JP2006114578A - Manufacturing method of printed circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板の製造方法に関し、より詳しくは、ブラインドビアホールの内部に電気めっきで形成されためっき層によって導体層間を接続されたプリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a printed wiring board in which conductor layers are connected to each other by a plating layer formed by electroplating inside a blind via hole.
従来、多層プリント配線板に直径0.1mm〜0.2mm程度の極細径の貫通ビアホール又はブラインドビアホールを形成し、これらのビアホールの内壁面にめっきを析出させることにより、各層の回路配線を接続することが行われている。これらのめっきは、各回路配線間に介在する絶縁層との付着を高めるために、専ら無電解めっきで行われている。無電解めっきによる貫通ビアホール(スルーホール)のめっき方法としては、例えば特許文献1に示すもの等がある。 Conventionally, through wiring holes or blind via holes having a very small diameter of about 0.1 mm to 0.2 mm are formed on a multilayer printed wiring board, and plating is deposited on the inner wall surface of these via holes to connect circuit wirings of each layer. Things have been done. These platings are exclusively performed by electroless plating in order to enhance adhesion with the insulating layer interposed between the circuit wirings. As a method for plating through via holes (through holes) by electroless plating, for example, there is a method disclosed in Patent Document 1.
特許文献1の方法によれば、まず、貫通ビアホールの内壁面に銅化合物を付着させ、この状態で還元性液中に貫通ビアホールを浸漬し、銅化合物を還元することにより、貫通ビアホールの内壁面に微粒子状金属銅の層を形成する。そして、この微粒子状金属銅を無電解めっき用触媒として用いて無電解めっきで貫通ビアホールの内壁面にめっき層を形成する。このように、触媒を用いることによって、貫通ビアホールの内壁面に露出している絶縁層とめっき層との付着をよくしている。
前記した無電解めっきによる貫通ビアホールの内壁面のめっき方法を利用して、ブラインドビアホールの内部にめっき層を析出させるためには、ブラインドビアホールの内部に触媒を付着させる前処理が必要となり、手間がかかる。そのため、発明者らは、電気めっきによってブラインドビアホールの内部にめっき層を析出させることを試みた。以下、図面を参照して説明する。 In order to deposit a plating layer inside the blind via hole using the above-described plating method of the inner wall surface of the through via hole by electroless plating, a pretreatment for attaching a catalyst to the inside of the blind via hole is necessary, which is troublesome. Take it. Therefore, the inventors tried to deposit a plating layer inside the blind via hole by electroplating. Hereinafter, description will be given with reference to the drawings.
図5は、ブラインドビアホールの断面図である。
プリント配線板100は、図5に示すように、絶縁層102と、この絶縁層102を介して積層された導体層101a、101bと、から構成されている。そして、プリント配線板100には、導体層101aと絶縁層102とを貫通して導体層101bに到達するブラインドビアホール103が形成されている。すなわち、ブラインドビアホール103の底面には導体層101bが露出しており、内壁面には導体層101aが露出した状態になっている。なお、導体層101a、101bの表面には、めっきの析出を防止するために、レジスト層104が印刷されている。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a blind via hole.
As shown in FIG. 5, the printed wiring board 100 includes an insulating layer 102 and conductor layers 101 a and 101 b stacked via the insulating layer 102. The printed wiring board 100 is formed with a blind via hole 103 that penetrates the conductor layer 101a and the insulating layer 102 and reaches the conductor layer 101b. That is, the conductor layer 101b is exposed on the bottom surface of the blind via hole 103, and the conductor layer 101a is exposed on the inner wall surface. A resist layer 104 is printed on the surfaces of the conductor layers 101a and 101b in order to prevent deposition of plating.
発明者らは、めっき時間の短縮を図るべく、導体層101a、101bの両方からブラインドビアホール103内にめっきを析出させて、両者を接続しようと試みた。具体的には、導体層101aと導体層101bの両方に給電装置(図示省略)のマイナス極を接続し、プリント配線板100をめっき液Lに浸漬させるとともに、ブラインドビアホール103の開口部に対向する位置に陽極板105を配置し、電気めっきを行った。 In order to shorten the plating time, the inventors tried to connect the both by depositing plating in the blind via hole 103 from both the conductor layers 101a and 101b. Specifically, a negative electrode of a power feeding device (not shown) is connected to both the conductor layer 101a and the conductor layer 101b, the printed wiring board 100 is immersed in the plating solution L, and is opposed to the opening of the blind via hole 103. The anode plate 105 was disposed at the position, and electroplating was performed.
しかしながら、所定時間が経過した後、プリント配線板100を取り出して導体層101a、101bの導通試験を行ったところ、両者は接続されていないことが判明した。 However, after a predetermined time has passed, the printed wiring board 100 was taken out and a continuity test of the conductor layers 101a and 101b was performed. As a result, it was found that the two were not connected.
失敗の原因は、次のように推測される。
すなわち、導体層101aの表面に析出しためっき層106aと、導体層101bの表面に析出しためっき層106bとが、互いに成長していくと、両者の間に、図5に示すような隙間107が形成される。この隙間107は、深く入組んだ形状に形成されるとともに、次第に狭まっていくこととなる。隙間107が狭くなると、この隙間の中のめっき液Lがうまく入れ替わらなくなり、めっきの成長が阻害されると考えられる。特に、ブラインドビアホール103は、袋穴状であるとともに、その直径が0.1mm〜0.2mm程度と非常に小さいことから、ブラインドビアホール103内のめっき液Lの入れ替わりが悪くなっていると推測される。
The cause of the failure is estimated as follows.
That is, when the plating layer 106a deposited on the surface of the conductor layer 101a and the
本発明は、これらの問題に鑑みてなされたものであり、電気めっきによってブラインドビアホール内にめっき層を容易に形成することができるプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、ブラインドビアホール内に電気めっきで形成しためっき層によって異なる導体層間を接続されたプリント配線板の製造方法を提供することを他の目的とする。
The present invention has been made in view of these problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed wiring board that can easily form a plating layer in a blind via hole by electroplating.
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed wiring board in which different conductor layers are connected by a plating layer formed by electroplating in a blind via hole.
請求項1に記載のプリント配線板の製造方法は、絶縁層を介して積層された複数の導体層と、少なくとも1層の前記導体層と前記絶縁層とを貫通して他の導体層に到達するブラインドビアホールと、前記ブラインドビアホール内に形成され、貫通された前記導体層と前記他の導体層とを接続するめっき層と、を有するプリント配線板の製造方法であって、前記他の導体層のみを陰極として電気めっきを行うことを特徴とする。 The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein a plurality of conductor layers stacked via an insulating layer, at least one conductor layer and the insulating layer are penetrated to reach another conductor layer. A printed wiring board having a blind via hole and a plating layer formed in the blind via hole and connecting the conductive layer and the other conductive layer, the printed wiring board having the penetrating hole. Electroplating is performed using only as a cathode.
かかる方法によれば、ブラインドビアホールの底面に露出する他の導体層のみを陰極として電気めっきを行うことから、他の導体層の表面のみにめっき層が析出する。そのため、従来のような隙間107(図5参照)が形成されることがなくなり、めっき層の成長が阻害されることがない。そして、ブラインドビアホールの底面から成長しためっき層が、ブラインドビアホールの内壁面に露出した導体層に達することにより、両者が接続されることとなる。 According to this method, since electroplating is performed using only the other conductor layer exposed on the bottom surface of the blind via hole as a cathode, the plating layer is deposited only on the surface of the other conductor layer. Therefore, the conventional gap 107 (see FIG. 5) is not formed, and the growth of the plating layer is not hindered. Then, when the plating layer grown from the bottom surface of the blind via hole reaches the conductor layer exposed on the inner wall surface of the blind via hole, both are connected.
ここで、絶縁層は、例えば、フレキシブルプリント配線板の場合は、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルムなどであり、リジッドプリント配線板の場合は、紙基材、ガラス布紙複合基材、合成繊維布基材などの基材に、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂を含浸させたものなどである。また、絶縁層と導体層との間に接着剤層が介在していてもよい。 Here, the insulating layer is, for example, a polyimide film or a polyester film in the case of a flexible printed wiring board, and in the case of a rigid printed wiring board, a paper base material, a glass cloth paper composite base material, or a synthetic fiber cloth base material. Such as a base material such as a phenol resin, an epoxy resin, a polyimide resin, or a polyester resin is impregnated. An adhesive layer may be interposed between the insulating layer and the conductor layer.
また、導体層は、例えば、銅などの導電性材料で形成した導体パターンや、グランド層としてのステンレス板などである。また、導体パターンには金めっきなどが施されていてもよい。 The conductor layer is, for example, a conductor pattern formed of a conductive material such as copper, a stainless plate as a ground layer, or the like. The conductor pattern may be plated with gold.
また、めっき層は、例えば、金、銅、ニッケルなどの材料で形成されるのが好適である。特に、他の導体層がステンレス材料からなる場合には、ニッケルめっきを用いるのが最も好ましい。 The plating layer is preferably formed of a material such as gold, copper, or nickel. In particular, when the other conductor layer is made of a stainless material, it is most preferable to use nickel plating.
なお、本発明は、例えば、ブラインドビアホールの直径が0.1mm〜0.2mm程度のプリント配線板に適用することができる。 In addition, this invention is applicable to the printed wiring board whose diameter of a blind via hole is about 0.1 mm-0.2 mm, for example.
請求項2に係るプリント配線板の製造方法は、請求項1に記載のプリント配線板の製造方法であって、めっき浴中において、前記ブラインドビアホールが形成されたプリント配線板の表面にめっき液を噴射しながら電気めっきを行うことを特徴とする。 A method for manufacturing a printed wiring board according to claim 2 is the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein a plating solution is applied to a surface of the printed wiring board on which the blind via hole is formed in a plating bath. Electroplating is performed while spraying.
かかる方法によれば、めっき浴中において、前記ブラインドビアホールが形成されたプリント配線板の表面にめっき液を噴射しながら電気めっきを行うことから、ブラインドビアホール内のめっき液が撹拌されて新鮮なめっき液と入れ替わることとなる。そのため、めっき層を良好に成長させることができる。 According to such a method, in the plating bath, electroplating is performed while spraying the plating solution onto the surface of the printed wiring board on which the blind via hole is formed. It will be replaced with liquid. Therefore, the plating layer can be grown well.
本発明によれば、めっき層の成長が阻害されることがないため、電気めっきによってブラインドビアホール内にめっき層を容易に形成することができる。そのため、ブラインドビアホールを利用して異なる導体層間を接続することが可能となる。 According to the present invention, since the growth of the plating layer is not hindered, the plating layer can be easily formed in the blind via hole by electroplating. Therefore, it is possible to connect different conductor layers using blind via holes.
本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照して詳細に説明する。説明において、同一の要素には同一の番号を付し、重複する説明は省略する。参照する図面において、図1は、プリント配線板の製造装置を示す概略断面図である。図2は、図1のA部を拡大して示した断面図である。図3は、図1のB−B断面を拡大して示した図であり、(a)はめっき層形成中の状態を示し、(b)はめっき層形成完了の状態を示す。図4は、プリント配線板表面へのめっき液の噴射状態とめっき液の流れを示す説明図である。 The best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In the drawings to be referred to, FIG. 1 is a schematic sectional view showing a printed wiring board manufacturing apparatus. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion A in FIG. FIGS. 3A and 3B are enlarged views of the BB cross section of FIG. 1. FIG. 3A shows a state in which the plating layer is being formed, and FIG. 3B shows a state in which the plating layer formation is completed. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the state of spraying the plating solution onto the surface of the printed wiring board and the flow of the plating solution.
本実施形態では、ブラインドビアホール内に形成しためっき層によってプリント配線板の導体パターンとグランド層とを接続することにより、導体パターンに帯電した静電気をグランド層に放電することが可能なプリント配線板を例として説明する。 In the present embodiment, a printed wiring board capable of discharging static electricity charged in the conductive pattern to the ground layer by connecting the conductive pattern of the printed wiring board and the ground layer by a plating layer formed in the blind via hole. This will be described as an example.
<プリント配線板の製造装置>
はじめに、プリント配線板の製造装置1について説明する。
<Printed wiring board manufacturing equipment>
First, the printed wiring board manufacturing apparatus 1 will be described.
本実施形態に係るプリント配線板の製造装置1は、図1に示すように、プリント配線板10の原板10’と、めっき液Lを貯留するめっき槽20と、めっき液Lをめっき槽20内で循環させる循環装置30と、電気めっきのための電圧をプリント配線板10の原板10’と陽極板50に印加する給電装置40と、から構成されている。
As shown in FIG. 1, a printed wiring board manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment includes an
(プリント配線板10)
プリント配線板10は、電子部品(図示せず)を搭載する直前の状態にある基板であり、図2に示すように、第1導体層11Aと、第2導体層11Bと、これらの間に介在して両者を絶縁する絶縁層12と、第1導体層11Aの表面11Aaから前記第1導体層11Aおよび絶縁層12を貫通して第2導体層11Bの表面11Baに到達するブラインドビアホール13と、このブラインドビアホール13の内部に形成され、第1導体層11Aと第2導体層11Bとを接続するめっき層15と、から構成されている。また、第1導体層11Aの表面11Aaと、第2導体層11Bの裏面11Bbには、レジスト層14、14が形成されている。
(Printed wiring board 10)
The printed
ここで、図2は、めっき層15が形成される前のプリント配線板10の状態を示す図であることから、同図においてめっき層15は破線で示されている。なお、説明の都合上、めっき層15を形成する直前の状態のプリント配線板10を「原板10’」と称する。また、本実施形態においては、原板10’は、ブラインドビアホール13を1つしか備えていないが、複数のブラインドビアホール13を備えていてもよいことは言うまでもない。
Here, since FIG. 2 is a diagram showing the state of the printed
第1導体層11Aは、例えば、銅箔などをエッチングすることにより形成された導体パターンであり、プリント配線板10に搭載される電子部品(図示せず)間を接続するものである。
ここで、第1導体層11Aに静電気が帯電していると、後に電子部品を搭載したときに故障する原因となることから、この静電気を放電(グランド)する必要がある。なお、本実施形態においては、第1導体層11Aの厚さt1は、8〜12μm程度に形成されている。
11 A of 1st conductor layers are the conductor patterns formed by etching copper foil etc., for example, and connect between the electronic components (not shown) mounted in the printed
Here, if static electricity is charged in the
第2導体層11Bは、例えば、ステンレス材料からなる層であり、第1導体層11Aに帯電した静電気を放電するためのグランド層としての役割を果たすものである。第2導体層11Bは、後記する絶縁層12を介して第1導体層11Aに積層されている。この第2導体層11Bが特許請求の範囲における「他の導体層」に相当する。なお、本実施形態においては、第2導体層11Bの厚さt2は、15〜20μm程度に形成されている。
The
絶縁層12は、例えば、ポリイミドフィルムからなる層であり、前記第1導体層11Aを構成する銅箔にポリイミド樹脂をコーティングすること等により積層されている。なお、本実施形態においては、絶縁層12の厚さt3は、10μm程度に形成されている。
The insulating
ブラインドビアホール13は、図2に示すように、第1導体層11Aと絶縁層12とを貫通して第2導体層11Bの表面11Baに到達するように凹設されたいわゆる袋穴である。そのため、ブラインドビアホール13の底面には、第2導体層11Bの表面11Baが露出し、ブラインドビアホール13の内壁面には、第1導体層11Aの切断面11Abが露出している。なお、本実施形態において、ブラインドビアホール13は、その直径Dが0.1mm〜0.2mm程度になるように形成されている。また、ブラインドビアホール13は、極細径のドリルやレーザーを用いて形成される。
As shown in FIG. 2, the blind via
レジスト層14は、電気めっきを析出させたくない箇所を被覆し保護する層であり、例えば、ドライフィルム処理やソルダーレジスト印刷などの方法により形成されている。本実施形態では、レジスト層14は、第1導体層11Aの表面11Aaと、第2導体層11Bの裏面11Bbとに積層されており、ブラインドビアホール13の内部は露出した状態となっている。なお、本実施形態においては、レジスト層14の厚さt4は、38μm程度に形成されている。
The resist
めっき層15は、第1導体層11Aと第2導体層11Bとを接続するものであり、本実施形態においては、第1導体層11Aに帯電した静電気をグランド層である第2導体層11Bに通電する役割を果たすものである。めっき層15は、電気めっきによってブラインドビアホール13内に形成される(図3参照)。本実施形態においては、めっき層15は、ステンレス材料との付着性が比較的良好なニッケルめっきによって形成されている。めっき層15の形成については後に詳しく説明する。
The plating layer 15 connects the
(めっき槽20)
めっき槽20は、図1に示すように、めっき液Lを貯留するための水槽であり、プリント配線板10の原板10’と、後記する陽極板50とを浸漬できるようになっている。
また、図示は省略するが、めっき槽20は、原板10’と陽極板50とを、互いに向き合った状態で支持することができる支持手段を備えている。原板10’は、かかる支持手段により、一方の端部をめっき液Lから突出させた状態で支持されるようになっている。
なお、めっき槽20に貯留されるめっき液Lは、ブラインドビアホール13内に形成したいめっき層15の材質に合わせて選択される。本実施形態では、めっき液Lとしてニッケルめっき液が採用されている。
(Plating tank 20)
As shown in FIG. 1, the plating tank 20 is a water tank for storing the plating solution L, and can immerse the
Moreover, although illustration is abbreviate | omitted, the plating tank 20 is equipped with the support means which can support original plate 10 'and the
The plating solution L stored in the plating tank 20 is selected according to the material of the plating layer 15 that is to be formed in the blind via
(循環装置30)
循環装置30は、めっき槽20に貯留されためっき液Lを循環させる装置であり、図1に示すように、ポンプ31と、噴射ノズル32と、吸込口33と、これらを連結するホース34とから構成されている。
循環装置30は、吸込口33から吸い込んだめっき液Lを、噴射ノズル32から噴射することができるようになっている。また、噴射ノズル32は、めっき槽20に浸漬された原板10’の表面に向けられており、めっき液Lを原板10’に噴き付けることができるようになっている。
(Circulating device 30)
The circulation device 30 is a device for circulating the plating solution L stored in the plating tank 20, and as shown in FIG. 1, a pump 31, an injection nozzle 32, a suction port 33, and a hose 34 connecting them. It is composed of
The circulation device 30 can spray the plating solution L sucked from the suction port 33 from the spray nozzle 32. Further, the spray nozzle 32 is directed to the surface of the
また、原板10’に噴きつけられためっき液Lは、めっき槽20内を還流して吸込口33からポンプ31に吸引され、再び噴射ノズル32から噴射される。これにより、めっき槽20内のめっき液Lが循環及び撹拌される。さらに、原板10’の表面に形成されたブラインドビアホール13の内部に新鮮なめっき液Lが入り込み、古いめっき液Lと入れ替わることとなる。
なお、循環装置30は、噴射ノズル32を複数備えるように構成してもよい。
Further, the plating solution L sprayed on the
The circulation device 30 may be configured to include a plurality of injection nozzles 32.
(給電装置40)
給電装置40は、電気めっきを行うための電圧を陽極−陰極間に印加する装置であり、マイナス極41とプラス極42とを備えている。マイナス極41は、めっき液Lの液面から突出した原板10’の第2導体層11Bのみに接続されている(図3参照)。また、プラス極42は、後記する陽極板50に接続されている。
なお、給電装置40は、印加する電圧や通電時間の調節を行うための制御装置(図示省略)を備えており、形成するめっき層15の大きさや厚さにあわせて、これらを適宜調節できるようになっている。
(Power supply device 40)
The power feeding device 40 is a device that applies a voltage for performing electroplating between an anode and a cathode, and includes a
In addition, the electric power feeder 40 is provided with the control apparatus (illustration omitted) for adjusting the applied voltage and energization time, and can adjust these suitably according to the magnitude | size and thickness of the plating layer 15 to form. It has become.
(陽極板50)
陽極板50は、例えば、金属製の短冊形状の部材であり、めっき槽20に浸漬された原板10’のブラインドビアホール13の開口部に対向する位置に配置されている。すなわち、給電装置40によって、第2導体層11Bと陽極板50に電圧が印加されることにより、ブラインドビアホール13の底面に露出する第2導体層11Bの表面11Baと陽極板50との間に電流が流れ、陰極である第2導体層11Bの表面11Baにニッケルめっきが析出するようになっている(図3参照)。
(Anode plate 50)
The
<プリント配線板10の製造方法>
つづいて、プリント配線板10の製造方法について説明する。
<Method for Manufacturing Printed
It continues and the manufacturing method of the printed
はじめに、図1に示すように、給電装置40のマイナス極41と原板10’の第2導体層11Bとを接続するとともに、プラス極42と陽極板50とを接続する。そして、原板10’に形成されたブラインドビアホール13の開口部と陽極板50とが互いに向き合うようにして、これらをめっき槽20に貯留されためっき液Lに浸漬する。
First, as shown in FIG. 1, the
そして、循環装置30の運転を開始して、噴射ノズル32からめっき液Lを原板10’の表面(ブラインドビアホール13が形成されている面)に噴きつけるとともに、給電装置40の運転を開始して、ブラインドビアホール13内にめっき層15を析出させる。
以下、図3を参照して、めっき層15の形成過程を説明する。
Then, the operation of the circulation device 30 is started, and the plating solution L is sprayed from the spray nozzle 32 onto the surface of the
Hereinafter, the formation process of the plating layer 15 will be described with reference to FIG.
給電装置40によって第2導体層11Bと陽極板50に電圧が印加されると、ブラインドビアホール13の底面に露出した第2導体層11Bの表面11Baと陽極板50との間に電流が流れ、陰極である第2導体層11Bの表面11Baにニッケルめっきが析出してめっき層15が形成され始める(図3(a)参照)。そして、時間の経過に伴い、めっき層15はブラインドビアホール13の開口部に向かって成長する。
When a voltage is applied to the
このとき、給電装置40のマイナス極41は、第2導体層11Bにのみ接続されていることから、ブラインドビアホール13の内壁面に露出した第1導体層11Aの切断面11Abに、ニッケルめっきが析出することはない。そのため、第2導体層11Bの表面11Baに析出しためっき層15は、その成長を阻害されることなく、第1導体層11Aまで成長することとなる。
At this time, since the
そして、ブラインドビアホール13の底面から成長しためっき層15の厚さが、絶縁層12の厚さt3よりも大きくなると、めっき層15と第1導体層11Aの切断面11Abとが接触する。これにより、第1導体層11Aも陰極となり、これ以降は、図3(b)に示すように、第1導体層11Aの切断面11Abからもニッケルめっきが析出することとなる。そして、第1導体層11Aの切断面11Abに析出するめっき層15の厚さが増すにつれて、第1導体層11Aと第2導体層11Bとが、めっき層15によって、しっかりと接続されることとなる。
When the thickness of the plating layer 15 grown from the bottom surface of the blind via
めっき層15の形成が完成したら、プリント配線板10をめっき槽20から取り出し、必要に応じてレジスト層14を除去する。
以上により、プリント配線板10の製造が完了する。
When the formation of the plating layer 15 is completed, the printed
Thus, the production of the printed
ここで、ブラインドビアホール13内のめっき液Lの入れ替えについて、図4を参照して説明する。
Here, replacement of the plating solution L in the blind via
循環装置30の噴射ノズル32は、図4に示すように、ブラインドビアホール13が凹設された原板10’の表面14aに向けられており、この噴射ノズル32から原板10’の表面14aに向かってめっき液Lが噴射されている。
As shown in FIG. 4, the injection nozzle 32 of the circulation device 30 is directed to the
噴射ノズル32から原板10’の表面14aに向かって噴射されためっき液Lの流れS1は、表面14aに到達すると、向きを変えて、原板10’の表面14aに沿って流れ始める(符号S2参照)。ここで、原板10’の表面14aには、ブラインドビアホール13が形成されているため、原板10’の表面14aに沿う流れS2がブラインドビアホール13の開口部で乱され、その一部がブラインドビアホール13の中に向かうこととなる(符号S3参照)。そして、この流れS3により、ブラインドビアホール13内のめっき液Lの入れ替えが行われることとなる。
When the flow S1 of the plating solution L sprayed from the spray nozzle 32 toward the
また、図示は省略するが、噴射ノズル32から噴出しためっき液Lの流れS1が、ブラインドビアホール13の中に直接入りこむ場合には、ブラインドビアホール13内のめっき液Lの入れ替えが流れS1によって直接的に行われる。
Although illustration is omitted, when the flow S1 of the plating solution L ejected from the injection nozzle 32 directly enters the blind via
本実施形態に係るプリント配線板の製造方法によれば、次のような作用効果を奏する。
すなわち、従来、無電解めっきで行われていたビアホール内における異なる導体層間の接続を電気めっきによって確実かつ容易に行うことが可能となる。そのため、製造方法の自由度が向上し、技術の多様化を図ることができる。
According to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment, the following operational effects are obtained.
That is, the connection between different conductor layers in the via hole, which has been conventionally performed by electroless plating, can be reliably and easily performed by electroplating. As a result, the degree of freedom of the manufacturing method is improved and the technology can be diversified.
以上、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、適宜変更可能である。 The best mode for carrying out the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiment, and may be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Is possible.
例えば、本実施形態においては、プリント配線板10は、第1導体層11Aと第2導体層11Bとを、ブラインドビアホール13内に形成しためっき層15によって接続する構成としたが、これに限られるものではなく、さらに多くの導体層を有するプリント配線板に適用していても良い。かかる場合には、複数の導体層と絶縁層とを貫通して一の導体層に達するようにブラインドビアホールを凹設し、当該ブラインドビアホール内にめっき層を形成することにより、各導体層を接続することができる。
For example, in the present embodiment, the printed
また、本実施形態においては、第2導体層11Bをグランド層としたが、これに限られるものではなく、第2導体層11Bを導体パターンとし、プリント配線板10を多層プリント配線板としてもよい。
In the present embodiment, the
また、本実施形態においては、第1導体層11Aは、銅箔からなることとしたが、これに限られるものではなく、他の材料で構成されていてもよいし、例えば腐食を防止するために、銅箔の表面に金めっき等を施してもよい。また、第2導体層11Bは、ステンレス材料からなることとしたが、これに限られるものでない。
In the present embodiment, the
また、プリント配線板10は、フレキシブルプリント配線板、リジッドプリント配線板のどちらでもかまわないことは言うまでもない。
Needless to say, the printed
また、本実施形態においては、めっき液Lとしてニッケルめっきを用いたが、これに限られるものではなく、例えば銅めっきや金めっきなどの他のめっきを用いてもよい。なお、ブラインドビアホール13内におけるめっき層15の形成を補助するために、ブラインドビアホール13内の脱脂、酸処理、さらにはストライクめっきなどをあらかじめ行うようにしてもよい。
In the present embodiment, nickel plating is used as the plating solution L. However, the present invention is not limited to this, and other plating such as copper plating or gold plating may be used. In order to assist the formation of the plating layer 15 in the blind via
1 プリント配線板の製造装置
10 プリント配線板
10’ 原板
11A 第1導体層
11B 第2導体層
12 絶縁層
13 ブラインドビアホール
14 レジスト層
15 めっき層
20 めっき槽
30 循環装置
40 給電装置
50 陽極板
L めっき液
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring
Claims (2)
少なくとも1層の前記導体層と前記絶縁層とを貫通して他の導体層に到達するブラインドビアホールと、
前記ブラインドビアホール内に形成され、貫通された前記導体層と前記他の導体層とを接続するめっき層と、を有するプリント配線板の製造方法であって、
前記他の導体層のみを陰極として電気めっきを行うことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 A plurality of conductor layers stacked via an insulating layer;
A blind via hole penetrating at least one conductor layer and the insulating layer to reach another conductor layer;
A printed wiring board having a plating layer formed in the blind via hole and connecting the conductor layer and the other conductor layer that are penetrated,
A method for producing a printed wiring board, wherein electroplating is performed using only the other conductor layer as a cathode.
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CN103687338A (en) * | 2013-12-11 | 2014-03-26 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | Method for drilling circuit board with high-precision and depth-controlled hole |
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- 2004-10-13 JP JP2004298380A patent/JP2006114578A/en active Pending
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