JP2006188054A - Pattern forming apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、印刷インキ等の流動体を用いて微細パターンを形成するパターン形成装置に関するものである。 The present invention relates to a pattern forming apparatus that forms a fine pattern using a fluid such as printing ink.
従来、流動体のパターン形成はいわゆる印刷法として、凸版、凹版、平版等の方法が知られている。
例えば新聞や雑誌などの印刷物は情報伝達のために、紙等の基材上に流動体である印刷インキをパターニングしている。
また、電子部品においては、導体、抵抗体、コンデンサなどいわゆる厚膜部品製造のために機能材料をペースト状、すなわち流動体としたものをスクリーン印刷等の手法でパターン形成して製造しているのは周知の通りである。
さらに、最近ではミクロンオーダ、ナノオーダの微細加工の分野においても印刷的手法がソフトリソグラフィと呼ばれ注目されている(非特許文献1参照)。
Conventionally, as a so-called printing method for forming a fluid pattern, methods such as relief printing, intaglio printing, and lithographic printing are known.
For example, printed materials such as newspapers and magazines are formed by patterning printing ink, which is a fluid, on a substrate such as paper for information transmission.
In addition, electronic parts are manufactured by forming a pattern of a functional material in the form of a paste, that is, a fluid, for the production of so-called thick film parts such as conductors, resistors, capacitors, etc. Is well known.
Furthermore, recently, a printing technique called soft lithography has been attracting attention in the field of micron-order and nano-order microfabrication (see Non-Patent Document 1).
ソフトリソグラフィと呼ばれているものにはいくつかの手法があるが、その一つであるマイクロコンタクトプリンティングは、原理そのものはいわゆるゴムスタンプを用いた凸版印刷あるいはフレキソ印刷と呼ばれる方法である。
しかし、パターン形成材料として用いられているのは、アルカンチオールのような化合物そのものやDNAといった、従来のインキとは化学的、物理的に性質の全く異なる材料である。
また、有機トランジスタのように複数の機能性有機材料を高精度で積層する、あるいはDNAチップのように数百から数十万種類の異なるDNAをパターン上に高精度で配列することが求められている。
There are several methods called soft lithography. One of them, microcontact printing, is a method called letterpress printing or flexographic printing using a so-called rubber stamp.
However, materials used as pattern forming materials are materials that are completely different in chemical and physical properties from conventional inks, such as compounds themselves such as alkanethiols and DNA.
In addition, it is required to stack a plurality of functional organic materials with high accuracy like an organic transistor, or to arrange hundreds to hundreds of thousands of different DNAs with high accuracy on a pattern like a DNA chip. Yes.
このため、現在用いられている凸版の印刷の手法をそのまま、マイクロコンタクトプリンティングに使用する場合、複数の印刷工程においてパターンの重ね合わせ精度及び版各々のパターン精度を含む印刷精度を向上させることが困難であるという問題点があり、以下にその説明を行う。
一般的に、凸版による印刷は、図9に示すように、凸版Tを円筒状のドラムDに貼着して印刷する。
ここで、凸版は、必要な強度を保つため、パターンの凸部の高さに対応して一定の厚さが必要となる。
For this reason, when using the currently used relief printing method as it is for microcontact printing, it is difficult to improve printing accuracy including pattern overlay accuracy and pattern accuracy of each plate in a plurality of printing processes. This will be described below.
In general, printing with a relief printing is performed by sticking a relief T to a cylindrical drum D as shown in FIG.
Here, in order to maintain the required strength, the relief plate needs to have a certain thickness corresponding to the height of the projections of the pattern.
このため、円筒に固定した場合には、以下に示す式で示されるように、幅がLの凸版Tにおいて、曲面の沿った凸版Tの外周面の幅が、内周面の幅に対してΔLだけ長くなり、双方の幅が異なることとなる。
ΔL={2π×(d+R)−2π×R}×{(L/(2π×R)}=d×L/R
上式において、Rは円筒の半径であり、dは凸版Tの面内における平均の厚さであり、Lは曲面方向に沿った長さである。
例えば、R=10cm,L=10cm,d=0.1cmとすると、ΔL=0.1cmとなり、版寸法において外周面及び内周面の幅はこのΔLだけ異なる。
For this reason, when fixed to the cylinder, as shown by the following formula, in the relief plate T having a width L, the width of the outer peripheral surface of the relief plate T along the curved surface is smaller than the width of the inner peripheral surface. It becomes longer by ΔL, and the widths of both are different.
ΔL = {2π × (d + R) −2π × R} × {(L / (2π × R)} = d × L / R
In the above equation, R is the radius of the cylinder, d is the average thickness in the plane of the relief plate T, and L is the length along the curved surface direction.
For example, when R = 10 cm, L = 10 cm, and d = 0.1 cm, ΔL = 0.1 cm, and the width of the outer peripheral surface and the inner peripheral surface differs by ΔL in the plate size.
したがって、凸版Tのパターンの形成されている部分が曲面方向に引き延ばされてしまい、この曲面方向の寸法が製版時より長くなり、凸版T上のパターンの一方のパターンの寸法が設計値に対してずれ、円筒の軸方向における他方のパターンの寸法が変化しないため、双方のパターン寸法を考慮して、設計時に版の延びを考慮に入れた設計を行うことが困難である。 Therefore, the portion where the pattern of the letterpress T is formed is stretched in the curved surface direction, the dimension in the curved surface direction becomes longer than that at the time of plate making, and the dimension of one of the patterns on the letterpress T becomes the design value. In contrast, since the dimension of the other pattern in the axial direction of the cylinder does not change, it is difficult to perform a design that takes into account the extension of the plate at the time of designing in consideration of the pattern dimensions of both.
また、現実的には、版全体が均一の延びとなるように、円筒に固定することは、困難であり、円筒の軸方向に歪んで固定されることが考えられ、円筒の曲面方向及び軸方向の製造時(または設計時)の寸法に対する誤差を防止することができず、パターン精度を向上させることが困難である。
さらに、重ね合わせた印刷を行うために、印刷するパターンの位置合わせを行う場合、位置合わせマークを合わせられたとしても、パターンの形状によって、上述したパターンの延びが面内で異なることと、版全体が歪んで固定されていることから、正確にパターンの重ね合わせを行うことができない。
In reality, it is difficult to fix the plate to the cylinder so that the entire plate extends uniformly, and it is considered that the plate is distorted and fixed in the axial direction of the cylinder. It is difficult to improve the pattern accuracy because it is impossible to prevent an error with respect to the dimension at the time of manufacturing (or design) in the direction.
Furthermore, when aligning the pattern to be printed in order to perform superimposed printing, even if the alignment mark is aligned, the above-described pattern extension differs in the plane depending on the pattern shape, and the plate Since the whole is distorted and fixed, it is not possible to accurately overlay the patterns.
上述した凸版による問題を解決する、マイクロコンタクトプリンティングの方法について図4を用いて説明する。
まず、図4(a)に示すように、スタンプ40をインキパッド30上に固定されたパターン形成材料90上に押し付ける。
このスタンプ40は、形成したいパターン形状の凸部40aを有しており、通常はこの凸部40aが複数配列されている。
尚、形成するパターンによっては各凸部の形状が異なっていても良い。
A microcontact printing method for solving the above-described problem caused by letterpress will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 4A, the
This
In addition, the shape of each convex part may differ depending on the pattern to form.
次に、スタンプ40をインキパッド30から剥離して、図4(b)のように、スタンプ40の凸部40aにパターン形成材料90を付着させる。
続いて図4(c)のように、これを所定の被印刷基材20に押し付けて、パターン形成材料90を被印刷基材20に付着させた後、図4(d)のようにスタンプ40を剥離してパターン形成材料90を被印刷基材20に転写する。
Next, the
Subsequently, as shown in FIG. 4C, this is pressed against a
しかし、図4(e)のようにインキパッド30とスタンプ40との平行が得られていない場合は、図4(f)のようにスタンプ40には部分的にしかパターン形成材料90が付着しない。
また、インキパッド30とスタンブ40との平行が得られていたとしても、被印刷基材20とスタンプ40の平行が得られていないと、図4(g)のように被印刷基材20とスタンプ40の一部としか接触せず、図4(h)のようにパターン形成材料90が被印刷基材20上に転写されず、所望のパターンが得られないことがある。
従って、スタンプ40と被印刷基材20間、スタンプ40とインキパッド30間の平行を調整することが必要である。
However, when the
Further, even if the
Accordingly, it is necessary to adjust the parallelism between the
通常の印刷に用いられているスタンプでは、凸部の高さは数百ミクロンあり、かつスタンプは通常ゴム等の弾性体で形成されているため、スタンプが部分的に変形して平行のずれを緩和できる。
しかし、マイクロコンタクトプリンティングにおいては、パターン幅、ピッチ等が通常の印刷では行われていないミクロンオーダ、ナノオーダの微細加工レベルのパターン形成を目的としている。
このためスタンプは、幅だけでなく高さ、ピッチも数十ミクロンあるいは数ミクロン以下のサイズとなり、通常のゴムスタンプより一桁から二桁以上小さくなる。
従って、版(スタンプ40)とインキパッド間の平行、及び版と基材間の平行度が従来の印刷機より高い精度で要求されている。
In the stamp used for normal printing, the height of the convex part is several hundred microns, and the stamp is usually formed of an elastic body such as rubber, so that the stamp partially deforms and the parallel deviation occurs. Can be relaxed.
However, in the micro contact printing, the pattern width, the pitch, etc. are intended to form a pattern on the microfabrication level of the micron order and the nano order which are not performed in normal printing.
For this reason, not only the width but also the height and pitch of the stamp are several tens of microns or several microns or less, and are one to two orders of magnitude smaller than ordinary rubber stamps.
Therefore, the parallelism between the plate (stamp 40) and the ink pad and the parallelism between the plate and the substrate are required with higher accuracy than the conventional printing press.
また、このソフトリソグラフィの分野においては、スタンプ40の材料として、ポリジメチルシロキサン(PDMS)が一般的に用いられている。
上記スタンプ40の作製方法は、非特許文献1に記載されているが、図10に示すように、例えば2液硬化性PDMSを、表面にパターンの凹凸の型が形成された母型130に流し込む。
例えば、シリコンウェハ表面に、フォトリソグラフィ処理によってフォトレジストのパターンを形成して、このフォトレジストをマスクとしてエッチングして母型130を作製し、凹凸の型が形成された母型103表面に、2液硬化性PDMSを流し込み(図10(a))、上記2液硬化性PDMSの硬化後に引き剥がす(図10(b))ことによりスタンプ40を作製する。
In the field of soft lithography, polydimethylsiloxane (PDMS) is generally used as a material for the
The manufacturing method of the
For example, a photoresist pattern is formed on the surface of a silicon wafer by photolithography, and etching is performed using the photoresist as a mask to produce a mother die 130. On the surface of the mother die 103 on which an uneven die is formed, 2 The
しかしながら、上述のように作成されたスタンプ40は、弾性体であるために変形し易く、この状態のままでは印刷精度を得ることができず、マイクロコンタクトプリンティングに使用することができない。
また、ガラス板やシリコンウェハにパターンを形成して、そのままスタンプとして用いることも不可能ではないが、パターンの剛性が高くなるため、被印刷物である基材の凹凸に追従できないので、実現は非常に困難であると考えられる。
However, since the
In addition, it is not impossible to form a pattern on a glass plate or silicon wafer and use it as a stamp as it is. However, since the rigidity of the pattern becomes high, it is impossible to follow the unevenness of the substrate that is the printed material. It is considered difficult.
マイクロコンタクトプリンティングについての研究例が数多く発表されているが、その発表された結果は顕微鏡で観察される程度の狭い視野内のものである。
また、パターン形成の条件や再現性、それが得られる装置等についてはほとんど言及されていないのが現状である。
In addition, there is almost no mention of pattern formation conditions and reproducibility, and apparatuses for obtaining them.
従って、本発明は、スタンプとインキパッドおよびスタンプと基材間の平行を正確に保つことができるパターン形成装置を得ることを第1の目的とする。
また、例えば有機トランジスタのように複数の種類の膜を積層することが求められるような場合に、正確な位置合わせを行うことのできるパターン形成装置を得ることを第2の目的とする。
また、DNAの研究開発等を含む、ナノオーダの微細パターン形成装置を得ることを第3の目的とする。
Accordingly, a first object of the present invention is to obtain a pattern forming apparatus capable of accurately maintaining parallelism between a stamp and an ink pad and between the stamp and a substrate.
A second object of the present invention is to obtain a pattern forming apparatus capable of performing accurate alignment when it is required to stack a plurality of types of films such as an organic transistor.
A third object is to obtain a nano-order fine pattern forming apparatus including DNA research and development.
請求項1に記載の発明は、基台上に、インキパッド、該インキパッドを固定するためのインキパッド固定ステージ、該インキパッド固定ステージを移動するためのインキパッド固定ステージ調整部を備えたインキパッドの支持機構と、被印刷基材を固定するための被印刷基材固定ステージ、該被印刷基材固定ステージを移動するための被印刷基材固定ステージ調整部を備えた被印刷基材の支持機構と、スタンプと、前記インキパッドの支持機構と前記被印刷基材の支持機構の間を移動可能なスタンプ支持機構と、前記スタンプと前記被印刷基材、および、前記スタンプと前記インキパッドとの位置合わせ機構と、前記スタンプを前記インキパッドに接触させるスタンプとインキパッドの接触機構、および、前記スタンプを前記被印刷基材に接触させるスタンプと前記被印刷基材の接触機構を備えたパターン形成装置において、前記インキパッド固定ステージ調整部により前記インキパッド固定ステージをX軸およびY軸およびZ軸周りに回転および垂直方向に変位させ、また、前記被印刷基材固定ステージ調整部により前記被印刷基材固定ステージをX軸およびY軸およびZ軸周りに回転および垂直方向に変位させることを特徴とするパターン形成装置である。 The invention according to claim 1 is an ink comprising an ink pad, an ink pad fixing stage for fixing the ink pad, and an ink pad fixing stage adjusting unit for moving the ink pad fixing stage on the base. A printing substrate having a pad support mechanism, a printing substrate fixing stage for fixing the printing substrate, and a printing substrate fixing stage adjusting unit for moving the printing substrate fixing stage. A support mechanism; a stamp; a stamp support mechanism movable between the support mechanism of the ink pad and the support mechanism of the substrate to be printed; the stamp and the substrate to be printed; and the stamp and the ink pad. And a contact mechanism between the stamp and the ink pad for bringing the stamp into contact with the ink pad, and the stamp in contact with the substrate to be printed. In the pattern forming apparatus having a contact mechanism between the stamp to be printed and the substrate to be printed, the ink pad fixing stage adjustment unit rotates the ink pad fixing stage around the X axis, the Y axis, and the Z axis and displaces the ink pad fixing stage in the vertical direction. In the pattern forming apparatus, the printing substrate fixing stage adjustment unit rotates and displaces the printing substrate fixing stage around the X axis, the Y axis, and the Z axis in the vertical direction.
本発明によれば、インキパッドがインキパッド固定ステージ調整部である球面座上に載配置されたインキパッド固定ステージ上に固定されるため、スタンプを用いた転写によるパターン形成において、スタンプとインキパッドの平行を容易に得ることができるため、スタンプの面内に均一にパターン形成材料を付着させることができる。 According to the present invention, since the ink pad is fixed on the ink pad fixing stage mounted on the spherical seat which is the ink pad fixing stage adjusting unit, the stamp and the ink pad are formed in the pattern formation by the transfer using the stamp. Therefore, the pattern forming material can be uniformly attached in the plane of the stamp.
また、本発明によれば、被印刷基材が被印刷基材固定ステージ調整部である球面座上に載配置された被印刷基材固定ステージ上に固定されるため、スタンプを用いた転写によるパターン形成において、被印刷基材とスタンプの平行が容易に得られるため、面内に均一に所望のパターンを精度良く形成することができる。 Further, according to the present invention, the printing substrate is fixed on the printing substrate fixing stage placed on the spherical seat which is the printing substrate fixing stage adjustment unit, and therefore, by transfer using a stamp. In pattern formation, since the substrate to be printed and the stamp can be easily obtained in parallel, a desired pattern can be uniformly formed in a plane with high accuracy.
このため、特にマイクロコンタクトプリンティング等の微細なパターン形成を行う場合に効果が得られる。
また、スタンプとインキパッド間および/又はスタンプと被印刷基材間の位置合わせ機構を設けているため、基材の所定の位置に精度良くパターン形成することができる。
For this reason, an effect is acquired especially when performing fine pattern formation, such as microcontact printing.
In addition, since an alignment mechanism is provided between the stamp and the ink pad and / or between the stamp and the substrate to be printed, a pattern can be accurately formed at a predetermined position on the substrate.
以下、本発明の実施の形態を図面と共に説明する。
(実施形態1)
図1は本発明の実施の形態によるパターン形成装置を示す側面図である。
図1において、10は被印刷基材20を載置して固定するための被印刷基材固定ステージ、11はインキパッド30を載置して固定するためのインキパッド固定ステージである。
被印刷基材固定ステージ10は球面座50上に載置され、インキパッド固定ステージ11は球面座51上に載置されている。
被印刷基材固定ステージ10および球面座50は、移動装置60により図の上下方向に移動可能である。
インキパッド固定ステージ11および球面座51は、移動装置61により図の上下方向に移動可能になされている。
移動装置60、61は基台100上に取り付けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a side view showing a pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 1, 10 is a printing substrate fixing stage for mounting and fixing the
The to-be-printed
The to-be-printed
The ink
The moving
球面座50は、ステージ10の下面に一体的に設けた半球状体52と、半球状凹部53を有する載置台54からなり、半球状凹部53内に半球状体52が回転可能に嵌合されている。
これによって、被印刷基材固定ステージ10は半球状体52と共に任意の角度及び方向に回転可能(3次元的に可動自在)となっている。
球面座51もインキパッド固定ステージ11の下面に一体的に設けた半球状体55と、半球状凹部56を有する載置台57により上記球面座50と同様に構成されており、インキパッド固定ステージ11が半球状体55と共に任意の角度および方向に回転可能となっている。
The
As a result, the to-be-printed
The
球面座50には、半球状体52を半球状凹部53内で固定するための固定手段が設けられている。
図2に固定手段の一例を示す。
図示のように、載置台54の半球状凹部53の底部には十字状の溝58が設けられると共に、この溝58と連通する穴59が設けられている。
この穴59に真空ポンプ(図示せず)を接続して半球状体52を真空吸着することにより、この半球状体52を被印刷基材固定ステージ10と共に半球状凹部53内で任意の傾いた姿勢で固定することができる。
また、球面座51にも、半球状体55をインキパッド固定ステージ11と共に半球状凹部56内で固定するための同様の構成を有する固定手段が設けられている。
The
FIG. 2 shows an example of the fixing means.
As shown in the figure, a
By connecting a vacuum pump (not shown) to the
The
図1において、基台100に設けた2本の支柱110間にはガイドレール70が懸架され、このガイドレール70には凸部40aを有するスタンプ40が取り付けられている。
このスタンプ40は、図示しない移動装置によって図の左右方向に往復移動可能になされている。
被印刷基材固定ステージ10の上方には位置合わせマーク観察装置80が配置され、インキパッド固定ステージ11の上方には位置合わせマーク観察装置81が配置されている。
In FIG. 1, a
The
An alignment
尚、スタンプ40には、ソフトリソグラフィの分野で良く知られているポリジメチルシロキサンを主体とするエラストマをはじめ、ウレタンゴム、ブチルゴム、あるいはポリアクリルアミドを主体とするハイドロゲル等、種々の弾性体を使用できる。
これらは、用いるパターン形成材料により適宜選択する。
また、用途によっては樹脂、金属等の硬質の材料もスタンプとして使用可能である。
また、インキパッド30は、例えばガラス板等の表面にパターン形成材料を塗布したもの、あるいは、スポンジ状の媒体にパターン形成材料を吸収させたもの等を用いることができる。
The
These are appropriately selected depending on the pattern forming material to be used.
Moreover, hard materials, such as resin and a metal, can also be used as a stamp depending on a use.
The
次に、上記構成によるパターン形成装置の動作について図1、図3を参照して説明する。
まず、スタンプ40を被印刷基材固定ステージ10の上方に移動させた後、ステージ移動装置60により被印刷基材固定ステージ10を球面座50と共に上方に移動させる。
図3(a)のように被印刷基材固定ステージ10と被印刷基材20とが平行でない場合、図3(b)のようにスタンプ40のパターン面と被印刷基材固定ステージ10の被印刷基材20を乗せた面とが被印刷基材20を介して押付けられた状態となる。
この押し付ける力によって球面座50の半球状体52が半球状凹部53内で回転することにより、スタンプ40の全ての凸部40aの先端面(パターン面)と被印刷基材20の面(被印刷面)とが平行になる。
このとき、前記真空ポンプによる固定手段を動作させて球面座50を吸着固定することにより、平行状態を保持することができる。
Next, the operation of the pattern forming apparatus configured as described above will be described with reference to FIGS.
First, after the
When the printing
Due to this pressing force, the
At this time, the parallel state can be maintained by operating the fixing means by the vacuum pump to fix the
次に、スタンプ40をインキパッド固定ステージ11の上方まで移動させた後、ステージ移動装置61によりインキパッド固定ステージ11を球面座51と共に上方に移動させ、スタンプ40とインキパッド30とを押し付けて、前記と同様にして球面座51によりスタンプ40のパターン面とインキパッド30のパッド面とを平行状態にして球面座51を固定する。
この状態で図3(c)のようにスタンプ40を一旦インキパッド30から離してインキパッド30にインキ(パターン形成材料)を供給した後、再びスタンプ40とインキパッド30とを接触させることにより、スタンプ40にインキを付着させる。
Next, after moving the
In this state, as shown in FIG. 3C, after the
尚、スタンプ40のパターン面とインキパッド30のパッド面とが平行状態となるまではインキパッド30にはインキは未だ供給されてなく、上記平行状態が得られ、球面座51が固定されてからインキが供給される。
このために、インキパッド30にスポンジ状の材質を用いてインキを滴下するようにしてよい。
スポンジ状の材質として例えばメンブレンフィルタなどの濾紙が用いられる。
Ink is not yet supplied to the
For this purpose, ink may be dropped on the
For example, a filter paper such as a membrane filter is used as the sponge-like material.
次に、インキを付着されたスタンプ40を再び被印刷基材固定ステージ10の上方に移動させた後、既に固定されている球面座50によりスタンプ40に対して平行になされている被印刷基材20とスタンプ40とを押し付けることにより、スタンプ40のインキを被印刷基材20に転写することができる。
Next, after the
次に、スタンプ40とインキパッド30および被印刷基材20との位置合わせについて説明する。
インキパッド30およびスタンプ40の互いに対応する位置にはそれぞれ位置合わせマークが設けられており、この位置合わせマークを位置合わせマーク観察装置80で観察しながら、インキパッド30とスタンプ40とを正確に位置合わせした状態で、スタンプ40にパターン形成材料を付着させることができる。
Next, alignment of the
Alignment marks are provided at positions corresponding to each other on the
同様に、被印刷基材20及びスタンプ40の互いに対応する位置には位置合わせマークが設けられている。
この位置合わせマークを位置合わせマーク観察装置81で観察しながら、被印刷基材20とスタンプ40を正確に位置合わせした状態でパターン形成を行うことができる。
尚、位置合わせマーク観察装置80、81として、例えば光学顕微鏡や半導体製造におけるステッパのレーザ光を用いた位置合わせの装置が用いられる。
Similarly, alignment marks are provided at positions corresponding to each other on the
While observing the alignment mark with the alignment
As the alignment
以上のように、本実施の形態によれば、スタンプ40のパターン面とインキパッド30のインキ面と、及び、スタンプ40のパターン面と被印刷基材20の被印刷面とを常に正確に平行状態に保ちながら、インキのスタンプ40への付着、および、スタンプ40から被印刷基材20への転写を行うことができる。
従って、スタンプにパターン形成材料を均一に付着させることができると共に、そのスタンプを均一に基材に押し当てることができるので、パターン形成材料を安定にかつ被印刷基材20の面内に均一に転写することができるので、再現性の良いパターン形成を行うことができる。
As described above, according to the present embodiment, the pattern surface of the
Accordingly, the pattern forming material can be uniformly adhered to the stamp, and the stamp can be uniformly pressed against the substrate, so that the pattern forming material can be stably and uniformly applied to the surface of the
また、スタンプ40とインキパッド30および被印刷基材20との位置合わせを高い精度で行うことができるので、被印刷基材20の所定の位置に所望のパターンを正確に形成することができる。
Further, since the
尚、図1の実施の形態では、被印刷基材固定ステージ10、インキパッド固定ステージ11が上下動すると共にスタンプ40がガイドレール70上を左右に移動可能に構成しているが、被印刷基材固定ステージ10、球面座50及びステージ移動装置60と、インキパッド固定ステージ11、球面座51およびステージ移動装置61をそれぞれ一体的に左右移動可能とし、スタンプ40を上下動させる構成でもよい。
In the embodiment shown in FIG. 1, the printing
スタンプ40とインキパッド30、スタンプ40と被印刷基材20を接触させるためには、少なくともどちらか一方が面に対して垂直方向に移動可能な機構を有していればよい。
そのためにはスタンプ40もしくはインキパッド30、被印刷基材20側の被印刷基材固定ステージ10又はインキパッド固定ステージ11がエアシリンダやポールねじ等の送り機構により移動できればよい。
In order to bring the
For this purpose, the
次に、スタンプ40が支持されているスタンプ支持機構120およびスタンプ40の構成について、詳細に説明する。
以下、光透過性とは、光を透過する性質という意味で用いている。
図5に示すように、スタンプ支持機構120は、光透過性および非可撓性を有する材質、例えば、ガラス板等により作製されたブラケット120bと、このブラケット120bを図示しない移動装置に取り付け、固定させるブラケット120aとから構成されている。
ここでブラケット120aは、取り付け加工、及び上記移動装置へ固定し易いように、材質として金属、例えばアルミ合金などを用い、ブラケット120bの外縁部に沿った、所定の幅の枠形に加工され、ブラケット120bを介して、画線部40bに、位置合わせのための光が透過されるよう形成されている。
そして、ブラケット120aとブラケット120bとは、図示しないボルト等によって互いに固定されている。
Next, the configuration of the
Hereinafter, the light transmissive property is used to mean the property of transmitting light.
As shown in FIG. 5, the
Here, the
The
また、スタンプ40は、凸部40aにより凹凸のパターンが形成されている画線部40bの領域を有するスタンプ部40cと、スタンプ部40cを固定するために裏打ちする裏打ち部40dから構成されている。
スタンプ部40cは材質が光透過性を有する弾性体、例えば、硬化されたシリコーンゴムで形成されており、裏打ち部40dは光透過性及び可撓性のある材質、例えばポリカーボネート板等により形成され、スタンプ部40と、画線部40bが形成されている反対の面を介して貼着されている。
The
The
上記スタンプ部40cの作製方法は後述するが、被印刷物である基材における、印刷面の凹凸に対応するため弾性体を使用するので、スタンプ部40cを固定する必要性から裏打ち部40dにより固定する。
ここで、ブラケット120bの上記所定の幅は、位置合わせマーク観察装置80(または81)から出射される光Rが、スタンプ40の画線部40bの全体または位置合わせに必要な部分を、透過する空間を与える値とする。
すなわち、幅と定義したが、画線部40bにおいて、位置合わせのための光Rが透過する位置が固定されていれば、任意の大きさ及び形状の孔を形成して、この孔を前記光Rが通過し、画線部40bを透過するようにしてもよい。
Although the manufacturing method of the
Here, the predetermined width of the
That is, although defined as the width, if the position where the light R for alignment is transmitted is fixed in the
そして、スタンプ支持機構120は、ブラケット120bに対してスタンプ40を固定する機能を有しているが、固定の方法として特に限定をしないが、ネジによる固定や真空吸着による固定などが用いられる。
以下に、真空吸着による固定に付いて簡単に説明する。
ブラケット120bには、上記スタンプ40を真空吸着により固定するための、溝120cが形成されている。
The
Hereinafter, fixing by vacuum suction will be briefly described.
A
ここで、上記溝120cは図5においては、スタンプ40が正方形状であるとして、「ロの字」の形状に形成してあるが、スタンプ40の形状に合わせ、かつスタンプ部40cの領域および位置合わせ用の光Rの透過する領域を除いた部分に任意の形状で作製して良い。
また、ブラケット120bは、透過する位置合わせ用の光Rの散乱の割合が、位置合わせ精度を満足し、かつスタンプ40を固定する吸着力が得られる数量および面積の孔が設けられた吸着面を有する構成としてもよい。
Here, in FIG. 5, the
Further, the
次に、スタンプ40の作製方法を、図6を用いて説明する。
ガラス板表面に、スタンプ40の画線部40bの凹凸のパターンと逆の凹凸のパターンを作製するため、フォトリソグラフィの技術によりレジストパターンを形成して、このレジストパターンをマスクとして、エッチング処理を行い、画線部40bの凹凸のパターンに対して、逆の凹凸を有する凹凸のパターンを形成し、このガラス板を母型130とする。
Next, a method for manufacturing the
In order to produce a concave / convex pattern opposite to the concave / convex pattern of the
そして、上記母型130に、スタンプ部40となる液状シリコーンゴム(例えば、GR東芝製TSE3032)を流し込み、樹脂板(裏打ち部40d)である0.5mmのポリカーボネート板に重ね合わせる(図6(a))。
上記液状シリコーンゴムと樹脂板との間に、貼着の強度を増加させるため、光透過性を有する接着剤を介挿してもよい。
この状態を保持させたまま、室温において72時間放置し、上記液状シリコーンゴムを硬化させ、スタンプ部40cを形成する。
そして、母型130から、裏打ち部40dで固定された状態において、スタンプ部40cを引き剥がして、スタンプ40を完成させる(図6(b))。
Then, liquid silicone rubber (for example, TSE3032 manufactured by GR TOSHIBA) serving as the
In order to increase the adhesive strength between the liquid silicone rubber and the resin plate, an optically permeable adhesive may be interposed.
While maintaining this state, the liquid silicone rubber is allowed to stand at room temperature for 72 hours to form the
Then, in a state of being fixed by the
ここで、裏打ち部40dはスタンプ部40cを母型130より引き剥がすときに画線部40bが変形しないように、形状を保護している。
また、母型130より引き剥がすとき、図6(b)に示すように、母型130またはスタンプ40のいずれかが可撓性の材質、剛性が高くなく印加された力に対して変形する材質が好ましい。
母型130は画線部40bの凹凸パターンの原版であり、凹凸のパターンの寸法精度が要求されるため、裏打ち部40dを可撓性の材質で作製することとなる。
Here, the
Further, when peeled off from the mother die 130, as shown in FIG. 6 (b), either the mother die 130 or the
The
さらに、裏打ち部40dは、スタンプ部40cにおける画線部40bおよび位置合わせの領域に位置合わせ用の光Rを透過させる必要があるため、スタンプ部40cと同様に光透過性の材質を用いる必要がある。
スタンプ40をブラケット120aに直接固定して、インキパッド固定ステージ11上の被印刷基材20に対して印刷を行う構成も考えられるが、裏打ち部40dが可撓性を有するため、図7に示すようにスタンプ40全体が変形して十分な加圧ができず、インク(又は材料)の転写(転移)が不十分となる。
このため、スタンプ支持機構120のブラケット120bは、スタンプ40の変形を防止する目的で、非可撓性の材質により作製されている。
Further, since the
A configuration in which the
For this reason, the
上述したような構成により、従来例における低い印刷精度の問題を解決することができる。
すなわち、スタンプ40に裏打ち部40dを設けることにより、スタンプ部40cを母型130から引き剥がす時に、スタンプ部40cに直接印加される力を低減させ、形成された画線部40bの凹凸パターンの変形を防止させることで、母型130の凹凸パターンに対する製造精度を向上させることができる。
With the configuration as described above, the problem of low printing accuracy in the conventional example can be solved.
That is, by providing the
また、スタンプ40が平面形状に作製され、かつスタンプ40が非可撓性を有するブラケット120bで固定されているため、画線部40bの変形を防止することができ、同様に平面形状に形成されている被印刷基材固定ステージ10およびインキパッド固定ステージ11の表面に配置された被印刷基材20、インキパッド30各々に対して、画線部40bの凹凸パターン面が平行に接触するため、インキパッド30から画線部40bの凹凸パターンへの、そして画線部40bの凹凸パターンから被印刷基材20の表面にインクが精度良く転写されることとなる。
In addition, since the
さらに、図6の上部から入射される光Rが、ブラケット120a,ブラケット120b,裏打ち部40d,スタンプ部40cの順に透過させることができ、スタンプ部40cの位置合わせマークと、先に転写されている被印刷基材20の表面の位置合わせマークとを用いた光学的な位置合わせ、例えば、半導体製造時にステッパ等において用いられる、レーザを用いた光学的な位置合わせの機構を利用することができ、この位置合わせの機構を用いることで、複数種類のパターンを重ね合わせて、所定の構成のパターンを形成するとき、この複数種類のパターン間の位置合わせの精度(パターンの形成精度)を、半導体製造工程の精度と同程度まで向上させることが可能である。
Furthermore, the light R incident from the upper part of FIG. 6 can be transmitted in the order of the
すなわち、本発明のパターン形成装置は、複数スタンプを用いて、異なるパターンを、複数重ね合わせて所定のパターン構成を形成する場合、被印刷基材20にすでに転写された位置合わせマーク(他のスタンプによるパターン形成時に、この他のスタンプにより形成された位置合わせマーク)と、スタンプ40に設けられた位置合わせマークとの重なりがズレていないか(偏差がどの程度あるかを含めて)を、レーザ光等により光学的に測定し、この偏差の測定結果に基づき、制御装置が移動装置を制御し、被印刷基材20上の位置合わせマークに対して、スタンプ40の位置合わせマークの位置が一致するように、移動装置によりスタンプ支持機構の位置を偏差分だけ移動させ、位置合わせマークを合わせることにより、高精度の重ね合わせのパターンを形成する。
That is, the pattern forming apparatus of the present invention uses a plurality of stamps, and when a predetermined pattern configuration is formed by overlapping a plurality of different patterns, alignment marks (other stamps already transferred to the
以上、本発明の一実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等があっても本発明に含まれる。
例えば、他の実施形態として、図6に示すスタンプ支持機構120とスタンプ40を、図7に示すスタンプ支持機構141、スタンプ40´の構成としてもよい。
スタンプ40´において、裏打ち部40dにスタンプ部40cを貼着するまでは既に述べた実施形態と同様である。
As mentioned above, although one embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the specific configuration is not limited to this embodiment, and there are design changes and the like without departing from the gist of the present invention. Is included in the present invention.
For example, as another embodiment, the
The stamp 40 'is the same as the embodiment described above until the
上記他の実施形態においては、ブラケット120cを裏打ち部40dに貼着して、スタンプ支持機構120のブラケット120cを、スタンプ40´の非可撓性(剛性)および光透過性を有する支持体40eとして用いている。
例えば、支持体40eに厚さ3mmのガラス板を用いて、アクリル系接着剤により、ポリカーボネートの裏打ち部40dに打擲する。
スタンプ支持機構141は、ブラケット12aと同様の構造に形成され、加えて、上記スタンプ40´を真空吸着して、固定保持するための溝141aが形成されている。
In the other embodiment described above, the
For example, a glass plate having a thickness of 3 mm is used as the
The
また、スタンプ支持機構141に対するスタンプ40´の固定保持方法は、真空吸着でなく、ボルト等を用いる固定方法を使用しても良い。
上述した構成により、他の実施形態も、既に述べた実施形態と同様の効果を得ることができる。
従って、本発明によれば、スタンプのパターン面とインキパッドのパッド面(被印刷基材固定ステージ10の上面)との平行および/又はスタンプのパターン面と被印刷基材の被印刷面(インキパッド固定ステージ11の上面)との平行を容易に得ることができるため、スタンプの面内に均一にパターン形成材料を付着させることができ、あるいは被印刷基材の面内に均一に所望のパターンを精度良く形成することができる。
Further, as a method for fixing and holding the
With the above-described configuration, other embodiments can obtain the same effects as those of the above-described embodiments.
Therefore, according to the present invention, the stamp pattern surface and the pad surface of the ink pad (upper surface of the printing substrate fixing stage 10) are parallel and / or the stamp pattern surface and the printing substrate surface (ink). Since it can be easily obtained in parallel with the upper surface of the
(実施形態2)
次に、本発明の第2の実施形態について、図を参照して説明する。
また、第2の実施形態については、実施例1に記載した図1の構成と異なる点のみを説明する。
同様の構成については、同一の符号を用いる。
第2の実施形態においては、図1に示す球面座50、51の代わりに、球面座50、51と同様に、被印刷基材固定ステージ10及びインキパッド固定ステージ11を各々可動自在(3次元的に)とするジンバル機構を用いた可動面座91、92を用いている点である。可動面座91に被印刷基材20が固定され、可動面座92にインキパッド30が固定されている。
(Embodiment 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the second embodiment, only differences from the configuration of FIG. 1 described in Example 1 will be described.
The same code | symbol is used about the same structure.
In the second embodiment, instead of the
被印刷基材固定ステージ10は可動面座91に設けられ、被印刷基材20を載置して固定するためのステージ(上面が滑らかな台)である。
インキパッド固定ステージ11は、可動面座92に設けられ、インキパッド30を載置して固定するためのステージである。
この被印刷基材固定ステージ10は、ジンバル機構からなる上記可動面座91に載置されており、移動装置60により、可動面座91と共に上下方向に移動可能になっている。
また、インキパッド固定ステージ11は、ジンバル機構からなる可動面座92に載置されており、移動装置61により可動面座92と共に上下方向に移動可能になっている。
The printing
The ink
The printing
The ink
図11を用いて、可動面座91の説明を行うが可動面座92についても同様の構成である。この図11は、可動面座91を上方より見た、被印刷基材固定ステージ10を含む上面の概念図を示している。
可動面座91は、固定軸93に設けられた、x軸周りに回転自在な第1の台94と、この第1の台94の上部に設けられた、y軸周りに回転自在な第2の台95で構成されている。そして、被印刷基材固定ステージ10は上記第2の台95の上面に固定されている。
また、可動面座90の第1の台94を固定軸93周りに回転自在にし、より位置制御の自由度向上を図ることもできる。
Although the
The
Further, the
これにより、可動面座91は実施例1に記載した球面座50と同様に、スタンプ40のパターン面と、被印刷基材20の被印刷面とを平行の状態に制御することができる。
また同様に、可動面座92は実施例1に記載した球面座51と同様に、スタンプ40のパターン面と、インキパッド30のパッド面とを平行の状態に制御することができる。
他の構成、動作および製造方法は実施例に記載した実施形態と同様のため、説明を省略する。
上記構成により、実施例1の第1および第2の実施形態と同様の効果を得ることができる。
Thereby, the
Similarly, the movable surface seat 92 can control the pattern surface of the
Other configurations, operations, and manufacturing methods are the same as those of the embodiment described in the examples, and thus description thereof is omitted.
With the above configuration, the same effects as those of the first and second embodiments of Example 1 can be obtained.
さらに、被印刷基材20の被印刷面とスタンプ40のパターン面との平行制御を非接触で行う構成について説明する。
図12に示すように、ステージ移動装置60による被印刷基材固定ステージ10の上昇を、あらかじめ設定された位置で一旦停止させる。
そして、上記制御部がスタンプ支持機構120と、被印刷基材固定ステージ10との間隔を側面からレーザ変位計等を利用することで測定し、少なくとも2カ所の間隔D1及びD2が同様となるように、既に述べたジンバル機構において、第1の台94および第2の台95を各々の軸周りに図示しないサーボモータ等により回転させる。
Furthermore, the structure which performs non-contact parallel control of the to-be-printed surface of the to-
As shown in FIG. 12, the rising of the printing
And the said control part measures the space | interval of the
また望ましくは、制御部が図13に示すように複数箇所、例えば4カ所において、間隔D1、D2、D3、D4を測定する。
すなわち、間隔D1をレーザ光源L1および受光器R1からなるレーザ変位計により測定し、間隔D2をレーザ光源L2および受光器R2からなるレーザ変位計により測定し、間隔D3をレーザ光源L3および受光器R3からなるレーザ変位計により測定し、間隔D4をレーザ光源L4および受光器R4からなるレーザ変位計により測定する。
Desirably, the control unit measures the distances D1, D2, D3, and D4 at a plurality of places, for example, four places as shown in FIG.
That is, the distance D1 is measured by a laser displacement meter composed of the laser light source L1 and the light receiver R1, the distance D2 is measured by a laser displacement meter composed of the laser light source L2 and the light receiver R2, and the distance D3 is measured by the laser light source L3 and the light receiver R3. The distance D4 is measured by a laser displacement meter comprising a laser light source L4 and a light receiver R4.
そして、制御部が間隔D1、D2、D3、D4各々の差を演算により求め、これらの各々の差が最小となるように、すなわち、制御部は、スタンプ支持機構120と、被印刷基材固定ステージ10とにおける間隔D1、D2、D3、D4各々が等しくなるように、可動面座91において、第1の台94および第2の台95を各々x軸およびy軸周りに、図示しないサーボモータ等により回転させて制御し、スタンプ支持機構120の面(スタンプ40のパターン面)と、被印刷基材固定ステージ10との面(被印刷基材20の被印刷面)とが平行となるよう調節する。
Then, the control unit obtains a difference between each of the intervals D1, D2, D3, and D4 by calculation, so that each of these differences is minimized, that is, the control unit fixes the
受光部R1〜R2は、複数の受光器が直接に接合されたものである。
そして、受光部に対してレーザ光源をスキャンさせて、測定物の間(スタンプ支持機構120と被印刷基材固定ステージ10との間)を通過するレーザ光を検知した受光器の数により、間隔の測定を行うものである。
上述した非接触によって、可動面座91において、スタンプ40のパターン面と被印刷基材20の被印刷面とを平行にする制御(平行制御)、また可動面座92においても同様にスタンプ40のパターン面とインキパッド30のパッド面との平行制御とを行うため、接触行程が必要無くなり、印刷工程を簡略化することができる。
The light receiving parts R1 to R2 are obtained by directly joining a plurality of light receivers.
Then, the laser light source is scanned with respect to the light receiving unit, and the interval is determined according to the number of light receivers that detect the laser light passing between the measurement objects (between the
By the non-contact described above, control (parallel control) is performed so that the pattern surface of the
本発明のパターン形成装置は、有機材料、無機材料、金属材料等よりなる印刷インキ等の流動体を用いて、複数層の積層や微細パターンを形成することができるので、トランジスタ等の電子デバイスやDNAの研究開発など広い範囲で利用することができる。 Since the pattern forming apparatus of the present invention can form a multi-layered or fine pattern using a fluid such as printing ink made of an organic material, an inorganic material, a metal material, etc., an electronic device such as a transistor, It can be used in a wide range such as DNA research and development.
10・・・・・・・・・・・・被印刷基材固定ステージ
11・・・・・・・・・・・・インキパッド固定ステージ
20・・・・・・・・・・・・被印刷基材
30・・・・・・・・・・・・インキパッド
40・・・・・・・・・・・・スタンプ
40a・・・・・・・・・・・パターン形状の凸部
40b・・・・・・・・・・・画線部
40c・・・・・・・・・・・スタンプ部
40d・・・・・・・・・・・裏打ち部
40e・・・・・・・・・・・支持体
50、51・・・・・・・・・球面座
60、61・・・・・・・・・ステージ移動装置
70・・・・・・・・・・・・ガイドレール
80、81・・・・・・・・・位置合わせマーク観察装置
90・・・・・・・・・・・・パターン形成材料(インキ)
91・・・・・・・・・・・・可動面座
93・・・・・・・・・・・・固定軸
94・・・・・・・・・・・・第1の台
95・・・・・・・・・・・・第2の台
120、141・・・・・・・スタンプ支持機構
130・・・・・・・・・・・母型
120a、120b・・・・・ブラケット
120c、141a・・・・・溝
L1、L2、L3、L4・・・レーザ光源
R1、R2、R3、R4・・・受光部
10 .... Printed
91 ··············································································. ··································································································································
Claims (1)
インキパッド、該インキパッドを固定するためのインキパッド固定ステージ、該インキパッド固定ステージを移動するためのインキパッド固定ステージ調整部を備えたインキパッドの支持機構と、
被印刷基材を固定するための被印刷基材固定ステージ、該被印刷基材固定ステージを移動するための被印刷基材固定ステージ調整部を備えた被印刷基材の支持機構と、
スタンプと、
前記インキパッドの支持機構と前記被印刷基材の支持機構の間を移動可能なスタンプ支持機構と、
前記スタンプと前記被印刷基材、および、前記スタンプと前記インキパッドとの位置合わせ機構と、
前記スタンプを前記インキパッドに接触させるスタンプとインキパッドの接触機構、および、前記スタンプを前記被印刷基材に接触させるスタンプと前記被印刷基材の接触機構を備えたパターン形成装置において、
前記インキパッド固定ステージ調整部により前記インキパッド固定ステージをX軸およびY軸およびZ軸周りに回転および垂直方向に変位させ、また、前記被印刷基材固定ステージ調整部により前記被印刷基材固定ステージをX軸およびY軸およびZ軸周りに回転および垂直方向に変位させることを特徴とするパターン形成装置。
On the base,
An ink pad support mechanism including an ink pad, an ink pad fixing stage for fixing the ink pad, an ink pad fixing stage adjustment unit for moving the ink pad fixing stage, and
A printing substrate fixing stage for fixing the printing substrate, a supporting mechanism for the printing substrate including a printing substrate fixing stage adjustment unit for moving the printing substrate fixing stage, and
Stamp and
A stamp support mechanism movable between a support mechanism of the ink pad and a support mechanism of the substrate to be printed;
An alignment mechanism between the stamp and the substrate to be printed, and the stamp and the ink pad;
In a pattern forming apparatus provided with a contact mechanism between a stamp and an ink pad for contacting the stamp with the ink pad, and a contact mechanism between the stamp and the substrate to be printed to contact the stamp with the substrate to be printed,
The ink pad fixing stage adjustment unit rotates the ink pad fixing stage around the X axis, the Y axis, and the Z axis and displaces the ink pad fixing stage in the vertical direction, and the printing substrate fixing stage adjustment unit fixes the printing substrate. A pattern forming apparatus, characterized in that a stage is rotated and displaced vertically about an X axis, a Y axis, and a Z axis.
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090602 |
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A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090731 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091218 |