JP2006196111A - Master disk of optical recording medium and its manufacturing method - Google Patents

Master disk of optical recording medium and its manufacturing method Download PDF

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光 下福
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a master disk of an optical recording medium capable of preventing deterioration of a defect rate of the optical recording medium and aggravation of an error at the time of playback, by suppressing occurrence of the defect in pre-baking a 2nd photoresist layer, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of the master disk of an optical recording medium, in a process to produce a double layer photoresist master disk by successively laminating a 1st photoresist layer, an intermediate layer consisting of an oxide film, and the 2nd photoresist layer on a substrate, a means for preventing infiltration of the 2nd photoresist material to pinholes present on the intermediate layer is adopted in the process to apply the photoresist material for forming the 2nd photoresist layer on the intermediate layer (hereinafter referred to as 2nd photoresist material). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は光記録媒体原盤、特にハイブリッドディスク用原盤の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium master, particularly a hybrid disk master.

昨今における情報量の増大により、アプリケーションソフトウェアや音楽、画像（静止画、動画）、各種データなどの大容量の情報は、光記録媒体で配布・販売されるのが一般的となっている。
これらの情報を記録する光記録媒体としては、ＣＤやＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の再生専用領域からなる光記録媒体が広く普及しているが、これらの光記録媒体は記録情報が予めピットとして基板上に形成され、当該成形基板上に反射層と保護層を積層させている構造になっている。これに対して、記録可能領域からなるＣＤ−Ｒ／ＲＷやＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ等の記録用光記録媒体も広く普及している。これらの記録用光記録媒体は全面に時間情報が記録されたグルーブ（案内溝）が形成されており、前記グルーブが形成された成形基板上に記録層（ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ−Ｒでは有機色素等、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷでは無機相変化膜）、反射層、保護層を積層させ、光記録装置でピットを書き込むことにより、時間情報とデータが記録される構造の光記録媒体が得られる。 With the recent increase in the amount of information, large volumes of information such as application software, music, images (still images, moving images), and various data are generally distributed and sold on optical recording media.
As optical recording media for recording such information, optical recording media including a read-only area such as a CD, a CD-ROM, and a DVD-ROM are widely used. Is formed on a substrate, and a reflective layer and a protective layer are laminated on the molded substrate. On the other hand, optical recording media for recording such as CD-R / RW, DVD + R / RW, DVD-R / RW and the like, which are recordable areas, are widely used. These recording optical recording media have a groove (guide groove) in which time information is recorded on the entire surface, and a recording layer (CD-R, DVD + R, DVD-R in the recording substrate) on which the groove is formed. Light with a structure that records time information and data by laminating organic pigments, CD-RW, DVD + RW, DVD-RW (inorganic phase change film), reflection layer, protective layer, and writing pits with an optical recording device A recording medium is obtained.

近年では、再生専用領域と記録可能領域の両方を同一媒体上に有する光記録媒体、いわゆるハイブリッドディスクが実用化されている。この媒体では、再生専用領域として存在する既存の情報に、新たな情報を記録可能領域に付加することができる。例えばコンピューターソフトの古いコンテンツを、新しいバージョンにアップグレードさせることができる等、当該光記録媒体の使い勝手を向上させることができる。
ＣＤフォーマットのハイブリッドＣＤ−Ｒ／ＲＷを例にとると、再生専用領域を形成するピットと記録可能領域を形成するグルーブでは、異なる深さで形成する必要があり、それぞれ深さがλ／４ｎ及びλ／８ｎ（λ：再生波長、ｎ：基盤の屈折率）であることが望ましい。このような光記録媒体を得るためには、光記録媒体原盤におけるフォトレジストのパターン形成において、ピットとグルーブで深さを変える必要がある。このような光記録媒体原盤を製造する場合、まずターンテーブルに固定されたガラス基盤を回転させながら、ガラス基盤上にフォトレジスト材料を塗布する。そして形成されたフォトレジスト層に高強度と低強度のレーザー光を照射してピットとグルーブの潜像の露光を行っている。しかしフォトレジスト層が単層のため、ピットの深さはフォトレジスト層膜の厚さとして正確に管理することが可能であるが、グルーブの深さはレーザー光強度やフォトレジストの感度の誤差により変動してしまう。またグルーブ底部の形状がＶ字型となるため、この原盤から作製された光記録媒体の記録可能領域における記録特性が悪化する。 In recent years, an optical recording medium having both a read-only area and a recordable area on the same medium, a so-called hybrid disk has been put into practical use. In this medium, new information can be added to the recordable area in addition to the existing information existing as a reproduction-only area. For example, it is possible to improve the usability of the optical recording medium, such as upgrading old contents of computer software to a new version.
Taking the CD format hybrid CD-R / RW as an example, the pits forming the read-only area and the grooves forming the recordable area need to be formed at different depths, each having a depth of λ / 4n and It is desirable that λ / 8n (λ: reproduction wavelength, n: base refractive index). In order to obtain such an optical recording medium, it is necessary to change the depth between pits and grooves in forming a photoresist pattern on the optical recording medium master. When manufacturing such an optical recording medium master, first, a photoresist material is applied onto the glass substrate while rotating the glass substrate fixed to the turntable. The formed photoresist layer is irradiated with high-intensity and low-intensity laser beams to expose latent images of pits and grooves. However, since the photoresist layer is a single layer, the pit depth can be accurately managed as the thickness of the photoresist layer film. However, the groove depth depends on the laser light intensity and the error in the photoresist sensitivity. It will fluctuate. Further, since the shape of the bottom of the groove is V-shaped, the recording characteristics in the recordable area of the optical recording medium manufactured from this master are deteriorated.

このような課題を解決するため、例えば、特許文献１では、ガラス基盤の表面上にそれぞれ感度の異なるフォトレジストを回転させながら二回塗布し、第一のフォトレジスト層と第二のフォトレジスト層を積層させることで二層化し、上層のフォトレジスト層膜の厚さによりグルーブの深さを管理する方法が提案されている。しかし実際には、第二のフォトレジスト層に使用されるフォトレジスト材料の、原液に含まれる溶媒又は原液を希釈するための溶媒により、初めに積層された第一のフォトレジスト層が溶出されるため、上記の方法でフォトレジスト層を積層させることは不可能である。
また、特許文献２では、前記の第一のフォトレジスト層が溶出される特性を活用した光記録媒体原盤の製造方法が提案されている。即ち第一のフォトレジスト層を形成した後、ガラス原盤内でフォトレジスト層膜の厚さが変わる領域を作るために、所望の領域で第二のフォトレジスト層に使用されるフォトレジスト材料を、ガラス原盤の外周側からガラス原盤を回転させながら滴下している。しかし、光記録媒体原盤に、高強度と低強度のレーザー光を照射してピットとグルーブの潜像を露光する場合、フォトレジスト層膜の厚さが異なっている半径位置でレーザー光強度を切り替えるには高い精度が必要である。また露光中は半径方向のみならず、トラック方向での切り替えも考慮する必要があるため、露光が困難となる。 In order to solve such a problem, for example, in Patent Document 1, a photoresist having different sensitivities is applied twice on the surface of a glass substrate while being rotated, and a first photoresist layer and a second photoresist layer are applied. Has been proposed in which the groove depth is controlled by controlling the thickness of the upper photoresist layer film. However, in practice, the first photoresist layer first deposited is eluted by the solvent contained in the stock solution or the solvent for diluting the stock solution of the photoresist material used for the second photoresist layer. Therefore, it is impossible to laminate the photoresist layer by the above method.
Further, Patent Document 2 proposes a method of manufacturing an optical recording medium master that utilizes the characteristic that the first photoresist layer is eluted. That is, after forming the first photoresist layer, in order to create a region where the thickness of the photoresist layer film changes in the glass master, a photoresist material used for the second photoresist layer in a desired region, It is dripped while rotating the glass master from the outer peripheral side of the glass master. However, when exposing the pit and groove latent images by irradiating the optical recording medium master with high and low intensity laser light, the laser light intensity is switched at the radial position where the thickness of the photoresist layer is different. Requires high accuracy. Further, during exposure, it is necessary to consider switching not only in the radial direction but also in the track direction, which makes exposure difficult.

そこで、特許文献３〜４記載の発明では、前記のようなピット及びグルーブ、二水準の深さを有する光記録媒体原盤及びその製造方法が述べられている。即ち本原盤では図１に示すように、ガラス基盤１上に積層される第一のフォトレジスト層２と第二のフォトレジスト層４の間に、電気抵抗の小さい導電性膜である中間層３を設けている。第一フォトレジスト層２、中間層３、第二フォトレジスト層４の膜厚はそれぞれ３００〜２０００Å、３０〜３００Å、３００〜２０００Åである。これはピット露光には第一及び第二のフォトレジスト層２及び４を、グルーブ露光には第二のフォトレジスト層４のみをそれぞれ露光できるように、二水準のレーザー光強度で潜像形成を行っており、中間層３の膜厚によりピットを露光する露光ビームが中間層３を８５％以上透過するようにしているためである。また、第一のフォトレジスト層２の感度が、第二のフォトレジスト層４の感度より大きくなるような層構成の組み合わせとしている。これらにおいて、中間層３の熱拡散の効果により、底部の中心部分が盛り上がらないピットパターンの形成が可能となる。加えて第一のフォトレジスト層２が第二のフォトレジスト層４より高感度であることを利用することで、レジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができる。よって二水準のレーザー光強度で潜像することにより、再生専用領域と記録可能領域の切り替えを気にすることなく、ピット及びグルーブを同一盤面上へ形成することができる。   Therefore, the inventions described in Patent Documents 3 to 4 describe the above-described pits and grooves, an optical recording medium master having two levels of depth, and a method for manufacturing the same. That is, in this master, as shown in FIG. 1, an intermediate layer 3 which is a conductive film having a low electric resistance is provided between the first photoresist layer 2 and the second photoresist layer 4 laminated on the glass substrate 1. Is provided. The film thicknesses of the first photoresist layer 2, the intermediate layer 3, and the second photoresist layer 4 are 300 to 2000 mm, 30 to 300 mm, and 300 to 2000 mm, respectively. This is because latent images are formed with two levels of laser light intensity so that the first and second photoresist layers 2 and 4 can be exposed for pit exposure, and only the second photoresist layer 4 can be exposed for groove exposure. This is because the exposure beam for exposing the pits is transmitted through the intermediate layer 3 by 85% or more by the film thickness of the intermediate layer 3. In addition, the combination of layer configurations is such that the sensitivity of the first photoresist layer 2 is greater than the sensitivity of the second photoresist layer 4. In these, it is possible to form a pit pattern in which the central portion of the bottom does not rise due to the effect of thermal diffusion of the intermediate layer 3. In addition, by using the fact that the first photoresist layer 2 is more sensitive than the second photoresist layer 4, a stepless pit pattern can be formed at the resist boundary. Therefore, by forming a latent image with two levels of laser light intensity, pits and grooves can be formed on the same board without worrying about switching between the read-only area and the recordable area.

二水準のレーザー光強度で露光された前記の光記録媒体フォトレジスト原盤は、特許文献５に開示されている発明の装置及び方法によって現像が行われることにより、ピットやグルーブが形成される。一連の工程ではフォトレジスト材料をガラス基盤上に塗布する時と同様に、ターンテーブル上に設置した原盤を回転させながら、潜像部分のフォトレジスト材料を除去するための現像液、中間層を除去するための酸溶解液、及びリンス液となる純水の吐出を行うので、現像及び中間層除去の内外差が発生せず、それぞれ均一なピット及びグルーブ形状を得ることができる。   The optical recording medium photoresist master exposed with two levels of laser light intensity is developed by the apparatus and method of the invention disclosed in Patent Document 5 to form pits and grooves. In a series of processes, the developer and the intermediate layer are removed to remove the photoresist material in the latent image portion while rotating the master placed on the turntable in the same way as when applying the photoresist material on the glass substrate. Since the pure water used as the acid solution for rinsing and the rinsing liquid is discharged, there is no difference between the inside and outside of the development and intermediate layer removal, and uniform pit and groove shapes can be obtained, respectively.

特開平６−１５０３９１号公報JP-A-6-150391 特開２００２−２５１７９７号公報JP 2002-251797 A 特許第０３４７６６２１号公報Japanese Patent No. 0376621 特許第０３４７９４１３号公報Japanese Patent No. 0347413 特開平９−３２０１２４公報JP-A-9-320124 特開平８−２０３１３２号公報JP-A-8-203132

前述した公知の製造方法により、同一盤面上にピットからなる領域とグルーブからなる領域の両方が形成された所望の光記録媒体原盤を得ることができる。
しかしながら、該光記録媒体原盤において、中間層の膜厚が第一及び第二のフォトレジスト層と比較して極端に薄く形成されている場合、特に中間層の膜厚が５０Å以下である場合には、中間層に直系０．０５ｍｍ程度のピンホールが多数生じることがある。すると、中間層まで積層したのち第二のフォトレジスト層を形成する際に、例えば前記特許文献６に開示されているように、ターンテーブルを静止させた状態で中間層上面の中央に第二のフォトレジスト層用のフォトレジスト材料（第二のフォトレジスト材料）を塗布すると、前記ピンホールに第二のフォトレジスト材料が染み込んでしまう。静的に第二のフォトレジスト材料を広がらせた後にターンテーブルを回転させた時点では、既に第二のフォトレジスト材料がピンホールを介して第一のフォトレジスト層に達しているため、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒により、第一のフォトレジスト層の界面上で第一及び第二のフォトレジスト材料が混合あるいは溶出してしまう。混合あるいは溶出したフォトレジスト材料は、第二のフォトレジスト層を形成するためのプリベーク中に溶媒が蒸発することに伴いピンホール開口部から出て膨張し破裂するため、第二のフォトレジスト層上に直系０．１５ｍｍ程度の大きさを持つ欠陥が生じる。 By the above-described known manufacturing method, it is possible to obtain a desired optical recording medium master in which both a pit area and a groove area are formed on the same disk surface.
However, in the optical recording medium master, when the film thickness of the intermediate layer is extremely thin compared to the first and second photoresist layers, particularly when the film thickness of the intermediate layer is 50 mm or less. In some cases, a large number of pinholes having a diameter of about 0.05 mm may occur in the intermediate layer. Then, when the second photoresist layer is formed after laminating up to the intermediate layer, the second table is formed in the center of the upper surface of the intermediate layer in a state where the turntable is stationary as disclosed in, for example, Patent Document 6 above. When the photoresist material for the photoresist layer (second photoresist material) is applied, the second photoresist material penetrates into the pinhole. When the turntable is rotated after statically spreading the second photoresist material, the second photoresist material has already reached the first photoresist layer through the pinhole. The first and second photoresist materials are mixed or eluted on the interface of the first photoresist layer by the solvent in which the photoresist material is diluted. The mixed or eluted photoresist material expands and bursts out of the pinhole opening as the solvent evaporates during pre-baking to form the second photoresist layer. In addition, a defect having a size of about 0.15 mm in the direct system is generated.

特に第一のフォトレジスト層の膜厚が１０００Å以上である場合、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒により混合あるいは溶出されるフォトレジスト材料の量が多くなるため、この欠陥は大きくなる。その結果、第二のフォトレジスト層を形成するためのプリベークを行うと、ピンホール開口部から噴出するフォトレジスト材料も多くなり、欠陥の高さは１００〜３００Å程度と高くなる。この欠陥の発生位置にピット又はグルーブが露光されると、それぞれの形状が崩れた状態でスタンパ化されるため、光記録媒体の再生専用領域や記録後の記録可能領域の欠陥率が悪化し、再生時のエラーが多く発生してしまうことになる。
本発明は、このような問題を解決し、第二のフォトレジスト層のプリベーク中の欠陥の発生を抑制して光記録媒体の欠陥率悪化及び再生時のエラー悪化を防止することができる光記録媒体原盤とその製造方法の提供を目的とする。 In particular, when the thickness of the first photoresist layer is 1000 mm or more, the amount of the photoresist material mixed or eluted by the solvent in which the second photoresist material is diluted increases, so this defect becomes large. . As a result, when pre-baking for forming the second photoresist layer is performed, more photoresist material is ejected from the pinhole opening, and the height of the defect becomes as high as about 100 to 300 mm. When a pit or groove is exposed at the position where this defect occurs, it is stamped in a state in which each shape collapses, so the defect rate of the read-only area of the optical recording medium and the recordable area after recording deteriorates, Many errors during playback will occur.
The present invention solves such a problem and suppresses the occurrence of defects during pre-baking of the second photoresist layer to prevent the defect rate of the optical recording medium from deteriorating and the error during reproduction. An object is to provide a medium master and its manufacturing method.

上記課題は、次の１）〜１４）の発明（以下、本発明１〜１４という）によって解決される。
１） 基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層を順次積層し、二層フォトレジスト原盤を作製するプロセスにおいて、中間層の上に第二のフォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料（以下、第二のフォトレジスト材料という）を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用することを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。
２） 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、中間層の上面全体に第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後に第二のフォトレジスト材料の滴下を終了することを特徴とする１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
３） 塗布時間を５〜１０秒とすることを特徴とする２）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
４） 第二のフォトレジスト材料を塗布した後の振り切り回転数を３０００ｒｐｍ以上とすることを特徴とする２）又は３）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
５） 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、ターンテーブルにより中間層まで積層した基盤を回転させながら中間層上面の内周側に第二のフォトレジスト材料を滴下させ、回転の遠心力によりフォトレジスト材料を中間層上面全体に拡散させて成膜することを特徴とする１）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
６） 中間層上面のスタンパの内径加工箇所に該当する領域内から第二のフォトレジスト材料の滴下を行うことを特徴とする５）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
７） スタンパの内径加工箇所に該当する領域内上で吐出位置を固定して第二のフォトレジスト材料を滴下することを特徴とする６）記載の光記録媒体原盤の製造方法。
８） 基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層を順次積層した二層フォトレジスト原盤において、中間層の上に第二のフォトレジスト材料を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用して製造されたことを特徴とする光記録媒体原盤。
９） 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、中間層上面全体に第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後に第二のフォトレジスト材料の滴下を終了する操作を経て製造されたことを特徴とする８）記載の光記録媒体原盤。
１０） 塗布時間を５〜１０秒として製造されたことを特徴とする９）記載の光記録媒体原盤。
１１） 第二のフォトレジスト材料を塗布した後の振り切り回転数を３０００ｒｐｍ以上として製造されたことを特徴とする９）又は１０）記載の光記録媒体原盤。
１２） 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、ターンテーブルにより中間層まで積層した基盤を回転させながら中間層上面の内周側に第二のフォトレジスト材料を滴下させ、回転の遠心力によりフォトレジスト材料を中間層上面全体に拡散させて成膜する操作を経て製造されたことを特徴とする８）記載の光記録媒体原盤。
１３） 中間層上面の、スタンパの内径加工箇所に該当する領域内から第二のフォトレジスト材料の滴下を行うことにより製造されたことを特徴とする１２）記載の光記録媒体原盤。
１４） スタンパの内径加工箇所に該当する領域内上で吐出位置を固定して第二のフォトレジスト材料を滴下することにより製造されたことを特徴とする１３）記載の光記録媒体原盤。 The above problems are solved by the following inventions 1) to 14) (hereinafter referred to as the present inventions 1 to 14).
1) In the process of laminating a first photoresist layer, an intermediate layer made of an oxide film, and a second photoresist layer sequentially on a substrate to produce a two-layer photoresist master, a second photo layer is formed on the intermediate layer. Adopting means to prevent the penetration of the second photoresist material into the pinhole existing in the intermediate layer during the process of applying the photoresist material (hereinafter referred to as the second photoresist material) for forming the resist layer A method of manufacturing an optical recording medium master.
2) A spin coat method is used for applying the second photoresist material, and the dropping of the second photoresist material is terminated immediately after the second photoresist material has spread over the entire upper surface of the intermediate layer. 1) A method for producing an optical recording medium master according to 1).
3) The method for producing an optical recording medium master according to 2), wherein the coating time is 5 to 10 seconds.
4) The method for producing an optical recording medium master according to 2) or 3), wherein the rotation speed after application of the second photoresist material is 3000 rpm or more.
5) Using the spin coat method for applying the second photoresist material, rotating the substrate laminated up to the intermediate layer with a turntable, dropping the second photoresist material on the inner peripheral side of the upper surface of the intermediate layer, The method for producing an optical recording medium master according to 1), wherein a photoresist material is diffused over the entire upper surface of the intermediate layer by centrifugal force to form a film.
6) The method for producing an optical recording medium master according to 5), wherein the second photoresist material is dropped from within a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper on the upper surface of the intermediate layer.
7) The method for producing a master for an optical recording medium according to 6), wherein the second photoresist material is dropped while fixing the discharge position in a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper.
8) In a two-layer photoresist master in which a first photoresist layer, an intermediate layer made of an oxide film, and a second photoresist layer are sequentially laminated on a substrate, a second photoresist material is applied on the intermediate layer. An optical recording medium master manufactured by employing means for preventing the second photoresist material from penetrating into the pinhole existing in the intermediate layer during the process.
9) A spin coat method was used to apply the second photoresist material, and the second photoresist material was spread over the entire upper surface of the intermediate layer and immediately after the dropping of the second photoresist material was completed. 8) The optical recording medium master according to 8).
10) The optical recording medium master according to 9), which is produced with a coating time of 5 to 10 seconds.
11) The optical recording medium master according to 9) or 10), which is produced at a rotation speed of 3000 rpm or more after applying the second photoresist material.
12) A spin coating method is used to apply the second photoresist material, and the second photoresist material is dropped on the inner peripheral side of the upper surface of the intermediate layer while rotating the substrate laminated to the intermediate layer by a turntable. 8. The optical recording medium master according to 8), which is manufactured through an operation of diffusing a photoresist material over the entire upper surface of the intermediate layer by centrifugal force to form a film.
13) The optical recording medium master according to 12), which is manufactured by dropping a second photoresist material from the region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper on the upper surface of the intermediate layer.
14) The optical recording medium master according to 13), which is manufactured by dropping a second photoresist material while fixing a discharge position in an area corresponding to an inner diameter processing portion of a stamper.

以下、上記本発明について詳しく説明する。
まず、図１に本発明の製造方法により作製される光記録媒体原盤の断面構成図を示す。
この原盤はガラス基盤１の上に第一のフォトレジスト層２、中間層３、第二のフォトレジスト層４の順に積層されており、フォトレジスト層中でレーザー光の照射により露光された潜像部分はアルカリ水溶液に可溶となる。第一及び第二のフォトレジスト層で使用されるフォトレジスト材料はポジ型と呼ばれており、感光材料やノボラック樹脂等の固体をアルキル系やアセテート系の溶媒に溶解させた状態となっているのが一般的である。フォトレジスト材料の原液は高粘性・高濃度であるため、光記録媒体原盤を作製する場合には、通常、原液を溶媒等で希釈して使用する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, FIG. 1 shows a cross-sectional configuration diagram of an optical recording medium master manufactured by the manufacturing method of the present invention.
This master is formed by laminating a first photoresist layer 2, an intermediate layer 3, and a second photoresist layer 4 in this order on a glass substrate 1, and a latent image exposed by laser light irradiation in the photoresist layer. The part becomes soluble in an alkaline aqueous solution. The photoresist material used in the first and second photoresist layers is called a positive type and is in a state in which a solid such as a photosensitive material or a novolac resin is dissolved in an alkyl-based or acetate-based solvent. It is common. Since a stock solution of a photoresist material has a high viscosity and a high concentration, when preparing an optical recording medium master, the stock solution is usually diluted with a solvent or the like.

次に、図１の光記録媒体原盤の製造プロセスについて説明する。
フォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料の塗布には、一般的にスピンコート法が用いられる。図２に示すように、まず円形のガラス基盤１を研磨、洗浄し、このガラス基盤１をターンテーブル上に設置する。このターンテーブルによりガラス基盤１を回転させながら、スピナー装置のディスペンサ５により第一のフォトレジスト材料を滴下する。該フォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったら滴下を終了し、ターンテーブルによる回転の回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分なフォトレジスト材料をガラス基盤１の外方に飛散させる。このフォトレジスト材料の飛散時における振り切り回転数を調整することにより、第一のフォトレジスト層の膜厚を調整することが可能であり、通常３００〜２０００Åの厚さになるよう設定する。 Next, a manufacturing process of the optical recording medium master shown in FIG. 1 will be described.
A spin coating method is generally used to apply a photoresist material for forming a photoresist layer. As shown in FIG. 2, first, the circular glass substrate 1 is polished and cleaned, and the glass substrate 1 is placed on a turntable. While rotating the glass substrate 1 with this turntable, the first photoresist material is dropped by the dispenser 5 of the spinner device. When the photoresist material reaches the surface of the board, the dropping is finished, and the number of rotations by the turntable is made larger than that at the time of dropping, and the excess photoresist material is scattered outside the glass substrate 1 by centrifugal force. The film thickness of the first photoresist layer can be adjusted by adjusting the rotation speed of the photoresist material when it is scattered, and is usually set to a thickness of 300 to 2000 mm.

このようにして塗布されたガラス基盤１をオーブンでプリベークすることにより第一のフォトレジスト層が形成される。第一のフォトレジスト層のプリベーク温度は、後述する第二のフォトレジスト層のプリベーク温度及び露光・現像後のポストベーク温度より高く設定することが好ましい。これは第二のフォトレジスト層のプリベーク時及び露光・現像後のポストベーク時に、第一のフォトレジスト層からの溶媒の蒸発によるガスの発生を防ぐためで、ガスが集中する部分の盛り上がりによる欠陥の発生がなく、良好な信号品質を得るためである。また、第一のフォトレジスト層を第二のフォトレジスト層より高感度にすると、露光時にレジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができるため好適である。
次に、第一のフォトレジスト層上に導電性膜である中間層を形成する。この中間層には電気抵抗の小さいＩｎ２Ｏ３やＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３９５ｗｔ％−ＳｎＯ２５ｗｔ％）を使用すると、露光時、熱拡散効果により中間層の膜質の変化を抑制できるため、ピットの中心部分が盛り上がらない平らな形状のピットを形成することができる。また中間層の熱伝導率は４０Ｗ／ｍＫ以上であることが望ましい。中間層の積層には一般的にスパッタ法が用いられる。また、ピットを露光する露光ビームが中間層を８５％以上透過するように、膜厚は３０〜３００Åの範囲で設定する。 The first photoresist layer is formed by pre-baking the glass substrate 1 thus applied in an oven. The pre-baking temperature of the first photoresist layer is preferably set higher than the pre-baking temperature of the second photoresist layer described later and the post-baking temperature after exposure and development. This is to prevent gas generation due to evaporation of the solvent from the first photoresist layer during pre-baking of the second photoresist layer and post-baking after exposure / development. This is in order to obtain a good signal quality. It is also preferable to make the first photoresist layer more sensitive than the second photoresist layer because a stepless pit pattern can be formed at the resist boundary during exposure.
Next, an intermediate layer which is a conductive film is formed on the first photoresist layer. When In 2 O 3 or ITO (In 2 O 3 95 wt% -SnO 2 5 wt%) having a low electrical resistance is used for this intermediate layer, a change in the film quality of the intermediate layer can be suppressed by the thermal diffusion effect during exposure. It is possible to form a flat pit in which the central portion of the pit does not rise. The intermediate layer preferably has a thermal conductivity of 40 W / mK or more. A sputtering method is generally used for the lamination of the intermediate layer. Further, the film thickness is set in the range of 30 to 300 mm so that the exposure beam for exposing the pits passes through the intermediate layer by 85% or more.

次に、中間層の上に第二のフォトレジスト層を形成する。形成方法は第一のフォトレジスト層の場合と同様である。即ち、第一のフォトレジスト層及び中間層が形成されたガラス基盤１をターンテーブル上に設置し、ガラス基盤１を回転させながらスピナー装置のディスペンサ５により第二のフォトレジスト材料を滴下する。フォトレジスト材料が中間層の上面全体に行き渡ったら滴下を終了し、ターンテーブルによる回転の回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分なフォトレジスト材料をガラス基盤１の外方に飛散させる。このフォトレジスト材料の飛散時における回転数を調整することにより、第二のフォトレジスト層の膜厚を調整することが可能であり、通常３００〜２０００Åの厚さになるよう設定する。このようにして塗布されたガラス基盤１を再度オーブンでプリベークすることにより第二のフォトレジスト層が形成され、第一のフォトレジスト層、中間層及び第二のフォトレジスト層が積層された光記録媒体原盤となり、露光機のレーザー光によるピット及びグルーブ露光が可能な状態となる。   Next, a second photoresist layer is formed on the intermediate layer. The formation method is the same as that for the first photoresist layer. That is, the glass substrate 1 on which the first photoresist layer and the intermediate layer are formed is placed on the turntable, and the second photoresist material is dropped by the dispenser 5 of the spinner apparatus while rotating the glass substrate 1. When the photoresist material has spread over the entire upper surface of the intermediate layer, the dropping is finished, and the rotation speed of the turntable is made larger than that at the time of dropping, and excess photoresist material is scattered outside the glass substrate 1 by centrifugal force. Let The film thickness of the second photoresist layer can be adjusted by adjusting the number of rotations when the photoresist material is scattered, and is usually set to a thickness of 300 to 2000 mm. Optical recording in which the second photoresist layer is formed by pre-baking the glass substrate 1 coated in this manner again in an oven, and the first photoresist layer, the intermediate layer, and the second photoresist layer are laminated. It becomes a medium master and is ready for pit and groove exposure using laser light from an exposure machine.

上記のプロセスで作製される光記録媒体原盤において、中間層の膜厚が第一及び第二のフォトレジスト層と比較して極端に薄く形成されている場合、特に中間層の膜厚が５０Å以下である場合、前述したように中間層に直系０．０５ｍｍ程度のピンホールが多数生じることがあり、光記録媒体の再生専用領域や記録後の記録可能領域の欠陥率が悪化し、再生時のエラーが多く発生してしまう原因となる。
そこで本発明１では、第二のフォトレジスト材料を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用して、第一のフォトレジスト層の界面上で発生する、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒による第一及び第二のフォトレジスト材料の混合あるいは溶出を未然に防ぐようにした。 In the optical recording medium master produced by the above process, when the thickness of the intermediate layer is extremely thin compared to the first and second photoresist layers, the thickness of the intermediate layer is particularly 50 mm or less. In this case, as described above, a large number of pinholes of about 0.05 mm in the direct line may occur in the intermediate layer, and the defect rate of the read-only area of the optical recording medium and the recordable area after recording deteriorates. This will cause many errors.
Therefore, in the present invention 1, during the step of applying the second photoresist material, a means for preventing the penetration of the second photoresist material into the pinhole existing in the intermediate layer is adopted, and the first photoresist layer The mixing or elution of the first and second photoresist materials by the solvent diluting the second photoresist material, which occurs on the interface, is prevented beforehand.

また本発明２では、上記第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段として、第二のフォトレジスト材料をスピンコート法により塗布し、中間層の上面全体に第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後にその滴下を終了するという手段を採用する。これにより、余分な第二のフォトレジスト材料の中間層上での滞留量を少なくすることができる。滞留量が多いほど、フォトレジスト材料のピンホールへの染み込みは速く進むため、滞留量が少なくなれば染み込みを防止又は抑制できることになる。
上記中間層の上面全体に第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後とは、例えばディスペンサ５による第二のフォトレジスト材料の吐出が最外周から始まり中心に向って移動していく場合には、理想的にはディスペンサ５が中心に到達した直後ということになる。吐出開始からの時間は、現在汎用されている装置では約５秒であるが、４秒程度でも実施可能である。しかし、第二のフォトレジスト材料の粘度が高く流動性が悪い場合などには、上記塗布操作だけでは塗布抜けを生じることもあり、そのような時にはディスペンサ５を中心部で停止させたまま一定時間吐出を継続させて、塗布抜けなく中間層の上面全体に第二のフォトレジスト材料を行き渡らせる必要がある。従って第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後とは、該停止したまま一定時間吐出した直後ということになる。現在汎用されている装置では、通常、この停止して吐出する時間が約１〜５秒であるから、塗布時間は約５〜１０秒ということになる。 Further, in the present invention 2, as a means for preventing the second photoresist material from penetrating, the second photoresist material is applied by spin coating, and the second photoresist material is spread over the entire upper surface of the intermediate layer. Immediately after that, a method of terminating the dropping is adopted. Thereby, the retention amount on the intermediate | middle layer of an excess 2nd photoresist material can be decreased. As the residence amount increases, the penetration of the photoresist material into the pinhole proceeds faster. Therefore, if the residence amount decreases, the penetration can be prevented or suppressed.
Immediately after the second photoresist material has spread over the entire upper surface of the intermediate layer, for example, when the discharge of the second photoresist material by the dispenser 5 starts from the outermost periphery and moves toward the center, it is ideal. Specifically, this is immediately after the dispenser 5 reaches the center. The time from the start of discharge is about 5 seconds in a currently widely used apparatus, but it can be implemented in about 4 seconds. However, when the viscosity of the second photoresist material is high and the fluidity is poor, the application operation may cause omission of coating, and in such a case, the dispenser 5 is stopped at the center for a certain period of time. It is necessary to continue the discharge so that the second photoresist material is spread over the entire upper surface of the intermediate layer without omission. Therefore, immediately after the second photoresist material has spread, it means immediately after the second photoresist material is discharged for a certain period of time. In a currently widely used apparatus, the time for stopping and discharging is usually about 1 to 5 seconds, so the coating time is about 5 to 10 seconds.

また本発明４では、上記本発明２又は３のようにして第二のフォトレジスト材料を塗布した後、ターンテーブルによる回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分な第二のフォトレジスト材料をガラス基盤１の外方に飛散させる際の振り切り回転数を３０００ｒｐｍ以上とする手段を採用する。これにより余分な第二のフォトレジスト材料をより速く飛散させることができ、余分な第二のフォトレジスト材料の中間層上面での滞留時間を短くできる。滞留時間が長いほどピンホールへ染み込むフォトレジスト材料の量が多くなるため、滞留時間が短くなればピンホールへの染み込みを防止又は抑制できる。
振り切り回転数は、通常の場合３０００ｒｐｍ以上とすることが望ましいが、第二のフォトレジスト材料の種類或いは希釈の程度によって流動性が変化するため、条件を選べば３０００ｒｐｍ未満でも成膜は可能である。 Further, in the present invention 4, after applying the second photoresist material as in the present invention 2 or 3, the number of rotations by the turntable is made larger than that at the time of dropping, and an extra second photo is generated by centrifugal force. A means is adopted in which the rotation speed when the resist material is scattered outside the glass substrate 1 is 3000 rpm or more. As a result, the excess second photoresist material can be scattered more quickly, and the residence time of the excess second photoresist material on the upper surface of the intermediate layer can be shortened. The longer the residence time, the greater the amount of photoresist material that penetrates into the pinhole. Therefore, if the residence time is shortened, the penetration into the pinhole can be prevented or suppressed.
In general, the rotation speed is preferably 3000 rpm or more. However, since the fluidity changes depending on the type of the second photoresist material or the degree of dilution, film formation is possible even at less than 3000 rpm if conditions are selected. .

上記本発明２〜４により所望の光記録媒体原盤を得ることができるが、スピナー装置のディスペンサ５をガラス基盤１の全領域上で稼動させながら第二のフォトレジスト材料の滴下を行うと、第二のフォトレジスト材料が中間層上の全面でピンホール上へ直下することになるためピンホールに染み込み易くなり、第一のフォトレジスト層の界面上全体で第一及び第二のフォトレジスト材料の混合あるいは溶出が起こって、問題としている欠陥が基板上全面に顕著に現れ易い。そのため光記録媒体の再生専用領域や記録後の記録可能領域の欠陥率が悪化し、再生時のエラーが多く発生してしまう場合もある。
そこで、別の手段として、本発明５のように、中間層上面に第二のフォトレジスト材料をスピンコート法により塗布する工程中において、ターンテーブルによりガラス基盤１を回転させながら中間層上面の内周側にフォトレジスト材料を滴下させ、回転の遠心力によりフォトレジスト材料を中間層上面全体に拡散させて成膜する方法が、中間層上に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止するのに有効であり、上記本発明２〜４の場合と同様に、全面均一な膜厚をもつ第二のフォトレジスト層を形成することができる。 According to the present invention 2 to 4, a desired optical recording medium master can be obtained. If the second photoresist material is dropped while the dispenser 5 of the spinner device is operated over the entire area of the glass substrate 1, Since the second photoresist material is directly below the pinhole on the entire surface of the intermediate layer, the second photoresist material is likely to penetrate into the pinhole, and the first and second photoresist materials are formed on the entire interface of the first photoresist layer. Mixing or elution occurs and the defect in question tends to appear remarkably on the entire surface of the substrate. For this reason, the defect rate of the read-only area of the optical recording medium and the recordable area after recording deteriorates, and there are cases where many errors occur during reproduction.
Therefore, as another means, in the process of applying the second photoresist material to the upper surface of the intermediate layer by spin coating as in the present invention 5, the glass substrate 1 is rotated by the turntable while the inner surface of the intermediate layer is rotated. A method of forming a film by dropping a photoresist material on the peripheral side and diffusing the photoresist material over the entire upper surface of the intermediate layer by the centrifugal force of rotation is the method of applying the second photoresist material to the pinhole existing on the intermediate layer. It is effective for preventing penetration and a second photoresist layer having a uniform film thickness can be formed on the entire surface as in the case of the present inventions 2 to 4.

また、本発明６のように、第二のフォトレジスト材料の滴下において、材料の吐出位置をスタンパの内径加工箇所に該当する領域内とすることがより好適である。
光記録媒体の原盤からは電鋳、洗浄、加工の各工程を経てスタンパを作製するが、通常は光記録媒体の基板を成形する際にスタンパを金型に固定できるように、加工工程で内径部分（中心から半径２０〜３５ｍｍ程度まで）及び外径部分（中心から半径約１５０ｍｍ以降）を切除する。そこで、吐出位置を内径部分の切除する箇所に該当する領域とすれば、仮に前記吐出位置において、フォトレジスト材料滴下による中間層ピンホール位置でのレジスト材料の染み込み及び第一のレジスト層の界面上での溶出が集中的に発生したとしてもスタンパ加工工程で切除されてしまうため、基板の形状には影響しないことになる。よって光記録媒体基板として成形される部分、即ち光記録媒体中の再生専用領域及び記録可能領域での欠陥率や再生エラーへの影響を防ぐことが可能である。 Further, as in the sixth aspect of the present invention, in dropping the second photoresist material, it is more preferable that the discharge position of the material is within a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper.
The stamper is manufactured from the master of the optical recording medium through the electroforming, cleaning, and processing steps. Normally, the inner diameter of the stamper is fixed in the processing step so that the stamper can be fixed to the mold when the optical recording medium substrate is formed. A part (from the center to a radius of about 20 to 35 mm) and an outer diameter part (after the radius of about 150 mm from the center) are excised. Therefore, if the discharge position is a region corresponding to the location where the inner diameter portion is to be cut, the resist material soaks in the intermediate layer pinhole position due to the dropping of the photoresist material and the interface of the first resist layer at the discharge position. Even if elution occurs in a concentrated manner, it will be cut off in the stamper processing step, and the shape of the substrate will not be affected. Therefore, it is possible to prevent an influence on a defect rate and a reproduction error in a portion formed as an optical recording medium substrate, that is, a reproduction-only area and a recordable area in the optical recording medium.

また、本発明７のように、第二のフォトレジスト材料をスタンパの内径加工箇所に該当する領域内上で吐出位置を固定して滴下させることが好適である。スピナー装置のディスペンサ等による吐出位置を固定することにより、フォトレジスト材料は吐出半径位置から外周方向へ遠心力により均等に拡散される。よって全面にフォトレジスト材料が行き渡った時点で、より高速な回転で余分なフォトレジスト材料を飛散させて成膜するステップに移行できるため、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを更に効果的に防止することができる。また全面にフォトレジスト材料が行き渡った時点で、フォトレジスト材料の吐出を終了させることができるため、余分なフォトレジスト材料を使わずに済み、材料コストを削減できる。
また、本発明８〜１４の光記録媒体原盤は、上記本発明１〜７の製造方法により得ることができる。 Further, as in the present invention 7, it is preferable that the second photoresist material is dropped while fixing the discharge position in a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper. By fixing the discharge position by a dispenser or the like of the spinner device, the photoresist material is evenly diffused by centrifugal force from the discharge radial position to the outer peripheral direction. Therefore, when the photoresist material has spread over the entire surface, it is possible to proceed to the step of film formation by scattering excess photoresist material at a higher speed, so the second photoresist material to the pinhole existing in the intermediate layer Can be more effectively prevented. Further, since the discharge of the photoresist material can be finished when the photoresist material is spread over the entire surface, it is not necessary to use an extra photoresist material, and the material cost can be reduced.
The optical recording medium masters of the present inventions 8 to 14 can be obtained by the production methods of the present inventions 1 to 7.

本発明によれば、第二のフォトレジスト層のプリベーク中の欠陥の発生を抑制して光記録媒体の欠陥率悪化及び再生時のエラー悪化を防止することができる光記録媒体原盤とその製造方法を提供できる。   According to the present invention, an optical recording medium master capable of suppressing the occurrence of defects during pre-baking of the second photoresist layer and preventing deterioration of the defect rate of the optical recording medium and error during reproduction, and a method for manufacturing the same Can provide.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例１〜２、比較例１
直径２５０ｍｍの円形ガラス基盤１を研磨、洗浄した後、シランカップリング剤（密着剤）によるトリメチルシリル化処理を行って疎水化した。
このガラス基盤１を図２に示すようなスピナー装置のターンテーブルに載置し、次いで、ターンテーブルによりガラス基盤を回転数３００ｒｐｍで回転させながら、スピナー装置のディスペンサ５により、第一のフォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料（第一のフォトレジスト材料：東京応化製ＴＳＭＲ−ＧＰ８０００ＰＬを溶媒により４０％希釈したもの）を塗布した。
ディスペンサ５の動作はガラス基盤上の最外周から中心への移動、中心での停止、中心から最外周への移動を一連のパターンとし、この三段階の動作をそれぞれ５秒間行った。フォトレジスト材料の吐出は、ディスペンサ５がガラス基盤上の最外周から中心へ移動を開始する時から、最外周へ戻るまでの１５秒間とした。
吐出終了後すぐにターンテーブル回転数を１５００ｒｐｍとし、盤上に残留する余分なフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。
次に、この第一のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤をオーブンにより１３５℃で３０分間プリベークし、膜厚１４００Åの第一のフォトレジスト層を形成した。
続いて、スパッタ法により中間層となるＩｎ２Ｏ３を厚さ３０Å積層し、最後に第二のフォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料（第二のフォトレジスト材料：シプレイ製ＡＺ１５００を溶媒により５０％希釈したもの）を塗布した。
ディスペンサ５の動作パターンは第一のフォトレジスト材料塗布時と同様にした。フォトレジスト材料の吐出は、ディスペンサ５がガラス基盤上の最外周から中心へ移動を開始する時から開始し、滴下時間は５秒間（ディスペンサ５の盤面中心到達まで、実施例１）、１０秒間（ディスペンサ５が中心から最外周へ移動する直前まで、実施例２）、１５秒間（ディスペンサ５の最外周到達まで、比較例１）とした。
吐出終了後すぐにターンテーブル回転数を２０００ｒｐｍとし、盤上に残留する余分なフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。
次に、この第二のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤をオーブンにより９０℃で３０分間プリベークし、膜厚１６００Åの第二のフォトレジスト層を形成した。即ち、第一のフォトレジスト層、中間層及び第二のフォトレジスト層が積層された実施例１〜２及び比較例１の光記録媒体原盤を作製した。 Examples 1-2, Comparative Example 1
After polishing and cleaning the circular glass substrate 1 having a diameter of 250 mm, it was hydrophobized by performing a trimethylsilylation treatment with a silane coupling agent (adhesive agent).
The glass substrate 1 is placed on a turntable of a spinner apparatus as shown in FIG. 2, and the first photoresist layer is then rotated by a dispenser 5 of the spinner apparatus while the glass substrate is rotated at a rotation speed of 300 rpm by the turntable. A photoresist material (first photoresist material: TSMR-GP8000PL manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., 40% diluted with a solvent) was applied.
The operation of the dispenser 5 was a series of patterns of movement from the outermost periphery to the center on the glass substrate, stop at the center, and movement from the center to the outermost periphery, and each of these three steps was performed for 5 seconds. The discharge of the photoresist material was performed for 15 seconds from when the dispenser 5 started moving from the outermost periphery to the center on the glass substrate until returning to the outermost periphery.
Immediately after the completion of the discharge, the turntable rotation speed was set to 1500 rpm, and excess photoresist material remaining on the board was scattered outward.
Next, the glass substrate coated with the first photoresist material was pre-baked in an oven at 135 ° C. for 30 minutes to form a first photoresist layer having a thickness of 1400 mm.
Subsequently, In 2 O 3 serving as an intermediate layer is laminated by a thickness of 30 mm by a sputtering method, and finally a photoresist material (second photoresist material: AZ1500 manufactured by Shipley is used as a solvent for forming a second photoresist layer. 50% diluted) was applied.
The operation pattern of the dispenser 5 was the same as that when applying the first photoresist material. The discharge of the photoresist material starts when the dispenser 5 starts to move from the outermost periphery on the glass substrate to the center, and the dropping time is 5 seconds (until the center of the surface of the dispenser 5 is reached, Example 1), 10 seconds ( Example 2) and 15 seconds (until reaching the outermost periphery of the dispenser 5 until Comparative Example 1) until the dispenser 5 moved from the center to the outermost periphery.
Immediately after the completion of the discharge, the turntable rotation speed was set to 2000 rpm, and excess photoresist material remaining on the board was scattered outward.
Next, the glass substrate coated with the second photoresist material was pre-baked at 90 ° C. for 30 minutes in an oven to form a second photoresist layer having a thickness of 1600 mm. That is, optical recording medium masters of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 in which the first photoresist layer, the intermediate layer, and the second photoresist layer were laminated were prepared.

これらの原盤を、図３に示すような手順で加工した。即ち、レーザー光６、７によりトラックピッチ１．６μｍのＣＤフォーマットに従い、内周側よりピット領域及びグルーブ領域の潜像形成を順に行った後〔図３（ａ）〕、５０％希釈現像液（東京応化製ＤＥ−３）による第二のフォトレジスト層現像〔図３（ｂ）〕、０．１６％硝酸水溶液による中間層除去〔図３（ｃ）〕、５０％希釈現像液（東京応化製ＤＥ−３）による第一及び第二のフォトレジスト層現像〔図３（ｄ）〕、０．１６％硝酸水溶液による２回目の中間層除去〔図３（ｅ）〕を行い、ピット（８）及びグルーブ（９）のパターニングを行った。なお、潜像形成には図４で示すような光記録媒体原盤製造用露光装置を使用した。
このパターニングされた光記録媒体原盤をキズ検査機により観察したところ、直系０．１５ｍｍ以上でかつ１００Å以上の高さを持つ欠陥の個数は、比較例１では盤面上３１５個であったが、実施例１及び２では、それぞれ３個、７個であった。実施例１及び２はフォトレジスト材料の滴下時間が短いことから、盤面上に滞留する余分なフォトレジスト材料の量を比較例１よりも少なくすることができ、即ち、中間層に存在するピンホールへのフォトレジスト材料の染み込みを遅くすることができ、第一のフォトレジスト層の界面上で発生する、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒による第一及び第二のフォトレジスト材料の混合あるいは溶出を未然に防ぐことができた。その結果、第二のフォトレジスト層形成におけるプリベーク中の欠陥の発生を防止できた。 These masters were processed according to the procedure shown in FIG. That is, after forming latent images in the pit area and groove area in order from the inner periphery side in accordance with a CD format with a track pitch of 1.6 μm by laser beams 6 and 7 (FIG. 3A), a 50% diluted developer ( Second photoresist layer development with Tokyo Ohka DE-3) [FIG. 3 (b)], intermediate layer removal with 0.16% nitric acid aqueous solution [FIG. 3 (c)], 50% diluted developer (Tokyo Ohka) First and second photoresist layer development with DE-3) [FIG. 3 (d)], second intermediate layer removal with 0.16% nitric acid aqueous solution [FIG. 3 (e)], and pit (8) And patterning of the groove (9) was performed. For the latent image formation, an exposure apparatus for manufacturing an optical recording medium master as shown in FIG. 4 was used.
When this patterned optical recording medium master was observed with a scratch inspection machine, the number of defects having a direct line of 0.15 mm or more and a height of 100 mm or more was 315 on the board surface in Comparative Example 1. In Examples 1 and 2, there were 3 and 7, respectively. In Examples 1 and 2, since the dropping time of the photoresist material is short, the amount of excess photoresist material staying on the board surface can be made smaller than that in Comparative Example 1, that is, pinholes existing in the intermediate layer. Of the first and second photoresist materials by the solvent diluting the second photoresist material generated on the interface of the first photoresist layer, which can slow the penetration of the photoresist material into the first photoresist layer. Mixing or elution could be prevented in advance. As a result, generation of defects during prebaking in the formation of the second photoresist layer could be prevented.

更に、パターニングされた各光記録媒体原盤から電鋳、洗浄工程を経てスタンパを作製し、これらのスタンパから１．２ｍｍ厚のポリカーボネート基板を成形し、その上に、フタロシアニン系色素液のスピンコートによる膜厚約１３０ｎｍの記録層、Ａｇスパッタによる膜厚約１１０ｎｍの反射層を順次積層させ、次いで、紫外線硬化樹脂のスピンコートによるオーバーコート層を積層して、再生専用領域と記録可能領域の両方を持つ光記録媒体である各ハイブリッドＣＤ−Ｒディスクを作製した。
これらのハイブリッドＣＤ−Ｒディスクの記録可能領域に、光記録装置（リコー製ＭＰ７１２０）により線速１９．２ｍ／ｓで全面記録した後、再生装置（パルステック製ＤＤＵ−１０００）により再生専用領域、記録可能領域を線速１．２ｍ／ｓで連続して再生したところ、比較例１の光記録媒体原盤から作製されたハイブリッドＣＤ−Ｒディスクでは平均Ｃ１エラーレートが２５３で、再生中ＣＵエラーも発生したのに対し、実施例１及び２の光記録媒体原盤から作製されたハイブリッドＣＤ−Ｒディスクの平均Ｃ１エラーレートはそれぞれ４．３及び１１．８であり、再生中のＣＵエラー発生はなかった。即ち比較例１では、光記録媒体原盤で欠陥が発生し、光記録媒体の欠陥率の悪化及び再生時のエラー悪化を招いたのに対し、実施例１及び２では光記録媒体原盤の欠陥の発生に伴う悪影響を回避できた。 Furthermore, a stamper is produced from each patterned optical recording medium master by electroforming and washing steps, a 1.2 mm-thick polycarbonate substrate is formed from these stampers, and a phthalocyanine dye solution is spin-coated thereon. A recording layer with a film thickness of about 130 nm and a reflective layer with a film thickness of about 110 nm by Ag sputtering are sequentially stacked, and then an overcoat layer by spin coating of an ultraviolet curable resin is stacked to form both the read-only area and the recordable area. Each hybrid CD-R disc, which is an optical recording medium, was prepared.
In the recordable area of these hybrid CD-R discs, the entire surface was recorded at a linear speed of 19.2 m / s by an optical recording device (MP7120 manufactured by Ricoh), and then the read-only area was recorded by a playback device (DDU-1000 manufactured by Pulse Tech). When the recordable area was continuously reproduced at a linear velocity of 1.2 m / s, the hybrid CD-R disc produced from the optical recording medium master of Comparative Example 1 had an average C1 error rate of 253 and a CU error during reproduction. In contrast, the average C1 error rates of the hybrid CD-R discs produced from the optical recording medium masters of Examples 1 and 2 were 4.3 and 11.8, respectively, and no CU error occurred during playback. It was. That is, in Comparative Example 1, defects occurred in the optical recording medium master, leading to deterioration of the defect rate of the optical recording medium and deterioration of errors during reproduction, whereas in Examples 1 and 2, defects in the optical recording medium master were detected. The adverse effects associated with the occurrence were avoided.

実施例３〜４、比較例２
第一のフォトレジスト層の膜厚を８００Åに変え、第二のフォトレジスト材料を「東京応化製ＴＳＭＲ−ＧＰ８０００ＰＬを溶媒により１０％希釈したもの」に変え、第二のフォトレジスト材料の吐出終了直後のターンテーブル回転数を４０００ｒｐｍ（実施例３）、３０００ｒｐｍ（実施例４）、２０００ｒｐｍ（比較例２）とした点以外は、実施例２と同様にして、それぞれの第二のフォトレジスト層の膜厚が、３００Å（実施例３）、３６０Å（実施例４）、４６０Å（比較例２）である光記録媒体原盤を作製した。
これらの原盤に対し、実施例１と同様にしてピット及びグルーブのパターニングを行い、パターニングされた光記録媒体原盤をキズ検査機により観察したところ、直径０．１５ｍｍ以上でかつ１００Å以上の高さを持つ欠陥の個数は、比較例２では盤面上２３０個であったのに対し、実施例３及び４はそれぞれ０個、２個であった。実施例３及び４はフォトレジスト材料吐出後のターンテーブルの振り切り回転数が比較例２より速いので、余分なフォトレジスト材料の盤面上での滞留時間をより短くすることができた。その結果、比較例２よりもフォトレジスト材料の中間層に存在するピンホールへの浸透を少なくすることができ、第一のフォトレジスト層の界面上で発生する、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒による第一及び第二のフォトレジスト材料の混合あるいは溶出を未然に防ぐことができた。従って、第二のフォトレジスト層形成におけるプリベーク中の欠陥の発生を防止できた。 Examples 3-4, Comparative Example 2
Change the film thickness of the first photoresist layer to 800 mm, change the second photoresist material to “10% diluted TSMR-GP8000PL made by Tokyo Ohka Kogyo with a solvent”, and immediately after the second photoresist material is discharged. Each of the second photoresist layer films was the same as in Example 2 except that the turntable rotation speed was 4000 rpm (Example 3), 3000 rpm (Example 4), and 2000 rpm (Comparative Example 2). An optical recording medium master having a thickness of 300 mm (Example 3), 360 mm (Example 4), and 460 mm (Comparative Example 2) was produced.
The pits and grooves were patterned on these masters in the same manner as in Example 1. When the patterned optical recording medium master was observed with a scratch inspection machine, it had a diameter of 0.15 mm or more and a height of 100 mm or more. In Comparative Example 2, the number of defects was 230 on the board surface, whereas Examples 3 and 4 were 0 and 2 respectively. In Examples 3 and 4, since the turn-off rotation speed of the turntable after discharging the photoresist material was faster than that in Comparative Example 2, the residence time of excess photoresist material on the surface of the board could be further shortened. As a result, the penetration of the pinhole existing in the intermediate layer of the photoresist material can be reduced as compared with Comparative Example 2, and the second photoresist material generated on the interface of the first photoresist layer is diluted. It was possible to prevent the first and second photoresist materials from being mixed or eluted by the solvent used. Therefore, it was possible to prevent the occurrence of defects during prebaking in the formation of the second photoresist layer.

更に、パターニングされた各光記録媒体原盤から実施例１と同様の手順で厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を成形し、その上に、第１保護層、相変化型記録層、第２保護層、反射放熱層を順次スパッタ法により積層した。第１保護層と第２保護層にはＺｎＳ・ＳｉＯ2を用い、膜厚はそれぞれ９０ｎｍ、３０ｎｍとした。記録層にはＡｇ４．０Ｉｎ６．０Ｓｂ６１．０Ｔｅ２９．０を用い、膜厚は１８ｎｍとした。反射放熱層にはアルミニウム合金を使用し、膜厚は１４０ｎｍとした。即ち、基板／ＺｎＳ・ＳｉＯ2（９０ｎｍ）／Ａｇ４．０Ｉｎ６．０Ｓｂ６１．０Ｔｅ２９．０（１８ｎｍ）／ＺｎＳ・ＳｉＯ2（３０ｎｍ）／Ａｌ合金（１４０ｎｍ）という層構成を形成した。次いで、紫外線硬化樹脂のスピンコートによるオーバーコートを形成して、再生専用領域と記録可能領域の両方を持つ光記録媒体である各ハイブリッドＣＤ−ＲＷディスクを作製した。
続いて、大口径ＬＤを有する初期化装置により、上記各ディスクの全面結晶化処理を行った。
これらのハイブリッドＣＤ−ＲＷディスクの記録可能領域に、光記録装置（リコー製ＭＰ７１２０）により、線速４．８ｍ／ｓで全面記録した後、再生装置（パルステック製ＤＤＵ−１０００）により再生専用領域、記録可能領域を線速１．２ｍ／ｓで連続して再生したところ、比較例２の光記録媒体原盤から作製されたハイブリッドＣＤ−ＲＷディスクの平均Ｃ１エラーレートが１４４であったのに対し、実施例３及び４の光記録媒体原盤から作製されたハイブリッドＣＤ−Ｒディスクの平均Ｃ１エラーレートはそれぞれ１．７及び６．１であった。即ち比較例２では、光記録媒体原盤で欠陥が発生し、光記録媒体の欠陥率の悪化及び再生時のエラー悪化を招いたのに対し、実施例３及び４では欠陥の発生に伴う悪影響を回避できた。 Furthermore, a polycarbonate substrate having a thickness of 1.2 mm is formed from each patterned optical recording medium master in the same manner as in Example 1, and a first protective layer, a phase change recording layer, and a second protective layer are formed thereon. The reflective heat radiation layer was sequentially laminated by sputtering. ZnS · SiO 2 was used for the first protective layer and the second protective layer, and the film thickness was 90 nm and 30 nm, respectively. For the recording layer, Ag 4.0 In 6.0 Sb 61.0 Te 29.0 was used, and the film thickness was 18 nm. An aluminum alloy was used for the reflective heat radiation layer, and the film thickness was 140 nm. That is, a layer structure of substrate / ZnS · SiO 2 (90 nm) / Ag 4.0 In 6.0 Sb 61.0 Te 29.0 (18 nm) / ZnS · SiO 2 (30 nm) / Al alloy (140 nm) is formed. did. Subsequently, an overcoat was formed by spin coating of an ultraviolet curable resin, and each hybrid CD-RW disc, which is an optical recording medium having both a read-only area and a recordable area, was produced.
Subsequently, the entire crystallization process of each disk was performed by an initialization apparatus having a large aperture LD.
In the recordable area of these hybrid CD-RW discs, the entire surface was recorded at a linear velocity of 4.8 m / s by an optical recording device (MP7120 manufactured by Ricoh), and then the read-only area was recorded by a playback device (DDU-1000 manufactured by Pulse Tech). When the recordable area was continuously reproduced at a linear velocity of 1.2 m / s, the average C1 error rate of the hybrid CD-RW disc produced from the optical recording medium master of Comparative Example 2 was 144. The average C1 error rates of the hybrid CD-R discs produced from the optical recording medium masters of Examples 3 and 4 were 1.7 and 6.1, respectively. That is, in Comparative Example 2, defects occurred in the optical recording medium master, leading to a deterioration in the defect rate of the optical recording medium and a deterioration in errors during reproduction, whereas in Examples 3 and 4, there were adverse effects associated with the occurrence of defects. I was able to avoid it.

実施例５〜７
ターンテーブルの回転数を３５０ｒｐｍに変えた点以外は、実施例１と同様にして円形ガラス基盤１上に第一のフォトレジスト層を形成した。
続いて、スパッタ法により中間層となるＩｎ２Ｏ３を厚さ３０Å積層し、最後に実施例１と同じ第二のフォトレジスト材料を塗布した。
ディスペンサ５の動作パターンは、図５に示すように、ガラス基盤上の半径位置３０ｍｍから中心への移動（実施例５）、半径位置３０ｍｍでの固定（実施例６）、中心での固定（実施例７）の３種類とした。実施例５のディスペンサの移動は８秒間で行い、フォトレジスト材料の吐出は全パターンそれぞれ８秒間とした（吐出量０．８ｍｌ／秒）。
吐出終了後すぐにターンテーブル回転数を２０００ｒｐｍとし、盤上に残留する余分なフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。
次に、この第二のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤をオーブンにより９０℃で３０分間プリベークし、膜厚１６００Åの第二のフォトレジスト層を形成した。即ち、第一のフォトレジスト層、中間層及び第二のフォトレジスト層が積層された実施例５〜７の光記録媒体原盤を作製した。 Examples 5-7
A first photoresist layer was formed on the circular glass substrate 1 in the same manner as in Example 1 except that the rotation speed of the turntable was changed to 350 rpm.
Subsequently, In 2 O 3 serving as an intermediate layer was laminated by a thickness of 30 mm by sputtering, and finally the same second photoresist material as in Example 1 was applied.
As shown in FIG. 5, the movement pattern of the dispenser 5 is as follows: moving from a radial position of 30 mm on the glass substrate to the center (Example 5), fixing at the radial position of 30 mm (Example 6), fixing at the center (implementing) Example 7) was used. The movement of the dispenser of Example 5 was performed in 8 seconds, and the discharge of the photoresist material was performed for 8 seconds for each of all patterns (discharge amount 0.8 ml / second).
Immediately after the completion of the discharge, the turntable rotation speed was set to 2000 rpm, and excess photoresist material remaining on the board was scattered outward.
Next, the glass substrate coated with the second photoresist material was pre-baked at 90 ° C. for 30 minutes in an oven to form a second photoresist layer having a thickness of 1600 mm. That is, optical recording medium masters of Examples 5 to 7 in which the first photoresist layer, the intermediate layer, and the second photoresist layer were laminated were produced.

これらの原盤を、実施例１と同様にして図３に示すような手順で加工し、ピット及びグルーブのパターニングを行った。
このパターニングされた各光記録媒体原盤を用いて、ニッケルによる電鋳、半径位置３４ｍｍ以内の内径部分及び半径位置１５０ｍｍ以上の外形部分の切除による加工及び洗浄工程を経て、各スタンパを作製した。
これらのスタンパについて、半径位置２３〜５８ｍｍ間でキズ検査機により観察したところ、検出された大きさ０．１５ｍｍ径以上かつ高さ１００Å以上の欠陥の個数は、表１に示すように実施例５〜７でそれぞれ５０、３３、２７個であった。即ち、原盤工程上、第二のフォトレジスト材料の吐出位置をより内周側にすることで、フォトレジスト材料の中間層ピンホールへの染み込みを抑制することができ、第一のフォトレジスト層の界面上で発生する、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒による第一及び第二のフォトレジスト材料の混合あるいは溶出を未然に防ぐことが可能であった。従って、第二のフォトレジスト層形成のプリベーク中における欠陥の発生を防止できた。
また、何れのスタンパも全面にピット及びグルーブが形成されており、未形成部分はなかった。即ちフォトレジスト材料の吐出位置及びパターン変更によるフォトレジスト材料の塗布抜けは発生しなかった。 These masters were processed by the procedure shown in FIG. 3 in the same manner as in Example 1 to pattern pits and grooves.
Using each patterned optical recording medium master, each stamper was manufactured through electroforming with nickel, processing by cutting out an inner diameter portion within a radial position of 34 mm and an outer shape portion at a radial position of 150 mm or more, and a cleaning process.
When these stampers were observed with a scratch inspection machine at a radial position of 23 to 58 mm, the number of detected defects having a diameter of 0.15 mm or more and a height of 100 mm or more was shown in Table 1. It was 50, 33, and 27 at ˜7, respectively. That is, by making the discharge position of the second photoresist material closer to the inner peripheral side in the master process, the penetration of the photoresist material into the intermediate layer pinhole can be suppressed, and the first photoresist layer It was possible to prevent the mixing or elution of the first and second photoresist materials from occurring on the interface with the solvent diluting the second photoresist material. Therefore, it was possible to prevent the occurrence of defects during the pre-baking for forming the second photoresist layer.
In addition, pits and grooves were formed on the entire surface of any stamper, and there were no unformed portions. That is, there was no omission of coating of the photoresist material due to the change in the discharge position and pattern of the photoresist material.

更に、上記各スタンパからポリカーボネート基板を成形し、実施例１と同様にして再生専用領域と記録可能領域の両方を持つ光記録媒体である各ハイブリッドＣＤ−Ｒディスクを作製した。
これらのハイブリッドＣＤ−Ｒディスクの記録可能領域に、光記録装置（リコー製ＭＰ７１２０）により線速１９．２ｍ／ｓで全面記録した後、再生装置（パルステック製ＤＤＵ−１０００）により再生専用領域、記録可能領域を連続して再生したところ、実施例５〜７の平均Ｃ１エラーレートはそれぞれ１２．３、８．１、６．４であり、再生中のＣＵエラー発生はなかった。即ち、実施例５〜７では光記録媒体原盤の欠陥の発生に伴う問題の発生を防止することができた。

Figure 2006196111
Further, a polycarbonate substrate was formed from each of the above stampers, and each hybrid CD-R disc, which is an optical recording medium having both a read-only area and a recordable area, was produced in the same manner as in Example 1.
In the recordable area of these hybrid CD-R discs, the entire surface was recorded at a linear speed of 19.2 m / s by an optical recording device (MP7120 manufactured by Ricoh), and then the read-only area was recorded by a playback device (DDU-1000 manufactured by Pulse Tech). When the recordable area was continuously reproduced, the average C1 error rates of Examples 5 to 7 were 12.3, 8.1, and 6.4, respectively, and no CU error occurred during reproduction. That is, in Examples 5 to 7, it was possible to prevent the occurrence of problems associated with the occurrence of defects in the optical recording medium master.
Figure 2006196111

本発明の製造方法により作製される光記録媒体原盤の断面構成図。The cross-sectional block diagram of the optical recording medium original disc produced by the manufacturing method of this invention. スピンコート法によりフォトレジスト材料を塗布する状態の説明図。Explanatory drawing of the state which applies a photoresist material by a spin coat method. ピット及びグルーブのパターニング手順を示す図。（ａ）ピット領域及びグルーブ領域の潜像形成工程、（ｂ）第二のフォトレジスト層現像工程、（ｃ）中間層除去工程。The figure which shows the patterning procedure of a pit and a groove. (A) latent image forming step of pit region and groove region, (b) second photoresist layer developing step, (c) intermediate layer removing step. ピット及びグルーブのパターニング手順を示す図（図３−１の続き）。（ｄ）第一及び第二のフォトレジスト層現像工程、（ｅ）２回目の中間層除去工程。The figure which shows the patterning procedure of a pit and a groove | channel (continuation of FIGS. 3-1). (D) First and second photoresist layer developing step, (e) Second intermediate layer removing step. 光記録媒体原盤作製用露光装置の模式図。The schematic diagram of the exposure apparatus for optical recording medium original disc preparation. 実施例５〜７のディスペンサ５の動作パターンを示す図。The figure which shows the operation | movement pattern of the dispenser 5 of Examples 5-7.

符号の説明Explanation of symbols

１ ガラス基盤
２ 第一のフォトレジスト層
３ 中間層
４ 第二のフォトレジスト層
５ ディスペンサ
６ ピット領域に照射するレーザ光
７ グルーブ領域に照射するレーザ光
８ ピット
９ グルーブ
ＥＯＭ 電子光学素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 1st photoresist layer 3 Intermediate layer 4 2nd photoresist layer 5 Dispenser 6 Laser beam irradiated to a pit area | region 7 Laser beam irradiated to a groove area | region 8 Pit 9 Groove EOM Electro-optical element

Claims (14)

基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層を順次積層し、二層フォトレジスト原盤を作製するプロセスにおいて、中間層の上に第二のフォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料（以下、第二のフォトレジスト材料という）を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用することを特徴とする光記録媒体原盤の製造方法。   In the process of laminating a first photoresist layer, an intermediate layer made of an oxide film, and a second photoresist layer in order on a substrate to produce a two-layer photoresist master, a second photoresist layer is formed on the intermediate layer. Adopting means for preventing the penetration of the second photoresist material into the pinhole existing in the intermediate layer during the step of applying the photoresist material (hereinafter referred to as the second photoresist material) for forming the film A method for manufacturing an optical recording medium master. 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、中間層の上面全体に第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後に第二のフォトレジスト材料の滴下を終了することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体原盤の製造方法。   The spin coating method is used to apply the second photoresist material, and the dropping of the second photoresist material is terminated immediately after the second photoresist material has spread over the entire upper surface of the intermediate layer. 2. A method for producing an optical recording medium master according to 1. 塗布時間を５〜１０秒とすることを特徴とする請求項２記載の光記録媒体原盤の製造方法。   3. The method for producing an optical recording medium master according to claim 2, wherein the coating time is 5 to 10 seconds. 第二のフォトレジスト材料を塗布した後の振り切り回転数を３０００ｒｐｍ以上とすることを特徴とする請求項２又は３記載の光記録媒体原盤の製造方法。   4. The method for producing an optical recording medium master according to claim 2, wherein the rotation speed after application of the second photoresist material is 3000 rpm or more. 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、ターンテーブルにより中間層まで積層した基盤を回転させながら中間層上面の内周側に第二のフォトレジスト材料を滴下させ、回転の遠心力によりフォトレジスト材料を中間層上面全体に拡散させて成膜することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体原盤の製造方法。   Spin coating is used to apply the second photoresist material, and the second photoresist material is dropped on the inner peripheral side of the upper surface of the intermediate layer while rotating the substrate laminated to the intermediate layer by a turntable, and the centrifugal force of rotation 2. The method of manufacturing an optical recording medium master according to claim 1, wherein a photoresist material is diffused over the entire upper surface of the intermediate layer to form a film. 中間層上面のスタンパの内径加工箇所に該当する領域内から第二のフォトレジスト材料の滴下を行うことを特徴とする請求項５記載の光記録媒体原盤の製造方法。   6. The method for manufacturing an optical recording medium master according to claim 5, wherein the second photoresist material is dropped from within a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper on the upper surface of the intermediate layer. スタンパの内径加工箇所に該当する領域内上で吐出位置を固定して第二のフォトレジスト材料を滴下することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体原盤の製造方法。   7. The method of manufacturing an optical recording medium master according to claim 6, wherein the second photoresist material is dropped while the discharge position is fixed within a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper. 基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層を順次積層した二層フォトレジスト原盤において、中間層の上に第二のフォトレジスト材料を塗布する工程中、中間層に存在するピンホールへの第二のフォトレジスト材料の染み込みを防止する手段を採用して製造されたことを特徴とする光記録媒体原盤。   In a two-layer photoresist master in which a first photoresist layer, an intermediate layer made of an oxide film, and a second photoresist layer are sequentially laminated on a substrate, a process of applying a second photoresist material on the intermediate layer An optical recording medium master disc manufactured by employing means for preventing the second photoresist material from penetrating into the pinhole existing in the intermediate layer. 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、中間層の上面全体に第二のフォトレジスト材料が行き渡った直後に第二のフォトレジスト材料の滴下を終了する操作を経て製造されたことを特徴とする請求項８記載の光記録媒体原盤。   The spin coating method was used to apply the second photoresist material, and it was manufactured through an operation to finish dropping the second photoresist material immediately after the second photoresist material spread over the entire upper surface of the intermediate layer. The optical recording medium master according to claim 8. 塗布時間を５〜１０秒として製造されたことを特徴とする請求項９記載の光記録媒体原盤。   The optical recording medium master according to claim 9, wherein the optical recording medium master is manufactured with a coating time of 5 to 10 seconds. 第二のフォトレジスト材料を塗布した後の振り切り回転数を３０００ｒｐｍ以上として製造されたことを特徴とする請求項９又は１０記載の光記録媒体原盤。   The optical recording medium master according to claim 9 or 10, wherein the optical recording medium master is manufactured at a rotation speed of 3000 rpm or more after the second photoresist material is applied. 第二のフォトレジスト材料の塗布にスピンコート法を用い、ターンテーブルにより中間層まで積層した基盤を回転させながら中間層上面の内周側に第二のフォトレジスト材料を滴下させ、回転の遠心力によりフォトレジスト材料を中間層上面全体に拡散させて成膜する操作を経て製造されたことを特徴とする請求項８記載の光記録媒体原盤。   Spin coating is used to apply the second photoresist material, and the second photoresist material is dropped on the inner peripheral side of the upper surface of the intermediate layer while rotating the substrate laminated to the intermediate layer by a turntable, and the centrifugal force of rotation 9. An optical recording medium master according to claim 8, wherein the optical recording medium master is manufactured through an operation of diffusing a photoresist material over the entire upper surface of the intermediate layer to form a film. 中間層上面の、スタンパの内径加工箇所に該当する領域内から第二のフォトレジスト材料の滴下を行うことにより製造されたことを特徴とする請求項１２記載の光記録媒体原盤。   13. The optical recording medium master disk according to claim 12, wherein the optical recording medium master disk is manufactured by dropping a second photoresist material from a region corresponding to the inner diameter processing portion of the stamper on the upper surface of the intermediate layer. スタンパの内径加工箇所に該当する領域内上で吐出位置を固定して第二のフォトレジスト材料を滴下することにより製造されたことを特徴とする請求項１３記載の光記録媒体原盤。
14. The optical recording medium master according to claim 13, wherein the optical recording medium master is manufactured by dropping a second photoresist material while fixing a discharge position in an area corresponding to an inner diameter processing portion of a stamper.
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