JP2006018944A - Optical disk - Google Patents

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Yoshiki Goto
良樹 後藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To simply and inexpensively provide an optical disk which can fully suppress deformation (warpage) accompanying change of temperature and humidity and is excellent in mechanical strength. <P>SOLUTION: The optical disk is equipped with a protective coat which is made up by polymerizing the ester modified (meta) acrylate resin which is made by carrying out esterification reaction to the (meta) acrylic acid, to a hydroxyl group-containing esterification material comprising photocuring silicone resin containing siloxane skeleton or 2 basic acid having carboxyl group to both ends of the alkylene chain of carbon numbers 1-6, and polyhydric alcohol. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、映像、音響分野に利用される光情報記録媒体として使用される、基板上に反射膜、記録膜、保護膜などを備えた光ディスクに関し、特に青紫色の光源で情報の記録・再生を行う光ディスクに関する。   The present invention relates to an optical disk having a reflective film, a recording film, a protective film, etc. on a substrate, used as an optical information recording medium used in the field of video and sound, and in particular, recording / reproducing information with a blue-violet light source. The present invention relates to an optical disc.

近年、次世代光ディスクとしてブルーレー用の光ディスクの開発が活発である。現在CD、DVDなどの光ディスクがすでに普及しているが、これをさらに高密度、高容量、小型化をめざした要求がある。また昨今では、HDTVに対応した高性能・高品質をめざした開発が高まっており、ディスクを構成する各部材の性能向上が今日強く求められている。特に、ブルーレー用の光ディスクは、記録・再生用のレーザー光の高開口化により高密度化を図り、光の入出が保護膜側からの録再方法に適用されるので、保護膜に要求される特性は従来とは比較にならないほどよりきびいしものとなっている。   In recent years, development of an optical disc for Blu-ray as a next generation optical disc has been active. Currently, optical discs such as CDs and DVDs are already in widespread use, and there is a demand for higher density, higher capacity, and smaller size. In recent years, development aimed at high performance and high quality corresponding to HDTV is increasing, and today, there is a strong demand for improving the performance of each member constituting the disk. In particular, an optical disc for Blu-ray is required for a protective film because the recording / reproducing laser beam has a high aperture by increasing the density and the light input / output is applied to the recording / reproducing method from the protective film side. The characteristics are more severe than ever before.

そのような保護膜として従来多くの光硬化型の樹脂が検討されてきた。例えば、構成素材の改良や、樹脂中に混合する反応開始剤を多品種添加して反応を行う改良などが加えられてきた。しかしながら、厚みの確保や、成膜性の悪化、温度・湿度変化による変形がおよぼす特性不良などで、利用上満足する効果が得られず性能がまったく不十分であった。   Conventionally, many photo-curing resins have been studied as such protective films. For example, improvements have been made to the constituent materials and improvements to react by adding many kinds of reaction initiators mixed in the resin. However, due to the lack of thickness, deterioration of film formability, and poor characteristics due to deformation caused by changes in temperature and humidity, satisfactory effects were not obtained and the performance was completely insufficient.

具体例として、例えば、分子中にマレイミド基を2個以上有する化合物を用いて得られた硬化膜が提案されている(特許文献1参照)。
また例えば、透明基板と、透明基板の一方の表面上に形成された薄膜層と、薄膜層の上に形成された薄膜保護膜と、前記透明基板の他方の表面上に形成された基板保護膜とを備えた光情報記録媒体において、基板保護膜の湿度膨張係数を、薄膜保護膜の湿度膨張係数よりも大きくすることにより、湿度変化時に伴う変形(反り)を抑制する技術が提案されている(特許文献2参照)。また基板保護膜及び薄膜保護膜は、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、またはポリエーテルアクリレートなどを主成分とする紫外線硬化樹脂で形成されることが記載されている。
特開2002-170281号公報(第2頁 特許請求の範囲参照) 特開2002-298437号公報(第3頁 課題を解決するための手段)
As a specific example, for example, a cured film obtained using a compound having two or more maleimide groups in a molecule has been proposed (see Patent Document 1).
Further, for example, a transparent substrate, a thin film layer formed on one surface of the transparent substrate, a thin film protective film formed on the thin film layer, and a substrate protective film formed on the other surface of the transparent substrate In an optical information recording medium equipped with the above, a technique for suppressing deformation (warpage) associated with a change in humidity by making the humidity expansion coefficient of the substrate protective film larger than the humidity expansion coefficient of the thin film protective film has been proposed. (See Patent Document 2). Further, it is described that the substrate protective film and the thin film protective film are formed of an ultraviolet curable resin mainly composed of polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, or the like.
Japanese Patent Laid-Open No. 2002-170281 (refer to the claims on page 2) JP 2002-298437 A (Page 3 Means for Solving the Problems)

しかしながら上記特許文献1の技術では、反応性がはやくなるのは考えられるが、マレイミド化合物の構造からは収縮変形を小さくする作用は期待できない。
また上記特許文献2では、部材面上に備えているおのおのの材料のあるべき物性願望をのべているにすぎず、記載の保護膜材料からは用いるものによって特性がおおきく変化するので、湿度変化時に伴う変形(反り)をいつも十分に抑制できるとは限らない。
However, in the technique of Patent Document 1, it is conceivable that the reactivity becomes short, but the action of reducing the shrinkage deformation cannot be expected from the structure of the maleimide compound.
Moreover, in the said patent document 2, since the physical property desire of each material with which each material with which it has provided on a member surface should be only mentioned, a characteristic changes greatly with what is used from the protective film material of description, Since humidity changes Deformation (warping) that accompanies sometimes is not always sufficiently suppressed.

本発明は、温度変化および湿度変化に伴う変形(反り)を十分に抑制でき、機械的強度(表面硬さおよび耐擦傷性)に優れた光ディスクを、安価で、かつ簡便に提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an optical disc that can sufficiently suppress deformation (warpage) associated with temperature change and humidity change and that has excellent mechanical strength (surface hardness and scratch resistance) at low cost and simply. And

本発明は、シロキサン骨格を含有する光硬化型シリコーン樹脂を重合させてなる保護膜を備えたことを特徴とする光ディスクに関する。   The present invention relates to an optical disc comprising a protective film obtained by polymerizing a photocurable silicone resin containing a siloxane skeleton.

本発明はまた、炭素数1〜6のアルキレン鎖の両端にカルボキシル基を有する2塩基酸と多価アルコールとの水酸基含有エステル化物に(メタ)アクリル酸がエステル化反応してなるエステル変性(メタ)アクリレート樹脂を重合させてなる保護膜を備えたことを特徴とする光ディスクに関する。   The present invention also provides an ester modification (meta) obtained by esterifying (meth) acrylic acid to a hydroxyl group-containing esterified product of a dibasic acid having a carboxyl group at both ends of an alkylene chain having 1 to 6 carbon atoms and a polyhydric alcohol. The present invention relates to an optical disc comprising a protective film formed by polymerizing an acrylate resin.

本発明の光ディスクは、温度変化および湿度変化に伴う変形(反り)を十分に抑制でき、機械的強度(表面硬さおよび耐擦傷性)に優れている。また保護膜が特定のシリコーン樹脂またはエステル変性(メタ)アクリレート樹脂を重合(硬化)させてなっているので、安価で、かつ簡便に提供可能である。さらに、ハードコート膜を備えると、機械的強度がさらに向上する。   The optical disk of the present invention can sufficiently suppress deformation (warpage) associated with temperature change and humidity change, and is excellent in mechanical strength (surface hardness and scratch resistance). Further, since the protective film is obtained by polymerizing (curing) a specific silicone resin or ester-modified (meth) acrylate resin, the protective film can be provided inexpensively and easily. Furthermore, when a hard coat film is provided, the mechanical strength is further improved.

以下、本発明の実施の形態について、図1を用いて説明する。図1は本発明の一実施形態にかかる光ディスクの模式図である。
本発明の光ディスクは、図1に示すように、基材1の片面にメディア層2および保護膜3が順次積層されてなっている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram of an optical disc according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the optical disk of the present invention has a media layer 2 and a protective film 3 sequentially laminated on one side of a substrate 1.

基材1はディスクの透明性と平面性を確保できれば有機、無機の材質にかかわらず用いることができる。例えば、基材はポリカーボネート樹脂、ポリアクリル樹脂、ガラス等からなっていてよい。温度変化および湿度変化に伴う変形をより有効に防止する観点からは、ポリカーボネート樹脂からなっていることが好ましい。基材の厚みは特に制限されないが1〜1.1mmが好適である。   The substrate 1 can be used regardless of organic and inorganic materials as long as the transparency and flatness of the disk can be secured. For example, the base material may be made of polycarbonate resin, polyacrylic resin, glass or the like. From the viewpoint of more effectively preventing deformation associated with temperature change and humidity change, it is preferably made of polycarbonate resin. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is preferably 1 to 1.1 mm.

メディア層2は、反射、記録、誘電などの各種機能を発揮する層である限り、いかなる無機物や有機物からなっていてよく、また単層構成を有していても、または多層構成を有していてもよい。例えば、反射膜としての機能を発揮する層である場合、当該層の構成材料は、銀、金、アルミなどの金属が代表的である。通常は反射膜の上にさらに、Ge合金の記録膜やTa合金の誘電膜が形成されてメデイア層2が構成される。ここではあくまで代表的なメディア層構成を記載しているにすぎず、本発明では上記構成に限定されることはなく、いかなる他の構成であってもよい。メディア層はスパッタ法などの方法によって形成可能である。   The media layer 2 may be made of any inorganic or organic material as long as it exhibits various functions such as reflection, recording, and dielectric, and may have a single layer structure or a multilayer structure. May be. For example, in the case of a layer that functions as a reflective film, the constituent material of the layer is typically a metal such as silver, gold, or aluminum. Usually, a recording film made of Ge alloy or a dielectric film made of Ta alloy is further formed on the reflective film to form the media layer 2. Here, only a representative media layer configuration is described, and the present invention is not limited to the above configuration, and any other configuration may be used. The media layer can be formed by a method such as sputtering.

本発明において保護膜3は、特定のシリコーン樹脂または特定のエステル変性(メタ)アクリレート樹脂を重合(硬化)させてなっている。   In the present invention, the protective film 3 is obtained by polymerizing (curing) a specific silicone resin or a specific ester-modified (meth) acrylate resin.

保護膜3を形成し得るシリコーン樹脂は、シロキサン骨格を含有する光硬化型シリコーン樹脂であり、分子中に、ビニル基、アクリル基、アクリルニトリル基およびエポキシ基からなる群から選択される1種以上の反応性基を少なくとも1個有するものである。
本明細書中、アクリル基は(メタ)アクリロイル基および(メタ)アクリロイルオキシ基を包含する概念で用いるものとする。また(メタ)アクリロイル基はアクリロイル基およびメタクリロイル基を包含する概念で用いるものとし、例えば、(メタ)アクリレートはアクリレートおよびメタクリレートを包含して意味するものとする。よって、アクリル基は詳しくはCH=CH−CO−、CHCH=CH−CO−、CH=CH−CO−O−、CHCH=CH−CO−O−を包含する。
またアクリルニトリル基はCNCH=CH−で表されるものである。
またエポキシ基はエチレンオキシドから水素を除いた1価の残基だけでなく、グリシジル基およびグリシジルオキシ基を包含する概念で用いるものとする。
The silicone resin that can form the protective film 3 is a photocurable silicone resin containing a siloxane skeleton, and one or more selected from the group consisting of vinyl groups, acrylic groups, acrylonitrile groups, and epoxy groups in the molecule. These have at least one reactive group.
In this specification, an acrylic group is used in a concept including a (meth) acryloyl group and a (meth) acryloyloxy group. The (meth) acryloyl group is used in a concept including an acryloyl group and a methacryloyl group. For example, (meth) acrylate is meant to include acrylate and methacrylate. Accordingly, the acrylic group specifically includes CH 2 ═CH—CO—, CH 3 CH═CH—CO—, CH 2 ═CH—CO—O—, and CH 3 CH═CH—CO—O—.
The acrylonitrile group is represented by CNCH═CH—.
In addition, the epoxy group is used in a concept including not only a monovalent residue obtained by removing hydrogen from ethylene oxide but also a glycidyl group and a glycidyloxy group.

シロキサン骨格は主鎖が−Si−O−構造を有するので一般の炭素系ポリマーにみられる−C−C−、−C−O−構造と比較して元素結合間隔が長く、結合角度が大きい。そのためシロキサン骨格は分子内の自由度が大きく、分子伸縮性に富んでいる。したがって、シリコーン樹脂分子は、脱離分子の発生や膜中への熱および水分の取り込みがあっても、アクリル系モノマー等の炭素系モノマーと比較して、収縮および膨張に対する変化の許容範囲が分子間の長さと大きな結合角度に基づいて広いので、変形(反り)は小さくなるものと考えられる。   Since the siloxane skeleton has a —Si—O— structure, the element bond interval is longer and the bond angle is larger than the —C—C— and —C—O— structures found in general carbon-based polymers. Therefore, the siloxane skeleton has a large degree of freedom in the molecule and is rich in molecular stretchability. Therefore, silicone resin molecules have a tolerable range of change with respect to shrinkage and expansion compared to carbon-based monomers such as acrylic monomers, even with the generation of desorbed molecules and the incorporation of heat and moisture into the film. It is considered that the deformation (warp) is small because it is wide based on the length between them and the large coupling angle.

本発明で使用されるシリコーン樹脂は詳しくは、一般式(I);

Figure 2006018944
で表される。 Specifically, the silicone resin used in the present invention is represented by the general formula (I);
Figure 2006018944
It is represented by

式(I)において、全てのRのうち少なくとも1個のRは上記の反応性基を含有する基(以下、単に反応性基含有基という)である。
反応性基含有基は少なくとも一部に上記反応性基を含有する限り、特に制限されず、例えば、ビニル基、アクリル基、アクリルニトリル基、エポキシ基、ならびにそれらの基から選択される1個またはそれ以上の基が炭素数1〜3のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基)に置換してなる複合基が挙げられる。好ましくは1個の上記反応性基、特にエポキシ基がイソプロピルのような分岐型アルキル基に置換してなる複合基である。
In the formula (I), at least one R out of all R is a group containing the above reactive group (hereinafter simply referred to as a reactive group-containing group).
The reactive group-containing group is not particularly limited as long as it contains at least a part of the reactive group, and examples thereof include a vinyl group, an acrylic group, an acrylonitrile group, an epoxy group, and one or a group selected from these groups Examples include a composite group in which a further group is substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group). Preferably, it is a composite group obtained by substituting one reactive group, particularly an epoxy group, with a branched alkyl group such as isopropyl.

シリコーン樹脂が有する反応性基含有基の好ましい数は本発明の目的が達成される限り特に制限されないが、シリコーン樹脂の入手容易性の観点からは反応性基の種類によって異なる。
例えば、反応性基がビニル基、アクリル基およびアクリルニトリル基の場合の反応性基含有基の数は1個以上、好ましくは1〜3個、より好ましくは2〜3個である。
また例えば、反応性基がエポキシ基の場合の反応性基含有基の数は1〜3個、特に2〜3個が好ましい。
The preferred number of reactive group-containing groups possessed by the silicone resin is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but it varies depending on the type of reactive group from the viewpoint of easy availability of the silicone resin.
For example, when the reactive group is a vinyl group, an acryl group or an acrylonitrile group, the number of the reactive group-containing groups is 1 or more, preferably 1 to 3, and more preferably 2 to 3.
For example, when the reactive group is an epoxy group, the number of reactive group-containing groups is preferably 1 to 3, particularly preferably 2 to 3.

シリコーン樹脂が2個以上の反応性基含有基を有する場合の当該反応性基含有基はそれぞれ独立して上記範囲内から選択されればよい。
またシリコーン樹脂が2個以上の反応性基含有基を有する場合、2個の反応性基含有基はそれぞれシロキサン骨格の両端に置換されていることが好ましく、このとき他の反応性基含有基の置換位置は特に制限されない。
When the silicone resin has two or more reactive group-containing groups, the reactive group-containing group may be independently selected from the above range.
Further, when the silicone resin has two or more reactive group-containing groups, the two reactive group-containing groups are preferably substituted at both ends of the siloxane skeleton, and at this time, other reactive group-containing groups The substitution position is not particularly limited.

式(I)において他のRはそれぞれ独立して上記の反応性基を含有しない基(以下、反応性基フリー置換基という)である。
反応性基フリー置換基として、例えば、水素原子、アルキル基、およびアリール基が挙げられる。アルキル基は炭素数1〜4、特に1のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。アリール基は炭素数6〜10、特に6のものが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。好ましくは、アリール基のような嵩高い基、特にフェニル基である。
In the formula (I), the other Rs are each independently a group not containing the reactive group (hereinafter referred to as a reactive group-free substituent).
Examples of the reactive group-free substituent include a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly 1, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group. The aryl group preferably has 6 to 10 carbon atoms, particularly 6 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Preferred are bulky groups such as aryl groups, especially phenyl groups.

kは本発明の目的が達成される限り特に制限されず、通常は100〜700、特に400〜600が好ましい。   k is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, and is preferably 100 to 700, particularly preferably 400 to 600.

シリコーン樹脂の分子量は上記kが上記範囲内になるような値であり、通常は、成膜性の容易さ、反応開始剤の種類と混合量、硬化性の早さ、および得ようとする表面硬度(鉛筆試験)などできめればよい。他に入手の容易さ、価格の他に、有害性、廃棄など法令適用に制限されないことなどを考えて、異なる分子量のシリコーン樹脂を混合して使用してもよい。   The molecular weight of the silicone resin is such a value that k is within the above range. Usually, the ease of film formation, the kind and amount of reaction initiator, the speed of curing, and the surface to be obtained Hardness (pencil test) can be achieved. In addition to ease of availability and price, considering the fact that it is not restricted by laws and regulations such as harmfulness and disposal, silicone resins having different molecular weights may be mixed and used.

上記のようなシリコーン樹脂は、市販のTUV6001、XR39−C1132(以上、GE東芝シリコーン社製)、X−40−2670、X−40−2686(以上、信越化学社製)等として入手可能である。   The silicone resins as described above are available as commercially available TUV6001, XR39-C1132 (above, manufactured by GE Toshiba Silicone), X-40-2670, X-40-2686 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like. .

シリコーン樹脂からなる保護膜は、シリコーン樹脂および反応開始剤からなる混合物をスピンコーティング法等の公知の塗布方法によってメディア層上に塗布し、紫外線照射を十分に行い硬化させることによって形成可能である。光源は特に制限されず、メタルハライドランプ等が使用可能である。   A protective film made of a silicone resin can be formed by applying a mixture of a silicone resin and a reaction initiator on a media layer by a known coating method such as a spin coating method, and sufficiently irradiating with ultraviolet rays and curing. The light source is not particularly limited, and a metal halide lamp or the like can be used.

反応開始剤としては、シリコーン樹脂が反応性基としてビニル基、アクリル基またはアクリルニトリル基を含有する反応性基含有基を有する場合は、ラジカル反応開始剤を使用する。ラジカル反応開始剤を使用することにより、上記反応性基の不飽和二重結合による付加反応が起こって反応性基同士の連結が起こり、結果としてシリコーン樹脂の重合が進行する。   As the reaction initiator, when the silicone resin has a reactive group-containing group containing a vinyl group, an acrylic group or an acrylonitrile group as a reactive group, a radical reaction initiator is used. By using a radical reaction initiator, the addition reaction by the unsaturated double bond of the said reactive group occurs, coupling | bonding of reactive group occurs, As a result, superposition | polymerization of a silicone resin advances.

ラジカル反応開始剤としては従来から光反応開始剤として使用されているものが使用可能であり、例えば、フェニルケトン類、フォスフィンオキサイド類、アミノベンゾエート類、チオキサントン類等が挙げられる。
フェニルケトン類の具体例として、例えば、アントラキノン、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
フォスフィンオキサイド類の具体例として、例えば、2、4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
アミノベンゾエート類の具体例として、例えば、2−ベンジル2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等が挙げられる。
チオキサントン類の具体例として、例えば、2、4−ジエチルチオキサトン等が挙げられる。
As the radical reaction initiator, those conventionally used as a photoreaction initiator can be used, and examples thereof include phenyl ketones, phosphine oxides, aminobenzoates, and thioxanthones.
Specific examples of phenyl ketones include anthraquinone, benzophenone, acetophenone, and the like.
Specific examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Specific examples of aminobenzoates include 2-benzyl 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and the like.
Specific examples of thioxanthones include 2,4-diethylthioxatone.

上記ラジカル反応開始剤の中でもフェニルケトン類、フォスフィンオキサイド類およびアミノベンゾエート類が好ましく、より好ましくはフェニルケトン類、特にアントラキノンまたはベンゾフェノンである。安価かつ高速度で保護膜(硬化膜)を形成できるためである。   Among the radical reaction initiators, phenyl ketones, phosphine oxides and aminobenzoates are preferable, and phenyl ketones, particularly anthraquinone or benzophenone are more preferable. This is because a protective film (cured film) can be formed at a low cost and at a high speed.

シリコーン樹脂が反応性基としてエポキシ基を含有する反応性基含有基を有する場合は、反応開始剤としてイオン開裂剤を使用する。イオン開裂剤を使用することにより、エポキシ環の開環による付加反応が起こってエポキシ基同士の連結が起こり、結果としてシリコーン樹脂の重合が進行する。   When the silicone resin has a reactive group-containing group containing an epoxy group as a reactive group, an ion cleaving agent is used as a reaction initiator. By using an ion-cleaving agent, an addition reaction due to the ring opening of the epoxy ring occurs and the epoxy groups are linked to each other. As a result, the polymerization of the silicone resin proceeds.

イオン開裂剤としては従来からエポキシ環のイオン開裂剤として使用されているものが使用可能であり、例えば、ルイス酸アリルジアゾニウム塩、ジアリルヨ−ドニウム塩等が使用可能である。ルイス酸アリルジアゾニウム塩を用いると、カチオン反応の硬化過程で皮膜を形成し、硬い膜がはやく得られる。また、重合過程がイオン反応であるため、酸素による反応阻害がなく、放置するだけでも完全硬化が進行するため未硬化の不安はなくなる。   As the ion-cleaving agent, those conventionally used as an ion-cleaving agent for epoxy rings can be used. For example, Lewis acid allyldiazonium salt, diallyliodonium salt and the like can be used. When an allyldiazonium salt of Lewis acid is used, a film is formed during the curing process of the cation reaction, and a hard film can be obtained quickly. In addition, since the polymerization process is an ionic reaction, there is no reaction inhibition by oxygen, and complete curing proceeds even if left alone, so that there is no fear of uncured.

ルイス酸アリルジアゾニウム塩はルイス酸を発生させ、Sb、SnまたはFeのいずれか1種ならびにIおよびFを含むものであり、例えば、一般式;
[R(C)]ISbF
(式中、Rは炭素原子数10〜14の1価炭化水素基、特にアルキル基である)で表される化合物が挙げられる。そのような化合物を用いて、分子中にエポキシ基を3個有するシリコーン樹脂を重合させると、機械的強度がより向上した保護膜を得ることができる。
The Lewis acid allyldiazonium salt generates a Lewis acid and contains any one of Sb, Sn or Fe and I and F. For example, the general formula:
[R (C 6 H 4 )] 2 ISbF 6
(Wherein, R represents a monovalent hydrocarbon group having 10 to 14 carbon atoms, particularly an alkyl group). When such a compound is used to polymerize a silicone resin having three epoxy groups in the molecule, a protective film with improved mechanical strength can be obtained.

反応開始剤の含有量は特に制限されず、塗布されるシリコーン樹脂混合物全量に対して1〜4重量%、特に2〜3重量%が好ましい。   The content of the reaction initiator is not particularly limited, and is preferably 1 to 4% by weight, particularly 2 to 3% by weight, based on the total amount of the silicone resin mixture to be applied.

保護膜3を形成し得るエステル変性(メタ)アクリレート樹脂は、2塩基酸と多価アルコールとの水酸基含有エステル化物に(メタ)アクリル酸がエステル化反応してなるものである。2塩基酸はアルキレン鎖の両端にカルボキシル基を有するものであり、本発明においては、アルキレン鎖の炭素数を調整してエステル変性(メタ)アクリレート樹脂の分子伸縮性を向上させる。そのようなアルキレン鎖の炭素数は、分子伸縮性だけでなく、保護膜表面硬度および樹脂分子疎水性の適度なバランスの観点からも選択される。すなわち、保護膜の表面硬度の観点からは、アルキレン鎖の炭素数は小さいことが好ましく、その結果分子伸縮性が低くなり、温度変化および湿度変化に伴う変形が十分に抑制できなくなる。またアルキレン鎖の炭素数があまり小さいと、樹脂分子の疎水性が小さくなり、保護膜の製造時の均一な塗布が行われ難くなる。そのため、樹脂分子の疎水性を上げるには、アルキレン鎖の炭素数をある程度大きくすることが必要となる。しかし、アルキレン鎖の炭素数があまり大きいと、分子伸縮性が大きくなりすぎるので、膜のそりに悪作用が発生してきて、規格値をこえてしまう。また所望の表面硬度が得られない。よって、アルキレン鎖の炭素数は、分子伸縮性、保護膜表面硬度および樹脂分子疎水性のバランスを勘案して決定され、具体的には1〜6が好適である。
多価アルコールは2〜4価の飽和脂肪族アルコールである。多価アルコールの炭素数は本発明の目的が達成される限り特に制限されないが、樹脂分子の分子伸縮性の観点から3〜6が好ましい。
The ester-modified (meth) acrylate resin capable of forming the protective film 3 is obtained by esterifying (meth) acrylic acid with a hydroxyl group-containing esterified product of a dibasic acid and a polyhydric alcohol. A dibasic acid has a carboxyl group at both ends of an alkylene chain, and in the present invention, the carbon number of the alkylene chain is adjusted to improve the molecular stretchability of the ester-modified (meth) acrylate resin. The number of carbon atoms in such an alkylene chain is selected not only from the viewpoint of molecular stretchability, but also from the viewpoint of an appropriate balance between the protective film surface hardness and the resin molecule hydrophobicity. That is, from the viewpoint of the surface hardness of the protective film, the number of carbon atoms in the alkylene chain is preferably small. As a result, the molecular stretchability becomes low, and deformation due to temperature change and humidity change cannot be sufficiently suppressed. On the other hand, if the number of carbon atoms in the alkylene chain is too small, the hydrophobicity of the resin molecules becomes small, and uniform coating during the production of the protective film becomes difficult. Therefore, in order to increase the hydrophobicity of the resin molecule, it is necessary to increase the carbon number of the alkylene chain to some extent. However, if the number of carbon atoms in the alkylene chain is too large, the molecular stretchability becomes too large, and an adverse effect occurs on the warp of the film, exceeding the standard value. Also, the desired surface hardness cannot be obtained. Therefore, the carbon number of the alkylene chain is determined in consideration of the balance of molecular stretchability, protective film surface hardness, and resin molecule hydrophobicity, and specifically, 1 to 6 is preferable.
The polyhydric alcohol is a divalent to tetravalent saturated aliphatic alcohol. The number of carbon atoms of the polyhydric alcohol is not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but 3 to 6 is preferable from the viewpoint of the molecular stretchability of the resin molecule.

そのようなエステル変性(メタ)アクリレート樹脂の好ましい具体例として、一般式(II);

Figure 2006018944
で表されるものが挙げられる。 As a preferable specific example of such ester-modified (meth) acrylate resin, general formula (II);
Figure 2006018944
The thing represented by is mentioned.

式(II)において、RおよびRはそれぞれ独立して水素原子またはメチル基である。
およびRはそれぞれ独立して炭素数3〜6、特に4〜5のアルキレン基であり、直鎖状であってもよいし、または分枝状であってもよい。例えば、トリメチレン基、プロピレン基等が挙げられる。またRおよびRは水酸基等の置換基を有していてもよく、さらには上記アルキレン基が酸素原子を介して連結されたエーテル形態を有していてもよい。そのようなRおよびRを誘導し得る化合物分子の具体例として、例えば、ジプロピレングリコール、1、2−プロピレングリコール等が挙げられる。これらの化合物分子は任意の2個の水素原子、特に水酸基を有する炭素原子が有する水素原子が除かれてRおよびRが誘導される。
は炭素数1〜6、特に3〜5の直鎖状アルキレン基である。そのようなRの具体例として、例えば、トリメチレン基等が挙げられる。
mは樹脂の粘度が後述の範囲内になるような値である。
In the formula (II), R 1 and R 5 are each independently a hydrogen atom or a methyl group.
R 2 and R 4 are each independently an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms, particularly 4 to 5 carbon atoms, and may be linear or branched. For example, a trimethylene group, a propylene group, etc. are mentioned. R 2 and R 4 may have a substituent such as a hydroxyl group, and may further have an ether form in which the alkylene group is linked via an oxygen atom. Specific examples of the compound molecule that can derive R 2 and R 4 include dipropylene glycol, 1,2-propylene glycol, and the like. In these compound molecules, R 2 and R 4 are derived by removing any two hydrogen atoms, particularly hydrogen atoms possessed by a carbon atom having a hydroxyl group.
R 3 is a linear alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 3 to 5 carbon atoms. Specific examples of such R 3 include a trimethylene group.
m is a value such that the viscosity of the resin falls within the range described below.

エステル変性(メタ)アクリレート樹脂の分子量は、当該樹脂単独での粘度が700〜3500mPa・s、特に800〜2500mPa・sとなるような範囲内である。そのような粘度を達成する樹脂を用いることにより、本発明の目的を有効に達成でき、さらには樹脂混合物の塗布時のハンドリング、樹脂の入手容易性、および製造コストが向上する。   The molecular weight of the ester-modified (meth) acrylate resin is within a range such that the viscosity of the resin alone is 700 to 3500 mPa · s, particularly 800 to 2500 mPa · s. By using a resin that achieves such a viscosity, the object of the present invention can be effectively achieved, and handling during application of the resin mixture, availability of the resin, and manufacturing cost are improved.

溶液の粘度は25℃においてB型粘度計(ローター型)(TYPE TV−10;東機産業社製)によって測定された値を用いている。しかし、上記粘度計によって測定されなければならないというわけではなく、上記温度で溶液粘度を測定可能な粘度計であればいかなる粘度計によって測定されてもよい。   As the viscosity of the solution, a value measured by a B-type viscometer (rotor type) (TYPE TV-10; manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at 25 ° C. is used. However, it does not have to be measured by the viscometer, and may be measured by any viscometer as long as it can measure the solution viscosity at the temperature.

上記のようなエステル変性(メタ)アクリレート樹脂は、市販のUVPC−001−03、UVPC−001−07、UVPC−001−05(以上、日本化成社製)等として入手可能である。
本発明においては2種類以上のエステル変性(メタ)アクリレート樹脂を混合して使用してもよい。
Such ester-modified (meth) acrylate resins as described above are available as commercially available UVPC-001-03, UVPC-001-07, UVPC-001-05 (above, Nippon Kasei Co., Ltd.) and the like.
In the present invention, two or more kinds of ester-modified (meth) acrylate resins may be mixed and used.

エステル変性(メタ)アクリレート樹脂からなる保護膜は、シリコーン樹脂の代わりに上記エステル変性(メタ)アクリレート樹脂を用いること、反応開始剤として前記ラジカル反応開始剤を用いること以外、上記シリコーン樹脂からなる保護膜の形成方法と同様の方法によって形成可能である。所定の材料を用いて紫外線照射を行うことにより、エステル変性(メタ)アクリレート樹脂における(メタ)アクリレート部分の不飽和二重結合による付加反応が起こって分子間において(メタ)アクリレート部分同士の連結が起こり、結果としてエステル変性(メタ)アクリレート樹脂の重合が進行する。   The protective film made of an ester-modified (meth) acrylate resin is a protective film made of the above-mentioned silicone resin except that the above-mentioned ester-modified (meth) acrylate resin is used instead of the silicone resin, and the radical reaction initiator is used as a reaction initiator. The film can be formed by a method similar to the film forming method. By performing ultraviolet irradiation using a predetermined material, an addition reaction due to an unsaturated double bond of the (meth) acrylate moiety in the ester-modified (meth) acrylate resin occurs, and the (meth) acrylate moiety is linked between molecules. Occurs, and as a result, polymerization of the ester-modified (meth) acrylate resin proceeds.

好ましいラジカル反応開始剤はフェニルケトン類、チオキサントン類であり、より好ましくはフェニルケトン類、特にベンゾフェノン、アセトフェノンである。入手が容易で、かつ安価であるためである。   Preferred radical reaction initiators are phenyl ketones and thioxanthones, more preferably phenyl ketones, particularly benzophenone and acetophenone. This is because it is easily available and inexpensive.

反応開始剤の含有量は特に制限されず、塗布されるエステル変性(メタ)アクリレート樹脂混合物全量に対して1〜5重量%、特に2〜3重量%が好ましい。   The content of the reaction initiator is not particularly limited, and is preferably 1 to 5% by weight, particularly preferably 2 to 3% by weight, based on the total amount of the ester-modified (meth) acrylate resin mixture to be applied.

保護膜形成時において使用されるエステル変性(メタ)アクリレート樹脂と反応開始剤との混合物には、混合物のハンドリング向上の観点から、反応希釈剤をさらに混合してもよい。
反応希釈剤としては上記エステル変性(メタ)アクリレート樹脂を溶解可能な化合物であれば特に制限されず、例えば、2−エチルヘキシル、1、6−ヘキサンジオ−ル、トリメチロ−ルなどのアクリレ−ト等が挙げられる。
From the viewpoint of improving the handling of the mixture, a reaction diluent may be further mixed into the mixture of the ester-modified (meth) acrylate resin and the reaction initiator used when forming the protective film.
The reaction diluent is not particularly limited as long as it is a compound that can dissolve the ester-modified (meth) acrylate resin, and examples thereof include acrylates such as 2-ethylhexyl, 1,6-hexanediol, and trimethylol. Can be mentioned.

反応希釈剤の含有量は特に制限されず、塗布されるエステル変性(メタ)アクリレート樹脂混合物全量に対して5〜40重量%、特に5〜20重量%が好ましい。   The content of the reaction diluent is not particularly limited, and is preferably 5 to 40% by weight, particularly 5 to 20% by weight, based on the total amount of the ester-modified (meth) acrylate resin mixture to be applied.

以上のようなシリコーン樹脂またはエステル変性(メタ)アクリレート樹脂から形成される保護膜の表面硬度は鉛筆硬度でH以上、好ましくは3H以上である。
また保護膜の厚みは、光ディスクの機能を阻害することなく、本発明の目的を達成できる限り特に制限されるものではなく、例えば、98〜102μmが好ましい。なお、後で詳述するようなハードコート膜をさらに形成する場合にはそれらの合計厚みが上記範囲内であることが好ましい。
The surface hardness of the protective film formed from the silicone resin or ester-modified (meth) acrylate resin as described above is H or higher, preferably 3H or higher, in terms of pencil hardness.
The thickness of the protective film is not particularly limited as long as the object of the present invention can be achieved without impeding the function of the optical disk, and is preferably 98 to 102 μm, for example. In addition, when further forming a hard coat film which will be described in detail later, the total thickness thereof is preferably within the above range.

本発明の別の実施形態において光ディスクは、上記実施形態で示した光ディスクの保護膜3の上にハードコート膜を有する。ハードコート膜を形成することによって、表面の機械的強度(表面硬さおよび耐擦傷性)がより有効に向上する。記録・再生のためのレーザー光照射を保護膜面から行う場合に特に有効である。   In another embodiment of the present invention, an optical disk has a hard coat film on the protective film 3 of the optical disk shown in the above embodiment. By forming the hard coat film, the surface mechanical strength (surface hardness and scratch resistance) is more effectively improved. This is particularly effective when laser light irradiation for recording / reproduction is performed from the protective film surface.

ハードコート膜は、前記したシリコーン樹脂またはエステル変性(メタ)アクリレート樹脂の重合物(硬化物)中に無機微粒子が含有・分散されてなっている。   The hard coat film includes inorganic fine particles contained and dispersed in a polymer (cured product) of the above-described silicone resin or ester-modified (meth) acrylate resin.

ハードコート膜は、無機微粒子を樹脂混合物中に分散させること以外、前記保護膜の形成方法と同様の方法によって形成可能である。   The hard coat film can be formed by a method similar to the method for forming the protective film, except that the inorganic fine particles are dispersed in the resin mixture.

無機微粒子としては、例えば、シリカ、パラモリブデン酸アンモニウム、ウイスカ、およびそれらの混合物などが使用可能である。製造コストの観点からはシリカ、特にコロイダルシリカが好ましい。   As the inorganic fine particles, for example, silica, ammonium paramolybdate, whisker, and a mixture thereof can be used. From the viewpoint of production cost, silica, particularly colloidal silica is preferred.

無機微粒子の平均一次粒径は記録・再生のためのレーザ光の波長の1/2未満であれば特に制限されず、通常は10〜100nm、好ましくは10〜50nmである。   The average primary particle size of the inorganic fine particles is not particularly limited as long as it is less than ½ of the wavelength of the laser beam for recording / reproducing, and is usually 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm.

無機微粒子の含有量は特に制限されず、塗布されるハードコート膜形成用樹脂混合物全量に対して5〜40重量%、特に5〜20重量%が好ましい。   The content of the inorganic fine particles is not particularly limited, and is preferably 5 to 40% by weight, particularly 5 to 20% by weight, based on the total amount of the hard coat film forming resin mixture to be applied.

ハードコート膜の形成に使用される樹脂は、保護膜との密着性の観点から、保護膜の形成に用いた樹脂と同種類の樹脂を使用することが好ましい。すなわち例えば、保護膜が前記シリコーン樹脂から形成されている場合には、ハードコート膜もまた前記シリコーン樹脂の範囲から選択された樹脂から形成されることが好ましい。また例えば、保護膜が前記エステル変性(メタ)アクリレート樹脂から形成されている場合には、ハードコート膜もまた前記エステル変性(メタ)アクリレート樹脂の範囲から選択された樹脂から形成されることが好ましい。   The resin used for forming the hard coat film is preferably the same type of resin as used for forming the protective film from the viewpoint of adhesion to the protective film. That is, for example, when the protective film is formed from the silicone resin, the hard coat film is also preferably formed from a resin selected from the range of the silicone resin. For example, when the protective film is formed from the ester-modified (meth) acrylate resin, the hard coat film is also preferably formed from a resin selected from the range of the ester-modified (meth) acrylate resin. .

ハードコート膜形成用樹脂は無機微粒子が予め含有された市販の樹脂混合物として入手可能である。
例えば、シリコーン樹脂とシリカとの樹脂混合物は、市販のUVHC−1101(東芝GEシリコーン社製)、X−41−2420B、X−41−2420C(以上、信越化学社製)として入手可能である。
また例えば、エステル変性(メタ)アクリレート樹脂とシリカとの樹脂混合物は、市販のUVPC−001、UVS−001(以上、日本化成社製)等として入手可能である。
The resin for forming a hard coat film is available as a commercially available resin mixture that contains inorganic fine particles in advance.
For example, a resin mixture of silicone resin and silica is available as commercially available UVHC-1101 (manufactured by Toshiba GE Silicone), X-41-2420B, X-41-2420C (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
Further, for example, a resin mixture of an ester-modified (meth) acrylate resin and silica is available as commercially available UVPC-001, UVS-001 (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) or the like.

ハードコート膜の厚みは、耐裂傷性の向上の観点から、保護膜との合計厚みが特に98〜102μmとなるような値であることが好ましい。ハードコート膜単独の厚みは通常、0.5〜6μm、特に0.5〜1μmが好ましい。   The thickness of the hard coat film is preferably a value such that the total thickness with the protective film is particularly 98 to 102 μm from the viewpoint of improving the tear resistance. The thickness of the hard coat film alone is usually 0.5 to 6 μm, particularly preferably 0.5 to 1 μm.

ハードコート膜の表面硬度は鉛筆硬度で2H以上、好ましくは3H以上である。   The surface hardness of the hard coat film is 2H or more, preferably 3H or more in terms of pencil hardness.

以上の実施形態において光ディスクは基材1の一方の面にメディア層2および保護膜3ならびに所望によりハードコート膜(図示せず)が順次形成されてなる構成を有しているが、本発明はこれに限定されるものではない。
すなわち、本発明のまた別の実施形態において光ディスクは、基材の一方の面にメディア層および保護膜ならびに所望によりハードコート膜を有するだけでなく、他方の面に保護膜またはハードコート膜の一方または両方が形成されてなる構成を有していてもよい。このとき、当該他方の面と保護膜またはハードコート膜との間にはメディア層が形成されていてもよい。そのような実施形態における基材、メディア層、保護膜およびハードコート膜はそれぞれ前記実施形態におけるものと同様である。
In the above embodiment, the optical disc has a configuration in which the media layer 2 and the protective film 3 and, if desired, a hard coat film (not shown) are sequentially formed on one surface of the substrate 1. It is not limited to this.
That is, in another embodiment of the present invention, the optical disc has not only a media layer and a protective film on one side of the substrate and a hard coat film if desired, but also one of the protective film or the hard coat film on the other side. Or you may have the structure by which both are formed. At this time, a media layer may be formed between the other surface and the protective film or the hard coat film. The substrate, media layer, protective film and hard coat film in such an embodiment are the same as those in the above embodiment.

(実験例1)
直径120mm、厚み1mmのポリカーボネート板を用いた。この片面には表面にランド、グルーブの複数の溝が形成されており、この面上に厚み20nmの銀からなる反射膜をスパッタで形成した基板を基材とした。次いで、この上面に保護膜を表1に示す材料構成で形成した。サンプルNoは表1に示すとおりである。
保護膜成分の内訳は、ラジカル反応型をサンプルNo.1,2、イオン反応型をサンプルNo.3、4とし、それぞれシリコーン樹脂と反応開始剤とを用いてサンプルを試作した。また比較サンプル1の主材としてアクリレート樹脂を用いた。
(Experimental example 1)
Diameter 120 mm, was used polycarbonate plate having a thickness of 1 mm t. On one surface, a plurality of grooves of lands and grooves are formed on the surface, and a substrate on which a reflective film made of silver having a thickness of 20 nm is formed by sputtering is used as a base material. Next, a protective film was formed on the upper surface with the material structure shown in Table 1. Sample No. is as shown in Table 1.
The breakdown of the protective film components is the radical reaction type sample No. 1, 2, ion reaction type is sample No. Samples were made using 3 and 4, respectively, using a silicone resin and a reaction initiator. An acrylate resin was used as the main material of Comparative Sample 1.

Figure 2006018944
Figure 2006018944

詳しくは、主材および反応開始剤からなる混合物を温度23℃、湿度50%RH下でスピンコーティング法によって、硬化後の厚みが100μm(キーエンス製 Proface 回転型厚み測定器)になるように塗布し、光硬化させて、保護膜を作成した。硬化では光源としてメタルハライドランプを用い十分に照射した。   Specifically, the mixture of the main material and the reaction initiator is applied by spin coating at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH so that the thickness after curing is 100 μm (Keyence's Proface rotary thickness meter). Then, it was photocured to form a protective film. In curing, a metal halide lamp was used as a light source and irradiation was sufficiently performed.

反りは、各サンプルを60℃まで上昇する恒温室にいれ80分後にとりだした後の24時間後の試験前後の変形状態で比較した。変形状態の測定には、ディスクの反り(Dr.Shenk gubh社製;Pro meteus MT-136E)を求めて比較サンプル1の初期値を標準として数値化し、試験前後の値を用いて比較した。結果を図2(A)に示す。   The warpage was compared in the deformed state before and after the test 24 hours after each sample was placed in a thermostatic chamber rising to 60 ° C. and taken out after 80 minutes. For the measurement of the deformation state, the warpage of the disk (Dr. Shenk gubh, Pro meteus MT-136E) was obtained, the initial value of the comparative sample 1 was converted into a numerical value, and the values before and after the test were compared. The results are shown in FIG.

アクリレートの一般的なウレタン物で形成されている比較サンプル1では、温度試験によるサンプルの試験後では1.5に変形しているなど反りは大きくなっていた。
ところが、本発明の保護膜を備えたNo.1〜4の各サンプルは、おのおのにおいて特性差があるものの、いずれも±0.5近くになっており、基材におよぼす応力の小ささがあらわれて反りは抑制されていた。これらのサンプルではケイ素原子と酸素原子間隔や分子間角度が大きいため基材の変形に追随できたものと考えられる。
In Comparative Sample 1 formed of a general urethane product of acrylate, the warpage was large, such as being deformed to 1.5 after the sample test by the temperature test.
However, No. 1 provided with the protective film of the present invention. Although each sample of 1-4 had a characteristic difference in each, all became close to +/- 0.5, the small stress which acts on a base material appeared, and curvature was suppressed. These samples are considered to have been able to follow the deformation of the substrate because of the large spacing between silicon atoms and oxygen atoms and the intermolecular angle.

また、湿度による反りも調べるため、これらを25℃、90%RH下に5日間投入して、とりだし後に時間に応じた反り角度を調べた。結果を図2(B)に示した。サンプル1〜4はどれも比較サンプル1より顕著な効果があった。
したがって、本発明のシリコーン樹脂で形成した皮膜を保護膜として有する基材では、加熱や湿度にともなうそりが非常に小さなディスクとして提供可能となる。
Moreover, in order to investigate the curvature by humidity, these were thrown in for 25 days under 25 degreeC and 90% RH, and after taking out, the curvature angle according to time was investigated. The results are shown in FIG. All of Samples 1 to 4 were more effective than Comparative Sample 1.
Therefore, in the base material having a film formed of the silicone resin of the present invention as a protective film, it is possible to provide a disk with very small sag due to heating and humidity.

(実験例2)
表2に示す材料を用いたこと以外、実験例1と同様の方法で基材上に保護膜を形成した。主材のエステル部分における2塩基酸のアルキレン鎖の炭素数および主材の25℃における粘度をあわせて表2に示す。
(Experimental example 2)
A protective film was formed on the substrate in the same manner as in Experimental Example 1 except that the materials shown in Table 2 were used. The carbon number of the alkylene chain of the dibasic acid in the ester portion of the main material and the viscosity at 25 ° C. of the main material are shown in Table 2.

Figure 2006018944
Figure 2006018944

温度試験前後の反りの変化および湿度試験後の反りの経時的変化を実験例1と同様の方法で測定した。それらの結果を図3(A)および(B)に示す。なお、温度試験の結果では比較サンプル2の初期値を標準としている。図3(B)によると比較サンプル2は、もともと収縮が大きいためか水の放出にともなう基材の膨張の方が大きく、8時間後では2度も膨張することがわかった。これに対し、サンプルNo.5〜7は、反り角度が3時間後で0.5〜0.75にすでにほぼ飽和に達しており、湿度変形が大幅に抑制されていることがわかった。このことより、エステルアクリレートであっても炭素数を工夫することによって実使用が可能な材料構成になることわかる。   The change in warpage before and after the temperature test and the change over time in the warpage after the humidity test were measured in the same manner as in Experimental Example 1. The results are shown in FIGS. 3 (A) and (B). In the temperature test result, the initial value of the comparative sample 2 is used as a standard. According to FIG. 3 (B), it was found that the comparative sample 2 originally had a large shrinkage, or the base material was greatly expanded due to the release of water, and expanded 8 times after 8 hours. In contrast, sample no. In Nos. 5 to 7, it was found that the warp angle had already reached saturation at 0.5 to 0.75 after 3 hours, and humidity deformation was greatly suppressed. From this, it can be seen that even an ester acrylate has a material configuration that can be actually used by devising the number of carbon atoms.

(実験例3)
表3に示す保護膜材料を用いたこと以外、実験例1と同様の方法で基材上に保護膜を所定の厚みで形成した。さらに、表3に示すハードコート膜材料を用いたこと以外、実験例1と同様の方法で保護膜上にハードコート膜を所定の厚みで形成した。
(Experimental example 3)
A protective film having a predetermined thickness was formed on the substrate in the same manner as in Experimental Example 1 except that the protective film material shown in Table 3 was used. Further, a hard coat film having a predetermined thickness was formed on the protective film in the same manner as in Experimental Example 1 except that the hard coat film material shown in Table 3 was used.

温度試験前後の反りの変化および湿度試験後の反りの経時的変化を実験例1と同様の方法で測定した。表4には温度試験後の反り角度および湿度試験7時間後の反り角度を示す。
表面硬さを鉛筆硬度により評価した。表面強さをテーバー試験による傷の発生する回数で評価した。
The change in warpage before and after the temperature test and the change over time in the warpage after the humidity test were measured in the same manner as in Experimental Example 1. Table 4 shows the warp angle after the temperature test and the warp angle after 7 hours of the humidity test.
The surface hardness was evaluated by pencil hardness. The surface strength was evaluated by the number of scratches generated by the Taber test.

比較サンプルはそりも大きいことに加えて、表面硬さがあるにもかかわらず、2回で傷が発生するなど強さはなかった。これは、表面がポリマーの成分のみでなっているためと考えられる。これに対し、サンプルNo.8〜12では、温度や湿度変化に対しても変形が小さく、抑制されていることがわかる。また、粉体が含有されているので、表面は硬さが小さくても、強さは比較より3倍以上あった。このことから、本発明では、変形が少なく、かつ、記録、再生の安定した特性が保証されるディスクを提供可能である。   In addition to the large warpage, the comparative sample was not strong, such as scratches occurring twice, despite its surface hardness. This is presumably because the surface is composed only of polymer components. In contrast, sample no. In 8-12, it turns out that a deformation | transformation is small also with respect to a temperature and humidity change, and is suppressed. Moreover, since the powder was contained, even if the surface was small in hardness, the strength was more than three times that of the comparison. For this reason, the present invention can provide a disc that is less deformed and that guarantees stable recording and reproduction characteristics.

Figure 2006018944
Figure 2006018944

Figure 2006018944
Figure 2006018944

本発明の保護膜を備えた光ディスクは、保護膜側から光照射によって記録、再生するブルーレー用の光ディスクとして十分な性能が期待できる。これらは高密度のため、DVD、HDTV、コンピューターメモリなど民生、業務のあらゆる方面のメデイアとして利用可能である。   The optical disc provided with the protective film of the present invention can be expected to have sufficient performance as a Blu-ray optical disc for recording and reproduction by light irradiation from the protective film side. Since these are high in density, they can be used as media for every aspect of consumer and business such as DVD, HDTV and computer memory.

本発明の一実施形態の光ディスクの概略断面図を示す1 shows a schematic cross-sectional view of an optical disc according to an embodiment of the present invention. (A)は実験例1で行った温度試験の結果を示すグラフであり、(B)は実験例1で行った湿度試験の結果を示すグラフである。(A) is a graph which shows the result of the temperature test performed in Experimental example 1, (B) is a graph which shows the result of the humidity test performed in Experimental example 1. FIG. (A)は実験例2で行った温度試験の結果を示すグラフであり、(B)は実験例2で行った湿度試験の結果を示すグラフである。(A) is a graph which shows the result of the temperature test performed in Experimental example 2, (B) is a graph which shows the result of the humidity test performed in Experimental example 2.

符号の説明Explanation of symbols

1:基材、2:メディア層、3:保護膜。

1: base material, 2: media layer, 3: protective film.

Claims (11)

シロキサン骨格を含有する光硬化型シリコーン樹脂を重合させてなる保護膜を備えたことを特徴とする光ディスク。   An optical disc comprising a protective film obtained by polymerizing a photocurable silicone resin containing a siloxane skeleton. シロキサン骨格を含有し、分子中に、ビニル基、アクリル基、アクリルニトリル基およびエポキシ基からなる群から選択される1種以上の基を少なくとも1個有するシリコーン樹脂を、反応開始剤により重合させてなる保護膜を備えたことを特徴とする請求項1に記載の光ディスク。   A silicone resin containing a siloxane skeleton and having at least one group selected from the group consisting of a vinyl group, an acrylic group, an acrylonitrile group and an epoxy group in the molecule is polymerized with a reaction initiator. The optical disk according to claim 1, further comprising a protective film. シリコーン樹脂が分子中に、ビニル基、アクリル基およびアクリルニトリル基からなる群から選択される1種以上の基を少なくとも1個有し、反応開始剤がフェニルケトン類であることを特徴とする請求項2に記載の光ディスク。   The silicone resin has at least one group selected from the group consisting of a vinyl group, an acrylic group and an acrylonitrile group in the molecule, and the reaction initiator is a phenyl ketone. Item 3. The optical disk according to Item 2. シリコーン樹脂が分子中にエポキシ基を1〜3個有し、反応開始剤がルイス酸を発生させ、Sb、SnまたはFeのいずれか1種ならびにIおよびFを含むルイス酸アリルジアゾニウム塩であることを特徴とする請求項2に記載の光ディスク。   The silicone resin has 1 to 3 epoxy groups in the molecule, the reaction initiator generates a Lewis acid, and is a Lewis acid allyldiazonium salt containing any one of Sb, Sn or Fe and I and F. The optical disk according to claim 2. シリコーン樹脂が分子中にエポキシ基を3個有し、反応開始剤が一般式;
[R(C)]ISbF
(式中、Rは炭素原子数10〜14の1価炭化水素基である)で表される化合物であることを特徴とする請求項2に記載の光ディスク。
The silicone resin has 3 epoxy groups in the molecule and the reaction initiator is of the general formula;
[R (C 6 H 4 )] 2 ISbF 6
The optical disk according to claim 2, wherein the optical disk is a compound represented by the formula: wherein R is a monovalent hydrocarbon group having 10 to 14 carbon atoms.
炭素数1〜6のアルキレン鎖の両端にカルボキシル基を有する2塩基酸と多価アルコールとの水酸基含有エステル化物に(メタ)アクリル酸がエステル化反応してなるエステル変性(メタ)アクリレート樹脂を重合させてなる保護膜を備えたことを特徴とする光ディスク。   Polymerize ester-modified (meth) acrylate resin formed by esterification reaction of (meth) acrylic acid with a hydroxyl group-containing esterified product of a dibasic acid having a carboxyl group at both ends of an alkylene chain having 1 to 6 carbon atoms and a polyhydric alcohol An optical disc comprising a protective film formed by the method. 多価アルコールが炭素数3〜6の2〜4価脂肪族アルコールである請求項6に記載の光ディスク。   The optical disk according to claim 6, wherein the polyhydric alcohol is a divalent to tetravalent aliphatic alcohol having 3 to 6 carbon atoms. シロキサン骨格を含有する光硬化型シリコーン樹脂、または炭素数1〜6のアルキレン鎖の両端にカルボキシル基を有する2塩基酸と多価アルコールとの水酸基含有エステル化物に(メタ)アクリル酸がエステル化反応してなるエステル変性(メタ)アクリレート樹脂の重合物中に無機微粒子が含有されてなるハードコート膜を、保護膜上にさらに備えたことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光ディスク。   (Meth) acrylic acid is esterified to a photocurable silicone resin containing a siloxane skeleton, or a hydroxyl group-containing esterified product of a dibasic acid having a carboxyl group at both ends of an alkylene chain having 1 to 6 carbon atoms and a polyhydric alcohol The hard coat film in which inorganic fine particles are contained in the polymer of the ester-modified (meth) acrylate resin formed as described above is further provided on the protective film. optical disk. 無機微粒子がシリカ、パラモリブデン酸アンモニウムおよびウイスカからなる群から選択される1種以上の微粒子であることを特徴とする請求項8に記載の光ディスク。   The optical disk according to claim 8, wherein the inorganic fine particles are one or more fine particles selected from the group consisting of silica, ammonium paramolybdate, and whiskers. 無機微粒子の平均一次粒径が10〜100nmであることを特徴とする請求項8または9に記載の光ディスク。   10. The optical disk according to claim 8, wherein the average primary particle diameter of the inorganic fine particles is 10 to 100 nm. 保護膜とハードコート膜との合計厚みが98〜102μmであることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載の光ディスク。


11. The optical disk according to claim 8, wherein the total thickness of the protective film and the hard coat film is 98 to 102 [mu] m.


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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016079349A (en) * 2014-10-21 2016-05-16 リンテック株式会社 Curable composition for silicone coating layer and silicone coated sheet

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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