JP2005343892A - Silicon compound - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new silicon compound having the ability to initiate a living radical polymerization of an addition-polymerizable monomer, to provide a polymer obtained using the silicon compound, and to obtain an organic-inorganic composite material with definite structure through offering the polymer. <P>SOLUTION: The new silicon compound is represented by formula(1)( wherein, R<SP>1</SP>is H, an alkyl, aryl or arylalkyl; R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are each an alkyl, phenyl or cyclohexyl; and A is a group having the ability to initiate a polymerization of a monomer ). The polymer obtained by using this silicon compound is also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、付加重合性単量体に対して重合開始能を有することを特徴とする新規なケイ素化合物、その製造法およびこれを用いて得られる重合体に関する。 The present invention relates to a novel silicon compound having a polymerization initiating ability with respect to an addition polymerizable monomer, a method for producing the same, and a polymer obtained using the same.

重合体は、汎用的な構造形成材料としてのみならず、高度な機能や性能を有する高付加価値型材料として様々な分野で利用されるようになってきた。それに伴い、高分子材料を精密な設計のもとに製造することの重要性が増している。シルセスキオキサンを無機成分として含む有機−無機複合材料として、ジメチルシロキシ基を有するかご型のシルセスキオキサン誘導体が注目されている。これは、有機/無機ハイブリッド材料の前駆体、低誘電材料、光学結晶、液晶表示素子を形成する材料等への利用が期待されているためであり、その理由はこのシルセスキオキサン誘導体がシリカやゼオライトに似た構造を有することにある。そして、ジメチルシロキシ基に水酸基(非特許文献1)、エポキシ基(非特許文献2)またはメタクリロイルオキシ基(非特許文献3)が結合したかご型シルセスキオキサンが報告されている。これらの官能基を利用して、有機重合体とシルセスキオキサンとの、いわゆる有機−無機複合材料が調製されている。メタクリロイルオキシ基を有するかご型シルセスキオキサンを、単独でまたは他のアクリル系単量体の共存下でラジカル重合させることにより、有機−無機複合材料を得ることができる。 Polymers have been used in various fields not only as general-purpose structure-forming materials but also as high-value-added materials having advanced functions and performance. Along with this, the importance of manufacturing polymer materials based on precise design is increasing. As an organic-inorganic composite material containing silsesquioxane as an inorganic component, a cage-type silsesquioxane derivative having a dimethylsiloxy group has attracted attention. This is because it is expected to be used as a precursor of an organic / inorganic hybrid material, a low dielectric material, an optical crystal, a material for forming a liquid crystal display element, etc., because the silsesquioxane derivative is silica. And having a structure similar to zeolite. A cage-type silsesquioxane in which a hydroxyl group (Non-Patent Document 1), an epoxy group (Non-Patent Document 2) or a methacryloyloxy group (Non-Patent Document 3) is bonded to a dimethylsiloxy group has been reported. Using these functional groups, so-called organic-inorganic composite materials of an organic polymer and silsesquioxane have been prepared. An organic-inorganic composite material can be obtained by radical polymerization of a cage-type silsesquioxane having a methacryloyloxy group alone or in the presence of another acrylic monomer.

高分子材料の機能を目的に合わせて最適化するためには、重合体の分子的な性質や分子集合体としての性質を精密に解析することが必要であり、そのためには構造の明確な重合体を用いなければならない。しかしながら、従来の有機−無機複合材料は、上記の複合材料を含めて、構造制御された重合体を有機成分として含んでいない。多くはシルセスキオキサンと有機重合体との機械的なブレンド等により得られているので、複合体の分子集合体としての構造を制御することは極めて困難であった。そこで、重合開始剤を用いることによって重合体の構造を制御することが試みられるようになった。非特許文献4には、α−ハロエステル基がスチレン系単量体およびメタアクリル酸系単量体に対する、リビングラジカル重合の良好な開始剤であることが開示されているが、α−ハロエステル基を有するシルセスキオキサン誘導体は、現在まで知られていなかった。
J. Am. Chem. Soc., 122 (2000), 6979- Chemistry of Materials, 8 (1996), 1592- Macromolecules, 29 (1996), 2327- Chem. Rev., 101 (2001), 2921-
In order to optimize the function of a polymer material according to the purpose, it is necessary to precisely analyze the molecular properties of the polymer and the properties of the molecular assembly. You must use coalescence. However, conventional organic-inorganic composite materials, including the above-described composite materials, do not contain a structure-controlled polymer as an organic component. Many of them are obtained by mechanical blending of silsesquioxane and an organic polymer, and therefore it is extremely difficult to control the structure of the complex as a molecular assembly. Thus, attempts have been made to control the structure of the polymer by using a polymerization initiator. Non-Patent Document 4 discloses that an α-haloester group is a good initiator for living radical polymerization with respect to a styrene monomer and a methacrylic acid monomer. Silsesquioxane derivatives having a group have not been known to date.
J. Am. Chem. Soc., 122 (2000), 6979- Chemistry of Materials, 8 (1996), 1592- Macromolecules, 29 (1996), 2327- Chem. Rev., 101 (2001), 2921-

本発明の目的は、広い範囲の付加重合性単量体に対してリビングラジカル重合開始能を有する新規なケイ素化合物、およびこれを用いて得られる重合体を提供することによって、従来の有機−無機複合材料に関する上記の問題点を解決することである。 The object of the present invention is to provide a novel silicon compound having a living radical polymerization initiating ability with respect to a wide range of addition polymerizable monomers, and a polymer obtained by using the same, thereby providing a conventional organic-inorganic It is to solve the above-mentioned problems concerning the composite material.

本発明者らは、広い範囲の付加重合性単量体に対してリビングラジカル重合開始能を有する官能基を持った、下記の式(1)で示されるダブルデッカー(オクタシルセスキオキサンのかご型構造の2つの角が壊れた構造)構造のシルセスキオキサン骨格を有するケイ素化合物を見出した。そして、このケイ素化合物が、上記の問題点を解決するために有効であることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。即ち、本発明は下記の構成を有する。 The present inventors have disclosed a double-decker (octacylsesquioxane cage represented by the following formula (1)) having a functional group having a living radical polymerization initiating ability for a wide range of addition polymerizable monomers. A silicon compound having a silsesquioxane skeleton having a structure in which two corners of the mold structure are broken was found. And it discovered that this silicon compound was effective in order to solve said problem, and completed this invention based on this knowledge. That is, the present invention has the following configuration.

[1] 式(1)で示されるケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは単量体に対する重合開始能を有する基である。 [1] Silicon compound represented by formula (1):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A is a group capable of initiating polymerization on a monomer. .

[2] それぞれのRが水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが単量体に対するリビングラジカル重合開始能を有する基である、[1]項に記載のケイ素化合物。 [2] Each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyls composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A is the ability to initiate living radical polymerization on monomers A group having [1] The silicon compound according to claim.

[3] それぞれのRが水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−1)、式(2−2)、式(2−3)および式(2−4)のいずれかで示される基である、[1]項に記載のケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;

Figure 2005343892
ここに、RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 [3] Each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Is a group independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl having carbon atoms, phenyl and cyclohexyl; and A is a formula (2-1), formula (2-2), formula (2-3) And a group represented by any one of formulas (2-4), [1] The silicon compound according to claim:

Figure 2005343892
Where Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is replaced by —O—. R 4 is hydrogen, alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms, or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; R 5 is 1 Alkyl having -20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; and X 1 is halogen;

Figure 2005343892
Here, Z 3 is an alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is 1 to 3 A is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is relative to the bonding position of Z 3 ; In the ortho-position, meta-position or para-position, and the bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 3 and —SO 2 X 2 ;

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any alkylene —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 is Z 5 and Z Any position except for each of the 7 binding positions;

Figure 2005343892
Where R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms; R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring with N; Z 5 may have 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—. Z 7 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is Alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para with respect to the bonding position of Z 7 , R 7 is bonded to each of Z 5 and Z 7 It is an arbitrary position excluding the coupling position.

[4] それぞれのRが水素および炭素原子の数が1〜30であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキルから独立して選択される基である、[3]項に記載のケイ素化合物。 [4] Each R 1 has 1 to 30 hydrogen and carbon atoms, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — is replaced with —O— or cycloalkylene The silicon compound according to item [3], which is a group independently selected from alkyls that may be present.

[5] それぞれのRが炭素原子の数が2〜20であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルケニルおよび炭素原子の数が1〜20であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして少なくとも1つの−CH−がシクロアルケニレンで置き換えられるアルキルから独立して選択される基である、[3]項に記載のケイ素化合物。 [5] Each R 1 has 2 to 20 carbon atoms, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O— or cycloalkylene. is the number of an alkenyl and carbon atoms is 1 to 20, optional hydrogen may be replaced by fluorine, and at least one -CH 2 - is a radical independently selected from alkyl is replaced by cycloalkenylene The silicon compound according to item [3].

[6] それぞれのRが任意の水素がハロゲンまたは1〜10個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニルおよび非置換のナフチルから独立して選択される基であり;フェニルの置換基であるアルキルにおいて、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはフェニレンで置き換えられてもよく;そして、フェニルが複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、[3]項に記載のケイ素化合物。 [6] each R 1 is a group independently selected from phenyl and unsubstituted naphthyl in which any hydrogen may be replaced by halogen or alkyl having 1 to 10 carbon atoms; In the group alkyl, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or phenylene; and When the phenyl has a plurality of substituents, the substituents may be the same group or different groups, and the silicon compound according to item [3].

[7] それぞれのRが任意の水素がハロゲンまたは1〜12個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜12であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから独立して選択される基であり;フェニル基の置換基であるアルキルにおいて、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはフェニレンで置き換えられてもよく;そして、フェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、[3]項に記載のケイ素化合物。 [7] Each R 1 is optionally substituted with any hydrogen or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group and the number of carbon atoms is 1 to 12, and any hydrogen is fluorine A group independently selected from phenylalkyl which may be substituted and composed of any —CH 2 — with an alkylene group optionally substituted with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. Yes; in the alkyl that is the substituent of the phenyl group, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or phenylene. And when the phenyl group has a plurality of substituents, these substituents may be the same group or different groups, [3] Silicon compound as described in.

[8] それぞれのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから独立して選択される基であり;そして、フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、[3]項に記載のケイ素化合物。 [8] Each R 1 has 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl and any hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. A group independently selected from phenylalkyl composed of an alkylene group; and a plurality of phenyl or phenylalkyl phenyl groups When having a substituent, the substituents may be different groups may be the same group, [3] The silicon compound according to claim.

[9] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;そして、フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、[3]項に記載のケイ素化合物。 [9] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl and any hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. And the same group selected from phenylalkyls composed of alkylene groups; and phenyl or phenylalkyl phenyl groups When having a group, those substituents may be different groups may be the same group, [3] The silicon compound according to claim.

[10] すべてのRがフェニルである、[3]項に記載のケイ素化合物。 [10] The silicon compound according to item [3], wherein all R 1 are phenyl.

[11] すべてのRがフェニルであり、そしてRおよびRがメチルである、[3]項に記載のケイ素化合物。 [11] The silicon compound according to item [3], wherein all R 1 is phenyl, and R 2 and R 3 are methyl.

[12] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−1)で示される基である、[3]項に記載のケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである。 [12] All R 1 s have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl and any hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. The same group selected from the group consisting of an alkylene group and a phenylalkyl; The substituents may be the same or different groups; and A is a group represented by the formula (2-1), according to item [3] Silicon compounds:

Figure 2005343892
Where Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is replaced by —O—. R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; R 5 is 1 Alkyl having -20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; and X 1 is halogen.

[13] すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−1)で示される基であり;そして、式(2−1)におけるZが炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである、[3]項に記載のケイ素化合物。 [13] All R 1 's are phenyl; A is a group represented by the formula (2-1); and Z 1 in the formula (2-1) has 2 to 10 carbon atoms, The silicon compound according to item [3], wherein any —CH 2 — is alkylene which may be replaced by —O—.

[14] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−1)で示される基であり;そして、式(2−1)において、Zが−C−、−C−または−C−O−C−であり、RおよびRがメチルであり、そしてXが臭素である、[3]項に記載のケイ素化合物。 [14] All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by the formula (2-1); and in the formula (2-1), Z 1 is —C 2 H 4 —, —C 3 H 6 — or —C 2 H 4 —O—C 3 H 6 —, R 4 and R 5 are methyl, and X 1 is bromine [3 ] The silicon compound of a term.

[15] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンでで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−2)で示される基である、[3]項に記載のケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 [15] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl and any hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; phenyl or phenylalkyl of phenylalkyl is a plurality of substituents When they are present, the substituents may be the same or different; and A is a group represented by the formula (2-2), according to the item [3] Silicon compounds:

Figure 2005343892
Here, Z 3 is an alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is 1 to 3 A is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is relative to the bonding position of Z 3 ; In the ortho-position, meta-position or para-position, the bond position of R 6 is an arbitrary position excluding the bond positions of Z 3 and —SO 2 X 2 .

[16] すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−2)で示される基であり;式(2−2)におけるZが−C−Zであり;そして、Zが単結合、または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH−が−O−または−COO−で置き換えられてもよいアルキレンである、[3]項に記載のケイ素化合物。 [16] All R 1 is phenyl; A is a group represented by the formula (2-2); Z 3 in the formula (2-2) is —C 2 H 4 —Z 9 ; Z 9 is a single bond, or the number of carbon atoms is 1 to 8, and any —CH 2 — is alkylene which may be replaced by —O— or —COO—, Silicon compound.

[17] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−2)で示される基であり;そして、式(2−2)において、Zが−C−であり、Xが塩素または臭素であり、そしてaが0である、[3]項に記載のケイ素化合物。 [17] All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by formula (2-2); and in formula (2-2), Z 3 is The silicon compound according to item [3], which is —C 2 H 4 —, X 2 is chlorine or bromine, and a is 0.

[18] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−3)で示される基である、[3]項に記載のケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 [18] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl and any hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. The same group selected from the group consisting of an alkylene group and a phenylalkyl; The substituents may be the same group or different groups; and A is a group represented by the formula (2-3), according to item [3] Silicon compounds:

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any alkylene —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is an alkyl having 1 to 3 carbon atoms; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 is Z 5 and Z 7 is an arbitrary position excluding each coupling position.

[19] すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−3)で示される基であり;式(2−3)におけるZが−C−Z10であり;そして、Z10が単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、[3]項に記載のケイ素化合物。 [19] all R 1 is phenyl; A is a group represented by formula (2-3); Z 7 in formula (2-3) is —C 2 H 4 —Z 10 ; and The item [3], wherein Z 10 is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—. The silicon compound as described in.

[20] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−3)で示される基であり;そして、式(2−3)において、Zが−CH−であり、Zが−C−であり、Xが塩素または臭素であり、そしてaが0である、[3]項に記載のケイ素化合物。 [20] All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by formula (2-3); and in formula (2-3), Z 5 is The silicon compound according to item [3], which is —CH 2 —, Z 7 is —C 2 H 4 —, X 3 is chlorine or bromine, and a is 0.

[21] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−4)で示される基である、[3]項に記載のケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 [21] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl and any hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. The same group selected from the group consisting of an alkylene group and phenylalkyl; the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents; The substituents may be the same group or different groups; and A is a group represented by the formula (2-4), according to item [3] Silicon compounds:

Figure 2005343892
Where R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms; R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring with N; Z 5 may have 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—. Z 7 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is Alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para with respect to the bonding position of Z 7 , R 7 is bonded to each of Z 5 and Z 7 It is an arbitrary position excluding the coupling position.

[22] すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−4)で示される基であり;そして、式(2−4)において、Zが−C−Z10であり、Z10が単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、[3]項に記載のケイ素化合物。 [22] All R 1 are phenyl; A is a group represented by the formula (2-4); and in the formula (2-4), Z 7 is —C 2 H 4 —Z 10 , Z 10 is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—, [3] The silicon compound as described in.

[23] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−4)で示される基であり;そして、式(2−4)において、RおよびRがエチルであり、Zが−CH−であり、Zが−C−であり、そしてaが0である、[3]項に記載のケイ素化合物。 [23] All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by formula (2-4); and in formula (2-4), R 8 and The silicon compound according to item [3], wherein R 9 is ethyl, Z 5 is —CH 2 —, Z 7 is —C 2 H 4 —, and a is 0.

[24] 工程(a)によって式(5)で示される化合物を得、さらに工程(b)についで工程(c)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−1−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;
<工程(a)>
式(3−1)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式において、R、RおよびRは式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させ、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるZは式(2−1−1)におけるZと同一の意味を有し、式(7)におけるR、RおよびRは式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(c)>
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させ、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892
ここに、R、RおよびXは式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。 [24] A silicon compound represented by the formula (1-1), wherein the compound represented by the formula (5) is obtained by the step (a), and the step (c) is carried out after the step (b). Manufacturing method:

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 1 is a group of formula (2-1-1):

Figure 2005343892
Here, Z 2 is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen;
<Process (a)>
A step of obtaining a compound represented by the formula (5) by reacting the compound represented by the formula (3-1) with the compound represented by the formula (4):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, in these formulas, R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as those symbols in formula (1-1); M is a monovalent alkali metal atom;
<Step (b)>
A step of reacting a compound represented by the formula (5) with a compound represented by the formula (6) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a silicon compound represented by the formula (7):

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, Z 2 in these formulas have the same meanings as Z 2 in Formula (2-1-1), R 1, R 2 and R 3 in the formula (7) in Formula (1-1) Has the same meaning as these symbols;
<Step (c)>
A step of reacting a compound represented by the formula (7) with a compound represented by the formula (8) to obtain a silicon compound represented by the formula (1-1):

Figure 2005343892
Here, R 4 , R 5 and X 1 have the same meaning as these symbols in formula (2-1-1); X is halogen.

[25] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[24]項に記載の製造方法。 [25] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms A phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; phenyl or phenylalkyl of phenylalkyl is a plurality of substituents When having, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms The production method according to item [24], which is a group selected as above.

[26] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[24]項に記載の製造方法。 [26] The production method of the item [24], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[27] 工程(d)によって式(5)で示される化合物を得、さらに工程(b)についで工程(c)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−1−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;
<工程(d)>
式(3−2)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるR、RおよびRは、式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させ、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるZは式(2−1−1)におけるZと同一の意味を有し、式(7)におけるR、RおよびRは式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(c)>
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させ、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892
ここに、R、RおよびXは式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。 [27] A silicon compound represented by the formula (1-1), wherein the compound represented by the formula (5) is obtained by the step (d), and the step (c) is carried out after the step (b). Manufacturing method:

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 1 is a group of formula (2-1-1):

Figure 2005343892
Here, Z 2 is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen;
<Step (d)>
A step of obtaining a compound represented by the formula (5) by reacting a compound represented by the formula (3-2) with a compound represented by the formula (4):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 , R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1-1).
<Step (b)>
A step of reacting a compound represented by the formula (5) with a compound represented by the formula (6) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a silicon compound represented by the formula (7):

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, Z 2 in these formulas have the same meanings as Z 2 in Formula (2-1-1), R 1, R 2 and R 3 in the formula (7) in Formula (1-1) Has the same meaning as these symbols;
<Step (c)>
A step of reacting a compound represented by the formula (7) with a compound represented by the formula (8) to obtain a silicon compound represented by the formula (1-1):

Figure 2005343892
Here, R 4 , R 5 and X 1 have the same meaning as these symbols in formula (2-1-1); X is halogen.

[28] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[27]項に記載の製造方法。 [28] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; phenyl or phenylalkyl of phenylalkyl is a plurality of substituents When having, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms The production method according to item [27], which is a group selected as above.

[29] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[27]項に記載の製造方法。 [29] The production method according to item [27], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[30] 工程(e)についで工程(f)を実施することを特徴とする、式(1−3)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレンまたはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−3−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(e)>
式(4)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物、または式(3−2)で示される化合物を反応させて、式(5)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるR、RおよびRは式(1−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
<工程(f)>
式(5)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物を反応させ、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892
ここに、Z、Z、R、aおよびXは式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である。 [30] A method for producing a silicon compound represented by the formula (1-3), wherein the step (f) is performed after the step (e):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Alkyl which may be replaced with cycloalkylene or cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — —O—, —CH═CH— or a group independently selected from arylalkyl composed of an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 carbons; A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having an atom; and A 3 is a group of formula (2-3-1):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 6 is a single bond or 1 carbon atom. a 8 arbitrary -CH 2 - -O -, - COO- or -OCO- in be replaced may be alkylene; R 7 is alkyl having 1-3 carbon atoms; a Is an integer from 0 to 2; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 6 , and the bonding position of R 7 is Any position except for the respective bonding positions of Z 5 and Z 6 ;
<Process (e)>
A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (3-1) or a compound represented by the formula (3-2) to obtain a silicon compound represented by the formula (5):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Wherein R 1 , R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as these symbols in formula (1-3); M is a monovalent alkali metal atom;
<Step (f)>
A step of reacting a compound represented by the formula (5) with a compound represented by the formula (2-3-2) to obtain a silicon compound represented by the formula (1-3):

Figure 2005343892
Here, Z 5 , Z 6 , R 7 , a and X 3 have the same meaning as these symbols in formula (2-3-1); the bonding position of Z 5 and R 7 to the benzene ring is These bond positions are the same as those in formula (2-3-1).

[31] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と任意の炭素原子の数が1〜8であって−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[30]項に記載の製造方法。 [31] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy having 1 to 8 carbon atoms and —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl group of phenyl or phenylalkyl is a plurality of substituents When having, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms [30] The production method according to item [30], wherein

[32] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[30]項に記載の製造方法。 [32] The production method according to the item [30], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[33] 式(1−3)で示されるケイ素化合物と式(9)で示される化合物とを反応させることを特徴とする式(1−4)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;Aは式(2−4−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;

Figure 2005343892
ここに、R、RおよびRは式(1−4)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Aは式(2−3−1)で示される基である;

Figure 2005343892
ここに、Z、Z、Rおよびaは式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンであり;ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−4−1)におけるこれらの結合位置と同一である;

Figure 2005343892
ここに、RおよびRは式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは周期律表第1族または第2族の金属元素であり;そして、pはMの原子価と同じ値である。 [33] A method for producing a silicon compound represented by formula (1-4), comprising reacting a silicon compound represented by formula (1-3) with a compound represented by formula (9):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having carbon atoms; A 4 is a group of formula (2-4-1):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 6 is a single bond or 1 carbon atom. a 8 arbitrary -CH 2 - -O -, - COO-, or replaced by -OCO- be alkylene be; R 8 and R 9 are independently hydrogen, 1 to 12 carbons Alkyl having atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 may be bonded together to form a ring with N R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bond position of Z 5 to the benzene ring is meta-position to the bond position of Z 6 or In the para position, the bonding position of R 7 is Z 5 and Z Any position except for each of the 6 binding positions;

Figure 2005343892
Here, R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as these symbols in formula (1-4); A 3 is a group represented by formula (2-3-1);

Figure 2005343892
Where Z 5 , Z 6 , R 7 and a have the same meaning as these symbols in formula (2-4-1); X 3 is halogen; Z 5 and R 7 to the benzene ring Are the same as those in formula (2-4-1);

Figure 2005343892
Where R 8 and R 9 have the same meaning as these symbols in formula (2-4-1); M 1 is a metal element of Group 1 or Group 2 of the Periodic Table; p is the same value as the valence of M 1 .

[34] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[33]項に記載の製造方法。 [34] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen substituted with fluorine, 1 to 4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl group of phenyl or phenylalkyl is a plurality of substituents When having, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms The production method according to the item [33], which is a group selected as above.

[35] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[33]項に記載の製造方法。 [35] The production method of the item [33], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[36] 工程(g)についで工程(h)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;Aは式(2−1−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;
<工程(g)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−1−2)で示される化合物とを反応させて、式(2−1−3)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRおよびRは、式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Z、R、RおよびXは式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(h)>
式(2−1−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRは、式(1−1)におけるRと同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。 [36] A method for producing a silicon compound represented by the formula (1-1), wherein the step (h) is performed after the step (g):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; A 1 is a group of formula (2-1-1):

Figure 2005343892
Here, Z 2 is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen;
<Process (g)>
A step of obtaining a compound represented by the formula (2-1-3) by reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (2-1-2) in the presence of a transition metal catalyst. :

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1-1); Z 2 , R 4 , R 5 and X 1 are the formulas (2-1-1- Have the same meaning as these symbols in 1);
<Step (h)>
By reacting the compound represented by the formula (2-1-3) with the compound represented by the formula (3-1) or the compound represented by the formula (3-2), it is represented by the formula (1-1). Obtaining a silicon compound:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 in these formulas has the same meaning as R 1 in formula (1-1); M is a monovalent alkali metal atom.

[37] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[36]項に記載の製造方法。 [37] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; phenyl or phenylalkyl of phenylalkyl is a plurality of substituents When having, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms The production method according to item [36], which is a group selected as above.

[38] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[36]項に記載の製造方法。 [38] The production method according to the item [36], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[39] 工程(i)についで工程(j)を実施することを特徴とする、式(1−2)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−2−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(i)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−2−2)で示される化合物とを反応させ、式(2−2−3)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRおよびRは、式(1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Z、R、aおよびXは、式(2−2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環への−SOおよびRの結合位置は式(2−2−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
<工程(j)>
式(2−2−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させて、式(1−2)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRは、式(1−1)におけるRと同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。 [39] A method for producing a silicon compound represented by formula (1-2), wherein step (j) is performed after step (i):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having carbon atoms; and A 2 is a group of formula (2-2-1):

Figure 2005343892
Here, Z 4 is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is An alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; and the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is the bonding position of Z 4. On the other hand, in the ortho-position, meta-position or para-position, the bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 4 and —SO 2 X 2 ;
<Process (i)>
A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (2-2-2) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a compound represented by the formula (2-2-3):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1-2); Z 4 , R 6 , a and X 2 are the formulas (2-2-2- Have the same meaning as these symbols in 1); the bonding positions of —SO 2 X 2 and R 6 to the benzene ring are the same as these bonding positions in formula (2-2-1);
<Process (j)>
A compound represented by the formula (2-2-3) is reacted with a compound represented by the formula (3-1) or a compound represented by the formula (3-2), thereby being represented by the formula (1-2). Obtaining a silicon compound:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 in these formulas has the same meaning as R 1 in formula (1-1); M is a monovalent alkali metal atom.

[40] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレンまたはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[39]項に記載の製造方法。 [40] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkyl which may be replaced with alkylene or cycloalkenylene, phenyl where optional hydrogen may be replaced with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optional hydrogen having fluorine, 1 to 4 carbon atoms The phenyl group which may be substituted with alkyl, vinyl or methoxy has 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or cycloalkylene. The same group selected from the group consisting of an alkylene group and a phenylalkyl; When, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms The production method according to the item [39], which is a group selected as above.

[41] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[39]項に記載の製造方法。 [41] The production method of the item [39], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[42] 工程(k)についで工程(l)を実施することを特徴とする、式(1−3)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−3−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(k)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物とを反応させて、式(2−3−3)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRおよびRは、式(1−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Z、Z、R、a、およびXは、式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
<工程(l)>
式(2−3−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることで、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRは、式(1−3)におけるRと同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。 [42] A method for producing a silicon compound represented by formula (1-3), wherein step (l) is performed after step (k):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 3 is a group of formula (2-3-1):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 6 is a single bond or 1 carbon atom. a 8 arbitrary -CH 2 - -O -, - COO- or -OCO- in be replaced may be alkylene; R 7 is alkyl having 1-3 carbon atoms; a Is an integer from 0 to 2; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 6 , and the bonding position of R 7 is Any position except for the respective bonding positions of Z 5 and Z 6 ;
<Process (k)>
A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (2-3-2) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a compound represented by the formula (2-3-3). :

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as these symbols in formula (1-3); Z 5 , Z 6 , R 7 , a, and X 3 are represented by the formula ( Have the same meaning as these symbols in 2-3-1); the bonding positions of Z 5 and R 7 to the benzene ring are the same as these bonding positions in formula (2-3-1);
<Step (l)>
By reacting the compound represented by the formula (2-3-3) with the compound represented by the formula (3-1) or the compound represented by the formula (3-2), it is represented by the formula (1-3). Obtaining a silicon compound:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 in these formulas has the same meaning as R 1 in formula (1-3); M is a monovalent alkali metal atom.

[43] すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、[42]項に記載の製造方法。 [43] All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl group of phenyl or phenylalkyl is a plurality of substituents When having, those substituents same group in a well be a different group may be; independently alkyl, cyclohexyl, phenyl and cycloalkyl having R 2 and R 3 to 8 carbon atoms The production method according to item [42], which is a group selected as above.

[44] すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、[42]項に記載の製造方法。 [44] The production method of the item [42], wherein all R 1 is phenyl; and R 2 and R 3 are methyl.

[45] [1]項に記載のケイ素化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として付加重合性単量体を重合することによって得られる重合体。 [45] A polymer obtained by polymerizing an addition polymerizable monomer using the silicon compound according to the item [1] as an initiator and a transition metal complex as a catalyst.

[46] [3]項に記載のケイ素化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として付加重合性単量体を重合することによって得られる重合体。 [46] A polymer obtained by polymerizing an addition polymerizable monomer using the silicon compound according to the item [3] as an initiator and a transition metal complex as a catalyst.

[47] 式(P−1)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−1−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、これらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Xはハロゲンであり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 [47] A polymer represented by the formula (P-1):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl An independently selected group; and B 1 is a group of formula (2-1-P):

Figure 2005343892
Here, Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is replaced by —O—. R 4 is hydrogen, alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms, or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; R 5 is 1 to 20 Alkyl having 6 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; X 1 is halogen; and P 1 is an addition polymerizable monomer It is a chain of structural units obtained by polymerization of the body.

[48] 式(P−2)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基炭素原子の数が1〜8であってと任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−2−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SO−の結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SO−のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 [48] A polymer represented by the formula (P-2):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms of the phenyl group which may be replaced by alkyl, vinyl or methoxy having 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl An independently selected group; and B 2 is a group of formula (2-2P):

Figure 2005343892
Here, Z 3 is an alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is 1 to 3 Alkyl having 1 carbon atom; a is an integer of 0 to 2; X 2 is halogen; the bonding position of —SO 2 — to the benzene ring is ortho to the bonding position of Z 3. In the position, meta position or para position, and the bonding position of R 6 is any position except the bonding positions of Z 3 and —SO 2 —; and P 2 is the polymerization of the addition polymerizable monomer Is a chain of structural units obtained by

[49] 式(P−3)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−3−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 [49] A polymer represented by the formula (P-3):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl An independently selected group; and B 3 is a group of formula (2-3-P):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any alkylene —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; X 3 is a halogen; the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 is the position of Z 5 and Z 7 P 3 is a chain of structural units obtained by polymerization of addition polymerizable monomers.

[50] 式(P−4)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−4−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。 [50] A polymer represented by the formula (P-4):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl Independently selected groups; and B 4 is a group of formula (2-4-P):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms , aryl having a cycloalkyl or 6-10 carbon atoms having 5 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring with N; R 7 is An alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 7 , R 7 bond positions are Z 5 and Z 7 bond positions. And P 4 is a chain of structural units obtained by polymerization of an addition polymerizable monomer.

[51] 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、[47]項に記載の重合体。 [51] The polymer according to item [47], wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives.

[52] 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、[48]項に記載の重合体。 [52] The polymer according to item [48], wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives.

[53] 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、[49]項に記載の重合体。 [53] The polymer according to item [49], wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives.

[54] 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、[50]項に記載の重合体。
[54] The polymer according to item [50], wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives.

本発明が提供するケイ素化合物は、シルセスキオキサン誘導体であって、優れたリビング重合性のラジカル重合開始機能を有する。本発明のケイ素化合物は、特に(メタ)アクリル酸誘導体およびスチレン誘導体に対して、優れたリビングラジカル重合促進機能を示す。例えば、本発明のケイ素化合物により(メタ)アクリル系単量体の重合を開始させて、本発明のシルセスキオキサン構造の4点を起点に(メタ)アクリル系ポリマーを形成させることが可能である。このようにして得られた中心部にシルセスキオキサン構造の有機基を有する重合体については、そのシルセスキオキサン構造の有機基同士の相互作用を積極的に利用することも可能である。これにより構造の明確な有機−無機複合材料が得られるだけでなく、この重合体の分子集合体としての構造を制御することも可能である。そして、本発明のケイ素化合物は、更に重合開始剤としての機能以外の特性も有する。例えば、α−ハロエステルが強い求電子性を有するため、本発明のケイ素化合物に求核試薬を反応させることにより、求核試薬に応じた種々のシルセスキオキサン誘導体を合成することが可能である。従って、本発明のケイ素化合物は、有機合成における中間体としても有用である。
The silicon compound provided by the present invention is a silsesquioxane derivative and has an excellent living polymerizable radical polymerization initiating function. The silicon compound of the present invention exhibits an excellent living radical polymerization promoting function, particularly with respect to (meth) acrylic acid derivatives and styrene derivatives. For example, it is possible to start polymerization of a (meth) acrylic monomer with the silicon compound of the present invention and form a (meth) acrylic polymer starting from four points of the silsesquioxane structure of the present invention. is there. With respect to the polymer having an organic group having a silsesquioxane structure at the center thus obtained, the interaction between the organic groups having the silsesquioxane structure can be positively utilized. As a result, an organic-inorganic composite material with a clear structure can be obtained, and the structure of the polymer as a molecular assembly can be controlled. And the silicon compound of this invention has also characteristics other than the function as a polymerization initiator. For example, since α-haloesters have strong electrophilicity, it is possible to synthesize various silsesquioxane derivatives according to the nucleophilic reagent by reacting the silicon compound of the present invention with a nucleophilic reagent. is there. Therefore, the silicon compound of the present invention is also useful as an intermediate in organic synthesis.

まず、本発明で用いる用語について説明する。「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意に選択できることを意味するが、個数が0である場合を含まない。任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいと記述するときには、連続する複数の−CH−が−O−で置き換えられる場合を含まない。例えば、任意の−CH−が−O−または−CH=CH−で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル、アルキルオキシアルケニルおよびアルケニルオキシアルキルが含まれる。アルキルおよびアルキレンは、いずれも直鎖の基であってよいし、分岐された基であってもよい。このことは、任意の−CH−が他の2価基で置き換えられる場合にも適用される。例えば、前記のアルキルオキシアルケニルおよびアルケニルオキシアルキルにおけるアルキル、アルケニレン、アルケニルおよびアルキレンのいずれも、直鎖の基であってよいし、分岐された基であってもよい。シクロアルキルおよびシクロアルケニルは、どちらも架橋環構造の基であってもよいし、そうでなくてもよい。(メタ)アクリル酸誘導体は、アクリル酸誘導体およびメタクリル酸誘導体の総称として用いられる。(メタ)アクリレートは、アクリレートおよびメタクリレートの総称として用いられる。(メタ)アクリロイルオキシは、アクリロイルオキシおよびメタアクリロイルオキシの総称として用いられる。 First, terms used in the present invention will be described. “Arbitrary” means that not only the position but also the number can be arbitrarily selected, but the case where the number is 0 is not included. The description that any —CH 2 — may be replaced by —O— does not include the case where a plurality of consecutive —CH 2 — are replaced by —O—. For example, alkyl in which any —CH 2 — may be replaced by —O— or —CH═CH— includes alkyl, alkoxy, alkoxyalkyl, alkenyl, alkyloxyalkenyl and alkenyloxyalkyl. Alkyl and alkylene may both be straight-chain groups or branched groups. This also applies when any —CH 2 — is replaced by another divalent group. For example, all of alkyl, alkenylene, alkenyl and alkylene in the above-mentioned alkyloxyalkenyl and alkenyloxyalkyl may be a straight-chain group or a branched group. Both cycloalkyl and cycloalkenyl may or may not be a bridged ring structure group. A (meth) acrylic acid derivative is used as a general term for an acrylic acid derivative and a methacrylic acid derivative. (Meth) acrylate is used as a general term for acrylate and methacrylate. (Meth) acryloyloxy is used as a general term for acryloyloxy and methacryloyloxy.

本発明のケイ素化合物は式(1)で示される。以下の説明では、式(1)で示される化合物を化合物(1)と表記することがある。他の式で表される化合物についても、同様の簡略化法によって表記することがある。

Figure 2005343892
式(1)におけるそれぞれのRは、水素、炭素原子の数が1〜45のアルキル、置換もしくは非置換のアリールおよび置換もしくは非置換のアリールアルキルから独立して選択される基である。すべてのRが同じ1つの基であることが好ましいが、異なる2つ以上の基で構成されていてもよい。8個のRが異なる基で構成される場合の例は、2つ以上のアルキルで構成される場合、2つ以上のアリールで構成される場合、2つ以上のアリールアルキルで構成される場合、水素と少なくとも1つのアリールとで構成される場合、少なくとも1つのアルキルと少なくとも1つのアリールとで構成される場合、少なくとも1つのアルキルと少なくとも1つのアリールアルキルとで構成される場合、少なくとも1つのアリールと少なくとも1つのアリールアルキルとで構成される場合等である。これらの例以外の組み合わせでもよい。少なくとも2つの異なるRを有する化合物(1)は、これを製造する際に2つ以上の原料を用いることにより得ることができる。この原料については後に述べる。 The silicon compound of the present invention is represented by the formula (1). In the following description, the compound represented by formula (1) may be referred to as compound (1). The compounds represented by other formulas may be represented by the same simplification method.

Figure 2005343892
Each R 1 in formula (1) is a group independently selected from hydrogen, alkyl having 1 to 45 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl and substituted or unsubstituted arylalkyl. All R 1 are preferably the same group, but may be composed of two or more different groups. Examples of the case where eight R 1 are composed of different groups are composed of two or more alkyls, composed of two or more aryls, or composed of two or more arylalkyls , When composed of hydrogen and at least one aryl, when composed of at least one alkyl and at least one aryl, when composed of at least one alkyl and at least one arylalkyl, at least one For example, it is composed of aryl and at least one arylalkyl. Combinations other than these examples may be used. The compound (1) having at least two different R 1 can be obtained by using two or more raw materials when producing the compound (1). This raw material will be described later.

がアルキルであるとき、その炭素原子の数は1〜45である。好ましい炭素原子の数は1〜30である。より好ましい炭素原子の数は1〜8である。その任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−は−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。アルキルの好ましい例は、1〜30個の炭素原子を有する非置換のアルキル、2〜29個の炭素原子を有するアルコキシアルキル、炭素原子の数が1〜8であり、そして1つの−CH−がシクロアルキレンで置き換えられるアルキル、2〜20個の炭素原子を有するアルケニル、3〜20個の炭素原子を有するアルケニルオキシアルキル、3〜20個の炭素原子を有するアルキルオキシアルケニル、炭素原子の数が1〜8であり、そして1つの−CH−がシクロアルケニレンで置き換えられるアルキル、およびここに挙げたこれらの基において任意の水素がフッ素で置き換えられる基である。シクロアルキレンおよびシクロアルケニレンの好ましい炭素原子の数は3〜8である。 When R 1 is alkyl, the number of carbon atoms is 1-45. The preferred number of carbon atoms is 1-30. The number of carbon atoms is more preferably 1-8. The optional hydrogen may be replaced with fluorine, and the optional —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or cycloalkenylene. Preferred examples of alkyl are unsubstituted alkyl having 1 to 30 carbon atoms, alkoxyalkyl having 2 to 29 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, and one —CH 2 —. Is substituted with cycloalkylene, alkenyl having 2 to 20 carbon atoms, alkenyloxyalkyl having 3 to 20 carbon atoms, alkyloxyalkenyl having 3 to 20 carbon atoms, the number of carbon atoms Alkyls in which 1 to 8 and one —CH 2 — is replaced by cycloalkenylene, and groups in which any hydrogen in these groups listed here is replaced by fluorine. The preferred number of carbon atoms in cycloalkylene and cycloalkenylene is 3-8.

1〜30個の炭素原子を有する非置換のアルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキシル、1,1,2−トリメチルプロピル、ヘプチル、オクチル、2,4,4−トリメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、ドコシル、トリアコンチル等である。 Examples of unsubstituted alkyl having 1 to 30 carbon atoms are methyl, ethyl, propyl, 1-methylethyl, butyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylethyl, pentyl, hexyl, 1,1, 2-trimethylpropyl, heptyl, octyl, 2,4,4-trimethylpentyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, docosyl, triacontyl and the like.

1〜30個の炭素原子を有するフッ素化アルキルの例は、2−フルオロエチル、2、2−ジフルオロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、ヘキサフルオロプロピル、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル、パーフルオロ−1H,1H,2H,2H−ドデシル、パーフルオロ−1H,1H,2H,2H−テトラデシル等である。 Examples of fluorinated alkyls having 1 to 30 carbon atoms are 2-fluoroethyl, 2,2-difluoroethyl, 3,3,3-trifluoropropyl, hexafluoropropyl, nonafluoro-1,1,2, 2-tetrahydrohexyl, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl, heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl, perfluoro-1H, 1H, 2H, 2H-dodecyl, perfluoro -1H, 1H, 2H, 2H-tetradecyl and the like.

2〜29個の炭素原子を有するアルコキシアルキルおよびフッ素化アルコキシアルキルの例は、3−メトキシプロピル、メトキシエトキシウンデシル、2−フルオロエチルオキシプロピル、2,2,2−トリフルオロエチルオキシプロピル、2−フルオロ−1−フルオロメチルエチルオキシプロピル、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルオキシプロピル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルオキシプロピル、ヘキサフルオロイソプロピルオキシプロピル、ヘプタフルオロイソプロピルオキシプロピル、ヘキサフルオロブチルオキシプロピル、ヘプタフルオロブチルオキシプロピル、オクタフルオロイソブチルオキシプロピル、オクタフルオロペンチルオキシプロピル、2−フルオロエチルオキシブチル、2,2,2−トリフルオロエチルオキシブチル、2−フルオロ−1−フルオロメチルエチルオキシブチル、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルオキシブチル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルオキシブチル、ヘキサフルオロイソプロピルオキシブチル、ヘキサフルオロブチルオキシブチル、ヘプタフルオロブチルオキシブチル、オクタフルオロイソブチルオキシブチル、オクタフルオロペンチルオキシブチル、2−フルオロエチルオキシイソブチル、2,2,2−トリフルオロエチルオキシイソブチル、2−フルオロ−1−フルオロメチルエチルオキシイソブチル、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルオキシイソブチル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルオキシイソブチル、ヘキサフルオロイソプロピルオキシイソブチル、ヘキサフルオロブチルオキシイソブチル、ヘプタフルオロブチルオキシイソブチル、オクタフルオロイソブチルオキシイソブチル、オクタフルオロペンチルオキシイソブチル等である。 Examples of alkoxyalkyl having 2 to 29 carbon atoms and fluorinated alkoxyalkyl are 3-methoxypropyl, methoxyethoxyundecyl, 2-fluoroethyloxypropyl, 2,2,2-trifluoroethyloxypropyl, 2 -Fluoro-1-fluoromethylethyloxypropyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyloxypropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyloxypropyl, hexafluoroisopropyloxypropyl, heptafluoroisopropyl Oxypropyl, hexafluorobutyloxypropyl, heptafluorobutyloxypropyl, octafluoroisobutyloxypropyl, octafluoropentyloxypropyl, 2-fluoroethyloxybutyl, 2,2,2-trif Oroethyloxybutyl, 2-fluoro-1-fluoromethylethyloxybutyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyloxybutyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyloxybutyl, hexafluoroisopropyl Oxybutyl, hexafluorobutyloxybutyl, heptafluorobutyloxybutyl, octafluoroisobutyloxybutyl, octafluoropentyloxybutyl, 2-fluoroethyloxyisobutyl, 2,2,2-trifluoroethyloxyisobutyl, 2-fluoro- 1-fluoromethylethyloxyisobutyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyloxyisobutyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyloxyisobutyl, hexafluoroisopropyloxyisobutyl Hexafluorobutyl oxy isobutyl, heptafluorobutyl oxy isobutyl, octafluoroisobutyl oxy isobutyl, a octafluoropentyloxy isobutyl and the like.

炭素原子の数が1〜8であり、そして1つの−CH−がシクロアルキレンで置き換えられるアルキルの例は、シクロヘキシルメチル、アダマンタンエチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、2−ビシクロヘプチル、シクロオクチル等である。シクロヘキシルは、メチルの−CH−がシクロへキシレンで置き換えられる例である。シクロヘキシルメチルは、エチルのβ位の−CH−がシクロへキシレンで置き換えられる例である。 Examples of alkyl having 1 to 8 carbon atoms and wherein one —CH 2 — is replaced by cycloalkylene are cyclohexylmethyl, adamantaneethyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 2-bicycloheptyl, cyclooctyl and the like. Cyclohexyl is an example where methyl —CH 2 — is replaced by cyclohexylene. Cyclohexylmethyl is an example in which —CH 2 — in the β-position of ethyl is replaced by cyclohexylene.

2〜20個の炭素原子を有するアルケニルの例は、ビニル、2−プロペニル、3−ブテニル、5−ヘキセニル、7−オクテニル、10−ウンデセニル、21−ドコセニル等である。3〜20個の炭素原子を有するアルケニルオキシアルキルの例はアリルオキシウンデシルである。炭素原子の数が1〜8であり、そして1つの−CH−がシクロアルケニレンで置き換えられるアルキルの例は、2−(3−シクロヘキセニル)エチル、5−(ビシクロヘプテニル)エチル、2−シクロペンテニル、3−シクロヘキセニル、5−ノルボルネン−2−イル、4−シクロオクテニル等である。 Examples of alkenyl having 2 to 20 carbon atoms are vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 5-hexenyl, 7-octenyl, 10-undecenyl, 21-docosenyl and the like. An example of an alkenyloxyalkyl having 3 to 20 carbon atoms is allyloxyundecyl. Examples of alkyl having 1 to 8 carbon atoms and wherein one —CH 2 — is replaced by cycloalkenylene are 2- (3-cyclohexenyl) ethyl, 5- (bicycloheptenyl) ethyl, 2- And cyclopentenyl, 3-cyclohexenyl, 5-norbornen-2-yl, 4-cyclooctenyl and the like.

式(1)におけるRが置換もしくは非置換のアリールである場合の例は、任意の水素がハロゲンまたは1〜10個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニルおよび非置換のナフチルである。ハロゲンの好ましい例は、フッ素、塩素および臭素である。フェニルの置換基であるアルキルにおいては、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−は−O−、−CH=CH−またはフェニレンで置き換えられてもよい。即ち、好ましいアリールの具体的な例は、フェニル、非置換のナフチル、アルキルフェニル、アルキルオキシフェニル、アルケニルフェニル、少なくとも1つの−CH−がフェニレンで置き換えられるアルキルを置換基として有するフェニル、およびこれらの基において任意の水素がハロゲンで置き換えられる基である。なお、本発明においては、特に断らずに単にフェニルと表記するときは、非置換のフェニルを意味する。 Examples where R 1 in formula (1) is substituted or unsubstituted aryl are phenyl and unsubstituted naphthyl where any hydrogen may be replaced by halogen or alkyl having 1 to 10 carbon atoms. is there. Preferred examples of halogen are fluorine, chlorine and bromine. In alkyl, which is a phenyl substituent, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH— or phenylene. That is, specific examples of preferred aryl include phenyl, unsubstituted naphthyl, alkylphenyl, alkyloxyphenyl, alkenylphenyl, phenyl having at least one —CH 2 — substituted with phenylene as a substituent, and these In this group, any hydrogen is replaced with a halogen. In the present invention, when simply expressed as phenyl without particular notice, it means unsubstituted phenyl.

ハロゲン化フェニルの例は、ペンタフルオロフェニル、4−クロロフェニル、4−ブロモフェニル等である。 Examples of halogenated phenyl are pentafluorophenyl, 4-chlorophenyl, 4-bromophenyl and the like.

アルキルフェニルの例は、4−メチルフェニル、4−エチルフェニル、4−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−ペンチルフェニル、4−ヘプチルフェニル、4−オクチルフェニル、4−ノニルフェニル、4−デシルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,4,6−トリエチルフェニル、4−(1−メチルエチル)フェニル、4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、2,4,6−トリス(1−メチルエチル)フェニル等である。 Examples of alkylphenyl are 4-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 4-propylphenyl, 4-butylphenyl, 4-pentylphenyl, 4-heptylphenyl, 4-octylphenyl, 4-nonylphenyl, 4-decylphenyl. 2,4-dimethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, 2,4,6-triethylphenyl, 4- (1-methylethyl) phenyl, 4- (1,1-dimethylethyl) phenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 2,4,6-tris (1-methylethyl) phenyl and the like.

アルキルオキシフェニルの例は、(4−メトキシ)フェニル、(4−エトキシ)フェニル、(4−プロポキシ)フェニル、(4−ブトキシ)フェニル、(4−ペンチルオキシ)フェニル、(4−ヘプチルオキシ)フェニル、(4−デシルオキシ)フェニル、(4−オクタデシルオキシ)フェニル、4−(1−メチルエトキシ)フェニル、4−(2−メチルプロポキシ)フェニル、4−(1,1−ジメチルエトキシ)フェニル等である。アルケニルフェニルの例は、4−ビニルフェニル、4−(1−メチルビニル)フェニル、4−(3−ブテニル)フェニル等である。 Examples of alkyloxyphenyl are (4-methoxy) phenyl, (4-ethoxy) phenyl, (4-propoxy) phenyl, (4-butoxy) phenyl, (4-pentyloxy) phenyl, (4-heptyloxy) phenyl , (4-decyloxy) phenyl, (4-octadecyloxy) phenyl, 4- (1-methylethoxy) phenyl, 4- (2-methylpropoxy) phenyl, 4- (1,1-dimethylethoxy) phenyl and the like. . Examples of alkenylphenyl are 4-vinylphenyl, 4- (1-methylvinyl) phenyl, 4- (3-butenyl) phenyl, and the like.

少なくとも1つの−CH−がフェニレンで置き換えられるアルキルを置換基として有するフェニルの例は、4−(2−フェニルビニル)フェニル、4−フェノキシフェニル、3−(フェニルメチル)フェニル、ビフェニル、ターフェニル等である。4−(2−フェニルビニル)フェニルは、エチルフェニルのエチル基において、1つの−CH−がフェニレンで置き換えられ、もう1つの−CH−が−CH=CH−で置き換えられる例である。 Examples of phenyl having as substituent an alkyl in which at least one —CH 2 — is replaced by phenylene are 4- (2-phenylvinyl) phenyl, 4-phenoxyphenyl, 3- (phenylmethyl) phenyl, biphenyl, terphenyl Etc. 4- (2-phenylvinyl) phenyl, in ethyl ethyl phenyl, one -CH 2 - is replaced by phenylene, another -CH 2 - is an example for which it is replaced by -CH = CH-.

ベンゼン環の水素の一部がハロゲンで置き換えられ、さらに他の水素がアルキル、アルキルオキシまたはアルケニルで置き換えられるフェニルの例は、3−クロロ−4−メチルフェニル、2,5−ジクロロ−4−メチルフェニル、3,5−ジクロロ−4−メチルフェニル、2,3,5−トリクロロ−4−メチルフェニル、2,3,6−トリクロロ−4−メチルフェニル、3−ブロモ−4−メチルフェニル、2,5−ジブロモ−4−メチルフェニル、3,5−ジブロモ−4−メチルフェニル、2,3−ジフルオロ−4−メチルフェニル、3−クロロ−4−メトキシフェニル、3−ブロモ−4−メトキシフェニル、3,5−ジブロモ−4−メトキシフェニル、2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェニル、2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェニル、2,3−ジフルオロ−4−プロポキシフェニル、4−ビニル−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル等である。 Examples of phenyl in which some of the hydrogens on the benzene ring are replaced by halogens and other hydrogens are replaced by alkyl, alkyloxy or alkenyl include 3-chloro-4-methylphenyl, 2,5-dichloro-4-methyl Phenyl, 3,5-dichloro-4-methylphenyl, 2,3,5-trichloro-4-methylphenyl, 2,3,6-trichloro-4-methylphenyl, 3-bromo-4-methylphenyl, 2, 5-dibromo-4-methylphenyl, 3,5-dibromo-4-methylphenyl, 2,3-difluoro-4-methylphenyl, 3-chloro-4-methoxyphenyl, 3-bromo-4-methoxyphenyl, 3 , 5-Dibromo-4-methoxyphenyl, 2,3-difluoro-4-methoxyphenyl, 2,3-difluoro-4-ethoxyphenyl Le, 2,3-difluoro-4-propoxy-phenyl, 4-vinyl-2,3,5,6-tetrafluorophenyl, and the like.

次に、式(1)におけるRが置換もしくは非置換のアリールアルキルである場合の例を挙げる。アリールアルキルのアルキレン基において、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−は−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよい。アリールアルキルの好ましい例はフェニルアルキルである。このとき、フェニル基の任意の水素はハロゲンまたは1〜12個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよい。このアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH−は−O−、−CH=CH−、シクロアルキレンまたはフェニレンで置き換えられてもよい。そして、アルキレン基の好ましい炭素数は1〜12であり、より好ましい炭素数は1〜8である。 Next, examples of a case where R 1 in Formula (1) is a substituted or unsubstituted arylalkyl. In the arylalkyl alkylene group, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH—, or cycloalkylene. A preferred example of arylalkyl is phenylalkyl. At this time, any hydrogen in the phenyl group may be replaced by halogen or alkyl having 1 to 12 carbon atoms. In this alkyl, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or phenylene. And the preferable carbon number of an alkylene group is 1-12, and a more preferable carbon number is 1-8.

非置換のフェニルアルキルの例は、フェニルメチル、2−フェニルエチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル、11−フェニルウンデシル、1−フェニルエチル、2−フェニルプロピル、1−メチル−2−フェニルエチル、1−フェニルプロピル、3−フェニルブチル、1−メチル−3−フェニルプロピル、2−フェニルブチル、2−メチル−2−フェニルプロピル、1−フェニルヘキシル等である。 Examples of unsubstituted phenylalkyl are phenylmethyl, 2-phenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl, 11-phenylundecyl, 1-phenylethyl, 2-phenyl Phenylpropyl, 1-methyl-2-phenylethyl, 1-phenylpropyl, 3-phenylbutyl, 1-methyl-3-phenylpropyl, 2-phenylbutyl, 2-methyl-2-phenylpropyl, 1-phenylhexyl, etc. It is.

フェニル基の少なくとも1つの水素がフッ素で置き換えられるフェニルアルキルの例は、4−フルオロフェニルメチル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルメチル、2−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)エチル、3−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)プロピル、2−(2−フルオロフェニル)プロピル、2−(4−フルオロフェニル)プロピル等である。 Examples of phenylalkyl in which at least one hydrogen of the phenyl group is replaced by fluorine are 4-fluorophenylmethyl, 2,3,4,5,6-pentafluorophenylmethyl, 2- (2,3,4,5, 6-pentafluorophenyl) ethyl, 3- (2,3,4,5,6-pentafluorophenyl) propyl, 2- (2-fluorophenyl) propyl, 2- (4-fluorophenyl) propyl and the like.

フェニル基の少なくとも1つの水素が塩素で置き換えられるフェニルアルキルの例は、4−クロロフェニルメチル、2−クロロフェニルメチル、2,6−ジクロロフェニルメチル、2,4−ジクロロフェニルメチル、2,3,6−トリクロロフェニルメチル、2,4,6−トリクロロフェニルメチル、2,4,5−トリクロロフェニルメチル、2,3,4,6−テトラクロロフェニルメチル、2,3,4,5,6−ペンタクロロフェニルメチル、2−(2−クロロフェニル)エチル、2−(4−クロロフェニル)エチル、2−(2,4,5−クロロフェニル)エチル、2−(2,3,6−クロロフェニル)エチル、3−(3−クロロフェニル)プロピル、3−(4−クロロフェニル)プロピル、3−(2,4,5−トリクロロフェニル)プロピル、3−(2,3,6−トリクロロフェニル)プロピル、4−(2−クロロフェニル)ブチル、4−(3−クロロフェニル)ブチル、4−(4−クロロフェニル)ブチル、4−(2,3,6−トリクロロフェニル)ブチル、4−(2,4,5−トリクロロフェニル)ブチル、1−(3−クロロフェニル)エチル、1−(4−クロロフェニル)エチル、2−(4−クロロフェニル)プロピル、2−(2−クロロフェニル)プロピル、1−(4−クロロフェニル)ブチル等である。 Examples of phenylalkyl in which at least one hydrogen of the phenyl group is replaced by chlorine are 4-chlorophenylmethyl, 2-chlorophenylmethyl, 2,6-dichlorophenylmethyl, 2,4-dichlorophenylmethyl, 2,3,6-trichlorophenyl Methyl, 2,4,6-trichlorophenylmethyl, 2,4,5-trichlorophenylmethyl, 2,3,4,6-tetrachlorophenylmethyl, 2,3,4,5,6-pentachlorophenylmethyl, 2- (2-chlorophenyl) ethyl, 2- (4-chlorophenyl) ethyl, 2- (2,4,5-chlorophenyl) ethyl, 2- (2,3,6-chlorophenyl) ethyl, 3- (3-chlorophenyl) propyl 3- (4-Chlorophenyl) propyl, 3- (2,4,5-trichlorophenyl) pro 3- (2,3,6-trichlorophenyl) propyl, 4- (2-chlorophenyl) butyl, 4- (3-chlorophenyl) butyl, 4- (4-chlorophenyl) butyl, 4- (2,3,3) 6-trichlorophenyl) butyl, 4- (2,4,5-trichlorophenyl) butyl, 1- (3-chlorophenyl) ethyl, 1- (4-chlorophenyl) ethyl, 2- (4-chlorophenyl) propyl, 2- (2-chlorophenyl) propyl, 1- (4-chlorophenyl) butyl and the like.

フェニル基の少なくとも1つの水素が臭素で置き換えられるフェニルアルキルの例は、2−ブロモフェニルメチル、4−ブロモフェニルメチル、2,4−ジブロモフェニルメチル、2,4,6−トリブロモフェニルメチル、2,3,4,5−テトラブロモフェニルメチル、2,3,4,5,6−ペンタブロモフェニルメチル、2−(4−ブロモフェニル)エチル、3−(4−ブロモフェニル)プロピル、3−(3−ブロモフェニル)プロピル、4−(4−ブロモフェニル)ブチル、1−(4−ブロモフェニル)エチル、2−(2−ブロモフェニル)プロピル、2−(4−ブロモフェニル)プロピル等である。 Examples of phenylalkyl in which at least one hydrogen of the phenyl group is replaced by bromine are 2-bromophenylmethyl, 4-bromophenylmethyl, 2,4-dibromophenylmethyl, 2,4,6-tribromophenylmethyl, 2 , 3,4,5-tetrabromophenylmethyl, 2,3,4,5,6-pentabromophenylmethyl, 2- (4-bromophenyl) ethyl, 3- (4-bromophenyl) propyl, 3- ( 3-bromophenyl) propyl, 4- (4-bromophenyl) butyl, 1- (4-bromophenyl) ethyl, 2- (2-bromophenyl) propyl, 2- (4-bromophenyl) propyl and the like.

フェニル基の少なくとも1つの水素が1〜12個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられるフェニルアルキルの例は、2−メチルフェニルメチル、3−メチルフェニルメチル、4−メチルフェニルメチル、4−ドデシルフェニルメチル、3,5−ジメチルフェニルメチル、2−(4−メチルフェニル)エチル、2−(3−メチルフェニル)エチル、2−(2,5ジメチルフェニル)エチル、2−(4−エチルフェニル)エチル、2−(3−エチルフェニル)エチル、1−(4−メチルフェニル)エチル、1−(3−メチルフェニル)エチル、1−(2−メチルフェニル)エチル、2−(4−メチルフェニル)プロピル、2−(2−メチルフェニル)プロピル、2−(4−エチルフェニル)プロピル、2−(2−エチルフェニル)プロピル、2−(2,3−ジメチルフェニル)プロピル、2−(2,5−ジメチルフェニル)プロピル、2−(3,5−ジメチルフェニル)プロピル、2−(2,4−ジメチルフェニル)プロピル、2−(3,4−ジメチルフェニル)プロピル、2−(2,5−ジメチルフェニル)ブチル、(4−(1−メチルエチル)フェニル)メチル、2−(4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル)エチル、2−(4−(1−メチルエチル)フェニル)プロピル、2−(3−(1−メチルエチル)フェニル)プロピル等である。 Examples of phenylalkyl in which at least one hydrogen of the phenyl group is replaced by alkyl having 1 to 12 carbon atoms are 2-methylphenylmethyl, 3-methylphenylmethyl, 4-methylphenylmethyl, 4-dodecylphenylmethyl 3,5-dimethylphenylmethyl, 2- (4-methylphenyl) ethyl, 2- (3-methylphenyl) ethyl, 2- (2,5dimethylphenyl) ethyl, 2- (4-ethylphenyl) ethyl, 2- (3-ethylphenyl) ethyl, 1- (4-methylphenyl) ethyl, 1- (3-methylphenyl) ethyl, 1- (2-methylphenyl) ethyl, 2- (4-methylphenyl) propyl, 2- (2-methylphenyl) propyl, 2- (4-ethylphenyl) propyl, 2- (2-ethylphenyl) propyl 2- (2,3-dimethylphenyl) propyl, 2- (2,5-dimethylphenyl) propyl, 2- (3,5-dimethylphenyl) propyl, 2- (2,4-dimethylphenyl) propyl, 2- (3,4-dimethylphenyl) propyl, 2- (2,5-dimethylphenyl) butyl, (4- (1-methylethyl) phenyl) methyl, 2- (4- (1,1-dimethylethyl) phenyl) And ethyl, 2- (4- (1-methylethyl) phenyl) propyl, 2- (3- (1-methylethyl) phenyl) propyl, and the like.

炭素原子の数が1〜12であり、そして少なくとも1つの水素がフッ素で置き換えられるアルキルをフェニル基の置換基として有するフェニルアルキルの例は、3−(トリフルオロメチル)フェニルメチル、2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチル、2−(4−ノナフルオロブチルフェニル)エチル、2−(4−トリデカフルオロヘキシルフェニル)エチル、2−(4−ヘプタデカフルオロオクチルフェニル)エチル、1−(3−トリフルオロメチルフェニル)エチル、1−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチル、1−(4−ノナフルオロブチルフェニル)エチル、1−(4−トリデカフルオロヘキシルフェニル)エチル、1−(4−ヘプタデカフルオロオクチルフェニル)エチル、2−(4−ノナフルオロブチルフェニル)プロピル、1−メチル−1−(4−ノナフルオロブチルフェニル)エチル、2−(4−トリデカフルオロヘキシルフェニル)プロピル、1−メチル−1−(4−トリデカフルオロヘキシルフェニル)エチル、2−(4−ヘプタデカフルオロオクチルフェニル)プロピル、1−メチル−1−(4−ヘプタデカフルオロオクチルフェニル)エチル等である。 Examples of phenylalkyl having 1 to 12 carbon atoms and having at least one hydrogen substituted with fluorine as a substituent of the phenyl group include 3- (trifluoromethyl) phenylmethyl, 2- (4 -Trifluoromethylphenyl) ethyl, 2- (4-nonafluorobutylphenyl) ethyl, 2- (4-tridecafluorohexylphenyl) ethyl, 2- (4-heptadecafluorooctylphenyl) ethyl, 1- (3 -Trifluoromethylphenyl) ethyl, 1- (4-trifluoromethylphenyl) ethyl, 1- (4-nonafluorobutylphenyl) ethyl, 1- (4-tridecafluorohexylphenyl) ethyl, 1- (4- Heptadecafluorooctylphenyl) ethyl, 2- (4-nonafluorobutylphenyl) Propyl, 1-methyl-1- (4-nonafluorobutylphenyl) ethyl, 2- (4-tridecafluorohexylphenyl) propyl, 1-methyl-1- (4-tridecafluorohexylphenyl) ethyl, 2- (4-heptadecafluorooctylphenyl) propyl, 1-methyl-1- (4-heptadecafluorooctylphenyl) ethyl and the like.

炭素原子の数が1〜12であり、そして1つの−CH−が−CH=CH−で置き換えられるアルキルをフェニル基の置換基として有するフェニルアルキルの例は、2−(4−ビニルフェニル)エチル、1−(4−ビニルフェニル)エチル、1−(2−(2−プロペニル)フェニル)エチル等である。 An example of a phenylalkyl having 1 to 12 carbon atoms and an alkyl in which one —CH 2 — is replaced by —CH═CH— as a substituent of the phenyl group is 2- (4-vinylphenyl) And ethyl, 1- (4-vinylphenyl) ethyl, 1- (2- (2-propenyl) phenyl) ethyl and the like.

炭素原子の数が1〜12であり、そして1つの−CH−が−O−で置き換えられるアルキルをフェニル基の置換基として有するフェニルアルキルの例は、4−メトキシフェニルメチル、3−メトキシフェニルメチル、4−エトキシフェニルメチル、2−(4−メトキシフェニル)エチル、3−(4−メトキシフェニル)プロピル、3−(2−メトキシフェニル)プロピル、3−(3,4−ジメトキシフェニル)プロピル、11−(4−メトキシフェニル)ウンデシル、1−(4−メトキシフェニル)エチル、2−(3−(メトキシメチル)フェニル)エチル、3−(2−ノナデカフルオロデセニルオキシフェニル)プロピル等である。 Examples of phenylalkyl having 1 to 12 carbon atoms and an alkyl in which one —CH 2 — is replaced by —O— as a substituent of the phenyl group include 4-methoxyphenylmethyl, 3-methoxyphenyl Methyl, 4-ethoxyphenylmethyl, 2- (4-methoxyphenyl) ethyl, 3- (4-methoxyphenyl) propyl, 3- (2-methoxyphenyl) propyl, 3- (3,4-dimethoxyphenyl) propyl, 11- (4-methoxyphenyl) undecyl, 1- (4-methoxyphenyl) ethyl, 2- (3- (methoxymethyl) phenyl) ethyl, 3- (2-nonadecafluorodecenyloxyphenyl) propyl and the like is there.

炭素原子の数が1〜12であり、1つの−CH−がシクロアルキレンで置き換えられ、そしてもう1つの−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキルをフェニル基の置換基として有するフェニルアルキルの例は、シクロペンチルフェニルメチル、シクロペンチルオキシフェニルメチル、シクロヘキシルフェニルメチル、シクロヘキシルフェニルエチル、シクロヘキシルフェニルプロピル、シクロヘキシルオキシフェニルメチル等である。 Alkyl having 1 to 12 carbon atoms, one —CH 2 — substituted with cycloalkylene, and another —CH 2 — replaced with —O— as a substituent of the phenyl group Examples of phenylalkyl having are cyclopentylphenylmethyl, cyclopentyloxyphenylmethyl, cyclohexylphenylmethyl, cyclohexylphenylethyl, cyclohexylphenylpropyl, cyclohexyloxyphenylmethyl and the like.

炭素原子の数が1〜12であり、1つの−CH−がフェニレンで置き換えられ、そしてもう1つの−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキルをフェニル基の置換基として有するフェニルアルキルの例は、2−(4−フェノキシフェニル)エチル、2−(4−フェノキシフェニル)プロピル、2−(2−フェノキシフェニル)プロピル、4−ビフェニリルメチル、3−ビフェニリルエチル、4−ビフェニリルエチル、4−ビフェニリルプロピル、2−(2−ビフェニリル)プロピル、2−(4−ビフェニリル)プロピル等である。 The number of carbon atoms is 1 to 12, and one —CH 2 — is substituted with phenylene, and the other —CH 2 — may be substituted with —O— as an alkyl substituent. Examples of phenylalkyl are 2- (4-phenoxyphenyl) ethyl, 2- (4-phenoxyphenyl) propyl, 2- (2-phenoxyphenyl) propyl, 4-biphenylylmethyl, 3-biphenylylethyl, 4- Biphenylylethyl, 4-biphenylylpropyl, 2- (2-biphenylyl) propyl, 2- (4-biphenylyl) propyl and the like.

フェニル基の少なくとも2つの水素が異なる基で置き換えられるフェニルアルキルの例は、3−(2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチルフェニル)プロピル、3−クロロ−2−メチルフェニルメチル、4−クロロ−2−メチルフェニルメチル、5−クロロ−2−メチルフェニルメチル、6−クロロ−2−メチルフェニルメチル、2−クロロ−4−メチルフェニルメチル、3−クロロ−4−メチルフェニルメチル、2,3−ジクロロ−4−メチルフェニルメチル、2,5−ジクロロ−4−メチルフェニルメチル、3,5−ジクロロ−4−メチルフェニルメチル、2,3,5−トリクロロ−4−メチルフェニルメチル、2,3,5,6−テトラクロロ−4−メチルフェニルメチル、(2,3,4,6−テトラクロロ−5−メチルフェニル)メチル、2,3,4,5−テトラクロロ−6−メチルフェニルメチル、4−クロロ−3,5−ジメチルフェニルメチル、2−クロロ−3,5−ジメチルフェニルメチル、2,4−ジクロロ−3,5−ジメチルフェニルメチル、2,6−ジクロロ−3,5−ジメチルフェニルメチル、2,4,6−トリクロロ−3,5−ジメチルフェニルメチル、3−ブロモ−2−メチルフェニルメチル、4−ブロモ−2−メチルフェニルメチル、5−ブロモ−2−メチルフェニルメチル、6−ブロモ−2−メチルフェニルメチル、3−ブロモ−4−メチルフェニルメチル、2,3−ジブロモ−4−メチルフェニルメチル、2,3,5−トリブロモ−4−メチルフェニルメチル、2,3,5,6−テトラブロモ−4−メチルフェニルメチル、11−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)ウンデシル等である。 Examples of phenylalkyl in which at least two hydrogens of the phenyl group are replaced by different groups are 3- (2,5-dimethoxy-3,4,6-trimethylphenyl) propyl, 3-chloro-2-methylphenylmethyl, 4 -Chloro-2-methylphenylmethyl, 5-chloro-2-methylphenylmethyl, 6-chloro-2-methylphenylmethyl, 2-chloro-4-methylphenylmethyl, 3-chloro-4-methylphenylmethyl, 2 , 3-dichloro-4-methylphenylmethyl, 2,5-dichloro-4-methylphenylmethyl, 3,5-dichloro-4-methylphenylmethyl, 2,3,5-trichloro-4-methylphenylmethyl, 2, , 3,5,6-tetrachloro-4-methylphenylmethyl, (2,3,4,6-tetrachloro-5-methylphenyl Methyl, 2,3,4,5-tetrachloro-6-methylphenylmethyl, 4-chloro-3,5-dimethylphenylmethyl, 2-chloro-3,5-dimethylphenylmethyl, 2,4-dichloro-3 , 5-dimethylphenylmethyl, 2,6-dichloro-3,5-dimethylphenylmethyl, 2,4,6-trichloro-3,5-dimethylphenylmethyl, 3-bromo-2-methylphenylmethyl, 4-bromo 2-methylphenylmethyl, 5-bromo-2-methylphenylmethyl, 6-bromo-2-methylphenylmethyl, 3-bromo-4-methylphenylmethyl, 2,3-dibromo-4-methylphenylmethyl, 2 , 3,5-tribromo-4-methylphenylmethyl, 2,3,5,6-tetrabromo-4-methylphenylmethyl, 11- (3-chloro -4-methoxyphenyl) undecyl and the like.

そして、フェニルアルキルにおけるフェニル基の最も好ましい例は、非置換のフェニル基、並びにフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルおよびメトキシの少なくとも1つを置換基として有するフェニル基である。 The most preferred examples of the phenyl group in phenylalkyl are an unsubstituted phenyl group and a phenyl group having at least one of fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl and methoxy as a substituent.

フェニルアルキルを構成するアルキレン基において、少なくとも1つの−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられるフェニルアルキルの例は、3−フェノキシプロピル、1−フェニルビニル、2−フェニルビニル、3−フェニル−2−プロペニル、4−フェニル−4−ペンテニル、13−フェニル−12−トリデセニル、フェニルシクロヘキシル、フェノキシシクロヘキシル等である。 Examples of phenylalkyl in which at least one of —CH 2 — in the alkylene group constituting phenylalkyl is replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene are 3-phenoxypropyl, 1-phenylvinyl, 2- Phenyl vinyl, 3-phenyl-2-propenyl, 4-phenyl-4-pentenyl, 13-phenyl-12-tridecenyl, phenylcyclohexyl, phenoxycyclohexyl and the like.

フェニル基の水素がフッ素またはメチルで置き換えられるフェニルアルケニルの例は、4−フルオロフェニルビニル、2,3−ジフルオロフェニルビニル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルビニル、4−メチルフェニルビニル等である。 Examples of phenylalkenyl in which the hydrogen of the phenyl group is replaced by fluorine or methyl are 4-fluorophenylvinyl, 2,3-difluorophenylvinyl, 2,3,4,5,6-pentafluorophenylvinyl, 4-methylphenyl For example, vinyl.

のより好ましい具体例は、エチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、プロピル、3,3,3−トリフルオロプロピル、ヘキサフルオロプロピル、2−メチルプロピル、2,4,4−トリメチルペンチル、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ハロゲン化フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフェニル、非置換のナフチル、フェニルメチル、フェニルエチル、フェニルブチル、2−フェニルプロピル、1−メチル−2−フェニルエチル、ペンタフルオロフェニルプロピル、4−エチルフェニルエチル、3−エチルフェニルエチル、4−(1,1−ジメチルエチル)フェニルエチル、4−ビニルフェニルエチル、1−(4−ビニルフェニル)エチル、4−メトキシフェニルプロピル、フェノキシプロピルである。 More preferred specific examples of R 1 are ethyl, 2-fluoroethyl, 2,2-difluoroethyl, propyl, 3,3,3-trifluoropropyl, hexafluoropropyl, 2-methylpropyl, 2,4,4- Trimethylpentyl, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl, cyclopentyl, cyclohexyl, phenyl, phenyl halide, methylphenyl, dimethylphenyl, methoxyphenyl, unsubstituted naphthyl, phenylmethyl, phenylethyl, phenylbutyl 2-phenylpropyl, 1-methyl-2-phenylethyl, pentafluorophenylpropyl, 4-ethylphenylethyl, 3-ethylphenylethyl, 4- (1,1-dimethylethyl) phenylethyl, 4-vinylphenylethyl , 1- (4-Vinyl vinyl Enyl) ethyl, 4-methoxyphenylpropyl, phenoxypropyl.

の更に好ましい具体例はフェニルである。 A more preferred specific example of R 1 is phenyl.

また、本発明においては、Rは液晶の配向制御に用いられる基であっても良い。このような例を以下に示す。

Figure 2005343892
In the present invention, R 1 may be a group used for liquid crystal alignment control. Such an example is shown below.

Figure 2005343892

配向制御に用いられる基には、ステロイド骨格を有する基が存在していても良い。このようなステロイド骨格を有する基としては、コレステリル、アンドロステリル、βコレステリル、エピアンドロステリル、エリゴステリル、エストリル、11α−ヒドロキシメチルステリル、11α−プロゲステリル、ラノステリル、メラトラニル、メチルテストロステリル、ノレチステリル、プレグネノニル、β−シトステリル、スチグマステリル、テストステリル、酢酸コレステロ−ルエステル等を挙げることができる。これらの基は、フェニルを介してケイ素に結合していても良く、ケイ素に直接結合した基であっても良い。 A group having a steroid skeleton may be present in the group used for orientation control. Examples of the group having such a steroid skeleton include cholesteryl, androsteryl, β-cholesteryl, epiandrosteryl, erygosteryl, estolyl, 11α-hydroxymethylsteryl, 11α-progesteryl, lanosteryl, melatranyl, methyltestosteryl, noretisteryl, pregnenoyl. , Β-sitosteryl, stigmasteryl, testosteryl, acetic acid cholesterol ester, and the like. These groups may be bonded to silicon via phenyl, or may be groups bonded directly to silicon.

式(1)におけるRおよびRは、独立して1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルまたはシクロへキシルである。アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、2−メチルブチル、ヘキシル、2−メチルペンチル、ヘプチル、2−メチルヘキシル、オクチル、2−メチルヘプチル、および2−エチルヘキシルである。そして好ましいアルキルはメチルである。 R 2 and R 3 in formula (1) are independently alkyl, phenyl or cyclohexyl having 1 to 8 carbon atoms. Examples of alkyl are methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, 2-methylbutyl, hexyl, 2-methylpentyl, heptyl, 2-methylhexyl, octyl, 2-methylheptyl, and 2-ethylhexyl. . The preferred alkyl is methyl.

式(1)におけるAは、単量体に対する重合開始能、好ましくはリビングラジカル重合開始能を有する基である。このようなAの例は、α−ハロエステル基を有する基、ハロゲン化スルフォニル基を有する基、ハロアルキルフェニル基を有する基、MgBr基を有する基、ジチオカルバメート基を有する基、およびニトロキシル基を有する基である。ハロアルキルフェニル基を有する基は、塩化銅/アミン錯体の存在下ではラジカルを発生し、過塩素酸銀の共存下ではカチオン重合の開始剤となる。ハロアルキルフェニル基の例は、クロロメチルフェニル、ブロモメチルフェニル、およびヨードメチルフェニル等である。 A in Formula (1) is a group having a polymerization initiating ability for a monomer, preferably a living radical polymerization initiating ability. Examples of such A have a group having an α-haloester group, a group having a halogenated sulfonyl group, a group having a haloalkylphenyl group, a group having an MgBr group, a group having a dithiocarbamate group, and a nitroxyl group. It is a group. A group having a haloalkylphenyl group generates a radical in the presence of a copper chloride / amine complex, and becomes a cationic polymerization initiator in the presence of silver perchlorate. Examples of haloalkylphenyl groups are chloromethylphenyl, bromomethylphenyl, iodomethylphenyl, and the like.

MgBr基は、次のようにして導入することができる。まず、スチリル基、ビニル基等の二重結合を有するシルセスキオキサン誘導体を合成する。次にボラン−ジメチルサルファイド錯体を用いて、この誘導体の二重結合部位のヒドロホウ素化を行い、ホウ素を有するシルセスキオキサン誘導体とする。そしてこのホウ素を有するシルセスキオキサン誘導体に、ペンタン−1,5−ジイル−ジ(マグネシウムブロマイド)を反応させることによって、MgBr基を導入することができる。得られたグリニヤータイプのシルセスキオキサン誘導体は、スチレンやメチル(メタ)アクリレートのアニオン重合開始剤として利用することが可能である。 The MgBr group can be introduced as follows. First, a silsesquioxane derivative having a double bond such as a styryl group or a vinyl group is synthesized. Next, hydroboration of the double bond site of this derivative is performed using a borane-dimethyl sulfide complex to obtain a silsesquioxane derivative having boron. An MgBr group can be introduced by reacting this boron-containing silsesquioxane derivative with pentane-1,5-diyl-di (magnesium bromide). The obtained Grignard type silsesquioxane derivative can be used as an anionic polymerization initiator of styrene or methyl (meth) acrylate.

ニトロキシル基は、次のようにして導入することができる。まず、スチリル基を有するシルセスキオキサン誘導体を合成する。これに、重合に関与しない安定なラジカルを生成するニトロキサイド化合物、例えばジ−t−ブチルニトロキサイド、2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル−1−オキシ、N−t−ブチル−1−ジエチルホスホン−2,2−ジメチルプロピルニトロキサイド等を加え、更に(N,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチルサリシリデン)−1,2−シクロヘキサンジアミナート)マンガン(III)クロライド(Jacobsen触媒)を導入する。次に、ラジカル発生剤として、例えばジ−t−ブチルパーオキサイドおよび水素化ホウ素ナトリウムを共存させることによってスチリルラジカルを発生させ、目的とするニトロキシル基を導入することができる。得られたシルセスキオキサン誘導体は、スチレンやメチル(メタ)アクリレートの重合開始剤として利用することができる。 The nitroxyl group can be introduced as follows. First, a silsesquioxane derivative having a styryl group is synthesized. Nitroxide compounds that generate stable radicals that do not participate in polymerization, such as di-t-butyl nitroxide, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl-1-oxy, Nt-butyl- 1-diethylphosphone-2,2-dimethylpropyl nitroxide and the like are added, and further (N, N′-bis (3,5-di-t-butylsalicylidene) -1,2-cyclohexanediaminate) Manganese (III) chloride (Jacobsen catalyst) is introduced. Next, as a radical generator, for example, styryl radicals can be generated by coexisting di-t-butyl peroxide and sodium borohydride to introduce a target nitroxyl group. The obtained silsesquioxane derivative can be used as a polymerization initiator for styrene or methyl (meth) acrylate.

式(1)におけるAは可逆的付加開裂型連鎖移動(RAFT,reversible addition-fragmentation chain transfer)に代表される交換連鎖移動ラジカル重合開始基も含まれる。このようなAの例は、ジチオエステル基を有する基である。 A in formula (1) also includes an exchange chain transfer radical polymerization initiating group represented by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT). An example of such A is a group having a dithioester group.

ジチオエステル基は、次のようにして導入することができる。ベンジルブロマイドと金属マグネシウムを反応させることによって臭化マグネシウムフェニルとし、これに二硫化炭素を添加することで臭化マグネシウムジチオフェニルとする。そして当該化合物に対して、ハロアルキルフェニル基、あるいはα−ハロエステル基を有するシルセスキオキサン誘導体を反応させることで、目的とするジチオエステル基を導入することができる。得られたシルセスキオキサン誘導体は、重合活性触媒、例えば過酸化ベンゾイルやアゾビスイソブチロニトリルを用いることで、スチレン、アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、スチレンスルホン酸、メチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミドの交換連鎖移動ラジカル重合開始剤として利用することができる。 The dithioester group can be introduced as follows. Benzyl bromide and metal magnesium are reacted to form magnesium bromide phenyl, and carbon disulfide is added thereto to form magnesium bromide dithiophenyl. The target dithioester group can be introduced by reacting the compound with a silsesquioxane derivative having a haloalkylphenyl group or an α-haloester group. The obtained silsesquioxane derivative is obtained by using a polymerization active catalyst such as benzoyl peroxide or azobisisobutyronitrile, so that styrene, acrylate, methyl (meth) acrylate, acrylic acid, styrene sulfonic acid, methyl (meta ) It can be used as an initiator for exchange chain transfer radical polymerization of acrylamide and N-isopropylacrylamide.

Aの好ましい例は、α−ハロエステル基を有する基、ハロゲン化スルフォニル基を有する基、ハロアルキルフェニルを有する基、およびジチオカルバメート基を有する基である。 Preferred examples of A are a group having an α-haloester group, a group having a halogenated sulfonyl group, a group having a haloalkylphenyl, and a group having a dithiocarbamate group.

α−ハロエステル基を有する基は、α−ハロカルボニルオキシを末端に有する基を意味する。このα−ハロカルボニルオキシをラジカル重合の開始基とする重合方法として、原子移動ラジカル重合法(Atom transfer radical polymerization method)が知られている。この方法で用いられる重合触媒は、周期律表の第8族、9族、10族または11族元素を中心の金属原子とする金属錯体である。この原子移動ラジカル重合において、α−ハロカルボニルオキシを有する基が優れた重合開始能を有することが知られている。この重合がリビング重合的であることもよく知られている。即ち、α−ハロエステル基を有する本発明のケイ素化合物は、遷移金属錯体の存在下で、優れた重合開始能を有し、リビング重合性を維持し続けることができる。そして、あらゆるラジカル重合性単量体に対して重合を開始させることが可能である。特に(メタ)アクリル酸誘導体またはスチレン系誘導体に対して優れたリビング重合性を発現させることが可能である。 The group having an α-haloester group means a group having α-halocarbonyloxy at the terminal. As a polymerization method using this α-halocarbonyloxy as a radical polymerization initiation group, an atom transfer radical polymerization method is known. The polymerization catalyst used in this method is a metal complex having a group 8, 9, 10, or 11 element in the periodic table as a central metal atom. In this atom transfer radical polymerization, it is known that a group having α-halocarbonyloxy has an excellent polymerization initiating ability. It is also well known that this polymerization is a living polymerization. That is, the silicon compound of the present invention having an α-haloester group has excellent polymerization initiating ability in the presence of a transition metal complex, and can continue to maintain living polymerizability. And it is possible to start superposition | polymerization with respect to all radically polymerizable monomers. In particular, it is possible to develop excellent living polymerizability for (meth) acrylic acid derivatives or styrene derivatives.

なお、α−ハロエステル基を有する本発明のケイ素化合物は、末端にα−ハロカルボニルオキシを有するので、各種の有機反応を適用して多数の誘導体に導くことが可能である。例えば、リチウム、マグネシウムまたは亜鉛等とこのケイ素化合物とを反応させることにより、有機金属官能基を有するシルセスキオキサン誘導体に導くことができる。具体的には、α−ハロエステル基を有する本発明のケイ素化合物に亜鉛を反応させて、有機亜鉛官能基を有するシルセスキオキサン誘導体に導いた後、アルデヒドやケトンを付加させることによって、アルコール類に変換させることができる。従って、有機亜鉛官能基を有するシルセスキオキサン誘導体は、いわゆるリフォマッキー反応に用いる中間原料として有用である。 In addition, since the silicon compound of the present invention having an α-haloester group has α-halocarbonyloxy at the terminal, it can be derived into many derivatives by applying various organic reactions. For example, by reacting lithium, magnesium, zinc or the like with this silicon compound, a silsesquioxane derivative having an organometallic functional group can be derived. Specifically, the silicon compound of the present invention having an α-haloester group is reacted with zinc to lead to a silsesquioxane derivative having an organozinc functional group, and then an aldehyde or a ketone is added thereto to form an alcohol. Can be converted into a kind. Therefore, silsesquioxane derivatives having an organozinc functional group are useful as intermediate raw materials used in so-called reformate reactions.

α−ハロカルボニルオキシ基は強い求電子性を有するので、種々の求核試薬を用いてアミノ基、メルカプト基等に変換することが可能である。さらに、α−ハロカルボニルオキシ基をエナミンで処理してイミン塩とし、このイミン塩を加水分解することによってケトンに変換させることができる。即ち、α−ハロカルボニルオキシ基を有する本発明のケイ素化合物は、ストーク−エナミン反応に用いる中間原料としても有用である。このケイ素化合物を脂肪族または芳香族系のグリニヤール試薬と反応させることにより、種々の有機官能基や重合性官能基を有するシルセスキオキサン誘導体とすることも可能である。従って、α−ハロカルボニルオキシ基を有する本発明のケイ素化合物は、重合開始剤としてだけでなく、種々の有機合成に有用な中間体として利用することができる。 Since the α-halocarbonyloxy group has strong electrophilicity, it can be converted into an amino group, a mercapto group, or the like using various nucleophilic reagents. Furthermore, the α-halocarbonyloxy group can be converted to a ketone by treating with an enamine to give an imine salt and hydrolyzing the imine salt. That is, the silicon compound of the present invention having an α-halocarbonyloxy group is also useful as an intermediate material used for the Stoke-enamine reaction. By reacting this silicon compound with an aliphatic or aromatic Grignard reagent, it is possible to obtain silsesquioxane derivatives having various organic functional groups and polymerizable functional groups. Therefore, the silicon compound of the present invention having an α-halocarbonyloxy group can be used not only as a polymerization initiator but also as an intermediate useful for various organic syntheses.

α−ハロエステル基を有する本発明のケイ素化合物の好ましい例は、式(1−1)で示される化合物である。

Figure 2005343892
式(1−1)におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−1)で示される基である。

Figure 2005343892
A preferred example of the silicon compound of the present invention having an α-haloester group is a compound represented by the formula (1-1).

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1-1) have the same meaning as those symbols in formula (1), and A 1 is a group represented by formula (2-1).

Figure 2005343892

式(2−1)において、Xはハロゲンであり、その例は塩素、臭素およびヨウ素である。原子移動ラジカル重合の開始基としては、塩素および臭素が最も好ましい。Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルである。Rの好ましい例は水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素が1〜14個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル、および任意の水素が1〜14個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル基と1〜14個の炭素原子を有するアルキレン基とで構成され、そしてこれらの基の合計の炭素原子の数が7〜20であるフェニルアルキルである。Rのより好ましい例は水素および1〜20個の炭素原子を有するアルキルである。Rの更に好ましい例は水素、メチルおよびエチルであり、最も好ましい例はメチルである。Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルである。Rの好ましい例は1〜20個の炭素原子を有するアルキル、任意の水素が1〜14個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル、および任意の水素が1〜14個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル基と1〜14個の炭素原子を有するアルキレン基とで構成され、そしてこれらの基の合計の炭素原子の数が7〜20であるフェニルアルキルである。Rのより好ましい例は1〜20個の炭素原子を有するアルキルである。Rの更に好ましい例はメチルおよびエチルであり、最も好ましい例はメチルである。そして、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンである。これらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよい。 In the formula (2-1), X 1 is halogen, and examples thereof are chlorine, bromine and iodine. As the initiator group for atom transfer radical polymerization, chlorine and bromine are most preferred. R 4 is hydrogen, alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms, or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms. Preferred examples of R 4 are hydrogen, alkyl having 1 to 20 carbon atoms, phenyl in which any hydrogen may be replaced with alkyl having 1 to 14 carbon atoms, and 1 to 14 optional hydrogens A phenylalkyl which is composed of a phenyl group which may be replaced by an alkyl having 1 to 14 carbon atoms and an alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, and the total number of carbon atoms of these groups is 7 to 20 It is. More preferred examples of R 4 are hydrogen and alkyl having 1 to 20 carbon atoms. More preferred examples of R 4 are hydrogen, methyl and ethyl, and the most preferred example is methyl. R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms, or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms. Preferred examples of R 5 are alkyl having 1 to 20 carbon atoms, phenyl in which any hydrogen may be replaced with alkyl having 1 to 14 carbon atoms, and any hydrogen having 1 to 14 carbons. It is composed of a phenyl group which may be replaced by an alkyl having an atom and an alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, and the total number of carbon atoms of these groups is 7 to 20 . A more preferred example of R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms. More preferred examples of R 5 are methyl and ethyl, and the most preferred example is methyl. Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms. Any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene may be replaced by —O—.

Si原子に有機基を結合させるに当たり、加水分解されない誘導体を得るための代表的な方法は、Si−ハロゲンに対してグリニヤー試薬を反応させる方法とSi−Hに対して脂肪族不飽和結合を有する化合物を反応させる方法である。後者は、通常ヒドロシリル化反応法と称される。そして本発明においては、原料の入手しやすさの点で、ヒドロシリル化反応法の方が適用しやすい。即ち、シルセスキオキサン誘導体に官能基を導入する好ましい方法は、Si−H官能のシルセスキオキサン誘導体と末端に不飽和結合を有する化合物とを、ヒドロシリル化反応によって結合させる方法である。従って、式(2−1)におけるZの好ましい例は、−C−Zで示される基である。即ち、式(2−1)の好ましい例は、式(2−1−4)である。

Figure 2005343892
式(2−1−4)において、Zは単結合、または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよい。 In bonding an organic group to a Si atom, typical methods for obtaining a non-hydrolyzed derivative include a method in which a Grignard reagent is reacted with Si-halogen and an aliphatic unsaturated bond with Si-H. This is a method of reacting a compound. The latter is usually referred to as a hydrosilylation reaction method. In the present invention, the hydrosilylation reaction method is easier to apply in terms of the availability of raw materials. That is, a preferred method for introducing a functional group into a silsesquioxane derivative is a method in which a Si—H functional silsesquioxane derivative and a compound having an unsaturated bond at a terminal are bonded by a hydrosilylation reaction. Therefore, a preferred example of Z 1 in the formula (2-1) is a group represented by —C 2 H 4 —Z 8 . That is, a preferred example of the formula (2-1) is the formula (2-1-4).

Figure 2005343892
In formula (2-1-4), Z 8 is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O—.

即ち、Zの好ましい例は、炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである。このようなアルキレンの例は、−C−、−C−、−C−、−C10−、−C−O−C−および−C−O−C−である。Zのより好ましい例は、−C−、−C−、−C10−および−C−O−C−である。しかしながら、Zの選択範囲はこれらに限定されない。式(2−1−4)におけるZ以外の記号は、式(2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。 That is, a preferred example of Z 1 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—. Examples of such alkylene, -C 2 H 4 -, - C 3 H 6 -, - C 4 H 8 -, - C 5 H 10 -, - C 2 H 4 -O-C 3 H 6 - and -C 3 H 6 -O-C 3 H 6 - it is. More preferred examples of Z 1 are —C 3 H 6 —, —C 4 H 8 —, —C 5 H 10 — and —C 2 H 4 —O—C 3 H 6 —. However, the selection Z 1 is not limited thereto. Symbols other than Z 8 in the formula (2-1-4) have the same meanings as those of these codes in Formula (2-1).

ハロゲン化スルフォニル基をラジカル重合の開始基とする重合方法として、原子移動ラジカル重合(Atom transfer radical polymerization)法が知られている。この方法では、周期律表第8族、9族、10族または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒として用いる。この原子移動ラジカル重合において、ハロゲン化スルフォニルが優れた重合開始能を有することが知られている。そして、この重合がリビング重合的であることもよく知られている。即ち、ハロゲン化スルフォニルを有する本発明のケイ素化合物は、遷移金属触媒の存在下で、優れた重合開始能を有し、リビング重合性を維持し続けることができる。そして、あらゆるラジカル重合性単量体に対して重合を開始させることが可能である。特に、(メタ)アクリル酸誘導体に対して優れたリビング重合性を発現させることが可能である。 As a polymerization method using a halogenated sulfonyl group as an initiation group for radical polymerization, an atom transfer radical polymerization method is known. In this method, a metal complex having, as a catalyst, an element of Group 8, 9, 10, or 11 of the periodic table is used as a catalyst. In this atom transfer radical polymerization, it is known that a halogenated sulfonyl has an excellent polymerization initiating ability. It is also well known that this polymerization is a living polymerization. That is, the silicon compound of the present invention having a halogenated sulfonyl has excellent polymerization initiating ability in the presence of a transition metal catalyst, and can continue to maintain living polymerizability. And it is possible to start superposition | polymerization with respect to all radically polymerizable monomers. In particular, it is possible to develop excellent living polymerizability for (meth) acrylic acid derivatives.

なお、ハロゲン化スルフォニル基は強い求電子性を有するので、ハロゲン化スルフォニル基を有する本発明のケイ素化合物に、種々の求核試薬を利用して各種の誘導体を合成することができる。たとえば、酸性条件下、加水分解によるスルフォン酸への変換、加水分解によるスルフォン酸への変換についで水酸化ナトリウムと処理することによるスルホン酸塩への変換、塩基性条件下、種々のアルコール類を処理することによるスルフォン酸エステルへの変換、アンモニアあるいはアミンで処理することによるスルフォン酸アミドへの変換が可能である。これらの特徴から、本発明のケイ素化合物を保護基として利用する事も可能であるし、またスルフォン酸アミドの誘導体の一部はスルファ剤として、たとえば抗細菌薬としての利用も可能である。また各種の還元剤、例えば水素化リチウムアルミニウムを還元剤としてメルカプト基への変換を行うことも可能であるし、各種芳香族系のグリニヤール試薬によって、芳香族スルホンを誘導することも出来る。即ち、このケイ素化合物は、重合開始剤としての属性のみならず、各種の有機合成に有用な中間体として活用することができる。 In addition, since a halogenated sulfonyl group has strong electrophilicity, various derivatives can be synthesized using various nucleophilic reagents on the silicon compound of the present invention having a halogenated sulfonyl group. For example, conversion to sulfonic acid by hydrolysis under acidic conditions, conversion to sulfonic acid by hydrolysis, conversion to sulfonates by treatment with sodium hydroxide, various alcohols under basic conditions Conversion to a sulfonic acid ester by treatment, or conversion to a sulfonic acid amide by treatment with ammonia or an amine is possible. From these characteristics, the silicon compound of the present invention can be used as a protecting group, and some of the sulfonic acid amide derivatives can be used as sulfa drugs, for example, as antibacterial drugs. It is also possible to perform conversion to a mercapto group using various reducing agents such as lithium aluminum hydride as a reducing agent, and it is also possible to derive aromatic sulfone with various aromatic Grignard reagents. That is, this silicon compound can be utilized not only as an attribute as a polymerization initiator but also as an intermediate useful for various organic syntheses.

ハロゲン化スルフォニルを有する本発明のケイ素化合物の好ましい例は、式(1−2)で示される化合物である。

Figure 2005343892
式(1−2)におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−2)で示される基である。

Figure 2005343892
A preferred example of the silicon compound of the present invention having a halogenated sulfonyl is a compound represented by the formula (1-2).

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1-2) have the same meaning as those symbols in formula (1), and A 2 is a group represented by formula (2-2).

Figure 2005343892

式(2‐2)において、Xはハロゲンであり、その例は塩素、臭素およびヨウ素である。原子移動ラジカル重合の開始基としては、塩素および臭素が最も好ましい。Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよい。ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位である。Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルである。Rの個数を表すaは、0、1、または2であるが、0が最も好ましい。Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 In the formula (2-2), X 2 is halogen, and examples thereof are chlorine, bromine and iodine. As the initiator group for atom transfer radical polymerization, chlorine and bromine are most preferred. Z 3 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—. The bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is ortho, meta, or para with respect to the bonding position of Z 3 . R 6 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms. A representing the number of R 6 is 0, 1, or 2, with 0 being most preferred. The bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 3 and —SO 2 X 2 .

式(2−2)におけるZも、式(2−1)における場合と同様に−C−Zで示される基であることが好ましい。即ち、式(2−2)の好ましい例は式(2−2−4)である。

Figure 2005343892
式(2−2−4)において、Zは単結合、または1〜3個の炭素原子を有するアルキレンである。 Z 2 in the formula (2-2) is preferably a group represented by —C 2 H 4 —Z 9 as in the case of the formula (2-1). That is, a preferred example of the formula (2-2) is the formula (2-2-4).

Figure 2005343892
In the formula (2-2-4), Z 9 is a single bond or alkylene having 1 to 3 carbon atoms.

即ち、Zの好ましい例は、2〜5個の炭素原子を有するアルキレンである。このようなアルキレンの例は、−C−、−C−、−C−、および−C10−である。Zの最も好ましい例は−C−である。しかしながら、Zの選択範囲はこれらに限定されない。式(2−2−4)において、Z以外の記号は式(2−2)における記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのハロゲン化スルフォニル基およびRのZに対する結合位置は、式(2−2)におけるZに対するこれらの結合位置と同一である。 That is, a preferred example of Z 3 is alkylene having 2 to 5 carbon atoms. Examples of such alkylene, -C 2 H 4 -, - C 3 H 6 -, - C 4 H 8 -, and -C 5 H 10 - is. The most preferred example of Z 3 is —C 2 H 4 —. However, the selection of the Z 3 is not limited thereto. In the formula (2-2-4), symbols other than Z 9 have the same meaning as in the formula (2-2), and the bonding position of the halogenated sulfonyl group to the benzene ring and R 6 to Z 9 is These are the same as these bonding positions for Z 3 in the formula (2-2).

ハロアルキルフェニルをラジカル重合の開始基とする重合方法として、原子移動ラジカル重合(Atom transfer radical polymerization)法が知られている。この方法では、周期律表第8族、9族、10族または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒として用いる。この原子移動ラジカル重合において、ハロアルキルフェニルが優れた重合開始能を有することが知られている。そして、この重合がリビング重合的であることもよく知られている。即ち、ハロアルキルフェニルを有する本発明のケイ素化合物は、遷移金属錯体の存在下で、優れた重合開始能を有し、リビング重合性を維持し続けることができる。そして、あらゆるラジカル重合性単量体に対して重合を開始させることが可能である。特にスチレン系誘導体に対して優れたリビング重合性を発現させることが可能である。 As a polymerization method using haloalkylphenyl as an initiation group for radical polymerization, an atom transfer radical polymerization method is known. In this method, a metal complex having, as a catalyst, an element of Group 8, 9, 10, or 11 of the periodic table is used as a catalyst. In this atom transfer radical polymerization, it is known that haloalkylphenyl has an excellent polymerization initiating ability. It is also well known that this polymerization is a living polymerization. That is, the silicon compound of the present invention having haloalkylphenyl has excellent polymerization initiation ability in the presence of a transition metal complex, and can continue to maintain living polymerizability. And it is possible to start superposition | polymerization with respect to all radically polymerizable monomers. In particular, it is possible to develop excellent living polymerizability for styrene derivatives.

なお、ハロアルキルフェニルは強い求電子性を有するので、ハロアルキルフェニルを有する本発明のケイ素化合物に、種々の求核試薬を利用してアミノ基、水酸基、メルカプト基等を導入することができる。即ち、このケイ素化合物は、有用な中間体として活用されることができる。 In addition, since haloalkylphenyl has strong electrophilicity, an amino group, a hydroxyl group, a mercapto group, etc. can be introduce | transduced into the silicon compound of this invention which has haloalkylphenyl using a various nucleophilic reagent. That is, this silicon compound can be utilized as a useful intermediate.

ハロアルキルフェニルを有する本発明のケイ素化合物の好ましい例は、式(1−3)で示される化合物である。

Figure 2005343892
式(1−3)におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−3)で示される基である。

Figure 2005343892
A preferred example of the silicon compound of the present invention having haloalkylphenyl is a compound represented by the formula (1-3).

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1-3) have the same meaning as those symbols in the formula (1), and A 3 is a group represented by the formula (2-3).

Figure 2005343892

式(2−3)におけるXは、塩素、臭素、およびヨウ素等のハロゲンである。原子移動ラジカル重合の開始基としては、塩素および臭素がより好ましい。Zは1〜3個の炭素原子を有するアルキレンである。Zの例は、メチレン、1,2−エチレン、1,1−エチレン、1,3−トリメチレン、エチルメチレン、1−メチル−1,2−エチレンおよび2−メチル−1,2−エチレンである。そして、Zの好ましい例はメチレンである。Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンである。このアルキレンにおいては、1つの−CH−が−O−で置き換えられてもよい。そして、ベンゼン環へのZの結合位置は、Zの結合位置に対してメタ位またはパラ位である。Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルである。Rの例はメチル、エチル、プロピルおよびイソプロピルである。そして、好ましいRはメチルである。Rの個数を示すaは、0、1、または2であるが、0が好ましい。ベンゼン環に対するRの結合位置は、ZおよびZの結合位置以外の任意の位置である。 X 3 in the formula (2-3) is halogen such as chlorine, bromine, and iodine. As the initiation group for atom transfer radical polymerization, chlorine and bromine are more preferred. Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms. Examples of Z 5 are methylene, 1,2-ethylene, 1,1-ethylene, 1,3-trimethylene, ethylmethylene, 1-methyl-1,2-ethylene and 2-methyl-1,2-ethylene. . A preferred example of Z 5 is methylene. Z 7 is an alkylene having 2 to 10 carbon atoms. In this alkylene, one —CH 2 — may be replaced by —O—. The bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para with respect to the bonding position of Z 7 . R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms. Examples of R 7 are methyl, ethyl, propyl and isopropyl. Preferred R 7 is methyl. A representing the number of R 7 is 0, 1, or 2, with 0 being preferred. The bonding position of R 7 to the benzene ring is an arbitrary position other than the bonding positions of Z 5 and Z 7 .

式(2−3)におけるZも、式(2−1)における場合と同様に−C−Z10で示される基であることが好ましい。即ち、式(2−3)の好ましい例は式(2−3−4)である。

Figure 2005343892
式(2−3−4)中のZ10は、単結合または1〜8個の炭素原子を有し、1つの−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである。 Z 7 in formula (2-3) is also preferably a group represented by —C 2 H 4 —Z 10 as in the case of formula (2-1). That is, a preferred example of the formula (2-3) is the formula (2-3-4).

Figure 2005343892
Z 10 in formula (2-3-4) is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and one —CH 2 — may be replaced by —O—.

即ち、式(2−1)中のZの好ましい例は、2〜10個の炭素原子を有し、1つの−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである。このようなZの例は、−C−、−C−、−OC−、−OC−、−CHOC−、−CHOC−、−COC−、および−COC−である。しかしながら、Zの選択範囲はこれらに限定されない。式(2−3−4)において、Z10以外の記号は式(2−3)における記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのZおよびRのZ10に対する結合位置は、式(2−3)におけるZに対するこれらの結合位置と同一である。 That is, a preferred example of Z 7 in formula (2-1) is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and one —CH 2 — may be replaced by —O—. Examples of such Z 7 are, -C 2 H 4 -, - C 3 H 6 -, - OC 2 H 4 -, - OC 3 H 6 -, - CH 2 OC 2 H 4 -, - CH 2 OC 3 H 6 -, - C 2 H 4 OC 2 H 4 -, and -C 2 H 4 OC 3 H 6 - it is. However, the selection range of Z 7 is not limited to these. In the formula (2-3-4), symbols other than Z 10 have the same meaning as the symbols in the formula (2-3), and the bonding position of Z 5 and R 7 to the benzene ring with respect to Z 10 is These bond positions are the same as those for Z 7 in (2-3).

ジチオカルバメート基を重合開始基とする光重合方法として、フォトイニファタ (Photo Initiator-transfer agent-terminator)重合法が知られている。このフォトイニファタ重合において、ジチオカルバメート基が光によりラジカル解離し、優れた重合開始能および増感能を有することはよく知られている。この光重合がリビング重合的であることもよく知られている。従って、ジチオカルバメート基を有する本発明のケイ素化合物は、光照射されているかぎり、重合開始能を維持し続けることが可能であり、あらゆるラジカル重合性単量体に対して光重合開始能力を有する。特に(メタ)アクリル酸誘導体に対して優れたリビング重合性を発現させることが可能である。そして、ジチオカルバメート基は、その光重合開始基としての特性の他、耐放射線性、除草効果等の薬理活性、錯体形成能、親水性等を有するので、これらの特性を活用することも可能である。 As a photopolymerization method using a dithiocarbamate group as a polymerization initiating group, a photoinitiator-transfer agent-terminator polymerization method is known. In this photoiniferter polymerization, it is well known that a dithiocarbamate group is radically dissociated by light and has excellent polymerization initiating ability and sensitizing ability. It is also well known that this photopolymerization is a living polymerization. Therefore, as long as the silicon compound of the present invention having a dithiocarbamate group is irradiated with light, it can continue to maintain the polymerization initiating ability and has the ability to initiate photopolymerization with respect to any radically polymerizable monomer. . In particular, it is possible to develop excellent living polymerizability for (meth) acrylic acid derivatives. And since the dithiocarbamate group has pharmacological activity such as radiation resistance, herbicidal effect, complex forming ability, hydrophilicity, etc. in addition to its properties as a photopolymerization initiating group, it is also possible to utilize these properties. is there.

ジチオカルバメート基を有する本発明のケイ素化合物の好ましい例は、式(1−4)で示される化合物である。

Figure 2005343892
式(1−4)におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−4)で示される基である。

Figure 2005343892
A preferred example of the silicon compound of the present invention having a dithiocarbamate group is a compound represented by the formula (1-4).

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1-4) have the same meanings as those symbols in formula (1), and A 4 is a group represented by formula (2-4).

Figure 2005343892

式(2−4)におけるZ、Z、R、およびaは、式(2−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのZおよびRの結合位置も、式(2−3)における場合と同一である。RおよびRは独立して、水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールである。水素以外のRまたはRの例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、2−メチルブチル、ヘキシル、2−メチルペンチル、ヘプチル、2−メチルヘキシル、オクチル、2−メチルヘプチル、2−エチルヘキシル、デシル、フェニル、シクロペンチル、およびシクロヘキシルである。RおよびRのどちらもがこれらの基の1つであってもよいし、片方がこれらの基の1つであり、もう一方が水素であってもよい。 Z 5 , Z 7 , R 7 and a in the formula (2-4) have the same meaning as those symbols in the formula (2-3), and the bonding position of Z 5 and R 7 to the benzene ring Is the same as that in the formula (2-3). R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms. Examples of R 8 or R 9 other than hydrogen are methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, 2-methylbutyl, hexyl, 2-methylpentyl, heptyl, 2-methylhexyl, octyl, 2-methylheptyl 2-ethylhexyl, decyl, phenyl, cyclopentyl, and cyclohexyl. Both R 8 and R 9 can be one of these groups, one can be one of these groups and the other can be hydrogen.

およびRは、互いに結合してNと共に環を形成してもよい。このような場合のジチオカルバメート基の例は、N−シクロトリメチレンジチオカルバメート基、N−シクロテトラメチレンジチオカルバメート基、N−シクロペンタメチレンジチオカルバメート基、N−シクロヘキサメチレンジチオカルバメート基、N−シクロヘプタメチレンジチオカルバメート基、N−シクロオクタメチレンジチオカルバメート基等である。好ましいジチオカルバメート基は、N,N−ジメチルジチオカルバメート基、N,N−ジエチルジチオカルバメート基、N−メチルジチオカルバメート基およびN−エチルジチオカルバメート基である。そしてN,N−ジエチルジチオカルバメート基が最も好ましい。 R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring with N. Examples of the dithiocarbamate group in such a case are N-cyclotrimethylenedithiocarbamate group, N-cyclotetramethylenedithiocarbamate group, N-cyclopentamethylenedithiocarbamate group, N-cyclohexamethylenedithiocarbamate group, N- A cycloheptamethylenedithiocarbamate group, an N-cyclooctamethylenedithiocarbamate group, and the like. Preferred dithiocarbamate groups are N, N-dimethyldithiocarbamate group, N, N-diethyldithiocarbamate group, N-methyldithiocarbamate group and N-ethyldithiocarbamate group. An N, N-diethyldithiocarbamate group is most preferred.

式(2−4)におけるZも、式(2−1)における場合と同様に−C−Z10で示される基であることが好ましい。即ち、式(2−4)の好ましい例は式(2−4−3)である。

Figure 2005343892
式(2−4−3)において、Z10は式(2−3−4)におけるZ10と同一の意味を有し、Z10以外の記号は式(2−4)における記号と同一の意味を有し、そしてベンゼン環へのZおよびRのZ10に対する結合位置は、式(2−4)におけるZに対するこれらの結合位置と同一である。 Z 7 in formula (2-4) is also preferably a group represented by —C 2 H 4 —Z 10 as in the case of formula (2-1). That is, a preferred example of the formula (2-4) is the formula (2-4-3).

Figure 2005343892
In the formula (2-4-3), Z 10 have the meanings identical to Z 10 in the formula (2-3-4), the symbols other than Z 10 are the same meanings as those of the codes in Formula (2-4) And the bonding positions of Z 5 and R 7 to Z 10 on the benzene ring are the same as these bonding positions to Z 7 in formula (2-4).

次に、本発明のケイ素化合物のうち、化合物(1−1)、化合物(1−2)、化合物(1−3)および化合物(1−4)の具体例の一部を、表1に示す記号を用いて表2〜表4に示す。これらの例は、下記の式(1−1−1)、式(1−2−1)、式(1−3−1)および式(1−4−1)において、Rがフェニルであり、Zが−C−、−C−、−C10−または−C−O−C−であり、Zが単結合、−CH−、−C−または−C−であり、Zが単結合、−CH−、−C−またはこれらのアルキレン中の1つの−CH−が−COO−で置き換えられた基である場合の例である。これらの例は、本発明のケイ素化合物の好ましい例である。 Next, Table 1 shows some specific examples of the compound (1-1), the compound (1-2), the compound (1-3), and the compound (1-4) among the silicon compounds of the present invention. It shows in Table 2-Table 4 using a symbol. In these examples, in the following formula (1-1-1), formula (1-2-1), formula (1-3-1), and formula (1-4-1), R 1 is phenyl. , Z 1 is —C 3 H 6 —, —C 4 H 8 —, —C 5 H 10 — or —C 2 H 4 —O—C 3 H 6 —, Z 4 is a single bond, —CH 2 —, —C 2 H 4 — or —C 3 H 6 —, Z 6 is a single bond, —CH 2 —, —C 2 H 4 — or one —CH 2 — in these alkylenes is —COO. It is an example in the case of a group replaced with-. These examples are preferable examples of the silicon compound of the present invention.


Figure 2005343892

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Figure 2005343892
Figure 2005343892

Figure 2005343892
なお、化合物(1−1)、化合物(1−2)、化合物(1−3)、および化合物(1−4)は、表2〜表5に記載された例によって制限されない。
Figure 2005343892
In addition, a compound (1-1), a compound (1-2), a compound (1-3), and a compound (1-4) are not restrict | limited by the example described in Table 2-Table 5.

次に、本発明のケイ素化合物のうち、化合物(1−1)の製造方法について説明する。

Figure 2005343892
式(1−1)におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−1)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2‐1)において、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく、Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり、Xはハロゲンである。 Next, the manufacturing method of a compound (1-1) among the silicon compounds of this invention is demonstrated.

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1-1) have the same meaning as those symbols in formula (1), and A 1 is a group represented by formula (2-1).

Figure 2005343892
In formula (2-1), Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms , R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms, and X 1 is halogen.

本発明で用いる好ましい原料は化合物(3−1)である。

Figure 2005343892
式(3−1)において、Rは式(1)中のRと同一の意味を有し、Mは1価のアルカリ金属原子である。アルカリ金属の好ましい例はナトリウムおよびカリウムである。最も好ましい例はナトリウムである。 A preferred raw material used in the present invention is the compound (3-1).

Figure 2005343892
In the formula (3-1), R 1 has the same meaning as R 1 in formula (1), M is a monovalent alkali metal atom. Preferred examples of alkali metals are sodium and potassium. The most preferred example is sodium.

化合物(3−1)は、3官能の加水分解性基を有するシラン化合物を、有機溶剤、水およびアルカリ金属水酸化物の存在下で、加水分解、縮合させることによって得られる。この方法では、短時間、かつ高収率で化合物(3−1)を製造することができる(例えば、WO03/024870パンフレットを参照)。化合物(3−1)を製造するに際し、3官能の加水分解性基を有するシラン化合物を少なくとも2つ用いることにより、式(3−1)中の8個のRが少なくとも2つの異なる基で構成されている化合物(3−1)を得ることができる。化合物(3−1)は高い反応性を示すことから、この化合物を原料として用いれば、容易かつ高収率でその誘導体を合成することができる。例えば、化合物(3−1)にSi−H官能のジオルガノクロロシランを反応させることによって、Si−H官能のシルセスキオキサン誘導体を製造することができる。 The compound (3-1) can be obtained by hydrolyzing and condensing a silane compound having a trifunctional hydrolyzable group in the presence of an organic solvent, water and an alkali metal hydroxide. In this method, the compound (3-1) can be produced in a short time and in a high yield (see, for example, WO03 / 024870 pamphlet). In producing the compound (3-1), by using at least two silane compounds having a trifunctional hydrolyzable group, eight R 1 s in the formula (3-1) are at least two different groups. The constituted compound (3-1) can be obtained. Since compound (3-1) exhibits high reactivity, its derivatives can be synthesized easily and with high yield by using this compound as a raw material. For example, a Si—H functional silsesquioxane derivative can be produced by reacting the compound (3-1) with a Si—H functional diorganochlorosilane.

Si−H官能のジオルガノクロロシランは式(4)で示される。化合物(4)の好ましい例はジメチルクロロシランである。化合物(3−1)に化合物(4)を反応させることによって化合物(5)が得られる。

Figure 2005343892

Figure 2005343892
これらの式におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。 The Si—H functional diorganochlorosilane is represented by the formula (4). A preferred example of compound (4) is dimethylchlorosilane. Compound (5) is obtained by reacting compound (3-1) with compound (4).

Figure 2005343892

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1).

化合物(3−1)に化合物(4)を反応させて化合物(5)を合成するには、求核置換を利用する方法を採用することができる。この方法は例えば、J. Am. Chem. Soc., 112 (1990), 1931-に記載されている。この求核置換反応に用いる溶剤の選択条件は、化合物(3−1)および化合物(4)と反応しないこと、および充分脱水されていることである。溶剤の例は、テトラヒドロフラン、トルエン、ジメチルホルムアミド等である。最も好ましい溶剤は、よく脱水されたテトラヒドロフランである。化合物(4)の好ましい使用量は、化合物(3−1)に対する当量比で3〜15倍である。この反応において、反応の進行を速やかに行うための触媒的な役割として、トリエチルアミンを用いてもよい。トリエチルアミンを用いる場合には、化合物(3−2)に対する当量比で3〜15倍であることが好ましい。 In order to synthesize compound (5) by reacting compound (3-1) with compound (4), a method utilizing nucleophilic substitution can be employed. This method is described, for example, in J. Am. Chem. Soc., 112 (1990), 1931-. The conditions for selecting the solvent used in this nucleophilic substitution reaction are that it does not react with the compound (3-1) and the compound (4) and that it is sufficiently dehydrated. Examples of the solvent are tetrahydrofuran, toluene, dimethylformamide and the like. The most preferred solvent is well dehydrated tetrahydrofuran. The preferable usage-amount of a compound (4) is 3-15 times in the equivalent ratio with respect to a compound (3-1). In this reaction, triethylamine may be used as a catalytic role for promptly proceeding the reaction. When using triethylamine, it is preferable that it is 3-15 times in the equivalent ratio with respect to a compound (3-2).

副反応を併発せず、定量的な求核置換反応が進行しさえすれば、反応温度には特に制限は無い。しかしながら、原料の仕込み時においては、低温条件下、たとえば氷浴中で行ってもよい。その後の反応は、室温条件下で行ってもよいし加熱条件下で行ってもよい。具体的には、反応温度は0〜150℃の範囲であり、より好ましくは0〜50℃の範囲である。反応時間は、定量的な求核置換反応が進行するために充分な時間であれば特に制限はない。通常1〜15時間で目的のケイ素化合物を得ることができる。 The reaction temperature is not particularly limited as long as the side reaction is not accompanied and the quantitative nucleophilic substitution reaction proceeds. However, the charging of the raw material may be performed under a low temperature condition, for example, in an ice bath. The subsequent reaction may be performed under room temperature conditions or under heating conditions. Specifically, the reaction temperature is in the range of 0 to 150 ° C, more preferably in the range of 0 to 50 ° C. The reaction time is not particularly limited as long as it is sufficient for the quantitative nucleophilic substitution reaction to proceed. Usually, the target silicon compound can be obtained in 1 to 15 hours.

さらに、化合物(3−1)は、反応活性基として−ONaを有するため、誘導体の合成反応にクロロシラン類を用いても塩化水素を発生しない。従って、反応操作を容易にすることができ、完全に反応させることが可能である。 Furthermore, since the compound (3-1) has -ONa as a reactive group, hydrogen chloride is not generated even when chlorosilanes are used in the synthesis reaction of the derivative. Therefore, the reaction operation can be facilitated and the reaction can be completed completely.

本発明で用いるもう一つの好ましい原料は化合物(3−2)である。

Figure 2005343892
式(3−2)におけるRは式(1)におけるRと同一の意味を有する。このような化合物は、酸と化合物(3−1)を反応させることにより、容易に得られる。この時の酸との反応においては、必要に応じて有機溶剤を使用することが出来る。化合物(3−1)と有機溶剤を混合し、この混合物に酸を滴下することにより反応を進行させる方法を用いることが出来る。 Another preferred raw material used in the present invention is compound (3-2).

Figure 2005343892
R 1 in the formula (3-2) has the same meaning as R 1 in Formula (1). Such a compound can be easily obtained by reacting an acid with the compound (3-1). In the reaction with the acid at this time, an organic solvent can be used as necessary. A method can be used in which the compound (3-1) and an organic solvent are mixed and the reaction is allowed to proceed by dropping an acid into the mixture.

この反応に用いられる有機溶剤としては、反応の進行を阻害するものでなければ特に制限はない。例えば、ヘキサンやヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類であり、好ましくはテトラヒドロフラン、酢酸エチルである。 The organic solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the progress of the reaction. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and carbon tetrachloride. Acetates such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, preferably tetrahydrofuran and ethyl acetate.

溶剤に混合するときの化合物(3−1)の好ましい割合は、溶剤の重量に基づいて0.05〜50重量%である。50重量%以下であれば、副成塩の濃度を低くすることができ、反応を進行させるのに有利である。また、0.05重量%以上であれば容積効率がよくコスト上好ましい。そして、より好ましい割合は、1〜10重量%である。 A desirable ratio of compound (3-1) when mixed with a solvent is 0.05 to 50% by weight based on the weight of the solvent. If it is 50% by weight or less, the concentration of by-product salt can be lowered, which is advantageous for allowing the reaction to proceed. Moreover, if it is 0.05 weight% or more, volume efficiency is good and it is preferable on cost. And a more desirable ratio is 1 to 10 weight%.

この反応に用いられる酸はプロトン供与体(ブレンステッド酸)であり、化合物(3−1)と反応し、化合物(3−2)を得ることのできる化合物であれば特に制限はない。例えば、シアン酸、イソシアン酸、チオシアン酸、イソチオシアン酸、硝酸、亜硝酸、硫酸、亜硫酸、炭酸、塩酸、臭素酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、マレイン酸、クロロギ酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シクロヘキサンカルボン酸、ピバル酸、安息香酸、トルイル酸、ナフトエ酸、フタル酸、ケイ皮酸、ニコチン酸、チオフェンカルボン酸、S−チオ酢酸、ジチオ酢酸、S−チオ安息香酸、ジチオ安息香酸、チオ炭酸、トリチオ炭酸、キサントゲン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、フェニルホスホン酸、ジフェニルホスフィン酸を例示することができるが、好ましくは有機酸であり、より好ましくはカルボン酸であり、さらに最も好ましくは酢酸である。 The acid used in this reaction is a proton donor (Bronsted acid), and there is no particular limitation as long as it is a compound that can react with compound (3-1) to obtain compound (3-2). For example, cyanic acid, isocyanic acid, thiocyanic acid, isothiocyanic acid, nitric acid, nitrous acid, sulfuric acid, sulfuric acid, carbonic acid, hydrochloric acid, bromic acid, phosphoric acid, boric acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, oxalic acid , Malonic acid, succinic acid, adipic acid, acrylic acid, methacrylic acid, oleic acid, maleic acid, chloroformic acid, chloroacetic acid, trifluoroacetic acid, cyclohexanecarboxylic acid, pivalic acid, benzoic acid, toluic acid, naphthoic acid, phthalic acid , Cinnamic acid, nicotinic acid, thiophenecarboxylic acid, S-thioacetic acid, dithioacetic acid, S-thiobenzoic acid, dithiobenzoic acid, thiocarbonic acid, trithiocarbonic acid, xanthogenic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluene Examples of sulfonic acid, phenylphosphonic acid, and diphenylphosphinic acid are preferable. Ku is an organic acid, more preferably a carboxylic acid, and most preferably is acetic acid.

これらの酸を使用する場合の使用割合は、化合物(3−1)に対して4倍モル以上使用すれば反応を完結することが出来る。該使用割合がこの範囲であれば、好ましくない副反応を引き起こす可能性が小さく、後処理工程で用いる中和剤の量が少量で済み効率的である。さらに該使用割合は化合物に対して4倍モル以上10倍モル以下、より好ましくは4倍モル以上5倍モル以下であることが好ましい。 When these acids are used in an amount of 4 times mol or more based on the compound (3-1), the reaction can be completed. When the use ratio is within this range, there is little possibility of causing an undesirable side reaction, and the amount of the neutralizing agent used in the post-treatment step can be small and efficient. Furthermore, it is preferable that this use ratio is 4 times mol or more and 10 times mol or less with respect to a compound, More preferably, it is 4 times mol or more and 5 times mol or less.

反応温度は室温でもよく、反応を促進させるために必要に応じて加熱してもよい。または、反応による発熱または好ましくない反応等を制御する目的で、必要に応じて冷却してもよい。 The reaction temperature may be room temperature, and may be heated as necessary to promote the reaction. Or you may cool as needed in order to control the heat_generation | fever by reaction or an unfavorable reaction.

反応時間は0.5〜8時間である。しかしながら一般的に反応時間は原料の反応性の他、原料濃度、反応温度、装置の形状(攪拌効率)、生成物または副生成物の形状等の影響を受けるので、この反応時間の範囲は本発明を限定することを意味しない。 The reaction time is 0.5 to 8 hours. However, since the reaction time is generally affected by the raw material reactivity, the raw material concentration, the reaction temperature, the shape of the apparatus (stirring efficiency), the shape of the product or by-product, etc. It is not meant to limit the invention.

化合物(3−2)は、化合物(3−1)の場合と同様に求核置換を利用して、化合物(4)と反応させて化合物(5)を合成することができる。化合物(4)の好ましい使用量は、化合物(3−2)のSi−OH(シラノール)基の全てに反応させる場合、化合物(3−2)対する当量比で3〜15倍である。この反応時においては、シラノールの水素とクロロシランの塩素が反応することにより塩化水素が発生するため、この塩化水素を反応系から除去する必要がある。塩化水素を除去する方法に制限はないが、トリエチルアミンを用いることが最も好ましい。トリエチルアミンの好ましい使用量は、化合物(3−2)に対する当量比で3〜15倍である。反応に際して用いる好ましい溶剤は、化合物(3−1)を用いる反応における場合と同様である。好ましい反応温度は、副反応が併発せず、定量的な求核置換反応を進行させることができる温度である。ただ、原料の仕込み時においては、低温条件下、例えば氷浴中で行うことが最も好ましく、その後は室温下で行ってもよい。反応時間は、定量的な求核置換反応が進行するに充分な時間であれば特に制限はない。通常10〜15時間で目的のケイ素化合物を得ることができる。 The compound (3-2) can be synthesized with the compound (5) by reacting with the compound (4) using nucleophilic substitution as in the case of the compound (3-1). The preferable usage-amount of a compound (4) is 3-15 times in the equivalent ratio with respect to a compound (3-2), when making it react with all the Si-OH (silanol) groups of a compound (3-2). In this reaction, hydrogen chloride is generated by the reaction of hydrogen of silanol and chlorine of chlorosilane, and therefore it is necessary to remove this hydrogen chloride from the reaction system. The method for removing hydrogen chloride is not limited, but it is most preferable to use triethylamine. The preferable usage-amount of a triethylamine is 3-15 times in the equivalent ratio with respect to a compound (3-2). A preferable solvent used in the reaction is the same as in the reaction using the compound (3-1). A preferable reaction temperature is a temperature at which a side reaction does not occur simultaneously and a quantitative nucleophilic substitution reaction can proceed. However, when charging the raw materials, it is most preferable to carry out under low temperature conditions, for example, in an ice bath, and thereafter at room temperature. The reaction time is not particularly limited as long as it is sufficient for the quantitative nucleophilic substitution reaction to proceed. Usually, the target silicon compound can be obtained in 10 to 15 hours.

本発明のケイ素化合物を合成する際には、前記の化合物(5)を用いるヒドロシリル化反応法を用いることが好ましい。即ち、遷移金属触媒の存在下における化合物(5)と化合物(6)との反応である。

Figure 2005343892
式(6)におけるZは、単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよい。 When synthesizing the silicon compound of the present invention, it is preferable to use a hydrosilylation reaction method using the compound (5). That is, the reaction between the compound (5) and the compound (6) in the presence of a transition metal catalyst.

Figure 2005343892
Z 2 in formula (6) is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 in these alkylene and alkenylene. -May be replaced by -O-.

用いられる遷移金属触媒の例は、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、モリブデン、鉄、コバルト、ニッケル、マンガン等である。これらの中で、白金触媒がより好ましい。これらの触媒は、溶剤に溶解させた均一系触媒、またはカーボンもしくはシリカ等に担持させた固体触媒として使用することができる。ホスフィン、アミン、酢酸カリウム等を共存させた形態で使用してもよい。遷移金属触媒の好ましい使用量は、化合物(5)中のSi−H基1モルに対して、遷移金属触媒原子として1×10−6〜1×10−2モルである。 Examples of the transition metal catalyst used are platinum, rhodium, iridium, ruthenium, palladium, molybdenum, iron, cobalt, nickel, manganese and the like. Of these, platinum catalysts are more preferred. These catalysts can be used as a homogeneous catalyst dissolved in a solvent or a solid catalyst supported on carbon or silica. It may be used in the form of coexisting phosphine, amine, potassium acetate and the like. A preferable amount of the transition metal catalyst is 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol as a transition metal catalyst atom with respect to 1 mol of the Si—H group in the compound (5).

化合物(6)の使用量は、化合物(5)中のSi−H基に対する当量比で1〜5倍であることが好ましい。ヒドロシリル化反応はほぼ定量的に進む反応であるから、この当量比を大きくする意味はあまりない。しかしながら、反応時間を短くする効果は期待できるので、化合物(6)を多量に用いることによる悪影響は費用効率だけである。一方、Si−H基の一部を未反応のまま残そうとする場合には、前記当量比を1より小さくするだけでよい。このようにして、式(7)で示される化合物が得られる。

Figure 2005343892
式(7)におけるR、RおよびRは式(1)におけるそれぞれの記号と同一の意味を有し、Zは式(6)におけるZと同一の意味を有する。 It is preferable that the usage-amount of a compound (6) is 1-5 times by the equivalent ratio with respect to Si-H group in a compound (5). Since the hydrosilylation reaction proceeds almost quantitatively, there is little point in increasing this equivalent ratio. However, since the effect of shortening the reaction time can be expected, the only adverse effect of using a large amount of the compound (6) is only cost efficiency. On the other hand, in order to leave a part of the Si—H group unreacted, the equivalent ratio need only be smaller than 1. In this way, the compound represented by the formula (7) is obtained.

Figure 2005343892
R 1, R 2 and R 3 in the formula (7) have the same meanings as each of the symbols in the formula (1), Z 2 has the same meaning as Z 2 in Formula (6).

ヒドロシリル化反応における好ましい反応温度は、用いる溶剤の沸点以下である。化合物(6)は、重合性の不飽和結合を有する化合物である。この化合物がヒドロシリル化反応中に自発的に重合するのを防止するためには、好ましい反応温度は20〜80℃である。この重合反応を抑制する目的で、フェノール誘導体、フェノチアジン誘導体またはN−ニトロソフェニルアミン塩誘導体等の重合禁止剤を用いてもよい。最も好ましい重合禁止剤は4−tert−ブチルピロカテコ−ルである。その好ましい使用量は、反応液の総重量を基準として1〜100,000ppmである。この使用量の更に好ましい範囲は、100〜20,000ppmである。 The preferable reaction temperature in the hydrosilylation reaction is not higher than the boiling point of the solvent used. The compound (6) is a compound having a polymerizable unsaturated bond. In order to prevent this compound from spontaneously polymerizing during the hydrosilylation reaction, the preferred reaction temperature is 20-80 ° C. For the purpose of suppressing this polymerization reaction, a polymerization inhibitor such as a phenol derivative, a phenothiazine derivative or an N-nitrosophenylamine salt derivative may be used. The most preferred polymerization inhibitor is 4-tert-butylpyrocatechol. The preferred amount of use is 1 to 100,000 ppm based on the total weight of the reaction solution. A more preferable range of the amount used is 100 to 20,000 ppm.

このヒドロシリル化反応に用いられる有機溶剤は、原料をこれと反応することなく容易に溶解するものであれば特に制限はない。有機溶剤の好ましい例は、脂肪族炭化水素(例:ヘキサンおよびヘプタン)、芳香族炭化水素(例:トルエンおよびキシレン)、および環状エーテル(例:テトラヒドロフランおよびジオキサン)である。化合物(5)の溶解性を考慮するとトルエンが最も好ましい。そして、触媒の活性をコントロールする目的で、2−プロパノール等のアルコール類を添加してもよい。 The organic solvent used in the hydrosilylation reaction is not particularly limited as long as it can easily dissolve the raw material without reacting with it. Preferred examples of organic solvents are aliphatic hydrocarbons (eg hexane and heptane), aromatic hydrocarbons (eg toluene and xylene), and cyclic ethers (eg tetrahydrofuran and dioxane). Considering the solubility of the compound (5), toluene is most preferable. And in order to control the activity of the catalyst, alcohols such as 2-propanol may be added.

また、化合物(7)は、下記の方法によって製造することもできる。まず、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の存在下、トルエン中において化合物(5)とトリメチルシリル基で保護されたアルケニル基を有する化合物(6−T)とをヒドロシリル化反応させることにより化合物(7−T)を製造する。ついで、室温中または僅かに加温(40℃)した条件下で、大過剰のメタノールを用いるアルコーリシスによって、水酸基を有する化合物(7)に誘導する。

Figure 2005343892

Figure 2005343892
これらの式におけるZは式(6)のZと同一の意味を有し、Z、R、RおよびRは式(7)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、TMSはトリメチルシリル基を示す。 Compound (7) can also be produced by the following method. First, in the presence of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex, a compound (7- T) is manufactured. Subsequently, the compound (7) having a hydroxyl group is derived by alcoholysis using a large excess of methanol at room temperature or under slightly warmed conditions (40 ° C.).

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Z 2 in these formulas have the same meanings as Z 2 in Formula (6), Z 2, R 1, R 2 and R 3 have the same meanings as those of these codes in Formula (7), TMS represents a trimethylsilyl group.

そして、化合物(7)に、α位の炭素にハロゲンが結合している化合物(8)を反応させることにより化合物(1−1)が得られる。

Figure 2005343892
式(8)におけるR、RおよびXは式(2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Xはハロゲンである。このハロゲンの例は塩素、臭素およびヨウ素であり、塩素および臭素が好ましい。XとXは同一であっても異なっていてもよい。 Then, compound (1-1) is obtained by reacting compound (7) with compound (8) in which halogen is bonded to the α-position carbon.

Figure 2005343892
R 4 , R 5 and X 1 in the formula (8) have the same meaning as those symbols in the formula (2-1), and X is a halogen. Examples of this halogen are chlorine, bromine and iodine, with chlorine and bromine being preferred. X 1 and X may be the same or different.

この反応に際して副生するハロゲン化水素は、脱水や二重結合部位への付加等の副反応を誘発するので、これを除去するために有機塩基を共存させて反応を行う。有機塩基の例は、ピリジン、ジメチルアニリン、トリエチルアミンおよびテトラメチル尿素である。副反応を抑制し、反応を速やかに進行させることができれば、他の有機塩基でもよい。そして、有機塩基の最も好ましい例はトリエチルアミンである。この反応は定量的に進行する求核置換反応であるが、化合物(8)の使用量は化合物(7)に対する当量比で1〜10倍であることが好ましい。化合物(8)の使用量を多くすることで、全ての化合物(7)を反応させることが可能であるし、反応時間を短くすることもできる。 The hydrogen halide produced as a by-product in this reaction induces a side reaction such as dehydration or addition to a double bond site. Therefore, the reaction is carried out in the presence of an organic base in order to remove this. Examples of organic bases are pyridine, dimethylaniline, triethylamine and tetramethylurea. Other organic bases may be used as long as side reactions can be suppressed and the reaction can proceed rapidly. The most preferred example of the organic base is triethylamine. Although this reaction is a nucleophilic substitution reaction that proceeds quantitatively, the amount of compound (8) used is preferably 1 to 10 times in terms of an equivalent ratio to compound (7). By increasing the amount of compound (8) used, all compounds (7) can be reacted, and the reaction time can be shortened.

この反応は通常、アルゴンガスや窒素ガスのような不活性気体雰囲気中で、原料に対して不活性な乾燥した有機溶剤を用いて行う。有機溶剤の例は、環式エーテル(THF、ジオキサン等)、芳香族炭化水素(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンクロライド、クロロホルム等)および四塩化炭素である。そして、有機溶剤の好ましい例はメチレンクロライドである。反応温度には特に制限はない。しかしながら、この反応は発熱を伴いながら激しく進行するため、通常は低温条件下で行う方がよい。好ましい反応温度は100℃以下であり、最も好ましい反応温度は35℃以下である。実際には、変則的な反応温度調節下で反応させてもよい。例えば、初期においては、ドライアイス−メタノール浴または氷浴を用いて反応系を冷却しながら反応させ、その後室温付近まで昇温させて引き続き反応させてもよい。反応時間には特に制限は無い。通常、1〜10時間で目的とするケイ素化合物を得ることができる。 This reaction is usually carried out in an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas, using a dry organic solvent inert to the raw material. Examples of organic solvents are cyclic ethers (THF, dioxane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene chloride, chloroform, etc.) and carbon tetrachloride. A preferred example of the organic solvent is methylene chloride. There is no particular limitation on the reaction temperature. However, since this reaction proceeds violently with heat generation, it is usually better to carry out under low temperature conditions. The preferred reaction temperature is 100 ° C. or less, and the most preferred reaction temperature is 35 ° C. or less. Actually, the reaction may be performed under irregular reaction temperature control. For example, in the initial stage, the reaction may be carried out while cooling the reaction system using a dry ice-methanol bath or an ice bath, and then the temperature may be raised to near room temperature to continue the reaction. There is no particular limitation on the reaction time. Usually, the target silicon compound can be obtained in 1 to 10 hours.

化合物(1−1)は、化合物(6)と化合物(8)との反応工程を先に実施する方法でも製造することができる。まず、化合物(6)と化合物(8)とを反応させ、式(2−1−2)で示す化合物を合成する。

Figure 2005343892
式(2‐1‐2)におけるZは、式(6)におけるZと同一の意味を有し、X、RおよびRは、式(2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。 Compound (1-1) can also be produced by a method in which the reaction step of compound (6) and compound (8) is performed first. First, the compound (6) and the compound (8) are reacted to synthesize a compound represented by the formula (2-1-2).

Figure 2005343892
Z 2 in formula (2-1-2) has the same meaning as Z 2 in formula (6), and X 1 , R 4 and R 5 are the same as those symbols in formula (2-1). Has the meaning of

ついで化合物(2−1−2)と化合物(4)とをヒドロシリル化反応させて式(2−1−3)で示される化合物を合成し、さらに化合物(3−1)または化合物(3−2)と反応させて、化合物(1−1)を合成する。化合物(2−1−3)を合成する方法は例えば、Macromol. Rapid Commun., 23 (2002), 612-に記載されている。

Figure 2005343892
式(2‐1‐3)におけるZは、式(6)におけるZと同一の意味を有し、RおよびRは、式(1−1)と同一の意味を有し、X、RおよびRは、式(2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。 Subsequently, the compound (2-1-2) and the compound (4) are subjected to a hydrosilylation reaction to synthesize a compound represented by the formula (2-1-3), and then the compound (3-1) or the compound (3-2). ) To synthesize a compound (1-1). A method for synthesizing the compound (2-1-3) is described in, for example, Macromol. Rapid Commun., 23 (2002), 612-.

Figure 2005343892
Z 2 in formula (2-1-3) has the same meaning as Z 2 in formula (6), R 2 and R 3 have the same meaning as in formula (1-1), and X 2 1 , R 4 and R 5 have the same meaning as these symbols in formula (2-1).

化合物(6)と化合物(8)との反応は、化合物(7)と化合物(8)との反応と同様にして実施することができる。化合物(2−1−2)と化合物(4)とのヒドロシリル化反応は、化合物(6)と化合物(5)との反応と同様にして実施することができる。化合物(2−1−3)と化合物(3−1)または化合物(3−2)との反応は、化合物(4)と化合物(3−1)または化合物(3−2)との反応と同様に実施することができる。 The reaction between compound (6) and compound (8) can be carried out in the same manner as the reaction between compound (7) and compound (8). The hydrosilylation reaction between the compound (2-1-2) and the compound (4) can be carried out in the same manner as the reaction between the compound (6) and the compound (5). The reaction between compound (2-1-3) and compound (3-1) or compound (3-2) is the same as the reaction between compound (4) and compound (3-1) or compound (3-2). Can be implemented.

以下の説明では、未反応の原料化合物および溶剤を総称して「不純物」と称することがある。不純物を除去するために蒸留法を適用すると、長時間高温条件下に保持されることによって、目的とする化合物が分解される恐れがある。従って、化合物(1−1)の純度を損ねることなく、不純物を効率的に除去するためには、再沈殿操作によって精製することが好ましい。この精製法は次のように行われる。まず、化合物(1−1)および不純物をともに溶解する溶剤に、反応液を溶解させる。このときの化合物(1−1)の好ましい濃度は、大まかに言えば1〜15重量%である。次に、化合物(1−1)は溶解しないけれども不純物は溶解するような溶剤、いわゆる沈殿剤をこの溶液に加えて化合物(1−1)のみを沈殿させる。沈殿剤の好ましい使用量は、化合物(1−1)および不純物をともに溶解するために用いた溶剤の重量に基づいて20〜50倍である。この使用量範囲も大まかな基準であり、前記の化合物(1−1)の濃度範囲とともに、必ずしもこれらの範囲内でなくてもよい。 In the following description, unreacted raw material compounds and solvents may be collectively referred to as “impurities”. When a distillation method is applied to remove impurities, the target compound may be decomposed by being kept under high temperature conditions for a long time. Therefore, in order to remove impurities efficiently without impairing the purity of the compound (1-1), it is preferable to purify by reprecipitation operation. This purification method is performed as follows. First, the reaction solution is dissolved in a solvent that dissolves both the compound (1-1) and impurities. A preferred concentration of the compound (1-1) at this time is roughly 1 to 15% by weight. Next, a solvent that does not dissolve the compound (1-1) but dissolves impurities, a so-called precipitant is added to this solution to precipitate only the compound (1-1). A preferred amount of the precipitating agent is 20 to 50 times based on the weight of the solvent used to dissolve both the compound (1-1) and the impurities. This use amount range is also a rough standard, and may not necessarily be within these ranges together with the concentration range of the compound (1-1).

化合物(1−1)を溶解させるための好ましい溶剤は、溶解力が大きく、沸点の比較的低い溶剤である。好ましい沈殿剤は、化合物(1−1)を溶解させるための溶剤と相溶し、化合物(1−1)を全く溶解せず、不純物のみを溶解し、沸点も比較的低い溶剤である。好ましい沈殿剤の例は低級アルコール類である。特に好ましい沈殿剤はメタノールである。そして、さらに精製度をあげるためには、再沈殿操作の繰り返し回数を多くすればよい。 A preferred solvent for dissolving the compound (1-1) is a solvent having a large dissolving power and a relatively low boiling point. A preferred precipitant is a solvent that is compatible with a solvent for dissolving the compound (1-1), does not dissolve the compound (1-1) at all, dissolves only impurities, and has a relatively low boiling point. Examples of preferred precipitating agents are lower alcohols. A particularly preferred precipitating agent is methanol. And in order to raise a refinement | purification further, what is necessary is just to increase the repetition frequency of reprecipitation operation.

重合性の未反応物を除いた後、化合物(1−1)を更に精製するには、カラムクロマトグラフ法を適用することが好ましい。その際に使用する好ましい吸着剤は、シリカゲル等である。好ましい展開溶剤は、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、クロロホルム、酢酸エチル、アセトン等である。より好ましい展開溶剤は、酢酸エチルとヘキサンとの混合溶剤である。なお溶剤の混合比率は、特に制限はないが、展開溶剤に対する目的物の移動率(Rf値)が0.1〜0.7の範囲となるように調整すればよい。 In order to further purify the compound (1-1) after removing the polymerizable unreacted product, it is preferable to apply a column chromatography method. A preferred adsorbent used in this case is silica gel or the like. Preferred developing solvents are hexane, cyclohexane, toluene, chloroform, ethyl acetate, acetone and the like. A more preferred developing solvent is a mixed solvent of ethyl acetate and hexane. The mixing ratio of the solvent is not particularly limited, but may be adjusted so that the transfer rate (Rf value) of the target product with respect to the developing solvent is in the range of 0.1 to 0.7.

次に、本発明のケイ素化合物のうち、化合物(1−2)の製造方法について説明する。

Figure 2005343892
式(1−2)におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−2)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2−2)において、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく、Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり、aは0〜2の整数であり、Xはハロゲンであり、ベンゼン環への−SO−の結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SO−のそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 Next, the manufacturing method of a compound (1-2) is demonstrated among the silicon compounds of this invention.

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1-2) have the same meaning as those symbols in formula (1), and A 2 is a group represented by formula (2-2).

Figure 2005343892
In the formula (2-2), Z 3 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—, and R 3 6 is an alkyl having 1 to 3 carbon atoms, a is an integer of 0 to 2, X 2 is a halogen, and the bonding position of —SO 2 X 2 — to the benzene ring is Z 3 . The position is ortho, meta or para with respect to the bonding position, and the bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 3 and —SO 2 X 2 —.

まず、式(4)で示される化合物と式(2−2−2)で示される化合物とをヒドロシリル化反応させて、式(2−2−3)で示される化合物を合成する。

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
これらの式において、Zは単結合または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく、R、Xおよびaは、式(2−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、ベンゼン環への−SO−の結合位置は、ハロゲン化Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SO−のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり、RおよびRは式(1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。 First, a compound represented by the formula (2-2-3) is synthesized by a hydrosilylation reaction between the compound represented by the formula (4) and the compound represented by the formula (2-2-2).

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
In these formulas, Z 4 is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO— 6 , X 2 and a have the same meaning as these symbols in formula (2-2), and the bonding position of —SO 2 X 2 — to the benzene ring is relative to the bonding position of halogenated Z 4. In the ortho-position, meta-position or para-position, the bonding position of R 6 is any position except the bonding positions of Z 4 and —SO 2 X 2 —, and R 2 and R 3 are represented by the formula ( It has the same meaning as these symbols in 1-2).

ついで化合物(2−2−3)と前記の化合物(3−1)または化合物(3−2)とを反応させて、式(1−2)で示されるケイ素化合物を製造する。 Next, the compound (2-2-3) is reacted with the compound (3-1) or the compound (3-2) to produce a silicon compound represented by the formula (1-2).

式(4)で示される化合物と式(2−2−2)で示される化合物とをヒドロシリル化反応は、化合物(5)と化合物(6)との反応と同様にして実施することができる。化合物(2−2−3)と化合物(3−1)または化合物(3−2)との反応は、化合物(4)と化合物(3−1)または化合物(3−2)との反応と同様に実施することができる。 The hydrosilylation reaction between the compound represented by formula (4) and the compound represented by formula (2-2-2) can be carried out in the same manner as the reaction between compound (5) and compound (6). The reaction between compound (2-2-3) and compound (3-1) or compound (3-2) is the same as the reaction between compound (4) and compound (3-1) or compound (3-2). Can be implemented.

反応混合物中の化合物(1−2)の精製には、前記の再沈殿操作による精製法または/およびカラムクロマトグラフ法を用いることができる。 For purification of the compound (1-2) in the reaction mixture, the above-described purification method by reprecipitation operation and / or column chromatography can be used.

次に、本発明のケイ素化合物のうち、化合物(1−3)および化合物(1−4)の製造方法について説明する。

Figure 2005343892

Figure 2005343892
これらの式におけるR、RおよびRは、式(1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−3)で示される基であり、Aは式(2−4)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2−3)において、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり、Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり、Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり、aは0〜2の整数であり、Xはハロゲンであり、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。

Figure 2005343892
式(2‐4)において、RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり、Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり、Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり、aは0〜2の整数であり、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 Next, the manufacturing method of a compound (1-3) and a compound (1-4) among the silicon compounds of this invention is demonstrated.

Figure 2005343892

Figure 2005343892
R 1 , R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1), A 3 is a group represented by formula (2-3), and A 4 is a formula It is a group represented by (2-4).

Figure 2005343892
In the formula (2-3), Z 5 is an alkylene having 1 to 3 carbon atoms, in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, and Z 7 has the number of carbon atoms. 2 to 10 in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—, R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms, a is an integer of 0 to 2, X 3 is a halogen, the bonding position of Z 5 on the benzene ring is a meta or para position with respect to the binding position of Z 7, the bonding position of R 7 is Z It is an arbitrary position excluding the bonding positions of 5 and Z 7 .

Figure 2005343892
In formula (2-4), R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms. And R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring with N, and Z 5 has 1 to 3 carbon atoms, and any —CH 2 — may be —O—. Z 7 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—. R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms, a is an integer of 0 to 2, and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 7. The bonding position of R 7 is that of Z 5 and Z 7 It is an arbitrary position excluding each coupling position.

化合物(1−3)の好ましい製造方法は、化合物(3−1)または化合物(3‐2)と化合物(4)との反応により得た化合物(5)と、式(2−3−2)で示される化合物とのヒドロシリル化反応である。

Figure 2005343892
式(2−3−2)において、Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり、Z、R、Xおよびaは、式(2−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 A preferred production method of the compound (1-3) is the compound (5) obtained by the reaction of the compound (3-1) or the compound (3-2) with the compound (4), and the formula (2-3-2). It is a hydrosilylation reaction with the compound shown by these.

Figure 2005343892
In Formula (2-3-2), Z 6 is a single bond or 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — is replaced by —O—, —COO— or —OCO—. Z 5 , R 7 , X 3 and a have the same meaning as those symbols in formula (2-3), and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the bonding of Z 6 It is a meta position or a para position with respect to the position, and the bonding position of R 7 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 5 and Z 6 .

化合物(5)と化合物(2−3−2)とのヒドロシリル化反応は、化合物(5)と化合物(6)との反応と同様にして実施することができる。 The hydrosilylation reaction between the compound (5) and the compound (2-3-2) can be carried out in the same manner as the reaction between the compound (5) and the compound (6).

反応混合物中の化合物(1−3)の精製には、前記の再沈殿操作による精製法または/およびカラムクロマトグラフ法を用いることができる。 For purification of the compound (1-3) in the reaction mixture, the above-described purification method by reprecipitation operation and / or column chromatography can be used.

上記のヒドロシリル化反応工程で得られた化合物(1−3)に、式(9)で示されるジチオカルバミン酸金属塩を反応させることにより、式(1−4)で示されるケイ素化合物を得ることができる。

Figure 2005343892
式(9)におけるRおよびRは、式(2−4)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Mは周期律表第1族または第2族の金属元素であり、そしてpはMの原子価と同じ値である。Mの例は、Li、Na、K、Cu、Mg、Ca、Zn等である。Mの好ましい例はNaおよびKである。 It is possible to obtain a silicon compound represented by the formula (1-4) by reacting the compound (1-3) obtained in the hydrosilylation reaction step with a metal salt of dithiocarbamate represented by the formula (9). it can.

Figure 2005343892
R 8 and R 9 in formula (9) have the same meaning as these symbols in formula (2-4), M 1 is a metal element of group 1 or group 2 of the periodic table, and p is the same value as the valence of M 1 . Examples of M 1 are Li, Na, K, Cu, Mg, Ca, Zn, and the like. Preferred examples of M 1 are Na and K.

化合物(1−3)と化合物(9)との反応は、定量的な求核置換反応であり、副反応は起こらない。しかしながら、ジチオカルバミン酸塩の好ましい使用量は、化合物(1−3)中のハロゲン含有量に対する当量比で1〜5倍である。この塩を多く用いることにより、反応時間を短くすることができる。反応は、通常、窒素ガスのような不活性気体雰囲気中、原料に対して不活性な乾燥した有機溶剤中で行う。有機溶剤の例は、低級アルコール(例:メタノール)、環状エーテル(例:テトラヒドロフランおよびジオキサン)、および芳香族炭化水素(例:トルエンおよびキシレン)である。有機溶剤の好ましい例は、テトラヒドロフランおよびメタノールである。好ましい反応温度は、ジチオカルバメートが熱分解する可能性を考慮すると、120℃以下である。更に好ましい温度は100℃以下である。反応時間には特に制限はないが、通常1〜10時間で目的のケイ素化合物を得ることができる。必要に応じてベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルアンモニウムクロライド、ジオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリエチルアミンまたはジメチルアニリン等の相間移動触媒を反応に用いることができる。 The reaction between the compound (1-3) and the compound (9) is a quantitative nucleophilic substitution reaction, and no side reaction occurs. However, the preferable usage-amount of dithiocarbamate is 1-5 times in the equivalent ratio with respect to the halogen content in a compound (1-3). By using a large amount of this salt, the reaction time can be shortened. The reaction is usually carried out in a dry organic solvent inert to the raw material in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. Examples of organic solvents are lower alcohols (eg methanol), cyclic ethers (eg tetrahydrofuran and dioxane), and aromatic hydrocarbons (eg toluene and xylene). Preferred examples of the organic solvent are tetrahydrofuran and methanol. A preferable reaction temperature is 120 ° C. or less in consideration of a possibility that dithiocarbamate is thermally decomposed. A more preferred temperature is 100 ° C. or lower. Although there is no restriction | limiting in particular in reaction time, Usually, the target silicon compound can be obtained in 1 to 10 hours. If necessary, a phase transfer catalyst such as benzyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, trioctylammonium chloride, dioctylmethylammonium chloride, triethylamine or dimethylaniline can be used in the reaction.

反応混合物中の化合物(1−4)の精製には、前記の再沈殿操作による精製法または/およびカラムクロマトグラフ法を用いることができる。ジチオカルバミン酸塩と化合物(1−3)との反応および化合物(1−4)の精製は、紫外線がカットされた蛍光灯および紫外線カットフィルムが装着されたドラフト内で実施されねばならない。そして、化合物(1−4)は、光増感基であるジチオカルバメートを有しているため、非水環境下、窒素やアルゴン等の不活性気体を封入した遮光容器内で冷暗所にて保存されなければならない。 For purification of the compound (1-4) in the reaction mixture, the above-described purification method by reprecipitation operation and / or column chromatography method can be used. The reaction between the dithiocarbamate and the compound (1-3) and the purification of the compound (1-4) must be carried out in a draft equipped with a fluorescent lamp and an ultraviolet cut film with ultraviolet rays cut. And since compound (1-4) has dithiocarbamate which is a photosensitizing group, it is preserve | saved in a cool and dark place in the light-shielding container which enclosed inert gas, such as nitrogen and argon, in non-aqueous environment. There must be.

化合物(1−4)は、ジチオカルバミン酸金属塩とハロゲン化アルキル基との反応工程を先に実施する方法でも製造することができる。この製造法は、最初に化合物(2−3−2)と化合物(9)とを反応させて、式(2−4−2)で示される化合物とする方法である。

Figure 2005343892
式(2−4−2)において、Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり、その他の記号は、式(2−4)における記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。 Compound (1-4) can also be produced by a method in which the reaction step of a metal salt of dithiocarbamate and an alkyl halide group is first carried out. This production method is a method in which a compound (2-3-2) and a compound (9) are first reacted to obtain a compound represented by the formula (2-4-2).

Figure 2005343892
In the formula (2-4-2), Z 6 is a single bond, or the number of carbon atoms is 1 to 8, and arbitrary —CH 2 — is replaced by —O—, —COO— or —OCO—. The other symbols have the same meaning as the symbols in formula (2-4), and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 6. And the bonding position of R 7 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 5 and Z 6 .

この反応自体は、基本的に前記の化合物(1−3)と化合物(9)との反応と同じであり、この反応の場合と同様にして実施できる。しかしながら、重合性の基を有する化合物を取り扱う点で、前記の製造法での化合物(5)と化合物(2−3−2)との反応における場合と同様の注意が必要である。即ち、反応温度をかなり低く20〜80℃くらいにする必要があるし、重合禁止剤の使用も必要である。そして、反応および精製工程のみならず、生成物の保管に際してもできるだけ紫外線を遮断しなければならない。そして、前記の化合物(5)と化合物(2−4−2)とのヒドロシリル化反応により、化合物(1−4)を得ることができる。このヒドロシリル化反応は、化合物(5)と化合物(2−3−2)との反応と同様にして実施することができる。 This reaction itself is basically the same as the reaction between the compound (1-3) and the compound (9), and can be carried out in the same manner as in this reaction. However, the same precautions as in the reaction of the compound (5) and the compound (2-3-2) in the above production method are necessary in terms of handling a compound having a polymerizable group. That is, the reaction temperature needs to be considerably low and about 20 to 80 ° C., and the use of a polymerization inhibitor is also necessary. In addition to the reaction and purification steps, the ultraviolet rays should be blocked as much as possible during product storage. And a compound (1-4) can be obtained by the hydrosilylation reaction of the said compound (5) and a compound (2-4-2). This hydrosilylation reaction can be carried out in the same manner as in the reaction of the compound (5) and the compound (2-3-2).

化合物(1−3)は、化合物(3−1)または化合物(3−2)を用いる反応を最終反応工程とする製造方法によっても製造することができる。まず遷移金属触媒の存在下で、化合物(4)と化合物(2−3−2)とをヒドロシリル化反応させて、化合物(2−3−3)を製造する。

Figure 2005343892
式(2−3−3)において、RおよびRは式(4)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、他の記号は式(2−3−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は、式(2−3−2)におけるこれらの記号の結合位置と同一である。 Compound (1-3) can also be produced by a production method using the reaction using compound (3-1) or compound (3-2) as the final reaction step. First, in the presence of a transition metal catalyst, the compound (4) and the compound (2-3-2) are subjected to a hydrosilylation reaction to produce the compound (2-3-3).

Figure 2005343892
In the formula (2-3-3), R 2 and R 3 have the same meaning as those symbols in the formula (4), and other symbols are the same as those symbols in the formula (2-3-3). Has the meaning. The bonding positions of Z 5 and R 7 to the benzene ring are the same as the bonding positions of these symbols in formula (2-3-2).

そして、化合物(2−3−3)と、化合物(3−1)または化合物(3−2)とを反応させ、化合物(1−3)を製造する。化合物(4)と化合物(2−3−2)とのヒドロシリル化反応は、化合物(5)と化合物(2−3−2)とのヒドロシリル化反応と同様にして実施することができる。化合物(2−3−3)と化合物(3−1)または化合物(3−2)との反応は、化合物(4)と化合物(3−1)または化合物(3−2)との反応と同様にして実施することができる。 Then, the compound (2-3-3) is reacted with the compound (3-1) or the compound (3-2) to produce the compound (1-3). The hydrosilylation reaction between compound (4) and compound (2-3-2) can be carried out in the same manner as the hydrosilylation reaction between compound (5) and compound (2-3-2). The reaction between compound (2-3-3) and compound (3-1) or compound (3-2) is the same as the reaction between compound (4) and compound (3-1) or compound (3-2). Can be implemented.

次に、化合物(1)を用いて重合を開始させることができる付加重合性単量体について説明する。この付加重合性単量体は、付加重合性の二重結合を少なくとも1つ有する単量体である。付加重合性の二重結合を1つ有する単量体の例の1つは、(メタ)アクリル酸誘導体である。その具体例は、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、n−ヘプチル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、トルイル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、3−エチル−3−(メタ)アクリロイルオキシメチルオキセタン、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリレート2−アミノエチル、2−(2−ブロモプロパノイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−ブロモイソブチリルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、1−(メタ)アクリロキシ−2−フェニル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ)エタン、(1−(4−((4−(メタ)アクリロキシ)エトキシエチル)フェニルエトキシ)ピペリジン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)プロピル(メタ)アクリレート、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソブチル−ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)プロピル(メタ)アクリレート、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)プロピル(メタ)アクリレート、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)プロピル(メタ)アクリレート、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)プロピル(メタ)アクリレート、3−[(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、3−[(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、3−[(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、3−[(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、3−[(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、トリフルオロメチルメチル(メタ)アクリレート、2−トリフルオロメチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロエチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロエチル−2−パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ジパーフルオロメチルメチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロメチル−2−パーフルオロエチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロヘキサデシルエチル(メタ)アクリレート、および2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフォリルコリンである。 Next, an addition polymerizable monomer capable of initiating polymerization using the compound (1) will be described. This addition polymerizable monomer is a monomer having at least one addition polymerizable double bond. One example of a monomer having one addition polymerizable double bond is a (meth) acrylic acid derivative. Specific examples are (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth) acrylate. , Tert-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, n-heptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, toluyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (Meth) acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) Acrylate, 3-ethyl-3- (meth) acryloyloxymethyloxetane, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, (meth) acrylate 2-aminoethyl, 2- (2-bromopropanoyloxy) ethyl (meth) acrylate 2- (2-bromoisobutyryloxy) ethyl (meth) acrylate, 1- (meth) acryloxy-2-phenyl-2- (2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy) Ethane, (1- (4-((4- (meta Acryloxy) ethoxyethyl) phenylethoxy) piperidine, .gamma. (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, 3- (3,5,7,9,11,13,15- hepta ethylpentamethylene cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yl) propyl (meth) acrylate, 3- (3,5,7,9,11,13,15- hepta isobutyl - pentacyclo [9 .5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ] octasiloxane-1-yl) propyl (meth) acrylate, 3- (3,5,7,9,11,13,15- hepta isooctyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yl) propyl (meth) acrylate, 3- (3,5,7 9,11,13,15- hepta cyclopentyl penta cyclo [9.5.1.1 3, 9. 1 5,15 . 1 7,13 ] octasiloxane-1-yl) propyl (meth) acrylate, 3- (3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 .1,5,15.1,7,13 ] octasiloxane- 1-yl) propyl (meth) acrylate, 3-[(3,5,7,9,11,13,15-heptaethylpentacyclo [9.5]. .1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl] propyl (meth) acrylate, 3 - [(3,5,7,9,11,13, 15 hepta isobutyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl] propyl (meth) acrylate, 3 - [(3, 5,7 9,11,13,15- hepta isooctyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl] propyl (meth) acrylate , 3 - [(3,5,7,9,11,13,15- hepta cyclopentyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane -1- yloxy) dimethylsilyl] propyl (meth) acrylate, 3 - [(3,5,7,9,11,13,15- heptaphenyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15. 1713 ]] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl] propyl (meth) acrylate, ethylene oxide adduct of (meth) acrylic acid, trifluoromethylmethyl (meth) ) Acrylate, 2-trifluoromethylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroethylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroethyl-2-perfluorobutylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroethyl (meth) Acrylate, trifluoromethyl (meth) acrylate, diperfluoromethylmethyl (meth) acrylate, 2-perfluoromethyl-2-perfluoroethylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorohexylethyl (meth) acrylate, 2- Perfluorodecylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorohexadecylethyl (meth) acrylate, and 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphorylcholine.

付加重合性の二重結合を1つ有する単量体のもう1つの例は、スチレン系単量体である。その具体例は、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、p−クロルスチレン、p−クロロメチルスチレン、m−クロロメチルスチレン、o−アミノスチレン、p−スチレンクロロスルホン酸、スチレンスルホン酸およびその塩、ビニルフェニルメチルジチオカルバメート、2−(2−ブロモプロパノイルオキシ)スチレン、2−(2−ブロモイソブチリルオキシ)スチレン、1−(2-((4−ビニルフェニル)メトキシ)−1−フェニルエトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(4−ビニルフェニル)−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1−(4−ビニルフェニル)−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1−(4−ビニルフェニル)−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1−(4−ビニルフェニル)−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1−(4−ビニルフェニル)−3,5,7,9,11,13,15−ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)エチルスチレン、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)エチルスチレン、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)エチルスチレン、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)エチルスチレン、3−(3,5,7,9,11,13,15−ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イル)エチルスチレン、3−((3,5,7,9,11,13,15−ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン、3−((3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン、3−((3,5,7,9,11,13,15−ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン、3−((3,5,7,9,11,13,15−ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン、および3−((3,5,7,9,11,13,15−ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン−1−イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレンである。 Another example of a monomer having one addition polymerizable double bond is a styrenic monomer. Specific examples thereof include styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p-chlorostyrene, p-chloromethylstyrene, m-chloromethylstyrene, o-aminostyrene, p-styrene chlorosulfonic acid, styrenesulfonic acid and salts thereof. , Vinylphenylmethyldithiocarbamate, 2- (2-bromopropanoyloxy) styrene, 2- (2-bromoisobutyryloxy) styrene, 1- (2-((4-vinylphenyl) methoxy) -1-phenyl Ethoxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (4-vinylphenyl) -3,5,7,9,11,13,15-heptaethylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13 ] octasiloxane, 1- (4-vinylphenyl) -3,5,7,9,11,13,15-heptaisobutylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13 ] octasiloxane, 1- (4-vinylphenyl) -3,5,7,9,11,13,15-heptaisooctylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13 ] octasiloxane, 1- (4-vinylphenyl) -3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13 ] octasiloxane, 1- (4-vinylphenyl) -3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 . 1 5,15 . 1 7,13] octasiloxane, 3- (3,5,7,9,11,13,15- hepta ethylpentamethylene cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ] octasiloxane-1-yl) ethyl styrene, 3- (3,5,7,9,11,13,15- hepta isobutyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yl) ethyl styrene, 3- (3,5,7,9,11,13,15- hepta isooctyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5 , 15.1 7,13 ] octasiloxane-1-yl) ethylstyrene, 3- (3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] oct-siloxane -1 Yl) ethyl styrene, 3- (3,5,7,9,11,13,15- heptaphenyl penta cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane 1-yl) ethyl styrene, 3 - ((3,5,7,9,11,13,15- hepta ethylpentamethylene cyclo [9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7, 13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl) ethylstyrene, 3 - ((3,5,7,9,11,13,15- hepta isobutyl penta cyclo [9.5.1.1 3, 9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl) ethylstyrene, 3 - ((3,5,7,9,11,13,15- hepta isooctyl penta cyclo [9.5. 1.1 3,9 .1 5,15 1 7,13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl) ethylstyrene, 3 - ((3,5,7,9,11,13,15- hepta cyclopentyl penta cyclo [9.5.1.1 3, 9 .1 5,15 .1 7,13] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl) ethylstyrene, and 3 - ((3,5,7,9,11,13,15- heptaphenyl penta cyclo [9 .5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ] octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl) ethylstyrene.

付加重合性の二重結合を1つ有する単量体のその他の例は、フッ素含有ビニル単量体(パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等)、ケイ素含有ビニル系単量体(ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等)、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル、フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル、マレイミド系単量体(マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等)、ニトリル基を有する単量体(アクリロニトリル、メタクリロニトリル等)、アミド基を有する単量体(アクリルアミド、メタクリルアミド等)、ビニルエステル系単量体(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、オレフィン類(エチレン、プロピレン等)、共役ジエン系単量体(ブタジエン、イソプレン等)、ハロゲン化ビニル(塩化ビニル等)、ハロゲン化ビニリデン(塩化ビニリデン等)、ハロゲン化アリル(塩化アリル等)、アリルアルコール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、N−ビニルカルバゾール、メチルビニルケトン、およびビニルイソシアナートである。さらに、重合性二重結合を1分子中に1つ有し、主鎖がスチレン、(メタ)アクリル酸エステル、ジオルガノシロキサンまたはアルキレングリコ−ルのマクロマーであるマクロ単量体も挙げられる。 Other examples of monomers having one addition polymerizable double bond include fluorine-containing vinyl monomers (perfluoroethylene, perfluoropropylene, vinylidene fluoride, etc.), silicon-containing vinyl monomers (vinyl). Trimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), maleic anhydride, maleic acid, monoalkyl and dialkyl esters of maleic acid, fumaric acid, monoalkyl and dialkyl esters of fumaric acid, maleimide monomers (maleimide, methyl) Maleimide, ethylmaleimide, propylmaleimide, butylmaleimide, hexylmaleimide, octylmaleimide, dodecylmaleimide, stearylmaleimide, phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide, etc.), monomers having nitrile groups (acrylonitrile, meta Rilonitrile), monomers having an amide group (acrylamide, methacrylamide, etc.), vinyl ester monomers (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, vinyl benzoate, vinyl cinnamate, etc.), olefins ( Ethylene, propylene, etc.), conjugated diene monomers (butadiene, isoprene, etc.), vinyl halides (vinyl chloride, etc.), vinylidene halides (vinylidene chloride, etc.), allyl halides (eg, allyl chloride), allyl alcohol, vinyl Pyrrolidone, vinyl pyridine, N-vinyl carbazole, methyl vinyl ketone, and vinyl isocyanate. Further, a macromonomer having one polymerizable double bond per molecule and a main chain of which is a macromer of styrene, (meth) acrylic acid ester, diorganosiloxane or alkylene glycol is also exemplified.

付加重合性二重結合を2つ有する単量体の例は、ジビニルベンゼンおよびジ(メタ)アクリレート系単量体である。ジ(メタ)アクリレート系単量体の例は、1,3−ブタンジオール ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオール ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン ジ(メタ)アクリレート、ビス〔(メタ)アクリロイルオキシエトキシ〕ビスフェノールA、ビス〔(メタ)アクリロイルオキシエトキシ〕テトラブロモビスフェノールA、ビス〔(メタ)アクロキシポリエトキシ〕ビスフェノールA、1,3−ビス(ヒドロキシエチル)5,5−ジメチルヒダントイン、3−メチルペンタンジオール ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール誘導体のジ(メタ)アクリレート、およびビス〔(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕テトラメチルジシロキサンである。さらに、分子中に重合性二重結合を2つ有し、主鎖がスチレン、(メタ)アクリル酸エステル、ジオルガノシロキサンまたはアルキレングリコ−ルのマクロマーであるマクロ単量体もあげられる。 Examples of monomers having two addition polymerizable double bonds are divinylbenzene and di (meth) acrylate monomers. Examples of di (meth) acrylate monomers include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene Glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di ( Meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, bis [(meth) acryloyloxyethoxy] bisphenol A, bis [(meth) acryloyloxyethoxy] tetrabromobispheno A, bis [(meth) acryloxypolyethoxy] bisphenol A, 1,3-bis (hydroxyethyl) 5,5-dimethylhydantoin, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol The derivatives di (meth) acrylate and bis [(meth) acryloyloxypropyl] tetramethyldisiloxane. Furthermore, a macromonomer having two polymerizable double bonds in the molecule and a main chain of which is a macromer of styrene, (meth) acrylic acid ester, diorganosiloxane or alkylene glycol is also exemplified.

付加重合性二重結合を3つ以上有する単量体の例は、トリメチロールプロパン トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール モノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチルイソシアネート) トリ(メタ)アクリレート、トリス(ジエチレングリコール)トリメレート トリ(メタ)アクリレート、3,7,14−トリス[(((メタ)アクリロイルオキシプロピル)ジメチルシロキシ)]−1,3,5,7,9,11,14−ヘプタエチルトリシクロ[7.3.3.15,11]ヘプタシロキサン、3,7,14−トリス[(((メタ)アクリロイルオキシプロピル)ジメチルシロキシ)]−1,3,5,7,9,11,14−ヘプタイソブチルトリシクロ[7.3.3.15,11]ヘプタシロキサン、3,7,14−トリス[(((メタ)アクリロイルオキシプロピル)ジメチルシロキシ)]−1,3,5,7,9,11,14−ヘプタイソオクチルトリシクロ[7.3.3.15,11]ヘプタシロキサン、3,7,14−トリス[(((メタ)アクリロイルオキシプロピル)ジメチルシロキシ)]−1,3,5,7,9,11,14−ヘプタシクロペンチルトリシクロ[7.3.3.15,11]ヘプタシロキサン、3,7,14−トリス[(((メタ)アクリロイルオキシプロピル)ジメチルシロキシ)]−1,3,5,7,9,11,14−ヘプタフェニルトリシクロ[7.3.3.15,11]ヘプタシロキサン、オクタキス(3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン、およびオクタキス(3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル)オクタシルセスキオキサンである。更に、分子中に重合性二重結合を3個以上を有し、主鎖がスチレン、(メタ)アクリル酸エステル、ジオルガノシロキサンまたはアルキレングリコ−ルのマクロマーであるマクロ単量体も挙げられる。 Examples of monomers having three or more addition polymerizable double bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta ( (Meth) acrylate, tris (2-hydroxyethylisocyanate) tri (meth) acrylate, tris (diethylene glycol) trimaleate tri (meth) acrylate, 3,7,14-tris [((((meth) acryloyloxypropyl) dimethylsiloxy)] -1,3,5,7,9,11,14- hepta ethyl tricyclo [7.3.3.1 5 and 11] hept siloxane, 3,7,14- tris [(((meth) acryloyloxy propyl ) Dimethylsiloxy)]-1 3,5,7,9,11,14- hepta isobutyl tricyclo [7.3.3.1 5 and 11] hept siloxane, 3,7,14- tris [(((meth) acryloyloxy propyl) dimethylsiloxy )] - 1,3,5,7,9,11,14- hept isooctyl tricyclo [7.3.3.1 5 and 11] hept siloxane, 3,7,14- tris [(((meth) acryloyloxypropyl) dimethylsiloxy)] - 1,3,5,7,9,11,14- hept cyclopentanol tilt Li cyclo [7.3.3.1 5 and 11] hept siloxane, 3,7,14- tris [ (((meth) acryloyloxy propyl) dimethylsiloxy)] - 1,3,5,7,9,11,14- heptaphenyl tricyclo [7.3.3.1 5 and 11] hept siloxane, Kutakisu (3- (meth) acryloyloxy propyl dimethylsiloxy) octasilsesquioxane, and octakis (3- (meth) acryloyloxy propyl) it is octasilsesquioxane. Furthermore, the macromonomer which has three or more polymerizable double bonds in a molecule | numerator and whose principal chain is a macromer of styrene, (meth) acrylic acid ester, diorganosiloxane, or alkylene glycol is also mentioned.

上記の単量体は単独で用いてもよいし、複数を共重合させてもよい。共重合させる際にはランダム共重合でも、ブロック共重合でもよい。そして、本発明で用いる好ましい単量体は、(メタ)アクリル酸誘導体およびスチレン誘導体である。より好ましい単量体は(メタ)アクリル酸誘導体である。複数の(メタ)アクリル酸誘導体を共重合させてもよいし、複数のスチレン誘導体を共重合させてもよい。少なくとも1つの(メタ)アクリル酸誘導体と少なくとも1つのスチレン誘導体を共重合させてもよい。 The above monomers may be used alone or a plurality thereof may be copolymerized. The copolymerization may be random copolymerization or block copolymerization. Preferred monomers used in the present invention are (meth) acrylic acid derivatives and styrene derivatives. A more preferred monomer is a (meth) acrylic acid derivative. A plurality of (meth) acrylic acid derivatives may be copolymerized, or a plurality of styrene derivatives may be copolymerized. At least one (meth) acrylic acid derivative and at least one styrene derivative may be copolymerized.

次に、化合物(1−1)、または化合物(1−2)、または化合物(1−3)を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として、付加重合性単量体を原子移動ラジカル重合させる方法について説明する。本発明における原子移動ラジカル重合法はリビングラジカル重合法の一つである。リビングラジカル重合法が記載されている文献の例は、J. Am. Chem. Soc., 117 (1995), 5614-、Macromolecules, 28 (1995), 7901-、およびScience, 272 (1996), 866-である。 Next, a method of subjecting an addition polymerizable monomer to atom transfer radical polymerization using the compound (1-1), the compound (1-2), or the compound (1-3) as an initiator and a transition metal complex as a catalyst Will be described. The atom transfer radical polymerization method in the present invention is one of the living radical polymerization methods. Examples of documents describing living radical polymerization methods are J. Am. Chem. Soc., 117 (1995), 5614-, Macromolecules, 28 (1995), 7901-, and Science, 272 (1996), 866. -That's it.

重合触媒として用いられる遷移金属錯体の好ましい例は、周期律表第7族、8族、9族、10族または11族元素を中心金属とする金属錯体である。更に好ましい触媒は、0価の銅の錯体、1価の銅の錯体、2価のルテニウムの錯体、2価の鉄の錯体および2価のニッケルの錯体である。なかでも、銅の錯体が好ましい。1価の銅化合物の例は、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅、シアン化第一銅、酸化第一銅、過塩素酸第一銅等である。銅化合物を用いる場合には、触媒活性を高めるために、2,2’−ビピリジルもしくはその誘導体、1,10−フェナントロリンもしくはその誘導体、ピリジルメタンイミン(N−(n−プロピル)−2−ピリジルメタンイミン等)、ポリアミン(テトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ヘキサメチルトリス(2−アミノエチル)アミン等)、またはL−(−)−スパルテイン等の多環式アルカロイドが配位子として添加される。2価の塩化ルテニウムのトリストリフェニルホスフィン錯体(RuCl(PPh)も触媒として好適である。ルテニウム化合物を触媒として用いる場合には、活性化剤としてアルミニウムアルコキシド類が添加される。これら以外の好適な触媒の例は、2価の鉄のビストリフェニルホスフィン錯体(FeCl(PPh)、2価のニッケルのビストリフェニルホスフィン錯体(NiCl(PPh)、および2価のニッケルのビストリブチルホスフィン錯体(NiBr(PBu)である。 Preferable examples of the transition metal complex used as the polymerization catalyst are metal complexes having a group metal of Group 7, Group 8, Group 9, Group 10 or Group 11 of the periodic table as a central metal. Further preferred catalysts are zero-valent copper complexes, monovalent copper complexes, divalent ruthenium complexes, divalent iron complexes and divalent nickel complexes. Of these, a copper complex is preferable. Examples of monovalent copper compounds are cuprous chloride, cuprous bromide, cuprous iodide, cuprous cyanide, cuprous oxide, cuprous perchlorate, and the like. When a copper compound is used, 2,2′-bipyridyl or a derivative thereof, 1,10-phenanthroline or a derivative thereof, pyridylmethanimine (N- (n-propyl) -2-pyridylmethane, Imine), polyamines (tetramethylethylenediamine, pentamethyldiethylenetriamine, hexamethyltris (2-aminoethyl) amine, etc.), or polycyclic alkaloids such as L-(-)-sparteine are added as ligands. . A tristriphenylphosphine complex of divalent ruthenium chloride (RuCl 2 (PPh 3 ) 3 ) is also suitable as a catalyst. When a ruthenium compound is used as a catalyst, an aluminum alkoxide is added as an activator. Examples of other suitable catalysts include divalent iron bistriphenylphosphine complexes (FeCl 2 (PPh 3 ) 2 ), divalent nickel bistriphenylphosphine complexes (NiCl 2 (PPh 3 ) 2 ), and 2 This is a bistributylphosphine complex of nickel (NiBr 2 (PBu 3 ) 2 ).

重合反応には溶剤を用いてもよい。用いられる溶剤の例は、炭化水素(例:ベンゼン、トルエン等)、エーテル(例:ジエチルエーテル、THF、ジフェニルエーテル、アニソール、ジメトキシベンゼン等)、ハロゲン化炭化水素(例:塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン等)、ケトン(例:アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、アルコール(例:メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール等)、ニトリル(例:アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等)、エステル(例:酢酸エチル、酢酸ブチル等)、カーボネート系溶剤(例:エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等)、アミド系溶剤(例:N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、ハイドロクロロフルオロカーボン系溶剤(例:HCFC−141b、HCFC−225等)、ハイドロフルオロカーボン系溶剤(例:HFCs等)、パーフルオロカーボン系溶剤(例:パーフルオロペンタン、パーフルオロヘキサン等)、脂環式ハイドロフルオロカーボン系溶剤(例:フルオロシクロペンタン、フルオロシクロブタン等)、酸素含有フッ素系溶剤(例:フルオロエーテル、フルオロポリエーテル、フルオロケトン、フルオロアルコール等)、および水である。ここに挙げた括弧内の化合物は、それぞれの溶剤の好ましい例である。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。エマルジョン系もしくは超臨界流体COを媒体とする系においても重合を行うことができる。なお、用いることができる溶剤はこれらの例に制限されない。 A solvent may be used for the polymerization reaction. Examples of solvents used include hydrocarbons (eg, benzene, toluene, etc.), ethers (eg, diethyl ether, THF, diphenyl ether, anisole, dimethoxybenzene, etc.), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, etc.) ), Ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, etc.), nitrile (eg, acetonitrile, propionitrile, Benzonitrile, etc.), esters (eg, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), carbonate solvents (eg, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), amide solvents (eg, N, N-dimethylformamide, N, N-di) Tylacetamide, etc.), hydrochlorofluorocarbon solvents (eg, HCFC-141b, HCFC-225, etc.), hydrofluorocarbon solvents (eg, HFCs, etc.), perfluorocarbon solvents (eg, perfluoropentane, perfluorohexane, etc.) An alicyclic hydrofluorocarbon solvent (eg, fluorocyclopentane, fluorocyclobutane, etc.), an oxygen-containing fluorine solvent (eg, fluoroether, fluoropolyether, fluoroketone, fluoroalcohol, etc.), and water. The compounds in parentheses listed here are preferred examples of the respective solvents. These may be used alone or in combination of two or more. Polymerization can also be carried out in an emulsion system or a system using supercritical fluid CO 2 as a medium. In addition, the solvent which can be used is not restrict | limited to these examples.

原子移動ラジカル重合は、付加重合性単量体の種類、溶剤の種類に応じて、減圧、常圧または加圧下で行うことができる。重合触媒または生成ラジカルは、酸素と接触すると失活する恐れがある。そのような場合には重合速度が低下したり、良好なリビング重合体が得られなかったりするため、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で重合を行うことが肝要である。この反応では、あらかじめ、減圧下で重合系内の溶存酸素を除去する必要がある。そして、溶存酸素の除去工程の後、そのまま減圧下において重合工程へ移行することも可能である。原子移動ラジカル重合には慣用の方法を採用することができ、重合方法によって特に制限されない。例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、または塊状−懸濁重合法等を採用することができる。そして、重合温度は0〜200℃の範囲であり、好ましい重合温度は、室温〜150℃の範囲である。 Atom transfer radical polymerization can be performed under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure, depending on the type of addition polymerizable monomer and the type of solvent. The polymerization catalyst or generated radical may be deactivated when it comes into contact with oxygen. In such a case, it is important to perform the polymerization in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon because the polymerization rate decreases or a good living polymer cannot be obtained. In this reaction, it is necessary to previously remove dissolved oxygen in the polymerization system under reduced pressure. And it is also possible to transfer to a superposition | polymerization process under reduced pressure as it is after the removal process of dissolved oxygen. A conventional method can be adopted for the atom transfer radical polymerization, and it is not particularly limited by the polymerization method. For example, a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk-suspension polymerization method, or the like can be employed. And polymerization temperature is the range of 0-200 degreeC, and preferable polymerization temperature is the range of room temperature-150 degreeC.

化合物(1−1−2)を開始剤として用いるとき、上記の方法により得られる重合体は式(P−1)で示される。以下の説明では、式(P−1)で示される重合体を重合体(P−1)で表記する。

Figure 2005343892
式(1−1−2)において、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレンまたはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である。そして、Aは式(2−1)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2−1)において、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである。 When the compound (1-1-2) is used as an initiator, the polymer obtained by the above method is represented by the formula (P-1). In the following description, the polymer represented by the formula (P-1) is represented by the polymer (P-1).

Figure 2005343892
In formula (1-1-2), all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — is —O—, -CH = CH-, alkyl optionally substituted with cycloalkylene or cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen substituted with fluorine, 1- An alkyl group having 4 carbon atoms, a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and in which any —CH 2 — may be replaced by —O— And when the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents, it is Selected R 2 and R 3 are independently from hexyl alkyl, the phenyl and cycloalkyl having from 1 to 8 carbon atoms; the substituents identical to the may be a group may be different groups It is a group. A 1 is a group represented by the formula (2-1).

Figure 2005343892
In formula (2-1), Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen.

を重合開始基としてシルセスキオキサン誘導体に導入するにあたり、加水分解されない誘導体を得るための代表的な方法は、Si−ハロゲンに対してグリニヤー試薬を反応させる方法とSi−Hに対して脂肪族不飽和結合を有する化合物を反応させる方法である。後者は、通常ヒドロシリル化反応法と称される。本発明においては、原料の入手しやすさの点で、ヒドロシリル化反応法の方が適用しやすいが、この限りではない。

Figure 2005343892

式(P−1)におけるR11、RおよびRは、式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Bは式(2−1−P)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2‐1‐P)において、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。そして、その他の記号は式(2−1)における記号と同一の意味を有する。 In introducing A 1 into the silsesquioxane derivative as a polymerization initiating group, a typical method for obtaining a derivative that is not hydrolyzed is a method in which a Grignard reagent is reacted with Si-halogen and a method in which Si-H is reacted. This is a method of reacting a compound having an aliphatic unsaturated bond. The latter is usually referred to as a hydrosilylation reaction method. In the present invention, the hydrosilylation reaction method is easier to apply in terms of the availability of raw materials, but is not limited thereto.

Figure 2005343892

R 11 , R 2 and R 3 in formula (P-1) have the same meanings as those symbols in formula (1-1-2), and B 1 is represented by formula (2-1-P). Group.

Figure 2005343892
In the formula (2-1-P), P 1 is a chain of structural units obtained by polymerization of an addition polymerizable monomer. The other symbols have the same meaning as the symbols in formula (2-1).

化合物(1−2−2)を開始剤として用いるとき、上記の方法により得られる重合体は式(P−2)で示される。以下の説明では、式(P−2)で示される重合体を重合体(P−2)で表記する。

Figure 2005343892
式(1‐2‐2)におけるR11、RおよびRは、式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−2)で示される基である。そしてBは式(2−2−P)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2−2)において、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。Aを重合開始基としてシルセスキオキサン誘導体に導入する場合も、化合物(1−1−2)を得る場合と同様に、Si−ハロゲンに対してグリニヤー試薬を反応させる方法とSi−Hに対して脂肪族不飽和結合を有する化合物を反応させる方法を用いることができる。

Figure 2005343892
式(P−2)におけるR11、RおよびRは、式(1−2−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Bは式(2−2−P)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2‐2‐P)において、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖であり、この他の記号は式(2−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、ベンゼン環への−SO−およびRの結合位置は、式(2‐2)におけるそれ俺の結合位置と同一である。 When the compound (1-2-2) is used as an initiator, the polymer obtained by the above method is represented by the formula (P-2). In the following description, the polymer represented by the formula (P-2) is represented by a polymer (P-2).

Figure 2005343892
R 11 , R 2 and R 3 in formula (1-2-2) have the same meaning as those symbols in formula (1-1-2), and A 2 is represented by formula (2-2). Group. B 2 is a group represented by the formula (2-2P).

Figure 2005343892
In Formula (2-2), Z 3 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; X 2 is halogen; the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is the bonding of Z 3 The position is ortho, meta, or para with respect to the position, and the bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 3 and —SO 2 X 2 . When A 2 is introduced as a polymerization initiating group into a silsesquioxane derivative, as in the case of obtaining the compound (1-1-2), Si-H is reacted with a Grignard reagent and Si-H On the other hand, a method of reacting a compound having an aliphatic unsaturated bond can be used.

Figure 2005343892
R 11 , R 2 and R 3 in formula (P-2) have the same meaning as those symbols in formula (1-2-2), and B 2 is represented by formula (2-2P). Group.

Figure 2005343892
In the formula (2-2-P), P 2 is a chain of structural units obtained by polymerization of the addition polymerizable monomer, and other symbols have the same meaning as those symbols in the formula (2-2). And the bonding position of —SO 2 X 2 — and R 6 to the benzene ring is the same as that of the bond position in Formula (2-2).

化合物(1−3−2)を開始剤として用いるとき、上記の方法により得られる重合体は式(P−3)で示される。以下の説明では、式(P−3)で示される重合体を重合体(P−3)で表記する。

Figure 2005343892
式(1‐3‐2)におけるR11、RおよびRは、式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−3)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2−3)において、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。Aを重合開始基としてシルセスキオキサン誘導体に導入する場合も、化合物(1−1−2)を得る場合と同様に、Si−ハロゲンに対してグリニヤー試薬を反応させる方法とSi−Hに対して脂肪族不飽和結合を有する化合物を反応させる方法を用いることができる。

Figure 2005343892
式(P−3)におけるR11、RおよびRは、式(1−3−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Bは式(2−3−P)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2‐3‐P)において、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖であり、この他の記号は式(2−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は、式(2−3)におけるそれぞれの結合位置と同一である。 When the compound (1-3-2) is used as an initiator, the polymer obtained by the above method is represented by the formula (P-3). In the following description, the polymer represented by the formula (P-3) is represented by a polymer (P-3).

Figure 2005343892
R 11 , R 2 and R 3 in formula (1-3-2) have the same meaning as those symbols in formula (1-1-2), and A 3 is represented by formula (2-3). Group.

Figure 2005343892
In Formula (2-3), Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is carbon number 2 to 10 wherein any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is an alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; X 3 is halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 Is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 5 and Z 7 . May be introduced into the silsesquioxane derivative A 3 as a polymerization initiator group, as in the case of obtaining a compound (1-1-2), the method and Si-H reacting Grignard reagents for Si- halogen On the other hand, a method of reacting a compound having an aliphatic unsaturated bond can be used.

Figure 2005343892
R 11 , R 2 and R 3 in the formula (P-3) have the same meaning as those symbols in the formula (1-3-2), and B 3 is represented by the formula (2-3-P). Group.

Figure 2005343892
In the formula (2-3-P), P 3 is a chain of structural units obtained by polymerization of the addition polymerizable monomer, and other symbols have the same meaning as those symbols in the formula (2-3). And the bonding positions of Z 5 and R 7 to the benzene ring are the same as the respective bonding positions in the formula (2-3).

用いる単量体を適当に選ぶことによって、重合体(P−1)の構造を制御することが可能である。例えば、単量体の単独重合を行えば、ホモポリマーが結合したシルセスキオキサンが得られる。複数の単量体を同時に添加して重合するとランダム共重合体が結合したシルセスキオキサンが得られる。単量体を逐次的に添加する方法、例えば、最初の単量体の重合が完結した後に、2番目の単量体を添加して重合を完結させる方法を採用すれば、ブロック共重合体が結合したシルセスキオキサンを得ることができる。この段階的な重合を複数の単量体を用いて繰り返し行うことで、マルチブロック共重合体が結合したシルセスキオキサンを得ることができる。そして、必要に応じて多官能単量体を共存させることで、三次元網目構造を有する架橋重合体とすることもできる。 The structure of the polymer (P-1) can be controlled by appropriately selecting the monomer to be used. For example, when the monomer is homopolymerized, silsesquioxane to which the homopolymer is bonded is obtained. When a plurality of monomers are simultaneously added and polymerized, silsesquioxane having a random copolymer bonded thereto is obtained. If a method of sequentially adding the monomers, for example, a method of completing the polymerization by adding the second monomer after the polymerization of the first monomer is completed, the block copolymer is obtained. Bound silsesquioxane can be obtained. By repeating this stepwise polymerization using a plurality of monomers, a silsesquioxane having a multiblock copolymer bonded thereto can be obtained. And it can also be set as the crosslinked polymer which has a three-dimensional network structure by coexisting a polyfunctional monomer as needed.

通常の付加重合性単量体を重合させる時に、重合性官能基を有すると同時に開始剤としての機能をも有する化合物を併用することにより、高分岐型ポリマーが結合したシルセスキオキサンを得ることができる。このような化合物の例は、2−(2−ブロモプロパノイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−ブロモイソブチリルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−ブロモプロパノイルオキシ)スチレン、および2−(2−ブロモイソブチリルオキシ)スチレンである。(メタ)アクリル基またはスチリル基を有するケイ素化合物を併用することにより、重合体の構造中にケイ素原子を含む構成単位を導入することができる。このケイ素化合物の例は、トリアルコキシシラン、ポリジメチルシロキサンおよびシルセスキオキサンである。原子移動ラジカル重合に関与しない開始基を有する付加重合性単量体を共重合させた後、得られた重合体を開始剤として、さらに他の重合様式(例えばニトロキシル重合や光イニファタ重合)で付加重合性単量体を重合させて、グラフト共重合体を形成させることもできる。原子移動ラジカル重合に関与しない開始基を有する付加重合性単量体の例は、1−(2-(4−ビニルフェニルメトキシ)−1−フェニルエトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイルオキシ−2−フェニル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ)エタン、(1−(4−(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシエチル)フェニルエトキシ)ピペリジン、およびビニルフェニルメチルジチオカルバメートである。 When polymerizing ordinary addition polymerizable monomers, a silsesquioxane bonded with a hyperbranched polymer is obtained by using a compound having a polymerizable functional group and also a function as an initiator. Can do. Examples of such compounds are 2- (2-bromopropanoyloxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-bromoisobutyryloxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-bromopropanoyloxy ) Styrene, and 2- (2-bromoisobutyryloxy) styrene. By using a silicon compound having a (meth) acryl group or a styryl group in combination, a structural unit containing a silicon atom can be introduced into the structure of the polymer. Examples of this silicon compound are trialkoxysilane, polydimethylsiloxane and silsesquioxane. After copolymerization of an addition-polymerizable monomer having an initiating group that does not participate in atom transfer radical polymerization, the resulting polymer is used as an initiator for addition in another polymerization mode (for example, nitroxyl polymerization or photo-iniferter polymerization). A polymerizable monomer can be polymerized to form a graft copolymer. Examples of addition polymerizable monomers having initiating groups not involved in atom transfer radical polymerization are 1- (2- (4-vinylphenylmethoxy) -1-phenylethoxy) -2,2,6,6-tetramethyl Piperidine, 1- (meth) acryloyloxy-2-phenyl-2- (2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy) ethane, (1- (4- (4- (meth) acryloyl) Oxyethoxyethyl) phenylethoxy) piperidine, and vinylphenylmethyldithiocarbamate.

グリシジル基を有する単量体(例:グリシジル(メタ)アクリレート)、オキセタニル基を有する単量体(例:3−エチル−3−(メタ)アクリロイルオキシメチルオキセタン)、またはジオキソランを有する単量体(例:4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン)と共重合させた後、得られた重合体に熱潜在性または光潜在性カチオン重合開始剤として脂肪族スルフォニウム塩、芳香族スルフォニウム塩または芳香族アイオドニウム塩を添加すれば、カチオン重合により三次元網目構造を有する架橋重合体とすることもできる。熱潜在性カチオン重合開始剤である脂肪族スルフォニウム塩の例は、3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートおよび2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートであり、これらは旭電化工業株式会社より販売されている。熱潜在性あるいは光潜在性カチオン重合開始剤である芳香族スルフォニウム塩は、三新化学工業株式会社および旭電化工業株式会社から数多くの製品が販売されている。ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートも芳香族スルフォニウム塩の例である。芳香族アイオドニウム塩の例は、(4−ペンタデシルオキシフェニル)フェニルアイオドニウムヘキサフルオロアンチモネートである。光潜在性カチオン重合を行う際には光増感剤、例えばアデカオプトマーSP−100(旭電化工業株式会社製)を併用してもよい。またカチオン重合による三次元網目構造を有する架橋重合体を得る際には、単官能あるいは多官能のグリシジル系架橋剤、あるいは単官能あるいは多官能のオキセタン系架橋剤を共存させていてもよい。 A monomer having a glycidyl group (eg, glycidyl (meth) acrylate), a monomer having an oxetanyl group (eg, 3-ethyl-3- (meth) acryloyloxymethyloxetane), or a monomer having a dioxolane ( Example: After copolymerization with 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolane), the resulting polymer is used as a thermal or photolatent cationic polymerization initiator. If an aliphatic sulfonium salt, an aromatic sulfonium salt or an aromatic iodonium salt is added, a crosslinked polymer having a three-dimensional network structure can be obtained by cationic polymerization. Examples of aliphatic sulfonium salts that are thermal latent cationic polymerization initiators are 3-methyl-2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluoroantimonate and 2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluoroantimonate These are sold by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. Aromatic sulfonium salts, which are heat-latent or photo-latent cationic polymerization initiators, are commercially available from Sanshin Chemical Industry Co., Ltd. and Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. Diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate is also an example of an aromatic sulfonium salt. An example of an aromatic iodonium salt is (4-pentadecyloxyphenyl) phenyl iodonium hexafluoroantimonate. When performing photolatent cationic polymerization, you may use together a photosensitizer, for example, Adeka optomer SP-100 (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.). Further, when obtaining a crosslinked polymer having a three-dimensional network structure by cationic polymerization, a monofunctional or polyfunctional glycidyl crosslinking agent, or a monofunctional or polyfunctional oxetane crosslinking agent may be present together.

次に重合体(P−1)の精製方法について説明する。この重合体の単離・精製は、未反応の付加重合性単量体を効率よく除去することによってなされる。種々の方法があるが、再沈殿操作による精製法が好ましい。この精製法は次のように行われる。まず、重合体(P−1)および未反応の単量体を含む重合反応液に、重合体(P−1)は溶解しないけれども未反応の単量体は溶解するような溶剤、いわゆる沈殿剤をこの溶液に加えて重合体(P−1)のみを沈殿させる。沈殿剤の好ましい使用量は、前記の重合反応液の重量に基づいて20〜50倍である。 Next, the purification method of a polymer (P-1) is demonstrated. This polymer is isolated and purified by efficiently removing unreacted addition polymerizable monomers. Although there are various methods, a purification method by reprecipitation operation is preferable. This purification method is performed as follows. First, a solvent that does not dissolve the polymer (P-1) but dissolves the unreacted monomer in the polymerization reaction solution containing the polymer (P-1) and the unreacted monomer, a so-called precipitant. Is added to this solution to precipitate only the polymer (P-1). A preferred amount of the precipitating agent is 20 to 50 times based on the weight of the polymerization reaction solution.

好ましい沈殿剤は、重合時に用いる溶剤と相溶し、重合体(P−1)を全く溶解せず、未反応の単量体のみを溶解し、沸点も比較的低い溶剤である。好ましい沈殿剤の例は低級アルコール類および脂肪族炭化水素である。特に好ましい沈殿剤はメタノールおよびヘキサンである。そして、未反応単量体の除去効率をさらにあげるためには、再沈殿操作の繰り返し回数を多くすればよい。この方法により、重合体(P−1)のみを貧溶剤中で析出させることが可能であり、濾過操作によって容易に未反応単量体と重合体とを分離することができる。 A preferred precipitant is a solvent that is compatible with the solvent used in the polymerization, does not dissolve the polymer (P-1) at all, dissolves only the unreacted monomer, and has a relatively low boiling point. Examples of preferred precipitating agents are lower alcohols and aliphatic hydrocarbons. Particularly preferred precipitating agents are methanol and hexane. And in order to raise the removal efficiency of an unreacted monomer further, what is necessary is just to increase the repetition frequency of reprecipitation operation. By this method, only the polymer (P-1) can be precipitated in a poor solvent, and the unreacted monomer and the polymer can be easily separated by a filtration operation.

上記の方法により単離した重合体(P−1)には重合触媒である遷移金属錯体が残存するため、重合体の着色、物性面への影響および環境安全性等の問題が生ずることがある。従って、重合反応終了時にこの触媒残渣を除去する必要がある。触媒残渣は、活性炭等を用いる吸着処理により除去することができる。活性炭以外の吸着剤の例は、イオン交換樹脂(酸性、塩基性またはキレート形)、および無機系吸着剤である。無機系吸着剤は、固体酸、固体塩基、または中性の性格を有する。そしてこれは、多孔質構造の粒子であるため、非常に高い吸着能を有する。低温から高温までの広い温度範囲で使用可能であることも、無機系吸着剤の特徴の1つである。 In the polymer (P-1) isolated by the above method, the transition metal complex that is a polymerization catalyst remains, which may cause problems such as coloring of the polymer, influence on physical properties and environmental safety. . Therefore, it is necessary to remove this catalyst residue at the end of the polymerization reaction. The catalyst residue can be removed by an adsorption treatment using activated carbon or the like. Examples of adsorbents other than activated carbon are ion exchange resins (acidic, basic or chelate type), and inorganic adsorbents. The inorganic adsorbent has a solid acid, a solid base, or a neutral character. Since this is a particle having a porous structure, it has a very high adsorption capacity. One of the characteristics of inorganic adsorbents is that they can be used in a wide temperature range from low temperature to high temperature.

無機系吸着剤の例は、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、シリカ・アルミナ、アルミニウムシリケート、活性アルミナ、酸性白土、活性白土等の粘土系吸着剤、ゼオライト(zeolite)系吸着剤、ドーソナイト(dawsonite)類化合物、およびハイドロタルサイト(hydrotalcite)類化合物である。ゼオライトには天然産と合成品があるが、いずれでもよい。二酸化ケイ素には結晶性、無定形、非晶質、ガラス状、合成品、天然品等の種類があるけれども、本発明においては、種類に関係なく、粉体状の二酸化ケイ素が使用可能である。天然アルミニウムシリケートの例は、軽石、フライアッシュ、カオリン、ベントナイト、活性白土、ケイソウ土等である。合成アルミニウムシリケートは、比表面積も大きく吸着能力が高い。ハイドロタルサイト類化合物は、アルミニウム・マグネシウム水酸化物の含水炭酸塩である。 Examples of inorganic adsorbents are silicon dioxide, magnesium oxide, silica / alumina, aluminum silicate, activated alumina, clay clay such as acid clay, activated clay, zeolite (zeolite) adsorbent, dawsonite compounds , And hydrotalcite compounds. There are natural and synthetic zeolites, but any of them may be used. There are various types of silicon dioxide such as crystalline, amorphous, amorphous, glassy, synthetic and natural products, but in the present invention, powdered silicon dioxide can be used regardless of the type. . Examples of natural aluminum silicate are pumice, fly ash, kaolin, bentonite, activated clay, diatomaceous earth and the like. Synthetic aluminum silicate has a large specific surface area and a high adsorption capacity. The hydrotalcite compound is a hydrated carbonate of aluminum / magnesium hydroxide.

酸性吸着剤および塩基性吸着剤は、活性炭と併用されることが好ましい。酸性吸着剤の例は、酸性白土、活性白土、アルミニウムシリケート等である。塩基性吸着剤の例は、活性アルミナ、前記のゼオライト系吸着剤、ハイドロタルサイト類化合物等である。これらの吸着剤は単独で用いても2種以上を混合して用いてもかまわない。そして、原子移動ラジカル重合により製造される重合体(P−1)は、活性アルミナと接触させることにより精製することができる。活性アルミナは、アルドリッチ社等からの市販品を用いることができる。活性アルミナをこれ以外の吸着剤と併用して吸着処理を行う場合は、吸着剤を混合して接触させることもできるが、それぞれ別々の工程で接触させてもよい。吸着剤と接触させる際は反応液そのままでもよく、反応液を溶剤で希釈しても構わない。希釈溶剤は、重合体の貧溶剤でないことのみを条件として、一般的な溶剤から選択されてよい。吸着剤処理の温度については特に制限はない。一般的には、0℃〜200℃で処理すればよい。好ましい温度範囲は室温〜180℃である。そして吸着剤の使用量は、重合体(P−1)の重量に基づいて、0.1〜500重量%の範囲である。経済性と操作面を考慮すると、好ましい範囲は0.5〜10重量%である。 The acidic adsorbent and the basic adsorbent are preferably used in combination with activated carbon. Examples of the acidic adsorbent are acidic clay, activated clay, aluminum silicate and the like. Examples of basic adsorbents are activated alumina, the aforementioned zeolite adsorbents, hydrotalcite compounds and the like. These adsorbents may be used alone or in admixture of two or more. And the polymer (P-1) manufactured by atom transfer radical polymerization can be refine | purified by making it contact with activated alumina. As the activated alumina, a commercial product from Aldrich or the like can be used. When performing an adsorption treatment using activated alumina in combination with other adsorbents, the adsorbents can be mixed and brought into contact with each other, but they may be brought into contact with each other in separate steps. When contacting with the adsorbent, the reaction solution may be used as it is, or the reaction solution may be diluted with a solvent. The diluting solvent may be selected from common solvents provided that it is not a poor solvent for the polymer. There is no particular limitation on the temperature of the adsorbent treatment. Generally, the treatment may be performed at 0 ° C to 200 ° C. A preferred temperature range is from room temperature to 180 ° C. And the usage-amount of adsorption agent is the range of 0.1-500 weight% based on the weight of a polymer (P-1). In view of economy and operation, a preferable range is 0.5 to 10% by weight.

吸着剤と重合体溶液の固液接触には、撹拌混合と固液分離を回分操作で行う回分式の方法が利用できる。この他に、吸着剤を容器に充填し重合体溶液を通液する固定層方式、吸着剤の移動層に液を通じる移動層式、吸着剤を液で流動化して吸着を行う流動層式等の連続式の方法も利用できる。さらに必要に応じて、撹拌による混合分散操作に、容器の振とうまたは超音波の利用等の、分散効率を向上させる操作を組み合わせることができる。重合体溶液を吸着剤に接触させた後、濾過、遠心分離、沈降分離等の方法で吸着剤を除去し、必要に応じて水洗処理を行い、精製された重合体溶液を得る。吸着剤による処理は、最終生成物である重合体(P−1)に対して行えばよいが、この重合体を製造するための中間生成物に対して行ってもよい。例えば、原子移動ラジカル重合により得られるブロック共重合体の各重合段階において、この重合体を単離し、吸着処理を行なうことも可能である。吸着剤による処理を行った重合体(P−1)は、貧溶剤中で析出させたり、溶剤等の揮発成分を減圧下で溜去することにより分離してもよい。 For the solid-liquid contact between the adsorbent and the polymer solution, a batch method in which stirring and mixing and solid-liquid separation are performed by a batch operation can be used. In addition to this, a fixed bed method in which a container is filled with an adsorbent and the polymer solution is passed, a moving bed method in which the liquid is passed through the moving bed of the adsorbent, a fluidized bed method in which the adsorbent is fluidized with liquid and adsorbed, etc. The continuous method can also be used. Furthermore, if necessary, operations for improving the dispersion efficiency such as shaking of the container or use of ultrasonic waves can be combined with the mixing and dispersing operation by stirring. After the polymer solution is brought into contact with the adsorbent, the adsorbent is removed by a method such as filtration, centrifugation, and sedimentation separation, and a water washing treatment is performed as necessary to obtain a purified polymer solution. The treatment with the adsorbent may be performed on the polymer (P-1) which is the final product, but may be performed on the intermediate product for producing the polymer. For example, in each polymerization stage of the block copolymer obtained by atom transfer radical polymerization, it is possible to isolate this polymer and perform an adsorption treatment. The polymer (P-1) that has been treated with the adsorbent may be separated by precipitation in a poor solvent or by distilling off volatile components such as a solvent under reduced pressure.

また、触媒残渣は、非水溶性溶剤と錯化剤水溶液とを用いるか、または非水溶性溶剤と電解質成分を更に含む錯化剤水溶液とを用いて精製処理することにより除去することができる。即ち、重合体(P−1)を非水溶性溶剤に溶解した後、この重合体(P−1)の溶液に錯化剤水溶液または更に電解質成分を含む錯化剤水溶液を加えて撹拌・混合し、遷移金属成分をこの錯化剤との錯体に変換させてこれを水層に抽出することにより、重合体(P−1)に残留する触媒成分濃度を著しく低減させることができる。 Further, the catalyst residue can be removed by using a water-insoluble solvent and a complexing agent aqueous solution, or by performing a purification treatment using a water-insoluble solvent and a complexing agent aqueous solution further containing an electrolyte component. That is, after the polymer (P-1) is dissolved in a water-insoluble solvent, a complexing agent aqueous solution or a complexing agent aqueous solution further containing an electrolyte component is added to the polymer (P-1) solution, followed by stirring and mixing. Then, by converting the transition metal component into a complex with the complexing agent and extracting it into the aqueous layer, the concentration of the catalyst component remaining in the polymer (P-1) can be significantly reduced.

また、重合反応液を対象に精製処理してもよい。重合反応液の粘度が高い場合には、これに非水溶性溶剤を加えて適当な溶液粘度にしてから精製処理してもよい。即ち、重合反応終了時に重合体(P−1)を含む重合反応液を所定量の非水溶性溶剤によって希釈した後、この溶液に錯化剤水溶液またはさらに電解質成分を含む錯化剤水溶液を加えて撹拌・混合し、遷移金属成分を錯塩化して前記水溶液に移行させ、その後に遠心分離や静置分離等の物理的操作により、前記水溶液と重合体(P−1)を含む非水溶性溶剤を分離させる。このような精製処理によって、重合体(P−1)に残留する触媒成分濃度を著しく低減させることができる。 Moreover, you may refine | purify a polymerization reaction liquid as object. When the viscosity of the polymerization reaction solution is high, a purification treatment may be performed after adding a water-insoluble solvent to obtain an appropriate solution viscosity. That is, after the polymerization reaction is completed, the polymerization reaction solution containing the polymer (P-1) is diluted with a predetermined amount of a non-aqueous solvent, and then a complexing agent aqueous solution or a complexing agent aqueous solution further containing an electrolyte component is added to this solution. A water-insoluble solvent containing the aqueous solution and the polymer (P-1) by physical operation such as centrifugal separation or stationary separation. To separate. By such a purification treatment, the concentration of the catalyst component remaining in the polymer (P-1) can be significantly reduced.

この精製処理の操作手順は必ずしも上記の通りでなくてもよい。例えば、重合体(P−1)または重合体(P−1)を含む重合反応液に錯化剤または錯化剤および電解質成分を加えてから非水溶性溶剤を加え、更に水を加えてもよい。どのような操作手順で精製処理を行っても、最終的には最初に説明した操作手順の場合と同じ抽出処理になり、同じ効果が得られる。 The operation procedure of this purification process does not necessarily have to be as described above. For example, after adding a complexing agent or a complexing agent and an electrolyte component to a polymer (P-1) or a polymerization reaction solution containing a polymer (P-1), a water-insoluble solvent is added, and water is further added. Good. Regardless of the operation procedure, the purification process is finally the same extraction process as the operation procedure described first, and the same effect can be obtained.

ここでは、重合体(P−1)を非水溶性溶剤で溶解した溶液、重合反応液または重合反応液を非水溶性溶剤で希釈した溶液を重合体(P−1)溶液と称することがある。重合体(P−1)溶液と錯化剤水溶液またはさらに電解質成分を含む錯化剤水溶液との混合・接触は、攪拌機が付設された回分式の槽型処理槽で撹拌することが好ましい。振とう型の槽型処理槽を用いてもよい。重合体(P−1)溶液中の重合体濃度は、均一溶液であり、錯化剤水溶液との撹拌混合が可能な粘度であることが条件であるが、40重量%以下であることが好ましい。重合体(P−1)溶液中の重合体濃度を増加させた場合には、重合体の析出や増粘が問題となる場合があるが、その際には、70〜100℃程度に加熱できるスチームコイルまたはスチームジャケット等の加熱装置が付設された処理槽を用いて、加熱下に処理すればよい。重合体(P−1)溶液中の重合体濃度が低く室温下で均一溶液であれば、室温で撹拌・接触を行うこともできる。 Here, a solution obtained by dissolving the polymer (P-1) with a water-insoluble solvent, a polymerization reaction solution or a solution obtained by diluting the polymerization reaction solution with a water-insoluble solvent may be referred to as a polymer (P-1) solution. . The mixing / contact of the polymer (P-1) solution with the complexing agent aqueous solution or the complexing agent aqueous solution further containing an electrolyte component is preferably stirred in a batch-type tank-type treatment tank provided with a stirrer. A shaking-type tank-type treatment tank may be used. The polymer concentration in the polymer (P-1) solution is a uniform solution and is a viscosity that allows stirring and mixing with the complexing agent aqueous solution, but is preferably 40% by weight or less. . When the polymer concentration in the polymer (P-1) solution is increased, precipitation and thickening of the polymer may become a problem, but in that case, the polymer can be heated to about 70 to 100 ° C. What is necessary is just to process under heating using the processing tank provided with heating apparatuses, such as a steam coil or a steam jacket. If the polymer concentration in the polymer (P-1) solution is low and it is a homogeneous solution at room temperature, stirring and contact can be performed at room temperature.

重合体(P−1)溶液と錯化剤水溶液またはさらに電解質成分を含む錯化剤水溶液との油水分離には、比重差を利用する遠心分離または静置分離、あるいは電気的性質の違いを利用する静電浄油等を利用することができる。本発明では、二相の油水分離が必要となるため、二相分離型のデカンタの使用が最も好適であるが、その他の遠心分離器の使用も当然可能である。また無機系吸着剤を併用する場合、スラッジ等の固形分が含まれるため、その際には三相分離型のデカンタを使用することとなるが、その際もその他の遠心分離器の使用は当然可能である。そして、上記工程により処理を行った重合体は、貧溶剤中で析出させたり、溶剤等の揮発成分を減圧下で溜去することにより単離することができる。 For oil-water separation between the polymer (P-1) solution and the complexing agent aqueous solution or the complexing agent aqueous solution further containing an electrolyte component, centrifugal separation or static separation utilizing the difference in specific gravity, or the difference in electrical properties is utilized. Electrostatic oil purification or the like can be used. In the present invention, since two-phase oil-water separation is required, the use of a two-phase separation type decanter is most preferable, but other centrifuges can naturally be used. In addition, when using an inorganic adsorbent in combination, since solids such as sludge are included, a three-phase separation type decanter will be used in that case. Is possible. And the polymer processed by the said process can be isolated by making it precipitate in a poor solvent, or distilling off volatile components, such as a solvent, under reduced pressure.

重合体(P−1)溶液と錯化剤水溶液またはさらに電解質成分を含む錯化剤水溶液との混合・接触および油水分離工程の回数は、重合体(P−1)に残留する触媒成分濃度を著しく低減させることが可能であるなら、特に限定されるものではない。即ち、混合・接触および油水分離工程を1工程とした場合、1工程毎に重合体(P−1)中の遷移金属成分を分析することにより、目的とする含有量まで低減させたところをこの工程の回数としてもよい。 The number of mixing / contact and oil / water separation steps of the polymer (P-1) solution and the complexing agent aqueous solution or the complexing agent aqueous solution further containing the electrolyte component is determined by the concentration of the catalyst component remaining in the polymer (P-1). There is no particular limitation as long as it can be significantly reduced. That is, when the mixing / contacting and oil / water separation step is one step, the transition metal component in the polymer (P-1) is analyzed for each step to reduce the content to the target content. It is good also as the frequency | count of a process.

重合体(P−1)に含まれる遷移金属成分に対する錯化剤の添加割合については、一般的には遷移金属成分に対する錯化剤のモル比が1〜1000当量であることが好ましい。重合体(P−1)中の遷移金属含有量は、重合反応液の仕込み時にあらかじめ計算で予測することができるため、処理する重合体(P−1)に含まれる遷移金属含有量によって、上記の錯化剤量を決定すればよい。そして錯化剤水溶液中の錯化剤の濃度は、0.001〜20重量%の範囲であることが好ましい。 About the addition ratio of the complexing agent with respect to the transition metal component contained in a polymer (P-1), it is preferable that the molar ratio of the complexing agent with respect to a transition metal component is generally 1-1000 equivalent. Since the transition metal content in the polymer (P-1) can be predicted in advance when the polymerization reaction solution is charged, the transition metal content included in the polymer (P-1) to be treated is The amount of the complexing agent may be determined. The concentration of the complexing agent in the complexing agent aqueous solution is preferably in the range of 0.001 to 20% by weight.

さらに電解質成分を含む錯化剤水溶液にあっては、水溶液の比重を増加させることによる油水分離効率の向上が主たる目的であり、分離に要する時間が短縮されるのであれば、その使用量は特に限定されない。一般的には、飽和 (Saturated)あるいは半飽和 (half Saturated)させて用いることができる。 Furthermore, in the complexing agent aqueous solution containing the electrolyte component, the main purpose is to improve the oil-water separation efficiency by increasing the specific gravity of the aqueous solution. It is not limited. In general, it can be used in a saturated or half-saturated state.

このような工程は、最終生成物である重合体(P−1)に対して行えばよいが、この重合体を製造するための中間生成物に対して行ってもよい。例えば、原子移動ラジカル重合により得られるブロック共重合体の各重合段階において、この重合体を単離し、このような処理を行なうことも可能である。 Such a process may be performed on the polymer (P-1) which is the final product, but may be performed on an intermediate product for producing the polymer. For example, in each polymerization stage of the block copolymer obtained by atom transfer radical polymerization, it is possible to isolate the polymer and perform such treatment.

この精製工程で用いられる非水溶性溶剤の例は、アニソール、ベンゼン、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロホルム、1−クロロナフタレン、ジベンジルナフタレン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、1,1−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、ジイソプロピルエーテル、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルエーテル、酢酸エチル、メシチレン、酢酸メチル、酢酸イソアミル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、テトラクロロエチレン、テトラリン、トルエン、トリクロロエチレン、およびキシレンである。より好ましい例はクロロホルム、酢酸エチルおよびトルエンである。 Examples of water-insoluble solvents used in this purification step are anisole, benzene, carbon tetrachloride, chlorobenzene, chloroform, 1-chloronaphthalene, dibenzylnaphthalene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, 1,1-dichloroethane. 1,2-dichloroethane, dichloromethane, diisopropyl ether, N, N-dimethylaniline, diphenyl ether, ethyl acetate, mesitylene, methyl acetate, isoamyl acetate, cyclohexanone, cyclopentanone, nitrobenzene, nitromethane, tetrachloroethylene, tetralin, toluene, trichloroethylene, And xylene. More preferred examples are chloroform, ethyl acetate and toluene.

用いられる錯化剤水溶液は、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、アンモニア、アミン、アミノカルボン酸、アミノ酸、リン酸類、ホスホン酸類、および無機硫黄化合物から選択される少なくとも1つの化合物の水溶液である。これらの化合物のうち無機硫黄化合物以外の化合物は、必要に応じて塩の形態、例えばナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩、カルシウムやバリウム等のアルカリ土類金属塩、鉄(III)やバナジウム等の重金属塩、塩酸塩、アンモニウム塩、アミン塩、カルボキシル基に対して金属や塩基性物質が当量以上あるいは以下の部分中和塩、これらの塩の混合物として用いることもできる。 The aqueous complexing agent solution used is an aqueous solution of at least one compound selected from aliphatic carboxylic acids, aromatic carboxylic acids, ammonia, amines, aminocarboxylic acids, amino acids, phosphoric acids, phosphonic acids, and inorganic sulfur compounds. . Among these compounds, compounds other than inorganic sulfur compounds may be in the form of salts as required, for example, alkali metal salts such as sodium, potassium and lithium, alkaline earth metal salts such as calcium and barium, iron (III) and vanadium. Such as heavy metal salts such as hydrochlorides, ammonium salts, amine salts, partially neutralized salts having a metal or basic substance equivalent to or less than the carboxyl group, or a mixture of these salts.

脂肪族カルボン酸の例は、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、マレイン酸、アジピン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、トリカルバジル酸、プロパン−1,1,2,3−テトラカルボン酸、ブタン−1−グリコール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アロイソクエン酸、グルコン酸、ピルビン酸、オキサル酸、ジグリコール酸およびチオジグリコール酸である。芳香族カルボン酸の例は、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、マンデル酸、サリチル酸、5−スルホサリチル酸、α−カルボキシ−o−アニス酸、およびo−(カルボキシメチルチオ)安息香酸である。 Examples of aliphatic carboxylic acids are formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, maleic acid, adipic acid, fumaric acid, citraconic acid , Itaconic acid, tricarbazic acid, propane-1,1,2,3-tetracarboxylic acid, butane-1-glycolic acid, lactic acid, β-hydroxypropionic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, alloisocitric acid, gluconic acid Pyruvic acid, oxalic acid, diglycolic acid and thiodiglycolic acid. Examples of aromatic carboxylic acids are benzoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, mandelic acid, salicylic acid, 5-sulfosalicylic acid, α-carboxy-o-anisic acid, and o- (carboxymethylthio) benzoic acid.

アミンの例は、ジエチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、トリエチルアミン、モルフォリン、ピペリジン、エチレンジアミン、N−メチルエチレンジアミン、N−エチルエチレンジアミン、N−n−プロピルエチレンジアミン、N−イソプロピルエチレンジアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N′−ジメチルエチレンジアミン、N,N′−ジエチルエチレンジアミン、N,N′−ジ−n−プロピルエチレンジアミン、N,N−ジ(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、meso−2,3−ジアミノブタン、rac−2,3−ジアミノブタン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、3,3′−ジアミノジプロピルアミン、トリエチレンテトラアミン、2−ヒドロキシエチルアミン、2−メトキシエチルアミン、2,2’−ジヒドロキシジエチレンアミン、およびポリアミドアミンである。 Examples of amines are diethylamine, methylamine, ethylamine, propylamine, triethylamine, morpholine, piperidine, ethylenediamine, N-methylethylenediamine, N-ethylethylenediamine, Nn-propylethylenediamine, N-isopropylethylenediamine, N- (2 -Hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N'-dimethylethylenediamine, N, N'-diethylethylenediamine, N, N'-di-n-propylethylenediamine, N, N-di (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, 1,2-diaminopropane, meso-2,3-diaminobutane, rac-2,3 Diaminobutane, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, triethylenediamine, diethylenetriamine, 3,3'-diaminodipropylamine, triethylenetetraamine, 2-hydroxyethylamine, 2-methoxyethylamine, 2,2'- Dihydroxydiethyleneamine and polyamidoamine.

アミノカルボン酸の例は、イミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、N−メチルイミノジ酢酸、N−(3,3’−ジメチルブチル)イミノジ酢酸、フェニルイミノジ酢酸、ヒドロキシエチルイミノジ酢酸、ヒドロキシエチルイミノジプロピオン酸、ヒドロキシプロピルイミノジ酢酸、2−ヒドロキシシクロヘキシルイミノジ酢酸、メトキシエチルイミノジ酢酸、2−ヒドロキシベンジルイミノジ酢酸、N−(o−カルボキシフェニル)イミノジ酢酸、N−(m−カルボキシフェニル)イミノジ酢酸、N−(p−カルボキシフェニル)イミノジ酢酸、N−(カルバモイルメチル)イミノジ酢酸、シアノメチルイミノジ酢酸、アミノエチルイミノジ酢酸、2−エトキシカルボニルアミノエチルイミノジ酢酸、ホスホノメチルイミノジ酢酸、ホスホノエチルイミノジ酢酸、スルホエチルイミノジ酢酸、o−スルホフェニルイミノジ酢酸、m−スルホフェニルイミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、カルボキシエチルイミノジ酢酸、カルボキシメチルイミノジプロピオン酸、ニトリロトリプロピオン酸、N,N’−エチレンジアミン、エチレンジアミン−N,N’−ジプロピオン酸、N,N′−ジ(ヒドロキシエチル)エチレンジアミンジ酢酸、N−n−ブチルエチレンジアミントリ酢酸、N−シクロヘキシルエチレンジアミントリ酢酸、N’−ヒドロキシエチル−N,N,N’−トリ酢酸、ベンジルエチレンジアミントリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸−亜鉛、エチレンジアミンテトラ酢酸−2ナトリウム、エチレンジアミンテトラ酢酸−カルシウム、エチレンジアミンテトラ酢酸−マグネシウム、エチレンジアミンテトラ酢酸−2カリウム、エチレンジアミン−N,N’−ジ酢酸N,N’−ジプロピオン酸、エチレンジアミン−N,N’−ジ(2−プロピオン酸)、エチレンジアミン−N,N’−ジコハク酸、エチレンジアミン−N,N’−ジグルタル酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸、1,2−プロピレンジアミンテトラ酢酸、トリメチレンジアミンテトラ酢酸、テトラメチレンジアミンテトラ酢酸、ペンタメチレンジアミンテトラ酢酸、ヘキサメチレンジアミンテトラ酢酸、オクタメチレンジアミンテトラ酢酸、1,2−シクロペンタンジアミンテトラ酢酸、trans−シクロヘキサン−1,2−ジアミンテトラ酢酸、シクロヘキサン−1,4−ジアミンテトラ酢酸、1,3,5−トリアミノシクロヘキサ酢酸、o−フェニレンジアミンテトラ酢酸、2−ヒドロキシトリメチレンジアミンテトラ酢酸、エチルエーテルジアミンテトラ酢酸、ヒダントイン酸、(S,S)−エチレンジアミンジコハク酸、(S,S)−エチレンジアミンジグルタル酸、(S)−アスパラギン酸−N,N−ジ酢酸、(S,S)−イミノジコハク酸、(S)−グルタミン酸−N,N−ジ酢酸、(S)−α−アラニン−N,N−ジ酢酸、およびタウリン−N,N−ジ酢酸である。 Examples of aminocarboxylic acids are iminodiacetic acid, iminodipropionic acid, N-methyliminodiacetic acid, N- (3,3′-dimethylbutyl) iminodiacetic acid, phenyliminodiacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, hydroxyethyliminodipropion Acid, hydroxypropyliminodiacetic acid, 2-hydroxycyclohexyliminodiacetic acid, methoxyethyliminodiacetic acid, 2-hydroxybenzyliminodiacetic acid, N- (o-carboxyphenyl) iminodiacetic acid, N- (m-carboxyphenyl) iminodi Acetic acid, N- (p-carboxyphenyl) iminodiacetic acid, N- (carbamoylmethyl) iminodiacetic acid, cyanomethyliminodiacetic acid, aminoethyliminodiacetic acid, 2-ethoxycarbonylaminoethyliminodiacetic acid, phosphonomethyliminodiacetic acid , Phosphono Tiliminodiacetic acid, sulfoethyliminodiacetic acid, o-sulfophenyliminodiacetic acid, m-sulfophenyliminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, carboxyethyliminodiacetic acid, carboxymethyliminodipropionic acid, nitrilotripropionic acid, N, N′- Ethylenediamine, ethylenediamine-N, N′-dipropionic acid, N, N′-di (hydroxyethyl) ethylenediaminediacetic acid, Nn-butylethylenediaminetriacetic acid, N-cyclohexylethylenediaminetriacetic acid, N′-hydroxyethyl-N , N, N′-triacetic acid, benzylethylenediaminetriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid-zinc, ethylenediaminetetraacetic acid-2sodium, ethylenediaminetetraacetic acid-calcium, ethyl Diaminetetraacetic acid-magnesium, ethylenediaminetetraacetic acid-2 potassium, ethylenediamine-N, N′-diacetic acid N, N′-dipropionic acid, ethylenediamine-N, N′-di (2-propionic acid), ethylenediamine-N, N'-disuccinic acid, ethylenediamine-N, N'-diglutaric acid, ethylenediaminetetrapropionic acid, 1,2-propylenediaminetetraacetic acid, trimethylenediaminetetraacetic acid, tetramethylenediaminetetraacetic acid, pentamethylenediaminetetraacetic acid, hexamethylene Diaminetetraacetic acid, octamethylenediaminetetraacetic acid, 1,2-cyclopentanediaminetetraacetic acid, trans-cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid, cyclohexane-1,4-diaminetetraacetic acid, 1,3,5-to Liaminocyclohexaacetic acid, o-phenylenediaminetetraacetic acid, 2-hydroxytrimethylenediaminetetraacetic acid, ethyl etherdiaminetetraacetic acid, hydantoic acid, (S, S) -ethylenediamine disuccinic acid, (S, S) -ethylenediaminedi Glutaric acid, (S) -aspartic acid-N, N-diacetic acid, (S, S) -iminodisuccinic acid, (S) -glutamic acid-N, N-diacetic acid, (S) -α-alanine-N, N -Diacetic acid and taurine-N, N-diacetic acid.

アミノ酸の例は、グリシン、ザルコキシン、グリシンメチルエステル、バリン、アラニン、β−アラニン、ノルロイシン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、チロシン、システイン、メチオニン、セリン、トレオニン、アスパラギン、グルタミン、リジン、ε−ポリリジン、ヒスチジン、アルギニン、グルタミン酸、ポリグルタミン酸、アスパラギン酸、1,2−ジアミノプロピオン酸、プロリン、トリプトファン、およびN−エチルグリシンである。 Examples of amino acids are glycine, sarcoxin, glycine methyl ester, valine, alanine, β-alanine, norleucine, leucine, isoleucine, phenylalanine, tyrosine, cysteine, methionine, serine, threonine, asparagine, glutamine, lysine, ε-polylysine, histidine Arginine, glutamic acid, polyglutamic acid, aspartic acid, 1,2-diaminopropionic acid, proline, tryptophan, and N-ethylglycine.

リン酸類の例は、ヘキサメタリン酸、テトラメタリン酸および縮合リン酸である。ホスホン酸類の例は、エチリデンジホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、メチルジホスホン酸、ニトリロトリス(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラキス(メチレンホスホン酸)、および1,2−プロピレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)である。 Examples of phosphoric acids are hexametaphosphoric acid, tetrametaphosphoric acid and condensed phosphoric acid. Examples of phosphonic acids are ethylidene diphosphonic acid, diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), methyldiphosphonic acid, nitrilotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetrakis (methylenephosphonic acid), and 1,2-propylenediaminetetra (methylene Phosphonic acid).

無機硫黄化合物の例は、チオ硫酸塩(例:チオ硫酸ナトリウム)、ポリチオン酸塩(例:SO−(S)−SO(n=1〜4))、亜二チオン酸塩(例:亜二チオン酸塩ナトリウム)、亜硫酸塩(例:亜硫酸ナトリウム)、および二チオン酸塩(例:二チオン酸ナトリウム)である。 Examples of inorganic sulfur compounds include thiosulfate (eg, sodium thiosulfate), polythionate (eg, SO 3 — (S) n —SO 3 (n = 1 to 4)), dithionite (eg, : Sodium dithionate), sulfites (eg sodium sulfite), and dithionates (eg sodium dithionate).

使用する水については、重合体の汚染防止を考慮すること以外に選択条件はない。50μm以下のフィルターを通した水が好ましく、イオン交換樹脂で処理した純水がより好ましい。 There is no selection condition for the water to be used other than considering prevention of contamination of the polymer. Water through a filter of 50 μm or less is preferable, and pure water treated with an ion exchange resin is more preferable.

電解質成分の例は、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、酢酸ナトリウム、リン酸のナトリウム塩、クエン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ソルビン酸ナトリウム、フタル酸ナトリウム、およびメタ重亜硫酸ナトリウムであり、これらはカリウム塩でもよい。上記の錯化剤水溶液に用いる化合物の中にも電解質成分として利用することができるものが含まれている。電解質成分を用いるときには、これらの少なくとも1つを錯化剤水溶液に加える。 Examples of electrolyte components are sodium chloride, ammonium chloride, sodium acetate, sodium phosphate, sodium citrate, sodium tartrate, sodium benzoate, sodium sorbate, sodium phthalate, and sodium metabisulfite, which are Potassium salt may be used. Among the compounds used in the above complexing agent aqueous solution, those that can be used as electrolyte components are included. When using an electrolyte component, at least one of these is added to the aqueous complexing agent solution.

残留触媒を除去するためには、上記の方法に活性炭等を用いる吸着処理を併用してもよい。イオン交換樹脂や無機系吸着剤と重合体溶液の固液接触を併用する場合は、撹拌混合と固液分離を回分操作で行う回分式の方法が利用できる。この他に、吸着剤を容器に充填し重合体溶液を通液する固定層方式、吸着剤の移動層に液を通じる移動層式、吸着剤を液で流動化して吸着を行う流動層式等の連続式の方法も利用できる。さらに必要に応じて、撹拌による混合分散操作に、容器の振とうまたは超音波の利用等の、分散効率を向上させる操作を組み合わせることができる。重合体溶液を吸着剤に接触させた後、濾過、遠心分離、沈降分離等の方法で吸着剤を除去し、必要に応じて水洗処理を行い、さらに精製度を上げることができる。 In order to remove the residual catalyst, an adsorption treatment using activated carbon or the like may be used in combination with the above method. When solid-liquid contact of an ion exchange resin or an inorganic adsorbent and a polymer solution is used in combination, a batch-type method in which stirring and mixing and solid-liquid separation are performed by a batch operation can be used. In addition to this, a fixed bed method in which a container is filled with an adsorbent and the polymer solution is passed, a moving bed method in which the liquid is passed through the moving bed of the adsorbent, a fluidized bed method in which the adsorbent is fluidized with liquid and adsorbed, etc. The continuous method can also be used. Furthermore, if necessary, operations for improving the dispersion efficiency such as shaking of the container or use of ultrasonic waves can be combined with the mixing and dispersing operation by stirring. After the polymer solution is brought into contact with the adsorbent, the adsorbent is removed by a method such as filtration, centrifugation, and sedimentation separation, and a washing treatment is performed as necessary to further increase the degree of purification.

重合体(P−1)の分子量および分子量分布の解析方法について説明する。通常、付加重合体の分子量は、ポリスチレンやポリ(メチルメタクリレート)のような直鎖状のポリマーを標準試料とした校正曲線を用いて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定することができる。しかしながら、重合体(P−1)はシルセスキオキサンを起点にしたビニル系単量体の重合体、すなわち分岐型の高分子化合物に属する。そのため、重合体(P−1)の構造のままでは、その分子量を求めるに当たって、ポリスチレンやポリ(メチルメタクリレート)のような直鎖状の重合体を標準試料とした較正曲線を用いることは分子量解析の精度上、問題点を有すると考えられる。しかし、重合体(P−1)は末端部分がシルセスキオキサンであるため、酸性条件下または塩基性条件下で、容易に分解することができる。すなわち、シルセスキオキサンから付加重合体を切り離した後に、その分子量を測定することによって、重合体部分の分子量解析の精度をさらに向上させることができる。酸性条件下で重合体(P−1)を分解する場合には、フッ化水素酸を用いることが好ましい。塩基性条件下で重合体(P−1)を分解する場合には、水酸化カリウムを用いることが好ましい。重合体(P−1)の分解は、均一系および不均一系のどちらでも行うことができる。例えば、重合体(P−1)を溶解できる有機溶剤(THF、アセトニトリル等)とフッ化水素酸との均一混合系で、重合体(P−1)のシルセスキオキサン部分を切り離すことができる。トルエンとフッ化水素酸との不均一混合系においても、シルセスキオキサン部分の分解を行うことが可能である。この際には、相間移動触媒の併用が好ましい。相間移動触媒の例は、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルアンモニウムクロライド、ジオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリエチルアミン、ジメチルアニリン等である。水酸化カリウムを用いる場合は、THF、エタノールおよび水の混合溶剤中で分解をすることも可能である。 A method for analyzing the molecular weight and molecular weight distribution of the polymer (P-1) will be described. Usually, the molecular weight of the addition polymer can be measured by gel permeation chromatography (GPC) using a calibration curve using a linear polymer such as polystyrene or poly (methyl methacrylate) as a standard sample. However, the polymer (P-1) belongs to a vinyl monomer polymer starting from silsesquioxane, that is, a branched polymer compound. Therefore, with the structure of the polymer (P-1), in determining the molecular weight, it is necessary to use a calibration curve with a linear polymer such as polystyrene or poly (methyl methacrylate) as a standard sample. It is considered that there is a problem in terms of accuracy. However, since the terminal portion of the polymer (P-1) is silsesquioxane, it can be easily decomposed under acidic conditions or basic conditions. That is, by separating the addition polymer from the silsesquioxane and then measuring the molecular weight, the accuracy of the molecular weight analysis of the polymer portion can be further improved. When decomposing the polymer (P-1) under acidic conditions, it is preferable to use hydrofluoric acid. When decomposing the polymer (P-1) under basic conditions, it is preferable to use potassium hydroxide. The polymer (P-1) can be decomposed in either a homogeneous system or a heterogeneous system. For example, the silsesquioxane part of the polymer (P-1) can be separated by a homogeneous mixed system of an organic solvent (THF, acetonitrile, etc.) and hydrofluoric acid capable of dissolving the polymer (P-1). . Even in a heterogeneous mixed system of toluene and hydrofluoric acid, the silsesquioxane moiety can be decomposed. In this case, a phase transfer catalyst is preferably used in combination. Examples of the phase transfer catalyst are benzyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, trioctylammonium chloride, dioctylmethylammonium chloride, triethylamine, dimethylaniline and the like. When potassium hydroxide is used, it can be decomposed in a mixed solvent of THF, ethanol and water.

これらの方法により切り離した付加重合体についてGPCにより測定すれば、重合体(P−1)における付加重合体部分の分子量、いわゆるグラフト鎖の分子量を求めることができる。粘度とGPCデータから得られる普遍校正曲線を用いることにより、重合体(P−1)そのものの分子量を求めることも可能である。重合体(P−1)の絶対分子量は、末端基定量法、膜浸透圧法、超遠心法、光散乱法等によっても求めることができる。 When the addition polymer separated by these methods is measured by GPC, the molecular weight of the addition polymer portion in the polymer (P-1), that is, the molecular weight of the so-called graft chain can be determined. By using a universal calibration curve obtained from the viscosity and GPC data, it is possible to determine the molecular weight of the polymer (P-1) itself. The absolute molecular weight of the polymer (P-1) can also be determined by a terminal group determination method, a membrane osmotic pressure method, an ultracentrifugation method, a light scattering method, or the like.

重合体(P−1)のグラフト鎖の好ましい分子量は、ポリ(メチル メタアクリレート)換算で、数平均分子量が500〜1,000,000の範囲である。さらに好ましい範囲は1000〜100,000である。ただ、この範囲の上限値および下限値に特別な意味があるわけではない。そして分子量分布は、分散度(Mw/Mn)で1.01〜2.0の範囲であることが好ましい。 The preferred molecular weight of the graft chain of the polymer (P-1) is in the range of 500 to 1,000,000 in terms of number average molecular weight in terms of poly (methyl methacrylate). A more preferable range is 1000 to 100,000. However, the upper limit and the lower limit of this range do not have any special meaning. The molecular weight distribution is preferably in the range of 1.01 to 2.0 in terms of dispersity (Mw / Mn).

グラフト鎖の分子量は、ビニル系単量体と開始基であるα−ハロエステル基との割合により調整することができる。すなわち、ビニル系単量体/α−ハロエステル基のモル比および単量体の消費率から、次の計算式を用いて、重合体(P−1)のグラフト鎖の理論分子量を予測することができる。

Mn=(単量体の消費率(モル%)/100)×MW×(α−ハロエステル基に対するビニル系単量体のモル倍率)+MW

この計算式において、Mnは理論数平均分子量、MWはビニル系単量体の分子量、MWはα−ハロエステル基の分子量である。前記の数平均分子量範囲を有する重合体を得ようとする場合には、ビニル系単量体/α−ハロエステル基のモル比を、およそ2/1〜およそ40000/1、好ましくはおよそ10/1〜およそ5000/1の範囲から選択できる。またこの数平均分子量は、重合時間を変化させることによって調整することもできる。
The molecular weight of the graft chain can be adjusted by the ratio between the vinyl monomer and the α-haloester group which is an initiating group. That is, the theoretical molecular weight of the graft chain of the polymer (P-1) is predicted from the vinyl monomer / α-haloester group molar ratio and the monomer consumption rate using the following calculation formula: Can do.

Mn = (Consumption rate of monomer (mol%) / 100) × MW M × (Molar ratio of vinyl monomer to α-haloester group) + MW I

In this calculation formula, Mn is the theoretical number average molecular weight, MW M is the molecular weight of the vinyl monomer, and MW I is the molecular weight of the α-haloester group. In order to obtain a polymer having the above number average molecular weight range, the molar ratio of vinyl monomer / α-haloester group is about 2/1 to about 40000/1, preferably about 10 / It can be selected from a range of 1 to about 5000/1. The number average molecular weight can also be adjusted by changing the polymerization time.

ビニル系単量体/化合物(1−1−2)のモル比および単量体の消費率から、次の計算式を用いて、重合体(P−1)そのものの理論分子量を予測することもできる。

Mn=(単量体の消費率(モル%)/100)×MW×(化合物(1−1−2)に対するビニル系単量体のモル倍率)+MW

この計算式において、Mnは理論数平均分子量、MWはビニル系単量体の分子量、MWは化合物(1−1−2)の分子量である。
From the vinyl monomer / compound (1-1-2) molar ratio and the monomer consumption rate, the theoretical molecular weight of the polymer (P-1) itself can be predicted using the following formula: it can.

Mn = (consumption rate of monomer (mol%) / 100) × MW M × (molar ratio of vinyl monomer to compound (1-1-2)) + MW I

In this calculation formula, Mn is the theoretical number average molecular weight, MW M is the molecular weight of the vinyl monomer, and MW I is the molecular weight of the compound (1-1-2).

単量体の消費率(以下、「転化率」と称することがある。)を求める方法としては、GPC、H−NMR、ガスクロマトグラフィーのいずれの方法も採用することができる。 Any method of GPC, 1 H-NMR, and gas chromatography can be employed as a method for determining the monomer consumption rate (hereinafter sometimes referred to as “conversion rate”).

上記の重合体(P−1)に関する説明は、重合体(P−2)および重合体(P−3)にも適用される。 The explanation regarding the polymer (P-1) is also applied to the polymer (P-2) and the polymer (P-3).

次に、化合物(1−4)を開始剤としてビニル系単量体を光重合させる方法、いわゆるフォトイニファタ重合法について説明する。このフォトイニファタ重合において、ジチオカルバメート基が光によりラジカル解離し、優れた重合開始能および増感能を有することはよく知られている。この場合の光重合がラジカル重合であり、しかもリビング重合的であることもよく知られている。これらの情報は、例えば、Polymer Bulletin, 11(1984), 135-、Macromolecules, 19(1986), 287-に開示されている。従って、ジチオカルバメート基を有する本発明のケイ素化合物は、光照射されているかぎり、重合開始能を維持し続けることが可能であり、あらゆるラジカル重合性単量体に対して光重合開始能力を有する。 Next, a method for photopolymerizing a vinyl monomer using the compound (1-4) as an initiator, that is, a so-called photo-iniferter polymerization method will be described. In this photoiniferter polymerization, it is well known that a dithiocarbamate group is radically dissociated by light and has excellent polymerization initiating ability and sensitizing ability. It is well known that the photopolymerization in this case is radical polymerization and is also living polymerization. Such information is disclosed in, for example, Polymer Bulletin, 11 (1984), 135-, Macromolecules, 19 (1986), 287-. Therefore, as long as the silicon compound of the present invention having a dithiocarbamate group is irradiated with light, it can continue to maintain the polymerization initiating ability and has the ability to initiate photopolymerization with respect to any radically polymerizable monomer. .

ジチオカルバメート基は、光重合の際に重合開始剤、連鎖移動剤および重合停止剤のそれぞれの機能を併せ持つこともよく知られており、その反応機構もすでに判明している。ジチオカルバメート基を有する本発明の化合物(1−4)は、光照射により、ケイ素化合物に結合したアルキルフェニル基上のラジカルとジチオカルバメートラジカルに解離する。そして、アルキルフェニル基上のラジカルは開始反応に関与し、ジチオカルバメートラジカルは停止反応に関与することになる。光照射をやめるか、単量体が消費されつくされると、ジチオカルバメートラジカルが停止剤として成長末端に付加し、再びジチオカルバメート基を形成する。従って、このようにして生成した重合体も、光重合開始能を有する高分子光開始剤として用いることができる。本発明のジチオカルバメート基を有するケイ素化合物は、ジチオカルバメート基をラジカル解離させるのに必要なエネルギーを有する波長250〜500nmの紫外線、より好ましくは波長300〜400nmの紫外線を照射して分解させることによって、それと共存するビニル系単量体の重合を開始させることができる。 It is well known that the dithiocarbamate group has the functions of a polymerization initiator, a chain transfer agent and a polymerization terminator during photopolymerization, and the reaction mechanism has already been clarified. The compound (1-4) of the present invention having a dithiocarbamate group is dissociated into a radical on the alkylphenyl group bonded to the silicon compound and a dithiocarbamate radical by light irradiation. The radical on the alkylphenyl group is involved in the initiation reaction, and the dithiocarbamate radical is involved in the termination reaction. When the light irradiation is stopped or the monomer is consumed, the dithiocarbamate radical is added to the growth terminal as a terminator and forms a dithiocarbamate group again. Therefore, the polymer thus produced can also be used as a polymer photoinitiator having photopolymerization initiating ability. The silicon compound having a dithiocarbamate group of the present invention is decomposed by irradiating with an ultraviolet ray having a wavelength of 250 to 500 nm having an energy necessary for radical dissociation of the dithiocarbamate group, more preferably an ultraviolet ray having a wavelength of 300 to 400 nm. The polymerization of the vinyl monomer coexisting therewith can be initiated.

重合反応の実施形態は、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合、または塊状−懸濁重合等から適宜採用することができる。溶液重合で製造する場合の溶剤としては、連鎖移動定数が小さく、かつビニル系単量体およびその重合体を溶解することができる溶剤が好ましい。このような好ましい溶剤の例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサン、ヘプタン等である。そして、250〜500nmの紫外線領域に特性吸収を持たない溶剤が、どちらかと言えば好ましい。重合温度は0〜200℃の範囲であり、好ましくは室温〜150℃の範囲であるが、特に限定されない。 The embodiment of the polymerization reaction can be appropriately adopted from bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk-suspension polymerization, or the like. As a solvent in the case of producing by solution polymerization, a solvent having a small chain transfer constant and capable of dissolving a vinyl monomer and a polymer thereof is preferable. Examples of such preferred solvents are benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, isopropyl alcohol, butanol, hexane, heptane and the like. A solvent having no characteristic absorption in the ultraviolet region of 250 to 500 nm is rather preferable. The polymerization temperature is in the range of 0 to 200 ° C, preferably in the range of room temperature to 150 ° C, but is not particularly limited.

フォトイニファタ重合は、ビニル系単量体の種類、溶剤の種類に応じて、減圧、常圧または加圧下で行うことができる。通常は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、たとえば不活性ガスの流通下で行うことが肝要である。予め、減圧下で重合系内の溶存酸素を除去する必要があるため、溶存酸素の除去工程の後、そのまま減圧下において重合工程へ移行することも可能である。 Photoiniferter polymerization can be performed under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure, depending on the type of vinyl monomer and the type of solvent. Usually, it is important to carry out under an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, for example, under the flow of an inert gas. Since it is necessary to remove the dissolved oxygen in the polymerization system under reduced pressure in advance, it is possible to proceed to the polymerization step under reduced pressure as it is after the dissolved oxygen removing step.

化合物(1−4−2)を開始剤として用いるとき、上記の方法により得られる重合体は式(P−4)で示される。以下の説明では、式(P−4)で示される重合体を重合体(P−4)で表記する。

Figure 2005343892
式(1−4−2)において、R11、RおよびRは、式(1−1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Aは式(2−4)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2−4)において、RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。Aを重合開始基としてシルセスキオキサン誘導体に導入する場合も、化合物(1−1−2)を得る場合と同様に、Si−ハロゲンに対してグリニヤー試薬を反応させる方法とSi−Hに対して脂肪族不飽和結合を有する化合物を反応させる方法を用いることができる。 When the compound (1-4-2) is used as an initiator, the polymer obtained by the above method is represented by the formula (P-4). In the following description, the polymer represented by the formula (P-4) is represented by a polymer (P-4).

Figure 2005343892
In the formula (1-4-2), R 11 , R 2 and R 3 have the same meaning as those symbols in the formula (1-1-2), and A 4 represents the formula (2-4). It is the group shown.

Figure 2005343892
In formula (2-4), R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms. And R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring with N; Z 5 has 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be —O—. Z 7 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—. R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta-position to the bonding position of Z 7 or a para-position, binding position of R 7 is Z 5 and 7 is any position excluding the respective bonding positions. May be introduced into the silsesquioxane derivative A 4 as a polymerization initiator group, as in the case of obtaining a compound (1-1-2), the method in the Si-H reacting the Grignard reagent with respect to Si- halogen On the other hand, a method of reacting a compound having an aliphatic unsaturated bond can be used.


Figure 2005343892
式(P−4)におけるR11、RおよびRは、式(1−4−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し、Bは式(2−4−P)で示される基である。

Figure 2005343892
式(2‐4‐P)において、Pはビニル系単量体の重合体からなる基であり、この他の記号は式(2−4)における記号と同様の意味を有し、そしてベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−4)におけるこれらの結合位置と同一である。
Figure 2005343892
R 11 , R 2 and R 3 in formula (P-4) have the same meaning as those symbols in formula (1-4-2), and B 4 is represented by formula (2-4-P). Group.

Figure 2005343892
In the formula (2-4-P), P 4 is a group composed of a polymer of a vinyl monomer, and other symbols have the same meaning as the symbols in the formula (2-4), and benzene The bonding positions of Z 5 and R 7 to the ring are the same as these bonding positions in the formula (2-4).

原子移動ラジカル重合法により重合体(P−1)を得る場合と同様の方法で、重合体(P−4)の構造を制御することが可能である。通常のビニル系単量体重合時にイニシエータ−単量体、例えばN, N−ジエチルジチオカルバモイルメチルスチレンあるいはN−エチルジチオカルバモイルメチルスチレン等を併用することで、高分岐型重合体が結合したシルセスキオキサンを得ることができる。フォトイニファタ重合に関与しない開始基を有するビニル系単量体と共重合させた後、得られた重合体を開始剤として、さらに他の重合様式(例えば、原子移動ラジカル重合法)でビニル系単量体を重合させることにより、グラフト共重合体を形成させることもできる。フォトイニファタ重合に関与しない開始基を有するビニル系単量体の例は、1−(2-((4−エテニルフェニル)メトキシ)−1−フェニルエトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロキシ−2−フェニル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ)エタン、(1−(4−((4−(メタ)アクリロキシ)エトキシエチル)フェニルエトキシ)ピペリジン、2−(2−ブロモプロパノイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−ブロモイソブチリルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、p―クロロメチルスチレン、2−(2−ブロモプロパノイルオキシ)スチレン、2−(2−ブロモイソブチリルオキシ)スチレン等である。 The structure of the polymer (P-4) can be controlled in the same manner as in the case of obtaining the polymer (P-1) by the atom transfer radical polymerization method. By using an initiator monomer such as N, N-diethyldithiocarbamoylmethylstyrene or N-ethyldithiocarbamoylmethylstyrene in combination with a usual vinyl monomer polymerization, Oxan can be obtained. After copolymerization with a vinyl monomer having an initiating group that does not participate in photo-iniferter polymerization, the obtained polymer is used as an initiator, and further, in other polymerization modes (for example, atom transfer radical polymerization method) A graft copolymer can also be formed by polymerizing the monomer. Examples of vinyl monomers having an initiating group that does not participate in photoiniferter polymerization are 1- (2-((4-ethenylphenyl) methoxy) -1-phenylethoxy) -2,2,6,6- Tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloxy-2-phenyl-2- (2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy) ethane, (1- (4-((4- (meta ) Acryloxy) ethoxyethyl) phenylethoxy) piperidine, 2- (2-bromopropanoyloxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-bromoisobutyryloxy) ethyl (meth) acrylate, p-chloromethylstyrene, 2- (2-bromopropanoyloxy) styrene, 2- (2-bromoisobutyryloxy) styrene and the like.

なお、フォトイニファタ重合終了後に、その末端のジチオカルバメート基を処理することによって、重合体(P−4)を紫外線に対して不活性化することができる。不活性化する方法の例は、重合体(P−4)を酸性溶液または塩基性溶液で処理する方法、250℃以上の高温で数分間処理する方法、波長220nm以下の高エネルギーの電磁線を照射する方法、紫外線吸収基を有する単量体を添加後に光重合させる方法、単に紫外線吸収剤を添加する方法等である。得られた重合体(P−4)に紫外線を照射しながら、連鎖移動定数の大きな試薬(チオール誘導体、チウラム、ザンデート類、ニトロキシド類等)を添加することによって、末端ジチオカルバメート基を置換することも可能である。 In addition, a polymer (P-4) can be inactivated with respect to an ultraviolet-ray by processing the dithiocarbamate group of the terminal after completion | finish of photoiniferter polymerization. Examples of the inactivation method include a method of treating the polymer (P-4) with an acidic solution or a basic solution, a method of treating the polymer (P-4) at a high temperature of 250 ° C. or higher for several minutes, and high-energy electromagnetic radiation having a wavelength of 220 nm or less. There are a method of irradiating, a method of photopolymerization after adding a monomer having an ultraviolet absorbing group, and a method of simply adding an ultraviolet absorber. The terminal dithiocarbamate group is substituted by adding a reagent having a large chain transfer constant (thiol derivative, thiuram, zanddates, nitroxides, etc.) while irradiating the obtained polymer (P-4) with ultraviolet rays. Is also possible.

重合体(P−4)の単離・精製方法について説明する。この化合物の単離・精製は、未反応のビニル系単量体を効率よく除去することによってなされる。種々の方法があるが、前記の再沈殿操作による精製法が好ましい。この方法により、重合体(P−4)のみを貧溶剤中で析出させることが可能であり、濾過操作によって容易に未反応単量体と重合体とを分離することができる。溶剤や未反応単量体等の揮発成分を減圧条件下で溜去することにより、重合体を単離してもよい。重合体(P−4)を溶解させるための好ましい溶剤は、溶解力が大きく、沸点の比較的低い溶剤である。好ましい沈殿剤は、重合体(P−4)の溶剤と相溶し、重合体(P−4)を全く溶解せず、不純物または未反応単量体のみを溶解し、沸点も比較的低い溶剤である。好ましい沈殿剤の例は、低級アルコール類、脂肪族炭化水素類である。特に好ましい沈殿剤はメタノールまたはヘキサンである。そして、さらに精製度をあげるためには、再沈殿操作の繰り返し回数を多くすればよい。 A method for isolating and purifying the polymer (P-4) will be described. This compound is isolated and purified by efficiently removing unreacted vinyl monomers. Although there are various methods, the purification method by the reprecipitation operation is preferable. By this method, only the polymer (P-4) can be precipitated in a poor solvent, and the unreacted monomer and the polymer can be easily separated by a filtration operation. The polymer may be isolated by distilling off volatile components such as solvents and unreacted monomers under reduced pressure. A preferred solvent for dissolving the polymer (P-4) is a solvent having a large dissolving power and a relatively low boiling point. A preferred precipitant is compatible with the solvent of the polymer (P-4), does not dissolve the polymer (P-4) at all, dissolves only impurities or unreacted monomers, and has a relatively low boiling point. It is. Examples of preferred precipitants are lower alcohols and aliphatic hydrocarbons. A particularly preferred precipitating agent is methanol or hexane. And in order to raise a refinement | purification further, what is necessary is just to increase the repetition frequency of reprecipitation operation.

重合体(P−4)の分子量および分子量分布は、重合体(P−1)について説明した方法と同様にして解析することができる。シルセスキオキサンに結合したビニル系単量体の重合体、いわゆるグラフト鎖の数平均分子量は、500〜1,000,000の範囲である。さらに好ましい範囲は1000〜100,000である。ただ、この範囲の上限値および下限値に特別な意味があるわけではない。そして、グラフト鎖の分子量分布は、分散度で1.01〜3.0の範囲であることが好ましい。また粘度とGPCデータから得られる普遍校正曲線を用いることにより、重合体(P−4)の分子量を求めることも可能である。重合体(P−4)の絶対分子量は、末端基定量法、膜浸透圧法、超遠心法、光散乱法等によっても求めることができる。重合体(P−4)におけるグラフト鎖の分子量は、重合体(P−1)の場合と同様にして調整することができる。 The molecular weight and molecular weight distribution of the polymer (P-4) can be analyzed in the same manner as in the method described for the polymer (P-1). The number average molecular weight of a polymer of vinyl monomers bonded to silsesquioxane, so-called graft chain, is in the range of 500 to 1,000,000. A more preferable range is 1000 to 100,000. However, the upper limit and the lower limit of this range do not have any special meaning. The molecular weight distribution of the graft chain is preferably in the range of 1.01 to 3.0 in terms of dispersion. It is also possible to determine the molecular weight of the polymer (P-4) by using a universal calibration curve obtained from the viscosity and GPC data. The absolute molecular weight of the polymer (P-4) can also be determined by a terminal group determination method, a membrane osmotic pressure method, an ultracentrifugation method, a light scattering method, or the like. The molecular weight of the graft chain in the polymer (P-4) can be adjusted in the same manner as in the case of the polymer (P-1).

実施例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されることはない。 The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

実施例で用いる記号の意味は次の通りである。
Ph:フェニル
TMS:トリメチルシリル
Mn:数平均分子量
Mw:重量平均分子量
EDTA・2Na:エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物
The meanings of symbols used in the examples are as follows.
Ph: Phenyl TMS: Trimethylsilyl Mn: Number average molecular weight Mw: Weight average molecular weight EDTA · 2Na: Disodium ethylenediaminetetraacetate dihydrate

そして、実施例における分子量のデータは、すべてGPC(ゲルパ−ミエーションクロマトグラフィ−法)によって求めたポリスチレン換算値である。以下に、GPCの測定条件を示す。
装置:日本分光株式会社製、JASCO GULLIVER 1500 (インテリジェント示差屈折率計 RI-1530)
溶剤:テトラヒドロフラン(THF)
流速:1ml/min
カラム温度:40℃
使用カラム: 東ソー株式会社製の下記のカラム(直列につないで使用)
TSKguardcolumn HXL-L(GUARDCOLUMN)
TSKgel G1000HxL(排除限界分子量(ポリスチレン):1,000)
TSkgel G2000HxL(排除限界分子量(ポリスチレン):10,000)
較正曲線用標準試料:Polymer Laboratories社製、Polymer Standards (PL), Polystyrene
The molecular weight data in the examples are all polystyrene-converted values obtained by GPC (gel permeation chromatography). The measurement conditions for GPC are shown below.
Apparatus: JASCO GULLIVER 1500 (intelligent differential refractometer RI-1530) manufactured by JASCO Corporation
Solvent: Tetrahydrofuran (THF)
Flow rate: 1 ml / min
Column temperature: 40 ° C
Columns used: The following columns from Tosoh Corporation (used in series)
TSKguardcolumn HXL-L (GUARDCOLUMN)
TSKgel G1000HxL (exclusion limit molecular weight (polystyrene): 1,000)
TSkgel G2000HxL (exclusion limit molecular weight (polystyrene): 10,000)
Standard sample for calibration curve: Polymer Laboratories, Polymer Standards (PL), Polystyrene

なお、実施例6〜19においては、 昭和電工株式会社製のShodex KF-G(GUARDCOLUMN)と2本のShodex KF-804L(排除限界分子量(ポリスチレン):400,000)を直列につないで用い、較正曲線用標準試料として昭和電工株式会社製Shodex STANDARD M-75(ポリメチルメタアクリレート)を用いた。他の条件は上記と同じである。 In Examples 6 to 19, Shodex KF-G (GUARDCOLUMN) manufactured by Showa Denko KK and two Shodex KF-804L (exclusion limit molecular weight (polystyrene): 400,000) are connected in series, and a calibration curve is used. As a standard sample, Shodex STANDARD M-75 (polymethyl methacrylate) manufactured by Showa Denko Co., Ltd. was used. Other conditions are the same as above.

実施例1
<化合物(3−1−1):ナトリウムが結合したフェニルシルセスキオキサン誘導体の合成>
還流冷却器、温度計、撹拌装置を備えた内容積50リットルの反応容器に、フェニルトリメトキシシラン(6.54kg)、2−プロパノール(26.3リットル)、純水(0.66kg)、および水酸化ナトリウム(0.88kg)を仕込み、乾燥窒素でシールした。撹拌しながら加熱し、還流状態で5時間反応させた。反応終了後、反応容器から加熱器を取り外し、この容器を室温下に15時間放置して、反応混合物を冷却した。このようにして得られた反応混合物から、デカンテーションによって上澄み液を除去した。そして、反応容器に残った白色固体を、2−プロパノール(9.87kg)で1回洗浄した。これをポリテトラフルオロエチレンシートで内張したステンレス製バットに移し、減圧乾燥機を用いて、庫内温度80℃、圧力6.7×10−4MPaで24時間乾燥して、2.22kgの白色粉末状の化合物(A−1)を得た。
Example 1
<Compound (3-1-1): Synthesis of phenylsilsesquioxane derivative bonded with sodium>
In a reaction vessel having an internal volume of 50 liters equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirring device, phenyltrimethoxysilane (6.54 kg), 2-propanol (26.3 liters), pure water (0.66 kg), and Sodium hydroxide (0.88 kg) was charged and sealed with dry nitrogen. The mixture was heated with stirring and reacted at reflux for 5 hours. After completion of the reaction, the heater was removed from the reaction vessel, and this vessel was left at room temperature for 15 hours to cool the reaction mixture. The supernatant was removed from the reaction mixture thus obtained by decantation. The white solid remaining in the reaction vessel was washed once with 2-propanol (9.87 kg). This was transferred to a stainless steel vat lined with a polytetrafluoroethylene sheet and dried for 24 hours at an internal temperature of 80 ° C. and a pressure of 6.7 × 10 −4 MPa using a vacuum dryer. A white powdery compound (A-1) was obtained.

実施例2
<化合物(A−1)へのトリメチルシリル基の導入>
還流冷却器を取り付けた50mlの4つ口フラスコに、化合物(A−1)(1.2g)、テトラヒドロフラン(10g)、およびトリエチルアミン(1.6g)を投入し、乾燥窒素にてシールした。マグネチックスターラーによる攪拌下で、溶液温度を15℃〜20℃に保ちながらトリメチルクロロシラン(2.2g)を約1分間で滴下した。滴下終了後、15℃で3.5時間撹拌を続けた。反応終了後、純水で洗浄し、真空乾燥して白色固形物(1.2g)を得た。これを化合物(A−T)とする。
Example 2
<Introduction of trimethylsilyl group into compound (A-1)>
Compound (A-1) (1.2 g), tetrahydrofuran (10 g), and triethylamine (1.6 g) were charged into a 50 ml four-necked flask equipped with a reflux condenser and sealed with dry nitrogen. Under stirring with a magnetic stirrer, trimethylchlorosilane (2.2 g) was added dropwise over about 1 minute while maintaining the solution temperature at 15 to 20 ° C. After completion of the dropwise addition, stirring was continued at 15 ° C. for 3.5 hours. After completion of the reaction, the reaction product was washed with pure water and vacuum dried to obtain a white solid (1.2 g). This is designated as Compound (AT).

化合物(A−T)について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)、H−NMR、および29Si−NMRにて構造解析を行った。GPCチャートから、白色固形物は単分散性を示し、ポリスチレン換算での数平均分子量が970、重量平均分子量が990であることが確認された。H−NMRチャートから、フェニル基とトリメチルシリル基が2:1の積分比で存在することが確認された。29Si−NMRチャートから、フェニル基を有し、T構造に由来するピークが、−76.12ppmと−78.95ppmに1:1の積分比で2本、トリメチルシリル基に由来するピークが10.62ppmに1本(いずれもテトラメチルシランを基準)存在することが確認された。これらの結果は、化合物(A−T)が式(3−T)で示される構造であることを支持している。従って、化合物(A−1)は式(3−1−1)で示される構造を有する化合物である。なお、T構造は1個のケイ素原子に3個の酸素原子が結合している部分構造、即ち−Si(O−)を示す用語である。

Figure 2005343892

Figure 2005343892
The compound (AT) was subjected to structural analysis by gel permeation chromatography (GPC), 1 H-NMR, and 29 Si-NMR. From the GPC chart, it was confirmed that the white solid showed monodispersity, the number average molecular weight in terms of polystyrene was 970, and the weight average molecular weight was 990. From the 1 H-NMR chart, it was confirmed that the phenyl group and the trimethylsilyl group were present at an integration ratio of 2: 1. From the 29 Si-NMR chart, there are two peaks having a phenyl group and derived from the T structure at −76.12 ppm and −78.95 ppm at an integration ratio of 1: 1, and a peak derived from the trimethylsilyl group is 10. It was confirmed that there was one in 62 ppm (both based on tetramethylsilane). These results support that the compound (AT) has a structure represented by the formula (3-T). Therefore, the compound (A-1) is a compound having a structure represented by the formula (3-1-1). The T structure is a term indicating a partial structure in which three oxygen atoms are bonded to one silicon atom, that is, —Si (O—) 3 .

Figure 2005343892

Figure 2005343892

実施例3
<化合物(5−1):ヒドロシリル基を有する有機ケイ素化合物の合成>
滴下漏斗、温度計、および還流冷却器を取り付けた内容積1000ミリリットルの4つ口フラスコに、撹拌子、実施例1の方法を利用して得られた化合物(3−1−1)(69g)、トルエン(540g)仕込み乾燥窒素にてシールした。マグネチックスターラーで撹拌しながら、ジメチルクロロシラン(9.1g)を滴下漏斗から約35分間で滴下した。このとき、溶液温度が25℃〜35℃になるよう滴下速度を調節した。滴下終了後、攪拌しながら過熱し、還流状態で3時間撹拌を継続し反応を完結させた。反応終了後、溶液温度が50℃以下まで下がるよう放冷した。ついで、純水160gを滴下漏斗からゆっくりと滴下した。滴下終了後、約10分間攪拌して未反応のジメチルクロロシランを加水分解し、塩化ナトリウムを溶解した。このようにして得られた反応混合物を分液漏斗に移し有機層と水層とに分離した。得られた有機層を飽和食塩水により洗浄した後、中性になるまで水洗を繰り返した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ロータリーエバポレーターで減圧濃縮して、71gの白色固体を得た。この白色固体をノルマルヘプタン(350ml)で洗浄し、減圧乾燥して白色粉末状固体50gを得た。
Example 3
<Compound (5-1): Synthesis of organosilicon compound having hydrosilyl group>
A compound (3-1-1) (69 g) obtained by using the stirring bar, the method of Example 1 in a four-necked flask having an internal volume of 1000 ml equipped with a dropping funnel, a thermometer, and a reflux condenser. Toluene (540 g) was charged and sealed with dry nitrogen. While stirring with a magnetic stirrer, dimethylchlorosilane (9.1 g) was added dropwise from the dropping funnel in about 35 minutes. At this time, the dropping rate was adjusted so that the solution temperature was 25 ° C to 35 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture was heated with stirring, and stirring was continued for 3 hours in a reflux state to complete the reaction. After completion of the reaction, the solution was allowed to cool down to 50 ° C. or lower. Next, 160 g of pure water was slowly dropped from the dropping funnel. After completion of dropping, the mixture was stirred for about 10 minutes to hydrolyze unreacted dimethylchlorosilane, and sodium chloride was dissolved. The reaction mixture thus obtained was transferred to a separatory funnel and separated into an organic layer and an aqueous layer. The obtained organic layer was washed with saturated brine, and then washed with water until neutrality. The obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 71 g of a white solid. This white solid was washed with normal heptane (350 ml) and dried under reduced pressure to obtain 50 g of a white powdery solid.

得られた白色粉末状固体の構造を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)、H−NMR、29Si−NMRおよびIR分析により解析した。GPCチャートから、白色固体が単分散性であり、ポリスチレン換算での数平均分子量が900、重量平均分子量が910であることが確認された。H−NMRチャートから、フェニル基、ヒドロシリル基、およびメチル基に基づく積分比が、40:4:24であることを確認した。29Si−NMRチャートから、−3.28ppm(テトラメチルシランを基準)にジメチルシリル基を示唆するピークを確認した。さらにKBr錠剤法により測定したIRスペクトルから、2142cm-1にSi−Hの伸縮振動に基づく吸収が確認された。これらの結果は、化合物(3−1−1)とジメチルクロロシランとの反応により得られた化合物が式(5−1)で表される構造を有することを示唆している。

Figure 2005343892
The structure of the obtained white powdery solid was analyzed by gel permeation chromatography (GPC), 1 H-NMR, 29 Si-NMR and IR analysis. From the GPC chart, it was confirmed that the white solid was monodisperse, the number average molecular weight in terms of polystyrene was 900, and the weight average molecular weight was 910. From the 1 H-NMR chart, it was confirmed that the integration ratio based on the phenyl group, hydrosilyl group, and methyl group was 40: 4: 24. From the 29 Si-NMR chart, a peak suggesting a dimethylsilyl group was confirmed at −3.28 ppm (based on tetramethylsilane). Furthermore, from the IR spectrum measured by the KBr tablet method, absorption based on the stretching vibration of Si—H was confirmed at 2142 cm −1 . These results suggest that the compound obtained by the reaction of the compound (3-1-1) and dimethylchlorosilane has a structure represented by the formula (5-1).

Figure 2005343892

実施例4
<ヒドロキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
還流冷却器、滴下漏斗、温度計および攪拌子を備えた50mlの四つ口フラスコに、実施例3の方法を利用して得られた化合物(5−1)(5.2g)、エチレングリコールモノアリルエーテル(6.6g)、およびトルエン(5.2g)を仕込み、乾燥窒素でシールした。マグネチックスターラーで攪拌しながら、反応液温度が42℃になるように加熱した。マイクロシリンジを用い、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体/キシレン溶液(白金含有量:3.0重量%、33μl)を添加したのち、反応液温度を60℃に加熱して2時間撹拌を継続した。そして、反応液をサンプリングしIR分析を行なった結果、Si−H基を示唆する2138cm−1の吸収が消失していることを確認した。ついで反応液を減圧濃縮したのち残渣を酢酸エチル(28g)で20重量%に希釈した。そして粉末活性炭(0.4g)を加え1.5時間攪拌を継続した。そして活性炭を濾過により除去したのち減圧濃縮を行い粘稠で透明の液体6.6gを得た。
Example 4
<Synthesis of silicon compound having hydroxyethoxypropyl group>
In a 50 ml four-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, a thermometer and a stirrer, compound (5-1) (5.2 g) obtained by using the method of Example 3 and ethylene glycol mono Allyl ether (6.6 g) and toluene (5.2 g) were charged and sealed with dry nitrogen. While stirring with a magnetic stirrer, the reaction solution was heated to a temperature of 42 ° C. After adding a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex / xylene solution (platinum content: 3.0 wt%, 33 μl) using a microsyringe, the reaction solution temperature was heated to 60 ° C. and stirring was continued for 2 hours. . And as a result of sampling the reaction liquid and performing IR analysis, it was confirmed that absorption of 2138 cm −1 suggesting Si—H group disappeared. The reaction mixture was then concentrated under reduced pressure, and the residue was diluted to 20% by weight with ethyl acetate (28 g). And powdered activated carbon (0.4g) was added and stirring was continued for 1.5 hours. The activated carbon was removed by filtration and then concentrated under reduced pressure to obtain 6.6 g of a viscous and transparent liquid.

得られた粘稠な液体について、液膜法によりIR分析を行なった結果、3450cm−1にヒドロキシル基のO−H伸縮振動による吸収を確認した。29Si−NMR分析を行なった結果、(3−(2−ヒドロキシエチルオキシ)プロピル)ジメチルシリル基に相当する11.42ppmのピークを確認した。GPC分析を行なった結果、ポリスチレン換算で数平均分子量は1180、重量平均分子量は1230であった。以上のデータは、粘稠な液体が式(7−1)で示される化学構造を有する化合物であることが示唆された。

Figure 2005343892
The obtained viscous liquid was subjected to IR analysis by a liquid film method, and as a result, absorption due to O—H stretching vibration of a hydroxyl group was confirmed at 3450 cm −1 . As a result of 29 Si-NMR analysis, a peak of 11.42 ppm corresponding to (3- (2-hydroxyethyloxy) propyl) dimethylsilyl group was confirmed. As a result of GPC analysis, the number average molecular weight was 1180 and the weight average molecular weight was 1230 in terms of polystyrene. The above data suggested that the viscous liquid was a compound having a chemical structure represented by formula (7-1).

Figure 2005343892

実施例5
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
アルゴン雰囲気下、内容積100mlのなす型フラスコに、実施例4で得られた化合物(7−1)(1.0g)、モレキュラーシーブス(4A)により乾燥したトリエチルアミン(0.35g)および乾燥メチレンクロライド(10ml)を仕込んだ。マグネチックスターラーを用い、室温で撹拌しながら化合物(7−1)を溶解させた後、溶液をドライアイス−メタノール浴を用いて冷却し、液温を−78℃に保持した。ついで、この溶液に2−ブロモ−2−メチルプロパノイルブロマイド(0.81g、化合物(7−1)に対して6.0当量)を速やかに加え、−78℃にて1時間撹拌した後、室温下で更に2時間撹拌した。反応終了後、トリエチルアミン−臭酸塩を濾過により除去した。得られた反応液にメチレンクロライド(50ml)を加え、水(100ml)による1回の洗浄、炭酸水素ナトリウム水溶液(1%、100ml)による2回の洗浄、および水(100ml)による2回の洗浄を順次行ってから、無水硫酸マグネシウム(5g)にて乾燥した。その後、ロータリーエバポレータを用い、室温下でこの溶液を濃縮して液量を約5mlとした。この濃縮液(5ml)にメタノール(50ml)を加えて、粘ちょう性液体成分を相分離させた。その後、−35℃の冷凍庫に静置して、粘ちょう性液体成分の相分離を十分に行わせた後、デカンテーションによってこの成分を取得した。この粘ちょう性液体をカラムクロマトグラフ法にて精製し、40℃で6時間減圧乾燥して透明な粘ちょう性液体を得た(0.86g、収率:63.7%)。
Example 5
<Synthesis of silicon compound having 2-bromo-2-methylpropanoyloxyethoxypropyl group>
In an argon flask having an internal volume of 100 ml under an argon atmosphere, the compound (7-1) (1.0 g) obtained in Example 4, triethylamine (0.35 g) dried with molecular sieves (4A) and dry methylene chloride were used. (10 ml) was charged. The compound (7-1) was dissolved using a magnetic stirrer while stirring at room temperature, and then the solution was cooled using a dry ice-methanol bath, and the liquid temperature was kept at -78 ° C. Next, 2-bromo-2-methylpropanoyl bromide (0.81 g, 6.0 equivalents relative to compound (7-1)) was quickly added to this solution, and the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour. The mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, triethylamine-bromide was removed by filtration. Methylene chloride (50 ml) was added to the resulting reaction solution, and then washed once with water (100 ml), washed twice with an aqueous sodium bicarbonate solution (1%, 100 ml), and washed twice with water (100 ml). Were sequentially performed, and then dried over anhydrous magnesium sulfate (5 g). Then, this solution was concentrated at room temperature using a rotary evaporator to make the liquid volume about 5 ml. Methanol (50 ml) was added to the concentrated liquid (5 ml) to separate the viscous liquid component. Then, after leaving still in a -35 degreeC freezer and fully making the phase separation of a viscous liquid component, this component was acquired by decantation. This viscous liquid was purified by column chromatography and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 6 hours to obtain a transparent viscous liquid (0.86 g, yield: 63.7%).

この透明な粘ちょう性液体のGPC純度は、98.3%であった。、下記に示すH−NMR、13C−NMRおよび29Si−NMRの結果から、この化合物が式(1−1−3)で示される構造を有することがわかった。
1H NMR (400MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 7.55〜7.10 (m, 40H, Ph-Si),4.17 (t, 8H, -[CH2]-O-(C=O)-), 3.39 (t, 8H, -[CH2]-O-C2H4-), 2.98 (t, 8H, -C3H6-O-[CH2]-), 1.89 (s, 24H, -C(Br)[(CH3)2]), 1.29 (tt, 8H, -CH2-[CH2]-CH2-), 0.42 (t, 8H, Si-[CH2]-), 0.27 (s, 24H, -OSi[(CH3)2]-).
13C NMR (100MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 171.8 (C=O), 134.5〜127.7 (Ph-Si), 73.9 (-[CH2]-O-C2H4-), 67.9 (-C3H6-O-[CH2]-), 65.1 (-[CH2]-O-(C=O)-), 55.8 (-[C](Br)(CH3)2), 30.8 (-C(Br)[(CH3)2]), 23.1 (-CH2-[CH2]-CH2-), 14.0 (Si-[CH2]-), -0.30 (-OSi[(CH3)2]-).
29Si NMR (79MHz, CDCl3, TMS 標準:δ=0.0 ppm): 11.31 (-O[Si](CH3)2CH2-), -76.10, -78.85 (Ph-SiO1.5).

Figure 2005343892
The GPC purity of this transparent viscous liquid was 98.3%. From the results of 1 H-NMR, 13 C-NMR and 29 Si-NMR shown below, it was found that this compound had a structure represented by the formula (1-1-3).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 , TMS standard: δ = 0.0 ppm): 7.55-7.10 (m, 40H, Ph-Si), 4.17 (t, 8H,-[CH 2 ] -O- (C = O) -), 3.39 (t, 8H , - [CH 2] -OC 2 H 4 -), 2.98 (t, 8H, -C 3 H 6 -O- [CH 2] -), 1.89 (s, 24H, - C (Br) [(CH 3 ) 2 ]), 1.29 (tt, 8H, -CH 2- [CH 2 ] -CH 2- ), 0.42 (t, 8H, Si- [CH 2 ]-), 0.27 ( s, 24H, -OSi [(CH 3 ) 2 ]-).
13 C NMR (100MHz, CDCl 3 , TMS standard: δ = 0.0 ppm): 171.8 (C = O), 134.5~127.7 (Ph-Si), 73.9 (- [CH 2] -OC 2 H 4 -), 67.9 (-C 3 H 6 -O- [CH 2 ]-), 65.1 (-[CH 2 ] -O- (C = O)-), 55.8 (-[C] (Br) (CH 3 ) 2 ), 30.8 (-C (Br) [(CH 3 ) 2 ]), 23.1 (-CH 2- [CH 2 ] -CH 2- ), 14.0 (Si- [CH 2 ]-), -0.30 (-OSi [( CH 3 ) 2 ]-).
29 Si NMR (79 MHz, CDCl 3 , TMS standard: δ = 0.0 ppm): 11.31 (-O [Si] (CH 3 ) 2 CH 2- ), -76.10, -78.85 (Ph-SiO 1.5 ).

Figure 2005343892

実施例6
<重合用溶液の調製>
紫外線がカットされたドラフト内において、耐熱ガラス製アンプルに臭化第一銅を導入し、さらに実施例5で得られた化合物(1−1−3)/メタクリル酸メチル/L−(−)−スパルテイン/アニソール溶液を加え、液体窒素を用いて速やかに冷却した。その後、油回転ポンプが装着された真空装置にて凍結真空脱気(圧力:1.0Pa)を3回行ない、真空の状態を保持したまま、ハンドバーナーを用いて速やかにアンプルを封じた。このとき、この重合用溶液における化合物(1−1−3)、メタクリル酸メチル、臭化第一銅およびL−(−)−スパルテインの割合を、この順のモル比で1:1200:4:8とし、アニソールの使用量をメタクリル酸メチルの濃度が50重量%となる量とした。
Example 6
<Preparation of polymerization solution>
In a draft cut with ultraviolet rays, cuprous bromide was introduced into an ampoule made of heat-resistant glass, and the compound (1-1-3) / methyl methacrylate / L-(-)-obtained in Example 5 was further obtained. Sparteine / anisole solution was added and cooled quickly with liquid nitrogen. Thereafter, freeze vacuum deaeration (pressure: 1.0 Pa) was performed three times in a vacuum apparatus equipped with an oil rotary pump, and the ampule was quickly sealed using a hand burner while maintaining the vacuum state. At this time, the ratio of the compound (1-1-3), methyl methacrylate, cuprous bromide and L-(−)-spartein in this polymerization solution was 1: 1200: 4 in this order. : 8, and the amount of anisole used was such that the concentration of methyl methacrylate was 50% by weight.

<重合>
封管された耐熱ガラス製アンプルを恒温振とう浴中にセットして重合させ、重合体(a)の褐色で粘ちょうな溶液を得た。このとき、重合温度は70℃であり、重合時間は0.5時間であった。この重合反応系におけるモノマー転化率は、重合体(a)の溶液を重水素化クロロホルムにて希釈した後、H−NMR測定を行って、モノマーおよびポリマーのそれぞれにおける置換基のプロトン比の関係から求めた。得られた重合体(a)をヘキサンによる再沈殿精製により回収し、この重合体(a)の酢酸エチル溶液(5重量%)を調製し、EDTA・2Na水溶液(2重量%、100ml)と共に300ml−分液ロートにてフラッシングを行うことによって銅錯体の吸着除去を行った。さらにこの溶液をヘキサンに滴下して重合体を再沈殿させ、これを減圧乾燥(80℃、6時間)した。この重合反応系におけるモノマー転化率およびモノマー転化率より誘導される重合体(a)の理論数平均分子量、GPC測定により実測された数平均分子量および分子量分布の解析結果は、表6−1に示す通りであった。
<Polymerization>
The sealed heat-resistant glass ampoule was set in a constant temperature shaking bath and polymerized to obtain a brown and viscous solution of the polymer (a). At this time, the polymerization temperature was 70 ° C., and the polymerization time was 0.5 hours. The monomer conversion rate in this polymerization reaction system was determined by measuring the 1 H-NMR measurement after diluting the polymer (a) solution with deuterated chloroform, and determining the relationship between the proton ratios of the substituents in each of the monomer and the polymer. I asked for it. The obtained polymer (a) was recovered by reprecipitation purification with hexane to prepare an ethyl acetate solution (5% by weight) of this polymer (a), and 300 ml together with an aqueous EDTA · 2Na solution (2% by weight, 100 ml). -The copper complex was removed by adsorption by flushing with a separatory funnel. Further, this solution was added dropwise to hexane to reprecipitate the polymer, which was dried under reduced pressure (80 ° C., 6 hours). Table 6-1 shows the results of analysis of the monomer conversion rate in this polymerization reaction system, the theoretical number average molecular weight of the polymer (a) derived from the monomer conversion rate, the number average molecular weight actually measured by GPC measurement, and the molecular weight distribution. It was street.

<グラフト鎖の理論分子量解析>
なおグラフト鎖の理論分子量は、重合の開始末端であるエステル結合がフッ化水素酸処理による加水分解によって切断され、重合の停止末端がすべてBrとなっていると仮定し、下記式により計算した結果は、表6−2に示す通りであった。
<Theoretical molecular weight analysis of graft chain>
The theoretical molecular weight of the graft chain was calculated by the following formula, assuming that the ester bond that is the initiation terminal of the polymerization was cleaved by hydrolysis by hydrofluoric acid treatment, and all the termination terminals of the polymerization were Br Was as shown in Table 6-2.

<計算式>
グラフト鎖の理論Mn=(単量体消費率(モル%)/100)×MW×(α−ブロモエステル基に対するビニル系単量体のモル比)+MW
<Calculation formula>
Theory of graft chain Mn = (monomer consumption rate (mol%) / 100) × MW M × (molar ratio of vinyl monomer to α-bromoester group) + MW I

<計算に用いたパラメータ>
MW=100(メタクリル酸メチル)
α−ブロモエステル基に対するビニル系単量体のモル比=300
MW=167.01 (BrC(CH3)2CO2H)
<Parameters used for calculation>
MW M = 100 (methyl methacrylate)
Molar ratio of vinyl monomer to α-bromoester group = 300
MW I = 167.01 (BrC (CH 3 ) 2 CO 2 H)

<グラフト鎖の分子量測定>
フッ化水素酸(0.17ml)とアセトニトリル(0.83ml)の混合溶液を調製した。撹拌子を導入したポリプロピレン製マイクロチューブ(1.5ml)内において、この混合溶液に重合体(a)(10mg)を溶解させ、マグネティックスターラーを備えたインキュベータ内において40℃、24時間撹拌した。その後、減圧乾燥器にて80℃、3時間乾燥して、重合体を回収した。この重合体のGPC測定を行った結果は、表6−2に示す通りであった。
<Measurement of molecular weight of graft chain>
A mixed solution of hydrofluoric acid (0.17 ml) and acetonitrile (0.83 ml) was prepared. The polymer (a) (10 mg) was dissolved in this mixed solution in a polypropylene microtube (1.5 ml) into which a stirrer was introduced, and the mixture was stirred in an incubator equipped with a magnetic stirrer at 40 ° C. for 24 hours. Subsequently, the polymer was recovered by drying at 80 ° C. for 3 hours in a vacuum dryer. The results of GPC measurement of this polymer were as shown in Table 6-2.

実施例7〜12
重合時間を表6−1に示すように変更した以外は、実施例6と同様にして重合を行い、重合体(b)〜重合体(g)のそれぞれの褐色で粘ちょうな溶液を得た。そして、それぞれの重合体について、実施例6の場合と同様にして精製を行い、モノマー転化率、理論数平均分子量、数平均分子量および分子量分布を求め、結果を表6−1に示した。グラフト鎖の理論数平均分子量計算、重合体のフッ化水素酸処理、GPC測定によるグラフト鎖の数平均分子量および分子量分布解析についても実施例6の場合と同様にして行い、その結果を表6−2に示した。
Examples 7-12
Except having changed polymerization time as shown in Table 6-1, it superposed | polymerized like Example 6 and obtained the brown and viscous solution of each of a polymer (b)-a polymer (g). . Each polymer was purified in the same manner as in Example 6, and the monomer conversion, theoretical number average molecular weight, number average molecular weight and molecular weight distribution were determined. The results are shown in Table 6-1. The theoretical number average molecular weight calculation of the graft chain, the hydrofluoric acid treatment of the polymer, and the number average molecular weight and molecular weight distribution analysis of the graft chain by GPC measurement were performed in the same manner as in Example 6, and the results are shown in Table 6 It was shown in 2.

Figure 2005343892
Figure 2005343892

Figure 2005343892
Figure 2005343892

実施例13
<重合用溶液の調製>
紫外線がカットされたドラフト内において、耐熱ガラス製アンプルに臭化第一銅を導入し、さらに化合物(1−1−3)/メタクリル酸メチル/L−(−)−スパルテイン/アニソール溶液を加え、液体窒素を用いて速やかに冷却した。その後、油回転ポンプが装着された真空装置にて凍結真空脱気(圧力:1.0Pa)を3回行ない、真空の状態を保持したまま、ハンドバーナーを用いて速やかにアンプルを封じた。このとき、この重合用溶液における化合物(1−1−3)、メタクリル酸メチル、臭化第一銅およびL−(−)−スパルテインの割合を、この順のモル比で1:600:4:8とし、アニソールの使用量をメタクリル酸メチルの濃度が50重量%となる量とした。
Example 13
<Preparation of polymerization solution>
In a draft cut with ultraviolet rays, cuprous bromide was introduced into an ampoule made of heat-resistant glass, and a compound (1-1-3) / methyl methacrylate / L-(-)-sparteine / anisole solution was added. Cooled quickly using liquid nitrogen. Thereafter, freeze vacuum deaeration (pressure: 1.0 Pa) was performed three times in a vacuum apparatus equipped with an oil rotary pump, and the ampule was quickly sealed using a hand burner while maintaining the vacuum state. At this time, the ratio of the compound (1-1-3), methyl methacrylate, cuprous bromide and L-(−)-spartein in this polymerization solution was 1: 600: 4 in this order of molar ratio. : 8, and the amount of anisole used was such that the concentration of methyl methacrylate was 50% by weight.

<重合>
封管された耐熱ガラス製アンプルを恒温振とう浴中にセットして重合させ、重合体(2a)の褐色で粘ちょうな溶液を得た。このとき、重合温度は70℃であり、重合時間は0.25時間であった。この重合反応系におけるモノマー転化率は、重合体(2a)の溶液を重水素化クロロホルムにて希釈した後、H−NMR測定を行って、モノマーおよびポリマーのそれぞれにおける置換基のプロトン比の関係から求めた。得られた重合体をヘキサンによる再沈殿精製により回収し、この重合体(2a)の酢酸エチル溶液(5重量%)を調製し、EDTA・2Na水溶液(2重量%、100ml)と共に300ml−分液ロートにてフラッシングを行うことによって銅錯体の吸着除去を行った。さらにこの溶液をヘキサンに滴下して重合体(2a)を再沈殿させ、これを減圧乾燥(80℃、6時間)した。この重合反応系におけるモノマー転化率およびモノマー転化率より誘導される重合体(2a)の理論数平均分子量、GPC測定により実測された数平均分子量および分子量分布の解析結果は、表7−1に示す通りであった。
<Polymerization>
The sealed heat-resistant glass ampoule was set in a constant temperature shaking bath and polymerized to obtain a brown and viscous solution of the polymer (2a). At this time, the polymerization temperature was 70 ° C., and the polymerization time was 0.25 hours. The monomer conversion rate in this polymerization reaction system is the relationship between the proton ratio of the substituents in each of the monomer and the polymer by performing 1 H-NMR measurement after diluting the polymer (2a) solution with deuterated chloroform. I asked for it. The obtained polymer was recovered by reprecipitation purification with hexane to prepare an ethyl acetate solution (5 wt%) of this polymer (2a), and 300 ml-separated with an EDTA · 2Na aqueous solution (2 wt%, 100 ml). The copper complex was adsorbed and removed by flushing with a funnel. Further, this solution was added dropwise to hexane to reprecipitate the polymer (2a), which was dried under reduced pressure (80 ° C., 6 hours). Table 7-1 shows the results of analysis of the monomer conversion rate in this polymerization reaction system and the theoretical number average molecular weight of the polymer (2a) derived from the monomer conversion rate, the number average molecular weight actually measured by GPC measurement, and the molecular weight distribution. It was street.

<グラフト鎖の理論分子量解析>
なおグラフト鎖の理論分子量は、重合の開始末端であるエステル結合がフッ化水素酸処理による加水分解によって切断され、重合の停止末端がすべてBrとなっていると仮定し、下記式により計算した結果は、表7−2に示す通りであった。
<Theoretical molecular weight analysis of graft chain>
The theoretical molecular weight of the graft chain is calculated by the following formula, assuming that the ester bond that is the initiation terminal of polymerization is cleaved by hydrolysis by hydrofluoric acid treatment, and all the termination terminals of polymerization are Br. Was as shown in Table 7-2.

<計算式>
グラフト鎖の理論Mn=(単量体消費率(モル%)/100)×MW×(α−ブロモエステル基に対するビニル系単量体のモル比)+MW
<計算に用いたパラメータ>
MW=100(メタクリル酸メチル)
α−ブロモエステル基に対するビニル系単量体のモル比=150
MW=167.01 (BrC(CH3)2CO2H)
<Calculation formula>
Theory of graft chain Mn = (monomer consumption rate (mol%) / 100) × MW M × (molar ratio of vinyl monomer to α-bromoester group) + MW I
<Parameters used for calculation>
MW M = 100 (methyl methacrylate)
Molar ratio of vinyl monomer to α-bromoester group = 150
MW I = 167.01 (BrC (CH 3 ) 2 CO 2 H)

<グラフト鎖の分子量測定>
フッ化水素酸(0.17ml)とアセトニトリル(0.83ml)の混合溶液を調製した。撹拌子を導入したポリプロピレン製マイクロチューブ(1.5ml)内において、この混合溶液に重合体(2a)(10mg)を溶解させ、マグネティックスターラーを具備したインキュベータ内において40℃、24時間撹拌した。その後、減圧乾燥器にて80℃、3時間乾燥して、重合体を回収した。回収した重合体のGPC測定を行った結果は、表7−2に示す通りであった。
<Measurement of molecular weight of graft chain>
A mixed solution of hydrofluoric acid (0.17 ml) and acetonitrile (0.83 ml) was prepared. The polymer (2a) (10 mg) was dissolved in this mixed solution in a polypropylene microtube (1.5 ml) into which a stirrer was introduced, and stirred in an incubator equipped with a magnetic stirrer at 40 ° C. for 24 hours. Subsequently, the polymer was recovered by drying at 80 ° C. for 3 hours in a vacuum dryer. The results of GPC measurement of the recovered polymer were as shown in Table 7-2.

実施例14〜19
重合時間を表7−1に示すように変更した以外は、実施例13と同様にして重合を行い、重合体(2b)〜重合体(2g)のそれぞれの褐色で粘ちょうな溶液を得た。そして、それぞれの重合体について、実施例13の場合と同様にして精製を行い、モノマー転化率、理論数平均分子量、数平均分子量および分子量分布を求め、結果を表7−1に示した。グラフト鎖の理論数平均分子量計算、重合体のフッ化水素酸処理、GPC測定によるグラフト鎖の数平均分子量および分子量分布解析についても実施例13の場合と同様にして行い、その結果を表7−2に示した。
Examples 14-19
Except having changed superposition | polymerization time as shown in Table 7-1, it superposed | polymerized like Example 13 and obtained the brown and viscous solution of each of a polymer (2b)-a polymer (2g). . Each polymer was purified in the same manner as in Example 13, and the monomer conversion, theoretical number average molecular weight, number average molecular weight, and molecular weight distribution were determined. The results are shown in Table 7-1. The number average molecular weight calculation of the graft chain, the hydrofluoric acid treatment of the polymer, and the number average molecular weight and molecular weight distribution analysis of the graft chain by GPC measurement were performed in the same manner as in Example 13, and the results are shown in Table 7- It was shown in 2.

Figure 2005343892
Figure 2005343892

Figure 2005343892
Figure 2005343892

実施例20
<化合物(3−2−1):化合物(3−1−1)を原料とする、シラノールを有するフェニルシルセスキオキサンの合成>
滴下漏斗、温度計を備えた内容積100mlの反応容器に、実施例1で得られた化合物(3−1−1)(6g)、およびテトラヒドロフラン(50ml)を仕込み、乾燥窒素にてシールした。そして撹拌しながら氷酢酸(2.4g)を溶液温度が22〜27℃に保ちながら約10秒間で滴下した。滴下終了後、室温で1時間撹拌を継続したのちイオン交換水(20g)を滴下した。滴下終了後10分間撹拌を継続したのち、分液漏斗に移し有機層と水層を分離した。このようにして得られた有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水で1回洗浄したのち、イオン交換水で水洗を繰り返し中性とした。次いで有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、減圧濃縮して白色粉末状固体を5.3g得た。
Example 20
<Compound (3-2-1): Synthesis of phenylsilsesquioxane having silanol using compound (3-1-1) as a raw material>
The compound (3-1-1) (6 g) obtained in Example 1 and tetrahydrofuran (50 ml) and tetrahydrofuran (50 ml) were charged into a reaction vessel having an internal volume of 100 ml equipped with a dropping funnel and a thermometer, and sealed with dry nitrogen. While stirring, glacial acetic acid (2.4 g) was added dropwise over about 10 seconds while maintaining the solution temperature at 22-27 ° C. After completion of the dropping, stirring was continued at room temperature for 1 hour, and then ion exchanged water (20 g) was added dropwise. Stirring was continued for 10 minutes after the completion of dropping, and then the mixture was transferred to a separatory funnel to separate an organic layer and an aqueous layer. The organic layer thus obtained was washed once with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, and then washed repeatedly with ion-exchanged water to make it neutral. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to obtain 5.3 g of a white powdery solid.

このようにして得られた白色粉末状固体について、IR分析を行ったところ3300cm−1にSi−OHの伸縮に基づく吸収を確認した。29Si−NMRを測定した結果、−69.32ppmにPhSi(OH)O2/2で表される構造に由来するシグナルを、−79.45ppmにPhSiO3/2で表される構造に由来するシグナルをそれぞれ1本ずつ確認した。H−NMRを測定した結果、フェニル基以外のシグナルは確認されなかった。GPCにより平均分子量を測定した結果、ポリスチレン換算で数平均分子量は760、重量平均分子量は780であった。以上のデータは得られた白色粉末状固体が式(3−2−1)の構造であることを示唆している。

Figure 2005343892
When the white powdery solid thus obtained was subjected to IR analysis, absorption based on the stretching of Si—OH was confirmed at 3300 cm −1 . As a result of measuring 29 Si-NMR, a signal derived from a structure represented by PhSi (OH) O 2/2 at −69.32 ppm and a signal represented by PhSiO 3/2 at −79.45 ppm were obtained. Each signal was confirmed. As a result of measuring 1 H-NMR, signals other than the phenyl group were not confirmed. As a result of measuring the average molecular weight by GPC, the number average molecular weight was 760 and the weight average molecular weight was 780 in terms of polystyrene. The above data suggests that the obtained white powdery solid has the structure of the formula (3-2-1).

Figure 2005343892

実施例21
<化合物(5−1):ヒドロシリル基を有する有機ケイ素化合物の合成>
実施例1で得られた化合物(3−1−1)の代わりに、実施例20で得られた化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例3と同様の操作を行うことにより、化合物(5−1)を合成することができる。

Figure 2005343892
Example 21
<Compound (5-1): Synthesis of organosilicon compound having hydrosilyl group>
By performing the same operation as in Example 3, except that the compound (3-2-1) obtained in Example 20 was used instead of the compound (3-1-1) obtained in Example 1. Compound (5-1) can be synthesized.

Figure 2005343892

実施例22
<ヒドロキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
エチレングリコールモノアリルエーテルの代わりに、アリルアルコール(化合物(5)に対して4.0当量以上)を用いる以外は実施例4と同様の操作を行うことにより、式(7−2)で示される化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
Example 22
<Synthesis of silicon compound having hydroxypropyl group>
By the same operation as in Example 4 except that allyl alcohol (4.0 equivalents or more with respect to the compound (5)) is used instead of ethylene glycol monoallyl ether, it is represented by the formula (7-2). Compounds can be synthesized.

Figure 2005343892

実施例23
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例4で得られた化合物(7−1)の代わりに、実施例22で得られた化合物(7−2)を用いる以外は、実施例5と同様の操作を行うことにより、式(1−1−4)で示されるケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
Example 23
<Synthesis of silicon compound having 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyl group>
By performing the same operation as in Example 5, except that the compound (7-1) obtained in Example 22 was used instead of the compound (7-1) obtained in Example 4, the formula (1) was obtained. -1-4) can be synthesized.

Figure 2005343892

実施例24
<クロロメチルフェニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
エチレングリコールモノアリルエーテルの代わりに、クロロメチルスチレン(化合物(5)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例4と同様の操作を行うことにより、式(1−3−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
この式におけるCMSは、下記の式のいずれかで示される基である。

Figure 2005343892
Example 24
<Synthesis of silicon compound having chloromethylphenylethyl group>
By performing the same operation as in Example 4 except that chloromethylstyrene (4.0 equivalents or more with respect to the compound (5)) is used instead of ethylene glycol monoallyl ether, the formula (1-3-3) is obtained. ) Can be synthesized.

Figure 2005343892
CMS in this formula is a group represented by any of the following formulas.

Figure 2005343892

実施例25
<ジチオカルバモイル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例24で得られた化合物(1−3−3)を原料として、テトラヒドロフラン中で、N,N−ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム・3水和物(クロロメチルフェニルエチル基に対して1.0当量以上)を反応させることにより、式(1−4−3)で示されるジチオカルバモイル基を有するケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
この式におけるBDCは、下記の式のいずれかで示される基である。

Figure 2005343892
Example 25
<Synthesis of a silicon compound having a dithiocarbamoyl group>
Using the compound (1-3-3) obtained in Example 24 as a raw material, tetrahydrofuran, sodium N, N-diethyldithiocarbamate trihydrate (1.0 equivalent or more with respect to the chloromethylphenylethyl group) ) Can be synthesized to synthesize a silicon compound having a dithiocarbamoyl group represented by formula (1-4-3).

Figure 2005343892
BDC in this formula is a group represented by any of the following formulas.

Figure 2005343892

実施例26
<2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルジメチルクロロシランの合成>
アリルアルコールを原料として、トリエチルアミン(水酸基に対して1.0当量以上)の存在下、メチレンクロライド中で、2−ブロモ−2−メチルプロパノイルブロマイド(水酸基に対して1.0当量以上)を反応させることにより、式(10)で示される化合物を合成する。さらに、化合物(10)とジメチルクロロシラン(アリル基に対して1.0当量以上)とを、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体/キシレン溶液(Si−H基1モルに対して遷移金属触媒原子として1×10−6〜1×10−2モル)を触媒としてヒドロシリル化反応を行うことにより、式(11−1)で示される2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルジメチルクロロシランを合成することができる。

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Example 26
<Synthesis of 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyldimethylchlorosilane>
Using allyl alcohol as a raw material, 2-bromo-2-methylpropanoyl bromide (1.0 equivalents or more with respect to hydroxyl groups) is reacted in methylene chloride in the presence of triethylamine (1.0 equivalents or more with respect to hydroxyl groups). To synthesize a compound represented by the formula (10). Further, the compound (10) and dimethylchlorosilane (1.0 equivalent or more with respect to the allyl group) are used as a transition metal catalyst atom with respect to a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex / xylene solution (one mole of Si-H group). 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol) is used as a catalyst to synthesize 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyldimethylchlorosilane represented by the formula (11-1). Can do.

Figure 2005343892

Figure 2005343892

実施例27
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
ジメチルクロロシランの代わりに、実施例26で得られる2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルジメチルクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例3と同様の操作を行うことにより、式(1−1−4)で示されるケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
Example 27
<Synthesis of silicon compound having 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyl group>
Example, except that 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyldimethylchlorosilane obtained in Example 26 (4.0 equivalents or more relative to compound (3-1-1)) was used instead of dimethylchlorosilane. By performing the same operation as 3, the silicon compound represented by the formula (1-1-4) can be synthesized.

Figure 2005343892

実施例28
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例27と同様の操作を行うことにより、式(1−1−4)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
Example 28
<Synthesis of silicon compound having 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyl group>
A silicon compound represented by the formula (1-1-4) is obtained by performing the same operation as in Example 27 except that the compound (3-2-1) is used instead of the compound (3-1-1). Can be synthesized.

実施例29
<2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピルジメチルクロロシランの合成>
アリルアルコールの代わりにエチレングリコールモノアリルエーテルを用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(11−2)で示される2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピルジメチルクロロシランを合成することができる。

Figure 2005343892
Example 29
<Synthesis of 2-bromo-2-methylpropanoyloxyethoxypropyldimethylchlorosilane>
2-Bromo-2-methylpropanoyloxyethoxypropyldimethylchlorosilane represented by the formula (11-2) is obtained by performing the same operation as in Example 26 except that ethylene glycol monoallyl ether is used instead of allyl alcohol. Can be synthesized.

Figure 2005343892

実施例30
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例26で得られる2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルジメチルクロロシランの代わりに、実施例29で得られる2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピルジメチルクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例27と同様の操作を行うことにより、式(1−1−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
Example 30
<Synthesis of silicon compound having 2-bromo-2-methylpropanoyloxyethoxypropyl group>
Instead of 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyldimethylchlorosilane obtained in Example 26, 2-bromo-2-methylpropanoyloxyethoxypropyldimethylchlorosilane obtained in Example 29 (compound (3-1) A silicon compound represented by the formula (1-1-3) can be synthesized by performing the same operation as in Example 27 except that 4.0 equivalent or more) is used with respect to 1).

Figure 2005343892

実施例31
<2−ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシエトキシプロピル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例30と同様の操作を行うことにより、式(1−1−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
Example 31
<Synthesis of silicon compound having 2-bromo-2-methylpropanoyloxyethoxypropyl group>
A silicon compound represented by the formula (1-1-3) is obtained by performing the same operation as in Example 30, except that the compound (3-2-1) is used instead of the compound (3-1-1). Can be synthesized.

実施例32
<クロロメチルフェニルエチルジメチルクロロシランの合成>
アリルアルコールの代わりにクロロメチルスチレンを用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(11−3)で示されるクロロメチルフェニルエチルジメチルクロロシランを合成することができる。

Figure 2005343892
この式におけるCMSは、下記のいずれかで示される基である。

Figure 2005343892
Example 32
<Synthesis of chloromethylphenylethyldimethylchlorosilane>
A chloromethylphenylethyldimethylchlorosilane represented by the formula (11-3) can be synthesized by performing the same operation as in Example 26 except that chloromethylstyrene is used instead of allyl alcohol.

Figure 2005343892
CMS in this formula is a group represented by any of the following.

Figure 2005343892

実施例33
<クロロメチルフェニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例26で得られる2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルジメチルクロロシランの代わりに、実施例32で得られるクロロメチルフェニルエチルジメチルクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量以上)を用いる以外は、実施例27と同様の操作を行うことにより、式(1−3−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
この式におけるCMSは、式(11−3)におけるCMSと同一である。 Example 33
<Synthesis of silicon compound having chloromethylphenylethyl group>
Instead of 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyldimethylchlorosilane obtained in Example 26, chloromethylphenylethyldimethylchlorosilane obtained in Example 32 (4.0 relative to compound (3-1-1)) was obtained. The silicon compound represented by the formula (1-3-3) can be synthesized by performing the same operation as in Example 27 except that the equivalent or more) is used.

Figure 2005343892
CMS in this formula is the same as CMS in formula (11-3).

実施例34
<クロロメチルフェニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例33と同様の操作を行うことにより、式(1−3−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
Example 34
<Synthesis of silicon compound having chloromethylphenylethyl group>
A silicon compound represented by the formula (1-3-3) is obtained by performing the same operation as in Example 33 except that the compound (3-2-1) is used instead of the compound (3-1-1). Can be synthesized.

実施例35
<クロロスルフォニルエチルジメチルクロロシランの合成>
アリルアルコールの代わりにクロロスルフォニルスチレンを用いる以外は、実施例26と同様の操作を行うことにより、式(11−4)で示されるクロロスルフォニルジメチルクロロシランを合成することができる。

Figure 2005343892
この式におけるTsClは、下記のいずれかで示される基である。

Figure 2005343892
Example 35
<Synthesis of chlorosulfonylethyldimethylchlorosilane>
A chlorosulfonyldimethylchlorosilane represented by the formula (11-4) can be synthesized by performing the same operation as in Example 26 except that chlorosulfonylstyrene is used instead of allyl alcohol.

Figure 2005343892
TsCl in this formula is a group represented by any of the following.

Figure 2005343892

実施例36
<クロロスルフォニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
実施例26で得られる2‐ブロモ−2−メチルプロパノイルオキシプロピルジメチルクロロシランの代わりに、実施例35で得られるクロロスルフォニルエチルジメチルクロロシラン(化合物(3−1−1)に対して4.0当量)を用いる以外は、実施例27と同様の操作を行うことにより、式(1−2−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。

Figure 2005343892
この式におけるTsClは、式(11−4)におけるTsClと同一である。 Example 36
<Synthesis of silicon compound having chlorosulfonylethyl group>
Instead of 2-bromo-2-methylpropanoyloxypropyldimethylchlorosilane obtained in Example 26, 4.0 equivalents of chlorosulfonylethyldimethylchlorosilane obtained in Example 35 (compound (3-1-1)) The silicon compound represented by the formula (1-2-3) can be synthesized by performing the same operation as in Example 27, except that

Figure 2005343892
TsCl in this formula is the same as TsCl in formula (11-4).

実施例37
<クロロスルフォニルエチル基を有するケイ素化合物の合成>
化合物(3−1−1)の代わりに、化合物(3−2−1)を用いる以外は、実施例36と同様の操作を行うことにより、式(1−2−3)で示されるケイ素化合物を合成することができる。
Example 37
<Synthesis of silicon compound having chlorosulfonylethyl group>
A silicon compound represented by the formula (1-2-3) is obtained by conducting the same operation as in Example 36 except that the compound (3-2-1) is used instead of the compound (3-1-1). Can be synthesized.

Claims (54)

式(1)で示されるケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは単量体に対する重合開始能を有する基である。
Silicon compound represented by formula (1):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A is a group capable of initiating polymerization on a monomer. .
それぞれのRが水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが単量体に対するリビングラジカル重合開始能を有する基である、請求項1に記載のケイ素化合物。 Each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1-45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene Or optionally substituted with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be —O -, -CH = CH- or a group independently selected from an arylalkyl composed of an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 represent from 1 to 8 carbon atoms A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having A; and A has the ability to initiate living radical polymerization on monomers The silicon compound according to claim 1, which is a group. それぞれのRが水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aが式(2−1)、式(2−2)、式(2−3)および式(2−4)のいずれかで示される基である、請求項1に記載のケイ素化合物:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;

Figure 2005343892
ここに、RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
Each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1-45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene Or optionally substituted with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be —O -, -CH = CH- or a group independently selected from an arylalkyl composed of an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 represent from 1 to 8 carbon atoms And A is a group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl; and A is a formula (2-1), formula (2-2), formula (2-3) and formula The silicon compound according to claim 1, which is a group represented by any one of (2-4):

Figure 2005343892
Where Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is replaced by —O—. R 4 is hydrogen, alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms, or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; R 5 is 1 Alkyl having -20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; and X 1 is halogen;

Figure 2005343892
Here, Z 3 is an alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is 1 to 3 A is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is relative to the bonding position of Z 3 ; In the ortho-position, meta-position or para-position, and the bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 3 and —SO 2 X 2 ;

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any alkylene —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 is Z 5 and Z Any position except for each of the 7 binding positions;

Figure 2005343892
Where R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms; R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring with N; Z 5 may have 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—. Z 7 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is Alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para with respect to the bonding position of Z 7 , R 7 is bonded to each of Z 5 and Z 7 It is an arbitrary position excluding the coupling position.
それぞれのRが水素および炭素原子の数が1〜30であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキルから独立して選択される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。 Each R 1 has 1-30 hydrogen and carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be replaced by —O— or cycloalkylene The silicon compound according to claim 3, which is a group independently selected from alkyl. それぞれのRが炭素原子の数が2〜20であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルケニルおよび炭素原子の数が1〜20であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして少なくとも1つの−CH−がシクロアルケニレンで置き換えられるアルキルから独立して選択される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。 Each R 1 has from 2 to 20 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be replaced by —O— or cycloalkylene and from 1 to 20 the number of carbon atoms, arbitrary hydrogen may be replaced by fluorine, and at least one -CH 2 - is a group which is independently selected from alkyl is replaced by cycloalkenylene, wherein Item 4. The silicon compound according to Item 3. それぞれのRが任意の水素がハロゲンまたは1〜10個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニルおよび非置換のナフチルから独立して選択される基であり;フェニルの置換基であるアルキルにおいて、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはフェニレンで置き換えられてもよく;そして、フェニルが複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。 Each R 1 is a group independently selected from phenyl and unsubstituted naphthyl, optionally substituted with any hydrogen or alkyl having 1 to 10 carbon atoms; In alkyl, any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or phenylene; The silicon compound according to claim 3, wherein the substituent may be the same group or different groups. それぞれのRが任意の水素がハロゲンまたは1〜12個の炭素原子を有するアルキルで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜12であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから独立して選択される基であり;フェニル基の置換基であるアルキルにおいて、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはフェニレンで置き換えられてもよく;そして、フェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。 Each R 1 is optionally substituted with any hydrogen or halogen or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms and a phenyl group and the number of carbon atoms is 1 to 12, and any hydrogen is replaced with fluorine And any —CH 2 — is a group independently selected from phenylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted with cycloalkylene; In the alkyl as a substituent of the group, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or phenylene. And when the phenyl group has a plurality of substituents, the substituents may be the same group or different groups. Of the silicon compound. それぞれのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから独立して選択される基であり;そして、フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。 Each R 1 has from 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with hydrogen, halogen or methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl and optionally hydrogen with fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl Or a phenyl group which may be replaced by methoxy and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene A group independently selected from phenylalkyl composed of: and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl is a plurality of substituted When having, those substituents may be different groups may be the same group, a silicon compound according to claim 3. すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;そして、フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよい、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with hydrogen, halogen or methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl and optionally hydrogen with fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl Or a phenyl group which may be replaced by methoxy and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from phenylalkyl, and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents. When, those substituents may be different groups may be the same group, a silicon compound according to claim 3. すべてのRがフェニルである、請求項3に記載のケイ素化合物。 4. The silicon compound according to claim 3, wherein all R < 1 > is phenyl. すべてのRがフェニルであり、そしてRおよびRがメチルである、請求項3に記載のケイ素化合物。 4. The silicon compound of claim 3, wherein all R < 1 > is phenyl and R < 2 > and R < 3 > are methyl. すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−1)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである。
All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with hydrogen, halogen or methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl and optionally hydrogen with fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl Or a phenyl group which may be replaced by methoxy and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl having a plurality of substituents Is to those substituents may be the same group may be different groups; and, a group A is represented by the formula (2-1), the silicon compound according to claim 3.

Figure 2005343892
Where Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is replaced by —O—. R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; R 5 is 1 Alkyl having -20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; and X 1 is halogen.
すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−1)で示される基であり;そして、式(2−1)におけるZが炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 are phenyl; A is a group represented by the formula (2-1); and Z 1 in the formula (2-1) has 2 to 10 carbon atoms, The silicon compound according to claim 3, wherein CH 2 — is alkylene which may be replaced by —O—. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−1)で示される基であり;そして、式(2−1)において、Zが−C−、−C−または−C−O−C−であり、RおよびRがメチルであり、そしてXが臭素である、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by formula (2-1); and in formula (2-1), Z 1 is —C 2 H 4 -, - C 3 H 6 - or -C 2 H 4 -O-C 3 H 6 - and is a R 4 and R 5 are methyl, and X 1 is bromine, according to claim 3 The silicon compound. すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−2)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with hydrogen, halogen or methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl and optionally hydrogen with fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl Or a phenyl group which may be replaced by methoxy and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl having a plurality of substituents Is to those substituents may be the same group may be different groups; and, a group A is represented by the formula (2-2), the silicon compound according to claim 3.

Figure 2005343892
Here, Z 3 is an alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is 1 to 3 A is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is relative to the bonding position of Z 3 ; In the ortho-position, meta-position or para-position, the bond position of R 6 is an arbitrary position excluding the bond positions of Z 3 and —SO 2 X 2 .
すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−2)で示される基であり;式(2−2)におけるZが−C−Zであり;そして、Zが単結合、または炭素原子の数が1〜8であって、任意の−CH−が−O−または−COO−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 are phenyl; A is a group represented by formula (2-2); Z 3 in formula (2-2) is —C 2 H 4 —Z 9 ; and Z 9 is The silicon compound according to claim 3, wherein the silicon compound has a single bond or an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — may be replaced by —O— or —COO—. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−2)で示される基であり;そして、式(2−2)において、Zが−C−であり、Xが塩素または臭素であり、そしてaが0である、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by formula (2-2); and in formula (2-2), Z 3 is —C 2 The silicon compound according to claim 3, which is H 4 —, X 2 is chlorine or bromine, and a is 0. すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−3)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with hydrogen, halogen or methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl and optionally hydrogen with fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl Or a phenyl group which may be replaced by methoxy and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl having a plurality of substituents Is to those substituents may be the same group may be different groups; and, a group A is represented by the formula (2-3), the silicon compound according to claim 3.

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any alkylene —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is an alkyl having 1 to 3 carbon atoms; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 is Z 5 and Z 7 is an arbitrary position excluding each coupling position.
すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−3)で示される基であり;式(2−3)におけるZが−C−Z10であり;そして、Z10が単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 are phenyl; A is a group represented by formula (2-3); Z 7 in formula (2-3) is —C 2 H 4 —Z 10 ; and Z 10 is The silicon according to claim 3, wherein the silicon is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—. Compound. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−3)で示される基であり;そして、式(2−3)において、Zが−CH−であり、Zが−C−であり、Xが塩素または臭素であり、そしてaが0である、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group represented by formula (2-3); and in formula (2-3), Z 5 is —CH 2 - a, Z 7 is -C 2 H 4 - a and, X 3 is chlorine or bromine, and a is 0, the silicon compound according to claim 3. すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチルおよび任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;そして、Aが式(2−4)で示される基である、請求項3に記載のケイ素化合物。

Figure 2005343892
ここに、RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である。
All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl optionally substituted with hydrogen, halogen or methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl and optionally hydrogen with fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, vinyl Or a phenyl group which may be replaced by methoxy and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl having a plurality of substituents Is to those substituents may be the same group may be different groups; and, a group A is represented by the formula (2-4), the silicon compound according to claim 3.

Figure 2005343892
Where R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms; R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring with N; Z 5 may have 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—. Z 7 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is Alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para with respect to the bonding position of Z 7 ; R 7 is bonded to each of Z 5 and Z 7 . It is an arbitrary position excluding the coupling position.
すべてのRがフェニルであり;Aが式(2−4)で示される基であり;そして、式(2−4)において、Zが−C−Z10であり、Z10が単結合または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンである、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 is phenyl; A is a group represented by formula (2-4); and in formula (2-4), Z 7 is —C 2 H 4 —Z 10 , and Z 10 4. The silicon according to claim 3, wherein is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—. Compound. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルであり;Aが式(2−4)で示される基であり;そして、式(2−4)において、RおよびRがエチルであり、Zが−CH−であり、Zが−C−であり、そしてaが0である、請求項3に記載のケイ素化合物。 All R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl; A is a group of formula (2-4); and in formula (2-4), R 8 and R 9 are ethyl, Z 5 is -CH 2 - a, Z 7 is -C 2 H 4 - a and, and a is 0, the silicon compound according to claim 3. 工程(a)によって式(5)で示される化合物を得、さらに工程(b)についで工程(c)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−1−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;
<工程(a)>
式(3−1)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式にいて、R、RおよびRは式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させ、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるZは式(2−1−1)におけるZと同一の意味を有し、式(7)におけるR、RおよびRは式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(c)>
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させ、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892
ここに、R、RおよびXは式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。
A method for producing a silicon compound represented by the formula (1-1), wherein the compound represented by the formula (5) is obtained by the step (a), and further the step (c) is carried out after the step (b). :

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 1 is a group of formula (2-1-1):

Figure 2005343892
Here, Z 2 is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen;
<Process (a)>
A step of obtaining a compound represented by the formula (5) by reacting the compound represented by the formula (3-1) with the compound represented by the formula (4):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, in these formulas, R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as these symbols in formula (1-1); M is a monovalent alkali metal atom;
<Step (b)>
A step of reacting a compound represented by the formula (5) with a compound represented by the formula (6) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a silicon compound represented by the formula (7):

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, Z 2 in these formulas have the same meanings as Z 2 in Formula (2-1-1), R 1, R 2 and R 3 in the formula (7) in Formula (1-1) Has the same meaning as these symbols;
<Step (c)>
A step of reacting a compound represented by the formula (7) with a compound represented by the formula (8) to obtain a silicon compound represented by the formula (1-1):

Figure 2005343892
Here, R 4 , R 5 and X 1 have the same meaning as these symbols in formula (2-1-1); X is halogen.
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項24に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms The production method according to claim 24, which is a group selected in the above. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項24に記載の製造方法。 The process according to claim 24, wherein all R 1 are phenyl; R 2 and R 3 are methyl. 工程(d)によって式(5)で示される化合物を得、さらに工程(b)についで工程(c)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−1−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;
<工程(d)>
式(3−2)で示される化合物に式(4)で示される化合物を反応させることにより、式(5)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるR、RおよびRは、式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する。
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(5)で示される化合物に式(6)で示される化合物を反応させ、式(7)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるZは式(2−1−1)におけるZと同一の意味を有し、式(7)におけるR、RおよびRは式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(c)>
式(7)で示される化合物に、式(8)で示される化合物を反応させ、式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892
ここに、R、RおよびXは、式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンである。
A method for producing a silicon compound represented by the formula (1-1), wherein the compound represented by the formula (5) is obtained by the step (d), and further the step (c) is carried out after the step (b). :

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 1 is a group of formula (2-1-1):

Figure 2005343892
Here, Z 2 is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen;
<Step (d)>
A step of obtaining a compound represented by the formula (5) by reacting a compound represented by the formula (3-2) with a compound represented by the formula (4):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 , R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1-1).
<Step (b)>
A step of reacting a compound represented by the formula (5) with a compound represented by the formula (6) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a silicon compound represented by the formula (7):

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, Z 2 in these formulas have the same meanings as Z 2 in Formula (2-1-1), R 1, R 2 and R 3 in the formula (7) in Formula (1-1) Has the same meaning as these symbols;
<Step (c)>
A step of reacting a compound represented by the formula (7) with a compound represented by the formula (8) to obtain a silicon compound represented by the formula (1-1):

Figure 2005343892
Here, R 4 , R 5 and X 1 have the same meaning as these symbols in formula (2-1-1); X is a halogen.
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項27に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms The production method according to claim 27, which is a group selected in the above. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項27に記載の製造方法。 28. The method of claim 27, wherein all R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl. 工程(e)についで工程(f)を実施することを特徴とする、式(1−3)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−3−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(e)>
式(4)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物、または式(3−2)で示される化合物を反応させて、式(5)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるR、RおよびRは式(1−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である;
<工程(f)>
式(5)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物を反応させ、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892
ここに、Z、Z、R、aおよびXは式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である。
The method for producing a silicon compound represented by the formula (1-3), wherein the step (f) is performed after the step (e):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 3 is a group of formula (2-3-1):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 6 is a single bond or 1 carbon atom. a 8 arbitrary -CH 2 - -O -, - COO- or -OCO- in be replaced may be alkylene; R 7 is alkyl having 1-3 carbon atoms; a Is an integer from 0 to 2; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 6 , and the bonding position of R 7 is Any position except for the respective bonding positions of Z 5 and Z 6 ;
<Process (e)>
A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (3-1) or a compound represented by the formula (3-2) to obtain a silicon compound represented by the formula (5):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Wherein R 1 , R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as these symbols in formula (1-3); M is a monovalent alkali metal atom;
<Step (f)>
A step of reacting a compound represented by the formula (5) with a compound represented by the formula (2-3-2) to obtain a silicon compound represented by the formula (1-3):

Figure 2005343892
Here, Z 5 , Z 6 , R 7 , a and X 3 have the same meaning as these symbols in formula (2-3-1); the bonding position of Z 5 and R 7 to the benzene ring is These bond positions are the same as those in formula (2-3-1).
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項30に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms The production method according to claim 30, which is a group selected by すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項30に記載の製造方法。 The process according to claim 30, wherein all R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl. 式(1−3)で示されるケイ素化合物と式(9)で示される化合物とを反応させることを特徴とする式(1−4)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;Aは式(2−4−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;

Figure 2005343892
ここに、R、RおよびRは式(1−4)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Aは式(2−3−1)で示される基である;

Figure 2005343892
ここに、Z、Z、Rおよびaは式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Xはハロゲンであり;ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−4−1)におけるこれらの結合位置と同一である;

Figure 2005343892
ここに、RおよびRは式(2−4−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Mは周期律表第1族または第2族の金属元素であり;そして、pはMの原子価と同じ値である。
A method for producing a silicon compound represented by formula (1-4), comprising reacting a silicon compound represented by formula (1-3) with a compound represented by formula (9):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having carbon atoms; A 4 is a group of formula (2-4-1):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms and any —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 6 is a single bond or 1 carbon atom. a 8 arbitrary -CH 2 - -O -, - COO-, or replaced by -OCO- be alkylene be; R 8 and R 9 are independently hydrogen, 1 to 12 carbons Alkyl having atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, or aryl having 6 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 may be bonded together to form a ring with N R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; and the bond position of Z 5 to the benzene ring is meta-position to the bond position of Z 6 or In the para position, the bonding position of R 7 is Z 5 and Z Any position except for each of the 6 binding positions;

Figure 2005343892
Here, R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as these symbols in formula (1-4); A 3 is a group represented by formula (2-3-1);

Figure 2005343892
Where Z 5 , Z 6 , R 7 and a have the same meaning as these symbols in formula (2-4-1); X 3 is halogen; Z 5 and R 7 to the benzene ring Are the same as those in formula (2-4-1);

Figure 2005343892
Where R 8 and R 9 have the same meaning as these symbols in formula (2-4-1); M 1 is a metal element of Group 1 or Group 2 of the Periodic Table; p is the same value as the valence of M 1 .
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項33に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms The production method according to claim 33, which is a group selected in the above. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項33に記載の製造方法。 All of R 1 are phenyl; R 2 and R 3 are methyl, A process according to claim 33. 工程(g)についで工程(h)を実施することを特徴とする、式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;Aは式(2−1−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合、または1〜18個の炭素原子を有するアルキレン、または2〜6個の炭素原子を有するアルケニレンであり、そしてこれらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリール、または7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;そして、Xはハロゲンである;
<工程(g)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−1−2)で示される化合物とを反応させて、式(2−1−3)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRおよびRは、式(1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Z、R、RおよびXは式(2−1−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有する;
<工程(h)>
式(2−1−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることにより式(1−1)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRは、式(1−1)におけるRと同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。
The method for producing a silicon compound represented by the formula (1-1), wherein the step (h) is performed after the step (g):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; A 1 is a group of formula (2-1-1):

Figure 2005343892
Here, Z 2 is a single bond, or alkylene having 1 to 18 carbon atoms, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is — May be replaced by O-; R 4 is hydrogen, alkyl having 1-20 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms, or arylalkyl having 7-20 carbon atoms R 5 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; and X 1 is halogen;
<Process (g)>
A step of obtaining a compound represented by the formula (2-1-3) by reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (2-1-2) in the presence of a transition metal catalyst. :

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1-1); Z 2 , R 4 , R 5 and X 1 are the formulas (2-1-1- Have the same meaning as these symbols in 1);
<Step (h)>
By reacting the compound represented by the formula (2-1-3) with the compound represented by the formula (3-1) or the compound represented by the formula (3-2), it is represented by the formula (1-1). Obtaining a silicon compound:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 in these formulas has the same meaning as R 1 in formula (1-1); M is a monovalent alkali metal atom.
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項36に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms The production method according to claim 36, which is a group selected in the above. すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項36に記載の製造方法。 The process according to claim 36, wherein all R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl. 工程(i)についで工程(j)を実施することを特徴とする、式(1−2)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−2−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは単結合または1〜8個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−、または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SOの結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SOのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(i)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−2−2)で示される化合物とを反応させ、式(2−2−3)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRおよびRは、式(1−2)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Z、R、aおよびXは、式(2−2−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環への−SOおよびRの結合位置は式(2−2−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
<工程(j)>
式(2−2−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させて、式(1−2)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRは、式(1−1)におけるRと同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。
The method for producing a silicon compound represented by formula (1-2), wherein step (j) is performed after step (i):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having carbon atoms; and A 2 is a group of formula (2-2-1):

Figure 2005343892
Here, Z 4 is a single bond or alkylene having 1 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is An alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; and the bonding position of —SO 2 X 2 to the benzene ring is the bonding position of Z 4. On the other hand, in the ortho-position, meta-position or para-position, the bonding position of R 6 is an arbitrary position excluding the bonding positions of Z 4 and —SO 2 X 2 ;
<Process (i)>
A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (2-2-2) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a compound represented by the formula (2-2-3):

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as those symbols in formula (1-2); Z 4 , R 6 , a and X 2 are the formulas (2-2-2- Have the same meaning as these symbols in 1); the bonding positions of —SO 2 X 2 and R 6 to the benzene ring are the same as these bonding positions in formula (2-2-1);
<Process (j)>
A compound represented by the formula (2-2-3) is reacted with a compound represented by the formula (3-1) or a compound represented by the formula (3-2), thereby being represented by the formula (1-2). Obtaining a silicon compound:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 in these formulas has the same meaning as R 1 in formula (1-1); M is a monovalent alkali metal atom.
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項39に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms 40. The production method according to claim 39, which is a group selected by すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項39に記載の製造方法。 40. The method of claim 39, wherein all R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl. 工程(k)についで工程(l)を実施することを特徴とする、式(1−3)で示されるケイ素化合物の製造方法:

Figure 2005343892
ここに、それぞれのRは水素、炭素原子の数が1〜45であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、置換もしくは非置換のアリール、および置換もしくは非置換のアリール基と任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるアリールアルキルから独立して選択される基であり;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Aは式(2−3−1)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは単結合、または炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;そして、ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置である;
<工程(k)>
遷移金属触媒の存在下で、式(4)で示される化合物と式(2−3−2)で示される化合物とを反応させて、式(2−3−3)で示される化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRおよびRは、式(1−3)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;Z、Z、R、a、およびXは、式(2−3−1)におけるこれらの記号と同一の意味を有し;ベンゼン環へのZおよびRの結合位置は式(2−3−1)におけるこれらの結合位置と同一である;
<工程(l)>
式(2−3−3)で示される化合物と、式(3−1)で示される化合物または式(3−2)で示される化合物とを反応させることで、式(1−3)で示されるケイ素化合物を得る工程:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
ここに、これらの式におけるRは、式(1−3)におけるRと同一の意味を有し;Mは1価のアルカリ金属原子である。
The method for producing a silicon compound represented by the formula (1-3), wherein the step (l) is carried out after the step (k):

Figure 2005343892
Here, each R 1 is hydrogen, the number of carbon atoms is 1 to 45, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH— , Cycloalkylene, or alkyl which may be replaced with cycloalkenylene, substituted or unsubstituted aryl, and substituted or unsubstituted aryl groups and any hydrogen may be replaced with fluorine, and any —CH 2 — Are independently selected from arylalkyl composed of —O—, —CH═CH— or an alkylene group optionally substituted by cycloalkylene; R 2 and R 3 are 1-8 A group independently selected from alkyl, phenyl and cyclohexyl having a carbon atom; and A 3 is a group of formula (2-3-1):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 6 is a single bond or 1 carbon atom. a 8 arbitrary -CH 2 - -O -, - COO- or -OCO- in be replaced may be alkylene; R 7 is alkyl having 1-3 carbon atoms; a Is an integer from 0 to 2; X 3 is a halogen; and the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 6 , and the bonding position of R 7 is Any position except for the respective bonding positions of Z 5 and Z 6 ;
<Process (k)>
A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a compound represented by the formula (2-3-2) in the presence of a transition metal catalyst to obtain a compound represented by the formula (2-3-3). :

Figure 2005343892

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 2 and R 3 in these formulas have the same meaning as these symbols in formula (1-3); Z 5 , Z 6 , R 7 , a, and X 3 are represented by the formula ( Have the same meaning as these symbols in 2-3-1); the bonding positions of Z 5 and R 7 to the benzene ring are the same as these bonding positions in formula (2-3-1);
<Step (l)>
By reacting the compound represented by the formula (2-3-3) with the compound represented by the formula (3-1) or the compound represented by the formula (3-2), it is represented by the formula (1-3). Obtaining a silicon compound:

Figure 2005343892

Figure 2005343892
Here, R 1 in these formulas has the same meaning as R 1 in formula (1-3); M is a monovalent alkali metal atom.
すべてのRが炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRが1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基である、請求項42に記載の製造方法。 All R 1 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — is —O—, —CH═CH—, cycloalkylene, or Alkyl, optionally substituted with cycloalkenylene, phenyl, optionally substituted with halogen, methyl or methoxy, unsubstituted naphthyl, and optionally hydrogen, fluorine, alkyl having 1 to 4 carbon atoms, An alkylene group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group which may be replaced by vinyl or methoxy, and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene And the same group selected from the group consisting of phenylalkyl; and the phenyl group of phenyl or phenylalkyl has a plurality of substituents Come, those substituents same may be a group to be a different group; R 2 and R 3 are alkyl, independently from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl having 1-8 carbon atoms 43. The production method according to claim 42, which is a group selected by すべてのRがフェニルであり;RおよびRがメチルである、請求項42に記載の製造方法。 43. The method of claim 42, wherein all R 1 is phenyl; R 2 and R 3 are methyl. 請求項1に記載のケイ素化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として付加重合性単量体を重合することによって得られる重合体。 A polymer obtained by polymerizing an addition polymerizable monomer using the silicon compound according to claim 1 as an initiator and a transition metal complex as a catalyst. 請求項3に記載のケイ素化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒として付加重合性単量体を重合することによって得られる重合体。 A polymer obtained by polymerizing an addition polymerizable monomer using the silicon compound according to claim 3 as an initiator and a transition metal complex as a catalyst. 式(P−1)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−1−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜20個の炭素原子を有するアルキレンまたは3〜8個の炭素原子を有するアルケニレンであり、これらのアルキレンおよびアルケニレンにおける任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;Rは水素、1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Rは1〜20個の炭素原子を有するアルキル、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたは7〜20個の炭素原子を有するアリールアルキルであり;Xはハロゲンであり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
Polymer represented by formula (P-1):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl An independently selected group; and B 1 is a group of formula (2-1-P):

Figure 2005343892
Here, Z 1 is alkylene having 2 to 20 carbon atoms or alkenylene having 3 to 8 carbon atoms, and any —CH 2 — in these alkylene and alkenylene is replaced by —O—. R 4 is hydrogen, alkyl having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms, or arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms; R 5 is 1 to 20 Alkyl having 6 carbon atoms, aryl having 6-20 carbon atoms or arylalkyl having 7-20 carbon atoms; X 1 is halogen; and P 1 is an addition polymerizable monomer It is a chain of structural units obtained by polymerization of the body.
式(P−2)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−2−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは2〜10個の炭素原子を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−CH−は−O−または−COO−で置き換えられてもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環への−SO−の結合位置は、Zの結合位置に対して、オルト位、メタ位またはパラ位であり、Rの結合位置は、Zおよび−SO−のそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
Polymer represented by formula (P-2):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl An independently selected group; and B 2 is a group of formula (2-2P):

Figure 2005343892
Here, Z 3 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — in the alkylene may be replaced by —O— or —COO—; R 6 is 1 to 3 A is an integer of 0 to 2; X 2 is a halogen; the bonding position of —SO 2 — to the benzene ring is ortho to the bonding position of Z 3. , Meta position or para position, and the bond position of R 6 is any position except the bond positions of Z 3 and —SO 2 —; and P 2 is obtained by polymerization of an addition polymerizable monomer. It is a chain of structural units obtained.
式(P−3)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−3−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;Xはハロゲンであり;ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
Polymer represented by formula (P-3):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl An independently selected group; and B 3 is a group of formula (2-3-P):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any alkylene —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 7 is alkyl having 1 to 3 carbon atoms; X 3 is a halogen; the bonding position of Z 5 to the benzene ring is the meta position or the para position with respect to the bonding position of Z 7 , and the bonding position of R 7 is the position of Z 5 and Z 7 P 3 is a chain of structural units obtained by polymerization of addition polymerizable monomers.
式(P−4)で示される重合体:

Figure 2005343892
ここに、すべてのR11は炭素原子の数が1〜8であり、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の−CH−が−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよいアルキル、任意の水素がハロゲン、メチルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル、非置換のナフチル、および任意の水素がフッ素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、ビニルまたはメトキシで置き換えられてもよいフェニル基と炭素原子の数が1〜8であって任意の−CH−が−O−、−CH=CH−またはシクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレン基とで構成されるフェニルアルキルから選択される同一の基であり;フェニルまたはフェニルアルキルのフェニル基が複数の置換基を有するときは、それらの置換基は同一の基であってもよいし異なる基であってもよく;RおよびRは1〜8個の炭素原子を有するアルキル、フェニルおよびシクロへキシルから独立して選択される基であり;そして、Bは式(2−4−P)で示される基である:

Figure 2005343892
ここに、Zは炭素原子の数が1〜3であって任意の−CH−が−O−で置き換えられてもよいアルキレンであり;Zは炭素原子の数が2〜10であって任意の−CH−が−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよいアルキレンであり;RおよびRは独立して水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル、5〜10個の炭素原子を有するシクロアルキルまたは6〜10個の炭素原子を有するアリールであり、そしてRおよびRは互いに結合してNと共に環を形成してもよく;Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキルであり;aは0〜2の整数であり;ベンゼン環へのZの結合位置はZの結合位置に対してメタ位またはパラ位であり、Rの結合位置はZおよびZのそれぞれの結合位置を除く任意の位置であり;そして、Pは付加重合性単量体の重合によって得られる構成単位の連鎖である。
Polymer represented by formula (P-4):

Figure 2005343892
Here, all R 11 have 1 to 8 carbon atoms, any hydrogen may be replaced by fluorine, and any —CH 2 — may be —O—, —CH═CH—, cyclo Alkylene, or alkyl optionally substituted with cycloalkenylene, any hydrogen substituted with halogen, methyl or methoxy phenyl, unsubstituted naphthyl, and any hydrogen substituted with fluorine, 1-4 carbon atoms The number of carbon atoms is 1 to 8 and any —CH 2 — may be replaced by —O—, —CH═CH— or cycloalkylene The same group selected from phenylalkyls composed of a good alkylene group; the phenyl or phenylalkyl phenyl group is substituted more than once When having, those substituents may be the same group in a may be different groups; R 2 and R 3 are alkyl having 1 to 8 carbon atoms, from cyclohexyl phenyl and cycloalkyl Independently selected groups; and B 4 is a group of formula (2-4-P):

Figure 2005343892
Here, Z 5 is alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and arbitrary —CH 2 — may be replaced by —O—; Z 7 is 2 to 10 carbon atoms. Any —CH 2 — may be replaced by —O—, —COO— or —OCO—; R 8 and R 9 are independently hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbon atoms , aryl having a cycloalkyl or 6-10 carbon atoms having 5 to 10 carbon atoms, and R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring with N; R 7 is An alkyl having 1 to 3 carbon atoms; a is an integer of 0 to 2; the bonding position of Z 5 to the benzene ring is meta or para to the bonding position of Z 7 , R 7 bond positions are Z 5 and Z 7 bond positions. And P 4 is a chain of structural units obtained by polymerization of an addition polymerizable monomer.
付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項47に記載の重合体。 48. The polymer according to claim 47, wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives. 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項48に記載の重合体。 The polymer according to claim 48, wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives. 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項49に記載の重合体。 The polymer according to claim 49, wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives. 付加重合性単量体が(メタ)アクリル酸誘導体の群およびスチレン誘導体の群から選択される少なくとも1つである、請求項50に記載の重合体。 51. The polymer according to claim 50, wherein the addition polymerizable monomer is at least one selected from the group of (meth) acrylic acid derivatives and the group of styrene derivatives.
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