JP2006077137A - Radical polymerization initiator, polymerizable composition, and method for producing polymer - Google Patents

Radical polymerization initiator, polymerizable composition, and method for producing polymer Download PDF

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誠弥 松本
Maki Sugano
真樹 菅野
Mare Tsushima
希 對馬
Takahiko Uesugi
隆彦 上杉
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radical polymerization initiator usable for various applications without combinedly using a sensitizer. <P>SOLUTION: The invention relates to the radical polymerization initiator expressed by general formula (1). And the invention relates to the polymerizable composition comprising the radical polymerization initiator (A) and a radically polymerizable compound (B). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は新規なラジカル重合開始剤、重合性組成物、および該重合性組成物を使用した重合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、エネルギー線、特に光の照射によりフリーラジカルを効率よく発生し、発生したラジカルを利用した重合反応あるいは架橋反応により重合性組成物を短時間に確実に重合させて良好な物性を有する重合物を得ることが可能な材料と方法に関し、さらには、成形樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ブラックマトリクス用レジスト、液晶用フォトスペーサー、リアプロジェクション用スクリーン材料、光ファイバー、プラズマディスプレー用リブ材、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、マイクロマシン用部品製造用レジスト、絶縁材、ホログラム材料、導波路用材料、オーバーコート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、粘接着剤、剥離コート剤、各種デバイス等の分野において良好な物性を持った重合物を得るための新規なラジカル重合開始剤、重合性組成物および該重合性組成物を使用した重合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a novel radical polymerization initiator, a polymerizable composition, and a method for producing a polymer using the polymerizable composition. More specifically, free radicals are efficiently generated by irradiation with energy rays, particularly light, and the polymerizable composition is reliably polymerized in a short time by a polymerization reaction or a crosslinking reaction using the generated radicals and has good physical properties. Regarding materials and methods capable of obtaining a polymer, further, molding resin, casting resin, stereolithography resin, sealant, dental polymerization resin, printing ink, paint, photosensitive resin for printing plate, printing Color proof, color filter resist, black matrix resist, liquid crystal photo spacer, rear projection screen material, optical fiber, plasma display rib material, dry film resist, printed circuit board resist, semiconductor photoresist, for microelectronics Resist, cash register for micromachine parts manufacturing Good physical properties in fields such as adhesives, insulating materials, hologram materials, waveguide materials, overcoat agents, adhesives, adhesives, release agents, optical recording media, adhesives, release coating agents, and various devices The present invention relates to a novel radical polymerization initiator, a polymerizable composition, and a method for producing a polymer product using the polymerizable composition.

UV光の照射によって、アクリレート等の重合を引き起こす光重合開始剤は広い分野で用いられており、市販の光重合開始剤については、フォトポリマー懇話会編、「感光材料リストブック」、55〜72頁、1996年(ぶんしん出版)などにまとめられている。   Photopolymerization initiators that cause polymerization of acrylates and the like by irradiation with UV light are used in a wide range of fields. For commercially available photopolymerization initiators, Photopolymer Social Network, “Sensitive Material List Book”, 55-72. Page, 1996 (Bunshin Publishing).

近年、これら市販の光重合開始剤を上回る高い感度を持った光重合開始剤の研究が活発に行われており、その例として、スルホニウムボレート錯体があげられる(非特許文献1から5、特許文献1、2)。これらのスルホニウムボレート錯体とミヒラーズケトン、チオキサントン、ケトクマリン等の増感剤とを併用した系に光照射をすると、スルホニウムカチオン、ボレートアニオン双方からフリーラジカルが発生し高い感度を示すといわれている(特許文献3から5参照)。   In recent years, researches on photopolymerization initiators having higher sensitivity than those of commercially available photopolymerization initiators have been actively conducted, and examples thereof include sulfonium borate complexes (Non-Patent Documents 1 to 5, Patent Documents). 1, 2). It is said that when these sulfonium borate complexes and sensitizers such as Michler's ketone, thioxanthone, and ketocoumarin are irradiated with light, free radicals are generated from both the sulfonium cation and borate anion, indicating high sensitivity (Patent Literature). 3 to 5).

また、365nm付近に吸収を有するため増感剤を併用しなくても重合開始剤として機能しうる例として、分子内にクマリン構造やナフタレン構造を導入したスルホニウムイオン型重合開始剤が提案されている(特許文献6、7参照)。また、ベンゾチエニル基あるいはベンゾフリル基を導入したスルホニウムイオン型重合開始剤も提案されている(特許文献8参照)。   In addition, as an example that can function as a polymerization initiator without using a sensitizer because it has absorption near 365 nm, a sulfonium ion type polymerization initiator having a coumarin structure or a naphthalene structure introduced in the molecule has been proposed. (See Patent Documents 6 and 7). Further, a sulfonium ion type polymerization initiator into which a benzothienyl group or a benzofuryl group is introduced has been proposed (see Patent Document 8).

さらに、高感度スルホニウムイオン型重合開始剤の例として、ベンゼン環がアミノ基で置換されたフェナシル基を有するスルホニウムカチオンを含むことを特徴としたスルホニウムイオン型重合開始剤を含む重合性組成物が報告されている(特許文献9参照)。
Journal of Chemical Society, Chemical Communication、1977、675〜676 Macromolecules、1998、31、6022〜6029 Journal of Photoscience、1998、5、63〜67 Macromolecules、1999、32、6545〜6551 Journal of Photopolymer Science and Technology、1999、12、115〜120 特開平5−213861号公報 特開平5−255347号公報 特開平5−255421号公報 特開平6−157623号公報 特開2000−344812号公報 特開2001−213909号公報 特開2002−293816号公報 特開2001−261728号公報 特開2002−265512号公報
Furthermore, as an example of a highly sensitive sulfonium ion type polymerization initiator, a polymerizable composition containing a sulfonium ion type polymerization initiator characterized by containing a sulfonium cation having a phenacyl group in which the benzene ring is substituted with an amino group has been reported. (See Patent Document 9).
Journal of Chemical Society, Chemical Communication, 1977, 675-676 Macromolecules, 1998, 31, 6022-6029 Journal of Photoscience, 1998, 5, 63-67 Macromolecules, 1999, 32, 6545-6551 Journal of Photopolymer Science and Technology, 1999, 12, 115-120 JP-A-5-213861 JP-A-5-255347 JP-A-5-255421 JP-A-6-157623 JP 2000-344812 A Japanese Patent Laid-Open No. 2001-213909 JP 2002-293816 A JP 2001-261728 A JP 2002-265512 A

これらの重合開始剤を含む重合性組成物は、各種用途において使用され得る。しかし、コストダウンや生産性の向上の観点から、少ない添加量かつ少ない光照射エネルギーで硬化しうる材料、すなわち高感度な材料が求められるようになり、これらのラジカル重合開始剤では必ずしも十分とはいえず、更に高感度な重合開始剤が求められている。   The polymerizable composition containing these polymerization initiators can be used in various applications. However, from the viewpoint of cost reduction and productivity improvement, a material that can be cured with a small addition amount and a small amount of light irradiation energy, that is, a highly sensitive material has been required, and these radical polymerization initiators are not necessarily sufficient. In other words, a more sensitive polymerization initiator is required.

光硬化技術を応用した分野においては様々な照射波長が用いられているが、メタルハライドランプや水銀ランプに代表されるような300nmから450nmの波長領域が最も良く用いられている。これらの照射波長に対して、高い重合感度を発現するには、重合性組成物中に含有される重合開始剤や増感剤が300nmから450nmの波長領域に好適な吸収を有することが求められる。しかしながら、この照射波長領域に好適な吸収を有する公知の材料は400nm付近あるいはそれより長波長側まで吸収を有することが多く、黄色に着色している。逆に、着色の少ない材料は300nmから450nmの波長領域に好適な吸収を有さないため重合感度が低い場合が多い。重合性組成物にこのような好適な吸収を有さない材料を使用して高感度化を図るには、重合開始剤や増感剤の添加量を増加しなければならず、結果的に着色してしまったり、低分子化合物を大量に添加したことで膜特性の低下の原因につながる場合が多い。   Various irradiation wavelengths are used in the field to which the photocuring technology is applied, but the wavelength region of 300 nm to 450 nm as typified by metal halide lamps and mercury lamps is most often used. In order to express high polymerization sensitivity with respect to these irradiation wavelengths, it is required that the polymerization initiator and sensitizer contained in the polymerizable composition have suitable absorption in the wavelength region of 300 nm to 450 nm. . However, known materials having suitable absorption in this irradiation wavelength region often have absorption up to around 400 nm or longer wavelength side, and are colored yellow. Conversely, a material with little coloration often has low polymerization sensitivity because it does not have suitable absorption in the wavelength region of 300 nm to 450 nm. In order to achieve high sensitivity using a material that does not have such a suitable absorption in the polymerizable composition, the amount of polymerization initiator or sensitizer must be increased, resulting in coloring. In many cases, the addition of a large amount of a low molecular weight compound leads to a decrease in film properties.

背景技術の冒頭に述べた公知のスルホニウムボレート型重合開始剤は300nmから450nmの波長領域に吸収をほとんど有さないため、多くの増感剤の中から最適な増感剤を見出して組成比を決定した上で、併用しなければならないという煩雑さがあった。また、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケトクマリン等の公知の増感剤は着色している場合が多く、光照射時に使用した増感剤の一部は分解するものの完全には消色することはないため、重合後の組成物の着色は避けられなかった。   Since the known sulfonium borate type polymerization initiator described at the beginning of the background art has almost no absorption in the wavelength region of 300 nm to 450 nm, the optimum sensitizer is found from many sensitizers and the composition ratio is adjusted. Once determined, there was a complication that it was necessary to use them together. In addition, known sensitizers such as Michler's ketone, thioxanthone, and ketocoumarin are often colored, and some of the sensitizers used at the time of light irradiation are decomposed but are not completely decolored. Later coloring of the composition was inevitable.

また、分子内にクマリン構造やナフタレン構造、ベンゾチエニル基あるいはベンゾフリル基を導入したスルホニウムイオン型重合開始剤は、着色は少なく、増感剤を併用しなくても300nmから450nmの波長領域に吸収を有するため重合開始剤として機能しうる。しかし、300nmから450nmの波長領域の吸収は非常に小さく、コストダウンや生産性の向上の観点から、より短時間でより少ない光照射量で硬化し得る高感度な重合性組成物が求められている中にあっては、高価なボレート構造を導入していている割には実用的な感度として不十分であった。   In addition, sulfonium ion polymerization initiators with a coumarin structure, naphthalene structure, benzothienyl group or benzofuryl group introduced into the molecule are less colored and absorb in the wavelength region of 300 nm to 450 nm without the use of a sensitizer. Therefore, it can function as a polymerization initiator. However, absorption in the wavelength region of 300 nm to 450 nm is very small, and a highly sensitive polymerizable composition that can be cured in a shorter time and with a smaller amount of light irradiation is required from the viewpoint of cost reduction and productivity improvement. However, the practical sensitivity was insufficient for the introduction of an expensive borate structure.

また、高感度な重合性組成物として提案された、ベンゼン環がアミノ基で置換されたフェナシル基を有するスルホニウムカチオンを含むことを特徴としたスルホニウムイオン型重合開始剤を含む重合性組成物も、露光領域の大面積化に代表されるような、新しく提案される様々なプロセスに対応するには感度が十分とはいえず、重合開始剤のさらなる高感度化が求められている。   In addition, a polymerizable composition including a sulfonium ion-type polymerization initiator, which is proposed as a highly sensitive polymerizable composition and includes a sulfonium cation having a phenacyl group in which a benzene ring is substituted with an amino group, Sensitivity is not sufficient to cope with various newly proposed processes represented by an increase in the area of the exposure region, and further enhancement of the sensitivity of the polymerization initiator is required.

本発明者らは、上記の問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。すなわち本発明は、下記一般式(1)で表記されるラジカル重合開始剤に関する。
一般式(1)
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have reached the present invention. That is, the present invention relates to a radical polymerization initiator represented by the following general formula (1).
General formula (1)

(式中、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、またはハロゲン原子を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のうち一つは、
(Wherein R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, An acyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or a halogen atom is represented.
Provided that one of R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 is

であり、かつR01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のうち少なくとも一つは、 And at least one of R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 is

を表す。
11およびR12は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはアルケニル基を表す。
21およびR22は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。
31はアルキル基、またはアリール基を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09、R10、R11、R12、R21、およびR22は、一体となって、環を形成してもよい。
は任意のアニオンを表す。)
Represents.
R 11 and R 12 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxyl group or an alkenyl group.
R 21 and R 22 each independently represents an alkyl group, an aryl group or an alkenyl group.
R 31 represents an alkyl group or an aryl group.
However, R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 , R 10 , R 11 , R 12 , R 21 , and R 22 are integrated. A ring may be formed.
X represents an arbitrary anion. )

また、本発明は、R03またはR08が、
である上記ラジカル重合開始剤に関する。
In the present invention, R 03 or R 08 is
It relates to the radical polymerization initiator.

さらに、本発明は、Xが、下記一般式(2)で表記されるボレートである上記重合開始剤に関する。 Furthermore, this invention relates to the said polymerization initiator whose X < - > is the borate represented by following General formula (2).

一般式(2)
General formula (2)

(ただし、式中R51、R52、R53、およびR54は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、または置換基を有してもよい脂環基より選ばれる基を示す。 (However, in the formula, R 51 , R 52 , R 53 , and R 54 each independently have an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or a substituent. A group selected from an alkenyl group that may be substituted, an alkynyl group that may have a substituent, or an alicyclic group that may have a substituent;

さらに、本発明は、上記ラジカル重合開始剤(A)と、ラジカル重合性化合物(B)とを含んでなる重合性組成物に関する。   Furthermore, the present invention relates to a polymerizable composition comprising the radical polymerization initiator (A) and the radical polymerizable compound (B).

さらに、本発明は、上記重合性組成物に300nmから450nmの波長領域の光を含むエネルギー線を照射して重合させる、重合物の製造方法に関する。   Furthermore, this invention relates to the manufacturing method of a polymer which irradiates and polymerizes the said polymeric composition by the energy ray containing the light of the wavelength range of 300 nm to 450 nm.

本発明のラジカル重合開始剤は、従来公知のフェナシルスルホニウムカチオンのベンゼン環部位を特定の置換基、すなわちアシル基を有するフェニルチオフェニル基に置き替えることにより、エネルギー線、特に300nmから450nmの波長領域に良好な吸収特性を有するようになるとともに、該波長領域の光照射に対して、増感剤を併用しなくとも非常に高感度な光ラジカル発生剤として機能することが可能となっている。そのため、本発明の重合開始剤を使用すれば、従来公知のフェナシルスルホニウム塩系の重合開始剤から発生するラジカルを利用した重合反応、架橋反応などをより短時間に確実に実現することが可能となり、結果としてこれらの反応を応用した各種用途の大幅な高感度化や特性の向上を実現することが可能となる。   The radical polymerization initiator of the present invention replaces the benzene ring portion of a conventionally known phenacylsulfonium cation with a specific substituent, that is, a phenylthiophenyl group having an acyl group, thereby allowing energy rays, particularly wavelengths of 300 nm to 450 nm. It has good absorption characteristics in the region, and can function as a very sensitive photo radical generator without using a sensitizer for light irradiation in the wavelength region. . Therefore, by using the polymerization initiator of the present invention, it is possible to reliably realize a polymerization reaction and a crosslinking reaction using radicals generated from a conventionally known phenacylsulfonium salt-based polymerization initiator in a shorter time. As a result, it is possible to achieve a significant increase in sensitivity and improvement in characteristics of various applications using these reactions.

以下、詳細にわたって本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

まず、本発明のラジカル重合開始剤について説明する。本発明のラジカル重合開始剤の特徴はカチオン部位に特定の構造を有することにより、エネルギー線、特に300nmから450nmの波長領域の光照射に対する大幅な高感度化を実現している。   First, the radical polymerization initiator of the present invention will be described. The radical polymerization initiator of the present invention is characterized by having a specific structure at the cation site, thereby realizing a significant increase in sensitivity to energy rays, particularly light irradiation in the wavelength region of 300 nm to 450 nm.

本発明のラジカル重合開始剤は一般式(1)で表記される構造を有しており、フェナシルスルホニウムカチオンのベンゼン環部位をアシル基を有するフェニルチオフェニル基に置き替えた特徴的な構造を有する。この置換基を導入することにより、スルホニウムカチオンに300nmから450nmの波長領域に好適な光の吸収特性を付与することができる。また、この構造を有することにより、本発明のスルホニウムカチオンは該波長領域の光照射に対して、増感剤を併用しなくとも非常に効率的に分解するため、その結果、多量のラジカルを効率的に発生する高感度な材料として機能することが可能となっている。   The radical polymerization initiator of the present invention has a structure represented by the general formula (1), and has a characteristic structure in which the benzene ring portion of the phenacylsulfonium cation is replaced with a phenylthiophenyl group having an acyl group. Have. By introducing this substituent, light absorption characteristics suitable for a wavelength region of 300 nm to 450 nm can be imparted to the sulfonium cation. In addition, by having this structure, the sulfonium cation of the present invention decomposes very efficiently without using a sensitizer for light irradiation in the wavelength region. It is possible to function as a highly sensitive material that is generated automatically.

一般式(1)
General formula (1)

(式中、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ハロゲン原子を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のうち一つは、
(Wherein R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, An acyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or a halogen atom is represented.
Provided that one of R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 is

であり、かつR01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のうち少なくとも一つは、 And at least one of R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 is

を表す。
11およびR12は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはアルケニル基を表す。
21およびR22は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。
31はアルキル基、アリール基を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10は、一体となって、環を形成してもよい。
は任意のアニオンを表す。)
Represents.
R 11 and R 12 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxyl group or an alkenyl group.
R 21 and R 22 each independently represents an alkyl group, an aryl group or an alkenyl group.
R 31 represents an alkyl group or an aryl group.
However, R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 may be combined to form a ring.
X represents an arbitrary anion. )

本発明の、ラジカル重合開始剤の具体例の1つを化合物(1)として示した。   One specific example of the radical polymerization initiator of the present invention is shown as compound (1).

化合物(1)
Compound (1)

(上記化合物(1)において、Buはブチル基、Phはフェニル基を表す。以下、同表記を用いることにする。) (In the above compound (1), Bu represents a butyl group and Ph represents a phenyl group. Hereinafter, the same notation will be used.)

また、化合物(1)のアセトニトリル中の吸収スペクトルを図(1)に示した。また、比較化合物として従来のフェナシルスルホニウム系の化合物(2)の吸収スペクトルも併せて図(1)に示した。   The absorption spectrum of compound (1) in acetonitrile is shown in FIG. In addition, the absorption spectrum of the conventional phenacylsulfonium compound (2) as a comparative compound is also shown in FIG.

化合物(2)
Compound (2)

図1からわかるように、化合物(2)は300nm以上の波長領域に好適な吸収を有していないが、化合物(1)は350nmにモル吸光係数9900の吸収極大を有し、300から450nmの波長領域に好適な吸収を有している。   As can be seen from FIG. 1, the compound (2) does not have a suitable absorption in the wavelength region of 300 nm or more, but the compound (1) has an absorption maximum with a molar extinction coefficient of 9900 at 350 nm and a wavelength of 300 to 450 nm. It has suitable absorption in the wavelength region.

また、本発明のラジカル重合開始剤である化合物(1)は、例えば水銀ランプの輝線の1つに相当する365nmにおいてはモル吸光係数が約2600である比較的透明な材料であるが、該波長の光を照射した場合、同一のアニオンを有する従来公知のフェナシルスルホニウム系ラジカル発生剤である化合物(2)を単独または増感剤を併用して使用した場合を大幅に凌駕するラジカル発生剤として革新的な機能を有する材料である。   Further, the compound (1) which is the radical polymerization initiator of the present invention is a relatively transparent material having a molar extinction coefficient of about 2600 at 365 nm corresponding to one of the emission lines of a mercury lamp, for example. As a radical generator that greatly surpasses the case where the compound (2), which is a conventionally known phenacylsulfonium-based radical generator having the same anion, is used alone or in combination with a sensitizer. It is a material with innovative functions.

現時点では、この光照射によるラジカル発生の反応機構の詳細は明らかではないが、ラジカル重合開始剤(A)に対して紫外線領域の光を照射すると、一般式(3)に示した構造中の硫黄原子と炭素原子Cの間の結合が高い選択性を持って効率的に解裂し、ラジカルを発生すると考えられ、発生したラジカルが、ラジカル重合性化合物(B)を攻撃することにより重合が進行して硬化する。 At present, details of the reaction mechanism of radical generation by light irradiation are not clear, but when the light in the ultraviolet region is irradiated to the radical polymerization initiator (A), sulfur in the structure represented by the general formula (3) It is considered that the bond between the atom and the carbon atom C 2 is efficiently cleaved with high selectivity to generate a radical, and the generated radical attacks the radical polymerizable compound (B) to cause polymerization. Progress and cure.

一般式(3)
General formula (3)

本発明のラジカル重合開始剤(A)からラジカルを発生するために使用するエネルギー線源は特に限定されないが、特に好適な感度を発現する300nmから450nmの波長領域の光を照射できる光源が好ましく、上記波長領域の光と同時に他のエネルギー線を発していても良い。特に好ましい光源としては、300nmから450nmの波長領域に発光の主波長を有する光源であり、具体例としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、キセノンランプ、パルス発光キセノンランプ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、重水素ランプ、蛍光灯、Nd−YAG3倍波レーザー、He−Cdレーザー、窒素レーザー、Xe−Clエキシマレーザー、Xe−Fエキシマレーザー、半導体励起固体レーザー等の300nmから450nmの波長領域に発光波長を有するレーザーも好適なエネルギー線源として使用することができる。本発明の重合開始剤(A)はいずれも300nmから450nmの波長領域に好適な吸収を有しており置換基によって吸収特性がやや異なるが、上記した光源を適宜選択することにより、非常に高感度なラジカル重合開始剤として機能することが可能である。また、これらの光源は適宜、フィルター、ミラー、レンズ等の光学機器を介して照射することも可能である。   The energy ray source used for generating radicals from the radical polymerization initiator (A) of the present invention is not particularly limited, but a light source capable of irradiating light in a wavelength region of 300 nm to 450 nm that expresses particularly suitable sensitivity is preferable, Other energy rays may be emitted simultaneously with the light in the wavelength region. A particularly preferable light source is a light source having a main wavelength of light emission in a wavelength region of 300 nm to 450 nm. Specific examples include an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a mercury xenon lamp, a metal halide lamp, a high light source. Examples thereof include, but are not limited to, a power metal halide lamp, a xenon lamp, and a pulse emission xenon lamp. Also emits light in the wavelength range from 300 nm to 450 nm, such as deuterium lamp, fluorescent lamp, Nd-YAG triple wave laser, He-Cd laser, nitrogen laser, Xe-Cl excimer laser, Xe-F excimer laser, semiconductor excitation solid state laser A laser having a wavelength can also be used as a suitable energy ray source. All of the polymerization initiators (A) of the present invention have suitable absorption in the wavelength region of 300 nm to 450 nm, and the absorption characteristics are slightly different depending on the substituents. It can function as a sensitive radical polymerization initiator. In addition, these light sources can be appropriately irradiated through optical devices such as filters, mirrors, and lenses.

次に、本発明のラジカル重合開始剤の構造について詳細に説明する。   Next, the structure of the radical polymerization initiator of the present invention will be described in detail.

本発明のラジカル重合開始剤はその特性を阻害しない範囲において、一般式(1)に示したように、各種の置換基を導入することが可能である。置換基の導入により、本発明のラジカル重合開始剤は吸収極大波長や透過率などのエネルギー線の吸収特性、併用する樹脂や溶剤に対する溶解度を適当に調整して用いることができる。   As shown in the general formula (1), the radical polymerization initiator of the present invention can introduce various substituents as long as the properties are not impaired. By introducing a substituent, the radical polymerization initiator of the present invention can be used by appropriately adjusting the absorption characteristics of energy rays such as the maximum absorption wavelength and transmittance, and the solubility in the resin or solvent used together.

一般式(1)における置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、またはハロゲン原子を表す。 The substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) are each independently a hydrogen atom, alkyl group, aryl A group, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or a halogen atom;

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルキル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The alkyl group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) has 1 to 18 carbon atoms. Examples include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, and nonyl. Group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, isopentyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, tert-octyl group, neopentyl group, cyclopropyl Group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, boronyl group, 4-decyl , And the like Kurohekishiru group, but not limited thereto.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアリール基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、1ーナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、2−フラニル基、2−ピロリル基、9−フルオレニル基、2−フリル基、2−チエニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、6−インドリル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、4−キノリニル基、4−イソキノリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−アクリジニル基、3−フェノチアジニル基、2−フェノキサチイニル基、3−フェノキサジニル基、3−チアントレニル基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The aryl group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) may contain a hetero atom. Examples thereof include monocyclic or condensed polycyclic aryl groups having 4 to 18 carbon atoms, and specific examples include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-anthryl group, 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 2-furanyl group, 2-pyrrolyl group, 9-fluorenyl group, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 6-indolyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, 4-quinolinyl group, 4-isoquinolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group , 4-carbazolyl group, 9-acridinyl group, 3-phenothiazinyl group, 2-phenoxathiinyl group, 3-phenoxazinyl group, 3-thianthenyl group and the like, but are not limited thereto. .

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルケニル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルケニル基が挙げられ、それらは構造中に複数の炭素−炭素二重結合を有していてもよく、具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、1,3−ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The alkenyl group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) has 1 to 18 carbon atoms. Examples thereof include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkenyl groups, which may have a plurality of carbon-carbon double bonds in the structure. Specific examples thereof include a vinyl group, 1 -Propenyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, isopropenyl group, isobutenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2 -Hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 5-hexenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl, 1,3-butadienyl, cyclohexadienyl, cyclope , And the like Tajieniru group, but not limited thereto.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアシル基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニル基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、シンナモイル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、スルホニウム基を有する下記のようなアシル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
なお、スルホニウム基を有する下記のアシル基は、R03、またはR08に置換されていることが特に好ましい。
The acyl group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) is a hydrogen atom or a carbon number of 1 To a carbonyl group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group is bonded, or a monocyclic or condensed polycyclic aroma having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom Carbonyl groups bonded to each other may be mentioned, and they may have an unsaturated bond in the structure. Specific examples include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group. Group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, palmitoyl group, stearoyl group, cyclopentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, acrylo Group, methacryloyl group, crotonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group, benzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, cinnamoyl group, 3-furoyl group, 2-thenoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, sulfonium group Examples of the acyl group having the following can include, but are not limited to:
In addition, it is particularly preferable that the following acyl group having a sulfonium group is substituted with R 03 or R 08 .

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルコキシル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
The alkoxyl group in the substituent R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) has 1 to 18 carbon atoms. Examples include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkoxyl groups. Specific examples include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyl. Oxy group, nonyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group , Tert-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group Examples include cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy group, boronyloxy group, 4-decylcyclohexyloxy group, 2-tetrahydrofuranyloxy group, 2-tetrahydropyranyloxy group, etc. However, it is not limited to these.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアリールオキシ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1ーナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 The aryloxy group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) includes a hetero atom. Examples thereof include a monocyclic or condensed polycyclic aryloxy group having 4 to 18 carbon atoms, and specific examples include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 9-anthryloxy group, and a 9-phenanthryl. Oxy group, 1-pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group, 2-furanyloxy group, 2- Thienyloxy group, 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2-carbazo Aryloxy group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-acridinyl but oxy group, and the like, but is not limited thereto.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアシルオキシ基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The acyloxy group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) is a hydrogen atom or a carbon number of 1 To a carbonyloxy group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group is bonded, or a monocyclic or condensed polycyclic group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom Examples include carbonyloxy groups to which aromatics are bonded. Specific examples include acetoxy group, propionyloxy group, butyryloxy group, isobutyryloxy group, valeryloxy group, isovaleryloxy group, pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyl. Oxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group, cyclopentylcarbonyloxy group, cyclohexane Silcarbonyloxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, oleoyloxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy Group, 3-furoyloxy group, 2-thenoyloxy group, nicotinoyloxy group, isonicotinoyloxy group, 9-anthroyloxy group, 5-naphthacenoyloxy group and the like, but are not limited thereto. It is not a thing.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルコキシカルボニルオキシ基としては、炭素数1から12の炭酸エステル基が挙げられ、具体例としてはtert−ブトキシカルボニルオキシ基、tert−ペンチルオキシカルボニルオキシ基、1,1−ジエチルプロピルオキシカルボニルオキシ基、1−エチル−2−シクロペンテニルオキシカルボニルオキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルオキシ基、1−エチルシクロペンチルオキシカルボニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The alkoxycarbonyloxy group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) has a carbon number of 1 12 carbonic acid ester groups, and specific examples include tert-butoxycarbonyloxy group, tert-pentyloxycarbonyloxy group, 1,1-diethylpropyloxycarbonyloxy group, 1-ethyl-2-cyclopentenyloxycarbonyloxy group. Group, 2-tetrahydropyranyloxycarbonyloxy group, 1-ethylcyclopentyloxycarbonyloxy group and the like, but are not limited thereto.

上述した一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基は、さらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基等を挙げることができる。 The substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) described above, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, The acyl group, alkoxyl group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group may be further substituted with other substituents, such as hydroxyl group, mercapto group, cyano group. Nitro group, halogen atom, alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxyl group, aryloxy group, acyloxy group, alkylthio group, arylthio group and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基としては炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基などが挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the alkyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, octadecyl, isopropyl, isobutyl, isopentyl, sec-butyl, tert-butyl, sec-pentyl, tert-pentyl, A tert-octyl group, neopentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, boronyl group, 4-decylcyclohexyl group and the like can be mentioned.

アリール基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、1ーナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、2−フラニル基、2−ピロリル基、9−フルオレニル基、2−フリル基、2−チエニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、6−インドリル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、4−キノリニル基、4−イソキノリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−アクリジニル基、3−フェノチアジニル基、2−フェノキサチイニル基、3−フェノキサジニル基、3−チアントレニル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include a monocyclic or condensed polycyclic aryl group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom, and specific examples include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a 9-anthryl group. , 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 2-furanyl group, 2-pyrrolyl group, 9-fluorenyl group, 2-furyl group 2-thienyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 6-indolyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, 4-quinolinyl group, 4-isoquinolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group Group, 4-carbazolyl group, 9-acridinyl group, 3-phenothiazinyl group, 2-phenoxathiinyl group, 3-phenoxazinyl group, 3-thiol Ntoreniru group, and the like.

アシル基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、シンナモイル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、9−アンスロイル基、5−ナフタセノイル基などを挙げられる。   As the acyl group, a hydrogen atom, a carbonyl group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a carbon atom which may contain a hetero atom is 4 carbon atoms. To 18 monocyclic or condensed polycyclic aromatic carbonyl groups, which may have an unsaturated bond in the structure. Specific examples thereof include formyl group, acetyl group, propionyl group, Butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, palmitoyl group, stearoyl group, cyclopentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, acryloyl group, methacryloyl group, crotonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group Benzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, N'namoiru group, 3-furoyl, 2-thenoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, 9-Ansuroiru group, and the like 5 Nafutasenoiru group.

アルコキシル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等を挙げることができる。
アリールオキシ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1ーナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkoxyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkoxyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy. Group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, tert-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy group Boronyl Alkoxy group, 4-decyl cyclohexyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, and 2-tetrahydropyranyloxy group.
Examples of the aryloxy group include a monocyclic or condensed polycyclic aryloxy group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom. Specific examples thereof include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, 9 -Anthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, 1-pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluore Nyloxy group, 2-furanyloxy group, 2-thienyloxy group, 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2-carbazolyloxy group , 3-carbazolyloxy group, 4-carbazolyloxy group, 9-acridinyloxy group and the like.

アシルオキシ基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基などを挙げることができる。   The acyloxy group is a hydrogen atom or a carbonyloxy group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a carbon number which may contain a hetero atom. Examples include a carbonyloxy group having 4 to 18 monocyclic or condensed polycyclic aromatics bonded thereto, and specific examples include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a valeryloxy group, and an isovaleryloxy group. Group, pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyloxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group, cyclopentylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, Oreo Ruoxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy group, 3-furoyloxy group, 2-thenoyloxy group, nicotinoyloxy group, isonicotinoyloxy group, 9-anth A royloxy group, a 5-naphthacenoyloxy group, etc. can be mentioned.

アルキルチオ基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
アリールチオ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基、9−フェナントリルチオ基、2−フリルチオ基、2−チエニルチオ基、2−ピロリルチオ基、6−インドリルチオ基、2−ベンゾフリルチオ基、2−ベンゾチエニルチオ基、2−カルバゾリルチオ基、3−カルバゾリルチオ基、4−カルバゾリルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Examples of the alkylthio group include a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, and a pentylthio group. Hexylthio group, octylthio group, decylthio group, dodecylthio group, octadecylthio group and the like.
Examples of the arylthio group include a monocyclic or condensed polycyclic arylthio group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom, and specific examples include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 2-naphthylthio group, and a 9-anthrylthio group. Group, 9-phenanthrylthio group, 2-furylthio group, 2-thienylthio group, 2-pyrrolylthio group, 6-indolylthio group, 2-benzofurylthio group, 2-benzothienylthio group, 2-carbazolylthio group, 3 -A carbazolylthio group, a 4-carbazolylthio group, etc. can be mentioned, However, It is not limited to these.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。 The halogen atom in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) includes a fluorine atom, a chlorine atom, A bromine atom and an iodine atom can be mentioned.

一般式(1)中の置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるそれぞれの置換基は同一である必要は無く、上記した置換基を任意に組み合わせて用いることができる。置換基置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10における、特に好ましい置換基としては水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基から選ばれる基が挙げられる。また、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10から選ばれる隣接する2つの置換基は、一体となって、環状構造を形成していてもよい。 The substituents in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 in the general formula (1) are not necessarily the same. The above-mentioned substituents can be used in any combination. Substituents Particularly preferred substituents in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyl group, Examples include groups selected from an aryloxy group and an acyloxy group. Two adjacent substituents selected from R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 are combined to form a cyclic structure. It may be formed.

次に、一般式(1)中の置換基−R31で表記される置換基について説明する。置換基R31におけるアルキル基およびアリール基としては、置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルキル基およびアリール基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。 Next, the substituent represented by the substituent —R 31 in the general formula (1) will be described. As the alkyl group and aryl group in the substituent R 31, the alkyl group and aryl group in the substituents R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 The same substituents as those exemplified above can be mentioned.

一般式(1)中の置換基R11およびR12におけるアルキル基、アリール基、アルコキシル基およびアルケニル基、R21およびR22におけるアルキル基、アリール基およびアルケニル基としては、置換基R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10におけるアルキル基、アリール基、アルコキシル基およびアルケニル基として例示したものと同一の置換基を挙げることができる。 The alkyl group, aryl group, alkoxyl group and alkenyl group in the substituents R 11 and R 12 in the general formula (1), the alkyl group, aryl group and alkenyl group in R 21 and R 22 are the substituents R 01 , R The same substituents as those exemplified as the alkyl group, aryl group, alkoxyl group and alkenyl group in 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 may be mentioned. it can.

置換基R21およびR22は、R2122同士、あるいは、R11、R12、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のいずれかと互いに結合し、環構造を形成していてもよい。また、置換基R11およびR12は、R21、R22、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のいずれかと結合し、環構造を形成してもよい。 The substituents R 21 and R 22 may be R 21 R 22 to each other, or R 11 , R 12 , R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and Any of R 10 may be bonded to each other to form a ring structure. In addition, the substituents R 11 and R 12 are bonded to any of R 21 , R 22 , R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10. And a ring structure may be formed.

次に、一般式(1)中のアニオンXについて説明する。 Next, the anion X in the general formula (1) will be described.

一般式(1)中のXは、任意のアニオンを表す。このようなアニオンとしては、例えば、F、Cl、Br、I、HSO 、NO 、CHCOO、CHSO 等の求核性アニオンが挙げられる。ここでいう非求核性アニオンとは、求核反応を起こす能力が低いアニオンを指す。
また、一般式(1)中のXとしては、p−トルエンスルホン酸やp−ドデシルベンゼンスルホン酸、カンファースルホン酸に代表されるアルキルベンゼンスルホン酸イオンも用いることが可能である。
さらに、一般式(1)中のXとしては、非求核性アニオンも用いることができる。この例として、BF 、PF 、SbF 、AsF 、SbCl 、BiCl 、SnCl 、ClO 、ジチオカルバメートアニオン、SCN、CFSO 、CF(CF)SO 等が挙げられるがこれに限定されるものではない。また、一般式(2)で表されるボレートアニオンも本発明のアニオンXの範疇に含まれる。
X < - > in General formula (1) represents arbitrary anions. Examples of such anions include nucleophilic anions such as F , Cl , Br , I , HSO 3 , NO 3 , CH 3 COO , and CH 3 SO 3 . The non-nucleophilic anion here refers to an anion having a low ability to cause a nucleophilic reaction.
Moreover, as X < - > in General formula (1), the alkylbenzenesulfonic acid ion represented by p-toluenesulfonic acid, p-dodecylbenzenesulfonic acid, and camphorsulfonic acid can also be used.
Further, as X in the general formula (1), a non-nucleophilic anion can also be used. Examples of this include BF 4 , PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, SCN , CF 3 SO 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 SO 3 — and the like are exemplified, but not limited thereto. The borate anion represented by the general formula (2) is also included in the category of the anion X of the present invention.

一般式(1)中のXとしては、以下の一般式(2)で示されるボレートアニオンも、比較的容易に合成でき、より高感度で、高い溶解度と高い安全衛生性を有するため、特に好ましく使用できる。一般式(2)中のR51、R52、R53およびR54はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい脂環基より選ばれる基を表す。 As X in the general formula (1), a borate anion represented by the following general formula (2) can also be synthesized relatively easily, has higher sensitivity, high solubility, and high safety and health. It can be preferably used. R 51 , R 52 , R 53 and R 54 in the general formula (2) each independently have an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. It represents a group selected from an alkenyl group that may be substituted, an alkynyl group that may have a substituent, and an alicyclic group that may have a substituent.

このような置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基等が、
置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,5−キシリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、メシチル基、クメニル基、o−クロロフェニル基、m−フルオロフェニル基、p−シアノフェニル基等が、
置換基を有してもよいアルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基等が、
置換基を有してもよいアルキニル基としては、エチニル基、1−ヘキシニル基、1−プロピニル基等が、置換基を有してもよい脂環基としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキセニル基、ノルボルニル基、ボルニル基、メンチル基、ピナニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group which may have such a substituent include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, etc.
As the aryl group which may have a substituent, phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,5-xylyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, mesityl group, cumenyl group, o-chlorophenyl group, m-fluorophenyl group, p-cyanophenyl group, etc.
Examples of the alkenyl group that may have a substituent include a vinyl group, a 1-propenyl group, an isopropenyl group, and a 1-butenyl group.
Examples of the alkynyl group which may have a substituent include ethynyl group, 1-hexynyl group and 1-propynyl group, and examples of the alicyclic group which may have a substituent include cyclohexyl group, cyclopentyl group and cyclohexenyl. Group, norbornyl group, bornyl group, menthyl group, pinanyl group, adamantyl group and the like.

これらの基の水素原子はさらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、tert−ブトキシ基、フェノキシ基等のアルコキシ基、メチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基等のアリール基等のほか、メシル基、p−トルエンスルホニル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。   The hydrogen atom of these groups may be further substituted with other substituents. Examples of such substituents include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, methoxy group, tert group In addition to alkoxy groups such as butoxy group and phenoxy group, alkyl groups such as methyl group, tert-butyl group and dodecyl group, aryl groups such as phenyl group and p-tolyl group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, A trifluoromethyl group etc. are mentioned.

これら置換基R51、R52、R53およびR54はそれぞれ独立に、好ましくは置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基等が挙げられ、さらに好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、フェニル基、メシチル基、4−メチルフェニル基、3−フルオロフェニル基等が挙げられるが、本発明はこれらの例に限定されるわけではない。
これらホウ素に結合する4つの置換基のうち、1つが置換されてもよいアルキル基であり、3つが置換されてもよいフェニル基である場合、ラジカル発生能が向上する場合があるため好ましい。
These substituents R 51 , R 52 , R 53 and R 54 are each independently preferably an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or the like, and more preferably Examples include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a phenyl group, a mesityl group, a 4-methylphenyl group, and a 3-fluorophenyl group, but the present invention is not limited to these examples.
Of these four substituents bonded to boron, one is an alkyl group that may be substituted, and three are phenyl groups that may be substituted, which is preferable because radical generating ability may be improved.

したがって、一般式(2)で表記されるボレートアニオンの構造として、具体的には、tert−ブチルトリエチルボレート、フェニルトリエチルボレート、トリブチルベンジルボレート、ジエチルジブチルボレート、ジブチルジフェニルボレート、メチルトリフェニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピルトリフェニルボレート、イソプロピルトリフェニルボレート、ブチルトリフェニルボレート、sec−ブチルトリフェニルボレート、tert−ブチルトリフェニルボレート、ドデシルトリフェニルボレート、ベンジルトリフェニルボレート、ビニルトリフェニルボレート、エチニルトリフェニルボレート、ブチルトリメシチルボレート、ブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレート、ブチルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ブチルトリス(p−ブロモフェニル)ボレート、sec―ブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレート、sec−ブチルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、tert−ブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレート、ブチルトリス[3、5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ブチルトリ(m−フルオロフェニル)ボレート、テトラフェニルボレート、ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルトリフルオロボレート、ビス(ペンタフルオロフェニル)ジフルオロボレート、ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ジフルオロボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)フルオロボレート、トリス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]フルオロボレート、テトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート等があげられるが、これに限定されるものではない。   Therefore, as the structure of the borate anion represented by the general formula (2), specifically, tert-butyl triethyl borate, phenyl triethyl borate, tributyl benzyl borate, diethyl dibutyl borate, dibutyl diphenyl borate, methyl triphenyl borate, ethyl Triphenylborate, propyltriphenylborate, isopropyltriphenylborate, butyltriphenylborate, sec-butyltriphenylborate, tert-butyltriphenylborate, dodecyltriphenylborate, benzyltriphenylborate, vinyltriphenylborate, ethynyltri Phenylborate, butyltrimesitylborate, butyltris (p-methoxyphenyl) borate, butyltris (p-fluoropheny ) Borate, butyltris (p-bromophenyl) borate, sec-butyltris (p-methoxyphenyl) borate, sec-butyltris (p-fluorophenyl) borate, tert-butyltris (p-methoxyphenyl) borate, butyltris [3,5 -Bis (trifluoromethyl) phenyl] borate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate, butyltri (m-fluorophenyl) borate, tetraphenylborate, pentafluorophenyltrifluoroborate, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl Trifluoroborate, bis (pentafluorophenyl) difluoroborate, bis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] difluoroborate, tris (pentafluorophenyl) fluoroborate, The [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] fluoroborate, although tetrakis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] borate, and the like, but is not limited thereto.

この内、一般式(2)で表記されるアニオンとして特に好ましいものは、ブチルトリフェニルボレートである。   Of these, butyltriphenylborate is particularly preferable as the anion represented by the general formula (2).

本発明の一般式(1)で表記されるラジカル重合開始剤は上記で例示したスルホニウムカチオンと各種アニオンの組み合わせからなる。   The radical polymerization initiator represented by the general formula (1) of the present invention is a combination of the sulfonium cation and various anions exemplified above.

以下に具体的な構造を示すが、本発明のラジカル重合開始剤の構造はそれらに限定されるものではない。   Specific structures are shown below, but the structure of the radical polymerization initiator of the present invention is not limited thereto.

ただし、上記構造式中のXはCl、Br、HSO 、NO 、CHCOO、CHSO p - トルエンスルホン酸、p - ドデシルベンゼンスルホン酸、BF 、PF 、SbF 、ClO 、CFSO 、CF(CF)SO 、tert―ブチルトリエチルボレート、フェニルトリエチルボレート、トリブチルベンジルボレート、ジエチルジブチルボレート、ジブチルジフェニルボレート、メチルトリフェニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピルトリフェニルボレート、イソプロピルトリフェニルボレート、ブチルトリフェニルボレート、sec―ブチルトリフェニルボレート、tert―ブチルトリフェニルボレート、ドデシルトリフェニルボレート、ベンジルトリフェニルボレート、ビニルトリフェニルボレート、エチニルトリフェニルボレート、ブチルトリメシチルボレート、ブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレート、ブチルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ブチルトリス(p−ブロモフェニル)ボレート、sec―ブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレート、sec―ブチルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、tert―ブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレート、ブチルトリス[3、5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラフェニルボレート、SCN等のアニオンが挙げられるが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。 However, X in the above structural formula is Cl , Br , HSO 3 , NO 3 , CH 3 COO , CH 3 SO 3 p -toluenesulfonic acid, p-dodecylbenzenesulfonic acid, BF 4 −. , PF 6 , SbF 6 , ClO 4 , CF 3 SO 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 SO 3 , tert-butyltriethylborate, phenyltriethylborate, tributylbenzylborate, diethyldibutylborate, dibutyldiphenyl Borate, methyl triphenyl borate, ethyl triphenyl borate, propyl triphenyl borate, isopropyl triphenyl borate, butyl triphenyl borate, sec-butyl triphenyl borate, tert-butyl triphenyl borate, dodecyl triphenyl borate, Diltriphenylborate, vinyltriphenylborate, ethynyltriphenylborate, butyltrimesitylborate, butyltris (p-methoxyphenyl) borate, butyltris (p-fluorophenyl) borate, butyltris (p-bromophenyl) borate, sec-butyltris (p-methoxyphenyl) borate, sec-butyltris (p-fluorophenyl) borate, tert-butyltris (p-methoxyphenyl) borate, butyltris [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] borate, tetrakis (pentafluoro phenyl) borate, tetraphenylborate, SCN - although anions like are exemplified, the present invention is not limited to these examples.

本発明のラジカル重合開始剤を得るための合成方法は特に限定されず、従来公知の化学反応、後処理方法、精製方法および分析方法を適宜、組み合わせることにより、容易に合成して構造確認することが可能である。フェナシルスルホニウム塩の合成方法としては、Journal of Polymer Science :Part A :Polymer Chemistry誌 第38巻 1433−1442頁(2000年)、Macromolecules誌 第33巻 825−832頁(2000年)などに記載の方法等が挙げられ、これらに記載の合成に使用されている原料を適宜、置き換えることにより、本発明の感エネルギー線酸発生剤を合成することが可能である。   The synthesis method for obtaining the radical polymerization initiator of the present invention is not particularly limited, and the structure can be easily synthesized and confirmed by appropriately combining conventionally known chemical reactions, post-treatment methods, purification methods and analysis methods. Is possible. The synthesis method of phenacylsulfonium salt is described in Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 38, 1433-1442 (2000), Macromolecules, Vol. 33, pages 825-832 (2000), etc. The energy-sensitive linear acid generator of the present invention can be synthesized by appropriately replacing the raw materials used in the synthesis described in these methods.

合成方法の一例を挙げると、アセチルフェニルスルフィド誘導体を出発原料として合成する。適当なアシル基を有するアセチルフェニルスルフィドが入手できない場合は、アシル基を有するフェニルスルフィド誘導体に対するフリーデル−クラフツ反応によるアセチル化により、対応するアシル基を有するアセチルフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。上記したアシル基を有するアセチルフェニルスルフィド誘導体のアセチル基を臭素などの臭素化試薬によって臭素化し、次いで、この誘導体とスルフィドを反応させることにより、本発明のラジカル重合開始剤のカチオン部位に相当する、スルホニウムのブロマイド塩を得ることができる。このようにして得られたスルホニウム・ブロマイド塩は、アニオンXを有する金属塩と容易にイオン交換を行うことができ、本発明のラジカル重合開始剤を得ることができる。 As an example of the synthesis method, an acetylphenyl sulfide derivative is synthesized as a starting material. When an acetylphenyl sulfide having an appropriate acyl group is not available, an acetylphenyl sulfide derivative having a corresponding acyl group can be obtained by acetylation by a Friedel-Crafts reaction on a phenyl sulfide derivative having an acyl group. The acetyl group of the acetylphenyl sulfide derivative having an acyl group described above is brominated with a bromination reagent such as bromine, and then this derivative is reacted with sulfide to correspond to the cation site of the radical polymerization initiator of the present invention. A sulfonium bromide salt can be obtained. Such sulfonium bromide salt obtained in the anion X - can be performed easily ion-exchanged with a metal salt having, it is possible to obtain a radical polymerization initiator of the present invention.

本発明のラジカル重合開始剤はエネルギー線、特に300nmから450nmの波長領域の光照射により、非常に高感度なラジカル重合開始剤として機能するため、従来公知のフェナシルスルホニウム塩系ラジカル重合開始剤を用いる重合反応、架橋反応などをより短時間に確実に実現することが可能となり、結果としてこれらの反応を応用した各種用途の大幅な高感度化や特性の向上を実現することが可能となる。以下に本発明のラジカル重合開始剤の利用方法について記述する。   Since the radical polymerization initiator of the present invention functions as a very sensitive radical polymerization initiator by irradiation with energy rays, particularly in the wavelength region of 300 nm to 450 nm, a conventionally known phenacylsulfonium salt-based radical polymerization initiator is used. The polymerization reaction, the crosslinking reaction, etc. to be used can be reliably realized in a shorter time, and as a result, it is possible to realize a significant increase in sensitivity and improvement in characteristics of various uses applying these reactions. The method for using the radical polymerization initiator of the present invention will be described below.

本発明のラジカル重合開始剤(A)とラジカル重合性化合物(B)とを含む組成物はエネルギー線、特に300nmから450nmの波長領域の光の照射により、迅速かつ確実に硬化し、良好な特性を有する硬化物を得ることが可能な重合性組成物として使用することができる。   The composition containing the radical polymerization initiator (A) and the radical polymerizable compound (B) of the present invention is cured quickly and reliably by irradiation with energy rays, particularly light in a wavelength region of 300 nm to 450 nm, and has good characteristics. It can be used as a polymerizable composition capable of obtaining a cured product having the above.

本発明の重合性組成物に用いるラジカル重合性化合物(B)について説明する。本発明におけるラジカル重合性化合物(B)とは、分子中にラジカル重合可能な骨格を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味する。また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし固体のモノマー、オリゴマーないしポリマーの化学形態を持つものである。   The radical polymerizable compound (B) used in the polymerizable composition of the present invention will be described. The radically polymerizable compound (B) in the present invention means a compound having at least one skeleton capable of radical polymerization in the molecule. In addition, these have chemical forms of liquid or solid monomers, oligomers or polymers at normal temperature and normal pressure.

このようなラジカル重合性化合物(B)の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、酸アミドや酸無水物があげられ、さらには、ウレタンアクリレート、アクリロニトリル、スチレン誘導体、種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン等があげられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下に、本発明におけるラジカル重合性化合物(B)の具体例をあげる。   Examples of such radically polymerizable compounds (B) include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, esters, acid amides and acid anhydrides. Further examples include urethane acrylates, acrylonitrile, styrene derivatives, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, unsaturated polyurethanes, etc., but the present invention is not limited to these. Absent. Specific examples of the radically polymerizable compound (B) in the present invention are given below.

アクリレート類の例:
単官能アルキルアクリレート類の例:
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート。
Examples of acrylates:
Examples of monofunctional alkyl acrylates:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isoamyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, decyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate , Dicyclopentenyloxyethyl acrylate, benzyl acrylate.

単官能含ヒドロキシアクリレート類の例:
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピルアクリレート、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート。
Examples of monofunctional hydroxy acrylates:
2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-allyloxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2 -Hydroxypropyl phthalate.

単官能含ハロゲンアクリレート類の例:
2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加アクリレート。
Examples of monofunctional halogenated acrylates:
2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate, 1H-hexafluoroisopropyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H- Heptadecafluorodecyl acrylate, 2,6-dibromo-4-butylphenyl acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl acrylate, 2,4,6-tribromophenol 3EO addition acrylate.

単官能含エーテル基アクリレート類の例:
2−メトキシエチルアクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400アクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、クレジルポリエチレングリコールアクリレート、p−ノニルフェノキシエチルアクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、グリシジルアクリレート。
Examples of monofunctional ether-containing acrylates:
2-methoxyethyl acrylate, 1,3-butylene glycol methyl ether acrylate, butoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol # 400 acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxytripropylene glycol acrylate, methoxypolypropylene glycol acrylate, Ethoxydiethylene glycol acrylate, ethyl carbitol acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, cresyl polyethylene glycol acrylate, p Nonyl phenoxyethyl acrylate, p- nonylphenoxy polyethylene glycol acrylate, glycidyl acrylate.

単官能含カルボキシルアクリレート類の例:
β−カルボキシエチルアクリレート、こはく酸モノアクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート。
Examples of monofunctional carboxyl acrylates:
β-carboxyethyl acrylate, succinic acid monoacryloyloxyethyl ester, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, 2-acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2-acryloyloxypropyl hydrogen phthalate, 2-acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- Acryloyloxypropyltetrahydrophthalate.

その他の単官能アクリレート類の例:
N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート。
Examples of other monofunctional acrylates:
N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylate, morpholinoethyl acrylate, trimethylsiloxyethyl acrylate, diphenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, caprolactone-modified-2-acryloyl Oxyethyl acid phosphate.

二官能アクリレート類の例:
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール#200ジアクリレート、ポリエチレングリコール#300ジアクリレート、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート、ポリエチレングリコール#600ジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジアクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールビス(2−ヒドロキシ−3−アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノベンゾエート、ビスフェノールAジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、PO変性ビスフェノールAジアクリレート、水素化ビスフェノールAジアクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールFジアクリレート、EO変性ビスフェノールFジアクリレート、PO変性ビスフェノールFジアクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート。
Examples of bifunctional acrylates:
1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol # 200 diacrylate, polyethylene glycol # 300 Diacrylate, polyethylene glycol # 400 diacrylate, polyethylene glycol # 600 diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol # 400 diacrylate, polypropylene glycol # 700 diacrylate, neo Pentyl glycol diacrylate, ne Pentyl glycol PO modified diacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester diacrylate, caprolactone adduct diacrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, 1,6-hexanediol bis (2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl) ether Bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 1,9-nonanediol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate, pentaerythritol diacrylate monobenzoate, bisphenol A diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, PO-modified bisphenol A diacrylate, hydrogenated bisphenol A diacrylate EO modified hydrogenated bisphenol A diacrylate, PO modified hydrogenated bisphenol A diacrylate, bisphenol F diacrylate, EO modified bisphenol F diacrylate, PO modified bisphenol F diacrylate, EO modified tetrabromobisphenol A diacrylate, tricyclodecandi Methylol diacrylate, isocyanuric acid EO-modified diacrylate.

三官能アクリレート類の例:
グリセリンPO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε−カプロラクトン変性トリアクリレート、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロピオネート。
Examples of trifunctional acrylates:
Glycerin PO modified triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane EO modified triacrylate, trimethylolpropane PO modified triacrylate, isocyanuric acid EO modified triacrylate, isocyanuric acid EO modified ε-caprolactone modified triacrylate, 1,3 5-triacryloylhexahydro-s-triazine, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate tripropionate.

四官能以上のアクリレート類の例:
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、トリス(アクリロイルオキシ)ホスフェート。
Examples of tetra- or higher functional acrylates:
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate monopropionate, dipentaerythritol hexaacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester tetraacrylate, tris (acryloyloxy) phosphate.

メタクリレート類の例:
単官能アルキルメタクリレート類の例:
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート。
Examples of methacrylates:
Examples of monofunctional alkyl methacrylates:
Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, isoamyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl methacrylate, decyl methacrylate, lauryl methacrylate, stearyl methacrylate, isobornyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate , Dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate.

単官能含ヒドロキシメタクリレート類の例:
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピルメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート。
Examples of monofunctional hydroxymethacrylates:
2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-allyloxypropyl methacrylate, 2-methacryloyloxyethyl-2 -Hydroxypropyl phthalate.

単官能含ハロゲンメタクリレート類の例:
2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニルメタクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチルメタクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加メタクリレート。
Examples of monofunctional halogenated methacrylates:
2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate, 1H-hexafluoroisopropyl methacrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H- Heptadecafluorodecyl methacrylate, 2,6-dibromo-4-butylphenyl methacrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl methacrylate, 2,4,6-tribromophenol 3EO addition methacrylate.

単官能含エーテル基メタクリレート類の例:
2−メトキシエチルメタクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400メタクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタクリレート、エトキシジエチレングリコールメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレート、p−ノニルフェノキシエチルメタクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、グリシジルメタクリレート。
Examples of monofunctional ether-containing methacrylates:
2-methoxyethyl methacrylate, 1,3-butylene glycol methyl ether methacrylate, butoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol # 400 methacrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, methoxytripropylene glycol methacrylate, methoxypolypropylene glycol methacrylate, Ethoxydiethylene glycol methacrylate, 2-ethylhexyl carbitol methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxydiethylene glycol methacrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, cresyl polyethylene glycol methacrylate, p- Cycloalkenyl phenoxyethyl methacrylate, p- nonylphenoxy polyethylene glycol methacrylate, glycidyl methacrylate.

単官能含カルボキシルメタクリレート類の例:
β−カルボキシエチルメタクリレート、こはく酸モノメタクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−メタクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−メタクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−メタクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート。
Examples of monofunctional carboxyl-containing methacrylates:
β-carboxyethyl methacrylate, succinic acid monomethacryloyloxyethyl ester, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, 2-methacryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2-methacryloyloxypropyl hydrogen phthalate, 2-methacryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- Methacryloyloxypropyl tetrahydrophthalate.

その他の単官能メタクリレート類の例:
ジメチルアミノメチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート。
Examples of other monofunctional methacrylates:
Dimethylaminomethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminopropyl methacrylate, morpholinoethyl methacrylate, trimethylsiloxyethyl methacrylate, diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, caprolactone Modified-2-methacryloyloxyethyl acid phosphate.

二官能メタクリレート類の例:
1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール#200ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#300ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#600ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールビス(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)エーテル、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノベンゾエート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタクリレート、水素化ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタクリレート、PO変性ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジメタクリレート。
Examples of bifunctional methacrylates:
1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol # 200 dimethacrylate, polyethylene glycol # 300 Dimethacrylate, polyethylene glycol # 400 dimethacrylate, polyethylene glycol # 600 dimethacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, tetrapropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol # 400 dimethacrylate, polypropylene glycol # 700 dimethacrylate, neopenty Glycol dimethacrylate, neopentyl glycol PO modified dimethacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester dimethacrylate, caprolactone adduct dimethacrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, 1,6-hexanediol bis (2-hydroxy-3- (Methacryloyloxypropyl) ether, 1,9-nonanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate monostearate, pentaerythritol dimethacrylate monobenzoate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane Bisphenol A dimethacrylate, EO modified bisphenol A dimethacrylate, PO modified bisphenol A-dimethacrylate, hydrogenated bisphenol A dimethacrylate, EO-modified hydrogenated bisphenol A dimethacrylate, PO-modified hydrogenated bisphenol A dimethacrylate, bisphenol F dimethacrylate, EO-modified bisphenol F dimethacrylate, PO-modified bisphenol F dimethacrylate, EO-modified tetrabromobisphenol A dimethacrylate, tricyclodecane dimethylol dimethacrylate, isocyanuric acid EO-modified dimethacrylate.

三官能メタクリレート類の例:
グリセリンPO変性トリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリメタクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε−カプロラクトン変性トリメタクリレート、1,3,5−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレートトリプロピオネート。
Examples of trifunctional methacrylates:
Glycerin PO modified trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane EO modified trimethacrylate, trimethylolpropane PO modified trimethacrylate, isocyanuric acid EO modified trimethacrylate, isocyanuric acid EO modified ε-caprolactone modified tri Methacrylate, 1,3,5-trimethacryloyl hexahydro-s-triazine, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate tripropionate.

四官能以上のメタクリレート類の例:
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタクリレート、トリス(メタクリロイルオキシ)ホスフェート。
Examples of tetrafunctional or higher methacrylates:
Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate monopropionate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tetramethylolmethane tetramethacrylate, oligoester tetramethacrylate, tris (methacryloyloxy) phosphate.

アリレート類の例:
アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、イソシアヌル酸トリアリレート。
Examples of arylates:
Allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate, isocyanuric acid triarylate.

酸アミド類の例:
アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルメタクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルモルホリン。
Examples of acid amides:
Acrylamide, N-methylolacrylamide, diacetoneacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, acryloylmorpholine, methacrylamide, N-methylolmethacrylamide, diacetone methacrylamide, N, N -Dimethylmethacrylamide, N, N-diethylmethacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, methacryloylmorpholine.

スチレン類の例:
スチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシカルボニルスチレン、p−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン。
Examples of styrenes:
Styrene, p-hydroxystyrene, p-chlorostyrene, p-bromostyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, pt-butoxystyrene, pt-butoxycarbonylstyrene, pt-butoxycarbonyloxystyrene 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene.

他のビニル化合物の例:
酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等。
Examples of other vinyl compounds:
Vinyl acetate, vinyl monochloroacetate, vinyl benzoate, vinyl pivalate, vinyl butyrate, vinyl laurate, divinyl adipate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl 2-ethylhexanoate, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone etc.

上記のラジカル重合性化合物(B)は、以下に示すメーカーの市販品として、容易に入手することができる。例えば、共栄社油脂化学工業(株)社製の「ライトアクリレート」、「ライトエステル」、「エポキシエステル」、「ウレタンアクリレート」および「高機能性オリゴマー」シリーズ、新中村化学(株)社製の「NKエステル」および「NKオリゴ」シリーズ、日立化成工業(株)社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学(株)社製の「アロニックスM」シリーズ、大八化学工業(株)社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機化学工業(株)社製の「特殊アクリルモノマー」シリーズ、三菱レイヨン(株)社製の「アクリエステル」および「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬(株)社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリーズ、(株)日本触媒社製の「アクリル酸/メタクリル酸エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業(株)社製の「NICHIGO−UV紫光ウレタンアクリレートオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル(株)社製の「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、(株)興人社製の「機能性モノマー」シリーズ等があげられる。   Said radically polymerizable compound (B) can be easily obtained as a commercial item of the manufacturer shown below. For example, “Light acrylate”, “Light ester”, “Epoxy ester”, “Urethane acrylate” and “Highly functional oligomer” series manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd., Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. "NK Ester" and "NK Oligo" series, "Funkril" series manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., "Aronix M" series manufactured by Toagosei Co., Ltd., manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd. "Functional monomer" series, "Special acrylic monomer" series manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., "Acryester" and "Diabeam oligomer" series manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Nippon Kayaku Co., Ltd. "Kayarad" and "Kayamar" series manufactured by KK, "Acrylic acid / methacrylic acid ester monomer" series manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. "NICHIGO-UV purple light urethane acrylate oligomer" series manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. "Carboxylic acid vinyl ester monomer" series manufactured by Shin-Etsu Vinyl Acetate Co., Ltd. "Function" manufactured by Kojin Co., Ltd. Monomer "series and the like.

また以下に示す環状化合物もラジカル重合性化合物(B)としてあげられる。
三員環化合物の例:
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第17巻、3169頁(1979年)記載のビニルシクロプロパン類、マクロモレキュラー・ケミー・ラピッド・コミュニケーション(Makromol.Chem.Rapid Commun.)、第5巻、63頁(1984年)記載の1−フェニル−2−ビニルシクロプロパン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第23巻、1931頁(1985年)およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第21巻、4331頁(1983年)記載の2−フェニル−3−ビニルオキシラン類、日本化学会第50春期年会講演予稿集、1564頁(1985年)記載の2,3−ジビニルオキシラン類。
Moreover, the cyclic compound shown below is mention | raise | lifted as a radically polymerizable compound (B).
Examples of three-membered ring compounds:
Vinylcyclopropanes described in Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition (J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed.), Vol. 17, p. 3169 (1979), Macromolecular Chemie. Rapid Communication (Makromol. Chem. Rapid Commun.), Vol. 5, p. 63 (1984), 1-phenyl-2-vinylcyclopropanes, Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition ( J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., Vol. 23, 1931 (1985) and Journal of Polymer Science Polymer Letter Edition (J. Polym. Sci. Polym. Lett. Ed. ), Vol. 21, page 4331 (1983), 2-phenyl-3-vinyloxiranes, Proceedings of the 50th Annual Meeting of the Chemical Society of Japan, 564 (1985) 2,3-di-vinyl oxiranes described.

環状ケテンアセタール類の例:
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第20巻、3021頁(1982年)およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第21巻、373頁(1983年)記載の2−メチレン−1,3−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント(Polym.Preprints)、第34巻、152頁(1985年)記載のジオキソラン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第20巻、361頁(1982年)、マクロモレキュラー・ケミー(Makromol.Chem.)、第183巻、1913頁(1982年)およびマクロモレキュラー・ケミー(Makromol.Chem.)、第186巻、1543頁(1985年)記載の2−メチレン−4−フェニル−1,3−ジオキセパン、マクロモレキュルズ(Macromolecules)、第15巻、1711頁(1982年)記載の4,7−ジメチル−2−メチレン−1,3−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント(Polym.Preprints)、第34巻、154頁(1985年)記載の5,6−ベンゾ−2−メチレン−1,3−ジオセパン。
Examples of cyclic ketene acetals:
Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition (J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.), Volume 20, p. 3021 (1982) and Journal of Polymer Science Polymer Letter Edition (J. Polym. Sci. Polym. Lett. Ed.), Volume 21, page 373 (1983), 2-methylene-1,3-dioxepane, polymer pre-prints (Polym. Preprints), No. 34, 152 (1985), dioxolanes, Journal of Polymer Science, Polymer Letter Edition (J. Polym. Sci. Polym. Lett. Ed.), 20, 361 (1982) ), Macromolecular Chemie, Volume 183, 1913 (1982) and Macromolecular Chemie, Volume 186, 1-Methylene-4-phenyl-1,3-dioxepane described in page 1543 (1985), Macromolecules, Vol. 15, page 1711 (1982) 4,7-dimethyl-2- Methylene-1,3-dioxepane, 5,6-benzo-2-methylene-1,3-diosepan described in Polymer Prepreprints, Vol. 34, 154 (1985).

さらに、ラジカル重合性化合物(B)は、以下に示す文献に記載のものもあげることができる。例えば、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(1985年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)、遠藤剛編、「熱硬化性高分子の精密化」、(1986年、シーエムシー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、(2002年、シーエムシー)があげられる。   Furthermore, examples of the radical polymerizable compound (B) include those described in the following literature. For example, edited by Shinzo Yamashita et al., “Cross-linking agent handbook” (1981, Taiseisha), Kiyomi Kato edition, “UV / EB curing handbook (raw material edition)”, (1985, Polymer publication society), Radtech Research Meeting, Kiyoshi Akamatsu, “New Technology for Photosensitive Resins” (1987, CMC), Takeshi Endo, “Refinement of Thermosetting Polymers” (1986, CMC), Takiyama Soichiro, “Polyester resin handbook” (1988, Nikkan Kogyo Shimbun), Radtech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology” (2002, CMC).

本発明のラジカル重合性化合物(B)は、ただ一種のみ用いても、所望とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合したものを用いても構わない。また本発明の重合開始剤(A)は、ラジカル重合性化合物(B)100重量部に対して0.01から60重量部の範囲で用いるのが好ましい。またカルボキシル基含有ポリマー(C)は、ラジカル重合性化合物(B)100重量部に対して20から500重量部の範囲で用いるのが好ましく、さらに50から150重量部の範囲で用いるのがより好ましい。   The radically polymerizable compound (B) of the present invention may be used alone or in a mixture of two or more at any ratio in order to improve desired properties. Moreover, it is preferable to use the polymerization initiator (A) of this invention in 0.01-60 weight part with respect to 100 weight part of radically polymerizable compounds (B). The carboxyl group-containing polymer (C) is preferably used in the range of 20 to 500 parts by weight, more preferably in the range of 50 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the radical polymerizable compound (B). .

本発明の重合性組成物は、成膜性を高めるため有機高分子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等のポリマーフィルムに塗布して使用することが可能である。   The polymerizable composition of the present invention is mixed with a binder such as an organic polymer in order to improve the film formability, and is applied to a polymer film such as glass plate, aluminum plate, other metal plate, polyethylene terephthalate or polyethylene. It is possible to use.

本発明の重合性組成物と混合して使用可能なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987年)や「10188の化学商品」、657〜767頁(化学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分子重合体があげられる。   Examples of binders that can be used by mixing with the polymerizable composition of the present invention include polyacrylates, poly-α-alkyl acrylates, polyamides, polyvinyl acetals, polyformaldehydes, polyurethanes, polycarbonates, polystyrenes, Examples thereof include polymers and copolymers such as polyvinyl esters, and more specifically, polymethacrylate, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, novolac resin, phenol resin, Epoxy resins, alkyd resins, etc., supervised by Kiyoshi Akamatsu, "New Technology of Photosensitive Resins" (CMC, 1987) and "10188 Chemical Products", pages 657-767 (Chemical Industry Daily, 198) Year) industry known organic polymer described, and the like.

さらに本発明の重合性組成物は、いわゆるアルカリ現像型のフォトレジスト材料として画像形成用に用いる等の目的のために、下記に示すカルボキシル基含有ポリマーを添加して用いても良い。カルボキシル基含有ポリマーはアルカリ水溶液に対する溶解性を有するため、本発明の光重合性組成物を用いて作成した膜を部分的に硬化すれば、アルカリ水溶液に対する溶解度の違いから、いわゆるネガ型レジストのパターンを形成することが可能である。ここでカルボキシル基含有ポリマーとは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとアクリル酸との共重合体、メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの共重合体は単独であるいは2種以上混合しても差し支えない。   Furthermore, the polymerizable composition of the present invention may be used by adding the following carboxyl group-containing polymer for the purpose of using it as an alkali developing type photoresist material for image formation. Since the carboxyl group-containing polymer has solubility in an alkaline aqueous solution, if the film prepared using the photopolymerizable composition of the present invention is partially cured, a so-called negative resist pattern is formed due to the difference in solubility in the alkaline aqueous solution. Can be formed. Here, the carboxyl group-containing polymer includes a copolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and acrylic acid, or a copolymer of methacrylic acid ester, methacrylic acid and a vinyl monomer copolymerizable therewith. . These copolymers may be used alone or in combination of two or more.

ここで、メタアクリル酸エステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート等が挙げられる。   Here, as the methacrylic acid ester, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobornyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, etc. Is mentioned.

メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、テトラヒドリフルフリルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、アクリルアミド、スチレン等が挙げられる。   Methacrylic acid ester, methacrylic acid and vinyl monomers copolymerizable therewith include tetrahydrofurfuryl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3, Examples include 3-tetrafluoropropyl acrylate, tetrahydrfurfuryl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, acrylamide, and styrene.

本発明の重合性組成物は、粘度調整をはじめとする塗工適正の向上等を目的として、必要に応じて溶媒を添加して使用することも可能である。本発明の重合性組成物に添加して使用することのできる溶媒は特に限定されず、本発明の重合性組成物と均一に混合することのできる溶媒であればいかなるものも使用可能である。例えば、アルコール系、ケトン系、エステル系、芳香族系、炭化水素系、ハロゲン化炭化水素系等の公知の溶媒等があげられるが、これらに限定されるものではない。   The polymerizable composition of the present invention can be used by adding a solvent as necessary for the purpose of improving the coating suitability including viscosity adjustment. The solvent that can be used by adding to the polymerizable composition of the present invention is not particularly limited, and any solvent can be used as long as it can be uniformly mixed with the polymerizable composition of the present invention. For example, known solvents such as alcohol-based, ketone-based, ester-based, aromatic-based, hydrocarbon-based, and halogenated hydrocarbon-based solvents can be used, but the present invention is not limited to these.

また、本発明の重合性組成物は他の増感剤を用いなくとも十分な感度を有しているが、さらに感度向上や硬化後の膜特性を向上させる目的で、増感剤や他の光重合開始剤と併用することが可能である。   In addition, the polymerizable composition of the present invention has sufficient sensitivity without using other sensitizers, but for the purpose of further improving the sensitivity and improving the film properties after curing, other sensitizers and other sensitizers may be used. It can be used in combination with a photopolymerization initiator.

本発明の重合性組成物と混合して併用可能な増感剤としては、ベンゾフェノン類、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体等が挙げられ、その他さらに具体例には大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。上記、増感剤の中でチオキサントン誘導体としては、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等を挙げることができ、ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4,4’−ジメチルベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができ、クマリン類としては、クマリン1、クマリン338、クマリン102等を挙げることができ、ケトクマリン類としては、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Sensitizers that can be used in combination with the polymerizable composition of the present invention include benzophenones, unsaturated ketones typified by chalcone derivatives and dibenzalacetone, and benzyl and camphorquinone 1 , 2-diketone derivatives, benzoin derivatives, fluorene derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, merocyanine derivatives, oxonol derivatives, etc. Pigment, acridine derivative, azine derivative, thiazine derivative, oxazine derivative, indoline derivative, azulene derivative, azurenium derivative, squarylium derivative, porphyrin derivative, tetraphenylporphyrin derivative, Liarylmethane derivatives, tetrabenzoporphyrin derivatives, tetrapyrazinoporphyrazine derivatives, phthalocyanine derivatives, tetraazaporphyrazine derivatives, tetraquinoxalyloporphyrazine derivatives, naphthalocyanine derivatives, subphthalocyanine derivatives, pyrylium derivatives, thiopyrylium derivatives, tetraphylline Derivatives, annulene derivatives, spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organoruthenium complexes, and the like. Other specific examples include Ogahara Nobu et al., “Dye Handbook” (1986, Kodansha), The dyes and sensitizers described in Okawara Nobu et al., “Functional dye chemistry” (1981, CMC), Ikemori Tadasaburo et al., “Special functional materials” (1986, CMC) However, it is not limited to these, and other dyes and sensitizers that absorb light from the ultraviolet to the near-infrared region, and two or more of these may be used in any ratio as necessary. It doesn't matter. Among the sensitizers, thioxanthone derivatives include 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone. Examples of benzophenones include benzophenone, 4-methylbenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4′-dimethylbenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-bis. (Diethylamino) benzophenone and the like can be mentioned. Examples of coumarins include coumarin 1, coumarin 338 and coumarin 102. Examples of ketocoumarins include 3,3′-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin). ) And the like, but is not limited thereto.

本発明の重合性組成物と混合して併用可能な他の重合開始剤としては、チバスペシャリテーケミカルズ光重合開始剤総合カタログ(1997年発行)記載のイルガキュアー651、イルガキュアー184、ダロキュアー1173、イルガキュアー500、イルガキュアー1000、イルガキュアー2959、イルガキュアー907、イルガキュアー369、イルガキュアー1700、イルガキュアー149、イルガキュアー1800、イルガキュアー1850、イルガキュアー819、イルガキュアー784、イルガキュアー261、特公昭59−1281号公報、特公昭61−9621号公報ならびに特開昭60−60104号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号公報ならびに特開昭61−243807号公報記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号公報、特公昭44−6413号公報、特公昭47−1604号公報ならびにUSP第3567453号明細書記載のジアゾニウム化合物公報、USP第2848328号明細書、USP第2852379号明細書ならびにUSP第2940853号明細書記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号公報、特公昭37−13109号公報、特公昭38−18015号公報ならびに特公昭45−9610号公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162号公報、特開昭59−140203号公報ならびに「マクロモレキュルス(MACROMOLECULES)」、第10巻、第1307頁(1977年)記載のヨードニウム化合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭59−142205号公報記載のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許第109851号明細書、ヨーロッパ特許第126712号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.IMAG.SCI.)」、第30巻、第174頁(1986年)記載の金属アレン錯体、特開昭61−151197号公報記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(COORDINATION CHEMISTRY REVIEW)」、第84巻、第85〜第277頁(1988年)ならびに特開平2−182701号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号公報記載のアルミナート錯体、特開平2−157760号公報記載のホウ酸塩化合物、特開昭55−127550号公報ならびに特開昭60−202437号公報記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダゾール、四臭化炭素や特開昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物、特開平5−255347号公報記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、特開2001−264530号公報、特開2001−261761号公報、特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、USP3558309号明細書(1971年)、USP4202697号明細書(1980年)ならびに特開昭61−24558号公報記載のオキシムエステル化合物等があげられ、これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。   Other polymerization initiators that can be used in combination with the polymerizable composition of the present invention include Irgacure 651, Irgacure 184, Darocur 1173 described in the Ciba Specialty Chemicals Photopolymerization Initiator General Catalog (issued in 1997), IRGACURE 500, IRGACURE 1000, IRGACURE 2959, IRGACURE 907, IRGACURE 369, IRGACURE 1700, IRGACURE 149, IRGACURE 1800, IRGACURE 1850, IRGACURE 819, IRGACURE 784, IRGACURE 261 Triazine derivatives described in Japanese Patent Publication No. 59-1281, Japanese Patent Publication No. 61-9621 and Japanese Patent Publication No. 60-60104, Japanese Patent Publication No. 59-1504 and Japanese Patent Publication No. 61-243807. Peroxides, diazonium compound gazettes described in JP-B 43-23684, JP-B 44-6413, JP-B 47-1604 and USP 3567453, USP 2848328, USP 2852379 And an organic azide compound described in US Pat. No. 2,940,853, ortho described in JP-B 36-22062, JP-B 37-13109, JP-B 38-18015, and JP-B 45-9610 -Quinonediazides, including iodonium compounds described in JP-B-55-39162, JP-A-59-140203, and "Macromolecules", Vol. 10, page 1307 (1977) Various onium compounds, JP-A-59-142205 Azo compounds described, JP-A-1-54440, European Patent No. 109851, European Patent No. 126712, “Journal of Imaging Science (J.IMAG.SCI.)”, Volume 30 174 (1986), titanocenes described in JP-A-61-151197, “COORDINATION CHEMISTRY REVIEW”, Vol. 84, 85-277. (1988) and transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701, aluminate complexes described in JP-A-3-209477, and boric acid described in JP-A-2-157760. 2, 4 of the salt compound described in JP-A-55-127550 and JP-A-60-202437 , 5-triarylimidazole dimer, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,1′-biimidazole, carbon tetrabromide and JP Organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, sulfonium complexes or oxosulfonium complexes described in JP-A-5-255347, JP-A-2001-264530, JP-A-2001-261761, JP-A-2000-80068 Oxime ester compounds described in JP-A-2001-233842, USP3558309 (1971), USP4202697 (1980), and JP-A-61-25585, etc. The agent is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization of 100 weight. Preferably contained in the range of 0.01 to 10 parts by weight relative to.

また、本発明の重合性組成物は保存時の重合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可能である。   In addition, a thermal polymerization inhibitor can be added to the polymerizable composition of the present invention for the purpose of preventing polymerization during storage.

本発明の重合性組成物に添加可能な熱重合防止剤の具体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等をあげることができ、これらの熱重合防止剤は、ラジカル重合性化合物(B)100重量部に対して0.001から5重量部の範囲で添加されるのが好ましい。   Specific examples of the thermal polymerization inhibitor that can be added to the polymerizable composition of the present invention include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl-substituted hydroquinone, catechol, tert-butylcatechol, phenothiazine, and the like. The polymerization inhibitor is preferably added in the range of 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the radical polymerizable compound (B).

また、本発明の重合性組成物はさらに重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒を添加することが可能である。   Moreover, the polymerization composition of this invention can add the polymerization promoter represented by amine, thiol, a disulfide, etc. and a chain transfer catalyst for the purpose of further promoting superposition | polymerization.

本発明の重合性組成物に添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、USP第4414312号明細書や特開昭64−13144号公報記載のチオール類、特開平2−291561号公報記載のジスルフィド類、USP第3558322号明細書や特開昭64−17048号公報記載のチオン類、特開平2−291560号公報記載のO−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類があげられる。   Specific examples of the polymerization accelerator and chain transfer catalyst that can be added to the polymerizable composition of the present invention include, for example, amines such as N-phenylglycine, triethanolamine, N, N-diethylaniline, USP No. 4414312 Thiols described in the specification, JP-A No. 64-13144, disulfides described in JP-A No. 2-291561, thiones described in USP No. 3558322 and JP-A No. 64-17048, Examples include O-acylthiohydroxamate and N-alkoxypyridinethiones described in JP-A-2-291560.

本発明の重合性組成物はさらに目的に応じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、色素前駆体、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用しても良い。   Further, the polymerizable composition of the present invention can be used depending on the purpose, such as dyes, organic and inorganic pigments, phosphine, phosphonate, phosphite and other oxygen scavengers and reducing agents, antifoggants, antifading agents, antihalation agents, fluorescent enhancers. Whitening agents, surfactants, colorants, extenders, plasticizers, flame retardants, antioxidants, dye precursors, UV absorbers, foaming agents, antifungal agents, antistatic agents, magnetic substances and other various properties You may mix and use the additive to add, a dilution solvent, etc.

本発明の重合性組成物は重合反応に際して、紫外線や可視光線、近赤外線等、電子線等によるエネルギーの付与により重合し、目的とする重合物を得ることが可能であるが、エネルギーの付与をする光源として、300nmから400nmの波長領域に発光の主波長を有する光源が好ましい。300nmから400nmの波長領域に発光の主波長を有する光源の例としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、キセノンランプ、パルス発光キセノンランプ、重水素ランプ、蛍光灯、Nd−YAG3倍波レーザー、He−Cdレーザー、窒素レーザー、Xe−Clエキシマレーザー、Xe−Fエキシマレーザー、半導体励起固体レーザー等の各種光源が挙げられる。なお本明細書でいう、紫外線や近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線等の定義は久保亮五ら編「岩波理化学辞典第4版」(1987年、岩波)によった。   In the polymerization reaction, the polymerizable composition of the present invention can be polymerized by application of energy such as ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, electron beams, etc. to obtain a desired polymer, As the light source, a light source having a dominant wavelength of light emission in a wavelength region of 300 nm to 400 nm is preferable. Examples of light sources having a dominant wavelength of light emission in the wavelength region of 300 nm to 400 nm include ultrahigh pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, mercury xenon lamps, metal halide lamps, high power metal halide lamps, xenon lamps, and pulsed light emission. Examples of the light source include xenon lamps, deuterium lamps, fluorescent lamps, Nd-YAG triple wave lasers, He-Cd lasers, nitrogen lasers, Xe-Cl excimer lasers, Xe-F excimer lasers, and semiconductor-excited solid lasers. The definitions of ultraviolet rays, near-ultraviolet rays, visible light, near-infrared rays, infrared rays, and the like referred to in this specification are based on “Iwanami Rikagaku Dictionary 4th Edition” (1987, Iwanami) edited by Ryogo Kubo et al.

故に、バインダーその他とともに基板上に塗布して各種インキ、各種刷版材料、フォトレジスト、電子写真、ダイレクト刷版材料、光ファイバー、ホログラム材料等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さらには接着剤、粘着剤、粘接着剤、剥離コート剤、封止剤および各種塗料に応用することが可能である。   Therefore, various inks, various printing plate materials, photoresists, electrophotography, direct printing plate materials, optical fibers, hologram recording materials and other recording media such as microcapsules, and adhesion can be applied to the substrate together with a binder. It can be applied to adhesives, pressure-sensitive adhesives, adhesives, release coating agents, sealants and various paints.

(作用)
本発明のラジカル重合開始剤(A)は、300nmから450nmの波長領域の照射光に対して鋭敏なラジカル重合開始剤として機能する。その反応メカニズムについては以下のように考えられる。ラジカル重合開始剤(A)中のスルホニウム構造はそれ自身が、300nmから450nmの波長領域の照射光領域に好適な吸収を有しているため、増感機能を併せ持ったラジカル重合開始剤として機能する。すなわち、紫外線または近紫外線で光励起された場合、分子内で効率的な電子移動あるいはエネルギー移動を起こして、非常に速やかに光分解してラジカルを生成することが可能であるため高感度な重合開始剤として機能していると考えられる。またラジカル重合開始剤(A)中のスルホニウムイオンは電子受容性が高いため、光励起された際には自身の分解だけでなく、カウンターアニオンが電子供与性を有する場合にはさらに効率的に分解が進行すると考えられる。一般式(1)中のアニオンYが一般式(2)で表されるボレートアニオンの場合には、該ボレートアニオンは電子供与性が高いだけでなく、アニオン自身も分解してフリーラジカルを発生する。したがってこの場合、フリーラジカルは、スルホニウムカチオン、ボレートアニオン双方から発生するため極めて高い感度が得られる。
(Function)
The radical polymerization initiator (A) of the present invention functions as a radical polymerization initiator that is sensitive to irradiation light in a wavelength region of 300 to 450 nm. The reaction mechanism is considered as follows. Since the sulfonium structure in the radical polymerization initiator (A) itself has a suitable absorption in the irradiation light region of a wavelength region of 300 to 450 nm, it functions as a radical polymerization initiator having a sensitizing function. . That is, when excited by ultraviolet light or near-ultraviolet light, efficient electron transfer or energy transfer occurs in the molecule, and it is possible to generate radicals by photolysis very quickly. It is thought that it functions as an agent. Moreover, since the sulfonium ion in the radical polymerization initiator (A) has a high electron accepting property, it is not only decomposed itself when photoexcited, but more efficiently decomposed when the counter anion has an electron donating property. It is thought to progress. When the anion Y in the general formula (1) is a borate anion represented by the general formula (2), the borate anion not only has a high electron donating property but also decomposes itself to generate a free radical. To do. Therefore, in this case, since the free radical is generated from both the sulfonium cation and the borate anion, extremely high sensitivity can be obtained.

以下、実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例のみに、なんら限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、例中、部とは重量部を示す。まず、実施例に先だって、上述した本発明のラジカル重合開始剤(A)の合成例のいくつかを示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to only the following Example at all. In addition, unless otherwise indicated, a part shows a weight part in an example. First, prior to the examples, some of the synthesis examples of the above-described radical polymerization initiator (A) of the present invention are shown.

合成例(1)
化合物(1)の合成
Synthesis example (1)
Synthesis of compound (1)

4−ベンゾイル−ジフェニルスルフィドの合成
ジフェニルスルフィド80.0gを二硫化炭素450mlに溶解し、さらに塩化アルミニウム57.3gを添加して0℃にて攪拌下、ベンゾイルクロライド60.0gを二硫化炭素150mlに溶解した溶液を2時間かけて添加した。添加終了後、25℃で3時間攪拌した。反応液を氷水1500gにあけ、クロロホルム800mlにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンから再結晶して、4−ベンゾイル−ジフェニルスルフィドを109.2g得た(収率88%)。
Synthesis of 4-benzoyl-diphenyl sulfide Dissolve 80.0 g of diphenyl sulfide in 450 ml of carbon disulfide, add 57.3 g of aluminum chloride, and stir at 0 ° C. to 60.0 g of benzoyl chloride to 150 ml of carbon disulfide. The dissolved solution was added over 2 hours. After completion of the addition, the mixture was stirred at 25 ° C. for 3 hours. The reaction solution was poured into 1500 g of ice water and extracted with 800 ml of chloroform. The organic layer was dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered to remove the solvent, and the residue was recrystallized from chloroform-hexane to obtain 109.2 g of 4-benzoyl-diphenyl sulfide (yield 88). %).

4’−ベンゾイル−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィドの合成
4−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド94.3gをジクロロメタン400mlに溶解し、さらに塩化アルミニウム95.2gを添加して0℃にて攪拌下、ブロモアセチルブロマイド72.1gをジクロロメタン50mlに溶解した溶液を1時間かけて添加した。添加終了後、25℃で4時間攪拌した。反応液を氷水2000gにあけ、クロロホルム1000mlにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンから再結晶して、4’−ベンゾイル−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィドを125.8g得た(収率94%)。
Synthesis of 4′-benzoyl-4-bromoacetyl diphenyl sulfide 94.3 g of 4-benzoyl-diphenyl sulfide was dissolved in 400 ml of dichloromethane, 95.2 g of aluminum chloride was further added, and bromoacetyl bromide 72 was added with stirring at 0 ° C. A solution of 1 g dissolved in 50 ml dichloromethane was added over 1 hour. After completion of the addition, the mixture was stirred at 25 ° C. for 4 hours. The reaction solution was poured into 2000 g of ice water and extracted with 1000 ml of chloroform. The organic layer was dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered off to remove the solvent, and the residue was recrystallized from chloroform-hexane to obtain 125.8 g of 4′-benzoyl-4-bromoacetyldiphenyl sulfide. (94% yield).

ジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ブロマイドの合成
4’−ベンゾイル−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィド60.0gをジクロロメタン250mlに溶解して、ジメチルスルフィド18.1gを添加し、室温にて12時間攪拌した。溶液中に析出した結晶をろ過し、得られた結晶をクロロホルムにて洗浄した後、乾燥し、白色結晶としてジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ブロマイド62.9gを得た(収率91%)。
Synthesis of dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium bromide 60.0 g of 4′-benzoyl-4-bromoacetyldiphenyl sulfide was dissolved in 250 ml of dichloromethane, 18.1 g of sulfide was added and stirred at room temperature for 12 hours. The crystals precipitated in the solution were filtered, and the obtained crystals were washed with chloroform and then dried to give dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] as white crystals. 62.9 g of sulfonium bromide was obtained (yield 91%).

ジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ブチルトリフェニルボレート(化合物(1))の合成
ジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ブロマイド18.0gをイオン交換水900mlとメタノール3600mlからなる混合溶媒に溶解し、リチウム・ブチルトリフェニルボレート水溶液(重量濃度20.82%)54.79gを室温にて80分かけて滴下し、滴下終了後室温のまま1時間攪拌した。反応液にイオン交換水3600ml加え、さらに、90分攪拌した。析出物をろ過し、得られた固体をメチルイソブチルケトン1200mlに溶解して水にて抽出洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤を除去後、得られた溶液を、0℃に冷却したヘキサン2000ml中へ滴下した。生成した結晶をろ過し、ヘキサンで洗浄後、乾燥してジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ブチルトリフェニルボレート(化合物(1))を白色結晶として23.7g得た(収率92%)。
Synthesis of dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium butyltriphenylborate (compound (1)) Dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4) -Yl) -2-oxoethyl] sulfonium bromide 18.0 g was dissolved in a mixed solvent consisting of 900 ml of ion-exchanged water and 3600 ml of methanol, and 54.79 g of an aqueous solution of lithium butyltriphenylborate (weight concentration 20.82%) was room temperature. The mixture was added dropwise over 80 minutes and stirred at room temperature for 1 hour after the completion of the addition. 3600 ml of ion-exchanged water was added to the reaction solution, and further stirred for 90 minutes. The precipitate was filtered, and the resulting solid was dissolved in 1200 ml of methyl isobutyl ketone and extracted and washed with water. The organic layer was dried over magnesium sulfate, the desiccant was removed, and the resulting solution was added dropwise into 2000 ml of hexane cooled to 0 ° C. The produced crystals are filtered, washed with hexane, and dried to obtain dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium · butyltriphenylborate (compound (1)). 23.7 g of white crystals were obtained (yield 92%).

(合成例2)
化合物(3)の合成
(Synthesis Example 2)
Synthesis of compound (3)

ジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ヘキサフルオロアンチモネート(化合物(3))の合成
遮光下、化合物(1)の合成の項で合成した4’−ベンゾイル−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィド15.0gをアセトン200mlに溶解し、ジメチルスルフィド2.5gを添加し0℃に冷却した。0℃のまま、この溶液に、AgSbF(ヘキサフルオロアンチモネートの銀塩)12.5gをアセトン100mlに加えた溶液を1時間かけて滴下し、室温まで昇温後、24時間遮光のまま攪拌した。生成した固体をろ過により除去し、得られた溶液の溶媒を溜去して固体を得た。この固体をアセトン−ヘキサンにて再沈し、白色結晶としてジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ヘキサフルオロアンチモネート(化合物(3))を12.6g得た(収率55%)。
Synthesis of dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium hexafluoroantimonate (compound (3)) 15.0 g of 4′-benzoyl-4-bromoacetyldiphenyl sulfide was dissolved in 200 ml of acetone, 2.5 g of dimethyl sulfide was added, and the mixture was cooled to 0 ° C. Left 0 ° C., to this solution, AgSbF 6 and 12.5 g (silver salt of hexafluoroantimonate) was added dropwise over 1 hour a solution prepared by adding acetone 100 ml, was warmed up to room temperature, stirred remains shielding 24 hours did. The produced solid was removed by filtration, and the solvent of the obtained solution was distilled off to obtain a solid. This solid was reprecipitated with acetone-hexane, and dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium hexafluoroantimonate (compound (3)) was obtained as white crystals. 12.6 g was obtained (55% yield).

(合成例3)
化合物(4)の合成
(Synthesis Example 3)
Synthesis of compound (4)

ジメチル{2−〔4’−(o−トルオイル)−ジフェニルスルフィド−4−イル〕−2−オキソエチル}スルホニウム・ヘキサフルオロホスファート(化合物(4))の合成
(合成例1)の出発原料であるベンゾイルクロライドをo−トルオイルクロライドに置き替えた他は(合成例1)とほぼ同様の方法で、4’−(o−トルオイル)−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィドを良好な収率で得ることができた。この4’−(o−トルオイル)−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィド15.0gをジクロロメタン200mlに溶解した後、ジエチルエチルスルフィド3.8gを添加し0℃に冷却した。0℃のまま、この溶液に、AgPF(ヘキサフルオロホスファートの銀塩)8.9gをアセトン100mlに加えた溶液を1時間かけて滴下し、室温まで昇温後、24時間遮光のまま攪拌した。生成した固体をろ過により除去し、得られた溶液の溶媒を溜去して固体を得た。この固体をアセトン−ヘキサンにて再沈し、白色結晶としてジメチル{2−〔4’−(o−トルオイル)−ジフェニルスルフィド−4−イル〕−2−オキソエチル}スルホニウム・ヘキサフルオロホスファート12.3g(化合物(4))を得た(収率60%)。
Synthesis of dimethyl {2- [4 '-(o-toluoyl) -diphenyl sulfide-4-yl] -2-oxoethyl} sulfonium hexafluorophosphate (Compound (4)) This is a starting material for Synthesis Example 1 4 '-(o-toluoyl) -4-bromoacetyldiphenyl sulfide can be obtained in a good yield in substantially the same manner as in (Synthesis Example 1) except that benzoyl chloride is replaced with o-toluoyl chloride. did it. After dissolving 15.0 g of this 4 ′-(o-toluoyl) -4-bromoacetyl diphenyl sulfide in 200 ml of dichloromethane, 3.8 g of diethyl ethyl sulfide was added and cooled to 0 ° C. A solution obtained by adding 8.9 g of AgPF 6 (hexafluorophosphate silver salt) to 100 ml of acetone was added dropwise to this solution over 1 hour while keeping the temperature at 0 ° C., and the mixture was warmed to room temperature and then stirred for 24 hours while being shielded from light. did. The produced solid was removed by filtration, and the solvent of the obtained solution was distilled off to obtain a solid. This solid was reprecipitated with acetone-hexane, and 12.3 g of dimethyl {2- [4 '-(o-toluoyl) -diphenylsulfide-4-yl] -2-oxoethyl} sulfonium hexafluorophosphate as white crystals. (Compound (4)) was obtained (yield 60%).

(合成例4)
化合物(6)の合成
(Synthesis Example 4)
Synthesis of compound (6)

ジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・パーフルオロブタンスルホネート(化合物(6))の合成
化合物(1)の合成の項で合成したジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・ブロマイド8.7gをイオン交換水4000mlとアセトン300mlからなる混合溶媒に溶解し、室温にて攪拌下、パーフルオロブタンスルホン酸カリウム6.2gをイオン交換水300mlに溶解した溶液を30分かけて滴下した。滴下終了後の溶液を室温にてさらに6時間攪拌し、析出した結晶をろ過してイオン交換水でよく洗浄した。この結晶をメチルイソブチルケトン600mlに溶解し、イオン交換水に抽出洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤を除去後、ヘキサン2400mlを室温にて滴下し、得られた結晶をろ過し、ヘキサンで洗浄して乾燥することにより、ジメチル[2−(4’−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド−4−イル)−2−オキソエチル]スルホニウム・パーフルオロブタンスルホネート(化合物(6))を7.5g得た(収率59%)。
Synthesis of dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium perfluorobutanesulfonate (compound (6)) Dimethyl [2 synthesized in the synthesis section of compound (1) -(4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium bromide (8.7 g) was dissolved in a mixed solvent consisting of 4000 ml of ion-exchanged water and 300 ml of acetone, and perfluorobutane was stirred at room temperature. A solution prepared by dissolving 6.2 g of potassium sulfonate in 300 ml of ion-exchanged water was added dropwise over 30 minutes. The solution after completion of dropping was further stirred at room temperature for 6 hours, and the precipitated crystals were filtered and washed thoroughly with ion-exchanged water. This crystal is dissolved in 600 ml of methyl isobutyl ketone, extracted and washed in ion-exchanged water, the organic layer is dried over magnesium sulfate, the desiccant is removed, and 2400 ml of hexane is added dropwise at room temperature, and the resulting crystal is filtered. And washed with hexane and dried to obtain 7.5 g of dimethyl [2- (4′-benzoyl-diphenylsulfide-4-yl) -2-oxoethyl] sulfonium perfluorobutanesulfonate (compound (6)). Obtained (yield 59%).

(合成例5)
化合物(8)の合成
ジメチル{2−〔4’−(o−トルオイル)−ジフェニルスルフィド−4−イル〕−2−オキソエチル}スルホニウム・テトラフェニルボレート(化合物(8))の合成
(合成例1)の出発原料であるベンゾイルクロライドをo−トルオイルクロライドに置き替えた他は(合成例1)とほぼ同様の方法で、4’−(o−トルオイル)−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィドを良好な収率で得ることができた。この4’−(o−トルオイル)−4−ブロモアセチルジフェニルスルフィド10.0gをジクロロメタン200mlに溶解した後、ジエチルスルフィド2.5gを添加して約35℃にて48時間攪拌した。この溶液にエーテル200mlを添加し、生成した結晶をろ過し、ジクロロメタンにて洗浄して乾燥することにより、ジメチル{2−〔4’−(o−トルオイル)−ジフェニルスルフィド−4−イル〕−2−オキソエチル}スルホニウム・ブロマイド4.2gを得た(収率35%)。
(Synthesis Example 5)
Synthesis of Compound (8) Synthesis of Dimethyl {2- [4 ′-(o-Toluoyl) -diphenylsulfide-4-yl] -2-oxoethyl} sulfonium tetraphenylborate (Compound (8)) (Synthesis Example 1) 4 ′-(o-toluoyl) -4-bromoacetyldiphenyl sulfide was obtained in a similar manner as in (Synthesis Example 1) except that o-toluoyl chloride was replaced with o-toluoyl chloride. Could get at rate. After 10.0 g of this 4 ′-(o-toluoyl) -4-bromoacetyldiphenyl sulfide was dissolved in 200 ml of dichloromethane, 2.5 g of diethyl sulfide was added and stirred at about 35 ° C. for 48 hours. 200 ml of ether was added to this solution, and the resulting crystals were filtered, washed with dichloromethane and dried to give dimethyl {2- [4 ′-(o-toluoyl) -diphenylsulfide-4-yl] -2. -Oxoethyl} sulfonium bromide 4.2 g was obtained (yield 35%).

このジメチル{2−〔4’−(o−トルオイル)−ジフェニルスルフィド−4−イル〕−2−オキソエチル}スルホニウム・ブロマイド5.2gをイオン交換水300mlとジメチルスホキシド500mlからなる混合溶媒に溶解し、ナトリウム・テトラフェニルボレート水溶液(重量濃度10%)34.5gを室温にて30分かけて滴下した。析出物をメチルイソブチルケトン100mlにて抽出し、この有機層をさらにイオン交換水で抽出洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥して乾燥剤をろ過した後、ヘキサン500mlを室温にて滴下して白色結晶を得た。この結晶をろ過し、ヘキサンで洗浄後、乾燥し、白色結晶としてジメチル{2−〔4’−(o−トルオイル)−ジフェニルスルフィド−4−イル〕−2−オキソエチル}スルホニウム・テトラフェニルボレート(化合物(8))を4.6g得た(収率60%)。   Dissolve 5.2 g of this dimethyl {2- [4 '-(o-toluoyl) -diphenyl sulfide-4-yl] -2-oxoethyl} sulfonium bromide in a mixed solvent consisting of 300 ml of ion-exchanged water and 500 ml of dimethyl sulfoxide. 34.5 g of an aqueous sodium tetraphenylborate solution (weight concentration 10%) was added dropwise at room temperature over 30 minutes. The precipitate was extracted with 100 ml of methyl isobutyl ketone, and this organic layer was further extracted and washed with ion exchange water. The organic layer was dried over magnesium sulfate and the desiccant was filtered, and then 500 ml of hexane was added dropwise at room temperature to obtain white crystals. The crystals were filtered, washed with hexane, dried, and dimethyl {2- [4 '-(o-toluoyl) -diphenylsulfide-4-yl] -2-oxoethyl} sulfonium tetraphenylborate (compound) as white crystals. 4.6 g of (8)) was obtained (yield 60%).

(合成例6および合成例7)
上記した合成例1から合成例5の方法を応用することにより、本発明のラジカル重合開始剤である化合物(5)、化合物(7)も得ることができた。
(Synthesis Example 6 and Synthesis Example 7)
By applying the methods of Synthesis Example 1 to Synthesis Example 5 described above, compounds (5) and (7), which are radical polymerization initiators of the present invention, were also obtained.

上記合成例1から合成例8で合成した本発明のラジカル重合開始剤の元素分析の結果を表1として示した。
The results of elemental analysis of the radical polymerization initiator of the present invention synthesized in Synthesis Example 1 to Synthesis Example 8 are shown in Table 1.

(実施例1)
本発明のラジカル重合開始剤である化合物(1)6重量部と、ラジカル重合性化合物としてペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部と、バインダーとしてポリメチルメタクリレート100重量部と、溶剤としてシクロヘキサノン1600重量部とからなる重合性組成物を、第5表に示す組成にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコーターを用いてステンレス板上に塗工し、オーブン中40℃で10分間乾燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜厚は約1.5μmであった。この塗工膜に、高圧水銀ランプの光を365nmの光のみを選択的に透過するバンドパスフィルターを介して光照射することにより、300mJ/cmのエネルギーを与えた。光照射後におけるステンレス板上の塗工膜のアクリル基の特性吸収に相当する810cm−1の吸収強度を、反射式のIRを使用してモニターした。光照射後における、光照射前の上記特性吸収の強度を基準とした場合のアクリルモノマー消費率を算出したところ、アクリルモノマー消費率23%であった。
Example 1
From 6 parts by weight of the compound (1) which is a radical polymerization initiator of the present invention, 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate as a radical polymerizable compound, 100 parts by weight of polymethyl methacrylate as a binder, and 1600 parts by weight of cyclohexanone as a solvent The resulting polymerizable composition was blended with the composition shown in Table 5 to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto a stainless steel plate using a spin coater and dried in an oven at 40 ° C. for 10 minutes. The film thickness after removing the solvent by drying was about 1.5 μm. The coating film was irradiated with light from a high-pressure mercury lamp through a bandpass filter that selectively transmits only 365 nm light, thereby giving an energy of 300 mJ / cm 2 . The absorption intensity at 810 cm −1 corresponding to the characteristic absorption of the acrylic group of the coating film on the stainless steel plate after the light irradiation was monitored using a reflective IR. When the acrylic monomer consumption rate after the light irradiation was calculated based on the intensity of the above characteristic absorption before the light irradiation, the acrylic monomer consumption rate was 23%.

(実施例2から実施例6、および比較例1から比較例9)
実施例1におけるラジカル重合開始剤(A)である化合物(1)6重量部を、表3に示したラジカル重合開始剤6重量部に置き替えた他は実施例1と全く同じ操作にて実験を行い、アクリルモノマーの消費率を算出した。結果も表2に併せて示した。
(Example 2 to Example 6 and Comparative Example 1 to Comparative Example 9)
The experiment was carried out in exactly the same manner as in Example 1, except that 6 parts by weight of the compound (1) as the radical polymerization initiator (A) in Example 1 was replaced with 6 parts by weight of the radical polymerization initiator shown in Table 3. The consumption rate of the acrylic monomer was calculated. The results are also shown in Table 2.

本発明(実施例1から6)は、365nmの光照射により、増感剤を用いなくとも重合に関与するラジカルを発生し、アクリル基を消費させている。一方、比較例1から6は365nmの光照射を行っても、重合に関与していない。比較例6から9より、365nmに吸収を持つことが必ずしも感度向上に結びつかない。比較例1から9より、同一アニオンを持つラジカル重合開始剤どうしを比較した場合、本発明のカチオンを持つラジカル重合開始剤の方がいずれの場合も重合能力が高い。   In the present invention (Examples 1 to 6), irradiation with light of 365 nm generates radicals involved in polymerization without using a sensitizer and consumes acrylic groups. On the other hand, Comparative Examples 1 to 6 are not involved in the polymerization even when irradiated with 365 nm light. From Comparative Examples 6 to 9, having absorption at 365 nm does not necessarily lead to improvement in sensitivity. From Comparative Examples 1 to 9, when comparing radical polymerization initiators having the same anion, the radical polymerization initiator having a cation of the present invention has higher polymerization ability in any case.

(実施例7から10および比較例10から29)
本発明のラジカル重合開始剤である化合物(1)6重量部と、ラジカル重合性化合物としてペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部と、バインダーとしてポリメチルメタクリレート100重量部と、溶剤としてシクロヘキサノン1600重量部とからなる重合性組成物を、第5表に示す組成にて配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコーターを用いてステンレス板上に塗工し、オーブン中40℃で10分間乾燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜厚は約1.5μmであった。この塗工膜に、高圧水銀ランプの光を365nmの光のみを選択的に透過するバンドパスフィルターおよび光量調節のためのNDフィルターを介して10.0mW/cmの強度にて照射した。この光照射の間、反射式のIRを使用して、ステンレス板上の塗工膜のアクリル基の特性吸収に相当する810cm−1の吸収強度をモニターした。この吸収強度の経時変化から、光照射前の上記特性吸収の強度を基準とした場合のアクリルモノマー消費率を算出したところ、光照射10秒後ではアクリルモノマー消費率19%、光照射30秒後では同23%の消費率であった。
(Examples 7 to 10 and Comparative Examples 10 to 29)
From 6 parts by weight of the compound (1) which is a radical polymerization initiator of the present invention, 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate as a radical polymerizable compound, 100 parts by weight of polymethyl methacrylate as a binder, and 1600 parts by weight of cyclohexanone as a solvent The resulting polymerizable composition was blended with the composition shown in Table 5 to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto a stainless steel plate using a spin coater and dried in an oven at 40 ° C. for 10 minutes. The film thickness after removing the solvent by drying was about 1.5 μm. The coating film was irradiated with light from a high-pressure mercury lamp at an intensity of 10.0 mW / cm 2 through a band-pass filter that selectively transmits only 365 nm light and an ND filter for light intensity adjustment. During this light irradiation, a reflection IR was used to monitor an absorption intensity of 810 cm −1 corresponding to the characteristic absorption of the acrylic group of the coating film on the stainless steel plate. From this time-dependent change in absorption intensity, the acrylic monomer consumption rate was calculated based on the intensity of the above characteristic absorption before light irradiation. After 10 seconds of light irradiation, the acrylic monomer consumption rate was 19%, and after 30 seconds of light irradiation. The consumption rate was 23%.

本発明(実施例7から10)は、365nmの光照射により、増感剤を用いなくとも重合に関与するラジカルを発生し、アクリル基を消費させている。一方、比較例10から14より、本発明以外のラジカル重合開始剤は、365nmの光照射による感度が本発明のラジカル重合開始剤に比べ、著しく劣る。比較例11から14より、吸収を持つことが必ずしも感度向上に結びつかない。比較例15から24より、増感剤を用いることで、ラジカル重合を確認できるが、本発明には遠く及ばない。また、比較例25から29より、ジフェニルスルフィドを増感剤として併用しても、本発明のように増感剤一体型ラジカル重合開始剤と比較して、結果は著しく劣る。よって本発明のラジカル重合開始剤は効果が大きい。
In the present invention (Examples 7 to 10), irradiation with light of 365 nm generates radicals involved in polymerization without using a sensitizer and consumes acrylic groups. On the other hand, from Comparative Examples 10 to 14, the radical polymerization initiators other than the present invention are significantly inferior in sensitivity to the 365 nm light irradiation as compared with the radical polymerization initiator of the present invention. From Comparative Examples 11 to 14, having absorption does not necessarily lead to an improvement in sensitivity. From Comparative Examples 15 to 24, radical polymerization can be confirmed by using a sensitizer, but this is far from the present invention. Further, from Comparative Examples 25 to 29, even when diphenyl sulfide is used as a sensitizer, the results are remarkably inferior compared with the sensitizer-integrated radical polymerization initiator as in the present invention. Therefore, the radical polymerization initiator of the present invention is highly effective.

本発明のラジカル重合開始剤を用いた場合、公知のスルホニウム錯体を重合開始剤として用いた場合よりも感度が向上していることがわかる。また、公知のスルホニウム錯体を増感剤と併用して重合開始剤として用いた場合よりも感度が向上していることがわかる。   It can be seen that when the radical polymerization initiator of the present invention is used, the sensitivity is improved as compared with the case where a known sulfonium complex is used as the polymerization initiator. Moreover, it turns out that a sensitivity is improving rather than the case where a well-known sulfonium complex is used together with a sensitizer as a polymerization initiator.

本発明はエネルギー線の照射、特に300から450nmの光の照射に対して非常に高感度なラジカル発生剤として機能するラジカル重合開始剤を提供するものである。従って本発明のラジカル重合開始剤は、従来より用いられてきたエネルギー線の照射により発生するラジカルを触媒とした重合、架橋反応などを迅速かつ確実に進行させることができ、その結果として各種用途のエネルギー線に対する高感度化、あるいは反応が十分進行することによる各種用途の特性向上等が期待できる。本発明により、高感度化や特性向上が期待できる用途の例としては、重合あるいは架橋反応を利用した成形樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ブラックマトリクス用レジスト、液晶用フォトスペーサー、リアプロジェクション用スクリーン材料、光ファイバー、プラズマディスプレー用リブ材、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、マイクロマシン用部品製造用レジスト、絶縁材、ホログラム材料、導波路用材料、オーバーコート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、粘接着剤、剥離コート剤、各種デバイス等が挙げられる。   The present invention provides a radical polymerization initiator that functions as a radical generator very sensitive to irradiation with energy rays, particularly irradiation with light of 300 to 450 nm. Therefore, the radical polymerization initiator of the present invention can rapidly and surely proceed polymerization and crosslinking reaction using radicals generated by irradiation of energy rays, which have been conventionally used, as a result. It can be expected to increase the sensitivity to energy rays or to improve the characteristics of various applications by sufficiently proceeding the reaction. Examples of applications that can be expected to increase sensitivity and improve properties according to the present invention include molding resins, casting resins, photo-molding resins, sealants, dental polymerization resins, printing inks that utilize polymerization or crosslinking reactions, Paints, photosensitive resins for printing plates, color proofs for printing, resists for color filters, resists for black matrices, photo spacers for liquid crystals, screen materials for rear projection, optical fibers, ribs for plasma displays, dry film resists, for printed circuit boards Resist, Photoresist for semiconductor, Resist for microelectronics, Resist for manufacturing micro machine parts, Insulating material, Hologram material, Waveguide material, Overcoat agent, Adhesive, Adhesive, Release agent, Optical recording medium, Adhesive Examples thereof include an adhesive, a release coating agent, and various devices.

化合物(1)、化合物(2)の吸収スペクトル(アセトニトリル、10−5M)Absorption spectra of compound (1) and compound (2) (acetonitrile, 10 −5 M)

Claims (5)

下記一般式(1)で表記されるラジカル重合開始剤。
一般式(1)
(式中、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、またはハロゲン原子を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のうち一つは、
であり、かつR01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09およびR10のうち少なくとも一つは、
を表す。
11およびR12は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはアルケニル基を表す。
21およびR22は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。
31はアルキル基、またはアリール基を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09、R10、R11、R12、R21、およびR22は、一体となって、環を形成してもよい。
は任意のアニオンを表す。)
A radical polymerization initiator represented by the following general formula (1).
General formula (1)
(Wherein R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, An acyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or a halogen atom is represented.
Provided that one of R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 is
And at least one of R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 and R 10 is
Represents.
R 11 and R 12 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxyl group or an alkenyl group.
R 21 and R 22 each independently represents an alkyl group, an aryl group or an alkenyl group.
R 31 represents an alkyl group or an aryl group.
However, R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 , R 10 , R 11 , R 12 , R 21 , and R 22 are integrated. A ring may be formed.
X represents an arbitrary anion. )
03またはR08が、
(R11およびR12は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはアルケニル基を表す。
21およびR22は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。
ただし、R01、R02、R03、R04、R05、R06、R07、R08、R09、R10、R11、R12、R21、およびR22は、一体となって、環を形成してもよい。)
である請求項1記載のラジカル重合開始剤。
R 03 or R 08 is
(R 11 and R 12 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxyl group or an alkenyl group.
R 21 and R 22 each independently represents an alkyl group, an aryl group or an alkenyl group.
However, R 01 , R 02 , R 03 , R 04 , R 05 , R 06 , R 07 , R 08 , R 09 , R 10 , R 11 , R 12 , R 21 , and R 22 are integrated. A ring may be formed. )
The radical polymerization initiator according to claim 1, wherein
が、下記一般式(2)で表記されるボレートである請求項1または2記載のラジカル重合開始剤。
一般式(2)
(ただし、式中R51、R52、R53、およびR54は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、または置換基を有してもよい脂環基より選ばれる基を示す。)
Wherein X -, a radical polymerization initiator according to claim 1 or 2, wherein the borate is denoted by the following general formula (2).
General formula (2)
(However, in the formula, R 51 , R 52 , R 53 , and R 54 each independently have an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or a substituent. And a group selected from an alkenyl group that may be substituted, an alkynyl group that may have a substituent, or an alicyclic group that may have a substituent.
請求項1〜3いずれか記載のラジカル重合開始剤(A)とラジカル重合性化合物(B)とを含んでなる重合性組成物。   A polymerizable composition comprising the radical polymerization initiator (A) according to any one of claims 1 to 3 and a radical polymerizable compound (B). 請求項4記載の重合性組成物に300nmから450nmの波長領域の光を含むエネルギー線を照射して重合させる、重合物の製造方法。   A method for producing a polymer, wherein the polymerizable composition according to claim 4 is polymerized by irradiation with an energy ray containing light in a wavelength region of 300 nm to 450 nm.
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