JP2006152015A - Adhesive and flexible printed circuit board using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive excellent in migration resistance, adhesiveness and heat resistance to soldering and particularly excellent in adhesion to copper foil and a flexible printed circuit board using the adhesive. <P>SOLUTION: The present invention relates to an adhesive composed of a polyesteramide resin (A) having 100-2,000 equivalent/t acid value and an epoxy compound (B). In the adhesive, the ratio (number of moles of amide bond/numbers of moles of ester bond) of the polyesteramide resin (A) component is preferably 0.03-0.7. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、耐マイグレーション性、接着性、ハンダ耐熱性に優れた印刷回路基板用接着剤および該接着剤を用いたフレキシブル印刷回路基板に関する。   The present invention relates to an adhesive for a printed circuit board excellent in migration resistance, adhesion, and soldering heat resistance, and a flexible printed circuit board using the adhesive.

近年、電子機器はますます小型化、高密度化が進行しており、狭い空間内での部品の実装にフレキシブル印刷回路基板の役割が重要になってきている。近年フレキシブル印刷回路基板のファインパターン化、高性能化の要求が強くなってきており、フレキシブル印刷回路基板用接着剤は耐マイグレーション性や接着性の一層の向上が必要になってきている。また、電子部品実装は環境問題に対応するため、鉛を含まないハンダ(鉛フリーハンダ)の使用が増加している。従来使用されているハンダはスズと鉛の共晶で(Sn−Pb)で融点は183℃であるが、鉛フリーハンダとしてはスズ−銀−銅(Sn−Ag−Cu)系が主流として使用されており、融点が217℃であることから、フレキシブル印刷基板用接着剤にはより高度な耐熱性が要求されている。   In recent years, electronic devices have been increasingly reduced in size and density, and the role of a flexible printed circuit board has become important for mounting components in a narrow space. In recent years, the demand for fine patterns and high performance of flexible printed circuit boards has been increasing, and the adhesive for flexible printed circuit boards has been required to further improve migration resistance and adhesion. In addition, since electronic component mounting responds to environmental problems, the use of lead-free solder (lead-free solder) is increasing. Solder used in the past is eutectic of tin and lead (Sn-Pb) and melting point is 183 ° C. Tin-silver-copper (Sn-Ag-Cu) system is mainly used as lead-free solder. Since the melting point is 217 ° C., higher heat resistance is required for the adhesive for flexible printed circuit boards.

フレキシブル印刷回路基板はポリイミドフィルムやポリエステルフィルムなどの絶縁性プラスチックフィルムと、銅箔との少なくともいずれか一方に接着剤溶液を塗工乾燥した後、加熱プレスまたは加熱ロール装置を使用して両者を貼り合わせ、さらに加熱硬化させて製造されている。接着剤としては、エポキシ樹脂を主成分として各種の組み合わせが提案されている。例えば、エポキシ樹脂−ポリビニルブチラール樹脂型接着剤組成物、あるいはエポキシ樹脂−アクリロニトリルブタジエンゴム型接着剤組成物などが用いられている。しかしながら、エポキシ樹脂−ポリビニルブチラール樹脂型接着剤組成物は肝心の接着性の点で劣り、エポキシ樹脂−アクリロニトリルブタジエンゴム型接着剤組成物においては耐熱性の点で劣っている。また、上記接着剤では、耐マイグレーション性が不十分であるため回路のショートや銅の変色等が生じてしまう問題があった。   The flexible printed circuit board is coated with an adhesive solution on at least one of an insulating plastic film such as polyimide film or polyester film and copper foil, and then bonded using a hot press or heated roll device. It is manufactured by combining and further heat-curing. As the adhesive, various combinations having an epoxy resin as a main component have been proposed. For example, an epoxy resin-polyvinyl butyral resin type adhesive composition or an epoxy resin-acrylonitrile butadiene rubber type adhesive composition is used. However, the epoxy resin-polyvinyl butyral resin type adhesive composition is inferior in terms of essential adhesiveness, and the epoxy resin-acrylonitrile butadiene rubber type adhesive composition is inferior in terms of heat resistance. In addition, the adhesive has insufficient migration resistance, which causes problems such as short circuit and discoloration of copper.

上記問題を解決する接着剤として、特許文献1にポリエステルを共重合成分として含有するポリウレタン樹脂とエポキシ化合物からなる接着剤が提案されている。上記接着剤は、耐マイグレーション性、ハンダ耐熱性に優れているが、銅箔との接着性が弱いという問題があった。   As an adhesive that solves the above problem, Patent Document 1 proposes an adhesive made of a polyurethane resin containing a polyester as a copolymerization component and an epoxy compound. The adhesive has excellent migration resistance and solder heat resistance, but has a problem of poor adhesion to copper foil.

特開平11−116930号公報 (実施例)JP-A-11-116930 (Example)

本発明は、このような諸問題を解決し、特に銅箔との接着性に優れた接着剤およびそれを用いたフレキシブル印刷基板を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve such various problems, and in particular, to provide an adhesive excellent in adhesiveness with a copper foil and a flexible printed board using the adhesive.

本発明者等は、上記した課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のポリエステルアミド樹脂とエポキシ化合物からなる接着剤を用いることで、上記した目的を達成できることを見出し本発明の解決に至った。すなわち本発明は、以下の接着剤及びそれを用いたフレキシブルプリント印刷回路基板に関する。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-described object can be achieved by using an adhesive composed of a specific polyesteramide resin and an epoxy compound. It came to. That is, this invention relates to the following adhesive agents and the flexible printed circuit board using the same.

(1)酸価が100〜2000当量/tであるポリエステルアミド樹脂(A)とエポキシ化合物(B)からなることを特徴とする接着剤。 (1) An adhesive comprising a polyesteramide resin (A) having an acid value of 100 to 2000 equivalent / t and an epoxy compound (B).

(2)ポリエステルアミド樹脂(A)成分の(アミド結合のモル数/エステル結合のモル数)=0.03〜0.7であることを特徴とする(1)記載の接着剤。 (2) Polyesteramide resin (A) component (number of moles of amide bond / number of moles of ester bond) = 0.03 to 0.7.

(3)酸価が100〜2000当量/tであり、ポリエステルアミド樹脂をウレタン変性した樹脂(C)とエポキシ化合物(B)からなることを特徴とする接着剤。 (3) An adhesive having an acid value of 100 to 2000 equivalent / t and comprising a resin (C) obtained by urethane-modifying a polyesteramide resin and an epoxy compound (B).

(4)酸価が、カルボキシル基および/又はフェノール性水酸基に由来するものであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の接着剤。 (4) The adhesive according to any one of (1) to (3), wherein the acid value is derived from a carboxyl group and / or a phenolic hydroxyl group.

(5)(1)〜(4)のいずれかに記載の接着剤を用いたフレキシブル印刷回路基板。 (5) A flexible printed circuit board using the adhesive according to any one of (1) to (4).

本発明は、接着剤及びそれを用いて得られたフレキシブル回路基板に関するものであり、該接着剤を用いて作成したフレキシブル回路基板は、耐マイグレーション性、接着性、ハンダ耐熱性に優れている。   The present invention relates to an adhesive and a flexible circuit board obtained using the adhesive, and the flexible circuit board produced using the adhesive is excellent in migration resistance, adhesiveness, and solder heat resistance.

本発明接着剤における(A)成分であるポリエステルアミド樹脂のカルボキシル基及び/またはフェノール性水酸基の合計は100〜1200当量/tが望ましく、好ましくは300〜1000当量/tである。カルボキシル基及び/またはフェノール性水酸基の合計が100当量/t未満では、エポキシ化合物との架橋が不十分でありハンダ耐熱性が劣る。一方、1200当量/tを超えると硬化反応が常温でも進行し保存安定性が悪くなるなどの問題が生じる。   The total of carboxyl groups and / or phenolic hydroxyl groups of the polyesteramide resin as component (A) in the adhesive of the present invention is desirably 100 to 1200 equivalent / t, preferably 300 to 1000 equivalent / t. When the total of carboxyl groups and / or phenolic hydroxyl groups is less than 100 equivalent / t, crosslinking with an epoxy compound is insufficient and solder heat resistance is poor. On the other hand, if it exceeds 1200 equivalents / t, the curing reaction proceeds even at room temperature, resulting in problems such as poor storage stability.

本発明接着剤における(A)成分であるポリエステルアミド樹脂は、樹脂中にエステル結合とアミド結合を共に含む樹脂である。(アミド結合のモル数/エステル結合のモル数)=0.03〜0.7の割合であることが望ましい。上記計算結果が0.03未満では、銅箔、SUS、アルミニウム、ポリイミドフィルムとの密着力が劣り、基材界面での剥離が生じやすくなる。一方0.7を超えると、吸湿率が高くなり加湿後のハンダ耐熱性が劣ることがある。   The polyesteramide resin which is the component (A) in the adhesive of the present invention is a resin containing both an ester bond and an amide bond in the resin. It is desirable that the ratio is (number of moles of amide bond / number of moles of ester bond) = 0.03 to 0.7. If the said calculation result is less than 0.03, the adhesive force with copper foil, SUS, aluminum, and a polyimide film will be inferior, and it will become easy to produce peeling in a base-material interface. On the other hand, if it exceeds 0.7, the moisture absorption rate becomes high and the solder heat resistance after humidification may be inferior.

本発明接着剤における(A)成分であるポリエステルアミド樹脂は、酸価が100〜2000当量/tであることが好ましい。酸価をこの範囲にする方法は、特に限定されないが、例えば、末端水酸基のポリエステルアミド樹脂を重合しこれに酸無水物を付加重合する方法、不飽和基を導入したポリエステルアミド樹脂を重合しこの不飽和基にアクリルモノマーを重合する方法、テトラカルボン酸二無水物を使う方法、ウレタン変性の際にジメチロールブタン酸を使用する方法等が挙げられる。   The polyesteramide resin as the component (A) in the adhesive of the present invention preferably has an acid value of 100 to 2000 equivalent / t. The method for setting the acid value within this range is not particularly limited. For example, a method in which a polyesteramide resin having a terminal hydroxyl group is polymerized and an acid anhydride is added thereto, or a polyesteramide resin having an unsaturated group introduced therein is polymerized. Examples thereof include a method of polymerizing an acrylic monomer to an unsaturated group, a method using tetracarboxylic dianhydride, a method using dimethylol butanoic acid at the time of urethane modification, and the like.

本発明接着剤における(A)成分であるポリエステルアミド樹脂における酸価の調整方法としては、樹脂中にフェノール性水酸基を導入しても良い。導入方法は、特に限定されないが、例えば、フェノール性水酸基を含有する塩基酸やアルコールなどを共重合する方法が挙げられる。フェノール性水酸基を含有する塩基酸やアルコールとしては、5−ヒドロキシイソフタル酸等のフェノール性水酸基含有二塩基酸成分や4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヴァレリック酸、p−ヒドロキシフェニル酢酸、p−ヒドロキシフェニルプロピオン酸等のフェノール性水酸基含有一塩基酸成分や2,6−ビス(ヒドロキシメチル)−4−メチルフェノール、2,4−ビス(ヒドロキシメチル)−6−メチルフェノールのフェノール性水酸基含有グリコール成分などが挙げられる。これらのうち、5−ヒドロキシイソフタル酸を用いることが、分子量調整が容易になるという利点を有し好ましい。   As a method for adjusting the acid value in the polyesteramide resin which is the component (A) in the adhesive of the present invention, a phenolic hydroxyl group may be introduced into the resin. The introduction method is not particularly limited, and examples thereof include a method of copolymerizing a basic acid or alcohol containing a phenolic hydroxyl group. Examples of basic acids and alcohols containing phenolic hydroxyl groups include phenolic hydroxyl group-containing dibasic acid components such as 5-hydroxyisophthalic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) valeric acid, p-hydroxyphenylacetic acid, p -Phenolic hydroxyl group-containing monobasic acid components such as hydroxyphenylpropionic acid, 2,6-bis (hydroxymethyl) -4-methylphenol, 2,4-bis (hydroxymethyl) -6-methylphenol phenolic hydroxyl group A glycol component etc. are mentioned. Among these, it is preferable to use 5-hydroxyisophthalic acid because it has an advantage of easy molecular weight adjustment.

ポリエステルアミド樹脂(A)は多塩基酸成分とグリコール成分およびジアミン化合物との重縮合反応により製造されるものであり、必要に応じて、上記フェノール性水酸基を含有する塩基酸やアルコールを使用する。   The polyesteramide resin (A) is produced by a polycondensation reaction between a polybasic acid component, a glycol component and a diamine compound, and the basic acid or alcohol containing the phenolic hydroxyl group is used as necessary.

酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,2’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、ダイマー酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、などが挙げられる。   Examples of the acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,2′-diphenyldicarboxylic acid, 4 , 4'-diphenyl ether dicarboxylic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methyl-1,2-cyclohexane Dicarboxylic acid, dimer acid, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, etc. Is mentioned.

グリコール成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオ−ル、1,3−ブタンジオ−ル、1,4−ブタンジオ−ル、1,5−ペンタンジオ−ル、1,6−ヘキサンジオ−ル、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、ジプロピレングリコ−ル、2,2,4−トリメチル−1,5−ペンタンジオ−ル、シクロヘキサンジメタノ−ル、ネオペンチルヒドロキシピバリン酸エステル、ビスフェノ−ルAのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノ−ルAのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサスド付加物、1,9−ノナンジオール、2−メチルオクタンジオール、1,10−デカンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、トリシクロデカンジメタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等などの二価アルコールや、必要に応じてトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリートなどの三価以上の多価アルコールを用いることができる。   Examples of the glycol component include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4- Butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 2,2 , 4-Trimethyl-1,5-pentanediol, cyclohexanedimethanol, neopentylhydroxypivalate, bisphenol A ethylene oxide adduct and propylene oxide adduct, hydrogenated bisphenol A ethylene oxide Adducts and propylene oxasd adducts, 1,9-nonanedio , 2-methyloctanediol, 1,10-decanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, tricyclodecane dimethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, etc. Trivalent or higher polyhydric alcohols such as alcohol and trimethylol propane, trimethylol ethane, pentaerythrito may be used as necessary.

ジアミン化合物としては、1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン等の脂肪族ジアミン、o−(又はm−、p−)フェニレンジアミン、o−(又はm−、p−)キシレンジアミン、3,3’−(又は3,4’−)ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−(又は3,4’−)ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−(又は3,4’−、4,4’−)ジアミノジフェニルジフルオロメタン、3,3’−(又は3,4’−、4,4’−)ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−(又は3,4’−、4,4’−)ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−(又は3,4’−、4,4’−)ジアミノジフェニルケトン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2’−(3,4’−ジアミノジフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−(3,4’−ジアミノジフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,3−(又は1,4−)ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’−(1−フェニレンビス(1−メチルエチレリデン))ビスアニリン、3,4’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビスアニリン、4,4’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビスアニリン、2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられる。   Examples of the diamine compound include 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8 -Aliphatic diamines such as diaminooctane and 1,9-diaminononane, o- (or m-, p-) phenylenediamine, o- (or m-, p-) xylenediamine, 3,3 '-(or 3, 4 ′-) diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3 ′-(or 3,4 ′-) diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3 ′-(or 3,4 ′ -, 4,4 '-) diaminodiphenyldifluoromethane, 3,3'-(or 3,4'-, 4,4 '-) diaminodiphenylsulfone, 3,3'-( 3,4′-, 4,4 ′-) diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ′-(or 3,4′-, 4,4 ′-) diaminodiphenyl ketone, 2,2-bis (3-aminophenyl) ) Propane, 2,2 ′-(3,4′-diaminodiphenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2 -(3,4'-diaminodiphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,3- (or 1,4-) bis (3-aminophenoxy) benzene, , 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 3,3 ′-(1-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline, 3,4 ′-(1,4-phenylenebis (1-methyl) Ruethylidene)) bisaniline, 4,4 ′-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline, 2,2-bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis ( 4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane and the like can be mentioned.

ポリエステアミドにカルボキシル基を導入するための酸無水物としては、分子量調整の点から、テトラカルボン酸二無水物が好ましい。テトラカルボン酸二無水物としては、特に限定されないが、ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ペンタテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフルフリル)−3−シクロへキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビストリメリテート二無水物、2,2’,3,3’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   As the acid anhydride for introducing a carboxyl group into polyesteramide, tetracarboxylic dianhydride is preferable from the viewpoint of molecular weight adjustment. Although it does not specifically limit as tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 1,2,3,4-butane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentatetracarboxylic dianhydride Anhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofurfuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride 5- (2,5-dioxotetrahydrofurfuryl) -3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetra Carboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol bistrimellitate dianhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenyltetraca Bon dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, ethylene tetracarboxylic dianhydride, and the like.

本発明接着剤においては、ポリエステルアミド樹脂をウレタン変性した樹脂(C)を用いても良い。ポリウレタン変性した樹脂(C)は、ポリエステルアミド及びイソシアネート化合物を反応させることにより得ることが出来、必要に応じて短鎖グリコール(鎖延長剤)を使用しても良い。ウレタン変性した樹脂の場合、カルボキシル基及び/またはフェノール性水酸基を導入する方法として、上記に示した方法でカルボキシル基及び/またはフェノール性水酸基を導入したポリエステルアミドを用いてポリウレタン樹脂を合成する方法や、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等を鎖延長剤に用いてポリウレタン樹脂を合成する方法が挙げられる。必要に応じて、前者或いは後者の方法を単独で用いるか、前者と後者を組み合わせた方法を使用することができる。   In the adhesive of the present invention, a resin (C) obtained by urethane-modifying a polyesteramide resin may be used. The polyurethane-modified resin (C) can be obtained by reacting a polyesteramide and an isocyanate compound, and if necessary, a short chain glycol (chain extender) may be used. In the case of a urethane-modified resin, as a method for introducing a carboxyl group and / or a phenolic hydroxyl group, a method for synthesizing a polyurethane resin using a polyesteramide having a carboxyl group and / or a phenolic hydroxyl group introduced by the method described above, And a method of synthesizing a polyurethane resin using dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid or the like as a chain extender. If necessary, the former method or the latter method can be used alone, or a method combining the former and the latter can be used.

鎖延長剤としては、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ネオペンチルグリコールなどの短鎖グリコールを適宜選択して使用することができる。   As the chain extender, short chain glycols such as dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid and neopentyl glycol can be appropriately selected and used.

イソシアネート成分としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアナート、3、3’−ジメトキシ−4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、2,6−ナフタレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアネート、4,4’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、1,5−キシリレンジイソシアネート、1,3ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、1,4−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。   As the isocyanate component, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, 3,3′-dimethoxy -4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,6-naphthalene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanate, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 1,5-xylyl Examples include range isocyanate, 1,3 diisocyanate methylcyclohexane, 1,4-diisocyanate methylcyclohexane, and isophorone diisocyanate.

ポリエステルアミド樹脂をウレタン変性した樹脂(C)の酸価は100〜2000当量/tであることが好ましい。好ましくは300〜1000当量/tである。カルボキシル基及び/またはフェノール性水酸基の合計が100当量/t未満では、エポキシ化合物との架橋が不十分でありハンダ耐熱性が劣る。一方、1200当量/tを超えると硬化反応が常温でも進行し保存安定性が悪くなるなどの問題が生じる。   The acid value of the resin (C) obtained by urethane-modifying the polyesteramide resin is preferably 100 to 2000 equivalent / t. Preferably it is 300-1000 equivalent / t. When the total of carboxyl groups and / or phenolic hydroxyl groups is less than 100 equivalent / t, crosslinking with an epoxy compound is insufficient and solder heat resistance is poor. On the other hand, if it exceeds 1200 equivalents / t, the curing reaction proceeds even at room temperature, resulting in problems such as poor storage stability.

本発明(B)成分であるエポキシ化合物は、エポキシ基を分子中に少なくとも2個以上含むものであれば特に限定されないが、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、クレゾールノボラックグリシジルエーテル、フェノールノボラック等のグリシジルエーテルタイプ、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステルタイプ、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、メタキシレンジアミン、水添メタキシレンジアミン等のグリシジルアミン、あるいは3,4−エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油等の脂環族あるいは脂肪族エポキサイドが挙げられる。また、難燃性付与のために、上記エポキシ化合物で臭素を含有している、臭素化エポキシ化合物を用いることが有効である。   The epoxy compound as the component (B) of the present invention is not particularly limited as long as it contains at least two epoxy groups in the molecule. For example, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol S Diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, cresol novolak glycidyl ether, glycidyl ether type such as phenol novolac, glycidyl ester type such as hexahydrophthalic acid glycidyl ester, dimer acid glycidyl ester, triglycidyl isocyanurate, tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, Glycidylamine such as metaxylenediamine, hydrogenated metaxylenediamine, or 3,4-epoxycyclohexylmethylcarboxylate , Epoxidized polybutadiene, and alicyclic or aliphatic epoxides such as epoxidized soybean oil. In order to impart flame retardancy, it is effective to use a brominated epoxy compound containing bromine in the above epoxy compound.

本発明接着剤は、難燃性を付与するために臭素化エポキシ化合物の他に、三酸化アンチモンや水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムを添加することが望ましい。これらは、接着剤全量のうち2〜10%配合することが難燃性と接着性のバランスの面から好ましい。   In order to impart flame retardancy to the adhesive of the present invention, it is desirable to add antimony trioxide, aluminum hydroxide or magnesium hydroxide in addition to the brominated epoxy compound. These are preferably blended in an amount of 2 to 10% of the total amount of adhesive from the viewpoint of the balance between flame retardancy and adhesiveness.

本発明の接着剤は、加熱時の硬化反応を促進させる目的で触媒を適宜配合することができる。特に、フェノール性水酸基を含有するポリエステル樹脂とエポキシ化合物との反応では、硬化触媒を配合することが望ましい。硬化触媒としては、2−メチルイミダゾールや1,2−ジメチルイミダゾールや2−フェニル−4−メチルイミダゾールや1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物やトリエチルアミンやトリエチレンジアミンやN’−メチル−N−(2−ジメチルアミノエチル)ピペラジンや1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン(以下DBUと略す)や1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−ノネンや6−ジブチルアミノ−1,8ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン等の3級アミン類及びこれら3級アミン類をフェノールやオクチル酸や4級化テトラフェニルボレート塩でアミン塩にした化合物、トリアリルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートやジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のカチオン触媒、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。これらのうち、DBUなどの3級アミン類および3級アミン類をフェノールやオクチル酸等や4級化テトラフェニルボレート塩でアミン塩にした化合物が熱硬化促進性、保存安定性の面から好ましい。   The adhesive of the present invention can be appropriately mixed with a catalyst for the purpose of accelerating the curing reaction during heating. In particular, in the reaction between a polyester resin containing a phenolic hydroxyl group and an epoxy compound, it is desirable to add a curing catalyst. Curing catalysts include imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, triethylamine, triethylenediamine, N '-Methyl-N- (2-dimethylaminoethyl) piperazine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene (hereinafter abbreviated as DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -nonene, Tertiary amines such as 6-dibutylamino-1,8diazabicyclo [5.4.0] undecene, and compounds obtained by converting these tertiary amines into amine salts with phenol, octylic acid or quaternized tetraphenylborate salts, Allylsulfonium hexafluoroantimonate or diallyl iodonium hexafluoro Cationic catalyst such antimonate, triphenyl phosphine. Of these, tertiary amines such as DBU and compounds obtained by converting tertiary amines to amine salts with phenol, octylic acid, or the like or quaternized tetraphenylborate salts are preferred from the viewpoints of thermosetting acceleration and storage stability.

本発明接着剤は、耐熱性や金属接着性を向上させるなどの目的で、シリカ、シランカップリング剤、アルミナ、タルク、モンモリロナイトなどを単独あるいは2種以上混合して用いても良い。   In the adhesive of the present invention, silica, a silane coupling agent, alumina, talc, montmorillonite or the like may be used alone or in combination of two or more for the purpose of improving heat resistance and metal adhesion.

フレキシブル印刷回路基板は、絶縁性フィルムあるいは金属箔の少なくともいずれか一方に接着剤溶液を塗工乾燥したのち、加熱プレスまたは加熱ロール装置を使用して両者を貼り合わせ、さらに加熱硬化させることにより製造できる。   A flexible printed circuit board is manufactured by applying and drying an adhesive solution to at least one of an insulating film or a metal foil, and then bonding the two together using a heating press or a heating roll device, followed by heat curing. it can.

本発明をさらに詳細に説明するために以下に実施例を挙げるが、本発明は実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例に記載された測定値は以下の方法によって測定したものである。実施例中に単に部とあるのは質量部を示す。   In order to describe the present invention in more detail, examples are given below, but the present invention is not limited to the examples. In addition, the measured value described in the Example is measured by the following method. In the examples, “parts” means “parts by mass”.

組成:重クロロホルム溶媒中でヴァリアン社製核磁気共鳴分析計(NMR)ジェミニ−200を用いて、1H−NMR分析を行って決定した。 Composition: 1 H-NMR analysis was carried out using a Varian nuclear magnetic resonance analyzer (NMR) Gemini-200 in deuterated chloroform solvent.

数平均分子量:テトラヒドロフランを溶離液としたウォーターズ社製ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)150cを用いて、カラム温度35℃、流量1ml/分にてGPC測定を行なった結果から計算して、ポリスチレン換算の測定値を得た。ただしカラムは昭和電工(株)shodex KF−802、804、806を用いた。   Number average molecular weight: Calculated from the results of GPC measurement at a column temperature of 35 ° C. and a flow rate of 1 ml / min using Waters Gel Permeation Chromatography (GPC) 150c with tetrahydrofuran as an eluent. Measurements were obtained. However, Showa Denko Co., Ltd. shodex KF-802, 804, 806 was used for the column.

ガラス転移温度:サンプル5mgをアルミニウム製サンプルパンに入れて密封し、セイコーインスツルメンツ(株)製示差走査熱量分析計(DSC)DSC−220を用いて、200℃まで、昇温速度20℃/分にて測定し、ガラス転移温度以下のベースラインの延長線と遷移部における最大傾斜を示す接線との交点の温度で求めた。   Glass transition temperature: 5 mg of sample was placed in an aluminum sample pan and sealed, and the differential scanning calorimetry (DSC) DSC-220 manufactured by Seiko Instruments Inc. was used to increase the temperature up to 200 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min. And measured at the temperature of the intersection of the base line extension below the glass transition temperature and the tangent indicating the maximum slope at the transition.

酸価:樹脂0.2gを20mlのクロロホルムに溶解し、0.1NのKOHエタノール溶液で、指示薬をフェノールフタレインとして中和滴定し、樹脂トン当たりの酸価(当量/t)を求めた。   Acid value: 0.2 g of resin was dissolved in 20 ml of chloroform and neutralized with 0.1 N KOH ethanol solution using phenolphthalein as an indicator to determine the acid value (equivalent / t) per ton of resin.

アミド結合/エステル結合の比率:NMRより求めたポリエステルアミドの組成より、ジアミン化合物のモル比率をグリコール化合物のモル比率で割ることで求めた。   Ratio of amide bond / ester bond: Determined by dividing the molar ratio of the diamine compound by the molar ratio of the glycol compound from the composition of the polyesteramide determined by NMR.

<ポリエステルポリオールの合成例1>
撹拌機、温度計、流出用冷却機を装備した反応缶内に、ジメチルテレフタレート115部、ジメチルイソフタレート155部、エチレングリコール139部、ネオペンチルグリコール142部およびテトラブチルチタネート0.07部を加え、160℃〜230℃で3時間エステル交換反応をおこなった。次に、セバシン酸121部、m−キシレンジアミン27部を加え、230℃で2時間反応させた。次いで、250℃で20分かけて、5mmHgまで減圧にし、更に、30分かけて、0.3mmHg以下の高真空下で重縮合反応をおこなった。引き続き、窒素ガスを用いて常圧にもどし、反応系温度を210℃まで下げた後、無水トリメリット酸3.8部を加え、30分間反応さえることによりポリエステル樹脂(A−1)を得た。ポリエステルアミド樹脂(A−1)を得た。数平均分子量15000、ガラス転移温度21℃であった。ポリエステルアミド樹脂のNMRより求めた組成はm−キシレンジアミン10mol%に対してグリコールの合計が90mol%であり、アミド結合/エステル結合は、0.11である。
<Synthesis example 1 of polyester polyol>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and an outflow cooler, 115 parts of dimethyl terephthalate, 155 parts of dimethyl isophthalate, 139 parts of ethylene glycol, 142 parts of neopentyl glycol and 0.07 part of tetrabutyl titanate are added, The transesterification was carried out at 160 ° C to 230 ° C for 3 hours. Next, 121 parts of sebacic acid and 27 parts of m-xylenediamine were added and reacted at 230 ° C. for 2 hours. Next, the pressure was reduced to 5 mmHg over 20 minutes at 250 ° C., and further a polycondensation reaction was performed over 30 minutes under a high vacuum of 0.3 mmHg or less. Subsequently, the pressure was returned to normal pressure using nitrogen gas, the reaction system temperature was lowered to 210 ° C., 3.8 parts of trimellitic anhydride was added, and the reaction was continued for 30 minutes to obtain a polyester resin (A-1). . A polyesteramide resin (A-1) was obtained. The number average molecular weight was 15000 and the glass transition temperature was 21 ° C. The composition of the polyesteramide resin determined by NMR is such that the total of glycol is 90 mol% with respect to 10 mol% of m-xylenediamine, and the amide bond / ester bond is 0.11.

<ポリエステルポリオールの合成例2〜4>
「ポリエステルポリオールの合成例1」と同様にポリエステルポリオール(A−2)〜(A−4)を合成した。但し、ポリエステルポリオール(A−3)は無水トリメリット酸の後付加反応を行わずに合成した。これらの樹脂組成および特性値を表1に示した。
<Synthetic Examples 2 to 4 of Polyester Polyol>
Polyester polyols (A-2) to (A-4) were synthesized in the same manner as in “Polyester polyol synthesis example 1”. However, the polyester polyol (A-3) was synthesized without post-addition reaction of trimellitic anhydride. These resin compositions and characteristic values are shown in Table 1.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

<ポリエステルアミド樹脂を変性したポリウレタン樹脂の合成例1>
温度計、撹拌機、還流式冷却管および蒸留管を具備した反応容器に、ポリエステルポリオール(A−1)100部をトルエン67部に溶解させ、共沸をおこないトルエン34部を留去した。続いて、メチルエチルケトン34部を加えた。続いて、60℃でジメチロールブタン酸9部を加え20分撹拌した後、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート7.5部、ジブチル錫ラウレート0.02部を加え、80℃で撹拌し、ウレタン重合を行った。残存イソシアネート基が消費されたことを確認した後、メチルエチルケトン54部、トルエン54部を加え、固形分濃度を40%に調整した。ポリウレタン樹脂(B−1)は数平均分子量30000、カルボキシル基濃度630当量/t、ガラス転移温度24℃であった。
<Synthesis Example 1 of Polyurethane Resin Modified with Polyesteramide Resin>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a distillation tube, 100 parts of polyester polyol (A-1) was dissolved in 67 parts of toluene, azeotroped and 34 parts of toluene was distilled off. Subsequently, 34 parts of methyl ethyl ketone were added. Subsequently, after adding 9 parts of dimethylolbutanoic acid at 60 ° C. and stirring for 20 minutes, 7.5 parts of 1,6-hexamethylene diisocyanate and 0.02 part of dibutyltin laurate are added, and stirred at 80 ° C., followed by urethane polymerization. Went. After confirming that the remaining isocyanate groups were consumed, 54 parts of methyl ethyl ketone and 54 parts of toluene were added to adjust the solid content concentration to 40%. The polyurethane resin (B-1) had a number average molecular weight of 30,000, a carboxyl group concentration of 630 equivalent / t, and a glass transition temperature of 24 ° C.

<ポリエステルアミド樹脂を変性したポリウレタン樹脂の合成例2、3>
「ポリエステルアミド樹脂を変性したポリウレタン樹脂の合成例1」と同様にポリウレタン樹脂(B−2)〜(B−3)を得た。これらの樹脂組成および特性値を表2に示した。
<Synthesis Examples 2 and 3 of Polyurethane Resin Modified with Polyesteramide Resin>
Polyurethane resins (B-2) to (B-3) were obtained in the same manner as in “Synthesis Example 1 of Polyurethane Resin Modified with Polyesteramide Resin”. These resin compositions and characteristic values are shown in Table 2.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

<比較ポリウレタン樹脂の合成例1〜2>
「ポリエステルアミド樹脂を変性したポリウレタン樹脂の合成例1」と同様に比較ポリウレタン樹脂(C−1)〜(C−2)を得た。これらの樹脂組成および特性値を表3に示した。(C−1)は酸価が100当量/t未満であり、(C−2)はアミド結合が含まれていないことから、これらのウレタン樹脂は本発明の範囲外である。
<Comparative Examples 1-2 of Comparative Polyurethane Resin>
Comparative polyurethane resins (C-1) to (C-2) were obtained in the same manner as in “Synthesis Example 1 of Polyurethane Resin Modified with Polyesteramide Resin”. These resin compositions and characteristic values are shown in Table 3. Since (C-1) has an acid value of less than 100 equivalents / t and (C-2) does not contain an amide bond, these urethane resins are outside the scope of the present invention.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

<フェノール性水酸基を含有するポリエステルアミド樹脂の合成例1>
撹拌機、温度計、流出用冷却機を装備した反応缶内に、テレフタル酸76部、イソフタル酸76部、セバシン酸26部、5−ヒドロキシイソフタル酸46部、無水トリメリット酸1.3部、エチレングリコール89部、1,9−ノナンジオール187部、m−キシレンジアミン18部およびテトラブチルチタネート0.02部を加え、4時間かけて230℃まで徐々に昇温し、留出する水を系外に除きつつエステル化を行った。次いで、250℃で20分かけて、5mmHgまで減圧にし、更に、30分かけて、0.3mmHg以下の高真空下で重縮合反応をおこなうことによりポリエステルアミド樹脂(D−1)を得た。数平均分子量17000、ガラス転移温度8℃であった。
<Synthesis example 1 of polyesteramide resin containing phenolic hydroxyl group>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and an outflow cooler, 76 parts of terephthalic acid, 76 parts of isophthalic acid, 26 parts of sebacic acid, 46 parts of 5-hydroxyisophthalic acid, 1.3 parts of trimellitic anhydride, Add 89 parts of ethylene glycol, 187 parts of 1,9-nonanediol, 18 parts of m-xylenediamine and 0.02 part of tetrabutyl titanate, gradually raise the temperature to 230 ° C. over 4 hours, and use the distilled water as the system. The esterification was carried out while removing it outside. Next, the pressure was reduced to 5 mmHg over 20 minutes at 250 ° C., and further a polycondensation reaction was performed under a high vacuum of 0.3 mmHg or less over 30 minutes to obtain a polyesteramide resin (D-1). The number average molecular weight was 17,000 and the glass transition temperature was 8 ° C.

<フェノール性水酸基を含有するポリエステルアミド樹脂の合成例2−4>
「フェノール性水酸基を含有するポリエステルアミド樹脂の合成例1」と同様にポリエステルアミド樹脂(D−2)〜(D−4)を合成した。これらの組成および特性値を表4に示した。
<Synthesis example 2-4 of polyesteramide resin containing phenolic hydroxyl group>
Polyesteramide resins (D-2) to (D-4) were synthesized in the same manner as in “Synthesis example 1 of polyesteramide resin containing phenolic hydroxyl group”. These compositions and characteristic values are shown in Table 4.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

<比較ポリエステル樹脂の合成例1、2>
「フェノール性水酸基を含有するポリエステルアミド樹脂の合成例1」と同様にポリエステル樹脂(E−1)〜(E−2)を合成した。これらの組成および特性値を表5に示した。これらは、(E−1)はフェノール性水酸基が含まれておらず、(E−2)はアミド結合が含まれていないことから、これらの樹脂は本発明の範囲外である。
<Comparative polyester resin synthesis examples 1 and 2>
Polyester resins (E-1) to (E-2) were synthesized in the same manner as in “Synthesis example 1 of polyesteramide resin containing phenolic hydroxyl group”. These compositions and characteristic values are shown in Table 5. These resins are outside the scope of the present invention because (E-1) does not contain a phenolic hydroxyl group and (E-2) does not contain an amide bond.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

<酸無水物により変性したポリエステル樹脂の合成例>
温度計、撹拌機、還流式冷却管および蒸留管を具備した反応容器に、ポリエステルポリオール(A−4)100部をトルエン67部に溶解させ、共沸をおこない溶剤14部を留去した。続いて、80℃でヒドロキシピバレートネオペンチルグリコール5.4部を加え20分撹拌した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物11部、トリエチルアミン0.53部を加え、110℃で撹拌し、酸無水物による変性をおこない、ポリエステル樹脂(F−1)を得た。ポリエステル樹脂(F−1)は数平均分子量30000、カルボキシル基濃度680当量/t、ガラス転移温度34℃であった。
<Synthesis example of polyester resin modified with acid anhydride>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a distillation tube, 100 parts of polyester polyol (A-4) was dissolved in 67 parts of toluene, azeotroped and 14 parts of solvent was distilled off. Subsequently, after adding 5.4 parts of hydroxypivalate neopentyl glycol at 80 ° C. and stirring for 20 minutes, 11 parts of benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 0.53 parts of triethylamine were added, and the mixture was stirred at 110 ° C. The polyester resin (F-1) was obtained by modification with a product. The polyester resin (F-1) had a number average molecular weight of 30000, a carboxyl group concentration of 680 equivalent / t, and a glass transition temperature of 34 ° C.

<実施例1>
ポリウレタン樹脂の合成例1で得られたポリウレタン樹脂100部に、エポキシ化合物として、日本化薬(株)製BREN−S(臭素化フェノールノボラック形エポキシ化合物)8部、東都化成(株)製YDB−400(臭素化ビスフェノールA型エポキシ化合物)5部、ジャパンエポキシレジン(株)製EP5051(臭素化ビスフェノールA型エポキシ化合物)15部を、メチルエチルケトンを用いて固形分濃度が30%になるように溶解し、三酸化アンチモン6部を加えて十分に撹拌をおこない接着剤溶液を得た。得られた接着剤を下記に示した方法で評価をおこなった。結果を表6に示す。
<Example 1>
To 100 parts of the polyurethane resin obtained in Synthesis Example 1 of polyurethane resin, 8 parts of BREN-S (brominated phenol novolac type epoxy compound) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., YDB- manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. are used as epoxy compounds. 400 parts (brominated bisphenol A type epoxy compound) 400 parts, Japan Epoxy Resin Co., Ltd. EP5051 (brominated bisphenol A type epoxy compound) 15 parts are dissolved in methyl ethyl ketone so that the solid content concentration is 30%. Then, 6 parts of antimony trioxide was added and sufficiently stirred to obtain an adhesive solution. The obtained adhesive was evaluated by the method shown below. The results are shown in Table 6.

耐マイグレーション試験用FPCの作成及び試験を以下の通りに行った。
上記接着剤溶液を25μmのポリイミドフィルムに、乾燥後の厚みが30μmとなるように塗布し、120℃で3分乾燥した。このようにして得られた接着性フィルムを30μmの圧延銅箔と貼り合わせる際、圧延銅箔の酸処理面が接着剤と接する様にして、140℃で5kg/cm2の加圧下に1分間プレスし、接着した。得られた接着サンプルを150℃に4時間熱処理して硬化させた。この様にして銅貼り積層板を得た。この銅貼り積層板を常法により銅箔面にフォトレジスト塗布、パターン露光、現像、銅箔パターンエッチング、フォトレジスト剥離行程をへて、銅線間が0.1mmとなる様にパターン基板を作成した。
The FPC for migration resistance test was prepared and tested as follows.
The adhesive solution was applied to a 25 μm polyimide film so that the thickness after drying was 30 μm, and dried at 120 ° C. for 3 minutes. When the adhesive film thus obtained is bonded to a 30 μm rolled copper foil, the acid-treated surface of the rolled copper foil is in contact with the adhesive so that the pressure is maintained at 140 ° C. under a pressure of 5 kg / cm 2 for 1 minute. Pressed and glued. The obtained adhesion sample was heat-treated at 150 ° C. for 4 hours to be cured. In this way, a copper-clad laminate was obtained. Using this copper-clad laminate, apply a photoresist to the copper foil surface, pattern exposure, development, copper foil pattern etching, and photoresist stripping process to create a pattern substrate so that the distance between the copper wires is 0.1 mm. did.

また、上記接着剤溶液を25μmのポリイミドフィルムに、乾燥後の厚みが30μmとなるように塗布し、120℃で3分乾燥した。このフィルムを140℃にて2時間熱処理し、フレキシブルプリント配線板用カバーフィルムを得た。このカバーフィルムと上記パターン基板を140℃で5kg/cm2の加圧下にて1分間プレスし、接着した。このサンプルを170℃にて3時間の熱処理を行い目的のサンプルを得た。この様にして得られた耐マイグレーション試験用FPCの導電試験を行った。 Moreover, the said adhesive agent solution was apply | coated to the polyimide film of 25 micrometers so that the thickness after drying might be set to 30 micrometers, and it dried at 120 degreeC for 3 minutes. This film was heat-treated at 140 ° C. for 2 hours to obtain a cover film for a flexible printed wiring board. The cover film and the patterned substrate were pressed and bonded at 140 ° C. under a pressure of 5 kg / cm 2 for 1 minute. This sample was heat-treated at 170 ° C. for 3 hours to obtain a target sample. The conductivity test of the migration resistance test FPC thus obtained was conducted.

(条件)温度85℃、湿度85%、直流100V、1000時間
(試験結果判定)○:短絡、変色なし
×:短絡もしくは変色を起こす
(Conditions) Temperature 85 ° C., Humidity 85%, DC 100V, 1000 hours (Test result judgment) ○: No short circuit, no discoloration
×: Causes short circuit or discoloration

耐ハンダ性、剥離強度試験用サンプルの作成及び試験方法を以下の様に行った。
上記接着剤溶液を25μmのポリイミドフィルムに、乾燥後の厚みが30μmとなるように塗布し、120℃で5分乾燥した。この様にして得られた接着性フィルムを30μmの圧延銅箔と貼り合わせる際、圧延銅箔の酸処理面が接着剤と接するようにして、140℃で5kg/cm2の加圧下で30秒プレスし、接着した。得られた接着サンプルを140℃に4時間熱処理して硬化させた。
A sample for test of solder resistance and peel strength and a test method were performed as follows.
The adhesive solution was applied to a 25 μm polyimide film so that the thickness after drying was 30 μm, and dried at 120 ° C. for 5 minutes. When the adhesive film obtained in this manner is bonded to a 30 μm rolled copper foil, the acid-treated surface of the rolled copper foil is in contact with the adhesive, and the pressure is maintained at 140 ° C. under a pressure of 5 kg / cm 2 for 30 seconds. Pressed and glued. The obtained adhesive sample was cured by heat treatment at 140 ° C. for 4 hours.

(条件及び試験結果判定)
耐ハンダ性 常態:サンプルを120℃にて30分乾燥した後、加熱したハンダ浴に1 分間浸漬し、膨れが発生しない上限の温度を測定した。測定値の高いほう が良好な耐熱性をもつことを示す。
加湿:サンプルを40℃、80%加湿下にて1日間放置後、加熱したハン ダ浴に1分間浸漬し、膨れが発生しない上限の温度を測定した。測定値の 高いほうが良好な耐熱性をもつことを示す。
表中にNGと示したものは、ハンダの融解温度ですでに膨れが発生したも のであり、耐熱性が非常に乏しいことを示す。
剥離強度 25℃と80℃の雰囲気下において、引っ張り速度50mm/分で90° 剥離試験を行った。
(Condition and test result judgment)
Solder resistance Normal state: The sample was dried at 120 ° C. for 30 minutes, then immersed in a heated solder bath for 1 minute, and the upper limit temperature at which no swelling occurred was measured. Higher measured values indicate better heat resistance.
Humidification: The sample was allowed to stand at 40 ° C. and 80% humidification for 1 day, then immersed in a heated solder bath for 1 minute, and the upper limit temperature at which swelling did not occur was measured. A higher measured value indicates better heat resistance.
Those indicated as NG in the table indicate that swelling has already occurred at the melting temperature of the solder, and the heat resistance is very poor.
Peel strength In a 25 ° C. and 80 ° C. atmosphere, a 90 ° peel test was performed at a pulling speed of 50 mm / min.

実施例2〜10、比較例1〜5は実施例1と同様に、ポリウレタン樹脂或いはポリエステル樹脂を用いて接着剤を作成し、サンプルを製造し評価をおこなった。実施例の評価結果を表6に、比較例の評価結果を表7に示した。   In Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 to 5, in the same manner as in Example 1, an adhesive was prepared using a polyurethane resin or a polyester resin, and samples were manufactured and evaluated. The evaluation results of the examples are shown in Table 6, and the evaluation results of the comparative examples are shown in Table 7.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

比較例6:日本ゼオン(株)社製Nipol1072J(ニトリルブチレンラバー) 25部、BREN−S 20部、YDB400 20部、東都化成(株)社製YD014 (ビスフェノールA型エポキシ化合物)30部、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物 5部、新日本理化(株)社製リカシッドTMTA−C(酸無水物化合物) 4部、四国ファインケミカルズ(株)社製C11Z−AZINE(イミダゾール系触媒) 0.5部、四国ファインケミカルズ(株)社製2PHZ−CN(イミダゾール系触媒) 0.5部、水酸価アルミニウム 30部をメチルエチルケトンを用いて固形分濃度が30%となるように溶解し、接着剤溶液を得た。このようにして得られた接着剤溶液を用いて、実施例1と同様の評価を行った。結果を表7に示す。 Comparative Example 6: Nipol 1072J (nitrile butylene rubber) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. 25 parts, 20 parts of BREN-S, 20 parts of YDB400, 30 parts of YD014 (bisphenol A type epoxy compound) manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., benzophenone tetra Carboxylic dianhydride 5 parts, Shin Nippon Rika Co., Ltd. Rikacid TMTA-C (acid anhydride compound) 4 parts, Shikoku Fine Chemicals Co., Ltd. C 11 Z-AZINE (imidazole catalyst) 0.5 parts , 0.5 parts of 2PHZ-CN (imidazole catalyst) manufactured by Shikoku Fine Chemicals Co., Ltd. and 30 parts of aluminum hydroxide value using methyl ethyl ketone were dissolved to a solid content concentration of 30% to obtain an adhesive solution. It was. Evaluation similar to Example 1 was performed using the adhesive solution thus obtained. The results are shown in Table 7.

Figure 2006152015
Figure 2006152015

YDCN703:東都化成(株)製、o−クレゾールノボラック型エポキシ化合物
UCAT−5002:サンアプロ(株)製、1,8ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン誘導体のテトラフェニルボレート塩
コロネートL:日本ポリウレタン(株)製、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン変性品
YDCN703: Toto Kasei Co., Ltd., o-cresol novolac type epoxy compound UCAT-5002: San Apro Co., Ltd. 1,8 diazabicyclo (5,4,0) -undecene tetraphenylborate salt coronate L: Nippon Polyurethane Trimethylolpropane modified product of tolylene diisocyanate, manufactured by

表6の実施例によると、本発明の接着剤は、耐マイグレーション性、接着性、耐熱性に優れることがわかる。これに対して、比較例1では、硬化剤にエポキシ化合物ではなくイソシアネート化合物を用いているため、耐熱性が低下し、耐ハンダ性が劣っている。比較例2および4では、ウレタン樹脂やポリエステル樹脂にカルボキシル基やフェノール性水酸基がない為、エポキシ樹脂との硬化が不十分で、耐ハンダ性が低下している。比較例3及び5では、ポリエステル樹脂にアミド結合が含まれていない為、銅箔との密着性が低下し、接着性が劣っている。また、比較例6では、従来使用されている、エポキシ樹脂−ニトリルブチレンラバー系であり、本発明接着剤に比べ耐マイグレーション性に劣っている。   According to the Example of Table 6, it turns out that the adhesive agent of this invention is excellent in migration resistance, adhesiveness, and heat resistance. On the other hand, in Comparative Example 1, since the isocyanate compound is used as the curing agent instead of the epoxy compound, the heat resistance is lowered and the solder resistance is inferior. In Comparative Examples 2 and 4, since the urethane resin or the polyester resin does not have a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group, curing with an epoxy resin is insufficient, and solder resistance is lowered. In Comparative Examples 3 and 5, since the amide bond is not included in the polyester resin, the adhesion with the copper foil is lowered and the adhesiveness is inferior. Moreover, in the comparative example 6, it is an epoxy resin-nitrile butylene rubber system conventionally used, and it is inferior to migration resistance compared with this invention adhesive agent.

本発明の接着剤は、耐マイグレーション性、接着性、ハンダ耐熱性に優れることから、フレキシブル印刷回路基板用接着剤として有効に利用することができる。   Since the adhesive of the present invention is excellent in migration resistance, adhesiveness, and solder heat resistance, it can be effectively used as an adhesive for flexible printed circuit boards.

Claims (5)

酸価が100〜2000当量/tであるポリエステルアミド樹脂(A)とエポキシ化合物(B)からなることを特徴とする接着剤。   An adhesive comprising a polyesteramide resin (A) having an acid value of 100 to 2000 equivalent / t and an epoxy compound (B). ポリエステルアミド樹脂(A)成分の(アミド結合のモル数/エステル結合のモル数)=0.03〜0.7であることを特徴とする請求項1記載の接着剤。   2. The adhesive according to claim 1, wherein (mole number of amide bond / mole number of ester bond) of the component of polyester amide resin (A) is 0.03 to 0.7. 酸価が100〜2000当量/tであり、ポリエステルアミド樹脂をウレタン変性した樹脂(C)とエポキシ化合物(B)からなることを特徴とする接着剤。   An adhesive having an acid value of 100 to 2000 equivalent / t and comprising a resin (C) obtained by urethane-modifying a polyesteramide resin and an epoxy compound (B). 酸価が、カルボキシル基および/又はフェノール性水酸基に由来するものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の接着剤。   The adhesive according to any one of claims 1 to 3, wherein the acid value is derived from a carboxyl group and / or a phenolic hydroxyl group. 請求項1〜4のいずれかに記載の接着剤を用いたフレキシブル印刷回路基板。   The flexible printed circuit board using the adhesive agent in any one of Claims 1-4.
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