JP2006093019A - Organic el display and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) display device and a manufacturing method thereof.
有機EL表示装置は自己発光表示装置であるため、視野角が広く、応答速度が速い。また、バックライトが不要であるため、薄型軽量化が可能である。これらの理由から、近年、有機EL表示装置は、液晶表示装置に代わる表示装置として注目されている。 Since the organic EL display device is a self-luminous display device, the viewing angle is wide and the response speed is fast. In addition, since a backlight is not necessary, it is possible to reduce the thickness and weight. For these reasons, in recent years, organic EL display devices have attracted attention as display devices that replace liquid crystal display devices.
有機EL表示装置の主要部である有機EL素子は、光透過性の前面電極と、これと対向した光反射性または光透過性の背面電極と、それらの間に介在するとともに発光層を含んだ有機物層とで構成されている。有機EL素子は、有機物層に電気を流すことにより発光する電荷注入型の自発光素子である。 An organic EL element, which is a main part of an organic EL display device, includes a light-transmitting front electrode, a light-reflective or light-transmitting back electrode opposed to the front electrode, and a light-emitting layer interposed therebetween. It consists of an organic layer. An organic EL element is a charge injection type self-luminous element that emits light when electricity is passed through an organic layer.
ところで、有機EL素子の輝度は、これに流す電流の大きさに応じて増加する。しかしながら、電流密度を高めると、消費電力が大きくなるのに加え、有機EL素子の寿命が著しく短くなる。したがって、高輝度、低消費電力、長寿命を同時に実現するには、有機EL素子が放出する光を有機EL表示装置の外部へとより効率的に取り出すこと,すなわち光の取り出し効率を向上させること,が重要である。 By the way, the luminance of the organic EL element increases in accordance with the magnitude of the current flowing therethrough. However, when the current density is increased, the power consumption is increased and the lifetime of the organic EL element is remarkably shortened. Therefore, in order to realize high luminance, low power consumption, and long life at the same time, the light emitted from the organic EL element should be extracted more efficiently to the outside of the organic EL display device, that is, the light extraction efficiency should be improved. ,is important.
本発明の目的は、有機EL表示装置の光の取り出し効率を高めることにある。 An object of the present invention is to increase the light extraction efficiency of an organic EL display device.
本発明の第1側面によると、絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成されると共に、第1領域とこれから相分離した複数の第2領域とを備えた光取り出し層と、前記光取り出し層上に形成された有機EL素子とを具備し、前記光取り出し層は、前記絶縁基板上に複数の材料を含んだ膜を形成し、この膜中で相分離を生じさせてなり、前記第1領域の屈折率と前記第2領域の屈折率との差の絶対値は0.05以上であることを特徴とする有機EL表示装置が提供される。 According to a first aspect of the present invention, an insulating substrate, a light extraction layer formed on the insulating substrate and including a first region and a plurality of second regions phase-separated therefrom, and the light extraction layer And the light extraction layer is formed by forming a film containing a plurality of materials on the insulating substrate, and causing phase separation in the film. An organic EL display device is provided in which the absolute value of the difference between the refractive index of the second region and the refractive index of the second region is 0.05 or more.
本発明の第2側面によると、絶縁基板上に複数の材料を含んだ膜を形成し、この膜中で相分離を生じさせることにより、第1領域とこれから相分離した複数の第2領域とを備え、前記第1領域の屈折率と前記第2領域の屈折率との差の絶対値は0.05以上である光取り出し層を形成する工程と、前記光取り出し層上に有機EL素子を形成する工程とを含んだことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法が提供される。 According to the second aspect of the present invention, by forming a film containing a plurality of materials on an insulating substrate and causing phase separation in the film, the first region and the plurality of second regions phase-separated from the first region A step of forming a light extraction layer whose absolute value of the difference between the refractive index of the first region and the refractive index of the second region is 0.05 or more, and an organic EL element on the light extraction layer The manufacturing method of the organic electroluminescence display characterized by including the process to form is provided.
本発明によると、有機EL表示装置の光の取り出し効率を高めることができる。 According to the present invention, the light extraction efficiency of the organic EL display device can be increased.
以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals are given to components that exhibit the same or similar functions, and duplicate descriptions are omitted.
図1は、本発明の一態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図である。図2は、図1の有機EL表示装置で使用可能な光取り出し層の例を概略的に示す平面図である。なお、図1では、有機EL表示装置1を、その表示面,すなわち前面または光出射面,が上方を向き、背面が下方を向くように描いている。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL display device according to an aspect of the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing an example of a light extraction layer that can be used in the organic EL display device of FIG. In FIG. 1, the organic EL display device 1 is depicted such that its display surface, that is, the front surface or the light emitting surface faces upward, and the back surface faces downward.
図1に示す有機EL表示装置1は、アクティブマトリクス型駆動方式を採用した上面発光型の有機EL表示装置である。この有機EL表示装置1は、例えば、ガラス基板などの絶縁基板10を含んでいる。
An organic EL display device 1 shown in FIG. 1 is a top emission type organic EL display device that employs an active matrix driving method. The organic EL display device 1 includes an
絶縁基板10上では、複数の画素がマトリクス状に配列している。各画素は、画素回路と有機EL素子40とを含んでいる。
On the
画素回路は、例えば、一対の電源端子間で有機EL素子40と直列に接続された駆動制御素子(図示せず)及び出力制御スイッチ20と、画素スイッチ(図示せず)とを含んでいる。駆動制御素子は、その制御端子が画素スイッチを介して映像信号線(図示せず)に接続されており、映像信号線から供給される映像信号に対応した大きさの電流を出力制御スイッチ20を介して有機EL素子40へ出力する。また、画素スイッチの制御端子は走査信号線(図示せず)に接続されており、走査信号線から供給される走査信号によりスイッチング動作が制御される。なお、これら画素には、他の構造を採用することも可能である。
The pixel circuit includes, for example, a drive control element (not shown) and an
基板10上には、アンダーコート層12として、例えば、SiNx層とSiOx層とが順次積層されている。アンダーコート層12上には、例えばチャネル及びソース・ドレインが形成されたポリシリコン層である半導体層13、例えばTEOS(TetraEthyl OrthoSilicate)などを用いて形成され得るゲート絶縁膜14、及び例えばMoWなどからなるゲート電極15が順次積層されており、それらはトップゲート型の薄膜トランジスタ(以下、TFTという)を構成している。この例では、これらTFTは、画素スイッチ20、出力制御スイッチ、駆動制御素子のTFTとして利用している。また、ゲート絶縁膜14上には、ゲート電極15と同一の工程で形成可能な走査信号線(図示せず)がさらに配置されている。
On the
ゲート絶縁膜14及びゲート電極15は、例えばプラズマCVD法などにより成膜されたSiOxなどからなる層間絶縁膜17で被覆されている。層間絶縁膜17上にはソース・ドレイン電極21が配置されており、それらは、例えばSiNxなどからなるパッシベーション膜18で埋め込まれている。ソース・ドレイン電極21は、例えば、Mo/Al/Moの三層構造を有しており、層間絶縁膜17に設けられたコンタクトホールを介してTFTのソース・ドレインに電気的に接続されている。また、層間絶縁膜17上には、ソース・ドレイン電極21と同一の工程で形成可能な映像信号線(図示せず)がさらに配置されている。
The
パッシベーション膜18上には、平坦化層19が形成されている。平坦化層19上には、反射層70が配置されている。平坦化層19の材料としては、例えば、硬質樹脂を使用することができる。反射層70の材料としては、例えば、Alなどの金属材料を使用することができる。
A
平坦化層19及び反射層70は、光取り出し層30で被覆されている。光取り出し層30は、第1部分31と、これから相分離した複数の第2部分32とを含んでいる。第1部分31及び第2部分32は光透過性であり、それらは屈折率が異なっている。
The planarizing
図1及び図2に示す例では、光取り出し層30をその膜面に垂直な方向から観察した場合、第2部分32は、略格子状の配列構造,例えば図2に示すような略三角格子状の配列構造,を形成しており、通常、各々は略円形である。また、図1及び図2に示す例では、各第2部分32は、略球形である。
In the example shown in FIGS. 1 and 2, when the
光取り出し層30上には、光透過性の第1電極41が互いから離間して並置されている。各第1電極41は、反射層70と向き合うように配置されている。また、各第1電極41は、パッシベーション膜18と平坦化層19と光取り出し層30とに設けた貫通孔を介して、ドレイン電極21に接続されている。
On the
第1電極41は、この例では陽極である。第1電極41の材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)のような透明導電性酸化物を使用することができる。
The
光取り出し層30上には、さらに、隔壁絶縁層50が配置されている。この隔壁絶縁層50には、第1電極41に対応した位置に貫通孔が設けられている。隔壁絶縁層50は、例えば、有機絶縁層であり、フォトリソグラフィ技術を用いて形成することができる。
A
隔壁絶縁層50の貫通孔内で露出した第1電極41上には、発光層42aを含んだ有機物層42が配置されている。発光層42aは、例えば、発光色が赤色、緑色、または青色のルミネセンス性有機化合物を含んだ薄膜である。この有機物層42は、発光層42a以外の層をさらに含むことができる。例えば、有機物層42は、第1電極41から発光層42aへの正孔の注入を媒介する役割を果たすバッファ層42bをさらに含むことができる。また、有機物層42は、正孔輸送層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などもさらに含むことができる。
On the
隔壁絶縁層50及び有機物層42は、光透過性の第2電極43で被覆されている。第2電極43は、この例では、各画素共通に連続して設けられた陰極である。第2電極43は、パッシベーション膜18と平坦化層19と光取り出し層30と隔壁絶縁層50とに設けられたコンタクトホール(図示せず)を介して、映像信号線と同一の層上に形成された電極配線に電気的に接続されている。それぞれの有機EL素子40は、これら第1電極41、有機物層42、及び第2電極43で構成されている。
The
なお、図1に示す有機EL表示装置1では、通常、水分や酸素などとの接触により有機EL素子40が劣化するのを防止するために、ガラス封止又は保護膜封止を行う。また、この有機EL表示装置1では、通常、有機EL素子40の前面側に偏光板を配置する。
In the organic EL display device 1 shown in FIG. 1, glass sealing or protective film sealing is usually performed to prevent the
上記の通り、この有機EL表示装置1では、光取り出し層30を、有機EL素子40と隣接するように配置している。このような構造を採用すると、以下に説明するように、有機EL素子40の発光層42aが放出する光を、有機EL表示装置1の外部へと、より高い効率で取り出すことができる。
As described above, in the organic EL display device 1, the
発光層42aが放出する光の一部は、第1電極41と有機物層42との積層体内で反射を繰り返しながら膜面方向に伝播する。この膜面方向に伝播する光は、先の積層体の主面に対する入射角が大きいと、外部に取り出すことができない。
A part of the light emitted from the light emitting layer 42a propagates in the film surface direction while being repeatedly reflected in the laminated body of the
光取り出し層30を有機EL素子40と隣接して配置すると、発光層42aが放出する光の進行方向を変えることができる。そのため、発光層42aが放出する光を、有機EL表示装置1の外部へと、より高い効率で取り出すことが可能となる。
When the
この効果は、第1部分31の屈折率と第2部分32の屈折率との差の絶対値が小さい場合、顕著には得られない。したがって、本態様では、第1部分31の屈折率と第2部分32の屈折率との差の絶対値は0.05以上とする。
This effect cannot be remarkably obtained when the absolute value of the difference between the refractive index of the
第1部分31の屈折率は、第2部分32の屈折率よりも大きくてもよい。或いは、第1部分31の屈折率は、第2部分32の屈折率よりも小さくてもよい。どちらの場合でも、上記の効果を得ることができる。
The refractive index of the
この有機EL表示装置1で使用する光取り出し層30は、例えば、以下の方法により形成することができる。
The
まず、平坦化層19上に、有機物層を形成する。この有機物層は、例えば、ポリスチレン(PS)とポリメチルメタクリレート(PMMA)とのジブロックコポリマーをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)などの溶媒中に溶解してなる塗工液を平坦化層19上に塗布し、それにより得られる塗膜から溶媒を除去することにより形成する。
First, an organic layer is formed on the
次いで、相分離を生じさせるべく、先の有機物層をアニールする。このアニールは、先のブロックコポリマーのガラス転移温度乃至秩序無秩序転移温度の範囲内で行う。こうすると、ブロックコポリマーを構成しているPMMA同士が近づき合い、有機物層内にPMMAからなる島状領域とPSからなる海状領域とが生じる。このようにして、海状領域である第1領域31と島状領域である第2領域32とを含んだ光取り出し層30が得られる。
Next, the previous organic layer is annealed to cause phase separation. This annealing is performed within the range of the glass transition temperature to the order-disorder transition temperature of the block copolymer. If it carries out like this, PMMA which comprises a block copolymer will approach, the island-like area | region which consists of PMMA, and the sea-like area | region which consists of PS will arise in an organic substance layer. In this manner, the
なお、先のブロックコポリマーとして、PMMA分子量のばらつきの少ないものを使用すると、島状領域は略球状或いは略円柱状となるとともに、その寸法はほぼ一定となる。また、島状領域の寸法はPMMA分子量に応じて制御可能であり、それらの配列ピッチはPMMA分子量及びPS分子量に応じて制御可能である。PMMA及びPSの分子量やそれらの比を適宜設定すると、略球状或いは略円柱状の島状領域を、規則的に配列させること,典型的にはそれらの中心同士を結んだ線が略正三角形を形成するように配列させること,ができる。 If the block copolymer having a small variation in the molecular weight of PMMA is used, the island-like regions are substantially spherical or substantially cylindrical, and the dimensions thereof are substantially constant. Further, the dimensions of the island regions can be controlled according to the PMMA molecular weight, and the arrangement pitch thereof can be controlled according to the PMMA molecular weight and the PS molecular weight. When the molecular weight of PMMA and PS and the ratio thereof are appropriately set, the island-like regions having a substantially spherical shape or a substantially cylindrical shape are regularly arranged. Typically, the line connecting the centers thereof forms a substantially equilateral triangle. Can be arranged to form.
この方法によると、上記のように、第2領域32の寸法やそれらの中心間距離は、PMMAやPSの分子量に応じて制御することができる。すなわち、第2領域32の寸法やそれらの配列は、分子レベルでの制御が可能である。
According to this method, as described above, the size of the
また、この方法では、フォトマスクなどは利用せず、ブロックコポリマーの自己組織化を利用する。極めて微細なパターンを形成する場合、フォトマスクを利用する方法では、フォトマスクの製造自体が困難である。また、極めて微細なパターンを形成する場合、フォトマスクを利用する方法では、フォトマスクのパターンを高精度に転写することが難しい。特に、大型基板では微細パターンの大型マスク形成自体が困難である。これに対し、ブロックコポリマーの自己組織化を利用する方法では、それら問題を回避することができる。 In this method, a photomask or the like is not used, but self-assembly of a block copolymer is used. When an extremely fine pattern is formed, it is difficult to manufacture the photomask by the method using the photomask. When an extremely fine pattern is formed, it is difficult to transfer the photomask pattern with high accuracy by a method using a photomask. In particular, with a large substrate, it is difficult to form a large mask with a fine pattern. On the other hand, these problems can be avoided in the method using the self-assembly of the block copolymer.
また、通常、有機EL素子は薄膜多層構造のため、光取り出し層に凹凸があると、この凹凸に起因して電極間ショートが発生することがある。それゆえ、上記の方法で形成していない光取り出し層と有機EL素子との間には、平坦化層を設ける必要がある。これに対し、先の方法で得られる光取り出し層30は、平坦性に優れている。したがって、光取り出し層30と有機EL素子40との間に、平坦化層を配置する必要がない。
In general, since the organic EL element has a thin film multilayer structure, if the light extraction layer has irregularities, a short circuit between the electrodes may occur due to the irregularities. Therefore, it is necessary to provide a planarizing layer between the light extraction layer that is not formed by the above method and the organic EL element. On the other hand, the
また、光取り出し層30と有機EL素子40との間に平坦化層を配置すると、この平坦化層の厚さのばらつきに起因して、光取り出し効率のばらつきを生じる可能性がある。それゆえ、光取り出し層30上への平坦化層の配置が不要であることは、この点でも有利である。
In addition, when a planarization layer is disposed between the
上記態様では、光取り出し層30に図1及び図2の構造を採用したが、光取り出し層30には、他の構造を採用してもよい。
In the above embodiment, the structure of FIGS. 1 and 2 is adopted for the
図3乃至図5は、光取り出し層の変形例を概略的に示す斜視図である。図6は、図5の光取り出し層の平面図である。図7は、光取り出し層の他の変形例を概略的に示す平面図である。 3 to 5 are perspective views schematically showing modifications of the light extraction layer. FIG. 6 is a plan view of the light extraction layer of FIG. FIG. 7 is a plan view schematically showing another modification of the light extraction layer.
図3の光取り出し層30では、第2領域32は、第1領域31中でランダムに配列している。また、各第2領域32は、略球形であり、したがって、光取り出し層30をその主面に略垂直な方向から観察した場合に略円形である。このような光取り出し層30は、光散乱層として機能する。
In the
図4の光取り出し層30では、各第2領域32は、略円柱形であり、したがって、光取り出し層30をその主面に略垂直な方向から観察した場合に略円形である。この光取り出し層30では、第2領域32は、第1領域31中で略格子状の配列構造,例えば図2に示すような略三角格子状の配列構造,を形成していてもよく、或いは、ランダムに配列していてもよい。第2領域32が略格子状の配列構造を形成している場合、光取り出し層30は回折格子として機能する。他方、第2領域32がランダムに配列している場合、光取り出し層30は光散乱層として機能する。
In the
図5及び図6の光取り出し層30では、各第2領域32は層状であり、その主面は光取り出し層30の主面に略垂直である。第1領域31と第2領域32とは、光取り出し層30をその主面に略垂直な方向から観察した場合にストライプを形成している。この光取り出し層30は回折格子として機能する。
In the
図7の光取り出し層30では、第1領域31と第2領域32とは、光取り出し層30をその主面に略垂直な方向から観察した場合にシュリーレン状の模様を形成している。この光取り出し層30は回折格子及び/又は光散乱層として機能する。
In the
光取り出し層30の構造は、例えば、上述した塗工液の組成とアニール温度及び時間とに応じて変更可能である。例えば、図3の構造を得るのに使用した塗工液中に含まれる第1領域31の材料を増やすと、図4の構造を得ることができ、第1領域31の材料をさらに増やすと、図5の構造が得られる。
The structure of the
上記態様では、有機EL表示装置1を上面発光型としたが、有機EL表示装置1は下面発光型でもよい。例えば、反射層70を省略すると共に、第2電極43を光反射性としてもよい。
In the above embodiment, the organic EL display device 1 is a top emission type, but the organic EL display device 1 may be a bottom emission type. For example, the
また、発光色が赤、緑、青色の有機EL素子40を用いてフルカラー表示を行う構成を採用する場合、赤、緑、青の輝度バランスを考慮し、一部の色の画素部にのみ光取り出し層30を設けてもよい。
In addition, when adopting a configuration in which full color display is performed using the
白色発光の有機EL素子40とカラーフィルタとを組み合わせてフルカラー表示を行う構成を採用する場合、全画素部に光取り出し層30を設けてもよく、或いは、一部の色の画素部にのみ光取り出し層30を設けてもよい。
In the case of adopting a configuration in which a white light emitting
また、有機EL素子40に高分子材料を使用する場合、そのガラス転移温度は130度以上と低分子材料と比較して高いため、有機EL素子40の上に光取り出し層を設けてもよい。
Further, when a high molecular material is used for the
以下、本発明の実施例について説明する。 Examples of the present invention will be described below.
(実施例)
本例では、以下の方法により、図1に示す有機EL表示装置1を作製した。
(Example)
In this example, the organic EL display device 1 shown in FIG. 1 was produced by the following method.
まず、ガラス基板10のアンダーコート層12が形成された面に対し、通常のTFT形成プロセスと同様に成膜とパターニングとを繰り返し、TFT20、層間絶縁膜17、電極配線(図示せず)、ソース・ドレイン電極21、及びパッシベーション膜18を形成した。
First, film formation and patterning are repeated on the surface of the
次に、図3に示すように、パッシベーション膜18上に、硬質樹脂からなる平坦化層19を形成した。続いて、この平坦化層19上に、マスクスパッタリング法により、Alからなる反射層70を形成した。
Next, as shown in FIG. 3, a
次いで、平坦化層19上に、PSとPMMAとのジブロックコポリマーをPGMEA中に溶解してなる塗工液をスピンコートした。ここでは、PGMEA中のブロックコポリマーの濃度は2重量%とした。その後、110℃でベークすることにより、塗膜から溶媒を除去した。さらに、このようにして得られた有機物層を、窒素雰囲気中、210℃で4時間アニールし、続いて、135℃で40時間アニールした。これにより、図2に示す光取り出し層30を得た。なお、この光取り出し層30において、第1領域31の屈折率と第2領域32の屈折率との差の絶対値は約0.09である。
Next, on the
次に、光取り出し層30上に、マスクスパッタリング法を用いてITOを堆積させることにより第1電極41を得た。
Next, a
次いで、基板11の第1電極41を形成した面に、感光性樹脂を塗布し、得られた塗膜をパターン露光及び現像することにより、各画素の発光部に対応して開口を有する撥水性の隔壁絶縁層50を形成した。この隔壁絶縁層50を形成した基板10にはCF4/O2プラズマガスを用いた表面処理を施し、隔壁絶縁層50の表面をフッ素化した。
Next, a photosensitive resin is applied to the surface of the substrate 11 on which the
次に、隔壁絶縁層50が形成するそれぞれの液溜めに、インクジェット法によりバッファ層形成用インクを吐出して液膜を形成した。続いて、これら液膜を120℃の温度に3分間加熱することによりバッファ層42bを得た。
Next, a liquid film was formed by discharging the ink for forming the buffer layer into each liquid reservoir formed by the
その後、バッファ層42b上に発光層形成用インクをインクジェット法により吐出して液膜を形成した。続いて、これら液膜を90℃の温度に1時間加熱することにより発光層42aを得た。 Thereafter, the light emitting layer forming ink was ejected onto the buffer layer 42b by an ink jet method to form a liquid film. Then, the light emitting layer 42a was obtained by heating these liquid films to the temperature of 90 degreeC for 1 hour.
次いで、基板11の発光層42aを形成した面に、Mg及びAgを順次真空蒸着し、続いてITOをスパッタリング法により堆積させた。これにより、多層構造の第2電極43を得た。さらに、封止工程等を実施することにより、図1に示す有機EL表示装置1を完成した。
Next, Mg and Ag were sequentially vacuum-deposited on the surface of the substrate 11 on which the light emitting layer 42a was formed, and then ITO was deposited by sputtering. Thereby, a
この有機EL表示装置1の光取り出し層30を、その膜面に垂直な方向から観察した。その結果、光取り出し層30は、第1領域31とその中で分散した複数の第2領域32とで構成されており、これら第2領域32は略格子状の配列構造を形成していることを確認することができた。また、光取り出し層30をその膜面に垂直な方向から観察したときの各第2領域32の形状は、略円形であった。
The
(比較例)
光取り出し層30を設けなかったこと以外は、上記実施例で説明したのと同様の方法により有機EL表示装置1を作製した。
(Comparative example)
The organic EL display device 1 was produced by the same method as described in the above example except that the
次に、実施例及び比較例に係る有機EL表示装置1について、同一条件のもと、それらの外部に取り出される光量を測定した。その結果、実施例に係る有機EL表示装置1で得られた光量は、比較例に係る有機EL表示装置1で得られた光量の約1.4倍であった。すなわち、実施例に係る有機EL表示装置1は、比較例に係る有機EL表示装置1と比較して、発光効率がより高いことを確認することができた。 Next, for the organic EL display devices 1 according to Examples and Comparative Examples, the amount of light taken out to the outside was measured under the same conditions. As a result, the amount of light obtained by the organic EL display device 1 according to the example was about 1.4 times the amount of light obtained by the organic EL display device 1 according to the comparative example. That is, it was confirmed that the organic EL display device 1 according to the example had higher luminous efficiency than the organic EL display device 1 according to the comparative example.
1…有機EL表示装置、10…絶縁基板、12…アンダーコート層、13…半導体層、14…ゲート絶縁膜、15…ゲート電極、17…層間絶縁膜、18…パッシベーション膜、19…平坦化層、20…出力制御スイッチ、21…ソース・ドレイン電極、30…光取り出し層、31…第1部分、32…第2部分、40…有機EL素子、41…第1電極、42…有機物層、42a…発光層、42b…バッファ層、43…第2電極、50…隔壁絶縁層、70…反射層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display device, 10 ... Insulating substrate, 12 ... Undercoat layer, 13 ... Semiconductor layer, 14 ... Gate insulating film, 15 ... Gate electrode, 17 ... Interlayer insulating film, 18 ... Passivation film, 19 ... Flattening
Claims (8)
前記絶縁基板上に形成されると共に、第1領域とこれから相分離した複数の第2領域とを備えた光取り出し層と、
前記光取り出し層上に形成された有機EL素子とを具備し、
前記光取り出し層は、前記絶縁基板上に複数の材料を含んだ膜を形成し、この膜中で相分離を生じさせてなり、
前記第1領域の屈折率と前記第2領域の屈折率との差の絶対値は0.05以上であることを特徴とする有機EL表示装置。 An insulating substrate;
A light extraction layer formed on the insulating substrate and including a first region and a plurality of second regions phase-separated from the first region;
An organic EL element formed on the light extraction layer,
The light extraction layer forms a film containing a plurality of materials on the insulating substrate, and causes phase separation in the film,
An organic EL display device, wherein an absolute value of a difference between a refractive index of the first region and a refractive index of the second region is 0.05 or more.
前記光取り出し層上に有機EL素子を形成する工程とを含んだことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 A film containing a plurality of materials is formed on an insulating substrate, and phase separation is caused in the film, thereby providing a first region and a plurality of second regions phase-separated from the first region. Refraction of the first region Forming a light extraction layer whose absolute value of the difference between the refractive index and the refractive index of the second region is 0.05 or more;
And a step of forming an organic EL element on the light extraction layer.
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