JP2006137083A - Method for producing polymer molding - Google Patents

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JP2006137083A JP2004328718A JP2004328718A JP2006137083A JP 2006137083 A JP2006137083 A JP 2006137083A JP 2004328718 A JP2004328718 A JP 2004328718A JP 2004328718 A JP2004328718 A JP 2004328718A JP 2006137083 A JP2006137083 A JP 2006137083A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a polymer molding, especially an optical member, which is high in accuracy without needing photocuring and thermosetting properties. <P>SOLUTION: In the method for producing the polymer molding, a polymer solution is applied on a support in an optional shape and dried while being held on the support. The molding of an aromatic polymer or an alicyclic polymer is produced, in which the amount of remaining volatile substances is 10 wt% or below when it is peeled off from the support. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、任意の形状を容易に付与できる高分子成形体の製造方法に関し、特に光導波路、マイクロレンズアレイ、プリズムシートや、光学フィルター、フィルムなど、微細かつ精密な形状が必要な光学部材の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a polymer molded body capable of easily imparting an arbitrary shape, and in particular, an optical member that requires a fine and precise shape such as an optical waveguide, a microlens array, a prism sheet, an optical filter, or a film. It relates to a manufacturing method.

マイクロレンズアレイなどの光学部材は、寸法の僅かな誤差により光が意図しない方向に曲がったり、あるいは光損失が大きくなる問題があり、極めて精密な成形が必要である。従来、このような精密光学部材の成型方法としては特許文献1および2に開示があるように、硬化性の樹脂を型に流して光または熱により硬化する方法が用いられてきた。   An optical member such as a microlens array has a problem that light is bent in an unintended direction due to a slight error in dimensions, or light loss becomes large, and extremely precise molding is required. Conventionally, as a method for molding such a precision optical member, as disclosed in Patent Documents 1 and 2, a method in which a curable resin is poured into a mold and cured by light or heat has been used.

しかしながら、光硬化性または熱硬化性の樹脂は硬化性能を付与する必要があるため、高価であったり、使用できる樹脂の種類が限定されたりといった問題を有していた。
特開2004−4233号公報 特開2004−163695号公報
However, since the photo-curing or thermosetting resin needs to impart curing performance, it has a problem that it is expensive and the types of resins that can be used are limited.
JP 2004-4233 A JP 2004-163695 A

本発明は、上述した従来技術における問題点の解決を課題として検討した結果達成されたものである。すなわち、本発明の目的は、光硬化性または熱硬化性を必要とせずに、精度の高い、高分子成形体、特に光学用部材を製造する方法を提供することにある。   The present invention has been achieved as a result of studying the solution of the problems in the prior art described above as an issue. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing a polymer molded body, particularly an optical member, having high accuracy without requiring photocurability or thermosetting.

上記した目的を達成するため本発明は、所定の表面形状が設けられた支持体の上に、高分子を含む溶液を塗布し、この溶液の揮発成分が10重量%以下になるまで支持体上で乾燥せしめた後、支持体上の表面形状が転写された成形体を剥離する高分子成形体の製造方法であることを特徴とする。ここで、乾燥を、温度の異なる2つ以上の工程で行うことも好ましい。また、高分子として、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、アクリル、ポリエステル、フッ素樹脂およびポリエーテルスルホンからなる群から選ばれる少なくとも1種の高分子を用いることも好ましい。さらに、高分子の、450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上であることも好ましい。   In order to achieve the above-described object, the present invention applies a solution containing a polymer on a support having a predetermined surface shape, and the solution is formed on the support until the volatile component of the solution is 10% by weight or less. The method is characterized in that it is a method for producing a polymer molded body in which the molded body on which the surface shape on the support is transferred is peeled off after drying. Here, it is also preferable to perform the drying in two or more steps having different temperatures. Further, as the polymer, at least one polymer selected from the group consisting of polyimide, polyamide, polyether ketone, polyether ether ketone, polycarbonate, cyclic polyolefin, acrylic, polyester, fluororesin, and polyether sulfone may be used. preferable. Furthermore, it is also preferable that the light transmittance of light of all wavelengths from 450 nm to 700 nm of the polymer is 80% or more.

光硬化性または熱硬化性を必要とせずに、精度の高い、高分子成形体、特に光学用部材を製造する方法を提供することができる。   It is possible to provide a method for producing a polymer molded body, particularly an optical member, with high accuracy without requiring photocurability or thermosetting.

本発明は、所定の表面形状が設けられた支持体の上に、高分子を含む溶液を塗布し、この溶液の揮発成分が10重量%以下になるまで支持体上で乾燥せしめた後、支持体上の表面形状が転写された成形体を剥離して高分子成形体を得ることを特徴とする。一般に溶液キャスト法、すなわち高分子溶液を支持体に塗布、乾燥する方法で高分子フィルムなどの成形体を製造する場合、50重量%程度の揮発分が残った不十分な乾燥状態で支持体から剥離した後に成形体単体で、さらに乾燥する方法が用いられている。この方法ではフィルムなどの成形体両面から溶媒が乾燥するため、支持体上で乾燥する場合と比較して乾燥速度が早い利点があるが、形状を転写するという目的に着目すると、支持体から剥離した後の乾燥による収縮が大きいため、支持体の形状を正確に転写できない欠点がある。   In the present invention, a support containing a predetermined surface shape is coated with a solution containing a polymer, dried on the support until the volatile component of the solution is 10% by weight or less, and then supported. A polymer molded body is obtained by peeling off a molded body to which the surface shape on the body is transferred. In general, when a molded body such as a polymer film is produced by a solution casting method, that is, a method in which a polymer solution is applied to a support and dried, the polymer is removed from the support in an insufficiently dried state in which about 50% by weight of volatile matter remains. A method of further drying the molded body by itself after peeling is used. In this method, since the solvent is dried from both sides of the molded body such as a film, there is an advantage that the drying speed is faster compared with the case of drying on the support. Since the shrinkage due to drying after the treatment is large, the shape of the support cannot be accurately transferred.

支持体からの剥離時に残存する揮発物が10重量%以下であると、剥離後の乾燥収縮が小さく、支持体の形状を正確に転写できるため好ましい。剥離時に残存する揮発物はより好ましくは5重量%以下、最も好ましくは1重量%以下である。残存する揮発分が少ないことにより、剥離後の乾燥収縮が小さい、使用時に揮発分による問題が発生しない等の利点が上げられる。また、揮発分の量に下限は存在しないが、通常0重量%以上である。   It is preferable that the volatile matter remaining at the time of peeling from the support is 10% by weight or less because the drying shrinkage after peeling is small and the shape of the support can be accurately transferred. The volatile matter remaining at the time of peeling is more preferably 5% by weight or less, and most preferably 1% by weight or less. Since the remaining volatile matter is small, advantages such as small drying shrinkage after peeling and no problem due to volatile matter during use can be obtained. Moreover, although there is no lower limit to the amount of volatile matter, it is usually 0% by weight or more.

本発明は支持体の形状を正確に転写することを特徴とし、支持体の表面形状の最大高さをRz1とし、成形体の表面形状の最大高さをRz2としたとき、Rz2がRz1の90%以上110%以下の値であることが好ましい。より好ましくはRz2がRz1の95%以上105%以下である。   The present invention is characterized in that the shape of the support is accurately transferred. When the maximum height of the surface shape of the support is Rz1, and the maximum height of the surface shape of the molded body is Rz2, Rz2 is 90 of Rz1. It is preferable that it is the value of% -110%. More preferably, Rz2 is 95% to 105% of Rz1.

また、表面形状が所定の周期を有していることも好ましく、点や線、任意の図形の繰り返しパターンが付与されていることも好ましい。この場合、形状が付与されている面内において、面上の特定の方向における表面形状の周期をL1とし、この特定の方向に対応する方向における成形体の表面形状の周期をL2としたとき、L2がL1の90%以上110%以下であることが好ましい。さらに好ましくはL2がL1の95%以上105%以下である。成形体の形状が支持体の形状を正確に転写されていれば(L2=L1である場合)、成型品や光学部材としたときの性能が極めて良好となる。   Moreover, it is also preferable that the surface shape has a predetermined period, and it is also preferable that a repeating pattern of dots, lines, and arbitrary figures is given. In this case, in the plane to which the shape is given, when the surface shape period in a specific direction on the surface is L1, and the period of the surface shape of the molded body in the direction corresponding to the specific direction is L2, L2 is preferably 90% to 110% of L1. More preferably, L2 is 95% or more and 105% or less of L1. If the shape of the molded body is accurately transferred from the shape of the support (when L2 = L1), the performance when used as a molded product or an optical member is extremely good.

本発明において、周期L1およびL2の測定方法は特に限定はないが、支持体の形状を正確に転写しているか否かを判断するために、以下の基準点を決めて測定することが好ましい。   In the present invention, the measuring method of the periods L1 and L2 is not particularly limited, but in order to determine whether or not the shape of the support is accurately transferred, it is preferable to determine and measure the following reference points.

(1)マイクロレンズアレイ、すならち平面の上に半球または球の一部を並べた形状の場合、断面におけるそれら半球または球の頂点と、その頂点と隣接する頂点の距離を測定し、3点以上の距離の測定値から平均を求め、周期L1およびL2とすることが好ましい。測定する部位は支持体の測定部位と、その測定部位に対応する成形体の部分を測定することが好ましいが、相似の形状が連続する支持体を用いる場合には、上記の対応関係が必ずしも必要になるわけではない。また、本発明においては、L1とL2に関する上記規定が支持体あるいは成形体のどこかの箇所について満足されていればよい。なお、非球面レンズ、フレネルレンズ、ピラミッド形状のレンズなど、特殊形状のレンズが平面上に並べた形状についても上記方法で測定することができる。   (1) In the case of a microlens array, that is, a shape in which a hemisphere or a part of a sphere is arranged on a plane, the distance between the vertex of the hemisphere or sphere in the cross section and the vertex adjacent to the vertex is measured. It is preferable to obtain an average from the measured values of the distances greater than or equal to the point and set the periods L1 and L2. It is preferable to measure the part to be measured and the part of the molded body corresponding to the part to be measured. However, when using a support having a continuous similar shape, the above correspondence is always necessary. It does n’t mean. Moreover, in this invention, the said prescription | regulation regarding L1 and L2 should just be satisfied about the some place of a support body or a molded object. Note that the above method can also be used to measure shapes in which special lenses such as aspheric lenses, Fresnel lenses, and pyramid lenses are arranged on a plane.

(2)プリズムシート、すなわち三角柱などを平面上に並べた形状の成形体の場合(たとえば住友スリーエム社製“BEFII”など)、隣り合う稜線間の距離を測定する。この場合についても、3点以上の距離の測定値から平均を求め、周期L1およびL2とすることが好ましい。この場合についても支持体および成形体のどこかの箇所について、上記したL1とL2との関係が満足されていればよい。   (2) In the case of a shaped body in which prism sheets, that is, triangular prisms or the like are arranged on a plane (for example, “BEFII” manufactured by Sumitomo 3M Limited), the distance between adjacent ridgelines is measured. Also in this case, it is preferable to obtain the average from the measured values of the distances of three or more points and set the periods L1 and L2. Also in this case, it is only necessary that the relationship between L1 and L2 described above is satisfied at some point on the support and the molded body.

本発明の成形体の製造方法は例えば、導光板、拡散反射板、革模様、フィルム、シートなど一定の周期を持たない形状の製造にも好適に用いることが可能である。この場合、JIS B0601−2001に記載される方法に準じて測定したRaについて上記と同様の関係を満足していることが好ましい。すなわち、支持体の表面形状の算術平均高さをRa1とし、成形体の表面形状の算術平均高さをRa2としたとき、Ra2がRa1の90%以上110%以下の値であることが好ましい。   The method for producing a molded article of the present invention can be suitably used for producing a shape having no fixed period, such as a light guide plate, a diffuse reflector, a leather pattern, a film, and a sheet. In this case, it is preferable that the same relation as described above is satisfied for Ra measured according to the method described in JIS B0601-2001. That is, when the arithmetic average height of the surface shape of the support is Ra1 and the arithmetic average height of the surface shape of the molded body is Ra2, Ra2 is preferably a value of 90% to 110% of Ra1.

本発明においては、乾燥工程を、温度の異なる2つ以上の工程で行うことが好ましい。もちろん、3つ以上の異なる工程(温度)で乾燥を行うことも好ましい。この場合、乾燥温度を乾燥開始から順次、T1、T2、T3、・・・としたとき、初期乾燥温度T1は用いる溶媒の沸点以下の温度であることが好ましい。本発明においては、支持体上に成形体を保持したまま、十分な乾燥を行うことを特徴としているが、第一段階から溶媒の沸点を超える温度で加熱を行うと、気泡状の欠点ができることがある。さらにT2、T3、・・・は、任意の温度Tmaxまで順次昇温することが好ましい。溶媒の沸点を超えない温度であっても、T1が高い温度であると、成形体表面に被膜状の乾燥した部分が形成され、この皮膜によって、溶媒の蒸発が妨げられるため内部が十分に乾燥できないことがある。   In the present invention, the drying process is preferably performed in two or more processes having different temperatures. Of course, it is also preferable to perform drying in three or more different steps (temperatures). In this case, when the drying temperature is set to T1, T2, T3,... Sequentially from the start of drying, the initial drying temperature T1 is preferably a temperature not higher than the boiling point of the solvent used. In the present invention, it is characterized in that it is sufficiently dried while holding the molded body on the support, but if it is heated from the first stage at a temperature exceeding the boiling point of the solvent, a bubble-like defect can be formed. There is. Furthermore, it is preferable that T2, T3,... Are sequentially heated up to an arbitrary temperature Tmax. Even if the temperature does not exceed the boiling point of the solvent, if the temperature of T1 is high, a dried part of the film is formed on the surface of the molded body, and this film prevents the solvent from evaporating, so the inside is sufficiently dried. There are things that cannot be done.

Tmaxは特に限定されないが、工程の気圧における溶媒の沸点以上の温度であることが好ましい。最終工程まで溶媒の沸点以下の温度で乾燥を行い、残存する揮発分を10重量%以下にするためには著しく長い乾燥時間が必要になることがあり、製造コストが大きくなる。溶媒の沸点以上の温度で加熱することにより成形体の片側が支持体に密着している状態でも溶媒を十分に乾燥することが可能になる。さらに好ましくはTmaxは高分子のガラス転移点温度以上の温度であることが好ましい。ガラス転移点温度以上の温度で加熱することにより、分子が動きやすくなり、溶媒が揮発しやすくなる。   Tmax is not particularly limited, but is preferably a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent at the atmospheric pressure of the process. In order to perform drying at a temperature below the boiling point of the solvent until the final step and to reduce the remaining volatile content to 10% by weight or less, a considerably long drying time may be required, resulting in an increase in production cost. By heating at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent, the solvent can be sufficiently dried even when one side of the molded body is in close contact with the support. More preferably, Tmax is a temperature higher than the glass transition temperature of the polymer. By heating at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature, the molecules easily move and the solvent easily evaporates.

Tmax以降は徐々に降温し、支持体から成形体を剥離するが、Tmaxが高分子のガラス転移点温度以下であればTmaxで剥離しても構わない。   After Tmax, the temperature is gradually lowered and the formed body is peeled off from the support, but may be peeled off at Tmax as long as Tmax is equal to or lower than the glass transition temperature of the polymer.

また、乾燥工程について、0.1MPa以下で減圧乾燥することも好ましい。減圧することで、溶媒の沸点を下げることができ、大きな電気エネルギーを必要とするヒーターの温度を下げることができるため、コストダウンが可能となる。また、光学部材は着色が無いことが必要であるが、低温で乾燥できるため、着色を低減できる。   Moreover, about a drying process, it is also preferable to dry under reduced pressure at 0.1 Mpa or less. By reducing the pressure, the boiling point of the solvent can be lowered, and the temperature of the heater requiring a large amount of electric energy can be lowered, so that the cost can be reduced. Moreover, although it is necessary that the optical member is not colored, coloring can be reduced because it can be dried at a low temperature.

本発明の製造方法に使用する支持体には特に制約は無く、金属、ガラス、高分子などから選ばれるが、使用する溶媒に対して耐性があること、および溶媒の沸点+50℃での寸法変化が小さいことが重要である。支持体は金属、ガラス、高分子などの単体であっても、複合素材であってもよい。乾燥時の密着性と、その後の剥離性を両立する目的で、表面が加工されているものも好ましい。   The support used in the production method of the present invention is not particularly limited and is selected from metals, glasses, polymers, etc., but has resistance to the solvent used, and the dimensional change at the boiling point of the solvent + 50 ° C. It is important that is small. The support may be a simple substance such as metal, glass, polymer, or a composite material. For the purpose of satisfying both adhesiveness at the time of drying and subsequent peelability, those whose surfaces are processed are also preferable.

溶液状態で塗布された高分子は残存する揮発成分が10重量%以下に乾燥されるまでは支持体に密着している必要があるが、他方、乾燥後は支持体から剥離する必要がある。このため、支持体の表面形状が設けられた側の面上に剥離剤を付与すること、あるいは高分子溶液に剥離剤を添加することが有用である。使用する剥離剤には特に限定はないが、例えば滑剤、界面活性剤、表面改質剤、剥離剤などの名前で販売されているものを用いることができ、例えばクラリアントジャパン株式会社製リコモントFN901、ワックスコンポジットG431L、ワックスコンポジットG432L、ダイキン工業株式会社製ユニダインDS403、ゼッフルGH700、大日本インキ株式会社製メガファックF479、メガファックF1405、メガファックESM1、株式会社ネオス社製フタージェント、東レダウコーニングシリコーン社製シリコーン離型剤、巴工業株式会社製モールドウィズ、セイミケミカル株式会社製サーフロン、JSR株式会社製ダイナセラ、デュポンジャパン株式会社製ゾニール等が挙げられる。   The polymer applied in a solution state needs to be in close contact with the support until the remaining volatile components are dried to 10% by weight or less. On the other hand, after drying, the polymer needs to be peeled off from the support. For this reason, it is useful to provide a release agent on the surface of the support where the surface shape is provided or to add a release agent to the polymer solution. There are no particular limitations on the release agent used, but for example, those sold under the names of lubricants, surfactants, surface modifiers, release agents, etc. can be used. For example, Recommont FN901 manufactured by Clariant Japan Co., Ltd. Wax Composite G431L, Wax Composite G432L, Daikin Industries Co., Ltd. Unidyne DS403, Zeffle GH700, Dainippon Ink Co., Ltd. MegaFuck F479, MegaFuck F1405, MegaFus ESM1, Neos Co., Ltd. Footage, Toray Dow Corning Silicone Silicone mold release agent, Sakai Kogyo Co., Ltd. mold with, Seimi Chemical Co., Ltd. Surflon, JSR Co., Ltd. dynacera, DuPont Japan Co., Ltd. zonyl, etc. are mentioned.

剥離剤により支持体と高分子溶液の密着性および高分子成形体の剥離性を制御することにより、良好な転写を得ることができる。   Good transfer can be obtained by controlling the adhesion between the support and the polymer solution and the peelability of the polymer molded body by the release agent.

本発明の方法で製造される成形体は溶媒に可溶である高分子で有れば特に限定は無いが、芳香族高分子や脂環式高分子であることが好ましく、例えばポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、アクリル、ポリエーテルスルホンの何れか1種類または1種類以上を含む高分子が好適に用いられる。   The molded body produced by the method of the present invention is not particularly limited as long as it is a polymer that is soluble in a solvent, but is preferably an aromatic polymer or an alicyclic polymer, such as polyimide, polyamide, Polymers containing any one or more of polyether ketone, polyether ether ketone, polycarbonate, cyclic polyolefin, acrylic, and polyether sulfone are preferably used.

特に好ましくは芳香族ポリアミド、変性アクリル、脂環式ポリオレフィンが挙げられる。芳香族ポリアミドは屈折率が1.6以上と大きく250℃以上の高いガラス転移点温度を併せ持つため、マイクロレンズとした場合に、高効率なレンズを作ることができる。   Particularly preferred are aromatic polyamides, modified acrylics, and alicyclic polyolefins. Aromatic polyamide has a high refractive index of 1.6 or higher and a high glass transition temperature of 250 ° C. or higher. Therefore, when a microlens is used, a highly efficient lens can be produced.

アラミドは特異な構造単位を持つことにより、高い透明性と屈折率を実現することができる。即ち、化学式(I)、(II)、(III)または(IV)で示される構造単位を含み(これらの全ての構造単位を含むこともあり、またその一部のみを含むこともある)かつ、化学式(I)、(II)(III)および(IV)で示される構造単位のモル分率をそれぞれl、m、n、oとしたとき、次式(2)〜(4)を満足しているアラミドを用いることが好ましい。   Since aramid has a unique structural unit, high transparency and refractive index can be realized. That is, the structural unit represented by the chemical formula (I), (II), (III) or (IV) is included (all of these structural units may be included, or only a part thereof may be included) and When the molar fractions of the structural units represented by chemical formulas (I), (II), (III), and (IV) are l, m, n, and o, respectively, the following formulas (2) to (4) are satisfied. It is preferable to use aramid.

50<l+m+n≦100 ・・・ (2)
0≦l、m、n、o≦100 ・・・ (3)
0≦o≦50 ・・・ (4)
50 <l + m + n ≦ 100 (2)
0 ≦ l, m, n, o ≦ 100 (3)
0 ≦ o ≦ 50 (4)

Figure 2006137083
Figure 2006137083

:少なくとも一つの5員環、6員環または7員環を有する基
:任意の芳香族基
X :水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
R 1 : a group having at least one 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring R 2 : any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms

Figure 2006137083
Figure 2006137083

:−CF、−CCl、−CBr、−OH、−F、−Cl、−OCH(ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。)
:任意の芳香族基
R 3 : —CF 3 , —CCl 3 , —CBr 3 , —OH, —F, —Cl, —OCH 3 (however, structural units having these groups may be mixed in the molecule)
R 4 : any aromatic group

Figure 2006137083
Figure 2006137083

:−SO−、−O−、−CH−、−C(CF−から選ばれる基、または−SO−、−O−、−CH−、−C(CF−から選ばれる基を1つ以上含む芳香族基
:任意の芳香族基
X :水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
R 5: -SO 2 -, - O -, - CH 2 -, - C (CF 3) 2 - group selected from or -SO 2, -, - O - , - CH 2 -, - C (CF 3 ) Aromatic group containing one or more groups selected from 2 − R 6 : Arbitrary aromatic group X: Hydrogen, halogen or hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms

Figure 2006137083
Figure 2006137083

:任意の芳香族基
:任意の芳香族基
X :水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
化学式(I)、(II)、(III)および(IV)はそれぞれ存在しても、または存在しなくても構わないが、化学式(I)、(II)および(III)で示される構造単位のモル分率をそれぞれl、m、nとした時、l+m+nが50を超えることが好ましい様態である。さらに好ましくはl+m+nは80以上であり、最も好ましくはl+m+nは100である。l+m+nが50以下の場合にはこれらの効果よりも着色に寄与する構造単位の寄与が大きくなり無色透明フィルムは得られない(光線透過率に劣る)ことがある。
R 7: any aromatic radical R 8: any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group formula of 1 to 3 carbon atoms (I), (II), (III) and (IV) each occurrence Or not, but when the molar fractions of the structural units represented by the chemical formulas (I), (II) and (III) are 1, m and n, respectively, l + m + n is 50. It is a preferable aspect to exceed. More preferably, l + m + n is 80 or more, and most preferably l + m + n is 100. When l + m + n is 50 or less, the contribution of the structural unit contributing to coloring becomes larger than these effects, and a colorless transparent film may not be obtained (inferior in light transmittance).

アラミドの着色は分子内および分子間の電荷移動錯体によると考えられているが、化学式(I)、(II)および(III)はいずれもアラミド分子内および分子間の電荷移動錯体の形成を阻害し、アラミドフィルムを無色透明化する(光線透過率を向上させる)と考えられる。   The coloration of aramid is believed to be due to intramolecular and intermolecular charge transfer complexes, but chemical formulas (I), (II) and (III) all inhibit the formation of intramolecular and intermolecular charge transfer complexes. The aramid film is considered to be colorless and transparent (to improve light transmittance).

化学式(I)においてRは少なくとも一つの5員環、6員環または7員環を有する基などが好適に用いられるが、化学式(XI)で示される環状基であることがさらに好ましい。最も好ましくはフルオレン基である。 In Chemical Formula (I), R 1 is preferably a group having at least one 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, and more preferably a cyclic group represented by Chemical Formula (XI). Most preferred is a fluorene group.

Figure 2006137083
Figure 2006137083

化学式(II)においてRは、−CF、−CCl、−CBr、−OH、−F、−Cl、−OCH(ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。)などが好適に用いられる。最も好ましくは−CFである。 In the chemical formula (II), R 3 is —CF 3 , —CCl 3 , —CBr 3 , —OH, —F, —Cl, —OCH 3 (however, structural units having these groups are mixed in the molecule) Or the like may be suitably used. Most preferably -CF 3.

化学式(III)においてRは、−SO−、−O−、−CH−、−C(CF−から選ばれる基、または−SO−、−O−、−CH−、−C(CF−から選ばれる基を1つ以上含む芳香族基などが好適に用いられるが、最も好ましくは−SO−である。 R 5 is, -SO 2 in Formula (III) -, - O - , - CH 2 -, - C (CF 3) 2 - group selected from or -SO 2, -, - O - , - CH 2 - An aromatic group containing one or more groups selected from —C (CF 3 ) 2 — is preferably used, and —SO 2 — is most preferred.

また、変性アクリルは、マレイミド、グルタルイミド、ラクトン、グルタル酸無水物、スチレンなどを分子構造に持つアクリル一般を指す。変性アクリルは高い光線透過率と、100℃以上の高いガラス転移点温度を併せ持つため、好ましい。また、脂環式ポリオレフィンはJSR株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製アペルなどが例示できる。これらは高い光線透過率と、低い吸水率を持つため好ましい。   Modified acrylic refers to acrylic in general having a molecular structure of maleimide, glutarimide, lactone, glutaric anhydride, styrene or the like. Modified acrylic is preferable because it has both high light transmittance and a high glass transition temperature of 100 ° C. or higher. Examples of the alicyclic polyolefin include Arton manufactured by JSR Corporation, ZEONOR manufactured by ZEON Corporation, and APPEL manufactured by Mitsui Chemicals. These are preferable because they have high light transmittance and low water absorption.

さらに、これら高分子は450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上であることが光学用部材として利用する場合には好ましい。450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上であることにより高性能な光学用部材を得ることができる。   Furthermore, it is preferable that these polymers have a light transmittance of light of all wavelengths from 450 nm to 700 nm as 80% or more when used as an optical member. A high-performance optical member can be obtained when the light transmittance of light of all wavelengths from 450 nm to 700 nm is 80% or more.

また、高分子には、屈折率制御、表面形成、加工性改善などを目的として無機質または有機質の添加物を含有させてもよい。添加物は、その目的に応じて選ばれることは言うまでもないが、例えば無機粒子としては、たとえば、アルミニウム錯体、酸化アルミニウム粒子、酸化スズ−酸化アルミニウム複合粒子、酸化ケイ素−酸化アルミニウム複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化アルミニウム複合粒子、酸化スズ−酸化ケイ素複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化ケイ素複合粒子等、スズ錯体、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム−酸化スズ複合粒子等、チタン錯体、酸化チタン粒子、酸化スズ−酸化チタン複合粒子、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化チタン複合粒子等、ジルコニウム錯体、酸化ジルコニウム粒子等があげられる。これらのうち、好ましくは、酸化スズ−酸化アルミニウム複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化アルミニウム複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化ケイ素複合粒子等、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム−酸化スズ複合粒子等、酸化チタン粒子、酸化スズ−酸化チタン複合粒子、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化チタン複合粒子等、酸化ジルコニウム粒子等があげられる。特に好ましくは、酸化スズ−酸化チタン複合粒子、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム−酸化スズ複合粒子、酸化ジルコニウム−酸化ケイ素複合粒子、酸化ジルコニウム粒子が挙げられる。   In addition, the polymer may contain an inorganic or organic additive for the purpose of controlling the refractive index, forming the surface, improving workability, and the like. Needless to say, the additive is selected according to the purpose. For example, the inorganic particles include, for example, aluminum complexes, aluminum oxide particles, tin oxide-aluminum oxide composite particles, silicon oxide-aluminum oxide composite particles, and zirconium oxide. -Aluminum oxide composite particles, tin oxide-silicon oxide composite particles, zirconium oxide-silicon oxide composite particles, etc., tin complexes, tin oxide particles, zirconium oxide-tin oxide composite particles, etc., titanium complexes, titanium oxide particles, tin oxide-oxidation Examples thereof include titanium composite particles, silicon oxide-titanium oxide composite particles, zirconium oxide-titanium oxide composite particles, zirconium complexes, and zirconium oxide particles. Of these, preferably, tin oxide-aluminum oxide composite particles, zirconium oxide-aluminum oxide composite particles, zirconium oxide-silicon oxide composite particles, etc., tin oxide particles, zirconium oxide-tin oxide composite particles, etc., titanium oxide particles, oxidation Examples thereof include tin-titanium oxide composite particles, silicon oxide-titanium oxide composite particles, zirconium oxide-titanium oxide composite particles, and zirconium oxide particles. Particularly preferred are tin oxide-titanium oxide composite particles, silicon oxide-titanium oxide composite particles, titanium oxide particles, zirconium oxide-tin oxide composite particles, zirconium oxide-silicon oxide composite particles, and zirconium oxide particles.

これらの無機粒子は、単体粒子としても、複合粒子としても利用できる。さらに、これらの無機粒子は、1種以上を混合して用いられることもできる。   These inorganic particles can be used as single particles or composite particles. Furthermore, these inorganic particles can be used by mixing one or more kinds.

市販されている化合物としては、酸化スズ−酸化チタン複合粒子の“オプトレイクTR−502”、“オプトレイクTR−504”、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子の“オプトレイクTR−503”、酸化チタン粒子の“オプトレイクTR−505”((以上、商品名、触媒化成工業(株)製)、酸化ジルコニウム粒子((株)高純度化学研究所製)、酸化スズ−酸化ジルコニウム複合粒子ゾル(触媒化成工業(株)製)、酸化スズ粒子((株)高純度化学研究所製)等が挙げられる。   Commercially available compounds include “Op-trake TR-502” and “Op-trake TR-504” of tin oxide-titanium oxide composite particles, “Op-trake TR-503” of silicon oxide-titanium oxide composite particles, and titanium oxide. “OPTRAIK TR-505” (trade name, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.), zirconium oxide particles (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.), tin oxide-zirconium oxide composite particle sol (catalyst) Chemical Industry Co., Ltd.), tin oxide particles (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.), and the like.

本発明で用いられる高分子は、450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上であることが好ましい。より好ましくは光線透過率が85%以上、さらに好ましくは90%以上である。450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上であれば光学部材として有用である。光線透過率に上限は無く、例えば蛍光増白剤などを添加することにより100%を超えることも可能であるが、一般的には100%を超えることは困難である。   The polymer used in the present invention preferably has a light transmittance of light of all wavelengths from 450 nm to 700 nm of 80% or more. More preferably, the light transmittance is 85% or more, and further preferably 90% or more. If the light transmittance of light of all wavelengths from 450 nm to 700 nm is 80% or more, it is useful as an optical member. There is no upper limit to the light transmittance, and it is possible to exceed 100% by adding, for example, a fluorescent brightening agent, but it is generally difficult to exceed 100%.

ここで、全光線透過率および光線透過率は厚み10μmのフィルムを作製して測定する。   Here, the total light transmittance and the light transmittance are measured by producing a film having a thickness of 10 μm.

ただし、厚み10μmのフィルムを作成することが困難な場合は、下記式(1)、(2)を用いて厚み10μmに換算して評価する。もちろん、厚み10μmを超えるサンプルしか得られない場合においても、以下の換算手法を適用できる。   However, when it is difficult to produce a film having a thickness of 10 μm, the film is evaluated by converting to a thickness of 10 μm using the following formulas (1) and (2). Of course, even when only a sample exceeding 10 μm in thickness can be obtained, the following conversion method can be applied.

10μmの時の光線透過率または全光線透過率(%):T10
膜の厚み(μm):L(適用範囲:0.1オングストローム〜10mm)
厚みLの時の光線透過率または全光線透過率(%):TL
反射率(%):R
吸光度(%/μm):a
T10=a×L+TL−a×10 ・・・ (1)
a=(100−R−TL)/L ・・・ (2)
ただし、膜厚が10μmを超え、かつ450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上の場合は、10μmの時にも、この条件を満足することが自明であるため、必ずしも厚み10μmに換算する必要はない。
Light transmittance or total light transmittance (%) at 10 μm: T10
Film thickness (μm): L (Applicable range: 0.1 Å to 10 mm)
Light transmittance or total light transmittance (%) at thickness L: TL
Reflectance (%): R
Absorbance (% / μm): a
T10 = a × L + TL−a × 10 (1)
a = (100−R−TL) / L (2)
However, when the film thickness exceeds 10 μm and the light transmittance of light of all wavelengths from 450 nm to 700 nm is 80% or more, it is obvious that this condition is satisfied even at 10 μm. There is no need to convert the thickness to 10 μm.

次に、以下に本発明に好適に用いられる芳香族ポリアミドやその組成物の製造方法例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Next, examples of a method for producing an aromatic polyamide and a composition thereof suitably used in the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

芳香族ポリアミド溶液、すなわち製膜原液を得る方法は種々の方法が利用可能であり、例えば、低温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法、蒸着重合法などを用いることができる。低温溶液重合法つまりカルボン酸ジクロライドとジアミンから得る場合には、非プロトン性有機極性溶媒中で合成される。   Various methods can be used to obtain an aromatic polyamide solution, that is, a film forming stock solution. For example, a low temperature solution polymerization method, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method, a solid phase polymerization method, a vapor deposition polymerization method, or the like can be used. it can. When it is obtained from a low temperature solution polymerization method, that is, from carboxylic acid dichloride and diamine, it is synthesized in an aprotic organic polar solvent.

ジアミンとしては例えば4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられるが、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレンが挙げられる。   Examples of the diamine include 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, and 2,2′-ditrifluoromethyl-4,4. '-Diaminobiphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hex Fluoropropane and the like can be mentioned, but 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 2,2′-ditrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 9,9-bis are preferable. (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino) -3-fluorophenyl) fluorene.

カルボン酸ジクロライドとしてはテレフタル酸ジクロライド、2クロロ−テレフタル酸ジクロライド、2フルオロ−テレフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジクロライド、オルトフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライドなどが挙げられる。   Examples of the carboxylic acid dichloride include terephthalic acid dichloride, 2chloro-terephthalic acid dichloride, 2-fluoro-terephthalic acid dichloride, isophthalic acid dichloride, orthophthalic acid dichloride, naphthalene dicarbonyl chloride, biphenyl dicarbonyl chloride, terphenyl dicarbonyl chloride, and the like. .

芳香族ポリアミド溶液は、単量体として酸ジクロライドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。   In the aromatic polyamide solution, when acid dichloride and diamine are used as monomers, hydrogen chloride is by-produced. When neutralizing this, an inorganic neutralizing agent such as calcium hydroxide, calcium carbonate, lithium carbonate, Organic neutralizers such as ethylene oxide, propylene oxide, ammonia, triethylamine, triethanolamine, and diethanolamine are used. The reaction between isocyanate and carboxylic acid is carried out in an aprotic organic polar solvent in the presence of a catalyst.

2種類以上のジアミンを用いて重合を行う場合、ジアミンは1種類づつ添加し、該ジアミンに対し10〜99モル%の酸ジクロライドを添加して反応させ、この後に他のジアミンを添加して、さらに酸ジクロライドを添加して反応させる段階的な反応方法、およびすべてのジアミンを混合して添加し、この後に酸ジクロライドを添加して反応させる方法などが利用可能である。また、2種類以上の酸ジクロライドを利用する場合も同様に段階的な方法、同時に添加する方法などが利用できる。いずれの場合においても全ジアミンと全酸ジクロライドのモル比は95〜105:105〜95が好ましく、この値を外れた場合、成形に適したポリマー溶液を得ることが困難となる。   When performing polymerization using two or more kinds of diamines, diamines are added one by one, 10 to 99 mol% of acid dichloride is added to the diamine and reacted, and then another diamine is added, Further, a stepwise reaction method in which acid dichloride is added and reacted, a method in which all diamines are mixed and added, and then acid dichloride is added and reacted can be used. Similarly, when two or more kinds of acid dichlorides are used, a stepwise method, a method of simultaneously adding them, and the like can be used. In any case, the molar ratio of the total diamine to the total acid dichloride is preferably 95 to 105: 105 to 95, and if it is outside this value, it is difficult to obtain a polymer solution suitable for molding.

本発明の芳香族ポリアミドの製造において、使用する非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。さらにはポリマーの溶解を促進する目的で溶媒には50重量%以下のアルカリ金属、またはアルカリ土類金属の塩を添加することができる。   Examples of the aprotic polar solvent used in the production of the aromatic polyamide of the present invention include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide. Solvents, acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m- or Phenolic solvents such as p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol, or hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, and the like can be used. These are preferably used alone or as a mixture, but more preferably xylene, Toluene Using UNA aromatic hydrocarbons are also possible. Further, for the purpose of promoting the dissolution of the polymer, 50 wt% or less of an alkali metal or alkaline earth metal salt can be added to the solvent.

このようにして得られたポリマー原液は酸ジクロライドから発生した塩化水素と、中和剤との中和反応によって塩が形成される。この割合は5〜20重量%になり、このポリマー原液をそのまま乾燥させると、塩が析出する。このため膜形成の前、もしくは膜の形成過程に於いて塩を除去することが好ましい。塩の除去方法としては、特に限定されないが、例えばポリマー原液に水を加え、カッターを備えた攪拌機で撹拌してポリマーを再沈、洗浄する。得られたポリマーを減圧乾燥機で乾燥し、任意の濃度で溶媒に溶解してコーティング用原液を得ることができる。   In the polymer stock solution thus obtained, a salt is formed by a neutralization reaction between hydrogen chloride generated from acid dichloride and a neutralizing agent. This ratio becomes 5 to 20% by weight, and when this polymer stock solution is dried as it is, a salt is deposited. Therefore, it is preferable to remove the salt before the film formation or in the film formation process. The method for removing the salt is not particularly limited. For example, water is added to the polymer stock solution, and the polymer is reprecipitated and washed by stirring with a stirrer equipped with a cutter. The obtained polymer can be dried in a vacuum dryer and dissolved in a solvent at an arbitrary concentration to obtain a coating stock solution.

本発明において、高分子成形体の製造は、例えば上記したコーティング用原液(有機溶媒を含む溶液)を所定の表面形状を付与した支持体に塗布した後、有機溶媒を除去することにより行うことができる。塗布する方法としては、特に限定はされないが、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等の方法を挙げることができる。   In the present invention, the polymer molded body is produced by, for example, applying the above-described coating stock solution (solution containing an organic solvent) to a support having a predetermined surface shape and then removing the organic solvent. it can. The application method is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method, a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a spin coating method, a curtain coating method, a gravure printing method, a silk screen method, and an ink jet method. be able to.

高分子成形体の膜厚には特に限定はないが、形成法として塗布を用いた場合、その膜厚は0.1nm以上10mm以下であることが好ましい。0.1nm未満では、均一に塗布することが困難なことがあり、10mmを超えると溶媒の除去が困難になることがある。   The film thickness of the polymer molded body is not particularly limited, but when coating is used as the forming method, the film thickness is preferably 0.1 nm or more and 10 mm or less. If it is less than 0.1 nm, it may be difficult to apply uniformly, and if it exceeds 10 mm, it may be difficult to remove the solvent.

塗布に使用する有機溶媒には特に限定は無いが、高分子が芳香族ポリアミドの場合は例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、あるいはジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができる。これらの溶媒は単独で用いても、混合して用いても構わない。   The organic solvent used for coating is not particularly limited, but when the polymer is an aromatic polyamide, for example, dichloromethane, chloroform, benzene, toluene, methanol, ethanol, propanol, acetone, or sulfoxide such as dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, etc. Solvents, N, N-dimethylformamide, formamide solvents such as N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, acetamide solvents such as N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N -Pyrrolidone solvents such as vinyl-2-pyrrolidone, phenol solvents such as phenol, o-, m- or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, catechol, or hexamethylphosphoramide, γ-butyrolac Or the like can be mentioned down. These solvents may be used alone or in combination.

高分子がアクリルの場合にはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、ブタノンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができる。これらの溶媒は単独で用いても、混合して用いても構わない。   When the polymer is acrylic, examples thereof include alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol, ketone solvents such as acetone and butanone, dichloromethane, chloroform, benzene, toluene and γ-butyrolactone. These solvents may be used alone or in combination.

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

実施例における物性の測定方法、効果の評価方法は次の方法に従って行った。     The physical property measurement method and the effect evaluation method in the examples were performed according to the following methods.

(1)残存揮発分
下記装置を用いて測定し、残存揮発分(%)を求めた。
(1) Residual volatile matter The residual volatile matter (%) was determined by measurement using the following apparatus.

装置:TGA−50(島津製作所社製)
温度範囲:30℃〜500℃
昇温速度:10℃/分
(2)支持体および成形体の高さRa、Rzおよび周期
下記装置を用いて測定し、支持体および成形体の高さおよび周期(μm)を求めた。
Apparatus: TGA-50 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Temperature range: 30 ° C to 500 ° C
Temperature rising rate: 10 ° C./min (2) Height Ra, Rz and period of support and molded body The height and period (μm) of the support and molded body were determined by measurement using the following apparatus.

算術平均高さRaおよび最大高さRzはJIS B0601-2001に準拠する方法で計算した。     The arithmetic average height Ra and the maximum height Rz were calculated by a method based on JIS B0601-2001.

装置:超深度カラー3D形状測定顕微鏡VK-9500(キーエンス社製)
使用対物レンズ:×150
測定モード:カラー超深度
なお、形状および/または屈折率によっては、全てのレーザー光線が反射してしまい、上記の方法では高さRa, Rzおよび/または周期が正確に測定できないサンプルがある。この場合、透過電子顕微鏡を用いて測定することが可能である(いわゆるTEM法)。
Apparatus: Ultra deep color 3D shape measurement microscope VK-9500 (manufactured by Keyence Corporation)
Objective lens: x150
Measurement Mode: Color Ultra Depth Note that depending on the shape and / or refractive index, all laser beams are reflected, and there are samples whose height Ra, Rz and / or period cannot be measured accurately by the above method. In this case, it is possible to measure using a transmission electron microscope (so-called TEM method).

装置:日立(株)製H-7100FA
加速電圧:75kV
試料調製:エポキシ包埋、超薄切片法
(3)光線透過率
下記装置を用いて測定し、透過率(%)を求めた。
Equipment: H-7100FA manufactured by Hitachi, Ltd.
Acceleration voltage: 75 kV
Sample preparation: epoxy embedding, ultrathin section method (3) Light transmittance The transmittance (%) was determined by measurement using the following apparatus.

装置:UV測定器U−3410(日立計測社製)
波長範囲:300nm〜800nm
測定速度:120nm/分
測定モード:透過
(参考例1)
攪拌機を備えた200ml4つ口フラスコ中に4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン2.483g、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン2.483g、N−メチル−2−ピロリドン63.1mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。10分から30分後にかけてテレフタル酸ジクロライド4.060gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウム1.426gで中和して透明なポリマー溶液1を得た。
Apparatus: UV measuring instrument U-3410 (manufactured by Hitachi Instruments)
Wavelength range: 300 nm to 800 nm
Measurement speed: 120 nm / min Measurement mode: Transmission (Reference Example 1)
In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, 2.483 g of 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 2.483 g of 3,3′-diaminodiphenylsulfone, and 63.1 ml of N-methyl-2-pyrrolidone were placed under a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred under ice cooling. After 10 to 30 minutes, 4.060 g of terephthalic acid dichloride was added in 5 portions. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 1.426 g of lithium carbonate to obtain a transparent polymer solution 1.

得たポリマー溶液1をミキサーを用いて水中で粉砕し、濾取、乾燥してポリマーを単離した。単離したポリマーを固形分濃度が20重量%になるようにNN’ジメチルアセトアミドに溶解してポリマー溶液Aを得た。   The obtained polymer solution 1 was ground in water using a mixer, collected by filtration and dried to isolate the polymer. The isolated polymer was dissolved in NN ′ dimethylacetamide so that the solid content concentration was 20% by weight to obtain a polymer solution A.

(参考例2)
攪拌機を備えた300ml4つ口フラスコ中に4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン6.2080g、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン6.2080g、N−メチル−2−ピロリドン194mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。塩化ベンゾイル0.021gを添加し、10分から30分後にかけてテレフタル酸ジクロライド9.6435gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素をプロピレンオキシド2.6852gで中和して透明なポリマー溶液2を得た。
(Reference Example 2)
A 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer was charged with 4,080 g of 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 6.2080 g of 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, and 194 ml of N-methyl-2-pyrrolidone, and cooled with ice in a nitrogen atmosphere. Stirred under. 0.021 g of benzoyl chloride was added, and 9.6435 g of terephthalic acid dichloride was added in 5 portions over 10 to 30 minutes. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 2.6852 g of propylene oxide to obtain a transparent polymer solution 2.

得たポリマー溶液2をミキサーを用いて水中で粉砕し、濾取、乾燥してポリマーを単離した。単離したポリマーを固形分濃度が20重量%になるようにγブチロラクトンに溶解してポリマー溶液Bを得た。   The obtained polymer solution 2 was ground in water using a mixer, filtered and dried to isolate the polymer. The isolated polymer was dissolved in γ-butyrolactone so that the solid content concentration was 20% by weight to obtain a polymer solution B.

(参考例3)
攪拌機を備えた200ml4つ口フラスコ中に9,9ビス(4−アミノフェニル)フルオレン6.969g、N−メチル−2−ピロリドン80.64mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。10分から30分後にかけてテレフタル酸ジクロライド4.060gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウム1.426gで中和して透明なポリマー溶液3を得た。
(Reference Example 3)
In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, 6.969 g of 9,9 bis (4-aminophenyl) fluorene and 80.64 ml of N-methyl-2-pyrrolidone were placed and stirred under a nitrogen atmosphere under ice cooling. After 10 to 30 minutes, 4.060 g of terephthalic acid dichloride was added in 5 portions. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 1.426 g of lithium carbonate to obtain a transparent polymer solution 3.

得たポリマー溶液3をミキサーを用いて水中で粉砕し、濾取、乾燥してポリマーを単離した。単離したポリマーを固形分濃度が25重量%になるようにNN’ジメチルアセトアミドに溶解してポリマー溶液Cを得た。   The obtained polymer solution 3 was pulverized in water using a mixer, collected by filtration and dried to isolate the polymer. The isolated polymer was dissolved in NN ′ dimethylacetamide so that the solid content concentration was 25% by weight to obtain a polymer solution C.

(参考例4)
攪拌機を備えた200ml4つ口フラスコ中に9,9ビス(3−フルオロ−4−アミノフェニル)フルオレン7.6884g、N−メチル−2−ピロリドン37.6mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。10分から30分後にかけて2−クロロテレフタル酸ジクロライド4.7494gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウム1.4261gで中和して透明なポリマー溶液4を得た。
(Reference Example 4)
In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, 7.684 g of 9,9 bis (3-fluoro-4-aminophenyl) fluorene and 37.6 ml of N-methyl-2-pyrrolidone were placed and stirred under ice-cooling in a nitrogen atmosphere. . After 10 to 30 minutes, 4.7494 g of 2-chloroterephthalic acid dichloride was added in five portions. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 1.4261 g of lithium carbonate to obtain a transparent polymer solution 4.

得たポリマー溶液4をミキサーを用いて水中で粉砕し、濾取、乾燥してポリマーを単離した。単離したポリマーを固形分濃度が20重量%になるようにNN’ジメチルアセトアミドに溶解してポリマー溶液Dを得た。   The obtained polymer solution 4 was pulverized in water using a mixer, filtered and dried to isolate the polymer. The isolated polymer was dissolved in NN ′ dimethylacetamide so that the solid content concentration was 20% by weight to obtain a polymer solution D.

(実施例1)
ZONYL(R)UR(デュポン社製)0.1gをN−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した懸濁液をステンレス製のマイクロレンズ型(レンズの高さ15μm、周期50μm)に塗布、120℃で5分間乾燥した。乾燥度、N−メチル−2−ピロリドン、アセトンで洗浄し、余分なZONYL(R)URを除去した。参考例1で得たポリマー溶液Aを塗布厚600μmになるようにバーコーターで塗布、120℃で60分、280℃で3分乾燥し、膜厚110μmのマイクロレンズアレイを得た。得た成形体のレンズの高さは14.5μm、周期は50μm、残存揮発分は3重量%だった。
Example 1
A suspension of 0.1 g of ZONYL® UR (manufactured by DuPont) dissolved in 100 g of N-methyl-2-pyrrolidone was applied to a stainless microlens mold (lens height 15 μm, period 50 μm), 120 ° C. For 5 minutes. It was washed with dryness, N-methyl-2-pyrrolidone and acetone to remove excess ZONYL (R) UR. The polymer solution A obtained in Reference Example 1 was applied with a bar coater to a coating thickness of 600 μm and dried at 120 ° C. for 60 minutes and 280 ° C. for 3 minutes to obtain a microlens array having a thickness of 110 μm. The obtained molded article had a lens height of 14.5 μm, a period of 50 μm, and a residual volatile content of 3% by weight.

(実施例2)
使用するポリマー溶液をポリマーBにする以外は、実施例1と同一の条件で、膜厚105μmのマイクロレンズアレイを得た。得た成形体のレンズの高さは14.8μm、周期は50μm、残存揮発分は3重量%だった。
(Example 2)
A microlens array having a film thickness of 105 μm was obtained under the same conditions as in Example 1 except that the polymer solution used was polymer B. The obtained molded product had a lens height of 14.8 μm, a period of 50 μm, and a residual volatile content of 3% by weight.

(実施例3)
ZONYL(R)UR(デュポン社製)0.1gをN−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した懸濁液をステンレス製の平板(Ra=0.8nm、Rz=52nm)に塗布、120℃で5分間乾燥した。乾燥度、N−メチル−2−ピロリドン、アセトンで洗浄し、余分なZONYL(R)URを除去した。参考例3で得たポリマー溶液Aを塗布厚300μmになるようにバーコーターで塗布、120℃で10分、280℃で3分乾燥し、膜厚55μmの成形体を得た。得た成形体のRaは0.8nm、Rzは50nm、残存揮発分は6重量%だった。
(Example 3)
A suspension obtained by dissolving 0.1 g of ZONYL® UR (manufactured by DuPont) in 100 g of N-methyl-2-pyrrolidone was applied to a stainless steel plate (Ra = 0.8 nm, Rz = 52 nm) at 120 ° C. Dry for 5 minutes. It was washed with dryness, N-methyl-2-pyrrolidone and acetone to remove excess ZONYL (R) UR. The polymer solution A obtained in Reference Example 3 was coated with a bar coater so as to have a coating thickness of 300 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes and 280 ° C. for 3 minutes to obtain a molded body having a film thickness of 55 μm. The obtained molded product had an Ra of 0.8 nm, an Rz of 50 nm, and a residual volatile content of 6% by weight.

(実施例4)
使用するポリマー溶液をポリマーDにする以外は、実施例1と同一の条件で、膜厚53μmの成形体を得た。得た成形体のRaは0.9nm、Rzは53nm、残存揮発分は7重量%だった。
Example 4
A molded body having a film thickness of 53 μm was obtained under the same conditions as in Example 1 except that the polymer solution used was polymer D. The obtained molded product had an Ra of 0.9 nm, an Rz of 53 nm, and a residual volatile content of 7% by weight.

(実施例5)
ZONYL(R)UR(デュポン社製)0.1gをN−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した懸濁液をステンレス製のマイクロレンズ型(レンズの高さ15μm、周期50μm)に塗布、120℃で5分間乾燥した。乾燥度、N−メチル−2−ピロリドン、アセトンで洗浄し、余分なZONYL(R)URを除去した。
(Example 5)
A suspension of 0.1 g of ZONYL® UR (manufactured by DuPont) dissolved in 100 g of N-methyl-2-pyrrolidone was applied to a stainless microlens mold (lens height 15 μm, period 50 μm), 120 ° C. For 5 minutes. It was washed with dryness, N-methyl-2-pyrrolidone and acetone to remove excess ZONYL (R) UR.

メタクリル酸メチル単位61.5重量%、メタクリル酸単位0.5重量%、スチレン単位19重量%、グルタル酸無水物単位19重量%からなる共重合体を2−ブタノンに25重量%溶解し、を塗布厚200μmになるようにバーコーターで塗布、50℃で5分、80℃で10分、120℃で10分、170℃で10分乾燥し、膜厚50μmのマイクロレンズアレイを得た。得た成形体のレンズの高さは14.8μm、周期は51μm、残存揮発分は5重量%だった。   25% by weight of a copolymer consisting of 61.5% by weight of methyl methacrylate unit, 0.5% by weight of methacrylic acid unit, 19% by weight of styrene unit and 19% by weight of glutaric anhydride unit was dissolved in 2-butanone, It was coated with a bar coater to a coating thickness of 200 μm, dried at 50 ° C. for 5 minutes, 80 ° C. for 10 minutes, 120 ° C. for 10 minutes, and 170 ° C. for 10 minutes to obtain a microlens array with a film thickness of 50 μm. The obtained molded article had a lens height of 14.8 μm, a period of 51 μm, and a residual volatile content of 5% by weight.

(実施例6)
ZONYL(R)UR(デュポン社製)0.1gをN−メチル−2−ピロリドン100gに溶解した懸濁液をステンレス製のマイクロレンズ型(レンズの高さ15μm、周期50μm)に塗布、120℃で5分間乾燥した。乾燥度、N−メチル−2−ピロリドン、アセトンで洗浄し、余分なZONYL(R)URを除去した。
(Example 6)
A suspension of 0.1 g of ZONYL® UR (manufactured by DuPont) dissolved in 100 g of N-methyl-2-pyrrolidone was applied to a stainless microlens mold (lens height 15 μm, period 50 μm), 120 ° C. For 5 minutes. It was washed with dryness, N-methyl-2-pyrrolidone and acetone to remove excess ZONYL (R) UR.

メタクリル酸メチル単位72重量%、グルタル酸無水物単位28重量%からなる共重合体を2−ブタノンに25重量%溶解し、を塗布厚200μmになるようにバーコーターで塗布、50℃で5分、80℃で10分、120℃で10分、170℃で10分乾燥し、膜厚50μmのマイクロレンズアレイを得た。得た成形体のレンズの高さは15.0μm、周期は49μm、残存揮発分は5重量%だった。   A copolymer consisting of 72% by weight of methyl methacrylate unit and 28% by weight of glutaric anhydride unit was dissolved in 2-butanone by 25% by weight and coated with a bar coater to a coating thickness of 200 μm, at 50 ° C. for 5 minutes. And dried at 80 ° C. for 10 minutes, 120 ° C. for 10 minutes, and 170 ° C. for 10 minutes to obtain a microlens array having a film thickness of 50 μm. The obtained molded article had a lens height of 15.0 μm, a period of 49 μm, and a residual volatile content of 5% by weight.

(比較例1)
ZONYL(R)UR(デュポン社製)を塗布しない以外は、実施例1と同一の条件で参考例1で得たポリマー溶液Aをマイクロレンズアレイ型に塗布、乾燥した。成形体はマイクロレンズアレイ型に強固に付着し、剥離できなかった。
(Comparative Example 1)
The polymer solution A obtained in Reference Example 1 was applied to a microlens array mold and dried under the same conditions as in Example 1 except that ZONYL® UR (manufactured by DuPont) was not applied. The molded product adhered firmly to the microlens array mold and could not be peeled off.

(比較例2)
乾燥工程を120℃で45分、マイクロレンズアレイ型から剥離、120℃で15分、280℃で3分乾燥とする以外は、実施例1と同一の条件で参考例1で得たポリマー溶液Aをマイクロレンズアレイ型に塗布、乾燥した。得た成形体のレンズの高さは9.3μm、周期は47μmだった。剥離直後の成形体の残存揮発分は54重量%であった。
(Comparative Example 2)
The polymer solution A obtained in Reference Example 1 under the same conditions as in Example 1 except that the drying step was peeled off from the microlens array mold at 120 ° C for 45 minutes, dried at 120 ° C for 15 minutes, and 280 ° C for 3 minutes. Was applied to a microlens array mold and dried. The obtained molded body had a lens height of 9.3 μm and a period of 47 μm. The residual volatile content of the molded article immediately after peeling was 54% by weight.

Claims (13)

所定の表面形状が設けられた支持体の上に、高分子を含む溶液を塗布し、この溶液の揮発成分が10重量%以下になるまで支持体上で乾燥せしめた後、支持体上の表面形状が転写された成形体を剥離する高分子成形体の製造方法。 A solution containing a polymer is applied onto a support provided with a predetermined surface shape, dried on the support until the volatile component of the solution is 10% by weight or less, and then the surface on the support. A method for producing a polymer molded body in which a molded body having a transferred shape is peeled off. 支持体の表面形状の最大高さをRz1とし、成形体の表面形状の最大高さをRz2としたとき、Rz2がRz1の90%以上110%以下の値である、請求項1に記載の高分子成形体の製造方法。 The height according to claim 1, wherein Rz2 is 90% to 110% of Rz1, where Rz1 is the maximum height of the surface shape of the support and Rz2 is the maximum height of the surface shape of the molded body. A method for producing a molecular compact. 表面形状が所定の周期を有する形状である、請求項1または2に記載の高分子成形体の製造方法。 The manufacturing method of the polymer molded object of Claim 1 or 2 whose surface shape is a shape which has a predetermined period. 支持体の表面形状についての特定の方向における周期をL1とし、この特定の方向に対応する方向における成形体の表面形状の周期をL2としたとき、L2がL1の90%以上110%以下の値である、請求項3に記載の高分子成形体の製造方法。 When the period in a specific direction of the surface shape of the support is L1, and the period of the surface shape of the molded body in the direction corresponding to the specific direction is L2, L2 is a value of 90% to 110% of L1. The manufacturing method of the polymer molded object of Claim 3 which is these. 支持体の表面形状の算術平均高さをRa1とし、成形体の表面形状の算術平均高さをRa2としたとき、Ra2がRa1の90%以上110%以下の値である、請求項1〜4のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 Ra2 is a value of 90% to 110% of Ra1 when Ra1 is the arithmetic average height of the surface shape of the support and Ra2 is the arithmetic average height of the surface shape of the molded body. The manufacturing method of the polymer molded object in any one of. 乾燥を、温度の異なる2つ以上の工程で行う、請求項1〜5のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 The manufacturing method of the polymer molded object in any one of Claims 1-5 which performs drying by two or more processes from which temperature differs. 溶液に含まれる溶媒の沸点よりも高い温度で加熱した後に成形体を剥離する、請求項1〜6のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 The manufacturing method of the polymer molded object in any one of Claims 1-6 which peels, after heating at the temperature higher than the boiling point of the solvent contained in a solution. 乾燥を0.1MPa以下の減圧雰囲気下で行う、請求項1〜7のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 The method for producing a polymer molded body according to any one of claims 1 to 7, wherein drying is performed under a reduced pressure atmosphere of 0.1 MPa or less. 支持体の表面形状が設けられた側の面上および/または溶液中に剥離剤を含んでいる、請求項1〜8のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 The manufacturing method of the polymer molded object in any one of Claims 1-8 which contains the peeling agent on the surface of the side in which the surface shape of the support body was provided, and / or in the solution. 高分子として、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、アクリル、ポリエステル、フッ素樹脂およびポリエーテルスルホンからなる群から選ばれる少なくとも1種の高分子を用いる、請求項1〜9のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 The polymer is at least one polymer selected from the group consisting of polyimide, polyamide, polyetherketone, polyetheretherketone, polycarbonate, cyclic polyolefin, acrylic, polyester, fluororesin, and polyethersulfone. The manufacturing method of the polymer molded object in any one of -9. 高分子として、化学式(I)、(II)、(III)または(IV)で示される構造単位を含み、かつ、化学式(I)、(II)(III)および(IV)で示される構造単位のモル分率をそれぞれl、m、n、oとしたとき、次式(1)〜(3)を満足している、請求項1〜10のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。
50<l+m+n≦100 ・・・ (1)
0≦l、m、n、o≦100 ・・・ (2)
0≦o≦50 ・・・ (3)
Figure 2006137083
:少なくとも一つの5員環、6員環または7員環を有する基
:任意の芳香族基
X :水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
Figure 2006137083
:−CF、−CCl、−CBr、−OH、−F、−Cl、−OCH(ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。)
:任意の芳香族基
Figure 2006137083
:−SO−、−O−、−CH−、−C(CF−から選ばれる基、または−SO−、−O−、−CH−、−C(CF−から選ばれる基を1つ以上含む芳香族基
:任意の芳香族基
X :水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
Figure 2006137083
:任意の芳香族基
:任意の芳香族基
X :水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基高分子
As a polymer, a structural unit represented by chemical formula (I), (II), (III) or (IV) and represented by chemical formula (I), (II) (III) and (IV) The manufacturing method of the polymer molded object in any one of Claims 1-10 which satisfy | fills following Formula (1)-(3), when the molar fraction of each is l, m, n, and o .
50 <l + m + n ≦ 100 (1)
0 ≦ l, m, n, o ≦ 100 (2)
0 ≦ o ≦ 50 (3)
Figure 2006137083
R 1 : a group having at least one 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring R 2 : any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms
Figure 2006137083
R 3 : —CF 3 , —CCl 3 , —CBr 3 , —OH, —F, —Cl, —OCH 3 (however, structural units having these groups may be mixed in the molecule)
R 4 : any aromatic group
Figure 2006137083
R 5: -SO 2 -, - O -, - CH 2 -, - C (CF 3) 2 - group selected from or -SO 2, -, - O - , - CH 2 -, - C (CF 3 ) Aromatic group containing one or more groups selected from 2 − R 6 : Arbitrary aromatic group X: Hydrogen, halogen or hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms
Figure 2006137083
R 7 : Arbitrary aromatic group R 8 : Arbitrary aromatic group X: Hydrogen, halogen or hydrocarbon group polymer having 1 to 3 carbon atoms
高分子の、450nmから700nmまでの全ての波長の光の光線透過率が80%以上である、請求項1〜11のいずれかに記載の高分子成形体の製造方法。 The manufacturing method of the polymer molded object in any one of Claims 1-11 whose light transmittance of the light of all the wavelengths from 450 nm to 700 nm of a polymer is 80% or more. 請求項1〜12のいずれかに記載の製造方法により製造された光学用成形体。 The optical molded object manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-12.
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