JP2006119390A - Low reflective component, manufacturing method thereof, and display device - Google Patents

Low reflective component, manufacturing method thereof, and display device Download PDF

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村 昭人 稲
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the visibility of a component and save the energy upon the operation by lowering reflectance of light of the component itself such as an optical component. <P>SOLUTION: A nano structure in which the fine roughness having pitches of 30 to 300 nm and depths of 60 to 400 nm continues on a flat surface is formed on one surface of a substrate, plating is applied on the surface of the substrate and, thereby, the nano structure is transferred thereon. Thereafter, the substrate is stripped from a plating layer and the stripped plating layer is sintered. By using the sintered plating layer as a die, resin is injection-molded and the nano structure is formed on the surface of an injection-molded product. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、表面からの光の反射を低く抑えた低反射性部品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a low-reflective component that suppresses reflection of light from a surface to a low level and a method for manufacturing the same.

光学部品では、その表面に対して所定の処理をおこなうことにより光学特性を向上させることが行われている。例えば、特許文献1には、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)等の電極として使用される透明導電性膜(ITO膜)の表面を改質する方法が記載されている。   In an optical component, optical characteristics are improved by performing a predetermined treatment on the surface. For example, Patent Document 1 describes a method for modifying the surface of a transparent conductive film (ITO film) used as an electrode for organic electroluminescence (organic EL) or the like.

この方法は、ガラス基板上に蒸着等によってITO膜を形成し、このITO膜の表面に対しプラズマ中のイオンを照射し、その後、輝度消失の閾値エネルギー以上の電線を選択的に照射することによりITO膜の電荷注入効率を選択的に変化させるものであり、これによりITO膜の発光パターンを変化させるものである。
特開2003−249379号公報
In this method, an ITO film is formed on a glass substrate by vapor deposition or the like, and the surface of the ITO film is irradiated with ions in the plasma, and thereafter, an electric wire having a threshold energy for luminance disappearance is selectively irradiated. The charge injection efficiency of the ITO film is selectively changed, thereby changing the light emission pattern of the ITO film.
JP 2003-249379 A

特許文献1を始めとした従来の方法では、部品の光学特性を向上させるために、化学的処理、物理的処理等の煩雑で複雑な制御に基づいた表面処理を行う必要がある。また、部品の光学特性を向上させることが可能であっても、その部品自体の反射率を低くするものではない。   In conventional methods such as Patent Document 1, it is necessary to perform surface treatment based on complicated and complicated control such as chemical treatment and physical treatment in order to improve the optical characteristics of components. Further, even if the optical characteristics of a component can be improved, the reflectance of the component itself is not lowered.

一方、部品の反射率を低くすることにより光透過率を向上させることが可能である。そして、光透過率を向上させることによってその部品が表示する文字、画像等が読み易くなるばかりでなく、部品を発光させるための電力が少なくなって省エネルギーにも寄与できるものである。   On the other hand, the light transmittance can be improved by reducing the reflectance of the component. Further, by improving the light transmittance, not only the characters, images and the like displayed by the component can be easily read, but also the power for causing the component to emit light can be reduced, thereby contributing to energy saving.

本発明は、このような課題に基づいてなされたものであり、部品自体の光の反射率を低くすることができ、部品の視認性向上や作動の際の省エネルギーに寄与することが可能な低反射性部品及びその製造方法並びに表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made based on such a problem, and can reduce the light reflectance of the component itself, and can contribute to improved visibility of the component and energy saving during operation. It is an object of the present invention to provide a reflective component, a manufacturing method thereof, and a display device.

請求項1記載の発明の低反射性部品は、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を有する光透過性フィルムと、この光透過性フィルムが片面または両面に積層される光透過部材とを備えていることを特徴とする。   The low-reflective part of the invention according to claim 1 is a light-transmitting film having a nanostructure in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuous on a plane. And a light transmissive member that is laminated on one side or both sides of the light transmissive film.

請求項2記載の発明の低反射性部品の製造方法は、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を基材の一面に対して形成し、この基材の一面にメッキを被覆してナノ構造体を転写した後、メッキ層から基材を剥離し、剥離したメッキ層を焼成し、焼成したメッキ層を金型として用いて樹脂を射出成形することにより、射出成形された成形品の表面にナノ構造体を形成することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for producing a low-reflective component, comprising: a nanostructure in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuous on a plane. After coating the surface of this substrate with plating and transferring the nanostructure, the substrate is peeled off from the plating layer, the peeled plating layer is fired, and the fired plating layer is made of gold. A nanostructure is formed on the surface of an injection-molded molded article by injection molding of a resin as a mold.

請求項3記載の発明の低反射性部品の製造方法は、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を一対のロールの一方の表面に形成し、一対のロールを加熱しながら一対のロール間に樹脂フィルムを連続的に供給することにより樹脂フィルムの表面にナノ構造体を形成することを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for producing a low-reflective component comprising a pair of nanostructures in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuous on a plane. It is formed on one surface of a roll, and a nanostructure is formed on the surface of the resin film by continuously supplying the resin film between the pair of rolls while heating the pair of rolls.

請求項4記載の発明の低反射性部品の製造方法は、 ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を基材の一面に対して形成し、この基材の一面にメッキを被覆してナノ構造体を転写した後、メッキ層から基材を剥離し、剥離したメッキ層をスタンパとしてエネルギー硬化型樹脂に押し付け、その後、エネルギー硬化型樹脂を硬化してナノ構造体をエネルギー硬化型樹脂に形成することを特徴とする。   The method for producing a low-reflective component according to the invention of claim 4 is based on a nanostructure in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuous on a plane. After forming the surface of the substrate and coating the surface of the base material to transfer the nanostructure, the base material is peeled off from the plating layer, and the peeled plating layer is pressed against the energy curable resin as a stamper. Thereafter, the energy curable resin is cured to form a nanostructure in the energy curable resin.

請求項5記載の発明の低反射性部品の製造方法は、請求項2〜4のいずれか1項記載の方法によってナノ構造体を有する光透過性フィルムを作製した後、光透過性フィルムを光透過部材の片面または両面に積層することを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for producing a low-reflective part according to any one of the second to fourth aspects. It is characterized by being laminated on one side or both sides of the transmission member.

請求項6記載の発明の表示装置は、電力供給によって所定の表示を行う表示本体と、表示本体に重ね合わせられて表示本体の光が透過する光透過部材とを備えており、光透過部材の片面または両面に、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体が形成されていることを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a display device comprising: a display main body that performs a predetermined display by supplying power; and a light transmission member that is superimposed on the display main body and transmits light from the display main body. One or both surfaces are formed with nanostructures in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuously formed on a plane.

本発明の低反射性部品は、光透過部材に積層される光透過性フィルムが積層されると共に、光透過性フィルムには、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体が形成されているため、光の反射率が極めて小さな特性を有している。従って、部品自体の光の反射率を低くすることができ、簡単な構造で視認性を向上させることができる。   In the low reflective component of the present invention, a light transmissive film laminated on a light transmissive member is laminated, and the light transmissive film has a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm. Since a nanostructure in which fine irregularities are continuously formed on a plane is formed, the light reflectance is extremely small. Accordingly, the light reflectance of the component itself can be lowered, and the visibility can be improved with a simple structure.

本発明の低反射性部品の製造方法は、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を成形用部材に形成し、この成形用部材を用いて部品に対してナノ構造体を形成するため、面倒な表面処理が不要となり、簡単に低反射性部品を製造することができる。   The method for producing a low-reflective component according to the present invention comprises forming a nanostructure on a molding member in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuous on a plane. Since a nanostructure is formed on a part using this molding member, a troublesome surface treatment is not required, and a low-reflective part can be easily manufactured.

本発明の表示装置は、表示本体に重ね合わせられる光透過部材の片面または両面に、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体が形成されているため、光の反射率が極めて小さくなり、光の透過率が向上する。従って、表示内容の視認性を向上させることができる。   In the display device of the present invention, fine irregularities having a pitch in the range of 30 to 300 nm and a depth in the range of 60 to 400 nm are continuously formed on one or both surfaces of the light transmitting member to be superimposed on the display body. Since the nanostructure is formed, the light reflectance is extremely small, and the light transmittance is improved. Therefore, the visibility of the display content can be improved.

本発明の低反射性部品は、ナノ構造体を形成した光透過性フィルムを光透過部材の片面または両面に対して積層することにより構成される。   The low-reflective component of the present invention is configured by laminating a light-transmitting film on which a nanostructure is formed on one side or both sides of a light-transmitting member.

ナノ構造体は、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続することにより構成される。図1は、ガラス、プラスチック等の基板1の表面にナノ構造体2を形成した構造を示す。   The nanostructure is configured by a series of fine irregularities having a pitch in the range of 30 to 300 nm and a depth in the range of 60 to 400 nm. FIG. 1 shows a structure in which a nanostructure 2 is formed on the surface of a substrate 1 such as glass or plastic.

ナノ構造体2は、微細な凸部3及び凹部4が一平面(XY平面)上に不規則に連続することにより構成される。隣接する凸部3(または凹部4)の間の距離をピッチPとし、突出量が最大の凸部3とへこみ量が最大の凹部4との間の距離を深さDとした場合、ピッチPは30〜300nmの範囲内、深さDは60〜400nmの範囲内となるように設定される。ナノ構造体2の凹凸のピッチP及び深さDをこのような範囲内とすることにより、ナノ構造体を設けない場合に比べて反射率を20〜93%低減させることができ、光の低反射特性を有したものとすることができる。このナノ構造外の低反射特性は、可視光領域の全ての波長光に対して有効に作用するものである。   The nanostructure 2 is constituted by minute projections 3 and recesses 4 that are irregularly continuous on one plane (XY plane). When the distance between the adjacent convex portions 3 (or concave portions 4) is the pitch P, and the distance between the convex portion 3 having the maximum protrusion amount and the concave portion 4 having the maximum dent amount is the depth D, the pitch P Is set in the range of 30 to 300 nm, and the depth D is set in the range of 60 to 400 nm. By setting the pitch P and the depth D of the irregularities of the nanostructure 2 within such ranges, the reflectance can be reduced by 20 to 93% compared to the case where the nanostructure is not provided, and the light intensity is reduced. It can have a reflective characteristic. This low reflection characteristic outside the nanostructure effectively acts on all wavelengths of light in the visible light region.

ピッチPが30nm未満及び深さDが60nm未満の場合には、反射率を低減させる効果が小さくなる一方、ピッチPが300nm及び深さDが400nmを超える場合には、凹凸による乱反射が大きくなり、光の透過率が悪くなって反射率の低減を行うことが難しくなる。この場合、より好ましくは、ピッチPは60〜100nmの範囲内であり、深さDは100〜300nmの範囲内である。   When the pitch P is less than 30 nm and the depth D is less than 60 nm, the effect of reducing the reflectance is reduced. On the other hand, when the pitch P is 300 nm and the depth D exceeds 400 nm, irregular reflection due to unevenness increases. As a result, the light transmittance becomes worse, and it becomes difficult to reduce the reflectance. In this case, more preferably, the pitch P is in the range of 60 to 100 nm, and the depth D is in the range of 100 to 300 nm.

本発明に用いる光透過部材としては、光が透過することを使用目的として用いられる部材であり、この光透過部材としては、具体的には、建造物や車両等の窓ガラス、パソコン、携帯電話機等の電子機器のディスプレイ、テレビ画面、音響機器や車両用メータ等の表示窓、レンズ、プリズム等の光学部品、その他の各種の分野に用いられる部材が適用の対象となる。これらの部材において、ナノ構造体は光が透過する片面または両面に対して形成されるものである。   The light transmitting member used in the present invention is a member used for the purpose of transmitting light. Specifically, the light transmitting member includes window glass for a building, a vehicle, etc., a personal computer, and a mobile phone. Applications such as displays for electronic devices such as displays, television screens, display windows for audio equipment and vehicle meters, optical components such as lenses and prisms, and other various fields are applicable. In these members, the nanostructure is formed on one side or both sides through which light passes.

図2は、本発明の表示装置としての液晶表示装置11を示す。液晶表示装置11は、対向面に電極12が形成されて対向する一対のガラス基板13と、一対のガラス基板13のそれぞれの外側に積層される偏光板14とを備えており、対向している一対のガラス基板13の間にはスペーサ15によって空間が形成され、この空間に液晶組成物16が封入されることにより構成されている。また、一方のガラス基板13側にはバックライト17が配置され、他方のガラス基板13側には透光性の保護板18が配置されている。   FIG. 2 shows a liquid crystal display device 11 as a display device of the present invention. The liquid crystal display device 11 includes a pair of glass substrates 13 that are opposed to each other with electrodes 12 formed on the opposed surfaces, and a polarizing plate 14 that is laminated on the outside of each of the pair of glass substrates 13. A space is formed between the pair of glass substrates 13 by the spacer 15, and the liquid crystal composition 16 is sealed in this space. Moreover, the backlight 17 is arrange | positioned at the one glass substrate 13 side, and the translucent protection board 18 is arrange | positioned at the other glass substrate 13 side.

対向した電極12は、電力が供給されることにより、文字や図形、その他の表示を液晶組成物に対して行う表示本体を構成するものであり、ガラス基板13、偏向板14、保護板18は表示本体の光が透過する光透過部材を構成する。   The facing electrode 12 constitutes a display body that displays characters, graphics, and other displays on the liquid crystal composition when power is supplied. The glass substrate 13, the deflection plate 14, and the protection plate 18 A light transmitting member that transmits light of the display body is configured.

このような液晶表示装置11において、ナノ構造体はガラス基板13、偏光板14、保護板18のいずれかあるいは全てに形成されるものである。また、ガラス基板13、偏光板14、保護板18に対しては、その一方の面に形成しても良く、両面に形成しても良い。さらに、これらの部材13,14,18に対するナノ構造体の形成は、これらの部材の表面に対して表面と一体的に形成しても良く、ナノ構造体を有する光透過性フィルムをこれらの部材の表面に積層することにより形成しても良い。光透過性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルサルファ(PES)等の素材からなる透明フィルムを用いることができる。   In such a liquid crystal display device 11, the nanostructure is formed on any or all of the glass substrate 13, the polarizing plate 14, and the protective plate 18. In addition, the glass substrate 13, the polarizing plate 14, and the protective plate 18 may be formed on one surface or both surfaces. Furthermore, the nanostructures for these members 13, 14, 18 may be formed integrally with the surface of these members, and a light-transmitting film having nanostructures is formed on these members. You may form by laminating | stacking on the surface of this. As the light transmissive film, a transparent film made of a material such as polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate (PC), or polyethersulfur (PES) can be used.

図3は、本発明の表示装置としてのプラズマディスプレイ21を示し、プラズマ発光セル22が上面に保護板23が被せられている。プラズマ発光セル22は電力によって発光すると共に所定の表示を行う表示本体であると共に、光が透過する光透過部材となっている。保護板23はプラズマ発光セル22からの光が透過する光透過部材となっている。ナノ構造体は、プラズマ発光セル22の上面あるいは保護板23の上下面のいずれかの面に形成される。これらのプラズマ発光セル22及び保護板23に対し、ナノ構造体はその表面に一体的に形成しても良く、ナノ構造体を有する光透過性フィルムをその表面に積層することにより形成しても良い。   FIG. 3 shows a plasma display 21 as a display device of the present invention, in which a plasma light emitting cell 22 is covered with a protective plate 23 on the upper surface. The plasma light emitting cell 22 is a display main body that emits light by electric power and performs a predetermined display, and is a light transmitting member that transmits light. The protective plate 23 is a light transmitting member that transmits light from the plasma light emitting cell 22. The nanostructure is formed on either the upper surface of the plasma light emitting cell 22 or the upper and lower surfaces of the protective plate 23. The nanostructure may be formed integrally on the surface of the plasma light emitting cell 22 and the protective plate 23, or may be formed by laminating a light transmissive film having the nanostructure on the surface. good.

以上のような表示装置における光透過部材に対してナノ構造体を適用することにより、光透過部材の反射率が低減して光の透過率が向上するため、視認性が良好となる。このため、その部材が表示している文字、画像等が見易くなると共に、その部材を通して読み取る文字や画像が見易くなる。また、表示装置を駆動するための電力を少なくすることができるため、省エネルギーに寄与することができる。なお、ナノ構造体は光透過部材の表面に形成されるものであれば良く、光透過部材の表面にナノ構造体を形成した後、ナノ構造体の上に光学薄膜を積層しても良い。   By applying the nanostructure to the light transmitting member in the display device as described above, the reflectance of the light transmitting member is reduced and the light transmittance is improved, so that the visibility is improved. This makes it easier to see the characters, images, etc. displayed by the member, and makes it easier to see the characters and images read through the member. In addition, power for driving the display device can be reduced, which can contribute to energy saving. The nanostructure may be formed on the surface of the light transmitting member, and after forming the nanostructure on the surface of the light transmitting member, an optical thin film may be laminated on the nanostructure.

光透過性フィルム等の基材に対してナノ構造体を形成する方法としては、例えば、特公昭61−48124号公報に記載された方法を用いることにより可能である。この方法は、アルミニウム、マグネシウム等の金属をガラス、プラスチック等の透明基板に蒸着させることにより金属薄膜を透明基板上に形成させる工程と、金属薄膜の金属を水酸化物に変化させる工程とを備えるものである。金属薄膜の金属を水酸化物に変化させる工程は、金属薄膜を水蒸気や温水と所定時間接触させることにより行われる。なお、プラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン等の透明樹脂が使用される。   As a method for forming a nanostructure on a substrate such as a light transmissive film, it is possible to use, for example, a method described in Japanese Patent Publication No. 61-48124. This method comprises a step of forming a metal thin film on a transparent substrate by depositing a metal such as aluminum or magnesium on a transparent substrate such as glass or plastic, and a step of changing the metal of the metal thin film into a hydroxide. Is. The step of changing the metal of the metal thin film into a hydroxide is performed by bringing the metal thin film into contact with water vapor or warm water for a predetermined time. As the plastic, transparent resin such as polycarbonate, acrylic resin, polyolefin such as polypropylene is used.

基材に対してナノ構造体を形成する別の方法としては、例えば、特開2001−262009号公報や特開2000−262964号公報等に記載された方法を用いることができる。この方法としては、例えば、アルミニウム化合物含有溶液を基材に塗布して皮膜を形成し、この皮膜に対して熱水または加熱水蒸気による処理を行うことによりナノ構造体を有するアルミナ皮膜を形成し、アルミナ皮膜上に金属キレート化合物を含むコーティング剤からなる乾燥皮膜を形成させ、次いで活性エネルギー線を照射してキレート結合を光分解させることにより形成するものである。   As another method for forming the nanostructure on the substrate, for example, methods described in JP-A-2001-262009 and JP-A-2000-262964 can be used. As this method, for example, an aluminum compound-containing solution is applied to a substrate to form a film, and this film is treated with hot water or heated steam to form an alumina film having a nanostructure, A dry film composed of a coating agent containing a metal chelate compound is formed on the alumina film, and then the active energy rays are irradiated to photolyze the chelate bonds.

本発明の低反射性部品の製造方法としては、射出成形を用いることができる。すなわち、上述した方法によってナノ構造体をガラス、プラスチック等の基材の一面に形成し、この基材の一面に対して無電解処理を施した後、ニッケル等の金属メッキを行う。この金属メッキによりナノ構造体をメッキ層に転写する。そして、メッキ層と基材とを剥離する。この剥離は、基材を有機溶剤により溶解除去する等により行うことができる。   Injection molding can be used as a method for producing the low-reflective component of the present invention. That is, the nanostructure is formed on one surface of a substrate such as glass or plastic by the above-described method, and after electroless treatment is performed on the one surface of the substrate, metal plating such as nickel is performed. The nanostructure is transferred to the plating layer by this metal plating. And a plating layer and a base material are peeled. This peeling can be performed by dissolving and removing the substrate with an organic solvent.

このようにして基材から剥離したメッキ層を500〜1200℃の温度範囲内で焼成し、焼成したメッキ層を射出成形用の金型として用い、金型のキャビティ内に溶融樹脂を射出して成形する。これにより、成形品の表面にナノ構造体を形成することができる。   The plating layer thus peeled off from the base material is fired within a temperature range of 500 to 1200 ° C., the fired plating layer is used as a mold for injection molding, and a molten resin is injected into the mold cavity. Mold. Thereby, a nanostructure can be formed on the surface of the molded product.

上記した方法において、ナノ構造体を形成した基材の面に紫外線硬化型樹脂を押し付けて硬化させることにより紫外線硬化型樹脂にナノ構造体を転写し、この転写面に対して無電解メッキ、スパッタリング、蒸着等によって500〜1000オングストローム厚のニッケル等の金属層を形成して導電層とし、この導電層の表面に金属メッキを行うことも可能である。これにより、基材のナノ構造体がさらに高精度に転写されたメッキ層を形成することができる。   In the above method, the nanostructure is transferred to the ultraviolet curable resin by pressing and curing the ultraviolet curable resin on the surface of the substrate on which the nanostructure is formed, and electroless plating and sputtering are performed on the transfer surface. It is also possible to form a metal layer of nickel or the like having a thickness of 500 to 1000 angstroms by vapor deposition or the like to form a conductive layer, and to perform metal plating on the surface of the conductive layer. Thereby, the plating layer in which the nanostructure of the base material is transferred with higher accuracy can be formed.

本発明においては、上述の処理によって得られたメッキ層をスタンパとして用いることにより低反射性部品を製造することが可能である。この場合には、スタンパを紫外線硬化樹脂等のエネルギー硬化型樹脂に押し付け、この押し付け状態で紫外線照射等のエネルギー供給を行って樹脂を硬化する。これにより硬化された樹脂成形品の表面にナノ構造体を形成することができる。   In the present invention, it is possible to manufacture a low-reflective component by using the plating layer obtained by the above-described treatment as a stamper. In this case, the stamper is pressed against an energy curable resin such as an ultraviolet curable resin, and the resin is cured by supplying energy such as ultraviolet irradiation in this pressed state. Thereby, a nanostructure can be formed on the surface of the cured resin molded product.

以上のように金型やスタンパを用いて光透過性フィルムにナノ構造体を転写することにより、光透過性フィルムにナノ構造体を良好に転写することができる。そして、ナノ構造体が転写した光透過性フィルムを光透過部材の表面に積層することにより低反射性部品を製造することができる。積層に際しては、光透過性の接着剤や超音波振動を用いることにより確実に積層することができる。   As described above, by transferring the nanostructure to the light-transmitting film using a mold or a stamper, the nanostructure can be successfully transferred to the light-transmitting film. And a low reflective component can be manufactured by laminating | stacking the light transmissive film which the nanostructure transferred to the surface of a light transmissive member. When laminating, it can be reliably laminated by using a light-transmitting adhesive or ultrasonic vibration.

このように金型やスタンプを用いてナノ構造体を転写する方法では、光透過部材に対して直接にナノ構造体を形成する上述した特公昭61−48124号公報の方法や特開2001−262009号公報や特開2000−262964号公報の方法に比べてナノ構造体の強度が大きく、耐久性のあるものとすることができる。   As described above, in the method of transferring the nanostructure using a mold or a stamp, the method disclosed in Japanese Patent Publication No. Sho 61-48124 described above for forming the nanostructure directly on the light transmitting member or Japanese Patent Laid-Open No. 2001-262009. The strength of the nanostructure can be increased and the durability can be increased as compared with the methods disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-262964.

ナノ構造体を光透過性フィルムに形成する方法としては、ロール成形を用いることができる。この方法は、一対のロールの内の一方のロールの表面にナノ構造体を形成する。そして、必要に応じて500〜1200℃の温度領域内で焼成しする。このように作製されたロールを他方のロールと対向するように配置し、これらの一対のロールを加熱しながらロール間に透明樹脂からなるフィルムを連続的に供給するものである。これによりナノ構造体を有したフィルムを連続的に形成することができ、量産性を向上させることができる。   Roll forming can be used as a method of forming the nanostructure on the light transmissive film. This method forms a nanostructure on the surface of one of the pair of rolls. And it bakes within the temperature range of 500-1200 degreeC as needed. The roll thus produced is arranged so as to face the other roll, and a film made of a transparent resin is continuously supplied between the rolls while heating the pair of rolls. Accordingly, a film having nanostructures can be continuously formed, and mass productivity can be improved.

(実施例1)
アルミニウム化合物を含む溶液をガラス基板上にコーティングした後、85℃の温水に30分浸漬し、温水から引き上げて500℃で加熱することにより水酸化アルミニウム膜からなるナノ構造体をガラス基板の両面に形成した。このガラス基板の片面に対してスパッタリングを行うことにより、片面にITO膜を形成した。ITO膜が形成されたガラス基板に対して可視光を照射して透過率及び反射率を測定した結果、透過率が94.0%、反射率が1.0%であり、良好な低反射率となっていた。
Example 1
A glass substrate is coated with a solution containing an aluminum compound, and then immersed in warm water at 85 ° C. for 30 minutes. The nanostructure formed of an aluminum hydroxide film is formed on both surfaces of the glass substrate by pulling up from the warm water and heating at 500 ° C. Formed. An ITO film was formed on one side of the glass substrate by sputtering. As a result of measuring the transmittance and the reflectance by irradiating the glass substrate on which the ITO film is formed with the visible light, the transmittance is 94.0%, the reflectance is 1.0%, and the good low reflectance. It was.

これに対し、ナノ構造体を形成することなく、ガラス基板の片面に直接にスパッタリングを行ってITO膜を形成した場合の透過率は91.0%、反射率は4.0%であった。   On the other hand, when the ITO film was formed by directly sputtering one surface of the glass substrate without forming the nanostructure, the transmittance was 91.0% and the reflectance was 4.0%.

(実施例2)
ガラス基板上に蒸着法によってアルミニウム薄膜をコーティングした後、85℃の温水に30分浸漬してガラス基板上にナノ構造体を形成した。このガラス基板に対して無電解処理をおこなった後、ニッケルメッキを施してナノ構造体をメッキ層に転写した。このナノ構造体が転写されたメッキ層を金型として用い、アクリル樹脂を射出成形した。射出成形により得られた樹脂基板に対して可視光を照射して透過率及び反射率を測定した結果、透過率が98.0%、反射率が0.5%であり、良好な低反射率となっていた。
(Example 2)
After coating an aluminum thin film on a glass substrate by vapor deposition, it was immersed in warm water at 85 ° C. for 30 minutes to form a nanostructure on the glass substrate. The glass substrate was electrolessly treated and then nickel-plated to transfer the nanostructure to the plating layer. An acrylic resin was injection molded using the plating layer onto which the nanostructure was transferred as a mold. As a result of measuring the transmittance and the reflectance by irradiating the resin substrate obtained by injection molding with visible light, the transmittance is 98.0%, the reflectance is 0.5%, and the good low reflectance. It was.

これに対し、ナノ構造体を有しない金型を用いてアクリル樹脂を射出成形した場合の樹脂基板では、透過率が95.0%、反射率が4.0%であった。   On the other hand, in the resin substrate when the acrylic resin was injection-molded using a mold having no nanostructure, the transmittance was 95.0% and the reflectance was 4.0%.

ナノ構造体が形成された基板の断面図及び拡大断面図である。It is sectional drawing and the expanded sectional view of the board | substrate with which the nanostructure was formed. 本発明が適用される液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device with which this invention is applied. 本発明が適用されるプラズマディスプレイの断面図である。It is sectional drawing of the plasma display to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 ナノ構造体
3 凸部
4 凹部
1 Substrate 2 Nanostructure 3 Convex 4 Concave

Claims (6)

ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を有する光透過性フィルムと、この光透過性フィルムが片面または両面に積層される光透過部材とを備えていることを特徴とする低反射性部品。   A light-transmitting film having a nanostructure in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuous on a plane, and the light-transmitting film are laminated on one side or both sides A low-reflective component comprising a light-transmitting member. ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を基材の一面に対して形成し、この基材の一面にメッキを被覆してナノ構造体を転写した後、メッキ層から基材を剥離し、剥離したメッキ層を焼成し、焼成したメッキ層を金型として用いて樹脂を射出成形することにより、射出成形された成形品の表面にナノ構造体を形成することを特徴とする低反射性部品の製造方法。   A nanostructure in which fine irregularities having a pitch in the range of 30 to 300 nm and a depth in the range of 60 to 400 nm are continuously formed on a plane is formed on one surface of the substrate, and plating is performed on the one surface of the substrate. After coating and transferring the nanostructure, the substrate was peeled off from the plating layer, the peeled plating layer was fired, and the resin was injection molded using the fired plating layer as a mold. A method for producing a low-reflective component, comprising forming a nanostructure on a surface of a molded product. ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を一対のロールの一方の表面に形成し、一対のロールを加熱しながら一対のロール間に樹脂フィルムを連続的に供給することにより樹脂フィルムの表面にナノ構造体を形成することを特徴とする低反射性部品の製造方法。   A nanostructure in which fine irregularities having a pitch in a range of 30 to 300 nm and a depth in a range of 60 to 400 nm are continuously formed on a plane is formed on one surface of a pair of rolls, and the pair of rolls is heated. A method for producing a low-reflective component, comprising forming a nanostructure on a surface of a resin film by continuously supplying the resin film between a pair of rolls. ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を基材の一面に対して形成し、この基材の一面にメッキを被覆してナノ構造体を転写した後、メッキ層から基材を剥離し、剥離したメッキ層をスタンパとしてエネルギー硬化型樹脂に押し付け、その後、エネルギー硬化型樹脂を硬化してナノ構造体をエネルギー硬化型樹脂に形成することを特徴とする低反射性部品の製造方法。   A nanostructure in which fine irregularities having a pitch in the range of 30 to 300 nm and a depth in the range of 60 to 400 nm are continuously formed on a plane is formed on one surface of the substrate, and plating is performed on the one surface of the substrate. After coating and transferring the nanostructure, peel off the substrate from the plating layer, press the peeled plating layer against the energy curable resin as a stamper, and then cure the energy curable resin to energy cure the nanostructure A method for producing a low-reflective component, characterized by being formed on a mold resin. 請求項2〜4のいずれか1項記載の方法によってナノ構造体を有する光透過性フィルムを作製した後、光透過性フィルムを光透過部材の片面または両面に積層することを特徴とする低反射性部品の製造方法。   After producing the light transmissive film which has a nanostructure by the method of any one of Claims 2-4, a light transmissive film is laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of a light transmissive member, The low reflection characterized by the above-mentioned. Manufacturing method for functional parts. 電力供給によって所定の表示を行う表示本体と、表示本体に重ね合わせられて表示本体の光が透過する光透過部材とを備えており、光透過部材の片面または両面に、ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体が形成されていることを特徴とする表示装置。   A display main body that performs predetermined display by power supply; and a light transmission member that is superimposed on the display main body and transmits light from the display main body, and has a pitch of 30 to 300 nm on one or both sides of the light transmission member. A display device comprising a nanostructure in which fine irregularities within a range and a depth of 60 to 400 nm are continuous on a plane.
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