JP2006010388A - Radiation image conversion panel - Google Patents

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Takehiko Shoji
武彦 庄子
Osamu Morikawa
修 森川
Hiroshi Otani
浩 大谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image conversion panel which can be used in good condition over a long term by reducing the moisture permeation into a stimulable phosphor layer formed by a gas phase lay-up method by using a moisture-proof protective film to completely seal the panel. <P>SOLUTION: In the radiation image conversion panel consisting of a stimulable phosphor plate which has at least one stimulable phosphor layer formed on a substrate by the gas phase lay-up method and the protective film located on the side of phosphors of the stimulable phosphor plate, the protective film is heat-sealed with an adhesive tape made of a heat-fused resin pasted on a substrate part which has no stimulable phosphor layer in a peripheral section of the stimulable phosphor plate. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、気相堆積により形成された輝尽性蛍光体層の表面を、防湿性保護フィルムを用いて覆うことにより、蛍光体層を封止した放射線画像変換パネルに関する。   The present invention relates to a radiation image conversion panel in which a phosphor layer is sealed by covering the surface of a photostimulable phosphor layer formed by vapor deposition with a moisture-proof protective film.

近年、輝尽性蛍光体を利用した放射線像変換パネルにより放射線像を画像化する方法が用いられるようになってきた。   In recent years, a method of imaging a radiation image by a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor has been used.

これは、例えば、米国特許第3,859,527号及び特開昭55−12144号等に開示された様に支持体上に輝尽性蛍光体層を形成した放射線像変換パネルを使用するものである。この放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線をあてて被写体各部の放射線透過度に対応する放射線エネルギーを輝尽性蛍光体層に蓄積させて潜像(蓄積像)を形成し、この輝尽性蛍光体層を輝尽励起光(レーザ光が用いられる)で走査することによって各部に蓄積された放射線エネルギーを放射させて光に変換し、この光の強弱を読みとって画像を得る。この画像はCRT等各種のディスプレイ上に再生してもよいし、又ハードコピーとして再生してもよい。   This uses, for example, a radiation image conversion panel in which a photostimulable phosphor layer is formed on a support as disclosed in US Pat. No. 3,859,527 and JP-A-55-12144. It is. A radiation image (accumulated image) is formed by applying radiation transmitted through the subject to the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel and storing radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the subject in the stimulable phosphor layer. By forming and scanning this stimulable phosphor layer with stimulating excitation light (laser light is used), the radiation energy accumulated in each part is emitted and converted into light, and the intensity of this light is read. Get an image. This image may be reproduced on various displays such as a CRT, or may be reproduced as a hard copy.

この放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層として、例えば特開昭61−142497号等において行われている様な、微細な凹凸パターンを有する支持体上に輝尽性蛍光体を堆積させ形成した微細な擬柱状ブロックからなる輝尽性蛍光体層を用いる方法がある。   As a photostimulable phosphor layer of a radiation image conversion panel used in this radiation image conversion method, the photostimulation is carried out on a support having a fine concavo-convex pattern as performed in, for example, JP-A No. 61-142497. There is a method using a stimulable phosphor layer composed of fine pseudo-columnar blocks formed by depositing a phosphor.

又、特開昭61−142500号に記載のように微細なパターンを有する支持体上に、輝尽性蛍光体を堆積させて得た柱状ブロック間のクラックをショック処理を施して更に発達させた輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−39737号に記載されたような、支持体の面に形成された輝尽性蛍光体層にその表面側から亀裂を生じさせ擬柱状とした放射線像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−110200号に記載のように、支持体の上面に蒸着により空洞を有する輝尽性蛍光体層を形成した後、加熱処理によって空洞を成長させ亀裂を設ける方法等も提案されている。   Further, as described in JP-A-61-142500, a crack between columnar blocks obtained by depositing a stimulable phosphor on a support having a fine pattern was further developed by applying a shock treatment. A method of using a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer, and further a surface of the photostimulable phosphor layer formed on the surface of a support as described in JP-A-62-39737. A method of using a radiation image conversion panel in which a pseudo-columnar shape is formed by cracking from the side, and further, as described in JP-A-62-110200, a photostimulable phosphor layer having a cavity by vapor deposition on the upper surface of a support There has also been proposed a method in which a cavity is grown by heat treatment and a crack is formed after the formation.

又、特開平2−58000号においては、気相堆積法によって支持体上に、支持体の法線方向に対し一定の傾きをもった細長い柱状結晶を形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルが提案されている。   In JP-A-2-58000, radiation having a stimulable phosphor layer in which elongated columnar crystals having a certain inclination with respect to the normal direction of the support are formed on the support by vapor deposition. Image conversion panels have been proposed.

これらの輝尽性蛍光体層の形状をコントロールする試みにおいては、いずれも輝尽性蛍光体層を柱状とすることで、輝尽励起光(又輝尽発光)の横方向への拡散を抑える(クラック(柱状結晶)界面において反射を繰り返しながら支持体面まで到達する)ことができるため、輝尽発光による画像の鮮鋭性を著しく増大させることができるという特徴がある。   In attempts to control the shape of these photostimulable phosphor layers, all of the photostimulable phosphor layers are made columnar to suppress the lateral diffusion of photostimulated excitation light (or photostimulated luminescence). Since it can reach the support surface while repeating reflection at the crack (columnar crystal) interface, it has a feature that the sharpness of an image by stimulated emission can be remarkably increased.

しかしながら、これらの気相成長(堆積)法により形成された輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、輝尽性蛍光体の多くは、吸湿性が高く、このため、一般的な環境条件下に放置すると、徐々に空気中の水分を吸収し、時間の経過とともに、性能の著しい劣化を招くことが知られている。   However, in the radiation image conversion panel having the photostimulable phosphor layer formed by the vapor phase growth (deposition) method, most of the photostimulable phosphors have high hygroscopicity. It is known that when left under conditions, it gradually absorbs moisture in the air and causes a significant deterioration in performance over time.

従来から、例えば特許文献1に記載されているように、ユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化物ハロゲン化物系蛍光体粒子を結着剤中に分散し形成した輝尽性蛍光体層を、金属酸化物、窒化珪素などの薄膜を蒸着した防湿性保護フィルムをもちいてバリアを形成し封止することにより輝尽性蛍光体層の吸湿を防止する方法にがとられている。   Conventionally, for example, as described in Patent Document 1, a stimulable phosphor layer formed by dispersing europium-activated alkaline earth metal fluoride halide phosphor particles in a binder is used as a metal oxide. A method of preventing moisture absorption of the photostimulable phosphor layer by forming and sealing a barrier using a moisture-proof protective film on which a thin film such as silicon nitride is deposited is employed.

また、吸湿性の蛍光体の水蒸気からの保護については、例えば、特許文献2に、シンチレータ材料であるCsI等の蛍光体を水蒸気から保護するためにポリパラキシリレン膜とシリカ等の防湿膜とを順次CVD法により成膜した積層膜を用いる例が記載されている。   As for protection of hygroscopic phosphors from water vapor, for example, Patent Document 2 discloses a polyparaxylylene film and a moisture-proof film such as silica to protect phosphors such as CsI as a scintillator material from water vapor. An example using a laminated film formed by sequentially depositing layers by CVD is described.

しかしながら、前記気相堆積法によって形成された輝尽性蛍光体結晶は、前記のユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化物ハロゲン化物系蛍光体粒子を結着剤中に分散し形成した輝尽性蛍光体層またシンチレータ材料であるCsI等の蛍光体に比べても、材料の吸湿性が大きいこと、また、気相堆積法による輝尽性蛍光体結晶については、結着剤による保護がないことから、水蒸気からの保護についてはより重要であり、前記の封止方法を用いることにより向上効果は認められるものの、金属酸化物などの薄膜を蒸着した防湿性保護フィルムを用い、これにより、支持体ごと輝尽性蛍光体結晶を包み込む様な前記の封止方法では、充分な防湿性が得られず、より吸湿防止を完全にする方法が必要であった。
特開平11−344598号公報 特開2001−235548号公報
However, the stimulable phosphor crystal formed by the vapor deposition method is a stimulable phosphor formed by dispersing the europium activated alkaline earth metal fluoride halide phosphor particles in a binder. Compared with phosphors such as CsI, which is a layer or scintillator material, the material has a high hygroscopic property, and the stimulable phosphor crystal by the vapor deposition method is not protected by a binder, Although it is more important for protection from water vapor and an improvement effect is recognized by using the above-described sealing method, a moisture-proof protective film on which a thin film such as a metal oxide is deposited is used. The above-described sealing method that encases the stimulable phosphor crystal does not provide sufficient moisture resistance, and a method for completely preventing moisture absorption is necessary.
JP-A-11-344598 JP 2001-235548 A

従って、本発明の目的は、気相成長法により形成した輝尽性蛍光体層への透湿を防湿性保護フィルムを用いて低減させ、放射線画像変換パネルの封止を完全に行うことにより、長期間良好な状態で使用することのできる放射線画像変換パネルを提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to reduce moisture permeation to the photostimulable phosphor layer formed by vapor phase growth method using a moisture-proof protective film and to completely seal the radiation image conversion panel, An object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that can be used in a good condition for a long time.

本発明の上記課題は、以下の手段により達成されるものである。   The above object of the present invention is achieved by the following means.

(請求項1)
基板上に、気相堆積法により形成された、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する輝尽性蛍光体プレートと、該輝尽性蛍光体プレートの蛍光体面側に配置された保護フィルムからなる放射線画像変換パネルにおいて、該保護フィルムは、該輝尽性蛍光体プレートの周辺部の輝尽性蛍光体層を有しない基板部分に貼られた熱融着性の樹脂からなる粘着テープと熱融着していることを特徴とする放射線画像変換パネル。
(Claim 1)
A photostimulable phosphor plate having at least one photostimulable phosphor layer formed by vapor deposition on a substrate, and a protective film disposed on the phosphor surface side of the photostimulable phosphor plate In the radiation image conversion panel, the protective film includes a pressure-sensitive adhesive tape made of a heat-fusible resin attached to a substrate portion that does not have a stimulable phosphor layer at the periphery of the stimulable phosphor plate. A radiation image conversion panel which is heat-sealed.

(請求項2)
基板上に、気相堆積法により形成された、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する輝尽性蛍光体プレートと、該輝尽性蛍光体プレートの蛍光体面側および裏面側に配置された保護フィルムからなる放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体プレートの蛍光体面側および裏面側に配置された保護フィルムは、該輝尽性蛍光体プレートの周辺部の輝尽性蛍光体層を有しない基板部分において、蛍光体側から裏面側に折り返すように貼られた熱融着性の樹脂からなる粘着テープにより、蛍光体面側および裏面側においてそれぞれ熱融着されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。
(Claim 2)
A photostimulable phosphor plate having at least one photostimulable phosphor layer formed by vapor deposition on a substrate, and disposed on the phosphor surface side and the back surface side of the photostimulable phosphor plate. In the radiation image conversion panel comprising the protective film, the protective films disposed on the phosphor surface side and the back surface side of the photostimulable phosphor plate are the photostimulable phosphor layer at the periphery of the photostimulable phosphor plate. In the substrate portion that does not have the above, it is heat-sealed on each of the phosphor surface side and the back surface side by an adhesive tape made of a heat-fusible resin pasted from the phosphor side to the back surface side. Radiation image conversion panel.

(請求項3)
前記保護フィルムの前記輝尽性蛍光体プレートに接する側の最外層の樹脂層が熱融着性を有する樹脂層で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線画像変換パネル。
(Claim 3)
The radiation image conversion according to claim 1 or 2, wherein the outermost resin layer on the side of the protective film in contact with the photostimulable phosphor plate is composed of a resin layer having heat-fusibility. panel.

(請求項4)
前記保護フィルムが、少なくとも1層以上の金属酸化物を蒸着した樹脂フィルムを含む複数の樹脂フィルムが層状に接着されてなる積層フィルムであることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線画像変換パネル。
(Claim 4)
The radiographic image according to claim 1 or 2, wherein the protective film is a laminated film formed by laminating a plurality of resin films including a resin film on which at least one layer of metal oxide is deposited. Conversion panel.

(請求項5)
基板上に、気相堆積法により形成された、前記少なくとも1層の輝尽性蛍光体層が、下記一般式(1)で表されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体からなることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネル。
(Claim 5)
The at least one photostimulable phosphor layer formed on a substrate by a vapor deposition method is made of an alkali halide photostimulable phosphor represented by the following general formula (1). The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 6.

一般式(1)
1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
式中、M1はLi,Na,K,Rb及びCsから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X,X′及びX″はF,Cl,Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、AはEu,Tb,In,Ga,Cs,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Yb,Er,Gd,Lu,Sm,Y,Tl,Na,Ag,Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、又、a,b及びeは、それぞれ0≦a<0.5,0≦b<0.5,0<e≦0.2の範囲の数値を表す。
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA
In the formula, M 1 is at least one alkali metal selected from Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is a group consisting of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. at least one divalent metal selected from, M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, At least one trivalent metal selected from the group consisting of Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; A is selected from the group consisting of Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. At least one metal, and a, b and e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.

本発明により、気相堆積により形成された輝尽性蛍光体層を、防湿性保護フィルムを用い封止した耐用年数の長い放射線画像変換パネルが得られた。   According to the present invention, a radiation image conversion panel having a long service life in which a photostimulable phosphor layer formed by vapor deposition is sealed with a moisture-proof protective film is obtained.

次に本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

以下本発明を詳細に説明する。   The present invention will be described in detail below.

気相堆積法により支持体上に輝尽性蛍光体層を形成した前記放射線画像変換パネルにおいては、輝尽性蛍光体層がの吸湿性が強く、湿気に弱いため、通常、輝尽性蛍光体層表面、および支持体を一体として、防湿性保護フィルム、好ましくは、金属酸化物を蒸着したフィルム等を用いて覆い封止することで、防湿性を高めた放射線画像変換パネルを得ている。   In the radiation image conversion panel in which the photostimulable phosphor layer is formed on the support by the vapor deposition method, the photostimulable fluorescence is usually used because the photostimulable phosphor layer is highly hygroscopic and weak to moisture. A radiation image conversion panel with improved moisture resistance is obtained by covering and sealing a body layer surface and a support with a moisture-proof protective film, preferably a film deposited with a metal oxide, etc. .

前述したように、輝尽性蛍光体の吸湿による、放射線画像変換パネルの性能の劣化を防止するために、輝尽性蛍光体層および支持体を防湿性保護フィルムで覆って封止し、水分の浸入を防ぐことは、知られている。   As described above, in order to prevent deterioration of the performance of the radiation image conversion panel due to moisture absorption of the stimulable phosphor, the stimulable phosphor layer and the support are covered with a moisture-proof protective film and sealed. It is known to prevent the invasion.

例えば、前記特許文献1(特開平11−344598号公報)に記載された放射線画像変換パネルにおいては、輝尽性蛍光体層を有する支持体を、蛍光体層および支持体一体としてその表面、裏面を金属酸化物を蒸着した樹脂フィルムからなる防湿性保護フィルムにより覆い、周囲を接着することで内部を水分から封止している。   For example, in the radiation image conversion panel described in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-344598), a support having a photostimulable phosphor layer is integrated with the phosphor layer and the support as a front surface and a back surface. Is covered with a moisture-proof protective film made of a resin film deposited with a metal oxide, and the inside is sealed from moisture by adhering the periphery.

図1は支持体1例えばホウ珪酸ガラス板上に、気相堆積法により、例えばCsBr等の柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層2を形成した蛍光体プレートの断面図を示す。   FIG. 1 shows a cross-sectional view of a phosphor plate in which a photostimulable phosphor layer 2 made of a columnar crystal such as CsBr is formed on a support 1 such as a borosilicate glass plate by vapor deposition.

図2は、輝尽性蛍光体層2及び支持体1からなる該蛍光体プレートの蛍光体面及び裏面を防湿性フィルム3,3′で覆い端面で封止した断面図を示している。2つの防湿性フィルムは端面で熱硬化性樹脂等、例えば尿素樹脂系材料により熱硬化接着され蛍光体プレート全体が封止されている。   FIG. 2 shows a sectional view in which the phosphor surface and the back surface of the phosphor plate comprising the stimulable phosphor layer 2 and the support 1 are covered with moisture-proof films 3 and 3 ′ and sealed at the end surfaces. The two moisture-proof films are heat-cured and bonded by thermosetting resin or the like, for example, urea resin-based material, at the end surfaces, and the entire phosphor plate is sealed.

熱硬化性樹脂とは、合成樹脂の内、加熱して成形する際に硬化するものを指し、本発明の熱硬化性樹脂の具体例としては、例えば、尿素樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。中でも、尿素樹脂が好ましいものである。   The thermosetting resin refers to a synthetic resin that cures when heated and molded. Specific examples of the thermosetting resin of the present invention include, for example, a urea resin, a silicon resin, an epoxy resin, and an acrylic resin. Examples thereof include resins. Of these, urea resins are preferred.

防湿性保護フィルムには、例えばシリカ、アルミナ等金属酸化物の膜を蒸着したフィルム(例えば、アルミナ蒸着PET(市販品:東洋メタライジング社製))或いはこれを他の樹脂フィルムと複数積層したもの(例えば、CPP(熱融着性フィルム(キャスティングポリプロピレン))を積層したもの)が使用できる。これにより防湿性保護フィルムの端面を熱硬化樹脂等により接着し防湿性保護フィルムによる封止を行うことができる。   For the moisture-proof protective film, for example, a film obtained by vapor-depositing a metal oxide film such as silica or alumina (for example, alumina-deposited PET (commercially available product: manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.)) or a plurality of these laminated with other resin films (For example, a laminate of CPP (heat-fusible film (casting polypropylene))) can be used. Thereby, the end surface of a moisture-proof protective film can be adhere | attached with a thermosetting resin etc., and sealing with a moisture-proof protective film can be performed.

これらの方法は、一定の効果はあるものの、潮解性のつよい、例えば、アルカリハライド系輝尽性蛍光体、特にCsBr,I系の蛍光体において顕著であるが、このような封止方法によっては、防湿性能が充分でなく、蛍光体の輝尽発光特性において、十分な耐用年数が得られないことが判明した。   Although these methods have a certain effect, they are excellent in deliquescence, for example, alkali halide-based stimulable phosphors, particularly CsBr, I-based phosphors, but depending on such a sealing method, It has been found that the moisture-proof performance is not sufficient, and that the lifetime of the phosphor is not sufficient in the photostimulable light emission characteristics.

これは、上記輝尽性蛍光体の潮解性が特に大きく、吸水による蛍光体の輝尽発光特性の低下も大きいためであるが、一方、封止方法としてみると、これらの方法は、例えば500μm〜2000μmにも達する厚みのある支持体を、その上に気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層と共に、防湿性保護フィルムを用いて、その輝尽性蛍光体面、および支持体面の裏面、両面から挟み込むようにして、例えば熱硬化型接着剤等を用いて、支持体周囲を接着封止することから、その厚みのために、特にその四隅において皺が発生しやすく、上下の、防湿性保護フィルム間の接着強度の不均一を生じやすい。そのため耐久性に劣り、ひび割れが起こりやすいため、充分な封止強度が得られない。   This is because the deliquescent properties of the photostimulable phosphor are particularly large, and the photostimulable light emission characteristics of the phosphor are greatly reduced by water absorption. On the other hand, as a sealing method, these methods are, for example, 500 μm. Using a moisture-proof protective film together with a stimulable phosphor layer formed by vapor deposition on a support having a thickness of up to 2,000 μm, the stimulable phosphor surface and the support surface Since the periphery of the support is adhesively sealed using, for example, a thermosetting adhesive or the like so as to be sandwiched from the back surface and both surfaces, wrinkles are likely to occur particularly at the four corners due to its thickness. It tends to cause non-uniform adhesion strength between moisture-proof protective films. Therefore, the durability is inferior and cracking is likely to occur, so that sufficient sealing strength cannot be obtained.

防湿性保護フィルムの加工により、例えば、シリカ、アルミナ等の金属酸化物を蒸着したフィルムの枚数を増やしたり、また防湿性を高めるために金属酸化物膜の膜厚を増加させるなどの手段は、接着部分における前記の改善の手段とはならず、また、鮮鋭性の低下を引き起こすため、新たな防湿性の向上手段が必要とされている。また、気相堆積法により形成した輝尽性蛍光体柱状結晶の表面は、実際は平滑でないこと、また柱状結晶間には間隙等もあり、上記防湿性保護フィルムと結晶表面とに微少な間隙が介在することも厚みのある蛍光体プレートを一体として封止するときの防湿性保護フィルム同士の接着の不均一やシワを引き起こす要因であり、徐々に放射線画像変換パネルの性能劣化が進む原因の一つと考えられる。   By processing the moisture-proof protective film, for example, increasing the number of films deposited with a metal oxide such as silica, alumina, or increasing the thickness of the metal oxide film in order to improve moisture resistance, In order not to be the above-mentioned improvement means in the bonded portion, and to cause a decrease in sharpness, a new means for improving moisture resistance is required. In addition, the surface of the photostimulable phosphor columnar crystal formed by the vapor deposition method is not actually smooth, and there are gaps between the columnar crystals, and there is a minute gap between the moisture-proof protective film and the crystal surface. Intervention is also a factor that causes non-uniform adhesion and wrinkles between moisture-proof protective films when sealing thick phosphor plates as a unit, and is one of the causes of progressive deterioration in the performance of radiation image conversion panels. It is thought that.

本発明は、従って、金属酸化物を蒸着したフィルム(防湿性保護フィルム)による輝尽性蛍光体層が形成された支持体(輝尽性蛍光体プレート)の封止を行う際に、支持体の厚みに関係なく、輝尽性蛍光体層のみを有効に封止可能な、新たな、輝尽性蛍光体プレートの封止方法を提供する。輝尽性蛍光体層の厚みも50μm〜1000μmの範囲であり感度上の要求から比較的厚みがあるものの、支持体の厚みがさらに大きいことから(多くは400μm〜2000μmにも達する)、支持体の厚みに起因する防湿性フィルムの、特に蛍光体プレート4隅におけるシワの発生等が少なく、接着強度の強い、強固な封止が得られることが特徴である。   Therefore, the present invention provides a support for sealing a support (stimulable phosphor plate) on which a stimulable phosphor layer is formed by a film (moisture-proof protective film) on which a metal oxide is deposited. A new stimulable phosphor plate sealing method capable of effectively sealing only the stimulable phosphor layer irrespective of the thickness of the photostimulable phosphor plate is provided. Although the thickness of the photostimulable phosphor layer is in the range of 50 μm to 1000 μm and is relatively thick due to sensitivity requirements, the thickness of the support is even larger (mostly reaches 400 μm to 2000 μm), so the support This is characterized in that the moisture-proof film due to the thickness of the film has few wrinkles, especially at the four corners of the phosphor plate, and can provide a strong seal with strong adhesive strength.

図3に本発明の放射線画像変換パネルの一例を示す。支持体(基板)1上に、気相堆積法により形成された、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層2を有する輝尽性蛍光体プレートの、輝尽性蛍光体層を有する面に、防湿性保護フィルム3を重ね合わせ、輝尽性蛍光体層が形成されていない基板の周囲部分において、接着剤4により接着し封止することにより放射線画像変換パネルを形成する。   FIG. 3 shows an example of the radiation image conversion panel of the present invention. On the surface having the photostimulable phosphor layer of the photostimulable phosphor plate having at least one photostimulable phosphor layer 2 formed on the support (substrate) 1 by vapor deposition, The moisture-proof protective film 3 is overlaid, and a radiation image conversion panel is formed by adhering and sealing with an adhesive 4 in the peripheral portion of the substrate where the stimulable phosphor layer is not formed.

従来のように防湿保護フィルムにより、輝尽性蛍光体層を有する基板そのもの全体を、密着封止する方法では、支持体および蛍光体層両者の厚みが大きいために、防湿性保護フィルムの周囲部分、特に4隅に近い部分においてシワの発生が大きく、そのために封止が充分でなく、また、蛍光体結晶にストレスもかかりやすく性能が劣化し易い傾向があったが、この方法によれば、輝尽性蛍光体層のみを保護すればよく支持体(基板)そのものと一体に封止する必要がなく、この方法により封止された放射線画像変換パネルは、前記のように特に4隅におけるシワや接着の不均一を生じることがなく、好ましい。   In the conventional method of sealing and sealing the entire substrate itself having a stimulable phosphor layer with a moisture-proof protective film, the thickness of both the support and the phosphor layer is large. In particular, the generation of wrinkles in the portion near the four corners is large, so that the sealing is not sufficient, and the phosphor crystal tends to be stressed and the performance tends to be deteriorated. It is only necessary to protect the photostimulable phosphor layer, and it is not necessary to seal it integrally with the support (substrate) itself. The radiation image conversion panel sealed by this method is particularly wrinkled at the four corners as described above. And non-uniform adhesion are preferable.

これらの方法において防湿性保護フィルム同士を接着する接着剤としては、前記熱硬化性樹脂を用いた接着剤を用いることができる。これにより防湿性保護フィルム同士を密着させた後、接着剤部分を加熱することで樹脂を硬化し蛍光体層を封止することが出来る。   In these methods, an adhesive using the thermosetting resin can be used as an adhesive for adhering moisture-proof protective films to each other. Thus, after the moisture-proof protective films are brought into close contact with each other, the adhesive portion is heated to cure the resin and seal the phosphor layer.

しかしながら、本発明においてより好ましいのは、前記防湿性フィルム及び蛍光体基板との接着を、熱融着性の樹脂を用いて行うものである。即ち、前記図3において、前記の熱硬化性樹脂からなる接着剤に代えて、熱融着性フィルムと接着剤層からなる粘着テープ(例えばCPP(キャスティングポリプロピレン)を基材とする粘着テープ)を接着剤4として、支持体(基板)1に貼りつけ、これに輝尽性蛍光体層2と密着させた、熱融着性フィルムが防湿性フィルムの表面に積層された防湿性保護フィルム3を、熱融着性フィルム面が、前記基板に接着された粘着テープの熱融着フィルム面と対向するように重ね合わせ、熱融着により両方の熱融着フィルム同士を熱融着させることが好ましい。   However, in the present invention, it is more preferable that the moisture-proof film and the phosphor substrate are bonded using a heat-fusible resin. That is, in FIG. 3, instead of the adhesive made of the thermosetting resin, an adhesive tape made of a heat-fusible film and an adhesive layer (for example, an adhesive tape based on CPP (casting polypropylene)) is used. A moisture-proof protective film 3 having a heat-fusible film laminated on the surface of a moisture-proof film, adhered to a support (substrate) 1 and adhered to the stimulable phosphor layer 2 as an adhesive 4. It is preferable that the heat-sealable film surface is superposed so as to face the heat-sealable film surface of the pressure-sensitive adhesive tape adhered to the substrate, and both heat-sealable films are heat-sealed by heat-seal. .

熱融着による接着なので互いの層が融合して、強度の強い接着が得られる。またCPP等の熱融着性樹脂は透湿性も低いため、封止の効果が持続し好ましい。   Since the bonding is by heat fusion, the layers are fused to obtain a strong bond. Further, a heat-fusible resin such as CPP is preferable because it has a low moisture permeability, and thus the sealing effect is sustained.

熱融着は、用いる熱融着性樹脂の溶融温度により異なるが、120℃から200℃の範囲の温度で行うのが好ましく、熱融着温度がこの範囲にある熱融着性樹脂フィルムを用いることが好ましい。特に、熱融着性樹脂としてポリプロピレンを基材とするものが好ましい。   The heat fusion varies depending on the melting temperature of the heat-fusible resin to be used, but is preferably performed at a temperature in the range of 120 ° C. to 200 ° C., and a heat-fusible resin film having a heat fusion temperature in this range is used. It is preferable. In particular, those having a polypropylene base as the heat-fusible resin are preferable.

熱融着性のフィルムと積層される接着剤層としては、例えばアクリル系の接着剤等があり、例えば、日東電工製PPS粘着テープNo.370シリーズ等は前記ポリプロピレンフィルムを基材とし、アクリル系樹脂からなる接着剤層を有する粘着テープであり、入手可能である。   As an adhesive layer laminated with a heat-fusible film, for example, there is an acrylic adhesive, for example, a PPS pressure-sensitive adhesive tape No. 1 manufactured by Nitto Denko Corporation. 370 series and the like are pressure-sensitive adhesive tapes having the above-mentioned polypropylene film as a base material and having an adhesive layer made of an acrylic resin, and are available.

これらの粘着テープを用いて、熱融着性フィルム表面を防湿性保護フィルムの熱融着性フィルム面と対向させるように、基板に貼着し、加熱して互いに熱融着させ、封止する。   Using these adhesive tapes, the surface of the heat-fusible film is attached to the substrate so as to face the heat-fusible film surface of the moisture-proof protective film, heated and heat-bonded to each other, and sealed. .

これにより、厚みのある基板の蛍光体面と防湿性保護フィルムを直接貼り合わせることが出来るため、基板と防湿性保護フィルムの間に、基板と比べると厚みの小さい蛍光体層のみを封止することとなり、周囲に封止部分周縁においてのシワの発生が少ない。また、キャスティングポリプロピレン等の熱融着性樹脂は、透湿性が低いため、水分の封止性にも優れ、防湿性保護フィルムによる封止がより均一に密着よく行われより強固なものとなる。   As a result, since the phosphor surface of the thick substrate and the moisture-proof protective film can be directly bonded together, only the phosphor layer having a smaller thickness than the substrate is sealed between the substrate and the moisture-proof protective film. Thus, the generation of wrinkles around the periphery of the sealing portion is small. Moreover, since the heat-fusible resin such as casting polypropylene has low moisture permeability, it is excellent in moisture sealing property, and sealing with the moisture-proof protective film is performed more uniformly and more firmly and becomes stronger.

熱融着樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン(PE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、キャステングポリプロピレン(CPP)等を好ましく用いることができる。   As the heat sealing resin, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), low density polyethylene (LDPE), casting polypropylene (CPP) and the like can be preferably used.

本発明に用いられる、これら熱融着性の樹脂は、前記の130℃から200℃の温度範囲で熱融着する樹脂であり、下記の熱溶融温度が120℃から250℃の範囲にある樹脂が好ましい。   These heat-fusible resins used in the present invention are resins that are heat-sealed in the above-mentioned temperature range of 130 ° C. to 200 ° C., and the following heat-melting temperatures are in the range of 120 ° C. to 250 ° C. Is preferred.

樹脂の溶融温度(融点)の測定は、本発明においては、温度制御された加熱用ステンレスプレート上に、粉体とした材料を置き、約50倍のルーペを用いて、軟化、溶融状態を観察して、軟化点や、溶融状態を観察して測定する。また、DSC等を用いて測定する方法もある。樹脂粉体は、粒径10μm程度に粉砕して測定する。   In the present invention, the melting temperature (melting point) of a resin is measured by placing a powdered material on a temperature-controlled heating stainless plate and observing the softened and molten state using a magnifier of about 50 times. Then, the softening point and the molten state are observed and measured. There is also a method of measuring using DSC or the like. The resin powder is measured by pulverizing to a particle size of about 10 μm.

このようにして得られる溶融温度は、例えば、重合度結晶化度等によっても異なってくるがポリプロピレンでは、150℃〜165℃、ポリエチレン(LLDPE)等では122℃前後である。   The melting temperature obtained in this manner varies depending on, for example, the degree of polymerization and the degree of crystallinity, but is 150 ° C. to 165 ° C. for polypropylene, and around 122 ° C. for polyethylene (LLDPE).

本発明に用いられる、これら熱融着性の樹脂として、具体的には、ヒートシールできる樹脂、つまり前記ポリエチレンやポリプロピレン等が好ましい。   Specifically, these heat-fusible resins used in the present invention are preferably heat-sealable resins, that is, the polyethylene and polypropylene.

又、熱融着は、前記の溶融温度の近傍乃至それ以上の温度、即ち、130℃から200℃の範囲で行うのが好ましい。   The heat fusion is preferably performed at a temperature close to or above the melting temperature, that is, in the range of 130 ° C to 200 ° C.

図4に、本発明に係わる、より好ましい封止方法を用いて輝尽性蛍光体プレートを封止した放射線画像変換パネルの1例を示す。   FIG. 4 shows an example of a radiation image conversion panel in which a photostimulable phosphor plate is sealed using a more preferable sealing method according to the present invention.

図4の形態では、支持体(基板)1上に、気相堆積法により形成された、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層2を有する輝尽性蛍光体プレートの周辺部の、輝尽性蛍光体層を有しない支持体(基板)周囲部分において、前記CPP等熱融着性の樹脂フィルムおよび接着剤層からなる粘着テープ5が、接着剤層により、蛍光体側から裏面側に支持体の端面にて折り返すように貼着され、粘着テープ5において前記CPP等の熱融着性フィルム面が表側になるように貼られ、これに対向するように、同じく熱融着性フィルム層を有する2つの防湿性保護フィルム3、3’のそれぞれの熱融着性フィルム面が、該基板の周縁部分において粘着テープ5の熱融着性フィルム面と熱融着された構造を有している。   In the form of FIG. 4, the photostimulation of the peripheral part of the photostimulable phosphor plate having at least one photostimulable phosphor layer 2 formed on the support (substrate) 1 by the vapor deposition method. The adhesive tape 5 made of the heat-fusible resin film such as CPP and the adhesive layer is supported by the adhesive layer from the phosphor side to the back side around the support (substrate) that does not have the fluorescent layer. The adhesive tape 5 is attached so that the heat-fusible film surface of the CPP or the like is on the front side, and similarly has a heat-fusible film layer so as to face this. Each heat-fusible film surface of the two moisture-proof protective films 3 and 3 ′ has a structure in which the heat-fusible film surface of the pressure-sensitive adhesive tape 5 is heat-fused at the peripheral portion of the substrate.

熱融着性樹脂によって、二枚の防湿性保護フィルム、およびCPP等の熱融着フィルムが完全に接着して、輝尽性蛍光体プレートを覆う形態となっているため、この方法による封止方法は、水分の透過性が低いポリプロピレンフィルム等熱融着性樹脂より完全に封止されるため、熱硬化樹脂等の接着剤層等からやや水分の透過がある図3に示した封止方法に比べ、水分の遮断がより完全に近く、耐久性が高い放射線画像変換パネルを得ることが可能である。   Sealing by this method because the two heat-proof protective films and the heat-sealing film such as CPP are completely bonded by the heat-fusible resin to cover the photostimulable phosphor plate. Since the method is completely sealed from a heat-fusible resin such as a polypropylene film having a low water permeability, the sealing method shown in FIG. 3 has a slight water permeability from an adhesive layer such as a thermosetting resin. Compared to the above, it is possible to obtain a radiation image conversion panel that is close to moisture completely and has high durability.

シワの発生等による封止の不均一或いは不完全さ等の改善について着目すると、前記防湿性保護フィルムと基板との或いは防湿性保護フィルム同士の接着は、前記熱融着性の樹脂フィルムおよび接着剤層からなる粘着テープを用いて行う必要はなく、熱硬化性或いは光硬化性の樹脂等からなる接着剤或いは粘着テープ等を用いても充分にその効果を得ることが出来るが、前記CPP等の熱融着性の樹脂フィルムを基体とし接着剤層を有する粘着テープをこのように用いることが、前記の効果に加え、水分の遮断性に優れ封止性がよく、また熱融着樹脂同士の融合により、接着後にも強度が保たれるため耐久性に優れ好ましい。   Paying attention to the improvement of non-uniformity or incompleteness of sealing due to generation of wrinkles, etc., the adhesion between the moisture-proof protective film and the substrate or between the moisture-proof protective films is the same as the heat-sealable resin film and the adhesion It is not necessary to use a pressure-sensitive adhesive tape made of an agent layer, and even if an adhesive or pressure-sensitive adhesive tape made of a thermosetting or photo-curable resin is used, the effect can be sufficiently obtained. In addition to the above effects, the use of a pressure-sensitive adhesive tape having an adhesive layer with a heat-fusible resin film as a base material provides excellent moisture barrier properties and good sealing properties. As a result of the fusion, the strength is maintained even after bonding, which is preferable because of excellent durability.

前記防湿性保護フィルムは、少なくとも1層以上の金属酸化物を蒸着した樹脂フィルムであるが、これらの金属酸化物を蒸着した樹脂フィルムを含む複数の樹脂フィルムが層状に接着されてなる積層フィルムであることが好ましく、特に、前記熱融着性の樹脂フィルムを基体とする粘着テープを用い熱融着により接着する場合、粘着テープと接着する面側には同様な熱融着性樹脂フィルムが積層された防湿性保護フィルムであることが好ましい。   The moisture-proof protective film is a resin film in which at least one layer of metal oxide is vapor-deposited, but a laminated film in which a plurality of resin films including a resin film in which these metal oxides are vapor-deposited are bonded in layers. In particular, in the case where the adhesive tape having the heat-fusible resin film as a base is used for adhesion by heat fusion, a similar heat-fusible resin film is laminated on the side to be adhered to the adhesive tape. It is preferable that the moisture-proof protective film is made.

金属酸化物を蒸着したフィルム(膜)としては、1Å〜100Åの厚みで少なくとも1層以上の金属酸化物膜を1〜30μmの樹脂フィルム上に蒸着形成したフィルムであり、例えば、シリカやアルミナ等の無機酸化物層を蒸着により形成し防湿性を高めたポリエチレンテレフタレート(PET)等の樹脂フィルムである。これらは安価で加工性や透明性に優れ、防湿性及び酸素透過性が温度や湿度の影響を受けづらいため、環境によらず安定した画像品質を要求される医療用輝尽性蛍光体プレート用の防湿性保護フィルムとして適している。これらの蒸着フィルムは近年、透明で中身の確認ができることや、熱安定性が高くレトルト殺菌ができる。電子レンジによる中身の加熱が可能等の利点を生かして主に食品分野で不透明なアルミニウムラミネートフィルムの代替えとして普及してきた。   The film (film) on which the metal oxide is vapor-deposited is a film in which at least one layer of metal oxide film having a thickness of 1 to 100 mm is vapor-deposited on a 1 to 30 μm resin film, such as silica or alumina. It is a resin film such as polyethylene terephthalate (PET) in which an inorganic oxide layer is formed by vapor deposition to improve moisture resistance. These are inexpensive, excellent in processability and transparency, and moisture-proof and oxygen permeability are not easily affected by temperature and humidity. Therefore, for medical stimulable phosphor plates that require stable image quality regardless of the environment. Suitable as a moisture-proof protective film. In recent years, these vapor-deposited films are transparent and can be checked for their contents, and have high thermal stability and can be sterilized by retort. Taking advantage of the fact that the contents can be heated by a microwave oven, it has been widely used as an alternative to opaque aluminum laminate film mainly in the food field.

金属酸化物を蒸着したフィルムとしては、例えばアルミナ蒸着PET(ポリエチレンテレフタレート)としてVMPET等があり、これは東洋メタライジング社等から入手できる。   Examples of the film on which the metal oxide is deposited include VMPET as alumina-deposited PET (polyethylene terephthalate), which can be obtained from Toyo Metallizing Co., Ltd.

本発明に使用する前記金属酸化物を蒸着したフィルムは、必要とされる防湿性にあわせ、異なった複数の蒸着層を有するフィルムを用いたり、複数枚積層することで更に防湿性を向上させることができる。   The film deposited with the metal oxide used in the present invention is further improved in moisture resistance by using a film having a plurality of different deposited layers or by laminating a plurality of films in accordance with the required moisture resistance. Can do.

また本発明において、前記蒸着フィルムは、保護層として或いは他の機能をもたせるため、又、防湿性をさらに高めるため、材質の異なった別の樹脂フィルム、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ナイロン等他の樹脂フィルムを、前記金属酸化物を蒸着したフィルムに2種類以上積層して、防湿性保護フィルムとして用いることが好ましい。この場合の積層方法としては、ドライラミネート、押し出しラミネートまたは共押し出しコーティングラミネートなどの方法があげられる。   Further, in the present invention, the vapor-deposited film is used as a protective layer or to have other functions, and in order to further improve moisture resistance, other resin films of different materials such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, nylon, etc. It is preferable to laminate two or more types of the resin film on the film on which the metal oxide is vapor-deposited and use it as a moisture-proof protective film. Examples of the lamination method in this case include dry lamination, extrusion lamination, and coextrusion coating lamination.

前記蒸着フィルムおよびその他の樹脂フィルムを積層する方法については、ドライラミネート方式が作業性の面で優れている。この方法は一般には1.0〜2.5μm程度の硬化性の接着剤層を使用するが、接着剤層厚は2.5μmより大きくする必要がある。但し接着剤の塗設量が多すぎる場合には、トンネル、浸み出し、縮緬皺などが発生することがあるためより好ましくは接着剤量を乾燥膜厚で3〜5μmになるように調節することが好ましい。   As for the method of laminating the vapor deposition film and other resin films, the dry laminating method is excellent in terms of workability. This method generally uses a curable adhesive layer of about 1.0 to 2.5 μm, but the adhesive layer thickness needs to be larger than 2.5 μm. However, when the coating amount of the adhesive is too large, tunneling, oozing, crimping, etc. may occur. More preferably, the adhesive amount is adjusted to 3 to 5 μm in terms of dry film thickness. It is preferable.

樹脂フィルムを積層化するためには、ホットメルトラミネーション法やエクストルージョンラミネート法及び共押出しラミネーション法も使用でき、上記ドライラミネート方式との併用も可能である。   In order to laminate the resin film, a hot melt lamination method, an extrusion lamination method and a coextrusion lamination method can be used, and the dry lamination method can be used in combination.

ホットメルトラミネーションとはホットメルト接着剤を溶融し基材に接着層を塗設する方法であるが、接着剤層の厚さは一般に1〜50μmと広い範囲で設定可能な方法である。一般に使用されるホットメルト接着剤のベースレジンとしては、EVA、EEA、ポリエチレン、ブチルラバー等が使用され、ロジン、キシレン樹脂、テルペン系樹脂、スチレン系樹脂等が粘着付与剤として、ワックス等が可塑剤として添加される。   Hot melt lamination is a method in which a hot melt adhesive is melted and an adhesive layer is applied to a substrate, and the thickness of the adhesive layer is generally set within a wide range of 1 to 50 μm. Commonly used base resins for hot melt adhesives include EVA, EEA, polyethylene, butyl rubber, etc., rosin, xylene resin, terpene resin, styrene resin, etc. as tackifiers, wax etc. It is added as an agent.

エクストルージョンラミネート法とは高温で溶融した樹脂をダイスにより基材上に塗設する方法であり、樹脂層の厚さは一般に10〜50μmと広い範囲で設定可能である。   The extrusion laminating method is a method in which a resin melted at a high temperature is coated on a substrate with a die, and the thickness of the resin layer can be generally set in a wide range of 10 to 50 μm.

エクストルージョンラミネートに使用される樹脂としては一般に、LDPE、EVA、PP等が使用されるが、基材との接着性を増すために基材にあらかじめ接着促進剤を塗設しておくことがある。   In general, LDPE, EVA, PP, etc. are used as the resin used for the extrusion laminate, but an adhesion promoter may be pre-coated on the base material in order to increase the adhesion to the base material. .

この接着促進剤としては、有機チタン系、ポリエチレンイミン系、イソシアネート系、ポリエステル系等があるが、一般にこれらの接着促進剤層は基材フィルムの表面に微細な凹凸をつけ溶融ポリマーの拡散性を向上する目的のものであり本発明でいう2.5μm以下の硬化性接着剤層には含まれない。   These adhesion promoters include organic titanium-based, polyethyleneimine-based, isocyanate-based, polyester-based, etc. In general, these adhesion promoter layers provide fine irregularities on the surface of the base film to increase the diffusibility of the molten polymer. It is for the purpose of improving and is not included in the curable adhesive layer of 2.5 μm or less referred to in the present invention.

共押出しラミネーション法とは異種又は同種の熱可塑性樹脂を2個以上の押出し機から、それぞれの樹脂を同時に押し出して、特別に設計されたダイスの内部又は外部で積層され、製膜と同時に多層フィルムを形成することをいう。   Co-extrusion lamination method is different from the same or different types of thermoplastic resin from two or more extruders, each resin is extruded at the same time and laminated inside or outside a specially designed die, and multilayer film at the same time as film formation To form.

一般に共押出しラミネーションに使用される樹脂としては、LDPE(低密度ポリエチレン)、Ny(ナイロン)、ION(アイオノマー)、PP(ポリプロピレン)、EVA(エチレンビニルアセテート)、HDPE(高密度ポリエチレン)、MDPE(中密度ポリエチレン)、PVDC(ポリ塩化ビニリデン)、POL(ポリオレフィン)等が挙げられる。   The resins generally used for coextrusion lamination include LDPE (low density polyethylene), Ny (nylon), ION (ionomer), PP (polypropylene), EVA (ethylene vinyl acetate), HDPE (high density polyethylene), MDPE ( Medium density polyethylene), PVDC (polyvinylidene chloride), POL (polyolefin) and the like.

このように、本発明の放射線画像変換パネルにおいては、輝尽性蛍光体プレートを水分から封止し保護するために、金属酸化物を蒸着したフィルムを含む複数の樹脂フィルムが層状に接着されてなる積層フィルムを防湿性保護フィルムとして用いることが好ましいが、積層フィルムの場合、金属酸化物層を有するフィルムと他の樹脂フィルム間或いは複数の金属酸化物を蒸着したフィルム間を接着する接着剤層は、厚さ2.5μm以下であり、硬化性の、熱や紫外線による架橋反応を伴う、具体的には主剤と硬化剤を混合して使用する2液反応型や分子構造中に反応基を有する1液型のビニル系、アクリル系、ポリアミド系、エポキシ系、ゴム系、ウレタン系等の接着剤層を用いることが好ましい。これらの接着剤は一般にはドライラミネーション等で頻繁に使用されるものである。   As described above, in the radiation image conversion panel of the present invention, in order to seal and protect the stimulable phosphor plate from moisture, a plurality of resin films including a film on which a metal oxide is deposited are bonded in layers. It is preferable to use the laminated film as a moisture-proof protective film, but in the case of a laminated film, an adhesive layer that adheres between a film having a metal oxide layer and another resin film or between films deposited with a plurality of metal oxides Has a thickness of 2.5 μm or less and is accompanied by a curable, crosslinking reaction by heat or ultraviolet rays. Specifically, a reactive group is included in a two-component reaction type or molecular structure in which a main agent and a curing agent are mixed and used. It is preferable to use a one-component type vinyl-based, acrylic-based, polyamide-based, epoxy-based, rubber-based, urethane-based adhesive layer. In general, these adhesives are frequently used in dry lamination and the like.

但し、ホットメルト系接着剤は、経時硬化タイプを除けばここで言う硬化性の接着剤層に含まれない。   However, the hot-melt adhesive is not included in the curable adhesive layer referred to here except for the time-curing type.

これら防湿性保護フィルムの厚さは、実用上は1μm〜300μmまでである。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには5μm以上が好ましく、特に10μm以上の防湿性保護フィルムにより封止した場合、耐久性、耐用性に優れた変換パネルが得られて一層好ましい。   The thickness of these moisture-proof protective films is practically 1 μm to 300 μm. In order to obtain good moisture resistance and impact resistance, the thickness is preferably 5 μm or more, and particularly when sealed with a moisture-proof protective film of 10 μm or more, a conversion panel excellent in durability and durability is obtained, which is more preferable.

しかしながら一方で防湿性フィルムとして用いる場合にも膜厚をあまり大きくしないことが鮮鋭性の上からは重要である。鮮鋭性が低下しない範囲で用いるには、金属酸化物を蒸着したフィルムを含む防湿性保護フィルム全体で300μm、好ましくは150μm以下である。   However, on the other hand, when used as a moisture-proof film, it is important from the standpoint of sharpness not to make the film thickness too large. In order to use within a range where the sharpness does not deteriorate, the entire moisture-proof protective film including the film on which the metal oxide is deposited is 300 μm, preferably 150 μm or less.

例えば、前記の金属酸化物を蒸着した防湿性フィルムと、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン(PE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、キャステングポリプロピレン(CPP)等の熱融着性フィルムをドライラミネーション等により積層したものが実際に防湿性保護フィルムとして使用できる。輝尽性蛍光体層を有する基板上に貼着された、熱融着性樹脂フィルムを基体とした粘着テープを用いてその熱溶融性樹脂フィルム面同士をと熱溶融接着させるために、防湿性保護フィルムとしては、これらの低密度ポリエチレン(LDPE)、キャステングポリプロピレン(CPP)等の熱融着性の樹脂フィルムを最外層に積層したものが好ましい。   For example, a moisture-proof film on which the metal oxide is deposited and a heat-fusible film such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), low-density polyethylene (LDPE), and cast polypropylene (CPP) by dry lamination or the like. The laminated one can actually be used as a moisture-proof protective film. In order to heat-melt and bond the heat-meltable resin film surfaces to each other using an adhesive tape based on a heat-fusible resin film, which is bonded to a substrate having a photostimulable phosphor layer. As a protective film, what laminated | stacked the heat-fusible resin films, such as these low density polyethylene (LDPE) and castable polypropylene (CPP), in the outermost layer is preferable.

また、前記熱溶融性樹脂フィルムが積層された防湿性保護フィルムと接着される前記熱融着性樹脂フィルムを基体とする粘着テープとしては、PP(ポリプロピレン)フィルムを基材にしたものがあり、具体的には、日東電工株式会社製PPS粘着テープNo.370シリーズ等が挙げられる。例えば、No.3703F、No.370F、No.3703DF等があり、これらはPP(ポリプロピレン)フィルムを基体とし、これれにアクリル樹脂系の接着剤層を有する粘着テープである。接着剤層および基体フィルムと接着剤層の総膜厚は、前記370シリーズにおいて、例えば、それぞれBacking Thickness/Total Thickness30/55、40/65、30/55(μm)である。ここにおいて、Backing Thicknessはアクリル樹脂系の接着剤層の厚みである。   Moreover, as an adhesive tape based on the heat-fusible resin film bonded to a moisture-proof protective film on which the heat-meltable resin film is laminated, there is one based on a PP (polypropylene) film, Specifically, PPS adhesive tape No. manufactured by Nitto Denko Corporation. 370 series etc. are mentioned. For example, no. 3703F, no. 370F, No. 3703DF and the like, which are pressure-sensitive adhesive tapes having a PP (polypropylene) film as a base and an acrylic resin-based adhesive layer. In the 370 series, the total thickness of the adhesive layer and the base film and the adhesive layer is, for example, Backing Thickness / Total Thickness 30/55, 40/65, and 30/55 (μm), respectively. Here, Backing Thickness is the thickness of the acrylic resin adhesive layer.

防湿性保護フィルムは輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するために、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望ましく、透過率は60%以上、好ましくは80%以上である。   The moisture-proof protective film desirably exhibits high transmittance in a wide wavelength range in order to efficiently transmit stimulated excitation light and stimulated emission, and the transmittance is 60% or more, preferably 80% or more.

また、表面にMgF2などの反射防止層を設けると、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過すると共に鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。 Further, it is preferable to provide an antireflection layer such as MgF 2 on the surface because it effectively transmits the stimulating excitation light and the stimulable light emission and reduces the reduction in sharpness.

又、鮮鋭性の向上のため、防湿性保護フィルムに、例えばリン酸鉛等の着色剤を含有させ着色し、輝尽励起光を吸収する機能をもたせてもよい。   In addition, in order to improve sharpness, the moisture-proof protective film may be colored by containing a colorant such as lead phosphate to absorb the stimulating light.

その為に、輝尽励起光を吸収する色材(顔料又は色素)で着色したフィルムを、前記金属酸化物を蒸着したフィルムに積層したり、どちらか一方の面に色素乃至顔料を含有する層を塗布により設ける方法もある。   For this purpose, a film colored with a coloring material (pigment or dye) that absorbs stimulating excitation light is laminated on the film on which the metal oxide is deposited, or a layer containing a dye or pigment on either side. There is also a method of providing by coating.

着色したフィルムの製造方法としては、色材を練り込んだプラスチックフィルムやプラスチックフィルムの表面に色材(顔料又は染料)を含有する層を塗布等によって形成する方法があり、着色したプラスチックフィルムを接着剤等を用いて均一に防湿性保護フィルムに貼り合わせる方法で着色することが出来る。   As a method for producing a colored film, there is a method of forming a layer containing a coloring material (pigment or dye) on the surface of a plastic film or a plastic film kneaded with a coloring material, and bonding the colored plastic film. It can color by the method of sticking together to a moisture-proof protective film uniformly using an agent.

〈輝尽性蛍光体〉
本発明において、輝尽性蛍光体層を形成する輝尽性蛍光体としては、例えば特開昭61−236890号に記載されている二価ユーロピウム賦活複合ハロゲン化物蛍光体等があり、例えば、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、特には輝尽性蛍光体がEu付加BaFI化合物等が挙げられるが、本発明の放射線画像変換パネルに好ましく用いられる輝尽性蛍光体としては、例えば、特開昭48−80487号に記載されているBaSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80488号記載のMgSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80489号に記載されているSrSO4:Axで表される蛍光体、特開昭51−29889号に記載されているNa2SO4、CaSO4及びBaSO4等にMn、Dy及びTbの中少なくとも1種を添加した蛍光体、特開昭52−30487号に記載されているBeO、LiF、MgSO4及びCaF2等の蛍光体、特開昭53−39277号に記載されているLi247:Cu,Ag等の蛍光体、特開昭54−47883号に記載されているLi2O・(Be22)x:Cu,Ag等の蛍光体、米国特許第3,859,527号に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La22S:Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mnxで表される蛍光体があげられる。又、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍光体、一般式がBaO・xAl23:Euであげられるアルミン酸バリウム蛍光体、及び、一般式がM(II)O・xSiO2:Aで表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体があげられる。
<Stimulable phosphor>
In the present invention, the stimulable phosphor forming the stimulable phosphor layer includes, for example, a divalent europium activated composite halide phosphor described in JP-A No. 61-236890. Rare earth element-activated rare earth oxyhalide-based phosphors containing, in particular, stimulable phosphors such as Eu-added BaFI compounds, but as stimulable phosphors preferably used in the radiation image conversion panel of the present invention For example, phosphors represented by BaSO 4 : Ax described in JP-A-48-80487, phosphors represented by MgSO 4 : Ax described in JP-A-48-80488, JP-A-48 Phosphors represented by SrSO 4 : Ax described in No. 80489, Na 2 SO 4 , CaSO 4 and BaSO 4 described in JP-A No. 51-29889, etc. Phosphors added with at least one of n, Dy and Tb, phosphors such as BeO, LiF, MgSO 4 and CaF 2 described in JP-A-52-30487, JP-A-53-39277 Phosphors such as Li 2 B 4 O 7 : Cu, Ag described, and phosphors such as Li 2 O. (Be 2 O 2 ) x: Cu, Ag described in JP-A No. 54-47883 SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, La 2 O 2 S: Eu, Sm and (Zn, Cd) S: Mnx described in US Pat. No. 3,859,527 The body is raised. Further, a ZnS: Cu, Pb phosphor described in JP-A-55-12142, a barium aluminate phosphor whose general formula is BaO.xAl 2 O 3 : Eu, and a general formula of M (II ) O.xSiO 2 : An alkaline earth metal silicate phosphor represented by A can be used.

又、特開昭55−12143号に記載されている一般式が(Ba1-x-yMgxCay)Fx:Eu2+で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55−12144号に記載されている一般式がLnOX:xAで表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている一般式が(Ba1-xM(II)x)Fx:yAで表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されている一般式がBaFX:xCe,yAで表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されている一般式がM(II)FX・xA:yLnで表される希土類元素賦活二価金属フルオロハライド蛍光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載されている下記いずれかの一般式
xM3(PO42・NX2:yA
xM3(PO42:yA
で表される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されている下記いずれかの一般式
nReX3・mAX′2:xEu
nReX3・mAX′2:xEu,ySm
で表される蛍光体等、又、特開昭61−228400号に記載されている一般式M(I)X:xBiで表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等が好ましいのものとしてあげられる。
Moreover, an alkaline earth fluorohalide phosphor represented by the general formula (Ba 1-xy Mg x Ca y ) F x : Eu 2+ described in Japanese Patent Laid-Open No. 55-12143, A phosphor in which the general formula described in Japanese Patent No. 55-12144 is represented by LnOX: xA, and a general formula described in Japanese Patent Laid-Open No. 55-12145 is (Ba 1-x M (II) x ) F x : A phosphor represented by yA, a phosphor represented by the general formula described in JP-A-55-84389, BaFX: xCe, yA, a formula represented by JP-A-55-160078 Is a rare earth element-activated divalent metal fluorohalide phosphor represented by M (II) FX · xA: yLn, fluorescence represented by the general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, X And any one of the following general formulas x described in JP-A-59-38278 M 3 (PO 4 ) 2 · NX 2 : yA
xM 3 (PO 4 ) 2 : yA
A phosphor represented by the general formula nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu described in JP-A-59-155487
nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu, ySm
Preferred examples include phosphors represented by general formula M (I) X: xBi described in JP-A No. 61-228400, and the like.

しかしながら、特開昭61−72087号、特開平2−58000号等に記載されたような、下記一般式(1)で表されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体が特に好ましい。   However, an alkali halide photostimulable phosphor represented by the following general formula (1) as described in JP-A Nos. 61-72087 and 2-58000 is particularly preferable.

一般式(1)
1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
式中、M1はLi,Na,K,Rb及びCsから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X,X′及びX″はF,Cl,Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、AはEu,Tb,In,Ga,Cs,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Yb,Er,Gd,Lu,Sm,Y,Tl,Na,Ag,Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、又、a,b及びeは、それぞれ0≦a<0.5,0≦b<0.5,0<e≦0.2の範囲の数値を表す。
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA
In the formula, M 1 is at least one alkali metal selected from Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is a group consisting of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. at least one divalent metal selected from, M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, At least one trivalent metal selected from the group consisting of Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; A is selected from the group consisting of Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. At least one metal, and a, b and e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.

これら一般式(1)において、M1はK、RbおよびCsからなる群から選ばれることが好ましく、XはBrおよびIからなる群から選ばれることが好ましい。 In these general formulas (1), M 1 is preferably selected from the group consisting of K, Rb and Cs, and X is preferably selected from the group consisting of Br and I.

また、M2はBe、Mg、Ca、SrおよびBaからなる群から選ばれることが好ましく、M3はY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、GaおよびInからなる群から選ばれることが好ましい。更に、bとしては0≦b≦0.01であることが好ましく、AはEu、Cs、Sm、TlおよびNaからなる群から選ばれることが好ましい。 M 2 is preferably selected from the group consisting of Be, Mg, Ca, Sr and Ba, and M 3 is selected from the group consisting of Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In. It is preferable to be selected. Further, b is preferably 0 ≦ b ≦ 0.01, and A is preferably selected from the group consisting of Eu, Cs, Sm, Tl and Na.

これらのアルカリハライド系輝尽性蛍光体は気相堆積法により基板上に成膜することで、基板の法線方向に対し一定の傾きをもった(勿論、傾きがなく、基板面に対して垂直でもよいが)細長い柱状結晶を形成する。この様な柱状結晶の形成により、輝尽励起光(又輝尽発光)の横方向への拡散を抑えることができるため、輝尽発光による画像の鮮鋭性がよいことがこれらの蛍光体を用いたときの特徴である。アルカリハライド系輝尽性蛍光体のなかでもRbBr及びCsBr系蛍光体が高輝度、高画質であり好ましい。   These alkali halide photostimulable phosphors are formed on a substrate by vapor deposition, so that they have a certain inclination with respect to the normal direction of the substrate (of course, there is no inclination and the substrate surface is not inclined). It forms an elongated columnar crystal (although it may be vertical). By forming such columnar crystals, it is possible to suppress the diffusion of stimulated excitation light (or stimulated emission) in the lateral direction. Therefore, it is necessary to use these phosphors that the sharpness of the image by stimulated emission is good. It is a feature when there was. Among the alkali halide photostimulable phosphors, RbBr and CsBr phosphors are preferable because of high brightness and high image quality.

本発明において、特に好ましいのはこれらの中でも下記一般式(2)で表される蛍光体である。   In the present invention, a phosphor represented by the following general formula (2) is particularly preferable among them.

一般式(2)
CsX:A
式中、XはBr又はIを表し、AはEu,In,Ga又はCeを表す。
General formula (2)
CsX: A
In the formula, X represents Br or I, and A represents Eu, In, Ga, or Ce.

中でもCsBr系蛍光体が特に輝度が高く高画質であり、また本発明の製造方法による基板或いは基板との付着性(接着性)の向上効果も高く好ましい。   Among them, a CsBr phosphor is particularly preferable because it has a particularly high luminance and high image quality, and also has a high effect of improving adhesion (adhesiveness) to the substrate or the substrate by the production method of the present invention.

本発明において好ましい、これらの輝尽性蛍光体を用いて得られる柱状結晶、即ち各々の結晶がある間隙をおいて柱状に成長している結晶は、前記、特開平2−58000号に記載された方法により得ることができる。   The columnar crystals obtained by using these photostimulable phosphors that are preferable in the present invention, that is, the crystals growing in columnar form with a certain gap are described in JP-A-2-58000. Can be obtained by different methods.

即ち、基板上に輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法によって独立した細長い柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を得ることができる。   That is, a photostimulable phosphor layer composed of independent elongated columnar crystals can be obtained by supplying vapor of the stimulable phosphor or the raw material onto a substrate and performing vapor phase growth (deposition) such as vapor deposition.

例えば、蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流を基板に垂直な方向に対し0〜5度の範囲で入射させることにより、基板面に対してほぼ垂直柱状の結晶を得ることが出来る。   For example, by making the vapor flow of the photostimulable phosphor at the time of vapor deposition enter in the range of 0 to 5 degrees with respect to the direction perpendicular to the substrate, it is possible to obtain crystals that are substantially perpendicular to the substrate surface.

これらの場合において、基板と坩堝との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて概ね10cm〜60cmに設置するのが適当である。   In these cases, it is appropriate that the distance between the shortest part of the substrate and the crucible is set to approximately 10 cm to 60 cm in accordance with the average range of the stimulable phosphor.

蒸発源となる輝尽性蛍光体は、均一に溶解させるか、プレス、ホットプレスによって成形して坩堝に仕込まれる。この際、脱ガス処理を行うことが好ましい。蒸発源から輝尽性蛍光体を蒸発させる方法は電子銃により発した電子ビームの走査により行われるが、これ以外の方法にて蒸発させることもできる。   The stimulable phosphor as an evaporation source is uniformly dissolved or formed by pressing or hot pressing and charged in a crucible. At this time, it is preferable to perform a degassing treatment. The method for evaporating the photostimulable phosphor from the evaporation source is performed by scanning the electron beam emitted from the electron gun, but it can also be evaporated by other methods.

また、蒸発源は必ずしも輝尽性蛍光体である必要はなく、輝尽性蛍光体原料を混和したものであってもよい。   The evaporation source is not necessarily a stimulable phosphor, and may be a mixture of a stimulable phosphor material.

また、賦活剤は母体(basic substance)に対して賦活剤(actibator)を混合したものを蒸着してもよいし、母体のみを蒸着した後、あとから賦活剤をドープしてもよい。例えば、母体をCsBrとした場合、CsBrのみを蒸着した後、例えば賦活剤であるInをドープしてもよい。即ち、結晶が独立しているため、膜が厚くとも充分にドープ可能であるし、結晶成長が起こりにくいので、MTFは低下しないからである。   Moreover, what activator mixed the activator with respect to a base substance (basic substance) may be vapor-deposited, and after depositing only a base material, you may dope an activator afterwards. For example, when the base is CsBr, after depositing only CsBr, for example, In that is an activator may be doped. That is, since the crystals are independent, even if the film is thick, it can be sufficiently doped, and crystal growth hardly occurs, so the MTF does not decrease.

ドーピングは形成された蛍光体の母体層中にドーピング剤(賦活剤)を熱拡散、イオン注入法によって行うことが出来る。   Doping can be performed by thermal diffusion and ion implantation of a doping agent (activator) in the base layer of the formed phosphor.

〈蛍光体層厚み、結晶の大きさ等〉
これらの方法により形成した柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層の層厚は目的とする放射線画像変換パネルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、50μm〜1000μmの範囲から選ばれるのが好ましく、50μm〜800μmから選ばれるのがより好ましい。
<Phosphor layer thickness, crystal size, etc.>
The layer thickness of the stimulable phosphor layer made of columnar crystals formed by these methods varies depending on the sensitivity of the intended radiation image conversion panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but from the range of 50 μm to 1000 μm. It is preferably selected, and more preferably selected from 50 μm to 800 μm.

これらの柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層において変調伝達関数(MTF)をよくするためには、柱状結晶の大きさ(柱状結晶を基板と平行な面から観察したときの各柱状結晶の断面積の円換算した直径の平均値であり、少なくとも100個以上の柱状結晶を視野中に含む顕微鏡写真から計算する)は0.5〜50μm程度がよく、更に好ましくは、0.5〜20μmである。即ち、柱状結晶が0.5μmより細い場合は、柱状結晶により輝尽励起光が散乱される為にMTFが低下するし、柱状結晶が50μm以上の場合も輝尽励起光の指向性が低下し、MTFは低下する。   In order to improve the modulation transfer function (MTF) in the photostimulable phosphor layer composed of these columnar crystals, the size of the columnar crystals (breakdown of each columnar crystal when the columnar crystal is observed from a plane parallel to the substrate). The average value of the diameter of the area in terms of a circle, calculated from a microphotograph including at least 100 columnar crystals in the visual field) is preferably about 0.5 to 50 μm, more preferably 0.5 to 20 μm. is there. That is, when the columnar crystal is thinner than 0.5 μm, the excitation excitation light is scattered by the columnar crystal, so that the MTF is lowered. When the columnar crystal is 50 μm or more, the directivity of the excitation excitation light is also reduced. , MTF decreases.

該輝尽性蛍光体を気相成長(堆積)させる方法としては蒸着法、スパッタ法及びCVD法がある。   As a method for vapor phase growth (deposition) of the photostimulable phosphor, there are an evaporation method, a sputtering method, and a CVD method.

蒸着法は基板(支持体)を蒸着装置内に設置したのち、装置内を排気すると同時に窒素等の不活性なガスを導入口から導入して1.333Pa〜1.33×10-3Pa程度の真空とし、次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも1つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法などの方法で加熱蒸発させて支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚みに堆積させる。この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて蒸着を行うことも可能である。また蒸着法においては、輝尽性蛍光体原料を複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。更に蒸着法においては、蒸着時に必要に応じて基板(支持体)を冷却或いは加熱してもよい。また、蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。 In the vapor deposition method, after the substrate (support) is installed in the vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated, and at the same time, an inert gas such as nitrogen is introduced from the introduction port to be about 1.333 Pa to 1.33 × 10 −3 Pa. Then, at least one of the photostimulable phosphor is heated and evaporated by a method such as resistance heating or electron beam to deposit the photostimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness. As a result, a photostimulable phosphor layer containing no binder is formed, but it is also possible to form the photostimulable phosphor layer in a plurality of times in the vapor deposition step. In the vapor deposition step, vapor deposition can be performed using a plurality of resistance heaters or electron beams. In the vapor deposition method, the stimulable phosphor material is deposited using a plurality of resistance heaters or electron beams, and the desired stimulable phosphor layer is synthesized on the support at the same time. It is also possible to form. Further, in the vapor deposition method, the substrate (support) may be cooled or heated as necessary during vapor deposition. Moreover, you may heat-process a photostimulable phosphor layer after completion | finish of vapor deposition.

スパッタ法は前記蒸着法と同様に基板をスパッタ装置内に設置した後、装置内を一旦排気して真空とし、次いでスパッタ用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスを装置内に導入して1.33Pa〜1.33×10-3Pa程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより基板表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。このスパッタ工程では蒸着法と同様に複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、それぞれを用いて同時或いは順次、前記ターゲットをスパッタリングして輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法では、複数の輝尽性蛍光体原料をターゲットとして用い、これを同時或いは順次スパッタリングして、基板上で目的とする輝尽性蛍光体層を形成する事も可能であるし、必要に応じてO2、H2等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。更に、スパッタ法においては、スパッタ時必要に応じて基板を冷却或いは加熱してもよい。また、スパッタ終了後に輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。 In the sputtering method, after the substrate is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to a vacuum, and then an inert gas such as Ar or Ne is introduced into the apparatus as a sputtering gas. The gas pressure is set to about 1.33 Pa to 1.33 × 10 −3 Pa. Next, the stimulable phosphor is deposited to a desired thickness on the substrate surface by sputtering using the stimulable phosphor as a target. In this sputtering process, it is possible to form the stimulable phosphor layer by dividing into multiple times as in the vapor deposition method. It is also possible to form In addition, in the sputtering method, it is possible to form a desired stimulable phosphor layer on a substrate by using a plurality of photostimulable phosphor materials as a target and sputtering them simultaneously or sequentially. If necessary, reactive sputtering may be performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 . Furthermore, in the sputtering method, the substrate may be cooled or heated as necessary during sputtering. Alternatively, the photostimulable phosphor layer may be heat-treated after the end of sputtering.

CVD法は目的とする輝尽性蛍光体或いは輝尽性蛍光体原料を含有する有機金属化合物を熱、高周波電力等のエネルギーで分解することにより、基板上に結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層を得るものであり、いずれも輝尽性蛍光体層を基板の法線方向に対して特定の傾きをもって独立した細長い柱状結晶に気相成長させることが可能である。   The CVD method does not contain a binder on the substrate by decomposing the target stimulable phosphor or organometallic compound containing the stimulable phosphor raw material with heat, high-frequency power, or other energy. In any case, the phosphor layer can be vapor-phase grown into independent elongated columnar crystals with a specific inclination with respect to the normal direction of the substrate.

これらの柱状結晶は前記の通り特開平2−58000号に記載された方法、即ち、基板上に輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法で得ることができる。   These columnar crystals are obtained by the method described in JP-A-2-58000 as described above, that is, a method in which vapor of stimulable phosphor or the raw material is supplied onto a substrate and vapor phase growth (deposition) such as vapor deposition is performed. Can be obtained at

図5は支持体12上に輝尽性蛍光体層が蒸着により形成される様子を示す模式図である。11は形成される輝尽性蛍光体柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を模式的に表している。輝尽性蛍光体の蒸気流Vの基板面の法線方向(P)に対する入射角度をθ2とすると、形成される柱状結晶の基板面の法線方向(P)に対する角度はθ1で表される。入射角度θ2に依存して一定の角度θ1で柱状結晶が形成される。形成された柱状結晶の角度は、輝尽性蛍光体材料によってそれぞれ異なり、例えば、アルカリハライド系蛍光体のうち、本発明において特に好ましいCsBr系蛍光体の場合には、例えば、蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流を基板に垂直な方向に対し0〜5度の範囲で入射させる(即ちθ2が0〜5度)ことにより、基板面に対してほぼ垂直柱状(θ1がほぼ0度)の結晶を得ることが出来る。   FIG. 5 is a schematic view showing a state in which a photostimulable phosphor layer is formed on the support 12 by vapor deposition. Reference numeral 11 schematically represents a stimulable phosphor layer formed of the stimulable phosphor columnar crystals to be formed. Assuming that the incident angle of the vapor flow V of the stimulable phosphor with respect to the normal direction (P) of the substrate surface is θ2, the angle of the formed columnar crystal with respect to the normal direction (P) of the substrate surface is represented by θ1. . A columnar crystal is formed at a constant angle θ1 depending on the incident angle θ2. The angle of the formed columnar crystals varies depending on the stimulable phosphor material. For example, among the alkali halide phosphors, in the case of the CsBr phosphor particularly preferable in the present invention, for example, the stimuli during vapor deposition are used. By making the vapor flow of the fluorescent phosphor incident in the range of 0 to 5 degrees with respect to the direction perpendicular to the substrate (that is, θ2 is 0 to 5 degrees), it is substantially perpendicular to the substrate surface (θ1 is approximately 0 degrees). Can be obtained.

この様にして基板上に形成した輝尽性蛍光体層11は、結着剤を含有していないので、指向性に優れており、輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が高く、輝尽性蛍光体を結着剤中に分散した分散型の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルより層厚を厚くすることができる。更に輝尽励起光の輝尽性蛍光体層中での散乱が減少することで像の鮮鋭性が向上する。   Since the photostimulable phosphor layer 11 formed on the substrate in this way does not contain a binder, it has excellent directivity, high directivity of stimulated excitation light and stimulated emission, and high brightness. The layer thickness can be made thicker than that of a radiation image conversion panel having a dispersive stimulable phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder. Furthermore, the sharpness of the image is improved by reducing the scattering of the stimulating light in the stimulable phosphor layer.

又、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となる。又高光吸収率の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい。これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散をほぼ完全に防止できる。   In addition, the gap between the columnar crystals may be filled with a filler or the like, which reinforces the photostimulable phosphor layer. Further, a substance having a high light absorption rate, a substance having a high light reflectance, or the like may be filled. As a result, the above-mentioned reinforcing effect can be provided, and the light diffusion in the lateral direction of the stimulated excitation light incident on the stimulable phosphor layer can be almost completely prevented.

高光反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高いものをいい、例えばアルミニウム、マグネシウム、銀、インジウムその他の金属など、白色顔料及び緑色から赤色領域の色材を用いることができる。   The substance having high light reflectance means a material having high reflectance with respect to stimulating excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm), such as white pigment and green to red, such as aluminum, magnesium, silver, indium and other metals. Area colorants can be used.

白色顔料は輝尽発光も反射することができる。白色顔料として、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al23、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの中の少なくとも一種であり、XはCl、及びBrのうちの少なくとも一種である。)、CaCO3、ZnO、Sb23、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸鉛、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウムなどがあげられる。これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線画像変換パネルの感度を顕著に向上させうる。 White pigments can also reflect stimulated emission. As white pigments, TiO 2 (anatase type, rutile type), MgO, PbCO 3 .Pb (OH) 2 , BaSO 4 , Al 2 O 3 , M (II) FX (where M (II) is Ba, Sr and At least one of Ca, and X is at least one of Cl and Br.), CaCO 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , lithopone (BaSO 4 .ZnS), silicic acid Examples include magnesium, basic lead silicate, basic lead phosphate, and aluminum silicate. Since these white pigments have a strong hiding power and a high refractive index, they can easily scatter scattered light by reflecting or refracting light, and can significantly improve the sensitivity of the resulting radiation image conversion panel.

また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボン、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄など及び青の色材が用いられる。このうちカーボンは輝尽発光も吸収する。   Moreover, as a substance having a high light absorption rate, for example, carbon, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide and the like and a blue color material are used. Of these, carbon also absorbs stimulated luminescence.

また、色材は、有機若しくは無機系色材のいずれでもよい。有機系色材としては、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。またカラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩色材もあげられる。無機系色材としては群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系顔料があげられる。 The color material may be either an organic or inorganic color material. Examples of organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used. The color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. There are also materials. Examples of inorganic color materials include ultramarine, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO pigments.

〈支持体〉
本発明の放射線画像変換パネルに用いられる支持体(基板)としては水分の透過性の低いものが好ましく、各種のガラス、高分子材料、金属等が用いられるが、例えば石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス、又、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シート或いは該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。
<Support>
As the support (substrate) used in the radiation image conversion panel of the present invention, those having low moisture permeability are preferable, and various types of glass, polymer materials, metals and the like are used. For example, quartz, borosilicate glass, chemical Plate glass such as mechanically tempered glass, plastic film such as cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, polycarbonate film, metal sheet such as aluminum sheet, iron sheet, copper sheet or the like A metal sheet having a metal oxide coating layer is preferred. The surface of these supports may be a smooth surface, or may be a matte surface for the purpose of improving the adhesion to the stimulable phosphor.

また、本発明においては、基板と輝尽性蛍光体の接着性を向上させるために、必要に応じて基板の表面に予め接着層を設けてもよい。   In the present invention, in order to improve the adhesion between the substrate and the stimulable phosphor, an adhesive layer may be provided in advance on the surface of the substrate as necessary.

これら基板の厚みは用いる基板の材質等によって異なるが、一般的には80μm〜2000μmであり、取り扱い上の観点から、更に好ましいのは80μm〜1000μmである。   Although the thickness of these substrates varies depending on the material of the substrate used, it is generally 80 μm to 2000 μm, and more preferably 80 μm to 1000 μm from the viewpoint of handling.

また、アルカリハライド系輝尽性蛍光体のなかでもRbBr及びCsBr系蛍光体が高輝度、高画質であり好ましい。   Among the alkali halide photostimulable phosphors, RbBr and CsBr phosphors are preferable because of high brightness and high image quality.

これらの気相堆積法によって形成した蛍光体柱状結晶は水分に弱いため、前記の様に、金属酸化物蒸着層を有するフィルムを含む防水性保護フィルムを用い封止する。   Since phosphor columnar crystals formed by these vapor deposition methods are vulnerable to moisture, sealing is performed using a waterproof protective film including a film having a metal oxide deposition layer as described above.

〈実施の形態〉
以下に、本発明により、放射線画像変換パネルの具体的構成例および製造について述べる。
<Embodiment>
Below, the specific structural example and manufacture of a radiographic image conversion panel are described by this invention.

前記図4において示された、2枚の防湿性保護フィルムにより、蛍光体プレートの表面および裏面を覆って、それぞれ輝尽性蛍光体層が形成された表面の輝尽性蛍光体層が形成されていない周辺部において、蛍光体側(表面)から裏面側に折り返すように貼られた熱融着性の樹脂からなる粘着テープを用いて、それぞれの防湿性保護フィルムと熱融着して、放射線画像変換パネルを製造する方法について、以下その具体的な実施の形態について述べる。   The two photos of the moisture-proof protective film shown in FIG. 4 cover the front and back surfaces of the phosphor plate, and the photostimulable phosphor layer on the surface on which the photostimulable phosphor layer is formed is formed. Radiation image by heat-sealing with each moisture-proof protective film using adhesive tape made of heat-fusible resin that is pasted back from the phosphor side (front surface) to the back surface side About the method of manufacturing a conversion panel, the specific embodiment is described below.

図6に蛍光体プレートの蛍光体が支持体上に形成されていない周囲の部分(その一部を示した)に、熱溶融性樹脂テープを基体とする粘着テープ5(日東電工製PPS粘着テープNo.3703Fを用いた)を、蛍光体の形成されていない周囲の部分の表面側および裏面側とその端面を覆うように貼り付けた様子を示す。このようにして蛍光体プレート周囲の全てに4隅を含め粘着テープを貼りつける。   FIG. 6 shows an adhesive tape 5 (a PPS adhesive tape manufactured by Nitto Denko Corp.) having a base of a heat-meltable resin tape on a peripheral portion (a part of which is shown) where the phosphor of the phosphor plate is not formed on the support. No. 3703F was used so as to cover the front side and back side of the peripheral part where the phosphor is not formed and the end face thereof. In this manner, the adhesive tape including the four corners is attached to the entire periphery of the phosphor plate.

次いで、支持体の上下に防湿性保護フィルム、具体的には12μmのVMPET;アルミナ蒸着ポリエチレンテレフタレート(東洋メタライジング社製)を、30μmのキャステングポリプロピレン(CPP)とドライラミネーションにより積層した防湿性保護フィルムを、そのキャスティングポリプロピレンフィルムが、蛍光体プレートの蛍光体面、そして、支持体面にそれぞれ対向するように配置し(図7)、周囲部分から或いはその一部でもよいが、真空引き(減圧)により空気を抜くことで、表面裏面の防湿性保護フィルムが蛍光体層およびその周囲の粘着テープを貼り付けた面、また支持体の裏面と図8に示すように密着させる。   Next, a moisture-proof protective film obtained by laminating a moisture-proof protective film, specifically 12 μm VMPET; alumina-deposited polyethylene terephthalate (manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) with 30 μm cast polypropylene (CPP) and dry lamination on the top and bottom of the support. The casting polypropylene film is disposed so as to face the phosphor surface of the phosphor plate and the support surface (FIG. 7), and may be from the surrounding portion or a part thereof. As shown in FIG. 8, the moisture-proof protective film on the front and back surfaces is brought into close contact with the surface on which the phosphor layer and the surrounding adhesive tape are attached, and the back surface of the support.

このようにして防湿性フィルム同士が密着させた後、その状態を保ちながら、表面および裏面の粘着テープが貼着した周縁部(矢印)を防湿性フィルム側から、例えばポリプロピレンであれば200℃の温度で加熱し融着する。例えば、周縁部をインパルスシーラーで加熱融着したり、2本の加熱したローラー間で加圧加熱するラミネート方式等でもよい。これにより、粘着テープと防湿性保護フィルム間が、互いにその熱溶融性樹脂フィルム同士で熱融着することで接着し蛍光体プレートを封止することができる(図8)。   After the moisture-proof films are brought into close contact with each other in this way, while maintaining the state, the peripheral edge (arrow) to which the front and back adhesive tapes are attached is from the moisture-proof film side, for example, 200 ° C. for polypropylene. Heat and fuse at temperature. For example, a laminating system in which the peripheral edge is heated and fused with an impulse sealer, or heated under pressure between two heated rollers may be used. Accordingly, the adhesive tape and the moisture-proof protective film can be bonded to each other by thermally fusing the heat-meltable resin films with each other to seal the phosphor plate (FIG. 8).

熱融着部分の周囲の防湿性保護フィルムの、余った部分については、図9のように熱融着後(破線ように)断裁して、最終的に放射線画像変換パネルを得ることが出来る。   The remaining portion of the moisture-proof protective film around the heat-sealed portion can be cut after heat-sealing (as shown by a broken line) as shown in FIG. 9 to finally obtain a radiation image conversion panel.

上記の加熱融着方法については、特に限定はされず、また、封止も大気圧環境下でよいが、上記インパルスシーラーで加熱融着する方法においては、上記のように減圧環境下で加熱融着することが、蛍光体シートの防湿性保護フィルム内での位置ずれ防止や大気中の湿気を排除する意味でより好ましい。   The heat fusion method is not particularly limited, and sealing may be performed in an atmospheric pressure environment. However, in the method of heat fusion using the impulse sealer, the heat fusion is performed in a reduced pressure environment as described above. It is more preferable to wear the phosphor sheet in terms of preventing displacement of the phosphor sheet in the moisture-proof protective film and eliminating moisture in the atmosphere.

本発明の金属酸化物層が蒸着形成された防湿性保護フィルムにより蛍光体シートを封止するにあたっては、防湿性保護フィルムの蛍光体シートに接する側の最外層の樹脂層を熱融着性を有する樹脂フィルムとすることで防湿性保護フィルムが融着可能となり蛍光体シートの封止作業が効率化される。   In sealing the phosphor sheet with the moisture-proof protective film on which the metal oxide layer according to the present invention is formed, the outermost resin layer on the side in contact with the phosphor sheet of the moisture-proof protective film is heat-bonded. By using the resin film, the moisture-proof protective film can be fused, and the phosphor sheet sealing work is made efficient.

また、熱融着性を有する樹脂フィルム中には、シリカ、チタン、ゼオライト等の無機微粒子を0.01質量%〜1.0質量%含有させてもよく、これにより、熱融着による蛍光体シートの封止作業によって生じる、大きな周期の画像ムラを防止でき好ましい。0.01質量%以下では効果は少なく、1.0質量%以上では積層保護フィルムの透明性やヘイズ値の劣化を伴う。   In addition, the resin film having heat-fusibility may contain 0.01% by mass to 1.0% by mass of inorganic fine particles such as silica, titanium, zeolite, etc. It is preferable because image irregularities with a large period caused by the sheet sealing operation can be prevented. When the amount is 0.01% by mass or less, the effect is small, and when the amount is 1.0% by mass or more, the transparency and haze value of the laminated protective film deteriorate.

防湿性保護フィルムと前記輝尽性蛍光体との密着部分の接着性を向上させる目的で、蛍光体面には、防湿性保護フィルムとの接着面にさらに下引き層を設けたり、粗面化処理を施すこともできる。   For the purpose of improving the adhesiveness of the adhesion portion between the moisture-proof protective film and the stimulable phosphor, the phosphor surface is further provided with an undercoat layer on the adhesive surface with the moisture-proof protective film, or roughened. Can also be applied.

本発明の放射線画像変換パネルにおいて、蛍光体プレートの支持体側の防湿保護フィルムは光学的には不透明であってもかまわないため、防湿性の向上のために、支持体側の防湿保護フィルムについてはアルミラミネートフィルムとすることが好ましい。   In the radiation image conversion panel of the present invention, the moisture-proof protective film on the support side of the phosphor plate may be optically opaque. Therefore, in order to improve moisture resistance, the moisture-proof protective film on the support side is made of aluminum. A laminate film is preferred.

ラミネートに使用するアルミ箔フィルムとしてはピンホール等による防湿性劣化の点から9μm以上あることが望ましい。また支持体側の防湿保護フィルムも蛍光体面側の防湿保護フィルムと同様に、膜厚200μm以下、であることが望ましい。即ち、図4において、支持体面側の防湿性保護フィルム3について1層以上のアルミニウムフィルムをラミネートしてなる積層防湿フィルムとすることが好ましい。これにより確実に水分の侵入を低減できる。   The aluminum foil film used for laminating is desirably 9 μm or more from the viewpoint of deterioration of moisture resistance due to pinholes or the like. Further, it is desirable that the moisture-proof protective film on the support side has a film thickness of 200 μm or less, similarly to the moisture-proof protective film on the phosphor surface side. That is, in FIG. 4, it is preferable to make a laminated moisture-proof film obtained by laminating one or more aluminum films on the moisture-proof protective film 3 on the support surface side. Thereby, the penetration | invasion of a water | moisture content can be reduced reliably.

本発明の放射線画像変換パネルの防湿性保護フィルムの蛍光体面に接する側の最外層の熱融着性を有する樹脂層と蛍光体面は接着しても実質的に接着していなくてもかまわないが、前記有機層の形成により密着性は向上する。   The outermost heat-sealable resin layer and the phosphor surface of the moisture-proof protective film of the radiation image conversion panel of the present invention may be bonded or substantially not bonded. The adhesion is improved by forming the organic layer.

本発明の放射線画像変換パネルにおいて防湿性保護フィルムの膜厚が200μmを超えると封止作業時のフィルムの取り扱い性が悪化するのと後述のインパルスシーラー等による熱融着が困難となるため膜厚としては200μm以下が望ましい。   In the radiation image conversion panel of the present invention, if the film thickness of the moisture-proof protective film exceeds 200 μm, the film handleability at the time of sealing work deteriorates and it becomes difficult to perform heat fusion with an impulse sealer or the like described later. Is preferably 200 μm or less.

〈低屈折率層〉
又、本発明においては、上記構成中において低屈折率層を設けてもよい。低屈折率層は防湿性保護フィルムを構成する樹脂材料よりも屈折率の低い素材からなり、この層が存在することにより、保護層や防湿性保護フィルムを厚くしても鮮鋭性の低下を小さくすることができる。例えば以下に示す物質を用いる事ができ、蒸着等気相成長法で形成された薄膜の状態で用いるのが好ましい。
<Low refractive index layer>
In the present invention, a low refractive index layer may be provided in the above configuration. The low refractive index layer is made of a material having a refractive index lower than that of the resin material constituting the moisture-proof protective film, and the presence of this layer reduces the reduction in sharpness even when the protective layer and the moisture-proof protective film are thickened. can do. For example, the following materials can be used and are preferably used in the state of a thin film formed by vapor deposition such as vapor deposition.

物質 屈折率
CaF 1.23〜1.26
Na2AlF6 1.35
MgF2 1.38
SiO2 1.46
或いは、以下の様な液体層を用いることもできる。
Material Refractive index CaF 1.23-1.26
Na 2 AlF 6 1.35
MgF 2 1.38
SiO 2 1.46
Alternatively, the following liquid layer can be used.

物質 屈折率
エチルアルコール 1.36
メチルアルコール 1.33
ジエチルアルコール 1.35
又、本発明の低屈折率層として、空気、窒素、アルゴンなどの気体層や真空層など屈折率が実質的に1である層を用いると、鮮鋭性の低下を防止する効果が高く特に好ましい。
Substance Refractive Index Ethyl Alcohol 1.36
Methyl alcohol 1.33
Diethyl alcohol 1.35
In addition, when a layer having a refractive index of substantially 1 such as a gas layer such as air, nitrogen or argon or a vacuum layer is used as the low refractive index layer of the present invention, the effect of preventing sharpness deterioration is particularly high. .

本発明の低屈折率層の厚さは0.05μmから3mmまでが実用的である。   The thickness of the low refractive index layer of the present invention is practically from 0.05 μm to 3 mm.

本発明の低屈折率層は、輝尽性蛍光体層と密着状態にあってもよいし、離れていてもよい。   The low refractive index layer of the present invention may be in close contact with the photostimulable phosphor layer or may be separated.

〈撮影方法〉
図10に、本発明の放射線画像変換パネルを用いた放射線像変換方法を概略的に示す。
<Shooting method>
FIG. 10 schematically shows a radiation image conversion method using the radiation image conversion panel of the present invention.

即ち、図10において、21は放射線発生装置、22は被写体、23は本発明に係わる放射線画像変換パネル、24は(レーザ等の)輝尽励起光源、25は該変換パネルにより放射された輝尽蛍光を検出する光電変換装置、26は25で検出された信号を画像として再生する装置、27は再生された画像を表示する装置、28は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し、輝尽蛍光のみを透過させるフィルタである。尚、25以降は23からの光情報を何らかの形で画像として再生できるものであればよく、上記に限定されるものではない。   That is, in FIG. 10, 21 is a radiation generator, 22 is a subject, 23 is a radiation image conversion panel according to the present invention, 24 is a stimulating excitation light source (such as a laser), and 25 is a stimulant emitted by the conversion panel. A photoelectric conversion device that detects fluorescence, 26 is a device that reproduces the signal detected in 25 as an image, 27 is a device that displays the reproduced image, and 28 is a device that separates the stimulated excitation light and the stimulated fluorescence. This is a filter that transmits only exhaust fluorescent light. It should be noted that anything after 25 can be used as long as the optical information from 23 can be reproduced as an image in some form, and is not limited to the above.

図11に示されるように、放射線発生装置21からの放射線(R)は被写体22を通して放射線画像変換パネル23に入射する(RI)。この入射した放射線はパネル23の輝尽層に吸収され、そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成される。   As shown in FIG. 11, the radiation (R) from the radiation generator 21 enters the radiation image conversion panel 23 through the subject 22 (RI). The incident radiation is absorbed by the stimulating layer of the panel 23, the energy is accumulated, and an accumulated image of a radiation transmission image is formed.

次にこの蓄積像を輝尽励起光源24からの輝尽励起光で励起して輝尽発光として放出せしめる。   Next, this accumulated image is excited by stimulated excitation light from the stimulated excitation light source 24 and emitted as stimulated emission.

放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー量に比例するので、この光信号を例えば光電子倍増管等の光電変換装置25で光電変換し、画像再成装置26によって画像として再生し画像表示装置27によって表示することにより、被写体の放射線透過像を観察することができる。   Since the intensity of the photostimulated luminescence emitted is proportional to the amount of accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by a photoelectric conversion device 25 such as a photomultiplier tube and reproduced as an image by an image reconstruction device 26. By displaying on the display device 27, a radiation transmission image of the subject can be observed.

従って本発明のこのような構成により、防湿性能がたかく、耐用年数の長い放射線画像変換パネルを得ることが出来た。   Therefore, with such a configuration of the present invention, a radiation image conversion panel having a high moisture-proof performance and a long service life can be obtained.

本発明の図3あるいは4の構成により、支持体と防湿性保護フィルム間に蛍光体層を封止するため、封止される部分の厚みが少ないため特に封着された蛍光体プレートの4隅部分においてシワの大きな発生がなく、封止も均一であり封止効果が高い。   3 or 4 of the present invention, the phosphor layer is sealed between the support and the moisture-proof protective film, and therefore the four corners of the sealed phosphor plate are particularly thin because the thickness of the sealed portion is small. There is no large generation of wrinkles in the portion, the sealing is uniform, and the sealing effect is high.

図4の構成によれば、透湿性の低い例えばポリプロピレン等の熱融着性樹脂により蛍光体が完全に封止されるので、シワ等の発生がなく、また透湿性が低く、より耐久性の高い放射線画像変換パネルが得られる。   According to the configuration of FIG. 4, since the phosphor is completely sealed by a heat-fusible resin such as polypropylene having a low moisture permeability, there is no generation of wrinkles, and the moisture permeability is low and more durable. A high radiation image conversion panel can be obtained.

輝尽性蛍光体層を形成した蛍光体プレートの断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of the fluorescent substance plate in which the photostimulable fluorescent substance layer was formed. 蛍光体プレートの蛍光体面及び裏面を防湿性フィルムで封止したところを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the place which sealed the fluorescent substance surface and the back surface of the fluorescent substance plate with the moisture proof film. 本発明の封放射線画像変換パネルの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the sealed radiation image conversion panel of this invention. 本発明の封放射線画像変換パネルの別の1例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the sealed radiation image conversion panel of this invention. 支持体上に輝尽性蛍光体層が蒸着により形成される様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that a stimulable fluorescent substance layer is formed by vapor deposition on a support body. 蛍光体プレートの周囲の部分の表面側および裏面側およびその端面を覆うように粘着テープを貼り付けた様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the adhesive tape was affixed so that the surface side and back surface side of the surrounding part of a fluorescent substance plate, and its end surface might be covered. 防湿性保護フィルムを蛍光体プレートの蛍光体面、そして、支持体面にそれぞれ対向するように配置したところを示す図である。It is a figure which shows the place which has arrange | positioned a moisture-proof protective film so that it may each oppose to the fluorescent substance surface of a fluorescent substance plate, and a support body surface. 防湿性保護フィルム間に蛍光体プレートを封止したところを示す図である。It is a figure which shows the place which sealed the fluorescent substance plate between moisture proof protective films. 得られた放射線画像変換パネルの断面図である。It is sectional drawing of the obtained radiographic image conversion panel. 本発明の放射線画像変換パネルを用いた放射線像変換方法を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly the radiographic image conversion method using the radiographic image conversion panel of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 支持体
2 輝尽性蛍光体層
3 防湿性保護フィルム
4 接着剤
21 放射線発生装置
22 被写体
23 放射線画像変換パネル
24 輝尽励起光源
25 光電変換装置
26 画像再生装置
27 画像表示装置
28 フィルタ
V 蒸気流
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support body 2 Stimulable phosphor layer 3 Moisture-proof protective film 4 Adhesive 21 Radiation generation device 22 Subject 23 Radiation image conversion panel 24 Stimulation excitation light source 25 Photoelectric conversion device 26 Image reproduction device 27 Image display device 28 Filter V Vapor Flow

Claims (5)

基板上に、気相堆積法により形成された、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する輝尽性蛍光体プレートと、該輝尽性蛍光体プレートの蛍光体面側に配置された保護フィルムからなる放射線画像変換パネルにおいて、該保護フィルムは、該輝尽性蛍光体プレートの周辺部の輝尽性蛍光体層を有しない基板部分に貼られた熱融着性の樹脂からなる粘着テープと熱融着していることを特徴とする放射線画像変換パネル。 A photostimulable phosphor plate having at least one photostimulable phosphor layer formed on a substrate by a vapor deposition method, and a protective film disposed on the phosphor surface side of the photostimulable phosphor plate In the radiation image conversion panel, the protective film includes an adhesive tape made of a heat-fusible resin attached to a substrate portion that does not have a stimulable phosphor layer at the periphery of the stimulable phosphor plate; A radiation image conversion panel which is heat-sealed. 基板上に、気相堆積法により形成された、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する輝尽性蛍光体プレートと、該輝尽性蛍光体プレートの蛍光体面側および裏面側に配置された保護フィルムからなる放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体プレートの蛍光体面側および裏面側に配置された保護フィルムは、該輝尽性蛍光体プレートの周辺部の輝尽性蛍光体層を有しない基板部分において、蛍光体側から裏面側に折り返すように貼られた熱融着性の樹脂からなる粘着テープにより、蛍光体面側および裏面側においてそれぞれ熱融着されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。 A photostimulable phosphor plate having at least one photostimulable phosphor layer formed by vapor deposition on a substrate, and disposed on the phosphor surface side and the back surface side of the photostimulable phosphor plate. In the radiation image conversion panel comprising the protective film, the protective films disposed on the phosphor surface side and the back surface side of the photostimulable phosphor plate are the photostimulable phosphor layer at the periphery of the photostimulable phosphor plate. In the substrate portion that does not have an adhesive, it is heat-sealed on the phosphor surface side and the back surface side by an adhesive tape made of a heat-fusible resin pasted from the phosphor side to the back surface side. Radiation image conversion panel. 前記保護フィルムの前記輝尽性蛍光体プレートに接する側の最外層の樹脂層が熱融着性を有する樹脂層で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線画像変換パネル。 The radiation image conversion according to claim 1 or 2, wherein the outermost resin layer on the side of the protective film in contact with the photostimulable phosphor plate is composed of a resin layer having heat-fusibility. panel. 前記保護フィルムが、少なくとも1層以上の金属酸化物を蒸着した樹脂フィルムを含む複数の樹脂フィルムが層状に接着されてなる積層フィルムであることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線画像変換パネル。 The radiographic image according to claim 1, wherein the protective film is a laminated film formed by laminating a plurality of resin films including a resin film on which at least one layer of metal oxide is deposited. Conversion panel. 基板上に、気相堆積法により形成された、前記少なくとも1層の輝尽性蛍光体層が、下記一般式(1)で表されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネル。
一般式(1)
1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
式中、M1はLi,Na,K,Rb及びCsから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X,X′及びX″はF,Cl,Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、AはEu,Tb,In,Ga,Cs,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Yb,Er,Gd,Lu,Sm,Y,Tl,Na,Ag,Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、又、a,b及びeは、それぞれ0≦a<0.5,0≦b<0.5,0<e≦0.2の範囲の数値を表す。
The at least one photostimulable phosphor layer formed on a substrate by a vapor deposition method is made of an alkali halide photostimulable phosphor represented by the following general formula (1). The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 4.
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA
In the formula, M 1 is at least one alkali metal selected from Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is a group consisting of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. at least one divalent metal selected from, M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, At least one trivalent metal selected from the group consisting of Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; A is selected from the group consisting of Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. At least one metal, and a, b and e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.
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