JP2006021944A - 平面ガラスの接合方法 - Google Patents
平面ガラスの接合方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006021944A JP2006021944A JP2004200763A JP2004200763A JP2006021944A JP 2006021944 A JP2006021944 A JP 2006021944A JP 2004200763 A JP2004200763 A JP 2004200763A JP 2004200763 A JP2004200763 A JP 2004200763A JP 2006021944 A JP2006021944 A JP 2006021944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- glass
- pure water
- flat glass
- joining
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 title claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 4
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 25
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 abstract description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- -1 inorganic matter Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】鏡面研磨された石英ガラス板2枚を純水の流水中で接合面を近接させて相対的に動かして気泡、異物を接合面間から除去し、位置合わせをおこない、0.01MPa、500℃で一昼夜真空乾燥して強固に接合する。清浄な純水の流水を用いているので異物の除去効果が高くなると共に相対移動によって気泡の発生を防止し、更に、治具等からの再汚染を防ぐことができる。
【選択図】なし
Description
一般的には、ガラス板の接合面を鏡面研磨し、次いで双方の接合面部位を合わせて組み立てた後、ガラスの軟化点以下の比較的低温領域で加熱して接着するオプティカルコンタクト法により接合して組み立て、光学セルを作製している。
真空状態における温度を上げると、接合面間の余剰水の蒸発が促進され効率があがるが、当初から水の沸点以上の温度とすると水分の急激な膨張が生じるため、接合面積、残余水量に応じて真空度、昇温パターンを設定してガラスの剥がれ、位置ずれを起こすことがないようにする。
真空状態で加熱乾燥する場合は、真空度と昇温パターンのプログラムを組んで自動制御するが、水分の急激な膨張を防ぐために最初は比較的低温状態として乾燥させ、その後、温度を上げてよりしっかりとした接合状態を得ることが好ましい。
鏡面研磨された石英ガラス板を洗浄用治具にセットし、酸・アルカリ系もしくは有機系の洗浄剤で洗浄する。洗浄用治具は、洗浄液が十分接合面に接するように設置し、治具のワーク支持点と石英ガラス板との接点を少なくする。
このような処理を施すことにより、剥がれ・位置ずれのないガラスの接合ができる。
この接合状態の石英ガラス板を手で左右にずらして剥がそうとしたが、強力に接合しており、剥がれなかった。また、光学顕微鏡で接合面を観察したところ、泡・異物の存在は認められなかった。
このケースにおいても石英ガラス板は強力に接合されており、手でずらして剥がすことはできず、また、接合面間に泡・異物等は観察されなかった。
実施例1に準じて、鏡面研磨した石英ガラス板2枚を純水の流水中で、接合面を近接した状態で相対的に動かしながら気泡、異物を接合面間から除去した。その後、大気圧、500℃で一昼夜加熱乾燥して石英ガラス板の接合をおこなった。
この接合状態の石英ガラス板を手で左右にずらす力を加えたところ、接合面がずれてしまった。
実施例1に準じて、鏡面研磨した石英ガラス板2枚を工業用水中に浸漬し、接合面が近接した状態で、相対的に動かしながら気泡、異物を接合面間から除去した。その後、0.01MPa、500℃で一昼夜真空加熱乾燥して平面ガラスの接合をおこなった。
光学顕微鏡で接合面を観察したところ、泡・異物が接合面間に発生していた。
Claims (3)
- 鏡面研磨した平面ガラスを流水中で、接合面を近接した状態で相対的に動かして気泡、異物を接合面間から除去し、真空状態で接合面間の余剰水を乾燥除去する平面ガラスの接合方法。
- 請求項1において、流水が純水、水素水、オゾン水、アンモニア添加純水、HF添加純水のいずれか、またはそれらの組み合わせである平面ガラスの接合方法。
- 請求項1または2のいずれかにおいて、平面ガラスが石英ガラスであり、乾燥温度が常温〜1300℃である平面ガラスの接合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004200763A JP4559142B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 平面ガラスの接合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004200763A JP4559142B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 平面ガラスの接合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006021944A true JP2006021944A (ja) | 2006-01-26 |
JP4559142B2 JP4559142B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=35795492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004200763A Expired - Fee Related JP4559142B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 平面ガラスの接合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4559142B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007331962A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Tosoh Quartz Corp | ガラス製マイクロプレート用部材、ガラス製マイクロプレートの製造方法及びマイクロプレート |
JP2011113952A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Kyocera Kinseki Corp | 光照射窓 |
CN104961359A (zh) * | 2015-06-12 | 2015-10-07 | 洛阳兰迪玻璃机器股份有限公司 | 一种真空玻璃的除气方法及装置 |
JP2020504073A (ja) * | 2017-01-19 | 2020-02-06 | コーニング インコーポレイテッド | 融合ガラス物品 |
JP2022070471A (ja) * | 2020-10-27 | 2022-05-13 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス基板の加工方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06222229A (ja) * | 1992-11-16 | 1994-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光導波路素子とその製造方法 |
JPH10338555A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Ebara Corp | 接合方法 |
JP2003054971A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Fujitsu Ltd | 石英ガラスの接合方法 |
JP2003195047A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光学デバイスの製造方法及び光学デバイス |
-
2004
- 2004-07-07 JP JP2004200763A patent/JP4559142B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06222229A (ja) * | 1992-11-16 | 1994-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光導波路素子とその製造方法 |
JPH10338555A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Ebara Corp | 接合方法 |
JP2003054971A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Fujitsu Ltd | 石英ガラスの接合方法 |
JP2003195047A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光学デバイスの製造方法及び光学デバイス |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007331962A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Tosoh Quartz Corp | ガラス製マイクロプレート用部材、ガラス製マイクロプレートの製造方法及びマイクロプレート |
JP2011113952A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Kyocera Kinseki Corp | 光照射窓 |
CN104961359A (zh) * | 2015-06-12 | 2015-10-07 | 洛阳兰迪玻璃机器股份有限公司 | 一种真空玻璃的除气方法及装置 |
CN104961359B (zh) * | 2015-06-12 | 2017-11-21 | 洛阳兰迪玻璃机器股份有限公司 | 一种真空玻璃的除气方法及装置 |
JP2020504073A (ja) * | 2017-01-19 | 2020-02-06 | コーニング インコーポレイテッド | 融合ガラス物品 |
JP6995126B2 (ja) | 2017-01-19 | 2022-01-14 | コーニング インコーポレイテッド | 融合ガラス物品 |
JP2022070471A (ja) * | 2020-10-27 | 2022-05-13 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス基板の加工方法 |
JP7342839B2 (ja) | 2020-10-27 | 2023-09-12 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス基板の加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4559142B2 (ja) | 2010-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9177601B1 (en) | Multiple cleaning processes in a single tank | |
CN1295508C (zh) | 一种玻璃微流控芯片的低温键合方法 | |
US7498269B2 (en) | Cleaning methods for silicon electrode assembly surface contamination removal | |
EP3306650B1 (en) | Plasma-assisted microstructure alignment and pre-bonding method of glass or quartz chip | |
CN105016632B (zh) | 一种低温表面活化直接键合制备石英玻璃毛细管的方法 | |
TWI757257B (zh) | 玻璃物件以及黏合玻璃片與載體之方法 | |
JPWO2005118502A1 (ja) | 光学素子製造法 | |
TWI228265B (en) | Laser cleaning process for semiconductor material and the like | |
CN105251745A (zh) | 一种光学元件精密抛光后的清洗方法 | |
JP4559142B2 (ja) | 平面ガラスの接合方法 | |
JP2013173654A (ja) | ガラス基板もしくは水晶基板からなるワークの貼り合わせ方法および装置 | |
JP5248455B2 (ja) | マスククリーニング装置 | |
JP2007298858A (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク、及び露光用マスク | |
CN101154558A (zh) | 刻蚀设备组件的清洗方法 | |
CN103846245A (zh) | 基板清洗装置及清洗方法 | |
US20070066071A1 (en) | Novel organic remover for advanced reticle contamination cleaning | |
JP2009239288A (ja) | 接合方法及び接合装置 | |
CN110860504A (zh) | 一种石英玻璃熔渣的清洗装置及清洗方法 | |
JP2007063055A (ja) | ガラス接合構造、ガラス接合構造を有する物品、およびガラス接合方法 | |
JP2002018374A (ja) | 洗浄方法および液晶装置の製造方法 | |
JP2006212563A (ja) | 被洗浄物の洗浄方法、洗浄システム、及び乾燥装置 | |
JP2003054971A (ja) | 石英ガラスの接合方法 | |
JP2011020905A (ja) | 接合部材の製造方法 | |
TWI441692B (zh) | 使用超音波震盪液體以清潔基板之方法 | |
WO2015052556A1 (en) | Method for increasing laser induced damage threshold by etching of optical substrates |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070601 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090709 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090918 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100720 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4559142 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |