JP2006012978A - Composite sheet, its manufacturing method, and manufacturing method of laminated parts - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite sheet having a stable conductor film without delamination or defective continuity, and to provide a manufacturing method of the composite sheet and its manufacturing method of laminating parts. <P>SOLUTION: A composite sheet A is constituted such that a conductor 3 of almost the same thickness as that of a photocuring ceramic layer 1 may be embedded in the photocuring ceramic layer 1 containing at least a ceramic material and a photocuring system, in such a way that the conductor 3 may be exposed. When the conductor 3 is exposed by 100 mJ, the total light transmittance is ≤10% characteristically. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、移動体通信機等に使用されるセラミック積層部品、積層基板などに適した複合シート、複合シートの製造方法および積層部品の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a ceramic laminated component used in a mobile communication device or the like, a composite sheet suitable for a laminated substrate, a composite sheet manufacturing method, and a laminated component manufacturing method.

近年、電子機器は小型軽量化、携帯化が進んでおり、それに用いられる回路ブロックも、小型化、複合モジュール化が押し進められており、セラミック多層回路基板などの積層部品の高密度化と小型化が進められている。   In recent years, electronic devices are becoming smaller and lighter and more portable, and the circuit blocks used for them are also becoming smaller and more complex, and the density and size of laminated parts such as ceramic multilayer circuit boards are increasing. Is underway.

一方、従来のセラミック多層基板は、通常、グリーンシート法と呼ばれる製造方法により製造されるものである。このグリーンシート法は、絶縁層となるセラミック粉末を含有するスラリーを用いてドクターブレード法などによってセラミックグリーンシートを作製し、次に、このセラミックグリーンシートにビアホール導体となる位置にNCパンチや金型などで貫通穴を形成し、導体ペーストを用いて、内部や表面の導体のパターンを印刷するとともに、前記貫通穴に導体ペーストを充填してビアホール導体を形成した後、同様にして作製した複数のセラミックグリーンシートを積層し、この積層体を一括同時焼成する製造方法である。(特許文献1参照)。   On the other hand, a conventional ceramic multilayer substrate is usually manufactured by a manufacturing method called a green sheet method. In this green sheet method, a ceramic green sheet is produced by a doctor blade method or the like using a slurry containing ceramic powder as an insulating layer, and then an NC punch or a mold is placed on the ceramic green sheet at a position to be a via hole conductor. After forming a through hole with a conductor paste and printing a conductor pattern on the inside and the surface using a conductor paste, filling the through hole with a conductor paste to form a via-hole conductor, This is a manufacturing method in which ceramic green sheets are laminated and the laminate is simultaneously fired. (See Patent Document 1).

このグリーンシート法においても、高精度化、さらには高密度化への要求に対して、絶縁層である導体間のセラミックグリーンシート層厚みの薄層化とともに、導体については微細配線化、更に低損失、低抵抗値を実現するため導体の厚みを厚くすることが求められている。   Even in this green sheet method, in response to the demand for higher accuracy and higher density, the thickness of the ceramic green sheet layer between conductors, which are insulating layers, is reduced, and the conductors are made finer and further reduced. In order to realize a loss and a low resistance value, it is required to increase the thickness of the conductor.

従来のグリーンシート法などの製造方法においては、このセラミックグリーンシート層厚みの薄層化と導体の厚膜化という、2つの要求を同時に満たそうとすると、導体が形成されている部分と形成されていない部分とで、導体の厚み分の段差が必然的に発生してしまう。この段差によって、積層不良(デラミネーション)が発生するといった問題があり、セラミックグリーンシート層厚みの薄層化と導体の厚みの厚膜化を同時に満たすには、限界があった。   In the conventional manufacturing method such as the green sheet method, when the two requirements of the ceramic green sheet layer thickness reduction and the conductor thickness increase are simultaneously satisfied, a conductor is formed as a portion. A step corresponding to the thickness of the conductor inevitably occurs between the unexposed portions. Due to this step, there is a problem that stacking failure (delamination) occurs, and there is a limit to satisfying simultaneously the reduction of the thickness of the ceramic green sheet layer and the increase of the thickness of the conductor.

また、ビア導体などの垂直導体を形成するためには、グリーンシートに対してパンチングなどによって貫通穴を形成する穴あけ工程が不可欠であり、導体を形成する印刷工程に対して付加的な工程となっていた。この穴あけ工程により絶縁層が薄層(50μm以下)の場合、伸び、変形、破れ等の問題があった。   In addition, in order to form a vertical conductor such as a via conductor, a drilling process for forming a through hole by punching or the like in the green sheet is indispensable, which is an additional process for the printing process for forming the conductor. It was. When the insulating layer is a thin layer (50 μm or less) by this drilling step, there are problems such as elongation, deformation, and tearing.

上記課題を解消し、絶縁層厚みの薄層化と導体の厚みの厚膜化を同時に満たし得る複合シートの発明がなされている。(特許文献2参照)。   There has been invented a composite sheet that can solve the above-mentioned problems and can simultaneously satisfy the reduction in the thickness of the insulating layer and the increase in the thickness of the conductor. (See Patent Document 2).

本複合シートは、セラミック材料と光硬化システムを含有するシートに、該シートの厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであり、その製造方法は以下の通りである。   This composite sheet is a composite sheet in which a conductor having a thickness substantially the same as the thickness of the sheet is embedded in a sheet containing a ceramic material and a photocuring system, and the manufacturing method thereof is as follows. Street.

(a)光透過可能なキャリアフイルム表面に、少なくとも金属粉末材料と、有機バインダとを含む導体ペーストによって、光非透過性の所定のパターンの導体を形成する工程と、(b)前記導体を形成したキャリアフイルム上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体部の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、(c)前記キャリアフイルムの裏面より、光を照射して前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体部表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体部からなる複合シートを作製する工程と、を具備することを特徴とするものである。 (A) a step of forming a light non-transparent conductive pattern on a surface of a light transmissive carrier film with a conductive paste containing at least a metal powder material and an organic binder; and (b) forming the conductor. Applying a photocuring slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material on the carrier film to a thickness equal to or greater than the thickness of the conductor portion, and forming a photocurable ceramic layer; (C) irradiating light from the back surface of the carrier film to photo-cure the photo-curing ceramic layer in a region other than the conductor formation; and (d) applying a developer to A step of solubilizing and removing the non-light-cured portion including the surface of the conductor portion to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor portion. And it is characterized in and.

キャリアフイルムを除去した本シートを任意に積層し、その積層体を焼成すれば、セラミックグリーンシート層厚みの薄層化と導体の厚膜化という、2つの要求を同時に満たす積層部品は得られる。   If this sheet from which the carrier film has been removed is arbitrarily laminated and the laminated body is fired, a laminated part that satisfies the two requirements of reducing the thickness of the ceramic green sheet layer and increasing the thickness of the conductor can be obtained.

しかしながら、導体の厚膜化を図ろうとすると、単に金属粉末材料、例えばAu、Ag、Cuといったもののみを選択して導体ペーストを形成すると以下の課題が生じる。   However, in order to increase the thickness of the conductor, the following problems arise when the conductor paste is formed by simply selecting only a metal powder material such as Au, Ag, or Cu.

まず、セラミック材料と導体材料の熱膨張率の違いから、焼成終了段階で両材料界面、もしくはその近傍にクラックを生じる。通常セラミックスの熱膨張率は4〜12ppm/℃程度であり、Au、Ag、Cuは20ppm/℃程度である。この差が焼成終了段階で応力として働き、クラックの原因となる。   First, due to the difference in thermal expansion coefficient between the ceramic material and the conductor material, a crack is generated at the interface between the two materials or in the vicinity thereof at the end of firing. Usually, the thermal expansion coefficient of ceramics is about 4 to 12 ppm / ° C., and Au, Ag, and Cu are about 20 ppm / ° C. This difference acts as stress at the end of firing and causes cracks.

次に、セラミック材料と導体材料の焼成収縮挙動の違いから、焼成途中段階で両材料界面に剥離を生じる。例えば、Agの融点は950.5℃であり、1μm程度の粒径のものは400℃程度から焼成収縮が開始する。セラミック材料、例えばガラスセラミックスの場合、一般に600〜800℃程度の温度で収縮が開始するので、Agが先に収縮して、セラミックスとの界面に剥離を生じる。また、基板の反りが大きくなるといった問題が生じることもある。   Next, due to the difference in firing shrinkage behavior between the ceramic material and the conductor material, peeling occurs at the interface between the two materials in the middle of firing. For example, the melting point of Ag is 950.5 ° C., and those having a particle size of about 1 μm start firing shrinkage from about 400 ° C. In the case of a ceramic material, for example, glass ceramic, since shrinkage generally starts at a temperature of about 600 to 800 ° C., Ag shrinks first, and peeling occurs at the interface with the ceramic. In addition, there may be a problem that the warpage of the substrate becomes large.

これら2つの問題を解決する為に、導体材料に金属粉末の焼結挙動をセラミックスと合わせる為の材料を添加する方法が発明されている。(特許文献3参照)。   In order to solve these two problems, a method of adding a material for matching the sintering behavior of metal powder with ceramics to a conductor material has been invented. (See Patent Document 3).

これによれば、導電ペーストは、セラミックスの焼結開始温度よりも低い700〜845℃の屈伏点をもったガラスフリット及びAg系の導電性粉末を含んでおり、前記ガラスフリットは、平均粒径が10μm以下であり、その添加量が、前記Ag系の導電性粉末の30〜55体積%であることを特徴としている。
特開平11−066951号公報 特願2002−339922号公報 特許第3130914号公報
According to this, the conductive paste includes a glass frit having a yield point of 700 to 845 ° C., which is lower than the sintering start temperature of the ceramic, and an Ag-based conductive powder, and the glass frit has an average particle size. Is 10 μm or less, and the addition amount is 30 to 55% by volume of the Ag-based conductive powder.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-066951 Japanese Patent Application No. 2002-339922 Japanese Patent No. 3130914

しかしながら、このような導電ペーストを用いた場合、ガラス量が多く、かつ光線透過率が高いために導体は光非透過性膜とならず、前記製造方法において、導体上の塗布された光硬化スラリーが硬化して、現像後も残さとして残ってしまう。   However, when such a conductive paste is used, since the glass amount is large and the light transmittance is high, the conductor does not become a light non-transparent film. Hardens and remains as a residue after development.

本残さは、積層の際、デラミネーションを引き起こす、導通不良を引き起こすといった課題を生じてしまう。   This residue causes problems such as delamination and poor conduction during lamination.

本発明は、上記デラミネーションや導通不良のない、安定な導体膜を有する複合シート、複合シートの製造方法および積層部品の製造方法を提供するものである。   The present invention provides a composite sheet having a stable conductive film free from the above delamination and conduction failure, a method for manufacturing the composite sheet, and a method for manufacturing a laminated part.

本発明の複合シートは、少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層に、該光硬化セラミック層の厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであって、該導体に100mJで露光した際の全光線透過率が10%以下であることを特徴とする。   The composite sheet of the present invention is a composite sheet in which a conductor having substantially the same thickness as the thickness of the light-cured ceramic layer is embedded in a light-cured ceramic layer containing at least a ceramic material and a light-curing system. The total light transmittance when the conductor is exposed at 100 mJ is 10% or less.

本発明の複合シートは、少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層に、該光硬化セラミック層の厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであって、該導体に100mJで露光した際のh線波長領域における光線透過率が5%以下であることを特徴とする。   The composite sheet of the present invention is a composite sheet in which a conductor having substantially the same thickness as the thickness of the light-cured ceramic layer is embedded in a light-cured ceramic layer containing at least a ceramic material and a light-curing system. The light transmittance in the h-line wavelength region when the conductor is exposed at 100 mJ is 5% or less.

本発明の複合シートは、少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層に、該光硬化セラミック層の厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであって、該導体に100mJで露光した際のi線波長領域における光線透過率が5%以下であることを特徴とする。   The composite sheet of the present invention is a composite sheet in which a conductor having substantially the same thickness as the thickness of the light-cured ceramic layer is embedded in a light-cured ceramic layer containing at least a ceramic material and a light-curing system. The light transmittance in the i-line wavelength region when the conductor is exposed at 100 mJ is 5% or less.

また、本発明の複合シートは、前記光硬化システムが、少なくとも光硬化可能なモノマーと光重合開始剤を含有することが望ましい。   In the composite sheet of the present invention, it is desirable that the photocuring system contains at least a photocurable monomer and a photopolymerization initiator.

また、本発明の複合シートは、前記導体が、金属と、金属酸化物もしくはガラスを含有することが望ましい。   In the composite sheet of the present invention, the conductor preferably contains a metal and a metal oxide or glass.

本発明の複合シートの製造方法は、(a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際の全光線透過率が10%以下となる所定の導体を形成する工程と、
(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする。
In the method for producing a composite sheet of the present invention, (a) the total light transmittance when exposed to 100 mJ with a conductor paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass on the support surface is 10% or less. Forming a predetermined conductor to be
(B) A photocurable slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material is applied to a thickness greater than the thickness of the conductor on the support on which the conductor is formed. Forming a layer;
(C) irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation;
(D) providing a developer and solubilizing and removing the non-light-cured portion including the conductor surface of the light-cured ceramic layer to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor;
It is characterized by comprising.

本発明の複合シートの製造方法は、(a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際のh線波長領域における光線透過率が5%以下となる所定の導体を形成する工程と、
(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする。
The method for producing a composite sheet of the present invention comprises: (a) a light transmittance in the h-line wavelength region when exposed to 100 mJ with a conductor paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass on the support surface. A step of forming a predetermined conductor that is 5% or less;
(B) A photocurable slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material is applied to a thickness greater than the thickness of the conductor on the support on which the conductor is formed. Forming a layer;
(C) irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation;
(D) providing a developer and solubilizing and removing the non-light-cured portion including the conductor surface of the light-cured ceramic layer to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor;
It is characterized by comprising.

本発明の複合シートの製造方法は、(a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際のi線波長領域における光線透過率が5%以下となる所定の導体を形成する工程と
(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする。
The method for producing a composite sheet of the present invention comprises: (a) a light transmittance in an i-line wavelength region when exposed to 100 mJ with a conductor paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass on the support surface. And (b) a photocuring slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material on the support on which the conductor is formed, Applying to a thickness equal to or greater than the thickness of the conductor to form a photo-curing ceramic layer;
(C) irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation;
(D) providing a developer and solubilizing and removing the non-light-cured portion including the conductor surface of the light-cured ceramic layer to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor;
It is characterized by comprising.

また、本発明の複合シートの製造方法は、前記光硬化セラミック層および導体の厚みが50μm以下であることが望ましい。   Moreover, as for the manufacturing method of the composite sheet of this invention, it is desirable that the thickness of the said photocurable ceramic layer and a conductor is 50 micrometers or less.

本発明の積層体の製造方法は、(e)請求項6に記載の(a)〜(d)工程により作製した複合シートを積層し、任意の層数の積層体を形成する工程と、
(f)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする。
The method for producing a laminate of the present invention includes (e) a step of laminating the composite sheets produced by the steps (a) to (d) according to claim 6 and forming a laminate having an arbitrary number of layers;
(F) firing the laminate;
It is characterized by comprising.

本発明の積層体の製造方法は、(g)請求項7に記載の(a)〜(d)工程後に、支持体から光硬化セラミック層と導体とからなる複合シートを剥離する工程と、
(h)(a)〜(d)および(g)工程によって作製された複数の複合シートを積層する工程と、
(i)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする。
The manufacturing method of the laminated body of this invention is the process of peeling the composite sheet which consists of a photocurable ceramic layer and a conductor from a support body after the (a)-(d) process of (g) Claim 7.
(H) a step of laminating a plurality of composite sheets produced by the steps (a) to (d) and (g);
(I) firing the laminate;
It is characterized by comprising.

本発明の積層体の製造方法は、(j)請求項8に記載の(a)〜(d)工程により、第1の支持体上に第1の複合シートを作製する工程と、
(k)(a)〜(d)工程を経て、第2の支持体上に第2の複合シートを作製する工程と、
(l)前記第1の複合シートの表面に、前記第2の複合シートを積層する工程と、
(m)前記第2の複合シートから前記第2の支持体を剥離する工程と、
(n)必要に応じ、上記(k)〜(m)工程を繰り返すことによって複合シートによる任意の層数の積層体を形成する工程と、
(k)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする。
The method for producing a laminate of the present invention includes (j) a step of producing a first composite sheet on the first support by the steps (a) to (d) according to claim 8;
(K) Steps for producing a second composite sheet on the second support through the steps (a) to (d);
(L) laminating the second composite sheet on the surface of the first composite sheet;
(M) peeling the second support from the second composite sheet;
(N) If necessary, a step of forming a laminate having an arbitrary number of layers by a composite sheet by repeating the steps (k) to (m).
(K) firing the laminate;
It is characterized by comprising.

また、本発明の積層体の製造方法は、前記光硬化セラミック層および導体の厚みが50μm以下であることが望ましい。   Moreover, as for the manufacturing method of the laminated body of this invention, it is desirable that the thickness of the said photocurable ceramic layer and a conductor is 50 micrometers or less.

本発明の複合シートによれば、導体の全光線透過率を10%以下にすることが重要である。導体の全光線透過率を10%以下にすることで、光硬化セラミック層を硬化させ、現像させた場合に、複合シートから露出する導体の金属部位の露出度が大幅に向上する。逆にいえば、全光線透過率が10%を越えた場合、導体表面に取り除かれるべき光硬化セラミック層残さが残り過ぎる。10%以下にすることは、該複合シート積層時において、導体間の接続信頼性を大幅に向上することに繋がる。   According to the composite sheet of the present invention, it is important that the total light transmittance of the conductor is 10% or less. By setting the total light transmittance of the conductor to 10% or less, when the photocurable ceramic layer is cured and developed, the degree of exposure of the metal portion of the conductor exposed from the composite sheet is greatly improved. In other words, if the total light transmittance exceeds 10%, the photocured ceramic layer residue to be removed remains on the conductor surface. Setting it to 10% or less leads to greatly improving the connection reliability between the conductors when the composite sheet is laminated.

また、本発明の複合シートによれば、導体のh線波長領域における光線透過率を5%以下にすることが重要である。光硬化セラミック層を硬化させる為の光硬化システムとしては、厚みの厚いものにも対処できるように長波長で感度の高いものを用いることが望ましい。その場合、導体のh線透過率が5%以下であれば、光硬化セラミック層残さが少なく、導体の金属部位の露出度が大幅に向上する。   Moreover, according to the composite sheet of the present invention, it is important that the light transmittance in the h-line wavelength region of the conductor is 5% or less. As a photo-curing system for curing the photo-curing ceramic layer, it is desirable to use a system with a long wavelength and high sensitivity so as to cope with a thick one. In that case, if the h-line transmittance of the conductor is 5% or less, the photocured ceramic layer residue is small, and the degree of exposure of the metal portion of the conductor is greatly improved.

また、本発明の複合シートによれば、導体のi線波長領域における光線透過率を5%以下にすることが重要である。露光に用いられる光源として、もっともよく用いられるもののひとつに超高圧水銀灯があり、これはi線強度が高いことが特徴のひとつである。従って、光硬化セラミック層を硬化させる為の光硬化システムとしては、i線でラジカル発生する光硬化材を用いるため、導体のi線透過率が5%以下であれば、光硬化セラミック層残さが少なく、導体の金属部位の露出度が大幅に向上する。   Further, according to the composite sheet of the present invention, it is important that the light transmittance in the i-line wavelength region of the conductor is 5% or less. One of the most commonly used light sources for exposure is an ultra-high pressure mercury lamp, which is characterized by high i-line intensity. Accordingly, as a photocuring system for curing the photocuring ceramic layer, a photocuring material that generates radicals by i-line is used. Therefore, if the i-line transmittance of the conductor is 5% or less, the photocuring ceramic layer remains. The exposure of the metal part of the conductor is greatly improved.

また、本発明の複合シートに用いる光硬化システムは、少なくとも光硬化可能なモノマーと光重合開始剤を含有することが好ましい。これにより、短時間で露光部と非露光部の現像液溶解性の差を生みやすく、生産性が向上する。   Moreover, it is preferable that the photocuring system used for the composite sheet of the present invention contains at least a photocurable monomer and a photopolymerization initiator. As a result, a difference in developer solubility between the exposed portion and the non-exposed portion is likely to occur in a short time, and the productivity is improved.

また、本発明の複合シートに用いる導体は、金属と金属酸化物もしくはガラスからなることが好ましい。特に、導電率を司る導電材は、金、銀、銅の一種またはその合金を用いることが好ましい。これらの金属は導電率が高いため、導体抵抗値が低く押さえられる。但し、それぞれの金属の融点は、1063℃、961℃、1083℃と、セラミックスに用いる材料としては比較的低いものである為、先述の如く、焼成収縮挙動をセラミックスと合わせる目的で、金属酸化物もしくはガラスを添加することが好ましい。ガラスは、熱膨張率及び軟化流動性をコントロールしやすい為、特に好ましい。   Moreover, it is preferable that the conductor used for the composite sheet of this invention consists of a metal and a metal oxide, or glass. In particular, it is preferable to use a kind of gold, silver, copper, or an alloy thereof as a conductive material that controls conductivity. Since these metals have high conductivity, the conductor resistance value can be kept low. However, the melting points of the respective metals are 1063 ° C., 961 ° C., and 1083 ° C., which are comparatively low materials used for ceramics. Or it is preferable to add glass. Glass is particularly preferred because it easily controls the coefficient of thermal expansion and softening fluidity.

本発明の複合シートは、(a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際の光線透過率が規定値以下となる所定の導体を形成する工程と、(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする複合シートの製造方法を用いることにより実現出来る。本製造方法より、厚い導体と薄いセラミック層とを備え、しかも、両者の厚みが略同一であるため、平坦な積層部品を容易に作製するのに、好適に用いることが出来る。
In the composite sheet of the present invention, (a) a light transmittance when exposed to 100 mJ with a conductive paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass on the support surface is a predetermined value or less. A step of forming a conductor; and (b) a photocuring slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material on the support on which the conductor is formed. (C) a step of irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation; ) A composite solution composed of a photocurable ceramic layer and a conductor is prepared by applying a developer and solubilizing and removing the non-photocured portion including the conductor surface of the photocurable ceramic layer. And the extent,
It can implement | achieve by using the manufacturing method of the composite sheet characterized by comprising. By this manufacturing method, since a thick conductor and a thin ceramic layer are provided and the thicknesses of both are substantially the same, it can be suitably used to easily produce a flat laminated component.

また、本発明の複合シートの製造方法によれば、上記した複合シートを容易に精度よく、しかも安価に作製することが出来る。   Further, according to the method for producing a composite sheet of the present invention, the above-described composite sheet can be easily and accurately produced at a low cost.

また、本発明の積層部品の製造方法によれば、導体の形成は全て平面へ導体として形成されることから、そして導体表面の残さが少ないことから、従来のビアホールへのペーストの充填不良、不導体のたまりに伴う導通不良などの発生等を防止出来る。   In addition, according to the method for manufacturing a laminated part of the present invention, since all conductors are formed as conductors on a flat surface, and there is little residue on the surface of the conductor, the conventional via hole is poorly filled with paste. Occurrence of poor conduction due to the accumulation of conductors can be prevented.

また、ビア加工が不要であるため、ビア埋め込みの際の位置合わせが不要となり、大幅な工程短縮となる。しかも、感光性セラミックグリーンシートの形成にあたり、本発明によれば、印刷された導体自体をマスクとして用い、感光性セラミックグリーンシートの前面塗布と、支持体裏面からの前面露光によって形成することができるために、安価にかつ容易に感光性セラミックグリーンシートと導体からなる複合シートを作製することが出来る。しかも、このような複合シートの形成は、その層数に合わせて、各支持体上で並列して形成することができることから、必要な層数の複合シートを作製した後に、それらを一括して積層後、焼成することによって、大幅に工程を簡略化することができ、自動化も容易となる。   In addition, since via processing is unnecessary, alignment at the time of via embedding becomes unnecessary, and the process is greatly shortened. Moreover, in forming the photosensitive ceramic green sheet, according to the present invention, the printed conductor itself can be used as a mask, and can be formed by front coating of the photosensitive ceramic green sheet and front exposure from the back surface of the support. Therefore, a composite sheet composed of a photosensitive ceramic green sheet and a conductor can be easily produced at low cost. In addition, since the formation of such a composite sheet can be formed in parallel on each support in accordance with the number of layers, the composite sheets having the required number of layers are prepared and then collectively. By firing after lamination, the process can be greatly simplified, and automation is also facilitated.

このように、本発明の複合シート、並びに積層部品の製造方法によれば、光に対する硬化性が安定した複合シートが得られ、且つ積層時に導体の厚み分の段差が発生することがなく、また、導体と光硬化セラミック層の界面の段差も小さく、デラミネーションの発生や、無理な加圧による変形などの問題も無く、容易に導体間の感光性セラミックグリーンシート厚みの薄層化と、導体の厚みの厚膜化を両立することができ、導体間接続の信頼性も確保できる。   As described above, according to the composite sheet of the present invention and the method for manufacturing a laminated part, a composite sheet having stable light curability is obtained, and a step corresponding to the thickness of the conductor does not occur during lamination. The level difference between the conductor and the light-hardened ceramic layer is small, and there is no problem of delamination or deformation due to excessive pressure, making it easy to reduce the thickness of the photosensitive ceramic green sheet between the conductors and the conductor. Therefore, the reliability of the connection between conductors can be ensured.

本発明の複合シートは、例えば、図1(a)に示すように、少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層1に、光硬化セラミック層1の厚みと略同一厚みの導体3が、導体3が露出するように埋設された複合シートAであって、導体3に照度30mW/cmの超高圧水銀灯を光源として、100mJの条件で露光したときの導体3の全光線透過率が10%以下、特に、5%以下、さらに3%以下であることが重要である。また、導体3は照度30mW/cmの超高圧水銀灯を光源として、100mJの条件で露光したときのh光線透過率が5%以下、特に、3%以下、さらに1%以下であることが重要である。また、導体3は照度30mW/cmの超高圧水銀灯を光源として、100mJの条件で露光したときのi光線透過率が5%以下、特に、3%以下、さらに1%以下であることが重要である。 For example, as shown in FIG. 1 (a), the composite sheet of the present invention has a conductor 3 having a thickness substantially the same as the thickness of the light-curing ceramic layer 1 on a light-curing ceramic layer 1 containing at least a ceramic material and a light-curing system. Is the composite sheet A embedded so that the conductor 3 is exposed, and the total light transmittance of the conductor 3 when the conductor 3 is exposed to light of an ultrahigh pressure mercury lamp with an illuminance of 30 mW / cm 2 under the condition of 100 mJ. Is 10% or less, in particular 5% or less, more preferably 3% or less. Further, it is important that the conductor 3 has an h light transmittance of 5% or less, particularly 3% or less, more preferably 1% or less when exposed to light of an ultra-high pressure mercury lamp with an illuminance of 30 mW / cm 2 under a condition of 100 mJ. It is. Further, it is important that the conductor 3 has an i-light transmittance of 5% or less, particularly 3% or less, more preferably 1% or less when exposed at 100 mJ using an ultra-high pressure mercury lamp with an illuminance of 30 mW / cm 2 as a light source. It is.

これ等を達成する為には、印刷のかすれ等の作製時の課題もさることながら、導体3中の、金属と同時に配合する金属酸化物またはガラスの光線透過率及び配合量及び導体3厚みが問題となる。特許文献3に示されたように添加するガラス量を55体積%も加えると、50μm程度の厚みでもガラスの光線透過率が一般には高いために、全光線透過率が10%以下にはならない。また、h線光線透過率及びi線光線透過率についても同様である。   In order to achieve these, the light transmittance and blending amount of the metal oxide or glass to be blended simultaneously with the metal in the conductor 3 and the thickness of the conductor 3 in addition to the problem at the time of production such as fading of printing. It becomes a problem. If the amount of glass added as shown in Patent Document 3 is 55% by volume, the total light transmittance does not become 10% or less because the light transmittance of the glass is generally high even at a thickness of about 50 μm. The same applies to h-ray light transmittance and i-ray light transmittance.

従って、本発明の製造方法を実施しない場合には、導体3上に光硬化した感光性セラミックスが残り、平面度が確保できないばかりか、接続信頼性まで低下させてしまう。   Therefore, when the manufacturing method of the present invention is not carried out, photo-cured photosensitive ceramics remain on the conductor 3 and flatness cannot be ensured, and connection reliability is lowered.

特に、導体3が薄い場合、あるいは複合シートの厚みが薄い場合に、その他のパラメータに注意を要する。   In particular, when the conductor 3 is thin, or when the composite sheet is thin, attention should be paid to other parameters.

以下に導体3の全光線透過率、h線透過率並びにi線透過率を制御する方法について、詳細に説明する。   Hereinafter, a method for controlling the total light transmittance, h-ray transmittance, and i-ray transmittance of the conductor 3 will be described in detail.

導体3は、例えば、導体ペーストにより形成することができ、この導体ペーストは平均粒径が1〜5μm程度の前記導体材料の粉末に、必要に応じてセラミック材料を添加した無機成分に対して、エチルセルロース、アクリル樹脂などの有機バインダーを加え、さらにジブチルフタレート、αテルピネオール、ブチルカルビトール、2・2・4−トリメチル−3・3−ペンタジオールモノイソブチレートなどの適当な溶剤を混合し、3本ローラ又はボールミル等により均質に混練して調製される。   The conductor 3 can be formed by, for example, a conductor paste, and the conductor paste has an average particle diameter of about 1 to 5 μm, and an inorganic component obtained by adding a ceramic material to the powder as necessary. Add an organic binder such as ethyl cellulose and acrylic resin, and mix an appropriate solvent such as dibutyl phthalate, α-terpineol, butyl carbitol, 2,2,4-trimethyl-3,3-pentadiol monoisobutyrate, and 3 It is prepared by homogeneously kneading with this roller or ball mill.

この導体ペーストに添加する無機成分の材質や粒径、添加量ならびに有機バインダーの添加量が導体3の全光線透過率、h線透過率並びにi線透過率に大きな影響を与える。   The material, particle size, addition amount, and addition amount of the organic binder of the inorganic component added to the conductor paste greatly affect the total light transmittance, h-ray transmittance, and i-ray transmittance of the conductor 3.

無機成分の材質としては透光性のあるガラスや、透光性のある結晶を用いる場合にはその添加量は極力少ない方がよく、粒径は小さい方がよい。有機バインダーについても、保型性に悪影響を与えない範囲で少なくすることが望ましい。   As a material for the inorganic component, when a light-transmitting glass or a light-transmitting crystal is used, the addition amount is preferably as small as possible and the particle size is preferably small. It is desirable to reduce the organic binder as long as it does not adversely affect the shape retention.

これらの影響は、導体3の厚みによっても変化するが、いずれにしても、本発明の範囲の全光線透過率、h線透過率並びにi線透過率とすることが重要である。   These effects vary depending on the thickness of the conductor 3, but in any case, it is important to set the total light transmittance, h-ray transmittance, and i-ray transmittance within the scope of the present invention.

また、本発明の複合シートを構成する要素である光硬化セラミック層は、結晶質の無機粉末や非晶質の無機粉末を用いることができ、例えば、本発明の複合シートを用いて、配線基板を作製する場合には、(1)Al、AlN、Si、SiCを主成分とする焼成温度が1100℃以上のセラミック材料、(2)少なくともSiOおよびBaO、CaO、SrO、MgOなどのアルカリ土類金属酸化物を含有する金属酸化物による混合物からなる1100℃以下、特に1050℃以下で焼成されるセラミック材料、(3)ガラス粉末、あるいはガラス粉末とセラミックフィラー粉末との混合物からなる1100℃以下、特に1050℃以下で焼成される低温焼結性のセラミック材料の群から選ばれる少なくとも1種が選択される。 Further, the photocurable ceramic layer that is an element constituting the composite sheet of the present invention can use a crystalline inorganic powder or an amorphous inorganic powder. For example, a wiring board using the composite sheet of the present invention can be used. (1) A ceramic material whose main component is Al 2 O 3 , AlN, Si 3 N 4 and SiC and whose firing temperature is 1100 ° C. or higher, (2) at least SiO 2 and BaO, CaO, SrO A ceramic material fired at 1100 ° C. or less, particularly 1050 ° C. or less, comprising a mixture of metal oxides containing alkaline earth metal oxides such as MgO, (3) glass powder, or glass powder and ceramic filler powder At least one selected from the group of low-temperature sinterable ceramic materials made of a mixture and fired at 1100 ° C. or lower, particularly 1050 ° C. or lower is selected It is.

用いられる(2)の混合物や、(3)のガラス組成物としては、SiO−BaO−Al系、SiO−B系、SiO−B−Al系、SiO−アルカリ金属酸化物系、さらにはこれらの系にアルカリ金属酸化物、ZnO、PbO、Pb、ZrO、TiO等を配合した組成物が挙げられる。(3)におけるセラミックフィラーとしては、Al、SiO、フォルステライト、コージェライト、ムライト、AlN、Si、SiC、MgTiO、CaTiOの群から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、ガラスに対して20〜80質量%の割合で混合されることが望ましい。上記のセラミック材料について原料の平均粒径が焼結性に影響を与えるため、平均粒径0.5〜8μm、更には1〜5μmの範囲とするのが望ましい。 As the mixture of (2) and the glass composition of (3) used, SiO 2 —BaO—Al 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O Examples thereof include 3 systems, SiO 1 l 2 O 3 -alkali metal oxide systems, and compositions in which alkali metal oxides, ZnO, PbO, Pb, ZrO 2 , TiO 2 and the like are blended with these systems. Examples of the ceramic filler in (3) include at least one selected from the group consisting of Al 2 O 3 , SiO 2 , forsterite, cordierite, mullite, AlN, Si 3 N 4 , SiC, MgTiO 3 , and CaTiO 3. The glass is preferably mixed at a rate of 20 to 80% by mass with respect to the glass. Since the average particle size of the raw material affects the sinterability of the ceramic material, the average particle size is preferably 0.5 to 8 μm, more preferably 1 to 5 μm.

また、感光性樹脂としては、感光性を付与したモノマーや光重合開始剤などが挙げられる。感光性を付与したモノマーとしては、低温で短時間の焼成工程に対応するために、熱分解性に優れたものであることが望ましい。また、感光性を付与したモノマーは、スラリー材の塗布・乾燥後の露光によって光重合される必要があり、遊離ラジカルの形成、連鎖生長付加重合が可能で、2級もしくは3級炭素を有したモノマーが好ましく、例えば少なくとも1つの重合可能なエチレン系基を有するブチルアクリレート等のアルキルアクリレートおよびそれらに対応するアルキルメタクリレート等が挙げられる。また、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレートおよびそれらに対応するメタクリレートも有効である。光重合開始剤としては、ベンゾフェノン類,アシロインエステル類化合物などが挙げられる。   Examples of the photosensitive resin include a monomer imparted photosensitivity and a photopolymerization initiator. As the monomer imparted with photosensitivity, it is desirable that the monomer has excellent thermal decomposability in order to cope with a baking process at a low temperature for a short time. In addition, the photosensitized monomer needs to be photopolymerized by exposure after application and drying of the slurry material, and can form free radicals and chain-growth addition polymerization, and has secondary or tertiary carbon. Monomers are preferred, and examples thereof include alkyl acrylates such as butyl acrylate having at least one polymerizable ethylene group, and alkyl methacrylates corresponding thereto. In addition, polyethylene glycol diacrylates such as tetraethylene glycol diacrylate and methacrylates corresponding thereto are also effective. Examples of the photopolymerization initiator include benzophenones and acyloin ester compounds.

また、有機バインダーも、感光性を付与したモノマーと同様に熱分解性が良好であることが望まれ、同時にスラリーの粘性を決めるものであるため、固形分との濡れ性も考慮することが必要である。本発明によれば、アクリル酸もしくはメタクリル酸系重合体のようなカルボキシル基、アルコール性水酸基を備えたエチレン性不飽和化合物が好ましい。   Also, the organic binder is desired to have good thermal decomposability like the photosensitized monomer, and at the same time, it determines the viscosity of the slurry, so it is necessary to consider the wettability with the solid content. It is. According to the present invention, an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group and an alcoholic hydroxyl group such as an acrylic acid or methacrylic acid polymer is preferred.

有機溶剤としては、エチルカルビトールアセテート、ブチルセルソルブ、3メトキシブチルアセテート、トルエン、IPAの群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   Examples of the organic solvent include at least one selected from the group consisting of ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve, 3 methoxybutyl acetate, toluene, and IPA.

また、本発明において、各成分の含有量は、セラミック粉末100質量部あたり、感光性を付与したモノマー及び光重合開始剤を5〜20質量部、有機バインダーを10〜30質量部、可塑剤を1〜5質量部、有機溶剤を50〜100質量部の割合が適当である。   In the present invention, the content of each component is 5 to 20 parts by mass of a photosensitized monomer and a photopolymerization initiator, 10 to 30 parts by mass of an organic binder, and a plasticizer per 100 parts by mass of the ceramic powder. The proportions of 1 to 5 parts by mass and 50 to 100 parts by mass of the organic solvent are appropriate.

そして、本発明の光硬化セラミック層は、例えば、以上説明した割合で無機粉末に、感光性を付与したモノマーと、光重合開始剤と、有機バインダーと、可塑剤とを、有機溶剤に混合し、ボールミルで混練して調製したスラリーを従来周知のドクターブレード法などによってシート化することで作製することができる。   The photo-curing ceramic layer of the present invention is obtained by mixing, for example, a monomer imparted with photosensitivity, a photopolymerization initiator, an organic binder, and a plasticizer in an organic solvent in the proportion described above. The slurry prepared by kneading with a ball mill can be made into a sheet by a conventionally known doctor blade method or the like.

より具体的には、光硬化セラミック層1および導体3の厚みは、いずれも10〜50μm、特に15〜40μm、さらには15〜30μmの薄層によって形成されており、光硬化セラミック層1および導体3の厚み差が導体3の厚みの20%以下、特に10%以下、さらには、5%以下であることが、または厚み差が5μm以下、さらには3μm以下であることによって、導体3自体の厚みによる光硬化セラミック層1との段差が実質的に抑制される。   More specifically, the thickness of each of the photocurable ceramic layer 1 and the conductor 3 is formed by a thin layer of 10 to 50 μm, particularly 15 to 40 μm, and further 15 to 30 μm. 3 is 20% or less of the thickness of the conductor 3, particularly 10% or less, more preferably 5% or less, or the difference in thickness is 5 μm or less, further 3 μm or less. The step with the photo-curing ceramic layer 1 due to the thickness is substantially suppressed.

また、このような複合シートAから支持体を取り外すことによって複合シートA単体を得、それを複数枚積層した積層体を焼成することで、図1(b)に示すような積層部品5を作製することができる。   Further, by removing the support from such a composite sheet A, a composite sheet A is obtained alone, and a laminated body obtained by laminating a plurality of sheets is fired to produce a laminated component 5 as shown in FIG. can do.

このような積層部品5において、導体3を焼成して得られた配線層3aは、感光性セラミックグリーンシート1を焼成して得られたセラミック層1aを平面方向に伸びることによって平面回路を形成している。また、部分的に配線層3aを厚み方向に積み上げることによりビア導体3bが形成されている。   In such a multilayer component 5, the wiring layer 3a obtained by firing the conductor 3 forms a planar circuit by extending the ceramic layer 1a obtained by firing the photosensitive ceramic green sheet 1 in the planar direction. ing. Further, the via conductor 3b is formed by partially stacking the wiring layer 3a in the thickness direction.

そして、このような積層部品5ではセラミック層1aと、配線層3aとが、略同一厚みとなり形成されることで、凹凸が格段に少ない積層部品5となる。また、このような積層部品5では従来よりも、格段に厚く配線層3aを形成することができることから配線層3aの電気的抵抗を格段に小さくすることができる。また、セラミック層1aの厚みも薄くなっているため、積層部品5も小型化することができる。そして、このような積層部品5は例えば、表面に半導体素子や積層コンデンサなどの電気部品6を搭載する配線基板として好適に用いられる。   In such a multilayer component 5, the ceramic layer 1a and the wiring layer 3a are formed to have substantially the same thickness, so that the multilayer component 5 with significantly less unevenness is obtained. Moreover, in such a laminated component 5, since the wiring layer 3a can be formed much thicker than before, the electrical resistance of the wiring layer 3a can be significantly reduced. Moreover, since the thickness of the ceramic layer 1a is also thin, the laminated component 5 can also be reduced in size. Such a multilayer component 5 is suitably used as a wiring board on which an electrical component 6 such as a semiconductor element or a multilayer capacitor is mounted on the surface.

そして、導体3の特性を本発明の範囲に制御することで、特に、導体3間の接続信頼性に優れた積層部品5となるのである。   And it becomes the laminated component 5 excellent in the connection reliability between the conductors 3 especially by controlling the characteristic of the conductor 3 in the range of this invention.

以下に、本発明の複合シートA、積層部品5の製造方法について説明する。   Below, the manufacturing method of the composite sheet A of this invention and the laminated component 5 is demonstrated.

本発明によれば、まず、少なくともセラミック材料を含有する光硬化セラミック層1の一部に、少なくとも金属粉末と有機バインダーとを含有する導体3が光硬化セラミック層1を貫通して形成されてなる複合シートAを作製する。   According to the present invention, first, a conductor 3 containing at least a metal powder and an organic binder is formed so as to penetrate through the photocurable ceramic layer 1 in a part of the photocurable ceramic layer 1 containing at least a ceramic material. A composite sheet A is prepared.

導体3となる導体ペーストは、平均粒径が1〜5μm程度の前記導体材料の粉末に、必要に応じてセラミック材料を添加した無機成分に対して、エチルセルロース、アクリル樹脂などの有機バインダーを加え、さらにジブチルフタレート、αテルピネオール、ブチルカルビトール、2・2・4−トリメチル−3・3−ペンタジオールモノイソブチレートなどの適当な溶剤を混合し、3本ローラ又はボールミル等により均質に混練して調製される。   The conductor paste that becomes the conductor 3 is added to an organic component such as ethyl cellulose or an acrylic resin with respect to an inorganic component in which a ceramic material is added to the powder of the conductor material having an average particle size of about 1 to 5 μm as necessary. Furthermore, a suitable solvent such as dibutyl phthalate, α-terpineol, butyl carbitol, 2,2,4-trimethyl-3,3-pentadiol monoisobutyrate is mixed and homogeneously kneaded with a three roller or ball mill. Prepared.

また、光硬化セラミック層1となる感光性スラリーは、望ましくは、セラミック粉末に感光性を付与したモノマーと、光重合開始剤と、有機バインダーと、可塑剤とを、有機溶剤に混合し、ボールミルで混練して調製する。なお、詳細については、前述した光硬化セラミック層の作製方法についての記載と同様である。   The photosensitive slurry to be the photo-curing ceramic layer 1 is preferably a ball mill in which a monomer imparting photosensitivity to a ceramic powder, a photopolymerization initiator, an organic binder, and a plasticizer are mixed in an organic solvent. Knead and prepare. The details are the same as described above for the method for producing the photo-curing ceramic layer.

次に、上記の感光性スラリーおよび導体ペーストを用いて以下の工程によって、複合シートAを形成する。   Next, the composite sheet A is formed by the following steps using the photosensitive slurry and the conductive paste.

まず、本発明において導体3の形成方法は、図2(a)に示すように、所定の光透過性の支持体7上に、前記導体ペーストをスクリーン印刷法等により印刷し、導体3を形成する。   First, in the present invention, as shown in FIG. 2A, the conductor 3 is formed by printing the conductor paste on a predetermined light-transmitting support 7 by a screen printing method or the like. To do.

このとき、導体3に照度30mW/cmの超高圧水銀灯を光源として、100mJの条件で露光したときの導体3の全光線透過率を10%以下、特に、5%以下、さらに5%以下とすることが重要である。また、導体3は照度30mW/cmの超高圧水銀灯を光源として、100mJの条件で露光したときのh光線透過率を5%以下、特に、3%以下、さらに1%以下することが重要である。また、導体3は照度30mW/cmの超高圧水銀灯を光源として、100mJの条件で露光したときのi光線透過率を5%以下、特に、3%以下、さらに1%以下とすることが重要である。 At this time, the total light transmittance of the conductor 3 is 10% or less, particularly 5% or less, more preferably 5% or less when the conductor 3 is exposed to light of an ultrahigh pressure mercury lamp with an illuminance of 30 mW / cm 2 under the condition of 100 mJ. It is important to. Further, it is important that the conductor 3 has an h light transmittance of 5% or less, particularly 3% or less, and more preferably 1% or less when exposed at 100 mJ using an ultra-high pressure mercury lamp with an illuminance of 30 mW / cm 2 as a light source. is there. Further, it is important that the conductor 3 has an i-light transmittance of 5% or less, particularly 3% or less, more preferably 1% or less when exposed to light of an ultra-high pressure mercury lamp with an illuminance of 30 mW / cm 2 under a condition of 100 mJ. It is.

次に、図2(b)に示すように、前記感光性スラリーを、例えばドクターブレード法にて前記導体3の厚み以上の厚みに塗布して所定の厚みで全面に塗布して光硬化セラミック層1を形成する。   Next, as shown in FIG. 2 (b), the photosensitive slurry is applied to the entire surface of the conductor 3 by a doctor blade method, for example, by a doctor blade method, and is applied to the entire surface with a predetermined thickness. 1 is formed.

そして、図2(c)に示すように、支持体7の裏面より例えば超高圧水銀灯を光源として用いて露光を行う。この露光によって、導体3形成以外の領域の光硬化セラミック層1を光硬化させる。この露光工程においては、光硬化セラミック層1は、導体3形成以外の領域の光硬化セラミック層1では照射された光の量により裏面から一定の厚みまで光重合反応がおこり不溶化部を形成するが、導体3は紫外線が通過しないために、導体3上に形成されている光硬化セラミック層1は、光硬化可能なモノマーの光重合反応がおこらない溶化部となる。このときの露光量は、実質的に不溶化部の厚みが、導体3の厚みと同じになるように露光量が調整されることが望ましい。具体的な露光量としては、超高圧水銀灯(照度30mW/cm)を光源として30mJ〜150mJとすることが望ましい。 Then, as shown in FIG. 2C, exposure is performed from the back surface of the support 7 using, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp as a light source. By this exposure, the photo-curing ceramic layer 1 in a region other than the formation of the conductor 3 is photo-cured. In this exposure process, the photo-curing ceramic layer 1 is subjected to a photopolymerization reaction from the back surface to a certain thickness depending on the amount of light irradiated in the photo-curing ceramic layer 1 in a region other than the conductor 3 formation, thereby forming an insolubilized portion. Since the conductor 3 does not pass ultraviolet light, the photo-curing ceramic layer 1 formed on the conductor 3 becomes a solubilized portion where the photo-polymerization reaction of the photo-curable monomer does not occur. The exposure amount at this time is preferably adjusted so that the thickness of the insolubilized portion is substantially the same as the thickness of the conductor 3. The specific exposure amount is desirably 30 mJ to 150 mJ using an ultra-high pressure mercury lamp (illuminance 30 mW / cm 2 ) as a light source.

その後、光硬化セラミック層1全体を現像処理する。現像処理は、感光性セラミックグリーンシート1の溶化部を現像液で除去するもので、具体的には、例えば、トリエタノールアミン水溶液、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなどを現像液として用いてスプレー現像、洗浄、乾燥を行う。この処理により、図2(d)に示すように、支持体7上には、導体3と光硬化セラミック層1とが実質的に同一厚みで一体化した複合シートAが形成される。   Thereafter, the entire photocurable ceramic layer 1 is developed. The development treatment is to remove the solubilized portion of the photosensitive ceramic green sheet 1 with a developer, and specifically, for example, spray development using a triethanolamine aqueous solution, sodium carbonate, sodium hydroxide or the like as the developer, Wash and dry. By this treatment, as shown in FIG. 2D, a composite sheet A in which the conductor 3 and the light-curing ceramic layer 1 are integrated with substantially the same thickness is formed on the support 7.

なお、この複合シートAは、支持体7から複合シートAを剥離することによって、複合シートA単体を得ることができる。   In addition, this composite sheet A can obtain the composite sheet A single-piece | unit by peeling the composite sheet A from the support body 7. FIG.

次に、この複合シートAを用いて積層部品を製造する方法について以下に説明すると、まず、前記図2(a)〜(d)に従い、支持体7上に、光硬化セラミック層1と所定のパターンの導体3が形成された複数の支持体付き複合シートを作製し、支持体7を取り外して複数の複合シートA1〜A14を作製する。   Next, a method for producing a laminated part using this composite sheet A will be described below. First, according to FIGS. 2 (a) to (d), the photocurable ceramic layer 1 and a predetermined layer are formed on the support 7. A plurality of composite sheets with a support on which pattern conductors 3 are formed are prepared, and the support 7 is removed to prepare a plurality of composite sheets A1 to A14.

そして、図3(a)に示すように、これらの複合シートA1〜A14の複合シートを位置あわせしながら、重ね合わせ一括して圧着することによって積層体8を形成する。なお、圧着時には、複合シートA中に含まれる有機バインダーのガラス転移点以上の温度をかけながら行なうことが望ましい。   And as shown to Fig.3 (a), the laminated body 8 is formed by superimposing and crimping | bonding together the composite sheet of these composite sheets A1-A14, aligning. In addition, it is desirable to perform the pressure bonding while applying a temperature higher than the glass transition point of the organic binder contained in the composite sheet A.

なお、一括して積層する場合、すべて支持体7を剥がして積層してもよいが、圧着時の最下面と最上面の取り扱いを考慮すれば、最下面と最上面のみは、支持体7から剥がすことなく、積層、圧着した後に、支持体7を剥がすことによって、図3(b)に示すように積層体8を形成することもできる。   In addition, when laminating all at once, the support 7 may be peeled off and laminated, but considering the handling of the lowermost surface and the uppermost surface at the time of pressure bonding, only the lowermost surface and the uppermost surface are separated from the support 7. The laminated body 8 can also be formed as shown in FIG.3 (b) by peeling the support body 7 after laminating | stacking and crimping | bonding, without peeling.

そして、この積層体8を、所定の温度で焼成することによって、導体3によって3次元的な回路が形成された積層部品5を形成することができる。なお、焼成にあたっては、作製された積層体8を脱バインダー工程で、成形体中に含まれている有機バインダー、感光性を付与したモノマーを消失し、焼成工程にて窒素などの不活性雰囲気中又は大気中で、用いられたセラミック材料および導体材料が十分に焼成することのできる温度で焼成され、相対密度95%以上に緻密化される。   Then, by firing the laminated body 8 at a predetermined temperature, it is possible to form the laminated component 5 in which a three-dimensional circuit is formed by the conductor 3. In the firing, the produced laminate 8 is removed in the binder process, the organic binder and the monomer imparted photosensitivity contained in the molded body are lost, and in an inert atmosphere such as nitrogen in the firing process. Alternatively, the ceramic material and the conductor material used are fired at a temperature at which the ceramic material and the conductor material can be sufficiently fired in the atmosphere, and are densified to a relative density of 95% or more.

また、必要に応じて、表面処理として、さらに、積層部品5の表面に厚膜抵抗膜や厚膜保護膜の印刷・焼きつけ、メッキ処理、さらにICチップを含む電気部品6の接合を行うことによってセラミック回路基板を作製することができる。   Further, as necessary, the surface treatment is further performed by printing / baking a thick film resistance film or a thick film protective film on the surface of the laminated component 5, plating, and further joining the electrical component 6 including the IC chip. A ceramic circuit board can be fabricated.

また、表面の導体3は、焼成された積層体の表面に、印刷・乾燥し、所定雰囲気で焼きつけを行っても良い。   The conductor 3 on the surface may be printed and dried on the surface of the fired laminated body and baked in a predetermined atmosphere.

さらに、積層部品5であるセラミック多層回路基板の表面に形成される導体3、端子電極の表面には、半田との濡れ性を改善するために、ニッケル、金などのメッキ層が1〜3μmの厚みで形成してもよい。   Further, the surface of the conductor 3 and the terminal electrode formed on the surface of the ceramic multilayer circuit board as the multilayer component 5 has a plating layer of 1 to 3 μm such as nickel and gold in order to improve the wettability with the solder. You may form by thickness.

まず、Ag粉末100体積部に対して、表1に示す粒径のバリウムホウ珪酸ガラス粉末を表1に示す割合で添加し、更に、エチルセルロースを1質量部、さらに有機溶剤として2・2・4−トリメチル3・3−ペンタジオールモノイソブチレートを12質量部加え、3本ロールミルで混合して導体ペーストを作製した。   First, with respect to 100 parts by volume of Ag powder, barium borosilicate glass powder having a particle size shown in Table 1 is added at a ratio shown in Table 1, and further, 1 part by mass of ethyl cellulose, and 2.2.4. 12 parts by weight of trimethyl 3,3-pentadiol monoisobutyrate was added and mixed with a three roll mill to prepare a conductor paste.

また、光硬化セラミック層となる感光性スラリーは、セラミック原料粉末100質量部と、感光性を付与したモノマー(ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート)(8質量部)および有機バインダー(アルキルメタクリレート)を25質量部と、可塑剤を3質量部、有機溶剤(エチルカルビトールアセテート)70質量部に混合し、ボールミルで混練して作製した。   Moreover, the photosensitive slurry used as a photocurable ceramic layer is 100 mass parts of ceramic raw material powder, the monomer (polyoxyethylated trimethylol propane triacrylate) (8 mass parts) which provided photosensitivity, and an organic binder (alkyl methacrylate). 25 parts by mass, 3 parts by mass of a plasticizer, and 70 parts by mass of an organic solvent (ethyl carbitol acetate) were mixed and kneaded by a ball mill.

なお、セラミック原料粉末は、SiO−45質量%、B−12質量%、Al−25質量%、MgO−8質量%、CaO−4質量%、ZnO−6質量%の組成のガラス粉末−75質量%と、Al粉末−25質量%の混合粉末を用いた。 Note that the ceramic raw material powder, SiO 2 -45% by weight, B 2 O 3 -12 wt%, Al 2 O 3 -25 wt%, MgO-8 wt%, CaO-4% by weight, of ZnO-6 wt% A mixed powder of glass powder-75% by mass and Al 2 O 3 powder-25% by mass was used.

次に、PET(ポリエチレンテレフタレート)からなる支持体上に、導体ペーストをスクリーン印刷法等により印刷し、最小配線幅100μm、25μmの厚みの複数本の導体を形成した。   Next, a conductor paste was printed on a support made of PET (polyethylene terephthalate) by a screen printing method or the like to form a plurality of conductors having a minimum wiring width of 100 μm and a thickness of 25 μm.

次に、上記導体の上に、感光性スラリーをドクターブレード法により、感光性スラリーが乾燥する前の段階では導体よりも厚くなるように塗布乾燥し、導体の存在しない場所での乾燥後の厚みが27μmとなるように感光性セラミックグリーンシートを形成した。   Next, the photosensitive slurry is applied and dried on the conductor by a doctor blade method so that the photosensitive slurry is thicker than the conductor before drying, and the thickness after drying in a place where no conductor exists. A photosensitive ceramic green sheet was formed so as to be 27 μm.

次に、支持体の裏面側より光硬化セラミック層の裏面に、超高圧水銀灯(照度30mW/cm)を光源として100mJで全面露光した。その後、希釈濃度2.5%のトリエタノールアミン水溶液を現像液として用いて30秒間スプレー現像を行った。この後、現像後の純水洗浄の後、70℃で乾燥を行った。 Next, the entire surface was exposed at 100 mJ using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance 30 mW / cm 2 ) as a light source from the back side of the support to the back side of the light-hardening ceramic layer. Thereafter, spray development was performed for 30 seconds using a triethanolamine aqueous solution having a dilution concentration of 2.5% as a developer. Thereafter, the film was washed at 70 ° C. after pure water washing after development.

こうして、出来上がった複合シートは、導体上の溶化部と、光硬化セラミック層の厚みが導体の厚みと同等になるように現像処理で除去され、導体が露出して、その結果、表1に示す厚みの導体と、表1に示す厚みの光硬化セラミック層とが一体化した複合シートを作製することができた。   Thus, the completed composite sheet was removed by development processing so that the thickness of the melted portion on the conductor and the thickness of the light-hardened ceramic layer was equal to the thickness of the conductor, and the conductor was exposed. A composite sheet in which the conductor having a thickness and the photo-cured ceramic layer having the thickness shown in Table 1 were integrated could be produced.

同様に、それぞれの支持体上に内部導体用、表面導体用およびビア導体用の導体を具備したそれぞれ14層の複合シートを作製した。   Similarly, 14-layer composite sheets each having conductors for internal conductors, surface conductors and via conductors were prepared on the respective supports.

上記のようにして作製した複合シートより、それぞれPETフィルムを剥離し、順番に位置合わせを行いながら、積層を行った。この後、プレス機を用いて、プレス圧40MPa、温度60℃にて2分間プレスを行い、積層体を圧着した。   From the composite sheet produced as described above, each PET film was peeled off, and lamination was performed while positioning in order. Thereafter, using a press machine, pressing was performed at a pressing pressure of 40 MPa and a temperature of 60 ° C. for 2 minutes to press-bond the laminate.

その後、導体がAg、Ag−Pdの場合、大気中で300℃で2時間で脱バインダー処理した後、900℃大気中で1時間焼成を行い、積層部品であるセラミック多層回路基板を作製した。導体がCuの場合、N雰囲気中700℃1時間で脱バインダー処理した後、N中900℃1時間で焼成を行い、セラミック多層回路基板を作製した。なお、この評価基板には、導通試験用の回路を形成した。 Thereafter, when the conductor was Ag or Ag—Pd, the binder was removed in the atmosphere at 300 ° C. for 2 hours, and then fired in the atmosphere at 900 ° C. for 1 hour to prepare a multilayer ceramic circuit board as a multilayer component. In the case where the conductor was Cu, the binder removal treatment was performed at 700 ° C. for 1 hour in an N 2 atmosphere, and then the ceramic multilayer circuit board was fabricated by firing at 900 ° C. for 1 hour in N 2 . A circuit for continuity test was formed on this evaluation board.

(複合シート外観評価、厚みバラツキ精度評価)
作製した複合シートについては、評価数50枚で、光硬化セラミック層の外観(破れ、ボイド等)を顕微鏡(×20)による検査し、また、各シートの光硬化セラミック層の部分をそれぞれ5点、非接触のレーザ厚み測定器を用いて測定し、支持体分の厚みを差引くことで厚みバラツキの評価を行った。
(Composite sheet appearance evaluation, thickness variation accuracy evaluation)
About the produced composite sheet, the number of evaluation was 50, and the appearance (breaking, voids, etc.) of the light-curing ceramic layer was inspected with a microscope (× 20), and each part of the light-curing ceramic layer of each sheet was 5 points. The thickness variation was evaluated by measuring using a non-contact laser thickness measuring instrument and subtracting the thickness of the support.

(導通評価)
評価基板については導通を確認した。評価数を50個とし、歩留まりを算出した。
(Continuity evaluation)
Continuity was confirmed for the evaluation board. The number of evaluations was 50, and the yield was calculated.

(断面SEM)
作製した評価基板については、セラミック層厚み、配線層厚みの関係により発生するデラミネーションの有無について、走査型電子顕微鏡(SEM)を用い断面の観察を行った。
(Cross section SEM)
About the produced evaluation board | substrate, the cross-section was observed using the scanning electron microscope (SEM) about the presence or absence of the delamination generate | occur | produced by the relationship of ceramic layer thickness and wiring layer thickness.

(導体の光線透過率)
導体の光線透過率は以下のように測定した。全光線、h線およびi線の受光器を取り付けた紫外線照度計(ウシオ電機株式会社製UIT−101)を用い、支持体がある場合と無い場合の照度を測定し、その値から導体に対する光線(全光線、h線、i線)透過率を計算した。なお、測定に際して、光源と導体の距離を360cmとし、支持体と受光器の距離を0.01cmとした。その結果を表1に示す。
(Light transmittance of conductor)
The light transmittance of the conductor was measured as follows. Using a UV illuminance meter (UIS-101 made by Ushio Electric Co., Ltd.) equipped with an all-ray, h-line and i-line receiver, the illuminance with and without the support is measured, and the light from the value to the conductor is measured. The transmittance was calculated (total light, h-line, i-line). In the measurement, the distance between the light source and the conductor was 360 cm, and the distance between the support and the light receiver was 0.01 cm. The results are shown in Table 1.

なお、h線並びにi線が記載がされていない試料については、それぞれ、h線並びにi線を通過させないフィルタを用いて試験を行った。

Figure 2006012978
In addition, about the sample in which h line | wire and i line | wire are not described, it tested using the filter which does not let h line | wire and i line | wire pass, respectively.
Figure 2006012978

本発明の範囲外である導体の全光線透過率が10%を越える、あるいは、h線波長領域における光線透過率が5%を越える、あるいは、i線波長領域における光線透過率が5%を越える試料No.1、9、17で導体の上の感光性セラミック層が硬化して除去されないために、導体同士の導通不良が発生した。   The total light transmittance of a conductor that is outside the scope of the present invention exceeds 10%, the light transmittance in the h-line wavelength region exceeds 5%, or the light transmittance in the i-line wavelength region exceeds 5%. Sample No. In 1, 9, and 17, the photosensitive ceramic layer on the conductor was hardened and was not removed, and thus a conduction failure between the conductors occurred.

一方、本発明の試料No.2〜8、10〜16、18〜24では、比較例に比べ、厚みばらつき、導通不良が格段に改善された。   On the other hand, sample no. In 2-8, 10-16, and 18-24, the thickness dispersion | variation and the conduction defect were improved significantly compared with the comparative example.

(a)、(c)は、本発明の複合シートの概略断面図であり、(b)、(d)は、本発明の積層部品の概略断面図である。(A), (c) is a schematic sectional drawing of the composite sheet of this invention, (b), (d) is a schematic sectional drawing of the laminated component of this invention. 本発明の複合シートの作製方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the preparation methods of the composite sheet of this invention. 本発明の積層部品を作製する方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the method of producing the laminated component of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

A・・・複合シート
1・・・光硬化セラミック層
1a・・・セラミック層
2・・・支持体
3・・・導体
3a・・・配線層
3b・・・ビア導体
5・・・積層部品
6・・・電気部品
7・・・積層体
A ... Composite sheet 1 ... Photo-curing ceramic layer 1a ... Ceramic layer 2 ... Support 3 ... Conductor 3a ... Wiring layer 3b ... Via conductor 5 ... Multilayer component 6 ... Electric components 7 ... Laminates

Claims (13)

少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層に、該光硬化セラミック層の厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであって、該導体に100mJで露光した際の全光線透過率が10%以下であることを特徴とする複合シート。 A composite sheet in which a conductor having a thickness substantially the same as the thickness of the light-curing ceramic layer is embedded in a light-curing ceramic layer containing at least a ceramic material and a light-curing system, and the conductor is exposed, A composite sheet having a total light transmittance of 10% or less when exposed at 100 mJ. 少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層に、該光硬化セラミック層の厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであって、該導体に100mJで露光した際のh線波長領域における光線透過率が5%以下であることを特徴とする複合シート。 A composite sheet in which a conductor having a thickness substantially the same as the thickness of the light-curing ceramic layer is embedded in a light-curing ceramic layer containing at least a ceramic material and a light-curing system, and the conductor is exposed, A composite sheet having a light transmittance of 5% or less in an h-line wavelength region when exposed at 100 mJ. 少なくともセラミック材料と光硬化システムを含有する光硬化セラミック層に、該光硬化セラミック層の厚みと略同一厚みの導体が、該導体が露出するように埋設された複合シートであって、該導体に100mJで露光した際のi線波長領域における光線透過率が5%以下であることを特徴とする複合シート。 A composite sheet in which a conductor having a thickness substantially the same as the thickness of the light-curing ceramic layer is embedded in a light-curing ceramic layer containing at least a ceramic material and a light-curing system, and the conductor is exposed, A composite sheet having a light transmittance of 5% or less in an i-line wavelength region when exposed at 100 mJ. 前記光硬化システムが、少なくとも光硬化可能なモノマーと光重合開始剤を含有することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれかに記載の複合シート。 The composite sheet according to claim 1, wherein the photocuring system contains at least a photocurable monomer and a photopolymerization initiator. 前記導体が、金属と、金属酸化物もしくはガラスを含有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれかに記載の複合シート。 The composite sheet according to claim 1, wherein the conductor contains a metal and a metal oxide or glass. (a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際の全光線透過率が10%以下となる所定の導体を形成する工程と、
(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする複合シートの製造方法。
(A) forming a predetermined conductor having a total light transmittance of 10% or less when exposed to 100 mJ on a support surface with a conductor paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass; ,
(B) A photocurable slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material is applied to a thickness greater than the thickness of the conductor on the support on which the conductor is formed. Forming a layer;
(C) irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation;
(D) providing a developer and solubilizing and removing the non-light-cured portion including the conductor surface of the light-cured ceramic layer to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor;
A method for producing a composite sheet, comprising:
(a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際のh線波長領域における光線透過率が5%以下となる所定の導体を形成する工程と、
(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする複合シートの製造方法。
(A) A predetermined conductor having a light transmittance of 5% or less in the h-line wavelength region when exposed at 100 mJ on the support surface with a conductor paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass. Forming, and
(B) A photocurable slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material is applied to a thickness greater than the thickness of the conductor on the support on which the conductor is formed. Forming a layer;
(C) irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation;
(D) providing a developer and solubilizing and removing the non-light-cured portion including the conductor surface of the light-cured ceramic layer to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor;
A method for producing a composite sheet, comprising:
(a)支持体表面に、少なくとも金属粉末材料と、金属酸化物もしくはガラスとを含む導体ペーストによって、100mJで露光した際のi線波長領域における光線透過率が5%以下となる所定の導体を形成する工程と
(b)前記導体を形成した支持体上に、少なくとも光硬化可能なモノマー、光重合開始剤、およびセラミック材料を含有する光硬化スラリーを、前記導体の厚み以上の厚みに塗布して光硬化セラミック層を形成する工程と、
(c)前記支持体の裏面より、光を照射して、前記導体形成以外の領域の光硬化セラミック層を光硬化させる工程と、
(d)現像液を付与して、前記光硬化セラミック層の前記導体表面を含む非光硬化部を溶化、除去することによって、光硬化セラミック層と導体からなる複合シートを作製する工程と、
を具備することを特徴とする複合シートの製造方法。
(A) A predetermined conductor having a light transmittance in an i-line wavelength region of 5% or less when exposed at 100 mJ on a support surface containing a conductive paste containing at least a metal powder material and a metal oxide or glass. And (b) applying a photocurable slurry containing at least a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, and a ceramic material to a thickness greater than or equal to the thickness of the conductor on the support on which the conductor is formed. Forming a photo-curing ceramic layer,
(C) irradiating light from the back surface of the support and photocuring the photocurable ceramic layer in a region other than the conductor formation;
(D) providing a developer and solubilizing and removing the non-light-cured portion including the conductor surface of the light-cured ceramic layer to produce a composite sheet composed of the light-cured ceramic layer and the conductor;
A method for producing a composite sheet, comprising:
前記光硬化セラミック層および導体の厚みが50μm以下であることを特徴とする請求項6乃至8のうちいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 8, wherein the photocurable ceramic layer and the conductor have a thickness of 50 µm or less. (e)請求項6に記載の(a)〜(d)工程により作製した複合シートを積層し、任意の層数の積層体を形成する工程と、
(f)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする積層部品の製造方法。
(E) a step of laminating the composite sheets produced by the steps (a) to (d) according to claim 6 to form a laminate having an arbitrary number of layers;
(F) firing the laminate;
A method for producing a laminated part, comprising:
(g)請求項7に記載の(a)〜(d)工程後に、支持体から光硬化セラミック層と導体とからなる複合シートを剥離する工程と、
(h)(a)〜(d)および(g)工程によって作製された複数の複合シートを積層する工程と、
(i)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする積層部品の製造方法。
(G) After the steps (a) to (d) according to claim 7, a step of peeling a composite sheet composed of a photocurable ceramic layer and a conductor from the support;
(H) a step of laminating a plurality of composite sheets produced by the steps (a) to (d) and (g);
(I) firing the laminate;
A method for producing a laminated part, comprising:
(j)請求項8に記載の(a)〜(d)工程により、第1の支持体上に第1の複合シートを作製する工程と、
(k)(a)〜(d)工程を経て、第2の支持体上に第2の複合シートを作製する工程と、
(l)前記第1の複合シートの表面に、前記第2の複合シートを積層する工程と、
(m)前記第2の複合シートから前記第2の支持体を剥離する工程と、
(n)必要に応じ、上記(k)〜(m)工程を繰り返すことによって複合シートによる任意の層数の積層体を形成する工程と、
(k)前記積層体を焼成する工程と、
を具備することを特徴とする積層部品の製造方法。
(J) A step of producing a first composite sheet on the first support by the steps (a) to (d) according to claim 8;
(K) Steps for producing a second composite sheet on the second support through the steps (a) to (d);
(L) laminating the second composite sheet on the surface of the first composite sheet;
(M) peeling the second support from the second composite sheet;
(N) If necessary, a step of forming a laminate having an arbitrary number of layers by a composite sheet by repeating the steps (k) to (m).
(K) firing the laminate;
A method for producing a laminated part, comprising:
前記光硬化セラミック層および導体の厚みが50μm以下であることを特徴とする請求項10乃至12記載の積層部品の製造方法。 13. The method of manufacturing a laminated part according to claim 10, wherein the thickness of the photo-curing ceramic layer and the conductor is 50 [mu] m or less.
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