JP2005342076A

JP2005342076A - 低周波治療器

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Publication number: JP2005342076A
Application number: JP2004162896A
Authority: JP
Inventors: Takamura Miyake; 篁三宅; Osamu Miyake; 治三宅
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2004-06-01
Filing date: 2004-06-01
Publication date: 2005-12-15
Anticipated expiration: 2024-06-01
Also published as: JP3940138B2

Abstract

【課題】低周波治療器の動作中においても、操作者が自由に移動することができ、手軽に低周波治療を受けることができるようにする。
【解決手段】履物における複数の箇所に配設された電極３２と、低周波パルスを発生させて前記各電極３２に供給する低周波パルス電圧発生処理手段と、前記履物に配設された検出部のセンサ出力に基づいて、操作者の状態を判定する状態判定処理手段とを有する。低周波パルスが、所定の電極３２に供給され、所定の足つぼを刺激するので、足の血行を良くして、疲れ等を取ることができる。そして、低周波治療器の動作中においても、操作者は低周波治療器を装着したまま、自由に移動することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、低周波治療器に関するものである。

従来、足先の痛み、疲れ等を採るために、足裏に低周波電流を流すようにした低周波治療器が提供されている。

この場合、少なくとも足裏の土踏まずを含む前半部分に基体を装着可能にし、該基体の、足指の付け根の近傍及び土踏まずに対応する位置にそれぞれ電極を配設し、各電極を介して足つぼに低周波電流を流すようにしている（例えば、特許文献１参照。）。
特開２０００−３５０７８９号公報

しかしながら、前記従来の低周波治療器においては、前記基体をスリッパの形状に形成して、足に装着することができるが、低周波治療器の動作中、操作者は足に低周波治療器を装着した状態で、例えば、椅（い）子等に座っていなければならず、その間、移動することができない。

本発明は、前記従来の低周波治療器の問題点を解決して、動作中においても、操作者が自由に移動することができ、手軽に低周波治療を受けることができる低周波治療器を提供することを目的とする。

そのために、本発明の低周波治療器においては、履物における複数の箇所に配設された電極と、低周波パルスを発生させて前記各電極に供給する低周波パルス電圧発生処理手段と、前記履物に配設された検出部のセンサ出力に基づいて、操作者の状態を判定する状態判定処理手段とを有する。

本発明によれば、低周波治療器においては、履物における複数の箇所に配設された電極と、低周波パルスを発生させて前記各電極に供給する低周波パルス電圧発生処理手段と、前記履物に配設された検出部のセンサ出力に基づいて、操作者の状態を判定する状態判定処理手段とを有する。

この場合、低周波パルスが、所定の電極に供給され、所定の足つぼを刺激するので、足の血行を良くして、疲れ等を取ることができる。

そして、低周波治療器の動作中においても、操作者は低周波治療器を装着したまま、自由に移動することができ、手軽に低周波治療を受けることができる。

また、操作者の状態に対応させて低周波パルスの電圧の値を変更することができるので、最適な低周波パルスで低周波治療を受けることができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。

図１は本発明の第１の実施の形態における靴の断面図、図２は本発明の第１の実施の形態における治療器本体部を示す平面図、図３は本発明の第１の実施の形態における治療器制御装置を示すブロック図である。

図において、１１は低周波治療器としての、かつ、履物としての靴であり、該靴１１は、底部１２、前半部（図１において左半部）において足の上面を覆う甲皮部１３、前端（図１において左端）から後端（図１において右端）まで延在させて配設され、足の側面を覆う側部１４、及び足の後面を覆う後部１５を備える。前記底部１２には、靴１１内において足裏と対向するように、底部１２の全体にわたり、一体にプレート状の治療器本体部１８が配設される。また、前記底部１２のうちの踵（かかと）部２１には、制御部としての制御回路・電源ユニット部２２及び第１の検出部としての踵センサ２３が、底部１２のつま先部２５には第２の検出部としてのつま先センサ２６が配設される。そして、前記後部１５にスイッチ２８が配設される。なお、本実施の形態において、前記治療器本体部１８は、底部１２と一体に形成されるが、底部１２と別体に形成することができる。その場合、治療器本体部１８によって中敷が構成される。

前記制御回路・電源ユニット部２２は、操作者の歩行に支障がないように、踵部２１に配設されるようになっているが、踵部２１に代えて甲皮部１３に配設したり、靴１１と別体に配設したりすることができる。

前記治療器本体部１８は、底部１２の全体にわたって延びる絶縁性の樹脂板から成るプレート部３１、該プレート部３１の各所、すなわち、各足つぼに対応させて設定された位置に配設され、上方に向けて突出させて形成された電極３２、及び該各電極３２と制御回路・電源ユニット部２２とを接続するリード部ｗｒを備える。前記各電極３２は導電性及び伸縮性の高い材料、例えば、導電性ゴムによって形成され、各リード部ｗｒには、薄板状の導電性の高い材料が使用される。したがって、操作者が歩行する際に、プレート部３１、電極３２及びリード部ｗｒは屈曲させられる。また、治療器本体部１８によって中敷きが形成される場合、エラストマー等の基台に前記電極３２が埋め込まれる。なお、各電極３２として、導電性ゴムのほかに、導電性スポンジ、金属薄板、金属箔（はく）、導電性繊維、導電性樹脂、導電性インク、導電性塗料、エッチングパターン等を使用することができる。また、本実施の形態においては、前記制御回路・電源ユニット部２２と各電極３２とをリード部ｗｒによって接続するようになっているが、前記制御回路・電源ユニット部２２と各電極３２とを無線によって接続することができる。

また、前記制御回路・電源ユニット部２２は、ＡＣアダプタ４１を介して、及び直接に、靴１１とは別に配設された第１の電源としての商用電源（ＡＣ１００〔Ｖ〕）３５と接続されるか、又は靴１１とは別に配設された第２の電源としてのバッテリ４２を介して直接に接続されるとともに、操作部３６、表示部３７、通知部としてのブザー３８、温度検出部としての温度センサ４０、足底ヒータ５３等と接続される。なお、制御回路・電源ユニット部２２を前記ＡＣアダプタ４１又はバッテリ４２と接続するために操作部としてのスイッチＳＷが配設される。

前記ＡＣアダプタ４１は、商用電源３５の１００〔Ｖ〕の電圧を９〔Ｖ〕の電圧に変換し、１００〔ｍＡ〕の電流を制御回路・電源ユニット部２２に供給する。また、前記バッテリ４２は、直接９〔Ｖ〕の電圧で１００〔ｍＡ〕の電流を制御回路・電源ユニット部２２に供給する。

そして、前記操作部３６は、図示されないスイッチ、キー等を備えたパネル、リモコン等から成り、靴１１の動作、設定値等を設定する際に操作される。また、前記表示部３７は、ＬＥＤ、ランプ、液晶パネル等から成り、操作部３６を操作することによって設定された動作、設定値等が表示される。

なお、本実施の形態においては、操作部３６と表示部３７とは別体で形成されるようになっているが、一体に形成することができる。その場合、タッチパネル等によって構成することができる。また、ブザー３８は、あらかじめ設定された時間だけ作動させられた靴１１の動作が終了したこと、異常が発生したこと等を操作者に通知するためのものである。

前記制御回路・電源ユニット部２２は、前記ＡＣアダプタ４１又はバッテリ４２と接続され、９〔Ｖ〕の電圧で１００〔ｍＡ〕の電流を受ける電源回路４３、該電源回路４３に接続された補助回路４４、前記電源回路４３の９〔Ｖ〕の電圧をマイコン制御部４５に選択的に印加する通電リレー４７、前記商用電源３５の１００〔Ｖ〕の電圧を受け、０〜１００〔Ｖ〕の電圧を温度制御部５１及び加熱保護部５２を介して加熱部としての足底ヒータ５３に選択的に印加する通電リレー５５、所定の周波数のパルスを発生させるパルス発生回路５７、及び各電極３２に選択的に低周波パルスを供給するための位置切換装置としてのポイント切換回路５８を備える。なお、前記マイコン制御部４５は図示されないレギュレータ、ＣＰＵ等を備え、前記レギュレータは９〔Ｖ〕の電圧を制御用の５〔Ｖ〕の電圧に変換し、ＣＰＵに印加する。

前記足底ヒータ５３は、プレート部３１における所定の箇所、特に、各電極３２の近傍に埋設され、操作者が操作部３６の図示されないヒータスイッチをオンにすると、温度制御部５１の図示されない温度制御処理手段は、温度制御処理を行い、温度センサ４０によって検出された温度をセンサ出力として読み込み、プレート部３１及び各電極３２の温度があらかじめ設定された温度になるように、足底ヒータ５３に０〜１００〔Ｖ〕の間の所定の電圧を印加する。したがって、足裏を前記温度に保持することができるだけでなく、足つぼを前記温度に保持することができる。

また、前記マイコン制御部４５の図示されない低周波パルス電圧発生処理手段は、低周波パルス電圧発生処理を行い、前記パルス発生回路５７において発生させられたパルスに基づいて、９０〔Ｖ〕の電圧で所定の周波数の低周波パルス、本実施の形態においては、２．５〜４０〔Ｈｚ〕の周波数の低周波パルスを発生させる。そのために、前記パルス発生回路５７に、図示されないパルストランスが配設される。

この場合、操作者は、操作部３６における図示されない第１のモード選択スイッチを操作することによって低周波パルスの発生モードを、自動モード１、２及び手動モードの中から選択することができるようになっていて、自動モード１が選択されると、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、２．５〜６．７〔Ｈｚ〕の周波数の低周波パルスを自動的に複数のレベルに変更しながら発生させ、自動モード２が選択されると、低周波パルス電圧発生処理手段は、６．７〜４０〔Ｈｚ〕の周波数の低周波パルスを自動的に複数のレベルに変更しながら発生させ、手動モードが選択されると、低周波パルス電圧発生処理手段は、低速で２．５〔Ｈｚ〕の周波数の低周波パルスを、中速で６．７〔Ｈｚ〕の周波数の低周波パルスを、高速で４０〔Ｈｚ〕の周波数の低周波パルスを発生させ、マイコン制御部４５は、前記各低周波パルスをポイント切換回路５８を介して所定の電極３２に供給する。なお、各電極３２において極性を正負反転させることによって、各低周波パルスの電圧が正負反転させられる。

また、操作者は、操作部３６の図示されない第２のモード選択スイッチを操作することによって、低周波パルスの発生モードを片足モード及び両足モードの中から選択することができ、片足モードが選択されると、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、低周波パルスを発生させるに当たり、右足用及び左足用の各靴１１それぞれにおいて、所定の各電極３２に印加される電圧と、他の電極３２に印加される電圧とを異ならせて電位差を形成する。これに対して、両足モードが選択されると、低周波パルス電圧発生処理手段は、右足用の靴１１の各電極３２に印加される電圧と、左足用の靴１１の各電極３２に印加される電圧とを異ならせ、両足間に電位差を形成する。この場合、操作者の体を低周波パルスの電流が流れるので、治療効果を高くすることができる。

次に、前記構成の靴１１の動作について説明する。

まず、操作者が、左右の足に前記各靴１１を着用し、各スイッチ２８をオンにするとともに、操作部３６の図示されない電極選択スイッチを操作して所定の電極３２を選択すると、マイコン制御部４５の図示されない治療部位選択処理手段は、治療部位選択処理を行い、ポイント切換回路５８によって、低周波パルスが供給される電極３２を切り換える。続いて、操作者が、操作部３６のパターン選択スイッチを操作し、各電極３２に供給される低周波パルスの発生パターンを選択すると、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、各電極３２に所定のパターンで低周波パルスを供給する。本実施の形態において、各パターンは、各足つぼに低周波パルスの電圧を発生させる際の順序等から成る。

次に、操作者が、操作部３６の図示されないパルス強度選択スイッチを操作し、各電極３２に供給される低周波パルスの強度を表す振幅（電圧）を選択すると、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、低周波パルスを発生させるための電圧の振幅を変更し、各電極３２に所定の振幅で低周波パルスを発生させる。また、操作者が、前記第１、第２のモード選択スイッチを操作し、低周波パルスの発生モードを、自動モード１、２及び手動モードの中から選択し、さらに、片足モード及び両足モードの中から選択する。

このようにして、低周波パルスが、所定の電極３２に発生させられ、所定の足つぼを低周波パルスの電流が流れるので、足つぼを刺激することができ、足の血行を良くして、疲れ等を取ることができる。この場合、低周波パルスの発生が開始されるのに伴って、図示されないタイマによる計時が開始され、その後、操作部３６によって設定された運転時間が経過すると、低周波パルスの発生を停止させる。

なお、必要に応じて足裏を暖めたい場合、前記ヒータスイッチをオンにすると、各足底ヒータ５３が通電され、該各足底ヒータ５３によってプレート部３１及び電極３２が加熱される。したがって、足裏を所定の温度に暖めることができる。

ところで、本実施の形態において、踵センサ２３及びつま先センサ２６は、面状の圧力センサから成り、例えば、操作者の体重が踵センサ２３及びつま先センサ２６に加わり、圧力が閾（しきい）値を超えると、抵抗が小さくなってオンになり、操作者の体重が加わらなくなり、圧力が閾値以下になると、抵抗が大きくなってオフになる。そこで、踵センサ２３及びつま先センサ２６のオン・オフに従って操作者の状態を判定し、判定結果に基づいて、低周波パルスの電圧の値を変更することができる。

図４は本発明の第１の実施の形態における操作者が歩いた場合の各踵センサ及びつま先センサのセンサ出力を示す図、図５は本発明の第１の実施の形態における操作者が走った場合の各踵センサ及びつま先センサのセンサ出力を示す図である。

図に示されるように、操作者が歩いた場合、右足用及び左足用の各靴１１において、踵センサ２３（図３）がオンからオフになり、続いて、つま先センサ２６がオンからオフになった後、踵センサ２３が再びオンになり、つま先センサ２６がオンになり、これが繰り返される。一方、操作者が走った場合、右足用及び左足用の各靴１１において、踵センサ２３がオンからオフになった後、つま先センサ２６だけがオン・オフを繰り返し、踵センサ２３はオフを維持し続ける。また、図には示されないが、操作者が椅子等に座っている場合、操作者が歩かず、起立している場合等においては、右足用及び左足用の各靴１１において、踵センサ２３及びつま先センサ２６はいずれもオンを維持し続ける。

そこで、前記マイコン制御部４５の図示されない状態判定処理手段は、状態判定処理を行い、左右の踵センサ２３及びつま先センサ２６のセンサ出力を読み込み、該センサ出力のオン・オフのパターンに基づいて、操作者の状態、すなわち、操作者が歩いているか、走っているか、椅子等に座っているかどうかを判断する。

そして、操作者が歩いている場合、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、各電極３２が足つぼを押圧する押圧力が大きいと判断し、電極３２に供給される低周波パルスの電圧の値を小さくして、足つぼに過度の低周波パルスの電流が流れないようにする。また、操作者が走っている場合、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、各電極３２が足つぼを押圧する押圧力が更に大きいと判断し、電極３２に供給される低周波パルスの電圧の値を更に小さくして、足つぼにわずかな低周波パルスの電流が流れるようにする。

そして、操作者が起立している場合、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、各電極３２が足つぼを押圧する押圧力が大きいと判断し、電極３２に供給される低周波パルスの電圧の値を小さくして、足つぼに過度の低周波パルスの電流が流れないようにする。また、操作者が椅子等に座っている場合、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、各電極３２が足つぼを押圧する押圧力が小さいと判断し、電極３２に供給される低周波パルスの電圧の値を大きくし、足つぼに十分な低周波パルスの電流が流れるようにする。

なお、本実施の形態においては、操作者の状態に基づいて低周波パルスの電圧の値が変更されるようになっているが、低周波パルスの電圧の値に代えて、低周波パルスの周波数を変更したり、極性を変更したりすることができる。さらに、操作者の状態に基づいて低周波パルスが供給される電極３２を切り換えることができる。

また、前記状態判定処理手段は、前記センサ出力のオン・オフのパターンに基づいて、操作者が椅子等に座っていて、しかも、車を運転しているかどうかを判断することができる。したがって、操作者が椅子等に座っていて、車を運転している場合には、運転中に足つぼを低周波パルスの電流が流れることがないように、前記低周波パルス電圧発生処理手段は、各電極３２への低周波パルスの発生を停止させ、前記ブザー３８によって操作者にその旨を通知することができる。

本実施の形態においては、制御回路・電源ユニット部２２と商用電源３５とを接続し、商用電源３５の電圧が制御回路・電源ユニット部２２に印加されるようになっているが、商用電源３５に代えて充電器、電池等に制御回路・電源ユニット部２２を接続することができる。その場合、前記制御回路・電源ユニット部２２と商用電源３５とを接続する必要がなくなるので、操作者は靴１１を装着したまま任意の場所に移動することができる。

また、本実施の形態において、踵センサ２３及びつま先センサ２６を圧力センサによって形成するようになっているが、踵センサ２３及びつま先センサ２６をマイクロスイッチ、光センサ等によって構成することができる。そして、本実施の形態においては、前記踵センサ２３及びつま先センサ２６をそれぞれ底部１２の踵部２１及びつま先部２５に配設するようになっているが、治療器本体部１８の踵部及びつま先部に配設することができる。

このように、本実施の形態において、靴１１の動作中においても、操作者は靴１１を装着したまま、自由に移動することができ、手軽に低周波治療を受けることができる。

また、操作者の状態に対応させて低周波パルスの電圧の値を変更することができるので、最適な低周波パルスの電圧で低周波治療を受けることができる。

図６は本発明の第１の実施の形態における治療器本体部の他の例を示す図である。

図において、１８は治療器本体部であり、該治療器本体部１８は、底部１２（図１）の全体にわたって延びる絶縁性の樹脂板から成るプレート部６１、該プレート部６１の上面の、各足つぼに対応させて設定された位置にパターン印刷によって形成された電極６２、及び前記プレート部６１の上面の所定の位置にパターン印刷によって形成され、各電極６２と制御回路・電源ユニット部２２とを接続するリード部ｗｒ１を備える。なお、パターン印刷に代えて、エッチングによってパターンを形成することができる。

本実施の形態においては、低周波治療器が靴１１に適用されるようになっているが、低周波治療器を他の履物に適用することができる。次に、低周波治療器をスリッパに適用した本発明の第２の実施の形態について説明する。

図７は本発明の第２の実施の形態におけるスリッパの断面図である。

図において、７１は低周波治療器としての、かつ、履物としてのスリッパであり、該スリッパ７１は、底部７２、及び前半部（図において左半部）において足の上面を覆う甲皮部７３を備える。前記底部７２には、足裏と対向させて、底部７２の全体にわたり、一体にプレート状の治療器本体部７６が配設される。また、前記底部７２のうちの踵部７４には、第１の検出部としての図示されない踵センサが、底部７２のうちのつま先部７５には第２の検出部としての図示されないつま先センサ、及び制御部としての制御回路・電源ユニット部７７が配設される。そして、前記甲皮部７３にスイッチ７８が配設される。

前記治療器本体部７６は、底部７２の全体にわたって延びる絶縁性の樹脂板から成るプレート部８１、該プレート部８１の、各足つぼに対応させて設定された位置に配設され、上方に向けて突出させて形成された電極８２、及び各電極８２と制御回路・電源ユニット部７７とを接続するリード部ｗｒ２を備える。

次に、低周波治療器を靴下に適用した本発明の第３の実施の形態について説明する。

図８は本発明の第３の実施の形態における靴下の斜視図である。

図において、８５は低周波治療器としての、かつ、履物としての靴下であり、該靴下８５に、各電極８６、リード部ｗｒ３及び制御部としての制御回路・電源ユニット部８７が縫い付けられる。なお、電極８６及びリード部ｗｒ３を、導電性の繊維を織り込むことによって形成することもできる。

ところで、両足間において電位差を形成する場合、各靴１１（図１）と別体に、共通の制御回路・電源ユニット部を配設することができる。次に、各靴１１に共通の制御回路・電源ユニット部を配設した第４の実施の形態について説明する。

図９は本発明の第４の実施の形態における靴の接続状態を示す図である。

図において、９１、９２は履物としての第１、第２の靴であり、該第１、第２の靴９１、９２には、それぞれ、プレート状の治療器本体部９３が配設される。また、前記第１、第２の靴９１、９２に共通の制御部としての制御回路・電源ユニット部９４が配設され、該制御回路・電源ユニット部９４と治療器本体部９３の各プレート部９５とが、配線Ｌ１、Ｌ２及びコネクタＫ１、Ｋ２によって接続される。なお、第１、第２の靴９１、９２及び制御回路・電源ユニット部９４によって低周波治療器が構成される。

この場合、共通の制御回路・電源ユニット部９４によって電位差を形成することができるので、各第１、第２の靴９１、９２にそれぞれ制御回路・電源ユニット部を配設する必要がなくなり、第１、第２の靴９１、９２のコストを低くすることができる。なお、配線Ｌ１、Ｌ２を使用することなく、無線を使用することができる。

次に、本発明の第５の実施の形態について説明する。

図１０は本発明の第５の実施の形態における靴の接続状態を示す図である。

図において、９６、９７は低周波治療器としての、かつ、履物としての第１、第２の靴であり、該第１、第２の靴９６、９７の底部の全体にわたって、それぞれ、プレート状の図示されない治療器本体部が配設される。また、前記第１、第２の靴９６、９７にそれぞれ制御部としての図示されない制御回路・電源ユニット部が配設され、該各制御回路・電源ユニット部がコネクタＫ３〜Ｋ６によって接続される。この場合、前記各制御回路・電源ユニット部間が接続されるので、両足間に電位差を形成することができる。なお、コネクタＫ３〜Ｋ６が配設されていない場合は、片足の電極間で電位差を形成することができる。

また、前記コネクタＫ３、Ｋ４の近傍、及びコネクタＫ５、Ｋ６の近傍には、極性の異なる図示されない永久磁石が配設され、コネクタＫ３とコネクタＫ５との結合、及びコネクタＫ４とコネクタＫ６との結合を良好にする。

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除するものではない。

本発明の第１の実施の形態における靴の断面図である。本発明の第１の実施の形態における治療器本体部を示す平面図である。本発明の第１の実施の形態における治療器制御装置を示すブロック図である。本発明の第１の実施の形態における操作者が歩いた場合の各踵センサ及びつま先センサのセンサ出力を示す図である。本発明の第１の実施の形態における操作者が走った場合の各踵センサ及びつま先センサのセンサ出力を示す図である。本発明の第１の実施の形態における治療器本体部の他の例を示す図である。本発明の第２の実施の形態におけるスリッパの断面図である。本発明の第３の実施の形態における靴下の斜視図である。本発明の第４の実施の形態における靴の接続状態を示す図である。本発明の第５の実施の形態における靴の接続状態を示す図である。

符号の説明

１１靴
２３踵センサ
２６つま先センサ
３２、８２、８６電極
４５マイコン制御部
７１スリッパ
８５靴下
９１、９６第１の靴
９２、９７第２の靴
９４制御回路・電源ユニット部

Claims

（ａ）履物における複数の箇所に配設された電極と、
（ｂ）低周波パルスを発生させて前記各電極に供給する低周波パルス電圧発生処理手段と、
（ｃ）前記履物に配設された検出部のセンサ出力に基づいて、操作者の状態を判定する状態判定処理手段とを有することを特徴とする低周波治療器。