JP2006032488A - Electronic component holder and its using method - Google Patents

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Satoshi Odajima
智 小田嶋
Noriyoshi Hosono
則義 細野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component holder that can be simplified in configuration and manufacturing method, does not break an electronic component by easily bending the component, and can prevent the increase of the cost and the occurrence of a large amount of wastes; and to provide a method of using the holder. <P>SOLUTION: The electronic component holder is provided with an ultraviolet-ray transmissive supporting board 1 having flat surfaces on both sides, an ultraviolet-ray transmissive elastic holding layer 2 thinly formed on the supporting board 1 in a laminated state, and the silicon wafer 10 of the electronic component that is adhesively held to the elastic holding layer 2 removably. To the backside (surface to be held) of the silicon wafer 10 adhesively held by the holding layer 2, an adhesive sheet 11 which is lowered in adhesiveness when the sheet 11 is irradiated with ultraviolet rays is stuck. Since it is not required to maintain vacuum suction during working the silicon wafer 10, the constitution and manufacturing method of this electronic component holder can be simplified. Even when holding the silicon wafer 10, in addition, the shapes of the flat surfaces of the elastic holding layer 2 can be held, because the rigid supporting plate 1 supports the holding layer 2. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、シリコンウェーハ、セラミックグリーンシート、ガラス、プリント基板等からなる電子部品を固定したり、搬送等する際に使用される電子部品保持具及びその使用方法に関するものである。   The present invention relates to an electronic component holder used when fixing or conveying an electronic component composed of a silicon wafer, a ceramic green sheet, glass, a printed circuit board, and the like, and a method of using the same.

シリコンウェーハ、セラミックグリーンシート、ガラス、プリント基板等に代表される電子部品は、薄く割れやすく、単体では平面性を維持することができない場合があり、それ自体ではハンドリングが困難であるという特徴がある。そこで、電子部品保持具に保持された状態で研磨、パターニング、ダイシング、印刷、部品搭載等の加工が施されたり、工程間を搬送される。
係る作業に使用される電子部品保持具は、加工時や搬送時に電子部品を強固に固定し、その後に容易に取り外しが可能であるのが要求される。
Electronic components represented by silicon wafers, ceramic green sheets, glass, printed boards, etc. are thin and easy to break, may not be able to maintain flatness by themselves, and are difficult to handle by themselves. . Therefore, processing such as polishing, patterning, dicing, printing, and component mounting is performed while being held by the electronic component holder, or is transferred between processes.
The electronic component holder used for such work is required to firmly fix the electronic component at the time of processing or transportation, and then be easily removable.

従来の電子部品保持具としては、図示しないが、(1)突き出た多数の支持体上に電子部品を搭載して真空吸着するタイプ(特許文献1参照)、(2)PETフィルム等に光硬化性の粘着層を積層形成し、電子部品の取り外し時に粘着層を硬化させてその粘着性を喪失させるタイプがあげられる(特許文献2参照)。
特開2000−286329号公報 特開2003−113355号公報
As a conventional electronic component holder, although not shown, (1) a type in which electronic components are mounted on a plurality of protruding supports and vacuum-adsorbed (see Patent Document 1), (2) photocured on a PET film or the like There is a type in which a sticky adhesive layer is laminated and the adhesive layer is cured at the time of removing an electronic component to lose its adhesiveness (see Patent Document 2).
JP 2000-286329 A JP 2003-113355 A

従来の電子部品保持具は、以上のように構成されているが、(1)の場合には、電子部品の加工時に真空吸着を維持しなければならず、構成や製造方法が複雑化するという大きな問題がある。   The conventional electronic component holder is configured as described above. However, in the case of (1), it is necessary to maintain vacuum suction when processing the electronic component, which complicates the configuration and the manufacturing method. There is a big problem.

また、(2)の場合には、例えば厚さ0.5mm以下に研磨されたシリコンウェーハ等を電子部品として保持する場合、粘着層をPETフィルム等が支持するので、平面形状を保持することが困難であり、容易に屈曲してシリコンウェーハ等の電子部品を破損する危険性が高いという問題がある。
これを回避するには、PETフィルム等の代わりに剛性の板材を使用すれば良いが、そうすると、粘着層の粘着性喪失後には再使用することができない関係上、ランニングコストの増大や多量の廃棄物の発生を招くこととなる。
In the case of (2), for example, when holding a silicon wafer or the like polished to a thickness of 0.5 mm or less as an electronic component, the PET layer or the like supports the adhesive layer, so that the planar shape can be maintained. There is a problem that it is difficult to bend easily and has a high risk of damaging an electronic component such as a silicon wafer.
In order to avoid this, it is sufficient to use a rigid plate material instead of PET film, etc. However, in that case, it cannot be reused after the adhesive layer loses its adhesiveness. It will cause the generation of things.

本発明は上記に鑑みなされたもので、構成や製造方法の簡素化を図ることができ、電子部品が簡単に屈曲して破損するおそれがなく、しかも、コストの増大や多量の廃棄物の発生を防止することのできる電子部品保持具及びその使用方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above, and can simplify the configuration and the manufacturing method. There is no risk that the electronic component is easily bent and damaged, and the cost is increased and a large amount of waste is generated. It is an object of the present invention to provide an electronic component holder that can prevent the above and a method of using the same.

本発明においては上記課題を解決するため、紫外線透過性の支持体と、この支持体に設けられる紫外線透過性の弾性保持層と、この弾性保持層に保持される電子部品とを含んでなることを特徴としている。
なお、電子部品の弾性保持層に保持される被保持面に、紫外線の照射により粘着性が低下する粘着層を設けることができる。
また、電子部品を、ダイシングされる半導体ウェーハ、あるいは半導体ウェーハのダイシングにより形成されたダイとすることができる。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention comprises an ultraviolet-transmissive support, an ultraviolet-transmissive elastic holding layer provided on the support, and an electronic component held on the elastic holding layer. It is characterized by.
Note that an adhesive layer whose adhesiveness is reduced by irradiation with ultraviolet rays can be provided on the surface to be held held by the elastic holding layer of the electronic component.
Further, the electronic component can be a semiconductor wafer to be diced or a die formed by dicing the semiconductor wafer.

また、本発明においては上記課題を解決するため、請求項1、2、又は3いずれかに記載の電子部品保持具の使用方法であって、電子部品保持具に電子部品を保持させる場合には、少なくとも電子部品保持具の弾性保持層に電子部品を粘着層を介して接触させ、
電子部品保持具から電子部品を取り外す場合には、粘着層に紫外線を照射して粘着層の粘着性を低下させることを特徴としている。
Moreover, in order to solve the said subject in this invention, when using the electronic component holder in any one of Claim 1, 2, or 3, Comprising: When making an electronic component holder hold an electronic component , At least the electronic component is brought into contact with the elastic holding layer of the electronic component holder through the adhesive layer,
When removing an electronic component from the electronic component holder, the adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays to reduce the adhesiveness of the adhesive layer.

ここで、特許請求の範囲における支持体は、紫外線を透過する剛性の素材が選択され、電子部品の形状に応じて長方形、正方形、多角形、円形、楕円形等に形成される。弾性保持層は、紫外線を透過する素材が選択され、支持体の片面、両面、これらの全部又は一部に単数複数設けられる。この弾性保持層は、電子部品の形状に応じて長方形、正方形、多角形、円形、楕円形等に形成され、電子部品との間の気体を排除し、気体の再度の侵入を規制して電子部品を保持する。   Here, as the support in the claims, a rigid material that transmits ultraviolet rays is selected, and is formed into a rectangle, a square, a polygon, a circle, an ellipse, or the like according to the shape of the electronic component. For the elastic holding layer, a material that transmits ultraviolet rays is selected, and a single or plural elastic holding layer is provided on one or both sides of the support, all or a part thereof. This elastic holding layer is formed into a rectangle, square, polygon, circle, ellipse, etc. according to the shape of the electronic component, excludes gas between the electronic component and restricts re-entry of the gas to Hold the parts.

電子部品には、少なくとも単数複数の半導体ウェーハ(シリコンウェーハ)、ダイ(チップとも、ペレットともいう)、セラミックグリーンシート、ガラス、リジット基板、フレキシブル基板、プリント基板、これらを加工した基板、チップ部品等が含まれる。この電子部品の形状は特に問うものではない。   Electronic components include at least one or more semiconductor wafers (silicon wafers), dies (also referred to as chips or pellets), ceramic green sheets, glass, rigid substrates, flexible substrates, printed boards, substrates processed from these, chip components, etc. Is included. The shape of the electronic component is not particularly questioned.

本発明によれば、構成や製造方法の簡素化を図ることができ、電子部品が簡単に曲がって破損するおそれがないという効果がある。また、コストが増大したり、廃棄物が多量に発生するのを有効に抑制防止することができる。   According to the present invention, the configuration and the manufacturing method can be simplified, and there is an effect that the electronic component is not easily bent and damaged. Further, it is possible to effectively suppress and prevent the increase in cost and the generation of a large amount of waste.

以下、図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を説明すると、本実施形態における電子部品保持具は、図1ないし図3に示すように、表裏面がそれぞれ平坦に形成される紫外線透過性の支持板1と、この支持板1上に薄く積層される紫外線透過性の弾性保持層2と、この弾性保持層2上に着脱自在に密着保持される電子部品であるシリコンウェーハ10とを備え、弾性保持層2に密着保持されるシリコンウェーハ10の裏面(被保持面)に、紫外線の照射により粘着性の低下する粘着シート11が粘着される。   Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the electronic component holder according to the present embodiment is ultraviolet transmissive with front and back surfaces formed flat. A support plate 1, an ultraviolet transmissive elastic holding layer 2 that is thinly laminated on the support plate 1, and a silicon wafer 10 that is an electronic component that is detachably held on the elastic holding layer 2. The pressure-sensitive adhesive sheet 11 whose adhesiveness is lowered by irradiation of ultraviolet rays is adhered to the back surface (held surface) of the silicon wafer 10 that is closely held by the elastic holding layer 2.

支持板1と弾性保持層2の紫外線透過性は、400nmの波長において10%以上の光線透過率であるのが好ましい。これは、波長400nmにおける光線透過率が10%未満の場合には、粘着シート11の粘着性を低下させるため必要な紫外線量が増加し、コストの増大を招くおそれがあるからである。また、紫外線の吸収により、電子部品保持具が発熱し、耐久性に悪影響を及ぼすおそれがあるからである。   The ultraviolet transmittance of the support plate 1 and the elastic holding layer 2 is preferably a light transmittance of 10% or more at a wavelength of 400 nm. This is because when the light transmittance at a wavelength of 400 nm is less than 10%, the amount of ultraviolet rays required to reduce the adhesiveness of the adhesive sheet 11 increases, which may increase the cost. Further, the absorption of ultraviolet rays generates heat in the electronic component holder, which may adversely affect durability.

支持板1は、図1や図2に示すように、紫外線を透過するソーダライムガラス、白板ガラス、石英ガラス等からなるガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂等の透明樹脂材料を使用して平面矩形に形成される。これらの中でも、平坦性、紫外線透過性、価格の観点からガラスの使用が最適である。この支持板1は、剛性を確保する観点から、0.3mm以上の厚さに設定されるとともに、必要以上に重くなるのを避けるため、5mm以下の厚さとされる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the support plate 1 is made of soda-lime glass, white plate glass, quartz glass, or the like that transmits ultraviolet rays, acrylic resin, polycarbonate resin, polyolefin resin, epoxy resin, or the like. It is formed into a plane rectangle using a transparent resin material. Among these, the use of glass is optimal from the viewpoints of flatness, ultraviolet transmittance, and cost. The support plate 1 is set to a thickness of 0.3 mm or more from the viewpoint of ensuring rigidity, and is set to a thickness of 5 mm or less in order to avoid becoming unnecessarily heavy.

弾性保持層2は、同図に示すように、弾性を有する所定のエラストマーを使用して表裏面がそれぞれ平坦に形成され、5〜60Hs(JIS A)のゴム硬度とされており、支持板1の表面に積層して形成される。この弾性保持層2の材料としては、例えば、シリコーンゴム、フッ素系ゴム、ウレタン系エラストマー、天然ゴム、シクロペンタジエン系ゴム、アイオノマー等があげられる。   As shown in the figure, the elastic holding layer 2 has a rubber hardness of 5 to 60 Hs (JIS A) by using a predetermined elastomer having elasticity, the front and back surfaces being flat, and the support plate 1. It is formed by laminating on the surface. Examples of the material of the elastic holding layer 2 include silicone rubber, fluorine rubber, urethane elastomer, natural rubber, cyclopentadiene rubber, and ionomer.

但し、紫外線の透過性を保持するためには、通常使用される補強性のフィラーの添加は最小限に止めることが好ましい。この点、シリカ系のフィラーであれば、樹脂材料100容量部に対して5容量部以下の添加に止めることができる。これに対し、カーボン系のフィラーの添加は好ましくない。上記材料の中でも、耐熱性が要求される場合には、シリコーンゴムやフッ素系ゴムが好適に使用される。   However, in order to maintain the transparency of ultraviolet rays, it is preferable to keep the addition of reinforcing fillers usually used to a minimum. In this regard, if it is a silica-based filler, addition of 5 parts by volume or less can be stopped with respect to 100 parts by volume of the resin material. On the other hand, the addition of a carbon-based filler is not preferable. Among the above materials, when heat resistance is required, silicone rubber or fluorine rubber is preferably used.

弾性保持層2のゴム硬度が5〜60Hs(JIS A)の範囲なのは、5Hs未満の場合には、機械的強度が不足して耐久性が悪くなるからである。逆に、60Hsを超える場合には、密着力が低下してシリコンウェーハ10を十分に保持することができないからである。   The reason why the rubber hardness of the elastic holding layer 2 is in the range of 5 to 60 Hs (JIS A) is that when it is less than 5 Hs, the mechanical strength is insufficient and the durability is deteriorated. On the other hand, if it exceeds 60 Hs, the adhesion is reduced and the silicon wafer 10 cannot be sufficiently held.

弾性保持層2は、0.01〜1mm程度の厚さに形成され、平坦な表面がシリコンウェーハ10の裏面に貼着された粘着シート11を接触保持する密着保持面3とされており、この密着保持面3の中心線平均粗さ(JIS B601)が3.2μm以下程度に設定される。この弾性保持層2の厚さが0.01〜1mmの範囲なのは、0.01mm未満の場合には、厚さ方向の変異量が少なくなり、シリコンウェーハ10に追従して密着保持する機能が低下するおそれがあるからである。逆に、1mmを越える場合には、シリコンウェーハ10の平面性を保持することが困難になるおそれがあるからである。   The elastic holding layer 2 is formed to a thickness of about 0.01 to 1 mm, and the flat surface is a close-contact holding surface 3 that holds and holds the adhesive sheet 11 attached to the back surface of the silicon wafer 10. The center line average roughness (JIS B601) of the adhesion holding surface 3 is set to about 3.2 μm or less. The thickness of the elastic holding layer 2 is in the range of 0.01 to 1 mm. When the elastic holding layer 2 is less than 0.01 mm, the amount of variation in the thickness direction is reduced, and the function of closely following and holding the silicon wafer 10 is lowered. It is because there is a possibility of doing. Conversely, if it exceeds 1 mm, it may be difficult to maintain the planarity of the silicon wafer 10.

密着保持面3の中心線平均粗さが3.2μm以下程度なのは、この数値を超える場合には密着力が弱くなり、十分な保持力が得られないおそれがあるという理由に基づく。   The reason why the centerline average roughness of the close contact holding surface 3 is about 3.2 μm or less is that when this value is exceeded, the close contact force becomes weak and sufficient holding force may not be obtained.

シリコンウェーハ10は、例えば8インチや12インチの大きさの円板に形成されてウェーハメーカーからICメーカーに運ばれ、回路形成やバックグラインドされた後、電子部品保持具の表面に搭載保持された状態でダイシングされる。このシリコンウェーハ10のダイシングにより、複数のダイが分割形成され、各ダイに、ボンディングや封止が施されることとなる。   The silicon wafer 10 is formed into a disk having a size of 8 inches or 12 inches, for example, and transported from the wafer manufacturer to the IC manufacturer. After the circuit formation or back grinding, the silicon wafer 10 is mounted and held on the surface of the electronic component holder. Dicing in state. By dicing the silicon wafer 10, a plurality of dies are divided and formed, and bonding and sealing are performed on each die.

上記構成において、電子部品保持具を製造する場合には、上記エラストマー材料をスクリーン印刷、メタルマスク印刷、ディッピング、ドクターブレードコーティング、ナイフコーティング、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、ディスペンス等の方法により、支持板1の全面又は一部に塗布し、その後、硬化させることにより製造すれば良い。また、金型内で支持板1上にコンプレッションやインジェクション等の方法で成形しても良いし、カレンダー、押出、プレス等によりシート体を成形し、このシート体を支持板1に貼着することにより製造しても良い。   In the above configuration, when producing an electronic component holder, the elastomer material is screen printed, metal mask printed, dipping, doctor blade coating, knife coating, bar coating, spin coating, roll coating, dispensing, etc. What is necessary is just to manufacture by apply | coating to the whole surface or one part of the support plate 1, and making it harden | cure after that. Further, it may be formed on the support plate 1 in a mold by a method such as compression or injection, or a sheet body is formed by calendaring, extrusion, pressing or the like, and this sheet body is adhered to the support plate 1. May be manufactured.

次に、製造した電子部品保持具を使用してシリコンウェーハ10を保持する場合には、予めシリコンウェーハ10の裏面に、紫外線照射により粘着性の低下する粘着シート11を粘着(図3参照)し、この粘着シート11の側を弾性保持層2の密着保持面3に載せるか、載せて軽く押圧すれば、弾性保持層2にシリコンウェーハ10を密着保持させることができる(図1参照)。こうして弾性保持層2にシリコンウェーハ10が密着保持されると、その後、印刷、コーティング、ダイシング、研磨、部品搭載、積層等の各種の加工、搬送等が行われる。   Next, when the silicon wafer 10 is held using the manufactured electronic component holder, an adhesive sheet 11 whose adhesiveness is reduced by ultraviolet irradiation is adhered to the back surface of the silicon wafer 10 in advance (see FIG. 3). If the pressure-sensitive adhesive sheet 11 is placed on the adhesion holding surface 3 of the elastic holding layer 2 or placed and pressed lightly, the silicon wafer 10 can be held in close contact with the elastic holding layer 2 (see FIG. 1). When the silicon wafer 10 is held in close contact with the elastic holding layer 2 in this way, thereafter, various processes such as printing, coating, dicing, polishing, component mounting, and lamination, conveyance, and the like are performed.

加工終了時や加工後の電子部品を他の基板等に実装する場合には、支持板1の裏面側から紫外線(図1の矢印参照)を弾性保持層2や粘着シート11に照射して粘着シート11の粘着性を低下させれば、シリコンウェーハ10を簡単に取り外すことができる。   When mounting the processed electronic component on another substrate or the like at the end of processing, the elastic holding layer 2 or the adhesive sheet 11 is irradiated with ultraviolet rays (see the arrow in FIG. 1) from the back surface side of the support plate 1 for adhesion. If the adhesiveness of the sheet 11 is lowered, the silicon wafer 10 can be easily removed.

なお、ダイシングの場合、粘着シート11を完全に切断しない深さに刃の挿入を止めるようにすれば、複数のダイに分割されたシリコンウェーハ10を取り外した後、不要となった粘着シート11を一括して剥離除去することができ、電子部品保持具を繰り返して使用することが可能になる。   In the case of dicing, if the insertion of the blade is stopped at a depth that does not completely cut the adhesive sheet 11, the adhesive sheet 11 that has become unnecessary after the silicon wafer 10 divided into a plurality of dies is removed. It is possible to peel and remove all at once, and the electronic component holder can be used repeatedly.

上記構成によれば、シリコンウェーハ10の加工時に真空吸着を維持する必要が全くないので、電子部品保持具の構成や製造方法を著しく簡素化することができる。また、シリコンウェーハ10を電子部品として保持する場合でも、弾性保持層2を剛性の支持板1が搭載支持するので、平面形状を確実に保持することができる。したがって、屈曲に伴いシリコンウェーハ10等の電子部品が破損する危険性を大幅に低減することができる。さらに、電子部品保持具を再使用することができるので、ランニングコストの増大や多量の廃棄物の発生を招くことがない。特に、ソーダライムガラスとフッ素系ゴムを使用した電子部品保持具は優れた効果がある。   According to the above configuration, since it is not necessary to maintain vacuum suction at the time of processing the silicon wafer 10, the configuration and manufacturing method of the electronic component holder can be remarkably simplified. Even when the silicon wafer 10 is held as an electronic component, the elastic holding layer 2 is mounted and supported by the rigid support plate 1, so that the planar shape can be reliably held. Therefore, the risk of damage to electronic components such as the silicon wafer 10 due to bending can be greatly reduced. Furthermore, since the electronic component holder can be reused, the running cost is not increased and a large amount of waste is not generated. In particular, an electronic component holder using soda lime glass and fluorine rubber has an excellent effect.

なお、上記実施形態の弾性保持層2には、帯電防止を目的に紫外線透過性を喪失しない範囲で導電性ポリマーやイオン導電性付与剤を添加したり、塗布しても良い。また、電子部品保持具には、作業テーブルに位置合わせするための穴やマーク等を必要に応じて形成することができる。   In addition, a conductive polymer or an ion conductivity-imparting agent may be added to or applied to the elastic retaining layer 2 of the above-described embodiment within a range not losing ultraviolet transparency for the purpose of preventing charging. Moreover, the electronic component holder can be formed with holes, marks, and the like for alignment with the work table as required.

以下、本発明に係る電子部品保持具及びその使用方法の実施例を説明する。
先ず、ソーダライムガラスからなる支持板の全表面に、厚さ0.1mmのエラストマー材料をロールコーターにより塗布し、150℃で1時間加熱してさらに200℃で4時間加熱硬化させ、弾性保持層を一体的に備えた電子部品保持具を得た。
Embodiments of an electronic component holder and a method for using the same according to the present invention will be described below.
First, an elastomeric material having a thickness of 0.1 mm is applied to the entire surface of a support plate made of soda lime glass by a roll coater, heated at 150 ° C. for 1 hour, and further heated and cured at 200 ° C. for 4 hours, and an elastic holding layer. To obtain an electronic component holder integrally provided.

支持板の大きさは厚さ2.5mm、縦320mm×横320mmとし、エラストマー材料は信越化学工業製のフッ素系ゴム(商品名:SIFEL 660)とした。分光光度計により、電子部品保持具の光線透過率を測定したところ、波長400nmにおいて42%の透過率を示した。   The size of the support plate was 2.5 mm thick, 320 mm long × 320 mm wide, and the elastomer material was a fluorine-based rubber (trade name: SIFEL 660) manufactured by Shin-Etsu Chemical. When the light transmittance of the electronic component holder was measured with a spectrophotometer, it showed a transmittance of 42% at a wavelength of 400 nm.

次いで、厚さ0.5mm、φ300mmのシリコンウェーハの裏面に、125μmの厚さを有するリンテック製のUV硬化型ダイシングテープ(商品名:D−シリーズ)を貼着した。このシリコンウェーハを電子部品保持具の弾性保持層側の中央部に、ダイシングテープ側を対向させて載置したところ、シリコンウェーハが自重で密着保持され、シリコンウェーハを下方に向けても、シリコンウェーハを保持することができた。   Next, a UV curable dicing tape (trade name: D-series) made by Lintec having a thickness of 125 μm was attached to the back surface of a silicon wafer having a thickness of 0.5 mm and φ300 mm. When this silicon wafer was placed on the center of the electronic component holder on the elastic holding layer side with the dicing tape facing the silicon wafer, the silicon wafer was held in close contact with its own weight. Was able to hold.

次いで、ダイサーを用いてシリコンウェーハを5mm□のダイに切断し、日東電工製のUV照射機(商品名:NEL UA300−II)を用いて電子部品保持具の裏面側からシリコンウェーハに紫外線を照射した。すると、複数のダイに個片化されたシリコンウェーハを吸引ピンセットにより簡単に取り外すことができた。   Next, the silicon wafer is cut into a 5 mm square die using a dicer, and the silicon wafer is irradiated with ultraviolet rays from the back side of the electronic component holder using a UV irradiation machine (trade name: NEL UA300-II) manufactured by Nitto Denko. did. Then, the silicon wafer separated into a plurality of dies could be easily removed by suction tweezers.

この際、シリコンウェーハを取り外し、不要となったダイシングテープを一括して剥離除去することができた。
上記作業を100回繰り返したが、シリコンウェーハの保持や取り外しに全く支障が生じなかった。
At this time, the silicon wafer was removed, and the dicing tape that was no longer needed could be peeled and removed all at once.
The above operation was repeated 100 times, but there was no problem in holding or removing the silicon wafer.

本発明に係る電子部品保持具及びその使用方法の実施形態を示す断面説明図である。It is a section explanatory view showing an embodiment of an electronic parts holder concerning the present invention, and a method for using the same. 本発明に係る電子部品保持具の実施形態における電子部品保持具を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the electronic component holder in embodiment of the electronic component holder which concerns on this invention. 本発明に係る電子部品保持具の実施形態におけるシリコンウェーハを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the silicon wafer in embodiment of the electronic component holder which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 支持板(支持体)
2 弾性保持層
3 密着保持面
10 シリコンウェーハ(電子部品)
11 粘着シート(粘着層)
1 Support plate (support)
2 Elastic holding layer 3 Adhesion holding surface 10 Silicon wafer (electronic component)
11 Adhesive sheet (adhesive layer)

Claims (4)

紫外線透過性の支持体と、この支持体に設けられる紫外線透過性の弾性保持層と、この弾性保持層に保持される電子部品とを含んでなることを特徴とする電子部品保持具。   An electronic component holder comprising: an ultraviolet transmissive support; an ultraviolet transmissive elastic holding layer provided on the support; and an electronic component held on the elastic holding layer. 電子部品の弾性保持層に保持される被保持面に、紫外線の照射により粘着性が低下する粘着層を設けた請求項1記載の電子部品保持具。   The electronic component holder according to claim 1, wherein an adhesive layer whose adhesiveness is lowered by irradiation of ultraviolet rays is provided on a surface to be held held by the elastic holding layer of the electronic component. 電子部品を、ダイシングされる半導体ウェーハ、あるいは半導体ウェーハのダイシングにより形成されたダイとした請求項1又は2記載の電子部品保持具。   The electronic component holder according to claim 1 or 2, wherein the electronic component is a semiconductor wafer to be diced or a die formed by dicing the semiconductor wafer. 請求項1、2、又は3いずれかに記載の電子部品保持具の使用方法であって、電子部品保持具に電子部品を保持させる場合には、少なくとも電子部品保持具の弾性保持層に電子部品を粘着層を介して接触させ、
電子部品保持具から電子部品を取り外す場合には、粘着層に紫外線を照射して粘着層の粘着性を低下させることを特徴とする電子部品保持具の使用方法。
4. The method of using an electronic component holder according to claim 1, wherein when the electronic component holder is held by an electronic component holder, at least the electronic component is provided on an elastic holding layer of the electronic component holder. Through the adhesive layer,
A method of using an electronic component holder, wherein when the electronic component is removed from the electronic component holder, the adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays to reduce the adhesiveness of the adhesive layer.
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