JP2006121016A - Manufacturing method of electronic component - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the manufacturing method of an electronic component with high dimension accuracy without delamination. <P>SOLUTION: The manufacturing method includes the steps of forming a conductor layer 2 on a support body 1; forming a first ceramic green sheet 3 on the support body 1 on which the conductor layer 2 is formed; forming a second ceramic green sheet 4; forming a lamination ceramic green sheet 5 comprising the conductor layer 2 and the first and second ceramic green sheets 3, 4, by laminating and heating the first and second ceramic green sheets 3, 4; forming a ceramic green sheet laminate 6 by laminating a plurality of the lamination ceramic green sheets 5; and sintering the ceramic green sheet laminator 6. The second ceramic green sheet 4 contains a melting component brought into a melting state in the case of the heating when the lamination ceramic green sheet 5 is manufactured, and the ceramic green sheet laminate 6 is manufactured. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、積層コンデンサや積層セラミック配線基板等のような電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component such as a multilayer capacitor or a multilayer ceramic wiring board.

近年、電子機器の小型化に伴い、積層コンデンサや積層セラミック配線基板のような電子部品において、小型化および高性能化が望まれている。例えば、積層コンデンサにおいては小型化および高容量化のためにより薄い誘電体層および導体層を多層化したものが求められている。また、積層セラミック配線基板においては小型化および配線導体の高密度化のためにより薄い絶縁層および配線導体層を多層に形成し、配線導体層の幅および間隔もより微細なものが求められている。   In recent years, with the miniaturization of electronic devices, there has been a demand for miniaturization and high performance in electronic components such as multilayer capacitors and multilayer ceramic wiring boards. For example, multilayer capacitors are required to have multilayered thin dielectric layers and conductor layers for miniaturization and high capacity. In addition, in a multilayer ceramic wiring board, a thinner insulating layer and a wiring conductor layer are formed in multiple layers in order to reduce the size and increase the density of the wiring conductor, and the wiring conductor layers are required to have finer widths and intervals. .

このような電子部品は、セラミック粉末に有機バインダー、可塑剤、溶剤等を加えてスラリーとし、ドクターブレード等によりセラミックグリーンシート(以下、グリーンシートともいう)を成形した後、金属粉末を含有する導体ペーストを印刷するなどして上述のグリーンシート上に導体層を形成し、ついで複数枚の導体層が形成されたグリーンシートを積層して加圧することにより圧着して積層体を得て、この積層体を焼成することで得られる。   Such electronic parts are made by adding an organic binder, plasticizer, solvent, etc. to ceramic powder to form a slurry, forming a ceramic green sheet (hereinafter also referred to as green sheet) with a doctor blade, etc., and then a conductor containing metal powder. A conductive layer is formed on the above-mentioned green sheet by printing a paste, etc., and then a green body on which a plurality of conductive layers are formed is laminated and pressed to obtain a laminated body. It is obtained by firing the body.

電子部品に対する要求に対応して導体層が形成されたグリーンシートを多数積層すると、導体層が形成された領域が重なる部分とそうでない部分ではその厚み差が大きくなる。このため積層されたグリーンシートを厚み方向に加圧した場合、導体層が形成された領域が重なる部分においては加圧力が十分に加わるものの、そうでない部分においては加圧力が十分に加わりにくくなるので、不十分な圧着となってしまいやすい。その結果、そのような積層体を焼成すると、圧着が不十分な部分でデラミネーション(層間剥離)が発生するという問題があった。   When a large number of green sheets on which conductor layers are formed are laminated in response to demands for electronic components, the difference in thickness between a portion where the conductor layer is formed overlaps with a portion where the region does not overlap. For this reason, when the laminated green sheets are pressed in the thickness direction, the applied pressure is sufficiently applied in the portion where the regions where the conductor layers are formed overlap, but the applied pressure is not easily applied in the other portions. It tends to be insufficient crimping. As a result, when such a laminate is fired, there is a problem in that delamination (delamination) occurs at a portion where the pressure bonding is insufficient.

このようなデラミネーションが電子部品の内部に存在すると、電気的な容量値の変化や絶縁破壊が起りやすくなるので電気的な特性が確保できないという問題があった。   When such delamination is present inside the electronic component, there is a problem in that electrical characteristics cannot be ensured because a change in electrical capacitance value or dielectric breakdown tends to occur.

このような問題に対して、特許文献1では、加圧された際の流動性が高い高流動性部分を有する積層体を用いることが提案されている。積層体を厚み方向に加圧した際に、内部電極が積層されている領域に存在する高流動性部分が残りの部分に移動して残りの部分の厚みが増大しようとすることにより、加圧力が全体に均一に加わることとなるので、デラミネーションが生じ難くなるものである。   In order to solve such a problem, Patent Document 1 proposes to use a laminate having a highly fluid portion having high fluidity when pressurized. When the laminated body is pressed in the thickness direction, the high fluidity part existing in the area where the internal electrodes are laminated moves to the remaining part and the thickness of the remaining part increases to increase the pressure. Is uniformly added to the entire surface, so that delamination hardly occurs.

また、グリーンシート上に形成された導体層の上に別のグリーンシートを積層する場合、この導体層の断面形状にグリーンシートが追従し難いために導体層の周辺に空隙が発生し、この空隙を起因とするデラミネーションが発生しやすいという問題があった。特に導体層の間隔が微細な場合は、導体層間に空隙が発生しやすかった。   In addition, when another green sheet is laminated on the conductor layer formed on the green sheet, the green sheet hardly follows the cross-sectional shape of the conductor layer, so that a void is generated around the conductor layer. There is a problem that delamination is likely to occur. In particular, when the distance between the conductor layers was fine, voids were easily generated between the conductor layers.

この問題に対しては、特許文献2では、グリーンシート上に導体層を形成した後、導体層の形成されている部分の周囲の領域にセラミックペーストを印刷することが提案されている。このような方法を用いれば、導体層の形成されている部分の周囲の領域にセラミックペーストを印刷することで導体層とグリーンシートとの段差をなくすことができる。このため、導体層の周辺や配線導体層間に空隙が発生することを抑え、空隙に起因するデラミネーションの発生も抑えることが可能となる。また、導体層が形成されたグリーンシートを複数枚積層しても厚み差が発生しないので、ムラなく加圧して圧着することが可能となり、圧着が不十分な部分が発生することを抑え、デラミネーションの発生を抑えることが可能となる。   In order to solve this problem, Patent Document 2 proposes that after a conductor layer is formed on a green sheet, a ceramic paste is printed in a region around the portion where the conductor layer is formed. If such a method is used, the step between the conductor layer and the green sheet can be eliminated by printing the ceramic paste in a region around the portion where the conductor layer is formed. For this reason, it is possible to suppress the generation of voids around the conductor layer and between the wiring conductor layers, and to suppress the occurrence of delamination caused by the voids. In addition, there is no difference in thickness even when a plurality of green sheets on which a conductor layer is formed are laminated, so that pressure can be applied without unevenness and crimping can be suppressed, and the occurrence of insufficient crimping can be suppressed. Generation of lamination can be suppressed.

また、特許文献3に記載されているような、導体が表面に形成された支持体上にセラミックスラリーを塗布して乾燥した後に剥離することにより、導体が形成された面が平坦なグリーンシートを形成する製法が提案されている。この方法でも同様に、配線導体層間の空隙に起因するデラミネーションや厚み差による圧着時の加圧ムラに起因するデラミネーションの発生を抑えることが可能となる。
特許第3344100号公報 特開平5−217448号公報 特開昭50−64768号公報
Further, as described in Patent Document 3, a ceramic slurry is applied on a support on which a conductor is formed on the surface, dried and then peeled off, thereby removing a green sheet having a flat surface on which the conductor is formed. A forming method has been proposed. Similarly in this method, it is possible to suppress the occurrence of delamination caused by the gap between the wiring conductor layers and the delamination caused by the pressurization unevenness at the time of pressure bonding due to the thickness difference.
Japanese Patent No. 3344100 JP-A-5-217448 Japanese Patent Laid-Open No. 50-64768

しかしながら、従来の高流動性部分を有する積層体を用いる方法においては、高流動性部分を移動させてデラミネーションが発生しないような圧着を行なうためには、例えば厚み方向に180MPaという高い圧力を加える必要がある。このような高い圧力を導体層が形成されたグリーンシートに加えると、グリーンシートや導体パターンの形状が変形してしまうこととなる。その結果、積層セラミック配線基板の所望の寸法精度が得られないために積層セラミック配線基板上への部品実装が困難となったり、設計通りの導体パターンの形状が得られないために、特に高周波用配線基板等ではインピーダンス整合等の電気的特性が得られなくなるという問題があった。さらに、導体パターンの間隔が微細な場合の導体層の周囲に発生する空隙の問題は解決されないままであった。   However, in the conventional method using a laminate having a high fluidity portion, a high pressure of 180 MPa, for example, is applied in the thickness direction in order to move the high fluidity portion and perform pressure bonding so that delamination does not occur. There is a need. When such a high pressure is applied to the green sheet on which the conductor layer is formed, the shape of the green sheet or the conductor pattern is deformed. As a result, the desired dimensional accuracy of the multilayer ceramic wiring board cannot be obtained, so it becomes difficult to mount components on the multilayer ceramic wiring board, and the conductor pattern shape as designed cannot be obtained. There has been a problem that electrical characteristics such as impedance matching cannot be obtained with a wiring board or the like. Furthermore, the problem of voids generated around the conductor layer when the interval between the conductor patterns is fine remains unsolved.

また、導体層の形成されている部分の周囲の領域にセラミックペーストを印刷する方法においては、導体層が形成されたグリーンシート上にさらにセラミックペーストを印刷するという工程が加わるばかりでなく、微細な導体パターンに正確に位置合わせして印刷するのが困難であり、特に導体パターンの間隔が微細な場合は隣り合う導体層間にセラミックペーストを印刷することが困難であった。このため導体層の上にもセラミックペーストが印刷されてしまい、導体層上に印刷されたセラミックペーストにより、積層されて上下に配置される導体層間を接続するための貫通導体が導体層と接続されなくなるという問題があった。   Further, in the method of printing the ceramic paste on the area around the portion where the conductor layer is formed, not only the step of printing the ceramic paste on the green sheet on which the conductor layer is formed is added, but also a fine It is difficult to accurately align and print the conductor pattern, and it is difficult to print the ceramic paste between adjacent conductor layers, particularly when the distance between the conductor patterns is fine. For this reason, the ceramic paste is also printed on the conductor layer, and the ceramic paste printed on the conductor layer connects the through conductors to connect the conductor layers that are stacked and arranged one above the other. There was a problem of disappearing.

さらに、導体が表面に形成された支持体上にセラミックスラリーを塗布し、乾燥後剥離することにより平坦なグリーンシートを形成する方法においては、積層工程において5乃至30MPaという高い圧力を加える必要がある。このような高い圧力をグリーンシートに加えると、グリーンシートや導体パターンの形状が変形してしまうこととなる。その結果、電子部品を作製した際、所望の寸法精度が得られないために電子部品上への部品実装が困難となったり、設計通りの導体パターンの形状が得られないために、特に高周波用配線基板等ではインピーダンス整合等の電気的特性が得られなくなるという問題があった。   Furthermore, in the method of forming a flat green sheet by applying a ceramic slurry on a support having a conductor formed on the surface, and then drying and peeling, it is necessary to apply a high pressure of 5 to 30 MPa in the laminating process. . When such a high pressure is applied to the green sheet, the shape of the green sheet or the conductor pattern is deformed. As a result, when producing electronic components, it is difficult to mount the components on the electronic components because the desired dimensional accuracy cannot be obtained, and the conductor pattern shape as designed cannot be obtained. There has been a problem that electrical characteristics such as impedance matching cannot be obtained with a wiring board or the like.

さらには、キャビティを有するような電子部品を製造する場合、キャビティとなる貫通穴を形成したグリーンシートとキャビティの底部となる貫通穴が形成されていないグリーンシートとを積層して圧着すると、グリーンシート積層体のキャビティ底部が反るという問題があった。これは、圧着するための加圧によりキャビティの周囲だけに圧力が加わり、キャビティ周囲のグリーンシートが加圧により伸びるのに対して、キャビティ底部には圧力が加わらないのでキャビティ底部のグリーンシートは周囲から押されることによる。これは、電子部品がより小型でキャビティ底部の厚みがより薄い場合により発生しやすい。キャビティ底部が反ると、水晶振動子やICチップ等の電子素子を搭載することが困難となる。搭載できても搭載された部品が傾くので、CCDやC−MOS等の光半導体素子を搭載した場合は受光精度が悪くなるという問題があった。   Furthermore, when manufacturing an electronic component having a cavity, a green sheet formed with a through hole serving as a cavity and a green sheet not formed with a through hole serving as a bottom of the cavity are laminated and pressed. There was a problem that the cavity bottom of the laminate was warped. This is because pressure is applied only to the periphery of the cavity due to pressurization for pressure bonding, and the green sheet around the cavity extends due to pressurization, whereas no pressure is applied to the bottom of the cavity, so the green sheet at the bottom of the cavity By being pushed from. This is more likely to occur when the electronic component is smaller and the cavity bottom is thinner. If the cavity bottom warps, it becomes difficult to mount an electronic element such as a crystal resonator or an IC chip. Even if it can be mounted, the mounted components are tilted. Therefore, when an optical semiconductor element such as a CCD or C-MOS is mounted, there is a problem that the light receiving accuracy is deteriorated.

本発明は、上記従来の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、デラミネーションがなく、かつ高い寸法精度を有する電子部品の製造方法を提供することである。   The present invention has been completed in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic component that has no delamination and has high dimensional accuracy.

本発明の電子部品の製造方法は、支持体上に導体層を形成する工程と、前記導体層の形成された支持体上に第1のセラミックグリーンシートを作製する工程と、第2のセラミックグリーンシートを作製する工程と、前記第1のセラミックグリーンシートと前記第2のセラミックグリーンシートとを積層して加熱することによって前記導体層と前記第1,第2のセラミックグリーンシートから成る積層セラミックグリーンシートを形成する工程と、前記導体層が形成された前記積層セラミックグリーンシートを複数枚積層して加熱することによってセラミックグリーンシート積層体を作製する工程と、前記セラミックグリーンシート積層体を焼成する工程とを具備しており、前記第2のセラミックグリーンシートは、前記積層セラミックグリーンシートを作製する際および前記セラミックグリーンシート積層体を作製する際の加熱時に溶融状態となる溶融成分を含有していることを特徴とする。   The electronic component manufacturing method of the present invention includes a step of forming a conductor layer on a support, a step of forming a first ceramic green sheet on the support on which the conductor layer is formed, and a second ceramic green. A laminated ceramic green comprising the conductor layer and the first and second ceramic green sheets by stacking and heating the first ceramic green sheet and the second ceramic green sheet; A step of forming a sheet, a step of producing a ceramic green sheet laminate by laminating and heating a plurality of the laminated ceramic green sheets on which the conductor layers are formed, and a step of firing the ceramic green sheet laminate And the second ceramic green sheet comprises the multilayer ceramic green Characterized in that it contains a melting component as a molten state when heated at the time of making the time and the ceramic green sheet laminate to produce a sheet.

本発明において好ましくは、前記溶融成分の融点が35乃至100℃であることを特徴とする。   In the present invention, the melting component preferably has a melting point of 35 to 100 ° C.

また、本発明において好ましくは、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して19乃至25質量部であることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the addition amount of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 19 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder.

また、本発明において好ましくは、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの分子量が8万乃至30万であることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the organic binder contained in the second ceramic green sheet has a molecular weight of 80,000 to 300,000.

また、本発明において好ましくは、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの酸価が0.1乃至0.8KOHmg/gであることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the acid value of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 0.1 to 0.8 KOHmg / g.

また、本発明において好ましくは、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して8乃至20質量部であることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the addition amount of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 8 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder.

また、本発明において好ましくは、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの平均分子量が5万乃至80万であることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the organic binder contained in the first ceramic green sheet has an average molecular weight of 50,000 to 800,000.

また、本発明において好ましくは、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの酸価が0.1乃至5KOHmg/gであることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the acid value of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 0.1 to 5 KOHmg / g.

また、本発明において好ましくは、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーのガラス転移点が−20乃至0℃であることを特徴とする。   In the present invention, preferably, the glass transition point of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is −20 to 0 ° C.

また、本発明において好ましくは、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの水酸基価が0.1乃至5KOHmg/gであることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the organic binder contained in the second ceramic green sheet has a hydroxyl value of 0.1 to 5 KOHmg / g.

また、本発明において好ましくは、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーのガラス転移点が−20乃至10℃であることを特徴とする。   In the present invention, preferably, the glass transition point of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is −20 to 10 ° C.

また、本発明において好ましくは、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの水酸基価が5乃至100KOHmg/gであることを特徴とする。   In the present invention, it is preferable that the organic binder contained in the first ceramic green sheet has a hydroxyl value of 5 to 100 KOHmg / g.

また、本発明において好ましくは、前記積層セラミックグリーンシートを作製する工程の加熱は、前記溶融成分の融点より0乃至70℃高い温度で行なうことを特徴とする。   In the present invention, preferably, the heating in the step of producing the multilayer ceramic green sheet is performed at a temperature higher by 0 to 70 ° C. than the melting point of the molten component.

本発明の電子部品の製造方法によれば、支持体上に導体層を形成する工程と、前記導体層が形成された支持体上に第1のセラミックグリーンシートを形成する工程とを具備していることから、前記導体層は前記第1のセラミックグリーンシート内に埋め込まれて形成されるため、前記第1のセラミックグリーンシートは導体の段差がなく平坦となり、加圧ムラに起因するデラミネーションの発生を抑えることができる。また、前記第2のセラミックグリーンシートは加熱時に溶融する溶融成分を含有することから、まず別々に作製した前記第1のセラミックグリーンシートと前記第2のセラミックグリーンシートとを積層して加熱することによって前記積層セラミックグリーンシートを作製する際に前記第2のセラミックグリーンシートが軟化するので、前記第2のセラミックグリーンシートはその上また下に位置する前記第1のセラミックグリーンシートの表面形状に追従して変形することとなる。その結果、前記第1のセラミックグリーンシートと前記第2のセラミックグリーンシートとの間に空隙が発生することなく前記第1,2のセラミックグリーンシート同士を密着させることができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of the present invention, the method includes a step of forming a conductor layer on a support and a step of forming a first ceramic green sheet on the support on which the conductor layer is formed. Therefore, since the conductor layer is formed by being embedded in the first ceramic green sheet, the first ceramic green sheet is flat without a step of the conductor, and delamination caused by uneven pressure is caused. Occurrence can be suppressed. In addition, since the second ceramic green sheet contains a melting component that melts when heated, the first ceramic green sheet and the second ceramic green sheet produced separately are first laminated and heated. Since the second ceramic green sheet is softened when the multilayer ceramic green sheet is manufactured by the above, the second ceramic green sheet follows the surface shape of the first ceramic green sheet positioned above or below the second ceramic green sheet. Will be deformed. As a result, the first and second ceramic green sheets can be brought into close contact with each other without generating a gap between the first ceramic green sheet and the second ceramic green sheet.

前記積層セラミックグリーンシート同士を積層して加熱した際には前記第2のセラミックグリーンシートが軟化するので、前記第2のセラミックグリーンシートはその上また下に位置する前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形することとなる。その結果、前記導体層周囲や導体層間に空隙が発生することなく前記積層セラミックグリーンシート同士が密着することとなり、前記セラミックグリーンシート積層体を焼成して得られる電子部品はデラミネーションの発生のないものとなる。   When the laminated ceramic green sheets are laminated and heated, the second ceramic green sheet softens, so that the second ceramic green sheet is positioned above and below the first ceramic green sheet and Deformation follows the surface shape of the conductor layer. As a result, the multilayer ceramic green sheets are brought into close contact with each other without generating voids around the conductor layer or between the conductor layers, and the electronic component obtained by firing the ceramic green sheet laminate is free from delamination. It will be a thing.

前記第2のセラミックグリーンシートは、加熱時に溶融する溶融成分を含有することから、加熱のみで前記第2のセラミックグリーンシートが軟化して接着性を有するものとなるので、大きな加圧力により前期積層セラミックグリーンシートを圧着させる必要がない。さらに加熱しない常温においては前記第2のセラミックグリーンシートが軟化せず接着性を持たない為、加熱しない加工においてハンドリングが容易である利点をもつ。   Since the second ceramic green sheet contains a melting component that melts when heated, the second ceramic green sheet softens and has adhesiveness only by heating. There is no need to crimp ceramic green sheets. Furthermore, since the second ceramic green sheet does not soften and does not have adhesiveness at room temperature without heating, there is an advantage that handling is easy in processing without heating.

そして、前記導体層の形成される前記第1のセラミックグリーンシートは加熱時に溶融する溶融成分を含有しないことから、前記第1のセラミックグリーンシートは加熱時に変形することはなく、積層した前記積層セラミックグリーンシート同士が位置ずれしないように、また、軟化した前記第2のセラミックグリーンシートを前記第1のセラミックグリーンシートおよび導体層の表面形状に追従して変形するのを補助するために押さえる程度では変形しないものである。よって、前記積層セラミックグリーンシートおよびそれに形成された前記導体層の形状が変形することがなく、得られる前記セラミックグリーンシート積層体およびそれを焼成して得られる電子部品は高い寸法精度を有するものとなる。   And since the said 1st ceramic green sheet in which the said conductor layer is formed does not contain the fusion | melting component which fuse | melts at the time of a heating, the said 1st ceramic green sheet does not deform | transform at the time of a heating, The said laminated ceramic laminated | stacked In order to prevent the green sheets from being displaced from each other and to hold the softened second ceramic green sheet in order to assist in deformation following the surface shapes of the first ceramic green sheet and the conductor layer. It does not deform. Therefore, the shape of the multilayer ceramic green sheet and the conductor layer formed thereon is not deformed, and the obtained ceramic green sheet laminate and the electronic component obtained by firing it have high dimensional accuracy. Become.

また、加熱時に溶融する溶融成分の融点が35℃乃至100℃であるものを用いた場合は、常温では前記第2のセラミックグリーンシートが軟化して変形することはないので、積層工程までのハンドリングが容易となり、加熱時に前記第1,2のセラミックグリーンシート中の有機バインダーや可塑剤等の有機成分が分解することがないので、分解ガスによりデラミネーションが発生してしまうことがなく、より好ましいものとなる。   In addition, when the melting point of the melting component that is melted during heating is 35 ° C. to 100 ° C., the second ceramic green sheet does not soften and deform at room temperature, so handling up to the lamination process It is easier, and organic components such as the organic binder and plasticizer in the first and second ceramic green sheets are not decomposed during heating, so that delamination does not occur due to the decomposition gas, which is more preferable. It will be a thing.

また、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して19乃至25質量部であれば、前記第2のセラミックグリーンシートはその上または下に位置する前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形するため、層間での剥離やデラミネーションが発生することなく、かつ加圧による前記積層セラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため寸法ばらつきが小さく、より好ましいものとなる。   In addition, when the addition amount of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 19 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder, the second ceramic green sheet is positioned above or below the second ceramic green sheet. Since it deforms following the surface shapes of the first ceramic green sheet and the conductor layer, it does not cause delamination or delamination between layers, and there is no distortion of the multilayer ceramic green sheet due to pressurization. Since the pressure bonding can be performed with a low applied pressure, the dimensional variation is small, which is more preferable.

また、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの分子量が8万乃至30万であれば、前記第1のセラミックグリーンシートの保形性を維持し、前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が加熱により溶融した際に均一に分散し、前記第2のセラミックグリーンシートの溶融成分が十分な量を維持できるため、層間での剥離やデラミネーションが発生することなく、かつグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため寸法ばらつきが小さく、より好ましいものとなる。   Further, if the molecular weight of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 80,000 to 300,000, the shape retention of the first ceramic green sheet is maintained, and the organic ceramic binder is contained in the second ceramic green sheet. The molten component is uniformly dispersed when melted by heating, and a sufficient amount of the molten component of the second ceramic green sheet can be maintained, so that there is no delamination or delamination between layers and green Since pressure bonding can be performed with such a low pressing force that there is no distortion to the sheet, dimensional variation is small, which is more preferable.

また、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの酸価が0.1乃至0.8KOHmg/gであれば、前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が加熱により溶融した際に均一に分散され、かつ前記積層セラミックグリーンシートを加熱して前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が十分な量を維持できるため、層間での剥離やデラミネーションが発生することなく、かつ加圧による前記積層セラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため寸法ばらつきが小さくなり、より好ましいものとなる。   In addition, when the acid value of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 0.1 to 0.8 KOHmg / g, the molten component contained in the second ceramic green sheet is melted by heating. And the laminated ceramic green sheet can be heated to maintain a sufficient amount of the molten component contained in the second ceramic green sheet, so that no delamination or delamination occurs between the layers. In addition, since the pressure bonding can be performed with such a low pressing force that there is no distortion to the multilayer ceramic green sheet due to pressurization, the dimensional variation becomes smaller, which is more preferable.

また、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して8乃至20質量部であれば、前記第1および第2のセラミックグリーンシートを積層して加熱することによって前記積層セラミックグリーンシートを作製する際に、前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が前記第1のセラミックグリーンシートへ拡散することを抑制することができ、かつ積層時に前記積層セラミックグリーンシートを加熱して前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が十分な量を維持できるため、前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形することから、デラミネーションが発生することなく、かつ加圧によるセラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため、寸法ばらつきが小さく、より好ましいものとなる。   Further, if the addition amount of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 8 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder, the first and second ceramic green sheets are laminated and heated. When producing the multilayer ceramic green sheet by doing so, it is possible to suppress the diffusion of the molten component contained in the second ceramic green sheet to the first ceramic green sheet, and at the time of lamination Since the laminated ceramic green sheet can be heated to maintain a sufficient amount of the molten component contained in the second ceramic green sheet, it deforms following the surface shapes of the first ceramic green sheet and the conductor layer. Therefore, no delamination occurs and the ceramic Since it bonded at low pressure of about no distortion of the sheet is small dimensional variation becomes more preferable.

また、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの分子量が5万乃至80万であれば、前記第1および第2のセラミックグリーンシートを積層して加熱することによって前記積層セラミックグリーンシートを作製する際に、前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が前記第1のセラミックグリーンシートへ拡散することを抑制することができ、かつ積層時に前記積層セラミックグリーンシートを加熱して前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が十分な量を維持できるため、前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形するため、デラミネーションが発生することなく、かつ加圧による前記積層セラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため、寸法ばらつきが小さく、かつ前記第1のセラミックグリーンシートの外観状態がよいため、より好ましいものとなる。   If the molecular weight of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 50,000 to 800,000, the first and second ceramic green sheets are laminated and heated to heat the laminated ceramic green sheet. When producing, the molten component contained in the second ceramic green sheet can be prevented from diffusing into the first ceramic green sheet, and the laminated ceramic green sheet is heated during lamination to Since a sufficient amount of the molten component contained in the second ceramic green sheet can be maintained, it deforms following the surface shape of the first ceramic green sheet and the conductor layer, so that no delamination occurs. And there is no distortion to the multilayer ceramic green sheet due to pressure Since it bonded at lower pressure, small dimensional variations, and because good appearance state of the first ceramic green sheet becomes more preferable.

また、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの酸価が0.1乃至5.0KOHmg/gであれば、前記第1および第2のセラミックグリーンシートを積層し加熱することによって前記積層セラミックグリーンシートを作製する際に、前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が前記第1のセラミックグリーンシートへ拡散することを抑制することができ、かつ積層時に前記積層セラミックグリーンシートを加熱して前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が十分な量を維持でき、前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形するため、デラミネーションが発生することなく、加圧による前記積層セラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため、寸法ばらつきが小さく、かつ前記第1のセラミックグリーンシートの外観状態がよいため、より好ましいものとなる。   If the acid value of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 0.1 to 5.0 KOHmg / g, the first and second ceramic green sheets are stacked and heated to stack the stacked layers. When producing a ceramic green sheet, the molten component contained in the second ceramic green sheet can be prevented from diffusing into the first ceramic green sheet, and the laminated ceramic green sheet is Heating can maintain a sufficient amount of the molten component contained in the second ceramic green sheet, and deformation occurs following the surface shape of the first ceramic green sheet and the conductor layer, resulting in delamination Without any distortion to the multilayer ceramic green sheet due to pressure. Since it pressed at a low pressure of, small dimensional variations, and because good appearance state of the first ceramic green sheet becomes more preferable.

また、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーのガラス転移点が−20乃至0℃であれば、前記第2のセラミックグリーンシートの保形性を維持し、かつ積層時に前記積層セラミックグリーンシートを加熱して前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が十分な量を維持でき、前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形するため、デラミネーションの発生がなく、かつ加圧による前記積層セラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため、寸法ばらつきが小さく、より好ましいものとなる。   If the glass transition point of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is −20 to 0 ° C., the shape-retaining property of the second ceramic green sheet is maintained and the laminated ceramic green is laminated. Since the sheet can be heated to maintain a sufficient amount of the melting component contained in the second ceramic green sheet and deforms following the surface shape of the first ceramic green sheet and the conductor layer, delamination Therefore, it is possible to press-bond with a pressurizing force as low as possible without causing distortion to the multilayer ceramic green sheet due to pressurization.

また、前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの水酸基価が0.1乃至5KOHmg/gであれば、前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が加熱により溶融した際に均一に分散され、かつ積層時に前記積層セラミックグリーンシートを加熱して前記第2のセラミックグリーンシートに含有される溶融成分が十分な量を維持でき、前記第1のセラミックグリーンシートおよび前記導体層の表面形状に追従して変形するため、デラミネーションの発生がなく、かつ前記積層セラミックグリーンシートへの歪みが無いほどの低い加圧力で圧着できるため、寸法ばらつきが小さく、より好ましいものとなる。   In addition, when the hydroxyl value of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 0.1 to 5 KOHmg / g, it is uniform when the melting component contained in the second ceramic green sheet is melted by heating. And the laminated ceramic green sheet is heated at the time of lamination to maintain a sufficient amount of the molten component contained in the second ceramic green sheet, and the surfaces of the first ceramic green sheet and the conductor layer can be maintained. Since the deformation follows the shape, delamination does not occur and the multilayer ceramic green sheet can be pressure-bonded with such a low pressing force that there is no distortion.

また、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーのガラス転移点が−20乃至10℃であれば、前記第1および第2のセラミックグリーンシートを積層して加熱することによって前記積層セラミックグリーンシートを作製した際に、前記積層セラミックグリーンシートの付着及び割れや欠けを防ぐことができ、より好ましいものとなる。   If the glass transition point of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is −20 to 10 ° C., the first and second ceramic green sheets are laminated and heated to heat the laminated ceramic green. When a sheet is produced, adhesion, cracking and chipping of the multilayer ceramic green sheet can be prevented, which is more preferable.

また、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの水酸基価が5乃至100KOHmg/gであるものを用いた場合、前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる無機粉末および有機バインダーが均一に分散されるため、寸法ばらつきが小さく、かつ加熱時に前記第2のセラミックグリーンシート層に含まれる溶融成分が前記第1のセラミックグリーンシート層および前記導体層の表面形状へ追従して変形するため、デラミネーションの発生がなく、より好ましいものとなる。   In addition, when the organic binder contained in the first ceramic green sheet has a hydroxyl value of 5 to 100 KOHmg / g, the inorganic powder and the organic binder contained in the first ceramic green sheet are uniformly dispersed. Therefore, the dimensional variation is small and the molten component contained in the second ceramic green sheet layer is deformed following the surface shapes of the first ceramic green sheet layer and the conductor layer during heating. There is no occurrence of lamination, which is more preferable.

また、前記積層セラミックグリーンシートを作製する工程の加熱を溶融成分の融点より0乃至70℃高い温度で行なうことにより、前記第2のセラミックグリーンシートから前記第1のセラミックグリーンシートへ適当な量の溶融成分が拡散することとなり、前記第2のセラミックグリーンシートと前記第1のセラミックグリーンシートの界面の接合強度が保たれ、かつセラミックグリーンシート積層体を作製する際の加熱時に、前記第2のセラミックグリーンシートが加熱のみで軟化して、前記第1のセラミックグリーンシート及び前記導体層の表面形状に追従して変形し、接着性を有するものとなるのに十分な量の溶融成分を前記第2のセラミックグリーンシート内に保持できる。   Further, by performing heating in the step of producing the multilayer ceramic green sheet at a temperature that is 0 to 70 ° C. higher than the melting point of the molten component, an appropriate amount from the second ceramic green sheet to the first ceramic green sheet is achieved. The molten component diffuses, the bonding strength at the interface between the second ceramic green sheet and the first ceramic green sheet is maintained, and when the second ceramic green sheet laminate is heated at the time of heating, The ceramic green sheet is softened only by heating, deforms following the surface shapes of the first ceramic green sheet and the conductor layer, and a sufficient amount of the molten component is added so as to have adhesiveness. 2 can be held in the ceramic green sheet.

また、キャビティを有する電子部品を製造する場合、大きな加圧力によりセラミックグリーンシートを圧着させる必要がないので、キャビティ周囲部とキャビティ底部との加圧によるグリーンシートの伸びの違いによるキャビティ底部の反りの発生を抑えることが可能となり、キャビティ底部に電子素子を精度よく確実に搭載することが可能な電子部品を得ることができる。   In addition, when manufacturing electronic parts having cavities, it is not necessary to press the ceramic green sheet with a large applied pressure, so the warping of the bottom of the cavity due to the difference in the elongation of the green sheet due to the pressurization between the cavity periphery and the cavity bottom. It is possible to suppress the generation, and it is possible to obtain an electronic component that can accurately and reliably mount the electronic element on the bottom of the cavity.

このように、本発明の製造方法によれば、セラミックグリーンシート間に空隙を発生させることがなく、セラミックグリーンシートや導体層の変形を抑えたセラミックグリーンシート積層体を得ることが可能となり、本発明の製造方法により作製された電子部品はデラミネーションがなく、高い寸法精度を有する電子部品となる。   As described above, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain a ceramic green sheet laminate in which no gap is generated between the ceramic green sheets and the deformation of the ceramic green sheet or the conductor layer is suppressed. The electronic component produced by the manufacturing method of the invention has no delamination and becomes an electronic component having high dimensional accuracy.

本発明の電子部品の製造方法について以下に詳細に説明する。   The method for manufacturing an electronic component of the present invention will be described in detail below.

図1は本発明の電子部品の製造方法の実施の形態の一例を示す工程毎の断面図であり、1は支持体、2は導体層、3は第1のセラミックグリーンシート、4は第2のセラミックグリーンシート、5は積層セラミックグリーンシート(以下、セラミックグリーンシートをCGともいう)、6はセラミックグリーンシート積層体である。   FIG. 1 is a cross-sectional view for each process showing an example of an embodiment of a method of manufacturing an electronic component according to the present invention, wherein 1 is a support, 2 is a conductor layer, 3 is a first ceramic green sheet, and 4 is a second. The ceramic green sheet 5 is a laminated ceramic green sheet (hereinafter, the ceramic green sheet is also referred to as CG), and 6 is a ceramic green sheet laminate.

まず図1(a)に示すように、支持体1上に導体層2を形成する。支持体1上に導体層2を形成する方法としては、例えば導体材料粉末をペースト化したもの(導体ペースト)をスクリーン印刷法やグラビア印刷法、またはインクジェット印刷法等の印刷により形成する方法、または、セミアディテブ法、アディテブ法といっためっき法、サブトラクト法等の金属箔を加工する方法、または蒸着法等の所定パターン形状の金属膜を支持体1に直接形成する方法や、あるいは印刷により所定パターン形状に形成した導体厚膜や所定パターン形状に加工した金属箔、めっき法や蒸着法等により形成した所定パターン形状の金属膜を支持体1に転写する方法がある。   First, as shown in FIG. 1A, a conductor layer 2 is formed on a support 1. As a method of forming the conductor layer 2 on the support 1, for example, a method of forming a paste of conductor material powder (conductor paste) by printing such as screen printing, gravure printing, or ink jet printing, or , A method of processing a metal foil such as a plating method such as a semi-additive method or an additive method, a subtract method, a method of directly forming a metal film having a predetermined pattern shape such as a vapor deposition method, or a method of forming a predetermined pattern shape by printing There are methods of transferring the formed conductor thick film, a metal foil processed into a predetermined pattern shape, a metal film having a predetermined pattern shape formed by a plating method, a vapor deposition method or the like to the support 1.

導体材料としては、例えばW,Mo,Mn,Au,Ag,Cu,Pd(パラジウム),Pt(白金)等の1種または2種以上が挙げられ、2種以上の場合は混合、合金、コーティング等のいずれの形態であってもよい。   Examples of the conductive material include one or more of W, Mo, Mn, Au, Ag, Cu, Pd (palladium), Pt (platinum), etc., and in the case of two or more, mixing, alloy, coating Or any other form.

本発明において、導体層2を印刷法で形成する場合、導体ペーストは、導体粉末、有機バインダー(以下、バインダーともいう)、溶剤等を混合したものが用いられ、導体粒子の分散性や導体層2の硬度や強度を調整するために分散剤や可塑剤を添加してしてもよい。   In the present invention, when the conductor layer 2 is formed by a printing method, the conductor paste is a mixture of a conductor powder, an organic binder (hereinafter also referred to as a binder), a solvent, and the like. In order to adjust the hardness and strength of 2, a dispersant or a plasticizer may be added.

ここで、上記導体ペーストに適用されるバインダーとしては、従来より導体ペーストに使用されているものが使用可能であり、例えばアクリル系(アクリル酸,メタクリル酸またはそれらのエステルの単独重合体または共重合体,具体的にはアクリル酸エステル共重合体,メタクリル酸エステル共重合体,アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体等),ポリビニルブチラ−ル系,ポリビニルアルコール系,アクリル−スチレン系,ポリプロピレンカーボネート系,セルロース系等の単独重合体または共重合体が挙げられる。焼成工程での分解、揮発性を考慮すると、アクリル系、アルキド系のバインダーがより好ましい。またバインダーの添加量としては、導体粒子の形状、種類等により異なるが、バインダーの分解性に問題なく、かつ導体粒子を分散できる量であればよい。   Here, as the binder applied to the conductor paste, those conventionally used for conductor paste can be used. For example, acrylic (acrylic acid, methacrylic acid or ester homopolymer or copolymer) Polymer, specifically acrylic ester copolymer, methacrylic ester copolymer, acrylic ester-methacrylic ester copolymer, etc.), polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, acrylic-styrene, polypropylene Examples include carbonate-based and cellulose-based homopolymers or copolymers. In view of decomposition and volatility in the firing step, acrylic and alkyd binders are more preferable. The amount of the binder added varies depending on the shape and type of the conductor particles, but may be any amount that can disperse the conductor particles without any problem in the decomposability of the binder.

さらに、上記導体ペーストに適用される溶剤としては、上記の導体粉末とバインダーとを良好に分散させて混合できるようなものであればよく、テルピネオールやブチルカルビトールアセテート及びフタル酸等の可塑剤などが使用可能であるが、導体層2の形成後の溶剤の乾燥性を考慮し、テルピネオール等の低沸点溶剤などが好ましい。   Furthermore, the solvent applied to the conductor paste may be any solvent that can disperse and mix the conductor powder and binder, and plasticizers such as terpineol, butyl carbitol acetate, and phthalic acid. However, in consideration of the drying property of the solvent after the formation of the conductor layer 2, a low boiling point solvent such as terpineol is preferable.

本発明における支持体1は、導体層2及び第1,2のCG3,4を成形できるものであればよく、従来から用いられているポリエチレンテレフタレート(以下、PET)やポリブチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化エチレン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂等の樹脂製の他、上質紙、成形紙等の紙製の支持体を用いることができる。   The support 1 in the present invention is not limited as long as it can form the conductor layer 2 and the first and second CGs 3 and 4, and conventionally used polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) or polybutylene terephthalate-isophthalate. Polyester resins such as polymers, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene, polyfluorinated ethylene resins, cellulose resins, acrylic resins, and other paper-made supports such as fine paper and molded paper Can be used.

第1および第2のCG3,4を形成する支持体1の表面には、第1,2のCG3,4形成後、支持体1からの剥がし性を向上するため、離型層等の表面処理層を形成してもよい。離型層の種類としては大別してシリコーン系の離型剤と、非シリコーン系の離型剤があり、非シリコーン系の離型剤としてはフッ素系のなどを用いることができる。この離型剤としては商品形態別にいえば無溶剤型、エマルジョン型、溶剤型のいずれでも使用し得る。またこの離型層の厚みは、用いられる離型剤の種類等により異なるが、第1および第2のCG3,4を支持体1から剥がすことができ、かつ導体ペーストを用いて導体を形成する場合、離型剤により導体層2形成時に導体ペーストのハジキが発生しない程度の厚みであればよい。   In order to improve the peelability from the support 1 after the formation of the first and second CGs 3 and 4 on the surface of the support 1 on which the first and second CGs 3 and 4 are formed, surface treatment such as a release layer A layer may be formed. The types of release layers are broadly classified into silicone release agents and non-silicone release agents, and fluorine-based release agents can be used as the non-silicone release agents. As the release agent, any of a solventless type, an emulsion type, and a solvent type can be used depending on the product form. The thickness of the release layer varies depending on the type of release agent used, but the first and second CGs 3 and 4 can be peeled off from the support 1 and a conductor is formed using a conductor paste. In this case, the thickness of the conductive paste may be such that no repelling of the conductive paste occurs when the conductive layer 2 is formed by the release agent.

支持体1に導体を形成する場合、導体層2の形成を容易にするため、表面に処理を行い粗面を形成することもできる。粗面の形成方法としては、例えばウォータージェット、ケミカルブラスト、サンドブラスト、ウェットブラスト(砥粒と水とを空気圧により噴射させる方法)等が挙げられる。また支持体内に空孔や無機粒子等を混合し埋め込むことにより、支持体表面に粗面を形成する方法なども適用できる。また粗面の形成は、離型層等の表面処理層の性能が維持できる範囲であれば、表面処理層の形成前でも後でもよい。   When a conductor is formed on the support 1, the surface can be processed to form a rough surface in order to facilitate the formation of the conductor layer 2. Examples of the rough surface forming method include water jet, chemical blasting, sand blasting, wet blasting (a method of spraying abrasive grains and water by air pressure) and the like. Further, a method of forming a rough surface on the surface of the support by mixing and embedding pores or inorganic particles in the support can also be applied. The rough surface may be formed before or after the surface treatment layer is formed as long as the performance of the surface treatment layer such as the release layer can be maintained.

次に、図1(b)に示すように、導体層2の形成された支持体1上に第1のCG3を作製し、別の支持体上に第2のCG4をそれぞれ作製する。第1のCG3および第2のCG4は、セラミック粉末、バインダー、溶剤等を混合したセラミックスラリーをドクターブレード法,リップコーター法,ダイコーター法等により形成する方法によって得ることが可能である。セラミック粉末の分散性やCGの硬度や強度を調整するために分散剤や可塑剤を添加してしてもよい。また、第2のCG4は、積層CG5やCG積層体6を作製する工程において加熱時に溶融状態となる溶融成分を含有している。   Next, as shown in FIG.1 (b), 1st CG3 is produced on the support body 1 in which the conductor layer 2 was formed, and 2nd CG4 is produced on another support body, respectively. The first CG 3 and the second CG 4 can be obtained by a method in which a ceramic slurry in which ceramic powder, a binder, a solvent, and the like are mixed is formed by a doctor blade method, a lip coater method, a die coater method, or the like. In order to adjust the dispersibility of the ceramic powder and the hardness and strength of the CG, a dispersant or a plasticizer may be added. Moreover, 2nd CG4 contains the molten component which will be in a molten state at the time of a heating in the process of producing lamination | stacking CG5 and the CG laminated body 6. FIG.

本発明の他に積層CG5を形成する方法として、導体層2の形成された支持体上1に形成された、第1のCG3上に第2のCG4のスラリーを塗布して形成する方法や、導体層2の形成された支持体1上に塗布された第1のCG3のスラリー上に第2のCG4のスラリーを塗布して形成する方法においても、積層CG5を製造することが可能である。この方法では、積層CG5を形成する際、第1および第2のCG3,4またはスラリーの混合、同一化を防止するため、第1および第2のCG3,4またはスラリーの溶解度パラメーターの差をある範囲内に設定する必要がある。これに対して、本発明の電子部品の製造方法では、第1のCG3と第2のCG4とを別々に形成し、積層して加熱することによって導体層2及び第1および第2のCG3,4からなる積層CG5を作製することから、積層CG5を形成する際に混合、同一化することがなく、より広い溶解度パラメーターのCGまたはセラミックスラリーを使用することができる。   In addition to the present invention, as a method of forming the laminated CG5, a method of forming a second CG4 slurry on the first CG3 formed on the support 1 on which the conductor layer 2 is formed, The laminated CG5 can also be manufactured by a method in which the slurry of the second CG4 is applied on the slurry of the first CG3 applied on the support 1 on which the conductor layer 2 is formed. In this method, when forming the laminated CG5, there is a difference in solubility parameter between the first and second CGs 3, 4 or the slurry in order to prevent mixing and identification of the first and second CGs 3, 4 or the slurry. Must be set within range. On the other hand, in the method for manufacturing an electronic component according to the present invention, the first CG 3 and the second CG 4 are separately formed, laminated and heated to heat the conductor layer 2 and the first and second CG 3. Since the laminated CG5 composed of 4 is produced, the CG or ceramic slurry having a wider solubility parameter can be used without forming and mixing the same when forming the laminated CG5.

第1のCG3の厚さは、導体層2の間隔に空隙が発生しないように、導体層2の形状が変化しない程度に導体層2の厚みより厚くなるように形成される。また、導体層2の形成された支持体1上に第1のCG3を作製する方法として、導体層2の形成された支持体1と別の支持体上に形成された第1のCG3を積層し、圧力や温度をかけ、導体層2を第1のCG3内へ埋め込むことにより、導体層2を第1のCG3へ転写する方法も適用できる。これは、導体層2を形成した支持体上にセラミックスラリーを塗布する場合と比較し、導体層2がセラミックスラリー内の溶剤により溶解しやすい場合には、導体層2の溶解により、導体欠損による電気接続不良(オープン)や導体層2間の電気的短絡(ショート)等の電気特性不良が発生せず、より好ましい。   The thickness of the first CG 3 is formed so as to be thicker than the thickness of the conductor layer 2 so as not to change the shape of the conductor layer 2 so that no gap is generated in the gap between the conductor layers 2. Further, as a method for producing the first CG 3 on the support 1 on which the conductor layer 2 is formed, the support 1 on which the conductor layer 2 is formed and the first CG 3 formed on another support are laminated. However, a method of transferring the conductor layer 2 to the first CG 3 by applying pressure or temperature and embedding the conductor layer 2 in the first CG 3 can also be applied. Compared with the case where the ceramic slurry is applied on the support on which the conductor layer 2 is formed, the conductor layer 2 is dissolved by the solvent in the ceramic slurry. Electrical characteristics such as poor electrical connection (open) and electrical short circuit (short) between the conductor layers 2 do not occur, which is more preferable.

上記セラミックスラリーを得るためのセラミック粉末としては、例えばセラミック配線基板であれば、Al,AlN,ガラスセラミック粉末(ガラス粉末とフィラー粉末との混合物)等が挙げられ、積層コンデンサであればBaTiO系,PbTiO系等の複合ペロブスカイト系セラミック粉末が挙げられ、電子部品に要求される特性に合わせて適宜選択される。 Examples of the ceramic powder for obtaining the ceramic slurry include Al 2 O 3 , AlN, glass ceramic powder (mixture of glass powder and filler powder), etc., if it is a ceramic wiring board, and if it is a multilayer capacitor. Composite perovskite ceramic powders such as BaTiO 3 system and PbTiO 3 system are listed, and they are appropriately selected according to the characteristics required for electronic parts.

ガラスセラミック粉末のガラス成分としては、例えばSiO−B系、SiO−B−Al系,SiO−B−Al−MO系(ただし、MはCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す),SiO−Al−MO−MO系(ただし、MおよびMは同じまたは異なってCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す),SiO−B−Al−MO−MO系(ただし、MおよびMは上記と同じである),SiO−B−M O系(ただし、MはLi、NaまたはKを示す),SiO−B−Al−M O系(ただし、Mは上記と同じである),Pb系ガラス,Bi系ガラス等が挙げられる。 Examples of the glass component of the glass ceramic powder include SiO 2 —B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 —MO system (however, , M represents Ca, Sr, Mg, Ba or Zn), SiO 2 —Al 2 O 3 —M 1 O—M 2 O system (where M 1 and M 2 are the same or different and Ca, Sr, Mg , Ba or Zn), SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 —M 1 O—M 2 O system (where M 1 and M 2 are the same as above), SiO 2 —B 2 O 3 —M 3 2 O system (where M 3 represents Li, Na or K), SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 —M 3 2 O system (where M 3 is the same as above) Pb glass, Bi glass and the like.

また、ガラスセラミック粉末のフィラー粉末としては、例えばAl,SiO,ZrOとアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物,TiOとアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物,AlおよびSiOから選ばれる少なくとも1種を含む複合酸化物(例えばスピネル,ムライト,コージェライト)等のセラミック粉末が挙げられる。 Further, as the filler powder of the glass ceramic powder, for example, a composite oxide of Al 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 and an alkaline earth metal oxide, a composite oxide of TiO 2 and an alkaline earth metal oxide, A ceramic powder such as a composite oxide (for example, spinel, mullite, cordierite) containing at least one selected from Al 2 O 3 and SiO 2 can be used.

セラミックスラリーに配合されるバインダーとしては、従来よりセラミックスラリーに使用されているものが使用可能であり、例えばアクリル系(アクリル酸,メタクリル酸またはそれらのエステルの単独重合体または共重合体,具体的にはアクリル酸エステル共重合体,メタクリル酸エステル共重合体,アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体等),ポリビニルブチラ−ル系,ポリビニルアルコール系,アクリル−スチレン系,ポリプロピレンカーボネート系,セルロース系等の単独重合体または共重合体が挙げられる。焼成工程での分解、揮発性を考慮すると、アクリル系バインダーがより好ましい。   As the binder to be blended in the ceramic slurry, those conventionally used in the ceramic slurry can be used. For example, acrylic (a homopolymer or copolymer of acrylic acid, methacrylic acid or their esters, specifically, Acrylic ester copolymer, methacrylic ester copolymer, acrylic ester-methacrylic ester copolymer, etc.), polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, acrylic-styrene, polypropylene carbonate, cellulose Homopolymers or copolymers such as systems. In view of decomposition and volatility in the firing step, an acrylic binder is more preferable.

溶剤としては、上記のセラミック粉末とバインダーとを良好に分散させて混合できるようなものであればよく、トルエン,ケトン類,アルコール類の有機溶媒や水等が挙げられる。これらの中で、トルエン,メチルエチルケトン,イソプロピルアルコール等の蒸発係数の高い溶剤はスラリー塗布後の乾燥工程が短時間で実施できるので好ましい。   The solvent is not particularly limited as long as the ceramic powder and the binder can be well dispersed and mixed, and examples thereof include organic solvents such as toluene, ketones, alcohols, and water. Among these, solvents having a high evaporation coefficient such as toluene, methyl ethyl ketone, and isopropyl alcohol are preferable because the drying step after slurry application can be performed in a short time.

第2のCG4に含有される溶融成分は、積層CG5やCG積層体6を作製する際の加熱時に溶融状態となるものであり、炭化水素,脂肪酸,エステル,脂肪アルコール,多価アルコール等が挙げられる。スラリーを調整する際の溶媒への溶解性を考慮すると、分子量が小さくかつ極性を有する炭化水素,エステル,脂肪アルコール,多価アルコールが好ましい。さらに上述したアクリルバインダーとの相溶性を考慮すると、エステル,脂肪アルコール,多価アルコールがより好ましい。   The molten component contained in the second CG 4 is a molten state when heated when the laminated CG 5 or the CG laminated body 6 is produced, and includes hydrocarbons, fatty acids, esters, fatty alcohols, polyhydric alcohols, and the like. It is done. Considering the solubility in a solvent when preparing the slurry, hydrocarbons, esters, fatty alcohols and polyhydric alcohols having a small molecular weight and polarity are preferred. Further, in view of compatibility with the above-described acrylic binder, esters, fatty alcohols, and polyhydric alcohols are more preferable.

溶融成分は上記のものの中でも、その融点が35乃至100℃であるものが好ましい。この範囲の融点のものを用いると、常温では第2のCG4が軟化して変形することはないので、積層工程までのハンドリングが容易となる。また、CG積層体6を作製する工程における加熱時に、積層CG5中のバインダーや可塑剤等の有機成分が分解することがないので、分解ガスによるデラミネーションが発生してしまうことがないからである。融点が35乃至100℃である溶融成分としては具体的には、ヘキサデカノール,ポリエチレングリコール,ポリグリセロール,ステアリルアミド,オレイルアミド,エチレングリコールモノステアレート,パラフィン,ステアリン酸,シリコーン等が挙げられる。   Among the above-mentioned melting components, those having a melting point of 35 to 100 ° C. are preferable. When a material having a melting point in this range is used, the second CG 4 is not softened and deformed at room temperature, so that the handling up to the lamination process is facilitated. Moreover, since organic components such as a binder and a plasticizer in the laminated CG 5 are not decomposed during heating in the process of manufacturing the CG laminated body 6, delamination due to decomposition gas does not occur. . Specific examples of the melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. include hexadecanol, polyethylene glycol, polyglycerol, stearylamide, oleylamide, ethylene glycol monostearate, paraffin, stearic acid, and silicone.

第2のCG4に含有される溶融成分の含有量は、使用するバインダー成分およびその量や、使用する溶融成分により異なるが、溶融成分が溶融した状態で第2のCG4が軟化し、その下に位置する積層CG5の第1のCG3およびその中に埋め込まれた導体層2と隙間無く接触するような量であればよい。   The content of the molten component contained in the second CG 4 varies depending on the binder component used and the amount thereof, and the molten component used, but the second CG 4 softens in a state where the molten component is melted, Any amount may be used so long as it is in contact with the first CG 3 of the laminated CG 5 positioned and the conductor layer 2 embedded therein without a gap.

また、第2のCG4に含まれるバインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して19乃至25質量部であることが好ましい。上記添加量が19質量部よりも低いと、第1および第2のCG3,4を積層し加熱した際、第2のCG4が十分軟化せず、層間での剥離やCG積層体6の内部にデラミネーションが発生する。また、上記添加量が25質量部よりも高いと、第2のCG4が変形した際、積層CG5全体が変形するため、寸法ばらつきが大きくなる。また、CG積層体6を焼成する際に、第1のCG3および導体層2の表面上に第2のCG4のバインダーの分解ガスが過剰に発生し、ブクやデラミネーションが発生する。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the binder contained in 2nd CG4 is 19-25 mass parts with respect to 100 mass parts of inorganic powder. If the addition amount is lower than 19 parts by mass, when the first and second CGs 3 and 4 are laminated and heated, the second CG 4 is not sufficiently softened, and peeling between layers or inside the CG laminate 6 Delamination occurs. On the other hand, when the addition amount is higher than 25 parts by mass, when the second CG 4 is deformed, the entire laminated CG 5 is deformed, resulting in a large dimensional variation. In addition, when the CG laminate 6 is baked, the decomposition gas of the binder of the second CG 4 is excessively generated on the surfaces of the first CG 3 and the conductor layer 2, thereby generating blemish and delamination.

また、第2のCG4含まれるバインダーの分子量は8万乃至30万であることが好ましい。上記分子量が8万よりも低いと、常温でのバインダーの流動性が過剰となり、第2のCG4が変形し保形性が得られない。そのため、積層CG5同士を積層してCG積層体6を形成する際に、積層CG5同士を積層し加熱した際、CG積層体6の寸法ばらつきが大きくなる。また、CG積層体6を焼成する際に、加熱により第1のCG3および導体層2の表面上に、第2のCG4のバインダーの分解ガスが積層CG5内部で局所的に過剰に発生し、ブクやピンホール、デラミネーションが発生する。上記分子量が30万を超えると、バインダー同士が絡まりやすくなるためバインダーの凝集が発生し、第2のCG4に含まれる溶融成分の分布にムラが発生する。そのため、CG積層体6の寸法ばらつきが大きくなり、第1および第2のCG3,4を積層し加熱した際、第2のCG4が十分軟化せず、層間での剥離や、積層CG5同士を積層し加熱した際、第2のCG4内に軟化しない箇所が発生し、ブクやデラミネーションが発生する。   The molecular weight of the binder contained in the second CG4 is preferably 80,000 to 300,000. When the molecular weight is lower than 80,000, the fluidity of the binder at room temperature becomes excessive, and the second CG4 is deformed and the shape retention cannot be obtained. Therefore, when the stacked CGs 5 are stacked to form the CG stacked body 6, when the stacked CGs 5 are stacked and heated, the dimensional variation of the CG stacked body 6 increases. Further, when the CG laminate 6 is fired, the decomposition gas of the binder of the second CG 4 is locally generated excessively on the surfaces of the first CG 3 and the conductor layer 2 by heating inside the laminate CG 5. And pinholes and delamination occur. When the molecular weight exceeds 300,000, the binders tend to be entangled with each other, causing aggregation of the binders and unevenness in the distribution of the molten component contained in the second CG4. For this reason, the dimensional variation of the CG laminate 6 becomes large, and when the first and second CGs 3 and 4 are laminated and heated, the second CG 4 is not sufficiently softened, peeling between layers, and laminating the laminated CGs 5 to each other. Then, when heated, a portion that does not soften occurs in the second CG 4, resulting in burr and delamination.

また、第2のCG4に含まれるバインダーの酸価は0.1乃至0.8KOHmg/gであることが好ましい。上記酸価が0.1KOHmg/gよりも低いと、無機粉末とバインダーの結合性が弱くなり、第2のCG4内部に無機粉末とバインダーの凝集等の不均一な分布が発生することにより、溶融成分が不均一な分布となる。積層CG5を積層し加熱した際に、第2のCG4の軟化にムラが発生し、その下に位置する別の積層CG5’の第1のCG3および導体層2の表面形状に追従して変化しない箇所が発生し、層間での剥離やデラミネーションが発生し、寸法ばらつきも大きくなる。上記酸価が0.8KOHmg/gを超えると、バインダーの結合性が強くなるため、バインダーの凝集が発生し、溶融成分の分布にムラが発生する。その結果、積層CG5同士を積層して加熱した際、第2のCG4内に軟化しない箇所が発生し、層間での剥離やデラミネーションが発生し、寸法ばらつきも大きくなる。   The acid value of the binder contained in the second CG4 is preferably 0.1 to 0.8 KOHmg / g. When the acid value is lower than 0.1 KOHmg / g, the bonding property between the inorganic powder and the binder becomes weak, and non-uniform distribution such as aggregation of the inorganic powder and the binder occurs in the second CG4, resulting in melting. The components are unevenly distributed. When the laminated CG5 is laminated and heated, unevenness occurs in the softening of the second CG4 and does not change following the surface shapes of the first CG3 and the conductor layer 2 of another laminated CG5 ′ located below the second CG4. Locations occur, delamination and delamination occur between layers, and dimensional variation increases. When the acid value exceeds 0.8 KOH mg / g, the binder binding property becomes strong, so that the binder agglomerates and the distribution of the molten component becomes uneven. As a result, when the stacked CGs 5 are stacked and heated, a portion that is not softened is generated in the second CG 4, peeling between layers and delamination occur, and dimensional variation increases.

また、第1のCG3に含まれるバインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して8乃至20質量部であることが好ましい。上記添加量が8質量部未満であれば、第1および第2のCG3,4を積層して加熱することによって積層CG5を作製した際に、第1のCG3の密度が低いため第2のCG4内の溶融成分が拡散し、第2のCG4内に必要な量の溶融成分量を維持できない。その為、積層CG5同士を積層し加熱した際、第2のCG4は軟化せず、CG積層体6の内部にデラミネーションが発生する。上記添加量が20質量部より多い場合、第1および第2のCG3,4を積層して加熱することによって積層CG5を作製した際に、第1のCG3内のバインダーが第2のCG4に拡散し、それにともない溶融成分は第2のCG4から第1のCG3へ拡散するため、第2のCG層内に必要な量の溶融成分量を維持できない。その為、積層CG5同士を積層し加熱した際、第2のCG4は軟化せず、CG積層体6の内部にデラミネーションが発生する。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the binder contained in 1st CG3 is 8-20 mass parts with respect to 100 mass parts of inorganic powder. If the addition amount is less than 8 parts by mass, the density of the first CG 3 is low when the first and second CGs 3 and 4 are laminated and heated to produce the second CG 4. The molten component inside diffuses and the amount of the molten component necessary for the second CG 4 cannot be maintained. Therefore, when the stacked CGs 5 are stacked and heated, the second CG 4 is not softened and delamination occurs inside the CG stacked body 6. When the added amount is more than 20 parts by mass, the binder in the first CG3 diffuses into the second CG4 when the laminated CG5 is produced by laminating and heating the first and second CG3, 4. As a result, the molten component diffuses from the second CG 4 to the first CG 3, so that the necessary amount of the molten component cannot be maintained in the second CG layer. Therefore, when the stacked CGs 5 are stacked and heated, the second CG 4 is not softened and delamination occurs inside the CG stacked body 6.

また、第1のCG3に含まれるバインダーの分子量が5万乃至80万であることが好ましい。上記分子量が5万より低い場合、積層CG5を作製する際に、第2のCG4に含有される溶融成分が第1のCG3へ拡散するため、第2のCG4において十分な量の溶融成分の量が維持できず、CG積層体6を作製する際、第2のCG4は第1のCG3および導体層2の表面形状に追従して変形せず、デラミネーションが発生する。上記分子量が80万より高い場合、バインダー同士の結合力が強くなり、第1のCG3に含まれる原料成分が均一に分散されないため、第1のCG3内にピンホール等の外観不良が発生し、製品での絶縁不良の要因となる。   The molecular weight of the binder contained in the first CG3 is preferably 50,000 to 800,000. When the molecular weight is lower than 50,000, the molten component contained in the second CG4 diffuses into the first CG3 when the laminated CG5 is manufactured. Therefore, a sufficient amount of the molten component in the second CG4. When the CG laminate 6 is manufactured, the second CG 4 does not deform following the surface shapes of the first CG 3 and the conductor layer 2, and delamination occurs. When the molecular weight is higher than 800,000, the binding force between the binders becomes strong, and the raw material components contained in the first CG3 are not uniformly dispersed, so that appearance defects such as pinholes occur in the first CG3, This may cause insulation failure in the product.

また、第1のCG3に含まれるバインダーの酸価が0.1乃至5.0KOHmg/gであれば、上記酸価が0.1KOHmg/gより低い場合、積層CG5を作製する際に、第2のCG4に含有される溶融成分が第1のCG3へ拡散するため、第2のCG4において十分な量の溶融成分の量が維持できず、CG積層体6を作製する際、第2のCG4は第1のCG3および導体層2の表面形状に追従して変形せず、デラミネーションが発生する。上記酸価が5.0KOHmg/gより高い場合、バインダー同士の結合力が強くなり、第1のCG3に含まれる原料成分が均一に分散されないため、第1のCG3内にピンホール等の外観不良が発生し、製品での絶縁不良の要因となる。   Further, when the acid value of the binder contained in the first CG3 is 0.1 to 5.0 KOHmg / g, when the acid value is lower than 0.1 KOHmg / g, the second CG5 is produced when the laminated CG5 is manufactured. Since the molten component contained in the CG4 diffuses into the first CG3, a sufficient amount of the molten component cannot be maintained in the second CG4, and when the CG laminate 6 is produced, Delamination occurs without deformation following the surface shapes of the first CG 3 and the conductor layer 2. When the acid value is higher than 5.0 KOHmg / g, the binding force between the binders becomes strong, and the raw material components contained in the first CG3 are not uniformly dispersed, so that poor appearance such as pinholes in the first CG3. Occurs, which causes insulation failure in the product.

また、第2のCG4に含まれるバインダーのガラス転移点が−20乃至0℃であることが好ましい。上記ガラス転移点が−20℃より低いと、常温でのバインダーの流動性が過剰となるため、第2のCG4同士の付着が発生しハンドリングが困難となる上、第2のCG4が加熱により変形した際、積層CG5全体が変形し寸法ばらつきが大きくなる。ガラス転移点が0℃より高いと、積層CG5同士を積層し加熱した際、第2のCG4が軟化せず、積層CG5はその下に位置する別の積層CG5’の第1のCG3および導体層2の表面形状に追従して形状変化しないため、デラミネーションが発生し、寸法ばらつきが大きくなる。   Moreover, it is preferable that the glass transition point of the binder contained in 2nd CG4 is -20 thru | or 0 degreeC. If the glass transition point is lower than −20 ° C., the fluidity of the binder at room temperature becomes excessive, so that the adhesion between the second CG4 occurs and handling becomes difficult, and the second CG4 is deformed by heating. In this case, the entire laminated CG5 is deformed and the dimensional variation increases. When the glass transition point is higher than 0 ° C., when the laminated CGs 5 are laminated and heated, the second CG 4 is not softened, and the laminated CG 5 is a first CG 3 and a conductor layer of another laminated CG 5 ′ located below the laminated CG 5. Since the shape does not change following the surface shape of No. 2, delamination occurs and dimensional variation increases.

また、第2のCG4に含まれるバインダーの水酸基価は0.1乃至5KOHmg/gであることが好ましい。上記水酸基価が0.1KOHmg/gよりも低いと、無機粉末とバインダーの結合性が弱くなり、無機粉末とバインダーがそれぞれ凝集するため、溶融成分の分布ムラが発生する。積層CG5を加熱した際、第2のCG4が軟化しない部分が発生し、デラミネーションが発生し、寸法ばらつきが大きくなる。バインダーの水酸基価が5KOHmg/gを超えると、無機粉末とバインダーの結合性が過剰に強くなり、バインダーと溶融成分が相溶しにくくなる。そのため、第2のCG4に含有される溶融成分が均一に分散されず、バインダーと相溶して第2のCG4に含有される溶融成分も均一に分散されず、積層CG5を加熱して溶融成分が溶融した状態でも第2のCG4が充分に軟化しない部分が発生する。そのため、積層CG5はその下に位置する別の積層CG5’の第1のCG3および導体層2の表面形状に追従して形状変化せず、デラミネーションが発生し、寸法ばらつきが大きくなる。   The hydroxyl value of the binder contained in the second CG4 is preferably 0.1 to 5 KOHmg / g. When the hydroxyl value is lower than 0.1 KOHmg / g, the bonding property between the inorganic powder and the binder is weakened, and the inorganic powder and the binder are aggregated, resulting in uneven distribution of the molten component. When the laminated CG5 is heated, a portion where the second CG4 is not softened occurs, delamination occurs, and dimensional variation increases. When the hydroxyl value of the binder exceeds 5 KOHmg / g, the binding property between the inorganic powder and the binder becomes excessively strong, and the binder and the melted component are hardly compatible. Therefore, the molten component contained in the second CG4 is not uniformly dispersed, and the molten component contained in the second CG4 that is compatible with the binder is not uniformly dispersed, and the laminated CG5 is heated to melt the molten component. Even in a molten state, a portion where the second CG 4 is not sufficiently softened occurs. Therefore, the laminated CG5 does not change its shape following the surface shapes of the first CG3 and the conductor layer 2 of another laminated CG5 'positioned below the laminated CG5, delamination occurs, and dimensional variation increases.

また、第1のCG3に含まれるバインダーのガラス転移点が−20乃至10℃であることが好ましい。ガラス転移点が−20℃より低いと、常温でのバインダーの流動性が過剰となり積層CG5同士の付着が発生する。上記ガラス転移点が10℃より高いと、第1のCG3の保形性が不十分となり取り扱う際に第1のCG3の割れや欠け等の外観不良が発生しやすくなる。   Moreover, it is preferable that the glass transition point of the binder contained in 1st CG3 is -20 thru | or 10 degreeC. If the glass transition point is lower than −20 ° C., the fluidity of the binder at room temperature becomes excessive, and adhesion between the laminated CG5 occurs. When the glass transition point is higher than 10 ° C., the shape retention of the first CG 3 is insufficient, and appearance defects such as cracks and chipping of the first CG 3 are likely to occur during handling.

また、第1のCG3に含まれるバインダーの水酸基価は5乃至100KOHmg/gであることが好ましい。水酸基価が5KOHmg/gよりも低いと、無機粉末とバインダーの結合性が弱くなり、第1のCG3内部に無機粉末とバインダーの分布ムラによる密度ムラが発生する。そのため、第2のCG4が加熱により変形した際、積層CG5の変形にムラが発生するため、高寸法精度が維持できないし、無機粉末の密度ムラによるデラミネ−ションが発生し、寸法ばらつきが大きくなる。水酸基価が100KOHmg/gを超えると、バインダーの結合性が過剰に強くなり、バインダーの凝集が発生し、第1のCG3内部に無機粉末とバインダーの分布ムラによる密度ムラが発生する。そのため、第2のCG4が加熱により変形した際、積層CG5の変形にムラが発生するため、デラミネ−ションが発生し、寸法ばらつきが大きくなる。   The hydroxyl value of the binder contained in the first CG3 is preferably 5 to 100 KOHmg / g. When the hydroxyl value is lower than 5 KOHmg / g, the bonding property between the inorganic powder and the binder becomes weak, and density unevenness due to uneven distribution of the inorganic powder and binder occurs in the first CG3. For this reason, when the second CG 4 is deformed by heating, unevenness occurs in the deformation of the laminated CG 5, so that high dimensional accuracy cannot be maintained, delamination due to density unevenness of the inorganic powder occurs, and dimensional variation increases. . When the hydroxyl value exceeds 100 KOH mg / g, the binding property of the binder becomes excessively strong, the binder is aggregated, and density unevenness due to uneven distribution of the inorganic powder and the binder occurs in the first CG3. Therefore, when the second CG 4 is deformed by heating, unevenness occurs in the deformation of the laminated CG 5, so that delamination occurs and dimensional variation increases.

次に図1(c)に示すように、導体層2を形成した第1のCG3と第2のCG4を積層して溶融成分が溶融状態となり軟化して変形する程度の温度で加熱し、導体層2と第1のCG3と第2のCG4からなる積層CG5を作製する。   Next, as shown in FIG. 1 (c), the first CG 3 and the second CG 4 on which the conductor layer 2 is formed are laminated and heated at a temperature at which the molten component becomes molten and softens and deforms. A laminated CG5 including the layer 2, the first CG3, and the second CG4 is manufactured.

ここで、積層CG5を作製するときの加熱は、溶融成分の融点より0乃至70℃高い温度で行なうことが重要である。これにより、第2のCG4から第1のCG3へ適当な量の溶融成分が拡散することとなり、第2のCG4と第1のCG3の界面の接合強度が保たれ、かつCG積層体6を作製する際の加熱時に、第2のCG4が加熱のみで軟化して別の積層CG5の第1のCG3及び導体層2の表面形状に追従して変形し、接着性を有するものとなるのに十分な量の溶融成分を第2のCG4内に保持できるからである。   Here, it is important that the heating for producing the laminated CG5 is performed at a temperature 0 to 70 ° C. higher than the melting point of the molten component. As a result, an appropriate amount of molten component diffuses from the second CG 4 to the first CG 3, the bonding strength at the interface between the second CG 4 and the first CG 3 is maintained, and the CG laminate 6 is produced. At the time of heating, the second CG 4 is sufficiently softened only by heating and is deformed following the surface shapes of the first CG 3 and the conductor layer 2 of another laminated CG 5, and is sufficiently adhesive. This is because a sufficient amount of the molten component can be held in the second CG 4.

溶融成分の融点より低い温度で積層すると、第2のCG4が軟化しないので、第2のCG4はその上また下に位置する第1のCG3及び導体層2の表面形状に追従して変形することができず、第1のCG3と第2のCG4との間に空隙が発生する場合があり、また第2のCG4から第1のCG3へ溶融成分が拡散しないので、第1のCG3と第2のCG4の界面の接合強度が保たれず、積層CG5に貫通導体を形成するための貫通孔や、キャビティを形成するための貫通穴を形成する等の加工をする際に界面に剥がれが発生する場合がある。   When the lamination is performed at a temperature lower than the melting point of the molten component, the second CG 4 is not softened. Therefore, the second CG 4 is deformed following the surface shapes of the first CG 3 and the conductor layer 2 positioned above and below the second CG 4. In some cases, a gap may be generated between the first CG 3 and the second CG 4, and the molten component does not diffuse from the second CG 4 to the first CG 3. Bonding strength at the interface of CG4 is not maintained, and peeling occurs at the interface when processing such as forming a through hole for forming a through conductor or a through hole for forming a cavity in the laminated CG5 There is a case.

また溶融成分の融点より70℃を超えて高い温度で積層すると、加熱時に第2のCG4から第1のCG3への溶融成分の拡散する量が大きすぎるため、第2のCG4内に十分な量の溶融成分を保持できず、積層CG5を積層した際に第2のCG4に接する別の積層CG5の第1のCG3や導体層2の表面形状に追従して変形できず、セラミック層間にデラミネーションが発生するためである。好ましくは、加熱は溶融成分の融点より0乃至70℃高い温度で行ない、加熱温度を120℃以下とすると、加熱時に積層CG5中のバインダーや可塑剤等の有機成分が分解することがないので、分解ガスによるデラミネーションが発生することがない。このためには、上述したように、溶融成分の融点が35乃至100℃であるものを用いればよい。ここで積層CG5を作製する際の加熱時間は、加熱温度や第1のCG3及び第2のCG4の無機原料やバインダ、溶融成分等のCGに含まれる原料の種類や量、第1のCG3及び第2のCG4の厚み等のCGの特性、積層装置や加熱方法等の積層条件により異なり、溶融成分の拡散により第2のCG4と第1のCG3の界面の接合強度が保たれ、かつCG積層体6を作製する際の加熱時に第2のCG4が軟化して変形し、かつ接着性を有するものとなるように調整される。なお、上述したような溶融成分及び加熱温度の場合であれば、加熱時間は0.1秒〜10分程度であればよい。   Also, if the layer is laminated at a temperature higher than the melting point of the molten component by more than 70 ° C., the amount of the molten component diffused from the second CG 4 to the first CG 3 during heating is too large. The molten component cannot be retained, and when the laminated CG5 is laminated, it cannot be deformed following the surface shape of the first CG3 or the conductor layer 2 of another laminated CG5 that is in contact with the second CG4, and delamination occurs between the ceramic layers. This is because of this. Preferably, the heating is performed at a temperature 0 to 70 ° C. higher than the melting point of the molten component, and if the heating temperature is 120 ° C. or lower, organic components such as a binder and a plasticizer in the laminated CG5 are not decomposed during heating. Delamination due to cracked gas does not occur. For this purpose, as described above, a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. may be used. Here, the heating time when the laminated CG5 is manufactured includes the heating temperature, the type and amount of raw materials contained in the CG such as the inorganic raw materials, binders, and molten components of the first CG3 and the second CG4, the first CG3 and It depends on the CG characteristics such as the thickness of the second CG4, the lamination conditions such as the laminating apparatus and the heating method, and the bonding strength of the interface between the second CG4 and the first CG3 is maintained by the diffusion of the molten component, and the CG lamination It is adjusted so that the second CG 4 is softened and deformed during heating when the body 6 is produced and has adhesiveness. In the case of the above-described melting component and heating temperature, the heating time may be about 0.1 second to 10 minutes.

さらに、第1のCG3と第2のCG4とを積層し加熱して積層CG5を作製する際の加熱は、好ましくは、溶融成分の融点より10乃至60℃高い温度で行なうと、第2のCG4及び第1のCG3のシート厚みまたは積層時間等の積層条件が変動した際にも第2のCG4から第1のCG3へ適当な量の溶融成分が拡散し、かつ積層後に積層CG5をしばらく加熱したまま放置しておいても、第2のCG4内に十分な量の溶融成分を保持できる。   Furthermore, when the first CG 3 and the second CG 4 are stacked and heated to produce the stacked CG 5, the second CG 4 is preferably heated at a temperature 10 to 60 ° C. higher than the melting point of the molten component. Even when the lamination conditions such as the sheet thickness or lamination time of the first CG3 fluctuate, an appropriate amount of molten component diffuses from the second CG4 to the first CG3, and the laminated CG5 is heated for a while after lamination. Even if it is left as it is, a sufficient amount of the molten component can be held in the second CG 4.

またこのとき、図1(b)のように厚みの薄い第2のCG4を支持体1’上に保持した状態で、第1のCG3を積層する方が、第2のCG4の破れや欠け等が発生しにくく、ハンドリングの容易さの点でより好ましい。また、このとき、積層した積層CG5同士が位置ずれしないように、軟化した第2のCG4が、第1のCG3の表面形状に追従して変形するのを補助するために押さえる程度の加圧(0.1〜1MPa)を行なうと、より精度よく確実な圧着が可能となる。   At this time, as shown in FIG. 1B, when the second CG 4 having a small thickness is held on the support 1 ′, the first CG 3 is laminated, and the second CG 4 is broken or chipped. Is more preferable in terms of ease of handling. Further, at this time, the softened second CG 4 is pressed so as to assist in deforming following the surface shape of the first CG 3 so that the stacked stacked CGs 5 are not displaced. When 0.1 to 1 MPa is performed, more accurate and reliable crimping can be performed.

なお、必要に応じて上下の層間の導体層2同士を接続するためのビアホール導体やスルーホール導体等の貫通導体を形成してもよい。これら貫通導体は、パンチング加工やレーザ加工等により積層CG5に形成した貫通孔に、導体ペーストを印刷やプレス充填により埋め込む等の手段によって形成される。貫通穴加工は、積層CG5が厚い場合、パンチング加工が積層CG5の表裏の貫通穴径に差異がなく、好ましい。また貫通穴を加工する際、積層CG5は支持体1から剥がして行ってもよいが、支持体1上に保持したまま行うと積層CG5の変形を防止できるのでより好ましい。   Note that through conductors such as via-hole conductors and through-hole conductors for connecting the conductor layers 2 between the upper and lower layers may be formed as necessary. These through conductors are formed by means such as embedding a conductive paste in a through hole formed in the laminated CG 5 by punching, laser processing, or the like by printing or press filling. When the laminated CG5 is thick, the through-hole processing is preferable because punching has no difference in the through-hole diameters on the front and back of the laminated CG5. Moreover, when processing a through-hole, you may peel and laminate | stack CG5 from the support body 1, but when it hold | maintains on the support body 1, since deformation | transformation of the lamination | stacking CG5 can be prevented, it is more preferable.

キャビティを有する電子部品を製造する場合、次のCG積層体6を作製する工程より前に、キャビティ形状の貫通穴を金型による打ち抜き等により積層CG5の一部に形成しておく。貫通穴の形成は、キャビティの内壁面への導体層2の形成の有無や形成方法に応じて、導体層2を形成する前でもよいし、形成した後でもよい。   When an electronic component having a cavity is manufactured, a cavity-shaped through hole is formed in a part of the laminated CG 5 by punching with a mold or the like before the next step of producing the CG laminated body 6. The through hole may be formed before or after the conductor layer 2 is formed depending on whether or not the conductor layer 2 is formed on the inner wall surface of the cavity.

次に図1(d)に示すように、位置合わせして積み重ねた積層CG5を、溶融成分が溶融状態となり第2のCG4が軟化して変形する程度の温度つまり溶融成分の融点程度の温度で加熱することでCG積層体6を作製する。ここで、積層する際に支持体1から積層CG5を剥がすことも可能であり、この際に必要に応じて加熱等の処理を施すことも可能である。また、このとき、積層した積層CG5が位置ずれしないように、また、軟化した第2のCG4を第1のCG3およびその中に埋め込まれて形成された導体層2に押さえる程度の加圧を行なうと、より精度よく確実な圧着が可能となる。このとき、積層CG5同士の接着性を向上させるために、溶剤とバインダーや可塑剤等を混合した接着剤を用いてもよい。   Next, as shown in FIG. 1 (d), the laminated CG5, which is aligned and stacked, is heated at a temperature at which the molten component becomes molten and the second CG 4 is softened and deformed, that is, at a temperature about the melting point of the molten component. The CG laminated body 6 is produced by heating. Here, at the time of lamination, the laminated CG 5 can be peeled off from the support 1, and at this time, treatment such as heating can be performed as necessary. At this time, pressurization is performed so that the laminated CG5 is not displaced, and the softened second CG4 is pressed against the first CG3 and the conductor layer 2 embedded therein. And more accurate and reliable crimping becomes possible. At this time, in order to improve the adhesiveness between the laminated CGs 5, an adhesive obtained by mixing a solvent with a binder, a plasticizer, or the like may be used.

CG積層体6を作製する工程において、第2のCG4は加熱時に溶融する溶融成分を含有することから、導体層2が埋め込まれた積層CG5を積層して加熱した際に第2のCG4が軟化するので、第2のCG4はその下側に位置する積層CG5の第1のCG3及びその中に埋め込まれた導体層2からなる表面形状に追従して変形する。これにより、導体層2の周囲や導体層2間に空隙が発生することなく積層CG5同士が密着し、CG積層体6を焼成して得られる電子部品はデラミネーションが発生しない。   In the process of manufacturing the CG laminate 6, the second CG 4 contains a melting component that melts when heated, so that the second CG 4 softens when the laminated CG 5 embedded with the conductor layer 2 is laminated and heated. Therefore, the second CG 4 is deformed following the surface shape formed by the first CG 3 of the laminated CG 5 positioned below the second CG 4 and the conductor layer 2 embedded therein. As a result, the laminated CGs 5 are in close contact with each other without generating a gap around the conductor layer 2 or between the conductor layers 2, and delamination does not occur in the electronic component obtained by firing the CG laminate 6.

また、第2のCG4は、加熱時に溶融する溶融成分を含有することから、加熱のみで第2のCG4が軟化して接着性を有するので、大きな加圧力により積層CG5を圧着させる必要がない。そして、導体層2が埋め込まれて形成された第1のCG3は加熱時に溶融する溶融成分を含有しないことから、第1のCG3は加熱時に変形することはなく、積層した積層CG5同士が位置ずれしないように、また、軟化した第2のCG4を第1のCG3およびその中に埋め込まれて形成された導体層2に押さえる程度では変形しない。よって、積層CG5およびその中に埋め込まれて形成された導体層2の形状が変形することがなく、さらに加圧による積層CG5への歪がなく得られるCG積層体6およびそれを焼成して得られる電子部品は高い寸法精度を有するものとなる。   In addition, since the second CG 4 contains a melting component that melts when heated, the second CG 4 is softened and has adhesiveness only by heating, so there is no need to press the laminated CG 5 with a large applied pressure. Since the first CG 3 formed by embedding the conductor layer 2 does not contain a melting component that melts when heated, the first CG 3 is not deformed when heated, and the stacked laminated CGs 5 are misaligned. In addition, the second CG 4 that has been softened is not deformed to the extent that it is pressed against the first CG 3 and the conductor layer 2 that is embedded and formed therein. Therefore, the shape of the laminated CG 5 and the conductor layer 2 embedded in the laminated CG 5 is not deformed, and further obtained by firing the CG laminated body 6 obtained without distortion to the laminated CG 5 due to pressurization. The obtained electronic component has high dimensional accuracy.

なお、CG積層体6を作製する際の加熱温度を120℃以下とすると、積層CG5中のバインダーや可塑剤等の有機成分が分解し、分解ガスが発生することがないので、よりデラミネーションの少ない積層体を作製することが可能となる。   In addition, when the heating temperature at the time of producing the CG laminated body 6 is 120 ° C. or less, organic components such as a binder and a plasticizer in the laminated CG 5 are not decomposed and no decomposition gas is generated. It becomes possible to produce a few laminated bodies.

例えば、加熱時に溶融する溶融成分を含有しない積層CG層5を用いた場合、CG積層体6および電子部品の寸法精度は±0.5%(寸法誤差)程度であったが、本発明の溶融成分を含有する積層CG5を用いた場合、CG積層体6および電子部品の寸法精度は±0.2%程度となり、大幅に向上することが実験により判明した。   For example, when the laminated CG layer 5 that does not contain a melting component that melts upon heating is used, the dimensional accuracy of the CG laminate 6 and the electronic component was about ± 0.5% (dimensional error). When the laminated CG5 containing the components is used, it has been experimentally found that the dimensional accuracy of the CG laminated body 6 and the electronic component is about ± 0.2%, which is greatly improved.

また、キャビティを有する電子部品を製造する場合、大きな加圧力により積層CG5を圧着させる必要がないので、キャビティ周囲部とキャビティ底部との加圧による積層CG5の伸びの違いによるキャビティ底部の反りの発生を抑えることが可能となり、キャビティ底部に電子素子を精度よく確実に搭載することが可能な電子部品を得ることができる。   In addition, when manufacturing an electronic component having a cavity, it is not necessary to press the laminated CG5 with a large pressure, so that the warping of the cavity bottom due to the difference in the elongation of the laminated CG5 due to the pressurization between the cavity periphery and the cavity bottom occurs. Thus, an electronic component can be obtained in which an electronic element can be mounted accurately and reliably on the bottom of the cavity.

図1(d)の最下部に位置する積層CG5としては、第1のCG3のみで構成される積層CG5’を用いればよい。積層コンデンサのように表面に導体層2が露出しない電子部品の場合、図1(d)の最上部に位置する積層CG5には導体層2が形成されていない積層CG5を用いればよく、積層セラミック配線基板のような両面に導体層2が露出する電子部品の場合、最下部のCG5’の両面に導体層5を形成したものを用いればよい。   As the stack CG5 positioned at the lowermost part of FIG. 1D, a stack CG5 'composed of only the first CG3 may be used. In the case of an electronic component in which the conductor layer 2 is not exposed on the surface, such as a multilayer capacitor, a multilayer CG5 in which the conductor layer 2 is not formed may be used as the multilayer CG5 positioned at the top of FIG. In the case of an electronic component in which the conductor layer 2 is exposed on both surfaces, such as a wiring board, a device in which the conductor layer 5 is formed on both surfaces of the lowermost CG 5 ′ may be used.

支持体1上に形成された溶融成分を含有した第2のCG4上に、溶融成分を含有しない第1のCG3を形成して積層CG5を形成し、この積層CG5の第1のCG3上に導体層2を形成した後、導体層2が形成された積層CG5を複数枚加熱して積層する方法でもデラミネーションを防止し、かつ積層加圧による変形のない電子部品を製造することができる。この方法では、導体層2の厚み以上に溶融成分を含有した第2のCG4の厚みが必要となるので、積層CG5の厚みが薄い場合、溶融成分を含有した、つまり加熱で変形する第2のCG4の厚みの占める割合が高くなり、積層CG5全体が変形し易くなる。これに対して、本発明の製造方法は、積層CG5の導体層2が形成された面は実質的に平坦な面であるため、この面の形状に追従して変形する第2のCG4の厚みを薄くすることができる。よって、積層CG5の厚みが薄い場合であっても、積層時の加熱による積層CG5の変形が抑えられて高寸法精度が確保できるのでより好ましい。   On the second CG 4 containing the molten component formed on the support 1, the first CG 3 not containing the molten component is formed to form a laminated CG 5, and a conductor is formed on the first CG 3 of the laminated CG 5. After the layer 2 is formed, delamination can be prevented and an electronic component that is not deformed by the lamination pressure can be manufactured even by a method in which a plurality of laminated CGs 5 on which the conductor layer 2 is formed are heated. In this method, since the thickness of the second CG 4 containing the molten component is required to be greater than the thickness of the conductor layer 2, when the thickness of the laminated CG 5 is thin, the second CG 4 containing the molten component, that is, deformed by heating. The proportion of the thickness of CG4 increases, and the entire laminated CG5 is easily deformed. On the other hand, in the manufacturing method of the present invention, the surface of the laminated CG 5 on which the conductor layer 2 is formed is a substantially flat surface, and thus the thickness of the second CG 4 that deforms following the shape of this surface. Can be made thinner. Therefore, even when the thickness of the laminated CG5 is thin, it is more preferable because deformation of the laminated CG5 due to heating during lamination can be suppressed and high dimensional accuracy can be ensured.

そして最後に、CG積層体6を焼成することにより本発明の電子部品が作製される。焼成工程は有機成分の除去とセラミック粉末の焼結の工程とから成る。有機成分の除去は100〜800℃の温度範囲でCG積層体6を加熱することで行ない、有機成分を分解、揮発させ、焼結温度はセラミック組成により異なり、約800〜1600℃の範囲内で行なう。焼成雰囲気はセラミック粉末や導体材料により異なり、大気中、還元雰囲気中、非酸化性雰囲気中等で行なわれ、有機成分の除去を効果的に行なうために水蒸気等を含ませてもよい。   Finally, the electronic component of the present invention is manufactured by firing the CG laminate 6. The firing process consists of removing organic components and sintering ceramic powder. The organic component is removed by heating the CG laminate 6 in a temperature range of 100 to 800 ° C., the organic component is decomposed and volatilized, and the sintering temperature varies depending on the ceramic composition, and is within a range of about 800 to 1600 ° C. Do. The firing atmosphere varies depending on the ceramic powder and the conductor material, and is performed in the air, in a reducing atmosphere, in a non-oxidizing atmosphere or the like, and may contain water vapor or the like in order to effectively remove organic components.

焼成後の電子部品はその表面に露出した導体層2の表面には、導体層2の腐食防止のために、または半田や金属ワイヤ等の外部基板や電子部品との接続手段の良好な接続のために、NiやAuのめっきを施すとよい。   The electronic component after firing is exposed to the surface of the conductor layer 2 exposed on the surface thereof for preventing corrosion of the conductor layer 2 or having good connection means for connecting to an external substrate such as solder or metal wire or an electronic component. Therefore, Ni or Au plating may be applied.

セラミック材料としてガラスセラミックスのような低温焼結材料を用いる場合、CG積層体6の上下面にさらに拘束グリーンシートを積層して焼成し、焼成後に拘束シートを除去するようにすれば、より高寸法精度のセラミック基板を得ることが可能となる。拘束グリーンシートは、Al等の難焼結性無機材料を主成分とするグリーンシートであり、焼成時に収縮しないものである。この拘束グリーンシートが積層された積層体は、収縮しない拘束グリーンシートにより積層平面方向(xy平面方向)の収縮が抑制され、積層方向(z方向)にのみ収縮するので、焼成収縮に伴う寸法ばらつきが抑制される。このときの拘束グリーンシートも本発明の積層CG5と同様の第1のCG3と第2のCG4とを有する構成にすると、拘束グリーンシートを積層して圧着する際にも大きな加圧力を必要とせず、得られる電子部品はより高寸法精度のものとなるのでよい。 When a low-temperature sintered material such as glass ceramics is used as the ceramic material, if a constrained green sheet is further laminated on the upper and lower surfaces of the CG laminate 6 and fired, and the restraint sheet is removed after firing, higher dimensions are obtained. An accurate ceramic substrate can be obtained. The constrained green sheet is a green sheet mainly composed of a hardly sinterable inorganic material such as Al 2 O 3 and does not shrink during firing. In the laminate in which the constrained green sheets are laminated, shrinkage in the laminating plane direction (xy plane direction) is suppressed by the constraining green sheet that does not shrink, and shrinks only in the laminating direction (z direction). Is suppressed. If the constraining green sheet at this time also has the first CG3 and the second CG4 similar to the laminated CG5 of the present invention, a large pressing force is not required even when the constraining green sheets are laminated and pressure-bonded. The obtained electronic component may be of higher dimensional accuracy.

また、このような拘束焼成法を用いる場合は、拘束グリーンシートにより積層平面方向の収縮が抑制されるので、焼成時に収縮しない金属箔や金属膜等を導体層2として用いることがより容易となる。金属箔や金属膜で形成された導体層2は、印刷による方法で形成された導体層2と比較して導体抵抗が小さく、また、その形状のばらつきが小さいため、信号伝達速度の向上、導体抵抗等の安定、高周波信号を伝達した際の信号の損失減少による高周波特性の向上等の電気特性の向上が得られるので、より好ましい。   Further, when such a constrained firing method is used, the constrained green sheet suppresses shrinkage in the direction of the lamination plane, so that it becomes easier to use a metal foil or a metal film that does not shrink during firing as the conductor layer 2. . The conductor layer 2 formed of a metal foil or a metal film has a lower conductor resistance and less variation in shape compared to the conductor layer 2 formed by a printing method. It is more preferable because the electrical characteristics such as the stability of the resistance and the like, and the high frequency characteristics can be improved by reducing the loss of the signal when the high frequency signal is transmitted.

また、拘束グリーンシートには難焼結性無機成分に加えて、焼成温度以下の軟化点を有するガラス成分、例えば積層CG5中のガラスと同じガラスを含有させるとよい。焼成中にこのガラスが軟化して積層CG5と結合することにより、積層CG5と拘束グリーンシートとの結合が強固になり、より確実な拘束力が得られるからである。このときのガラス量は難焼結性無機成分とガラス成分を合わせた無機成分に対して0.5〜15質量%とすると拘束力が向上し、かつ拘束グリーンシートの焼成収縮が0.5%以下に抑えられる。   In addition to the hardly sinterable inorganic component, the constrained green sheet may contain a glass component having a softening point equal to or lower than the firing temperature, for example, the same glass as the glass in the laminated CG5. This is because the glass softens during bonding and is bonded to the laminated CG5, whereby the bonding between the laminated CG5 and the constraining green sheet is strengthened and a more reliable restraining force can be obtained. When the glass amount at this time is 0.5 to 15% by mass with respect to the inorganic component including the hardly sinterable inorganic component and the glass component, the binding force is improved and the firing shrinkage of the constraint green sheet is 0.5%. It is suppressed to the following.

焼成後、拘束シートを除去する。除去方法としては、例えば研磨、ウォータージェット、ケミカルブラスト、サンドブラスト、ウェットブラスト(砥粒と水とを空気圧により噴射させる方法)等が挙げられる。   After firing, the constraining sheet is removed. Examples of the removal method include polishing, water jet, chemical blasting, sand blasting, wet blasting (a method of spraying abrasive grains and water by air pressure) and the like.

以上のような方法で作製された電子部品は、その内部にデラミネーションを有さず寸法精度の高いものであるので、電子部品として要求される優れた電気特性や気密性の高いものとなる。   The electronic component manufactured by the method as described above does not have delamination inside and has high dimensional accuracy, and thus has excellent electrical characteristics and high airtightness required as an electronic component.

最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   First, a conductive layer was formed on a PET film as a support by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten.

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a rate of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a binder and 10 parts by mass of dibutyl phthalate as a plasticizer are added outside, and toluene and ethyl acetate are added. A first CG ceramic slurry was prepared by mixing with a ball mill as a solvent, applied to a PET film having a conductor layer with a thickness of 100 μm by a lip coater method, and dried to produce a first CG. .

次に、第2のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で18,19,20,23,25,26,30質量部を各々外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合し、セラミックスラリーを調製した。このセラミックスラリーを用いて、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを作製した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. With respect to 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 18, 19, 20, 23, 25, 26, and 30 parts by mass of methyl methacrylate resin are respectively added and prepared as a melting point. A ceramic slurry was prepared by mixing 10 parts by mass of hexadecanol as a molten component having a temperature of 35 to 100 ° C. by a ball mill using toluene and ethyl acetate as solvents. Using this ceramic slurry, a second CG was prepared by applying a 50 μm thickness on a PET film by a lip coater method and drying.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて、厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。その際の剥離強度は、CG積層体を剥離した際の剥離発生箇所を双眼顕微鏡にて観察し、剥離箇所が第1のCG内である場合を良品とした。   Four laminated CGs each having a conductor layer were superposed and thermocompression bonded at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. in the thickness direction to produce a CG laminate. The peel strength at that time was determined as a non-defective product when the peel-off occurrence location when the CG laminate was peeled was observed with a binocular microscope, and the peel-off location was in the first CG.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体(セラミックス)を作製した。この焼結体のクロスセクション(断面)の観察を行い、セラミック層間のデラミネーション、ブクやピンホールの発生の有無及び製品寸法を調査した。第2のCGのバインダー量別の評価結果を表1に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body (ceramics) for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section (cross section) of this sintered body was observed, and the delamination between ceramic layers, the presence or absence of bumps and pinholes, and the product dimensions were investigated. Table 1 shows the evaluation results for each binder amount of the second CG.

表1で、剥離強度の欄が「○」は、CG積層体を剥離した際に、剥離箇所が第1のCG内であったことを示す。「△」は、第1のCG外であったことを示す。また、積層寸法の欄が「○」は、積層後の寸法を3次元測定機で測定し、寸法ばらつきが±0.05%よりも小さいものであったことを示す。「△」は、製品寸法に問題は無いものの、寸法ばらつきが±0.05%以上であったことを示す。また、内層デラミネーション有無の欄が「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、CG積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。また、ブク/ピンホール有無の欄が「○」は、焼結体内部にブクやピンホールがないことを示す。「△」は、CG積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にブクやピンホールが見られたことを示す。

Figure 2006121016
In Table 1, "O" in the peel strength column indicates that the peeled portion was in the first CG when the CG laminate was peeled. “Δ” indicates that it was outside the first CG. Further, “◯” in the column of the lamination dimension indicates that the dimension after lamination was measured with a three-dimensional measuring machine, and the dimensional variation was smaller than ± 0.05%. “Δ” indicates that although there was no problem in the product dimensions, the dimensional variation was ± 0.05% or more. In addition, “◯” in the column of the presence / absence of inner layer delamination indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in forming the CG laminate, delamination was observed inside the sintered body. In addition, “◯” in the column of presence / absence of buku / pinhole indicates that there is no buku or pinhole inside the sintered body. “Δ” indicates that there was no problem in the formation of the CG laminate, but burr and pinholes were observed inside the sintered body.
Figure 2006121016

表1より、第2のCGに含まれるバインダーの添加量が19質量部未満の試料No.1は、剥離箇所が第1のCG外であり、焼結体内部にデラミネーションが発生した。   From Table 1, sample No. with the addition amount of the binder contained in 2nd CG being less than 19 mass parts is shown. In No. 1, the peeled portion was outside the first CG, and delamination occurred inside the sintered body.

また、上記添加量が25質量部より大きい試料No.6,7は、積層寸法の寸法バラツキが±0.05%以上であり、焼結体内部にデラミネーションが見られ、ブク/ピンホールが見られた。   In addition, Sample No. with the addition amount larger than 25 parts by mass. Nos. 6 and 7 had a stacking size variation of ± 0.05% or more, delamination was observed inside the sintered body, and burr / pinholes were observed.

これに対して、上記添加量が19乃至25質量部の試料No.2,3,4,5は、剥離箇所は第1のCG内で、積層寸法の寸法バラツキが±0.05%よりも小さく、焼結体内部のデラミネーションが無く、ブク/ピンホールも見られなかった。   On the other hand, sample No. with the above addition amount of 19 to 25 parts by mass. Nos. 2, 3, 4, and 5 are peeled off in the first CG, the variation in the stacking dimension is less than ± 0.05%, there is no delamination inside the sintered body, and the bokeh / pinhole is also seen. I couldn't.

実施例1と同様に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 1, a conductor layer was formed on a PET film as a support by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm by a screen printing method using a conductor paste mainly composed of tungsten.

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a rate of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a binder and 10 parts by mass of dibutyl phthalate as a plasticizer are added outside, and toluene and ethyl acetate are added. A first CG ceramic slurry is prepared by mixing with a ball mill as a solvent, applied to the PET film on which the conductor layer is formed at a thickness of 100 μm by the lip coater method, and dried to produce the first CG. did.

次に、第2のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部、メタクリル酸メチル樹脂の分子量を4万,8万,10万,20万,30万,36万,50万で各々外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製した。このセラミックスラリーを用いて、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。この第2のCGを用い、5枚重ねて常温で24時間放置し、第2のCG同士がくっつくかどうかの評価を行った。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. 20 parts by mass of methyl methacrylate resin in solid content and 40,80,000, 100,000, 200,000, 300,000 molecular weight of methyl methacrylate resin with respect to 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass , 360,000 and 500,000, respectively, and prepared by mixing 10 parts by mass of hexadecanol as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. with a solid content, toluene and ethyl acetate as solvents, and mixing for 40 hours. A ceramic slurry was prepared. Using this ceramic slurry, it was applied to a PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method and dried to form a second CG. Using this second CG, five sheets were stacked and allowed to stand at room temperature for 24 hours to evaluate whether or not the second CGs adhered to each other.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて、厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。その際の剥離強度は、CG積層体を剥離した際の剥離発生箇所を双眼顕微鏡にて観察し、剥離箇所が第1のCG内である場合を良品とした。   Four laminated CGs each having a conductor layer were superposed and thermocompression bonded at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. in the thickness direction to produce a CG laminate. The peel strength at that time was determined as a non-defective product when the peel-off occurrence location when the CG laminate was peeled was observed with a binocular microscope, and the peel-off location was in the first CG.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーション及びブクやピンホールの発生の有無及び製品寸法を調査した。第2のCGのバインダーの分子量別の評価結果を表2に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of the sintered body was observed, and the presence or absence of delamination between the ceramic layers and the occurrence of bumps or pinholes and the product dimensions were investigated. Table 2 shows the evaluation results by molecular weight of the second CG binder.

表2で、第2のCGの保形性の欄が「○」は、第2のCGを成形した後、それを5枚重ねて常温で24時間放置しても、互いの第2のCGがくっつくこと無く保形性を維持していたことを示す。「△」は、第2のCGの成形はできたが、成形後に第2のCGを5枚重ねて常温で24時間放置すると互いの第2のCGがくっついてしまい、保形性を維持できなかったことを示す。また、剥離強度の欄が「○」は、CG積層体を剥離した際に、剥離箇所が第1のCG内であったことを示す。「△」は、第1のCG外であったことを示す。また、積層寸法の欄が「○」は、積層後の寸法を3次元測定機で測定し、寸法ばらつきが±0.05%よりも小さかったことを示す。「△」は、製品寸法に問題は無いものの、寸法ばらつきが±0.05%以上であったことを示す。また、内層デラミネーション有無の欄が「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。また、ブク/ピンホール有無の欄が「○」は、焼結体内部にブクやピンホールがないことを示す。「△」は、CG積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にブクやピンホールが見られたことを示す。

Figure 2006121016
In Table 2, in the column of the shape retention property of the second CG, “◯” indicates that after forming the second CG, even if the five CGs are stacked and allowed to stand at room temperature for 24 hours, It shows that shape retention was maintained without sticking. “△” indicates that the second CG was molded, but when the second CG was stacked after molding and left at room temperature for 24 hours, the second CGs adhered to each other, and the shape retention could be maintained. Indicates no. In addition, “O” in the peel strength column indicates that the peeled portion was in the first CG when the CG laminate was peeled off. “Δ” indicates that it was outside the first CG. Further, “◯” in the column of the lamination dimension indicates that the dimension after lamination was measured with a three-dimensional measuring machine, and the dimensional variation was smaller than ± 0.05%. “Δ” indicates that although there was no problem in the product dimensions, the dimensional variation was ± 0.05% or more. In addition, “◯” in the column of the presence / absence of inner layer delamination indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body. In addition, “◯” in the column of presence / absence of buku / pinhole indicates that there is no buku or pinhole inside the sintered body. “Δ” indicates that there was no problem in the formation of the CG laminate, but burr and pinholes were observed inside the sintered body.
Figure 2006121016

表2より、第2のCGに含まれるバインダーの分子量が8万未満の試料No.1は、第2のCGの保形性が維持できず、積層寸法の寸法バラツキが0.05%以上であり、焼結体内部にデラミネーションが発生し、ブク/ピンホールが見られた。   From Table 2, the sample No. with the molecular weight of the binder contained in the second CG being less than 80,000 is shown. In No. 1, the shape retention of the second CG could not be maintained, the dimensional variation of the lamination dimension was 0.05% or more, delamination occurred inside the sintered body, and burr / pinholes were observed.

また、上記分子量が30万より大きい試料No.6,7は、剥離箇所が第1のCG外であり、積層寸法の寸法バラツキが0.05%以上であり、焼結体内部にデラミネーションが発生し、ブク/ピンホールが見られた。   In addition, the sample No. In Nos. 6 and 7, the peeled portion was outside the first CG, the dimensional variation of the stacking dimension was 0.05% or more, delamination occurred inside the sintered body, and bokeh / pinholes were observed.

これに対して、上記分子量が8万乃至30万の試料No.2,3,4,5は、第2のCGの保形性が得られ、剥離箇所が第1のCG内で、積層寸法の寸法バラツキが±0.05%よりも小さく、焼結体内部のデラミネーションが無く、ブク/ピンホールも見られなかった。内層デラミネーションが無く、寸法ばらつきに優れたものであった。   On the other hand, sample Nos. With a molecular weight of 80,000 to 300,000 are used. 2, 3, 4, and 5, the shape retention of the second CG is obtained, the peeled portion is within the first CG, and the dimensional variation of the lamination dimension is less than ± 0.05%, and the inside of the sintered body There was no delamination and no buku / pinholes were seen. There was no inner layer delamination and the dimensional variation was excellent.

実施例2と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 2, first, a conductive layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. .

次に、第1のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina powder and alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia and calcia as sintering aids, and transition metal oxides as chromium pigments (chromium trioxide) ) And 10 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a solid content as a binder and 1 part by mass of dibutyl phthalate as a plasticizer are added. First, a ceramic slurry for CG is prepared by mixing with toluene and ethyl acetate as a solvent by a ball mill. The first CG ceramic slurry is applied on the PET film on which the conductor layer has been formed to a thickness of 100 μm by the lip coater method, and dried. 1 CG was produced.

次に、第2のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部、メタクリル酸メチル樹脂のバインダーの酸価を0.0,0.1,0.5,0.8,0.9,1.5で各々外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製した。このセラミックスラリーを用いて、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina powder and alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a color pigment ) And 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, the methyl methacrylate resin is 20 parts by mass in solid content, and the acid value of the methyl methacrylate resin binder is 0.0, 0.0. 1 and 0.5, 0.8, 0.9, and 1.5, respectively. As a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C., 10 parts by mass of hexadecanol as a melting component, toluene and A ceramic slurry was prepared by mixing for 40 hours with a ball mill using ethyl acetate as a solvent. Using this ceramic slurry, it was applied to a PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method and dried to form a second CG.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて、厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。その際の剥離強度は、CG積層体を剥離した際の剥離発生箇所を双眼顕微鏡にて観察し、剥離箇所が第1のCG内である場合を良品とした。   Four laminated CGs each having a conductor layer were superposed and thermocompression bonded at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. in the thickness direction to produce a CG laminate. The peel strength at that time was determined as a non-defective product when the peel-off occurrence location when the CG laminate was peeled was observed with a binocular microscope, and the peel-off location was in the first CG.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーション及びブクやピンホールの発生の有無及び製品寸法を調査した。第2のCGのバインダーの酸価別の評価結果を表3に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of the sintered body was observed, and the presence or absence of delamination between the ceramic layers and the occurrence of bumps or pinholes and the product dimensions were investigated. Table 3 shows the evaluation results by acid value of the second CG binder.

表3で、剥離強度の欄が「○」は、CG積層体を剥離した際に、剥離箇所が第1のCG内であったことを示す。「△」は、第1のCG外であったことを示す。内層デラミネーション有無の欄が「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。また、積層寸法の欄が「○」は、積層後の寸法を3次元測定機で測定し、寸法ばらつきが±0.05%よりも小さかったことを示す。「△」は、製品寸法に問題は無いものの、寸法ばらつきが±0.05%以上であったことを示す。

Figure 2006121016
In Table 3, “O” in the peel strength column indicates that the peeled portion was in the first CG when the CG laminate was peeled off. “Δ” indicates that it was outside the first CG. The column “◯” in the presence / absence of inner layer delamination indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body. Further, “◯” in the column of the lamination dimension indicates that the dimension after lamination was measured with a three-dimensional measuring machine, and the dimensional variation was smaller than ± 0.05%. “Δ” indicates that although there was no problem in the product dimensions, the dimensional variation was ± 0.05% or more.
Figure 2006121016

表3より、第2のCGに含まれるバインダーの酸価が0.1KOHmg/g未満の試料No.1は、剥離箇所は第1のCG外であり、積層寸法の寸法バラツキが±0.05%以上であり、焼結体内部にデラミネーションが発生していた。   From Table 3, sample No. whose acid value of the binder contained in 2nd CG is less than 0.1 KOHmg / g. In No. 1, the peeled portion was outside the first CG, the dimensional variation of the lamination dimension was ± 0.05% or more, and delamination occurred inside the sintered body.

また、上記酸価が0.8KOHmg/gより大きい試料No.5,6は、剥離箇所は第1のCG外であり、積層寸法の寸法バラツキが±0.05%以上であり、焼結体内部にデラミネーションが発生していた。   In addition, sample No. whose acid value is larger than 0.8 KOHmg / g. In Nos. 5 and 6, the peeled portion was outside the first CG, the dimensional variation of the lamination dimension was ± 0.05% or more, and delamination occurred inside the sintered body.

これに対して、第2のCGに含まれるバインダーの添加量が0.1乃至0.8質量部の試料No.2,3,4は、剥離箇所は第1のCG内で、積層寸法の寸法バラツキが±0.05%よりも小さく、焼結体内部のデラミネーションが無かった。   On the other hand, sample No. 1 in which the added amount of the binder contained in the second CG is 0.1 to 0.8 parts by mass. In Nos. 2, 3 and 4, the peeled portion was in the first CG, the dimensional variation of the lamination dimension was less than ± 0.05%, and there was no delamination inside the sintered body.

実施例3と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 3, first, a conductive layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. .

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で6,8,10,12,15,18,20,22,24質量部を各々外添加し、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加して調合し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. 6,8,10,12,15,18,20,22,24 parts by weight of methyl methacrylate resin as a binder is added to 100 parts by weight of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by weight. Then, 1 part by weight of dibutyl phthalate as a plasticizer was added and prepared, mixed with a ball mill using toluene and ethyl acetate as a solvent to prepare a first CG ceramic slurry, and the above-mentioned PET having the conductor layer formed thereon A first CG was prepared by applying the film on the film by a lip coater method at a thickness of 100 μm and drying.

次に、第2のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部を外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. Hexadecanol as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. is prepared by adding 20 parts by mass of methyl methacrylate resin as a solid content to 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass. Was mixed by a ball mill for 40 hours using 10 parts by mass of solid, toluene and ethyl acetate as a solvent to prepare a ceramic slurry.

次に、このセラミックスラリーをPETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, this ceramic slurry was applied to a PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method and dried to form a second CG.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。   Four laminated CGs each having a conductor layer were stacked and heat-pressed in the thickness direction at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. to produce a CG laminate.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーションを調査した。そして、第1のCGに含まれるバインダーの添加量別の評価の結果を表4に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of this sintered body was observed, and the delamination between the ceramic layers was investigated. Table 4 shows the results of evaluation according to the addition amount of the binder contained in the first CG.

表4の内層デラミネーション有無の欄の「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、CG積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。

Figure 2006121016
“◯” in the column of presence / absence of inner layer delamination in Table 4 indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in forming the CG laminate, delamination was observed inside the sintered body.
Figure 2006121016

表4より、第1のCGに含まれるバインダーの添加量が8質量部未満の試料No.1は、焼結体内部にデラミネーションが発生した。   From Table 4, sample No. in which the addition amount of the binder contained in the first CG is less than 8 parts by mass. In No. 1, delamination occurred inside the sintered body.

また、上記添加量が20質量部より大きい試料No.8,9も、焼結体内部にデラミネーションが発生した。   In addition, sample No. in which the addition amount is larger than 20 parts by mass. In 8 and 9, delamination occurred inside the sintered body.

これに対して、上記添加量が8乃至20質量部の試料No.2,3,4,5,6,7は、内層デラミネーションが無かった。   On the other hand, sample Nos. 8 to 20 parts by mass are added. 2, 3, 4, 5, 6, and 7 had no inner layer delamination.

実施例4と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 4, first, a conductive layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. .

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部外添加し、このメタクリル酸メチル樹脂の分子量を1万,5万,10万,40万,80万,90万,100万で各々調合した。また、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a binder is added outside as a solid, and the molecular weight of this methyl methacrylate resin is 10,000, 50,000, 100,000. , 400,000, 800,000, 900,000, 1 million respectively. In addition, 1 part by weight of dibutyl phthalate was added as a plasticizer, and toluene and ethyl acetate were mixed by a ball mill using a solvent as a solvent to prepare a first CG ceramic slurry. The first CG was prepared by applying the film by a lip coater method at a thickness of 100 μm and drying.

次に、第2のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a rate of 10 parts by mass, 20 parts by mass of methyl methacrylate resin was added externally and prepared, and hexadecanol was added as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. 10 parts by mass in solid content, toluene and ethyl acetate as solvent, mixed for 40 hours by ball mill to prepare a ceramic slurry, coated on PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method, and dried to give the second CG Formed.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。また、第2のCGの裏面を観測し、ピンホールを調査した。   Four laminated CGs each having a conductor layer were stacked and heat-pressed in the thickness direction at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. to produce a CG laminate. In addition, the back surface of the second CG was observed to investigate pinholes.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーション及びブクやピンホールの発生の有無及び製品寸法を調査した。第1のCGに含まれるバインダーの分子量別の評価の結果を表5に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of the sintered body was observed, and the presence or absence of delamination between the ceramic layers and the occurrence of bumps or pinholes and the product dimensions were investigated. Table 5 shows the results of evaluation according to the molecular weight of the binder contained in the first CG.

表5おける内層デラミネーション有無の欄の「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。また、第1のCG層のピンホール有無の欄の「○」は、第1のCG層の裏面にピンホールがないことを示す。「△」は、第1のCG層の裏面にピンホールが見られたことを示す。

Figure 2006121016
“◯” in the column of presence / absence of inner layer delamination in Table 5 indicates that the delamination was not observed inside the sintered body and was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body. Further, “◯” in the column of the presence or absence of pinholes in the first CG layer indicates that there are no pinholes on the back surface of the first CG layer. “Δ” indicates that a pinhole was found on the back surface of the first CG layer.
Figure 2006121016

表5より、第1のCGに含まれるバインダーの分子量が5万未満の試料No.1は、焼結体内部にデラミネーションが発生した。   From Table 5, sample No. with a molecular weight of less than 50,000 in the binder contained in the first CG is shown. In No. 1, delamination occurred inside the sintered body.

また、上記分子量が80万より大きい試料No.6,7は、第1のCGの裏面にピンホールが発生した。   Sample Nos. With molecular weights greater than 800,000 were used. In 6 and 7, pinholes occurred on the back surface of the first CG.

これに対して、上記分子量が5万乃至80万の試料No.2,3,4,5は、内層デラミネーションが無く、第2のCGの裏面にピンホールも無く、優れたものであった。   On the other hand, sample Nos. With a molecular weight of 50,000 to 800,000 were used. Nos. 2, 3, 4, and 5 were excellent because there was no inner layer delamination and no pinholes on the back surface of the second CG.

実施例5と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 5, first, a conductive layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. .

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部外添加し、このメタクリル酸メチル樹脂の酸価を0.0,0.1,0.5,1.0,5.0,8.0KOHmg/gで各々調合した。また、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a binder is added outside as a solid, and the acid value of this methyl methacrylate resin is 0.0,0.1. , 0.5, 1.0, 5.0, 8.0 KOH mg / g. Also, 1 part by weight of dibutyl phthalate was added as a plasticizer, and a ceramic slurry for the first CG was prepared by mixing with toluene and ethyl acetate as a solvent by a ball mill, on the PET film on which the conductor layer was formed. The first CG was produced by applying the lip coater at a thickness of 100 μm and drying.

次に、第2のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a rate of 10 parts by mass, 20 parts by mass of methyl methacrylate resin was added externally and prepared, and hexadecanol was added as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. 10 parts by mass in solid content, toluene and ethyl acetate as solvent, mixed for 40 hours by ball mill to prepare a ceramic slurry, coated on PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method, and dried to give the second CG Formed.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて、厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着して、CG積層体を作製した。また、第1のCG層の裏面を観測し、ピンホールを調査した。   Four laminated CGs each having a conductor layer were superposed and thermocompression bonded at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. in the thickness direction to produce a CG laminate. In addition, the back surface of the first CG layer was observed to investigate pinholes.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーション及び製品寸法を調査した。そして、第1のCGに含まれるバインダーの酸価別の評価結果を表6に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of the sintered body was observed, and the delamination between the ceramic layers and the product dimensions were investigated. And the evaluation result according to the acid value of the binder contained in 1st CG is shown in Table 6.

表6おける内層デラミネーション有無の欄の「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。また、第1のCGのピンホール有無の欄の「○」は、第1のCGの裏面にピンホールがないことを示す。「△」は、第1のCG層の裏面にピンホールが見られたことを示す。

Figure 2006121016
“◯” in the column of presence / absence of inner layer delamination in Table 6 indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body. In addition, “◯” in the first CG pinhole presence / absence column indicates that there is no pinhole on the back surface of the first CG. “Δ” indicates that a pinhole was found on the back surface of the first CG layer.
Figure 2006121016

表6より、第1のCGに含まれるバインダーの酸価が0.1KOHmg/g未満の試料No.1は、焼結体内部にデラミネーションが発生した。   From Table 6, sample No. whose acid value of the binder contained in the first CG is less than 0.1 KOH mg / g. In No. 1, delamination occurred inside the sintered body.

また、上記酸価が5.0KOHmg/gより大きい試料No.6は、第1のCGの裏面にピンホールが発生した。   In addition, sample No. whose acid value is larger than 5.0 KOHmg / g. In No. 6, a pinhole occurred on the back surface of the first CG.

これに対して、上記酸価が0.1乃至5.0KOHmg/gの試料No.2〜5はデラミネーションおよびピンホールの発生はなく、優れたものであった。   On the other hand, Sample No. with the acid value of 0.1 to 5.0 KOHmg / g. Nos. 2 to 5 were excellent with no occurrence of delamination and pinholes.

実施例6と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 6, first, a conductive layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. .

次に、第1のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina powder and alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia and calcia as sintering aids, and transition metal oxides as chromium pigments (chromium trioxide) ) And 10 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a solid content as a binder and 1 part by mass of dibutyl phthalate as a plasticizer are added. First, a ceramic slurry for CG is prepared by mixing with toluene and ethyl acetate as a solvent by a ball mill. The first CG ceramic slurry is applied on the PET film on which the conductor layer has been formed to a thickness of 100 μm by the lip coater method, and dried. 1 CG was produced.

次に、第2のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部、メタクリル酸メチル樹脂のバインダーのガラス転移点を−25,−20,−10,−5,0,5,10℃で各々外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。この第2のCGを用い、5枚重ねて常温で24時間放置し、第2のCG同士がくっつくかどうかの評価を行った。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina powder and alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a color pigment ) And 10 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, the methyl methacrylate resin is 20 parts by mass in solid content, and the glass transition point of the methyl methacrylate resin binder is -25, -20 , -10, -5, 0, 5, 10 ° C, respectively, and prepared by adding 10 parts by mass of hexadecanol as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C, and toluene and ethyl acetate as solvent. And mixing for 40 hours with a ball mill to prepare a ceramic slurry, applying it to a PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method, and drying to form a second CG. Formed. Using this second CG, five sheets were stacked and allowed to stand at room temperature for 24 hours to evaluate whether or not the second CGs adhered to each other.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて、厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着して、CG積層体を作製した。   Four laminated CGs each having a conductor layer were superposed and thermocompression bonded at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. in the thickness direction to produce a CG laminate.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーションの有無及び製品寸法を調査した。そして、第2のCGに含まれるバインダーのガラス転移点別の評価結果を表7に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of the sintered body was observed, and the presence or absence of delamination between the ceramic layers and the product dimensions were investigated. And the evaluation result according to the glass transition point of the binder contained in 2nd CG is shown in Table 7.

表7で、第2のCGの保形性の欄の「○」は、第2のCGを成形した後、それを5枚重ねて常温で24時間放置しても、互いの第2のCGがくっつくこと無く保形性を維持していたことを示す。「△」は、第2のCGの成形はできたが、成形後に第2のCGを5枚重ねて常温で24時間放置すると、互いの第2のCGがくっついてしまい、保形性を維持できなかったことを示す。また、積層寸法の欄の「○」は、積層後の寸法を3次元測定機で測定し、寸法ばらつきが±0.05%よりも小さかったことを示す。「△」は、製品寸法に問題は無いものの、寸法ばらつきが±0.05%以上であったことを示す。また、内層デラミネーション有無の欄の「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。

Figure 2006121016
In Table 7, “◯” in the column of the shape retention property of the second CG indicates that each of the second CGs of the second CG is formed even if the two CGs are molded and then stacked for 5 hours. It shows that shape retention was maintained without sticking. “△” indicates that the second CG was molded, but when the second CG was stacked after molding and left at room temperature for 24 hours, the second CGs adhered to each other and the shape retention was maintained. Indicates that it was not possible. Further, “◯” in the column of the lamination dimension indicates that the dimension after lamination was measured with a three-dimensional measuring machine, and the dimensional variation was smaller than ± 0.05%. “Δ” indicates that although there was no problem in the product dimensions, the dimensional variation was ± 0.05% or more. In addition, “◯” in the column of the presence or absence of inner layer delamination indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body.
Figure 2006121016

表7より、第2のCGに含まれるバインダーのガラス転移点が−20℃よりも低い試料No.1は、第2のCGの保形性が維持できず、かつ積層寸法の寸法ばらつきが0.05%以上であった。   From Table 7, Sample No. whose glass transition point of the binder contained in 2nd CG is lower than -20 degreeC. For No. 1, the shape retention of the second CG could not be maintained, and the dimensional variation in the lamination dimension was 0.05% or more.

また、上記ガラス転移点が0℃より高い試料No.6,7は、剥離箇所が第1のCG層外であり、かつ積層寸法の寸法ばらつきが0.05%以上であり、かつ焼結体内部にデラミネーションが発生していた。   In addition, Sample No. with a glass transition point higher than 0 ° C. was used. In Nos. 6 and 7, the peeled portion was outside the first CG layer, the dimensional variation in the lamination dimension was 0.05% or more, and delamination occurred inside the sintered body.

これに対して、上記ガラス転移点が−20乃至0℃の試料No.2〜5は、第2のCGの保形性が得られ、かつ剥離箇所が第1のCG層内で、かつ積層寸法の寸法ばらつきが±0.05%よりも小さく、焼結体内部にデラミネーションは見られなかった。   On the other hand, Sample No. with a glass transition point of −20 to 0 ° C. 2-5, the shape retention of the second CG is obtained, the peeled portion is in the first CG layer, and the dimensional variation of the lamination dimension is less than ± 0.05%, and the inside of the sintered body No delamination was seen.

実施例7と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 7, first, a conductive layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. .

続いて、第1のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第2のCG用のセラミックスラリーを調製し、上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Subsequently, for the first CG, 90 parts by mass of alumina powder and an alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are used. ) And 10 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin as a solid content as a binder and 1 part by mass of dibutyl phthalate as a plasticizer are added. A ceramic slurry for the second CG is prepared by mixing with toluene and ethyl acetate as a solvent by a ball mill, applied onto the PET film on which the conductor layer is formed at a thickness of 100 μm by the lip coater method, and then dried. 1 CG was produced.

次に、第2のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部、メタクリル酸メチル樹脂のバインダーの水酸基価を0,0.1,1,3,4,5,5.5,6KOHmg/gで各々外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina powder and alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a color pigment ) And 100 parts by mass of ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, the methyl methacrylate resin is 20 parts by mass in solid content, and the hydroxyl value of the methyl methacrylate resin binder is 0,0.1, 1,3,4,5,5.5,6KOHmg / g, each of which is added and prepared, 10 parts by mass of hexadecanol as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C., toluene and ethyl acetate Is mixed with a ball mill for 40 hours using a solvent as a solvent to prepare a ceramic slurry, coated on a PET film by a lip coater method at a thickness of 50 μm, and dried to form a second C G was formed.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて、厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。   Four laminated CGs each having a conductor layer were superposed and thermocompression bonded at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. in the thickness direction to produce a CG laminate.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用の焼結体を作製した。この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーションの有無及び製品寸法を調査した。そして、第1のCGのバインダーの水酸基価別の評価結果を表8に示す。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a sintered body for evaluation was produced by holding for 1 hour at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The cross section of the sintered body was observed, and the presence or absence of delamination between the ceramic layers and the product dimensions were investigated. Table 8 shows the evaluation results by hydroxyl value of the first CG binder.

表8における積層寸法の欄の「○」は、積層後の寸法を3次元測定機で測定し、寸法ばらつきが±0.05%よりも小さかったことを示す。「△」は、製品寸法に問題は無いものの、寸法ばらつきが±0.05%以上であったことを示す。また、内層デラミネーション有無の欄の「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。

Figure 2006121016
“◯” in the column of the stacking dimension in Table 8 indicates that the dimension after stacking was measured with a three-dimensional measuring machine and the dimensional variation was smaller than ± 0.05%. “Δ” indicates that although there was no problem in the product dimensions, the dimensional variation was ± 0.05% or more. In addition, “◯” in the column of the presence or absence of inner layer delamination indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body.
Figure 2006121016

表8より、第2のCGに含まれるバインダーの水酸基価が0.1KOHmg/g未満の試料No.1は、積層寸法の寸法ばらつきが±0.05%以上であり、かつ焼結体内部にデラミネーションが発生していた。   From Table 8, Sample No. with a hydroxyl value of the binder contained in the second CG of less than 0.1 KOHmg / g. In No. 1, the dimensional variation of the lamination dimension was ± 0.05% or more, and delamination occurred in the sintered body.

また、上記水酸基価が5KOHmg/gより大きい試料No.7,8は、積層寸法の寸法ばらつきが±0.05%以上であり、かつ焼結体内部にデラミネーションが発生していた。   In addition, Sample No. whose hydroxyl value was larger than 5 KOHmg / g. In Nos. 7 and 8, the dimensional variation of the lamination dimension was ± 0.05% or more, and delamination occurred in the sintered body.

これに対して、上記水酸基価が0.1乃至5KOHmg/gの試料No.2〜6は、積層寸法の寸法ばらつきが±0.05%よりも小さく、かつ焼結体内部にデラミネーションは見られなかった。   On the other hand, Sample No. with the hydroxyl value of 0.1 to 5 KOHmg / g. In Nos. 2 to 6, the dimensional variation in the lamination dimension was smaller than ± 0.05%, and no delamination was observed inside the sintered body.

第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部外添加し、このメタクリル酸メチル樹脂のガラス転移点を−22,−20,0,10,20,25℃で各々外添加して調合した。また、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、スラリーを調製し、ダイコーターシート成形機を用いて、成形速度2m/分、成形シート幅が250mmの条件にて第1のCGを厚み100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm for the first CG, 10 parts by mass of silica, magnesia and calcia as sintering aids, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment 10 parts by mass of a methyl methacrylate resin is added as a solid content to 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a ratio of, and the glass transition point of this methyl methacrylate resin is −22, −20, 0, 10, 20 , Each was added externally at 25 ° C. In addition, 1 part by weight of dibutyl phthalate was added as a plasticizer, and toluene and ethyl acetate were mixed in a ball mill for 40 hours using a solvent to prepare a slurry. Using a die coater sheet molding machine, a molding speed of 2 m / min was obtained. The first CG was prepared by applying the first CG with a thickness of 100 μm under a condition where the width of the molded sheet was 250 mm and drying.

次に、第2のCG用に、アルミナ粉末とバインダーとして平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部、メタクリル酸メチル樹脂のバインダーを外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina powder and alumina having an average particle diameter of 1 μm as a binder, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a color pigment ) And 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a ratio of 10 parts by mass, 20 parts by mass of methyl methacrylate resin in solid content, and by adding a binder of methyl methacrylate resin, the melting point is Hexadecanol as a melting component at 35 to 100 ° C. is mixed in a solid content of 10 parts by mass, toluene and ethyl acetate as a solvent are mixed for 40 hours by a ball mill to prepare a ceramic slurry, and the thickness is formed on a PET film by a lip coater method. A second CG was formed by coating at 50 μm and drying.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

この積層CGを用い、常温で取り扱う際の積層CG同士の付着や、積層CGの割れ欠けの評価を行った。第1のCGに含まれるバインダーのガラス転移点別の評価結果を表9に示す
表9におけるシート付着の欄の「○」は、積層CGを常温で取り扱う際に、積層CG同士が付着せずに取り扱いが容易であったことを示す。「△」は、常温で重ねるだけで積層CG同士が付着し取り扱いが難しいものであったことを示す。シート割れ欠けの欄の「○」は、常温で取り扱う際に積層CGに割れや欠けが起こらずに取り扱いが容易であったことを示す。「△」は、常温で取り扱う際に積層CGに割れや欠けが起こり取り扱いが難しいものであったことを示す。

Figure 2006121016
Using this laminated CG, the adhesion between the laminated CGs at the time of handling at normal temperature and the evaluation of the cracks in the laminated CGs were evaluated. Table 9 shows the evaluation results for each glass transition point of the binder contained in the first CG. “◯” in the column of sheet adhesion in Table 9 indicates that the laminated CGs do not adhere to each other when the laminated CGs are handled at room temperature. Shows that it was easy to handle. “Δ” indicates that the laminated CGs are attached to each other only by being stacked at room temperature and are difficult to handle. “◯” in the column of the sheet crack and chip indicates that the stack CG was easy to handle without cracking or chipping when handled at room temperature. “Δ” indicates that the laminated CG was cracked or chipped when handled at room temperature and was difficult to handle.
Figure 2006121016

表9より、第1のCGに含まれるバインダーのガラス転移点が−20℃未満の試料No.1は積層CGのシート付着が発生した。   From Table 9, sample No. whose glass transition point of the binder contained in 1st CG is less than -20 degreeC is shown. In No. 1, adhesion of the laminated CG sheet occurred.

また、上記ガラス転移点が10℃より大きい試料No.5,6は、積層CGのシート割れや欠けが発生した。   Sample No. with a glass transition point higher than 10 ° C. was used. In Nos. 5 and 6, sheet cracking or chipping of the laminated CG occurred.

これに対して、上記ガラス転移点が−20乃至10℃の試料No.2〜4は、シート付着が無く、シート割れや欠けが発生せず、優れたものであった。   On the other hand, sample no. Nos. 2 to 4 were excellent because there was no sheet adhesion and no sheet cracking or chipping occurred.

実施例8と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   In the same manner as in Example 8, first, a conductor layer was formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductor paste mainly composed of tungsten. .

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部外添加し、このメタクリル酸メチル樹脂の水酸基価を0,3,5,10,20,40,60,80,100,104,110KOHmg/gで各々調合した。また、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより混合して第1のCG用のセラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a rate of 10 parts by mass, methyl methacrylate resin as a binder is added in an amount of 10 parts by mass as a binder, and the hydroxyl value of this methyl methacrylate resin is 0, 3, 5, 10 20, 40, 60, 80, 100, 104, 110 KOH mg / g. In addition, 1 part by weight of dibutyl phthalate was added as a plasticizer, and a ceramic slurry for the first CG was prepared by mixing with toluene and ethyl acetate as a solvent by a ball mill. The first CG was produced by applying at 100 μm and drying.

次に、第2のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属の酸化物(三酸化クロム)とを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、メタクリル酸メチル樹脂を固形分で20質量部外添加して調合し、融点が35乃至100℃である溶融成分としてヘキサデカノールを固形分で10質量部、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、セラミックスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   Next, for the second CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, silica, magnesia, calcia as a sintering aid, and transition metal oxide (chromium trioxide) as a coloring pigment are combined. To 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a rate of 10 parts by mass, 20 parts by mass of methyl methacrylate resin was added externally and prepared, and hexadecanol was added as a melting component having a melting point of 35 to 100 ° C. 10 parts by mass in solid content, toluene and ethyl acetate as solvent, mixed for 40 hours by ball mill to prepare a ceramic slurry, coated on PET film with a thickness of 50 μm by the lip coater method, and dried to give the second CG Formed.

これらの第1のCGと第2のCGを40℃、0.5MPaで積層して加熱することによって、導体層と第1,第2のCGとから成る積層CGを形成した。   By laminating these first CG and second CG at 40 ° C. and 0.5 MPa and heating, a laminated CG composed of the conductor layer and the first and second CGs was formed.

導体層を形成した積層CGをそれぞれ4層重ねあわせて厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。   Four laminated CGs each having a conductor layer were stacked and heat-pressed in the thickness direction at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. to produce a CG laminate.

それから、得られたCG積層体中のバインダー等の有機成分や、有機成分が分解した後に残留するカーボンを除去するため、7.33×10Paの水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持する熱処理を行った後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間保持して評価用のセラミック焼結体を作製した。 Then, in order to remove organic components such as a binder in the obtained CG laminate and carbon remaining after the organic components were decomposed, about 1000 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor of 7.33 × 10 3 Pa. After performing a heat treatment for 1 hour at a temperature of 1, a ceramic sintered body for evaluation was produced by holding at a temperature of about 1600 ° C. for 1 hour in a reducing atmosphere.

この焼結体のクロスセクションの観察を行い、セラミック層間のデラミネーション及びブクやピンホールの発生の有無及び製品寸法を調査した。そして、第1のCGに含まれるバインダーの水酸基価別の評価の結果を表10に示す。   The cross section of the sintered body was observed, and the presence or absence of delamination between the ceramic layers and the occurrence of bumps or pinholes and the product dimensions were investigated. Table 10 shows the result of evaluation according to the hydroxyl value of the binder contained in the first CG.

表10における内層デラミネーション有無の欄の「○」は、焼結体内部にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、積層体の形成に問題は無いものの、焼結体内部にデラミネーションが見られたことを示す。また、積層寸法の欄の「○」は、積層後の寸法を3次元測定機で測定し、寸法ばらつきが±0.05%以下であったことを示す。「△」は、製品寸法に問題は無いものの、寸法ばらつきが±0.05%以上であったことを示す。

Figure 2006121016
“◯” in the column of presence / absence of inner layer delamination in Table 10 indicates that no delamination was observed inside the sintered body, which was excellent. “Δ” indicates that although there was no problem in the formation of the laminate, delamination was observed inside the sintered body. Further, “◯” in the column of the lamination dimension indicates that the dimension after lamination was measured with a three-dimensional measuring machine, and the dimensional variation was ± 0.05% or less. “Δ” indicates that although there was no problem in the product dimensions, the dimensional variation was ± 0.05% or more.
Figure 2006121016

表10より、第1のCGに含まれるバインダーの水酸基価が5KOHmg/g未満の試料No.1,2は、焼結体内部にデラミネーションが発生し、かつ積層寸法の寸法ばらつきが0.05%以上であった。   From Table 10, Sample No. whose hydroxyl value of the binder contained in the first CG is less than 5 KOHmg / g. In Nos. 1 and 2, delamination occurred in the sintered body, and the dimensional variation in the lamination dimension was 0.05% or more.

また、上記水酸基価が100KOHmg/gより大きい試料No.10,11は、焼結体内部にデラミネーションが発生し、かつ積層寸法の寸法ばらつきが0.05%以上であった。   In addition, Sample No. whose hydroxyl value is greater than 100 KOHmg / g. In Nos. 10 and 11, delamination occurred in the sintered body, and the dimensional variation in the lamination dimension was 0.05% or more.

これに対して、上記水酸基価が5乃至100KOHmg/gの試料No.3〜9は、内層デラミネーションが無く、かつ寸法ばらつきに優れたものであった。   On the other hand, sample No. 5 having a hydroxyl value of 5 to 100 KOHmg / g. Nos. 3 to 9 had no inner layer delamination and were excellent in dimensional variation.

まず実施例10と同様に、最初に、支持体であるPETフィルム上に、タングステンを主成分とする導体ペーストを用いスクリーン印刷法により10〜20μmの厚みで所定パターンに印刷し、導体層を形成した。   First, in the same manner as in Example 10, first, a conductive layer is formed by printing a predetermined pattern with a thickness of 10 to 20 μm on a PET film as a support by a screen printing method using a conductive paste mainly composed of tungsten. did.

次に、第1のCG用に、平均粒径1μmのアルミナを90質量部、焼結助剤としてシリカ、マグネシア、カルシアと、着色顔料として遷移金属酸化物の酸化クロムとを合わせて10質量部の割合で調合したセラミック粉末100質量部に対して、バインダーとしてメタクリル酸イソブチル樹脂を固形分で10質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、第1のスラリーを調製した。上記導体層を形成したPETフィルム上にリップコーター法により厚さ100μmで塗布し、乾燥することにより第1のCGを作製した。   Next, for the first CG, 90 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 1 μm, 10 parts by mass of silica, magnesia, calcia as a sintering aid and chromium oxide of a transition metal oxide as a coloring pigment 10 parts by mass of solid isobutyl methacrylate resin as a binder is added to 100 parts by mass of the ceramic powder prepared at a ratio of 40% by mass using toluene and ethyl acetate as a solvent and a ball mill for 40 hours. Prepared. A first CG was produced by applying the film on the PET film on which the conductor layer had been formed to a thickness of 100 μm by the lip coater method and drying.

また、第2のCG用に、第1のスラリーと同様のセラミック粉末100質量部に対してバインダーとしてメタクリル酸メチル樹脂を固形分で10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを1質量部、溶融成分を各々10質量部外添加し、トルエン及び酢酸エチルを溶媒としてボールミルにより40時間混合し、第2のスラリーを調製した。溶融成分は、融点が40℃のテトラデカノール、50℃のヘキサデカノール、60℃のオクタデカノールを各々主成分とするものを用いて3種類の第2のスラリーを調製し、PETフィルム上にリップコーター法により厚さ50μmで塗布し、乾燥させて第2のCGを形成した。   For the second CG, 10 parts by mass of solid methyl methacrylate resin as a binder and 1 part by mass of dibutyl phthalate as a plasticizer are melted with respect to 100 parts by mass of the same ceramic powder as the first slurry. 10 parts by mass of each component was added, and toluene and ethyl acetate were used as solvents and mixed for 40 hours by a ball mill to prepare a second slurry. Three types of second slurries were prepared using melting components of tetradecanol having a melting point of 40 ° C, hexadecanol having a melting point of 50 ° C, and octadecanol having a melting point of 60 ° C. A second CG was formed by coating the film with a thickness of 50 μm by a lip coater method and drying.

次に、上記第1のCGの上に第2のCGを重ねあわせて、表1に示すような加熱温度で加熱し、0.5MPaの圧力で加圧することにより積層CGを作製した。得られた積層CGは、第1のCGと第2のCGにテープを貼り付け、このテープを互いに反対の方向に引っ張ることにより、第1のCGと第2のCGとの界面の接合強度を評価した。その界面で剥離せず、第1のCG内または第2のCG内で破断した場合を良品とした。   Next, the second CG was overlaid on the first CG, heated at a heating temperature as shown in Table 1, and pressurized at a pressure of 0.5 MPa to produce a laminated CG. The obtained laminated CG has a bonding strength at the interface between the first CG and the second CG by attaching a tape to the first CG and the second CG and pulling the tape in opposite directions. evaluated. The case where it did not peel at the interface but broke in the first CG or the second CG was regarded as a good product.

次に、導体層を形成した積層CGSをそれぞれ4層重ねあわせて厚み方向に0.5MPaの圧力および80℃の温度で加熱圧着してCG積層体を作製した。得られたCG積層体は、水蒸気を含んだ窒素雰囲気中に約1000℃の温度で1時間保持することにより有機成分を除去した後、還元雰囲気中にて約1600℃の温度で1時間焼成することで評価用のセラミック焼結体を作製した。   Next, four laminated CGSs each having a conductor layer were stacked and thermocompression bonded in the thickness direction at a pressure of 0.5 MPa and a temperature of 80 ° C. to produce a CG laminate. The obtained CG laminate is baked at a temperature of about 1600 ° C. for 1 hour in a reducing atmosphere after removing organic components by holding it in a nitrogen atmosphere containing water vapor at a temperature of about 1000 ° C. for 1 hour. Thus, a ceramic sintered body for evaluation was produced.

この焼結体の断面(クロスセクション)観察を行い、セラミック層間のデラミネーションの発生の有無を評価した。溶融成分の融点に対する積層CGを作製する際の加熱温度による接合強度およびデラミネーションの評価結果を表11に示す。

Figure 2006121016
The cross section (cross section) of this sintered body was observed to evaluate the occurrence of delamination between the ceramic layers. Table 11 shows the evaluation results of the bonding strength and delamination depending on the heating temperature when producing the laminated CG with respect to the melting point of the molten component.
Figure 2006121016

表11の接合強度の欄の「○」は、第1のCGと第2のCGとの界面で剥離せず、第1のCG内または第2のCG内で破断したことを示す。また「△」は、第1のCGと第2のCGとの界面で容易に剥がれたことを示す。また、デラミネーションの欄の「○」は、焼結体のセラミック層間や配線導体周辺にデラミネーションが見られず優れていたことを示す。「△」は、セラミック層間や配線導体周辺にデラミネーションの発生が見られたことを示す。   “◯” in the column of the bonding strength in Table 11 indicates that the film did not peel at the interface between the first CG and the second CG, but broke within the first CG or the second CG. Further, “Δ” indicates that the film was easily peeled off at the interface between the first CG and the second CG. In addition, “◯” in the column of delamination indicates that no delamination was observed in the ceramic layer of the sintered body or the periphery of the wiring conductor. “Δ” indicates that delamination was observed between the ceramic layers and around the wiring conductor.

表11より、溶融成分の融点より低い加熱温度で積層CGを作製した場合、第1のCGと第2のCGとの界面で容易に剥離し、積層CG作製後のハンドリングで剥がれやすいものあった。   From Table 11, when the laminated CG was produced at a heating temperature lower than the melting point of the molten component, it was easily peeled off at the interface between the first CG and the second CG and easily peeled off after handling the laminated CG. .

また、各溶融成分の融点より70℃を超えて高い加熱温度で積層CGを作製した場合、焼結体のセラミック層間や配線導体周辺にデラミネーションが発生した。   Further, when the laminated CG was produced at a heating temperature higher than 70 ° C. higher than the melting point of each molten component, delamination occurred in the ceramic layers of the sintered body and around the wiring conductor.

これに対して、溶融成分の融点より0乃至70℃高い温度で加熱して積層した場合、第1のCGと第2のCGとの接合強度は第1および第2のCGの強度以上と十分であり、かつセラミック層間にデラミネーションもなく優れたものであった。   On the other hand, when laminated by heating at a temperature 0 to 70 ° C. higher than the melting point of the molten component, the bonding strength between the first CG and the second CG is sufficiently higher than the strength of the first and second CG. And excellent without delamination between the ceramic layers.

なお、本発明は上述の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば、種々の変更は可能である。たとえば、上述の実施の形態の例では、無機粉末とバインダーと溶媒を添加混合してセラミックスラリーを作製したが、CGに柔軟性を付与するために可塑剤を添加してもよく、また無機粉末の分散性を高めるために分散剤を添加してもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the example of the above-described embodiment, an inorganic powder, a binder, and a solvent are added and mixed to produce a ceramic slurry. However, a plasticizer may be added to impart flexibility to the CG, and the inorganic powder A dispersant may be added to improve the dispersibility.

(a)〜(d)は、本発明の電子部品の製造方法の実施の形態の一例を示す工程毎の断面図である。(A)-(d) is sectional drawing for every process which shows an example of embodiment of the manufacturing method of the electronic component of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・支持体
2・・・導体層
3・・・第1のセラミックグリーンシート
4・・・第2のセラミックグリーンシート
5・・・積層セラミックグリーンシート
6・・・セラミックグリーンシート積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support body 2 ... Conductor layer 3 ... 1st ceramic green sheet 4 ... 2nd ceramic green sheet 5 ... Laminated ceramic green sheet 6 ... Ceramic green sheet laminated body

Claims (13)

支持体上に導体層を形成する工程と、該導体層を形成した支持体上に第1のセラミックグリーンシートを作製する工程と、第2のセラミックグリーンシートを作製する工程と、前記第1のセラミックグリーンシートと前記第2のセラミックグリーンシートとを積層して加熱することによって前記導体層と前記第1,第2のセラミックグリーンシートから成る積層セラミックグリーンシートを形成する工程と、前記積層セラミックグリーンシートを複数枚積層して加熱することによってセラミックグリーンシート積層体を作製する工程と、前記セラミックグリーンシート積層体を焼成する工程とを具備しており、前記第2のセラミックグリーンシートは、前記積層セラミックグリーンシートを作製する際および前記セラミックグリーンシート積層体を作製する際の加熱時に溶融状態となる溶融成分を含有していることを特徴とする電子部品の製造方法。 Forming a conductor layer on the support, producing a first ceramic green sheet on the support on which the conductor layer is formed, producing a second ceramic green sheet, and the first Forming a multilayer ceramic green sheet comprising the conductor layer and the first and second ceramic green sheets by laminating and heating the ceramic green sheet and the second ceramic green sheet; and the multilayer ceramic green A step of producing a ceramic green sheet laminate by laminating a plurality of sheets and heating; and a step of firing the ceramic green sheet laminate, wherein the second ceramic green sheet comprises the laminate When producing ceramic green sheets and the ceramic green sheet product Method of manufacturing an electronic component, characterized by containing the molten component as a molten state when heated at the time of making the body. 前記溶融成分の融点が35乃至100℃であることを特徴とする請求項1記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the melting component has a melting point of 35 to 100 ° C. 前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して19乃至25質量部であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の電子部品の製造方法。 3. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein an addition amount of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 19 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder. . 前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの分子量が8万乃至30万であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 4. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the organic binder contained in the second ceramic green sheet has a molecular weight of 80,000 to 300,000. 5. 前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの酸価が0.1乃至0.8KOHmg/gであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 5. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the acid value of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is 0.1 to 0.8 KOH mg / g. 6. . 前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの添加量が無機粉末100質量部に対して8乃至20質量部であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 6. The electron according to claim 1, wherein an addition amount of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 8 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder. A manufacturing method for parts. 前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの平均分子量が5万乃至80万であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for producing an electronic component according to any one of claims 1 to 6, wherein the average molecular weight of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 50,000 to 800,000. 前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの酸価が0.1乃至5KOHmg/gであることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 8. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the acid value of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is 0.1 to 5 KOH mg / g. 前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーのガラス転移点が−20乃至0℃であることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 9. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the glass transition point of the organic binder contained in the second ceramic green sheet is −20 to 0 ° C. 9. 前記第2のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの水酸基価が0.1乃至5KOHmg/gであることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 10. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the organic binder contained in the second ceramic green sheet has a hydroxyl value of 0.1 to 5 KOH mg / g. 前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーのガラス転移点が−20乃至10℃であることを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 11. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the glass transition point of the organic binder contained in the first ceramic green sheet is −20 to 10 ° C. 11. 前記第1のセラミックグリーンシートに含まれる有機バインダーの水酸基価が5乃至100KOHmg/gであることを特徴とする請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for producing an electronic component according to any one of claims 1 to 11, wherein the organic binder contained in the first ceramic green sheet has a hydroxyl value of 5 to 100 KOHmg / g. 前記積層セラミックグリーンシートを作製する工程における加熱は、前記溶融成分の融点より0乃至70℃高い温度にて行なうことを特徴とする請求項1乃至請求項12のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The manufacturing of the electronic component according to any one of claims 1 to 12, wherein the heating in the step of manufacturing the multilayer ceramic green sheet is performed at a temperature 0 to 70 ° C higher than a melting point of the molten component. Method.
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