JP2006165430A - Inductor and its manufacturing method - Google Patents

Inductor and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2006165430A
JP2006165430A JP2004357845A JP2004357845A JP2006165430A JP 2006165430 A JP2006165430 A JP 2006165430A JP 2004357845 A JP2004357845 A JP 2004357845A JP 2004357845 A JP2004357845 A JP 2004357845A JP 2006165430 A JP2006165430 A JP 2006165430A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
metal
inductance component
metal magnetic
coil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004357845A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Ishimoto
仁 石本
Shinya Matsutani
伸哉 松谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2004357845A priority Critical patent/JP2006165430A/en
Publication of JP2006165430A publication Critical patent/JP2006165430A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small-sized, low-profile inductance which can be manufactured in an inexpensive facility having superior mass productivity, and to provide a method for manufacturing the inductance part. <P>SOLUTION: The inductor comprises a multilayered magnetic material layer 2, and the layer 2 has a coil 1, a first metal layer 4 formed on at least one surface of a substrate 3, a first metal magnetic material layer 5, a resistance layer 6, and a laminated second metal magnetic material layer 7. The inductor is made of Fe or an Fe alloy, containing the first and second metal magnetic material layers 5 and 7. The ratio of S, contained in the surface of the first metal magnetic material layer 5 at the interface between the first metal magnetic material layer 5, and the resistance layer 6, is set to be not larger than 0.11 mass%. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、各種電子機器に用いられるインダクタ部品およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an inductor component used in various electronic devices and a manufacturing method thereof.

従来、この種のインダクタンス部品は、小型・低背化の観点から平面型の部品構造をしており、低背化の要望はますます高まってきている。   Conventionally, this type of inductance component has a planar component structure from the viewpoint of miniaturization and low profile, and there is an increasing demand for low profile.

更に、電源回路におけるスイッチング周波数の高周波領域へのシフトに対応するためには渦電流を低減させる必要があり、その対応策としては磁性体層と絶縁体層との積層構造を構成する方法が一般的に知られている(例えば、特許文献1参照)。   Furthermore, in order to cope with the shift of the switching frequency in the power supply circuit to the high frequency region, it is necessary to reduce the eddy current. As a countermeasure, a method of forming a laminated structure of a magnetic layer and an insulator layer is generally used. (For example, refer to Patent Document 1).

図7は前記公報に記載された従来のインダクタンス部品の構成を示すものであり、Feを含む磁性体層111と、この磁性体より比抵抗の大きい陽性元素の窒化物からなる絶縁体層112との積層膜と、磁性体層111に磁界を印加するコイル導体部113とを具備した構成としている。
特開平9−55316号公報
FIG. 7 shows a configuration of a conventional inductance component described in the above publication, and includes a magnetic layer 111 containing Fe, and an insulator layer 112 made of a nitride of a positive element having a specific resistance larger than that of the magnetic body. And a coil conductor portion 113 that applies a magnetic field to the magnetic layer 111.
JP-A-9-55316

しかしながら、前記従来の構成では、電源回路に必要なインダクタンス値を確保するためには磁性体層111の層数を多くしたり、一層あたりの磁性体層111の膜厚をより厚くする必要があり、前記従来の構成方法では蒸着あるいはスパッタなどの真空装置を利用する薄膜プロセスを用いて行う必要があることから、設備投資が高額になるとともに生産性においても課題を有していた。   However, in the conventional configuration, in order to secure an inductance value necessary for the power supply circuit, it is necessary to increase the number of magnetic layers 111 or increase the thickness of the magnetic layers 111 per layer. In the conventional configuration method, since it is necessary to use a thin film process using a vacuum apparatus such as vapor deposition or sputtering, the capital investment is high and there is a problem in productivity.

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、安価な設備で量産性に優れた小型低背のインダクタンス部品およびその製造方法を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a small and low-profile inductance component that is inexpensive and excellent in mass productivity and a method for manufacturing the same.

前記従来の課題を解決するために、本発明は、コイルと、基材の少なくとも片面に第一の金属層と第一の金属磁性体層と抵抗層および第二の金属磁性体層を積層した多層磁性体層からなるインダクタンス部品であって、前記第一および第二の金属磁性体層をSを含むFeまたはFe合金とするとともに第一の金属磁性体層と抵抗層の界面における第一の金属磁性体層の表面のSの含有比を0.11質量%以下に構成したインダクタンス部品とするものである。   In order to solve the above-described conventional problems, the present invention includes a coil and a first metal layer, a first metal magnetic layer, a resistance layer, and a second metal magnetic layer laminated on at least one side of a substrate. An inductance component comprising a multi-layer magnetic layer, wherein the first and second metal magnetic layers are Fe containing Fe or Fe alloy and the first metal magnetic layer and the resistance layer at the first interface The inductance component is such that the content ratio of S on the surface of the metal magnetic layer is 0.11% by mass or less.

本発明のインダクタンス部品およびその製造方法は、めっきプロセスなどを用いて安価な設備で量産性に優れた小型低背型のインダクタンス部品およびその製造方法を提供することができる。   The inductance component and the manufacturing method thereof according to the present invention can provide a small and low-profile inductance component that is inexpensive and has excellent mass productivity by using a plating process and the like, and a manufacturing method thereof.

(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1におけるインダクタンス部品およびその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, an inductance component and a manufacturing method thereof according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は本発明の実施の形態1におけるインダクタンス部品の斜視図であり、図2は図1に示したインダクタンス部品の多層磁性体層2の拡大断面図である。   FIG. 1 is a perspective view of an inductance component according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a multilayer magnetic layer 2 of the inductance component shown in FIG.

図1において、コイル1は銅あるいは銀などの高導電率材料を用いた被覆導線などを多層磁性体層2の表面に巻回するように形成しており、図1では4ターン巻いているがこの巻き数に制限はない。   In FIG. 1, a coil 1 is formed such that a coated conductive wire using a high conductivity material such as copper or silver is wound around the surface of a multilayer magnetic layer 2, and is wound four turns in FIG. There is no limit to the number of turns.

また、必要に応じて絶縁樹脂材料などを用いて前記多層磁性体層2の表面を被覆するように絶縁層8を設けても良い。この絶縁層8はインダクタンス部品が実装基板上に搭載される場合などの短絡防止である。また、この絶縁層8の材料としてはエポキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂あるいはこれらの混合物等の有機樹脂材料が好ましい。更に耐熱性と機械的強度を高めるために無機フィラーを混合しても良い。   Moreover, you may provide the insulating layer 8 so that the surface of the said multilayer magnetic body layer 2 may be coat | covered using an insulating resin material etc. as needed. This insulating layer 8 prevents short-circuiting when an inductance component is mounted on a mounting board. The insulating layer 8 is preferably made of an organic resin material such as an epoxy resin, a silicon resin, an acrylic resin, or a mixture thereof. Further, an inorganic filler may be mixed in order to improve heat resistance and mechanical strength.

次に、図2を用いて多層磁性体層2の構成について説明する。   Next, the configuration of the multilayer magnetic layer 2 will be described with reference to FIG.

図2において、シート状の基材3の少なくとも片面に導電性を有する第一の金属層4を形成し、この第一の金属層4の上にSを含むFeまたはFe合金などからなる第一の金属磁性体層5を積層し、更にこの第一の金属磁性体層5の上に銅酸化物などの抵抗層6を積層し、その後この抵抗層6の上にSを含むFeまたはFe合金などからなる第二の金属磁性体層7を積層した積層体からなる多層磁性体層2を構成している。このような構成の多層磁性体層2において、前記抵抗層6には表面を還元反応などによって導電性を有する金属面とすることができる膜を形成しておくことにより、この抵抗層6の上に第二の金属磁性体層7をめっきプロセスによって形成することができる。このとき、特に電気めっきプロセスを用いることにより、簡易な設備で速やかに所望の厚みを有する第二の金属磁性体層7を形成することができる。そして、この抵抗層6に銅酸化物などを用いることにより、簡単に表面を還元処理することによって抵抗層6の表面にCu膜を形成することができる。特に、この銅酸化物のうちCu2Oはめっきプロセスで膜形成することが可能であることから、抵抗層6にこのCu2Oを形成することにより、すべてのプロセスをめっきプロセスで処理することが可能となる。 In FIG. 2, a first metal layer 4 having conductivity is formed on at least one surface of a sheet-like substrate 3, and Fe or Fe alloy containing S is formed on the first metal layer 4. And a resistance layer 6 such as copper oxide is further laminated on the first metal magnetic layer 5, and then Fe or Fe alloy containing S is formed on the resistance layer 6. The multi-layer magnetic body layer 2 made of a laminated body in which the second metal magnetic body layers 7 made of, for example, are laminated. In the multi-layer magnetic layer 2 having such a configuration, the resistance layer 6 is formed on the resistance layer 6 by forming a film whose surface can be a conductive metal surface by a reduction reaction or the like. In addition, the second magnetic metal layer 7 can be formed by a plating process. At this time, by using an electroplating process in particular, the second metal magnetic layer 7 having a desired thickness can be formed quickly with simple equipment. Then, by using copper oxide or the like for the resistance layer 6, a Cu film can be formed on the surface of the resistance layer 6 by simply reducing the surface. In particular, since Cu 2 O of this copper oxide can be formed by a plating process, all processes are processed by the plating process by forming this Cu 2 O on the resistance layer 6. Is possible.

なお、前記第一の金属層4と抵抗層6の厚みは薄く設計しておくことが磁気特性の観点からは望ましい。   In addition, it is desirable from the viewpoint of magnetic characteristics that the first metal layer 4 and the resistance layer 6 are designed to be thin.

更に、前記抵抗層6は第一の金属磁性体層5と第二の金属磁性体層7とを隔てるように設けており、抵抗層6の比抵抗を第一および第二の金属磁性体層5,7より大きくすることにより、第一の金属磁性体層5と第二の金属磁性体層7にまたがって発生する渦電流を遮断することができる。そのとき、第一および第二の金属磁性体層5,7との比抵抗値の比が102以上であれば、特にその効果は顕著となる。 Further, the resistance layer 6 is provided so as to separate the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7, and the specific resistance of the resistance layer 6 is set to the first and second metal magnetic layers. By making it larger than 5 and 7, the eddy current generated across the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7 can be cut off. At that time, if the ratio of the specific resistance values to the first and second metal magnetic layers 5 and 7 is 10 2 or more, the effect is particularly remarkable.

このように、前記第一の金属磁性体層5の下層には第一の金属層4が在り、第二の金属磁性体層7の下層には銅酸化物を含んだ抵抗層6が在ることから、それぞれの金属磁性体層5,7の形成をめっきプロセスで製膜することが可能となるものである。特に、磁気特性の観点から、かなりの膜厚を必要とする第一の金属磁性体層5と第二の金属磁性体層7の製膜に電気めっきプロセスを用いることができれば、安価な設備で、より量産性に優れた生産プロセスとすることができるという効果を発揮することができる。   In this way, the first metal layer 4 is present under the first metal magnetic layer 5, and the resistance layer 6 containing copper oxide is present under the second metal magnetic layer 7. Therefore, it is possible to form the metal magnetic layers 5 and 7 by a plating process. In particular, from the viewpoint of magnetic properties, if an electroplating process can be used for forming the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7 that require a considerable film thickness, it is possible to use inexpensive equipment. Thus, it is possible to exert an effect that the production process can be more excellent in mass productivity.

次に、第一および第二の金属磁性体層5,7の形成を電気めっきプロセスで形成するとき、応力緩和剤としてSを含むサッカリンを使用している。このSを含むサッカリンなどの応力緩和剤を入れることで、第一および第二の金属磁性体層5,7が厚くなってもクラックの発生しない均一性に優れた第一および第二の金属磁性体層5,7を形成することができる。このことから、電気めっきプロセスで所定の厚み以上の第一および第二の金属磁性体層5,7の形成を行うとき、Sを含むサッカリン等の応力緩和剤の使用は不可欠である。   Next, when forming the first and second metal magnetic layers 5 and 7 by an electroplating process, saccharin containing S is used as a stress relaxation agent. By adding a stress relaxation agent such as saccharin containing S, the first and second metal magnets are excellent in uniformity so that cracks do not occur even when the first and second metal magnetic layers 5 and 7 are thickened. Body layers 5 and 7 can be formed. Therefore, when the first and second metal magnetic layers 5 and 7 having a predetermined thickness or more are formed in the electroplating process, it is indispensable to use a stress relaxation agent such as saccharin containing S.

しかしながら、この第一の金属磁性体層5および第二の金属磁性体層7に含まれるSの存在は第一および第二の金属磁性体層5,7の表面に金属酸化物の形成を促進することが分かった。また、その表面近傍にはSの凝集も起こることが分かった。この表面における金属酸化物の形成とSの凝集によって第一の金属磁性体層5と抵抗層6の層間における密着性を悪化させていることが分かった。   However, the presence of S contained in the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7 promotes the formation of metal oxides on the surfaces of the first and second metal magnetic layers 5 and 7. I found out that It was also found that S aggregation also occurred in the vicinity of the surface. It was found that the adhesion between the first metal magnetic layer 5 and the resistance layer 6 was deteriorated by the formation of the metal oxide and the aggregation of S on the surface.

この課題に対して検討した結果、応力緩和作用を持たせながら、かつ密着性の良好な多層磁性体層2を得るためには第一の金属磁性体層5と抵抗層6の界面における第一の金属磁性体層5の表面のSの組成比を0.11質量%以下に制御することにより、応力緩和作用と密着性の良好な多層磁性体層2を実現できることが分かった。   As a result of studying this problem, in order to obtain a multilayer magnetic body layer 2 having good stress adhesion while having a stress relaxation action, the first metal magnetic layer 5 and the resistance layer 6 have a first interface at the interface. It was found that by controlling the composition ratio of S on the surface of the metal magnetic layer 5 to 0.11% by mass or less, the multilayer magnetic layer 2 having good stress relaxation action and good adhesion can be realized.

また、この第一の金属磁性体層5と第二の金属磁性体層7にFe合金を用いた場合、Feの組成比が30質量%以上であることが望ましい。これは第一および第二の金属磁性体層5,7に含まれるFeの含有量が30質量%以上にすることで高飽和磁束密度を有し、かつ低保磁力を有するという磁気特性の向上を実現できる。   Further, when an Fe alloy is used for the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7, it is desirable that the composition ratio of Fe is 30% by mass or more. This is an improvement in magnetic properties of having a high saturation magnetic flux density and a low coercive force when the Fe content in the first and second metal magnetic layers 5 and 7 is 30% by mass or more. Can be realized.

また、第一の金属磁性体層5と第二の金属磁性体層7に用いるFe合金としてはFeNi,FeNiCo,FeCoのうちいずれか一つを含む組成からなる金属磁性材料が高磁束密度、低磁気損失の観点からより好ましい。   Further, as the Fe alloy used for the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7, a metal magnetic material having a composition containing any one of FeNi, FeNiCo, and FeCo has a high magnetic flux density and a low More preferable from the viewpoint of magnetic loss.

このように、前記銅酸化物などのように表面を還元することができる比抵抗の大きな抵抗層6を設けることと、第一の金属磁性体層5と抵抗層6の界面における第一の金属磁性体層5の表面のSの含有比を0.11質量%以下となるように形成することにより、めっきプロセスによって所定のインダクタンス値を大きくすることができる所定の厚みを有する第一および第二の金属磁性体層5,7を形成することができ、量産性に優れた密着性の高い多層磁性体層2を実現することが可能となり、大電流に対応できるインダクタンス部品を実現することができる。   Thus, providing the resistance layer 6 having a large specific resistance capable of reducing the surface, such as the copper oxide, and the first metal at the interface between the first metal magnetic layer 5 and the resistance layer 6. By forming the S content ratio on the surface of the magnetic layer 5 to be 0.11% by mass or less, the first and second having a predetermined thickness that can increase a predetermined inductance value by a plating process. Metal magnetic layers 5 and 7 can be formed, and it is possible to realize a multilayer magnetic body layer 2 having high productivity and high adhesion, and an inductance component capable of handling a large current can be realized. .

次に、前記多層磁性体層2の形成方法について詳細に説明する。   Next, a method for forming the multilayer magnetic layer 2 will be described in detail.

まず始めに、シート状の基材3を準備する。この基材3は無機材料、有機材料および金属材料など材質は何でも良いがインダクタンス部品の形状、強度、コスト、信頼性の観点から適宜選択することができる。   First, a sheet-like base material 3 is prepared. The substrate 3 may be made of any material such as an inorganic material, an organic material, and a metal material, but can be appropriately selected from the viewpoint of the shape, strength, cost, and reliability of the inductance component.

そして、この基材3の少なくとも片面に電気めっきあるいは無電解めっきプロセスなどにより第一の金属層4を形成する。   Then, the first metal layer 4 is formed on at least one surface of the substrate 3 by electroplating or electroless plating process.

なお、このとき基材3が金属材料であれば基材3を第一の金属層4と兼ねることができるので構成を簡略化することができる。   In addition, if the base material 3 is a metal material at this time, since the base material 3 can serve as the 1st metal layer 4, a structure can be simplified.

また、この第一の金属層4は第一の金属磁性体層5を電気めっきプロセスで形成しやすくするために設けたものであり、導電性に優れたCuなどの金属が好ましく、更に磁性を有するFe,Ni,Coを用いることが磁気特性の観点からより好ましい。従って、磁性を有しないCuなどの金属を用いるときは第一の金属層4の厚みは薄いことが望ましい。   The first metal layer 4 is provided in order to facilitate the formation of the first metal magnetic layer 5 by an electroplating process, and is preferably a metal such as Cu having excellent conductivity, and more magnetic. It is more preferable to use Fe, Ni, and Co that are included from the viewpoint of magnetic characteristics. Accordingly, when a metal such as Cu that does not have magnetism is used, the first metal layer 4 is desirably thin.

次に、第一の金属層4の上に電気めっきプロセスによって第一の金属磁性体層5を形成する。この第一の金属磁性体層5の材料としてはFeまたはFe合金からなる組成の金属磁性材料が磁束密度、磁気損失の観点から好ましい。このとき、電気めっき工程に用いるめっき浴にはFeイオンあるいはその他の金属イオンを含有させ、更にこのめっき浴中に応力緩和剤であるサッカリン等のSを含む有機物を添加しておく。このようなめっき浴を使用することで、容易に第一の金属磁性体層5の中にS原子を含有させることが可能となる。例えば、応力緩和剤としてサッカリンを用いた場合、めっき浴中に0.1〜5g/L含有させておくことでその効果は見られる。なお、めっき条件すなわち電流密度等によって応力緩和作用を発揮する量は変化するので適宜条件設定をすることで制御することが可能である。   Next, the first metal magnetic layer 5 is formed on the first metal layer 4 by an electroplating process. As the material of the first metal magnetic layer 5, a metal magnetic material having a composition made of Fe or an Fe alloy is preferable from the viewpoint of magnetic flux density and magnetic loss. At this time, the plating bath used in the electroplating step contains Fe ions or other metal ions, and an organic substance containing S such as saccharin as a stress relaxation agent is added to the plating bath. By using such a plating bath, it becomes possible to easily contain S atoms in the first metal magnetic layer 5. For example, when saccharin is used as a stress relaxation agent, the effect can be seen by adding 0.1 to 5 g / L in the plating bath. In addition, since the quantity which exhibits a stress relaxation effect | action changes with plating conditions, ie, current density, it can be controlled by appropriately setting conditions.

次に、第一の金属磁性体層5の表面近傍のSの組成比を0.11質量%以下にする方法は第一の金属磁性体層5の表面をエッチングしたり、あるいはめっき条件の変更を選択する方法などがあげられる。   Next, the method of reducing the composition ratio of S in the vicinity of the surface of the first metal magnetic layer 5 to 0.11% by mass or less involves etching the surface of the first metal magnetic layer 5 or changing the plating conditions. The method of selecting is given.

その後、前記第一の金属磁性体層5の上に銅酸化物を含む抵抗層6を形成する。この抵抗層6の形成方法には電着法、めっきプロセス、スパッタ法といった方法があげられるが、第一および第二の金属磁性体層5,7との比抵抗より大きければその製造方法に制限はない。特に、抵抗層6に少なくとも銅酸化物が含まれることにより、抵抗層6の表面を容易に還元することができ、この抵抗層6の上に形成した第二の金属磁性体層7の厚みが10〜20μmという厚膜の場合においても良好な密着性を有していることが分かった。   Thereafter, a resistance layer 6 containing copper oxide is formed on the first metal magnetic layer 5. Examples of the method for forming the resistance layer 6 include an electrodeposition method, a plating process, and a sputtering method. However, if the resistivity is larger than the specific resistance with the first and second metal magnetic layers 5 and 7, the manufacturing method is limited. There is no. In particular, when the resistance layer 6 contains at least copper oxide, the surface of the resistance layer 6 can be easily reduced, and the thickness of the second magnetic metal layer 7 formed on the resistance layer 6 can be reduced. It was found that even in the case of a thick film of 10 to 20 μm, it has good adhesion.

また、多層磁性体層2の総厚みに対する抵抗層6の占める割合が高くなるとインダクタンス部品としてのインダクタンス値が小さくなることから、抵抗層6の厚みはより薄くすることが望ましい。例えば、チョークコイルなどで30Aの電流を流したときにもこの抵抗層6の厚みは1μmもあれば十分その機能を発揮することができる。   Moreover, since the inductance value as an inductance component decreases as the ratio of the resistance layer 6 to the total thickness of the multilayer magnetic layer 2 increases, it is desirable to make the thickness of the resistance layer 6 thinner. For example, even when a current of 30 A is passed through a choke coil or the like, if the resistance layer 6 has a thickness of 1 μm, its function can be sufficiently exerted.

このような構成を有する積層体を多層磁性体層2とし、必要に応じてシリコン樹脂あるいはエポキシ樹脂などの絶縁層8を多層磁性体層2の表面に被覆することにより絶縁化処理し、その後被覆銅線などを用いてコイル1を形成することによってインダクタンス部品とすることができる。   The laminated body having such a structure is used as the multilayer magnetic body layer 2, and if necessary, the insulating layer 8 such as silicon resin or epoxy resin is coated on the surface of the multilayer magnetic body layer 2 for insulation treatment, and then coated. By forming the coil 1 using a copper wire or the like, an inductance component can be obtained.

なお、前記の多層磁性体層2の構成は基材3の片面に積層した構造で説明してきたが、基材3の両面に配置した多層磁性体層2とすることも可能であり、電磁気性能、形状あるいはコストなどの観点から適宜選択することができる。例えば、金属磁性体層5,7の総厚を大きくすればインダクタンス値の大きなインダクタンス部品とすることができ、多層磁性体層2の総厚を一定としたときに第一および第二の金属磁性体層5,7の層数を多くすれば高周波特性に優れたインダクタンス部品とすることができる。   In addition, although the structure of the said multilayer magnetic body layer 2 has been demonstrated by the structure laminated | stacked on the single side | surface of the base material 3, it can also be set as the multilayer magnetic body layer 2 arrange | positioned on both surfaces of the base material 3, and electromagnetic performance , And can be appropriately selected from the viewpoints of shape and cost. For example, if the total thickness of the metal magnetic layers 5 and 7 is increased, an inductance component having a large inductance value can be obtained. When the total thickness of the multilayer magnetic layer 2 is constant, the first and second metal magnetisms can be obtained. If the number of body layers 5 and 7 is increased, an inductance component having excellent high frequency characteristics can be obtained.

また、第一の金属磁性体層5および第二の金属磁性体層7の主成分をFeまたはFe合金とすることで大電流に対応可能な高飽和磁束密度と高透磁率を有する多層磁性体層2を実現することができ、これに用いるFe合金材料としてはFe−Ni系、Fe−Ni−Co系、Fe−Co系などの磁性合金材料などを用いることが好ましい。   A multilayer magnetic body having a high saturation magnetic flux density and a high magnetic permeability capable of handling a large current by using Fe or an Fe alloy as a main component of the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7 The layer 2 can be realized, and as the Fe alloy material used for this, it is preferable to use a magnetic alloy material such as Fe—Ni, Fe—Ni—Co, or Fe—Co.

また、多層磁性体層2の第一および第二の金属磁性体層5,7の組成は必ずしも同じである必要は無く、前記の通り主成分がFeまたはFe合金とすることでその効果は得られる。   Further, the composition of the first and second metal magnetic layers 5 and 7 of the multilayer magnetic layer 2 is not necessarily the same, and the effect can be obtained by making the main component Fe or Fe alloy as described above. It is done.

なお、抵抗層6の上にバッファ層として導体層を形成しても良い。   A conductor layer may be formed on the resistance layer 6 as a buffer layer.

以上説明してきたような構成を有するインダクタンス部品とすることにより、多層磁性体層2の形成をめっきプロセスを用いて形成することが可能となり、蒸着あるいはスパッタ装置などの高価な設備を使うことなく、安価な設備で量産性に優れた小型低背のインダクタンス部品およびその製造方法を提供することができる。   By using the inductance component having the configuration as described above, it is possible to form the multilayer magnetic body layer 2 using a plating process, without using expensive equipment such as vapor deposition or sputtering equipment, It is possible to provide a small and low-profile inductance component that is inexpensive and excellent in mass productivity, and a method for manufacturing the same.

また、本発明の構成によれば容易に10〜20μmの第一および第二の金属磁性体層5,7を形成することができ、インダクタンス値の大きなインダクタンス部品を実現することができる。   Moreover, according to the configuration of the present invention, the first and second metal magnetic layers 5 and 7 having a thickness of 10 to 20 μm can be easily formed, and an inductance component having a large inductance value can be realized.

更に、層間の密着性を高めることで多層磁性体層2の密着強度を向上させることができることから高信頼性を有するインダクタンス部品を実現することができるという効果も発揮できる。   Furthermore, since the adhesion strength of the multilayer magnetic body layer 2 can be improved by enhancing the adhesion between the layers, an effect that an inductance component having high reliability can be realized can also be exhibited.

次に、このインダクタンス部品の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the inductance component will be described.

図1、図2に示したインダクタンス部品の製造方法は次のような製造プロセスを経て製造することができる。   The inductance component manufacturing method shown in FIGS. 1 and 2 can be manufactured through the following manufacturing process.

まず始めに、例えば厚み20μmのポリイミドフィルムを基材3として準備し、この基材3の片面に第1の金属層4として無電解めっきにより厚み0.5μmのNiを形成する。次に、この第一の金属層4の上に電気めっきにより厚み20μmのFe−Ni合金を第一の金属磁性体層5として形成する。   First, for example, a polyimide film having a thickness of 20 μm is prepared as the base material 3, and Ni having a thickness of 0.5 μm is formed on one side of the base material 3 as the first metal layer 4 by electroless plating. Next, an Fe—Ni alloy having a thickness of 20 μm is formed as a first metal magnetic layer 5 on the first metal layer 4 by electroplating.

そして、この第一の金属磁性体層5の表面のSの含有比をエッチングによって0.11質量%以下とする。   Then, the content ratio of S on the surface of the first metal magnetic layer 5 is set to 0.11% by mass or less by etching.

次に、この第一の金属磁性体層5の上にCu2Oを電解めっきにより厚み1μmの抵抗層6として形成する。 Next, Cu 2 O is formed on the first metal magnetic layer 5 as a resistance layer 6 having a thickness of 1 μm by electrolytic plating.

次に、前記抵抗層6の上に電気めっきにより厚み20μmのFe−Ni合金を第二の金属磁性体層7として形成することにより多層磁性体層2を作製することができる。   Next, the multilayer magnetic body layer 2 can be produced by forming a 20 μm thick Fe—Ni alloy as the second metal magnetic body layer 7 by electroplating on the resistance layer 6.

その後、必要に応じてエポキシ樹脂などをこの多層磁性体層2の表面に絶縁層8として被覆した後、直径200μmの太さの銅線を所定のターン数に巻き付けることにより、図1に示すインダクタンス部品を製造することができる。   Thereafter, an epoxy resin or the like is coated on the surface of the multilayer magnetic layer 2 as an insulating layer 8 as necessary, and then a copper wire having a diameter of 200 μm is wound around a predetermined number of turns, thereby providing the inductance shown in FIG. Parts can be manufactured.

以上説明してきたように、本発明のインダクタンス部品およびその製造方法によれば、安価な設備で量産性に優れた小型低背型のインダクタンス部品およびその製造方法を提供することができる。   As described above, according to the inductance component and the manufacturing method thereof of the present invention, it is possible to provide a small and low-profile inductance component that is inexpensive and excellent in mass productivity, and a manufacturing method thereof.

(実施の形態2)
以下、本発明の実施の形態2におけるインダクタンス部品およびその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
Hereinafter, an inductance component and a manufacturing method thereof according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings.

図3は本発明の実施の形態2におけるインダクタンス部品の斜視図であり、図4は図3のA−A部における断面図である。また、図5は図4における多層磁性体層の拡大断面図である。   3 is a perspective view of an inductance component according to Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. FIG. 5 is an enlarged sectional view of the multilayer magnetic layer in FIG.

図3および図4において、コイル絶縁部12の中に内蔵されるようにコイル11が配置されており、このコイル絶縁部12はコイル11がショートするのを防ぐためである。そして、このコイル11は例えば銅や銀などの高導電率材料を樹脂フィルムなどのコイル絶縁部12の上にめっきプロセスなどでパターニングした後、積層することにより形成している。   In FIG. 3 and FIG. 4, the coil 11 is disposed so as to be built in the coil insulating portion 12, and this coil insulating portion 12 is for preventing the coil 11 from being short-circuited. The coil 11 is formed by, for example, patterning a high conductivity material such as copper or silver on the coil insulating portion 12 such as a resin film by a plating process and then laminating.

また、コイル11の上段はインダクタンス部品の一方の側面にある端子部10bから芯部へ向かって渦巻き状に巻かれた後、中心部でスルホール電極15を介してコイル11の下段に移り他方の側面に設けた端子部10aに向かって渦巻き状に広がるように巻きながら形成している。   The upper stage of the coil 11 is spirally wound from the terminal portion 10b on one side of the inductance component toward the core, and then moves to the lower stage of the coil 11 through the through-hole electrode 15 at the center. It is formed while being wound so as to spread in a spiral toward the terminal portion 10a provided in.

なお、このコイル11の上段と下段のコイル11の巻かれる方向は同じ方向でなければならない。これによって、コイル11の上段と下段で磁束を打ち消し合うことなくスルホール電極15を介してコイル11の上段から下段に電流が流れ、大きなインダクタンス値を実現することができる。   The upper and lower coils 11 must be wound in the same direction. As a result, a current flows from the upper stage to the lower stage of the coil 11 via the through-hole electrode 15 without canceling out the magnetic flux between the upper stage and the lower stage of the coil 11, and a large inductance value can be realized.

なお、コイル11の形成方法としては銅線の加工あるいは薄板状の金属板を加工した後コイル絶縁部12に埋設することによりコイル部を形成できることは言うまでもない。またこのコイル11の厚み(断面積)は用いられる用途の電子機器により異なるが、少なくとも大電流に対応するためには10μm以上の厚みが必要となる。   Needless to say, the coil 11 can be formed by embedding it in the coil insulating portion 12 after processing a copper wire or processing a thin metal plate. Moreover, although the thickness (cross-sectional area) of this coil 11 changes with electronic devices of the use used, in order to respond | correspond at least to a large current, the thickness of 10 micrometers or more is required.

また、コイル11は図4に示したような二段ではなく一段あるいは三段以上であっても良い。   Further, the coil 11 may be one stage or three stages or more instead of the two stages as shown in FIG.

次に、前記のように構成されたコイル11の上下面に多層磁性体層22を配置している。この多層磁性体層22は両面に配置することにより、よりインダクタンス値を大きくすることもできる。   Next, the multilayer magnetic layer 22 is arranged on the upper and lower surfaces of the coil 11 configured as described above. The multilayer magnetic layer 22 can be arranged on both sides to further increase the inductance value.

また、絶縁層8は絶縁性を確保するという役割から、少なくとも多層磁性体層22の表層を被覆していれば良い。この絶縁層8はインダクタンス部品が実装基板などに搭載された場合、ショートするのを防ぐためである。また、この絶縁層8としてエポキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂等の有機樹脂材料が生産性の観点から好ましい。   Moreover, the insulating layer 8 should just coat | cover at least the surface layer of the multilayer magnetic body layer 22 from the role of ensuring insulation. This insulating layer 8 is for preventing a short circuit when an inductance component is mounted on a mounting board or the like. The insulating layer 8 is preferably an organic resin material such as an epoxy resin, a silicon resin, or an acrylic resin from the viewpoint of productivity.

以上のような構成とすることにより、多層磁性体層22の厚さ方向に生じる渦電流を抑制することができることからインダクタンス値を大きくすることができるとともに、インダクタンス部品からの発熱も抑制することができる。   With the above configuration, eddy currents generated in the thickness direction of the multilayer magnetic layer 22 can be suppressed, so that the inductance value can be increased and heat generation from the inductance component can also be suppressed. it can.

更に、コイル11を平板状に形成することにより、より低背化のインダクタンス部品を実現することができるとともに、コイル11を多段にすることにより低背化しても十分にインダクタンス値の大きいインダクタンス部品を実現することができる。   Furthermore, by forming the coil 11 in a flat plate shape, it is possible to realize an inductance component with a lower profile, and by providing the coil 11 with multiple stages, an inductance component with a sufficiently large inductance value can be obtained. Can be realized.

また、このコイル11は銅あるいは銀などを用いてめっきで形成することができ、コイル11の断面が四角形であることから高占積率を有する低背型のコイル11を得ることができる。   In addition, the coil 11 can be formed by plating using copper, silver or the like, and since the coil 11 has a quadrangular cross section, a low profile coil 11 having a high space factor can be obtained.

特に、このようなパターニング技術により微細な電極パターンを平面上に形成することができることから、実施の形態1の構成に比較してより低背型のインダクタンス部品を実現することができる。   In particular, since a fine electrode pattern can be formed on a plane by such a patterning technique, a low-profile inductance component can be realized as compared with the configuration of the first embodiment.

次に、図5を用いて本発明の実施の形態2における多層磁性体層22の構成について説明する。   Next, the configuration of the multilayer magnetic layer 22 in the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図5において、積層体の基本的な構造は実施の形態1の多層磁性体層2とほぼ同様であり、特に異なっているところは抵抗層6と第二の金属磁性体層7とが更に積層して形成していることである。このように、抵抗層6と第二の金属磁性体層7の積層体を2層以上に積層した多層磁性体層22とすることにより、よりインダクタンス値を大きくすることができるとともに多層磁性体層22の総厚を一定としたときに磁性体層の積層数を多くすれば高周波特性に優れたインダクタンス部品とすることができる。   In FIG. 5, the basic structure of the laminated body is almost the same as that of the multilayer magnetic layer 2 of the first embodiment, and the difference is that the resistance layer 6 and the second metal magnetic layer 7 are further laminated. It is to be formed. As described above, the multilayer magnetic body layer 22 in which the laminated body of the resistance layer 6 and the second metal magnetic body layer 7 is laminated in two or more layers can increase the inductance value and increase the multilayer magnetic body layer. If the total number of magnetic layers is increased when the total thickness of 22 is constant, an inductance component having excellent high frequency characteristics can be obtained.

更に、抵抗層6の下面に配置された第一の金属磁性体層5と第二の金属磁性体層7の表面のSの含有比を0.11質量%以下とすることにより、密着性に優れた多層磁性体層22を実現することができる。   Furthermore, by making the S content ratio of the surface of the first metal magnetic layer 5 and the second metal magnetic layer 7 disposed on the lower surface of the resistance layer 6 0.11% by mass or less, adhesion is improved. An excellent multilayer magnetic layer 22 can be realized.

また、抵抗層6の比抵抗を第一および第二の金属磁性体層5,7の比抵抗よりも大きくすることにより磁気特性に優れた多層磁性体層22を実現することができる。   Further, by making the specific resistance of the resistance layer 6 larger than the specific resistance of the first and second metal magnetic layers 5 and 7, the multilayer magnetic layer 22 having excellent magnetic properties can be realized.

また、本実施の形態2においても第一および第二の金属磁性体層5,7の主成分をFeまたはFe合金とすることで高飽和磁束密度と高透磁率を有する多層磁性体層22を得ることができる。   In the second embodiment, the main component of the first and second metal magnetic layers 5 and 7 is made of Fe or an Fe alloy so that the multilayer magnetic layer 22 having a high saturation magnetic flux density and a high magnetic permeability is obtained. Obtainable.

また、多層磁性体層22の総厚みに対する抵抗層6の占める割合が高くなるとインダクタンス部品としてのインダクタンス値が小さくなることから、抵抗層6の厚みはより薄くすることが望ましい。   Moreover, since the inductance value as an inductance component decreases as the proportion of the resistance layer 6 to the total thickness of the multilayer magnetic layer 22 increases, it is desirable to make the thickness of the resistance layer 6 thinner.

以上のように構成した本実施の形態2のインダクタンス部品について、以下にその製造方法を提供する。   About the inductance component of this Embodiment 2 comprised as mentioned above, the manufacturing method is provided below.

本実施の形態2におけるインダクタンス部品のうち、コイル11は次のような製造プロセスを経て製造することができる。まず、ポリイミドフィルムなどの基板上にコイル11の下段のコイルパターンになるようにレジスト膜を形成した後、この基板に銅あるいは銀などの高導電率を有する金属をめっきプロセスにより数10μmの厚みになるようにしてコイル11の下段のコイルパターンを形成する工程と、次にコイル11の下段のコイルパターンを形成したその上に再度レジスト膜を設け、スルホール電極15を形成する箇所にはエッチングなどにより孔加工をしておく。その後コイル11の上段のコイルパターンを形成するためのレジスト膜を形成し、このレジスト膜を形成した基板に前記めっきプロセスにより銅あるいは銀などの金属を数10μmの厚みになるように形成してコイル11の上段のコイルパターンを形成する。その後、上段のコイルパターンを被覆する工程を経ることによって図4に示すシート状のコイル11を製造することができる。   Of the inductance components in the second embodiment, the coil 11 can be manufactured through the following manufacturing process. First, after a resist film is formed on a substrate such as a polyimide film so as to form a lower coil pattern of the coil 11, a metal having high conductivity such as copper or silver is formed on this substrate to a thickness of several tens of μm by a plating process. The step of forming the lower coil pattern of the coil 11 in this way, the next forming the lower coil pattern of the coil 11, a resist film is again provided, and the place where the through hole electrode 15 is formed is etched or the like. Drill holes. Thereafter, a resist film for forming the upper coil pattern of the coil 11 is formed, and a metal such as copper or silver is formed on the substrate on which the resist film is formed to have a thickness of several tens of μm by the plating process. 11 upper coil pattern is formed. Thereafter, the sheet-like coil 11 shown in FIG. 4 can be manufactured through a process of covering the upper coil pattern.

次に、このようにして形成したシート状のコイル11に多層磁性体層22を形成するのであるが、この多層磁性体層22の基本的な製造工程は実施の形態1とほぼ同様であり、図2に示した多層磁性体層22の上に更に抵抗層6および第二の金属磁性体層7を同様のプロセスによって積層形成している。このような構成によって、高周波域における周波数特性を制御したり、渦電流損失を最小に抑制したりすることが可能なインダクタンス部品およびその製造方法を実現することができる。そして、抵抗層6の下面に配置される第二の金属磁性体層7の表面のSの含有比を0.11質量%以下とすることにより、密着性を高め信頼性に優れた多層磁性体層22を作製することができる。また、このような製造方法とすることによって大きなサイズの基材3を用いて製造することも可能となる。   Next, the multilayer magnetic body layer 22 is formed on the sheet-like coil 11 formed as described above. The basic manufacturing process of the multilayer magnetic body layer 22 is substantially the same as that of the first embodiment. A resistance layer 6 and a second metal magnetic layer 7 are further laminated on the multilayer magnetic layer 22 shown in FIG. 2 by the same process. With such a configuration, it is possible to realize an inductance component capable of controlling frequency characteristics in a high frequency range and suppressing eddy current loss to a minimum and a manufacturing method thereof. And the multilayer magnetic body which improved adhesiveness and was excellent in reliability by making S content ratio of the surface of the 2nd metal magnetic body layer 7 arrange | positioned in the lower surface of the resistance layer 6 into 0.11 mass% or less Layer 22 can be made. Moreover, it becomes possible to manufacture using the base material 3 of a big size by setting it as such a manufacturing method.

なお、前記積層体を基材3の両面に形成した多層磁性体層22についても同様に作製することができる。   In addition, the multilayer magnetic body layer 22 in which the laminated body is formed on both surfaces of the substrate 3 can be similarly produced.

以上のように、本実施の形態2のようなインダクタンス部品の構成とすることにより、実施の形態1で説明した作用に加えて高周波領域で動作させる場合でも渦電流による損失が少なく、大きなインダクタンス値を有するインダクタンス部品およびその製造方法を提供することができる。   As described above, with the configuration of the inductance component as in the second embodiment, in addition to the operation described in the first embodiment, even when operating in a high frequency region, there is little loss due to eddy current, and a large inductance value. It is possible to provide an inductance component having the above and a manufacturing method thereof.

(実施の形態3)
以下、本発明の実施の形態3におけるインダクタンス部品およびその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 3)
Hereinafter, an inductance component and a manufacturing method thereof according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to the drawings.

図6は本発明の実施の形態3におけるインダクタンス部品の断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view of an inductance component according to Embodiment 3 of the present invention.

図6において、コイル11の構成と形成方法は実施の形態2と同じであり、ここでの説明は省略する。ここで、実施の形態2の図4と異なっているところはコイル11の芯部にスルホール部16を設けていることである。   In FIG. 6, the configuration and forming method of the coil 11 are the same as those in the second embodiment, and the description thereof is omitted here. Here, the difference from FIG. 4 of the second embodiment is that the through hole portion 16 is provided in the core portion of the coil 11.

更に、このスルホール部16の内壁には多層磁性体層23を設けており、その結果コイル11の上下面に分離して設けていた多層磁性体層23はスルホール部16の内壁に設けた多層磁性体層23を介して連結されることになる。   Further, a multilayer magnetic layer 23 is provided on the inner wall of the through hole portion 16, and as a result, the multilayer magnetic layer 23 provided separately on the upper and lower surfaces of the coil 11 is provided with the multilayer magnetic layer provided on the inner wall of the through hole portion 16. They are connected via the body layer 23.

このような構成とすることにより、磁気ギャップが無くなるとともに漏洩磁束もより少なくなり、更にインダクタンス値の大きなインダクタンス部品とすることができる。   With such a configuration, the magnetic gap is eliminated, the leakage magnetic flux is further reduced, and an inductance component having a larger inductance value can be obtained.

また、図6ではこのスルホール部16の隙間には絶縁層8を充填している磁性体で充填することも可能であり、より磁気特性の向上が期待できる。   In FIG. 6, the gap between the through-hole portions 16 can be filled with a magnetic material filled with the insulating layer 8, and further improvement in magnetic characteristics can be expected.

更に、この多層磁性体層23の表面には絶縁層8を設けている。この絶縁層8はショートを防ぐために設けており、絶縁性を有する無機材料、有機材料およびこれらの複合物が好ましい。   Further, an insulating layer 8 is provided on the surface of the multilayer magnetic layer 23. This insulating layer 8 is provided to prevent a short circuit, and an insulating inorganic material, organic material, and a composite thereof are preferable.

また、この多層磁性体層23は図2または図5に示した構成と同じであり、めっきプロセスで形成することができることから生産性に優れたインダクタンス部品およびその製造方法を提供することができる。   The multilayer magnetic layer 23 has the same configuration as that shown in FIG. 2 or FIG. 5 and can be formed by a plating process, so that it is possible to provide an inductance component with excellent productivity and a method for manufacturing the same.

例えば、スルホール部16の直径が1mm以下で、深さが0.1mm以上のスルホール部16にスパッタ、蒸着等で多層磁性体層23を形成することは困難であるが、めっきプロセスで形成することにより容易にスルホール部16の内壁に多層磁性体層23を形成することができる。   For example, it is difficult to form the multilayer magnetic layer 23 by sputtering, vapor deposition or the like on the through hole 16 having a diameter of 1 mm or less and a depth of 0.1 mm or more, but it is formed by a plating process. Thus, the multilayer magnetic body layer 23 can be easily formed on the inner wall of the through hole portion 16.

以上のように構成したインダクタンス部品について、以下にその製造方法を説明する。本実施の形態3におけるインダクタンス部品の製造方法は基本的な工程は実施の形態2とほぼ同様であり、異なっている内容についてのみ説明する。   A method for manufacturing the inductance component configured as described above will be described below. The basic method of manufacturing the inductance component according to the third embodiment is substantially the same as that of the second embodiment, and only the contents that are different will be described.

始めに、実施の形態2におけるシート状のコイル11を形成した後、コイル11の芯部にパンチャーあるいはレーザー加工などの方法により孔あけ加工によってスルホール部16を設けた後、コイル11の上下面に多層磁性体層23を設けるときに前記スルホール部16の内壁にも多層磁性体層23を設けることである。このスルホール部16の内壁に多層磁性体層23を形成することによって、コイル11の上下面と一体となる多層磁性体層23とすることができる。   First, after the sheet-like coil 11 according to the second embodiment is formed, the through hole portion 16 is provided in the core portion of the coil 11 by punching or laser processing, and then the upper and lower surfaces of the coil 11 are formed. When the multilayer magnetic layer 23 is provided, the multilayer magnetic layer 23 is also provided on the inner wall of the through hole portion 16. By forming the multilayer magnetic material layer 23 on the inner wall of the through hole portion 16, the multilayer magnetic material layer 23 integrated with the upper and lower surfaces of the coil 11 can be obtained.

以上のように、本実施の形態3におけるインダクタンス部品およびその製造方法はより密着力に優れた小型低背型のインダクタンス部品を実現することができる。   As described above, the inductance component and the manufacturing method thereof according to the third embodiment can realize a small and low-profile inductance component with better adhesion.

以上のように、本発明にかかるインダクタンス部品およびその製造方法は、量産性に優れ、高周波領域で動作させる場合でも渦電流による損失が少なく、小型低背化しても十分なインダクタンスを得ることができ、特に各種電子機器の電源回路に用いられるインダクタ部品の用途に有用である。   As described above, the inductance component and the manufacturing method thereof according to the present invention are excellent in mass productivity, have little loss due to eddy currents even when operated in a high frequency region, and can obtain sufficient inductance even if the size and height are reduced. In particular, it is useful for applications of inductor components used in power supply circuits of various electronic devices.

本発明の実施の形態1におけるインダクタンス部品の斜視図The perspective view of the inductance component in Embodiment 1 of this invention 同多層磁性体層の拡大断面図Expanded cross-sectional view of the same magnetic layer 本発明の実施の形態2におけるインダクタンス部品の斜視図The perspective view of the inductance component in Embodiment 2 of this invention 同図3のA−A部における断面図Sectional drawing in the AA part of the same FIG. 同多層磁性体層の拡大断面図Expanded cross-sectional view of the same magnetic layer 本発明の実施の形態3におけるインダクタンス部品の断面図Sectional drawing of the inductance component in Embodiment 3 of this invention 従来のインダクタンス部品の分解斜視図Exploded perspective view of a conventional inductance component

符号の説明Explanation of symbols

1,11 コイル
2,22,23 多層磁性体層
3 基材
4 第一の金属層
5 第一の金属磁性体層
6 抵抗層
7 第二の金属磁性体層
8 絶縁層
10a 端子部
10b 端子部
12 コイル絶縁部
15 スルホール電極
16 スルホール部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,11 Coil 2,22,23 Multilayer magnetic body layer 3 Base material 4 1st metal layer 5 1st metal magnetic body layer 6 Resistance layer 7 2nd metal magnetic body layer 8 Insulating layer 10a Terminal part 10b Terminal part 12 Coil insulation 15 Through-hole electrode 16 Through-hole

Claims (13)

コイルと、基材の少なくとも片面に第一の金属層と第一の金属磁性体層と抵抗層と第二の金属磁性体層を積層した多層磁性体層からなるインダクタンス部品であって、前記第一および第二の金属磁性体層をSを含むFeまたはFe合金とするとともに第一の金属磁性体層と抵抗層の界面における第一の金属磁性体層の表面のSの含有比を0.11質量%以下としたインダクタンス部品。 An inductance component comprising a coil and a multi-layer magnetic material layer in which a first metal layer, a first metal magnetic material layer, a resistance layer, and a second metal magnetic material layer are laminated on at least one surface of a substrate, The first and second metal magnetic layers are made of Fe containing Fe or Fe alloy, and the S content ratio of the surface of the first metal magnetic layer at the interface between the first metal magnetic layer and the resistance layer is set to 0. Inductance parts with 11 mass% or less. 抵抗層と第二の金属磁性体層を繰り返し積層した請求項1に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 1, wherein the resistance layer and the second metal magnetic layer are repeatedly laminated. 抵抗層の下面に設けた第二の金属磁性体層の表面のSの含有比を0.11質量%以下とした請求項2に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 2, wherein the content ratio of S on the surface of the second metal magnetic layer provided on the lower surface of the resistance layer is 0.11% by mass or less. 抵抗層の比抵抗を第一の金属磁性体層および第二の金属磁性体層の比抵抗よりも大きくした請求項1に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 1, wherein the resistivity of the resistance layer is greater than the resistivity of the first metal magnetic layer and the second metal magnetic layer. 抵抗層の比抵抗を第二の金属磁性体層の比抵抗よりも大きくした請求項2に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 2, wherein the specific resistance of the resistance layer is larger than the specific resistance of the second metal magnetic layer. Fe合金をFeの含有率が30質量%以上とした請求項1に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 1, wherein the Fe alloy has a Fe content of 30 mass% or more. Fe合金をFe−Ni,Fe−Ni−Co,Fe−Coのいずれか一つを含む請求項6に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 6, wherein the Fe alloy includes any one of Fe—Ni, Fe—Ni—Co, and Fe—Co. 第一の金属層をFe,Ni,Coのうち少なくとも一つを含む請求項1に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 1, wherein the first metal layer includes at least one of Fe, Ni, and Co. 多層磁性体層の最表層を絶縁層で被覆した請求項1に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 1, wherein the outermost layer of the multilayer magnetic layer is covered with an insulating layer. 基材と第一の金属層を同一の金属で構成した請求項1に記載のインダクタンス部品。 The inductance component according to claim 1, wherein the base material and the first metal layer are made of the same metal. コイルと、このコイルの芯部に形成したスルーホール部と、多層磁性体層からなるインダクタンス部品であって、この多層磁性体層を前記スルホール部の内壁とコイルの上面および下面とに連続して設けた請求項1に記載のインダクタンス部品。 An inductance component comprising a coil, a through-hole portion formed in the core portion of the coil, and a multilayer magnetic body layer, the multilayer magnetic body layer being continuously connected to the inner wall of the through-hole portion and the upper and lower surfaces of the coil The inductance component according to claim 1 provided. コイルを形成する第一の工程と、基材の少なくとも片面に第一の金属層と第一の金属磁性体層と形成するとともに第一の金属磁性体層の表面におけるSの組成比を0.11質量%以下に制御する第二の工程と、前記第一の金属磁性体層の上に抵抗層を形成した後第二の金属磁性体層を形成する第三の工程とを含むインダクタンス部品の製造方法であって、前記第一および第二の金属磁性体層をSを含むFeまたはFe合金を用いて形成するインダクタンス部品の製造方法。 A first step of forming a coil; a first metal layer and a first metal magnetic layer formed on at least one surface of the substrate; and a composition ratio of S on the surface of the first metal magnetic layer of 0. An inductance component comprising: a second step of controlling to 11% by mass or less; and a third step of forming a second metal magnetic layer after forming a resistance layer on the first metal magnetic layer. A method of manufacturing an inductance component, wherein the first and second metal magnetic layers are formed using Fe containing Fe or an Fe alloy. 少なくとも、第一および第二の金属磁性体層をめっきプロセスで形成する請求項11に記載のインダクタンス部品の製造方法。 12. The method of manufacturing an inductance component according to claim 11, wherein at least the first and second metal magnetic layers are formed by a plating process.
JP2004357845A 2004-12-10 2004-12-10 Inductor and its manufacturing method Pending JP2006165430A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004357845A JP2006165430A (en) 2004-12-10 2004-12-10 Inductor and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004357845A JP2006165430A (en) 2004-12-10 2004-12-10 Inductor and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006165430A true JP2006165430A (en) 2006-06-22

Family

ID=36667077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004357845A Pending JP2006165430A (en) 2004-12-10 2004-12-10 Inductor and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006165430A (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61104319A (en) * 1984-10-22 1986-05-22 Nec Corp Magnetic storage medium
JPS6227393A (en) * 1985-07-26 1987-02-05 日本碍子株式会社 Formation of copper film on ceramic substrate
JPH0210801A (en) * 1988-06-29 1990-01-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of glass sealed thermistor
JPH05331660A (en) * 1992-06-02 1993-12-14 Toto Ltd Copper metallizing method
JPH1174122A (en) * 1997-07-03 1999-03-16 Univ Waseda Cobalt-iron-nickel magnetic thin film and manufacture thereof, and composite thin-film magnetic head and magnetic storage device using the cobalt-iron-nickel magnetic thin film
JP2003297635A (en) * 2002-04-03 2003-10-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Coil component
WO2004040597A1 (en) * 2002-10-31 2004-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Inductance part and electronic device using the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61104319A (en) * 1984-10-22 1986-05-22 Nec Corp Magnetic storage medium
JPS6227393A (en) * 1985-07-26 1987-02-05 日本碍子株式会社 Formation of copper film on ceramic substrate
JPH0210801A (en) * 1988-06-29 1990-01-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of glass sealed thermistor
JPH05331660A (en) * 1992-06-02 1993-12-14 Toto Ltd Copper metallizing method
JPH1174122A (en) * 1997-07-03 1999-03-16 Univ Waseda Cobalt-iron-nickel magnetic thin film and manufacture thereof, and composite thin-film magnetic head and magnetic storage device using the cobalt-iron-nickel magnetic thin film
JP2003297635A (en) * 2002-04-03 2003-10-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Coil component
WO2004040597A1 (en) * 2002-10-31 2004-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Inductance part and electronic device using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11605484B2 (en) Multilayer seed pattern inductor and manufacturing method thereof
US11276520B2 (en) Multilayer seed pattern inductor, manufacturing method thereof, and board having the same
JP6863553B2 (en) Coil electronic components and their manufacturing methods
JP6447369B2 (en) Coil parts
US7403091B2 (en) Inductance component and manufacturing method thereof
US7417523B2 (en) Ultra-thin flexible inductor
JP3807438B2 (en) Inductance components and electronic equipment using the same
JP5874199B2 (en) Coil component and manufacturing method thereof
US11482357B2 (en) Coil component and method of manufacturing the same
CN104766692B (en) Chip electronic component
JP2015026812A (en) Chip electronic component and manufacturing method thereof
JP2008021788A (en) Multilayer inductor
KR20150127490A (en) Chip electronic component and manufacturing method thereof
CN109559874B (en) Coil electronic component and method for manufacturing same
KR20150059731A (en) Inductor and manufacturing method thereof
JP2022137293A (en) inductor
KR20160034802A (en) Coil Component
US11107616B2 (en) Coil component
JP2006287093A (en) Inductance component and its manufacturing method
JP2005317604A (en) Inductance component and electronic apparatus using same
JP2007305824A (en) Inductance component
JP2005116666A (en) Magnetic element
JP2008010695A (en) Inductance component
JP2003282328A (en) Thin magnetic element, its manufacturing method, and power source module using the same
CN113948271A (en) Electronic component

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071122

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20071212

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20091120

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100604

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100615

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100805

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110215