JP2006171272A - Device for injecting liquid crystal - Google Patents
Device for injecting liquid crystal Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006171272A JP2006171272A JP2004362604A JP2004362604A JP2006171272A JP 2006171272 A JP2006171272 A JP 2006171272A JP 2004362604 A JP2004362604 A JP 2004362604A JP 2004362604 A JP2004362604 A JP 2004362604A JP 2006171272 A JP2006171272 A JP 2006171272A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- stage
- pipe
- heater block
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
本発明は、注入用液晶が充填された液晶容器を、加熱手段が設けられたステージに載置して液晶注入を行う液晶注入装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal injection apparatus that performs liquid crystal injection by placing a liquid crystal container filled with liquid crystal for injection on a stage provided with a heating means.
従来から、一対のガラス基板から成る液晶セルに液晶を注入するための装置として、液晶注入装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。液晶注入を行う場合には、液晶注入装置のチャンバ内に液晶セルを搬入し、チャンバ内が所定圧力となるまで真空排気した後に、チャンバ内に設けられた液晶容器を昇降機構により上昇させて液晶セルを液晶に接液させる。その後、チャンバ内の圧力を大気圧に戻して液晶注入を開始する。液晶は、チャンバ内圧力と液晶セル内圧力との差圧により液晶セル内に注入される。 Conventionally, a liquid crystal injection device is known as a device for injecting liquid crystal into a liquid crystal cell composed of a pair of glass substrates (see, for example, Patent Document 1). When liquid crystal injection is performed, the liquid crystal cell is carried into the chamber of the liquid crystal injection device, evacuated until the inside of the chamber reaches a predetermined pressure, and then the liquid crystal container provided in the chamber is raised by an elevating mechanism. Let the cell come into contact with the liquid crystal. Thereafter, the pressure in the chamber is returned to atmospheric pressure, and liquid crystal injection is started. The liquid crystal is injected into the liquid crystal cell by a differential pressure between the chamber internal pressure and the liquid crystal cell internal pressure.
液晶注入時には、ヒータ等の加熱手段により液晶セルや液晶を加熱して、注入の速度を速めるようにしている。液晶注入終了後はヒータをオフし、チャンバ内に設けられた冷却水ジャケットによりチャンバ内および液晶セルを冷却してそれらを常温に戻してから、注入済みの液晶セルを搬出するとともに、新たな液晶セルを搬入する。 At the time of liquid crystal injection, the liquid crystal cell or liquid crystal is heated by a heating means such as a heater so as to increase the injection speed. After the liquid crystal injection is completed, the heater is turned off, the inside of the chamber and the liquid crystal cell are cooled by a cooling water jacket provided in the chamber, and the liquid crystal cell is returned to room temperature. Bring in the cell.
ところで、ヒータ等の高温部材を冷却水ジャケットで冷却する場合、高温部材に冷却水ジャケットを接触させるように設けて冷却を行うのが一般的である。しかし、冷却水ジャケットの接触させようとする面が広いため、その面や高温部材側の接触面を厳密な平面に加工するのは困難となり、冷却水ジャケットと高温部材との接触面は実際には点接触状態となっている。そのため、充分な冷却効率が得られないという問題があった。 By the way, when a high temperature member such as a heater is cooled by a cooling water jacket, the cooling water jacket is generally provided so as to be in contact with the high temperature member. However, since the surface to be contacted by the cooling water jacket is wide, it is difficult to process the surface and the contact surface on the high temperature member side into a strict plane, and the contact surface between the cooling water jacket and the high temperature member is actually Is in a point contact state. Therefore, there has been a problem that sufficient cooling efficiency cannot be obtained.
請求項1の発明による液晶注入装置は、真空チャンバ内に配設され、注入液晶が充填された液晶容器を載置するステージと、ステージを加熱する加熱装置と、ステージを冷却する冷却装置とを備え、冷却装置は、ステージの裏面で引き回され、冷媒が流通する冷媒用パイプと、冷媒用パイプをステージの裏面で固定するとともに、ステージからの熱を冷媒用パイプに伝熱する複数の固定ブロックとを有することを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1の液晶注入装置において、固定ブロックは、冷媒用パイプをその長手方向に収容する収容部と、ステージの裏面に面接触して冷媒用パイプをステージに固定する固定部とを有するものである。
請求項3の発明は、請求項2の液晶注入装置において、固定ブロックの収容部が、冷媒用パイプの外周面が長手方向にわたって接触する内面を有する。
A liquid crystal injection apparatus according to a first aspect of the present invention includes: a stage on which a liquid crystal container filled with injected liquid crystal is placed; a heating apparatus that heats the stage; and a cooling apparatus that cools the stage. The cooling device includes a refrigerant pipe that is routed on the back surface of the stage and through which the refrigerant flows, and a plurality of fixings that fix the refrigerant pipe on the back surface of the stage and transfer heat from the stage to the refrigerant pipe. And a block.
According to a second aspect of the present invention, in the liquid crystal injecting apparatus according to the first aspect, the fixing block fixes the refrigerant pipe to the stage by contacting the back surface of the stage with an accommodating portion for accommodating the refrigerant pipe in the longitudinal direction. And a fixed portion.
According to a third aspect of the present invention, in the liquid crystal injection apparatus according to the second aspect, the housing portion of the fixed block has an inner surface with which the outer peripheral surface of the refrigerant pipe contacts in the longitudinal direction.
本発明によれば、ステージの裏面で引き回された冷媒用パイプを、ステージの熱を冷媒用パイプに伝熱する複数の固定ブロックによりステージ裏面に固定するようにしたので、冷媒用パイプをステージ裏面に密着固定できるとともに、冷却効率の向上を図ることができる。 According to the present invention, the refrigerant pipe routed on the back surface of the stage is fixed to the back surface of the stage by the plurality of fixing blocks that transfer the heat of the stage to the refrigerant pipe. While being able to adhere and fix to the back surface, it is possible to improve the cooling efficiency.
以下、図を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は本発明による液晶注入装置の一実施の形態を示す図であり、液晶注入装置の概略構成を示したものである。図1の液晶注入装置では、真空チャンバ1内で一連の注入動作が行われ、真空チャンバ1にはチャンバ内を真空排気する真空ポンプ2と、真空チャンバ1内を大気圧に戻すための窒素ガスを供給する窒素ガス源3が接続されている。真空ポンプ2は真空バルブ4を介して接続され、窒素ガス源3はガス導入バルブ5を介して接続されている。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a liquid crystal injection device according to the present invention, and shows a schematic configuration of the liquid crystal injection device. In the liquid crystal injection apparatus of FIG. 1, a series of injection operations are performed in the
真空チャンバ1内には、内部にヒータHを有するヒータブロック6が設けられており、このヒータブロック6上に液晶8を収容した液晶皿7が載置される。ヒータブロック6は昇降装置9によって上下に駆動することができる。昇降装置9は、ヒータブロック6を支持する一対のシャフト10a,10bと、各シャフト10a,10bの下端に取り付けられた連結板11と、連結板11を図示上下方向に駆動するボールネジ12およびモータ13を備えている。
A
真空チャンバ1の底面に回転可能に取り付けられたボールネジ12は、連結板11と螺合している。そのため、モータ13によりボールネジ12を回転駆動すると、ボールネジ12に螺動している連結板11が上下に移動し、シャフト10a,10bおよびヒータブロック6が上下する。真空チャンバ1の各シャフト10a,10bが貫通する部分には、滑り軸受け14が各々設けられている。シャフト10a,10bと滑り軸受け14との隙間は、軸シール15によりシールされている。
A
ヒータブロック6の裏面側には冷却装置16が固定されている。冷却装置16は冷媒を用いてヒータブロック6を冷却するものであり、冷媒導入部はシャフト10aに取り付けられた継ぎ手164に接続され、冷媒排出部はシャフト10bに取り付けられた継ぎ手164に接続されている。シャフト10a,10bの軸中心には管路100が軸方向に形成されており、この管路100を介して冷媒の供給および排出が行われている。
A
真空チャンバ1内には複数の液晶セル17を保持したカセット18が不図示の搬入口から搬入され、所定の位置に装填される。液晶セル17は液晶注入工程前の液晶パネルであって、スペーサを挟んで2枚のガラス基板が配置され、ガラス基板の周囲は封止部材によって封止されている。封止部材には液晶注入のための注入口が形成されており、各液晶セル17は注入口が図示下方を向くようにカセット18に保持されている。
A
図2は冷却装置16の詳細を示す図であり、ヒータブロック6の裏面側をチャンバ底面側から見た図である。また、図3は、図2のA−A断面図である。冷却装置16は、継ぎ手164、ステンレスや銅で形成されたパイプ161、蛇腹形状のフレキシブル配管163、パイプ161をヒータブロック6の裏面に固定する伝熱ブロック162a〜162jを備えている。パイプ161は蛇行するように曲げられていて、ヒータブロック6の裏面全域にわたって配されている。また、パイプ161はフレキシブル配管163を介して継ぎ手164に接続されており、パイプ161と継ぎ手164との間に位置ズレがあっても容易に接続することができる。
FIG. 2 is a diagram showing details of the
パイプ161の直線部分は、それぞれ伝熱ブロック162a〜162jによってヒータブロック裏面に密着するように固定されている。図3に示すように、各伝熱ブロック162a〜162jの断面形状はC字形状となっており、パイプ161は伝熱ブロック162a〜162jの長手方向に形成された溝内166に収められている。各伝熱ブロック162a〜162jはボルト165によりヒーブロック6の裏面に固定されている。
The straight portion of the
伝熱ブロック162a〜162jは、アルミ等の熱伝導性に優れた金属を切削加工して形成したものである。伝熱ブロック162a〜162jは、その固定面167がヒータブロック6と面接触しており、パイプ固定機能の他に、ヒータブロック6の熱を破線で示すようにパイプ161へと伝達する熱伝達部材としても機能している。本実施の形態では、パイプ161を固定するブロックを複数の伝熱ブロック162a〜162jで構成し、それぞれ個別にパイプ161の直線部分を固定するようにしているので、伝熱ブロック162a〜162jとヒータブロック6との接触性の向上が図れる。
The
例えば、パイプ161を1枚の大きなブロックで固定した場合、そのブロックを広い範囲にわたってヒータブロック裏面に均一に接触させるのは精度上難しく、点接触となりやすい。また、仮に、コストをかけヒータブロック裏面と固定用ブロックの合わせ面とが平面となるように高精度加工しても、パイプ161が厳密な平面形状となっていない場合には、ヒータブロック裏面と固定用ブロックとの間に隙間が生じ、それらの間における熱伝達性能が低下してしまう。
For example, when the
また、従来から採用されている冷却ジャケットをヒータブロック裏面に固定する構成のものにおいても、同様に接触させるべき面積が広いため点接触状態となってしまい、充分な冷却効率が低下するという問題があった。さらに、内部に冷媒を直接循環させる冷却ジャケット構造の場合、一般的には、金属板材に曲げ加工と溶接加工とを行ってジャケット構造としているが、ヒータブロック裏面と接触する面を厳密な平面とするのは実際的には難しい。 In addition, even in the configuration in which the cooling jacket that has been conventionally employed is fixed to the back surface of the heater block, the area to be contacted is large, and thus a point contact state occurs, and sufficient cooling efficiency is reduced. there were. Furthermore, in the case of a cooling jacket structure in which the refrigerant is circulated directly inside, generally, the metal plate material is bent and welded to form a jacket structure, but the surface in contact with the heater block back surface is a strict flat surface. It's actually difficult to do.
一方、本実施の形態では、パイプ161全体と比較して狭い範囲である直線部分を、各伝熱ブロック162a〜162jで固定するようにしている。そのため、たとえパイプ161が全体として厳密な平面状態となっていなくても、各伝熱ブロック162a〜162jにより固定された部分のパイプ161を、ヒータブロック裏面に倣って配設することが可能となる。その結果、各々の領域のパイプ161をヒータブロック裏面に密着させることができるとともに、伝熱ブロック162a〜162jとヒータブロック6との接触性を個別に良好に保つことが容易にできる。すなわち、冷却装置16全体としての接触効率の向上を図ることができる。その結果、パイプ161により直接冷却するだけでなく、伝熱ブロック162a〜162jを介しても冷却性能が向上し、冷却効率の向上が図れる。
On the other hand, in this Embodiment, the linear part which is a narrow range compared with the
次に、液晶セル17への液晶注入動作について、概略を説明する。図4は液晶注入手順を模式的に示したものであり、図示の関係上、真空ポンプ2および窒素ガス源3は真空チャンバ1の上方に図示した。まず、図4(a)に示すように真空チャンバ1内に液晶セル17を保持したカセット18を装填し、バルブ4を開けて真空ポンプ2により真空チャンバ1内を真空排気する。上述したように液晶セル17には注入口17aが形成されているので、ガラス基板間の液晶注入空間は真空状態となる。
Next, an outline of the liquid crystal injection operation to the
このとき、ヒータブロック6による加熱を行って液晶皿7内の液晶8を昇温する。これにより、液晶8に溶け込んでいるガスの脱泡が行われるとともに、液晶8の粘度が小さくなって液晶セル17への注入がより速やかに行われる。
At this time, the
次いで、バルブ4を閉じて真空排気を停止した後、昇降装置9を駆動してヒータブロック6に載置された液晶皿7を上方に移動し、液晶セル17の注入口17aに液晶8を接液させる(図4(b)参照)。そして、バルブ5を開けて真空チャンバ1内に窒素ガス源3の窒素ガス(加圧ガス)を導入する。その結果、液晶セル17内と真空チャンバ1内の圧力差によって、液晶皿7の液晶8が液晶セル17内へと注入される。
Next, after the
その後、液晶セル17への液晶注入が完了するまで、図4(b)の状態を保持する。なお、液晶注入をより速やかに行わせる目的で、窒素ガスを加熱してから真空チャンバ1内に導入したり、真空チャンバ1をヒータで加熱してチャンバ内の窒素ガスを加熱するなどして液晶セル17を加熱する場合もある。液晶注入が完了したならば、冷却装置16に冷媒を供給してヒータブロック6を冷却するとともに液晶皿7等の冷却も行う。充分な冷却が行われてカセット搬出作業が容易となったならば、昇降装置9を下方に下げ、真空チャンバ1を大気解放して液晶セル17が収められたカセット18を真空チャンバ1から搬出する。なお、液晶セル17の注入口17aは接着剤等により封止される。
Thereafter, the state of FIG. 4B is maintained until the liquid crystal injection into the
以上説明した実施の形態と特許請求の範囲の要素との対応において、ヒータHは加熱装置を、ヒータブロック6はステージを、液晶皿7は液晶容器を、伝熱ブロック162a〜162jは固定ブロックをそれぞれ構成する。なお、以上の説明はあくまでも一例であり、発明を解釈する際、上記実施の形態の記載事項と特許請求の範囲の記載事項の対応関係に何ら限定も拘束もされない。
In the correspondence between the embodiment described above and the elements of the claims, the heater H is a heating device, the
1 真空チャンバ
2 真空ポンプ
3 窒素ガス源
6 ヒータブロック
7 液晶皿
8 液晶
9 昇降装置
10a,10b シャフト
16 冷却装置
17 液晶セル
17a 注入口
161 パイプ
162a〜162j 伝熱ブロック
163 フレキシブル配管
164 継ぎ手
166 溝
167 固定面
H ヒータ
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記ステージを加熱する加熱装置と、
前記ステージを冷却する冷却装置とを備え、
前記冷却装置は、
前記ステージの裏面で引き回され、冷媒が流通する冷媒用パイプと、
前記冷媒用パイプを前記ステージの裏面で固定するとともに、前記ステージからの熱を前記冷媒用パイプに伝熱する複数の固定ブロックとを有することを特徴とする液晶注入装置。 A stage for placing a liquid crystal container disposed in a vacuum chamber and filled with injected liquid crystal;
A heating device for heating the stage;
A cooling device for cooling the stage,
The cooling device is
A refrigerant pipe that is routed around the back of the stage and through which the refrigerant flows;
A liquid crystal injection apparatus comprising: a plurality of fixing blocks that fix the refrigerant pipe on the back surface of the stage and transfer heat from the stage to the refrigerant pipe.
前記固定ブロックは、前記冷媒用パイプをその長手方向に収容する収容部と、前記ステージの裏面に面接触して前記冷媒用パイプを前記ステージに固定する固定部とを有することを特徴とする液晶注入装置。 The liquid crystal injection device according to claim 1.
The fixing block includes an accommodating portion that accommodates the refrigerant pipe in a longitudinal direction thereof, and a fixing portion that is in surface contact with the back surface of the stage and fixes the refrigerant pipe to the stage. Injection device.
前記固定ブロックの前記収容部は、前記冷媒用パイプの外周面が長手方向にわたって接触する内面を有することを特徴とする液晶注入装置。 The liquid crystal injection device according to claim 2.
The liquid crystal injecting apparatus according to claim 1, wherein the housing portion of the fixing block has an inner surface with which an outer peripheral surface of the refrigerant pipe contacts in a longitudinal direction.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004362604A JP2006171272A (en) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | Device for injecting liquid crystal |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004362604A JP2006171272A (en) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | Device for injecting liquid crystal |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006171272A true JP2006171272A (en) | 2006-06-29 |
Family
ID=36672118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004362604A Pending JP2006171272A (en) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | Device for injecting liquid crystal |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006171272A (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07294091A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-10 | Toyo Kooteingu Kk | Fixing method of heat radiation pipe against heat radiation plate of refrigerator |
JP2000089236A (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Shimadzu Corp | Liquid crystal filling device |
JP2003130517A (en) * | 2001-07-17 | 2003-05-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Cooling system for electronic device and electronic device with cooling system |
JP2004102949A (en) * | 2002-09-13 | 2004-04-02 | Hitachi Ltd | Electronic equipment |
-
2004
- 2004-12-15 JP JP2004362604A patent/JP2006171272A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07294091A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-10 | Toyo Kooteingu Kk | Fixing method of heat radiation pipe against heat radiation plate of refrigerator |
JP2000089236A (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Shimadzu Corp | Liquid crystal filling device |
JP2003130517A (en) * | 2001-07-17 | 2003-05-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Cooling system for electronic device and electronic device with cooling system |
JP2004102949A (en) * | 2002-09-13 | 2004-04-02 | Hitachi Ltd | Electronic equipment |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI664694B (en) | Holding device | |
KR100945331B1 (en) | Multiple slot load lock chamber and method of operation | |
CN110323161B (en) | Organic film forming apparatus and organic film manufacturing method | |
KR100245289B1 (en) | Cooling apparatus and cooling method for semiconductor wafers | |
TWI707760B (en) | Organic film forming device and manufacturing method of organic film | |
JPH1195230A (en) | Production of liquid crystal panel and apparatus for production | |
US11906246B2 (en) | Organic film forming apparatus | |
US20180261473A1 (en) | Apparatus and method especially for degassing of substrates | |
US8752580B2 (en) | Vacuum chamber for processing substrate and apparatus including the same | |
JP3725612B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2006171272A (en) | Device for injecting liquid crystal | |
JP3451137B2 (en) | Substrate heat treatment equipment | |
KR101348749B1 (en) | Device and method for auto clave process | |
JP5773815B2 (en) | Heat treatment equipment | |
JP3970184B2 (en) | Processing equipment | |
JP2010169896A (en) | Processing apparatus | |
JP2006171271A (en) | Device for injecting liquid crystal | |
JP4384518B2 (en) | Furnace structure of heat treatment equipment | |
JP4354842B2 (en) | Flange holding structure of heat treatment container | |
TWI785705B (en) | Organic film forming device | |
JP4118166B2 (en) | Ferroelectric liquid crystal display panel heating device | |
JP4399279B2 (en) | Substrate processing apparatus and IC manufacturing method | |
KR100571309B1 (en) | Plasma processing apparatus | |
CN220767160U (en) | Heating plate, process cooling water system and thin film deposition equipment | |
JPH07128673A (en) | Liquid crystal injecting method and liquid crystal injecting device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20100217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100406 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20100810 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |