JP2006028205A - Composition for anisotropic light-scattering film and anisotropic light-scattering film - Google Patents

Composition for anisotropic light-scattering film and anisotropic light-scattering film Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic light-scattering film which has anisotropicity on scattering characteristics, can also easily control the scattering characteristics related to longitudinal and lateral scattering ranges, and does not change the color of display light dependent on an observation position, and to provide a composition for the film. <P>SOLUTION: This composition for the anisotropic light-scattering films is characterized by comprising at least (A) a thermoplastic resin, (B) a radically polymerizable group-having compound, (C) a compound having at least one cation-polymerizable group in the molecule, (D) a photopolymerization initiator which produces a radical species by chemical radiations, and (E) a polymerization initiator which produces a cation species by chemical radiations or heat, and having a difference between the refractive index of (A) the thermoplastic resin and the refractive index of (B) the radically polymerizable group-having compound. Portions having different refractive indexes are distributed in irregular shapes / thicknesses, and light and shade patterns comprising the unevenness of the refractive indexes are thereby formed. The anisotropic light-scattering film has a structure in which portions having different refractive indexes are distributed in a layer state inclined to the thickness direction of the film. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光の入射角度に応じて散乱性が異なる(或いは、入射角度選択性を持つ)と共に、光散乱特性に異方性を有する光散乱フィルム用組成物に関する。 The present invention relates to a composition for a light scattering film having different scattering properties (or having an incident angle selectivity) depending on the incident angle of light and having anisotropy in light scattering properties.

反射型液晶表示装置や透過型液晶表示装置のなどの光を利用する表示装置では、観察の際の視野角を確保する(すなわち、表示装置の前面には、明るく表示画像を見せる)ことや、表示画面の全面にわたって均一な明るさで表示画面を見えるようにする目的で、装置の前面に光拡散フィルムを配置することが行われている。従来の光散乱フィルムとしては、表面をマット状に加工した樹脂フィルムや、内部に拡散材を包含した樹脂フィルムなどが用いられている。
従来のマット状に加工した樹脂フィルムや内部に拡散材を含有するフィルムの場合、入射光の入射角度に依存した散乱性の変化といった機能を持たせることは原理上困難であり、現実的にそのような機能は持ち合わせていない。
表面をマット状に加工した光散乱フィルムの場合、フィルム表面をサンドブラスター処理のように物理的にマット面を形成したり、或いは酸性又はアルカリ性の溶液による溶解処理により化学的にマット面を形成する。従って光の散乱性を制御する事が難しく、また縦と横の散乱性を変えるといったことも出来ないため散乱異方性を持たせることもできない。
また、内部に拡散材を包含した光散乱フィルムにおいても、散乱性を制御するために拡散材の屈折率や大きさ、形状等を制御する試みも為されているが、技術的に難易度が高く、実用上十分であるとは言えないのが現状である。
従って、上記の光散乱フィルムでは、散乱性の入射角度依存性がなく、光散乱の異方性も無いかもしくは少ないため、表示装置に使用した際に、不必要な散乱光が生じ、結果として表示の明るさやコントラストの低下或いは表示画像のぼけをまねくという問題点がある。
In a display device using light such as a reflective liquid crystal display device or a transmissive liquid crystal display device, a viewing angle at the time of observation is ensured (that is, the display image is brightly displayed on the front surface of the display device), In order to make the display screen visible with uniform brightness over the entire surface of the display screen, a light diffusion film is disposed on the front surface of the apparatus. As a conventional light scattering film, a resin film whose surface is processed into a mat shape, a resin film including a diffusing material inside, or the like is used.
In the case of a conventional resin film processed into a mat shape or a film containing a diffusing material inside, it is difficult in principle to have a function such as a change in scattering depending on the incident angle of incident light. There is no such function.
In the case of a light-scattering film whose surface has been processed into a mat shape, the mat surface is physically formed on the film surface like a sand blaster treatment, or the mat surface is chemically formed by dissolution treatment with an acidic or alkaline solution. . Accordingly, it is difficult to control the light scattering property, and it is impossible to change the vertical and horizontal scattering properties, so that it is impossible to provide scattering anisotropy.
In addition, even in a light scattering film containing a diffusing material inside, attempts have been made to control the refractive index, size, shape, etc. of the diffusing material in order to control the scattering property, but this is technically difficult. It is expensive and not practical enough.
Therefore, in the above light scattering film, there is no scattering incident angle dependency and there is little or no light scattering anisotropy, so unnecessary scattered light is generated when used in a display device, and as a result. There is a problem that the brightness of the display and the contrast are lowered or the display image is blurred.

一方、光散乱に異方性を持つ散乱板を用いた反射型液晶表示装置に係る提案として、特許文献1が公知である。上記公報に開示された散乱板は、後方散乱特性がほとんどなく前方散乱特性が強い散乱板であり、液晶表示装置への入射光あるいは液晶表示装置から出射表示光のどちらか一方を選択的に散乱させる特性を有する。   On the other hand, Patent Document 1 is known as a proposal relating to a reflective liquid crystal display device using a scattering plate having anisotropy in light scattering. The scattering plate disclosed in the above publication is a scattering plate having little back scattering characteristics and strong forward scattering characteristics, and selectively scatters either incident light to the liquid crystal display device or outgoing display light from the liquid crystal display device. It has the characteristic to make it.

しかしながら、上記公報では、散乱板の構成は具体的に説明されておらず、「透明微細粒子を透明な重合性高分子で固めたもの」とだけ記載されている。このような散乱板では、上述した「内部に拡散材を包含した光拡散フィルム」と同様に、散乱特性に異方性(前方か後方か)を持たせられたとしても、縦と横の散乱特性までも制御するのは難しい。   However, in the above publication, the configuration of the scattering plate is not specifically described, but only describes “transparent fine particles solidified with a transparent polymerizable polymer”. In such a scattering plate, even if the scattering characteristic is given anisotropy (forward or backward), as in the case of the above-mentioned “light diffusing film including a diffusing material inside”, the vertical and horizontal scattering can be achieved. It is difficult to control even the characteristics.

また、散乱板としてホログラムを用いた透過型液晶表示装置に係る提案として、特許文献2が公知である。上記提案は、バックライトを有する液晶表示装置からの出射表示光を散乱させるものであり、散乱板としてホログラムを採用しているため、散乱特性に異方性を持たせることも容易であり、縦と横の散乱特性も制御することも可能ではあるが、必然的に分光(波長分散)を伴ってしまうため、観察する視点を移動することに応じて、表示光の色が変化して視覚されることになる。
特開平8−20180号公報 特開平9−152602号公報
Patent Document 2 is known as a proposal related to a transmission type liquid crystal display device using a hologram as a scattering plate. The above proposal scatters display light emitted from a liquid crystal display device having a backlight, and employs a hologram as a scattering plate. Therefore, it is easy to make the scattering characteristics anisotropic, Although it is also possible to control the lateral scattering characteristics, it will inevitably involve spectroscopy (wavelength dispersion), so the color of the display light will change as the viewing point changes. Will be.
JP-A-8-20180 Japanese Patent Laid-Open No. 9-152602

本発明は、散乱特性に異方性(前方か後方か、及び入射角度の依存性)を持たせ、縦横の散乱範囲に係る散乱特性までも制御することが容易であると共に、観察位置によって表示光の色が変化しない異方性散乱体を得るための組成物を提供することを目的とする。 The present invention gives the scattering characteristics anisotropy (forward or backward, and dependency on the incident angle), makes it easy to control the scattering characteristics related to the vertical and horizontal scattering ranges, and displays them depending on the observation position. An object of the present invention is to provide a composition for obtaining an anisotropic scatterer in which the color of light does not change.

本発明から得られる異方性散乱フィルムは、フィルム内部に屈折率の異なる部分が不規則な形状・厚さで分布することにより、屈折率の高低からなる濃淡模様が形成されており、屈折率の異なる部分の大きさ、形、分布を、フィルム表面での縦横方向及びフィルムの厚さ方向に沿って最適化することにより、入射角度に依存した散乱特性に変化を持たせると共に、不必要な方向への光散乱を無くし、必要な方向(範囲)のみに光を散乱させるもので、本発明は、それぞれの屈折率に差があり、熱可塑性樹脂とラジカル重合性化合物からなることを特徴とした異方性散乱フィルム用組成物を提供する。
請求項1に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、少なくとも、(A)熱可塑性樹脂と、(B)ラジカル重合性基を有する化合物と、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有した化合物と、(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤と、(E)化学放射線あるいは熱によってカチオン種を発生する重合開始剤からなり、前記(A)熱可塑性樹脂と前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物の屈折率に差があることを特徴とする異方性光散乱フィルム用組成物である。
請求項2に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、前記(A)熱可塑性樹脂が、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂あるいはビスフェノールF型フェノキシ樹脂のいずれかからなることを特徴とする請求項1に記載の異方性光散乱フィルム用組成物である。
請求項3に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物が、常温、常圧で液体であり、かつ常圧で沸点が100℃以上であるエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物であり、前記(A)熱可塑性樹脂との屈折率差が0.01以上であることを特徴とする請求項1から2に記載の異方性光散乱フィルム用組成物である。
請求項4に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物の量が、前記(A)熱可塑性樹脂100重量部に対し、10から300重量部の範囲であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物である。
請求項5に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、前記(C)分子内に少なくとも1つのカチオン重合性基を有した化合物がオキシラン環を有する化合物、オキセタン環を有する化合物、またはビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも1つあるいは数種の化合物からなることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物。
請求項6に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、前記ビスフェノールA型フェノキシ樹脂あるいはビスフェノールF型フェノキシ樹脂の重量平均分子量が、10,000から100,000の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の異方性光散乱フィルム用組成物である。
請求項7に記載の異方性光散乱フィルム用組成物は、前記(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤を増感せしめる(F)増感色素をさらに添加することを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物である。
In the anisotropic scattering film obtained from the present invention, a portion having different refractive indexes is distributed in an irregular shape / thickness inside the film, so that a light and shade pattern having a refractive index is formed. By optimizing the size, shape, and distribution of different parts of the film along the longitudinal and lateral directions on the film surface and the thickness direction of the film, the scattering characteristics depending on the incident angle can be changed and unnecessary. The present invention is characterized in that light is scattered only in a necessary direction (range) without scattering light in the direction, and the present invention has a difference in refractive index between the thermoplastic resin and the radical polymerizable compound. An anisotropic scattering film composition is provided.
The composition for anisotropic light scattering film according to claim 1 comprises at least (A) a thermoplastic resin, (B) a compound having a radical polymerizable group, and (C) at least one cationic polymerizable group in the molecule. And (D) a photopolymerization initiator that generates radical species by actinic radiation, and (E) a polymerization initiator that generates cationic species by actinic radiation or heat, the (A) thermoplastic resin, (B) The composition for anisotropic light-scattering film, wherein the compound having a radical polymerizable group has a difference in refractive index.
The composition for anisotropic light scattering film according to claim 2, wherein the thermoplastic resin (A) is composed of either bisphenol A type phenoxy resin or bisphenol F type phenoxy resin. It is a composition for anisotropic light-scattering films.
The composition for anisotropic light scattering film according to claim 3, wherein the compound (B) having a radical polymerizable group is a liquid at normal temperature and normal pressure and has a boiling point of 100 ° C or higher at normal pressure. The anisotropic light-scattering film according to claim 1, wherein the compound has at least one unsaturated bond and has a refractive index difference of 0.01 or more with respect to the thermoplastic resin (A). It is a composition.
The composition for anisotropic light scattering film according to claim 4, wherein the amount of the compound (B) having a radical polymerizable group is in the range of 10 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) thermoplastic resin. It is a composition for anisotropic light-scattering films in any one of Claim 1 to 3 characterized by the above-mentioned.
The composition for anisotropic light scattering film according to claim 5, wherein the compound (C) having at least one cationic polymerizable group in the molecule is an oxirane ring compound, an oxetane ring compound, or a vinyl ether compound. The composition for anisotropic light scattering film according to any one of claims 1 to 4, comprising at least one selected from several compounds.
The composition for anisotropic light scattering film according to claim 6, wherein the bisphenol A type phenoxy resin or bisphenol F type phenoxy resin has a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 100,000. Item 3. The composition for anisotropic light scattering film according to Item 2.
The composition for anisotropic light-scattering film according to claim 7 is characterized in that (D) a sensitizing dye that sensitizes the photopolymerization initiator that generates radical species by (D) actinic radiation is further added. It is a composition for anisotropic light-scattering films in any one of Claim 1 to 6.

このように、(B)ラジカル重合性基を有する化合物と、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有した化合物とを併用することで、まず、(B)ラジカル重合性基を有する化合物によりパターン状の露光し、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有した化合物でパターン以外の部分を硬化することができ、異方性光散乱フィルムの性能がさらに向上する。
本組成物を用いれば、所定角度で入射する光に対しては光散乱が生じ、逆にそれとは垂直な光に対しては透明フィルムとして機能することにより、光散乱性に入射角度選択性を持ち、そのため、散乱性を要する光と散乱性が不要な光をそのフィルムへの入射角度により分離することができ、結果として表示装置などに用いた場合に、不必要な散乱を生じることなく表示の明るさや細かさ、コントラストを向上し、且つ表示像のぼけを軽減させる等の効果がある光散乱フィルムを作製することができる。
また、光散乱が生じる入射角度で光が入射した際に、その散乱光の広がりが、縦横で異なるような散乱異方性も併せ持つフィルムの作製が可能である。そのため、必要な方向にのみ散乱光を出射することが出来、結果として表示装置などに用いた場合に、不必要な散乱を生じることなく表示の明るさ、コントラストを向上させる等の効果がある。
Thus, by using (B) a compound having a radical polymerizable group and (C) a compound having at least one cationic polymerizable group in the molecule, Pattern exposure is carried out with the compound which has, and (C) the part other than a pattern can be hardened | cured with the compound which has at least 1 cationic polymerizable group in the molecule | numerator, and the performance of an anisotropic light-scattering film further improves.
If this composition is used, light scattering occurs for light incident at a predetermined angle, and conversely, it functions as a transparent film for light perpendicular thereto, thereby providing light scattering with incident angle selectivity. Therefore, light that requires scattering and light that does not require scattering can be separated by the incident angle on the film, and as a result, when used in a display device, etc., display is performed without unnecessary scattering. It is possible to produce a light scattering film having effects such as improving the brightness, fineness, and contrast of the display and reducing blurring of the display image.
In addition, when light is incident at an incident angle at which light scattering occurs, it is possible to produce a film having a scattering anisotropy in which the spread of the scattered light differs vertically and horizontally. Therefore, it is possible to emit scattered light only in a necessary direction. As a result, when used in a display device or the like, there is an effect of improving display brightness and contrast without causing unnecessary scattering.

以下、図面に基づいて本発明を説明する。図1は、屈折率の異なる部分が不規則な形状・厚さで分布して、屈折率の高低(同図では、白と黒で表現する)からなる濃淡模様が形成された光散乱フィルム1を示す説明図であり、左が平面図、右が断面図である。
平面図から分かるように、屈折率の異なる部分の形状は横長である。また、断面図から分かるように、屈折率の異なる部分は、フィルムの厚さ方向に対して傾斜した層状に分布した構造である。図1では、屈折率の異なる部分が、層状に傾斜している方向については、屈折率の分布は一様(傾斜方向では、色が変化していない)である。
図2は、別の実施形態に係る光散乱フィルム1を示す説明図であり、左が平面図、右が断面図である。図2では屈折率の異なる部分の形状は縦長であり、また、屈折率の異なる部分が、層状に傾斜している方向については、屈折率の分布は不規則(傾斜方向でも、色が変化している)である。
図1、図2の光散乱フィルムの光学特性について、まず、断面図で考える。屈折率の異なる部分が層状に分布した上記傾斜方向に沿った角度(フィルムの垂線から角度θをなす、図2の矢印2の方向)で入射する光に対しては、光散乱が生じることになる。
上記傾斜方向とは垂直な角度(図の矢印3の方向)で入射する光に対しては、単なる透明フィルムとして機能し、入射光は散乱されずに出射する。
次に、平面図で考えると、屈折率の異なる部分の形状が縦長(或いは横長)であると、その部分に入射する光が散乱出射する場合には、それぞれの部分から出射光の光散乱特性が、横長(或いは縦長)となるような異方性を持つ。図1では形状が横長であるから出射光は縦長に散乱し、図2では形状が縦長であるから出射光は横長に散乱することになる。
図3は、本発明の組成物を用いて作製した光散乱フィルム1の持つ入射角度依存性の一例を示すグラフである。図中実線で示すように、ある特定入射角度範囲(図では0度から60度)の光に対してはヘイズ値が80%以上あり、逆にそれとは対称な入射角度(図では−60度から0度)の光に対してのヘイズ値は20%以下になっており、これが本明細書中で言う散乱性の入射角度依存性を示す。
また、上述したように、屈折率の異なる部分の形状が縦長(或いは横長)であると、その部分に入射する光が散乱出射する場合には、それぞれの部分からの出射光の光散乱特性が、横長(或いは縦長)となるような異方性を持つ。例えば、図1のように形状が横長であると、光散乱フィルムからの散乱出射光は、図4の様な縦長の楕円形となるような分布となる。
次に、本発明の異方性光散乱フィルム用組成物について詳細に説明する。上述したように、本発明の組成物で作製した異方性光散乱フィルムの内部は、屈折率の異なる部分が不規則な形状・厚さで分布することにより、屈折率の高低からなる濃淡模様が形成されている。
この屈折率の差異は、小さすぎると散乱性が悪くなり、逆に大きすぎるとどのような角度で光が入射しても光散乱が生じてしまうことになり、散乱性の入射角度依存性を持たせることが困難となる。
本発明の異方性光散乱フィルム用組成物は、少なくとも、(A)熱可塑性樹脂と、(B)ラジカル重合性基を有する化合物と、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有した化合物と、(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤と、(E)化学放射線あるいは熱によってカチオン種を発生する重合開始剤からなり、前記(A)熱可塑性樹脂と前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物の屈折率に差があることを特徴とするもので、特に前記(A)熱可塑性樹脂、(B)ラジカル重合性基を有する化合物でかつ該(A)熱可塑性樹脂と屈折率差が0.01以上であることを特徴とする化合物とからなる。
上記(A)熱可塑性樹脂とは、加熱により反応が起こることなく軟化して塑性を示し、冷却と加熱を繰り返した場合、塑性が可逆的に保たれる樹脂である。熱可塑性樹脂は柔軟性に富んでいるため、異方性光散乱フィルム作製時におけるラジカル重合性基を有する化合物のフィルム中の移動が容易となることで、屈折率差が大きくなるため散乱性が向上する。さらに作製した光異方性散乱フィルムも柔軟性を有するため、光学フィルムとしての利用が容易である。
前記(A)熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、並びにポリメチルメタクリレート或いは各種アクリレート、メタクリレートの共重合体、並びにポリアミド、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール類を挙げることができる。
このうち好ましい(A)熱可塑性樹脂としては、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂あるいはビスフェノールF型フェノキシ樹脂が挙げられる。フェノキシ樹脂は強靭で柔軟性に優れており、またPET(ポリエチレンテレフタレート)、TAC(トリアセテートセルロース)フィルム等の基材やフィラーとの密着性が良好であるため、異方性光散乱フィルムとして良好な特性を有している。
さらに、(A)熱可塑性樹脂として好ましいビスフェノールAフェノキシ樹脂型あるいはビスフェノールF型フェノキシ樹脂の重量平均分子量としては10,000から100,000が望ましい。この平均分子量よりも小さいビスフェノール型樹脂はエポキシ樹脂に分類され、熱硬化性樹脂である。一方、平均分子量の大きいビスフェノール樹脂は有機溶剤への溶解性が乏しくなり異方性光散乱フィルムとして用いることが困難になる。
なお、本発明に使用する(A)熱可塑性樹脂と、(B)ラジカル重合性基を有する化合物の屈折率は異なっている必要があり、その屈折率差が大きいほど光の散乱する度合い、いわゆるヘイズ率が大きくなる。一般的には屈折率差が0.01以上、より好ましくは、0.05以上有することが好ましい。
さらに、上記(B)ラジカル重合性基を有する化合物は、分子内に1個以上の重合性エチレン性二重結合を有し、化学放射線によりラジカルを発生する開始剤の存在下、高分子化または架橋反応する化合物であり、重合性エチレン性二重結合としては、例えばアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基或いはアリル基を挙げることができる。
例えば、ポリエステルアクリレート、ポリオールポリアクリレート、変性ポリオールポリアクリレート、イソシアヌル酸骨格のポリアクリレート、メラミナクリレート、ヒダントイン骨格のポリアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ビスフェノールA型ジアクリレートなどの多官能アクリレート、或いはこれらアクリレートに対応するメタクリレート類、メチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルカルビトールアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルオキシエチルフタレート及びこれらに対応するメタクリレート類、スチレン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン、ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル等のビニル化合物等が挙げられる。
これら1官能であるビニルモノマーの他に多官能ビニルモノマーを含むものであり、またこれらの混合物であっても良く、さらに、(A)熱可塑性樹脂との屈折率差が0.01以上であるモノマーを選択する必要がある。また、これらの化合物はモノマーのままで或いはオリゴマーや反応性ポリマーとしても使用できる。
The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a light scattering film 1 in which portions having different refractive indexes are distributed in an irregular shape and thickness, and a light and shade pattern having a high and low refractive index (expressed in white and black in the figure) is formed. Are left side plan views and right side sectional views.
As can be seen from the plan view, the shape of the portion having a different refractive index is horizontally long. Further, as can be seen from the cross-sectional view, the portions having different refractive indexes have a structure distributed in a layer shape inclined with respect to the thickness direction of the film. In FIG. 1, the refractive index distribution is uniform (the color does not change in the inclined direction) in the direction in which the portions having different refractive indexes are inclined in layers.
Drawing 2 is an explanatory view showing light scattering film 1 concerning another embodiment, and the left is a top view and the right is a sectional view. In FIG. 2, the shape of the part with different refractive index is vertically long, and the refractive index distribution is irregular in the direction in which the part with different refractive index is inclined in layers (the color changes even in the inclined direction). Is).
First, the optical characteristics of the light scattering film of FIGS. Light scattering occurs with respect to light incident at an angle along the tilt direction in which portions having different refractive indexes are distributed in layers (in the direction of arrow 2 in FIG. 2, which forms an angle θ from the normal of the film). Become.
For light incident at an angle perpendicular to the tilt direction (the direction of arrow 3 in the figure), it functions as a simple transparent film, and the incident light is emitted without being scattered.
Next, considering the plan view, if the shape of the part with different refractive index is vertically long (or horizontally long) and light incident on that part is scattered and emitted, the light scattering characteristics of the emitted light from each part However, it has anisotropy that is horizontally long (or vertically long). In FIG. 1, since the shape is horizontally long, the emitted light is scattered vertically. In FIG. 2, since the shape is vertically long, the emitted light is scattered horizontally.
FIG. 3 is a graph showing an example of the incident angle dependency of the light scattering film 1 produced using the composition of the present invention. As indicated by the solid line in the figure, the haze value is 80% or more for light in a specific incident angle range (0 to 60 degrees in the figure), and conversely, the incident angle (-60 degrees in the figure) is symmetric. The haze value with respect to light of 0 degree to 20 degrees or less is 20% or less, which indicates the incident angle dependency of the scattering property referred to in this specification.
In addition, as described above, when the shape of the part having different refractive index is vertically long (or horizontally long), when light incident on the part is scattered and emitted, the light scattering characteristics of the light emitted from each part are , Has anisotropy that is horizontally long (or vertically long) For example, if the shape is horizontally long as shown in FIG. 1, the scattered outgoing light from the light scattering film has a distribution that becomes a vertically long ellipse as shown in FIG.
Next, the composition for anisotropic light scattering film of the present invention will be described in detail. As described above, the inside of the anisotropic light-scattering film produced with the composition of the present invention has a light and shade pattern with a high and low refractive index formed by irregularly distributed portions having different refractive indexes. Has been.
If the difference in refractive index is too small, the scattering property is deteriorated. On the other hand, if the difference is too large, light scattering occurs regardless of the angle at which light is incident. It becomes difficult to have.
The composition for anisotropic light scattering film of the present invention has at least (A) a thermoplastic resin, (B) a compound having a radical polymerizable group, and (C) at least one cationic polymerizable group in the molecule. A compound, (D) a photopolymerization initiator that generates radical species by actinic radiation, and (E) a polymerization initiator that generates cationic species by actinic radiation or heat, the (A) thermoplastic resin and the (B ) Characterized in that there is a difference in the refractive index of the compound having a radical polymerizable group, in particular, the (A) thermoplastic resin, (B) the compound having a radical polymerizable group, and the (A) thermoplasticity. And a compound having a refractive index difference of 0.01 or more.
The above (A) thermoplastic resin is a resin that softens without causing a reaction by heating and exhibits plasticity, and that plasticity is reversibly maintained when cooling and heating are repeated. Since the thermoplastic resin is rich in flexibility, it becomes easy to move the compound having a radical polymerizable group in the film at the time of producing the anisotropic light scattering film, thereby increasing the refractive index difference and improving the scattering property. . Furthermore, since the produced light anisotropic scattering film also has flexibility, it can be easily used as an optical film.
Examples of the thermoplastic resin (A) include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, and copolymers of polymethyl methacrylate or various acrylates and methacrylates, as well as polyamide, polyester, polyvinyl acetate, polycarbonate, polyphenylene oxide, and polyacetals. Can be mentioned.
Of these, preferred (A) thermoplastic resins include bisphenol A-type phenoxy resins and bisphenol F-type phenoxy resins. Phenoxy resin is tough and excellent in flexibility, and also has good properties as an anisotropic light scattering film because it has good adhesion to substrates such as PET (polyethylene terephthalate) and TAC (triacetate cellulose) films and fillers. Have.
Furthermore, the weight average molecular weight of the (A) bisphenol A phenoxy resin type or bisphenol F type phenoxy resin which is preferable as the thermoplastic resin is desirably 10,000 to 100,000. Bisphenol type resins having a molecular weight smaller than this average molecular weight are classified as epoxy resins, and are thermosetting resins. On the other hand, a bisphenol resin having a large average molecular weight has poor solubility in an organic solvent, making it difficult to use it as an anisotropic light scattering film.
The refractive index of the thermoplastic resin (A) used in the present invention and the compound (B) having a radical polymerizable group must be different, and the greater the difference in refractive index, the more light is scattered, so-called Increases the haze rate. In general, the difference in refractive index is preferably 0.01 or more, more preferably 0.05 or more.
Further, the compound (B) having a radical polymerizable group is polymerized in the presence of an initiator having one or more polymerizable ethylenic double bonds in the molecule and generating radicals by actinic radiation. Examples of the polymerizable ethylenic double bond, which is a compound that undergoes a crosslinking reaction, include an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, and an allyl group.
For example, polyfunctional acrylates such as polyester acrylate, polyol polyacrylate, modified polyol polyacrylate, isocyanuric acid skeleton polyacrylate, melamine acrylate, hydantoin skeleton polyacrylate, polybutadiene acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, bisphenol A type diacrylate, etc. Or methacrylates corresponding to these acrylates, methyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, tribromophenyl acrylate, tribromophenoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, di Cyclopentenyloxyacryl , Isobornyl acrylate, phenyl carbitol acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, acryloyloxyethyl succinate, acryloyloxyethyl phthalate and corresponding methacrylates, styrene, α- Examples thereof include vinyl compounds such as methylstyrene, 4-methylstyrene, p-chloromethylstyrene, divinylbenzene, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone and acrylonitrile.
A polyfunctional vinyl monomer is included in addition to these monofunctional vinyl monomers, and a mixture thereof may be used. Furthermore, (A) the difference in refractive index from the thermoplastic resin is 0.01 or more. It is necessary to select a monomer. In addition, these compounds can be used as monomers or as oligomers or reactive polymers.

本発明の組成物において用いられる(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有した化合物は、(B)ラジカル重合性基を有する化合物よりは反応性が低く、屈折率が高い化合物が望ましく、さらに、露光後の加熱時に液体であるようなものが望ましい。該化合物は、(B)ラジカル重合性基を有する化合物が重合する際には液体として存在するため、(B)ラジカル重合性基を有する化合物の拡散移動を起き易くする、いわゆる可塑剤的な役割を果たす。さらに、樹脂が硬化するときに該化合物も硬化するため、異方性散乱フィルム中では重合物として存在することとなり、熱劣化等の悪影響を及ぼすことはなく適当な該化合物を組み合わせることによって硬化物の特性を向上させることもできる。また、屈折率も(B)ラジカル重合性基を有する化合物よりも高いため散乱性に悪影響を及ぼすことはない。   The compound (C) having at least one cation polymerizable group in the molecule used in the composition of the present invention is a compound having a lower reactivity and a higher refractive index than the compound (B) having a radical polymerizable group. Further, it is desirable that it is liquid when heated after exposure. Since the compound exists as a liquid when the compound (B) having a radical polymerizable group is polymerized, the so-called plasticizer role that facilitates diffusion transfer of the compound (B) having a radical polymerizable group Fulfill. Further, since the compound is cured when the resin is cured, it exists as a polymer in the anisotropic scattering film, and the cured product is combined with an appropriate compound without adverse effects such as thermal deterioration. It is also possible to improve the characteristics. Further, since the refractive index is higher than that of the compound (B) having a radical polymerizable group, the scattering property is not adversely affected.

具体的には、グリシジルフェニルエーテル、p−ブロモフェニルグリシジルエーテル、グリシジル−1−ナフチルエーテル、グリシジル−2−ナフチルエーテル、グリシジルインダリルエーテル、ベンゾチアゾリルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル化合物、フェノキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、p−ブロモフェノキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、p−トリルエチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ナフトキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(p−ブロモフェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(p−トリルメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ナフトキシメチル)オキセタン、3,3’−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン等のオキセタン化合物、フェニルビニルエーテル、p−ブロモフェニルビニルエーテル、p−トリルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、ナフチルビニルエーテル、ビス(4−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル)グルタレート、ビス(4−ビニロキシブチル)イソフタレート等のビニルエーテル化合物が挙げられるがこの限りではない。
本発明の組成物において用いられる(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤としては、J.Photochem.Sci.Technol.,2,283(1987).に記載される化合物、具体的には、芳香族ケトン類、チオキサントン類、ビスイミダゾール類、アシルフォスフィンオキサイド類、有機過酸化物、鉄アレーン錯体、トリハロゲノメチル置換s−トリアジン、スルフォニウム塩、ジアゾニウム塩、フォスフォニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられ。芳香族ケトン類としては、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、ベイゾインエチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。チオキサントン類としては、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。
Specifically, glycidyl ether compounds such as glycidyl phenyl ether, p-bromophenyl glycidyl ether, glycidyl-1-naphthyl ether, glycidyl-2-naphthyl ether, glycidyl indaryl ether, benzothiazolyl glycidyl ether, phenoxyethyl- Fats such as 3,4-epoxycyclohexyl carboxylate, p-bromophenoxyethyl-3,4-epoxycyclohexyl carboxylate, p-tolylethyl-3,4-epoxycyclohexyl carboxylate, naphthoxyethyl-3,4-epoxycyclohexyl carboxylate Cyclic epoxy compound, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (p-bromophenoxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (p- Rylmethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (naphthoxymethyl) oxetane, 3,3′-bis (phenoxymethyl) oxetane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene Oxetane compounds such as phenyl vinyl ether, p-bromophenyl vinyl ether, p-tolyl vinyl ether, p-methoxyphenyl vinyl ether, naphthyl vinyl ether, bis (4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl) glutarate, bis (4-vinyloxybutyl) isophthalate, etc. A vinyl ether compound is exemplified, but not limited thereto.
Examples of the photopolymerization initiator (D) used in the composition of the present invention to generate radical species by actinic radiation include J. Org. Photochem. Sci. Technol. , 2, 283 (1987). , Specifically aromatic ketones, thioxanthones, bisimidazoles, acylphosphine oxides, organic peroxides, iron arene complexes, trihalogenomethyl-substituted s-triazines, sulfonium salts, diazonium Salt, phosphonium salt, selenonium salt, arsonium salt, iodonium salt and the like. Examples of aromatic ketones include benzophenone, benzyl, Michler's ketone, beizoin ethyl ether, diethoxyacetophenone, benzyl methyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and the like. Examples of thioxanthones include 2-chlorothioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone.

本発明の組成物において用いられる(E)化学放射線によってカチオン種を発生する光重合開始剤としては、J.Photochem.Sci.Technol.,2,283(1987).に記載される化合物、具体的には鉄アレーン錯体、トリハロゲノメチル置換s−トリアジン、スルフォニウム塩、ジアゾニウム塩、フォスフォニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられる。また、ヨードニウム塩としては、Macromolecules、10、1307(1977).に記載の化合物、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル(p−アニシル)ヨードニウム、ビス(m−ニトロフェニル)ヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−クロロフェニル)ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド、ブロミド、あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スルホン酸塩等や、ジフェニルフェナシルスルホニウム(n−ブチル)トリフェニルボレート等のスルホニウム有機ホウ素錯体類を挙げることが出来る。
さらに、本発明の(E)熱によってカチオン種を発生する重合開始剤としては、常温、常圧の通常条件で活性を示さず、外部刺激である熱により開始種を発生するいわゆる潜在性熱重合開始剤であり、カチオン重合が可能な化合物であれば異類のエポキシ化合物同士や、エポキシとビニルエーテル化合物等の異種の重合も可能となる。具体的には、ジアルキルアリルスルホニウム類、シクロアルキルアリルスルホニウム類、アルキルジアリールスルフォニウム類、ジアルキルアリールスルホニウム類、トリアリールスルホニウム類、ベンジルピリジニウム類、ベンジルアンモニウム類、ベンジルトリアリールホスホニウム類のテトラフルオロボレート塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルホロアルセネート塩、テトラフルオロアンチモネート塩等、以下に示す化合物を挙げることが出来るが、この限りではない。
Examples of the photopolymerization initiator (E) used in the composition of the present invention for generating a cationic species by actinic radiation include: Photochem. Sci. Technol. , 2, 283 (1987). And specifically, iron arene complexes, trihalogenomethyl-substituted s-triazines, sulfonium salts, diazonium salts, phosphonium salts, selenonium salts, arsonium salts, iodonium salts, and the like. Moreover, as an iodonium salt, Macromolecules, 10, 1307 (1977). Compounds such as diphenyliodonium, ditolyliodonium, phenyl (p-anisyl) iodonium, bis (m-nitrophenyl) iodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium, etc. Iodonium chloride, bromide, or sulfonium organoboron complexes such as borofluoride, hexafluorophosphate salt, hexafluoroarsenate salt, aromatic sulfonate, and diphenylphenacylsulfonium (n-butyl) triphenylborate You can list things.
Furthermore, the polymerization initiator (E) of the present invention that generates cationic species by heat is a so-called latent thermal polymerization that does not show activity under normal conditions of normal temperature and normal pressure, but generates the starting species by heat that is an external stimulus. If the compound is an initiator and can be cationically polymerized, different types of polymerization such as different types of epoxy compounds or epoxy and vinyl ether compounds can be performed. Specifically, tetrafluoroborate of dialkylallylsulfonium, cycloalkylallylsulfonium, alkyldiarylsulfonium, dialkylarylsulfonium, triarylsulfonium, benzylpyridinium, benzylammonium, benzyltriarylphosphonium Although the compounds shown below, such as a salt, a hexafluorophosphate salt, a hexafluholoarsenate salt, and a tetrafluoroantimonate salt, can be exemplified, the present invention is not limited thereto.

Figure 2006028205
(式中R1、R2 は同一または異なる置換または非置換の脂肪族基でR1、R2は環を形成してもよい。またAは下記一般式[I]、[II]で表される基である。
Figure 2006028205
(Wherein R1 and R2 are the same or different substituted or unsubstituted aliphatic groups and R1 and R2 may form a ring. A is a group represented by the following general formulas [I] and [II]) is there.

Figure 2006028205
(RA−RD は、水素原子または、置換または非置換の脂肪族基であり、RA−RD のうち少なくとも1 個は非置換の脂肪族基である。また、RE−RG は置換または非置換の脂肪族基である。)R3は水酸基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基、メトキシカルボニル基、アセトキシ基、ベンジルオキシ基、ベンゾイル基、ジメチルアミノ基から選ばれたひとつである。R4、R5 は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、C1−C4 のアルキル基のいずれかを示す。R6 、R8 は、水素原子、メチル基、メトキシ基、ハロゲン原子のいずれかであり、R7はC1 −C4 のアルキル基のいずれかを示す。C9 は、水素原子、シアノ基、ニトロ基のいずれかである。R10−R12は、アルキル基、アルケニル基(水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルカノイルオキシ基で置換されていてもよい)、またはフェニル基(アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アミノ基、ジアルキルアミノ基で置換されていてもよい)で表される基である。
本発明の(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤を増感せしめる(F)増感色素としては、シアニンまたはメロシアニン誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体などの有機染料化合物が使用でき、その他に「色素ハンドブック」(大河原信他編 講談社1986年)、「機能性色素の化学」(大河原信他編、シーエムシー 1981年)、「特殊機能材料」(池森忠三郎他編 シーエムシー 1986年)に記載されている色素及び増感剤が用いられる。なお、これらに限定されるものではなく、その他の可視域の光に対して吸収を示す色素及び増感剤であれば用いることが出来る。これらは必要に応じて任意の比率で二種以上で用いてもかまわない。
本発明の組成物に含有される(B)ラジカル重合性基を有する化合物の量は、(A)熱可塑性樹脂100重量部に対し、10から300重量部、好ましくは20から200重量部であり、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性を有する化合物の量は、(A)熱可塑性樹脂100重量部に対し、10から300重量部、好ましくは20から200重量部である。また、(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤の量は、(B)ラジカル重合性基を有する化合物100重量部に対し、0.1から50重量部、好ましくは1から30重量部である。(E)化学放射線あるいは熱によってカチオン種を発生する重合開始剤の量は、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性を有する化合物100重量部に対し、0.1から50重量部、好ましくは1から30重量部である。さらに、該(F)増感色素量は、(B)ラジカル重合性基を有する化合物100重量部に対し、0.1から10重量部、好ましくは0.2から5重量部までの範囲をとることが可能である。使用量は、感光層膜厚と該膜厚の光学濃度によって制限を受ける。すなわち、光学濃度が2を越えない範囲で使用することが好ましい。
この様にこれらの各成分を適宜選択し、任意の割合で混合して得た感光液をバーコーター、アプリケーター、ドクターブレード、ロールコーター、ダイコーター、コンマコーター等の公知の塗工手段を用いてガラス板、PETフィルム、TACフィルム等の基材に塗布する。
なお、感光液を塗布する際は、必要に応じて適当な溶剤で希釈してもよいが、その場合には基材上に塗布した後に、乾燥を要する。上記溶剤としては、ジクロロメタン、クロロホルム、アセトン、2−ブタノン、シクロヘキサノン、エチルアセテート、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−メトキシエチルエーテル、2−エトキシエチルエーテル、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアセテート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアセテート、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等が挙げられる。
さらに、記録可能な屈折率差は作製方法や記録材料などにより制限を受けるため、大きな屈折率差を持つ場合はフィルム膜厚を薄く、小さな屈折率差を持つ場合はフィルム膜厚を厚くすることで、本発明の組成物を用いて異方性光散乱性フィルムを実現することが可能である。
屈折率の異なる部分の大きさは、光散乱を生じるためにランダムで規則性はないが、必要な散乱性を持つために、その平均の大きさは直径で0.1μmから300μmの範囲内でそれぞれの用途に必要な散乱性に応じて適宜選択する。
また、前記屈折率の異なる部分のフィルム表面上での分布は、光散乱を生じるためにランダムで規則性はないが、必要な散乱性を持たせるために、フィルム全体の平均屈折率を<n>とすると、その確率分布は<n>を中心とする正規分布を呈する。或いは、屈折率nの最小値nminで最大値をとり指数関数的に屈折率の最大値nmaxまで単調減少するような確率分布、或いは単調増加する確率分布に従って分布していてもよい。
以下、本発明の異方性光散乱性フィルムを作製する手段について述べる。本発明の光散乱フィルムは光学的な露光手段により作製することができる。図5はランダムマスクパターンを利用して作製する光学系の一例を示す説明図である。UV光源6から出た紫外光はコリメート光学系7により平行光8とし、マスク原版9を照射する。
マスク原版9のUV照射側とは反対の面には感光材料5を密着して配置しており、マスク原版9のパターンを感光材料5に露光照射する。この際、図示のようにUV平行光8とマスク原版9は所定角度αだけ傾いて配置されているため、パターン露光は感光材料5中で、所定角度傾いてなされることになる。この角度が、異方性光散乱性フィルム中の屈折率の異なる部分の傾斜角度(すなわち、入射角度依存性の散乱角度θ)に相当することになるので、前記角度は用途に応じて0から60度程度の範囲内で適宜選択する。
図5で用いている所定のランダムパターンを持つマスク原版9は、計算機を用いた乱数計算から作製した白黒パターンデータを、フォトリソグラフィーの手法によりガラス基板10上の金属クロムパターン11としてエッチングしたものを用いてもよい。もちろんマスク原版の作成方法としては、上記方式に限定されるものではなく、リス乾板を使った写真手法などにより作製しても同様なマスクを作製できる。
図6は、図2に示す構造の異方性光散乱性フィルムを、スペックルパターンを利用して作製する光学系の一例を示す説明図である。レーザー光源13から出たレーザー光14ですりガラス15を照射する。すりガラス15のレーザー照射側とは反対の面には所定距離Fをおいて感光材料5を配置し、すりガラス15で透過散乱したレーザー光が作り出す複雑な干渉パターンであるスペックルパターンを感光材料5に露光照射される。
この際、図示のようにすりガラス10と感光材料5は所定角度αだけ傾いて配置されているため、スペックルパターンは感光材料中で、所定角度傾いて露光されることになる。この角度が、異方性光散乱性フィルム中の屈折率の異なる部分の傾き(すなわち、入射角度依存性の散乱ピーク角度θ)に相当することになるので、前記角度は用途に応じて0から60度程度の範囲内で適宜選択する。
記録に使用するレーザ光源は、アルゴンイオンレーザーの514.5nm、488nm、457.9nm、363.5nm、または357.1nmの波長のうち、感光材料の感度に応じて適宜選択して使用する事ができる。またアルゴンイオンレーザー以外でもコヒーレント性の良いレーザー光源であれば仕様可能で、例えばヘリウムネオンレーザーやクリプトンイオンレーザー、532nm、355nmを発振可能な半導体レーザーなどが使用できる。
スペックルパターンは、コヒーレント性が良い光が粗面で散乱反射または透過した時に生じる明暗の斑点模様であり、粗面の微小な凹凸で散乱した光が不規則な位相関係で干渉するために生じるものである。
「光測定ハンドブック」(朝倉書店 田光幸敏治ほか著 1994年11月25日発行)の記述(p.266−p.268)によれば、濃度や位相が位置によってランダムな値を示すようなスペックルパターンでは、前記パターンの大きさは、感光材料から拡散板を見込む角度に反比例して、パターンの平均径が決定される。従って、拡散板の大きさを、水平方向よりも垂直方向で大きくした場合、感光材料上に記録されるパターンは、水平方向よりも垂直方向が細かいものとなる。
図6の光学系での作製方法によるスペックルパターンは、使用するレーザー光の波長λ及びすりガラスの大きさD、すりガラスと感光材料との距離Fが、記録されるスペックルパターンの平均サイズdを決定し、一般に次式で表される。
d=1.2λF/D
また、このスペックルパターンの奥行き方向の平均長さtは
t=4.0λ(F/D)
で表される。
以上よりλ及びF/Dの値を最適な散乱性を持つように最適化することで所望の3次元的な屈折率分布を持つ異方性光散乱性フィルムを得ることが出来る。
一例として、λ=0.5μmで、F/D=2とすると、d=1.2μm、t=8μmとなり、フィルム表面上の濃淡模様は平均1.2μmで分布し、フィルム厚み方向には前記傾斜角度に従った方向に平均8μmの大きさで分布することになる。
ただし、これらの大きさはあくまでも平均の大きさであり、実際にはこれらの大きさを中心に大小様々な大きさで屈折率の異なる部分が表面上及び奥行き方向に傾斜して分布することになり、図2に示すような本発明の異方性光散乱性フィルムとなる。
以下、本発明の実施の形態について具体的な実施例と本発明の特徴を明確にするための比較例を挙げて説明する。
Figure 2006028205
(RA-RD is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted aliphatic group, and at least one of RA-RD is an unsubstituted aliphatic group. Also, RE-RG is a substituted or unsubstituted aliphatic group. R3 is one selected from a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a tert-butoxy group, a methoxycarbonyl group, an acetoxy group, a benzyloxy group, a benzoyl group, and a dimethylamino group. R4 and R5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C4 alkyl group. R6 and R8 are any one of a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, and a halogen atom, and R7 represents any one of a C1-C4 alkyl group. C9 is any one of a hydrogen atom, a cyano group, and a nitro group. R10-R12 represents an alkyl group, an alkenyl group (which may be substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group or an alkanoyloxy group), or a phenyl group (an alkyl group, a halogen atom, a nitro group, Group which may be substituted with a cyano group, an alkoxy group, an amino group or a dialkylamino group.
The (D) photopolymerization initiator that generates radical species by actinic radiation of the present invention (F) includes sensitizing dyes such as cyanine or merocyanine derivatives, coumarin derivatives, chalcone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, and azurenium. Derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives and other organic dye compounds can be used. In addition, "Dye Handbook" (Shin Okawara et al., Kodansha 1986), "Chemicals of Functional Dye" (Shin Okawara et al., CM 1981) The dyes and sensitizers described in “Special Functional Materials” (Chemicals of Tadaburo Ikemori et al., CMC 1986) are used. In addition, it is not limited to these, If it is a pigment | dye and sensitizer which show absorption with respect to the light of other visible region, it can be used. Two or more of these may be used in any ratio as required.
The amount of the compound (B) having a radical polymerizable group contained in the composition of the present invention is 10 to 300 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight, per 100 parts by weight of the (A) thermoplastic resin. (C) The amount of the compound having at least one cationically polymerizable compound in the molecule is 10 to 300 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight, per 100 parts by weight of the (A) thermoplastic resin. The amount of the photopolymerization initiator (D) that generates radical species by actinic radiation is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts, per 100 parts by weight of the compound (B) having a radical polymerizable group. Parts by weight. (E) The amount of the polymerization initiator that generates cationic species by actinic radiation or heat is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the compound (C) having at least one cationic polymerizability in the molecule. Is 1 to 30 parts by weight. Further, the amount of the (F) sensitizing dye is in the range of 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the compound (B) having a radical polymerizable group. It is possible. The amount used is limited by the film thickness of the photosensitive layer and the optical density of the film thickness. That is, it is preferable to use the optical density within a range not exceeding 2.
Thus, each of these components is appropriately selected, and the photosensitive solution obtained by mixing at an arbitrary ratio is used by using a known coating means such as a bar coater, an applicator, a doctor blade, a roll coater, a die coater, and a comma coater. It is applied to a substrate such as a glass plate, PET film, or TAC film.
In addition, when apply | coating a photosensitive solution, you may dilute with a suitable solvent as needed, but in that case, after apply | coating on a base material, drying is required. Examples of the solvent include dichloromethane, chloroform, acetone, 2-butanone, cyclohexanone, ethyl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 2-methoxy. Ethyl ether, 2-ethoxyethyl ether, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2-butoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acetate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate , Tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like.
Furthermore, since the recordable refractive index difference is limited by the manufacturing method and recording material, the film thickness is reduced when there is a large refractive index difference, and the film thickness is increased when there is a small refractive index difference. Thus, it is possible to realize an anisotropic light scattering film using the composition of the present invention.
The sizes of the portions having different refractive indexes are random and non-regular in order to cause light scattering, but in order to have the necessary scattering properties, the average size is within a range of 0.1 μm to 300 μm in diameter. It selects suitably according to the scattering property required for each use.
Further, the distribution of the portions having different refractive indexes on the film surface is random and non-regular in order to cause light scattering. When>, the probability distribution exhibits a normal distribution centered on <n>. Alternatively, the distribution may be made according to a probability distribution that takes a maximum value at the minimum value n min of the refractive index n and monotonously decreases to the maximum value n max of the refractive index exponentially, or a probability distribution that monotonously increases.
The means for producing the anisotropic light scattering film of the present invention will be described below. The light scattering film of the present invention can be produced by optical exposure means. FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of an optical system manufactured using a random mask pattern. The ultraviolet light emitted from the UV light source 6 is converted into parallel light 8 by the collimating optical system 7 and irradiated on the mask original plate 9.
The photosensitive material 5 is disposed in close contact with the surface of the mask original 9 opposite to the UV irradiation side, and the pattern of the mask original 9 is exposed to the photosensitive material 5 by exposure. At this time, the UV parallel light 8 and the mask original plate 9 are inclined at a predetermined angle α as shown in the figure, so that pattern exposure is performed at a predetermined angle in the photosensitive material 5. Since this angle corresponds to the inclination angle of the portion having a different refractive index in the anisotropic light-scattering film (that is, the incident angle-dependent scattering angle θ), the angle is 0 to 60 degrees depending on the application. It selects suitably within the range of a grade.
The mask original plate 9 having a predetermined random pattern used in FIG. 5 is obtained by etching the black and white pattern data produced from the random number calculation using a computer as the metal chromium pattern 11 on the glass substrate 10 by the photolithography technique. It may be used. Of course, the method for producing the mask original plate is not limited to the above-described method, and a similar mask can be produced even if produced by a photographic technique using a squirrel plate.
FIG. 6 is an explanatory view showing an example of an optical system for producing the anisotropic light scattering film having the structure shown in FIG. 2 using a speckle pattern. A glass 15 is irradiated with a laser beam 14 emitted from a laser light source 13. The photosensitive material 5 is arranged at a predetermined distance F on the surface opposite to the laser irradiation side of the ground glass 15, and a speckle pattern, which is a complicated interference pattern generated by the laser light transmitted and scattered by the ground glass 15, is formed on the photosensitive material 5. Exposure exposure.
At this time, since the ground glass 10 and the photosensitive material 5 are inclined at a predetermined angle α as shown in the figure, the speckle pattern is exposed in the photosensitive material at a predetermined angle. Since this angle corresponds to the inclination of the portion having a different refractive index in the anisotropic light-scattering film (that is, the incident angle-dependent scattering peak angle θ), the angle is 0 to 60 degrees depending on the application. It selects suitably within the range of a grade.
The laser light source used for recording may be appropriately selected and used according to the sensitivity of the photosensitive material among the wavelengths of 514.5 nm, 488 nm, 457.9 nm, 363.5 nm, or 357.1 nm of an argon ion laser. it can. Other than the argon ion laser, any laser light source having good coherency can be used. For example, a helium neon laser, a krypton ion laser, a semiconductor laser capable of oscillating at 532 nm and 355 nm can be used.
The speckle pattern is a bright and dark speckle pattern that occurs when light with good coherence is scattered or reflected or transmitted by a rough surface, and the light scattered by minute irregularities on the rough surface interferes with an irregular phase relationship. Is.
According to the description (p.266-p.268) of “Light Measurement Handbook” (Asakura Shoten, Toshiharu Tamitsu et al., Published on November 25, 1994), specifications that indicate random values depending on the position of concentration and phase. In the pattern, the average size of the pattern is determined in inverse proportion to the angle at which the diffusion plate is viewed from the photosensitive material. Therefore, when the size of the diffusion plate is made larger in the vertical direction than in the horizontal direction, the pattern recorded on the photosensitive material is finer in the vertical direction than in the horizontal direction.
The speckle pattern by the manufacturing method in the optical system of FIG. 6 has a wavelength λ of the laser beam to be used, a size D of the ground glass, and a distance F between the ground glass and the photosensitive material, and the average size d of the speckle pattern to be recorded. Generally, it is expressed by the following formula.
d = 1.2λF / D
The average length t in the depth direction of this speckle pattern is t = 4.0λ (F / D) 2
It is represented by
As described above, an anisotropic light scattering film having a desired three-dimensional refractive index distribution can be obtained by optimizing the values of λ and F / D so as to have an optimum scattering property.
As an example, when λ = 0.5 μm and F / D = 2, d = 1.2 μm and t = 8 μm, and the shading pattern on the film surface is distributed with an average of 1.2 μm, and in the film thickness direction, It is distributed with an average size of 8 μm in the direction according to the inclination angle.
However, these sizes are only average sizes, and in fact, the portions with different refractive indexes in various sizes, centering on these sizes, are distributed on the surface and inclined in the depth direction. Thus, the anisotropic light scattering film of the present invention as shown in FIG. 2 is obtained.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to specific examples and comparative examples for clarifying the features of the present invention.

<実施例1>
フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名エピコート1256、重量平均分子量51,000)100重量部、トリプロピレングリコールジアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM−220)50重量部、グリシジルフェニルエーテル50重量部、および1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティケミカルズ(株)製、商品名IRGACURE184)5.0重量部、(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート(チバスペシャリティケミカルズ(株)製、商品名IRGACURE250)5.0重量部を2−ブタノン100重量部に混合溶解したものを感光液とした。当該感光液をTACフィルム(富士写真フィルム(株)製、フジタックTD−80 厚み80μm)に、乾燥後膜厚が約30μmになるようにドクターブレードで塗布、乾燥し記録用媒体とした。
光源としてアルゴンレーザー(363.5nm)を用い、レンズにより広げた光で、すりガラス15を介して、記録材料面から露光し(α=30゜、50mJ/cm)、85℃で5分間加熱後、高圧水銀灯で記録用媒体を全面照射することで定着して、異方性光散乱性フィルムを得た。得られた該フィルムの厚みは29μmであった。
評価は、島津製作所(株)製の分光光度計を用い各角度で透過率(波長範囲;400−600nm)を測定した。結果(全波長平均透過率)を表1に示す。
また、基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、100/100で良好であった。
<実施例2>
フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名エピコート1256、重量平均分子量51,000)の代わりにフェノキシ樹脂(Inchem Corp製、商品名PKHB、重量平均分子量32,000)を使う以外は実施例1と同様にして操作し、異方性光散乱性フィルムを得た。得られた該フィルムの厚みは35μmであった。結果を表1に示す。
また、基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、100/100で良好であった。
<実施例3>
ポリプロピレングリコールジアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM−220)の代わりにトリエチレングリコールジアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM−260)を使う以外は実施例1と同様にして操作し、異方性光散乱性フィルムを得た。得られた当該フィルムの厚みは28μmであった。結果を表1に示す。
また、基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、100/100で良好であった。
<実施例4>
グリシジルフェニルエーテルの代わりに1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン(東亞合成(株)製、商品名OXT−121)を使う以外は実施例1と同様にして操作し、異方性光散乱性フィルムを得た。得られた当該フィルムの厚みは28μmであった。結果を表1に示す。
また、基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、100/100で良好であった。
<実施例5>
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティケミカルズ(株)製、商品名IRGACURE184)の代りに、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン(日本油脂(株)製、商品名BTTB)を使用し、感光液に4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン0.25重量部を加え、光源としてアルゴンレーザ(363.5nm)の代わりにクリプトンレーザ(413nm)に変える以外は実施例1と同様にして操作し、異方性光散乱性フィルムを得た。得られた当該フィルムの厚みは32μmであった。結果を表1に示す。
また、基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、100/100で良好であった。
<実施例6>
4,4’−ビス(tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェートの代わりにアルキルジアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート(三新化学工業(株)製、商品名SI−100L、溶液タイプ)を使い、実施例1の高圧水銀灯で記録用媒体を全面照射後、さらに該記録用媒体を130℃で30分加熱して、光散乱性フィルムを得た。得られた当該フィルムの厚みは28μmであった。結果を表1に示す。
また、基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、100/100で良好であった。
<Example 1>
100 parts by weight of phenoxy resin (trade name Epicoat 1256, weight average molecular weight 51,000, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 50 parts by weight of tripropylene glycol diacrylate (trade name, Aronix M-220, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) , 50 parts by weight of glycidyl phenyl ether, and 5.0 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name IRGACURE184), (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl A photosensitive solution was prepared by mixing 5.0 parts by weight of iodonium hexafluorophosphate (trade name IRGACURE 250, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in 100 parts by weight of 2-butanone. The photosensitive solution was applied to a TAC film (Fuji Photo Film Co., Ltd., Fujitac TD-80 thickness 80 μm) with a doctor blade so that the film thickness after drying was about 30 μm, and dried to obtain a recording medium.
Using an argon laser (363.5 nm) as a light source, the surface of the recording material was exposed with light spread by a lens through the ground glass 15 (α = 30 °, 50 mJ / cm 2 ) and heated at 85 ° C. for 5 minutes. The recording medium was fixed by irradiating the entire surface with a high-pressure mercury lamp to obtain an anisotropic light scattering film. The thickness of the obtained film was 29 μm.
Evaluation was made by measuring transmittance (wavelength range: 400-600 nm) at each angle using a spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corporation. The results (total wavelength average transmittance) are shown in Table 1.
Moreover, when the adhesiveness with a base material was evaluated by the crosscut tape peel test, it was 100/100 and was favorable.
<Example 2>
Example of using phenoxy resin (product name PKHB, product name PKHB, weight average molecular weight 32,000) instead of phenoxy resin (product name Epicoat 1256, product name Epicod 1256, product name Epik 1256 made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) The same operation as in Example 1 was performed to obtain an anisotropic light scattering film. The thickness of the obtained film was 35 μm. The results are shown in Table 1.
Moreover, when the adhesiveness with a base material was evaluated by the crosscut tape peel test, it was 100/100 and was favorable.
<Example 3>
Example 1 with the exception of using triethylene glycol diacrylate (trade name Aronix M-260, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) instead of polypropylene glycol diacrylate (trade name Aronix M-220, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) By operating in the same manner, an anisotropic light scattering film was obtained. The obtained film had a thickness of 28 μm. The results are shown in Table 1.
Moreover, when the adhesiveness with a base material was evaluated by the crosscut tape peel test, it was 100/100 and was favorable.
<Example 4>
Example 1 except that 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene (trade name OXT-121, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used instead of glycidyl phenyl ether. To obtain an anisotropic light scattering film. The obtained film had a thickness of 28 μm. The results are shown in Table 1.
Moreover, when the adhesiveness with a base material was evaluated by the crosscut tape peel test, it was 100/100 and was favorable.
<Example 5>
Instead of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name IRGACURE 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone (manufactured by NOF Corporation, Except that 0.25 parts by weight of 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is added to the photosensitive solution and the light source is changed to a krypton laser (413 nm) instead of an argon laser (363.5 nm). The anisotropic light scattering film was obtained by operating in the same manner as in Example 1. The obtained film had a thickness of 32 μm. The results are shown in Table 1.
Moreover, when the adhesiveness with a base material was evaluated by the crosscut tape peel test, it was 100/100 and was favorable.
<Example 6>
Implemented using alkyldiarylsulfonium hexafluoroantimonate (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., trade name SI-100L, solution type) instead of 4,4′-bis (tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate After irradiating the entire surface of the recording medium with the high-pressure mercury lamp of Example 1, the recording medium was further heated at 130 ° C. for 30 minutes to obtain a light scattering film. The thickness of the obtained film was 28 μm. The results are shown in Table 1.
Moreover, when the adhesiveness with a base material was evaluated by the crosscut tape peel test, it was 100/100 and was favorable.

Figure 2006028205
<比較例1>
トリプロピレングリコールジアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM−220)の代わりにイソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM−315)を使う以外は実施例1と同様にして操作し、異方性光散乱性フィルムの作製を試みた。しかしながら散乱性が発現しなかった。
<比較例2>
フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名ビスコート1256、重量平均分子量51,000)の代わりにエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名エピコート1007、重量平均分子量2,900)を用い、TACフィルム(富士写真フィルム(株)製 商品名フジタックTD−80 厚み80μm)に乾燥膜厚が約30μmとなるように塗布、乾燥した。前記以外は実施例1と同様にして操作し、異方性光散乱性フィルムを得た。得られた当該フィルムの厚みは30μmであった。基材との密着性を、クロスカットテープピールテストにより評価したところ、0/100で、基材から剥離してしまった。
Figure 2006028205
<Comparative Example 1>
Implemented except for using isocyanuric acid EO-modified triacrylate (product name, Aronix M-315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) instead of tripropylene glycol diacrylate (product name, Aronix M-220, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) In the same manner as in Example 1, an attempt was made to produce an anisotropic light scattering film. However, scattering was not expressed.
<Comparative example 2>
Instead of phenoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name Biscote 1256, weight average molecular weight 51,000), epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. trade name Epicoat 1007, weight average molecular weight 2,900) was used. The TAC film (Fuji Photo Film Co., Ltd., trade name Fujitac TD-80, thickness 80 μm) was applied and dried so that the dry film thickness was about 30 μm. Except for the above, the same operation as in Example 1 was carried out to obtain an anisotropic light scattering film. The obtained film had a thickness of 30 μm. When the adhesion with the substrate was evaluated by a cross-cut tape peel test, it was peeled off from the substrate at 0/100.

本発明の光散乱フィルムを示す説明図であり、左が平面図、右が断面図である。It is explanatory drawing which shows the light-scattering film of this invention, the left is a top view and the right is sectional drawing. 本発明の光散乱フィルムを示す説明図であり、左が平面図、右が断面図である。It is explanatory drawing which shows the light-scattering film of this invention, the left is a top view and the right is sectional drawing. 本発明の光散乱フィルムの持つ入射角度依存性の一例を示すグラフ。The graph which shows an example of the incident angle dependence which the light-scattering film of this invention has. 本発明の光散乱フィルムが持つ光散乱の異方性を説明する図である。It is a figure explaining the anisotropy of the light scattering which the light-scattering film of this invention has. 図1に示す構造の光散乱フィルムを、マスクパターンを利用して作製する光学系の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the optical system which produces the light-scattering film of the structure shown in FIG. 1 using a mask pattern. 図2に示す構造の光散乱フィルムを、スペックルパターンを利用して作製する光学系の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the optical system which produces the light-scattering film of the structure shown in FIG. 2 using a speckle pattern.

符号の説明Explanation of symbols

1…光散乱フィルム
2…散乱方向から入射する照明光
3…透過方向から入射する照明光
4…実測したヘイズ値のプロット
5…感光材料
6…UV光源
7…コリーメート光学系
8…平行光
9…マスク原版
10…ガラス基板
11…クロムパターン
12…光ファイバー
13…レーザー光源
14…レーザー光
15…すりガラス
16…ビームエキスパンダー
17…コリメーター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light-scattering film 2 ... Illumination light incident from the scattering direction 3 ... Illumination light incident from the transmission direction 4 ... Plot of measured haze value 5 ... Photosensitive material 6 ... UV light source 7 ... Collimate optical system 8 ... Parallel light 9 ... Mask master 10 ... Glass substrate 11 ... Chrome pattern 12 ... Optical fiber 13 ... Laser light source 14 ... Laser light 15 ... Ground glass 16 ... Beam expander 17 ... Collimator

Claims (10)

少なくとも、(A)熱可塑性樹脂と、(B)ラジカル重合性基を有する化合物と、(C)分子内に少なくともひとつのカチオン重合性基を有した化合物と、(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤と、(E)化学放射線あるいは熱によってカチオン種を発生する重合開始剤からなり、前記(A)熱可塑性樹脂と前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物の屈折率に差があることを特徴とする異方性光散乱フィルム用組成物。 At least (A) a thermoplastic resin, (B) a compound having a radical polymerizable group, (C) a compound having at least one cationic polymerizable group in the molecule, and (D) a radical species by actinic radiation. A refractive index of a compound having (A) a thermoplastic resin and (B) a radically polymerizable group. A composition for anisotropic light scattering film, characterized in that there is a difference. 前記(A)熱可塑性樹脂が、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂あるいはビスフェノールF型フェノキシ樹脂のいずれかからなることを特徴とする請求項1記載の異方性光散乱フィルム用組成物。 2. The composition for anisotropic light scattering film according to claim 1, wherein the thermoplastic resin (A) is composed of either a bisphenol A type phenoxy resin or a bisphenol F type phenoxy resin. 前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物が、常温、常圧で液体であり、かつ常圧で沸点が100℃以上であるエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物であり、前記(A)熱可塑性樹脂との屈折率差が0.01以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の異方性光散乱フィルム用組成物。 (B) The compound having a radical polymerizable group is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond having a liquid temperature at normal temperature and normal pressure and a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure, A) Refractive index difference with thermoplastic resin is 0.01 or more, The composition for anisotropic light-scattering films of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 前記(B)ラジカル重合性基を有する化合物の量が、前記(A)熱可塑性樹脂100重量部に対し、10から300重量部の範囲としたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物。 The amount of the compound having the (B) radical polymerizable group is in the range of 10 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) thermoplastic resin. The composition for anisotropic light-scattering films as described in 2. 前記(C)分子内に少なくとも1つのカチオン重合性基を有した化合物が、オキシラン環を有する化合物、オキセタン環を有する化合物、またはビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも1つあるいは数種の化合物からなることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物。 (C) The compound having at least one cationic polymerizable group in the molecule is composed of at least one compound selected from a compound having an oxirane ring, a compound having an oxetane ring, or a vinyl ether compound. The composition for anisotropic light-scattering films according to claim 1, wherein the composition is an anisotropic light-scattering film. 前記ビスフェノールA型フェノキシ樹脂あるいはビスフェノールF型フェノキシ樹脂の重量平均分子量が10,000から100,000の範囲であることを特徴とする請求項2記載の異方性光散乱フィルム用組成物。 The composition for anisotropic light scattering film according to claim 2, wherein the bisphenol A type phenoxy resin or bisphenol F type phenoxy resin has a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 100,000. 前記(D)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤を増感せしめる(F)増感色素をさらに添加することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物。 The anisotropic light-scattering film according to any one of claims 1 to 6, further comprising (F) a sensitizing dye that sensitizes the photopolymerization initiator (D) that generates radical species by actinic radiation. Composition. 基材に請求項1から7のいずれかに記載の異方性光散乱フィルム用組成物からなる樹脂層を設け、該樹脂層を露光することにより樹脂層内部に、屈折率の異なる部分が不規則な形状、厚さで分布することにより、屈折率の高低からなる濃淡部が形成されていることを特徴とする異方性光散乱フィルム。 The resin layer which consists of a composition for anisotropic light-scattering films in any one of Claim 1 to 7 is provided in a base material, and the part from which a refractive index differs irregularly inside a resin layer by exposing this resin layer. An anisotropic light-scattering film, characterized in that a light-and-dark part having a refractive index is formed by being distributed in shape and thickness. 前記屈折率の異なる部分が、樹脂層の厚さ方向に対して傾斜して層状に分布している構造であることを特徴とする、請求項8記載の異方性光散乱フィルム。 The anisotropic light scattering film according to claim 8, wherein the portions having different refractive indexes have a structure in which they are distributed in a layered manner in an inclined manner with respect to the thickness direction of the resin layer. 前記基材が、プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項8または9記載の異方性光散乱フィルム。 The anisotropic light-scattering film according to claim 8 or 9, wherein the substrate is a plastic film.
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