JP2006083157A - Method for producing arylfuran compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アリールフラン類の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing arylfurans.
アリールフラン類は、医薬中間体等として重要な化合物である（例えば、特許文献１参照。）。かかるアリールフラン類の製造方法としては、例えばアリールホウ酸を用いる鈴木カップリング反応、ニッケル触媒およびグリニヤール試薬を用いる反応、アリールヨウ化物を用いるウルマン反応などが知られている（例えば、非特許文献１および特許文献１参照。）。しかしながら、これらの方法は、反応試剤や触媒およびその配位子が高価である、原料のフラン類の反応部位に脱離基が必要である等の問題があり、いずれも工業的に満足できるものではなかった。 Arylfurans are important compounds as pharmaceutical intermediates and the like (see, for example, Patent Document 1). As methods for producing such arylfurans, for example, a Suzuki coupling reaction using arylboric acid, a reaction using a nickel catalyst and a Grignard reagent, an Ullmann reaction using an aryl iodide, and the like are known (for example, Non-Patent Document 1 and Patents). Reference 1). However, these methods have problems such as expensive reagents and catalysts and their ligands, and the need for leaving groups at the reaction sites of the starting furans, both of which are industrially satisfactory. It wasn't.
一方、上記のような高価な反応試剤等を用いないアリールフラン類の製造方法として、アリールヒドラジン類、酸化剤およびフラン類を反応させる方法が知られている。例えば、酸化剤として酢酸マンガンを用いる方法（例えば、非特許文献２参照。）が報告されているが、毒性を有する酸化剤を過剰量用い、後処理の負担も大きいことから、工業的な観点からは、さらなる改善が望まれていた。 On the other hand, a method of reacting arylhydrazines, oxidizing agents and furans is known as a method for producing arylfurans without using such expensive reaction reagents. For example, a method using manganese acetate as an oxidizing agent (for example, see Non-Patent Document 2) has been reported. However, since an excessive amount of a toxic oxidizing agent is used and the burden of post-treatment is large, an industrial viewpoint. Since then, further improvement has been desired.
このような状況のもと、本発明者は、アリールフラン類を工業的により有利に製造する方法について鋭意検討したところ、安価で、取扱いが容易で、しかも反応後には無害な水となるクリーンで優れた酸化剤である過酸化水素を用いることにより、アリールヒドラジン類とフラン類とから製造できることを見出し、本発明に至った。 Under such circumstances, the present inventor diligently studied a method for producing arylfurans more advantageously industrially. As a result, the present inventors are inexpensive, easy to handle, and are clean and harmless water after the reaction. It has been found that by using hydrogen peroxide, which is an excellent oxidizing agent, it can be produced from aryl hydrazines and furans, leading to the present invention.
すなわち本発明は、アリールヒドラジン類と、２位および５位の少なくとも一方の炭素原子上に水素原子を有するフラン類とを、過酸化水素の存在下に反応させることを特徴とするアリールフラン類の製造方法を提供するものである。 That is, the present invention relates to an aryl furan characterized by reacting an aryl hydrazine with a furan having a hydrogen atom on at least one of the carbon atoms in the 2nd and 5th positions in the presence of hydrogen peroxide. A manufacturing method is provided.
本発明の方法によれば、安価で、取り扱いが容易で、しかも反応後には無害な水となるクリーンで優れた過酸化水素を用いることにより、アリールヒドラジン類とフラン類とからアリールフラン類を容易に得ることができ、しかも入手が容易な金属酸化物等の存在下に反応を実施すれば、さらに収率よくアリールフラン類を得ることができるため、工業的に有利である。 According to the method of the present invention, arylfurans can be easily produced from arylhydrazines and furans by using clean and excellent hydrogen peroxide which is inexpensive, easy to handle and becomes harmless water after the reaction. If the reaction is carried out in the presence of a metal oxide or the like that can be easily obtained, the arylfurans can be obtained in a higher yield, which is industrially advantageous.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
アリールヒドラジン類としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環等の芳香環またはピリジン環、チアゾール環、オキサゾール環などの複素芳香環上に、少なくとも一つのヒドラジノ基が結合したものであればよく、芳香環または複素芳香環上にヒドラジノ基以外の置換基を有していてもよい。 As the aryl hydrazine, for example, an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring, or a heteroaromatic ring such as a pyridine ring, a thiazole ring, an oxazole ring and the like may be used. A substituent other than a hydrazino group may be present on the heteroaromatic ring.
かかるアリールヒドラジン類としては、例えば式（１）
で示されるアリールヒドラジン類（以下、アリールヒドラジン類（１）と略記する。）が挙げられる。
Examples of such aryl hydrazines include those represented by the formula (1)
And hydrazines (hereinafter abbreviated as aryl hydrazines (1)).
無置換の芳香族基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０の芳香族基が挙げられる。無置換の複素芳香族基としては、例えばピリジル基、ピリミジル基、キノリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基等の炭素数４〜１０の複素芳香族基が挙げられる。 As an unsubstituted aromatic group, C6-C10 aromatic groups, such as a phenyl group and a naphthyl group, are mentioned, for example. Examples of the unsubstituted heteroaromatic group include C4-C10 heteroaromatic groups such as a pyridyl group, a pyrimidyl group, a quinolyl group, a benzothiazolyl group, and a benzoxazolyl group.
芳香環または複素芳香環上に有していてもよいヒドラジノ基以外の置換基としては、例えばハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、カルボキシ基、スルホ基、スルファモイル基、置換もしくは無置換のアルコキシスルホニル基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ基、カルバモイル基等が挙げられる。なお、これら置換基のうち、隣接する置換基同士が一緒になって、環構造の一部を形成してもよい。 Examples of the substituent other than the hydrazino group that may be present on the aromatic ring or heteroaromatic ring include, for example, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group Substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group, carboxy group, sulfo group, sulfamoyl group, substituted or unsubstituted An alkoxysulfonyl group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, an amino group, and a carbamoyl group. Of these substituents, adjacent substituents may be combined to form part of the ring structure.
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
無置換アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基が例示される。置換アルキル基としては、前記ハロゲン原子、後述する置換もしくは無置換のアルコキシ基、後述する置換もしくは無置換のアリール基、後述する置換もしくは無置換のアリールオキシ基、後述する置換されていてもよいアシル基、後述する置換されていてもよいアルコキシカルボニル基、後述する置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基、カルボキシ基、カルバモイル基等の置換基で置換されたアルキル基が例示される。具体的には、例えばブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシカルボニルメチル基、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。 Examples of the unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, decyl group, cyclopropyl group, 2,2- Examples thereof include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as dimethylcyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and menthyl group. The substituted alkyl group includes the halogen atom, a substituted or unsubstituted alkoxy group described later, a substituted or unsubstituted aryl group described later, a substituted or unsubstituted aryloxy group described later, and an optionally substituted acyl described later. Examples thereof include an alkyl group substituted with a substituent, such as a group, an optionally substituted alkoxycarbonyl group described later, an optionally substituted aryloxycarbonyl group, a carboxy group, and a carbamoyl group. Specific examples include a bromomethyl group, a chloromethyl group, a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, a methoxycarbonylmethyl group, a benzyl group, and a phenylethyl group.
置換もしくは無置換のアルコキシ基におけるアルキル基としては、前記置換もしくは無置換のアルキル基が例示される。置換もしくは無置換のアルコキシ基の具体例としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、デシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メンチルオキシ基、クロロメトキシ基、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group in the substituted or unsubstituted alkoxy group include the substituted or unsubstituted alkyl group. Specific examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group include, for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, decyloxy group, Examples include cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, menthyloxy group, chloromethoxy group, fluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, methoxyethoxy group, and benzyloxy group.
無置換アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基が例示される。置換アリール基としては、前記ハロゲン原子、前記置換もしくは無置換のアルキル基、前記置換もしくは無置換のアルコキシ基、前記無置換アリール基、後述する置換もしくは無置換のアリールオキシ基、後述する置換もしくは無置換のアラルキルオキシ基、後述する置換もしくは無置換のアシル基、後述する置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、後述する置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、カルボキシ基等の置換基で置換されたアリール基が例示される。具体的には、例えば２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−フェノキシフェニル基等が挙げられる。 As an unsubstituted aryl group, C6-C10 aryl groups, such as a phenyl group and a naphthyl group, are illustrated, for example. Examples of the substituted aryl group include the halogen atom, the substituted or unsubstituted alkyl group, the substituted or unsubstituted alkoxy group, the unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group described below, and a substituted or unsubstituted group described below. A substituted aralkyloxy group, a substituted or unsubstituted acyl group described later, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group described later, an aryl substituted with a substituent such as a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group described later, a carboxy group, etc. Examples are groups. Specific examples include 2-methylphenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-phenoxyphenyl group and the like.
置換もしくは無置換のアリールオキシ基におけるアリール基としては、前記置換もしくは無置換のアリール基が例示される。置換もしくは無置換のアリールオキシ基の具体例としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、３−フェノキシフェノキシ基等が挙げられる。 Examples of the aryl group in the substituted or unsubstituted aryloxy group include the substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group include, for example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-chlorophenoxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group, 3-phenoxyphenoxy group and the like. It is done.
置換もしくは無置換のアシル基とは、置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基および置換もしくは無置換のアリールカルボニル基の総称であり、かかるアシル基におけるアルキル基としては、前記置換もしくは無置換のアルキル基が例示され、アリール基としては、前記置換もしくは無置換のアリール基が例示される。具体的には、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted acyl group is a generic name for a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group and a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group, and the alkyl group in the acyl group includes the substituted or unsubstituted alkyl group. Illustrative examples of the aryl group include the substituted or unsubstituted aryl groups. Specific examples include an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, a benzylcarbonyl group, and the like.
置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基におけるアルコキシ基としては、前記置換もしくは無置換のアルコキシ基が、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基におけるアリールオキシ基としては、前記置換もしくは無置換のアリールオキシ基が、それぞれ例示される。具体的には、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。 The alkoxy group in the substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group is the substituted or unsubstituted alkoxy group, and the aryloxy group in the substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group is the substituted or unsubstituted aryloxy group. , Respectively. Specific examples include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, and the like.
置換もしくは無置換のアルコキシスルホニル基におけるアルコキシ基としては、前記置換もしくは無置換のアルコキシ基が、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基におけるアルキル基としては、前記置換されていてもよいアルキル基が、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基におけるアリール基としては、前記置換されていてもよいアリール基が、それぞれ例示される。具体的には、例えば、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、メチルスルホニル基、フェニルスルホニル基等が挙げられる。 As the alkoxy group in the substituted or unsubstituted alkoxysulfonyl group, the substituted or unsubstituted alkoxy group is substituted, and as the alkyl group in the substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, the optionally substituted alkyl group is substituted. Or as an aryl group in an unsubstituted arylsulfonyl group, the said aryl group which may be substituted is illustrated, respectively. Specific examples include a methoxysulfonyl group, an ethoxysulfonyl group, a methylsulfonyl group, and a phenylsulfonyl group.
かかるアリールヒドラジン類としては、例えばフェニルヒドラジン、２−フルオロフェニルヒドラジン、３−フルオロフェニルヒドラジン、４−フルオロフェニルヒドラジン、２−クロロフェニルヒドラジン、３−クロロフェニルヒドラジン、４−クロロフェニルヒドラジン、２−ブロモフェニルヒドラジン、３−ブロモフェニルヒドラジン、４−ブロモフェニルヒドラジン、３−シアノフェニルヒドラジン、４−シアノフェニルヒドラジン、２−ヒドラジノ安息香酸メチル、２−ヒドラジノ安息香酸ブチル、３−ヒドラジノ安息香酸メチル、４−ヒドラジノ安息香酸メチル、２−ニトロフェニルヒドラジン、３−ニトロフェニルヒドラジン、４−ニトロフェニルヒドラジン、２−ヒドラジノトルエン、３−ヒドラジノトルエン、４−ヒドラジノトルエン、２−メトキシフェニルヒドラジン、３−メトキシフェニルヒドラジン、４−メトキシフェニルヒドラジン、２−トリフルオロメチルフェニルヒドラジン、３−トリフルオロメチルフェニルヒドラジン、４−トリフルオロメチルフェニルヒドラジン、 Examples of the aryl hydrazines include phenyl hydrazine, 2-fluorophenyl hydrazine, 3-fluorophenyl hydrazine, 4-fluorophenyl hydrazine, 2-chlorophenyl hydrazine, 3-chlorophenyl hydrazine, 4-chlorophenyl hydrazine, 2-bromophenyl hydrazine, 3-bromophenylhydrazine, 4-bromophenylhydrazine, 3-cyanophenylhydrazine, 4-cyanophenylhydrazine, methyl 2-hydrazinobenzoate, butyl 2-hydrazinobenzoate, methyl 3-hydrazinobenzoate, 4-hydrazinobenzoic acid Methyl, 2-nitrophenylhydrazine, 3-nitrophenylhydrazine, 4-nitrophenylhydrazine, 2-hydrazinotoluene, 3-hydrazinotoluene, 4-hydra Notoruen, 2-methoxyphenyl hydrazine, 3-methoxyphenyl hydrazine, 4-methoxyphenyl hydrazine, 2-trifluoromethylphenyl hydrazine, 3-trifluoromethylphenyl hydrazine, 4-trifluoromethylphenyl hydrazine,
２−ヒドラジノフェノール、３−ヒドラジノフェノール、４−ヒドラジノフェノール、２−ヒドラジノ安息香酸、３−ヒドラジノ安息香酸、４−ヒドラジノ安息香酸、４−ヒドラジノベンジルクロライド、２−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、３−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、４−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、４−ヒドラジノベンゼンスルホンアミド、４−ヒドラジノベンゼンスルホン酸エチル、３−ヒドラジノフェニルメチルスルホン、２，３−ジメチルフェニルヒドラジン、３，５−ジメチルフェニルヒドラジン、３，５−ジニトロフェニルヒドラジン、２，４−ジニトロフェニルヒドラジン、２，４−ジクロロフェニルヒドラジン、２，６−ジエチルフェニルヒドラジン、２，５−ジフルオロフェニルヒドラジン、３，４−ジフルオロフェニルヒドラジン、２，４−ジフルオロフェニルヒドラジン、３，５−ジフルオロフェニルヒドラジン、３−クロロ−４−フルオロフェニルヒドラジン、２−クロロ−４−メチルフェニルヒドラジン、２−クロロ−６−ヒドラジノ安息香酸、２−クロロ−６−ヒドラジノ安息香酸メチル、４−シアノ−２−クロロフェニルヒドラジン、４−メチル−３−（クロロメチル）フェニルヒドラジン、４−メチル−３−（ブロモメチル）フェニルヒドラジン、４−メチル−３−（メトキシカルボニルメチル）フェニルヒドラジン、２−メチル−４−ヒドラジノ安息香酸アミド、４−メチル−３−シアノフェニルヒドラジン、４−メチル−３−アセチルフェニルヒドラジン、２−アセチル−３−ヒドラジノベンゼンスルホン酸アミド、 2-hydrazinophenol, 3-hydrazinophenol, 4-hydrazinophenol, 2-hydrazinobenzoic acid, 3-hydrazinobenzoic acid, 4-hydrazinobenzoic acid, 4-hydrazinobenzyl chloride, 2-hydrazinobenzenesulfonic acid 3-hydrazinobenzenesulfonic acid, 4-hydrazinobenzenesulfonic acid, 4-hydrazinobenzenesulfonamide, ethyl 4-hydrazinobenzenesulfonate, 3-hydrazinophenylmethylsulfone, 2,3-dimethylphenylhydrazine, 3,5-dimethylphenylhydrazine, 3,5-dinitrophenylhydrazine, 2,4-dinitrophenylhydrazine, 2,4-dichlorophenylhydrazine, 2,6-diethylphenylhydrazine, 2,5-difluorophenylhydrazine, 3,4 - Fluorophenylhydrazine, 2,4-difluorophenylhydrazine, 3,5-difluorophenylhydrazine, 3-chloro-4-fluorophenylhydrazine, 2-chloro-4-methylphenylhydrazine, 2-chloro-6-hydrazinobenzoic acid Methyl 2-chloro-6-hydrazinobenzoate, 4-cyano-2-chlorophenylhydrazine, 4-methyl-3- (chloromethyl) phenylhydrazine, 4-methyl-3- (bromomethyl) phenylhydrazine, 4-methyl- 3- (methoxycarbonylmethyl) phenylhydrazine, 2-methyl-4-hydrazinobenzoic acid amide, 4-methyl-3-cyanophenylhydrazine, 4-methyl-3-acetylphenylhydrazine, 2-acetyl-3-hydrazinobenzene Sulfonic acid amide,
２，３，５−トリクロロフェニルヒドラジン、３，４，５−トリクロロフェニルヒドラジン、２，４−ジフルオロ−５−ニトロフェニルヒドラジン、２，３，５，６−テトラフルオロフェニルヒドラジン、ペンタフルオロフェニルヒドラジン、２−ベンジルフェニルヒドラジン、３−ベンジルオキシフェニルヒドラジン、４−ベンジルオキシフェニルヒドラジン、２−ヒドラジノアニリン、３−ヒドラジノアニリン、４−ヒドラジノアニリン、１−ナフチルヒドラジン、２−ナフチルヒドラジン、４−ヒドラジノ−１，８−ナフタル酸無水物、２−メチル−２−（３’−フルオロ−４’−ヒドラジノフェニル）マロン酸ジエチル、２−フルオロ−３−ヒドラジノ−６−クロロフェノール、４−トリフルオロメチル−２，６−ジクロロフェニルヒドラジン、５−メトキシ−２，４−ジクロロフェニルヒドラジン、２−ヒドラジノピリジン、６−ブロモ−２−ヒドラジノピリジン、２−ヒドラジノピリミジン、４−トリフルオロメチル−２−ヒドラジノピリミジン、２−エトキシ−４−フルオロ−６−ヒドラジノピリミジン、２，４−ジメトキシ−６−ヒドラジノピリミジン、２−ヒドラジノキノリン、４−ニトロ−２−ヒドラジノキノリン、２−ヒドラジノベンゾチアゾール、２−ヒドラジノベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−４−メチルベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−メチルベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−６−メチルベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−７−メチルベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−４−エチルベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−イソプロピルベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−４−メトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−メトキシベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−６−メトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−７−メトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５，７−ジメトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−４，６−ジメトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５，６−ジメトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−４−エトキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−ベンジルオキシベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−７−ベンジルオキシベンゾチアゾール、 2,3,5-trichlorophenylhydrazine, 3,4,5-trichlorophenylhydrazine, 2,4-difluoro-5-nitrophenylhydrazine, 2,3,5,6-tetrafluorophenylhydrazine, pentafluorophenylhydrazine, 2-benzylphenylhydrazine, 3-benzyloxyphenylhydrazine, 4-benzyloxyphenylhydrazine, 2-hydrazinoaniline, 3-hydrazinoaniline, 4-hydrazinoaniline, 1-naphthylhydrazine, 2-naphthylhydrazine, 4- Hydrazino-1,8-naphthalic anhydride, diethyl 2-methyl-2- (3′-fluoro-4′-hydrazinophenyl) malonate, 2-fluoro-3-hydrazino-6-chlorophenol, 4-tri Fluoromethyl-2,6-dichlorophenyl Dorazine, 5-methoxy-2,4-dichlorophenylhydrazine, 2-hydrazinopyridine, 6-bromo-2-hydrazinopyridine, 2-hydrazinopyrimidine, 4-trifluoromethyl-2-hydrazinopyrimidine, 2-ethoxy -4-fluoro-6-hydrazinopyrimidine, 2,4-dimethoxy-6-hydrazinopyrimidine, 2-hydrazinoquinoline, 4-nitro-2-hydrazinoquinoline, 2-hydrazinobenzothiazole, 2-hydrazino Benzoxazole, 2-hydrazino-4-methylbenzothiazole, 2-hydrazino-5-methylbenzothiazole, 2-hydrazino-6-methylbenzoxazole, 2-hydrazino-7-methylbenzothiazole, 2-hydrazino-4-ethyl Benzothiazole, 2-hydrazino-5 Sopropyl benzoxazole, 2-hydrazino-4-methoxybenzothiazole, 2-hydrazino-5-methoxybenzoxazole, 2-hydrazino-6-methoxybenzothiazole, 2-hydrazino-7-methoxybenzothiazole, 2-hydrazino-5 , 7-dimethoxybenzothiazole, 2-hydrazino-4,6-dimethoxybenzothiazole, 2-hydrazino-5,6-dimethoxybenzothiazole, 2-hydrazino-4-ethoxybenzothiazole, 2-hydrazino-5-benzyloxybenzo Thiazole, 2-hydrazino-7-benzyloxybenzothiazole,
２−ヒドラジノ−４−クロロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−クロロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−６−クロロベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−４−フルオロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−フルオロベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−６−フルオロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５，７−ジクロロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−４，６−ジクロロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５，６−ジクロロベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−５，７−ジフルオロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−４，６−ジフルオロベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５，６−ジフルオロベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）ベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−６−ブロモベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−５−トリフルオロメチルベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−６−トリフルオロメチルベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−５−シアノベンゾチアゾール、２−ヒドラジノ−６−シアノベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−５−ニトロベンゾオキサゾール、２−ヒドラジノ−６−ニトロベンゾチアゾール、１，４−ジヒドラジノベンゼン、１，３−ジヒドラジノベンゼン等が挙げられる。これらは塩酸、硫酸等の酸との付加塩であってもよい。 2-hydrazino-4-chlorobenzothiazole, 2-hydrazino-5-chlorobenzothiazole, 2-hydrazino-6-chlorobenzoxazole, 2-hydrazino-4-fluorobenzothiazole, 2-hydrazino-5-fluorobenzoxazole, 2-hydrazino-6-fluorobenzothiazole, 2-hydrazino-5,7-dichlorobenzothiazole, 2-hydrazino-4,6-dichlorobenzothiazole, 2-hydrazino-5,6-dichlorobenzoxazole, 2-hydrazino- 5,7-difluorobenzothiazole, 2-hydrazino-4,6-difluorobenzothiazole, 2-hydrazino-5,6-difluorobenzoxazole, 2-hydrazino-5- (2-methoxycarbonylethyl) benzothiazole, 2- Hydraj -6-bromobenzothiazole, 2-hydrazino-5-trifluoromethylbenzothiazole, 2-hydrazino-6-trifluoromethylbenzoxazole, 2-hydrazino-5-cyanobenzothiazole, 2-hydrazino-6-cyanobenzoxazole 2-hydrazino-5-nitrobenzoxazole, 2-hydrazino-6-nitrobenzothiazole, 1,4-dihydrazinobenzene, 1,3-dihydrazinobenzene and the like. These may be addition salts with acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid.
かかるアリールヒドラジン類は、市販のものを用いてもよいし、例えば、特開２００５−６０３６７号公報等に記載の公知の方法に従い、製造したものを用いてもよい。 As such aryl hydrazines, commercially available ones may be used, for example, those produced according to known methods described in JP-A-2005-60367 and the like may be used.
本発明に用いるフラン類は、２位および５位の少なくとも一方の炭素原子上に水素原子を有するフラン類であれば特に限定されず、例えば式（２）
で示されるフラン類（以下、フラン類（２）と略記する。）が挙げられる。
The furan used in the present invention is not particularly limited as long as it is a furan having a hydrogen atom on at least one of the 2-position and 5-position carbon atoms.
(Hereinafter abbreviated as “furans (2)”).
ここで、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基およびハロゲン原子としては、アリールヒドラジン類の芳香環または複素芳香環上に置換していてもよい置換基として例示したものが挙げられる。 Here, the substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, the substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group, and the halogen atom are exemplified as substituents that may be substituted on the aromatic ring or heteroaromatic ring of arylhydrazines. Things.
置換カルバモイル基とは、カルバモイル基の窒素原子上に、置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基で置換されたものが挙げられる。ここで、置換もしくは無置換のアルキル基および置換もしくは無置換のアリール基としては、アリールヒドラジン類の芳香環または複素芳香環上に置換していてもよい置換基として例示したものが挙げられる。また、カルバモイル基上の置換基同士が結合して、カルバモイル基を構成する窒素原子とともに環を構成していてもよい。かかる置換もしくは無置換のカルバモイル基としては、例えば無置換カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the substituted carbamoyl group include those substituted on the nitrogen atom of the carbamoyl group with a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Here, examples of the substituted or unsubstituted alkyl group and the substituted or unsubstituted aryl group include those exemplified as the substituent which may be substituted on the aromatic ring or the heteroaromatic ring of the arylhydrazines. Further, substituents on the carbamoyl group may be bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom constituting the carbamoyl group. Examples of such a substituted or unsubstituted carbamoyl group include an unsubstituted carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N-phenylcarbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, a piperidinocarbonyl group, and a morpholinocarbonyl group. .
かかるフラン類としては、例えば２−フランカルボン酸メチル、２−フランカルボン酸エチル、２−フランカルボン酸プロピル、２−フランカルボン酸イソプロピル、２−フランカルボン酸ブチル、２−フランカルボン酸フェニル、２−フランカルボン酸ベンジル、２−フランカルボキシアミド、Ｎ−メチル−２−フランカルボキシアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−フランカルボキシアミド、Ｎ−エチル−２−フランカルボキシアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−フランカルボキシアミド、Ｎ−フェニル−２−フランカルボキシアミド、１−（２−フラニルカルボニル）ピペリジン、４−（２−フラニルカルボニル）モルホリン、２−シアノフラン、２−フランカルボン酸、２−ブロモフラン、２−クロロフラン、２−フルオロフラン、フラン等が挙げられる。 Examples of such furans include methyl 2-furancarboxylate, ethyl 2-furancarboxylate, propyl 2-furancarboxylate, isopropyl 2-furancarboxylate, butyl 2-furancarboxylate, phenyl 2-furancarboxylate, 2 -Furancarboxylic acid benzyl, 2-furancarboxamide, N-methyl-2-furancarboxamide, N, N-dimethyl-2-furancarboxamide, N-ethyl-2-furancarboxamide, N, N-diethyl- 2-furancarboxamide, N-phenyl-2-furancarboxamide, 1- (2-furanylcarbonyl) piperidine, 4- (2-furanylcarbonyl) morpholine, 2-cyanofuran, 2-furancarboxylic acid, 2- Bromofuran, 2-chlorofuran, 2-fluorofuran, furan And the like.
かかるフラン類は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法に従い製造したものを用いてもよい。例えば、Organic Syntheses, Collective Vol.1, 276-283頁に記載の方法を用いれば、糖類から２−フランカルボン酸を得ることができる。 As such furans, commercially available products may be used, or those produced according to known methods may be used. For example, 2-furancarboxylic acid can be obtained from saccharides by using the method described in Organic Syntheses, Collective Vol. 1, pages 276-283.
反応性の点において、フラン類の２位の置換基（式（２）におけるＲ）としては、電子吸引性の置換基が好ましく、なかでも置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシ基が好ましい。 In terms of reactivity, the substituent at the 2-position of furans (R in Formula (2)) is preferably an electron-withdrawing substituent, and among them, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted substituent. An aryloxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted carbamoyl group, and a carboxy group are preferable.
フラン類の使用量は、アリールヒドラジン類に対して、通常１０モル倍以上である。その上限は特になく、例えば反応条件下で液体のフラン類であれば、溶媒を兼ねて、大過剰量用いてもよい。 The amount of furans used is usually 10 moles or more with respect to the aryl hydrazines. There is no particular upper limit, and for example, if it is a liquid furan under the reaction conditions, a large excess amount may be used also as a solvent.
過酸化水素は、通常水溶液として用いられる。もちろん過酸化水素の有機溶媒溶液を用いてもよい。過酸化水素水もしくは有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的には１〜６０重量％である。過酸化水素水は、通常市販のものをそのままもしくは必要に応じて希釈、濃縮等により濃度調整を行った後用いられる。過酸化水素の有機溶媒溶液は、例えば過酸化水素水を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在下に過酸化水素水を蒸留処理する等の手段により、調製することができる。 Hydrogen peroxide is usually used as an aqueous solution. Of course, an organic solvent solution of hydrogen peroxide may be used. The concentration of hydrogen peroxide in the hydrogen peroxide solution or the organic solvent solution is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volume efficiency, safety and the like. The hydrogen peroxide solution is usually used as it is or after adjusting the concentration by dilution, concentration or the like as it is. The organic solvent solution of hydrogen peroxide can be prepared, for example, by means of extraction treatment of hydrogen peroxide solution with an organic solvent or distillation treatment of hydrogen peroxide solution in the presence of the organic solvent.
過酸化水素の使用量は、アリールヒドラジン類に対して、通常１モル倍以上であり、その使用量の上限は特にないが、経済的な面も考慮すると、実用的には、アリールヒドラジン類に対して、１０モル倍以下である。 The amount of hydrogen peroxide used is usually 1 mol times or more that of aryl hydrazines, and there is no particular upper limit on the amount of use, but considering economic aspects, practically, aryl hydrazines are On the other hand, it is 10 mol times or less.
本発明の反応は、通常、反応に不活性な溶媒の存在下で実施される。かかる溶媒としては、例えば、水；ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；などが挙げられる。かかる溶媒の使用量は特に制限されないが、容積効率等を考慮すると、実用的には、アリールヒドラジン類に対して、１００重量倍以下である。また、溶媒を兼ねてフラン類を大過剰量用いる場合は、別途溶媒を使用することなく実施してもよい。 The reaction of the present invention is usually carried out in the presence of a solvent inert to the reaction. Examples of such solvents include water; ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, and tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile; and aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane and heptane. And so on. The amount of the solvent used is not particularly limited, but considering volume efficiency and the like, it is practically 100 weight times or less with respect to aryl hydrazines. Further, when a furan is used in a large excess amount also serving as a solvent, it may be carried out without using a separate solvent.
アリールヒドラジン類とフラン類とを過酸化水素の存在下に反応させる際には、通常その三者を接触・混合すればよく、その混合順序は特に制限されないが、フラン類と過酸化水素との混合物中に、アリールヒドラジン類を加えることが好ましい。 When the aryl hydrazines and furans are reacted in the presence of hydrogen peroxide, it is usually sufficient to contact and mix the three. The mixing order is not particularly limited. It is preferable to add aryl hydrazines into the mixture.
反応温度は、通常０〜２００℃程度の範囲である。反応は、常圧条件下で実施してもよいし、加圧条件下で実施してもよい。また、反応の進行は、例えばガスクロマトグラフィ、高速液体クロマトグラフィ、薄層クロマトグラフィ、ＮＭＲ、ＩＲ等の通常の分析手段により確認することができる。 The reaction temperature is usually in the range of about 0 to 200 ° C. The reaction may be carried out under normal pressure conditions or under pressurized conditions. In addition, the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analysis means such as gas chromatography, high performance liquid chromatography, thin layer chromatography, NMR, IR and the like.
本反応は、反応の進行に伴って水が副生するため、反応系内に存在する水を除去しながら反応を実施するか、または相間移動触媒の存在下に反応を実施することが好ましい。反応系内に存在する水を除去しながら反応を実施する方法としては、例えば無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水塩化カルシウム、メタホウ酸等の脱水剤を反応系内に共存させる方法、あるいは共沸脱水を実施しながら反応を行う方法等が挙げられる。 In this reaction, since water is by-produced as the reaction proceeds, it is preferable to carry out the reaction while removing water present in the reaction system, or to carry out the reaction in the presence of a phase transfer catalyst. As a method for carrying out the reaction while removing water present in the reaction system, for example, a method in which a dehydrating agent such as anhydrous magnesium sulfate, anhydrous sodium sulfate, anhydrous calcium chloride, or metaboric acid coexists in the reaction system, or an azeotrope. Examples include a method of performing the reaction while dehydrating.
相間移動触媒としては、相間移動能があるものであれば特に制限されず、例えば第四級アンモニウム塩、アミンＮ−オキシド類、第四級ホスホニウム塩、クラウンエーテル類、ポリエチレングリコール類等が挙げられ、第四級アンモニウム塩またはアミンＮ−オキシド類が好ましい。 The phase transfer catalyst is not particularly limited as long as it has phase transfer ability, and examples thereof include quaternary ammonium salts, amine N-oxides, quaternary phosphonium salts, crown ethers, polyethylene glycols and the like. Preferred are quaternary ammonium salts or amine N-oxides.
第四級アンモニウム塩としては、例えばトリオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルエチルアンモニウムクロリド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリカプリルメチルアンモニウムクロリド、トリヘキシルメチルアンモニウムクロリド、トリデシルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、Ｎ−ラウリルピリジニウムクロリド、Ｎ−セチルピリジニウムクロリド、Ｎ−ラウリルピコリニウムクロリド等の第四級アンモニウムクロリド；前記第四級アンモニウムクロリドを構成する塩素イオンが臭素イオンに代わった第四級アンモニウムブロミド；前記第四級アンモニウムクロリドを構成する塩素イオンがヨウ素イオンに代わった第四級アンモニウムヨーダイド；前記第四級アンモニウムクロリドを構成する塩素イオンが亜硫酸イオンに代わった第四級アンモニウム亜硫酸塩；前記第四級アンモニウムクロリドを構成する塩素イオンが硫酸イオンに代わった第四級アンモニウム硫酸塩；前記第四級アンモニウムクロリドを構成する塩素イオンが硫酸水素イオンに代わった第四級アンモニウム硫酸水素塩；などが挙げられる。 Examples of the quaternary ammonium salt include trioctylmethylammonium chloride, trioctylethylammonium chloride, dilauryldimethylammonium chloride, lauryltrimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, lauryldimethylbenzylammonium chloride, tricaprylmethylammonium chloride, Quaternary ammonium such as hexylmethylammonium chloride, tridecylmethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, N-laurylpyridinium chloride, N-cetylpyridinium chloride, N-laurylpicolinium chloride Chloride; said quaternary ammonia A quaternary ammonium bromide in which chloride ions constituting the chloride replace bromine ions; a quaternary ammonium iodide in which the chloride ions constituting the quaternary ammonium chloride replace iodine ions; constitutes the quaternary ammonium chloride A quaternary ammonium sulfite in which the chlorite ion replaces the sulfite ion; a quaternary ammonium sulfate in which the chloride ion constituting the quaternary ammonium chloride replaces the sulfate ion; chlorine that constitutes the quaternary ammonium chloride Quaternary ammonium hydrogen sulfate in which ions are replaced by hydrogen sulfate ions; and the like.
アミンＮ−オキシド類としては、例えばトリオクチルアミンＮ−オキシド、ジラウリルメチルアミンＮ−オキシド、ラウリルジメチルアミンＮ−オキシド、ステアリルジメチルアミンＮ−オキシド、トリカプリルアミンＮ−オキシド、トリデシルアミンＮ−オキシド、ジメチルドデシルアミンＮ−オキシド、トリヘキシルアミンＮ−オキシド、トリドデシルアミンＮ−オキシド、ベンジルジメチルアミンＮ−オキシド、ベンジルジエチルアミンＮ−オキシド等が挙げられる。なお、これらアミンＮ−オキシド類は、対応するアミン類を反応系内に加え、反応系内で過酸化水素と反応させて調製してもよい。 Examples of amine N-oxides include trioctylamine N-oxide, dilaurylmethylamine N-oxide, lauryldimethylamine N-oxide, stearyldimethylamine N-oxide, tricaprylamine N-oxide, and tridecylamine N- Examples thereof include oxide, dimethyldodecylamine N-oxide, trihexylamine N-oxide, tridodecylamine N-oxide, benzyldimethylamine N-oxide, and benzyldiethylamine N-oxide. These amine N-oxides may be prepared by adding the corresponding amines to the reaction system and reacting with hydrogen peroxide in the reaction system.
第四級ホスホニウム塩としては、例えばテトラブチルホスホニウムブロミド等が、クラウンエーテル類としては、例えば１２−クラウン−４、１８−クラウン−６、ベンゾ−１８−クラウン−６等が、ポリエチレングリコール類としては、例えばポリエチレングリコール６００（平均分子量：６００）、ポリエチレングリコール７００（平均分子量：７００）、ポリエチレングリコール８００（平均分子量：８００）等がそれぞれ挙げられる。 Examples of quaternary phosphonium salts include tetrabutylphosphonium bromide, and examples of crown ethers include 12-crown-4, 18-crown-6, and benzo-18-crown-6. Examples thereof include polyethylene glycol 600 (average molecular weight: 600), polyethylene glycol 700 (average molecular weight: 700), polyethylene glycol 800 (average molecular weight: 800), and the like.
かかる相間移動触媒を用いる場合のその使用量は、アリールヒドラジン類に対して、通常０．０００５モル倍以上であり、その上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、アリールヒドラジン類に対して、１モル倍以下である。 The amount used in the case of using such a phase transfer catalyst is usually 0.0005 mol times or more with respect to the aryl hydrazines, and there is no particular upper limit thereof, but considering the economical aspect, practically, It is 1 mol times or less with respect to aryl hydrazines.
反応終了後、反応液をそのままもしくは必要に応じて残存する過酸化水素を、例えばチオ硫酸ナトリウム等の還元剤で分解した後、濃縮処理、晶析処理等することにより、目的とするアリールフラン類を取り出すことができる。また、反応液に、必要に応じて水および／または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、アリールフラン類を取り出すこともできる。得られたアリールフラン類は、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィ等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。 After completion of the reaction, the target arylfuran can be obtained by subjecting the reaction solution as it is or if necessary to decompose the remaining hydrogen peroxide with a reducing agent such as sodium thiosulfate, followed by concentration treatment, crystallization treatment, etc. Can be taken out. In addition, arylfurans can be taken out by adding water and / or an organic solvent insoluble in water to the reaction solution as necessary, performing an extraction treatment, and concentrating the resulting organic layer. The obtained arylfurans may be further purified by ordinary purification means such as distillation and column chromatography.
水に不溶の有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；などが挙げられ、その使用量は特に制限されない。 Examples of water-insoluble organic solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform and chlorobenzene; ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether and tetrahydrofuran; Ester solvents such as ethyl; and the like, and the amount used is not particularly limited.
本発明により、通常は、アリールヒドラジン類のヒドラジノ基と結合している炭素原子と、フラン類の２位または５位の炭素原子とが結合したアリールフラン類が主生成物として得られる。例えば、アリールヒドラジン類（１）とフラン類（２）とを反応させた場合には、式（３）
で示されるアリールフラン類が得られる。
According to the present invention, an aryl furan in which a carbon atom bonded to a hydrazino group of an aryl hydrazine and a carbon atom at the 2nd or 5th position of the furan are generally bonded is obtained as a main product. For example, when an aryl hydrazine (1) and a furan (2) are reacted, the formula (3)
Is obtained.
かくして得られるアリールフラン類としては、例えば５−フェニル−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−ブロモフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−クロロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−フルオロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−メチルフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−メトキシフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（２，４−ジクロロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（３，５−ジクロロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（２−ピリジル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（３−シアノフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−ニトロフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（４−メトキシカルボニルフェニル）−２−フランカルボン酸メチル、５−（１−ナフチル）−２−フランカルボン酸メチル、５−フェニル−２−フランカルボン酸エチル、５−（４−クロロフェニル）−２−フランカルボン酸プロピル、５−（４−フルオロフェニル）−２−フランカルボン酸イソプロピル、５−（２−メトキシフェニル）−２−フランカルボン酸ブチル、５−（４−クロロフェニル）−２−フランカルボン酸フェニル、５−（４−シアノフェニル）−２−フランカルボン酸ベンジル、５−フェニル−２−フランカルボキサミド、５−（２−クロロフェニル）−２−フランカルボキサミド、５−（４−ブロモフェニル）−２−フランカルボキシアミド、５−（４−フルオロフェニル）−２−フランカルボキサミド、５−（４−メチルフェニル）−２−フランカルボキサミド、５−（４−シアノフェニル）−２−フランカルボキサミド、５−（４−メトキシカルボニルフェニル）−２−フランカルボキサミド、５−（２，４−ジクロロフェニル）−２−フランカルボキサミド、５−（１−ナフチル）−２−フランカルボキサミド、５−（２−ピリジル）−２−フランカルボキシアミド、５−フェニル−Ｎ−メチル−２−フランカルボキサミド、５−（４−メトキシフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−フランカルボキサミド、５−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−エチル−２−フランカルボキサミド、５−（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−フランカルボキサミド、５−（２−ピリジル）−Ｎ−フェニル−２−フランカルボキサミド、１−（５−フェニル−２−フラニルカルボニル）ピペリジン、４−（５−フェニル−２−フラニルカルボニル）モルホリン、５−（４−クロロフェニル）−２−シアノフラン、５−フェニル−２−フランカルボン酸、５−フェニル−２−ブロモフラン、５−（４−フルオロフェニル）−２−ブロモフラン、５−フェニル−２−クロロフラン、５−（４−シアノフェニル）−２−クロロフラン、５−フェニル−２−フルオロフラン、２−フェニルフラン、２−（４−クロロフェニル）フラン、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）フラン、２−（４−フルオロフェニル）フラン、２−（４−メチルフェニル）フラン、２−（４−メトキシフェニル）フラン、２−（２，４−ジクロロフェニル）フラン、２−（２，４−ジフルオロフェニル）フラン、２−（２，５−ジフルオロフェニル）フラン、２−（３，５−ジクロロフェニル）フラン、２−（２−ピリジル）フラン等が挙げられる。 Examples of the arylfurans thus obtained include methyl 5-phenyl-2-furancarboxylate, methyl 5- (4-bromophenyl) -2-furancarboxylate, and 5- (4-chlorophenyl) -2-furancarboxylic acid. Methyl, methyl 5- (4-fluorophenyl) -2-furancarboxylate, methyl 5- (4-methylphenyl) -2-furancarboxylate, methyl 5- (4-methoxyphenyl) -2-furancarboxylate, Methyl 5- (2,4-dichlorophenyl) -2-furancarboxylate, methyl 5- (2,4-difluorophenyl) -2-furancarboxylate, 5- (2,5-difluorophenyl) -2-furancarboxylic acid Acid methyl, methyl 5- (3,5-dichlorophenyl) -2-furancarboxylate, 5- (2-pyridyl) -2-furancarboxylic acid Methyl, methyl 5- (3-cyanophenyl) -2-furancarboxylate, methyl 5- (4-nitrophenyl) -2-furancarboxylate, methyl 5- (4-methoxycarbonylphenyl) -2-furancarboxylate , Methyl 5- (1-naphthyl) -2-furancarboxylate, ethyl 5-phenyl-2-furancarboxylate, propyl 5- (4-chlorophenyl) -2-furancarboxylate, 5- (4-fluorophenyl) Isopropyl-2-furancarboxylate, butyl 5- (2-methoxyphenyl) -2-furancarboxylate, phenyl 5- (4-chlorophenyl) -2-furancarboxylate, 5- (4-cyanophenyl) -2- Benzyl furancarboxylate, 5-phenyl-2-furancarboxamide, 5- (2-chlorophenyl) -2-furancarboxamide 5- (4-bromophenyl) -2-furancarboxamide, 5- (4-fluorophenyl) -2-furancarboxamide, 5- (4-methylphenyl) -2-furancarboxamide, 5- (4- Cyanophenyl) -2-furancarboxamide, 5- (4-methoxycarbonylphenyl) -2-furancarboxamide, 5- (2,4-dichlorophenyl) -2-furancarboxamide, 5- (1-naphthyl) -2-furan Carboxamide, 5- (2-pyridyl) -2-furancarboxamide, 5-phenyl-N-methyl-2-furancarboxamide, 5- (4-methoxyphenyl) -N, N-dimethyl-2-furancarboxamide, 5 -(2-Fluorophenyl) -N-ethyl-2-furancarboxamide, 5- (4-methylphenyl) ) -N, N-diethyl-2-furancarboxamide, 5- (2-pyridyl) -N-phenyl-2-furancarboxamide, 1- (5-phenyl-2-furanylcarbonyl) piperidine, 4- (5- Phenyl-2-furanylcarbonyl) morpholine, 5- (4-chlorophenyl) -2-cyanofuran, 5-phenyl-2-furancarboxylic acid, 5-phenyl-2-bromofuran, 5- (4-fluorophenyl) -2 -Bromofuran, 5-phenyl-2-chlorofuran, 5- (4-cyanophenyl) -2-chlorofuran, 5-phenyl-2-fluorofuran, 2-phenylfuran, 2- (4-chlorophenyl) furan, 2 -(4-trifluoromethylphenyl) furan, 2- (4-fluorophenyl) furan, 2- (4-methylphenyl) furan, -(4-methoxyphenyl) furan, 2- (2,4-dichlorophenyl) furan, 2- (2,4-difluorophenyl) furan, 2- (2,5-difluorophenyl) furan, 2- (3,5 -Dichlorophenyl) furan, 2- (2-pyridyl) furan and the like.
以上のように、アリールヒドラジン類とフラン類とを過酸化水素の存在下に反応させることにより、目的とするアリールフラン類を得ることができるが、かかる反応を、
第Va族金属または該金属元素を含む化合物；
第VIa族金属または該金属元素を含む化合物；
第VIIa族金属または該金属元素を含む化合物；
第VIIIa族金属または該金属元素を含む化合物；
（前記４つの群から選ばれる少なくとも一種を、金属または化合物と略記する。）
第Va族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第Va族金属酸化物；
第VIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIa族金属酸化物；
第VIIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIIa族金属酸化物；
第VIIIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIIIa族金属酸化物；
（前記４つの群から選ばれる少なくとも一種を、金属酸化物と略記する。）
からなる群から選ばれる少なくとも一種（以下、金属化合物と略記する。）の存在下に実施することにより、アリールフラン類の収率を向上させることができる。
As described above, by reacting arylhydrazines and furans in the presence of hydrogen peroxide, the desired arylfurans can be obtained.
A Group Va metal or a compound containing the metal element;
A Group VIa metal or a compound containing the metal element;
A Group VIIa metal or a compound containing the metal element;
A Group VIIIa metal or a compound containing the metal element;
(At least one selected from the above four groups is abbreviated as metal or compound.)
A Group Va metal oxide obtained by reacting a Group Va metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
A Group VIa metal oxide obtained by reacting a Group VIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
A Group VIIa metal oxide obtained by reacting a Group VIIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
A Group VIIIa metal oxide obtained by reacting a Group VIIIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
(At least one selected from the above four groups is abbreviated as a metal oxide.)
The yield of arylfurans can be improved by carrying out in the presence of at least one selected from the group consisting of (hereinafter abbreviated as a metal compound).
第Va族金属または該金属元素を含む化合物としては、例えば、バナジウム金属、酸化バナジウム、バナジン酸アンモニウム、バナジウムカルボニル錯体等のバナジウム金属またはバナジウム化合物；ニオブ金属、酸化ニオブ、塩化ニオブ、ニオブカルボニル錯体等のニオブ金属またはニオブ化合物；などが挙げられる。第VIa族金属または該金属元素を含む化合物としては、タングステン金属、ホウ化タングステン、炭化タングステン、酸化タングステン、タングステン酸アンモニウム、タングステン酸ナトリウム、タングステンカルボニル錯体等のタングステン金属またはタングステン化合物；モリブデン金属、ホウ化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン、モリブデンカルボニル錯体等のモリブデン金属またはモリブデン化合物；などが挙げられる。 Examples of the Group Va metal or the compound containing the metal element include vanadium metals, vanadium oxides, ammonium vanadate, vanadium carbonyl complexes, vanadium metals or vanadium compounds; niobium metals, niobium oxide, niobium chloride, niobium carbonyl complexes, etc. And niobium metal or niobium compound. Examples of the Group VIa metal or the compound containing the metal element include tungsten metal, tungsten boride, tungsten carbide, tungsten oxide, ammonium tungstate, sodium tungstate, tungsten carbonyl complex, and other tungsten metals or tungsten compounds; molybdenum metal, boron Molybdenum metal such as molybdenum fluoride, molybdenum oxide, molybdenum chloride, molybdenum carbonyl complex, or molybdenum compounds;
第VIIa族金属または該金属元素を含む化合物としては、例えばレニウム金属、酸化レニウム、酸化レニウムの錯体、塩化レニウム、メチルレニウムトリオキシド等のレニウム金属またはレニウム化合物などが挙げられる。第VIIIa族金属または該金属元素を含む化合物としては、例えばコバルト金属、酸化コバルト、酸化コバルトの錯体、塩化コバルト等のコバルト金属またはコバルト化合物などが挙げられる。 Examples of the Group VIIa metal or the compound containing the metal element include rhenium metal, rhenium oxide, rhenium oxide complexes, rhenium metal such as rhenium chloride and methylrhenium trioxide, and rhenium compounds. Examples of the Group VIIIa metal or the compound containing the metal element include cobalt metal, cobalt oxide, a complex of cobalt oxide, cobalt metal such as cobalt chloride, or a cobalt compound.
第Va族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第Va族金属酸化物としては、例えば前記バナジウム金属またはバナジウム化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるバナジウム酸化物、前記ニオブ金属またはニオブ化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるニオブ酸化物等が挙げられる。第VIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIa族金属酸化物としては、例えば前記タングステン金属またはタングステン化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるタングステン酸化物、前記モリブデン金属またはモリブデン化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるモリブデン酸化物等が挙げられる。 Examples of the Group Va metal oxide obtained by reacting a Group Va metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide include, for example, the vanadium oxide obtained by reacting the vanadium metal or vanadium compound with hydrogen peroxide. And niobium oxide obtained by reacting the niobium metal or niobium compound with hydrogen peroxide. Examples of the Group VIa metal oxide obtained by reacting a Group VIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide include, for example, a tungsten oxide obtained by reacting the tungsten metal or the tungsten compound with hydrogen peroxide. And molybdenum oxide obtained by reacting the molybdenum metal or molybdenum compound with hydrogen peroxide.
第VIIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIIa族金属酸化物としては、例えば前記レニウム金属またはレニウム化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるレニウム酸化物等が挙げられる。第VIIIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIIIa族金属酸化物としては、例えば前記コバルト金属またはコバルト化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるコバルト酸化物等が挙げられる。 Examples of the Group VIIa metal oxide obtained by reacting a Group VIIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide include, for example, a rhenium oxide obtained by reacting the rhenium metal or rhenium compound with hydrogen peroxide. Etc. Examples of the Group VIIIa metal oxide obtained by reacting a Group VIIIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide include, for example, a cobalt oxide obtained by reacting the cobalt metal or the cobalt compound with hydrogen peroxide. Etc.
かかる金属化合物のなかでも、
タングステン金属またはタングステン化合物；
コバルト金属またはコバルト化合物；
ニオブ金属またはニオブ化合物；
モリブデン金属またはモリブデン化合物；
レニウム金属またはレニウム化合物；
タングステン金属またはタングステン化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるタングステン酸化物；
コバルト金属またはコバルト化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるコバルト酸化物；
ニオブ金属またはニオブ化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるニオブ酸化物；
モリブデン金属またはモリブデン化合物と過酸化水素とを反応せしめてなるモリブデン酸化物；
およびこれらの混合物が好適である。
Among such metal compounds,
Tungsten metal or tungsten compound;
Cobalt metal or cobalt compound;
Niobium metal or niobium compound;
Molybdenum metal or molybdenum compound;
Rhenium metal or rhenium compound;
Tungsten oxide formed by reacting tungsten metal or tungsten compound with hydrogen peroxide;
Cobalt oxide obtained by reacting cobalt metal or cobalt compound with hydrogen peroxide;
Niobium oxide formed by reacting niobium metal or niobium compound with hydrogen peroxide;
Molybdenum oxide obtained by reacting molybdenum metal or molybdenum compound with hydrogen peroxide;
And mixtures thereof are preferred.
金属酸化物を調製する際に用いる過酸化水素としては、通常、水溶液が用いられる。もちろん過酸化水素の有機溶媒溶液を用いてもよいが、取扱いが容易という点で、過酸化水素水を用いることが好ましい。過酸化水素水もしくは過酸化水素の有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的には１〜６０重量％である。過酸化水素水を用いる場合は、通常市販のものをそのままもしくは必要に応じて希釈、濃縮等により濃度調整を行ったものを用いればよい。また過酸化水素の有機溶媒溶液を用いる場合は、例えば過酸化水素水を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在下に過酸化水素水を蒸留処理する等の手段により、調製したものを用いればよい。 As hydrogen peroxide used in preparing the metal oxide, an aqueous solution is usually used. Of course, an organic solvent solution of hydrogen peroxide may be used, but it is preferable to use aqueous hydrogen peroxide in terms of easy handling. The concentration of hydrogen peroxide in the hydrogen peroxide solution or the organic solvent solution of hydrogen peroxide is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volume efficiency, safety and the like. When hydrogen peroxide water is used, a commercially available product may be used as it is or after adjusting the concentration by dilution, concentration or the like as necessary. When an organic solvent solution of hydrogen peroxide is used, a solution prepared by, for example, extracting hydrogen peroxide solution with an organic solvent, or distilling hydrogen peroxide solution in the presence of an organic solvent, is used. Use it.
金属酸化物調製に用いる過酸化水素の使用量は、金属または化合物に対して、通常３モル倍以上、好ましくは５モル倍以上であり、その上限は特にない。 The amount of hydrogen peroxide used for preparing the metal oxide is usually at least 3 mole times, preferably at least 5 mole times the metal or compound, and there is no particular upper limit.
金属酸化物の調製は、通常、水溶液中で実施される。もちろん、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；などの有機溶媒中または有機溶媒と水との混合溶媒中で実施してもよい。 The metal oxide is usually prepared in an aqueous solution. Of course, for example, an ether solvent such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran, etc .; an ester solvent such as ethyl acetate; a nitrile solvent such as acetonitrile, propionitrile; and the like, or a mixed solvent of an organic solvent and water May be implemented.
金属酸化物の調製は、金属または化合物と過酸化水素とを接触・混合させることにより行われ、その接触効率をより向上させるため、金属酸化物調製液中で、金属または化合物が十分分散するよう攪拌しながら反応を行うことが好ましい。また、金属または化合物と過酸化水素との接触効率を高め、金属酸化物調製時の制御をより容易にするという点で、例えば金属または化合物等粒径の小さな金属または化合物を用いることが好ましい。 The metal oxide is prepared by contacting and mixing the metal or compound and hydrogen peroxide. In order to further improve the contact efficiency, the metal or compound is sufficiently dispersed in the metal oxide preparation solution. It is preferable to carry out the reaction while stirring. In addition, it is preferable to use a metal or a compound having a small particle diameter such as a metal or a compound from the viewpoint of increasing the contact efficiency between the metal or compound and hydrogen peroxide and facilitating the control during the preparation of the metal oxide.
金属酸化物調製時の調製温度は、通常−１０〜１００℃程度の範囲である。 The preparation temperature during the preparation of the metal oxide is usually in the range of about −10 to 100 ° C.
金属または化合物と過酸化水素とを、水中、有機溶媒中もしくは有機溶媒と水との混合溶媒中で反応させることにより、金属または化合物の全部もしくは一部が溶解して、金属酸化物を含む均一溶液もしくは懸濁液を調製することができる。該金属酸化物は、例えば濃縮処理等により調製液から取り出して用いてもよいし、調製液をそのまま用いてもよい。調製液をそのまま用いる場合は、該調製液中の過酸化水素量を考慮して、アリールヒドラジン類とフラン類との反応に使用する過酸化水素の量を決めてもよい。 By reacting a metal or compound with hydrogen peroxide in water, in an organic solvent, or in a mixed solvent of an organic solvent and water, all or part of the metal or compound is dissolved to uniformly contain a metal oxide. Solutions or suspensions can be prepared. The metal oxide may be taken out from the preparation liquid by, for example, concentration treatment or the like, or the preparation liquid may be used as it is. When the preparation liquid is used as it is, the amount of hydrogen peroxide used for the reaction between the arylhydrazines and furans may be determined in consideration of the amount of hydrogen peroxide in the preparation liquid.
また、金属または化合物、アリールヒドラジン類、フラン類および過酸化水素を接触・混合することにより、金属酸化物の調製操作と本発明の反応とを同時に行ってもよい。 Further, the metal oxide preparation operation and the reaction of the present invention may be carried out simultaneously by contacting and mixing a metal or compound, aryl hydrazines, furans and hydrogen peroxide.
金属化合物の使用量は、アリールヒドラジン類上のヒドラジノ基に対して、通常０．００１モル倍以上であり、その上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、アリールヒドラジン類上のヒドラジノ基に対して、通常１モル倍以下である。 The amount of the metal compound used is usually 0.001 mol times or more with respect to the hydrazino group on the aryl hydrazines, and there is no particular upper limit. However, considering the economical aspect, the aryl hydrazine is practically used. It is usually 1 mole or less with respect to the hydrazino group on the class.
金属化合物を用いる場合も、金属化合物を用いない場合と同様、反応系内の存在する水を除去しながら反応を実施するか、または相間移動触媒の存在下に反応を実施することが好ましい。 When using a metal compound, it is preferable to carry out the reaction while removing the water present in the reaction system, or to carry out the reaction in the presence of a phase transfer catalyst, as in the case where no metal compound is used.
相間移動触媒としては、上記したものと同様のものが挙げられ、その使用量も同様である。かかる相間移動触媒は、上記した金属酸化物調製の際に用いてもよい。 Examples of the phase transfer catalyst include the same ones as described above, and the amount used is also the same. Such a phase transfer catalyst may be used in the preparation of the metal oxide described above.
なお、金属化合物を用いて本発明の反応を実施した場合であって、目的とするアリールフラン類を抽出処理もしくは晶析処理により取り出したときは、反応液を抽出処理して得られる水層や晶析処理して得られる濾液中に、通常、金属化合物が含まれているため、該水層や該濾液をそのままもしくは必要に応じて濃縮処理等を行った後、再び本発明の反応に使用することができる。 In the case of carrying out the reaction of the present invention using a metal compound, when the target aryl furans are extracted by extraction or crystallization, an aqueous layer obtained by extracting the reaction solution or Since the metal compound is usually contained in the filtrate obtained by the crystallization treatment, the aqueous layer or the filtrate is used as it is or after being subjected to a concentration treatment as necessary, and then used again in the reaction of the present invention. can do.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。なお、実施例において、収率はいずれもガスクロマトグラフィ内部標準法により求めたものである。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. In the examples, all yields were determined by the gas chromatography internal standard method.
実施例１
５０ｍＬフラスコに、タングステン酸ナトリウム１２水和物４０ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウム硫酸水素塩６０ｍｇ、３０重量％過酸化水素水１．０ｇおよび２−フランカルボン酸メチル１０ｇを仕込んだ後、内温６０℃に昇温した。これに４−クロロフェニルヒドラジン２８７ｍｇと酢酸エチル５ｇとからなる混合液を同温度で１時間かけて滴下し、さらに１時間攪拌・保持し、反応させた。室温まで冷却し、水１０ｇと酢酸エチル１０ｇを加え、室温で攪拌し、静置後、分液処理し、５−（４−クロロフェニル）−２−フランカルボン酸メチルを含む有機層を得た。
収率３９％（４−クロロフェニルヒドラジン基準）。
Example 1
A 50 mL flask was charged with 40 mg of sodium tungstate 12 hydrate, 60 mg of trioctylmethylammonium hydrogen sulfate, 1.0 g of 30 wt% hydrogen peroxide and 10 g of methyl 2-furancarboxylate, and the internal temperature was adjusted to 60 ° C. The temperature rose. A mixed solution consisting of 287 mg of 4-chlorophenylhydrazine and 5 g of ethyl acetate was added dropwise thereto at the same temperature over 1 hour, and the mixture was further stirred and maintained for 1 hour to be reacted. After cooling to room temperature, 10 g of water and 10 g of ethyl acetate were added, stirred at room temperature, allowed to stand, and then subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing methyl 5- (4-chlorophenyl) -2-furancarboxylate.
Yield 39% (based on 4-chlorophenylhydrazine).
実施例２
５０ｍＬフラスコに、タングステン酸ナトリウム１２水和物６０ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウム硫酸水素塩６０ｍｇ、３０重量％過酸化水素水２．０ｇおよび２−フランカルボン酸メチル１０ｇを仕込んだ後、内温６０℃に昇温した。これにフェニルヒドラジン４４０ｍｇと酢酸エチル５ｇとからなる混合液を同温度で１時間かけて滴下し、さらに１時間攪拌・保持し、反応させた。室温まで冷却し、水１０ｇと酢酸エチル１０ｇを加え、室温で攪拌し、静置後、分液処理し、５−フェニル−２−フランカルボン酸メチルを含む有機層を得た。
収率３２％（フェニルヒドラジン基準）。
Example 2
A 50 mL flask was charged with 60 mg of sodium tungstate 12 hydrate, 60 mg of trioctylmethylammonium hydrogensulfate, 2.0 g of 30 wt% hydrogen peroxide and 10 g of methyl 2-furancarboxylate, and the internal temperature was adjusted to 60 ° C. The temperature rose. To this was added dropwise a mixture of 440 mg of phenylhydrazine and 5 g of ethyl acetate at the same temperature over 1 hour, and the mixture was further stirred and held for 1 hour for reaction. After cooling to room temperature, 10 g of water and 10 g of ethyl acetate were added, stirred at room temperature, allowed to stand, and then subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing methyl 5-phenyl-2-furancarboxylate.
Yield 32% (based on phenylhydrazine).
実施例３
５０ｍＬフラスコに、トリオクチルメチルアンモニウム硫酸水素塩６０ｍｇ、３０重量％過酸化水素水１．０ｇおよび２−フランカルボン酸メチル５ｇを仕込んだ後、内温６０℃に昇温した。これにフェニルヒドラジン２２０ｍｇと酢酸エチル５ｇとからなる混合液を同温度で１時間かけて滴下し、さらに１時間攪拌・保持し、反応させた。室温まで冷却し、水１０ｇと酢酸エチル１０ｇを加え、室温で攪拌し、静置後、分液処理し、５−フェニル−２−フランカルボン酸メチルを含む有機層を得た。
収率１１％（フェニルヒドラジン基準）。
Example 3
A 50 mL flask was charged with 60 mg of trioctylmethylammonium hydrogen sulfate, 1.0 g of 30 wt% hydrogen peroxide and 5 g of methyl 2-furancarboxylate, and then the temperature was raised to an internal temperature of 60 ° C. A mixed solution consisting of 220 mg of phenylhydrazine and 5 g of ethyl acetate was added dropwise at the same temperature over 1 hour, and the mixture was further stirred and held for 1 hour to be reacted. After cooling to room temperature, 10 g of water and 10 g of ethyl acetate were added, stirred at room temperature, allowed to stand, and then subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing methyl 5-phenyl-2-furancarboxylate.
Yield 11% (based on phenylhydrazine).
実施例４
５０ｍＬフラスコに、タングステン酸ナトリウム１２水和物４０ｍｇ、トリオクチルメチルアンモニウム硫酸水素塩６０ｍｇ、３０重量％過酸化水素水１．０ｇおよびフラン ５ｇを仕込んだ後、内温６０℃に昇温した。これに４−クロロフェニルヒドラジン２８７ｍｇとフラン５ｇとからなる混合液を同温度で１時間かけて滴下し、さらに１時間攪拌・保持し、反応させた。室温まで冷却し、水１０ｇと酢酸エチル１０ｇを加え、室温で攪拌し、静置後、分液処理し、５−（４−クロロフェニル）フランを含む有機層を得た。
収率１９％（４−クロロフェニルヒドラジン基準）。
Example 4
A 50 mL flask was charged with 40 mg of sodium tungstate 12 hydrate, 60 mg of trioctylmethylammonium hydrogen sulfate, 1.0 g of 30 wt% hydrogen peroxide and 5 g of furan, and then the temperature was raised to an internal temperature of 60 ° C. To this was added dropwise a mixture of 287 mg of 4-chlorophenylhydrazine and 5 g of furan at the same temperature over 1 hour, and the mixture was further stirred and held for 1 hour for reaction. After cooling to room temperature, 10 g of water and 10 g of ethyl acetate were added, stirred at room temperature, allowed to stand and then subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing 5- (4-chlorophenyl) furan.
Yield 19% (based on 4-chlorophenylhydrazine).
Claims (5)
第VIa族金属または該金属元素を含む化合物；
第VIIa族金属または該金属元素を含む化合物；
第VIIIa族金属または該金属元素を含む化合物；
第Va族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第Va族金属酸化物；
第VIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIa族金属酸化物；
第VIIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIIa族金属酸化物；
第VIIIa族金属または該金属元素を含む化合物と過酸化水素とを反応せしめてなる第VIIIa族金属酸化物；
からなる群から選ばれる少なくとも一種の存在下に実施する請求項１に記載の製造方法。 A Group Va metal or a compound containing the metal element;
A Group VIa metal or a compound containing the metal element;
A Group VIIa metal or a compound containing the metal element;
A Group VIIIa metal or a compound containing the metal element;
A Group Va metal oxide obtained by reacting a Group Va metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
A Group VIa metal oxide obtained by reacting a Group VIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
A Group VIIa metal oxide obtained by reacting a Group VIIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
A Group VIIIa metal oxide obtained by reacting a Group VIIIa metal or a compound containing the metal element with hydrogen peroxide;
The manufacturing method of Claim 1 implemented in presence of at least 1 type chosen from the group which consists of.
で示される化合物であり、
２位および５位の少なくとも一方の炭素原子上に水素原子を有するフラン類が、式（２）
で示される化合物であり、
得られるアリールフラン類が、式（３）
で示される化合物である請求項１または２に記載の製造方法。 Arylhydrazines have the formula (1)
A compound represented by
Furans having a hydrogen atom on at least one of the 2-position and 5-position carbon atoms are represented by the formula (2)
A compound represented by
The resulting arylfurans are represented by the formula (3)
The production method according to claim 1 or 2, wherein the compound is represented by the formula:
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