JP2006088098A - Coating liquid coating amount measurement method and coating liquid coating amount measurement apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光情報記録媒体用の透明層の製造に関するもので、具体的には、光情報記録媒体の透明層に用られる基材フィルムにハードコート層を塗布して形成する際の塗布液の塗布量の正確な測定方法およびその装置に関する。 The present invention relates to the production of a transparent layer for an optical information recording medium, and specifically, a coating liquid for forming a hard coat layer on a base film used for the transparent layer of an optical information recording medium. The present invention relates to a method and apparatus for accurately measuring the amount of coating.
現在、デジタル・ハイ・ビジョンＴＶ放送の録画に対応するため、高密度光情報記録媒体（ＤＶＤ）よりも更に高密度記録を可能とする光情報記録媒体の研究が進められており、青紫色レーザと高ＮＡ（開口数（Numerical Aperture））ピックアップとを使用した光ディスクシステムが開発されている。 Currently, in order to support the recording of digital high-vision TV broadcasts, research on optical information recording media that enable higher-density recording than high-density optical information recording media (DVD) is underway. And optical disk systems using high NA (Numerical Aperture) pickups have been developed.
このような光ディスクシステムとしては、例えば、ブルー・レイ・ディスク（Blu-ray Disk）と称される次世代光ディスク規格がある。ブルー・レイ・ディスクは、基板上に記録層と、該記録層のレーザ入射側に透明層とを備えた光情報記録媒体である。透明層は、例えば特開２０００−６７４６８号公報に示すように、ポリカーボネートからなる光透過層の表面に、傷付き防止のためのハードコート層が塗布されてなる。 As such an optical disk system, for example, there is a next-generation optical disk standard called a blue-ray disk. A blue ray disc is an optical information recording medium having a recording layer on a substrate and a transparent layer on the laser incident side of the recording layer. For example, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-67468, the transparent layer is formed by applying a hard coat layer for preventing scratches to the surface of a light transmission layer made of polycarbonate.
上記の透明層の形成方法としては、例えば、透明層の基材フィルムとして用いられるポリカーボネート製のベースを、駆動ローラによって搬送させつつ、ベースに塗布部材によってハードコート層を形成するための紫外線硬化性組成物を塗布し、乾燥させた後、紫外線照射により硬化させる方法がある。 As a method for forming the transparent layer, for example, an ultraviolet curable material for forming a hard coat layer on a base by an application member while a polycarbonate base used as a base film of the transparent layer is conveyed by a driving roller. There is a method in which a composition is applied, dried, and then cured by ultraviolet irradiation.
図５は、本発明が対象とする透明層の製造装置を説明する全体構成図である。
図において、１０は光情報記録媒体用の透明層の製造装置、１はベース原反、２はパスローラ、３は塗布部、３ａは塗布部材、３ｂは塗布ロッド、４はパスローラ、５はプルローラ、６は乾燥部、７は紫外線照射部、８は巻取ロールである。
図に示すように、透明層の製造装置１０は、ポリカーボネートからなるベースＢを巻回させてなるベース原反（バルク）１と、該ベースＢを巻き取って保持する巻取ロール８との間で、ベース原反１から巻取ロール８へ送り出すことによってベースＢを搬送させる構成である。ベースＢの厚さは、８０μｍ〜１００μｍとする。
FIG. 5 is an overall configuration diagram illustrating a transparent layer manufacturing apparatus targeted by the present invention.
In the figure, 10 is an apparatus for producing a transparent layer for an optical information recording medium, 1 is a base fabric, 2 is a pass roller, 3 is a coating unit, 3a is a coating member, 3b is a coating rod, 4 is a pass roller, 5 is a pull roller, 6 is a drying part, 7 is an ultraviolet irradiation part, 8 is a winding roll.
As shown in the figure, a transparent
製造装置１０は、ベース原反１からベースＢの搬送方向に沿って、順に、パスローラ２、塗布部３、パスローラ４、プルロール５、乾燥部６、紫外線照射部７とを備えている。
The
塗布部３には、塗布液供給部２０（図６）に接続された塗布部材３ａ設けられている。 塗布部材３ａは、塗布液供給部２０から供給された塗布液Ｄを塗布ノズルとして機能する塗布ロッド３ｂに付着させ、塗布ロッド３ｂを回転させるとともに、ベースＢの表面に塗布ロッド３ｂを押圧することで塗布液Ｄを塗布する構成である。
The
塗布部材３ａは、ベースＢに塗布ロッド３ｂを押圧する位置（ラップする位置）と、ベースＢから塗布ロッド３ｂを離間させた位置（待機位置）とに任意に設定できるように移動可能な部材として構成されている。
塗布部材３ａとしては、バーコータ形式のものを用いることができ、塗布時には、塗布部材３ａを待機位置から上昇させて、バー形状の塗布ロッド（塗布ノズル）３ｂを上方へ搬送されてきたベースＢに押圧（ラップ）させ、塗布ロッド３ｂを回転させてベースＢの表面に塗布液Ｄを塗布するる。
塗布時以外には、塗布部材３ａを待避させ、塗布ノズル３ｂをベースＢから離間させる。
The
As the
Other than during application, the
ベースＢの搬送方向において、塗布ノズル３ｂの上流側と下流側とにはパスローラ（駆動ローラ）２、４が設けられている。これら駆動ローラ２、４は、塗布時に、ベースＢを搬送方向に送り出す方向に一定の速度で回転するように駆動部９によって駆動される。
In the conveying direction of the base B, pass rollers (drive rollers) 2 and 4 are provided on the upstream side and the downstream side of the
塗布液Ｄとしては、一例として、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルエチルブチルケトン（ＭＩＢＫ）等の溶剤と、Ｓｉ粒子と、紫外線硬化性樹脂と、重合開始剤とからなる組成物を用いている。 As an example of the coating liquid D, a composition comprising a solvent such as isopropyl alcohol (IPA), methyl ethyl ketone (MEK), methyl ethyl butyl ketone (MIBK), Si particles, an ultraviolet curable resin, and a polymerization initiator. Is used.
プルロール５は、塗布時に回転駆動し、その周面においてベースＢと接触して該ベースＢを搬送させる場合に、ベースＢの搬送速度の基準となるロールである。プルロール５は、図示しないプルロール制御部に制御され、一定の速度でベースＢを搬送させる。プルロール５は、ベースＢに対する保持力を確保するため、表面に溝が設けられた構成としてもよく、また、エアを吸引することでベースＢを吸着保持する構成としてもよい。 The pull roll 5 is a roll that is rotationally driven at the time of application and serves as a reference for the transport speed of the base B when the base B is transported in contact with the base B on its peripheral surface. The pull roll 5 is controlled by a pull roll control unit (not shown) and transports the base B at a constant speed. The pull roll 5 may have a configuration in which a groove is provided on the surface in order to secure a holding force with respect to the base B, or a configuration in which the base B is sucked and held by sucking air.
乾燥部６は、ベースＢを搬送させつつ、該ベースＢに塗布された塗布液Ｄを乾燥させる構成である。 The drying unit 6 is configured to dry the coating liquid D applied to the base B while transporting the base B.
紫外線照射部７は、ベースＢを搬送させた状態で、ベースＢにおける塗布液Ｄが塗布された面に紫外線を照射し、塗布層を硬化させるものである。ここで、紫外線照射部７は、塗布液Ｄを硬化させることができれば、紫外線に以外の活性エネルギーの光を照射する構成としてもよい。 The ultraviolet irradiation unit 7 is configured to irradiate the surface of the base B on which the coating liquid D is applied with the ultraviolet light, and to cure the coating layer. Here, as long as the coating liquid D can be cured, the ultraviolet irradiation unit 7 may be configured to irradiate light having an active energy other than ultraviolet rays.
次に、塗布部３の供給・回収系の詳細について図６に基づいて説明する。
図において、塗布部３は、上下移動可能な塗布部材３ａと矢印ａの方向に搬送されるベースＢに塗布液Ｄを塗布する塗布ロッド３ｂとから成り、塗布部材３ａは、さらに塗布ロッド３ｂを下方から支持するバックアップ部材３ｃと、ベースＢの搬送方向ａに対してバックアップ部材３ｃの上流側に位置する上流堰３ｄと、搬送方向ａに対してバックアップ部材３ｃの下流側に位置する下流堰３ｅとを備えている。
Next, details of the supply / recovery system of the
In the figure, the
バックアップ部材３ｃの頂面には、塗布ロッド３ｂが当接するバックアップ面３Ｃ１が形成されている。このバックアップ面３Ｃ１は円弧状またはＶ字状の溝に形成され、したがって塗布ロッド３ｂの長さ方向に対して直角な平面で切断した断面は、内角が９０°以下の円弧状である。
A backup surface 3C1 with which the
バックアップ部材３ｃと上流堰３ｄとの間には、塗布ロッド３ｂの上流側に向かって塗布液Ｄを供給するスリット状の上流側給液流路３ｆが形成され、バックアップ部材３ｃと下流堰３ｅとの間には、塗布ロッド３ｂの下流側に向かって過剰塗布液Ｄを流すスリット状の下流側給液流３ｇが形成されている。
Between the
塗布ロッド３ｂは、平滑バーであってもよいが、塗布液を薄く、しかも均一に塗布できる点でワイヤーバーおよび溝つきバーが好ましい。
The
塗布部３の下方には、塗布部材３ａから滴下する過剰塗布液を回収する回収ロート４０が設けられており、回収ロート４０に回収された塗布液はその下方に向いた開口部から、直下の塗布液供給タンク２０に送られる。
A
この塗布器３と塗布液供給タンク２０とは供給パイプ２２で接続されており、供給パイプ２２に供給ポンプ２３が介在している。供給ポンプ２３の運転により塗布液供給タンク２０内の塗布液Ｄは供給パイプ２２を経て塗布器３へ給送される。塗布器３へ給送された塗布液Ｄは、軸を中心に回転する塗布ロッド３ｂによって一部はベースＢに塗布され、残りの過剰塗布液はベースＢに塗布されずに塗布ロッド３ｂの外部へ排出される。
そして、残余の塗布液は塗布液供給タンク２０へと回収されて、供給ポンプ２３によって再び塗布ロッド３ｂに供給される。
The
Then, the remaining coating liquid is recovered to the coating
このような塗布液塗布装置３において、塗布ロッド３ｂによってベースＢに塗布される塗布液塗布量を正確に測定することは、従来より困難であった。
その理由は、塗布量を、塗布量＝供給量−回収量なる式から求める場合、供給量は供給ポンプ２３があるから簡単に求まっても、回収量は正確に求める手段がないからである。
In such a coating
The reason is that, when the coating amount is obtained from the equation: coating amount = supply amount−recovery amount, since the supply amount is provided by the supply pump 23, there is no means for accurately obtaining the recovery amount.
ところが、特許文献１記載の発明は、ベースに塗布された塗布液の実塗布量を塗布液供給流量と塗布液回収流量との差として計算するもので、それによれば、塗布液供給量と塗布液回収量とを次のようにして求めている。
塗布液供給量については、塗布液供給タンクから供給ポンプを経て塗布器へと供給される系に流量計を介在させてその流量計の計量値を用いている。
また、塗布液回収流量については、下流側に配置された塗工ロッドによって最終の塗布厚さとなるように過剰塗布液を掻き落とし、掻き落とされた過剰塗布液を計量用タンクへ集め、計量タンクの下にが重量計が置いてあり、これの計量値から計量タンクの風袋を除くことで回収された塗布量の全量を計量する、というものである。そこで、回収塗布量の差を時間で割ることにより、時間平均の塗布液回収流量を算出することができる。
However, the invention described in Patent Document 1 calculates the actual coating amount of the coating liquid applied to the base as the difference between the coating liquid supply flow rate and the coating liquid recovery flow rate. The liquid recovery amount is obtained as follows.
As for the coating liquid supply amount, a metered value of the flow meter is used by interposing a flow meter in a system supplied from the coating liquid supply tank to the applicator through the supply pump.
Regarding the coating solution recovery flow rate, the excess coating solution is scraped off to the final coating thickness by the coating rod arranged on the downstream side, and the scraped excess coating solution is collected in the measuring tank. Underneath is a weigh scale that weighs the total amount of coating recovered by removing the tare of the measuring tank from the measured value. Therefore, by dividing the difference in the recovered coating amount by the time, the time-average coating liquid recovery flow rate can be calculated.
しかしながら、この測定方法によると、計量タンク内に溜まった塗布液は、いずれ排出しなければならず、そのとき計量は中断するので、連続的な計量ができないという欠点があった。 However, according to this measuring method, the coating liquid accumulated in the measuring tank must be discharged, and the measurement is interrupted at that time.
本発明の目的は、このような欠点を解決するために成されたもので、ベースに塗布された塗布液の実塗布量を連続的に正確に測定することができる塗布量の測定方法を提供することにある。 An object of the present invention is to solve such drawbacks, and provides a coating amount measuring method capable of continuously and accurately measuring the actual coating amount of a coating solution applied to a base. There is to do.
上記の課題を解決するため、請求項１記載の発明は、塗布液塗布装置における塗布液塗布量測定方法に係り、塗布液を塗布液供給タンクから供給ポンプを経て塗布器へと供給し、前記塗布器からベースに塗布液を塗布し、前記塗布液のうち掻き落とされた過剰塗料を前記塗布液供給タンクへ回収するようにして成る後計量系の塗布液塗布装置において、前記塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量から塗布量を演算することを特徴としている。 In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 relates to a coating liquid coating amount measuring method in a coating liquid coating apparatus, supplying a coating liquid from a coating liquid supply tank to a coating device via a supply pump, In a coating liquid application apparatus of a post-metering system, the application liquid supply tank is configured to apply the application liquid from the applicator to the base and collect the excess paint scraped off of the application liquid into the application liquid supply tank. The total weight is continuously measured, and the coating amount is calculated from the amount of change in the measured value.
請求項２記載の発明は、塗布液塗布装置における塗布液塗布量測定装置に係り、ベースに塗布液を塗布する塗布器と、塗布液を貯蔵する塗布液供給タンクと、前記塗布液供給タンクと前記塗布器とを接続する供給パイプと、該供給パイプに介在して前記塗布液供給タンク内の塗布液を前記塗布器へ給送する供給ポンプと、から成り、前記塗布器からベースに供給された塗布液のうち掻き落とされた過剰塗布液を前記供給タンクへ回収する後計量系の塗布液塗布装置において、前記塗布器からベースに供給された塗布液のうち掻き落とされた過剰塗布液を回収する回収容器と、回収した塗布液を前記回収容器から前記供給タンクへ回収する回収パイプと、から成る塗布液塗布装置において、前記塗布液供給タンクの総重量を計量するタンク重量計と演算手段とを備え、前記演算手段が前記タンク重量計の計量した計量値から計量値の変化量を求めることを特徴としている。
The invention according to
請求項３記載の発明は、塗布液塗布装置における塗布液塗布量測定装置に係り、ベースに塗布液を塗布する塗布器と、塗布液を貯蔵する塗布液供給タンクと、前記塗布液供給タンクと前記塗布器とを接続する供給パイプと、該供給パイプに介在して前記塗布液供給タンク内の塗布液を前記塗布器へ給送する供給ポンプと、前記塗布器からベースに供給された塗布液のうち掻き落とされた過剰塗布液を回収する回収容器と、回収した塗布液を前記回収容器から前記供給タンクへ回収する回収パイプと、から成る後計量系の塗布液塗布装置において、前記塗布液供給タンクの総重量を計量するタンク重量計と演算手段とを備え、前記演算手段が前記タンク重量計の計量した計量値から計量値の変化量を求めることを特徴としている。 A third aspect of the present invention relates to a coating liquid coating amount measuring device in a coating liquid coating apparatus, a coating device for coating a coating liquid on a base, a coating liquid supply tank for storing the coating liquid, and the coating liquid supply tank. A supply pipe that connects the applicator, a supply pump that feeds the application liquid in the application liquid supply tank to the applicator through the supply pipe, and an application liquid supplied from the applicator to the base In the post-weighing system coating liquid coating apparatus, the coating liquid comprising: a recovery container for recovering the excessive coating liquid scraped off; and a recovery pipe for recovering the recovered coating liquid from the recovery container to the supply tank. A tank weight meter for measuring the total weight of the supply tank and a calculation unit are provided, and the calculation unit obtains a change amount of the measurement value from a measurement value measured by the tank weight meter.
請求項４記載の発明は、請求項３記載の塗布液塗布量測定装置において、前記回収パイプの前記塗布液供給タンク側先端が前記塗布液供給タンク内の塗布液液面下に没しかつ前記塗布液供給タンクに非接触であることを特徴としている。 According to a fourth aspect of the present invention, in the coating liquid application amount measuring apparatus according to the third aspect, the tip of the recovery pipe on the side of the coating liquid supply tank is submerged below the surface of the coating liquid in the coating liquid supply tank, and It is characterized by being non-contact with the coating liquid supply tank.
請求項５記載の発明は、請求項３又は４記載の塗布液塗布量測定装置において、前記供給パイプの前記塗布液供給タンク側先端が前記塗布液供給タンク内の塗布液液面下に没しかつ前記塗布液供給タンクに非接触であることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, in the coating liquid application amount measuring apparatus according to the third or fourth aspect, the tip of the supply pipe on the side of the coating liquid supply tank is submerged below the surface of the coating liquid in the coating liquid supply tank. And it is characterized by not contacting the coating liquid supply tank.
上記の構成により、塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量から塗布量を演算するので、ベースに塗布された塗布液の実塗布量を連続的に正確に測定することができるようになる。 With the above configuration, the total weight of the coating liquid supply tank is continuously measured, and the coating amount is calculated from the amount of change in the measured value. Therefore, the actual coating amount of the coating liquid applied to the base can be accurately and continuously calculated. It becomes possible to measure.
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.
まず、本発明の実施例１について図１に基づいて説明する。
図１は本発明の実施例１に係る塗布液塗布量測定の原理図である。
図において、塗布部３を中心とする供給・回収系については、図６で説明したものと同じであり、図１が図６と異なる点は、（１）塗布液供給タンク２０の下に重量計２１を設けたこと、かつ、（２）この重量計２１の計量値から計量値の変化量を求める演算をする演算手段２４を設けたことである。
First, Example 1 of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of coating liquid application amount measurement according to the first embodiment of the present invention.
In the figure, the supply / recovery system centering on the
そこで、本発明に係る塗布部３の供給・回収系について説明する。
塗布部３は、上下移動可能な塗布部材３ａと矢印ａの方向に搬送されるベースＢに塗布液Ｄを塗布する塗布ロッド３ｂとから成り、塗布部材３ａは、さらに塗布ロッド３ｂを下方から支持するバックアップ部材３ｃと、ベースＢの搬送方向ａに対してバックアップ部材３ｃの上流側に位置する上流堰３ｄと、搬送方向ａに対してバックアップ部材３ｃの下流側に位置する下流堰３ｅとを備えている。
Therefore, the supply / recovery system of the
The
バックアップ部材３ｃの頂面には、塗布ロッド３ｂが当接するバックアップ面３Ｃ１が形成されている。このバックアップ面３Ｃ１は円弧状またはＶ字状の溝に形成され、したがって塗布ロッド３ｂの長さ方向に対して直角な平面で切断した断面は、内角が９０°以下の円弧状である。
A backup surface 3C1 with which the
バックアップ部材３ｃと上流堰３ｄとの間には、塗布ロッド３ｂの上流側に向かって塗布液Ｄを供給するスリット状の上流側給液流路３ｆが形成され、バックアップ部材３ｃと下流堰３ｅとの間には、塗布ロッド３ｂの下流側に向かって過剰塗布液Ｄを流すスリット状の下流側給液流３ｇが形成されている。
Between the
塗布ロッド３ｂは、平滑バーであってもよいが、塗布液を薄く、しかも均一に塗布できる点でワイヤーバーおよび溝つきバーが好ましい。
The
この塗布器３と塗布液供給タンク２０とは供給パイプ２２で接続されており、供給パイプ２２に供給ポンプ２３が介在している。供給ポンプ２３の運転により塗布液供給タンク２０内の塗布液Ｄは供給パイプ２２を経て塗布器３へ給送される。塗布器３へ給送された塗布液Ｄは、軸を中心に回転する塗布ロッド３ｂによって一部はベースＢに塗布され、残りの過剰塗布液はベースＢに塗布されずに塗布ロッド３ｂの外部へ排出される。
そして、残余の塗布液は塗布液供給タンク２０へと回収されて、供給ポンプ２３によって再び塗布ロッド３ｂに供給される。
The
Then, the remaining coating liquid is recovered to the coating
このような塗布液塗布装置３において、塗布ロッド３ｂによってベースＢに塗布される塗布液塗布量は、本発明によれば、時点ｔ１〜時点ｔ２間の塗布量は
時点ｔ１〜時点ｔ２間の塗布量＝ｔ１の重量計計量値−ｔ２の重量計計量値
なる式から求めることができる。
したがって、単位時間の塗布量Ｑは
Ｑ＝（ｔ１の重量計計量値−ｔ２の重量計計量値）／（ｔ１〜ｔ２）
なる式から求めることができる。
In such a coating
Therefore, the application amount Q per unit time is Q = (Weighing value of t1−Weighing value of t2) / (t1 to t2)
It can be obtained from the following formula.
以上のことを、図２の線図に基づいて説明する。
図２は重量計計量値から塗布ロッドの位置制御をする原理を説明する図で、（ａ）が塗布液供給タンク２０の重量−時間変化を示す図、（ｂ）が単位時間の塗布量Ｑ−塗布ロッドの位置を示す図である。
図２（ａ）の縦軸は塗布液供給タンク２０の重量（ｇ重量）、横軸は時間（秒）、図２（ｂ）の縦軸は単位時間の塗布量Ｑ（ｇ重量／秒）、横軸は待機位置からの距離（ｍｍ）である。
図２（ａ）において、ｔ０時点で、この塗布液塗布量測定装置が平衡（定常）状態にあるとする。すなわち、このｔ０時点で、塗布液塗布量測定装置内の供給パイプ２２，ポンプ２３、塗布部３内のすべての液流路に塗布液Ｄが充満していて、塗布部３内で過剰塗布液１ｇが掻き落とされると、所定時間後（タイムラグ）に必ず１ｇが塗布液供給タンク２０に回収される状態になっているとする。
The above will be described with reference to the diagram of FIG.
2A and 2B are diagrams for explaining the principle of controlling the position of the coating rod from the weight measurement value. FIG. 2A is a diagram showing a change in weight-time of the coating
2A, the vertical axis represents the weight (g weight) of the coating
In FIG. 2A, it is assumed that the coating liquid application amount measuring apparatus is in an equilibrium (steady) state at time t0. That is, at this time t0, the
この塗布液塗布装置を作動させて、ある時点ｔ１で塗布液供給タンク２０の重量がｇ１であったとし、基準の厚さの塗布をベースＢに行なった後の時点ｔ２で塗布液供給タンク２０の重量がｇ２になっていたとすると、演算手段２４は、
タイムラグを無視すると、基準の場合の単位時間当たりの塗布量Ｑを、
Ｑ＝（ｇ１−ｇ２）／（ｔ２−ｔ１）
として演算する。
It is assumed that the weight of the coating
If the time lag is ignored, the application amount Q per unit time in the case of the standard is
Q = (g1-g2) / (t2-t1)
Calculate as
また、過剰塗布液ｘ（ｇ）が掻き落とされた時点ｔ１’からタイムラグΔｔ後のｔ１に、重量計２０が過剰塗布液ｘ（ｇ）を測定したとすると、タイムラグΔｔを考慮した単位時間当たりの正確な塗布量Ｑ’は、
Ｑ’＝（ｇ１−ｇ２）／（ｔ２’−ｔ１’） となる。
そして、タイムラグが小さくなるような構造（例えば、滴下液滴がスムーズに塗布液供給タンク２０に回収されるよう、回収パイプを使わなかったり、使ったとしても回収パイプの径を大きくしたり、パイプ内の表面を水切りのよい材質にする等、）にすることにより、
Ｑ≒Ｑ’
として扱うことができる。
Further, assuming that the
Q ′ = (g1−g2) / (t2′−t1 ′)
And a structure that makes the time lag small (for example, the recovery pipe is not used or the diameter of the recovery pipe is increased even if it is used so that the dropped liquid can be smoothly recovered in the coating
Q ≒ Q '
Can be treated as
このようにして、演算手段２４が単位時間当たりの塗布量Ｑを上記式から求めると、基準の厚さの場合、Ｑ２となり、図２（ｂ）から、そのときの塗布ロッド３ｂの位置は待機位置Ｌ０からＬ２の位置となる。
In this way, when the calculation means 24 obtains the coating amount Q per unit time from the above formula, it becomes Q2 in the case of the reference thickness, and the position of the
これに対して、重量変化が図２（ａ）の点線で示す線図（ｂ）のようになった場合、これは勾配が緩やかであるので、塗布液供給タンク２０の重量が基準値よりも減り方が少ないことを意味し、回収量が基準より多いことになる。これはベースＢに形成される塗布膜Ｄが基準値よりも薄いことであるから、ベースＢに形成される塗布膜Ｄを厚くする制御が必要である。
したがって、演算手段２４が単位時間当たりの塗布量Ｑを上記式から求めると、この場合はＱ３となり、図２（ｂ）から、そのときの塗布ロッド３ｂの位置は待機位置Ｌ０からＬ１の位置にすればよいこととなる。このようにすることで、塗布ロッド３ｂは基準位置Ｌ２の場合よりも待機位置方向に若干降下し、ベースＢとの押圧力が弱まるので塗布膜Ｄを厚くでき、したがって掻き落し量を減らすように制御することとなる。
On the other hand, when the weight change is as shown in the diagram (b) shown by the dotted line in FIG. 2 (a), since the gradient is gentle, the weight of the coating
Therefore, when the calculation means 24 calculates the application amount Q per unit time from the above formula, it becomes Q3 in this case, and the position of the
これに対して、重量変化が図２（ａ）の一点鎖線で示す線図（ｃ）のようになった場合、これは勾配が急であるので、塗布液供給タンク２０の重量が基準値よりも減り方が多いことを意味し、回収量が基準より少ないことになる。これはベースＢに形成される塗布膜Ｄが基準値よりも厚いことであるから、ベースＢに形成される塗布膜Ｄを薄くする制御が必要である。
したがって、演算手段２４が単位時間当たりの塗布量Ｑを上記式から求めると、この場合はＱ１となり、図２（ｂ）から、そのときの塗布ロッド３ｂの位置は待機位置Ｌ０からＬ３の位置にすればよいこととなる。このようにすることで、塗布ロッド３ｂは基準位置Ｌ２の場合よりもベース方向に若干上昇し、ベースＢとの押圧力が強まるので塗布膜Ｄを薄くでき、したがって掻き落し量を多くすように制御することとなる。
On the other hand, when the change in weight is as shown by a dashed line (c) in FIG. 2A, the gradient is steep, so that the weight of the coating
Therefore, when the calculation means 24 calculates the application amount Q per unit time from the above formula, it becomes Q1 in this case, and the position of the
また、塗布量の調整手段は図２（ｂ）に限定されるものではなく、種々の方法を採用することができる。例えば、ウエブテンションや液濃度を変えることも考えられる。 Also, the application amount adjusting means is not limited to that shown in FIG. 2B, and various methods can be employed. For example, it is possible to change the web tension or the liquid concentration.
塗布液供給タンク２０の塗布液Ｄが少なくなったときは、塗布液Ｄを継ぎ足して、そのときの塗布液供給タンク２０の重量をセットしてスタートすれば、塗布および回収系が定常状態になっている限り、そのままスタートすることができる。
When the coating liquid D in the coating
このように、実施例１によれば、塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量から塗布量を演算するようにしているので、特許文献１記載の測定方法のような、回収タンク内に塗布液がいっぱいになったときに、塗布液を排出するといった手間が省略でき、計量を中断することなく連続的で正確な計量、したがってまた制御可能となる。 As described above, according to the first embodiment, the total weight of the coating liquid supply tank is continuously measured, and the coating amount is calculated from the amount of change in the measured value. As described above, when the coating liquid is full in the recovery tank, the trouble of discharging the coating liquid can be omitted, and continuous and accurate metering without interruption of metering, and therefore controllable.
次に、本発明の実施例２について図３に基づいて説明する。
図３が図１の実施例１と異なるのは、過剰塗布液の回収に受け皿３０を用いて、一旦この受け皿３０に過剰塗布液を溜め、オーバーフロー分だけを回収孔３０ａから取り出し回収パイプ３１を介して塗布液供給タンク２０に戻すようにしている点である。その他の点は実施例１と同じであり、重複説明は省略する。
実施例１の場合、装置を始動してから定常状態になるまでの立ち上げ時間が短くて良いという利点がある反面、塗布液供給タンク２０を塗布部３の直下に備え付けなければならないという配置上の制約があったが、実施例２の場合には、装置を始動してから定常状態になるまでの立ち上げ時間がかかるという欠点があるものの、回収パイプ３１を引き回すことにより、塗布部３の位置にかかわらず塗布液供給タンク２０を任意の位置に備え付けることができるという設計の自由度が大きくなる利点がある。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
3 differs from the first embodiment shown in FIG. 1 in that a receiving
In the case of the first embodiment, there is an advantage that the startup time from the start of the apparatus to the steady state may be short, but on the arrangement that the coating
実施例２の場合、塗布液塗布量測定装置が平衡（定常）状態というのは、塗布液塗布量測定装置内の供給パイプ２２，ポンプ２３、塗布部３内のすべての液流路、および受け皿３０に塗布液Ｄが充満し、塗布部３内で過剰塗布液１ｇが掻き落とされると、所定時間後に必ず１ｇが回収パイプ３１を介して塗布液供給タンク２０に回収される状態である。
この塗布液塗布装置を作動させて、塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量が緩やかであれば、塗布部材３ａを若干降下させて塗布ロッド３ｂとベースＢとの押圧力を弱めて、掻き落し量を減らすように制御し、また、変化量が急であれば、塗布部材３ａを若干上昇させて塗布ロッド３ｂとベースＢとの押圧力を強めて、掻き落し量を多くするように制御すればよい。
In the case of the second embodiment, the coating liquid application amount measuring device is in an equilibrium (steady state) because the
By operating this coating liquid coating apparatus, the total weight of the coating liquid supply tank is continuously measured, and if the change amount of the measured value is moderate, the
このように、実施例２によっても、塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量から塗布量を演算するようにしているので、特許文献１記載の測定方法のような、回収タンク内に塗布液がいっぱいになったときに、塗布液を排出するといった手間が省略でき、計量を中断することなく連続的で正確な計量、したがってまた制御可能となる。 Thus, also in Example 2, the total weight of the coating liquid supply tank is continuously weighed, and the coating amount is calculated from the amount of change in the measured value. Thus, the trouble of discharging the coating solution when the coating solution is full in the recovery tank can be omitted, and continuous and accurate metering and therefore control can be performed without interrupting the metering.
なお、回収パイプ３１の先端３１ａは、塗布液供給タンク２０内の塗布液Ｄの液面下に没しており、かつ、塗布液供給タンク２０に非接触となっている。
回収パイプ３１の先端３１ａが液面から出た上方で終わっていると、回収した過剰塗布液が空気中を抵抗なく落下して、勢いよく塗布液供給タンク２０の液面に当たるので、重量計２１にとって大きな測定ノイズとなってしまうのに対して、回収パイプ３１の先端３１ａが液面下に没していると、塗布液供給タンク２０内の塗布液が抵抗となって、回収した過剰塗布液が勢いよく流れ込むことができず、重量計２１は正確に計測することができるので好都合である。
また、回収パイプ３１の先端３１ａが塗布液供給タンク２０に非接触となっていることで、回収パイプ３１の荷重がノイズとして重量計２１に加わることを防止することができ、精度の良い重量測定が可能となる。
The
If the
Further, since the
以上は、過剰塗布液の回収に受け皿３０を用いてそのオーバーフロー分だけを速やかに回収孔３０ａから取り出して塗布液供給タンク２０に戻すようにしているが、本実施例はこれに限定されるものではなく、通常のロート状の回収皿に過剰塗布液を受けるようにして、ロートの先端から塗布液供給タンク２０に戻すようにしてもよい。この場合、ロート状回収皿の上に過剰塗布液が落ちて、それが計量されるに至るまでのタイムラグは大きいが、そのタイムラグを予め正確に測定しておけば、同じように制御することは可能である。
As described above, the
次に、本発明の実施例３について図４に基づいて説明する。
図４が図３の実施例２と異なるのは、供給パイプ２２の塗布液供給タンク２０側の先端２２ａが、塗布液供給タンク２０内の塗布液Ｄ液面下に没し、かつ、塗布液供給タンク２０に非接触である点である。勿論、回収パイプ３１の先端３１ａも塗布液供給タンク２０内の塗布液Ｄの液面下に没しており、かつ、塗布液供給タンク２０に非接触となっている。
配管が塗布液供給タンク２０に接続されていることで支えが生じ計量誤差になるおそれがあったのを図１ではジャバラ構造等の接続装置で回避していたが、供給パイプ２２の先端２２ａを塗布液Ｄの液面下に没しており、かつ、塗布液供給タンク２０に非接触とする構造で、高価で複雑なジャバラ構造等の接続装置が不要となり、しかも重量計２１は正確に計測することができるようになる。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
4 differs from the second embodiment of FIG. 3 in that the
In FIG. 1, the connection device such as the bellows structure avoids the fact that the piping is connected to the coating
その他の動作原理は実施例１及び実施例２と同じである。
したがって、実施例３によっても、塗布液供給タンクの総重量を連続的に計量し、その計量値の変化量から塗布量を演算するようにしているので、特許文献１記載の測定方法のような、回収タンク内に塗布液がいっぱいになったときに、塗布液を排出するといった手間が省略でき、計量を中断することなく連続的で正確な計量、したがってまた制御可能となる。
Other operating principles are the same as those in the first and second embodiments.
Therefore, also in Example 3, the total weight of the coating liquid supply tank is continuously weighed, and the coating amount is calculated from the amount of change in the measured value. When the coating liquid is full in the recovery tank, the trouble of discharging the coating liquid can be omitted, and continuous and accurate metering and therefore control can be performed without interrupting the metering.
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜な変形、改良などが可能である。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A suitable deformation | transformation, improvement, etc. are possible.
１ ベース原反
２、４ パスローラ
３ 塗布部
３ａ 塗布部材
３ｂ 塗布ロッド
５ プルローラ
６ 乾燥部
７ 紫外線照射部
８ 巻取ロール
９ 駆動部
１０ 光情報記録媒体用の透明層の製造装置
２０ 塗布液供給タンク
２１ 重量計
２２ 供給パイプ
２２ａ 供給パイプの塗布液供給タンク側先端
２３ 供給ポンプ
２４ 演算手段
３０ 受け皿
３１ 回収パイプ
３１ａ 回収パイプ先端
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base
Claims (5)
前記塗布液供給タンクの総重量を計量するタンク重量計と演算手段とを備え、前記演算手段は前記タンク重量計の計量した計量値から計量値の変化量を求める演算をすることを特徴とする塗布液塗布装置における塗布液塗布量測定装置。 An applicator for applying the application liquid to the base; an application liquid supply tank for storing the application liquid; a supply pipe for connecting the application liquid supply tank and the applicator; and the supply of the application liquid via the supply pipe A feed pump for feeding the coating liquid in the tank to the applicator, and a post-measuring system for collecting the excess coating liquid scraped off from the coating liquid supplied to the base from the applicator to the supply tank In the coating liquid coating apparatus,
A tank weight meter for measuring the total weight of the coating liquid supply tank and a calculation means are provided, and the calculation means performs a calculation for obtaining a change amount of the measurement value from a measurement value measured by the tank weight meter. A coating liquid application amount measuring device in a coating liquid coating apparatus.
前記塗布液供給タンクの総重量を計量するタンク重量計と演算手段とを備え、前記演算手段は前記タンク重量計の計量した計量値から計量値の変化量を求める演算をすることを特徴とする塗布液塗布装置における塗布液塗布量測定装置。 An applicator for applying the application liquid to the base; an application liquid supply tank for storing the application liquid; a supply pipe for connecting the application liquid supply tank and the applicator; and the supply of the application liquid via the supply pipe A supply pump that feeds the coating liquid in the tank to the applicator, a recovery container that recovers the excess coating liquid scraped off from the coating liquid supplied from the applicator to the base, and the recovered coating liquid In a post-weighing system coating liquid application device comprising a recovery pipe for recovery from a recovery container to the supply tank,
A tank weight meter for measuring the total weight of the coating liquid supply tank and a calculation means are provided, and the calculation means performs a calculation for obtaining a change amount of the measurement value from a measurement value measured by the tank weight meter. A coating liquid application amount measuring device in a coating liquid coating apparatus.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009082768A (en) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | Bar coating apparatus, coating method using it and method of manufacturing optical film |
| JP2013034980A (en) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Hirano Tecseed Co Ltd | Coating device |
| JP2013202450A (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Nec Corp | Coating apparatus |
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2004
- 2004-09-27 JP JP2004279685A patent/JP2006088098A/en active Pending
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