JP2006134999A - Immersion-type exposure device and method for cleaning holding base in immersion-type exposure device - Google Patents

Immersion-type exposure device and method for cleaning holding base in immersion-type exposure device Download PDF

Info

Publication number
JP2006134999A
JP2006134999A JP2004320428A JP2004320428A JP2006134999A JP 2006134999 A JP2006134999 A JP 2006134999A JP 2004320428 A JP2004320428 A JP 2004320428A JP 2004320428 A JP2004320428 A JP 2004320428A JP 2006134999 A JP2006134999 A JP 2006134999A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
groove
object
exposure
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004320428A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Komoritani
Hideo Shimizu
秀夫 清水
浩司 籠谷
Original Assignee
Sony Corp
ソニー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp, ソニー株式会社 filed Critical Sony Corp
Priority to JP2004320428A priority Critical patent/JP2006134999A/en
Publication of JP2006134999A publication Critical patent/JP2006134999A/en
Application status is Pending legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an immersion-type exposure device capable of inhibiting the adhesion, deposition or the like of foreign matters in a groove formed on a holding base.
SOLUTION: The immersion-type exposure device has (A) a lens opposed to an object to be exposed, (B) a shower head 10 for filling a section between the lens, on which a liquid-supply line 12 and a liquid-discharge line 13 are mounted, and the object to be exposed with a liquid, and (C) the holding base 21 for holding the object to be exposed. The immersion-type exposure device further has (D) the groove 26 formed on the holding base so as to correspond to the periphery of the object to be exposed, (E) a liquid discharge opening 27 formed to the groove 26, and (F) a cleaning-liquid supply means 28 for supplying the groove 26 with a washing liquid. The supplied washing liquid is discharged from the liquid-discharge opening 27.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液浸型露光装置、及び、液浸型露光装置における保持台の洗浄方法に関する。 The present invention is a liquid immersion type exposure apparatus, and a holder method of cleaning the liquid immersion type exposure apparatus.

近年の半導体装置の微細化に伴い、リソグラフィ加工の解像度向上が求められている。 Recent miniaturization of semiconductor devices, increased resolution lithography processing is required. 露光装置を用いたリソグラフィ加工に関しては、解像度向上のために二通りの方法が知られている。 For the lithography process using the exposure apparatus, two ways to improve resolution is known. 第1の方法は露光に用いる光を短波長化する方法であり、第2の方法は開口数の増大を図る方法である。 The first method is a method of shortening the wavelength of the light used for exposure, the second method is a method to achieve an increase in numerical aperture. しかし、第1の方法は、露光装置に用いられる光学材料(例えば、レンズの硝材等)の選択に影響を与える。 However, the first method, influence the choice of optical materials used for the exposure apparatus (e.g., a glass material such as a lens). 一般に、光学材料の光吸収特性は、波長依存性を有する。 In general, the light absorption properties of the optical material has a wavelength dependency. 従って、短波長化の程度によっては、光学材料の選択の幅が狭まる。 Therefore, depending on the degree of shorter wavelength, the range of selection of the optical material is narrowed. また、第2の方法は、単に機械的に光学系を拡大することで実施できるが、必然的に露光装置の光学系の大型化を免れない。 In the second method, only it can be carried by a larger mechanical optics, inevitably in the size of the optical system inevitably exposure apparatus. このため、光学系を大型化することなく開口数の増大を図る方法として、レンズと露光対象物との間を液体で満たす液浸露光技術が提案されている。 Therefore, as a method to achieve an increase in the numerical aperture without increasing the size of the optical system, a liquid immersion exposure technique that satisfies between the lens and the object of exposure in a liquid have been proposed.

液浸露光技術は、レンズと露光対象物との間を液体で満たして露光対象物を露光することにより、解像度をその液体の屈折率倍に高める技術である。 Immersion exposure technique, by exposing the object to be exposed is filled with a liquid between the lens and the object of exposure is a technique for increasing the resolution of the refractive index times the liquid. レンズと露光対象物との間を液体で満たすことで解像度が高まる原理を、以下、簡単に説明する。 Between the lens and the object of exposure the principle of increasing the resolution by filling with a liquid, it will be briefly described. 解像度は、所謂開口数(numerical aperture:NA)が大きくなると高くなる。 Resolution, so-called numerical aperture (numerical aperture: NA) increases as the increase. 開口数は、光学系や光学素子に入射、又は、射出する光線束の最大垂角(物点、又は、焦点から入射瞳径、又は、射出瞳径に対して張る角度)の半角の正弦で表される。 Numerical aperture, incident on the optical system and an optical element, or, the maximum vertical angle of light flux emitted (object point, or the entrance pupil diameter of the focal point, or the angle spanned with respect to the exit pupil diameter) at half-width of the sine of expressed. 露光対象物上の一点に結像する光線束の広がりを±θとしたとき、開口数NAは、以下の式(1)で表される。 When the spread of light beams imaged was ± theta to a point on the object of exposure, the numerical aperture NA is expressed by the following equation (1). ここで、nは露光対象物側の媒質の屈折率であり、通常の露光の場合、露光対象物は空気中に置かれるので、n=1となる。 Herein, n is the refractive index of the object to be exposed side of the medium, in the case of normal exposure, because the exposure object is placed in the air, and n = 1. 従って、空気中の露光では、開口数NAは、以下の式(2)で表される。 Accordingly, with the exposure in the air, the numerical aperture NA is expressed by the following equation (2). 一方、液浸露光用の液体の一例として水を用いた場合、水の屈折率は、n=1.436である。 On the other hand, when water is used as an example of a liquid immersion, the refractive index of water is n = 1.436. 従って、水の中での露光では、開口数NAは、以下の式(3)で表され、空気中における露光に比べて開口数NAが大きくなる。 Accordingly, in exposure in water, the numerical aperture NA is expressed by the following equation (3), the numerical aperture NA is larger than the exposure in air.

NA=n×sin(θ) (1) NA = n × sin (θ) (1)
NA=sin(θ) (2) NA = sin (θ) (2)
NA=1.436×sin(θ) (3) NA = 1.436 × sin (θ) (3)

液浸露光技術は、光源の短波長化や光学系の大型化を伴なうことなく解像度を高めることができるので、大きな注目を集めている。 Immersion exposure technique, it is possible to increase the resolution without accompanied an increase in the size of the shorter wavelength and an optical system of the light source, it has attracted much attention. 露光対象物全体を液体に浸して露光する方法も提案されている(例えば、特開平10−303114号公報参照)。 And the entire object to be exposed is also proposed a method of exposing immersed in liquid (e.g., see Japanese Patent Laid-Open No. 10-303114).

また、給液ラインと排液ラインとが設けられたシャワーヘッドを用いて、シャワーヘッドの内側のみを液体で満たしながら露光する露光装置も提案されている。 Further, by using the liquid supply line and discharge line and the shower head provided have only the inner of the shower head is also proposed an exposure apparatus which exposes while filled with liquid. 図5に示すこの液浸型露光装置190は、シャワーヘッド110、保持台部120、マスク部140、照明部150、制御部160、XYステージ部170、及び、縮小投影光学部180を備える。 The immersion exposure apparatus 190 shown in FIG. 5 includes a shower head 110, holder 120, mask portion 140, an illumination unit 150, the control unit 160, XY stage unit 170, and, the reduction projection optical unit 180.

露光対象物として、感光性膜が設けられた基板130が示されている。 As an exposure object, the photosensitive film is shown a substrate 130 provided. 基板130は、一般にウエハと称される円板状の半導体基板131、及び、その上に設けられた感光性膜132から成る。 Substrate 130 is generally a wafer called disk-shaped semiconductor substrate 131, and consists of a photosensitive film 132 provided thereon. 半導体基板131の上に下地層が設けられ、その下地層の上に感光性膜132が設けられる場合もある。 Underlayer is provided on the semiconductor substrate 131, there is a case where the photosensitive film 132 is provided over the underlayer. 感光性膜132の材料としては、通常、架橋型、光重合型、相変化型等のフォトレジスト材料を挙げることができる。 As the material of the photosensitive film 132, typically, cross-linked, photopolymerization type, or photoresist material of the phase change type. 液浸型露光装置190は、露光対象物である基板130を保持台部120で保持し、半導体基板131の上に設けられた感光性膜132を露光する。 Immersion exposure apparatus 190 holds the substrate 130 is exposed object with holding stand portion 120, exposing the photosensitive film 132 provided on the semiconductor substrate 131.

照明部150は、光源151、コンデンサーレンズ152、及び、ミラー153を備える。 Lighting unit 150 includes a light source 151, condenser lens 152, and the mirror 153. 光源151は、例えば、波長193nmのArFエキシマレーザ光源(図示せず)、及び、絞り(図示せず)を有する。 Light source 151 has, for example, ArF excimer laser light source with a wavelength of 193 nm (not shown), and the aperture (not shown). レーザ光源から発生するパルス状の照明光は、その照度が均一化され、絞りにより照明光の形状が略矩形に整形される。 Pulsed illumination light generated from the laser light source, the illuminance is made uniform, the shape of the illumination light is shaped into a substantially rectangular through aperture. 整形された照明光は、コンデンサーレンズ152により収束され、ミラー153により反射され、マスク部140に入射する。 Illumination light the shaped is converged by the condenser lens 152, is reflected by the mirror 153 is incident on the mask portion 140.

マスク部140は、レチクル141、レチクルステージ142、レチクルステージ駆動手段143、及び、レチクル位置情報検出手段144を備える。 Mask portion 140 includes a reticle 141, a reticle stage 142, a reticle stage driving means 143, and, a reticle position information detection unit 144. レチクル141には、露光用のマスクパターンが設けられている。 The reticle 141, the mask pattern for exposure is provided. レチクル141は、レチクルステージ142の上に、例えば、真空吸着により固定される。 The reticle 141 onto the reticle stage 142, for example, is fixed by vacuum suction. レチクルステージ142は、モータ等から構成されるレチクルステージ駆動手段143により、図5のY軸方向に移動可能である。 The reticle stage 142, a reticle stage drive unit 143 composed of a motor or the like is movable in the Y-axis direction in FIG. レチクルステージ駆動手段143は、制御部160における制御器161の指令に応じて動作する。 A reticle stage drive unit 143 operates according to the command of the controller 161 in the control unit 160. レチクル141の位置情報は、レーザ干渉計等から成るレチクル位置情報検出手段144により測定され、レチクル141のY方向の位置情報は、制御器161に送られる。 Position information of the reticle 141 is measured by a reticle position information detection unit 144 composed of a laser interferometer and the like, the position information in the Y direction of the reticle 141 is sent to the controller 161.

縮小投影光学部180は、鏡筒、複数のレンズ等により構成され、露光対象物に対向するレンズを備える。 Reduction projection optical unit 180 is constituted by a lens barrel, a plurality of lenses such as, comprises a lens facing the object of exposure. レンズの硝材として、主に石英が用いられるが、色収差を低減するために一部に蛍石も用いられる。 As the glass material of the lens, but mainly quartz is used, fluorite be used partially to reduce the chromatic aberration.

シャワーヘッド110は、縮小投影光学部180の端部に取り付けられる。 Shower head 110 is attached to the end of the reduction projection optical unit 180. シャワーヘッド110は、筒111、給液ライン112、及び、排液ライン113を備える。 Shower head 110, the cylinder 111, the liquid supply line 112, and includes a drain line 113. 液浸露光用の液体、例えば、水が、給液ライン112を介して筒111の内側に給液され、排液ライン113を介して筒111の外側に排液される。 An immersion liquid, e.g., water, is the liquid supply to the inside of the tube 111 through the liquid supply line 112 is drained to the outside of the cylinder 111 through a discharge line 113. 露光の際には、液浸露光用の液体は、所定の流速で給液ライン112を介して筒111の内側に給液され、排液ライン113を介して排液される。 During exposure, the immersion liquid via the liquid supply line 112 at a predetermined flow rate is the liquid supply to the inside of the cylinder 111 is drained through the drain line 113. 給液の流速、排液の流速等を調整することにより、基板130上に液体を残すことなく露光することができる。 The flow rate of liquid feed, by adjusting the flow velocity of the effluent can be exposed without leaving liquid on the substrate 130.

保持台部120は、保持台121、露光対象物を吸着する吸着手段122、及び、液体を排出する排出手段123を備える。 Holding stand 120, suction means 122 for adsorbing the holding table 121, an exposure object, and comprises a discharge means 123 for discharging the liquid. 保持台121は、XYステージ部170により、図5のX軸方向、及び、Y軸方向に移動可能である。 Holder 121, the XY stage unit 170, X-axis direction in FIG. 5, and is movable in the Y-axis direction. 保持台121は、露光対象物を保持する吸着面124、吸着面124に連通する配管125、露光対象物である基板130の周縁部に対応するように設けられた溝126、及び、溝126に設けられた液体排出口127を備える。 Holder 121, suction surface 124 that holds the object of exposure, the suction surface 124 piping 125 communicated with the exposure object a groove 126 is provided so as to correspond to the periphery of the substrate 130 is, and, the groove 126 It comprises a liquid discharge port 127 provided. 保持台121の上面のうち、基板130を保持する部分は、他の部分に比べて凹み、基板130を保持した状態で略同一平面となる。 Of the upper surface of the holding table 121, the portion for holding the substrate 130 is recessed as compared with other portions, become substantially flush while holding the substrate 130. ポンプ等から構成される吸着手段122は配管125に接続されており、吸着手段122が動作すると、基板130は吸着面124上に保持される。 Suction means 122 composed of a pump or the like is connected to the pipe 125, the suction means 122 operates, the substrate 130 is held on the suction surface 124. なお、基板130を静電的な吸着手段で保持することもできる。 It is also possible to hold the substrate 130 by an electrostatic adsorption means.

露光工程では、露光対象物である基板130を次々に交換する必要がある。 In the exposure step, it is necessary to replace one after the substrate 130 is an exposure object. 従って、保持台121上の凹んだ領域は、基板130よりも若干広い。 Therefore, the area recessed on the holding table 121 is slightly wider than the substrate 130. このため、基板130の周囲には、若干の間隙が生じざるを得ない。 Therefore, the periphery of the substrate 130, slight gap inevitably occurs. 図7の(A)乃至(C)を参照して詳しく説明するが、液浸露光用の液体がこの間隙に流れ込むことを避けることは難しい。 Referring be described in more detail with the (A) through (C) in FIG. 7, the immersion liquid can be difficult to avoid flow in the gap. このため、基板130の周縁部に対応するように、溝126が設けられている。 Therefore, so as to correspond to the periphery of the substrate 130, grooves 126 are provided. 基板130の周縁部から溝126に流れ込んだ液体は、液体排出口127に繋がれたポンプ等から構成される排出手段123により、排出される。 Liquid flowing into the groove 126 from the periphery of the substrate 130, the discharge means 123 composed of a pump which is connected to the liquid discharge port 127 is discharged.

XYステージ部170は、XYステージ171、XYステージ駆動手段172、露光対象物位置情報検出手段173、及び、定盤174を備える。 XY stage unit 170, an XY stage 171, the XY stage drive unit 172, an exposure target position information detection means 173 and, provided the surface plate 174. XYステージ171は、モータ等から構成されるXYステージ駆動手段172により、図5のX軸方向、及び、Y軸方向に定盤174の上を移動可能である。 XY stage 171, the XY stage drive unit 172 composed of a motor or the like, X-axis direction in FIG. 5, and is movable over the surface plate 174 in the Y-axis direction. XYステージ駆動手段172は、制御部160における制御器161の指令に応じて動作する。 XY stage drive unit 172 operates according to the command of the controller 161 in the control unit 160. 露光対象物である基板130の位置情報は、レーザ干渉計等の露光対象物位置情報検出手段173により測定され、測定されたX方向及びY方向の位置情報は、制御部160の制御器161に送られる。 Position information of the substrate 130 is exposed object is measured by the exposure object position information detecting unit 173 of the laser interferometer and the like, the position information of the measured X and Y directions, the controller 161 of the control unit 160 Sent.

液浸型露光装置190では、固定された縮小投影光学部180に対して、感光性膜が設けられた基板130が移動する。 In the liquid immersion type exposure apparatus 190, relative to a fixed reduction projection optical unit 180, the photosensitive film is the substrate 130 provided to move. 基板130の感光性膜132上におけるレチクル141上のマスクパターンの結像状態は、感光性膜132のZ軸方向の位置に依存する。 Imaging state of the mask pattern on the reticle 141 on the photosensitive film 132 of the substrate 130 depends on the Z-axis direction position of the photosensitive film 132. このため、保持台121は、圧電素子等の微動可能な駆動手段(図示せず)により、Z軸方向にも移動可能である。 Therefore, holder 121, the finely movable driving means such as a piezoelectric element (not shown) is also movable in the Z axis direction. 感光性膜132上面の位置情報は、レーザ干渉計等の測定手段(図示せず)により測定され、位置情報が制御部160の制御器161に送られる。 Position information of the photosensitive film 132 upper surface is measured by the measuring means of the laser interferometer and the like (not shown), the position information is sent to the controller 161 of the control unit 160. 制御器161は、常に感光性膜132上で良好な結像状態が得られるように、上述した微動可能な駆動手段を制御する。 Controller 161, so as to always better imaging state is obtained on the photosensitive film 132, to control the finely movable drive means described above.

液浸型露光装置190は、露光の際にレチクルステージ142及びXYステージ171をY軸方向に移動させ、感光性膜132を走査露光する。 Immersion exposure apparatus 190, a reticle stage 142 and the XY stage 171 is moved in the Y-axis direction during the exposure, scanning exposure of the photosensitive film 132. なお、露光の際にレチクルステージ142とXYステージ171を相対的に静止状態にして露光することもできる。 It is also possible to the time of exposure to the exposure by the reticle stage 142 and the XY stage 171 in a relatively quiescent state. この場合、液浸型露光装置190は、単なるステップ・アンド・リピート方式の露光装置として動作する。 In this case, the liquid immersion type exposure apparatus 190 operates as an exposure apparatus simply step-and-repeat method.

図6を参照して、走査露光の動作を説明する。 Referring to FIG. 6, the operation of the scanning exposure. 縮小投影光学部180を、前段レンズ181と後段レンズ182で代表的に表す。 The reduction projection optical unit 180, typically represented by front lens 181 and the rear lens 182. 後段レンズ182は、露光対象物である基板130に対向する。 Subsequent lens 182 faces the substrate 130 is exposed object. レチクル141には、露光用のマスクパターン145が設けられている。 The reticle 141, the mask pattern 145 is provided for the exposure. 照明部150からレチクル141に入射する照明光の略矩形の領域154は、マスクパターン145の一部の領域を照射する。 Substantially rectangular area 154 of the illumination light incident from the illumination unit 150 to the reticle 141 irradiates a portion of a region of the mask pattern 145. マスクパターン145を透過した光は、前段レンズ181、後段レンズ182、及び、シャワーヘッド110の筒111内側の液体で満たされた空間114を透過し、感光性膜132上に結像する。 The light transmitted through the mask pattern 145, front lens 181, subsequent lenses 182 and passes through the space 114 filled with the cylinder 111 inside the liquid of the shower head 110 to form an image on the photosensitive film 132. この結像した照明光の領域155が、感光性膜132を露光する。 Regions 155 of the imaged illumination light to expose the photosensitive film 132. 従って、例えばレチクル141を図6のY軸正方向に等速度V 1で移動させつつ、露光対象物である基板130をY軸負方向に等速度V 2で移動させることにより、マスクパターン145全体に対応する感光性膜132のショット領域133が走査露光される。 Thus, for example, while the reticle 141 is moved at a constant speed V 1 in the Y-axis positive direction in FIG. 6, the substrate 130 is exposed object by moving at a constant speed V 2 in the Y axis negative direction, the entire mask pattern 145 shot area 133 of the photosensitive film 132 corresponding is scanned and exposed to. ショット領域133の露光が完了した後、隣のショット領域134の露光開始位置になるように、基板130を移動をさせる。 After exposure of the shot area 133 has been completed, so that the exposure start position of the next shot area 134, causes the movement of the substrate 130. この移動の間は、照明部150からの照明光の照射は中止される。 During this movement, the irradiation of the illumination light from the illumination unit 150 is stopped. 感光性膜132の端部の露光が終了すると、基板130をX軸方向に所定量移動させた後、上記の動作を繰り返し、走査露光する。 When the exposure of the end portion of the photosensitive film 132 is completed, after the substrate 130 by a predetermined amount of movement in the X-axis direction, repeating the above operation, scanning exposure. このようにして半導体基板131に設けられた感光性膜132全面が露光される。 Thus photosensitive film 132 provided on the semiconductor substrate 131 over the entire surface is exposed.

シャワーヘッド110は、後段レンズ182を覆うように設けられる。 Shower head 110 is provided so as to cover the rear stage lens 182. 従って、感光性膜132の端部のショット領域133を露光する場合には、液体で満たされた空間114は、基板130の外側に及ぶ。 Therefore, when exposing the end of the shot area 133 of the photosensitive film 132, the space 114 filled with liquid, it extends to the outside of the substrate 130.

図7の(A)乃至(C)を参照して、このときのシャワーヘッド110、基板130、及び、保持台121の関係を説明する。 Referring to (A) to (C) in FIG. 7, the showerhead 110 at this time, the substrate 130, and describes the relationship between the holding table 121. 図7の(A)に示すように、シャワーヘッド110の筒111は、保持台121に設けられた溝126の上方に位置する。 As shown in (A) of FIG. 7, the cylinder 111 of the showerhead 110 is located above the groove 126 provided in the holder 121. 図7の(B)に示すように、筒111の内側には液浸露光用の液体が満たされている。 As shown in FIG. 7 (B), the inside of the tube 111 is filled with immersion liquid. 従って、この液体は保持台121の溝126に流れ込む。 Therefore, the liquid flows into the groove 126 of the holder 121. 図7の(C)に示すように、筒111の内側は、給液ライン112、及び、排液ライン113に連通している。 As shown in FIG. 7 (C), the inside of the tube 111, liquid supply line 112, and communicates with a drain line 113. 給液ライン112を介して筒111の内側に流れ込んだ液体の大部分は、排液ライン113から流れ出すが、一部の液体は溝126に流れ込む。 Most of the liquid which flows through the liquid supply line 112 to the inside of the tube 111 is flowing from the drain line 113, a portion of the liquid flows into the groove 126. 半導体基板131上の感光性膜132はその全体が露光されるため、シャワーヘッド110の筒111の下方に位置した溝126には、その全体に液浸露光用の液体が流れ込むことになる。 Since the photosensitive film 132 is in its entirety on the semiconductor substrate 131 is exposed, a groove 126 located below the cylinder 111 of the shower head 110, so that the flow into the immersion liquid in its entirety.

図8の(A)乃至(C)を参照して、基板130に設けられた感光性膜132の全体を露光するときの、溝126への液体の流れ込みを模式的に説明する。 Referring to (A) to (C) in FIG. 8, to be used during the exposure of the entire photosensitive layer 132 provided on the substrate 130, for explaining the flow of liquid into the groove 126 schematically. 感光性膜132全面を露光する場合、図8の(A)に示すように、基板130の一端側の上方にシャワーヘッド110の筒111が位置する状態と、図8の(B)に示すように、基板130の他端側の上方にシャワーヘッド110の筒111が位置する状態を生ずる。 When exposing the photosensitive film 132 entirely, as shown in (A) in FIG. 8, a state where the cylinder 111 of the showerhead 110 above one side of the substrate 130 is positioned, as shown in FIG. 8 (B) to, produce a state in which the cylinder 111 of the shower head 110 above the other end side of the substrate 130 is located. 従って、いずれの場合にも、液体が溝126に流れ込む。 Thus, in either case, the liquid flows into the groove 126. 流れ込んだ液体は、液体排出口127に繋がれた排出手段123により排出される。 Flowed liquid is discharged by the discharging means 123 which is connected to the liquid discharge port 127. しかし、図8の(B)あるいは(C)に示すように、排出されない液体115が溝26に残ることがある。 However, as shown in (B) or (C) in FIG. 8, the liquid 115 is not discharged would remain in the groove 26.
特開平10−303114号公報 JP 10-303114 discloses

上述の液浸型露光装置190では、露光の際には、液浸露光用の液体が、筒111に連続して流される。 In the above-mentioned immersion exposure apparatus 190, during the exposure, the immersion liquid is flowed continuously into a tubular 111. しかし、液浸露光用の液体は半導体基板131上に設けられた感光性膜132と接している。 However, the immersion liquid is in contact with the photosensitive layer 132 provided on the semiconductor substrate 131. このため、感光性膜132に含まれる可溶性の物質が、筒111に満たされた液浸露光用の液体に溶出する場合がある。 Therefore, substances soluble contained in the photosensitive film 132, sometimes eluted into the liquid for immersion exposure filled into a tubular 111. また、感光性膜132の表面に付着していたダスト等が、液浸露光用の液体で流される場合もある。 Also, dust or the like adhering to the surface of the photosensitive film 132, sometimes flowed at immersion liquid. 従って、保持台121の溝126に流れ込む液体には、感光性膜132に含まれていた可溶性の物質や、ダスト等が含まれることがある。 Therefore, the liquid flowing into the groove 126 of the holding table 121, materials or soluble contained in the photosensitive film 132, may be included dust. 図8の(B)あるいは(C)に示すように、排出されずに溝126に残った液体115も、これらを含むことになる。 As shown in (B) or (C) in FIG. 8, the remaining liquid 115 in the groove 126 without being discharged, it will include them. また、露光対象物の露光が完了した後、新たな露光対象物に交換して次の露光を行うまでに長時間が経過する場合等には、溝126に残った液体115の蒸発が進み、溝126に可溶性の物質、ダスト等が堆積する。 Further, after the exposure of the exposure object is complete, replace with a new exposure object in a case like that elapses long time until the next exposure, the process proceeds evaporation of the liquid 115 remaining in the grooves 126, soluble substances, such as dust is deposited in the groove 126. このような場合、保持台121が動いた際に、堆積物が剥がれて新たなダストとなり、露光の歩留まりを低下させる原因となる虞れがある。 In such a case, when the holder 121 moves, the deposit becomes a new dust come off, there is a possibility that causes a decrease in yield of the exposure.

また、一般に液体の屈折率は、可溶性の物質を熔解させると大きくなる。 In general the refractive index of the liquid is larger when the solubility of substance is melted. このため、意図的に液体に可溶性の物質を熔解させて、これを液浸露光用の液体として用いることも可能である。 Therefore, intentionally melted the soluble substance in a liquid, can also be used as a liquid for immersion exposure. 例えば、水に対して各種の塩を熔解させて、液浸露光用の液体として用いることもできる。 For example, by melting the various salts in water, it can be used as the liquid for immersion exposure. この場合は、液体の蒸発による可溶性の物質の析出は顕著なものとなる。 In this case, deposition of soluble materials by evaporation of the liquid becomes noticeable.

従って、本発明の目的は、保持台に設けられた溝に異物が付着、堆積等することを抑制し得る液浸型露光装置、及び、液浸型露光装置における保持台の洗浄方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention, foreign matters in the groove provided in the holder is attached, immersion exposure apparatus capable of suppressing the deposition of such, and provides a holder method of cleaning in an immersion type exposure apparatus It lies in the fact.

上記の目的を達成するための本発明の液浸型露光装置は、 The immersion exposure apparatus of the present invention for achieving the above object,
(A)露光対象物に対向するレンズ、 (A) a lens facing the object of exposure,
(B)給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、 (B) the liquid supply line and drainage and the line is provided, the shower head for filling the space between the lens and the object of exposure in a liquid,
(C)露光対象物を保持するための保持台、 (C) holder for holding the object of exposure,
(D)露光対象物の周縁部に対応するように保持台に設けられた溝、及び、 (D) a groove provided in the holder so as to correspond to the periphery of the object to be exposed and,
(E)溝に設けられた液体排出口、 (E) a liquid discharge port provided in the groove,
を有する液浸型露光装置であって、 A liquid immersion type exposure apparatus having,
(F)溝に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を有し、 (F) has a cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid into the groove,
供給された洗浄液を液体排出口から排出することを特徴とする。 The supplied cleaning liquid, characterized in that discharged from the liquid discharge port.

また、本発明の第1の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法は、 Further, the method of cleaning holder in immersion type exposure apparatus according to a first aspect of the present invention,
(A)露光対象物に対向するレンズ、 (A) a lens facing the object of exposure,
(B)給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、 (B) the liquid supply line and drainage and the line is provided, the shower head for filling the space between the lens and the object of exposure in a liquid,
(C)露光対象物を保持するための保持台、 (C) holder for holding the object of exposure,
(D)露光対象物の周縁部に対応するように保持台に設けられた溝、及び、 (D) a groove provided in the holder so as to correspond to the periphery of the object to be exposed and,
(E)溝に設けられた液体排出口、 (E) a liquid discharge port provided in the groove,
を有し、更に、 Have, further,
(F)溝に洗浄液を供給する洗浄液供給手段、 (F) washing liquid supplying means for supplying a cleaning liquid into the groove,
を有する液浸型露光装置における保持台の洗浄方法であって、 A holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus having,
洗浄液供給手段により溝に洗浄液を供給し、液体排出口から排出することを特徴とする。 The cleaning liquid is supplied to the groove by the cleaning liquid supply means and be discharged from the liquid discharge port.

本発明の液浸型露光装置、あるいは、本発明の第1の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法において、洗浄液供給手段は、保持台に設けられた溝に洗浄液を供給できるものであればよい。 Immersion exposure apparatus of the present invention, or in the holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to a first aspect of the present invention, the cleaning liquid supply means may supply the cleaning liquid to the groove provided on the holder it may be one. 洗浄液供給手段の数、配置すべき位置は任意であり、1つ設けられていてもよいし、複数設けられていてもよい。 The number of the cleaning liquid supply means, the position to be arranged is arbitrary, may be provided one, or may be provided in plurality. 洗浄液供給手段は、保持台と別に設けられていても構わないが、保持台と一体化して設けられることが好ましく、溝に設けられた洗浄液供給口から成る構成とすることがより好ましい。 Cleaning liquid supply means is a holder may be provided separately, it is preferable to be provided integrally with the holding table, it is more preferable to adopt a configuration consisting of the cleaning liquid supply port provided in the groove. また、洗浄液供給口の数、溝に設ける位置は任意であり、溝に1つ設けられていてもよいし、複数設けられていてもよい。 The number of the cleaning liquid supply port, position where the groove is optional, may be provided one for the groove may be provided in plurality.

上記の目的を達成するための本発明の第2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法は、 The method of cleaning holder in immersion type exposure apparatus according to a second aspect of the present invention for achieving the above object,
(A)露光対象物に対向するレンズ、 (A) a lens facing the object of exposure,
(B)給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、 (B) the liquid supply line and drainage and the line is provided, the shower head for filling the space between the lens and the object of exposure in a liquid,
(C)露光対象物を保持するための保持台、 (C) holder for holding the object of exposure,
(D)露光対象物の周縁部に対応するように保持台に設けられた溝、及び、 (D) a groove provided in the holder so as to correspond to the periphery of the object to be exposed and,
(E)溝に設けられた液体排出口、 (E) a liquid discharge port provided in the groove,
を有する液浸型露光装置における保持台の洗浄方法であって、 A holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus having,
(a)ダミーウエハを保持台に保持した後、 (A) After holding the holder the dummy wafer,
(b)シャワーヘッドを溝の上方に位置させ、 (B) the shower head is located above the groove,
(c)洗浄液を給液ラインからシャワーヘッドに流すことにより、溝に洗浄液を供給し、液体排出口から排出する、 By flowing (c) washing liquid from the liquid supply line to the shower head, the cleaning liquid is supplied to the groove, it is discharged from the liquid discharge port,
ことを特徴とする。 It is characterized in.

本発明の第2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法において、ダミーウエハとは、その表面から可溶性の物質が洗浄液に溶出しないものであればよい。 In holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to a second aspect of the present invention, a dummy wafer, a soluble substance may be any as long as it does not elute into the washing liquid from the surface. ダミーウエハとして、例えば、ステンレス、アルミニウム等の金属から成る板、感光性膜が設けられていない半導体基板等を例示することができる。 As a dummy wafer, for example, stainless steel, a plate made of metal such as aluminum, can be a semiconductor substrate such as a photosensitive film is not provided.

本発明の第2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法において、シャワーヘッドを溝の上方に位置させつつ、洗浄液を給液ラインからシャワーヘッドに流すことにより、溝に洗浄液を供給し液体排出口から排出してもよい。 In holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to a second aspect of the present invention, while the shower head is located above the groove, by flowing a cleaning liquid from the liquid supply line to the shower head, the cleaning liquid in the groove supplied may be discharged from the liquid discharge port. また、シャワーヘッドを溝の上方に位置させた後に、洗浄液を給液ラインからシャワーヘッドに流すことにより、溝に洗浄液を供給し液体排出口から排出してもよい。 Further, after the shower head is located above the groove, by flowing a cleaning liquid from the liquid supply line to the shower head may discharge the cleaning liquid from the supply to the liquid outlet into the groove.

本発明の液浸型露光装置、あるいは、本発明の第1の態様若しくは第2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法(以下、これらを総称して、単に、本発明と呼ぶ場合がある)において、露光対象物とは、感光性膜が設けられた基板を指す。 Immersion exposure apparatus of the present invention, or holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to the first or second aspect of the present invention (hereinafter collectively referred to simply as the present invention in case there is) called, the object of exposure, refers to a substrate on which the photosensitive film is provided. 感光性膜の材料としては、架橋型、光重合型、相変化型等のフォトレジスト材料を例示することができる。 As the material of the photosensitive film, cross-linked, photopolymerizable, it can be exemplified a photoresist material of a phase change type or the like. 感光性膜が基板上に直接設けられてもよいし、基板上に下地層が設けられ、その下地層の上に感光性膜が設けられてもよい。 It photosensitive film may be provided directly on the substrate, the base layer is provided on the substrate, it may be photosensitive film is provided on the underlying layer. 下地層の材質は、絶縁体、半導体、及び、導電体の何れでもよく、酸化シリコン系材料、酸化アルミニウム、アモルファスシリコン、ポリシリコン、アルミニウム、銅、金、プラチナ等を例示することができる。 The material of the base layer, an insulator, a semiconductor, and may be either a conductor, can be exemplified a silicon oxide materials, aluminum oxide, amorphous silicon, polysilicon, aluminum, copper, gold, platinum and the like. 基板の材質としては、シリコン単結晶等の半導体を例示することができるが、絶縁体、導電体から成るものでもよい。 The material of the substrate, but may be a semiconductor silicon single crystal or the like, an insulator may be composed of a conductive material.

本発明において、「露光対象物の周縁部に対応するよう設けられた溝」とは、溝が露光対象物の射影像の縁よりも少なくとも外側にあることを指す。 In the present invention, the term "groove provided to correspond to the periphery of the object to be exposed" refers to a groove is at least outward from the edge of the projection image of the object to be exposed. ここで、「少なくとも外側にある」とは、溝の内側及び外側が、露光対象物の射影像の縁よりも外側にあってもよいし、溝の内側が露光対象物の射影像の縁の内側にあり、溝の外側が露光対象物の射影像の外側にあってもよいことを意味する。 Here, the "at least on the outside", the inner and outer grooves, the projection image of the object to be exposed may be outside of the edge, the projection image of the inside is exposed objects groove edge of the is inside, it means that the outer groove may be located outside of the projection image of the exposure object. また、本発明において、「シャワーヘッドを溝の上方に位置させる」とは、シャワーヘッドの射影像が溝を含む状態を指す。 Further, in the present invention, "to the shower head is located above the groove", projection image of the shower head refers to a condition that includes a groove.

本発明において、洗浄液とは異物を除去できるものであればよく、異物が物理的に除去されてもよいし、化学的に除去されてもよい。 In the present invention, as long as the cleaning liquid capable of removing foreign matter, to foreign material may be physically removed, or may be chemically removed. 異物を除去できる限り、洗浄液の組成は任意である。 As long as capable of removing foreign matter, the composition of the cleaning solution is optional. 例えば、不純物の少ない水、メタノール等のアルコールを例示することができる。 For example, it can be exemplified few impurities water, an alcohol such as methanol. 液浸露光用の液体と同じ組成を有する液体を洗浄液として用いることもできる。 The liquid having the same composition as the liquid for immersion exposure may also be used as a cleaning solution. この場合は、液浸型露光装置で用いられる液体が共通化されるので、取り扱いが簡便となり好ましい。 In this case, since the liquid used in the immersion exposure apparatus is common handling becomes easy preferable. なお、本発明において、「異物」とは、可溶性物質の堆積物、可溶性物質を含んだ液、ダスト、ダストを含んだ液等、露光に対して悪影響を与える原因となるものを広く指す。 In the present invention, the term "foreign matter", deposits of soluble substances, liquid containing soluble materials, dust, liquid, etc. containing the dust, refers broadly to substances that cause an adverse effect against the exposure.

本発明において、液体排出口は保持台の溝に設けられるが、溝のどの部分、どの位置に設けるかは任意である。 In the present invention, the liquid outlet is provided in the groove of the holder, provided or which parts, which position of the groove is optional. 保持台に設けられた溝の内部の液体を排出できる限り、溝に1つ設けられていてもよいし、複数設けられていてもよい。 As possible discharged liquid inside the groove provided in the holder, may be provided one for the groove may be provided in plurality. また、洗浄液供給手段と対応する位置に設けられていてもよい。 Also, it may be provided in a position corresponding to the cleaning liquid supply means. ここで、「対応する位置」とは、例えば、露光対象物の周縁部を環状に取り囲む溝に、1つの洗浄液供給手段が0度の角度の位置に設けられている場合、180度の角度の位置を意味する。 Here, the "corresponding position", for example, in a groove surrounding the peripheral portion of the object to be exposed in a ring, when one of the cleaning liquid supply means is provided at the position of 0 degree angle, 180 degrees angle position means. n個の洗浄液供給手段が以下の式(4)で示される角度の位置(単位:度)に設けられる場合、「対応する位置」とは、以下の式(5)で示される角度の位置(単位:度)を意味する。 n pieces of the cleaning liquid supply means the position of the angle of formula (4) below: If provided (in degrees), the "corresponding position", the position of the angle represented by the following formula (5) ( in degrees) means. 但し、mは1〜nの整数である。 However, m is an integer of 1 to n.

(m−1)×(360/n) (4) (M-1) × (360 / n) (4)
(m−1)×(360/n)+(180/n) (5) (M-1) × (360 / n) + (180 / n) (5)

本発明の液浸型露光装置、及び、本発明の第1の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法によれば、洗浄液供給手段により保持台の溝に洗浄液が供給され、保持台の溝に設けられた液体排出口から洗浄液が排出されるので、異物が溝から除去される。 Immersion exposure apparatus of the present invention, and, according to the holding table cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to a first aspect of the present invention, the cleaning liquid is supplied to the holder of the groove by the cleaning liquid supply means, the holding since the cleaning liquid is discharged from the liquid discharge port provided in a trapezoidal groove, the foreign matter is removed from the groove. これにより、溝に付着、堆積等した異物が、露光工程に影響を与えることを防ぐことができる。 Thus, attached to the groove, foreign matter deposited or the like, it is possible to prevent affecting the exposure process.

本発明の第2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法によれば、ダミーウエハを保持台で保持した後にシャワーヘッドから洗浄液を供給するので、保持台の露光対象物を保持する部分に洗浄液が付着することがない。 According to holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to a second aspect of the present invention, since the supplying a cleaning liquid from the shower head after holding by the holding base dummy wafers, holding the holder of the exposure object It does not adhere cleaning liquid to the part. また、保持台に新たに洗浄液供給手段を設ける必要がなく、従前の液浸型露光装置において実施することができる。 Further, there is no need to provide a separate cleaning liquid supply means to the holder, it can be carried out in conventional immersion type exposure apparatus.

以下、図面を参照して、実施例に基づき本発明を説明する。 Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, illustrating the present invention based on examples.

実施例1は、本発明の液浸型露光装置、及び、本発明の第1の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法に関する。 Example 1, liquid immersion type exposure apparatus of the present invention, and a method of holding table cleaning in immersion type exposure apparatus according to a first aspect of the present invention. 実施例1の液浸型露光装置の全体図を図1に示し、保持台に設けられた溝の洗浄工程を模式的に図2の(A)乃至(C)に示し、保持台に設けられた液体排出口、洗浄液供給手段の配置を模式的に図3の(A)及び(B)に例示する。 An overall view of a liquid immersion type exposure apparatus of the first embodiment shown in FIG. 1, the groove of the cleaning process provided in holder shown schematically in shown in FIG. 2 (A) to (C), provided on the holding table liquid outlet was illustrates the arrangement of the cleaning liquid supply means schematically shown in FIG. 3 (a) and (B).

実施例1の液浸型露光装置は、露光対象物と対向するレンズと露光対象物との間を液体で満たして露光対象物を露光する装置であり、露光対象物に対向するレンズ、給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、及び、露光対象物を保持するための保持台を有する。 The immersion exposure apparatus of the first embodiment, between the exposure object opposite to the lens and the exposure object is a device for exposing an exposure object filled with liquid, the lens facing the object of exposure, the liquid supply drainage and line are provided with lines, lens showerhead for filling with liquid between the exposure object, and a holder for holding the object of exposure.

図1に示すように、実施例1の液浸型露光装置90は、より具体的には、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド10、露光対象物を保持するための保持台を備える保持台部20、マスク部140、照明部150、制御部160、XYステージ部170、及び、露光対象物と対向するレンズを有する縮小投影光学部180を備える。 As shown in FIG. 1, a liquid immersion type exposure apparatus 90 of the first embodiment, more specifically, the shower head 10 for filling the space between the lens and the object of exposure with a liquid, to hold the object of exposure holder portion 20 including the holder of the mask portion 140, an illumination unit 150, the control unit 160, XY stage unit 170, and includes a reduction projection optical unit 180 having an exposure object facing the lens. 露光対象物は、例えば円板状の半導体基板31と、その上に設けられた感光性膜32から成る基板30である。 Exposure object, for example, a disk-shaped semiconductor substrate 31 is a substrate 30 made of a photosensitive film 32 provided thereon.

図1におけるマスク部140、照明部150、制御部160、XYステージ部170、及び、縮小投影光学部180は、図5で説明した従来の液浸型露光装置190におけるマスク部140、照明部150、制御部160、XYステージ部170、及び、縮小投影光学部180と同様の構成、構造を有する。 Mask portion 140 in FIG. 1, the illumination unit 150, the control unit 160, XY stage unit 170, and, the reduction projection optical unit 180, mask portion 140 in the conventional liquid immersion type exposure apparatus 190 described in FIG. 5, the illumination unit 150 , the control unit 160, XY stage unit 170, and a configuration similar to that of the reduction projection optical unit 180 has a structure. これらの構成、動作、及び、作用については、背景技術で既に説明したと同様であるので、ここでは説明を省略する。 These configuration, operation, and, for the action is the same as has already been described in the background art, the description thereof is omitted here.

縮小投影光学部180は、鏡筒、複数のレンズ等により構成され、露光対象物である基板30に対向するレンズを備えている。 Reduction projection optical unit 180, a lens barrel, a plurality of lenses or the like, and includes a lens facing the substrate 30 is exposed object.

シャワーヘッド10は、縮小投影光学部180の端部に取り付けられる。 Shower head 10 is attached to the end of the reduction projection optical unit 180. シャワーヘッド10は、筒11、給液ライン12、及び、排液ライン13を備える。 Shower head 10, cylinder 11, fluid supply line 12, and includes a drain line 13. 液浸露光用の液体、例えば水が、給液ライン12を介して筒11の内側に給液され、排液ライン13を介して筒11の外側に排液されることにより、縮小投影光学部180のレンズと、露光対象物である基板30との間が液浸露光用の液体で満たされる。 An immersion liquid, for example water, is the liquid supply to the inside of the cylinder 11 through the fluid supply line 12, by being drained to the outside of the cylinder 11 through the discharge line 13, reduction projection optical unit and 180 of the lens, between the substrate 30 is exposed object is filled with the immersion liquid. 給液の流速、排液の流速等を調整することにより、基板30上に液浸露光用の液体を残すことなく露光をすることができる。 The flow rate of liquid feed, by adjusting the flow velocity of the effluent, can be exposed without leaving immersion liquid on the substrate 30.

保持台部20は、保持台21、露光対象物を保持台21に吸着させるための吸着手段22、液体の排出手段23を備える。 Holder portion 20 is provided with a suction means 22, discharging means 23 of the liquid for adsorbing holder 21, the object to be exposed to the holder 21. 保持台21は、XYステージ部170により、図1のX軸方向、及び、Y軸方向に移動可能である。 Holder 21 by the XY stage unit 170, X-axis direction in FIG. 1, and is movable in the Y-axis direction. 保持台21は、露光対象物を保持する吸着面24、吸着面24に連通する配管25、露光対象物である基板30の周縁部に対応するように設けられた溝26、溝26に設けられた液体排出口27を備える。 Holder 21, suction surface 24 for holding the object of exposure, provided on the pipe 25, a groove 26 is provided so as to correspond to the peripheral edge of the substrate 30 is exposed object, a groove 26 communicating with the suction surface 24 It was provided with a liquid outlet 27. 保持台21の上面のうち基板30を保持する部分は、他の部分に比べて凹み、基板30を保持した状態で略同一平面となる。 Portion holding the substrate 30 of the upper surface of the holder 21, recessed than the other portions, the substantially flush while holding the substrate 30. ポンプ等から構成される吸着手段22は配管25に接続されており、吸着手段22が動作すると、露光対象物である基板30は、吸着面24上に保持される。 Suction means 22 composed of a pump or the like is connected to the pipe 25, the suction means 22 is operated, the substrate 30 is an exposure object is held on the suction surface 24.

実施例1の液浸型露光装置90は、これらに加え、洗浄液供給口28を備える。 Immersion exposure apparatus 90 of the first embodiment, in addition to these, provided with a cleaning liquid supply port 28. 洗浄液供給口28は、配管を介して洗浄液供給装置29に接続されている。 Cleaning liquid supply port 28 is connected to the cleaning liquid supply device 29 via a pipe. 洗浄液供給手段としての洗浄液供給口28は、溝26に設けられている。 Cleaning liquid supply port 28 as the cleaning liquid supply means is provided in the groove 26. 洗浄液供給装置29から送られる洗浄液は、洗浄液供給手段である洗浄液供給口28から溝26に供給される。 Cleaning liquid sent from the cleaning liquid supply device 29 is supplied from the cleaning liquid supply port 28 is the cleaning liquid supply means into the groove 26. 溝26に供給された洗浄液は、排出手段23により液体排出口27を介して排出される。 Cleaning liquid supplied to the groove 26 is discharged through the liquid discharge port 27 by the discharge unit 23. これにより、溝26に残る異物が除去される。 Thus, the foreign matter remaining in the groove 26 is removed. シャワーヘッド10に給液される液体が水である場合には、洗浄液として同じ組成である水を用いてもよい。 If the liquid being liquid supply to the shower head 10 is water, water may be used the same composition as the cleaning liquid.

図2の(A)乃至(C)を参照して、溝26の洗浄について説明する。 With reference to shown in FIG. 2 (A) to (C), it is described the cleaning of the groove 26. 既に図8の(A)乃至(C)を参照して模式的に説明をしたが、感光性膜32全面の露光後には、シャワーヘッド10の筒11の下方に位置した溝26に、液浸露光用の液体が流れ込む。 Although already a reference to schematically describe the (A) through (C) in FIG. 8, after the exposure of the photosensitive film 32 over the entire surface, the groove 26 located below the barrel 11 of the shower head 10, the immersion liquid for exposure flows. 流れ込んだ液体は、感光性膜32に含まれていた可溶性の物質、感光性膜32の表面に付着していたダスト等を含む。 Flowed liquid comprises substances soluble contained in the photosensitive film 32, the dust adhering to the surface of the photosensitive film 32. この液体は、液体排出口27に繋がれた排出手段23により排出される。 The liquid is discharged by the discharge means 23 which is connected to the liquid outlet 27. しかし、排出されない液体15が、溝26に残ることがある。 However, the liquid 15 is not discharged can remain in the groove 26. 図2の(A)は、この状態を模式的に示したものである。 (A) in FIG. 2, in which the state shown schematically.

この状態において、洗浄液供給装置29から洗浄液を送り、洗浄液を洗浄液供給口28から溝26に供給する。 In this state, feeding the washing liquid from the cleaning liquid supply device 29 is supplied to the groove 26 of the cleaning liquid from the cleaning liquid supply port 28. 溝26は洗浄液で満たされ、図2の(B)に示す状態となる。 Grooves 26 are filled with cleaning solution, a state shown in FIGS. 2 (B). 液体15は、この洗浄液と共に溝26に設けられた液体排出口27を介して、溝26の外に排出される。 Liquid 15 through the liquid outlet 27 provided in the groove 26 together with the cleaning liquid is discharged out of the groove 26. 従って、溝26から異物が除去される。 Therefore, the foreign matter is removed from the groove 26. 図2の(C)は、この様子を模式的に示したものである。 (C) in FIG. 2, in which the state is shown schematically.

なお、洗浄液の一部が溝26に残ることもある。 A part of the cleaning liquid is also to remain in the groove 26. しかし、液体15に含まれていた不純物等の大部分は、洗浄液と共に液体排出口27から外部に排出されている。 However, most of the impurities or the like contained in the liquid 15 is discharged to the outside from the liquid discharge port 27 together with the cleaning liquid. 従って、洗浄液が溝26に残ることは、実用上、問題とはならない。 Therefore, the cleaning liquid remains in the groove 26, practically no problem.

図2の(A)乃至(C)においては、感光性膜32全面の露光終了後に、洗浄液を洗浄液供給口28から溝26に供給し、これを液体排出口27から排出している。 In shown in FIG. 2 (A) to (C), after completion of exposure of the photosensitive film 32 over the entire surface, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply port 28 into the groove 26, and discharged it from the liquid discharge port 27. しかし、感光性膜32の露光の途中で洗浄液を洗浄液供給口28から溝26に供給し、これを液体排出口27から排出してもよい。 However, the cleaning liquid in the middle of the exposure of the photosensitive film 32 is supplied from the cleaning liquid supply port 28 into the groove 26, which may be discharged from the liquid discharge port 27. また、露光の際に洗浄液を洗浄液供給口28から溝26に定常的に流し込み、これを定常的に液体排出口27から排出してもよい。 Further, the cleaning liquid during exposure constantly poured into the groove 26 from the cleaning liquid supply port 28, which may be discharged from the constantly liquid outlet 27. どのように洗浄液を供給し、どのように排出するかは任意に決めることができる。 How to supply the cleaning liquid, how to discharge it can be arbitrarily determined.

実施例1において、液体排出口27は保持台21の溝26に設けられているが、溝26のどの部分に設けるかは任意である。 In Example 1, the liquid outlet 27 is provided in the groove 26 of the holder 21, is provided or the portion of the groove 26 throat is optional. 溝26の内部の液体を排出できる限り、液体排出口27は溝26に1つ設けられていてもよいし、複数設けられていてもよい。 As possible discharged liquid inside the groove 26, the liquid discharge port 27 may be provided one for the groove 26, may be provided in plurality. 洗浄液供給手段と対応する位置に設けられていてもよい。 It may be provided in a position corresponding to the cleaning liquid supply means.

図3の(A)及び(B)を参照して、溝26に設けられた液体排出口27及び洗浄液供給口28の配置例について説明する。 Referring in FIG. 3 (A) and (B), explaining the arrangement example of the liquid discharge port 27 and the cleaning liquid supply port 28 provided in the groove 26. 溝26に設けられた液体排出口27及び洗浄液供給口28は、図3の(A)に示すように、複数設けられていてもよいし、図3の(B)に示すように、1つ設けられていてもよい。 Liquid outlet 27 and cleaning liquid supply port 28 provided in the groove 26, as shown in FIG. 3 (A), may also be provided a plurality, as illustrated in FIG. 3 (B), one it may be provided. 複数の液体排出口27が設けられている場合には、それらは共通の配管を経て図1の液体の排出手段23に繋がれていてもよいし、個別の配管を経て繋がれていてもよい。 When a plurality of liquid outlet 27 is provided, to which may also be connected to the discharge means 23 of the liquid 1 via the common pipe may be connected through a separate pipe . 同様に、複数の洗浄液供給口28が設けられる場合には、共通の配管を経て図1の洗浄液供給装置29に繋がれていてもよいし、個別の配管を経て繋がれていてもよい。 Similarly, when a plurality of cleaning liquid supply port 28 is provided, it may also be connected to the cleaning liquid supply device 29 of FIG. 1 via a common pipe may be connected through a separate pipe. 保持台21におけるこれらの配管の経路は任意である。 Path of these pipes in holder 21 is arbitrary. しかし、保持台21では、露光対象物が保持される領域には吸着面等が設けられているので、この領域にこれらの配管を設けることが困難な場合がある。 However, the holder 21, in a region where the exposure object is held because the suction surface or the like is provided, it may be difficult to provide these pipes in this area. 従って、配管は、この領域を避けることが好ましい。 Therefore, the pipe, it is preferable to avoid this area. 例えば、これらの配管は、図3の(A)に破線で示すように溝26から放射状に伸びる経路を経た後、図示せぬ共通経路を経るものでもよい。 For example, these pipes is passed through the path extending radially from the groove 26 as shown by a broken line in FIG. 3 (A) may be those through the common path (not shown).

実施例2は、本発明の第2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法に関する。 Example 2 relates holder method of cleaning the liquid immersion type exposure apparatus according to a second aspect of the present invention. 実施例2の洗浄方法は、図1に示した実施例1の液浸型露光装置90を用いて実施できるが、図5に示した従来の液浸型露光装置190を用いても実施できる。 The method of cleaning the second embodiment, can be implemented using a liquid immersion type exposure apparatus 90 of the first embodiment shown in FIG. 1, it can also be implemented using a conventional immersion type exposure apparatus 190 shown in FIG. 図4の(A)乃至(D)に、従来の液浸型露光装置190を用いた例を示す。 In (A) to (D) in FIG. 4, an example of using a conventional liquid immersion type exposure apparatus 190.

従来の液浸型露光装置190が備えるレンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド110、露光対象物を保持するための保持台を備える保持台部120、マスク部140、照明部150、制御部160、XYステージ部170、及び、露光対象物と対向するレンズを有する縮小投影光学部180の構成、動作、及び、作用については、背景技術で既に説明したと同様であるので、ここでは説明を省略する。 Shower head 110 for filling with liquid between the conventional liquid immersion type exposure apparatus 190 is a lens and the exposure object comprising, holder unit 120 comprises a holder for holding the object of exposure, the mask unit 140, the illumination part 150, control unit 160, XY stage unit 170, and the configuration of the reduction projection optical unit 180 having an exposure object and opposite to the lens, operates, and, for the action is the same as has already been described in the background art , the description thereof is omitted here.

図4の(A)乃至(D)を参照して、実施例2の態様に係る液浸型露光装置における保持台の洗浄方法を説明する。 Referring in FIG. 4 (A) to (D), the holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus according to an aspect of the second embodiment will be described.

図4の(A)に示すように、感光性膜132全面の露光がされた後には、液浸露光用の液体が溝126に流れ込み、排出されない液体115が溝126に残ることがある。 As shown in FIG. 4 (A), after being exposure of the photosensitive film 132 over the entire surface, the immersion liquid flows into the groove 126, the liquid 115 is not discharged would remain in the groove 126. 図8の(C)の説明に記したが、この液体115は、感光性膜132に含まれる可溶性の物質や、感光性膜132の表面に付着していたダスト等を含む。 Although it noted in the description of FIG. 8 (C), the liquid 115 includes or soluble substances contained in the photosensitive film 132, the dust adhering to the surface of the photosensitive film 132.

ここで、図5に示す吸着手段122の動作を止め、全面が露光された基板130を保持台121から外す。 Here, stop the operation of the suction means 122 shown in FIG. 5, removing the substrate 130 over the entire surface is exposed from the holder 121. 次に、図4の(B)に示すように、ダミーウエハ33を保持台121に載置し、吸着手段122を動作させてダミーウエハ33を保持する。 Next, as shown in FIG. 4 (B), it is placed on the holding table 121 to the dummy wafer 33 to hold the dummy wafer 33 by operating the suction means 122. ダミーウエハ33は、シャワーヘッド110の筒111に満たされる液体と接しても可溶性の物質が溶出しない材料で作られる。 Dummy wafer 33, the soluble material is made of a material that does not elute even in contact with the liquid to be filled in the cylinder 111 of the showerhead 110. ダミーウエハ33として、例えば、ステンレス、アルミニウム等の金属から成る板、感光性膜が設けられていない半導体基板等を例示することができる。 As dummy wafer 33, for example, stainless steel, a plate made of metal such as aluminum, can be a semiconductor substrate such as a photosensitive film is not provided.

次に、図5のXYステージ部170を動作させて、図4の(C)に示すように、ダミーウエハ33の一端側にある溝126の上方にシャワーヘッド110の筒111が位置する「P」の状態とする。 Then, by operating the XY stage unit 170 in FIG. 5, as shown in (C) of FIG. 4, the cylinder 111 of the shower head 110 above the grooves 126 on the one end side of the dummy wafer 33 is positioned "P" and of the state. この状態で、給液ライン112を介して、洗浄液を筒111に給液する。 In this state, through a liquid supply line 112, to the liquid supply a cleaning liquid to the cylinder 111. 液浸露光用の液体、例えば水をそのまま洗浄液として給液することもできる。 An immersion liquid, for example water can also be directly fed as the washing solution. これにより、洗浄液が筒111の下方に位置する溝126に供給される。 Thus, it supplied to the groove 126 the cleaning liquid is positioned below the cylinder 111. 洗浄液はダミーウエハ33と接するが、可溶性の物質がダミーウエハ33から溶出することはない。 The cleaning liquid is in contact with the dummy wafer 33, there is no possibility that the soluble substance is eluted from the dummy wafer 33. 次に、図4の(C)の矢印で示すように、XYステージ部170を動作させて、ダミーウエハ33の他端側の溝126の上方にシャワーヘッド110の筒111が位置する「Q」の状態とする。 Next, as shown by the arrow of FIG. 4 (C), by operating the XY stage 170, the cylinder 111 of the showerhead 110 is located above the other end of the groove 126 of the dummy wafer 33 of "Q" and state. この状態で、給液ライン112を介して洗浄液を筒111に給液すると、同様に洗浄液が筒111の下方に位置する溝126に供給される。 In this state, when the liquid supply a cleaning liquid to the tube 111 through the liquid supply line 112, likewise the cleaning liquid is supplied to the groove 126 located below the cylinder 111. ダミーウエハ33が保持台121に取り付けられているので、洗浄液が図5に示す保持台121の吸着面124等に付着したり、ポンプ等で構成される吸着手段122が洗浄液を吸い込む等の悪影響が生ずることがない。 Since the dummy wafer 33 is attached to the holding table 121, may adhere to the suction surface 124 and the like of the holder 121 cleaning solution shown in FIG. 5, the suction means 122 is caused adverse effects such as sucking the cleaning liquid consists of a pump or the like that there is no.

次に、図4の(D)に示すように、排出手段123を動作させて、液体115を含んだ洗浄液を液体排出口127を介して溝126から排出する。 Next, as shown in (D) in FIG. 4, to operate the discharge means 123, for discharging a cleaning liquid containing liquid 115 from the groove 126 through the liquid discharge port 127. 液体115は、この洗浄液とともに溝126に設けられた液体排出口127を介して、溝126の外に排出される。 Liquid 115 via the liquid outlet 127 provided in the groove 126 together with the cleaning liquid is discharged out of the groove 126. 従って、溝126からは異物が除去される。 Therefore, foreign matter is removed from the groove 126. なお、洗浄液の一部が溝126に残ることもある。 A part of the cleaning liquid is also to remain in grooves 126. しかし、液体115に含まれていた不純物等の大部分は、洗浄液と共に液体排出口127から外部に排出されている。 However, most of the impurities or the like contained in the liquid 115 is discharged to the outside from the liquid discharge port 127 together with the cleaning liquid. 従って、洗浄液が溝126に残ることは実用上問題とはならない。 Therefore, the cleaning liquid remains in the groove 126 is not a practical problem.

図4の(C)においては、ダミーウエハの一端側の上方に筒111を位置させ洗浄液を溝126に供給し、その後ダミーウエハの他端側の上方に筒111を位置させ洗浄液を溝126に供給し、その後、液体排出口127から排出している。 In (C) of FIG. 4, the cleaning liquid is supplied to position the cylinder 111 above the one end of the dummy wafer into the groove 126, then over the other end of the dummy wafer cleaning liquid is positioned a cylindrical 111 is supplied to the groove 126 , then, it is discharged from the liquid discharge port 127. しかし、保持台121上に設けられた溝126のどの部分に洗浄液を供給するかは任意に決めることができる。 However, either to supply a cleaning liquid to the groove 126 which portions provided on the holding table 121 can be arbitrarily determined.

例えば、保持台に設けられた溝126全てを洗浄する場合は、ダミーウエハ33を保持した状態で、露光対象物全面を露光する動作と同様の動作を行ってもよい。 For example, when cleaning all the grooves 126 provided on the holding block, while holding the dummy wafer 33 may be performed the same operation as the operation for exposing an exposure target entirely. 但し、この場合は実際の露光は不要なので、照明部150の動作を止めてもよい。 However, since in this case the actual exposure is not necessary, may stop the operation of the illumination unit 150. 液浸型露光装置190は、露光の際に液浸露光用の液体を筒111に連続して流すので、液浸露光用の液体がそのまま洗浄液として作用する。 Immersion exposure device 190, since the flow continuously in a tubular 111 the immersion liquid during exposure, immersion liquid is directly acts as a cleaning solution.

また、溝126に筒111が倣うように、円を描くようにXYステージ171を移動させて、溝126全体に洗浄液を供給することもできる。 Also, as the tube 111 follow the grooves 126, by moving the XY stage 171 in a circular motion, it is also possible to supply cleaning liquid to the entire groove 126.

他の例としては、ダミーウエハ33の一端側で洗浄液を溝126に供給し、その洗浄液が溝126全体に行き渡る場合は、ダミーウエハ33の一端側からのみ溝126に洗浄液を供給してもよい。 As another example, the cleaning liquid is supplied to the groove 126 in one end of the dummy wafer 33, when the cleaning liquid is spread over the entire groove 126 may supply the cleaning liquid to the saw grooves 126 from one end of the dummy wafer 33.

また、溝126に設けられた液体排出口127は、実施例1と同様に、その数、溝126に配置される位置とも、任意に決めることができる。 The liquid discharge port 127 provided in the groove 126, in the same manner as in Example 1, its number, also the position to be disposed in the groove 126, can be arbitrarily determined. また、どのようなタイミングで洗浄液を溝から排出するかも任意に決めることができる。 Moreover, washing liquid can be determined also arbitrarily or discharged from the groove at any timing. 例えば、排出手段123を定常的に動作させた状態で、洗浄液を供給してもよい。 For example, in a state of constantly operating the discharge means 123 may be supplied to the cleaning liquid. 即ち、図4の(D)の動作をさせつつ図4の(C)の動作をさせてもよい。 That may cause the operation of FIG. 4 operate is allowed while in FIG. 4 (D) (C). また、図4の(C)の動作をさせつつ図4の(D)の動作をさせてもよい。 Also, may be the operation of the FIG. 4 operate is allowed while in FIG. 4 (C) (D).

なお、ダミーウエハ33は、露光工程の際には使われない。 Incidentally, the dummy wafer 33 is not used during the exposure process. 従って、ダミーウエハ33は、露光工程の間、露光装置外に保管されてもよい。 Thus, dummy wafers 33 during the exposure step, may be stored outside the exposure apparatus. しかし、露光装置外にダミーウエハ33を保管すると、その着脱が煩雑となるおそれがある。 However, when storing the dummy wafers 33 outside the exposure apparatus, there is a risk that the detachable becomes complicated. 従って、露光装置内にダミーウエハ33を保管する場所を設けてもよい。 Therefore, it is also possible to provide a place to store dummy wafer 33 in the exposure apparatus. さらに、長時間露光がされない場合に、自動的にダミーウエハ33を保持台に保持し、その後、通常の露光動作を行うプログラムを、露光装置の制御器161に実行させてもよい。 Furthermore, if not the long exposure automatically hold the dummy wafer 33 to the holding table, then, the program for normal exposure operation may be executed in the controller 161 of the exposure apparatus. 但し、この場合は実際の露光は不要なので、照明部150の動作を止めてもよい。 However, since in this case the actual exposure is not necessary, may stop the operation of the illumination unit 150.

以上、本発明を好ましい実施例に基づき説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Has been described so far based on the preferred embodiments of the present invention, the present invention is not limited to these examples. 実施例における液浸型露光装置の構成要素の具体的な構成、構造は例示であり、適宜、変更することができるし、実施例において説明した保持台の洗浄方法の具体的な方法も例示であり、適宜、変更することができる。 Specific configuration of the components of the liquid immersion type exposure apparatus in Embodiment, the structure is illustrated, as appropriate, it can be changed, a specific method holder cleaning method described in example in illustration There, as appropriate, may be changed. 更には、保持台上方に可動なノズルを設け、これを洗浄液供給手段とすることもできる。 Furthermore, the movable nozzle is provided on the holding table top, this can also be a cleaning liquid supply means.

図1は、実施例1の液浸型露光装置を説明するための全体図である。 Figure 1 is an overall view for explaining a liquid immersion type exposure apparatus of Embodiment 1. 図2の(A)乃至(C)は、実施例1の保持台の洗浄工程を説明するための、保持台等の模式的な一部端面図である。 Shown in FIG. 2 (A) to (C) is for describing the holder of the washing step in Example 1 is a schematic partial end view of a holder or the like. 図3の(A)及び(B)は、実施例1の保持台に設けられた液体排出口、洗浄液供給手段の配置を概念的に例示した斜視図である。 Figure 3 (A) and (B), the liquid discharge port provided in the holding table of Example 1 is a perspective view schematically illustrating the arrangement of the cleaning liquid supply means. 図4の(A)乃至(D)は、実施例2の液浸型露光装置における保持台の洗浄方法を説明するための、保持台等の模式的な一部端面図である。 Shown in FIG. 4 (A) to (D) is for describing a holder method of cleaning in an immersion type exposure apparatus of Embodiment 2 is a schematic partial end view of a holder or the like. 図5は、従来の液浸型露光装置を説明するための全体図である。 Figure 5 is an overall view for explaining a conventional immersion type exposure apparatus. 図6は、走査露光を模式的に説明するための斜視図である。 Figure 6 is a perspective view for explaining a scanning exposure schematically. 図7の(A)乃至(C)は、シャワーヘッド、基板、及び、保持台の関係を説明するための保持台等の一部端面図である。 (A) to (C) in FIG. 7, showerheads, substrate, and is a partial end view of a holder or the like for explaining the holding table relationships. 図8の(A)乃至(C)は、保持台に設けられた溝への液浸露光用の液体の流れ込みを説明するための、保持台等の一部端面図である。 (A) to (C) of FIG. 8, for explaining the flow of immersion liquid to the grooves provided in the holder is a partial end view of a holder or the like.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10・・・シャワーヘッド、11・・・筒、12・・・給液ライン、13・・・排液ライン、15・・・液体、20・・・保持台部、21・・・保持台、22・・・吸着手段、23・・・排出手段、24・・・吸着面、25・・・配管、26・・・溝、27・・・液体排出口、28・・・洗浄液供給口、29・・・洗浄液供給装置、30・・・基板、31・・・半導体基板、32・・・感光性膜、33・・・ダミーウエハ、90・・・液浸型露光装置、110・・・シャワーヘッド、111・・・筒、112・・・給液ライン、113・・・排液ライン、114・・・空間、115・・・液体、120・・・保持台部、121・・・保持台、122・・・吸着手段、123・・・排出手段、124・・・吸着面、125・・・配管、126・ 10 ... Shower head, 11 ... cylinder, 12 ... liquid supply line, 13 ... drain line, 15 ... liquid, 20 ... holder unit, 21 ... holder, 22 ... suction means, 23 ... discharge unit, 24 ... suction surface, 25 ... pipe, 26 ... groove, 27 ... liquid outlet, 28 ... cleaning liquid supply port, 29 ... cleaning liquid supply device, 30 ... substrate, 31 ... semiconductor substrate, 32 ... light-sensitive layer, 33 ... dummy wafer, 90 ... liquid immersion type exposure apparatus, 110 ... showerhead , 111 ... tube, 112 ... liquid supply line, 113 ... drain line, 114 ... space, 115 ... liquid, 120 ... holding stand unit, 121 ... holding stand, 122 ... suction means, 123 ... discharge unit, 124 ... suction surface, 125 ... pipe, 126 - ・溝、127・・・液体排出口、130・・・基板、131・・・半導体基板、132・・・感光性膜、133・・・ショット領域、134・・・ショット領域、140・・・マスク部、141・・・レチクル、142・・・レチクルステージ、143・・・レチクルステージ駆動手段、144・・・レチクル位置情報検出手段、145・・・マスクパターン、150・・・照明部、151・・・光源、152・・・コンデンサーレンズ、153・・・ミラー、154・・・領域、155・・・領域、160・・・制御部、161・・・制御器、170・・・XYステージ部、171・・・XYステージ、172・・・XYステージ駆動手段、173・・・露光対象物位置情報検出手段、174・・・定盤、180・・・縮小投影光学部、 · Groove, 127 ... liquid outlet, 130 ... substrate, 131 ... semiconductor substrate, 132 ... photosensitive film 133 ... shot area, 134 ... shot area, 140 ... mask portion, 141 ... reticle, 142 ... reticle stage, 143 ... reticle stage drive unit, 144 ... reticle position information detecting unit, 145 ··· mask pattern, 150 ... lighting unit, 151 ... light source, 152 ... condenser lens, 153 ... mirror, 154 ... area, 155 ... area, 160 ... controller, 161 ... controller, 170 ... XY stage parts, 171 ... XY stage, 172 ... XY stage drive unit, 173 ... exposure object position information detection means, 174 ... platen, 180 ... reduction projection optical unit, 81・・・前段レンズ、182・・・後段レンズ、190・・・液浸型露光装置 81 ... front lens, 182 ... rear stage lens, 190 ... liquid immersion type exposure apparatus

Claims (5)

  1. (A)露光対象物に対向するレンズ、 (A) a lens facing the object of exposure,
    (B)給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、 (B) the liquid supply line and drainage and the line is provided, the shower head for filling the space between the lens and the object of exposure in a liquid,
    (C)露光対象物を保持するための保持台、 (C) holder for holding the object of exposure,
    (D)露光対象物の周縁部に対応するように保持台に設けられた溝、及び、 (D) a groove provided in the holder so as to correspond to the periphery of the object to be exposed and,
    (E)溝に設けられた液体排出口、 (E) a liquid discharge port provided in the groove,
    を有する液浸型露光装置であって、 A liquid immersion type exposure apparatus having,
    (F)溝に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を有し、 (F) has a cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid into the groove,
    供給された洗浄液を液体排出口から排出することを特徴とする液浸型露光装置。 Immersion exposure apparatus characterized by discharging the supplied cleaning liquid from the liquid discharge port.
  2. 洗浄液供給手段は溝に設けられた洗浄液供給口から成ることを特徴とする請求項1に記載の液浸型露光装置。 Cleaning liquid supply means immersion exposure apparatus according to claim 1, characterized in that it consists of cleaning liquid supply port provided in the groove.
  3. (A)露光対象物に対向するレンズ、 (A) a lens facing the object of exposure,
    (B)給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、 (B) the liquid supply line and drainage and the line is provided, the shower head for filling the space between the lens and the object of exposure in a liquid,
    (C)露光対象物を保持するための保持台、 (C) holder for holding the object of exposure,
    (D)露光対象物の周縁部に対応するように保持台に設けられた溝、及び、 (D) a groove provided in the holder so as to correspond to the periphery of the object to be exposed and,
    (E)溝に設けられた液体排出口、 (E) a liquid discharge port provided in the groove,
    を有し、更に、 Have, further,
    (F)溝に洗浄液を供給する洗浄液供給手段、 (F) washing liquid supplying means for supplying a cleaning liquid into the groove,
    を有する液浸型露光装置における保持台の洗浄方法であって、 A holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus having,
    洗浄液供給手段により溝に洗浄液を供給し、液体排出口から排出することを特徴とする液浸型露光装置における保持台の洗浄方法。 The cleaning liquid is supplied to the groove by the cleaning liquid supply means, holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus characterized by discharging from the liquid discharge port.
  4. 洗浄液供給手段は溝に設けられた洗浄液供給口から成ることを特徴とする請求項3に記載の液浸型露光装置における保持台の洗浄方法。 Holder method of cleaning in an immersion type exposure apparatus according to claim 3 cleaning liquid supply means, characterized in that it consists of cleaning liquid supply port provided in the groove.
  5. (A)露光対象物に対向するレンズ、 (A) a lens facing the object of exposure,
    (B)給液ラインと排液ラインとが設けられた、レンズと露光対象物との間を液体で満たすためのシャワーヘッド、 (B) the liquid supply line and drainage and the line is provided, the shower head for filling the space between the lens and the object of exposure in a liquid,
    (C)露光対象物を保持するための保持台、 (C) holder for holding the object of exposure,
    (D)露光対象物の周縁部に対応するように保持台に設けられた溝、及び、 (D) a groove provided in the holder so as to correspond to the periphery of the object to be exposed and,
    (E)溝に設けられた液体排出口、 (E) a liquid discharge port provided in the groove,
    を有する液浸型露光装置における保持台の洗浄方法であって、 A holder cleaning method in a liquid immersion type exposure apparatus having,
    (a)ダミーウエハを保持台に保持した後、 (A) After holding the holder the dummy wafer,
    (b)シャワーヘッドを溝の上方に位置させ、 (B) the shower head is located above the groove,
    (c)洗浄液を給液ラインからシャワーヘッドに流すことにより、溝に洗浄液を供給し、液体排出口から排出する、 By flowing (c) washing liquid from the liquid supply line to the shower head, the cleaning liquid is supplied to the groove, it is discharged from the liquid discharge port,
    ことを特徴とする液浸型露光装置における保持台の洗浄方法。 Holder method of cleaning in an immersion type exposure apparatus characterized by.
JP2004320428A 2004-11-04 2004-11-04 Immersion-type exposure device and method for cleaning holding base in immersion-type exposure device Pending JP2006134999A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004320428A JP2006134999A (en) 2004-11-04 2004-11-04 Immersion-type exposure device and method for cleaning holding base in immersion-type exposure device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004320428A JP2006134999A (en) 2004-11-04 2004-11-04 Immersion-type exposure device and method for cleaning holding base in immersion-type exposure device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006134999A true JP2006134999A (en) 2006-05-25

Family

ID=36728287

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004320428A Pending JP2006134999A (en) 2004-11-04 2004-11-04 Immersion-type exposure device and method for cleaning holding base in immersion-type exposure device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006134999A (en)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006147776A (en) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp Maintenance device, maintenance method and exposure device
JP2008227548A (en) * 2004-12-20 2008-09-25 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2009078443A1 (en) * 2007-12-17 2009-06-25 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
KR101005511B1 (en) * 2007-09-27 2011-01-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Lithographic apparatus and method of cleaning a lithographic apparatus
US7916269B2 (en) 2007-07-24 2011-03-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method
US7927428B2 (en) 2006-09-08 2011-04-19 Nikon Corporation Cleaning member, cleaning method, and device manufacturing method
US8153355B2 (en) 2006-09-13 2012-04-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Immersion supporting plate cleaning method and a pattern forming method
US8243255B2 (en) 2007-12-20 2012-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and in-line cleaning apparatus
US8339572B2 (en) 2008-01-25 2012-12-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8587762B2 (en) 2007-09-27 2013-11-19 Asml Netherlands B.V. Methods relating to immersion lithography and an immersion lithographic apparatus
US8902399B2 (en) 2004-10-05 2014-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, cleaning system and cleaning method for in situ removing contamination from a component in a lithographic apparatus
US8906585B2 (en) 2012-03-28 2014-12-09 Renesas Electronics Corporation Method of manufacturing semiconductor device and exposure device
US8947629B2 (en) 2007-05-04 2015-02-03 Asml Netherlands B.V. Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method
US9013672B2 (en) 2007-05-04 2015-04-21 Asml Netherlands B.V. Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method
US9019466B2 (en) 2007-07-24 2015-04-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, reflective member and a method of irradiating the underside of a liquid supply system
US9110389B2 (en) 2003-06-11 2015-08-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US9289802B2 (en) 2007-12-18 2016-03-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method of cleaning a surface of an immersion lithographic apparatus
US10061207B2 (en) 2005-12-02 2018-08-28 Asml Netherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9110389B2 (en) 2003-06-11 2015-08-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US9964858B2 (en) 2003-06-11 2018-05-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8902399B2 (en) 2004-10-05 2014-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, cleaning system and cleaning method for in situ removing contamination from a component in a lithographic apparatus
JP2006147776A (en) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp Maintenance device, maintenance method and exposure device
JP2008227547A (en) * 2004-12-20 2008-09-25 Asml Netherlands Bv Lithography equipment and fabrication process of device
JP2008277854A (en) * 2004-12-20 2008-11-13 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method of manufacturing device
US9703210B2 (en) 2004-12-20 2017-07-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2008227548A (en) * 2004-12-20 2008-09-25 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8941811B2 (en) 2004-12-20 2015-01-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2008263221A (en) * 2004-12-20 2008-10-30 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2012044227A (en) * 2004-12-20 2012-03-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus
US10061207B2 (en) 2005-12-02 2018-08-28 Asml Netherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus
JP2012147030A (en) * 2006-09-08 2012-08-02 Nikon Corp Cleaning member, cleaning method, and device manufacturing method
US7927428B2 (en) 2006-09-08 2011-04-19 Nikon Corporation Cleaning member, cleaning method, and device manufacturing method
US8153355B2 (en) 2006-09-13 2012-04-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Immersion supporting plate cleaning method and a pattern forming method
US8947629B2 (en) 2007-05-04 2015-02-03 Asml Netherlands B.V. Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method
US9013672B2 (en) 2007-05-04 2015-04-21 Asml Netherlands B.V. Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method
US7916269B2 (en) 2007-07-24 2011-03-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method
US9599908B2 (en) 2007-07-24 2017-03-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method
US9158206B2 (en) 2007-07-24 2015-10-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method
US9019466B2 (en) 2007-07-24 2015-04-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, reflective member and a method of irradiating the underside of a liquid supply system
KR101059489B1 (en) * 2007-09-27 2011-08-25 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. The lithographic apparatus
KR101005511B1 (en) * 2007-09-27 2011-01-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Lithographic apparatus and method of cleaning a lithographic apparatus
US8587762B2 (en) 2007-09-27 2013-11-19 Asml Netherlands B.V. Methods relating to immersion lithography and an immersion lithographic apparatus
US8638421B2 (en) 2007-09-27 2014-01-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method of cleaning a lithographic apparatus
WO2009078443A1 (en) * 2007-12-17 2009-06-25 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
JP5446875B2 (en) * 2007-12-17 2014-03-19 株式会社ニコン Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
US9289802B2 (en) 2007-12-18 2016-03-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method of cleaning a surface of an immersion lithographic apparatus
US9405205B2 (en) 2007-12-20 2016-08-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and in-line cleaning apparatus
US9036128B2 (en) 2007-12-20 2015-05-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and in-line cleaning apparatus
US8243255B2 (en) 2007-12-20 2012-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and in-line cleaning apparatus
US8339572B2 (en) 2008-01-25 2012-12-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8906585B2 (en) 2012-03-28 2014-12-09 Renesas Electronics Corporation Method of manufacturing semiconductor device and exposure device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7561248B2 (en) Immersion exposure technique
KR101561727B1 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device producing method
JP4640516B2 (en) Exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5545868B2 (en) Exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5287791B2 (en) Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
KR101101737B1 (en) Exposure apparatus, exposure method and method for manufacturing device
JP5713085B2 (en) Exposure apparatus, and device manufacturing method
US9599907B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP4604452B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8520184B2 (en) Immersion exposure apparatus and device manufacturing method with measuring device
JP5019170B2 (en) Maintenance method, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
CN101470360B (en) Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method
US20050140948A1 (en) Exposure apparatus and method
JP5699978B2 (en) Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP4525827B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method, an exposure system
KR101339887B1 (en) Maintenance method, maintenance apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
KR101380989B1 (en) Exposure apparatus and device producing method
US20100157262A1 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP4352874B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP4997258B2 (en) Active drying station and an active drying method
KR101178755B1 (en) Exposure equipment, exposure method and device manufacturing method
JP5353810B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP4582089B2 (en) Liquid injection and recovery system for immersion lithography
JP5949878B2 (en) Exposure apparatus, device manufacturing method, and an exposure method
CN1860585B (en) Liquid immersion type lens system and projection exposure device