JP2001221907A - Composition for anisotropic light-scattering film and anisotropic light-scattering film - Google Patents

Composition for anisotropic light-scattering film and anisotropic light-scattering film

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JP2001221907A
JP2001221907A JP2000033176A JP2000033176A JP2001221907A JP 2001221907 A JP2001221907 A JP 2001221907A JP 2000033176 A JP2000033176 A JP 2000033176A JP 2000033176 A JP2000033176 A JP 2000033176A JP 2001221907 A JP2001221907 A JP 2001221907A
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light
scattering
compound
film
composition
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Yasushi Oe
靖 大江
Makoto Kume
誠 久米
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic scattering film and a composition in which the scattering characteristics are anisotropic (forward or backward scattering and dependence on the incident angle) and the scattering characteristics concerning to the longitudinal and lateral scattering range can be also controlled, and colors of the display light do not change without depending on the observation position. SOLUTION: The composition consists of at least a cation polymerizable compound, a radical polymerizable compound, a photopolymerization initiator which produces radicals by actinic rays, and a thermal polymerization initiator which generates cations by heat, and the refractive index of the cation polymerizable compound differs from that of the radical polymerization compound. The anisotropic scattering film is produced by using that composition to produce portions having different refractive indices distributed with irregular forms and thickness. In the film, a dense and thin pattern with different refractive indices is formed in such a manner that the portions with different refractive indices are distributed in layers inclined from the thickness direction of the film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光の入射角度に応
じて散乱性が異なる(或いは、入射角度選択性を持つ)
と共に、光散乱特性に異方性を有する光拡散フィルム用
組成物及び異方性光拡散フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has different scattering properties depending on the incident angle of light (or has incident angle selectivity).
In addition, the present invention relates to a composition for a light diffusion film having anisotropic light scattering characteristics and an anisotropic light diffusion film.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射型液晶表示装置や透過型液晶表示装
置のなどの光を利用する表示装置では、観察の際の視野
角を確保する(すなわち、表示装置の前面には、明るく
表示画像を見せる)ことや、表示画面の全面にわたって
均一な明るさで表示画面を見えるようにする目的で、装
置の前面に光拡散フィルムを配置することが行われてい
る。従来の光散乱フィルムとしては、表面をマット状に
加工した樹脂フィルムや、内部に拡散材を包含した樹脂
フィルムなどが用いられている。
2. Description of the Related Art In a display device utilizing light, such as a reflection type liquid crystal display device or a transmission type liquid crystal display device, a viewing angle at the time of observation is secured (that is, a brightly displayed image is displayed on the front surface of the display device). For example, a light-diffusing film is disposed on the front of the apparatus for the purpose of showing the display screen with uniform brightness over the entire display screen. As a conventional light scattering film, a resin film whose surface is processed into a mat shape, a resin film containing a diffusing material inside, and the like are used.

【0003】従来のマット状に加工した樹脂フィルムや
内部に拡散材を含有するフィルムの場合、入射光の入射
角度に依存した散乱性の変化といった機能を持たせるこ
とは原理上困難であり、現実的にそのような機能は持ち
合わせていない。
[0003] In the case of a conventional resin film processed into a mat shape or a film containing a diffusing material inside, it is difficult in principle to provide a function such as a change in scattering depending on the incident angle of incident light. It does not have such a function.

【0004】表面をマット状に加工した光散乱フィルム
の場合、フィルム表面をサンドブラスター処理のように
物理的にマット面を形成したり、或いは酸性又はアルカ
リ性の溶液による溶解処理により化学的にマット面を形
成する。従って光の散乱性を制御する事が難しく、また
縦と横の散乱性を変えるといったことも出来ないため散
乱異方性を持たせることもできない。
[0004] In the case of a light-scattering film whose surface is processed into a mat shape, the film surface is physically formed with a matte surface as in a sandblaster treatment, or is chemically treated by dissolution treatment with an acidic or alkaline solution. To form Therefore, it is difficult to control the light scattering property, and it is impossible to change the vertical and horizontal scattering properties, so that it is not possible to impart scattering anisotropy.

【0005】また、内部に拡散材を包含した光散乱フィ
ルムにおいても、散乱性を制御するために拡散材の屈折
率や大きさ、形状等を制御する試みも為されているが、
技術的に難易度が高く、実用上十分であるとは言えない
のが現状である。
[0005] In a light-scattering film containing a diffusing material therein, attempts have been made to control the refractive index, size, shape, etc. of the diffusing material in order to control the scattering.
At present, it is technically difficult and not sufficiently practical.

【0006】従って、上記の光散乱フィルムでは、散乱
性の入射角度依存性がなく、光散乱の異方性も無いかも
しくは少ないため、表示装置に使用した際に、不必要な
散乱光が生じ、結果として表示の明るさやコントラスト
の低下或いは表示画像のぼけをまねくという問題点があ
る。
Accordingly, the above-mentioned light scattering film has no scattering angle dependency and no or little anisotropy of light scattering, so that when used in a display device, unnecessary scattered light is generated. As a result, there is a problem that the brightness and contrast of display are reduced or a displayed image is blurred.

【0007】一方、光散乱に異方性を持つ散乱板を用い
た反射型液晶表示装置に係る提案として、特開平8−2
0180号公報が公知である。上記公報に開示された散
乱板は、後方散乱特性がほとんどなく前方散乱特性が強
い散乱板であり、液晶表示装置への入射光あるいは液晶
表示装置から出射表示光のどちらか一方を選択的に散乱
させる特性を有する。
On the other hand, as a proposal relating to a reflection type liquid crystal display device using a scattering plate having anisotropic light scattering, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-2
No. 0180 is known. The scattering plate disclosed in the above publication is a scattering plate having almost no back scattering characteristics and strong forward scattering characteristics, and selectively scatters either the incident light to the liquid crystal display device or the display light emitted from the liquid crystal display device. It has the properties to make

【0008】しかしながら、上記公報では、散乱板の構
成は具体的に説明されておらず、「透明微細粒子を透明
な重合性高分子で固めたもの」とだけ記載されている。
このような散乱板では、上述した「内部に拡散材を包含
した光拡散フィルム」と同様に、散乱特性に異方性(前
方か後方か)を持たせられたとしても、縦と横の散乱特
性までも制御するのは難しい。
However, the above publication does not specifically describe the structure of the scattering plate, but only describes "the transparent fine particles hardened with a transparent polymerizable polymer".
In such a scattering plate, as in the case of the "light diffusion film containing a diffusion material therein", even if the scattering characteristics are given anisotropy (forward or backward), the scattering in the vertical and horizontal directions is not possible. It is difficult to control even the characteristics.

【0009】また、散乱板としてホログラムを用いた透
過型液晶表示装置に係る提案として、特開平9−152
602号公報が公知である。上記提案は、バックライト
を有する液晶表示装置からの出射表示光を散乱させるも
のであり、散乱板としてホログラムを採用しているた
め、散乱特性に異方性を持たせることも容易であり、縦
と横の散乱特性も制御することも可能ではあるが、必然
的に分光(波長分散)を伴ってしまうため、観察する視
点を移動することに応じて、表示光の色が変化して視覚
されることになる。
As a proposal for a transmission type liquid crystal display device using a hologram as a scattering plate, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-152.
No. 602 is known. The above proposal scatters display light emitted from a liquid crystal display device having a backlight, and employs a hologram as a scattering plate. Although it is possible to control the horizontal scattering characteristics, it is inevitably accompanied by spectral dispersion (wavelength dispersion), so that the color of the display light changes and is visually perceived as the viewpoint to be observed is moved. Will be.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、散乱特性に
異方性(前方か後方か、及び入射角度の依存性)を持た
せ、縦横の散乱範囲に係る散乱特性までも制御すること
が容易であると共に、観察位置によって表示光の色が変
化しない異方性散乱フィルムを得るための組成物及び異
方性散乱フィルムを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to provide anisotropic scattering properties (depending on the forward or backward direction and the incident angle) and to control the scattering properties in the vertical and horizontal scattering ranges. It is an object of the present invention to provide a composition and an anisotropic scattering film that are easy and obtain an anisotropic scattering film in which the color of display light does not change depending on the observation position.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明に係る異方性散乱
フィルムは、フィルム内部に屈折率の異なる部分が不規
則な形状・厚さで分布することにより、屈折率の高低か
らなる濃淡模様が形成されており、屈折率の異なる部分
の大きさ、形、分布を、フィルム表面での縦横方向及び
フィルムの厚さ方向に沿って最適化することにより、入
射角度に依存した散乱特性に変化を持たせると共に、不
必要な方向への光散乱を無くし、必要な方向(範囲)の
みに光を散乱させるもので、本発明に係る異方性散乱フ
ィルム用組成物は、それぞれの屈折率に差があり、カチ
オン重合性化合物とラジカル重合性化合物からなること
を特徴とするものである。
According to the anisotropic scattering film of the present invention, a portion having a different refractive index is distributed in an irregular shape and thickness inside the film, so that a light and shade pattern having a high and low refractive index is obtained. By changing the size, shape, and distribution of the parts with different refractive indexes along the vertical and horizontal directions on the film surface and along the thickness direction of the film, the scattering characteristics change depending on the incident angle. And eliminates light scattering in unnecessary directions and scatters light only in necessary directions (ranges). The composition for an anisotropic scattering film according to the present invention has a refractive index of It is characterized by having a difference and comprising a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound.

【0012】即ち、請求項1に記載の異方性光散乱フィ
ルム用組成物は、少なくとも、(A)カチオン重合性を
有する化合物と、(B)ラジカル重合性を有する化合物
と、(C)化学放射線によってラジカル種を発生する光
重合開始剤と、(D)熱によってカチオン種を発生する
熱重合開始剤からなり、(A)カチオン重合性を有する
化合物と(B)ラジカル重合性を有する化合物の屈折率
に差があることを特徴とする。
That is, the composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 1 comprises at least (A) a compound having cationic polymerizability, (B) a compound having radical polymerizability, and (C) a compound having actinic radiation. Refractive indices of (A) a compound having cationic polymerizability and (B) a compound having radical polymerizability, comprising a photopolymerization initiator which generates radical species, and (D) a thermal polymerization initiator which generates cationic species by heat. Are characterized by a difference in

【0013】請求項2に記載の異方性光散乱フィルム用
組成物は、前記カチオン重合性を有する化合物(A)が
エポキシ当量400〜2200であるビスフェノールA
型エポキシ樹脂或いは臭素化ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂であることを特徴とする。
A composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 2, wherein the compound (A) having cationic polymerizability has an epoxy equivalent of from 400 to 2,200.
Characterized in that it is a type epoxy resin or a brominated bisphenol A type epoxy resin.

【0014】請求項3に記載の異方性光散乱フィルム用
組成物は、前記ラジカル重合性を有する化合物(B)の
屈折率が、(A)カチオン重合性を有する化合物よりも
低く、常温、常圧で液体で、かつ常圧で沸点が100℃
以上であるエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上
有する化合物であることを特徴とする。
In the composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 3, the compound (B) having radical polymerizability has a lower refractive index than the compound (A) having cationic polymerizability, At 100 ° C at normal pressure and liquid
It is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond as described above.

【0015】請求項4に記載の異方性光散乱フィルム用
組成物は、前記カチオン重合性を有する化合物(A)1
00重量部に対して、前記ラジカル重合性を有する化合
物(B)を20から80重量部を混合してなることを特
徴とする。
The composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 4, wherein the compound (A) 1 having the cationic polymerizability is used.
20 to 80 parts by weight of the compound (B) having radical polymerizability is mixed with 00 parts by weight.

【0016】請求項5に記載の異方性光散乱フィルム用
組成物は、前記化学放射線によってラジカル種を発生す
る光開始剤(C)を増感せしめる増感色素(E)を添加
することを特徴とする。
[0016] The composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 5 is characterized in that a sensitizing dye (E) for sensitizing a photoinitiator (C) which generates a radical species by the actinic radiation is added. I do.

【0017】請求項6に記載の異方性光散乱フィルム
は、請求項1乃至5に記載の異方性光散乱フィルム用組
成物を用いて製造された、フィルム内部に、屈折率の異
なる部分が不規則な形状・厚さで分布することにより、
屈折率の高低からなる濃淡模様が形成されており、且つ
その屈折率の異なる部分が、フィルムの厚さ方向に対し
て傾斜して層状に分布している構造であり、上記傾斜方
向に沿った角度で入射する光に対しては光散乱が生じ、
上記傾斜方向とは垂直な光に対しては単なる透明フィル
ムとして機能する、光散乱性に入射角度選択性を持つこ
とを特徴とする。
The anisotropic light-scattering film according to claim 6 is produced by using the composition for anisotropic light-scattering film according to any one of claims 1 to 5, and the portion having a different refractive index is irregular inside the film. By distributing by shape and thickness,
A light and shade pattern having a high and low refractive index is formed, and portions having different refractive indices are distributed in a layered manner inclining with respect to the thickness direction of the film. Light scattering occurs for light incident at an angle,
It functions as a mere transparent film with respect to light perpendicular to the above-mentioned tilt direction, and has an incident angle selectivity in light scattering.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明を説
明する。図1は、屈折率の異なる部分が不規則な形状・
厚さで分布して、屈折率の高低(同図では、白と黒で表
現する)からなる濃淡模様が形成された異方性光散乱フ
ィルム(以下、単に光散乱フィルムともいう)1を示す
説明図であり、左が平面図、右が断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows that the portions having different refractive indexes have irregular shapes.
Explanatory diagram showing an anisotropic light-scattering film (hereinafter, also simply referred to as a light-scattering film) 1 in which a light and shade pattern composed of high and low refractive indexes (expressed in white and black in the figure) is formed and distributed in thickness. Where the left is a plan view and the right is a cross-sectional view.

【0019】平面図から分かるように、屈折率の異なる
部分の形状は横長である。また、断面図から分かるよう
に、屈折率の異なる部分は、フィルムの厚さ方向に対し
て傾斜した層状に分布した構造である。図1では、屈折
率の異なる部分が、層状に傾斜している方向について
は、屈折率の分布は一様(傾斜方向では、色が変化して
いない)である。
As can be seen from the plan view, the shape of the portion having a different refractive index is horizontally long. Further, as can be seen from the cross-sectional view, the portions having different refractive indexes have a structure distributed in a layer shape inclined with respect to the thickness direction of the film. In FIG. 1, the distribution of the refractive index is uniform (the color does not change in the inclined direction) in the direction in which the portions having different refractive indexes are inclined in layers.

【0020】図2は、別の実施形態に係る光散乱フィル
ム1を示す説明図であり、左が平面図、右が断面図であ
る。図2では屈折率の異なる部分の形状は縦長であり、
また、屈折率の異なる部分が、層状に傾斜している方向
については、屈折率の分布は不規則(傾斜方向でも、色
が変化している)である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a light scattering film 1 according to another embodiment, in which the left is a plan view and the right is a sectional view. In FIG. 2, the shape of the portion having a different refractive index is vertically long,
In addition, in the direction in which the portions having different refractive indices are inclined in a layered manner, the distribution of the refractive index is irregular (the color changes even in the inclined direction).

【0021】図1・図2の光散乱フィルムの光学特性に
ついて、まず、断面図で考える。屈折率の異なる部分が
層状に分布した上記傾斜方向に沿った角度(フィルムの
垂線から角度θをなす、図2の矢印2の方向)で入射す
る光に対しては、光散乱が生じることになる。
First, the optical characteristics of the light-scattering film shown in FIGS. Light scattering occurs for light incident at an angle along the above-mentioned inclination direction in which portions having different refractive indices are distributed in layers (an angle θ from the perpendicular to the film, in the direction of arrow 2 in FIG. 2). Become.

【0022】上記傾斜方向とは垂直な角度(図の矢印3
の方向)で入射する光に対しては、単なる透明フィルム
として機能し、入射光は散乱されずに出射する。
An angle perpendicular to the inclination direction (arrow 3 in the figure)
), It functions as a mere transparent film, and the incident light exits without being scattered.

【0023】次に、平面図で考えると、屈折率の異なる
部分の形状が縦長(或いは横長)であると、その部分に
入射する光が散乱出射する場合には、それぞれの部分か
ら出射光の光散乱特性が、横長( 或いは縦長) となるよ
うな異方性を持つ。図1では形状が横長であるから出射
光は縦長に散乱し、図2では形状が縦長であるから出射
光は横長に散乱することになる。
Next, considering the plan view, if the shape of the portion having a different refractive index is vertically long (or horizontally long), and the light incident on the portion is scattered and emitted, It has anisotropy such that the light scattering characteristics are horizontally long (or vertically long). In FIG. 1, the emitted light is scattered vertically because the shape is horizontal, and in FIG. 2, the emitted light is scattered horizontally because the shape is vertical.

【0024】図3は、本発明の組成物を用いて作製した
光散乱フィルム1の持つ入射角度依存性の一例を示すグ
ラフである。図中実線で示すように、ある特定入射角度
範囲(図では0度から60度)の光に対してはヘイズ値
が80%以上あり、逆にそれとは対称な入射角度(図で
は−60度から0度)の光に対してのヘイズ値は20%
以下になっており、これが本明細書中で言う散乱性の入
射角度依存性を示す。
FIG. 3 is a graph showing an example of the incident angle dependence of the light scattering film 1 produced using the composition of the present invention. As shown by the solid line in the figure, the haze value is 80% or more for light in a specific incident angle range (0 ° to 60 ° in the figure), and conversely, the incident angle is symmetric (−60 ° in the figure). Haze value is 20%
This shows the incident angle dependence of the scattering property referred to in this specification.

【0025】また、上述したように、屈折率の異なる部
分の形状が縦長(或いは横長)であると、その部分に入
射する光が散乱出射する場合には、それぞれの部分から
の出射光の光散乱特性が、横長(或いは縦長)となるよ
うな異方性を持つ。例えば、図1のように形状が横長で
あると、光散乱フィルムからの散乱出射光は、図4の様
な縦長の楕円形となるような分布となる。
Further, as described above, when the shape of a portion having a different refractive index is vertically long (or horizontally long), when light incident on the portion is scattered and emitted, the light emitted from each portion is not emitted. It has anisotropy such that the scattering characteristics are horizontally long (or vertically long). For example, if the shape is horizontally long as shown in FIG. 1, the scattered light emitted from the light scattering film has a distribution such that it becomes a vertically long ellipse as shown in FIG.

【0026】次に、本発明の異方性光散乱フィルム用組
成物について詳細に説明する。上述したように、本発明
の組成物で作製した異方性光散乱フィルムの内部は、屈
折率の異なる部分が不規則な形状・厚さで分布すること
により、屈折率の高低からなる濃淡模様が形成されてい
る。
Next, the composition for an anisotropic light scattering film of the present invention will be described in detail. As described above, the inside of the anisotropic light-scattering film made of the composition of the present invention forms a light and shade pattern composed of high and low refractive indexes by distributing portions having different refractive indexes in an irregular shape and thickness. Have been.

【0027】この屈折率の差異を数値で言えば、0.0
05以上、0.25以下、更に好ましくは0.01以
上、0.25以下である。この値より小さすぎると散乱
性が悪くなり、逆に大きすぎるとどのような角度で光が
入射しても光散乱が生じてしまうことになり、散乱性の
入射角度依存性を持たせることが困難となる。
Numerically expressing this difference in refractive index is 0.0
05 or more and 0.25 or less, more preferably 0.01 or more and 0.25 or less. If the value is smaller than this value, the scattering property deteriorates, and if the value is too large, light scattering occurs regardless of the angle of light incident, and it is possible to have the incident angle dependence of the scattering property. It will be difficult.

【0028】本発明の組成物において用いられる(A)
カチオン重合性を有する化合物とは、化学放射線により
カチオンを発生する開始剤の存在下、化学放射線照射に
より高分子化または架橋反応するカチオン重合性を有す
る化合物で、例えばエポキシ化合物、環状エーテル化合
物、環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環状
チオエーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビ
ニル化合物などの1 種または2種以上の混合物からなる
ものである。かかるカチオン重合性を有する化合物の中
でも1分子中に少なくとも1 個以上のエポキシ基を有す
る化合物は好ましいものであり、例えば従来公知の芳香
族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
(A) used in the composition of the present invention
A compound having cationic polymerizability is a compound having cationic polymerizability that is polymerized or cross-linked by actinic radiation in the presence of an initiator that generates cations by actinic radiation, such as an epoxy compound, a cyclic ether compound, or a cyclic compound. It comprises one or a mixture of two or more of a lactone compound, a cyclic acetal compound, a cyclic thioether compound, a spiroorthoester compound and a vinyl compound. Among such cationically polymerizable compounds, a compound having at least one epoxy group in one molecule is preferable, and examples thereof include conventionally known aromatic epoxy resins and alicyclic epoxy resins.

【0029】芳香族エポキシ樹脂として好ましいもの
は、少なくとも1個の芳香環を有する多価フェノールま
たはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジル
エーテルであって、例えばビスフェノールAまたはその
アルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの
反応によって製造されるグリシジルエーテル、エポキシ
ノボラック樹脂が挙げられる。ビスフェノールA、ビス
フェノールAD、ビスフェノールB、ビスフェノールA
F、ビスフェノールS、ブロム化ビスフェノールA、ノ
ボラック、o−クレゾールノボラック、p−アルキルフ
ェノールノボラック、の各種フェノール化合物とエピク
ロロヒドリンとの縮合反応により生成されるエポキシ化
合物を挙げることができる。なお、ブロム化ビスフェノ
ールAエポキシ化合物は、エポキシ当量が上がると溶剤
に溶けなくなるため単独では用いずに混合系での使用が
有効である。
Preferred as the aromatic epoxy resin is a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic ring or an alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A or an alkylene oxide adduct thereof and epichlorohydrin. Glycidyl ether and epoxy novolak resin produced by the reaction are exemplified. Bisphenol A, Bisphenol AD, Bisphenol B, Bisphenol A
Epoxy compounds produced by a condensation reaction of various phenol compounds of F, bisphenol S, brominated bisphenol A, novolak, o-cresol novolak, and p-alkylphenol novolak with epichlorohydrin can be mentioned. Since the brominated bisphenol A epoxy compound becomes insoluble in a solvent when the epoxy equivalent is increased, it is effective to use the epoxy compound in a mixed system without using it alone.

【0030】脂環式エポキシ樹脂の代表例は、上記ビス
フェノールAまたはそのアルキレンオキサイド付加体と
エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシ
ジルエーテルの水素添加物、特に、水添ビスフェノール
A、水添ビスフェノールAD、水添ビスフェノールB、
水添ビスフェノールAF、水添ビスフェノールS、水添
ブロム化ビスフェノールA等などが挙げられる。
Representative examples of the alicyclic epoxy resin include hydrogenated glycidyl ethers produced by the reaction of the above bisphenol A or an alkylene oxide adduct thereof with epichlorohydrin, particularly hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol AD, Hydrogenated bisphenol B,
Examples include hydrogenated bisphenol AF, hydrogenated bisphenol S, hydrogenated brominated bisphenol A, and the like.

【0031】該カチオン重合性を有する化合物のうちボ
ラック、o−クレゾールノボラック、p−アルキルフェ
ノールノボラック、の各種フェノール化合物とエピクロ
ロヒドリンとの縮合反応により生成されるエポキシ化合
物以外は、分子量は400から1000が好ましく、こ
れよりも小さいと液体となってしまい、前処理による硬
化処理を行わない限り膜としては得られず、均一な塗布
ができない。また、この範囲よりも大きな分子量では特
性が得られない。
Among the compounds having cationic polymerizability, the molecular weight is 400, except for epoxy compounds formed by the condensation reaction of various phenolic compounds such as volak, o-cresol novolak and p-alkylphenol novolak with epichlorohydrin. If it is smaller than 1,000, it becomes a liquid and cannot be obtained as a film unless a curing treatment by pre-treatment is performed, so that uniform coating cannot be performed. If the molecular weight is larger than this range, no characteristics can be obtained.

【0032】本発明の組成物において用いられる(B)
ラジカル重合性を有する化合物とは、化学放射線により
ラジカルを発生する開始剤の存在下、化学放射線照射に
より高分子化または架橋反応するラジカル重合性を有す
る化合物で、例えば、構造単位中にエチレン性の不飽和
結合を少なくとも1個以上含むものであり、1官能であ
るビニルモノマーの他に多官能ビニルモノマーを含むも
のであり、またこれらの混合物であってもよい。
(B) used in the composition of the present invention
A compound having radical polymerizability is a compound having radical polymerizability that is polymerized or cross-linked by actinic radiation in the presence of an initiator that generates radicals by actinic radiation. It contains at least one or more unsaturated bonds, contains a polyfunctional vinyl monomer in addition to a monofunctional vinyl monomer, and may be a mixture thereof.

【0033】具体的には、(メタ)アクリル酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、(メタ)アクリルアミド、ジアセト
ンアクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート等の高沸点ビニルモノマー、さらには、脂肪族
ポリヒドロキシ化合物、例えば、エチレングルコール、
ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テト
ラエチレングリコール、プロピレングリコール、トリプ
ロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3
−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5
−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,
10−デカンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビト
ール、マンニトールなどのモノ、ジあるいはポリ(メ
タ)アクリル酸エステル類等が挙げられるがこの限りで
はない。
More specifically, high-boiling vinyl monomers such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, (meth) acrylamide, diacetone acrylamide, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; Hydroxy compounds, such as ethylene glycol,
Diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, tripropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3
-Propanediol, 1,4-butanediol, 1,5
-Pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,
Mono-, di- or poly (meth) acrylates such as 10-decanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, mannitol and the like are exemplified, but not limited thereto.

【0034】本発明の組成物において用いられる(C)
化学放射線によってラジカル種を発生する光重合開始剤
系としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニル
エタン−1−オン等のベンジルメチルケタール類、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等
のα−ヒドロキシケトン類、2−メチル−1[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1
−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4
−モルフォリノフェニル)ブタノン−1等のα−アミノ
ケトン類、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−
2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイ
ド等のビスアシルフォスフィンオキサイド類、2,2
‘−ビス(o−クロロフェニル)−4,4‘,5,5
‘−テトラフェニル−1,1‘−ビイミダゾール、ビス
(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール等のビスイ
ミダゾール類、N−フェニルグリシン等のN−アリール
グリシン類、4,4‘−ジアジドカルコン等の有機アジ
ド類、3,3‘,4,4‘−テトラ(tert−ブチル
ペルオキシカルボキシル)ベンゾフェノン等の有機過酸
化物類をはじめ、J.Photochem.Sci.T
echnol.,2,283(1987).に記載され
る化合物、具体的には鉄アレーン錯体、トリハロゲノメ
チル置換s−トリアジン、スルフォニウム塩、ジアゾニ
ウム塩、フォスフォニウム塩、セレノニウム塩、アルソ
ニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられる。また、ヨー
ドニウム塩としては、Macromolecules、
10、1307(1977).に記載の化合物、例え
ば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、
フェニル(p−アニシル)ヨードニウム、ビス(m−ニ
トロフェニル)ヨードニウム、ビス(p −tert−ブチル
フェニル)ヨードニウム、ビス(p −クロロフェニル)
ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド、ブロミ
ド、あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフェ
ート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スルホ
ン酸塩等や、ジフェニルフェナシルスルホニウム(n−
ブチル)トリフェニルボレート等のスルホニウム有機ホ
ウ素錯体類を挙げることが出来る。
(C) used in the composition of the present invention
Examples of photopolymerization initiator systems that generate radical species by actinic radiation include benzylmethyl ketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one,
Α-hydroxy ketones such as hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1
-One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4
Α-aminoketones such as -morpholinophenyl) butanone-1, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)-
Bisacylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide;
'-Bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5
Bisimidazoles such as'-tetraphenyl-1,1'-biimidazole and bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, N-arylglycines such as N-phenylglycine, and 4,4'-diazide Organic azides such as chalcone; organic peroxides such as 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarboxyl) benzophenone; Photochem. Sci. T
echnol. , 2,283 (1987). And specific examples thereof include iron arene complexes, trihalogenomethyl-substituted s-triazines, sulfonium salts, diazonium salts, phosphonium salts, selenonium salts, arsonium salts, iodonium salts and the like. As iodonium salts, Macromolecules,
10, 1307 (1977). Compounds described in, for example, diphenyliodonium, ditolyliodonium,
Phenyl (p-anisyl) iodonium, bis (m-nitrophenyl) iodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl)
Chlorides, bromides, iodonium chlorides such as iodonium, borofluoride salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, aromatic sulfonate salts, and diphenylphenacylsulfonium (n-
Butyl) triphenyl borate and the like.

【0035】さらに、本発明の熱によってカチオン種を
発生する熱重合開始剤(D)としては、常温、常圧の通
常条件で活性を示さず、外部刺激である熱により開始種
を発生するいわゆる潜在性熱重合開始剤であり、カチオ
ン重合が可能な化合物であれば異類のエポキシ化合物同
士や、エポキシとビニルエーテル化合物等の異種の重合
も可能となる。具体的には、ジアルキルアリルスルホニ
ウム類、シクロアルキルアリルスルホニウム類、アルキ
ルジアリールスルフォニウム塩、ジアルキルアリールス
ルホニウム類、トリアリールスルホニウム類、ベンジル
ピリジニウム類、ベンジルアンモニウム類、ベンジルト
リアリールホスホニウム類のテトラフルオロボレート
塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルホロ
アルセネート塩、テトラフルオロアンチモネート塩等、
以下に示す化合物を挙げることが出来るが、この限りで
はない。
Further, the thermal polymerization initiator (D) of the present invention which generates a cationic species by heat is a so-called thermal polymerization initiator which does not show activity under normal conditions of normal temperature and normal pressure and generates a starting species by external stimulus heat. If it is a latent thermal polymerization initiator and is a compound that can be cationically polymerized, different types of epoxy compounds, or different types of polymerization such as epoxy and vinyl ether compounds can also be used. Specifically, tetrafluoroborate of dialkyl allyl sulfoniums, cycloalkyl allyl sulfoniums, alkyl diaryl sulfonium salts, dialkyl aryl sulfoniums, triaryl sulfoniums, benzyl pyridiniums, benzyl ammoniums, benzyl triaryl phosphoniums Salt, hexafluorophosphate salt, hexafluroarsenate salt, tetrafluoroantimonate salt, etc.
The following compounds can be exemplified, but not limited thereto.

【0036】[0036]

【化1】 Embedded image

【0037】(式中R1 、R2 は同一または異なる置換
または非置換の脂肪族基でR1 、R2は環を形成しても
よい。Aは一般式[I]、[II]表される基である。
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and are substituted or unsubstituted aliphatic groups, and R 1 and R 2 may form a ring. A represents a group represented by the general formulas [I] and [II]) It is a group to be performed.

【0038】[0038]

【化2】 Embedded image

【0039】(Ra 〜Rd は、水素原子または、置換ま
たは非置換の脂肪族基であり、Ra 〜Rd のうち少なく
とも1 個は非置換の脂肪族基である。また、Re 〜Rg
は置換または非置換の脂肪族基である。)R3 は水酸
基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブチトキシ
基、メトキシカルボニル基、アセトキシ基、ベンジルオ
キシ基、ベンゾイル基、ジメチルアミノ基から選ばれた
ひとつである。R4 、R5 は、それぞれ独立して水素原
子、ハロゲン原子、C1 〜C4 のアルキル基のいずれか
を示す。R6 、R8 は、水素原子、メチル基、メトキシ
基、ハロゲン原子のいずれかであり、R7 はC1 〜C4
のアルキル基のいずれかを示す。C9 は、水素原子、シ
アノ基、ニトロ基のいずれかである。R10〜R12は、ア
ルキル基、アルケニル基(水酸基、カルボキシル基、ア
ルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルカノイルオキシ
基で置換されていてもよい)、またはフェニル基(アル
キル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキ
シ基、アミノ基、ジアルキルアミノ基で置換ざれていて
もよい)で表される基である。
[0039] (R a to R d represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted aliphatic group, at least one of R a to R d is an unsubstituted aliphatic group. The, R e ~ R g
Is a substituted or unsubstituted aliphatic group. ) R 3 is one selected from a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a tert-butoxy group, a methoxycarbonyl group, an acetoxy group, a benzyloxy group, a benzoyl group and a dimethylamino group. R 4, R 5 represents independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group of C 1 -C 4. R 6 and R 8 are any of a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group and a halogen atom, and R 7 is a C 1 -C 4
Represents any one of the above alkyl groups. C 9 is any one of a hydrogen atom, a cyano group, and a nitro group. R 10 to R 12 represent an alkyl group, an alkenyl group (which may be substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an alkanoyloxy group), or a phenyl group (an alkyl group, a halogen atom, a nitro group). Group, a cyano group, an alkoxy group, an amino group, or a dialkylamino group).

【0040】さらに、記録する化学放射線の波長に応じ
て、本発明の化学放射線によってラジカル種を発生する
光重合開始剤(C)を増感せしめる増感色素(E)を加
えても良い。光重合開始剤(C)を増感せしめる増感色
素(E)としては、シアニンまたはメロシアニン誘導
体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、キサンテン誘導
体、チオキサンテン誘導体、アズレニウム誘導体、スク
アリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体などの有機染料
化合物が使用でき、その他に「色素ハンドブック」(大
河原信他編 講談社1986年)、「機能性色素の化
学」(大河原信他編、シーエムシー 1981年)、
「特殊機能材料」(池森忠三郎他編 シーエムシー 1
986年)に記載されている色素及び増感剤が用いられ
る。なお、これらに限定されるものではなく、その他の
可視域の光に対して吸収を示す色素及び増感剤であり、
使用する光重合開始剤を分光増感出来れば用いることが
出来る。これらは必要に応じて任意の比率で二種以上で
用いてもかまわない。
Further, a sensitizing dye (E) for sensitizing the photopolymerization initiator (C) which generates radical species by the actinic radiation of the present invention may be added according to the wavelength of the actinic radiation to be recorded. Examples of the sensitizing dye (E) for sensitizing the photopolymerization initiator (C) include organic dyes such as cyanine or merocyanine derivatives, coumarin derivatives, chalcone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, and porphyrin derivatives. Compounds can be used, and in addition, "Dye Handbook" (Shin Okawara et al., Edited by Kodansha 1986), "Chemistry of functional dyes" (Shin Okawara et al., Edited by CMC 1981),
"Specially Functional Materials" (CEM1 by Chuzaburo Ikemori and others)
986) are used. It should be noted that the dye and the sensitizer are not limited to these, and exhibit absorption for other visible light.
If the photopolymerization initiator used can be spectrally sensitized, it can be used. These may be used in two or more at any ratio as needed.

【0041】本発明の組成物に含有される成分(B)の
量は、(A)100重量部に対して20から200重量
部の範囲をとることが可能であり、好ましくは30から
100重量部である。成分(C)の光重合開始剤の量
は、成分(A)100重量部に対し、0.1から20重
量部、好ましくは1から10重量部である。さらに、成
分(D)の熱重合開始剤は、成分(A)100重量部に
対して0.1から20重量部、好ましくは0.5から1
0までの範囲をとることが可能である。成分(E)を使
用する場合の量は、(A)100重量部に対して0.1
から5重量部の範囲をとることが可能であり、好ましく
は0.2から0.5重量部である。使用量は、感光層膜
厚と該膜厚の光学濃度によって制限を受ける。すなわ
ち、光学濃度が2を越えない範囲で使用することが好ま
しい。
The amount of component (B) contained in the composition of the present invention can be in the range of 20 to 200 parts by weight, preferably 30 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of (A). Department. The amount of the photopolymerization initiator of the component (C) is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the component (A). Further, the thermal polymerization initiator of the component (D) is used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of the component (A).
It is possible to take a range up to zero. When the component (E) is used, the amount is 0.1 parts by weight based on 100 parts by weight of the component (A).
To 5 parts by weight, preferably 0.2 to 0.5 parts by weight. The amount used is limited by the thickness of the photosensitive layer and the optical density of the thickness. That is, it is preferable to use the optical density within a range not exceeding 2.

【0042】この様にこれらの各成分を適宜選択し、任
意の割合で混合して得た感光液をバーコーター、アプリ
ケーター、ドクターブレード、ロールコーター、ダイコ
ーター、コンマーコーター等の公知の塗工手段を用いて
ガラス板等の基材に塗布する。
The photosensitive solution obtained by appropriately selecting these components and mixing them in an arbitrary ratio is coated by a known coating means such as a bar coater, an applicator, a doctor blade, a roll coater, a die coater, and a comma coater. Is applied to a substrate such as a glass plate.

【0043】なお、感光液を塗布する際は、必要に応じ
て適当な溶剤で希釈してもよいが、その場合には基材上
に塗布した後に、乾燥を要する。上記溶剤としては、ジ
クロルメタン、クロロホルム、アセトン、2−ブタノ
ン、シクロヘキサノン、エチルアセテート、2−メトキ
シエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシ
エタノール、2−エトキシエチルアセテート、2−ブト
キシエチルアセテート、2−メトキシエチルエーテル、
2−エトキシエチルエーテル、2−(2−エトキシエト
キシ)エタノール、2−(2−ブトキシエトキシ)エタ
ノール、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアセテー
ト、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアセテート、
テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等が挙げられ
る。
When the photosensitive liquid is applied, it may be diluted with an appropriate solvent if necessary, but in that case, it is necessary to apply the solvent on the substrate and then dry it. Examples of the solvent include dichloromethane, chloroform, acetone, 2-butanone, cyclohexanone, ethyl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 2-methoxy Ethyl ether,
2-ethoxyethyl ether, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2-butoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acetate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate,
Examples include tetrahydrofuran and 1,4-dioxane.

【0044】さらに、記録可能な屈折率差は作製方法や
記録材料などにより制限を受けるため、大きな屈折率差
を持つ場合はフィルム膜厚を薄く、小さな屈折率差を持
つ場合はフィルム膜厚を厚くすることで、本発明の組成
物を用いて光散乱フィルムを実現することが可能であ
る。
Furthermore, since the difference in the refractive index that can be recorded is limited by the manufacturing method and the recording material, the film thickness is small when the difference is large, and is reduced when the difference is small. By increasing the thickness, a light-scattering film can be realized using the composition of the present invention.

【0045】屈折率の異なる部分の大きさは、光散乱を
生じるためにランダムで規則性はないが、必要な散乱性
を持つために、その平均の大きさは直径で0.1 μmから
300μmの範囲内でそれぞれの用途に必要な散乱性に応
じて適宜選択する。
The size of the portions having different refractive indices is random and non-regular in order to cause light scattering, but has an average size of 0.1 μm in diameter in order to have necessary scattering properties.
It is appropriately selected within the range of 300 μm according to the scattering property required for each application.

【0046】また、前記屈折率の異なる部分のフィルム
表面上での分布は、光散乱を生じるためにランダムで規
則性はないが、必要な散乱性を持たせるために、フィル
ム全体の平均屈折率を<n>とすると、その確立分布は
<n>を中心とする正規分布を呈する。或いは、屈折率
nの最小値nmin で最大値をとり指数関数的に屈折率の
最大値nmax まで単調減少するような確立分布、或いは
単調増加する確立分布に従って分布していてもよい。
The distribution of the portions having different refractive indices on the film surface is random and irregular in order to cause light scattering. However, in order to provide necessary scattering, the average refractive index of the entire film is required. Is defined as <n>, the probability distribution exhibits a normal distribution centered on <n>. Alternatively, the refractive index n may be distributed according to a probability distribution that takes a maximum value at a minimum value nmin and monotonically decreases to a maximum value nmax of the refractive index monotonically or a probability distribution that monotonically increases.

【0047】以下、本発明の光散乱フィルムを作製する
手段について述べる。本発明の光散乱フィルムは光学的
な露光手段により作製することができる。図5はランダ
ムマスクパターンを利用して作製する光学系の一例を示
す説明図である。UV光源6から出た紫外光はコリメー
ト光学系7により平行光8とし、マスク原版9を照射す
る。
Hereinafter, means for producing the light scattering film of the present invention will be described. The light scattering film of the present invention can be produced by an optical exposure means. FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of an optical system manufactured using a random mask pattern. Ultraviolet light emitted from the UV light source 6 is converted into collimated light 8 by a collimating optical system 7 to irradiate a mask master 9.

【0048】マスク原版9のUV照射側とは反対の面に
は感光材料5を密着して配置しており、マスク原版9の
パターンを感光材料5に露光照射する。この際、図示の
ようにUV平行光8とマスク原版9は所定角度αだけ傾
いて配置されているため、パターン露光は感光材料5中
で、所定角度傾いてなされることになる。この角度が、
光散乱フィルム中の屈折率の異なる部分の傾斜角度(す
なわち、入射角度依存性の散乱角度θ)に相当すること
になるので、前記角度は用途に応じて0から60度程度
の範囲内で適宜選択する。
The photosensitive material 5 is disposed in close contact with the surface of the mask original 9 opposite to the UV irradiation side, and the pattern of the mask original 9 is exposed to light. At this time, since the UV parallel light 8 and the mask master 9 are arranged at a predetermined angle α as shown in the figure, the pattern exposure is performed at a predetermined angle in the photosensitive material 5. This angle is
The angle corresponds to the angle of inclination of a portion having a different refractive index in the light scattering film (that is, the scattering angle θ depending on the incident angle). Therefore, the angle is appropriately set in the range of about 0 to 60 degrees depending on the application. select.

【0049】また、ここで使用する感光材料5は、UV
光の露光部と未露光部を屈折率の変化形態で記録できる
感光材料であり、記録しようとする濃淡模様より高い解
像力を持ち、その厚みの方向にもパターンを記録できる
ような材料である必要がある。
The photosensitive material 5 used here is UV
A photosensitive material that can record exposed and unexposed areas of light in the form of changes in the refractive index. It must have a higher resolving power than the density pattern to be recorded, and be capable of recording patterns in the thickness direction. There is.

【0050】図5で用いている所定のランダムパターン
を持つマスク原版9は、計算機を用いた乱数計算から作
製した白黒パターンデータを、所謂フォトリソグラフィ
ーの手法によりガラス基板10上の金属クロムパターン
11としてエッチングしたものを用いてもよい。もちろ
んマスク原版の作成方法としては、上記方式に限定され
るものではなく、リス乾板を使った写真手法などにより
作製しても同様なマスクを作製できる事は周知である。
The mask master 9 having a predetermined random pattern used in FIG. 5 converts black-and-white pattern data prepared from random number calculation using a computer into a metal chrome pattern 11 on a glass substrate 10 by a so-called photolithography method. Etched ones may be used. Of course, the method of producing the mask master is not limited to the above-mentioned method, and it is well known that a similar mask can be produced by a lithography method using a squirrel plate.

【0051】図6は、図2に示す構造の光散乱フィルム
をスペックルパターンを利用して作製する光学系の一例
を示す説明図である。レーザー光源13から出たレーザ
ー光14ですりガラス15を照射する。すりガラス15
のレーザー照射側とは反対の面には所定距離Fをおいて
感光材料5を配置し、すりガラス15で透過散乱したレ
ーザー光が作り出す複雑な干渉パターンであるスペック
ルパターンを感光材料5に露光照射される。
FIG. 6 is an explanatory view showing an example of an optical system for producing a light scattering film having the structure shown in FIG. 2 using a speckle pattern. A ground glass 15 is irradiated with laser light 14 emitted from a laser light source 13. Ground glass 15
The photosensitive material 5 is disposed at a predetermined distance F on the surface opposite to the laser irradiation side, and the photosensitive material 5 is exposed and irradiated with a speckle pattern, which is a complicated interference pattern generated by laser light transmitted and scattered by the ground glass 15. Is done.

【0052】この際、図示のようにすりガラス10と感
光材料5は所定角度αだけ傾いて配置されているため、
スペックルパターンは感光材料中で、所定角度傾いて露
光されることになる。この角度が、光散乱フィルム中の
屈折率の異なる部分の傾き(すなわち、入射角度依存性
の散乱ピーク角度θ)に相当することになるので、前記
角度は用途に応じて0から60度程度の範囲内で適宜選
択する。
At this time, as shown in the figure, the ground glass 10 and the photosensitive material 5 are inclined at a predetermined angle α, so that
The speckle pattern is exposed at a predetermined angle in the photosensitive material. Since this angle corresponds to the inclination of the portion having a different refractive index in the light scattering film (that is, the scattering peak angle θ depending on the incident angle), the angle is about 0 to 60 degrees depending on the application. Select appropriately within the range.

【0053】記録に使用するレーザ光源は、アルゴンイ
オンレーザーの351nm、364nm、514.5n
m、488nm又は457.9nmの波長のうち、感光
材料の感度に応じて適宜選択して使用する事ができる。
またアルゴンイオンレーザー以外でもコヒーレント性の
良いレーザー光源であれば仕様可能で、例えばヘリウム
ネオンレーザーやクリプトンイオンレーザーなどが使用
できる。
The laser light source used for recording is an argon ion laser of 351 nm, 364 nm, 514.5 n.
m, 488 nm or 457.9 nm can be appropriately selected and used according to the sensitivity of the photosensitive material.
In addition, other than an argon ion laser, any laser light source having good coherence can be used. For example, a helium neon laser or a krypton ion laser can be used.

【0054】スペックルパターンは、コヒーレント性が
良い光が粗面で散乱反射または透過した時に生じる明暗
の斑点模様であり、粗面の微小な凹凸で散乱した光が不
規則な位相関係で干渉するために生じるものである。
The speckle pattern is a bright and dark spot pattern generated when light having good coherence is scattered and reflected or transmitted on a rough surface, and light scattered by minute irregularities on the rough surface interferes in an irregular phase relationship. It is caused by

【0055】「光測定ハンドブック朝倉書店田光幸敏治
ほか著1994年11月25日発行」の記述(p.26
6〜p.268)によれば、濃度や位相が位置によって
ランダムな値を示すようなスペックルパターンでは、前
記パターンの大きさは、感光材料から拡散板を見込む角
度に反比例して、パターンの平均径が決定される。従っ
て、拡散板の大きさを、水平方向よりも垂直方向で大き
くした場合、感光材料上に記録されるパターンは、水平
方向よりも垂直方向が細かいものとなる。
Description of “Light Measurement Handbook Asakura Shoten Toshiharu Mitsuda et al., Published November 25, 1994” (p. 26)
6 to p. According to 268), in a speckle pattern in which the density and phase show random values depending on the position, the size of the pattern is inversely proportional to the angle at which the diffusion plate is viewed from the photosensitive material, and the average diameter of the pattern is determined. Is done. Therefore, when the size of the diffusion plate is made larger in the vertical direction than in the horizontal direction, the pattern recorded on the photosensitive material is finer in the vertical direction than in the horizontal direction.

【0056】図6の光学系での作製方法によるスペック
ルパターンは、使用するレーザー光の波長λ及びすりガ
ラスの大きさD、すりガラスと感光材料との距離Fが、
記録されるスペックルパターンの平均サイズdを決定
し、一般に次式で表される。 d=1.2λF/D
The speckle pattern according to the manufacturing method using the optical system shown in FIG. 6 is such that the wavelength λ of the laser beam used, the size D of the ground glass, and the distance F between the ground glass and the photosensitive material are as follows.
The average size d of the speckle pattern to be recorded is determined, and is generally expressed by the following equation. d = 1.2λF / D

【0057】また、このスペックルパターンの奥行き方
向の平均の長さtは t=4.0λ(F/D)2 で表される。
The average length t of the speckle pattern in the depth direction is represented by t = 4.0λ (F / D) 2 .

【0058】以上よりλ及びF/Dの値を最適な散乱性
を持つように最適化することで所望の3次元的な屈折率
分布を持つ本発明の光散乱フィルムを得ることが出来
る。
From the above, the light scattering film of the present invention having a desired three-dimensional refractive index distribution can be obtained by optimizing the values of λ and F / D so as to have an optimum scattering property.

【0059】一例として、λ=0.5μmで、F/D=
2とすると、d=1.2μm、t=8μmとなり、フィ
ルム表面上の濃淡模様は平均1.2μmで分布し、フィ
ルム厚み方向には前記傾斜角度に従った方向に平均8μ
mの大きさで分布することになる。
As an example, when λ = 0.5 μm, F / D =
Assuming that 2, d = 1.2 μm and t = 8 μm, the light and shade pattern on the film surface is distributed at an average of 1.2 μm, and the average in the film thickness direction is 8 μm in a direction according to the inclination angle.
m will be distributed.

【0060】ただし、これらの大きさはあくまでも平均
の大きさであり、実際にはこれらの大きさを中心に大小
様々な大きさで屈折率の異なる部分が表面上及び奥行き
方向に傾斜して分布することになり、図2に示すような
本発明の光散乱フィルムとなる。
However, these sizes are merely average sizes. In practice, portions having different sizes and different refractive indexes are distributed on the surface and inclined in the depth direction. The light scattering film of the present invention as shown in FIG.

【0061】以下、本発明の実施の形態について具体的
な実施例を挙げて説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to specific examples.

【0062】<実施例1>ビスフェノール系エポキシ樹
脂エピコート1004(エポキシ当量:875−97
5、油化シェルエポキシ(株)製商品名)100重量
部、トリプロピレングリコールジアクリレート(VIS
COAT−310HP、大阪有機化学(株)製商品名)
50重量部および1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン(IRGACURE184、チバ・スペシャリ
ティ・ケミカルズ社製商品名)3.0重量部、アルキル
ジアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
(SI−100L、溶液タイプ、三新化学工業(株)製
商品名)3.0重量部に混合溶解したものを感光液とし
た。該感光液を青板ガラス(1.1mm厚、5インチ
角)に、膜厚が約50ミクロンになるようにドクターブ
レードで塗布、乾燥し記録用媒体とした。
<Example 1> Bisphenol-based epoxy resin epicoat 1004 (epoxy equivalent: 875-97)
5, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. 100 parts by weight, tripropylene glycol diacrylate (VIS
COAT-310HP (trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)
50 parts by weight, 3.0 parts by weight of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (IRGACURE 184, trade name of Ciba Specialty Chemicals), alkyldiarylsulfonium hexafluoroantimonate (SI-100L, solution type, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) The mixture was dissolved and dissolved in 3.0 parts by weight of a commercial product name) to obtain a photosensitive solution. The photosensitive liquid was applied to a blue sheet glass (1.1 mm thick, 5 inch square) with a doctor blade so that the film thickness became about 50 μm, and dried to obtain a recording medium.

【0063】該記録用媒体を、図6に示した光学系で、
光源としてアルゴンレーザ(364nm)をレンズを用
いて広げた光ですりガラス15を介して、記録材料面か
ら露光した( α=22゜、20mJ/cm2)後、80℃
で10分加熱後、高圧水銀灯で全面照射することで定着
した。し、さらに該記録用媒体を130℃で30分加熱
し、硬化物をガラス基板から剥離することによって光散
乱性フィルムを得た。得られた該フィルムの厚みは70
ミクロンであった。
The recording medium is formed by the optical system shown in FIG.
After exposing (α = 22 °, 20 mJ / cm 2 ) from the surface of the recording material through the frosted glass 15 with a light obtained by spreading an argon laser (364 nm) as a light source using a lens, the temperature is increased to 80 ° C.
After heating for 10 minutes, fixing was performed by irradiating the entire surface with a high-pressure mercury lamp. Then, the recording medium was heated at 130 ° C. for 30 minutes, and the cured product was separated from the glass substrate to obtain a light scattering film. The thickness of the obtained film is 70
Micron.

【0064】評価は、島津製作所(株)製の分光光度計
で各角度で透過率(波長範囲;400〜600nm)を
測定した。結果(全波長平均透過率)を表1に示す。
For evaluation, the transmittance (wavelength range: 400 to 600 nm) was measured at each angle using a spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corporation. Table 1 shows the results (average transmittance of all wavelengths).

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】<実施例2>ビスフェノール系エポキシ樹
脂エピコート1004(エポキシ当量:875−97
5、油化シェルエポキシ株)製商品名)の代わりに水添
ビスフェノール系エポキシ樹脂サントート5100(エ
ポキシ当量:900−1100、東都化成(株)製商品
名)を使う以外は実施例1と同様にして操作し、作製し
た光散乱性フィルムを得た。得られた該フィルムの厚み
は68ミクロンであった。結果を表2に示す。
Example 2 Bisphenol epoxy resin epicoat 1004 (epoxy equivalent: 875-97)
5, in the same manner as in Example 1 except that a hydrogenated bisphenol-based epoxy resin suntote 5100 (epoxy equivalent: 900-1100, trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) is used instead of the trade name manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) To obtain the produced light scattering film. The thickness of the film obtained was 68 microns. Table 2 shows the results.

【0067】[0067]

【表2】 [Table 2]

【0068】<実施例3>ビスフェノール系エポキシ樹
脂エピコート1004(エポキシ当量:875−97
5、油化シェルエポキシ(株)製商品名)の代わりにフ
ェノール・ノボラック型エポキシ樹脂エピコート180
S65(エポキシ当量:205−220、油化シェルエ
ポキシ(株)製商品名)を使う以外は実施例1と同様に
して操作し、作製した光散乱性フィルムを得た。得られ
た該フィルムの厚みは78ミクロンであった。結果を表
3に示す。
Example 3 Bisphenol epoxy resin epicoat 1004 (epoxy equivalent: 875-97)
5. Instead of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), a phenol novolak epoxy resin epicoat 180
The procedure of Example 1 was repeated, except that S65 (epoxy equivalent: 205-220, trade name of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used, to obtain a produced light-scattering film. The resulting film had a thickness of 78 microns. Table 3 shows the results.

【0069】[0069]

【表3】 [Table 3]

【0070】<実施例4>アルキルジアリールスルホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート(SI−100L)
の代わりに、プレニルテトラメチレンスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート(アデカオプトンCP−7
7、旭電化工業(株)商品名)に変える以外は実施例1
と同様にして操作し、作製した光散乱性フィルムを得
た。得られた該フィルムの厚みは60ミクロンであっ
た。結果を表4に示す。
Example 4 Alkyldiarylsulfonium hexafluoroantimonate (SI-100L)
Instead of prenyltetramethylenesulfonium hexafluoroantimonate (Adekaopton CP-7)
Example 1 except for changing to (7, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)
The same operation as described above was carried out to obtain the produced light-scattering film. The thickness of the film obtained was 60 microns. Table 4 shows the results.

【0071】[0071]

【表4】 [Table 4]

【0072】<実施例5>トリプロピレングリコールジ
アクリレート(VISCOAT−310HP、大阪有機
化学製(株)商品名)の代わりにネオペンチルグリコー
ルジアクリレート(VISCOAT−215、大阪有機
化学製(株)商品名)を使う以外は実施例1と同様にし
て操作し、作製した光散乱性フィルムを得た。得られた
該フィルムの厚みは79ミクロンであった。結果を表5
に示す。
Example 5 Instead of tripropylene glycol diacrylate (VISCOAT-310HP, trade name of Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), neopentyl glycol diacrylate (VISCOAT-215, trade name of Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) was used. ) Was carried out in the same manner as in Example 1 except that (1) was used to obtain a produced light-scattering film. The resulting film had a thickness of 79 microns. Table 5 shows the results
Shown in

【0073】[0073]

【表5】 [Table 5]

【0074】<実施例6>ビスフェノール系エポキシ樹
脂エピコート1004(エポキシ当量:875−97
5、油化シェルエポキシ(株)製商品名)の代わりにビ
スフェノール系エポキシ樹脂エピコート1007(エポ
キシ当量:1750−2200、油化シェルエポキシ
(株)製商品名)を使う以外は実施例1と同様にして操
作し、作製した光散乱性フィルムを得た。得られた該フ
ィルムの厚みは69ミクロンであった。結果を表6に示
す。
Example 6 Bisphenol epoxy resin epicoat 1004 (epoxy equivalent: 875-97)
5. Same as Example 1 except that bisphenol-based epoxy resin Epicoat 1007 (epoxy equivalent: 1750-2200, trade name, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) is used instead of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. To obtain a produced light-scattering film. The thickness of the film obtained was 69 microns. Table 6 shows the results.

【0075】[0075]

【表6】 [Table 6]

【0076】<実施例7>1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン(IRGACURE184、チバ・ス
ペシャリティ・ケミカルズ社製商品名)3.0重量部の
代わりに2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−2−オン(DAROCURE1173、チバ・
スペシャリティ・ケミカルズ社製商品名)3.0重量部
を使う以外は実施例1と同様にして操作し、作製した光
散乱性フィルムを得た。得られた該フィルムの厚みは6
9ミクロンであった。結果を表7に示す。
Example 7 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-2-substituted 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (IRGACURE 184, trade name of Ciba Specialty Chemicals) was used instead of 3.0 parts by weight. ON (DAROCURE 1173, Ciba
A light-scattering film was produced in the same manner as in Example 1, except that 3.0 parts by weight of specialty chemicals (trade name) was used. The thickness of the obtained film is 6
9 microns. Table 7 shows the results.

【0077】[0077]

【表7】 [Table 7]

【0078】<実施例8>1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン(IRGACURE184、チバ・ス
ペシャリティ・ケミカルズ社製商品名)3.0重量部の
代わりに、4,4‘−ビス(tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート4.0
重量部および3−(p−ジメチルアミノフェニル)−1
−(p−メトキシフェニル)−2−プロペン−1−オン
0.25重量部を使い、光源をクリプトンレーザ(41
3nm)を使用する以外は実施例1と同様にして操作
し、光散乱性フィルムを作製したが散乱性は光散乱性フ
ィルムを得た。得られた該フィルムの厚みは70ミクロ
ンであった。結果を表8に示す。
Example 8 Instead of 3.0 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (IRGACURE 184, trade name of Ciba Specialty Chemicals), 4,4′-bis (tert-butylphenyl) iodonium hexane was used. Fluorophosphate 4.0
Parts by weight and 3- (p-dimethylaminophenyl) -1
Using 0.25 parts by weight of-(p-methoxyphenyl) -2-propen-1-one and using a krypton laser (41
A light-scattering film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3 nm) was used, but a light-scattering film was obtained. The thickness of the film obtained was 70 microns. Table 8 shows the results.

【0079】[0079]

【表8】 [Table 8]

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明に係る組成物を用いれば、所定角
度で入射する光に対しては光散乱が生じ、逆にそれとは
垂直な光に対しては透明フィルムとして機能することに
より、光散乱性に入射角度選択性を持ち、そのため、散
乱性を要する光と散乱性が不要な光とを、そのフィルム
への入射角度により分離することができ、結果として表
示装置などに用いた場合に、不必要な散乱を生じること
なく表示の明るさや細かさ、コントラストを向上し、且
つ表示像のぼけを軽減させる等の効果がある光散乱フィ
ルムを作製することができる。
According to the composition of the present invention, light scattered for light incident at a predetermined angle, and conversely, for light perpendicular to the light, it functions as a transparent film. The scattering property has an incident angle selectivity, so that light that requires scattering property and light that does not require scattering property can be separated by the angle of incidence on the film, and as a result, when used in a display device or the like. Thus, a light-scattering film having the effects of improving the brightness, fineness, and contrast of a display without causing unnecessary scattering and reducing the blur of a display image can be manufactured.

【0081】また、光散乱が生じる入射角度で光が入射
した際に、その散乱光の広がりが、縦横で異なるような
散乱異方性をも併せ持つフィルムの作製が可能である。
そのため、必要な方向にのみ散乱光を出射することが出
来、結果として表示装置などに用いた場合に、不必要な
散乱を生じることなく表示の明るさ、コントラストを向
上させる等の効果がある。
Further, when light is incident at an incident angle at which light scattering occurs, a film having scattering anisotropy such that the spread of the scattered light differs vertically and horizontally can be produced.
Therefore, scattered light can be emitted only in a necessary direction. As a result, when used in a display device or the like, there is an effect of improving display brightness and contrast without generating unnecessary scattering.

【0082】[0082]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光散乱フィルムを示す説明図であり、
左が平面図、右が断面図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing a light scattering film of the present invention,
The left is a plan view and the right is a cross-sectional view.

【図2】本発明の光散乱フィルムを示す説明図であり、
左が平面図、右が断面図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a light scattering film of the present invention;
The left is a plan view and the right is a cross-sectional view.

【図3】本発明の光散乱フィルムの持つ入射角度依存性
の一例を示すグラフ。
FIG. 3 is a graph showing an example of the incident angle dependence of the light scattering film of the present invention.

【図4】本発明の光散乱フィルムが持つ光散乱の異方性
を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating anisotropy of light scattering possessed by the light scattering film of the present invention.

【図5】図1に示す構造の光散乱フィルムを、マスクパ
ターンを利用して作製する光学系の一例を示す説明図で
ある。
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of an optical system for producing a light scattering film having the structure shown in FIG. 1 using a mask pattern.

【図6】図2に示す構造の光散乱フィルムを、スペック
ルパターンを利用して作製する光学系の一例を示す説明
図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing an example of an optical system for producing a light scattering film having the structure shown in FIG. 2 using a speckle pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…光散乱フィルム 2…散乱方向から入射する照明光 3…透過方向から入射する照明光 4…実測したヘイズ値のプロット 5…感光材料 6…UV光源 7…コリーメート光学系 8…平行光 9…マスク原版 10…ガラス基板 11…クロムパターン 12…光ファイバー 13…レーザー光源 14…レーザー光 15…すりガラス 16…ビームエキスパンダー 17…コリメーター DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light scattering film 2 ... Illumination light incident from a scattering direction 3 ... Illumination light incident from a transmission direction 4 ... Plot of measured haze value 5 ... Photosensitive material 6 ... UV light source 7 ... Collimate optical system 8 ... Parallel light 9 ... Mask original plate 10 ... Glass substrate 11 ... Chromium pattern 12 ... Optical fiber 13 ... Laser light source 14 ... Laser light 15 ... Frosted glass 16 ... Beam expander 17 ... Collimator

フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 BA06 BA14 BA20 4J011 AA05 QA02 QA03 QA06 QA08 QA12 QA13 QA23 QA24 SA21 SA51 SA62 SA64 SA78 SA80 SA82 SA83 SA84 SA86 SA87 SA88 UA01 UA02 UA08 XA02 4J036 AD05 AD08 AD21 AF06 AJ08 DB28 DB29 EA01 EA02 EA03 EA04 GA06 GA23 GA24 HA02 JA15 Continued on the front page F term (reference) 2H042 BA06 BA14 BA20 4J011 AA05 QA02 QA03 QA06 QA08 QA12 QA13 QA23 QA24 SA21 SA51 SA62 SA64 SA78 SA80 SA82 SA83 SA84 SA86 SA87 SA88 UA01 UA02 UA08 XA02 4J030 AD05 AD08 AD08 AD08 EA04 GA06 GA23 GA24 HA02 JA15

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも、(A)カチオン重合性を有す
る化合物と、(B)ラジカル重合性を有する化合物と、
(C)化学放射線によってラジカル種を発生する光重合
開始剤と、(D)熱によってカチオン種を発生する熱重
合開始剤からなり、(A)カチオン重合性を有する化合
物と(B)ラジカル重合性を有する化合物の屈折率に差
があることを特徴とする異方性光散乱フィルム用組成
物。
At least (A) a compound having cationic polymerizability, (B) a compound having radical polymerizability,
(C) a photopolymerization initiator that generates a radical species by actinic radiation, and (D) a thermal polymerization initiator that generates a cationic species by heat, and (A) a compound having cationic polymerizability; and (B) a radical polymerizable compound. A composition for an anisotropic light-scattering film, characterized in that the compounds having a difference in refractive index.
【請求項2】前記カチオン重合性を有する化合物(A)
がエポキシ当量400〜2200であるビスフェノール
A型エポキシ樹脂或いは臭素化ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂であることを特徴とする請求項1記載の異方性
光散乱フィルム用組成物。
2. The compound (A) having cationic polymerizability.
Is a bisphenol A type epoxy resin or a brominated bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 400 to 2200, the composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 1.
【請求項3】前記ラジカル重合性を有する化合物(B)
の屈折率が、(A)カチオン重合性を有する化合物より
も低く、常温、常圧で液体で、かつ常圧で沸点が100
℃以上であるエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以
上有する化合物であることを特徴とする請求項1記載の
異方性光散乱フィルム用組成物。
3. The compound (B) having radical polymerizability.
Has a refractive index lower than that of the compound having cationic polymerizability (A), is liquid at normal temperature and normal pressure, and has a boiling point of 100 at normal pressure.
The composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 1, which is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond having a temperature of at least 0C.
【請求項4】前記カチオン重合性を有する化合物(A)
100重量部に対して、前記ラジカル重合性を有する化
合物(B)を20から80重量部を混合してなることを
特徴とする請求項1記載の異方性光散乱フィルム用組成
物。
4. The compound (A) having cationic polymerizability.
The composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 1, wherein 20 to 80 parts by weight of the compound having radical polymerizability (B) is mixed with 100 parts by weight.
【請求項5】前記化学放射線によってラジカル種を発生
する光重合開始剤(C)を増感せしめる増感色素(E)
を添加することを特徴とする請求項1記載の異方性光散
乱フィルム用組成物。
5. A sensitizing dye (E) for sensitizing a photopolymerization initiator (C) which generates a radical species by the actinic radiation.
The composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 1, further comprising:
【請求項6】請求項1乃至5に記載の異方性光散乱フィ
ルム用組成物を用いて製造された、フィルム内部に、屈
折率の異なる部分が不規則な形状・厚さで分布すること
により、屈折率の高低からなる濃淡模様が形成されてお
り、且つその屈折率の異なる部分が、フィルムの厚さ方
向に対して傾斜して層状に分布している構造であり、上
記傾斜方向に沿った角度で入射する光に対しては光散乱
が生じ、上記傾斜方向とは垂直な光に対しては単なる透
明フィルムとして機能する、光散乱性に入射角度選択性
を持つ異方性散乱フィルム。
6. A film produced using the composition for an anisotropic light-scattering film according to claim 1, wherein portions having different refractive indexes are distributed in an irregular shape and thickness inside the film. A light and shade pattern having a high or low refractive index is formed, and portions having different refractive indices are distributed in a layered manner inclining with respect to the thickness direction of the film. An anisotropic scattering film having light scattering and having an incident angle selectivity, which functions as a mere transparent film with respect to light incident at an angle and generates light scattering for light perpendicular to the tilt direction.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2006043508A1 (en) * 2004-10-20 2006-04-27 Tomoegawa Co., Ltd. Anisotropic diffusion medium
KR100621863B1 (en) * 2002-06-19 2006-09-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 The backlight unit of liquid crystal display
JP2008056821A (en) * 2006-08-31 2008-03-13 Nitta Gelatin Inc Ultraviolet curing resin composition and use thereof

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