JP2006036736A - Acid anhydride having phosphazene skeleton, flame retardant resin composition and flame retardant resin-molded article - Google Patents

Acid anhydride having phosphazene skeleton, flame retardant resin composition and flame retardant resin-molded article Download PDF

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JP2006036736A JP2004223078A JP2004223078A JP2006036736A JP 2006036736 A JP2006036736 A JP 2006036736A JP 2004223078 A JP2004223078 A JP 2004223078A JP 2004223078 A JP2004223078 A JP 2004223078A JP 2006036736 A JP2006036736 A JP 2006036736A
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Yoshifumi Okada
好史 岡田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phosphazene compound having a high flame retardant property (an acid anhydride having a phosphazene skeleton) without bleeding from a mixed resin composition, having a high heat resistance and having remaining property in the resin, and a flame retardant resin composition and a flame retardant resin-molded article by using the same. <P>SOLUTION: This acid anhydride obtained by bonding a cyclic phosphazene with an aromatic acid anhydride by an ester bond is provided. Also, the flame retardant resin composition is characterized by containing the acid anhydride and a thermoplastic resin and/or thermosetting resin. The flame retardant resin-molded article is also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ホスファゼン骨格を有する酸無水物およびそれを用いた難燃性樹脂組成物ならびに難燃性樹脂成形品に関するものである。   The present invention relates to an acid anhydride having a phosphazene skeleton, a flame retardant resin composition using the acid anhydride, and a flame retardant resin molded article.

樹脂はその優れた成形加工性、機械的特性、電気的特性や外観等の特徴から、電気製品や自動車等各種の製品の材料として使用されている。しかし、樹脂は金属材料や無機材料に比べ燃焼しやすいという欠点がある。従って、樹脂の難燃性の向上が課題とされている。   Resins are used as materials for various products such as electric products and automobiles because of their excellent moldability, mechanical characteristics, electrical characteristics, and appearance. However, the resin has a disadvantage that it is more easily combusted than a metal material or an inorganic material. Therefore, the improvement of the flame retardance of resin is made into the subject.

従来から、樹脂に難燃性を付与するために、ホスファゼン系化合物を配合することが知られている。例えば、(特許文献1)にはポリカーボネート樹脂等にホスファゼン系化合物を配合した難燃性樹脂組成物が開示されている。ホスファゼン系化合物は、ハロゲンフリーの難燃剤であることから環境に与える負荷が少ないという利点を有している。   Conventionally, it is known to add a phosphazene compound to impart flame retardancy to a resin. For example, (Patent Document 1) discloses a flame retardant resin composition in which a phosphazene compound is blended with a polycarbonate resin or the like. Since the phosphazene compound is a halogen-free flame retardant, it has an advantage of less impact on the environment.

しかし、従来のホスファゼン系化合物を用いて樹脂組成物を製造した場合、初期の優れた難燃性能を長期間にわたり維持することができなかった。この主原因は樹脂組成物から従来のホスファゼン系化合物がブリードしてしまうことと、ホスファゼン系化合物の耐熱性が足りないことである。例えば、各種モニター又はプリンターのハウジングや機構部品に熱可塑性樹脂が使用されているが、近年薄肉成形による機能性向上や成形サイクル短縮による生産性向上のため、樹脂の成形加工温度を従来よりも高い温度、例えば300℃付近での樹脂の流動性を向上させることが行われている。また、プリント配線板や封止材等に用いられる熱硬化性樹脂、例えばエポキシ樹脂やフェノール樹脂においても、環境問題の観点から、鉛フリーハンダが実用化されており、それに伴ったリフロー温度の上昇(250℃ 〜260℃) により、電気・電子部品用途に使用される樹脂製部品には耐熱性が求められている。かかる高温域においては、従来のホスファゼン系化合物では揮散、消失を生じることがあり、一層優れた樹脂への残存性を有する難燃剤が求められるようになっている。
特開平7−292233号公報
However, when a resin composition is produced using a conventional phosphazene compound, the initial excellent flame retardancy cannot be maintained over a long period of time. The main causes are that the conventional phosphazene compound bleeds from the resin composition and the heat resistance of the phosphazene compound is insufficient. For example, thermoplastic resins are used in housings and mechanism parts of various monitors or printers. In recent years, the resin molding temperature has been higher than before in order to improve functionality by thin-wall molding and productivity by shortening the molding cycle. It has been practiced to improve the fluidity of the resin at a temperature, for example, around 300 ° C. In addition, lead-free solder has been put into practical use from the viewpoint of environmental problems in thermosetting resins used for printed wiring boards and sealing materials, such as epoxy resins and phenol resins, and the associated increase in reflow temperature. (250 ° C. to 260 ° C.), heat resistance is required for resin parts used for electric / electronic parts. In such a high temperature range, a conventional phosphazene compound may cause volatilization and disappearance, and a flame retardant having a better survivability in a resin has been demanded.
JP 7-292233 A

混合した樹脂組成物からブリードせず、耐熱性が高く樹脂への残存性を有し、難燃性の高いホスファゼン化合物(ホスファゼン骨格を有する酸無水物)およびそれを用いた難燃性樹脂組成物ならびに難燃性樹脂成形品を提供することである。   A phosphazene compound (acid anhydride having a phosphazene skeleton) that does not bleed from the mixed resin composition, has high heat resistance and has a residual property to the resin, and has high flame retardancy, and a flame retardant resin composition using the same And providing a flame-retardant resin molded product.

本発明は以下のホスファゼン骨格を有する酸無水物およびそれを用いた難燃性樹脂組成物ならびに難燃性樹脂成形品を提供するものであり、これにより上記課題を解決しうる。   The present invention provides an acid anhydride having the following phosphazene skeleton, a flame retardant resin composition using the acid anhydride, and a flame retardant resin molded article, thereby solving the above-described problems.

本発明の第一は、ホスファゼン骨格を有することを特徴とする酸無水物である。この酸無水物を用いることにより混合した樹脂組成物からブリードせず、耐熱性が高く難燃性の高い樹脂組成物を得ることが出来る。   The first of the present invention is an acid anhydride having a phosphazene skeleton. By using this acid anhydride, it is possible to obtain a resin composition having high heat resistance and high flame retardancy without bleeding from the mixed resin composition.

本発明の第二は、下記式(3)の構造を有する請求項1記載の酸無水物である。導入された酸無水物が混合した樹脂組成物と反応する為ブリードせず、耐熱性が高く難燃性の高い樹脂組成物を得ることが出来る。   The second of the present invention is the acid anhydride according to claim 1, which has a structure of the following formula (3). Since the introduced acid anhydride reacts with the mixed resin composition, it does not bleed, and a resin composition having high heat resistance and high flame retardancy can be obtained.

Figure 2006036736
(式中mは3〜25の整数を示す。R1はフェニル基を示す。R2はフェニル基あるいは式(4)に示される酸無水物骨格を示し、式(3)の化合物中で式(4)に示される酸無水物骨格を1以上含む。)
Figure 2006036736
(In the formula, m represents an integer of 3 to 25. R 1 represents a phenyl group. R 2 represents a phenyl group or an acid anhydride skeleton represented by the formula (4). (Including one or more acid anhydride skeletons shown in (4))

Figure 2006036736
本発明の第三は、請求項1または請求項2に記載の酸無水物に加え、熱可塑性樹脂及び/または熱硬化性樹脂を含有することを特徴とする難燃性樹脂組成物である。本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物により、混合した熱可塑性樹脂及び/または熱硬化性樹脂に難燃性を付与することが出来る。
Figure 2006036736
A third aspect of the present invention is a flame retardant resin composition containing a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin in addition to the acid anhydride described in claim 1 or claim 2. The acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention can impart flame retardancy to the mixed thermoplastic resin and / or thermosetting resin.

本発明の第四は、請求項3記載の難燃性樹脂組成物を成形してなる、難燃性樹脂成形品である。本発明の難燃性樹脂組成物を成形することにより、難燃性樹脂成形品を作ることができる。   A fourth aspect of the present invention is a flame retardant resin molded product obtained by molding the flame retardant resin composition according to claim 3. By molding the flame retardant resin composition of the present invention, a flame retardant resin molded product can be produced.

混合した樹脂組成物からブリードせず、耐熱性が高く樹脂への残存性を有するホスファゼン化合物(ホスファゼン骨格を有する酸無水物)により混合した樹脂組成物ならびに難燃性樹脂成形品に高い難燃性を付与することができる。   High flame resistance to resin compositions and flame-retardant resin molded products mixed with phosphazene compounds (acid anhydrides having a phosphazene skeleton) that do not bleed from the mixed resin composition and have high heat resistance and resin persistence Can be granted.

本発明に用いられるホスファゼン骨格を有する酸無水物について説明する。   The acid anhydride having a phosphazene skeleton used in the present invention will be described.

フェノール性水酸基を有するホスファゼン化合物とトリメリット酸やトリメリット酸クロライドとを反応させて本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物を合成する。   An acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention is synthesized by reacting a phosphazene compound having a phenolic hydroxyl group with trimellitic acid or trimellitic acid chloride.

まず最初に、本発明に用いられるフェノール性水酸基(ヒドロキシル基)を有するホスファゼン化合物について説明する。   First, the phosphazene compound having a phenolic hydroxyl group (hydroxyl group) used in the present invention will be described.

ヒドロキシル基(水酸基)を有する環状及び/又は鎖状のホスファゼン化合物は、例えば、(非特許文献1)、(非特許文献2)、(特許文献2)、(非特許文献3)等に記載の方法に従って製造できる。例えば、2価フェノールの一方の水酸基がメチル基又はベンジル基で保護された4−メトキシフェノール、4−(ベンジルオキシ)フェノールのリチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩と、塩化ホスホニトリル(特許文献3〜4)とを、反応させ、その後にピリジンハロゲン化水素酸塩又は三臭化ホウ素等との、反応によって、メチル基又はベンジル基を脱保護し、水酸基に変えることで製造できる。また、ヒドロキシアルキルフェノールのリチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩と、塩化ホスホニトリルとを、反応させることによっても製造できる。また、部分的にヒドロキシ基置換フェノキシ基を有する環状及び/又は鎖状のホスファゼン化合物の製造は、2価フェノールの一方の水酸基がメチル基又はベンジル基で保護された4−メトキシフェノール、4−(ベンジルオキシ)フェノール及び/又はヒドロキシアルキルフェノールのリチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩と、塩化ホスホニトリルとの、反応の際に、アルコール系又はフェノール系化合物のリチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩を同時に使用することにより製造できる。
横山正明ら、工業化学雑誌,Vol.67,No.9,p.1378(1964) 奥橋朋也ら、工業化学雑誌,Vol.73,No.6,p.1164(1970) 特開昭58−219190号公報 Alessandro Medici, et.al.,Macromolecules,Vol.25,No.10,p.2569(1992) 特開昭54−145394号公報 特開昭54−145395号公報 具体的な方法について説明する。
Cyclic and / or chain phosphazene compounds having a hydroxyl group (hydroxyl group) are described in, for example, (Non-patent document 1), (Non-patent document 2), (Patent document 2), (Non-patent document 3) and the like. Can be manufactured according to the method. For example, 4-methoxyphenol in which one hydroxyl group of dihydric phenol is protected with a methyl group or a benzyl group, lithium salt, sodium salt or potassium salt of 4- (benzyloxy) phenol, and phosphonitrile chloride (Patent Documents 3 to 3). 4) is reacted, and then the methyl group or benzyl group is deprotected by reaction with pyridine hydrohalide, boron tribromide or the like, and converted to a hydroxyl group. It can also be produced by reacting a lithium salt, sodium salt or potassium salt of hydroxyalkylphenol with phosphonitrile chloride. In addition, production of cyclic and / or chain phosphazene compounds having a partially substituted hydroxy-substituted phenoxy group can be achieved by producing 4-methoxyphenol in which one hydroxyl group of dihydric phenol is protected with a methyl group or a benzyl group, 4- ( Benzyloxy) Lithium salt, sodium salt or potassium salt of alcoholic or phenolic compound is used simultaneously in the reaction of lithium salt, sodium salt or potassium salt of phenol and / or hydroxyalkylphenol with phosphonitrile chloride. Can be manufactured.
Yokoyama Masaaki et al., Industrial Chemical Journal, Vol. 67, no. 9, p. 1378 (1964) Okuhashi Shinya et al., Industrial Chemical Journal, Vol. 73, no. 6, p. 1164 (1970) JP 58-219190 A Alessandro Medici, et. al. , Macromolecules, Vol. 25, no. 10, p. 2569 (1992) JP-A-54-145394 JP, 54-145395, A The specific method is explained.

式(5)で表される環状ジクロルホスファゼン化合物(式中mは3〜25の整数を示す。)に対して   For the cyclic dichlorophosphazene compound represented by formula (5) (wherein m represents an integer of 3 to 25).

Figure 2006036736
式(6)で表されるアルカリ金属フェノラート(式中Mはアルカリ金属を示す。)と、
Figure 2006036736
An alkali metal phenolate represented by formula (6) (wherein M represents an alkali metal);

Figure 2006036736
式(7)(式中Mはアルカリ金属を示す。)で表されるアルキルオキシ基を有するアルカリ金属フェノラートとを、
Figure 2006036736
An alkali metal phenolate having an alkyloxy group represented by the formula (7) (wherein M represents an alkali metal):

Figure 2006036736
反応させることにより、
式(8)で表されるメトキシフェニル基を導入した環状ホスファゼン(式中mは3〜25の整数を示す。R3及びR4はフェニル基或いは基−C64OCH3を示す。)が生成する。
Figure 2006036736
By reacting,
Cyclic phosphazene into which a methoxyphenyl group represented by the formula (8) is introduced (wherein m represents an integer of 3 to 25. R 3 and R 4 represent a phenyl group or a group —C 6 H 4 OCH 3 ). Produces.

Figure 2006036736
式(8)で表される化合物を、その後にピリジンハロゲン化水素酸塩又は三臭化ホウ素等との反応によって、メチル基又はベンジル基を脱保護し、水酸基に変えることで、
式(9)(式中mは3〜25の整数を示す。R5及びR6はフェニル基或いは基−C64OHを示す。)で示される、対応するフェノール性水酸基を有する環状ホスファゼン化合物
Figure 2006036736
By deprotecting the methyl group or benzyl group by subsequent reaction with a compound represented by the formula (8), such as pyridine hydrohalide or boron tribromide, and changing to a hydroxyl group,
A cyclic phosphazene having a corresponding phenolic hydroxyl group represented by the formula (9) (wherein m represents an integer of 3 to 25; R 5 and R 6 represent a phenyl group or a group —C 6 H 4 OH). Compound

Figure 2006036736
を製造することが出来る。
Figure 2006036736
Can be manufactured.

次にフェノール性水酸基を有するホスファゼン化合物と、トリメリット酸やトリメリット酸クロライドとを、反応させて本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物を合成法について説明する。   Next, a method for synthesizing an acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention by reacting a phosphazene compound having a phenolic hydroxyl group with trimellitic acid or trimellitic acid chloride will be described.

フェノール性水酸基を有するホスファゼン化合物と、トリメリット酸クロライドとの、反応は、有機溶媒中ピリジン等の3級アミンの存在下で反応させることにより容易に合成出来る。反応溶媒は、トルエン・キシレン等の芳香族系溶媒、アセトン・メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル・γブチロラクトン等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル系溶媒など、非プロトン性溶媒であれば各種溶媒を使用することが出来る。反応温度は、−20℃〜120℃程度であり、反応は数時間で完結する。   The reaction between the phosphazene compound having a phenolic hydroxyl group and trimellitic acid chloride can be easily synthesized by reacting in the presence of a tertiary amine such as pyridine in an organic solvent. Reaction solvents include aromatic solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and γ-butyrolactone, and acetamides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide. Various solvents can be used as long as they are aprotic solvents, such as pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, and ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and dioxolane. I can do it. The reaction temperature is about −20 ° C. to 120 ° C., and the reaction is completed in several hours.

フェノール性水酸基を有するホスファゼン化合物と、トリメリット酸との、反応は、ピリジン等の3級アミンの存在下で、p−トルエンスルフォン酸クロライドやジシクロヘキシルカルボジイミドやリン系縮合剤と反応することにより合成することが出来る。反応溶媒は、トルエン・キシレン等の芳香族系溶媒、アセトン・メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル・γブチロラクトン等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒など、非プロトン性溶媒であれば各種溶媒を使用することが出来る。反応温度は、0℃〜120℃程度であり、反応は数時間で完結する。   The reaction between a phosphazene compound having a phenolic hydroxyl group and trimellitic acid is synthesized by reacting with p-toluenesulfonic acid chloride, dicyclohexylcarbodiimide or a phosphorus condensing agent in the presence of a tertiary amine such as pyridine. I can do it. Reaction solvents include aromatic solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and γ-butyrolactone, and acetamides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide. Various solvents can be used as long as they are aprotic solvents such as a system solvent, a pyrrolidone solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, and an ether solvent such as tetrahydrofuran and dioxane. The reaction temperature is about 0 ° C. to 120 ° C., and the reaction is completed in several hours.

このようにしてフェノール性水酸基を有するホスファゼン化合物と、トリメリット酸やトリメリット酸クロライドとを、反応させて式(10)で表される本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物を得ることができる。(式中mは3〜25の整数を示す。R1はフェニル基をR2はフェニル基あるいは式(11)に示される酸無水物骨格を示し、式(10)の化合物中で式(11)に示される酸無水物骨格を1以上含む。) In this way, a phosphazene compound having a phenolic hydroxyl group can be reacted with trimellitic acid or trimellitic acid chloride to obtain an acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention represented by the formula (10). . (In the formula, m represents an integer of 3 to 25. R 1 represents a phenyl group and R 2 represents a phenyl group or an acid anhydride skeleton represented by the formula (11). In the compound of the formula (10), the formula (11 And 1 or more acid anhydride skeletons represented by

Figure 2006036736
Figure 2006036736

Figure 2006036736
本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物は、沸点が高いため各種樹脂と混合した場合においても、熱混合時に揮散しないため、高い難燃性が保持される。混合できる樹脂としては特に制限されず、公知の熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれも使用できる。
Figure 2006036736
Since the acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention has a high boiling point, even when mixed with various resins, it does not evaporate during heat mixing, and thus high flame retardancy is maintained. The resin that can be mixed is not particularly limited, and any of known thermoplastic resins and thermosetting resins can be used.

<酸無水物>
ホスファゼン骨格を有する酸無水物を達成出来る限りにおいて、酸無水物は特に限定を受ける物ではない。
<Acid anhydride>
As long as an acid anhydride having a phosphazene skeleton can be achieved, the acid anhydride is not particularly limited.

<熱可塑性樹脂>
熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリアミド(脂肪族系及び/又は芳香族系)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオエーテルスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリベンズイミダゾール、ポリカルボジイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー、複合プラスチック等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
<Thermoplastic resin>
Specific examples of the thermoplastic resin include, for example, polyethylene, polypropylene, polyisoprene, polybutadiene, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, styrene resin, impact-resistant polystyrene, acrylonitrile-styrene resin (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-styrene. Resin (ABS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin), methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin), acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin), polymethyl (meth) acrylate, Polycarbonate, modified polyphenylene ether (PPE), polyamide (aliphatic and / or aromatic), polyester (polyethylene terephthalate, polybutylene tele Talate, polyethylene naphthalate, etc.), polyphenylene sulfide, polyimide, polyetheretherketone, polysulfone, polyarylate, polyetherketone, polyethernitrile, polythioethersulfone, polyethersulfone, polybenzimidazole, polycarbodiimide, polyamideimide, poly Examples thereof include, but are not limited to, ether imides, liquid crystal polymers, and composite plastics.

<熱硬化性樹脂>
熱硬化性樹脂としては、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、シアン酸エステル、アクリルやメタクリルやビニル等のビニル基を有する化合物等を例示することが出来るが、これらに限定されるものではない。
<Thermosetting resin>
Examples of the thermosetting resin include, but are not limited to, an epoxy compound, an isocyanate compound, a cyanate ester, a compound having a vinyl group such as acrylic, methacrylic, and vinyl.

エポキシ化合物としては例えば、エピコート828(ジャパンエポキシレジン株式会社製)等のビスフェノール樹脂、180S65(ジャパンエポキシレジン株式会社製)等のオルソクレゾールノボラック樹脂、157S70(ジャパンエポキシレジン株式会社製)等のビスフェノールAノボラック樹脂、1032H60(ジャパンエポキシレジン株式会社製)等のトリスヒドロキシフェニルメタンノボラック樹脂、ESN375等のナフタレンアラルキルノボラック樹脂、テトラフェニロールエタン1031S(ジャパンエポキシレジン株式会社製)、YGD414S(東都化成)、トリスヒドロキシフェニルメタンEPPN502H(日本化薬)、特殊ビスフェノールVG3101L(三井化学)、特殊ナフトールNC7000(日本化薬)、TETRAD−X、TETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)等のグリシジルアミン型樹脂などがあげられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the epoxy compound include bisphenol resins such as Epicote 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), orthocresol novolac resins such as 180S65 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 157S70 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Novolak resin, trishydroxyphenylmethane novolak resin such as 1032H60 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), naphthalene aralkyl novolak resin such as ESN375, tetraphenylolethane 1031S (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), YGD414S (Tohto Kasei), Tris Hydroxyphenylmethane EPPN502H (Nippon Kayaku), Special bisphenol VG3101L (Mitsui Chemicals), Special naphthol NC7000 (Nippon Kay) ), TETRAD-X, TETRAD-C (although Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) glycidylamine type resins, and the like, but is not limited thereto.

またイソシアネート化合物として例えば、脂肪族、脂環族または芳香族のジイソシアネ−ト等があり、例えば1,4−テトラメチレンジイソシアネ−ト、1,5−ペンタメチレンジイソシアネ−ト、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、2,2,4−トリメチル−1,6−へキサメチレンジイソシアネ−ト、リジンジイソシアネ−ト、3−イソシアネ−トメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネ−ト(イソホロンジイソシアネ−ト)、1,3−ビス(イソシアネ−トメチル)−シクロヘキサン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ−ト、トリレンジイソシアネ−ト、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、1,5−ナフタレンジイソシアネ−ト、トリジンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。   Examples of isocyanate compounds include aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanates, such as 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,5-pentamethylene diisocyanate, 1, 6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 3-isocyanate methyl-3,5,5- Trimethylcyclohexyl isocyanate (isophorone diisocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl) -cyclohexane, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4, 4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate Ane - can be mentioned bets like, but is not limited thereto.

さらに、イソシアネ−ト化合物として、脂肪族、脂環族または芳香族のイソシアネ−トから誘導されるもの、例えばイソシアヌレ−ト変性イソシアネ−ト、ビュレット変性イソシアネ−ト、ウレタン変性イソシアネ−ト等であってもよい。また、本発明に用いるイソシアネ−ト化合物は、好適にはイソシアネ−ト化合物のイソシアネ−ト基をブロック剤でブロックしたブロックイソシアネ−トが好適に使用されるが、これらに限定されるものではない。   Further, the isocyanate compound is derived from an aliphatic, alicyclic or aromatic isocyanate, such as isocyanurate-modified isocyanate, burette-modified isocyanate, urethane-modified isocyanate, etc. May be. In addition, the isocyanate compound used in the present invention is preferably a block isocyanate in which the isocyanate group of the isocyanate compound is blocked with a blocking agent, but is not limited thereto. Absent.

前記のブロック化剤としては例えば、アルコ−ル系、フェノ−ル系、活性メチレン系、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミド系、イミダゾ−ル系、尿素系、オキシム系、アミン系、重亜硫酸塩、イミン系、イミド系化合物、ピリジン系化合物等があり、これらを単独あるいは、混合して使用してもよいが、これらに限定されるものではない。具体的なブロック化剤としては、アルコ−ル系としてメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、2エチルヘキサノ−ル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビト−ル、ベンジルアルコ−ル、シクロヘキサノ−ル等、フェノ−ル系として、フェノ−ル、クレゾ−ル、エチルフェノ−ル、ブチルフェノ−ル、ノニルフェノ−ル、ジノニルフェノ−ル、スチレン化フェノ−ル、ヒドロキシ安息香酸エステル等、活性メチレン系として、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等、メルカプタン系として、ブチルメルカプタン、 ドデシルメルカプタン等、酸アミド系として、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等、酸イミド系として、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、イミダゾ−ル系として、イミダゾ−ル、2−メチルイミダゾ−ル、尿素系として、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等、オキシム系として、ホルムアルデヒドオキシム、アセトアルデヒドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等、アミン系として、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等、イミン系として、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等、重亜硫酸塩として、重亜硫酸ソ−ダ等、ピリジン系として、2−ヒドロキシピリジン、2−ヒドロキシキノリン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the blocking agent include alcohol, phenol, active methylene, mercaptan, acid amide, acid imide, imidazole, urea, oxime, amine, and bisulfite. There are salts, imine-based compounds, imide-based compounds, pyridine-based compounds, and the like. These may be used alone or in combination, but are not limited thereto. Specific examples of the blocking agent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-ethylhexanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, benzyl alcohol, cyclohexyl. For example, phenol, cresol, ethyl phenol, butyl phenol, nonyl phenol, dinonyl phenol, styrenated phenol, hydroxybenzoate, etc. As dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetylacetone, etc., as mercaptans, butyl mercaptan, dodecyl mercaptan, etc., as acid amides, acetanilide, acetate amide, ε-caprolactam, δ-valerolactam Γ-Butylora Kutam, etc., acid imide series, succinimide, maleic imide, imidazole series, imidazole, 2-methylimidazole, urea series, urea, thiourea, ethylene urea etc., oxime series, Formaldehyde oxime, acetaldehyde oxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, cyclohexanone oxime, etc., amine type, diphenylamine, aniline, carbazole, etc., imine type, ethyleneimine, polyethyleneimine, etc., bisulfite, bisulfite soda, etc. Examples of the pyridine series include 2-hydroxypyridine and 2-hydroxyquinoline, but are not limited thereto.

特に、第一工業製薬社製のエラストロン[商品名BN−P17、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト ブロック化体]、同社のエラストロン[BN−04、BN−08、BN−44、BN−45:ウレタン変性イソシアネートブッロク化体1分子当たり3〜5官能。いずれも水エマルジョン品で乾燥単離後使用可能]などを好適に使用することができる。   In particular, Elastron [trade name BN-P17, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate blocked form] manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Elastron [BN-04, BN-08, BN-44, BN] -45: 3 to 5 functional groups per molecule of urethane-modified isocyanate block. Any of them can be used after drying and isolation in a water emulsion product].

アクリルやメタクリルやビニル等のビニル基を有する化合物等としては、ビスフェノールF EO変性(n=2〜50)ジアクリレート、ビスフェノールA EO変性(n=2〜50)ジアクリレート、ビスフェノールS EO変性(n=2〜50)ジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、β−メタクロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β−メタクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、β−アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、ラウリルアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジメタクロキシプロパン、2,2−ビス[4−(メタクロキシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクロキシ・ジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ3−メタクロキシプロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、1−アクリロイルオキシプロピル−2−フタレート、イソステアリルアクリレート、ポリオキシエチレンアルキルエーテルアクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジメタクリレート、1,6−メキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールメタクリレート、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオールジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、2,2−水添ビス[4−(アクリロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル]プロパン、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸トリ(エタンアクリレート)、ペンタスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、イソシアヌル酸トリアリル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアリルエーテル、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、トリアリル−1,3,5−ベンゼンカルボキシレート、トリアリルアミン、トリアリルシトレート、トリアリルフォスフェート、アロバービタル(5,5−ジアリルバルビツル酸)、ジアリルアミン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジスルフィド、ジアリルエーテル、ザリルシアルレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、1,3−ジアリロキシ−2−プロパノール、ジアリルスルフィドジアリルマレエート、4,4’−イソプロピリデンジフェノールジメタクリレート、4,4’−イソプロピリデンジフェノールジアクリレート等が好ましいが、これらに限定されない。架橋密度を向上するためには、特に2官能以上のモノマーを用いることが望ましい。   Examples of compounds having a vinyl group such as acrylic, methacrylic and vinyl include bisphenol F EO modified (n = 2-50) diacrylate, bisphenol A EO modified (n = 2-50) diacrylate, bisphenol S EO modified (n = 2-50) diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Tetramethylolpropane tetraacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate , Ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tetramethylolpropane tetramethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, β-methacryloyloxyethyl hydrogen phthalate, β-methacryloyloxyethyl hydrogen succinate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, stearyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, phenoxy polyethylene glycol Cole acrylate, β-acryloyloxyethyl hydrogen succinate, lauryl acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexane Diol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 2-hydroxy-1,3-dimethacryloxypropane, 2,2-bis [4- (methacryloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxy · diethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxy · polyethoxy) phenyl] propane, poly Reethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, 2,2-bis [4- (acryloxy-diethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxy-polyethoxy) phenyl] propane, 2-hydroxy-1-acryloxy-3-methacryloxypropane, trimethylolpropane trimethacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol acrylate, nonyl Phenoxy polypropylene glycol acrylate, 1-acryloyloxypropyl-2-fur Rate, isostearyl acrylate, polyoxyethylene alkyl ether acrylate, nonylphenoxyethylene glycol acrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol dimethacrylate, 1,6- Mexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol methacrylate, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol dimethacrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol dimethacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tricyclodecane dimethanol Diacrylate, 2,2-hydrogenated bis [4- (acryloxy polyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxy polypropoxy) Enyl] propane, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol diacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid tri (ethane acrylate), pentathritol tetraacrylate, ethoxy Pentathritol tetraacrylate, propoxylated pentathritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol polyacrylate, triallyl isocyanurate, glycidyl methacrylate, glycidyl allyl ether, 1,3,5-triacryloyl hexahydro-s -Triazine, triallyl-1,3,5-benzenecarboxylate, triallylamine, triallyl citrate, tria Rilphosphate, allobarbital (5,5-diallylbarbituric acid), diallylamine, diallyldimethylsilane, diallyldisulfide, diallylether, zalylsialate, diallylisophthalate, diallylterephthalate, 1,3-dialyloxy-2-propanol, diallyl Sulfide diallyl maleate, 4,4′-isopropylidene diphenol dimethacrylate, 4,4′-isopropylidene diphenol diacrylate and the like are preferable, but not limited thereto. In order to improve the crosslink density, it is particularly desirable to use a bifunctional or higher monomer.

シアン酸エステル化合物とは、シアン酸エステルを分子内にもっていれば特に限定されないが、以下のように例示することができる。   The cyanate ester compound is not particularly limited as long as the cyanate ester is contained in the molecule, but can be exemplified as follows.

具体的な化学式として、式(12)を例示することができる。   As a specific chemical formula, formula (12) can be exemplified.

Figure 2006036736
(R7 は同一でも異なってもよく、水素かアルキル基、パーフルオロアルキル基、アリール基、またはハロゲンであり、Aは単結合、未置換メチレン基、水素原子の1つまたは2つをアルキル基、パーフルオロアルキル基、および/またはアリール基で置換した置換メチレン基、5員もしくは6員の環状脂肪族基、スルホン基、2価の硫黄、酸素、2価のカルボニル基、メチレン基が置換又は未置換のキシリレン基、フェニル基である。wは4である。)
その他のシアン酸エステルの例としては、1,3−ジシアネートベンゼン、1,4−ジシアネートベンゼン、1,3,5−トリシアネートベンゼン、1,3−ジシアネートナフタレン、1,4−ジシアネートナフタレン、1,6−ジシアネートナフタレン、1,8−ジシアネートナフタレン、2,6−ジシアネートナフタレン、2,7−ジシアネートナフタレン、1,3,6−トリシアネートナフタレン、2,2−ビス(3,5−ジシクロ−4−シアネートフェニル)プロパン、トリス(4−シアネートフェニル)ホスファイト、トリス(4−シアネートフェニル)ホスフェート、およびフェノール樹脂とハロゲン化シアンとの反応により得られるベンゼン多核体のポリシアネート化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。例示したシアン酸エステルを加熱してオリゴマー化したものも同様に使用することができる。
Figure 2006036736
(R 7 may be the same or different and is hydrogen, an alkyl group, a perfluoroalkyl group, an aryl group, or a halogen, and A is a single bond, an unsubstituted methylene group, or one or two of the hydrogen atoms are alkyl groups. A substituted methylene group substituted with a perfluoroalkyl group and / or an aryl group, a 5- or 6-membered cycloaliphatic group, a sulfone group, a divalent sulfur, oxygen, a divalent carbonyl group, or a methylene group. An unsubstituted xylylene group and a phenyl group. W is 4.)
Examples of other cyanate esters include 1,3-dicyanate benzene, 1,4-dicyanate benzene, 1,3,5-tricyanate benzene, 1,3-dicyanate naphthalene, 1,4-dicyanate Naphthalene, 1,6-dicyanate naphthalene, 1,8-dicyanate naphthalene, 2,6-dicyanate naphthalene, 2,7-dicyanate naphthalene, 1,3,6-tricyanate naphthalene, 2,2-bis ( 3,5-dicyclo-4-cyanatephenyl) propane, tris (4-cyanatephenyl) phosphite, tris (4-cyanatephenyl) phosphate, and polybenzenes of benzene polynuclears obtained by reaction of phenolic resin with cyanogen halide Examples include, but are not limited to, cyanate compounds. Those obtained by oligomerizing the exemplified cyanate ester by heating can also be used.

このシアン酸エステル化合物は、本発明の樹脂組成物100重量部に対し、1〜200重量部配合することが好ましく、3〜150重量部の範囲がさらに好ましい。なお、シアン酸エステル化合物として、1種類の化合物を用いても良いし、数種を混合して用いてもよい。   This cyanate ester compound is preferably blended in an amount of 1 to 200 parts by weight, more preferably 3 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin composition of the present invention. As the cyanate ester compound, one kind of compound may be used, or several kinds may be mixed and used.

<樹脂組成物>
本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物と熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の好ましい混合比としては、ホスファゼン骨格を有する酸無水物の含有率が、全体に対して0.1〜50重量%に範囲にあることが好ましい。0.1%未満の場合には難燃性付与の小さく、50%以上の場合には、接着性の低下や力学特性の低下が観察されるため、好ましくない。
<Resin composition>
As a preferable mixing ratio of the acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention to a thermoplastic resin and a thermosetting resin, the content of the acid anhydride having a phosphazene skeleton is 0.1 to 50% by weight based on the whole. It is preferable to be in the range. If it is less than 0.1%, the flame retardancy is small, and if it is 50% or more, a decrease in adhesiveness and a decrease in mechanical properties are observed.

本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物は酸無水物骨格を有している為、各種反応基と反応しうる。各種反応基とは、エポキシ基・イソシアネート・アミノ基・アルコール性水酸基等である。これらの反応基が樹脂中に存在すれば、本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物と反応し、ホスファゼン骨格を有する酸無水物が樹脂中に取り込まれるため樹脂からのブリードは生じない。これらの反応基は、高分子の側鎖にぶら下がっていてもよく、また高分子の末端にあってもよく、先述のエポキシ化合物やイソシアネート化合物のように低分子化合物或いはオリゴマーであってもよい。   Since the acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention has an acid anhydride skeleton, it can react with various reactive groups. Examples of the various reactive groups include an epoxy group, an isocyanate, an amino group, and an alcoholic hydroxyl group. If these reactive groups are present in the resin, it reacts with the acid anhydride having the phosphazene skeleton of the present invention, and the acid anhydride having the phosphazene skeleton is taken into the resin, so that bleeding from the resin does not occur. These reactive groups may be hung from the side chain of the polymer, may be at the terminal of the polymer, and may be a low molecular compound or an oligomer such as the above-described epoxy compound or isocyanate compound.

また、本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物以外に、リン化合物を含んでもよい。本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物は、熱分解温度が高く耐熱性が高い。よって混合する熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の分解温度が、ホスファゼン骨格を有する酸無水物よりも低い場合、混合する熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の分解温度よりも低いリン化合物を少量添加することにより、更に難燃効果が高くなるため好ましい。   In addition to the acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention, a phosphorus compound may be included. The acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention has a high thermal decomposition temperature and high heat resistance. Therefore, when the decomposition temperature of the thermoplastic resin and the thermosetting resin to be mixed is lower than the acid anhydride having a phosphazene skeleton, a small amount of a phosphorus compound lower than the decomposition temperature of the thermoplastic resin and the thermosetting resin to be mixed is added. This is preferable because the flame-retardant effect is further enhanced.

好ましいリン化合物として、ホスフィン、ホスフィンオキサイド、リン酸エステル(縮合リン酸エステルも含む)、亜リン酸エステル、ホスファゼン(酸無水物構造を含まない)などのリン化合物などを例示することができるが、これらに限定されるものではない。このなかでもホスフィンオキサイド、またはリン酸エステル(縮合リン酸エステルも含む)、ホスファゼンが特に好ましい。難燃剤として用いるリン化合物のリン含量は5.0重量%、さらに好ましくは7.0重量%以上であることが好ましい。   Examples of preferred phosphorus compounds include phosphorus compounds such as phosphine, phosphine oxide, phosphate ester (including condensed phosphate ester), phosphite ester, and phosphazene (not including acid anhydride structure). It is not limited to these. Of these, phosphine oxide, phosphate ester (including condensed phosphate ester), and phosphazene are particularly preferable. The phosphorus content of the phosphorus compound used as a flame retardant is preferably 5.0% by weight, more preferably 7.0% by weight or more.

さらには、難燃性を付与でき、かつ耐加水分解性を持つという点から、例えば、SPE−100(大塚化学製 ホスファゼン化合物)、SPH−100(大塚化学製 ホスファゼン化合物)、TPP(トリフェニルホスフェート)、TCP(トリクレジルホスフェート)、TXP(トリキシレニルホスフェート)、CDP(クレジルジフェニルホスフェート)、PX−110(クレジル2,6−キシレニルホスフェート)(いずれも大八化学製)などのリン酸エステル、CR−733S(レゾシノ−ルジホスフェート)、CR−741、CR−747、PX−200)(いずれも大八化学製)などの非ハロゲン系縮合リン酸エステル、ビスコートV3PA(大阪有機化学工業製)、MR−260(大八化学製)などのリン酸(メタ)アクリレート、亜リン酸トリフェニルエステルなどの亜リン酸エステルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Furthermore, from the point that it can impart flame retardancy and has hydrolysis resistance, for example, SPE-100 (phosphazene compound manufactured by Otsuka Chemical), SPH-100 (phosphazene compound manufactured by Otsuka Chemical), TPP (triphenyl phosphate). ), TCP (tricresyl phosphate), TXP (trixylenyl phosphate), CDP (cresyl diphenyl phosphate), PX-110 (cresyl 2,6-xylenyl phosphate) (all manufactured by Daihachi Chemical) Non-halogen-based condensed phosphate esters such as phosphate ester, CR-733S (resinol diphosphate), CR-741, CR-747, PX-200 (all manufactured by Daihachi Chemical), Biscoat V3PA (Osaka Organic Chemical) Kogyo), MR-260 (manufactured by Daihachi Chemical), etc. And phosphites such as triphenyl phosphite, but are not limited thereto.

これらのリン化合物は、本発明のホスファゼン骨格を有する酸無水物の添加量に対して、100〜10重量%使用することが好ましい。   These phosphorus compounds are preferably used in an amount of 100 to 10% by weight based on the amount of the acid anhydride having a phosphazene skeleton of the present invention.

<成形品>
本発明でいうところの、成形品とは、当該樹脂組成物を、フィルム状、ペレット状、発泡体状、ブロック状等に成形したのものを言い、形状に特に制約を受ける物では無い。成形の方法は、押し出し成形、ブロー成形、真空成形、射出成形、ダイ押し出し、等を含むが、これらに限定されるものではない。
<Molded product>
The molded product referred to in the present invention refers to a product obtained by molding the resin composition into a film shape, a pellet shape, a foam shape, a block shape, or the like, and is not particularly limited by the shape. The molding method includes, but is not limited to, extrusion molding, blow molding, vacuum molding, injection molding, die extrusion, and the like.

<難燃性>の評価等
UL−94の試験法に基づき、難燃性の評価を行う。難燃性高いのがV−0であり、V−1、V−2の順に、難燃性の程度が低くなる。
Evaluation of <Flame Retardancy> Flame retardance is evaluated based on the UL-94 test method. V-0 has high flame retardancy, and the degree of flame retardance decreases in the order of V-1 and V-2.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.

<合成例1>(原料ホスファゼンの合成)
還流冷却器、温度計、撹拌機、三塩化リン滴下器及び塩素ガス吹き込み管を備えた5Lのフラスコにクロルベンゼン2.5L、塩化アンモニウム182.5g(3.4モル)及び塩化亜鉛2.5gを仕込んで混合分散液を得た。該分散液を温度130℃に加熱して還流下で三塩化リン425.5gを9g/分の速度で48分間にわたって滴下すると同時に塩素ガス227gを5g/分の速度で46分間にわたって供給した。三塩化リン及び塩素ガスを供給した後、更に150分間還流(131℃)を行って反応を完結した。次いで吸引濾過して未反応の塩化アンモニウムを除去し、濾液を1.0〜3.0hPaの減圧下にて30〜50℃でクロルベンゼンを留去して反応生成物352gを得た。該反応生成物の三塩化リンを基準とした収率は98.1%であった。クロルベンゼンに再溶解し、再結晶によってヘキサクロロシクロトリホスファゼン及びオクタクロロシクロテトラホスファゼンの混合物(226g,ヘキサクロロシクロトリホスファゼン:76%,オクタクロロシクロテトラホスファゼン:24%)を得た。また、先に得たヘキサクロロシクロトリホスファゼン及びオクタクロロシクロテトラホスファゼンの混合物を、ヘキサンを用い3回再結晶することで、純度99.9%のヘキサクロロシクロトリホスファゼン155gを得た。
<Synthesis Example 1> (Synthesis of raw material phosphazene)
In a 5 L flask equipped with a reflux condenser, thermometer, stirrer, phosphorus trichloride dropping device and chlorine gas blowing tube, 2.5 L of chlorobenzene, 182.5 g (3.4 mol) of ammonium chloride and 2.5 g of zinc chloride Was added to obtain a mixed dispersion. The dispersion was heated to a temperature of 130 ° C., and 425.5 g of phosphorus trichloride was added dropwise at a rate of 9 g / min over 48 minutes under reflux, while 227 g of chlorine gas was supplied at a rate of 5 g / min over 46 minutes. After supplying phosphorus trichloride and chlorine gas, the reaction was completed by further refluxing (131 ° C.) for 150 minutes. Next, suction filtration was performed to remove unreacted ammonium chloride, and chlorobenzene was distilled off at 30 to 50 ° C. under a reduced pressure of 1.0 to 3.0 hPa to obtain 352 g of a reaction product. The yield of the reaction product based on phosphorus trichloride was 98.1%. Redissolved in chlorobenzene, and recrystallization gave a mixture of hexachlorocyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene (226 g, hexachlorocyclotriphosphazene: 76%, octachlorocyclotetraphosphazene: 24%). Further, 155 g of hexachlorocyclotriphosphazene having a purity of 99.9% was obtained by recrystallizing the mixture of hexachlorocyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene obtained previously three times using hexane.

<合成例2>(ヒドロキシ基を有するホスファゼンの合成)
還流冷却器、温度計、撹拌機、滴下ロートを備えた2Lの4ツ口フラスコに合成例1で合成した純度99.9%のヘキサクロロシクロトリホスファゼン58g(0.5ユニットモル、NPCl2を1ユニットとする)、テトラヒドロフラン(THF)100mLを仕込んで溶液を得た。次に別に調製した 4−メトキシフェノールのナトリウム塩のTHF溶液(4−メトキシフェノール149.0g(1.2モル)、ナトリウム25.3g(1.1g−atom)、THF600mL)を撹拌しながら、2時間かけて上記ヘキサクロロシクロトリホスファゼンのTHF溶液に滴下した。ナトリウム塩の約1/3量を加えるまでは激しい発熱があり、冷却しながら滴下反応を行った。残り2/3量の添加時には激しい発熱反応にならないが、反応温度を30℃以下になるように適宜冷却して反応を行った。滴下終了後、引き続き12時間室温下での撹拌反応を行った。次に反応完結のために溶媒還流下で6時間反応を行った。反応終了後、溶媒のTHFを減圧下に留去し、次にトルエン500mLを加えて再溶解し、更に水500mLを加えて分液ロート中にて有機層の分液を行った。有機層を5%水酸化ナトリウム水溶液500mLで3回洗浄し、更に、5重量%塩酸水溶液500mLで1回、5%炭酸水素ナトリウム水500mLで1回、水500mLで2回洗浄した。この時の水層のpHは7〜8であった。有機層を分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水処理し、トルエンを留去して黄色固体状のヘキサ(4−メトキシフェノキシ)シクロトリホスファゼン138.4g(収率95%)を得た。残存塩素量は0.02%で、融点は104℃(文献値103〜104℃)であった。上記の方法で得たヘキサ(4−メトキシフェノキシ)シクロトリホスファゼン130.6g(0.45ユニットモル)と、ピリジン塩酸塩1040g(9モル)とを、2Lの4ツ口フラスコに仕込み、徐々に昇温し、205〜210℃で1時間反応を行った。室温冷却後、水300mLを加えて反応生成物及び過剰のピリジン塩酸塩を溶解し、20%水酸化ナトリウム水溶液でpH6〜7に反応溶液を調製した。次に酢酸エチル500mLを用いて抽出を4回行った後に、抽出液を合わせて、飽和硫酸ナトリウム水500mLで4回洗浄し、有機層を分液し、無水硫酸マグネシウムにより脱水処理後、減圧下にて酢酸エチルを留去した。次に濃縮物をメタノール200mLに溶解し水1.5L中に投入し、結晶を析出させる工程を3回繰返して行い、得られた結晶を減圧乾燥し、淡黄色結晶94.8g(収率80%)を得た。生成物の残存塩素量は0.01%以下であり、分析化学便覧(日本分析化学会編)有機編、第316頁に記載されている無水酢酸及びピリジンによるアセチル化法により、水酸基(OH,%)を定量したところ、12.9%であった(理論値12.9%、組成式N33(OC64OH)6 水酸基当量131.8)。また、1H−及び31P−NMR分析を行い合成を確認した。
<Synthesis Example 2> (Synthesis of phosphazene having a hydroxy group)
In a 2 L 4-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, stirrer, and dropping funnel, 58 g of hexachlorocyclotriphosphazene of 99.9% purity synthesized in Synthesis Example 1 (0.5 unit mol, 1 NPCl 2) Unit) and 100 mL of tetrahydrofuran (THF) were charged to obtain a solution. Next, while separately preparing a THF solution of 4-methoxyphenol sodium salt (4-methoxyphenol 149.0 g (1.2 mol), sodium 25.3 g (1.1 g-atom), THF 600 mL) while stirring, The solution was added dropwise to the THF solution of hexachlorocyclotriphosphazene over time. There was a violent exotherm until about 1/3 of the sodium salt was added, and the dropping reaction was carried out while cooling. When the remaining 2/3 amount was added, a vigorous exothermic reaction did not occur, but the reaction was carried out by appropriately cooling the reaction temperature to 30 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, a stirring reaction was continued at room temperature for 12 hours. Next, in order to complete the reaction, the reaction was performed for 6 hours under reflux of the solvent. After completion of the reaction, the solvent THF was distilled off under reduced pressure, and then 500 mL of toluene was added and redissolved. Further, 500 mL of water was added and the organic layer was separated in a separatory funnel. The organic layer was washed with 500 mL of 5% aqueous sodium hydroxide solution three times, further washed once with 500 mL of 5 wt% aqueous hydrochloric acid solution, once with 500 mL of 5% aqueous sodium hydrogen carbonate, and twice with 500 mL of water. The pH of the aqueous layer at this time was 7-8. The organic layer was separated, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and toluene was distilled off to obtain 138.4 g (yield 95%) of hexa (4-methoxyphenoxy) cyclotriphosphazene as a yellow solid. The amount of residual chlorine was 0.02%, and the melting point was 104 ° C. (document value 103 to 104 ° C.). 130.6 g (0.45 unit mol) of hexa (4-methoxyphenoxy) cyclotriphosphazene obtained by the above method and 1040 g (9 mol) of pyridine hydrochloride were charged into a 2 L four-necked flask, and gradually The temperature was raised and the reaction was carried out at 205-210 ° C. for 1 hour. After cooling at room temperature, 300 mL of water was added to dissolve the reaction product and excess pyridine hydrochloride, and a reaction solution was prepared to pH 6-7 with a 20% aqueous sodium hydroxide solution. Next, extraction was performed 4 times with 500 mL of ethyl acetate, and the combined extracts were washed 4 times with 500 mL of saturated aqueous sodium sulfate solution. The organic layer was separated, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and then subjected to reduced pressure. The ethyl acetate was distilled off. Next, the step of dissolving the concentrate in 200 mL of methanol and adding it to 1.5 L of water to precipitate the crystals was repeated three times. The obtained crystals were dried under reduced pressure, and 94.8 g of light yellow crystals (yield 80). %). The residual chlorine content of the product is 0.01% or less, and the hydroxyl group (OH, OH, acetylation method with acetic anhydride and pyridine described in Analytical Chemistry Handbook (edited by the Japan Society for Analytical Chemistry), Organics, page 316 is used. %) Was 12.9% (theoretical value 12.9%, composition formula N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH) 6 hydroxyl group equivalent 131.8). Further, 1 H- and 31 P-NMR analyzes were performed to confirm the synthesis.

<合成例3>水酸基当量363(部分的にヒドロキシル基を有するホスファゼンの合成)
還流冷却器、温度計、撹拌機、滴下ロートを備えた2Lの4ツ口フラスコに純度99.9%のヘキサクロロシクロトリホスファゼン58g(0.5ユニットモル、NPCl2を1ユニットとする)、THF100mLを仕込んで溶液を得た。次に別に調製した4−メトキシフェノールのNa塩のTHF溶液(4−メトキシフェノール43.4(0.35モル)、ナトリウム7.6g(0.33g−atom)、THF200mLを撹拌しながら、1時間かけて上記ヘキサクロロシクロトリホスファゼンのTHF溶液に滴下した。激しい発熱反応であるので、反応温度が30℃ を越えないように適宜冷却して反応を行った。滴下終了後、引き続き6時間60℃ で撹拌反応を行った。該反応にて得られた部分置換体の残存塩素量は27.11%であり、推定構造は、N33Cl4.0(OC64OCH32.0である。次に別に調製したナトリウムフェノラートのTHF溶液(フェノール79.1g(0.85モル)、ナトリウム18.4g(0.8g−atom)、THF200mLを、反応温度が30℃ 以下になるように冷却制御し1時間かけて滴下した。次いで室温下で5時間、還流温度で3時間反応を行い、反応を完結した。反応終了後、溶媒のTHFを減圧下に留去し、次にトルエン500mLを加えて生成物を再溶解し、更に水300mLを加えて水洗分液した。有機層を5%水酸化ナトリウム水溶液による洗浄及び2%水酸化ナトリウム水溶液による洗浄を各々1回行った後に、5重量%塩酸水溶液で1回洗浄、5%炭酸水素ナトリウム水で1回洗浄し、さらに水で2回洗浄し、水層を中性とした。次に有機層を分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水し、トルエンを留去して淡黄色油状の生成物110.0g(収率91%)を得た。残存塩素量は0.01%以下であった。上記の方法で得た4−メトキシフェノキシ基とフェノキシ基が混合置換したシクロトリホスファゼン96.8g(0.40ユニットモル)とピリジン塩酸塩583.6g(5.05モル)を、2Lの4ツ口フラスコに仕込み、徐々に昇温し、205〜210℃で1時間反応を行った。その後の操作は合成例2と同様に行い、黄色固体75.0g(収率77.5%)を得た。残存塩素量は0.01%以下であり、水酸基含有量は4.7%であった。(理論値4.7%、組成式N33(OPh)4.0(OC64OH)2.0、水酸機当量363)
(実施例1)ホスファゼン骨格を有する酸無水物の合成
撹拌機と滴下ロートのついた反応容器に、トリメリット酸クロライド21.06g(100mmol)、メチルエチルケトン50gをとり、室温で撹拌する。合成例3で合成した部分的に水酸基を有するホスファゼン(組成式N33(OPh)4.0(OC64OH)2.0)36.3g(OH基準で100mmol)をメチルエチルケトン50g、ピリジン9.5gに溶解し、上記反応溶液に室温で滴下し、1時間室温で撹拌した。その後、2時間還流撹拌を行った。次いで、氷水で反応容器を30分冷却した。これまでの反応はすべて窒素気流下で行った。
<Synthesis Example 3> Hydroxyl equivalent weight 363 (synthesis of phosphazene partially having a hydroxyl group)
In a 2 L four-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, stirrer, and dropping funnel, 58 g of hexachlorocyclotriphosphazene having a purity of 99.9% (0.5 unit mol, NPCl 2 as one unit), THF 100 mL Was added to obtain a solution. Next, a separately prepared THF solution of 4-methoxyphenol Na salt (4-methoxyphenol 43.4 (0.35 mol), sodium 7.6 g (0.33 g-atom)) and THF 200 mL were stirred for 1 hour. The solution was dropped into the above THF solution of hexachlorocyclotriphosphazene over a period of time, and since it was a vigorous exothermic reaction, the reaction was carried out with appropriate cooling so that the reaction temperature did not exceed 30 ° C. After completion of the dropping, the reaction was continued at 60 ° C. for 6 hours. The residual chlorine content of the partially substituted product obtained by the reaction was 27.11%, and the estimated structure was N 3 P 3 Cl 4.0 (OC 6 H 4 OCH 3 ) 2.0 . Next, separately prepared sodium phenolate in THF (phenol 79.1 g (0.85 mol), sodium 18.4 g (0.8 g-atom), THF 200 m Was added dropwise over 1 hour under cooling control so that the reaction temperature was 30 ° C. or less, and then the reaction was completed at room temperature for 5 hours and at reflux temperature for 3 hours. Was distilled off under reduced pressure, and then 500 mL of toluene was added to redissolve the product, and 300 mL of water was further added and the solution was washed with water, and the organic layer was washed with 5% aqueous sodium hydroxide solution and 2% sodium hydroxide. Washing with an aqueous solution was performed once, followed by washing once with a 5% by weight aqueous hydrochloric acid solution, washing once with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate, and further washing twice with water to neutralize the aqueous layer. The organic layer was separated and dried over anhydrous magnesium sulfate, and toluene was distilled off to obtain 110.0 g (yield 91%) of a pale yellow oily product with a residual chlorine content of 0.01% or less. 4-methoxyphene obtained by the above method. 96.8 g (0.40 unit mol) of cyclotriphosphazene mixed with xy group and phenoxy group and 583.6 g (5.05 mol) of pyridine hydrochloride were charged into a 2 L 4-necked flask and gradually heated. The reaction was carried out for 1 hour at 205 to 210 ° C. The subsequent operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain 75.0 g (yield 77.5%) of a yellow solid having a residual chlorine content of 0.01. %, And the hydroxyl group content was 4.7% (theoretical value: 4.7%, composition formula: N 3 P 3 (OPh) 4.0 (OC 6 H 4 OH) 2.0 , hydroxide equivalent 363)
(Example 1) Synthesis of an acid anhydride having a phosphazene skeleton In a reaction vessel equipped with a stirrer and a dropping funnel, 21.06 g (100 mmol) of trimellitic acid chloride and 50 g of methyl ethyl ketone are taken and stirred at room temperature. 36.3 g (100 mmol based on OH) of phosphazene having a partially hydroxyl group (composition formula N 3 P 3 (OPh) 4.0 (OC 6 H 4 OH) 2.0 ) synthesized in Synthesis Example 3 was added to 50 g of methyl ethyl ketone and 9.5 g of pyridine. The solution was added dropwise to the reaction solution at room temperature and stirred for 1 hour at room temperature. Thereafter, the mixture was stirred for 2 hours under reflux. The reaction vessel was then cooled with ice water for 30 minutes. All previous reactions were carried out under a nitrogen stream.

析出したピリジンの塩酸塩を濾別後、濾液を濃縮し、濃縮液にアセトン30gを加え、濃縮物を溶解した。この溶液を蒸留水200gに投入し、撹拌を1時間続けた。析出した粘調な液体をとりだし、真空オーブンで乾燥(120℃2時間)を行い46.5gの酸無水物を得た。この酸無水物を無水酢酸60gに溶かし、2時間140℃で加熱後、真空オーブンで乾燥(120℃2時間)を行い目的の酸無水物46.5gを得た。(収率86.6%)これを化合物Aとする。1H−NMR:測定条件Varian社製 Gemini300 操作周波数300Hz、溶媒DMSO−d6、(1)トリメリット酸由来芳香環δ7.8〜8.6、6H、(2)それ以外の芳香環δ6.9〜7.5、28H。 The precipitated hydrochloride of pyridine was filtered off, the filtrate was concentrated, and 30 g of acetone was added to the concentrated solution to dissolve the concentrate. This solution was poured into 200 g of distilled water and stirring was continued for 1 hour. The deposited viscous liquid was taken out and dried in a vacuum oven (120 ° C. for 2 hours) to obtain 46.5 g of an acid anhydride. This acid anhydride was dissolved in 60 g of acetic anhydride, heated at 140 ° C. for 2 hours, and then dried in a vacuum oven (120 ° C. for 2 hours) to obtain 46.5 g of the desired acid anhydride. (Yield 86.6%) This is referred to as Compound A. 1 H-NMR: Measurement conditions Gemini 300 manufactured by Varian, operating frequency 300 Hz, solvent DMSO-d 6 , (1) trimellitic acid-derived aromatic ring δ7.8-8.6, 6H, (2) other aromatic ring δ6. 9-7.5, 28H.

(実施例2)ホスファゼン骨格を有する酸無水物の合成
実施例1とトリメリット酸クロライド31.6g(150mmol)、合成例2で合成したヒドロキシ基を有するホスファゼン(組成式N33(OC64OH)6 水酸基当量131.8)19.8g(OH基準で150mmol)、ピリジン14.2gにかえた他は、同様に反応を行って、酸無水物36.7gを得た。(収率80%)これを化合物Bとする。1H−NMR:測定条件Varian社製 Gemini300 操作周波数300Hz、溶媒DMSO−d6、(1)トリメリット酸由来芳香環環δ7.8〜8.6、18H、(2)それ以外の芳香環δ6.9〜7.5、24H。
(Example 2) Synthesis of acid anhydride having phosphazene skeleton 31.6 g (150 mmol) of trimellitic acid chloride prepared in Example 1, phosphazene having a hydroxy group synthesized in Synthesis Example 2 (composition formula N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH) 6 hydroxyl group equivalent 131.8) 19.8 g (150 mmol on the basis of OH) and 14.2 g of pyridine were reacted in the same manner to obtain 36.7 g of acid anhydride. (Yield 80%) This is designated as Compound B. 1 H-NMR: Measurement conditions Gemini300 manufactured by Varian, operating frequency 300 Hz, solvent DMSO-d 6 , (1) trimellitic acid-derived aromatic ring δ7.8-8.6, 18H, (2) other aromatic rings δ6 .9-7.5, 24H.

(実施例3)
芳香族ポリカーボネート樹脂75部(重量部)及びABS樹脂25部からなる樹脂に、実施例1で製造した化合物A 15部とPTFE 0.2部を添加してミキサーで混合後、ラボプラストミルを用いて溶融混練し、難燃性樹脂組成物を得た。
(Example 3)
15 parts of Compound A produced in Example 1 and 0.2 part of PTFE were added to a resin composed of 75 parts (parts by weight) of an aromatic polycarbonate resin and 25 parts of ABS resin, mixed with a mixer, and then used with a lab plast mill. And kneaded to obtain a flame retardant resin composition.

この組成物を加熱プレスにより1/8インチの厚さの試験片を作製し、UL−94の試験法に基づく難燃性の評価とASTMのD−648に準じて熱変形温度の測定を行った。この結果、難燃性はV−0、熱変形温度は108℃であり、成型時にジューシングは認められなかった。このことは、本発明のホスファゼン骨格を有する化合物からなる樹脂組成物の、樹脂成形体への優れた残存性能を表す。成型時にジューシング無いため、金型等を汚すこと無いため、好ましい。   A test piece having a thickness of 1/8 inch was prepared from this composition by a hot press, and the flame retardant evaluation based on the UL-94 test method and the measurement of the heat distortion temperature according to ASTM D-648 were performed. It was. As a result, the flame retardancy was V-0, the heat distortion temperature was 108 ° C., and juicing was not observed during molding. This represents the excellent remaining performance of the resin composition comprising the compound having a phosphazene skeleton of the present invention on the resin molded body. Since there is no juicing at the time of molding, the mold or the like is not soiled, which is preferable.

(実施例4)
実施例2で製造した化合物Bを使用し、実施例3と同様に試料作製と評価を行った。この結果、難燃性はV−0、熱変形温度は111℃であり、成型時にジューシングは認められなかった。
Example 4
Using Compound B produced in Example 2, sample preparation and evaluation were carried out in the same manner as in Example 3. As a result, the flame retardancy was V-0, the heat distortion temperature was 111 ° C., and juicing was not observed during molding.

(実施例5)
実施例3の配合においてPTFEを添加せずに試料作製を行い、難燃性と熱変形温度の評価を行った。この結果、難燃性はV−0、熱変形温度109℃であり、成型時にジューシングは認められなかった。
(Example 5)
In the formulation of Example 3, a sample was prepared without adding PTFE, and the flame retardancy and the heat distortion temperature were evaluated. As a result, the flame retardancy was V-0 and the heat distortion temperature was 109 ° C., and juicing was not observed during molding.

(比較例1)
実施例1で製造した化合物Aに代えてトリキシリルホスフェイトを使用し、実施例1と同様に試料作製と評価を行った。この結果、難燃性はV−2、熱変形温度は82℃であり、成型時にジューシングが認められた。
(Comparative Example 1)
Sample preparation and evaluation were carried out in the same manner as in Example 1 except that trixylyl phosphate was used in place of Compound A produced in Example 1. As a result, the flame retardancy was V-2, the heat distortion temperature was 82 ° C., and juicing was observed during molding.

(参考例1)
攪拌棒、コンデンサー、滴下ロート及び温度計付フラスコに、オキシ塩化リン460g(3モル)、レゾルシン110g(2モル)、フェノール94.1g(1モル)及び塩化アルミニウム9g(触媒)を同時に仕込み150℃まで反応させ、次いでフェノール564.6g(6モル)を加えて反応させた。反応混合物を水洗後、高温真空下でトリフェニルホスフェートを留去し、レゾルシノールで架橋した縮合リン酸ジフェニルエステル515gを得た。
(Reference Example 1)
A stirring bar, a condenser, a dropping funnel and a flask equipped with a thermometer were charged with 460 g (3 mol) of phosphorus oxychloride, 110 g (2 mol) of resorcin, 94.1 g (1 mol) of phenol and 9 g of aluminum chloride (catalyst) at 150 ° C. The reaction was continued until 564.6 g (6 mol) of phenol was added. After the reaction mixture was washed with water, triphenyl phosphate was distilled off under high temperature vacuum to obtain 515 g of condensed phosphoric acid diphenyl ester crosslinked with resorcinol.

この縮合リン酸ジフェニルエステルの品質:黄色液体、平均分子量=540、%P=10.6、酸価2.2。   Quality of this condensed phosphoric acid diphenyl ester: yellow liquid, average molecular weight = 540,% P = 10.6, acid value 2.2.

(比較例2)
実施例1で製造した化合物Aに代えてレゾルシノールで架橋した縮合リン酸ジフェニルエステル(参考例1で得られたもの)を使用し、実施例1と同様に試料作製と評価を行った。この結果、難燃性はV−2、熱変形温度は89℃であり、成型時にジューシングが認められた。
(Comparative Example 2)
Sample preparation and evaluation were performed in the same manner as in Example 1 except that condensed phosphoric acid diphenyl ester crosslinked with resorcinol (obtained in Reference Example 1) was used in place of Compound A produced in Example 1. As a result, the flame retardancy was V-2, the heat distortion temperature was 89 ° C., and juicing was observed during molding.

(比較例3)
難燃剤を添加せず実施例1と同様に試料作製と評価を行ったところ、試験片は燃焼してしまい、難燃性は全く示さなかった。熱変形温度は111℃であった。
(Comparative Example 3)
When a sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 without adding a flame retardant, the test piece burned and showed no flame retardancy. The heat distortion temperature was 111 ° C.

(実施例6)
ポリカーボネート 70部、エポキシ化合物 15部(エピコート1004、ジャパンエポキシレジン株式会社製)、実施例1で合成した化合物A 15部を塩化メチレンに溶解し、18μm厚みの銅箔(三井金属製3EC-VLP)に塗布後、40℃で5分、60℃で5分、80℃で5分乾燥後、160℃で1時間加熱し、銅箔をエッチングにより除去して、25μm厚みのフィルムを得た。このフィルムをUL−94の試験法に基づく難燃性の評価の結果、VTM−0であった。
(Example 6)
70 parts of polycarbonate, 15 parts of epoxy compound (Epicoat 1004, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 15 parts of Compound A synthesized in Example 1 were dissolved in methylene chloride, and 18 μm thick copper foil (3EC-VLP made by Mitsui Kinzoku) After coating, the film was dried at 40 ° C. for 5 minutes, 60 ° C. for 5 minutes and 80 ° C. for 5 minutes, then heated at 160 ° C. for 1 hour, and the copper foil was removed by etching to obtain a 25 μm thick film. This film was VTM-0 as a result of evaluation of flame retardancy based on the UL-94 test method.

(比較例4)
得られたフィルムをUL−94の試験法に基づく難燃性の評価の結果、燃焼してしまった。

(Comparative Example 4)
The obtained film was burned as a result of the evaluation of flame retardancy based on the UL-94 test method.

Claims (4)

ホスファゼン骨格を有することを特徴とする酸無水物。 An acid anhydride having a phosphazene skeleton. 下記式(1)の構造を有する請求項1記載の酸無水物。
Figure 2006036736
(式中mは3〜25の整数を示す。R1はフェニル基を示す。R2はフェニル基あるいは式(2)に示される酸無水物骨格を示し、式(1)の化合物中で式(2)に示される酸無水物骨格を1以上含む。)
Figure 2006036736
The acid anhydride of Claim 1 which has a structure of following formula (1).
Figure 2006036736
(In the formula, m represents an integer of 3 to 25. R 1 represents a phenyl group. R 2 represents a phenyl group or an acid anhydride skeleton represented by the formula (2). (Including one or more acid anhydride skeletons shown in (2))
Figure 2006036736
請求項1または請求項2に記載の酸無水物に加え、熱可塑性樹脂及び/または熱硬化性樹脂を含有することを特徴とする、難燃性樹脂組成物。 A flame retardant resin composition comprising a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin in addition to the acid anhydride according to claim 1 or 2. 請求項3記載の難燃性樹脂組成物を成形してなる、難燃性樹脂成形品。

A flame-retardant resin molded product obtained by molding the flame-retardant resin composition according to claim 3.

JP2004223078A 2004-07-30 2004-07-30 Acid anhydride having phosphazene skeleton, flame retardant resin composition and flame retardant resin-molded article Pending JP2006036736A (en)

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