上とする請求項1に記載の垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法。   2. The method of manufacturing a master disk for perpendicular magnetic transfer according to claim 1, wherein a ratio t / l of a thickness t of the magnetic layer and a radial width l of the protruding pattern is 1 or more. 前記磁性層の厚さtと前記突起状パターンの円周方向の幅bとの比t/bを1以上とする請求項1又は2に記載の垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法。   3. The method of manufacturing a master disk for perpendicular magnetic transfer according to claim 1, wherein a ratio t / b between a thickness t of the magnetic layer and a circumferential width b of the protruding pattern is 1 or more. 表面に多数の微細な突起状パターンと該突起状パターン同士の間に形成される凹陥部とが交互に形成されており、該突起状パターンの表面に磁性層が形成されているマスターディスクと被転写用ディスクとを密着させる密着工程と、
磁界生成手段を設け、前記被転写用ディスクと前記マスターディスクの表面に垂直な方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用ディスクに転写させる磁気転写工程と、
を備えることを特徴とする垂直磁気転写方法。
A large number of fine protrusion patterns and concave portions formed between the protrusion patterns are alternately formed on the surface, and a master disk having a magnetic layer formed on the surface of the protrusion pattern and a target disk. A contact process for contacting the transfer disk;
A magnetic transfer step of providing a magnetic field generation unit, applying a magnetic field in a direction perpendicular to the surfaces of the transfer target disk and the master disk, and transferring the magnetic pattern of the master disk to the transfer target disk;
A perpendicular magnetic transfer method comprising:
前記請求項1、2又は3に記載の垂直磁気転写用マスターディスクの製造方法により製造された垂直磁気転写用マスターディスクと被転写用ディスクとを密着させる密着工程と、
磁界生成手段を設け、前記被転写用ディスクと前記マスターディスクの表面に垂直な方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用ディスクに転写させる磁気転写工程と、
を備えることを特徴とする垂直磁気転写方法。
An adhesion step for closely adhering a perpendicular magnetic transfer master disk manufactured by the method for manufacturing a perpendicular magnetic transfer master disk according to claim 1, 2 or 3, and a transfer target disk;
A magnetic transfer step of providing a magnetic field generation unit, applying a magnetic field in a direction perpendicular to the surfaces of the transfer target disk and the master disk, and transferring the magnetic pattern of the master disk to the transfer target disk;
A perpendicular magnetic transfer method comprising:
前記磁界生成手段に対し密着状態にある前記被転写用ディスクと前記マスターディスクとを相対移動させながら磁気転写を行う請求項4又は5に記載の垂直磁気転写方法。

6. The perpendicular magnetic transfer method according to claim 4, wherein magnetic transfer is performed while the transfer target disk and the master disk that are in close contact with the magnetic field generating means are moved relative to each other.

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