JP2006059146A - Semiconductor component and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体部品およびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor component and a manufacturing method thereof.
一般的に、半導体チップなどの微小な部品は、その大きさが数10μmから数100μmと非常に小さいために、取り扱いが非常に困難であった。近年、半導体チップなどはさらに小型化する傾向にあり、半導体チップを個別に直接保持して、基板上に整列、配置することは困難であった。そこで、これまでに、例えば、特許文献1において、微小な半導体チップを個別に直接保持することなく、基板上に所定の向きに配置する方法などが提案されている。 In general, a minute part such as a semiconductor chip is very difficult to handle because its size is as small as several tens to several hundreds of micrometers. In recent years, semiconductor chips and the like tend to be further miniaturized, and it has been difficult to directly hold the semiconductor chips individually and align and arrange them on the substrate. So far, for example, Patent Document 1 has proposed a method of arranging minute semiconductor chips in a predetermined direction on a substrate without directly holding them individually.
また、特許文献2では、半導体チップなどの微小な部品を、所定の向きに整列させて、基板などの所定の位置に供給する供給装置が提案されている。 Further, Patent Document 2 proposes a supply device that supplies minute parts such as semiconductor chips to a predetermined position such as a substrate by aligning them in a predetermined direction.
しかしながら、特許文献1および特許文献2には、個々の半導体チップを所望の基材に対して所定の位置となるように再配置する方法は開示されていない。 However, Patent Literature 1 and Patent Literature 2 do not disclose a method of rearranging individual semiconductor chips so as to be in a predetermined position with respect to a desired base material.
個々の半導体チップを所望の基材に再配置するためには、基板などから半導体チップを取り出して、再度、基材上に整列、配置する作業は人手もしくはロボットアームに頼らざるを得ない。人手による半導体チップの再配置では、半導体チップを脱落して、破損するおそれがあるので、半導体チップの取り扱いには細心の注意が要求される。また、ロボットアームを使用すると、配置速度が遅くなってしまう。このように、従来の半導体チップは、人手またはロボットアームにより再配置すると、生産性が低くなってしまう。
本発明は、前記事情に鑑みてなされたもので、基板などから取り出すことなく、個々の半導体チップを所望の基材に対して所定の位置となるように再配置することを可能とする半導体部品およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and enables semiconductor components to be rearranged so that individual semiconductor chips are located at predetermined positions with respect to a desired base material without being taken out from a substrate or the like. And it aims at providing the manufacturing method.
本発明は、上記課題を解決するために、基材と、該基材上に整列して配された複数のアンテナと、該複数のアンテナのそれぞれに電気的に接続された複数の半導体チップと、を備えた半導体部品を提供する。 In order to solve the above problems, the present invention provides a base material, a plurality of antennas arranged in alignment on the base material, and a plurality of semiconductor chips electrically connected to each of the plurality of antennas. And providing a semiconductor component.
かかる構成によれば、本発明の半導体部品をダイシングにより切り分けて、RFID装置の少なくとも一部が基材に接してなる微小な半導体部品とすることができる。 According to such a configuration, the semiconductor component of the present invention can be cut by dicing to make a minute semiconductor component in which at least a part of the RFID device is in contact with the base material.
本発明は、半導体ウエハを熱可塑性樹脂フィルム上に接着する工程Aと、前記熱可塑性樹脂フィルム上に接着された半導体ウエハのみをダイシングする工程Bと、前記熱可塑性樹脂フィルムを延伸して、前記工程Bにおいてダイシングされた半導体ウエハを複数の半導体チップに分離し、該複数の半導体チップを延伸された熱可塑性樹脂フィルム上に整列させて配する工程Cと、前記工程Cにおいて延伸された熱可塑性樹脂フィルムを、複数のアンテナが前記複数の半導体チップと同様に整列して配された基材に重ね合わせ、前記延伸された熱可塑性樹脂フィルム上に整列して配された複数の半導体チップのそれぞれを、前記複数のアンテナのそれぞれと電気的に接続する工程Dと、前記基材に重ね合わせた熱可塑性樹脂フィルムを前記半導体チップから剥離する工程Eと、を備えた半導体部品の製造方法を提供する。 The present invention includes a step A for adhering a semiconductor wafer on a thermoplastic resin film, a step B for dicing only the semiconductor wafer adhered on the thermoplastic resin film, and stretching the thermoplastic resin film, The semiconductor wafer diced in step B is separated into a plurality of semiconductor chips, and the plurality of semiconductor chips are arranged and arranged on the stretched thermoplastic resin film, and the stretched thermoplastic in the step C A resin film is superimposed on a base material in which a plurality of antennas are aligned and arranged in the same manner as the plurality of semiconductor chips, and each of the plurality of semiconductor chips arranged in alignment on the stretched thermoplastic resin film. Are electrically connected to each of the plurality of antennas, and a thermoplastic resin film superimposed on the base material is converted into the semiconductor. To provide a method of manufacturing a semiconductor component and a step E of peeling the chip.
係る構成によれば、熱可塑性樹脂フィルムの材質、延伸方向、延伸倍率などを制御することにより、半導体ウエハをダイシングして切り分けられた複数の半導体チップを個別に分離して、高精度に所定の間隔をおいて、延伸された熱可塑性樹脂フィルム上に配することができる。したがって、複数のRFID装置が基材上に所定の間隔をおいて等間隔に配された半導体部品を容易に製造することができる。 According to such a configuration, by controlling the material of the thermoplastic resin film, the stretching direction, the stretching ratio, and the like, a plurality of semiconductor chips that have been cut by dicing the semiconductor wafer are individually separated, and a predetermined precision is obtained. It can arrange | position on the stretched thermoplastic resin film at intervals. Therefore, it is possible to easily manufacture a semiconductor component in which a plurality of RFID devices are arranged on a base material at predetermined intervals.
本発明の半導体部品は、ダイシングにより切り分けて、RFID装置の少なくとも一部が基材に接してなる微小な半導体部品とすることができる。得られた微小な半導体部品は、個々に取り扱うことが容易であるので、この微小な半導体部品を他の基材などに再配置することも容易である。 The semiconductor component of the present invention can be divided into small semiconductor components in which at least a part of the RFID device is in contact with the base material by cutting by dicing. Since the obtained minute semiconductor components can be easily handled individually, it is also easy to rearrange the minute semiconductor components on another substrate or the like.
本発明の半導体部品の製造方法によれば、熱可塑性樹脂フィルムの材質、延伸方向、延伸倍率などを制御することにより、半導体ウエハをダイシングして切り分けられた複数の半導体チップを個別に分離して、高精度に所定の間隔をおいて、延伸された熱可塑性樹脂フィルム上に配することができる。したがって、複数のRFID装置が基材上に所定の間隔をおいて等間隔に配された半導体部品を容易に製造することができる。また、この半導体部品を所定の大きさにダイシングするのみで、大きさの等しい複数の微小な半導体部品を製造することができるので、製造効率を向上することができる。 According to the semiconductor component manufacturing method of the present invention, by controlling the material of the thermoplastic resin film, the stretching direction, the stretching ratio, etc., the semiconductor wafer is diced and separated into a plurality of semiconductor chips. The film can be placed on the stretched thermoplastic resin film at a predetermined interval with high accuracy. Therefore, it is possible to easily manufacture a semiconductor component in which a plurality of RFID devices are arranged on a base material at predetermined intervals. In addition, since a plurality of minute semiconductor components having the same size can be manufactured simply by dicing the semiconductor component into a predetermined size, the manufacturing efficiency can be improved.
以下、本発明を実施した半導体部品およびその製造方法について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, a semiconductor component embodying the present invention and a manufacturing method thereof will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の半導体部品の一実施形態を示す概略斜視図であり、(b)は(a)の破線で囲んだ部分Aを拡大した図である。
図1中、符号10は半導体部品、11は基材、12はアンテナ、13は半導体チップ、14はRFID機能を有する半導体装置をそれぞれ示している。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an embodiment of a semiconductor component of the present invention, and (b) is an enlarged view of a portion A surrounded by a broken line in (a).
In FIG. 1,
この実施形態の半導体部品10は、基材11と、基材11の一方の面11aに等間隔に配された複数のコイル状のアンテナ12と、この複数のアンテナ12のそれぞれに電気的に接続された複数の半導体チップ13とから概略構成されている。
The
また、この半導体部品10では、一対のアンテナ12と半導体チップ13が、それぞれに設けられた接点(図示略)において、導電性ペースト、または、はんだを介して電気に接続され、RFID(Radio Frequency IDentification)機能を有する半導体装置(以下、「RFID装置」と略す。)14をなしている。そして、このRFID装置14は、基材11の一方の面11aに等間隔に配されている。
In the
基材11としては、少なくともアンテナ12および半導体チップ13が設けられる領域が電気絶縁性の材料からなり、半導体部品10の保管温度雰囲気(0℃〜60℃)において液状化せず、かつ、半導体チップ13が破壊される温度以下(半導体チップ13の耐熱内)で液状化する材料からなる平面視の形状が円形状、矩形状、正方形状などの平板、フィルム、シートなどが挙げられる。さらに、基材11の厚みや幅は、1つのRFID装置14のみを有するように半導体部品10をダイシングにより切り分けた場合に得られる微小な半導体部品の用途などに応じて適宜設定される。
As the
このような基板11をなす材料としては、例えば、ガラス繊維、アルミナ繊維などの無機繊維またはポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの有機繊維からなる織布、不織布、マット、紙あるいはこれらを組み合わせたもの、あるいはこれらに樹脂ワニスを含浸させて成形した複合材、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエンスチレン共重合体系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂などの熱可塑性樹脂、あるいはこれらにマット処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、フレームプラズマ処理およびオゾン処理、あるいは各種易接着処理などの表面処理を施したものなどの公知のものから選択して用いられる。
Examples of the material forming the
アンテナ12は、導電性ペーストからなる導電性の膜、導電性の箔などからなる導電体である。
アンテナ12を形成する導電体をなす導電性ペーストとしては、例えば、銀粉末、金粉末、白金粉末、アルミニウム粉末、パラジウム、ロジウムなどの粉末、カーボン粉末(カーボンブラック、カーボンナノチューブなど)などの導電微粒子を樹脂組成物に配合したものが挙げられる。この導電性ペーストをなす樹脂組成物としては、熱硬化型樹脂組成物、光硬化型樹脂組成物、浸透乾燥型樹脂組成物、溶剤揮発型樹脂組成物が挙げられる。
The
Examples of the conductive paste forming the conductor forming the
上記のような導電性微粒子を樹脂組成物に配合した導電性ペーストとしては、具体的には、導電微粒子を60質量%以上含有し、熱可塑性樹脂のみ、あるいは熱可塑性樹脂と架橋性樹脂(特にポリエステルとイソシアネートによる架橋系樹脂など)とのブレンド樹脂組成物とし、ポリエステル系樹脂を10質量%以上含有するもの、すなわち溶剤揮発型あるいは架橋/熱可塑併用型(但し熱可塑性樹脂を50質量%以上含有するもの)のものや、導電性微粒子を50質量%以上含有し、架橋性樹脂(エポキシ樹脂のフェノール硬化系、あるいはエポキシ樹脂のスルホニウム塩硬化系など)のみ、あるいは熱可塑性樹脂と架橋性樹脂とのブレンド樹脂組成物としたもの、すなわち架橋型かあるいは架橋/熱可塑併用型のものなどが好適に用いられる。 Specifically, the conductive paste in which the conductive fine particles as described above are blended with the resin composition contains 60% by mass or more of the conductive fine particles, and includes only the thermoplastic resin or the thermoplastic resin and the crosslinkable resin (particularly, Blended resin composition of polyester and isocyanate-based crosslinked resin, etc., containing polyester resin at 10% by mass or more, that is, solvent volatile type or cross-linked / thermoplastic combined type (however, thermoplastic resin at 50% by mass or more) Containing) or conductive fine particles in an amount of 50% by mass or more, and only a crosslinkable resin (such as a phenol-cured epoxy resin or a sulfonium salt-cured epoxy resin), or a thermoplastic resin and a crosslinkable resin. A blended resin composition, ie, a cross-linked type or a cross-linked / thermoplastic type is preferably used. That.
アンテナ12を形成する導電体をなす導電性の箔としては、銅箔、銀箔、金箔、白金箔などが挙げられる。
Examples of the conductive foil that forms the conductor forming the
半導体チップ13としては、特に限定されず、アンテナ12を介して非接触状態にて情報の書き込みおよび読み出しが可能で、かつ、非接触型ICタグや非接触型ICラベル、あるいは非接触型ICカードなどのRDIFメディアに適用可能なものであればいかなるものでも用いられる。
The
また、アンテナ12と半導体チップ13を電気的に接続するために用いられる導電性ペーストとしては、上記のアンテナ12を形成する導電体をなす導電性ペーストと同様のものが挙げられる。
Moreover, as the conductive paste used for electrically connecting the
さらに、アンテナ12と半導体チップ13を電気的に接続するために用いられるはんだとしては、特に限定されないが、両者の接続時に、はんだの熱によって半導体チップ13が破壊されることを防止するために、低融点はんだが望ましい。また、アンテナ12と半導体チップ13を電気的に接続するためには、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電フィルム)工法、ACP(Anisotropic Conductive Paste:異方性導電ペースト)工法、NCF(Non Conductive Resin Film:無導電粒子フィルム)工法、NCP(Non Conductive Resin Paste:無導電粒子ペースト)工法などを用いることができる。
Furthermore, the solder used for electrically connecting the
なお、この実施形態では、基材11の一方の面11aに複数のアンテナ12が等間隔に配された半導体部品10を例示したが、本発明の半導体部品はこれに限定されない。本発明の半導体部品にあっては、基材の一方の面に複数のアンテナが整列して配されていればよく、必ずしもアンテナが等間隔に配されていなくてもよい。すなわち、この実施形態では、RFID装置14が基材11の一方の面11aに等間隔に配された半導体部品10を例示したが、本発明の半導体部品にあっては、基材の一方の面にRFID装置が整列して配されていればよく、必ずしもRFID装置が等間隔に配されていなくてもよい。
In this embodiment, the
また、この実施形態では、アンテナ12を基材11の一方の面11aにコイル状に形成した半導体部品10を例示したが、本発明の半導体部品はこれに限定されない。本発明の半導体部品にあっては、アンテナが基材の一方の面にポール状、ループ状に形成されていてもよい。
Moreover, in this embodiment, although the
さらに、この実施形態では、基材11と、その一方の面11aに等間隔に配された複数のRFID装置14とからなる半導体部品10を例示したが、本発明の半導体部品はこれに限定されない。本発明の半導体部品にあっては、RFID装置が熱可塑性樹脂などからなる被覆材で被覆されていてもよい。このようにすれば、半導体部品の取り扱いにおいて、半導体チップが基材から脱落して、破損するのを防止することができる。また、半導体部品をダイシングして、微小な半導体部品に切り分ける際に、半導体チップが損傷するのを防止することができる。
Furthermore, in this embodiment, although the
この実施形態の半導体部品10は、ダイシングにより、1つのRFID装置14のみを有するように切り分けて、RFID装置14の少なくとも一部が切り分けられた基材11に接してなる微小な半導体部品とすることができる。したがって、得られた微小な半導体部品は、個々に取り扱うことが容易であるので、この微小な半導体部品を他の基材などに再配置することも容易である。また、この微小な半導体部品は、非接触型ICタグや非接触型ICラベル、あるいは非接触型ICカードなどのRDIFメディアに適用することができる。
The
次に、図2〜図8を参照して、本発明に係る半導体部品の製造方法の一実施形態を説明する。
この実施形態では、まず、図2に示すように、接着部材(図示略)を介して、円盤状の半導体ウエハ21を、円盤状の熱可塑性樹脂からなるフィルム(以下、「熱可塑性樹脂フィルム」と略す。)22の一方の面22aに接着し、図3に示すように熱可塑性樹脂フィルム22に半導体ウエハ21を積み重ねる(工程A)。
Next, with reference to FIGS. 2-8, one Embodiment of the manufacturing method of the semiconductor component based on this invention is described.
In this embodiment, first, as shown in FIG. 2, a disc-shaped
半導体ウエハ21としては、所定の大きさにダイシングすることにより、非接触型ICタグや非接触型ICラベル、あるいは非接触型ICカードなどのRDIFメディアに適用可能なものであればいかなるものでも用いられる。
Any
熱可塑性樹脂フィルム22としては、一般的なフィルムの延伸法である一軸延伸法や二軸延伸法に適用できるものであれば特に限定されず、いかなるものでも用いられる。熱可塑性樹脂フィルム22としては、例えば、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエンスチレン共重合体系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂などの熱可塑性樹脂からなるフィルム、あるいはこのようなフィルムに必要に応じて可塑剤が配合されたものなどが用いられる。また、熱可塑性樹脂フィルム22を延伸する際の熱によって半導体ウエハ21が破壊されることを防止するためには、熱可塑性樹脂フィルム22としては、60℃〜150℃程度で延伸可能なもの、すなわち、ガラス転移点が60℃〜150℃程度ものが望ましい。
The
この工程Aにおいて、半導体ウエハ21を熱可塑性樹脂フィルム22に接着するために用いられる接着部材としては、後段の工程において、熱可塑性樹脂フィルム22を延伸する際にも、半導体ウエハ21をダイシングしてなる半導体チップを熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aの所定の位置に精確かつ強力に固定し、熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aから脱落しない程度の接着力を有するものが望ましい。すなわち、このような接着部材としては、熱可塑性樹脂フィルム22を延伸する際に加えられる程度の熱や引張力によって、接着力の変化しないものが望ましい。加えて、このような接着部材としては、後段の工程において、熱可塑性樹脂フィルム21を、半導体ウエハ21をダイシングしてなる半導体チップから剥離することから、貼着後も剥離が可であり、剥離後は再貼付が不可な接着部材が望ましい。
In this process A, as an adhesive member used for bonding the
貼着後も剥離が可であり、剥離後は再貼付が不可な接着部材としては、熱融着可能な熱可塑性樹脂フィルムが挙げられる。このような熱融着可能な熱可塑性樹脂フィルムとしては、110gf/25mm〜170gf/25mm程度の剥離力を有する材料が用いられる。このような熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体およびこれらの金属架橋物などからなるフィルムが挙げられ、これらの中でも透明なものが望ましい。 Examples of the adhesive member that can be peeled after sticking and cannot be stuck again after peeling include a thermoplastic resin film that can be heat-sealed. As such a heat-sealable thermoplastic resin film, a material having a peeling force of about 110 gf / 25 mm to 170 gf / 25 mm is used. Examples of such a thermoplastic resin film include polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene. -Films composed of acrylic acid ester copolymers and cross-linked products of these metals can be mentioned, and among these, transparent ones are desirable.
次いで、図4に示すように、熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに接着された半導体ウエハ21のみをダイシングして、複数の微小な半導体チップ23、23、・・・に切り分ける(工程B)。
Next, as shown in FIG. 4, only the
この工程Bにおいて、半導体ウエハ21をダイシングする方法としては、ブレードダイシング、レーザダイシングなどが用いられる。また、この工程Bでは、半導体ウエハ21のダイシングと同時に熱可塑性樹脂フィルム22のダイシングを行わない。この工程Bにおいて、ダイシングにより熱可塑性樹脂フィルム22が傷付くと、延伸した際に、熱可塑性樹脂フィルム22が裂けたり、個々の半導体チップを所定の間隔をおいて分離することができなくなるおそれがある。
In this step B, as a method for dicing the
次いで、熱可塑性樹脂フィルム22を延伸して、工程Bにおいて半導体ウエハ21をダイシングして切り分けられた半導体チップ23、23、・・・を個別に分離して、図5に示すように、半導体チップ23、23、・・・を所定の間隔をおいて、延伸された熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに等間隔に配する(工程C)。
Next, the
この工程Cにおいて、熱可塑性樹脂フィルム22を延伸する方法としては、公知の一軸延伸フィルム成形装置を用いる縦一軸延伸法(フィルムの長手方向に沿って延伸する方法)、一軸延伸フィルム成形装置を用いる横一軸延伸法(フィルムの長手方向に垂直に延伸する方法)、二軸延伸フィルム成形装置を用いる同時二軸延伸法(フィルムの長手方向に沿う延伸およびフィルムの長手方向に垂直な延伸を同時に行う方法)、二軸延伸フィルム成形装置を用いる逐次二軸延伸法(フィルムの長手方向に沿う延伸とフィルムの長手方向に垂直な延伸を別々に行う方法)などが用いられる。これらの方法を用いて、半導体チップ23、23、・・・が延伸された熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに、所定の間隔をおいて等間隔に配されるように熱可塑性樹脂フィルム22を延伸するには、熱可塑性樹脂フィルム22の延伸方向、延伸倍率(伸び)などを調整する。また、半導体チップ23、23、・・・同士の間隔は、別の工程において、基材に上に所定の間隔をおいて等間隔に配された複数のアンテナの配置に対応するように設定される。
In this step C, as a method of stretching the
また、この工程Cにおいて、熱可塑性樹脂フィルム22を延伸する際に、熱可塑性樹脂フィルム22に加える熱の温度は、半導体ウエハ21(半導体チップ23)が破壊されない温度の150℃以下であることが望ましい。
Further, in this step C, when the
一方、図6に示すように、複数のコイル状のアンテナ32、32、・・・が、一方の面31aに等間隔に配された基材31を用意する。この基材31では、上記の延伸された熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに配された半導体チップ23、23、・・・に対応する位置に、アンテナ32、32、・・・が配されている。
基材31の一方の面31aにアンテナ32、32、・・・を形成するには、基材31の一方の面31aに、スクリーン印刷により導電性ペーストを所定のパターンに印刷した後、導電性ペーストを乾燥するか、あるいは、導電性の箔を貼り付けた後、所定のパターンにエッチングする。
On the other hand, as shown in FIG. 6, a
In order to form the
基材31としては、上記の基材11と同様のものが用いられる。
アンテナ32を形成する導電性ペーストまたは導電性の箔としては、上記のアンテナ12と同様のものが用いられる。
As the
As the conductive paste or conductive foil forming the
次いで、図7に示すように、熱可塑性樹脂フィルム22の半導体チップ23、23、・・・が設けられている面(一方の面22a)が、基材31のアンテナ32、32、・・・が設けられている面(一方の面31a)と重なるように、延伸された熱可塑性樹脂フィルム22を基材31に重ね合わせて、導電性ペースト、または、はんだを介して、延伸された熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに配された半導体チップ23、23、・・・のそれぞれを、基材31の一方の面31aに配されたアンテナ32、32、・・・のそれぞれと電気的に接続する(工程D)。
Next, as shown in FIG. 7, the surface (one
この工程Dにおいて、半導体チップ23とアンテナ32を電気的に接続するためには、予め半導体チップ23、23、・・・の接点、または、アンテナ32、32、・・・の接点に、上述のような導電性ペーストを塗布するか、はんだボールを設けておく。導電性ペーストを用いた場合、半導体チップ23が破壊されない程度の温度で導電性ペーストを乾燥、固化して、半導体チップ23とアンテナ32の接続を完了する。一方、はんだボールを設けた場合、半導体チップ23が破壊されない程度の温度ではんだをリフローした後、再び冷却して、半導体チップ23とアンテナ32の接続を完了する。
また、この工程Dにおいては、予め基材31のう一方の面31aに設けられたアンテナ32、32、・・・の接点に、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電フィルム)、ACP(Anisotropic Conductive Paste:異方性導電ペースト)、NCF(Non Conductive Resin Film:無導電粒子フィルム)、NCP(Non Conductive Resin Paste:無導電粒子ペースト)などを設けておき、これらの上に熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに配された半導体チップ23、23、・・・の接点を重ね合わせて、半導体チップ23とアンテナ32を電気的に接続してもよい。
In this step D, in order to electrically connect the
Further, in this step D, an ACF (Anisotropic Conductive Film), ACP (Anisotropic Film) is connected to the contact points of the
なお、熱可塑性樹脂フィルム22として、比較的低温で延伸可能なものを用いた場合、工程Dにおいては、半導体チップ23とアンテナ32を電気的に接続するために導電性ペーストを用いることが望ましい。なぜならば、熱可塑性樹脂フィルム22として、比較的低温で延伸可能なものを用いた場合にはんだを用いると、はんだをリフローする際の温度で熱可塑性樹脂フィルム22が収縮し、半導体チップ23の位置がずれて、半導体チップ23とアンテナ32を接続する精度が下がるからである。
When the
次いで、基材31に重ね合わせた熱可塑性樹脂フィルム22を半導体チップ23、23、・・・から剥離することにより、図8に示すように、一対のアンテナ32と半導体チップ23からなるRFID装置35、35、・・・が基材31の一方の面31aに等間隔に配された半導体部品40を得る(工程E)。
Next, the
このようにして得られた半導体部品40を、図9に示すように、ブレードダイシング、レーザダイシングなどを用いてダイシングすることにより、1つのRFID装置35のみを有するように切り分けて、RFID装置35の少なくとも一部が切り分けられた基材31に接してなる微小な半導体部品41を形成することができる。したがって、得られた微小な半導体部品41は、個々に取り扱うことが容易であるので、この微小な半導体部品41を他の基材などに再配置することも容易である。また、この微小な半導体部品41は、非接触型ICタグや非接触型ICラベル、あるいは非接触型ICカードなどのRDIFメディアに適用することができる。
The semiconductor component 40 obtained in this way is diced by using blade dicing, laser dicing, or the like as shown in FIG. It is possible to form a
また、半導体部品40をダイシングして個別の半導体部品41とするか、あるいは、半導体部品40をダイシングして半導体部品41が長手方向に多数連結された長尺のテープ状物とすることにより、半導体部品の射出用ノズルを備えた半導体部品の取付装置を用いて、半導体部品41を個別に、所定の位置に配置することができる。
Further, the semiconductor component 40 is diced into
すなわち、半導体部品40をダイシングして個別の半導体部品41とする場合、半導体部品の取付装置に設けられた半導体部品の射出用ノズル内に半導体部品41を装填し、射出用ノズルから被着体の表面(被着面)に向けて半導体部品41を射出し、被着体の表面の所定の位置に配置する。一方、半導体部品40をダイシングして半導体部品41が長手方向に多数連結された長尺のテープ状物とする場合、導体部品の取付装置に設けられた半導体部品の射出用ノズル内にテープ状物を装填し、半導体部品41を個別にダイシングする毎に、射出用ノズルから被着体の表面に向けて半導体部品41を射出し、被着体の表面の所定の位置に配置する。
In other words, when the semiconductor component 40 is diced into
この実施形態の半導体部品の製造方法によれば、熱可塑性樹脂フィルム22の材質、延伸方向(一軸または二軸)、延伸倍率などを制御することにより、半導体ウエハ21をダイシングして切り分けられた半導体チップ23、23、・・・を個別に分離して、高精度に所定の間隔をおいて、延伸された熱可塑性樹脂フィルム22の一方の面22aに配することができる。したがって、複数のRFID装置35が基材31上に所定の間隔をおいて等間隔に配された半導体部品40を容易に製造することができる。また、この実施形態の半導体部品の製造方法によれば、半導体部品40を所定の大きさにダイシングするのみで、大きさの等しい複数の微小な半導体部品41を製造することができるので、製造効率を向上することができる。
According to the semiconductor component manufacturing method of this embodiment, the
本発明の半導体部品およびその製造方法は、半導体チップ以外の微小な部品にも適用可能である。すなわち、半導体チップと同等の大きさの微小な部品に本発明を適用することにより、人手による取り扱いを容易にすることができる。 The semiconductor component and the manufacturing method thereof according to the present invention can be applied to minute components other than semiconductor chips. That is, by applying the present invention to a minute part having a size equivalent to that of a semiconductor chip, handling by a human can be facilitated.
10,40,41・・・半導体部品、11,31・・・基材、12,32・・・アンテナ、13,23・・・半導体チップ、14,35・・・RFID装置、21・・・半導体ウエハ、22・・・熱可塑性樹脂フィルム。
10, 40, 41 ... semiconductor parts, 11, 31 ... base material, 12, 32 ... antenna, 13, 23 ... semiconductor chip, 14, 35 ... RFID device, 21 ... Semiconductor wafer, 22 ... thermoplastic resin film.
Claims (2)
Step A for adhering a semiconductor wafer onto a thermoplastic resin film, Step B for dicing only a semiconductor wafer adhered on the thermoplastic resin film, and dicing in the step B after stretching the thermoplastic resin film Separating the formed semiconductor wafer into a plurality of semiconductor chips, and arranging and arranging the plurality of semiconductor chips on the stretched thermoplastic resin film, and the thermoplastic resin film stretched in the step C, Similar to the plurality of semiconductor chips, a plurality of antennas are superposed on a substrate arranged in alignment, and each of the plurality of semiconductor chips arranged in alignment on the stretched thermoplastic resin film is replaced with the plurality of antenna chips. Step D for electrically connecting to each of the antennas, and a thermoplastic resin film superposed on the base material from the semiconductor chip. The method of manufacturing a semiconductor component, characterized in that and a step E of peeling.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011521574A (en) * | 2008-05-23 | 2011-07-21 | スマルトラク アイピー ビー.ヴィー. | Antenna array structure for IC chip card manufacturing |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000243784A (en) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Nec Corp | Semiconductor device and manufacture thereof |
JP2001127415A (en) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Toppan Forms Co Ltd | Mounting method for ic chip |
JP2001308234A (en) * | 2000-04-24 | 2001-11-02 | Nissan Motor Co Ltd | Manufacturing method of semiconductor device |
JP2003273279A (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device and its manufacturing method |
-
2004
- 2004-08-20 JP JP2004240646A patent/JP2006059146A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000243784A (en) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Nec Corp | Semiconductor device and manufacture thereof |
JP2001127415A (en) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Toppan Forms Co Ltd | Mounting method for ic chip |
JP2001308234A (en) * | 2000-04-24 | 2001-11-02 | Nissan Motor Co Ltd | Manufacturing method of semiconductor device |
JP2003273279A (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device and its manufacturing method |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011521574A (en) * | 2008-05-23 | 2011-07-21 | スマルトラク アイピー ビー.ヴィー. | Antenna array structure for IC chip card manufacturing |
US8547288B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-10-01 | Smartrac Ip B.V. | Antenna for chip card production |
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