JP2005350356A - Di(meth)acrylate compound and its curable composition - Google Patents

Di(meth)acrylate compound and its curable composition Download PDF

Info

Publication number
JP2005350356A
JP2005350356A JP2004169738A JP2004169738A JP2005350356A JP 2005350356 A JP2005350356 A JP 2005350356A JP 2004169738 A JP2004169738 A JP 2004169738A JP 2004169738 A JP2004169738 A JP 2004169738A JP 2005350356 A JP2005350356 A JP 2005350356A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
compound
acrylate compound
reaction
curable composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004169738A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4646051B2 (en
Inventor
Shigeto Takada
茂人 高田
Shinobu Kanefuji
忍 金藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yasuhara Chemical Co Ltd
Original Assignee
Yasuhara Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yasuhara Chemical Co Ltd filed Critical Yasuhara Chemical Co Ltd
Priority to JP2004169738A priority Critical patent/JP4646051B2/en
Publication of JP2005350356A publication Critical patent/JP2005350356A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4646051B2 publication Critical patent/JP4646051B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a di(meth)acrylate compound improving performance such as curing shrinkage, heat resistance, moisture absorption, etc., as a photosensitive material for a resist, etc., a coating material such as an ink, coating, etc., and a raw material of an adhesive, a construction material, etc., and a curable composition by using the same. <P>SOLUTION: This di(meth)acrylate compound is obtained by performing the reaction of dimethylol compound having a terpene skeleton with a (meth)acrylic acid compound, and the curable composition is provided by blending the compound with a radical polymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、新規なジ(メタ)アクリレート化合物およびこの化合物を含む硬化性組成物に関するものである。ここで、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物とは、ジアクリレート化合物およびジメタクリレート化合物を意味する。本発明のジ(メタ)アクリレート化合物およびこの化合物を含む硬化性組成物は、レジストなどの感光性材料、インキ、塗料などのコーテイング材料、粘接着剤原料、建築材料、ポリマー原料、顕色剤、界面活性剤、可塑剤、殺虫剤、殺菌剤、医薬品、ゴム用薬品などの原料など、様々な技術分野で使用可能である   The present invention relates to a novel di (meth) acrylate compound and a curable composition containing the compound. Here, the di (meth) acrylate compound of the present invention means a diacrylate compound and a dimethacrylate compound. The di (meth) acrylate compound of the present invention and the curable composition containing this compound are used for photosensitive materials such as resists, coating materials such as inks and paints, adhesive materials, building materials, polymer materials, and developers. , Surfactants, plasticizers, insecticides, fungicides, pharmaceuticals, raw materials for rubber chemicals, etc.

従来、アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート、メタクリルアミド、グリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジグリシジルメタクリレートなどを原料とした放射線硬化性組成物に関しては、既にコーティング剤や塗料などの用途として、硬化性の速い、生産性の良好な材料として特許出願されている(特許文献1)。
しかしながら、これらの感光性組成物は、硬化収縮性、耐熱性、吸水性などの性能面で、十分な性能を有するものではない。
特開平4−11609号公報
Conventionally, with regard to radiation curable compositions using acrylic acid, methacrylic acid, methyl methacrylate, methacrylamide, glycidyl methacrylate, bisphenol A diglycidyl methacrylate, etc. as a raw material, it has already been used as a coating agent, paint, etc. A patent application has been filed as a material with good productivity (Patent Document 1).
However, these photosensitive compositions do not have sufficient performance in terms of curing shrinkage, heat resistance, water absorption and the like.
JP-A-4-11609

本発明は、レジストなどの感光性材料、インキ、塗料などのコーテイング材料、粘接着剤原料、建築材料などとして、硬化収縮性、耐熱性、吸水性などの性能面を向上させる新規なジ(メタ)アクリレート化合物および該化合物を含む硬化性組成物を提供することを目的とする。   The present invention is a novel material that improves the performance of curing shrinkage, heat resistance, water absorption, etc., as a photosensitive material such as a resist, a coating material such as ink and paint, an adhesive material, and a building material. It aims at providing the curable composition containing a meth) acrylate compound and this compound.

本発明は、テルペン骨格を有するジメチロール化合物と、(メタ)アクリル酸化合物を反応させて得られるジ(メタ)アクリレート化合物、およびその硬化性組成物に関する。
ここで、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物としては、ビシクロ[2.2.2]−オクタン環を有するジ(メタ)アクリレート化合物およびこれを重合させた硬化性組成物であることが好ましい。ビシクロ[2.2.2]−オクタン環を有するジ(メタ)アクリレート化合物は、下記式(I)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物である。
また、式(I)のジ(メタ)アクリレート化合物としては、下記式(II)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物が好ましい。
さらに、本発明の硬化性組成物は、このジ(メタ)アクリレート化合物にラジカル重合開始剤を加えた組成物であり、電子線あるいは紫外線などの放射線により硬化させることが可能な組成物である。









The present invention relates to a di (meth) acrylate compound obtained by reacting a dimethylol compound having a terpene skeleton with a (meth) acrylic acid compound, and a curable composition thereof.
Here, the di (meth) acrylate compound of the present invention is preferably a di (meth) acrylate compound having a bicyclo [2.2.2] -octane ring and a curable composition obtained by polymerizing the same. The di (meth) acrylate compound having a bicyclo [2.2.2] -octane ring is a di (meth) acrylate compound represented by the following formula (I).
Further, as the di (meth) acrylate compound of the formula (I), a di (meth) acrylate compound represented by the following formula (II) is preferable.
Furthermore, the curable composition of the present invention is a composition obtained by adding a radical polymerization initiator to this di (meth) acrylate compound, and is a composition that can be cured by radiation such as electron beams or ultraviolet rays.









Figure 2005350356
〔ただし、式(I)中、R1,R2,R3,R4,R5,R6は互いに同一または異なり、
水素原子、またはnが1〜5の整数である式Cn2n+1で表される炭化水素基を表す。R7は水素原子または、メチル基である。)
Figure 2005350356
[In the formula (I), R1, R2, R3, R4, R5, R6 are the same or different from each other;
A hydrogen atom or a hydrocarbon group represented by the formula C n H 2n + 1 where n is an integer of 1 to 5 is represented. R7 is a hydrogen atom or a methyl group. )

Figure 2005350356
Figure 2005350356

本発明のジ(メタ)アクリレート化合物およびこれを用いた硬化性組成物は、硬化収縮性、耐熱性、吸水性などの性能を向上させることができる。   The di (meth) acrylate compound of the present invention and the curable composition using the same can improve performance such as curing shrinkage, heat resistance, and water absorption.

本発明のジ(メタ)アクリレート化合物の中で、上記式(I)で表される化合物が好ましいが、さらに、具体的な化合物として、上記式(II)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物や下記式(III)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。しかしながら、式(I)で表される化合物は、これらの化合物に限定されるものではない。










Among the di (meth) acrylate compounds of the present invention, the compound represented by the above formula (I) is preferable, and further, as a specific compound, the di (meth) acrylate compound represented by the above formula (II) And di (meth) acrylate compounds represented by the following formula (III). However, the compound represented by the formula (I) is not limited to these compounds.










Figure 2005350356
Figure 2005350356

また、式(I)、式(II)または式(III)などで表されるジ(メタ)アクリレート化合物には、シス型とトランス型の幾何異性体が存在するが、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物は、シス型、トランス型にとらわれない。ただし、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物をポリマー原料に使用する場合は、トランス型が好ましく用いられる。   Further, di (meth) acrylate compounds represented by the formula (I), the formula (II), the formula (III), and the like include cis-type and trans-type geometric isomers. ) Acrylate compounds are not limited to cis and trans types. However, when the di (meth) acrylate compound of the present invention is used as a polymer raw material, a trans type is preferably used.

本発明のジ(メタ)アクリレート化合物は、テルペン骨格を有するジメチロール化合物と、(メタ)アクリル酸化合物とを反応させて得られるものである。
本発明のジ(メタ)アクリレート化合物の製造例の1例を下記に示す。
すなわち、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物は、次に示すような方法で製造することができる。しかしながら、これらの製造方法に限定されるものではない。
例えば、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物は、(a)テルペン化合物と、(b)不飽和ジカルボン酸、その酸無水物、および不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルから選ばれた少なくとも1種の化合物とを反応させ、つづいて、還元反応を行い、ジメチロール化合物とした後、さらに(メタ)アクリル酸、あるいはその無水物とエステル化反応させて得られる。
The di (meth) acrylate compound of the present invention is obtained by reacting a dimethylol compound having a terpene skeleton with a (meth) acrylic acid compound.
One example of the production example of the di (meth) acrylate compound of the present invention is shown below.
That is, the di (meth) acrylate compound of the present invention can be produced by the following method. However, it is not limited to these manufacturing methods.
For example, the di (meth) acrylate compound of the present invention includes (a) a terpene compound, (b) at least one compound selected from unsaturated dicarboxylic acid, its acid anhydride, and unsaturated dicarboxylic acid dialkyl ester, Then, a reduction reaction is carried out to obtain a dimethylol compound, which is further obtained by esterification with (meth) acrylic acid or its anhydride.

この(a)テルペン化合物は、特に制限はないが、通常、α−ピネン、β−ピネン、カレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、d−リモネン、ジペンテン、ターピノーレン、α−フェランドレン、β−フェランドレン、パラメンタジエン類、ピロネン、カンフェン、アロオシメン、ミルセンなどを用いることができる。好ましくはd−リモネン、ジペンテン、α−フェランドレン、β−フェランドレン、α−テルピネンなどが用いられる。テルペン化合物は、単独または2種以上を併用して使用してもよい。   The (a) terpene compound is not particularly limited, but usually α-pinene, β-pinene, carene, α-terpinene, γ-terpinene, d-limonene, dipentene, terpinolene, α-ferrandolene, β-ferrane. Drain, paramentadienes, pyroneene, camphene, alloocimene, myrcene and the like can be used. Preferably, d-limonene, dipentene, α-ferrandolene, β-ferrandolene, α-terpinene, and the like are used. You may use a terpene compound individually or in combination of 2 or more types.

また、(b)不飽和ジカルボン酸、その酸無水物、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルは、特に制限はないが、通常、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸ジアルキルエステル、フマル酸、フマル酸ジアルキルエステルなどを用いることができる。好ましくは不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルが用いられる。
これら不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルは、単独または2種以上を併用して使用してもよい。
また、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルのアルキル成分としては、特に制限はなく、例えば、ジメチル、ジエチル、ジプロピル、ジブチルなどが挙げられる。
(B) Unsaturated dicarboxylic acid, acid anhydride thereof, and unsaturated dicarboxylic acid dialkyl ester are not particularly limited, but are usually maleic acid, maleic anhydride, maleic acid dialkyl ester, fumaric acid, fumaric acid dialkyl ester. Etc. can be used. Preferably, unsaturated dicarboxylic acid dialkyl ester is used.
These unsaturated dicarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acid anhydrides and unsaturated dicarboxylic acid dialkyl esters may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular as an alkyl component of unsaturated dicarboxylic acid dialkyl ester, For example, dimethyl, diethyl, dipropyl, dibutyl etc. are mentioned.

上記テルペン化合物と不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、および不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルから選ばれた少なくとも1種の化合物との反応としては、特に限定されないが、通常、環化付加反応が用いられる。好ましくはディールス−アルダー反応と呼ばれる環化付加反応が用いられる。このようにして得られる化合物は、通常、二重結合を有する環化付加反応物である。   The reaction between the terpene compound and at least one compound selected from unsaturated dicarboxylic acid, unsaturated dicarboxylic acid anhydride, and unsaturated dicarboxylic acid dialkyl ester is not particularly limited. Used. Preferably, a cycloaddition reaction called Diels-Alder reaction is used. The compound thus obtained is usually a cycloaddition reaction product having a double bond.

この環化付加反応の反応方式は特に限定されないが、バッチ反応でも連続反応でも反応できる。
なお、(a)テルペン化合物と、(b)化合物との反応は、(a)テルペン化合物1モルに対し、通常、(b)化合物が0.5〜1.5モル、好ましくは0.8〜1.2モルである。
Although the reaction system of this cycloaddition reaction is not particularly limited, it can be reacted by either batch reaction or continuous reaction.
In addition, reaction of (a) terpene compound and (b) compound is 0.5-1.5 mol of (b) compound normally with respect to 1 mol of (a) terpene compound, Preferably 0.8- 1.2 moles.

この環化付加反応の反応温度は、通常、0〜250℃、好ましくは30〜200℃、さらに好ましくは50〜180℃に加熱することで反応が行なわれる。反応温度が0℃未満では反応速度が極端に遅く、一方、250℃を超えると、重合などの副反応が顕著になり好ましくない。   The reaction temperature for this cycloaddition reaction is usually 0 to 250 ° C, preferably 30 to 200 ° C, more preferably 50 to 180 ° C. If the reaction temperature is less than 0 ° C, the reaction rate is extremely slow. On the other hand, if it exceeds 250 ° C, side reactions such as polymerization become remarkable, which is not preferable.

この環化付加反応は、通常、無触媒で行われるが、触媒を用いて行ってもよい。反応触媒としては特に限定されないが、好ましくは、通常、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、活性白土などの酸触媒が用いられる。   This cycloaddition reaction is usually performed without a catalyst, but may be performed using a catalyst. Although it does not specifically limit as a reaction catalyst, Preferably, acid catalysts, such as hydrochloric acid, a sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, activated clay, are normally used.

このようにして得られた二重結合を有する環化付加反応物に、続いて二重結合への水素添加反応を行い、さらに還元反応を行うと、目的のジメチロール化合物が得られる。しかしながら、特に二重結合への水素添加反応を行わず、そのまま還元反応を行ってもよい。この場合、二重結合が残ったジメチロール化合物が得られるが、この二重結合はエポキシ化したり、重合反応などに利用することができる。
二重結合の水素添加反応、および還元反応の方法は特に限定されないが、通常、以下の二通りの方法が挙げられる。
すなわち、第1の方法は、まず触媒の存在下で水素による環化付加反応物の二重結合の水素添加反応を行った後、還元剤にて不飽和ジカルボン酸、その酸無水物、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルを還元してジメチロール化合物を得る方法である。
When the cycloaddition reaction product having a double bond thus obtained is subsequently subjected to a hydrogenation reaction to the double bond and further subjected to a reduction reaction, the desired dimethylol compound is obtained. However, the reduction reaction may be performed as it is without performing the hydrogenation reaction to the double bond. In this case, a dimethylol compound in which a double bond remains is obtained, but this double bond can be used for epoxidation or polymerization reaction.
There are no particular limitations on the double bond hydrogenation reaction and the reduction reaction method, and the following two methods are usually mentioned.
That is, in the first method, a hydrogenation reaction of a double bond of a cycloaddition reaction product with hydrogen is first performed in the presence of a catalyst, and then an unsaturated dicarboxylic acid, its acid anhydride, unsaturated This is a method of obtaining a dimethylol compound by reducing a dicarboxylic acid dialkyl ester.

この水素添加反応で使用される触媒としては、特に限定されるものではなく、通常、水素添加反応用の金属触媒が用いられる。例えば、ニッケル系、銅系、パラジウム系、白金系などの触媒が挙げられる。また、水素添加反応の温度は、0〜300℃が好ましく、さらに好ましくは25〜100℃である。この場合、金属触媒の使用量は、環化付加反応物に対して、通常、0.1〜30重量%、好ましくは1〜25重量%である。   The catalyst used in the hydrogenation reaction is not particularly limited, and a metal catalyst for the hydrogenation reaction is usually used. Examples of the catalyst include nickel-based, copper-based, palladium-based, and platinum-based catalysts. The temperature of the hydrogenation reaction is preferably 0 to 300 ° C, more preferably 25 to 100 ° C. In this case, the amount of the metal catalyst used is usually 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 25% by weight, based on the cycloaddition reaction product.

また、この還元反応で使用される還元剤は、特に限定されるものではないが、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、ナトリウム水素化ビス(2−エトキシメトキシ)アルミニウムなどの還元剤が挙げられる。   In addition, the reducing agent used in this reduction reaction is not particularly limited. For example, reducing agents such as lithium aluminum hydride, sodium borohydride, sodium bis (2-ethoxymethoxy) aluminum hydride are used. Can be mentioned.

この還元反応の反応温度は、通常、0〜120℃、好ましくは30〜100℃で反応が行われる。この場合、還元剤の使用量は、原料である飽和環化付加反応物1モルに対して、通常、1.6〜3.0モル、好ましくは2.0〜2.4モルである。   The reaction is usually carried out at a reaction temperature of 0 to 120 ° C, preferably 30 to 100 ° C. In this case, the amount of the reducing agent used is usually 1.6 to 3.0 mol, preferably 2.0 to 2.4 mol, with respect to 1 mol of the saturated cycloaddition reaction product as a raw material.

また、第2の還元反応の方法は、触媒を用い水素による接触水素化還元反応により、環化付加反応物の二重結合および不飽和ジカルボン酸、その酸無水物、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルを還元してジメチロール化合物を得る方法である。   In the second reduction reaction method, a double bond of a cycloaddition reaction product and an unsaturated dicarboxylic acid, its acid anhydride, and an unsaturated dicarboxylic acid dialkyl ester are obtained by catalytic hydrogenation reduction reaction with hydrogen using a catalyst. This is a method of obtaining a dimethylol compound by reduction.

その際使用される触媒は、特に限定されるものではなく、通常使用される接触還元触媒が使用できる。例えば、銅−クロム系触媒、銅−鉄−アルミニウム系触媒、パラジウム系、白金系、ルテニウム系などの金属系触媒などが挙げられる。また、温度は、0〜500℃が好ましく、さらに好ましくは100〜300℃である。この場合の金属系触媒の使用量は、環化付加反応物に対して、通常、0.1〜50重量%、好ましくは1〜30重量%である。 また、上記水素化触媒で二重結合を水素添加したのちに、銅−クロム系触媒、銅−鉄−アルミニウム系触媒などの還元触媒で不飽和ジカルボン酸、その酸無水物、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルを還元することもできる。この場合、温度は、0〜500℃、好ましくは100〜300℃であり、また、還元触媒の使用量は、飽和環化付加反応物に対して、通常、0.1〜50重量%、好ましくは1〜30重量%である。   The catalyst used in that case is not particularly limited, and a commonly used catalytic reduction catalyst can be used. For example, a copper-chromium-based catalyst, a copper-iron-aluminum-based catalyst, a palladium-based catalyst, a platinum-based catalyst, a ruthenium-based metal catalyst, and the like can be given. Moreover, 0-500 degreeC is preferable and, as for temperature, More preferably, it is 100-300 degreeC. The amount of the metal catalyst used in this case is usually 0.1 to 50% by weight, preferably 1 to 30% by weight, based on the cycloaddition reaction product. In addition, after hydrogenating the double bond with the above hydrogenation catalyst, the reduced catalyst such as a copper-chromium catalyst or a copper-iron-aluminum catalyst is used as an unsaturated dicarboxylic acid, its acid anhydride, or an unsaturated dicarboxylic acid dialkyl. The ester can also be reduced. In this case, the temperature is 0 to 500 ° C., preferably 100 to 300 ° C., and the amount of the reduction catalyst used is usually 0.1 to 50% by weight, preferably based on the saturated cycloaddition reactant. Is 1 to 30% by weight.

このようにして生成したジメチロール化合物は、精製することにより高純度の製品として得られる。その精製方法は特に限定されないが、例えば、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどが挙げられる。   The dimethylol compound thus produced is obtained as a highly pure product by purification. The purification method is not particularly limited, and examples thereof include distillation, extraction, crystallization, recrystallization, and column chromatography.

次に、このジメチロール化合物と(メタ)アクリル酸化合物との反応について、説明する。この反応には、上記ジメチロール化合物と(メタ)アクリル酸をエステル化反応させる方法、上記ジメチロール化合物と(メタ)アクリル酸ハロゲン化物を反応させる方法、上記ジメチロール化合物と(メタ)アクリル酸無水物を反応させる方法、上記ジメチロール化合物と(メタ)アクリル酸メチルや(メタ)アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステルをエステル交換反応させる方法などがある。しかし、本発明に用いられる反応は、これらに限定されるものではない。   Next, the reaction between the dimethylol compound and the (meth) acrylic acid compound will be described. For this reaction, a method of esterifying the dimethylol compound and (meth) acrylic acid, a method of reacting the dimethylol compound and (meth) acrylic acid halide, a reaction of the dimethylol compound and (meth) acrylic anhydride. And a method of transesterifying the dimethylol compound with an acrylic ester such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate. However, the reaction used in the present invention is not limited to these.

上記反応のうち、(メタ)アクリル酸を使用したエステル化反応の際の(メタ)アクリル酸の仕込み比率は、原料であるジメチロール化合物1モルに対し、0.1〜20モル、好ましくは1〜10モルである。(メタ)アクリル酸が、ジメチロール化合物1モルに対し0.1モル未満であるとエステル化反応が十分に進行しない可能性があり、一方、20モルを越えると未反応の(メタ)アクリル酸が残存しコスト高となる可能性があるので好ましくない。   Among the above reactions, the charging ratio of (meth) acrylic acid in the esterification reaction using (meth) acrylic acid is 0.1 to 20 mol, preferably 1 to 1 mol of dimethylol compound as a raw material. 10 moles. If the (meth) acrylic acid is less than 0.1 mol relative to 1 mol of the dimethylol compound, the esterification reaction may not proceed sufficiently. On the other hand, if it exceeds 20 mol, unreacted (meth) acrylic acid will be formed. Since it may remain and cost may increase, it is not preferable.

また、溶媒は、通常、水と共沸する溶剤として、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素化合物、などを使用するが、(メタ)アクリル酸などが溶媒を兼ねるため、使用しなくてもよい。
溶媒を使用する場合、該溶媒の使用量は、原料であるジメチロール化合物に対し、30〜1000重量%、好ましくは50〜700重量%である。
In addition, as a solvent, an aromatic compound such as benzene, toluene and xylene, a hydrocarbon compound such as hexane and cyclohexane, etc. are usually used as a solvent azeotropic with water, but (meth) acrylic acid or the like is used as a solvent. It also does not have to be used because it also serves.
When using a solvent, the usage-amount of this solvent is 30 to 1000 weight% with respect to the dimethylol compound which is a raw material, Preferably it is 50 to 700 weight%.

触媒としては、硫酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸、三フッ化ホウ素、イオン交換樹脂、活性白土、酵素などが使用できる。
触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、原料であるジメチロール化合物1モルに対し、0.0001〜0.1モル、好ましくは0.001〜0.01モルである。
As the catalyst, sulfuric acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, boron trifluoride, ion exchange resin, activated clay, enzyme and the like can be used.
Although the usage-amount of a catalyst is not specifically limited, It is 0.0001-0.1 mol with respect to 1 mol of dimethylol compounds which are raw materials, Preferably it is 0.001-0.01 mol.

このエステル化反応の際には、重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤としては、反応系内に発生するラジカルを捕捉しうる化合物であれば、特に限定されるものではないが、例えばハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、t−ブチルハイドロキノンなどを使用できる。重合禁止剤の添加量は、仕込み(メタ)アクリル酸に対して、通常、5〜10,000ppm、好ましくは20〜5,000ppm、さらに好ましくは50〜1,000ppmである。   In the esterification reaction, it is preferable to add a polymerization inhibitor. The polymerization inhibitor is not particularly limited as long as it is a compound capable of trapping radicals generated in the reaction system. For example, hydroquinone, methyl hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, t-butyl hydroquinone, etc. are used. it can. The addition amount of the polymerization inhibitor is usually 5 to 10,000 ppm, preferably 20 to 5,000 ppm, more preferably 50 to 1,000 ppm with respect to the charged (meth) acrylic acid.

エステル化の反応温度は、30〜200℃、好ましくは60〜150℃である。反応温度が、30℃未満であると反応速度が極端に遅い可能性があり、一方、200℃を超えると重合などの副反応が顕著になり好ましくない。エステル化反応は、通常、常圧下で行うが、用いる溶剤の沸点によって、減圧または加圧下で行うこともできる。   The reaction temperature for esterification is 30 to 200 ° C, preferably 60 to 150 ° C. If the reaction temperature is less than 30 ° C., the reaction rate may be extremely slow. On the other hand, if it exceeds 200 ° C., side reactions such as polymerization become remarkable, which is not preferable. The esterification reaction is usually carried out under normal pressure, but can also be carried out under reduced pressure or under pressure depending on the boiling point of the solvent used.

本発明のジ(メタ)アクリレート化合物は、赤外線吸収スペクトルにより、C−H伸縮に起因する3,000〜2,800cm-1、C=O伸縮に起因する1,725cm-1、C=C伸縮に起因する1,640〜1,620cm-1、C−H変角に起因する1,500〜1,350cm-1、C−O伸縮に起因する1,300〜1,180cm-1のピークにより確認することができる。
また、1H−NMRチャートにより、ビシクロ環および側鎖に起因する0.79〜1.86ppmのシグナル、エステルに隣接するメチレン基に起因する4.02〜4.36ppmのシグナル、アクリレートに起因する5.80〜6.42ppmのシグナルにより確認することができる。
Di (meth) acrylate compound of the present invention, the infrared absorption spectrum, 3,000~2,800Cm -1 due to C-H stretching, 1,725Cm -1 due to C = O stretching, C = C stretch due to 1,640~1,620cm -1, 1,500~1,350cm -1 due to C-H bending, the peak of 1,300~1,180Cm -1 due to C-O stretching Can be confirmed.
Further, according to the 1 H-NMR chart, 0.79 to 1.86 ppm signal due to the bicyclo ring and side chain, 4.02 to 4.36 ppm signal due to the methylene group adjacent to the ester, and acrylate It can be confirmed by a signal of 5.80 to 6.42 ppm.

さらに、13C−NMRおよびDEPTチャートにより、ビシクロ環および側鎖に起因する17.0〜45.5ppmのシグナル、エステルに隣接するメチレン基に起因する66.5および67.1ppmのシグナル、アクリレートに起因する128.6〜130.7ppmおよび166.4〜166.5ppmのシグナルにより確認することができる。 Furthermore, by 13 C-NMR and DEPT charts, 17.0-45.5 ppm signal due to the bicyclo ring and side chain, 66.5 and 67.1 ppm signals due to the methylene group adjacent to the ester, acrylate It can be confirmed by the resulting signals of 128.6-130.7 ppm and 166.4-166.5 ppm.

本発明のジ(メタ)アクリレート化合物にラジカル重合開始剤を配合した硬化性組成物は、電子線および紫外線などの放射線により硬化させることができるが、低圧または高圧水銀灯、キセノン灯を用いて、紫外線を照射することによって硬化させることが好ましい。
なお、本発明の硬化性組成物とは、本発明のジ(メタ)アクリレート化合物にラジカル重合開始剤が配合された組成物であるが、当該化合物がこの重合開始剤によってオリゴマーや重合物となったものをも広く包含する概念である。
The curable composition in which the radical polymerization initiator is blended with the di (meth) acrylate compound of the present invention can be cured by radiation such as electron beams and ultraviolet rays, but ultraviolet rays can be obtained using a low-pressure or high-pressure mercury lamp or xenon lamp. It is preferable to cure by irradiating.
The curable composition of the present invention is a composition in which a radical polymerization initiator is blended with the di (meth) acrylate compound of the present invention, and the compound becomes an oligomer or polymer by the polymerization initiator. It is a concept that encompasses a wide range of things.

ここで、本発明の重合開始剤(ラジカル重合開始剤)について説明する。
ラジカル重合開始剤は、ラジカル重合する開始剤であれば何でもよい。
具体的には、ベンジル、ベンゾイン、ベンジルアルキルケタノールなどのベンゾインエーテル系、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノンなどのアセトフェノン系、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸、4−4’−ジアルキルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−アルキルチオキサントンなどのチオキサントン系、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド、その他、2−アルキルアントラキノンなどが挙げられる。
Here, the polymerization initiator (radical polymerization initiator) of the present invention will be described.
The radical polymerization initiator may be any initiator that undergoes radical polymerization.
Specifically, benzoin ethers such as benzyl, benzoin, benzylalkylketanol, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, etc. Benzophenone series such as acetophenone series, benzophenone, 4-chlorobenzophenone, o-benzoylbenzoic acid, 4-4′-dialkylaminobenzophenone, thioxanthone series such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-alkylthioxanthone, bis (2, Acylphosphine oxide such as 4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2-alkylanthraquinone and the like.

本発明の硬化性組成物において、上記のジ(メタ)アクリレート化合物とラジカル重合開始剤を含有する、配合割合は以下のようである。
ジ(メタ)アクリレート化合物を100重量部として、ラジカル重合開始剤は、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5.0重量部、さらに好ましくは0.3〜4.0重量部である。0.01重量部未満ではラジカル重合が十分進行せず、一方、10重量部を超えるとラジカル重合以外の余分なものが添加されることになる。
In the curable composition of the present invention, the blending ratio containing the di (meth) acrylate compound and the radical polymerization initiator is as follows.
Based on 100 parts by weight of the di (meth) acrylate compound, the radical polymerization initiator is 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5.0 parts by weight, more preferably 0.3 to 4.0 parts by weight. It is. When the amount is less than 0.01 part by weight, radical polymerization does not proceed sufficiently. On the other hand, when the amount exceeds 10 parts by weight, extra components other than radical polymerization are added.

本発明の硬化性組成物には、上記の必須成分の他に、必要に応じ、その他の(メタ)アクリレート系化合物やその他の添加剤として熱重合禁止剤、酸化防止剤、可塑剤、染料、顔料、樹脂化合物、適当な希釈溶剤などを添加することができる。
なお、本発明の硬化性組成物を用いて、電子線および紫外線などの放射線で硬化させる ことができるが、紫外線照射が好ましい。紫外線照射は、0.3〜3J/cm2で行うことが好ましく、さらに好ましくは、0.5〜2J/cm2である。紫外線の強さが0.3J/cm2未満では、未硬化部分が残存する可能性が高くなり、一方、3J/cm2を越えると過剰露光により樹脂部分が変色する可能性が高くなるため、好ましくない。
硬化させる装置に関しては、通常使用されている電子線、紫外線の照射装置であれば特に指定はない。
In the curable composition of the present invention, in addition to the above essential components, if necessary, other (meth) acrylate compounds and other additives as thermal polymerization inhibitors, antioxidants, plasticizers, dyes, A pigment, a resin compound, a suitable dilution solvent, and the like can be added.
The curable composition of the present invention can be cured with radiation such as an electron beam and ultraviolet rays, but ultraviolet irradiation is preferred. It is preferable to perform ultraviolet irradiation at 0.3-3 J / cm < 2 >, More preferably, it is 0.5-2 J / cm < 2 >. Since the intensity of ultraviolet rays is less than 0.3 J / cm 2, more likely uncured portion remains, while the possibility that the resin portion discolored by excess exposure exceeds 3J / cm 2 is higher, It is not preferable.
The curing device is not particularly specified as long as it is a commonly used electron beam or ultraviolet irradiation device.

以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記の実施例における分析は、下記の機器を使用した。
赤外吸収装置(IR):島津製作所製、FTIR−8100M
ガスクロマトグラフィー質量分析装置(GC−MS):HEWLETT PACKARD社製、HP6890 GC System、カラム:HP−5MS(Crosslinked 5% Ph Me Siloxane)、30m×0.25mm×0.25μm、イオン化モード:EI
NMR:日本電子(株)社製、JNM−LA400、周波数400MHz(溶媒:CDCl3、内部標準物質:テトラメチルシラン)
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated, this invention is not limited to these.
The following apparatus was used for the analysis in the following Example.
Infrared absorber (IR): FTIR-8100M manufactured by Shimadzu Corporation
Gas chromatography mass spectrometer (GC-MS): HEWLETT PACKARD, HP6890 GC System, column: HP-5MS (Crosslinked 5% Ph Me Siloxane), 30 m × 0.25 mm × 0.25 μm, ionization mode: EI
NMR: manufactured by JEOL Ltd., JNM-LA400, frequency 400 MHz (solvent: CDCl3, internal standard substance: tetramethylsilane)

実施例1
ジ(メタ)アクリレート化合物の製造:
冷却管、温度計、撹拌棒を備えた500ml三つ口フラスコに、α−テルピネン71g(0.5モル)およびフマル酸58g(0.5モル)を仕込み、撹拌しながら昇温して、150〜160℃で12時間反応した。反応後、アセトンから再結晶することにより、フマル化α−テルピネン79g(α−テルピネン基準で収率60%、純度96%)を得た。
Example 1
Production of di (meth) acrylate compounds:
In a 500 ml three-necked flask equipped with a condenser, a thermometer and a stirring rod, 71 g (0.5 mol) of α-terpinene and 58 g (0.5 mol) of fumaric acid were charged, and the temperature was raised while stirring. The reaction was carried out at ˜160 ° C. for 12 hours. After the reaction, 79 g of fumarated α-terpinene (yield 60% based on α-terpinene, purity 96%) was obtained by recrystallization from acetone.

続いて、電磁撹拌装置を備えた内容500mlのオートクレーブに、上記で得られたフマル化テルピネン71g(0.27モル)、2−プロパノール140g、および粉末状の5%パラジウムカーボン触媒0.7gを仕込んだ。次いで、これを密閉し、雰囲気を窒素ガスで置換した後、水素ガス15kg/cm2の圧力をかけながら導入した。そして、撹拌を開始すると、内温が27℃から32℃へ上昇した。吸収された水素を補うことで圧力を15〜20kg/cm2に保ちながら4時間反応させた。その後、得られた懸濁液をブフナーロートで吸引ろ過を行い、触媒をろ別した。その後、ろ液を減圧濃縮することにより、水素化フマル化α−テルピネン69g(収率95%、純度95%)を得た。 Subsequently, 71 g (0.27 mol) of fumarated terpinene obtained above, 140 g of 2-propanol, and 0.7 g of a powdery 5% palladium carbon catalyst were charged into a 500 ml autoclave equipped with an electromagnetic stirrer. It is. Next, this was sealed, the atmosphere was replaced with nitrogen gas, and then introduced while applying a pressure of 15 kg / cm 2 of hydrogen gas. And when stirring was started, internal temperature rose from 27 degreeC to 32 degreeC. The reaction was performed for 4 hours while maintaining the pressure at 15 to 20 kg / cm 2 by supplementing the absorbed hydrogen. Thereafter, the obtained suspension was subjected to suction filtration with a Buchner funnel to separate the catalyst. Thereafter, the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 69 g (yield 95%, purity 95%) of hydrogenated fumarated α-terpinene.

次に、冷却管、温度計、撹拌棒、滴下ロートを備えた2l四つ口フラスコに、窒素気流下、脱水テトラヒドロフランを500ml入れ、水素化リチウムアルミニウム26.1g(0.687モル)を加えた。混合液を、65℃で30分間環流させた後、加熱をやめ、ここに上記のようにして得られた水添フマル化α−テルピネン60g(0.224モル)をテトラヒドロフラン300mlに溶解した溶液を3時間かけて滴下した。混合液を65℃で12時間環流させた後、0℃付近に冷却し、水を26ml、4規定水酸化ナトリウム水溶液を26ml、水80mlを順次加えた。灰色の部分がなくなるまで撹拌し、酢酸エチルを加え、油層と水層に分離した。油層を減圧蒸留にて溶媒を除去し、粗生成物53gを得た。これをカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ジメチロール化合物の白色結晶20g(収率40%、純度99%)を得た。   Next, 500 ml of dehydrated tetrahydrofuran was placed in a 2 l four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, a stirring rod and a dropping funnel under a nitrogen stream, and 26.1 g (0.687 mol) of lithium aluminum hydride was added. . The mixture was refluxed at 65 ° C. for 30 minutes, then the heating was stopped, and a solution obtained by dissolving 60 g (0.224 mol) of hydrogenated fumarated α-terpinene obtained as described above in 300 ml of tetrahydrofuran was obtained. The solution was added dropwise over 3 hours. The mixture was refluxed at 65 ° C. for 12 hours, cooled to around 0 ° C., and 26 ml of water, 26 ml of 4N aqueous sodium hydroxide solution and 80 ml of water were sequentially added. The mixture was stirred until the gray portion disappeared, ethyl acetate was added, and the mixture was separated into an oil layer and an aqueous layer. The solvent was removed from the oil layer by distillation under reduced pressure to obtain 53 g of a crude product. This was purified by column chromatography to obtain 20 g of white crystals of dimethylol compound (yield 40%, purity 99%).

次に、ディーンスターク管、冷却管、温度計、撹拌棒を備えた300ml四つ口フラスコに、上記のようにして得られたジメチロール化合物20g(0.088モル)とトルエン100g、アクリル酸12.7g(0.176モル)、ハイドロキノンモノメチルエーテル2.5mg、およびイオン交換樹脂(アンバーリスト15E、ロームアンドハース社製)2.0gを仕込んだ。混合液を減圧下100℃で12時間還流させた後、得られた混合液をろ過して触媒をろ別した。次いで、減圧下80℃でトルエンを留去して、ジ(メタ)アクリレート化合物A20.6g(収率70%、純度72%)を得た。   Next, in a 300 ml four-necked flask equipped with a Dean-Stark tube, a cooling tube, a thermometer, and a stirring bar, 20 g (0.088 mol) of the dimethylol compound obtained as described above, 100 g of toluene, and 12.1 of acrylic acid. 7 g (0.176 mol), 2.5 g hydroquinone monomethyl ether, and 2.0 g ion exchange resin (Amberlyst 15E, manufactured by Rohm and Haas) were charged. The mixture was refluxed at 100 ° C. for 12 hours under reduced pressure, and the resulting mixture was filtered to remove the catalyst. Subsequently, toluene was distilled off at 80 ° C. under reduced pressure to obtain 20.6 g of di (meth) acrylate compound A (yield 70%, purity 72%).

得られたジ(メタ)アクリレート化合物Aの分析結果を図1〜5、表1〜2に示す。なお、表1および2の帰属を示す記号は、式(IV)に示した位置を示す。
・分析結果
1)図1:IRチャート 3,000〜2,800cm-1:C−H伸縮、1,725cm-1:C=O伸縮、1,640〜1,620cm-1:C=C伸縮、1,500〜1,350cm-1、:C−H変角、1,300〜1,180cm-1:C−O伸縮
2)図2:GC−MSチャート m/z=291[M−C37]+が観測された。
3)図3:1H−NMRチャート
4)図4:13C−NMRチャート
5)図5:DEPTチャート
The analysis result of the obtained di (meth) acrylate compound A is shown in FIGS. In addition, the symbol which shows attribution of Table 1 and 2 shows the position shown to Formula (IV).
Analysis results 1) FIG. 1: IR chart 3,000-2,800 cm −1 : C—H stretch, 1,725 cm −1 : C═O stretch, 1,640-1,620 cm −1 : C = C stretch , 1,500 to 1,350 cm −1 : C—H deformation angle, 1,300 to 1,180 cm −1 : C—O stretching 2) FIG. 2: GC-MS chart m / z = 291 [M−C 3 H 7 ] + was observed.
3) FIG. 3: 1 H-NMR chart 4) FIG. 4: 13 C-NMR chart 5) FIG. 5: DEPT chart

Figure 2005350356
Figure 2005350356

Figure 2005350356
Figure 2005350356













Figure 2005350356
Figure 2005350356

硬化性組成物の製造:
上記ジ(メタ)アクリレート化合物Aを20g、光ラジカル重合開始剤としてベンゾイル0.5gを混合し、混合物をフィルターに通して濾過し、本発明の感光性組成物を得た。
(硬化収縮率)
上記感光性組成物を25℃の恒温水槽に放置した後、ピクノメーターを用いて、比重D1を測定した。次に、得られる塗膜の厚さが100μmになるようにガラス板に上記感光性組成物を挟み込み、メタルハライドランプで約1J/cm2照射した。JIS Z8807:1976に準じ、この塗膜の固体比重D2を求め、下記計算式により硬化収縮率を求めた。
硬化収縮率の測定結果を表3に記載した。
硬化収縮率(%)=〔(D2−D1)/D2〕×100
Production of the curable composition:
20 g of the di (meth) acrylate compound A and 0.5 g of benzoyl as a radical photopolymerization initiator were mixed, and the mixture was filtered through a filter to obtain a photosensitive composition of the present invention.
(Curing shrinkage)
After leaving the said photosensitive composition in a 25 degreeC thermostat, specific gravity D1 was measured using the pycnometer. Next, the photosensitive composition was sandwiched between glass plates so that the thickness of the resulting coating film was 100 μm, and irradiated with a metal halide lamp at about 1 J / cm 2 . In accordance with JIS Z8807: 1976, the solid specific gravity D2 of this coating film was determined, and the cure shrinkage was determined by the following formula.
The measurement results of the curing shrinkage are shown in Table 3.
Curing shrinkage (%) = [(D2-D1) / D2] × 100

さらに、上記ジ(メタ)アクリレート化合物Aを20g、光ラジカル重合開始剤としてベンゾイル0.5gの混合物に、溶剤としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/ソルベントナフサ(50/50)25gを加え、反応温度70℃で機械攪拌を行い、樹脂Bを得た。
樹脂Bを25g、トリグリシジルイソシアヌレート7.5g、ベンゾイル0.5g、BYK357(ビッグケミー製消泡剤)0.5g、BYK054(ビッグケミー製表面平滑剤)0.5g、フタロシアニングリーン(山陽色素製)0.5g、タルク10g、硫酸バリウム5gを混合し、ニューロング精密工業社製スクリーン印刷機LS15GXを使用し、表面機械研磨を行った銅張積層板に膜厚40μmになるように塗布した。塗布した基板を70℃の乾燥機中に30分間放置し、平行光露光機で露光パターンフィルムを載せて250mJ/cm2の光量を露光した。露光後、トルエンで60秒間、1.5kg/cm2のスプレー圧で現像を行った。水洗後、160℃、1時間熱風乾燥機に入れ加熱硬化を行った。
得られた硬化膜を有する試験片について、ガラス転移温度(Tg)測定、吸水率、解像度の評価を行った。結果を表3に記載した。
Furthermore, 25 g of dipropylene glycol monomethyl ether acetate / solvent naphtha (50/50) as a solvent was added to a mixture of 20 g of the di (meth) acrylate compound A and 0.5 g of benzoyl as a photoradical polymerization initiator, and a reaction temperature of 70 Mechanical stirring was performed at 0 ° C. to obtain Resin B.
25 g of resin B, 7.5 g of triglycidyl isocyanurate, 0.5 g of benzoyl, 0.5 g of BYK357 (Big Chemie antifoaming agent), 0.5 g of BYK054 (Big Chemie surface smoothing agent), phthalocyanine green (manufactured by Sanyo Dye) 0 0.5 g, 10 g of talc and 5 g of barium sulfate were mixed and applied to a copper-clad laminate subjected to surface mechanical polishing so as to have a film thickness of 40 μm using a screen printer LS15GX manufactured by Neurong Precision Industry Co., Ltd. The coated substrate was left in a dryer at 70 ° C. for 30 minutes, and an exposure pattern film was placed thereon with a parallel light exposure machine to expose a light amount of 250 mJ / cm 2 . After the exposure, development was performed with toluene for 60 seconds at a spray pressure of 1.5 kg / cm 2 . After washing with water, it was cured by heating in a hot air dryer at 160 ° C. for 1 hour.
About the test piece which has the obtained cured film, glass transition temperature (Tg) measurement, water absorption, and evaluation of the resolution were performed. The results are shown in Table 3.

試験方法および評価方法は、次のとおりである。
(ガラス転移温度(Tg)の測定)
塗膜を1度塗り、または2度塗りした基板から剥離し、JIS C:6481の試験方法に従って、TMA引っ張り試験により測定を行った。
(吸水率測定)
サンプルを120℃乾燥機中で一晩置き、十分乾燥させた後、重量(W0)を測定した。
次にこのサンプルをプレッシャークッカー(121℃、2atm)に1時間入れた。プレッシャークッカーから取り出した後、流水で3分間冷却し布で水分を拭き取り、2分間放置した後、重量(W1)を測定し、下式により吸水率を求めた。
吸水率(%)=〔(W1−W0)/W0〕×100
(解像度の評価)
レジスト硬化膜のライン幅が100、50、25μmの三種類の試験片を作製し、断面観察を行った。露光は200mJ/cm2とした。評価は、任意の20カ所を被検部分として選択し、顕微鏡で観察して、検査数に対する正常な部分の数で表示した。
The test method and the evaluation method are as follows.
(Measurement of glass transition temperature (Tg))
The coating film was peeled off from the substrate coated once or twice, and measured by the TMA tensile test according to the test method of JIS C: 6481.
(Measurement of water absorption)
The sample was placed in a 120 ° C. dryer overnight and dried sufficiently, and then the weight (W0) was measured.
The sample was then placed in a pressure cooker (121 ° C., 2 atm) for 1 hour. After taking out from the pressure cooker, it was cooled with running water for 3 minutes, wiped with a cloth, left to stand for 2 minutes, then measured for weight (W1), and the water absorption was determined by the following formula.
Water absorption (%) = [(W1-W0) / W0] × 100
(Resolution evaluation)
Three types of test pieces having a line width of 100, 50, and 25 μm of the cured resist film were prepared, and cross-sectional observation was performed. The exposure was 200 mJ / cm 2 . For evaluation, 20 arbitrary places were selected as test parts, observed with a microscope, and displayed as the number of normal parts with respect to the number of examinations.

比較例1
ジグリシジルメタクリレート20g、ベンゾイル0.25g、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート0.25gを混合し、感光性組成物を得、実施例1と同様にして評価した。評価結果は表3に記載した。
Comparative Example 1
Diglycidyl methacrylate 20 g, benzoyl 0.25 g, and p-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate 0.25 g were mixed to obtain a photosensitive composition, which was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 2005350356
Figure 2005350356

本発明のジ(メタ)アクリレート化合物およびこれを含む硬化性組成物は、レジストなどの感光性材料、インキ、塗料などのコーテイング材料、粘接着剤原料、建築材料などとして利用できる。   The di (meth) acrylate compound of the present invention and the curable composition containing the same can be used as a photosensitive material such as a resist, a coating material such as an ink and a paint, a raw material for an adhesive, a building material, and the like.

実施例1で得られたジ(メタ)アクリレート化合物AのIRスペクトルチャートである。2 is an IR spectrum chart of di (meth) acrylate compound A obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られたジ(メタ)アクリレート化合物AのGC−MSスペクトルチャートである。2 is a GC-MS spectrum chart of di (meth) acrylate compound A obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られたジ(メタ)アクリレート化合物Aの1H−NMRチャートである。2 is a 1 H-NMR chart of di (meth) acrylate compound A obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られたジ(メタ)アクリレート化合物Aの13C−NMRチャートである。2 is a 13 C-NMR chart of di (meth) acrylate compound A obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られたジ(メタ)アクリレート化合物AのDEPTチャートである。2 is a DEPT chart of di (meth) acrylate compound A obtained in Example 1. FIG.

Claims (4)

テルペン骨格を有するジメチロール化合物と、(メタ)アクリル酸化合物とを反応させて得られるジ(メタ)アクリレート化合物。   A di (meth) acrylate compound obtained by reacting a dimethylol compound having a terpene skeleton with a (meth) acrylic acid compound. ジ(メタ)アクリレート化合物が、下記の式(I)である請求項1記載のジ(メタ)アクリレート化合物。
Figure 2005350356
〔ただし、式(I)において、R1,R2,R3,R4,R5,R6は互いに同一または異なり、水素原子、またはnが1〜5の整数である式Cn2n+1で表される炭化水素基を表す。R7は水素原子または、メチル基である。〕
The di (meth) acrylate compound according to claim 1, wherein the di (meth) acrylate compound is represented by the following formula (I).
Figure 2005350356
[In the formula (I), R 1, R 2, R 3, R 4, R 5, R 6 are the same or different from each other, and are represented by a hydrogen atom or a formula C n H 2n + 1 where n is an integer of 1-5. Represents a hydrocarbon group. R7 is a hydrogen atom or a methyl group. ]
式(I)で表される化合物が、下記の式(II)である請求項2記載のジ(メタ)アクリレート化合物。
Figure 2005350356
The di (meth) acrylate compound according to claim 2, wherein the compound represented by the formula (I) is the following formula (II).
Figure 2005350356
請求項1〜3いずれかに記載のジ(メタ)アクリレート化合物100重量部に対し、ラジカル重合開始剤を0.01〜5重量部含有することを特徴とする硬化性組成物。
A curable composition comprising 0.01 to 5 parts by weight of a radical polymerization initiator with respect to 100 parts by weight of the di (meth) acrylate compound according to any one of claims 1 to 3.
JP2004169738A 2004-06-08 2004-06-08 Di (meth) acrylate compound and curable composition thereof Expired - Fee Related JP4646051B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004169738A JP4646051B2 (en) 2004-06-08 2004-06-08 Di (meth) acrylate compound and curable composition thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004169738A JP4646051B2 (en) 2004-06-08 2004-06-08 Di (meth) acrylate compound and curable composition thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005350356A true JP2005350356A (en) 2005-12-22
JP4646051B2 JP4646051B2 (en) 2011-03-09

Family

ID=35585130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004169738A Expired - Fee Related JP4646051B2 (en) 2004-06-08 2004-06-08 Di (meth) acrylate compound and curable composition thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4646051B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009005118A1 (en) * 2007-07-04 2009-01-08 Nitto Denko Corporation Acrylic viscoelastic composition and pressure-sensitive adhesive tape or sheet
US20220098345A1 (en) * 2020-09-30 2022-03-31 Canon Kabushiki Kaisha Curable composition

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10259162A (en) * 1997-03-18 1998-09-29 Yasuhara Chem Co Ltd New (meth)acrylic acid derivative and curing type resin composition containing the same
JPH10330315A (en) * 1997-05-28 1998-12-15 Yasuhara Chem Co Ltd New (meth)acrylic acid derivative and thermosetting resin composition containing the same
JP2003206318A (en) * 2002-01-16 2003-07-22 Nippon Kayaku Co Ltd Polymerizable compound, resin composition containing the same and its cured product

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10259162A (en) * 1997-03-18 1998-09-29 Yasuhara Chem Co Ltd New (meth)acrylic acid derivative and curing type resin composition containing the same
JPH10330315A (en) * 1997-05-28 1998-12-15 Yasuhara Chem Co Ltd New (meth)acrylic acid derivative and thermosetting resin composition containing the same
JP2003206318A (en) * 2002-01-16 2003-07-22 Nippon Kayaku Co Ltd Polymerizable compound, resin composition containing the same and its cured product

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009005118A1 (en) * 2007-07-04 2009-01-08 Nitto Denko Corporation Acrylic viscoelastic composition and pressure-sensitive adhesive tape or sheet
US20220098345A1 (en) * 2020-09-30 2022-03-31 Canon Kabushiki Kaisha Curable composition
JP2022058159A (en) * 2020-09-30 2022-04-11 キヤノン株式会社 Curable composition
JP7204835B2 (en) 2020-09-30 2023-01-16 キヤノン株式会社 Curable composition
US11945893B2 (en) 2020-09-30 2024-04-02 Canon Kabushiki Kaisha Curable composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP4646051B2 (en) 2011-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11560362B2 (en) Dibutylfluorene derivative and application thereof as photoinitiator
TW200424771A (en) Alicyclic methacrylate having oxygen substituent group on &lt;alpha&gt;-methyl
JP4646051B2 (en) Di (meth) acrylate compound and curable composition thereof
CN114369027B (en) Itaconic acid diester type photocuring monomer, composition, preparation method and application
JP2007169579A (en) Photocurable resin composition
JP2006137738A (en) Terpene-based (meth)acrylic acid ester and its curable composition
JP2001172336A (en) Activated energy ray-curing type resin composition
JP2006052196A (en) New terpene alcohol-based compound
JP2006003852A (en) Photosensitive composition
JPS58225085A (en) Acetal glycol diacrylate and its preparation
JPH09235321A (en) New ester and its use
JP2008248215A (en) Hydrogenated terpenephenol (meth)acrylate resin and resin composition
JP7358583B2 (en) Photosensitive resin composition and equipment for applying it
US6242057B1 (en) Photoreactor composition and applications therefor
JP2005015396A (en) New alicyclic vinyl ether
JPH03236349A (en) Bifunctional (meth)acrylic acid ester and its production
JP2004175769A (en) Pentacyclopentadecanediol and derivative thereof
JP2962805B2 (en) Curable resin composition
JPH04253716A (en) New actinic radiation-curable resin composition
JP2017036236A (en) Novel ethyladamantyldi(meth) acrylate compound and method for producing the same
JPH10259162A (en) New (meth)acrylic acid derivative and curing type resin composition containing the same
JP2005275334A (en) Photosensitive composition
JPS6114191B2 (en)
JP5256635B2 (en) Novel alicyclic compound, method for producing novel alicyclic compound, and polymer composition
JPS61266403A (en) Resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061208

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090812

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091008

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100908

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101102

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101201

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20101201

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131217

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees