JP2011210335A - Photopolymerized resin composition for optical recording medium, cured material, and optical recoding medium - Google Patents

Photopolymerized resin composition for optical recording medium, cured material, and optical recoding medium Download PDF

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裕己 橘
Yuichi Kawada
雄一 川田
Minoru Urata
稔 浦田
Yoshiaki Majima
宣明 真嶋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a photopolymerized resin composition for an optical recording medium, which are excellent in curing and demolding, improves resistance to weatherability of the optical recording medium for recording and reproducing by a blue laser beam, and achieves highly reliable recording and reproducing; a cured material; and an optical recording medium having a layer formed by such a resin component.SOLUTION: The photopolymerized resin composition used for the optical recording medium which records and reproduces by the blue laser beam includes a photopolymerized resin and benzotriazole chemical compound having a predetermined configuration. The optical recording medium has a layer formed by the photopolymerized resin composition, and the layer is 1 to 200 μm in thickness.

Description

本発明は、光記録媒体用光重合性樹脂組成物、硬化物及び光記録媒体に関する。より詳しくは、青色レーザー光により記録や再生を行う光記録媒体に用いられる光重合性の樹脂組成物及びその硬化物、並びに、光記録媒体に関する。 The present invention relates to a photopolymerizable resin composition for optical recording media, a cured product, and an optical recording medium. More specifically, the present invention relates to a photopolymerizable resin composition used for an optical recording medium for recording and reproducing with blue laser light, a cured product thereof, and an optical recording medium.

近年、情報技術の発展により、音楽、画像、映像等の膨大なデジタル情報を長期間保存するための高密度大容量の光記録媒体(光ディスク)が要求されている。例えば、デジタルハイビジョン放送が始まったことで、フルハイビジョン対応の大画面の液晶やプラズマテレビが普及するようになったが、従来の光記録媒体であるDVD(digital versatile disc)では記録容量が小さく、高品位の動画像を長時間録画することができなかった。そこで、高密度大容量の光記録媒体の新規格として、青色レーザー光で情報を記録・再生するブルーレイディスク(BD)が開発され、販売されるようになった。この新規格では、大容量化のために短波長(約405nm)の青色レーザー光及び高開口数(NA)が採用され、DVDの約5倍以上もの大容量化が実現されている。このような光記録媒体は、通常、基板上に記録層、反射層及び光透過層(保護層)が積層された構成からなり、記録再生時にはレーザー光が光透過層を通して記録層に照射され、記録や再生が行われる仕組みとなっている。 In recent years, with the development of information technology, a high-density and large-capacity optical recording medium (optical disk) for storing a large amount of digital information such as music, images and videos for a long period of time has been demanded. For example, the launch of digital high-definition broadcasting has led to the spread of large-screen LCDs and plasma televisions that are compatible with full high-definition, but DVD (digital versatile disc), which is a conventional optical recording medium, has a small recording capacity, High-quality moving images could not be recorded for a long time. Therefore, as a new standard for high-density and large-capacity optical recording media, a Blu-ray Disc (BD) that records and reproduces information with blue laser light has been developed and sold. In this new standard, a blue laser beam with a short wavelength (about 405 nm) and a high numerical aperture (NA) are adopted to increase the capacity, and the capacity is increased to about 5 times or more that of a DVD. Such an optical recording medium usually has a configuration in which a recording layer, a reflective layer, and a light transmission layer (protective layer) are laminated on a substrate, and at the time of recording and reproduction, a laser beam is irradiated to the recording layer through the light transmission layer, It is a mechanism for recording and playback.

従来の光記録媒体に関し、例えば、特許文献1には、基板と、第一の反射膜と、これに密着して形成された樹脂層と、該樹脂層に密着して配置された第二の反射膜とを有する光学的記録媒体において、樹脂層を形成する光重合性樹脂組成物として、光重合性樹脂と、特定のベンゾトリアゾール誘導体を主成分とし、かつ含有割合が特定された添加剤と、光重合開始剤とを含有する形態が開示されている。特許文献1ではまた、当該光重合性樹脂組成物が2枚の基板の貼り合わせに用いられることが開示され、具体的な形態としてコンパクトディスク(CD)やDVDが示されている。 Regarding conventional optical recording media, for example, Patent Document 1 discloses a substrate, a first reflective film, a resin layer formed in close contact with the substrate, and a second disposed in close contact with the resin layer. In an optical recording medium having a reflective film, as a photopolymerizable resin composition for forming a resin layer, a photopolymerizable resin and an additive mainly containing a specific benzotriazole derivative and having a specified content ratio A form containing a photopolymerization initiator is disclosed. Patent Document 1 also discloses that the photopolymerizable resin composition is used for bonding two substrates, and shows a compact disc (CD) or DVD as a specific form.

特許第4406499号明細書Japanese Patent No. 4406499

上記のように、特許文献1には、実質的に、2枚の基板を貼り合わせた構造からなる光記録媒体に用いられる光重合性樹脂組成物が開示されている。このような構造の光記録媒体としては、約650nmの光記録レーザーを用いて記録を行うDVDが挙げられるが、その構造面から、すなわち光重合性樹脂組成物から形成される樹脂層及び記録層が2枚の基板間に挟まれた構造からなるため、高温高湿条件下での耐候性の維持は行いやすい。しかし、新規格の光記録媒体、すなわち青色レーザー光で情報を記録・再生する光記録媒体では、光重合性樹脂組成物から形成される光透過層(保護層)が、基板の片側で、かつレーザー光が入射される側にのみ存在する構造となるため、光透過層は外部環境の影響を受けやすく、耐久性、耐光性、耐候性の維持が課題となる。 As described above, Patent Document 1 discloses a photopolymerizable resin composition used for an optical recording medium having a structure in which two substrates are bonded together. Examples of the optical recording medium having such a structure include a DVD for recording using an optical recording laser of about 650 nm. From the structural aspect, that is, a resin layer and a recording layer formed from a photopolymerizable resin composition. Therefore, it is easy to maintain weather resistance under high temperature and high humidity conditions. However, in a new standard optical recording medium, that is, an optical recording medium that records and reproduces information with blue laser light, the light transmission layer (protective layer) formed from the photopolymerizable resin composition is on one side of the substrate, and Since the structure exists only on the side on which the laser light is incident, the light transmission layer is easily affected by the external environment, and maintenance of durability, light resistance, and weather resistance becomes a problem.

ところで、青色レーザー光で情報を記録・再生する光記録媒体を製造する場合、例えば、記録層を1層有する1層式光記録媒体は、通常、基板上に記録層及び反射層(反射膜)をこの順に設けた後に、光透過層(保護層、カバー層)を形成し、更に必要に応じてハードコート層を形成することにより製造されている。このうち、光透過層の形成は、通常、反射膜を構成する金属層に樹脂組成物をスピンコートする等した後、硬化させているが、本発明者等は、このように樹脂組成物の片面が金属層(反射膜)に接し、他面が気相(大気)に接した状態で硬化が行われる場合に、反射膜から溶出される金属イオンと酸素とが、樹脂組成物中で相互作用を引き起こし、硬化時に硬化ムラを生じることがある。硬化ムラによる硬化不良部分があると情報の記録・再生に影響を及ぼすため、硬化ムラが充分に抑制された光透過層を得るための工夫の余地があった。 By the way, when manufacturing an optical recording medium for recording / reproducing information with blue laser light, for example, a single-layer optical recording medium having one recording layer is usually a recording layer and a reflective layer (reflective film) on a substrate. Are provided in this order, and then a light transmission layer (protective layer, cover layer) is formed, and a hard coat layer is further formed as necessary. Of these, the formation of the light transmission layer is usually carried out after the resin composition is spin-coated on the metal layer constituting the reflective film and then cured. When curing is performed with one side in contact with the metal layer (reflection film) and the other side in contact with the gas phase (atmosphere), the metal ions and oxygen eluted from the reflection film interact with each other in the resin composition. This may cause an effect and cause uneven curing during curing. If there is a poorly cured part due to uneven curing, information recording / reproduction is affected, so there is room for contrivance to obtain a light-transmitting layer in which uneven curing is sufficiently suppressed.

また光記録媒体として、記録容量の増大を目的とし、多層の記録層を持つ光記録媒体を製造する場合もある。例えば、記録層を2層有する2層式光記録媒体は、通常、基板上に第一の記録層及び反射層(反射膜)をこの順に設けた後、これとは別に金型(樹脂スタンパ等)を用いて中間層を形成し、更に該中間層と、第一の記録層上の反射層とを貼り合わせ、次いで該金型を中間層から剥離した後に、第二の記録層及び反射層を形成し、その後、1層式光記録媒体と同様に、光透過層(保護層、カバー層)を形成し、更に必要に応じてハードコート層を形成することにより製造されている。このうち、中間層の形成は、通常、金型に樹脂組成物をスピンコートする等した後、硬化させているが、このように樹脂組成物の片面が金属層(反射膜)に接し、他面が金型に接した状態で硬化が行われる場合、片面が気相ではないため、上述のような酸素の影響は受けない。しかし、金型に接した状態で硬化した後、その金型を剥離させ、次の記録層を設ける必要があるため、金型が簡易に剥がれることが課題となる。 As an optical recording medium, an optical recording medium having a plurality of recording layers may be manufactured for the purpose of increasing the recording capacity. For example, in a two-layer optical recording medium having two recording layers, a first recording layer and a reflective layer (reflective film) are usually provided on a substrate in this order, and then a mold (resin stamper or the like) is provided separately. ), And the intermediate layer and the reflective layer on the first recording layer are bonded together, and then the mold is peeled from the intermediate layer, and then the second recording layer and the reflective layer After that, as in the case of a single-layer optical recording medium, a light transmission layer (protective layer, cover layer) is formed, and a hard coat layer is further formed as necessary. Of these, the intermediate layer is usually formed by spin-coating the resin composition on the mold and then cured, but one side of the resin composition is in contact with the metal layer (reflective film) in this way. When curing is performed in a state where the surface is in contact with the mold, since one surface is not in a gas phase, it is not affected by oxygen as described above. However, since it is necessary to peel off the mold after curing in a state where it is in contact with the mold and to provide the next recording layer, it is a problem that the mold is easily peeled off.

青色レーザー光で情報を記録・再生する光記録媒体はまた、光透過層が基板の片側にのみ存在し、光記録媒体の厚み方向に非対称な構造からなるため、2枚の基板を貼り合わせた対称構造からなるDVD等に比較して、構造的に反りやすい性質を有する。また、DVD等に比べて光透過層の膜厚が大きい場合もあるが、この場合は、光重合時の硬化収縮も大きくなるため、基板が反りやすい。このようなことから、予め基板を塗布面とは逆に反らすようにしたり、再生・記録装置での補正等が行われたりもするが、許容範囲(補正可能な範囲)を超えた反りが発生すると、光記録媒体への正確なデータ記録や再生ができない場合や、再生・記録装置への出し入れができなくなる場合もある。
このような、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体の反りを向上又は改善するため、それに用いられる光重合性樹脂組成物として、硬化物のガラス転移温度(Tg)が50℃以下と低い軟質材料を用いることも検討されている。しかしながら、このような光記録媒体に軟質材料を用いた場合は、軟質材料が吸湿しやすいことに起因して、光記録媒体の耐光性が充分とはならず、外部環境の影響を受けやすいため、腐食や着色の可能性があった。なお、Tgが50℃を超えるような硬質材料を用いた場合は、このような課題は見いだせない。
An optical recording medium that records and reproduces information with blue laser light also has a light-transmitting layer only on one side of the substrate and has an asymmetric structure in the thickness direction of the optical recording medium. Compared to a DVD or the like having a symmetric structure, it has the property of being easily warped structurally. Moreover, although the film thickness of the light transmission layer may be larger than that of DVD or the like, in this case, curing shrinkage at the time of photopolymerization also increases, so that the substrate tends to warp. For this reason, the substrate may be warped in the opposite direction to the coating surface in advance, or correction may be performed by the playback / recording device, but warpage exceeding the allowable range (correctable range) occurs. Then, there are cases where accurate data recording and reproduction on the optical recording medium cannot be performed, and that data cannot be loaded into and removed from the reproduction / recording apparatus.
In order to improve or improve the warp of such an optical recording medium that records and / or reproduces with blue laser light, the photopolymerizable resin composition used therefor has a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. The use of soft materials such as the following is also being studied. However, when a soft material is used for such an optical recording medium, the light resistance of the optical recording medium is not sufficient because the soft material easily absorbs moisture, and it is easily affected by the external environment. There was a possibility of corrosion and coloring. Such a problem cannot be found when a hard material having a Tg exceeding 50 ° C. is used.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、硬化性及び離型性に優れるうえ、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体の耐候性を著しく向上することができ、より信頼性の高い記録・再生を実現することができる光記録媒体用光重合性樹脂組成物、その硬化物、及び、このような樹脂組成物から形成される層を有する光記録媒体を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above situation, and is excellent in curability and releasability, and can significantly improve the weather resistance of an optical recording medium for recording and / or reproduction with blue laser light, Provided is a photopolymerizable resin composition for optical recording media capable of realizing more reliable recording / reproduction, a cured product thereof, and an optical recording medium having a layer formed from such a resin composition. It is for the purpose.

本発明者等は、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体に用いられる光重合性樹脂組成物について種々検討するうち、該樹脂組成物を光重合性樹脂と特定構造のベンゾトリアゾール化合物とを含むものとすると、そのメカニズムは詳しくは分からないものの、その硬化物の耐光性、耐久性及び耐候性が顕著に向上することを見いだし、例えば、車内等の高温高湿に晒されやすい場所や、紫外線や室内灯等の光源に晒される場所等で保存又は使用した場合にも、長期安定的に記録再生特性を発揮できることを見いだした。また、このような樹脂組成物として特定構造のベンゾトリアゾール化合物を含むものを用いることにより、例えば、光重合性樹脂組成物の一方の面が金属(反射膜)と接し、他方の面が気相(大気)に接した状態で該光重合性樹脂組成物を硬化させる際の硬化ムラが充分に抑制されることも見いだした。これは、特定構造のベンゾトリアゾール化合物によって、金属イオンと酸素との相互作用が抑えられるためであると考えられる。更に、硬化物が金型からの離型性にも優れるという効果を発揮できることも見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到した。
なお、本明細書中、「金型」とは、例えば、金属、セラミック、ガラス、樹脂製等の型をいい、樹脂スタンパ等も含まれる。
The inventors of the present invention have studied various photopolymerizable resin compositions for use in optical recording media that perform recording and / or reproduction with blue laser light. Among these, the resin composition is used as a photopolymerizable resin and a benzotriazole having a specific structure. If it contains a compound, its mechanism is not known in detail, but it has been found that the light resistance, durability and weather resistance of the cured product are remarkably improved. For example, it is easily exposed to high temperature and high humidity such as in a car. In addition, the present inventors have found that recording / reproducing characteristics can be stably exhibited for a long time even when stored or used in a place exposed to a light source such as ultraviolet light or room light. Further, by using such a resin composition containing a benzotriazole compound having a specific structure, for example, one surface of the photopolymerizable resin composition is in contact with a metal (reflective film), and the other surface is a gas phase. It has also been found that uneven curing when the photopolymerizable resin composition is cured in contact with (atmosphere) is sufficiently suppressed. This is presumably because the interaction between the metal ion and oxygen is suppressed by the benzotriazole compound having a specific structure. Furthermore, it has been found that the cured product can exhibit an effect of being excellent in releasability from the mold, and has come up with the idea that the above problems can be solved brilliantly.
In the present specification, the “metal mold” refers to a mold made of, for example, metal, ceramic, glass, or resin, and includes a resin stamper or the like.

また、上述したように、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体に用いられる光重合性樹脂組成物として、硬化物のガラス転移温度(Tg)が低い(50℃以下)軟質材料を用いた場合には、腐食や着色の可能性があるが、本発明者等は、光重合性樹脂組成物としてこのような軟質材料を用いた場合であっても、特定構造のベンゾトリアゾール化合物を含むものとすることによって、耐光性が低下することなく向上されると同時に、硬化収縮が低減されて反り特性にも優れる光記録媒体を実現することを見いだした。すなわち、本発明はまた、光重合性樹脂組成物として軟質材料を使用して初めて認識される課題をも、ベンゾトリアゾール化合物を用いることで解決したものであり、ここにも本発明の重要な技術的意義を有する。なお、硬化時の反りが小さいことに起因して、光記録媒体の生産性が向上されることにもなる。 In addition, as described above, as a photopolymerizable resin composition used for an optical recording medium for recording and / or reproducing with blue laser light, a soft material having a low glass transition temperature (Tg) (50 ° C. or less) of a cured product. However, the present inventors may use a benzotriazole compound having a specific structure even when such a soft material is used as the photopolymerizable resin composition. It has been found that the optical recording medium can be improved without lowering the light resistance, and at the same time, the curing shrinkage can be reduced and the warp characteristics can be improved. That is, the present invention has also solved the problem recognized for the first time by using a soft material as a photopolymerizable resin composition by using a benzotriazole compound, which is also an important technique of the present invention. Has significant significance. Note that the productivity of the optical recording medium is also improved due to the small warpage during curing.

すなわち本発明は、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体に用いられる光重合性樹脂組成物であって、該光重合性樹脂組成物は、光重合性樹脂、及び、下記一般式(1): That is, the present invention relates to a photopolymerizable resin composition used for an optical recording medium for recording and / or reproduction by blue laser light, the photopolymerizable resin composition comprising: a photopolymerizable resin; Formula (1):

Figure 2011210335
Figure 2011210335

(式中、R及びRは、同一若しくは異なって、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基、カルボキシル基、又は、水酸基を表す。)で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有し、該光記録媒体は、該光重合性樹脂組成物から形成される層を有し、該層の厚みは1〜200μmである光記録媒体用光重合性樹脂組成物である。
本発明はまた、上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物でもある。本発明は更に、上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物から形成される層を有する光記録媒体でもある。
以下に本発明を詳述する。
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a carboxyl group, or a hydroxyl group). The optical recording medium has a layer formed from the photopolymerizable resin composition, and the thickness of the layer is 1 to 200 μm. It is a thing.
The present invention is also a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition for optical recording media. The present invention is also an optical recording medium having a layer formed from the photopolymerizable resin composition for optical recording medium.
The present invention is described in detail below.

〔光記録媒体用光重合性樹脂組成物〕
本発明の光記録媒体用光重合性樹脂組成物(以下、「光重合性樹脂組成物」又は「樹脂組成物」とも称す)は、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体(「光学的記録媒体」又は「光ディスク」とも称す)に用いられるものであり、当該光記録媒体を構成する少なくとも一つの層を形成するものである。青色レーザー光とは、約405nm程度の波長を有するレーザー光が好適であるが、このようなレーザー光により記録等を行う光記録媒体、すなわち、いわゆるブルーレイディスクに使用されることによって、数十年以上の長期間にわたって安定して記録・再生ができるという利点が顕著に発揮される。このような樹脂組成物は、例えば、再生専用型(BD−ROM)の光記録媒体の他、記録可能な、追記型(BD−R)や書き換え型(BD−RE)の光記録媒体等のいずれにも好ましく使用できる。
[Photopolymerizable resin composition for optical recording medium]
The photopolymerizable resin composition for optical recording media of the present invention (hereinafter also referred to as “photopolymerizable resin composition” or “resin composition”) is an optical recording medium that records and / or reproduces with blue laser light ( (Also referred to as “optical recording medium” or “optical disk”), and forms at least one layer constituting the optical recording medium. The blue laser beam is preferably a laser beam having a wavelength of about 405 nm, but it has been used for several decades by being used in an optical recording medium for recording with such a laser beam, that is, a so-called Blu-ray disc. The advantage that recording / reproduction can be stably performed over the above-described long period is remarkably exhibited. Such resin compositions include, for example, recordable write-once (BD-R) and rewritable (BD-RE) optical recording media as well as read-only (BD-ROM) optical recording media. Any of them can be preferably used.

上記光重合性樹脂組成物は、光重合性樹脂及びベンゾトリアゾール化合物を必須成分として含有するものであるが、本発明の作用効果を損なわない限り、他の成分を更に含有していてもよい。また、これら含有成分は、各々1種又は2種以上使用してもよい。 The photopolymerizable resin composition contains a photopolymerizable resin and a benzotriazole compound as essential components, but may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Moreover, you may use these content components 1 type (s) or 2 or more types, respectively.

上記光重合性樹脂組成物としては、該光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物のガラス転移温度(Tg)が50℃以下であるものが好適である。これによって、光重合時の硬化収縮が低減され、光記録媒体における反りが充分に抑制されるため、より長期安定的に記録再生特性を発揮することが可能になる。また、この場合には、厚みの大きい樹脂膜を形成した場合にも硬化収縮を充分に低減できるため、より広範囲の用途に好適なものとなる。上記Tgの上限値は、より好ましくは40℃、更に好ましくは30℃である。また、下限値は−20℃であることが好ましく、より好ましくは−10℃、更に好ましくは0℃である。 As the photopolymerizable resin composition, a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition has a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or less. As a result, curing shrinkage during photopolymerization is reduced, and warping in the optical recording medium is sufficiently suppressed, so that it is possible to exhibit recording and reproduction characteristics more stably over a long period of time. In this case, even when a resin film having a large thickness is formed, curing shrinkage can be sufficiently reduced, so that it is suitable for a wider range of applications. The upper limit value of the Tg is more preferably 40 ° C., still more preferably 30 ° C. Moreover, it is preferable that a lower limit is -20 degreeC, More preferably, it is -10 degreeC, More preferably, it is 0 degreeC.

上記光重合性樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度は、当該光重合性樹脂組成物を下記硬化方法によって硬化して得た硬化物について、下記測定条件の下、動的粘弾性の測定を行い、得られた値を採用する。なお、ガラス転移温度は、最大tanδ値の温度を採用するものとする。
(硬化方法)
厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(PC基板)上に、スピンコーターにて樹脂組成物を厚さ100μm設定で塗布する。得られたPC基板を、キセノンフラッシュUVランプを有するUV照射機(米国キセノン社製 形式RC−801)を用いて、窒素雰囲気下、ランプ高さ2cmでフラッシュを15回照射して硬化を完結させる。なお、320〜390nmにおける照射積算光量は約0.5J/cmとする。
(測定条件)
引っ張りモード、周波数1Hz、クランプ距離25mm、振幅0.1%、昇温速度5℃/分の条件で動的粘弾性の測定を行う。
The glass transition temperature of the cured product of the photopolymerizable resin composition was measured for dynamic viscoelasticity under the following measurement conditions for a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition by the following curing method. And use the value obtained. In addition, the glass transition temperature shall employ the temperature of the maximum tan δ value.
(Curing method)
A resin composition is applied on a polycarbonate substrate (PC substrate) having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm with a spin coater at a thickness of 100 μm. The obtained PC substrate is irradiated with a flash of 15 times at a lamp height of 2 cm in a nitrogen atmosphere using a UV irradiator having a xenon flash UV lamp (model RC-801, manufactured by Xenon, USA) to complete the curing. . In addition, the irradiation integrated light quantity in 320-390 nm shall be about 0.5 J / cm < 2 >.
(Measurement condition)
The dynamic viscoelasticity is measured under the conditions of a tensile mode, a frequency of 1 Hz, a clamp distance of 25 mm, an amplitude of 0.1%, and a heating rate of 5 ° C./min.

<ベンゾトリアゾール化合物>
本発明におけるベンゾトリアゾール化合物は、上記一般式(1)で表される化合物であり、1種又は2種以上を使用することができる。
ここで、耐光性を改善する試薬として、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やヒンダードアミン系光安定剤(HALS)等の試薬が知られているが、これらの試薬は、構造及び作用面で、上記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール化合物と明確に相違する。上記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール化合物は、構造中にN=N−N(R)基を有するが、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等では、この部分がN−N(A)−N基となっており、中間に位置するN原子の置換基Aによって紫外線吸収作用や光安定作用を奏している。しかし、上記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール化合物は、このような置換基Aを有しないため、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等と同様のメカニズムで紫外線吸収作用や光安定作用を発揮することはできないと考えられる。
<Benzotriazole compound>
The benzotriazole compound in this invention is a compound represented by the said General formula (1), and can use 1 type (s) or 2 or more types.
Here, as a reagent for improving light resistance, reagents such as benzotriazole ultraviolet absorbers and hindered amine light stabilizers (HALS) are known. However, these reagents have the above-mentioned general formula in terms of structure and operation. This is clearly different from the benzotriazole compound represented by (1). The benzotriazole compound represented by the general formula (1) has an N = N—N (R 2 ) group in the structure, but in a benzotriazole-based ultraviolet absorber or the like, this part is NN (A). It is an -N group, and exhibits an ultraviolet absorption action and a light stabilization action by the substituent A of the N atom located in the middle. However, since the benzotriazole compound represented by the general formula (1) does not have such a substituent A, it exhibits an ultraviolet absorption action and a light stabilization action by the same mechanism as that of the benzotriazole ultraviolet absorber and the like. It is considered impossible.

上記一般式(1)において、R及びRは、同一若しくは異なって、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基、カルボキシル基、又は、水酸基を表すが、中でも、水素原子又はカルボキシル基が好適である。より好ましくは、Rがカルボキシル基(−COOH)であることであり、これによって、上記樹脂組成物から形成される樹脂層と他の層(反射膜等)との密着性がより高まるだけでなく、耐光性に更に優れる光記録媒体となり得る。また、Rとしてより好ましくは水素原子である。 In the general formula (1), R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a carboxyl group, or a hydroxyl group. Of these, a hydrogen atom or a carboxyl group is preferred. More preferably, R 1 is a carboxyl group (—COOH), which only increases the adhesion between the resin layer formed from the resin composition and other layers (reflection film, etc.). Therefore, the optical recording medium can be more excellent in light resistance. R 2 is more preferably a hydrogen atom.

上記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール化合物として具体的には、例えば、下記一般式(2−1)〜(2−6)で表される化合物等が好適であり、上記ベンゾトリアゾール化合物が、これらの化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物である形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。 Specifically, as the benzotriazole compound represented by the general formula (1), for example, compounds represented by the following general formulas (2-1) to (2-6) are preferable, and the benzotriazole compound is preferable. A form in which is at least one compound selected from the group consisting of these compounds is also a preferred form of the present invention.

Figure 2011210335
Figure 2011210335

上記ベンゾトリアゾール化合物の含有量は、上記光重合性樹脂100重量部に対し、0.0001〜0.5重量部であることが好適である。0.0001重量部以上であれば、本発明の作用効果をより充分に発揮することが可能となる。また、0.5重量部以下であると、上記樹脂組成物から形成される層(硬化物、硬化膜)の耐光性がより向上されるとともに、当該層がより吸湿しにくくなるため、着色がより抑制され、更に一層長期保存安定性に優れる光記録媒体を実現することが可能になる。上記含有量の上限値は、より好ましくは0.3重量部、更に好ましくは0.1重量部、特に好ましくは0.04重量部である。また、下限値は、より好ましくは0.0005重量部、更に好ましくは0.001重量部である。 The content of the benzotriazole compound is preferably 0.0001 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photopolymerizable resin. If it is 0.0001 weight part or more, it will become possible to fully exhibit the effect of this invention. In addition, when the amount is 0.5 parts by weight or less, the light resistance of the layer (cured product, cured film) formed from the resin composition is further improved, and the layer is more difficult to absorb moisture. It is possible to realize an optical recording medium that is further suppressed and further excellent in long-term storage stability. The upper limit of the content is more preferably 0.3 parts by weight, still more preferably 0.1 parts by weight, and particularly preferably 0.04 parts by weight. The lower limit is more preferably 0.0005 parts by weight, and still more preferably 0.001 parts by weight.

<光重合性樹脂>
上記光重合性樹脂は、紫外線等の光で重合(硬化)し得る樹脂であればよいが、(メタ)アクリロイル基を有する化合物((メタ)アクリレート化合物)の1種又は2種以上を含むものであることが好適である。より好ましくは、上記(メタ)アクリレート化合物として、(I’)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された(メタ)アクリレート化合物と、(III)該(I’)成分以外の、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物とを少なくとも用いることであり、各種物性により優れた光記録媒体を好適に得ることが可能になる。また必要に応じて、これら以外の(メタ)アクリレート化合物を含んでいてもよい。
<Photopolymerizable resin>
The photopolymerizable resin may be any resin that can be polymerized (cured) with light such as ultraviolet rays, but includes one or more compounds having a (meth) acryloyl group ((meth) acrylate compound). Is preferred. More preferably, as the (meth) acrylate compound, (I ′) (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone, and (III) urethane (meta) other than the component (I ′). ) Using at least one compound selected from the group consisting of an acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, an epoxy (meth) acrylate compound, and an oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain. Thus, an optical recording medium excellent in various physical properties can be suitably obtained. Moreover, you may contain (meth) acrylate compounds other than these as needed.

上記(メタ)アクリレート化合物(例えば、上記(I’)や(III)成分の他、これら以外の(メタ)アクリレート化合物等)はまた、上記光重合性樹脂中のその合計量に対する平均アクリル当量が140以上となるように使用することが好適である。これにより、光記録媒体の反りがより低減され、本発明の作用効果をより充分に発揮することが可能になる。より好ましくは150以上、更に好ましくは180以上である。また、400以下であることが好適であり、これによって、光記録媒体に凹み等が付くことがより抑制され、長期保存安定性を更に充分に発揮できる。より好ましくは350以下、更に好ましくは300以下である。
なお、本発明においては、上記アクリル当量が150以上であって、かつ、該光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物のガラス転移温度(Tg)、Tgにおける損失正接tanδ及び貯蔵弾性率が、上述又は後述の好適な範囲内にあると、反り特性等に更に一層優れた光記録媒体を与えることが可能になる。特に、それぞれの好適な範囲内で、Tg又は貯蔵弾性率が小さいほど、またアクリル当量又は損失正接tanδが大きいほど、より良い傾向が見られる。
The (meth) acrylate compound (for example, (meth) acrylate compound other than the above (I ′) and (III) components, etc.) also has an average acrylic equivalent to its total amount in the photopolymerizable resin. It is suitable to use so that it may become 140 or more. Thereby, the warp of the optical recording medium is further reduced, and the operational effects of the present invention can be more fully exhibited. More preferably, it is 150 or more, More preferably, it is 180 or more. Moreover, it is suitable that it is 400 or less, and thereby, it is possible to further suppress the formation of dents or the like in the optical recording medium, and to further sufficiently exhibit long-term storage stability. More preferably, it is 350 or less, More preferably, it is 300 or less.
In the present invention, the acrylic equivalent is 150 or more, and the cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition has a glass transition temperature (Tg), a loss tangent tan δ at Tg, and storage elasticity. When the ratio is within the above-mentioned or below-described preferable range, it becomes possible to provide an optical recording medium that is further excellent in warp characteristics and the like. In particular, within each preferred range, the smaller the Tg or storage modulus, and the greater the acrylic equivalent or loss tangent tan δ, the better the trend.

上記(メタ)アクリレート化合物の合計量に対する平均アクリル当量は、Mx×Ax÷Aの総和で求められる。
Mxとは、(メタ)アクリル酸エステル((メタ)アクリレート化合物)xの分子量(※)であり、(メタ)アクリル酸エステルxが有する(メタ)アクリロイル基が1つの場合は、該(メタ)アクリル酸エステルxの分子量の値を「Mx」とする。(メタ)アクリロイル基が2つ以上の場合は、(メタ)アクリル酸エステルxの分子量÷(メタ)アクリロイル基の数を「Mx」とする。
Axは、(メタ)アクリル酸エステルxの質量(質量部)である。
Aは、樹脂組成物に含まれる全ての(メタ)アクリル酸エステルの合計量の総和(質量部)である。
※ここでいう分子量としては、上記(III)成分については数平均分子量(Mn)を採用し、それ以外の(メタ)アクリレート化合物については、構成する元素の原子量の総和として計算された値を採用する。
The average acrylic equivalent to the total amount of the (meth) acrylate compound is determined by the sum of Mx × Ax ÷ A.
Mx is the molecular weight (*) of the (meth) acrylic acid ester ((meth) acrylate compound) x, and when the (meth) acrylic acid ester x has one (meth) acryloyl group, the (meth) The value of the molecular weight of the acrylate ester x is “Mx”. When there are two or more (meth) acryloyl groups, the molecular weight of (meth) acrylic acid ester x divided by the number of (meth) acryloyl groups is “Mx”.
Ax is the mass (part by mass) of the (meth) acrylic ester x.
A is the sum total (parts by mass) of the total amount of all (meth) acrylic acid esters contained in the resin composition.
* As the molecular weight here, the number average molecular weight (Mn) is used for the above (III) component, and the value calculated as the sum of the atomic weights of the constituent elements is used for the other (meth) acrylate compounds. To do.

上記(メタ)アクリレート化合物のうち、(I’)成分、すなわちアルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された(メタ)アクリレート化合物としては、(I)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を2つ有する(メタ)アクリレート化合物と、(II)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を3つ以上有する(メタ)アクリレート化合物とを併用することが好ましい。すなわち、上記(I’)成分が、(I)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を2つ有する(メタ)アクリレート化合物と、(II)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を3つ以上有する(メタ)アクリレート化合物とからなる形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。これによって、各種物性をよりバランスよく同時に発揮できる光記録媒体を与えることが可能になる。 Among the above (meth) acrylate compounds, (I ′) component, that is, (meth) acrylate compounds modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone, are modified with (I) alkylene oxide and / or ε-caprolactone. In addition, a (meth) acrylate compound having two radically polymerizable unsaturated groups in the molecule and (II) three radically polymerizable unsaturated groups modified in the molecule with alkylene oxide and / or ε-caprolactone. It is preferable to use together with the (meth) acrylate compound having the above. That is, the component (I ′) is (I) a (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone and having two radically polymerizable unsaturated groups in the molecule, and (II) alkylene. A form composed of a (meth) acrylate compound modified with an oxide and / or ε-caprolactone and having three or more radically polymerizable unsaturated groups in the molecule is also a preferred form of the present invention. This makes it possible to provide an optical recording medium that can simultaneously exhibit various physical properties in a more balanced manner.

上記光重合性樹脂として特に好適な形態は、(I)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を2つ有する(メタ)アクリレート化合物と、(II)アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を3つ以上有する(メタ)アクリレート化合物と、(III)該(I)及び(II)以外の、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物とを必須成分とし、必要に応じて、更に(IV)該(I)〜(III)成分以外の(メタ)アクリレート化合物を含むものである。これによって、硬化物の耐候性が向上するのみならず、透明性や膜厚安定性等の諸物性を充分に発揮でき、かつ長期安定的に反りや永久的な変形が抑制され、しかも表面平滑性に優れ、より信頼性の高い記録・再生を実現できるという作用効果を更に一層発揮することが可能になる。なお、これらの成分は、各々1種又は2種以上使用してもよく、本発明の作用効果を損なわない限り、他の成分を更に含有していてもよい。
以下では、上記(I)に該当する各化合物を「化合物(I)」と称し、化合物(I)の集合体(すなわち、1以上の化合物(I)の総称)を「(I)成分」と称す。上記(II)〜(IV)についても、これと同様に称す。
A form particularly suitable as the photopolymerizable resin is (I) a (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone and having two radically polymerizable unsaturated groups in the molecule; ) A (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone and having 3 or more radically polymerizable unsaturated groups in the molecule, and (III) urethane other than (I) and (II) Essentially, a (meth) acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, an epoxy (meth) acrylate compound, and at least one compound selected from the group consisting of an oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain And, if necessary, (IV) (meth) actives other than the components (I) to (III) It contains a related compound. As a result, not only the weather resistance of the cured product is improved, but also various physical properties such as transparency and film thickness stability can be sufficiently exhibited, and warpage and permanent deformation can be stably suppressed for a long period of time, and surface smoothness can be achieved. It is possible to further exhibit the operational effect of realizing high-reliability recording and reproduction with higher reliability. Each of these components may be used alone or in combination of two or more, and may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired.
Hereinafter, each compound corresponding to the above (I) is referred to as “compound (I)”, and an aggregate of compounds (I) (that is, a generic term of one or more compounds (I)) is referred to as “component (I)”. Call it. The above (II) to (IV) are also referred to in the same manner.

上記光重合性樹脂において、(I)、(II)、(III)及び(IV)成分の含有割合としては、これらの総量100質量%に対し、各々、(I)10〜60質量%、(II)20〜60質量%、(III)10〜50質量%、(IV)0〜30質量%であることが好適である。このような範囲に設定することにより、得られる硬化物が耐光性、耐久性、耐候性、透明性、残膜性、膜厚均一性等の諸物性に優れる。すなわち、上記数値範囲を全て満たすことによって、これらの性能をバランスよく同時により充分に発揮することができ、長期安定的により一層信頼性の高い記録・再生機能を発揮することができる。 In the photopolymerizable resin, the content ratio of the components (I), (II), (III) and (IV) is (I) 10 to 60% by mass, II) 20 to 60% by mass, (III) 10 to 50% by mass, and (IV) 0 to 30% by mass are preferable. By setting to such a range, the obtained cured product is excellent in various physical properties such as light resistance, durability, weather resistance, transparency, residual film properties, and film thickness uniformity. That is, by satisfying all the above numerical ranges, these performances can be fully exhibited at the same time in a well-balanced manner, and a more reliable recording / reproducing function can be exhibited over a long period of time.

〔(I)成分について〕
上記化合物(I)は、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を2つ有する(メタ)アクリレート化合物(「アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された2官能の(メタ)アクリレート化合物」とも称す。)である。すなわち、アルキレンオキシドで変性された2官能の(メタ)アクリレート化合物、ε−カプロラクトンで変性された2官能の(メタ)アクリレート化合物、並びに、アルキレンオキシド及びε−カプロラクトンで変性された2官能の(メタ)アクリレート化合物のいずれか1つ以上の化合物である。このような化合物は、活性水素を2個有する多価アルコール(2価アルコール)を、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性した(メタ)アクリレート、すなわち、2価アルコールにアルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンを付加した化合物の(メタ)アクリル酸エステルや、アルキレンオキシド骨格を有する2価アルコールの(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。
[About component (I)]
The compound (I) is a (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone and having two radical polymerizable unsaturated groups in the molecule (“modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone”). Also referred to as “bifunctional (meth) acrylate compound”. That is, a bifunctional (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide, a bifunctional (meth) acrylate compound modified with ε-caprolactone, and a bifunctional (meth) modified with alkylene oxide and ε-caprolactone. ) Any one or more of acrylate compounds. Such a compound is a (meth) acrylate obtained by modifying a polyhydric alcohol having two active hydrogens (dihydric alcohol) with alkylene oxide and / or ε-caprolactone, that is, dihydric alcohol with alkylene oxide and / or ε. -(Meth) acrylic acid ester of a compound to which caprolactone is added, (meth) acrylic acid ester of a dihydric alcohol having an alkylene oxide skeleton, and the like.

上記2価アルコール及びアルキレンオキシド骨格を有する2価アルコールとしては、例えば、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、ビスフェノ−ルA、S、F等が挙げられ、置換基を有するものであってもよい。また、ポリ(エチレン−プロピレン)グリコール等の2種以上のアルキレンオキシド骨格を有する2価アルコールであってもよい。 Examples of the dihydric alcohol and the dihydric alcohol having an alkylene oxide skeleton include (poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, butanediol, neopentyl glycol, hexanediol, bisphenol A, S, and F. And may have a substituent. Further, it may be a dihydric alcohol having two or more alkylene oxide skeletons such as poly (ethylene-propylene) glycol.

上記アルキレンオキシドは、例えば、炭素原子数2〜18のアルキレンオキシドが好適である。より好ましくは炭素原子数2〜8のアルキレンオキシドであり、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、イソブチレンオキシド、1−ブテンオキシド、2−ブテンオキシド、トリメチルエチレンオキシド、テトラメチレンオキシド、テトラメチルエチレンオキシド、ブタジエンモノオキシド、オクチレンオキシド、スチレンオキシド等が挙げられる。中でも、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等の炭素原子数2〜4のアルキレンオキシドが更に好ましい。特に好ましくは、エチレンオキシド、プロピレンオキシドである。
なお、上記アルキレンオキシドは、1種のものであってもよく、2種以上のものであってもよい。
The alkylene oxide is preferably an alkylene oxide having 2 to 18 carbon atoms, for example. More preferably, it is an alkylene oxide having 2 to 8 carbon atoms, such as ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, isobutylene oxide, 1-butene oxide, 2-butene oxide, trimethylethylene oxide, tetramethylene oxide, tetramethylethylene oxide, butadiene. Examples include monooxide, octylene oxide, styrene oxide and the like. Among these, alkylene oxides having 2 to 4 carbon atoms such as ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide are more preferable. Particularly preferred are ethylene oxide and propylene oxide.
In addition, the said alkylene oxide may be 1 type, and 2 or more types may be sufficient as it.

上記化合物(I)におけるアルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンの繰り返し数としては、アルキレンオキシド及びε−カプロラクトンの合計量の平均繰り返し数として、化合物(I)1モルに対し、2〜16モルであることが好適である。これによって、硬化物の貯蔵弾性率をより適切に調整することができ、長期保存安定性に更に優れた光記録媒体を与えることが可能になる。より好ましくは3〜14モル、特に好ましくは3〜12モルである。2モルより小さいと硬化物の弾性率が大きくなり、硬化収縮による反りが大きくなってしまい、16モルより大きいと樹脂との相溶性が悪くなるため好ましくない。 The number of repetitions of alkylene oxide and / or ε-caprolactone in the compound (I) is 2 to 16 mol per 1 mol of compound (I) as the average number of repetitions of the total amount of alkylene oxide and ε-caprolactone. Is preferred. As a result, the storage elastic modulus of the cured product can be adjusted more appropriately, and an optical recording medium having further excellent long-term storage stability can be provided. More preferably, it is 3-14 mol, Most preferably, it is 3-12 mol. If it is less than 2 moles, the elastic modulus of the cured product is increased and warpage due to curing shrinkage is increased, and if it is more than 16 moles, compatibility with the resin is deteriorated.

上記化合物(I)として具体的には、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート;プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート;ビスフェノ−ルAのアルキレンオキシド付加物のジアクリレート;ネオペンチルグリコールのアルキレンオキシド付加物のジアクリレート;ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのアルキレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the compound (I) include (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and the like. Ethylene glycol di (meth) acrylate; (poly) propylene glycol di (propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylate; Diacrylate of alkylene oxide adduct of bisphenol A; Diacrylate of alkylene oxide adduct of neopentyl glycol; - diacrylate caprolactone adduct; of hydroxypivalic acid neopentyl glycol alkylene oxide adduct di (meth) acrylate; di (meth) acrylate of neopentyl glycol hydroxypivalate ε- caprolactone adduct.

〔(II)成分について〕
上記化合物(II)は、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された、分子中にラジカル重合性不飽和基を3つ以上有する(メタ)アクリレート化合物(「アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物」とも称す。)である。すなわち、アルキレンオキシドで変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物、ε−カプロラクトンで変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物、並びに、アルキレンオキシド及びε−カプロラクトンで変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物、のいずれか1つ以上の化合物である。このような化合物は、活性水素を3個以上有する多価アルコール(3価以上の多価アルコール)を、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性した(メタ)アクリレート、すなわち3価以上の多価アルコールにアルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンを付加した化合物の(メタ)アクリル酸エステルや、アルキレンオキシド骨格を有する3価以上のアルコールの(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。
[Regarding component (II)]
The compound (II) is a (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide and / or ε-caprolactone and having at least three radically polymerizable unsaturated groups in the molecule (“alkylene oxide and / or ε-caprolactone”). It is also referred to as “modified (functional) trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound”. That is, a tri- or higher functional (meth) acrylate compound modified with alkylene oxide, a tri- or higher functional (meth) acrylate compound modified with ε-caprolactone, and a tri- or higher functional group modified with alkylene oxide and ε-caprolactone Any one or more of (meth) acrylate compounds. Such a compound is a (meth) acrylate obtained by modifying a polyhydric alcohol having 3 or more active hydrogens (a trihydric or higher polyhydric alcohol) with an alkylene oxide and / or ε-caprolactone, that is, a polyhydric or higher polyvalent. Examples include (meth) acrylic acid esters of compounds obtained by adding alkylene oxide and / or ε-caprolactone to alcohols, and (meth) acrylic acid esters of trivalent or higher alcohols having an alkylene oxide skeleton.

上記3価以上の多価アルコールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等が挙げられ、置換基を有するものであってもよい。
なお、上記アルキレンオキシドや、化合物(II)におけるアルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンの存在数については、上記化合物(I)に関して上述したのと同様である。
Examples of the trihydric or higher polyhydric alcohol include trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, and the like, which may have a substituent.
The alkylene oxide and the number of alkylene oxides and / or ε-caprolactone in the compound (II) are the same as those described above for the compound (I).

上記化合物(II)として具体的には、例えば、トリメチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのε−カプロラクトン付加物のトリ(メタ)アクリレート、グリセリンのアルキレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、グリセリンのε−カプロラクトン付加物のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのアルキレンオキシド付加物のテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加物のテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのアルキレンオキシド付加物のヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加物のヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the compound (II) include, for example, tri (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct of trimethylolpropane, tri (meth) acrylate of an ε-caprolactone adduct of trimethylolpropane, and an alkylene oxide adduct of glycerin. Tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate of glycerin ε-caprolactone adduct, tetra (meth) acrylate of pentaerythritol alkylene oxide adduct, tetra (meth) acrylate of pentaerythritol ε-caprolactone adduct, Examples include hexa (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct of dipentaerythritol, hexa (meth) acrylate of an ε-caprolactone adduct of dipentaerythritol, and the like.

上記化合物(II)としてより好ましくは、上記多価アルコールとして、4級炭素を有する多価アルコール(例えば、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等)を使用してなる化合物である。これによって、更に耐光性に優れる硬化物(保護層)を得ることが可能になる。このように、上記(II)成分が、4級炭素を有する3価以上の多価アルコールを、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性した(メタ)アクリレート化合物を含む形態もまた、好適な形態である。中でも、上記(II)成分の総量100質量%に占める、当該(メタ)アクリレート化合物の割合が、50質量%以上であることがより好ましく、更に好ましくは70質量%以上、特に好ましくは90質量%以上、最も好ましくは100質量%、すなわち上記(II)成分が、4級炭素を有する3価以上の多価アルコールを、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性した(メタ)アクリレート化合物のみから構成されることであり、また、上記光重合性樹脂が、3級炭素を有する3価以上の多価アルコールを、アルキレンオキシド及び/又はε−カプロラクトンで変性した(メタ)アクリレート化合物を含まないことが最も好適である。 More preferably, the compound (II) is a compound obtained by using a polyhydric alcohol having a quaternary carbon (for example, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, etc.) as the polyhydric alcohol. This makes it possible to obtain a cured product (protective layer) that is further excellent in light resistance. Thus, the form in which the (II) component contains a (meth) acrylate compound obtained by modifying a trihydric or higher polyhydric alcohol having a quaternary carbon with an alkylene oxide and / or ε-caprolactone is also a suitable form. It is. Among them, the proportion of the (meth) acrylate compound in the total amount of the component (II) of 100% by mass is more preferably 50% by mass or more, further preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass. As described above, most preferably 100% by mass, that is, the component (II) is composed of only a (meth) acrylate compound obtained by modifying a trihydric or higher polyhydric alcohol having a quaternary carbon with alkylene oxide and / or ε-caprolactone. In addition, the photopolymerizable resin may not contain a (meth) acrylate compound obtained by modifying a trihydric or higher polyhydric alcohol having a tertiary carbon with alkylene oxide and / or ε-caprolactone. Most preferred.

上記化合物(II)はまた、分子量が3000以下であることが好適である。3000以下であると、樹脂組成物に含まれる各材料同士の相溶性が更に向上し、表面平滑性により優れた硬化物(保護層)を好適に得ることが可能になる。より好ましくは2500以下、更に好ましくは2000以下である。また、200以上であることが好ましく、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上である。
このように、上記(II)成分が、分子量が3000以下の化合物を含む形態もまた、好適な形態であるが、中でも、上記(II)成分の総量100質量%に占める、当該化合物の割合が50質量%以上であることがより好ましく、これによって、各材料同士の相溶性がより一層向上され、表面平滑性に更に優れた硬化物を得ることが可能になる。更に好ましくは70質量%以上、特に好ましくは90質量%以上、最も好ましくは100質量%、すなわち上記(II)成分として、分子量が3000以下の化合物のみを使用することである。
The compound (II) preferably has a molecular weight of 3000 or less. When it is 3000 or less, the compatibility between the materials contained in the resin composition is further improved, and a cured product (protective layer) having superior surface smoothness can be suitably obtained. More preferably, it is 2500 or less, More preferably, it is 2000 or less. Moreover, it is preferable that it is 200 or more, More preferably, it is 300 or more, More preferably, it is 400 or more.
Thus, the form in which the component (II) includes a compound having a molecular weight of 3000 or less is also a suitable form. Among them, the ratio of the compound in the total amount of the component (II) is 100% by mass. The content is more preferably 50% by mass or more, whereby the compatibility between the materials is further improved, and a cured product having further excellent surface smoothness can be obtained. More preferably, it is 70 mass% or more, Especially preferably, it is 90 mass% or more, Most preferably, it is 100 mass%, That is, it is using only the compound whose molecular weight is 3000 or less as said (II) component.

〔(III)成分について〕
上記化合物(III)は、上述した(I)及び(II)成分以外の化合物であって、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物である。これらの中でも、長期保存安定性に優れるため、ウレタン(メタ)アクリレート化合物を少なくとも用いることが好適である。また、機械的物性の設計範囲が広い等といった観点からも、ウレタン(メタ)アクリレート化合物が好適である。このように上記(III)成分が少なくともウレタン(メタ)アクリレート化合物を含む形態もまた、本発明の好ましい形態の1つである。また、上記化合物(III)は、1分子中にラジカル重合性不飽和基を2個以上有する化合物であることが好適である。
なお、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物及びエポキシ(メタ)アクリレート化合物は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれの形態であってもよいが、オリゴマー又はポリマーであることが好適である。
[Regarding component (III)]
The compound (III) is a compound other than the components (I) and (II) described above, and is a urethane (meth) acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, an epoxy (meth) acrylate compound, and a side chain. It is at least one compound selected from the group consisting of oligomers or polymers having a (meth) acryloyl group. Among these, it is preferable to use at least a urethane (meth) acrylate compound because of excellent long-term storage stability. In addition, urethane (meth) acrylate compounds are preferable from the viewpoint of a wide design range of mechanical properties. Thus, the form in which the component (III) contains at least a urethane (meth) acrylate compound is also a preferred form of the present invention. Further, the compound (III) is preferably a compound having two or more radically polymerizable unsaturated groups in one molecule.
The urethane (meth) acrylate compound, the polyester (meth) acrylate compound, and the epoxy (meth) acrylate compound may be in any form of a monomer, an oligomer, or a polymer, but are preferably an oligomer or a polymer. .

上記化合物(III)はまた、数平均分子量(Mn)が500以上であることが好適であり、また、10000以下であることが好適である。500以上であると、硬化速度や硬化物(保護層)の強度がより充分なものとなり、また、10000以下であると、基材との濡れ性や樹脂組成物を調整する際の混合時間、高粘性による塗工時の作業性等の点において、より好適なものとなり、更に、例えばプラスチック基材に塗布し硬化させて得られた積層体(光記録媒体)の反りをより充分に低減することが可能になる。また、10000以下であることによって、樹脂組成物に含まれる各材料同士の相溶性が更に向上し、表面平滑性により優れた硬化物を好適に得ることが可能になる。上記数平均分子量は、より好ましくは1000以上、更に好ましくは1500以上であり、また、より好ましくは8000以下、更に好ましくは7000以下である。 The compound (III) also preferably has a number average molecular weight (Mn) of 500 or more, and preferably 10,000 or less. When it is 500 or more, the curing speed and the strength of the cured product (protective layer) become more sufficient, and when it is 10,000 or less, the mixing time when adjusting the wettability with the substrate and the resin composition, It becomes more suitable in terms of workability at the time of coating due to high viscosity, and further reduces, for example, the warp of a laminate (optical recording medium) obtained by applying and curing to a plastic substrate. It becomes possible. Moreover, by being 10,000 or less, the compatibility of each material contained in a resin composition improves further, and it becomes possible to obtain the hardened | cured material excellent in surface smoothness suitably. The number average molecular weight is more preferably 1000 or more, further preferably 1500 or more, more preferably 8000 or less, and still more preferably 7000 or less.

このように、上記(III)成分が、分子量が10000以下の化合物を含む形態もまた、好適な形態であるが、中でも、上記(III)成分の総量100質量%に占める、当該化合物の割合が50質量%以上であることがより好ましく、これによって、各材料同士の相溶性がより一層向上され、表面平滑性に更に優れた硬化物を得ることが可能になる。更に好ましくは70質量%以上、特に好ましくは90質量%以上、最も好ましくは100質量%、すなわち上記(III)成分として、分子量が10000以下の化合物のみを使用することである。 Thus, although the form in which the said (III) component contains the compound whose molecular weight is 10,000 or less is also a suitable form, the ratio of the said compound which occupies for the total amount of said (III) component of 100 mass% is especially. The content is more preferably 50% by mass or more, whereby the compatibility between the materials is further improved, and a cured product having further excellent surface smoothness can be obtained. More preferably, it is 70% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more, most preferably 100% by mass, that is, only the compound having a molecular weight of 10,000 or less is used as the component (III).

上記化合物(III)は更に、分子量分布(重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)が1以上であることが好適であり、また、10以下であることが好適である。1以上であると、これによって、化速度や硬化物の強度、各成分の混合時間等がより充分なものとなり、より生産性よく光記録媒体を得ることが可能になる。分子量分布は、より好ましくは1〜7、更に好ましくは1〜5の範囲内である。 The compound (III) preferably further has a molecular weight distribution (weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn) of 1 or more, and preferably 10 or less. When it is 1 or more, the conversion rate, the strength of the cured product, the mixing time of each component, and the like become more sufficient, and an optical recording medium can be obtained with higher productivity. The molecular weight distribution is more preferably in the range of 1 to 7, still more preferably 1 to 5.

本明細書中、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフラン(THF)を移動相とし、温度40℃、流速0.3mL/minの条件下で、東ソー社製のカラム TSK−gel SuperHM−H 2本、TSK−gel SuperH2000 1本を用い、東ソー社製のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置 HLC−8220GPCにより求め、標準ポリスチレン換算した値である。 In the present specification, the number average molecular weight (Mn), the weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) are obtained under the conditions of tetrahydrofuran (THF) as a mobile phase, a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 0.3 mL / min. Thus, using a column TSK-gel SuperHM-H made by Tosoh Corporation and one TSK-gel SuperH2000, a gel permeation chromatography (GPC) apparatus made by Tosoh Corporation HLC-8220 GPC is a value converted to standard polystyrene. .

上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、多価アルコールと、有機ポリイソシアネートと、水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応で得られる化合物が好ましく用いられるが、この反応は通常の手法で行えばよい。例えば、この反応を効率良く行うための触媒として錫含有化合物(例えば、ジブチル錫ラウレート、オクテン酸錫等)を用いることが好ましい。また、この場合は、反応効率の観点から、他の触媒(例えば、トリエチレンジアミン等)を併用することも好適である。 As the urethane (meth) acrylate compound, a compound obtained by a reaction of a polyhydric alcohol, an organic polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is preferably used. This reaction may be performed by a usual method. For example, it is preferable to use a tin-containing compound (for example, dibutyltin laurate, tin octenoate, etc.) as a catalyst for efficiently performing this reaction. In this case, from the viewpoint of reaction efficiency, it is also preferable to use another catalyst (for example, triethylenediamine) in combination.

上記多価アルコールは、飽和化合物又は不飽和化合物のいずれであってもよく、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールベンゼン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられるが、中でもポリテトラメチレングリコールが好ましい。 The polyhydric alcohol may be either a saturated compound or an unsaturated compound. For example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl- Examples include 1,5-pentanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolbenzene, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, polytetramethylene glycol, polyester polyol, polycaprolactone polyol, and the like. Methylene glycol is preferred.

上記有機ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられるが、中でもイソホロンジイソシアネートが好ましい。
上記水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Examples of the organic polyisocyanate include tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and xylylene diisocyanate. Among them, isophorone diisocyanate is preferable.
Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, and the like.

上記ポリエステル(メタ)アクリレート化合物は、多塩基酸又はその無水物酸と、多価アルコールと、(メタ)アクリル酸との反応で得られる化合物が好ましく用いられるが、この反応は通常の手法で行えばよい。
上記多塩基酸又はその無水物酸としては、飽和化合物又は不飽和化合物のいずれであってもよく、例えば、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の他、これらの無水物酸が挙げられる。
上記多価アルコールについては、上述した化合物等が挙げられる。
As the polyester (meth) acrylate compound, a compound obtained by a reaction of a polybasic acid or an anhydride acid thereof, a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is preferably used. Just do it.
The polybasic acid or its anhydride acid may be either a saturated compound or an unsaturated compound, such as maleic acid, succinic acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, etc. In addition, these anhydride acids are mentioned.
About the said polyhydric alcohol, the compound etc. which were mentioned above are mentioned.

上記エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応で得られるエポキシポリ(メタ)アクリレートや、該エポキシ(メタ)アクリレートと多塩基酸無水物との反応で得られるカルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレートが好ましく使用されるが、この反応は通常の手法で行えばよい。
上記エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリブタンジエン変性エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラックエポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、アミノ基含有エポキシ樹脂等が挙げられる。
上記多塩基酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。
The epoxy (meth) acrylate compound is an epoxy poly (meth) acrylate obtained by a reaction between an epoxy resin and (meth) acrylic acid, or a carboxyl obtained by a reaction between the epoxy (meth) acrylate and a polybasic acid anhydride. Although acid-modified epoxy (meth) acrylate is preferably used, this reaction may be performed by a usual method.
Examples of the epoxy resin include phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, polybutanediene modified epoxy resin, alicyclic epoxy resin, Examples thereof include brominated phenol novolac epoxy resins, brominated bisphenol A type epoxy resins, amino group-containing epoxy resins and the like.
Examples of the polybasic acid anhydride include maleic anhydride, succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like.

上記側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーとは、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有し、かつ分子中にラジカル重合性不飽和基を2つ以上有するオリゴマー又はポリマーであれば特に限定されない。 The oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain is an oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain and two or more radically polymerizable unsaturated groups in the molecule. There is no particular limitation.

上記化合物(III)はまた、単独の硬化物のガラス転移温度(「Tg」とも称す。)が−50〜50℃となるものが好ましい。このTgが−50℃以上となる化合物(III)を用いることで、上記光重合性樹脂組成物により得られる硬化物(保護層)において圧接痕や凹み等による永久変形をより充分に抑制することができ、また50℃以下であると当該硬化物の反りがより充分に低減される。より好ましくは−45℃以上、更に好ましくは−40℃以上であり、また、より好ましくは40℃以下、更に好ましくは30℃以下、特に好ましくは20℃以下である。
ここでのガラス転移温度は、上述した化合物(III)を単独で硬化して得た硬化物について、下記測定条件の下、動的粘弾性測定法により求められる値であり、最大tanδ値の温度を採用するものとする。
<測定条件>
引っ張りモード、周波数1Hz、クランプ距離25mm、振幅0.1%、昇温速度5℃/分の条件で動的粘弾性の測定を行う。
The compound (III) preferably has a glass transition temperature (also referred to as “Tg”) of a single cured product of −50 to 50 ° C. By using the compound (III) having a Tg of −50 ° C. or higher, permanent deformation due to pressure marks or dents can be more sufficiently suppressed in the cured product (protective layer) obtained from the photopolymerizable resin composition. Moreover, the curvature of the said hardened | cured material is more fully reduced as it is 50 degrees C or less. More preferably, it is -45 degreeC or more, More preferably, it is -40 degreeC or more, More preferably, it is 40 degreeC or less, More preferably, it is 30 degreeC or less, Most preferably, it is 20 degreeC or less.
The glass transition temperature here is a value obtained by a dynamic viscoelasticity measurement method under the following measurement conditions for a cured product obtained by curing the above-described compound (III) alone, and the temperature of the maximum tan δ value. Shall be adopted.
<Measurement conditions>
The dynamic viscoelasticity is measured under the conditions of a tensile mode, a frequency of 1 Hz, a clamp distance of 25 mm, an amplitude of 0.1%, and a heating rate of 5 ° C./min.

〔(IV)成分について〕
上記化合物(IV)は、上記(I)、(II)及び(III)成分以外の(メタ)アクリレート化合物であり、必要に応じて上記光重合性樹脂に含んでもよいものである。このような化合物(IV)は、上記(I)、(II)及び(III)成分のいずれか1つ以上と共硬化可能な化合物であることが好ましく、単量体(モノマー)の形態であることが好適である。化合物(IV)を含むことにより、例えば、液粘度や硬化物の物性を調節することができるという効果を奏する。なお、化合物(IV)は1種の化合物であってもよいし、2種以上であってもよい。
[(IV) component]
The compound (IV) is a (meth) acrylate compound other than the components (I), (II) and (III), and may be included in the photopolymerizable resin as necessary. Such a compound (IV) is preferably a compound that can be co-cured with any one or more of the components (I), (II), and (III), and is in the form of a monomer. Is preferred. By including compound (IV), there exists an effect that the liquid viscosity and the physical property of hardened | cured material can be adjusted, for example. Compound (IV) may be one type of compound or two or more types.

上記化合物(IV)としては、例えば、後述する一般式(B)で表されるビニル系単量体や、アルキレンオキシド又はε−カプロラクトンで変性されていない(メタ)アクリレート化合物、単官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。具体的には、後述する一般式(B)で表されるビニル系単量体や下記化合物等の1種又は2種以上が挙げられる。
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリレート化合物;
Examples of the compound (IV) include a vinyl monomer represented by the general formula (B) described later, a (meth) acrylate compound not modified with alkylene oxide or ε-caprolactone, and a monofunctional (meth). An acrylate compound etc. are mentioned. Specifically, 1 type (s) or 2 or more types, such as the vinyl-type monomer represented by the general formula (B) mentioned later and the following compound, are mentioned.
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 1-adamantyl (meth) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, Methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, butoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, trif Monofunctional (meth) acrylate compounds such as oloethyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and dicyclopentanyl (meth) acrylate ;

1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジ(メタ)アクリル酸付加物、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールジ(メタ)アクリレート、p−メンタンー1,8−ジオールジ(メタ)アクリレート、p−メンタン−2,8−ジオールジ(メタ)アクリレート、p−メンタン−3,8−ジオールジ(メタ)アクリレート、ビシクロ[2.2.2]−オクタン−1−メチル−4−イソプロピル−5,6−ジメチロールジ(メタ)アクリレート、ビス((メタ)アクリロキシネオペンチルグリコール)アジペート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリレート化合物; 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 2 -Butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, dimethylol-tricyclodecane di (meth) acrylate, pentacyclopentadecane dimethanol di (meth) acrylate, di (meta) of bisphenol A diglycidyl ether ) Acrylic acid adduct, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, norbornane dimethanol di (meth) acrylate, p-menthane-1,8-diol di (meth) acrylate, p-menthane-2,8-diol di (meth) acrylate , P-men -3,8-diol di (meth) acrylate, bicyclo [2.2.2] -octane-1-methyl-4-isopropyl-5,6-dimethylol di (meth) acrylate, bis ((meth) acryloxyneopentyl Glycol) adipate, bifunctional (meth) acrylate compounds such as tricyclodecane di (meth) acrylate;

トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の(メタ)アクリレート化合物、等の(メタ)アクリル酸系誘導体; Trifunctional or higher (meth) such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (Meth) acrylic acid derivatives such as acrylate compounds;

メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、プロポキシエチル(メタ)アクリレート、プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、イソプロポキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のエーテル構造を有する(メタ)アクリル系誘導体; Methoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, 2-methoxy-1-methylethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxy-2-methylethyl (meth) ) Acrylate, 2-ethoxy-1-methylethyl (meth) acrylate, propoxyethyl (meth) acrylate, propoxypropyl (meth) acrylate, isopropoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylic derivatives;

4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−シクロヘキシル−1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン、等の1,3−ジオキソラン系モノマー等。 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-methyl-2-isobutyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) ) 1,3-dioxolane-based monomers such as acryloyloxymethyl-2-cyclohexyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2,2-dimethyl-1,3-dioxolane, and the like.

上記化合物(IV)としてはまた、通常使用されるポリカーボネート基板との密着性が良好な点からは、例えば、下記式(B): As said compound (IV), from the point with favorable adhesiveness with the polycarbonate substrate normally used, for example, following formula (B):

Figure 2011210335
Figure 2011210335

(式中、Rは、同一又は異なって、炭素原子数2〜8のアルキレン基を表す。Rは、水素原子又はメチル基を表す。mは、正の整数である。)で表されるビニル系単量体(「異種重合性モノマー」ともいう。)が好適に使用できる。
上記式(B)で表されるビニル系単量体の具体例としては、例えば、下記化合物等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸1−メチル−3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−メチル−3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1,1−ジメチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸6−ビニロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルフェニルメチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシメチルフェニルメチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシメチルフェニルメチル、
(In the formula, R a is the same or different and represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms. R b represents a hydrogen atom or a methyl group. M is a positive integer.) Vinyl monomers (also referred to as “heterogeneous polymerizable monomers”) can be preferably used.
Specific examples of the vinyl monomer represented by the above formula (B) include the following compounds.
(Meth) acrylic acid 2-vinyloxyethyl, (meth) acrylic acid 3-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 2-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 1-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 1-methyl 2-vinyloxyethyl, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 3-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 2-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 1-methyl-3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, (meth) 2-methyl-3-vinyloxypropyl acrylate, 1-methyl-2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1,1-dimethyl-2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 6-vinyl (meth) acrylate Roxyhexyl, (meth) acrylic acid 4-vinyloxycyclohexyl, (meth) acrylic acid -Vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 3-vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 2-vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 4-vinyloxymethylphenylmethyl, (meth) acrylic 3-vinyloxymethylphenylmethyl acid, 2-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate,

(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エチル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}エチル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロポキシ}エチル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)イソプロポキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロポキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)イソプロポキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロポキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−[2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エトキシ]エチル、(メタ)アクリル酸2−[2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}エトキシ]エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−[2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エトキシ]エトキシ)エチル。 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyethoxy) propyl (meth) acrylate, ( 2- (2-vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyethoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, ( 2- (2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} ethyl (meth) acrylate, 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} ethyl (meth) acrylate, 2-{(meth) acrylic acid 2- (2-vinyloxyisopropoxy) isopropoxy} ethyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy Propyl, 2- (2- (2-vinyloxyethoxy) isopropoxy} propyl (meth) acrylate, 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} propyl (meth) acrylate, (meth) acryl Acid 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) isopropoxy} propyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) isopropoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyiso) Propoxy) isopropoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- [2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} Xyl] ethyl, 2- (2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} ethoxy] ethyl (meth) acrylate, 2- (2- [2- {2- (2- Vinyloxyethoxy) ethoxy} ethoxy] ethoxy) ethyl.

これらのビニル系単量体の中でも、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ビニロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エチルが好適である。中でも、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチルが好ましい。 Among these vinyl monomers, 2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 3-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2- (meth) acrylate Vinyloxyethyl, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 6-vinyloxyhexyl (meth) acrylate, 4-vinyloxycyclohexyl (meth) acrylate, 4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, (meth) acryl 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acid, 2- (2-vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} ethyl (meth) acrylate Is preferred. Of these, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate is preferable.

上記化合物(IV)として特に好ましくは、2官能以上の(メタ)アクリレート化合物(すなわち多官能(メタ)アクリレート化合物)や、上記一般式(B)で表されるビニル系単量体(異種重合性モノマー)である。 The compound (IV) is particularly preferably a bifunctional or higher (meth) acrylate compound (that is, a polyfunctional (meth) acrylate compound) or a vinyl monomer represented by the above general formula (B) (heteropolymeric property). Monomer).

〔他の重合性成分について〕
上記光重合性樹脂としてはまた、更に必要に応じて、その他の共硬化可能な成分(他の重合性成分)として、下記の不飽和化合物等の1種又は2種以上含んでいてもよい。
スチレン、ビニルトルエン、4−t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、4−クロロスチレン、4−メチルスチレン、4−クロロメチルスチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系モノマー;フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル等のアリルエステル系モノマー;トリエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル等のビニルエーテル系モノマー;トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メチロールメラミンのアリルエーテル、グリセリンジアリルエーテルのアジピン酸エステル、アリルアセタール、メチロールグリオキザールウレインのアリルエーテル等のアリルエーテル系モノマー;マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル等のマレイン酸エステル系モノマー;フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチル等のフマル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリロイルモルホリン;N−ビニルホルムアミド;N−ビニルピロリドン等。
[Other polymerizable components]
The photopolymerizable resin may further contain one or more of the following unsaturated compounds as other co-curable components (other polymerizable components) as necessary.
Styrene monomers such as styrene, vinyltoluene, 4-t-butylstyrene, α-methylstyrene, 4-chlorostyrene, 4-methylstyrene, 4-chloromethylstyrene, divinylbenzene; diallyl phthalate, diallyl isophthalate, cyanuric Allyl ester monomers such as triallyl acid and triallyl isocyanurate; vinyl ether monomers such as triethylene glycol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether; trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, allyl Glycidyl ether, allyl ether of methylol melamine, adipic acid ester of glyceryl diallyl ether, allyl acetal Allyl ether monomers such as allyl ether of methylol glyoxalurein; maleic acid ester monomers such as diethyl maleate and dibutyl maleate; Fumarate monomers such as dibutyl fumarate and dioctyl fumarate; (meth) acryloylmorpholine; N-vinylformamide; N-vinylpyrrolidone and the like.

これら不飽和化合物の含有割合は、上記(メタ)アクリレート化合物((I)〜(IV)成分等)と不飽和化合物との総量100質量%に対し、0〜30質量%であることが好適である。ただし、例えば、上記光重合性樹脂組成物をスピンコート法に供する場合における当該樹脂組成物のリサイクル性等を考慮すると、上記不飽和化合物の含有量は低いほど好適である。より好ましくは20質量%以下、更に好ましくは10質量%以下であり、特に好ましくは、実質的にこれら不飽和化合物を含まないことである。
なお、以下では、(メタ)アクリレート化合物((I)〜(IV)成分等)と上記不飽和化合物とを総称して「光重合性樹脂」と称す。すなわち、光重合性樹脂として好ましくは、(メタ)アクリレート化合物(好ましくは上記(I)〜(III)成分(更に(IV)成分を含む場合は上記(I)〜(IV)成分))からなり、更に上記不飽和化合物を含んでもよいものである。この好適な形態を言い換えると、上記光重合性樹脂が上記不飽和化合物を含まない場合は、(メタ)アクリレート化合物(好ましくは上記(I)〜(III)成分(更に(IV)成分を含む場合は上記(I)〜(IV)成分))からなる成分を意味し、上記不飽和化合物を含む場合は、(メタ)アクリレート化合物(好ましくは上記(I)〜(III)成分(更に(IV)成分を含む場合は上記(I)〜(IV)成分))と、上記不飽和化合物との混合物を意味する。
The content ratio of these unsaturated compounds is preferably 0 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the (meth) acrylate compound (components (I) to (IV)) and the unsaturated compound. is there. However, considering the recyclability of the resin composition when the photopolymerizable resin composition is subjected to the spin coating method, for example, the lower the content of the unsaturated compound, the better. More preferably, it is 20 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less, Most preferably, it is substantially free of these unsaturated compounds.
Hereinafter, the (meth) acrylate compound (components (I) to (IV) and the like) and the unsaturated compound are collectively referred to as “photopolymerizable resin”. That is, the photopolymerizable resin is preferably composed of a (meth) acrylate compound (preferably the above components (I) to (III) (or (I) to (IV) component when the component (IV) is further included)). Further, the unsaturated compound may be included. In other words, when the photopolymerizable resin does not contain the unsaturated compound, the (meth) acrylate compound (preferably the components (I) to (III) (and further the component (IV) is included). Means a component consisting of the above components (I) to (IV)), and in the case of containing the unsaturated compound, a (meth) acrylate compound (preferably the components (I) to (III) above (further (IV) When the component is included, it means a mixture of the above components (I) to (IV))) and the unsaturated compound.

<光重合開始剤>
上記光重合性樹脂組成物はまた、更に光重合開始剤を含むことが好適である。光重合開始剤を含むことにより、光照射によって速やかに硬化させることができるという効果を奏する。光重合開始剤としては、光線の照射により重合開始ラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤が好適であり、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
<Photopolymerization initiator>
The photopolymerizable resin composition preferably further contains a photopolymerization initiator. By including the photopolymerization initiator, there is an effect that it can be quickly cured by light irradiation. As a photoinitiator, the photoradical polymerization initiator which generate | occur | produces a polymerization start radical by irradiation of a light beam is suitable, These 1 type (s) or 2 or more types can be used.

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジルー2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン等のアセトフェノン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシ)エチル]ベンゼンメタナミニウムブロミド、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類;2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサントン−9−オンメソクロリド等のチオキサントン類等が挙げられる。 Examples of the photo radical polymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy -2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) butanone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone}, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2) Acetophenones such as -methylpionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one Benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyl-diphenyl sulfide, 3, 3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyl) Benzophenones such as (oxy) ethyl] benzenemethananium bromide, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride; 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthio Thioxanthones such as xanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2- (3-dimethylamino-2-hydroxy) -3,4-dimethyl-9H-thioxanthone-9-one mesochloride Etc.

上記光ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン類が好適であり、具体的には1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オンが好適である。その中でも、上記樹脂組成物から形成される樹脂層を保護層として用いた光記録媒体の耐久性を向上させ、耐熱試験時の反りの増加を抑制するとの理由から、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}が特に好適である。 Among the radical photopolymerization initiators, acetophenones are preferable. Specifically, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] Propanone}, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropane -1-one is preferred. Among them, oligo {2-hydroxy-2 is used because the durability of the optical recording medium using the resin layer formed from the resin composition as a protective layer is improved and an increase in warpage during the heat resistance test is suppressed. -Methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone} is particularly preferred.

上記光重合性樹脂組成物中、上記光重合開始剤の含有量としては、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、1〜10質量部であることが好適である。1質量部以上であると、上記光重合性樹脂組成物をより充分に硬化することができ、また10質量部以下であると、臭気発生や硬化物の着色を充分に抑制でき、光重合性樹脂組成物のリサイクル性や硬化物の長期保存安定性をより良好なものとすることができる。より好ましくは1〜5質量部、更に好ましくは1〜3質量部である。特に3質量部以下であると、硬化収縮がより抑制され、硬化前後の重量変化(重量減少)がより低減されるため好適である一方で、本発明では光重合開始剤の使用量が少量であっても、充分な硬化性等を発揮できるという点で有利な効果を奏する。 In the said photopolymerizable resin composition, it is suitable as content of the said photoinitiator that it is 1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of the said photopolymerizable resin. When the amount is 1 part by mass or more, the photopolymerizable resin composition can be more fully cured, and when the amount is 10 parts by mass or less, odor generation and coloring of the cured product can be sufficiently suppressed, and photopolymerizability is achieved. The recyclability of the resin composition and the long-term storage stability of the cured product can be further improved. More preferably, it is 1-5 mass parts, More preferably, it is 1-3 mass parts. In particular, when the amount is 3 parts by mass or less, curing shrinkage is further suppressed, and the change in weight before and after curing (weight reduction) is further reduced. On the other hand, in the present invention, the amount of the photopolymerization initiator used is small. Even if it exists, there exists an advantageous effect at the point that sufficient sclerosis | hardenability etc. can be exhibited.

<重合禁止剤>
上記光重合性樹脂組成物はまた、更に重合禁止剤を含むことが好適である。重合禁止剤を併用することによって、光記録媒体の着色や腐食等がより充分に抑制される他、ベンゾトリアゾール化合物と光重合性樹脂との相溶性がより向上し、ベンゾトリアゾール化合物に起因する作用効果がより充分に発揮される。そのため、更に一層耐光性に優れた硬化物を与えることが可能になる。また、更に、硬化物の離型性が良好となり、硬化ムラも低減される。
<Polymerization inhibitor>
The photopolymerizable resin composition preferably further contains a polymerization inhibitor. By using the polymerization inhibitor in combination, coloring and corrosion of the optical recording medium are more sufficiently suppressed, and the compatibility between the benzotriazole compound and the photopolymerizable resin is further improved, resulting from the action of the benzotriazole compound. The effect is more fully demonstrated. Therefore, it becomes possible to give the hardened | cured material which was further excellent in light resistance. Furthermore, the mold releasability of the cured product is improved and curing unevenness is reduced.

上記重合禁止剤としては、例えば、下記一般式(3): Examples of the polymerization inhibitor include the following general formula (3):

Figure 2011210335
Figure 2011210335

(式中、R、R、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜8のアルコキシル基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜24のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、下記一般式(4): (Wherein R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are the same or different and have a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, a carboxyl group, or a substituent. Or an alkyl or alkenyl group having 1 to 24 carbon atoms, or the following general formula (4):

Figure 2011210335
Figure 2011210335

(式中、Rは、水素原子、又は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基若しくはアルケニル基を表す。)で表される基を表す。なお、R、R、R、R及びRのうち少なくとも1つは水酸基を表す。)で表される化合物であることが好適である。 (Wherein R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl or alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom). Note that at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents a hydroxyl group. It is preferable that it is a compound represented by this.

上記一般式(3)又は(4)中のR、R、R、R、R及びRが表すこともあるアルキル基又はアルケニル基は、分岐形状であってもよいし、直鎖形状であってもよい。なお、上記一般式(3)中のR、R、R及びRがアルキル基又はアルケニル基を表す場合、これらの基は置換基を有していてもよい。置換基としては、−COOH、−COOR、−OCOR又は−OR(式中、Rは、アルキル基又はアルケニル基を表し、好ましくは、炭素原子数1〜8のアルキル基又はアルケニル基を表す。)等が挙げられる。
このようなアルキル基又はアルケニル基として具体的には、メチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル(ラウリル)基、ネオペンチル基、オクタデシル基等のアルキル基;エテニル、プロペニル、2−ブテニル等のアルケニル基;4−カルボキシブチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基等の、置換基を有するアルキル基又はアルケニル基等が挙げられる。
また炭素数1〜8のアルコキシル基として具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチロキシ基等が挙げられる。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。
The alkyl group or alkenyl group that R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 in the general formula (3) or (4) may represent may be branched, It may be linear. In addition, when R < 4 >, R < 5 >, R < 6 > and R < 7 > in the said General formula (3) represent an alkyl group or an alkenyl group, these groups may have a substituent. As the substituent, —COOH, —COOR 9 , —OCOR 9 or —OR 9 (wherein R 9 represents an alkyl group or an alkenyl group, preferably an alkyl group or alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms). And the like.
Specific examples of such an alkyl group or alkenyl group include methyl groups, propyl groups, butyl groups, hexyl groups, octyl groups, nonyl groups, dodecyl (lauryl) groups, alkyl groups such as neopentyl groups, octadecyl groups, etc .; Examples include alkenyl groups such as propenyl and 2-butenyl; alkyl groups or alkenyl groups having a substituent such as 4-carboxybutyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, methoxyethyl group and ethoxymethyl group.
Specific examples of the alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, and an octyloxy group. Moreover, as a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom is preferable.

上記R、R、R、R及びRとして好ましくは、これらのうち少なくとも2つが水酸基を表すことである。この場合、他のものは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜8のアルコキシル基、又は、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜24のアルキル基若しくはアルケニル基を表すことが好ましい。アルキル基又はアルケニル基の炭素原子数として好ましくは1〜20であり、より好ましくは1〜18である。
上記Rとして好ましくは、水素原子又は無置換の炭素原子数1〜20のアルキル基である。なお、当該アルキル基は分岐鎖を有していてもよく、また、当該アルキル基の炭素原子数として好ましくは、1〜8であり、より好ましくは1〜4である。
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are preferably such that at least two of them represent a hydroxyl group. In this case, the other includes a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkyl group or alkenyl group having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent. It is preferable to represent. Preferably it is 1-20 as a carbon atom number of an alkyl group or an alkenyl group, More preferably, it is 1-18.
R 8 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The alkyl group may have a branched chain, and the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-8, more preferably 1-4.

上記一般式(3)で表される化合物として具体的には、例えば、下記一般式(3−1)〜(3−4)で表される化合物等の他、ピロガロール(1,2,3−trihydroxybenzene)等が好適である。 Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include pyrogallol (1,2,3-) in addition to compounds represented by the following general formulas (3-1) to (3-4). trihydroxybenzene) and the like are suitable.

Figure 2011210335
Figure 2011210335

上記一般式(3−1)〜(3−3)中、R3’、R4’、R5’、R6’及びR7’は、同一若しくは異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜8のアルコキシル基、又は、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜24のアルキル基若しくはアルケニル基を表す。なお、ここでのハロゲン原子、置換基、アルキル基又はアルケニル基については、上記一般式(3)と同様である。
上記一般式(3−4)中のRは、上記一般式(4)におけるRと同様である。
In the general formulas (3-1) to (3-3), R 3 ′ , R 4 ′ , R 5 ′ , R 6 ′, and R 7 ′ are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon atom. It represents an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkyl or alkenyl group having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent. Here, the halogen atom, substituent, alkyl group or alkenyl group is the same as in the general formula (3).
R 8 in the general formula (3-4) is the same as R 8 in the general formula (4).

上記一般式(3−1)で表される化合物として好ましくは、カテコール、3−sec−ブチルカテコール、3−tert−ブチルカテコール、4−sec−ブチルカテコール、4−tert−ブチルカテコール、3,5−ジ−tert−ブチルカテコール、3−sec−ブチル−4−tert−ブチルカテコール、3−tert−ブチル−5−sec−ブチルカテコール、4−オクチルカテコール、4−ステアリルカテコール等が挙げられる。より好ましくは、カテコール、4−tert−ブチルカテコールであり、更に好ましくは4−tert−ブチルカテコールである。 The compound represented by the general formula (3-1) is preferably catechol, 3-sec-butylcatechol, 3-tert-butylcatechol, 4-sec-butylcatechol, 4-tert-butylcatechol, 3,5 -Di-tert-butylcatechol, 3-sec-butyl-4-tert-butylcatechol, 3-tert-butyl-5-sec-butylcatechol, 4-octylcatechol, 4-stearylcatechol and the like. More preferred are catechol and 4-tert-butylcatechol, and still more preferred is 4-tert-butylcatechol.

上記一般式(3−2)で表される化合物として好ましくは、ハイドロキノン、2−ヒドロキシハイドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、2,5−ビス(1,1,3,3−テトラメチルブチル)ハイドロキノン、2,5−ビス(1,1−ジメチルブチル)ハイドロキノン等が挙げられる。より好ましくは、ハイドロキノン(benzene−1,4−diol)、2−ヒドロキシハイドロキノン(benzene−1,2,4−triol)である。 The compound represented by the general formula (3-2) is preferably hydroquinone, 2-hydroxyhydroquinone, 2,5-di-tert-butylhydroquinone, 2,5-bis (1,1,3,3-tetra Methylbutyl) hydroquinone, 2,5-bis (1,1-dimethylbutyl) hydroquinone, and the like. More preferred are hydroquinone (benzone-1,4-diol) and 2-hydroxyhydroquinone (benzone-1,2,4-triol).

上記一般式(3−3)で表される化合物として好ましくは、レソルシノール(benzene−1,3−diol)、オルシノール(5−methylbenzene−1,3−diol)である。 The compound represented by the general formula (3-3) is preferably resorcinol (benzone-1,3-diol) or orcinol (5-methylbenzene-1,3-diol).

上記一般式(3−4)で表される化合物として好ましくは、没食子酸又は没食子酸エステルである。没食子酸エステルとして具体的には、例えば、没食子酸メチル、没食子酸エチル、没食子酸プロピル、没食子酸イソプロピル、没食子酸イソペンチル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、没食子酸テトラデシル、没食子酸ヘキサデシル、没食子酸オクタデシル等が挙げられる。中でも、没食子酸が好ましい。 The compound represented by the general formula (3-4) is preferably gallic acid or a gallic acid ester. Specific examples of gallic acid esters include, for example, methyl gallate, ethyl gallate, propyl gallate, isopropyl gallate, isopentyl gallate, octyl gallate, dodecyl gallate, tetradecyl gallate, hexadecyl gallate, octadecyl gallate Etc. Of these, gallic acid is preferred.

上記一般式(3)で表される化合物の中で特に好ましくは、t−ブチルピロカテコールである。これによって、光記録媒体の耐光性や耐久性をより向上することができ、例えば、車内等の高温高湿に晒されやすい場所や、紫外線や室内灯等の光源に晒される場所等で保存又は使用した場合にも、更に優れた記録再生特性を発揮することができる。 Among the compounds represented by the general formula (3), t-butylpyrocatechol is particularly preferable. As a result, the light resistance and durability of the optical recording medium can be further improved.For example, the optical recording medium can be stored or exposed in a place where it is easily exposed to high temperature and high humidity such as in a car or a place exposed to a light source such as ultraviolet light or room light. Even when it is used, even better recording and reproduction characteristics can be exhibited.

上記光重合性樹脂組成物中、上記重合禁止剤の含有量(添加量)は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、0.05〜10質量部であることが好ましい。この範囲に設定することによって、耐光性の向上効果がより顕著になる他、重合禁止剤が光重合性樹脂組成物から析出しにくくなる。下限値は、より好ましくは0.1質量部、更に好ましくは0.2質量部であり、上限値は、より好ましくは5質量部、更に好ましくは3質量部、特に好ましくは1質量部である。 In the photopolymerizable resin composition, the content (addition amount) of the polymerization inhibitor is preferably 0.05 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable resin. By setting within this range, the effect of improving light resistance becomes more remarkable, and the polymerization inhibitor is less likely to precipitate from the photopolymerizable resin composition. The lower limit value is more preferably 0.1 parts by mass, still more preferably 0.2 parts by mass, and the upper limit value is more preferably 5 parts by mass, still more preferably 3 parts by mass, and particularly preferably 1 part by mass. .

<他の成分について>
上記光重合性樹脂組成物は更に、紫外線吸収剤や熱重合開始剤を含んでもよい。紫外線吸収剤を含む場合には、樹脂組成物のリサイクル性を高め、硬化速度を調整し光ディスクの反りを低減できるという効果をより充分に発揮することが可能になる。熱重合開始剤を含む場合には、樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合に発生する熱を利用し、更に硬化を進めることができるという効果を奏する。
<About other ingredients>
The photopolymerizable resin composition may further contain an ultraviolet absorber or a thermal polymerization initiator. In the case where the ultraviolet absorber is included, it is possible to enhance the recyclability of the resin composition, to sufficiently exhibit the effects of adjusting the curing speed and reducing the warpage of the optical disk. When the thermal polymerization initiator is included, the heat generated when the resin composition is cured with ultraviolet rays is utilized, and the effect of further curing can be achieved.

上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、無機酸化物系紫外線吸収剤等が挙げられ、1種又は2種以上を使用することができる。具体的には、フェニルサリチレート、(2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキシベンゾフェノン、サリチル酸グリコール、t−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、ジメチルPABA(para−aminobenzoic acid)オクチル、ジメチルPABAエチルヘキシル等が挙げられ、例えば、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール(商品名「TINUBIN PS」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、2−{2−ヒドロキシ−4−(1−オクチルオキシカルボニルエトキシ)フェニル}−4,6−ビス(4−フェニルフェニル)−1,3,5−トリアジン(商品名「TINUBIN 479」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、2−{2−ヒドロキシ−5−(2−メタクリロイルオキシエチル)フェニル}ベンゾトリアゾール(商品名「RUVA93」、大塚化学社製)、オクチル−3−{3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−yl)フェニル}プロピオン酸・2−エチルヘキシル−3−{3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−yl)フェニル}プロピオン酸(商品名「TINUBIN 109」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)等が好ましく使用される。 Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole ultraviolet absorbers, hydroxyphenyltriazine ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, salicylic acid ultraviolet absorbers, and inorganic oxide ultraviolet absorbers. Or 2 or more types can be used. Specifically, phenyl salicylate, (2,2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2-hydroxybenzophenone, glycol salicylate, t-butylmethoxydibenzoylmethane, ethylhexyl methoxycinnamate, dimethyl PABA ( para-aminobenzoic acid) octyl, dimethyl PABA ethylhexyl and the like. For example, 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole (trade name “TINUBIN PS”, Ciba Specialty Chemicals) 2- {2-hydroxy-4- (1-octyloxycarbonylethoxy) phenyl} -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine (trade name “TINUBIN 479”, H・ Specialty Chemicals), 2- {2-hydroxy-5- (2-methacryloyloxyethyl) phenyl} benzotriazole (trade name “RUVA93”, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), octyl-3- {3-t- Butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole-2-yl) phenyl} propionic acid, 2-ethylhexyl-3- {3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro) -2H-benzotriazole-2-yl) phenyl} propionic acid (trade name “TINUBIN 109”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and the like are preferably used.

上記紫外線吸収剤の添加量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、0.03〜2質量部であることが好ましい。より好ましくは0.05〜1質量部、更に好ましくは0.05〜0.5質量部である。 It is preferable that the addition amount of the said ultraviolet absorber is 0.03-2 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of the said photopolymerizable resin. More preferably, it is 0.05-1 mass part, More preferably, it is 0.05-0.5 mass part.

上記熱重合開始剤としては、加熱により重合開始ラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤が好適である。
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、有機過酸化物系開始剤やアゾ系開始剤等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
As the thermal polymerization initiator, a thermal radical polymerization initiator that generates a polymerization initiation radical by heating is suitable.
Examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxide initiators and azo initiators, and one or more of these can be used.

これらの熱ラジカル開始剤の中でも、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ベンゾイルペルオキシド等の、金属石鹸及び/又はアミン化合物等の触媒作用により効率的にラジカルを発生させることができる化合物や、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)が好適である。 Among these thermal radical initiators, radicals are efficiently generated by the catalytic action of metal soaps and / or amine compounds such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, cumene hydroperoxide, t-butylperoxybenzoate, and benzoyl peroxide. And 2,2′-azobisisobutyronitrile and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) are preferable.

ここで、上記熱ラジカル重合開始剤を用いる場合には、熱ラジカル重合開始剤の分解温度を低下させるために、熱重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができる熱重合促進剤を用いることができる。
上記熱重合促進剤としては、例えば、コバルト、銅、錫、亜鉛、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、バナジウム、カルシウム、カリウム等の金属石鹸、1級、2級、3級のアミン化合物、4級アンモニウム塩、チオ尿素化合物、ケトン化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。中でも、オクチル酸コバルト、ナフテン酸コバルト、オクチル酸銅、ナフテン酸銅、オクチル酸マンガン、ナフテン酸マンガン、ジメチルアニリン、トリエタールアミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、ジ(2−ヒドロキシエチル)p−トルイジン、エチレンチオ尿素、アセチルアセトン、アセト酢酸メチルが好適である。
上記熱重合促進剤の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、0.001〜10質量部であることが好適である。熱重合促進剤の配合量がこのような範囲内であれば、樹脂組成物の硬化性、硬化物の物性、経済性の点で好ましい。より好ましくは0.01〜5質量部、更に好ましくは0.05〜3質量部である。
Here, in the case of using the thermal radical polymerization initiator, in order to lower the decomposition temperature of the thermal radical polymerization initiator, thermal polymerization that can effectively generate radicals by promoting the decomposition of the thermal polymerization initiator Accelerators can be used.
Examples of the thermal polymerization accelerator include metal soaps such as cobalt, copper, tin, zinc, manganese, iron, zirconium, chromium, vanadium, calcium, and potassium, primary, secondary, tertiary amine compounds, and quaternary. An ammonium salt, a thiourea compound, a ketone compound, etc. are mentioned, These 1 type (s) or 2 or more types can be used. Among them, cobalt octylate, cobalt naphthenate, copper octylate, copper naphthenate, manganese octylate, manganese naphthenate, dimethylaniline, trietalamine, triethylbenzylammonium chloride, di (2-hydroxyethyl) p-toluidine, ethylenethio Urea, acetylacetone and methyl acetoacetate are preferred.
The amount of the thermal polymerization accelerator is preferably 0.001 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable resin. When the blending amount of the thermal polymerization accelerator is within such a range, it is preferable in terms of curability of the resin composition, physical properties of the cured product, and economical efficiency. More preferably, it is 0.01-5 mass parts, More preferably, it is 0.05-3 mass parts.

上記光重合性樹脂組成物にはまた、必要に応じ、光増感剤、光重合促進剤、金属酸化物粒子、表面機能調整剤、溶剤等の1種又は2種以上を使用することができる。
上記光増感剤とは、光励起により生じた励起状態から光重合開始剤に励起エネルギーを移し、光重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができるものであり、例えば、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等の1種又は2種以上を用いることができる。
上記光増感剤の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、0.05〜20質量部が好適である。光増感剤の配合量がこのような範囲内であれば、樹脂組成物の硬化性、硬化物の物性、経済性の点で好ましい。より好ましくは0.1〜15質量部、更に好ましくは0.2〜10質量部である。
In the photopolymerizable resin composition, one or more of photosensitizers, photopolymerization accelerators, metal oxide particles, surface function modifiers, solvents, and the like can be used as necessary. .
The photosensitizer is one that can transfer excitation energy from an excited state generated by photoexcitation to a photopolymerization initiator and promote the decomposition of the photopolymerization initiator to effectively generate radicals. One or more of 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and the like can be used.
0.05-20 mass parts is suitable for the compounding quantity of the said photosensitizer with respect to 100 mass parts of total amounts of the said photopolymerizable resin. If the compounding quantity of a photosensitizer is in such a range, it is preferable at the point of sclerosis | hardenability of a resin composition, the physical property of hardened | cured material, and economical efficiency. More preferably, it is 0.1-15 mass parts, More preferably, it is 0.2-10 mass parts.

上記光重合促進剤とは、光重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができるものであり、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−n−ブトキシエチル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等の1種又は2種以上を用いることができる。中でも、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンが好適である。
上記光重合促進剤の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、0.05〜20質量部が好適である。光重合促進剤の配合量がこのような範囲内であれば、樹脂組成物の硬化性、硬化物の物性、経済性の点で好ましい。より好ましくは0.1〜15質量部、更に好ましくは0.2〜10質量部である。
The photopolymerization accelerator is an agent that can promote the decomposition of the photopolymerization initiator and effectively generate radicals. For example, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid. Methyl, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminobenzoate-2-n-butoxyethyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4, 1 type (s) or 2 or more types, such as 4'- dimethylamino benzophenone and 4,4'- diethylamino benzophenone, can be used. Of these, triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine are preferable.
0.05-20 mass parts is suitable for the compounding quantity of the said photoinitiator with respect to 100 mass parts of total amounts of the said photopolymerizable resin. When the blending amount of the photopolymerization accelerator is within such a range, it is preferable in terms of curability of the resin composition, physical properties of the cured product, and economical efficiency. More preferably, it is 0.1-15 mass parts, More preferably, it is 0.2-10 mass parts.

上記金属酸化物粒子とは、金属酸化物からなる粒子を意味し、好ましくは金属酸化物からなる微粒子である。このような金属酸化物粒子を含有する場合には、上記樹脂組成物から形成される硬化物の硬度が向上し、より傷つきにくく、低反射性のコーティング膜が得られるという効果を奏するため、好適である。
上記粒子を構成する金属酸化物は、Si、Ti、Zr、Zn、Sn、In、La及びYよりなる群から選択される少なくとも1種の金属元素を含む酸化物であることが好適である。金属酸化物は、これらの元素を含む単独の酸化物であってもよいし、これらの元素を含む複合酸化物であってもよい。
上記粒子を構成する金属酸化物の具体例としては、例えば、SiO、SiO、TiO、ZrO、ZnO、In、La、Y、SiO−Al、SiO−Zr、SiO−Ti、Al−ZrO、TiO−ZrO等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。中でも、SiO、TiO、ZrO、ZnOが好適である。
The metal oxide particles mean particles made of a metal oxide, preferably fine particles made of a metal oxide. In the case of containing such metal oxide particles, the hardness of the cured product formed from the resin composition is improved, and it is less likely to be damaged, and it is advantageous in that a low-reflective coating film can be obtained. It is.
The metal oxide constituting the particles is preferably an oxide containing at least one metal element selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Zn, Sn, In, La, and Y. The metal oxide may be a single oxide containing these elements or a complex oxide containing these elements.
Specific examples of the metal oxides constituting the particles, for example, SiO, SiO 2, TiO 2 , ZrO 2, ZnO, In 2 O 3, La 2 O 3, Y 2 O 3, SiO 2 -Al 2 O 3 , SiO 2 —Zr 2 O 3 , SiO 2 —Ti 2 O 3 , Al 2 O 3 —ZrO 2 , TiO 2 —ZrO 2, etc., and one or more of these can be used. Of these, SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO 2 are preferable.

上記金属酸化物粒子の平均粒子径は、1〜300nmであることが好適である。300nmを超えると、硬化物の透明性が充分とはならないおそれがある。より好ましくは1〜300nm、更に好ましくは1〜50nmである。
なお、ここでいう粒子の平均粒子径とは、動的光散乱式粒径分布測定装置を用いて測定することにより求められる体積平均粒子径を意味する。
上記金属酸化物粒子の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、0〜80質量部であることが好適である。80質量部を超えると、硬化物が脆くなるおそれがある。より好ましくは0〜50質量部である。
The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 to 300 nm. If it exceeds 300 nm, the cured product may not have sufficient transparency. More preferably, it is 1-300 nm, More preferably, it is 1-50 nm.
In addition, the average particle diameter of a particle here means the volume average particle diameter calculated | required by measuring using a dynamic light scattering type particle size distribution measuring apparatus.
The compounding amount of the metal oxide particles is preferably 0 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable resin. When it exceeds 80 mass parts, there exists a possibility that hardened | cured material may become weak. More preferably, it is 0-50 mass parts.

上記表面機能調整剤を含有することにより、耐指紋除去性が良好になるが、表面機能調整剤としては、一般的には、フッ素系化合物やシリコーン系化合物が用いられる。本発明では、用途に応じ、例えば、ポリエーテル変性フッ素系化合物、反応性基(例えば(メタ)アクリレート)を有するポリエーテル変性フッ素系化合物、非反応性シリコーン、反応性(例えば(メタ)アクリレート)シリコーン、高分子シリコーン、マクロモノマー系シリコーンのいずれも用いることができる。 The anti-fingerprint removal property is improved by containing the surface function adjusting agent, but as the surface function adjusting agent, a fluorine-based compound or a silicone-based compound is generally used. In the present invention, for example, a polyether-modified fluorine-based compound, a polyether-modified fluorine-based compound having a reactive group (for example, (meth) acrylate), a non-reactive silicone, and a reactive (for example, (meth) acrylate) Any of silicone, polymer silicone, and macromonomer silicone can be used.

上記溶剤とは、揮発性を有するか又は低沸点のいわゆる有機溶剤を意味し、例えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族又は脂環式炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム、二塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジエチルエーテル、メチルt−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類等の1種又は2種以上を使用することができる。 The above-mentioned solvent means a so-called organic solvent having volatility or a low boiling point, for example, an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene and chlorobenzene; an aliphatic or alicyclic such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane Hydrocarbons; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, and ethylene dichloride; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; ethers such as diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane; methyl acetate; Esters such as ethyl acetate, isopropyl acetate and amyl acetate; alcohols such as dimethylformamide, methanol, ethanol and propanol; one or more ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone are used. It is possible.

上記樹脂組成物には更に、必要に応じ、添加物として、無機充填剤、低収縮化剤(反応性オリゴマー又はポリマー、非反応性オリゴマー又はポリマー)、着色顔料、可塑剤、連鎖移動剤、近赤外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、難燃化剤、艶消し剤、染料、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、分散剤、スリップ剤、表面改質剤、揺変化剤、揺変助剤等の1種又は2種以上を使用することができる。なお、これらの添加物の存在は、特に本発明の効果に影響を及ぼすものではない。 If necessary, the resin composition further includes an inorganic filler, a low shrinkage agent (reactive oligomer or polymer, non-reactive oligomer or polymer), color pigment, plasticizer, chain transfer agent, Infrared absorber, light stabilizer, antioxidant, flame retardant, matting agent, dye, defoaming agent, leveling agent, antistatic agent, dispersant, slip agent, surface modifier, thixotropic agent, rocking agent 1 type (s) or 2 or more types, such as a change aid, can be used. The presence of these additives does not particularly affect the effects of the present invention.

上記添加物の配合量は、添加物の種類や使用目的、組成物の用途や使用方法等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば、無機充填剤の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、好ましくは1〜80質量部、より好ましくは10〜60質量部、更に好ましくは20〜50質量部である。低収縮化剤、着色顔料、可塑剤又は援変化剤の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、好ましくは1〜40質量部、より好ましくは5〜30質量部、更に好ましくは10〜25質量部である。酸化防止剤、艶消し剤、染料、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、分散剤、スリップ剤、表面改質剤又は援変助剤の配合量は、上記光重合性樹脂の総量100質量部に対し、好ましくは0.0001〜10質量部、より好ましくは0.001〜5質量部、更に好ましくは0.01〜3質量部である。 What is necessary is just to set the compounding quantity of the said additive suitably according to the kind and use purpose of an additive, the use of a composition, a usage method, etc., and it is not specifically limited. For example, the blending amount of the inorganic filler is preferably 1 to 80 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and further preferably 20 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable resin. . The compounding amount of the low shrinkage agent, the color pigment, the plasticizer or the auxiliary change agent is preferably 1 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 30 parts by mass, and more preferably 100 parts by mass of the total amount of the photopolymerizable resin. Preferably it is 10-25 mass parts. Antioxidants, matting agents, dyes, antifoaming agents, leveling agents, antistatic agents, dispersants, slip agents, surface modifiers or auxiliary agents are blended in a total amount of 100 mass of the above photopolymerizable resin. Preferably it is 0.0001-10 mass parts with respect to a part, More preferably, it is 0.001-5 mass part, More preferably, it is 0.01-3 mass part.

<光記録媒体用光重合性樹脂組成物のより好適な形態等>
本発明の光重合性樹脂組成物は、好ましくは上記成分を配合し、通常の手法により混合・攪拌することにより得ることができる。
このような樹脂組成物の粘度は、製膜手法(例えば、スピンコーターによる製膜等)や所望する厚み等によって適宜設定される。通常、厚み100μm程度(例えば、記録容量25G程度の一層式ブルーレイディスク向け)から、厚み75μm程度(例えば、記録容量50G程度の2層式ブルーレイディスク向け)の塗膜を均一に得ようとする場合は、25℃において、800mPa・s以上であることが好ましく、また、2500mPa・s以下であることが好適である。より好ましくは850mPa・s以上、更に好ましくは900mPa・sであり、また、より好ましくは2300mPa・s以下、更に好ましくは2000mPa・s以下、特に好ましくは1900mPa・s以下である。なお、厚みを更に薄くしたい場合(例えば、3層以上の多層式ブルーレイディスク向け)には、粘度も更に小さくすることが好適である。
なお、上記樹脂組成物の粘度は、温度25℃の条件下で、B型粘度計(型式「RB80L」:東機産業社製)を用いて算出することができる。
<A more suitable form of the photopolymerizable resin composition for optical recording media>
The photopolymerizable resin composition of the present invention can be obtained by preferably blending the above components, and mixing and stirring by a usual method.
The viscosity of such a resin composition is appropriately set depending on a film forming method (for example, film formation by a spin coater), a desired thickness, and the like. Usually, when trying to uniformly obtain a coating film having a thickness of about 100 μm (for example, for a single-layer Blu-ray disc with a recording capacity of about 25 G) to a thickness of about 75 μm (for example, for a double-layer Blu-ray disc with a recording capacity of about 50 G) Is preferably at least 800 mPa · s at 25 ° C. and more preferably at most 2500 mPa · s. More preferably, it is 850 mPa * s or more, More preferably, it is 900 mPa * s, More preferably, it is 2300 mPa * s or less, More preferably, it is 2000 mPa * s or less, Most preferably, it is 1900 mPa * s or less. In addition, when it is desired to further reduce the thickness (for example, for a multilayer Blu-ray disc having three or more layers), it is preferable to further reduce the viscosity.
The viscosity of the resin composition can be calculated using a B-type viscometer (model “RB80L” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under a temperature of 25 ° C.

ここで、上記光重合性樹脂組成物から形成される層、すなわち上記光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層の厚みは、1〜200μmであることが適当である。この範囲に設定することによって、本発明の作用効果を充分に発揮することが可能となる。好ましい厚みの範囲は、当該層の用途・機能等によって適宜設定すればよく、例えば、保護層(光透過層)として用いる場合は、好ましくは20〜150μm、より好ましくは70〜105μm、更に好ましくは70〜102μm、特に好ましくは70〜100μmである。また、2層以上の記録層(情報記録層)間に配置される中間層として用いる場合は、好ましくは1〜50μm、より好ましくは5〜30μm、更に好ましくは8〜28μmである。なお、より多層式の光記録媒体の場合、保護層の厚みはより小さく、中間層の厚みはより厚くすることが好適である。 Here, the thickness of the layer formed from the photopolymerizable resin composition, that is, the layer formed by curing the photopolymerizable resin composition is suitably 1 to 200 μm. By setting it within this range, it is possible to sufficiently exhibit the effects of the present invention. The preferable thickness range may be set as appropriate depending on the use / function of the layer. For example, when used as a protective layer (light transmission layer), the thickness is preferably 20 to 150 μm, more preferably 70 to 105 μm, and still more preferably. The thickness is 70 to 102 μm, particularly preferably 70 to 100 μm. Moreover, when using as an intermediate | middle layer arrange | positioned between two or more recording layers (information recording layer), Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 5-30 micrometers, More preferably, it is 8-28 micrometers. In the case of a more multilayer optical recording medium, it is preferable that the protective layer is thinner and the intermediate layer is thicker.

上記光重合性樹脂組成物は、紫外線を照射することで硬化させることができる。ここでいう硬化とは、流動性のない状態にすることを意味する。
使用する紫外線の波長は、150〜450nmの範囲内であればよい。このような波長を発する光源としては、例えば、太陽光線、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド灯、ガリウム灯、キセノン灯、フラッシュ型キセノン灯、カーボンアーク灯等が挙げられる。照射積算光量は、好ましくは0.1〜3J/cm、より好ましくは0.2〜2.0J/cm、更に好ましくは0.3〜1.0J/cmの範囲内である。
The photopolymerizable resin composition can be cured by irradiating with ultraviolet rays. The term “curing” as used herein means that there is no fluidity.
The wavelength of the ultraviolet rays used may be in the range of 150 to 450 nm. Examples of the light source that emits such a wavelength include sunlight, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a flash type xenon lamp, and a carbon arc lamp. Irradiation integrated light quantity is preferably 0.1~3J / cm 2, more preferably 0.2~2.0J / cm 2, more preferably in the range of 0.3~1.0J / cm 2.

上記光重合性樹脂組成物はまた、光照射による硬化と共に加熱による硬化を行ってもよい。この場合は、上述した光源と共に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等を用いればよい。加熱温度は、基材の種類等に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは80〜200℃、より好ましくは90〜180℃、更に好ましくは100〜170℃の範囲内である。加熱時間は、塗布面積等に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは1分間〜24時間、より好ましくは10分間〜12時間、更に好ましくは30分間〜6時間の範囲内である。 The photopolymerizable resin composition may be cured by heating together with curing by light irradiation. In this case, infrared light, far infrared light, hot air, high-frequency heating, or the like may be used together with the light source described above. The heating temperature may be appropriately adjusted according to the type of the substrate and the like, and is not particularly limited, but is preferably 80 to 200 ° C, more preferably 90 to 180 ° C, and still more preferably 100 to 170 ° C. Within range. The heating time may be appropriately adjusted according to the application area and the like, and is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 10 minutes to 12 hours, and even more preferably 30 minutes to 6 hours. Is within the range.

上記光重合性樹脂組成物は更に、光照射による硬化と共に電子線照射による硬化を行ってもよい。この場合、加速電圧は、好ましくは0〜500kV、より好ましくは20〜300kV、更に好ましくは30〜200kVの範囲内である電子線を用いればよい。また、照射量は、好ましくは2〜500kGy、より好ましくは3〜300kGy、更に好ましくは4〜200kGyの範囲内である。 The photopolymerizable resin composition may be further cured by electron beam irradiation as well as by light irradiation. In this case, the acceleration voltage is preferably 0 to 500 kV, more preferably 20 to 300 kV, and even more preferably 30 to 200 kV. The irradiation amount is preferably in the range of 2 to 500 kGy, more preferably 3 to 300 kGy, and still more preferably 4 to 200 kGy.

本発明の光重合性樹脂組成物は、該光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物が、ガラス転移温度における損失正接tanδが0.2〜0.6となるものであることが好適である。損失正接tanδが0.6以下であると、硬化物の長期保存安定性がより充分なものとなり、圧接痕や凹み等による永久変形をより一層抑制することができ、また0.2以上であると、硬化物の反りをより充分に抑えることができ、いずれの場合も長期保存安定性に更に優れることになる。上記損失正接tanδは、より好ましくは0.23以上、更に好ましくは0.24以上であり、また、より好ましくは0.45以下、更に好ましくは0.4以下である。 In the photopolymerizable resin composition of the present invention, a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition has a loss tangent tan δ at a glass transition temperature of 0.2 to 0.6. Is preferred. When the loss tangent tan δ is 0.6 or less, the long-term storage stability of the cured product becomes more sufficient, and permanent deformation due to pressure marks or dents can be further suppressed, and is 0.2 or more. And the curvature of hardened | cured material can be suppressed more fully, and it will be further excellent in long-term storage stability in any case. The loss tangent tan δ is more preferably 0.23 or more, further preferably 0.24 or more, more preferably 0.45 or less, and still more preferably 0.4 or less.

上記光重合性樹脂組成物はまた、該光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物が、25℃における貯蔵弾性率が25〜1300MPaとなるものであることも好適である。25℃における貯蔵弾性率が1300MPa以下であると、硬化物の反りがより低減され、例えば光記録媒体を寒冷地で使用したり長期保存したりする場合にも更に好適なものとなる。また25MPa以上であると、圧接痕や凹み等による永久変形をより充分に抑制することが可能になる。25℃における貯蔵弾性率は、より好ましくは40MPa以上であり、また、より好ましくは1000MPa以下、更に好ましくは300MPa以下、特に好ましくは250MPa以下である。 The photopolymerizable resin composition is also preferably such that a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition has a storage elastic modulus at 25 ° C. of 25 to 1300 MPa. When the storage elastic modulus at 25 ° C. is 1300 MPa or less, the warp of the cured product is further reduced, and for example, the optical recording medium is further suitable when used in a cold district or stored for a long time. Moreover, it becomes possible to suppress more fully the permanent deformation by a press-contact mark, a dent, etc. as it is 25 Mpa or more. The storage elastic modulus at 25 ° C. is more preferably 40 MPa or more, more preferably 1000 MPa or less, still more preferably 300 MPa or less, and particularly preferably 250 MPa or less.

上記光重合性樹脂組成物は更に、該光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物が、70℃における貯蔵弾性率が25〜150MPaとなるものであることも好適である。70℃における貯蔵弾性率が150MPa以下であると、硬化物の反りがより低減され、例えば光記録媒体を車内等の高温に晒されやすい場所で使用したり長期保存したりする場合にも更に好適なものとなる。また25MPa以上であると、圧接痕や凹み等による永久変形をより充分に抑制することが可能になる。70℃における貯蔵弾性率としてより好ましい範囲としては、上述したTgとも大きく関係するため、一概に説明できない部分もあるものの、例えば、より好ましくは30MPa以上、更に好ましくは35MPa以上であり、また、より好ましくは100MPa以下、より好ましくは80MPa以下、より好ましくは70MPa以下、より更に好ましくは65MPa以下、更に好ましくは60MPa以下、特に好ましくは55MPa以下である。なお、Tgが低い場合、25℃の貯蔵弾性率と70℃の貯蔵弾性率とは近い値をとることになる。 It is also preferable that the photopolymerizable resin composition further has a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition having a storage elastic modulus at 70 ° C. of 25 to 150 MPa. When the storage elastic modulus at 70 ° C. is 150 MPa or less, the warp of the cured product is further reduced, and for example, it is more suitable when the optical recording medium is used in a place where it is easily exposed to a high temperature such as in a car or stored for a long time. It will be something. Moreover, it becomes possible to suppress more fully the permanent deformation by a press-contact mark, a dent, etc. as it is 25 Mpa or more. As a more preferable range as the storage elastic modulus at 70 ° C., since it is also greatly related to the above-described Tg, there are some portions that cannot be generally explained, for example, more preferably 30 MPa or more, still more preferably 35 MPa or more, The pressure is preferably 100 MPa or less, more preferably 80 MPa or less, more preferably 70 MPa or less, still more preferably 65 MPa or less, still more preferably 60 MPa or less, and particularly preferably 55 MPa or less. When Tg is low, the storage elastic modulus at 25 ° C. and the storage elastic modulus at 70 ° C. are close to each other.

上記硬化物の損失正接tanδ及び貯蔵弾性率は、上述した光重合性樹脂組成物の硬化物のTg測定時と同様の硬化方法によって硬化して得た硬化物について、当該Tg測定と同様の測定条件にて求めることができる。 The loss tangent tan δ and storage elastic modulus of the cured product are measured in the same manner as the Tg measurement for a cured product obtained by curing by the same curing method as in the Tg measurement of the cured product of the photopolymerizable resin composition described above. It can be obtained under conditions.

〔硬化物〕
本発明はまた、上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物でもある。このような硬化物は、耐光性、耐久性及び耐候性だけでなく、透明性や硬度、残膜性、膜厚安定性、膜厚均一性等の諸物性にも優れ、また、表面平滑性や反り特性、耐圧痕性も高く、長期保存安定性に著しく優れたものである。そのため、この硬化物は、光記録媒体を構成する層(硬化膜)として特に有用なものである。
[Cured product]
The present invention is also a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition for optical recording media. Such cured products are excellent not only in light resistance, durability and weather resistance, but also in various physical properties such as transparency, hardness, residual film properties, film thickness stability, film thickness uniformity, and surface smoothness. In addition, it has high warpage and pressure resistance, and is extremely excellent in long-term storage stability. Therefore, this cured product is particularly useful as a layer (cured film) constituting the optical recording medium.

上記硬化物は、上述したように、そのTgが50℃以下となるものであることが好適である。また、Tgにおける損失正接tanδ及び貯蔵弾性率のいずれか1以上もまた、上述した範囲内となるものであることが好適であり、これによって光記録媒体を構成する層(硬化膜)としてより有用なものとなる。 As described above, the cured product preferably has a Tg of 50 ° C. or lower. In addition, it is preferable that any one or more of the loss tangent tan δ and the storage elastic modulus at Tg is also within the above-described range, and thereby more useful as a layer (cured film) constituting the optical recording medium. It will be something.

上記硬化物はまた、厚さ100μmでの405nmにおける光線透過率が85%以上となるものであることが好適である。この光線透過率が85%以上であることによって、透明性がより充分なものとなり、記録された情報の読み出し時のエラーをより防ぐことが可能になる。より好ましくは88%以上、更に好ましくは89%以上である。
上記光線透過率は、分光光度計により測定することができる。
It is also preferable that the cured product has a light transmittance of 850 nm or more at 405 nm with a thickness of 100 μm. When the light transmittance is 85% or more, the transparency becomes more sufficient, and it becomes possible to further prevent errors in reading recorded information. More preferably, it is 88% or more, More preferably, it is 89% or more.
The light transmittance can be measured with a spectrophotometer.

上記硬化物は更に、70℃のオーブン中で100時間保持させた場合の質量減量(質量減少)率が、0.1〜2質量%となることが好適である。質量減少は、未架橋の重合性モノマー成分、光重合開始剤の残渣やその分解生成物、低分子量の添加剤等が原因と考えられるが、上記質量減少率が2質量%以下となることで、揮発成分の硬化物表面へのブリードアウトや、硬化物からなる層の厚み変化により記録された情報の読み出し時のエラー発生をより一層防止することができ、光記録媒体の長期保存安定性を更に良好なものとすることができる。なお、上記質量減少率を0.1質量%未満とするためには、硬化物の乾燥(減圧)工程等が必要となり得る。したがって、上記質量減少率を上記範囲に設定することにより、例えば、光記録媒体において経時的な表面精度の低下がより少なく保存安定性がより向上するのみならず、自動車内等での使用や保存がより可能となる。より好ましくは1.5質量%以下、更に好ましくは1質量%以下である。
上記質量減少率は、厚みが100μm±2μmの硬化物について測定するものとする。
Further, the cured product preferably has a mass loss (mass reduction) rate of 0.1 to 2% by mass when held in an oven at 70 ° C. for 100 hours. The decrease in mass is considered to be caused by uncrosslinked polymerizable monomer components, residues of photopolymerization initiators and decomposition products thereof, low molecular weight additives, etc., but the mass decrease rate is 2% by mass or less. In addition, bleed-out of volatile components to the surface of the cured product and the occurrence of errors in reading recorded information due to changes in the thickness of the layer of the cured product can be further prevented, and the long-term storage stability of optical recording media can be improved. Furthermore, it can be made favorable. In addition, in order to make the said mass reduction rate less than 0.1 mass%, the drying (decompression) process etc. of hardened | cured material may be required. Therefore, by setting the mass reduction rate within the above range, for example, the surface accuracy of the optical recording medium is less decreased with time, and the storage stability is further improved. Is more possible. More preferably, it is 1.5 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or less.
The mass reduction rate is measured for a cured product having a thickness of 100 μm ± 2 μm.

〔光記録媒体〕
本発明は更に、上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物から形成される層(すなわち、上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層)を有する光記録媒体でもある。このような光記録媒体は、青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体であるが、少なくとも基板、記録層、反射膜及び保護層を有するものが好適である。これらの層(基板含む)は、それぞれ1層から構成されるものであってもよいし、多層から構成されるものであってもよい。また、更に必要に応じて他の機能層を1層以上有するものであってもよく、これらの各層の間に他の機能層を有するものであってもよい。他の機能層としては、例えば、記録層(情報記録層)を2層以上有する多層構造の光記録媒体における記録層間に形成される中間層や、また、通常保護層の上に形成される、帯電防止層、撥水層、撥油層、ハードコート層等が挙げられる。また、記録層と保護層との間に形成される界面層も好ましく挙げられる。本発明の光記録媒体として特に好ましくは、更にハードコート層を有する形態である。
[Optical recording medium]
The present invention is also an optical recording medium having a layer formed from the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium (that is, a layer formed by curing the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium). Such an optical recording medium is an optical recording medium on which recording and / or reproduction is performed by blue laser light, and preferably has at least a substrate, a recording layer, a reflective film, and a protective layer. Each of these layers (including the substrate) may be composed of one layer or may be composed of multiple layers. Furthermore, it may have one or more other functional layers as necessary, and may have another functional layer between these layers. As other functional layers, for example, an intermediate layer formed between recording layers in a multilayer structure optical recording medium having two or more recording layers (information recording layers), and usually formed on a protective layer, Examples thereof include an antistatic layer, a water repellent layer, an oil repellent layer, and a hard coat layer. Also preferred is an interface layer formed between the recording layer and the protective layer. The optical recording medium of the present invention is particularly preferably a form having a hard coat layer.

上記光記録媒体は、記録層を1層有する1層式の光記録媒体であってもよいし、記録層を2層又は3層以上有する多層式の光記録媒体であってもよい。すなわち本発明の光記録媒体用光重合性樹脂組成物は、1層式又は多層式の光記録媒体のいずれにも好適に用いられるものである。 The optical recording medium may be a single-layer optical recording medium having one recording layer, or a multilayer optical recording medium having two or three or more recording layers. That is, the photopolymerizable resin composition for optical recording media of the present invention can be suitably used for either single-layer or multilayer optical recording media.

上記光重合性樹脂組成物は、透明性に優れ、光透過性の高いものであるため、上記光記録媒体の光透過層を形成する材料として好適に用いることができる。中でも保護層の形成に特に好ましく用いられるが、上記中間層を形成する材料として用いることも好適である。すなわち、上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物を硬化させてなる保護層及び/又は中間層を有する光記録媒体は、本発明の好適な実施形態の1つである。この場合、耐光性、耐久性及び耐候性に加え、低反り性(低収縮性)、透明性(光透過性)、基板(例えば、ポリカーボネート基板等)との密着性、低腐食性、リサイクル性、速硬化性(生産性)、防汚性、寸法安定性、長期保存安定性(加熱促進試験時の反りの変化、残膜性、圧接痕や凹み等の永久変形量が小さいこと)等の特性を全て満たす保護層や中間層を実現することが可能になる。
なお、保護層や中間層等の光透過層として複数の層を有する光記録媒体では、当該光透過層の少なくとも一層が、上記光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層(上記光重合性樹脂組成物から形成される層)であることが好適である。中でも、上記保護層の少なくとも一層が、上記光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層(上記光重合性樹脂組成物から形成される層)であることがより好ましい。
Since the photopolymerizable resin composition is excellent in transparency and has high light transmission, it can be suitably used as a material for forming the light transmission layer of the optical recording medium. Among them, it is particularly preferably used for forming the protective layer, but it is also suitable to use as a material for forming the intermediate layer. That is, an optical recording medium having a protective layer and / or an intermediate layer obtained by curing the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium is one of the preferred embodiments of the present invention. In this case, in addition to light resistance, durability and weather resistance, low warpage (low shrinkage), transparency (light transmission), adhesion to a substrate (for example, polycarbonate substrate, etc.), low corrosivity, and recyclability , Fast curability (productivity), antifouling properties, dimensional stability, long-term storage stability (warping change during heating acceleration test, residual film property, small amount of permanent deformation such as pressure marks and dents), etc. It is possible to realize a protective layer and an intermediate layer that satisfy all the characteristics.
In an optical recording medium having a plurality of layers as a light transmission layer such as a protective layer or an intermediate layer, at least one layer of the light transmission layer is a layer formed by curing the photopolymerizable resin composition (the photopolymerizability described above). A layer formed from a resin composition is preferable. Especially, it is more preferable that at least one layer of the protective layer is a layer formed by curing the photopolymerizable resin composition (a layer formed from the photopolymerizable resin composition).

−基板−
上記基板は、特に限定されず、例えば、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等から形成される樹脂基板の他、紙等も利用可能である。通常は、強度や柔軟性等を考慮して樹脂基板を採用するが、中でも、機械的強度の高さ、吸水率の低さ等から、ポリカーボネート樹脂から形成される基板、すなわちポリカーボネート基板が好適である。また、ポリカーボネート樹脂は硬化物の線膨張率が小さいため、このような基板と本発明における保護層との相乗効果によって、反り特性により一層優れる光記録媒体を得ることが可能になる。なお、吸水率が低いことによって、寸法安定性に優れた硬化物を与えることができ、また、硬化物への吸水も低く抑えることができる。
上記基板の厚みは、特に限定されないが、例えば0.5〜1.5mmであることが好適である。より好ましくは0.7〜1.2mm、更に好ましくは0.9〜1.1mmである。
-Board-
The said board | substrate is not specifically limited, For example, paper etc. can be utilized besides the resin substrate formed from a polycarbonate resin, a cycloolefin resin, a polyolefin resin, an acrylic resin, an epoxy resin etc. Usually, a resin substrate is adopted in consideration of strength, flexibility, etc. Among them, a substrate formed from a polycarbonate resin, that is, a polycarbonate substrate is preferable because of its high mechanical strength and low water absorption. is there. In addition, since the linear expansion coefficient of the cured product is small in the polycarbonate resin, it becomes possible to obtain an optical recording medium that is more excellent in warping characteristics by the synergistic effect of such a substrate and the protective layer in the present invention. In addition, when the water absorption is low, a cured product having excellent dimensional stability can be provided, and water absorption into the cured product can be suppressed to a low level.
Although the thickness of the said board | substrate is not specifically limited, For example, it is suitable that it is 0.5-1.5 mm. More preferably, it is 0.7-1.2 mm, More preferably, it is 0.9-1.1 mm.

−記録層−
上記記録層は、記録部位とも呼ばれ、情報信号の記録又は再生を行う部位である。このような記録層としては、再生専用の光記録媒体では、基板と一体化されたものであってもよく、例えば、ピット形状を有する基板が好ましく採用される。具体的には、基板上に情報記録を担うピットを、反射膜と積層される表面に形成することが好適である。また、記録可能な光記録媒体では、記録層は、反射膜と保護層(光透過層)との間に設けることが好適である。
-Recording layer-
The recording layer is also called a recording part, and is a part for recording or reproducing information signals. As such a recording layer, a read-only optical recording medium may be integrated with a substrate. For example, a substrate having a pit shape is preferably employed. Specifically, it is preferable to form pits for recording information on the substrate on the surface laminated with the reflective film. In a recordable optical recording medium, the recording layer is preferably provided between the reflective film and the protective layer (light transmission layer).

上記記録層としては、情報の記録・再生が可能なものであればよく、相変化型記録層、光磁気記録層又は有機系色素型記録層のいずれであってもよい。中でも、有機系色素型記録層、すなわち有機系色素を用いた層であることが好適である。有機系色素としては、例えば、300〜800nm付近の光波長領域に、その構造に由来した吸収帯を有する有機化合物の1種又は2種以上を使用することが好ましい。このような有機系色素として具体的には、例えば、メチン系、アゾ系、含金アゾ系、ピロン系、ポリフィリン系の化合物等が挙げられる。
上記記録層の厚みは、特に限定されないが、例えば1〜100nmであることが好ましい。より好ましくは1〜50nm、更に好ましくは1〜30nmである。
The recording layer only needs to be capable of recording / reproducing information, and may be any of a phase change recording layer, a magneto-optical recording layer, and an organic dye recording layer. Among these, an organic dye type recording layer, that is, a layer using an organic dye is preferable. As the organic dye, it is preferable to use one or more organic compounds having an absorption band derived from the structure in the light wavelength region near 300 to 800 nm, for example. Specific examples of such organic dyes include methine, azo, metal-containing azo, pyrone, and porphyrin compounds.
The thickness of the recording layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 nm, for example. More preferably, it is 1-50 nm, More preferably, it is 1-30 nm.

−反射膜(反射層)−
上記反射膜(反射層とも称す)は、情報読み取り用のレーザー光を反射させる膜であり、例えば、金、銀、アルミニウム、又は、それら金属を含む合金からなる膜が好適である。中でも、銀又は銀合金が好適である。
上記反射膜の厚みは、反射膜を構成する材料や層構造等によって適宜設定することが好ましい。例えば、単層の場合は反射率が35〜70%になるように、厚みを設定することが好ましい(L0)。通常、銀合金の場合、反射率を45%程度にするためには、厚みを40nm程度に設定する。また、反射層(反射膜)を2層とする場合、レーザー光照射側からみて奥に位置する反射膜(L1)は、反射率が10〜30%になるよう、使用する材料に応じた膜厚を設定することが好適である。通常、銀合金では、反射率を20%程度にするためには、厚みを20nm程度に設定する。本発明の反射層としては、該層が銀又は銀合金を用いた層である場合には、厚みを10〜50nmに設定することが好適である。すなわち、上記反射層の少なくとも1層が銀又は銀合金を用いた層であって、該層の厚みが10〜50nmである形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。
-Reflective film (reflective layer)-
The reflective film (also referred to as a reflective layer) is a film that reflects laser light for reading information. For example, a film made of gold, silver, aluminum, or an alloy containing these metals is suitable. Among these, silver or a silver alloy is preferable.
The thickness of the reflective film is preferably set as appropriate depending on the material constituting the reflective film, the layer structure, and the like. For example, in the case of a single layer, it is preferable to set the thickness so that the reflectance is 35 to 70% (L0). Usually, in the case of a silver alloy, the thickness is set to about 40 nm in order to make the reflectance about 45%. In addition, when the reflective layer (reflective film) has two layers, the reflective film (L1) located in the back as viewed from the laser light irradiation side is a film according to the material used so that the reflectance is 10 to 30%. It is preferable to set the thickness. Usually, in the case of a silver alloy, the thickness is set to about 20 nm in order to obtain a reflectance of about 20%. As the reflective layer of the present invention, when the layer is a layer using silver or a silver alloy, it is preferable to set the thickness to 10 to 50 nm. That is, at least one of the reflective layers is a layer using silver or a silver alloy, and the thickness of the layer is 10 to 50 nm is also a preferred embodiment of the present invention.

−保護層−
上記保護層の厚みは、1〜200μmであることが好適である。より好ましくは20〜150μm、更に好ましくは70〜105μm、特に好ましくは70〜102μm、最も好ましくは70〜100μmである。なお、より多層式の光記録媒体の場合、保護層の厚みはより小さく、後述する中間層の厚みはより厚くすることが好適である。
なお、2層以上の層を積層して保護層を構成する場合、各層の厚みが上記範囲内であることが好ましいが、より好ましくは、保護層全体として上記範囲内であることである。
-Protective layer-
The thickness of the protective layer is preferably 1 to 200 μm. More preferably, it is 20-150 micrometers, More preferably, it is 70-105 micrometers, Most preferably, it is 70-102 micrometers, Most preferably, it is 70-100 micrometers. In the case of a more multilayer optical recording medium, it is preferable that the protective layer has a smaller thickness and an intermediate layer described later has a larger thickness.
In addition, when laminating | stacking two or more layers and comprising a protective layer, it is preferable that the thickness of each layer is in the said range, More preferably, it is in the said range as the whole protective layer.

−中間層−
上記中間層は、上述したように、記録層(情報記録層)を2層以上有する多層構造の光記録媒体において、当該記録層間に形成される層であり、紫外線等の活性エネルギー線で硬化し得る樹脂組成物(紫外線硬化性樹脂組成物)から形成することが好適である。好ましくは、上述したように本発明の光記録媒体用光重合性樹脂組成物を用いることである。
上記中間層の厚みは、特に限定されないが、例えば1〜200μmであることが好ましい。より好ましくは1〜50μm、更に好ましくは5〜30μm、特に好ましくは8〜28μmである。
-Intermediate layer-
As described above, the intermediate layer is a layer formed between the recording layers in an optical recording medium having a multilayer structure having two or more recording layers (information recording layers), and is cured by active energy rays such as ultraviolet rays. It is suitable to form from the resin composition (ultraviolet curable resin composition) obtained. Preferably, as described above, the photopolymerizable resin composition for optical recording media of the present invention is used.
Although the thickness of the said intermediate | middle layer is not specifically limited, For example, it is preferable that it is 1-200 micrometers. More preferably, it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 5-30 micrometers, Most preferably, it is 8-28 micrometers.

−界面層−
上記界面層は、上述したように、好ましくは記録層と保護層との間に形成される層であり、特に記録可能な光記録媒体(記録再生型の光記録媒体とも称す)では更に界面層を有することが好適である。この層を設けることで、記録層の保護層への膨れを有効に利用することができる。また、例えば、溶剤を含有する樹脂組成物を塗布することによって保護層を形成しようとする場合に、その溶剤による記録による記録層の溶出をも防止することができる。
-Interface layer-
As described above, the interface layer is preferably a layer formed between the recording layer and the protective layer. In particular, in the case of a recordable optical recording medium (also referred to as a recording / reproducing optical recording medium), the interface layer is further formed. It is preferable to have By providing this layer, the swelling of the recording layer to the protective layer can be used effectively. Further, for example, when a protective layer is formed by applying a resin composition containing a solvent, it is possible to prevent the recording layer from being eluted by recording with the solvent.

上記界面層では、上記反射膜からの反射光の位相変化を選択的に利用できるようにするため、界面層での反射はできるだけ小さいことが好適である。この点を考慮すると、界面層と記録層とにおける屈折率の差、又は、界面層と保護層とにおける屈折率の差が小さいことが好適である。具体的には、当該差が1以下であることが好ましく、より好ましくは0.7以下、更に好ましくは0.5以下である。特に好ましくは、界面層と記録層とにおける屈折率の差、及び、界面層と保護層とにおける屈折率の差のいずれもが、これらの好ましい範囲内となることである。 In the interface layer, it is preferable that the reflection at the interface layer is as small as possible in order to selectively use the phase change of the reflected light from the reflective film. Considering this point, it is preferable that the difference in refractive index between the interface layer and the recording layer or the difference in refractive index between the interface layer and the protective layer is small. Specifically, the difference is preferably 1 or less, more preferably 0.7 or less, and still more preferably 0.5 or less. Particularly preferably, both the difference in refractive index between the interface layer and the recording layer and the difference in refractive index between the interface layer and the protective layer are within these preferable ranges.

上記界面層としては、用いられるレーザー光の波長に対して透明で、しかも化学的、機械的、熱的に安定な材料から形成されるものであることが好適である。例えば、405nmの光線透過率が80%以上となる材料を用いることが好ましい。この光線透過率としてより好ましくは90%以上、更に好ましくは100%である。 The interface layer is preferably made of a material that is transparent to the wavelength of the laser beam used and that is chemically, mechanically, and thermally stable. For example, it is preferable to use a material having a light transmittance of 405 nm of 80% or more. The light transmittance is more preferably 90% or more, and still more preferably 100%.

上記界面層を形成する材料として具体的には、金属、半導体等の酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)等のフッ化物等の誘電体化合物やその混合物等が好ましい。中でも、記録層や保護層との屈折率の差が1以下となるものが好ましい点から、界面層を形成する材料の屈折率が1〜2.5であるものが好適であり、また、界面層としての屈折率もこの範囲となるように、界面層の厚みを適宜設定することが好ましい。界面層の硬度や厚みにより、記録層の変形(記録層の保護層への膨らみ変形)を促進又は抑制したりすることができるが、例えば、保護層側への膨れをより有効活用するためには、比較的に硬度の低い誘電体材料を用いることが好ましく、例えば、ZnO、In、Ga、ZnSや希土類金属の硫化物に、他の金属、半導体の酸化物、窒化物、炭化物を混合した材料が好適である。また、プラスチックのスパッタ膜、炭化水素分子のプラズマ重合膜を用いることもできる。
上記界面層の厚みは、例えば、1〜50nmであることが好適である。より好ましくは5〜20nmである。
Specific examples of the material for forming the interface layer include dielectric compounds such as oxides such as metals and semiconductors, nitrides, carbides, sulfides, fluorides such as magnesium (Mg) and calcium (Ca), and mixtures thereof. Etc. are preferred. Among them, a material having a refractive index of 1 to 2.5 is preferable because the difference in refractive index between the recording layer and the protective layer is 1 or less. It is preferable to set the thickness of the interface layer as appropriate so that the refractive index of the layer also falls within this range. Depending on the hardness and thickness of the interface layer, the deformation of the recording layer (bulging deformation of the recording layer into the protective layer) can be promoted or suppressed. For example, in order to more effectively utilize the swelling toward the protective layer. Is preferably a dielectric material having a relatively low hardness, such as ZnO, In 2 O 3 , Ga 2 O 3 , ZnS, rare earth metal sulfides, oxides of other metals, semiconductors, nitrides The material which mixed the thing and the carbide | carbonized_material is suitable. A sputtered plastic film or a plasma polymerized film of hydrocarbon molecules can also be used.
The thickness of the interface layer is preferably 1 to 50 nm, for example. More preferably, it is 5-20 nm.

−ハードコート層−
上記ハードコート層は、光記録媒体の汚れや小さな傷等を防止するために設けることが好適である。このようなハードコート層は、透明性を有する層であって、また、光等の活性エネルギー線で硬化する樹脂組成物を硬化させてなる層であることが好適である。
上記ハードコート層の厚みは、例えば、1〜10μmであることが好適である。より好ましくは2〜8μm、更に好ましくは3〜5μmである。
本発明の光記録媒体用光重合性樹脂組成物はまた、当該樹脂組成物の硬化膜上にこのようなハードコート層を設けた場合にも、当該ハードコート層のクラック等の発生がより防止されるという特性を有する。
-Hard coat layer-
The hard coat layer is preferably provided in order to prevent dirt and small scratches on the optical recording medium. Such a hard coat layer is a layer having transparency, and is preferably a layer obtained by curing a resin composition that is cured by an active energy ray such as light.
The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, for example. More preferably, it is 2-8 micrometers, More preferably, it is 3-5 micrometers.
The photopolymerizable resin composition for optical recording media of the present invention also prevents the occurrence of cracks in the hard coat layer even when such a hard coat layer is provided on the cured film of the resin composition. Has the property of being

上記光記録媒体用光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光記録媒体は、例えば、基板(又は基板上に形成された機能層)上に形成された反射膜上に、上記光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層を形成することで得ることができるが、ここでいう「反射膜上」とは、反射膜に直接、当該層を積層する形態だけでなく、反射膜上に機能層が積層され、その機能層上に当該層が積層される形態も意味する。 An optical recording medium having a layer obtained by curing the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium, for example, the above-mentioned light on a reflective film formed on a substrate (or a functional layer formed on the substrate). Although it can be obtained by forming a layer formed by curing the polymerizable resin composition, the term “on the reflective film” as used herein refers not only to the form in which the layer is directly laminated on the reflective film, but also to the reflective film. It also means a mode in which a functional layer is laminated on the functional layer and the layer is laminated on the functional layer.

上記反射膜上に上記光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層を形成する方法としては、通常の手法を採用すればよく、例えば、反射膜に接着剤で上記樹脂組成物の硬化物を貼り合わせる手法や、スピンコーターを用いた手法(スピンコート法)等が挙げられるが、コスト面を考慮するとスピンコート法により行うことが好適である。また、本発明の光記録媒体用光重合性樹脂組成物は、スピンコート法による製膜に特に適したもの、すなわち具体的にいうと、流れ性が良好で、スピンコーターの中心から外側に向かう方向で凹凸の発生を充分に防止しながら製膜できるため、この点からもスピンコート法を採用することが好ましい。 As a method for forming a layer formed by curing the photopolymerizable resin composition on the reflective film, a normal method may be employed. For example, a cured product of the resin composition may be applied to the reflective film with an adhesive. There are a bonding method, a method using a spin coater (spin coating method), and the like, but considering the cost, it is preferable to carry out by a spin coating method. The photopolymerizable resin composition for optical recording media of the present invention is particularly suitable for film formation by spin coating, that is, specifically, it has good flowability and goes from the center of the spin coater to the outside. Since film formation can be performed while sufficiently preventing the occurrence of unevenness in the direction, it is preferable to adopt the spin coating method also in this respect.

ここで、上記光重合性樹脂組成物は、上述したように、光重合性樹脂組成物の一方の面が金属(反射膜)と接し、他方の面が気相(大気)に接した状態で該光重合性樹脂組成物を硬化させる際の硬化ムラを充分に抑制できるという効果も発揮できるものである。したがって、少なくとも基板、記録層、反射膜及び樹脂層を有し、該樹脂層が、光重合性樹脂組成物の一方の面が金属(反射膜)と接し、他方の面が気相(大気)に接した状態で該光重合性樹脂組成物を硬化させることにより得られるものであり、該光重合性樹脂組成物が、上述した本発明の光重合性樹脂組成物(光重合性樹脂及びベンゾトリアゾール化合物を含有する樹脂組成物)である形態の光記録媒体もまた、本発明の好適な形態の1つである。また、このように、上記光重合性樹脂組成物の一方の面が金属(反射膜)と接し、他方の面が気相(大気)に接した状態で該光重合性樹脂組成物を硬化させる硬化工程を含む、光記録媒体の製造方法もまた、本発明の好適な実施形態の1つである。
なお、この場合、最終製品としての光記録媒体における上記樹脂層は、その一方の面が反射膜に接し、他方の面が反射膜以外の層(好ましくは、気相(大気)又はハードコート層)に接する形態であることが好適である。
Here, as described above, the photopolymerizable resin composition is in a state where one surface of the photopolymerizable resin composition is in contact with the metal (reflection film) and the other surface is in contact with the gas phase (atmosphere). The effect that the unevenness in curing when the photopolymerizable resin composition is cured can be sufficiently suppressed. Therefore, it has at least a substrate, a recording layer, a reflective film, and a resin layer, and the resin layer has one surface in contact with the metal (reflective film) and the other surface in the gas phase (atmosphere). The photopolymerizable resin composition is obtained by curing the photopolymerizable resin composition in contact with the photopolymerizable resin composition of the present invention described above (the photopolymerizable resin and the benzoate). An optical recording medium in the form of a resin composition containing a triazole compound is also a preferred form of the present invention. In addition, as described above, the photopolymerizable resin composition is cured in a state where one surface of the photopolymerizable resin composition is in contact with the metal (reflection film) and the other surface is in contact with the gas phase (atmosphere). A method for producing an optical recording medium including a curing step is also one preferred embodiment of the present invention.
In this case, the resin layer in the optical recording medium as the final product has one surface in contact with the reflective film, and the other surface is a layer other than the reflective film (preferably, a gas phase (atmosphere) or a hard coat layer. It is preferable that it is a form which touches.

上記光重合性樹脂組成物はまた、上述したように、その硬化物が金型からの離型性にも優れるという効果を発揮できるものでもある。したがって、少なくとも基板、記録層、反射膜及び樹脂層を有し、該樹脂層が、光重合性樹脂組成物の一方の面が金属(反射膜)と接し、他方の面が金型に接した状態で該光重合性樹脂組成物を硬化させることにより得られるものであり、該光重合性樹脂組成物が、上述した本発明の光重合性樹脂組成物(光重合性樹脂及びベンゾトリアゾール化合物を含有する樹脂組成物)である形態の光記録媒体もまた、本発明の好適な形態の1つである。また、このように、上記光重合性樹脂組成物の一方の面が金属(反射膜)と接し、他方の面が金型に接した状態で該光重合性樹脂組成物を硬化させる硬化工程を含む、光記録媒体の製造方法もまた、本発明の好適な実施形態の1つである。 As described above, the photopolymerizable resin composition can also exhibit the effect that the cured product is excellent in releasability from the mold. Therefore, it has at least a substrate, a recording layer, a reflective film, and a resin layer, and the resin layer has one surface in contact with the metal (reflective film) and the other surface in contact with the mold. The photopolymerizable resin composition is obtained by curing the photopolymerizable resin composition in a state, and the photopolymerizable resin composition comprises the above-described photopolymerizable resin composition (photopolymerizable resin and benzotriazole compound). The optical recording medium in the form of (resin composition contained) is also one of the preferred forms of the present invention. Further, the curing step of curing the photopolymerizable resin composition in a state where one surface of the photopolymerizable resin composition is in contact with the metal (reflective film) and the other surface is in contact with the mold as described above. An optical recording medium manufacturing method is also one of the preferred embodiments of the present invention.

上記光重合性樹脂組成物を硬化させてなる層は、上述した本発明の光重合性樹脂組成物から形成されるものであるため、硬化後の厚み変化を±2μm内に制御することができる。このような硬化層の厚みは、当該硬化層の用途等によって適宜設定することができ、例えば、保護層を形成する材料として用いる場合は、上述した保護層の好適な厚み範囲に設定することが好ましい。 Since the layer formed by curing the photopolymerizable resin composition is formed from the above-described photopolymerizable resin composition of the present invention, the thickness change after curing can be controlled within ± 2 μm. . The thickness of such a hardened layer can be appropriately set depending on the use of the hardened layer and the like. For example, when used as a material for forming the protective layer, the thickness of the protective layer can be set within a suitable range. preferable.

本発明の光記録媒体としては、上述したように、再生専用型の光記録媒体と、記録可能な光記録媒体(記録再生型の光記録媒体ともいう)とのいずれとしても好ましく用いられるが、例えば、記録1層式である場合を例に挙げ、これらの型の好適な形態及び製法を下記に説明する。 As described above, the optical recording medium of the present invention is preferably used as both a read-only optical recording medium and a recordable optical recording medium (also referred to as a recording / reproducing optical recording medium). For example, taking the case of a recording single layer type as an example, preferred forms and manufacturing methods of these types will be described below.

上記再生専用型の光記録媒体として好適な形態は、少なくとも、ピット形状を有する樹脂基板(好ましくはポリカーボネート基板)、反射膜及び保護層をこの順に有する形態であるが、この形態の好ましい製法としては、例えば、1枚の樹脂基板を射出成形する際に、記録層であるピットを設け、次いで該記録層上に反射膜(反射層ともいう)を形成し、更に、該反射膜上に、光重合性樹脂組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射によって硬化させて保護層(光透過層)を形成する手法が挙げられる。なお、この保護層上に更にハードコート層を設けることがより好ましい。 A form suitable as the read-only optical recording medium is a form having at least a resin substrate (preferably a polycarbonate substrate) having a pit shape, a reflective film, and a protective layer in this order. For example, when a single resin substrate is injection-molded, a pit which is a recording layer is provided, and then a reflective film (also referred to as a reflective layer) is formed on the recording layer. A method of forming a protective layer (light transmission layer) by applying a polymerizable resin composition by a spin coating method or the like and then curing it by ultraviolet irradiation is exemplified. It is more preferable to further provide a hard coat layer on this protective layer.

上記記録再生型の光記録媒体として好適な形態は、少なくとも、基板(好ましくはポリカーボネート基板)、反射膜、記録層及び保護層をこの順に有する形態であるが、この形態の好ましい製法としては、例えば、1枚の基板上に反射膜を形成し、次いで記録層を設け、更に、該記録層上に、光重合性樹脂組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射によって硬化させて保護層(光透過層)を形成する手法が挙げられる。なお、記録層上に界面層を設けた後に保護層を形成することがより好ましく、また、保護層上に更にハードコート層を設けることもより好ましい。 A form suitable as the recording / reproducing optical recording medium is a form having at least a substrate (preferably a polycarbonate substrate), a reflective film, a recording layer, and a protective layer in this order. A reflective film is formed on a single substrate, and then a recording layer is provided. Further, a photopolymerizable resin composition is applied onto the recording layer by a spin coating method or the like, and then cured by ultraviolet irradiation to protect it. A method of forming a layer (light transmission layer) can be mentioned. It is more preferable to form a protective layer after providing the interface layer on the recording layer, and it is more preferable to further provide a hard coat layer on the protective layer.

本発明の光記録媒体用光重合性樹脂組成物は、上述のような構成であるので、耐候性に著しく優れる硬化物を与えるものであり、このような樹脂組成物を用いれば、数十年以上の長期間にわたって安定して記録・再生ができる光記録媒体を得ることができるため、有用である。また、このような樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光記録媒体は、極めて信頼性の高いものであり、また、寒冷地や、車内等の高温に晒されやすい場所での使用や長期保存にも適したものである。 Since the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium of the present invention has the above-described configuration, it provides a cured product having extremely excellent weather resistance. If such a resin composition is used, it will be several decades. This is useful because an optical recording medium capable of recording and reproducing stably over the above-described long period can be obtained. In addition, an optical recording medium having a layer formed by curing such a resin composition is extremely reliable, and can be used in a cold district or a place where it is easily exposed to high temperatures such as in a car or for a long time. It is also suitable for storage.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味するものとする。
下記製造例において、重合体の数平均分子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn)、ガラス転移温度及び貯蔵弾性率は、各々上述した方法にて測定した。また、実施例等における各種物性の評価は、下記方法にて行った。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “part” means “part by mass” and “%” means “% by mass”.
In the following production examples, the number average molecular weight (Mn), molecular weight distribution (Mw / Mn), glass transition temperature, and storage elastic modulus of the polymer were measured by the methods described above. In addition, various physical properties in Examples and the like were evaluated by the following methods.

<各種物性の評価方法>
(1)平均アクリル当量
上述した手法にて、平均アクリル当量を求めた。
(2)樹脂組成物粘度
得られた樹脂組成物(保護層形成用の樹脂組成物)を、温度25℃の条件下で、B型粘度計(型式「RB80L」、東機産業社製)を用いて測定した値を採用した。
<Evaluation methods for various physical properties>
(1) Average acrylic equivalent The average acrylic equivalent was calculated | required by the method mentioned above.
(2) Viscosity of Resin Composition The obtained resin composition (resin composition for forming a protective layer) is subjected to a B-type viscometer (model “RB80L”, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at a temperature of 25 ° C. The measured value was used.

(3)保護層 25℃又は70℃における貯蔵弾性率
得られた基板/保護層の積層体から、保護層(樹脂組成物の硬化膜(硬化物))のみを所定の寸法で剥がし取り、引っ張りモード、周波数1Hz、クランプ距離25mm、振幅0.1%、昇温速度5℃/分の条件で動的粘弾性の測定を行い、得られた25℃又は70℃における各貯蔵弾性率の値を採用した。
(4)保護層 ガラス転移温度(Tg)
上記(3)の25℃における貯蔵弾性率と同様の測定方法及び条件により得られた値であり、最大tanδ値の温度を採用した。
(5)保護層 ガラス転移温度におけるtanδ値
上記(3)の貯蔵弾性率と同様の測定方法及び条件により測定されるガラス転移温度のtanδ値を採用した。
(3) Protective layer Only the protective layer (cured film (cured product) of the resin composition) is peeled off from the laminate of the substrate / protective layer obtained at 25 ° C. or 70 ° C. with a predetermined dimension, and pulled. The dynamic viscoelasticity is measured under the conditions of mode, frequency 1 Hz, clamp distance 25 mm, amplitude 0.1%, heating rate 5 ° C./min, and the obtained storage elastic modulus values at 25 ° C. or 70 ° C. are obtained. Adopted.
(4) Protective layer Glass transition temperature (Tg)
It is a value obtained by the same measurement method and conditions as the storage elastic modulus at 25 ° C. in (3) above, and the temperature of the maximum tan δ value was adopted.
(5) Protective layer Tan δ value at glass transition temperature The tan δ value of the glass transition temperature measured by the same measurement method and conditions as the storage elastic modulus of (3) above was adopted.

(6)硬化性
得られた基板/保護層の積層体(すなわち、各実施例等において、ポリカーボネート製の円盤状光記録媒体用基板に、銀合金をスパッタリング処理した後、スピンコーターにて樹脂組成物を厚さ約100μm設定で塗布し、硬化させて得られた積層体)について、樹脂組成物の硬化ムラによる硬化不良部分があるかどうかを目視にて判断した。
◎:樹脂組成物の硬化ムラ全く無し
○:樹脂組成物の硬化ムラが判別しづらいが若干あり
△:樹脂組成物の硬化ムラあり
×:樹脂組成物の硬化ムラかなりあり
(6) Curability The obtained substrate / protective layer laminate (that is, in each example etc., a polycarbonate disk-shaped optical recording medium substrate was sputtered with a silver alloy, and then subjected to a resin composition using a spin coater. The laminate was obtained by applying and curing the product with a thickness of about 100 μm, and it was visually determined whether or not there was a poorly cured part due to uneven curing of the resin composition.
A: There is no curing unevenness of the resin composition. O: There is a slight difficulty in discriminating the curing unevenness of the resin composition. Δ: There is curing unevenness of the resin composition. X: There is considerable curing unevenness of the resin composition.

(7)硬化時の反り量
得られた基板/保護層/ハードコート層の積層体を、保護層(樹脂組成物の硬化膜(硬化物))が上面側になるように水平なガラス板上に置いた後、日本触媒社製のレーザー変位読取方式の反り角測定装置を使い、温度25℃、相対湿度50%環境下にて、半径58mm位置におけるラジアルチルト値を測定した。硬化時の反り量としては、塗布前後の反り変化量を採用した。
◎:0.5°未満
○:0.5°以上、0.7°未満
△:0.7°以上、0.9°未満
(7) The amount of warpage during curing The laminate of the obtained substrate / protective layer / hard coat layer is placed on a horizontal glass plate so that the protective layer (cured film (cured product) of the resin composition) is on the upper surface side. Then, a radial tilt value at a radius of 58 mm was measured using a laser displacement reading type warpage angle measuring device manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. under an environment of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50%. As the amount of warping during curing, the amount of warpage change before and after coating was adopted.
◎: Less than 0.5 ° ○: 0.5 ° or more, less than 0.7 ° △: 0.7 ° or more, less than 0.9 °

(8)離型性
樹脂金型としてポリカーボネートを用い、該ポリカーボネート上にスピンコーターにて樹脂組成物を厚さ約100μm設定で塗布・硬化し、得られた積層体について、JIS K5600 5−6(1999年)に準拠した碁盤目試験で剥離性の評価を行った。具体的には、塗膜(保護層)上に縦横に1mmの間隔で碁盤目状に素材に達する切れ目を入れ、密着力(120gf/10mm)の接着テープを貼りつける。そしてこの接着テープを剥ぎ取り、剥離して接着テープに付着した塗膜片の数量を調べて評価した。金型からの離型性が良好な場合には、樹脂片が接着テープに付着し、金型から剥離する。この評価試験から、樹脂組成物の硬化物(保護層)の金型離型性が判断できる。
◎:すべて剥離した。
○:剥離数70/100以上剥離した。
△:剥離数50/100以上70/100未満剥離した。
(8) Polycarbonate is used as the releasable resin mold, and the resin composition is applied and cured on the polycarbonate with a spin coater at a thickness of about 100 μm. The resulting laminate is JIS K5600 5-6 ( In 1999, the peelability was evaluated by a cross-cut test. Specifically, on the coating film (protective layer), cuts that reach the material in a grid pattern at intervals of 1 mm vertically and horizontally, and an adhesive tape having an adhesive force (120 gf / 10 mm) is applied. And this adhesive tape was peeled off, the number of the coating film pieces which peeled and adhered to the adhesive tape was investigated and evaluated. When the release property from the mold is good, the resin piece adheres to the adhesive tape and peels from the mold. From this evaluation test, the mold releasability of the cured product (protective layer) of the resin composition can be determined.
A: All peeled off.
○: Peeling was 70/100 or more.
(Triangle | delta): The peeling number 50/100 or more and less than 70/100 peeled.

(9)耐候性
得られた基板/保護層/ハードコート層の積層体について、メタリングウェザーメーター(型番M6T スガ試験機社製)を用いて0.5kW/m、80℃80%RH5時間の光学的加熱促進試験を行い、試験前後の金属の反射率を分光光度計(型式UV3700、島津製作所社製)を用いて測定した。
◎:反射率低下3%未満
○:反射率低下3%以上5%未満
△:反射率低下5%以上10%未満
×:反射率低下10%以上
(9) Weather resistance About the obtained substrate / protective layer / hard coat layer laminate, 0.5 kW / m 2 , 80 ° C., 80% RH for 5 hours using a metalling weather meter (model number M6T manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) Then, the reflectance of the metal before and after the test was measured using a spectrophotometer (model UV3700, manufactured by Shimadzu Corporation).
: Less than 3% reflectivity drop: 3% or more less than 5% reflectivity drop: Less than 5% reflectivity drop or less than 10% ×: 10% or more reflectivity drop

製造例1(UA−1の合成)
攪拌棒、温度計、滴下ライン、窒素/空気混合ガス導入管を取り付けた4つ口フラスコにイソホロンジイソシアネート340g、ジブチルスズジラウレート0.015gを加え、80℃へ昇温した。一定温度後、旭電化社製ポリプロピレングリコール「P−2000」300gを2時間かけて滴下し、滴下終了後、5時間、80℃の温度を保った。次に、2−ヒドロキシエチルアクリレート180gとハイドロキノンモノメチルエーテル0.5gとの混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、15時間、80℃の温度を保ち、ウレタンアクリレート(「UA−1」と称する。)を合成した。分子量(Mn)は5600、分子量分布(Mw/Mn)は3.71、ガラス転移温度は−5℃、25℃の貯蔵弾性率は10MPaであった。
Production Example 1 (Synthesis of UA-1)
340 g of isophorone diisocyanate and 0.015 g of dibutyltin dilaurate were added to a four-necked flask equipped with a stirring bar, a thermometer, a dropping line, and a nitrogen / air mixed gas introduction tube, and the temperature was raised to 80 ° C. After a certain temperature, 300 g of polypropylene glycol “P-2000” manufactured by Asahi Denka Co., Ltd. was dropped over 2 hours, and the temperature was maintained at 80 ° C. for 5 hours after the completion of dropping. Next, a mixture of 180 g of 2-hydroxyethyl acrylate and 0.5 g of hydroquinone monomethyl ether was added dropwise over 2 hours. After completion of dropping, a temperature of 80 ° C. was maintained for 15 hours, and urethane acrylate (referred to as “UA-1”) was synthesized. The molecular weight (Mn) was 5600, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 3.71, the glass transition temperature was −5 ° C., and the storage elastic modulus at 25 ° C. was 10 MPa.

実施例1
(保護層の準備)
ビスフェノールAのエチレンオキシド10モル付加物のジアクリレート(商品名「SR−602」、サートマー社製)40部、ネオペンチルグリコールのプロピレンオキシド2モル付加物のジアクリレート(商品名「SR−9003」、サートマー社製)10部、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド3モル付加物のトリアクリレート(商品名「ライトアクリレートTMP−3EO−A」、共栄社化学社製)25部、製造例1で合成したウレタンアクリレートUA−1を25部、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)2部、4−t−ブチルカテコール(和光純薬工業社製)0.3部、及び、カルボシキベンゾトリアゾール(商品名「CBT−1」、城北化学工業社製)0.05部を、混合・攪拌して、光重合性樹脂組成物(1)を調製した。
Example 1
(Preparation of protective layer)
40 parts of diacrylate of bisphenol A ethylene oxide 10 mol adduct (trade name “SR-602”, manufactured by Sartomer), diacrylate of 2 mol of propylene oxide adduct of neopentyl glycol (trade name “SR-9003”, Sartomer) 10 parts), triacrylate of trimethylolpropane ethylene oxide 3 mol adduct (trade name “light acrylate TMP-3EO-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 25 parts, urethane acrylate UA-1 synthesized in Production Example 1 25 parts, 1 part of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name “Irgacure 184”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 0.3 part of 4-t-butylcatechol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) , And carboxybenzotriazole (trade name “CBT- "The Johoku Chemical Co., Ltd.) 0.05 parts, mixed and stirred to, photopolymerizable resin composition (1) was prepared.

(ハードコート層の準備)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30部、トリメチロールプロパントリアクリレート30部、アクリル酸2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル40部、光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)5部、シリコーン系添加剤(商品名「FZ−2104」東レ・ダウコーニング社製)0.3部を、混合・攪拌して、光記録媒体用ハードコート用樹脂組成物を調製した。
(Preparation of hard coat layer)
30 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 30 parts of trimethylolpropane triacrylate, 40 parts of 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl acrylate, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name “Irgacure 184” as a photopolymerization initiator ”, 5 parts of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 0.3 part of silicone additive (trade name“ FZ-2104 ”, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and mixed and stirred to hard coat for optical recording medium A resin composition was prepared.

(保護層の形成1)
次に、厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート製の円盤状光記録媒体用基板を準備し(ソリ角度0.0°)、その上に銀合金を20〜40nmの膜厚でスパッタリング処理した。次に、銀合金上に雰囲気温度25℃、相対湿度50%の環境下、得られた光重合性樹脂組成物(1)を厚さ約100μm設定でスピンコーターにて塗布し、キセノンフラッシュUVランプを有するUV照射機(米国キセノン社製 形式RC−801)を用いて、窒素雰囲気下、ランプ高さ2cmでフラッシュを15回照射して硬化させた。なお、320〜390nmにおける照射積算光量は約0.5J/cmであった。硬化物(保護)層の厚さをレーザーフォーカス変位計を用いて測定したところ、97±2μmであった。
(Formation of protective layer 1)
Next, a polycarbonate disk-shaped optical recording medium substrate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm was prepared (a warp angle of 0.0 °), and a silver alloy was sputtered thereon to a thickness of 20 to 40 nm. . Next, the obtained photopolymerizable resin composition (1) was applied on a silver alloy in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 50% with a spin coater at a thickness of about 100 μm, and a xenon flash UV lamp Was cured by irradiating a flash 15 times at a lamp height of 2 cm in a nitrogen atmosphere using a UV irradiator (model RC-801, manufactured by Xenon, USA). In addition, the irradiation integrated light quantity in 320-390 nm was about 0.5 J / cm < 2 >. When the thickness of the cured product (protective) layer was measured using a laser focus displacement meter, it was 97 ± 2 μm.

(ハードコート層の形成)
次に、得られた光記録媒体用ハードコート用樹脂組成物を、硬化物(保護)層の上に、厚さ約3μm設定でスピンコーターにて塗布し、キセノンフラッシュUVランプを有するUV照射機(米国キセノン社製 形式RC−801)を用いて、窒素雰囲気下、ランプ高さ2cmでフラッシュを10回照射して硬化させた。得られた硬化物層の積層体(保護層/ハードコート層)の厚みをレーザーフォーカス変位計を用いて測定したところ、100±2μmであった。
得られた光重合性樹脂組成物(1)、及び、得られた光記録媒体(基板/保護層/ハードコート層の積層体(※))の評価を行った。結果を表1に示す。
※一部の評価試験については、ハードコート層を積層せずに、すなわち、基板/保護層の積層体について評価・測定した。
(Formation of hard coat layer)
Next, the obtained resin composition for hard coat for optical recording media was coated on a cured product (protective) layer with a spin coater at a thickness of about 3 μm, and a UV irradiator having a xenon flash UV lamp (A model RC-801 manufactured by US Xenon Co., Ltd.) was used to cure by flash irradiation 10 times at a lamp height of 2 cm in a nitrogen atmosphere. It was 100 +/- 2micrometer when the thickness of the laminated body (protective layer / hard-coat layer) of the obtained hardened | cured material layer was measured using the laser focus displacement meter.
The obtained photopolymerizable resin composition (1) and the obtained optical recording medium (substrate / protective layer / hard coat layer laminate (*)) were evaluated. The results are shown in Table 1.
* For some evaluation tests, the hard coat layer was not laminated, that is, the substrate / protective layer laminate was evaluated and measured.

実施例2〜9
実施例1で用いた各成分に代えて、表1に示した各成分を、表1に示した割合で用いたこと以外は、実施例1(保護層の準備)と同様にして、光重合性樹脂組成物(2)〜(9)を各々得た。その後、実施例1における光重合性樹脂組成物(1)に代えて、これらの樹脂組成物の各々を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を得た。得られた樹脂組成物及び光記録媒体を実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
Examples 2-9
Photopolymerization was carried out in the same manner as in Example 1 (Preparation of protective layer) except that each component shown in Table 1 was used in the ratio shown in Table 1 instead of each component used in Example 1. Resin compositions (2) to (9) were obtained. Then, it replaced with the photopolymerizable resin composition (1) in Example 1, and obtained the optical recording medium like Example 1 except having used each of these resin compositions. The obtained resin composition and optical recording medium were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2011210335
Figure 2011210335

実施例10〜28、比較例1〜7
実施例1で用いたCBT−1(0.05部)に代えて、表2〜4に記載の(VI)成分を、表2〜4に記載の各配合量にて用いたこと以外は、実施例1(保護層の準備)と同様にして、光重合性樹脂組成物(10)〜(28)、及び、比較用樹脂組成物(1)〜(7)を各々得た。その後、実施例1における光重合性樹脂組成物(1)に代えて、これらの樹脂組成物の各々を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を得た。得られた光記録媒体の硬化性、離型性及び耐候性を実施例1と同様に評価した。結果を表2〜4に示す。
Examples 10 to 28, Comparative Examples 1 to 7
Instead of CBT-1 (0.05 parts) used in Example 1, the components (VI) listed in Tables 2 to 4 were used in the respective compounding amounts listed in Tables 2 to 4, Photopolymerizable resin compositions (10) to (28) and comparative resin compositions (1) to (7) were obtained in the same manner as in Example 1 (Preparation of protective layer). Then, it replaced with the photopolymerizable resin composition (1) in Example 1, and obtained the optical recording medium like Example 1 except having used each of these resin compositions. The resulting optical recording medium was evaluated in the same manner as in Example 1 for curability, releasability and weather resistance. The results are shown in Tables 2-4.

Figure 2011210335
Figure 2011210335

Figure 2011210335
Figure 2011210335

Figure 2011210335
Figure 2011210335

実施例29〜35
実施例1で用いた(V)成分(Irg184:2部及びt−BC:0.3部)に代えて、表5に記載の(V)成分を、表5に記載の各配合量にて用いたこと以外は、実施例1(保護層の準備)と同様にして、光重合性樹脂組成物(29)〜(35)を各々得た。その後、実施例1における光重合性樹脂組成物(1)に代えて、これらの樹脂組成物の各々を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を得た。得られた光記録媒体の硬化性、離型性及び耐候性を実施例1と同様に評価した。結果を表5に示す。
Examples 29-35
Instead of the component (V) used in Example 1 (Irg184: 2 parts and t-BC: 0.3 part), the components (V) listed in Table 5 were used in the respective amounts shown in Table 5. Photopolymerizable resin compositions (29) to (35) were obtained in the same manner as in Example 1 (Preparation of protective layer) except that they were used. Then, it replaced with the photopolymerizable resin composition (1) in Example 1, and obtained the optical recording medium like Example 1 except having used each of these resin compositions. The resulting optical recording medium was evaluated in the same manner as in Example 1 for curability, releasability and weather resistance. The results are shown in Table 5.

Figure 2011210335
Figure 2011210335

表1〜5中の略称は、以下のとおりである。
※1:(III)成分の分子量は数平均分子量(Mn)を意味し、それ以外の(メタ)アクリレート化合物の分子量は、構成する元素の原子量の総和として計算された値を意味する。
※2:(III)成分のTgは、それぞれ、それを単独で硬化した硬化物のTgを意味する。
Abbreviations in Tables 1 to 5 are as follows.
* 1: The molecular weight of the component (III) means the number average molecular weight (Mn), and the molecular weight of the other (meth) acrylate compounds means the value calculated as the sum of the atomic weights of the constituent elements.
* 2: Tg of component (III) means Tg of a cured product obtained by curing it alone.

Bis−10EO−A:ビスフェノールAのエチレンオキシド10モル付加物のジアクリレート(商品名「SR−602」、サートマー社製)
Hx620:ヒドロキシピバリン酸ネオペングリコールのε−カプロラクトン4モル付加物のジアクリレート(商品名「カヤラッドHX−620」、日本化薬株式会社製)
NP−2PO−A:ネオペンチルグリコールのプロピレンオキシド付加物のジアクリレート(商品名「SR9003」、サートマー社製)
Bis-10EO-A: Diacrylate of ethylene oxide 10 mol adduct of bisphenol A (trade name “SR-602”, manufactured by Sartomer)
Hx620: Diacrylate of ε-caprolactone 4-mol adduct of neopent glycol hydroxypivalate (trade name “Kayarad HX-620”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
NP-2PO-A: diacrylate of propylene oxide adduct of neopentyl glycol (trade name “SR9003”, manufactured by Sartomer)

TMP3EA:トリメチロールプロパンのエチレンオキシド3モル付加物のトリアクリレート(商品名「TMP−3EO−A」、共栄社化学社製)
TMP6EA:トリメチロールプロパンのエチレンオキシド6モル付加物のトリアクリレート(商品名「TMP−6EO−A」、共栄社化学社製)
TMP9EA:トリメチロールプロパンのエチレンオキシド9モル付加物のトリアクリレート(商品名「SR502」、サートマー社製)
DPCA−120:ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン12モル付加物のヘキサアクリレート(商品名「カヤラッドDPCA−120」、日本化薬社製)
TMP3EA: triacrylate of trimethylolpropane ethylene oxide 3 mol adduct (trade name “TMP-3EO-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
TMP6EA: Triacrylate of trimethylolpropane ethylene oxide 6 mol adduct (trade name “TMP-6EO-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
TMP9EA: Triacrylate of 9 mole adduct of trimethylolpropane with ethylene oxide (trade name “SR502”, manufactured by Sartomer)
DPCA-120: hexaacrylate of dipentaerythritol ε-caprolactone 12 mol adduct (trade name “Kayarad DPCA-120”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

UA−1:製造例1で得たウレタンアクリレート
CN978:サートマー社製、ウレタンアクリレート
CN9178:サートマー社製、ウレタンアクリレート
CN2270:サートマー社製、ポリエステルアクリレート
CN UVE151:サートマー社製、エポキシアクリレート
UV7000B:日本合成化学社製、ウレタンアクリレート
UA-1: Urethane acrylate obtained in Production Example CN978: manufactured by Sartomer, urethane acrylate CN9178: manufactured by Sartomer, urethane acrylate CN2270: manufactured by Sartomer, polyester acrylate CN UVE151: manufactured by Sartomer, epoxy acrylate UV7000B: Nippon Synthetic Chemical Urethane acrylate

PEA:フェノキシエチルアクリレート(商品名「ライトアクリレートPO−A」、共栄社化学社製)
IB−XA:共栄社化学株式会社製、イソボルニルアクリレート
VEEA:アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(日本触媒社製)
DPC−A:共栄社化学株式会社製、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート
TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート(商品名「SR351」、サートマー社製)
PEA: Phenoxyethyl acrylate (trade name “Light Acrylate PO-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
IB-XA: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., isobornyl acrylate VEEA: 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
DPC-A: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., dimethylol-tricyclodecane diacrylate TMPTA: trimethylolpropane triacrylate (trade name “SR351”, manufactured by Sartomer)

Irg184:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
t−BC:4−t−ブチルカテコール、和光純薬工業社製
Irg184: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name “Irgacure 184”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
t-BC: 4-t-butylcatechol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

CBT−1:カルボシキベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
BT−120:1,2,3−ベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
BT−OH:1−(ヒドロキシメチル)ベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
BT−LX:1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
BT−260:1−[(2−メチルヘキシルアミノ)メチル]−ベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
BT−M:1−(1’,2’−ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
TT−LX:1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、城北化学工業社製
TT−LYK:2,2’− [[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、城北化学工業社製
JCL−400:1,2,3−ベンゾトリアゾールナトリウム塩溶液
TT−R:4−メチル−1H−ベンゾトリアゾールと、5−メチル−1H−ベンゾトリアゾールとの混合物、製品名「SEETEC TT−R」、シプロ化成社製
CBT-1: Carboxybenzotriazole, Johoku Chemical Industries BT-120: 1,2,3-benzotriazole, Johoku Chemical Industries BT-OH: 1- (hydroxymethyl) benzotriazole, Johoku Chemical Industries BT-LX: 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd. BT-260: 1-[(2-methylhexylamino) methyl] -benzotriazole, Johoku Chemical BT-M manufactured by Kogyo Co., Ltd .: 1- (1 ′, 2′-dicarboxyethyl) benzotriazole, TT-LX manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd .: 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzo Triazole, TT-LYK: 2,2 ′-[[(Methyl-1H-benzotriazol-1-yl) methyl] imino] manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd. Bisethanol, JCL-400 manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd .: 1,2,3-benzotriazole sodium salt solution TT-R: Mixture and product of 4-methyl-1H-benzotriazole and 5-methyl-1H-benzotriazole Name “SEETEC TT-R”, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.

チヌビンPS:2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
チヌビン99−2:ベンゼンプロピオン酸,3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−,C7−9−直鎖と分岐アルキルエステルと1−メトキシ−2−プロピルアセテートの混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
チヌビン900:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
Tinuvin PS: 2- (2-hydroxy-5-t-butylphenyl) -2H-benzotriazole, Tinuvin 99-2 manufactured by Ciba Specialty Chemicals: Benzenepropionic acid, 3- (2H-benzotriazol-2-yl ) -5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy-, C7-9-mixture of linear, branched alkyl ester and 1-methoxy-2-propyl acetate, Tinuvin 900 manufactured by Ciba Specialty Chemicals: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) 4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, manufactured by Ciba Specialty Chemicals

上述した実施例及び比較例の結果から、光記録媒体に用いられる光重合性樹脂組成物を、光重合性樹脂及び上記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有する形態とすることにより、硬化性、離型性及び耐候性の全てをバランスよく同時に発揮できるこという点において有利な効果を発揮し、それが顕著であることが確認された。すなわち実施例1〜35の樹脂組成物はいずれも、光重合性樹脂及び上記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有するものであるのに対し、比較例1〜7の樹脂組成物は、当該ベンゾトリアゾール化合物とは異なる化合物を用いる点で、相違するが、この場合、硬化性、離型性及び耐候性の全てを同時に満足できるものはない。 From the results of the examples and comparative examples described above, the photopolymerizable resin composition used for the optical recording medium is in a form containing the photopolymerizable resin and the benzotriazole compound represented by the general formula (1). Thus, it was confirmed that an advantageous effect was exhibited in that all of curability, releasability and weatherability could be exhibited simultaneously in a balanced manner, which was remarkable. That is, the resin compositions of Examples 1 to 35 all contain a photopolymerizable resin and a benzotriazole compound represented by the above general formula (1), whereas the resin compositions of Comparative Examples 1 to 7 The product is different in that a compound different from the benzotriazole compound is used, but in this case, none of the materials can satisfy all of the curability, releasability and weather resistance at the same time.

Claims (5)

青色レーザー光により記録及び/又は再生を行う光記録媒体に用いられる光重合性樹脂組成物であって、
該光重合性樹脂組成物は、光重合性樹脂、及び、下記一般式(1):
Figure 2011210335
(式中、R及びRは、同一若しくは異なって、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基、カルボキシル基、又は、水酸基を表す。)で表されるベンゾトリアゾール化合物を含有し、
該光記録媒体は、該光重合性樹脂組成物から形成される層を有し、該層の厚みは1〜200μmである
ことを特徴とする光記録媒体用光重合性樹脂組成物。
A photopolymerizable resin composition used for an optical recording medium for recording and / or reproducing with blue laser light,
The photopolymerizable resin composition includes a photopolymerizable resin and the following general formula (1):
Figure 2011210335
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a carboxyl group, or a hydroxyl group). Containing benzotriazole compounds
The optical recording medium has a layer formed from the photopolymerizable resin composition, and the thickness of the layer is from 1 to 200 μm.
前記光重合性樹脂組成物は、前記光重合性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物のガラス転移温度が50℃以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体用光重合性樹脂組成物。
2. The light for an optical recording medium according to claim 1, wherein the photopolymerizable resin composition has a glass transition temperature of 50 ° C. or lower of a cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition. Polymerizable resin composition.
前記ベンゾトリアゾール化合物の含有量は、前記光重合性樹脂100重量部に対し、0.0001〜0.5重量部である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光記録媒体用光重合性樹脂組成物。
3. The photopolymerization for an optical recording medium according to claim 1, wherein the content of the benzotriazole compound is 0.0001 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photopolymerizable resin. Resin composition.
請求項1〜3のいずれかに記載の光記録媒体用光重合性樹脂組成物を硬化して得られる
ことを特徴とする硬化物。
A cured product obtained by curing the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium according to claim 1.
請求項1〜3のいずれかに記載の光記録媒体用光重合性樹脂組成物から形成される層を有する
ことを特徴とする光記録媒体。
An optical recording medium comprising a layer formed from the photopolymerizable resin composition for an optical recording medium according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016522277A (en) * 2013-04-15 2016-07-28 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Photo-curing coating composition, coating film and polarizing plate using the same
JP2017101221A (en) * 2015-11-20 2017-06-08 三洋化成工業株式会社 Active energy ray-curable resin composition
US11226557B2 (en) 2017-12-08 2022-01-18 Lg Chem, Ltd. Photopolymer composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016522277A (en) * 2013-04-15 2016-07-28 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Photo-curing coating composition, coating film and polarizing plate using the same
JP2017101221A (en) * 2015-11-20 2017-06-08 三洋化成工業株式会社 Active energy ray-curable resin composition
US11226557B2 (en) 2017-12-08 2022-01-18 Lg Chem, Ltd. Photopolymer composition

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