JP4396230B2 - Optical recording method, master for manufacturing optical recording medium, and optical recording medium - Google Patents

Optical recording method, master for manufacturing optical recording medium, and optical recording medium Download PDF

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この発明は、例えば一面に形成されたフォトレジスト膜等に対してレーザ光を照射することにより、フォトレジスト膜等にレーザ光の照射軌跡に応じた記録パターンを形成(描画)する光学記録方法に関する。また、この発明は、光記録媒体にピットおよびグルーブを形成する際に用いて好適な光記録媒体製造用原盤に関する。さらに、この発明は、光学記録方法および光記録媒体原盤により作成された光記録媒体に関する。   The present invention relates to an optical recording method for forming (drawing) a recording pattern corresponding to an irradiation locus of laser light on a photoresist film or the like by irradiating a photoresist film or the like formed on one surface with laser light, for example. . The present invention also relates to an optical recording medium manufacturing master suitable for use in forming pits and grooves on an optical recording medium. Furthermore, the present invention relates to an optical recording method and an optical recording medium produced by an optical recording medium master.

光記録媒体は、CD(Compact Disc)等に代表される再生専用の光ディスク、MD(Mini Disc )等に代表されるプリフォーマットとしての離散的情報パターンやトラッキング用の案内溝(グルーブ)が予め形成された書き込み可能な光ディスクなど、各種のものが提案されている。   Optical recording media are pre-formed with discrete information patterns and tracking guide grooves (grooves) as preformats typified by CD (Compact Disc) and other reproduction-only optical discs and MD (Mini Disc) and the like. Various optical discs such as a writable optical disc have been proposed.

このような各種光ディスクの製造プロセスは、一般に、ピットやグルーブ等の所望の凹凸パターンに応じた表面形状を有する、いわゆるスタンパと呼ばれる金属原盤を作製する工程と、そのスタンパの表面形状をディスク基板上に転写する成形工程、さらに記録層や保護層を形成する成膜工程から構成されている。   Such various optical disc manufacturing processes generally include a step of producing a metal master called a stamper having a surface shape corresponding to a desired uneven pattern such as pits and grooves, and the surface shape of the stamper on the disk substrate. And a film forming process for forming a recording layer and a protective layer.

原盤製造工程では、表面を研磨したガラス基板を洗浄、乾燥した後、このガラス基板上に感光材料であるフォトレジストを塗布し、そのフォトレジストに対してレーザ光を照射してピットやグルーブのパターンを露光する方法が一般的に行われている。この露光によってフォトレジストに形成された潜像を現像することにより、ピットやグルーブのパターンに応じた凹凸パターンがフォトレジストに形成され、さらにそれを金属表面に転写して、スタンパが形成される。このようなレーザ光による露光によって凹凸パターンを記録する方法では、サブミクロンのオーダーでパターンをフォトレジスト表面に転写することが求められる。   In the master manufacturing process, after cleaning and drying the glass substrate whose surface has been polished, a photoresist, which is a photosensitive material, is applied to the glass substrate, and the photoresist is irradiated with laser light to form a pattern of pits and grooves. In general, a method of exposing is used. By developing the latent image formed on the photoresist by this exposure, a concavo-convex pattern corresponding to the pattern of pits and grooves is formed on the photoresist, which is further transferred to the metal surface to form a stamper. In such a method of recording a concavo-convex pattern by exposure with laser light, it is required to transfer the pattern to the photoresist surface on the order of submicrons.

最近、DVD−RW(Digital Versatile Disc-rewritable)等の記録媒体の開発が目覚ましく、このような光記録媒体のピットやグルーブの形状をより高精度に制御する技術が望まれている。   Recently, recording media such as DVD-RW (Digital Versatile Disc-rewritable) have been remarkably developed, and a technology for controlling the shape of pits and grooves of such optical recording media with higher accuracy is desired.

この発明を適用できる光ディスクである、DVD−RWのフォーマットについて図1を参照して説明する。図1は、DVD−RWのフォーマットの一部を拡大して示したものであり、図1に向かって見て右側に向かう方向がディスク外周側に向かう方向であり、左側に向かう方向がディスク内周側に向かう方向である。また、図1は、模式的な図であり、トラックの本数は、実際の本数を示すものではない。   A DVD-RW format, which is an optical disc to which the present invention can be applied, will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an enlarged view of a part of the DVD-RW format. The direction toward the right side as viewed in FIG. 1 is the direction toward the outer periphery of the disk, and the direction toward the left side is within the disk. It is a direction toward the circumferential side. FIG. 1 is a schematic diagram, and the number of tracks does not indicate the actual number.

DVD−RWには、ディスク自体の情報としてTOC(Table of Contents)情報或いは所定周期のパルス信号等の情報が記録されるいわゆるリーダブルエンボスピット(Readable Embossed Pit、以下、REPと略す場合もある)1と、コピープロテクト情報等が記録
されるいわゆるアンリーダブルエンボスピット(Unreadable Embossed Pit、以下、UREと略す場合もある)2の2種類のピット領域と、データ記録領域であるウォブルグルーブ(Wobble Groove)3との3種の凹凸パターンを基板上に形成するようになされている。図1に示すように、DVD−RWのフォーマットには、上記のピットが形成された領域とウォブルグルーブとが混在することになる。
The DVD-RW has a so-called readable embossed pit (hereinafter also abbreviated as REP) 1 in which information such as TOC (Table of Contents) information or a pulse signal having a predetermined period is recorded as information on the disc itself. And two types of pit areas, a so-called unreadable embossed pit (hereinafter sometimes abbreviated as URE) 2 in which copy protection information and the like are recorded, and a wobble groove 3 which is a data recording area Are formed on the substrate. As shown in FIG. 1, in the DVD-RW format, the area where the pits are formed and the wobble groove are mixed.

ピットの深さは、再生用の光の波長λに対しλ/4の深さとすることが望ましく、また、記録層や誘電体層などを成膜する際に、記録トラックに沿う方向とディスクの半径方向において埋め込まれることから、ある程度の深さが必要となる。一方、グルーブについては、例えば記録層を相変化材料より構成する場合は、その相変化信号が、グルーブを比較的浅くするとジッターが改善されることが分かってきた。このため、リーダブエンボスピット1は比較的深く、グルーブ3は比較的浅くするようになされている。   The depth of the pits is preferably λ / 4 with respect to the wavelength λ of the reproduction light. Further, when forming the recording layer, the dielectric layer, etc., the direction along the recording track and the disc Since it is embedded in the radial direction, a certain depth is required. On the other hand, with respect to the groove, for example, when the recording layer is made of a phase change material, it has been found that the phase change signal improves jitter when the groove is made relatively shallow. Therefore, the leader emboss pit 1 is relatively deep and the groove 3 is relatively shallow.

DVD−RWは複雑なフォーマットであり、多くの規格や特性を満足しなければならない。例えば、リーダブルエンボスピット1では、再生特性(ジッタ−≦8.0%)と充分なプッシュプル信号量(≧0.22)を得なければならない。また、記録領域であるウォブルグルーブ3の記録再生特性(記録ジッタ−≦8.0%)とウォブルグルーブの充分なプッシュプル信号量(≧0.22)を得なければならない。   DVD-RW is a complex format and must satisfy many standards and characteristics. For example, in the readable emboss pit 1, it is necessary to obtain reproduction characteristics (jitter − ≦ 8.0%) and a sufficient push-pull signal amount (≧ 0.22). Further, it is necessary to obtain the recording / reproduction characteristics (recording jitter− ≦ 8.0%) of the wobble groove 3 as a recording area and a sufficient push-pull signal amount (≧ 0.22) of the wobble groove.

下記の特許文献1では、深いU字形の半径方向の断面形状を持つリーダブルエンボスピット1とそれよりも浅いU字形の半径方向の断面形状を持つウォブルグルーブ3を形成することにより、上記規格や特性を満足させるのに充分なプッシュプル信号量を得ることができることが開示されている。   In the following Patent Document 1, the above standards and characteristics are obtained by forming a readable embossed pit 1 having a deep U-shaped radial cross-sectional shape and a wobble groove 3 having a shallow U-shaped radial cross-sectional shape. It is disclosed that a push-pull signal amount sufficient to satisfy the above can be obtained.

特開2002−22548号公報JP 2002-22548 A

しかし、DVD−RWの規格には、リーダブルエンボスピット1のプッシュプル信号量と半径25mmの位置におけるウォブルグルーブのプッシュプル信号量との比(EPPr1)を3dB以下とする規格を満たすため、ピットのプッシュプル信号量を安定的に大きくする必要があり、また、リーダブルエンボスピット1の再生特性も得なければならない。アンリーダブルエンボスピットも充分なプッシュプル信号量とピットの信号再生を行わなくてはいけない。   However, the DVD-RW standard satisfies the standard in which the ratio (EPPr1) between the push-pull signal amount of the readable embossed pit 1 and the push-pull signal amount of the wobbled groove at a position of a radius of 25 mm is 3 dB or less. The push-pull signal amount needs to be stably increased, and the reproduction characteristics of the readable emboss pit 1 must be obtained. Unreachable embossed pits must also have a sufficient amount of push-pull signal and pit signal reproduction.

さらに、DVD−R、DVD−RWでは、隣接するグルーブ間のランドにプリピットを設けたランドプリピットフォーマットが採用されている。ランドプリピット(Land Pre-Pit、以下、LPPと略す場合もある)は、ディスク半径方向に2分割された受光素子の差信号を読み取ることで検出される。このランドプリピットを形成する方法として、グルーブを形成するためのレーザビームを使用する方法が提案されている。   Furthermore, in DVD-R and DVD-RW, a land pre-pit format in which pre-pits are provided in lands between adjacent grooves is employed. Land pre-pits (hereinafter sometimes abbreviated as LPP) are detected by reading a difference signal of a light receiving element divided into two in the disk radial direction. As a method for forming the land pre-pit, a method using a laser beam for forming a groove has been proposed.

すなわち、グルーブを形成するためのレーザビームをランドプリピットを形成すべき位置でディスク一時的に外周側に変位させることによってランドプリピットを形成することができる。図1において、参照符号4がこのようにグルーブを台形状に変化させることで形成された台形状のウォブルグルーブを示す。台形状のウォブルグルーブ4によるアドレス情報の再生を行うために、充分なLPP信号振幅量を得て、PI(Parity Inner-code) エラーを満足するLPP形状を実現しなければならない。   That is, the land prepit can be formed by temporarily displacing the laser beam for forming the groove to the outer peripheral side at the position where the land prepit is to be formed. In FIG. 1, reference numeral 4 indicates a trapezoidal wobble groove formed by changing the groove into a trapezoidal shape in this way. In order to reproduce the address information by the trapezoidal wobble groove 4, it is necessary to obtain a sufficient LPP signal amplitude and realize an LPP shape satisfying a PI (Parity Inner-code) error.

この発明の目的は、リーダブルエンボスピットの深さおよび幅の最適化、アンリーダブルエンボスピットの形状の最適化、LPPの形状の最適化により、DVD−RWのような高密度光ディスクの規格を充たすことを容易にする記録方法、光記録媒体製造用原盤および光記録媒体を提供することである。   The object of the present invention is to meet the standards of high-density optical discs such as DVD-RW by optimizing the depth and width of readable embossed pits, optimizing the shape of unreadable embossed pits, and optimizing the shape of LPP. A recording method, a master for manufacturing an optical recording medium, and an optical recording medium.

上述の課題を解決するために、この発明の第1の態様は、
基板上に溝状のグルーブと、円周方向に離散的に配置形成された複数個のピットとからなる第1および第2のエンボスピットと、ウォブリングされるグルーブと関連して形成された第3の台形状のウォブルグルーブとが形成された相変化光記録媒体の製造用原盤を作成するための光学記録方法であって、
相変化光記録媒体の第3の台形状のウォブルグルーブは、グルーブの一部を突出させて形成された台形ウォブルの構成とされ、
第3のウォブルの底辺の長さが、6T−11Tであり、
第3のウォブルの深さが、記録領域グルーブ部深さの−3nmから+4nmであり、
第3のウォブルの振幅量/トラックピッチの比が16.5−27.7%であるように、相変化光記録媒体の製造用原盤を作成する光学記録方法である。
In order to solve the above-mentioned problem, the first aspect of the present invention is:
First and second embossed pits comprising a groove-like groove on the substrate and a plurality of pits discretely arranged in the circumferential direction, and a third formed in association with the groove to be wobbled An optical recording method for producing a master for producing a phase change optical recording medium in which a trapezoidal wobble groove is formed,
The third trapezoidal wobble groove of the phase change optical recording medium is configured as a trapezoidal wobble formed by protruding a part of the groove,
The length of the base of the third wobble is 6T-11T,
The depth of the third wobble is -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth,
This is an optical recording method for producing a master for manufacturing a phase change optical recording medium so that the third wobble amplitude / track pitch ratio is 16.5-27.7%.

この発明の第2の態様は、
基板上に溝状のグルーブと、円周方向に離散的に配置形成された複数個のピットとからなる第1および第2のエンボスピットと、ウォブリングされるグルーブと関連して形成された第3の台形状のウォブルグルーブとが形成された相変化光記録媒体を製造するための相変化光記録媒体製造用原盤であって、
相変化光記録媒体の第3の台形状のウォブルグルーブは、グルーブの一部を突出させて形成された台形ピットの構成とされ、
第3のウォブルの底辺の長さが、6T−11Tであり、
第3のウォブルの深さが、記録領域グルーブ部深さの−3nmから+4nmであり、
第3のウォブルの振幅量/トラックピッチの比が16.5−27.7%である相変化光記録媒体製造用原盤である。
The second aspect of the present invention is:
First and second embossed pits comprising a groove-like groove on the substrate and a plurality of pits discretely arranged in the circumferential direction, and a third formed in association with the groove to be wobbled a production master of the phase-change optical recording medium for the production of trapezoidal phase-change optical recording medium and the wobble grooves are formed,
The third trapezoidal wobble groove of the phase change optical recording medium has a trapezoidal pit configuration formed by protruding a part of the groove,
The length of the base of the third wobble is 6T-11T,
The depth of the third wobble is -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth,
The ratio of the amplitude of / track pitch of the third wobble is producing a master for the phase-change optical recording medium is 16.5-27.7%.

この発明の第3の態様は、
基板上に溝状のグルーブと、円周方向に離散的に配置形成された複数個のピットとからなる第1および第2のエンボスピットと、ウォブリングされるグルーブと関連して形成された第3の台形状のウォブルグルーブとが形成された相変化光記録媒体であって、
第3の台形状のウォブルグルーブは、グルーブの一部を突出させて形成された台形ピットの構成とされ、
第3のウォブルの底辺の長さが、6T−11Tであり、
第3のウォブルの深さが、記録領域グルーブ部深さの−3nmから+4nmであり、
第3のウォブルの振幅量/トラックピッチの比が16.5−27.7%である相変化光記録媒体である。
The third aspect of the present invention is:
First and second embossed pits comprising a groove-like groove on the substrate and a plurality of pits discretely arranged in the circumferential direction, and a third formed in association with the groove to be wobbled A phase change optical recording medium in which a trapezoidal wobble groove is formed,
The third trapezoidal wobble groove has a trapezoidal pit configuration formed by protruding a part of the groove,
The length of the base of the third wobble is 6T-11T,
The depth of the third wobble is -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth,
The phase change optical recording medium has a third wobble amplitude / track pitch ratio of 16.5 to 27.7%.

この発明では、リーダブルエンボスピットREPの深さおよび幅を最適化することにより、リーダブルエンボスピットの充分なプッシュプル信号量を得てEPPr1の基準を満たし、再生特性を満たすことが出来る。   In the present invention, by optimizing the depth and width of the readable emboss pit REP, a sufficient push-pull signal amount of the readable emboss pit can be obtained to satisfy the EPPr1 standard and to satisfy the reproduction characteristics.

アンリーダブルエンボスピットUREは、ピットの深さを最適化し、ピットのデューティー(割合)を大きくすることにより、充分なプッシュプル信号量とアンリーダブルエンボスピットの信号振幅を小さくすることができる。   The unreachable embossed pit URE can reduce a sufficient push-pull signal amount and unreachable embossed pit signal amplitude by optimizing the pit depth and increasing the pit duty (ratio).

さらに、ランドプリピットLPPによるアドレス情報の再生を行うために、台形ウォブルグルーブを用いている。台形ウォルブグルーブは光学記録装置において、1つの露光ビームのみを用いる光学系とすることができて、リーダブルエンボスピット、アンリーダブルエンボスピット、ランドプリピットおよびグルーブを一連の螺旋状の記録トラックに沿って形成することができる。台形ウォルブグルーブにおけるウォブル振幅量、台形ウォブルグルーブの形状を適切にすることにより充分なLPP信号振幅量を得て、LPPのアドレス情報再生および記録後のPIエラーを満足することができる。   Furthermore, a trapezoidal wobble groove is used to reproduce the address information by the land prepit LPP. The trapezoidal wobble groove can be an optical system that uses only one exposure beam in an optical recording device, and the readable embossed pit, unreadable embossed pit, land prepit and groove are arranged along a series of spiral recording tracks. Can be formed. By making the wobble amplitude amount and the shape of the trapezoid wobble groove in the trapezoidal wobble groove appropriate, a sufficient LPP signal amplitude amount can be obtained, and the PI error after reproducing and recording the LPP address information can be satisfied.

以下、この発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。上述した光記録媒体を製造するには、光記録媒体の原盤となる光記録媒体製造用原盤を作製する必要があり、そのために光学的記録装置としてレーザカッティング装置が使用される。以下、光記録媒体製造用原盤の作製に使用されるレーザカッティング装置の一例について、図2を参照して詳細に示す。参照符号10がレーザカッティング装置の一例を全体として示す。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In order to manufacture the optical recording medium described above, it is necessary to prepare an optical recording medium manufacturing master serving as a master of the optical recording medium. For this purpose, a laser cutting device is used as an optical recording device. Hereinafter, an example of a laser cutting apparatus used for producing an optical recording medium manufacturing master will be described in detail with reference to FIG. Reference numeral 10 indicates an example of a laser cutting apparatus as a whole.

光記録媒体の製造プロセスにおいて、各所望の凹凸パターンを光記録媒体基板の表面に転写するための光記録媒体製造用原盤を形成するに際し、光源11から出射されたレーザビームが使用される。光源11としては、特に限定されるものではなく、適宜選択して使用されれば良いが、波長λが351nmのレーザ光を出射するKrレーザが使用される。   In the manufacturing process of the optical recording medium, a laser beam emitted from the light source 11 is used when forming an optical recording medium manufacturing master for transferring each desired uneven pattern onto the surface of the optical recording medium substrate. The light source 11 is not particularly limited and may be appropriately selected and used, but a Kr laser that emits laser light having a wavelength λ of 351 nm is used.

この光源11から出射されたレーザビームは、平行ビームのまま直進してミラーBS1で反射され、変調光学系OMに導かれる。変調光学系OMにおいて、集光レンズL1を用いて音響光学変調器(AOM:Acousto Optical Modulator )14に集光し、この音響光学変調器14により強度変調され発散したレーザ光は、レンズL2によって平行ビーム12になる。そして、変調光学系(OM)から出射された露光ビームは、ミラーM1によって反射され、移動光学テーブル15上に水平且つ平行に導かれる。   The laser beam emitted from the light source 11 advances straight as a parallel beam, is reflected by the mirror BS1, and is guided to the modulation optical system OM. In the modulation optical system OM, a condensing lens L1 is used to collect light on an acousto-optic modulator (AOM) 14, and the laser light intensity-modulated and diverged by the acousto-optic modulator 14 is collimated by the lens L2. It becomes a beam 12. The exposure beam emitted from the modulation optical system (OM) is reflected by the mirror M1 and guided horizontally and parallel onto the moving optical table 15.

そして、変調光学系OMから出射され、ミラーM1によって反射され、移動光学テーブル15上に水平且つ平行に導かれた露光ビームは、偏向光学系ODによって光学偏向が施された上でミラーM2によって反射されて進行方向が90°曲げられた上で偏光ビームスプリッタPBSに入射される。   The exposure beam emitted from the modulation optical system OM, reflected by the mirror M1, and guided horizontally and parallel on the moving optical table 15 is optically deflected by the deflection optical system OD and then reflected by the mirror M2. Then, after the traveling direction is bent by 90 °, the light enters the polarization beam splitter PBS.

ここで、偏向光学系ODは、ウォブルグルーブのウォブルに対応するように、露光ビームに対して光学偏向を施すためのものである。すなわち、変調光学系OMから出射され偏向光学系ODに入射した露光ビームは、ウェッジプリズム47を介して音響光学偏向器(AOD:Acousto Optical Deflector)48に入射し、この音響光学偏向器48によって、所望する露光パターンに対応するように光学偏向が施される。   Here, the deflection optical system OD is for applying an optical deflection to the exposure beam so as to correspond to the wobble of the wobble groove. That is, the exposure beam emitted from the modulation optical system OM and incident on the deflection optical system OD is incident on an acousto optical deflector (AOD) 48 via a wedge prism 47, and the acousto-optic deflector 48 Optical deflection is performed so as to correspond to a desired exposure pattern.

ここで、音響光学偏向器48に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル(TeO2 )からなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学偏向器48によって光学偏向が施された露光ビームは、ウェッジプリズム49を介して偏向光学系ODから出射される。   Here, as the acoustooptic element used for the acoustooptic deflector 48, for example, an acoustooptic element made of tellurium oxide (TeO2) is suitable. The exposure beam optically deflected by the acousto-optic deflector 48 is emitted from the deflection optical system OD via the wedge prism 49.

なお、ウェッジプリズム47,49は、音響光学偏向器48の音響光学素子の格子面に対してブラッグ条件を満たすように露光ビームが入射するようにするとともに、音響光学偏向器48によって露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水平高さが変わらないようにするためのものである。換言すれば、ウェッジプリズム47、音響光学偏向器48およびウェッジプリズム49は、音響光学偏向器48の音響光学素子の格子面が第2の露光ビームに対してブラッグ条件を満たし、且つ、偏向光学系ODから出射される露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配置される。   The wedge prisms 47 and 49 allow the exposure beam to be incident on the grating surface of the acoustooptic device of the acoustooptic deflector 48 so as to satisfy the Bragg condition, and the acoustooptic deflector 48 applies the exposure beam to the exposure beam. This is to prevent the beam horizontal height from changing even if optical deflection is applied. In other words, the wedge prism 47, the acoustooptic deflector 48, and the wedge prism 49 satisfy the Bragg condition for the second exposure beam of the acoustooptic element of the acoustooptic deflector 48, and the deflection optical system. It arrange | positions so that the beam horizontal height of the exposure beam radiate | emitted from OD may not change.

ここで、音響光学偏向器48には、当該音響光学偏向器48を駆動するための駆動用ドライバ50が取り付けられており、当該駆動用ドライバ50には、電圧制御発振器(VCO:Voltage Controlled Oscillator)51からの高周波信号がアドレス情報を含む制御信号により位相変調されて供給される。そして、フォトレジスト32の露光時には、所望する露光パターンに応じた信号が、電圧制御発振器51から駆動用ドライバ50に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ50によって音響光学偏向器48が駆動され、これにより、第2の露光ビームに対して光学偏向が施される。   Here, a driving driver 50 for driving the acousto-optic deflector 48 is attached to the acousto-optic deflector 48. The driving driver 50 includes a voltage controlled oscillator (VCO). A high frequency signal from 51 is phase-modulated and supplied by a control signal including address information. When the photoresist 32 is exposed, a signal corresponding to a desired exposure pattern is input from the voltage controlled oscillator 51 to the driving driver 50, and the acoustooptic deflector 48 is driven by the driving driver 50 in accordance with the signal. Thereby, an optical deflection is applied to the second exposure beam.

下記の数式1に示すように、ウォブル(偏向)周波数の空間周波数が記録ビームの半径より小さい周期で多重露光することでグルーブを幅広にすることができる。   As shown in the following Equation 1, the groove can be widened by performing multiple exposure with a period in which the spatial frequency of the wobble (deflection) frequency is smaller than the radius of the recording beam.

v・1/f < D   v · 1 / f <D

ここでvは線速度、fはウォブル周波数、Dはガラス原盤上のビームスポット径を示している。     Here, v is the linear velocity, f is the wobble frequency, and D is the beam spot diameter on the glass master.

例えば、DVD−RWの場合 v=3.49m/s、D=200nmとすると、f>17.45MHzとなる。しかし、通常ウォブル(偏向)周波数は5MHz以下であるから、記録(Cutting)の線速度vを1/4にすると、v=(3.49/4.0=0.8725)m/s、D=200nmとすると、f>4.363MHzであるため、ウォブル(偏向)周波数は5MHzで充分に多重露光することが可能である。   For example, in the case of DVD-RW, if v = 3.49 m / s and D = 200 nm, f> 17.45 MHz. However, since the normal wobble (deflection) frequency is 5 MHz or less, when the linear velocity v of recording (cutting) is ¼, v = (3.49 / 4.0 = 0.8725) m / s, D = 200 nm, f> 4.363 MHz, so that the wobble (deflection) frequency is 5 MHz and sufficient multiple exposure is possible.

具体的には、例えば、リーダブルエンボスピット、アンリーダブルエンボスピットの記録の場合は、線速度v=0.8725m/s、周波数(140.7/4.0=35.175)kHzにてグルーブをウォブルさせる。グルーブにクロック情報を付加するような場合には、例えば中心周波数が224MHzの高周波信号を周波数35.175kHzの制御信号を、電圧制御発振器51から駆動用ドライバ50に供給する。そして、この信号に応じて、駆動用ドライバ50によって音響光学偏向器48を駆動し、当該音響光学偏向器48の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周波数35.175kHzのウォブルに対応するように、第2の露光ビームに対して光学偏向を施す。   Specifically, for example, in the case of recording readable embossed pits and unreadable embossed pits, the groove is formed at a linear velocity v = 0.8725 m / s and a frequency (140.7 / 4.0 = 35.175) kHz. Wobble. When adding clock information to the groove, for example, a high frequency signal having a center frequency of 224 MHz and a control signal having a frequency of 35.175 kHz are supplied from the voltage controlled oscillator 51 to the driving driver 50. In accordance with this signal, the acousto-optic deflector 48 is driven by the driving driver 50, and the Bragg angle of the acousto-optic element of the acousto-optic deflector 48 is changed, thereby corresponding to a wobble with a frequency of 35.175 kHz. As described above, optical deflection is applied to the second exposure beam.

データ記録部のウォブルグルーブを記録する場合は、線速度v=0.8725m/s、周波数35.175kHzのウォブルクロック信号と5MHzの高周波重畳信号により多重露光する。その場合には、例えば中心周波数が224MHzの高周波信号を周波数35.175kHz+5MHzの制御信号を、電圧制御発振器51から駆動用ドライバ50に供給する。そして、この信号に応じて、駆動用ドライバ50によって音響光学偏向器48を駆動し、当該音響光学偏向器48の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周波数35.175kHz+5MHzのウォブルに対応するように、露光ビームに対して光学偏向を施す。5MHzの高周波重畳信号の多重露光することにより、ウォブルグルーブの幅を広くすることができる。   When recording the wobble groove of the data recording unit, multiple exposure is performed using a wobble clock signal with a linear velocity v = 0.8725 m / s, a frequency of 35.175 kHz, and a high frequency superimposed signal of 5 MHz. In this case, for example, a high frequency signal having a center frequency of 224 MHz and a control signal having a frequency of 35.175 kHz + 5 MHz are supplied from the voltage controlled oscillator 51 to the driving driver 50. In accordance with this signal, the acousto-optic deflector 48 is driven by the driving driver 50, and the Bragg angle of the acousto-optic element of the acousto-optic deflector 48 is changed, whereby a wobble with a frequency of 35.175 kHz + 5 MHz is supported. As described above, an optical deflection is applied to the exposure beam. The width of the wobbled groove can be widened by performing multiple exposure of the high frequency superimposed signal of 5 MHz.

台形ウォブルグルーブLPPは、周波数35.175kHz+5MHzのウォブル信号にLPPの台形信号を重畳することにより得られる。   The trapezoidal wobbled groove LPP is obtained by superimposing an LPP trapezoidal signal on a wobble signal having a frequency of 35.175 kHz + 5 MHz.

そして、このような偏向光学系ODによって、リーダブルエンボスピット、アンリーダブルエンボスピット、データ記録部のウォブルグルーブのウォブルに対応するように、光学偏向が施された第2の露光ビームが形成される。第2の露光ビームがウォブルミラーM2によって反射されて進行方向が90°曲げられた上で偏光ビームスプリッタPBSに入射する。露光ビームはPBSによって反射される。ここで、偏光ビームスプリッタPBSは、S偏光を反射し、P偏光を透過するようになされている。     Then, by such a deflection optical system OD, the second exposure beam subjected to the optical deflection is formed so as to correspond to the wobble groove wobble of the readable emboss pit, the unread emboss pit, and the data recording unit. The second exposure beam is reflected by the wobble mirror M2 and the traveling direction is bent by 90 °, and then enters the polarization beam splitter PBS. The exposure beam is reflected by the PBS. Here, the polarization beam splitter PBS reflects S-polarized light and transmits P-polarized light.

そして、進行方向が同一方向となるように再合成されて偏光ビームスプリッタPBSから出射した露光ビームは、拡大レンズL3によって所定のビーム径とされた上でミラーM3によって反射されて対物レンズ54へと導かれる。この対物レンズ54によってフォトレジスト32上に集光される。これにより、フォトレジスト32が露光され、フォトレジスト32に潜像が形成されることとなる。   Then, the exposure beam recombined so that the traveling direction is the same direction and emitted from the polarization beam splitter PBS is made a predetermined beam diameter by the magnifying lens L3 and then reflected by the mirror M3 to the objective lens 54. Led. The objective lens 54 collects the light on the photoresist 32. As a result, the photoresist 32 is exposed and a latent image is formed on the photoresist 32.

フォトレジスト32が塗布されているガラス基板31は、フォトレジスト32の全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるように、図中矢印Mに示すように回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動光学テーブル15によって平行移動される。この結果、露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト32の全面にわたって形成される。   The glass substrate 31 on which the photoresist 32 is applied is rotationally driven and moved by a rotational drive device as indicated by an arrow M in the drawing so that the entire surface of the photoresist 32 is exposed in a desired pattern. It is translated by the optical table 15. As a result, a latent image corresponding to the exposure beam irradiation locus is formed over the entire surface of the photoresist 32.

今回、対物レンズ54の開口数NAを0.9にした。音響光学変調器14の音響光学素子は酸化テルル(TeO2)を用いた。音響光学変調器14には、入力端子から信号がドライバ13を介して供給される。 This time, the numerical aperture NA of the objective lens 54 is set to 0.9. The acoustooptic element of acoustooptic modulator 14 was tellurium oxide (TeO 2 ). A signal is supplied to the acousto-optic modulator 14 from the input terminal via the driver 13.

図2の記録装置(カッティング装置)では、一つのレーザビームによってリーダブルエンボスピット、アンリーダブルエンボスピット、ランドプリピットグルーブに対応する露光パターンを形成するようになされている。すなわち、音響光学変調器14に供給されるのは、リーダブルエンボスピットを形成する場合は、EFM(Eight to Fourteen Modulation : 8−16変調)+信号であり、アンリーダブルエンボスピットを形成する場合は
、EFM+信号を一律に長くした変形EFM+信号であり、グルーブを形成する場合は、一定レベルのDC信号である。EFM+信号や変形EFM+信号によって、レーザ光が強度変調(ON/OFF)される。
In the recording apparatus (cutting apparatus) of FIG. 2, exposure patterns corresponding to readable embossed pits, unreadable embossed pits, and land prepit grooves are formed by a single laser beam. That is, the EFM (Eight to Fourteen Modulation: 8-16 modulation) + signal is supplied to the acousto-optic modulator 14 when forming a readable embossed pit. When an unreadable embossed pit is formed, This is a modified EFM + signal obtained by uniformly extending the EFM + signal. When a groove is formed, it is a DC signal at a constant level. The laser light is intensity-modulated (ON / OFF) by the EFM + signal or the modified EFM + signal.

上述した記録装置および記録方法において、1)リーダブルエンボスピットの形状では、深さはフォトレジストの厚さを変えることにより最適化が可能であり、リーダブルエンボスピット幅はフォトレジスト上の露光ビームを適切な径にすることにより最適化が可能である。   In the recording apparatus and the recording method described above, 1) the depth of the readable embossed pit can be optimized by changing the thickness of the photoresist, and the width of the readable embossed pit is appropriate for the exposure beam on the photoresist. Optimization is possible by using a large diameter.

2)アンリーダブルエンボスピットの形状では、深さは露光ビームのパワー、ピットのデューティー(割合)は、後述する変形EFM+変調1とさらにその変形ピット信号を一律に長くする値を変えることにより最適化が可能である。   2) In the shape of the unreadable embossed pit, the depth is optimized by changing the power of the exposure beam and the pit duty (ratio) by changing the value of the modified EFM + modulation 1 described later and the length of the modified pit signal uniformly. Is possible.

3)LPPの形状では、露光ビームのパワー、台形ウォブルグルーブLPPの振幅量、長さ、台形の形状により最適化が可能である。上述の方法により、DVD−RWに適切なフォーマットを提供できる。   3) The shape of the LPP can be optimized by the exposure beam power, the amplitude of the trapezoidal wobbled groove LPP, the length, and the trapezoidal shape. With the above-described method, a format suitable for DVD-RW can be provided.

次に、上述のような光記録装置、または記録方法を用いて評価用光ディスクを複数作製し、それらの評価を行った結果について説明する。   Next, the results of producing a plurality of evaluation optical disks using the optical recording apparatus or recording method as described above and evaluating them will be described.

ガラス板面上に形成されたフォトレジスト表面を記録信号に応じて露光して、当該フォトレジストに記録信号(リーダブルエンボスピット、アンリーダブルエンボスピット、台形ウォブルグルーブ)を記録し,フォトレジストの厚さの異なる光ディスクA(75nm)、光ディスクB(80nm)、光ディスクC(85nm)を作成した。リーダブルエンボスピット幅は、光ディスクA(297nm)、光ディスクB(321nm)、光ディスクC(348nm)であった。   The photoresist surface formed on the glass plate surface is exposed according to the recording signal, and the recording signal (readable embossed pit, unreadable embossed pit, trapezoidal wobble groove) is recorded on the photoresist, and the thickness of the photoresist. Optical disc A (75 nm), optical disc B (80 nm), and optical disc C (85 nm) were produced. The readable embossed pit widths were optical disk A (297 nm), optical disk B (321 nm), and optical disk C (348 nm).

アンリーダブルエンボスピットは、データを読まないという前提から、ピットの負エッジを、RLL(Run Length Limited)バイオレンスとならない程度に調整して、デューティー(ピットの割合)を70%程度にまで改善した(変形EFM+変調)1を用いる。ピット長またはスペース長は、通常は、最短で3T、最長で11Tと規定されている。バイオレンスとならない程度とは、この規則を守ることを意味する。ここで、Tは、ディスクに記録されるディジタル信号の1クロック周期の長さである。例えば1T≒38nsecとさ
れる。ディスク上で、1T≒133nmとなる。
With the assumption that unreadable embossed pits do not read data, the negative edge of the pit was adjusted to the extent that it does not become RLL (Run Length Limited) violence, and the duty (ratio of pits) was improved to about 70% ( (Modified EFM + Modulation) 1 is used. The pit length or space length is normally defined as 3T at the shortest and 11T at the longest. To the extent that it does not become violence means to observe this rule. Here, T is the length of one clock cycle of the digital signal recorded on the disc. For example, 1T≈38 nsec. On the disc, 1T≈133 nm.

(変形EFM+変調)1は充分なプッシュプル信号量を得るために、変形EFM信号においてピットの割合がスペースに比較して小さいものに対して、ピットとスペースの割合を逆転させる処理である。例えば、3Tピット、8Tスペースの信号は、8Tピット、3Tスペースの信号に変換し、ピットの割合を多くする。また、10Tピット、6Tスペースの信号は、11Tピット、5Tスペースの信号に変換し、ピットの割合を多くする。   (Modified EFM + Modulation) 1 is a process for reversing the ratio of pits and spaces with respect to a modified EFM signal in which the ratio of pits is smaller than that of spaces in order to obtain a sufficient push-pull signal amount. For example, a 3T pit and 8T space signal is converted into an 8T pit and 3T space signal to increase the pit ratio. The 10T pit and 6T space signals are converted into 11T pit and 5T space signals to increase the pit ratio.

さらに、(変形EFM+変調)1の信号を一率に長くした(変形EFM+変調)2を用いることにより、デューティー(ピットの割合)を75%程度まで改善した。長くする量は、0,1T,1.5T,2Tの中から選ばれたものとされる。さらに、露光パワーを適切に変化させ、アンリーダブルエンボスピットの深さの異なる3種類の光ディスクを作成した。これは、光ディスクA(25nm)、光ディスクB(31nm)、光ディスクC(38nm)である。   Furthermore, the duty (pit ratio) was improved to about 75% by using (deformed EFM + modulation) 2 in which the signal of (deformed EFM + modulation) 1 was increased by one. The amount to be lengthened is selected from 0, 1T, 1.5T, and 2T. Furthermore, the exposure power was appropriately changed, and three types of optical discs having different unreadable emboss pit depths were produced. This is an optical disc A (25 nm), an optical disc B (31 nm), and an optical disc C (38 nm).

記憶領域であるグルーブ部は、GR1(半径23.95−30mm)、GR2(半径30−35mm)、GR3(半径35−40mm)、GR4(半径40−45mm)、GR5(半径45−50mm)、GR6(半径50−58.6mm)の6ゾーンに分け、LPP形状を変化させた。LPP形状は、図1に示すように、台形ウォブルグルーブ4であり、台形の底辺(長い辺)の長さ6や深さ、ウォブル振幅量5を変化させた。例えばLPP形状を原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope )で測定した。   The groove portion which is a storage area has GR1 (radius 23.95-30 mm), GR2 (radius 30-35 mm), GR3 (radius 35-40 mm), GR4 (radius 40-45 mm), GR5 (radius 45-50 mm), The LPP shape was changed by dividing into 6 zones of GR6 (radius 50-58.6 mm). The LPP shape is a trapezoidal wobble groove 4 as shown in FIG. 1, and the length 6 and depth of the base (long side) of the trapezoid and the wobble amplitude 5 are changed. For example, the LPP shape was measured with an atomic force microscope (AFM).

光ディスクAのLPP形状は、台形LPPウォブルグルーブの深さ26nm、LPPウォブル振幅量152nm、台形LPPウォブルの底辺の長さは、GR1は5T、GR2は6T、GR3は8T、GR4は10T、GR5は11T、GR6は12Tにした。記録領域であるグルーブ部の深さは25nmであった。台形ウォブルLPPの底辺長さ1330nm、上底長さ916nmであり、台形ウォブルの立ち上がり、立下りは200nm程度(1.5T)であった。   The LPP shape of the optical disc A is a trapezoid LPP wobble groove depth of 26 nm, an LPP wobble amplitude of 152 nm, and the base length of the trapezoid LPP wobble is 5T for GR1, 6T for GR2, 8T for GR3, 10T for GR4, and GR5 for 11T and GR6 were set to 12T. The depth of the groove portion which is a recording area was 25 nm. The trapezoidal wobble LPP had a base length of 1330 nm and an upper base length of 916 nm, and the rising and falling edges of the trapezoidal wobble were about 200 nm (1.5 T).

光ディスクBのLPP形状は、LPPウォブル振幅量151nm、台形LPPウォブルの底辺の長さは8T、台形LPPウォブルグルーブの深さは、GR1は20nm、GR2は22nm、GR3は25nm、GR4は27nm、GR5は29nm、GR6は31nmであった。記録領域であるグルーブ部の深さは25nmであった。   The LPP shape of the optical disc B is LPP wobble amplitude 151 nm, trapezoid LPP wobble bottom length is 8T, trapezoid LPP wobble groove depth is GR1 is 20 nm, GR2 is 22 nm, GR3 is 25 nm, GR4 is 27 nm, GR5 Was 29 nm and GR6 was 31 nm. The depth of the groove portion which is a recording area was 25 nm.

光ディスクCのLPP形状は、台形LPPウォブルの底辺の長さは8T、LPPウォブルグルーブの深さは25nm、LPPウォブル振幅量は、GRm、GR5は205nm、GR6は238nmであった。記録領域であるグルーブ部の深さは24nmであった。   The LPP shape of the optical disk C was a trapezoidal LPP wobble with a base length of 8T, an LPP wobble groove depth of 25 nm, an LPP wobble amplitude of GRm, GR5 of 205 nm, and GR6 of 238 nm. The depth of the groove portion which is a recording area was 24 nm.

続いてガラス板をフォトレジストが上部になるように現像機のターンテーブルに載置して、当該ガラス板を水平面に対して回転させる。この後、フォトレジスト上に現像液を滴下して、当該フォトレジストを現像処理する。これによりガラス板の信号形成面には記録信号に基づく凹凸パターンが形成される。かくして、ガラス板および当該ガラス板の信号形成面に形成された凹凸パターンでなる光ディスク原盤が作成される。   Subsequently, the glass plate is placed on the turntable of the developing machine so that the photoresist is on top, and the glass plate is rotated with respect to the horizontal plane. Thereafter, a developing solution is dropped on the photoresist to develop the photoresist. Thereby, an uneven pattern based on the recording signal is formed on the signal forming surface of the glass plate. Thus, an optical disc master made of a glass plate and a concavo-convex pattern formed on the signal forming surface of the glass plate is produced.

次いで光ディスク原盤の凹凸パターン上に無電界メッキ法等によりニッケル皮膜でなる導電化膜層を形成する。導電化膜層が形成された光ディスク原盤を電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜層上に300±5μm程度の厚さになるようにニッケルメッキ層を形成する。続いてニッケルメッキ層付きガラス板からニッケルメッキ層をカッター等で剥離し、そのニッケルメッキ層信号形成面におけるフォトレジストをアセトン等で洗浄し、3種類のスタンパA,スタンパB、スタンパCを作製する。   Next, a conductive film layer made of a nickel film is formed on the concave / convex pattern of the optical disk master by electroless plating or the like. The optical disk master on which the conductive film layer is formed is attached to an electroforming apparatus, and a nickel plating layer is formed on the conductive film layer by electroplating so as to have a thickness of about 300 ± 5 μm. Subsequently, the nickel plating layer is peeled off from the glass plate with the nickel plating layer with a cutter or the like, and the photoresist on the nickel plating layer signal forming surface is washed with acetone or the like to produce three types of stamper A, stamper B, and stamper C. .

その3種類のスタンパを用いて、PC(ポリカーボネイト)の透明樹脂に成形を行い、微小な凹凸(信号に相当するピットやグルーブパタ−ン)が転写された3種類のPC成形基板を形成する。   Using these three types of stampers, molding is performed on a transparent resin of PC (polycarbonate) to form three types of PC molded substrates on which minute irregularities (pits and groove patterns corresponding to signals) are transferred.

次に成膜工程として、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板上に記録層および保護層を形成する。具体的には例えば、先ず、ディスク基板の凹凸パターンが形成された面上に、SiN等からなる第1の誘電体膜と、GeSbTe合金等からなる相変化記録膜と、SiN等からなる第2の誘電体膜とをスパッタリングによって順次成膜し、更に、第2の誘電体膜上にAl等からなる光反射膜を成膜することにより、第1の誘電体膜、相変化記録膜、第2の誘電体膜および光反射膜からなる記録層を形成する。その後、記録層上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、当該紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることにより、保護層を形成する。以上の工程により、DVD−RW相変化光ディスクA,B、Cが完成する。   Next, as a film forming process, a recording layer and a protective layer are formed on a disk substrate on which the surface shape of the master for producing an optical recording medium is transferred. Specifically, for example, first, a first dielectric film made of SiN or the like, a phase change recording film made of GeSbTe alloy or the like, and a second made of SiN or the like are formed on the surface of the disk substrate on which the concavo-convex pattern is formed. The first dielectric film, the phase change recording film, the first dielectric film, the phase change recording film, the first dielectric film, the phase change recording film, the second dielectric film, and the like. A recording layer composed of the dielectric film 2 and the light reflection film is formed. Thereafter, an ultraviolet curable resin is applied onto the recording layer by a spin coating method, and the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays to be cured, thereby forming a protective layer. The DVD-RW phase change optical discs A, B, and C are completed through the above steps.

光ディスクA、光ディスクB、光ディスクCを作製し、それらの評価を行った結果について説明する。DVD−RW標準評価機DDU−1000(レーザ波長λ;660nm、対物レンズの開口数NA;0.60の光ピックアップ)を用いて、以上のように作製した各光ディスクについて、リーダブルエンボスピットの信号特性、アンリーダブルエンボスピットの信号特性、ウォブルLPPの信号特性を評価した。トラッキングはプッシュプル信号を用いて行った。   The results of producing optical disks A, B, and C and evaluating them will be described. Using each DVD-RW standard evaluation machine DDU-1000 (laser wavelength λ: 660 nm, objective lens numerical aperture NA: 0.60 optical pickup), the optical characteristics of readable embossed pits for each optical disk manufactured as described above. The signal characteristics of unreadable double embossed pits and the signal characteristics of wobble LPP were evaluated. Tracking was performed using a push-pull signal.

光ディスクA,B、Cにおいて、リーダブルエンボスピット、アンリーダブルエンボスピット、LPPの信号特性評価を表1,表2,表3にそれぞれ示す。それぞれの表中の語句の意味は以下の通りである。   Tables 1, 2, and 3 show signal characteristic evaluations of readable embossed pits, unreadable embossed pits, and LPP in optical disks A, B, and C, respectively. The meaning of each word in each table is as follows.

LPP Length・・・LPPの底辺の長さ [T]、LPP Depth・・・LPPの深さ [nm] 、LPP
WobbleAmp ・・・LPPウォブル振幅量 [nm] 、Zone・・・領域、RE:リーダブルエンボスピット、URE:アンリーダブルエンボスピット、GR:グルーブ、Radius・・・半径 [mm] 。
LPP Length: LPP base length [T], LPP Depth: LPP depth [nm], LPP
WobbleAmp: LPP wobble amplitude [nm], Zone: region, RE: readable embossed pit, URE: unreadable embossed pit, GR: groove, Radius: radius [mm].

PP before ・・・プッシュプル信号量((0.22−0.44)の範囲が適正な範囲
Jitter・・・再生特性 [%](8.0%より小が適正)
LPPb・・・LPPウォブル振幅量/トラックピッチ(0.18−0.27が適正)
|EPPr1|・・・EPPr1の絶対値 [dB](3dBより小が適正)
|EPPr2|・・・UREのプッシュプル信号量と半径25mmにおけるウォブルグルー
ブのプッシュプル信号量との比(EPPr2)の絶対値 [dB](3dBより小が適正)
PI Err. av.・・・PIエラー(記録時のエラーの平均値)。
PP before ・ ・ ・ Push-pull signal amount ((0.22-0.44) is in the proper range
Jitter ・ ・ ・ Reproduction characteristics [%] (less than 8.0% is appropriate)
LPPb ... LPP wobble amplitude / track pitch (0.18-0.27 is appropriate)
| EPPr1 | ・ ・ ・ Absolute value of EPPr1 [dB] (less than 3dB is appropriate)
| EPPr2 | ・ ・ ・ Absolute value [EPPr2] ratio of push-pull signal amount of URE and push-pull signal amount of wobble groove at radius 25mm [dB] (less than 3dB is appropriate)
PI Err. Av. ・ ・ ・ PI error (average value of errors during recording).

Figure 0004396230
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光ディスクA,B、Cのすべてのリーダブルエンボスピットにおいて、再生ジッタ−および|EPPr1|が規格を満足し、安定したリーダブルエンボスピットの再生を実現した。リーダブルエンボスピット深さが75−85nmのとき、安定したリーダブルエンボスピットの再生を実現した。   In all readable embossed pits of optical discs A, B, and C, the reproduction jitter and | EPPr1 | satisfied the standard, and stable readable embossed pit reproduction was realized. When the readable embossed pit depth was 75-85 nm, stable readable embossed pit reproduction was achieved.

光ディスクA,B、Cのすべてのアンリーダブルエンボスピットにおいて、|EPPr2|規格を満足し、安定したトラッキングを実現した。アンリーダブルエンボスピット深さが25−38nmのとき、|EPPr2|規格と安定したトラッキングを実現した。EFM+信号を一律に1.5T長くした場合、2.5T長くした場合も|EPPr2|規格と安定したトラッキングを実現した。また、すべてのアンリーダブルエンボスピットにおいてEFM+信号の再生は行なわれなかった。   In all unreadable embossed pits of optical discs A, B, and C, the | EPPr2 | standard was satisfied and stable tracking was realized. When the unreachable embossed pit depth is 25-38 nm, the | EPPr2 | standard and stable tracking were realized. When the EFM + signal was uniformly increased by 1.5T, and when it was increased by 2.5T, the | EPPr2 | standard and stable tracking were realized. Also, the EFM + signal was not reproduced in all unreadable embossed pits.

光ディスクAのLPPの特性において、台形LPPウォブルの底辺の長さが、6T−11TまでLPPbおよびPIエラー規格を満足し、記録後も安定したLPPの再生を実現した。   In the LPP characteristics of the optical disc A, the base length of the trapezoidal LPP wobble satisfied the LPPb and PI error standards up to 6T-11T, and stable LPP reproduction was realized after recording.

光ディスクBのLPPの特性において、台形LPPウォブルグルーブの深さが22−29nmの場合、LPPbおよびPIエラー規格を満足し、記録後も安定したLPPの再生を実現した。記録領域であるグルーブ部の深さは25nmである。LPPウォブルグルーブの深さが、記録領域グルーブ部深さ(19nmから31nm)の−3nmから+4nmの時、記録後も安定したLPPの再生を実現した。   In the LPP characteristics of the optical disc B, when the trapezoidal LPP wobble groove depth was 22-29 nm, the LPPb and PI error standards were satisfied, and stable LPP reproduction was realized after recording. The depth of the groove part which is a recording area is 25 nm. When the depth of the LPP wobble groove was -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth (19 nm to 31 nm), stable LPP reproduction was realized after recording.

光ディスクCのLPPの特性において、LPPウォブル振幅量が122−205nmの場合、LPPbおよびPIエラー規格を満足し、記録後も安定したLPPの再生を実現した。   In the LPP characteristics of the optical disc C, when the LPP wobble amplitude was 122-205 nm, the LPPb and PI error standards were satisfied, and stable LPP reproduction was realized after recording.

LPPウォブル振幅量をトラックピッチ740nmで規格化するとLPPウォブル振幅量/トラックピッチは、16.5−27.7%であった。(122nm/740nm=16.5%、205nm/740nm=27.7%)   When the LPP wobble amplitude was normalized at a track pitch of 740 nm, the LPP wobble amplitude / track pitch was 16.5-27.7%. (122 nm / 740 nm = 16.5%, 205 nm / 740 nm = 27.7%)

この発明により、リーダブルエンボスピットの|EPPr1|規格および再生特性、アンリーダブルエンボスピットのトラッキングおよび再生不可、記録後の安定したLPP信号再生が可能なDVD- RW媒体を実現した。   According to the present invention, a DVD-RW medium capable of reproducing the stable LPP signal after recording has been realized, with the | EPPr1 | standard and reproduction characteristics of readable embossed pits, tracking and reproduction of unreadable embossed pits disabled.

この発明は、ピットとグルーブとランド部のLPPのフォーマットの光記録媒体、並びにその製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能であり、この発明による記録方法の適用の対象となる光記録媒体は、例えば、再生専用の光記録媒体、繰り返しデータの書き換えが可能な光記録媒体、或いはデータの追記は可能だが消去はできないような光記録媒体のいずれでもよい。   The present invention is widely applicable to optical recording media in the LPP format of pits, grooves, and lands, and optical recording medium manufacturing masters used in the production thereof. The optical recording medium to be used may be, for example, a reproduction-only optical recording medium, an optical recording medium in which repetitive data can be rewritten, or an optical recording medium in which data can be additionally written but cannot be erased.

この発明は、上述したこの発明の実施形態等に限定されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiment of the present invention, and various modifications and applications can be made without departing from the gist of the present invention.

この発明を適用できる光ディスクのフォーマットの一例を示す略線図である。It is a basic diagram which shows an example of the format of the optical disk which can apply this invention. この発明に係る記憶媒体および記録媒体製造用原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置の一例について、その光学系を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the optical system about an example of the laser cutting apparatus used when producing the recording medium which concerns on this invention, and the original recording medium manufacture.

符号の説明Explanation of symbols

1 リーダブルエンボスピット
2 アンリーダブルエンボスピット
3 グルーブ
4 台形状のウォブルグルーブ
5 LPPウォブル振幅量
6 台形LPPウォブルの底辺の長さ
10 レーザカッティング装置
11 光源
13 ドライバ
31 音響光学変調器(AOM)
32 フォトレジスト
47,49 ウェッジプリズム
51 電圧制御発振器(VCO)
54 対物レンズ
OM 変調光学系
M1、M2、M3 ミラー
L1、L2、L3, レンズ
BS1 ビームスプリッタ
PBS 偏光ビームスプリッタ

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Readable embossed pit 2 Unreadable embossed pit 3 Groove 4 Trapezoidal wobble groove 5 LPP wobble amplitude 6 Length of base of trapezoid LPP wobble 10 Laser cutting device 11 Light source 13 Driver 31 Acoustooptic modulator (AOM)
32 Photoresist 47, 49 Wedge prism 51 Voltage controlled oscillator (VCO)
54 Objective lens OM Modulation optical system M1, M2, M3 Mirror L1, L2, L3 Lens BS1 Beam splitter PBS Polarized beam splitter

Claims (10)

基板上に溝状のグルーブと、円周方向に離散的に配置形成された複数個のピットとからなる第1および第2のエンボスピットと、ウォブリングされる上記グルーブと関連して形成された第3の台形状のウォブルグルーブとが形成された相変化光記録媒体の製造用原盤を作成するための光学記録方法であって、
上記相変化光記録媒体の上記第3の台形状のウォブルグルーブは、上記グルーブの一部を突出させて形成された台形ウォブルの構成とされ、
上記第3のウォブルの底辺の長さが、6T−11Tであり、
上記第3のウォブルの深さが、記録領域グルーブ部深さの−3nmから+4nmであり、
上記第3のウォブルの振幅量/トラックピッチの比が16.5−27.7%であるように、上記相変化光記録媒体の製造用原盤を作成する光学記録方法。
First and second embossed pits comprising groove-shaped grooves on the substrate and a plurality of pits discretely arranged in the circumferential direction, and first grooves formed in association with the wobbling grooves. An optical recording method for producing a master for manufacturing a phase change optical recording medium in which three trapezoidal wobble grooves are formed,
The third trapezoidal wobble groove of the phase change optical recording medium is configured as a trapezoidal wobble formed by projecting a part of the groove,
The bottom length of the third wobble is 6T-11T,
The depth of the third wobble is -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth,
An optical recording method for producing a master for manufacturing the phase-change optical recording medium such that a ratio of amplitude amount / track pitch of the third wobble is 16.5 to 27.7%.
上記相変化光記録媒体の上記第1のエンボスピットの深さが75−85nmとなるように、上記相変化光記録媒体製造用原盤を作成する請求項1記載の光学記録方法。 The optical recording method according to claim 1, wherein the master for manufacturing the phase change optical recording medium is prepared so that the depth of the first embossed pits of the phase change optical recording medium is 75 to 85 nm. 上記相変化光記録媒体の上記第2のエンボスピットを形成する信号のデューティーを増加させ、さらに、上記信号が0から2Tの範囲内の所定の値で一率に長くなるように、上記相変化光記録媒体の製造用原盤を作成する請求項1記載の光学記録方法。 Increasing the duty of the signals forming the second emboss pit of the phase change optical recording medium, further, so that long to one ratio with a predetermined value within a range of 2T the signal from 0, the phase change 2. The optical recording method according to claim 1, wherein a master for manufacturing an optical recording medium is prepared. 基板上に溝状のグルーブと、円周方向に離散的に配置形成された複数個のピットとからなる第1および第2のエンボスピットと、ウォブリングされる上記グルーブと関連して形成された第3の台形状のウォブルグルーブとが形成された相変化光記録媒体を製造するための相変化光記録媒体製造用原盤であって、
上記相変化光記録媒体の上記第3の台形状のウォブルグルーブは、上記グルーブの一部を突出させて形成された台形ピットの構成とされ、
上記第3のウォブルの底辺の長さが、6T−11Tであり、
上記第3のウォブルの深さが、記録領域グルーブ部深さの−3nmから+4nmであり、
上記第3のウォブルの振幅量/トラックピッチの比が16.5−27.7%である相変化光記録媒体製造用原盤。
First and second embossed pits comprising groove-shaped grooves on the substrate and a plurality of pits discretely arranged in the circumferential direction, and first grooves formed in association with the wobbling grooves. a third trapezoidal manufacturing a master for the phase-change optical recording medium for the wobbled groove to produce a phase change optical recording medium is formed,
The third trapezoidal wobble groove of the phase change optical recording medium is configured as a trapezoidal pit formed by protruding a part of the groove,
The bottom length of the third wobble is 6T-11T,
The depth of the third wobble is -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth,
A master for producing a phase change optical recording medium , wherein the amplitude ratio / track pitch ratio of the third wobble is 16.5-27.7%.
上記相変化光記録媒体の上記第1のエンボスピットの深さが75−85nmである請求項4記載の相変化光記録媒体製造用原盤。 Manufacturing a master for the phase-change optical recording medium according to claim 4, wherein the depth of said first emboss pit of the phase change optical recording medium is 75-85Nm. 上記相変化光記録媒体の上記第2のエンボスピットを形成する信号のデューティーを増加させ、さらに、上記信号が0から2Tの範囲内の所定の値で一率に長くされた請求項4記載の相変化光記録媒体製造用原盤。 5. The duty of a signal forming the second emboss pit of the phase change optical recording medium is increased, and the signal is further increased by a predetermined value within a range of 0 to 2T. manufacturing a master for the phase-change optical recording medium. 基板上に溝状のグルーブと、円周方向に離散的に配置形成された複数個のピットとからなる第1および第2のエンボスピットと、ウォブリングされる上記グルーブと関連して形成された第3の台形状のウォブルグルーブとが形成された相変化光記録媒体であって、
上記第3の台形状のウォブルグルーブは、上記グルーブの一部を突出させて形成された台形ピットの構成とされ、
上記第3のウォブルの底辺の長さが、6T−11Tであり、
上記第3のウォブルの深さが、記録領域グルーブ部深さの−3nmから+4nmであり、
上記第3のウォブルの振幅量/トラックピッチの比が16.5−27.7%である相変化光記録媒体。
First and second embossed pits comprising groove-shaped grooves on the substrate and a plurality of pits discretely arranged in the circumferential direction, and first grooves formed in association with the wobbling grooves. A phase change optical recording medium formed with three trapezoidal wobble grooves,
The third trapezoidal wobble groove is configured as a trapezoidal pit formed by protruding a part of the groove,
The bottom length of the third wobble is 6T-11T,
The depth of the third wobble is -3 nm to +4 nm of the recording area groove portion depth,
A phase change optical recording medium in which the third wobble amplitude / track pitch ratio is 16.5 to 27.7%.
上記第1のエンボスピットの深さが75−85nmである請求項7記載の相変化光記録媒体。 8. The phase change optical recording medium according to claim 7, wherein the first emboss pit has a depth of 75 to 85 nm. 上記第2のエンボスピットを形成する信号のデューティーを増加させ、さらに、上記信号が0から2Tの範囲内の所定の値で一率に長くされた請求項7記載の相変化光記録媒体。 8. The phase change optical recording medium according to claim 7, wherein the duty of the signal forming the second embossed pit is increased, and the signal is lengthened by a predetermined value within a range of 0 to 2T. 上記第2のエンボスピットの深さが25−38nmである請求項9記載の相変化光記録媒体。 10. The phase change optical recording medium according to claim 9, wherein the second emboss pit has a depth of 25-38 nm.
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