JP2006023375A - Optical waveguide manufacturing method and the optical waveguide - Google Patents

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逸夫 田沼
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method with which a high-quality optical waveguide can be easily manufactured, and to provide the optical waveguide formed thereby. <P>SOLUTION: The optical waveguide manufacturing method includes a forming step, in which a core layer 11 formed on a support base is cut in a prescribed shape, with the support base 10 left uncut and with the unnecessary parts of the cut core layer 11 removed; a coating step, in which the surface of the support base 10 and the core layer 11 are coated with material having a refractive index lower than that of the core layer 11; and a separating step, in which the support base 10 and the coating layer 12 are cut in the circumference of the core layer 11 precut in the prescribed shape and are then cut off dividedly by each core layer 11. The optical waveguide 1 is manufactured using this method. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は光導波路の製造方法および光導波路に関し、詳しくは、各種光通信用部品において使用される光導波路の製造方法、および、これにより得られる光導波路に関する。   The present invention relates to an optical waveguide manufacturing method and an optical waveguide, and more particularly to an optical waveguide manufacturing method used in various optical communication components and an optical waveguide obtained thereby.

近年の光通信技術の発展に伴い、光スイッチや光合分波器などの光通信用部品を構成する基本素子として、高性能の光導波路の開発が望まれている。光導波路は一般に、基板上に、直接または下部クラッド層を介して、コア層および上部クラッド層を順次形成してなる構造を基本構造とする。そのコア層の材料としては、従来より、光伝播損失が小さいなどの利点から、光ファイバと同様に主として石英ガラス等の無機材料が用いられているが、最近では、加工性やコスト性に優れる合成樹脂などの有機材料を用いたポリマー光導波路について、検討が進められてきている。   With the development of optical communication technology in recent years, development of a high-performance optical waveguide is desired as a basic element constituting optical communication components such as an optical switch and an optical multiplexer / demultiplexer. An optical waveguide generally has a basic structure in which a core layer and an upper cladding layer are sequentially formed on a substrate directly or via a lower cladding layer. As a material for the core layer, inorganic materials such as quartz glass are mainly used as in the case of optical fibers because of its advantages such as low light propagation loss. Recently, however, it is excellent in workability and cost. Studies on polymer optical waveguides using organic materials such as synthetic resins have been underway.

例えば、特許文献1には、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)等を用いたプラスチック光導波路についての言及がある。また、耐熱性に優れるとの観点から、特定のポリイミド樹脂を用いたポリマー光導波路についても、種々検討がなされてきている(特許文献2参照)。   For example, Patent Document 1 mentions a plastic optical waveguide using polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene (PS), polycarbonate (PC), polyimide (PI), or the like. Also, from the viewpoint of excellent heat resistance, various studies have been made on polymer optical waveguides using specific polyimide resins (see Patent Document 2).

このようなポリマー光導波路の製造方法としては、直接露光法、反応性イオンエッチング法、フォトブリーチング法などを用いてコア層を形成する手法が知られている(例えば、特許文献3に記載)。
特開平6−347658号公報(段落[0002]等) 特開2001−108854号公報(段落[0005]、[0006]等) 特開2004−109927号公報(段落[0002]等)
As a method for manufacturing such a polymer optical waveguide, a method of forming a core layer using a direct exposure method, a reactive ion etching method, a photo bleaching method, or the like is known (for example, described in Patent Document 3). .
JP-A-6-347658 (paragraph [0002] etc.) JP 2001-108854 A (paragraphs [0005], [0006], etc.) JP 2004-109927 A (paragraph [0002] etc.)

しかしながら、上記従来の製造方法は、フォトリソグラフィを使用しているためコスト高となり、十分な屈折率差が確保できないなど、種々の難点を有するものであり、より製造が容易で、かつ、所望の高性能を有する光導波路が得られる技術を実現することが望まれていた。   However, the above-mentioned conventional manufacturing method is expensive because it uses photolithography, and has various difficulties such as not being able to ensure a sufficient difference in refractive index, and is easier to manufacture and has a desired It has been desired to realize a technique capable of obtaining an optical waveguide having high performance.

そこで本発明の目的は、高品質の光導波路を容易に製造することが可能な光導波路の製造方法、および、これにより得られる光導波路を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical waveguide manufacturing method capable of easily manufacturing a high-quality optical waveguide, and an optical waveguide obtained thereby.

上記課題を解決するために、本発明の光導波路の製造方法は、支持基材上に形成されたコア層を、該支持基材を残して所定形状に切断し、切断された該コア層のうち不要部分を除去する成形工程と、
前記コア層より低屈折率の材料を用いて前記支持基材およびコア層の表面を被覆する被覆工程と、
前記支持基材および被覆層を、前記所定形状に切断されたコア層の周囲で切断して該コア層ごとに切り分ける分離工程と、を含むことを特徴とするものである。
In order to solve the above-described problems, the optical waveguide manufacturing method of the present invention cuts the core layer formed on the supporting base material into a predetermined shape, leaving the supporting base material. A molding process to remove unnecessary parts,
A coating step of coating the surface of the support substrate and the core layer using a material having a refractive index lower than that of the core layer;
And a separation step of cutting the support base material and the coating layer around the core layer cut into the predetermined shape and separating the core layer into the core layers.

本発明の製造方法においては、前記コア層の切断を、一般にハーフカットと呼ばれる刃型による打ち抜きにより行うことが好ましい。また、前記成形工程、被覆工程および分離工程のうちの少なくとも一工程を、ロールトゥロール方式を用いて連続的に行うことも好ましい。このように、支持基材を残してコア層部分のみを切断することで、ロールトゥロールの方式の適用が可能となる。   In the production method of the present invention, it is preferable that the core layer is cut by punching with a blade mold generally called a half cut. In addition, it is also preferable that at least one of the forming step, the covering step, and the separating step is continuously performed using a roll-to-roll method. Thus, by cutting only the core layer portion while leaving the support base material, it is possible to apply a roll-to-roll system.

また、本発明の光導波路は、上記本発明の光導波路の製造方法により製造されてなることを特徴とするものであり、特には、前記コア層の屈折率が、厚さ方向の中央部から表裏に向かって連続的に減少していることが好ましい。   The optical waveguide of the present invention is manufactured by the above-described optical waveguide manufacturing method of the present invention, and in particular, the refractive index of the core layer is from the center in the thickness direction. It is preferable that it decreases continuously toward the front and back.

本発明の光導波路においては、前記コア層を1つ以上の入射部と1つ以上の出射部とを有するものとすることができ、特には、前記コア層の形状を、1つの入射部と1つの出射部とを有する短冊状とすることができる。   In the optical waveguide of the present invention, the core layer may have one or more incident portions and one or more exit portions, and in particular, the shape of the core layer may be one incident portion and It can be made into a strip shape having one emitting part.

本発明によれば、上記構成とすることにより、高品質な光導波路を従来に比し容易に製造することができ、コスト的にも優れている。また、被覆工程を、ロールトゥロール方式を用いて連続的に行った場合には、大量生産が可能となるため、生産性を向上することができる。   According to the present invention, by adopting the above-described configuration, a high-quality optical waveguide can be easily manufactured as compared with the prior art, and the cost is excellent. In addition, when the coating process is continuously performed using a roll-to-roll method, mass production becomes possible, so that productivity can be improved.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
図1(a)〜(d)に、本発明の光導波路の製造工程の一例を示す。図示するように、本発明においては、光導波路を製造するに当たり、まず、図1(a)に示すように支持基材10上に形成されたコア層11を、支持基材10を残して所定形状に切断し、切断されたコア層11のうちの不要部分を除去する(成形工程(同図(b)参照))。次いで、同図(c)に示すように、コア層11より低屈折率の材料を用いて、支持基材10およびコア層11の表面を被覆する(被覆工程)。その後、支持基材10および被覆層12を、所定形状に切断されたコア層11の周囲で切断して、コア層11ごとに切り分けることで、同図(d)に示すように、所望の形状の光導波路1を得ることができる(分離工程)。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
1A to 1D show an example of a manufacturing process of the optical waveguide of the present invention. As shown in the figure, in the present invention, when manufacturing an optical waveguide, first, the core layer 11 formed on the support base material 10 as shown in FIG. It cut | disconnects in a shape, and the unnecessary part of the cut | disconnected core layer 11 is removed (a shaping | molding process (refer the figure (b))). Next, as shown in FIG. 3C, the surfaces of the support base 10 and the core layer 11 are coated using a material having a lower refractive index than that of the core layer 11 (coating step). Thereafter, the support base material 10 and the coating layer 12 are cut around the core layer 11 cut into a predetermined shape, and are cut into each core layer 11 to obtain a desired shape as shown in FIG. The optical waveguide 1 can be obtained (separation step).

上記成形工程におけるコア層11の切断は、例えば、トムソン刃型による打抜き、レーザーカット、回転刃によるスリットなどを用いて行うことができるが、支持基材10を残してコア層11のみを切断することができるものであれば、特に制限されるものではない。中でも、トムソン刃型による打ち抜きにより切断を行うことが好ましく、これにより滑らかな切断面を得ることができる。なお、トムソン刃型による打抜きの場合は刃の上下幅を精密にコントロールし、支持基材をカットしないよう工夫することが必要となる。また、レーザーカットの場合には、出力を精密にコントロールし、かつ切断スピードを合わせて、支持基材をカットしないで所望の部分のみを残すよう工夫することが必要となる。   The cutting of the core layer 11 in the molding step can be performed using, for example, punching with a Thomson blade mold, laser cutting, slitting with a rotary blade, or the like, but only the core layer 11 is cut leaving the support substrate 10. As long as it can be used, there is no particular limitation. Especially, it is preferable to cut | disconnect by punching with a Thomson blade type | mold, and, thereby, a smooth cut surface can be obtained. In the case of punching with a Thomson blade mold, it is necessary to control the vertical width of the blade with precision so as not to cut the support base material. In the case of laser cutting, it is necessary to devise so that the output is precisely controlled and the cutting speed is adjusted so that only the desired portion is left without cutting the supporting base material.

また、本発明に係る上記成形工程、被覆工程および分離工程は、いずれもロールトゥロール方式を用いて連続的に行うことができ、好ましくは、製造の全工程をロールトゥロール方式を用いて連続的に行うことで、生産性の向上に寄与することができる。具体的には、図5(a)に示すように、まず、可撓性を有する高分子フィルムからなる支持基材10をロール21から繰り出して、塗工部Aにおいてこの支持基材10上にコア層11の塗工を行い、乾燥(硬化)部Bにおいて乾燥(または硬化)する。コア層11を所望の厚みで得るため、または、後述するGI型のコア層11を形成するために、さらに塗工部Cおよび乾燥(硬化)部Dを経てコア層11を積層する。図示する例では計2回の塗工・乾燥(硬化)工程を行っているが、目的のコア層11に応じて、3回以上の繰り返しとしてもよく、制限されるものではない。   In addition, the molding step, the covering step, and the separation step according to the present invention can all be performed continuously using a roll-to-roll method, and preferably all the manufacturing steps are continuously performed using a roll-to-roll method. This can contribute to the improvement of productivity. Specifically, as shown in FIG. 5A, first, a support base material 10 made of a polymer film having flexibility is unwound from a roll 21, and is applied onto the support base material 10 in a coating part A. The core layer 11 is applied and dried (or cured) in the dried (cured) part B. In order to obtain the core layer 11 with a desired thickness or to form a GI-type core layer 11 described later, the core layer 11 is further laminated through the coating part C and the drying (curing) part D. In the illustrated example, the coating / drying (curing) process is performed twice in total, but may be repeated three or more times according to the target core layer 11 and is not limited.

コア層11の形成後には、打ち抜き部Eにおいて、上記成形工程としての、コア層11の切断を行う。支持基材10を残して所定形状に切断されたコア層11のうち、不要部はロール22により巻き取られて除去される。次いで、塗工部Fにおいて、コア層11より低屈折率の材料により、支持基材10およびコア層11の表面を被覆し、乾燥(硬化)部Gにより乾燥(または硬化)が行われて、被覆層12が形成される。その後、打ち抜き部Hにより支持基材10および被覆層12の切断を行い、所望の形状の光導波路1を得ることができる。なお、この打ち抜き部Hにおける分離工程としての切断の手法についても特に制限されるものではなく、上述した打ち抜き部Eにおける成形工程の場合と同様にして行うことができる。最後に、切断後の不要な支持基材10および被覆層12は、ロール23により巻き取られる。   After the core layer 11 is formed, the core layer 11 is cut at the punched portion E as the molding step. Of the core layer 11 cut into a predetermined shape while leaving the support base material 10, unnecessary portions are wound up and removed by the roll 22. Subsequently, in the coating part F, the surface of the support base material 10 and the core layer 11 is covered with a material having a lower refractive index than the core layer 11, and drying (or curing) is performed by the drying (curing) part G. The covering layer 12 is formed. Thereafter, the support base material 10 and the coating layer 12 are cut by the punched portion H, and the optical waveguide 1 having a desired shape can be obtained. In addition, the cutting method as the separation step in the punched portion H is not particularly limited, and can be performed in the same manner as the molding step in the punched portion E described above. Finally, the unnecessary support substrate 10 and coating layer 12 after cutting are wound up by the roll 23.

かかる一連の工程により得られる本発明の一例の光導波路は、図1(d)に示すように、支持基材10上に、コア層11と、コア層11より低屈折率の上部クラッド層(被覆層)12とが、順に形成された構造を有しており、コア層11を介して信号光を入射−伝播−出射する。   As shown in FIG. 1D, an optical waveguide of the present invention obtained by such a series of steps has a core layer 11 and an upper clad layer having a lower refractive index than the core layer 11 ( The covering layer) 12 has a structure formed in order, and the signal light is incident-propagated-emitted through the core layer 11.

本発明に係るコア層11は、均一な屈折率を有するSI(ステップインデックス)型であっても、コア層内に屈折率分布が存在し、コア層の屈折率が、厚さ方向の中央部から表裏に向かって連続的に減少しているGI(グレーデッドインデックス)型であってもよいが、GI型であることが好ましい。GI型光導波路は、伝播時間が光線の経路によらず一定であることから、広範な波長領域にわたり低損失であって、高速大容量伝送に好適であることが知られており、GI型とすることにより、より高性能の光導波路とすることができる。より好ましくは、図示するコア層11の厚さ方向の中央部Aの屈折率をnA、表裏面B、B’の屈折率をnB、nB’としたとき(図1(d)参照)、これら屈折率が、図3に示すように厚さ方向に略2次曲線状に連続的に変化するよう、コア層11を形成する。これにより、より伝送損失の低い高性能の光導波路とすることができる。 Even if the core layer 11 according to the present invention is an SI (step index) type having a uniform refractive index, a refractive index distribution exists in the core layer, and the refractive index of the core layer is the central portion in the thickness direction. Although it may be a GI (graded index) type continuously decreasing from the front to the back, a GI type is preferred. GI type optical waveguides are known to have low loss over a wide wavelength range and suitable for high-speed and large-capacity transmission because the propagation time is constant regardless of the path of the light beam. By doing so, a higher performance optical waveguide can be obtained. More preferably, when the refractive index of the central portion A in the thickness direction of the core layer 11 shown in the figure is n A and the refractive indexes of the front and back surfaces B and B ′ are n B and n B ′ (see FIG. 1D). ), The core layer 11 is formed so that the refractive index continuously changes in a substantially quadratic curve shape in the thickness direction as shown in FIG. As a result, a high-performance optical waveguide with lower transmission loss can be obtained.

本発明においては、上記製造方法を用いることにより、コア層11が、1つ以上の入射部と1つ以上の出射部とを有する構造の光導波路1を容易に得ることができる。図2(a)〜(c)に、本発明の光導波路の好適構成例を示す。例えば、図2(a)に示す例では、コア層11が、1つの入射部13aと1つの出射部14aとを有する短冊状の形状に形成されている。また、同図(b)では、コア層11が、1つの入射部13bと2つの出射部14bとを有する形状に形成されており、同図(c)の例では、コア層11が、それぞれ2つの入射部13cおよび出射部14cを有する形状に形成されている。もちろん、入射部および/または出射部が3つ以上設けられていてもよく、用途に応じて適宜形状のコア層とすることができ、図示する例には限定されない。   In the present invention, by using the above manufacturing method, the optical waveguide 1 having a structure in which the core layer 11 has one or more incident portions and one or more output portions can be easily obtained. 2A to 2C show examples of suitable configurations of the optical waveguide of the present invention. For example, in the example shown in FIG. 2A, the core layer 11 is formed in a strip shape having one incident portion 13a and one emission portion 14a. Moreover, in the figure (b), the core layer 11 is formed in the shape which has the one incident part 13b and the two output parts 14b, and in the example of the figure (c), the core layer 11 is respectively It is formed in a shape having two incident portions 13c and emission portions 14c. Of course, three or more incident portions and / or emission portions may be provided, and the core layer can be appropriately formed according to the application, and is not limited to the illustrated example.

コア層11の材料としては、特に制限されるものではなく、紫外線(UV)硬化型、電子線(EB)硬化型、熱硬化型等の各種モノマー(溶液も含む)、オリゴマー(溶液も含む)、ポリマー溶液のうちから、透明性や耐熱性等のコア層としての要求特性等の観点から、適宜組み合わせで選択して用いることができる。   The material of the core layer 11 is not particularly limited, and various monomers (including solutions) and oligomers (including solutions) such as ultraviolet (UV) curable, electron beam (EB) curable, and thermosetting types. From the viewpoint of required properties as a core layer such as transparency and heat resistance, the polymer solution can be appropriately selected and used in combination.

このうちモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらの低級アルコールエステル、下記一般式(1)、

Figure 2006023375
(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数8〜20のアルキル基を表す)で表される化合物、ジ(メタ)アクリルエステル、トリ(メタ)アクリルエステル、さらには、スチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系モノマーなどを挙げることができる。 Among these monomers, for example, acrylic acid, methacrylic acid and their lower alcohol esters, the following general formula (1),
Figure 2006023375
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms), a di (meth) acryl ester, a tri (meth) acryl ester, May include styrene monomers such as styrene and divinylbenzene.

アクリル酸およびメタクリル酸の低級アルコールエステルの低級アルコールとしては、炭素数1〜5、好ましくは1〜3の1価アルコール、より好ましくはメタノールが挙げられる。   Examples of the lower alcohol of the lower alcohol ester of acrylic acid and methacrylic acid include monohydric alcohols having 1 to 5 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, more preferably methanol.

また、前記一般式(1)で表される化合物において、炭素数8〜20の高級アルキル基を示すR2の好ましい炭素数は10〜16、より好ましくは12〜14である。この高級アルキル基R2は、単独アルキル基であっても混合アルキル基であってもよいが、最も好ましくは炭素数12と13との混合アルキル基である。この場合、炭素数12のアルキル基のものと炭素数13のアルキル基のものとの割合、即ち、ドデシル(メタ)アクリレートとトリデシル(メタ)アクリレートとの割合は、重量比として通常20:80〜80:20であり、特に40:60〜60:40であることが好ましい。 Moreover, in the compound represented by the general formula (1), R 2 representing a higher alkyl group having 8 to 20 carbon atoms preferably has 10 to 16 carbon atoms, more preferably 12 to 14 carbon atoms. The higher alkyl group R 2 may be a single alkyl group or a mixed alkyl group, but is most preferably a mixed alkyl group having 12 and 13 carbon atoms. In this case, the ratio of the alkyl group having 12 carbon atoms and the alkyl group having 13 carbon atoms, that is, the ratio of dodecyl (meth) acrylate and tridecyl (meth) acrylate is usually 20:80 to 80:20, and particularly preferably 40:60 to 60:40.

ジ(メタ)アクリルエステルとしては、エチレングリコールと(メタ)アクリル酸とのジエステル、ポリエチレングリコールと(メタ)アクリル酸とのジエステル、アルキル鎖の炭素数が3〜6のジオールと(メタ)アクリル酸とのジエステルが挙げられる。また、トリ(メタ)アクリルエステルとしては、アルキル鎖の炭素数が3〜6のトリオールと(メタ)アクリル酸とのトリエステルが挙げられる。なお、ポリエチレングリコールと(メタ)アクリル酸とのジエステルを構成するポリエチレングリコールとしては、下記一般式(2)、

Figure 2006023375
において、nが1〜15、特に1〜10のものが好ましい。 Di (meth) acrylic esters include diesters of ethylene glycol and (meth) acrylic acid, diesters of polyethylene glycol and (meth) acrylic acid, diols having 3 to 6 carbon atoms in the alkyl chain, and (meth) acrylic acid. And a diester. Examples of tri (meth) acrylic esters include triesters of triols having 3 to 6 carbon atoms in the alkyl chain and (meth) acrylic acid. In addition, as polyethyleneglycol which comprises diester of polyethyleneglycol and (meth) acrylic acid, the following general formula (2),
Figure 2006023375
In which n is 1 to 15, particularly 1 to 10.

上記モノマーを重合あるいは共重合させて層を形成するための方法としては、熱や光による硬化方法が一般的であるが、特に制限されるものではない。一般的には、熱硬化の場合には、t−ブチルヒドロパーオキサイド、ジーt−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジミリスチルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)、クミルパーオキシオクトエートなどの有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンニトリルなどのアゾ化合物等の重合開始剤を添加し、50〜120℃で1〜20時間重合させる方法を採用することができる。また、光硬化の場合の重合開始剤としては、ベンジルメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタールなどのケタール系化合物、α−ヒドロキシケトン、ミヒラーズケトン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのケトン系化合物、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、メタロセンなどのメタロセン系化合物、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン化合物などが好適に用いられる。   As a method for forming a layer by polymerizing or copolymerizing the above monomers, a curing method using heat or light is generally used, but is not particularly limited. In general, in the case of thermosetting, t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, dimyristyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyacetate, t- Polymerization initiators such as organic peroxides such as butyl peroxy (2-ethylhexanoate) and cumyl peroxy octoate, azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azobiscyclohexanenitrile are added, and 50 to A method of polymerizing at 120 ° C. for 1 to 20 hours can be employed. In addition, as a polymerization initiator in the case of photocuring, ketal compounds such as benzyl methyl ketal and acetophenone diethyl ketal, ketone compounds such as α-hydroxyketone, Michler's ketone, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and benzophenones such as benzophenone A compound, a metallocene compound such as metallocene, a benzoin compound such as benzoin isopropyl ether, and the like are preferably used.

なお、上記モノマーとともに、リン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸エステル、グリコール類及びグリコール(メタ)アクリレート類の1種または2種以上をブレンドして用いることが、高温高湿下に長期間放置した場合の白濁を防止する点から好ましい。   In addition, together with the above monomers, one or more of phosphoric acid esters, aromatic carboxylic acid esters, aliphatic carboxylic acids, aliphatic carboxylic acid esters, glycols and glycol (meth) acrylates may be blended and used. From the point of preventing white turbidity when left for a long time under high temperature and high humidity.

また、ポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂((メタ)アクリル酸のエステル)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル系樹脂(結晶、非結晶)、ポリエーテルスルホン、ポリノルボルネン、エポキシ系樹脂、例えば、ビスフェノールA型、ノボラック型のエポキシ樹脂とポリアミノアミド、変性ポリアミノアミド、変性芳香族ポリアミン、変性脂肪族ポリアミン、変性脂環族ポリアミン、フェノールなどの活性水素を持つ硬化剤との混合硬化物、ポリアリール、ポリイミド(PI)、ポリカルボジイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリアミド(PA)、ポリスチレン(PS)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS)、メチルメタクリレート−スチレン共重合体(MS、MMA−St)、スチレン−ブタジエンブロック共重合体(SBS)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)等のスチレン系樹脂(中でも、SBS、ABSは耐衝撃性に優れる利点を備える)、ポリフェニレンエーテル等のポリアリーレンエーテル、ポリアリレート(PAR)、ポリアセタール、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトン等のポリエーテルケトン類、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロックポリマー(SEBS)、フッ化ビニリデン系樹脂、ヘキサフルオロプロピレン系樹脂、ヘキサフルオロアセトン系樹脂等のフッ素系樹脂などを挙げることができ、中でも、(メタ)アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the polymer include polyester resins such as (meth) acrylic resin (ester of (meth) acrylic acid), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT) (crystal, non-crystalline). Crystal), polyethersulfone, polynorbornene, epoxy resin, for example, bisphenol A type, novolak type epoxy resin and polyaminoamide, modified polyaminoamide, modified aromatic polyamine, modified aliphatic polyamine, modified alicyclic polyamine, phenol Cured products with active hydrogen such as polyaryl, polyimide (PI), polycarbodiimide, polyetherimide, polyamideimide, polyesterimide, polyamide (PA), polystyrene (PS), acrylonitrile -Styrene copolymers such as styrene copolymer (AS), methyl methacrylate-styrene copolymer (MS, MMA-St), styrene-butadiene block copolymer (SBS), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS) Resins (among others, SBS and ABS have the advantage of excellent impact resistance), polyarylene ethers such as polyphenylene ether, polyarylate (PAR), polyacetal, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyether ether ketone and polyether ketone ketone Polyether ketones, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, styrene-ethylene-butadiene-styrene block polymer (SEBS), vinylidene fluoride resin, hexafluoropropylene resin, hexafluoro Etc. can be mentioned fluorine-based resin such as acetone resins, among others, (meth) acrylic resin is preferable.

透明樹脂としては、他に、ポリ塩化ビニル(PVC)、シクロオレフィンポリマー(商品名:アートン(JSR(株))、ゼオネックス(日本ゼオン(株)等)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂、ポリエーテルサルホン(PES)、フェノール樹脂、ポリサルフォン(PSF)樹脂等が挙げられる。上記のうち、モノマーあるいは低分子材料から出発できるものとしては、スチレン系樹脂、特にはMS樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂がある。   Other transparent resins include polyvinyl chloride (PVC), cycloolefin polymer (trade name: Arton (JSR Co., Ltd.), Zeonex (Nippon Zeon Co., Ltd., etc.), polypropylene (PP), polyethylene (PE), Examples include triacetyl cellulose (TAC) resin, polyether sulfone (PES), phenol resin, polysulfone (PSF) resin, etc. Among them, styrene resins, particularly those starting from monomers or low molecular weight materials MS resin, (meth) acrylic resin, and epoxy resin.

さらに、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらの低級アルコールエステルとスチレン系モノマーとの共重合体の他、前述したモノマー類の一部または全ての水素原子をフッ素原子に置き換えたモノマーを用いた透明樹脂などを用いることもできる。   In addition to copolymers of acrylic acid, methacrylic acid and their lower alcohol esters and styrenic monomers, transparent resins using monomers in which some or all of the above-described monomers are replaced with fluorine atoms, etc. Can also be used.

コア層11は、上記各種材料を用いて常法に従い形成することができるが、特に、コア層11をGI型とする場合には、例えば、以下のような方法を好適に用いることができる。即ち、まず、屈折率の異なる2種類以上の有機材料を溶解させた溶液を作製して、かかる2種類以上、好適には3種類以上、さらに好ましくは4種類以上の溶液を、最も屈折率の低いものから順次屈折率が高くなるよう塗工、積層する。最も屈折率の高い溶液を塗工した後、さらに、順次屈折率が低くなるよう塗工、積層することで、上記したような、コア層11における屈折率の連続的な減少を形成することができる。   The core layer 11 can be formed according to a conventional method using the above-described various materials. In particular, when the core layer 11 is a GI type, for example, the following method can be suitably used. That is, first, a solution in which two or more kinds of organic materials having different refractive indexes are dissolved is prepared, and two or more kinds, preferably three kinds or more, and more preferably four kinds or more solutions are obtained. The layers are coated and laminated so that the refractive index increases sequentially from the lowest. After applying the solution with the highest refractive index, the refractive index in the core layer 11 can be continuously reduced as described above by further applying and laminating the refractive index sequentially. it can.

例えば、屈折率の異なる4種類の有機材料を溶解させた溶液を作製して、図4(b)に示すように、かかる4種類の溶液を、順次塗工、積層することにより、下層側から順次、符号11d、11c、11b、11a、11b、11c、11dで示される7つの層を形成する。各層11a〜11dの屈折率をそれぞれna〜ndとすれば、これらはnd<nc<nb<naの関係を満足する。従って、溶液の種類を増やせば増やすほど、より連続性の高い屈折率勾配を形成することができる。 For example, a solution in which four types of organic materials having different refractive indexes are dissolved is prepared, and as shown in FIG. Sequentially, seven layers indicated by reference numerals 11d, 11c, 11b, 11a, 11b, 11c, and 11d are formed. If the refractive index of each layer 11a~11d respectively and n a ~n d, they satisfy the relation: n d <n c <n b <n a. Therefore, as the number of types of solutions increases, a refractive index gradient with higher continuity can be formed.

かかる屈折率の異なる溶液は、屈折率の異なる2種類以上の有機材料を用いて、これら有機材料の混合比率を変えることにより、好適に作製することができる。また、光透過性等の必要性能に問題を生じない添加剤を用いることで、屈折率を調整することも可能である。かかる有機材料の組み合わせは、上記したコア層11の材料より、混合する際に問題となる相溶性等の観点から適宜選択して用いることができる。   Such solutions having different refractive indexes can be suitably prepared by using two or more types of organic materials having different refractive indexes and changing the mixing ratio of these organic materials. In addition, the refractive index can be adjusted by using an additive that does not cause a problem in required performance such as light transmittance. Such a combination of organic materials can be appropriately selected from the above-described materials of the core layer 11 from the viewpoint of compatibility and the like which are problematic when mixed.

また、上記溶液は、最も屈折率の高い溶液と、最も屈折率の低い溶液とが、溶剤を除去した後の屈折率差で0.1以上、特には、0.1〜1.0の範囲内になるように調整することが好ましい。これにより、得られるコア層11において、厚さ方向の中央部と表裏面との屈折率差を0.1以上、特には、0.1〜1.0の範囲内で確保することができ、伝達損失の低減により、入射光の利用効率をより向上することができる。   Further, the above-mentioned solution has a refractive index difference of 0.1 or more, particularly 0.1 to 1.0 after the solvent is removed between the solution having the highest refractive index and the solution having the lowest refractive index. It is preferable to adjust so that it may become inside. Thereby, in the obtained core layer 11, the refractive index difference between the central portion in the thickness direction and the front and back surfaces can be secured to 0.1 or more, particularly within a range of 0.1 to 1.0, By reducing the transmission loss, the utilization efficiency of incident light can be further improved.

さらに、上記GI型コア層の塗工形成時においては、直前に塗工、形成された層が溶解可能な溶剤を用いて、その上層を塗工、形成することが好ましい。即ち、前の層を形成した後、その次の層を形成するに際し、乾燥速度を調整して、前に形成した層の表面が次の層の溶剤によって溶解されるようにする。これにより、各層間の界面で互いに接する層材料の相互拡散を促すことができ、コア層11の屈折率変化の連続性をより高めることができる。また、同様の理由から、硬化型の材料を用いる場合には、最初の1層目を塗工した後、乾燥、硬化、セミ硬化した状態まで架橋して、その後に第2層を塗工し、2層目については、1層目の材料と2層目の材料とが界面近傍で相互拡散するように時間を置いてから、乾燥または硬化を行うことが好ましい。以下、同様にしてすべての層を塗工することにより、各層の界面において相互拡散が発生して、極めてスムースな屈折率変化を実現することができ、最も連続性に優れたコア層11を形成することができる。   Furthermore, at the time of coating formation of the GI core layer, it is preferable to coat and form the upper layer using a solvent in which the layer coated and formed immediately before can be dissolved. That is, after forming the previous layer, when forming the next layer, the drying speed is adjusted so that the surface of the previously formed layer is dissolved by the solvent of the next layer. Thereby, the mutual diffusion of the layer materials in contact with each other at the interface between the respective layers can be promoted, and the continuity of the refractive index change of the core layer 11 can be further increased. For the same reason, when using a curable material, first coat the first layer, then crosslink to a dry, cured, semi-cured state, and then apply the second layer. Regarding the second layer, it is preferable to perform drying or curing after allowing time for the first layer material and the second layer material to interdiffuse in the vicinity of the interface. Thereafter, by coating all the layers in the same manner, mutual diffusion occurs at the interface of each layer, and an extremely smooth refractive index change can be realized, and the core layer 11 having the most excellent continuity is formed. can do.

なお、上記溶液の塗工方法については、特に制限されるものではなく、グラビア印刷、ドクターブレード、バーコーター、スピンコート、ディッピング、スプレー塗工などの適宜手法を用いることができる。また、溶剤についても特に制限されず、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、酢酸セロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、ベンゼン、シクロヘキサノン等の慣用の有機溶剤から適宜選択して用いることができる。   The method for applying the solution is not particularly limited, and an appropriate method such as gravure printing, doctor blade, bar coater, spin coating, dipping, spray coating or the like can be used. Further, the solvent is not particularly limited, and can be appropriately selected from conventional organic solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), ethyl acetate, cellosolve, dioxane, tetrahydrofuran (THF), benzene, cyclohexanone, and the like. .

また、上部クラッド層12を形成する材料としては、通常使用される材料のうちから適宜選択して用いることができ、プラスチックやエラストマーなどのように可撓性を有し、所望の形状に成形可能であって、屈折率の低い材料を好ましく用いることができる。具体的には例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレン−ポリビニルアルコール共重合体、フッ素樹脂、シリコン樹脂、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体(EPDM)、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、フッ素ゴム、シリコーンゴムなどが挙げられる。   The material for forming the upper cladding layer 12 can be appropriately selected from commonly used materials and has flexibility such as plastic and elastomer and can be molded into a desired shape. In addition, a material having a low refractive index can be preferably used. Specifically, for example, polyethylene, polypropylene, polyamide, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyethylene-vinyl acetate copolymer, Polyvinyl alcohol, polyethylene-polyvinyl alcohol copolymer, fluororesin, silicone resin, natural rubber, polyisoprene rubber, polybutadiene rubber, styrene-butadiene copolymer, butyl rubber, halogenated butyl rubber, chloroprene rubber, acrylic rubber, ethylene-propylene- Examples thereof include diene terpolymer (EPDM), acrylonitrile-butadiene copolymer, fluororubber, and silicone rubber.

この中でも、屈折率が低いシリコーン系ポリマーやフッ素系ポリマーが特に好ましく、具体的にはポリジメチルシロキサンポリマー、ポリメチルフェニルシロキサンポリマー、フルオロシリコーンポリマー等のシリコーン系ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、四フッ化エチレン−パーフロロアルコキシエチレン共重合体(PFE)、ポリクロルトリフルオロエチレン(PCTFE)、四フッ化エチレン−エチレン共重合体(ETFE)、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド、フッ化ビニリデン−三フッ化塩化エチレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン−四フッ化エチレン三元共重合体、四フッ化エチレンプロピレンゴム、フッ素系熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。これらの材料は単独または2種以上を適宜混合して用いることができる。なお、下部クラッド層を設ける場合も、同様の材料を用いればよい。また、本発明において、厚さ方向の上下クラッド層は必ずしも必要ではなく、両サイドのクラッド層があれば目的は達せられる。   Among these, silicone polymers and fluorine polymers having a low refractive index are particularly preferable. Specifically, silicone polymers such as polydimethylsiloxane polymer, polymethylphenylsiloxane polymer, fluorosilicone polymer, polytetrafluoroethylene (PTFE), Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoroalkoxyethylene copolymer (PFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETFE), polyvinylidene fluoride, polyvinyl fluoride, vinylidene fluoride-trifluoroethylene chloride copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoropropylene-tetrafluoride ethylene Terpolymer, tetrafluoroethylene-propylene rubbers, and fluorine-based thermoplastic elastomers. These materials can be used alone or in admixture of two or more. Note that the same material may be used when providing the lower cladding layer. In the present invention, the upper and lower clad layers in the thickness direction are not necessarily required, and the object can be achieved if there are clad layers on both sides.

支持基材10としては、従来より知られているものから適宜選択して用いることができ、特に制限されるものではなく、例えば、シリコン基板や石英基板、金属箔、ガラス板などの他、高分子フィルム等を用いることができる。   The supporting base material 10 can be appropriately selected from conventionally known materials and is not particularly limited. For example, a silicon substrate, a quartz substrate, a metal foil, a glass plate, A molecular film or the like can be used.

本発明においては、光導波路の構造についても、図示する例には限定されず、平面型、スラブ型、リッジ型、レンズ型、埋め込み型等の適宜構造とすることができる。   In the present invention, the structure of the optical waveguide is not limited to the illustrated example, and may be a suitable structure such as a planar type, a slab type, a ridge type, a lens type, and an embedded type.

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例
加熱硬化後の屈折率が1.59であるスチレンモノマーと、同じく1.49であるメチルメタアクリレートモノマーを用いて光導波路を作製した。支持基材には100μm厚みのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。
Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples.
Example An optical waveguide was prepared using a styrene monomer having a refractive index of 1.59 after heat curing and a methyl methacrylate monomer having a refractive index of 1.49. A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm was used as the supporting substrate.

まず、モノマーの調製として、メチルメタアクリレートモノマーに対し光重合開始剤としてのベンゾインイソプロピルエーテルを1重量%添加したものをM溶液とし、また、同様にスチレンモノマーに対し光重合開始剤としてベンゾインイソプロピルエーテルを1重量%添加したものをS溶液とした。次に、M溶液およびS溶液を用いて、下記表1に示す混合溶液(1)〜(5)を調製した。   First, as a monomer preparation, M solution was prepared by adding 1% by weight of benzoin isopropyl ether as a photopolymerization initiator to methyl methacrylate monomer. Similarly, benzoin isopropyl ether as a photopolymerization initiator for styrene monomer. S solution was obtained by adding 1% by weight. Next, mixed solutions (1) to (5) shown in Table 1 below were prepared using the M solution and the S solution.

Figure 2006023375
Figure 2006023375

次に、コア層を形成するに当たり、バーコーターを用いた。まず、支持基材としてのPETフィルム上に、溶液(1)を1μm厚みにて塗工した後、この溶液(1)を塗工したフィルムに対し、窒素置換した雰囲気下で紫外線を1000mJ/cm2照射して、溶液(1)の塗膜を硬化させた。次に、溶液(1)の硬化膜上に、溶液(2)をバーコーターで1μm厚さにて塗工し、硬化膜(1)を充分に溶液(2)で膨潤させた後、同様に窒素置換した雰囲気下で紫外線を1000mJ/cm2照射することにより、溶液(2)の塗膜を硬化させた。以下、同様にして溶液(3)〜(5)を順次塗工/硬化させて、硬化膜を形成した。 Next, a bar coater was used to form the core layer. First, after coating the solution (1) with a thickness of 1 μm on a PET film as a supporting substrate, the film coated with the solution (1) was irradiated with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm under an atmosphere substituted with nitrogen. 2 Irradiation was performed to cure the coating film of the solution (1). Next, the solution (2) was applied to the cured film of the solution (1) with a bar coater to a thickness of 1 μm, and the cured film (1) was sufficiently swollen with the solution (2), and then similarly. The coating film of the solution (2) was cured by irradiating ultraviolet rays with 1000 mJ / cm 2 in an atmosphere substituted with nitrogen. Thereafter, the solutions (3) to (5) were sequentially applied / cured in the same manner to form a cured film.

その後さらに、今度は溶液(4)、(3)、(2)、(1)と屈折率の低くなる順に塗工/硬化を繰り返して、各硬化膜を形成した。最後に、今まで塗工/硬化してきた計9層の硬化膜に対し、窒素置換した雰囲気下で紫外線を5000mJ/cm2照射して、全ての層をほぼ完全に硬化することにより、コア層を形成した。 Thereafter, coating / curing was repeated in the order of decreasing refractive index with the solutions (4), (3), (2), and (1), thereby forming each cured film. Finally, a total of 9 layers of coated / cured films so far are irradiated with ultraviolet rays of 5000 mJ / cm 2 in a nitrogen-substituted atmosphere, and all the layers are cured almost completely, whereby the core layer Formed.

得られたコア層を、支持基材であるPETフィルムは残して5mm幅の短冊状に打ち抜き、支持基材との間にできた段差には溶液(1)を塗工して、クラッド層とした。以上のようにして、実施例の光導波路を製造した。   The obtained core layer is punched into a strip of 5 mm width, leaving the PET film as the supporting substrate, and the solution (1) is applied to the step formed between the supporting substrate and the clad layer. did. The optical waveguide of the example was manufactured as described above.

比較例1〜3
比較例1、2として、それぞれコア層を溶液(1)または(5)のみで形成した光導波路を製造した。また、溶液(1)〜(5)の1μm厚みのシートをそれぞれ作製して、これらシートを厚さ方向の中心が一番屈折率が高くなるように順次重ねて9層構造にし、200℃でプレスすることにより、比較例3の光導波路を製造した。
Comparative Examples 1-3
As Comparative Examples 1 and 2, optical waveguides each having a core layer formed of only the solution (1) or (5) were produced. In addition, 1 μm thick sheets of the solutions (1) to (5) are respectively prepared, and these sheets are sequentially stacked so that the center in the thickness direction has the highest refractive index to form a nine-layer structure. The optical waveguide of Comparative Example 3 was manufactured by pressing.

上記実施例および比較例1〜3で作製した各光導波路の光学特性を比較した。その結果を、光の伝送損失および入射波形と出射波形(入出射信号の時間の差)について評価した。その結果を下記の表2中に示す。   The optical characteristics of the optical waveguides produced in the above examples and comparative examples 1 to 3 were compared. The results were evaluated for light transmission loss and incident and outgoing waveforms (time difference between incoming and outgoing signals). The results are shown in Table 2 below.

Figure 2006023375
Figure 2006023375

上記表2中に示すように、光の伝送損失については、実施例、比較例ともに全て同等の性能であることが確認された。一方、250ps幅の信号を入射し、出射した際の信号の幅を測定し、入出射信号の時間の差を測定した結果については、ほぼ差がなかった実施例の光導波路に対し、比較例1、2のSI型の導波路においては、やはり信号の劣化が生じていた。また、比較例3に関しては、略性能向上は見られたが、屈折率の異なる界面が生じると、モード分散がわずかではあるが生じ、信号の劣化が生じてしまうことがわかった。   As shown in Table 2 above, it was confirmed that the optical transmission loss was equivalent in both the example and the comparative example. On the other hand, a result of measuring a signal width when a signal having a width of 250 ps is incident and emitted, and a time difference between input and output signals is compared with the optical waveguide of the example in which there is almost no difference. In the first and second SI-type waveguides, signal degradation still occurred. In Comparative Example 3, it was found that the performance was substantially improved. However, when an interface having a different refractive index was generated, the mode dispersion was slightly generated, and the signal was deteriorated.

(a)〜(d)は、本発明の製造方法における工程の流れを示す概略断面図である。(A)-(d) is a schematic sectional drawing which shows the flow of the process in the manufacturing method of this invention. (a)〜(c)は、本発明の光導波路の好適構成例を示す平面図および側面図である。(A)-(c) is the top view and side view which show the suitable structural example of the optical waveguide of this invention. コア層における厚さ方向の屈折率変化を示すグラフである。It is a graph which shows the refractive index change of the thickness direction in a core layer. (a)および(b)は、本発明の光導波路の一構成例を示す概略断面図である。(A) And (b) is a schematic sectional drawing which shows one structural example of the optical waveguide of this invention. (a)は、ロールトゥロール方式を用いた製造工程の説明図であり、(b)は、(a)の流れを示す上面図である。(A) is explanatory drawing of the manufacturing process using a roll toe roll system, (b) is a top view which shows the flow of (a).

符号の説明Explanation of symbols

1 光導波路
10 支持基材
11 コア層
12 上部クラッド層(被覆層)
13,13a,13b,13c 入射部
14,14a,14b,14c 出射部
21,22,23 ロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical waveguide 10 Support base material 11 Core layer 12 Upper clad layer (coating layer)
13, 13a, 13b, 13c Incident part 14, 14a, 14b, 14c Emitter 21, 22, 23 Roll

Claims (7)

支持基材上に形成されたコア層を、該支持基材を残して所定形状に切断し、切断された該コア層のうち不要部分を除去する成形工程と、
前記コア層より低屈折率の材料を用いて前記支持基材およびコア層の表面を被覆する被覆工程と、
前記支持基材および被覆層を、前記所定形状に切断されたコア層の周囲で切断して該コア層ごとに切り分ける分離工程と、を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
The core layer formed on the supporting base material is cut into a predetermined shape while leaving the supporting base material, and a molding step for removing unnecessary portions of the cut core layer;
A coating step of coating the surface of the support substrate and the core layer using a material having a refractive index lower than that of the core layer;
And a separation step of cutting the support base material and the coating layer around the core layer cut into the predetermined shape and cutting the support base material and the coating layer for each core layer.
前記コア層の切断を、刃型による打ち抜きにより行う請求項1記載の光導波路の製造方法。   The method for manufacturing an optical waveguide according to claim 1, wherein the core layer is cut by cutting with a blade die. 前記成形工程、被覆工程および分離工程のうちの少なくとも一工程を、ロールトゥロール方式を用いて連続的に行う請求項1または2記載の光導波路の製造方法。   The method for producing an optical waveguide according to claim 1, wherein at least one of the forming step, the covering step, and the separation step is continuously performed using a roll-to-roll method. 請求項1〜3のうちいずれか一項記載の光導波路の製造方法により製造されてなることを特徴とする光導波路。   An optical waveguide manufactured by the method for manufacturing an optical waveguide according to claim 1. 前記コア層の屈折率が、厚さ方向の中央部から表裏に向かって連続的に減少している請求項4記載の光導波路。   The optical waveguide according to claim 4, wherein the refractive index of the core layer continuously decreases from the center in the thickness direction toward the front and back. 前記コア層が、1つ以上の入射部と1つ以上の出射部とを有する請求項4または5記載の光導波路。   The optical waveguide according to claim 4 or 5, wherein the core layer has one or more incident portions and one or more emission portions. 前記コア層の形状が、1つの入射部と1つの出射部とを有する短冊状である請求項4または5記載の光導波路。   The optical waveguide according to claim 4 or 5, wherein the shape of the core layer is a strip shape having one incident portion and one exit portion.
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